JP2018146435A - Infrared sensor - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an infrared sensor which is hard to be influenced by noise.SOLUTION: An infrared sensor 1 includes: a first substrate 3; an infrared ray detection element 5 which is provided on an upper surface 13 of the first substrate 3, and detects an infrared ray; an insulation layer 7 which is provided in an area excluding an area having the infrared ray detection element 5 of the first substrate 3; a second substrate 9 which is joined on an upper surface 11 of the insulation layer 7 while covering the infrared ray detection element 5, through a joint film 15, and can transmit the infrared ray; a signal line 51 which is embedded in the insulation layer 7 and electrically connected to the infrared ray detection element 5; an output terminal 33 which is provided on the outer side than the second substrate 9 and is electrically connected to the signal line 51; a plurality of dummy lines 61 which is embedded in the insulation layer 7 while aligning with the signal line 51 on the side part of the signal line 51; and a shield portion 63 which is formed by electrically connecting at least one (one pair in this embodiment) dummy line 61 with a ground, of the plurality of dummy lines 61.SELECTED DRAWING: Figure 3

Description

この発明は、赤外線センサに関する。   The present invention relates to an infrared sensor.

従来、赤外線センサは、第一基板と、赤外線検出素子と、絶縁膜と、第二基板とを備える(例えば特許文献1参照)。赤外線検出素子は第一基板の上面に設けられており、赤外線を検出する。絶縁膜は、第一基板の上面に設けられている。第二基板は蓋状に形成されている。第二基板は、赤外線検出素子を覆った状態で絶縁膜の上面に接合されている。第二基板は、赤外線を透過可能に形成されている。   Conventionally, an infrared sensor includes a first substrate, an infrared detection element, an insulating film, and a second substrate (see, for example, Patent Document 1). The infrared detection element is provided on the upper surface of the first substrate and detects infrared rays. The insulating film is provided on the upper surface of the first substrate. The second substrate is formed in a lid shape. The second substrate is bonded to the upper surface of the insulating film while covering the infrared detection element. The second substrate is formed so as to transmit infrared rays.

さらに、赤外線センサは、信号線と、出力端子とを備える。信号線は、第一基板に埋設されている。信号線は、赤外線検出素子に電気的に接続されている。出力端子は、絶縁膜の上面で第二基板よりも外側に設けられている。出力端子は、信号線に電気的に接続されている。次に、赤外線センサによる赤外線の検出にかかる処理を説明する。赤外線検出素子は、第二基板を透過した赤外線を検出すると検出信号を出力する。赤外線検出素子から出力された検出信号は、信号線を通り出力端子から出力される。   Furthermore, the infrared sensor includes a signal line and an output terminal. The signal line is embedded in the first substrate. The signal line is electrically connected to the infrared detection element. The output terminal is provided outside the second substrate on the upper surface of the insulating film. The output terminal is electrically connected to the signal line. Next, processing relating to detection of infrared rays by the infrared sensor will be described. The infrared detection element outputs a detection signal when it detects infrared light that has passed through the second substrate. The detection signal output from the infrared detection element passes through the signal line and is output from the output terminal.

特開2007−139655号公報JP 2007-139655 A

しかしながら、一般に、赤外線センサでは、赤外線検出素子から出力される検出信号は極めて微弱である。さらに、外部から赤外線センサに入ってきた電磁ノイズ等のノイズが信号線に入ると、ノイズは信号線を通って出力端子から出力される。ここで、ノイズは極めて微弱であるため、検出信号との区別がつかない。このため、出力端子に外部機器が接続していると、外部機器は、出力端子から出力された信号がノイズであっても、その信号を検出信号であると判断して誤動作してしまう。そこで、赤外線センサにおいては、外部機器の誤動作を防ぐために、電磁ノイズ等のノイズによる赤外線センサへの影響を防ぐことが要求されている。   However, in general, in an infrared sensor, the detection signal output from the infrared detection element is extremely weak. Further, when noise such as electromagnetic noise that has entered the infrared sensor from the outside enters the signal line, the noise is output from the output terminal through the signal line. Here, since the noise is extremely weak, it cannot be distinguished from the detection signal. For this reason, if an external device is connected to the output terminal, the external device malfunctions by determining that the signal is a detection signal even if the signal output from the output terminal is noise. Therefore, in the infrared sensor, in order to prevent malfunction of an external device, it is required to prevent the influence of noise such as electromagnetic noise on the infrared sensor.

そこで、本発明は、上記事情に鑑みたものであって、ノイズの影響を受けにくい赤外線センサを提供することを目的とする。   Therefore, the present invention has been made in view of the above circumstances, and an object thereof is to provide an infrared sensor that is not easily affected by noise.

上記の課題を解決するため、本発明の赤外線センサは、第一基板と、前記第一基板の上面に設けられ、赤外線を検出する赤外線検出素子と、前記第一基板の、前記赤外線検出素子を有する領域を除く領域に設けられた絶縁層と、前記赤外線検出素子を覆った状態で前記絶縁層の上面に、接合膜を介して接合され、赤外線を透過可能な第二基板と、前記絶縁層に埋設され前記赤外線検出素子に電気的に接続されている信号線と、前記第二基板より外側に設けられ、前記信号線に電気的に接続される出力端子と、前記信号線の側方において、前記信号線と並び前記絶縁層に埋設されている複数のダミー線と、前記複数のダミー線のうち、少なくとも一本が、グラウンドと電気的に接続されて形成されたシールド部と、を備えることを特徴としている。   In order to solve the above problems, an infrared sensor of the present invention includes a first substrate, an infrared detection element that is provided on an upper surface of the first substrate, detects infrared rays, and the infrared detection element of the first substrate. An insulating layer provided in a region excluding the region having the second substrate; a second substrate that is bonded to the upper surface of the insulating layer in a state of covering the infrared detection element through a bonding film; A signal line embedded in and electrically connected to the infrared detection element, an output terminal provided outside the second substrate and electrically connected to the signal line, and at a side of the signal line A plurality of dummy lines embedded in the insulating layer along with the signal lines, and a shield part formed by electrically connecting at least one of the plurality of dummy lines to the ground. It is characterized by .

この構成によれば、赤外線センサの外部からのノイズは、信号線の側方から信号線に入ることなく、少なくとも一本のダミー線により形成されたシールド部に入ってグラウンドに送られる。したがって本発明の赤外線センサは、ノイズが信号線に入るのを抑制することが可能になる。よって、本発明によれば、出力端子からノイズが出力されるのを防ぐことができるので、ノイズの影響を受けにくい赤外線センサを提供することができる。   According to this configuration, noise from the outside of the infrared sensor enters the shield part formed by at least one dummy line and is sent to the ground without entering the signal line from the side of the signal line. Therefore, the infrared sensor of the present invention can suppress noise from entering the signal line. Therefore, according to the present invention, since it is possible to prevent noise from being output from the output terminal, it is possible to provide an infrared sensor that is not easily affected by noise.

また、前記シールド部は、前記信号線を側方から挟むように一対配置されていることを特徴としている。   Further, a pair of the shield portions are arranged so as to sandwich the signal line from the side.

この構成によれば、シールド部は、信号線を側方から挟むように一対配置されているので、赤外線センサの外部からのノイズは、信号線の両側方から信号線に入ることなく、シールド部に入ってグラウンドに送られる。したがって本発明の赤外線センサは、ノイズが信号線に入るのをさらに抑制することが可能になる。よって、本発明によれば、出力端子からノイズが出力されるのを防ぐことができるので、ノイズの影響をさらに受けにくい赤外線センサを提供することができる。   According to this configuration, since the shield part is disposed in a pair so as to sandwich the signal line from the side, noise from the outside of the infrared sensor does not enter the signal line from both sides of the signal line, and the shield part. Enters and is sent to the ground. Therefore, the infrared sensor of the present invention can further suppress noise from entering the signal line. Therefore, according to the present invention, since it is possible to prevent noise from being output from the output terminal, it is possible to provide an infrared sensor that is less susceptible to noise.

また、一対の前記シールド部は、他の前記ダミー線よりも前記出力端子に近接して配置されていることを特徴としている。   Further, the pair of shield portions are arranged closer to the output terminal than the other dummy lines.

この構成によれば、一対のシールド部は、他のダミー線よりも出力端子に近接して配置されているので、より広い範囲にわたって信号線の周辺を覆うことができる。これにより、ノイズは、信号線の両側方から信号線に入ることなく、一対のシールド部に入ってグラウンドに送られる。したがって本発明の赤外線センサによれば、ノイズが信号線に入るのをさらに抑制することが可能になる。よって、本発明によれば、出力端子からノイズが出力されるのを防ぐことができるので、ノイズの影響をさらに受けにくい赤外線センサを提供することができる。   According to this configuration, the pair of shield portions are arranged closer to the output terminal than the other dummy lines, and thus can cover the periphery of the signal line over a wider range. Thereby, the noise enters the pair of shield portions and is sent to the ground without entering the signal line from both sides of the signal line. Therefore, according to the infrared sensor of the present invention, it is possible to further suppress noise from entering the signal line. Therefore, according to the present invention, since it is possible to prevent noise from being output from the output terminal, it is possible to provide an infrared sensor that is less susceptible to noise.

また、前記第二基板は、前記赤外線検出素子を囲む前記接合膜で前記絶縁層の上面に接合されており、前記接合膜は、前記グラウンドに電気的に接続されており、前記シールド部は、前記接合膜に電気的に接続されていることを特徴としている。   The second substrate is bonded to the upper surface of the insulating layer with the bonding film surrounding the infrared detection element, the bonding film is electrically connected to the ground, and the shield portion is It is electrically connected to the bonding film.

この構成によれば、赤外線検出素子を囲む接合膜がグラウンドに電気的に接続されており、シールド部が接合膜に電気的に接続されているので、ノイズは、信号線の側方から信号線に入ることなく、シールド部および接合膜を通ってグラウンドに送られる。また、ノイズは、第二基板および接合膜を通ってグラウンドに送られる。したがって、本発明の赤外線センサによれば、ノイズが信号線に入るのを赤外線センサ全体で抑制することが可能になる。よって、本発明によれば、出力端子からノイズが出力されるのを防ぐことができるので、ノイズの影響をさらに受けにくい赤外線センサを提供することができる。   According to this configuration, since the bonding film surrounding the infrared detection element is electrically connected to the ground and the shield portion is electrically connected to the bonding film, noise is generated from the side of the signal line. Without entering, it is sent to the ground through the shield and the bonding film. Moreover, noise is sent to the ground through the second substrate and the bonding film. Therefore, according to the infrared sensor of the present invention, it is possible to suppress noise from entering the signal line with the entire infrared sensor. Therefore, according to the present invention, since it is possible to prevent noise from being output from the output terminal, it is possible to provide an infrared sensor that is less susceptible to noise.

また、前記接合膜は、前記絶縁層の上面に前記シールド部と対向して配置された対向部を有していることを特徴としている。   Further, the bonding film has a facing portion disposed on the upper surface of the insulating layer so as to face the shield portion.

この構成によれば、シールド部と対向して配置された対向部を有しているので、対向部以外の領域に他の配線を配索することができる。よって、本発明によれば、ノイズの影響を受けにくいとともに、配線の設置の自由度を高めることができる赤外線センサを提供することができる。   According to this structure, since it has the opposing part arrange | positioned facing the shield part, other wiring can be routed in areas other than the opposing part. Therefore, according to the present invention, it is possible to provide an infrared sensor that is less susceptible to noise and can increase the degree of freedom of wiring installation.

また、前記接合膜は、前記絶縁層の上面に前記信号線を覆って配置された信号線被覆部を有していることを特徴としている。   In addition, the bonding film has a signal line covering portion disposed on the upper surface of the insulating layer so as to cover the signal line.

この構成によれば、接合膜は、絶縁層の上面に信号線を覆って配置された信号線被覆部を有しているので、ノイズが信号線の上方から信号線に入ろうとしても接合膜に入ってグラウンドに送られる。したがって本発明の赤外線センサは、ノイズが信号線に入るのをさらに抑制することが可能になる。よって、本発明によれば、出力端子からノイズが出力されるのを防ぐことができるので、ノイズの影響をさらに受けにくい赤外線センサを提供することができる。   According to this configuration, since the bonding film has the signal line covering portion arranged so as to cover the signal line on the upper surface of the insulating layer, even if noise enters the signal line from above the signal line, the bonding film Enter and sent to the ground. Therefore, the infrared sensor of the present invention can further suppress noise from entering the signal line. Therefore, according to the present invention, since it is possible to prevent noise from being output from the output terminal, it is possible to provide an infrared sensor that is less susceptible to noise.

本発明によれば、赤外線センサの外部からのノイズは、信号線の側方から信号線に入ることなく、少なくとも一本のダミー線により形成されたシールド部に入ってグラウンドに送られる。したがって本発明の赤外線センサは、ノイズが信号線に入るのを抑制することが可能になる。よって、本発明によれば、出力端子からノイズが出力されるのを防ぐことができるので、ノイズの影響を受けにくい赤外線センサを提供することができる。   According to the present invention, noise from the outside of the infrared sensor enters the shield part formed by at least one dummy line and is sent to the ground without entering the signal line from the side of the signal line. Therefore, the infrared sensor of the present invention can suppress noise from entering the signal line. Therefore, according to the present invention, since it is possible to prevent noise from being output from the output terminal, it is possible to provide an infrared sensor that is not easily affected by noise.

本発明の第一の実施形態の赤外線の平面図である。It is an infrared top view of a first embodiment of the present invention. 図1のII−II断面図である。It is II-II sectional drawing of FIG. 図1のA部の拡大図である。It is an enlarged view of the A section of FIG. 図3のIV−IV断面図である。It is IV-IV sectional drawing of FIG. 図3のV−V断面図である。It is VV sectional drawing of FIG. 本発明の第二実施形態の赤外線センサの断面図である。It is sectional drawing of the infrared sensor of 2nd embodiment of this invention. 第二実施形態の赤外線センサの出力端子および出力端子の周囲の平面図である。It is a top view of the circumference | surroundings of the output terminal of the infrared sensor of 2nd embodiment, and an output terminal. 図7のVIII−VIII断面図である。It is VIII-VIII sectional drawing of FIG.

(第一実施形態)
以下、図1から図5を参照し、本発明の第一実施形態の赤外線センサ1について説明する。
図1は、第一実施形態の赤外線センサの平面図である。
図1に示すように赤外線センサ1は、第一基板3(ベース基板)と、赤外線検出素子5と、絶縁層7と、第二基板9(リッド基板)とを備える。
(First embodiment)
Hereinafter, the infrared sensor 1 according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 5.
FIG. 1 is a plan view of the infrared sensor according to the first embodiment.
As shown in FIG. 1, the infrared sensor 1 includes a first substrate 3 (base substrate), an infrared detection element 5, an insulating layer 7, and a second substrate 9 (lid substrate).

第一基板3は、シリコンにより矩形状に形成されている。赤外線検出素子5は、矩形状に形成されている。赤外線検出素子5は、第一基板3の上面13(内面)の中央部分に設けられている。赤外線検出素子5は、赤外線を検出して検出信号を出力する。
絶縁層7は、第一基板3の、赤外線検出素子5を有する領域を除く領域に設けられている。具体的に絶縁層7は、第一基板3の上面13のうち、赤外線検出素子5よりも外側の領域に設けられている。絶縁層7は、絶縁性を有する材料により形成されている。絶縁層7としては、例えば二酸化ケイ素(SiO2)等のシリコン酸化膜やシリコン窒化膜(SiNx)等が挙げられる。
The first substrate 3 is formed in a rectangular shape from silicon. The infrared detection element 5 is formed in a rectangular shape. The infrared detection element 5 is provided at the central portion of the upper surface 13 (inner surface) of the first substrate 3. The infrared detection element 5 detects infrared rays and outputs a detection signal.
The insulating layer 7 is provided in a region of the first substrate 3 excluding a region having the infrared detection element 5. Specifically, the insulating layer 7 is provided in a region outside the infrared detection element 5 on the upper surface 13 of the first substrate 3. The insulating layer 7 is made of an insulating material. Examples of the insulating layer 7 include a silicon oxide film such as silicon dioxide (SiO2), a silicon nitride film (SiNx), and the like.

第二基板9は、縁部に凸部41を有する蓋状に形成されている。後述する通り、凸部41の内側は、第一基板3の上面13と第二基板9とを対向させて接合した際に、キャビティCを形成する。
第二基板9は、シリコンにより形成されている。これにより第二基板9は、赤外線を透過することが可能になっている。
第二基板9は、赤外線検出素子5を覆った状態で絶縁層7の上面11に接合膜15を介して接合されている。これにより第二基板9は、接合膜15を介して第一基板3に接合されている。接合膜15は、導電性を有している。接合膜15は、第一接合膜17と、第二接合膜19とを備える。
The 2nd board | substrate 9 is formed in the lid shape which has the convex part 41 in an edge. As will be described later, the inside of the convex portion 41 forms a cavity C when the upper surface 13 of the first substrate 3 and the second substrate 9 are joined to face each other.
The second substrate 9 is made of silicon. Thereby, the 2nd board | substrate 9 can permeate | transmit infrared rays.
The second substrate 9 is bonded to the upper surface 11 of the insulating layer 7 with a bonding film 15 in a state of covering the infrared detection element 5. Thereby, the second substrate 9 is bonded to the first substrate 3 via the bonding film 15. The bonding film 15 has conductivity. The bonding film 15 includes a first bonding film 17 and a second bonding film 19.

第一接合膜17は、第一接合膜本体部17aと、信号線被覆部17bとを有している。
第一接合膜本体部17aは、絶縁層7の上面11において赤外線検出素子5の外周側に設けられている。具体的に第一接合膜本体部17aは、赤外線検出素子5を囲む矩形の枠状に設けられている。
複数の信号線被覆部17bは、赤外線検出素子5を挟んで両側(図1中では左右側)において、第一接合膜本体部17aと直交するように設けられている。信号線被覆部17bは、絶縁層7の上面11の内外方向(図1中では左右方向)に長く延びるように形成されている。
The first bonding film 17 includes a first bonding film main body portion 17a and a signal line covering portion 17b.
The first bonding film main body portion 17 a is provided on the outer peripheral side of the infrared detection element 5 on the upper surface 11 of the insulating layer 7. Specifically, the first bonding film main body portion 17 a is provided in a rectangular frame shape surrounding the infrared detection element 5.
The plurality of signal line covering portions 17b are provided so as to be orthogonal to the first bonding film main body portion 17a on both sides (left and right sides in FIG. 1) with the infrared detection element 5 interposed therebetween. The signal line covering portion 17b is formed to extend long in the inner and outer directions (left and right direction in FIG. 1) of the upper surface 11 of the insulating layer 7.

第一接合膜17は、金属材料により薄膜状に形成されている。第一接合膜17としては、タンタル層(Ta層)の上に金層(Au層)を重ねてなる薄膜、窒化チタン層(TiN層)の上にアルミ層(Al層)を重ねてなる薄膜等が挙げられる。第一接合膜17は、グラウンド(図示せず)に接続されている。グラウンドは、第一基板3の下面(外面)に設けられている。グラウンドは、第一基板3の上面11に設けられても良い。   The first bonding film 17 is formed in a thin film shape from a metal material. The first bonding film 17 is a thin film in which a gold layer (Au layer) is stacked on a tantalum layer (Ta layer), and a thin film in which an aluminum layer (Al layer) is stacked on a titanium nitride layer (TiN layer). Etc. The first bonding film 17 is connected to the ground (not shown). The ground is provided on the lower surface (outer surface) of the first substrate 3. The ground may be provided on the upper surface 11 of the first substrate 3.

第二接合膜19は、第二基板9の下面(内面)に設けられている。具体的に第二接合膜19は、第一接合膜本体部17aと対向するように、赤外線検出素子5を囲んで設けられている。第二接合膜19は、赤外線検出素子5を囲む矩形の枠状に形成されている。第二接合膜19の両側部23,23(図1中では左右側部)は、複数の信号線被覆部17bと直交して配置されている。第二接合膜19の一方の両側部23,23は、この状態で第一接合膜本体部17aと接合されている。第二接合膜19の他方の両側部25,25(図1中では上下側部)は、絶縁層7の上面11の第一接合膜本体部17aに接合されている。   The second bonding film 19 is provided on the lower surface (inner surface) of the second substrate 9. Specifically, the second bonding film 19 is provided so as to surround the infrared detection element 5 so as to face the first bonding film main body portion 17a. The second bonding film 19 is formed in a rectangular frame shape surrounding the infrared detection element 5. Both side portions 23 and 23 (left and right side portions in FIG. 1) of the second bonding film 19 are arranged orthogonal to the plurality of signal line covering portions 17b. One side portions 23 of the second bonding film 19 are bonded to the first bonding film main body portion 17a in this state. The other side portions 25, 25 (upper and lower side portions in FIG. 1) of the second bonding film 19 are bonded to the first bonding film main body portion 17 a on the upper surface 11 of the insulating layer 7.

第二接合膜19は、金属材料により薄膜状に形成されている。第二接合膜19は、第一接合膜17と同じ材料により形成されている。
第一接合膜17がタンタル層および金層から成る場合には、第二接合膜19もタンタル層および金層から成る。この場合には、第一接合膜17の金層と第二接合膜19の金層とが接合する。第一接合膜17が窒化チタン層およびアルミ層から成る場合には、第二接合膜19も窒化チタン層およびアルミ層から成る。この場合には、第一接合膜17のアルミ層と第二接合膜19のアルミ層とが接合する。
The second bonding film 19 is formed in a thin film shape from a metal material. The second bonding film 19 is made of the same material as the first bonding film 17.
When the first bonding film 17 is made of a tantalum layer and a gold layer, the second bonding film 19 is also made of a tantalum layer and a gold layer. In this case, the gold layer of the first bonding film 17 and the gold layer of the second bonding film 19 are bonded. When the first bonding film 17 is made of a titanium nitride layer and an aluminum layer, the second bonding film 19 is also made of a titanium nitride layer and an aluminum layer. In this case, the aluminum layer of the first bonding film 17 and the aluminum layer of the second bonding film 19 are bonded.

図1に示すように、絶縁層7の上面11には、複数の接続端子31および複数の出力端子33が設けられている。各接続端子31は、絶縁層7の上面11において、信号線被覆部17bの内端(赤外線検出素子5側の端)に近接して設けられている。各接続端子31は、赤外線検出素子5に対して例えばワイヤボンディング等により電気的に接続されている。また、各接続端子31は、後述の信号線51(図2参照)の一端に電気的に接続されている。   As shown in FIG. 1, a plurality of connection terminals 31 and a plurality of output terminals 33 are provided on the upper surface 11 of the insulating layer 7. Each connection terminal 31 is provided on the upper surface 11 of the insulating layer 7 in proximity to the inner end (end on the infrared detection element 5 side) of the signal line covering portion 17b. Each connection terminal 31 is electrically connected to the infrared detection element 5 by, for example, wire bonding. Each connection terminal 31 is electrically connected to one end of a signal line 51 (see FIG. 2) described later.

各出力端子33は、絶縁層7の上面11において信号線被覆部17bの外端(赤外線検出素子5側と反対側の端)に近接して設けられている。各出力端子33は、第二基板9よりも外側に設けられている。各出力端子33の入力側は、後述の信号線51(図2参照)の他端に電気的に接続されている。各出力端子33は、例えば外部機器に対して電気的に接続されている。   Each output terminal 33 is provided in proximity to the outer end (end opposite to the infrared detection element 5 side) of the signal line covering portion 17b on the upper surface 11 of the insulating layer 7. Each output terminal 33 is provided outside the second substrate 9. The input side of each output terminal 33 is electrically connected to the other end of a signal line 51 (see FIG. 2) described later. Each output terminal 33 is electrically connected to, for example, an external device.

図2は、図1のII−II断面図である。
図2に示すように第二基板9の下面39には、凸部41が下方に突出して設けられている。具体的に凸部41は、第二基板9の下面39において赤外線検出素子5を囲むように設けられている。凸部41は、赤外線検出素子5を囲む矩形の枠状に形成されている。凸部41の下面43には、上述の第二接合膜19が設けられている。第二基板9は、凸部41により第二接合膜19を介して絶縁層7の上面11に接合されている。第二基板9と絶縁層7との間にはキャビティCが形成されている。キャビティCの雰囲気は、減圧雰囲気にされている。キャビティCには、上述の赤外線検出素子5が配置されている。
2 is a cross-sectional view taken along the line II-II in FIG.
As shown in FIG. 2, a convex portion 41 is provided on the lower surface 39 of the second substrate 9 so as to protrude downward. Specifically, the convex portion 41 is provided so as to surround the infrared detecting element 5 on the lower surface 39 of the second substrate 9. The convex portion 41 is formed in a rectangular frame shape surrounding the infrared detection element 5. The above-described second bonding film 19 is provided on the lower surface 43 of the convex portion 41. The second substrate 9 is bonded to the upper surface 11 of the insulating layer 7 via the second bonding film 19 by the convex portion 41. A cavity C is formed between the second substrate 9 and the insulating layer 7. The atmosphere of the cavity C is a reduced pressure atmosphere. In the cavity C, the above-described infrared detection element 5 is disposed.

図2に示すように絶縁層7には、複数の信号線51が埋設されている。具体的に複数の信号線51は、第一基板3の厚さ方向において、中央部よりも上方に埋設されている。各信号線51は、接続端子31、第一接合膜17および出力端子33の下方にわたって配置されている。各信号線51は、窒化チタン(TiN)、アルミシリコン合金(AlSi)、窒化チタン(TiN)の順に合金属をスパッタリング等により積層して成膜することで形成されている。   As shown in FIG. 2, a plurality of signal lines 51 are embedded in the insulating layer 7. Specifically, the plurality of signal lines 51 are embedded above the central portion in the thickness direction of the first substrate 3. Each signal line 51 is disposed below the connection terminal 31, the first bonding film 17, and the output terminal 33. Each signal line 51 is formed by stacking and depositing a mixed metal of titanium nitride (TiN), aluminum silicon alloy (AlSi), and titanium nitride (TiN) in this order.

図2に示すように、絶縁層7には、各信号線51の一端と接続端子31とを繋ぐ部分に第一ビア55が設けられている。各信号線51の一端は、第一ビア55を介して接続端子31に電気的に接続されている。
また、第一基板3には、各信号線51の他端と出力端子33とを繋ぐ部分に第二ビア57が設けられている。各信号線51の他端は、第二ビア57を介して出力端子33に電気的に接続されている。
これにより赤外線検出素子5は、複数の配線、複数の接続端子31、複数の第一ビア55、複数の信号線51、複数の第二ビア57を介して複数の出力端子33に電気的に接続されている。
As shown in FIG. 2, the insulating layer 7 is provided with a first via 55 at a portion connecting one end of each signal line 51 and the connection terminal 31. One end of each signal line 51 is electrically connected to the connection terminal 31 via the first via 55.
The first substrate 3 is provided with a second via 57 at a portion connecting the other end of each signal line 51 and the output terminal 33. The other end of each signal line 51 is electrically connected to the output terminal 33 via the second via 57.
Thereby, the infrared detection element 5 is electrically connected to the plurality of output terminals 33 through the plurality of wirings, the plurality of connection terminals 31, the plurality of first vias 55, the plurality of signal lines 51, and the plurality of second vias 57. Has been.

図3は、図1のA部の拡大図である。
図4は、図3のIV−IV断面図である。
図3および図4に示すように、絶縁層7には、複数のダミー線61が各信号線51と並んで埋設されている。具体的に複数のダミー線61は、信号線51の両側方(信号線51の長さ方向と直交する方向)に配置されている。各ダミー線61は、信号線51の長さ方向に沿って長く形成されている。
FIG. 3 is an enlarged view of a portion A in FIG.
4 is a cross-sectional view taken along the line IV-IV in FIG.
As shown in FIGS. 3 and 4, a plurality of dummy lines 61 are embedded in the insulating layer 7 alongside the signal lines 51. Specifically, the plurality of dummy lines 61 are arranged on both sides of the signal line 51 (a direction orthogonal to the length direction of the signal line 51). Each dummy line 61 is formed long along the length direction of the signal line 51.

図3に示すように、複数のダミー線61のうち、信号線51を側方から挟むように配置されている一対のダミー線61は、出力端子33に近接している。一対のダミー線61は、信号線51とともに第一接合膜17の信号線被覆部17bに覆われている。
ここで、第一基板3の絶縁層7において各信号線51の両側方にダミー線61を並べて配置していることにより、信号線51,51間の段差をダミー線61によって小さくでき、より平坦にすることができる。よって、赤外線センサ1は、絶縁層7に信号線51を埋設しても、信号線51近傍における第一基板3の絶縁層7の上面11をより平坦に形成することができる。この結果、第一基板3と第二基板9とが接合膜15を介して接合されるので、キャビティCの気密性を確保することができる。
As shown in FIG. 3, among the plurality of dummy lines 61, a pair of dummy lines 61 arranged so as to sandwich the signal line 51 from the side are close to the output terminal 33. The pair of dummy lines 61 are covered with the signal line covering portion 17 b of the first bonding film 17 together with the signal line 51.
Here, by arranging the dummy lines 61 side by side on both sides of each signal line 51 in the insulating layer 7 of the first substrate 3, the step between the signal lines 51, 51 can be reduced by the dummy line 61, and it is more flat. Can be. Therefore, even when the signal line 51 is embedded in the insulating layer 7, the infrared sensor 1 can form the upper surface 11 of the insulating layer 7 of the first substrate 3 near the signal line 51 more flatly. As a result, since the first substrate 3 and the second substrate 9 are bonded via the bonding film 15, the airtightness of the cavity C can be ensured.

図5は、図3のV−V断面図である。
図5に示すように、第一基板3の絶縁層7には、一対のダミー線61と第一接合膜17の信号線被覆部17bとを繋ぐ部分に第三ビア71が設けられている。これにより、一対のダミー線61は、第三ビア71および信号線被覆部17bを介して第一接合膜17に電気的に接続されている。第一接合膜17は、上述のようにグラウンドに電気的に接続されている。これにより、信号線51を側方から挟むように配置されている一対のダミー線61は、第一接合膜17を介してグラウンドに電気的に接続されることで、シールド部63として機能する。
5 is a cross-sectional view taken along the line VV in FIG.
As shown in FIG. 5, the insulating layer 7 of the first substrate 3 is provided with a third via 71 at a portion connecting the pair of dummy lines 61 and the signal line covering portion 17 b of the first bonding film 17. Accordingly, the pair of dummy lines 61 is electrically connected to the first bonding film 17 via the third via 71 and the signal line covering portion 17b. The first bonding film 17 is electrically connected to the ground as described above. Thus, the pair of dummy lines 61 arranged so as to sandwich the signal line 51 from the side functions as the shield part 63 by being electrically connected to the ground via the first bonding film 17.

次に、以上のように構成されている赤外線センサ1において、赤外線の検出にかかる処理を説明する。
赤外線が第二基板9を透過すると、赤外線検出素子5は、その赤外線を検出して検出信号を出力する。赤外線検出素子5から出力された検出信号は、複数の配線や複数の接続端子31、複数の第一ビア55、複数の信号線51、複数の第二ビア57を通り、複数の出力端子33から出力される。複数の出力端子33から出力された検出信号は、外部機器に送られて所定の動作が行われる。
Next, in the infrared sensor 1 configured as described above, processing for detecting infrared rays will be described.
When the infrared light passes through the second substrate 9, the infrared detection element 5 detects the infrared light and outputs a detection signal. The detection signal output from the infrared detection element 5 passes from the plurality of output terminals 33 through the plurality of wirings, the plurality of connection terminals 31, the plurality of first vias 55, the plurality of signal lines 51, and the plurality of second vias 57. Is output. Detection signals output from the plurality of output terminals 33 are sent to an external device to perform a predetermined operation.

次に、赤外線センサ1の耐ノイズ性について説明する。
外部から赤外線センサ1に入ってくる例えば電磁ノイズ等のノイズは、信号線51の両側方に隣接しているシールド部63に入ると、第三ビア71、第一接合膜17の順に通ってグラウンドに送られる。また、ノイズは、第二接合膜19に入った場合には、第二接合膜19、第一接合膜17の順に通ってグラウンドに送られる。また、ノイズは、信号線51を覆う第一接合膜17の信号線被覆部17bに入った場合には、第一接合膜17を通ってグラウンドに送られる。さらに、ノイズは、第一基板3または第二基板9に入った場合には、第一基板3または第二基板9、接合膜15の順に通ってグラウンドに送られる。
Next, noise resistance of the infrared sensor 1 will be described.
When noise such as electromagnetic noise entering the infrared sensor 1 from the outside enters the shield part 63 adjacent to both sides of the signal line 51, the noise passes through the third via 71 and the first bonding film 17 in this order. Sent to. Further, when the noise enters the second bonding film 19, the noise is sent to the ground through the second bonding film 19 and the first bonding film 17 in this order. In addition, when noise enters the signal line covering portion 17 b of the first bonding film 17 that covers the signal line 51, the noise is sent to the ground through the first bonding film 17. Furthermore, when noise enters the first substrate 3 or the second substrate 9, the noise is sent to the ground through the first substrate 3 or the second substrate 9 and the bonding film 15 in this order.

次に、第一実施形態の赤外線センサ1の作用効果を説明する。   Next, the effect of the infrared sensor 1 of 1st embodiment is demonstrated.

第一実施形態の赤外線センサ1は、第一基板3と、第一基板3の上面13に設けられ、赤外線を検出する赤外線検出素子5と、第一基板3の、赤外線検出素子5を有する領域を除く領域に設けられた絶縁層7と、赤外線検出素子5を覆った状態で絶縁層7の上面11に、接合膜15を介して接合され、赤外線を透過可能な第二基板9と、を備える。また、第一実施形態の赤外線センサ1は、絶縁層7に埋設されて赤外線検出素子5に電気的に接続されている信号線51と、第二基板9よりも外側に設けられて信号線51に電気的に接続される出力端子33と、信号線51の側方において、信号線51と並び絶縁層7に埋設されている複数のダミー線61と、を備える。さらに、第一実施形態の赤外線センサ1は、複数のダミー線61のうち、少なくとも一本(本実施形態では一対)のダミー線61がグラウンドと電気的に接続されて形成されたシールド部63を備える。   The infrared sensor 1 of the first embodiment is provided on a first substrate 3, an upper surface 13 of the first substrate 3, an infrared detection element 5 that detects infrared rays, and a region of the first substrate 3 that includes the infrared detection element 5. An insulating layer 7 provided in a region other than the second substrate 9, and a second substrate 9 which is bonded to the upper surface 11 of the insulating layer 7 through the bonding film 15 in a state of covering the infrared detecting element 5 and which can transmit infrared rays. Prepare. The infrared sensor 1 according to the first embodiment includes a signal line 51 embedded in the insulating layer 7 and electrically connected to the infrared detection element 5, and a signal line 51 provided outside the second substrate 9. And a plurality of dummy lines 61 embedded in the insulating layer 7 along with the signal lines 51 on the side of the signal lines 51. Furthermore, the infrared sensor 1 of the first embodiment includes a shield part 63 formed by electrically connecting at least one (a pair in this embodiment) dummy lines 61 among the plurality of dummy lines 61 to the ground. Prepare.

この構成によれば、赤外線センサ1の外部からのノイズは、信号線51の側方から信号線51に入ることなく、少なくとも一本(本実施形態では一対)のダミー線61により形成されたシールド部63に入ってグラウンドに送られる。したがって本発明の赤外線センサ1は、ノイズが信号線51に入るのを抑制することが可能になる。よって、本実施形態によれば、出力端子33からノイズが出力されるのを防ぐことができるので、ノイズの影響を受けにくい赤外線センサ1を提供することができる。   According to this configuration, noise from the outside of the infrared sensor 1 does not enter the signal line 51 from the side of the signal line 51, and the shield is formed by at least one (in this embodiment, a pair) dummy lines 61. Part 63 is sent to the ground. Therefore, the infrared sensor 1 of the present invention can suppress noise from entering the signal line 51. Therefore, according to this embodiment, since it is possible to prevent noise from being output from the output terminal 33, it is possible to provide the infrared sensor 1 which is not easily affected by noise.

また、第一実施形態の赤外線センサ1は、シールド部63が信号線51を側方から挟むように一対配置されている。   Moreover, the infrared sensor 1 of 1st embodiment is arrange | positioned so that the shield part 63 may pinch the signal wire 51 from the side.

この構成によれば、シールド部63は、信号線51を側方から挟むように一対配置されているので、赤外線センサ1の外部からのノイズは、信号線51の両側方から信号線51に入ることなく、シールド部63に入ってグラウンドに送られる。したがって本実施形態の赤外線センサ1は、ノイズが信号線に入るのをさらに抑制することが可能になる。よって、本実施形態によれば、出力端子33からノイズが出力されるのを防ぐことができるので、ノイズの影響をさらに受けにくい赤外線センサ1を提供することができる。   According to this configuration, the shield parts 63 are arranged in a pair so as to sandwich the signal line 51 from the side, so that noise from the outside of the infrared sensor 1 enters the signal line 51 from both sides of the signal line 51. Instead, it enters the shield part 63 and is sent to the ground. Therefore, the infrared sensor 1 of the present embodiment can further suppress noise from entering the signal line. Therefore, according to this embodiment, since it is possible to prevent noise from being output from the output terminal 33, it is possible to provide the infrared sensor 1 that is less susceptible to noise.

また、第一実施形態の赤外線センサ1は、一対のシールド部63が他のダミー線61よりも出力端子33に近接して配置されている。   In the infrared sensor 1 of the first embodiment, the pair of shield parts 63 are disposed closer to the output terminal 33 than the other dummy wires 61.

この構成によれば、一対のシールド部63は、他のダミー線61よりも出力端子33に近接して配置されているので、より広い範囲にわたって信号線51の周辺を覆うことができる。これにより、ノイズは、信号線51の両側方から信号線51に入ることなく、一対のシールド部63に入ってグラウンドに送られる。したがって本実施形態の赤外線センサ1によれば、ノイズが信号線51に入るのをさらに抑制することが可能になる。よって、本実施形態によれば、出力端子33からノイズが出力されるのを防ぐことができるので、ノイズの影響をさらに受けにくい赤外線センサ1を提供することができる。   According to this configuration, the pair of shield parts 63 are disposed closer to the output terminal 33 than the other dummy lines 61, so that the periphery of the signal line 51 can be covered over a wider range. Thereby, the noise enters the pair of shield parts 63 and is sent to the ground without entering the signal line 51 from both sides of the signal line 51. Therefore, according to the infrared sensor 1 of the present embodiment, it is possible to further suppress noise from entering the signal line 51. Therefore, according to this embodiment, since it is possible to prevent noise from being output from the output terminal 33, it is possible to provide the infrared sensor 1 that is less susceptible to noise.

また、第一実施形態の赤外線センサ1は、第二基板9が赤外線検出素子5を囲む接合膜15で絶縁層7の上面11に接合されており、接合膜15は、グラウンドに電気的に接続されており、シールド部63は、接合膜15に電気的に接続されている。   In the infrared sensor 1 of the first embodiment, the second substrate 9 is bonded to the upper surface 11 of the insulating layer 7 with a bonding film 15 surrounding the infrared detection element 5, and the bonding film 15 is electrically connected to the ground. The shield part 63 is electrically connected to the bonding film 15.

この構成によれば、赤外線検出素子5を囲む接合膜15がグラウンドに電気的に接続されており、シールド部63が接合膜15に電気的に接続されているので、ノイズは、信号線51の側方から信号線51に入ることなく、シールド部63および接合膜15を通ってグラウンドに送られる。また、ノイズは、第二基板9および接合膜15を通ってグラウンドに送られる。したがって、本実施形態の赤外線センサ1によれば、ノイズが信号線51に入るのを赤外線センサ1全体で抑制することが可能になる。よって、本発明によれば、出力端子33からノイズが出力されるのを防ぐことができるので、ノイズの影響をさらに受けにくい赤外線センサ1を提供することができる。   According to this configuration, since the bonding film 15 surrounding the infrared detection element 5 is electrically connected to the ground and the shield part 63 is electrically connected to the bonding film 15, noise is generated from the signal line 51. The light is sent to the ground through the shield part 63 and the bonding film 15 without entering the signal line 51 from the side. Further, the noise is sent to the ground through the second substrate 9 and the bonding film 15. Therefore, according to the infrared sensor 1 of the present embodiment, it is possible to suppress noise from entering the signal line 51 by the entire infrared sensor 1. Therefore, according to the present invention, since it is possible to prevent noise from being output from the output terminal 33, it is possible to provide the infrared sensor 1 that is less susceptible to noise.

また、第一実施形態の赤外線センサ1は、接合膜15が絶縁層7の上面11に信号線51を覆って配置された信号線被覆部17bを有していることを特徴としている。   In addition, the infrared sensor 1 of the first embodiment is characterized in that the bonding film 15 has a signal line covering portion 17 b disposed on the upper surface 11 of the insulating layer 7 so as to cover the signal line 51.

この構成によれば、接合膜15は、絶縁層7の上面11に信号線51を覆って配置された信号線被覆部17bを有しているので、ノイズが信号線51の上方から信号線51に入ろうとしても接合膜15に入ってグラウンドに送られる。したがって本実施形態の赤外線センサ1は、ノイズが信号線51に入るのをさらに抑制することが可能になる。よって、本実施形態によれば、出力端子33からノイズが出力されるのを防ぐことができるので、ノイズの影響をさらに受けにくい赤外線センサ1を提供することができる。   According to this configuration, since the bonding film 15 includes the signal line covering portion 17 b disposed on the upper surface 11 of the insulating layer 7 so as to cover the signal line 51, noise is generated from above the signal line 51. Even if it tries to enter, it enters the bonding film 15 and is sent to the ground. Therefore, the infrared sensor 1 of the present embodiment can further suppress noise from entering the signal line 51. Therefore, according to this embodiment, since it is possible to prevent noise from being output from the output terminal 33, it is possible to provide the infrared sensor 1 that is less susceptible to noise.

また、第一実施形態の赤外線センサ1では、第一基板3の絶縁層7において各信号線51の両側方にダミー線61を並べて配置している。これにより、信号線51,51間の段差が小さくなる。よって、第一実施形態の赤外線センサ1は、第一基板3の絶縁層7に信号線51を埋設しても、信号線51近傍における第一基板3の絶縁層7の上面11を平坦に形成することができる。この結果、第一基板3と第二基板9とが接合膜15を介して接合されるので、キャビティCの気密性を確保することができる。   In the infrared sensor 1 of the first embodiment, dummy lines 61 are arranged side by side on both sides of each signal line 51 in the insulating layer 7 of the first substrate 3. Thereby, the level | step difference between the signal lines 51 and 51 becomes small. Therefore, in the infrared sensor 1 of the first embodiment, even if the signal line 51 is embedded in the insulating layer 7 of the first substrate 3, the upper surface 11 of the insulating layer 7 of the first substrate 3 in the vicinity of the signal line 51 is formed flat. can do. As a result, since the first substrate 3 and the second substrate 9 are bonded via the bonding film 15, the airtightness of the cavity C can be ensured.

(第二実施形態)
続いて、図6から図8を参照し、本発明の第二実施形態の赤外線センサ101について説明する。
図6は、第二実施形態の赤外線センサの断面図である。なお、図6は、第一実施形態の図1におけるII−II断面に相当する断面図である。
図6に示すように第二実施形態の赤外線センサ101では、第一接合膜17は、第一接合膜本体部17aと、一対の対向部113とを備える。第一接合膜17は、第二接合膜19と接合している。一対の対向部113は、第一接合膜本体部17aの内端から赤外線検出素子5に向けて延びて形成されている。
(Second embodiment)
Next, the infrared sensor 101 according to the second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.
FIG. 6 is a cross-sectional view of the infrared sensor of the second embodiment. FIG. 6 is a cross-sectional view corresponding to the II-II cross section in FIG. 1 of the first embodiment.
As shown in FIG. 6, in the infrared sensor 101 of the second embodiment, the first bonding film 17 includes a first bonding film main body portion 17 a and a pair of opposed portions 113. The first bonding film 17 is bonded to the second bonding film 19. The pair of facing portions 113 are formed to extend from the inner end of the first bonding film main body portion 17 a toward the infrared detection element 5.

図7は、第二実施形態に係る赤外線センサの出力端子および出力端子の周囲の平面図である。
図8は、図7のVIII−VIII断面図である。
図7および図8に示すように、対向部113は、絶縁層7の上面11にシールド部63と対向して配置されている。
図8に示すように第一基板3の絶縁層7には、シールド部63と対向部113とを繋ぐ部分に第四ビア115が設けられている。シールド部63は、第四ビア115を介して対向部113に電気的に接続されている。これにより二本のシールド部63は、第一接合膜17(接合膜15)を介してグラウンドに電気的に接続されている。
FIG. 7 is a plan view of the output terminal of the infrared sensor according to the second embodiment and the periphery of the output terminal.
8 is a sectional view taken along line VIII-VIII in FIG.
As shown in FIGS. 7 and 8, the facing portion 113 is disposed on the upper surface 11 of the insulating layer 7 so as to face the shield portion 63.
As shown in FIG. 8, the insulating layer 7 of the first substrate 3 is provided with a fourth via 115 at a portion connecting the shield part 63 and the facing part 113. The shield part 63 is electrically connected to the facing part 113 through the fourth via 115. Thereby, the two shield parts 63 are electrically connected to the ground via the first bonding film 17 (bonding film 15).

次に、第二実施形態の赤外線センサ101の作用効果を説明する。
第二実施形態の赤外線センサ101では、接合膜15は、絶縁層7の上面11に二本のシールド部63と対向して配置された二本の対向部113を有している。
これにより第一基板3の上面13には、対向部113以外の領域に他の配線を配索することができる。よって、第二実施形態によれば、ノイズの影響を受けにくいとともに、配線の設置の自由度を高めることができる赤外線センサ101を提供することができる。その他の作用効果は、第一実施形態で説明した通りである。
Next, the effect of the infrared sensor 101 of 2nd embodiment is demonstrated.
In the infrared sensor 101 of the second embodiment, the bonding film 15 has two opposing portions 113 disposed on the upper surface 11 of the insulating layer 7 so as to oppose the two shield portions 63.
As a result, other wiring can be routed on the upper surface 13 of the first substrate 3 in a region other than the facing portion 113. Therefore, according to the second embodiment, it is possible to provide the infrared sensor 101 that is not easily affected by noise and that can increase the degree of freedom of wiring installation. Other functions and effects are as described in the first embodiment.

なお、本発明の技術範囲は上記の実施形態に限られるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。   The technical scope of the present invention is not limited to the above embodiment, and various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention.

上述の各実施形態では、第一基板3の第一接合膜17と第二基板9の第二接合膜19との接合方法については特に限定されることはない。したがって、第一基板3の第一接合膜17と第二基板9の第二接合膜19との接合方法としては、例えば熱圧着でもよいし金属拡散接合でもよい。また、第一基板3の第一接合膜17と第二基板9の第二接合膜19とをそれぞれ金錫合金(AuSn)で形成し、共晶温度まで加熱および溶融することで接合する、いわゆる共晶接合で接合してもよい。   In the above-described embodiments, the bonding method between the first bonding film 17 of the first substrate 3 and the second bonding film 19 of the second substrate 9 is not particularly limited. Therefore, as a bonding method between the first bonding film 17 of the first substrate 3 and the second bonding film 19 of the second substrate 9, for example, thermocompression bonding or metal diffusion bonding may be used. In addition, the first bonding film 17 of the first substrate 3 and the second bonding film 19 of the second substrate 9 are each formed of gold-tin alloy (AuSn), and bonded by heating and melting to a eutectic temperature. You may join by eutectic bonding.

その他、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、上記した実施の形態における構成要素を周知の構成要素に置き換えることは適宜可能である。   In addition, it is possible to appropriately replace the components in the above-described embodiments with known components without departing from the spirit of the present invention.

1,101・・・赤外線センサ 3・・・第一基板 4・・・赤外線検出素子 7・・・絶縁層 9・・・第二基板 11・・・絶縁層の上面 13・・・第一基板の上面 15・・・接合膜 17・・・第一接合膜(接合膜) 17b・・・信号線被覆部 上面 19・・・第二接合膜(接合膜) 33・・・出力端子 51・・・信号線 61・・・ダミー線 63・・・シールド部 113・・・対向部 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1,101 ... Infrared sensor 3 ... 1st board | substrate 4 ... Infrared detection element 7 ... Insulating layer 9 ... 2nd board | substrate 11 ... Upper surface of an insulating layer 13 ... 1st board | substrate 15 ... Bonding film 17 ... First bonding film (bonding film) 17b ... Signal line covering part Upper surface 19 ... Second bonding film (bonding film) 33 ... Output terminal 51 ...・ Signal line 61 ... Dummy line 63 ... Shield part 113 ... Counter part

Claims (6)

第一基板と、
前記第一基板の上面に設けられ、赤外線を検出する赤外線検出素子と、
前記第一基板の、前記赤外線検出素子を有する領域を除く領域に設けられた絶縁層と、
前記赤外線検出素子を覆った状態で前記絶縁層の上面に、接合膜を介して接合され、赤外線を透過可能な第二基板と、
前記絶縁層に埋設され前記赤外線検出素子に電気的に接続されている信号線と、
前記第二基板より外側に設けられ、前記信号線に電気的に接続される出力端子と、
前記信号線の側方において、前記信号線と並び前記絶縁層に埋設されている複数のダミー線と、
前記複数のダミー線のうち、少なくとも一本が、グラウンドと電気的に接続されて形成されたシールド部と、
を備えることを特徴とする赤外線センサ。
A first substrate;
An infrared detecting element provided on the upper surface of the first substrate for detecting infrared rays;
An insulating layer provided in a region of the first substrate excluding a region having the infrared detection element;
A second substrate that is bonded to the upper surface of the insulating layer in a state of covering the infrared detection element via a bonding film, and capable of transmitting infrared rays;
A signal line embedded in the insulating layer and electrically connected to the infrared detection element;
An output terminal provided outside the second substrate and electrically connected to the signal line;
On the side of the signal line, a plurality of dummy lines embedded in the insulating layer along with the signal line,
A shield part formed by electrically connecting at least one of the plurality of dummy lines to the ground;
An infrared sensor comprising:
前記シールド部は、前記信号線を側方から挟むように一対配置されていることを特徴とする請求項1に記載の赤外線センサ。   The infrared sensor according to claim 1, wherein a pair of the shield portions are disposed so as to sandwich the signal line from the side. 一対の前記シールド部は、他の前記ダミー線よりも前記出力端子に近接して配置されていることを特徴とする請求項2に記載の赤外線センサ。   The infrared sensor according to claim 2, wherein the pair of shield portions are disposed closer to the output terminal than the other dummy lines. 前記第二基板は、前記赤外線検出素子を囲む前記接合膜で前記絶縁層の上面に接合されており、
前記接合膜は、前記グラウンドに電気的に接続されており、
前記シールド部は、前記接合膜に電気的に接続されていることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の赤外線センサ。
The second substrate is bonded to the upper surface of the insulating layer with the bonding film surrounding the infrared detection element,
The bonding film is electrically connected to the ground;
The infrared sensor according to claim 1, wherein the shield part is electrically connected to the bonding film.
前記接合膜は、前記絶縁層の上面に前記シールド部と対向して配置された対向部を有していることを特徴とする請求項4に記載の赤外線センサ。   The infrared sensor according to claim 4, wherein the bonding film has a facing portion disposed on the upper surface of the insulating layer so as to face the shield portion. 前記接合膜は、前記絶縁層の上面に前記信号線を覆って配置された信号線被覆部を有していることを特徴とする請求項4または請求項5に記載の赤外線センサ。   6. The infrared sensor according to claim 4, wherein the bonding film has a signal line covering portion disposed on the upper surface of the insulating layer so as to cover the signal line.
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