JP2018109239A - Device manufacturing method - Google Patents

Device manufacturing method Download PDF

Info

Publication number
JP2018109239A
JP2018109239A JP2018029878A JP2018029878A JP2018109239A JP 2018109239 A JP2018109239 A JP 2018109239A JP 2018029878 A JP2018029878 A JP 2018029878A JP 2018029878 A JP2018029878 A JP 2018029878A JP 2018109239 A JP2018109239 A JP 2018109239A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
glass substrate
glass
posture
glass substrates
deflection
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2018029878A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP6521122B2 (en
Inventor
正一 谷田
Shoichi Tanida
正一 谷田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Electric Glass Co Ltd
Original Assignee
Nippon Electric Glass Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Electric Glass Co Ltd filed Critical Nippon Electric Glass Co Ltd
Priority to JP2018029878A priority Critical patent/JP6521122B2/en
Publication of JP2018109239A publication Critical patent/JP2018109239A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6521122B2 publication Critical patent/JP6521122B2/en
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a device manufacturing method capable of applying uniform film deposition treatment to plural glass substrates by restraining variation of flexion of the plural glass substrates.SOLUTION: In a step, plural rectangular glass substrates 3 is made to a reference posture at which they are arranged almost in parallel to a vertical plane and at equal intervals, and reactive gas flows between the respective glass substrates 3 to apply film deposition treatment. Variation of the flexion of the plural glass substrates 3 at an inclined posture at which the glass substrate is inclined on the basis of the reference posture is a numerical value found by normalizing a standard deviation of the flexion of the plural glass substrates 3 at the inclined posture. A standard deviation σ is normalized by Nσ=σ×K and K=t/L, and the normalized standard deviation Nσ is 0.08×10or more and 0.2×10or less. Here, t is a thickness of the glass substrate 3, and L is a length of one side of the glass substrate 3.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、複数のガラス基板を含むガラス基板群及びガラス基板製造方法に関する。   The present invention relates to a glass substrate group including a plurality of glass substrates and a glass substrate manufacturing method.

従来、複数のガラス基板を同時に効率良く処理する技術が開発されている。特許文献1では、複数のガラス基板を略直立姿勢で加熱炉内に配列収納することによって、複数のガラス基板に同時に成膜を行うことができる。また、 特許文献1では、ガラス基板間の間隔を変えることで反応性ガス量を変化させることができる。   Conventionally, a technique for efficiently processing a plurality of glass substrates simultaneously has been developed. In Patent Document 1, a plurality of glass substrates can be simultaneously formed on a plurality of glass substrates by arranging and storing them in a heating furnace in a substantially upright posture. Moreover, in patent document 1, the amount of reactive gas can be changed by changing the space | interval between glass substrates.

特開2012−244032号公報JP 2012-244032 A

加熱炉内において、各ガラス基板には、例えば、ガラス基板が僅かに傾いたことによる重力、ガラス基板内の温度分布による熱的応力、及びガラス基板上に成膜された膜内に発生する膜応力などの外力が作用する。その結果、各ガラス基板に撓みが発生する。つまり、ガラス基板の主面が外力を受けることにより、ガラス基板が弓形に変形する。その結果、加熱炉内では、各ガラス基板に撓みが発生した状態で各ガラス基板の各主面が反応性ガスに晒されながら各ガラス基板の熱処理が行われる。   In the heating furnace, each glass substrate includes, for example, gravity due to slight inclination of the glass substrate, thermal stress due to temperature distribution in the glass substrate, and a film generated in the film formed on the glass substrate. External force such as stress acts. As a result, bending occurs in each glass substrate. That is, when the main surface of the glass substrate receives an external force, the glass substrate is deformed into a bow shape. As a result, in the heating furnace, each glass substrate is subjected to heat treatment while the main surfaces of each glass substrate are exposed to the reactive gas in a state where each glass substrate is bent.

従って、前記各ガラス基板の熱処理の際、複数のガラス基板において撓みのばらつきが大きいと、隣り合うガラス基板の間隔がばらつき、ガラス基板間を流れる反応性ガスの量が不均一になる場合があった。その結果、複数のガラス基板間において、膜質が不均質になり、成膜後のガラス基板の品質がばらつくおそれがあった。また、個々のガラス基板の主面内においても、膜質が不均質になるおそれがあった。   Therefore, during the heat treatment of each glass substrate, if there is a large variation in deflection among a plurality of glass substrates, the spacing between adjacent glass substrates may vary, and the amount of reactive gas flowing between the glass substrates may become uneven. It was. As a result, the film quality becomes inhomogeneous between the plurality of glass substrates, and the quality of the glass substrate after film formation may vary. In addition, the film quality may be inhomogeneous within the main surface of each glass substrate.

以上のように、複数のガラス基板において撓みのばらつきが大きいと、複数のガラス基板間においても、個々のガラス基板内においても、均質な処理が困難になる。その結果、複数のガラス基板の撓みの大きなばらつきは、各ガラス基板を利用した最終生産物の品質低下を引き起こす。なお、最終生産物としては、ディスプレイデバイスや、その他の電気、電子デバイスが想定される。   As described above, if the variation in the deflection of the plurality of glass substrates is large, uniform processing becomes difficult even between the plurality of glass substrates and within each glass substrate. As a result, a large variation in the deflection of the plurality of glass substrates causes a reduction in quality of the final product using each glass substrate. In addition, as a final product, a display device and other electric and electronic devices are assumed.

本発明は上記課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、複数のガラス基板の撓みのばらつきを抑制することにより、複数のガラス基板に対して均質な処理を施すことを可能にするガラス基板群及びガラス基板製造方法を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to make it possible to perform uniform processing on a plurality of glass substrates by suppressing variations in the deflection of the plurality of glass substrates. It is providing the board | substrate group and the glass substrate manufacturing method.

本発明の第1の観点によるガラス基板群は、基準姿勢で配置された状態で処理が施される複数のガラス基板を含む。前記基準姿勢に基づいて傾かせた傾斜姿勢における前記複数のガラス基板の撓みのばらつきが、所定範囲内にある。   The glass substrate group according to the first aspect of the present invention includes a plurality of glass substrates that are processed in a state of being arranged in a reference posture. The variation in the bending of the plurality of glass substrates in the tilted posture tilted based on the reference posture is within a predetermined range.

このガラス基板群において、前記複数のガラス基板の撓みの前記ばらつきは、前記傾斜姿勢における前記複数のガラス基板の撓みの標準偏差を正規化して得た数値であることが好ましい。   In the glass substrate group, the variation in the deflection of the plurality of glass substrates is preferably a numerical value obtained by normalizing the standard deviation of the deflection of the plurality of glass substrates in the inclined posture.

このガラス基板群において、前記ガラス基板は矩形状であり、前記標準偏差は、式(1)及び式(2)により正規化されることが好ましい。   In this glass substrate group, the glass substrate is preferably rectangular, and the standard deviation is preferably normalized by equations (1) and (2).

Nσ=σ×K (1)
K=t/L (2)
Nσ = σ × K (1)
K = t 2 / L 4 (2)

Nσは、正規化された標準偏差である。σは、前記複数のガラス基板の撓みの大きさの前記標準偏差である。tは、前記ガラス基板の厚さである。Lは、前記ガラス基板の1辺の長さである。   Nσ is a normalized standard deviation. σ is the standard deviation of the amount of deflection of the plurality of glass substrates. t is the thickness of the glass substrate. L is the length of one side of the glass substrate.

このガラス基板群において、前記正規化された標準偏差Nσが0.2×10-12以下であることが好ましい。   In this glass substrate group, it is preferable that the normalized standard deviation Nσ is 0.2 × 10 −12 or less.

上記ガラス基板群において、前記傾斜姿勢は、前記ガラス基板の主面と鉛直線とが成す角度が0度より大きく10度以下となる姿勢であることが好ましい。   The said glass substrate group WHEREIN: It is preferable that the said inclination attitude | position is an attitude | position from which the angle which the main surface of the said glass substrate and a perpendicular line form becomes larger than 0 degree | times and below 10 degree | times.

上記ガラス基板群において、前記ガラス基板の前記主面は、互いに対向する第1主面及び第2主面を含むことが好ましい。前記第1主面が斜め上方向を向く姿勢での前記複数のガラス基板の撓みの前記ばらつきが前記所定範囲内であることが好ましい。前記複数のガラス基板は、前記ガラス基板の前記第1主面と当該ガラス基板の隣に配置される前記ガラス基板の前記第2主面とが対向するように、配置又は積層されることが好ましい。   In the glass substrate group, the main surface of the glass substrate preferably includes a first main surface and a second main surface facing each other. It is preferable that the variation of the deflection of the plurality of glass substrates in a posture in which the first main surface is directed obliquely upward is within the predetermined range. The plurality of glass substrates are preferably arranged or laminated such that the first main surface of the glass substrate and the second main surface of the glass substrate arranged next to the glass substrate are opposed to each other. .

上記ガラス基板群において、前記処理において前記ガラス基板に作用する外力の作用方向と前記第1主面とが対向するよう前記複数のガラス基板が配置又は積層されることが好ましい。   In the glass substrate group, it is preferable that the plurality of glass substrates be arranged or laminated so that an action direction of an external force acting on the glass substrate in the processing is opposed to the first main surface.

上記ガラス基板群において、前記ガラス基板の前記主面は、互いに対向する第1主面及び第2主面を含むことが好ましい。前記第1主面が斜め上方向を向く姿勢での前記複数のガラス基板の撓みの前記ばらつき、及び前記第2主面が斜め上方向を向く姿勢での前記複数のガラス基板の撓みの前記ばらつきの各々が、前記所定範囲内であることが好ましい。   In the glass substrate group, the main surface of the glass substrate preferably includes a first main surface and a second main surface facing each other. The variation of the bending of the plurality of glass substrates in a posture in which the first main surface faces obliquely upward, and the variation of the bending of the plurality of glass substrates in a posture in which the second main surface faces obliquely upward. Is preferably within the predetermined range.

上記ガラス基板群において、前記基準姿勢は、前記複数のガラス基板が鉛直面に略平行で互いに等間隔になるように配置された姿勢であることが好ましい。   In the glass substrate group, the reference posture is preferably a posture in which the plurality of glass substrates are arranged so as to be substantially parallel to the vertical plane and equidistant from each other.

本発明の第2の観点によるガラス基板製造方法は、ガラスリボンからガラス基板を製造する。ガラス基板製造方法は、フロートバスにて溶融ガラスを前記ガラスリボンに成形する工程と、前記フロートバスよりも下流側から徐冷炉内までの間で、前記ガラスリボンの両側面に垂直な方向に沿って前記ガラスリボンの中央部から前記両側面に向かって温度が高くなるように、前記ガラスリボンの温度を制御する制御工程とを含む。   The glass substrate manufacturing method by the 2nd viewpoint of this invention manufactures a glass substrate from a glass ribbon. The glass substrate manufacturing method includes a step of forming molten glass into the glass ribbon with a float bath and a direction perpendicular to both side surfaces of the glass ribbon between the downstream side of the float bath and the inside of the slow cooling furnace. And a control step of controlling the temperature of the glass ribbon so that the temperature increases from the central part of the glass ribbon toward the both side surfaces.

このガラス基板製造方法において、前記制御工程は、前記フロートバスの出口よりも下流側から前記徐冷炉内までの間で、前記ガラスリボンの前記中央部の平均温度が、前記ガラスリボンの前記中央部を挟む両端部のうち一方端部の平均温度及び他方端部の平均温度の各々より低くなるように、前記ガラスリボンの前記中央部、前記一方端部、及び前記他方端部の温度を制御する工程を含むことが好ましい。   In this glass substrate manufacturing method, the control step is performed from the downstream side of the float bath outlet to the inside of the slow cooling furnace, and the average temperature of the central portion of the glass ribbon is determined by the central portion of the glass ribbon. The process of controlling the temperature of the said center part of the said glass ribbon, the said one end part, and the said other end part so that it may become lower than each of the average temperature of one end part and the other end part among the both ends which pinch | interpose It is preferable to contain.

このガラス基板製造方法において、前記ガラスリボンの前記一方端部は、第1端部及び前記第1端部より前記中央部から離れた第2端部を含むことが好ましい。前記ガラスリボンの前記他方端部は、第3端部及び前記第3端部より前記中央部から離れた第4端部を含むことが好ましい。前記制御工程は、前記フロートバスの出口よりも下流側から前記徐冷炉内までの間で、前記第2端部の平均温度が、前記第1端部及び前記第2端部の平均温度より高くなるように、前記第1端部及び前記第2端部の温度を制御する工程と、前記フロートバスの出口よりも下流側から前記徐冷炉内までの間で、前記第4端部の平均温度が、前記第3端部及び前記第4端部の平均温度より高くなるように、前記第3端部及び前記第4端部の温度を制御する工程とを含むことが好ましい。   In this glass substrate manufacturing method, it is preferable that the one end portion of the glass ribbon includes a first end portion and a second end portion that is farther from the center portion than the first end portion. It is preferable that the other end portion of the glass ribbon includes a third end portion and a fourth end portion separated from the center portion by the third end portion. In the control step, the average temperature of the second end portion is higher than the average temperature of the first end portion and the second end portion between the downstream side of the float bath outlet and the inside of the slow cooling furnace. As described above, between the step of controlling the temperature of the first end and the second end, and between the downstream of the float bath and the inside of the slow cooling furnace, the average temperature of the fourth end is And a step of controlling the temperature of the third end and the fourth end so as to be higher than the average temperature of the third end and the fourth end.

本発明によれば、基準姿勢に近い傾斜姿勢における複数のガラス基板の撓みのばらつきを所定範囲内に抑制できる。従って、複数のガラス基板が基準姿勢で配置されて処理が施される際にも撓みが揃うため、隣り合うガラス基板の間隔のばらつきを抑制でき、基準姿勢で配置された複数のガラス基板を均質に処理することが可能になる。その結果、各ガラス基板を利用した最終生産物の品質低下を抑制できる。なお、基準姿勢は、複数のガラス基板に処理を施す際のガラス基板の姿勢である。傾斜姿勢は、ガラス基板を基準姿勢に基づいて傾かせた姿勢である。   According to the present invention, it is possible to suppress the variation in the bending of the plurality of glass substrates in the inclined posture close to the reference posture within a predetermined range. Therefore, even when a plurality of glass substrates are arranged in the reference posture and the process is performed, the deflection is uniform, so that the variation in the interval between the adjacent glass substrates can be suppressed, and the plurality of glass substrates arranged in the reference posture can be homogenized. Can be processed. As a result, quality degradation of the final product using each glass substrate can be suppressed. The reference posture is the posture of the glass substrate when processing is performed on a plurality of glass substrates. The tilted posture is a posture in which the glass substrate is tilted based on the reference posture.

本発明の実施形態1におけるガラス基板群を模式的に示す斜視図である。It is a perspective view which shows typically the glass substrate group in Embodiment 1 of this invention. (a)実施形態1におけるガラス基板の撓みを計測する撓み計測装置を模式的に示した斜視図である。(b)実施形態1における撓み計測装置を模式的に示した側面図である。(A) It is the perspective view which showed typically the bending measuring apparatus which measures the bending of the glass substrate in Embodiment 1. FIG. (B) It is the side view which showed typically the bending measuring apparatus in Embodiment 1. FIG. 本発明の実施形態2における撓み特性の評価方法を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the evaluation method of the bending characteristic in Embodiment 2 of this invention. (a)本発明の実施形態3におけるガラス基板群の製造装置の概略構成を示す縦断側面図である。(b)図4(a)のガラスリボン及びヒータ群を模式的に示す平面図である。(A) It is a vertical side view which shows schematic structure of the manufacturing apparatus of the glass substrate group in Embodiment 3 of this invention. (B) It is a top view which shows typically the glass ribbon and heater group of Fig.4 (a). (a)図4(b)のガラスリボンの幅方向に沿った温度分布を模式的に示す図である。(b)図4(b)のVb−Vb線による断面図である。(A) It is a figure which shows typically the temperature distribution along the width direction of the glass ribbon of FIG.4 (b). (B) It is sectional drawing by the Vb-Vb line | wire of FIG.4 (b). 実施形態3における製造装置によるガラス基板群の製造方法を示すフローチャートである。10 is a flowchart illustrating a method for manufacturing a glass substrate group by a manufacturing apparatus according to Embodiment 3. 本発明の実施例によるガラスリボンの幅方向に沿った温度制御の説明図である。It is explanatory drawing of the temperature control along the width direction of the glass ribbon by the Example of this invention. (a)本発明の実施例による製造方法により製造したガラス基板群の撓み特性を示す図である。(b)一般的な製造方法により製造したガラス基板群の撓み特性を示す図である。(A) It is a figure which shows the bending characteristic of the glass substrate group manufactured by the manufacturing method by the Example of this invention. (B) It is a figure which shows the bending characteristic of the glass substrate group manufactured with the general manufacturing method.

以下、本発明の実施形態について、図面を参照しながら説明する。なお、図中、同一または相当部分については同一の参照符号を付して説明を繰り返さない。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In the drawings, the same or corresponding parts are denoted by the same reference numerals and description thereof is not repeated.

(実施形態1)
[基本原理]
図1は、本発明の実施形態1におけるガラス基板群1を模式的に示す斜視図である。ガラス基板群1は複数のガラス基板3を含む。複数のガラス基板3には、基準姿勢で配置された状態で処理が施される。基準姿勢に基づいて傾かせた傾斜姿勢における複数のガラス基板3の撓みのばらつきが、所定範囲内にある。基準姿勢は、複数のガラス基板3に例えば成膜等の処理を施す際のガラス基板3の姿勢である。傾斜姿勢は、ガラス基板3を基準姿勢に基づいて傾かせた姿勢である。
(Embodiment 1)
[Basic principle]
FIG. 1 is a perspective view schematically showing a glass substrate group 1 in Embodiment 1 of the present invention. The glass substrate group 1 includes a plurality of glass substrates 3. The plurality of glass substrates 3 are processed in a state where they are arranged in a reference posture. The variation in the bending of the plurality of glass substrates 3 in the tilted posture tilted based on the reference posture is within a predetermined range. The reference posture is the posture of the glass substrate 3 when performing processing such as film formation on the plurality of glass substrates 3. The tilted posture is a posture in which the glass substrate 3 is tilted based on the reference posture.

本実施形態1では、基準姿勢に近い傾斜姿勢における複数のガラス基板3の撓みのばらつきを所定範囲内に抑制できる。従って、複数のガラス基板3が基準姿勢で配置されて処理が施される際にも撓みが揃うため、隣り合うガラス基板3の間隔のばらつきを抑制でき、基準姿勢で配置された複数のガラス基板3を均質に処理することが可能になる。その結果、各ガラス基板3を利用した最終生産物の品質低下を抑制できる。   In the first embodiment, it is possible to suppress the variation in the bending of the plurality of glass substrates 3 in the inclined posture close to the reference posture within a predetermined range. Therefore, even when the plurality of glass substrates 3 are arranged in the reference posture and the processing is performed, the deflection is uniform, so that the variation in the interval between the adjacent glass substrates 3 can be suppressed, and the plurality of glass substrates arranged in the reference posture. 3 can be processed homogeneously. As a result, quality degradation of the final product using each glass substrate 3 can be suppressed.

所定範囲は、例えば、ガラス基板3の使用態様(例えば、基準姿勢、基準姿勢で施される処理の内容)、用途(例えば、最終生産物の種類、仕様)、及び/又は仕様(例えば、特性、材質、サイズ)を考慮して実験的及び/又は経験的に設定される。   The predetermined range is, for example, the usage mode of the glass substrate 3 (for example, the standard posture, the content of processing performed in the standard posture), the application (for example, the type and specification of the final product), and / or the specification (for example, the characteristics). , Material, and size) are set experimentally and / or empirically.

以下、本実施形態1では、複数のガラス基板3の撓みのばらつきは、傾斜姿勢における複数のガラス基板3の撓みの標準偏差を正規化して得た数値で示される。標準偏差を正規化して得た数値を規定値以下にすることにより、複数のガラス基板3の撓みが揃い、複数のガラス基板3が基準姿勢で配置されて処理が施される際に、隣り合うガラス基板3の間隔のばらつきが抑制される。規定値は、例えば、所定範囲と同様に、ガラス基板3の使用態様、用途、及び/又は仕様を考慮して実験的及び/又は経験的に設定される。   Hereinafter, in the first embodiment, the variation in the bending of the plurality of glass substrates 3 is indicated by a numerical value obtained by normalizing the standard deviation of the bending of the plurality of glass substrates 3 in the inclined posture. By making the numerical value obtained by normalizing the standard deviation equal to or less than the specified value, the plurality of glass substrates 3 are aligned and are adjacent when the plurality of glass substrates 3 are arranged in the reference posture and processed. The dispersion | variation in the space | interval of the glass substrate 3 is suppressed. The specified value is set experimentally and / or empirically in consideration of the usage mode, application, and / or specifications of the glass substrate 3 as in the predetermined range, for example.

以下の説明では、特に明示しない限り、基準姿勢は、複数のガラス基板3が鉛直面に略平行で互いに等間隔になるように配置された姿勢である。なお、ガラス基板3は矩形状である。ガラス基板3は2つの長辺LS及び2つの短辺SSを有する。   In the following description, unless otherwise specified, the reference posture is a posture in which the plurality of glass substrates 3 are arranged so as to be substantially parallel to the vertical plane and equidistant from each other. The glass substrate 3 has a rectangular shape. The glass substrate 3 has two long sides LS and two short sides SS.

[撓みの計測]
図2(a)及び図2(b)は、それぞれ、撓み計測装置8を模式的に示した斜視図及び側面図である。撓み計測装置8は、ガラス基板3の撓みを計測する。ガラス基板3の長辺LSの長さ及び短辺SSの長さは、それぞれ、長さL及び長さWである。ガラス基板3の厚さは厚さtである。
[Measure deflection]
FIGS. 2A and 2B are a perspective view and a side view, respectively, schematically showing the deflection measuring device 8. The deflection measuring device 8 measures the deflection of the glass substrate 3. The length of the long side LS and the length of the short side SS of the glass substrate 3 are a length L and a length W, respectively. The thickness of the glass substrate 3 is the thickness t.

撓み計測装置8は、2つの支持部材5及びレーザ測位計7を備える。2つの支持部材5及びレーザ測位計7の位置関係は固定される。2つの支持部材5は、水平方向に沿って平行に配置される。支持部材5の水平方向に沿った長さは、ガラス基板3の短辺SSの長さWと同一又は短辺SSの長さWより若干長い。   The deflection measuring device 8 includes two support members 5 and a laser positioning meter 7. The positional relationship between the two support members 5 and the laser positioning meter 7 is fixed. The two support members 5 are arranged in parallel along the horizontal direction. The length of the support member 5 along the horizontal direction is the same as the length W of the short side SS of the glass substrate 3 or slightly longer than the length W of the short side SS.

ガラス基板3は、2つの短辺SSが2つの支持部材により支持され、傾斜姿勢になるように配置される。ガラス基板3の短辺SSは水平になる。図2(b)では、傾斜姿勢の一例として、ガラス基板3が鉛直線6に対して傾斜して起立した姿勢を挙げる。具体的には、傾斜姿勢は、側面視において、ガラス基板3の主面と鉛直線6とが所定角度θを形成するようにガラス基板3が傾斜した姿勢である。2つの支持部材5は、ガラス基板3に撓みがないとした場合において、ガラス基板3の主面と鉛直線6とが所定角度θを形成するようにガラス基板3を傾斜させて支持する。本実施形態1では、所定角度θを5度とする。主面は、ガラス基板3の表面又は裏面のことであり、端面と区別するための概念である。   The glass substrate 3 is arranged such that two short sides SS are supported by two support members and are in an inclined posture. The short side SS of the glass substrate 3 is horizontal. In FIG. 2B, as an example of the inclined posture, the posture in which the glass substrate 3 stands upright with respect to the vertical line 6 is given. Specifically, the tilted posture is a posture in which the glass substrate 3 is tilted so that the main surface of the glass substrate 3 and the vertical line 6 form a predetermined angle θ in a side view. When the glass substrate 3 is not bent, the two support members 5 support the glass substrate 3 in an inclined manner so that the main surface of the glass substrate 3 and the vertical line 6 form a predetermined angle θ. In the first embodiment, the predetermined angle θ is 5 degrees. The main surface is the front surface or the back surface of the glass substrate 3 and is a concept for distinguishing from the end surface.

ガラス基板3の第1姿勢及び第2姿勢について説明する。ガラス基板3の主面は、互いに対向する第1主面F1及び第2主面F2を含む。本実施形態1では、基準姿勢で処理が施される主面を第1主面F1とする。また、ガラス基板3が支持部材5に支持された状態で、第1主面F1及び第2主面F2のうち、斜め上方向を向く主面を指定面と定義し、斜め下方向を向く主面を非指定面と定義する。第1主面F1が指定面になる場合のガラス基板3の傾斜姿勢を第1姿勢と定義する。第2主面F2が指定面になる場合のガラス基板3の傾斜姿勢を第2姿勢と定義する。   The 1st attitude | position and 2nd attitude | position of the glass substrate 3 are demonstrated. The main surface of the glass substrate 3 includes a first main surface F1 and a second main surface F2 facing each other. In the first embodiment, the main surface that is processed in the reference posture is defined as a first main surface F1. In addition, in the state in which the glass substrate 3 is supported by the support member 5, the main surface that faces obliquely upward is defined as the designated surface among the first principal surface F <b> 1 and the second principal surface F <b> 2 and Define a face as a non-designated face. The inclined posture of the glass substrate 3 when the first main surface F1 is the designated surface is defined as the first posture. The inclination posture of the glass substrate 3 when the second main surface F2 is the designated surface is defined as the second posture.

以下、撓みの計測方法及び結果を説明する。第1姿勢において、ガラス基板3の各々に対して、レーザ測位計7による撓みの計測が行われる。その後、第2姿勢において、ガラス基板3の各々に対して、レーザ測位計7による撓みの計測が行われる。図2(b)の例では、第1主面F1が斜め上方向を向くので、第1主面F1が指定面であり、第2主面F2が非指定面である。従って、ガラス基板3の姿勢は第1姿勢である。   Hereinafter, the measurement method and result of bending will be described. In the first posture, the deflection of the glass substrate 3 is measured by the laser positioning meter 7. Thereafter, in the second posture, the deflection of the glass substrate 3 is measured by the laser positioning meter 7. In the example of FIG. 2B, since the first main surface F1 faces obliquely upward, the first main surface F1 is a designated surface and the second main surface F2 is a non-designated surface. Accordingly, the posture of the glass substrate 3 is the first posture.

レーザ測位計7は、ガラス基板3の面中央にレーザ光を照射して、面中央とレーザ測位計7との間の距離aを計測する。面中央は、非指定面において、長辺LSから垂直に長さW/2の位置であって、かつ、短辺SSから垂直に長さL/2の位置である。計測された距離aが、ガラス基板3の撓みの量である。撓みの量は、方向及び大きさで示される。また、外力が作用する方向に凹状になる撓み量を正で示し、外力が作用する方向に凸状になる撓みの量を負で示す。   The laser positioning meter 7 irradiates the center of the surface of the glass substrate 3 with laser light, and measures the distance a between the center of the surface and the laser positioning meter 7. The center of the surface is a position of length W / 2 perpendicular to the long side LS and a position of length L / 2 perpendicular to the short side SS on the non-designated surface. The measured distance a is the amount of bending of the glass substrate 3. The amount of deflection is indicated by direction and magnitude. Further, the amount of bending that becomes concave in the direction in which the external force acts is shown as positive, and the amount of bending that becomes convex in the direction in which the external force acts is shown as negative.

レーザ測位計7は、第1姿勢において、複数のガラス基板3の各々に対して距離a(撓みの量a)を計測する。そして、パーソナルコンピュータ(PC)(図示せず)は、複数のガラス基板3に対する複数の距離a(複数のガラス基板3の撓みの量a)の絶対値の標準偏差σを算出する。さらに、PCは、式(1)及び式(2)に基づいて、標準偏差σを正規化する。定数Kは、式(2)に基づいて、ガラス基板3の厚さt及び長辺LSの長さLから算出される。以下、正規化後の標準偏差σを、正規化標準偏差Nσと定義する。   The laser positioning meter 7 measures a distance a (amount of deflection a) for each of the plurality of glass substrates 3 in the first posture. Then, a personal computer (PC) (not shown) calculates a standard deviation σ of absolute values of a plurality of distances a (amounts of deflection a of the plurality of glass substrates 3) with respect to the plurality of glass substrates 3. Further, the PC normalizes the standard deviation σ based on the equations (1) and (2). The constant K is calculated from the thickness t of the glass substrate 3 and the length L of the long side LS based on the formula (2). Hereinafter, the normalized standard deviation σ is defined as a normalized standard deviation Nσ.

Nσ=σ×K (1)
K=t/L (2)
Nσ = σ × K (1)
K = t 2 / L 4 (2)

第1姿勢で計測された複数のガラス基板3の撓みの大きさ(距離aの絶対値)の正規化標準偏差Nσは、0.2×10−12(規定値)以下であることが好ましい。 It is preferable that the normalized standard deviation Nσ of the degree of bending (the absolute value of the distance a) of the plurality of glass substrates 3 measured in the first posture is 0.2 × 10 −12 (specified value) or less.

同様に、レーザ測位計7は、第2姿勢において、複数のガラス基板3の各々に対して距離aを計測する。そして、PCは、式(1)に基づいて、複数のガラス基板3に対する複数の距離aの絶対値の正規化標準偏差Nσを算出する。第2姿勢で計測された複数のガラス基板3の撓みの大きさの正規化標準偏差Nσも、0.2×10−12(規定値)以下であることが好ましい。以上、撓みの計測方法及び結果が説明された。 Similarly, the laser positioning meter 7 measures the distance a for each of the plurality of glass substrates 3 in the second posture. And PC calculates the normalization standard deviation N (sigma) of the absolute value of several distance a with respect to several glass substrate 3 based on Formula (1). It is also preferable that the normalized standard deviation Nσ of the magnitude of deflection of the plurality of glass substrates 3 measured in the second posture is 0.2 × 10 −12 (specified value) or less. In the above, the measurement method and result of a bending were demonstrated.

次に、撓みのばらつきについて説明する。撓みの方向のばらつきが大きい場合、撓みの大きさのばらつきが大きい場合、あるいは、撓みの方向及び大きさのばらつきが大きい場合は、正規化標準偏差Nσが0.2×10−12を超える。 Next, the variation in deflection will be described. When the variation in the direction of the deflection is large, when the variation in the size of the deflection is large, or when the variation in the direction and the size of the deflection is large, the normalized standard deviation Nσ exceeds 0.2 × 10 −12 .

これに対して、本実施形態1の複数のガラス基板3では、正規化標準偏差Nσが0.2×10−12以下であり、複数のガラス基板3の撓みの方向及び大きさのばらつきは小さい。従って、複数のガラス基板3が基準姿勢で配置されて処理が施される際、隣り合うガラス基板3の間隔のばらつきを小さくできる。その結果、複数のガラス基板3に対して均質な処理を施すことが可能になって、各ガラス基板3を利用した最終生産物の品質低下を抑制できる。 On the other hand, in the plurality of glass substrates 3 of the first embodiment, the normalized standard deviation Nσ is 0.2 × 10 −12 or less, and the variation in the direction and size of the plurality of glass substrates 3 is small. . Therefore, when the plurality of glass substrates 3 are arranged in the reference posture and processed, the variation in the interval between the adjacent glass substrates 3 can be reduced. As a result, it becomes possible to perform a uniform process with respect to the plurality of glass substrates 3, and it is possible to suppress deterioration in quality of the final product using each glass substrate 3.

さらに、第1姿勢及び第2姿勢の双方において、正規化標準偏差Nσが0.2×10−12以下である。従って、複数のガラス基板3に処理を施す際の不可避な外力の向きに依存することなく、ガラス基板3の間隔のばらつきを小さくできる。その結果、不可避な外力の向きに依存することなく、複数のガラス基板3に対して均質な処理を施すことが可能になる。ここで、不可避な外力について説明する。複数のガラス基板3は、処理装置(図示せず)内に基準姿勢で配置されて処理が施される。不可避な外力は、処理装置内で常時一定方向に発生し、個々の処理装置に固有の外力である。 Furthermore, in both the first posture and the second posture, the normalized standard deviation Nσ is 0.2 × 10 −12 or less. Therefore, the dispersion | variation in the space | interval of the glass substrate 3 can be made small, without depending on the direction of an unavoidable external force at the time of processing to the several glass substrate 3. FIG. As a result, it is possible to perform a uniform process on the plurality of glass substrates 3 without depending on the direction of the inevitable external force. Here, the inevitable external force will be described. Several glass substrate 3 is arrange | positioned with a reference | standard attitude | position in a processing apparatus (not shown), and a process is performed. The unavoidable external force is always generated in a certain direction in the processing apparatus, and is an external force unique to each processing apparatus.

このように、第1姿勢での複数のガラス基板3の撓みのばらつきが所定範囲内であり、かつ、第2姿勢での複数のガラス基板3の撓みのばらつきが所定範囲内である。ただし、第1姿勢での複数のガラス基板3の撓みのばらつきが所定範囲内、あるいは、第2姿勢での複数のガラス基板3の撓みのばらつきが所定範囲内のいずれか一方でもよい。   As described above, the variation in the bending of the plurality of glass substrates 3 in the first posture is within the predetermined range, and the variation in the bending of the plurality of glass substrates 3 in the second posture is within the predetermined range. However, the variation in the bending of the plurality of glass substrates 3 in the first posture may be either within a predetermined range, or the variation in the bending of the plurality of glass substrates 3 in the second posture may be in the predetermined range.

例えば、第1姿勢での複数のガラス基板3の撓みのばらつきが所定範囲内である場合、複数のガラス基板3は、ガラス基板3の第1主面F1と当該ガラス基板3の隣に配置されるガラス基板3の第2主面F2とが対向するように、配置又は積層され、梱包される。その結果、第1姿勢での複数のガラス基板3の撓みのばらつき(第1主面F1(一方の主面)のみを指定面として撓みを計測したときの撓みのばらつき)が所定範囲内であることを保証したガラス基板群1を出荷することが可能となる。撓みのばらつきを保証したガラス基板群1は、例えば、基準姿勢でガラス基板群1に処理を施す事業者へ出荷される。なお、第1姿勢及び第2姿勢の双方において、複数のガラス基板3の撓みのばらつきが所定範囲内である場合も同様にして、複数のガラス基板3を配置又は積層して、梱包することが好ましい。   For example, when the variation in the deflection of the plurality of glass substrates 3 in the first posture is within a predetermined range, the plurality of glass substrates 3 are arranged next to the first main surface F1 of the glass substrate 3 and the glass substrate 3. The glass substrate 3 is arranged or laminated so as to face the second main surface F2 of the glass substrate 3 and packed. As a result, the variation in the deflection of the plurality of glass substrates 3 in the first posture (the variation in the deflection when the deflection is measured using only the first main surface F1 (one main surface) as the designated surface) is within a predetermined range. It becomes possible to ship the glass substrate group 1 which guaranteed this. The glass substrate group 1 that guarantees the variation in bending is shipped to, for example, a business operator that performs processing on the glass substrate group 1 in a reference posture. In addition, in both the first posture and the second posture, the plurality of glass substrates 3 can be arranged or stacked in the same manner when the variation in deflection of the plurality of glass substrates 3 is within a predetermined range. preferable.

例えば、第1姿勢あるいは第2姿勢のいずれか一方において、正規化標準偏差Nσが0.2×10−12以下であってもよい。この場合は、予め、処理時の不可避な外力が特定の方向に発生することが分かっていることが好ましい。不可避な外力の方向に、正規化標準偏差Nσが0.2×10−12以下になる方の面を対応させてガラス基板3に処理を施す。例えば、第1姿勢での正規化標準偏差Nσが0.2×10−12以下の場合は、不可避な外力が第1主面F1側から第2主面F2側に向かうように、複数のガラス基板3を基準姿勢で配置する。つまり、処理においてガラス基板3に作用する外力の作用方向と第1主面F1とが対向するよう複数のガラス基板3が配置又は積層される。以上、撓みのばらつきについて説明した。 For example, the normalized standard deviation Nσ may be 0.2 × 10 −12 or less in either the first posture or the second posture. In this case, it is preferable to know in advance that an inevitable external force during processing is generated in a specific direction. The glass substrate 3 is processed in such a way that the surface of the normalized standard deviation Nσ corresponding to the inevitable external force is 0.2 × 10 −12 or less. For example, when the normalized standard deviation Nσ in the first posture is 0.2 × 10 −12 or less, a plurality of glasses are set such that an inevitable external force is directed from the first main surface F1 side to the second main surface F2 side. The substrate 3 is arranged in a standard posture. That is, the plurality of glass substrates 3 are arranged or stacked so that the direction of the external force acting on the glass substrate 3 in the process and the first main surface F1 face each other. The deflection variation has been described above.

図2(b)に示すように、ガラス基板3は、計測時において、傾斜姿勢になるように配置される。以下、ガラス基板3を傾斜姿勢で配置する理由を説明する。   As shown in FIG. 2 (b), the glass substrate 3 is arranged in an inclined posture at the time of measurement. Hereinafter, the reason why the glass substrate 3 is arranged in an inclined posture will be described.

まず、外力に対してのガラス基板の撓みについて説明する。外力は、例えば、重力、風力、熱応力(基板内一時歪)、及び膜応力などである。ガラス基板の主面に対して外力が加わると、ガラス基板は、外力の方向と反対方向に凸状に変形する。この変形が撓みである。外力に対してのガラス基板のトータルの撓み量Stは、第1撓みSP1と第2撓みSP2と第3撓みSP3との和である。   First, the bending of the glass substrate with respect to an external force will be described. The external force is, for example, gravity, wind force, thermal stress (in-substrate temporary strain), film stress, and the like. When an external force is applied to the main surface of the glass substrate, the glass substrate is deformed into a convex shape in a direction opposite to the direction of the external force. This deformation is bending. The total amount of deflection St of the glass substrate with respect to the external force is the sum of the first deflection SP1, the second deflection SP2, and the third deflection SP3.

第1撓みSP1は、ガラス基板自体の無重力及び無外力状態での真の反りである。第1撓みSP1は、重力下でも表面と裏面との撓み差の計測で疑似的に定量化できる。第1撓みSP1には符号が存在する。第2撓みSP2は、外力に対して、ガラス基板の材質で決まる物性値(ヤング率等)に応じた変形である。第2撓みSP2は、物理定数であり計算で求めることができる。ガラス基板の材質が、高いヤング率を有する場合、第2撓みSP2を小さくできる。第2撓みSP2には符号が存在する。第3撓みSP3はその他の撓みである。第3撓みSP3は、わずかな外力でも、外力の方向に大きく変形する撓みである。第3撓みSP3には符号が存在しない。   The first deflection SP1 is a true warp of the glass substrate itself in the state of zero gravity and no external force. The first deflection SP1 can be pseudo-quantified by measuring the deflection difference between the front surface and the back surface even under gravity. The first deflection SP1 has a sign. The second deflection SP2 is a deformation according to a physical property value (such as Young's modulus) determined by the material of the glass substrate with respect to an external force. The second deflection SP2 is a physical constant and can be calculated. When the material of the glass substrate has a high Young's modulus, the second deflection SP2 can be reduced. The second deflection SP2 has a sign. The third bend SP3 is another bend. The third bend SP3 is a bend that greatly deforms in the direction of the external force even with a slight external force. There is no sign for the third deflection SP3.

第1撓みSP1と第2撓みSP2とは互いに相殺できるが、第3撓みSP3は相殺できない。また、第2撓みSP2は定まった使用条件下では一定である。従って、第1撓みSP1及び第3撓みSP3のトータル撓み量Stに対する影響を観測するには、第2撓みSP2を可能な限り小さくして、トータル撓み量Stを計測する。そこで、傾斜姿勢となるようにガラス基板3を配置することで、重力による第2撓みSP2を可能な限り小さくし、第1撓みSP1及び第3撓みSP3を計測する。従って、レーザ測位計7が計測した撓みの量aは、主に第1撓みSP1及び第3撓みSP3を含む。   The first bend SP1 and the second bend SP2 can cancel each other, but the third bend SP3 cannot be canceled. Further, the second deflection SP2 is constant under the determined use conditions. Therefore, in order to observe the influence of the first deflection SP1 and the third deflection SP3 on the total deflection St, the second deflection SP2 is made as small as possible and the total deflection St is measured. Therefore, by arranging the glass substrate 3 in an inclined posture, the second deflection SP2 due to gravity is made as small as possible, and the first deflection SP1 and the third deflection SP3 are measured. Therefore, the amount of deflection a measured by the laser positioning meter 7 mainly includes the first deflection SP1 and the third deflection SP3.

第2撓みSP2を極力小さくして、主に第1撓みSP1及び第3撓みSP3を含む撓みを計測するためには、例えば、図2(b)の所定角度θを0度より大きく10度以下に設定する。所定角度θを5度に設定した場合は、より好適な計測環境を構築できる。以上、ガラス基板3を傾斜姿勢で配置した理由を説明した。   In order to measure the bending mainly including the first bending SP1 and the third bending SP3 by making the second bending SP2 as small as possible, for example, the predetermined angle θ in FIG. 2B is larger than 0 degree and not larger than 10 degrees. Set to. When the predetermined angle θ is set to 5 degrees, a more suitable measurement environment can be constructed. The reason why the glass substrate 3 is arranged in an inclined posture has been described above.

(実施形態2)
[撓み特性の評価]
上述した正規化標準偏差Nσは、複数のガラス基板の撓み特性の評価に適用できる。製造された複数のガラス基板は梱包体(図示せず)に収納される。梱包体ごとに、収納された複数のガラス基板の撓みを計測して正規化標準偏差Nσを算出する。そして、梱包体ごとに撓み特性を評価する。ある梱包体に収納された複数のガラス基板の正規化標準偏差Nσが0.2×10−12以下である場合、その梱包体のガラス基板は良好な撓み特性を有すると評価され、例えば出荷される。一方、ある梱包体に収納された複数のガラス基板の正規化標準偏差Nσが0.2×10−12を超える場合、その梱包体のガラス基板は良好な撓み特性を有さないと評価され、例えば廃棄される。
(Embodiment 2)
[Evaluation of deflection characteristics]
The above-mentioned normalized standard deviation Nσ can be applied to the evaluation of the bending characteristics of a plurality of glass substrates. The plurality of manufactured glass substrates are stored in a package (not shown). For each package, the normalized standard deviation Nσ is calculated by measuring the deflection of the plurality of glass substrates stored. And a bending characteristic is evaluated for every package. When the normalized standard deviation Nσ of a plurality of glass substrates housed in a certain package is 0.2 × 10 −12 or less, the glass substrate of the package is evaluated as having good deflection characteristics, for example, shipped. The On the other hand, when the normalized standard deviation Nσ of a plurality of glass substrates housed in a certain package exceeds 0.2 × 10 −12 , it is evaluated that the glass substrate of the package does not have good deflection characteristics, For example, it is discarded.

以下、図2及び図3を参照して、本発明の実施形態2における撓み特性の評価方法を説明する。図3は、本発明の実施形態2における撓み特性の評価方法を示すフローチャートである。工程S1(採取工程)にて、作業者は、梱包体に収納された複数のガラス基板から1枚のガラス基板(計測対象のガラス基板)を採取する。工程S3(配置工程)にて、作業者は、傾斜姿勢になるように、工程S3で採取したガラス基板を配置する。具体的には、採取したガラス基板は、支持部材5に第1姿勢で支持される。工程S5(計測工程)にて、レーザ測位計7は、工程S3で配置されたガラス基板の撓みを計測する。具体的には、レーザ測位計7は、距離a、つまり、支持部材5に支持されたガラス基板の撓みの量aを計測する。   Hereinafter, with reference to FIG.2 and FIG.3, the evaluation method of the bending characteristic in Embodiment 2 of this invention is demonstrated. FIG. 3 is a flowchart showing a method for evaluating a deflection characteristic according to the second embodiment of the present invention. In step S1 (collecting step), the operator collects one glass substrate (a glass substrate to be measured) from a plurality of glass substrates accommodated in the package. In step S3 (arrangement step), the worker arranges the glass substrate collected in step S3 so as to be in an inclined posture. Specifically, the collected glass substrate is supported by the support member 5 in the first posture. In step S5 (measurement step), the laser positioning meter 7 measures the deflection of the glass substrate placed in step S3. Specifically, the laser positioning meter 7 measures the distance a, that is, the amount of deflection a of the glass substrate supported by the support member 5.

工程S7にて、作業者は、n枚(nは2以上の整数)のガラス基板に対して工程S1〜工程S5が完了したか否かを判定する。完了したと判定された場合(工程S7で「Yes」)、工程は工程S9に進む。一方、完了していないと判定された場合(工程S7で「No」)、工程は工程S1に戻る。工程S7で「Yes」が判定されるまで、工程S1、工程S3、及び工程S5を繰り返す(繰返工程)。例えば、枚数nは、梱包体に収納された複数のガラス基板の全数である。例えば、枚数nは、梱包体に収納された複数のガラス基板から任意に抜き取った数である。ただし、任意に抜き取る場合であっても、抜き取るガラス基板の枚数nは予め定められる。   In step S7, the operator determines whether or not step S1 to step S5 have been completed for n (n is an integer of 2 or more) glass substrates. When it is determined that the process is completed (“Yes” in step S7), the process proceeds to step S9. On the other hand, when it is determined that the process has not been completed (“No” in step S7), the process returns to step S1. Step S1, step S3, and step S5 are repeated until “Yes” is determined in step S7 (repetition step). For example, the number n is the total number of the plurality of glass substrates stored in the package. For example, the number n is the number arbitrarily extracted from a plurality of glass substrates stored in the package. However, even when arbitrarily extracting, the number n of glass substrates to be extracted is predetermined.

工程S9にて、PCは、計測されたn枚のガラス基板の撓みのばらつきを算出する。具体的には、PCは、式(1)に基づいて、n枚のガラス基板の撓みの正規化標準偏差Nσを算出する。工程S11にて、PC又は作業者は、撓みのばらつきが所定範囲内か否かを判定する。具体的には、PC又は作業者は、正規化標準偏差Nσが0.2×10−12以内か否かを判定する。正規化標準偏差Nσが0.2×10−12以下である場合、梱包体のガラス基板は良好な撓み特性を有すると評価され、それ以外は、梱包体のガラス基板は良好な撓み特性を有さないと評価される。 In step S9, the PC calculates the variation in the measured deflection of the n glass substrates. Specifically, the PC calculates the normalized standard deviation Nσ of the deflection of the n glass substrates based on the formula (1). In step S11, the PC or the operator determines whether or not the variation in deflection is within a predetermined range. Specifically, the PC or the operator determines whether the normalized standard deviation Nσ is within 0.2 × 10 −12 . When the normalized standard deviation Nσ is 0.2 × 10 −12 or less, the glass substrate of the package is evaluated to have good deflection characteristics, and otherwise, the glass substrate of the package has good deflection characteristics. Not evaluated.

以上のように、工程S1〜工程S11は、第1姿勢の複数のガラス基板に対して実行される。そして、第1姿勢に対する工程S1〜工程S11の終了後に、工程S1〜工程S11は、第2姿勢の複数のガラス基板に対して実行される。第1姿勢に対する工程S1〜工程S11と第2姿勢に対する工程S1〜工程S11とで、梱包体は共通し、かつ、梱包体から採取されるn枚のガラス基板は同一である。   As described above, Steps S1 to S11 are performed on the plurality of glass substrates in the first posture. And after completion | finish of process S1-process S11 with respect to a 1st attitude | position, process S1-process S11 are performed with respect to the several glass substrate of a 2nd attitude | position. In the steps S1 to S11 for the first posture and the steps S1 to S11 for the second posture, the packaging body is common, and the n glass substrates collected from the packaging body are the same.

以上、図2及び図3を参照して説明した評価方法によれば、処理時において間隔のばらつきが抑制される複数のガラス基板3を顧客に出荷できる。その結果、各ガラス基板3に均質な処理を施すことが可能になり、各ガラス基板3を利用した最終生産物の品質低下を抑制できる。   As described above, according to the evaluation method described with reference to FIGS. 2 and 3, it is possible to ship a plurality of glass substrates 3 in which variation in interval is suppressed during processing to a customer. As a result, it becomes possible to perform a uniform process on each glass substrate 3, and the quality degradation of the final product using each glass substrate 3 can be suppressed.

(実施形態3)
[ガラス基板群製造装置及びガラス基板群製造方法]
図4(a)は、本発明の実施形態3におけるガラス基板群1の製造装置10の概略構成を示す縦断側面図である。図4(b)は、図4(a)のガラスリボン9及びヒータ群19(19a)を模式的に示す平面図である。以下、図4を参照して、製造装置10を説明する。
(Embodiment 3)
[Glass substrate group manufacturing apparatus and glass substrate group manufacturing method]
Fig.4 (a) is a vertical side view which shows schematic structure of the manufacturing apparatus 10 of the glass substrate group 1 in Embodiment 3 of this invention. FIG. 4B is a plan view schematically showing the glass ribbon 9 and the heater group 19 (19a) of FIG. Hereinafter, the manufacturing apparatus 10 will be described with reference to FIG.

製造装置10は、フロート法を用いてガラス基板群1を製造する。製造装置10は、フロートバス11、リフトアウト部15、及び徐冷炉(レア)21を備える。リフトアウト部15は、フロートバス11と徐冷炉21との間に設けられる。   The manufacturing apparatus 10 manufactures the glass substrate group 1 using a float method. The manufacturing apparatus 10 includes a float bath 11, a lift-out unit 15, and a slow cooling furnace (rare) 21. The lift-out unit 15 is provided between the float bath 11 and the slow cooling furnace 21.

フロートバス11には、溶融錫13が貯留される。フロートバス11の溶融錫13上には、フロートバス11よりも上流側から溶融ガラスが連続的に供給される。そして、溶融ガラスは、溶融錫13上でガラスリボン9(帯状ガラス)に成形される。ガラスリボン9は、リフトアウト部15を通過した後、リフトアウト部15よりも下流側に配置された徐冷炉21に連続的に搬送される。   Molten tin 13 is stored in the float bath 11. On the molten tin 13 of the float bath 11, molten glass is continuously supplied from the upstream side of the float bath 11. Then, the molten glass is formed into a glass ribbon 9 (band glass) on the molten tin 13. After passing through the lift-out part 15, the glass ribbon 9 is continuously conveyed to the slow cooling furnace 21 arranged on the downstream side of the lift-out part 15.

リフトアウト部15及び徐冷炉21には、搬送経路20を形成する複数のローラ17が配置される。従って、ガラスリボン9は、複数のローラ17によって連続的に搬送され徐々に冷却される。ガラスリボン9は、徐冷炉21の下流端(図示せず)から搬出された後、所定長さに切断される。その結果、ガラスリボン9からガラス基板3が得られる。   In the lift-out unit 15 and the slow cooling furnace 21, a plurality of rollers 17 that form the transport path 20 are arranged. Accordingly, the glass ribbon 9 is continuously conveyed by the plurality of rollers 17 and gradually cooled. The glass ribbon 9 is unloaded from the downstream end (not shown) of the slow cooling furnace 21 and then cut into a predetermined length. As a result, the glass substrate 3 is obtained from the glass ribbon 9.

複数のローラ17の下部には、ヒータ群19(加熱手段)が配置される。ヒータ群19は、複数のヒータ(図示せず)を含む。複数のヒータの各々は独立して制御可能である。ヒータ群19は、ガラスリボン9の幅方向(方向14)に沿った温度分布及び搬送方向12に沿った温度勾配を制御する。方向14とは、ガラスリボン9の両側面31に垂直な方向である。   A heater group 19 (heating means) is arranged below the plurality of rollers 17. The heater group 19 includes a plurality of heaters (not shown). Each of the plurality of heaters can be controlled independently. The heater group 19 controls the temperature distribution along the width direction (direction 14) of the glass ribbon 9 and the temperature gradient along the transport direction 12. The direction 14 is a direction perpendicular to both side surfaces 31 of the glass ribbon 9.

以下、図4を参照して、ガラス基板群1の製造方法を詳細に説明する。本実施形態3では、ヒータ群19が、区間Vにおいて、方向14に沿った温度分布を制御することにより、製造装置10によりガラス基板群1が製造される。区間Vは、フロートバス11の出口よりも下流側から徐冷炉21内の搬送経路20の途中までの区間である。   Hereinafter, with reference to FIG. 4, the manufacturing method of the glass substrate group 1 is demonstrated in detail. In the third embodiment, the heater group 19 controls the temperature distribution along the direction 14 in the section V, so that the glass substrate group 1 is manufactured by the manufacturing apparatus 10. The section V is a section from the downstream side of the outlet of the float bath 11 to the middle of the conveyance path 20 in the slow cooling furnace 21.

区間Vは、ガラスリボン9の粘度によって定義される。ガラスの粘度は、ガラスの温度に対応させることができる。従って、粘度による区間Vの定義は、温度による区間Vの定義に相当する。例えば、区間Vは、ガラスリボン9の粘度が1011.5dPa・s以上1014.5dPa・s以下に相当する区間である。区間Vの上流端はリフトアウト部15の上流端に一致する。区間Vの上流端でのガラスリボン9の温度は、粘度が1011.5dPa・sに相当する温度である。区間Vの下流端は徐冷炉21内の搬送経路20の途中に位置する。区間Vの下流端でのガラスリボン9の温度は、粘度が1014.5dPa・sに相当する温度である。 The section V is defined by the viscosity of the glass ribbon 9. The viscosity of the glass can correspond to the temperature of the glass. Therefore, the definition of the section V by viscosity corresponds to the definition of the section V by temperature. For example, the section V is a section in which the viscosity of the glass ribbon 9 corresponds to 10 11.5 dPa · s or more and 10 14.5 dPa · s or less. The upstream end of the section V coincides with the upstream end of the liftout portion 15. The temperature of the glass ribbon 9 at the upstream end of the section V is a temperature corresponding to a viscosity of 10 11.5 dPa · s. The downstream end of the section V is located in the middle of the conveyance path 20 in the slow cooling furnace 21. The temperature of the glass ribbon 9 at the downstream end of the section V is a temperature corresponding to a viscosity of 10 14.5 dPa · s.

ヒータ群19は、区間V内に配置されるヒータ群19aを含む。搬送経路20には、区間V内の搬送経路20aが含まれる。また、本明細書において、左右は、ガラスリボン9の搬送方向12に視線を向けた場合の左右である。   The heater group 19 includes a heater group 19a arranged in the section V. The transport path 20 includes a transport path 20a in the section V. In the present specification, the left and right are the left and right when the line of sight is directed in the conveyance direction 12 of the glass ribbon 9.

図4(b)に示すように、区間Vに位置するガラスリボン9は、中央部27(中央部)、右端部29R(一方端部)、及び左端部29L(他方端部)を含む。右端部29Rと左端部29Lとは中央部27を挟む。右端部29Rは、内側右端部25R(第1端部)及び外側右端部23R(第2端部)を含む。外側右端部23Rは、内側右端部25Rよりも中央部27から離れている。左端部29Lは、内側左端部25L(第3端部)及び外側左端部23L(第4端部)を含む。外側左端部23Lは、内側左端部25Lよりも中央部27から離れている。   As shown in FIG. 4B, the glass ribbon 9 positioned in the section V includes a center portion 27 (center portion), a right end portion 29R (one end portion), and a left end portion 29L (the other end portion). The right end portion 29R and the left end portion 29L sandwich the central portion 27. The right end 29R includes an inner right end 25R (first end) and an outer right end 23R (second end). The outer right end portion 23R is farther from the central portion 27 than the inner right end portion 25R. The left end 29L includes an inner left end 25L (third end) and an outer left end 23L (fourth end). The outer left end 23L is farther from the central portion 27 than the inner left end 25L.

ヒータ群19aは、方向14に沿って、ガラスリボンの中央部27から両側面31に向かって温度が高くなるように、ガラスリボン9の温度を制御する。以下、図4及び図5を参照して、方向14における温度制御を具体的に説明する。   The heater group 19 a controls the temperature of the glass ribbon 9 along the direction 14 so that the temperature increases from the central portion 27 of the glass ribbon toward both side surfaces 31. Hereinafter, the temperature control in the direction 14 will be specifically described with reference to FIGS. 4 and 5.

図5(a)は、図4(b)の方向14に沿った温度分布を模式的に示す図である。図5(b)は、図4(b)のVb−Vb線による断面図である。後述する温度制御を行うことによって、方向14に沿って、図5(a)に示す温度分布が実現される。以下、詳述する。   FIG. 5A is a diagram schematically showing a temperature distribution along the direction 14 in FIG. FIG. 5B is a cross-sectional view taken along the line Vb-Vb in FIG. By performing temperature control described later, the temperature distribution shown in FIG. 5A is realized along the direction 14. Details will be described below.

方向14に沿った位置P、位置PR1、位置PR2、位置P、位置P、位置PL1、及び位置PL2を定義する。位置Pは、右端部29Rの両端のうちガラスリボン9の中央位置Pから遠い端である。つまり、位置Pは、断面視において、右側の側面31と一致する。位置PR2は、右端部29Rの両端のうち中央位置Pに近い端である。位置PR1は、位置Pと位置PR2との間の位置である。位置Pは、左端部29Lの両端のうち中央位置Pから遠い端である。つまり、位置Pは、断面視において、左側の側面31と一致する。位置PL2は、左端部29Lの両端のうち中央位置Pに近い端である。位置PL1は、位置Pと位置PL2との間の位置である。 A position P R , a position P R1 , a position P R2 , a position P C , a position P L , a position P L1 , and a position P L2 along the direction 14 are defined. Position P R is distant end from the center position P C of the glass ribbon 10, of both ends of the right end 29R. That is, the position P R, in cross section, to match the right side 31. Position P R2 is an end closer to the center position P C of the both ends of the right end 29R. Position P R1 is a position between the position P R2 and the position P R. Position P L is the end furthest from the center position P C of the both ends of the left end 29L. That is, the position P L, in cross section, match the side face 31 of the left side. Position P L2 is an end closer to the center position P C of the both ends of the left end 29L. The position P L1 is a position between the position P L and the position P L2 .

方向14に沿った距離PR2、距離PL2、距離P、距離PR1、及び距離PL1を定義する。距離PR2は、位置Pと位置PR2との間の距離である。距離PL2は、位置Pと位置PL2との間の距離である。距離Pは、位置Pと位置Pとの間の距離である。距離PR1は、位置Pと位置PR1との間の距離である。距離PL1は、位置Pと位置PL1との間の距離である。 Define a distance P R P R2 , a distance P L P L2 , a distance P R P L , a distance P R P R1 , and a distance P L P L1 along the direction 14. Distance P R P R2 is the distance between the position P R and the position P R2. The distance P L P L2 is a distance between the position P L and the position P L2 . Distance P R P L is the distance between the position P L and the position P R. Distance P R P R1 is a distance between the position P R and the position P R1. The distance P L P L1 is a distance between the position P L and the position P L1 .

方向14に沿った温度T、温度TL1、温度TL2、温度T、温度TR1、及び温度TR2は、それぞれ、位置Pの温度、位置PL1の温度、位置PL2の温度、位置Pの温度、位置PR1の温度、及び位置PR2の温度である。例えば、ガラスリボン9の表面(ローラ17に対向している面の反対面)の位置P、位置PL1、位置PL2、位置P、位置PR1、及び位置PR2に対応して6つの熱電対(図示せず)を配置することにより、温度T、温度TL1、温度TL2、温度T、温度TR1、及び温度TR2が測定される。方向14に沿った6つの熱電対を1セットとすると、複数セットの熱電対が、区間Vにおいて、搬送方向12に沿って、一定間隔で配置される。その結果、ガラスリボン9の搬送方向12に沿った各位置で、方向14に沿った温度T、温度TL1、温度TL2、温度T、温度TR1、及び温度TR2を計測できる。 The temperature T L , the temperature T L1 , the temperature T L2 , the temperature T R , the temperature T R1 , and the temperature T R2 along the direction 14 are respectively the temperature at the position P L , the temperature at the position P L1 , and the temperature at the position P L2 . , the temperature of the position P R, the temperature of the position P R1, and the temperature of the position P R2. For example, 6 corresponding to the position P L , the position P L1 , the position P L2 , the position P R , the position P R1 , and the position PR 2 on the surface of the glass ribbon 9 (the surface opposite to the surface facing the roller 17). By arranging two thermocouples (not shown), temperature T L , temperature T L1 , temperature T L2 , temperature T R , temperature T R1 , and temperature T R2 are measured. When six thermocouples along the direction 14 are set as one set, a plurality of sets of thermocouples are arranged at regular intervals along the conveyance direction 12 in the section V. As a result, the temperature T L , the temperature T L1 , the temperature T L2 , the temperature T R , the temperature T R1 , and the temperature TR 2 along the direction 14 can be measured at each position along the conveyance direction 12 of the glass ribbon 9.

平均温度TR−R2は、方向14に沿った位置Pと位置PR2との間の平均温度であり、例えば、温度Tと温度TR2との平均値である。平均温度TR2−L2は、方向14に沿った位置PR2と位置PL2との間の平均温度であり、例えば、温度TR2と温度TL2との平均値である。平均温度TL−L2は、方向14に沿った位置Pと位置PL2との間の平均温度であり、例えば、温度Tと温度TL2との平均値である。平均温度TR−R1は、方向14に沿った位置Pと位置PR1との間の平均温度であり、例えば、温度Tと温度TR1との平均値である。平均温度TL−L1は、方向14に沿った位置Pと位置PL1との間の平均温度であり、例えば、温度Tと温度TL1との平均値である。 Average temperature T R-R2 is the average temperature between the position P R along the direction 14 and the position P R2, for example, an average value between the temperature T R and the temperature T R2. Average temperature T R2-L2 is the average temperature between the position P R2 along the direction 14 and the position P L2, for example, an average value between the temperature T R2 and the temperature T L2. The average temperature T L-L2 is an average temperature between the position P L and the position P L2 along the direction 14, and is, for example, an average value of the temperature T L and the temperature T L2 . Average temperature T R-R1 is the average temperature between the positions P R and the position P R1 along the direction 14, for example, an average value between the temperature T R and the temperature T R1. The average temperature T L-L1 is an average temperature between the position P L and the position P L1 along the direction 14, and is, for example, an average value of the temperature T L and the temperature T L1 .

ヒータ群19aは、区間Vにおいて、式(3)、式(4)、式(5)、及び式(6)を満たすように、方向14に沿った温度を制御する(「第1温度制御」と定義する。)。   In the section V, the heater group 19a controls the temperature along the direction 14 so as to satisfy the expressions (3), (4), (5), and (6) ("first temperature control"). Defined.)

0.7≦PR2/PL2≦1.3 (3)
(PL2+PR2)/P>0.2 (4)
R−R2>TR2−L2 (5)
L−L2>TR2−L2 (6)
0.7 ≦ P R PR 2 / P L P L2 ≦ 1.3 (3)
(P L P L2 + P R P R2 ) / P R P L > 0.2 (4)
T R-R2 > T R2-L2 (5)
T L-L2 > T R2-L2 (6)

ガラス基板群1の製造工程において、方向14に沿って第1温度制御を行うことによって、撓みの正規化標準偏差Nσが小さいガラス基板群1を製造することができる。つまり、正規化標準偏差Nσが0.2×10−12以下のガラス基板群1を製造することができる。 In the manufacturing process of the glass substrate group 1, by performing the first temperature control along the direction 14, the glass substrate group 1 having a small normalized standard deviation Nσ of deflection can be manufactured. That is, the glass substrate group 1 having a normalized standard deviation Nσ of 0.2 × 10 −12 or less can be manufactured.

より好ましくは、ヒータ群19aは、式(4)に代えて式(7)を満たすように、方向14に沿った温度を制御する。つまり、ヒータ群19aは、区間Vにおいて、式(3)、式(5)、式(6)、及び式(7)を満たすように、方向14に沿った温度を制御する(「第2温度制御」と定義する。)。   More preferably, the heater group 19a controls the temperature along the direction 14 so as to satisfy Expression (7) instead of Expression (4). That is, in the section V, the heater group 19a controls the temperature along the direction 14 so as to satisfy the expressions (3), (5), (6), and (7) (“second temperature”). Defined as "control").

(PL2+PR2)/P>0.4 (7) (P L P L2 + P R P R2 ) / P R P L > 0.4 (7)

ガラス基板群1の製造工程において、方向14に沿って第2温度制御を行うことによって、第1温度制御を行う場合と比較して、撓みの正規化標準偏差Nσがより小さいガラス基板群1を製造することができる。   In the manufacturing process of the glass substrate group 1, by performing the second temperature control along the direction 14, the glass substrate group 1 having a smaller normalized standard deviation Nσ of the deflection is compared with the case where the first temperature control is performed. Can be manufactured.

さらに、第1温度制御に加えて、あるいは、第2温度制御に加えて、ヒータ群19aは、式(8)、式(9)、及び式(10)を満たすように、方向14に沿った温度を制御する(「第3温度制御」と定義する。)。   Further, in addition to the first temperature control or in addition to the second temperature control, the heater group 19a extends along the direction 14 so as to satisfy the expressions (8), (9), and (10). The temperature is controlled (defined as “third temperature control”).

0.7≦PR1/PL1≦1.3 (8)
R−R1>TR−R2 (9)
L−L1>TL−L2 (10)
0.7 ≦ P R PR 1 / P L P L1 ≦ 1.3 (8)
T R-R1 > T R-R2 (9)
T L-L1 > T L-L2 (10)

ガラス基板群1の製造工程において、方向14に沿って第1温度制御及び第3温度制御を行うことによって、あるいは、方向14に沿って第2温度制御及び第3温度制御を行うことによって、第1温度制御のみを行う場合及び第2温度制御をのみを行う場合と比較して、撓みの正規化標準偏差Nσがより一層小さいガラス基板群1を製造することができる。第1温度制御及び第3温度制御あるいは第2温度制御及び第3温度制御を行うことによって、方向14に沿って、図5(a)に示す温度分布が実現される。   In the manufacturing process of the glass substrate group 1, by performing the first temperature control and the third temperature control along the direction 14, or by performing the second temperature control and the third temperature control along the direction 14, Compared with the case where only the first temperature control is performed and the case where only the second temperature control is performed, the glass substrate group 1 having a smaller normalized standard deviation Nσ of the deflection can be manufactured. By performing the first temperature control and the third temperature control or the second temperature control and the third temperature control, the temperature distribution shown in FIG.

以上のように、図4(b)に示す区間Vにおいて、ヒータ群19aは、方向14に沿って第1温度制御及び第3温度制御あるいは第2温度制御及び第3温度制御を行う。また、同時に、ヒータ群19aは、搬送経路20の全域にわたって、上流側から下流側に向けて徐々に温度が下がるように、搬送方向12に沿ってガラスリボン9の温度勾配を制御する。従って、ガラスリボン9において、方向14に沿った位置が同じであっても、搬送方向12に沿った位置が異なる場合は、搬送方向12に沿った温度勾配に応じて温度も異なる。ただし、区間Vにおいては、搬送方向12に沿ったどの位置であっても、方向14に沿って第1温度制御及び第3温度制御あるいは第2温度制御及び第3温度制御が行われる。その結果、搬送方向12に沿ったどの位置であっても、方向14の温度分布は、式(3)〜式(6)及び式(8)〜式(10)あるいは、式(3)及び式(5)〜式(10)によって規定される温度分布になる(図5(a)参照)。   As described above, in the section V shown in FIG. 4B, the heater group 19 a performs the first temperature control and the third temperature control or the second temperature control and the third temperature control along the direction 14. At the same time, the heater group 19 a controls the temperature gradient of the glass ribbon 9 along the transport direction 12 so that the temperature gradually decreases from the upstream side toward the downstream side over the entire transport path 20. Therefore, in the glass ribbon 9, even if the position along the direction 14 is the same, if the position along the transport direction 12 is different, the temperature varies depending on the temperature gradient along the transport direction 12. However, in the section V, the first temperature control and the third temperature control or the second temperature control and the third temperature control are performed along the direction 14 at any position along the transport direction 12. As a result, the temperature distribution in the direction 14 at any position along the transport direction 12 is expressed by the equations (3) to (6) and (8) to (10), or (3) and (3). The temperature distribution is defined by (5) to (10) (see FIG. 5A).

次に、図4〜図6を参照して、第2温度制御及び第3温度制御を用いたガラス基板群1の製造方法を説明する。図6は、実施形態3における製造装置10によるガラス基板群1の製造方法を示すフローチャートである。フロートバス11で成形されたガラスリボン9を徐冷炉21にて徐冷し、ガラスリボン9からガラス基板群1を製造する。   Next, with reference to FIGS. 4-6, the manufacturing method of the glass substrate group 1 using 2nd temperature control and 3rd temperature control is demonstrated. FIG. 6 is a flowchart illustrating a method for manufacturing the glass substrate group 1 by the manufacturing apparatus 10 according to the third embodiment. The glass ribbon 9 formed by the float bath 11 is gradually cooled in the slow cooling furnace 21, and the glass substrate group 1 is manufactured from the glass ribbon 9.

工程S21にて、フロートバス11で溶融ガラスをガラスリボン9に成形する。工程S23にて、ヒータ群19aは、区間Vにおいて、方向14に沿ってガラスリボン9の中央部27から両側面31に向かって温度が高くなるように、ガラスリボン9の温度を制御する。   In step S <b> 21, the molten glass is formed into the glass ribbon 9 with the float bath 11. In step S <b> 23, the heater group 19 a controls the temperature of the glass ribbon 9 in the section V so that the temperature increases from the central portion 27 of the glass ribbon 9 toward the both side surfaces 31 along the direction 14.

工程S23は、工程S231、工程S233、及び工程S235を含む。工程S231にて、ヒータ群19aは、区間Vにおいて、ガラスリボン9の中央部27の平均温度TR2−L2が、右端部29R(一方端部)の平均温度TR−R2及び左端部29L(他方端部)の平均温度TL−L2の各々より低くなるように、ガラスリボンの中央部27、右端部29R、及び左端部29Lの温度を制御する。具体的には、工程S231にて、ヒータ群19aは、式(3)、式(5)、式(6)、及び式(7)を満たすように、方向14に沿った温度を制御する。 Step S23 includes step S231, step S233, and step S235. At step S231, the heater group 19a, in section V, the average temperature T R2-L2 of the central portion 27 of the glass ribbon 9, the average temperature T R-R2 and the left end 29L of the right end portion 29R (one end portion) ( The temperatures of the central portion 27, the right end portion 29R, and the left end portion 29L of the glass ribbon are controlled so as to be lower than each of the average temperatures TL-L2 of the other end portion. Specifically, in step S231, the heater group 19a controls the temperature along the direction 14 so as to satisfy the expressions (3), (5), (6), and (7).

工程S233にて、ヒータ群19aは、区間Vにおいて、外側右端部23Rの平均温度TR−R1が、外側右端部23Rと内側右端部25Rとの平均温度TR−R2より高くなるように、外側右端部23R及び内側右端部25Rの温度を制御する。具体的には、ヒータ群19aは、式(8)及び式(9)を満たすように、方向14に沿った温度を制御する。 In step S233, the heater group 19a is configured such that in the section V, the average temperature TR -R1 of the outer right end 23R is higher than the average temperature TR -R2 of the outer right end 23R and the inner right end 25R. The temperatures of the outer right end 23R and the inner right end 25R are controlled. Specifically, the heater group 19a controls the temperature along the direction 14 so as to satisfy the expressions (8) and (9).

工程S235にて、ヒータ群19aは、区間Vにおいて、外側左端部23Lの平均温度TL−L1が、外側左端部23Lと内側左端部25Lとの平均温度TL−L2より高くなるように、外側左端部23L及び内側左端部25Lの温度を制御する。具体的には、ヒータ群19aは、式(8)及び式(10)を満たすように、方向14に沿った温度を制御する。 In step S235, the heater group 19a is configured such that, in the section V, the average temperature T L-L1 of the outer left end 23L is higher than the average temperature T L-L2 of the outer left end 23L and the inner left end 25L. The temperatures of the outer left end 23L and the inner left end 25L are controlled. Specifically, the heater group 19a controls the temperature along the direction 14 so as to satisfy the expressions (8) and (10).

ここで、実際には、工程S21、工程S231、工程S233、及び工程S235は、同時に実行され、各工程の制御は、ガラス基板群1の製造が完了するまで継続される。   Here, in practice, step S21, step S231, step S233, and step S235 are executed simultaneously, and control of each step is continued until the manufacture of the glass substrate group 1 is completed.

また、第1温度制御及び第3温度制御を行って、図1のガラス基板群1を製造する場合の制御の流れは、図6のフローチャートが示す制御の流れと同様である。ただし、工程S231では、ヒータ群19aは、式(3)〜式(6)を満たすように、方向14に沿って温度を制御する。   Moreover, the flow of control when manufacturing the glass substrate group 1 of FIG. 1 by performing the first temperature control and the third temperature control is the same as the control flow shown in the flowchart of FIG. However, in step S231, the heater group 19a controls the temperature along the direction 14 so as to satisfy the expressions (3) to (6).

以上、図6に示した製造方法によれば、方向14に沿ってガラスリボン9の中央部27から両側面31に向かって温度が高くなるように、ガラスリボン9の温度を制御するので、撓みのばらつきが抑制された複数のガラス基板3を製造できる。   As described above, according to the manufacturing method shown in FIG. 6, the temperature of the glass ribbon 9 is controlled so that the temperature increases from the central portion 27 of the glass ribbon 9 toward the both side surfaces 31 along the direction 14. A plurality of glass substrates 3 in which the variation of the above is suppressed can be manufactured.

次に、本発明が実施例に基づき具体的に説明されるが、本発明は以下の実施例によって限定されない。   Next, the present invention will be specifically described based on examples, but the present invention is not limited to the following examples.

本実施例では、正規化標準偏差Nσが0.2×10−12以下になる複数のガラス基板3を製造するための条件を説明する。 In this embodiment, for explaining the conditions for producing a plurality of glass substrates 3 which normalized standard deviation Nσ is under 0.2 × 10 -12 or less.

本実施例では、基準姿勢は、複数のガラス基板3が鉛直面に略平行で互いに等間隔になるように配置された状態で、複数のガラス基板3に膜を形成する処理を行う際のガラス基板3の姿勢である。   In the present embodiment, the reference posture is the glass used when performing the process of forming a film on the plurality of glass substrates 3 in a state where the plurality of glass substrates 3 are arranged substantially parallel to the vertical plane and equidistant from each other. This is the posture of the substrate 3.

次に、図4、図5、及び図7を参照して、正規化標準偏差Nσが0.2×10−12以下になる複数のガラス基板3を製造するための温度制御の一例を説明する。温度制御は、図5を参照して説明した第2温度制御及び第3温度制御(式(3)、及び式(5)〜式(10)の全てを満たす温度制御)である。 Next, an example of temperature control for manufacturing a plurality of glass substrates 3 having a normalized standard deviation Nσ of 0.2 × 10 −12 or less will be described with reference to FIG. 4, FIG. 5, and FIG. . The temperature control is the second temperature control and the third temperature control described with reference to FIG. 5 (temperature control satisfying all of Expression (3) and Expressions (5) to (10)).

図7は、本発明の実施例による方向14に沿った温度制御の説明図である。区間V内のある位置における方向14に沿った平均温度が示される。本実施例による製造方法では、上述した式(5)、式(6)、式(9)、及び式(10)の全てを満たす温度制御が実行される。右端部29Rの平均温度TR−R2は696℃であり、中央部27の平均温度TR2−L2は695℃である。従って、式(5)を満たす。左端部29Lの平均温度TL−L2は698℃であり、中央部27の平均温度TR2−L2は695℃である。従って、式(6)を満たす。また、外側右端部23Rの平均温度TR−R1は697℃である。従って、式(9)を満たす。外側左端部23Lの平均温度TL−L1は700℃である。従って、式(10)を満たす。 FIG. 7 is an explanatory diagram of the temperature control along the direction 14 according to the embodiment of the present invention. The average temperature is shown along direction 14 at a position within interval V. In the manufacturing method according to the present embodiment, temperature control that satisfies all of the above-described equations (5), (6), (9), and (10) is executed. The average temperature T R-R2 of the right end portion 29R is 696 ° C., and the average temperature T R2-L2 of the central portion 27 is 695 ° C. Therefore, Formula (5) is satisfy | filled. The average temperature T L-L2 of the left end portion 29L is 698 ° C., and the average temperature T R2-L2 of the central portion 27 is 695 ° C. Therefore, Formula (6) is satisfy | filled. Moreover, the average temperature TR -R1 of the outer right end 23R is 697 ° C. Therefore, Expression (9) is satisfied. The average temperature T L-L1 of the outer left end 23L is 700 ° C. Therefore, Formula (10) is satisfy | filled.

一方、一般的な製造方法による温度制御は、式(5)、式(6)、式(9)、及び式(10)の全てを満たさない。   On the other hand, temperature control by a general manufacturing method does not satisfy all of the formulas (5), (6), (9), and (10).

次に、図8を参照して、第2温度制御及び第3温度制御により製造された複数のガラス基板3の撓みの計測値及び正規化標準偏差Nσについて説明する。   Next, with reference to FIG. 8, the measured value and the normalized standard deviation Nσ of the deflection of the plurality of glass substrates 3 manufactured by the second temperature control and the third temperature control will be described.

図8(a)は、本発明の実施例による製造方法により製造された複数のガラス基板3の撓み特性を示す。梱包Aには、複数のガラス基板3(n(=20)枚のガラス基板A−1〜A−20)が収納される。図8(a)には、第1姿勢及び第2姿勢のガラス基板A−1〜A−20の撓みの量a(距離a)の絶対値が記載される。第1姿勢及び第2姿勢に対する撓みの正規化標準偏差Nσは、それぞれ、0.10×10−12、0.08×10−12であり、規定値0.2×10−12以下である。 Fig.8 (a) shows the bending characteristic of the several glass substrate 3 manufactured by the manufacturing method by the Example of this invention. In the package A, a plurality of glass substrates 3 (n (= 20) glass substrates A-1 to A-20) are stored. FIG. 8A shows the absolute value of the deflection amount a (distance a) of the glass substrates A-1 to A-20 in the first posture and the second posture. The normalized standard deviations Nσ of the deflection with respect to the first posture and the second posture are 0.10 × 10 −12 and 0.08 × 10 −12 , respectively, and are equal to or less than the specified value 0.2 × 10 −12 .

一方、図8(b)に示すように、梱包Bには、一般的な製造方法により製造されたn(=15)枚のガラス基板B−1〜ガラス基板B−15が収納される。図8(b)には、第1姿勢及び第2姿勢のガラス基板B−1〜B−15の撓みの量aの絶対値が記載される。第1姿勢及び第2姿勢に対する撓みの正規化標準偏差Nσは、それぞれ、0.39×10−12、0.37×10−12であり、規定値0.2×10−12を超えている。 On the other hand, as shown in FIG. 8B, the packaging B contains n (= 15) glass substrates B-1 to B-15 manufactured by a general manufacturing method. FIG. 8B shows the absolute value of the amount of deflection a of the glass substrates B-1 to B-15 in the first posture and the second posture. The normalized standard deviations Nσ of the deflection with respect to the first posture and the second posture are 0.39 × 10 −12 and 0.37 × 10 −12 , respectively, which exceed the specified value 0.2 × 10 −12 . .

本実施例では、各ガラス基板A−1〜A−20の短辺SSの長さWは900mmであり、長辺LSの長さLは1200mmであり、厚さtは1.8mmである。各ガラス基板B1〜B−15のサイズは、各ガラス基板A−1〜A−20のサイズと同じである。従って、ガラス基板A−1〜A−20及びガラス基板B1〜B−15において、式(1)に含まれる式(2)の定数Kは、1.56×10−12である。 In this example, the length W of the short side SS of each glass substrate A-1 to A-20 is 900 mm, the length L of the long side LS is 1200 mm, and the thickness t is 1.8 mm. The size of each glass substrate B1-B-15 is the same as the size of each glass substrate A-1 to A-20. Therefore, in the glass substrates A-1 to A-20 and the glass substrates B1 to B-15, the constant K of the formula (2) included in the formula (1) is 1.56 × 10 −12 .

なお、ガラス基板A−1〜A−20は、成膜処理時(熱処理時)において、加熱炉内で、短辺SSが水平になるように、鉛直面に略平行で互いに等間隔に配置される。従って、撓みの計測時においても、各ガラス基板A−1〜A−20の短辺SSが水平になるように支持される。   The glass substrates A-1 to A-20 are arranged substantially parallel to the vertical plane and equidistant from each other so that the short side SS is horizontal in the heating furnace during the film formation process (during heat treatment). The Therefore, even when measuring the deflection, the short sides SS of the glass substrates A-1 to A-20 are supported so as to be horizontal.

以上、図8を参照して説明したように、本実施例における製造方法で製造した梱包Aのガラス基板A−1〜A−20については、撓みの正規化標準偏差Nσが規定値0.2×10−12以下であるため、撓みの方向及び大きさのばらつきが小さい。それ故、ガラス基板A−1〜A−20に成膜処理(熱処理)が施される際、各ガラス基板A−1〜A−20に様々な不可避な外力が加わった場合でも、鉛直面に略平行に互いに等間隔で配置されるガラス基板A−1〜A−20の撓みの方向及び大きさが一定の範囲に保たれる。 As described above with reference to FIG. 8, for the glass substrates A-1 to A-20 of the package A manufactured by the manufacturing method in the present example, the normalized standard deviation Nσ of the deflection is a specified value of 0.2. Since it is × 10 −12 or less, variation in the direction and size of bending is small. Therefore, even when various inevitable external forces are applied to the glass substrates A-1 to A-20 when the glass substrates A-1 to A-20 are subjected to film formation (heat treatment), The direction and the magnitude of the bending of the glass substrates A-1 to A-20, which are arranged substantially equidistantly in parallel with each other, are kept within a certain range.

従って、成膜処理時(熱処理時)において、隣り合うガラス基板A−1〜A−20の間隔のばらつきを小さくできる。その結果、成膜処理工程において、反応性ガスによる膜の改質がどのガラス基板A−1〜A−20のどの位置でも設計範囲内になるため、所望の設計仕様を満たす成膜ガラス基板を製造できる。様々な不可避な外力とは、例えば、ガラス基板が僅かに傾いたことによる重力、ガラス基板内の温度分布による熱的応力、及びガラス基板上に成膜された膜内に発生する膜応力などである。   Therefore, during the film forming process (at the time of heat treatment), the variation in the distance between the adjacent glass substrates A-1 to A-20 can be reduced. As a result, in the film forming process, the film modification by the reactive gas is within the design range at any position of any glass substrate A-1 to A-20. Can be manufactured. Various inevitable external forces include, for example, gravity due to slight inclination of the glass substrate, thermal stress due to temperature distribution in the glass substrate, and film stress generated in the film formed on the glass substrate. is there.

一方、一般的な製造方法で製造された梱包Bのガラス基板B−1〜B−15については、撓みの正規化標準偏差Nσが規定値0.2×10−12を超えるため、所望の設計仕様を満たす成膜ガラス基板の製造が困難となる。 On the other hand, for the glass substrates B-1 to B-15 of the packaging B manufactured by a general manufacturing method, the normalized standard deviation Nσ of the deflection exceeds the specified value 0.2 × 10 −12 , so that the desired design It becomes difficult to manufacture a film-forming glass substrate that satisfies the specifications.

また、本実施例におけるガラス基板A−1〜A−20については、第1姿勢及び第2姿勢の双方において、撓みの正規化標準偏差Nσが0.2×10−12以下である。従って、ガラス基板A−1〜A−20に成膜処理を施す際の不可避な外力の向きに依存することなく、ガラス基板A−1〜A−20の間隔のばらつきを小さくできる。その結果、高品質な成膜ガラス基板を製造できる。この場合の不可避な外力は、個々の加熱炉に固有の外力であり、加熱炉内で常時一定方向に発生する傾向にあり、成膜処理工程中の加熱炉内の温度むらの性状等によって生じる。 Further, the glass substrate A-1 to A-20 in the present embodiment, in both the first orientation and the second orientation, the normalized standard deviation Nσ deflection is 0.2 × 10 -12 or less. Therefore, variations in the distance between the glass substrates A-1 to A-20 can be reduced without depending on the direction of the inevitable external force when the film forming process is performed on the glass substrates A-1 to A-20. As a result, a high-quality film-formed glass substrate can be manufactured. The inevitable external force in this case is an external force unique to each heating furnace, and tends to always occur in a certain direction in the heating furnace, and is caused by the property of temperature unevenness in the heating furnace during the film forming process. .

なお、本実施例では、各ガラス基板A−1〜A−20の第1主面F1を使用面(成膜面)とした。使用面は、成膜処理時(気相反応熱処理時)に改質を受ける膜が形成されるガラス基板の主面である。フロート成形のトップ面とボトム面とでは欠陥の生成頻度がトップ面の方が少ないため、通常、トップ面を使用面に設定することが多い。ただし、トップ面及びボトム面のいずれを使用面に設定するかは任意である。トップ面は、フロートバス11において溶融錫13に接触していなかった主面であり、ボトム面は、溶融錫13に接触していた主面である(図4(a)参照)。   In the present example, the first main surface F1 of each glass substrate A-1 to A-20 was used as a use surface (film formation surface). The use surface is the main surface of the glass substrate on which a film subjected to modification is formed during film formation (gas phase reaction heat treatment). Usually, the top surface is often set as the use surface because the top surface and the bottom surface of the float forming have fewer defects in the top surface. However, which of the top surface and the bottom surface is set as the use surface is arbitrary. The top surface is a main surface that is not in contact with the molten tin 13 in the float bath 11, and the bottom surface is a main surface that is in contact with the molten tin 13 (see FIG. 4A).

本実施例では、第1姿勢及び第2姿勢の双方において、撓みの正規化標準偏差Nσが0.2×10−12以下であった。ただし、第1姿勢あるいは第2姿勢のいずれか一方において、正規化標準偏差Nσが0.2×10−12以下であってもよい。この場合は、予め、成膜処理時(熱処理時)の不可避な外力が特定の方向に発生することが分かっている場合が好ましい。不可避な外力の方向に、正規化標準偏差Nσが0.2×10−12以下になる方の面を対応させてガラス基板A−1〜A−20に成膜処理を施す。例えば、第1姿勢での正規化標準偏差Nσが0.2×10−12以下の場合は、不可避な外力(個々の加熱炉に固有の外力)が、第1主面F1側(使用面側)から第2主面F2側(非使用面側)に向かうように、複数のガラス基板A−1〜A−20を配置する。 In this example, the normalized standard deviation Nσ of deflection was 0.2 × 10 −12 or less in both the first posture and the second posture. However, the normalized standard deviation Nσ may be 0.2 × 10 −12 or less in either the first posture or the second posture. In this case, it is preferable that it is known in advance that an inevitable external force during film formation (heat treatment) is generated in a specific direction. The glass substrate A-1 to A-20 is subjected to a film forming process in such a way that the surface where the normalized standard deviation Nσ is 0.2 × 10 −12 or less corresponds to the inevitable external force direction. For example, when the normalized standard deviation Nσ in the first posture is 0.2 × 10 −12 or less, the inevitable external force (external force unique to each heating furnace) is the first main surface F1 side (use surface side). ) To the second main surface F2 side (non-use surface side), a plurality of glass substrates A-1 to A-20 are arranged.

なお、ガラス基板A−1〜A−20には、各々、第1主面及び第2主面を判別するための目印を設けても良い。例えば、ガラス基板A−1〜A−20の角部のいずれか1箇所以上を面取り加工する等して、他の角部とは異なる形状にとすることで、主面を判別可能として良い。また、一方主面を部分的に加工や成膜し、各主面に所定の光源を当てた際の反射光に基づき、第1主面及び第2主面を判別可能としても良い。   In addition, you may provide the mark for discriminating a 1st main surface and a 2nd main surface in glass substrate A-1-A-20, respectively. For example, the main surface may be discriminable by chamfering any one or more of the corners of the glass substrates A-1 to A-20 to have a different shape from the other corners. Alternatively, the first main surface and the second main surface may be discriminated based on the reflected light when the one main surface is partially processed or formed into a film and a predetermined light source is applied to each main surface.

本実施例では、ガラス基板A−1〜A−20は、フロート法により成形され、歪点が570℃以上であり、アルカリ金属を含有するアルミノシリケートガラス(アルミノケイ酸ガラス)である。各ガラス基板A−1〜A−20の形状は、短辺SSが700mm以上の矩形状である。各ガラス基板A−1〜A−20の厚さtは、0.5mm以上3.0mm以下である。   In this embodiment, the glass substrates A-1 to A-20 are aluminosilicate glass (aluminosilicate glass) which is formed by a float process, has a strain point of 570 ° C. or higher, and contains an alkali metal. Each glass substrate A-1 to A-20 has a rectangular shape with a short side SS of 700 mm or more. The thickness t of each glass substrate A-1 to A-20 is 0.5 mm or more and 3.0 mm or less.

本実施例では、各ガラス基板A−1〜A−20は、フロートバス11において溶融ガラスをガラスリボン9に成形する処理に連続する徐冷処理を経ている。ただし、各ガラス基板A−1〜A−20は、各ガラス基板A−1〜A−20がガラスリボン9から矩形の面形状に切り出された後に、切り出された状態で再加熱及び徐冷処理を受けていない。従って、ガラス基板A−1〜A−20の撓みの正規化標準偏差Nσが0.2×10−12以下に維持される。 In this embodiment, the glass substrates A-1 to A-20 are subjected to a slow cooling process that is continuous with the process of forming molten glass into the glass ribbon 9 in the float bath 11. However, each glass substrate A-1 to A-20 is subjected to reheating and gradual cooling treatment in a state where each glass substrate A-1 to A-20 is cut out from the glass ribbon 9 into a rectangular surface shape. Not received. Therefore, the normalized standard deviation Nσ of the deflection of the glass substrates A-1 to A-20 is maintained at 0.2 × 10 −12 or less.

なお、本発明は、上記の実施形態に限られるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々の態様において実施することが可能であり、例えば、以下のような変形も可能である。   The present invention is not limited to the above-described embodiment, and can be implemented in various modes without departing from the gist thereof. For example, the following modifications are possible.

(1)実施形態1〜実施形態3及び実施例では、撓みのばらつきが小さいと判定する際の規定値が、0.2×10−12である例を挙げた。ただし、規定値は、この例に限定されず、実験的及び/又は経験的に定めることができる。 (1) In Embodiments 1 to 3 and Examples, the example in which the specified value when determining that the variation in deflection is small is 0.2 × 10 −12 has been given. However, the specified value is not limited to this example, and can be determined experimentally and / or empirically.

(2)実施形態1〜実施形態3及び実施例では、撓みのばらつきを判定するための指標として、正規化標準偏差Nσを例に挙げた。ただし、指標は、正規化標準偏差Nσに限定されず、例えば、標準偏差σであってもよい。   (2) In the first to third embodiments and examples, the normalized standard deviation Nσ is taken as an example as an index for determining the variation in deflection. However, the index is not limited to the normalized standard deviation Nσ, and may be, for example, the standard deviation σ.

(3)式(1)において、正規化標準偏差Nσは、標準偏差σを含む。標準偏差σは、例えば、標準偏差σn-1又は標準偏差σnである。標準偏差σnは、偏差の二乗の和を母集団の数nで除した値の正の平方根として求められる。標準偏差σn-1は、偏差の二乗の和を(n−1)で除した値の正の平方根として求められる。実施例(図8)では、正規化標準偏差Nσは、標準偏差σnに基づき算出された。   (3) In Expression (1), the normalized standard deviation Nσ includes the standard deviation σ. The standard deviation σ is, for example, standard deviation σn−1 or standard deviation σn. The standard deviation σn is obtained as a positive square root of a value obtained by dividing the sum of the squares of the deviations by the number n of the population. The standard deviation σn-1 is obtained as a positive square root of a value obtained by dividing the sum of squares of deviations by (n-1). In the example (FIG. 8), the normalized standard deviation Nσ was calculated based on the standard deviation σn.

(4)図2では、支持部材5により短辺SSを支持し、短辺SSが水平になるようにガラス基板3を配置した。ただし、支持部材5によりガラス基板3の長辺LSを支持し、長辺LSが水平になるようにガラス基板3を配置してもよい。この場合は、式(2)において、長辺LSの長さLに代えて、短辺SSの長さWを用いる。例えば、複数のガラス基板3が基準姿勢で処理される際に、短辺SSが水平に支持される場合は、撓みの計測時においても、短辺SSを水平に支持する。例えば、複数のガラス基板3が基準姿勢で処理される際に、長辺LSが水平に支持される場合は、撓みの計測時においても、長辺LSを水平に支持する。   (4) In FIG. 2, the short side SS is supported by the support member 5, and the glass substrate 3 is disposed so that the short side SS is horizontal. However, the long side LS of the glass substrate 3 may be supported by the support member 5, and the glass substrate 3 may be disposed so that the long side LS is horizontal. In this case, in the formula (2), the length W of the short side SS is used instead of the length L of the long side LS. For example, when the plurality of glass substrates 3 are processed in the reference posture and the short side SS is supported horizontally, the short side SS is supported horizontally even when measuring the deflection. For example, when the plurality of glass substrates 3 are processed in the reference posture and the long side LS is supported horizontally, the long side LS is supported horizontally even when measuring the deflection.

(5)実施形態1〜実施形態3及び実施例では、ガラス基板群1を例に挙げた。   (5) In the first to third embodiments and examples, the glass substrate group 1 is taken as an example.

本発明は、撓みのばらつきが最終生産物の品質に影響するようなガラス基板を製造、使用する分野に利用可能である。   INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention can be used in the field of manufacturing and using a glass substrate in which variation in deflection affects the quality of the final product.

1 ガラス基板群
3 ガラス基板
5 支持部材
7 レーザ測位計
8 撓み計測装置
9 ガラスリボン
10 製造装置
11 フロートバス
12 搬送方向
13 溶融錫
14 幅方向
15 リフトアウト部
17 ローラ
19(19a) ヒータ群
20(20a) 搬送経路
21 徐冷炉(レア)
23R 外側右端部
23L 外側左端部
25R 内側右端部
25L 内側左端部
27 中央部
29R 右端部
29L 左端部
31 側面
LS 長辺
SS 短辺
L 長辺の長さ
W 短辺の長さ
t 厚さ
θ 所定角度
a 距離(撓みの量)
F1 第1主面
F2 第2主面
V 区間
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Glass substrate group 3 Glass substrate 5 Support member 7 Laser positioning meter 8 Deflection measuring device 9 Glass ribbon 10 Manufacturing apparatus 11 Float bath 12 Conveyance direction 13 Molten tin 14 Width direction 15 Lift-out part 17 Roller 19 (19a) Heater group 20 ( 20a) Transport route 21 Slow cooling furnace (rare)
23R outer right end portion 23L outer left end portion 25R inner right end portion 25L inner left end portion 27 central portion 29R right end portion 29L left end portion 31 side surface LS long side SS short side L long side length W short side length t thickness θ predetermined Angle a Distance (amount of deflection)
F1 1st main surface F2 2nd main surface V section

Claims (3)

複数の矩形状のガラス基板を鉛直面に略平行で互いに等間隔になるように配置された基準姿勢としてから、各ガラス基板間に反応性ガスを流して成膜処理を施す工程を備えるデバイスの製造方法であって、
前記基準姿勢に基づいて傾かせた傾斜姿勢における前記複数のガラス基板の撓みのばらつきが、前記傾斜姿勢における前記複数のガラス基板の撓みの標準偏差を正規化して得た数値であり、
前記傾斜姿勢は、前記ガラス基板の主面と鉛直線との成す角度が5度となる姿勢であり、
前記標準偏差は、式(1)及び式(2)により正規化され、
前記正規化された標準偏差Nσが、0.08×10−12以上0.2×10−12以下であることを特徴とする、デバイスの製造方法。
Nσ=σ×K (1)
K=t/L (2)
Nσは、正規化された標準偏差である。
σは、前記複数のガラス基板の撓みの大きさの前記標準偏差である。
tは、前記ガラス基板の厚さである。
Lは、前記ガラス基板の1辺の長さである。
A device comprising a step of performing a film forming process by flowing a reactive gas between each glass substrate after a plurality of rectangular glass substrates are arranged in parallel so as to be substantially parallel to a vertical plane and equidistant from each other. A manufacturing method comprising:
The variation of the deflection of the plurality of glass substrates in the tilted posture tilted based on the reference posture is a numerical value obtained by normalizing the standard deviation of the deflection of the plurality of glass substrates in the tilted posture,
The inclined posture is a posture in which an angle formed between the main surface of the glass substrate and a vertical line is 5 degrees,
The standard deviation is normalized by equations (1) and (2),
The normalized standard deviation Nσ is 0.08 × 10 −12 or more and 0.2 × 10 −12 or less, and the device manufacturing method.
Nσ = σ × K (1)
K = t 2 / L 4 (2)
Nσ is a normalized standard deviation.
σ is the standard deviation of the amount of deflection of the plurality of glass substrates.
t is the thickness of the glass substrate.
L is the length of one side of the glass substrate.
前記ガラス基板の前記主面は、互いに対向する第1主面及び第2主面を含み、
前記第1主面が斜め上方向を向く姿勢での前記複数のガラス基板の撓みの前記ばらつきを示す前記正規化された標準偏差Nσが、0.08×10−12以上0.2×10−12以下であり、
前記複数のガラス基板は、前記ガラス基板の前記第1主面と当該ガラス基板の隣に配置される前記ガラス基板の前記第2主面とが対向するように、配置又は積層されることを特徴とする、請求項1に記載のデバイスの製造方法。
The main surface of the glass substrate includes a first main surface and a second main surface facing each other,
The normalized standard deviation Nσ indicating the variation of the deflection of the plurality of glass substrates in a posture in which the first main surface faces obliquely upward is 0.08 × 10 −12 or more and 0.2 × 10 −. 12 or less,
The plurality of glass substrates are arranged or laminated such that the first main surface of the glass substrate and the second main surface of the glass substrate arranged adjacent to the glass substrate are opposed to each other. The method of manufacturing a device according to claim 1.
前記ガラス基板の前記主面は、互いに対向する第1主面及び第2主面を含み、
前記第1主面が斜め上方向を向く姿勢での前記複数のガラス基板の撓みの前記ばらつきを示す前記正規化された標準偏差Nσが、0.08×10−12以上0.2×10−12以下であり、前記第2主面が斜め上方向を向く姿勢での前記複数のガラス基板の撓みの前記ばらつきを示す前記正規化された標準偏差Nσが、0.08×10−12以上0.2×10−12以下であることを特徴とする、請求項2に記載のデバイスの製造方法。
The main surface of the glass substrate includes a first main surface and a second main surface facing each other,
The normalized standard deviation Nσ indicating the variation of the deflection of the plurality of glass substrates in a posture in which the first main surface faces obliquely upward is 0.08 × 10 −12 or more and 0.2 × 10 −. The normalized standard deviation Nσ indicating the variation of the deflection of the plurality of glass substrates in a posture in which the second main surface faces obliquely upward is 0.08 × 10 −12 or more and 0 or less. The device manufacturing method according to claim 2, wherein the manufacturing method is 2 × 10 −12 or less.
JP2018029878A 2018-02-22 2018-02-22 Device manufacturing method Expired - Fee Related JP6521122B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018029878A JP6521122B2 (en) 2018-02-22 2018-02-22 Device manufacturing method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018029878A JP6521122B2 (en) 2018-02-22 2018-02-22 Device manufacturing method

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014005969A Division JP6393989B2 (en) 2014-01-16 2014-01-16 Glass substrate manufacturing method

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2018109239A true JP2018109239A (en) 2018-07-12
JP6521122B2 JP6521122B2 (en) 2019-05-29

Family

ID=62844689

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2018029878A Expired - Fee Related JP6521122B2 (en) 2018-02-22 2018-02-22 Device manufacturing method

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6521122B2 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2020105236A1 (en) * 2018-11-20 2020-05-28 三井金属鉱業株式会社 Multilayer body

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5081677A (en) * 1973-11-15 1975-07-02
JP2003306340A (en) * 2002-04-12 2003-10-28 Nippon Electric Glass Co Ltd Glass substrate, its production method, and its production apparatus
JP2007051038A (en) * 2005-08-19 2007-03-01 Chugai Ro Co Ltd Continuous firing apparatus for flat glass plate
JP2007230817A (en) * 2006-02-28 2007-09-13 Nippon Sheet Glass Co Ltd Float glass and its manufacturing method as well as panel for display using the float glass
JP2010087486A (en) * 2008-09-08 2010-04-15 Sumitomo Electric Ind Ltd Substrate, substrate with epitaxial layer, and method of manufacturing the same
JP2012133884A (en) * 2012-04-02 2012-07-12 Asahi Glass Co Ltd Manufacturing method of glass substrate for magnetic disk
JP2012137758A (en) * 2011-12-19 2012-07-19 Nippon Electric Glass Co Ltd Glass substrate
JP2012244032A (en) * 2011-05-23 2012-12-10 Kyocera Corp Method and apparatus for manufacturing thin film
JP2013011522A (en) * 2011-06-29 2013-01-17 Nippon Electric Glass Co Ltd Inspection method and inspection device for glass substrate

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5081677A (en) * 1973-11-15 1975-07-02
JP2003306340A (en) * 2002-04-12 2003-10-28 Nippon Electric Glass Co Ltd Glass substrate, its production method, and its production apparatus
JP2007051038A (en) * 2005-08-19 2007-03-01 Chugai Ro Co Ltd Continuous firing apparatus for flat glass plate
JP2007230817A (en) * 2006-02-28 2007-09-13 Nippon Sheet Glass Co Ltd Float glass and its manufacturing method as well as panel for display using the float glass
JP2010087486A (en) * 2008-09-08 2010-04-15 Sumitomo Electric Ind Ltd Substrate, substrate with epitaxial layer, and method of manufacturing the same
JP2012244032A (en) * 2011-05-23 2012-12-10 Kyocera Corp Method and apparatus for manufacturing thin film
JP2013011522A (en) * 2011-06-29 2013-01-17 Nippon Electric Glass Co Ltd Inspection method and inspection device for glass substrate
JP2012137758A (en) * 2011-12-19 2012-07-19 Nippon Electric Glass Co Ltd Glass substrate
JP2012133884A (en) * 2012-04-02 2012-07-12 Asahi Glass Co Ltd Manufacturing method of glass substrate for magnetic disk

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2020105236A1 (en) * 2018-11-20 2020-05-28 三井金属鉱業株式会社 Multilayer body
JPWO2020105236A1 (en) * 2018-11-20 2021-09-30 三井金属鉱業株式会社 Laminate
JP7389052B2 (en) 2018-11-20 2023-11-29 三井金属鉱業株式会社 laminate

Also Published As

Publication number Publication date
JP6521122B2 (en) 2019-05-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5656080B2 (en) Manufacturing method of glass substrate
KR101497251B1 (en) Method and apparatus for making glass sheet
TWI471272B (en) Production method and production apparatus for a glass plate
KR101300909B1 (en) Method and apparatus for making glass sheet
JP5752787B2 (en) Glass substrate manufacturing method and molding apparatus
US9382147B2 (en) Method for producing glass plate
JP6393989B2 (en) Glass substrate manufacturing method
CN107635932A (en) For processing the method and system of glass tape
JP2018109239A (en) Device manufacturing method
JP2018510102A (en) Continuous glass processing apparatus and flexible glass ribbon processing method
JP4967046B2 (en) Curvature control of glass ribbon
US9783449B2 (en) Thin glass elongated body
JP4032413B2 (en) GLASS SUBSTRATE, ITS MANUFACTURING METHOD, AND ITS MANUFACTURING DEVICE
US9724890B2 (en) Thin glass elongated body
JP5768082B2 (en) Glass plate manufacturing method and glass plate manufacturing apparatus
JP2013147355A (en) Method for producing glass plate and glass plate
WO2014024641A1 (en) Thin sheet glass manufacturing method
JP2020101436A (en) Temperature measurement method and manufacturing method of glass article
CN112533877A (en) Method for manufacturing sheet glass
WO2022044798A1 (en) Method for producing glass article
JP7004239B2 (en) Glass article manufacturing equipment and glass article manufacturing method
CN114829314A (en) Glass compositions with high modulus and large CTE range for laminated structures
CN116323506A (en) Glass
CN113015710A (en) Glass composition
JP2022072879A (en) Method and apparatus for manufacturing glass article

Legal Events

Date Code Title Description
A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20181109

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20181108

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20190104

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20190402

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20190415

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6521122

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees