JP2018096962A - Gas analyzing device and gas sampling device - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a gas analyzing device capable of accurately measuring concentration or amount of methane contained in a sample gas even when a pressure of a sample gas line changes.SOLUTION: A gas analyzing device 1 comprises: a sample gas line 11 through which a sample gas flows; a pressure drop mechanism 20 provided in the sample gas line 11; a pressure control mechanism 21 for controlling a difference in pressure of the sample gas line 11 between in front of and behind the pressure drop mechanism 20 by discharging a part of the sample gas from behind the pressure drop mechanism 20 or supplying a predetermined gas to behind the pressure drop mechanism 20, while referring to a pressure in front of the pressure drop mechanism 20; and an analyzer for analyzing the sample gas flowing through the sample gas line 11.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、例えば、自動車の排気ガス等のサンプルガスの成分を分析するガス分析装置、及びサンプルガスを採取するガスサンプリング装置に関するものである。   The present invention relates to a gas analyzer that analyzes a component of a sample gas such as an automobile exhaust gas and a gas sampling device that collects the sample gas.

例えば、特許文献1に示すように、排ガス等のサンプルガスに含まれるメタンを測定する場合には、ノンメタンカッターを通過させて、サンプルガスに含まれるメタン以外の炭化水素をノンメタンカッター内で燃焼させることがある。
この燃焼時には、酸素が過剰でメタンが燃焼しすぎたり、酸素が不足してメタン以外の炭化水素が燃焼しなかったりすることを防ぐために、サンプルガスに酸素を適切な割合で供給する必要がある。
For example, as shown in Patent Document 1, when measuring methane contained in a sample gas such as exhaust gas, a non-methane cutter is allowed to pass and hydrocarbons other than methane contained in the sample gas are allowed to pass through the non-methane cutter. May burn.
During this combustion, it is necessary to supply oxygen to the sample gas at an appropriate ratio in order to prevent excessive oxygen and methane from burning too much, and oxygen from running out and hydrocarbons other than methane not burning. .

しかしながら、このようなガス分析装置では、例えば、サンプリングポンプの脈動や、導入されるサンプルガスの圧力変動などに起因して、サンプルガスの流量が変動する場合がある。
その結果、サンプルガスと酸素の混合比が変動するので、測定されるメタンの濃度や量が変動するという問題がある。
このような問題はメタンを測定するもの以外の他のガス分析装置においても問題となる。
However, in such a gas analyzer, the flow rate of the sample gas may fluctuate due to, for example, the pulsation of the sampling pump or the pressure fluctuation of the introduced sample gas.
As a result, since the mixing ratio of sample gas and oxygen varies, there is a problem that the concentration and amount of methane to be measured vary.
Such a problem also arises in other gas analyzers other than those that measure methane.

特開平08−035950号公報Japanese Patent Laid-Open No. 08-035950

本発明は、上記の課題に鑑みてなされたものであり、サンプルガスラインの圧力が変動しても、採取するサンプルガスの流量を一定に維持できるガス分析装置又はガスサンプリング装置を提供することを目的とするものである。   The present invention has been made in view of the above problems, and provides a gas analyzer or gas sampling device that can maintain a constant flow rate of sample gas to be collected even if the pressure of the sample gas line fluctuates. It is the purpose.

すなわち、本発明に係るガス分析装置は、サンプルガスが流れるサンプルガスラインと、前記サンプルガスラインに設けられた圧力損失機構と、前記圧力損失機構の後段から前記サンプルガスの一部を排出するか、又は前記圧力損失機構の後段に所定のガスを供給することで、前記圧力損失機構の前後における前記サンプルガスラインの圧力差を制御する圧力制御機構と、前記サンプルガスラインを流れるサンプルガスを分析する分析器とを備えたものである。   That is, the gas analyzer according to the present invention discharges a part of the sample gas from the sample gas line through which the sample gas flows, the pressure loss mechanism provided in the sample gas line, and the subsequent stage of the pressure loss mechanism. Or a pressure control mechanism that controls a pressure difference of the sample gas line before and after the pressure loss mechanism by supplying a predetermined gas to the subsequent stage of the pressure loss mechanism, and an analysis of the sample gas flowing through the sample gas line Analyzer.

このようなガス分析装置によれば、前記サンプルガスラインの圧力が変動した場合であっても、採取するサンプルガスの流量を一定に維持することができるので、サンプルガスに含まれる成分を精度良く分析することができる。
また、例えば、操作ガスや希釈ガス等とサンプルガスを混合する場合等にも、サンプルガスと操作ガスや希釈ガス等との混合比を一定に維持することができるので、サンプルガスに含まれる成分を精度良く分析することができる。
According to such a gas analyzer, even if the pressure of the sample gas line fluctuates, the flow rate of the sample gas to be collected can be maintained constant, so that the components contained in the sample gas can be accurately detected. Can be analyzed.
In addition, for example, when mixing the sample gas with the operation gas or the dilution gas, the mixing ratio of the sample gas and the operation gas, the dilution gas, or the like can be maintained constant. Can be analyzed with high accuracy.

具体的な実施態様としては、前記圧力制御機構は、前記圧力損失機構の後段で、前記サンプルガスラインからサンプルガスを一部排出するサンプルガス排出ラインと、前記サンプルガス排出ラインと接続されたサンプル圧調整ラインと、前記圧力損失機構の前段の圧力を参照し、前記圧力損失機構の前段における前記サンプルガスラインの圧力と、前記サンプル圧調整ラインの圧力との圧力差を制御するサンプル圧制御部とを備えたものが挙げられる。   As a specific embodiment, the pressure control mechanism includes a sample gas discharge line that partially discharges the sample gas from the sample gas line and a sample connected to the sample gas discharge line after the pressure loss mechanism. A sample pressure control unit that controls the pressure difference between the pressure of the sample gas line and the pressure of the sample pressure adjustment line in the previous stage of the pressure loss mechanism with reference to the pressure adjustment line and the pressure of the previous stage of the pressure loss mechanism The thing provided with.

別の実施態様としては、前記圧力制御機構は、前記圧力損失機構の後段で、前記サンプルガスラインに所定のガスを供給するガス供給ラインと、前記ガス供給ラインに設けられた圧力制御弁と、前記圧力損失機構の前後の圧力差を検知する差圧計とを備え、前記差圧計により検出された圧力差に基づいて前記圧力制御弁が制御される構成が挙げられる。   As another embodiment, the pressure control mechanism includes a gas supply line that supplies a predetermined gas to the sample gas line, and a pressure control valve provided in the gas supply line, after the pressure loss mechanism. And a differential pressure gauge that detects a pressure difference before and after the pressure loss mechanism, and the pressure control valve is controlled based on the pressure difference detected by the differential pressure gauge.

より具体的な実施態様としては、前記サンプル圧制御部が、前記圧力損失機構の前段の圧力を参照し、前記圧力損失機構の前段における前記サンプルガスラインの圧力と、前記サンプル圧調整ラインの圧力との圧力差を一定に保つように、前記サンプル圧調整ラインの圧力を制御するものが挙げられる。   As a more specific embodiment, the sample pressure control unit refers to the pressure at the front stage of the pressure loss mechanism, the pressure of the sample gas line at the front stage of the pressure loss mechanism, and the pressure of the sample pressure adjustment line And controlling the pressure of the sample pressure adjusting line so as to keep the pressure difference constant.

より具体的には、前記圧力損失機構は、キャピラリー、オリィフィス、背圧弁のいずれかであれば良い。   More specifically, the pressure loss mechanism may be any one of a capillary, an orifice, and a back pressure valve.

前記ガス分析装置が、前記サンプルガスラインにおける前記圧力損失機構の後段に、前記第1ガスを供給する第1ガス供給ラインと、前記サンプルガスラインにおける前記圧力損失機構の後段の圧力を参照し、前記第1ガス供給ラインの供給側圧力と、前記サンプルガスラインの圧力との差を一定に維持する第1ガス調圧機構をさらに備えたものであれば、前記サンプルガスラインの圧力が変動した場合であっても、供給される第1ガスの流量を一定に維持することができるので、サンプルガスと第1ガスとの混合比を一定にすることができる。   The gas analyzer refers to a first gas supply line that supplies the first gas downstream of the pressure loss mechanism in the sample gas line, and a pressure subsequent to the pressure loss mechanism in the sample gas line, The pressure of the sample gas line fluctuated if it further includes a first gas pressure regulating mechanism that maintains a constant difference between the supply side pressure of the first gas supply line and the pressure of the sample gas line. Even in this case, the flow rate of the supplied first gas can be kept constant, so that the mixing ratio of the sample gas and the first gas can be made constant.

具体的な実施態様としては、前記排出ラインの後段にサンプルガスからメタン以外の炭化水素成分を除去する酸化触媒をさらに備えた前記ガス分析装置が挙げられる。   As a specific embodiment, the gas analyzer may further include an oxidation catalyst that removes hydrocarbon components other than methane from the sample gas in the subsequent stage of the discharge line.

前記ガス分析装置が、前記サンプルガスラインにおける前記圧力損失機構の後段に、第2ガスを供給する第2ガス供給ラインと、前記サンプルガスラインにおける前記圧力損失機構の後段の圧力を参照し、前記第2ガス供給ラインの供給側圧力と、前記サンプルガスラインの圧力との差を一定に維持する第2ガス調圧機構をさらに備えたものであれば、前記サンプルガスラインの圧力が変動した場合であっても、供給される第2ガスの流量を一定に維持することができるので、サンプルガスと第2ガスとの混合比を一定にすることができる。   The gas analyzer refers to a second gas supply line that supplies a second gas downstream of the pressure loss mechanism in the sample gas line, and a pressure subsequent to the pressure loss mechanism in the sample gas line, If the pressure of the sample gas line fluctuates as long as it further includes a second gas pressure regulation mechanism that maintains a constant difference between the supply side pressure of the second gas supply line and the pressure of the sample gas line Even so, since the flow rate of the supplied second gas can be kept constant, the mixing ratio of the sample gas and the second gas can be made constant.

前記第1ガスが酸素含有ガスであり、前記第2ガスが水素含有ガスであり、前記ガス分析装置が前記酸化触媒の前段に前記第1ガスと前記第2ガスとを反応させて水を発生させる水分供給触媒をさらに備えたものであれば、前記酸化触媒に水分を供給することができるので、前記サンプルガス中のメタン成分の燃えすぎを防止することができる。   The first gas is an oxygen-containing gas, the second gas is a hydrogen-containing gas, and the gas analyzer generates water by reacting the first gas and the second gas before the oxidation catalyst. If the water supply catalyst is further provided, water can be supplied to the oxidation catalyst, so that excessive combustion of the methane component in the sample gas can be prevented.

前記第1ガスの供給量が、前記第2ガスと反応する量よりも大きければ、前記酸化触媒でのノンメタン成分の燃焼に必要な酸素を供給することができるので、前記酸化触媒の劣化を抑えることができる。   If the supply amount of the first gas is larger than the amount that reacts with the second gas, oxygen necessary for the combustion of the non-methane component in the oxidation catalyst can be supplied, so that deterioration of the oxidation catalyst is suppressed. be able to.

前述のように、前記第1ガスの供給量が、前記第2ガスと反応する量よりも大きいので、前記ガス分析装置では、前記第2ガスとの反応の結果残った前記第1ガスによって、前記サンプルガスが希釈される。   As described above, since the supply amount of the first gas is larger than the amount that reacts with the second gas, in the gas analyzer, due to the first gas remaining as a result of the reaction with the second gas, The sample gas is diluted.

前記ガス分析装置が、前記サンプルガスライン上の測定装置よりも下流側に配置された吸引型サンプリングポンプをさらに具備したものである場合には、前記吸引型サンプリングポンプに起因して前記サンプルガスラインの圧力変動が起こりやすいので、本発明の効果が特に顕著に発揮される。   In the case where the gas analyzer further includes a suction type sampling pump disposed downstream of the measuring device on the sample gas line, the sample gas line is caused by the suction type sampling pump. Therefore, the effect of the present invention is particularly remarkably exhibited.

前記ガス分析装置の具体的な実施態様としては、前記サンプルガスは車両から排出される排気ガスであり、前記ガス分析装置は、車載型のガス分析装置であるものが挙げられる。   As a specific embodiment of the gas analyzer, the sample gas is an exhaust gas discharged from a vehicle, and the gas analyzer is a vehicle-mounted gas analyzer.

サンプルガスが流れるサンプルガスラインと、前記サンプルガスラインに設けられた圧力損失機構と、前記圧力損失機構の後段から前記サンプルガスの一部を排出するか、又は前記圧力損失機構の後段に所定のガスを供給することで、前記圧力損失機構の前後における前記サンプルガスラインの圧力差を制御する圧力制御機構とを備えたガスサンプリング装置によっても同様に、本発明の効果を奏することができる。   A sample gas line through which a sample gas flows, a pressure loss mechanism provided in the sample gas line, and a part of the sample gas is discharged from a subsequent stage of the pressure loss mechanism, or a predetermined stage is provided in a subsequent stage of the pressure loss mechanism By supplying gas, the effect of the present invention can also be achieved by a gas sampling device provided with a pressure control mechanism that controls the pressure difference of the sample gas line before and after the pressure loss mechanism.

また、サンプルガスが流れるサンプルガスラインと前記サンプルガスラインに設けられた圧力損失機構と、前記圧力損失機構の後段から前記サンプルガスの一部を排出するか、又は前記圧力損失機構の後段に所定のガスを供給することで、前記圧力損失機構の前後における前記サンプルガスラインの圧力差を制御する圧力制御機構と、前記サンプルガスラインを流れるサンプルガスを分析する分析器とを備えたガス分析装置を用いてサンプルガスをサンプリングする方法によっても、本発明と同様の効果を奏することができる。   Further, a part of the sample gas is discharged from a sample gas line through which the sample gas flows, a pressure loss mechanism provided in the sample gas line, and a subsequent stage of the pressure loss mechanism, or a predetermined stage after the pressure loss mechanism. Gas analyzer comprising: a pressure control mechanism for controlling a pressure difference of the sample gas line before and after the pressure loss mechanism by supplying a gas; and an analyzer for analyzing the sample gas flowing through the sample gas line The same effect as that of the present invention can also be obtained by a method of sampling a sample gas using the.

本発明に係るガス分析装置又はガスサンプリング装置によれば、前記サンプルガスラインの圧力が変動した場合であっても、採取するサンプルガスの流量を一定に維持することができるので、サンプルガスに含まれる成分を精度良く分析することができる。
また、例えば、操作ガスや希釈ガス等とサンプルガスを混合する場合等にも、サンプルガスと操作ガスや希釈ガス等との混合比を一定にすることができるので、サンプルガスに含まれる成分を精度良く分析することができる。
According to the gas analyzer or gas sampling device of the present invention, the flow rate of the sample gas to be collected can be kept constant even when the pressure of the sample gas line fluctuates. Component can be analyzed with high accuracy.
In addition, for example, when mixing the sample gas with the operation gas or the dilution gas, the mixing ratio of the sample gas to the operation gas or the dilution gas can be made constant. It is possible to analyze with high accuracy.

本発明の第1実施形態に係るガス分析装置の構成を示す模式図。The schematic diagram which shows the structure of the gas analyzer which concerns on 1st Embodiment of this invention. 本発明の第2実施形態に係るガス分析装置の構成を示す模式図。The schematic diagram which shows the structure of the gas analyzer which concerns on 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第2の実施形態に係るガス分析装置の変形例を説明するための図。The figure for demonstrating the modification of the gas analyzer which concerns on the 2nd Embodiment of this invention. 本発明の他の実施形態に係るガス分析装置を説明するための模式図。The schematic diagram for demonstrating the gas analyzer which concerns on other embodiment of this invention. 本発明の他の実施形態に係るガス分析装置の構成を示す模式図。The schematic diagram which shows the structure of the gas analyzer which concerns on other embodiment of this invention. 本発明の他の実施形態に係るガス分析装置の構成を示す模式図。The schematic diagram which shows the structure of the gas analyzer which concerns on other embodiment of this invention.

以下に、本発明に係るガス分析装置1の第1実施形態について図面を参照して説明する。
本実施形態に係るガス分析装置1は、サンプルガスである、例えば、車両のエンジン等の内燃機関から排出される排ガス等に含まれる成分を分析するものであり、例えば、図1に示すように、前記サンプルガスが流れるサンプルガスライン11と、前記サンプルガスに含まれるメタンを分析するメタン分析器12と、該メタン分析器12によって、サンプルガス中のメタンを精度よく分析するために、サンプルガス中のノンメタン成分を除去するノンメタンカッター13と、該ノンメタン成分の除去に必要な酸素を含む第1ガスを該ノンメタンカッター13に供給する第1ガス供給ライン14と、第1ガスに含まれる酸素と反応して前記ノンメタンカッター13に水分を供給する水素を含む第2ガスを前記ノンメタンカッター13に供給する第2ガス供給ライン15とを備えたものである。
Below, 1st Embodiment of the gas analyzer 1 which concerns on this invention is described with reference to drawings.
The gas analyzer 1 according to the present embodiment analyzes a component contained in exhaust gas discharged from an internal combustion engine such as a vehicle engine, which is a sample gas, for example, as shown in FIG. The sample gas line 11 through which the sample gas flows, the methane analyzer 12 for analyzing methane contained in the sample gas, and the methane analyzer 12 for accurately analyzing methane in the sample gas A non-methane cutter 13 for removing non-methane components therein, a first gas supply line 14 for supplying a first gas containing oxygen necessary for removing the non-methane components to the non-methane cutter 13, and a first gas. A second gas containing hydrogen that reacts with oxygen and supplies moisture to the non-methane cutter 13 is supplied to the non-methane cutter 13. It is obtained by a 2 gas supply line 15.

以下、前記ガス分析装置1を構成する各部について説明する。 前記サンプルガスライン11は、その一端が、前記車両のエンジン等から排ガスを導出する排気管などに接続されており、他端は、例えば、外部に解放されたものである。本実施形態では、該サンプルガスライン上の前記メタン分析器12よりも後段、すなわち下流側に、該サンプルガスライン11に前記サンプルガスを引き込む吸引型のサンプリングポンプ(不図示)が設けられている。 Hereinafter, each part which comprises the said gas analyzer 1 is demonstrated. One end of the sample gas line 11 is connected to an exhaust pipe or the like for deriving exhaust gas from the vehicle engine or the like, and the other end is opened to the outside, for example. In the present embodiment, a suction-type sampling pump (not shown) that draws the sample gas into the sample gas line 11 is provided downstream of the methane analyzer 12 on the sample gas line, that is, downstream. .

前記メタン分析器12としては、この実施形態では、水素炎イオン化検出器が用いられている。 In this embodiment, a flame ionization detector is used as the methane analyzer 12.

前記ノンメタンカッター13は、前記サンプルガスライン11を流れる前記サンプルガス中のメタン以外の炭化水素を燃焼(酸化)して除去するものであり、例えば、二酸化マンガンや酸化銅などを含有するものである。 The non-methane cutter 13 burns (oxidizes) hydrocarbons other than methane in the sample gas flowing through the sample gas line 11 and contains, for example, manganese dioxide and copper oxide. is there.

前記第1ガス供給ライン14は、前記サンプルガスライン11に第1ガスである、例えば、酸素含有ガスを供給するものであり、その一端が、例えば、図示しないボンベ等に接続され、他端が前記サンプルガスライン11の前記ノンメタンカッター13よりも前段、すなわち、上流側に接続されている。 The first gas supply line 14 supplies, for example, an oxygen-containing gas, which is a first gas, to the sample gas line 11, and one end of the first gas supply line 14 is connected to, for example, a cylinder (not shown) and the other end is connected to the sample gas line 11. The sample gas line 11 is connected upstream of the non-methane cutter 13, that is, upstream.

前記第2ガス供給ライン15は、前記サンプルガスライン11に第2ガスである、例えば、水素含有ガスを供給するものであり、その一端が、例えば、図示しないボンベ等に接続され、他端が前記サンプルガスライン11の前記ノンメタンカッター13よりも前段に接続されている。 The second gas supply line 15 supplies the sample gas line 11 with a second gas, for example, a hydrogen-containing gas. One end of the second gas supply line 15 is connected to, for example, a cylinder (not shown) and the other end is connected to the sample gas line 11. The sample gas line 11 is connected upstream of the non-methane cutter 13.

本実施形態では、前記第1ガス供給ライン14と前記第2ガス供給ライン15とは、前記サンプルガスライン11との合流点の前段で合流し、内部を前記第1ガス及び前記第2ガスが混合して流れる混合ライン16となって前記サンプルガスライン11に接続されている。 この混合ライン16上には、前記混合ライン16を流れる前記第1ガス中の酸素と前記第2ガス中の水素とを効率よく反応させて水を生成する水分供給触媒17が設けられている。 In the present embodiment, the first gas supply line 14 and the second gas supply line 15 merge before the merge point with the sample gas line 11, and the inside of the first gas and the second gas is inside. A mixed line 16 that flows in a mixed manner is connected to the sample gas line 11. On the mixing line 16, a water supply catalyst 17 is provided that generates water by efficiently reacting oxygen in the first gas flowing through the mixing line 16 and hydrogen in the second gas.

なお、本実施形態では、前記サンプルガスライン11上の前記混合ライン16との合流点よりも上流側で前記サンプルガスライン11から分岐した全炭化水素分析ライン18と、前記合流点の後段で前記サンプルガスラインから分岐し、前記メタン分析器12の前段で再び前記サンプルガスライン11に合流するノンメタンカッター確認用ライン19とを設けている。 In this embodiment, the total hydrocarbon analysis line 18 branched from the sample gas line 11 on the upstream side of the merge point with the mixing line 16 on the sample gas line 11 and the latter stage after the merge point. A non-methane cutter check line 19 is provided which branches from the sample gas line and joins the sample gas line 11 again at the front stage of the methane analyzer 12.

前記全炭化水素分析ライン18は、前記サンプルガスに含まれる全炭化水素を分析するものであり、この全炭化水素分析ライン18上には、前記サンプルガスに含まれる全炭化水素を分析する全炭化水素分析器181と、この全炭化水素分析ラインに流れ込む前記サンプルガスの流量を制御する例えばキャピラリー等の第1流量制御装置182が設けられている。本実施形態で使用しているキャピラリーとは、その前後の流路よりも細い内径をもつものである。 The total hydrocarbon analysis line 18 analyzes the total hydrocarbons contained in the sample gas, and the total hydrocarbon analysis line 18 analyzes the total hydrocarbons contained in the sample gas. A hydrogen analyzer 181 and a first flow rate controller 182 such as a capillary for controlling the flow rate of the sample gas flowing into the total hydrocarbon analysis line are provided. The capillary used in the present embodiment has an inner diameter that is narrower than the flow path before and after the capillary.

前記ノンメタンカッター確認用ライン19は、前記サンプルガスを前記ノンメタンカッター13を通過させずに前記メタン分析器12に導くものであり、このノンメタンカッター確認用ライン19上には、前記サンプルガスライン11のノンメタンカッター13後段に設けられた第1バルブV1と協働して前記サンプルガスが該ノンメタンカッター確認用ライン19又は前記サンプルガスライン11のどちらか一方を流れるように切り替える第2バルブV2が設けられている。 The non-methane cutter confirmation line 19 guides the sample gas to the methane analyzer 12 without passing through the non-methane cutter 13, and the non-methane cutter confirmation line 19 includes the sample gas. A second valve for switching the sample gas to flow through either the non-methane cutter check line 19 or the sample gas line 11 in cooperation with the first valve V1 provided at the rear stage of the non-methane cutter 13 of the line 11. A valve V2 is provided.

しかして、本実施形態に係るガス分析装置1は、前述の構成に加えて、前記サンプルガスライン11を流れる前記サンプルガスの流量を制御する圧力損失機構20と、この圧力損失機構20の前後での前記サンプルガスライン11の圧力差を一定に制御する圧力制御機構21と、前記サンプルガスライン11の前記圧力損失機構20の後段の圧力と前記第1ガス供給ライン14との圧力差を一定に制御する第1ガス調圧機構22と、前記サンプルガスライン11の前記圧力損失機構20の後段の圧力と前記第2ガス供給ライン15との圧力差を一定に制御する第2ガス調圧機構23とをさらに具備するものである。 Therefore, the gas analyzer 1 according to the present embodiment has a pressure loss mechanism 20 that controls the flow rate of the sample gas flowing through the sample gas line 11 in addition to the above-described configuration, and before and after the pressure loss mechanism 20. The pressure control mechanism 21 for controlling the pressure difference of the sample gas line 11 to be constant, and the pressure difference between the pressure of the pressure loss mechanism 20 of the sample gas line 11 and the first gas supply line 14 are made constant. The first gas pressure adjusting mechanism 22 to be controlled, and the second gas pressure adjusting mechanism 23 for controlling the pressure difference between the pressure after the pressure loss mechanism 20 of the sample gas line 11 and the second gas supply line 15 to be constant. Are further provided.

前記圧力損失機構20は、前記サンプルガスライン11上の前記混合ライン16との合流点よりも前段に設けられており、前記サンプルガスライン11を流れる前記サンプルガスの流量を制御するものであり、この実施形態では、例えば、キャピラリー(第1キャピラリー20)が用いられている。   The pressure loss mechanism 20 is provided at a stage prior to the junction with the mixing line 16 on the sample gas line 11, and controls the flow rate of the sample gas flowing through the sample gas line 11. In this embodiment, for example, a capillary (first capillary 20) is used.

前記圧力制御機構21は、前記圧力損失機構20の後段の圧力を制御することによって前記サンプルガスライン11の前記圧力損失機構20の前後の圧力差を一定に保つものであり、例えば、その内部を流れるガスを外部へ排出するサンプル圧調整ライン211と、前記サンプルガスライン11を流れるガスの一部を前記サンプル圧調整ライン211に排出するサンプルガス排出ライン212と、前記サンプル圧調整ライン211を流れるガスの流量を制御する第2キャピラリー213と、前記サンプルガスライン11の前記圧力損失機構20の前段の圧力を参照して、前記サンプル圧調整ライン211の圧力を制御するサンプル圧制御部214とを具備するものである。   The pressure control mechanism 21 maintains a constant pressure difference before and after the pressure loss mechanism 20 in the sample gas line 11 by controlling the pressure at the subsequent stage of the pressure loss mechanism 20. A sample pressure adjustment line 211 for discharging the flowing gas to the outside, a sample gas discharge line 212 for discharging a part of the gas flowing through the sample gas line 11 to the sample pressure adjustment line 211, and a flow through the sample pressure adjustment line 211 A second capillary 213 for controlling the gas flow rate, and a sample pressure control unit 214 for controlling the pressure of the sample pressure adjusting line 211 with reference to the pressure in the previous stage of the pressure loss mechanism 20 of the sample gas line 11; It has.

前記サンプル圧調整ライン211は、例えば、その一端が図示しないボンベ等に接続され、他端が外気へ開放されており、その内部を前記ボンベ等から供給されるガスが流れている。該サンプル圧調整ライン211の途中には前記サンプルガス排出ライン212との合流点が設けられている。 For example, one end of the sample pressure adjusting line 211 is connected to a cylinder (not shown), the other end is opened to the outside air, and a gas supplied from the cylinder or the like flows through the inside. A junction with the sample gas discharge line 212 is provided in the middle of the sample pressure adjustment line 211.

前記サンプルガス排出ライン212は、その一端が前記圧力損失機構20の後段、具体的には、前記サンプルガスライン上のノンメタンカッター13の直前及び前記ノンメタンカッター確認用ライン19上の前記第2バルブの前段と接続しており、他端は前記サンプル圧調整ライン211に接続している。 One end of the sample gas discharge line 212 is the latter stage of the pressure loss mechanism 20, specifically, immediately before the non-methane cutter 13 on the sample gas line and the second on the non-methane cutter confirmation line 19. The other end of the valve is connected to the sample pressure adjusting line 211.

前記第2キャピラリー213は、前記サンプル圧調整ライン211上の前記サンプルガス排出ライン212との接続点の後段に設けられたものである。 The second capillary 213 is provided at a stage subsequent to a connection point with the sample gas discharge line 212 on the sample pressure adjustment line 211.

前記サンプル圧制御部214は、前記サンプルガスライン11又は前記ノンメタンカッター確認用ライン19から前記サンプルガス排出ライン212へ流れ込む前記サンプルガスの流量を制御するものであり、この実施形態では、前記サンプル圧調整ライン211上の前記サンプルガス排出ライン212との接続点よりも上流側に設けられたサンプル圧調整弁214Vである。 The sample pressure control unit 214 controls the flow rate of the sample gas flowing into the sample gas discharge line 212 from the sample gas line 11 or the non-methane cutter confirmation line 19. In this embodiment, the sample pressure control unit 214 controls the sample gas flow rate. This is a sample pressure adjusting valve 214V provided on the upstream side of the connection point with the sample gas discharge line 212 on the pressure adjusting line 211.

より具体的には、前記サンプル圧調整弁214Vは、前記サンプルガスライン11の前記圧力損失機構20の前段の圧力を直接感知して、弁の開閉度が変化するものであり、前記サンプル圧調整ライン211を流れるガスの流量を調節して前記サンプル圧調整ライン211の前記第2キャピラリー213前段の圧力を制御するものである。 More specifically, the sample pressure adjusting valve 214V directly senses the pressure in the front stage of the pressure loss mechanism 20 of the sample gas line 11 and changes the degree of opening and closing of the valve. The flow rate of the gas flowing through the line 211 is adjusted to control the pressure in the stage before the second capillary 213 in the sample pressure adjustment line 211.

前記第1ガス調圧機構22は、前記第1ガス供給ライン14上に設けられた第3キャピラリー221と、該第3キャピラリー221よりも上流側に設けられた第1ガス調圧弁222とを具備したものである。 前記第3キャピラリー221は、前記第1ガス供給ライン14を流れる前記第1ガスの流量を制御するものであり、前記第1ガス供給ライン14に圧損を生じさせるものである。 The first gas pressure regulating mechanism 22 includes a third capillary 221 provided on the first gas supply line 14 and a first gas pressure regulating valve 222 provided on the upstream side of the third capillary 221. It is a thing. The third capillary 221 controls the flow rate of the first gas flowing through the first gas supply line 14, and causes pressure loss in the first gas supply line 14.

前記第1ガス調圧弁222は、前記第3キャピラリー221前後の前記第1ガス供給ライン14の圧力差を一定に制御するものであり、例えば、前記混合ライン16上の前記水分供給触媒17の後段の圧力を直接感知して弁の開閉度が変化し、前記第3キャピラリー221の上流側の前記第1ガスの流量を制御することで、前記第3キャピラリー221の前段、すなわち第1ガス供給ライン14の供給側の圧力を制御するものである。 The first gas pressure regulating valve 222 controls the pressure difference of the first gas supply line 14 before and after the third capillary 221 at a constant level. For example, the first gas pressure regulating valve 222 is a rear stage of the moisture supply catalyst 17 on the mixing line 16. By directly sensing the pressure of the first capillary, the degree of opening and closing of the valve changes, and the flow rate of the first gas upstream of the third capillary 221 is controlled, so that the first gas supply line, that is, the first stage of the third capillary 221 is controlled. 14 controls the pressure on the supply side.

前記第2ガス調圧機構23は、前記第2ガス供給ライン15上に設けられた第4キャピラリー231と、該第4キャピラリー231よりも上流側に設けられた第2ガス調圧弁232とを具備したものである。 前記第4キャピラリー231は、前記第2ガス供給ライン15を流れる前記第2ガスの流量を制御するものであり、前記第2ガス供給ライン15に圧損を生じるものである。 The second gas pressure adjusting mechanism 23 includes a fourth capillary 231 provided on the second gas supply line 15 and a second gas pressure adjusting valve 232 provided upstream of the fourth capillary 231. It is a thing. The fourth capillary 231 controls the flow rate of the second gas flowing through the second gas supply line 15, and causes pressure loss in the second gas supply line 15.

前記第2ガス調圧弁232は、前記第4キャピラリー231前後の前記第2ガス供給ライン15の圧力差を一定に制御するものであり、例えば、前記混合ライン16上の前記水分供給触媒17の後段の圧力を直接感知して弁の開閉度が変化し、前記第4キャピラリー231の上流側の前記第2ガスの流量を制御することで、前記第4キャピラリー231の前段、すなわち第2ガス供給ライン15の供給側の圧力を制御するものである。 The second gas pressure regulating valve 232 controls the pressure difference of the second gas supply line 15 before and after the fourth capillary 231 to be constant. For example, the second gas pressure regulating valve 232 is a rear stage of the moisture supply catalyst 17 on the mixing line 16. By directly sensing the pressure of the valve, the degree of opening and closing of the valve changes, and the flow rate of the second gas upstream of the fourth capillary 231 is controlled, so that the previous stage of the fourth capillary 231, that is, the second gas supply line. 15 for controlling the pressure on the supply side.

次に、本実施形態に係るガス分析装置1の動作について説明する。
まず、前記サンプルガスが、車両のエンジン等に接続された排気管から例えば、前記サンプリングポンプによって前記サンプルガスライン11に引き込まれる。
このとき必要に応じて、図中Fで示すフィルタや流量を制御するキャピラリーなどを適宜介してもよい。
Next, the operation of the gas analyzer 1 according to this embodiment will be described.
First, the sample gas is drawn into the sample gas line 11 from an exhaust pipe connected to a vehicle engine or the like, for example, by the sampling pump.
At this time, if necessary, a filter indicated by F in the drawing, a capillary for controlling the flow rate, or the like may be appropriately provided.

前記サンプルガスライン11に流れ込んだ前記サンプルガスは前記第1キャピラリー20及び前記第1流量制御装置182により流量制御されるので、第1キャピラリー20及び前記第1流量制御装置182の流量を超えた余剰の前記サンプルガスは前記サンプルガスライン11へは入らずに外部へ排出される。   Since the flow rate of the sample gas flowing into the sample gas line 11 is controlled by the first capillary 20 and the first flow rate control device 182, surplus exceeding the flow rates of the first capillary 20 and the first flow rate control device 182. The sample gas is discharged outside without entering the sample gas line 11.

このとき、前記サンプル圧調整弁214Vは、前記サンプルガスライン11の前記圧力損失機構20の前段の圧力を直接モニタしている。
例えば、前記サンプルガスライン11の前記圧力損失機構20の前段の圧力が上がった場合には、前記サンプル圧調整弁214Vは、前記サンプル圧調整ライン211に流れるガスの量を増やして、前記サンプル圧調整弁214Vと前記第2キャピラリー213との間の圧力を上げる。
その結果、前記サンプル圧調整ライン211に接続している前記サンプルガス排出ライン212の圧力と前記サンプルガスライン11との間の圧力差が小さくなり、前記サンプルガスライン11又は前記ノンメタンカッター確認用ライン19から前記サンプルガス排出ライン212へ流れるガスの量が減るので、前記サンプルガスライン11の前記圧力損失機構20後段の圧力が上がる。
At this time, the sample pressure adjusting valve 214 </ b> V directly monitors the pressure in the previous stage of the pressure loss mechanism 20 in the sample gas line 11.
For example, when the pressure upstream of the pressure loss mechanism 20 in the sample gas line 11 increases, the sample pressure adjustment valve 214V increases the amount of gas flowing through the sample pressure adjustment line 211 to increase the sample pressure. The pressure between the regulating valve 214V and the second capillary 213 is increased.
As a result, the pressure difference between the pressure of the sample gas discharge line 212 connected to the sample pressure adjusting line 211 and the sample gas line 11 becomes small, and the sample gas line 11 or the non-methane cutter is used for confirmation. Since the amount of gas flowing from the line 19 to the sample gas discharge line 212 decreases, the pressure after the pressure loss mechanism 20 in the sample gas line 11 increases.

一方、前記サンプルガスライン11の前記圧力損失機構20前段の圧力が下がった場合には、前記サンプル圧調整弁214Vは、前記サンプル圧調整ライン211に流れるガスの量を減らして、前記サンプル圧調整弁214Vと前記第2キャピラリー213との間の圧力を下げる。
その結果、前記サンプル圧調整ライン211に接続している前記サンプルガス排出ライン212の圧力と前記サンプルガスライン11との間の圧力差が大きくなり、前記サンプルガスライン11又は前記ノンメタンカッター確認用ライン19からサンプルガス排出ライン212へ流れるガスの量が増えるので、前記サンプルガスライン11の前記圧力損失機構20後段の圧力が下がる。
On the other hand, when the pressure before the pressure loss mechanism 20 in the sample gas line 11 decreases, the sample pressure adjustment valve 214V reduces the amount of gas flowing through the sample pressure adjustment line 211 to adjust the sample pressure. The pressure between the valve 214V and the second capillary 213 is reduced.
As a result, the pressure difference between the pressure of the sample gas discharge line 212 connected to the sample pressure adjustment line 211 and the sample gas line 11 becomes large, and the sample gas line 11 or the non-methane cutter is used for confirmation. Since the amount of gas flowing from the line 19 to the sample gas discharge line 212 increases, the pressure after the pressure loss mechanism 20 of the sample gas line 11 decreases.

このようにして、前記サンプル圧調整弁214Vは、前記サンプルガスライン11の前記圧力損失機構20前段と後段との圧力を、常に一定に維持し、前記第1キャピラリー20を通過する前記サンプルガスの流量を一定に保つ。   In this way, the sample pressure adjusting valve 214V always maintains the pressure at the front stage and the rear stage of the pressure loss mechanism 20 of the sample gas line 11 constant, and the sample gas passing through the first capillary 20 is kept constant. Keep the flow rate constant.

前記第1キャピラリー20を通過した前記サンプルガスは、前記混合ライン16によって前記サンプルガスライン11に供給される前記第1ガス及び前記第2ガスと合流する。
このとき、前記第1ガス調圧弁222及び第2ガス調圧弁232が、前記サンプルガスライン11の前記圧力損失機構20の後段の圧力である、例えば、前記混合ライン16の前記水分供給触媒17の後段の圧力を直接モニタしている。
The sample gas that has passed through the first capillary 20 merges with the first gas and the second gas supplied to the sample gas line 11 through the mixing line 16.
At this time, the first gas pressure regulating valve 222 and the second gas pressure regulating valve 232 are pressures after the pressure loss mechanism 20 of the sample gas line 11, for example, the moisture supply catalyst 17 of the mixing line 16. The downstream pressure is directly monitored.

例えば、前記混合ライン16の前記水分供給触媒17の後段の圧力が上がった場合には、前記第1ガス調圧弁222及び第2ガス調圧弁232がそれぞれの調圧弁を流れるガスの流量を増やす。
その結果、前記第1ガス供給ライン14の前記第1ガス調圧弁222と前記第3キャピラリー221との間の圧力、及び第2ガス供給ライン15の前記第2ガス調圧弁232と前記第4キャピラリー231との間の圧力がそれぞれ上がる。
For example, when the pressure after the water supply catalyst 17 in the mixing line 16 increases, the first gas pressure regulating valve 222 and the second gas pressure regulating valve 232 increase the flow rate of the gas flowing through each pressure regulating valve.
As a result, the pressure between the first gas pressure regulating valve 222 and the third capillary 221 in the first gas supply line 14, and the second gas pressure regulating valve 232 and the fourth capillary in the second gas supply line 15. The pressure between the two increases.

一方、前記混合ライン16の前記水分供給触媒17の後段の圧力が下がった場合には、前記第1ガス調圧弁222及び第2ガス調圧弁232がそれぞれの調圧弁222,232を流れるガスの流量を減らす。
その結果、前記第1ガス供給ライン14の前記第1ガス調圧弁222と前記第3キャピラリー221との間の圧力、及び前記第1ガス供給ライン14の前記第2ガス調圧弁232と前記第4キャピラリー231との間の圧力がそれぞれ下がる。
On the other hand, when the downstream pressure of the water supply catalyst 17 in the mixing line 16 decreases, the flow rate of the gas that the first gas pressure regulating valve 222 and the second gas pressure regulating valve 232 flow through the pressure regulating valves 222 and 232, respectively. Reduce.
As a result, the pressure between the first gas pressure regulating valve 222 and the third capillary 221 in the first gas supply line 14, and the second gas pressure regulating valve 232 and the fourth gas pressure in the first gas supply line 14. The pressure between the capillaries 231 decreases.

このようにして、前記第1ガス調圧弁222及び第2ガス調圧弁232は、前記サンプルガスライン11の前記圧力損失機構20後段の圧力と、前記第3キャピラリー221又は第4キャピラリー231の前段の圧力とを常に一定に維持し、前記サンプルガスライン11に供給される前記第1ガス及び前記第2ガスの流量を一定に保つ。   In this way, the first gas pressure regulating valve 222 and the second gas pressure regulating valve 232 are arranged so that the pressure after the pressure loss mechanism 20 of the sample gas line 11 and the pressure before the third capillary 221 or the fourth capillary 231 are obtained. The pressure is always kept constant, and the flow rates of the first gas and the second gas supplied to the sample gas line 11 are kept constant.

このとき、例えば、前記水分供給触媒17で水素と反応して水になる酸素の量よりも、前記第1ガスに含まれる酸素の量のほうが常に多くなるように設定されていることが好ましい。すなわち、前記混合ライン16から前記サンプルガスライン11に供給されるガスは、水と酸素とを含有するガスであることが好ましい。   At this time, for example, it is preferable that the amount of oxygen contained in the first gas is always set larger than the amount of oxygen that reacts with hydrogen in the water supply catalyst 17 to become water. That is, the gas supplied from the mixing line 16 to the sample gas line 11 is preferably a gas containing water and oxygen.

このようにして、前記混合ガスラインによって前記サンプルガスライン11に供給された水と酸素とを含有するガスと合流し希釈された前記サンプルガスは、前記ノンメタンカッター13を通過し、必要に応じて適宜流量制御されて、前記メタン分析器12に導かれ分析される。   In this way, the sample gas diluted by merging with the gas containing water and oxygen supplied to the sample gas line 11 by the mixed gas line passes through the non-methane cutter 13, and if necessary. The flow rate is appropriately controlled and the methane analyzer 12 guides and analyzes the flow.

このように構成されたガス分析装置1によれば、例えば、前記サンプリングポンプの脈動や、アクセル又はブレーキによるエンジンの稼働状況の変化によって前記サンプルガスライン11に送り込まれる前記サンプルガスの圧力が変動した場合であっても、前記圧力損失機構20前後の圧力差を一定に維持して、前記圧力損失機構20を通過するサンプルガスの量を常に一定に保つことができる。   According to the gas analyzer 1 configured as described above, for example, the pressure of the sample gas fed into the sample gas line 11 fluctuates due to the pulsation of the sampling pump or a change in the operating state of the engine due to an accelerator or a brake. Even in this case, the pressure difference between the pressure loss mechanism 20 and the pressure loss mechanism 20 can be kept constant, and the amount of the sample gas passing through the pressure loss mechanism 20 can always be kept constant.

前記サンプルガスライン11の前記圧力損失機構20の前段の圧力を参照して、前記サンプルガスライン11の前記圧力損失機構20後段の圧力を調整しているので、例えば、アクセルやブレーキ操作などによって、前記車両のエンジンの状態が変動することにより、前記サンプルガスの入口側の圧力が、素早く変動した場合であっても、前記圧力損失機構20を通過する前記サンプルガスの量を常に一定に保つことができる。   Since the pressure after the pressure loss mechanism 20 of the sample gas line 11 is adjusted with reference to the pressure before the pressure loss mechanism 20 of the sample gas line 11, for example, by accelerator or brake operation, By changing the state of the engine of the vehicle, the amount of the sample gas passing through the pressure loss mechanism 20 is always kept constant even when the pressure on the inlet side of the sample gas rapidly changes. Can do.

また、前記サンプルガスライン11の圧力が変動した場合であっても、前記サンプルガスライン11の前記圧力損失機構20後段の圧力と前記第3キャピラリー221及第4キャピラリー231の前段の圧力差がそれぞれ一定に保たれているので、前記サンプルガスライン11に供給される前記第1ガス及び前記第2ガスの流量を常に一定に保つことができる。   Further, even when the pressure of the sample gas line 11 fluctuates, the pressure difference between the pressure loss mechanism 20 in the sample gas line 11 and the pressure difference in the previous stage of the third capillary 221 and the fourth capillary 231 respectively. Since it is kept constant, the flow rates of the first gas and the second gas supplied to the sample gas line 11 can always be kept constant.

その結果として、前記サンプルガスライン11の前記圧力損失機構20後段で合流する前記サンプルガスと、前記第1ガス及び前記第2ガスとの混合比を常に一定にすることができる。
その結果、前記第1ガス及び前記第2ガスによる前記サンプルガスの希釈率が安定し、前記サンプルガスに含まれるメタンの濃度や量を精度良く測定することができる。
As a result, the mixing ratio of the sample gas that merges at the rear stage of the pressure loss mechanism 20 of the sample gas line 11 and the first gas and the second gas can be always constant.
As a result, the dilution rate of the sample gas with the first gas and the second gas is stabilized, and the concentration and amount of methane contained in the sample gas can be accurately measured.

前記サンプルガス排出ライン212が前記サンプルガスライン11の前記ノンメタンカッター13の直前で前記サンプルガスライン11と接続しており、前記サンプルガス排出ライン212から排出されるガスは、前記サンプルガスと前記第1ガス及び前記第2ガスとが合流して混合した後のガスであるので、前記サンプルガスと、前記第1ガス及び前記第2ガスとの混合比が変動しにくい。   The sample gas discharge line 212 is connected to the sample gas line 11 immediately before the non-methane cutter 13 of the sample gas line 11, and the gas discharged from the sample gas discharge line 212 is the sample gas and the sample gas. Since the first gas and the second gas are mixed and mixed, the mixing ratio between the sample gas, the first gas, and the second gas is unlikely to fluctuate.

ところで、前記ガス分析装置1によって、前記サンプルガスに含まれるメタン成分を精度良く分析するためには、前記ノンメタンカッター13によって前記サンプルガス中のメタン以外の炭化水素だけを燃焼させてメタンを分離する必要がある。   By the way, in order to accurately analyze the methane component contained in the sample gas by the gas analyzer 1, the non-methane cutter 13 burns only hydrocarbons other than methane in the sample gas to separate methane. There is a need to.

前記ノンメタンカッター13により、メタン以外の炭化水素を燃焼するときに、酸素が不足しているとメタン以外の炭化水素が燃焼しない恐れがある。そこで、酸素を過剰に供給するとメタンが燃焼し過ぎる恐れがある。
そのため、前記ノンメタンカッター13に水を供給して、メタンの燃焼を抑えることが考えられる。
When non-methane cutter 13 burns hydrocarbons other than methane, hydrocarbons other than methane may not burn if oxygen is insufficient. Therefore, if oxygen is supplied in excess, methane may burn too much.
Therefore, it can be considered that water is supplied to the non-methane cutter 13 to suppress the combustion of methane.

この点に関して、本実施形態では、前記水分供給触媒17に供給される第1ガスである酸素含有ガスの量が第2ガスである水素含有ガスよりも多いので、前記サンプルガスライン11には、第1ガスである酸素含有ガスと、前記水分供給触媒17によって生成された水を含有する水含有ガスが供給される。
そのため、サンプルガスの圧力が変動しても、前記ノンメタンカッター13に適切な量の酸素と水を安定して供給することができるので、前記ノンメタンカッター13の分離性能を適切な範囲に調節することができる。
In this regard, in the present embodiment, the amount of the oxygen-containing gas that is the first gas supplied to the moisture supply catalyst 17 is greater than the amount of the hydrogen-containing gas that is the second gas. A water-containing gas containing oxygen-containing gas as the first gas and water generated by the moisture supply catalyst 17 is supplied.
Therefore, even if the pressure of the sample gas fluctuates, an appropriate amount of oxygen and water can be stably supplied to the non-methane cutter 13, so that the separation performance of the non-methane cutter 13 is adjusted to an appropriate range. can do.

次に、本発明に係るガス分析装置1の第2実施形態について図面を参照して説明する。   Next, a second embodiment of the gas analyzer 1 according to the present invention will be described with reference to the drawings.

第1実施形態では、圧力制御機構21が、圧力損失機構20の後段からサンプルガスの一部を排出する構成であったが、第2実施形態では、図2に示すように、圧力制御機構21が、圧力損失機構20の後段に所定のガスを供給する構成である。以下、第2実施形態の圧力制御機構21の構成について詳述する。   In the first embodiment, the pressure control mechanism 21 is configured to discharge a part of the sample gas from the subsequent stage of the pressure loss mechanism 20, but in the second embodiment, as shown in FIG. However, the predetermined gas is supplied to the subsequent stage of the pressure loss mechanism 20. Hereinafter, the configuration of the pressure control mechanism 21 of the second embodiment will be described in detail.

圧力制御機構21は、圧力損失機構20の後段の圧力を制御することによって、圧力損失機構20の前後の圧力差を一定に保つものである。具体的に圧力制御機構21は、図2に示すように、外部から所定の第3ガスを圧力損失機構20の後段に供給する第3ガス供給ラインLと、第3ガス供給ラインLに設けられた圧力制御弁LVと、圧力制御弁LVの弁開度を制御する制御装置Cとを具備する。   The pressure control mechanism 21 keeps the pressure difference before and after the pressure loss mechanism 20 constant by controlling the pressure after the pressure loss mechanism 20. Specifically, as shown in FIG. 2, the pressure control mechanism 21 is provided in a third gas supply line L and a third gas supply line L that supply a predetermined third gas from the outside to the subsequent stage of the pressure loss mechanism 20. A pressure control valve LV, and a control device C for controlling the valve opening degree of the pressure control valve LV.

第3ガス供給ラインLは、例えばフィルタFを介して取り込んだ大気を第3ガスとして圧力損失機構20の下流側に供給するものである。なお、第3ガスとしてはメタン分析器12や全炭化水素分析器181によるサンプルガスの分析を妨げるものでなければよく、例えばサンプルガス自体でも前記第1実施形態の第1ガス又は第2ガスやその他のガス等でもよい。
この第3ガス供給ラインLは、図示しないサンプリングポンプが設けられた排気ラインRLに接続されている。なお、排気ラインRLには、バッファタンクBTが設けられている。
The third gas supply line L supplies, for example, the atmospheric air taken in via the filter F to the downstream side of the pressure loss mechanism 20 as the third gas. The third gas may be any gas that does not interfere with the analysis of the sample gas by the methane analyzer 12 or the total hydrocarbon analyzer 181. For example, the sample gas itself may be the first gas or the second gas of the first embodiment. Other gases may be used.
The third gas supply line L is connected to an exhaust line RL provided with a sampling pump (not shown). A buffer tank BT is provided in the exhaust line RL.

圧力制御弁LVは、第3ガス供給ラインLに設けられて第3ガスの流量を制御するものであり、具体的にはリニアバルブ等の電磁弁である。   The pressure control valve LV is provided in the third gas supply line L and controls the flow rate of the third gas, and is specifically an electromagnetic valve such as a linear valve.

制御装置Cは、CPU、メモリ、A/Dコンバータ等を備えたコンピュータであり、前記メモリの所定領域に格納されたプログラムに従ってCPUや周辺機器が協働することにより、圧力制御弁LVの弁開度を制御するように構成されている。   The control device C is a computer including a CPU, a memory, an A / D converter, and the like, and the pressure control valve LV is opened by cooperation of the CPU and peripheral devices according to a program stored in a predetermined area of the memory. Configured to control the degree.

ここでは、圧力損失機構20の前後における圧力差を検出する差圧計DPSを設けてあり、この差圧計DPSによって検出された圧力差が差圧信号として制御装置Cに逐次送信されるようしてある。具体的にこの差圧計DPSは、圧力損失機構20の上流の圧力と、圧力損失機構20の下流であって各分析器12、181の上流の圧力との圧力差を検出している。   Here, a differential pressure gauge DPS for detecting a pressure difference before and after the pressure loss mechanism 20 is provided, and the pressure difference detected by the differential pressure gauge DPS is sequentially transmitted to the control device C as a differential pressure signal. . Specifically, the differential pressure gauge DPS detects a pressure difference between the pressure upstream of the pressure loss mechanism 20 and the pressure downstream of the pressure loss mechanism 20 and upstream of the analyzers 12 and 181.

そして、制御装置Cは、差圧信号の示す圧力差に基づいて、上述した圧力制御部LVたるリニアバルブを制御する。具体的に制御装置Cは、差圧信号の示す圧力差が予め設定された目標値と一致するように圧力制御部LVの弁開度をフィードバック制御する。   And the control apparatus C controls the linear valve which is the pressure control part LV mentioned above based on the pressure difference which a differential pressure signal shows. Specifically, the control device C performs feedback control on the valve opening degree of the pressure control unit LV so that the pressure difference indicated by the differential pressure signal matches a preset target value.

このように構成されたガス分析装置1によれば、サンプリングポンプの脈動や、アクセル又はブレーキによるエンジンの稼働状況の変化によってサンプルガスライン11に送り込まれるサンプルガスの圧力が変動した場合であっても、圧力制御機構21が圧力損失機構20の前後の圧力差(つまり、圧力損失機構20の上流と、サンプルガスライン11及び第3ガス供給ラインLの合流点との圧力差)を一定に維持することができる。これにより、力損失機構20を通過するサンプルガスの流量を一定に保つことができ、メタン分析器12や全炭化水素分析器181に流れるサンプルガスの流量を一定にすることができる。   According to the gas analyzer 1 configured as described above, even when the pressure of the sample gas fed into the sample gas line 11 fluctuates due to the pulsation of the sampling pump or the change in the operating state of the engine due to the accelerator or the brake. The pressure control mechanism 21 keeps the pressure difference before and after the pressure loss mechanism 20 (that is, the pressure difference between the upstream of the pressure loss mechanism 20 and the confluence of the sample gas line 11 and the third gas supply line L) constant. be able to. Thereby, the flow rate of the sample gas passing through the force loss mechanism 20 can be kept constant, and the flow rate of the sample gas flowing through the methane analyzer 12 and the total hydrocarbon analyzer 181 can be made constant.

さらに、圧力制御機構21が、圧力損失機構20の前後の圧力差が一定になるように、圧力損失機構20の後段に第3ガスとして大気を供給しているので、サンプルガスを所望の希釈率に維持することができ、メタン分析器12や全炭化水素分析器181の測定精度の向上を図れる。   Further, since the pressure control mechanism 21 supplies the atmosphere as the third gas to the subsequent stage of the pressure loss mechanism 20 so that the pressure difference before and after the pressure loss mechanism 20 is constant, the sample gas is supplied with a desired dilution rate. The measurement accuracy of the methane analyzer 12 and the total hydrocarbon analyzer 181 can be improved.

なお、上述した実施形態では、圧力制御部LVを制御装置Cによってデジタル的に制御していたが、差圧センサDPSの検出値に基づいて圧力制御部LVをアナログ的に制御しても良い。
具体的には、図3に示すように、差圧センサDPSの検出値を示す電圧と予め設定した目標値を示す電圧とをアナログ演算器に入力し、これらの電圧の差に基づく出力電圧を圧力制御部LVに出力することで圧力制御弁LVの弁開度を制御する構成が挙げられる。
In the above-described embodiment, the pressure control unit LV is digitally controlled by the control device C. However, the pressure control unit LV may be controlled in an analog manner based on the detection value of the differential pressure sensor DPS.
Specifically, as shown in FIG. 3, a voltage indicating a detected value of the differential pressure sensor DPS and a voltage indicating a preset target value are input to an analog computing unit, and an output voltage based on the difference between these voltages is input. The structure which controls the valve opening degree of the pressure control valve LV by outputting to the pressure control part LV is mentioned.

ところで、前記第1実施形態及び前記第2実施形態において、もう一つの相違点として、第2実施形態では差圧計DPSを設けてあり、この差圧計PDSにより検出された圧力差に基づいてリニアバルブLVを制御している点がある。以下、この点について説明する。   By the way, in the first embodiment and the second embodiment, as another difference, in the second embodiment, a differential pressure gauge DPS is provided, and the linear valve is based on the pressure difference detected by the differential pressure gauge PDS. There is a point which controls LV. Hereinafter, this point will be described.

まず、図4に示すように、サンプリングポンプPによってサンプリングした排ガスをメタン分析器や全炭化水素分析器等の分析器Aで分析する構成において、調圧弁Vが、例えばダイアフラム式のような機械式調圧弁の場合を考える。   First, as shown in FIG. 4, in a configuration in which the exhaust gas sampled by the sampling pump P is analyzed by an analyzer A such as a methane analyzer or a total hydrocarbon analyzer, the pressure regulating valve V is a mechanical type such as a diaphragm type. Consider the case of a pressure regulating valve.

上述した構成において、分析器Aに流れる排ガス流量を一定流量に制御するためには、キャピラリー等の圧力損失機構Zの前後における圧力差が一定に保たれるように調圧弁Vを制御すれば良い。   In the configuration described above, in order to control the exhaust gas flow rate flowing through the analyzer A to a constant flow rate, the pressure regulating valve V may be controlled so that the pressure difference before and after the pressure loss mechanism Z such as a capillary is kept constant. .

ところが、調圧弁Vが機械式調圧弁であると、サンプリングポンプPの流量変動(脈動)或いは気圧の変化などによる応答性の遅れや、周囲温度の変化によるダイアフラムの硬化などが生じる。これにより、機械式調圧弁を用いた構成では、種々の物理的な要因や周囲環境の変化などによって、圧力損失機構Zの前後における圧力差を希望する精度で一定に保つことができない。その結果、分析器Aの指示値に影響が出て、分析精度を担保することができないという問題が生じる。   However, if the pressure regulating valve V is a mechanical pressure regulating valve, a response delay due to a flow rate fluctuation (pulsation) or a change in atmospheric pressure of the sampling pump P, a diaphragm hardening due to a change in ambient temperature, or the like occurs. Thus, in the configuration using the mechanical pressure regulating valve, the pressure difference before and after the pressure loss mechanism Z cannot be kept constant with a desired accuracy due to various physical factors and changes in the surrounding environment. As a result, the indication value of the analyzer A is affected, and there arises a problem that the analysis accuracy cannot be ensured.

そこで、本願発明者は、上述した問題を解決すべく、図5に示す構成に想到した。すなわち、この構成は、所定のガス(ここでは大気)を圧力損失機構20の後段に供給するガス供給ラインLにリニアバルブLVを設けるとともに、圧力損失機構Zの前後における圧力差を検出する差圧計DPSを備えさせており、差圧計DPSの検出値が一定になるようにリニアバルブLVの弁開度が制御される。   Therefore, the present inventor has conceived the configuration shown in FIG. 5 in order to solve the above-described problem. That is, in this configuration, a differential valve that detects a pressure difference before and after the pressure loss mechanism Z while providing a linear valve LV in a gas supply line L that supplies a predetermined gas (here, air) to the subsequent stage of the pressure loss mechanism 20. A DPS is provided, and the valve opening degree of the linear valve LV is controlled so that the detected value of the differential pressure gauge DPS is constant.

このような構成であれば、差圧計DPSの検出値に基づいてリニアバルブLVを制御しているので、周囲温度や気圧などの周囲環境の影響を極めて小さくすることができ、圧力損失機構Zの前後における圧力差を希望する精度で一定に保つことが可能となる。
さらに、圧力差を差圧計DPSの検出値に基づいてリニアバルブLVを制御しているので、図4に示す構成に比べて応答性を速くすることができ、ポンプPの流量変動(脈動)が生じたとしても、その流量変動による分析器Aの指示値への影響が極めて小さくなり、分析器Aの分析精度を担保することができる。
With such a configuration, since the linear valve LV is controlled based on the detection value of the differential pressure gauge DPS, the influence of the surrounding environment such as the ambient temperature and the atmospheric pressure can be extremely reduced, and the pressure loss mechanism Z It is possible to keep the pressure difference between the front and rear constant with desired accuracy.
Furthermore, since the linear valve LV is controlled based on the pressure difference based on the detected value of the differential pressure gauge DPS, the responsiveness can be increased compared to the configuration shown in FIG. 4, and the flow rate fluctuation (pulsation) of the pump P is reduced. Even if it occurs, the influence of the flow rate fluctuation on the indicated value of the analyzer A becomes extremely small, and the analysis accuracy of the analyzer A can be ensured.

こうした作用効果は、第2実施形態のガス分析装置1によっても奏し得る。
すなわち、第2実施形態では、圧力制御機構21が、差圧計DPSの検出値に基づいて圧力損失機構20の前後における圧力差を制御するので、周囲温度や気圧などの周囲温度の影響を極めて小さくすることができたり、サンプリングポンプの流量変動(脈動)が生じたとしても、各分析器12、181の指示値への影響を極めて小さくすることができたりする。
そのうえ、サンプリングポンプの流量変動の影響を十分に低減することができれば、バッファタンクBTを不要にすることが可能となり、装置の小型化を図れる。
Such effects can also be achieved by the gas analyzer 1 of the second embodiment.
That is, in the second embodiment, since the pressure control mechanism 21 controls the pressure difference before and after the pressure loss mechanism 20 based on the detected value of the differential pressure gauge DPS, the influence of the ambient temperature such as the ambient temperature and the atmospheric pressure is extremely small. Even if flow rate fluctuations (pulsations) of the sampling pump occur, the influence on the indicated values of the analyzers 12 and 181 can be made extremely small.
In addition, if the influence of fluctuations in the flow rate of the sampling pump can be sufficiently reduced, the buffer tank BT can be eliminated, and the apparatus can be downsized.

なお、本発明は前記各実施形態に限られるものではない。
例えば、前記サンプルガスライン11と、前記圧力損失機構20と、前記圧力制御機構21とを備えたものを、ガスサンプリング装置としてもよい。
The present invention is not limited to the above embodiments.
For example, a gas sampling device may be provided that includes the sample gas line 11, the pressure loss mechanism 20, and the pressure control mechanism 21.

前記圧力制御機構21は、所定のガスを前記サンプルガスライン11の前記圧力損失機構20の後段に供給するものであっても良い。
前記所定のガスとは、前記メタン分析器12による前記サンプルガスの分析を妨げるものでなければよく、例えば、前記サンプルガス自体でも前記第1ガス又は前記第2ガスやその他のガス等でもよい。
The pressure control mechanism 21 may supply a predetermined gas to the subsequent stage of the pressure loss mechanism 20 of the sample gas line 11.
The predetermined gas may be any gas as long as it does not interfere with the analysis of the sample gas by the methane analyzer 12, and may be, for example, the sample gas itself, the first gas, the second gas, or another gas.

前記サンプル圧調整弁214Vは、前記サンプルガスライン11の前記圧力損失機構20前段の圧力を直接感知するものに限らず、前記サンプルガスライン11上の前記圧力損失機構20前段に配置された圧力センサなどによって測定された圧力が、図示しない情報処理回路に出力され、該情報処理回路が、前記サンプル圧調整弁214Vに指令信号を出して、その開閉度を調節するものであっても良い。前記情報処理回路は、CPU、メモリ、通信ポート及びA/Dコンバータ等を具備したものであり、前記ガス分析装置1専用のものでも良いし、汎用のコンピュータ等であってもよい。   The sample pressure adjusting valve 214V is not limited to directly sensing the pressure of the sample gas line 11 before the pressure loss mechanism 20, but is a pressure sensor arranged at the front of the pressure loss mechanism 20 on the sample gas line 11. The pressure measured by the above may be output to an information processing circuit (not shown), and the information processing circuit may output a command signal to the sample pressure adjusting valve 214V to adjust the degree of opening and closing. The information processing circuit includes a CPU, a memory, a communication port, an A / D converter, and the like, and may be dedicated to the gas analyzer 1 or a general-purpose computer.

同様に、前記第1ガス調圧弁222及び前記第2ガス調圧弁232は、前記混合ライン16の圧力を直接感知するものに限らず、前記混合ライン16上に配置された圧力センサなどによって測定された圧力が、前記情報処理回路に出力され、該情報処理回路が、前記第1ガス調圧弁222及び第2ガス調圧弁232のそれぞれに指令信号を出して、これらの弁の開閉度を調節するものであっても良い。   Similarly, the first gas pressure regulating valve 222 and the second gas pressure regulating valve 232 are not limited to directly sensing the pressure of the mixing line 16 but are measured by a pressure sensor or the like disposed on the mixing line 16. Pressure is output to the information processing circuit, and the information processing circuit outputs a command signal to each of the first gas pressure regulating valve 222 and the second gas pressure regulating valve 232 to adjust the degree of opening and closing of these valves. It may be a thing.

前記水分供給触媒17は、前記混合ライン16での酸素と水素の反応効率を向上させるものであり、前記混合ライン16中で混ざり合った酸素と水素は、前記水分供給触媒17がない場合であっても自然に反応して水を生成することができるので、前記水分供給触媒17は、ガス分析装置1にとって必須の構成ではない。そのため、前記ガス分析装置1は、前記水分供給触媒17を必ずしも備えたものでなくても良い。   The water supply catalyst 17 improves the reaction efficiency of oxygen and hydrogen in the mixing line 16, and the oxygen and hydrogen mixed in the mixing line 16 are in the case where the water supply catalyst 17 is not present. However, the water supply catalyst 17 is not an essential component for the gas analyzer 1 because it can react naturally to produce water. Therefore, the gas analyzer 1 does not necessarily have to include the moisture supply catalyst 17.

前記第1ガス供給ライン14及び前記第2ガス供給ライン15は合流せず、それぞれ独立して前記サンプルガスライン11に接続されるものとしても良い。
例えば、前記ガス分析装置1が、図6に示すように、前記第2ガスとして水又は水を含有する水含有ガスを外部から直接供給するものであっても良い。
The first gas supply line 14 and the second gas supply line 15 may not be merged and may be independently connected to the sample gas line 11.
For example, as shown in FIG. 6, the gas analyzer 1 may directly supply water or a water-containing gas containing water as the second gas from the outside.

さらに、外部から直接供給される水含有ガスが前記第1ガスであり、この第1ガスが所定量の酸素を含有するものであるものとしても良い。   Furthermore, the water-containing gas directly supplied from the outside may be the first gas, and the first gas may contain a predetermined amount of oxygen.

前記酸素含有ガスとは、酸素のみからなるものでも、酸素を所定濃度含有する例えば、大気などの混合ガスでも良い。
同様に、前記水素含有ガスとは水素のみからなるものでも、水素を所定濃度含有する混合ガスでも良い。
前記第1ガス及び前記第2ガスは、酸素、水素又は水を含有するものに限らず、分析の目的によって、窒素含有ガスやヘリウム含有ガス、又はそれ以外の様々な種類のガスであっても良い。
The oxygen-containing gas may be composed only of oxygen or a mixed gas containing oxygen at a predetermined concentration, for example, the atmosphere.
Similarly, the hydrogen-containing gas may be composed of only hydrogen or a mixed gas containing hydrogen at a predetermined concentration.
The first gas and the second gas are not limited to those containing oxygen, hydrogen, or water, and may be nitrogen-containing gas, helium-containing gas, or various other types of gases depending on the purpose of analysis. good.

前記サンプリングポンプは、前記メタン分析器12の後段に配置されたものに限らず、前記圧力損失機構20よりも前段に配置されていても良い。   The sampling pump is not limited to the one disposed at the subsequent stage of the methane analyzer 12, and may be disposed before the pressure loss mechanism 20.

本発明に係るガス分析装置1は、車両等に搭載されて車両等の排ガスを分析するものに限らず、実験室などに設置されて車両等の排ガスを分析するものでもよく、さらに車両等の排ガスに限らず、環境ガスなどの幅広いサンプルガスの成分を分析するものであっても良い。   The gas analyzer 1 according to the present invention is not limited to a device that is mounted on a vehicle or the like and analyzes exhaust gas of the vehicle or the like, but may be a device installed in a laboratory or the like to analyze the exhaust gas of a vehicle or the like. In addition to exhaust gas, a wide range of sample gas components such as environmental gas may be analyzed.

また、分析対象となる成分もメタンに限らず、他の成分、例えば、全炭化水素、窒素、酸素、水素、炭素又は硫黄などを含む成分を分析するものであっても良い。
分析器としては、前記水素炎イオン化検出器に限らず、サンプルガスの成分を分析する非分散赤外吸収法、化学発光法、磁気圧法、ジルコニア法、FTIR、中赤外レーザ分光法、ガスクロマトグラフ法、又は液体クロマトグラフ法等を用いる様々な種類の分析器又はこれらを組合せて用いることが出来る。
Further, the component to be analyzed is not limited to methane, and other components such as components containing all hydrocarbons, nitrogen, oxygen, hydrogen, carbon, sulfur, etc. may be analyzed.
The analyzer is not limited to the flame ionization detector, but a non-dispersive infrared absorption method, a chemiluminescence method, a magnetic pressure method, a zirconia method, an FTIR, a mid-infrared laser spectroscopy, a gas chromatograph for analyzing sample gas components. Various types of analyzers using a method, a liquid chromatographic method, or the like, or a combination thereof can be used.

前記サンプルガスライン11と前記サンプルガス排出ライン212との接続点の後段であり、前記ノンメタンカッター13の前段に前記ノンメタンカッター13に流れるガスの流量を制御する第5キャピラリー24を設けても良い。
また、前記ノンメタンカッター確認用ライン19の前記第2バルブ191の前段に前記ノンメタンカッター確認用ライン19に流れるガスの流量を制御する第6キャピラリー25を設けても良い。
このとき、該第5キャピラリー24又は前記第6キャピラリー25を通過するガスの流量を前記第1キャピラリー20を通過する前記サンプルガスの流量と前記混合ライン16から前記サンプルガスライン11に流れ込む前記第1ガス及び第2ガスの流量との合計流量よりも少なくなるように設定すれば、前記サンプルガス排出ライン212から前記サンプルガスライン11への前記サンプルガスの逆流を防ぐことができる。
A fifth capillary 24 for controlling the flow rate of the gas flowing through the non-methane cutter 13 may be provided after the connection point between the sample gas line 11 and the sample gas discharge line 212 and before the non-methane cutter 13. good.
Further, a sixth capillary 25 for controlling the flow rate of the gas flowing through the non-methane cutter confirmation line 19 may be provided before the second valve 191 of the non-methane cutter confirmation line 19.
At this time, the flow rate of the gas passing through the fifth capillary 24 or the sixth capillary 25 is set to the flow rate of the sample gas passing through the first capillary 20 and the first gas flowing into the sample gas line 11 from the mixing line 16. By setting the flow rate to be smaller than the total flow rate of the gas and the second gas, the backflow of the sample gas from the sample gas discharge line 212 to the sample gas line 11 can be prevented.

前記圧力損失機構20は、前記サンプルガスライン11に圧力損失を生じさせるものであればよく、前述の実施形態ではキャピラリーを使用しているが、オリフィスや背圧弁等であっても良い。
前記第2〜6キャピラリー及び前記第1流量制御装置182のそれぞれについても、キャピラリーに限らず、オリィフィスや背圧弁等でも良い。
その他、本発明は前記実施形態に限らず、その趣旨を逸脱しない範囲で種々の変形が可能であることは言うまでもない。
The pressure loss mechanism 20 only needs to cause a pressure loss in the sample gas line 11. In the above-described embodiment, a capillary is used, but an orifice, a back pressure valve, or the like may be used.
Each of the second to sixth capillaries and the first flow rate control device 182 is not limited to a capillary but may be an orifice, a back pressure valve, or the like.
In addition, it goes without saying that the present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention.

ガス分析装置・・・1
サンプルガスライン・・・11
メタン分析器・・・12
ノンメタンカッター・・・13
第1ガス供給ライン・・・14
第2ガス供給ライン・・・15
水分供給触媒・・・17
圧力損失機構・・・20
圧力制御機構・・・21
サンプル圧調整ライン・・・211
サンプルガス排出ライン・・・212
サンプル圧制御部・・・214
第1ガス調圧機構・・・22
第2ガス調圧機構・・・23
Gas analyzer ・ ・ ・ 1
Sample gas line ... 11
Methane analyzer ... 12
Non-methane cutter ... 13
First gas supply line ... 14
Second gas supply line ... 15
Moisture supply catalyst ... 17
Pressure loss mechanism ... 20
Pressure control mechanism 21
Sample pressure adjustment line 211
Sample gas discharge line ... 212
Sample pressure controller 214
First gas pressure adjusting mechanism 22
Second gas pressure adjusting mechanism 23

Claims (16)

サンプルガスが流れるサンプルガスラインと、
前記サンプルガスラインに設けられた圧力損失機構と、
前記圧力損失機構の後段から前記サンプルガスの一部を排出するか、又は前記圧力損失機構の後段に所定のガスを供給することで、前記圧力損失機構の前後における前記サンプルガスラインの圧力差を制御する圧力制御機構と、
前記サンプルガスラインを流れるサンプルガスを分析する分析器とを備えたガス分析装置。
A sample gas line through which the sample gas flows;
A pressure loss mechanism provided in the sample gas line;
By discharging a part of the sample gas from the subsequent stage of the pressure loss mechanism or supplying a predetermined gas to the subsequent stage of the pressure loss mechanism, the pressure difference of the sample gas line before and after the pressure loss mechanism is reduced. A pressure control mechanism to control,
A gas analyzer comprising: an analyzer for analyzing the sample gas flowing through the sample gas line.
前記圧力制御機構は、
前記圧力損失機構の後段で、前記サンプルガスラインからサンプルガスを一部排出するサンプルガス排出ラインと、
前記サンプルガス排出ラインと接続されたサンプル圧調整ラインと、
前記圧力損失機構の前段の圧力を参照し、前記圧力損失機構の前段における前記サンプルガスラインの圧力と、前記サンプル圧調整ラインの圧力との圧力差を制御するサンプル圧制御部とを備えた請求項1に記載のガス分析装置。
The pressure control mechanism includes:
A sample gas discharge line for partially discharging the sample gas from the sample gas line at a subsequent stage of the pressure loss mechanism;
A sample pressure adjustment line connected to the sample gas discharge line;
A sample pressure control unit that controls a pressure difference between the pressure of the sample gas line and the pressure of the sample pressure adjustment line in the previous stage of the pressure loss mechanism with reference to the pressure in the previous stage of the pressure loss mechanism. Item 4. The gas analyzer according to Item 1.
前記圧力制御機構は、
前記圧力損失機構の後段で、前記サンプルガスラインに所定のガスを供給するガス供給ラインと、
前記ガス供給ラインに設けられた圧力制御弁と、
前記圧力損失機構の前後の圧力差を検知する差圧計とを備え、
前記差圧計により検出された圧力差に基づいて前記圧力制御弁が制御される請求項1記載のガス分析装置。
The pressure control mechanism includes:
A gas supply line for supplying a predetermined gas to the sample gas line at a subsequent stage of the pressure loss mechanism;
A pressure control valve provided in the gas supply line;
A differential pressure gauge for detecting a pressure difference before and after the pressure loss mechanism,
The gas analyzer according to claim 1, wherein the pressure control valve is controlled based on a pressure difference detected by the differential pressure gauge.
前記圧力損失機構は、キャピラリー、オリィフィス、背圧弁のいずれかである、請求項1乃至3のうち何れか一項に記載のガス分析装置。   The gas analyzer according to any one of claims 1 to 3, wherein the pressure loss mechanism is any one of a capillary, an orifice, and a back pressure valve. 前記サンプルガスラインにおける前記圧力損失機構の後段に、前記第1ガスを供給する第1ガス供給ラインと、
前記サンプルガスラインにおける前記圧力損失機構の後段の圧力を参照し、前記第1ガス供給ラインの供給側圧力と、前記サンプルガスラインの圧力との差を一定に維持する第1ガス調圧機構をさらに備えた請求項1乃至4のうち何れか一項に記載のガス分析装置。
A first gas supply line for supplying the first gas downstream of the pressure loss mechanism in the sample gas line;
A first gas pressure adjusting mechanism that maintains a constant difference between the pressure on the supply side of the first gas supply line and the pressure on the sample gas line with reference to the pressure after the pressure loss mechanism in the sample gas line; The gas analyzer according to any one of claims 1 to 4, further comprising:
前記サンプルガスライン上の前記圧力損失機構と前記分析器との間に、前記サンプルガスからメタン以外の炭化水素成分を除去するノンメタンカッターをさらに備えた請求項1乃至5のうち何れか一項に記載のガス分析装置。   The non-methane cutter which removes hydrocarbon components other than methane from the sample gas is further provided between the pressure loss mechanism on the sample gas line and the analyzer. The gas analyzer described in 1. 前記サンプルガスラインにおける前記圧力損失機構の後段に、第2ガスを供給する第2ガス供給ラインと、
前記サンプルガスラインにおける前記圧力損失機構の後段の圧力を参照し、前記第2ガス供給ラインの供給側圧力と、前記サンプルガスラインの圧力との差を一定に維持する第2ガス調圧機構をさらに備える、請求項1乃至6のうち何れか一項に記載のガス分析装置。
A second gas supply line for supplying a second gas downstream of the pressure loss mechanism in the sample gas line;
A second gas pressure regulating mechanism that maintains a constant difference between the pressure on the supply side of the second gas supply line and the pressure on the sample gas line with reference to the pressure after the pressure loss mechanism in the sample gas line The gas analyzer according to any one of claims 1 to 6, further comprising:
前記第1ガスは酸素であり、前記第2ガスは水素であり、
前記ノンメタンカッターの前段に前記第1ガスと前記第2ガスとを反応させて水を発生させる水分供給触媒をさらに備えた請求項6又は7記載のガス分析装置。
The first gas is oxygen, the second gas is hydrogen;
The gas analyzer according to claim 6 or 7, further comprising a moisture supply catalyst that generates water by reacting the first gas and the second gas before the non-methane cutter.
前記第1ガスの供給量は、前記第2ガスと反応する量よりも大きな供給量である、請求項8記載のガス分析装置。   The gas analyzer according to claim 8, wherein a supply amount of the first gas is a supply amount larger than an amount reacting with the second gas. 前記第2ガスとの反応の結果残った前記第1ガスによって、前記サンプルガスが希釈される、請求項8又は9記載のガス分析装置。   The gas analyzer according to claim 8 or 9, wherein the sample gas is diluted with the first gas remaining as a result of the reaction with the second gas. 前記サンプルガス排出ラインが、前記水分供給触媒よりも後段から、前記第1ガスによって希釈された前記サンプルガスを一部排出する、請求項8乃至10のうち何れか一項に記載のガス分析装置。   The gas analyzer according to any one of claims 8 to 10, wherein the sample gas discharge line partially discharges the sample gas diluted with the first gas from a stage after the water supply catalyst. . 前記ガス分析装置が、前記サンプルガスライン上の分析器よりも下流側に配置された吸引型サンプリングポンプをさらに備えた、請求項1乃至11のいずれかに記載のガス分析装置。   The gas analyzer according to any one of claims 1 to 11, wherein the gas analyzer further comprises a suction type sampling pump disposed downstream of an analyzer on the sample gas line. 前記サンプルガスは内燃機関から排出される排ガスである請求項1乃至12のいずれかに記載のガス分析装置。   The gas analyzer according to any one of claims 1 to 12, wherein the sample gas is an exhaust gas discharged from an internal combustion engine. 前記サンプルガスは車両から排出される排ガスであり、
前記ガス分析装置は、車載型のガス分析装置である、請求項1乃至13のいずれかに記載のガス分析装置。
The sample gas is exhaust gas discharged from a vehicle,
The gas analyzer according to any one of claims 1 to 13, wherein the gas analyzer is a vehicle-mounted gas analyzer.
サンプルガスが流れるサンプルガスラインと、
前記サンプルガスラインに設けられた圧力損失機構と、
前記圧力損失機構の後段から前記サンプルガスの一部を排出するか、又は前記圧力損失機構の後段に所定のガスを供給することで、前記圧力損失機構の前後における前記サンプルガスラインの圧力差を制御する圧力制御機構とを備えたガスサンプリング装置。
A sample gas line through which the sample gas flows;
A pressure loss mechanism provided in the sample gas line;
By discharging a part of the sample gas from the subsequent stage of the pressure loss mechanism or supplying a predetermined gas to the subsequent stage of the pressure loss mechanism, the pressure difference of the sample gas line before and after the pressure loss mechanism is reduced. A gas sampling device comprising a pressure control mechanism for controlling.
サンプルガスが流れるサンプルガスラインと、
前記サンプルガスラインに設けられた圧力損失機構と、
前記圧力損失機構の後段から前記サンプルガスの一部を排出するか、又は前記圧力損失機構の後段に所定のガスを供給することで、前記圧力損失機構の前後における前記サンプルガスラインの圧力差を制御する圧力制御機構と、
前記サンプルガスラインを流れるサンプルガスを分析する分析器とを備えたガス分析装置を用いたガスサンプリング方法。

A sample gas line through which the sample gas flows;
A pressure loss mechanism provided in the sample gas line;
By discharging a part of the sample gas from the subsequent stage of the pressure loss mechanism or supplying a predetermined gas to the subsequent stage of the pressure loss mechanism, the pressure difference of the sample gas line before and after the pressure loss mechanism is reduced. A pressure control mechanism to control,
The gas sampling method using the gas analyzer provided with the analyzer which analyzes the sample gas which flows through the said sample gas line.

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