JP2018086041A - Liquid injection device - Google Patents

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和見 内田
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To suppress deterioration of visibility of an injection object of a liquid injection device.SOLUTION: A liquid injection device comprises: an injection tube injecting liquid; a liquid chamber communicating with the injection tube; a liquid supply section supplying the liquid to the liquid chamber; a piezoelectric element changing capacity of the liquid chamber; and a piezoelectric element control section applying a periodic pulse voltage to the piezoelectric element, the piezoelectric element control section changing a waveform of the periodic pulse voltage such that the higher a maximum voltage of the periodic pulse voltage is, the lower a frequency of the periodic pulse voltage is.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本明細書において開示する技術は、液体の噴射に関する。   The technology disclosed in this specification relates to liquid ejection.

液体を間欠的に噴射する液体噴射装置として、圧電素子を備え、圧電素子に周期性パルス電圧を印加することにより、液体が収容された液体室の容積を変更し、液体を間欠的に噴射する液体噴射装置が開示されている(例えば、特許文献1参照)。   As a liquid ejecting apparatus that ejects liquid intermittently, a piezoelectric element is provided, and by applying a periodic pulse voltage to the piezoelectric element, the volume of the liquid chamber containing the liquid is changed, and the liquid is ejected intermittently. A liquid ejecting apparatus is disclosed (for example, see Patent Document 1).

特開2011−36533号公報JP 2011-36533 A

液体噴射装置を対象物の切削に用いる場合、1発の液体噴射量および噴射速度が大きい程切削エネルギーが高く、また、液体噴射の周波数が高い程切削速度が大きい(単位時間に切削可能な距離が長い)ため、切削対象物が硬い場合には、圧電素子に印加される駆動電圧の最大値を大きくすると共に、駆動周波数を高くすることが考えられる。しかしながら、圧電素子に印加される駆動電圧の最大値を大きくすると共に、駆動周波数を高くすると、液体の噴射量が多くなり切削対象物の視認性が悪くなるという課題があった。なお、このような課題は、液体噴射装置を切削に用いる場合に限らず、洗浄に用いる場合等、種々の用途に共通の課題であった。   When the liquid ejecting apparatus is used for cutting an object, the larger the liquid ejection amount and the ejection speed of one shot, the higher the cutting energy, and the higher the liquid ejection frequency, the larger the cutting speed (distance that can be cut per unit time). Therefore, when the object to be cut is hard, it is conceivable to increase the maximum drive voltage applied to the piezoelectric element and increase the drive frequency. However, when the maximum value of the drive voltage applied to the piezoelectric element is increased and the drive frequency is increased, there is a problem in that the amount of liquid ejected increases and the visibility of the cutting object deteriorates. In addition, such a subject was a subject common to various uses, such as not only when using a liquid ejecting apparatus for cutting but when using it for washing | cleaning.

本明細書に開示される技術は、上述の課題を解決するためになされたものであり、以下の形態として実現することが可能である。   The technology disclosed in the present specification has been made to solve the above-described problems, and can be realized as the following forms.

(1)本明細書に開示される技術の一形態によれば、液体噴射装置が提供される。この液体噴射装置は、液体を噴射する噴射管と、前記噴射管と連通する液体室と、前記液体室に前記液体を供給する液体供給部と、前記液体室の容積を変更する圧電素子と、前記圧電素子に周期性パルス電圧を印加する圧電素子制御部であって、前記周期性パルス電圧の最大電圧が大きい程、前記周期性パルス電圧の周波数が低くなるように、前記周期性パルス電圧の波形を変更する圧電素子制御部と、を備える。 (1) According to one form of the technique disclosed in this specification, a liquid ejecting apparatus is provided. The liquid ejecting apparatus includes: an ejecting pipe that ejects liquid; a liquid chamber that communicates with the ejecting pipe; a liquid supply unit that supplies the liquid to the liquid chamber; a piezoelectric element that changes the volume of the liquid chamber; A piezoelectric element controller that applies a periodic pulse voltage to the piezoelectric element, wherein the frequency of the periodic pulse voltage is decreased as the maximum voltage of the periodic pulse voltage increases. A piezoelectric element control unit that changes the waveform.

この形態の液体噴射装置によれば、圧電素子に印加される周期性パルス電圧の最大電圧が大きい程、その周波数が低いため、周期性パルス電圧の印加に伴い間欠的に噴射される液体の単位時間当たりの総量の増加を抑制することができる。そのため、液体噴射の対象物の視認性の悪化が抑制される。例えば、液体噴射装置を手術具として用いる場合に、術野の確保を容易にすることができる。液体噴射装置を用いて切削等を行う場合、周期性パルス電圧の最大電圧を大きくすることにより、噴射される1発の液体(ジェット)の噴射量および速度を大きくして、噴射される液体の運動エネルギーを大きくすることができるため、硬い切削対象物の切削を可能にする。一方、駆動周波数を低くすると、液体の噴射間隔が大きくなるものの、液体噴射装置の移動速度を調節することにより、適切に切削可能である。   According to the liquid ejecting apparatus of this aspect, since the frequency is lower as the maximum voltage of the periodic pulse voltage applied to the piezoelectric element is larger, the unit of the liquid ejected intermittently with the application of the periodic pulse voltage An increase in the total amount per hour can be suppressed. Therefore, the deterioration of the visibility of the liquid jet target is suppressed. For example, when the liquid ejecting apparatus is used as a surgical instrument, it is possible to easily secure the surgical field. When cutting or the like using a liquid ejecting apparatus, the maximum amount of the periodic pulse voltage is increased to increase the ejection amount and speed of one ejected liquid (jet). Since kinetic energy can be increased, it is possible to cut a hard cutting object. On the other hand, when the drive frequency is lowered, the liquid ejection interval is increased, but the cutting can be appropriately performed by adjusting the moving speed of the liquid ejection device.

(2)上記形態の液体噴射装置において、前記圧電素子制御部は、前記最大電圧と前記周波数とを含む前記圧電素子の駆動条件であって、複数の前記駆動条件のうち1の前記駆動条件に従って前記周期性パルス電圧を印加し、前記駆動条は、複数の前記最大電圧に対して、同一の前記周波数が対応づけられていてもよい。このようにすると、圧電素子の制御に係る処理負荷を抑制することができる。また、複数の最大電圧に対して同一の周波数が対応づけられているため、複数の最大電圧に対して互いに異なる周波数が対応づけられている場合と比較して、周波数が変化する頻度が少なくなるため、液体噴射装置の周波数変更に伴う使用者の違和感を抑制することができる。 (2) In the liquid ejecting apparatus according to the above aspect, the piezoelectric element control unit is a driving condition of the piezoelectric element including the maximum voltage and the frequency, and is in accordance with one of the plurality of driving conditions. The periodic pulse voltage may be applied, and the driving strip may have the same frequency associated with a plurality of the maximum voltages. If it does in this way, the processing load concerning control of a piezoelectric element can be controlled. In addition, since the same frequency is associated with a plurality of maximum voltages, the frequency of frequency change is reduced compared to the case where different frequencies are associated with a plurality of maximum voltages. Therefore, the user's uncomfortable feeling accompanying the frequency change of the liquid ejecting apparatus can be suppressed.

(3)上記形態の液体噴射装置において、前記液体供給部から供給される前記液体の液体供給流量は一定でもよい。このようにすると、液体供給部の制御に係る処理負荷を抑制することができる。 (3) In the liquid ejecting apparatus of the above aspect, the liquid supply flow rate of the liquid supplied from the liquid supply unit may be constant. If it does in this way, the processing load concerning control of a liquid supply part can be controlled.

本明細書に開示される技術は、液体噴射装置以外の種々の形態で実現することも可能である。例えば、液体噴射装置を備えるシステム、液体噴射方法、液体噴射装置の制御方法、これらの方法を実現するためのコンピュータープログラム、そのコンピュータプログラムを記録した一時的でない記録媒体(non-transitory storage medium)等の様々な形態で実現することができる。   The technology disclosed in this specification can also be realized in various forms other than the liquid ejecting apparatus. For example, a system including a liquid ejecting apparatus, a liquid ejecting method, a method for controlling the liquid ejecting apparatus, a computer program for realizing these methods, a non-transitory storage medium on which the computer program is recorded, and the like It can be realized in various forms.

液体噴射装置の全体構成を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the whole structure of a liquid ejecting apparatus. ハンドピースを液体の噴射方向に沿って切断した断面図である。It is sectional drawing which cut | disconnected the handpiece along the injection direction of a liquid. 制御装置の機能ブロック図である。It is a functional block diagram of a control device. 駆動条件テーブルを示す説明図である。It is explanatory drawing which shows a drive condition table. 駆動条件テーブルによって定められる最大電圧と駆動周波数の関係を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the relationship between the maximum voltage defined by a drive condition table, and a drive frequency. 圧電素子に印加される駆動電圧(圧電素子駆動信号)の波形の一例を示す。An example of the waveform of the drive voltage (piezoelectric element drive signal) applied to a piezoelectric element is shown. 噴射制御処理を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows an injection control process.

A.実施形態:
図1は、本実施形態における液体噴射装置1の全体構成を示す説明図である。液体噴射装置1は、外科手術に用いられる。具体的には、液体噴射装置1は、生体組織としての患部の切開、切除、又は破砕(以下、包括して「切削」という)を実行するための装置である。
A. Embodiment:
FIG. 1 is an explanatory diagram illustrating an overall configuration of a liquid ejecting apparatus 1 according to the present embodiment. The liquid ejecting apparatus 1 is used for surgery. Specifically, the liquid ejecting apparatus 1 is an apparatus for executing incision, excision, or crushing (hereinafter collectively referred to as “cutting”) of an affected part as a biological tissue.

液体噴射装置1は、液体を収容する容器10と、送液ポンプ20と、切削対象物(本実施形態では生体組織)に向けて液体を噴射するためのハンドピース30と、制御装置70とを備える。   The liquid ejecting apparatus 1 includes a container 10 for storing liquid, a liquid feeding pump 20, a handpiece 30 for ejecting liquid toward a cutting object (in this embodiment, a biological tissue), and a control device 70. Prepare.

制御装置70は、ハンドピース30への液体の供給、およびハンドピース30からの液体の噴射を制御する。制御装置70は、ユーザーが手術の際に操作する操作パネル80と、液体の噴射をユーザーが指示するためのペダルスイッチ83と、を備える。図1では、操作パネル80を拡大して図示している。操作パネル80には、電源のON/OFFを切り替えるためのボタンスイッチ811と、噴射される液体の量、噴射速度、噴射周期を調整するためのレバースイッチ813と、モニター82とが設けられている。レバースイッチ813は、「1」〜「10」の目盛りが付された10段階のレバー位置を選択可能に構成されている。制御装置70の詳細は、後述する。   The control device 70 controls the supply of liquid to the handpiece 30 and the ejection of liquid from the handpiece 30. The control device 70 includes an operation panel 80 that is operated by the user at the time of surgery, and a pedal switch 83 for the user to instruct liquid ejection. In FIG. 1, the operation panel 80 is shown in an enlarged manner. The operation panel 80 is provided with a button switch 811 for switching the power ON / OFF, a lever switch 813 for adjusting the amount of liquid to be ejected, the ejection speed, and the ejection cycle, and a monitor 82. . The lever switch 813 is configured to be able to select 10 levels of lever positions with a scale of “1” to “10”. Details of the control device 70 will be described later.

容器10は、液体(具体的には生理食塩水)を収容する。送液ポンプ20は、容器10に収容された液体を、接続チューブ91,93を介して、一定の流量でハンドピース30に供給する。   The container 10 contains a liquid (specifically, physiological saline). The liquid feed pump 20 supplies the liquid contained in the container 10 to the handpiece 30 through the connection tubes 91 and 93 at a constant flow rate.

ハンドピース30は、手術に際してユーザーが手に持って操作するモジュールである。ハンドピース30は、送液ポンプ20から供給される液体に脈動を付与してパルス流を発生させるパルス流発生部40と、パイプ状の噴射管50と、ノズル60と、を備える。パルス流発生部40によって発生されたパルス流は、ノズル60の先端から、パルス液体ジェット(以下、ジェットと略す)として噴射される。   The handpiece 30 is a module that the user holds in his / her hand during surgery. The handpiece 30 includes a pulse flow generation unit 40 that generates a pulse flow by applying pulsation to the liquid supplied from the liquid feed pump 20, a pipe-shaped injection pipe 50, and a nozzle 60. The pulse flow generated by the pulse flow generator 40 is ejected from the tip of the nozzle 60 as a pulsed liquid jet (hereinafter abbreviated as a jet).

パルス流とは、液体の流速と圧力とが時間的に大きく且つ急激に変化する液体の脈動的な流れを意味する。本実施形態において、ジェットは、間欠的に噴射される高圧(高エネルギー)の液体(液流)である。   The pulse flow means a pulsating flow of liquid in which the flow velocity and pressure of the liquid are large in time and rapidly change. In the present embodiment, the jet is a high-pressure (high energy) liquid (liquid flow) ejected intermittently.

図2は、ハンドピース30を液体の噴射方向に沿って切断した断面図である。図2に示す部材や部分の縦横の縮尺は、実物と同じであるとは限らない。図2に示すように、パルス流発生部40は、第1ケース41と、第2ケース42と、第3ケース43とによって形成された円筒状の内部空間に、液体室44の容積を変動させるための圧電素子45及びダイヤフラム46が配置された構成を有する。各ケース41,42,43は、互いに対向する面において接合され一体化されている。   FIG. 2 is a cross-sectional view of the handpiece 30 cut along the liquid ejecting direction. The vertical and horizontal scales of the members and parts shown in FIG. 2 are not necessarily the same as the actual ones. As shown in FIG. 2, the pulse flow generator 40 varies the volume of the liquid chamber 44 in a cylindrical internal space formed by the first case 41, the second case 42, and the third case 43. Therefore, the piezoelectric element 45 and the diaphragm 46 are arranged. The cases 41, 42, and 43 are joined and integrated on the surfaces facing each other.

ダイヤフラム46は、円盤状の金属薄板であり、その外周部分が第1ケース41と第2ケース42との間に挟まれて固定されている。圧電素子45は、例えば積層型圧電素子であり、ダイヤフラム46と第3ケース43との間で一端がダイヤフラム46に固定され、他端が第3ケース43に固定されている。   The diaphragm 46 is a disk-shaped thin metal plate, and its outer peripheral portion is sandwiched and fixed between the first case 41 and the second case 42. The piezoelectric element 45 is, for example, a multilayer piezoelectric element, and one end is fixed to the diaphragm 46 and the other end is fixed to the third case 43 between the diaphragm 46 and the third case 43.

液体室44は、ダイヤフラム46と、第1ケース41のダイヤフラム46に対向する面に形成された凹部411とによって囲まれた空間である。液体室44は、噴射管50と連通している。第1ケース41には、液体室44に各々連通する入口流路413と出口流路415とが形成されている。出口流路415の内径は、入口流路413の内径よりも大きく形成されている。入口流路413は接続チューブ93と接続され、送液ポンプ20から供給される液体を液体室44に流入させる。出口流路415には噴射管50の一端が接続され、液体室44内を流動する液体を噴射管50に流入させる。   The liquid chamber 44 is a space surrounded by the diaphragm 46 and a recess 411 formed on the surface of the first case 41 facing the diaphragm 46. The liquid chamber 44 communicates with the ejection pipe 50. The first case 41 is formed with an inlet channel 413 and an outlet channel 415 that respectively communicate with the liquid chamber 44. The inner diameter of the outlet channel 415 is formed larger than the inner diameter of the inlet channel 413. The inlet channel 413 is connected to the connection tube 93 and allows the liquid supplied from the liquid feeding pump 20 to flow into the liquid chamber 44. One end of the ejection pipe 50 is connected to the outlet channel 415, and the liquid flowing in the liquid chamber 44 is caused to flow into the ejection pipe 50.

ノズル60は、パイプ状の噴射管50の他端(先端)に装着されており、その先端に、噴射管50の内径よりも小さい内径の液体噴射開口部61を有する。   The nozzle 60 is attached to the other end (tip) of the pipe-like injection tube 50, and has a liquid injection opening 61 having an inner diameter smaller than the inner diameter of the injection tube 50 at the tip.

容器10(図1)に収容された液体は、制御装置70の制御によって作動する送液ポンプ20によって、所定の圧力又は所定の流量で接続チューブ93を介してパルス流発生部40に供給される。圧電素子45は、制御装置70によって駆動信号(周期性パルス電圧)が印加されると、図2の矢印Aの方向に伸長したり収縮したりする。これによって液体室44内を流動する定常流の液体に脈動が付与され、液体噴射開口部61からジェットが繰り返し噴射される。ここでいう定常流とは、流速および圧力の時間変動が小さい流れを意味する。時間変動が小さいとは、パルス流における流速および圧力の時間変動に対し、十分小さいことを意味する。定常流の流速および圧力の時間変動は、送液ポンプ20の回転によって発生する。容器10と送液ポンプ20とを併せて、「液体供給部」とも呼ぶ。   The liquid stored in the container 10 (FIG. 1) is supplied to the pulse flow generation unit 40 through the connection tube 93 at a predetermined pressure or a predetermined flow rate by the liquid feeding pump 20 that is operated under the control of the control device 70. . The piezoelectric element 45 expands or contracts in the direction of arrow A in FIG. 2 when a drive signal (periodic pulse voltage) is applied by the control device 70. As a result, pulsation is imparted to the steady flow of liquid flowing in the liquid chamber 44, and the jet is repeatedly ejected from the liquid ejection opening 61. The term “steady flow” as used herein means a flow with small fluctuations in flow velocity and pressure over time. Small time fluctuation means that it is sufficiently small with respect to time fluctuation of flow velocity and pressure in a pulse flow. Time fluctuations in the flow rate and pressure of the steady flow are generated by the rotation of the liquid feed pump 20. The container 10 and the liquid feed pump 20 are collectively referred to as a “liquid supply unit”.

図3は、制御装置70の機能ブロック図である。制御装置70は、操作部81と、モニター82と、制御部75と、記憶部77とを備える。   FIG. 3 is a functional block diagram of the control device 70. The control device 70 includes an operation unit 81, a monitor 82, a control unit 75, and a storage unit 77.

操作部81は、図1と共に説明したボタンスイッチ811と、レバースイッチ813と、ペダルスイッチ83とを含む。モニター82は、液晶ディスプレイ(LCD:Liquid Crystal Display)やELディスプレイ(Electroluminescence display)等の表示装置によって実現されるものであり、制御部75から入力される表示信号をもとに設定画面等の各種画面を表示する。   The operation unit 81 includes the button switch 811, the lever switch 813, and the pedal switch 83 described with reference to FIG. The monitor 82 is realized by a display device such as a liquid crystal display (LCD) or an EL display (electroluminescence display), and various types of setting screens and the like based on a display signal input from the control unit 75. Display the screen.

制御部75は、CPU(Central Processing Unit)やDSP(Digital Signal Processor)等のマイクロプロセッサー、ASIC(Application Specific Integrated Circuit)等の制御装置及び演算装置によって実現されるものであり、液体噴射装置1の各部を統括的に制御する。制御部75は、圧電素子制御部751と、ポンプ制御部756と、表示制御部757とを備える。   The control unit 75 is realized by a microprocessor such as a CPU (Central Processing Unit) or a DSP (Digital Signal Processor), a control device such as an ASIC (Application Specific Integrated Circuit), and an arithmetic device. Control all parts centrally. The control unit 75 includes a piezoelectric element control unit 751, a pump control unit 756, and a display control unit 757.

圧電素子制御部751は、レバースイッチ813のレバー位置に従って圧電素子45(図2)に印加される駆動電圧としての周期性パルス電圧の最大電圧と、その周波数である駆動周波数を決定し、決定した最大電圧と駆動周波数に従って、圧電素子駆動信号を生成する。圧電素子制御部751は、生成した圧電素子駆動信号を圧電素子45に印加する。   The piezoelectric element controller 751 determines the maximum voltage of the periodic pulse voltage as the driving voltage applied to the piezoelectric element 45 (FIG. 2) according to the lever position of the lever switch 813 and the driving frequency that is the frequency. A piezoelectric element drive signal is generated according to the maximum voltage and drive frequency. The piezoelectric element control unit 751 applies the generated piezoelectric element drive signal to the piezoelectric element 45.

ポンプ制御部756は、送液ポンプ20に駆動信号を入力して、送液ポンプ20を駆動する。表示制御部757は、レバースイッチ813のレバー位置に割り当てられた出力レベルを、モニター82に表示させる。   The pump control unit 756 inputs a drive signal to the liquid feeding pump 20 to drive the liquid feeding pump 20. The display control unit 757 causes the monitor 82 to display the output level assigned to the lever position of the lever switch 813.

記憶部77は、ROM(Read Only Memory)やフラッシュROM、RAM(Random Access Memory)等の各種IC(Integrated Circuit)メモリーやハードディスク等の記憶媒体によって実現される。記憶部77には、駆動条件テーブル771(後述する)と、液体噴射装置1が備える種々の機能を実現するためのプログラム(不図示)が記憶されている。さらに記憶部77には、このプログラムの実行中に使用されるデータ等が事前に記憶されたり、処理の都度一時的に記憶される。   The storage unit 77 is realized by various IC (Integrated Circuit) memories such as a ROM (Read Only Memory), a flash ROM, and a RAM (Random Access Memory), and a storage medium such as a hard disk. The storage unit 77 stores a drive condition table 771 (described later) and a program (not shown) for realizing various functions provided in the liquid ejecting apparatus 1. Further, the storage unit 77 stores data used during execution of the program in advance, or temporarily stores it every time processing is performed.

図4Aは、駆動条件テーブル771を示す説明図である。駆動条件テーブル771は、圧電素子45の駆動条件(最大電圧Vm、駆動周波数fを含む)を、複数備える。駆動条件として、圧電素子45の駆動電圧の最大電圧Vm(V)、駆動周波数f(Hz)、液体供給流量Q(ml/min)が、出力レベルに対応づけられている。ここで、出力レベルは、レバースイッチ813(図1)の操作によって決定される。なお、出力レベル0は、レバースイッチ813の操作によって設定されるのではなく、液体が噴射されないようにするために、ペダルスイッチ83が踏まれていない場合に設定される。液体供給流量Qは、送液ポンプ20がハンドピース30に単位時間当たりに供給する液体の体積である。   FIG. 4A is an explanatory diagram showing the drive condition table 771. The drive condition table 771 includes a plurality of drive conditions (including the maximum voltage Vm and the drive frequency f) for the piezoelectric element 45. As driving conditions, the maximum voltage Vm (V) of the driving voltage of the piezoelectric element 45, the driving frequency f (Hz), and the liquid supply flow rate Q (ml / min) are associated with the output level. Here, the output level is determined by operating the lever switch 813 (FIG. 1). Note that the output level 0 is not set by operating the lever switch 813, but is set when the pedal switch 83 is not depressed in order to prevent liquid from being ejected. The liquid supply flow rate Q is the volume of liquid that the liquid feed pump 20 supplies to the handpiece 30 per unit time.

図4Bは、駆動条件テーブル771によって定められる最大電圧Vmと駆動周波数fの関係を示す説明図である。本実施形態では、圧電素子45の駆動電圧の最大電圧Vmが大きい程、低い駆動周波数fが設定されている。詳しくは、最大電圧Vmが5、10、15(V)の場合の駆動周波数fは500(Hz)であり、最大電圧Vmが20、25、30(V)の場合の駆動周波数fは400(Hz)であり、最大電圧Vmが35、40、45(V)の場合の駆動周波数fは300(Hz)であり、最大電圧Vmが50(V)の場合の駆動周波数fは200(Hz)である。すなわち、駆動条件テーブル771では、複数の最大電圧Vmに対して、同一の駆動周波数fが対応づけられている。   FIG. 4B is an explanatory diagram showing the relationship between the maximum voltage Vm and the drive frequency f determined by the drive condition table 771. In the present embodiment, the lower drive frequency f is set as the maximum voltage Vm of the drive voltage of the piezoelectric element 45 is larger. Specifically, when the maximum voltage Vm is 5, 10, 15 (V), the driving frequency f is 500 (Hz), and when the maximum voltage Vm is 20, 25, 30 (V), the driving frequency f is 400 (Hz). Hz), the driving frequency f when the maximum voltage Vm is 35, 40, 45 (V) is 300 (Hz), and the driving frequency f when the maximum voltage Vm is 50 (V) is 200 (Hz). It is. That is, in the drive condition table 771, the same drive frequency f is associated with a plurality of maximum voltages Vm.

図5は、圧電素子45に印加される駆動電圧(圧電素子駆動信号)の波形の一例を示す。図5において、横軸は時間を示しており、縦軸は駆動電圧を示している。図4Aに示す駆動条件テーブル771で定められる出力レベル3の駆動電圧波形L3を実線で示し、出力レベル4の駆動電圧波形L4を破線で示す。駆動電圧波形L3の1周期(T0)は、電圧が大きくなる立ち上がり期間(a)と、電圧が最大になる時刻(b)と、電圧が小さくなる立ち下がり期間(c)と、電圧が印加されない休止期間(d)とによって構成されている。周期T0の逆数は、駆動信号の周波数(駆動周波数)である。   FIG. 5 shows an example of the waveform of the drive voltage (piezoelectric element drive signal) applied to the piezoelectric element 45. In FIG. 5, the horizontal axis indicates time, and the vertical axis indicates drive voltage. The drive voltage waveform L3 at the output level 3 determined by the drive condition table 771 shown in FIG. 4A is indicated by a solid line, and the drive voltage waveform L4 at the output level 4 is indicated by a broken line. In one cycle (T0) of the drive voltage waveform L3, no voltage is applied during the rising period (a) when the voltage increases, the time (b) when the voltage becomes maximum, and the falling period (c) when the voltage decreases. And a rest period (d). The reciprocal of the period T0 is the frequency of the drive signal (drive frequency).

駆動電圧の立ち上がり期間(a)の波形は、正の電圧方向にオフセットされ、位相が−90度ずれたsin波形の1/2周期分の波形である。駆動電圧の立ち下がり期間(c)の波形は、正の電圧方向にオフセットされ、位相が+90度ずれたsin波形の1/2周期分の波形である。そして、立ち下がり期間(c)におけるsin波形の周期は、立ち上がり期間のsin波形の周期よりも大きくなっている。   The waveform of the rising period (a) of the drive voltage is a waveform corresponding to ½ period of the sin waveform offset in the positive voltage direction and shifted in phase by −90 degrees. The waveform of the falling period (c) of the drive voltage is a waveform corresponding to ½ period of the sin waveform offset in the positive voltage direction and shifted in phase by +90 degrees. The period of the sin waveform in the falling period (c) is larger than the period of the sin waveform in the rising period.

駆動電圧波形L4は、最大電圧Vmが駆動電圧波形L3と異なる(駆動電圧波形L3より大きい)ものの、駆動電圧の立ち上がり期間(a)、電圧が最大になる時刻(b)、駆動電圧の立ち下がり期間(c)は、駆動電圧波形L3と同じであり、同様のsin波形である。駆動電圧波形L4は、休止期間(d1)が、駆動電圧波形L3よりも長く設定されており、駆動周波数が駆動電圧波形L3より小さい。   The drive voltage waveform L4 has a maximum voltage Vm different from the drive voltage waveform L3 (greater than the drive voltage waveform L3), but the drive voltage rise period (a), the time when the voltage becomes maximum (b), and the drive voltage fall The period (c) is the same as the drive voltage waveform L3 and has a similar sin waveform. In the drive voltage waveform L4, the pause period (d1) is set longer than the drive voltage waveform L3, and the drive frequency is smaller than the drive voltage waveform L3.

図5に示すように、圧電素子45の駆動電圧として、周期性パルス電圧が印加されると、ジェット(液体)が周期的に噴射される。ジェットが噴射される周期は、駆動電圧の周期と一致する。このように、ジェットの間欠的な(周期的な)噴射は、圧電素子45の駆動によってもたらされる。圧電素子45の駆動とは、圧電素子45が周期的に伸縮することである。   As shown in FIG. 5, when a periodic pulse voltage is applied as the drive voltage of the piezoelectric element 45, a jet (liquid) is periodically ejected. The period in which the jet is ejected coincides with the period of the driving voltage. Thus, intermittent (periodic) jetting of the jet is brought about by driving the piezoelectric element 45. Driving the piezoelectric element 45 means that the piezoelectric element 45 periodically expands and contracts.

本実施形態における圧電素子45は、正の電圧が印加されると伸長するので、立ち上がり期間(a)で急激に伸長し、ダイヤフラム46が圧電素子45に押されて液体室44側に撓む(図2における左側)。ダイヤフラム46が液体室44側へと撓むと液体室44の容積が小さくなり、液体室44内の液体は液体室44から押し出される。出口流路415の内径は入口流路413の内径よりも大きいため、出口流路415の流体イナータンス及び流体抵抗は、入口流路413の値よりも小さい。したがって、圧電素子45が急激に伸長することで液体室44から押し出される液体の大部分は、パルス流として出口流路415を通って噴射管50に流入し、その内径よりも小径の液体噴射開口部61から、ジェットとなって噴射される。ジェットは、切削対象物の破壊状態すなわち切削対象物の切削深さを決定付ける支配的要因である。   Since the piezoelectric element 45 in this embodiment expands when a positive voltage is applied, the piezoelectric element 45 rapidly expands in the rising period (a), and the diaphragm 46 is pushed by the piezoelectric element 45 and bends toward the liquid chamber 44 ( (Left side in FIG. 2). When the diaphragm 46 is bent toward the liquid chamber 44, the volume of the liquid chamber 44 is reduced, and the liquid in the liquid chamber 44 is pushed out of the liquid chamber 44. Since the inner diameter of the outlet channel 415 is larger than the inner diameter of the inlet channel 413, the fluid inertance and fluid resistance of the outlet channel 415 are smaller than the value of the inlet channel 413. Therefore, most of the liquid pushed out of the liquid chamber 44 by the rapid expansion of the piezoelectric element 45 flows into the ejection pipe 50 through the outlet channel 415 as a pulse flow, and the liquid ejection opening having a smaller diameter than the inner diameter. From the part 61, it is injected as a jet. The jet is a dominant factor that determines the fracture state of the cutting object, that is, the cutting depth of the cutting object.

駆動電圧は、最大電圧まで上昇した後は、緩やかに降下する(立ち下がり期間(c))。このため、圧電素子45は、立ち上がり期間(a)よりも長い時間をかけて収縮し、ダイヤフラム46が圧電素子45に引かれて第3ケース43側に撓む。ダイヤフラム46が第3ケース43側に撓むと液体室44の容積が大きくなり、入口流路413から液体室44内に液体が流入する。   The drive voltage gradually falls after rising to the maximum voltage (falling period (c)). Therefore, the piezoelectric element 45 contracts over a longer time than the rising period (a), and the diaphragm 46 is pulled by the piezoelectric element 45 and bent toward the third case 43 side. When the diaphragm 46 bends toward the third case 43 side, the volume of the liquid chamber 44 increases, and the liquid flows into the liquid chamber 44 from the inlet channel 413.

送液ポンプ20は一定の液体供給流量Qで液体をパルス流発生部40に供給しているため、圧電素子45が伸縮動作をしなければ、液体室44を流動する液体は、定常流として出口流路415を経て噴射管50に流入し、液体噴射開口部61から射出される。   Since the liquid feed pump 20 supplies the liquid to the pulse flow generation unit 40 at a constant liquid supply flow rate Q, if the piezoelectric element 45 does not expand and contract, the liquid flowing in the liquid chamber 44 exits as a steady flow. It flows into the ejection pipe 50 through the flow path 415 and is ejected from the liquid ejection opening 61.

図6は、噴射制御処理を示すフローチャートである。噴射制御処理は、制御部75によって実行される。制御部75は、ペダルスイッチ83がONになったことを契機に、噴射制御処理を開始する。   FIG. 6 is a flowchart showing the injection control process. The injection control process is executed by the control unit 75. The control unit 75 starts the injection control process when the pedal switch 83 is turned on.

ステップS211では、圧電素子制御部751は、レバースイッチ813のレバー位置を取得して、取得したレバー位置(出力レベル)に対応する最大電圧Vmおよび駆動周波数fを、駆動条件テーブル771から読み出して、圧電素子に印加する駆動電圧の最大電圧Vmと駆動周波数fを決定する。   In step S211, the piezoelectric element control unit 751 acquires the lever position of the lever switch 813, reads the maximum voltage Vm and the driving frequency f corresponding to the acquired lever position (output level) from the driving condition table 771, A maximum voltage Vm and a driving frequency f of the driving voltage applied to the piezoelectric element are determined.

ステップS212では、圧電素子制御部751が、ステップS211で決定した最大電圧Vmおよび駆動周波数fを用いた駆動電圧波形の圧電素子駆動信号を生成し、圧電素子に印加する(出力する)と共に、ポンプ制御部756が、送液ポンプ20を駆動させるための駆動信号を出力する。図4Aに示す通り、液体供給流量は、最大電圧Vm、駆動周波数fによらず、一定である。   In step S212, the piezoelectric element control unit 751 generates a piezoelectric element drive signal having a drive voltage waveform using the maximum voltage Vm and the drive frequency f determined in step S211, and applies (outputs) the piezoelectric element drive signal to the piezoelectric element. The control unit 756 outputs a drive signal for driving the liquid feeding pump 20. As shown in FIG. 4A, the liquid supply flow rate is constant regardless of the maximum voltage Vm and the driving frequency f.

ステップS213では、表示制御部は、取得したレバー位置に割り当てられた出力レベルを、モニター82に表示させる。   In step S213, the display control unit causes the monitor 82 to display the output level assigned to the acquired lever position.

その後、制御部75は、駆動信号の出力を継続しつつ、入力操作を待つ(ステップS215)。操作されたのがレバースイッチ813である場合(ステップS215,レバースイッチ)、制御部75は、ステップS211の処理に戻る。つまり、変更後の出力レベルに合わせて、最大電圧Vmと、駆動周波数fとを決定し(ステップS211)、駆動信号の出力(ステップS212)と出力レベルの表示(ステップS213)とを実行する。   Thereafter, the control unit 75 waits for an input operation while continuing to output the drive signal (step S215). When the lever switch 813 has been operated (step S215, lever switch), the control unit 75 returns to the process of step S211. That is, the maximum voltage Vm and the drive frequency f are determined according to the changed output level (step S211), and the drive signal output (step S212) and the output level display (step S213) are executed.

一方、操作されたのがペダルスイッチのOFFである場合(ステップS215,ペダルスイッチOFF)、制御部75は、噴射制御処理を終了する。   On the other hand, when it is operated that the pedal switch is OFF (step S215, pedal switch OFF), the control unit 75 ends the injection control process.

以上説明したように、本実施形態の液体噴射装置1によれば、圧電素子45に印加する駆動電圧の最大電圧Vmが大きい程、駆動周波数fが低くなるように、圧電素子駆動信号を生成している。例えば、液体噴射装置1を用いて、人間の脳の外科手術を行う場合、脳内の腫瘍の種類によっては、腫瘍部分は腫瘍以外の正常な部分と比べて硬いため、液体噴射装置1から噴射される液体(ジェット)の流速および量を大きくして、噴射される液体(ジェット)の運動エネルギーを上げて、脳内腫瘍の切削を行いたい。このとき、圧電素子45に印加する駆動電圧の最大電圧Vmを大きくすると共に、駆動周波数fを高くすることが考えられる。このようにすると、ジェットのエネルギーを大きくして、切削力を高めることができると共に、切削速度(単位時間当たりに切削可能な距離)を上げることができる。しかしながら、最大電圧Vmと駆動周波数fとを共に大きくすると、送液ポンプ20による液体の供給が間に合わなくなる可能性がある。また、手術の際は、液体噴射装置1によって液体を噴射すると共に、噴射された液体を吸引して、術野の確保に努めるものの、駆動周波数fが高い場合には、ジェットの噴射頻度が高いため、吸引が追いつかず、術野の確保が困難になる可能性がある。これに対し、本実施形態の液体噴射装置1では、圧電素子45に印加する駆動電圧の最大電圧Vmが大きい程、駆動周波数fが低いため、単位時間当たりに噴射されるジェットの回数が、最大電圧Vmの増加と共に駆動周波数fも大きくする場合と比較して少なくなるため、噴射された液体の吸引による術野の確保が容易になる。なお、駆動周波数fを低くすると、液体の噴射間隔が大きくなるものの、液体噴射装置1の移動速度を調節することにより、適切に切削可能である。   As described above, according to the liquid ejecting apparatus 1 of the present embodiment, the piezoelectric element drive signal is generated so that the drive frequency f decreases as the maximum voltage Vm of the drive voltage applied to the piezoelectric element 45 increases. ing. For example, when a human brain surgery is performed using the liquid ejecting apparatus 1, depending on the type of tumor in the brain, the tumor part is harder than a normal part other than the tumor, and thus the liquid ejecting apparatus 1 ejects the tumor. We want to increase the kinetic energy of the jetted liquid (jet) by increasing the flow rate and amount of the jetted liquid (jet), and perform tumor cutting in the brain. At this time, it is conceivable that the maximum voltage Vm of the drive voltage applied to the piezoelectric element 45 is increased and the drive frequency f is increased. In this way, the energy of the jet can be increased to increase the cutting force, and the cutting speed (distance that can be cut per unit time) can be increased. However, if the maximum voltage Vm and the drive frequency f are both increased, there is a possibility that the liquid supply by the liquid feed pump 20 may not be in time. In the operation, the liquid ejecting apparatus 1 ejects the liquid and sucks the ejected liquid to secure the surgical field. However, when the driving frequency f is high, the jet ejection frequency is high. Therefore, the suction cannot catch up, and it may be difficult to secure the operative field. In contrast, in the liquid ejecting apparatus 1 of the present embodiment, the larger the maximum voltage Vm of the driving voltage applied to the piezoelectric element 45 is, the lower the driving frequency f is, so the number of jets ejected per unit time is the maximum. Since the drive frequency f increases as the voltage Vm increases, it is easy to secure a surgical field by suction of the ejected liquid. Note that when the drive frequency f is lowered, the liquid ejection interval is increased, but the cutting can be appropriately performed by adjusting the moving speed of the liquid ejection apparatus 1.

また、本実施形態の液体噴射装置1では、送液ポンプ20から供給される液体供給流量を、圧電素子45の駆動電圧の最大電圧Vmおよび駆動周波数fの変更にかかわらず、一定にしている。そのため、送液ポンプ20の制御が容易であり、送液ポンプ20の制御に係る処理負荷を抑制することができる。   Further, in the liquid ejecting apparatus 1 of the present embodiment, the liquid supply flow rate supplied from the liquid feed pump 20 is made constant regardless of changes in the maximum voltage Vm of the drive voltage of the piezoelectric element 45 and the drive frequency f. Therefore, the control of the liquid feed pump 20 is easy, and the processing load related to the control of the liquid feed pump 20 can be suppressed.

また、送液ポンプ20として、チューブポンプを用いる場合、液体室44に供給される液体には、小さいながら流速および圧力の時間変動がある。送液ポンプ20からの液体供給流量を変更すると、流速および圧力の時間変動が変わるため、圧電素子45の駆動により発生される液体の脈動の周期に影響を及ぼす可能性がある。これに対し、液体供給流量を一定する場合には、脈動の周期を適切に制御することができる。   Further, when a tube pump is used as the liquid feed pump 20, the liquid supplied to the liquid chamber 44 has a small variation in flow rate and pressure with time. When the liquid supply flow rate from the liquid feed pump 20 is changed, the time fluctuation of the flow velocity and pressure changes, so that there is a possibility that the cycle of liquid pulsation generated by driving the piezoelectric element 45 may be affected. On the other hand, when the liquid supply flow rate is constant, the pulsation cycle can be appropriately controlled.

また、液体供給流量を一定にしているものの、圧電素子45の駆動電圧の最大電圧Vmが大ききほど駆動周波数fを低くしているため、送液ポンプ20の液体供給量が不足する虞を低減することができる。また、液体供給流量を一定にしているため、術野の悪化を抑制することができる。   Further, although the liquid supply flow rate is constant, the drive frequency f is lowered as the maximum voltage Vm of the drive voltage of the piezoelectric element 45 is increased, thereby reducing the possibility that the liquid supply amount of the liquid feed pump 20 is insufficient. can do. Moreover, since the liquid supply flow rate is kept constant, the deterioration of the surgical field can be suppressed.

B.変形例:
(1)液体噴射装置としては、実施形態に例示した圧電素子を用いるタイプの装置に限られない。
例えば、液体室にパルスレーザーを照射することによって、液体室の液体を蒸発させ、液体を間欠的に噴射させるタイプの液体噴射装置であってもよい。レーザー源としては、例えば、ホルミウム・ヤグレーザー(Ho:YAGレーザー)等を採用することができる。
B. Variations:
(1) The liquid ejecting apparatus is not limited to the type using the piezoelectric element exemplified in the embodiment.
For example, a liquid ejecting apparatus of a type that intermittently ejects liquid by evaporating the liquid in the liquid chamber by irradiating the liquid chamber with a pulse laser may be used. As the laser source, for example, a holmium Yag laser (Ho: YAG laser) or the like can be employed.

或いは、バルブ式の液体噴射装置であってもよい。バルブ式とは、液体を噴射しない時はバルブを閉じ、液体を噴射する時はバルブを開けることによって、噴射を制御する方式である。バルブは、液体室とノズルとの間に設けられ、バルブが閉じている時は、液体室からノズルへの液体の流れが遮断される。そして、バルブが開閉に関わらず、液体室の液体を加圧する。よって、バルブを開けると、液体がノズルから噴射される。このようにして液体を間欠的に噴射することができる。   Alternatively, a valve-type liquid ejecting apparatus may be used. The valve type is a method of controlling the injection by closing the valve when not injecting liquid and opening the valve when injecting liquid. The valve is provided between the liquid chamber and the nozzle. When the valve is closed, the flow of liquid from the liquid chamber to the nozzle is blocked. The liquid in the liquid chamber is pressurized regardless of whether the valve is opened or closed. Therefore, when the valve is opened, liquid is ejected from the nozzle. In this way, the liquid can be ejected intermittently.

上記のパルスレーザーを用いる例、バルブ式の例の場合には、噴射されるジェットのエネルギーが大きい程、ジェットが噴射される周波数が低くなるように制御する。このようにすると、液体噴射の対象物の視認性の悪化が抑制される。   In the case of the example using the pulse laser and the valve type example, control is performed such that the higher the energy of the jet jet, the lower the jetting frequency. If it does in this way, the deterioration of the visibility of the target of liquid injection will be controlled.

(2)出力レベルの設定は、上記実施形態に限定されない。例えば、最大電圧Vmが5〜30(V)の範囲は駆動周波数fを400(Hz)とし、最大電圧Vmが35〜500(V)の範囲は駆動周波数fを200(Hz)としてもよい。また、出力レベルの段階は、2段階以上であれば、何段階に設定してもよい。出力レベルの最大電圧Vmの間隔を等間隔に定めなくてもよい。 (2) The setting of the output level is not limited to the above embodiment. For example, in the range where the maximum voltage Vm is 5 to 30 (V), the drive frequency f may be 400 (Hz), and in the range where the maximum voltage Vm is 35 to 500 (V), the drive frequency f may be 200 (Hz). Further, the output level may be set to any number as long as it is two or more. The intervals of the maximum voltage Vm at the output level need not be set at equal intervals.

上記実施形態では、最大電圧Vmに対して駆動周波数fが階段状に低くなるように設定される例を示したが、最大電圧Vmに対して駆動周波数fが線形に低くなるように設定してもよい。また、最大電圧Vmに対して、単位時間当たりの液体噴射量が一定になるように、駆動周波数fを定めてもよい。但し、駆動周波数fは、切削速度(単位時間あたりに切削できる距離)に影響するため、駆動周波数fが最大電圧Vm毎(出力レベル毎)に異なると、出力レベルの変更の度に、使用者は手を動かす早さを変更することになるため、駆動周波数の変更が少ない方が、使用者にとっては使いやすいと言える。   In the above embodiment, an example is shown in which the drive frequency f is set to be stepwise lower with respect to the maximum voltage Vm. However, the drive frequency f is set to be linearly lower with respect to the maximum voltage Vm. Also good. Further, the drive frequency f may be determined so that the liquid ejection amount per unit time is constant with respect to the maximum voltage Vm. However, since the drive frequency f affects the cutting speed (distance that can be cut per unit time), if the drive frequency f differs for each maximum voltage Vm (for each output level), the user is changed each time the output level is changed. Since the speed at which the hand is moved is changed, it can be said that a user with less change in driving frequency is easier to use.

(3)上記実施形態では、制御装置70が駆動条件テーブル771を備え、圧電素子制御部751は、駆動条件テーブル771を参照して、1の駆動条件(最大電圧Vm、駆動周波数f)を決定する例を示したが、上記実施形態に限定されない。例えば、最大電圧Vmと駆動周波数fとの関係を予め数式で定めておき、使用者により決定された最大電圧Vmに対応する駆動周波数fを、数式を利用して算出してもよい。 (3) In the above embodiment, the control device 70 includes the drive condition table 771, and the piezoelectric element control unit 751 refers to the drive condition table 771 to determine one drive condition (maximum voltage Vm, drive frequency f). Although the example to do was shown, it is not limited to the said embodiment. For example, the relationship between the maximum voltage Vm and the drive frequency f may be determined in advance using a mathematical expression, and the drive frequency f corresponding to the maximum voltage Vm determined by the user may be calculated using the mathematical expression.

(4)上記実施形態では、送液ポンプ20による液体供給流量を、最大電圧および駆動周波数によらず一定にする例を示したが、液体供給流量を、最大電圧および駆動周波数に応じて変更してもよい。但し、液体供給流量を一定にすると、送液ポンプ20の制御が容易であるため、好ましい。 (4) In the above embodiment, the example in which the liquid supply flow rate by the liquid feeding pump 20 is made constant regardless of the maximum voltage and the drive frequency has been shown. However, the liquid supply flow rate is changed according to the maximum voltage and the drive frequency. May be. However, it is preferable to make the liquid supply flow rate constant because the liquid feed pump 20 can be easily controlled.

(5)上記実施形態では、液体噴射装置1を手術具として用いる例を示したが、これに限定されず、洗浄用として用いることもできる。また、液体を噴射する対象物としては、生体組織以外の柔軟素材、例えば、食品、ゲル材料、ゴムやプラスチック等の樹脂材料などでもよい。 (5) In the above-described embodiment, the example in which the liquid ejecting apparatus 1 is used as a surgical instrument has been described. In addition, the target for ejecting the liquid may be a flexible material other than a living tissue, for example, a food material, a gel material, a resin material such as rubber or plastic.

(6)上記実施形態では、圧電素子45に印加する駆動電圧の波形としてsin波形を例示したが、例えば、矩形のパルス波を用いてもよい。また、駆動周波数fを変更する方法として、休止期間を変更する例を示したが、立ち上がり期間(a)、立ち下がり期間(c)の少なくともいずれか一方を変更してもよい。 (6) In the above embodiment, the sin waveform is exemplified as the waveform of the drive voltage applied to the piezoelectric element 45. However, for example, a rectangular pulse wave may be used. Further, as an example of changing the drive frequency f, an example in which the pause period is changed has been shown, but at least one of the rising period (a) and the falling period (c) may be changed.

(7)上記実施形態において、ソフトウエアによって実現された機能及び処理の一部又は全部は、ハードウエアによって実現されてもよい。また、ハードウエアによって実現された機能及び処理の一部又は全部は、ソフトウエアによって実現されてもよい。ハードウエアとしては、例えば、集積回路、ディスクリート回路、または、それらの回路を組み合わせた回路モジュールなど、各種回路を用いることができる。 (7) In the above embodiment, some or all of the functions and processes realized by software may be realized by hardware. In addition, some or all of the functions and processes realized by hardware may be realized by software. As the hardware, for example, various circuits such as an integrated circuit, a discrete circuit, or a circuit module obtained by combining these circuits can be used.

本明細書に開示された技術は、本明細書の実施形態や変形例に限られるものではなく、その趣旨を逸脱しない範囲において種々の構成で実現できる。例えば、発明の概要の欄に記載した各形態中の技術的特徴に対応する実施形態、変形例中の技術的特徴は、先述の課題の一部又は全部を解決するために、あるいは、先述の効果の一部又は全部を達成するために、適宜、差し替えや、組み合わせができる。その技術的特徴が本明細書中に必須なものとして説明されていなければ、適宜、削除できる。   The technology disclosed in the present specification is not limited to the embodiments and modifications of the present specification, and can be realized with various configurations without departing from the spirit of the technology. For example, the technical features in the embodiments and the modifications corresponding to the technical features in each embodiment described in the summary section of the invention may be used to solve part or all of the above-described problems, or In order to achieve part or all of the effects, replacements or combinations can be made as appropriate. If the technical feature is not described as essential in this specification, it can be deleted as appropriate.

1…液体噴射装置、10…容器、20…送液ポンプ、30…ハンドピース、40…パルス流発生部、41…第1ケース、42…第2ケース、43…第3ケース、44…液体室、45…圧電素子、46…ダイヤフラム、50…噴射管、60…ノズル、61…液体噴射開口部、70…制御装置、75…制御部、77…記憶部、80…操作パネル、81…操作部、82…モニター、83…ペダルスイッチ、91…接続チューブ、93…接続チューブ、411…凹部、413…入口流路、415…出口流路、751…圧電素子制御部、756…ポンプ制御部、757…表示制御部、771…駆動条件テーブル、811…ボタンスイッチ、813…レバースイッチ、Vm…最大電圧、f…駆動周波数   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Liquid injection apparatus, 10 ... Container, 20 ... Liquid feed pump, 30 ... Handpiece, 40 ... Pulse flow generation part, 41 ... 1st case, 42 ... 2nd case, 43 ... 3rd case, 44 ... Liquid chamber , 45 ... Piezoelectric element, 46 ... Diaphragm, 50 ... Injection pipe, 60 ... Nozzle, 61 ... Liquid injection opening, 70 ... Control device, 75 ... Control part, 77 ... Storage part, 80 ... Operation panel, 81 ... Operation part , 82 ... Monitor, 83 ... Pedal switch, 91 ... Connection tube, 93 ... Connection tube, 411 ... Recess, 413 ... Inlet channel, 415 ... Outlet channel, 751 ... Piezoelectric element control unit, 756 ... Pump control unit, 757 ... Display control unit, 771 ... Drive condition table, 811 ... Button switch, 813 ... Lever switch, Vm ... Maximum voltage, f ... Drive frequency

Claims (3)

液体を噴射する噴射管と、
前記噴射管と連通する液体室と、
前記液体室に前記液体を供給する液体供給部と、
前記液体室の容積を変更する圧電素子と、
前記圧電素子に周期性パルス電圧を印加する圧電素子制御部であって、前記周期性パルス電圧の最大電圧が大きい程、前記周期性パルス電圧の周波数が低くなるように、前記周期性パルス電圧の波形を変更する圧電素子制御部と、
を備える液体噴射装置。
An injection tube for injecting liquid;
A liquid chamber in communication with the jet pipe;
A liquid supply section for supplying the liquid to the liquid chamber;
A piezoelectric element for changing the volume of the liquid chamber;
A piezoelectric element controller that applies a periodic pulse voltage to the piezoelectric element, wherein the frequency of the periodic pulse voltage is decreased as the maximum voltage of the periodic pulse voltage increases. A piezoelectric element controller for changing the waveform;
A liquid ejecting apparatus comprising:
請求項1に記載の液体噴射装置において、
前記圧電素子制御部は、
前記最大電圧と前記周波数とを含む前記圧電素子の駆動条件であって、複数の前記駆動条件のうち1の前記駆動条件に従って前記周期性パルス電圧を印加し、
前記駆動条は、複数の前記最大電圧に対して、同一の前記周波数が対応づけられている、液体噴射装置。
The liquid ejecting apparatus according to claim 1,
The piezoelectric element controller is
A driving condition of the piezoelectric element including the maximum voltage and the frequency, wherein the periodic pulse voltage is applied according to the driving condition of one of a plurality of the driving conditions,
In the liquid ejecting apparatus, the driving strip is associated with the same frequency with respect to a plurality of the maximum voltages.
請求項1または2に記載の液体噴射装置において、
前記液体供給部から供給される前記液体の液体供給流量は一定である、液体噴射装置。
The liquid ejecting apparatus according to claim 1 or 2,
The liquid ejecting apparatus, wherein a liquid supply flow rate of the liquid supplied from the liquid supply unit is constant.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2021023996A (en) * 2019-07-31 2021-02-22 セイコーエプソン株式会社 Liquid jet device

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