JP2018104781A - Substrate holder, plating apparatus, and plating method - Google Patents

Substrate holder, plating apparatus, and plating method Download PDF

Info

Publication number
JP2018104781A
JP2018104781A JP2016254106A JP2016254106A JP2018104781A JP 2018104781 A JP2018104781 A JP 2018104781A JP 2016254106 A JP2016254106 A JP 2016254106A JP 2016254106 A JP2016254106 A JP 2016254106A JP 2018104781 A JP2018104781 A JP 2018104781A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate holder
substrate
wiring
plating
contact
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2016254106A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP6768495B2 (en
Inventor
松太郎 宮本
Matsutaro Miyamoto
松太郎 宮本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ebara Corp
Original Assignee
Ebara Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ebara Corp filed Critical Ebara Corp
Priority to JP2016254106A priority Critical patent/JP6768495B2/en
Publication of JP2018104781A publication Critical patent/JP2018104781A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6768495B2 publication Critical patent/JP6768495B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To suppress an influence of plating solution pressure in a substrate holder.SOLUTION: A substrate holder including first and second holding members to hold a substrate comprises: an arm unit for installing the substrate holder in a plating tank, having one or a plurality of external junctions; a holding unit which holds the substrate with the first and second holding members; a plurality of contacts provided on the holding unit, for feeding electricity to the substrate; a plurality of wirings connecting the external junctions to the plurality of contacts; and a wiring accommodation unit arranged between the arm unit and the holding unit, having a housing space to accommodate different length wirings that occur due to the route difference between the external junctions and each contact.SELECTED DRAWING: Figure 23

Description

本発明は、基板ホルダ、めっき装置、めっき方法に関する。   The present invention relates to a substrate holder, a plating apparatus, and a plating method.

従来、半導体ウェハやプリント基板等の基板の表面に配線やバンプ(突起状電極)等を形成したりすることが行われている。この配線及びバンプ等を形成する方法として、電解めっき法が知られている。   Conventionally, wiring, bumps (projection electrodes), and the like are formed on the surface of a substrate such as a semiconductor wafer or a printed circuit board. An electroplating method is known as a method for forming the wirings, bumps, and the like.

電解めっき法に用いるめっき装置では、円形又は多角形の基板の端面をシールし、表面(被めっき面)を露出させて保持する基板ホルダが使用される場合がある。このようなめっき装置において基板表面にめっき処理を行うときは、基板を保持した基板ホルダをめっき液中に浸漬させる。   In a plating apparatus used for electrolytic plating, a substrate holder that seals an end surface of a circular or polygonal substrate and exposes and holds the surface (surface to be plated) may be used. When performing the plating process on the substrate surface in such a plating apparatus, the substrate holder holding the substrate is immersed in the plating solution.

特許文献1には、円盤状のウェハWを保持してめっき処理を行うための基板ホルダ8が記載されている。この基板ホルダ8は、ウェハWを挟持するための第1保持部材22及び第2保持部材24を備え、第1保持部材22の端部に一対のホルダハンガ34が設けられている。ホルダハンガ34のうちの一方には、複数の外部接続接点42が設けられており、これらの外部接続接点42は、基板ホルダ8の内部に配置された複数の配線55を介して、ウェハWの周囲に配置された複数の導電部材41(内部接点)に接続されている(図3)。
特許文献2には、基板ホルダ8がめっき槽24に配置されたときに、基板ホルダ8の全体がめっき液の液面の下に位置する構成が記載されている。
Patent Document 1 describes a substrate holder 8 for holding a disk-shaped wafer W and performing a plating process. The substrate holder 8 includes a first holding member 22 and a second holding member 24 for sandwiching the wafer W, and a pair of holder hangers 34 are provided at the end of the first holding member 22. One of the holder hangers 34 is provided with a plurality of external connection contacts 42, and these external connection contacts 42 are arranged around the wafer W via a plurality of wirings 55 disposed inside the substrate holder 8. Are connected to a plurality of conductive members 41 (internal contacts) (FIG. 3).
Patent Document 2 describes a configuration in which when the substrate holder 8 is disposed in the plating tank 24, the entire substrate holder 8 is positioned below the surface of the plating solution.

特開2016−003376号公報JP, 2006-003376, A 特開2015−137374号公報JP2015-137374A

電解めっきでは、基板の周縁部に設けた複数のコンタクトを通じて基板に電流を流しながらめっき処理を行うが、基板ホルダのアーム(ハンドル)に設けられた外部接続接点から各コンタクトまでの配線の長さは、等しい長さであることが好ましい。各配線の抵抗を等しくして各コンタクトに流れる電流を均一にすることがめっき品質にとって好ましいからである。しかし、コンタクトの位置に応じて、各外部接続接点から各コンタクトまでの経路の長さは変わり得る。このため、基板ホルダにおいて、コンタクトまでの経路長の差に対応する配線の長さを吸収する必要がある。
特許文献1の基板ホルダでは、各配線55は、図3の記載に基づけば等長ではないため、上述した課題に対する示唆はない。なお、特許文献1に記載の基板ホルダでは、各配線55に流す電流が比較的小さいと推測され、配線の径が比較的細く配線55自体が曲がり易いと考えられる。また、特許文献1に記載の基板ホルダの構成では、第1保持部材22においてウェハの裏側となる部分にスペースを確保することも可能な形状であると考えられ、そのスペースに配線55を曲げて収容し得る。
しかしながら、めっき槽にはめっき液を攪拌するためのパドル、アノードマスク、レギュレーションプレート等が設けられており、めっき槽中の限られたスペースに基板ホルダを配置してめっき処理を行うことが要請されている。特に、基板の厚み方向の寸法制約が厳しくなっている。このため、特許文献1の基板ホルダのようにウェハの裏側にスペース
を確保すると、基板ホルダの厚みが増加するため好ましくない。
また、近年、めっき処理によっては、大きな電流でめっき処理を行うことが要求される。さらに、基板の形状によっても、大きな電流でめっき処理することが要請されており、配線の径を大きくすることが要求される。大径の配線は、小径の配線と比較して曲げることが難しくなり、狭いスペースに配線を収容することが困難となる。従って、基板ホルダにおいて、配線の径が大きい場合にも、コンタクトまでの経路差に対応する配線長を吸収できるようにすることが望まれる。また、基板ホルダの厚みの増加を抑制ないし防止することが望まれる。
特許文献2に記載の構成では、基板ホルダの全体がめっき液に浸かるため、基板ホルダの全体にめっき材料が接触する。このため、使用期間や使用回数に応じて、基板ホルダ全体がほぼ同様に経年劣化し、基板ホルダ全体を交換する必要がある。
本発明の目的は、上述した課題の少なくとも一部を解決することである。
In electroplating, the plating process is performed while a current is passed through the substrate through a plurality of contacts provided on the peripheral edge of the substrate. The length of the wiring from the external connection contact provided on the arm (handle) of the substrate holder to each contact Are preferably of equal length. This is because it is preferable for plating quality that the resistance of each wiring is made equal to make the current flowing through each contact uniform. However, the length of the path from each external connection contact to each contact may vary depending on the position of the contact. For this reason, in the substrate holder, it is necessary to absorb the length of the wiring corresponding to the difference in the path length to the contact.
In the substrate holder of Patent Document 1, each wiring 55 is not the same length based on the description of FIG. In the substrate holder described in Patent Document 1, it is assumed that the current flowing through each wiring 55 is relatively small, and the wiring diameter is relatively thin and the wiring 55 itself is likely to be bent. Further, in the configuration of the substrate holder described in Patent Document 1, it is considered that the first holding member 22 has a shape that can secure a space in the portion that is the back side of the wafer, and the wiring 55 is bent in the space. Can be accommodated.
However, the plating tank is provided with a paddle, an anode mask, a regulation plate, etc. for stirring the plating solution, and it is required to perform the plating process by arranging a substrate holder in a limited space in the plating tank. ing. In particular, dimensional constraints in the thickness direction of the substrate are becoming strict. For this reason, securing a space on the back side of the wafer as in the substrate holder of Patent Document 1 is not preferable because the thickness of the substrate holder increases.
In recent years, depending on the plating process, it is required to perform the plating process with a large current. Further, depending on the shape of the substrate, it is required to perform the plating process with a large current, and it is required to increase the diameter of the wiring. A large-diameter wiring is difficult to bend compared to a small-diameter wiring, and it is difficult to accommodate the wiring in a narrow space. Therefore, it is desired that the substrate holder can absorb the wiring length corresponding to the path difference to the contact even when the wiring diameter is large. It is also desirable to suppress or prevent an increase in the thickness of the substrate holder.
In the configuration described in Patent Document 2, since the entire substrate holder is immersed in the plating solution, the plating material contacts the entire substrate holder. For this reason, the whole substrate holder deteriorates with age almost in the same manner according to the period of use and the number of uses, and it is necessary to replace the whole substrate holder.
An object of the present invention is to solve at least a part of the problems described above.

[1] 形態1によれば、基板を挟持する第1及び第2保持部材を備える基板ホルダが提供され、基板ホルダは、 前記基板ホルダをめっき槽に設置するためのアーム部であって、1又は複数の外部接続接点を有するアーム部と、 前記第1及び第2保持部材において前記基板を挟持する挟持部と、 前記挟持部に設けられ、前記基板に給電するための1又は複数のコンタクトと、 前記1又は複数の外部接続接点と前記1又は複数のコンタクトとを接続する複数の配線と、 前記アーム部と前記挟持部との間に配置され、前記1又は複数の外部接続接点と前記1又は複数のコンタクトとの間の経路長に対して余分な長さの前記1又は複数の配線を収容する収容空間を有する配線収容部と、を備える。   [1] According to the first aspect, a substrate holder including first and second holding members that sandwich the substrate is provided, and the substrate holder is an arm portion for installing the substrate holder in the plating tank. Or an arm portion having a plurality of external connection contacts, a clamping portion for clamping the substrate in the first and second holding members, and one or a plurality of contacts provided in the clamping portion for supplying power to the substrate A plurality of wirings connecting the one or more external connection contacts and the one or more contacts; and between the arm portion and the clamping portion, and the one or more external connection contacts and the 1 Or a wiring housing portion having a housing space for housing the one or more wires of an extra length relative to the path length between the plurality of contacts.

形態1によれば、基板ホルダのアーム部と挟持部との間に配置された配線収容部によって、外部接続接点とコンタクトとの間の経路長に対して余分な長さの配線を収容し、配線の配置を調整することができる。この構成では、基板ホルダのアーム部と挟持部との間に配線収容部を設けるため、基板ホルダの厚みが増加することを抑制ないし防止することが可能である。つまり、基板ホルダにおいて、配線収容部は、アーム部と、挟持部とに並んで配置されるため、基板ホルダを支持するためのアーム部や、基板を保持する挟持部の厚みが増加することを抑制ないし防止することが可能である。
また、基板を保持する挟持部と重ならないので、基板ホルダ全体の厚みを抑制しつつ、配線収容部の厚み方向の寸法も確保できる。よって、径の大きい配線を曲げて配置する空間を確保し易い。大型の角形基板を保持する基板ホルダでは、特に有利である。
また、配線収容部が、基板を保持する挟持部と重ならないので、基板ホルダに基板を保持した後にも、配線収容部にアクセス可能な構成にすることもできる。
According to the first aspect, the wiring accommodating portion disposed between the arm portion and the sandwiching portion of the substrate holder accommodates an extra length of wiring with respect to the path length between the external connection contact and the contact, The arrangement of the wiring can be adjusted. In this configuration, since the wiring accommodating portion is provided between the arm portion and the clamping portion of the substrate holder, it is possible to suppress or prevent an increase in the thickness of the substrate holder. That is, in the substrate holder, the wiring accommodating portion is arranged side by side with the arm portion and the sandwiching portion, so that the thickness of the arm portion for supporting the substrate holder and the sandwiching portion for holding the substrate is increased. It can be suppressed or prevented.
Moreover, since it does not overlap with the clamping portion that holds the substrate, the thickness of the wiring housing portion can be secured while suppressing the thickness of the entire substrate holder. Therefore, it is easy to secure a space for bending and arranging a wiring having a large diameter. A substrate holder that holds a large rectangular substrate is particularly advantageous.
In addition, since the wiring housing portion does not overlap with the clamping portion that holds the substrate, the wiring housing portion can be configured to be accessible even after the substrate is held on the substrate holder.

[2] 形態2によれば、形態1の基板ホルダにおいて、 前記配線収容部は、 前記1又は複数の配線の長さの一部を収容する第1の凹部を有する前記収容部本体と、 前記収容部本体に着脱自在であり、前記第1の凹部を閉鎖する蓋部材と、を備える。
形態2によれば、蓋部材によって配線収容部内の配線をめっき液等の処理液から保護できるとともに、蓋部材を開けることによって配線収容部内の配線にアクセス可能となる。従って、配線収容部内でのメンテナンスが容易になる。
[2] According to the second aspect, in the substrate holder according to the first aspect, the wiring housing portion includes the housing main body having a first recess that houses a part of the length of the one or the plurality of wirings. A lid member that is detachably attached to the housing main body and closes the first recess.
According to the second aspect, the wiring in the wiring housing portion can be protected from the processing solution such as the plating solution by the lid member, and the wiring in the wiring housing portion can be accessed by opening the lid member. Therefore, maintenance in the wiring housing portion is facilitated.

[3] 形態3によれば、形態2の基板ホルダにおいて、 前記蓋部材は、前記収容部本体の前記第1の凹部に対向する位置に第2の凹部を有する。
形態3によれば、収容部本体及び蓋部材の凹部を合わせた空間を配線収容空間(配線を収容するための空間)とすることができる。収容部本体の厚みを抑制しつつ、配線収容空間の厚み方向を増大することが容易になる。収容部本体の材料が、蓋部材の材料よりも高価な場合には、収容部本体の体積を低減することによって、コストの増大を抑制し得る。
[3] According to Aspect 3, in the substrate holder according to Aspect 2, the lid member has a second recess at a position facing the first recess of the housing main body.
According to the third aspect, a space obtained by combining the housing portion main body and the concave portion of the lid member can be used as a wiring housing space (a space for housing the wiring). It is easy to increase the thickness direction of the wiring housing space while suppressing the thickness of the housing body. When the material of the housing part main body is more expensive than the material of the lid member, an increase in cost can be suppressed by reducing the volume of the housing part main body.

[4] 形態4によれば、形態2又は3の基板ホルダにおいて、前記配線収容部は、前記収容部本体と前記蓋部材との間に配置されたシール部材を更に備える。シール部材としては、Oリング、パッキン等を使用することができる。 形態4によれば、シール部材によって、配線収容部内の空間をより気密に封止することが可能である。   [4] According to Aspect 4, in the substrate holder according to Aspect 2 or 3, the wiring accommodation part further includes a seal member disposed between the accommodation part main body and the lid member. As the seal member, an O-ring, packing, or the like can be used. According to the form 4, it is possible to seal the space in the wiring housing portion more airtightly by the seal member.

[5] 形態5によれば、形態1乃至4の何れかの基板ホルダにおいて、前記配線収容部の前記配線収容空間は、前記基板ホルダがめっき槽に配置された際に、めっき液面の高さ以上の高さに対応する位置に配置されている。
形態5によれば、配線収容空間がほとんどめっき液に浸からないようにすることができる。めっき液中では、パドル、アノードマスク、レギュレーションプレート等のめっき槽の構成によって基板ホルダの厚み方向が寸法制約されるが、めっき液面の上方では、厚み方向の制約が緩やかであるため、配線収容部の厚み方向、特に配線収容空間の寸法を十分に確保することができる。また、配線収容空間がほとんどめっき液に浸からないので、配線収容空間内へのめっき液の漏れをより確実に抑制することができる。
[5] According to the fifth aspect, in the substrate holder of any one of the first to fourth aspects, the wiring housing space of the wiring housing portion has a high plating solution level when the substrate holder is placed in the plating tank. It is arranged at a position corresponding to a height higher than that.
According to the form 5, it is possible to prevent the wiring housing space from being almost immersed in the plating solution. In the plating solution, the thickness direction of the substrate holder is limited by the configuration of the plating tank such as the paddle, anode mask, and regulation plate. However, the restriction in the thickness direction is moderate above the plating solution surface, so wiring is accommodated. It is possible to sufficiently ensure the thickness direction of the portion, particularly the dimension of the wiring housing space. Further, since the wiring housing space is hardly immersed in the plating solution, the leakage of the plating solution into the wiring housing space can be more reliably suppressed.

[6] 形態6によれば、形態1乃至5の何れかの基板ホルダにおいて、前記配線収容部は、前記アーム部及び前記挟持部とは別体である。
形態6によれば、アーム部、挟持部、配線収容部を別々に交換することが可能になる。特に、めっき槽内で配線収容部をめっき液面高さ以上になるように配置する場合には、めっき液によって経年劣化が相対的に早い挟持部を配線収容部とは別に交換することが可能である。
[6] According to Aspect 6, in any one of the substrate holders of Aspects 1 to 5, the wiring housing portion is separate from the arm portion and the clamping portion.
According to the form 6, it becomes possible to replace | exchange an arm part, a clamping part, and a wiring accommodating part separately. In particular, when the wiring container is placed in the plating tank so that it is higher than the plating liquid level, it is possible to replace the clamping part, which has a relatively fast aging deterioration with the plating liquid, separately from the wiring container. It is.

[7] 形態7によれば、形態1乃至6の何れかの基板ホルダにおいて、複数の外部接続接点と複数のコンタクトとが複数の配線で接続され、前記複数のコンタクトが前記基板ホルダの異なる位置に配置され、前記複数の配線は同一の長さを有する。
コンタクトと外部接続接点との間の複数の配線の長さを同一にすることによって、各コンタクトに流れる電流を均一化することができ、めっき品質を向上することができる。また、各コンタクトと外部接続接点との間の経路差に起因する1又は複数の配線の余分な長さは、配線収容部に収容することができる。
[7] According to Aspect 7, in any of the substrate holders of Aspects 1 to 6, a plurality of external connection contacts and a plurality of contacts are connected by a plurality of wirings, and the plurality of contacts are located at different positions on the substrate holder. The plurality of wirings have the same length.
By making the lengths of the plurality of wirings between the contact and the external connection contact the same, the current flowing through each contact can be made uniform, and the plating quality can be improved. Further, the extra length of one or a plurality of wirings resulting from the path difference between each contact and the external connection contact can be accommodated in the wiring accommodating portion.

[8] 形態8によれば、形態2乃至4の何れかの基板ホルダにおいて、前記収容部本体はチタンからなり、前記蓋部材はポリ塩化ビニルからなる。
形態8によれば、収容部本体を剛性の高いチタンから構成し、蓋部材を安価なポリ塩化ビニルから構成することで、コストを抑制しつつ配線収容部に必要な剛性を確保することができる。
[8] According to Aspect 8, in any of the substrate holders according to Aspects 2 to 4, the housing main body is made of titanium, and the lid member is made of polyvinyl chloride.
According to the eighth aspect, the housing portion main body is made of titanium having high rigidity, and the lid member is made of inexpensive polyvinyl chloride, so that the rigidity necessary for the wiring housing portion can be secured while suppressing the cost. .

[9] 形態9によれば、形態1乃至8の何れかの基板ホルダを設置するためのめっき槽を有するめっき装置が提供される。
形態9によれば、形態1乃至8で述べた作用効果を奏するめっき装置を提供することができる。特に、基板ホルダの厚みの増大を抑制ないし防止しつつ、配線収容空間内に、径の大きな配線を配置することができるので、より均一且つ大きな電流を基板に流すことができる。これにより、より大型の基板により品質のよいめっき処理を行うことができる。また、基板ホルダの厚みの増大を抑制ないし防止できるので、めっき槽の寸法が大きくなることを抑制ないし防止できる。
[9] According to the ninth aspect, there is provided a plating apparatus having a plating tank for installing any one of the substrate holders of the first to eighth aspects.
According to the ninth aspect, it is possible to provide a plating apparatus that exhibits the effects described in the first to eighth aspects. In particular, since a large-diameter wiring can be arranged in the wiring housing space while suppressing or preventing an increase in the thickness of the substrate holder, a more uniform and large current can be passed through the substrate. Thereby, a plating process with good quality can be performed on a larger substrate. Moreover, since the increase in the thickness of the substrate holder can be suppressed or prevented, an increase in the size of the plating tank can be suppressed or prevented.

[10] 形態10によれば、基板ホルダによって基板を保持した状態で基板にめっき処理するめっき方法が提供され、このめっき方法では、めっき槽内において、前記基板ホルダの1又は複数の外部接続接点と1又は複数のコンタクトとの間の経路長に対して余分な1又は複数の配線の長さを収容する配線収容部が、めっき液面よりも高い位置にある状態で、前記基板にめっき処理を行う。
形態10によれば、配線収容空間がほとんどめっき液に浸からないようにすることができる。めっき液中では、パドル、アノードマスク、レギュレーションプレート等のめっき槽の構成によって基板ホルダの厚み方向が寸法制約されるが、めっき液面の上方では、厚み方向の寸法制約が緩やかである。このため、配線収容部と、めっき槽の構成とが干渉することを抑制ないし防止できる。また、配線収容空間がほとんどめっき液に浸からないので、配線収容空間内へのめっき液の漏れをより確実に抑制することができる。
[10] According to the tenth aspect, there is provided a plating method for plating a substrate in a state where the substrate is held by the substrate holder. In the plating method, one or more external connection contacts of the substrate holder are provided in the plating tank. The substrate is plated in a state in which a wiring accommodating portion that accommodates one or more extra wiring lengths relative to the path length between the first and the plurality of contacts is higher than the plating solution surface. I do.
According to the tenth aspect, it is possible to prevent the wiring housing space from being substantially immersed in the plating solution. In the plating solution, the dimension of the thickness direction of the substrate holder is limited by the configuration of the plating tank such as a paddle, an anode mask, and a regulation plate, but the dimension constraint in the thickness direction is moderate above the plating solution surface. For this reason, it can suppress thru | or prevent that a wiring accommodating part and the structure of a plating tank interfere. Further, since the wiring housing space is hardly immersed in the plating solution, the leakage of the plating solution into the wiring housing space can be more reliably suppressed.

本発明の一実施形態に係る基板ホルダが使用されるめっき装置の全体配置図である。1 is an overall layout view of a plating apparatus in which a substrate holder according to an embodiment of the present invention is used. 一実施形態に係る基板ホルダの概略正面図である。It is a schematic front view of the substrate holder which concerns on one Embodiment. 基板ホルダの概略側面図である。It is a schematic side view of a substrate holder. 基板ホルダの概略背面図である。It is a schematic rear view of a substrate holder. 基板ホルダの前方斜視図である。It is a front perspective view of a substrate holder. 基板ホルダの後方斜視図である。It is a back perspective view of a substrate holder. 基板ホルダの前面図である。It is a front view of a substrate holder. 基板ホルダの背面図である。It is a rear view of a substrate holder. バックプレートの正面図である。It is a front view of a back plate. バックプレートの背面図である。It is a rear view of a back plate. バックプレートの取り付け状態を示す、基板ホルダの一部拡大背面図である。It is a partial enlarged rear view of the substrate holder showing the attachment state of the back plate. バックプレートの取り付け状態を示す、基板ホルダの一部拡大斜視図である。It is a partial expansion perspective view of a substrate holder which shows the attachment state of a backplate. クランプと連結部材の関係を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the relationship between a clamp and a connection member. クランプ状態のクランプの斜視図である。It is a perspective view of the clamp of a clamp state. クランプ状態のクランプの側面図である。It is a side view of the clamp of a clamp state. クランプ状態のクランプの断面斜視図である。It is a cross-sectional perspective view of the clamp in a clamped state. クランプ状態のクランプの断面図である。It is sectional drawing of the clamp of a clamp state. アンクランプ状態のクランプの構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structure of the clamp of an unclamp state. アンクランプ状態のクランプの側面図である。It is a side view of the clamp of an unclamp state. アンクランプ状態のクランプの断面斜視図である。It is a cross-sectional perspective view of the clamp in an unclamped state. アンクランプ状態のクランプの構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the clamp of an unclamp state. バックプレートのクリップを示す一部切欠き側面図である。It is a partially notched side view which shows the clip of a backplate. バックプレートのクリップを示す一部拡大斜視図である。It is a partially expanded perspective view which shows the clip of a backplate. 閉鎖時のクリップの状態を示す一部切欠き斜視図である。It is a partially notched perspective view which shows the state of the clip at the time of closure. 閉鎖時のクリップの状態を示す一部切欠き断面図である。It is a partially notched sectional view which shows the state of the clip at the time of closing. 開放時のクリップの状態を示す一部切欠き斜視図である。It is a partially notched perspective view which shows the state of the clip at the time of open | release. 開放時のクリップの状態を示す一部切欠き断面図である。It is a partially cutaway sectional view showing the state of the clip at the time of opening. フロントプレートのインナーシール部を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the inner seal part of a front plate. フロントプレートのインナーシール部及びアウターシール部を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the inner seal part and outer seal part of a front plate. フロントプレート本体の背面図である。It is a rear view of a front plate body. フロントプレートのコネクタを含む領域の一部拡大平面図である。FIG. 6 is a partially enlarged plan view of a region including a front plate connector. フロントパネルの断面斜視図である。It is a cross-sectional perspective view of a front panel. フロントパネルの断面図である。It is sectional drawing of a front panel. ケーブルの配置を示すフロントパネルの一部拡大斜視図である。It is a partial enlarged perspective view of a front panel showing the arrangement of cables. 配線バッファ部の図示を省略した場合の、フェース部のケーブル導入位置付近の斜視図である。FIG. 10 is a perspective view of the vicinity of the cable introduction position of the face portion when illustration of the wiring buffer portion is omitted. 配線バッファ部の図示を省略した場合の、フェース部のケーブル導入位置付近を示す上面図である。FIG. 6 is a top view showing the vicinity of a cable introduction position of a face portion when illustration of a wiring buffer portion is omitted. 配線バッファ部の図示を省略した場合の、フェース部のケーブル導入位置付近を示す上面図の拡大図である。It is an enlarged top view showing the vicinity of the cable introduction position of the face portion when the illustration of the wiring buffer portion is omitted. コネクタに近い側のフェース部の隅部近傍における背面図である。It is a rear view in the corner vicinity of the face part near the connector. コネクタに近い側のフェース部の隅部近傍をさらに拡大した背面図である。It is the rear view which expanded further the corner part vicinity of the face part near the connector. 図21AのC−C線における断面図である。It is sectional drawing in the CC line of FIG. 21A. ケーブルの被覆を除去した部分の斜視図である。It is a perspective view of the part which removed the coating | cover of the cable. ケーブルと外部接続接点との接続関係を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the connection relation of a cable and an external connection contact. 配線バッファ部の近傍のフロントプレートの斜視図である。It is a perspective view of the front plate in the vicinity of the wiring buffer part. 配線バッファ部の拡大斜視図である。It is an expansion perspective view of a wiring buffer part. 配線バッファ部の蓋部材の背面図である。It is a rear view of the cover member of a wiring buffer part. 配線バッファ部の蓋部材の側面図である。It is a side view of the cover member of a wiring buffer part. 配線バッファ部の近傍のフロントプレートの背面図である。It is a rear view of the front plate in the vicinity of the wiring buffer unit. 蓋部材を取り外した状態の配線バッファ部の近傍のフロントプレートの背面図である。It is a rear view of the front plate in the vicinity of the wiring buffer part with the cover member removed. 蓋部材を取り外した状態の配線バッファ部の近傍のフロントプレートの斜視図である。It is a perspective view of the front plate in the vicinity of the wiring buffer part with the cover member removed. 各コンタクトと外部接続接点との間の経路差に起因する配線の長さの差を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the difference in the length of the wiring resulting from the path | route difference between each contact and an external connection contact. 配線バッファ部のフェース部側の拡大斜視図である。It is an enlarged perspective view of the face side of the wiring buffer unit. 配線バッファ部の取付部側を、取付部側から見た斜視図である。It is the perspective view which looked at the attachment part side of the wiring buffer part from the attachment part side. 配線バッファの取付部側を、配線バッファ部側から見た斜視図である。It is the perspective view which looked at the attaching part side of the wiring buffer from the wiring buffer part side. 蓋部材を取り外した状態の配線バッファ部を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the wiring buffer part of the state which removed the cover member. 蓋部材を取り付けた状態の配線バッファ部を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the wiring buffer part of the state which attached the cover member. 他の実施形態に係る蓋部材を取り外した状態の配線バッファ部の斜視図である。It is a perspective view of the wiring buffer part of the state which removed the cover member which concerns on other embodiment. 他の実施形態に係る蓋部材を取り付けた状態の配線バッファ部の斜視図である。It is a perspective view of the wiring buffer part in the state where the cover member concerning other embodiments was attached. 他の実施形態に係る配線バッファ部の蓋部材の背面図である。It is a rear view of the cover member of the wiring buffer part which concerns on other embodiment.

以下、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。なお、以下の各実施形態において、同一または相当する部材には同一符号を付して重複した説明を省略する。また、本明細書において「前面」、「背面」、「フロント」、「バック」、「上」、「下」、「左」、「右」等の表現を用いるが、これらは、説明の都合上、例示の図面の紙面上における位置、方向を示すものであり、装置使用時等の実際の配置では異なる場合がある。また、本明細書において「アーム部」あるいは「ハンドル」は、基板ホルダが搬送される際に搬送装置により基板ホルダが把持又は係合される部分の「係合部」と同義に用いられる。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. In the following embodiments, the same or corresponding members are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted. In this specification, expressions such as “front”, “back”, “front”, “back”, “up”, “down”, “left”, “right”, etc. are used. The above shows the position and direction on the paper surface of the example drawing, and may differ in actual arrangement when the apparatus is used. Further, in this specification, the “arm portion” or “handle” is used synonymously with “engagement portion” of a portion where the substrate holder is gripped or engaged by the transfer device when the substrate holder is transferred.

図1は、本発明の一実施形態に係る基板ホルダが使用されるめっき装置の全体配置図である。図1に示すように、このめっき装置100は、基板ホルダ1に基板(被処理物の一例に相当する)をロードし、又は基板ホルダ1から基板をアンロードするロード/アンロード部110と、基板を処理する処理部120と、洗浄部50aとに大きく分けられる。処理部120は、さらに、基板の前処理及び後処理を行う前処理・後処理部120Aと、基板にめっき処理を行うめっき処理部120Bとを含む。なお、このめっき装置100で処理する基板は、角形基板、円形基板を含む。また、角形基板は、矩形等の多角形のガラス基板、液晶基板、プリント基板、その他の多角形のめっき対象物を含む。円形基板は、半導体ウェハ、ガラス基板、その他の円形のめっき対象物を含む。   FIG. 1 is an overall layout diagram of a plating apparatus in which a substrate holder according to an embodiment of the present invention is used. As shown in FIG. 1, this plating apparatus 100 loads a substrate (corresponding to an example of an object to be processed) on the substrate holder 1 or unloads the substrate from the substrate holder 1, It is roughly divided into a processing unit 120 for processing a substrate and a cleaning unit 50a. The processing unit 120 further includes a pre-processing / post-processing unit 120A that performs pre-processing and post-processing of the substrate, and a plating processing unit 120B that performs plating processing on the substrate. In addition, the board | substrate processed with this plating apparatus 100 contains a square substrate and a circular substrate. The rectangular substrate includes a polygonal glass substrate such as a rectangle, a liquid crystal substrate, a printed circuit board, and other polygonal plating objects. The circular substrate includes a semiconductor wafer, a glass substrate, and other circular plating objects.

ロード/アンロード部110は、2台のカセットテーブル25と、基板脱着機構29と
を有する。カセットテーブル25は、半導体ウェハ、ガラス基板、液晶基板、プリント基板等の基板を収納したカセット25aを搭載する。基板脱着機構29は、基板を基板ホルダ1(図2A以降で後述)に着脱するように構成される。また、基板脱着機構29の近傍(例えば下方)には基板ホルダ1を収容するためのストッカ30が設けられる。これらのユニット25,29,30の中央には、これらのユニット間で基板を搬送する搬送用ロボットからなる基板搬送装置27が配置されている。基板搬送装置27は、走行機構28により走行可能に構成される。
The load / unload unit 110 includes two cassette tables 25 and a substrate detachment mechanism 29. The cassette table 25 is mounted with a cassette 25a that stores substrates such as semiconductor wafers, glass substrates, liquid crystal substrates, and printed circuit boards. The substrate removal mechanism 29 is configured to attach and detach the substrate to and from the substrate holder 1 (described later in FIG. 2A). In addition, a stocker 30 for accommodating the substrate holder 1 is provided in the vicinity (for example, below) of the substrate removal mechanism 29. In the center of these units 25, 29, and 30, a substrate transfer device 27 including a transfer robot that transfers a substrate between these units is disposed. The substrate transfer device 27 is configured to be able to travel by the travel mechanism 28.

洗浄部50aは、めっき処理後の基板を洗浄して乾燥させる洗浄装置50を有する。基板搬送装置27は、めっき処理後の基板を洗浄装置50に搬送し、洗浄された基板を洗浄装置50から取り出すように構成される。   The cleaning unit 50a includes a cleaning device 50 that cleans and dries the substrate after the plating process. The substrate transport device 27 is configured to transport the plated substrate to the cleaning device 50 and take out the cleaned substrate from the cleaning device 50.

前処理・後処理部120Aは、プリウェット槽32と、プリソーク槽33と、プリリンス槽34と、ブロー槽35と、リンス槽36と、を有する。プリウェット槽32では、基板が純水に浸漬される。プリソーク槽33では、基板の表面に形成したシード層等の導電層の表面の酸化膜がエッチング除去される。プリリンス槽34では、プリソーク後の基板が基板ホルダと共に洗浄液(純水等)で洗浄される。ブロー槽35では、洗浄後の基板の液切りが行われる。リンス槽36では、めっき後の基板が基板ホルダと共に洗浄液で洗浄される。プリウェット槽32、プリソーク槽33、プリリンス槽34、ブロー槽35、リンス槽36は、この順に配置されている。なお、このめっき装置100の前処理・後処理部120Aの構成は一例であり、めっき装置100の前処理・後処理部120Aの構成は限定されず、他の構成を採用することが可能である。   The pre-processing / post-processing unit 120A includes a pre-wet tank 32, a pre-soak tank 33, a pre-rinse tank 34, a blow tank 35, and a rinse tank 36. In the pre-wet tank 32, the substrate is immersed in pure water. In the pre-soak tank 33, the oxide film on the surface of the conductive layer such as the seed layer formed on the surface of the substrate is removed by etching. In the pre-rinse tank 34, the substrate after the pre-soak is cleaned with a cleaning liquid (pure water or the like) together with the substrate holder. In the blow tank 35, the substrate is drained after cleaning. In the rinsing tank 36, the substrate after plating is cleaned with a cleaning liquid together with the substrate holder. The pre-wet tank 32, the pre-soak tank 33, the pre-rinse tank 34, the blow tank 35, and the rinse tank 36 are arranged in this order. The configuration of the pretreatment / post-processing unit 120A of the plating apparatus 100 is an example, and the configuration of the pre-processing / post-processing unit 120A of the plating apparatus 100 is not limited, and other configurations can be adopted. .

めっき処理部120Bは、オーバーフロー槽38を備えた複数のめっき槽39を有する。各めっき槽39は、内部に一つの基板を収納し、内部に保持しためっき液中に基板を浸漬させて基板表面に銅めっき等のめっきを行う。ここで、めっき液の種類は、特に限られることはなく、用途に応じて様々なめっき液が用いられる。   The plating processing unit 120 </ b> B has a plurality of plating tanks 39 provided with an overflow tank 38. Each plating tank 39 accommodates one substrate therein and immerses the substrate in a plating solution held therein to perform plating such as copper plating on the substrate surface. Here, the type of the plating solution is not particularly limited, and various plating solutions are used depending on the application.

めっき装置100は、これらの各機器の側方に位置して、これらの各機器の間で基板ホルダを基板とともに搬送する、例えばリニアモータ方式を採用した基板ホルダ搬送装置37を有する。この基板ホルダ搬送装置37は、基板脱着機構29、プリウェット槽32、プリソーク槽33、プリリンス槽34、ブロー槽35、リンス槽36、及びめっき槽39との間で基板ホルダを搬送するように構成される。   The plating apparatus 100 includes a substrate holder transfer device 37 that employs, for example, a linear motor system, which is located on the side of each of these devices and transfers the substrate holder together with the substrates between these devices. The substrate holder transport device 37 is configured to transport the substrate holder between the substrate desorption mechanism 29, the pre-wet tank 32, the pre-soak tank 33, the pre-rinse tank 34, the blow tank 35, the rinse tank 36, and the plating tank 39. Is done.

以上のように構成されるめっき装置100を含むめっき処理システムは、上述した各部を制御するように構成されたコントローラ175を有する。コントローラ175は、所定のプログラムを格納したメモリ175Bと、メモリ175Bのプログラムを実行するCPU(Central Processing Unit)175Aと、CPU175Aがプログラムを実行することで実現される制御部175Cとを有する。制御部175Cは、例えば、基板搬送装置27の搬送制御、基板脱着機構29における基板の基板ホルダへの着脱制御、基板ホルダ搬送装置37の搬送制御、各めっき槽39におけるめっき電流及びめっき時間の制御、並びに、各めっき槽39に配置されるアノードマスク(図示せず)の開口径及びレギュレーションプレート(図示せず)の開口径の制御等を行うことができる。また、コントローラ175は、めっき装置100及びその他の関連装置を統括制御する図示しない上位コントローラと通信可能に構成され、上位コントローラが有するデータベースとの間でデータのやり取りをすることができる。ここで、メモリ175Bを構成する記憶媒体は、各種の設定データや後述するめっき処理プログラム等の各種のプログラムを格納している。記憶媒体としては、コンピュータで読み取り可能なROMやRAMなどのメモリや、ハードディスク、CD−ROM、DVD−ROMやフレキシブルディスクなどのディスク状記憶媒体などの公知のものが使用され得る。   The plating processing system including the plating apparatus 100 configured as described above includes a controller 175 configured to control each unit described above. The controller 175 includes a memory 175B that stores a predetermined program, a CPU (Central Processing Unit) 175A that executes the program in the memory 175B, and a control unit 175C that is realized by the CPU 175A executing the program. The control unit 175C, for example, controls the transport of the substrate transport device 27, controls the attachment / detachment of the substrate to / from the substrate holder in the substrate detachment mechanism 29, controls the transport of the substrate holder transport device 37, and controls the plating current and plating time in each plating tank 39. In addition, the opening diameter of an anode mask (not shown) and the opening diameter of a regulation plate (not shown) disposed in each plating tank 39 can be controlled. The controller 175 is configured to be communicable with a host controller (not shown) that performs overall control of the plating apparatus 100 and other related apparatuses, and can exchange data with a database included in the host controller. Here, the storage medium constituting the memory 175B stores various programs such as various setting data and a plating processing program described later. As the storage medium, known media such as a computer-readable memory such as ROM and RAM, and a disk-shaped storage medium such as a hard disk, CD-ROM, DVD-ROM, and flexible disk can be used.

[基板ホルダ]
図2Aは、一実施形態に係る基板ホルダの概略正面図である。図2Bは、基板ホルダの概略側面図である。図2Cは、基板ホルダの概略背面図である。図3Aは、基板ホルダの前方斜視図である。図3Bは、基板ホルダの後方斜視図である。図4Aは、基板ホルダの前面図である。図4Bは、基板ホルダの背面図である。
[Substrate holder]
FIG. 2A is a schematic front view of a substrate holder according to an embodiment. FIG. 2B is a schematic side view of the substrate holder. FIG. 2C is a schematic rear view of the substrate holder. FIG. 3A is a front perspective view of the substrate holder. FIG. 3B is a rear perspective view of the substrate holder. FIG. 4A is a front view of the substrate holder. FIG. 4B is a rear view of the substrate holder.

基板ホルダ1は、フロントプレート300とバックプレート400とを備えている。これらのフロントプレート300とバックプレート400との間に基板Sが保持される。本実施例では、基板ホルダ1は、基板Sの片面を露出した状態で基板Sを保持する。基板Sは、半導体ウェハ、ガラス基板、液晶基板、プリント基板、その他の被めっき物であり得る。基板Sは、円形、角形等の何れの形状である。なお、以下の説明では、角形の基板を例に挙げて説明するが、基板ホルダ1の開口部の形状を変更すれば、円形その他の形状の基板を保持することが可能である。   The substrate holder 1 includes a front plate 300 and a back plate 400. The substrate S is held between the front plate 300 and the back plate 400. In this embodiment, the substrate holder 1 holds the substrate S with one side of the substrate S exposed. The substrate S can be a semiconductor wafer, a glass substrate, a liquid crystal substrate, a printed board, or other objects to be plated. The substrate S has any shape such as a circle and a square. In the following description, a rectangular substrate will be described as an example. However, if the shape of the opening of the substrate holder 1 is changed, it is possible to hold a circular or other shape substrate.

フロントプレート300は、フロントプレート本体310と、アーム部330とを備えている。アーム部330は、基板ホルダ搬送装置37に把持される把持部分であり、めっき槽39に配置される際に支持される部分である。基板ホルダ1は、基板ホルダ搬送装置37によって、めっき装置100の設置面に対して垂直に立てた状態で搬送され、垂直に立てた状態でめっき槽39内に配置される。   The front plate 300 includes a front plate main body 310 and an arm portion 330. The arm portion 330 is a grip portion that is gripped by the substrate holder transport device 37 and is a portion that is supported when the arm portion 330 is disposed in the plating tank 39. The substrate holder 1 is transported by the substrate holder transport device 37 in a state where the substrate holder 1 stands vertically with respect to the installation surface of the plating apparatus 100, and is disposed in the plating tank 39 while standing vertically.

フロントプレート本体310は、概ね矩形状であり、配線バッファ部311とフェース部312とを有し、前面301と背面302とを有する。フロントプレート本体310は、取付部320によって2箇所でアーム部330に取り付けられている。フロントプレート本体310には、開口部303が設けられており、開口部303から基板Sの被めっき面が露出される。本実施形態では、開口部303は、矩形状の基板Sに対応して矩形状に形成されている。なお、基板Sが円形の半導体ウェハ等である場合には、開口部303の形状も円形に形成される。   The front plate main body 310 is substantially rectangular, has a wiring buffer portion 311 and a face portion 312, and has a front surface 301 and a back surface 302. The front plate body 310 is attached to the arm portion 330 at two locations by the attachment portion 320. The front plate main body 310 is provided with an opening 303, and the surface to be plated of the substrate S is exposed from the opening 303. In the present embodiment, the opening 303 is formed in a rectangular shape corresponding to the rectangular substrate S. When the substrate S is a circular semiconductor wafer or the like, the shape of the opening 303 is also circular.

フロントプレート本体310のアーム部330に近い側には、配線バッファ部311が設けられている。配線バッファ部311は、アーム部330を介してフロントプレート本体310まで到達するケーブルの分配を行う領域であり、また、予備の長さのケーブルを収容する領域である。配線バッファ部311は、フロントプレート本体310の他の部分(フェース部312)よりも若干厚みを持って形成されている(図2B参照)。本実施形態では、配線バッファ部311は、フロントプレート本体310の他の部分(フェース部312)とは別体に形成され、フェース部312に取り付けられている。アーム部330の一端側には、外部の配線と電気的に接続するためのコネクタ331が設けられている(図3A等参照)。バックプレート400は、フロントプレート本体310(より詳細には、フェース部312)の背面302にクランプ340によって固定される(図2C、図3B、図4B)。   A wiring buffer portion 311 is provided on the side of the front plate body 310 close to the arm portion 330. The wiring buffer unit 311 is a region for distributing cables that reach the front plate main body 310 via the arm unit 330, and is a region that accommodates a cable having a spare length. The wiring buffer portion 311 is formed to have a thickness slightly larger than the other portion (face portion 312) of the front plate body 310 (see FIG. 2B). In the present embodiment, the wiring buffer part 311 is formed separately from the other part (face part 312) of the front plate body 310 and is attached to the face part 312. A connector 331 for electrically connecting to an external wiring is provided on one end side of the arm portion 330 (see FIG. 3A and the like). The back plate 400 is fixed to the back surface 302 of the front plate main body 310 (more specifically, the face portion 312) by a clamp 340 (FIGS. 2C, 3B, and 4B).

(バックプレートのフロントプレートへの取付構造)
図5Aは、バックプレートの正面図である。図5Bは、バックプレートの背面図である。図6Aは、バックプレートの取り付け状態を示す、基板ホルダの一部拡大背面図である。図6Bは、バックプレートの取り付け状態を示す、基板ホルダの一部拡大斜視図である。図7は、クランプと連結部材の関係を示す斜視図である。
(Mounting structure of back plate to front plate)
FIG. 5A is a front view of the back plate. FIG. 5B is a rear view of the back plate. FIG. 6A is a partially enlarged rear view of the substrate holder showing the attachment state of the back plate. FIG. 6B is a partially enlarged perspective view of the substrate holder showing a state where the back plate is attached. FIG. 7 is a perspective view showing the relationship between the clamp and the connecting member.

バックプレート400は、バックプレート本体410を備え、バックプレート本体410は、概ね矩形状であるが、フロントプレート300のフロントプレート本体310よりも小さい寸法を有する(図3B、図4B)。バックプレート本体410は、前面401(
図5A)と背面402(図5B)とを有する。
The back plate 400 includes a back plate body 410. The back plate body 410 has a generally rectangular shape, but has a smaller size than the front plate body 310 of the front plate 300 (FIGS. 3B and 4B). The back plate body 410 has a front surface 401 (
5A) and a back surface 402 (FIG. 5B).

バックプレート本体410の前面401は、基板Sの載置面であり、フロントプレート本体310の背面302に取り付けられる。バックプレート本体410の前面401には、基板Sを保持(固定)するためのクリップ部420が、基板Sの各辺に対応して合計8個設けられている。この例では、クリップ部420は、基板Sの上辺及び下辺にそれぞれ1個づつ、左片及び右辺にそれぞれ3個づつ配置されている。なお、クリップ部420の数及び配置は、基板Sの寸法、形状に応じて適宜選択されるものであり、図示の数及び配置に限定されない。   A front surface 401 of the back plate body 410 is a mounting surface of the substrate S, and is attached to the back surface 302 of the front plate body 310. A total of eight clip portions 420 for holding (fixing) the substrate S are provided on the front surface 401 of the back plate body 410 corresponding to each side of the substrate S. In this example, one clip portion 420 is disposed on each of the upper and lower sides of the substrate S, and three clip portions 420 are disposed on the left and right sides. Note that the number and arrangement of the clip portions 420 are appropriately selected according to the size and shape of the substrate S, and are not limited to the number and arrangement shown.

バックプレート本体410の4隅のうちの3隅には、位置決め片490が設けられている。位置決め片490には、貫通孔490aが形成されている。位置決め片490は、バックプレート本体410と一体に形成してもよいし、バックプレート本体410とは別体で形成し、バックプレート本体410に取り付けるようにしてもよい。フロントプレート本体310の背面302には、位置決め片490の各々に対応する位置に位置決めピン390が設けられている(図6A,B)。位置決めピン390は、フロントプレート本体310と一体に形成してもよいし、フロントプレート本体310とは別体で形成し、フロントプレート本体310に取り付けるようにしてもよい。バックプレート400をフロントプレート300に取り付ける際に、バックプレート400の位置決め片490の貫通孔490aに位置決めピン390を挿通させ、両者の位置合わせを行う。   Positioning pieces 490 are provided at three of the four corners of the back plate body 410. A through hole 490 a is formed in the positioning piece 490. The positioning piece 490 may be formed integrally with the back plate body 410, or may be formed separately from the back plate body 410 and attached to the back plate body 410. On the back surface 302 of the front plate main body 310, positioning pins 390 are provided at positions corresponding to the positioning pieces 490 (FIGS. 6A and 6B). The positioning pins 390 may be formed integrally with the front plate body 310, or may be formed separately from the front plate body 310 and attached to the front plate body 310. When the back plate 400 is attached to the front plate 300, the positioning pins 390 are inserted through the through holes 490a of the positioning pieces 490 of the back plate 400, and the both are aligned.

フロントプレート300の背面302には、図4Bに示すように、バックプレート400の4辺の各辺に対応して、固定部材350が配置されている。2つの固定部材350が、バックプレート400の1辺に対して設けられており、バックプレート400の1辺に沿って並んで配置されている。各固定部材350には、図6A、図6B、図7に示すように、2つのクランプ340が取り付けられている。よって、1辺あたり、4つのクランプ340が設けられている。また、各辺の2つの固定部材350の間には、4つのクランプ340を同時に動作させるためのレバー342が取り付けられている。なお、1辺あたりのクランプの数は、4つに限定されず、3つ以下であっても、5つ以上であってもよい。   As shown in FIG. 4B, fixing members 350 are disposed on the back surface 302 of the front plate 300 corresponding to the four sides of the back plate 400. Two fixing members 350 are provided for one side of the back plate 400, and are arranged side by side along one side of the back plate 400. As shown in FIGS. 6A, 6B, and 7, two clamps 340 are attached to each fixing member 350. Therefore, four clamps 340 are provided per side. Further, a lever 342 for operating the four clamps 340 at the same time is attached between the two fixing members 350 on each side. The number of clamps per side is not limited to four, and may be three or less or five or more.

各辺の2つの固定部材350に亘って回転軸341が取り付けられている。回転軸341は、固定部材350に対して回転自在に取り付けられている(図7)。各クランプ340及びレバー342は、回転軸341にキー結合(キー及びキー溝)によって回転不能に取り付けられている(図8A,B、図9A,B)。4つのクランプ340は、同一の位相で回転軸341に取り付けられているが、レバー342は、4つのクランプ340とは異なる位相で回転軸341に取り付けられている。この構成により、レバー342が回転すると、それに伴い、4つのクランプ340が同期して回転する。なお、ここでは、フロントプレート本体310の面301、302に平行な回転軸341の周りにクランプ340が回転するように構成したが、フロントプレート本体310の面301、302に垂直な方向に往復運動してバックプレート400をクランプするように、クランプ340を構成してもよい。   A rotating shaft 341 is attached across the two fixing members 350 on each side. The rotating shaft 341 is rotatably attached to the fixed member 350 (FIG. 7). Each clamp 340 and lever 342 are non-rotatably attached to the rotation shaft 341 by key coupling (key and key groove) (FIGS. 8A, B, and 9A, B). The four clamps 340 are attached to the rotation shaft 341 with the same phase, but the lever 342 is attached to the rotation shaft 341 with a phase different from that of the four clamps 340. With this configuration, when the lever 342 rotates, the four clamps 340 rotate in synchronization therewith. Here, the clamp 340 is configured to rotate around a rotation axis 341 parallel to the surfaces 301 and 302 of the front plate body 310, but reciprocating in a direction perpendicular to the surfaces 301 and 302 of the front plate body 310. Then, the clamp 340 may be configured to clamp the back plate 400.

クランプ340は、その先端部において鉤状に湾曲した係合部340aを有する。クランプ340の基端側には貫通孔を有し、この貫通孔に回転軸341が挿通され、キー及びキー溝によって回転不能に固定されている(図9A参照)。レバー342は、外部からの力を受けていない場合、図7に示すように、圧縮ばね343によってフロントプレート300の背面302から立ち上がるように付勢されており、これに伴い、各クランプ340は閉じる方向に付勢されている。言い換えれば、クランプ340は、ノーマルクローズ型で構成されている。また、レバー342は、外部からの押圧力を受けることが可能な力受部として構成されている。レバー342は、例えば、基板着脱機構29に設けられるアク
チュエータから押圧力を受けることが可能である。図10Bにおいて、アクチュエータAR1を模式的に示している。アクチュエータAR1は、例えば、エアシリンダ、モータ等の駆動部DRVと、駆動部DRVによって駆動される棒状部材RDとを備える。レバー342は、アクチュエータAR1から押圧力を受けると、フロントプレート300の背面302に向かって倒れる方向に回転し、これに伴い、クランプ340は開く方向に回転する。この例では、アクチュエータAR1は、各辺のレバー342に対応して4つ設けられる。好ましくは、4つのアクチュエータAR1は、同時に駆動されてレバー342を押す。但し、4つのアクチュエータAR1は、別々に駆動してもよく、同時に駆動することに限定されない。
The clamp 340 has an engaging portion 340a that is curved like a bowl at the tip. The clamp 340 has a through hole on the base end side, and a rotation shaft 341 is inserted through the through hole and fixed to be non-rotatable by a key and a key groove (see FIG. 9A). When not receiving external force, the lever 342 is urged to rise from the back surface 302 of the front plate 300 by a compression spring 343 as shown in FIG. 7, and each clamp 340 is closed accordingly. Is biased in the direction. In other words, the clamp 340 is configured as a normally closed type. The lever 342 is configured as a force receiving portion that can receive a pressing force from the outside. The lever 342 can receive a pressing force from an actuator provided in the board attaching / detaching mechanism 29, for example. In FIG. 10B, the actuator AR1 is schematically shown. Actuator AR1 is provided with drive parts DRV, such as an air cylinder and a motor, and rod-shaped member RD driven by drive part DRV, for example. When the lever 342 receives a pressing force from the actuator AR1, the lever 342 rotates in a direction to tilt toward the back surface 302 of the front plate 300, and accordingly, the clamp 340 rotates in the opening direction. In this example, four actuators AR1 are provided corresponding to the levers 342 on each side. Preferably, the four actuators AR1 are simultaneously driven to push the lever 342. However, the four actuators AR1 may be driven separately and are not limited to being driven simultaneously.

バックプレート400の背面402には、クランプ340に対応する位置に係合受部430が設けられている。係合受部430は、本実施形態で示すように、バックプレート400のバックプレート本体410とは別部材で形成され、バックプレート本体410に取り付けても良いし、バックプレート本体410と一体に形成したものであってもよい。係合受部430には、クランプ340の鉤状の係合部340aが引っ掛かり、係合することが可能な形状を有する突出部430aが形成されている。突出部430aは、クランプ340の係合部340aの係合を確実に受けるために、係合部340aよりも長い寸法を有する。   An engagement receiving portion 430 is provided on the back surface 402 of the back plate 400 at a position corresponding to the clamp 340. As shown in this embodiment, the engagement receiving portion 430 is formed as a separate member from the back plate body 410 of the back plate 400 and may be attached to the back plate body 410 or formed integrally with the back plate body 410. It may be what you did. The engagement receiving portion 430 is formed with a protruding portion 430a having a shape capable of being hooked and engaged with the hook-like engagement portion 340a of the clamp 340. The protrusion 430a has a longer dimension than the engagement portion 340a in order to reliably receive the engagement of the engagement portion 340a of the clamp 340.

以下、図面を参照しつつ、バックプレート400のフロントプレート300への取り付け構造を説明する。
図8Aは、クランプ状態のクランプの斜視図である。図8Bは、クランプ状態のクランプの側面図である。図9Aは、クランプ状態のクランプの断面斜視図である。図9Bは、クランプ状態のクランプの断面図である。図10Aは、アンクランプ状態のクランプの構成を示す斜視図である。図10Bは、アンクランプ状態のクランプの側面図である。図11Aは、アンクランプ状態のクランプの断面斜視図である。図11Bは、アンクランプ状態のクランプの構成を示す断面図である。
Hereinafter, a structure for attaching the back plate 400 to the front plate 300 will be described with reference to the drawings.
FIG. 8A is a perspective view of the clamp in a clamped state. FIG. 8B is a side view of the clamp in a clamped state. FIG. 9A is a cross-sectional perspective view of the clamp in a clamped state. FIG. 9B is a cross-sectional view of the clamp in a clamped state. FIG. 10A is a perspective view showing a configuration of a clamp in an unclamped state. FIG. 10B is a side view of the clamp in an unclamped state. FIG. 11A is a cross-sectional perspective view of the clamp in an unclamped state. FIG. 11B is a cross-sectional view showing the configuration of the clamp in an unclamped state.

前述したように、クランプ340は、ノーマルクローズ型であり、レバー342に押圧力を受けていない状態では、図8A,B及び図9A,Bに示すように、閉じた状態にある。フロントプレート300にバックプレート400を取り付ける場合には、先ず、アクチュエータAR1(図10B)によってフロントプレート300のレバー342に押圧力を加え、図10A,B及び図11A,Bに示すように、圧縮ばね343の付勢力に抗してクランプ340を開く方向に回転させる。クランプ340を開放させた状態で、フロントプレート300(フェース部312)の背面302の所定の位置にバックプレート400を配置する。このとき、フロントプレート300の位置合わせピン390が、バックプレート400の位置合わせ片490の貫通孔490aに係合して、バックプレート400がフロントプレート300の所定の位置に位置合わせされる。   As described above, the clamp 340 is a normally closed type, and is in a closed state as shown in FIGS. 8A and 8B and FIGS. 9A and 9B when the lever 342 is not subjected to a pressing force. When the back plate 400 is attached to the front plate 300, first, a pressing force is applied to the lever 342 of the front plate 300 by the actuator AR1 (FIG. 10B), and as shown in FIGS. 10A and 10B and FIGS. The clamp 340 is rotated in the opening direction against the urging force of 343. With the clamp 340 opened, the back plate 400 is disposed at a predetermined position on the back surface 302 of the front plate 300 (face portion 312). At this time, the alignment pin 390 of the front plate 300 engages with the through hole 490a of the alignment piece 490 of the back plate 400, and the back plate 400 is aligned with a predetermined position of the front plate 300.

次に、フロントプレート300のレバー342からアクチュエータAR1の押圧力を取り除く。これにより、レバー342が圧縮ばね343の付勢力によってレバー342が元の位置に向かって回転し、各クランプ340が閉じる方向に回転する。この結果、クランプ340の係合部340aが、バックプレート400の係合受部430に係合し、バックプレート400がフロントプレート300に固定される(図8A,B及び図9A,B)。   Next, the pressing force of the actuator AR1 is removed from the lever 342 of the front plate 300. Accordingly, the lever 342 is rotated toward the original position by the urging force of the compression spring 343, and the clamps 340 are rotated in the closing direction. As a result, the engaging portion 340a of the clamp 340 engages with the engaging receiving portion 430 of the back plate 400, and the back plate 400 is fixed to the front plate 300 (FIGS. 8A and B and FIGS. 9A and 9B).

バックプレート400を取り外す場合には、前述したように、アクチュエータ(図示せず)によってフロントプレート300のレバー342に押圧力を加え、圧縮ばね343の付勢力に抗してクランプ340を開く方向に回転させる(図10A,B及び図11A,B)。この結果、クランプ340が係合受部430から解放され、バックプレート400をフロントプレート300から取り外し可能となる。   When the back plate 400 is removed, as described above, a pressing force is applied to the lever 342 of the front plate 300 by an actuator (not shown), and the clamp 340 is rotated in a direction to open against the urging force of the compression spring 343. (FIGS. 10A and B and FIGS. 11A and B). As a result, the clamp 340 is released from the engagement receiving portion 430, and the back plate 400 can be detached from the front plate 300.

(基板のバックプレートへの取付構造)
図12Aは、バックプレートのクリップを示す一部切欠き側面図である。図12Bは、バックプレートのクリップを示す一部拡大斜視図である。図13Aは、閉鎖時のクリップの状態を示す一部切欠き斜視図である。図13Bは、閉鎖時のクリップの状態を示す一部切欠き断面図である。図14Aは、開放時のクリップの状態を示す一部切欠き斜視図である。図14Bは、開放時のクリップの状態を示す一部切欠き断面図である。
(Mounting structure of the board to the back plate)
FIG. 12A is a partially cutaway side view showing a clip of the back plate. FIG. 12B is a partially enlarged perspective view showing a clip of the back plate. FIG. 13A is a partially cutaway perspective view showing a state of a clip at the time of closing. FIG. 13B is a partially cutaway cross-sectional view showing the state of the clip when closed. FIG. 14A is a partially cutaway perspective view showing a state of a clip when opened. FIG. 14B is a partially cutaway cross-sectional view showing the state of the clip when opened.

バックプレート400の前面401には、基板Sの各辺に対応して合計8個のクリップ部420が設けられている(図5A参照)。また、バックプレート400の背面402には、クリップ部420の各々に対応する位置に、ボタン470が設けられている(図5B参照)。ボタン470に力が加わっていない場合、ボタン470の前面401側の面は、2つのクリップ421の基端部と所定の間隔を持って配置されている(図13B)。ボタン470は、力受部471と、力受部471をバックプレート本体410に対して変位可能に支持する弾性部分472と、弾性部分472の外周にある取付部473とを有する。ボタン470は、取付部473において押え部材474、及び締結部材475によって固定されている。締結部材475は、例えば、スタッド、ボルト等である。   A total of eight clip portions 420 corresponding to each side of the substrate S are provided on the front surface 401 of the back plate 400 (see FIG. 5A). In addition, buttons 470 are provided on the back surface 402 of the back plate 400 at positions corresponding to the clip portions 420 (see FIG. 5B). When no force is applied to the button 470, the surface on the front surface 401 side of the button 470 is disposed with a predetermined distance from the base ends of the two clips 421 (FIG. 13B). The button 470 includes a force receiving portion 471, an elastic portion 472 that supports the force receiving portion 471 so as to be displaceable with respect to the back plate main body 410, and a mounting portion 473 on the outer periphery of the elastic portion 472. The button 470 is fixed at the attachment portion 473 by a pressing member 474 and a fastening member 475. The fastening member 475 is, for example, a stud, a bolt, or the like.

各クリップ部420は、図12A,Bに示すように、バックプレート本体410の前面401に固定された固定部423と、固定部423に回転不能に固定された固定軸424と、固定軸424に対して並進しつつ回転可能に支持された2つのクリップ421と、クリップ421の各々に設けられクリップ421を閉鎖方向に付勢する巻ばね422と、を備えている。   As shown in FIGS. 12A and 12B, each clip portion 420 includes a fixed portion 423 fixed to the front surface 401 of the back plate body 410, a fixed shaft 424 fixed to the fixed portion 423 so as not to rotate, and a fixed shaft 424. Two clips 421 that are rotatably supported while being translated, and a winding spring 422 that is provided on each of the clips 421 and biases the clip 421 in the closing direction.

クリップ421は、その先端部に爪部421aを有し、その基端側には長穴421b及び2つの丸穴421cが形成されている。クリップ421は、固定軸424を長穴421bに挿通させて取り付けられている。図13Bに示すように巻ばね422は、巻回部422cと、巻回部422cから延びる脚部422a、422bを有している。巻ばね422は、針金等を複数回円形に巻いて巻回部422cを設け、所定の長さの脚部422a、422bを残したものである。脚部422aは、略直角に折れ曲がる折曲部を先端に有し、この折曲部が、クリップ421の2つ丸穴421cのうち基端側の丸穴421cに挿入及び嵌合されている。他方の脚部422bは、クリップ421には取り付けられておらず、略直角に折れ曲がる折曲部を先端に有し、この折曲部が、固定部423に設けられた規制面423aに当接した状態で支持されている。また、脚部422aは、固定部423に設けられた案内面423bによって案内される(図13B、図14B)。   The clip 421 has a claw portion 421a at its distal end, and a long hole 421b and two round holes 421c are formed on its proximal end side. The clip 421 is attached by inserting the fixed shaft 424 through the elongated hole 421b. As illustrated in FIG. 13B, the winding spring 422 includes a winding portion 422c and legs 422a and 422b extending from the winding portion 422c. The winding spring 422 is formed by winding a wire or the like a plurality of times in a circular shape to provide a winding portion 422c, leaving leg portions 422a and 422b having a predetermined length. The leg portion 422a has a bent portion that bends at a substantially right angle at the tip, and this bent portion is inserted and fitted into a round hole 421c on the proximal end side of the two round holes 421c of the clip 421. The other leg portion 422b is not attached to the clip 421, and has a bent portion that bends at a substantially right angle at the tip, and this bent portion abuts on a regulating surface 423a provided on the fixing portion 423. Supported by the state. Moreover, the leg part 422a is guided by the guide surface 423b provided in the fixing | fixed part 423 (FIG. 13B, FIG. 14B).

この構成により、クリップ421は、バックプレート本体410から離れる方向に移動しつつ、バックプレート本体410の外側に向かって回転することが可能である(図13Bから図14B)。この結果、クリップ421は、開放状態となる(図14A,B)。また、逆に、クリップ421は、バックプレート本体410に接近する方向に移動しつつ、バックプレート本体410の内側に向かって回転することが可能である(図14Bから図13B)。この結果、クリップ421は、閉鎖状態となる(図13A,B)。なお、本実施形態では、クリップ421は、外部から力を受けない状態では、巻ばね422によって閉鎖方向に付勢されており、ノーマルクローズ型である(図13A,B)。また、図14Bでは、図面の複雑化を避けるため、ボタン470の力受部471が変位していない状態を示しているが、実際には、力受部471はクリップ421に向かって変位してクリップ421を押圧しており、この押圧によってクリップ421が開放状態にある。   With this configuration, the clip 421 can rotate toward the outside of the back plate body 410 while moving away from the back plate body 410 (FIGS. 13B to 14B). As a result, the clip 421 is opened (FIGS. 14A and 14B). Conversely, the clip 421 can rotate toward the inside of the back plate body 410 while moving in a direction approaching the back plate body 410 (FIGS. 14B to 13B). As a result, the clip 421 is closed (FIGS. 13A and 13B). In this embodiment, the clip 421 is biased in the closing direction by the winding spring 422 in a state in which no force is applied from the outside, and is normally closed (FIGS. 13A and 13B). 14B shows a state where the force receiving portion 471 of the button 470 is not displaced in order to avoid complication of the drawing, but in reality, the force receiving portion 471 is displaced toward the clip 421. The clip 421 is pressed, and the clip 421 is in an open state by this pressing.

基板Sをバックプレート400に載置する場合、バックプレート400の8個のボタン470(力受部471)に、外部からアクチュエータAR2によって押圧力を加える(図
14B)。これにより、図14A,Bに示すように、力受部471が前面401側に変位し、2つのクリップ421の基端部に当接する。力受部471から受ける力によって、クリップ421は、図14Bに示すように、バックプレート本体410から離れる方向に移動しつつ、バックプレート本体410の外側に回転し、開放状態となる(図14B)。図14Bに模式的に示したように、アクチュエータAR2は、例えば、エアシリンダ、モータ等の駆動部DRVと、駆動部DRVによって駆動される棒状部材RDとを備える。アクチュエータAR2は、8個のボタン470に対応して8台設けられている。好ましくは、8台のアクチュエータAR2は、同時に駆動されてボタン470を押す。但し、8台のアクチュエータAR2は、別々に駆動してもよく、同時に駆動することに限定されない。
When the substrate S is placed on the back plate 400, a pressing force is applied to the eight buttons 470 (force receiving portion 471) of the back plate 400 from the outside by the actuator AR2 (FIG. 14B). As a result, as shown in FIGS. 14A and 14B, the force receiving portion 471 is displaced toward the front surface 401 and comes into contact with the proximal end portions of the two clips 421. As shown in FIG. 14B, the clip 421 rotates in the direction away from the back plate body 410 by the force received from the force receiving portion 471, and rotates to the outside of the back plate body 410 to be in an open state (FIG. 14B). . As schematically shown in FIG. 14B, the actuator AR2 includes, for example, a drive unit DRV such as an air cylinder or a motor, and a rod-shaped member RD driven by the drive unit DRV. Eight actuators AR2 are provided corresponding to the eight buttons 470. Preferably, the eight actuators AR2 are simultaneously driven to press the button 470. However, the eight actuators AR2 may be driven separately and are not limited to being driven simultaneously.

クリップ421が開放した状態で、バックプレート400の前面401の所定の位置に基板Sを載置し、その後、ボタン470からアクチュエータAR2による押圧力を解放する。この結果、クリップ421は、巻ばね422の付勢力によって、バックプレート本体410に接近する方向に移動しつつ、バックプレート本体410の内側に回転し、閉鎖状態となる(図14Bから図13B)。このとき、クリップ421の先端の爪部421aが基板Sの周縁部に係合し、基板Sをバックプレート400の前面401に固定することができる。   In a state where the clip 421 is opened, the substrate S is placed at a predetermined position on the front surface 401 of the back plate 400, and then the pressing force by the actuator AR2 is released from the button 470. As a result, the clip 421 rotates inward of the back plate main body 410 while moving in a direction approaching the back plate main body 410 by the urging force of the winding spring 422, and enters a closed state (FIGS. 14B to 13B). At this time, the claw portion 421 a at the tip of the clip 421 engages with the peripheral edge portion of the substrate S, and the substrate S can be fixed to the front surface 401 of the back plate 400.

このように基板Sを取り付けたバックプレート400を、図5から図13で説明したように、フロントプレート300(フェース部312)に取り付ければ、基板ホルダ1への基板Sの取り付けが完了する。基板Sをバックプレート400から取り外す場合、前述したように、バックプレート400の8個のボタン470(力受部471)に、外部からアクチュエータAR2によって押圧力を加える(図14A、B)。   If the back plate 400 to which the substrate S is thus attached is attached to the front plate 300 (face portion 312) as described with reference to FIGS. 5 to 13, the attachment of the substrate S to the substrate holder 1 is completed. When removing the substrate S from the back plate 400, as described above, the pressing force is applied to the eight buttons 470 (force receiving portion 471) of the back plate 400 from the outside by the actuator AR2 (FIGS. 14A and 14B).

なお、ここでは、バックプレート本体410の面401、402に平行な固定軸424の周りにクリップ421が回転するように構成したが、バックプレート本体410の面401、402に垂直な方向に往復運動して基板Sをクランプするようにクリップ421を構成してもよい。   Here, the clip 421 is configured to rotate around the fixed shaft 424 parallel to the surfaces 401 and 402 of the back plate body 410, but reciprocating in a direction perpendicular to the surfaces 401 and 402 of the back plate body 410. Then, the clip 421 may be configured to clamp the substrate S.

(シール部の構成)
図15は、フロントプレートのインナーシール部を示す断面図である。図16は、フロントプレートのインナーシール部及びアウターシール部を示す断面図である。
(Configuration of seal part)
FIG. 15 is a cross-sectional view showing the inner seal portion of the front plate. FIG. 16 is a cross-sectional view showing the inner seal portion and the outer seal portion of the front plate.

フロントプレート300の背面302には、開口部303に隣接してインナーシール361が設けられている。インナーシール361は、シールホルダ363によってフロントプレート300の背面302に取り付けられている。インナーシール361は、基板Sとフロントプレート300との間をシールし、めっき液が基板Sの端部に侵入することを防止する。シールホルダ363には、基板Sに電位を供給するためのコンタクト370も取り付けられている。   An inner seal 361 is provided on the back surface 302 of the front plate 300 adjacent to the opening 303. The inner seal 361 is attached to the back surface 302 of the front plate 300 by a seal holder 363. The inner seal 361 seals between the substrate S and the front plate 300 and prevents the plating solution from entering the end of the substrate S. A contact 370 for supplying a potential to the substrate S is also attached to the seal holder 363.

また、図16に示すように、フロントプレート300の背面302には、インナーシール361よりも外側において、アウターシール362がシールホルダ364によって取り付けられている。アウターシール362は、バックプレート400に当接し、フロントプレート300とバックプレート400との間をシールする。   Further, as shown in FIG. 16, an outer seal 362 is attached to the back surface 302 of the front plate 300 by a seal holder 364 outside the inner seal 361. The outer seal 362 contacts the back plate 400 and seals between the front plate 300 and the back plate 400.

本実施形態では、インナーシール361及びアウターシール362を取り付けるシールホルダ363、364が別部材で構成されているので、インナーシール361及びアウターシール362を別々に交換することができる。   In the present embodiment, since the seal holders 363 and 364 to which the inner seal 361 and the outer seal 362 are attached are configured as separate members, the inner seal 361 and the outer seal 362 can be replaced separately.

図17は、フロントプレート本体の背面図である。図18は、フロントプレートのコネ
クタを含む領域の一部拡大平面図である。図19Aは、フロントパネルの断面斜視図である。図19Bは、フロントパネルの断面図である。図19Cは、ケーブルの配置を示すフロントパネルの一部拡大斜視図である。図20Aは、配線バッファ部の図示を省略した場合の、フェース部のケーブル導入位置付近の斜視図である。図20Bは、配線バッファ部の図示を省略した場合の、フェース部のケーブル導入位置付近を示す上面図である。図20Cは、配線バッファ部の図示を省略した場合の、フェース部のケーブル導入位置付近を示す上面図の拡大図である。
FIG. 17 is a rear view of the front plate body. FIG. 18 is a partially enlarged plan view of a region including the front plate connector. FIG. 19A is a cross-sectional perspective view of the front panel. FIG. 19B is a cross-sectional view of the front panel. FIG. 19C is a partially enlarged perspective view of the front panel showing the arrangement of the cables. FIG. 20A is a perspective view of the vicinity of the cable introduction position of the face portion when illustration of the wiring buffer portion is omitted. FIG. 20B is a top view showing the vicinity of the cable introduction position of the face portion when the illustration of the wiring buffer portion is omitted. FIG. 20C is an enlarged top view showing the vicinity of the cable introduction position of the face portion when the illustration of the wiring buffer portion is omitted.

フロントプレート本体310の背面302は、18個のコンタクト領域C1−C18を有する。コンタクト領域C1−C7、C17、C18は、フェース部312のうちコネクタ331側の半分の領域(第1領域、図17の右側半分の領域)に配置されており、コンタクト領域C8−C16は、フェース部312のうちコネクタ331から遠い側の半分の領域(第2領域、図17の左側半分の領域)に配置されている。以下の説明では、便宜上、第1領域に配置されるケーブルを第1グループのケーブル、第2領域に配置されるケーブルを第2グループのケーブルと称す場合がある。   The back surface 302 of the front plate body 310 has 18 contact regions C1-C18. The contact areas C1-C7, C17, C18 are arranged in a half area (first area, right half area in FIG. 17) of the face portion 312 on the connector 331 side. The portion 312 is arranged in a half area far from the connector 331 (second area, left half area in FIG. 17). In the following description, for the sake of convenience, a cable arranged in the first region may be referred to as a first group of cables, and a cable arranged in the second region may be referred to as a second group of cables.

各コンタクト領域C1−C18には、図15、図16に図示した基板Sに給電するためのコンタクト(接点部材)370が含まれる。各コンタクト領域C1−C18のコンタクト370には、それぞれ、ケーブルL1−L18を介して、外部から給電される。なお、以下の説明では、各ケーブルを区別する必要がない場合には、ケーブルL1−L18をまとめて、ケーブルLと総称する場合がある。また、任意のケーブルをケーブルLとして参照する場合もある。   Each contact region C1-C18 includes a contact (contact member) 370 for supplying power to the substrate S shown in FIGS. The contacts 370 in the contact regions C1 to C18 are supplied with power from the outside via the cables L1 to L18, respectively. In the following description, when it is not necessary to distinguish between the cables, the cables L1 to L18 may be collectively referred to as a cable L in some cases. An arbitrary cable may be referred to as the cable L.

ケーブルL1−L18の第1端部は、アーム部330の一端に設けられたコネクタ331に接続されおり、より詳細には、コネクタ331において個別の接点または複数本ずつ共通の接点(図示省略)に電気的に接続されている。ケーブルL1−L18は、コネクタ331の各接点を介して外部の電源(電源回路、電源装置等)に電気的に接続可能である。   The first end portions of the cables L1 to L18 are connected to a connector 331 provided at one end of the arm portion 330. More specifically, in the connector 331, individual contacts or a plurality of common contacts (not shown) are connected. Electrically connected. Cables L1-L18 can be electrically connected to an external power supply (power supply circuit, power supply device, etc.) via each contact of connector 331.

図22は、ケーブルと外部接続接点との接続関係を説明する説明図である。
コネクタ331では、ケーブルL1−L18が外部接続接点331a1、331a2に接続される(図22)。外部接続接点331a1、331a2には、外部電源からの給電端子に接続される。例えば、第1グループのケーブル(L1−L7、L17、L18)の3本を共通の第1側の外部接続接点331a1に接続し、第2グループのケーブル(L8−L16)の3本のケーブルを共通の第2側の外部接続接点331a2に接続し、これらの第1側の外部接続接点331a1と第2側の外部接続接点331a2とを一対の外部接続接点331aとする。ここで、第1側及び第2側とは、コネクタ331において接点が2列に並んでいる場合の各側に対応する。例えば、図17において、基板ホルダ1のコネクタ331を右側方から見た場合に、右側を第1側、左側を第2側とする。具体的には、以下のように外部接続接点を構成する。
FIG. 22 is an explanatory diagram illustrating a connection relationship between the cable and the external connection contact.
In the connector 331, the cables L1-L18 are connected to the external connection contacts 331a1, 331a2 (FIG. 22). The external connection contacts 331a1, 331a2 are connected to a power supply terminal from an external power source. For example, three cables of the first group (L1-L7, L17, L18) are connected to the common first-side external connection contact 331a1, and three cables of the second group of cables (L8-L16) are connected. The first external connection contact 331a1 and the second external connection contact 331a2 are connected to the common second external connection contact 331a2, and the pair of external connection contacts 331a. Here, the first side and the second side correspond to the respective sides when the contacts are arranged in two rows in the connector 331. For example, in FIG. 17, when the connector 331 of the substrate holder 1 is viewed from the right side, the right side is the first side and the left side is the second side. Specifically, the external connection contact is configured as follows.

ケーブルL17、L18、L1を共通の第1側の外部接続接点331a1に接続し、ケーブルL8、L9、L10を共通の第2側の外部接続接点331a2に接続し、これらの第1側の外部接続接点331a1と第2側の外部接続接点331a2とを一対(第1対、又は第1の外部接続接点対331aと称す)とする。   Cables L17, L18, and L1 are connected to a common first-side external connection contact 331a1, and cables L8, L9, and L10 are connected to a common second-side external connection contact 331a2, and these first-side external connections The contact 331a1 and the second-side external connection contact 331a2 are paired (referred to as a first pair or a first external connection contact pair 331a).

ケーブルL2、L3、L4を別の第1側の外部接続接点331a1に接続し、ケーブルL11、L12、L13を別の第2側の外部接続接点331a2に接続し、これらの第1側の外部接続接点331a1と第2側の外部接続接点331a2とを一対(第2対、又は第2の外部接続接点対331aと称す)とする。   The cables L2, L3, and L4 are connected to another external connection contact 331a1 on the first side, and the cables L11, L12, and L13 are connected to another external connection contact 331a2 on the second side, and these external connections on the first side The contact 331a1 and the second-side external connection contact 331a2 are paired (referred to as a second pair or a second external connection contact pair 331a).

ケーブルL5、L6、L7を別の第1側の外部接続接点331a1に接続し、ケーブルL14、L15、L16を別の第2側の外部接続接点331a2に接続し、これらの第1側の外部接続接点331a1と第2側の外部接続接点331a2とを一対(第3対、又は第3の外部接続接点対331aと称す)とする。   The cables L5, L6, and L7 are connected to another external connection contact 331a1 on the first side, and the cables L14, L15, and L16 are connected to another external connection contact 331a2 on the second side, and these external connections on the first side The contact 331a1 and the second-side external connection contact 331a2 are paired (referred to as a third pair or a third external connection contact pair 331a).

コネクタ331において、各外部接続接点対331aの第1側の外部接続接点331a1と第2側の外部接続接点331a2とは互いに対向して配置されている。第1の外部接続接点対331aの第1側の外部接続接点331a1と第2側の外部接続接点331a2とは互いに対向して配置され、第2の外部接続接点対331aの第1側の外部接続接点331a1と第2側の外部接続接点331a2とは互いに対向して配置され、第3の外部接続接点対331aの第1側の外部接続接点331a1と第2側の外部接続接点331a2とは互いに対向して配置される。   In the connector 331, the external connection contact 331a1 on the first side and the external connection contact 331a2 on the second side of each external connection contact pair 331a are arranged to face each other. The first-side external connection contact 331a1 and the second-side external connection contact 331a2 of the first external connection contact pair 331a are arranged to face each other, and the first-side external connection of the second external connection contact pair 331a. The contact 331a1 and the second-side external connection contact 331a2 are arranged to face each other, and the first-side external connection contact 331a1 and the second-side external connection contact 331a2 of the third external connection contact pair 331a face each other. Arranged.

基板着脱機構29において、通電確認処理が実行される。具体的には、基板ホルダ1に基板Sが保持された後(バックプレート400がフロントプレート300のクランプ340で固定された後)、コネクタ331の第1〜第3対に抵抗測定器(図示せず)が接続され、各対における第1外部接続接点と第2外部接続接点との間に、所定の検査電圧が印加される。これにより、各対における第1外部接続接点と第2外部接続接点との間の電気抵抗が測定される。そして、各対の電気抵抗が所定値以下かつ所定の範囲内であれば(各対の電気抵抗にばらつきがなく、断線等の異常がない)、基板ホルダ1の通電が良好であると判断する(通電確認処理)。この通電確認処理は、コントローラ175の制御部175Cで実行され、前述した「基板脱着機構29における基板の基板ホルダへの着脱制御」に含むことができる。   In the substrate attaching / detaching mechanism 29, an energization confirmation process is executed. Specifically, after the substrate S is held on the substrate holder 1 (after the back plate 400 is fixed by the clamp 340 of the front plate 300), a resistance measuring device (not shown) is connected to the first to third pairs of the connector 331. And a predetermined inspection voltage is applied between the first external connection contact and the second external connection contact in each pair. Thereby, the electrical resistance between the first external connection contact and the second external connection contact in each pair is measured. If the electrical resistance of each pair is equal to or less than a predetermined value and within a predetermined range (the electrical resistance of each pair is not varied and there is no abnormality such as disconnection), it is determined that the substrate holder 1 is energized well. (Energization confirmation process). This energization confirmation process is executed by the controller 175C of the controller 175, and can be included in the above-described “control of attaching / detaching the substrate to / from the substrate holder by the substrate attaching / detaching mechanism 29”.

ケーブルL1−L18の他端である第2端部は、後述するように、それぞれ、コンタクト領域C1−C18においてコンタクト370に電気的に接続される。各ケーブルL1−L18は、コネクタ331から、アーム部330を通って、一方の取付部320を通過し、配線バッファ部311に入る(図18)。配線バッファ部311において、ケーブルL1−L18のうちケーブルL17、L18、L1−L7が、第1領域(コネクタ側の領域)に向かい、ケーブルL8−L16が、第2領域(コネクタから遠い側の領域)に向かう。図18では、第1領域に配置される第1グループのケーブルL17、L18、L1−L7が主に示されている。図18に示すように、第1グループのケーブルL17、L18、L1−L7は、配線バッファ部311を通過して、フェース部312におけるシールホルダ363、364間のケーブル通路365に導かれる。図示省略するが、第2グループのケーブルL8−16も、配線バッファ部311の第2領域(コネクタから遠い側の領域)を通過して、フェース部312の第2領域においてケーブル通路365に導かれる。なお、図18では、図面の複雑化を避けるため、ケーブルの長さの一部を省略して表示している。また、配線バッファ部311におけるケーブルL1−L18の配置は、ケーブルL1−L18の長さの一部をバッファするように任意の配置とすることができる。   The second ends, which are the other ends of the cables L1-L18, are electrically connected to the contacts 370 in the contact regions C1-C18, respectively, as will be described later. Each cable L1-L18 passes from the connector 331, through the arm portion 330, through one attachment portion 320, and enters the wiring buffer portion 311 (FIG. 18). In the wiring buffer unit 311, among the cables L1-L18, the cables L17, L18, L1-L7 are directed to the first area (connector side area), and the cables L8-L16 are the second area (area far from the connector). ) FIG. 18 mainly shows the first group of cables L17, L18, and L1-L7 arranged in the first region. As shown in FIG. 18, the first group of cables L <b> 17, L <b> 18, L <b> 1-L <b> 7 passes through the wiring buffer unit 311 and is guided to the cable passage 365 between the seal holders 363 and 364 in the face unit 312. Although not shown, the second group of cables L8-16 also pass through the second region (region far from the connector) of the wiring buffer unit 311 and are guided to the cable path 365 in the second region of the face unit 312. . In FIG. 18, in order to avoid complication of the drawing, a part of the cable length is omitted. Further, the arrangement of the cables L1-L18 in the wiring buffer unit 311 can be arbitrarily arranged so as to buffer a part of the length of the cables L1-L18.

配線バッファ部311のフェース部312側には、肉厚部3113が設けられている(図19A、図19B)。配線バッファ部311の肉厚部3113及びフェース部312には、シールホルダ363、364間のケーブル通路365まで、各ケーブルL1−L18に対応する配線穴311aが設けられている(図19A、図19B)。ここで、配線穴311aは、ケーブルが通過可能な径を有する錐穴である。図19Aでは、1つの配線穴311aのみを示しているが、実際には、配線穴311aは、図19Cに示すように、各ケーブルに対応して複数設けられている。少なくともケーブルの数の配線穴311aが設けられている。   A thick portion 3113 is provided on the face portion 312 side of the wiring buffer portion 311 (FIGS. 19A and 19B). Wiring holes 311a corresponding to the respective cables L1-L18 are provided in the thick portion 3113 and the face portion 312 of the wiring buffer portion 311 up to the cable passage 365 between the seal holders 363 and 364 (FIGS. 19A and 19B). ). Here, the wiring hole 311a is a conical hole having a diameter through which the cable can pass. Although only one wiring hole 311a is shown in FIG. 19A, actually, a plurality of wiring holes 311a are provided corresponding to each cable as shown in FIG. 19C. Wiring holes 311a corresponding to at least the number of cables are provided.

本実施形態では、図19A、図19Bに示すように、配線バッファ部311は、フロントパネル本体310のフェース部312とは別体で設けられ、フェース部312に取り付けられている。配線バッファ部311とフェース部312の境界においてケーブルの周囲には、配線穴311a及びケーブルLを密閉するためのOリング501が配置されている。これにより、配線穴311a及びケーブルLが、めっき液や、外部からの異物から保護される。   In this embodiment, as shown in FIGS. 19A and 19B, the wiring buffer unit 311 is provided separately from the face unit 312 of the front panel main body 310 and is attached to the face unit 312. An O-ring 501 for sealing the wiring hole 311 a and the cable L is disposed around the cable at the boundary between the wiring buffer unit 311 and the face unit 312. Thereby, the wiring hole 311a and the cable L are protected from the plating solution and foreign matter from the outside.

図21Aは、コネクタに近い側のフェース部の隅部近傍における背面図である。図21Bは、コネクタに近い側のフェース部の隅部近傍をさらに拡大した背面図である。図21Cは、図21AのC−C線における断面図である。図21Dは、ケーブルの被覆を除去した部分の斜視図である。   FIG. 21A is a rear view in the vicinity of the corner portion of the face portion on the side close to the connector. FIG. 21B is a rear view further enlarging the vicinity of the corner of the face near the connector. FIG. 21C is a cross-sectional view taken along the line CC of FIG. 21A. FIG. 21D is a perspective view of a portion where the cable covering is removed.

ケーブルL1−L7は、図21A及び図21Bに示すように、同一平面内に並んでケーブル通路365内に導入され、開口部303のコネクタ331側の辺に沿って配置されている。ケーブル同士は、フェース部312の厚み方向に重ならない。従って、フェース部312及びフロントパネル300の厚みを抑制することができる。   As shown in FIGS. 21A and 21B, the cables L1-L7 are introduced into the cable passage 365 side by side in the same plane, and are arranged along the side of the opening 303 on the connector 331 side. The cables do not overlap in the thickness direction of the face portion 312. Therefore, the thickness of the face portion 312 and the front panel 300 can be suppressed.

図21A及び図21Bに示すように、開口部303の各辺に沿って、コンタクト領域C1−C18ごとに導電体からなるコンタクト370が配置されている。コンタクト370は、インナーシール361に接触しないが、隣接して配置されている。コンタクト370は、シールホルダ363上に配置されており、複数のネジ511でシールホルダに固定されている。シールホルダ363には、各コンタクト領域においてケーブル通路365から接続位置(ネジ511の位置)まで、ケーブルを引き込む配線溝363aが設けられている。ケーブルLは、図21Dに示すように、電気的な伝導体からなる心線又は導電線601と、導電線601を絶縁するための被覆602とを備えている。ケーブルLは、先端部(第2端部)において、被覆602が除去され、心線又は導電線601が露出される。そして、ケーブルLの心線601が配線溝363aに引き込まれる。なお、割り当てられたコンタクト領域において引き込まれたケーブルLは、そのコンタクト領域で終端する。   As shown in FIGS. 21A and 21B, a contact 370 made of a conductor is arranged for each contact region C1-C18 along each side of the opening 303. The contact 370 does not contact the inner seal 361 but is disposed adjacent to it. The contact 370 is disposed on the seal holder 363 and is fixed to the seal holder with a plurality of screws 511. The seal holder 363 is provided with a wiring groove 363a for drawing the cable from the cable passage 365 to the connection position (position of the screw 511) in each contact region. As shown in FIG. 21D, the cable L includes a core wire or a conductive wire 601 made of an electrical conductor, and a coating 602 for insulating the conductive wire 601. In the cable L, the sheath 602 is removed at the distal end (second end), and the core wire or the conductive wire 601 is exposed. Then, the core wire 601 of the cable L is drawn into the wiring groove 363a. Note that the cable L drawn in the assigned contact region terminates in the contact region.

例えば、コンタクト領域C1では、コンタクト領域C1近傍のケーブル通路365に向かって開口する配線溝363a(図21C)が、シールホルダ363中に形成され、この配線溝363aは、コンタクト領域C1に設けられた4つのネジ(締結部材)511の下方を通過するように延びかつ終端する(図21A)。同様に、コンタクト領域C2では、コンタクト領域C2近傍のケーブル通路365に向かって開口する配線溝363aが、シールホルダ363中に形成され、この配線溝363aは、コンタクト領域C2に設けられた4つのネジ511の下方を通過するように延びかつ終端する。ネジ511と配線溝363aの位置関係を図21Cに示している。ケーブルL(図21Cでは、L1)が配線溝363aに配置されたとき、ネジ511のフランジ部511aによって、コンタクト370及びケーブル(心線)が押圧される。   For example, in the contact region C1, a wiring groove 363a (FIG. 21C) that opens toward the cable passage 365 near the contact region C1 is formed in the seal holder 363, and the wiring groove 363a is provided in the contact region C1. It extends so as to pass under the four screws (fastening members) 511 and terminates (FIG. 21A). Similarly, in the contact region C2, a wiring groove 363a that opens toward the cable passage 365 near the contact region C2 is formed in the seal holder 363, and the wiring groove 363a includes four screws provided in the contact region C2. Extends and terminates to pass below 511. The positional relationship between the screw 511 and the wiring groove 363a is shown in FIG. 21C. When the cable L (L1 in FIG. 21C) is disposed in the wiring groove 363a, the contact 370 and the cable (core wire) are pressed by the flange portion 511a of the screw 511.

各コンタクト領域におけるケーブルLとコンタクト370との電気接続は、以下のように行われている。ケーブルL1を例に挙げると、ケーブルL1の先端部(第2端部)は、被覆602が除去されて、心線(導電線)601が露出している(図21A−D)。ケーブルL1の先端部は、コンタクトC1の近傍においてシールホルダ363の配線溝363a内に導入され、コンタクト領域C1内で、4箇所のネジ(締結部材)511によってコンタクト370とともに押圧されている。つまり、ネジ(締結部材)511とシールホルダ363とが、ケーブルL1の心線601をコンタクト370とともに挟持している。この結果、図21Cに示すように、ケーブルL1は、コンタクト370に電気的に接続される。基板ホルダ1が基板Sを保持すると、コンタクト370が基板Sに接触して、外部の電源からケーブルL1、コンタクト370を介して基板Sに給電が行われる。他のコンタ
クト領域C2−C18も同様に構成されており、18箇所のコンタクト370から基板Sに給電が行われる。
The electrical connection between the cable L and the contact 370 in each contact region is performed as follows. Taking the cable L1 as an example, the sheath (602) is removed from the tip (second end) of the cable L1, and the core wire (conductive wire) 601 is exposed (FIGS. 21A to 21D). The distal end of the cable L1 is introduced into the wiring groove 363a of the seal holder 363 in the vicinity of the contact C1, and is pressed together with the contact 370 by four screws (fastening members) 511 in the contact region C1. That is, the screw (fastening member) 511 and the seal holder 363 sandwich the core wire 601 of the cable L1 together with the contact 370. As a result, as shown in FIG. 21C, the cable L1 is electrically connected to the contact 370. When the substrate holder 1 holds the substrate S, the contact 370 comes into contact with the substrate S, and power is supplied to the substrate S from the external power source via the cable L1 and the contact 370. The other contact regions C2-C18 are similarly configured, and power is supplied to the substrate S from 18 contacts 370.

コンタクト領域C1には、ケーブルL2−L7は引き込まれないので、コンタクト領域C1とコンタクト領域C2との間では、ケーブルL2−L7が並んで配置されている。コンタクト領域C2では、コンタクト領域C1と同様に、ケーブルL2がシールホルダ363の配線溝363aに引き込まれ、4箇所のネジ511によってコンタクト370とともに押圧され、コンタクト370と電気的に接続される。この結果、コンタクト領域C2とコンタクト領域C3との間では、ケーブルL3−L7が並んで配置されている。同様にして、ケーブルL3−L7が、それぞれコンタクト領域C3−C7において、コンタクト370と電気的に接続される。この結果、コンタクト領域C3とC4との間ではケーブルL4−L7が並んで配置され、コンタクト領域C4とC5との間ではケーブルL5−L7が並んで配置され、コンタクト領域C5とC6との間ではケーブルL6−L7が並んで配置され、コンタクト領域C6とC7との間ではケーブルL7が並んで配置される。   Since the cable L2-L7 is not drawn into the contact region C1, the cables L2-L7 are arranged side by side between the contact region C1 and the contact region C2. In the contact region C2, as in the contact region C1, the cable L2 is drawn into the wiring groove 363a of the seal holder 363, and is pressed together with the contact 370 by the four screws 511 to be electrically connected to the contact 370. As a result, the cables L3 to L7 are arranged side by side between the contact region C2 and the contact region C3. Similarly, cables L3-L7 are electrically connected to contacts 370 in contact regions C3-C7, respectively. As a result, the cables L4-L7 are arranged side by side between the contact regions C3 and C4, the cables L5-L7 are arranged side by side between the contact regions C4 and C5, and between the contact regions C5 and C6. Cables L6-L7 are arranged side by side, and cable L7 is arranged side by side between contact regions C6 and C7.

ケーブルL17、L18も同様に、それぞれコンタクト領域C17、C18において、コンタクト370と電気的に接続される。また、コネクタから遠い側の領域(第2領域)でも、ケーブルL8−L16が、第1領域のケーブルと同様に、それぞれコンタクト領域C8−C16において、コンタクト370と電気的に接続される。   Similarly, the cables L17 and L18 are electrically connected to the contacts 370 in the contact regions C17 and C18, respectively. Also, in the region far from the connector (second region), the cables L8 to L16 are electrically connected to the contacts 370 in the contact regions C8 to C16, respectively, similarly to the cables in the first region.

本実施形態では、コンタクト370とともにケーブルLが挟持され、ケーブルLとコンタクト370とが直接、電気的に接続される場合を説明したが、ケーブルLとコンタクト370との間に別の導電部材(第2導電部材)を介在させるようにしてもよい。   In the present embodiment, the case where the cable L is sandwiched together with the contact 370 and the cable L and the contact 370 are directly electrically connected has been described. 2 conductive members) may be interposed.

(配線バッファ部)
図23は、配線バッファ部の近傍のフロントプレートの斜視図である。図24は、配線バッファ部の拡大斜視図である。図25は、配線バッファ部の蓋部材の背面図である。図26は、配線バッファ部の蓋部材の側面図である。
(Wiring buffer)
FIG. 23 is a perspective view of the front plate in the vicinity of the wiring buffer unit. FIG. 24 is an enlarged perspective view of the wiring buffer unit. FIG. 25 is a rear view of the lid member of the wiring buffer unit. FIG. 26 is a side view of the lid member of the wiring buffer unit.

配線バッファ部311は、収容部本体3111と、蓋部材3120とを備えている。収容部本体311は、例えば、チタンで形成される。蓋部材3120は、例えば、ポリ塩化ビニル(PVC)で形成される。なお、フェース部312及びアーム部330もチタンで形成することができる。また、バックプレート400も全体的にチタンで形成することができる。本実施形態では、蓋部材3120は、配線バッファ部311の専用の蓋であり、フェース部312等の他の部分を覆う部材と共用されるものではない。   The wiring buffer unit 311 includes a housing main body 3111 and a lid member 3120. The container main body 311 is made of titanium, for example. The lid member 3120 is made of, for example, polyvinyl chloride (PVC). Note that the face portion 312 and the arm portion 330 can also be formed of titanium. Further, the back plate 400 can be formed entirely of titanium. In the present embodiment, the lid member 3120 is a dedicated lid for the wiring buffer unit 311, and is not shared with a member that covers other parts such as the face unit 312.

収容部本体311は、概ね矩形状であり、その背面に形成された凹部3112を有している。凹部3112は、略立方体形状の空間であり、配線収容空間3140を形成する。凹部3112は、フェース部312の幅方向の概ね全体にわたって形成されており、フェース部312の幅よりも若干短い幅を有する。収容部本体311は、フェース部312側において肉厚部3113を有している。肉厚部3113の前面には、フェース部312に係合する段差部3113aが形成されている。収容部本体311は、取付部320側において肉厚部3114を有している。肉厚部3114は、各取付部320に対応して突出する2つの突出部3114aを有している。各突出部3114aの背面には、取付部320に係合する段差部3114bが形成されている。凹部3112は、フェース部312側の肉厚部3113、取付部320側の肉厚部3114、及び、幅方向両側の肉厚部によって囲まれた矩形状の空間を形成する。   The housing main body 311 has a generally rectangular shape and has a recess 3112 formed on the back surface thereof. The recess 3112 is a substantially cubic space and forms a wiring accommodation space 3140. The concave portion 3112 is formed over substantially the entire width direction of the face portion 312, and has a width slightly shorter than the width of the face portion 312. The accommodating portion main body 311 has a thick portion 3113 on the face portion 312 side. A stepped portion 3113 a that engages with the face portion 312 is formed on the front surface of the thick portion 3113. The accommodating portion main body 311 has a thick portion 3114 on the attachment portion 320 side. The thick portion 3114 has two projecting portions 3114 a projecting corresponding to the mounting portions 320. A stepped portion 3114b that engages with the mounting portion 320 is formed on the back surface of each protruding portion 3114a. The concave portion 3112 forms a rectangular space surrounded by the thick portion 3113 on the face portion 312 side, the thick portion 3114 on the attachment portion 320 side, and the thick portions on both sides in the width direction.

蓋部材3120は、概ね矩形状であり、前面側(収容部本体3111に取り付けられる側)に凹部3121を有する。凹部3120は、平面視において、収容部本体3111の
凹部3112に概ね合致する形状を有し、蓋部材3120が収容部本体3111に取り付けられたとき、凹部3112とともに配線収容空間3140を形成する。蓋部材3120の凹部3121の周囲の肉厚部には、シール溝3122が凹部3121を囲むように設けられている(図25)。シール溝3122には、シール部材3130が取り付けられている(図23)。シール部材3130は、例えば、Oリング、パッキン等である。蓋部材3120が収容部本体311に取り付けられたとき、シール部材3130は蓋部材3120と収容部本体311の間を密閉し、配線収容空間3140を気密に封止する(図24)。蓋部材3120の周縁部には、ボルト、スタッド等の締結部材3131を通す固定用の穴3131aが設けられており、収容部本体3111には、穴3131aに対応する穴が設けられている。蓋部材3120は、穴3131aの位置で締結部材3131によって収容部本体3111に固定される(図24)。
The lid member 3120 has a substantially rectangular shape, and has a recess 3121 on the front surface side (side attached to the housing portion main body 3111). The concave portion 3120 has a shape that substantially matches the concave portion 3112 of the housing portion main body 3111 in plan view, and forms the wiring housing space 3140 together with the concave portion 3112 when the lid member 3120 is attached to the housing portion main body 3111. A seal groove 3122 is provided in a thick portion around the recess 3121 of the lid member 3120 so as to surround the recess 3121 (FIG. 25). A seal member 3130 is attached to the seal groove 3122 (FIG. 23). The seal member 3130 is, for example, an O-ring or packing. When the lid member 3120 is attached to the housing portion main body 311, the seal member 3130 seals between the lid member 3120 and the housing portion main body 311 and hermetically seals the wiring housing space 3140 (FIG. 24). A fixing hole 3131a through which a fastening member 3131 such as a bolt or a stud is passed is provided in the peripheral portion of the lid member 3120, and a hole corresponding to the hole 3131a is provided in the housing portion main body 3111. The lid member 3120 is fixed to the housing main body 3111 by the fastening member 3131 at the position of the hole 3131a (FIG. 24).

図27は、配線バッファ部の近傍のフロントプレートの背面図である。図28は、蓋部材を取り外した状態の配線バッファ部の近傍のフロントプレートの背面図である。図29は、蓋部材を取り外した状態の配線バッファ部の近傍のフロントプレートの斜視図である。   FIG. 27 is a rear view of the front plate in the vicinity of the wiring buffer unit. FIG. 28 is a rear view of the front plate in the vicinity of the wiring buffer portion with the lid member removed. FIG. 29 is a perspective view of the front plate in the vicinity of the wiring buffer portion with the lid member removed.

フロントプレート300において、配線バッファ部311は、フェース部312と、アーム部330との間に配置されている。ここで、基板ホルダ1は、めっき槽39(図1)内においてアーム部330で懸架され、略鉛直な姿勢でめっき液に浸かるように配置される。配線収容部311の配線収容空間3140(凹部3112)は、基板ホルダ1がめっき槽39に配置された際に、めっき液面WL(図27、図28)の高さ以上になる位置(例えば、めっき液面WLよりも所定の距離高い位置)に配置されている。例えば、シール部材3130の下端がめっき液面WLの高さ以上になる位置に、配線収容部311を基板ホルダ1内に配置してもよい。   In the front plate 300, the wiring buffer unit 311 is disposed between the face unit 312 and the arm unit 330. Here, the substrate holder 1 is suspended by the arm portion 330 in the plating tank 39 (FIG. 1), and is disposed so as to be immersed in the plating solution in a substantially vertical posture. The wiring housing space 3140 (concave portion 3112) of the wiring housing portion 311 has a position (for example, higher than the height of the plating solution WL (FIGS. 27 and 28) when the substrate holder 1 is placed in the plating tank 39 (for example, (Position at a predetermined distance higher than the plating solution surface WL). For example, the wiring housing portion 311 may be disposed in the substrate holder 1 at a position where the lower end of the seal member 3130 is equal to or higher than the height of the plating solution surface WL.

フェース部312は、上述したように、バックプレート400と共に、基板Sを挟持して保持する。フェース部312及びバックプレート400は、基板Sを挟持する挟持部を構成する。配線バッファ部311の収容部本体3111は、ボルト、スタッド等の締結部材3116によってフェース部312に固定されている。また、配線バッファ部3111の収容部本体3111は、2つの取付部320によってアーム部330に固定されている。収容部本体3111は、ボルト、スタッド等の締結部材320aによって2つの取付部320に固定されている。取付部320は、ボルト、スタッド等の締結部材330aによってアーム部330に固定されている。アーム部330の一端側には、コネクタ331が設けられている。コネクタ331には、複数の外部接続接点331a(331a1、331a2)(図22)が設けられており、外部接続接点331a(331a1、331a2)にケーブルL1〜L18が接続されている。ケーブルL1〜L18は、外部接続接点331aからアーム部330の一端側を通り、一方の取付部320を通って、配線バッファ部311の配線収容空間3140(凹部3112)内に導入される。アーム部330には、コネクタ331及びコネクタ331に接続されるケーブルL1〜L18を覆うカバー331bが取り付けられる(図27)。また、取付部320とアーム部330には、ケーブルLを覆うカバー321が取り付けられる。図28は、蓋部材3120、カバー321、カバー331bを取り外した状態の配線バッファ部311の近傍の構成を図示している。   As described above, the face portion 312 holds the substrate S together with the back plate 400. The face portion 312 and the back plate 400 constitute a sandwiching portion that sandwiches the substrate S. The housing part main body 3111 of the wiring buffer part 311 is fixed to the face part 312 by fastening members 3116 such as bolts and studs. In addition, the housing part main body 3111 of the wiring buffer part 3111 is fixed to the arm part 330 by two attachment parts 320. The accommodating portion main body 3111 is fixed to the two attachment portions 320 by fastening members 320a such as bolts and studs. The attachment portion 320 is fixed to the arm portion 330 by a fastening member 330a such as a bolt or a stud. A connector 331 is provided on one end side of the arm portion 330. The connector 331 is provided with a plurality of external connection contacts 331a (331a1, 331a2) (FIG. 22), and cables L1 to L18 are connected to the external connection contacts 331a (331a1, 331a2). The cables L <b> 1 to L <b> 18 pass through one end side of the arm portion 330 from the external connection contact 331 a, pass through one attachment portion 320, and are introduced into the wiring accommodating space 3140 (concave portion 3112) of the wiring buffer portion 311. A cover 331b that covers the connector 331 and the cables L1 to L18 connected to the connector 331 is attached to the arm portion 330 (FIG. 27). A cover 321 that covers the cable L is attached to the attachment portion 320 and the arm portion 330. FIG. 28 illustrates a configuration in the vicinity of the wiring buffer 311 with the cover member 3120, the cover 321, and the cover 331b removed.

本実施形態では、ケーブルL1〜L18の長さは同一であり、外部接続接点331a1、331a2から各コンタクト領域C1〜C18(図17)までの各経路の経路長の差に起因する余分なケーブルの長さが、配線バッファ部311に収納され、配線バッファ部311で余分なケーブルの長さの配置が調整される。外部接続接点331a1、331a2から各コンタクト領域C1〜C18までの経路長のうち最長の経路長に適合するように、ケーブルL1〜L18の同一の長さが選択されるが、最長でない経路に配置されるケーブ
ルLは余分な長さを有することになる。このケーブルLの余分な長さを配線バッファ部311で調整する。
In the present embodiment, the lengths of the cables L1 to L18 are the same, and the length of the extra cable due to the difference in the path length of each path from the external connection contacts 331a1 and 331a2 to the contact areas C1 to C18 (FIG. 17). The length is stored in the wiring buffer unit 311, and the arrangement of the extra cable length is adjusted in the wiring buffer unit 311. The same lengths of the cables L1 to L18 are selected so as to match the longest path length among the path lengths from the external connection contacts 331a1 and 331a2 to the contact regions C1 to C18. The cable L having an extra length will have an extra length. The extra length of the cable L is adjusted by the wiring buffer unit 311.

図30は、各コンタクトと外部接続接点との間の経路差に起因する配線の長さの差を説明する説明図である。例えば、図30に示すように、外部接続接点外部接続接点331aからコンタクト領域C8、C1(コンタクト370)までの経路長をそれぞれx8、x1(x8>x1)とすると、経路長の差は、Δx=x8−x1となる。図17に示すように、コンタクト領域C8までの経路長x8が最大経路長であり、ケーブルL1〜L18の長さは、この最大経路長x8に合うように(実質的に同一の長さに)選択される。この場合、ケーブルL8、L1の長さは、いずれも最大経路長x8に対応するy8に設定される。一方、コンタクト領域C1までの経路長x1は、最大経路長x8より短いため、図30に示すように、ケーブルL1はΔxだけ余分な長さを有することになる。この余分な長さΔxを配線バッファ部311で収容し、ケーブル長(ケーブルL1の長さ)を調整する。また、最大経路長x8より短い経路長を有するコンタクト領域C1〜C7、C9−C18についても同様である。図28、図29では、配線バッファ部311の凹部3112(配線収容空間3140)内におけるケーブルL1〜L18の配置の一例を示すが、ケーブルL1〜L18の配置はこれに限らず、余分なケーブル長を収容するように任意の配置とすることができる。   FIG. 30 is an explanatory diagram for explaining the difference in the length of the wiring due to the path difference between each contact and the external connection contact. For example, as shown in FIG. 30, if the path lengths from the external connection contact external connection contact 331a to the contact regions C8 and C1 (contact 370) are x8 and x1 (x8> x1), respectively, the difference in path length is Δx = X8-x1. As shown in FIG. 17, the path length x8 to the contact region C8 is the maximum path length, and the lengths of the cables L1 to L18 are matched to the maximum path length x8 (substantially the same length). Selected. In this case, the lengths of the cables L8 and L1 are both set to y8 corresponding to the maximum path length x8. On the other hand, since the path length x1 to the contact region C1 is shorter than the maximum path length x8, as shown in FIG. 30, the cable L1 has an extra length by Δx. The extra length Δx is accommodated in the wiring buffer unit 311 and the cable length (the length of the cable L1) is adjusted. The same applies to the contact regions C1 to C7 and C9 to C18 having a path length shorter than the maximum path length x8. FIGS. 28 and 29 show an example of the arrangement of the cables L1 to L18 in the recess 3112 (wiring accommodating space 3140) of the wiring buffer 311. However, the arrangement of the cables L1 to L18 is not limited to this, and the extra cable length Arbitrary arrangements can be made to accommodate.

ケーブルL1〜L18の長さを同一とする利点は、ケーブル長の差による抵抗値の差を除去し、各ケーブルに接続されるコンタクト370から基板Sに均一な電流を供給できるため、めっき品質を向上し得ることにある。   The advantage that the lengths of the cables L1 to L18 are the same is that the difference in resistance value due to the difference in cable length is removed, and a uniform current can be supplied from the contact 370 connected to each cable to the substrate S. It can be improved.

なお、ケーブルL1〜L18の長さが同一でない場合であっても、1又は複数のケーブルが、外部接続接点からコンタクトまでの経路長に対して余分な長さを有する場合には、配線バッファ部311で余分な長さを収容してケーブル長を調整することができる。   Even if the lengths of the cables L1 to L18 are not the same, if one or more cables have an extra length with respect to the path length from the external connection contact to the contact, the wiring buffer unit 311 can accommodate the extra length and adjust the cable length.

図31は、配線バッファ部のフェース部側の拡大斜視図である。図32は、配線バッファ部の取付部側を、取付部側から見た斜視図である。図33は、配線バッファの取付部側を、配線バッファ部側から見た斜視図である。図34は、蓋部材を取り外した状態の配線バッファ部を示す斜視図である。図35は、蓋部材を取り付けた状態の配線バッファ部を示す斜視図である。   FIG. 31 is an enlarged perspective view of the face side of the wiring buffer unit. FIG. 32 is a perspective view of the attachment portion side of the wiring buffer portion as seen from the attachment portion side. FIG. 33 is a perspective view of the attachment portion side of the wiring buffer as seen from the wiring buffer portion side. FIG. 34 is a perspective view showing the wiring buffer section with the lid member removed. FIG. 35 is a perspective view showing the wiring buffer portion with the lid member attached.

図34、図35に示すように、ケーブルLは、コネクタ331側の取付部320から配線バッファ部311の配線収容空間3140(凹部3112、3121)に導入され、配線収容空間3140内で余分なケーブル長が調整されたのちに、フェース部312に導かれる。   As shown in FIG. 34 and FIG. 35, the cable L is introduced from the attachment portion 320 on the connector 331 side into the wiring accommodation space 3140 (recesses 3112 and 3121) of the wiring buffer portion 311. After the length is adjusted, it is guided to the face portion 312.

配線バッファ部311とフェース部312との境界におけるケーブルLの配置を図31に示す。同図を参照すると、配線バッファ部311の肉厚部3113には、図19A乃至Cで説明したように、錐穴からなる配線穴311aが複数設けられている。各ケーブルLは、配線バッファ部311の凹部3112から配線穴311aを通って、フェース部312(図21Aのケーブル通路365)に導かれる。   The arrangement of the cable L at the boundary between the wiring buffer unit 311 and the face unit 312 is shown in FIG. Referring to the figure, the thick part 3113 of the wiring buffer part 311 is provided with a plurality of wiring holes 311a made of conical holes as described in FIGS. 19A to 19C. Each cable L is guided from the recess 3112 of the wiring buffer 311 through the wiring hole 311a to the face 312 (cable path 365 in FIG. 21A).

配線バッファ部311と取付部312との境界におけるケーブルLの配置を図32、図33に示す。これらの図に示すように、配線バッファ部311の肉厚部3114には、複数の配線穴3115が設けられている。取付部320には、配線穴3115を露出する凹部322が設けられている。凹部322は、配線穴3115を露出するように配線バッファ部311側が開口するとともに、配線穴3115を通るケーブルを通過させるように、背面側が開口している。一方、凹部322の前面側は閉鎖されている。ケーブルLは、取
付部320の凹部322内に入り、複数本ずつ、例えば3本ずつ配線穴3115を通され(図32)、配線バッファ部311の凹部3112に導かれる(図33)。
The arrangement of the cable L at the boundary between the wiring buffer portion 311 and the attachment portion 312 is shown in FIGS. As shown in these drawings, the thick portion 3114 of the wiring buffer portion 311 is provided with a plurality of wiring holes 3115. The mounting portion 320 is provided with a recess 322 that exposes the wiring hole 3115. The recess 322 has an opening on the wiring buffer 311 side so as to expose the wiring hole 3115, and an opening on the back side so that a cable passing through the wiring hole 3115 can pass therethrough. On the other hand, the front side of the recess 322 is closed. The cable L enters the concave portion 322 of the attachment portion 320, passes through the wiring hole 3115, for example, three by three (FIG. 32), and is guided to the concave portion 3112 of the wiring buffer portion 311 (FIG. 33).

図36は、他の実施形態に係る蓋部材を取り外した状態の配線バッファ部の斜視図である。図37は、他の実施形態に係る蓋部材を取り付けた状態の配線バッファ部の斜視図である。図38は、他の実施形態に係る配線バッファ部の蓋部材の背面図である。他の実施形態では、配線バッファ部311の蓋部材3120Aに凹部が設けられない点で上記実施形態とは異なる。その他の構成は、上記実施形態と同様であるので説明を省略する。蓋部材3120Aに凹部を設けない場合、蓋部材3120Aの構成が簡易になる。また、蓋部材3120Aの厚みを、凹部を設ける場合よりも薄くすることが可能であるので、それに応じて収容部本体3111の厚みを増加することも可能である。   FIG. 36 is a perspective view of the wiring buffer unit with the lid member according to another embodiment removed. FIG. 37 is a perspective view of the wiring buffer unit with a lid member according to another embodiment attached. FIG. 38 is a rear view of a lid member of a wiring buffer unit according to another embodiment. Another embodiment is different from the above-described embodiment in that a recess is not provided in the lid member 3120A of the wiring buffer portion 311. Since other configurations are the same as those of the above-described embodiment, description thereof is omitted. When the concave portion is not provided in the lid member 3120A, the configuration of the lid member 3120A is simplified. Further, since the thickness of the lid member 3120A can be made thinner than the case where the concave portion is provided, the thickness of the housing portion main body 3111 can be increased accordingly.

(実施形態の作用効果)
本実施形態に係る基板ホルダ1によれば、フロントプレート本体310の面に平行な軸の周りを回転可能な又はフロントプレート本体310の面に交差する方向に往復移動可能なクランプ340によって、基板を挟持するフロントプレート300とバックプレート400とを互いに固定するため、基板に回転方向の力が加わることを抑制ないし防止できる。基板が大型で薄い場合は、基板に回転方向の力が加わると基板に撓みを生じるおそれがあるが、この基板ホルダ1によれば、大型で薄い基板を保持する場合にも撓みの発生を抑制ないし防止できる。
(Effect of embodiment)
According to the substrate holder 1 according to the present embodiment, the substrate is clamped by the clamp 340 that can rotate around an axis parallel to the surface of the front plate body 310 or reciprocate in a direction intersecting the surface of the front plate body 310. Since the front plate 300 and the back plate 400 to be sandwiched are fixed to each other, it is possible to suppress or prevent the force in the rotation direction from being applied to the substrate. If the substrate is large and thin, the substrate may be bent when a rotational force is applied to the substrate. However, the substrate holder 1 suppresses the occurrence of bending even when holding a large and thin substrate. It can be prevented.

また、クランプ340がノーマルクローズ型であるため、バックプレート本体410をフロントプレート本体310に当接する際にクランプを開けば、クランプした状態ではアクチュエータ等によって外部から力を加える必要がなく、エネルギー消費を抑制できる。   In addition, since the clamp 340 is a normally closed type, if the clamp is opened when the back plate body 410 is brought into contact with the front plate body 310, it is not necessary to apply an external force by an actuator or the like in the clamped state, thereby reducing energy consumption. Can be suppressed.

また、バックプレート400を複数の箇所でクランプ340によって挟持することが可能であり、また、連結部材(回転軸341)によって各クランプ340の動作が同期されるので、クランプ動作を効率よく行うことができる。また、外部から力を加えるアクチュエータAR1の構成を簡易にすることができる。レバー342が外部の第1アクチュエータAR1から力を受けて回転軸341を介して各クランプ340を動作させることができるので、クランプ340による固定を自動化することが容易である。   In addition, the back plate 400 can be held by the clamps 340 at a plurality of locations, and the operation of each clamp 340 is synchronized by the connecting member (rotating shaft 341), so that the clamping operation can be performed efficiently. it can. In addition, the configuration of the actuator AR1 that applies force from the outside can be simplified. Since the lever 342 receives the force from the external first actuator AR1 and can operate each clamp 340 via the rotary shaft 341, it is easy to automate the fixing by the clamp 340.

また、バックプレート400に、クランプ340の係合部340aを受け入れる形状の係合受部430を設けることによって、クランプによる係合を向上し得る。別体の係合受部430をバックプレート本体410に取り付ける構成とすることで、係合受部430の寸法、形状、個数等を適宜選択することが容易になる。   Further, by providing the back plate 400 with the engagement receiving portion 430 having a shape for receiving the engagement portion 340a of the clamp 340, the engagement by the clamp can be improved. By adopting a configuration in which the separate engagement receiving portion 430 is attached to the back plate body 410, it becomes easy to appropriately select the size, shape, number, etc. of the engagement receiving portions 430.

また、バックプレート本体410の面に平行な軸424の周りを回転可能な又はバックプレート本体410の面に交差する方向に往復移動可能なクリップ421によって、基板をバックプレート400に固定するため、基板に回転方向の力が加わることを抑制ないし防止できる。基板が大型で薄い場合は、基板に回転方向の力が加わると基板に撓みを生じるおそれがあるが、この基板ホルダによれば、大型で薄い基板を保持する場合にも撓みの発生を抑制ないし防止できる。   In addition, the substrate is fixed to the back plate 400 by a clip 421 that can rotate around an axis 424 parallel to the surface of the back plate body 410 or reciprocate in a direction intersecting the surface of the back plate body 410. It is possible to suppress or prevent a force in the rotational direction from being applied to the surface. If the substrate is large and thin, the substrate may bend when a rotational force is applied to the substrate, but this substrate holder suppresses the occurrence of bending even when holding a large and thin substrate. Can be prevented.

クリップ421がノーマルクローズ型であるため、基板をバックプレート本体410に当接する際にクリップ421を開けば、クリップした状態ではアクチュエータ等によって外部から力を加える必要がなく、エネルギー消費を抑制できる。   Since the clip 421 is a normally closed type, if the clip 421 is opened when the substrate is brought into contact with the back plate main body 410, it is not necessary to apply an external force by an actuator or the like in the clipped state, and energy consumption can be suppressed.

基板と当接する側の面とは反対の面から力を受けるボタン470を設けるため、アクチュエータAR2を基板当接面とは反対側に配置することができ、基板固定後のバックプレ
ート400の移動、姿勢の変更等が容易である。
Since the button 470 that receives force from the surface opposite to the surface that contacts the substrate is provided, the actuator AR2 can be disposed on the side opposite to the substrate contact surface, and the back plate 400 can be moved after the substrate is fixed. It is easy to change the posture.

ボタン470が外部の第2アクチュエータAR2から力を受けてクリップ421を動作させることができるので、クリップ421による固定を自動化することが容易である。   Since the button 470 can operate the clip 421 by receiving a force from the external second actuator AR2, it is easy to automate the fixing by the clip 421.

インナーシール361及びアウターシール362を保持するシールホルダ363、364を別々に設けるので、各シールの交換を別々に行うことができる。   Since the seal holders 363 and 364 holding the inner seal 361 and the outer seal 362 are separately provided, each seal can be replaced separately.

また、本実施形態の基板ホルダでは、ケーブルLの一端部において被覆602を除去し、ケーブルLの心線601をコンタクト370とともに挟持することにより、簡易な構成で、ケーブルLとコンタクト370との間の電気的な接続を確立することができる。つまり、ケーブル端部にコネクタ等を設けることなく、ケーブルLとコンタクト370との間の接続を行うことができる。基板Sの複数の箇所にコンタクト370を接触させて給電する場合、基板ホルダ内で複数のケーブルLを引き回して電気的接続を行う必要があるが、この基板ホルダによれば、簡易な構成で、ケーブルLとコンタクト370との間の電気的な接続を確立することができ、基板ホルダの大型化を抑制できる。また、大型の基板に給電する場合や、基板への供給電流値が大きい場合には、ケーブルの数が増加し、ケーブル径も大きくなる。例えば、このような場合に、この基板ホルダによる簡易なケーブルの接続は有効である。   In the substrate holder of the present embodiment, the covering 602 is removed at one end of the cable L, and the core wire 601 of the cable L is clamped together with the contact 370, so that the cable L and the contact 370 can be easily configured. An electrical connection can be established. That is, the connection between the cable L and the contact 370 can be performed without providing a connector or the like at the cable end. When power is supplied by bringing the contacts 370 into contact with a plurality of locations on the substrate S, it is necessary to route a plurality of cables L in the substrate holder to perform electrical connection. According to this substrate holder, with a simple configuration, An electrical connection between the cable L and the contact 370 can be established, and an increase in the size of the substrate holder can be suppressed. Further, when power is supplied to a large board or when a current value supplied to the board is large, the number of cables increases and the cable diameter also increases. For example, in such a case, simple cable connection by the substrate holder is effective.

また、本実施形態の基板ホルダでは、ボルト、ネジ等の締結部材511によって簡易な構成、簡易な作業で、ケーブルLとコンタクト370との間の電気的接続を確立できる。   Moreover, in the board | substrate holder of this embodiment, the electrical connection between the cable L and the contact 370 can be established by simple structure and simple operation | work with the fastening members 511, such as a volt | bolt and a screw | thread.

また、本実施形態の基板ホルダでは、シールホルダ363を用いてケーブルLとコンタクト370とを挟持することができるので、既存の構成を利用することができ、基板ホルダの大型化、コスト増を抑制し得る。   In the substrate holder of this embodiment, since the cable L and the contact 370 can be clamped using the seal holder 363, the existing configuration can be used, and the increase in size and cost of the substrate holder can be suppressed. Can do.

また、本実施形態の基板ホルダでは、シール361、362のシールホルダ363、364が別々であるため、シールを別々に交換することが容易である。また、シールホルダ363、364を別々に交換することも容易である。   Moreover, in the substrate holder of this embodiment, since the seal holders 363 and 364 of the seals 361 and 362 are separate, it is easy to replace the seals separately. It is also easy to replace the seal holders 363 and 364 separately.

また、本実施形態の基板ホルダでは、ケーブルLが基板ホルダの厚み方向に重ならないようにすることによって、基板ホルダの厚みの増加を抑制することが可能である。特に、大型の基板や、電流量が大きい場合には、ケーブルの数、ケーブルの径が大きくなる可能性があるが、この構成によれば、基板ホルダの厚み方向での増大を抑制することができる。   Moreover, in the board | substrate holder of this embodiment, it is possible to suppress the increase in the thickness of a board | substrate holder by making the cable L not overlap with the thickness direction of a board | substrate holder. In particular, in the case of a large substrate or a large amount of current, the number of cables and the diameter of the cable may increase. According to this configuration, an increase in the thickness direction of the substrate holder can be suppressed. it can.

また、本実施形態の基板ホルダでは、先端の被覆602が除去された各ケーブルLを順次、各コンタクト370の位置に引き込み、接続するので、接続位置までのケーブル間の絶縁を確保するとともに、簡易な構成でケーブルを導電部材に接続することができる。   Further, in the substrate holder of the present embodiment, each cable L from which the coating 602 at the end is removed is sequentially drawn into the position of each contact 370 and connected, so that insulation between the cables to the connection position is ensured and simplified. With this configuration, the cable can be connected to the conductive member.

本実施形態の基板ホルダをめっき装置に適用する場合、基板ホルダの大型化を抑制できるので、めっき装置の大型化も抑制できる。   When applying the substrate holder of this embodiment to a plating apparatus, since the enlargement of a substrate holder can be suppressed, the enlargement of a plating apparatus can also be suppressed.

本実施形態に係る基板ホルダの製造方法では、ケーブルLの一端部において被覆602を除去し、ケーブルLの心線601をコンタクト370とともに挟持することにより、簡易な構成で、ケーブルLとコンタクト370との間の電気的な接続を確立することができる。つまり、ケーブル端部にコネクタ等を設けることなく、ケーブルLとコンタクト370との間の接続を行うことができる。基板Sの複数の箇所にコンタクト370を接触させて給電する場合、基板ホルダ内で複数のケーブルLを引き回して電気的接続を行う必要が
あるが、この基板ホルダによれば、簡易な構成で、ケーブルLとコンタクト370との間の電気的な接続を確立することができ、基板ホルダの大型化を抑制できる。また、大型の基板に給電する場合や、基板への供給電流値が大きい場合には、ケーブルの数が増加し、ケーブル径も大きくなる。例えば、このような場合に、この基板ホルダによる簡易なケーブルの接続は有効である。
In the manufacturing method of the substrate holder according to the present embodiment, the covering 602 is removed at one end of the cable L, and the core wire 601 of the cable L is clamped together with the contact 370, so that the cable L and the contact 370 can be easily configured. An electrical connection between can be established. That is, the connection between the cable L and the contact 370 can be performed without providing a connector or the like at the cable end. When power is supplied by bringing the contacts 370 into contact with a plurality of locations on the substrate S, it is necessary to route a plurality of cables L in the substrate holder to perform electrical connection. According to this substrate holder, with a simple configuration, An electrical connection between the cable L and the contact 370 can be established, and an increase in the size of the substrate holder can be suppressed. Further, when power is supplied to a large board or when a current value supplied to the board is large, the number of cables increases and the cable diameter also increases. For example, in such a case, simple cable connection by the substrate holder is effective.

また、上述した基板ホルダ1を使用して基板にめっき処理を行う場合、大型の基板に給電する場合や、基板への供給電流値が大きい場合であっても、基板ホルダにおけるケーブルと導電部材との間の電気的な接続が簡易な構成であるため、大型化を抑制ないし防止した基板ホルダを用いてめっき処理を行うことができる。   In addition, when plating is performed on the substrate using the substrate holder 1 described above, the cable and the conductive member in the substrate holder can be used even when power is supplied to a large substrate or when the supply current value to the substrate is large. Since the electrical connection between them is a simple configuration, the plating process can be performed using a substrate holder that suppresses or prevents an increase in size.

また、上記実施形態では、めっき処理前に各外部接続接点対の第1及び第2側の接点間の電気抵抗を測定し、複数の外部接続接点対の電気抵抗にばらつきがないかを確認する通電確認処理を実施する。従って、複数の外部接続接点対の電気抵抗の間のばらつきに起因してめっき膜厚の均一性に問題がないか否かを事前に確認してから、めっき処理を行うことができる。この結果、めっき処理の信頼性を向上することができる。   Moreover, in the said embodiment, the electrical resistance between the 1st and 2nd side contacts of each external connection contact pair is measured before a plating process, and it is confirmed whether there is no dispersion | variation in the electrical resistance of several external connection contact pairs. Conduct energization confirmation processing. Therefore, it is possible to perform the plating process after confirming in advance whether there is no problem in the uniformity of the plating film thickness due to variations between the electrical resistances of the plurality of external connection contact pairs. As a result, the reliability of the plating process can be improved.

上記実施形態によれば、基板ホルダ1のアーム部330と挟持部312、400との間に配置された配線収容部311によって、外部接続接点331aとコンタクト370との間の経路長に対して余分なケーブルLの長さを収容し、ケーブルLの配置を調整することができる。この構成では、基板ホルダ1のアーム部330と挟持部312、400との間に配線収容部(配線バッファ部)311を設けるため、基板ホルダ1の厚みが増加することを抑制ないし防止することが可能である。つまり、基板ホルダ1において、配線収容部311は、アーム部330と、挟持部312、400とに並んで配置されるため、基板ホルダ1を支持するためのアーム部330や、基板を保持する挟持部321、400の厚みが増加することを抑制ないし防止することが可能である。   According to the above embodiment, the wiring accommodating portion 311 disposed between the arm portion 330 and the sandwiching portions 312 and 400 of the substrate holder 1 has an extra path length between the external connection contact 331a and the contact 370. The length of the cable L can be accommodated, and the arrangement of the cable L can be adjusted. In this configuration, since the wiring accommodating portion (wiring buffer portion) 311 is provided between the arm portion 330 and the sandwiching portions 312 and 400 of the substrate holder 1, it is possible to suppress or prevent an increase in the thickness of the substrate holder 1. Is possible. That is, in the substrate holder 1, the wiring accommodating portion 311 is arranged side by side with the arm portion 330 and the sandwiching portions 312 and 400, so the arm portion 330 for supporting the substrate holder 1 and the sandwiching portion that holds the substrate It is possible to suppress or prevent the thickness of the portions 321 and 400 from increasing.

また、基板ホルダ1をめっき槽39に設置した状態で、基板ホルダ1の高さ方向に配線収容部311を追加する。基板を保持する挟持部312、400と重ならないので、基板ホルダ1全体の厚みを抑制しつつ、配線収容部311の厚み方向の寸法も確保できる。よって、径の大きい配線Lを曲げて配置する空間を確保し易い。大型の角形基板を保持する基板ホルダでは、特に有利である。   In addition, with the substrate holder 1 installed in the plating tank 39, a wiring accommodating portion 311 is added in the height direction of the substrate holder 1. Since it does not overlap with the holding portions 312 and 400 that hold the substrate, the thickness of the wiring housing portion 311 can be secured while suppressing the thickness of the entire substrate holder 1. Therefore, it is easy to secure a space for bending and arranging the wiring L having a large diameter. A substrate holder that holds a large rectangular substrate is particularly advantageous.

また、配線収容部311が、基板を保持する挟持部312、400と重ならないので、基板ホルダ1に基板を保持した後にも、配線収容部311にアクセス可能な構成にすることもできる。   Further, since the wiring housing portion 311 does not overlap with the holding portions 312 and 400 that hold the substrate, the wiring housing portion 311 can be accessed even after the substrate is held on the substrate holder 1.

上記実施形態によれば、蓋部材3120、3120Aによって配線収容部311内の配線Lをめっき液等の処理液から保護できるとともに、蓋部材3120、3120Aを開けることによって配線収容部311内の配線Lにアクセス可能となる。従って、配線収容部311内でのメンテナンスが容易になる。   According to the above embodiment, the lid members 3120 and 3120A can protect the wiring L in the wiring housing portion 311 from a processing solution such as a plating solution, and the wiring members L in the wiring housing portion 311 can be opened by opening the lid members 3120 and 3120A. Can be accessed. Therefore, the maintenance in the wiring accommodating part 311 becomes easy.

上記実施形態によれば、収容部本体3111及び蓋部材3120の凹部3112、3121を合わせた空間を配線収容空間3140(配線を収容するための空間)とすることができる。収容部本体3111の厚みを抑制しつつ、配線収容空間3140の厚み方向を増大することが容易になる。収容部本体3111の材料が、蓋部材3120の材料よりも高価な場合には、収容部本体3111の体積を低減することによって、コストの増大を抑制し得る。   According to the above-described embodiment, a space including the housing portion main body 3111 and the recesses 3112 and 3121 of the lid member 3120 can be used as the wiring housing space 3140 (a space for housing wiring). It becomes easy to increase the thickness direction of the wiring accommodating space 3140 while suppressing the thickness of the accommodating portion main body 3111. When the material of the housing part main body 3111 is more expensive than the material of the lid member 3120, an increase in cost can be suppressed by reducing the volume of the housing part main body 3111.

上記実施形態によれば、シール部材3130によって、配線収容部311内の空間をよ
り気密に封止することが可能である。
According to the above embodiment, the seal member 3130 can seal the space in the wiring housing portion 311 in a more airtight manner.

上記実施形態によれば、配線収容部311の配線収容空間3140は、基板ホルダ1がめっき槽39に配置された際に、めっき液面WLの高さ以上の高さに対応する位置に配置されている。これにより、配線収容空間3140がほとんどめっき液に浸からないようにすることができる。めっき液中では、パドル、アノードマスク、レギュレーションプレート等のめっき槽39の構成によって基板ホルダ1の厚み方向が寸法制約されるが、めっき液面WLの上方では、厚み方向の制約が緩やかであるため、配線収容部の厚み方向の寸法を十分に確保することができる。また、配線収容空間3140がほとんどめっき液に浸からないので、配線収容空間3140内へのめっき液の漏れをより確実に抑制することができる。   According to the embodiment, the wiring housing space 3140 of the wiring housing portion 311 is disposed at a position corresponding to a height equal to or higher than the height of the plating solution surface WL when the substrate holder 1 is disposed in the plating tank 39. ing. Thereby, the wiring accommodating space 3140 can be hardly immersed in the plating solution. In the plating solution, the dimension of the thickness direction of the substrate holder 1 is restricted by the configuration of the plating tank 39 such as a paddle, an anode mask, and a regulation plate, but the restriction in the thickness direction is gentle above the plating solution surface WL. The dimension of the wiring housing portion in the thickness direction can be sufficiently secured. Further, since the wiring housing space 3140 is hardly immersed in the plating solution, the leakage of the plating solution into the wiring housing space 3140 can be more reliably suppressed.

上記実施形態によれば、配線収容部311は、アーム部330及び挟持部312、400とは別体であるので、アーム部330、挟持部312、400、配線収容部311を別々に交換することが可能になる。特に、めっき槽39内で配線収容部311をめっき液面WLの高さ以上になるように配置する場合には、めっき液によって経年劣化が相対的に早い挟持部312、400を配線収容部311とは別に交換することが可能である。   According to the above-described embodiment, the wiring housing portion 311 is a separate body from the arm portion 330 and the sandwiching portions 312 and 400. Therefore, the arm portion 330, the sandwiching portions 312 and 400, and the wiring housing portion 311 are exchanged separately. Is possible. In particular, when the wiring accommodating part 311 is arranged in the plating tank 39 so as to be equal to or higher than the height of the plating solution WL, the pinching parts 312 and 400 that are relatively rapidly deteriorated with time by the plating solution are connected to the wiring accommodating part 311. It can be exchanged separately.

上記実施形態によれば、コンタクト370と外部接続接点331a1、331a2との間の複数の配線Lの長さを同一にすることによって、各コンタクトに流れる電流を均一化することができ、めっき品質を向上することができる。また、各コンタクト370と外部接続接点331a1、331a2との間の経路差に起因する1又は複数のケーブルの余分な長さは、配線収容部311に収容することができる。   According to the above embodiment, by making the lengths of the plurality of wirings L between the contact 370 and the external connection contacts 331a1, 331a2 the same, the current flowing through each contact can be made uniform, and the plating quality can be improved. Can be improved. Further, an extra length of one or more cables due to a path difference between each contact 370 and the external connection contacts 331a1 and 331a2 can be accommodated in the wiring accommodating portion 311.

上記実施形態によれば、収容部本体3111を剛性の高いチタンから構成し、蓋部材3120を安価なポリ塩化ビニルから構成することで、コストを抑制しつつ配線収容部311に必要な剛性を確保することができる。   According to the above-described embodiment, the housing main body 3111 is made of titanium having high rigidity, and the lid member 3120 is made of inexpensive polyvinyl chloride, thereby ensuring the rigidity necessary for the wiring housing portion 311 while suppressing costs. can do.

上記実施形態によれば、上記基板ホルダ1を設置するためのめっき槽39を有するめっき装置が提供される。これにより、上記作用効果を奏するめっき装置を提供することができる。特に、基板ホルダ1の厚みの増大を抑制ないし防止しつつ、配線収容空間3140内に径の大きな配線Lを配置することができるので、より均一且つ大きな電流を基板に流すことができる。これにより、より大型の基板により品質のよいめっき処理を行うことができる。また、基板ホルダ1の厚みの増大を抑制ないし防止できるので、めっき槽39の寸法が大きくなることを抑制ないし防止できる。   According to the said embodiment, the plating apparatus which has the plating tank 39 for installing the said substrate holder 1 is provided. Thereby, the plating apparatus which show | plays the said effect can be provided. In particular, since the wiring L having a large diameter can be arranged in the wiring housing space 3140 while suppressing or preventing an increase in the thickness of the substrate holder 1, a more uniform and large current can be supplied to the substrate. Thereby, a plating process with good quality can be performed on a larger substrate. In addition, since an increase in the thickness of the substrate holder 1 can be suppressed or prevented, an increase in the size of the plating tank 39 can be suppressed or prevented.

上記実施形態によれば、基板ホルダ1によって基板を保持した状態で基板にめっき処理するめっき方法が提供され、このめっき方法では、めっき槽39内において、基板ホルダ1の複数のコンタクト370と1又は複数の外部接続接点331aとの間の経路長に対して余分な1又は複数のケーブルの長さを収容する配線収容部が、めっき液面よりも高い位置にある状態で、前記基板にめっき処理を行う。これにより、配線収容空間3140がほとんどめっき液に浸からないようにすることができる。めっき液中では、パドル、アノードマスク、レギュレーションプレート等のめっき槽の構成によって基板ホルダの厚み方向が寸法制約されるが、めっき液面の上方では、厚み方向の寸法制約が緩やかである。このため、配線収容部と、めっき槽の構成とが干渉することを抑制ないし防止できる。また、配線収容空間3140がほとんどめっき液に浸からないので、配線収容空間3140内へのめっき液の漏れをより確実に抑制することができる。   According to the above embodiment, a plating method for plating a substrate while the substrate is held by the substrate holder 1 is provided. In this plating method, a plurality of contacts 370 and 1 of the substrate holder 1 or 1 A plating process is performed on the substrate in a state in which a wiring accommodating portion that accommodates one or more extra cable lengths with respect to the path length between the plurality of external connection contacts 331a is higher than the plating solution surface. I do. Thereby, the wiring accommodating space 3140 can be hardly immersed in the plating solution. In the plating solution, the dimension of the thickness direction of the substrate holder is limited by the configuration of the plating tank such as a paddle, an anode mask, and a regulation plate, but the dimension constraint in the thickness direction is moderate above the plating solution surface. For this reason, it can suppress thru | or prevent that a wiring accommodating part and the structure of a plating tank interfere. Further, since the wiring housing space 3140 is hardly immersed in the plating solution, the leakage of the plating solution into the wiring housing space 3140 can be more reliably suppressed.

以上、いくつかの例に基づいて本発明の実施形態について説明してきたが、上記した発明の実施形態は、本発明の理解を容易にするためのものであり、本発明を限定するもので
はない。本発明は、その趣旨を逸脱することなく、変更、改良され得るとともに、本発明には、その均等物が含まれることはもちろんである。また、上述した課題の少なくとも一部を解決できる範囲、または、効果の少なくとも一部を奏する範囲において、特許請求の範囲および明細書に記載された各構成要素の任意の組み合わせ、または、省略が可能である。
The embodiments of the present invention have been described above based on some examples. However, the above-described embodiments of the present invention are for facilitating understanding of the present invention and do not limit the present invention. . The present invention can be changed and improved without departing from the gist thereof, and the present invention naturally includes equivalents thereof. In addition, any combination or omission of each constituent element described in the claims and the specification is possible within a range where at least a part of the above-described problems can be solved or a range where at least a part of the effect is achieved It is.

1…基板ホルダ
25…カセットテーブル
25a…カセット
27…基板搬送装置
28…走行機構
29…基板脱着機構
30…ストッカ
32…プリウェット槽
33…プリソーク槽
34…プリリンス槽
35…ブロー槽
36…リンス槽
37…基板ホルダ搬送装置
38…オーバーフロー槽
39…めっき槽
50…洗浄装置
50a…洗浄部
100…めっき装置
110…アンロード部
120…処理部
120A…前処理・後処理部
120B…処理部
175…コントローラ
175A…CPU
175B…メモリ
175C…制御部
300…フロントプレート
301…前面
302…背面
303…開口部
310…フロントプレート本体
311…配線バッファ部
311a…配線穴
312…フェース部
320…取付部
320a…締結部材
321…カバー
330…アーム部
330a…締結部材
331…コネクタ
331a1、331a2…外部接続接点
331b…カバー
340…クランプ
340a…係合部
342…レバー
350…固定部材
361…インナーシール
362…アウターシール
363…シールホルダ
363a…配線溝
364…シールホルダ
365…ケーブル通路
370…コンタクト
390…位置合わせピン
400…バックプレート
401…前面
402…背面
410…バックプレート本体
420…クリップ部
421…クリップ
421a…爪部
421b…長穴
421c…丸穴
422…巻ばね
422a…脚部
422b…脚部
422c…巻回部
423…固定部
423b…規制面
423b…案内面
424…固定軸
430…係合受部
430a…突出部
470…ボタン
471…力受部
472…弾性部分
473…取付部
474…押え部材
475…締結部材
490…位置合わせ片
601…導電線
602…被覆
3111…収容部本体
3112…凹部
3113…肉厚部
3114…肉厚部
3114a…突出部
3114…段差部
3115…配線穴
3116…締結部材
3114…肉厚部
3120…蓋部材
3121…凹部
3122…シール溝
3130…シール部材
3131…締結部材
3131a…穴
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Substrate holder 25 ... Cassette table 25a ... Cassette 27 ... Substrate transport device 28 ... Traveling mechanism 29 ... Substrate removal mechanism 30 ... Stocker 32 ... Pre-wet tank 33 ... Pre-soak tank 34 ... Pre-rinse tank 35 ... Blow tank 36 ... Rinse tank 37 ... Substrate holder transfer device 38 ... Overflow tank 39 ... Plating tank 50 ... Cleaning apparatus 50a ... Cleaning section 100 ... Plating apparatus 110 ... Unloading section 120 ... Processing section 120A ... Pre-processing / Post-processing section 120B ... Processing section 175 ... Controller 175A ... CPU
175B ... Memory 175C ... Control unit 300 ... Front plate 301 ... Front surface 302 ... Back surface 303 ... Opening portion 310 ... Front plate body 311 ... Wiring buffer portion 311a ... Wiring hole 312 ... Face portion 320 ... Mounting portion 320a ... Fastening member 321 ... Cover 330 ... Arm part 330a ... Fastening member 331 ... Connector 331a1, 331a2 ... External connection contact 331b ... Cover 340 ... Clamp 340a ... Engagement part 342 ... Lever 350 ... Fixing member 361 ... Inner seal 362 ... Outer seal 363 ... Seal holder 363a ... Wiring groove 364 ... Seal holder 365 ... Cable passage 370 ... Contact 390 ... Positioning pin 400 ... Back plate 401 ... Front surface 402 ... Back surface 410 ... Back plate body 420 ... Clip part 42 ... Clip 421a ... Claw part 421b ... Long hole 421c ... Round hole 422 ... Winding spring 422a ... Leg part 422b ... Leg part 422c ... Winding part 423 ... Fixed part 423b ... Restricting surface 423b ... Guide surface 424 ... Fixed shaft 430 ... Engagement Joint part 430a ... Projection part 470 ... Button 471 ... Force receiving part 472 ... Elastic part 473 ... Mounting part 474 ... Holding member 475 ... Fastening member 490 ... Positioning piece 601 ... Conductive wire 602 ... Cover 3111 ... Housing part main body 3112 ... Recess 3113 ... Thick part 3114 ... Thick part 3114 a ... Projection part 3114 ... Step part 3115 ... Wiring hole 3116 ... Fastening member 3114 ... Thick part 3120 ... Lid member 3121 ... Recess 3122 ... Seal groove 3130 ... Seal member 3131 ... Fastening Member 3131a ... hole

Claims (10)

基板を挟持する第1及び第2保持部材を備える基板ホルダであって、
前記基板ホルダをめっき槽に設置するためのアーム部であって、1又は複数の外部接続接点を有するアーム部と、
前記第1及び第2保持部材において前記基板を挟持する挟持部と、
前記挟持部に設けられ、前記基板に給電するための1又は複数のコンタクトと、
前記1又は複数の外部接続接点と前記1又は複数のコンタクトとを接続する1又は複数の配線と、
前記アーム部と前記挟持部との間に配置され、前記1又は複数の外部接続接点と前記1又は複数のコンタクトとの間の経路長に対して余分な長さの前記1又は複数の配線を収容する収容空間を有する配線収容部と、
を備える、基板ホルダ。
A substrate holder comprising first and second holding members for sandwiching a substrate,
An arm portion for installing the substrate holder in the plating tank, the arm portion having one or more external connection contacts;
A clamping part for clamping the substrate in the first and second holding members;
One or a plurality of contacts provided in the sandwiching portion for supplying power to the substrate;
One or more wirings for connecting the one or more external connection contacts and the one or more contacts;
The one or more wires disposed between the arm portion and the clamping portion and having an extra length with respect to a path length between the one or more external connection contacts and the one or more contacts. A wiring accommodating portion having an accommodating space for accommodating;
A substrate holder.
請求項1に記載の基板ホルダにおいて、
前記配線収容部は、
前記1又は複数の配線の長さの一部を収容する第1の凹部を有する前記収容部本体と、
前記収容部本体に着脱自在であり、前記第1の凹部を閉鎖する蓋部材と、
を備える、基板ホルダ。
The substrate holder according to claim 1,
The wiring housing part is
The housing main body having a first recess for housing a part of the length of the one or more wirings;
A lid member that is detachable from the housing main body and closes the first recess;
A substrate holder.
請求項2に記載の基板ホルダにおいて、
前記蓋部材は、前記収容部本体の前記第1の凹部に対向する位置に第2の凹部を有する、基板ホルダ。
The substrate holder according to claim 2,
The said cover member is a substrate holder which has a 2nd recessed part in the position facing the said 1st recessed part of the said accommodating part main body.
請求項2又は3に記載の基板ホルダにおいて、
前記配線収容部は、前記収容部本体と前記蓋部材との間に配置されたシール部材を更に備える、基板ホルダ。
The substrate holder according to claim 2 or 3,
The said wiring accommodating part is a board | substrate holder further provided with the sealing member arrange | positioned between the said accommodating part main body and the said cover member.
請求項1乃至4の何れかに記載の基板ホルダにおいて、
前記配線収容部の前記配線収容空間は、前記基板ホルダがめっき槽に配置された際に、めっき液面の高さ以上の高さに対応する位置に配置されている、基板ホルダ。
The substrate holder according to any one of claims 1 to 4,
The wiring holder space of the wiring holding part is a substrate holder that is arranged at a position corresponding to a height equal to or higher than a plating solution level when the substrate holder is arranged in a plating tank.
請求項1乃至5の何れかに記載の基板ホルダにおいて、
前記配線収容部は、前記アーム部及び前記挟持部とは別体である、基板ホルダ。
The substrate holder according to any one of claims 1 to 5,
The wiring holder is a substrate holder that is a separate body from the arm part and the clamping part.
請求項1乃至6の何れかに記載の基板ホルダにおいて、
複数の外部接続接点と複数のコンタクトとが複数の配線で接続され、前記複数のコンタクトが前記基板ホルダの異なる位置に配置され、前記複数の配線は同一の長さを有する、基板ホルダ。
The substrate holder according to any one of claims 1 to 6,
A substrate holder, wherein a plurality of external connection contacts and a plurality of contacts are connected by a plurality of wires, the plurality of contacts are arranged at different positions of the substrate holder, and the plurality of wires have the same length.
請求項2乃至4の何れかに記載の基板ホルダにおいて、
前記収容部本体はチタンからなり、前記蓋部材はポリ塩化ビニルからなる、基板ホルダ。
The substrate holder according to any one of claims 2 to 4,
The substrate holder is made of titanium, and the lid member is made of polyvinyl chloride.
請求項1乃至8の何れかに記載の基板ホルダを設置するためのめっき槽を有する、めっき装置。   The plating apparatus which has a plating tank for installing the substrate holder in any one of Claims 1 thru | or 8. 基板ホルダによって基板を保持した状態で基板にめっき処理するめっき方法であって、
めっき槽内において、前記基板ホルダの前記1又は複数の外部接続接点と前記1又は複数のコンタクトとの間の経路長に対して余分な前記1又は複数の配線の長さを収容する配
線収容部が、めっき液面よりも高い位置にある状態で、前記基板にめっき処理を行う、めっき方法。
A plating method for plating a substrate with the substrate held by the substrate holder,
In the plating tank, a wiring accommodating portion that accommodates an extra length of the one or more wires with respect to a path length between the one or more external connection contacts of the substrate holder and the one or more contacts. Is a plating method in which plating is performed on the substrate in a state of being higher than the plating solution surface.
JP2016254106A 2016-12-27 2016-12-27 Substrate holder, plating equipment, and plating method Active JP6768495B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016254106A JP6768495B2 (en) 2016-12-27 2016-12-27 Substrate holder, plating equipment, and plating method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016254106A JP6768495B2 (en) 2016-12-27 2016-12-27 Substrate holder, plating equipment, and plating method

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2018104781A true JP2018104781A (en) 2018-07-05
JP6768495B2 JP6768495B2 (en) 2020-10-14

Family

ID=62787282

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016254106A Active JP6768495B2 (en) 2016-12-27 2016-12-27 Substrate holder, plating equipment, and plating method

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6768495B2 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113279040A (en) * 2020-02-20 2021-08-20 株式会社荏原制作所 Substrate holding device

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003277995A (en) * 2002-03-26 2003-10-02 Ebara Corp Substrate holder, and plating apparatus
JP2015137374A (en) * 2014-01-21 2015-07-30 株式会社荏原製作所 plating apparatus and plating method
JP2016003376A (en) * 2014-06-18 2016-01-12 株式会社荏原製作所 Substrate holder, plating device provided with substrate holder and plating method

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003277995A (en) * 2002-03-26 2003-10-02 Ebara Corp Substrate holder, and plating apparatus
JP2015137374A (en) * 2014-01-21 2015-07-30 株式会社荏原製作所 plating apparatus and plating method
JP2016003376A (en) * 2014-06-18 2016-01-12 株式会社荏原製作所 Substrate holder, plating device provided with substrate holder and plating method

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113279040A (en) * 2020-02-20 2021-08-20 株式会社荏原制作所 Substrate holding device
JP7430074B2 (en) 2020-02-20 2024-02-09 株式会社荏原製作所 Substrate holding device

Also Published As

Publication number Publication date
JP6768495B2 (en) 2020-10-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102522815B1 (en) Substrate holder, plating device, method for manufacturing substrate holder, and device for holding substrate
JP6739295B2 (en) Substrate holder, plating apparatus, and method for holding a substrate
JP6739307B2 (en) Substrate holder, plating apparatus, and substrate holder manufacturing method
JP6727117B2 (en) Substrate attachment/detachment device, plating device, substrate attachment/detachment device control device, storage medium storing a program for causing a computer to execute the method
JP6713916B2 (en) Substrate holder, plating apparatus, and substrate holder manufacturing method
TW201735236A (en) Substrate holder and plating device
TWI805780B (en) Plating apparatus and plating method
JP2019002051A (en) Plating apparatus
JP6768495B2 (en) Substrate holder, plating equipment, and plating method
KR20210075861A (en) Substrate holder
JP7058209B2 (en) How to hold the board in the board holder
JP2018131663A (en) Substrate holder, plating apparatus, plating method, and electric contact
JP7242516B2 (en) substrate holder
JP7278522B1 (en) Substrate holder and substrate processing equipment
JP7136679B2 (en) Seals used for substrate holders
KR20220043849A (en) Contact structure, substrate holder, apparatus for plating, and method of feeding electric power to substrate

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20190404

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20200131

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20200210

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20200410

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20200909

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20200923

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6768495

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250