JP2018098326A - Method of soldering by absorption of reflected wave - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、電子部品と半導体装置などの金属基板とをはんだ材料ではんだ付けする場合の、反射波吸収によるはんだ付け方法に関するものである。 The present invention relates to a soldering method by absorbing reflected waves when an electronic component and a metal substrate such as a semiconductor device are soldered with a solder material.
近年、パワーデバイスの進化に伴い、大電流又は高温動作に対応したパワーモジュールが必要とされている。大電流に対応した厚銅基板又は、高放熱を目的とした高熱容量基板には、金属板を主材としたメタルベース基板又はバスバー基板が用いられる。 In recent years, with the advancement of power devices, a power module that supports high current or high temperature operation is required. For a thick copper substrate corresponding to a large current or a high heat capacity substrate for high heat dissipation, a metal base substrate or a bus bar substrate mainly made of a metal plate is used.
従来、前記メタルベース基板又はバスバー基板と、電子部品のリードとのはんだ付けには、はんだゴテ又はディップ槽によるフローはんだ付けが用いられているが、メタルベース基板又はバスバー基板は、熱容量が大きく、はんだ付けのために与えた熱が、直ちに基板に拡散してしまうため、熱の拡散を考慮したはんだ付け方法が必要となる。 Conventionally, flow soldering using a soldering iron or a dipping bath is used for soldering the metal base substrate or bus bar substrate and the lead of the electronic component, but the metal base substrate or bus bar substrate has a large heat capacity, Since the heat applied for soldering is immediately diffused to the substrate, a soldering method that takes heat diffusion into account is required.
はんだゴテによるはんだ付けの場合には、はんだ融点以上に十分に加熱したはんだゴテをメタルベース基板又はバスバー基板と電子部品のリードとに接触させて加熱し、糸はんだを溶融させて、はんだ付けを行う。しかし、はんだゴテによるはんだ付けの場合には、はんだゴテをはんだ溶融温度よりも十分に加熱する必要があり、加熱されたはんだゴテが、メタルベース基板又はバスバー基板のレジストなど基板部分に接触すると、基板が焼けて外観不良となってしまう。 In the case of soldering with a soldering iron, heat the soldering iron sufficiently heated above the solder melting point to contact the metal base board or bus bar board and the lead of the electronic component, melt the thread solder, and solder Do. However, in the case of soldering with a soldering iron, it is necessary to heat the soldering iron sufficiently than the solder melting temperature, and when the heated soldering iron comes into contact with a substrate portion such as a resist of a metal base substrate or a bus bar substrate, The substrate will burn and the appearance will be poor.
また、フローはんだ付けの場合には、ディップ槽の溶融はんだがバスバーと電子部品のリードとの接続部分に行き渡るにように基板に丸穴を設け、フローはんだ付けを行っている。しかしながら、例えば電解コンデンサのような弱耐熱部品を実装する場合において、バスバーに熱が伝わる際に弱耐熱部品にも熱が伝わることで、弱耐熱部品の破壊又は短寿命化につながる場合がある。さらに、3次元に配線形成された立体構造のバスバー基板に対しては、同一基板内ではんだ付け高さが異なるため、ディップ槽によるフローはんだ付けができない。 In the case of flow soldering, a round hole is provided in the substrate so that the molten solder in the dip tank reaches the connection portion between the bus bar and the lead of the electronic component, and the flow soldering is performed. However, when a weak heat-resistant component such as an electrolytic capacitor is mounted, for example, when heat is transmitted to the bus bar, the heat is also transmitted to the weak heat-resistant component, which may lead to destruction or shortening of the life of the weak heat-resistant component. Furthermore, for a three-dimensionally structured bus bar board formed in three dimensions, the soldering height is different in the same board, so that flow soldering in a dip tank cannot be performed.
図14に特許文献1による金属接合材料の模式図を示す。特許文献1においては、金属部品とセラミック部材とを接合する場合、又は、基板と電子部品とを接合する場合に、高周波誘導加熱による接合が提案されている。図14の金属接合材料141は、接合金属部143と位置決め金属部142とで構成されており、位置決め金属部142は、はんだ付け温度で溶融不能かつ誘導加熱可能な金属を含んでいる。高周波誘導加熱では、発生させた電磁波が、位置決め金属部142内を貫通した際に、誘導電流が位置決め金属部142に発生する。誘導電流によってジュール熱が発生し、位置決め金属部142が加熱されることで、接合金属部143が加熱され、溶融し、はんだ付けが行われる。これにより、高温のはんだゴテを接触させる必要がなく、基板焼けによる外観不良を発生させることがない。また、弱体熱部品に対するはんだ付けにおいても、誘導加熱による短時間のはんだ付けプロセスが可能となるため、ディップ槽によるフローはんだ付けのように、バスバー基板又はリードを長時間高温に浸けたことによる部品の破壊又は短寿命化を発生させずに、はんだ付けが可能となる。
FIG. 14 shows a schematic diagram of a metal bonding material according to
しかしながら、前記従来の構成では、図15の(a)のような金属基板151Aと、部品リード152とを接合する場合、位置決め金属部142を含む接合金属部143以外の金属基板151A上で電磁波が全反射し、図15の(b)に示すように、入射波86とは逆位相の反射波83が位置決め金属部142を貫くため、入射波86により発生した誘導電流153を打ち消す逆方向の誘導電流154が発生し、ジュール熱が発生しなくなるため、位置決め金属部142は加熱されず、接合金属部143が溶融しないため、はんだ付けされないという課題を有している。
However, in the conventional configuration, when the
本発明は、前記従来の課題を解決するもので、コイル状カーボン混載はんだ材料に電磁波を照射することで、電子部品と金属基板とをはんだ材料ではんだ付けする場合に、金属基板による反射波の発生を抑制することができる、反射波吸収によるはんだ付け方法を提供することを目的とする。 The present invention solves the above-described conventional problems. When an electronic component and a metal substrate are soldered with a solder material by irradiating the coiled carbon mixed solder material with electromagnetic waves, the reflected wave of the metal substrate is reflected. An object of the present invention is to provide a soldering method by absorbing reflected waves, which can suppress generation.
上記目的を達成するために、本発明の1つの態様にかかるはんだ付け方法は、
反射波吸収体と絶縁樹脂との反射波吸収部を金属導体上に備える金属基板に、コイル状カーボン混載はんだ材料を、周囲が前記反射波吸収部で囲まれる位置に塗布し、
その後、電磁波を前記金属基板に照射し、前記反射波吸収体で反射波を吸収しながら、前記コイル状カーボン混載はんだ材料を加熱することで、はんだ付けする。
In order to achieve the above object, a soldering method according to one aspect of the present invention includes:
Applying a coiled carbon mixed solder material to a metal substrate provided with a reflected wave absorbing portion of a reflected wave absorber and an insulating resin on a metal conductor at a position surrounded by the reflected wave absorbing portion,
Thereafter, the metal substrate is irradiated with electromagnetic waves, and the coiled carbon mixed solder material is heated and soldered while absorbing the reflected wave by the reflected wave absorber.
以上のように、本発明の前記態様にかかる反射波吸収によるはんだ付け方法によれば、コイル状カーボン混載はんだ材料に電磁波を照射することで、電子部品と半導体装置などの金属基板とをコイル状カーボン混載はんだ材料ではんだ付けする場合に、反射波吸収体で金属基板による反射波を吸収して反射波の発生を抑制し、誘導電流によりジュール熱が発生することで、金属基板上であっても、はんだ付けすることが可能となる。 As described above, according to the soldering method based on reflected wave absorption according to the above aspect of the present invention, an electromagnetic component is irradiated to a coiled carbon-mixed solder material, whereby an electronic component and a metal substrate such as a semiconductor device are coiled. When soldering with a carbon mixed solder material, the reflected wave absorber absorbs the reflected wave from the metal substrate to suppress the generation of the reflected wave, and Joule heat is generated by the induced current. Can also be soldered.
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
(実施の形態)
図1は本発明の実施の形態におけるはんだ付け方法で使用しているコイル状カーボン混載はんだ材料10の概略図である。
(Embodiment)
FIG. 1 is a schematic view of a coiled carbon mixed
図1において、コイル状カーボン混載はんだ材料10は、コイル状カーボン11と金属粒子12とフラックス13とで構成される。従来のはんだペーストが金属粒子12とフラックス13で構成されているのに対し、コイル状カーボン混載はんだ材料10は、コイル状カーボン11を混合させ、ペースト化している。
In FIG. 1, a coiled carbon mixed
次に、図2は本発明の実施の形態におけるはんだ付け方法に関連した電磁波照射状態の概略図である。ここでは、コイル状カーボン混載はんだ材料10が金属基板151A(例えば図3の(a)に示すような金属基板151A)上でのはんだ付け方法を想定している。
Next, FIG. 2 is a schematic view of an electromagnetic wave irradiation state related to the soldering method in the embodiment of the present invention. Here, it is assumed that the coiled carbon mixed
図2を用いて、金属基板151Aからの反射波の影響がない場合、すなわち、基板材料としてガラス又はセラミックといった誘電体を主成分とする基板上における電磁波照射によるコイル状カーボン混載はんだ材料10の加熱原理、及び、はんだ付けプロセスを説明する。
Referring to FIG. 2, when there is no influence of a reflected wave from
図2において、電磁波21がはんだ材料10に照射された場合、照射された電磁波21の一部が、コイル状カーボン11内を貫通する。電磁波21が貫通したコイル状カーボン11には、誘導加熱の原理により誘導電流22が発生し、誘導電流22によるジュール熱によってコイル状カーボン11が発熱する。コイル状カーボン11に発生した熱は、コイル状カーボン混載はんだ材料10内の金属粒子12に伝わり、金属粒子12の融点以上となったときに、金属粒子12が溶融する。
In FIG. 2, when the
その後、電磁波21が停止されると、コイル状カーボン11に発生する誘導電流22が消滅し、コイル状カーボン混載はんだ材料10は冷却され始め、金属粒子12は凝固点を超えて冷却され、はんだ付けが完了する。
Thereafter, when the
図3の(a)及び(b)は、本発明の実施の形態におけるはんだ付け方法を説明するため、金属基板151A上でのコイル状カーボン混載はんだ材料10が加熱されない状態を示す図及び1つのコイル状カーボン11の状態を示す拡大説明図である。
FIGS. 3A and 3B are diagrams showing a state in which the coiled carbon-mixed
図3の(a)を用いて、金属基板151Aからの反射波83の影響がある場合の電磁波照射によるコイル状カーボン混載はんだ材料10の加熱原理、及び、はんだ付けプロセスを説明する。
The heating principle of the coiled carbon mixed
電磁波21は金属基板151A上で全反射するため、金属基板151A上に到達した電磁波21(ここでは、入射波86として表す。)は、入射角31と等しい反射角32で、逆位相の反射波83となる。図3の(a)において、入射波86がコイル状カーボン混載はんだ材料10に照射された場合、図3の(b)のように、照射された入射波86の一部が、コイル状カーボン11内を貫通する。入射波86が貫通したコイル状カーボン11には、誘導加熱の原理により誘導電流22が発生する。一方で、金属基板151Aからの反射波83がコイル状カーボン混載はんだ材料10を貫通した場合、図3の(b)のように、反射波83が貫通したコイル状カーボン11には、誘導加熱の原理により誘導電流22と逆方向の誘導電流34が発生し、互いに打ち消しあうため、ジュール熱が発生せず、コイル状カーボン11の発熱が抑制される。このため、コイル状カーボン混載はんだ材料10内の金属粒子12に熱が伝わらず、金属粒子12の温度が上昇しないため、金属粒子12は未溶融となる。
Since the
その後、電磁波21が停止され、未溶融状態で、はんだ付けが完了する。
Thereafter, the
図4は、本発明の実施の形態における反射波の影響がある場合の電磁波加熱によるはんだ材料の温度測定値を示す図である。 FIG. 4 is a diagram showing a temperature measurement value of the solder material by electromagnetic wave heating when there is an influence of the reflected wave in the embodiment of the present invention.
図4において、横軸は加熱電力を示し、縦軸はコイル状カーボン混載はんだ材料の温度を示している。温度測定値41は、本発明の実施の形態における反射波の影響がある場合のコイル状カーボン混載はんだ材料10の温度測定値を示している。本実施の形態においては、コイル状カーボン混載はんだ材料10の金属粒子12の組成は、一例として、Sn−Ag−Bi−Inを用いて実験を行っている。一例として、金属粒子12の粒径は直径30μmを平均粒径とするものを使用し、各加熱電力における電磁波の照射時間は、20秒間とした。温度測定値41は、金属基板151A上に照射された電磁波21の反射波83の影響でほとんど上昇しておらず、フラックス13に到達した電磁波21は、電磁誘導の作用によりわずかに加熱される。
In FIG. 4, the horizontal axis indicates the heating power, and the vertical axis indicates the temperature of the coiled carbon mixed solder material. The measured
図5は、本発明の実施の形態におけるはんだ付け方法で使用する電磁波加熱装置によるはんだ付けの概略図である。 FIG. 5 is a schematic diagram of soldering by an electromagnetic wave heating device used in the soldering method according to the embodiment of the present invention.
図5において、電磁波加熱装置は、電磁波発生装置55と、出力電力検出装置56と、制御装置57と、温度検出装置58と、シールド部材59とを備えている。
In FIG. 5, the electromagnetic wave heating device includes an electromagnetic
電磁波発生装置55は、例えばMHz帯以上の周波数の電磁波を発生させる装置である。
The
出力電力検出装置56は、電磁波発生装置55に供給される電力を検出して、電磁波発生装置55の出力を制御する。
The output
制御装置57は、温度検出装置58からの検出結果を基に、電磁波発生装置55と出力電力検出装置56との動作をそれぞれ制御する。
The
温度検出装置58は、コイル状カーボン混載はんだ材料10の温度を測定して、制御装置57に出力する。
The
シールド部材59は、電磁波がシールド部材59外に漏れるのを防止している。
The
はんだ付けを行う際に、高熱容量基板54と電子部品52のリード53との接合部に、コイル状カーボン混載はんだ材料10をディスペンス又は印刷により塗布供給し、電磁波加熱装置のシールド部材59内に設置する。
When soldering, the coiled carbon mixed
その後、制御装置57の制御の下に、電磁波発生装置55から所定の電磁波をシールド部材59内に発生させ、コイル状カーボン混載はんだ材料10を加熱する。
Thereafter, under the control of the
その後、電磁波加熱装置には、備えられた温度検出装置58でコイル状カーボン混載はんだ材料10の温度を測定し、測定結果を基に制御装置57で出力電力検出装置56を制御する。その結果、出力電力検出装置56によって電磁波発生装置55の出力を制御することで、任意の温度で電磁波21の出力を制御しながら、はんだ材料10を加熱し、電子部品52のリード53と高熱容量基板54とのはんだ付けを行う。
Thereafter, the temperature of the coiled carbon mixed
図6の(a)及び(b)は、本発明の実施の形態におけるはんだ付け方法で使用する反射波吸収体付き金属基板151の概略斜視図及び断面図である。
FIGS. 6A and 6B are a schematic perspective view and a cross-sectional view of a
図6の(a)及び(b)において、反射波吸収体付き金属基板151は、反射波吸収体61と絶縁樹脂62とを有する反射波吸収部60と、金属導体63とで構成される。
6A and 6B, the
反射波吸収体61は電磁波を吸収する。反射波吸収体61で電磁波が吸収される原理としては、電磁波が、磁性体であるフェライト又はニッケルなど又は非磁性体であるカーボン又はグラファイトなどの反射波吸収体を透過する際に、反射波吸収体の材料の電気抵抗又は誘電損失によって熱に変換されることで、吸収される。周波数がMHz帯以上になると、強磁性体であるフェライト又はニッケルは透磁率が低下して磁気損失も急激に低下する。このため、反射波吸収体としては、非磁性体であるカーボン又はグラファイトから選定する。
The reflected
絶縁樹脂62内に反射波吸収体61が混在されて反射波吸収部60を構成する。反射波吸収部60は、接合用穴151cを除く金属導体63の上面全面に配置されている。よって、はんだ付け時に金属導体63の接合用穴151c内にはんだ材料10が塗布されると、はんだ材料10の周囲が反射波吸収部60で囲まれるように構成されている。絶縁樹脂の例としては、耐熱性に優れるポリイミドを選定することができる。
The reflected
金属導体63は、金属基板151の回路又は電極などを構成する。
The
本発明の実施の形態におけるはんだ付け方法は、反射波吸収体61と絶縁樹脂62とで構成される反射波吸収部60を、接合用穴151cを除く金属基板151の金属導体63上に塗布などにより配置した状態で、コイル状カーボン混載はんだ材料10を、周囲が前記反射波吸収部で囲まれる位置に塗布する。
In the soldering method according to the embodiment of the present invention, the reflected
その後、電磁波発生装置55から電磁波21を金属基板151に照射し、反射波吸収体61で反射波を吸収しながら、コイル状カーボン混載はんだ材料10を加熱することで、はんだ付けするものである。
Thereafter, the
図7は、本発明の実施の形態における反射波吸収部を使用するときのコイル状カーボン混載はんだ材料の加熱特性を示す図である。 FIG. 7 is a diagram showing the heating characteristics of the coiled carbon mixed solder material when using the reflected wave absorber in the embodiment of the present invention.
図7において、横軸は電磁波加熱装置で使用する加熱電力を示し、縦軸はコイル状カーボン混載はんだ材料10の到達温度指数を示しており、本発明の実施の形態における反射波吸収体61を含む反射波吸収部60がある場合のコイル状カーボン混載はんだ材料10の到達温度指数値を示している。反射波吸収部60は、接合用穴151cを除く金属基板151の上面全体に塗布し、次いで、コイル状カーボン混載はんだ材料10の周囲に反射波吸収部60が例えば密着する状態となるような位置にコイル状カーボン混載はんだ材料10が塗布されている。反射波吸収部60として、カーボンを用いたサンプルAを使用した到達温度指数をグラフ71とし、グラファイトを用いたサンプルBを使用した到達温度指数をグラフ72とした。いずれの場合も、反射吸収体のない場合の到達温度指数のグラフ73に比べて、到達温度指数が向上している結果となった。
In FIG. 7, the horizontal axis indicates the heating power used in the electromagnetic wave heating device, the vertical axis indicates the ultimate temperature index of the coiled carbon mixed
図8A〜図8Cは、本発明の実施の形態におけるコイル状カーボン混載はんだ材料10と反射波吸収部60との距離(a+b)が異なる場合のコイル状カーボン混載はんだ材料10の加熱原理を示す図である。
8A to 8C are diagrams showing the heating principle of the coiled carbon mixed
図8A〜図8Cにおいてコイル状カーボン混載はんだ高さをHとし、反射波吸収部高さ82をhとし、コイル状カーボン混載はんだ端面から反射点87までの距離84をaとし、反射波吸収部端面から反射点までの距離85をbとし、入射波86の反射点87における角度88(入射角)をθ1とし、反射波83の反射点87における角度89(反射角)をθ2とする。
8A to 8C, the height of the coiled carbon mixed solder is H, the height of the reflected wave absorbing portion 82 is h, the distance 84 from the coiled carbon mixed solder end surface to the
図8A〜図8Bは、反射波83がコイル状カーボン混載はんだ材料10の加熱に影響しない場合を示した図である。
8A to 8B are diagrams showing a case where the reflected
図8Aにおいて、入射波86が反射波吸収部高さhより高い位置から入射した場合、すなわち、b*tanθ1>hの場合は、入射波86が反射波吸収体61に吸収されずに、反射点87に入射角θ1で到達し、反射点87で反射波83が反射角θ2で発生する。その際、反射波83がコイル状カーボン混載はんだ高さHより高い位置で反射した場合、すなわち、a*tanθ2>Hの場合は、反射波83がコイル状カーボン混載はんだ材料10に到達しないため、加熱に影響しない。
In FIG. 8A, when the
図8Bにおいて、入射波86が反射波吸収部高さh以下の高さから入射した場合、すなわち、b*tanθ1≦hの場合は、入射波86が反射波吸収体61に吸収されるため、反射点87には到達せず、反射波83は発生しない。したがって、反射波がコイル状カーボン混載はんだ材料10に到達しないため、加熱に影響しない。
In FIG. 8B, when the
図8Cは、反射波83がコイル状カーボン混載はんだ材料10の加熱に影響する場合を示した図である。
FIG. 8C is a diagram showing a case where the reflected
図8Cにおいて、入射波86が反射波吸収部高さhより高い位置から入射した場合、すなわち、b*tanθ1>hの場合は、入射波86が反射波吸収体61に吸収されずに、反射点87に入射角θ1で到達し、反射点87で反射波83が反射角θ2で発生する。その際、反射波83がコイル状カーボン混載はんだ高さH以下の高さで反射した場合、すなわち、a*tanθ2≦Hの場合は、反射波83がコイル状カーボン混載はんだ材料10に到達するため、加熱に影響する。
In FIG. 8C, when the
図9は、図8A〜図8Cの原理に基づき、本発明の実施の形態における反射波吸収部60とコイル状カーボン混載はんだ材料との間の距離が異なる場合の加熱影響指数を示した図である。
FIG. 9 is a diagram showing a heating influence index when the distance between the reflected
図9において、コイル状カーボン混載はんだ材料10の高さHを0.5mm、反射波吸収部60の高さhを0.1mm、コイル状カーボン混載はんだ材料10と反射波吸収部60との間の距離、すなわち、(a+b)を0.3mm、0.5mm、1mm、1.5mm、3mm、5mmと異なる場合の加熱影響指数で、コイル状カーボン混載はんだ材料10と反射波吸収部60との間の距離(a+b)が0mmより大きくかつ1mmの場合(図9の縦線91)以下では、反射波83の加熱への影響が少ないため、より好ましいことがわかる。
In FIG. 9, the height H of the coiled carbon mixed
図10は、本発明の実施の形態におけるコイル状カーボン混載はんだ材料10と反射波吸収部60との距離が異なる場合のコイル状カーボン混載はんだ材料10の加熱特性を示す図である。
FIG. 10 is a diagram showing the heating characteristics of the coiled carbon mixed
図10において、横軸は加熱電力を示し、縦軸はコイル状カーボン混載はんだ材料10の到達温度指数を示しており、本発明の実施の形態における反射波吸収部60の4個の接合用穴151cの開口径をそれぞれ異ならせた場合のコイル状カーボン混載はんだ材料10の到達温度指数値を示している。まず、反射波吸収部60の高さを0.1mmとなるように反射波吸収部60を金属基板151の上面全体に塗布する。次いで、コイル状カーボン混載はんだ材料10と反射波吸収部60との間の距離が0mm、1mm、3mm、5mmの状態でかつコイル状カーボン混載はんだ材料10の高さが0.5mmとなるようにコイル状カーボン混載はんだ材料10を4個の接合用穴151c内のそれぞれに塗布する。これらの場合の到達温度指数は、距離が0mmのときはグラフ101で示し、距離が1mmのときはグラフ102で示し、距離が3mmのときはグラフ103で示し、距離が5mmのときはグラフ104で示している。また、反射吸収体のない場合の到達温度指数は、グラフ105である。
In FIG. 10, the horizontal axis indicates the heating power, and the vertical axis indicates the ultimate temperature index of the coiled carbon mixed
図10の結果のグラフより、図8A〜図8Cの原理と同様に、コイル状カーボン混載はんだ材料10と反射波吸収部60との間の距離が0mmより大きくかつ1mm以下の場合は、反射波83が与える到達温度への影響が少ないため、加熱効果があり、より好ましいことがわかる。
From the graph of the result of FIG. 10, similarly to the principle of FIGS. 8A to 8C, when the distance between the coiled carbon mixed
図11は、本発明の実施の形態における反射波吸収部60の塗布幅rが異なる場合のコイル状カーボン混載はんだ材料10の加熱原理を示す図である。
FIG. 11 is a diagram showing the heating principle of the coiled carbon mixed
図11において、コイル状カーボン混載はんだ材料10の高さをHとし、反射波吸収部高さをhとし、コイル状カーボン混載はんだ端面から反射点87までの距離をa+bとし、反射波吸収部端面から反射点87までの距離をcとし、反射波吸収部60の幅すなわち塗布幅をrとし、入射波86の反射点87における角度及び反射波83の反射点87における角度をそれぞれβとする。反射波83が反射波吸収部高さh以下の高さから入射した場合、すなわち、c*tanβ≦hの場合は、反射波83が反射波吸収体61に吸収されるため、コイル状カーボン混載はんだ材料10には到達せず、加熱に影響しない。
In FIG. 11, the height of the coiled carbon mixed
また、c*tanβ>hの場合は、反射波83が反射波吸収体61に吸収されないが、反射波83がコイル状カーボン混載はんだ10の高さHより高い場合、すなわち、(a+b+c+r)*tanβ>Hの場合も、コイル状カーボン混載はんだ材料10には到達しないため、加熱に影響しない。
When c * tanβ> h, the reflected
しかし、c*tanβ>hの場合において、反射波83が反射波吸収体61に吸収されないが、反射波83がコイル状カーボン混載はんだ材料10の高さH以下の場合、すなわち(a+b+c+r)*tanβ≦Hの場合は、反射波83がコイル状カーボン混載はんだ材料10に到達するため、加熱に影響する。
However, when c * tanβ> h, the reflected
図12は、図11の原理に基づき、本発明の実施の形態における反射波吸収部60の塗布幅rが異なる場合のコイル状カーボン混載はんだ材料10の加熱影響指数を示した図である。
FIG. 12 is a diagram showing the heating influence index of the coiled carbon mixed
図12において、コイル状カーボン混載はんだ材料10の高さHを0.5mmとし、反射波吸収部60の高さhを0.1mmとし、コイル状カーボン混載はんだ材料10と反射波吸収部60との間の距離、すなわち、a+bは1mmとし、反射波吸収部60の塗布幅を0.2mm、0.5mm、1mm、2mm、3mm、5mmと異なる場合の加熱影響指数である。
In FIG. 12, the height H of the coiled carbon mixed
これより、反射波吸収部60の塗布幅rが0mmより大きくかつ1mmの場合(図12の縦軸121)以上では、反射波83の加熱への影響が少ないため、加熱効果があり、より好ましいことがわかる。
From this, when the application width r of the reflected
図13は、本発明の実施の形態における反射波吸収部60の塗布幅rが異なる場合のコイル状カーボン混載はんだ材料10の加熱特性を示す図である。
FIG. 13 is a diagram showing the heating characteristics of the coiled carbon mixed
図13において、横軸は加熱電力を示し、縦軸はコイル状カーボン混載はんだ材料10の到達温度指数を示しており、本発明の実施の形態における反射波吸収部60の塗布幅rが異なる場合のコイル状カーボン混載はんだ材料10の到達温度指数値を示している。反射波吸収部60を接合用穴151cを除く金属基板151の上面全体に塗布し、コイル状カーボン混載はんだ材料10に対して反射波吸収部60が塗布幅1mm、2mm、3mmの状態で塗布されている。反射波吸収部60の塗布幅1mmの場合をグラフ131で示し、塗布幅2mmの場合をグラフ132で示し、塗布幅3mmの場合をグラフ133で示している。
In FIG. 13, the horizontal axis represents the heating power, the vertical axis represents the ultimate temperature index of the coiled carbon mixed
図13の結果によれば、図12の原理と同様に、反射波吸収部60の塗布幅が2mm以上の場合は、反射波83が与える到達温度への影響が少なくなることがわかる。
From the result of FIG. 13, it can be seen that, similarly to the principle of FIG. 12, when the coating width of the reflected
前記実施形態にかかるはんだ付け方法によれば、コイル状カーボン混載はんだ材料10に電磁波を照射することで電子部品52と半導体装置などの金属基板151とをはんだ材料10ではんだ付けする場合に、反射波吸収体61で金属基板151による反射波83を吸収して反射波83の発生を抑制し、誘導電流22によりジュール熱が発生することで、金属基板151上であっても、はんだ付けすることが可能となる。
According to the soldering method of the embodiment, when the
なお、本実施の形態では、コイル状カーボン混載はんだ材料10の金属粒子12として組成がSn−Ag−Bi−Inの金属を用いているが、公知のはんだ材料を用いても同様の効果を得ることができる。また、反射波吸収体61及び絶縁樹脂62のそれぞれも、本実施の形態で用いた材料又は形状に限定するものではない。
In the present embodiment, a metal having a composition of Sn—Ag—Bi—In is used as the
なお、前記様々な実施形態又は変形例のうちの任意の実施形態又は変形例を適宜組み合わせることにより、それぞれの有する効果を奏するようにすることができる。また、実施形態同士の組み合わせ又は実施例同士の組み合わせ又は実施形態と実施例との組み合わせが可能であると共に、異なる実施形態又は実施例の中の特徴同士の組み合わせも可能である。 In addition, it can be made to show the effect which each has by combining arbitrary embodiment or modification of the said various embodiment or modification suitably. In addition, combinations of the embodiments, combinations of the examples, or combinations of the embodiments and examples are possible, and combinations of features in different embodiments or examples are also possible.
本発明の前記態様に係る反射波吸収によるはんだ付け方法は、コイル状カーボン混載はんだ材料に電磁波を照射することで電子部品と半導体装置などの金属基板とをはんだ材料ではんだ付けする場合に、反射波吸収体で金属基板による反射波を吸収して反射波の発生を抑制することができ、電磁波を用いた局所加熱によるはんだ付けを行うことが可能であり、大電流対応の厚銅基板又は高熱容量基板だけでなく、はんだゴテ又はフローはんだ付けが困難な3次元基板へのはんだ付け又は、弱体熱部品へのはんだ付けに対して、特に有用である。 The soldering method by absorption of reflected waves according to the above aspect of the present invention is performed when the electronic component and a metal substrate such as a semiconductor device are soldered with a solder material by irradiating the coiled carbon mixed solder material with electromagnetic waves. The wave absorber can absorb the reflected wave from the metal substrate and suppress the generation of the reflected wave, and can be soldered by local heating using electromagnetic waves. This is particularly useful not only for capacitive substrates but also for soldering to soldering irons or three-dimensional substrates where flow soldering is difficult, or to weak thermal components.
10:コイル状カーボン混載はんだ材料
11:コイル状カーボン
12:金属粒子
13:フラックス
21:電磁波
22:誘導電流
31:入射角
32:反射角
34:逆方向誘導電流
52:電子部品
53:リード
54:高熱容量基板
55:電磁波発生装置
56:出力電力検出装置
57:制御装置
58:温度検出装置
59:シールド部材
60:反射波吸収部
61:反射波吸収体
62:絶縁樹脂
63:金属導体
71:カーボンを用いたサンプルAを使用した到達温度指数
72:グラファイトを用いたサンプルBを使用した到達温度指数
73:反射吸収体のない場合の到達温度指数
H:コイル状カーボン混載はんだ高さ
h:反射波吸収部高さ
83:反射波
a:コイル状カーボン混載はんだ端面から反射点87までの距離
b:反射波吸収部端面から反射点までの距離
86:入射波
87:反射点
θ1:入射波86の反射点87における角度(入射角)
θ2:反射波83の反射点87における角度(反射角)
91:コイル状カーボン混載はんだ材料と反射波吸収部間の距離が1mmの場合の縦線
101:コイル状カーボン混載はんだ材料と反射波吸収部間の距離0mmの場合の到達温度指数のグラフ
102:コイル状カーボン混載はんだ材料と反射波吸収部の距離1mmの場合の到達温度指数のグラフ
103:コイル状カーボン混載はんだ材料と反射波吸収部間の距離3mmの場合の到達温度指数のグラフ
104:コイル状カーボン混載はんだ材料と反射波吸収部間の距離5mmの場合の到達温度指数のグラフ
105:反射吸収体のない場合の到達温度指数のグラフ
a+b:コイル状カーボン混載はんだ端面から反射点87までの距離
c:反射波吸収部端面から反射点87までの距離
r:反射波吸収部60の塗布幅
β:入射波の反射点における角度(反射波の反射点における角度)
121:反射波吸収部60の塗布幅が2mmの場合の縦軸
131:反射波吸収部の塗布幅1mmの場合の到達温度指数のグラフ
132:反射波吸収部の塗布幅2mmの場合の到達温度指数のグラフ
133:反射波吸収部の塗布幅3mmの場合の到達温度指数のグラフ
141:金属接合材料
142:位置決め金属部
143:接合金属部
151:反射波吸収体付き金属基板
151A:反射波吸収体無しの金属基板
151c:接合用穴
152:部品リード
10: Coiled carbon mixed solder material 11: Coiled carbon 12: Metal particles 13: Flux 21: Electromagnetic wave 22: Inductive current 31: Incident angle 32: Reflection angle 34: Reverse induced current 52: Electronic component 53: Lead 54: High heat capacity substrate 55: Electromagnetic wave generator 56: Output power detector 57: Controller 58: Temperature detector 59: Shield member 60: Reflected wave absorber 61: Reflected wave absorber 62: Insulating resin 63: Metal conductor 71: Carbon Achieving temperature index 72 using sample A using graphite: Achieving temperature index using sample B using graphite 73: Achieving temperature index when there is no reflection absorber H: Solder height h with coiled carbon mixed solder h: Reflected wave Absorbing part height 83: Reflected wave a: Distance from coiled carbon mixed solder end face to reflecting point 87 b: Reflected wave absorbing part end face to reflecting point Distance 86: incident wave 87: reflection point theta 1: angle at the
θ 2 : Angle at the
91:
121:
Claims (4)
その後、電磁波を前記金属基板に照射し、前記反射波吸収体で反射波を吸収しながら、前記コイル状カーボン混載はんだ材料を加熱することで、はんだ付けする、はんだ付け方法。 Applying a coiled carbon mixed solder material to a metal substrate provided with a reflected wave absorbing portion of a reflected wave absorber and an insulating resin on a metal conductor at a position surrounded by the reflected wave absorbing portion,
Then, soldering is performed by irradiating the metal substrate with electromagnetic waves and heating the coiled carbon mixed solder material while absorbing the reflected wave with the reflected wave absorber.
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