JP2018134614A - Organic gas reducing device - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a novel technology in which, when oxidizing an organic gas in a gas to be treated with an oxidation catalyst, the activity of the catalyst can further be maintained.SOLUTION: There is provided an organic gas reducing device for reducing an organic gas in a gas to be treated, characterized in comprising: a member having an air permeability and in which an oxidation catalyst part having a mesopore and an oxidation catalyst particle containing one or two or more substances selected from the group consisting of simple substance of platinum, palladium, and oxides thereof supported on the mesopore, is disposed on the surface thereof; and a heating part for heating the oxidation catalyst part.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、被処理気体中のエチレンなどの有機ガス成分を酸化する装置に関する。   The present invention relates to an apparatus for oxidizing an organic gas component such as ethylene in a gas to be treated.

自動車や工場などの内燃機関から発生する排気ガスには微量の一酸化炭素などの有害成分が含まれるため、除去手段を用いてこれらを除去してから大気中に放出されている。また、密閉した保管庫などでは微量の悪臭物質が産生されカビ臭が発生する場合があり、種々の除去手段が施されている。
また、農産物からは熟成作用を有するエチレンが放出され、自身の熟成を進行させている。そのため、温度、湿度を一定に保つとともにこのエチレンガス濃度を低減することが、鮮度を長期間保持するために有効であるとされている。
Since exhaust gas generated from internal combustion engines such as automobiles and factories contains trace amounts of harmful components such as carbon monoxide, they are released into the atmosphere after they are removed using removal means. In addition, in a closed storage room or the like, a trace amount of malodorous substances may be produced and a mold odor may be generated, and various removal means are applied.
In addition, agricultural products release ethylene having a ripening action, and the aging of the product progresses. Therefore, keeping the temperature and humidity constant and reducing the ethylene gas concentration are said to be effective for maintaining the freshness for a long time.

大気中の有機微量成分を除去する方法は活性炭などの吸着剤への吸着、プラズマ発生装置によるラジカルや、オゾンなど活性種による分解除去方法などが用いられている。しかしながら、プラズマなど活性種を用いた処理方法は農作物の保管においては脱色等の見掛け上の変化が懸念されるため使用が難しく、対象用途に制限がある。吸着剤による吸着処理では吸着剤の有機ガス吸着量には上限があり、定期的な吸着剤の交換もしく再生が必要である。そのため加熱による性能回復処理を行い、繰り返し使用可能な脱臭フィルターが開示されている(特許文献1)。   Methods for removing organic trace components in the atmosphere include adsorption on an adsorbent such as activated carbon, radicals by a plasma generator, and decomposition and removal methods using active species such as ozone. However, the treatment method using active species such as plasma is difficult to use in the storage of agricultural crops due to concerns about apparent changes such as decolorization, and has limited applications. In the adsorption treatment with an adsorbent, the adsorbent has an upper limit on the amount of organic gas adsorbed, and the adsorbent must be periodically replaced or regenerated. Therefore, a deodorizing filter that can be used repeatedly by performing performance recovery processing by heating is disclosed (Patent Document 1).

有機成分を分解除去する方法においては、上述のプラズマ法のように物理的に発生させた活性種を用いる方法以外に、触媒を用いて酸化除去する方法も広く用いられ、鮮度保持装置に応用されている(特許文献2)。酸化触媒は接触面積を広くするため、無機粒子である担体に活性物質(触媒粒子)を担持させた構造体が使用されている(特許文献2、3)。また、無機系多孔質担体に担持された酸化触媒(特許文献6)や、活性物質を多孔質化した膜で揮発性有機化合物を処理する方法が開示されている(特許文献7)。さらに、シリンダー状のメソ孔を有する無機メソポーラス担体の細孔内に触媒粒子を担持させる触媒体も開発されており、無機粒子の外表面に触媒粒子を担持させた触媒体や活性物質を多孔質化した膜と比較して、非常に広い比表面積を有し活性の高い触媒体が得られている(特許文献4、5)。   In the method of decomposing and removing organic components, in addition to the method of using the physically generated active species as in the plasma method described above, a method of oxidizing and removing using a catalyst is widely used and applied to a freshness maintaining device. (Patent Document 2). In order to increase the contact area of an oxidation catalyst, a structure in which an active substance (catalyst particles) is supported on a carrier that is inorganic particles is used (Patent Documents 2 and 3). In addition, an oxidation catalyst (Patent Document 6) supported on an inorganic porous carrier and a method of treating a volatile organic compound with a porous membrane of an active substance are disclosed (Patent Document 7). Furthermore, a catalyst body in which catalyst particles are supported in the pores of an inorganic mesoporous carrier having cylindrical mesopores has been developed, and a catalyst body or active substance in which catalyst particles are supported on the outer surface of the inorganic particles is porous. Compared with the converted membrane, a catalyst body having a very wide specific surface area and high activity is obtained (Patent Documents 4 and 5).

特開2015−023968号公報Japanese Patent Laying-Open No. 2015-023968 特開2016−090088号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2006-090088 特開2003−080077号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2003-080077 特開2004−283770号公報JP 2004-283770 A 特開2007−326094号公報JP 2007-326094 A 特開2011−206672号公報JP 2011-206672 A 特開2006−326530号公報JP 2006-326530 A

しかしながら、上述のシリンダー状のメソポーラス担体に酸化触媒粒子を担持させた触媒体は、当初の触媒活性は高いが使用とともに触媒活性が低下していくという問題点がある。その原因ははっきりとは分かっていないが、細孔中に大気中の水分や酸化反応で生じた水が吸着することにより、触媒粒子と被処理気体との接触が阻害されて有害成分の分解反応が進行しない、あるいは細孔が吸着水で封止されてしまい、被処理気体の細孔内への流通自体が阻害されてしまうことなどが考えられる。
本発明は、被処理気体中の有機ガスを酸化触媒によって酸化するにあたり、その触媒の活性をより持続できる新規な技術を提供することを目的とする。
However, the catalyst body in which the oxidation catalyst particles are supported on the above-described cylindrical mesoporous support has a problem that although the initial catalytic activity is high, the catalytic activity decreases with use. The cause is not clearly understood, but the contact between the catalyst particles and the gas to be treated is inhibited by the adsorption of atmospheric moisture and water generated by oxidation reaction into the pores, and decomposition reaction of harmful components May not proceed, or the pores are sealed with adsorbed water, and the flow of the gas to be treated into the pores itself may be hindered.
An object of the present invention is to provide a novel technique capable of sustaining the activity of an organic gas in a gas to be treated with an oxidation catalyst.

本発明の要旨は以下のとおりである。
[1] 被処理気体中の有機ガスを低減する有機ガス低減装置であって、
通気性を有し、その表面にメソ孔と当該メソ孔に担持される白金、パラジウムの単体およびこれらの酸化物からなる群から1種または2種以上選択される物質を含む酸化触媒粒子とを有する酸化触媒部が配置されている部材と、
前記酸化触媒部を加熱する加熱部と、を備えることを特徴とする有機ガス低減装置。
[2] 前記加熱部が前記酸化触媒部を80℃以上に加熱することを特徴とする[1]に記載の有機ガス低減装置。
[3] 前記加熱部は、断続的に稼動することを特徴とする[1]もしくは[2]に記載の有機ガス低減装置。
[4] 前記有機ガスがエチレンであることを特徴とする[1]から[3]のいずれか一つに記載の有機ガス低減装置。
[5] 前記酸化触媒部がメソ孔を有する膜状支持体を有し、当該膜状支持体のメソ孔において前記酸化触媒粒子が担持されていることを特徴とする[1]から[4]のいずれか1つに記載の有機ガス低減装置。
[6] 前記膜状支持体の膜厚が50nm以上1000nm以下であることを特徴とする[5]に記載の有機ガス低減装置。
[7] 前記膜状支持体がSiO2で形成されていることを特徴とする[5]もしくは[6]に記載の有機ガス低減装置。
[8] 前記メソ孔のBET法で測定した平均孔径が2nm以上10nm以下であることを特徴とする[5]から[7]のいずれか一つに記載の有機ガス低減装置。
[9] 前記酸化触媒粒子の平均粒径が1nm以上10nm以下であることを特徴とする[5]から[8]のいずれか一つに記載の有機ガス低減装置。
[10] 前記酸化触媒体に被処理気体を供給する気体供給部をさらに備える[1]から[9]のいずれか一つに記載の有機ガス低減装置。
[11] 前記気体供給部が非処理気体を前記酸化触媒部に送風する送風機構を有しており、前記送風機構による送風の空間速度が10,000/h以上150,000/h以下であることを特徴とする[10]に記載の有機ガス低減装置。
[12] 前記酸化触媒部を有する部材の空気流通方向上流側に抗菌性、防カビ性、抗ウイルス性のうち少なくとも一つを有する化合物を担持した部材をさらに有することを特徴とする[10]もしくは[11]に記載の有機ガス低減装置。
The gist of the present invention is as follows.
[1] An organic gas reducing device for reducing organic gas in a gas to be treated,
Oxidation catalyst particles having air permeability and having mesopores on the surface thereof and containing one or more substances selected from the group consisting of platinum and palladium supported on the mesopores and oxides thereof. A member in which an oxidation catalyst part is disposed;
An organic gas reduction device comprising: a heating unit that heats the oxidation catalyst unit.
[2] The organic gas reduction device according to [1], wherein the heating unit heats the oxidation catalyst unit to 80 ° C. or higher.
[3] The organic gas reduction device according to [1] or [2], wherein the heating unit operates intermittently.
[4] The organic gas reducing device according to any one of [1] to [3], wherein the organic gas is ethylene.
[5] The oxidation catalyst portion has a membranous support having mesopores, and the oxidation catalyst particles are supported in mesopores of the membranous support. [1] to [4] The organic gas reduction apparatus as described in any one of these.
[6] The organic gas reduction device according to [5], wherein the film-like support has a thickness of 50 nm to 1000 nm.
[7] The organic gas reduction device according to [5] or [6], wherein the film-like support is made of SiO 2 .
[8] The organic gas reduction device according to any one of [5] to [7], wherein an average pore diameter of the mesopores measured by a BET method is 2 nm or more and 10 nm or less.
[9] The organic gas reduction device according to any one of [5] to [8], wherein an average particle diameter of the oxidation catalyst particles is 1 nm or more and 10 nm or less.
[10] The organic gas reduction device according to any one of [1] to [9], further including a gas supply unit that supplies a gas to be processed to the oxidation catalyst body.
[11] The gas supply unit has a blowing mechanism for blowing untreated gas to the oxidation catalyst unit, and a space velocity of blowing by the blowing mechanism is 10,000 / h or more and 150,000 / h or less. The organic gas reducing device according to [10].
[12] The member having an oxidation catalyst part further includes a member carrying a compound having at least one of antibacterial, antifungal and antiviral properties on the upstream side in the air flow direction [10] Or the organic gas reduction apparatus as described in [11].

本発明によれば、被処理気体中の有機ガスを酸化触媒によって酸化するにあたり、その触媒の活性をより持続できる新規な技術を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, when oxidizing the organic gas in to-be-processed gas with an oxidation catalyst, the novel technique which can maintain the activity of the catalyst more can be provided.

本発明の有機ガス低減装置の、1の態様の概要を示す図である。It is a figure which shows the outline | summary of 1 aspect of the organic gas reduction apparatus of this invention. 本発明の有機ガス低減装置が備える酸化触媒粒子が担持された膜状支持体を有する部材の、1の態様の概要を示す図である。It is a figure which shows the outline | summary of 1 aspect of the member which has the film-form support body by which the oxidation catalyst particle with which the organic gas reduction apparatus of this invention is equipped was carry | supported. 本発明の有機ガス低減装置が備える酸化触媒粒子が担持された膜状支持体を有する部材の、他の態様の概要を示す図である。It is a figure which shows the outline | summary of the other aspect of the member which has the film-form support body by which the oxidation catalyst particle with which the organic gas reduction apparatus of this invention is equipped was carry | supported.

以下、本発明の実施形態の一つについて詳述する。
図1は本実施形態の有機ガス低減装置の概要を示す図である。図2、図3は本実施形態に係る白金、パラジウムの単体および酸化物からなる群から1種または2種以上選択される物質を含む酸化触媒粒子(以下、単に酸化触媒粒子という場合もある)が担持された膜状支持体を有する部材の概要を示す図である。なお、図面において、実線の矢印は空気の移動方向を表し、また、破線の矢印は空気の酸化触媒層33における拡散を表す。
本実施形態の有機ガス低減装置100は、大気などの被処理気体中の有機ガスを酸化して、例えば青果物や花卉の生育に良好な大気状態を提供するために使用できる装置である。本実施形態の有機ガス低減装置100は、通気性を有し、その表面にメソ孔と当該メソ孔に担持される酸化触媒粒子とを有する酸化触媒部33が配置されている部材30と、膜状支持体に被処理気体を供給する気体供給部10と、酸化触媒部を加熱する加熱部36と、を備える。加熱部36により酸化触媒部を加熱することで、水分の影響で酸化触媒部における有機ガスの酸化する機能が低下した場合にもその機能を再生することができる。その結果、触媒の活性の持続に寄与することができる。
Hereinafter, one embodiment of the present invention will be described in detail.
FIG. 1 is a diagram showing an outline of the organic gas reduction device of the present embodiment. 2 and 3 are oxidation catalyst particles containing one or more substances selected from the group consisting of platinum, palladium alone and oxides according to the present embodiment (hereinafter sometimes simply referred to as oxidation catalyst particles). It is a figure which shows the outline | summary of the member which has a film-like support body with which was supported. In the drawing, solid arrows indicate the direction of air movement, and broken arrows indicate the diffusion of air in the oxidation catalyst layer 33.
The organic gas reduction device 100 of the present embodiment is a device that can be used to oxidize an organic gas in a gas to be treated such as the atmosphere to provide a good atmospheric state for growing fruits and vegetables, for example. The organic gas reduction device 100 according to the present embodiment includes a member 30 having an air permeability, a member 30 on which an oxidation catalyst portion 33 having mesopores and oxidation catalyst particles carried on the mesopores is disposed, and a membrane The gas supply part 10 which supplies to-be-processed gas to a cylindrical support body, and the heating part 36 which heats an oxidation catalyst part are provided. By heating the oxidation catalyst unit by the heating unit 36, even when the function of oxidizing the organic gas in the oxidation catalyst unit is lowered due to the influence of moisture, the function can be regenerated. As a result, it can contribute to sustaining the activity of the catalyst.

また、本実施形態において、酸化触媒部33は、気体が通気可能なメソ孔径の細孔(メソ孔)を有する多孔質である膜状支持体34を有しており、当該膜状支持体34のメソ孔内において酸化触媒粒子が担持されている(酸化触媒粒子が担持されている膜状支持体を以下、単に酸化触媒層ともいう)。気体供給部10から供給される被処理気体が当該酸化触媒層33に拡散浸透して、含有する有機ガス成分が酸化触媒層33中の酸化触媒粒子によって酸化除去される。   Further, in the present embodiment, the oxidation catalyst unit 33 includes a porous membrane-like support 34 having mesopore diameter pores (mesopores) through which gas can flow, and the membrane-like support 34. In the mesopores, oxidation catalyst particles are supported (the membrane-like support on which the oxidation catalyst particles are supported is hereinafter simply referred to as an oxidation catalyst layer). The gas to be treated supplied from the gas supply unit 10 diffuses and penetrates into the oxidation catalyst layer 33, and the organic gas component contained is oxidized and removed by the oxidation catalyst particles in the oxidation catalyst layer 33.

まず、酸化触媒層33について説明する。
酸化触媒層33はその形状を保持するため、フィルター状やメッシュ状など通気可能な基材31の通気部分35表面に膜状に形成される。基材31は、気体が透過できる構造の部材ならば、板状、シート状あるいは多孔質なブロック体でも構わない。多孔質なブロック体として、ハニカム状の空隙を有する部材は表面積が広く通気性の良好な形態であり好ましい。
First, the oxidation catalyst layer 33 will be described.
In order to maintain the shape of the oxidation catalyst layer 33, the oxidation catalyst layer 33 is formed into a film shape on the surface of the ventilation portion 35 of the base material 31 that can be ventilated, such as a filter shape or a mesh shape. The base material 31 may be a plate-like, sheet-like, or porous block body as long as it has a structure that allows gas to pass therethrough. As a porous block body, a member having a honeycomb-shaped void is preferable because it has a large surface area and a good air permeability.

本実施形態の酸化触媒層33は膜状であるため、粉体状のような凝集形態はとらないので、酸化触媒粒子が存在するメソ孔と被処理気体の気流までの距離は、粉体状など他の形状のメソポーラス触媒体と比較して短い。したがって、本実施形態の酸化触媒層33のメソ孔内に気体中の水分が吸着した場合、被処理気体気流への濃度勾配が発生し、気流への吸着水の再拡散が進行し、結果として吸着水が一定量に抑制される効果がある。一方従来の粉末状のメソポーラス触媒体は紛体内部のメソ孔から気流までの距離が相対的に長く、特に紛体内部に吸着した水分の脱離が起き難い状態になっているため、吸着水によるメソ孔内の酸化触媒の触媒活性の低下が引き起こされるものと推察される。さらに、本実施形態の酸化触媒層33は後述する加熱部38によって酸化触媒層33が加熱されることによりメソ孔内部まで伝わった熱によって吸着した水分を効率よく脱着することができ、好ましい。   Since the oxidation catalyst layer 33 of the present embodiment is in the form of a film, it does not take an agglomerated form like a powder. Therefore, the distance from the mesopores where the oxidation catalyst particles are present to the gas flow of the gas to be treated is It is shorter than other shapes of mesoporous catalyst bodies. Therefore, when moisture in the gas is adsorbed in the mesopores of the oxidation catalyst layer 33 of the present embodiment, a concentration gradient to the gas flow to be treated is generated, and the re-diffusion of the adsorbed water to the air flow proceeds. As a result There is an effect that adsorbed water is suppressed to a constant amount. On the other hand, the conventional powdery mesoporous catalyst body has a relatively long distance from the mesopores inside the powder to the air flow, and is particularly difficult to desorb moisture adsorbed inside the powder. It is assumed that the catalytic activity of the oxidation catalyst in the pores is reduced. Furthermore, the oxidation catalyst layer 33 of the present embodiment is preferable because it can efficiently desorb moisture adsorbed by the heat transmitted to the inside of the mesopores when the oxidation catalyst layer 33 is heated by the heating unit 38 described later.

本実施形態の基材31上に形成される酸化触媒層33の膜厚は50nm以上1000nm以下であることが望ましい。50nm未満であると酸化触媒の絶対量が低減するので、範囲内にある場合と比較して被処理気体中の有機ガス成分を十分酸化処理するのが困難になる。1000nmより大きいと、被処理気体から離れた位置に存在するメソ孔に吸着した水分は再放出されにくくなり、細孔内に吸着する水分量が増加し、酸化触媒粒子の作用を阻害するため、範囲内にある場合と比較して酸化触媒層の触媒効率が低下する。なお、本実施形態の酸化触媒層33の膜厚は膜の断面をTEM観察し、断面画像のサイズを測ることにより測定することができる。   The film thickness of the oxidation catalyst layer 33 formed on the substrate 31 of the present embodiment is desirably 50 nm or more and 1000 nm or less. If the thickness is less than 50 nm, the absolute amount of the oxidation catalyst is reduced, so that it is difficult to sufficiently oxidize the organic gas component in the gas to be treated as compared with the case where the oxidation catalyst is within the range. If it is larger than 1000 nm, the moisture adsorbed in the mesopores present at a position away from the gas to be treated becomes difficult to be re-released, the amount of moisture adsorbed in the pores increases, and the action of the oxidation catalyst particles is inhibited. The catalyst efficiency of the oxidation catalyst layer is reduced as compared with the case where the value is within the range. The film thickness of the oxidation catalyst layer 33 of the present embodiment can be measured by observing the cross section of the film with a TEM and measuring the size of the cross-sectional image.

本実施形態の酸化触媒層33は、被処理気体中の有機成分である有機ガスを酸化反応で二酸化炭素や水などに処理して大気中に排出できる。本実施形態の酸化触媒層33において処理可能な気体としては、特に限定されないが、農産物や花卉などの植物から発せられる化合物や、自動車の内装材、住宅の建材・内装材、家電の筐体・部材などの素材から揮発する物質、塗料、接着剤、洗浄剤などの有機溶剤から揮発する物質が挙げられる。具体的には、メタン、エタン、プロパン、ブタン、エチレン、プロピレン、イソプレン、ベンゼン、キシレン、トルエン、エチルベンゼン、スチレン、α−ファルネセン、β−ファルネセンなどの炭化水素類、メタノール、エタノール、プロパン−1−オール、ブタン−1−オール、ペンタン−1−オール、ヘキサン−1−オール、ヘプタン−1−オール、オクタン−1−オール、トランス−2−ヘキセノール、シス−2−ヘキセノール、トランス−3−ヘキセノール、シス−3−ヘキセノール、リナロール、ベンジルアルコールなどのアルコール類、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、ブタナール、ペンタナール、ノナナール、ベンズアルデヒド、ヘキサナール、トランス−2−ヘキセナール、シス−2−ヘキサナール、トランス−2−オクテナール、トランス−2−ノネナール、シス−2−ノネナール、トランス,シス−2,6−ノナジエナール、トランス,シス−2,4−デカジエンナールなどのアルデヒド類、アセトン、エチルメチルケトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、アセトフェノンなどのケトン類、蟻酸メチル、酢酸エチル、酢酸ペンチル、酢酸イソペンチル、酢酸オクチル、酢酸ヘキシル、酢酸ベンジル、酪酸メチル、酪酸エチル、酪酸ペンチル、サリチル酸メチル、カプロン酸エチル 吉草酸ペンチル、エチル−2−メチルプロパネート、エチルブタノエート、メチル−2−メチルブタノネート、エチル−2−メチルブタノエート、エチル−3−メチルブタノエート、メチル−3−ヒドロキシブタノエート、メチルヘキサノエート、エチルヘキサノエート、ヘキシルヘキサノエート、メチル−3−ヒドロキシヘキサノエート、オクチルヘキサノエート、エチルオクタノエート、メチル−3−ヒドロキシオクタノエート、ニコチン酸エチル、γ−ヘキサラクトン、γ−オクタラクトン、δ−オクタラクトン、γ−デカラクトン、δ−デカラクトン、γ−ドデカラクトン、δ−ドデカラクトンなどのエステル類、蟻酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、2−メチルプロパン酸、2−メチルブタン酸などのカルボン酸類、トランス−ネロリドール、シス−ネロリドール、ファルネソールなどのテルペン類やオイゲノール、バニリンなどのフェノール類などが例示される。   The oxidation catalyst layer 33 of the present embodiment can treat organic gas, which is an organic component in the gas to be treated, into carbon dioxide, water, or the like by an oxidation reaction and discharge it into the atmosphere. Gases that can be treated in the oxidation catalyst layer 33 of the present embodiment are not particularly limited. However, compounds emitted from plants such as agricultural products and flower buds, automobile interior materials, residential building materials / interior materials, home appliance housings, Substances that volatilize from materials such as members and substances that volatilize from organic solvents such as paints, adhesives, and cleaning agents. Specifically, hydrocarbons such as methane, ethane, propane, butane, ethylene, propylene, isoprene, benzene, xylene, toluene, ethylbenzene, styrene, α-farnesene, β-farnesene, methanol, ethanol, propane-1- All, butan-1-ol, pentan-1-ol, hexane-1-ol, heptan-1-ol, octan-1-ol, trans-2-hexenol, cis-2-hexenol, trans-3-hexenol, Alcohols such as cis-3-hexenol, linalool, benzyl alcohol, formaldehyde, acetaldehyde, propionaldehyde, butanal, pentanal, nonanal, benzaldehyde, hexanal, trans-2-hexenal, cis-2-hexa Aldehydes such as nal, trans-2-octenal, trans-2-nonenal, cis-2-nonenal, trans, cis-2,6-nonadienal, trans, cis-2,4-decadienal, acetone, ethylmethyl Ketones such as ketone, diethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, acetophenone, methyl formate, ethyl acetate, pentyl acetate, isopentyl acetate, octyl acetate, hexyl acetate, benzyl acetate, methyl butyrate, ethyl butyrate, pentyl butyrate, methyl salicylate, Ethyl caproate Pentyl valerate, ethyl-2-methylpropanoate, ethylbutanoate, methyl-2-methylbutanoate, ethyl-2-methylbutanoate, ethyl-3-methylbutanoate, methyl-3 -Hydroxybutano , Methylhexanoate, ethylhexanoate, hexylhexanoate, methyl-3-hydroxyhexanoate, octylhexanoate, ethyloctanoate, methyl-3-hydroxyoctanoate, ethyl nicotinate, Esters such as γ-hexalactone, γ-octalactone, δ-octalactone, γ-decalactone, δ-decalactone, γ-dodecalactone, δ-dodecalactone, formic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, capron Examples thereof include carboxylic acids such as acid, enanthic acid, caprylic acid, 2-methylpropanoic acid and 2-methylbutanoic acid, terpenes such as trans-nerolidol, cis-nerolidol and farnesol, and phenols such as eugenol and vanillin. The

本実施形態の酸化触媒層33の構成要素である膜状支持体34は、メソ孔である細孔を有する。本明細書において、メソ孔とは1の表面における開口部が同一のまたは異なる表面における他の開口部と連通している、BET法で求めた直径が2nm以上50 nm 以下である細孔を指す。
メソ孔の形状やその開口部の位置関係などは特に限定されず、例えば膜状支持体34の上面と下面が直線状に連通したシリンダー形状でも、メソ孔が支持体内部で分岐して他の細孔とつながっているようないわゆる連通構造でもよい。連通構造はより多くの開口部がつながっているので、支持体内部に水分が付着しても通気性が損なわれにくいため、連通構造のほうがより好ましい。
The membranous support 34 that is a component of the oxidation catalyst layer 33 of the present embodiment has pores that are mesopores. In this specification, a mesopore refers to a pore having a diameter of 2 nm or more and 50 nm or less determined by the BET method in which an opening on one surface communicates with another opening on the same or different surface. .
The shape of the mesopores and the positional relationship between the openings are not particularly limited. For example, even in a cylinder shape in which the upper surface and the lower surface of the membrane-like support 34 communicate with each other in a straight line, the mesopores are branched inside the support. A so-called communication structure that is connected to the pores may be used. Since a larger number of openings are connected in the communication structure, even if moisture adheres to the inside of the support, the air permeability is unlikely to be impaired. Therefore, the communication structure is more preferable.

ここで、メソ孔のBET法による平均直径が2nm以上10nm以下であることが、担持される酸化触媒粒子の粒径も当該範囲内になり、より高活性の触媒体が得られるので好ましい。なお、本実施形態に係る支持体34が有する細孔の直径はBET法による自動比表面積/細孔分布測定装置を用いて算出した値である。   Here, it is preferable that the average diameter of the mesopores by the BET method is 2 nm or more and 10 nm or less because the particle diameter of the supported oxidation catalyst particles is also within the above range and a more highly active catalyst body can be obtained. In addition, the diameter of the pore which the support body 34 which concerns on this embodiment has is the value computed using the automatic specific surface area / pore distribution measuring apparatus by BET method.

本実施形態においては、膜状支持体34が有するメソ孔において酸化触媒粒子が担持される。酸化触媒粒子は、酸化分解反応を促進する触媒機能を有する白金もしくはパラジウムの粒子を単独もしくは併用して用いることができる。   In the present embodiment, the oxidation catalyst particles are supported in the mesopores of the membrane support 34. As the oxidation catalyst particles, platinum or palladium particles having a catalytic function for promoting an oxidative decomposition reaction can be used alone or in combination.

また、酸化触媒粒子の平均粒径が10nm以下(より好ましくは1nm以上10nm以下、さらにより好ましくは1nm以上6nm以下)であれば、酸化触媒粒子の比表面積が増大し触媒活性が飛躍的に向上して被処理気体中の有機ガスの酸化効率がさらに高まるので、好ましい。
なお、酸化触媒粒子の粒径は透過型電子顕微鏡(TEM)の画像写真での粒子サイズを算出し、その平均値として粒径を得ることができる。
Further, if the average particle diameter of the oxidation catalyst particles is 10 nm or less (more preferably 1 nm or more and 10 nm or less, and even more preferably 1 nm or more and 6 nm or less), the specific surface area of the oxidation catalyst particles is increased and the catalytic activity is dramatically improved. And since the oxidation efficiency of the organic gas in to-be-processed gas increases further, it is preferable.
In addition, the particle size of the oxidation catalyst particle can be obtained by calculating the particle size in an image photograph of a transmission electron microscope (TEM) and obtaining the average particle size.

これらの酸化触媒粒子は酸化触媒層33に対して、0.1〜20質量%担持されることが好ましく、0.5〜10質量%とするのがより好ましい。20質量%より多く担持させると、酸化触媒粒子同士が凝集しやすくなり、範囲内にある場合と比較して触媒活性が減少し、0.1質量%未満では範囲内にある場合と比較して十分な触媒活性が得られないので好ましくない。   These oxidation catalyst particles are preferably supported by 0.1 to 20% by mass, and more preferably 0.5 to 10% by mass with respect to the oxidation catalyst layer 33. When the amount is more than 20% by mass, the oxidation catalyst particles are likely to aggregate with each other, and the catalytic activity is reduced as compared with the case where the oxidation catalyst particles are within the range. It is not preferable because sufficient catalytic activity cannot be obtained.

なお、酸化触媒層においては、酸化触媒粒子に加えて、助触媒粒子や各種金属元素などを含んでいてもよく、特に限定されない。具体的には、助触媒と酸化触媒粒子を組み合わせた助触媒粒子と酸化触媒微粒子が混在するものや、各種金属元素を触媒粒子と複合化させた複合粒子からなる複合触媒であってもよい。酸化触媒粒子単独の場合や酸化触媒粒子に助触媒を混合させた場合には、酸化触媒粒子が上述の大きさの範囲内であればよい。助触媒または複合触媒において用いる触媒粒子以外の金属粒子(ナノ粒子)としては、卑金属およびそれらの酸化物などが挙げられる。これらの貴金属およびその酸化物、卑金属およびその酸化物の粒子は2種以上混合されて、膜状支持体34細孔内表面に担持されてもよい。   The oxidation catalyst layer may contain promoter particles and various metal elements in addition to the oxidation catalyst particles, and is not particularly limited. Specifically, the catalyst may be a mixture of cocatalyst particles obtained by combining the cocatalyst and oxidation catalyst particles and oxidation catalyst fine particles, or a composite catalyst composed of composite particles obtained by combining various metal elements with catalyst particles. When the oxidation catalyst particles are used alone or when a promoter is mixed with the oxidation catalyst particles, the oxidation catalyst particles may be within the above-mentioned size range. Examples of metal particles (nanoparticles) other than the catalyst particles used in the promoter or composite catalyst include base metals and oxides thereof. Two or more kinds of these noble metal and oxide thereof, base metal and oxide thereof may be mixed and supported on the inner surface of the membrane-like support 34.

本実施形態に係るメソ孔を有する膜状支持体34は、メソ孔を有し、そのメソ孔内に酸化触媒粒子を担持させることができればどのようなものでもよいが、鋳型となる化合物を用いてメソ孔を形成し、当該化合物を加熱除去する工程を含んで製造される場合があることも考慮すると、加熱温度以上で劣化を生じない材料であることが好ましい。   The membranous support 34 having mesopores according to the present embodiment may be anything as long as it has mesopores and can support the oxidation catalyst particles in the mesopores. In view of the fact that it may be produced including a step of forming mesopores and removing the compound by heating, a material that does not deteriorate at a heating temperature or higher is preferable.

膜状支持体34を構成する金属酸化物としては、例えば、γ-Al2O3、α-Al2O3、θ-Al2O3、η-Al2O3、アモルファスのAl2O3、TiO2、ZrO2、SnO2、SiO2、MgO、ZnO2、Bi2O3、In2O3、MnO2、Mn2O3、Nb2O5、FeO、Fe2O3、Fe3O4、Sb2O3、CuO、Cu2O、NiO、Ni3O4、Ni2O3、CoO、Co3O4、Co2O3、WO3、CeO2、Pr6O11、Y2O3、In2O3、PbO、ThO2などの単一の無機酸化物が挙げられる。また、例えば、SiO2−Al2O3、SiO2−B2O3、SiO2−P2O5、SiO2−TiO2、SiO2−ZrO2、Al2O3−TiO2、Al2O3−ZrO2、Al2O3−CaO、Al2O3−B2O3、Al2O3−P2O5、Al2O3−CeO2、Al2O3−Fe2O3、TiO2−CeO2、TiO2−ZrO2、TiO2−WO3、ZrO2−WO3、SnO2−WO3、CeO2−ZrO2、SiO2−TiO2−ZrO2、Al2O3−TiO2−ZrO2、SiO2−Al2O3−TiO2、SiO2−TiO2−CeO2、セリウム・ジルコニウム・ビスマス複合酸化物などの複合酸化物で膜状支持体34が構成されるようにしてもよい。尚、セリウム・ジルコニウム・ビスマス複合酸化物は一般式Ce1−X−YZrBi2−δで表わされる固溶体であり、X、Y、δの値がそれぞれ0.1≦X≦0.3、0.1≦Y≦0.3、0.05≦δ≦0.15の範囲である。 Examples of the metal oxide constituting the film support 34 include γ-Al 2 O 3 , α-Al 2 O 3 , θ-Al 2 O 3 , η-Al 2 O 3 , and amorphous Al 2 O 3. , TiO 2 , ZrO 2 , SnO 2 , SiO 2 , MgO, ZnO 2 , Bi 2 O 3 , In 2 O 3 , MnO 2 , Mn 2 O 3 , Nb 2 O 5 , FeO, Fe 2 O 3 , Fe 3 O 4 , Sb 2 O 3 , CuO, Cu 2 O, NiO, Ni 3 O 4 , Ni 2 O 3 , CoO, Co 3 O 4 , Co 2 O 3 , WO 3 , CeO 2 , Pr 6 O 11 , Y Examples thereof include single inorganic oxides such as 2 O 3 , In 2 O 3 , PbO, and ThO 2 . Also, for example, SiO 2 -Al 2 O 3 , SiO 2 -B 2 O 3 , SiO 2 -P 2 O 5 , SiO 2 -TiO 2 , SiO 2 -ZrO 2 , Al 2 O 3 -TiO 2 , Al 2 O 3 −ZrO 2 , Al 2 O 3 −CaO, Al 2 O 3 −B 2 O 3 , Al 2 O 3 −P 2 O 5 , Al 2 O 3 −CeO 2 , Al 2 O 3 −Fe 2 O 3 , TiO 2 -CeO 2, TiO 2 -ZrO 2, TiO 2 -WO 3, ZrO 2 -WO 3, SnO 2 -WO 3, CeO 2 -ZrO 2, SiO 2 -TiO 2 -ZrO 2, Al 2 O 3 film-like support 34 is composed of -TiO 2 -ZrO 2, SiO 2 -Al 2 O 3 -TiO 2, SiO 2 -TiO 2 -CeO 2, composite oxides such as cerium-zirconium-bismuth composite oxide You may do it. Note that the cerium-zirconium-bismuth composite oxide is a solid solution represented by the general formula Ce 1-X-Y Zr X Bi Y O 2-δ, X, Y, the value is 0.1 ≦ X ≦ each [delta] 0 .3, 0.1 ≦ Y ≦ 0.3, 0.05 ≦ δ ≦ 0.15.

膜状支持体34の材質は本実施形態の有機ガス低減装置100が使用される諸環境条件に応じて選択すればよい。SiO2は酸化触媒粒子をより強固に担持できるとともに基材とより強固に接着できるのでより望ましい。 What is necessary is just to select the material of the film-form support body 34 according to various environmental conditions in which the organic gas reduction apparatus 100 of this embodiment is used. SiO 2 is more desirable because it can support the oxidation catalyst particles more firmly and can adhere more firmly to the substrate.

本実施形態の酸化触媒層33は上述のとおり基材31上に形成される。基材31上に本実施形態の酸化触媒層33を形成することで容易に本実施形態の酸化触媒層33の膜厚を薄く作製することができるため、好ましい。基材31は、通気性を有する限りその形状は特に限定されず、例えば、パンチング加工により多数の貫通孔が形成されているシート状のものや、繊維状、布状、メッシュ状で、織物、網物、不織布などから構成される繊維構造体(フィルター状)とすることができる。その他、使用目的に合った種々の形状及びサイズ等のものを適宜利用できる。
基材31を用いることで、容易に支持体の膜状の形状を維持することができる。
The oxidation catalyst layer 33 of this embodiment is formed on the base material 31 as described above. It is preferable to form the oxidation catalyst layer 33 of the present embodiment on the substrate 31 because the thickness of the oxidation catalyst layer 33 of the present embodiment can be easily reduced. The shape of the base material 31 is not particularly limited as long as it has air permeability. For example, the base material 31 has a sheet-like shape in which a large number of through holes are formed by punching, a fiber shape, a cloth shape, a mesh shape, a woven fabric, It can be set as the fiber structure (filter shape) comprised from a net | network thing, a nonwoven fabric, etc. In addition, various shapes and sizes suitable for the purpose of use can be used as appropriate.
By using the base material 31, the film-like shape of the support can be easily maintained.

基材31は酸化触媒層33の膜状支持体34を形成する際に加熱する場合があるため、当該加熱温度に耐える耐熱性を有する材料を用いることが望ましい。具体的には金属材料、セラミックス、ガラス、炭素繊維、炭化珪素繊維や耐熱性有機高分子材料などが好ましく、さらには金属、金属酸化物、ガラスがより好ましい。   Since the base material 31 may be heated when the film-like support 34 of the oxidation catalyst layer 33 is formed, it is desirable to use a heat-resistant material that can withstand the heating temperature. Specifically, metal materials, ceramics, glass, carbon fibers, silicon carbide fibers, heat resistant organic polymer materials, and the like are preferable, and metals, metal oxides, and glass are more preferable.

基材31に用いられる金属材料としては、タングステン、モリブデン、タンタル、ニオブ、TZM(Titanium Zirconium Molybdenum)、W−Re(tungsten-rhenium)などの高融点金属や、銀、ルテニウムなどの貴金属及びそれらの合金または酸化物、チタン、ニッケル、ジルコニウム、クロム、インコネル、ハステロイなどの特殊金属、アルミニウム、銅、ステンレス鋼、亜鉛、マグネシウム、鉄などの汎用金属およびこれら汎用金属を含む合金またはこれら汎用金属の酸化物を用いることができる。また、各種めっき及び真空蒸着や、CVD法や、スパッタ法などにより、上述した金属、合金または酸化物の被膜を他の無機材料に形成して用いてもよい。   Metal materials used for the base material 31 include refractory metals such as tungsten, molybdenum, tantalum, niobium, TZM (Titanium Zirconium Molybdenum), W-Re (tungsten-rhenium), noble metals such as silver and ruthenium, and their Alloys or oxides, special metals such as titanium, nickel, zirconium, chromium, inconel, hastelloy, general metals such as aluminum, copper, stainless steel, zinc, magnesium, iron, and alloys containing these general metals or oxidation of these general metals Can be used. Further, the above-described metal, alloy, or oxide film may be formed on another inorganic material by various plating and vacuum deposition, a CVD method, a sputtering method, or the like.

なお、上述した金属表面及びその合金表面には、通常、自然酸化薄膜が形成されており、膜状支持体34をシラン化合物から形成する場合、この自然酸化薄膜を利用して基材31と膜状支持体34を強固に固定させることができる。この場合には、予め、酸化薄膜の表面に付着している油分や汚れを通常の公知の方法により除去することが、安定に、かつ、強固に固定するためには好ましい。また、自然酸化膜を利用する代わりに、金属表面又は合金表面に、公知の方法により化学的に酸化薄膜を形成したり、陽極酸化などの電気化学的な公知の方法により酸化薄膜を形成してもよい。   Note that a natural oxide thin film is usually formed on the metal surface and the alloy surface thereof. When the film-like support 34 is formed of a silane compound, the base 31 and the film are formed using the natural oxide thin film. The shaped support 34 can be firmly fixed. In this case, it is preferable to remove oil and dirt adhering to the surface of the oxide thin film in advance by an ordinary known method in order to fix stably and firmly. Also, instead of using a natural oxide film, an oxide thin film is chemically formed on a metal surface or alloy surface by a known method, or an oxide thin film is formed by a known electrochemical method such as anodic oxidation. Also good.

さらに、基材31に用いられるセラミックスとしては、土器、陶器、せっ器、磁気などの陶磁器、ガラス、セメント、石膏、ほうろう及びファインセラミックスなどのセラミックスを挙げることができる。構成するセラミックスの組成は、元素系、酸化物系、水酸化物系、炭化物系、炭酸塩系、窒化物系、ハロゲン化物系、及びリン酸塩系などのセラミックスを挙げることができ、また、それらの複合物でもよい。   Furthermore, examples of the ceramic used for the base material 31 include ceramics such as earthenware, ceramics, gypsum, magnetism, and ceramics such as glass, cement, gypsum, enamel and fine ceramics. Examples of the composition of the ceramic to be configured include elemental, oxide, hydroxide, carbide, carbonate, nitride, halide, and phosphate ceramics. These composites may be used.

また、基材31に用いられるセラミックスとしては、さらに、チタン酸バリウム、チタン酸ジルコン酸鉛、フェライト、アルミナ、フォルステライト、ジルコニア、ジルコン、ムライト、ステアタイト、コーディエライト、窒化アルミニウム、窒化ケイ素、炭化ケイ素、ニューカーボン、ニューガラスなどや、高強度セラミックス、機能性セラミックス、超伝導セラミックス、非線形光学セラミックス、抗菌性セラミックス、生分解性セラミックス、及びバイオセラミックスなどのセラミックスを挙げることができる。   Further, as the ceramic used for the substrate 31, further, barium titanate, lead zirconate titanate, ferrite, alumina, forsterite, zirconia, zircon, mullite, steatite, cordierite, aluminum nitride, silicon nitride, Examples thereof include silicon carbide, new carbon, and new glass, and ceramics such as high-strength ceramics, functional ceramics, superconducting ceramics, nonlinear optical ceramics, antibacterial ceramics, biodegradable ceramics, and bioceramics.

また、基材31に用いられるガラスとしては、ソーダ石灰ガラス、カリガラス、クリスタルガラス、石英ガラス、カルコゲンガラス、ウランガラス、水ガラス、偏光ガラス、強化ガラス、合わせガラス、耐熱ガラス・硼珪酸ガラス、防弾ガラス、ガラス繊維、ダイクロ、ゴールドストーン(茶金石・砂金石・紫金石)、ガラスセラミックス、低融点ガラス、金属ガラス、及びサフィレットなどのガラスを用いることが可能である。   Moreover, as glass used for the base material 31, soda lime glass, potash glass, crystal glass, quartz glass, chalcogen glass, uranium glass, water glass, polarizing glass, tempered glass, laminated glass, heat resistant glass / borosilicate glass, bulletproof Glasses such as glass, glass fiber, dichroic, gold stone (brown stone / sand gold stone / purple gold stone), glass ceramics, low melting point glass, metallic glass, and saphiret can be used.

また、基材31にはその他に、普通ポルトランドセメント、早強ポルトランドセメント、超早強ポルトランドセメント、中庸熱ポルトランドセメント、低熱ポルトランドセメント、耐硫酸塩ポルトランドセメント、及びポルトランドセメントに高炉スラグ、フライアッシュ、シリカ質混合材を添加した混合セメントである高炉セメント、シリカセメント、及びフライアッシュセメントなどのセメントを使用することが可能である。   In addition to the base material 31, normal Portland cement, early-strength Portland cement, ultra-early strong Portland cement, medium heat Portland cement, low heat Portland cement, sulfate-resistant Portland cement, and Portland cement blast furnace slag, fly ash, It is possible to use cement such as blast furnace cement, silica cement, and fly ash cement, which are mixed cements to which a siliceous mixed material is added.

また、基材31にはその他に、チタニア、ジルコニア、アルミナ、セリア(酸化セリウム)、ゼオライト、アパタイト、シリカ、活性炭、珪藻土などを使用することができる。さらに、基材31には、クロム、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、銅、錫などからなる金属酸化物を用いることも可能である。
さらに、基材31には、ポリイミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリフェニレンスルフィド、ポリアラミド、ポリベンゾチアゾール、ポリベンゾオキサゾール、ポリベンゾイミダゾール、ポリキノリン、ポリキノキサリン、フッ素樹脂などや、フェノール樹脂やエポキシ樹脂などの熱硬化性樹脂などの当業者に公知な耐熱性有機高分子材料を用いることも可能である。
In addition, titania, zirconia, alumina, ceria (cerium oxide), zeolite, apatite, silica, activated carbon, diatomaceous earth, or the like can be used for the base material 31. Furthermore, a metal oxide made of chromium, manganese, iron, cobalt, nickel, copper, tin, or the like can be used for the base material 31.
Furthermore, the base material 31 is made of heat such as polyimide, polyether ether ketone, polyphenylene sulfide, polyaramide, polybenzothiazole, polybenzoxazole, polybenzimidazole, polyquinoline, polyquinoxaline, fluororesin, phenol resin or epoxy resin. It is also possible to use a heat-resistant organic polymer material known to those skilled in the art, such as a curable resin.

次に、本実施形態の酸化触媒層33を得る方法の一例について説明する。酸化触媒層33は通気性を有する基材31上にメソ孔径の細孔を有する膜状支持体34を形成し、得られた膜状支持体34のメソ孔内に酸化触媒粒子を担持させることにより得ることができる。   Next, an example of a method for obtaining the oxidation catalyst layer 33 of the present embodiment will be described. The oxidation catalyst layer 33 is formed by forming a membranous support 34 having pores having a mesopore diameter on a gas-permeable substrate 31 and supporting the oxidation catalyst particles in the mesopores of the obtained membranous support 34. Can be obtained.

当該方法においては、まず、膜状支持体34を形成する。
メソ孔を有する膜状の支持体34は、例えば、支持体内部のメソ孔の鋳型として作用する物質が含有している状態で基材31上に膜状の前駆体を形成し、その後鋳型として作用する物質を分解除去することで得ることができる。
In the method, first, the film-like support 34 is formed.
The membranous support 34 having mesopores forms, for example, a membranous precursor on the substrate 31 in a state in which a substance acting as a mesopore template inside the support is contained, and then as a template It can be obtained by decomposing and removing the acting substance.

当該方法の一例について説明する。まず、鋳型となる界面活性剤とアルコキシシランもしくは金属アルコキシドの加水分解物とを含む溶液(以下、前駆体溶液と称する)を調製する。具体的には、鋳型となる界面活性剤を溶解した溶液にアルコキシシランもしくは金属アルコキシドを加え、pH調整を行ってアルコキシシランもしくは金属アルコキシドを加水分解する。これによりシラノール基もしくは金属水酸化物を生成させる。界面活性剤は溶液中でミセルを形成しメソ孔の鋳型となる。この前駆体溶液を基材31に塗布し、加熱することで溶媒を揮散させるとともに、シラノール基もしくは金属水酸化物を縮合硬化させて、部材表面に膜状支持体34の前駆体を形成させる。その後、さらに300℃以上の高温に焼成することで、前駆体中の鋳型である界面活性剤を分解揮発させることにより除去し、メソ孔を有する膜状支持体34が得られる。   An example of the method will be described. First, a solution containing a surfactant as a template and a hydrolyzate of alkoxysilane or metal alkoxide (hereinafter referred to as a precursor solution) is prepared. Specifically, alkoxysilane or metal alkoxide is added to a solution in which a surfactant as a template is dissolved, and pH is adjusted to hydrolyze the alkoxysilane or metal alkoxide. This produces a silanol group or a metal hydroxide. The surfactant forms micelles in the solution and becomes a template for mesopores. The precursor solution is applied to the substrate 31 and heated to volatilize the solvent, and the silanol group or metal hydroxide is condensed and cured to form the precursor of the film-like support 34 on the surface of the member. Thereafter, by further baking to a high temperature of 300 ° C. or higher, the surfactant as a template in the precursor is removed by decomposing and volatilizing, and the membranous support 34 having mesopores is obtained.

前駆体溶液は、例えば、(1)アルコキシシランもしくは金属アルコキシド、(2)溶媒(溶剤)、(3)界面活性剤の3つの成分を含んで構成することができる。アルコキシシランもしくは金属アルコキシドについて溶液中で加水分解処理を行う場合には水が必要なので、溶媒には水や、水とメタノールやエタノールといったアルコール類などの水溶性有機溶媒との混合溶媒とすることが好ましい。また、アルコキシシランもしくは金属アルコキシドの加水分解処理のための触媒が溶液中にさらに含まれるようにしてもよく、当該触媒としては硝酸、塩酸等の酸を用いることが好ましい。
なお、界面活性剤やアルコキシシランもしくは金属アルコキシドの割合は特に限定されず、適宜設定できる。界面活性剤/アルコキシシランもしくは金属アルコキシドのモル比を変えることで、得られる膜状支持体の細孔体積率、多孔度を制御することができる。
The precursor solution can be configured to include, for example, three components: (1) alkoxysilane or metal alkoxide, (2) solvent (solvent), and (3) surfactant. Since water is required when hydrolyzing an alkoxysilane or metal alkoxide in a solution, the solvent may be water or a mixed solvent of water and a water-soluble organic solvent such as methanol or ethanol. preferable. Further, a catalyst for hydrolysis treatment of alkoxysilane or metal alkoxide may be further included in the solution, and it is preferable to use an acid such as nitric acid or hydrochloric acid as the catalyst.
The ratio of the surfactant, alkoxysilane, or metal alkoxide is not particularly limited and can be set as appropriate. By changing the molar ratio of surfactant / alkoxysilane or metal alkoxide, the pore volume ratio and the porosity of the obtained film-like support can be controlled.

基材31への塗布の前に前駆体溶液中に沈殿物を生成させないことがより均一な膜厚の膜状支持体34を得るために好ましく、pHが酸性のアルコール溶液を用いることで前駆体の沈殿を回避できる。別法としては、水とアルコキシシランもしくは金属アルコキシドのモル比だけを調節するかpH調整と共にモル比を調節し、或いはアルコールを添加し、またはモル比調節とアルコール添加の両方を行うことで沈殿を回避することもできる。   In order to obtain a film-like support 34 having a more uniform film thickness, it is preferable not to generate a precipitate in the precursor solution before application to the substrate 31, and the precursor is obtained by using an alcohol solution having an acidic pH. Precipitation can be avoided. Alternatively, the precipitation can be achieved by adjusting only the molar ratio of water to alkoxysilane or metal alkoxide, adjusting the molar ratio with pH adjustment, or adding alcohol, or both molar ratio adjustment and alcohol addition. It can also be avoided.

界面活性剤としてはポリオキシエチレンエーテルやポリアルキレンオキシドブロックコポリマーなどが使用できる。ポリオキシエチレンエーテルとしてはC12H25(CH2CH2O)10OH、C16H33(CH2CH2O)10OH、C18H37(CH2CH2O)10OH、C12H25(CH2CH2O)4OH、C16H33(CH2CH2O)2OHなどが挙げられる。ポリアルキレンオキシドブロックコポリマーとしてはエチレンオキサイドとプロピレンオキサイドのブロックコポリマーが挙げられる。 As the surfactant, polyoxyethylene ether, polyalkylene oxide block copolymer and the like can be used. As polyoxyethylene ether, C 12 H 25 (CH 2 CH 2 O) 10 OH, C 16 H 33 (CH 2 CH 2 O) 10 OH, C 18 H 37 (CH 2 CH 2 O) 10 OH, C 12 H 25 (CH 2 CH 2 O) 4 OH, C 16 H 33 (CH 2 CH 2 O) 2 OH, and the like. Examples of the polyalkylene oxide block copolymer include block copolymers of ethylene oxide and propylene oxide.

界面活性剤の差長がメソ孔径に影響するので、目的のメソ孔の孔径に応じて界面活性剤を選択すればよい。またメシチレンなどの疎水性化合物を添加するようにしてもよく、当該疎水性化合物は前駆体溶液中のミセル径を増大させられるので、メソ孔径の調製に使用することができる。   Since the differential length of the surfactant affects the mesopore diameter, the surfactant may be selected according to the target mesopore diameter. Moreover, you may make it add hydrophobic compounds, such as mesitylene, Since the said hydrophobic compound can increase the micelle diameter in a precursor solution, it can be used for preparation of a mesopore diameter.

使用するアルコキシシランとしてはテトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、n−プロピルトリメトキシシラン、n−プロピルトリエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ヘキシルトリエトキシラン、オクチルトリエトキシシラン、デシルトリメトキシシランなどを挙げることができる。 金属アルコキシドとしてはテトラプロポキシアルミニウム、テトラプロポキシすず、テトラプロポキシチタニウム、テトラプロポキシジルコニウムなどを使用することができる。   The alkoxysilane used is tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrapropoxysilane, tetrabutoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, n-propyltrimethoxysilane, n-propyltriethoxysilane, hexyltrimethoxysilane. Hexyltriethoxysilane, octyltriethoxysilane, decyltrimethoxysilane, and the like. As the metal alkoxide, tetrapropoxyaluminum, tetrapropoxytin, tetrapropoxytitanium, tetrapropoxyzirconium and the like can be used.

基材31に前駆体溶液を塗布する方法は、基材31に前駆体溶液を均一に薄く塗布できれば方法は問わないが、スピンコート法や基材31を前駆体溶液に浸漬後に不要な溶液を吹き飛ばすDip&ブロー法などが適用でき、塗布する基材31の形状に合わせて選択すればよい。また、前駆体を形成した後に鋳型分子を除去するときの加熱条件も特に限定されず、例えば300〜600℃で前駆体を加熱すればよい。   The method for applying the precursor solution to the base material 31 is not limited as long as the precursor solution can be uniformly and thinly applied to the base material 31. However, an unnecessary solution may be used after the spin coating method or the base material 31 is immersed in the precursor solution. A Dip & blow method for blowing off can be applied, and it may be selected according to the shape of the base material 31 to be applied. Moreover, the heating conditions for removing the template molecules after forming the precursor are not particularly limited, and for example, the precursor may be heated at 300 to 600 ° C.

次に、酸化触媒粒子を膜状支持体34のメソ孔に担持させ、本実施形態の酸化触媒層33を得る。
まず、膜状支持体34と担持させる酸化触媒粒子に対応する白金化合物および/またはパラジウム化合物が溶解している溶液(以下、金属化合物溶液と称する)とを接触させて膜状支持体34のメソ孔に金属化合物溶液を導入する。その後、焼成および/または還元処理を行いメソ孔内に酸化触媒粒子を形成することにより、本実施形態の酸化触媒層33を得ることができる。
Next, the oxidation catalyst particles are supported on the mesopores of the membrane support 34 to obtain the oxidation catalyst layer 33 of the present embodiment.
First, the mesoporous film 34 is contacted with a solution (hereinafter referred to as a metal compound solution) in which a platinum compound and / or a palladium compound corresponding to the oxidation catalyst particles to be supported is dissolved. A metal compound solution is introduced into the pores. Then, the oxidation catalyst layer 33 of the present embodiment can be obtained by performing oxidation and / or reduction treatment to form oxidation catalyst particles in the mesopores.

具体的には、例えば、金属溶液に膜状支持体34を浸漬後、焼成および/または還元処理を行うようにすることができる。
より具体的には、金属化合物溶液を20〜90℃、好ましくは50〜70℃に加温、攪拌しながら、pH3〜10、好ましくはpH5〜8になるようにアルカリ溶液を用いて調整する。その後、その表面に膜状支持体34が形成されている基材31を金属化合物溶液に浸漬し、続いて、減圧脱気処理を行い細孔に金属化合物溶液を浸透させた後、200〜600℃で加熱焼成を行うことで細孔内に白金酸化物および/またはパラジウム酸化物を含む粒子を得ることができる。
Specifically, for example, after the film-like support 34 is immersed in a metal solution, firing and / or reduction treatment can be performed.
More specifically, while heating and stirring the metal compound solution at 20 to 90 ° C., preferably 50 to 70 ° C., the pH is adjusted to 3 to 10, preferably 5 to 8, using an alkaline solution. Thereafter, the base material 31 on which the film-like support 34 is formed is immersed in the metal compound solution, followed by vacuum degassing treatment to infiltrate the metal compound solution into the pores, and then 200 to 600 By carrying out heating and baking at 0 ° C., particles containing platinum oxide and / or palladium oxide in the pores can be obtained.

また、上述のように細孔に金属化合物溶液を浸透させた後に、200〜600℃焼成と100〜300℃の水素気流に晒す水素還元法、水素化ホウ素ナトリウム溶液に浸漬する液相還元法など公知の還元操作を実施することでも、細孔内に酸化触媒粒子を得ることができる。なお、用いる白金化合物および/またはパラジウム化合物の種類によっては、上述の公知な還元操作を実施することなく200〜600℃の加熱焼成処理のみで、金属粒子を細孔内に得ることもできる。また、白金酸化物および/またはパラジウム酸化物の還元が一部に留まり、メソ孔内の酸化触媒粒子に白金単体および/またはパラジウム単体と白金酸化物および/またはパラジウム酸化物が共存してもよい。   In addition, after impregnating the metal compound solution into the pores as described above, a hydrogen reduction method in which baking is performed at 200 to 600 ° C. and a hydrogen stream at 100 to 300 ° C., a liquid phase reduction method in which the solution is immersed in a sodium borohydride solution, etc. The oxidation catalyst particles can also be obtained in the pores by performing a known reduction operation. In addition, depending on the kind of platinum compound and / or palladium compound to be used, the metal particles can be obtained in the pores only by heating and baking treatment at 200 to 600 ° C. without performing the above-described known reduction operation. Further, the reduction of platinum oxide and / or palladium oxide may be limited to a part, and platinum and / or palladium alone and platinum oxide and / or palladium oxide may coexist in the oxidation catalyst particles in the mesopores. .

白金化合物としては、例えば、塩化白金酸、ジニトロジアンミン白金、ジクロロテトラアンミン白金などが、パラジウム化合物としては、例えばジニトロジアンミンパラジウム、塩化パラジウム酸アンモニウムなどが挙げられる。
金属化合物溶液における白金化合物および/またはパラジウム化合物の濃度は特に限定されないが、1×10−2〜1×10−5mol/Lとして溶液を調製するのが、生成した酸化触媒粒子が凝集しにくいので好ましい。
Examples of the platinum compound include chloroplatinic acid, dinitrodiammine platinum, and dichlorotetraammine platinum. Examples of the palladium compound include dinitrodiammine palladium and ammonium chloropalladate.
The concentration of the platinum compound and / or the palladium compound in the metal compound solution is not particularly limited, but it is difficult to aggregate the generated oxidation catalyst particles by preparing the solution as 1 × 10 −2 to 1 × 10 −5 mol / L. Therefore, it is preferable.

次に本実施形態に係る酸化触媒層33に被処理気体を送風する機構について説明する。当該機構は本発明の気体供給部に対応しており、以下、送風機構10とも称す。
本実施形態に係る送風機構10は、被処理気体を酸化触媒層33に送風することで酸化触媒層33に被処理気体を強制的に接触させる。これにより、当該気体中に含まれる有機ガス濃度をより効率的に低減させることができる。よって送風機構10は酸化触媒層33中の触媒が酸化反応処理できる量の風量を送達できればよく、必要な風量は装置の能力設計に基づいて設計すればよいが、送風の空間速度が10,000/h以上150,000/h以下とするのが望ましい。
Next, a mechanism for blowing the gas to be processed to the oxidation catalyst layer 33 according to the present embodiment will be described. The mechanism corresponds to the gas supply unit of the present invention, and is hereinafter also referred to as a blower mechanism 10.
The blowing mechanism 10 according to the present embodiment forcibly brings the gas to be processed into contact with the oxidation catalyst layer 33 by blowing the gas to be processed to the oxidation catalyst layer 33. Thereby, the organic gas concentration contained in the gas can be reduced more efficiently. Therefore, the blowing mechanism 10 only needs to be able to deliver an amount of air that can be oxidized by the catalyst in the oxidation catalyst layer 33, and the necessary amount of air may be designed based on the capacity design of the device. It is desirable to set it above 150,000 / h.

送風の空間速度が10,000/h未満であると酸化触媒層33に送達される被処理気体量が少なく、有機ガスの酸化除去量も少なくなるため、範囲内にある場合と比較して当該装置100を設置した環境の有機ガス濃度の低減量が小さい。150,000/hより大きい空間速度であると触媒の酸化除去率が低下するので、被処理気体中の有機ガス濃度の低下が小さく、やはり、範囲内にある場合と比較して当該装置100を設置した環境の有機ガス濃度の低減量が小さくなる。
なお上述の空間速度とは、酸化触媒層33を通過した被処理気体の単位時間当たりの体積を当該触媒層33の体積で除したものと定義する。
When the space velocity of the blast is less than 10,000 / h, the amount of gas to be processed delivered to the oxidation catalyst layer 33 is small, and the amount of organic gas oxidized and removed is small. The amount of reduction in organic gas concentration in the environment where is installed is small. When the space velocity is higher than 150,000 / h, the oxidation removal rate of the catalyst decreases, so the decrease in the concentration of organic gas in the gas to be treated is small, and the apparatus 100 is installed as compared with the case where it is within the range. Reduces the amount of organic gas concentration in the environment.
The above space velocity is defined as the volume per unit time of the gas to be processed that has passed through the oxidation catalyst layer 33 divided by the volume of the catalyst layer 33.

被処理気体は酸化触媒層33(膜状支持体34)の膜厚方向に対して直行する方向(図2におけるY軸方向)に流して、酸化触媒層33内へ被処理気体が拡散浸透して接触する形態が望ましい。図3に示すように被処理気体が酸化触媒層33の膜厚方向に対して平行に流通させようとすると、流通する被処理気体はすべて酸化触媒層のメソ孔を通過しなければならないので、上述の好適な空間速度を得るのが難しくなる。   The gas to be treated flows in a direction (Y-axis direction in FIG. 2) perpendicular to the film thickness direction of the oxidation catalyst layer 33 (membrane support 34), and the gas to be treated diffuses and penetrates into the oxidation catalyst layer 33. The contact form is desirable. As shown in FIG. 3, if the gas to be processed is allowed to flow parallel to the film thickness direction of the oxidation catalyst layer 33, all the gas to be processed must pass through the mesopores of the oxidation catalyst layer. It becomes difficult to obtain the above-mentioned preferable space velocity.

なお、酸化触媒層33をメッシュや不織布など繊維集合体の表面に形成した場合において繊維集合体の開口部を閉塞しない様態で酸化触媒層33を形成すれば、微視的には繊維集合体の個々の繊維表面に酸化触媒層33が形成されている。すなわち、図2の基材31が繊維集合体を形成する繊維のうちの1つに相当する。このとき、その1つ1つの繊維表面に沿って被処理気体が流れることが可能な状態である。従って、通常フィルターに気体を透過させるのと同じ方向、つまり当該繊維集合体平面に直交する方向に被処理気体を透過させても、上述の被処理気体が酸化触媒層33の膜厚方向に対して直交に流れる状態を満たし、好適な空間速度を得ることは可能である。   In addition, when the oxidation catalyst layer 33 is formed on the surface of the fiber assembly such as a mesh or a non-woven fabric, if the oxidation catalyst layer 33 is formed so as not to block the opening of the fiber assembly, microscopically, the fiber assembly An oxidation catalyst layer 33 is formed on the surface of each fiber. That is, the base material 31 in FIG. 2 corresponds to one of the fibers forming the fiber assembly. At this time, the gas to be treated can flow along the surface of each fiber. Therefore, even if the gas to be processed is transmitted in the same direction as the gas is transmitted through the normal filter, that is, in the direction orthogonal to the plane of the fiber assembly, the above-described gas to be processed is in the film thickness direction of the oxidation catalyst layer 33. Thus, it is possible to obtain a suitable space velocity by satisfying the orthogonal flow state.

送風機構としては例えば電動ファン11など公知な送風装置を用いればよく、特に限定されない。なお、気体供給部として送風装置等によって構成される送風機構を一例に挙げて説明したが、これに限定されず、装置において酸化触媒層33に被処理気体が供給されるように構成されていればよい。
また、送風機構10等によって生じた気流が酸化触媒層33を有する部材や後述の抗菌等剤を担持した部材以外の機能層を有する部材と接触するように送風機構を配置してもよい。例えば、機能層として、空気中の埃など浮遊物を除去する防塵フィルターが挙げられる。防塵フィルターを酸化触媒層33より上流側に設置することで、空気中の浮遊物が酸化触媒層33に付着して被処理気体と触媒の接触を阻害して有機ガスの分解が進まないことの防止に寄与することができる。
For example, a known blower such as the electric fan 11 may be used as the blower mechanism, and the blower mechanism is not particularly limited. In addition, although the air supply mechanism comprised by an air blower etc. was mentioned as an example and demonstrated as a gas supply part, it is not limited to this, It is comprised so that to-be-processed gas may be supplied to the oxidation catalyst layer 33 in an apparatus. That's fine.
Further, the air blowing mechanism may be arranged so that the air flow generated by the air blowing mechanism 10 or the like comes into contact with a member having the oxidation catalyst layer 33 or a member having a functional layer other than a member carrying an antibacterial agent described later. For example, a dustproof filter that removes floating substances such as dust in the air can be used as the functional layer. By installing the dustproof filter upstream of the oxidation catalyst layer 33, the suspended matter in the air adheres to the oxidation catalyst layer 33, obstructs the contact between the gas to be treated and the catalyst, and the organic gas does not decompose. It can contribute to prevention.

電動ファン11等の送風機構10の電源は交流でも直流でも構わない。直流の場合は当該空気浄化装置内に一次もしくは二次電池を内臓もしくはACアダプターを介して電力を供給すればよく、電池を内臓する場合は、内部にコンセントを有さない保管庫内に容易に当該有機ガス低減装置100を設置できる。一方、交流電源もしくはACアダプター変換による直流電源の場合は、内臓電池電源の場合必要となる電池交換の手間が無く、連続稼動が容易に可能となる。電源の種類は当該装置の設置条件に合わせて適宜選択すればよい。   The power source of the blower mechanism 10 such as the electric fan 11 may be alternating current or direct current. In the case of direct current, it is sufficient to supply power to the air purifier with a primary or secondary battery or via an AC adapter. If the battery is built in, it can be easily stored in a storage room that does not have an outlet. The organic gas reduction device 100 can be installed. On the other hand, in the case of an AC power source or a DC power source converted by an AC adapter, there is no need for battery replacement required for a built-in battery power source, and continuous operation can be easily performed. The type of power source may be appropriately selected according to the installation conditions of the device.

本実施形態の装置100においては、抗菌性、防カビ性、抗ウイルス性のうち少なくとも一つを有する化合物(以下、単に抗菌等剤ともいう)を担持したフィルター等の部材50を被処理気体が透過するように、酸化触媒層33を有する部材30の前後の少なくとも一方に設置してもよい。被処理気体中、特に大気中に浮遊する細菌やカビ胞子やウイルスを死滅させることで、当該環境中に保管してある青果物など物品や建築内装の細菌やカビ類やウイルスによる劣化の抑止効果も付与することができる。   In the apparatus 100 of the present embodiment, the gas to be treated is disposed on the member 50 such as a filter carrying a compound having at least one of antibacterial, antifungal and antiviral properties (hereinafter also simply referred to as an antibacterial agent). You may install in the at least one before and behind the member 30 which has the oxidation catalyst layer 33 so that it may permeate | transmit. By killing bacteria, mold spores, and viruses floating in the gas to be treated, especially in the atmosphere, it also prevents the deterioration caused by bacteria, molds, and viruses in articles and building interiors such as fruits and vegetables stored in the environment. Can be granted.

抗菌等剤としては細菌類および/またはカビ類および/またはウイルスを死滅させることができる物質を意味する。防カビ性を有する化合物としては、銀、銅、亜鉛、すず、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、アルミニウム、マンガン、ニッケル、チタンなどの金属酸化物やリン酸塩、ハロゲン塩などの無機化合物、あるいはこれら金属をゼオライトなどに担持した無機化合物、あるいは有機化合物としては8−オキシキノリン銅、二酢酸ナトリウムなどの有機酸塩、トリクロサン、クロロヘキシジン、3−ヨード−2−プロピルブチルカーバメートなどのハロゲン化有機化合物、ブロノポール、クロロタロニル、メチルスルホニルテトラクロルピリジンなどのピリジン類、エニルコナゾールになどのイミダゾール類、N,N‘,N“−トリスヒドロキシエチルヘキサヒドロ−s−トリアンジンなどのトリアジン類、ビフェニルやオルトフェニルフェノールなどの芳香族化合物、ジンクピリチオン、塩化ベンザルコニウム、塩化ベンゼトニウム、塩化セチルピリジウム、アルキルトリメチルアンモニウム塩などの有機塩や有機錯体などや、キチン、キトサン、カテキン、ヒノキチオール、カラシ、ワサビ精油、ポリリジンなどの天然有機化合物など当業者に公知な化合物を使用することができる。
抗菌性および抗ウイルス性の少なくとも一つを有する化合物(以下、抗菌抗ウイルス剤と呼ぶ)は、例えば、ポリフェノール化合物、第4級アンモニウム塩、無機銅化合物、無機銀化合物、亜鉛、鉄などの原子を含む無機化合物、銅、銀、亜鉛、鉄などの原子を含む有機化合物、白金、ヨウ素化合物、ピリジン系化合物、エステル系化合物、スルファミド系化合物などがある。
これらの抗菌防カビ抗ウイルス剤は、2種以上を組み合わせて含有させてもよい。
An antibacterial agent means a substance capable of killing bacteria and / or molds and / or viruses. Examples of the antifungal compound include silver, copper, zinc, tin, magnesium, calcium, strontium, aluminum, manganese, nickel, titanium and other inorganic compounds such as phosphates and halogen salts, or these metals. As inorganic compounds or organic compounds supported on zeolite or the like, organic acid salts such as 8-oxyquinoline copper and sodium diacetate, halogenated organic compounds such as triclosan, chlorohexidine and 3-iodo-2-propylbutylcarbamate, bronopol Pyridines such as chlorothalonil and methylsulfonyltetrachloropyridine, imidazoles such as enylconazole, triazines such as N, N ', N "-trishydroxyethylhexahydro-s-triangine, biphenyl and orthophenylphenol Aromatic compounds such as enol, zinc pyrithione, benzalkonium chloride, benzethonium chloride, cetylpyridium chloride, alkyltrimethylammonium salts and other organic salts and complexes, chitin, chitosan, catechin, hinokitiol, mustard, wasabi essential oil, polylysine Compounds known to those skilled in the art such as natural organic compounds such as can be used.
Compounds having at least one of antibacterial and antiviral properties (hereinafter referred to as antibacterial and antiviral agents) include atoms such as polyphenol compounds, quaternary ammonium salts, inorganic copper compounds, inorganic silver compounds, zinc, iron and the like. Inorganic compounds containing copper, organic compounds containing atoms such as copper, silver, zinc, iron, platinum, iodine compounds, pyridine compounds, ester compounds, sulfamide compounds, and the like.
These antibacterial and antifungal antiviral agents may be contained in combination of two or more.

抗菌等剤を担持した部材50に含まれる抗菌防ウイルス剤は、比較的安全性が高く、少量で高い殺菌および/または抗ウイルス性を示す物質であることが好ましい。具体的には、抗菌抗ウイルス剤は、ポリフェノール化合物、第4級アンモニウム塩、無機銅化合物及び無機銀化合物からなる群から1種または2種以上選択される化合物や、有機化合物と銅、銀、亜鉛又は鉄との塩を含有することが好ましい。ヨウ化銀(I)、ヨウ化銅(I)、およびチオシアン酸銅(I)からなる群から少なくとも1種選択される化合物であるとさらに殺菌性が高く、好ましい。   The antibacterial and antiviral agent contained in the member 50 carrying the antibacterial agent is preferably a substance that is relatively safe and exhibits high bactericidal and / or antiviral properties in a small amount. Specifically, the antibacterial antiviral agent is a compound selected from the group consisting of a polyphenol compound, a quaternary ammonium salt, an inorganic copper compound and an inorganic silver compound, or an organic compound and copper, silver, It is preferable to contain a salt with zinc or iron. A compound selected from at least one selected from the group consisting of silver iodide (I), copper iodide (I), and copper thiocyanate (I) has a higher bactericidal property and is preferable.

抗菌等剤を担持した部材50中の抗菌等剤の形態は、被処理気体の通気性に支障が無ければ特に限定されないが、通気性に影響を与えにくい粒子状が好ましい。抗菌等剤粒子の大きさは特に限定されず当業者が適宜設定可能であるが、平均の粒子径が1nm以上、500nm未満の微粒子であるのが好ましい。1nm未満では物質的に不安定となるため、抗菌等剤粒子同士が凝集し、基材に形成させるのが困難となる。また、500nm以上である場合は、基材との密着性が範囲内にある場合よりも低下する。なお、本明細書において、抗菌等剤粒子の平均粒子径とは、体積平均粒子径(D50)であり、粒度分布計を用いて測定することができる。   The form of the antibacterial agent in the member 50 carrying the antibacterial agent is not particularly limited as long as the air permeability of the gas to be treated is not hindered, but a particulate form that does not easily affect the air permeability is preferable. The size of the antibacterial agent particles is not particularly limited and can be appropriately set by those skilled in the art, but is preferably fine particles having an average particle diameter of 1 nm or more and less than 500 nm. If it is less than 1 nm, the material becomes unstable, so that the antibacterial agent particles aggregate and are difficult to form on the substrate. Moreover, when it is 500 nm or more, it will fall rather than the case where adhesiveness with a base material exists in the range. In addition, in this specification, the average particle diameter of antibacterial agent particles is a volume average particle diameter (D50), and can be measured using a particle size distribution meter.

ポリフェノール化合物としては、カテキン、アントシアニン、フラボン、イソフラボン、フラバン、フラバノン、ルチン、テアフラビン、タンニン、クロロゲン酸、エラグ酸、没食子酸、没食子酸プロピル、リグナン類、クルクミン類、クマリン類などを挙げることができる。   Examples of polyphenol compounds include catechin, anthocyanin, flavone, isoflavone, flavan, flavanone, rutin, theaflavin, tannin, chlorogenic acid, ellagic acid, gallic acid, propyl gallate, lignans, curcumins, and coumarins. .

第4級アンモニウム塩としては、塩化ベンザルコニウム、塩化ベンゼトニウム、塩化メチルベンゼトニウム、塩化セチルピリジニウム、臭化セトリモニウム、塩化ジデシルジメチルアンモニウム、臭化ドミフェン、塩化オクチルデシルジメチルアンモニウム、塩化ジオクチルジメチルアンモニウム、塩化ステアリルジメチルベンジルアンモニウム、塩化ステアリルトリメチルアンモニウム、塩化ステアリルペンタエトキシアンモニウム、臭化アルキルイソキノリニウム、臭化ドミフェン、ジメチルイミノポリエチレンクロライド、ジメチルジメチルアンモニウムクロライド、3−クロロ−2−ヒドロキシプロピルトリメチルアンモニウムクロライド、2,3−エポキシプロピルトリメチルアンモニウムクロライド、塩化ラウリルトリメチルアンモニウム、塩化セチルトリメチルアンモニウム、臭化セチルトリメチルアンモニウム、塩化N-デシルーN-イソノニルジメチルアンモニウム、塩化ジセチルジメチルアンモニウム、塩化ジメチルジステアリルアンモニウム、塩化ミリスチルジメチルベンジルアンモニウム、塩化ラウリルピリジニウム、塩化セチルピリジニウム、塩化トリ(ポリオキシエチレン)ステアリルメチルアンモニウム、塩化トリ(ポリオキシエチレン)オレイルメチルアンモニウム、ジステアリルジメチルアンモニウムクロライド、ドデシルトリメチルアンモニウムクロライド、ジタロージメチルアンモニウムブロマイド、ジオレイルジメチルアンモニウムブロマイド、ステアロイルN,N−ジメチルエチレンジアミドジメチル硫酸4級化物、ジステアロイルジエチレントリアミンジメチル硫酸4級化物、ミリスチルジメチルエチルアンモニウムクロライド、ジオクチルジメチルアンモニウムクロライド、ジデシルジメチルアンモニウムクロライド、ジセチルジメチルアンモニウムクロライド、ジラウリルジメチルアンモニウムクロライド、ラウリルジメチルベンジルアンモニウムクロライド、ミリスチルジメチルジクロロベンジルアンモニウムクロライド、ココアルキルジメチルベンジルアンモニウムクロライド等が挙げられる。   The quaternary ammonium salts include benzalkonium chloride, benzethonium chloride, methylbenzethonium chloride, cetylpyridinium chloride, cetrimonium bromide, didecyldimethylammonium chloride, domifene, octyldecyldimethylammonium chloride, dioctyldimethylammonium chloride, Stearyldimethylbenzylammonium chloride, stearyltrimethylammonium chloride, stearylpentaethoxyammonium chloride, alkylisoquinolinium bromide, domifene bromide, dimethyliminopolyethylene chloride, dimethyldimethylammonium chloride, 3-chloro-2-hydroxypropyltrimethylammonium chloride 2,3-epoxypropyltrimethylammonium chloride, lauryl chloride trimethyla Monium, cetyltrimethylammonium chloride, cetyltrimethylammonium bromide, N-decyl-N-isononyldimethylammonium chloride, dicetyldimethylammonium chloride, dimethyldistearylammonium chloride, myristyldimethylbenzylammonium chloride, laurylpyridinium chloride, cetylpyridinium chloride, Tri (polyoxyethylene) stearylmethylammonium chloride, tri (polyoxyethylene) oleylmethylammonium chloride, distearyldimethylammonium chloride, dodecyltrimethylammonium chloride, ditallowdimethylammonium bromide, dioleyldimethylammonium bromide, stearoyl N, N- Dimethylethylenediamide dimethyl sulfate quaternized product, distearoyl diethyl Triamine dimethyl sulfate quaternized, myristyl dimethyl ethyl ammonium chloride, dioctyl dimethyl ammonium chloride, didecyl dimethyl ammonium chloride, dicetyl dimethyl ammonium chloride, dilauryl dimethyl ammonium chloride, lauryl dimethyl benzyl ammonium chloride, myristyl dimethyl dichloro benzyl ammonium chloride, coco Examples thereof include alkyldimethylbenzylammonium chloride.

無機銅化合物は、一価の銅化合物であっても、二価の銅化合物であってもよい。無機銅化合物としては、酸化銅(I)、硫化銅(I)、ヨウ化銅(I)、塩化銅(I)、酢酸銅(I)、水酸化銅(I)、臭化銅(I)、過酸化銅(I)、チオシアン化銅(I)、水酸化銅(II)、酸化銅(II)、塩化銅(II)、酢酸銅(II)、硫酸銅(II)、硝酸銅(II)、フッ化銅(II)、ヨウ化銅(II)、臭化銅(II)、ヨウ素酸銅、過塩素酸銅、シアン化銅、塩化アンモニウム銅、四ホウ酸銅、硫酸アンモニウム銅、アミド硫酸銅、塩化アンモニウム銅、ピロリン酸銅及び炭酸銅等が挙げられる。   The inorganic copper compound may be a monovalent copper compound or a divalent copper compound. Inorganic copper compounds include copper oxide (I), copper sulfide (I), copper iodide (I), copper chloride (I), copper acetate (I), copper hydroxide (I), copper bromide (I) , Copper peroxide (I), copper thiocyanate (I), copper hydroxide (II), copper oxide (II), copper chloride (II), copper acetate (II), copper sulfate (II), copper nitrate (II ), Copper fluoride (II), copper iodide (II), copper bromide (II), copper iodate, copper perchlorate, copper cyanide, copper chloride ammonium, copper tetraborate, ammonium copper sulfate, amidosulfuric acid Examples include copper, ammonium chloride, copper pyrophosphate, and copper carbonate.

無機銀化合物としては、酸化銀(I)、硫化銀、ヨウ化銀、塩化銀、臭化銀、過酸化銅(I)、チオシアン酸銀、硫酸銀、フッ化銀、ヨウ素酸銀、過塩素酸銀、シアン化銀、テトラフルオロホウ酸銀、アミド硫酸銀、ヘキサフルオロリン酸銀銅及び炭酸銀等が挙げられる。   Inorganic silver compounds include silver oxide (I), silver sulfide, silver iodide, silver chloride, silver bromide, copper peroxide (I), silver thiocyanate, silver sulfate, silver fluoride, silver iodate, perchlorine Examples thereof include silver oxide, silver cyanide, silver tetrafluoroborate, silver amidosulfate, silver copper hexafluorophosphate, and silver carbonate.

有機化合物と銅との塩としては、例えば、蟻酸銅、酢酸銅、プロピオン酸銅、酪酸銅、吉草酸銅、カプロン酸銅、エナント酸銅、カプリル酸銅、ペラルゴン酸銅、カプリン酸銅、ミスチン酸銅、パルミチン酸銅、マルガリン酸銅、ステアリン酸銅、オレイン酸銅、乳酸銅、リンゴ酸銅、クエン酸銅、安息香酸銅、フタル酸銅、イソフタル酸銅、テレフタル酸銅、サリチル酸銅、メリト酸銅、シュウ酸銅、マロン酸銅、コハク酸銅、グルタル酸銅、アジピン酸銅、フマル酸銅、グリコール酸銅、グリセリン酸銅、グルコン酸銅、酒石酸銅、アセチルアセトン銅、エチルアセト酢酸銅、イソ吉草酸銅、β‐レゾルシル酸銅、ジアセト酢酸銅、ホルミルコハク酸銅、サリチルアミン酸銅、ビス(2-エチルヘキサン酸)銅、セバシン酸銅、ナフテン酸銅、オキシン銅、アセチルアセトン銅、エチルアセト酢酸銅、トリフルオロメタンスルホン酸銅、フタロシアニン銅、銅エトキシド、銅イソプロポキシド、銅メトキシド、ジメチルジチオカルバミン酸銅、ピリチオン銅が挙げられる。   Examples of the salt of an organic compound and copper include, for example, copper formate, copper acetate, copper propionate, copper butyrate, copper valerate, copper caproate, copper enanthate, copper caprylate, copper pelargonate, copper caprate, mistin Copper oxide, copper palmitate, copper margarate, copper stearate, copper oleate, copper lactate, copper malate, copper citrate, copper benzoate, copper phthalate, copper isophthalate, copper terephthalate, copper salicylate, melitto Copper oxide, copper oxalate, copper malonate, copper succinate, copper glutarate, copper adipate, copper fumarate, copper glycolate, copper glycerate, copper gluconate, copper tartrate, copper acetylacetone, copper ethylacetoacetate, iso Copper valerate, copper β-resorcylate, copper diacetoacetate, copper formyl succinate, copper salicylamine acid, copper bis (2-ethylhexanoate), copper sebacate, copper naphthenate Oxine copper, copper acetylacetonate, ethyl acetoacetate copper trifluoromethanesulfonate, copper phthalocyanine, copper ethoxide, copper isopropoxide, copper methoxide, dimethyl dithiocarbamates include pyrithione copper.

有機化合物と銀との塩としては、酢酸銀、プロピオン酸銀、酪酸銀、吉草酸銅、カプロン酸銀、カプリル酸銀、カプリン酸銀、ミリスチン酸銀、パルミチン酸銀、マルガリン酸銀、ステアリン酸銀、オレイン酸銀、ネオデカン酸銀、乳酸銀、リンゴ酸、クエン酸銀、フタル酸銀、イソフタル酸銀、テレフタル酸銀、サリチル酸銀、安息香酸銀、メリト酸銀、トルエンスルホン酸銀、シュウ酸銀、マロン酸銀、コハク酸銀、グルタル酸銀、アジピン酸銀、フマル酸銀、グリコール酸銀、グリセリン酸銀、グルコン酸銀、酒石酸銀、アセチルアセトン銀、エチルアセト酢酸銀、イソ吉草酸銀、β‐レゾルシル酸銀、ジアセト酢酸銀、ホルミルコハク酸銀、2-エチルヘキサン酸銀、セバシン酸銀、ナフテン酸銀、トリフルオロメタンスルホン酸銀、フタロシアニン銀、銀エトキシド、銀イソプロポキシド、銀メトキシド、ジエチルジチオカルバミン酸銀、銀ピリチオンなどが挙げられる。   Salts of organic compounds and silver include silver acetate, silver propionate, silver butyrate, copper valerate, silver caproate, silver caprylate, silver caprate, silver myristate, silver palmitate, silver margarate, stearic acid Silver, silver oleate, silver neodecanoate, silver lactate, malic acid, silver citrate, silver phthalate, silver isophthalate, silver terephthalate, silver salicylate, silver benzoate, silver melitrate, silver toluenesulfonate, oxalic acid Silver, silver malonate, silver succinate, silver glutarate, silver adipate, silver fumarate, silver glycolate, silver glycerate, silver gluconate, silver tartrate, acetylacetone silver, ethyl ethylacetoacetate, silver isovalerate, β -Silver resorcylate, silver diacetoacetate, silver formylsuccinate, silver 2-ethylhexanoate, silver sebacate, silver naphthenate, silver trifluoromethanesulfonate, Taroshianin silver, silver ethoxide, silver isopropoxide, silver methoxide, diethyldithiocarbamate, silver silver pyrithione and the like.

また、有機化合物と鉄との塩としては、クエン酸第二鉄・n水和物等、グルコン酸鉄、クエン酸鉄、フマル酸鉄、シュウ酸鉄、フタロシアニン鉄等が挙げられる。   Examples of the salt of an organic compound and iron include ferric citrate / n-hydrate, iron gluconate, iron citrate, iron fumarate, iron oxalate, and iron phthalocyanine.

また、有機化合物と亜鉛との塩としては、クエン酸亜鉛、グルコン酸亜鉛、リンゴ酸亜鉛、蟻酸亜鉛、乳酸亜鉛、シュウ酸亜鉛、ピリチオン亜鉛、ビス(ジメチルジチオカルバミン酸)亜鉛、エチレンビス(ジチオカルバミン酸)亜鉛、酢酸亜鉛、アクリル酸亜鉛、安息香酸亜鉛、酪酸亜鉛、グリセリン酸亜鉛、グリコール酸亜鉛、ピコリン酸亜鉛、プロピオン酸亜鉛、サリチル酸亜鉛、酒石酸亜鉛、ウンデシレン酸亜鉛、マロン酸亜鉛、コハク酸亜鉛、フタロシアニン亜鉛、グルタル酸亜鉛、フェノールスルホン酸亜鉛、クレゾールスルホン酸亜鉛、トルエンスルホン酸亜鉛、ベンゼンスルホン酸亜鉛、メタンスルホン酸亜鉛、2−プロパノールスルホン酸亜鉛等が挙げられる。   In addition, as a salt of an organic compound and zinc, zinc citrate, zinc gluconate, zinc malate, zinc formate, zinc lactate, zinc oxalate, pyrithione zinc, bis (dimethyldithiocarbamate) zinc, ethylenebis (dithiocarbamate) ) Zinc, zinc acetate, zinc acrylate, zinc benzoate, zinc butyrate, zinc glycerate, zinc glycolate, zinc picolinate, zinc propionate, zinc salicylate, zinc tartrate, zinc undecylenate, zinc malonate, zinc succinate , Zinc phthalocyanine, zinc glutarate, zinc phenolsulfonate, zinc cresolsulfonate, zinc toluenesulfonate, zinc benzenesulfonate, zinc methanesulfonate, zinc 2-propanolsulfonate, and the like.

例えば、1つの態様として、上述の抗菌等剤を担持した部材50を、酸化触媒層33を有する部材30のさらに空気流通方向上流側に設置すればよい。担持の態様は特に限定されず当業者に公知な方法を用いればよい。例えば基材表面に粒子等である抗菌等剤が吸着もしくは接着しているなどすればよく、吸着もしくは接着は静電引力やファンデルワールス力などによる物理的相互作用による物理的接着でも、あるいは基材と抗菌剤粒子がシランモノマーのようなカップリング分子を介しての化学結合による化学的接着いずれでも構わないが、基材と抗菌等剤が強固に結合するので化学的接着が望ましい。   For example, as one aspect, the member 50 carrying the above-described antibacterial agent or the like may be installed further upstream of the member 30 having the oxidation catalyst layer 33 in the air flow direction. The mode of carrying is not particularly limited, and a method known to those skilled in the art may be used. For example, an antibacterial agent such as particles may be adsorbed or adhered to the surface of the substrate. Adsorption or adhesion may be physical adhesion by physical interaction such as electrostatic attraction or van der Waals force, or may be based on The material and antibacterial agent particles may be either chemically bonded by chemical bonding via a coupling molecule such as a silane monomer, but chemical bonding is desirable because the substrate and antibacterial agent or the like are firmly bonded.

物理的接着は抗菌等剤を分散させた溶媒に基材を浸漬してその後分散溶媒を揮発させればよい。抗菌等剤を分散させる溶媒としては水、メタノール、エタノール、MEK、アセトン、キシレン、トルエンなど汎用の溶媒が使用できる。   For physical adhesion, the base material is immersed in a solvent in which an antibacterial agent or the like is dispersed, and then the dispersed solvent is volatilized. As the solvent for dispersing the antibacterial agent, general-purpose solvents such as water, methanol, ethanol, MEK, acetone, xylene, and toluene can be used.

より強固に接着させるために基材をあらかじめプラズマ処理などで表面を親水化したり、樹脂バインダーを添加してもよい。樹脂バインダーとしては公知のバインダーを用いることができる。具体例として、ポリエステル樹脂、アミノ樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、アクリル樹脂、水溶性樹脂、ビニル系樹脂、フッ素樹脂、シリコン樹脂、繊維素系樹脂、フェノール樹脂、キシレン樹脂、トルエン樹脂、天然樹脂としては、ひまし油、亜麻仁油、桐油などの乾性油等が挙げられる。   In order to adhere more firmly, the surface of the substrate may be previously hydrophilized by plasma treatment or a resin binder may be added. A known binder can be used as the resin binder. Specific examples include polyester resin, amino resin, epoxy resin, polyurethane resin, acrylic resin, water-soluble resin, vinyl resin, fluororesin, silicon resin, fiber resin, phenol resin, xylene resin, toluene resin, and natural resin. May be dry oils such as castor oil, linseed oil and tung oil.

化学的接着はバインダーとの化学結合を介して、基材に固定することである。用いるバインダーとしては、特に限定されるものではないが、シランモノマーやその重合体であるオリゴマーは分子量が低く、その為、抗菌等剤粒子と菌との接触を阻害することが低くなり、効果的に殺菌できるため好適である。また、分子量が低いため基材との密着性が高く抗菌等剤粒子を安定に基材に担持することが可能となる。   Chemical adhesion is fixing to a substrate through a chemical bond with a binder. The binder to be used is not particularly limited, but the silane monomer and the oligomer that is a polymer thereof have a low molecular weight, and therefore, the contact between the antibacterial agent particles and the bacteria is low and effective. It is preferable because it can be sterilized. Moreover, since the molecular weight is low, the adhesiveness with the base material is high, and the antimicrobial agent particles can be stably supported on the base material.

具体的なシランモノマーとしては、X−Si(OR)(nは1〜3の整数)の一般式で示されるシランモノマーが挙げられる。尚、Xは例えば有機物と反応する官能基でビニル基、エポキシ基、スチリル基、メタクリロ基、アクリロキシ基、イソシアネート基、ポリスルフィド基、アミノ基、メルカプト基、クロル基などである。また、ORは加水分解可能なメトキシ基、エトキシ基などのアルコキシ基であり、シランモノマーに係る3つの当該官能基は同一でも異なっていてもよい。これらのメトキシ基やエトキシ基からなるアルコキシ基は加水分解してシラノール基を生ずる。このシラノール基やビニル基やエポキシ基、スチリル基、メタクリロ基、アクリロキシ基、イソシアネート基、また不飽和結合などを有する官能基は反応性が高いことが知られている。このような反応性に優れたシランモノマーを介して抗菌剤粒子を化学結合により基材表面に強固に保持せしめている。 Specific examples of the silane monomer include silane monomers represented by a general formula of X—Si (OR) n (n is an integer of 1 to 3). X is a functional group that reacts with an organic substance, such as a vinyl group, an epoxy group, a styryl group, a methacrylo group, an acryloxy group, an isocyanate group, a polysulfide group, an amino group, a mercapto group, or a chloro group. OR is an alkoxy group such as a hydrolyzable methoxy group or ethoxy group, and the three functional groups related to the silane monomer may be the same or different. These alkoxy groups composed of methoxy groups and ethoxy groups are hydrolyzed to form silanol groups. It is known that functional groups having silanol groups, vinyl groups, epoxy groups, styryl groups, methacrylo groups, acryloxy groups, isocyanate groups, and unsaturated bonds have high reactivity. The antibacterial agent particles are firmly held on the surface of the base material by chemical bonding through such a reactive silane monomer.

以上の一般式で表されるシランモノマーの一例としては、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、N−β−(N−ビニルベンジルアミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−(ビニルベンジル)−2−アミノエチル−3−アミノプロピルトリメトキシシランの塩酸塩、2−(3、4エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、p−スチリルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、ビス(トリエトキシシリルプロピル)テトラスルフィド、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−トリエトキシシリル−N−(1、3−ジメチル−ブチリデン)プロピルアミン、N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、特殊アミノシラン、3−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、3−クロロプロピルトリメトキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ヘキサメチルジシラザン、ヘキシルトリメトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、加水分解性基含有シロキサン、フロロアルキル基含有オリゴマー、メチルハイドロジェンシロキサン、シリコーン第四級アンモニウム塩などが挙げられる。   Examples of the silane monomer represented by the above general formula include vinyltrichlorosilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, N-β- (N-vinylbenzylaminoethyl) -γ-amino. Propyltrimethoxysilane, N- (vinylbenzyl) -2-aminoethyl-3-aminopropyltrimethoxysilane hydrochloride, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxy Silane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, p-styryltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3- Methacryloki Cypropylmethyldiethoxysilane, 3-methacryloxypropyltriethoxysilane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, 3-isocyanatopropyltriethoxysilane, bis (triethoxysilylpropyl) tetrasulfide, 3-aminopropyltrimethoxysilane 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-triethoxysilyl-N- (1,3-dimethyl-butylidene) propylamine, N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, N-2- (aminoethyl)- 3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltriethoxysilane, 3-mercaptopropylmethyldimethoxysilane 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, special aminosilane, 3-ureidopropyltriethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, methyltrimethoxy Silane, methyltriethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, phenyltriethoxysilane, hexamethyldisilazane, hexyltrimethoxysilane, decyltrimethoxysilane, hydrolyzable group-containing siloxane, fluoroalkyl group-containing oligomer, methylhydrogensiloxane, Examples thereof include silicone quaternary ammonium salts.

また、シラン系オリゴマーとしては、市販されている信越化学工業株式会社製のKC−89S、KR−500、X−40−9225、KR−217、KR−9218、KR−213、KR−510などが挙げられ、これらのシラン系オリゴマーは単独、或いは2種類以上混合して用いられ、さらに、前述のシランモノマーの1種または2種以上と混合して用いてもよい。   Examples of the silane oligomer include KC-89S, KR-500, X-40-9225, KR-217, KR-9218, KR-213, and KR-510 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., which are commercially available. These silane oligomers may be used alone or in combination of two or more, and may be used in combination with one or more of the aforementioned silane monomers.

次に酸化触媒部33を加熱する加熱部38について説明する。
加熱部38による加熱により酸化触媒層33のメソ孔内に吸着している水分が加熱によって揮発除去される。加熱部38による加熱により水分が除去されることによって、酸化触媒粒子と被処理気体中の有機ガス成分との接触阻害が解消され、酸化触媒層33の触媒活性を回復させることができる。
Next, the heating unit 38 for heating the oxidation catalyst unit 33 will be described.
The moisture adsorbed in the mesopores of the oxidation catalyst layer 33 is volatilized and removed by heating by the heating unit 38. By removing moisture by heating by the heating unit 38, contact inhibition between the oxidation catalyst particles and the organic gas component in the gas to be treated is eliminated, and the catalytic activity of the oxidation catalyst layer 33 can be recovered.

従って、酸化触媒層33のメソ孔内に水分が吸着して酸化触媒粒子の作用が阻害され、触媒体に活性が低下している状態において酸化触媒層33を加熱するように加熱部38が稼動すれば十分であり、水分か吸着していないか、微量で酸化反応に支障のない場合は被処理気体に余分な熱が伝わり気温が上昇しないよう、加熱部38が稼働しないようにしてもよい。   Accordingly, the heating unit 38 operates so as to heat the oxidation catalyst layer 33 in a state where moisture is adsorbed in the mesopores of the oxidation catalyst layer 33 and the action of the oxidation catalyst particles is inhibited and the activity of the catalyst body is reduced. If it is sufficient and moisture is not adsorbed or if there is no problem with the oxidation reaction in a small amount, the heating unit 38 may not be operated so that excess heat is transferred to the gas to be treated and the temperature does not rise. .

酸化触媒層33を加熱する機構や方法は特に限定されない。例えば酸化触媒層33のメソ孔に吸着された水が揮発拡散できる温度以上に加熱できればよく、具体的には酸化触媒層33が80℃以上に加熱できればよい。さらに、酸化触媒層33に被処理気体を送風する空間速度にもよるが、加熱温度は200℃以下にするのが望ましい。200℃を超えると、加熱された酸化触媒層33を被処理気体が透過した後、その気体温度が大きく上昇し、例えば本実施形態の有機ガス低減装置を冷蔵庫などの低温環境下で使用する場合など、その使用環境の気温を上昇させるので好ましくない。活性回復に必要な加熱時間は、酸化触媒層33に吸着している水分量、酸化触媒層33の膜厚や通気性、加熱温度、空間速度などの要因によって影響されるが、上述の加熱温度範囲であれば1〜120分加熱すればよい。   The mechanism and method for heating the oxidation catalyst layer 33 are not particularly limited. For example, it is sufficient that the water adsorbed in the mesopores of the oxidation catalyst layer 33 can be heated to a temperature at which the water can be volatilized and diffused. Furthermore, although depending on the space velocity at which the gas to be treated is blown to the oxidation catalyst layer 33, the heating temperature is desirably 200 ° C. or lower. When the temperature exceeds 200 ° C., the gas to be treated passes through the heated oxidation catalyst layer 33, and then the gas temperature rises greatly. For example, the organic gas reduction device of this embodiment is used in a low-temperature environment such as a refrigerator. It is not preferable because the temperature of the usage environment is raised. The heating time required for the activity recovery is affected by factors such as the amount of moisture adsorbed on the oxidation catalyst layer 33, the film thickness and breathability of the oxidation catalyst layer 33, the heating temperature, and the space velocity. If it is within the range, it may be heated for 1 to 120 minutes.

加熱部38は、例えば熱源によって構成することができる。熱源は特に限定されず当業者に公知な熱源が使用できるが、装置の構造が簡単になる電熱ヒーター36が望ましい。電熱ヒーター36などの熱源を上述の酸化触媒層を担持する基材41に内在させて、基材41を介して酸化触媒層33に伝熱すればよい。電熱ヒーター36は給電配線37を介して電源と繋がっている。また、電熱ヒーター36もしくは電熱ヒーターを内在した別の部材を、酸化触媒層33が担持された部材30に密着もしく近接して設置することで伝熱してもよい。
もしくは酸化触媒層33に対して赤外線やマイクロ波など外部から電磁波を照射することで加熱してもよい。マイクロ波は水分を直接発熱させることができる一方、膜状支持体34が無機材料で構成されている場合は発熱しにくく、被処理気体を余分に加熱しにくい熱源であるので好ましい。
The heating unit 38 can be configured by a heat source, for example. The heat source is not particularly limited, and a heat source known to those skilled in the art can be used, but an electric heater 36 that simplifies the structure of the apparatus is desirable. A heat source such as the electric heater 36 may be included in the base material 41 that supports the above-described oxidation catalyst layer, and heat may be transferred to the oxidation catalyst layer 33 through the base material 41. The electric heater 36 is connected to a power source via a power supply wiring 37. Alternatively, heat may be transferred by installing the electric heater 36 or another member having the electric heater in close contact with or close to the member 30 carrying the oxidation catalyst layer 33.
Alternatively, the oxidation catalyst layer 33 may be heated by irradiating electromagnetic waves from the outside such as infrared rays or microwaves. While microwaves can directly generate heat, the film-like support 34 is preferably a heat source that hardly generates heat and hardly heats the gas to be treated when it is made of an inorganic material.

被処理気体の気体温度の上昇を抑制するため、上述の通り、酸化触媒層33の加熱は必要最小限に行うのが望ましい。そのため、本実施形態の加熱部38は断続的に稼動させる事がより好ましい。断続的に稼動させる方法は特に限定しないが、発熱ヒーターへの通電のON/OFFを手動で切り替える、タイマー機能を設置して稼動一定時間ごとに自動的に切り替える、酸化除去する有機ガスの濃度をモニターして規定値に達すると自動的に切り替えるなど、当業者に公知な方法に基づき加熱されるようにすればよい。   In order to suppress an increase in the gas temperature of the gas to be processed, it is desirable to heat the oxidation catalyst layer 33 to the minimum necessary as described above. Therefore, it is more preferable to operate the heating unit 38 of this embodiment intermittently. The method of intermittent operation is not particularly limited, but it is possible to manually switch ON / OFF the power supply to the heater, automatically install it with a timer function, and change the concentration of organic gas to be removed by oxidation. What is necessary is just to make it heat based on a method well-known to those skilled in the art, such as switching automatically when it reaches a specified value by monitoring.

一定間隔で断続稼動させる場合、その断続する間隔は、酸化触媒層33のメソ孔内に吸着する水分量にも因るが、稼動時間(A)と非稼働時間(B)が、その比のB/Aが23から335の間の数値を満たす時間が好ましい。B/Aの値が23より小さい場合は稼働時間の間隔が短く、23以上である場合と比較して被処理気体の気温が上昇しやすくなる。335より大きい場合は稼働時間の間隔が長くなり、335以下である場合と比較してメソポーラス触媒体の触媒活性が低下した状態が生じやすくなるため好ましくない。   When intermittent operation is performed at regular intervals, the intermittent interval depends on the amount of moisture adsorbed in the mesopores of the oxidation catalyst layer 33, but the operation time (A) and non-operation time (B) The time when B / A satisfies the numerical value between 23 and 335 is preferable. When the value of B / A is smaller than 23, the operation time interval is short, and the temperature of the gas to be processed is likely to rise as compared with the case where it is 23 or more. If it is larger than 335, the operating time interval becomes longer, and it is not preferable because the state in which the catalytic activity of the mesoporous catalyst body is lowered is likely to occur as compared with the case where it is 335 or less.

本実施形態の酸化触媒層33は膜状の形状であるので、粉体状など他の形状の触媒体と比較して、熱源から発した熱がメソ孔内の水分子に効率よく伝わる。そのため、メソ孔内の水分がメソ孔から速やかに揮発除去されるため、水分除去に必要な加熱量がより少なくなり、被処理気体の気温を上昇するのが抑制できるため、好ましい。   Since the oxidation catalyst layer 33 of the present embodiment has a film shape, the heat generated from the heat source is efficiently transmitted to the water molecules in the mesopores as compared with other shapes of catalyst bodies such as powder. Therefore, since the water in the mesopores is volatilized and removed from the mesopores quickly, the amount of heating necessary for removing the water is further reduced, and the temperature of the gas to be treated can be suppressed from increasing, which is preferable.

本実施形態の有機ガス低減装置100を用いることによって、室温(23.4℃)より低く湿度も通常(相対湿度50%)より高い環境下において、気体中、特に大気中のエチレンガスなどの有機ガスを微量濃度(酸化触媒層の大きさや送風部の有無などにもよるが、0.5ppm程度)でも酸化除去でき、例えば青果物や花卉の保管に良好な低エチレンガス濃度状態など、有害有機ガス成分を低減した気体環境を提供することができる。   By using the organic gas reduction device 100 of the present embodiment, in an environment lower than room temperature (23.4 ° C.) and higher than normal (relative humidity 50%), an organic material such as ethylene gas in a gas, particularly in the atmosphere. Oxidation and removal of gases even at trace concentrations (depending on the size of the oxidation catalyst layer and the presence or absence of a blower, but about 0.5 ppm), for example, harmful organic gases such as low ethylene gas concentration that is good for storing fruits and vegetables A gaseous environment with reduced components can be provided.

以上、本実施形態の有機ガス低減装置について説明したが、本発明はこれに限定されず、他の態様とすることもできる。
例えば、有機ガス低減装置について酸化触媒部を備える部材、送風部、および加熱部を備える構成を例示して説明したが、送風部を有さない構成としてもよい。
また、酸化触媒部が膜状支持体を有しており、膜状支持体のメソ孔において酸化触媒粒子が担持されている態様を挙げて説明したがこれに限定されず、他の態様であってもよい。例えば、酸化触媒部がメソ孔を有する粒子状支持体を有しており、当該粒子状支持体のメソ孔において酸化触媒粒子が担持される態様等であってもよい。
As mentioned above, although the organic gas reduction apparatus of this embodiment was demonstrated, this invention is not limited to this, It can also be set as another aspect.
For example, although the organic gas reduction device has been described by exemplifying the configuration including the member including the oxidation catalyst unit, the air blowing unit, and the heating unit, the organic gas reduction device may be configured not to include the air blowing unit.
Further, although the description has been given by taking the embodiment in which the oxidation catalyst portion has a membrane-like support and the oxidation catalyst particles are supported in the mesopores of the membrane-like support, the present invention is not limited to this, and other embodiments are possible. May be. For example, the oxidation catalyst part may have a particulate support having mesopores, and the oxidation catalyst particles may be supported in the mesopores of the particulate support.

次に、実施例を挙げて本発明をより具体的に説明する。ただし、本発明はこれらの実施
例のみに限定されるものではない。
Next, the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the present invention is not limited to only these examples.

(実施例1)
ビーカーにテトラエトキシシラン(TEOS)10.4gを入れ、さらにエタノール12.0gを加えた。ここに、さらに0.01M塩酸4.5gを加え、室温で20分攪拌した(A液)。別のビーカーに非イオン系界面活性剤(Brij56)3.3g及びエタノール8.0gを加え、室温で30分攪拌した(B液)。その後、A液にB液を加え、室温条件下で混合し、さらに3時間攪拌し、メソポーラスシリカの前駆体溶液を得た。メソポーラスシリカ前駆体溶液に、基材となるセラミックハニカム(岩谷産業社製)を浸漬させ、15分間減圧した。その後、セラミックハニカムを引上げ余剰分の溶液をエアブローで除去した後、1℃/分で昇温し、450℃で4時間焼成しメソポーラスシリカ膜を固定化したセラミックハニカム基材を得た。
その後、メソポーラスシリカ膜を固定化したセラミックハニカムにジアンミンジニトロ白金硝酸を含む溶液に浸漬させ、余剰分の溶液をエアブローで除去し、水素ガス10%、窒素ガス90%の還元処理ガス中で250℃、1時間焼成し、白金の酸化触媒層を有するハニカム基材を得た。
なおメソポーラスシリカ膜(Pt粒子を含む、以下同じ)に対するPtの担持量は1wt%であった。細孔径をBET法による測定を実施したところ、3.2nmであった。また、メソポーラスシリカ膜の膜厚は500nmであった。また、Ptの粒子サイズをTEMで観察したところ、3nmであった。
Example 1
10.4 g of tetraethoxysilane (TEOS) was put in a beaker, and 12.0 g of ethanol was further added. To this, 4.5 g of 0.01M hydrochloric acid was further added and stirred at room temperature for 20 minutes (solution A). In a separate beaker, 3.3 g of a nonionic surfactant (Brij56) and 8.0 g of ethanol were added and stirred at room temperature for 30 minutes (Liquid B). Then, B liquid was added to A liquid, mixed under room temperature conditions, and further stirred for 3 hours to obtain a precursor solution of mesoporous silica. A ceramic honeycomb (manufactured by Iwatani Corporation) serving as a base material was immersed in the mesoporous silica precursor solution, and the pressure was reduced for 15 minutes. Thereafter, the ceramic honeycomb was pulled up, and the excess solution was removed by air blowing. Then, the temperature was raised at 1 ° C./min and fired at 450 ° C. for 4 hours to obtain a ceramic honeycomb substrate on which the mesoporous silica film was fixed.
Thereafter, the ceramic honeycomb with the mesoporous silica film immobilized thereon is immersed in a solution containing diamine dinitroplatinum nitrate, and the excess solution is removed by air blow, and the mixture is reduced to 250 ° C. in a reducing gas containing 10% hydrogen gas and 90% nitrogen gas. After firing for 1 hour, a honeycomb substrate having a platinum oxidation catalyst layer was obtained.
The amount of Pt supported on the mesoporous silica film (including Pt particles, hereinafter the same) was 1 wt%. When the pore diameter was measured by the BET method, it was 3.2 nm. The mesoporous silica film had a thickness of 500 nm. Moreover, when the particle size of Pt was observed with TEM, it was 3 nm.

電熱ヒーターを内臓した発熱体を上述の得られたハニカム基材の外周部に密着させて複数取り付けた。さらに表面温度計のセンサーをハニカム基材外周部に、上記発熱体と接触しないようにして取り付けた。また、酸化触媒層に被処理気体が透過するように送風機構(膜厚方向と直行する方向に被処理気体を送風)を取り付け、有機ガス低減装置を作製した。   A plurality of heating elements incorporating an electric heater were attached in close contact with the outer periphery of the honeycomb substrate obtained above. Further, a surface thermometer sensor was attached to the outer periphery of the honeycomb substrate so as not to contact the heating element. In addition, a blowing mechanism (blowing the gas to be treated in a direction perpendicular to the film thickness direction) was attached so that the gas to be treated permeated through the oxidation catalyst layer, and an organic gas reduction device was produced.

[試験例1]
容積120Lの密閉空間内を温度5℃、湿度90%およびエチレン濃度が0.5ppmになるように調整した。その後、密閉空間内に実施例1の有機ガス低減装置を設置し、酸化触媒層を有するハニカム基材に対し空間速度48,000/hで送風しながら、密閉空間内のエチレンの濃度変化を経時的に測定した。なお、空間速度は酸化触媒層の体積300cm(10cm×10cm×3cm)に対し、風量14.4m/hから算出した。
[Test Example 1]
The inside of the sealed space with a volume of 120 L was adjusted so that the temperature was 5 ° C., the humidity was 90%, and the ethylene concentration was 0.5 ppm. Thereafter, the organic gas reduction device of Example 1 was installed in the sealed space, and the change in ethylene concentration in the sealed space over time was blown to the honeycomb substrate having the oxidation catalyst layer at a space velocity of 48,000 / h. Measured. The space velocity was calculated from the air volume of 14.4 m 3 / h with respect to the volume of the oxidation catalyst layer of 300 cm 3 (10 cm × 10 cm × 3 cm).

[試験例2]
試験例1を実施後、温度5℃、湿度90%、エチレン濃度が0.5ppmの環境下で有機ガス低減装置を14日間連続運転した。14日後に試験例1と同様な方法で実施した。
[Test Example 2]
After carrying out Test Example 1, the organic gas reduction device was continuously operated for 14 days in an environment where the temperature was 5 ° C., the humidity was 90%, and the ethylene concentration was 0.5 ppm. After 14 days, the same method as in Test Example 1 was performed.

[試験例3]
試験例2を実施後、有機ガス低減装置の酸化触媒層を50℃で1時間加熱処理をした。その後、試験例1と同様な方法で実施した。
[Test Example 3]
After carrying out Test Example 2, the oxidation catalyst layer of the organic gas reduction device was heat-treated at 50 ° C. for 1 hour. Then, it implemented by the method similar to Test Example 1.

[試験例4]
試験例2を実施後、有機ガス低減装置の酸化触媒層を80℃で1時間加熱処理をした。その後、試験例1と同様な方法で実施した。
[Test Example 4]
After performing Test Example 2, the oxidation catalyst layer of the organic gas reduction device was heat-treated at 80 ° C. for 1 hour. Then, it implemented by the method similar to Test Example 1.

[試験例5]
試験例2を実施後、有機ガス低減装置の酸化触媒層を140℃で1時間加熱処理をした。その後、試験例1と同様な方法で実施した。
[Test Example 5]
After performing Test Example 2, the oxidation catalyst layer of the organic gas reduction device was heat-treated at 140 ° C. for 1 hour. Then, it implemented by the method similar to Test Example 1.

[試験例6]
試験例2を実施後、有機ガス低減装置の酸化触媒層を200℃で1時間加熱処理をした。その後、試験例1と同様な方法で実施した。
[Test Example 6]
After carrying out Test Example 2, the oxidation catalyst layer of the organic gas reduction device was heat-treated at 200 ° C. for 1 hour. Then, it implemented by the method similar to Test Example 1.

表1の結果から、試験例1では6時間後のボックス内のエチレン濃度は不検出となったが、試験例2では6時間後のエチレン濃度は0.35ppmと、エチレンが残存しており、装置を14日間連続稼動することで、装置のエチレン低減能力が低下したことが分かる。   From the results of Table 1, in Test Example 1, the ethylene concentration in the box after 6 hours was not detected, but in Test Example 2, the ethylene concentration after 6 hours was 0.35 ppm, and ethylene remained, It can be seen that the ethylene reduction ability of the apparatus was reduced by operating the apparatus continuously for 14 days.

一方、酸化触媒層を加熱処理した試験例3では6時間後のボックス内のエチレン濃度は0.30ppmであり、エチレン低減能力が若干回復している事を示している。さらに、試験例4〜6は6時間後のボックス内のエチレン濃度が不検出であり、試験例1と同様の結果となり、エチレン低減能力が十分に回復していた。以上の結果より、本発明の有効性が示された。   On the other hand, in Test Example 3 in which the oxidation catalyst layer was heat-treated, the ethylene concentration in the box after 6 hours was 0.30 ppm, indicating that the ethylene reduction ability was slightly recovered. Further, in Test Examples 4 to 6, the ethylene concentration in the box after 6 hours was not detected, and the same result as in Test Example 1 was obtained, and the ethylene reduction ability was sufficiently recovered. From the above results, the effectiveness of the present invention was shown.

10 送風機構
11 電動ファン
30 酸化触媒層を有する部材
31 基材
33 酸化触媒層
34 膜状支持体
35 通気部分
36 電熱ヒーター
37 電熱ヒーターへの給電配線
38 加熱部
100 有機ガス低減装置
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Blower mechanism 11 Electric fan 30 Member which has oxidation catalyst layer 31 Base material 33 Oxidation catalyst layer 34 Film-like support 35 Ventilation part 36 Electric heater 37 Electric power supply wiring to electric heater 38 Heating part 100 Organic gas reduction apparatus

Claims (12)

被処理気体中の有機ガスを低減する有機ガス低減装置であって、
通気性を有し、その表面にメソ孔と当該メソ孔に担持される白金、パラジウムの単体およびこれらの酸化物からなる群から1種または2種以上選択される物質を含む酸化触媒粒子とを有する酸化触媒部が配置されている部材と、
前記酸化触媒部を加熱する加熱部と、を備えることを特徴とする有機ガス低減装置。
An organic gas reduction device that reduces organic gas in a gas to be treated,
Oxidation catalyst particles having air permeability and having mesopores on the surface thereof and containing one or more substances selected from the group consisting of platinum and palladium supported on the mesopores and oxides thereof. A member in which an oxidation catalyst part is disposed;
An organic gas reduction device comprising: a heating unit that heats the oxidation catalyst unit.
前記加熱部が前記酸化触媒部を80℃以上に加熱することを特徴とする請求項1に記載の有機ガス低減装置。   The organic gas reduction device according to claim 1, wherein the heating unit heats the oxidation catalyst unit to 80 ° C. or more. 前記加熱部は、断続的に稼動することを特徴とする請求項1もしくは2に記載の有機ガス低減装置。   The organic gas reduction device according to claim 1, wherein the heating unit operates intermittently. 前記有機ガスがエチレンであることを特徴とする請求項1から3のいずれか一つに記載の有機ガス低減装置。   The organic gas reducing device according to any one of claims 1 to 3, wherein the organic gas is ethylene. 前記酸化触媒部がメソ孔を有する膜状支持体を有し、当該膜状支持体のメソ孔において前記酸化触媒粒子が担持されていることを特徴とする請求項1から4のいずれか1つに記載の有機ガス低減装置。   The oxidation catalyst part has a membranous support having mesopores, and the oxidation catalyst particles are supported in mesopores of the membranous support. The organic gas reduction device described in 1. 前記膜状支持体の膜厚が50nm以上1000nm以下であることを特徴とする請求項5に記載の有機ガス低減装置。   6. The organic gas reduction device according to claim 5, wherein the film-like support has a thickness of 50 nm to 1000 nm. 前記膜状支持体がSiO2で形成されていることを特徴とする請求項5もしくは6に記載の有機ガス低減装置。 The organic gas reduction device according to claim 5 or 6, wherein the film-like support is made of SiO 2 . 前記メソ孔のBET法で測定した平均孔径が2nm以上10nm以下であることを特徴とする請求項5から7のいずれか一つに記載の有機ガス低減装置。   The organic gas reduction device according to any one of claims 5 to 7, wherein an average pore diameter of the mesopores measured by a BET method is 2 nm or more and 10 nm or less. 前記酸化触媒粒子の平均粒径が1nm以上10nm以下であることを特徴とする請求項5から8のいずれか一つに記載の有機ガス低減装置。   9. The organic gas reduction device according to claim 5, wherein an average particle diameter of the oxidation catalyst particles is 1 nm or more and 10 nm or less. 前記酸化触媒体に被処理気体を供給する気体供給部をさらに備える請求項1から9のいずれか一つに記載の有機ガス低減装置。   The organic gas reduction device according to any one of claims 1 to 9, further comprising a gas supply unit that supplies a gas to be processed to the oxidation catalyst body. 前記気体供給部が非処理気体を前記酸化触媒部に送風する送風機構を有しており、前記送風機構による送風の空間速度が10,000/h以上150,000/h以下であることを特徴とする請求項10に記載の有機ガス低減装置。   The gas supply unit has a blowing mechanism for blowing untreated gas to the oxidation catalyst unit, and a space velocity of blowing by the blowing mechanism is 10,000 / h or more and 150,000 / h or less. 10. The organic gas reducing device according to 10. 前記酸化触媒部を有する部材の空気流通方向上流側に抗菌性、防カビ性、抗ウイルス性のうち少なくとも一つを有する化合物を担持した部材をさらに有することを特徴とする請求項10もしくは11に記載の有機ガス低減装置。

12. The apparatus according to claim 10, further comprising a member carrying a compound having at least one of antibacterial, antifungal, and antiviral properties on the upstream side in the air flow direction of the member having the oxidation catalyst portion. The organic gas reduction device as described.

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