JP2018132408A - 光電式エンコーダ - Google Patents
光電式エンコーダ Download PDFInfo
- Publication number
- JP2018132408A JP2018132408A JP2017025944A JP2017025944A JP2018132408A JP 2018132408 A JP2018132408 A JP 2018132408A JP 2017025944 A JP2017025944 A JP 2017025944A JP 2017025944 A JP2017025944 A JP 2017025944A JP 2018132408 A JP2018132408 A JP 2018132408A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- axis
- scale
- light
- diffracted light
- light source
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Optical Transform (AREA)
Abstract
【課題】 大型化を抑制しつつ、±s次回折光の干渉縞から不要回折光の影響を抑制することができる光電式エンコーダを提供する。
【解決手段】 光電式エンコーダは、第1軸に長さ方向を有する複数の格子が前記第1軸と直交する第2軸に沿って配列されたスケールと、前記スケールの入射面に垂直な第3軸に対して前記第1軸方向に傾斜する光軸を有し、前記スケールに光を入射する光源と、前記光源と前記スケールとの間に配置され、前記光源の光軸方向の厚みが前記第1軸方向において変化し、かつ、前記第1軸と前記第3軸とがなす平面での断面が前記第2軸の各位置で同じ形状を有している透明媒体と、前記スケールの前記光源と反対側に配置され、前記第1軸に長さ方向を有する複数のフォトダイオードが前記第2軸に沿って配列された受光素子と、を備えることを特徴とする。
【選択図】 図3
【解決手段】 光電式エンコーダは、第1軸に長さ方向を有する複数の格子が前記第1軸と直交する第2軸に沿って配列されたスケールと、前記スケールの入射面に垂直な第3軸に対して前記第1軸方向に傾斜する光軸を有し、前記スケールに光を入射する光源と、前記光源と前記スケールとの間に配置され、前記光源の光軸方向の厚みが前記第1軸方向において変化し、かつ、前記第1軸と前記第3軸とがなす平面での断面が前記第2軸の各位置で同じ形状を有している透明媒体と、前記スケールの前記光源と反対側に配置され、前記第1軸に長さ方向を有する複数のフォトダイオードが前記第2軸に沿って配列された受光素子と、を備えることを特徴とする。
【選択図】 図3
Description
本件は、光電式エンコーダに関する。
スケールからの+s次回折光および−s次回折光の光路を検出器内部のインデックス格子によって収束し、干渉信号を生成するエンコーダが開示されている。このようなエンコーダにおいて、±s次回折光に対して±s次回折光以外の不要回折光が空間的に混入すると、干渉縞のプロファイルが乱れ、測定誤差が生じる。そこで、検出器中で不要回折光を物理的に遮蔽する技術が開示されている(例えば特許文献1,2)。
しかしながら、この技術では、不要回折光を遮蔽するために、スケールとインデックス格子との間隔を広げて信号回折光と不要回折光とを空間的に分離する必要がある。この場合、スケールとインデックス格子との間隔を広げた分、検出器が大型化するおそれがある。
1つの側面では、本発明は、大型化を抑制しつつ、±s次回折光の干渉縞から不要回折光の影響を抑制することができる光電式エンコーダを提供することを目的とする。
1つの態様では、本発明に係る光電式エンコーダは、第1軸に長さ方向を有する複数の格子が前記第1軸と直交する第2軸に沿って配列されたスケールと、前記スケールの入射面に垂直な第3軸に対して前記第1軸方向に傾斜する光軸を有し、前記スケールに光を入射する光源と、前記光源と前記スケールとの間に配置され、前記光源の光軸方向の厚みが前記第1軸方向において変化し、かつ、前記第1軸と前記第3軸とがなす平面での断面が前記第2軸の各位置で同じ形状を有している透明媒体と、前記スケールの前記光源と反対側に配置され、前記第1軸に長さ方向を有する複数のフォトダイオードが前記第2軸に沿って配列された受光素子と、を備えることを特徴とする。
上記光電式エンコーダにおいて、前記光源の光軸は、前記第3軸に対して0.1度以上で、前記第1軸方向に傾斜していてもよい。
前記透明媒体は、シリンドリカルレンズとしてもよい。
大型化を抑制しつつ、±s次回折光の干渉縞から不要回折光の影響を抑制することができる光電式エンコーダを提供することができる。
(比較形態)
実施形態の説明に先立って、比較形態について説明する。図1は、比較形態に係る光電式エンコーダ200の概略斜視図である。図1で例示するように、光電式エンコーダ200は、コリメート光源10、スケール20、および受光素子30を備える。以下の説明において、スケール20に形成された各格子21の配列方向をX軸とする。X軸と直交し、スケール20の各格子21が延びる方向をY軸とする。XY平面は、スケール20の入射面がなす面と平行となる。X軸およびY軸と直交する方向をZ軸とする。比較形態においては、コリメート光源10からスケール20に入射するコリメート光の光軸方向がZ軸と一致する。
実施形態の説明に先立って、比較形態について説明する。図1は、比較形態に係る光電式エンコーダ200の概略斜視図である。図1で例示するように、光電式エンコーダ200は、コリメート光源10、スケール20、および受光素子30を備える。以下の説明において、スケール20に形成された各格子21の配列方向をX軸とする。X軸と直交し、スケール20の各格子21が延びる方向をY軸とする。XY平面は、スケール20の入射面がなす面と平行となる。X軸およびY軸と直交する方向をZ軸とする。比較形態においては、コリメート光源10からスケール20に入射するコリメート光の光軸方向がZ軸と一致する。
コリメート光源10は、コリメート光を出射する光源であれば特に限定されるものではない。例えば、コリメート光源10は、発光ダイオード等の発光素子と、コリメートレンズ、リフレクタ等のコリメート光生成手段と、を備える。リフレクタは、例えば、部分放物面の反射面を備えるリフレクタである。
スケール20は、X軸方向に沿って所定のスケール周期で配列された複数の格子21を備えている。すなわち、スケール20は、X軸方向に格子の配列方向を有する。したがって、スケール20の測定軸(測長方向)は、X軸である。各格子21は、Y軸方向に延びている。すなわち、各格子21は、Y軸方向に長さ方向を有する。スケール20は、コリメート光源10および受光素子30に対して、X軸方向に相対的に移動可能となっている。
受光素子30は、スケール20のコリメート光源10と反対側に配置され、入射面に対して、Y軸方向に長さ方向を有する複数のフォトダイオード31が所定の周期でX軸方向に沿って配列された受光領域を有している。例えば、受光素子30は、複数のフォトダイオード31が配列されたフォトダイオードアレイである。受光素子30は、複数のフォトダイオード31の出力を用いて、スケール20の格子21に応じた周期的な明暗を検出する。それにより、スケール20の相対的な位置変動を検出することができる。具体的には、複数のフォトダイオード31が検出した受光強度に基づいて、位置変動の量を求めることができる。
図2で例示するように、スケール20を透過する光は、信号回折光(±1次回折光)および不要回折光(0次回折光、±2次回折光、±3次回折光、…)に分離する。光電式エンコーダ200においては、コリメート光源10の光軸がスケール20の入射面に対して垂直であることから、信号回折光(±1次回折光)および不要回折光(0次回折光、±2次回折光、±3次回折光、…)が、受光素子30においてX軸方向に所定の間隔を空けて入射することになる。この場合、信号回折光の干渉縞に不要回折光の干渉縞が重なりやすくなるため、信号回折光と不要回折光とが互いに干渉しやすくなる。したがって、比較形態に係る光電式エンコーダ200においては、高い測定精度が得られないおそれがある。
そこで、実施形態に係る光電式エンコーダ100においては、コニカル回折を利用することで、±s次回折光を空間的に分離する。以下、詳細について説明する。
(実施形態)
図3(a)は、実施形態に係る光電式エンコーダ100の斜視図である。図3(a)で例示するように、光電式エンコーダ100においては、コリメート光源10とスケール20との間に、シリンドリカルレンズ40が配置されている。図1の光電式エンコーダ200と同じ構成については、同じ符号を付すことで説明を省略する。
図3(a)は、実施形態に係る光電式エンコーダ100の斜視図である。図3(a)で例示するように、光電式エンコーダ100においては、コリメート光源10とスケール20との間に、シリンドリカルレンズ40が配置されている。図1の光電式エンコーダ200と同じ構成については、同じ符号を付すことで説明を省略する。
本実施形態においては、コリメート光源10の光軸をZ軸に対してY軸方向に傾斜させる。これにより、スケール20を透過した光を、コニカル回折させることができる。コニカル回折については、An EUV beamsplitter based on conical grazing incidence diffraction, Opt Express. 2012 Jan 16;20(2):1825-38などに開示されている。スケール20の透過光をコニカル回折させることで、スケール20の入射面と平行な面をなす受光素子30において、回折光の次数が大きくなるにつれてX軸方向にオフセットするとともに、Y軸方向にもオフセットする。
また、シリンドリカルレンズ40は、円柱の側面の一部を切り出した形状を有している。シリンドリカルレンズ40は、かまぼこ形状を有していてもよく、曲面の曲率半径が一定でなくてもよい。すなわち、シリンドリカルレンズ40は、コリメート光源10の光軸方向の厚みが、Y軸方向において変化している。また、シリンドリカルレンズ40は、Y軸とZ軸とがなす平面での断面が、X軸方向の各位置で同じ形状を有している。これにより、図3(b)で例示するように、信号回折光および不要回折光に、測長方向(X軸)に対して垂直な方向(Y軸)に沿った、非直線的な波面収差を得ることができる。
ここで、異なる次数の回折光の干渉作用について検討する。スケール20から回折光をコニカル回折させた状態では、次数の異なる回折光は、測長方向(X軸)に対して垂直なY軸方向にオフセットする。この場合、測長方向(X軸)に対して垂直なY軸方向に沿った波面収差が回折光に存在すれば、測長方向(X軸)に平行な干渉縞を生成する効果が得られる。この効果は、1つの光波を横ずらししながら分割し、分割した光波を干渉させることによって波面収差を観測する「シヤリング干渉計」と同等の原理によって得られる。
また、次数の異なる回折光は、もともとX軸方向にも異なる角度を持って伝搬している。これらの回折光が重なり合う場合、Y軸方向に平行な干渉縞が発生する。すなわち、「X軸方向に平行な干渉縞を生成する効果」と「Y軸方向に平行な干渉縞を生成する効果」が複合することによって、X軸およびY軸に対して傾斜する斜め方向に干渉縞が生成されることになる。
次に、同じ次数の回折光に着目する。図3(a)で例示したように、同じ次数の回折光間では、次数の異なる回折光の場合とは違い、コニカル回折の状態であったとしてもY軸方向のオフセットは発生しない。したがって、同じ次数の回折光については、波面収差が存在したとしても「X軸方向に平行な干渉縞を生成する効果」が作用しないため、Y軸方向に平行な干渉縞が生成されることになる。
次に、±1次光による干渉縞を信号として検出する場合について検討する。±1次光による干渉縞を信号として最も効率よく検出する場合、図4(a)で例示するように、フォトダイオード31をY軸方向に平行に設置することで、フォトダイオード31と±1次光による干渉縞50とを最も効率よく重ね合わせることができる。この場合、図4(b)で例示するように、次数の異なる回折光による干渉縞60は、X軸およびY軸に対して傾斜する斜め方向に形成されていることから、各フォトダイオード31が延びる方向とは平行にならない。結果的に、次数の異なる回折光による干渉信号の検出効率は低減する。これは、同じ次数の信号回折光(±1次回折光)を用いた測定精度の向上を意味する。
本実施形態によれば、コニカル回折によって次数の異なる回折光を測長方向とは異なる方向にオフセットさせることができる。さらに、測長方向に対して垂直なY軸方向に非直線的な波面収差を光源に与えることによって、次数の異なる回折光による不要な干渉信号を低減させることができる。それにより、信号回折光(±1次回折光)を用いた測定精度を向上させることができる。また、不要回折光の遮蔽機構を設けなくてもよいため、検出ヘッドの大型化や構造煩雑化を回避することができる。
なお、上記実施形態においては、図5(a)で例示するようなシリンドリカルレンズ40を用いたが、それに限られない。コリメート光源10の光軸方向の厚みがY軸方向の各位置において変化し、かつ、YZ平面での断面がX軸方向の各位置で同じ形状を有している透明媒体(屈折率が1を上回る)であれば、シリンドリカルレンズ40の代わりに用いることができる。
例えば、図5(b)で例示するように、測長方向に対して垂直なY軸方向に放物線状に厚みが変化するガラス板を用いてもよい。または、図5(c)で例示するように、測長方向に対して垂直なY軸方向において厚みがランダムに変化するガラス板を用いてもよい。なお、図5(a)〜図5(c)の例では、曲面がコリメート光の入射側に設けられているが、出射側に設けられていてもよい。
なお、上記実施形態においては、コリメート光源10の光軸をZ軸からY軸方向に傾斜させているが、その傾斜角度は特に限定されるものではない。ただし、コリメート光源10の光軸を、Z軸からY軸方向に0.1度以上傾斜させ、かつ、スケール20から受光素子30に至るまでの全伝搬光路中において+1次回折光と−1次回折光とがオーバーラップするような範囲内で傾斜させることが好ましい。なお、Z軸に対するコリメート光源10の傾斜角度に、X軸方向の成分が含まれていてもよい。
なお、上記実施形態において、スケール20が、第1軸に長さ方向を有する複数の格子が前記第1軸と直交する第2軸に沿って配列されたスケールの一例である。コリメート光源10が、前記スケールの入射面に垂直な第3軸に対して前記第1軸方向に傾斜する光軸を有し、前記スケールに光を入射する光源の一例である。シリンドリカルレンズ40が、前記光源と前記スケールとの間に配置され、前記光源の光軸方向の厚みが前記第1軸方向において変化し、かつ、前記第1軸と前記第3軸とがなす平面での断面が前記第2軸の各位置で同じ形状を有している透明媒体の一例である。受光素子30が、前記スケールの前記光源と反対側に配置され、前記第1軸に長さ方向を有する複数のフォトダイオードが前記第2軸に沿って配列された受光素子の一例である。Y軸が第1軸に相当し、X軸が第2軸に相当し、Z軸が第3軸に相当する。
(実施例)
上記実施形態に従って、コリメート光源10からスケール20にコリメート光を入射した場合に、受光素子30の受光領域に干渉縞を生じさせるシミュレーションを行った。シリンドリカルレンズ40の焦点距離Fを100mmとした。スケール20の格子ピッチを1μmとした。スケール20と受光素子30との距離を2mmとした。受光素子30受光領域のY軸方向の幅を0.25mmとした。
上記実施形態に従って、コリメート光源10からスケール20にコリメート光を入射した場合に、受光素子30の受光領域に干渉縞を生じさせるシミュレーションを行った。シリンドリカルレンズ40の焦点距離Fを100mmとした。スケール20の格子ピッチを1μmとした。スケール20と受光素子30との距離を2mmとした。受光素子30受光領域のY軸方向の幅を0.25mmとした。
図6(a)は、+1次回折光と−1次回折光との干渉縞を示している。同じ次数の回折光間では、Y軸方向のオフセットは発生しない。したがって、図6(a)に示すように、波面収差が存在したとしても、X軸方向に平行な干渉縞を生成する効果が作用しないため、Y軸方向に平行な干渉縞が生成される。なお、当該干渉縞には、スケール20の格子ピッチの半分の0.5μm周期のフリンジが現れる。
図6(b)は、0次回折光と+1次回折光との干渉縞を示している。スケール20から回折光をコニカル回折させた状態では次数の異なる回折光が測長方向(X軸)に対して垂直なY軸方向にオフセットするため、測長方向(X軸)に対して垂直なY軸方向に沿った波面収差が回折光に存在すれば、測長方向(X軸)に平行な干渉縞が生成される。また、次数の異なる回折光は、X軸方向にも異なる角度を持って伝搬しているため、Y軸方向に平行な干渉縞を発生する。したがって、図6(b)に示すように、0次回折光および+1次回折光は、X軸およびY軸に対して傾斜する斜め方向に干渉縞を発生する。
図6(c)は、0次回折光と−1次回折光との干渉縞を示している。図6(c)に示すように、図6(b)とはY軸に対称に逆側に傾斜する干渉縞が発生する。
図6(d)は、図6(a)〜図6(c)を重ね合わせることで得られる干渉縞を示している。図6(b)の干渉縞と図6(c)の干渉縞とは、互いに異なる方向に傾斜しているため、Y軸方向において互いに強め合う箇所と互いに弱めあう箇所とが現れる。互いに弱めあう箇所がY軸方向の全体に現れることにはならないため、図6(a)の特定の干渉縞の全体が弱まることにはならない。したがって、図6(a)のように±1次回折光の干渉縞全体が得られるわけではないが、図6(a)と同じ周期(0.5μm)で受光強度が得られることになる。
(比較例)
比較例においては、シリンドリカルレンズ40を用いなかった他は、実施例と同じ条件でシミュレーションを行った。
比較例においては、シリンドリカルレンズ40を用いなかった他は、実施例と同じ条件でシミュレーションを行った。
図6(e)は、+1次回折光と−1次回折光との干渉縞を示している。同じ次数の回折光間ではY軸方向のオフセットは発生しないため、X軸方向に平行な干渉縞を生成する効果が作用しない。それにより、Y軸方向に平行な干渉縞が生成される。なお、実施例と同様に、当該干渉縞には、スケール20の格子ピッチの半分の0.5μm周期のフリンジが現れる。
図6(f)は、0次回折光と+1次回折光との干渉縞を示している。スケール20から回折光をコニカル回折させた状態では次数の異なる回折光が測長方向(X軸)に対して垂直なY軸方向にオフセットするが、測長方向(X軸)に対して垂直なY軸方向に沿った波面収差が回折光に存在しないため、測長方向(X軸)に平行な干渉縞が生成されない。一方、次数の異なる回折光は、X軸方向にも異なる角度を持って伝搬しているため、Y軸方向に平行な干渉縞を発生する。したがって、図6(f)に示すように、0次回折光および+1次回折光は、Y軸方向に平行な干渉縞を発生する。なお、当該干渉縞には、スケール20の格子ピッチと同じ1μm周期のフリンジが現れる。これは、0次光および+1次光の伝搬方向が成す角度が−1次光および+1次光の伝搬方向が成す角度の半分であるため、0次光と+1次光とによるフリンジ周期が+1次光と−1次光とによるフリンジ周期の2倍となるからである。
図6(g)は、0次回折光と−1次回折光との干渉縞を示している。図6(g)に示すように、図6(f)と同じ干渉縞が発生する。
図6(h)は、図6(e)〜図6(g)を重ね合わせることで得られる干渉縞を示している。図6(f)の干渉縞と図6(g)の干渉縞とは、X軸方向に沿って、互いに強め合う箇所と互いに弱めあう箇所とが交互に現れることになる。また、図6(f)および図6(g)の周期が図6(e)の周期の整数倍となっている。したがって、図6(f)に示すように、図6(e)の干渉縞において受光強度が得られない干渉縞が交互に現れる。したがって、図6(e)と同じ周期では受光強度が得られないことになる。
実施例および比較例の結果によれば、コニカル回折によって次数の異なる回折光を測長方向とは異なる方向にオフセットさせ、かつ、測長方向に対して垂直なY軸方向に非直線的な波面収差を光源に与えることによって、次数の異なる回折光による不要な干渉信号を低減させることができることがわかった。一方、測長方向に対して垂直なY軸方向に非直線的な波面収差を光源に与えなければ、次数の異なる回折光同士の干渉縞を傾斜させることができないため、測定精度が得られないことがわかった。
以上、本発明の実施例について詳述したが、本発明は係る特定の実施例に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された本発明の要旨の範囲内において、種々の変形・変更が可能である。
10 コリメート光源
20 スケール
30 受光素子
31 フォトダイオード
40 シリンドリカルレンズ
100 光電式エンコーダ
20 スケール
30 受光素子
31 フォトダイオード
40 シリンドリカルレンズ
100 光電式エンコーダ
Claims (3)
- 第1軸に長さ方向を有する複数の格子が前記第1軸と直交する第2軸に沿って配列されたスケールと、
前記スケールの入射面に垂直な第3軸に対して前記第1軸方向に傾斜する光軸を有し、前記スケールに光を入射する光源と、
前記光源と前記スケールとの間に配置され、前記光源の光軸方向の厚みが前記第1軸方向において変化し、かつ、前記第1軸と前記第3軸とがなす平面での断面が前記第2軸の各位置で同じ形状を有している透明媒体と、
前記スケールの前記光源と反対側に配置され、前記第1軸に長さ方向を有する複数のフォトダイオードが前記第2軸に沿って配列された受光素子と、を備えることを特徴とする光電式エンコーダ。 - 前記光源の光軸は、前記第3軸に対して0.1度以上で、前記第1軸方向に傾斜することを特徴とする請求項1記載の光電式エンコーダ。
- 前記透明媒体は、シリンドリカルレンズであることを特徴とする請求項1または2に記載の光電式エンコーダ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017025944A JP2018132408A (ja) | 2017-02-15 | 2017-02-15 | 光電式エンコーダ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017025944A JP2018132408A (ja) | 2017-02-15 | 2017-02-15 | 光電式エンコーダ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018132408A true JP2018132408A (ja) | 2018-08-23 |
Family
ID=63249628
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017025944A Pending JP2018132408A (ja) | 2017-02-15 | 2017-02-15 | 光電式エンコーダ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2018132408A (ja) |
-
2017
- 2017-02-15 JP JP2017025944A patent/JP2018132408A/ja active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6161240B2 (ja) | 変位センサ | |
JP6387964B2 (ja) | 計測装置 | |
JPWO2006006342A1 (ja) | 光学式エンコーダ | |
EP2116810B1 (en) | Optical displacement measuring device | |
KR102425154B1 (ko) | 광학적 위치 측정 장치 | |
JP5792961B2 (ja) | トールボット干渉計及び撮像方法 | |
US10831035B2 (en) | Optical encoder | |
JP6593868B2 (ja) | 変位検出装置 | |
JP2001304918A (ja) | 格子干渉型光学式エンコーダ | |
KR20110137755A (ko) | 위치 검출 장치 | |
JP7063743B2 (ja) | エンコーダ | |
JP6838954B2 (ja) | 光電式エンコーダ | |
JP2018132408A (ja) | 光電式エンコーダ | |
JP6571393B2 (ja) | 光学エンコーダ | |
JP2018105845A (ja) | エンコーダ | |
JP6363520B2 (ja) | 光学ユニットおよび変位計測装置 | |
JP6111852B2 (ja) | エンコーダ装置 | |
JP6616650B2 (ja) | 距離測定装置および方法 | |
JP6957088B2 (ja) | 光学式エンコーダ | |
JPS5999219A (ja) | 回折格子を用いたエンコ−ダ | |
WO2019130418A1 (ja) | 光パターン生成装置 | |
US20240175729A1 (en) | Optical encoder | |
JP4364154B2 (ja) | 光学式位置エンコーダ装置 | |
JP2019215170A (ja) | 光学ユニットおよび変位計測装置 | |
JP2017009335A (ja) | 変位計測装置、変位計測信号処理装置、および変位計測信号処理方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20190419 |