JP2018104781A - Substrate holder, plating apparatus, and plating method - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、基板ホルダ、めっき装置、めっき方法に関する。 The present invention relates to a substrate holder, a plating apparatus, and a plating method.
従来、半導体ウェハやプリント基板等の基板の表面に配線やバンプ(突起状電極)等を形成したりすることが行われている。この配線及びバンプ等を形成する方法として、電解めっき法が知られている。 Conventionally, wiring, bumps (projection electrodes), and the like are formed on the surface of a substrate such as a semiconductor wafer or a printed circuit board. An electroplating method is known as a method for forming the wirings, bumps, and the like.
電解めっき法に用いるめっき装置では、円形又は多角形の基板の端面をシールし、表面(被めっき面)を露出させて保持する基板ホルダが使用される場合がある。このようなめっき装置において基板表面にめっき処理を行うときは、基板を保持した基板ホルダをめっき液中に浸漬させる。 In a plating apparatus used for electrolytic plating, a substrate holder that seals an end surface of a circular or polygonal substrate and exposes and holds the surface (surface to be plated) may be used. When performing the plating process on the substrate surface in such a plating apparatus, the substrate holder holding the substrate is immersed in the plating solution.
特許文献1には、円盤状のウェハWを保持してめっき処理を行うための基板ホルダ8が記載されている。この基板ホルダ8は、ウェハWを挟持するための第1保持部材22及び第2保持部材24を備え、第1保持部材22の端部に一対のホルダハンガ34が設けられている。ホルダハンガ34のうちの一方には、複数の外部接続接点42が設けられており、これらの外部接続接点42は、基板ホルダ8の内部に配置された複数の配線55を介して、ウェハWの周囲に配置された複数の導電部材41(内部接点)に接続されている(図3)。
特許文献2には、基板ホルダ8がめっき槽24に配置されたときに、基板ホルダ8の全体がめっき液の液面の下に位置する構成が記載されている。
Patent Document 2 describes a configuration in which when the substrate holder 8 is disposed in the plating tank 24, the entire substrate holder 8 is positioned below the surface of the plating solution.
電解めっきでは、基板の周縁部に設けた複数のコンタクトを通じて基板に電流を流しながらめっき処理を行うが、基板ホルダのアーム(ハンドル)に設けられた外部接続接点から各コンタクトまでの配線の長さは、等しい長さであることが好ましい。各配線の抵抗を等しくして各コンタクトに流れる電流を均一にすることがめっき品質にとって好ましいからである。しかし、コンタクトの位置に応じて、各外部接続接点から各コンタクトまでの経路の長さは変わり得る。このため、基板ホルダにおいて、コンタクトまでの経路長の差に対応する配線の長さを吸収する必要がある。
特許文献1の基板ホルダでは、各配線55は、図3の記載に基づけば等長ではないため、上述した課題に対する示唆はない。なお、特許文献1に記載の基板ホルダでは、各配線55に流す電流が比較的小さいと推測され、配線の径が比較的細く配線55自体が曲がり易いと考えられる。また、特許文献1に記載の基板ホルダの構成では、第1保持部材22においてウェハの裏側となる部分にスペースを確保することも可能な形状であると考えられ、そのスペースに配線55を曲げて収容し得る。
しかしながら、めっき槽にはめっき液を攪拌するためのパドル、アノードマスク、レギュレーションプレート等が設けられており、めっき槽中の限られたスペースに基板ホルダを配置してめっき処理を行うことが要請されている。特に、基板の厚み方向の寸法制約が厳しくなっている。このため、特許文献1の基板ホルダのようにウェハの裏側にスペース
を確保すると、基板ホルダの厚みが増加するため好ましくない。
また、近年、めっき処理によっては、大きな電流でめっき処理を行うことが要求される。さらに、基板の形状によっても、大きな電流でめっき処理することが要請されており、配線の径を大きくすることが要求される。大径の配線は、小径の配線と比較して曲げることが難しくなり、狭いスペースに配線を収容することが困難となる。従って、基板ホルダにおいて、配線の径が大きい場合にも、コンタクトまでの経路差に対応する配線長を吸収できるようにすることが望まれる。また、基板ホルダの厚みの増加を抑制ないし防止することが望まれる。
特許文献2に記載の構成では、基板ホルダの全体がめっき液に浸かるため、基板ホルダの全体にめっき材料が接触する。このため、使用期間や使用回数に応じて、基板ホルダ全体がほぼ同様に経年劣化し、基板ホルダ全体を交換する必要がある。
本発明の目的は、上述した課題の少なくとも一部を解決することである。
In electroplating, the plating process is performed while a current is passed through the substrate through a plurality of contacts provided on the peripheral edge of the substrate. The length of the wiring from the external connection contact provided on the arm (handle) of the substrate holder to each contact Are preferably of equal length. This is because it is preferable for plating quality that the resistance of each wiring is made equal to make the current flowing through each contact uniform. However, the length of the path from each external connection contact to each contact may vary depending on the position of the contact. For this reason, in the substrate holder, it is necessary to absorb the length of the wiring corresponding to the difference in the path length to the contact.
In the substrate holder of
However, the plating tank is provided with a paddle, an anode mask, a regulation plate, etc. for stirring the plating solution, and it is required to perform the plating process by arranging a substrate holder in a limited space in the plating tank. ing. In particular, dimensional constraints in the thickness direction of the substrate are becoming strict. For this reason, securing a space on the back side of the wafer as in the substrate holder of
In recent years, depending on the plating process, it is required to perform the plating process with a large current. Further, depending on the shape of the substrate, it is required to perform the plating process with a large current, and it is required to increase the diameter of the wiring. A large-diameter wiring is difficult to bend compared to a small-diameter wiring, and it is difficult to accommodate the wiring in a narrow space. Therefore, it is desired that the substrate holder can absorb the wiring length corresponding to the path difference to the contact even when the wiring diameter is large. It is also desirable to suppress or prevent an increase in the thickness of the substrate holder.
In the configuration described in Patent Document 2, since the entire substrate holder is immersed in the plating solution, the plating material contacts the entire substrate holder. For this reason, the whole substrate holder deteriorates with age almost in the same manner according to the period of use and the number of uses, and it is necessary to replace the whole substrate holder.
An object of the present invention is to solve at least a part of the problems described above.
[1] 形態1によれば、基板を挟持する第1及び第2保持部材を備える基板ホルダが提供され、基板ホルダは、 前記基板ホルダをめっき槽に設置するためのアーム部であって、1又は複数の外部接続接点を有するアーム部と、 前記第1及び第2保持部材において前記基板を挟持する挟持部と、 前記挟持部に設けられ、前記基板に給電するための1又は複数のコンタクトと、 前記1又は複数の外部接続接点と前記1又は複数のコンタクトとを接続する複数の配線と、 前記アーム部と前記挟持部との間に配置され、前記1又は複数の外部接続接点と前記1又は複数のコンタクトとの間の経路長に対して余分な長さの前記1又は複数の配線を収容する収容空間を有する配線収容部と、を備える。 [1] According to the first aspect, a substrate holder including first and second holding members that sandwich the substrate is provided, and the substrate holder is an arm portion for installing the substrate holder in the plating tank. Or an arm portion having a plurality of external connection contacts, a clamping portion for clamping the substrate in the first and second holding members, and one or a plurality of contacts provided in the clamping portion for supplying power to the substrate A plurality of wirings connecting the one or more external connection contacts and the one or more contacts; and between the arm portion and the clamping portion, and the one or more external connection contacts and the 1 Or a wiring housing portion having a housing space for housing the one or more wires of an extra length relative to the path length between the plurality of contacts.
形態1によれば、基板ホルダのアーム部と挟持部との間に配置された配線収容部によって、外部接続接点とコンタクトとの間の経路長に対して余分な長さの配線を収容し、配線の配置を調整することができる。この構成では、基板ホルダのアーム部と挟持部との間に配線収容部を設けるため、基板ホルダの厚みが増加することを抑制ないし防止することが可能である。つまり、基板ホルダにおいて、配線収容部は、アーム部と、挟持部とに並んで配置されるため、基板ホルダを支持するためのアーム部や、基板を保持する挟持部の厚みが増加することを抑制ないし防止することが可能である。
また、基板を保持する挟持部と重ならないので、基板ホルダ全体の厚みを抑制しつつ、配線収容部の厚み方向の寸法も確保できる。よって、径の大きい配線を曲げて配置する空間を確保し易い。大型の角形基板を保持する基板ホルダでは、特に有利である。
また、配線収容部が、基板を保持する挟持部と重ならないので、基板ホルダに基板を保持した後にも、配線収容部にアクセス可能な構成にすることもできる。
According to the first aspect, the wiring accommodating portion disposed between the arm portion and the sandwiching portion of the substrate holder accommodates an extra length of wiring with respect to the path length between the external connection contact and the contact, The arrangement of the wiring can be adjusted. In this configuration, since the wiring accommodating portion is provided between the arm portion and the clamping portion of the substrate holder, it is possible to suppress or prevent an increase in the thickness of the substrate holder. That is, in the substrate holder, the wiring accommodating portion is arranged side by side with the arm portion and the sandwiching portion, so that the thickness of the arm portion for supporting the substrate holder and the sandwiching portion for holding the substrate is increased. It can be suppressed or prevented.
Moreover, since it does not overlap with the clamping portion that holds the substrate, the thickness of the wiring housing portion can be secured while suppressing the thickness of the entire substrate holder. Therefore, it is easy to secure a space for bending and arranging a wiring having a large diameter. A substrate holder that holds a large rectangular substrate is particularly advantageous.
In addition, since the wiring housing portion does not overlap with the clamping portion that holds the substrate, the wiring housing portion can be configured to be accessible even after the substrate is held on the substrate holder.
[2] 形態2によれば、形態1の基板ホルダにおいて、 前記配線収容部は、 前記1又は複数の配線の長さの一部を収容する第1の凹部を有する前記収容部本体と、 前記収容部本体に着脱自在であり、前記第1の凹部を閉鎖する蓋部材と、を備える。
形態2によれば、蓋部材によって配線収容部内の配線をめっき液等の処理液から保護できるとともに、蓋部材を開けることによって配線収容部内の配線にアクセス可能となる。従って、配線収容部内でのメンテナンスが容易になる。
[2] According to the second aspect, in the substrate holder according to the first aspect, the wiring housing portion includes the housing main body having a first recess that houses a part of the length of the one or the plurality of wirings. A lid member that is detachably attached to the housing main body and closes the first recess.
According to the second aspect, the wiring in the wiring housing portion can be protected from the processing solution such as the plating solution by the lid member, and the wiring in the wiring housing portion can be accessed by opening the lid member. Therefore, maintenance in the wiring housing portion is facilitated.
[3] 形態3によれば、形態2の基板ホルダにおいて、 前記蓋部材は、前記収容部本体の前記第1の凹部に対向する位置に第2の凹部を有する。
形態3によれば、収容部本体及び蓋部材の凹部を合わせた空間を配線収容空間(配線を収容するための空間)とすることができる。収容部本体の厚みを抑制しつつ、配線収容空間の厚み方向を増大することが容易になる。収容部本体の材料が、蓋部材の材料よりも高価な場合には、収容部本体の体積を低減することによって、コストの増大を抑制し得る。
[3] According to Aspect 3, in the substrate holder according to Aspect 2, the lid member has a second recess at a position facing the first recess of the housing main body.
According to the third aspect, a space obtained by combining the housing portion main body and the concave portion of the lid member can be used as a wiring housing space (a space for housing the wiring). It is easy to increase the thickness direction of the wiring housing space while suppressing the thickness of the housing body. When the material of the housing part main body is more expensive than the material of the lid member, an increase in cost can be suppressed by reducing the volume of the housing part main body.
[4] 形態4によれば、形態2又は3の基板ホルダにおいて、前記配線収容部は、前記収容部本体と前記蓋部材との間に配置されたシール部材を更に備える。シール部材としては、Oリング、パッキン等を使用することができる。 形態4によれば、シール部材によって、配線収容部内の空間をより気密に封止することが可能である。 [4] According to Aspect 4, in the substrate holder according to Aspect 2 or 3, the wiring accommodation part further includes a seal member disposed between the accommodation part main body and the lid member. As the seal member, an O-ring, packing, or the like can be used. According to the form 4, it is possible to seal the space in the wiring housing portion more airtightly by the seal member.
[5] 形態5によれば、形態1乃至4の何れかの基板ホルダにおいて、前記配線収容部の前記配線収容空間は、前記基板ホルダがめっき槽に配置された際に、めっき液面の高さ以上の高さに対応する位置に配置されている。
形態5によれば、配線収容空間がほとんどめっき液に浸からないようにすることができる。めっき液中では、パドル、アノードマスク、レギュレーションプレート等のめっき槽の構成によって基板ホルダの厚み方向が寸法制約されるが、めっき液面の上方では、厚み方向の制約が緩やかであるため、配線収容部の厚み方向、特に配線収容空間の寸法を十分に確保することができる。また、配線収容空間がほとんどめっき液に浸からないので、配線収容空間内へのめっき液の漏れをより確実に抑制することができる。
[5] According to the fifth aspect, in the substrate holder of any one of the first to fourth aspects, the wiring housing space of the wiring housing portion has a high plating solution level when the substrate holder is placed in the plating tank. It is arranged at a position corresponding to a height higher than that.
According to the form 5, it is possible to prevent the wiring housing space from being almost immersed in the plating solution. In the plating solution, the thickness direction of the substrate holder is limited by the configuration of the plating tank such as the paddle, anode mask, and regulation plate. However, the restriction in the thickness direction is moderate above the plating solution surface, so wiring is accommodated. It is possible to sufficiently ensure the thickness direction of the portion, particularly the dimension of the wiring housing space. Further, since the wiring housing space is hardly immersed in the plating solution, the leakage of the plating solution into the wiring housing space can be more reliably suppressed.
[6] 形態6によれば、形態1乃至5の何れかの基板ホルダにおいて、前記配線収容部は、前記アーム部及び前記挟持部とは別体である。
形態6によれば、アーム部、挟持部、配線収容部を別々に交換することが可能になる。特に、めっき槽内で配線収容部をめっき液面高さ以上になるように配置する場合には、めっき液によって経年劣化が相対的に早い挟持部を配線収容部とは別に交換することが可能である。
[6] According to Aspect 6, in any one of the substrate holders of
According to the form 6, it becomes possible to replace | exchange an arm part, a clamping part, and a wiring accommodating part separately. In particular, when the wiring container is placed in the plating tank so that it is higher than the plating liquid level, it is possible to replace the clamping part, which has a relatively fast aging deterioration with the plating liquid, separately from the wiring container. It is.
[7] 形態7によれば、形態1乃至6の何れかの基板ホルダにおいて、複数の外部接続接点と複数のコンタクトとが複数の配線で接続され、前記複数のコンタクトが前記基板ホルダの異なる位置に配置され、前記複数の配線は同一の長さを有する。
コンタクトと外部接続接点との間の複数の配線の長さを同一にすることによって、各コンタクトに流れる電流を均一化することができ、めっき品質を向上することができる。また、各コンタクトと外部接続接点との間の経路差に起因する1又は複数の配線の余分な長さは、配線収容部に収容することができる。
[7] According to
By making the lengths of the plurality of wirings between the contact and the external connection contact the same, the current flowing through each contact can be made uniform, and the plating quality can be improved. Further, the extra length of one or a plurality of wirings resulting from the path difference between each contact and the external connection contact can be accommodated in the wiring accommodating portion.
[8] 形態8によれば、形態2乃至4の何れかの基板ホルダにおいて、前記収容部本体はチタンからなり、前記蓋部材はポリ塩化ビニルからなる。
形態8によれば、収容部本体を剛性の高いチタンから構成し、蓋部材を安価なポリ塩化ビニルから構成することで、コストを抑制しつつ配線収容部に必要な剛性を確保することができる。
[8] According to Aspect 8, in any of the substrate holders according to Aspects 2 to 4, the housing main body is made of titanium, and the lid member is made of polyvinyl chloride.
According to the eighth aspect, the housing portion main body is made of titanium having high rigidity, and the lid member is made of inexpensive polyvinyl chloride, so that the rigidity necessary for the wiring housing portion can be secured while suppressing the cost. .
[9] 形態9によれば、形態1乃至8の何れかの基板ホルダを設置するためのめっき槽を有するめっき装置が提供される。
形態9によれば、形態1乃至8で述べた作用効果を奏するめっき装置を提供することができる。特に、基板ホルダの厚みの増大を抑制ないし防止しつつ、配線収容空間内に、径の大きな配線を配置することができるので、より均一且つ大きな電流を基板に流すことができる。これにより、より大型の基板により品質のよいめっき処理を行うことができる。また、基板ホルダの厚みの増大を抑制ないし防止できるので、めっき槽の寸法が大きくなることを抑制ないし防止できる。
[9] According to the ninth aspect, there is provided a plating apparatus having a plating tank for installing any one of the substrate holders of the first to eighth aspects.
According to the ninth aspect, it is possible to provide a plating apparatus that exhibits the effects described in the first to eighth aspects. In particular, since a large-diameter wiring can be arranged in the wiring housing space while suppressing or preventing an increase in the thickness of the substrate holder, a more uniform and large current can be passed through the substrate. Thereby, a plating process with good quality can be performed on a larger substrate. Moreover, since the increase in the thickness of the substrate holder can be suppressed or prevented, an increase in the size of the plating tank can be suppressed or prevented.
[10] 形態10によれば、基板ホルダによって基板を保持した状態で基板にめっき処理するめっき方法が提供され、このめっき方法では、めっき槽内において、前記基板ホルダの1又は複数の外部接続接点と1又は複数のコンタクトとの間の経路長に対して余分な1又は複数の配線の長さを収容する配線収容部が、めっき液面よりも高い位置にある状態で、前記基板にめっき処理を行う。
形態10によれば、配線収容空間がほとんどめっき液に浸からないようにすることができる。めっき液中では、パドル、アノードマスク、レギュレーションプレート等のめっき槽の構成によって基板ホルダの厚み方向が寸法制約されるが、めっき液面の上方では、厚み方向の寸法制約が緩やかである。このため、配線収容部と、めっき槽の構成とが干渉することを抑制ないし防止できる。また、配線収容空間がほとんどめっき液に浸からないので、配線収容空間内へのめっき液の漏れをより確実に抑制することができる。
[10] According to the tenth aspect, there is provided a plating method for plating a substrate in a state where the substrate is held by the substrate holder. In the plating method, one or more external connection contacts of the substrate holder are provided in the plating tank. The substrate is plated in a state in which a wiring accommodating portion that accommodates one or more extra wiring lengths relative to the path length between the first and the plurality of contacts is higher than the plating solution surface. I do.
According to the tenth aspect, it is possible to prevent the wiring housing space from being substantially immersed in the plating solution. In the plating solution, the dimension of the thickness direction of the substrate holder is limited by the configuration of the plating tank such as a paddle, an anode mask, and a regulation plate, but the dimension constraint in the thickness direction is moderate above the plating solution surface. For this reason, it can suppress thru | or prevent that a wiring accommodating part and the structure of a plating tank interfere. Further, since the wiring housing space is hardly immersed in the plating solution, the leakage of the plating solution into the wiring housing space can be more reliably suppressed.
以下、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。なお、以下の各実施形態において、同一または相当する部材には同一符号を付して重複した説明を省略する。また、本明細書において「前面」、「背面」、「フロント」、「バック」、「上」、「下」、「左」、「右」等の表現を用いるが、これらは、説明の都合上、例示の図面の紙面上における位置、方向を示すものであり、装置使用時等の実際の配置では異なる場合がある。また、本明細書において「アーム部」あるいは「ハンドル」は、基板ホルダが搬送される際に搬送装置により基板ホルダが把持又は係合される部分の「係合部」と同義に用いられる。 Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. In the following embodiments, the same or corresponding members are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted. In this specification, expressions such as “front”, “back”, “front”, “back”, “up”, “down”, “left”, “right”, etc. are used. The above shows the position and direction on the paper surface of the example drawing, and may differ in actual arrangement when the apparatus is used. Further, in this specification, the “arm portion” or “handle” is used synonymously with “engagement portion” of a portion where the substrate holder is gripped or engaged by the transfer device when the substrate holder is transferred.
図1は、本発明の一実施形態に係る基板ホルダが使用されるめっき装置の全体配置図である。図1に示すように、このめっき装置100は、基板ホルダ1に基板(被処理物の一例に相当する)をロードし、又は基板ホルダ1から基板をアンロードするロード/アンロード部110と、基板を処理する処理部120と、洗浄部50aとに大きく分けられる。処理部120は、さらに、基板の前処理及び後処理を行う前処理・後処理部120Aと、基板にめっき処理を行うめっき処理部120Bとを含む。なお、このめっき装置100で処理する基板は、角形基板、円形基板を含む。また、角形基板は、矩形等の多角形のガラス基板、液晶基板、プリント基板、その他の多角形のめっき対象物を含む。円形基板は、半導体ウェハ、ガラス基板、その他の円形のめっき対象物を含む。
FIG. 1 is an overall layout diagram of a plating apparatus in which a substrate holder according to an embodiment of the present invention is used. As shown in FIG. 1, this
ロード/アンロード部110は、2台のカセットテーブル25と、基板脱着機構29と
を有する。カセットテーブル25は、半導体ウェハ、ガラス基板、液晶基板、プリント基板等の基板を収納したカセット25aを搭載する。基板脱着機構29は、基板を基板ホルダ1(図2A以降で後述)に着脱するように構成される。また、基板脱着機構29の近傍(例えば下方)には基板ホルダ1を収容するためのストッカ30が設けられる。これらのユニット25,29,30の中央には、これらのユニット間で基板を搬送する搬送用ロボットからなる基板搬送装置27が配置されている。基板搬送装置27は、走行機構28により走行可能に構成される。
The load / unload
洗浄部50aは、めっき処理後の基板を洗浄して乾燥させる洗浄装置50を有する。基板搬送装置27は、めっき処理後の基板を洗浄装置50に搬送し、洗浄された基板を洗浄装置50から取り出すように構成される。
The
前処理・後処理部120Aは、プリウェット槽32と、プリソーク槽33と、プリリンス槽34と、ブロー槽35と、リンス槽36と、を有する。プリウェット槽32では、基板が純水に浸漬される。プリソーク槽33では、基板の表面に形成したシード層等の導電層の表面の酸化膜がエッチング除去される。プリリンス槽34では、プリソーク後の基板が基板ホルダと共に洗浄液(純水等)で洗浄される。ブロー槽35では、洗浄後の基板の液切りが行われる。リンス槽36では、めっき後の基板が基板ホルダと共に洗浄液で洗浄される。プリウェット槽32、プリソーク槽33、プリリンス槽34、ブロー槽35、リンス槽36は、この順に配置されている。なお、このめっき装置100の前処理・後処理部120Aの構成は一例であり、めっき装置100の前処理・後処理部120Aの構成は限定されず、他の構成を採用することが可能である。
The pre-processing /
めっき処理部120Bは、オーバーフロー槽38を備えた複数のめっき槽39を有する。各めっき槽39は、内部に一つの基板を収納し、内部に保持しためっき液中に基板を浸漬させて基板表面に銅めっき等のめっきを行う。ここで、めっき液の種類は、特に限られることはなく、用途に応じて様々なめっき液が用いられる。
The
めっき装置100は、これらの各機器の側方に位置して、これらの各機器の間で基板ホルダを基板とともに搬送する、例えばリニアモータ方式を採用した基板ホルダ搬送装置37を有する。この基板ホルダ搬送装置37は、基板脱着機構29、プリウェット槽32、プリソーク槽33、プリリンス槽34、ブロー槽35、リンス槽36、及びめっき槽39との間で基板ホルダを搬送するように構成される。
The
以上のように構成されるめっき装置100を含むめっき処理システムは、上述した各部を制御するように構成されたコントローラ175を有する。コントローラ175は、所定のプログラムを格納したメモリ175Bと、メモリ175Bのプログラムを実行するCPU(Central Processing Unit)175Aと、CPU175Aがプログラムを実行することで実現される制御部175Cとを有する。制御部175Cは、例えば、基板搬送装置27の搬送制御、基板脱着機構29における基板の基板ホルダへの着脱制御、基板ホルダ搬送装置37の搬送制御、各めっき槽39におけるめっき電流及びめっき時間の制御、並びに、各めっき槽39に配置されるアノードマスク(図示せず)の開口径及びレギュレーションプレート(図示せず)の開口径の制御等を行うことができる。また、コントローラ175は、めっき装置100及びその他の関連装置を統括制御する図示しない上位コントローラと通信可能に構成され、上位コントローラが有するデータベースとの間でデータのやり取りをすることができる。ここで、メモリ175Bを構成する記憶媒体は、各種の設定データや後述するめっき処理プログラム等の各種のプログラムを格納している。記憶媒体としては、コンピュータで読み取り可能なROMやRAMなどのメモリや、ハードディスク、CD−ROM、DVD−ROMやフレキシブルディスクなどのディスク状記憶媒体などの公知のものが使用され得る。
The plating processing system including the
[基板ホルダ]
図2Aは、一実施形態に係る基板ホルダの概略正面図である。図2Bは、基板ホルダの概略側面図である。図2Cは、基板ホルダの概略背面図である。図3Aは、基板ホルダの前方斜視図である。図3Bは、基板ホルダの後方斜視図である。図4Aは、基板ホルダの前面図である。図4Bは、基板ホルダの背面図である。
[Substrate holder]
FIG. 2A is a schematic front view of a substrate holder according to an embodiment. FIG. 2B is a schematic side view of the substrate holder. FIG. 2C is a schematic rear view of the substrate holder. FIG. 3A is a front perspective view of the substrate holder. FIG. 3B is a rear perspective view of the substrate holder. FIG. 4A is a front view of the substrate holder. FIG. 4B is a rear view of the substrate holder.
基板ホルダ1は、フロントプレート300とバックプレート400とを備えている。これらのフロントプレート300とバックプレート400との間に基板Sが保持される。本実施例では、基板ホルダ1は、基板Sの片面を露出した状態で基板Sを保持する。基板Sは、半導体ウェハ、ガラス基板、液晶基板、プリント基板、その他の被めっき物であり得る。基板Sは、円形、角形等の何れの形状である。なお、以下の説明では、角形の基板を例に挙げて説明するが、基板ホルダ1の開口部の形状を変更すれば、円形その他の形状の基板を保持することが可能である。
The
フロントプレート300は、フロントプレート本体310と、アーム部330とを備えている。アーム部330は、基板ホルダ搬送装置37に把持される把持部分であり、めっき槽39に配置される際に支持される部分である。基板ホルダ1は、基板ホルダ搬送装置37によって、めっき装置100の設置面に対して垂直に立てた状態で搬送され、垂直に立てた状態でめっき槽39内に配置される。
The
フロントプレート本体310は、概ね矩形状であり、配線バッファ部311とフェース部312とを有し、前面301と背面302とを有する。フロントプレート本体310は、取付部320によって2箇所でアーム部330に取り付けられている。フロントプレート本体310には、開口部303が設けられており、開口部303から基板Sの被めっき面が露出される。本実施形態では、開口部303は、矩形状の基板Sに対応して矩形状に形成されている。なお、基板Sが円形の半導体ウェハ等である場合には、開口部303の形状も円形に形成される。
The front plate
フロントプレート本体310のアーム部330に近い側には、配線バッファ部311が設けられている。配線バッファ部311は、アーム部330を介してフロントプレート本体310まで到達するケーブルの分配を行う領域であり、また、予備の長さのケーブルを収容する領域である。配線バッファ部311は、フロントプレート本体310の他の部分(フェース部312)よりも若干厚みを持って形成されている(図2B参照)。本実施形態では、配線バッファ部311は、フロントプレート本体310の他の部分(フェース部312)とは別体に形成され、フェース部312に取り付けられている。アーム部330の一端側には、外部の配線と電気的に接続するためのコネクタ331が設けられている(図3A等参照)。バックプレート400は、フロントプレート本体310(より詳細には、フェース部312)の背面302にクランプ340によって固定される(図2C、図3B、図4B)。
A
(バックプレートのフロントプレートへの取付構造)
図5Aは、バックプレートの正面図である。図5Bは、バックプレートの背面図である。図6Aは、バックプレートの取り付け状態を示す、基板ホルダの一部拡大背面図である。図6Bは、バックプレートの取り付け状態を示す、基板ホルダの一部拡大斜視図である。図7は、クランプと連結部材の関係を示す斜視図である。
(Mounting structure of back plate to front plate)
FIG. 5A is a front view of the back plate. FIG. 5B is a rear view of the back plate. FIG. 6A is a partially enlarged rear view of the substrate holder showing the attachment state of the back plate. FIG. 6B is a partially enlarged perspective view of the substrate holder showing a state where the back plate is attached. FIG. 7 is a perspective view showing the relationship between the clamp and the connecting member.
バックプレート400は、バックプレート本体410を備え、バックプレート本体410は、概ね矩形状であるが、フロントプレート300のフロントプレート本体310よりも小さい寸法を有する(図3B、図4B)。バックプレート本体410は、前面401(
図5A)と背面402(図5B)とを有する。
The
5A) and a back surface 402 (FIG. 5B).
バックプレート本体410の前面401は、基板Sの載置面であり、フロントプレート本体310の背面302に取り付けられる。バックプレート本体410の前面401には、基板Sを保持(固定)するためのクリップ部420が、基板Sの各辺に対応して合計8個設けられている。この例では、クリップ部420は、基板Sの上辺及び下辺にそれぞれ1個づつ、左片及び右辺にそれぞれ3個づつ配置されている。なお、クリップ部420の数及び配置は、基板Sの寸法、形状に応じて適宜選択されるものであり、図示の数及び配置に限定されない。
A
バックプレート本体410の4隅のうちの3隅には、位置決め片490が設けられている。位置決め片490には、貫通孔490aが形成されている。位置決め片490は、バックプレート本体410と一体に形成してもよいし、バックプレート本体410とは別体で形成し、バックプレート本体410に取り付けるようにしてもよい。フロントプレート本体310の背面302には、位置決め片490の各々に対応する位置に位置決めピン390が設けられている(図6A,B)。位置決めピン390は、フロントプレート本体310と一体に形成してもよいし、フロントプレート本体310とは別体で形成し、フロントプレート本体310に取り付けるようにしてもよい。バックプレート400をフロントプレート300に取り付ける際に、バックプレート400の位置決め片490の貫通孔490aに位置決めピン390を挿通させ、両者の位置合わせを行う。
Positioning
フロントプレート300の背面302には、図4Bに示すように、バックプレート400の4辺の各辺に対応して、固定部材350が配置されている。2つの固定部材350が、バックプレート400の1辺に対して設けられており、バックプレート400の1辺に沿って並んで配置されている。各固定部材350には、図6A、図6B、図7に示すように、2つのクランプ340が取り付けられている。よって、1辺あたり、4つのクランプ340が設けられている。また、各辺の2つの固定部材350の間には、4つのクランプ340を同時に動作させるためのレバー342が取り付けられている。なお、1辺あたりのクランプの数は、4つに限定されず、3つ以下であっても、5つ以上であってもよい。
As shown in FIG. 4B, fixing
各辺の2つの固定部材350に亘って回転軸341が取り付けられている。回転軸341は、固定部材350に対して回転自在に取り付けられている(図7)。各クランプ340及びレバー342は、回転軸341にキー結合(キー及びキー溝)によって回転不能に取り付けられている(図8A,B、図9A,B)。4つのクランプ340は、同一の位相で回転軸341に取り付けられているが、レバー342は、4つのクランプ340とは異なる位相で回転軸341に取り付けられている。この構成により、レバー342が回転すると、それに伴い、4つのクランプ340が同期して回転する。なお、ここでは、フロントプレート本体310の面301、302に平行な回転軸341の周りにクランプ340が回転するように構成したが、フロントプレート本体310の面301、302に垂直な方向に往復運動してバックプレート400をクランプするように、クランプ340を構成してもよい。
A
クランプ340は、その先端部において鉤状に湾曲した係合部340aを有する。クランプ340の基端側には貫通孔を有し、この貫通孔に回転軸341が挿通され、キー及びキー溝によって回転不能に固定されている(図9A参照)。レバー342は、外部からの力を受けていない場合、図7に示すように、圧縮ばね343によってフロントプレート300の背面302から立ち上がるように付勢されており、これに伴い、各クランプ340は閉じる方向に付勢されている。言い換えれば、クランプ340は、ノーマルクローズ型で構成されている。また、レバー342は、外部からの押圧力を受けることが可能な力受部として構成されている。レバー342は、例えば、基板着脱機構29に設けられるアク
チュエータから押圧力を受けることが可能である。図10Bにおいて、アクチュエータAR1を模式的に示している。アクチュエータAR1は、例えば、エアシリンダ、モータ等の駆動部DRVと、駆動部DRVによって駆動される棒状部材RDとを備える。レバー342は、アクチュエータAR1から押圧力を受けると、フロントプレート300の背面302に向かって倒れる方向に回転し、これに伴い、クランプ340は開く方向に回転する。この例では、アクチュエータAR1は、各辺のレバー342に対応して4つ設けられる。好ましくは、4つのアクチュエータAR1は、同時に駆動されてレバー342を押す。但し、4つのアクチュエータAR1は、別々に駆動してもよく、同時に駆動することに限定されない。
The
バックプレート400の背面402には、クランプ340に対応する位置に係合受部430が設けられている。係合受部430は、本実施形態で示すように、バックプレート400のバックプレート本体410とは別部材で形成され、バックプレート本体410に取り付けても良いし、バックプレート本体410と一体に形成したものであってもよい。係合受部430には、クランプ340の鉤状の係合部340aが引っ掛かり、係合することが可能な形状を有する突出部430aが形成されている。突出部430aは、クランプ340の係合部340aの係合を確実に受けるために、係合部340aよりも長い寸法を有する。
An
以下、図面を参照しつつ、バックプレート400のフロントプレート300への取り付け構造を説明する。
図8Aは、クランプ状態のクランプの斜視図である。図8Bは、クランプ状態のクランプの側面図である。図9Aは、クランプ状態のクランプの断面斜視図である。図9Bは、クランプ状態のクランプの断面図である。図10Aは、アンクランプ状態のクランプの構成を示す斜視図である。図10Bは、アンクランプ状態のクランプの側面図である。図11Aは、アンクランプ状態のクランプの断面斜視図である。図11Bは、アンクランプ状態のクランプの構成を示す断面図である。
Hereinafter, a structure for attaching the
FIG. 8A is a perspective view of the clamp in a clamped state. FIG. 8B is a side view of the clamp in a clamped state. FIG. 9A is a cross-sectional perspective view of the clamp in a clamped state. FIG. 9B is a cross-sectional view of the clamp in a clamped state. FIG. 10A is a perspective view showing a configuration of a clamp in an unclamped state. FIG. 10B is a side view of the clamp in an unclamped state. FIG. 11A is a cross-sectional perspective view of the clamp in an unclamped state. FIG. 11B is a cross-sectional view showing the configuration of the clamp in an unclamped state.
前述したように、クランプ340は、ノーマルクローズ型であり、レバー342に押圧力を受けていない状態では、図8A,B及び図9A,Bに示すように、閉じた状態にある。フロントプレート300にバックプレート400を取り付ける場合には、先ず、アクチュエータAR1(図10B)によってフロントプレート300のレバー342に押圧力を加え、図10A,B及び図11A,Bに示すように、圧縮ばね343の付勢力に抗してクランプ340を開く方向に回転させる。クランプ340を開放させた状態で、フロントプレート300(フェース部312)の背面302の所定の位置にバックプレート400を配置する。このとき、フロントプレート300の位置合わせピン390が、バックプレート400の位置合わせ片490の貫通孔490aに係合して、バックプレート400がフロントプレート300の所定の位置に位置合わせされる。
As described above, the
次に、フロントプレート300のレバー342からアクチュエータAR1の押圧力を取り除く。これにより、レバー342が圧縮ばね343の付勢力によってレバー342が元の位置に向かって回転し、各クランプ340が閉じる方向に回転する。この結果、クランプ340の係合部340aが、バックプレート400の係合受部430に係合し、バックプレート400がフロントプレート300に固定される(図8A,B及び図9A,B)。
Next, the pressing force of the actuator AR1 is removed from the
バックプレート400を取り外す場合には、前述したように、アクチュエータ(図示せず)によってフロントプレート300のレバー342に押圧力を加え、圧縮ばね343の付勢力に抗してクランプ340を開く方向に回転させる(図10A,B及び図11A,B)。この結果、クランプ340が係合受部430から解放され、バックプレート400をフロントプレート300から取り外し可能となる。
When the
(基板のバックプレートへの取付構造)
図12Aは、バックプレートのクリップを示す一部切欠き側面図である。図12Bは、バックプレートのクリップを示す一部拡大斜視図である。図13Aは、閉鎖時のクリップの状態を示す一部切欠き斜視図である。図13Bは、閉鎖時のクリップの状態を示す一部切欠き断面図である。図14Aは、開放時のクリップの状態を示す一部切欠き斜視図である。図14Bは、開放時のクリップの状態を示す一部切欠き断面図である。
(Mounting structure of the board to the back plate)
FIG. 12A is a partially cutaway side view showing a clip of the back plate. FIG. 12B is a partially enlarged perspective view showing a clip of the back plate. FIG. 13A is a partially cutaway perspective view showing a state of a clip at the time of closing. FIG. 13B is a partially cutaway cross-sectional view showing the state of the clip when closed. FIG. 14A is a partially cutaway perspective view showing a state of a clip when opened. FIG. 14B is a partially cutaway cross-sectional view showing the state of the clip when opened.
バックプレート400の前面401には、基板Sの各辺に対応して合計8個のクリップ部420が設けられている(図5A参照)。また、バックプレート400の背面402には、クリップ部420の各々に対応する位置に、ボタン470が設けられている(図5B参照)。ボタン470に力が加わっていない場合、ボタン470の前面401側の面は、2つのクリップ421の基端部と所定の間隔を持って配置されている(図13B)。ボタン470は、力受部471と、力受部471をバックプレート本体410に対して変位可能に支持する弾性部分472と、弾性部分472の外周にある取付部473とを有する。ボタン470は、取付部473において押え部材474、及び締結部材475によって固定されている。締結部材475は、例えば、スタッド、ボルト等である。
A total of eight
各クリップ部420は、図12A,Bに示すように、バックプレート本体410の前面401に固定された固定部423と、固定部423に回転不能に固定された固定軸424と、固定軸424に対して並進しつつ回転可能に支持された2つのクリップ421と、クリップ421の各々に設けられクリップ421を閉鎖方向に付勢する巻ばね422と、を備えている。
As shown in FIGS. 12A and 12B, each
クリップ421は、その先端部に爪部421aを有し、その基端側には長穴421b及び2つの丸穴421cが形成されている。クリップ421は、固定軸424を長穴421bに挿通させて取り付けられている。図13Bに示すように巻ばね422は、巻回部422cと、巻回部422cから延びる脚部422a、422bを有している。巻ばね422は、針金等を複数回円形に巻いて巻回部422cを設け、所定の長さの脚部422a、422bを残したものである。脚部422aは、略直角に折れ曲がる折曲部を先端に有し、この折曲部が、クリップ421の2つ丸穴421cのうち基端側の丸穴421cに挿入及び嵌合されている。他方の脚部422bは、クリップ421には取り付けられておらず、略直角に折れ曲がる折曲部を先端に有し、この折曲部が、固定部423に設けられた規制面423aに当接した状態で支持されている。また、脚部422aは、固定部423に設けられた案内面423bによって案内される(図13B、図14B)。
The
この構成により、クリップ421は、バックプレート本体410から離れる方向に移動しつつ、バックプレート本体410の外側に向かって回転することが可能である(図13Bから図14B)。この結果、クリップ421は、開放状態となる(図14A,B)。また、逆に、クリップ421は、バックプレート本体410に接近する方向に移動しつつ、バックプレート本体410の内側に向かって回転することが可能である(図14Bから図13B)。この結果、クリップ421は、閉鎖状態となる(図13A,B)。なお、本実施形態では、クリップ421は、外部から力を受けない状態では、巻ばね422によって閉鎖方向に付勢されており、ノーマルクローズ型である(図13A,B)。また、図14Bでは、図面の複雑化を避けるため、ボタン470の力受部471が変位していない状態を示しているが、実際には、力受部471はクリップ421に向かって変位してクリップ421を押圧しており、この押圧によってクリップ421が開放状態にある。
With this configuration, the
基板Sをバックプレート400に載置する場合、バックプレート400の8個のボタン470(力受部471)に、外部からアクチュエータAR2によって押圧力を加える(図
14B)。これにより、図14A,Bに示すように、力受部471が前面401側に変位し、2つのクリップ421の基端部に当接する。力受部471から受ける力によって、クリップ421は、図14Bに示すように、バックプレート本体410から離れる方向に移動しつつ、バックプレート本体410の外側に回転し、開放状態となる(図14B)。図14Bに模式的に示したように、アクチュエータAR2は、例えば、エアシリンダ、モータ等の駆動部DRVと、駆動部DRVによって駆動される棒状部材RDとを備える。アクチュエータAR2は、8個のボタン470に対応して8台設けられている。好ましくは、8台のアクチュエータAR2は、同時に駆動されてボタン470を押す。但し、8台のアクチュエータAR2は、別々に駆動してもよく、同時に駆動することに限定されない。
When the substrate S is placed on the
クリップ421が開放した状態で、バックプレート400の前面401の所定の位置に基板Sを載置し、その後、ボタン470からアクチュエータAR2による押圧力を解放する。この結果、クリップ421は、巻ばね422の付勢力によって、バックプレート本体410に接近する方向に移動しつつ、バックプレート本体410の内側に回転し、閉鎖状態となる(図14Bから図13B)。このとき、クリップ421の先端の爪部421aが基板Sの周縁部に係合し、基板Sをバックプレート400の前面401に固定することができる。
In a state where the
このように基板Sを取り付けたバックプレート400を、図5から図13で説明したように、フロントプレート300(フェース部312)に取り付ければ、基板ホルダ1への基板Sの取り付けが完了する。基板Sをバックプレート400から取り外す場合、前述したように、バックプレート400の8個のボタン470(力受部471)に、外部からアクチュエータAR2によって押圧力を加える(図14A、B)。
If the
なお、ここでは、バックプレート本体410の面401、402に平行な固定軸424の周りにクリップ421が回転するように構成したが、バックプレート本体410の面401、402に垂直な方向に往復運動して基板Sをクランプするようにクリップ421を構成してもよい。
Here, the
(シール部の構成)
図15は、フロントプレートのインナーシール部を示す断面図である。図16は、フロントプレートのインナーシール部及びアウターシール部を示す断面図である。
(Configuration of seal part)
FIG. 15 is a cross-sectional view showing the inner seal portion of the front plate. FIG. 16 is a cross-sectional view showing the inner seal portion and the outer seal portion of the front plate.
フロントプレート300の背面302には、開口部303に隣接してインナーシール361が設けられている。インナーシール361は、シールホルダ363によってフロントプレート300の背面302に取り付けられている。インナーシール361は、基板Sとフロントプレート300との間をシールし、めっき液が基板Sの端部に侵入することを防止する。シールホルダ363には、基板Sに電位を供給するためのコンタクト370も取り付けられている。
An
また、図16に示すように、フロントプレート300の背面302には、インナーシール361よりも外側において、アウターシール362がシールホルダ364によって取り付けられている。アウターシール362は、バックプレート400に当接し、フロントプレート300とバックプレート400との間をシールする。
Further, as shown in FIG. 16, an
本実施形態では、インナーシール361及びアウターシール362を取り付けるシールホルダ363、364が別部材で構成されているので、インナーシール361及びアウターシール362を別々に交換することができる。
In the present embodiment, since the
図17は、フロントプレート本体の背面図である。図18は、フロントプレートのコネ
クタを含む領域の一部拡大平面図である。図19Aは、フロントパネルの断面斜視図である。図19Bは、フロントパネルの断面図である。図19Cは、ケーブルの配置を示すフロントパネルの一部拡大斜視図である。図20Aは、配線バッファ部の図示を省略した場合の、フェース部のケーブル導入位置付近の斜視図である。図20Bは、配線バッファ部の図示を省略した場合の、フェース部のケーブル導入位置付近を示す上面図である。図20Cは、配線バッファ部の図示を省略した場合の、フェース部のケーブル導入位置付近を示す上面図の拡大図である。
FIG. 17 is a rear view of the front plate body. FIG. 18 is a partially enlarged plan view of a region including the front plate connector. FIG. 19A is a cross-sectional perspective view of the front panel. FIG. 19B is a cross-sectional view of the front panel. FIG. 19C is a partially enlarged perspective view of the front panel showing the arrangement of the cables. FIG. 20A is a perspective view of the vicinity of the cable introduction position of the face portion when illustration of the wiring buffer portion is omitted. FIG. 20B is a top view showing the vicinity of the cable introduction position of the face portion when the illustration of the wiring buffer portion is omitted. FIG. 20C is an enlarged top view showing the vicinity of the cable introduction position of the face portion when the illustration of the wiring buffer portion is omitted.
フロントプレート本体310の背面302は、18個のコンタクト領域C1−C18を有する。コンタクト領域C1−C7、C17、C18は、フェース部312のうちコネクタ331側の半分の領域(第1領域、図17の右側半分の領域)に配置されており、コンタクト領域C8−C16は、フェース部312のうちコネクタ331から遠い側の半分の領域(第2領域、図17の左側半分の領域)に配置されている。以下の説明では、便宜上、第1領域に配置されるケーブルを第1グループのケーブル、第2領域に配置されるケーブルを第2グループのケーブルと称す場合がある。
The
各コンタクト領域C1−C18には、図15、図16に図示した基板Sに給電するためのコンタクト(接点部材)370が含まれる。各コンタクト領域C1−C18のコンタクト370には、それぞれ、ケーブルL1−L18を介して、外部から給電される。なお、以下の説明では、各ケーブルを区別する必要がない場合には、ケーブルL1−L18をまとめて、ケーブルLと総称する場合がある。また、任意のケーブルをケーブルLとして参照する場合もある。
Each contact region C1-C18 includes a contact (contact member) 370 for supplying power to the substrate S shown in FIGS. The
ケーブルL1−L18の第1端部は、アーム部330の一端に設けられたコネクタ331に接続されおり、より詳細には、コネクタ331において個別の接点または複数本ずつ共通の接点(図示省略)に電気的に接続されている。ケーブルL1−L18は、コネクタ331の各接点を介して外部の電源(電源回路、電源装置等)に電気的に接続可能である。
The first end portions of the cables L1 to L18 are connected to a
図22は、ケーブルと外部接続接点との接続関係を説明する説明図である。
コネクタ331では、ケーブルL1−L18が外部接続接点331a1、331a2に接続される(図22)。外部接続接点331a1、331a2には、外部電源からの給電端子に接続される。例えば、第1グループのケーブル(L1−L7、L17、L18)の3本を共通の第1側の外部接続接点331a1に接続し、第2グループのケーブル(L8−L16)の3本のケーブルを共通の第2側の外部接続接点331a2に接続し、これらの第1側の外部接続接点331a1と第2側の外部接続接点331a2とを一対の外部接続接点331aとする。ここで、第1側及び第2側とは、コネクタ331において接点が2列に並んでいる場合の各側に対応する。例えば、図17において、基板ホルダ1のコネクタ331を右側方から見た場合に、右側を第1側、左側を第2側とする。具体的には、以下のように外部接続接点を構成する。
FIG. 22 is an explanatory diagram illustrating a connection relationship between the cable and the external connection contact.
In the
ケーブルL17、L18、L1を共通の第1側の外部接続接点331a1に接続し、ケーブルL8、L9、L10を共通の第2側の外部接続接点331a2に接続し、これらの第1側の外部接続接点331a1と第2側の外部接続接点331a2とを一対(第1対、又は第1の外部接続接点対331aと称す)とする。
Cables L17, L18, and L1 are connected to a common first-side external connection contact 331a1, and cables L8, L9, and L10 are connected to a common second-side external connection contact 331a2, and these first-side external connections The contact 331a1 and the second-side external connection contact 331a2 are paired (referred to as a first pair or a first external
ケーブルL2、L3、L4を別の第1側の外部接続接点331a1に接続し、ケーブルL11、L12、L13を別の第2側の外部接続接点331a2に接続し、これらの第1側の外部接続接点331a1と第2側の外部接続接点331a2とを一対(第2対、又は第2の外部接続接点対331aと称す)とする。
The cables L2, L3, and L4 are connected to another external connection contact 331a1 on the first side, and the cables L11, L12, and L13 are connected to another external connection contact 331a2 on the second side, and these external connections on the first side The contact 331a1 and the second-side external connection contact 331a2 are paired (referred to as a second pair or a second external
ケーブルL5、L6、L7を別の第1側の外部接続接点331a1に接続し、ケーブルL14、L15、L16を別の第2側の外部接続接点331a2に接続し、これらの第1側の外部接続接点331a1と第2側の外部接続接点331a2とを一対(第3対、又は第3の外部接続接点対331aと称す)とする。
The cables L5, L6, and L7 are connected to another external connection contact 331a1 on the first side, and the cables L14, L15, and L16 are connected to another external connection contact 331a2 on the second side, and these external connections on the first side The contact 331a1 and the second-side external connection contact 331a2 are paired (referred to as a third pair or a third external
コネクタ331において、各外部接続接点対331aの第1側の外部接続接点331a1と第2側の外部接続接点331a2とは互いに対向して配置されている。第1の外部接続接点対331aの第1側の外部接続接点331a1と第2側の外部接続接点331a2とは互いに対向して配置され、第2の外部接続接点対331aの第1側の外部接続接点331a1と第2側の外部接続接点331a2とは互いに対向して配置され、第3の外部接続接点対331aの第1側の外部接続接点331a1と第2側の外部接続接点331a2とは互いに対向して配置される。
In the
基板着脱機構29において、通電確認処理が実行される。具体的には、基板ホルダ1に基板Sが保持された後(バックプレート400がフロントプレート300のクランプ340で固定された後)、コネクタ331の第1〜第3対に抵抗測定器(図示せず)が接続され、各対における第1外部接続接点と第2外部接続接点との間に、所定の検査電圧が印加される。これにより、各対における第1外部接続接点と第2外部接続接点との間の電気抵抗が測定される。そして、各対の電気抵抗が所定値以下かつ所定の範囲内であれば(各対の電気抵抗にばらつきがなく、断線等の異常がない)、基板ホルダ1の通電が良好であると判断する(通電確認処理)。この通電確認処理は、コントローラ175の制御部175Cで実行され、前述した「基板脱着機構29における基板の基板ホルダへの着脱制御」に含むことができる。
In the substrate attaching /
ケーブルL1−L18の他端である第2端部は、後述するように、それぞれ、コンタクト領域C1−C18においてコンタクト370に電気的に接続される。各ケーブルL1−L18は、コネクタ331から、アーム部330を通って、一方の取付部320を通過し、配線バッファ部311に入る(図18)。配線バッファ部311において、ケーブルL1−L18のうちケーブルL17、L18、L1−L7が、第1領域(コネクタ側の領域)に向かい、ケーブルL8−L16が、第2領域(コネクタから遠い側の領域)に向かう。図18では、第1領域に配置される第1グループのケーブルL17、L18、L1−L7が主に示されている。図18に示すように、第1グループのケーブルL17、L18、L1−L7は、配線バッファ部311を通過して、フェース部312におけるシールホルダ363、364間のケーブル通路365に導かれる。図示省略するが、第2グループのケーブルL8−16も、配線バッファ部311の第2領域(コネクタから遠い側の領域)を通過して、フェース部312の第2領域においてケーブル通路365に導かれる。なお、図18では、図面の複雑化を避けるため、ケーブルの長さの一部を省略して表示している。また、配線バッファ部311におけるケーブルL1−L18の配置は、ケーブルL1−L18の長さの一部をバッファするように任意の配置とすることができる。
The second ends, which are the other ends of the cables L1-L18, are electrically connected to the
配線バッファ部311のフェース部312側には、肉厚部3113が設けられている(図19A、図19B)。配線バッファ部311の肉厚部3113及びフェース部312には、シールホルダ363、364間のケーブル通路365まで、各ケーブルL1−L18に対応する配線穴311aが設けられている(図19A、図19B)。ここで、配線穴311aは、ケーブルが通過可能な径を有する錐穴である。図19Aでは、1つの配線穴311aのみを示しているが、実際には、配線穴311aは、図19Cに示すように、各ケーブルに対応して複数設けられている。少なくともケーブルの数の配線穴311aが設けられている。
A
本実施形態では、図19A、図19Bに示すように、配線バッファ部311は、フロントパネル本体310のフェース部312とは別体で設けられ、フェース部312に取り付けられている。配線バッファ部311とフェース部312の境界においてケーブルの周囲には、配線穴311a及びケーブルLを密閉するためのOリング501が配置されている。これにより、配線穴311a及びケーブルLが、めっき液や、外部からの異物から保護される。
In this embodiment, as shown in FIGS. 19A and 19B, the
図21Aは、コネクタに近い側のフェース部の隅部近傍における背面図である。図21Bは、コネクタに近い側のフェース部の隅部近傍をさらに拡大した背面図である。図21Cは、図21AのC−C線における断面図である。図21Dは、ケーブルの被覆を除去した部分の斜視図である。 FIG. 21A is a rear view in the vicinity of the corner portion of the face portion on the side close to the connector. FIG. 21B is a rear view further enlarging the vicinity of the corner of the face near the connector. FIG. 21C is a cross-sectional view taken along the line CC of FIG. 21A. FIG. 21D is a perspective view of a portion where the cable covering is removed.
ケーブルL1−L7は、図21A及び図21Bに示すように、同一平面内に並んでケーブル通路365内に導入され、開口部303のコネクタ331側の辺に沿って配置されている。ケーブル同士は、フェース部312の厚み方向に重ならない。従って、フェース部312及びフロントパネル300の厚みを抑制することができる。
As shown in FIGS. 21A and 21B, the cables L1-L7 are introduced into the
図21A及び図21Bに示すように、開口部303の各辺に沿って、コンタクト領域C1−C18ごとに導電体からなるコンタクト370が配置されている。コンタクト370は、インナーシール361に接触しないが、隣接して配置されている。コンタクト370は、シールホルダ363上に配置されており、複数のネジ511でシールホルダに固定されている。シールホルダ363には、各コンタクト領域においてケーブル通路365から接続位置(ネジ511の位置)まで、ケーブルを引き込む配線溝363aが設けられている。ケーブルLは、図21Dに示すように、電気的な伝導体からなる心線又は導電線601と、導電線601を絶縁するための被覆602とを備えている。ケーブルLは、先端部(第2端部)において、被覆602が除去され、心線又は導電線601が露出される。そして、ケーブルLの心線601が配線溝363aに引き込まれる。なお、割り当てられたコンタクト領域において引き込まれたケーブルLは、そのコンタクト領域で終端する。
As shown in FIGS. 21A and 21B, a
例えば、コンタクト領域C1では、コンタクト領域C1近傍のケーブル通路365に向かって開口する配線溝363a(図21C)が、シールホルダ363中に形成され、この配線溝363aは、コンタクト領域C1に設けられた4つのネジ(締結部材)511の下方を通過するように延びかつ終端する(図21A)。同様に、コンタクト領域C2では、コンタクト領域C2近傍のケーブル通路365に向かって開口する配線溝363aが、シールホルダ363中に形成され、この配線溝363aは、コンタクト領域C2に設けられた4つのネジ511の下方を通過するように延びかつ終端する。ネジ511と配線溝363aの位置関係を図21Cに示している。ケーブルL(図21Cでは、L1)が配線溝363aに配置されたとき、ネジ511のフランジ部511aによって、コンタクト370及びケーブル(心線)が押圧される。
For example, in the contact region C1, a
各コンタクト領域におけるケーブルLとコンタクト370との電気接続は、以下のように行われている。ケーブルL1を例に挙げると、ケーブルL1の先端部(第2端部)は、被覆602が除去されて、心線(導電線)601が露出している(図21A−D)。ケーブルL1の先端部は、コンタクトC1の近傍においてシールホルダ363の配線溝363a内に導入され、コンタクト領域C1内で、4箇所のネジ(締結部材)511によってコンタクト370とともに押圧されている。つまり、ネジ(締結部材)511とシールホルダ363とが、ケーブルL1の心線601をコンタクト370とともに挟持している。この結果、図21Cに示すように、ケーブルL1は、コンタクト370に電気的に接続される。基板ホルダ1が基板Sを保持すると、コンタクト370が基板Sに接触して、外部の電源からケーブルL1、コンタクト370を介して基板Sに給電が行われる。他のコンタ
クト領域C2−C18も同様に構成されており、18箇所のコンタクト370から基板Sに給電が行われる。
The electrical connection between the cable L and the
コンタクト領域C1には、ケーブルL2−L7は引き込まれないので、コンタクト領域C1とコンタクト領域C2との間では、ケーブルL2−L7が並んで配置されている。コンタクト領域C2では、コンタクト領域C1と同様に、ケーブルL2がシールホルダ363の配線溝363aに引き込まれ、4箇所のネジ511によってコンタクト370とともに押圧され、コンタクト370と電気的に接続される。この結果、コンタクト領域C2とコンタクト領域C3との間では、ケーブルL3−L7が並んで配置されている。同様にして、ケーブルL3−L7が、それぞれコンタクト領域C3−C7において、コンタクト370と電気的に接続される。この結果、コンタクト領域C3とC4との間ではケーブルL4−L7が並んで配置され、コンタクト領域C4とC5との間ではケーブルL5−L7が並んで配置され、コンタクト領域C5とC6との間ではケーブルL6−L7が並んで配置され、コンタクト領域C6とC7との間ではケーブルL7が並んで配置される。
Since the cable L2-L7 is not drawn into the contact region C1, the cables L2-L7 are arranged side by side between the contact region C1 and the contact region C2. In the contact region C2, as in the contact region C1, the cable L2 is drawn into the
ケーブルL17、L18も同様に、それぞれコンタクト領域C17、C18において、コンタクト370と電気的に接続される。また、コネクタから遠い側の領域(第2領域)でも、ケーブルL8−L16が、第1領域のケーブルと同様に、それぞれコンタクト領域C8−C16において、コンタクト370と電気的に接続される。
Similarly, the cables L17 and L18 are electrically connected to the
本実施形態では、コンタクト370とともにケーブルLが挟持され、ケーブルLとコンタクト370とが直接、電気的に接続される場合を説明したが、ケーブルLとコンタクト370との間に別の導電部材(第2導電部材)を介在させるようにしてもよい。
In the present embodiment, the case where the cable L is sandwiched together with the
(配線バッファ部)
図23は、配線バッファ部の近傍のフロントプレートの斜視図である。図24は、配線バッファ部の拡大斜視図である。図25は、配線バッファ部の蓋部材の背面図である。図26は、配線バッファ部の蓋部材の側面図である。
(Wiring buffer)
FIG. 23 is a perspective view of the front plate in the vicinity of the wiring buffer unit. FIG. 24 is an enlarged perspective view of the wiring buffer unit. FIG. 25 is a rear view of the lid member of the wiring buffer unit. FIG. 26 is a side view of the lid member of the wiring buffer unit.
配線バッファ部311は、収容部本体3111と、蓋部材3120とを備えている。収容部本体311は、例えば、チタンで形成される。蓋部材3120は、例えば、ポリ塩化ビニル(PVC)で形成される。なお、フェース部312及びアーム部330もチタンで形成することができる。また、バックプレート400も全体的にチタンで形成することができる。本実施形態では、蓋部材3120は、配線バッファ部311の専用の蓋であり、フェース部312等の他の部分を覆う部材と共用されるものではない。
The
収容部本体311は、概ね矩形状であり、その背面に形成された凹部3112を有している。凹部3112は、略立方体形状の空間であり、配線収容空間3140を形成する。凹部3112は、フェース部312の幅方向の概ね全体にわたって形成されており、フェース部312の幅よりも若干短い幅を有する。収容部本体311は、フェース部312側において肉厚部3113を有している。肉厚部3113の前面には、フェース部312に係合する段差部3113aが形成されている。収容部本体311は、取付部320側において肉厚部3114を有している。肉厚部3114は、各取付部320に対応して突出する2つの突出部3114aを有している。各突出部3114aの背面には、取付部320に係合する段差部3114bが形成されている。凹部3112は、フェース部312側の肉厚部3113、取付部320側の肉厚部3114、及び、幅方向両側の肉厚部によって囲まれた矩形状の空間を形成する。
The housing
蓋部材3120は、概ね矩形状であり、前面側(収容部本体3111に取り付けられる側)に凹部3121を有する。凹部3120は、平面視において、収容部本体3111の
凹部3112に概ね合致する形状を有し、蓋部材3120が収容部本体3111に取り付けられたとき、凹部3112とともに配線収容空間3140を形成する。蓋部材3120の凹部3121の周囲の肉厚部には、シール溝3122が凹部3121を囲むように設けられている(図25)。シール溝3122には、シール部材3130が取り付けられている(図23)。シール部材3130は、例えば、Oリング、パッキン等である。蓋部材3120が収容部本体311に取り付けられたとき、シール部材3130は蓋部材3120と収容部本体311の間を密閉し、配線収容空間3140を気密に封止する(図24)。蓋部材3120の周縁部には、ボルト、スタッド等の締結部材3131を通す固定用の穴3131aが設けられており、収容部本体3111には、穴3131aに対応する穴が設けられている。蓋部材3120は、穴3131aの位置で締結部材3131によって収容部本体3111に固定される(図24)。
The
図27は、配線バッファ部の近傍のフロントプレートの背面図である。図28は、蓋部材を取り外した状態の配線バッファ部の近傍のフロントプレートの背面図である。図29は、蓋部材を取り外した状態の配線バッファ部の近傍のフロントプレートの斜視図である。 FIG. 27 is a rear view of the front plate in the vicinity of the wiring buffer unit. FIG. 28 is a rear view of the front plate in the vicinity of the wiring buffer portion with the lid member removed. FIG. 29 is a perspective view of the front plate in the vicinity of the wiring buffer portion with the lid member removed.
フロントプレート300において、配線バッファ部311は、フェース部312と、アーム部330との間に配置されている。ここで、基板ホルダ1は、めっき槽39(図1)内においてアーム部330で懸架され、略鉛直な姿勢でめっき液に浸かるように配置される。配線収容部311の配線収容空間3140(凹部3112)は、基板ホルダ1がめっき槽39に配置された際に、めっき液面WL(図27、図28)の高さ以上になる位置(例えば、めっき液面WLよりも所定の距離高い位置)に配置されている。例えば、シール部材3130の下端がめっき液面WLの高さ以上になる位置に、配線収容部311を基板ホルダ1内に配置してもよい。
In the
フェース部312は、上述したように、バックプレート400と共に、基板Sを挟持して保持する。フェース部312及びバックプレート400は、基板Sを挟持する挟持部を構成する。配線バッファ部311の収容部本体3111は、ボルト、スタッド等の締結部材3116によってフェース部312に固定されている。また、配線バッファ部3111の収容部本体3111は、2つの取付部320によってアーム部330に固定されている。収容部本体3111は、ボルト、スタッド等の締結部材320aによって2つの取付部320に固定されている。取付部320は、ボルト、スタッド等の締結部材330aによってアーム部330に固定されている。アーム部330の一端側には、コネクタ331が設けられている。コネクタ331には、複数の外部接続接点331a(331a1、331a2)(図22)が設けられており、外部接続接点331a(331a1、331a2)にケーブルL1〜L18が接続されている。ケーブルL1〜L18は、外部接続接点331aからアーム部330の一端側を通り、一方の取付部320を通って、配線バッファ部311の配線収容空間3140(凹部3112)内に導入される。アーム部330には、コネクタ331及びコネクタ331に接続されるケーブルL1〜L18を覆うカバー331bが取り付けられる(図27)。また、取付部320とアーム部330には、ケーブルLを覆うカバー321が取り付けられる。図28は、蓋部材3120、カバー321、カバー331bを取り外した状態の配線バッファ部311の近傍の構成を図示している。
As described above, the
本実施形態では、ケーブルL1〜L18の長さは同一であり、外部接続接点331a1、331a2から各コンタクト領域C1〜C18(図17)までの各経路の経路長の差に起因する余分なケーブルの長さが、配線バッファ部311に収納され、配線バッファ部311で余分なケーブルの長さの配置が調整される。外部接続接点331a1、331a2から各コンタクト領域C1〜C18までの経路長のうち最長の経路長に適合するように、ケーブルL1〜L18の同一の長さが選択されるが、最長でない経路に配置されるケーブ
ルLは余分な長さを有することになる。このケーブルLの余分な長さを配線バッファ部311で調整する。
In the present embodiment, the lengths of the cables L1 to L18 are the same, and the length of the extra cable due to the difference in the path length of each path from the external connection contacts 331a1 and 331a2 to the contact areas C1 to C18 (FIG. 17). The length is stored in the
図30は、各コンタクトと外部接続接点との間の経路差に起因する配線の長さの差を説明する説明図である。例えば、図30に示すように、外部接続接点外部接続接点331aからコンタクト領域C8、C1(コンタクト370)までの経路長をそれぞれx8、x1(x8>x1)とすると、経路長の差は、Δx=x8−x1となる。図17に示すように、コンタクト領域C8までの経路長x8が最大経路長であり、ケーブルL1〜L18の長さは、この最大経路長x8に合うように(実質的に同一の長さに)選択される。この場合、ケーブルL8、L1の長さは、いずれも最大経路長x8に対応するy8に設定される。一方、コンタクト領域C1までの経路長x1は、最大経路長x8より短いため、図30に示すように、ケーブルL1はΔxだけ余分な長さを有することになる。この余分な長さΔxを配線バッファ部311で収容し、ケーブル長(ケーブルL1の長さ)を調整する。また、最大経路長x8より短い経路長を有するコンタクト領域C1〜C7、C9−C18についても同様である。図28、図29では、配線バッファ部311の凹部3112(配線収容空間3140)内におけるケーブルL1〜L18の配置の一例を示すが、ケーブルL1〜L18の配置はこれに限らず、余分なケーブル長を収容するように任意の配置とすることができる。
FIG. 30 is an explanatory diagram for explaining the difference in the length of the wiring due to the path difference between each contact and the external connection contact. For example, as shown in FIG. 30, if the path lengths from the external connection contact
ケーブルL1〜L18の長さを同一とする利点は、ケーブル長の差による抵抗値の差を除去し、各ケーブルに接続されるコンタクト370から基板Sに均一な電流を供給できるため、めっき品質を向上し得ることにある。
The advantage that the lengths of the cables L1 to L18 are the same is that the difference in resistance value due to the difference in cable length is removed, and a uniform current can be supplied from the
なお、ケーブルL1〜L18の長さが同一でない場合であっても、1又は複数のケーブルが、外部接続接点からコンタクトまでの経路長に対して余分な長さを有する場合には、配線バッファ部311で余分な長さを収容してケーブル長を調整することができる。
Even if the lengths of the cables L1 to L18 are not the same, if one or more cables have an extra length with respect to the path length from the external connection contact to the contact, the
図31は、配線バッファ部のフェース部側の拡大斜視図である。図32は、配線バッファ部の取付部側を、取付部側から見た斜視図である。図33は、配線バッファの取付部側を、配線バッファ部側から見た斜視図である。図34は、蓋部材を取り外した状態の配線バッファ部を示す斜視図である。図35は、蓋部材を取り付けた状態の配線バッファ部を示す斜視図である。 FIG. 31 is an enlarged perspective view of the face side of the wiring buffer unit. FIG. 32 is a perspective view of the attachment portion side of the wiring buffer portion as seen from the attachment portion side. FIG. 33 is a perspective view of the attachment portion side of the wiring buffer as seen from the wiring buffer portion side. FIG. 34 is a perspective view showing the wiring buffer section with the lid member removed. FIG. 35 is a perspective view showing the wiring buffer portion with the lid member attached.
図34、図35に示すように、ケーブルLは、コネクタ331側の取付部320から配線バッファ部311の配線収容空間3140(凹部3112、3121)に導入され、配線収容空間3140内で余分なケーブル長が調整されたのちに、フェース部312に導かれる。
As shown in FIG. 34 and FIG. 35, the cable L is introduced from the
配線バッファ部311とフェース部312との境界におけるケーブルLの配置を図31に示す。同図を参照すると、配線バッファ部311の肉厚部3113には、図19A乃至Cで説明したように、錐穴からなる配線穴311aが複数設けられている。各ケーブルLは、配線バッファ部311の凹部3112から配線穴311aを通って、フェース部312(図21Aのケーブル通路365)に導かれる。
The arrangement of the cable L at the boundary between the
配線バッファ部311と取付部312との境界におけるケーブルLの配置を図32、図33に示す。これらの図に示すように、配線バッファ部311の肉厚部3114には、複数の配線穴3115が設けられている。取付部320には、配線穴3115を露出する凹部322が設けられている。凹部322は、配線穴3115を露出するように配線バッファ部311側が開口するとともに、配線穴3115を通るケーブルを通過させるように、背面側が開口している。一方、凹部322の前面側は閉鎖されている。ケーブルLは、取
付部320の凹部322内に入り、複数本ずつ、例えば3本ずつ配線穴3115を通され(図32)、配線バッファ部311の凹部3112に導かれる(図33)。
The arrangement of the cable L at the boundary between the
図36は、他の実施形態に係る蓋部材を取り外した状態の配線バッファ部の斜視図である。図37は、他の実施形態に係る蓋部材を取り付けた状態の配線バッファ部の斜視図である。図38は、他の実施形態に係る配線バッファ部の蓋部材の背面図である。他の実施形態では、配線バッファ部311の蓋部材3120Aに凹部が設けられない点で上記実施形態とは異なる。その他の構成は、上記実施形態と同様であるので説明を省略する。蓋部材3120Aに凹部を設けない場合、蓋部材3120Aの構成が簡易になる。また、蓋部材3120Aの厚みを、凹部を設ける場合よりも薄くすることが可能であるので、それに応じて収容部本体3111の厚みを増加することも可能である。
FIG. 36 is a perspective view of the wiring buffer unit with the lid member according to another embodiment removed. FIG. 37 is a perspective view of the wiring buffer unit with a lid member according to another embodiment attached. FIG. 38 is a rear view of a lid member of a wiring buffer unit according to another embodiment. Another embodiment is different from the above-described embodiment in that a recess is not provided in the
(実施形態の作用効果)
本実施形態に係る基板ホルダ1によれば、フロントプレート本体310の面に平行な軸の周りを回転可能な又はフロントプレート本体310の面に交差する方向に往復移動可能なクランプ340によって、基板を挟持するフロントプレート300とバックプレート400とを互いに固定するため、基板に回転方向の力が加わることを抑制ないし防止できる。基板が大型で薄い場合は、基板に回転方向の力が加わると基板に撓みを生じるおそれがあるが、この基板ホルダ1によれば、大型で薄い基板を保持する場合にも撓みの発生を抑制ないし防止できる。
(Effect of embodiment)
According to the
また、クランプ340がノーマルクローズ型であるため、バックプレート本体410をフロントプレート本体310に当接する際にクランプを開けば、クランプした状態ではアクチュエータ等によって外部から力を加える必要がなく、エネルギー消費を抑制できる。
In addition, since the
また、バックプレート400を複数の箇所でクランプ340によって挟持することが可能であり、また、連結部材(回転軸341)によって各クランプ340の動作が同期されるので、クランプ動作を効率よく行うことができる。また、外部から力を加えるアクチュエータAR1の構成を簡易にすることができる。レバー342が外部の第1アクチュエータAR1から力を受けて回転軸341を介して各クランプ340を動作させることができるので、クランプ340による固定を自動化することが容易である。
In addition, the
また、バックプレート400に、クランプ340の係合部340aを受け入れる形状の係合受部430を設けることによって、クランプによる係合を向上し得る。別体の係合受部430をバックプレート本体410に取り付ける構成とすることで、係合受部430の寸法、形状、個数等を適宜選択することが容易になる。
Further, by providing the
また、バックプレート本体410の面に平行な軸424の周りを回転可能な又はバックプレート本体410の面に交差する方向に往復移動可能なクリップ421によって、基板をバックプレート400に固定するため、基板に回転方向の力が加わることを抑制ないし防止できる。基板が大型で薄い場合は、基板に回転方向の力が加わると基板に撓みを生じるおそれがあるが、この基板ホルダによれば、大型で薄い基板を保持する場合にも撓みの発生を抑制ないし防止できる。
In addition, the substrate is fixed to the
クリップ421がノーマルクローズ型であるため、基板をバックプレート本体410に当接する際にクリップ421を開けば、クリップした状態ではアクチュエータ等によって外部から力を加える必要がなく、エネルギー消費を抑制できる。
Since the
基板と当接する側の面とは反対の面から力を受けるボタン470を設けるため、アクチュエータAR2を基板当接面とは反対側に配置することができ、基板固定後のバックプレ
ート400の移動、姿勢の変更等が容易である。
Since the
ボタン470が外部の第2アクチュエータAR2から力を受けてクリップ421を動作させることができるので、クリップ421による固定を自動化することが容易である。
Since the
インナーシール361及びアウターシール362を保持するシールホルダ363、364を別々に設けるので、各シールの交換を別々に行うことができる。
Since the
また、本実施形態の基板ホルダでは、ケーブルLの一端部において被覆602を除去し、ケーブルLの心線601をコンタクト370とともに挟持することにより、簡易な構成で、ケーブルLとコンタクト370との間の電気的な接続を確立することができる。つまり、ケーブル端部にコネクタ等を設けることなく、ケーブルLとコンタクト370との間の接続を行うことができる。基板Sの複数の箇所にコンタクト370を接触させて給電する場合、基板ホルダ内で複数のケーブルLを引き回して電気的接続を行う必要があるが、この基板ホルダによれば、簡易な構成で、ケーブルLとコンタクト370との間の電気的な接続を確立することができ、基板ホルダの大型化を抑制できる。また、大型の基板に給電する場合や、基板への供給電流値が大きい場合には、ケーブルの数が増加し、ケーブル径も大きくなる。例えば、このような場合に、この基板ホルダによる簡易なケーブルの接続は有効である。
In the substrate holder of the present embodiment, the covering 602 is removed at one end of the cable L, and the
また、本実施形態の基板ホルダでは、ボルト、ネジ等の締結部材511によって簡易な構成、簡易な作業で、ケーブルLとコンタクト370との間の電気的接続を確立できる。
Moreover, in the board | substrate holder of this embodiment, the electrical connection between the cable L and the
また、本実施形態の基板ホルダでは、シールホルダ363を用いてケーブルLとコンタクト370とを挟持することができるので、既存の構成を利用することができ、基板ホルダの大型化、コスト増を抑制し得る。
In the substrate holder of this embodiment, since the cable L and the
また、本実施形態の基板ホルダでは、シール361、362のシールホルダ363、364が別々であるため、シールを別々に交換することが容易である。また、シールホルダ363、364を別々に交換することも容易である。
Moreover, in the substrate holder of this embodiment, since the
また、本実施形態の基板ホルダでは、ケーブルLが基板ホルダの厚み方向に重ならないようにすることによって、基板ホルダの厚みの増加を抑制することが可能である。特に、大型の基板や、電流量が大きい場合には、ケーブルの数、ケーブルの径が大きくなる可能性があるが、この構成によれば、基板ホルダの厚み方向での増大を抑制することができる。 Moreover, in the board | substrate holder of this embodiment, it is possible to suppress the increase in the thickness of a board | substrate holder by making the cable L not overlap with the thickness direction of a board | substrate holder. In particular, in the case of a large substrate or a large amount of current, the number of cables and the diameter of the cable may increase. According to this configuration, an increase in the thickness direction of the substrate holder can be suppressed. it can.
また、本実施形態の基板ホルダでは、先端の被覆602が除去された各ケーブルLを順次、各コンタクト370の位置に引き込み、接続するので、接続位置までのケーブル間の絶縁を確保するとともに、簡易な構成でケーブルを導電部材に接続することができる。
Further, in the substrate holder of the present embodiment, each cable L from which the
本実施形態の基板ホルダをめっき装置に適用する場合、基板ホルダの大型化を抑制できるので、めっき装置の大型化も抑制できる。 When applying the substrate holder of this embodiment to a plating apparatus, since the enlargement of a substrate holder can be suppressed, the enlargement of a plating apparatus can also be suppressed.
本実施形態に係る基板ホルダの製造方法では、ケーブルLの一端部において被覆602を除去し、ケーブルLの心線601をコンタクト370とともに挟持することにより、簡易な構成で、ケーブルLとコンタクト370との間の電気的な接続を確立することができる。つまり、ケーブル端部にコネクタ等を設けることなく、ケーブルLとコンタクト370との間の接続を行うことができる。基板Sの複数の箇所にコンタクト370を接触させて給電する場合、基板ホルダ内で複数のケーブルLを引き回して電気的接続を行う必要が
あるが、この基板ホルダによれば、簡易な構成で、ケーブルLとコンタクト370との間の電気的な接続を確立することができ、基板ホルダの大型化を抑制できる。また、大型の基板に給電する場合や、基板への供給電流値が大きい場合には、ケーブルの数が増加し、ケーブル径も大きくなる。例えば、このような場合に、この基板ホルダによる簡易なケーブルの接続は有効である。
In the manufacturing method of the substrate holder according to the present embodiment, the covering 602 is removed at one end of the cable L, and the
また、上述した基板ホルダ1を使用して基板にめっき処理を行う場合、大型の基板に給電する場合や、基板への供給電流値が大きい場合であっても、基板ホルダにおけるケーブルと導電部材との間の電気的な接続が簡易な構成であるため、大型化を抑制ないし防止した基板ホルダを用いてめっき処理を行うことができる。
In addition, when plating is performed on the substrate using the
また、上記実施形態では、めっき処理前に各外部接続接点対の第1及び第2側の接点間の電気抵抗を測定し、複数の外部接続接点対の電気抵抗にばらつきがないかを確認する通電確認処理を実施する。従って、複数の外部接続接点対の電気抵抗の間のばらつきに起因してめっき膜厚の均一性に問題がないか否かを事前に確認してから、めっき処理を行うことができる。この結果、めっき処理の信頼性を向上することができる。 Moreover, in the said embodiment, the electrical resistance between the 1st and 2nd side contacts of each external connection contact pair is measured before a plating process, and it is confirmed whether there is no dispersion | variation in the electrical resistance of several external connection contact pairs. Conduct energization confirmation processing. Therefore, it is possible to perform the plating process after confirming in advance whether there is no problem in the uniformity of the plating film thickness due to variations between the electrical resistances of the plurality of external connection contact pairs. As a result, the reliability of the plating process can be improved.
上記実施形態によれば、基板ホルダ1のアーム部330と挟持部312、400との間に配置された配線収容部311によって、外部接続接点331aとコンタクト370との間の経路長に対して余分なケーブルLの長さを収容し、ケーブルLの配置を調整することができる。この構成では、基板ホルダ1のアーム部330と挟持部312、400との間に配線収容部(配線バッファ部)311を設けるため、基板ホルダ1の厚みが増加することを抑制ないし防止することが可能である。つまり、基板ホルダ1において、配線収容部311は、アーム部330と、挟持部312、400とに並んで配置されるため、基板ホルダ1を支持するためのアーム部330や、基板を保持する挟持部321、400の厚みが増加することを抑制ないし防止することが可能である。
According to the above embodiment, the
また、基板ホルダ1をめっき槽39に設置した状態で、基板ホルダ1の高さ方向に配線収容部311を追加する。基板を保持する挟持部312、400と重ならないので、基板ホルダ1全体の厚みを抑制しつつ、配線収容部311の厚み方向の寸法も確保できる。よって、径の大きい配線Lを曲げて配置する空間を確保し易い。大型の角形基板を保持する基板ホルダでは、特に有利である。
In addition, with the
また、配線収容部311が、基板を保持する挟持部312、400と重ならないので、基板ホルダ1に基板を保持した後にも、配線収容部311にアクセス可能な構成にすることもできる。
Further, since the
上記実施形態によれば、蓋部材3120、3120Aによって配線収容部311内の配線Lをめっき液等の処理液から保護できるとともに、蓋部材3120、3120Aを開けることによって配線収容部311内の配線Lにアクセス可能となる。従って、配線収容部311内でのメンテナンスが容易になる。
According to the above embodiment, the
上記実施形態によれば、収容部本体3111及び蓋部材3120の凹部3112、3121を合わせた空間を配線収容空間3140(配線を収容するための空間)とすることができる。収容部本体3111の厚みを抑制しつつ、配線収容空間3140の厚み方向を増大することが容易になる。収容部本体3111の材料が、蓋部材3120の材料よりも高価な場合には、収容部本体3111の体積を低減することによって、コストの増大を抑制し得る。
According to the above-described embodiment, a space including the housing portion
上記実施形態によれば、シール部材3130によって、配線収容部311内の空間をよ
り気密に封止することが可能である。
According to the above embodiment, the
上記実施形態によれば、配線収容部311の配線収容空間3140は、基板ホルダ1がめっき槽39に配置された際に、めっき液面WLの高さ以上の高さに対応する位置に配置されている。これにより、配線収容空間3140がほとんどめっき液に浸からないようにすることができる。めっき液中では、パドル、アノードマスク、レギュレーションプレート等のめっき槽39の構成によって基板ホルダ1の厚み方向が寸法制約されるが、めっき液面WLの上方では、厚み方向の制約が緩やかであるため、配線収容部の厚み方向の寸法を十分に確保することができる。また、配線収容空間3140がほとんどめっき液に浸からないので、配線収容空間3140内へのめっき液の漏れをより確実に抑制することができる。
According to the embodiment, the
上記実施形態によれば、配線収容部311は、アーム部330及び挟持部312、400とは別体であるので、アーム部330、挟持部312、400、配線収容部311を別々に交換することが可能になる。特に、めっき槽39内で配線収容部311をめっき液面WLの高さ以上になるように配置する場合には、めっき液によって経年劣化が相対的に早い挟持部312、400を配線収容部311とは別に交換することが可能である。
According to the above-described embodiment, the
上記実施形態によれば、コンタクト370と外部接続接点331a1、331a2との間の複数の配線Lの長さを同一にすることによって、各コンタクトに流れる電流を均一化することができ、めっき品質を向上することができる。また、各コンタクト370と外部接続接点331a1、331a2との間の経路差に起因する1又は複数のケーブルの余分な長さは、配線収容部311に収容することができる。
According to the above embodiment, by making the lengths of the plurality of wirings L between the
上記実施形態によれば、収容部本体3111を剛性の高いチタンから構成し、蓋部材3120を安価なポリ塩化ビニルから構成することで、コストを抑制しつつ配線収容部311に必要な剛性を確保することができる。
According to the above-described embodiment, the housing
上記実施形態によれば、上記基板ホルダ1を設置するためのめっき槽39を有するめっき装置が提供される。これにより、上記作用効果を奏するめっき装置を提供することができる。特に、基板ホルダ1の厚みの増大を抑制ないし防止しつつ、配線収容空間3140内に径の大きな配線Lを配置することができるので、より均一且つ大きな電流を基板に流すことができる。これにより、より大型の基板により品質のよいめっき処理を行うことができる。また、基板ホルダ1の厚みの増大を抑制ないし防止できるので、めっき槽39の寸法が大きくなることを抑制ないし防止できる。
According to the said embodiment, the plating apparatus which has the
上記実施形態によれば、基板ホルダ1によって基板を保持した状態で基板にめっき処理するめっき方法が提供され、このめっき方法では、めっき槽39内において、基板ホルダ1の複数のコンタクト370と1又は複数の外部接続接点331aとの間の経路長に対して余分な1又は複数のケーブルの長さを収容する配線収容部が、めっき液面よりも高い位置にある状態で、前記基板にめっき処理を行う。これにより、配線収容空間3140がほとんどめっき液に浸からないようにすることができる。めっき液中では、パドル、アノードマスク、レギュレーションプレート等のめっき槽の構成によって基板ホルダの厚み方向が寸法制約されるが、めっき液面の上方では、厚み方向の寸法制約が緩やかである。このため、配線収容部と、めっき槽の構成とが干渉することを抑制ないし防止できる。また、配線収容空間3140がほとんどめっき液に浸からないので、配線収容空間3140内へのめっき液の漏れをより確実に抑制することができる。
According to the above embodiment, a plating method for plating a substrate while the substrate is held by the
以上、いくつかの例に基づいて本発明の実施形態について説明してきたが、上記した発明の実施形態は、本発明の理解を容易にするためのものであり、本発明を限定するもので
はない。本発明は、その趣旨を逸脱することなく、変更、改良され得るとともに、本発明には、その均等物が含まれることはもちろんである。また、上述した課題の少なくとも一部を解決できる範囲、または、効果の少なくとも一部を奏する範囲において、特許請求の範囲および明細書に記載された各構成要素の任意の組み合わせ、または、省略が可能である。
The embodiments of the present invention have been described above based on some examples. However, the above-described embodiments of the present invention are for facilitating understanding of the present invention and do not limit the present invention. . The present invention can be changed and improved without departing from the gist thereof, and the present invention naturally includes equivalents thereof. In addition, any combination or omission of each constituent element described in the claims and the specification is possible within a range where at least a part of the above-described problems can be solved or a range where at least a part of the effect is achieved It is.
1…基板ホルダ
25…カセットテーブル
25a…カセット
27…基板搬送装置
28…走行機構
29…基板脱着機構
30…ストッカ
32…プリウェット槽
33…プリソーク槽
34…プリリンス槽
35…ブロー槽
36…リンス槽
37…基板ホルダ搬送装置
38…オーバーフロー槽
39…めっき槽
50…洗浄装置
50a…洗浄部
100…めっき装置
110…アンロード部
120…処理部
120A…前処理・後処理部
120B…処理部
175…コントローラ
175A…CPU
175B…メモリ
175C…制御部
300…フロントプレート
301…前面
302…背面
303…開口部
310…フロントプレート本体
311…配線バッファ部
311a…配線穴
312…フェース部
320…取付部
320a…締結部材
321…カバー
330…アーム部
330a…締結部材
331…コネクタ
331a1、331a2…外部接続接点
331b…カバー
340…クランプ
340a…係合部
342…レバー
350…固定部材
361…インナーシール
362…アウターシール
363…シールホルダ
363a…配線溝
364…シールホルダ
365…ケーブル通路
370…コンタクト
390…位置合わせピン
400…バックプレート
401…前面
402…背面
410…バックプレート本体
420…クリップ部
421…クリップ
421a…爪部
421b…長穴
421c…丸穴
422…巻ばね
422a…脚部
422b…脚部
422c…巻回部
423…固定部
423b…規制面
423b…案内面
424…固定軸
430…係合受部
430a…突出部
470…ボタン
471…力受部
472…弾性部分
473…取付部
474…押え部材
475…締結部材
490…位置合わせ片
601…導電線
602…被覆
3111…収容部本体
3112…凹部
3113…肉厚部
3114…肉厚部
3114a…突出部
3114…段差部
3115…配線穴
3116…締結部材
3114…肉厚部
3120…蓋部材
3121…凹部
3122…シール溝
3130…シール部材
3131…締結部材
3131a…穴
DESCRIPTION OF
175B ... Memory 175C ...
Claims (10)
前記基板ホルダをめっき槽に設置するためのアーム部であって、1又は複数の外部接続接点を有するアーム部と、
前記第1及び第2保持部材において前記基板を挟持する挟持部と、
前記挟持部に設けられ、前記基板に給電するための1又は複数のコンタクトと、
前記1又は複数の外部接続接点と前記1又は複数のコンタクトとを接続する1又は複数の配線と、
前記アーム部と前記挟持部との間に配置され、前記1又は複数の外部接続接点と前記1又は複数のコンタクトとの間の経路長に対して余分な長さの前記1又は複数の配線を収容する収容空間を有する配線収容部と、
を備える、基板ホルダ。 A substrate holder comprising first and second holding members for sandwiching a substrate,
An arm portion for installing the substrate holder in the plating tank, the arm portion having one or more external connection contacts;
A clamping part for clamping the substrate in the first and second holding members;
One or a plurality of contacts provided in the sandwiching portion for supplying power to the substrate;
One or more wirings for connecting the one or more external connection contacts and the one or more contacts;
The one or more wires disposed between the arm portion and the clamping portion and having an extra length with respect to a path length between the one or more external connection contacts and the one or more contacts. A wiring accommodating portion having an accommodating space for accommodating;
A substrate holder.
前記配線収容部は、
前記1又は複数の配線の長さの一部を収容する第1の凹部を有する前記収容部本体と、
前記収容部本体に着脱自在であり、前記第1の凹部を閉鎖する蓋部材と、
を備える、基板ホルダ。 The substrate holder according to claim 1,
The wiring housing part is
The housing main body having a first recess for housing a part of the length of the one or more wirings;
A lid member that is detachable from the housing main body and closes the first recess;
A substrate holder.
前記蓋部材は、前記収容部本体の前記第1の凹部に対向する位置に第2の凹部を有する、基板ホルダ。 The substrate holder according to claim 2,
The said cover member is a substrate holder which has a 2nd recessed part in the position facing the said 1st recessed part of the said accommodating part main body.
前記配線収容部は、前記収容部本体と前記蓋部材との間に配置されたシール部材を更に備える、基板ホルダ。 The substrate holder according to claim 2 or 3,
The said wiring accommodating part is a board | substrate holder further provided with the sealing member arrange | positioned between the said accommodating part main body and the said cover member.
前記配線収容部の前記配線収容空間は、前記基板ホルダがめっき槽に配置された際に、めっき液面の高さ以上の高さに対応する位置に配置されている、基板ホルダ。 The substrate holder according to any one of claims 1 to 4,
The wiring holder space of the wiring holding part is a substrate holder that is arranged at a position corresponding to a height equal to or higher than a plating solution level when the substrate holder is arranged in a plating tank.
前記配線収容部は、前記アーム部及び前記挟持部とは別体である、基板ホルダ。 The substrate holder according to any one of claims 1 to 5,
The wiring holder is a substrate holder that is a separate body from the arm part and the clamping part.
複数の外部接続接点と複数のコンタクトとが複数の配線で接続され、前記複数のコンタクトが前記基板ホルダの異なる位置に配置され、前記複数の配線は同一の長さを有する、基板ホルダ。 The substrate holder according to any one of claims 1 to 6,
A substrate holder, wherein a plurality of external connection contacts and a plurality of contacts are connected by a plurality of wires, the plurality of contacts are arranged at different positions of the substrate holder, and the plurality of wires have the same length.
前記収容部本体はチタンからなり、前記蓋部材はポリ塩化ビニルからなる、基板ホルダ。 The substrate holder according to any one of claims 2 to 4,
The substrate holder is made of titanium, and the lid member is made of polyvinyl chloride.
めっき槽内において、前記基板ホルダの前記1又は複数の外部接続接点と前記1又は複数のコンタクトとの間の経路長に対して余分な前記1又は複数の配線の長さを収容する配
線収容部が、めっき液面よりも高い位置にある状態で、前記基板にめっき処理を行う、めっき方法。 A plating method for plating a substrate with the substrate held by the substrate holder,
In the plating tank, a wiring accommodating portion that accommodates an extra length of the one or more wires with respect to a path length between the one or more external connection contacts of the substrate holder and the one or more contacts. Is a plating method in which plating is performed on the substrate in a state of being higher than the plating solution surface.
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