JP2018096806A - Dielectric spectroscopic sensor and method of manufacturing the same - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、試料の複素誘電率を求めるためのセンサインターフェースの技術に関する。 The present invention relates to a sensor interface technique for obtaining a complex dielectric constant of a sample.
高齢化が進み、成人病に対する対応が大きな課題になっている。血糖値などの検査は血液の採取が必要なために患者にとって大きな負担である。そのため、血液を採取しない非侵襲な成分濃度測定装置が注目されている。 As aging progresses, the response to adult diseases has become a major issue. Tests such as blood glucose levels are a heavy burden on patients because they need to collect blood. Therefore, a non-invasive component concentration measuring apparatus that does not collect blood has attracted attention.
非侵襲な成分濃度測定装置としては、近赤外光などの光学的な手法と比べ生体内での散乱が少ない、1フォトンの持つエネルギーが低い、などの理由からマイクロ波−サブミリ波帯の電磁波を用いた手法が提案されている。 As a non-invasive component concentration measurement device, microwave-submillimeter wave electromagnetic waves are used because of less scattering in the living body compared to optical methods such as near-infrared light and low energy of one photon. A method using the method has been proposed.
例えば、非特許文献1に示される共振構造を用いた手法がある。この手法では、アンテナや共振器などのQ値の高いデバイスと測定試料を接触させ、共振周波数周辺の周波数特性を測定する。共振周波数はデバイスの周囲の複素誘電率により決定されるため、共振周波数のシフト量と成分濃度との間の相関を予め予測することにより、共振周波数のシフト量から成分濃度を推定する。 For example, there is a method using a resonance structure shown in Non-Patent Document 1. In this method, a device having a high Q value such as an antenna or a resonator is brought into contact with a measurement sample, and frequency characteristics around the resonance frequency are measured. Since the resonance frequency is determined by the complex dielectric constant around the device, the component concentration is estimated from the shift amount of the resonance frequency by predicting in advance the correlation between the shift amount of the resonance frequency and the component concentration.
マイクロ波−ミリ波帯の電磁波を用いた他の手法としては、特許文献1に示す誘電分光法が提案されている。誘電分光法は、皮膚内に電磁波を照射し、測定対象である血液成分、例えば、グルコース分子と水の相互作用に従い、電磁波を吸収させ、電磁波の振幅及び位相を観測する。観測される電磁波の周波数に対する振幅及び位相から、誘電緩和スペクトルを算定する。誘電緩和スペクトルは、一般的には、Cole−Cole式に基づき緩和カーブの線形結合として表現し、複素誘電率を算定する。生体成分の計測では、例えば血液中に含まれるグルコースやコレステロール等の血液成分の量に複素誘電率は相関があり、その変化に対応した電気信号(振幅、位相)として測定される。複素誘電率変化と成分濃度との相関を予め測定することによって検量モデルを構築し、計測した誘電緩和スペクトルの変化から成分濃度の検量を行う。また、誘電分光を用いた手法は、取得した誘電緩和スペクトルにPLS回帰分析などの多変量解析を行うことにより、多成分系からなる水溶液での濃度分析にも有利であると考えられる。 As another technique using electromagnetic waves in the microwave-millimeter wave band, dielectric spectroscopy shown in Patent Document 1 has been proposed. In dielectric spectroscopy, an electromagnetic wave is irradiated into the skin, the electromagnetic wave is absorbed according to the interaction of blood components to be measured, for example, glucose molecules and water, and the amplitude and phase of the electromagnetic wave are observed. The dielectric relaxation spectrum is calculated from the amplitude and phase with respect to the frequency of the observed electromagnetic wave. The dielectric relaxation spectrum is generally expressed as a linear combination of relaxation curves based on the Cole-Cole equation, and the complex dielectric constant is calculated. In the measurement of biological components, for example, the complex dielectric constant has a correlation with the amount of blood components such as glucose and cholesterol contained in blood, and is measured as an electrical signal (amplitude, phase) corresponding to the change. A calibration model is constructed by measuring the correlation between the complex dielectric constant change and the component concentration in advance, and the component concentration is calibrated from the measured change in the dielectric relaxation spectrum. In addition, it is considered that the technique using dielectric spectroscopy is advantageous for concentration analysis in an aqueous solution composed of a multicomponent system by performing multivariate analysis such as PLS regression analysis on the obtained dielectric relaxation spectrum.
誘電分光にはマイクロストリップ線路やコプレーナ線路、同軸プローブといった広帯域な電気信号の伝送が可能な伝送線路が用いられる。図10,11に誘電分光に用いる従来の伝送線路の例を示す。図10(a)はマイクロストリップ線路を用いた従来例であり、図10(b)はコプレーナ線路を用いた従来例である。マイクロストリップ線路やコプレーナ線路の誘電分光センサは、基板61上に配線金属62で線路を形成し、線路上にマイクロ流路63を配置する。図11は同軸プローブを接続する同軸線路の図である。内部導体72A、外部導体72B、誘電体73で構成された同軸ケーブルの先端に配置された高周波コネクタ71に同軸プローブが接続される。
Dielectric spectroscopy uses a transmission line capable of transmitting a wide-band electrical signal, such as a microstrip line, a coplanar line, or a coaxial probe. 10 and 11 show examples of conventional transmission lines used for dielectric spectroscopy. FIG. 10A shows a conventional example using a microstrip line, and FIG. 10B shows a conventional example using a coplanar line. In a microstrip line or a coplanar line dielectric spectroscopic sensor, a line is formed of a
マイクロストリップ線路やコプレーナ線路を用いた手法では、試料と線路の接触している箇所の長さを正確に把握しておく必要がある。そのため、線路上に測定用のマイクロ流路を設けることが多い。流路を設けず線路を直接皮膚へ接触させることは可能ではあるが、接触部の長さを正確に把握することは困難である。また、生体には水分が多く含まれており、伝送損失が増加し測定時のS/N比が小さくなるという問題があった。 In the method using a microstrip line or a coplanar line, it is necessary to accurately grasp the length of the portion where the sample and the line are in contact. For this reason, a microchannel for measurement is often provided on the track. Although it is possible to contact the line directly to the skin without providing a flow path, it is difficult to accurately grasp the length of the contact portion. In addition, the living body contains a large amount of moisture, and there is a problem that the transmission loss increases and the S / N ratio at the time of measurement decreases.
同軸プローブを用いた手法では接触部の長さを計算する必要はなく、また反射波のみを用いるため高いS/N比が期待できる。しかしながら、同軸プローブはマイクロストリップ線路やコプレーナ線路のようにプリント基板上では作製できない。同軸プローブの形状は棒状となり、腕や指などへ同軸プローブを立てた状態で接触させるため、同軸プローブの固定が困難であるという問題があった。 In the method using the coaxial probe, it is not necessary to calculate the length of the contact portion, and since only the reflected wave is used, a high S / N ratio can be expected. However, a coaxial probe cannot be manufactured on a printed circuit board like a microstrip line or a coplanar line. The shape of the coaxial probe is a rod, and since the coaxial probe is brought into contact with an arm or a finger while standing, there is a problem that it is difficult to fix the coaxial probe.
本発明は、上記に鑑みてなされたものであり、生体への取り付け、固定が容易であって、高いS/N比で反射係数を測定可能な誘電分光センサを提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above, and an object thereof is to provide a dielectric spectroscopic sensor that can be easily attached and fixed to a living body and can measure a reflection coefficient with a high S / N ratio.
第1の本発明に係る誘電分光センサは、ビアによって構成した準同軸構造を同軸プローブとして反射係数を測定する誘電分光センサであって、第1の誘電体基板と、前記第1の誘電体基板を貫通して配置された第1ビアと、前記第1の誘電体基板を貫通して、前記第1ビアを中心とした円状に配置された複数の第2ビアと、前記第1の誘電体基板に重ねて配置された第2の誘電体基板と、前記第1ビアに対応する位置において前記第2の誘電体基板を貫通して配置された第3ビアと、前記第2の誘電体基板の前記第1の誘電体基板を重ねていない面に前記第3ビアと導通して配置された信号線路と、前記信号線路と導通しない位置の前記第2ビアに対応する位置において前記第2の誘電体基板を貫通して配置された複数の第4ビアと、を有することを特徴とする。 A dielectric spectroscopic sensor according to a first aspect of the present invention is a dielectric spectroscopic sensor that measures a reflection coefficient using a quasi-coaxial structure formed of vias as a coaxial probe, and includes a first dielectric substrate and the first dielectric substrate. A first via disposed through the first dielectric substrate, a plurality of second vias disposed in a circle around the first via, and the first dielectric A second dielectric substrate disposed over the body substrate, a third via disposed through the second dielectric substrate at a position corresponding to the first via, and the second dielectric A signal line arranged in conduction with the third via on a surface of the substrate on which the first dielectric substrate is not overlapped, and the second via at a position corresponding to the second via at a position not conducting with the signal line. A plurality of fourth vias disposed through the dielectric substrate. It is characterized in.
第2の本発明に係る誘電分光センサの作製方法は、ビアによって構成した準同軸構造を同軸プローブとして反射係数を測定する誘電分光センサの作製方法であって、第1の誘電体基板を貫通する第1スルーホールを形成する工程と、前記第1スルーホールを中心とした円状の位置において前記第1の誘電体基板を貫通する複数の第2スルーホールを形成する工程と、前記第1スルーホールに対応する位置において第2の誘電体基板を貫通する第3スルーホールを形成する工程と、前記第2スルーホールに対応し、信号線路を形成する位置を除いた位置において前記第2の誘電体基板を貫通する第4スルーホールを形成する工程と、前記第1乃至第4スルーホールに金属を充填してビアを形成する工程と、前記第2の誘電体基板の表面に前記第1スルーホールに形成したビアと導通する信号線路を形成する工程と、前記第1の誘電体基板と前記第2の誘電体基板の前記信号線路を形成していない面を貼り合わせる工程と、を有することを特徴とする。 A method for manufacturing a dielectric spectroscopic sensor according to a second aspect of the present invention is a method for manufacturing a dielectric spectroscopic sensor that measures a reflection coefficient using a quasi-coaxial structure formed of vias as a coaxial probe, and penetrates the first dielectric substrate. Forming a first through hole; forming a plurality of second through holes penetrating the first dielectric substrate at a circular position centered on the first through hole; and the first through hole. Forming a third through hole penetrating the second dielectric substrate at a position corresponding to the hole, and the second dielectric at a position corresponding to the second through hole and excluding a position where the signal line is formed. Forming a fourth through hole penetrating the body substrate, filling the first to fourth through holes with a metal to form a via, and forming the via on the surface of the second dielectric substrate. Forming a signal line that is electrically connected to the via formed in the through hole, and bonding the first dielectric substrate and the surface of the second dielectric substrate on which the signal line is not formed. It is characterized by that.
本発明によれば、生体への取り付け、固定が容易であって、高いS/N比で反射係数を測定可能な誘電分光センサを提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a dielectric spectroscopic sensor that can be easily attached and fixed to a living body and can measure a reflection coefficient with a high S / N ratio.
以下、本発明の実施の形態について図面を用いて説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
図1は、本実施の形態における誘電分光センサの構成を示す斜視図である。図1の誘電分光センサは、誘電体基板である基板11と基板21を積層した構造である。図1(a)は、試料を配置する試料配置面を有する基板11を上にしたときの斜視図である。図1(b)は、線路を形成した線路面を有する基板12を上にしたときの斜視図である。図1(a)の誘電分光センサを裏返すと図1(b)の状態になる。
FIG. 1 is a perspective view showing a configuration of a dielectric spectroscopic sensor in the present embodiment. The dielectric spectroscopic sensor of FIG. 1 has a structure in which a
図2は、基板11の平面図である。図2(a)は、基板11の試料配置面の平面図である。図2(b)は、基板11の基板21に接着する接着面の平面図である。
FIG. 2 is a plan view of the
図3は、基板21の平面図である。図3(a)は、基板21の基板11に接着する接着面の平面図である。図3(b)は、基板21の線路面の平面図である。
FIG. 3 is a plan view of the
基板11,21の材料としては、高周波で用いられるガラスエポキシ、テフロン、アルミナ、石英、Siなどを用いる。基板11,21の大きさは数センチ×数センチ角、基板厚は数百μmから数mmである。基板11,21は、比誘電率が2〜3の低誘電率である。
As materials for the
基板11の両面には円形の開口部を設けた金属パターン12A,12Bが設けられる。開口部の直径は数百μmから数mmである。金属パターン12A,12Bの材料としては、高周波基板で用いられる金属、例えばCuやAuなどを用いる。金属パターン12A,12Bは同じ形状であるので、設計に必要なパターンを少なくできる。
基板11の開口部の中央に基板11を貫通するビア13Aが設けられる。また、 開口部の円周に沿い、金属パターン12A,12Bと導通するビア13Bが設けられる。つまり、ビア13Aを中心とした円状にビア13Bが設けられる。ビア13A,13B内は導体で充填されている。ビア13A,13Bの材料としては、導電性のインク、銅ペースト、銀ペースト、銅めっきなどを用いる。あるいは、ビア13A,13B径と同じ直径を持つ金属ピンを埋め込んでもよい。ビア13Aを内部導体、ビア13Bを外部導体とする準同軸構造により、基板11の平面方向にTEMモードの電磁波が伝搬する。ビア13A,13Bと基板11で構成された準同軸構造の基板11表面が試料を配置する試料配置面となる。ビア13A,13Bのビア径は数十μmから数mmであり、同軸構造に要求されるカットオフ周波数や電界の試料方向への侵入深さによって適宜決定する。内部導体径及び開口部の直径は、本誘電分光センサに接続される測定器の特性インピーダンスに合わせて決定する。
A via 13 </ b> A penetrating the
基板21の線路面には、コプレーナ線路を構成する金属パターン22A,22Bが設けられる。金属パターン22Aはコプレーナ線路のシグナル線となり、金属パターン22Bはグランド線となる。金属パターン22Aの幅、および金属パターン22A,22B間のギャップの幅は数十μmから数mmである。本誘電分光センサに接続される測定器の特性インピーダンスに合わせて、例えば50Ω又は75Ωとなるようにコプレーナ線路の各寸法を設計する。なお、金属パターン22A,22Bの材料は基板11の金属パターン12A,12Bと同様である。
On the line surface of the
基板21には、基板11のビア13A,13Bの位置に対応させて、準同軸構造を構成するビア23A,23Bが設けられる。ビア23Aは、ビア13A及び金属パターン22Aと導通する。ビア23Bは、ビア13B及び金属パターン22Bと導通する。この構成により、基板21は、コプレーナ線路−準同軸変換の役割を果たす。なお、ビア23Bは、シグナル線となる金属パターン22Aと接触しないように配置する。本実施の形態では、基板11のビア13Bに対応する位置であっても、金属パターン22Aに接触する位置のビア23Bは形成していない。
The
基板11と基板21は接着剤などにより接着する。基板11と基板21の間の金属パターン12Bがグランドとなり、基板21、金属パターン12B,22A,22Bによって裏面グランド付きコプレーナ線路が構成される。裏面グランドが存在することにより、コプレーナ線路の基板方向の電界が準同軸構造へ及ぼす影響が低減される。
The
なお、基板21の線路には、コプレーナ線路の代わりにマイクロストリップ線路を用いてもよい。
A microstrip line may be used for the line of the
また、基板21のコプレーナ線路のグランド線部分と基板11の金属パターン12Bの電位を等電位にするために、図4に示すようにグランド線部分に基板21を貫通する追加のビア23Cを設けてもよい。
Further, in order to make the potential of the ground line portion of the coplanar line of the
次に、本実施の形態における誘電分光センサの製造について説明する。 Next, manufacturing of the dielectric spectroscopic sensor in the present embodiment will be described.
図5は、本実施の形態における誘電分光センサの製造工程の一例を示す工程図である。 FIG. 5 is a process diagram showing an example of a manufacturing process of the dielectric spectroscopic sensor in the present embodiment.
基板を所定のサイズにカットし、基板11,21を作製する(ステップS1)。基板11,21のビア13A,13B,23A,23Bに対応する位置にスルーホールを形成し(ステップS2)、スルーホールにビア金属を充填してビア13A,13B,23A,23Bを形成する(ステップS3)。ビア13A,13B,23A,23Bの形成後、基板11,21の表面を研磨する(ステップS4)。基板11,21の表面に所定の金属パターンを形成する(ステップS5)。基板11,21を貼り合わせて誘電分光センサを得る(ステップS6)。
The substrate is cut into a predetermined size to produce
スルーホールにビア金属を充填したとき、基板11,21の表面の金属部分の直径はビア径よりも大きくなることがある。各基板11,21の接続、および試料との接触部分での不要なインダクタンス、キャパシタンスが生じるのを防ぐため、金属充填を行ったのち、各基板11,21の両面を研磨することにより理想的な準同軸構造を形成できる。
When the through metal is filled in the through hole, the diameter of the metal portion on the surface of the
次に、試料の複素誘電率の測定について説明する。 Next, measurement of the complex dielectric constant of the sample will be described.
図6は、誘電分光センサの試料を接着する部分の等価回路である。ここで、Cfは誘電分光センサのフランジキャパシタンス、C0(εm *),G0(εm *)は開口部のキャパシタンスと放射コンダクタンスであり、試料の複素誘電率の関数となっている。 FIG. 6 is an equivalent circuit of a portion where the sample of the dielectric spectroscopic sensor is adhered. Here, C f is the flange capacitance of the dielectric spectroscopic sensor, and C 0 (ε m * ) and G 0 (ε m * ) are the capacitance of the opening and the radiation conductance, which are functions of the complex dielectric constant of the sample. .
所望の周波数、例えば10MHz−50GHzを掃引し、その反射係数を測定することで、以下の式(1)、式(2)に基づいて試料の複素誘電率を測定できる。 By sweeping a desired frequency, for example, 10 MHz to 50 GHz and measuring the reflection coefficient, the complex dielectric constant of the sample can be measured based on the following formulas (1) and (2).
ここで、ε*は未知試料の誘電率、εi *(i=A,B,C)は標準試料の誘電率である。ρ*は複素反射係数で、測定で得られた反射係数をΓi、位相をφiとするとき、以下のように記述できる。 Here, ε * is a dielectric constant of an unknown sample, and ε i * (i = A, B, C) is a dielectric constant of a standard sample. ρ * is a complex reflection coefficient, and can be described as follows, where Γ i is the reflection coefficient obtained by measurement and φ i is the phase.
標準試料としては、空気、金属、液体試料を用いる。金属としては、銅、インジウム、水銀、金などを用いる。液体試料としては純水、メタノール、エタノール、ホルムアミドなどを用いる。 Air, metal, and liquid samples are used as standard samples. As the metal, copper, indium, mercury, gold, or the like is used. As the liquid sample, pure water, methanol, ethanol, formamide or the like is used.
図7は、本実施の形態の誘電分光センサを用いた測定系の例を示す図である。 FIG. 7 is a diagram illustrating an example of a measurement system using the dielectric spectroscopic sensor of the present embodiment.
図7(a)に示すように、誘電分光センサのコプレーナ線路部分に高周波コネクタ3を接続する。高周波コネクタ3には、例えばKコネクタ、Vコネクタ、1mmコネクタ、GPPOコネクタ、G3POコネクタを用いる。
As shown in FIG. 7A, the
図7(b)に示すように、誘電分光センサは高周波ケーブルによって測定器4に接続される。測定器4として、ベクトルネットワークアナライザ、インピーダンスアナライザ、リフレクトメータなどを用いる。高周波ケーブルは、例えばセミリジッドケーブルやソフトリジッドケーブルを用い、伝送帯域は例えばDCから数十GHzのものを用いる。 As shown in FIG. 7B, the dielectric spectroscopic sensor is connected to the measuring instrument 4 by a high frequency cable. As the measuring instrument 4, a vector network analyzer, an impedance analyzer, a reflectometer, or the like is used. For example, a semi-rigid cable or a soft rigid cable is used as the high-frequency cable, and a transmission band of DC to several tens GHz is used, for example.
あるいは、誘電分光センサに高周波コネクタ3を接続する代わりに、高周波ケーブルにGSGプローブを装着し、誘電分光センサの線路部分にプローブを当てて測定してもよい。
Alternatively, instead of connecting the
以上のような方法で測定系を構築し、試料100を誘電分光センサの試料配置面の準同軸構造に接触させた状態でセンサの反射係数を測定し、式(1),式(2)を用いることで、試料100の複素誘電率を求めることができる。
The measurement system is constructed by the method as described above, and the reflection coefficient of the sensor is measured in a state where the
別の測定系として、基板上に誘電分光センサを実装してもよい。 As another measurement system, a dielectric spectroscopic sensor may be mounted on a substrate.
例えば、図8に示すように、誘電分光センサのコプレーナ線路部分をボンディングワイヤ51によって測定IC5に電気的に接続する。あるいは、図9に示すように、フリップチップ実装により誘電分光センサと測定IC5とを電気的に接続してもよい。測定IC5は、複数のICチップで構成され、上記の測定器と同様の機能を持つ。
For example, as shown in FIG. 8, the coplanar line portion of the dielectric spectroscopic sensor is electrically connected to the
以上説明したように、本実施の形態によれば、基板11,21に、ビア13A,23Aが内部導体となり、ビア13B,23Bが外部導体となるように準同軸構造を構成して基板11表面に準同軸構造を同軸プローブとして用いる試料配置面を設け、基板21表面にコプレーナ線路又はマイクロストリップ線路を設け、線路のシグナル線となる金属パターン22Aと内部導体となるビア23Aを接続することにより、平面型の準同軸型センサを形成でき、生体への取り付け、固定が容易であって、高いS/N比で反射係数を測定可能な誘電分光センサの提供が可能となる。
As described above, according to the present embodiment, the quasi-coaxial structure is formed on the
11…基板
12A,12B…金属パターン
13A,13B…ビア
21…基板
22A,22B…金属パターン
23A,23B,23C…ビア
3…高周波コネクタ
4…測定器
5…測定IC
51…ボンディングワイヤ
100…試料
DESCRIPTION OF
51 ...
Claims (5)
第1の誘電体基板と、
前記第1の誘電体基板を貫通して配置された第1ビアと、
前記第1の誘電体基板を貫通して、前記第1ビアを中心とした円状に配置された複数の第2ビアと、
前記第1の誘電体基板に重ねて配置された第2の誘電体基板と、
前記第1ビアに対応する位置において前記第2の誘電体基板を貫通して配置された第3ビアと、
前記第2の誘電体基板の前記第1の誘電体基板を重ねていない面に前記第3ビアと導通して配置された信号線路と、
前記信号線路と導通しない位置の前記第2ビアに対応する位置において前記第2の誘電体基板を貫通して配置された複数の第4ビアと、
を有することを特徴とする誘電分光センサ。 A dielectric spectroscopic sensor for measuring a reflection coefficient using a quasi-coaxial structure constituted by vias as a coaxial probe,
A first dielectric substrate;
A first via disposed through the first dielectric substrate;
A plurality of second vias penetrating through the first dielectric substrate and arranged in a circle around the first via;
A second dielectric substrate disposed over the first dielectric substrate;
A third via disposed through the second dielectric substrate at a position corresponding to the first via;
A signal line disposed in conduction with the third via on a surface of the second dielectric substrate on which the first dielectric substrate is not overlapped;
A plurality of fourth vias disposed through the second dielectric substrate at positions corresponding to the second vias at positions not conducting to the signal line;
A dielectric spectroscopic sensor comprising:
第1の誘電体基板を貫通する第1スルーホールを形成する工程と、
前記第1スルーホールを中心とした円状の位置において前記第1の誘電体基板を貫通する複数の第2スルーホールを形成する工程と、
前記第1スルーホールに対応する位置において第2の誘電体基板を貫通する第3スルーホールを形成する工程と、
前記第2スルーホールに対応し、信号線路を形成する位置を除いた位置において前記第2の誘電体基板を貫通する第4スルーホールを形成する工程と、
前記第1乃至第4スルーホールに金属を充填してビアを形成する工程と、
前記第2の誘電体基板の表面に前記第1スルーホールに形成したビアと導通する信号線路を形成する工程と、
前記第1の誘電体基板と前記第2の誘電体基板の前記信号線路を形成していない面を貼り合わせる工程と、
を有することを特徴とする誘電分光センサの作製方法。 A method for producing a dielectric spectroscopic sensor for measuring a reflection coefficient using a quasi-coaxial structure constituted by a via as a coaxial probe,
Forming a first through hole penetrating the first dielectric substrate;
Forming a plurality of second through holes penetrating the first dielectric substrate at a circular position centered on the first through hole;
Forming a third through hole penetrating the second dielectric substrate at a position corresponding to the first through hole;
Forming a fourth through hole corresponding to the second through hole and penetrating through the second dielectric substrate at a position excluding a position where the signal line is formed;
Filling the first through fourth through holes with metal to form vias;
Forming a signal line electrically connected to the via formed in the first through hole on the surface of the second dielectric substrate;
Bonding the surfaces of the first dielectric substrate and the second dielectric substrate that do not form the signal line;
A method for manufacturing a dielectric spectroscopic sensor, comprising:
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