JP2018128541A - Antireflection optical film and low refractive index layer composition - Google Patents

Antireflection optical film and low refractive index layer composition Download PDF

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JP2018128541A JP2017020798A JP2017020798A JP2018128541A JP 2018128541 A JP2018128541 A JP 2018128541A JP 2017020798 A JP2017020798 A JP 2017020798A JP 2017020798 A JP2017020798 A JP 2017020798A JP 2018128541 A JP2018128541 A JP 2018128541A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a low refractive index layer composition and an antireflection optical film capable of forming a low refractive index layer having extremely good antifouling property and scratch resistance, as well as excellent in antireflection performance.SOLUTION: An antireflection optical film at least includes a hard coat layer and a low refractive index layer laminated on one surface of the hard coat layer. When root-mean-square roughness Rq, ten-point average roughness Rz and maximum height roughness Ry are measured respectively with a cutoff wavelength of 2.5 mm, on a surface opposite to the hard coat layer side of the low refractive index layer, the Rq is 0.010-0.050 μm, the Rz is 0.050-0.250 μm and the Ry is 0.050-0.350 μm.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、反射防止光学フィルム及び低屈折率層用組成物に関する。 The present invention relates to an antireflection optical film and a composition for a low refractive index layer.

携帯電話、タブレット端末、ビデオカメラ、デジタルカメラ、自動車用機器などの表示画面を備えた製品において、表示画面部分は、液晶パネルや有機ELパネル等の組み合わせにより構成されている。
このような製品の表示画面部分には、表示された画面を見やすくするために、反射防止性が要求されるとともに、外部に露出されるため高い防汚性や、直接触れられても容易に傷付くことのない高い耐擦傷性が求められる。
また、近年の画像表示装置の表示画面は益々高精細化してきており、より優れた意匠感(艶のある黒表示等)が得られることも求められるようになってきている。
In a product having a display screen such as a mobile phone, a tablet terminal, a video camera, a digital camera, and an automobile device, the display screen portion is configured by a combination of a liquid crystal panel, an organic EL panel, and the like.
The display screen part of such products is required to have anti-reflection properties in order to make the displayed screen easier to see, and since it is exposed to the outside, it has high anti-stain properties and is easily scratched even when touched directly. High scratch resistance without sticking is required.
In addition, display screens of image display devices in recent years have been increasingly refined, and it has been required to obtain a better design feeling (such as glossy black display).

これに対し、例えば、特許文献1等には、平均表面粗さRaが2.0〜150nmの反射防止層を備えた反射防止成形品が開示されている。
このような従来の反射防止層は、特定の形状を有する金型を用いて製造することにより平均表面粗さRaの値が所定の範囲内に制御されている。
しかしながら、このような表面平均粗さを有する反射防止層であっても、防汚性及び耐擦傷性が充分とは言い難く、より優れた防汚性及び耐擦傷性とを備えた反射防止光学フィルムが求められていた。
On the other hand, for example, Patent Document 1 discloses an antireflection molded product including an antireflection layer having an average surface roughness Ra of 2.0 to 150 nm.
Such a conventional antireflection layer is manufactured using a mold having a specific shape, so that the value of the average surface roughness Ra is controlled within a predetermined range.
However, even with an antireflection layer having such an average surface roughness, it is difficult to say that antifouling properties and scratch resistance are sufficient, and antireflection optics having better antifouling properties and scratch resistance. A film was sought.

特開2002−205317号公報JP 2002-205317 A

本発明は、上記現状に鑑みて、極めて優れた防汚性と耐擦傷性とを有し、反射防止性能にも優れる低屈折率層を形成できる低屈折率層用組成物、及び、極めて優れた防汚性と耐擦傷性とを有し、反射防止性能にも優れる反射防止光学フィルムを提供することを目的とするものである。 In view of the above situation, the present invention has a composition for a low refractive index layer capable of forming a low refractive index layer having extremely excellent antifouling properties and scratch resistance, and also having excellent antireflection performance, and extremely excellent Another object of the present invention is to provide an antireflection optical film having antifouling properties and scratch resistance and excellent antireflection performance.

本発明は、少なくとも、ハードコート層と上記ハードコート層の一方の面上に積層された低屈折率層とを有する反射防止光学フィルムであって、上記低屈折率層の上記ハードコート層側と反対側表面において、カットオフ波長を2.5mmとして、二乗平均平方根粗さRq、十点平均粗さRz及び最大高さ粗さRyをそれぞれ測定したとき、上記Rqが、0.010μm以上0.050μm以下であり、上記Rzが、0.050μm以上0.250μm以下であり、上記Ryが、0.050μm以上0.350μm以下であることを特徴とする反射防止光学フィルムである。 The present invention is an antireflection optical film having at least a hard coat layer and a low refractive index layer laminated on one surface of the hard coat layer, the hard coat layer side of the low refractive index layer, On the opposite surface, when the cut-off wavelength is 2.5 mm and the root mean square roughness Rq, the ten-point average roughness Rz, and the maximum height roughness Ry are measured, the Rq is 0.010 μm or more and 0.0. An antireflection optical film having a thickness of 050 μm or less, Rz of 0.050 μm or more and 0.250 μm or less, and Ry of 0.050 μm or more and 0.350 μm or less.

本発明の反射防止光学フィルムは、上記低屈折率層のハードコート層側と反対側表面において、カットオフ波長を2.5mm及び0.25mmとして、二乗平均平方根粗さRq、十点平均粗さRz及び最大高さ粗さRyをそれぞれ測定したとき、上記Rq、Rz及びRyのカットオフ波長2.5mmにおける値とカットオフ波長0.25mmにおける値との比(カットオフ波長2.5mmにおける値/カットオフ波長0.25mmにおける値)が、いずれも1.00以上2.00以下であることが好ましい。
上記ハードコート層は、バインダー成分100質量部に対して、無機微粒子を10質量部以上300質量部以下含有することが好ましい。
また、上記ハードコート層の低屈折率層側と反対側面に、透明光学粘着フィルムが積層されていることが好ましい。
また、上記ハードコート層の低屈折率層側と反対側面に、アンカー層と該アンカー層を介して接着層が積層されていることが好ましい。
また、本発明の反射防止光学フィルムは、上記低屈折率層と上記ハードコート層との総膜厚が3μm以上15μm以下であることが好ましく、上記低屈折率層、ハードコート層及び透明光学粘着フィルムの総膜厚、及び、上記低屈折率層、ハードコート層、アンカー層及び接着層の総膜厚が8μm以上30μm以下であることが好ましい。
また、上記低屈折率層のハードコート層側と反対側面に離型フィルムが貼着されており、上記低屈折率層と上記離型フィルムとの間の剥離力が10mN/25mm以上500mN/25mm以下であることが好ましい。
The antireflection optical film of the present invention has a root mean square roughness Rq and a ten-point average roughness on the surface opposite to the hard coat layer side of the low refractive index layer, with cutoff wavelengths of 2.5 mm and 0.25 mm. When the Rz and the maximum height roughness Ry were measured, the ratio of the value at the cutoff wavelength of 2.5 mm to the value at the cutoff wavelength of 0.25 mm (the value at the cutoff wavelength of 2.5 mm). / Value at a cutoff wavelength of 0.25 mm) is preferably 1.00 or more and 2.00 or less.
The hard coat layer preferably contains 10 to 300 parts by mass of inorganic fine particles with respect to 100 parts by mass of the binder component.
Moreover, it is preferable that the transparent optical adhesive film is laminated | stacked on the opposite side to the low refractive index layer side of the said hard-coat layer.
Moreover, it is preferable that the adhesion layer is laminated | stacked through the anchor layer and this anchor layer on the opposite side to the low refractive index layer side of the said hard-coat layer.
In the antireflection optical film of the present invention, the total film thickness of the low refractive index layer and the hard coat layer is preferably 3 μm or more and 15 μm or less. The low refractive index layer, the hard coat layer, and the transparent optical adhesive It is preferable that the total film thickness of the film and the total film thickness of the low refractive index layer, the hard coat layer, the anchor layer, and the adhesive layer are 8 μm or more and 30 μm or less.
In addition, a release film is attached to the side opposite to the hard coat layer side of the low refractive index layer, and the peel force between the low refractive index layer and the release film is 10 mN / 25 mm or more and 500 mN / 25 mm. The following is preferable.

本発明はまた、中空粒子とバインダー樹脂とを含有する低屈折率層用組成物であって、上記バインダー樹脂固形分100質量%中、アルキレンオキサイド変性(メタ)アクリレート系化合物を20質量%以上含有することを特徴とする低屈折率層用組成物である。
本発明の低屈折率層用組成物において、上記アルキレンオキサイド変性(メタ)アクリレート系化合物は、エチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート系化合物及び/又はプロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート系化合物であることが好ましい。
また、上記アルキレンオキサイド変性(メタ)アクリレート系化合物の官能基数が6以下であることが好ましい。
また、上記バインダー樹脂100質量部に対して、上記中空粒子を40質量部以上200質量部以下含有することが好ましく、上記中空粒子は、中空シリカ微粒子であることが好ましい。
以下、本発明を詳細に説明する。
The present invention is also a composition for a low refractive index layer containing hollow particles and a binder resin, and contains 20% by mass or more of an alkylene oxide-modified (meth) acrylate compound in 100% by mass of the binder resin solid content. This is a composition for a low refractive index layer.
In the composition for a low refractive index layer of the present invention, the alkylene oxide-modified (meth) acrylate compound is preferably an ethylene oxide-modified (meth) acrylate compound and / or a propylene oxide-modified (meth) acrylate compound. .
The number of functional groups of the alkylene oxide modified (meth) acrylate compound is preferably 6 or less.
The hollow particles are preferably contained in an amount of 40 to 200 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the binder resin, and the hollow particles are preferably hollow silica fine particles.
Hereinafter, the present invention will be described in detail.

本発明者らは、鋭意検討した結果、従来の反射防止層を備えた反射防止光学フィルムでは、表示画面側の最表面(例えば、低屈折率層)における凹凸に指で触れたときの皮脂や埃が残留することで防汚性能が不充分となり、また、上記凹凸に引っ掛かることで耐擦傷性にも劣ることがあったことを見出した。
すなわち、本発明の反射防止光学フィルムは、極めて高精度に制御された凹凸形状が低屈折率層の表面に形成されているため、極めて優れた防汚性と耐擦傷性とを有し、反射防止性能も有するものとなる。
また、本発明の低屈折率層用組成物は、このような極めて高精度に制御された凹凸形状が形成された低屈折率層を好適に形成することができる。
As a result of intensive studies, the present antireflection optical film provided with a conventional antireflection layer has a sebum and a sebum when the unevenness on the outermost surface (for example, the low refractive index layer) on the display screen side is touched with a finger. It was found that the antifouling performance was insufficient due to the dust remaining, and the scratch resistance was inferior due to being caught by the irregularities.
That is, the antireflection optical film of the present invention has extremely excellent antifouling properties and scratch resistance because the uneven shape controlled with extremely high precision is formed on the surface of the low refractive index layer. It also has prevention performance.
In addition, the composition for a low refractive index layer of the present invention can suitably form a low refractive index layer having such an uneven shape controlled with extremely high accuracy.

まずは、本発明の低屈折率層用組成物について説明する。
本発明の低屈折率層用組成物は、中空粒子とバインダー樹脂とを含有する。
上記中空粒子とは、外殻層を有し、当該外殻層に囲まれた粒子内部が多孔質又は空洞であり、粒子内部に空気を含む粒子をいう。
本発明の低屈折率層用組成物は、上記中空微粒子を含むことにより、形成する低屈折率層の屈折率を低くすることができる。
上記中空粒子の屈折率としては、低屈折率性を付与する点から1.44以下であることが好ましく、特に1.40以下であることが好ましい。
First, the composition for a low refractive index layer of the present invention will be described.
The composition for low refractive index layers of the present invention contains hollow particles and a binder resin.
The said hollow particle means the particle | grains which have an outer shell layer and the inside of the particle | grains enclosed by the said outer shell layer is porous or a cavity, and contain air inside a particle | grain.
The composition for a low refractive index layer of the present invention can reduce the refractive index of the low refractive index layer to be formed by including the hollow fine particles.
The refractive index of the hollow particles is preferably 1.44 or less, particularly preferably 1.40 or less, from the viewpoint of imparting low refractive index properties.

上記中空粒子の外殻層は、無機物であっても有機物であってもよく、例えば、金属、金属酸化物、樹脂、シリカ等からなるものが挙げられる。
上記中空粒子としては、なかでも外殻層がシリカである中空シリカ粒子であることが好ましい。外殻層がシリカである場合、当該シリカは結晶性、ゾル状、ゲル状のいずれの状態であってもよい。
上記中空粒子の形状は、真球状、回転楕円体状及び球体に近似できる多面体形状等の略球状、鎖状、針状、板状、片状、棒状、繊維状等のいずれであってもよく、中でも、真球状及び略球状であることが好ましく、特に回転楕円体状又は真球状であることが好ましい。
The outer shell layer of the hollow particles may be an inorganic substance or an organic substance, and examples thereof include those made of metal, metal oxide, resin, silica and the like.
The hollow particles are preferably hollow silica particles whose outer shell layer is silica. When the outer shell layer is silica, the silica may be in a crystalline state, a sol state, or a gel state.
The shape of the hollow particles may be any of a spherical shape, a chain shape, a needle shape, a plate shape, a piece shape, a rod shape, a fiber shape, etc. such as a spherical shape, a spheroid shape, and a polyhedral shape that can approximate a sphere. Among these, a true spherical shape and a substantially spherical shape are preferable, and a spheroidal shape or a true spherical shape is particularly preferable.

上記中空粒子の粒径は特に限定されないが、動的光散乱方法により測定される粒径分布を体積累積分布で表したときの50%粒径(d50 メジアン径)と定義される平均粒径(以下、単に「平均粒径(d50)」と称する場合がある。)が、10nm以上120nm以下であることが好ましく、より好ましくは40nm以上100nm以下であり、更に好ましくは50nm以上80nm以下である。
上記中空粒子の平均粒径(d50)が、上記上限値以下であることにより、得られる低屈折率層は透明性に優れ、上記下限値以上であることにより、当該中空粒子を低屈折率層中に均一に分散しやすく、低屈折率層に低屈折率性を付与しやすくなる。また、上記中空粒子の平均粒径(d50)が上記範囲内であることにより、上記低屈折率層の凹凸面の凹凸形状を、特定の最大高低差を有するものとすることが容易となる。
なお、上記平均粒径(d50)は、上記中空粒子が凝集しない粒子であれば1次粒径の平均粒径(d50)とし、上記中空粒子が凝集粒子である場合は、2次粒径の平均粒径(d50)とする。
また、上記平均粒径(d50)は、日機装社製のMicrotrac粒度分析計、又は、Nanotrac粒度分析計を用いて測定することができる。
The particle diameter of the hollow particles is not particularly limited, but the average particle diameter defined as 50% particle diameter (d50 median diameter) when the particle diameter distribution measured by the dynamic light scattering method is represented by a volume cumulative distribution ( Hereinafter, it may be simply referred to as “average particle diameter (d50)”) is preferably 10 nm to 120 nm, more preferably 40 nm to 100 nm, and still more preferably 50 nm to 80 nm.
When the average particle diameter (d50) of the hollow particles is not more than the above upper limit value, the obtained low refractive index layer is excellent in transparency, and when the hollow particle is not less than the above lower limit value, the hollow particles are reduced to the low refractive index layer. It becomes easy to disperse uniformly in it, and it becomes easy to impart low refractive index properties to the low refractive index layer. Moreover, when the average particle diameter (d50) of the hollow particles is within the above range, the uneven shape of the uneven surface of the low refractive index layer can easily have a specific maximum height difference.
The average particle size (d50) is the primary particle size average particle size (d50) if the hollow particles are not agglomerated, and the secondary particle size (d50) is the aggregated particle. The average particle size (d50) is used.
Moreover, the said average particle diameter (d50) can be measured using the Nikkiso Co., Ltd. Microtrac particle size analyzer or Nanotrac particle size analyzer.

上記中空粒子としては、上記平均粒径(d50)の異なる2種類以上のものを組み合わせて用いることが、低屈折率層の耐擦傷性を向上させる点で好ましく、特に、上記平均粒径(d50)が40〜60nmの中空微粒子Aと、上記平均粒径(d50)が当該中空微粒子Aの平均粒径(d50)よりも大きく且つ50〜80nmの中空微粒子Bとを組み合わせて用いることが好ましい。このような平均粒径(d50)の異なる2種類以上の中空粒子を用いる場合、各中空粒子は粒径が揃っていることが好ましく、具体的には、粒径の標準偏差が平均粒径(d50)の20%以下であることが好ましく、10%以下であることがより好ましい。粒径のばらつきが少なく且つ平均粒径(d50)が異なる2種類以上の中空粒子を組み合わせて用いることにより、さらに耐擦傷性を向上することができる。
また、上記低屈折率層用組成物の全固形分中の前記中空微粒子Aの含有量(X質量部)と、上記中空微粒子Bの含有量(Y質量部)との比(X/Y)は、0.5〜2であることが好ましい。
The hollow particles are preferably used in combination of two or more kinds having different average particle diameters (d50) from the viewpoint of improving the scratch resistance of the low refractive index layer, and in particular, the average particle diameter (d50). ) Is preferably used in combination with hollow fine particles A having a diameter of 40 to 60 nm and hollow fine particles B having an average particle diameter (d50) larger than the average particle diameter (d50) of the hollow fine particles A and 50 to 80 nm. When two or more kinds of hollow particles having different average particle diameters (d50) are used, it is preferable that each hollow particle has a uniform particle diameter. Specifically, the standard deviation of the particle diameters is the average particle diameter ( It is preferably 20% or less of d50), and more preferably 10% or less. By using a combination of two or more types of hollow particles having a small variation in particle size and different average particle size (d50), the scratch resistance can be further improved.
Further, the ratio (X / Y) of the content (X parts by mass) of the hollow fine particles A in the total solid content of the composition for the low refractive index layer and the content (Y parts by mass) of the hollow fine particles B. Is preferably 0.5-2.

また、硬化後の上記低屈折率層をTEM写真又はSEM写真から測定することができる上記中空粒子の平均粒径は特に限定されないが、10nm〜120nmであることが好ましく、40nm〜100nmであることがより好ましく、50nm〜80nmであることが更に好ましい。
当該平均粒径の測定方法は、例えば、50〜200万倍で撮影されたTEM写真又はSEM写真を用いて粒子の観察を行い、観察した粒子100個の粒径の平均値をもって平均粒径とすることができる。なお、中空粒子の形状が、短径と長径を有する回転楕円体形状や棒状等、アスペクト比の概念を含む形状である場合、当該中空粒子の粒径は、短径と長径の平均値とする。
また、TEM写真又はSEM写真から測定された平均粒径は、上記中空粒子が凝集しない粒子であれば1次粒径の平均粒径とし、前記中空粒子が凝集粒子である場合は、2次粒径の平均粒径とする。
Moreover, the average particle diameter of the hollow particles capable of measuring the low refractive index layer after curing from a TEM photograph or SEM photograph is not particularly limited, but is preferably 10 nm to 120 nm, and preferably 40 nm to 100 nm. Is more preferable, and it is still more preferable that they are 50 nm-80 nm.
The method for measuring the average particle size is, for example, observing particles using a TEM photograph or SEM photograph taken at a magnification of 2 to 2 million times, and using the average value of the particle sizes of 100 observed particles as the average particle size. can do. In addition, when the shape of the hollow particles is a shape including the concept of aspect ratio, such as a spheroid shape having a minor axis and a major axis or a rod shape, the particle diameter of the hollow particles is an average value of the minor axis and the major axis. .
The average particle diameter measured from the TEM photograph or SEM photograph is the average particle diameter of the primary particle diameter if the hollow particles are not agglomerated particles, and the secondary particles if the hollow particles are agglomerated particles. The average particle diameter is taken as the diameter.

上記中空粒子の具体例としては、特開平7−133105号公報、特開2001−233611号公報等に開示された複合酸化物ゾル又は中空シリカ微粒子が挙げられる。なかでも、特開2001−233611号公報で開示されている技術を用いて調製した中空シリカ粒子が好ましい。また、上記中空粒子としては、硬度が高いため低屈折率層の層強度が向上され、かつ、屈折率を1.20〜1.44程度の範囲内に調整することができる点で、無機系微粒子が好ましい。 Specific examples of the hollow particles include composite oxide sols or hollow silica fine particles disclosed in JP-A-7-133105 and JP-A-2001-233611. Of these, hollow silica particles prepared by using the technique disclosed in JP-A-2001-233611 are preferable. Moreover, as the hollow particles, since the hardness is high, the layer strength of the low refractive index layer is improved, and the refractive index can be adjusted within a range of about 1.20 to 1.44. Fine particles are preferred.

上記中空粒子の含有量は、後述するバインダー樹脂100質量部に対して40質量部以上200質量部以下であることが好ましい。上記中空粒子の含有量が下限値以上であることにより、低屈折率性を付与しやすく、上限値以下であることにより形成する低屈折率層の膜強度を向上することができる。上記中空粒子は、100質量部以上150質量部以下であることがより好ましい。 It is preferable that content of the said hollow particle is 40 to 200 mass parts with respect to 100 mass parts of binder resin mentioned later. When the content of the hollow particles is equal to or higher than the lower limit value, it is easy to impart low refractive index properties, and when the content is equal to or lower than the upper limit value, the film strength of the low refractive index layer formed can be improved. The hollow particles are more preferably 100 parts by mass or more and 150 parts by mass or less.

本発明の低屈折率層用組成物は、上記バインダー樹脂固形分100質量%中、アルキレンオキサイド変性(メタ)アクリレート系化合物を20質量%以上含有する。20質量%未満であると、形成した低屈折率層の表面に離型フィルムを貼り付けた際、該離型フィルムと低屈折率層との間の剥離力が不充分となる。
上記アルキレンオキサイド変性(メタ)アクリレート系化合物の含有量は、上記バインダー樹脂固形分100質量%中、バインダー樹脂100質量部に対して50質量部以上であることが好ましい。
なお、本明細書において、(メタ)アクリレートとは、アクリレート又はメタクリレートを表す。
The composition for low refractive index layers of the present invention contains 20% by mass or more of an alkylene oxide-modified (meth) acrylate compound in 100% by mass of the binder resin solid content. When it is less than 20% by mass, when a release film is attached to the surface of the formed low refractive index layer, the peeling force between the release film and the low refractive index layer becomes insufficient.
The content of the alkylene oxide-modified (meth) acrylate compound is preferably 50 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the binder resin in 100% by mass of the binder resin solid content.
In addition, in this specification, (meth) acrylate represents an acrylate or a methacrylate.

上記アルキレンオキサイド変性(メタ)アクリレート系化合物は、エチレンオキサイド(EO)変性(メタ)アクリレート系化合物及び/又はプロピレンオキサイド(PO)変性(メタ)アクリレート系化合物であることが好ましく、上述した離型フィルムと低屈折率層との剥離力を考慮すると、PO変性(メタ)アクリレート系化合物であることがより好ましい。 The alkylene oxide-modified (meth) acrylate-based compound is preferably an ethylene oxide (EO) -modified (meth) acrylate-based compound and / or a propylene oxide (PO) -modified (meth) acrylate-based compound. In view of the peel force between the low refractive index layer and the low refractive index layer, a PO-modified (meth) acrylate compound is more preferable.

また、上記アルキレンオキサイド変性(メタ)アクリレート系化合物の官能基数が6以下であることが好ましい。
上記官能基数が6を超えると、上述した離型フィルムと低屈折率層との剥離力が不充分となることがある。
The number of functional groups of the alkylene oxide modified (meth) acrylate compound is preferably 6 or less.
If the number of functional groups exceeds 6, the peeling force between the release film and the low refractive index layer described above may be insufficient.

上記アルキレンオキサイド変性(メタ)アクリレート系化合物以外のバインダー樹脂としては、例えば、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトール(メタ)テトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、及び、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレートからなる群より選択される少なくとも1種のモノマーの重合体又は共重合体等が挙げられる。 Examples of the binder resin other than the alkylene oxide-modified (meth) acrylate compound include pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, pentaerythritol (meth) tetraacrylate, and dipentaerythritol penta (meth). And a polymer or copolymer of at least one monomer selected from the group consisting of acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, and dipentaerythritol tetra (meth) acrylate.

本発明の低屈折率層用組成物は、塗工性を向上するために、通常、溶剤が用いられる。上記溶剤としては、低屈折率層用組成物中の各成分と反応せず、当該各成分を均一に溶解乃至分散できるものの中から、適宜選択して用いればよい。このような溶剤としては、例えば、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン等の各種ケトン系溶剤が挙げられる。
上記溶剤の含有量は、低屈折率層用組成物の全量に対して、60〜98質量%であることが好ましく、70〜97質量%であることがより好ましい。
また、上記低屈折率層用組成物は、従来公知の光重合開始剤を含有していてもよい。
In the composition for a low refractive index layer of the present invention, a solvent is usually used in order to improve coatability. The solvent may be appropriately selected from those that do not react with each component in the low refractive index layer composition and can uniformly dissolve or disperse each component. Examples of such a solvent include various ketone solvents such as methyl isobutyl ketone and methyl ethyl ketone.
It is preferable that content of the said solvent is 60-98 mass% with respect to the whole quantity of the composition for low refractive index layers, and it is more preferable that it is 70-97 mass%.
Moreover, the said composition for low refractive index layers may contain the conventionally well-known photoinitiator.

このような組成からなる本発明の低屈折率層用組成物は、低屈折率で極めて平坦性に優れた低屈折率層を好適に形成することができ、形成される低屈折率層は、防汚性能及び耐擦傷性に極めて優れたものとなり、該低屈折率層を備えた光学フィルムは、反射防止性能に優れたものとすることができる。 The composition for a low refractive index layer of the present invention having such a composition can suitably form a low refractive index layer having a low refractive index and extremely excellent flatness. The antifouling performance and scratch resistance are extremely excellent, and the optical film provided with the low refractive index layer can be excellent in antireflection performance.

また、本発明の低屈折率層用組成物を用いて形成された低屈折率層を備えた光学フィルムは、より反射防止性能に優れたものにすることができることから、高屈折率層を上記低屈折率層に隣接するように形成されていることが好ましい。
上記高屈折率層としては、上記低屈折率層よりも屈折率が高い層が挙げられる。
Moreover, since the optical film provided with the low refractive index layer formed using the composition for low refractive index layer of the present invention can be made more excellent in antireflection performance, the high refractive index layer is described above. It is preferably formed so as to be adjacent to the low refractive index layer.
Examples of the high refractive index layer include a layer having a refractive index higher than that of the low refractive index layer.

また、上記高屈折率層の屈折率としては、上記低屈折率層の屈折率よりも高ければよいが、具体的には、例えば、1.5〜1.7の範囲内であることが好ましい。
また、上記高屈折率層が、後述するハードコート層と低屈折率層との間に設けられる場合、該高屈折率層の屈折率は、上記低屈折率層の屈折率よりも高く、かつ、上記ハードコート層の屈折率よりも高いことが好ましい。
Further, the refractive index of the high refractive index layer may be higher than the refractive index of the low refractive index layer. Specifically, for example, it is preferably in the range of 1.5 to 1.7. .
When the high refractive index layer is provided between a hard coat layer and a low refractive index layer, which will be described later, the refractive index of the high refractive index layer is higher than the refractive index of the low refractive index layer, and The refractive index of the hard coat layer is preferably higher.

上記高屈折率層としては、上記屈折率の範囲を満たし、透明性を有するものであれば特に限定されず、例えば、電離放射線硬化樹脂を硬化させてなるものや、電離放射線硬化樹脂及び高屈折率微粒子を含む高屈折率層用組成物を硬化させてなるもの等が挙げられる。なかでも、屈折率の調整が容易であることから、電離放射線硬化樹脂及び高屈折率微粒子を含有する高屈折率層用組成物を硬化させてなるものであることが好ましい。 The high refractive index layer is not particularly limited as long as it satisfies the above refractive index range and has transparency. For example, a layer obtained by curing an ionizing radiation curable resin, an ionizing radiation curable resin, and a high refractive index. And those obtained by curing a composition for a high refractive index layer containing refractive index fine particles. Especially, since adjustment of a refractive index is easy, it is preferable to harden the composition for high refractive index layers containing ionizing radiation hardening resin and high refractive index microparticles | fine-particles.

上記高屈折率層に用いられる電離放射線硬化樹脂としては、上記屈折率の範囲を満たし、透明性を有する高屈折率層を得ることが可能なものであれば特に限定されず、成膜性や膜強度等の観点から適宜選択される。
上記電離放射線硬化樹脂としては、例えば、紫外線硬化樹脂、電子線硬化樹脂等が挙げられ、なかでも、紫外線硬化樹脂が好ましい。
The ionizing radiation curable resin used for the high refractive index layer is not particularly limited as long as it satisfies the above refractive index range and can obtain a transparent high refractive index layer. It is appropriately selected from the viewpoint of film strength and the like.
Examples of the ionizing radiation curable resin include an ultraviolet curable resin and an electron beam curable resin, and among them, an ultraviolet curable resin is preferable.

上記電離放射線硬化樹脂としては、具体的には、特開2013−142817号公報、特開2012−150226号公報、特開2011−170208号公報等に記載されている高屈折率層に用いられる電離放射線硬化樹脂等が挙げられる。 Specific examples of the ionizing radiation curable resin include ionization used in high refractive index layers described in JP2013-142817A, JP2012-150226A, JP2011-170208A, and the like. Examples include radiation curable resins.

上記高屈折率微粒子としては、上記電離放射線硬化樹脂よりも屈折率が高く、上記屈折率の範囲を満たす高屈折率層を得ることができるものであれば特に限定されないが、なかでも高屈折率微粒子の屈折率は1.5〜2.8程度であることが好ましい。
このような高屈折率微粒子としては、例えば、金属酸化物微粒子が挙げられ、具体的には酸化ジルコニウム、酸化アンチモン、アンチモン錫酸化物、インジウム錫酸化物、燐錫化合物、ガリウム亜鉛酸化物、β−Al、γ−Al、チタン酸バリウム、酸化チタン、酸化セリウム、酸化錫、アルミニウム亜鉛酸化物、ガリウム亜鉛酸化物、アンチモン酸亜鉛等が挙げられる。
The high refractive index fine particles are not particularly limited as long as the refractive index is higher than that of the ionizing radiation curable resin, and a high refractive index layer satisfying the refractive index range can be obtained. The refractive index of the fine particles is preferably about 1.5 to 2.8.
Examples of such high refractive index fine particles include metal oxide fine particles. Specifically, zirconium oxide, antimony oxide, antimony tin oxide, indium tin oxide, phosphorus tin compound, gallium zinc oxide, β -Al 2 O 5 , γ-Al 2 O 5 , barium titanate, titanium oxide, cerium oxide, tin oxide, aluminum zinc oxide, gallium zinc oxide, zinc antimonate and the like.

また、上記高屈折率微粒子は、表面処理されたものであってもよい。上記高屈折率微粒子に表面処理を施すことにより、電離放射線硬化樹脂や溶媒との親和性が向上し、高屈折率微粒子の分散が均一となり、高屈折率微粒子同士の凝集が生じにくくなるので、高屈折率層の透明性の低下や、高屈折率層用組成物の塗布性、高屈折率層用組成物の塗膜強度の低下を抑制することができる。
上記表面処理された高屈折率微粒子としては、例えば、特開2013−142817号公報に記載されているもの等が挙げられる。
また、高屈折率微粒子は、その表面に光硬化性基を有する反応性微粒子であってもよい。
The high refractive index fine particles may be surface-treated. By applying a surface treatment to the high refractive index fine particles, the affinity with ionizing radiation curable resin and solvent is improved, the dispersion of the high refractive index fine particles becomes uniform, and the aggregation of the high refractive index fine particles is less likely to occur. It is possible to suppress a decrease in transparency of the high refractive index layer, a coating property of the composition for high refractive index layer, and a decrease in the coating strength of the composition for high refractive index layer.
Examples of the surface-treated high refractive index fine particles include those described in JP2013-142817A.
The high refractive index fine particles may be reactive fine particles having a photocurable group on the surface thereof.

上記高屈折率微粒子の平均粒径としては、均一な厚みを有する高屈折率層を形成可能な程度であればよく、例えば、5nm以上200nm以下の範囲内であることが好ましく、より好ましくは5nm以上100nm以下の範囲内、更に好ましくは10nm以上80nm以下の範囲内である。
上記高屈折率微粒子の平均粒径が上記範囲内にあれば、高屈折率層の透明性を損なうことがなく、良好な高屈折率微粒子の分散状態が得られる。なお、高屈折率微粒子の平均粒径が上記範囲内にあれば、平均粒径は1次粒径及び2次粒径のいずれであってもよく、また高屈折率微粒子が鎖状に連なっていてもよい。
ここで、高屈折率微粒子の平均粒径は、高屈折率層の断面の透過型電子顕微鏡(TEM)写真により観察される粒子20個の平均値をいう。
このような高屈折率微粒子の形状は特に限定されず、例えば、球状、鎖状、針状等が挙げられる。
The average particle diameter of the high refractive index fine particles is not limited as long as a high refractive index layer having a uniform thickness can be formed. For example, it is preferably in the range of 5 nm to 200 nm, more preferably 5 nm. It is in the range of not less than 100 nm and more preferably in the range of not less than 10 nm and not more than 80 nm.
If the average particle diameter of the high refractive index fine particles is within the above range, the transparency of the high refractive index layer is not impaired, and a good dispersion state of the high refractive index fine particles can be obtained. If the average particle size of the high refractive index fine particles is within the above range, the average particle size may be either the primary particle size or the secondary particle size, and the high refractive index fine particles are connected in a chain. May be.
Here, the average particle diameter of the high refractive index fine particles refers to an average value of 20 particles observed by a transmission electron microscope (TEM) photograph of a cross section of the high refractive index layer.
The shape of such a high refractive index fine particle is not particularly limited, and examples thereof include a spherical shape, a chain shape, and a needle shape.

上記高屈折率層における電離放射線硬化樹脂及び高屈折率微粒子の含有量としては特に限定されず、高屈折率層全体としての屈折率が上記屈折率の範囲を満たすように適宜設定される。 The contents of the ionizing radiation curable resin and the high refractive index fine particles in the high refractive index layer are not particularly limited, and are appropriately set so that the refractive index of the high refractive index layer as a whole satisfies the refractive index range.

上記電離放射線硬化樹脂として紫外線硬化樹脂を用いる場合、上記高屈折率層は光重合開始剤を含有していてもよい。また、上記高屈折率層は、所望の物性に応じて各種添加剤を含有していてもよい。なお、上記光重合開始剤、上記低屈折率層と同様のものが挙げられ、上記添加剤としては、例えば、分散助剤、耐候性改善剤、耐摩耗性向上剤、重合禁止剤、架橋剤、赤外線吸収剤、接着性向上剤、酸化防止剤、レベリング剤、チクソ性付与剤、カップリング剤、可塑剤、消泡剤、充填剤等が挙げられる。 When an ultraviolet curable resin is used as the ionizing radiation curable resin, the high refractive index layer may contain a photopolymerization initiator. The high refractive index layer may contain various additives according to desired physical properties. In addition, the same thing as the said photoinitiator and the said low-refractive-index layer is mentioned, As said additive, a dispersion | distribution adjuvant, a weather resistance improver, an abrasion resistance improver, a polymerization inhibitor, a crosslinking agent, for example , Infrared absorbers, adhesion improvers, antioxidants, leveling agents, thixotropic agents, coupling agents, plasticizers, antifoaming agents, fillers and the like.

上記高屈折率層の厚みは、屈折率に応じて異なるが、例えば、50nm以上200nm以下の範囲内であることが好ましい。 The thickness of the high refractive index layer varies depending on the refractive index, but is preferably in the range of 50 nm to 200 nm, for example.

上記高屈折率層の形成方法としては、例えば、上述した電離放射線硬化樹脂及び高屈折率微粒子、溶剤、光重合開始剤及び各種添加剤を混合してなる高屈折率層用組成物を塗布し、形成した塗膜を電離放射線の照射により硬化させる方法が挙げられる。 As a method for forming the high refractive index layer, for example, a composition for a high refractive index layer formed by mixing the above-mentioned ionizing radiation curable resin and high refractive index fine particles, a solvent, a photopolymerization initiator and various additives is applied. And a method of curing the formed coating film by irradiation with ionizing radiation.

本発明は、少なくとも、ハードコート層と上記ハードコート層の一方の面上に積層された低屈折率層とを有する反射防止光学フィルムであって、上記低屈折率層の上記ハードコート層側と反対側表面(以下、表面ともいう)において、カットオフ波長を2.5mmとして、二乗平均平方根粗さRq、十点平均粗さRz及び最大高さ粗さRyをそれぞれ測定したとき、上記Rqが、0.010μm以上0.050μm以下であり、上記Rzが、0.050μm以上0.250μm以下であり、上記Ryが、0.050μm以上0.350μm以下であることを特徴とする反射防止光学フィルムでもある。 The present invention is an antireflection optical film having at least a hard coat layer and a low refractive index layer laminated on one surface of the hard coat layer, the hard coat layer side of the low refractive index layer, When the root mean square roughness Rq, the ten-point average roughness Rz, and the maximum height roughness Ry are measured on the opposite surface (hereinafter also referred to as a surface) with a cutoff wavelength of 2.5 mm, the Rq is 0.010 μm or more and 0.050 μm or less, the Rz is 0.050 μm or more and 0.250 μm or less, and the Ry is 0.050 μm or more and 0.350 μm or less. But there is.

上記低屈折率層が上記Rq、Rz及びRyの各要件を満たすことで、本発明の反射防止光学フィルムは、低屈折率層の表面が極めて平坦性が高いものとなる。
ここで、従来の低屈折率層を備えた反射防止光学フィルムは、低屈折率層や後述するハードコート層にレベリング剤を添加することで防汚性能を発揮していたが、本発明の反射防止光学フィルムは、低屈折率層表面の平坦性により極めて優れた防汚性能を発揮できるため、低屈折率層等にレベリング剤を含む必要がない。
When the low refractive index layer satisfies the requirements of Rq, Rz and Ry, the antireflective optical film of the present invention has a very high surface with a low refractive index layer.
Here, the conventional antireflection optical film provided with the low refractive index layer exhibited antifouling performance by adding a leveling agent to the low refractive index layer and the hard coat layer described later. Since the prevention optical film can exhibit extremely excellent antifouling performance due to the flatness of the surface of the low refractive index layer, it is not necessary to include a leveling agent in the low refractive index layer or the like.

従来、低屈折率層表面は、目視では平坦に見えたとしても、実際には様々なごく微細な凹凸が存在している。すなわち、目視で見るから平坦なのであるが、後述するように離型フィルムに貼着された状態の上記低屈折率層を転写法により被転写体に実際に転写して低屈折率層を形成してみると、でき上がった低屈折率層の転写面によって、防汚性、耐擦傷性に違いが出ることがあった。
これは、本願発明者らは、上記低屈折率層の表面に存在する目視では認識できない微細な凹凸が原因であることを見出した。そして、上記低屈折率層の表面の凹凸形状について、特に低屈折率層の表面の高さ方向に関するパラメータである、二乗平均平方根粗さRq、十点平均粗さRz及び最大高さ粗さRyを、それぞれカットオフ波長2.5mmにおいて所定の範囲内となるよう制御することで、低屈折率層表面の平坦性により極めて優れた防汚性能と耐擦傷性とを発揮できたものである。
また、本発明の反射防止光学フィルムは、フッ素材料などの添加剤を用いなくても優れた防汚性を発現し、更に、低屈折率層の表面が極めて平滑であるため、より好適に黒を表現させることができる。
Conventionally, even if the surface of the low refractive index layer appears to be flat visually, there are actually various fine irregularities. In other words, it is flat because it is visually observed, but as described later, the low refractive index layer in a state of being attached to a release film is actually transferred to a transfer medium by a transfer method to form a low refractive index layer. As a result, the antifouling property and scratch resistance sometimes differed depending on the transfer surface of the completed low refractive index layer.
The inventors of the present application have found that this is caused by fine irregularities present on the surface of the low refractive index layer that cannot be visually recognized. And about the uneven | corrugated shape of the surface of the said low-refractive-index layer, especially the parameter regarding the height direction of the surface of a low-refractive-index layer, the root mean square roughness Rq, the ten-point average roughness Rz, and the maximum height roughness Ry Are controlled so as to be within a predetermined range at a cut-off wavelength of 2.5 mm, respectively, thereby exhibiting extremely excellent antifouling performance and scratch resistance due to the flatness of the surface of the low refractive index layer.
In addition, the antireflection optical film of the present invention exhibits excellent antifouling properties without using an additive such as a fluorine material, and the surface of the low refractive index layer is extremely smooth. Can be expressed.

上記Rqは、二乗平均平方根粗さを表し、具体的には、図1に示したように、低屈折率層の断面の粗さ曲線f(x)において、サンプリング長さlにおけるRq’を図1に示した式により求め、複数のサンプリング長さにおいて求めたそれぞれのRq’を算術平均したものである。なお、上記Rqは、ISO 4287−1984又はISO 4287−1997に準じて求めることもでき、具体的には、表面粗さ測定器(SE3400、SE3500、SE4000、小坂研究所製)等を用いて測定できる。
上記Rqは、上記低屈折率層の表面の凸部の平均高さを表す代表値である。
本発明の反射防止光学フィルムにおいて、上記低屈折率層の表面の二乗平均平方根粗さRqは、カットオフ波長2.5mmにおいて0.010μm以上0.050μm以下である。0.010μm未満であると平滑性が良好で、耐擦傷性や防汚性には好ましいものの、実際に製造する折、離型フィルムからの剥離が困難な傾向となり、0.050μmを超えると、平滑性が不足してきて耐擦傷性や防汚性が低下傾向となる。上記Rqの好ましい上限は0.040μmであり、より好ましい上限は0.030μmである。
The Rq represents the root mean square roughness. Specifically, as shown in FIG. 1, in the roughness curve f (x) of the cross section of the low refractive index layer, Rq ′ at the sampling length l is shown. The Rq ′ obtained by the equation shown in FIG. 1 and obtained for a plurality of sampling lengths is arithmetically averaged. The Rq can also be determined according to ISO 4287-1984 or ISO 4287-1997, and specifically measured using a surface roughness measuring instrument (SE3400, SE3500, SE4000, manufactured by Kosaka Laboratory). it can.
Rq is a representative value representing the average height of the convex portions on the surface of the low refractive index layer.
In the antireflection optical film of the present invention, the root mean square roughness Rq of the surface of the low refractive index layer is 0.010 μm or more and 0.050 μm or less at a cutoff wavelength of 2.5 mm. Although smoothness is good when it is less than 0.010 μm, and it is preferable for scratch resistance and antifouling properties, it tends to be difficult to peel off from the release film and the folded film actually produced, and when it exceeds 0.050 μm, The smoothness becomes insufficient and the scratch resistance and antifouling properties tend to decrease. The upper limit with said preferable Rq is 0.040 micrometer, and a more preferable upper limit is 0.030 micrometer.

上記Rzは、JIS B0601−1994の十点平均粗さであり、Rqのような平均値では均されてしまって見ることのできない、最低から5番目までの凹部と最大から5番目までの凸部とを足し合わせて求めている十点平均粗さ値であるため、平面に存在する極大方向の平均値であり、これによって、目視ではわからない、意外な粗さを表現できる。
本発明の反射防止フィルムにおいて、上記低屈折率層の表面のJIS B0601−1994の十点平均粗さRzは、カットオフ波長2.5mmにおいて0.050μm以上0.250μm以下である。0.050μm未満であると平滑性が良好で、防汚性には好ましいものの、実際に製造する折、離型フィルムからの剥離が困難な傾向となり、0.250μmを超えると、平滑性が不足してきて耐擦傷性や防汚性が低下傾向となるとともに、反射防止フィルムの光学的な欠点の原因となる。上記Rzの好ましい上限は0.200μmであり、より好ましい上限は0.150μmである。
Rz is the ten-point average roughness of JIS B0601-1994, and the lowest to fifth concave portions and the maximum to fifth convex portions that cannot be seen with an average value such as Rq. Since this is the ten-point average roughness value obtained by adding together, it is the average value in the maximal direction existing on the plane, and this makes it possible to express an unexpected roughness that is not visually recognized.
In the antireflection film of the present invention, the ten-point average roughness Rz of JIS B0601-1994 on the surface of the low refractive index layer is 0.050 μm or more and 0.250 μm or less at a cutoff wavelength of 2.5 mm. If it is less than 0.050 μm, the smoothness is good and preferable for antifouling properties, but it tends to be difficult to peel off from the release film or the film actually produced, and if it exceeds 0.250 μm, the smoothness is insufficient. As a result, the scratch resistance and antifouling properties tend to decrease, and it causes optical defects of the antireflection film. The upper limit with said preferable Rz is 0.200 micrometer, and a more preferable upper limit is 0.150 micrometer.

低屈折率層表面の平均的に見た際の平坦さを表すパラメータは、上記RqとRzとでよいが、本発明の反射防止光学フィルムを用いた製品において、低屈折率層の表面に突出した凹凸があることは製品の光学的な欠点の原因になったり、そのために擦傷性が低下したりするので、そういった突出した凹凸を制限する必要がある。このため、本発明では、上記低屈折率層の表面における凹凸の限度値として、Ryの範囲を制御する。
上記Ryは、JIS B0601−1994の最大高さ粗さであり、凸部の山頂線と凹部の谷底線との間隔を粗さ曲線の縦倍率の方向に測定した値である。
本発明の反射防止フィルムにおいて、上記低屈折率層の表面のJIS B0601−1994の最大高さ粗さRyは、カットオフ波長2.5mmにおいて0.050μm以上0.350μm以下である。0.050μm未満であると平滑性が良好で、防汚性には好ましいものの、実際に製造する折、離型フィルムからの剥離が困難な傾向となり、0.350μmを超えると、本発明の反射防止光学フィルムの光学的な欠点となり、また、耐擦傷性の低下の原因となる。上記Ryの好ましい上限は0.300μmであり、より好ましい上限は0.250μmである。
The parameters representing the flatness of the surface of the low refractive index layer on average may be the above Rq and Rz, but in the product using the antireflection optical film of the present invention, it protrudes to the surface of the low refractive index layer. Such irregularities may cause optical defects in the product and thus reduce the scratching properties. Therefore, it is necessary to limit such protruding irregularities. For this reason, in this invention, the range of Ry is controlled as a limit value of the unevenness | corrugation in the surface of the said low refractive index layer.
The Ry is the maximum height roughness of JIS B0601-1994, and is a value obtained by measuring the distance between the peak line of the convex part and the valley line of the concave part in the direction of the vertical magnification of the roughness curve.
In the antireflection film of the present invention, the maximum height roughness Ry of JIS B0601-1994 on the surface of the low refractive index layer is 0.050 μm or more and 0.350 μm or less at a cutoff wavelength of 2.5 mm. When the thickness is less than 0.050 μm, the smoothness is good and preferable for antifouling properties. However, when it is actually manufactured, peeling from the release film tends to be difficult, and when it exceeds 0.350 μm, the reflection of the present invention. This is an optical defect of the prevention optical film and also causes a decrease in scratch resistance. A preferable upper limit of Ry is 0.300 μm, and a more preferable upper limit is 0.250 μm.

また、本発明の反射防止光学フィルムのように、何らかの添加剤を入れなくとも低屈折率層の表面の凹凸形状の制御だけで、優れた防汚性と擦傷性とが達成できるには、極めて抵抗のない平坦さであることがよい。すなわち、本発明の反射防止光学フィルムでは、上記低屈折率層の表面は、低周波成分と高周波成分との凹凸に差がない方が好ましい。
ここで、上記低屈折率層の表面の凹凸形状の測定において、カットオフ波長を0.25mmにした場合は狭い範囲を測定することになるので、表面の平坦さの高周波成分とみていると考えられ、一方、カットオフ波長を2.5mmとした場合は、0.25mmの場合と比較すると広い範囲を測定することになり、表面の平坦さの低周波成分をみていると考えられる。
そして、上記低周波成分とは、低屈折率層の表面を構成する基本的な大きなうねりのようなものであり、その上にわずかに存在する小さな凹凸が高周波成分となる。
In addition, as in the antireflection optical film of the present invention, it is extremely possible to achieve excellent antifouling properties and scratching properties only by controlling the uneven shape on the surface of the low refractive index layer without adding any additive. It should be flat without resistance. That is, in the antireflection optical film of the present invention, it is preferable that the surface of the low refractive index layer has no difference in unevenness between the low frequency component and the high frequency component.
Here, in the measurement of the concavo-convex shape of the surface of the low refractive index layer, when the cut-off wavelength is set to 0.25 mm, a narrow range is measured, so it is considered as a high frequency component of the surface flatness. On the other hand, when the cutoff wavelength is 2.5 mm, a wider range is measured as compared to the case of 0.25 mm, and it is considered that the low frequency component of the surface flatness is observed.
And the said low frequency component is a thing like the basic big waviness which comprises the surface of a low refractive index layer, and the small unevenness | corrugation which exists slightly on it becomes a high frequency component.

本発明の反射防止光学フィルムは、上記低屈折率層の表面において、カットオフ波長を2.5mm及び0.25mmとして、ISO 4287−1984、又は、1997に準じた二乗平均平方根粗さRqと、JIS B0601−1994の十点平均粗さRz及び最大高さ粗さRyとをそれぞれ測定したとき、上記Rq、Rz及びRyのカットオフ波長2.5mmにおける値とカットオフ波長0.25mmにおける値との比(カットオフ波長2.5mmにおける値/カットオフ波長0.25mmにおける値)が(以下、カットオフ比ともいう)、いずれも1.00以上2.00以下であることが好ましい。上記Rq、Rz及びRyのカットオフ比がいずれも1.00以上2.00以下であることで、本発明の反射防止光学フィルムの防汚性及び耐擦傷性を極めて優れたものとすることができる。上記Rq、Rz及びRyのカットオフ比は、1.70以下であることがより好ましく、1.50以下が更に好ましい。 The antireflection optical film of the present invention has a root mean square roughness Rq according to ISO 4287-1984 or 1997, with a cutoff wavelength of 2.5 mm and 0.25 mm on the surface of the low refractive index layer, When the ten-point average roughness Rz and the maximum height roughness Ry of JIS B0601-1994 were measured, the values of Rq, Rz and Ry at a cutoff wavelength of 2.5 mm and values at a cutoff wavelength of 0.25 mm The ratio (value at a cutoff wavelength of 2.5 mm / value at a cutoff wavelength of 0.25 mm) (hereinafter also referred to as a cutoff ratio) is preferably 1.00 or more and 2.00 or less. When the cutoff ratios of Rq, Rz and Ry are all 1.00 or more and 2.00 or less, the antireflection optical film of the present invention has extremely excellent antifouling properties and scratch resistance. it can. The cutoff ratio of Rq, Rz, and Ry is more preferably 1.70 or less, and further preferably 1.50 or less.

上記Rq、Rz及びRyの関係を満たす低屈折率層は、上述した本発明の低屈折率層用組成物を用いることでる好適に形成することができる。なお、具体的な低屈折率層の形成方法については後で詳述する。 The low refractive index layer satisfying the relationship of Rq, Rz and Ry can be suitably formed by using the above-described composition for low refractive index layer of the present invention. A specific method for forming the low refractive index layer will be described in detail later.

上記ハードコート層は、バインダー成分100質量部に対して、無機微粒子を10〜300質量部含有することが好ましい。10質量部未満であると、本発明の反射防止光学フィルムのハードコート性能が不充分となり、300質量部を超えると上記ハードコート層が剛直となって伸び率がなく容易にクラックが発生することがある。上記無機微粒子の含有量のより好ましい下限は20質量部、より好ましい上限は150質量部である。
また、上記無機粒子は、硬度を上げる場合は、反応性シリカ微粒子が好ましく、屈折率を上げる場合は、高屈折率粒子が好ましい。高屈折率粒子としては、ジルコニア、5酸化アンチモン、アルミナ、ATO、ITO、TiO等からなる微粒子が用いられる。
The hard coat layer preferably contains 10 to 300 parts by mass of inorganic fine particles with respect to 100 parts by mass of the binder component. If it is less than 10 parts by mass, the hard coat performance of the antireflection optical film of the present invention will be insufficient, and if it exceeds 300 parts by mass, the hard coat layer will become rigid and there will be no elongation and cracks will easily occur. There is. The minimum with more preferable content of the said inorganic fine particle is 20 mass parts, and a more preferable upper limit is 150 mass parts.
The inorganic particles are preferably reactive silica fine particles for increasing the hardness, and high refractive index particles for increasing the refractive index. As the high refractive index particles, fine particles made of zirconia, antimony pentoxide, alumina, ATO, ITO, TiO 2 or the like are used.

本発明の反射防止光学フィルムは、上記ハードコート層の上記低屈折率層側と反対側面に、透明光学粘着フィルムが積層されていることが好ましい。上記透明光学粘着フィルムが積層されていることで、転写物への転写性・密着性に優れる反射防止光学フィルムを作製することができる。
上記透明光学粘着フィルムとしては、例えば、基材上に光学用粘着剤層が形成された構成が挙げられ、上記光学用粘着剤層には、具体的には、例えば、光学特性上、耐光性、耐候性、耐熱性、透明性からアクリル系樹脂が用いられる。上記アクリル系樹脂を構成するモノマーには、例えば、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸2−エチルヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸ベンジル等のアクリル酸アルキルエステルや、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸2−エチルヘキシル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ベンジル等のメタクリル酸アルキルエステル、メタクリル酸エチル、またこれらに酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ビニルエーテル、スチレン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のビニル基含有化合物を共重合しても良い。更に、密着耐久性能を良好にし、アウトガスの発生を抑制するためには、光学用粘着剤主剤がアクリル系樹脂で重量平均分子量が50万以上、かつ多分散度は5以下がよい。 また、各種光学フィルムの貼り合わせに粘着層を用いた場合、光学フィルムと粘着層の屈折率差が大きいと、光学フィルムと粘着層の貼り合わせ界面で光の界面反射が生じるため、必要に応じ屈折率調整剤を添加し、屈折率調整を行う。また、必要に応じて、架橋剤、触媒、UV吸収剤、酸化防止剤、着色顔料、ガラスビーズ、フィラー、難燃剤、抗菌剤、光安定剤、着色剤、流動性改良剤、滑剤、ブロッキング防止剤、帯電防止剤、架橋助剤等を配合することができる。これらは単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。架橋剤としては、要求特性に支障を来すものでなければ特に制限無く用いることができる。例えば、ポリイソシアネート、キレート、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、アマイド樹脂などが挙げられる。
In the antireflection optical film of the present invention, a transparent optical adhesive film is preferably laminated on the side surface of the hard coat layer opposite to the low refractive index layer side. By laminating the transparent optical adhesive film, it is possible to produce an antireflection optical film excellent in transferability and adhesion to a transfer product.
Examples of the transparent optical adhesive film include a configuration in which an optical pressure-sensitive adhesive layer is formed on a substrate. Specifically, the optical pressure-sensitive adhesive layer includes, for example, light resistance in terms of optical characteristics. In view of weather resistance, heat resistance and transparency, acrylic resins are used. Examples of the monomer constituting the acrylic resin include alkyl acrylates such as ethyl acrylate, butyl acrylate, amyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, octyl acrylate, cyclohexyl acrylate, and benzyl acrylate, Methacrylic acid alkyl esters such as butyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, benzyl methacrylate, ethyl methacrylate, and vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl ether, styrene, acrylonitrile, methacrylonitrile, etc. A group-containing compound may be copolymerized. Furthermore, in order to improve the adhesion durability performance and suppress the generation of outgas, the optical adhesive main component is an acrylic resin, the weight average molecular weight is 500,000 or more, and the polydispersity is 5 or less. In addition, when an adhesive layer is used for bonding various optical films, if the refractive index difference between the optical film and the adhesive layer is large, light interface reflection occurs at the bonding interface between the optical film and the adhesive layer. A refractive index adjusting agent is added to adjust the refractive index. If necessary, crosslinking agents, catalysts, UV absorbers, antioxidants, color pigments, glass beads, fillers, flame retardants, antibacterial agents, light stabilizers, colorants, fluidity improvers, lubricants, antiblocking agents An agent, an antistatic agent, a crosslinking aid and the like can be blended. These may be used alone or in combination of two or more. Any crosslinking agent can be used without particular limitation as long as it does not interfere with the required properties. For example, polyisocyanate, chelate, epoxy resin, melamine resin, amide resin and the like can be mentioned.

上記光学用粘着剤層の厚みは、任意に設定することが出るが、3μm以上30μm以下とするのが好ましい。
上記光学用粘着剤層を設ける基材としては特に制限はないが、例えば、ポリエステル系樹脂シート、オレフィン系樹脂シート、ポリフェニレンスルフィド樹脂シート、トリアセテート樹脂シート、アクリル系樹脂シート、ポリイミド系樹脂シート、ポリカーボネート樹脂シート、ノルボルネン系樹脂シートがある。シートの厚みには特に制限はないが500μm未満が好ましく、更には10μm以上50μm以下がより好ましい。光学用粘着剤層の保護のために必要に応じて、剥離ライナー等と貼り合わせて用いることができる。剥離ライナーとしては特に制限はないが、例えば、PETフィルム、オレフィン樹脂フィルム、PPS樹脂フィルム、TACフィルム、アクリル樹脂フィルムまたはこれらに離型処理を施したものなどが挙げられる。剥離ライナ−の厚みには特に制限はないが500μm未満が好ましく、さらには10μm以上50μm以下がより好ましい。
The thickness of the optical pressure-sensitive adhesive layer can be arbitrarily set, but is preferably 3 μm or more and 30 μm or less.
The substrate for providing the optical pressure-sensitive adhesive layer is not particularly limited. For example, polyester resin sheet, olefin resin sheet, polyphenylene sulfide resin sheet, triacetate resin sheet, acrylic resin sheet, polyimide resin sheet, polycarbonate There are resin sheets and norbornene resin sheets. Although there is no restriction | limiting in particular in the thickness of a sheet | seat, less than 500 micrometers is preferable, and also 10 micrometers or more and 50 micrometers or less are more preferable. In order to protect the optical pressure-sensitive adhesive layer, it can be used by being bonded to a release liner or the like, if necessary. The release liner is not particularly limited, and examples thereof include a PET film, an olefin resin film, a PPS resin film, a TAC film, an acrylic resin film, and those obtained by performing a release treatment. Although there is no restriction | limiting in particular in the thickness of a peeling liner, Less than 500 micrometers is preferable, Furthermore, 10 micrometers or more and 50 micrometers or less are more preferable.

本発明の反射防止光学フィルムは、上記ハードコート層の低屈折率層側と反対側面に、アンカー層と該アンカー層を介して接着層が積層されていることが好ましい。 In the antireflection optical film of the present invention, it is preferable that an adhesive layer is laminated on the side opposite to the low refractive index layer side of the hard coat layer via the anchor layer.

上記アンカー層は、ハードコート層と接着層との密着性を向上させるために、所望により設けられる層である。
上記アンカー層は、2液性硬化ウレタン樹脂、熱硬化ウレタン樹脂、メラミン系樹脂、セルロースエステル系樹脂、塩素含有ゴム系樹脂、塩素含有ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、ビニル系共重合体樹脂などを使用し、例えば、上記のように形成したハードコート層の上に、グラビアコート法、ロールコート法、コンマコート法などのコート法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法などにより塗工して形成することができる。 上記アンカー層の厚さは、通常0.1μm以上5μm以下程度であり、好ましくは1μm以上5μm以下程度である。
The anchor layer is a layer provided as desired in order to improve the adhesion between the hard coat layer and the adhesive layer.
The anchor layer is a two-component curable urethane resin, thermosetting urethane resin, melamine resin, cellulose ester resin, chlorine-containing rubber resin, chlorine-containing vinyl resin, acrylic resin, epoxy resin, vinyl copolymer Using a coalesced resin, for example, coating on the hard coat layer formed as described above by a gravure coating method, a roll coating method, a comma coating method, etc., a gravure printing method, a screen printing method, etc. Can be formed. The thickness of the anchor layer is usually about 0.1 μm to 5 μm, preferably about 1 μm to 5 μm.

上記接着層は、接着性よく樹脂成形体に転写するために形成される層である。この接着層には、樹脂成形体の素材に適した感熱性又は感圧性の樹脂を適宜使用する。例えば、樹脂成形体の材質がアクリル系樹脂の場合は、アクリル系樹脂を用いることが好ましい。また、樹脂成形体の材質がポリフェニレンオキサイド・ポリスチレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、スチレン系樹脂の場合は、これらの樹脂と親和性のあるアクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリアミド系樹脂などを使用することが好ましい。さらに、樹脂成形体の材質がポリプロピレン樹脂の場合は、塩素化ポリオレフィン樹脂、塩素化エチレン−酢酸ビニル共重合体樹脂、環化ゴム、クマロンインデン樹脂を使用することが好ましい。
接着層の形成方法としては、グラビアコート法、ロールコート法などのコート法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法などの印刷法がある。
上記接着層の厚さは、通常0.1μm以上5μm以下程度が好ましい。
The said adhesive layer is a layer formed in order to transfer to a resin molding with sufficient adhesiveness. For this adhesive layer, a heat-sensitive or pressure-sensitive resin suitable for the material of the resin molding is appropriately used. For example, when the material of the resin molding is an acrylic resin, it is preferable to use an acrylic resin. If the resin molding is made of polyphenylene oxide / polystyrene resin, polycarbonate resin, or styrene resin, use an acrylic resin, polystyrene resin, polyamide resin, or the like that has an affinity for these resins. Is preferred. Furthermore, when the material of the resin molding is a polypropylene resin, it is preferable to use a chlorinated polyolefin resin, a chlorinated ethylene-vinyl acetate copolymer resin, a cyclized rubber, or a coumarone indene resin.
Examples of the method for forming the adhesive layer include a coating method such as a gravure coating method and a roll coating method, a printing method such as a gravure printing method and a screen printing method.
The thickness of the adhesive layer is usually preferably about 0.1 μm to 5 μm.

また、上記低屈折率層とハードコート層との総膜厚が3μm以上15μm以下であることが好ましい。3μm未満であると、ハードコート性能が不充分となることがあり、15μmを超えると、剛直となって、容易にクラックが発生することがある。 The total film thickness of the low refractive index layer and the hard coat layer is preferably 3 μm or more and 15 μm or less. If it is less than 3 μm, the hard coat performance may be insufficient, and if it exceeds 15 μm, it may become rigid and easily crack.

また、上記低屈折率層、ハードコート層及び透明光学粘着フィルムの総膜厚が8μm以上30μm以下であることが好ましい。8μm未満であると、接着力が弱く、後述する転写できなくなることがあり、30μmを超えると、透明光学粘着フィルムの影響で、硬度が出ないことがある。
また、上記低屈折率層、ハードコート層、アンカー層及び接着層の総膜厚が8μm以上30μm以下であることが好ましい。8μm未満であると、接着力が弱く、後述する転写できなくなることがあり、30μmを超えると、透明光学粘着フィルムの影響で、硬度が出ないことがある。
Moreover, it is preferable that the total film thickness of the said low refractive index layer, a hard-coat layer, and a transparent optical adhesive film is 8 micrometers or more and 30 micrometers or less. When the thickness is less than 8 μm, the adhesive strength is weak and transfer described later may not be possible. When the thickness exceeds 30 μm, hardness may not be obtained due to the influence of the transparent optical adhesive film.
The total film thickness of the low refractive index layer, hard coat layer, anchor layer, and adhesive layer is preferably 8 μm or more and 30 μm or less. When the thickness is less than 8 μm, the adhesive strength is weak and transfer described later may not be possible. When the thickness exceeds 30 μm, hardness may not be obtained due to the influence of the transparent optical adhesive film.

また、上記低屈折率層の表面に離型フィルムが貼着されており、上記低屈折率層と上記離型フィルムとの間の剥離力が10mN/25mm以上500mN/25mm以下であることが好ましい。
上記離型フィルムとしては、未処理のポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムが好適に挙げられる。
後述するように上記低屈折率層は上記離型フィルムが貼着された状態で転写法により被転写体に好適に転写され、その後、離型フィルムが剥離されるが、上記剥離力が10mN/25mm未満であると、転写法の途中で離型フィルムが剥離してしまうことがあり、500mN/25mmを超えると、転写法において離型フィルムを剥離できないことがある。
上記剥離力のより好ましい下限は20mN/25mm、より好ましい上限は300mN/25mmである。
なお、上記低屈折率層と上記剥離フィルムとの間の剥離力は、JIS Z 0237に基づいて測定できる。
In addition, a release film is stuck on the surface of the low refractive index layer, and the peel force between the low refractive index layer and the release film is preferably 10 mN / 25 mm or more and 500 mN / 25 mm or less. .
As the release film, an untreated polyethylene terephthalate (PET) film is preferably exemplified.
As will be described later, the low refractive index layer is suitably transferred to a transfer medium by a transfer method in a state where the release film is adhered, and then the release film is peeled off, but the peeling force is 10 mN / If it is less than 25 mm, the release film may be peeled off during the transfer method, and if it exceeds 500 mN / 25 mm, the release film may not be peeled off by the transfer method.
A more preferable lower limit of the peeling force is 20 mN / 25 mm, and a more preferable upper limit is 300 mN / 25 mm.
In addition, the peeling force between the said low refractive index layer and the said peeling film can be measured based on JISZ0237.

本発明の反射防止光学フィルムは、転写方法で形成することができる。
すなわち、離型フィルム上に本発明の低屈折率層用組成物を用いて塗膜を形成し、例えば、紫外線照射により半硬化させる。次いで、半硬化させた低屈折率層用組成物の塗膜上にハードコート層用組成物を用いて塗膜を形成し、例えば、紫外線照射により完全硬化させることで、離型フィルムと低屈折率層との界面で好適に剥離可能な反射防止光学フィルムを得ることができる。
また、転写方法で形成することにより、フィルム全体の軽量化が可能であり、また、表示装置のデザインが曲面であっても、折り畳み式であってもクラックなどが生じにくく、追随しやすい点が優れている。
上記離型フィルムとしては、ポリエチレンテレフタレートフィルム等の公知の樹脂フィルムであってもよく、また、ガラス等の板状体であってもよい。更に、上記離型フィルムの低屈折率層が設けられる面は、表面処理が施されていてもよいが、該表面における処理剤の影響で低屈折率層の反射率の上昇を防止する観点から、上記離型フィルムの低屈折率層が設けられる面は表面処理されていないことが好ましい。
また、上記離型フィルムは、カットオフ波長を2.5mmとして、二乗平均平方根粗さRq、十点平均粗さRz及び最大高さ粗さRyをそれぞれ測定したとき、上記Rqが、0.010μm以上0.050μm以下であることが好ましく、より好ましくは0.040μm以下、更に好ましくは0.035μm以下であり、上記Rzが、0.070μm以上0.350μm以下であることが好ましく、より好ましくは0.250μm以下、更に好ましくは0.200μm以下であり、上記Ryが、0.100μm以上0.450μm以下であることが好ましく、より好ましくは0.350μm以下であり、更に好ましくは0.250μm以下である。
なお、上記離型フィルムの表面におけるRq、Rz及びRyは、上記低屈折率層において説明したものと同様である。
The antireflection optical film of the present invention can be formed by a transfer method.
That is, a coating film is formed on the release film using the composition for low refractive index layer of the present invention, and semi-cured by, for example, ultraviolet irradiation. Next, a coating film is formed using the hard coat layer composition on the semi-cured coating film of the low refractive index layer composition. An antireflection optical film that can be suitably peeled off at the interface with the rate layer can be obtained.
In addition, by forming by the transfer method, the entire film can be reduced in weight, and even if the design of the display device is curved or foldable, cracks are not easily generated, and it is easy to follow Are better.
The release film may be a known resin film such as a polyethylene terephthalate film, or may be a plate such as glass. Further, the surface of the release film on which the low refractive index layer is provided may be subjected to surface treatment, but from the viewpoint of preventing an increase in the reflectance of the low refractive index layer due to the influence of the treatment agent on the surface. The surface of the release film on which the low refractive index layer is provided is preferably not surface-treated.
The release film had a cutoff wavelength of 2.5 mm, and when the root mean square roughness Rq, ten-point average roughness Rz, and maximum height roughness Ry were measured, the Rq was 0.010 μm. It is preferably 0.050 μm or less, more preferably 0.040 μm or less, still more preferably 0.035 μm or less, and Rz is preferably 0.070 μm or more and 0.350 μm or less, more preferably 0.250 μm or less, more preferably 0.200 μm or less, and Ry is preferably 0.100 μm or more and 0.450 μm or less, more preferably 0.350 μm or less, and further preferably 0.250 μm or less. It is.
In addition, Rq, Rz, and Ry on the surface of the release film are the same as those described in the low refractive index layer.

上記低屈折率層用組成物の塗膜を半硬化させる際の紫外線照射量としては、20mJ/cm以上75mJ/cm以下であることが好ましい。20mJ/cm未満であると、低屈折率層を形成できないことがあり、75mJ/cmを超えると、後述するハードコート層と低屈折率層との界面で剥離が生じることがある。
上記ハードコート層用組成物の塗膜を硬化させる際の紫外線照射量としては、20mJ/cm以上150mJ/cm以下であることが好ましい。20mJ/cm未満であると、ハードコート層を形成できないことがあり、150mJ/cmを超えると、剛直となって、容易にクラックが発生することがある。
なお、上記低屈折率層用組成物の塗膜を半硬化させる際の紫外線照射量が20mJ/cmである場合、上記ハードコート層用組成物の塗膜を硬化させる際の紫外線照射量は20mJ/cm以上であることが好ましい。
また、上記低屈折率層用組成物の塗膜を半硬化させる際の紫外線照射量が50mJ/cmである場合、上記ハードコート層用組成物の塗膜を硬化させる際の紫外線照射量は50mJ/cm以上であることが好ましい。
上記低屈折率層用組成物の塗膜を半硬化させる際の紫外線照射量が75mJ/cmである場合、上記ハードコート層用組成物の塗膜を硬化させる際の紫外線照射量は100mJ/cm以上であることが好ましい。
上述した条件で紫外線照射を行い低屈折率層とハードコート層とを形成することで、上記離型フィルムと低屈折率層との界面で好適に剥離させることができる反射防止光学フィルムを製造できる。
また、上記ハードコート層の低屈折率層側と反対側面には、透明光学粘着フィルムが積層されてもよい。
The ultraviolet irradiation dose at the time of semi-curing the coating film of the composition for a low refractive index layer is preferably 20 mJ / cm 2 or more 75 mJ / cm 2 or less. If it is less than 20 mJ / cm 2 , the low refractive index layer may not be formed. If it exceeds 75 mJ / cm 2 , peeling may occur at the interface between the hard coat layer and the low refractive index layer described later.
The amount of ultraviolet irradiation for curing the coating of the hard coat layer composition is preferably 20 mJ / cm 2 or more 150 mJ / cm 2 or less. If it is less than 20 mJ / cm 2 , the hard coat layer may not be formed, and if it exceeds 150 mJ / cm 2 , it may become rigid and easily crack.
In addition, when the ultraviolet irradiation amount at the time of semi-curing the coating film of the low refractive index layer composition is 20 mJ / cm 2 , the ultraviolet irradiation amount at the time of curing the coating film of the hard coat layer composition is It is preferably 20 mJ / cm 2 or more.
Moreover, when the ultraviolet irradiation amount at the time of semi-curing the coating film of the low refractive index layer composition is 50 mJ / cm 2 , the ultraviolet irradiation amount at the time of curing the coating film of the hard coat layer composition is It is preferably 50 mJ / cm 2 or more.
When the ultraviolet irradiation amount at the time of semi-curing the coating film of the low refractive index layer composition is 75 mJ / cm 2 , the ultraviolet irradiation amount at the time of curing the coating film of the hard coat layer composition is 100 mJ / It is preferable that it is cm 2 or more.
An antireflection optical film that can be suitably peeled off at the interface between the release film and the low refractive index layer can be produced by forming the low refractive index layer and the hard coat layer by irradiating ultraviolet rays under the conditions described above. .
A transparent optical adhesive film may be laminated on the side surface of the hard coat layer opposite to the low refractive index layer side.

上述した本発明の反射防止光学フィルムを用いて被転写体に転写する具体的方法としては、例えば、偏光子(又はPVA系接着剤からなる層)上に、本発明の反射防止光学フィルムの透明光学粘着フィルムを積層させ、本発明の反射防止光学フィルムを、ローラーで押し付けて、偏光子(又はPVA系接着剤からなる層)に上記透明光学粘着フィルムを貼り合せ、乾燥後離型フィルムを剥離させる方法が挙げられる。 As a specific method of transferring to the transfer medium using the above-described antireflection optical film of the present invention, for example, the antireflection optical film of the present invention is transparent on a polarizer (or a layer made of a PVA adhesive). An optical adhesive film is laminated, the antireflection optical film of the present invention is pressed with a roller, the transparent optical adhesive film is bonded to a polarizer (or a layer made of a PVA adhesive), and the release film is peeled off after drying. The method of letting it be mentioned.

本発明の反射防止光学フィルムは、硬度が、JIS K5600−5−4(1999)による鉛筆硬度試験(荷重4.9N)において、B以上であることが好ましく、2H以上であることがより好ましい。 The antireflection optical film of the present invention has a hardness of preferably B or more, more preferably 2H or more, in a pencil hardness test (load 4.9 N) according to JIS K5600-5-4 (1999).

また、本発明の反射防止光学フィルムは、例えば、#0000番のスチールウール(ボンスター社製)を用いた摩擦荷重100g/cm、10往復摩擦する耐擦傷試験で傷が生じないことが好ましい。 Moreover, it is preferable that the antireflection optical film of the present invention does not cause scratches in a scratch resistance test in which friction load is 100 g / cm 2 using 10th steel wool (manufactured by Bonstar Co., Ltd.) and rubs 10 times.

また、本発明の反射防止光学フィルムは、反射Y値が1.5%以下であることが好ましい。反射Y値が1.5%を超えると、本発明の反射防止光学フィルムの反射防止性能が不充分となることがある。上記反射Y値のより好ましい上限は1.0%である。 The antireflection optical film of the present invention preferably has a reflection Y value of 1.5% or less. When the reflection Y value exceeds 1.5%, the antireflection performance of the antireflection optical film of the present invention may be insufficient. A more preferable upper limit of the reflection Y value is 1.0%.

本発明の反射防止光学フィルムは、防汚性及び耐擦傷性に極めて優れるとともに、反射防止性能にも優れたものとなるため、画像表示装置の表示画面や、カメラ用レンズの裏面などに好適に用いることができる。
本発明の反射防止光学フィルムを用いてなる画像表示装置としては特に限定されないが、なかでも、スマートフォンやタブレット端末等のタッチセンサを備えたモバイル端末や自動車用機器などの表示装置が好適である。
また、上記カメラ用レンズとしては、例えば、スマートフォンやタブレット端末に搭載のカメラレンズ、ビデオカメラやデジタルカメラのレンズ等が挙げられる。
本発明の反射防止フィルムが上述したアンカー層及び接着層を有する場合、車載用途(インモールド成型)に好適に用いることができる。
The antireflection optical film of the present invention is extremely excellent in antifouling properties and scratch resistance, and also has excellent antireflection performance, and is therefore suitable for a display screen of an image display device, the back surface of a camera lens, and the like. Can be used.
Although it does not specifically limit as an image display apparatus using the antireflection optical film of this invention, Especially, display apparatuses, such as a mobile terminal provided with touch sensors, such as a smart phone and a tablet terminal, and an apparatus for motor vehicles, are suitable.
Examples of the camera lens include a camera lens mounted on a smartphone or a tablet terminal, a video camera or a digital camera lens, and the like.
When the antireflection film of the present invention has the above-described anchor layer and adhesive layer, it can be suitably used for in-vehicle use (in-mold molding).

また、上記画像表示装置は、液晶表示装置(LCD)やPDP、FED、ELD(有機EL、無機EL)、CRT等であってもよい。 The image display device may be a liquid crystal display device (LCD), PDP, FED, ELD (organic EL, inorganic EL), CRT, or the like.

上記LCDは、透過性表示体と、上記透過性表示体を背面から照射する光源装置とを備えてなるものである。上記画像表示装置がLCDである場合、この透過性表示体の表面に、本発明の反射防止光学フィルムが形成されてなるものである。 The LCD includes a transmissive display body and a light source device that irradiates the transmissive display body from the back. When the image display device is an LCD, the antireflection optical film of the present invention is formed on the surface of the transmissive display body.

上記画像表示装置がLCDの場合、光源装置の光源は偏光子側から照射される。なお、STN型の液晶表示装置には、液晶表示素子と偏光子との間に、位相差板が挿入されてよい。この液晶表示装置の各層間には必要に応じて接着剤層が設けられてよい。 When the image display device is an LCD, the light source of the light source device is irradiated from the polarizer side. Note that in the STN liquid crystal display device, a phase difference plate may be inserted between the liquid crystal display element and the polarizer. An adhesive layer may be provided between the layers of the liquid crystal display device as necessary.

上記PDPは、表面ガラス基板と当該表面ガラス基板に対向して間に放電ガスが封入されて配置された背面ガラス基板とを備えてなるものである。上記画像表示装置がPDPである場合、上記表面ガラス基板の表面、又はその前面板(ガラス基板又はフィルム基板)に上述した反射防止光学フィルムを備えるものでもある。 The PDP includes a front glass substrate and a rear glass substrate disposed with a discharge gas sealed between the front glass substrate and the front glass substrate. When the image display device is a PDP, the surface of the surface glass substrate or the front plate (glass substrate or film substrate) is provided with the antireflection optical film described above.

上記画像表示装置は、電圧をかけると発光する硫化亜鉛、ジアミン類物質等の発光体をガラス基板に蒸着し、基板にかける電圧を制御して表示を行うELD装置、又は、電気信号を光に変換し、人間の目に見える像を発生させるCRTなどの画像表示装置であってもよい。この場合、上記のような各表示装置の最表面又はその前面板の表面に上述した反射防止光学フィルムを備えるものである。 The image display device is an ELD device that performs display by controlling a voltage applied to the substrate by depositing a light emitting material such as zinc sulfide or a diamine substance that emits light when a voltage is applied thereto, or an electric signal to light. It may be an image display device such as a CRT that converts and generates an image visible to the human eye. In this case, the antireflection optical film described above is provided on the outermost surface of each display device as described above or the surface of the front plate.

本発明の反射防止光学フィルムは、いずれの場合も、テレビジョン、コンピュータなどのディスプレイ表示やカメラ用のレンズに使用することができる。特に、液晶パネル、PDP、ELD、タッチパネル、電子ペーパー等の高精細画像用ディスプレイや、コレラに搭載されたカメラ用レンズに好適に使用することができる。 In any case, the antireflection optical film of the present invention can be used for display displays such as televisions and computers, and lenses for cameras. In particular, it can be suitably used for high-definition image displays such as liquid crystal panels, PDPs, ELDs, touch panels, and electronic paper, and camera lenses mounted on cholera.

本発明の反射防止光学フィルムは、上述した構成からなるものであるため、極めて優れた防汚性と耐擦傷性とを有し、反射防止性能にも優れる低屈折率層を形成できる低屈折率層用組成物、及び、極めて優れた防汚性と耐擦傷性とを有し、反射防止性能にも優れる反射防止光学フィルムを提供できる。このため、本発明の反射防止光学フィルムは、液晶ディスプレイ(LCD)、プラズマディスプレイ(PDP)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)、電子ペーパー、タブレット端末等のディスプレイ、特にモバイル端末やこれらに搭載されるカメラレンズに好適に使用することができる。 Since the antireflection optical film of the present invention has the above-described configuration, it has an excellent antifouling property and scratch resistance, and can form a low refractive index layer having excellent antireflection performance. It is possible to provide a layer composition and an antireflection optical film having extremely excellent antifouling properties and scratch resistance and excellent antireflection performance. For this reason, the antireflection optical film of the present invention is a liquid crystal display (LCD), a plasma display (PDP), an electroluminescence display (ELD), a display such as an electronic paper, a tablet terminal, especially a mobile terminal and a camera mounted thereon. It can be suitably used for a lens.

Rqの説明図である。It is explanatory drawing of Rq.

以下に実施例及び比較例を掲げて本発明を更に詳しく説明するが、本発明はこれら実施例及び比較例のみに限定されるものではない。
なお、文中、「部」又は「%」とあるのは特に断りのない限り、質量基準である。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples and comparative examples, but the present invention is not limited to these examples and comparative examples.
In the text, “part” or “%” is based on mass unless otherwise specified.

(低屈折率層用塗工液)
プロピレンオキサイド変性ペンタエリスリトールテトラアクリレート(製品名「ATM−4P」、新中村化学社製) 72.5質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA) 25.5質量部
中空状シリカ微粒子(スルーリア4320、固形分20%、日揮触媒化成社製、平均粒子径60nm) 700.0質量部
反応性シリカ微粒子(MIBK−SD、固形分30%、日産化学社製、平均粒子径10nm) 83.3質量部
光重合開始剤(イルガキュア127、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製) 7.0質量部
メチルイソブチルケトン 7721.9質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 917.8質量部
(Coating liquid for low refractive index layer)
Propylene oxide-modified pentaerythritol tetraacrylate (product name “ATM-4P”, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) 72.5 parts by mass Pentaerythritol triacrylate (PET) 25.5 parts by mass hollow silica fine particles (Thruria 4320, solid content 20 %, Manufactured by JGC Catalysts & Chemicals, average particle size 60 nm) 70.0 parts by mass Reactive silica fine particles (MIBK-SD, solid content 30%, manufactured by Nissan Chemical Industries, average particle size 10 nm) 83.3 parts by mass Photopolymerization started Agent (Irgacure 127, manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 7.0 parts by mass Methyl isobutyl ketone 7721.9 parts by mass Propylene glycol monomethyl ether acetate 917.8 parts by mass

(ハードコート層用塗工液)
アクリル系ポリマー(製品名「BL−2002」、固形分35%、重量平均分子量7万、アクリル当量265、星光PMC社製) 228.6質量部
反応性シリカ微粒子(製品名「ELCOM V8803」、固形分40%、日揮触媒化成社製) 50.0質量部
フッ素系化合物(製品名「F−554」、DIC社製) 0.20質量部
光重合開始剤(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製) 4.0質量部
メチルエチルケトン 238.2質量部
(Coating solution for hard coat layer)
Acrylic polymer (product name “BL-2002”, solid content 35%, weight average molecular weight 70,000, acrylic equivalent 265, manufactured by Seiko PMC) 228.6 parts by mass reactive silica fine particles (product name “ELCOM V8803”, solid 40% min., Manufactured by JGC Catalysts & Chemicals Co., Ltd.) 50.0 parts by mass fluorine compound (product name “F-554”, manufactured by DIC) 0.20 parts by mass photopolymerization initiator (Irgacure 184, Ciba Specialty Chemicals) Made) 4.0 parts by weight methyl ethyl ketone 238.2 parts by weight

(実施例1)
まず、離型フィルムとしての厚さ50μmの片面に易接着処理が施されたポリエチレンテレフタレートフィルム(製品名「コスモシャインA4100」、東洋紡社製)を準備し、ポリエチレンテレフタレートフィルムの未処理側面に、低屈折率層用塗工液を乾燥(25℃×1分−50℃×1分)後の膜厚が0.1μmとなるように塗布した。
そして、紫外線照射装置(フュージョンUVシステムジャパン社製、光源Hバルブ)を用いて、照射線量20mJ/cmで紫外線照射を行って硬化させて、低屈折率層を形成した。
次に、形成した低屈折率層の上に、ハードコート用塗工液を乾燥(100℃×1分)後の膜厚が5μmとなるように、塗布した。そして、紫外線照射装置(フュージョンUVシステムジャパン社製、光源Hバルブ)を用いて、照射線量100mJ/cmで紫外線照射を行って硬化させて、ハードコート層を形成し、転写用の反射防止光学フィルムを得た。
Example 1
First, a polyethylene terephthalate film (product name “Cosmo Shine A4100”, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) having a 50 μm-thick single-sided adhesive treatment as a release film is prepared. The coating solution for refractive index layer was applied so that the film thickness after drying (25 ° C. × 1 minute−50 ° C. × 1 minute) was 0.1 μm.
And using the ultraviolet irradiation device (the fusion UV system Japan company make, light source H bulb), it irradiated with ultraviolet irradiation with the irradiation dose of 20 mJ / cm < 2 >, it was made to harden | cure, and the low refractive index layer was formed.
Next, the coating liquid for hard coat was applied on the formed low refractive index layer so that the film thickness after drying (100 ° C. × 1 minute) was 5 μm. Then, using a UV irradiation device (Fusion UV System Japan, light source H bulb), UV irradiation is performed at an irradiation dose of 100 mJ / cm 2 to cure, thereby forming a hard coat layer, and antireflection optics for transfer. A film was obtained.

(実施例2)
低屈折率層用塗工液における配合量を、ATM−4Pを50.0質量部、PETAを70.0質量部とし、中空状シリカ微粒子を600.0質量部とした以外は、実施例1と同様にして、転写用の反射防止光学フィルムを得た。
(Example 2)
Example 1 except that the blending amount in the coating solution for the low refractive index layer was 50.0 parts by mass of ATM-4P, 70.0 parts by mass of PETA, and 600.0 parts by mass of hollow silica fine particles. In the same manner as above, an antireflection optical film for transfer was obtained.

(実施例3)
低屈折率層用塗工液における配合量を、ATM−4Pを30.0質量部、PETAを50.0質量部とし、中空状シリカ微粒子を600.0質量部とした以外は、実施例1と同様にして、転写用の反射防止光学フィルムを得た。
(Example 3)
Example 1 except that the blending amount in the coating solution for the low refractive index layer was 30.0 parts by mass of ATM-4P, 50.0 parts by mass of PETA, and 600.0 parts by mass of hollow silica fine particles. In the same manner as above, an antireflection optical film for transfer was obtained.

(比較例1)
低屈折率層用塗工液における配合量を、ATM−4Pを15.0質量部、PETAを85.0質量部とし、中空状シリカ微粒子を600.0質量部とした以外は、実施例1と同様にして、転写用の反射防止光学フィルムを得た。
(Comparative Example 1)
Example 1 except that the blending amount in the coating liquid for the low refractive index layer is 15.0 parts by mass of ATM-4P, 85.0 parts by mass of PETA, and 600.0 parts by mass of hollow silica fine particles. In the same manner as above, an antireflection optical film for transfer was obtained.

(比較例2)
低屈折率層用塗工液における配合量を、ATM−4Pを配合せず、PETAを100.0質量部とし、中空状シリカ微粒子を600.0質量部とした以外は、実施例1と同様にして、転写用の反射防止光学フィルムを得た。
(Comparative Example 2)
The blending amount in the coating solution for the low refractive index layer is the same as in Example 1 except that ATM-4P is not blended, PETA is 100.0 parts by mass, and hollow silica fine particles are 600.0 parts by mass. Thus, an antireflection optical film for transfer was obtained.

(比較例3)
低屈折率層用塗工液における配合量を、中空状シリカ微粒子を600.0質量部とし、離型フィルムとして厚さ50μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(製品名「ダイアホイル T100−50S」、三菱樹脂社製)を使用した以外は、実施例1と、同様にして、転写用の反射防止光学フィルムを得た。
(Comparative Example 3)
The blending amount in the coating solution for the low refractive index layer is 600.0 parts by mass of hollow silica fine particles, and a 50 μm thick polyethylene terephthalate film (product name “Diafoil T100-50S”, Mitsubishi Plastics, Inc.) An antireflection optical film for transfer was obtained in the same manner as in Example 1 except that the product No. was used.

(転写性)
あらかじめ、透明光学粘着フィルムをローラーを用いて貼り合せた100mm×100mm×1mm厚の黒アクリル板を用意し、得られた転写用の反射防止光学フィルムをハードコート層面が透明光学粘着フィルムと接するように、ローラーを用いて貼り合わせた後、およそ300mm/minの速度で剥離を行い、目視にて下記の基準にて評価した。
◎:黒アクリル板全面において転写されており、且つ、容易に転写される。
○:黒アクリル板全面において転写されている。
△:黒アクリル板面積の50%以上は転写されているが、部分的に転写されていない箇所がある。
×:アクリル板面積の50%未満しか転写されていない。
(Transferability)
Prepare a 100 mm x 100 mm x 1 mm thick black acrylic plate in which a transparent optical adhesive film is bonded using a roller in advance, and the hard coat layer surface of the obtained antireflection optical film for transfer is in contact with the transparent optical adhesive film In addition, after laminating using a roller, peeling was performed at a rate of about 300 mm / min, and visually evaluated according to the following criteria.
A: Transferred over the entire surface of the black acrylic plate and easily transferred.
○: Transferred over the entire black acrylic plate.
(Triangle | delta): Although 50% or more of black acrylic board area is transcribe | transferred, there exists a location which is not partially transcribe | transferred.
X: Only less than 50% of the acrylic plate area is transferred.

(反射Y値)
低屈折率層の面から、島津製作所社製、分光反射率測定器「MPC3100」を用いて、5°正反射率を380〜780nmまでの波長範囲で測定し、その後、人間が目で感じる明度として換算するソフト(MPC3100内蔵)で算出される、視感反射率を示す値を反射Y値として求めた。
(Reflection Y value)
From the surface of the low refractive index layer, using a spectral reflectance measuring device “MPC3100” manufactured by Shimadzu Corporation, 5 ° regular reflectance is measured in the wavelength range of 380 to 780 nm, and then the brightness that humans can perceive with eyes. As a reflection Y value, a value indicating luminous reflectance, calculated by software (MPC3100 built-in) for conversion, is calculated.

(防汚性)
得られた各反射防止フィルムの表面に、指紋を付着させた後、日本製紙クレシア社製キムワイプ(登録商標)を、30往復させて拭き取り、拭き取り性(指紋の残り具合)を、目視にて下記の基準にて評価した。
◎:30往復以下で完全に拭き取れる(○と比較し、より拭き取りやすかったもの)
○:30往復以下で完全に拭き取れる
×:30往復以下では拭き取れない
(Anti-fouling property)
After attaching a fingerprint to the surface of each antireflection film obtained, Kim Paper (registered trademark) made by Nippon Paper Crecia Co., Ltd. was reciprocated 30 times and wiped off. Evaluation based on the criteria.
◎: Can be wiped off completely within 30 round trips (compared to ○, it was easier to wipe off)
○: Can be wiped off completely within 30 round trips ×: Cannot be wiped off after 30 round trips

(耐擦傷性)
得られた各反射防止フィルムの低屈折率層の表面を、#0000番のスチールウールを用いて、100、200g/cmの各摩擦荷重でそれぞれ10往復摩擦し、その後、塗膜の剥がれの有無を目視し、結果を下記の基準にて評価した。
◎:200g/cmでキズなし
○:100g/cmでキズなし
×:100g/cmでキズあり
(Abrasion resistance)
The surface of the low refractive index layer of each antireflection film obtained was subjected to 10 reciprocating frictions with each friction load of 100 and 200 g / cm 2 using # 0000 steel wool, and then the coating film was peeled off. The presence or absence was visually observed, and the results were evaluated according to the following criteria.
◎: No scratch at 200 g / cm 2 ○: No scratch at 100 g / cm 2 ×: Scratch at 100 g / cm 2

(凹凸形状の測定)
実施例及び比較例に係る反射防止光学フィルムから得たサンプルに、上記紫外線を照射し、ポリエチレンテレフタレートフィルムを剥離した後のポリエチレンテレフタレートフィルムのハードコート層に接していた面におけるRz、Rq及びRyを測定するとともに、保護フィルムのポリエチレンテレフタレートフィルムに接していた面におけるRz、Rq及びRyを測定した。Rz及びRyの定義は、JIS B0601−1994に従うものとし、Rqは、ISO 4287−1984に記載の式に従うが、ISO 4287−1997でも同様に測定できる。Rz、Rq及びRyは、表面粗さ測定器(製品名「サーフコーダSE3400、小坂研究所製)を用いて、下記の測定条件により測定するものとした。なお、Rz、Rq及びRyは、それぞれ、3回測定して得られた値の算術平均値とした。
(Measurement of uneven shape)
Rz, Rq, and Ry on the surface that was in contact with the hard coat layer of the polyethylene terephthalate film after the polyethylene terephthalate film was peeled off by irradiating the sample obtained from the antireflection optical film according to Examples and Comparative Examples While measuring, Rz, Rq, and Ry on the surface of the protective film in contact with the polyethylene terephthalate film were measured. The definition of Rz and Ry shall be in accordance with JIS B0601-1994, and Rq will follow the formula described in ISO 4287-1984, but it can be similarly measured in ISO 4287-1997. Rz, Rq, and Ry were measured under the following measurement conditions using a surface roughness measuring device (product name “Surfcoder SE3400, manufactured by Kosaka Laboratories”). It was set as the arithmetic average value of the value obtained by measuring 3 times.

計測サンプル:
透明粘着剤層(屈折率:1.55 パナック社製PDC−S1 50μm)を介してアクリル板(クラレ社製、商品名:コモグラス 品番:DFA502K 10cm×10cm、板厚2mm)を貼り合わせたサンプルを作製した。
1)表面粗さ検出部の触針(製品名「サーフコーダSE−3400」、小坂研究所製、2μm標準)
・先端曲率半径2μm、頂角90度、材質ダイヤモンド
Measurement sample:
A sample in which an acrylic plate (manufactured by Kuraray Co., Ltd., product name: Comaglass product number: DFA502K 10 cm × 10 cm, plate thickness 2 mm) is bonded through a transparent adhesive layer (refractive index: 1.55 PDC-S1 50 μm manufactured by Panac Co., Ltd.) Produced.
1) Stylus of surface roughness detector (product name “Surfcoder SE-3400”, manufactured by Kosaka Laboratory, 2 μm standard)
・ Tip radius of curvature 2μm, apex angle 90 degrees, material diamond

以下、実施例及び比較例に用いた測定条件を記載する。
平坦さが優れる場合には、縦倍率は10万倍が適していた。一方、平坦さが劣る場合には、測定時に現れる波形振幅が記録紙からはみ出す恐れがあるため、縦倍率を下げ、1万倍を用いた。縦倍率は測定値に影響する可能性があるため、平坦な表面を測定するにおいては1万〜10万倍が好ましく、実施例においては、10万倍が好ましい。横倍率については、測定値に影響はないが、記録紙で見やすい波形であればよく、5〜50倍が好ましい。
また、送り速さは、0.25mmの場合は0.1mm/sであるのは、測定範囲が小さいため、安定して触針測定するには遅いほうが好ましいためである。一方、2.5mm/sの場合には、装置設定上最低速度が0.5mm/sであり、安定して触針測定するため、一番遅い速度を選択した。
Hereinafter, measurement conditions used in Examples and Comparative Examples are described.
When the flatness is excellent, a vertical magnification of 100,000 is suitable. On the other hand, when the flatness is inferior, the waveform amplitude appearing at the time of measurement may protrude from the recording paper, so the vertical magnification is reduced and 10,000 times is used. Since the vertical magnification may affect the measured value, it is preferably 10,000 to 100,000 times when measuring a flat surface, and preferably 100,000 times when measuring a flat surface. As for the lateral magnification, there is no influence on the measured value, but it is sufficient that the waveform is easy to see on the recording paper, and 5 to 50 times is preferable.
In addition, when the feed speed is 0.25 mm, it is 0.1 mm / s because the measurement range is small and it is preferable that the feed speed is slow for stable stylus measurement. On the other hand, in the case of 2.5 mm / s, the lowest speed was 0.5 mm / s in the apparatus setting, and the slowest speed was selected in order to stably measure the stylus.

表面粗さ測定器の測定条件1(実施例、比較例1、2で使用)
・基準長さ(粗さ曲線のカットオフ値λc):0.25mm
・評価長さ(基準長さ(カットオフ値λc)×5):1.25mm
・触針の送り速さ:0.1mm/s
・縦倍率:100000倍
・横倍率:50倍
・スキッド:用いない(測定面に接触なし)
・カットオフフィルタ種類:ガウシャン
・JISモード:JIS1994
Measurement condition 1 of surface roughness measuring instrument (used in Examples and Comparative Examples 1 and 2)
Reference length (roughness curve cut-off value λc): 0.25 mm
Evaluation length (reference length (cutoff value λc) × 5): 1.25 mm
・ Feeding speed of stylus: 0.1 mm / s
・ Vertical magnification: 100,000 times ・ Horizontal magnification: 50 times ・ Skid: Not used (no contact with measurement surface)
・ Cutoff filter type: Gaussian ・ JIS mode: JIS1994

表面粗さ測定器の測定条件2(実施例、比較例1、2で使用)
・基準長さ(粗さ曲線のカットオフ値λc):2.5mm
・評価長さ(基準長さ(カットオフ値λc)×5):12.5mm
・触針の送り速さ:0.5mm/s
・縦倍率:100000倍
・横倍率:50倍
・スキッド:用いない(測定面に接触なし)
・カットオフフィルタ種類:ガウシャン
・JISモード:JIS1994
Measurement condition 2 of surface roughness measuring instrument (used in Examples and Comparative Examples 1 and 2)
Reference length (roughness curve cut-off value λc): 2.5 mm
Evaluation length (reference length (cutoff value λc) × 5): 12.5 mm
・ Feeding speed of stylus: 0.5mm / s
・ Vertical magnification: 100,000 times ・ Horizontal magnification: 50 times ・ Skid: Not used (no contact with measurement surface)
・ Cutoff filter type: Gaussian ・ JIS mode: JIS1994

表面粗さ測定器の測定条件3(比較例3で使用)
・基準長さ(粗さ曲線のカットオフ値λc):0.25mm
・評価長さ(基準長さ(カットオフ値λc)×5):1.25mm
・触針の送り速さ:0.1mm/s
・縦倍率:10000倍
・横倍率:50倍
・スキッド:用いない(測定面に接触なし)
・カットオフフィルタ種類:ガウシャン
・JISモード:JIS1994
Measurement condition 3 of surface roughness measuring instrument (used in Comparative Example 3)
Reference length (roughness curve cut-off value λc): 0.25 mm
Evaluation length (reference length (cutoff value λc) × 5): 1.25 mm
・ Feeding speed of stylus: 0.1 mm / s
・ Vertical magnification: 10000 times ・ Horizontal magnification: 50 times ・ Skid: Not used (no contact with measurement surface)
・ Cutoff filter type: Gaussian ・ JIS mode: JIS1994

表面粗さ測定器の測定条件4(比較例3で使用)
・基準長さ(粗さ曲線のカットオフ値λc):2.5mm
・評価長さ(基準長さ(カットオフ値λc)×5):12.5mm
・触針の送り速さ:0.5mm/s
・縦倍率:10000倍
・横倍率:50倍
・スキッド:用いない(測定面に接触なし)
・カットオフフィルタ種類:ガウシャン
・JISモード:JIS1994
以下結果を、表1〜3に示す。
Measurement condition 4 of surface roughness measuring instrument (used in Comparative Example 3)
Reference length (roughness curve cut-off value λc): 2.5 mm
Evaluation length (reference length (cutoff value λc) × 5): 12.5 mm
・ Feeding speed of stylus: 0.5mm / s
・ Vertical magnification: 10000 times ・ Horizontal magnification: 50 times ・ Skid: Not used (no contact with measurement surface)
・ Cutoff filter type: Gaussian ・ JIS mode: JIS1994
The results are shown in Tables 1 to 3 below.

Figure 2018128541
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Figure 2018128541
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Figure 2018128541
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本発明の反射防止光学フィルムは、液晶ディスプレイ(LCD)、プラズマディスプレイ(PDP)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)、電子ペーパー、タブレット端末等のディスプレイ、特にモバイル端末やこれらに搭載されるカメラレンズ、車載用途(インモールド成型)に好適に使用することができる。 The antireflection optical film of the present invention is a display such as a liquid crystal display (LCD), a plasma display (PDP), an electroluminescence display (ELD), an electronic paper, and a tablet terminal, particularly a mobile terminal, a camera lens mounted thereon, and an in-vehicle It can be suitably used for applications (in-mold molding).

Claims (14)

少なくとも、ハードコート層と前記ハードコート層の一方の面上に積層された低屈折率層とを有する反射防止光学フィルムであって、
前記低屈折率層の前記ハードコート層側と反対側表面において、カットオフ波長を2.5mmとして、二乗平均平方根粗さRq、十点平均粗さRz及び最大高さ粗さRyをそれぞれ測定したとき、
前記Rqが、0.010μm以上0.050μm以下であり、
前記Rzが、0.050μm以上0.250μm以下であり、
前記Ryが、0.050μm以上0.350μm以下である
ことを特徴とする反射防止光学フィルム。
An antireflection optical film having at least a hard coat layer and a low refractive index layer laminated on one surface of the hard coat layer,
On the surface opposite to the hard coat layer side of the low refractive index layer, the root-mean-square roughness Rq, the ten-point average roughness Rz, and the maximum height roughness Ry were measured with a cutoff wavelength of 2.5 mm. When
Rq is 0.010 μm or more and 0.050 μm or less,
Rz is 0.050 μm or more and 0.250 μm or less,
Said Ry is 0.050 micrometer or more and 0.350 micrometer or less, The antireflection optical film characterized by the above-mentioned.
低屈折率層のハードコート層側と反対側表面において、カットオフ波長を2.5mm及び0.25mmとして、二乗平均平方根粗さRq、十点平均粗さRz及び最大高さ粗さRyをそれぞれ測定したとき、前記Rq、Rz及びRyのカットオフ波長2.5mmにおける値とカットオフ波長0.25mmにおける値との比(カットオフ波長2.5mm/カットオフ波長0.25mm)が、いずれも1.00以上2.00以下である
請求項1記載の反射防止光学フィルム。
On the surface opposite to the hard coat layer side of the low refractive index layer, the cut-off wavelength is 2.5 mm and 0.25 mm, and the root mean square roughness Rq, the ten-point average roughness Rz, and the maximum height roughness Ry are respectively set. When measured, the ratio of the Rq, Rz and Ry values at the cutoff wavelength of 2.5 mm to the values at the cutoff wavelength of 0.25 mm (cutoff wavelength 2.5 mm / cutoff wavelength 0.25 mm) is 2. The antireflection optical film according to claim 1, which is 1.00 or more and 2.00 or less.
ハードコート層は、バインダー成分100質量部に対して、無機微粒子を10質量部以上300質量部以下含有する請求項1又は2記載の反射防止光学フィルム。 The antireflection optical film according to claim 1, wherein the hard coat layer contains 10 to 300 parts by mass of inorganic fine particles with respect to 100 parts by mass of the binder component. ハードコート層の低屈折率層側と反対側面に、透明光学粘着フィルムが積層されている請求項1、2又は3記載の反射防止光学フィルム。 The antireflection optical film according to claim 1, wherein a transparent optical adhesive film is laminated on a side surface opposite to the low refractive index layer side of the hard coat layer. ハードコート層の低屈折率層側と反対側面に、アンカー層と該アンカー層を介して接着層が積層されている請求項1、2又は3記載の反射防止光学フィルム。 The antireflection optical film according to claim 1, 2 or 3, wherein an anchor layer and an adhesive layer are laminated on the side surface opposite to the low refractive index layer side of the hard coat layer via the anchor layer. 低屈折率層とハードコート層との総膜厚が3μm以上15μm以下である請求項1、2、3、4又は5記載の反射防止光学フィルム。 The antireflection optical film according to claim 1, wherein the total film thickness of the low refractive index layer and the hard coat layer is 3 μm or more and 15 μm or less. 低屈折率層、ハードコート層及び透明光学粘着フィルムの総膜厚が8μm以上30μm以下である請求項4記載の反射防止光学フィルム。 The antireflection optical film according to claim 4, wherein the total film thickness of the low refractive index layer, the hard coat layer, and the transparent optical adhesive film is from 8 μm to 30 μm. 低屈折率層、ハードコート層、アンカー層及び接着層の総膜厚が8μm以上30μm以下である請求項5記載の反射防止光学フィルム。 The antireflection optical film according to claim 5, wherein the total film thickness of the low refractive index layer, the hard coat layer, the anchor layer and the adhesive layer is 8 μm or more and 30 μm or less. 低屈折率層のハードコート層側と反対側面に離型フィルムが貼着されており、前記低屈折率層と前記離型フィルムとの間の剥離力が10mN/25mm以上500mN/25mm以下である請求項1、2、3、4、5、6、7又は8記載の反射防止光学フィルム。 A release film is attached to the side opposite to the hard coat layer side of the low refractive index layer, and the peel force between the low refractive index layer and the release film is 10 mN / 25 mm or more and 500 mN / 25 mm or less. The antireflection optical film according to claim 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7 or 8. 中空粒子とバインダー樹脂とを含有する低屈折率層用組成物であって、前記バインダー樹脂固形分100質量%中、アルキレンオキサイド変性(メタ)アクリレート系化合物を20質量%以上含有する
ことを特徴とする低屈折率層用組成物。
A composition for a low refractive index layer containing hollow particles and a binder resin, characterized in that it contains an alkylene oxide-modified (meth) acrylate compound in an amount of 20% by mass or more in 100% by mass of the binder resin solid content. A composition for a low refractive index layer.
アルキレンオキサイド変性(メタ)アクリレート系化合物は、エチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート系化合物及び/又はプロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート系化合物である請求項10記載の低屈折率層用組成物。 The composition for a low refractive index layer according to claim 10, wherein the alkylene oxide-modified (meth) acrylate compound is an ethylene oxide-modified (meth) acrylate compound and / or a propylene oxide-modified (meth) acrylate compound. アルキレンオキサイド変性(メタ)アクリレート系化合物の官能基数が6以下である請求項10又は11記載の低屈折率層用組成物。 The composition for low refractive index layers according to claim 10 or 11, wherein the number of functional groups of the alkylene oxide-modified (meth) acrylate compound is 6 or less. バインダー樹脂100質量部に対して、中空粒子を40質量部以上200質量部以下含有する請求項10、11又は12記載の低屈折率層用組成物。 The composition for a low refractive index layer according to claim 10, 11 or 12, comprising 40 to 200 parts by mass of hollow particles with respect to 100 parts by mass of the binder resin. 中空粒子は、中空シリカ粒子である請求項10、11、12又は13記載の低屈折率層用組成物。 The composition for a low refractive index layer according to claim 10, 11, 12, or 13, wherein the hollow particles are hollow silica particles.
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