JP2018083792A - Novel transition metal complex - Google Patents
Novel transition metal complex Download PDFInfo
- Publication number
- JP2018083792A JP2018083792A JP2016229171A JP2016229171A JP2018083792A JP 2018083792 A JP2018083792 A JP 2018083792A JP 2016229171 A JP2016229171 A JP 2016229171A JP 2016229171 A JP2016229171 A JP 2016229171A JP 2018083792 A JP2018083792 A JP 2018083792A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- ether
- carbon atoms
- transition metal
- ligand
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 53
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 title claims abstract description 53
- -1 ether compound Chemical class 0.000 claims abstract description 231
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 128
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 54
- 239000003446 ligand Substances 0.000 claims abstract description 43
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 38
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 35
- 125000000058 cyclopentadienyl group Chemical group C1(=CC=CC1)* 0.000 claims abstract description 8
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 claims abstract description 5
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims abstract description 5
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 claims abstract description 5
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 claims abstract description 5
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 150000003462 sulfoxides Chemical class 0.000 claims abstract description 5
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 claims abstract description 4
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 3
- HIXDQWDOVZUNNA-UHFFFAOYSA-N 2-(3,4-dimethoxyphenyl)-5-hydroxy-7-methoxychromen-4-one Chemical compound C=1C(OC)=CC(O)=C(C(C=2)=O)C=1OC=2C1=CC=C(OC)C(OC)=C1 HIXDQWDOVZUNNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 146
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 57
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 36
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 claims description 31
- 125000000472 sulfonyl group Chemical group *S(*)(=O)=O 0.000 claims description 24
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 17
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims description 13
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 11
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 9
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 claims description 8
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000003917 carbamoyl group Chemical group [H]N([H])C(*)=O 0.000 claims description 5
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 5
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 claims description 5
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 claims description 5
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 claims description 5
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 claims description 5
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 abstract description 12
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 abstract description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 75
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 49
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 45
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 36
- 238000000034 method Methods 0.000 description 26
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 description 22
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 21
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 19
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 18
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 18
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 17
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 17
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N methyl pentane Natural products CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- NKJOXAZJBOMXID-UHFFFAOYSA-N 1,1'-Oxybisoctane Chemical compound CCCCCCCCOCCCCCCCC NKJOXAZJBOMXID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 1-Octanol Chemical compound CCCCCCCCO KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- XPDWGBQVDMORPB-UHFFFAOYSA-N Fluoroform Chemical compound FC(F)F XPDWGBQVDMORPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 16
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 16
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 15
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 15
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 15
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 15
- CEIPQQODRKXDSB-UHFFFAOYSA-N ethyl 3-(6-hydroxynaphthalen-2-yl)-1H-indazole-5-carboximidate dihydrochloride Chemical compound Cl.Cl.C1=C(O)C=CC2=CC(C3=NNC4=CC=C(C=C43)C(=N)OCC)=CC=C21 CEIPQQODRKXDSB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 14
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 14
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 13
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 13
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 12
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 12
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 12
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 12
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 12
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 12
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 11
- GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N sodium;9,10-dioxoanthracene-2-sulfonic acid Chemical compound [Na+].C1=CC=C2C(=O)C3=CC(S(=O)(=O)O)=CC=C3C(=O)C2=C1 GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 125000001255 4-fluorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C([H])=C1F 0.000 description 10
- 125000004172 4-methoxyphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(OC([H])([H])[H])=C([H])C([H])=C1* 0.000 description 10
- 125000004199 4-trifluoromethylphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)C(F)(F)F 0.000 description 10
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 10
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 10
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N n-pentane Natural products CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 125000003854 p-chlorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C([H])=C1Cl 0.000 description 10
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 10
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 10
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 9
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 9
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 9
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 9
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 9
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 9
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 9
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 9
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 8
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 8
- 125000001971 neopentyl group Chemical group [H]C([*])([H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 8
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 8
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 8
- 125000001889 triflyl group Chemical group FC(F)(F)S(*)(=O)=O 0.000 description 8
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical group CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 150000001339 alkali metal compounds Chemical class 0.000 description 7
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 7
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 7
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 7
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N Diisopropyl ether Chemical compound CC(C)OC(C)C ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000005428 anthryl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C([H])=C3C(*)=C([H])C([H])=C([H])C3=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 6
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 6
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 6
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 6
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 125000000582 cycloheptyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 6
- 125000000640 cyclooctyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 6
- 125000002541 furyl group Chemical group 0.000 description 6
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 6
- 229910003473 lithium bis(trifluoromethanesulfonyl)imide Inorganic materials 0.000 description 6
- QSZMZKBZAYQGRS-UHFFFAOYSA-N lithium;bis(trifluoromethylsulfonyl)azanide Chemical compound [Li+].FC(F)(F)S(=O)(=O)[N-]S(=O)(=O)C(F)(F)F QSZMZKBZAYQGRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000006340 pentafluoro ethyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 6
- 125000000538 pentafluorophenyl group Chemical group FC1=C(F)C(F)=C(*)C(F)=C1F 0.000 description 6
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 6
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 6
- 125000001544 thienyl group Chemical group 0.000 description 6
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000004200 2-methoxyethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 5
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 5
- 125000001995 cyclobutyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 5
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 5
- 125000002147 dimethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])N(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 5
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 5
- 238000006266 etherification reaction Methods 0.000 description 5
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 5
- SKTCDJAMAYNROS-UHFFFAOYSA-N methoxycyclopentane Chemical compound COC1CCCC1 SKTCDJAMAYNROS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000001421 myristyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 5
- YRCHYHRCBXNYNU-UHFFFAOYSA-N n-[[3-fluoro-4-[2-[5-[(2-methoxyethylamino)methyl]pyridin-2-yl]thieno[3,2-b]pyridin-7-yl]oxyphenyl]carbamothioyl]-2-(4-fluorophenyl)acetamide Chemical compound N1=CC(CNCCOC)=CC=C1C1=CC2=NC=CC(OC=3C(=CC(NC(=S)NC(=O)CC=4C=CC(F)=CC=4)=CC=3)F)=C2S1 YRCHYHRCBXNYNU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000002958 pentadecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 5
- VFWRGKJLLYDFBY-UHFFFAOYSA-N silver;hydrate Chemical compound O.[Ag].[Ag] VFWRGKJLLYDFBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000002889 tridecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 5
- 125000002948 undecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 5
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 5
- KZJUHXVCAHXJLR-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3,3,4,4,4-nonafluoro-n-(1,1,2,2,3,3,4,4,4-nonafluorobutylsulfonyl)butane-1-sulfonamide Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)S(=O)(=O)NS(=O)(=O)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F KZJUHXVCAHXJLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-trimethylbenzene Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1 AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YQTCQNIPQMJNTI-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethylpropan-1-one Chemical group CC(C)(C)[C]=O YQTCQNIPQMJNTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JWUJQDFVADABEY-UHFFFAOYSA-N 2-methyltetrahydrofuran Chemical compound CC1CCCO1 JWUJQDFVADABEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 4
- 125000001494 2-propynyl group Chemical group [H]C#CC([H])([H])* 0.000 description 4
- 125000004975 3-butenyl group Chemical group C(CC=C)* 0.000 description 4
- 125000006283 4-chlorobenzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1Cl)C([H])([H])* 0.000 description 4
- 125000000590 4-methylphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FJWVWKPFZFRSRC-UHFFFAOYSA-N CCCC.N=S(=O)=O Chemical compound CCCC.N=S(=O)=O FJWVWKPFZFRSRC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N Dodecane Natural products CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N Methyl tert-butyl ether Chemical compound COC(C)(C)C BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 4
- 125000005073 adamantyl group Chemical group C12(CC3CC(CC(C1)C3)C2)* 0.000 description 4
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 4
- 150000001350 alkyl halides Chemical class 0.000 description 4
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 4
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 description 4
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 4
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 4
- 125000006267 biphenyl group Chemical group 0.000 description 4
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 description 4
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000006547 cyclononyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 4
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 4
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 4
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 4
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000004029 hydroxymethyl group Chemical group [H]OC([H])([H])* 0.000 description 4
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 4
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 4
- HFPZCAJZSCWRBC-UHFFFAOYSA-N p-cymene Chemical compound CC(C)C1=CC=C(C)C=C1 HFPZCAJZSCWRBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 4
- HSYLTRBDKXZSGS-UHFFFAOYSA-N silver;bis(trifluoromethylsulfonyl)azanide Chemical compound [Ag+].FC(F)(F)S(=O)(=O)[N-]S(=O)(=O)C(F)(F)F HSYLTRBDKXZSGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N triflic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 4
- UKDOTCFNLHHKOF-FGRDZWBJSA-N (z)-1-chloroprop-1-ene;(z)-1,2-dichloroethene Chemical group C\C=C/Cl.Cl\C=C/Cl UKDOTCFNLHHKOF-FGRDZWBJSA-N 0.000 description 3
- WXAVSTZWKNIWCN-UHFFFAOYSA-N 1-(1-phenylethoxy)ethylbenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C)OC(C)C1=CC=CC=C1 WXAVSTZWKNIWCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UJEGHEMJVNQWOJ-UHFFFAOYSA-N 1-heptoxyheptane Chemical compound CCCCCCCOCCCCCCC UJEGHEMJVNQWOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- TXYKVMGAIGVXFY-UHFFFAOYSA-N 1-undecoxyundecane Chemical compound CCCCCCCCCCCOCCCCCCCCCCC TXYKVMGAIGVXFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OISVCGZHLKNMSJ-UHFFFAOYSA-N 2,6-dimethylpyridine Chemical compound CC1=CC=CC(C)=N1 OISVCGZHLKNMSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UPUNEQCNOBZFLJ-UHFFFAOYSA-N 2-(thiophen-2-ylmethoxymethyl)thiophene Chemical compound C=1C=CSC=1COCC1=CC=CS1 UPUNEQCNOBZFLJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004217 4-methoxybenzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1OC([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PCYLHHPZEKADND-UHFFFAOYSA-N C(C1=CC=CC=C1)OC1=NC(=CC=C1)N1C=NC=C1 Chemical compound C(C1=CC=CC=C1)OC1=NC(=CC=C1)N1C=NC=C1 PCYLHHPZEKADND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 239000005456 alcohol based solvent Substances 0.000 description 3
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 3
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 3
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 3
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000004618 benzofuryl group Chemical group O1C(=CC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 3
- JFDZBHWFFUWGJE-UHFFFAOYSA-N benzonitrile Chemical compound N#CC1=CC=CC=C1 JFDZBHWFFUWGJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004196 benzothienyl group Chemical group S1C(=CC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 3
- CZKMPDNXOGQMFW-UHFFFAOYSA-N chloro(triethyl)germane Chemical compound CC[Ge](Cl)(CC)CC CZKMPDNXOGQMFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 3
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 3
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 3
- 239000003759 ester based solvent Substances 0.000 description 3
- XPFVYQJUAUNWIW-UHFFFAOYSA-N furfuryl alcohol Chemical compound OCC1=CC=CO1 XPFVYQJUAUNWIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000006343 heptafluoro propyl group Chemical group 0.000 description 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001041 indolyl group Chemical group 0.000 description 3
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-M iodide Chemical compound [I-] XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000005453 ketone based solvent Substances 0.000 description 3
- HZVOZRGWRWCICA-UHFFFAOYSA-N methanediyl Chemical compound [CH2] HZVOZRGWRWCICA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LGRLWUINFJPLSH-UHFFFAOYSA-N methanide Chemical compound [CH3-] LGRLWUINFJPLSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- 125000003136 n-heptyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000005151 nonafluorobutanesulfonyl group Chemical group FC(C(C(S(=O)(=O)*)(F)F)(F)F)(C(F)(F)F)F 0.000 description 3
- 125000005246 nonafluorobutyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 3
- 238000005580 one pot reaction Methods 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001422 pyrrolinyl group Chemical group 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000005346 substituted cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 3
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 3
- MFGWMAAZYZSWMY-UHFFFAOYSA-N (2-naphthyl)methanol Chemical compound C1=CC=CC2=CC(CO)=CC=C21 MFGWMAAZYZSWMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N (2s)-2-[[4-[2-(2,4-diaminoquinazolin-6-yl)ethyl]benzoyl]amino]-4-methylidenepentanedioic acid Chemical compound C1=CC2=NC(N)=NC(N)=C2C=C1CCC1=CC=C(C(=O)N[C@@H](CC(=C)C(O)=O)C(O)=O)C=C1 NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N 0.000 description 2
- GKNWQHIXXANPTN-UHFFFAOYSA-M 1,1,2,2,2-pentafluoroethanesulfonate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)C(F)(F)F GKNWQHIXXANPTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- XBWQFDNGNOOMDZ-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3,3,3-heptafluoropropane-1-sulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F XBWQFDNGNOOMDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JGTNAGYHADQMCM-UHFFFAOYSA-M 1,1,2,2,3,3,4,4,4-nonafluorobutane-1-sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F JGTNAGYHADQMCM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- FYGHSUNMUKGBRK-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-trimethylbenzene Chemical compound CC1=CC=CC(C)=C1C FYGHSUNMUKGBRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWHJZXXIDMPWGX-UHFFFAOYSA-N 1,2,4-trimethylbenzene Chemical compound CC1=CC=C(C)C(C)=C1 GWHJZXXIDMPWGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CYSGHNMQYZDMIA-UHFFFAOYSA-N 1,3-Dimethyl-2-imidazolidinon Chemical compound CN1CCN(C)C1=O CYSGHNMQYZDMIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FVUDRZSBJPQJBX-UHFFFAOYSA-N 1-butoxypentane Chemical compound CCCCCOCCCC FVUDRZSBJPQJBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UXFHSCUIPQXNNL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxyundecane Chemical compound CCCCCCCCCCCOCCCC UXFHSCUIPQXNNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- POEDHWVTLBLWDA-UHFFFAOYSA-N 1-butylindole-2,3-dione Chemical compound C1=CC=C2N(CCCC)C(=O)C(=O)C2=C1 POEDHWVTLBLWDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BBMCTIGTTCKYKF-UHFFFAOYSA-N 1-heptanol Chemical compound CCCCCCCO BBMCTIGTTCKYKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XCYJPXQACVEIOS-UHFFFAOYSA-N 1-isopropyl-3-methylbenzene Chemical compound CC(C)C1=CC=CC(C)=C1 XCYJPXQACVEIOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SDTORDSXCYSNTD-UHFFFAOYSA-N 1-methoxy-4-[(4-methoxyphenyl)methoxymethyl]benzene Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1COCC1=CC=C(OC)C=C1 SDTORDSXCYSNTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BRIKTKRHROTQFO-UHFFFAOYSA-N 1-methoxynonane Chemical compound CCCCCCCCCOC BRIKTKRHROTQFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004343 1-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- MSHFRERJPWKJFX-UHFFFAOYSA-N 4-Methoxybenzyl alcohol Chemical compound COC1=CC=C(CO)C=C1 MSHFRERJPWKJFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004176 4-fluorobenzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1F)C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000001318 4-trifluoromethylbenzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1C([H])([H])*)C(F)(F)F 0.000 description 2
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- ZECJHXWYQJXFQQ-UHFFFAOYSA-L CC1=C(C)C(C)([Ir](Cl)Cl)C(C)=C1C Chemical compound CC1=C(C)C(C)([Ir](Cl)Cl)C(C)=C1C ZECJHXWYQJXFQQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JGFZNNIVVJXRND-UHFFFAOYSA-N N,N-Diisopropylethylamine (DIPEA) Chemical compound CCN(C(C)C)C(C)C JGFZNNIVVJXRND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N N,N-dimethylaniline Chemical compound CN(C)C1=CC=CC=C1 JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N N-Pentanol Chemical compound CCCCCO AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N Para-Xylene Chemical group CC1=CC=C(C)C=C1 URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012327 Ruthenium complex Substances 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000002597 Solanum melongena Nutrition 0.000 description 2
- 125000003668 acetyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)O[*] 0.000 description 2
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 2
- RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N anisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1 RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N anthracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C21 MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001231 benzoyloxy group Chemical group C(C1=CC=CC=C1)(=O)O* 0.000 description 2
- 125000000051 benzyloxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])O* 0.000 description 2
- OVIZSQRQYWEGON-UHFFFAOYSA-N butane-1-sulfonamide Chemical compound CCCCS(N)(=O)=O OVIZSQRQYWEGON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 2
- 125000004210 cyclohexylmethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- IMCZVQCVSSWPCG-UHFFFAOYSA-N cyclohexyloxymethylbenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1COC1CCCCC1 IMCZVQCVSSWPCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004851 cyclopentylmethyl group Chemical group C1(CCCC1)C* 0.000 description 2
- MWKFXSUHUHTGQN-UHFFFAOYSA-N decan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCO MWKFXSUHUHTGQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 2
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 2
- MHDVGSVTJDSBDK-UHFFFAOYSA-N dibenzyl ether Chemical compound C=1C=CC=CC=1COCC1=CC=CC=C1 MHDVGSVTJDSBDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N diphenyl ether Chemical compound C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- POLCUAVZOMRGSN-UHFFFAOYSA-N dipropyl ether Chemical compound CCCOCCC POLCUAVZOMRGSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GUVUOGQBMYCBQP-UHFFFAOYSA-N dmpu Chemical compound CN1CCCN(C)C1=O GUVUOGQBMYCBQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SQNZJJAZBFDUTD-UHFFFAOYSA-N durene Chemical compound CC1=CC(C)=C(C)C=C1C SQNZJJAZBFDUTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 2
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 2
- YUWFEBAXEOLKSG-UHFFFAOYSA-N hexamethylbenzene Chemical compound CC1=C(C)C(C)=C(C)C(C)=C1C YUWFEBAXEOLKSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N hexan-1-ol Chemical compound CCCCCCO ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 125000003253 isopropoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(O*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- QIWLMMWTZVIAFK-UHFFFAOYSA-N lithium bis(1,1,2,2,3,3,4,4,4-nonafluorobutylsulfonyl)azanide Chemical compound [Li]N(S(=O)(=O)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F)S(=O)(=O)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F QIWLMMWTZVIAFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ACFSQHQYDZIPRL-UHFFFAOYSA-N lithium;bis(1,1,2,2,2-pentafluoroethylsulfonyl)azanide Chemical compound [Li+].FC(F)(F)C(F)(F)S(=O)(=O)[N-]S(=O)(=O)C(F)(F)C(F)(F)F ACFSQHQYDZIPRL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IVSZLXZYQVIEFR-UHFFFAOYSA-N m-xylene Chemical group CC1=CC=CC(C)=C1 IVSZLXZYQVIEFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001827 mesitylenyl group Chemical group [H]C1=C(C(*)=C(C([H])=C1C([H])([H])[H])C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 2
- KTQDYGVEEFGIIL-UHFFFAOYSA-N n-fluorosulfonylsulfamoyl fluoride Chemical compound FS(=O)(=O)NS(F)(=O)=O KTQDYGVEEFGIIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003506 n-propoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 2
- ZWRUINPWMLAQRD-UHFFFAOYSA-N nonan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCO ZWRUINPWMLAQRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- YNPNZTXNASCQKK-UHFFFAOYSA-N phenanthrene Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=CC=C3C=CC2=C1 YNPNZTXNASCQKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N phenyl(114C)methanol Chemical compound O[14CH2]C1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- KVFIZLDWRFTUEM-UHFFFAOYSA-N potassium;bis(trifluoromethylsulfonyl)azanide Chemical compound [K+].FC(F)(F)S(=O)(=O)[N-]S(=O)(=O)C(F)(F)F KVFIZLDWRFTUEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 2
- 238000004445 quantitative analysis Methods 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 238000010898 silica gel chromatography Methods 0.000 description 2
- DIBVNMQVCHOPTN-UHFFFAOYSA-M silver 1,1,2,2,3,3,3-heptafluoropropane-1-sulfonate Chemical compound [Ag+].[O-]S(=O)(=O)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F DIBVNMQVCHOPTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- NDVLTYZPCACLMA-UHFFFAOYSA-N silver oxide Chemical compound [O-2].[Ag+].[Ag+] NDVLTYZPCACLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GKZANLHNPSDWRK-UHFFFAOYSA-M silver;1,1,2,2,2-pentafluoroethanesulfonate Chemical compound [Ag+].[O-]S(=O)(=O)C(F)(F)C(F)(F)F GKZANLHNPSDWRK-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- NTTWVSJTKNTBBB-UHFFFAOYSA-M silver;1,1,2,2,3,3,4,4,4-nonafluorobutane-1-sulfonate Chemical compound [Ag+].[O-]S(=O)(=O)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F NTTWVSJTKNTBBB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- JUDUFOKGIZUSFP-UHFFFAOYSA-M silver;4-methylbenzenesulfonate Chemical compound [Ag+].CC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1 JUDUFOKGIZUSFP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- YLKTWKVVQDCJFL-UHFFFAOYSA-N sodium;bis(trifluoromethylsulfonyl)azanide Chemical compound [Na+].FC(F)(F)S(=O)(=O)[N-]S(=O)(=O)C(F)(F)F YLKTWKVVQDCJFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004213 tert-butoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C(O*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KJIOQYGWTQBHNH-UHFFFAOYSA-N undecanol Chemical compound CCCCCCCCCCCO KJIOQYGWTQBHNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OSPYGZFRBGNKQD-UHFFFAOYSA-N (2,3,4,5,6-pentafluorophenyl) benzenesulfonate Chemical compound FC1=C(F)C(F)=C(F)C(F)=C1OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 OSPYGZFRBGNKQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NMRPBPVERJPACX-UHFFFAOYSA-N (3S)-octan-3-ol Natural products CCCCCC(O)CC NMRPBPVERJPACX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004400 (C1-C12) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- JXTGICXCHWMCPM-UHFFFAOYSA-N (methylsulfinyl)benzene Chemical compound CS(=O)C1=CC=CC=C1 JXTGICXCHWMCPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XJSRKJAHJGCPGC-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6-tridecafluorohexane Chemical compound FC(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F XJSRKJAHJGCPGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMTQXHUVJRUFMZ-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3,3-hexafluoropropane-1,3-disulfonamide Chemical compound NS(=O)(=O)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)S(N)(=O)=O KMTQXHUVJRUFMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BFIMMTCNYPIMRN-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,5-tetramethylbenzene Chemical compound CC1=CC(C)=C(C)C(C)=C1 BFIMMTCNYPIMRN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WJYMPXJVHNDZHD-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-triethylbenzene Chemical compound CCC1=CC(CC)=CC(CC)=C1 WJYMPXJVHNDZHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDZYLPSWOBTZFL-UHFFFAOYSA-N 1-(2-ethylhexoxy)decane Chemical compound CCCCCCCCCCOCC(CC)CCCC WDZYLPSWOBTZFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RQSJMZHNDRUWBA-UHFFFAOYSA-N 1-(2-ethylhexoxy)nonane Chemical compound CCCCCCCCCOCC(CC)CCCC RQSJMZHNDRUWBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWWSWXSWYKJBCE-UHFFFAOYSA-N 1-(2-ethylhexoxy)octane Chemical compound CCCCCCCCOCC(CC)CCCC RWWSWXSWYKJBCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDFQEFFBRPGSMC-UHFFFAOYSA-N 1-(2-methoxyethoxy)butane Chemical compound CCCCOCCOC XDFQEFFBRPGSMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- USZGDPHUMPUADS-UHFFFAOYSA-N 1-(2-methoxyethoxy)decane Chemical compound CCCCCCCCCCOCCOC USZGDPHUMPUADS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MFEUPGRBFHRGDR-UHFFFAOYSA-N 1-(2-methoxyethoxy)ethylbenzene Chemical compound COCCOC(C)C1=CC=CC=C1 MFEUPGRBFHRGDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GPNQYNVNEYUVBH-UHFFFAOYSA-N 1-(2-methoxyethoxy)heptane Chemical compound CCCCCCCOCCOC GPNQYNVNEYUVBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVDZRFYFUCWKPB-UHFFFAOYSA-N 1-(2-methoxyethoxy)hexane Chemical compound CCCCCCOCCOC RVDZRFYFUCWKPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AONMRSWYJBBCBG-UHFFFAOYSA-N 1-(2-methoxyethoxy)nonane Chemical compound CCCCCCCCCOCCOC AONMRSWYJBBCBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTISGUDGDBUQGG-UHFFFAOYSA-N 1-(2-methoxyethoxy)octane Chemical compound CCCCCCCCOCCOC BTISGUDGDBUQGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OJTBQXZLANYDLF-UHFFFAOYSA-N 1-(2-methoxyethoxy)pentane Chemical compound CCCCCOCCOC OJTBQXZLANYDLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ILLHRDFIVGEPIU-UHFFFAOYSA-N 1-(2-methoxyethoxy)propane Chemical compound CCCOCCOC ILLHRDFIVGEPIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NYJDATOCXDRGQA-UHFFFAOYSA-N 1-(2-methoxyethoxy)undecane Chemical compound CCCCCCCCCCCOCCOC NYJDATOCXDRGQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MSCKAZADNIDXEK-UHFFFAOYSA-N 1-(butoxymethyl)-4-chlorobenzene Chemical compound CCCCOCC1=CC=C(Cl)C=C1 MSCKAZADNIDXEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CWTASUFNGJFIMV-UHFFFAOYSA-N 1-(butoxymethyl)-4-methoxybenzene Chemical compound CCCCOCC1=CC=C(OC)C=C1 CWTASUFNGJFIMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HLBUNKYQJLZLFN-UHFFFAOYSA-N 1-(cyclohexyloxymethyl)-4-methoxybenzene Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1COC1CCCCC1 HLBUNKYQJLZLFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LNRVNDNSOGNWTM-UHFFFAOYSA-N 1-(cyclopentylmethoxymethyl)-4-methoxybenzene Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1COCC1CCCC1 LNRVNDNSOGNWTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YEZDNDCRZHFDNR-UHFFFAOYSA-N 1-(decoxymethyl)-4-methoxybenzene Chemical compound CCCCCCCCCCOCC1=CC=C(OC)C=C1 YEZDNDCRZHFDNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MAJJDGWXCUOAJY-UHFFFAOYSA-N 1-(ethoxymethyl)-4-methoxybenzene Chemical compound CCOCC1=CC=C(OC)C=C1 MAJJDGWXCUOAJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DHHXOWKPJZXAQF-UHFFFAOYSA-N 1-(heptoxymethyl)-4-methoxybenzene Chemical compound CCCCCCCOCC1=CC=C(OC)C=C1 DHHXOWKPJZXAQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UQUASCZWBSIQLM-UHFFFAOYSA-N 1-(hexoxymethyl)-4-methoxybenzene Chemical compound CCCCCCOCC1=CC=C(OC)C=C1 UQUASCZWBSIQLM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005968 1-Decanol Substances 0.000 description 1
- WWRCMNKATXZARA-UHFFFAOYSA-N 1-Isopropyl-2-methylbenzene Chemical compound CC(C)C1=CC=CC=C1C WWRCMNKATXZARA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XFRVVPUIAFSTFO-UHFFFAOYSA-N 1-Tridecanol Chemical compound CCCCCCCCCCCCCO XFRVVPUIAFSTFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CGTNCTXIQDWSOL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxydecane Chemical compound CCCCCCCCCCOCCCC CGTNCTXIQDWSOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AQGPVCBVZAHVBN-UHFFFAOYSA-N 1-butoxyethylbenzene Chemical compound CCCCOC(C)C1=CC=CC=C1 AQGPVCBVZAHVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VECXYESVGQSDMX-UHFFFAOYSA-N 1-butoxyheptane Chemical compound CCCCCCCOCCCC VECXYESVGQSDMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCYFOZWGXKXDJA-UHFFFAOYSA-N 1-butoxyhexane Chemical compound CCCCCCOCCCC QCYFOZWGXKXDJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GUMQAMJLPBGQLH-UHFFFAOYSA-N 1-butoxynonane Chemical compound CCCCCCCCCOCCCC GUMQAMJLPBGQLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HLKBESQBAMRXPZ-UHFFFAOYSA-N 1-butoxyoctane Chemical compound CCCCCCCCOCCCC HLKBESQBAMRXPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OPUZLTXRIHEJGM-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-4-(cyclohexyloxymethyl)benzene Chemical compound C1(=CC=C(C=C1)Cl)COC1CCCCC1 OPUZLTXRIHEJGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNZOAOYBQWTRCN-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-4-(cyclopentyloxymethyl)benzene Chemical compound Clc1ccc(COC2CCCC2)cc1 ZNZOAOYBQWTRCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SAIADDSXECKPGL-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-4-(hexoxymethyl)benzene Chemical compound CCCCCCOCC1=CC=C(Cl)C=C1 SAIADDSXECKPGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YOZIDEHIYNEGMS-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-4-(methoxymethyl)benzene Chemical compound COCC1=CC=C(Cl)C=C1 YOZIDEHIYNEGMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POPKULUMBFRXHO-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-4-(octoxymethyl)benzene Chemical compound CCCCCCCCOCC1=CC=C(Cl)C=C1 POPKULUMBFRXHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSLOKLDXDCQZSD-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-4-(pentoxymethyl)benzene Chemical compound CCCCCOCC1=CC=C(Cl)C=C1 OSLOKLDXDCQZSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VIJFOKQODAFITK-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-4-(phenylmethoxymethyl)benzene Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1COCC1=CC=CC=C1 VIJFOKQODAFITK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NUINNDSZOBUNRU-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-4-(propan-2-yloxymethyl)benzene Chemical compound CC(C)OCC1=CC=C(Cl)C=C1 NUINNDSZOBUNRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZQYYCQYLXIONK-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-4-(propoxymethyl)benzene Chemical compound CCCOCC1=CC=C(Cl)C=C1 AZQYYCQYLXIONK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- REXQTRHCVRPOMB-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-4-[(4-chlorophenyl)methoxymethyl]benzene Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1COCC1=CC=C(Cl)C=C1 REXQTRHCVRPOMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NOSGJHOJDPNQRK-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-4-[(4-methoxyphenyl)methoxymethyl]benzene Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1COCC1=CC=C(Cl)C=C1 NOSGJHOJDPNQRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YAHCEHSKYMREOS-UHFFFAOYSA-N 1-cyclopentyloxyethylbenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C)OC1CCCC1 YAHCEHSKYMREOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LTSWUFKUZPPYEG-UHFFFAOYSA-N 1-decoxydecane Chemical compound CCCCCCCCCCOCCCCCCCCCC LTSWUFKUZPPYEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDVLDJICOUBXTI-UHFFFAOYSA-N 1-decoxyundecane Chemical compound CCCCCCCCCCCOCCCCCCCCCC CDVLDJICOUBXTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CAQYAZNFWDDMIT-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-methoxyethane Chemical compound CCOCCOC CAQYAZNFWDDMIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PZHIWRCQKBBTOW-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxybutane Chemical compound CCCCOCC PZHIWRCQKBBTOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LOLANUHFGPZTLQ-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxydecane Chemical compound CCCCCCCCCCOCC LOLANUHFGPZTLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MVTKJCAAJPVUHJ-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxyethylbenzene Chemical compound CCOC(C)C1=CC=CC=C1 MVTKJCAAJPVUHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UTBWZYCUAYXAKT-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxyheptane Chemical compound CCCCCCCOCC UTBWZYCUAYXAKT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZXHQLEQLZPJIFG-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxyhexane Chemical compound CCCCCCOCC ZXHQLEQLZPJIFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BCHGIXRCMJWXGE-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxynonane Chemical compound CCCCCCCCCOCC BCHGIXRCMJWXGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WJVJBXHEMGVIMM-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxyoctane Chemical compound CCCCCCCCOCC WJVJBXHEMGVIMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VDMXPMYSWFDBJB-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypentane Chemical compound CCCCCOCC VDMXPMYSWFDBJB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NVJUHMXYKCUMQA-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropane Chemical compound CCCOCC NVJUHMXYKCUMQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AUEXYQKWVYHBHO-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxyundecane Chemical compound CCCCCCCCCCCOCC AUEXYQKWVYHBHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CJPMTERFYWOPFR-UHFFFAOYSA-N 1-heptoxydecane Chemical compound CCCCCCCCCCOCCCCCCC CJPMTERFYWOPFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHZSQQNCSWUBJU-UHFFFAOYSA-N 1-heptoxyethylbenzene Chemical compound CCCCCCCOC(C)C1=CC=CC=C1 VHZSQQNCSWUBJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXHWJILFBPXYTF-UHFFFAOYSA-N 1-heptoxynonane Chemical compound CCCCCCCCCOCCCCCCC WXHWJILFBPXYTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNRDISIPQGJEFE-UHFFFAOYSA-N 1-heptoxyoctane Chemical compound CCCCCCCCOCCCCCCC SNRDISIPQGJEFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ANZDLPHEZHHGBH-UHFFFAOYSA-N 1-hexoxydecane Chemical compound CCCCCCCCCCOCCCCCC ANZDLPHEZHHGBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MCOIXLKOYZQSGS-UHFFFAOYSA-N 1-hexoxyethylbenzene Chemical compound CCCCCCOC(C)C1=CC=CC=C1 MCOIXLKOYZQSGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNHXCAOHDPRJML-UHFFFAOYSA-N 1-hexoxyheptane Chemical group CCCCCCCOCCCCCC PNHXCAOHDPRJML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPIUIOXAFBGMNB-UHFFFAOYSA-N 1-hexoxyhexane Chemical compound CCCCCCOCCCCCC BPIUIOXAFBGMNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PFBGAPDKJFEGOV-UHFFFAOYSA-N 1-hexoxynonane Chemical compound CCCCCCCCCOCCCCCC PFBGAPDKJFEGOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KUTWKGLRMXBROO-UHFFFAOYSA-N 1-hexoxyoctane Chemical compound CCCCCCCCOCCCCCC KUTWKGLRMXBROO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XFALGLQQBRKCCV-UHFFFAOYSA-N 1-hexoxyundecane Chemical compound CCCCCCCCCCCOCCCCCC XFALGLQQBRKCCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNVSQDIUCDEMME-UHFFFAOYSA-N 1-methoxy-4-(1-phenylethoxymethyl)benzene Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1COC(C)C1=CC=CC=C1 GNVSQDIUCDEMME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYUFTZYQGYZIIJ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxy-4-(2-methoxyethoxymethyl)benzene Chemical compound COCCOCC1=CC=C(OC)C=C1 QYUFTZYQGYZIIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSOYRXBYZFBWFS-UHFFFAOYSA-N 1-methoxy-4-(methoxymethyl)benzene Chemical compound COCC1=CC=C(OC)C=C1 RSOYRXBYZFBWFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UYQBQYJDWQIJEP-UHFFFAOYSA-N 1-methoxy-4-(octoxymethyl)benzene Chemical compound CCCCCCCCOCC1=CC=C(OC)C=C1 UYQBQYJDWQIJEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ACLBPOYHWBIGOF-UHFFFAOYSA-N 1-methoxy-4-(phenylmethoxymethyl)benzene Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1COCC1=CC=CC=C1 ACLBPOYHWBIGOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYGNRNUFDOPLEL-UHFFFAOYSA-N 1-methoxy-4-(propan-2-yloxymethyl)benzene Chemical compound COC1=CC=C(COC(C)C)C=C1 YYGNRNUFDOPLEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GFEXEPNCVSDTTI-UHFFFAOYSA-N 1-methoxy-4-(propoxymethyl)benzene Chemical compound CCCOCC1=CC=C(OC)C=C1 GFEXEPNCVSDTTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDHWYGDYCVPLAV-UHFFFAOYSA-N 1-methoxy-4-(undecoxymethyl)benzene Chemical compound CCCCCCCCCCCOCC1=CC=C(OC)C=C1 ZDHWYGDYCVPLAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CXBDYQVECUFKRK-UHFFFAOYSA-N 1-methoxybutane Chemical compound CCCCOC CXBDYQVECUFKRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JPEWDCTZJFUITH-UHFFFAOYSA-N 1-methoxydecane Chemical compound CCCCCCCCCCOC JPEWDCTZJFUITH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PLKSMSKTENNPEJ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxyethylbenzene Chemical compound COC(C)C1=CC=CC=C1 PLKSMSKTENNPEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GTQXEQRIVGXSAE-UHFFFAOYSA-N 1-methoxyheptane Chemical compound CCCCCCCOC GTQXEQRIVGXSAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RIAWWRJHTAZJSU-UHFFFAOYSA-N 1-methoxyoctane Chemical compound CCCCCCCCOC RIAWWRJHTAZJSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBUJFULDVAZULB-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypentane Chemical compound CCCCCOC DBUJFULDVAZULB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FBLLWAUEWCBESD-UHFFFAOYSA-N 1-methoxyundecane Chemical compound CCCCCCCCCCCOC FBLLWAUEWCBESD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BBTXAVUPINPZGV-UHFFFAOYSA-N 1-nonoxydecane Chemical compound CCCCCCCCCCOCCCCCCCCC BBTXAVUPINPZGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKZRLCHWDNEKRH-UHFFFAOYSA-N 1-nonoxynonane Chemical compound CCCCCCCCCOCCCCCCCCC DKZRLCHWDNEKRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JTMCWRRFMWDSDR-UHFFFAOYSA-N 1-nonoxyundecane Chemical compound CCCCCCCCCCCOCCCCCCCCC JTMCWRRFMWDSDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTWPHTDACLVGMG-UHFFFAOYSA-N 1-octoxydecane Chemical compound CCCCCCCCCCOCCCCCCCC BTWPHTDACLVGMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OCBDKFXXTFIAMD-UHFFFAOYSA-N 1-octoxyethylbenzene Chemical compound CCCCCCCCOC(C)C1=CC=CC=C1 OCBDKFXXTFIAMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYBQYQOMBVAHKF-UHFFFAOYSA-N 1-octoxynonane Chemical compound CCCCCCCCCOCCCCCCCC OYBQYQOMBVAHKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODRIVAKEZDEREZ-UHFFFAOYSA-N 1-octoxyundecane Chemical compound CCCCCCCCCCCOCCCCCCCC ODRIVAKEZDEREZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CYUXNNBUIUGQFS-UHFFFAOYSA-N 1-pentoxydecane Chemical compound CCCCCCCCCCOCCCCC CYUXNNBUIUGQFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ABMGECRLBPHGSD-UHFFFAOYSA-N 1-pentoxyhexane Chemical compound CCCCCCOCCCCC ABMGECRLBPHGSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZRBYBGNTYSYFBP-UHFFFAOYSA-N 1-pentoxynonane Chemical compound CCCCCCCCCOCCCCC ZRBYBGNTYSYFBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MGMNBYYYZOLNOK-UHFFFAOYSA-N 1-pentoxyoctane Chemical compound CCCCCCCCOCCCCC MGMNBYYYZOLNOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AOPDRZXCEAKHHW-UHFFFAOYSA-N 1-pentoxypentane Chemical compound CCCCCOCCCCC AOPDRZXCEAKHHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ABSZVJQGXRBMSM-UHFFFAOYSA-N 1-pentoxyundecane Chemical compound CCCCCCCCCCCOCCCCC ABSZVJQGXRBMSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WAPNOHKVXSQRPX-UHFFFAOYSA-N 1-phenylethanol Chemical compound CC(O)C1=CC=CC=C1 WAPNOHKVXSQRPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCXOWXKXHAQXJT-UHFFFAOYSA-N 1-phenylethoxymethylbenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C)OCC1=CC=CC=C1 HCXOWXKXHAQXJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GPDFVOVLOXMSBT-UHFFFAOYSA-N 1-propan-2-yloxybutane Chemical compound CCCCOC(C)C GPDFVOVLOXMSBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GMABTASVJDBTFW-UHFFFAOYSA-N 1-propan-2-yloxydecane Chemical compound CCCCCCCCCCOC(C)C GMABTASVJDBTFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KLOUCDOOJZGJFJ-UHFFFAOYSA-N 1-propan-2-yloxyethylbenzene Chemical compound CC(C)OC(C)C1=CC=CC=C1 KLOUCDOOJZGJFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WIIUCLUZPJEOKZ-UHFFFAOYSA-N 1-propan-2-yloxyheptane Chemical compound CCCCCCCOC(C)C WIIUCLUZPJEOKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RFMZJYFXGWPOSR-UHFFFAOYSA-N 1-propan-2-yloxyhexane Chemical compound CCCCCCOC(C)C RFMZJYFXGWPOSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOVVXCYEVFEFHR-UHFFFAOYSA-N 1-propan-2-yloxyoctane Chemical compound CCCCCCCCOC(C)C ZOVVXCYEVFEFHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDUGUUVTGOZJQR-UHFFFAOYSA-N 1-propan-2-yloxypentane Chemical compound CCCCCOC(C)C FDUGUUVTGOZJQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIEJJGMNDWIGBJ-UHFFFAOYSA-N 1-propan-2-yloxypropane Chemical compound CCCOC(C)C JIEJJGMNDWIGBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GXCATGPGMYQKNC-UHFFFAOYSA-N 1-propan-2-yloxyundecane Chemical compound CCCCCCCCCCCOC(C)C GXCATGPGMYQKNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YGZQJYIITOMTMD-UHFFFAOYSA-N 1-propoxybutane Chemical compound CCCCOCCC YGZQJYIITOMTMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHXCUKIHMLHWQT-UHFFFAOYSA-N 1-propoxydecane Chemical compound CCCCCCCCCCOCCC NHXCUKIHMLHWQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BHHQDDHLWBEJLT-UHFFFAOYSA-N 1-propoxyethylbenzene Chemical compound CCCOC(C)C1=CC=CC=C1 BHHQDDHLWBEJLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DOYXDCAHTUMXDF-UHFFFAOYSA-N 1-propoxyheptane Chemical compound CCCCCCCOCCC DOYXDCAHTUMXDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLQBXJSLMWXEFL-UHFFFAOYSA-N 1-propoxyhexane Chemical compound CCCCCCOCCC JLQBXJSLMWXEFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KPFDWNLAMXJSNJ-UHFFFAOYSA-N 1-propoxyoctane Chemical compound CCCCCCCCOCCC KPFDWNLAMXJSNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DMUSSSYUUUYJRM-UHFFFAOYSA-N 1-propoxypentane Chemical compound CCCCCOCCC DMUSSSYUUUYJRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NCMZDXVRNJIRCL-UHFFFAOYSA-N 1-propoxyundecane Chemical compound CCCCCCCCCCCOCCC NCMZDXVRNJIRCL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004214 1-pyrrolidinyl group Chemical group [H]C1([H])N(*)C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- AKYZLKZVQUADEQ-UHFFFAOYSA-N 2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-pentadecafluorooctyl heptane-1-sulfonate Chemical compound C(CCCCCC)S(=O)(=O)OCC(C(C(C(C(C(C(F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F AKYZLKZVQUADEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UTFRXHNWUFPRPQ-UHFFFAOYSA-N 2,3-dichloro-1-methyl-4-propan-2-ylbenzene;ruthenium(2+) Chemical compound [Ru+2].CC(C)C1=CC=C(C)C(Cl)=C1Cl UTFRXHNWUFPRPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UWKQJZCTQGMHKD-UHFFFAOYSA-N 2,6-di-tert-butylpyridine Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC(C(C)(C)C)=N1 UWKQJZCTQGMHKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAXIUZFXLOZILE-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)propane Chemical compound COCCOC(C)C OAXIUZFXLOZILE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIXFYLPLEJGUHD-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxymethyl)furan Chemical compound COCCOCC1=CC=CO1 ZIXFYLPLEJGUHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTXPPAIGLXEKKV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxymethyl)thiophene Chemical compound COCCOCC1=CC=CS1 CTXPPAIGLXEKKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GANSPRKOWQQXPE-UHFFFAOYSA-N 2-(Methoxymethyl)furan Chemical compound COCC1=CC=CO1 GANSPRKOWQQXPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YPDABMXTZAZGFC-UHFFFAOYSA-N 2-(butoxymethyl)furan Chemical compound CCCCOCC1=CC=CO1 YPDABMXTZAZGFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXGFYOOUMPYSNV-UHFFFAOYSA-N 2-(butoxymethyl)thiophene Chemical compound CCCCOCC1=CC=CS1 OXGFYOOUMPYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHDRDYBKJAJKN-UHFFFAOYSA-N 2-(cyclohexyloxymethyl)furan Chemical compound C=1C=COC=1COC1CCCCC1 JAHDRDYBKJAJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YKUURKSYFZTSTO-UHFFFAOYSA-N 2-(cyclopentyloxymethyl)furan Chemical compound C=1C=COC=1COC1CCCC1 YKUURKSYFZTSTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZRDCQNBWTLOOTI-UHFFFAOYSA-N 2-(decoxymethyl)thiophene Chemical compound C(CCCCCCCCC)OCC=1SC=CC1 ZRDCQNBWTLOOTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BHGBNDNKYPEAAT-UHFFFAOYSA-N 2-(ethoxymethyl)furan Chemical compound CCOCC1=CC=CO1 BHGBNDNKYPEAAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VPPZLNXMZUSDEN-UHFFFAOYSA-N 2-(heptoxymethyl)furan Chemical compound CCCCCCCOCC1=CC=CO1 VPPZLNXMZUSDEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CVBAEEJNQSIKDN-UHFFFAOYSA-N 2-(heptoxymethyl)thiophene Chemical compound C(CCCCCC)OCC=1SC=CC1 CVBAEEJNQSIKDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AINKZIUYDMXGRE-UHFFFAOYSA-N 2-(hexoxymethyl)furan Chemical compound CCCCCCOCC1=CC=CO1 AINKZIUYDMXGRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KYDRIVBWMCINJA-UHFFFAOYSA-N 2-(hexoxymethyl)thiophene Chemical compound CCCCCCOCC1=CC=CS1 KYDRIVBWMCINJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JDJSUWZCWCHVKA-UHFFFAOYSA-N 2-(nonoxymethyl)thiophene Chemical compound C(CCCCCCCC)OCC=1SC=CC1 JDJSUWZCWCHVKA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVGPYEZXTPJJQS-UHFFFAOYSA-N 2-(octoxymethyl)furan Chemical compound CCCCCCCCOCc1ccco1 LVGPYEZXTPJJQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JUGPCZNWTCHSCP-UHFFFAOYSA-N 2-(octoxymethyl)thiophene Chemical compound C(CCCCCCC)OCC=1SC=CC1 JUGPCZNWTCHSCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LAGRXOWKWYUCQK-UHFFFAOYSA-N 2-(pentoxymethyl)furan Chemical compound CCCCCOCC1=CC=CO1 LAGRXOWKWYUCQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JWENYUWRDOTMGQ-UHFFFAOYSA-N 2-(pentoxymethyl)thiophene Chemical compound CCCCCOCC1=CC=CS1 JWENYUWRDOTMGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BSHHCBWYUHWFEC-UHFFFAOYSA-N 2-(phenylmethoxymethyl)furan Chemical compound C=1C=COC=1COCC1=CC=CC=C1 BSHHCBWYUHWFEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YFXDUXSCNGJSKQ-UHFFFAOYSA-N 2-(phenylmethoxymethyl)thiophene Chemical compound C=1C=CSC=1COCC1=CC=CC=C1 YFXDUXSCNGJSKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GMKFUBVHOBTLDD-UHFFFAOYSA-N 2-(propan-2-yloxymethyl)furan Chemical compound CC(C)OCC1=CC=CO1 GMKFUBVHOBTLDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AHRXDCTUDKDFGG-UHFFFAOYSA-N 2-(propoxymethyl)furan Chemical compound CCCOCC1=CC=CO1 AHRXDCTUDKDFGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AAZLWQGCJMSOBM-UHFFFAOYSA-N 2-(propoxymethyl)thiophene Chemical compound CCCOCC1=CC=CS1 AAZLWQGCJMSOBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BYOFANAPNRNQGN-UHFFFAOYSA-N 2-(undecoxymethyl)thiophene Chemical compound C(CCCCCCCCCC)OCC=1SC=CC1 BYOFANAPNRNQGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOFPPJOZXUTRAU-UHFFFAOYSA-N 2-Ethyl-1-hexanol Natural products CCCCC(O)CCC WOFPPJOZXUTRAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FNRMMDCDHWCQTH-UHFFFAOYSA-N 2-chloropyridine;3-chloropyridine;4-chloropyridine Chemical compound ClC1=CC=NC=C1.ClC1=CC=CN=C1.ClC1=CC=CC=N1 FNRMMDCDHWCQTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIWUKEYIRIRTPP-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexan-1-ol Chemical compound CCCCC(CC)CO YIWUKEYIRIRTPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ONPHBYICPJZGCK-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexoxymethylbenzene Chemical compound CCCCC(CC)COCC1=CC=CC=C1 ONPHBYICPJZGCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VELIPZRRTDLWMZ-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethoxycyclohexane Chemical compound COCCOC1CCCCC1 VELIPZRRTDLWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QHGZNGRUGQRPLL-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethoxycyclopentane Chemical compound COCCOC1CCCC1 QHGZNGRUGQRPLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBSQOKFFZZKPFM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethoxymethylbenzene Chemical compound COCCOCC1=CC=CC=C1 XBSQOKFFZZKPFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CVNZSJUGKQIBRL-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethoxymethylcyclohexane Chemical compound COCCOCC1CCCCC1 CVNZSJUGKQIBRL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVOALAVFPGCEFA-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethoxymethylcyclopentane Chemical compound COCCOCC1CCCC1 AVOALAVFPGCEFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RMGHERXMTMUMMV-UHFFFAOYSA-N 2-methoxypropane Chemical compound COC(C)C RMGHERXMTMUMMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IWTFOFMTUOBLHG-UHFFFAOYSA-N 2-methoxypyridine Chemical compound COC1=CC=CC=N1 IWTFOFMTUOBLHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XWKFPIODWVPXLX-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-5-methylpyridine Natural products CC1=CC=C(C)N=C1 XWKFPIODWVPXLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BSKHPKMHTQYZBB-UHFFFAOYSA-N 2-methylpyridine Chemical compound CC1=CC=CC=N1 BSKHPKMHTQYZBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- YHCCCMIWRBJYHG-UHFFFAOYSA-N 3-(2-ethylhexoxymethyl)heptane Chemical compound CCCCC(CC)COCC(CC)CCCC YHCCCMIWRBJYHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SXZWRCJLTLTOGY-UHFFFAOYSA-N 3-(2-methoxyethoxymethyl)heptane Chemical compound CCCCC(CC)COCCOC SXZWRCJLTLTOGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XIUZCZSOJYCCTG-UHFFFAOYSA-N 3-(butoxymethyl)heptane Chemical compound CCCCOCC(CC)CCCC XIUZCZSOJYCCTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GUWMIMDSGCRWSR-UHFFFAOYSA-N 3-(ethoxymethyl)heptane Chemical compound CCCCC(CC)COCC GUWMIMDSGCRWSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GHELFJAOGDOBQK-UHFFFAOYSA-N 3-(hexoxymethyl)heptane Chemical compound CCCCCCOCC(CC)CCCC GHELFJAOGDOBQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SHUGUNYYEAYLKM-UHFFFAOYSA-N 3-(methoxymethyl)heptane Chemical compound CCCCC(CC)COC SHUGUNYYEAYLKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJYSAYWYJMAFQZ-UHFFFAOYSA-N 3-(pentoxymethyl)heptane Chemical compound CCCCCOCC(CC)CCCC ZJYSAYWYJMAFQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GQQHEKOOHGFEED-UHFFFAOYSA-N 3-(propan-2-yloxymethyl)heptane Chemical compound CCCCC(CC)COC(C)C GQQHEKOOHGFEED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NQSVIBDVQSZDTL-UHFFFAOYSA-N 3-(propoxymethyl)heptane Chemical compound CCCCC(CC)COCCC NQSVIBDVQSZDTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000474 3-butynyl group Chemical group [H]C#CC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- RYKLZUPYJFFNRR-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxypiperidin-2-one Chemical compound OC1CCCNC1=O RYKLZUPYJFFNRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006201 3-phenylpropyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- WOAGDWWRYOZHDS-UHFFFAOYSA-N 4,4,5,5,6,6-hexafluoro-1,3,2-dithiazinane 1,1,3,3-tetraoxide Chemical compound FC1(F)C(F)(F)S(=O)(=O)NS(=O)(=O)C1(F)F WOAGDWWRYOZHDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UNDXPKDBFOOQFC-UHFFFAOYSA-N 4-[2-nitro-4-(trifluoromethyl)phenyl]morpholine Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC(C(F)(F)F)=CC=C1N1CCOCC1 UNDXPKDBFOOQFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006181 4-methyl benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- QJMYXHKGEGNLED-UHFFFAOYSA-N 5-(2-hydroxyethylamino)-1h-pyrimidine-2,4-dione Chemical compound OCCNC1=CNC(=O)NC1=O QJMYXHKGEGNLED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006043 5-hexenyl group Chemical group 0.000 description 1
- IXMGQFFCCHXBED-UHFFFAOYSA-M C(C(C(C(F)(F)F)(F)F)(F)F)(C(C(C(F)(F)S(=O)(=O)[O-])(F)F)(F)F)(F)F.[Ag+] Chemical compound C(C(C(C(F)(F)F)(F)F)(F)F)(C(C(C(F)(F)S(=O)(=O)[O-])(F)F)(F)F)(F)F.[Ag+] IXMGQFFCCHXBED-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ZZSYSTWCDBCGKL-UHFFFAOYSA-M C(C(C(C(F)(F)S(=O)(=O)[O-])(F)F)(F)F)(C(C(F)(F)F)(F)F)(F)F.[Ag+] Chemical compound C(C(C(C(F)(F)S(=O)(=O)[O-])(F)F)(F)F)(C(C(F)(F)F)(F)F)(F)F.[Ag+] ZZSYSTWCDBCGKL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- RBWPHESCZZAPEN-UHFFFAOYSA-M C(C(C(F)(F)F)(F)F)(C(C(F)(F)S(=O)(=O)[O-])(F)F)(F)F.[Ag+] Chemical compound C(C(C(F)(F)F)(F)F)(C(C(F)(F)S(=O)(=O)[O-])(F)F)(F)F.[Ag+] RBWPHESCZZAPEN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- MLZYFCKISCCHAX-UHFFFAOYSA-N C(C)C(COC1CCCC1)CCCC Chemical compound C(C)C(COC1CCCC1)CCCC MLZYFCKISCCHAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NMQONFOECNFFFJ-UHFFFAOYSA-N C(C)C(COCC1=CC=C(C=C1)Cl)CCCC Chemical compound C(C)C(COCC1=CC=C(C=C1)Cl)CCCC NMQONFOECNFFFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SQNHLGGLIVGXGO-UHFFFAOYSA-N C(C)C(COCCCCCCCCCCC)CCCC Chemical compound C(C)C(COCCCCCCCCCCC)CCCC SQNHLGGLIVGXGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CIPQYQIMVKIBFR-UHFFFAOYSA-N C(CCCCCCCC)OCC1CCCC1 Chemical compound C(CCCCCCCC)OCC1CCCC1 CIPQYQIMVKIBFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIUSROPFBOLFSH-UHFFFAOYSA-N C(CCCCCCCC)OCC1CCCCC1 Chemical compound C(CCCCCCCC)OCC1CCCCC1 NIUSROPFBOLFSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DZKZUGPYXQKWER-UHFFFAOYSA-N C(CCCCCCCCC)OCC1=CC=C(C=C1)Cl Chemical compound C(CCCCCCCCC)OCC1=CC=C(C=C1)Cl DZKZUGPYXQKWER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSQRLWYUWOFVIA-UHFFFAOYSA-N C(OC1CCCCC1)C1=CC=CS1 Chemical compound C(OC1CCCCC1)C1=CC=CS1 LSQRLWYUWOFVIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QXPCMCHYMIKHSX-UHFFFAOYSA-N C1(=CC=CC=C1)C(C)OCC(CCCC)CC Chemical compound C1(=CC=CC=C1)C(C)OCC(CCCC)CC QXPCMCHYMIKHSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFOXQPPCTLRTHM-UHFFFAOYSA-N C1(=CC=CC=C1)C(C)OCCCCCCCCC Chemical compound C1(=CC=CC=C1)C(C)OCCCCCCCCC WFOXQPPCTLRTHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FBBUDLUDOGDJGF-UHFFFAOYSA-N C1(=CC=CC=C1)C(C)OCCCCCCCCCC Chemical compound C1(=CC=CC=C1)C(C)OCCCCCCCCCC FBBUDLUDOGDJGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MXLWONKTDZORHE-UHFFFAOYSA-N C1(=CC=CC=C1)C(C)OCCCCCCCCCCC Chemical compound C1(=CC=CC=C1)C(C)OCCCCCCCCCCC MXLWONKTDZORHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZENYFXQPHUAFK-UHFFFAOYSA-N C1(CCCC1)COCCCCCCC Chemical compound C1(CCCC1)COCCCCCCC BZENYFXQPHUAFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POMJOSBKIDTKHN-UHFFFAOYSA-N C1(CCCC1)COCCCCCCCC Chemical compound C1(CCCC1)COCCCCCCCC POMJOSBKIDTKHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DUCJFLKESRCAFQ-UHFFFAOYSA-N C1(CCCC1)COCCCCCCCCCC Chemical compound C1(CCCC1)COCCCCCCCCCC DUCJFLKESRCAFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QLZUONZXAJKSHC-UHFFFAOYSA-N C1(CCCC1)OCCCCCCCCC Chemical compound C1(CCCC1)OCCCCCCCCC QLZUONZXAJKSHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JQHJEBGNELZHQY-UHFFFAOYSA-N C1(CCCCC1)COCC1=CC=C(C=C1)OC Chemical compound C1(CCCCC1)COCC1=CC=C(C=C1)OC JQHJEBGNELZHQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PPVYBEWOGNOODM-UHFFFAOYSA-N C1(CCCCC1)COCCCCCCC Chemical compound C1(CCCCC1)COCCCCCCC PPVYBEWOGNOODM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PSCHLNFQJHNWSA-UHFFFAOYSA-N C1(CCCCC1)COCCCCCCCCCC Chemical compound C1(CCCCC1)COCCCCCCCCCC PSCHLNFQJHNWSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZEZRIXOEVJSDI-UHFFFAOYSA-N C1(CCCCC1)OCC(CCCC)CC Chemical compound C1(CCCCC1)OCC(CCCC)CC HZEZRIXOEVJSDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEZLNVVXPRAULT-UHFFFAOYSA-N C1=CC(OC)=CC=C1COCC1=CC=CO1 Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1COCC1=CC=CO1 VEZLNVVXPRAULT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVXOZWDOOJUJRR-UHFFFAOYSA-N C1=CC=C(C=C1)C(OCC2=CC=CS2)Cl Chemical compound C1=CC=C(C=C1)C(OCC2=CC=CS2)Cl RVXOZWDOOJUJRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QERVQTPYFDCHQM-UHFFFAOYSA-N C1=COC(=C1)COCC2=CC=C(C=C2)Cl Chemical compound C1=COC(=C1)COCC2=CC=C(C=C2)Cl QERVQTPYFDCHQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KUGVOGCISCJSGP-UHFFFAOYSA-N C1CCC(C1)COC2CCCC2 Chemical compound C1CCC(C1)COC2CCCC2 KUGVOGCISCJSGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SILFVUQWUNJKHN-UHFFFAOYSA-N C1CCC(C1)COCC2=CC=C(C=C2)Cl Chemical compound C1CCC(C1)COCC2=CC=C(C=C2)Cl SILFVUQWUNJKHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FZRAMGHQJHQMHS-UHFFFAOYSA-N C1CCC(C1)COCC2=CC=CO2 Chemical compound C1CCC(C1)COCC2=CC=CO2 FZRAMGHQJHQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- INDSWOMXCJDLNK-UHFFFAOYSA-N C1CCC(C1)COCC2=CC=CS2 Chemical compound C1CCC(C1)COCC2=CC=CS2 INDSWOMXCJDLNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KZPLFNJZWFBPCW-UHFFFAOYSA-N C1CCC(CC1)COCC2=CC=C(C=C2)Cl Chemical compound C1CCC(CC1)COCC2=CC=C(C=C2)Cl KZPLFNJZWFBPCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBYWDJXXCGZNAX-UHFFFAOYSA-N C1CCC(CC1)COCC2=CC=CO2 Chemical compound C1CCC(CC1)COCC2=CC=CO2 XBYWDJXXCGZNAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003358 C2-C20 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- WIJVVTQRAZHPDM-UHFFFAOYSA-N CC(C1=CC=CC=C1)OCC2=CC=CO2 Chemical compound CC(C1=CC=CC=C1)OCC2=CC=CO2 WIJVVTQRAZHPDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HMYVBJQJUAMEHS-UHFFFAOYSA-N CC(C1=CC=CC=C1)OCC2=CC=CS2 Chemical compound CC(C1=CC=CC=C1)OCC2=CC=CS2 HMYVBJQJUAMEHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVLTVILSYOWFRM-UHFFFAOYSA-L CC1=C(C)C(C)([Rh](Cl)Cl)C(C)=C1C Chemical compound CC1=C(C)C(C)([Rh](Cl)Cl)C(C)=C1C QVLTVILSYOWFRM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- JECBKVGQMWDIHT-UHFFFAOYSA-N CCCCC(CC)COCC1CCCC1 Chemical compound CCCCC(CC)COCC1CCCC1 JECBKVGQMWDIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XPABFXODGFPORR-UHFFFAOYSA-N CCCCC(CC)COCC1CCCCC1 Chemical compound CCCCC(CC)COCC1CCCCC1 XPABFXODGFPORR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBYOZHJEMDCIJZ-UHFFFAOYSA-N CCCCCCCCCCCOCC1=CC=CO1 Chemical compound CCCCCCCCCCCOCC1=CC=CO1 DBYOZHJEMDCIJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZPVSKFKYRYBQQU-UHFFFAOYSA-N CCCCCCCCCCOCC1=CC=CO1 Chemical compound CCCCCCCCCCOCC1=CC=CO1 ZPVSKFKYRYBQQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RAWSJPUJTKMIPX-UHFFFAOYSA-N CCCCCCCCCOCC1=CC=CO1 Chemical compound CCCCCCCCCOCC1=CC=CO1 RAWSJPUJTKMIPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RBQDTGXYNTVYHV-UHFFFAOYSA-N CN(C1C2CCCC1)C=[N]2(c1ncccc1)=C Chemical compound CN(C1C2CCCC1)C=[N]2(c1ncccc1)=C RBQDTGXYNTVYHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZABOKTPKTHYZPX-UHFFFAOYSA-N COC1=CC=C(COCCCCCCCCC)C=C1 Chemical compound COC1=CC=C(COCCCCCCCCC)C=C1 ZABOKTPKTHYZPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LTMVBBZEPYUYRA-UHFFFAOYSA-N COCCOCC1=CC=C(C=C1)Cl Chemical compound COCCOCC1=CC=C(C=C1)Cl LTMVBBZEPYUYRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WQSDTYGPZVEZQL-UHFFFAOYSA-N ClC1=CC=C(COC(C)C2=CC=CC=C2)C=C1 Chemical compound ClC1=CC=C(COC(C)C2=CC=CC=C2)C=C1 WQSDTYGPZVEZQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NWXMBZWRERCNOE-UHFFFAOYSA-N ClC1=CC=C(COCCCCCCCCC)C=C1 Chemical compound ClC1=CC=C(COCCCCCCCCC)C=C1 NWXMBZWRERCNOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJHHIJFTHRNPIK-UHFFFAOYSA-N Diphenyl sulfoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1S(=O)C1=CC=CC=C1 JJHHIJFTHRNPIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGRVEPLJSQNWDY-UHFFFAOYSA-L I[Ir](C1(C(=C(C(=C1C)C)C)C)C)I Chemical compound I[Ir](C1(C(=C(C(=C1C)C)C)C)C)I KGRVEPLJSQNWDY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- ONIBWKKTOPOVIA-BYPYZUCNSA-N L-Proline Chemical compound OC(=O)[C@@H]1CCCN1 ONIBWKKTOPOVIA-BYPYZUCNSA-N 0.000 description 1
- 229930182821 L-proline Natural products 0.000 description 1
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOBKSJJDNFUZPF-UHFFFAOYSA-N Methoxyethane Chemical compound CCOC XOBKSJJDNFUZPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ICBJCVRQDSQPGI-UHFFFAOYSA-N Methyl hexyl ether Chemical compound CCCCCCOC ICBJCVRQDSQPGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 1
- DALCPDRQJKYORB-UHFFFAOYSA-N S1C(=CC=C1)COCC(CCCC)CC Chemical compound S1C(=CC=C1)COCC(CCCC)CC DALCPDRQJKYORB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUKJLQWHBDTCTL-UHFFFAOYSA-N S1C(=CC=C1)COCC1CCCCC1 Chemical compound S1C(=CC=C1)COCC1CCCCC1 FUKJLQWHBDTCTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WTEXLJDXQJYLSY-UHFFFAOYSA-N [Ag].CCCCCCCCCCCCOS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 Chemical compound [Ag].CCCCCCCCCCCCOS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 WTEXLJDXQJYLSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004480 active ingredient Substances 0.000 description 1
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 239000003905 agrochemical Substances 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000002152 alkylating effect Effects 0.000 description 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940059260 amidate Drugs 0.000 description 1
- 125000001204 arachidyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- NDWWOISDNSYBCH-UHFFFAOYSA-L benzene;dichlororuthenium Chemical compound Cl[Ru]Cl.C1=CC=CC=C1 NDWWOISDNSYBCH-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-M benzenesulfonate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940077388 benzenesulfonate Drugs 0.000 description 1
- 125000001164 benzothiazolyl group Chemical group S1C(=NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- 125000004541 benzoxazolyl group Chemical group O1C(=NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- FFBHFFJDDLITSX-UHFFFAOYSA-N benzyl N-[2-hydroxy-4-(3-oxomorpholin-4-yl)phenyl]carbamate Chemical compound OC1=C(NC(=O)OCC2=CC=CC=C2)C=CC(=C1)N1CCOCC1=O FFBHFFJDDLITSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UQWLFOMXECTXNQ-UHFFFAOYSA-N bis(trifluoromethylsulfonyl)methylsulfonyl-trifluoromethane Chemical compound FC(F)(F)S(=O)(=O)[C-](S(=O)(=O)C(F)(F)F)S(=O)(=O)C(F)(F)F UQWLFOMXECTXNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001273 butane Substances 0.000 description 1
- GKRALBJDXHXFNB-UHFFFAOYSA-N butoxycyclohexane Chemical compound CCCCOC1CCCCC1 GKRALBJDXHXFNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LALHWYBLLSTBLQ-UHFFFAOYSA-N butoxycyclopentane Chemical compound CCCCOC1CCCC1 LALHWYBLLSTBLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MAYUYFCAPVDYBQ-UHFFFAOYSA-N butoxymethylbenzene Chemical compound CCCCOCC1=CC=CC=C1 MAYUYFCAPVDYBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KYMSHGOUYXCZJI-UHFFFAOYSA-N butoxymethylcyclopentane Chemical compound CCCCOCC1CCCC1 KYMSHGOUYXCZJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- KVNRLNFWIYMESJ-UHFFFAOYSA-N butyronitrile Chemical compound CCCC#N KVNRLNFWIYMESJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004063 butyryl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 125000000259 cinnolinyl group Chemical group N1=NC(=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- GBRBMTNGQBKBQE-UHFFFAOYSA-L copper;diiodide Chemical compound I[Cu]I GBRBMTNGQBKBQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 1
- HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N cyclohexanol Chemical compound OC1CCCCC1 HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VSSAZBXXNIABDN-UHFFFAOYSA-N cyclohexylmethanol Chemical compound OCC1CCCCC1 VSSAZBXXNIABDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YNHZUHGHPICDDW-UHFFFAOYSA-N cyclohexylmethoxycyclohexane Chemical compound C1CCCCC1COC1CCCCC1 YNHZUHGHPICDDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RDAOUVWCVNAGHI-UHFFFAOYSA-N cyclohexylmethoxymethylcyclohexane Chemical compound C1CCCCC1COCC1CCCCC1 RDAOUVWCVNAGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OCDXZFSOHJRGIL-UHFFFAOYSA-N cyclohexyloxycyclohexane Chemical compound C1CCCCC1OC1CCCCC1 OCDXZFSOHJRGIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XCIXKGXIYUWCLL-UHFFFAOYSA-N cyclopentanol Chemical compound OC1CCCC1 XCIXKGXIYUWCLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISQVBYGGNVVVHB-UHFFFAOYSA-N cyclopentylmethanol Chemical compound OCC1CCCC1 ISQVBYGGNVVVHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZDXYTAEMMHNQY-UHFFFAOYSA-N cyclopentylmethoxycyclohexane Chemical compound C1CCCC1COC1CCCCC1 HZDXYTAEMMHNQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WAIDZGZPOLRGOG-UHFFFAOYSA-N cyclopentylmethoxymethylbenzene Chemical compound C1CCCC1COCC1=CC=CC=C1 WAIDZGZPOLRGOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XURZUVOOXMKDBX-UHFFFAOYSA-N cyclopentylmethoxymethylcyclohexane Chemical compound C1CCCC1COCC1CCCCC1 XURZUVOOXMKDBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IDLIHPVTPXVGEK-UHFFFAOYSA-N cyclopentylmethoxymethylcyclopentane Chemical compound C1CCCC1COCC1CCCC1 IDLIHPVTPXVGEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WWKKBFVZHUKKQZ-UHFFFAOYSA-N cyclopentyloxycyclohexane Chemical compound C1CCCC1OC1CCCCC1 WWKKBFVZHUKKQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOTLEXFFFSMRLQ-UHFFFAOYSA-N cyclopentyloxycyclopentane Chemical compound C1CCCC1OC1CCCC1 BOTLEXFFFSMRLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XQCOUULIMKYHIU-UHFFFAOYSA-N cyclopentyloxymethylbenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1COC1CCCC1 XQCOUULIMKYHIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WEFGRURTBOAUGJ-UHFFFAOYSA-N cyclopentyloxymethylcyclohexane Chemical compound C1CCCCC1COC1CCCC1 WEFGRURTBOAUGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003074 decanoyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 1
- YKPAJSTVQORZSF-UHFFFAOYSA-N decoxycyclohexane Chemical compound CCCCCCCCCCOC1CCCCC1 YKPAJSTVQORZSF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DXYYNGRPGMZZLP-UHFFFAOYSA-N decoxycyclopentane Chemical compound CCCCCCCCCCOC1CCCC1 DXYYNGRPGMZZLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LWQKAKYEXISZJN-UHFFFAOYSA-N decoxymethylbenzene Chemical compound CCCCCCCCCCOCC1=CC=CC=C1 LWQKAKYEXISZJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012024 dehydrating agents Substances 0.000 description 1
- 238000010511 deprotection reaction Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- ONTWLMXCVPCQKQ-UHFFFAOYSA-L dichlororuthenium;1,2,3,4,5,6-hexamethylbenzene Chemical compound Cl[Ru]Cl.CC1=C(C)C(C)=C(C)C(C)=C1C ONTWLMXCVPCQKQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229940028820 didecyl ether Drugs 0.000 description 1
- YEQMNLGBLPBBNI-UHFFFAOYSA-N difurfuryl ether Chemical compound C=1C=COC=1COCC1=CC=CO1 YEQMNLGBLPBBNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YRIUSKIDOIARQF-UHFFFAOYSA-N dodecyl benzenesulfonate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 YRIUSKIDOIARQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940071161 dodecylbenzenesulfonate Drugs 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- CCIVGXIOQKPBKL-UHFFFAOYSA-M ethanesulfonate Chemical compound CCS([O-])(=O)=O CCIVGXIOQKPBKL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- GJJASJCGLOUWAC-UHFFFAOYSA-N ethoxycyclohexane Chemical compound CCOC1CCCCC1 GJJASJCGLOUWAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AOWTYVFGMCEIRN-UHFFFAOYSA-N ethoxycyclopentane Chemical compound CCOC1CCCC1 AOWTYVFGMCEIRN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSTREZKEFIGOHW-UHFFFAOYSA-N ethoxymethylcyclohexane Chemical compound CCOCC1CCCCC1 OSTREZKEFIGOHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PFVZTKZTOMUSGC-UHFFFAOYSA-N ethoxymethylcyclopentane Chemical compound CCOCC1CCCC1 PFVZTKZTOMUSGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NPUKDXXFDDZOKR-LLVKDONJSA-N etomidate Chemical compound CCOC(=O)C1=CN=CN1[C@H](C)C1=CC=CC=C1 NPUKDXXFDDZOKR-LLVKDONJSA-N 0.000 description 1
- 125000003983 fluorenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)* 0.000 description 1
- UQSQSQZYBQSBJZ-UHFFFAOYSA-M fluorosulfonate Chemical compound [O-]S(F)(=O)=O UQSQSQZYBQSBJZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 125000002485 formyl group Chemical group [H]C(*)=O 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000268 heptanoyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- SOQRYZCRYTWZQX-UHFFFAOYSA-N heptoxycyclohexane Chemical compound CCCCCCCOC1CCCCC1 SOQRYZCRYTWZQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QRTXFBUIRCBUID-UHFFFAOYSA-N heptoxycyclopentane Chemical compound CCCCCCCOC1CCCC1 QRTXFBUIRCBUID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URRIMVUDCOMQIT-UHFFFAOYSA-N heptoxymethylbenzene Chemical compound CCCCCCCOCC1=CC=CC=C1 URRIMVUDCOMQIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003104 hexanoyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- HWAZMCKQMLPOIN-UHFFFAOYSA-N hexoxycyclohexane Chemical compound CCCCCCOC1CCCCC1 HWAZMCKQMLPOIN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JZIKUVKAXLVIOZ-UHFFFAOYSA-N hexoxycyclopentane Chemical compound CCCCCCOC1CCCC1 JZIKUVKAXLVIOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBXXPNJELNWJCH-UHFFFAOYSA-N hexoxymethylbenzene Chemical compound CCCCCCOCC1=CC=CC=C1 CBXXPNJELNWJCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VQGMXFYAJQJVSV-UHFFFAOYSA-N hexoxymethylcyclohexane Chemical compound CCCCCCOCC1CCCCC1 VQGMXFYAJQJVSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHDFMZNHFXDGFC-UHFFFAOYSA-N hexoxymethylcyclopentane Chemical compound O(CC1CCCC1)CCCCCC JHDFMZNHFXDGFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 125000003454 indenyl group Chemical group C1(C=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 229910017053 inorganic salt Inorganic materials 0.000 description 1
- INQOMBQAUSQDDS-UHFFFAOYSA-N iodomethane Chemical compound IC INQOMBQAUSQDDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- SZNYYWIUQFZLLT-UHFFFAOYSA-N isopropylmethyl ether Natural products CC(C)COCC(C)C SZNYYWIUQFZLLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005956 isoquinolyl group Chemical group 0.000 description 1
- VDVLPSWVDYJFRW-UHFFFAOYSA-N lithium;bis(fluorosulfonyl)azanide Chemical compound [Li+].FS(=O)(=O)[N-]S(F)(=O)=O VDVLPSWVDYJFRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002960 margaryl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Substances CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GHDIHPNJQVDFBL-UHFFFAOYSA-N methoxycyclohexane Chemical compound COC1CCCCC1 GHDIHPNJQVDFBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GQKZBCPTCWJTAS-UHFFFAOYSA-N methoxymethylbenzene Chemical compound COCC1=CC=CC=C1 GQKZBCPTCWJTAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UXXIFJBQPUDTNK-UHFFFAOYSA-N methoxymethylcyclohexane Chemical compound COCC1CCCCC1 UXXIFJBQPUDTNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DPBRCTOMQAMINP-UHFFFAOYSA-N methoxymethylcyclopentane Chemical compound COCC1CCCC1 DPBRCTOMQAMINP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VNKYTQGIUYNRMY-UHFFFAOYSA-N methoxypropane Chemical compound CCCOC VNKYTQGIUYNRMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004573 morpholin-4-yl group Chemical group N1(CCOCC1)* 0.000 description 1
- IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N n-butane Chemical compound CCCC IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004593 naphthyridinyl group Chemical group N1=C(C=CC2=CC=CN=C12)* 0.000 description 1
- 125000001196 nonadecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001402 nonanoyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- LUZHBLZCTFCXSQ-UHFFFAOYSA-N nonoxycyclohexane Chemical compound CCCCCCCCCOC1CCCCC1 LUZHBLZCTFCXSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOTZDOHZKCYLFS-UHFFFAOYSA-N nonoxymethylbenzene Chemical compound CCCCCCCCCOCC1=CC=CC=C1 ZOTZDOHZKCYLFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940078552 o-xylene Drugs 0.000 description 1
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002801 octanoyl group Chemical group C(CCCCCCC)(=O)* 0.000 description 1
- KBWPMBBIEDAAKA-UHFFFAOYSA-N octoxycyclohexane Chemical compound CCCCCCCCOC1CCCCC1 KBWPMBBIEDAAKA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KEWYKMDDQKVVKV-UHFFFAOYSA-N octoxycyclopentane Chemical compound CCCCCCCCOC1CCCC1 KEWYKMDDQKVVKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NXZJVIKVJAKQOU-UHFFFAOYSA-N octoxymethylbenzene Chemical compound CCCCCCCCOCC1=CC=CC=C1 NXZJVIKVJAKQOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WIOWYWQEIDPSIA-UHFFFAOYSA-N octoxymethylcyclohexane Chemical compound CCCCCCCCOCC1CCCCC1 WIOWYWQEIDPSIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical group 0.000 description 1
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 1
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 description 1
- BHAAPTBBJKJZER-UHFFFAOYSA-N p-anisidine Chemical compound COC1=CC=C(N)C=C1 BHAAPTBBJKJZER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000913 palmityl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- BEZDDPMMPIDMGJ-UHFFFAOYSA-N pentamethylbenzene Chemical compound CC1=CC(C)=C(C)C(C)=C1C BEZDDPMMPIDMGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KKFGCCGNJHIIII-UHFFFAOYSA-N pentoxycyclohexane Chemical compound CCCCCOC1CCCCC1 KKFGCCGNJHIIII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NUJRGNQVUTUOEK-UHFFFAOYSA-N pentoxycyclopentane Chemical compound CCCCCOC1CCCC1 NUJRGNQVUTUOEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSDLTJVQMXAXCA-UHFFFAOYSA-N pentoxymethylbenzene Chemical compound CCCCCOCC1=CC=CC=C1 RSDLTJVQMXAXCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XPZPDNSMSVUZOD-UHFFFAOYSA-N pentoxymethylcyclohexane Chemical compound CCCCCOCC1CCCCC1 XPZPDNSMSVUZOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AKJZEGHWLYSITR-UHFFFAOYSA-N pentoxymethylcyclopentane Chemical compound CCCCCOCC1CCCC1 AKJZEGHWLYSITR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005561 phenanthryl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 1
- 125000004592 phthalazinyl group Chemical group C1(=NN=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 125000000587 piperidin-1-yl group Chemical group [H]C1([H])N(*)C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- XESFGOBWYAMCMB-UHFFFAOYSA-N potassium;bis(1,1,2,2,3,3,4,4,4-nonafluorobutylsulfonyl)azanide Chemical compound [K+].FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)S(=O)(=O)[N-]S(=O)(=O)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F XESFGOBWYAMCMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MHEBVKPOSBNNAC-UHFFFAOYSA-N potassium;bis(fluorosulfonyl)azanide Chemical compound [K+].FS(=O)(=O)[N-]S(F)(=O)=O MHEBVKPOSBNNAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960002429 proline Drugs 0.000 description 1
- XSXHNHNXEICRHE-UHFFFAOYSA-N propan-2-yloxycyclopentane Chemical compound CC(C)OC1CCCC1 XSXHNHNXEICRHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTUCQKRAQSWLOP-UHFFFAOYSA-N propan-2-yloxymethylbenzene Chemical compound CC(C)OCC1=CC=CC=C1 NTUCQKRAQSWLOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LUFGATXNYDTNSB-UHFFFAOYSA-N propan-2-yloxymethylcyclohexane Chemical compound CC(C)OCC1CCCCC1 LUFGATXNYDTNSB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SZZCGGCLORNSPD-UHFFFAOYSA-N propan-2-yloxymethylcyclopentane Chemical compound CC(C)OCC1CCCC1 SZZCGGCLORNSPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001325 propanoyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- FVSKHRXBFJPNKK-UHFFFAOYSA-N propionitrile Chemical compound CCC#N FVSKHRXBFJPNKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MAHQPELWLUTHNP-UHFFFAOYSA-N propoxycyclohexane Chemical compound CCCOC1CCCCC1 MAHQPELWLUTHNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HEPMXJPHYFIYFP-UHFFFAOYSA-N propoxycyclopentane Chemical compound CCCOC1CCCC1 HEPMXJPHYFIYFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RPTKMZRQBREOMV-UHFFFAOYSA-N propoxymethylbenzene Chemical compound CCCOCC1=CC=CC=C1 RPTKMZRQBREOMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RCBAORIALLJJBG-UHFFFAOYSA-N propoxymethylcyclohexane Chemical compound CCCOCC1CCCCC1 RCBAORIALLJJBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IHXUHYYQFHWRLS-UHFFFAOYSA-N propoxymethylcyclopentane Chemical compound CCCOCC1CCCC1 IHXUHYYQFHWRLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006239 protecting group Chemical group 0.000 description 1
- 238000011403 purification operation Methods 0.000 description 1
- 125000003373 pyrazinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003222 pyridines Chemical class 0.000 description 1
- 125000002294 quinazolinyl group Chemical group N1=C(N=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 125000005493 quinolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001567 quinoxalinyl group Chemical group N1=C(C=NC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 229910001923 silver oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- JQFKMPJULDLMOJ-UHFFFAOYSA-M silver;2,3,4,5,6-pentafluorobenzenesulfonate Chemical compound [Ag+].[O-]S(=O)(=O)C1=C(F)C(F)=C(F)C(F)=C1F JQFKMPJULDLMOJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ZFCDJOVFDDEYKY-UHFFFAOYSA-M silver;benzenesulfonate Chemical compound [Ag+].[O-]S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 ZFCDJOVFDDEYKY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LNHRIDDGXXLCSC-UHFFFAOYSA-N silver;bis(trifluoromethylsulfonyl)methylsulfonyl-trifluoromethane Chemical compound [Ag+].FC(F)(F)S(=O)(=O)[C-](S(=O)(=O)C(F)(F)F)S(=O)(=O)C(F)(F)F LNHRIDDGXXLCSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GURNTNKIRDSILY-UHFFFAOYSA-M silver;ethanesulfonate Chemical compound [Ag+].CCS([O-])(=O)=O GURNTNKIRDSILY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VCCATSJUUVERFU-UHFFFAOYSA-N sodium bis(fluorosulfonyl)azanide Chemical compound FS(=O)(=O)N([Na])S(F)(=O)=O VCCATSJUUVERFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 125000005247 tetrazinyl group Chemical group N1=NN=NC(=C1)* 0.000 description 1
- ZPHGMBGIFODUMF-UHFFFAOYSA-N thiophen-2-ylmethanol Chemical compound OCC1=CC=CS1 ZPHGMBGIFODUMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004992 toluidines Chemical class 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
- 238000000844 transformation Methods 0.000 description 1
- 150000003623 transition metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000004306 triazinyl group Chemical group 0.000 description 1
- XUWKINRQANNXIK-UHFFFAOYSA-N undecoxycyclohexane Chemical compound CCCCCCCCCCCOC1CCCCC1 XUWKINRQANNXIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UCFWZEXYDQLSCK-UHFFFAOYSA-N undecoxycyclopentane Chemical compound CCCCCCCCCCCOC1CCCC1 UCFWZEXYDQLSCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VSIFAGKRCRXTLP-UHFFFAOYSA-N undecoxymethylbenzene Chemical compound CCCCCCCCCCCOCC1=CC=CC=C1 VSIFAGKRCRXTLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPFMEWRAHGLLMW-UHFFFAOYSA-N undecoxymethylcyclohexane Chemical compound CCCCCCCCCCCOCC1CCCCC1 BPFMEWRAHGLLMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TYZHYQGHQDNXEY-UHFFFAOYSA-N undecoxymethylcyclopentane Chemical compound CCCCCCCCCCCOCC1CCCC1 TYZHYQGHQDNXEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003774 valeryl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
- Catalysts (AREA)
Abstract
Description
本発明は、エーテル化合物の工業的製造に適した触媒として使用できる新規な遷移金属錯体に関する。 The present invention relates to a novel transition metal complex that can be used as a catalyst suitable for industrial production of ether compounds.
従来、エーテル化合物は医薬品、農薬、界面活性剤、ポリマー材料等幅広い分野に用いられている。エーテル化合物の製造方法としては、例えば、アルコール化合物をハロゲン化アルキルによりアルキル化する方法が広く知られている(非特許文献1)。しかしながら、この方法はアルコール化合物をナトリウム等のアルカリ金属と反応させてアルカリ金属アルコラートとし、次いでハロゲン化アルキルを反応させる。この反応においては、等量の無機塩が副生成物として排出される。また、ハロゲン化アルキルは一般に毒性が高い。このように非特許文献1に記載の方法を工業的に実施するには課題が残っている。 Conventionally, ether compounds are used in a wide range of fields such as pharmaceuticals, agricultural chemicals, surfactants, and polymer materials. As a method for producing an ether compound, for example, a method of alkylating an alcohol compound with an alkyl halide is widely known (Non-Patent Document 1). However, in this method, an alcohol compound is reacted with an alkali metal such as sodium to form an alkali metal alcoholate, and then an alkyl halide is reacted. In this reaction, an equal amount of inorganic salt is discharged as a by-product. Alkyl halides are generally highly toxic. Thus, the subject remains in industrially implementing the method of a nonpatent literature 1.
一方、遷移金属触媒によるハロゲン化アルキルを必要としないエーテル化合物の製造例が報告されている(非特許文献2、3)。非特許文献2では、ルテニウム錯体を触媒として使用し、アルコール化合物を反応させてエーテル化合物を製造している。しかしながら、触媒として使用しているルテニウム錯体は酸素に不安定であり、酸素濃度を極めて低く保つことが出来る特殊な設備内での取扱いが必要であること、配位子として毒性の高いカルボニル配位子やアルキルホスフィン配位子を用いていることから工業的に実施するには課題がある。非特許文献3では、含窒素複素環カルベン配位子を有するイリジウム錯体を用いてエーテル合成の検討がなされているが、前記イリジウム錯体と共に添加剤として感光性の高いトリフルオロメタンスルホン酸銀を用いているため、反応を行う際には遮光する必要があり、工業的な実施には課題がある。また、本発明者らが非特許文献3を参考に、含窒素複素環カルベン配位子を有するイリジウム錯体とトリフルオロメタンスルホン酸銀をあらかじめ反応させて得られたイリジウム錯体を使用してエーテル化合物の製造を試みたが、非常に低収率であった(後述の比較例参照)。 On the other hand, production examples of ether compounds that do not require alkyl halides using transition metal catalysts have been reported (Non-patent Documents 2 and 3). In Non-Patent Document 2, an ether compound is produced by reacting an alcohol compound using a ruthenium complex as a catalyst. However, the ruthenium complex used as a catalyst is unstable to oxygen, needs to be handled in a special facility that can keep the oxygen concentration extremely low, and has a highly toxic carbonyl coordination as a ligand. There is a problem in industrial implementation because of the use of a child or an alkylphosphine ligand. In Non-Patent Document 3, ether synthesis is studied using an iridium complex having a nitrogen-containing heterocyclic carbene ligand, but using silver trifluoromethanesulfonate having high photosensitivity as an additive together with the iridium complex. Therefore, it is necessary to shield from light when performing the reaction, and there is a problem in industrial implementation. In addition, referring to Non-Patent Document 3, the present inventors used an iridium complex obtained by reacting an iridium complex having a nitrogen-containing heterocyclic carbene ligand and silver trifluoromethanesulfonate in advance to produce an ether compound. Production was attempted, but the yield was very low (see Comparative Examples below).
本発明は、簡便かつ安全で、工業的なエーテル化合物の製造に適した触媒として使用できる新規な遷移金属錯体を提供することを課題とする。 An object of the present invention is to provide a novel transition metal complex which is simple and safe and can be used as a catalyst suitable for industrial production of ether compounds.
本発明者は、上記課題を解決するために鋭意検討を行った。その結果、毒性の高いカルボニル配位子やアルキルホスフィン配位子を含まず、空気下で安定な含窒素複素環カルベン配位子を有する遷移金属錯体を見出した。さらに、当該遷移金属錯体の存在下に種々のアルコール化合物を反応させることで、多量の副生成物を生じることなくエーテル化合物が得られることを見出し、本発明を完成するに至った。 The present inventor has intensively studied to solve the above problems. As a result, the present inventors have found a transition metal complex having a nitrogen-containing heterocyclic carbene ligand that is stable in air and does not contain highly toxic carbonyl ligands or alkylphosphine ligands. Furthermore, it has been found that by reacting various alcohol compounds in the presence of the transition metal complex, an ether compound can be obtained without producing a large amount of by-products, and the present invention has been completed.
すなわち、本発明は、以下の[1]〜[9]に関するものである。 That is, the present invention relates to the following [1] to [9].
[1] 一般式(1)又は(2)で表される遷移金属錯体。 [1] A transition metal complex represented by the general formula (1) or (2).
一般式(1): General formula (1):
一般式(2): General formula (2):
[2] Arが1,2,3,4,5−ペンタメチルシクロペンタジエニル基である[1]に記載の遷移金属錯体。
[3] M1がイリジウムである[1]又は[2]に記載の遷移金属錯体。
[4] Y−が一般式(3):
R8SO3 − (3)
(一般式(3)中、R8は炭素数1〜20のアルキル基、炭素数2〜20のパーフルオロアルキル基、炭素数3〜20のシクロアルキル基、炭素数6〜20のアリール基又は炭素数6〜20のパーフルオロアリール基である。)
で表されるスルホン酸イオン、一般式(4):
[2] The transition metal complex according to [1], wherein Ar is a 1,2,3,4,5-pentamethylcyclopentadienyl group.
[3] The transition metal complex according to [1] or [2], wherein M 1 is iridium.
[4] Y − represents the general formula (3):
R 8 SO 3 - (3)
(In General Formula (3), R 8 is an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a perfluoroalkyl group having 2 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, or (It is a C6-C20 perfluoroaryl group.)
A sulfonate ion represented by the general formula (4):
で表されるビス(スルホニル)イミドイオン又は一般式(5):
(R11SO2)3C− (5)
(一般式(5)中、R11は炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のパーフルオロアルキル基、炭素数3〜20のシクロアルキル基、炭素数6〜20のアリール基又は炭素数6〜20のパーフルオロアリール基である。)
で表されるトリス(スルホニル)メチドイオンである[1]〜[3]のいずれかに記載の遷移金属錯体。
[5] Y−が一般式(4)で表されるビス(スルホニル)イミドイオンである[1]〜[4]のいずれかに記載の遷移金属錯体。
[6] Lがアコ配位子である[1]〜[5]のいずれかに記載の遷移金属錯体。
[7] R7がヒドロキシ基である[1]〜[6]のいずれかに記載の遷移金属錯体。
[8] R2〜R6が水素原子である[1]〜[7]のいずれかに記載の遷移金属錯体。
[9] R1が炭素数1〜6のアルキル基である[1]〜[8]のいずれかに記載の遷移金属錯体。
A bis (sulfonyl) imide ion represented by the general formula (5):
(R 11 SO 2) 3 C - (5)
(In the general formula (5), R 11 is an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a perfluoroalkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, or (It is a C6-C20 perfluoroaryl group.)
The transition metal complex according to any one of [1] to [3], which is a tris (sulfonyl) methide ion represented by:
[5] The transition metal complex according to any one of [1] to [4], wherein Y − is a bis (sulfonyl) imide ion represented by the general formula (4).
[6] The transition metal complex according to any one of [1] to [5], wherein L is an acoligand.
[7] The transition metal complex according to any one of [1] to [6], wherein R 7 is a hydroxy group.
[8] The transition metal complex according to any one of [1] to [7], wherein R 2 to R 6 are hydrogen atoms.
[9] The transition metal complex according to any one of [1] to [8], wherein R 1 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
本発明によれば、簡便かつ安全で、工業的なエーテル化合物の製造に適した触媒として使用できる新規な遷移金属化合物を提供できる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the novel transition metal compound which can be used as a catalyst suitable for manufacture of an industrial ether compound simply and safely can be provided.
以下、本発明を実施するための形態について詳細に説明する。 Hereinafter, embodiments for carrying out the present invention will be described in detail.
一般式(1)又は(2)で表される遷移金属錯体(以下、遷移金属錯体(A)という。)について説明する。 The transition metal complex represented by the general formula (1) or (2) (hereinafter referred to as transition metal complex (A)) will be described.
一般式(1)及び(2)中、Arは、置換基を有してもよい芳香環化合物又は置換基を有していてもよいシクロペンタジエニル基を示す。好ましくは置換基を有していてもよいシクロペンタジエニル基である。 In General Formulas (1) and (2), Ar represents an aromatic ring compound which may have a substituent or a cyclopentadienyl group which may have a substituent. A cyclopentadienyl group which may have a substituent is preferable.
置換基を有してもよい芳香環化合物の具体例としては、これに限定するものではないが、ベンゼン、トルエン、o−キシレン、m−キシレン、p−キシレン、o−シメン、m−シメン、p−シメン、1,2,3−トリメチルベンゼン、1,2,4−トリメチルベンゼン、1,3,5−トリメチルベンゼン、1,3,5−トリエチルベンゼン、1,2,3,4−テトラメチルベンゼン、1,2,4,5−テトラメチルベンゼン、1,3,4,5−テトラメチルベンゼン、ペンタメチルベンゼン、ヘキサメチルベンゼン、ナフタレン、アントラセン等が挙げられ、好ましくはp−シメン、1,3,5−トリメチルベンゼン、ヘキサメチルベンゼンである。 Specific examples of the aromatic ring compound which may have a substituent include, but are not limited to, benzene, toluene, o-xylene, m-xylene, p-xylene, o-cymene, m-cymene, p-cymene, 1,2,3-trimethylbenzene, 1,2,4-trimethylbenzene, 1,3,5-trimethylbenzene, 1,3,5-triethylbenzene, 1,2,3,4-tetramethyl Examples include benzene, 1,2,4,5-tetramethylbenzene, 1,3,4,5-tetramethylbenzene, pentamethylbenzene, hexamethylbenzene, naphthalene, anthracene, and the like, preferably p-cymene, 3,5-trimethylbenzene and hexamethylbenzene.
置換基を有してもよいシクロペンタジエニル基の具体例としては、これに限定するものではないが、シクロペンタジエニル基(Cp)、メチルシクロペンタジエニル基、エチルシクロペンタジエニル基、イソプロピルシクロペンタジエニル基、フェニルシクロペンタジエニル基、ベンジルシクロペンタジエニル基、1,2−及び1,3−ジメチルシクロペンタジエニル基、1,2,3−及び1,2,4−トリメチルシクロペンタジエニル基、1,2,3,4−テトラメチルシクロペンタジエニル基、1,2,3,4,5−ペンタメチルシクロペンタジエニル基(Cp*)、1,2,3,4,5−ペンタフェニルシクロペンタジエニル基、インデニル基、フルオレニル基等が挙げられる。好ましくは、シクロペンタジエニル基(Cp)、1,2,3,4,5−ペンタメチルシクロペンタジエニル基(Cp*)であり、特に好ましくは1,2,3,4,5−ペンタメチルシクロペンタジエニル基(Cp*)である。 Specific examples of the cyclopentadienyl group which may have a substituent include, but are not limited to, a cyclopentadienyl group (Cp), a methylcyclopentadienyl group, and an ethylcyclopentadienyl group. , Isopropylcyclopentadienyl group, phenylcyclopentadienyl group, benzylcyclopentadienyl group, 1,2- and 1,3-dimethylcyclopentadienyl group, 1,2,3- and 1,2,4 -Trimethylcyclopentadienyl group, 1,2,3,4-tetramethylcyclopentadienyl group, 1,2,3,4,5-pentamethylcyclopentadienyl group (Cp * ), 1,2, Examples include 3,4,5-pentaphenylcyclopentadienyl group, indenyl group, fluorenyl group and the like. Preferred are a cyclopentadienyl group (Cp) and 1,2,3,4,5-pentamethylcyclopentadienyl group (Cp * ), and particularly preferred is 1,2,3,4,5-penta. It is a methylcyclopentadienyl group (Cp * ).
一般式(1)及び(2)中、M1はルテニウム、ロジウム又はイリジウムであり、好ましくはイリジウムである。 In the general formulas (1) and (2), M 1 is ruthenium, rhodium or iridium, preferably iridium.
一般式(1)及び(2)中、R1は置換基を有していてもよい炭素数1〜20の炭化水素基を示す。R2〜R7は、互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシ基、アミノ基、スルホ基、メルカプト基、カルボキシル基、カルバモイル基又は置換基を有していてもよい炭素数1〜20の炭化水素基を示し、好ましくは水素原子である。前記ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられ、好ましくはフッ素原子、塩素原子である。また、R2とR3、R3とR4、若しくは隣接するR4〜R7は互いに結合して、環を形成してもよい。環を形成する場合、二重結合を有する環を形成していてもよい。 In general formulas (1) and (2), R 1 represents an optionally substituted hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms. R 2 to R 7 may each independently have a hydrogen atom, a halogen atom, a nitro group, a cyano group, a hydroxy group, an amino group, a sulfo group, a mercapto group, a carboxyl group, a carbamoyl group, or a substituent. A good hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms is preferred, and a hydrogen atom is preferred. As said halogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, etc. are mentioned, Preferably they are a fluorine atom and a chlorine atom. R 2 and R 3 , R 3 and R 4 , or adjacent R 4 to R 7 may be bonded to each other to form a ring. When forming a ring, a ring having a double bond may be formed.
R1〜R7において置換基を有していてもよい炭素数1〜20の炭化水素基としては、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数3〜20のシクロアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基、置換基を有していてもよい炭素数7〜20のアラルキル基、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のヘテロシクリル基、置換基を有していてもよい炭素数2〜20のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数2〜20のアルキニル基、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアシル基が挙げられ、好ましくは置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数3〜20のシクロアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基、置換基を有していてもよい炭素数7〜20のアラルキル基、特に好ましくは置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基である。 R 1 Examples of the hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms that may have a substituent at to R 7, alkyl group having 1 to 20 carbon atoms that may have a substituent, a substituent An optionally substituted cycloalkyl group having 3 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a substituent, an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms which may have a substituent, C1-C20 heterocyclyl group which may have a substituent, C2-C20 alkenyl group which may have a substituent, C2-C20 which may have a substituent An alkynyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, and a substituent. Optionally having a cycloalkyl group having 3 to 20 carbon atoms and a substituent. An aryl group of prime 6-20, which may have a substituent aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms, particularly preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms that may have a substituent.
R1〜R7において炭素数1〜20の炭化水素基が置換基を有する場合、置換基としては、これに限定するものではないが、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシ基、アミノ基、スルホ基、メルカプト基、カルボキシル基、カルバモイル基、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ビニル基、アリル基、3−ブテニル基、エチニル基、2−プロピニル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ナフチル基、4−メチルフェニル基、4−メトキシフェニル基、4−(ジメチルアミノ)フェニル基、4−フルオルフェニル基、4−クロロフェニル基、4−トリフルオロメチルフェニル基、ベンジル基、トリフルオロメチル基、アセチル基、ピバロイル基、ベンゾイル基、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、tert−ブトキシ基、ベンジルオキシ基、アセチルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ジメチルアミノ基、トリフルオロメタンスルホニル基、トリメトキシシリル基、トリエトキシシリル基等が挙げられる。 In the case where the hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms in R 1 to R 7 has a substituent, the substituent is not limited thereto, but halogen such as fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine atom, etc. Atom, nitro group, cyano group, hydroxy group, amino group, sulfo group, mercapto group, carboxyl group, carbamoyl group, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, Isobutyl, tert-butyl, n-pentyl, isopentyl, neopentyl, hexyl, heptyl, octyl, nonyl, decyl, vinyl, allyl, 3-butenyl, ethynyl, 2- Propynyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, phenyl group, naphthyl group, 4-methylphenyl group, 4-methoxyphenyl group 4- (dimethylamino) phenyl group, 4-fluorophenyl group, 4-chlorophenyl group, 4-trifluoromethylphenyl group, benzyl group, trifluoromethyl group, acetyl group, pivaloyl group, benzoyl group, methoxy group, ethoxy Group, n-propoxy group, isopropoxy group, tert-butoxy group, benzyloxy group, acetyloxy group, pivaloyloxy group, benzoyloxy group, dimethylamino group, trifluoromethanesulfonyl group, trimethoxysilyl group, triethoxysilyl group, etc. Is mentioned.
R1〜R7において炭素数1〜20の炭化水素基が置換基を有する場合、置換基の数に特に限定されないが、例えば1〜5個、好ましくは1〜3個でありその位置は、置換が可能な位置であれば特に限定されない。 In the case where the hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms in R 1 to R 7 has a substituent, the number of substituents is not particularly limited, but for example 1 to 5, preferably 1 to 3, and the position is The position is not particularly limited as long as it can be substituted.
R1〜R7において置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基は、直鎖状であっても分岐状であってもよく、好ましくは炭素数1〜12のアルキル基、より好ましくは炭素数1〜6のアルキル基である。炭素数1〜20のアルキル基の具体例としては、これに限定するものではないが、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、2−エチルヘキシル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基、2−メトキシエチル基、3−メトキシプロピル基、2−(トリメトキシシリル)エチル基、3−(トリメトキシシリル)プロピル基等が挙げられる。好ましくは、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、tert−ブチル基であり、特に好ましくはメチル基である。 The alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent in R 1 to R 7 may be linear or branched, preferably an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms. More preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. Specific examples of the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms include, but are not limited to, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, isobutyl group, tert-butyl, n-pentyl, isopentyl, neopentyl, hexyl, heptyl, octyl, 2-ethylhexyl, nonyl, decyl, undecyl, dodecyl, tridecyl, tetradecyl, pentadecyl , Hydroxymethyl group, hydroxyethyl group, hydroxypropyl group, 2-methoxyethyl group, 3-methoxypropyl group, 2- (trimethoxysilyl) ethyl group, 3- (trimethoxysilyl) propyl group and the like. A methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, and a tert-butyl group are preferable, and a methyl group is particularly preferable.
R1〜R7において置換基を有していてもよい炭素数3〜20のシクロアルキル基の具体例としては、これに限定するものではないが、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、シクロデシル基、アダマンチル基等が挙げられる。好ましくは、シクロペンチル基、シクロヘキシル基である。 Specific examples of the cycloalkyl group having 3 to 20 carbon atoms that may have a substituent in R 1 to R 7 include, but are not limited to, a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, and cyclohexyl. Group, cycloheptyl group, cyclooctyl group, cyclononyl group, cyclodecyl group, adamantyl group and the like. Preferably, they are a cyclopentyl group and a cyclohexyl group.
R1〜R7において置換基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基の具体例としては、これに限定するものではないが、フェニル基、ナフチル基、アンスリル基、4−メチルフェニル基、4−メトキシフェニル基、4−(ジメチルアミノ)フェニル基、4−フルオルフェニル基、4−クロロフェニル基、4−トリフルオロメチルフェニル基、メシチル基、2,6−ジメチルフェニル基、2,6−ジイソプロピルフェニル基、ビフェニル基等が挙げられる。好ましくは、フェニル基、ナフチル基、4−メトキシフェニル基、4−(ジメチルアミノ)フェニル基、4−フルオルフェニル基、4−クロロフェニル基、4−トリフルオロメチルフェニル基等が挙げられる。 Specific examples of the aryl group having 6 to 20 carbon atoms that may have a substituent in R 1 to R 7 include, but are not limited to, a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, 4-methyl group. Phenyl group, 4-methoxyphenyl group, 4- (dimethylamino) phenyl group, 4-fluorophenyl group, 4-chlorophenyl group, 4-trifluoromethylphenyl group, mesityl group, 2,6-dimethylphenyl group, 2 , 6-diisopropylphenyl group, biphenyl group and the like. Preferable examples include phenyl group, naphthyl group, 4-methoxyphenyl group, 4- (dimethylamino) phenyl group, 4-fluorophenyl group, 4-chlorophenyl group, 4-trifluoromethylphenyl group and the like.
R1〜R7において置換基を有していてもよい炭素数7〜20のアラルキル基の具体例としては、これに限定するものではないが、ベンジル基、4−メチルベンジル基、4−メトキシベンジル基、4−フルオロベンジル基、4−クロロベンジル基、4−トリフルオロメチルベンジル基、ペンタフルオロベンジル基、1−ナフチルメチル基、2−ナフチルメチル基、1−アンスリルメチル基、2−アンスリルメチル基、9−アンスリルメチル基、1−フェニルエチル基、2−フェニルエチル基、3−フェニルプロピル基等が挙げられる。好ましくは、ベンジル基、4−メトキシベンジル基、4−フルオロベンジル基、4−クロロベンジル基、4−トリフルオロメチルベンジル基である。 Specific examples of the aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms which may have a substituent in R 1 to R 7 include, but are not limited to, benzyl group, 4-methylbenzyl group, 4-methoxy group. Benzyl group, 4-fluorobenzyl group, 4-chlorobenzyl group, 4-trifluoromethylbenzyl group, pentafluorobenzyl group, 1-naphthylmethyl group, 2-naphthylmethyl group, 1-anthrylmethyl group, 2-an Examples include a thrylmethyl group, a 9-anthrylmethyl group, a 1-phenylethyl group, a 2-phenylethyl group, and a 3-phenylpropyl group. Of these, a benzyl group, a 4-methoxybenzyl group, a 4-fluorobenzyl group, a 4-chlorobenzyl group, and a 4-trifluoromethylbenzyl group are preferable.
R1〜R7において置換基を有していてもよい炭素数1〜20のヘテロシクリル基の具体例としては、これに限定するものではないが、フリル基、チエニル基、ピロリニル基、ピリジル基、1−ピロリジニル基、1−ピペリジニル基、4−モルホリニル基等が挙げられる。好ましくは、フリル基、チエニル基である。 Specific examples of the heterocyclyl group having 1 to 20 carbon atoms that may have a substituent in R 1 to R 7 include, but are not limited to, a furyl group, a thienyl group, a pyrrolinyl group, a pyridyl group, Examples include 1-pyrrolidinyl group, 1-piperidinyl group, 4-morpholinyl group and the like. Preferably, they are a furyl group and a thienyl group.
R1〜R7において置換基を有していてもよい炭素数2〜20のアルケニル基の具体例としては、これに限定するものではないが、ビニル基、アリル基、3−ブテニル基、4−ペンテニル基、5−ヘキセニル基、6−ヘプテニル基、7−オクテニル基、8−ノネニル基、9−デセニル基が挙げられる。好ましくは、ビニル基、アリル基、3−ブテニルである。 Specific examples of the alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms which may have a substituent in R 1 to R 7 include, but are not limited to, a vinyl group, an allyl group, a 3-butenyl group, 4 -Pentenyl group, 5-hexenyl group, 6-heptenyl group, 7-octenyl group, 8-nonenyl group, 9-decenyl group are mentioned. Preferred are vinyl group, allyl group, and 3-butenyl.
R1〜R7において置換基を有していてもよい炭素数2〜20のアルキニル基の具体例としては、これに限定するものではないが、エチニル基、2−プロピニル基、3−ブチニル基、4−ペンチニル基、5−ヘキシニル基、6−ヘプチニル基、7−オクチニル基、8−ノニニル基、9−デシニル基が挙げられる。好ましくは、エチニル基、2−プロピニル基である。 Specific examples of the alkynyl group having 2 to 20 carbon atoms which may have a substituent in R 1 to R 7 include, but are not limited to, an ethynyl group, a 2-propynyl group, and a 3-butynyl group. 4-pentynyl group, 5-hexynyl group, 6-heptynyl group, 7-octynyl group, 8-nonynyl group, and 9-decynyl group. Preferably, they are an ethynyl group and a 2-propynyl group.
R1〜R7において置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアシル基の具体例としては、これに限定するものではないが、ホルミル基、アセチル基、プロパノイル基、ブタノイル基、ピバロイル基、ペンタノイル基、ヘキサノイル基、ヘプタノイル基、オクタノイル基、2−エチルヘキサノイル基、ノナノイル基、デカノイル基、ベンゾイル基等が挙げられる。好ましくは、アセチル基、ピバロイル基、ベンゾイル基である。 Specific examples of the acyl group having 1 to 20 carbon atoms that may have a substituent in R 1 to R 7 include, but are not limited to, a formyl group, an acetyl group, a propanoyl group, a butanoyl group, Examples include a pivaloyl group, a pentanoyl group, a hexanoyl group, a heptanoyl group, an octanoyl group, a 2-ethylhexanoyl group, a nonanoyl group, a decanoyl group, and a benzoyl group. An acetyl group, a pivaloyl group, and a benzoyl group are preferable.
一般式(1)及び(2)中、Lは、スルホキシド配位子、アミド配位子、含窒素芳香環配位子、アミン配位子、エーテル配位子、ニトリル配位子及びアコ配位子からなる群から選択される配位子を示す。取扱いが簡便という点で、アコ配位子が特に好ましい。 In the general formulas (1) and (2), L represents a sulfoxide ligand, an amide ligand, a nitrogen-containing aromatic ring ligand, an amine ligand, an ether ligand, a nitrile ligand, and an aco-coordination. A ligand selected from the group consisting of children is shown. An acoligand is particularly preferable in terms of easy handling.
スルホキシド配位子としては、例えば、ジメチルスルホキシド(DMSO)、メチルフェニルスルホキシド、ジフェニルスルホキシドが挙げられる。 Examples of the sulfoxide ligand include dimethyl sulfoxide (DMSO), methylphenyl sulfoxide, and diphenyl sulfoxide.
アミド配位子としてN,N−ジメチルホルムアミド(DMF)、N,N−ジメチルアセトアミド(DMAc)、1−メチル−2−ピロリドン(NMP)、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン(DMI)、1,3−ジメチル−3,4,5,6−テトラヒドロ−2(1H)−ピリミジノン(DMPU)が挙げられる。 N, N-dimethylformamide (DMF), N, N-dimethylacetamide (DMAc), 1-methyl-2-pyrrolidone (NMP), 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone (DMI) as amide ligands 1,3-dimethyl-3,4,5,6-tetrahydro-2 (1H) -pyrimidinone (DMPU).
含窒素芳香環配位子としては、例えば、ピリジン、ピコリン、クロロピリジン、メトキシピリジン、2,6−ルチジン、2,6−ジ−tert−ブチルピリジンが、挙げられる。 Examples of the nitrogen-containing aromatic ring ligand include pyridine, picoline, chloropyridine, methoxypyridine, 2,6-lutidine, and 2,6-di-tert-butylpyridine.
アミン配位子としては、例えば、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、アニリン、N,N−ジメチルアニリン、トルイジン、アニシジンが挙げられる。 Examples of the amine ligand include triethylamine, diisopropylethylamine, aniline, N, N-dimethylaniline, toluidine, and anisidine.
エーテル配位子としては、例えば、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル(CPME)、tert−ブチルメチルエーテル(TBME)、テトラヒドロフラン(THF)、2−メチルテトラヒドロフラン(MeTHF)、アニソール、ジフェニルエーテル、1,4−ジオキサンが挙げられる。 Examples of the ether ligand include diethyl ether, dibutyl ether, diisopropyl ether, cyclopentyl methyl ether (CPME), tert-butyl methyl ether (TBME), tetrahydrofuran (THF), 2-methyltetrahydrofuran (MeTHF), anisole, diphenyl ether. 1,4-dioxane.
ニトリル配位子としては、例えば、アセトニトリル、ベンゾニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル等が挙げられる。 Examples of the nitrile ligand include acetonitrile, benzonitrile, propionitrile, butyronitrile, and the like.
一般式(1)及び(2)中、破線は、実線と共に、単結合又は二重結合を形成していることを示す。 In the general formulas (1) and (2), the broken line indicates that a single bond or a double bond is formed together with the solid line.
有機金属錯体(A)のカチオンの具体例としては、以下に示す構造が挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。以下の具体例中、Ar、R1及びLは前記に同じであり、Meはメチル基を示す。 Specific examples of the cation of the organometallic complex (A) include the structures shown below, but the present invention is not limited thereto. In the following specific examples, Ar, R 1 and L are the same as described above, and Me represents a methyl group.
一般式(1)及び(2)中、Y−はトリフルオロメタンスルホン酸イオン以外のアニオンを示す。好ましくは、一般式(3):
R8SO3 − (3)
(一般式(3)中、R8は炭素数1〜20のアルキル基、炭素数2〜20のパーフルオロアルキル基、炭素数3〜20のシクロアルキル基、炭素数6〜20のアリール基又は炭素数6〜20のパーフルオロアリール基である。)
で表されるスルホン酸イオン(以下、スルホン酸イオン(3)という。)、一般式(4):
In the general formulas (1) and (2), Y − represents an anion other than trifluoromethanesulfonate ion. Preferably, general formula (3):
R 8 SO 3 - (3)
(In General Formula (3), R 8 is an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a perfluoroalkyl group having 2 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, or (It is a C6-C20 perfluoroaryl group.)
A sulfonate ion represented by the following formula (hereinafter referred to as sulfonate ion (3)), general formula (4):
で表されるビス(スルホニル)イミドイオン(以下、ビス(スルホニル)イミドイオン(4)という。)又は一般式(5):
(R11SO2)3C− (5)
(一般式(5)中、R11は炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のパーフルオロアルキル基、炭素数3〜20のシクロアルキル基、炭素数6〜20のアリール基又は炭素数6〜20のパーフルオロアリール基である。)
で表されるトリス(スルホニル)メチドイオン(以下、トリス(スルホニル)メチドイオン(5)という。)であり、特に好ましくは一般式(4)で表されるビス(スルホニル)イミドイオンである。
A bis (sulfonyl) imide ion represented by the following (hereinafter referred to as bis (sulfonyl) imide ion (4)) or general formula (5):
(R 11 SO 2) 3 C - (5)
(In the general formula (5), R 11 is an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a perfluoroalkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, or (It is a C6-C20 perfluoroaryl group.)
Is a tris (sulfonyl) methide ion (hereinafter referred to as tris (sulfonyl) methide ion (5)), particularly preferably a bis (sulfonyl) imide ion represented by the general formula (4).
一般式(3)中、R8は炭素数1〜20のアルキル基、炭素数2〜20のパーフルオロアルキル基、炭素数3〜20のシクロアルキル基、炭素数6〜20のアリール基又は炭素数6〜20のパーフルオロアリール基である。好ましくは、R8は炭素数1〜20のアルキル基、炭素数2〜20のパーフルオロアルキル基であり、より好ましくは炭素数1〜20のパーフルオロアルキル基である。 In general formula (3), R 8 is an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a perfluoroalkyl group having 2 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, or carbon. It is a perfluoroaryl group of several 6-20. Preferably, R 8 is an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or a perfluoroalkyl group having 2 to 20 carbon atoms, and more preferably a perfluoroalkyl group having 1 to 20 carbon atoms.
置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基は、直鎖状であっても分岐状であってもよく、好ましくは炭素数1〜12のアルキル基、より好ましくは炭素数1〜6のアルキル基である。炭素数1〜20のアルキル基の具体例としては、これに限定するものではないが、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、2−エチルヘキシル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基、2−メトキシエチル基、3−メトキシプロピル基、2−(トリメトキシシリル)エチル基、3−(トリメトキシシリル)プロピル基等が挙げられる。好ましくは、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、tert−ブチル基であり、特に好ましくはメチル基である。 The alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent may be linear or branched, preferably an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, more preferably a carbon number. 1 to 6 alkyl groups. Specific examples of the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms include, but are not limited to, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, isobutyl group, tert-butyl, n-pentyl, isopentyl, neopentyl, hexyl, heptyl, octyl, 2-ethylhexyl, nonyl, decyl, undecyl, dodecyl, tridecyl, tetradecyl, pentadecyl , Hydroxymethyl group, hydroxyethyl group, hydroxypropyl group, 2-methoxyethyl group, 3-methoxypropyl group, 2- (trimethoxysilyl) ethyl group, 3- (trimethoxysilyl) propyl group and the like. A methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, and a tert-butyl group are preferable, and a methyl group is particularly preferable.
炭素数2〜20のパーフルオロアルキル基として好ましくは炭素数2〜12のパーフルオロアルキル基、より好ましくは炭素数2〜6のパーフルオロアルキル基である。炭素数2〜20のパーフルオロアルキル基の具体例としては、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、ノナフルオロブチル基等が挙げられ、好ましくはペンタフルオロエチル基である。 The perfluoroalkyl group having 2 to 20 carbon atoms is preferably a perfluoroalkyl group having 2 to 12 carbon atoms, more preferably a perfluoroalkyl group having 2 to 6 carbon atoms. Specific examples of the perfluoroalkyl group having 2 to 20 carbon atoms include a pentafluoroethyl group, a heptafluoropropyl group, a nonafluorobutyl group, and the like, preferably a pentafluoroethyl group.
炭素数3〜20のシクロアルキル基の具体例としては、これに限定するものではないが、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、シクロデシル基、アダマンチル基等が挙げられる。好ましくは、シクロペンチル基、シクロヘキシル基である。 Specific examples of the cycloalkyl group having 3 to 20 carbon atoms include, but are not limited to, a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, a cyclooctyl group, a cyclononyl group, and a cyclodecyl group. And an adamantyl group. Preferably, they are a cyclopentyl group and a cyclohexyl group.
炭素数6〜20のアリール基の具体例としては、これに限定するものではないが、フェニル基、ナフチル基、アンスリル基、4−メチルフェニル基、4−メトキシフェニル基、4−(ジメチルアミノ)フェニル基、4−フルオルフェニル基、4−クロロフェニル基、4−トリフルオロメチルフェニル基、メシチル基、2,6−ジメチルフェニル基、2,6−ジイソプロピルフェニル基、ビフェニル基等が挙げられる。好ましくは、フェニル基、ナフチル基、4−メトキシフェニル基、4−(ジメチルアミノ)フェニル基、4−フルオルフェニル基、4−クロロフェニル基、4−トリフルオロメチルフェニル基等が挙げられる。 Specific examples of the aryl group having 6 to 20 carbon atoms include, but are not limited to, a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a 4-methylphenyl group, a 4-methoxyphenyl group, and 4- (dimethylamino). A phenyl group, 4-fluorophenyl group, 4-chlorophenyl group, 4-trifluoromethylphenyl group, mesityl group, 2,6-dimethylphenyl group, 2,6-diisopropylphenyl group, biphenyl group and the like can be mentioned. Preferable examples include phenyl group, naphthyl group, 4-methoxyphenyl group, 4- (dimethylamino) phenyl group, 4-fluorophenyl group, 4-chlorophenyl group, 4-trifluoromethylphenyl group and the like.
炭素数6〜20のパーフルオロアリール基の具体例としては、これに限定するものではないが、ペンタフルオロフェニル基、1−ヘプタフルオロナフチル基、2−ヘプタフルオロナフチル基、ノナフルオロアントラセニル基、ノナフルオロピレニル基、ヘプタフルオロ−4−メチルフェニル基、ヘプタフルオロ−3−メチルフェニル基、ヘプタフルオロ−2−メチルフェニル基、ノナフルオロエチルフェニル基、ノナフルオロジメチルフェニル基等が挙げられ、好ましくは、ペンタフルオロフェニル基である。 Specific examples of the C 6-20 perfluoroaryl group include, but are not limited to, a pentafluorophenyl group, a 1-heptafluoronaphthyl group, a 2-heptafluoronaphthyl group, and a nonafluoroanthracenyl group. , Nonafluoropyrenyl group, heptafluoro-4-methylphenyl group, heptafluoro-3-methylphenyl group, heptafluoro-2-methylphenyl group, nonafluoroethylphenyl group, nonafluorodimethylphenyl group, etc. Preferably, it is a pentafluorophenyl group.
スルホン酸イオン(3)の具体例としては、これに限定するものではないが、メタンスルホナート(CH3SO3 −)、エタンスルホナート(C2H5SO3 −)、ペンタフルオロエタンスルホナート(C2F5SO3 −)、ヘプタフルオロプロパンスルホナート(C3F7SO3 −)、ノナフルオロブタンスルホナート(C4F9SO3 −)、ウンデカフルオロペンタンスルホナート(C5F11SO3 −)、トリデカフルオロヘキサンスルホナート(C6F13SO3 −)、ペンタデカフルオロヘプタンスルホナート(C7F15SO3 −)、ヘプタデカフルオロオクタンスルホナート(C8F17SO3 −)、ベンゼンスルホナート(C6H5SO3 −)、p−トルエンスルホナート(CH3C6H4SO3 −)、ドデシルベンゼンスルホナート(C18H29SO3 −)、ペンタフルオロベンゼンスルホナート(C6F5SO3 −)、フルオロスルホナート(FSO3 −)等が挙げられる。好ましくは、ペンタフルオロエタンスルホナート、ヘプタフルオロプロパンスルホナート、ノナフルオロブタンスルホナート、p−トルエンスルホナートである。 Specific examples of the sulfonate ion (3) include, but are not limited to, methanesulfonate (CH 3 SO 3 − ), ethanesulfonate (C 2 H 5 SO 3 − ), pentafluoroethanesulfonate. (C 2 F 5 SO 3 − ), heptafluoropropane sulfonate (C 3 F 7 SO 3 − ), nonafluorobutane sulfonate (C 4 F 9 SO 3 − ), undecafluoropentane sulfonate (C 5 F 11 SO 3 -), tridecafluoro hexane sulfonate (C 6 F 13 SO 3 - ), pentadecafluorooctyl heptane sulfonate (C 7 F 15 SO 3 - ), heptadecafluorooctanesulfonic sulfonate (C 8 F 17 SO 3 -), benzenesulfonate (C 6 H 5 SO 3 - ), p- toluenesulfonate CH 3 C 6 H 4 SO 3 -), dodecyl benzenesulfonate (C 18 H 29 SO 3 - ), pentafluorophenyl benzenesulfonate (C 6 F 5 SO 3 - ), fluoro sulfonate (FSO 3 -) and the like Can be mentioned. Preferable are pentafluoroethane sulfonate, heptafluoropropane sulfonate, nonafluorobutane sulfonate, and p-toluenesulfonate.
一般式(4)中、R9、R10は互いに同じ若しくは異なっていてもよい炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のパーフルオロアルキル基、炭素数3〜20のシクロアルキル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数6〜20のパーフルオロアリール基又はフッ素原子であり、好ましくは、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のパーフルオロアルキル基であり、より好ましくは炭素数1〜20のパーフルオロアルキル基である。R9とR10は互いに結合して、環を形成していてもよい。 In General Formula (4), R 9 and R 10 may be the same or different from each other, and may be the same or different from each other. , An aryl group having 6 to 20 carbon atoms, a perfluoroaryl group having 6 to 20 carbon atoms, or a fluorine atom, preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or a perfluoroalkyl group having 1 to 20 carbon atoms. More preferably, it is a C 1-20 perfluoroalkyl group. R 9 and R 10 may be bonded to each other to form a ring.
置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基は、直鎖状であっても分岐状であってもよく、好ましくは炭素数1〜12のアルキル基、より好ましくは炭素数1〜6のアルキル基である。炭素数1〜20のアルキル基の具体例としては、これに限定するものではないが、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、2−エチルヘキシル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基、2−メトキシエチル基、3−メトキシプロピル基、2−(トリメトキシシリル)エチル基、3−(トリメトキシシリル)プロピル基等が挙げられる。好ましくは、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、tert−ブチル基であり、特に好ましくはメチル基である。 The alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent may be linear or branched, preferably an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, more preferably a carbon number. 1 to 6 alkyl groups. Specific examples of the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms include, but are not limited to, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, isobutyl group, tert-butyl, n-pentyl, isopentyl, neopentyl, hexyl, heptyl, octyl, 2-ethylhexyl, nonyl, decyl, undecyl, dodecyl, tridecyl, tetradecyl, pentadecyl , Hydroxymethyl group, hydroxyethyl group, hydroxypropyl group, 2-methoxyethyl group, 3-methoxypropyl group, 2- (trimethoxysilyl) ethyl group, 3- (trimethoxysilyl) propyl group and the like. A methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, and a tert-butyl group are preferable, and a methyl group is particularly preferable.
炭素数1〜20のパーフルオロアルキル基として好ましくは炭素数1〜12のパーフルオロアルキル基、より好ましくは炭素数1〜6のパーフルオロアルキル基である。炭素数1〜20のパーフルオロアルキル基の具体例としては、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、ノナフルオロブチル基等が挙げられ、好ましくはトリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基であり、より好ましくはトリフルオロメチル基である。 The perfluoroalkyl group having 1 to 20 carbon atoms is preferably a perfluoroalkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and more preferably a perfluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms. Specific examples of the C 1-20 perfluoroalkyl group include a trifluoromethyl group, a pentafluoroethyl group, a heptafluoropropyl group, a nonafluorobutyl group, and the like, preferably a trifluoromethyl group, a pentafluoroethyl group. Group, more preferably a trifluoromethyl group.
炭素数3〜20のシクロアルキル基の具体例としては、これに限定するものではないが、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、シクロデシル基、アダマンチル基等が挙げられる。好ましくは、シクロペンチル基、シクロヘキシル基である。 Specific examples of the cycloalkyl group having 3 to 20 carbon atoms include, but are not limited to, a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, a cyclooctyl group, a cyclononyl group, and a cyclodecyl group. And an adamantyl group. Preferably, they are a cyclopentyl group and a cyclohexyl group.
炭素数6〜20のアリール基の具体例としては、これに限定するものではないが、フェニル基、ナフチル基、アンスリル基、4−メチルフェニル基、4−メトキシフェニル基、4−(ジメチルアミノ)フェニル基、4−フルオルフェニル基、4−クロロフェニル基、4−トリフルオロメチルフェニル基、メシチル基、2,6−ジメチルフェニル基、2,6−ジイソプロピルフェニル基、ビフェニル基等が挙げられる。好ましくは、フェニル基、ナフチル基、4−メトキシフェニル基、4−(ジメチルアミノ)フェニル基、4−フルオルフェニル基、4−クロロフェニル基、4−トリフルオロメチルフェニル基等が挙げられる。 Specific examples of the aryl group having 6 to 20 carbon atoms include, but are not limited to, a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a 4-methylphenyl group, a 4-methoxyphenyl group, and 4- (dimethylamino). A phenyl group, 4-fluorophenyl group, 4-chlorophenyl group, 4-trifluoromethylphenyl group, mesityl group, 2,6-dimethylphenyl group, 2,6-diisopropylphenyl group, biphenyl group and the like can be mentioned. Preferable examples include phenyl group, naphthyl group, 4-methoxyphenyl group, 4- (dimethylamino) phenyl group, 4-fluorophenyl group, 4-chlorophenyl group, 4-trifluoromethylphenyl group and the like.
炭素数6〜20のパーフルオロアリール基の具体例としては、これに限定するものではないが、ペンタフルオロフェニル基、1−ヘプタフルオロナフチル基、2−ヘプタフルオロナフチル基、ノナフルオロアントラセニル基、ノナフルオロピレニル基、ヘプタフルオロ−4−メチルフェニル基、ヘプタフルオロ−3−メチルフェニル基、ヘプタフルオロ−2−メチルフェニル基、ノナフルオロエチルフェニル基、ノナフルオロジメチルフェニル基等が挙げられ、好ましくは、ペンタフルオロフェニル基である。 Specific examples of the C 6-20 perfluoroaryl group include, but are not limited to, a pentafluorophenyl group, a 1-heptafluoronaphthyl group, a 2-heptafluoronaphthyl group, and a nonafluoroanthracenyl group. , Nonafluoropyrenyl group, heptafluoro-4-methylphenyl group, heptafluoro-3-methylphenyl group, heptafluoro-2-methylphenyl group, nonafluoroethylphenyl group, nonafluorodimethylphenyl group, etc. Preferably, it is a pentafluorophenyl group.
ビス(スルホニル)イミドイオン(4)の具体例としては、これに限定するものではないが、ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミデート((CF3SO2)2N−)、ビス(ペンタフルオロエタンスルホニル)イミデート((C2F5SO2)2N−)、ビス(ヘプタフルオロプロパンスルホニル)イミデート((C3F7SO2)2N−)、ビス(ノナフルオルブタンスルホニル)イミデート((C4F9SO2)2N−)、ビス(ウンデカフルオルペンタンスルホニル)イミデート((C5F11SO2)2N−)、ビス(トリデカフルオルヘキサンスルホニル)イミデート((C6F13SO2)2N−)、ビス(ペンタデカフルオルヘプタンスルホニル)イミデート((C7F15SO2)2N−)、ビス(ヘプタデカフルオルオクタンスルホニル)イミデート((C8F17SO2)2N−)、ノナフルオロ−N−[(トリフルオロメタン)スルホニル]ブタンスルホニルアミデート((CF3SO2)(C4F9SO2)N−)、ビス(フルオロスルホニル)イミデート((FSO2)2N−)等が挙げられる。好ましくは、ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミデート、ビス(ペンタフルオロエタンスルホニル)イミデート、ビス(ヘプタフルオロプロパンスルホニル)イミデート、ビス(ノナフルオルブタンスルホニル)イミデートであり、特に好ましくはビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミデートである。 Specific examples of the bis (sulfonyl) imide ion (4) include, but are not limited to, bis (trifluoromethanesulfonyl) imidate ((CF 3 SO 2 ) 2 N − ), bis (pentafluoroethanesulfonyl) imidate. ((C 2 F 5 SO 2 ) 2 N − ), bis (heptafluoropropanesulfonyl) imidate ((C 3 F 7 SO 2 ) 2 N − ), bis (nonafluorobutanesulfonyl) imidate ((C 4 F 9 SO 2) 2 N -), bis (undecapeptide fluorosilicone pentane sulfonyl) imidate ((C 5 F 11 SO 2 ) 2 N -), bis (tridecanol fluorosilicone hexane sulfonyl) imidate ((C 6 F 13 SO 2 ) 2 N − ), bis (pentadecafluoroheptanesulfonyl) imidate ((C 7 F 1 5 SO 2) 2 N -) , bis (heptadecafluoro fluorosilicone C1-12alkyl) imidate ((C 8 F 17 SO 2 ) 2 N -), nonafluoro -N - [(trifluoromethane) sulfonyl] butane sulfonyl amidate (( CF 3 SO 2 ) (C 4 F 9 SO 2 ) N − ), bis (fluorosulfonyl) imidate ((FSO 2 ) 2 N − ) and the like. Preferred are bis (trifluoromethanesulfonyl) imidate, bis (pentafluoroethanesulfonyl) imidate, bis (heptafluoropropanesulfonyl) imidate, bis (nonafluorobutanesulfonyl) imidate, and particularly preferred is bis (trifluoromethanesulfonyl) imidate It is.
R9とR10が互いに結合して、環を形成している場合、ビス(スルホニル)イミドイオン(4)の具体例としては、1,1,2,2,3,3−ヘキサフルオロプロパン−1,3−ジスルホンイミデート(CF2(CF2SO2)2N−)、1,1,2,2−ブタフルオロエタン−1,2−ジスルホンイミデート((CF2SO2)2N−)等が挙げられる。 When R 9 and R 10 are bonded to each other to form a ring, specific examples of the bis (sulfonyl) imide ion (4) include 1,1,2,2,3,3-hexafluoropropane-1 , 3-Disulfonimidate (CF 2 (CF 2 SO 2 ) 2 N − ), 1,1,2,2-butafluoroethane-1,2-disulfonimidate ((CF 2 SO 2 ) 2 N − ) Etc.
一般式(5)中、R11は炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のパーフルオロアルキル基、炭素数3〜20のシクロアルキル基、炭素数6〜20のアリール基又は炭素数6〜20のパーフルオロアリール基である。好ましくは炭素数1〜20のパーフルオロアルキル基、炭素数6〜20のパーフルオロアリール基、より好ましくは炭素数6〜20のパーフルオロアリール基である。 In General Formula (5), R 11 is an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a perfluoroalkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, or carbon. It is a perfluoroaryl group of several 6-20. Preferably they are a C1-C20 perfluoroalkyl group, a C6-C20 perfluoroaryl group, More preferably, it is a C6-C20 perfluoroaryl group.
置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基は、直鎖状であっても分岐状であってもよく、好ましくは炭素数1〜12のアルキル基、より好ましくは炭素数1〜6のアルキル基である。炭素数1〜20のアルキル基の具体例としては、これに限定するものではないが、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、2−エチルヘキシル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基、2−メトキシエチル基、3−メトキシプロピル基、2−(トリメトキシシリル)エチル基、3−(トリメトキシシリル)プロピル基等が挙げられる。好ましくは、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、tert−ブチル基であり、特に好ましくはメチル基である。 The alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent may be linear or branched, preferably an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, more preferably a carbon number. 1 to 6 alkyl groups. Specific examples of the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms include, but are not limited to, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, isobutyl group, tert-butyl, n-pentyl, isopentyl, neopentyl, hexyl, heptyl, octyl, 2-ethylhexyl, nonyl, decyl, undecyl, dodecyl, tridecyl, tetradecyl, pentadecyl , Hydroxymethyl group, hydroxyethyl group, hydroxypropyl group, 2-methoxyethyl group, 3-methoxypropyl group, 2- (trimethoxysilyl) ethyl group, 3- (trimethoxysilyl) propyl group and the like. A methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, and a tert-butyl group are preferable, and a methyl group is particularly preferable.
炭素数1〜20のパーフルオロアルキル基として好ましくは炭素数1〜12のパーフルオロアルキル基、より好ましくは炭素数1〜6のパーフルオロアルキル基である。炭素数1〜20のパーフルオロアルキル基の具体例としては、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、ノナフルオロブチル基等が挙げられ、好ましくはトリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基であり、より好ましくはトリフルオロメチル基である。 The perfluoroalkyl group having 1 to 20 carbon atoms is preferably a perfluoroalkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and more preferably a perfluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms. Specific examples of the C 1-20 perfluoroalkyl group include a trifluoromethyl group, a pentafluoroethyl group, a heptafluoropropyl group, a nonafluorobutyl group, and the like, preferably a trifluoromethyl group, a pentafluoroethyl group. Group, more preferably a trifluoromethyl group.
炭素数3〜20のシクロアルキル基の具体例としては、これに限定するものではないが、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、シクロデシル基、アダマンチル基等が挙げられる。好ましくは、シクロペンチル基、シクロヘキシル基である。 Specific examples of the cycloalkyl group having 3 to 20 carbon atoms include, but are not limited to, a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, a cyclooctyl group, a cyclononyl group, and a cyclodecyl group. And an adamantyl group. Preferably, they are a cyclopentyl group and a cyclohexyl group.
炭素数6〜20のアリール基の具体例としては、これに限定するものではないが、フェニル基、ナフチル基、アンスリル基、4−メチルフェニル基、4−メトキシフェニル基、4−(ジメチルアミノ)フェニル基、4−フルオルフェニル基、4−クロロフェニル基、4−トリフルオロメチルフェニル基、メシチル基、2,6−ジメチルフェニル基、2,6−ジイソプロピルフェニル基、ビフェニル基等が挙げられる。好ましくは、フェニル基、ナフチル基、4−メトキシフェニル基、4−(ジメチルアミノ)フェニル基、4−フルオルフェニル基、4−クロロフェニル基、4−トリフルオロメチルフェニル基等が挙げられる。 Specific examples of the aryl group having 6 to 20 carbon atoms include, but are not limited to, a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a 4-methylphenyl group, a 4-methoxyphenyl group, and 4- (dimethylamino). A phenyl group, 4-fluorophenyl group, 4-chlorophenyl group, 4-trifluoromethylphenyl group, mesityl group, 2,6-dimethylphenyl group, 2,6-diisopropylphenyl group, biphenyl group and the like can be mentioned. Preferable examples include phenyl group, naphthyl group, 4-methoxyphenyl group, 4- (dimethylamino) phenyl group, 4-fluorophenyl group, 4-chlorophenyl group, 4-trifluoromethylphenyl group and the like.
炭素数6〜20のパーフルオロアリール基の具体例としては、これに限定するものではないが、ペンタフルオロフェニル基、1−ヘプタフルオロナフチル基、2−ヘプタフルオロナフチル基、ノナフルオロアントラセニル基、ノナフルオロピレニル基、ヘプタフルオロ−4−メチルフェニル基、ヘプタフルオロ−3−メチルフェニル基、ヘプタフルオロ−2−メチルフェニル基、ノナフルオロエチルフェニル基、ノナフルオロジメチルフェニル基等が挙げられ、好ましくは、ペンタフルオロフェニル基である。 Specific examples of the C 6-20 perfluoroaryl group include, but are not limited to, a pentafluorophenyl group, a 1-heptafluoronaphthyl group, a 2-heptafluoronaphthyl group, and a nonafluoroanthracenyl group. , Nonafluoropyrenyl group, heptafluoro-4-methylphenyl group, heptafluoro-3-methylphenyl group, heptafluoro-2-methylphenyl group, nonafluoroethylphenyl group, nonafluorodimethylphenyl group, etc. Preferably, it is a pentafluorophenyl group.
トリス(スルホニル)メチドイオン(5)の具体例としては、これに限定するものではないが、トリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチド((CF3SO2)3C−)、トリス(ペンタフルオロベンゼンスルホニル)メチド((C6F5SO2)3C−)等が挙げられる。 Specific examples of the tris (sulfonyl) methide ion (5) include, but are not limited to, tris (trifluoromethanesulfonyl) methide ((CF 3 SO 2 ) 3 C − ), tris (pentafluorobenzenesulfonyl) methide. ((C 6 F 5 SO 2 ) 3 C -) , and the like.
以下に、遷移金属錯体(A)の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。本具体例中、ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドイオンをTFSI−、1,2,3,4,5−ペンタメチルシクロペンタジエニル基をCp*、メチル基をMeと略記する。 Specific examples of the transition metal complex (A) are shown below, but the present invention is not limited thereto. In this specific example, bis (trifluoromethanesulfonyl) imide ion is abbreviated as TFSI − , 1,2,3,4,5-pentamethylcyclopentadienyl group as Cp * , and methyl group as Me.
本発明において、遷移金属錯体(A)は、種々の方法で製造することが出来る。その代表的な方法としては、下記反応式1に示す工程1及び2により製造できる。 In the present invention, the transition metal complex (A) can be produced by various methods. As a typical method, it can be produced by steps 1 and 2 shown in the following reaction formula 1.
反応式1: Reaction formula 1:
・工程1
一般式(10)で表されるピリジン化合物(以下、ピリジン化合物(10)という。)と酸化銀(Ag2O)とを反応(反応a)させ、次いで、反応式1中、一般式(11)で表される遷移金属ハロゲン化物(以下、遷移金属ハロゲン化物(11)という。)と反応(反応b)させることで、一般式(12)で表される遷移金属錯体を得る工程。
・ Process 1
A pyridine compound represented by the general formula (10) (hereinafter referred to as pyridine compound (10)) and silver oxide (Ag 2 O) are reacted (reaction a), and then in the reaction formula 1, the general formula (11 Step of obtaining a transition metal complex represented by the general formula (12) by reacting (reaction b) with a transition metal halide represented by (hereinafter referred to as transition metal halide (11)).
・工程2
工程1で得られた一般式(12)で表される遷移金属錯体(以下、遷移金属錯体(12)という。)に、一般式(13)で表される銀塩(以下、銀塩(13)という。)を反応させて、一般式(1)で表される遷移金属錯体を得る工程。
・ Process 2
A silver salt represented by the general formula (13) (hereinafter referred to as silver salt (13)) is added to the transition metal complex represented by the general formula (12) obtained in step 1 (hereinafter referred to as transition metal complex (12)). ).) To obtain a transition metal complex represented by the general formula (1).
上記製造法に加え、一般式(1)で表される遷移金属錯体を得るために、必要に応じて保護及び脱保護を行うことができ、一般に用いられる方法(Protective Groups in Organic Synthesis Fifth Edition,John Wiley & Sons,Inc.)を参考にしてもよい。また必要に応じて官能基変換を行うこともでき、一般に用いられる方法(Comprehensive Organic Transformations,John Wiley & Sons,Inc.)を参考にしてもよい。 In addition to the above production method, in order to obtain the transition metal complex represented by the general formula (1), protection and deprotection can be performed as necessary, and a commonly used method (Protective Groups in Organic Synthesis Edition, (John Wiley & Sons, Inc.). In addition, functional group conversion can be performed as necessary, and a generally used method (Comprehensive Organic Transformations, John Wiley & Sons, Inc.) may be referred to.
また、一般式(2)で表される遷移金属錯体は、一般式(1)において、R7がヒドロキシル基である遷移金属錯体の平衡反応によって生じる。 In addition, the transition metal complex represented by the general formula (2) is generated by an equilibrium reaction of a transition metal complex in which R 7 is a hydroxyl group in the general formula (1).
以下、各工程について説明する。 Hereinafter, each step will be described.
[工程1−反応a]
一般式(10)中、R1〜R7及び破線で表される結合は、前記と同じである。Xa−はハロゲンイオンであり、フッ素イオン、塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素イオンを示し、好ましくはヨウ素イオンである。
[Step 1-Reaction a]
In General Formula (10), the bonds represented by R 1 to R 7 and the broken line are the same as described above. X a− is a halogen ion, and represents a fluorine ion, a chlorine ion, a bromine ion, or an iodine ion, preferably an iodine ion.
ピリジン化合物(10)としては、例えば、以下の構造が挙げられる。下記式中、R1〜R7、破線で表される結合及びXa−は、前記と同じである。 Examples of the pyridine compound (10) include the following structures. In the following formulae, R 1 to R 7 , the bond represented by a broken line, and X a- are the same as described above.
工程1−反応aにおいて、酸化銀(Ag2O)は、市販品を使用することができる。酸化銀(Ag2O)の使用量としては、適宜調節すればよく、例えば、ピリジン化合物(10)1molに対して、一般に0.1〜2mol、好ましくは0.4〜0.6mol、より好ましくは0.45〜0.55molである。 In step 1-reaction a, a commercially available silver oxide (Ag 2 O) can be used. The amount of silver oxide (Ag 2 O) used may be appropriately adjusted. For example, it is generally 0.1 to 2 mol, preferably 0.4 to 0.6 mol, more preferably, relative to 1 mol of the pyridine compound (10). Is 0.45 to 0.55 mol.
工程1−反応aの反応は通常、溶媒の存在下で実施され、その溶媒としては、本反応に影響を与えない溶媒であれば特に限定されない。用いられる溶媒としては、例えば、アセトン、2−ブタノン等のケトン溶媒、メタノール、エタノール等のアルコール溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン(THF)、1,4−ジオキサン等のエーテル溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、石油エーテル等の脂肪族炭化水素溶媒、酢酸エチル等のエステル溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム、1,2−ジクロロエチレン等のハロゲン化炭化水素溶媒、水等が挙げられ、ハロゲン化炭化水素溶媒が好ましく、ジクロロメタン、クロロホルムがより好ましく、ジクロロメタンが特に好ましい。これらのうち、単独又は2種以上を組み合わせて用いることができる。このうち、ハロゲン化炭化水素溶媒が好ましく、ジクロロメタン、クロロホルムがより好ましく、ジクロロメタンが特に好ましい。 Step 1—Reaction a is usually carried out in the presence of a solvent, and the solvent is not particularly limited as long as it does not affect the reaction. Examples of the solvent used include ketone solvents such as acetone and 2-butanone, alcohol solvents such as methanol and ethanol, ether solvents such as diethyl ether, diisopropyl ether, tetrahydrofuran (THF), and 1,4-dioxane, benzene, and toluene. , Aromatic hydrocarbon solvents such as xylene, aliphatic hydrocarbon solvents such as pentane, hexane, cyclohexane, petroleum ether, ester solvents such as ethyl acetate, halogenated hydrocarbon solvents such as dichloromethane, chloroform, 1,2-dichloroethylene, Examples thereof include water, halogenated hydrocarbon solvents are preferred, dichloromethane and chloroform are more preferred, and dichloromethane is particularly preferred. Among these, it can use individually or in combination of 2 or more types. Of these, halogenated hydrocarbon solvents are preferred, dichloromethane and chloroform are more preferred, and dichloromethane is particularly preferred.
溶媒の使用量としては、適宜調節すればよく、例えば、ピリジン化合物(10)1molに対して、一般に0〜100L、好ましくは0〜20Lである。 What is necessary is just to adjust suitably as the usage-amount of a solvent, for example, generally 0-100L with respect to 1 mol of pyridine compounds (10), Preferably it is 0-20L.
工程1−反応aの反応は、遮光下で反応を行うのが好ましい。遮光方法については、蛍光灯又は太陽等の光が反応器内の反応混合物に照射されなければ特に限定されない。又、窒素、アルゴン等の不活性ガスの雰囲気下で行うことができる。 Step 1—Reaction a is preferably carried out in the dark. The light shielding method is not particularly limited as long as the reaction mixture in the reactor is not irradiated with light such as a fluorescent lamp or the sun. Moreover, it can carry out in the atmosphere of inert gas, such as nitrogen and argon.
反応圧力は、特に制限はなく、常圧で反応を実施してもよいし、加圧下で反応を行ってもよい。 The reaction pressure is not particularly limited, and the reaction may be performed at normal pressure or may be performed under pressure.
反応温度は、通常0〜100℃であり、好ましくは10〜80℃であり、より好ましくは20〜50℃である。 Reaction temperature is 0-100 degreeC normally, Preferably it is 10-80 degreeC, More preferably, it is 20-50 degreeC.
ピリジン化合物(10)、酸化銀(Ag2O)、溶媒の混合順序は特に限定されず、例えば反応器にピリジン化合物(10)及び溶媒を仕込み、撹拌下に酸化銀(Ag2O)を投入する方法が挙げられる。 The mixing order of the pyridine compound (10), silver oxide (Ag 2 O), and the solvent is not particularly limited. For example, the pyridine compound (10) and the solvent are charged into the reactor, and the silver oxide (Ag 2 O) is charged with stirring. The method of doing is mentioned.
反応終了後は、蒸留、濾過、遠心分離等の公知の精製及び単離操作を行ってから工程1−反応bに使用してもよく、精製及び単離工程を経ずに反応後の混合物をそのまま工程1−反応bに使用してもよい(ワンポット合成)。 After completion of the reaction, it may be used for Step 1-Reaction b after performing known purification and isolation operations such as distillation, filtration, and centrifugation, and the mixture after the reaction without the purification and isolation steps. You may use for process 1-reaction b as it is (one-pot synthesis | combination).
[工程1−反応b]
一般式(11)中、Ar、及びM1は、前記に同じである。Xbはハロゲン原子であり、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子であり、好ましくは塩素原子である。遷移金属ハロゲン化物(11)の具体例としては、(ペンタメチルシクロペンタジエニル)イリジウム(III)ジクロリド(ダイマー)([Cp*IrCl2]2)、ジヨード(ペンタメチルシクロペンタジエニル)イリジウム(III)(ダイマー)([Cp*Irl2]2)、ベンゼンルテニウム(II)ジクロリド(ダイマー)、(ヘキサメチルベンゼン)ルテニウム(II)ジクロリド(ダイマー)、ジクロロ(p−シメン)ルテニウム(II)(ダイマー)、(ペンタメチルシクロペンタジエニル)ロジウム(III)ジクロリド(ダイマー)([Cp*RhCl2]2)等が挙げられる。これらの試薬は、市販品を使用することができる。
[Step 1-Reaction b]
In general formula (11), Ar and M 1 are the same as described above. Xb is a halogen atom, which is a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom, and preferably a chlorine atom. Specific examples of the transition metal halide (11) include (pentamethylcyclopentadienyl) iridium (III) dichloride (dimer) ([Cp * IrCl 2 ] 2 ), diiodo (pentamethylcyclopentadienyl) iridium ( III) (dimer) ([Cp * Irl 2 ] 2 ), benzene ruthenium (II) dichloride (dimer), (hexamethylbenzene) ruthenium (II) dichloride (dimer), dichloro (p-cymene) ruthenium (II) ( Dimer), (pentamethylcyclopentadienyl) rhodium (III) dichloride (dimer) ([Cp * RhCl 2 ] 2 ) and the like. Commercial products can be used for these reagents.
遷移金属ハロゲン化物(11)の使用量としては、適宜調節すればよく、例えば、ピリジン化合物(10)1molに対して、一般に0.1〜2mol、好ましくは0.4〜0.6mol、より好ましくは0.45〜0.55molである。 The amount of the transition metal halide (11) used may be appropriately adjusted. For example, it is generally 0.1 to 2 mol, preferably 0.4 to 0.6 mol, more preferably, relative to 1 mol of the pyridine compound (10). Is 0.45 to 0.55 mol.
工程1−反応bの反応は、通常、溶媒の存在下で実施され、溶媒を用いる場合、その溶媒としては、本反応に影響を与えない溶媒であれば特に限定されない。用いられる溶媒としては、例えば、アセトン、2−ブタノン等のケトン溶媒、メタノール、エタノール等のアルコール溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン(THF)、1,4−ジオキサン等のエーテル溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、石油エーテル等の脂肪族炭化水素溶媒、酢酸エチル等のエステル溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム、1,2−ジクロロエチレン等のハロゲン化炭化水素溶媒、水等が挙げられ、ハロゲン化炭化水素溶媒が好ましく、ジクロロメタン、クロロホルムがより好ましく、ジクロロメタンが特に好ましい。これらのうち、単独又は2種以上を組み合わせて用いることができる。前述したワンポット合成の方法を採る場合には、工程1−反応aの溶媒をそのまま工程1−反応bの溶媒として使用できる。 The reaction of step 1-reaction b is usually carried out in the presence of a solvent, and when a solvent is used, the solvent is not particularly limited as long as it does not affect this reaction. Examples of the solvent used include ketone solvents such as acetone and 2-butanone, alcohol solvents such as methanol and ethanol, ether solvents such as diethyl ether, diisopropyl ether, tetrahydrofuran (THF), and 1,4-dioxane, benzene, and toluene. , Aromatic hydrocarbon solvents such as xylene, aliphatic hydrocarbon solvents such as pentane, hexane, cyclohexane, petroleum ether, ester solvents such as ethyl acetate, halogenated hydrocarbon solvents such as dichloromethane, chloroform, 1,2-dichloroethylene, Examples thereof include water, halogenated hydrocarbon solvents are preferred, dichloromethane and chloroform are more preferred, and dichloromethane is particularly preferred. Among these, it can use individually or in combination of 2 or more types. When the above-described one-pot synthesis method is employed, the solvent in Step 1-Reaction a can be used as it is as the solvent in Step 1-Reaction b.
溶媒の使用量としては、適宜調節すればよく、例えば、ピリジン化合物(10)で表される化合物1molに対して、一般に0.1〜100L、好ましくは5〜20Lである。 What is necessary is just to adjust suitably the usage-amount of a solvent, for example, generally 0.1-100L with respect to 1 mol of compounds represented by a pyridine compound (10), Preferably it is 5-20L.
工程1−反応bの反応は、遮光下で反応を行うのが好ましい。遮光方法については、蛍光灯又は太陽等の光が反応器内の反応混合物に照射されなければ特に限定されない。 Step 1—Reaction b is preferably carried out in the dark. The light shielding method is not particularly limited as long as the reaction mixture in the reactor is not irradiated with light such as a fluorescent lamp or the sun.
工程1−反応bの反応は窒素、アルゴン等の不活性ガスの雰囲気下で行うことができる。 Step 1-Reaction b can be performed in an atmosphere of an inert gas such as nitrogen or argon.
反応圧力は、特に制限はなく、常圧で反応を実施してもよいし、加圧下で反応を行ってもよい。 The reaction pressure is not particularly limited, and the reaction may be performed at normal pressure or may be performed under pressure.
反応温度は、通常0〜100℃であり、好ましくは10〜80℃であり、より好ましくは20〜50℃である。 Reaction temperature is 0-100 degreeC normally, Preferably it is 10-80 degreeC, More preferably, it is 20-50 degreeC.
原料の混合順序は特に限定されず、例えば工程1−反応aで得られた反応混合物に、撹拌下、遷移金属ハロゲン化物(11)を投入する方法が挙げられる(ワンポット反応)。 The mixing order of the raw materials is not particularly limited, and examples thereof include a method in which the transition metal halide (11) is added to the reaction mixture obtained in Step 1-reaction a with stirring (one-pot reaction).
反応終了後、蒸留、濾過、遠心分離等の公知の精製及び単離操作を経て、目的とする遷移金属錯体(12)を取り出すことができる。 After completion of the reaction, the desired transition metal complex (12) can be taken out through known purification and isolation operations such as distillation, filtration, and centrifugation.
一般式(12)中、R1〜R7、M1、Ar及び破線で表される結合は、前記と同じである。Xb−はハロゲンイオンであり、フッ素イオン、塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素イオンであり、好ましくは塩素イオンである。 In General Formula (12), the bonds represented by R 1 to R 7 , M 1 , Ar, and the broken line are the same as described above. X b− is a halogen ion, which is a fluorine ion, a chlorine ion, a bromine ion or an iodine ion, and preferably a chlorine ion.
一般式(13)中、Y−は前記と同じである。銀塩(13)の具体例としては、メタンスルホン酸銀、エタンスルホン酸銀、ペンタフルオロエタンスルホン酸銀、ヘプタフルオロプロパンスルホン酸銀、ノナフルオロブタンスルホン酸銀、ウンデカフルオロペンタンスルホン酸銀、トリデカフルオロヘキサンスルホン酸銀、ペンタデカフルオロヘプタンスルホン酸銀、ヘプタデカフルオロオクタンスルホン酸銀、ベンゼンスルホン酸銀、p−トルエンスルホン酸銀、ドデシルベンゼンスルホン酸銀、ペンタフルオロベンゼンスルホン酸銀、フルオロスルホン酸銀等のスルホン酸銀、ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド銀、ビス(ペンタフルオロエタンスルホニル)イミド銀、ビス(ヘプタフルオロプロパンスルホニル)イミド銀、ビス(ノナフルオルブタンスルホニル)イミド銀、ビス(ウンデカフルオルペンタンスルホニル)イミド銀、ビス(トリデカフルオルヘキサンスルホニル)イミド銀、ビス(ペンタデカフルオルヘプタンスルホニル)イミド銀、ビス(ヘプタデカフルオルオクタンスルホニル)イミド銀、ノナフルオロ−N−[(トリフルオロメタン)スルホニル]ブタンスルホニルアミデート、ビス(フルオロスルホニル)イミド銀等のビス(スルホニル)イミド銀、トリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチド銀、トリス(ペンタフルオロベンゼンスルホニル)メチド銀等のトリス(スルホニル)メチド銀等が挙げられる。好ましくは、ペンタフルオロエタンスルホン酸銀、ヘプタフルオロプロパンスルホン酸銀、ノナフルオロブタンスルホン酸銀、p−トルエンスルホン酸銀、ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド銀、ビス(ペンタフルオロエタンスルホニル)イミド銀、ビス(ヘプタフルオロプロパンスルホニル)イミド銀、ビス(ノナフルオルブタンスルホニル)イミド銀、特に好ましくはビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド銀である。 In the general formula (13), Y − is the same as described above. Specific examples of the silver salt (13) include silver methanesulfonate, silver ethanesulfonate, silver pentafluoroethanesulfonate, silver heptafluoropropanesulfonate, silver nonafluorobutanesulfonate, silver undecafluoropentanesulfonate, Silver tridecafluorohexanesulfonate, silver pentadecafluoroheptanesulfonate, silver hepadecafluorooctanesulfonate, silver benzenesulfonate, silver p-toluenesulfonate, silver dodecylbenzenesulfonate, silver pentafluorobenzenesulfonate, fluoro Silver sulfonates such as silver sulfonate, bis (trifluoromethanesulfonyl) imide silver, bis (pentafluoroethanesulfonyl) imide silver, bis (heptafluoropropanesulfonyl) imide silver, bis (nonafluorobutanesulfonyl) imide Bis (undecafluoropentanesulfonyl) imide silver, bis (tridecafluorohexanesulfonyl) imide silver, bis (pentadecafluoroheptanesulfonyl) imide silver, bis (heptadecafluorooctanesulfonyl) imide silver, nonafluoro -N-[(trifluoromethane) sulfonyl] butanesulfonylamidate, bis (sulfonyl) imide silver such as bis (fluorosulfonyl) imide silver, tris (trifluoromethanesulfonyl) methide silver, tris (pentafluorobenzenesulfonyl) methide silver, etc. And tris (sulfonyl) methide silver. Preferably, silver pentafluoroethanesulfonate, silver heptafluoropropanesulfonate, silver nonafluorobutanesulfonate, silver p-toluenesulfonate, silver bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, silver bis (pentafluoroethanesulfonyl) imide, Bis (heptafluoropropanesulfonyl) imide silver, bis (nonafluorobutanesulfonyl) imide silver, particularly preferably bis (trifluoromethanesulfonyl) imide silver.
銀塩(13)の使用量としては、適宜調節すればよく、例えば、遷移金属錯体(12)1molに対して、一般に0.1〜4mol、好ましくは1.8〜2.2mol、より好ましくは1.9〜2.1molである。 The amount of the silver salt (13) used may be adjusted as appropriate, for example, generally 0.1 to 4 mol, preferably 1.8 to 2.2 mol, more preferably, per 1 mol of the transition metal complex (12). 1.9 to 2.1 mol.
工程2の反応は通常、溶媒の存在下で実施され、その溶媒としては、本反応に影響を与えない溶媒であれば特に限定されない。用いられる溶媒としては、例えば、アセトン、2−ブタノン等のケトン溶媒、メタノール、エタノール等のアルコール溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン(THF)、1,4−ジオキサン等のエーテル溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、石油エーテル等の脂肪族炭化水素溶媒、酢酸エチル等のエステル溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム、1,2−ジクロロエチレン等ハロゲン化炭化水素溶媒、水等が挙げられ、水が好ましい。溶媒は、単独又は2種以上を組み合わせて用いることができる。 The reaction in step 2 is usually carried out in the presence of a solvent, and the solvent is not particularly limited as long as it does not affect the reaction. Examples of the solvent used include ketone solvents such as acetone and 2-butanone, alcohol solvents such as methanol and ethanol, ether solvents such as diethyl ether, diisopropyl ether, tetrahydrofuran (THF), and 1,4-dioxane, benzene, and toluene. , Aromatic hydrocarbon solvents such as xylene, aliphatic hydrocarbon solvents such as pentane, hexane, cyclohexane and petroleum ether, ester solvents such as ethyl acetate, halogenated hydrocarbon solvents such as dichloromethane, chloroform and 1,2-dichloroethylene, water Etc., and water is preferable. A solvent can be used individually or in combination of 2 or more types.
溶媒を使用する場合、溶媒の使用量としては、適宜調節すればよく、例えば、遷移金属錯体(12)1molに対して、一般に0.1〜100L、好ましくは10〜50Lである。 When the solvent is used, the amount of the solvent used may be adjusted as appropriate. For example, the amount is generally 0.1 to 100 L, preferably 10 to 50 L, relative to 1 mol of the transition metal complex (12).
工程2の反応は、遮光下で反応を行うのが好ましい。遮光方法については、蛍光灯又は太陽等の光が反応器内の反応混合物に照射されなければ特に限定されない。また、工程2の反応は、窒素、アルゴン等の不活性ガスの雰囲気下で行うことができる。 The reaction in step 2 is preferably performed under light shielding. The light shielding method is not particularly limited as long as the reaction mixture in the reactor is not irradiated with light such as a fluorescent lamp or the sun. The reaction in step 2 can be performed in an atmosphere of an inert gas such as nitrogen or argon.
反応圧力は、特に制限はなく、常圧で反応を実施してもよいし、加圧下で反応を行ってもよい。 The reaction pressure is not particularly limited, and the reaction may be performed at normal pressure or may be performed under pressure.
反応温度は、通常0〜100℃であり、好ましくは10〜80℃であり、より好ましくは20〜50℃である。 Reaction temperature is 0-100 degreeC normally, Preferably it is 10-80 degreeC, More preferably, it is 20-50 degreeC.
遷移金属錯体(12)、銀塩(13)、溶媒の混合順序は特に限定されず、例えば反応器に遷移金属錯体(12)及び溶媒を仕込み、撹拌下に銀塩(13)を投入する方法が挙げられる。 The order of mixing the transition metal complex (12), the silver salt (13) and the solvent is not particularly limited. For example, the transition metal complex (12) and the solvent are charged into a reactor, and the silver salt (13) is charged with stirring. Is mentioned.
反応終了後、蒸留、濾過、遠心分離等の公知の精製及び単離工程を経て、目的とする一般式(1)で表される遷移金属錯体を取り出すことができる。 After completion of the reaction, the desired transition metal complex represented by the general formula (1) can be taken out through known purification and isolation processes such as distillation, filtration, and centrifugation.
本発明の遷移金属錯体(A)はエーテル化触媒組成物として使用できる。エーテル化触媒組成物は遷移金属錯体(A)を有効成分として含有していればよく、遷移金属錯体(A)単独であってもよいが、2種以上組み合わせて使用することもできる。当該エーテル化触媒組成物の存在下、2分子以上のアルコール化合物(以下、アルコール化合物(B)という。)同士を反応させることで、エーテル化合物(以下、エーテル化合物(C))を製造することが出来る。 The transition metal complex (A) of the present invention can be used as an etherification catalyst composition. The etherification catalyst composition only needs to contain the transition metal complex (A) as an active ingredient, and may be the transition metal complex (A) alone, but may be used in combination of two or more. An ether compound (hereinafter referred to as an ether compound (C)) can be produced by reacting two or more molecules of an alcohol compound (hereinafter referred to as an alcohol compound (B)) in the presence of the etherification catalyst composition. I can do it.
より好適には、下記反応式2に示すように、エーテル化触媒組成物存在下、一般式(6)で表されるアルコール化合物と一般式(7)で表されるアルコール化合物を反応させることで、一般式(8)で表されるエーテル化合物を製造できる。 More preferably, as shown in the following reaction formula 2, the alcohol compound represented by the general formula (6) and the alcohol compound represented by the general formula (7) are reacted in the presence of the etherification catalyst composition. The ether compound represented by the general formula (8) can be produced.
反応式2: Reaction formula 2:
エーテル化合物(C)を製造するための原料であるアルコール化合物(B)について説明する。 The alcohol compound (B), which is a raw material for producing the ether compound (C), will be described.
アルコール化合物(B)はヒドロキシ基を有している有機化合物であれば特に限定されないが、好ましくは第1級アルコール化合物、第2級アルコール化合物であり、より好ましくは一般式(6)又は(7)で表されるアルコール化合物である。 Although alcohol compound (B) will not be specifically limited if it is an organic compound which has a hydroxyl group, Preferably it is a primary alcohol compound and a secondary alcohol compound, More preferably, it is general formula (6) or (7 ).
一般式(6)中、R12は置換基を有していてもよい炭素数1〜20の炭化水素基又は置換基を有していてもよい炭素数1〜20の複素環基、R13は水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜20の炭化水素基又は置換基を有していてもよい炭素数1〜20の複素環基であって、R12とR13が互いに結合して環を形成していてもよい。R12、R13において、置換基を有していてもよい炭素数1〜20の炭化水素基としては、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のシクロアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアリール基が挙げられる。 In General Formula (6), R 12 is a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent or a heterocyclic group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, R 13. Is a hydrogen atom, an optionally substituted hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, or an optionally substituted heterocyclic group having 1 to 20 carbon atoms, and R 12 and R 13 May be bonded to each other to form a ring. In R 12 and R 13 , the optionally substituted hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms includes an optionally substituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms and a substituent. Examples thereof include an optionally substituted cycloalkyl group having 1 to 20 carbon atoms and an optionally substituted aryl group having 1 to 20 carbon atoms.
一般式(7)中、R14は置換基を有していてもよい炭素数1〜20の炭化水素基又は置換基を有していてもよい炭素数1〜20の複素環基、R15は水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜20の炭化水素基又は置換基を有していてもよい炭素数1〜20の複素環基であって、R14とR15が互いに結合して環を形成していてもよい。R14、R15において、置換基を有していてもよい炭素数1〜20の炭化水素基としては、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数3〜20のシクロアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基が挙げられる。 In the general formula (7), R 14 is a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent or a heterocyclic group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, R 15. Is a hydrogen atom, an optionally substituted hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, or an optionally substituted heterocyclic group having 1 to 20 carbon atoms, and R 14 and R 15. May be bonded to each other to form a ring. In R 14 and R 15 , the optionally substituted hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms includes an optionally substituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms and a substituent. Examples thereof include an optionally substituted cycloalkyl group having 3 to 20 carbon atoms and an optionally substituted aryl group having 6 to 20 carbon atoms.
R12〜R15において炭素数1〜20の炭化水素基又は炭素数1〜20の複素環基が置換基を有する場合、置換基としては、これに限定するものではないが、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシ基、アミノ基、スルホ基、メルカプト基、カルボキシル基、カルバモイル基、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ビニル基、アリル基、3−ブテニル基、エチニル基、2−プロピニル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ナフチル基、4−メチルフェニル基、4−メトキシフェニル基、4−(ジメチルアミノ)フェニル基、4−フルオルフェニル基、4−クロロフェニル基、4−トリフルオロメチルフェニル基、ベンジル基、トリフルオロメチル基、アセチル基、ピバロイル基、ベンゾイル基、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、tert−ブトキシ基、ベンジルオキシ基、アセチルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ジメチルアミノ基、トリフルオロメタンスルホニル基、トリメトキシシリル基、トリエトキシシリル基等が挙げられる。 In R 12 to R 15 , when the hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms or the heterocyclic group having 1 to 20 carbon atoms has a substituent, the substituent is not limited to this, but a fluorine atom, chlorine Atoms, halogen atoms such as bromine atom, iodine atom, nitro group, cyano group, hydroxy group, amino group, sulfo group, mercapto group, carboxyl group, carbamoyl group, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, isobutyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, isopentyl group, neopentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, vinyl group, allyl group, 3-butenyl group, ethynyl group, 2-propynyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, phenyl group, naphthyl group, 4-methyl group Nyl group, 4-methoxyphenyl group, 4- (dimethylamino) phenyl group, 4-fluorophenyl group, 4-chlorophenyl group, 4-trifluoromethylphenyl group, benzyl group, trifluoromethyl group, acetyl group, pivaloyl Group, benzoyl group, methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, isopropoxy group, tert-butoxy group, benzyloxy group, acetyloxy group, pivaloyloxy group, benzoyloxy group, dimethylamino group, trifluoromethanesulfonyl group, tri A methoxysilyl group, a triethoxysilyl group, etc. are mentioned.
R12〜R15において炭素数1〜20の炭化水素基又は炭素数1〜20の複素環基が置換基を有する場合、置換基の数に特に限定されないが、例えば1〜5個、好ましくは1〜3個でありその位置は、置換が可能な位置であれば特に限定されない。 In R 12 to R 15 , when the hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms or the heterocyclic group having 1 to 20 carbon atoms has a substituent, the number of substituents is not particularly limited, but for example 1 to 5, preferably There are 1 to 3 positions, and the positions are not particularly limited as long as they can be substituted.
R12〜R15において、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基は、直鎖状であっても分岐状であってもよく、好ましくは炭素数1〜12のアルキル基である。置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基の具体的例としては、これに限定するものではないが、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、イソブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、n−ヘプチル基、3−ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、エイコシル基等が挙げられる。好ましくは、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、イソブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、n−ヘプチル基、3−ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基であり、より好ましくはメチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、n−ペンチル基、ヘキシル基、n−ヘプチル基、3−ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基である。 In R 12 to R 15 , the optionally substituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms may be linear or branched, preferably alkyl having 1 to 12 carbon atoms. It is a group. Specific examples of the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms that may have a substituent include, but are not limited to, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, and an n-butyl group. Group, sec-butyl group, isobutyl group, n-pentyl group, isopentyl group, neopentyl group, hexyl group, n-heptyl group, 3-heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, undecyl group, dodecyl group, tridecyl group Group, tetradecyl group, pentadecyl group, hexadecyl group, heptadecyl group, octadecyl group, nonadecyl group, eicosyl group and the like. Preferably, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, isobutyl group, n-pentyl group, isopentyl group, neopentyl group, hexyl group, n-heptyl group, 3 -Heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, more preferably methyl group, ethyl group, n-propyl group, n-butyl group, n-pentyl group, hexyl group, n-heptyl group, 3-heptyl group Group, octyl group, nonyl group, decyl group.
R12〜R15において置換基を有していてもよい炭素数3〜20のシクロアルキル基の具体例としては、これに限定するものではないが、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等が挙げられる。好ましくは、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基であり、より好ましくはシクロペンチル基、シクロヘキシル基である。 Specific examples of the cycloalkyl group having 3 to 20 carbon atoms that may have a substituent in R 12 to R 15 include, but are not limited to, a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, and cyclohexyl. Group, cycloheptyl group, cyclooctyl group and the like. A cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, and a cyclooctyl group are preferable, and a cyclopentyl group and a cyclohexyl group are more preferable.
R12〜R15において置換基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基としては、単環式アリール基であっても2以上の多環式アリール基であってもよい。置換基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基の具体例としては、これに限定するものではないが、フェニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナンスリル基等が挙げられる。好ましくは、フェニル基、ナフチル基、アンスリル基であり、より好ましくはフェニル基、ナフチル基であり、さらに好ましくはフェニル基である。 The aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a substituent in R 12 to R 15 may be a monocyclic aryl group or two or more polycyclic aryl groups. Specific examples of the aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a substituent include, but are not limited to, a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, and a phenanthryl group. Preferably, they are a phenyl group, a naphthyl group, and an anthryl group, More preferably, they are a phenyl group and a naphthyl group, More preferably, it is a phenyl group.
R12〜R15において置換基を有していてもよい炭素数1〜20の複素環基の具体例としては、これに限定するものではないが、フリル基、チエニル基、ピロリニル基、ピリジル基、ピラジニル基、ピラダジニル基、トリアジニル基、テトラジニル基、イミダゾイル基、オキサゾイル基、チアゾイル基、ベンゾフリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾチエニル基、キノリル基、イソキノリル基、キノキサリニル基、フタラジニル基、キナゾリニル基、ナフチリジニル基、シンノリニル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾチアゾリル基、インドリル基等が挙げられる。好ましくは、フリル基、チエニル基、ピロリニル基、ベンゾフリル基、ベンゾチエニル基、インドリル基であり、より好ましくはフリル基、チエニル基、ベンゾフリル基、ベンゾチエニル基、インドリル基であり、さらに好ましくはフリル基、チエニル基である。 Specific examples of the heterocyclic group having 1 to 20 carbon atoms that may have a substituent in R 12 to R 15 include, but are not limited to, a furyl group, a thienyl group, a pyrrolinyl group, and a pyridyl group. , Pyrazinyl group, pyradazinyl group, triazinyl group, tetrazinyl group, imidazolyl group, oxazoyl group, thiazoyl group, benzofuryl group, benzoimidazolyl group, benzothienyl group, quinolyl group, isoquinolyl group, quinoxalinyl group, phthalazinyl group, quinazolinyl group, naphthyridinyl group, Examples thereof include a cinnolinyl group, a benzoxazolyl group, a benzothiazolyl group, an indolyl group, and the like. Preferably, it is a furyl group, a thienyl group, a pyrrolinyl group, a benzofuryl group, a benzothienyl group, an indolyl group, more preferably a furyl group, a thienyl group, a benzofuryl group, a benzothienyl group, an indolyl group, and more preferably a furyl group , A thienyl group.
アルコール化合物(B)としては、具体的には、これに限定するものではないが、メタノール、エタノール、1−プロパノール、イソプロパノール、1−ブタノール、1−ペンタノール、1−ヘキサノール、1−ヘプタノール、1−オクタノール、2−エチル−1−ヘキサノール、1−ノナノール、1−デカノール、1−ウンデカノール、2−メトキシ−1−エタノール、シクロペンタンメタノール、シクロヘキサンメタノール、ベンジルアルコール、4−メトキシベンジルアルコール、4−クロロベンジルアルコール、1−フェニルエチルアルコール、2−ナフタレンメタノール、2−(ヒドロキシメチル)フラン、2−(ヒドロキシメチル)チオフェン、シクロペンタノール、シクロヘキサノール等が挙げられる。 Specific examples of the alcohol compound (B) include, but are not limited to, methanol, ethanol, 1-propanol, isopropanol, 1-butanol, 1-pentanol, 1-hexanol, 1-heptanol, 1 -Octanol, 2-ethyl-1-hexanol, 1-nonanol, 1-decanol, 1-undecanol, 2-methoxy-1-ethanol, cyclopentanemethanol, cyclohexanemethanol, benzyl alcohol, 4-methoxybenzyl alcohol, 4-chloro Examples include benzyl alcohol, 1-phenylethyl alcohol, 2-naphthalenemethanol, 2- (hydroxymethyl) furan, 2- (hydroxymethyl) thiophene, cyclopentanol, and cyclohexanol.
アルコール化合物(B)は2分子以上を使用し、それぞれ同一であっても異なっていていもよい。2分子以上のアルコール化合物(B)同士が同一である場合には対称のエーテル化合物(C)が製造でき、2分子以上のアルコール化合物(B)同士が異なる場合は、非対称のエーテル化合物(C)が製造できる。また、エーテル化合物(8)を製造する場合、一般式(6)及び(7)で表されるアルコール化合物が同一である場合には、得られるエーテル化合物(8)は対称のエーテル化合物(8)が、一般式(6)で表されるアルコール化合物と(7)で表されるアルコール化合物が異なる場合には、非対称のエーテル化合物(8)を製造できる。 The alcohol compound (B) uses two or more molecules, and may be the same or different. When two or more molecules of alcohol compound (B) are the same, a symmetrical ether compound (C) can be produced, and when two or more molecules of alcohol compound (B) are different, an asymmetric ether compound (C). Can be manufactured. When the ether compound (8) is produced, when the alcohol compounds represented by the general formulas (6) and (7) are the same, the resulting ether compound (8) is a symmetric ether compound (8). However, when the alcohol compound represented by the general formula (6) is different from the alcohol compound represented by (7), an asymmetric ether compound (8) can be produced.
エーテル化合物(C)として好ましくは、一般式(8)で表されるエーテル化合物である。一般式(8)中、R12〜R15は、前記に同じである。 The ether compound (C) is preferably an ether compound represented by the general formula (8). In general formula (8), R < 12 > -R < 15 > is the same as the above.
エーテル化合物(C)としては、具体的には、これに限定するものではないが、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジペンチルエーテル、ジヘキシルエーテル、ジヘプチルエーテル、ジオクチルエーテル、ビス(2−エチルヘキシル)エーテル、ジデシルエーテル、ジウンデシルエーテル、ビス(2−メトキシエチル)エーテル、ビス(シクロペンチルメチル)エーテル、ビス(シクロヘキシルメチル)エーテル、ジベンジルエーテル、ビス(4−メトキシベンジル)エーテル、ビス(4−クロロベンジル)エーテル、ビス(1−フェニルエチル)エーテル、ビス(2−ナフタレンメチル)エーテル、ビス(2−フリルメチル)エーテル、ビス(2−チエニルメチル)エーテル、ジシクロペンチルエーテル、ジシクロヘキシルエーテル、 Specific examples of the ether compound (C) include, but are not limited to, dimethyl ether, diethyl ether, dipropyl ether, diisopropyl ether, dibutyl ether, dipentyl ether, dihexyl ether, diheptyl ether, dioctyl ether, Bis (2-ethylhexyl) ether, didecyl ether, diundecyl ether, bis (2-methoxyethyl) ether, bis (cyclopentylmethyl) ether, bis (cyclohexylmethyl) ether, dibenzyl ether, bis (4-methoxybenzyl) Ether, bis (4-chlorobenzyl) ether, bis (1-phenylethyl) ether, bis (2-naphthalenemethyl) ether, bis (2-furylmethyl) ether, bis (2-thienylmethyl) Ether, dicyclopentyl ether, dicyclohexyl ether,
エチルメチルエーテル、メチルプロピルエーテル、エチルプロピルエーテル、イソプロピルメチルエーテル、エチルイソプロピルエーテル、イソプロピルプロピルエーテル、ブチルメチルエーテル、ブチルエチルエーテル、ブチルプロピルエーテル、ブチルイソプロピルエーテル、メチルペンチルエーテル、エチルペンチルエーテル、ペンチルプロピルエーテル、イソプロピルペンチルエーテル、ブチルペンチルエーテル、ヘキシルメチルエーテル、エチルヘキシルエーテル、ヘキシルプロピルエーテル、ヘキシルイソプロピルエーテル、ブチルヘキシルエーテル、ヘキシルペンチルエーテル、ヘプチルメチルエーテル、エチルヘプチルエーテル、ヘプチルプロピルエーテル、ヘプチルイソプロピルエーテル、ブチルヘプチルエーテル、ヘプチルペンチルエーテル、ヘプチルヘキシルエーテル、オクチルメチルエーテル、エチルオクチルエーテル、オクチルプロピルエーテル、イソプロピルオクチルエーテル、ブチルオクチルエーテル、オクチルペンチルエーテル、ヘキシルオクチルエーテル、ヘプチルオクチルエーテル、(2−エチルヘキシル)メチルエーテル、(2−エチルヘキシル)エチルエーテル、(2−エチルヘキシル)プロピルエーテル、(2−エチルヘキシル)イソプロピルエーテル、ブチル(2−エチルヘキシル)エーテル、(2−エチルヘキシル)ペンチルエーテル、(2−エチルヘキシル)ヘキシルエーテル、(2−エチルヘキシル)ヘプチルエーテル、(2−エチルヘキシル)オクチルエーテル、メチルノニルエーテル、エチルノニルエーテル、ノニルプロピルエーテル、イソプロピルノニルエーテル、ブチルノニルエーテル、ノニルペンチルエーテル、ヘキシルノニルエーテル、ヘプチルノニルエーテル、ノニルオクチルエーテル、(2−エチルヘキシル)ノニルエーテル、デシルメチルエーテル、デシルエチルエーテル、デシルプロピルエーテル、デシルイソプロピルエーテル、ブチルデシルエーテル、デシルペンチルエーテル、デシルヘキシルエーテル、デシルヘプチルエーテル、デシルオクチルエーテル、デシル(2−エチルヘキシル)エーテル、デシルノニルエーテル、メチルウンデシルエーテル、エチルウンデシルエーテル、プロピルウンデシルエーテル、イソプロピルウンデシルエーテル、ブチルウンデシルエーテル、ペンチルウンデシルエーテル、ヘキシルウンデシルエーテル、ヘプチルウンデシルエーテル、オクチルウンデシルエーテル、(2−エチルヘキシル)ウンデシルエーテル、ノニルウンデシルエーテル、デシルウンデシルエーテル、 Ethyl methyl ether, methyl propyl ether, ethyl propyl ether, isopropyl methyl ether, ethyl isopropyl ether, isopropyl propyl ether, butyl methyl ether, butyl ethyl ether, butyl propyl ether, butyl isopropyl ether, methyl pentyl ether, ethyl pentyl ether, pentyl propyl Ether, isopropyl pentyl ether, butyl pentyl ether, hexyl methyl ether, ethyl hexyl ether, hexyl propyl ether, hexyl isopropyl ether, butyl hexyl ether, hexyl pentyl ether, heptyl methyl ether, ethyl heptyl ether, heptyl propyl ether, heptyl isopropyl ether, butyl Heptyl ether, hep Rupentyl ether, heptyl hexyl ether, octyl methyl ether, ethyl octyl ether, octyl propyl ether, isopropyl octyl ether, butyl octyl ether, octyl pentyl ether, hexyl octyl ether, heptyl octyl ether, (2-ethylhexyl) methyl ether, (2 -Ethylhexyl) ethyl ether, (2-ethylhexyl) propyl ether, (2-ethylhexyl) isopropyl ether, butyl (2-ethylhexyl) ether, (2-ethylhexyl) pentyl ether, (2-ethylhexyl) hexyl ether, (2-ethylhexyl) ) Heptyl ether, (2-ethylhexyl) octyl ether, methyl nonyl ether, ethyl nonyl ether, nonyl pro Ether, isopropyl nonyl ether, butyl nonyl ether, nonyl pentyl ether, hexyl nonyl ether, heptyl nonyl ether, nonyl octyl ether, (2-ethylhexyl) nonyl ether, decyl methyl ether, decyl ethyl ether, decyl propyl ether, decyl isopropyl ether, Butyl decyl ether, decyl pentyl ether, decyl hexyl ether, decyl heptyl ether, decyl octyl ether, decyl (2-ethylhexyl) ether, decyl nonyl ether, methyl undecyl ether, ethyl undecyl ether, propyl undecyl ether, isopropyl undecyl ether Ether, butyl undecyl ether, pentyl undecyl ether, hexyl undecyl ether, Butyl undecyl ether, octyl undecyl ether, (2-ethylhexyl) undecyl ether, nonyl undecyl ether, decyl undecyl ether,
(2−メトキシエチル)メチルエーテル、エチル(2−メトキシエチル)エーテル、(2−メトキシエチル)プロピルエーテル、イソプロピル(2−メトキシエチル)エーテル、ブチル(2−メトキシエチル)エーテル、(2−メトキシエチル)ペンチルエーテル、ヘキシル(2−メトキシエチル)エーテル、ヘプチル(2−メトキシエチル)エーテル、(2−メトキシエチル)オクチルエーテル、(2−エチルヘキシル)(2−メトキシエチル)エーテル、(2−メトキシエチル)ノニルエーテル、デシル(2−メトキシエチル)エーテル、(2−メトキシエチル)ウンデシルエーテル、(シクロペンチルメチル)メチルエーテル、(シクロペンチルメチル)エチルエーテル、(シクロペンチルメチル)プロピルエーテル、(シクロペンチルメチル)イソプロピルエーテル、ブチル(シクロペンチルメチル)エーテル、(シクロペンチルメチル)ペンチルエーテル、(シクロペンチルメチル)ヘキシルエーテル、(シクロペンチルメチル)ヘプチルエーテル、(シクロペンチルメチル)オクチルエーテル、(シクロペンチルメチル)(2−エチルヘキシル)エーテル、(シクロペンチルメチル)ノニルエーテル、(シクロペンチルメチル)デシルエーテル、(シクロペンチルメチル)ウンデシルエーテル、(シクロペンチルメチル)(2−メトキシエチル)エーテル、(シクロヘキシルメチル)メチルエーテル、(シクロヘキシルメチル)エチルエーテル、(シクロヘキシルメチル)プロピルエーテル、(シクロヘキシルメチル)イソプロピルエーテル、ブチル(シクロヘキシルメチル)エーテル、(シクロヘキシルメチル)ペンチルエーテル、(シクロヘキシルメチル)ヘキシルエーテル、(シクロヘキシルメチル)ヘプチルエーテル、(シクロヘキシルメチル)オクチルエーテル、(シクロヘキシルメチル)(2−エチルヘキシル)エーテル、(シクロヘキシルメチル)ノニルエーテル、(シクロヘキシルメチル)デシルエーテル、(シクロヘキシルメチル)ウンデシルエーテル、(シクロヘキシルメチル)(2−メトキシエチル)エーテル、(シクロヘキシルメチル)(シクロペンチルメチル)エーテル、ベンジルメチルエーテル、ベンジルエチルエーテル、ベンジルプロピルエーテル、ベンジルイソプロピルエーテル、ベンジルブチルエーテル、ベンジルペンチルエーテル、ベンジルヘキシルエーテル、ベンジルヘプチルエーテル、ベンジルオクチルエーテル、ベンジル(2−エチルヘキシル)エーテル、ベンジルノニルエーテル、ベンジルデシルエーテル、ベンジルウンデシルエーテル、ベンジル(2−メトキシエチル)エーテル、ベンジル(シクロペンチルメチル)エーテル、ベンジル(シクロヘキシル)エーテル、(4−メトキシベンジル)メチルエーテル、エチル(4−メトキシベンジル)エーテル、(4−メトキシベンジル)プロピルエーテル、イソプロピル(4−メトキシベンジル)エーテル、ブチル(4−メトキシベンジル)エーテル、(4−メトキシベンジル)ペンチルエーテル、ヘキシル(4−メトキシベンジル)エーテル、ヘプチル(4−メトキシベンジル)エーテル、(4−メトキシベンジル)オクチルエーテル、(2−エチルヘキシル)(4−メトキシベンジル)エーテル、(4−メトキシベンジル)ノニルエーテル、デシル(4−メトキシベンジル)エーテル、(4−メトキシベンジル)ウンデシルエーテル、(4−メトキシベンジル)(2−メトキシエチル)エーテル、(シクロペンチルメチル)(4−メトキシベンジル)エーテル、(シクロヘキシルメチル)(4−メトキシベンジル)エーテル、ベンジル(4−メトキシベンジル)エーテル、(4−クロロベンジル)メチルエーテル、エチル(4−クロロベンジル)エーテル、(4−クロロベンジル)プロピルエーテル、(4−クロロベンジル)イソプロピルエーテル、ブチル(4−クロロベンジル)エーテル、(4−クロロベンジル)ペンチルエーテル、(4−クロロベンジル)ヘキシルエーテル、(4−クロロベンジル)ヘプチルエーテル、(4−クロロベンジル)オクチルエーテル、(4−クロロベンジル)(2−エチルヘキシル)エーテル、(4−クロロベンジル)ノニルエーテル、(4−クロロベンジル)デシルエーテル、(4−クロロベンジル)ウンデシルエーテル、(4−クロロベンジル)(2−メトキシエチル)エーテル、(4−クロロベンジル)(シクロペンチルメチル)エーテル、(4−クロロベンジル)(シクロヘキシルメチル)エーテル、ベンジル(4−クロロベンジル)エーテル、(4−クロロベンジル)(4−メトキシベンジル)エーテル、(1−フェニルエチル)メチルエーテル、エチル(1−フェニルエチル)エーテル、(1−フェニルエチル)プロピルエーテル、イソプロピル(1−フェニルエチル)エーテル、ブチル(1−フェニルエチル)エーテル、ペンチル(1−フェニルエチル)、ヘキシル(1−フェニルエチル)エーテル、ヘプチル(1−フェニルエチル)エーテル、(1−フェニルエチル)オクチルエーテル、(2−エチルヘキシル)(1−フェニルエチル)エーテル、ノニル(1−フェニルエチル)エーテル、デシル(1−フェニルエチル)エーテル、(1−フェニルエチル)ウンデシルエーテル、(2−メトキシエチル)(1−フェニルエチル)エーテル、(シクロペンチルメチル)(1−フェニルエチル)エーテル、(シクロヘキシルメチル)(1−フェニルエチル)エーテル、ベンジル(1−フェニルエチル)エーテル、(4−メトキシベンジル)(1−フェニルエチル)エーテル、(4−クロロベンジル)(1−フェニルエチル)エーテル、メチル(2−ナフタレンメチル)エーテル、エチル(2−ナフタレンメチル)エーテル、(2−ナフタレンメチル)プロピルエーテル、イソプロピル(2−ナフタレンメチエーテル)エーテル、ブチル(2−ナフタレンメチル)エーテル、(2−ナフタレンメチル)ペンチルエーテル、ヘキシル(2−ナフタレンメチル)エーテル、ヘプチル(2−ナフタレンメチル)エーテル、(2−ナフタレンメチル)オクチルエーテル、(2−エチルヘキシル)(2−ナフタレンメチル)エーテル、(2−ナフタレンメチル)ノニルエーテル、デシル(2−ナフタレンメチル)エーテル、(2−ナフタレンメチル)ウンデシルエーテル、(2−メトキシエチル)(2−ナフタレンメチル)エーテル、(シクロペンチルメチル)(2−ナフタレンメチル)エーテル、(シクロヘキシルメチル)(2−ナフタレンメチル)エーテル、ベンジル(2−ナフタレンメチル)エーテル、(4−メトキシベンジル)(2−ナフタレンメチル)エーテル、(4−クロロベンジル)(2−ナフタレンメチル)エーテル、(1−フェニルエチル)(2−ナフタレンメチル)エーテル、(2−フリルメチル)メチルエーテル、エチル(2−フリルメチル)エーテル、(2−フリルメチル)プロピルエーテル、(2−フリルメチル)イソプロピルエーテル、ブチル(2−フリルメチル)エーテル、(2−フリルメチル)ペンチルエーテル、(2−フリルメチル)ヘキシルエーテル、(2−フリルメチル)ヘプチルエーテル、(2−フリルメチル)オクチルエーテル、(2−エチルヘキシル)(2−フリルメチル)エーテル、(2−フリルメチル)ノニルエーテル、デシル(2−フリルメチル)エーテル、(2−フリルメチル)ウンデシルエーテル、(2−フリルメチル)(2−メトキシエチル)エーテル、(シクロペンチルメチル)(2−フリルメチル)エーテル、(シクロヘキシルメチル)(2−フリルメチル)エーテル、ベンジル(2−フリルメチル)エーテル、(2−フリルメチル)(4−メトキシベンジル)エーテル、(4−クロロベンジル)(2−フリルメチル)エーテル、(2−フリルメチル)(1−フェニルエチル)エーテル、(2−フリルメチル)(2−ナフタレンメチル)エーテル、メチル(2−チエニルメチル)エーテル、エチル(2−チエニルメチル)エーテル、プロピル(2−チエニルメチル)エーテル、イソプロピル(2−チエニルメチル)エーテル、ブチル(2−チエニルメチル)エーテル、ペンチル(2−チエニルメチル)エーテル、ヘキシル(2−チエニルメチル)エーテル、ヘプチル(2−チエニルメチル)エーテル、オクチル(2−チエニルメチル)エーテル、(2−エチルヘキシル)(2−チエニルメチル)エーテル、ノニル(2−チエニルメチル)エーテル、デシル(2−チエニルメチル)エーテル、(2−チエニルメチル)ウンデシルエーテル、(2−メトキシエチル)(2−チエニルメチル)エーテル、(シクロペンチルメチル)(2−チエニルメチル)エーテル、(シクロヘキシルメチル)(2−チエニルメチル)エーテル、ベンジル(2−チエニルメチル)エーテル、(4−メトキシベンジル)(2−チエニルメチル)エーテル、(4−クロロベンジル)(2−チエニルメチル)エーテル、(1−フェニルエチル)(2−チエニルメチル)エーテル、(2−ナフタレンメチル)(2−チエニルメチル)エーテル、(2−フリルメチル)(2−チエニルメチル)エーテル、(シクロペンチル)メチルエーテル、(シクロペンチル)エチルエーテル、(シクロペンチル)、(シクロペンチル)プロピルエーテル、(シクロペンチル)イソプロピルエーテル、ブチル(シクロペンチル)エーテル、(シクロペンチル)ペンチルエーテル、(シクロペンチル)ヘキシルエーテル、(シクロペンチル)ヘプチルエーテル、(シクロペンチル)オクチルエーテル、(シクロペンチル)(2−エチルヘキシル)エーテル、(シクロペンチル)ノニルエーテル、(シクロペンチル)デシルエーテル、(シクロペンチル)ウンデシルエーテル、(シクロペンチル)(2−メトキシエチル)エーテル、(シクロペンチル)(シクロペンチルメチル)エーテル、(シクロヘキシルメチル)(シクロペンチル)エーテル、ベンジル(シクロペンチル)エーテル、(シクロペンチル)(4−メトキシベンジル)エーテル、(4−クロロベンジル)(シクロペンチル)エーテル、(シクロペンチル)(1−フェニルエチル)エーテル、(シクロペンチル)(2−ナフタレンメチル)エーテル、(シクロペンチル)(2−フリルメチル)エーテル、(シクロペンチル)(2−チエニルメチル)エーテル、(シクロヘキシル)メチルエーテル、(シクロヘキシル)エチルエーテル、(シクロヘキシル)プロピルエーテル、(シクロヘキシル)イソプロピルエーテル、(シクロヘキシル)ブチルエーテル、(シクロヘキシル)ペンチルエーテル、(シクロヘキシル)ヘキシルエーテル、(シクロヘキシル)ヘプチルエーテル、(シクロヘキシル)オクチルエーテル、(シクロヘキシル)(2−エチルヘキシル)エーテル、(シクロヘキシル)ノニルエーテル、(シクロヘキシル)デシルエーテル、(シクロヘキシル)ウンデシルエーテル、(シクロヘキシル)(2−メトキシエチル)エーテル、(シクロヘキシル)(シクロペンチルメチル)エーテル、(シクロヘキシル)(シクロヘキシルメチル)エーテル、ベンジル(シクロヘキシル)エーテル、(シクロヘキシル)(4−メトキシベンジル)エーテル、(4−クロロベンジル)(シクロヘキシル)エーテル、(シクロヘキシル)(1−フェニルエチル)エーテル、(シクロヘキシル)(2−ナフタレンメチル)エーテル、(シクロヘキシル)(2−フリルメチル)エーテル、(シクロヘキシル)(2−チエニルメチル)エーテル、(シクロヘキシル)(シクロペンチル)エーテル等が挙げられる。 (2-methoxyethyl) methyl ether, ethyl (2-methoxyethyl) ether, (2-methoxyethyl) propyl ether, isopropyl (2-methoxyethyl) ether, butyl (2-methoxyethyl) ether, (2-methoxyethyl ) Pentyl ether, hexyl (2-methoxyethyl) ether, heptyl (2-methoxyethyl) ether, (2-methoxyethyl) octyl ether, (2-ethylhexyl) (2-methoxyethyl) ether, (2-methoxyethyl) Nonyl ether, decyl (2-methoxyethyl) ether, (2-methoxyethyl) undecyl ether, (cyclopentylmethyl) methyl ether, (cyclopentylmethyl) ethyl ether, (cyclopentylmethyl) propyl ether, (cyclopentyl Methyl) isopropyl ether, butyl (cyclopentylmethyl) ether, (cyclopentylmethyl) pentyl ether, (cyclopentylmethyl) hexyl ether, (cyclopentylmethyl) heptyl ether, (cyclopentylmethyl) octyl ether, (cyclopentylmethyl) (2-ethylhexyl) ether , (Cyclopentylmethyl) nonyl ether, (cyclopentylmethyl) decyl ether, (cyclopentylmethyl) undecyl ether, (cyclopentylmethyl) (2-methoxyethyl) ether, (cyclohexylmethyl) methylether, (cyclohexylmethyl) ethylether, (Cyclohexylmethyl) propyl ether, (cyclohexylmethyl) isopropyl ether, butyl (cyclohexyl) Til) ether, (cyclohexylmethyl) pentyl ether, (cyclohexylmethyl) hexyl ether, (cyclohexylmethyl) heptyl ether, (cyclohexylmethyl) octyl ether, (cyclohexylmethyl) (2-ethylhexyl) ether, (cyclohexylmethyl) nonylether, (Cyclohexylmethyl) decyl ether, (cyclohexylmethyl) undecyl ether, (cyclohexylmethyl) (2-methoxyethyl) ether, (cyclohexylmethyl) (cyclopentylmethyl) ether, benzylmethylether, benzylethylether, benzylpropylether, benzyl Isopropyl ether, benzyl butyl ether, benzyl pentyl ether, benzyl hexyl ether, benzyl Heptyl ether, benzyl octyl ether, benzyl (2-ethylhexyl) ether, benzyl nonyl ether, benzyl decyl ether, benzyl undecyl ether, benzyl (2-methoxyethyl) ether, benzyl (cyclopentylmethyl) ether, benzyl (cyclohexyl) ether, (4-methoxybenzyl) methyl ether, ethyl (4-methoxybenzyl) ether, (4-methoxybenzyl) propyl ether, isopropyl (4-methoxybenzyl) ether, butyl (4-methoxybenzyl) ether, (4-methoxybenzyl) ) Pentyl ether, hexyl (4-methoxybenzyl) ether, heptyl (4-methoxybenzyl) ether, (4-methoxybenzyl) octyl ether, (2-ethyl) Xyl) (4-methoxybenzyl) ether, (4-methoxybenzyl) nonyl ether, decyl (4-methoxybenzyl) ether, (4-methoxybenzyl) undecyl ether, (4-methoxybenzyl) (2-methoxyethyl) Ether, (cyclopentylmethyl) (4-methoxybenzyl) ether, (cyclohexylmethyl) (4-methoxybenzyl) ether, benzyl (4-methoxybenzyl) ether, (4-chlorobenzyl) methylether, ethyl (4-chlorobenzyl) ) Ether, (4-chlorobenzyl) propyl ether, (4-chlorobenzyl) isopropyl ether, butyl (4-chlorobenzyl) ether, (4-chlorobenzyl) pentyl ether, (4-chlorobenzyl) hexyl ether, (4 − (Rorobenzyl) heptyl ether, (4-chlorobenzyl) octyl ether, (4-chlorobenzyl) (2-ethylhexyl) ether, (4-chlorobenzyl) nonyl ether, (4-chlorobenzyl) decyl ether, (4-chlorobenzyl) ) Undecyl ether, (4-chlorobenzyl) (2-methoxyethyl) ether, (4-chlorobenzyl) (cyclopentylmethyl) ether, (4-chlorobenzyl) (cyclohexylmethyl) ether, benzyl (4-chlorobenzyl) Ether, (4-chlorobenzyl) (4-methoxybenzyl) ether, (1-phenylethyl) methyl ether, ethyl (1-phenylethyl) ether, (1-phenylethyl) propyl ether, isopropyl (1-phenylethyl) ether, Butyl (1-phenylethyl) ether, pentyl (1-phenylethyl), hexyl (1-phenylethyl) ether, heptyl (1-phenylethyl) ether, (1-phenylethyl) octyl ether, (2-ethylhexyl) ( 1-phenylethyl) ether, nonyl (1-phenylethyl) ether, decyl (1-phenylethyl) ether, (1-phenylethyl) undecylether, (2-methoxyethyl) (1-phenylethyl) ether, Cyclopentylmethyl) (1-phenylethyl) ether, (cyclohexylmethyl) (1-phenylethyl) ether, benzyl (1-phenylethyl) ether, (4-methoxybenzyl) (1-phenylethyl) ether, (4-chloro Benzyl) (1-phenylethyl) Ether, methyl (2-naphthalene methyl) ether, ethyl (2-naphthalene methyl) ether, (2-naphthalene methyl) propyl ether, isopropyl (2-naphthalene methyl ether) ether, butyl (2-naphthalene methyl) ether, (2 -Naphthalenemethyl) pentyl ether, hexyl (2-naphthalenemethyl) ether, heptyl (2-naphthalenemethyl) ether, (2-naphthalenemethyl) octylether, (2-ethylhexyl) (2-naphthalenemethyl) ether, (2- Naphthalenemethyl) nonyl ether, decyl (2-naphthalenemethyl) ether, (2-naphthalenemethyl) undecylether, (2-methoxyethyl) (2-naphthalenemethyl) ether, (cyclopentylmethyl) (2-naphthalene) Ether), (cyclohexylmethyl) (2-naphthalenemethyl) ether, benzyl (2-naphthalenemethyl) ether, (4-methoxybenzyl) (2-naphthalenemethyl) ether, (4-chlorobenzyl) (2-naphthalenemethyl) ) Ether, (1-phenylethyl) (2-naphthalenemethyl) ether, (2-furylmethyl) methylether, ethyl (2-furylmethyl) ether, (2-furylmethyl) propylether, (2-furylmethyl) Isopropyl ether, butyl (2-furylmethyl) ether, (2-furylmethyl) pentyl ether, (2-furylmethyl) hexyl ether, (2-furylmethyl) heptyl ether, (2-furylmethyl) octyl ether, (2 -Ethylhexyl) (2-furylme Til) ether, (2-furylmethyl) nonyl ether, decyl (2-furylmethyl) ether, (2-furylmethyl) undecyl ether, (2-furylmethyl) (2-methoxyethyl) ether, (cyclopentylmethyl) (2-furylmethyl) ether, (cyclohexylmethyl) (2-furylmethyl) ether, benzyl (2-furylmethyl) ether, (2-furylmethyl) (4-methoxybenzyl) ether, (4-chlorobenzyl) ( 2-furylmethyl) ether, (2-furylmethyl) (1-phenylethyl) ether, (2-furylmethyl) (2-naphthalenemethyl) ether, methyl (2-thienylmethyl) ether, ethyl (2-thienylmethyl) ) Ether, propyl (2-thienylmethyl) ether, isopropyl 2-thienylmethyl) ether, butyl (2-thienylmethyl) ether, pentyl (2-thienylmethyl) ether, hexyl (2-thienylmethyl) ether, heptyl (2-thienylmethyl) ether, octyl (2-thienylmethyl) Ether, (2-ethylhexyl) (2-thienylmethyl) ether, nonyl (2-thienylmethyl) ether, decyl (2-thienylmethyl) ether, (2-thienylmethyl) undecyl ether, (2-methoxyethyl) ( 2-thienylmethyl) ether, (cyclopentylmethyl) (2-thienylmethyl) ether, (cyclohexylmethyl) (2-thienylmethyl) ether, benzyl (2-thienylmethyl) ether, (4-methoxybenzyl) (2-thienyl) Methyl) ether, ( -Chlorobenzyl) (2-thienylmethyl) ether, (1-phenylethyl) (2-thienylmethyl) ether, (2-naphthalenemethyl) (2-thienylmethyl) ether, (2-furylmethyl) (2-thienyl) Methyl) ether, (cyclopentyl) methyl ether, (cyclopentyl) ethyl ether, (cyclopentyl), (cyclopentyl) propyl ether, (cyclopentyl) isopropyl ether, butyl (cyclopentyl) ether, (cyclopentyl) pentyl ether, (cyclopentyl) hexyl ether, (Cyclopentyl) heptyl ether, (cyclopentyl) octyl ether, (cyclopentyl) (2-ethylhexyl) ether, (cyclopentyl) nonyl ether, (cyclopentyl) decyl ether Ter, (cyclopentyl) undecyl ether, (cyclopentyl) (2-methoxyethyl) ether, (cyclopentyl) (cyclopentylmethyl) ether, (cyclohexylmethyl) (cyclopentyl) ether, benzyl (cyclopentyl) ether, (cyclopentyl) (4- (Methoxybenzyl) ether, (4-chlorobenzyl) (cyclopentyl) ether, (cyclopentyl) (1-phenylethyl) ether, (cyclopentyl) (2-naphthalenemethyl) ether, (cyclopentyl) (2-furylmethyl) ether, Cyclopentyl) (2-thienylmethyl) ether, (cyclohexyl) methyl ether, (cyclohexyl) ethyl ether, (cyclohexyl) propyl ether, (cyclohexyl) isopro Ether, (cyclohexyl) butyl ether, (cyclohexyl) pentyl ether, (cyclohexyl) hexyl ether, (cyclohexyl) heptyl ether, (cyclohexyl) octyl ether, (cyclohexyl) (2-ethylhexyl) ether, (cyclohexyl) nonyl ether, (cyclohexyl) Decyl ether, (cyclohexyl) undecyl ether, (cyclohexyl) (2-methoxyethyl) ether, (cyclohexyl) (cyclopentylmethyl) ether, (cyclohexyl) (cyclohexylmethyl) ether, benzyl (cyclohexyl) ether, (cyclohexyl) (4 -Methoxybenzyl) ether, (4-chlorobenzyl) (cyclohexyl) ether, (cyclohexyl) (1- Niruechiru) ether, (cyclohexyl) (2-naphthalene) ether, (cyclohexyl) (2-furylmethyl) ether, (cyclohexyl) (2-thienylmethyl) ether, (cyclohexyl) (cyclopentyl) ether.
エーテル化合物(C)の製造方法において、エーテル化触媒組成物の使用量は特に限定されないが、通常、アルコール化合物(B)1molに対して遷移金属錯体(A)の金属元素(一般式(1)及び一般式(2)中においてM1で表されるルテニウム、ロジウム又はイリジウム)基準で0.001〜50mol%以上であり、好ましくは0.01〜10mol%程度、より好ましくは0.1〜2mol%程度となる量である。 In the method for producing the ether compound (C), the amount of the etherification catalyst composition used is not particularly limited. Usually, the metal element of the transition metal complex (A) (general formula (1)) per 1 mol of the alcohol compound (B). and general formula (2) not less than 0.001~50Mol% represented by ruthenium, rhodium or iridium) criteria by M 1 in a about preferably 0.01 to 10 mol%, more preferably 0.1~2mol The amount is about%.
また、エーテル化合物(C)の製造方法において、遷移金属錯体(A)の他に、さらに一般式(9):
M2・N(ZSO2)2 (9)
(式中、M2はアルカリ金属原子であり、Zはフッ素原子又は炭素数1〜20のパーフルオロアルキル基を示す。Zは互いに結合して、環を形成していてもよい。)
で表されるアルカリ金属化合物(以下、アルカリ金属化合物(9)という。)存在下で反応させることが出来、エーテル化合物(C)の収率向上の面から、アルカリ金属化合物(9)存在下で反応させることが好ましい。
In addition, in the method for producing the ether compound (C), in addition to the transition metal complex (A), the general formula (9):
M 2 · N (ZSO 2 ) 2 (9)
(In the formula, M 2 represents an alkali metal atom, and Z represents a fluorine atom or a perfluoroalkyl group having 1 to 20 carbon atoms. Z may be bonded to each other to form a ring.)
In the presence of an alkali metal compound (hereinafter referred to as alkali metal compound (9)), and from the viewpoint of improving the yield of the ether compound (C), in the presence of the alkali metal compound (9). It is preferable to react.
一般式(9)中、M2はアルカリ金属原子であり、好ましくは、Li、Na、K、であり、特に好ましくはLiである。Zはフッ素原子又は炭素数1〜20のパーフルオロアルキル基であり、好ましくはフッ素原子、炭素数1〜6のパーフルオロアルキル基より好ましくは炭素数1〜6のパーフルオロアルキル基である。また、Zは互いに結合して、環を形成していてもよい。 In the general formula (9), M 2 is an alkali metal atom, preferably Li, Na, K, and particularly preferably Li. Z is a fluorine atom or a C 1-20 perfluoroalkyl group, preferably a fluorine atom, a C 1-6 perfluoroalkyl group, more preferably a C 1-6 perfluoroalkyl group. Z may be bonded to each other to form a ring.
アルカリ金属化合物(9)の具体例としては、これに限定するものではないが、リチウムビス(フルオロスルホニル)イミド((FSO2)2NLi)、ナトリウムビス(フルオロスルホニル)イミド((FSO2)2NNa)、カリウムビス(フルオロスルホニル)イミド((FSO2)2NK)等のビス(フルオロスルホニル)イミド塩、リチウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド((CF3SO2)2NLi)、ナトリウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド((CF3SO2)2NNa)、カリウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド((CF3SO2)2NK)、リチウムビス(ペンタフルオロエタンスルホニル)イミド((C2F5SO2)2NLi)、ナトリウムビス(ペンタフルオロエタンスルホニル)イミド((C2F5SO2)2NNa)、カリウムビス(ペンタフルオロエタンスルホニル)イミド((C2F5SO2)2NK)、リチウムビス(ヘプタフルオロプロパンスルホニル)イミド((C3F7SO2)2NLi)、ナトリウムビス(ヘプタフルオロプロパンスルホニル)イミド((C3F7SO2)2NNa)、カリウムビス(ヘプタフルオロプロパンスルホニル)イミド((C3F7SO2)2NK)、リチウムビス(ノナフルオロブタンスルホニル)イミド((C4F9SO2)2NLi)、ナトリウムビス(ノナフルオロブタンスルホニル)イミド((C4F9SO2)2NNa)、カリウムビス(ノナフルオロブタンスルホニル)イミド((C4F9SO2)2NK)、リチウムノナフルオロ−N−[(トリフルオロメタン)スルホニル]ブタンスルホニルアミド((CF3SO2)(C4F9SO2)NLi)、ナトリウムノナフルオロ−N−[(トリフルオロメタン)スルホニル]ブタンスルホニルアミド((CF3SO2)(C4F9SO2)NNa)、カリウムノナフルオロ−N−[(トリフルオロメタン)スルホニル]ブタンスルホニルアミド((CF3SO2)(C4F9SO2)NK)、1,1,2,2,3,3−ヘキサフルオロプロパン−1,3−ジスルホンイミドリチウム(CF2(CF2SO2)2NLi)、1,1,2,2,3,3−ヘキサフルオロプロパン−1,3−ジスルホンイミドナトリウム(CF2(CF2SO2)2NNa)、1,1,2,2,3,3−ヘキサフルオロプロパン−1,3−ジスルホンイミドカリウム(CF2(CF2SO2)2NK)等のビス(パーフルオロアルキルスルホニル)イミド塩等が挙げられ、好ましくはリチウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド((CF3SO2)2NLi)、ナトリウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド((CF3SO2)2NNa)、カリウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド((CF3SO2)2NK)、リチウムビス(ペンタフルオロエタンスルホニル)イミド((C2F5SO2)2NLi)、ナトリウムビス(ペンタフルオロエタンスルホニル)イミド((C2F5SO2)2NNa)、カリウムビス(ペンタフルオロエタンスルホニル)イミド((C2F5SO2)2NK)、リチウムビス(ヘプタフルオロプロパンスルホニル)イミド((C3F7SO2)2NLi)、ナトリウムビス(ヘプタフルオロプロパンスルホニル)イミド((C3F7SO2)2NNa)、カリウムビス(ヘプタフルオロプロパンスルホニル)イミド((C3F7SO2)2NK)、リチウムビス(ノナフルオロブタンスルホニル)イミド((C4F9SO2)2NLi)、ナトリウムビス(ノナフルオロブタンスルホニル)イミド((C4F9SO2)2NNa)、カリウムビス(ノナフルオロブタンスルホニル)イミド((C4F9SO2)2NK)、リチウムノナフルオロ−N−[(トリフルオロメタン)スルホニル]ブタンスルホニルアミド((CF3SO2)(C4F9SO2)NLi)、ナトリウムノナフルオロ−N−[(トリフルオロメタン)スルホニル]ブタンスルホニルアミド((CF3SO2)(C4F9SO2)NNa)、カリウムノナフルオロ−N−[(トリフルオロメタン)スルホニル]ブタンスルホニルアミド((CF3SO2)(C4F9SO2)NK)、1,1,2,2,3,3−ヘキサフルオロプロパン−1,3−ジスルホンイミドリチウム(CF2(CF2SO2)2NLi)、1,1,2,2,3,3−ヘキサフルオロプロパン−1,3−ジスルホンイミドナトリウム(CF2(CF2SO2)2NNa)、1,1,2,2,3,3−ヘキサフルオロプロパン−1,3−ジスルホンイミドカリウム(CF2(CF2SO2)2NK)である。 Specific examples of the alkali metal compound (9) include, but are not limited to, lithium bis (fluorosulfonyl) imide ((FSO 2 ) 2 NLi) and sodium bis (fluorosulfonyl) imide ((FSO 2 ) 2. NNa), bis (fluorosulfonyl) imide salts such as potassium bis (fluorosulfonyl) imide ((FSO 2 ) 2 NK), lithium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide ((CF 3 SO 2 ) 2 NLi), sodium bis ( Trifluoromethanesulfonyl) imide ((CF 3 SO 2 ) 2 NNa), potassium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide ((CF 3 SO 2 ) 2 NK), lithium bis (pentafluoroethanesulfonyl) imide ((C 2 F 5 SO 2) 2 NLi), sodium Bis (pentafluoroethane sulfonyl) imide ((C 2 F 5 SO 2 ) 2 NNa), potassium bis (pentafluoroethane sulfonyl) imide ((C 2 F 5 SO 2 ) 2 NK), lithium bis (heptafluoropropanesulfonyl ) Imide ((C 3 F 7 SO 2 ) 2 NLi), sodium bis (heptafluoropropanesulfonyl) imide ((C 3 F 7 SO 2 ) 2 NNa), potassium bis (heptafluoropropanesulfonyl) imide ((C 3 F 7 SO 2) 2 NK) , lithium bis (nonafluorobutanesulfonyl) imide ((C 4 F 9 SO 2 ) 2 NLi), sodium bis (nonafluorobutanesulfonyl) imide ((C 4 F 9 SO 2 ) 2 NNa), potassium bis (nonafluorobutanesulfonyl) i De ((C 4 F 9 SO 2 ) 2 NK), lithium nonafluoro -N - [(trifluoromethane) sulfonyl] butane sulfonyl amide ((CF 3 SO 2) ( C 4 F 9 SO 2) NLi), sodium nona Fluoro-N-[(trifluoromethane) sulfonyl] butanesulfonylamide ((CF 3 SO 2 ) (C 4 F 9 SO 2 ) NNa), potassium nonafluoro-N-[(trifluoromethane) sulfonyl] butanesulfonylamide (( CF 3 SO 2) (C 4 F 9 SO 2) NK), 1,1,2,2,3,3- hexafluoropropane-1,3-disulfonic imide (CF 2 (CF 2 SO 2 ) 2 NLi ), 1,1,2,2,3,3-hexafluoropropane-1,3-disulfonic imide sodium (CF 2 (C 2 SO 2) 2 NNa), 1,1,2,2,3,3- hexafluoropropane-1,3-disulfonic imide potassium (CF 2 (CF 2 SO 2 ) 2 NK) such bis (perfluoroalkyl Sulfonyl) imide salts and the like, preferably lithium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide ((CF 3 SO 2 ) 2 NLi), sodium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide ((CF 3 SO 2 ) 2 NNa), potassium Bis (trifluoromethanesulfonyl) imide ((CF 3 SO 2 ) 2 NK), lithium bis (pentafluoroethanesulfonyl) imide ((C 2 F 5 SO 2 ) 2 NLi), sodium bis (pentafluoroethanesulfonyl) imide ( (C 2 F 5 SO 2 ) 2 NNa), potassium bis (pe Ntafluoroethanesulfonyl) imide ((C 2 F 5 SO 2 ) 2 NK), lithium bis (heptafluoropropanesulfonyl) imide ((C 3 F 7 SO 2 ) 2 NLi), sodium bis (heptafluoropropanesulfonyl) imide ((C 3 F 7 SO 2 ) 2 NNa), potassium bis (heptafluoropropanesulfonyl) imide ((C 3 F 7 SO 2 ) 2 NK), lithium bis (nonafluorobutanesulfonyl) imide ((C 4 F 9 SO 2 ) 2 NLi), sodium bis (nonafluorobutanesulfonyl) imide ((C 4 F 9 SO 2 ) 2 NNa), potassium bis (nonafluorobutanesulfonyl) imide ((C 4 F 9 SO 2 ) 2 NK) , Lithium nonafluoro-N-[(trifluoromethane) sulfonate ] Butane sulfonyl amide ((CF 3 SO 2) ( C 4 F 9 SO 2) NLi), sodium nonafluoro -N - [(trifluoromethane) sulfonyl] butane sulfonyl amide ((CF 3 SO 2) ( C 4 F 9 SO 2) NNa), potassium nona fluoro -N - [(trifluoromethane) sulfonyl] butane sulfonyl amide ((CF 3 SO 2) ( C 4 F 9 SO 2) NK), 1,1,2,2,3, 3-hexafluoropropane-1,3-disulfonimidolithium (CF 2 (CF 2 SO 2 ) 2 NLi), 1,1,2,2,3,3-hexafluoropropane-1,3-disulfonimide sodium ( CF 2 (CF 2 SO 2) 2 NNa), 1,1,2,2,3,3- hexafluoropropane-1,3 Jisuruhon'imi Potassium (CF 2 (CF 2 SO 2 ) 2 NK).
本発明において、アルカリ金属化合物(9)の使用量は特に限定されないが、通常、アルコール化合物(B)1molに対して0.001〜100mol%であり、好ましくは0.01〜50mol%、より好ましくは0.1〜30molとなる量である。 In the present invention, the amount of alkali metal compound (9) used is not particularly limited, but is usually 0.001 to 100 mol%, preferably 0.01 to 50 mol%, more preferably 1 mol of alcohol compound (B). Is an amount of 0.1 to 30 mol.
エーテル化合物(C)の製造方法は、溶媒の存在下又は無溶媒下で実施され、通常、溶媒の存在下で反応が実施される。溶媒としては、本発明に悪影響を及ぼさないものであれば特に制限されないが、例えば、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、オクタン、石油エーテル等の炭化水素溶媒、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素溶媒、ジブチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル(CPME)、tert−ブチルメチルエーテル(TBME)、テトラヒドロフラン(THF)、2−メチルテトラヒドロフラン(MeTHF)、1,4−ジオキサン、ジエチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル溶媒等が挙げられる。これらは、2種類以上混合して使用してもよい。このうち、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素が好ましく、経済性の観点から特にトルエンが好ましい。 The method for producing the ether compound (C) is carried out in the presence or absence of a solvent, and the reaction is usually carried out in the presence of a solvent. The solvent is not particularly limited as long as it does not adversely affect the present invention. For example, hydrocarbon solvents such as pentane, hexane, cyclohexane, heptane, octane, petroleum ether, and aromatics such as toluene, xylene, mesitylene, and chlorobenzene. Group hydrocarbon solvent, dibutyl ether, diisopropyl ether, cyclopentyl methyl ether (CPME), tert-butyl methyl ether (TBME), tetrahydrofuran (THF), 2-methyltetrahydrofuran (MeTHF), 1,4-dioxane, diethylene glycol dimethyl ether, etc. Examples include ether solvents. You may use these in mixture of 2 or more types. Of these, aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, mesitylene and chlorobenzene are preferred, and toluene is particularly preferred from the viewpoint of economy.
エーテル化合物の製造方法においては、その反応において、目的とするエーテル化合物と共に、等モル量の水が副生する。系中に水が多量に存在すると、エーテル化合物が加水分解される。この水の影響を低減させる方法としては、1)溶媒によって高希釈条件として反応させる方法、若しくは2)反応中に副生する水を反応系内から排出しながら反応させる方法が挙げられる。 In the method for producing an ether compound, an equimolar amount of water is by-produced together with the target ether compound in the reaction. When a large amount of water is present in the system, the ether compound is hydrolyzed. Examples of a method for reducing the influence of water include 1) a method of reacting under a high dilution condition with a solvent, and 2) a method of reacting while discharging water produced as a by-product during the reaction from the reaction system.
1)溶媒によって高希釈条件として反応させる場合、アルコール化合物(B)に対し、大過剰量の上記溶媒を使用する。このとき、溶媒の使用量としては、アルコール化合物(B)1molに対し通常、10L以上、好ましくは10〜100L、より好ましくは10〜50Lである。 1) When making it react as a high dilution condition with a solvent, the said solvent of a large excess is used with respect to alcohol compound (B). At this time, as the usage-amount of a solvent, it is 10L or more normally with respect to 1 mol of alcohol compounds (B), Preferably it is 10-100L, More preferably, it is 10-50L.
2)反応中に副生する水を反応系内から排出しながら実施する方法としては、例えば、脱水剤の存在下、反応を行うことにより水を除去する方法、共沸脱水等により水を除去する方法が挙げられる。これらの方法の中では、ディーンスターク装置等を備えた反応装置を用い、共沸脱水により水を除去する方法が好ましい。かかる水を除去する方法は、高希釈条件下に比べ、使用する溶媒量を削減することができる。 2) As a method to be carried out while discharging water produced as a by-product during the reaction, for example, a method of removing water by carrying out the reaction in the presence of a dehydrating agent, water removal by azeotropic dehydration, etc. The method of doing is mentioned. Among these methods, a method of removing water by azeotropic dehydration using a reaction apparatus equipped with a Dean-Stark apparatus or the like is preferable. Such a method for removing water can reduce the amount of solvent to be used as compared with a high dilution condition.
2)反応中に副生する水を反応系内から排出しながら反応させる場合、溶媒の使用量は、反応条件等によって適宜調節すればよく、特に限定されないが、例えばアルコール化合物(B)1molに対し10L未満、好ましくは0.01〜9L、より好ましくは0.1〜1.0Lである。 2) When the reaction is performed while discharging water produced as a by-product from the reaction system, the amount of the solvent used may be appropriately adjusted depending on the reaction conditions and the like, and is not particularly limited. For example, 1 mol of the alcohol compound (B) On the other hand, it is less than 10L, preferably 0.01 to 9L, more preferably 0.1 to 1.0L.
エーテル化合物の製造方法に係る反応は、不活性ガス雰囲気下、空気下、若しくは水素雰囲気下のいずれでも実施することができるが、副生成物の抑制、収率の向上等の点から、水素雰囲気下で行うことが好ましい。 The reaction relating to the method for producing an ether compound can be carried out under an inert gas atmosphere, under air, or under a hydrogen atmosphere. However, in terms of suppression of by-products, improvement in yield, etc., a hydrogen atmosphere It is preferable to carry out below.
反応圧力は、特に制限はなく、常圧で反応を実施してもよいし、加圧下で反応を行ってもよい。 The reaction pressure is not particularly limited, and the reaction may be performed at normal pressure or may be performed under pressure.
反応温度は、特に限定されず任意の温度で実施することができ、例えば20〜200℃の範囲で反応を実施することが好ましい。より好ましくは100〜180℃であり、さらに好ましくは130〜160℃である。 Reaction temperature is not specifically limited, It can implement at arbitrary temperature, For example, it is preferable to implement reaction in the range of 20-200 degreeC. More preferably, it is 100-180 degreeC, More preferably, it is 130-160 degreeC.
エーテル化合物の製造方法は、密閉容器中で行ってもよい。その容器としては、特に制限はなく、ステンレス製密閉容器、耐圧使用のガラス製密閉容器等が挙げられる。 You may perform the manufacturing method of an ether compound in an airtight container. There is no restriction | limiting in particular as the container, A stainless steel airtight container, a pressure-resistant glass airtight container, etc. are mentioned.
反応終了後、得られた反応混合物を、当業者に公知の方法に従い、濾過、遠心分離等の後処理操作、並びに所望によりシリカゲルカラムクロマトグラフィー、蒸留、再結晶等の精製操作を行うことにより、エーテル化合物(C)を取り出すことができる。 After completion of the reaction, the resulting reaction mixture is subjected to post-treatment operations such as filtration and centrifugation, and, if desired, purification operations such as silica gel column chromatography, distillation and recrystallization according to methods known to those skilled in the art. The ether compound (C) can be taken out.
次に、本発明を実施例に基づいて具体的に説明するが、本発明はなんらこれらに限定されるものではない。下記の実施例中、得られたエーテル化合物の収率は、GCのビフェニルを基準とする内部標準定量法、若しくは1H−NMRのフェナントレンを基準とする内部標準定量法によって算出した。 Next, the present invention will be specifically described based on examples, but the present invention is not limited thereto. In the following examples, the yield of the obtained ether compound was calculated by an internal standard quantitative method based on GC biphenyl or an internal standard quantitative method based on 1 H-NMR phenanthrene.
ガスクロマトグラフィー(以下、GCと略記する。)分析の測定条件は、以下の通りである。
装置 : 株式会社島津製作所製ガスクロマトグラフィー(GC−2010)
カラム : Agilent Technologies社製
(長さ60m、内径0.25mm、膜圧1.00μm)
キャリアガス : ヘリウム
線速度 : 28.5cm/秒
スプリット比 : 1:100
カラム温度 : 50℃ → 10℃/分 → 300℃(10分ホールド)
検出方法 : FID(水素炎イオン検出器)
分析合計時間 : 35分
検出器温度 : 300℃
注入口温度 : 250℃
注入量 : 1.0μL
Measurement conditions for gas chromatography (hereinafter abbreviated as GC) analysis are as follows.
Apparatus: Gas chromatography manufactured by Shimadzu Corporation (GC-2010)
Column: Made by Agilent Technologies
(Length 60m, inner diameter 0.25mm, membrane pressure 1.00μm)
Carrier gas: Helium linear velocity: 28.5 cm / sec Split ratio: 1: 100
Column temperature: 50 ° C → 10 ° C / min → 300 ° C (10 min hold)
Detection method: FID (hydrogen flame ion detector)
Total analysis time: 35 minutes Detector temperature: 300 ° C
Inlet temperature: 250 ° C
Injection volume: 1.0 μL
1H−NMR分析は、ブルカー株式会社製核磁気共鳴装置AV400を使用し、溶媒にCDCl3、CD3OD又はD2Oを使用して400MHzで分析した 1 H-NMR analysis was performed at 400 MHz using Bruker's nuclear magnetic resonance apparatus AV400 and using CDCl 3 , CD 3 OD or D 2 O as a solvent.
実施例中、リチウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド((CF3SO2)2NLi)をLiTFSI、ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドイオンをTFSI−、トリフルオロメタンスルホナートイオンをOTf−、ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド酸をHTFSI、トリフルオロメタンスルホン酸をTfOHと略記する。 In the examples, lithium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide ((CF 3 SO 2 ) 2 NLi) is LiTFSI, bis (trifluoromethanesulfonyl) imide ion is TFSI − , trifluoromethanesulfonate ion is OTf − , and bis (trifluoromethanesulfonyl). ) Imido acid is abbreviated as HTFSI, and trifluoromethanesulfonic acid is abbreviated as TfOH.
ピリジン化合物10a、イリジウム錯体12a、イリジウム錯体1a、イリジウム錯体1bは、下記反応式のように合成した。 The pyridine compound 10a, the iridium complex 12a, the iridium complex 1a, and the iridium complex 1b were synthesized as shown in the following reaction formula.
[製造例1]2−ベンジルオキシ−6−(1−イミダゾリル)ピリジンの合成
窒素置換した3ッ口フラスコに2−ブロモ−6−ベンジルオキシピリジン(4.52g,17.1mmol)、イミダゾール(1.30g,19.1mmol)、ヨウ化銅(0.33g,1.7mmol)、L−プロリン(0.39g,3.4mmol)、炭酸カリウム(3.51g,25.4mmol)、ジメチルスルホキシド(30mL)を加えた後、95℃で4時間反応させた(深青緑色懸濁液)。20℃まで冷却した後、水(90mL)を加え固体を溶解させ、酢酸エチル(90mL×3回)で抽出した。微量の固体が含まれる有機層を濾過した後、得られた濾液から溶媒を留去した。粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=1:1)で精製した後に溶媒を留去し、2−ベンジルオキシ−6−(1−イミダゾリル)ピリジンを黄色オイルとして得た(3.53g,14.0mmol,収率81.9%)。以下に2−ベンジルオキシ−6−(1−イミダゾリル)ピリジンの1H−NMRデータを示す。
[Production Example 1] Synthesis of 2-benzyloxy-6- (1-imidazolyl) pyridine 2-Bromo-6-benzyloxypyridine (4.52 g, 17.1 mmol), imidazole (1 .30 g, 19.1 mmol), copper iodide (0.33 g, 1.7 mmol), L-proline (0.39 g, 3.4 mmol), potassium carbonate (3.51 g, 25.4 mmol), dimethyl sulfoxide (30 mL) ) And then reacted at 95 ° C. for 4 hours (deep blue-green suspension). After cooling to 20 ° C., water (90 mL) was added to dissolve the solid, and the mixture was extracted with ethyl acetate (90 mL × 3 times). After filtering the organic layer containing a trace amount of solid, the solvent was distilled off from the obtained filtrate. The crude product was purified by silica gel column chromatography (hexane: ethyl acetate = 1: 1) and then the solvent was distilled off to give 2-benzyloxy-6- (1-imidazolyl) pyridine as a yellow oil (3. 53 g, 14.0 mmol, yield 81.9%). The 1 H-NMR data of 2-benzyloxy-6- (1-imidazolyl) pyridine is shown below.
1H−NMR(400MHz,CDCl3) δ=8.30(s,1H,aromatic),7.69(t,J=8.0Hz,1H,aromatic),7.57(s,1H,aromatic),7.47(m,2H,aromatic),7.31−7.41(m,3H,aromatic),7.18(s,1H,aromatic),6.91(d,J=7.6Hz,1H,aromatic),6.74(d,J=8.4Hz,1H,aromatic),5.43(s,2H,CH2). 1 H-NMR (400 MHz, CDCl 3 ) δ = 8.30 (s, 1H, aromatic), 7.69 (t, J = 8.0 Hz, 1H, aromatic), 7.57 (s, 1H, aromatic) 7.47 (m, 2H, aromatic), 7.31-7.41 (m, 3H, aromatic), 7.18 (s, 1H, aromatic), 6.91 (d, J = 7.6 Hz, 1H, aromatic), 6.74 (d, J = 8.4 Hz, 1H, aromatic), 5.43 (s, 2H, CH 2 ).
[製造例2]化合物10aの合成
窒素置換した3ッ口フラスコに2−ベンジルオキシ−6−(1−イミダゾリル)ピリジン(3.48g,13.8mmol)、酢酸エチル(39mL)を加えた。次いでヨウ化メチル(19.71g,139mmol)を加えた後、20℃で18時間反応させた(白色懸濁液)。反応混合物を濾過して得られた固体を洗浄(トルエン11.5mL×3回)し、白色固体を得た。白色固体を真空乾燥させることにより化合物10aを得た(5.02g,12.8mmol,収率92.8%)。以下に化合物10aの1H−NMRデータを示す。
[Production Example 2] Synthesis of compound 10a To a nitrogen-substituted three-necked flask, 2-benzyloxy-6- (1-imidazolyl) pyridine (3.48 g, 13.8 mmol) and ethyl acetate (39 mL) were added. added. Subsequently, methyl iodide (19.71 g, 139 mmol) was added, followed by reaction at 20 ° C. for 18 hours (white suspension). The solid obtained by filtering the reaction mixture was washed (toluene 11.5 mL × 3 times) to obtain a white solid. The white solid was vacuum-dried to obtain Compound 10a (5.02 g, 12.8 mmol, yield 92.8%). The 1 H-NMR data of compound 10a are shown below.
1H−NMR(400MHz,CDCl3) δ=11.03(s,1H,aromatic),8.06(s,1H,aromatic),7.86(t,J=8.4Hz,1H,aromatic),7.75(d,J=7.6Hz,1H,aromatic),7.61(s,1H,aromatic),7.47(m,2H,aromatic),7.31−7.40(m,3H,aromatic),6.94(d,J=8.4Hz,1H,aromatic),5.46(s,2H,CH2),4.30(s,3H,CH3). 1 H-NMR (400 MHz, CDCl 3 ) δ = 11.03 (s, 1 H, aromatic), 8.06 (s, 1 H, aromatic), 7.86 (t, J = 8.4 Hz, 1 H, aromatic) , 7.75 (d, J = 7.6 Hz, 1H, aromatic), 7.61 (s, 1H, aromatic), 7.47 (m, 2H, aromatic), 7.31-7.40 (m, 3H, aromatic), 6.94 (d , J = 8.4Hz, 1H, aromatic), 5.46 (s, 2H, CH 2), 4.30 (s, 3H, CH 3).
[製造例3]イリジウム錯体12aの合成
窒素置換した3ッ口フラスコに化合物10a(1.00g,2.54mmol)、ジクロロメタン(26mL)を加えた。酸化銀(289mg,1.25mmol)を加え、アルミホイル遮光下、20℃で4時間反応させた(白色懸濁液)。得られた反応液に(ペンタメチルシクロペンタジエニル)イリジウム(III)ジクロリド(ダイマー)(1.00g,1.26mmol)を加え、遮光下、20℃で5時間反応させた。黄色懸濁液を真空引きにて溶媒留去し、茶黄色固体を得た。窒素置換した3ッ口フラスコに得られた茶黄色固体、3N塩酸(30mL)を加え、100℃で26時間反応させた(オレンジ色懸濁液)。70℃まで冷却した後、熱濾過、洗浄(水8mL)し、オレンジ色溶液を得た。真空引きにて溶媒留去し、黄オレンジ色固体を得た。黄オレンジ色固体を細かく粉砕し、そこにクロロホルム(25mL)を加え、20℃で3時間攪拌した。懸濁液を濾過して得られた固体を洗浄(クロロホルム1mL)し、真空乾燥させ黄色固体を得た。次いで、メタノール(50mL)を加え黄色固体を溶解させ、一部の不溶性固体をシリンジフィルターで除去することで黄色透明溶液を得た。そこにジエチルエーテル(165mL)を20℃で滴下(1時間)後、0℃で2時間保持した。得られた黄色懸濁液を濾過した後に、得られた固体を洗浄(メタノール:ジエチルエーテル=3:1,3mL)して、真空乾燥させることによりイリジウム錯体12aを黄色固体として得た(498mg,0.868mmol,収率34.2%)。以下にイリジウム錯体12aの1H−NMRデータを示す。
[Production Example 3] Synthesis of iridium complex 12a To a nitrogen-substituted three-necked flask, compound 10a (1.00 g, 2.54 mmol) and dichloromethane (26 mL) were added. Silver oxide (289 mg, 1.25 mmol) was added, and the mixture was reacted at 20 ° C. for 4 hours under the light shielding of aluminum foil (white suspension). (Pentamethylcyclopentadienyl) iridium (III) dichloride (dimer) (1.00 g, 1.26 mmol) was added to the resulting reaction solution, and the mixture was reacted at 20 ° C. for 5 hours under light shielding. The yellow suspension was evaporated to remove the solvent to obtain a brown yellow solid. The obtained yellowish solid, 3N hydrochloric acid (30 mL) was added to a nitrogen-substituted three-necked flask, and reacted at 100 ° C. for 26 hours (orange suspension). After cooling to 70 ° C., hot filtration and washing (8 mL of water) were performed to obtain an orange solution. The solvent was distilled off by vacuuming to obtain a yellow orange solid. The yellow orange solid was finely pulverized, chloroform (25 mL) was added thereto, and the mixture was stirred at 20 ° C. for 3 hours. The solid obtained by filtering the suspension was washed (chloroform 1 mL) and vacuum-dried to obtain a yellow solid. Next, methanol (50 mL) was added to dissolve the yellow solid, and a part of the insoluble solid was removed with a syringe filter to obtain a yellow transparent solution. Diethyl ether (165 mL) was added dropwise thereto at 20 ° C. (1 hour), and then kept at 0 ° C. for 2 hours. After the obtained yellow suspension was filtered, the obtained solid was washed (methanol: diethyl ether = 3: 1, 3 mL) and dried in vacuo to obtain iridium complex 12a as a yellow solid (498 mg, 0.868 mmol, yield 34.2%). The 1 H-NMR data of the iridium complex 12a are shown below.
1H−NMR(400MHz,CD3OD) δ=8.01(br,1H,aromatic),7.75(t,J=8.0Hz,1H,aromatic),7.52(br,1H,aromatic),7.13(d,J=7.6Hz,1H,aromatic),6.65(d,J=8.4Hz,1H,aromatic),4.02(s,3H,CH3),1.85(s,15H,Cp*). 1 H-NMR (400 MHz, CD 3 OD) δ = 8.01 (br, 1H, aromatic), 7.75 (t, J = 8.0 Hz, 1H, aromatic), 7.52 (br, 1H, aromatic) ), 7.13 (d, J = 7.6 Hz, 1H, aromatic), 6.65 (d, J = 8.4 Hz, 1H, aromatic), 4.02 (s, 3H, CH 3 ), 1. 85 (s, 15H, Cp * ).
[製造例4]イリジウム錯体1aの合成
30mLのナスフラスコにイリジウム錯体12a(100mg,0.174mmol)、水(8mL)、ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド銀(135mg,0.348mmol)を加え、遮光下、20℃で4時間反応させた。得られた黄色懸濁液に水(80mL)を加え、セライトろ過後、ろ液を減圧乾燥することで、黄色固体であるイリジウム錯体1aを得た(180mg,0.167mmol,収率96.0%)。得られたイリジウム錯体1aは空気中においても分解が認められず安定であった。以下にイリジウム錯体1aの1H−NMRデータを示す。
[Production Example 4] Synthesis of iridium complex 1a Iridium complex 12a (100 mg, 0.174 mmol), water (8 mL), bis (trifluoromethanesulfonyl) imide silver (135 mg, 0.348 mmol) were added to a 30 mL eggplant flask, and light-shielded. The reaction was carried out at 20 ° C. for 4 hours. Water (80 mL) was added to the obtained yellow suspension, and after filtration through Celite, the filtrate was dried under reduced pressure to obtain iridium complex 1a as a yellow solid (180 mg, 0.167 mmol, yield 96.0). %). The obtained iridium complex 1a was stable without being decomposed even in the air. The 1 H-NMR data of the iridium complex 1a are shown below.
1H−NMR(400MHz,D2O) δ=7.90(t,J=8.0Hz,1H,aromatic),7.86(d,J=2.4Hz,1H,aromatic),7.45(d,J=2.4Hz,1H,aromatic),7.21(d,J=7.6Hz,1H,aromatic),6.86(d,J=8.4Hz,1H,aromatic),4.07(s,3H,CH3),1.68(s,15H,Cp*). 1 H-NMR (400 MHz, D 2 O) δ = 7.90 (t, J = 8.0 Hz, 1H, aromatic), 7.86 (d, J = 2.4 Hz, 1H, aromatic), 7.45 (D, J = 2.4 Hz, 1H, aromatic), 7.21 (d, J = 7.6 Hz, 1H, aromatic), 6.86 (d, J = 8.4 Hz, 1H, aromatic), 4. 07 (s, 3H, CH 3 ), 1.68 (s, 15H, Cp *).
イリジウム錯体15は、下記反応式のように合成した。 The iridium complex 15 was synthesized as shown in the following reaction formula.
[製造例5]イリジウム錯体15の合成
窒素置換したナスフラスコに、既報製造方法(J.Organomet.Chem.2008,693,3363−3368)に従って合成したイリジウム錯体14(100mg,0.202mmol)、ジクロロメタン(12.5mL)、トリフルオロメタンスルホン酸銀(105mg,0.409mmol)を加えた。遮光下、20℃で14時間反応させた。黄色懸濁液をセライト濾過、洗浄(ジクロロメタン2mL)し、黄色溶液を得た。得られた黄色溶液を真空引きにて溶媒留去し、イリジウム錯体5を得た(138mg,0.182mmol,収率90.0%)。以下にイリジウム錯体15の1H−NMRデータを示す。
[Production Example 5] Synthesis of Iridium Complex 15 An iridium complex 14 (100 mg, 0.202 mmol) synthesized in accordance with a previously reported production method (J. Organomet. Chem. 2008, 693, 3363-3368) and dichloromethane were added to a nitrogen-substituted eggplant flask. (12.5 mL) and silver trifluoromethanesulfonate (105 mg, 0.409 mmol) were added. The reaction was carried out at 20 ° C. for 14 hours in the dark. The yellow suspension was filtered through Celite and washed (dichloromethane 2 mL) to give a yellow solution. The obtained yellow solution was evaporated under vacuum to obtain iridium complex 5 (138 mg, 0.182 mmol, yield 90.0%). The 1 H-NMR data of the iridium complex 15 are shown below.
1H−NMR(400MHz,D2O) δ=7.31(s,2H,aromatic),3.76(s,6H,CH3),1.62(s,15H,Cp*). 1 H-NMR (400 MHz, D 2 O) δ = 7.31 (s, 2H, aromatic), 3.76 (s, 6H, CH 3 ), 1.62 (s, 15H, Cp * ).
[実施例1a−1]錯体1aを用いたジオクチルエーテルの合成(水素添加有)
30mLのステンレス製密閉容器に、錯体1a(13.0mg,1.2×10−5mol)(2.0mol%)、1−オクタノール(78mg,0.60mmol)、トルエン(10.8mL)を加え、水素置換後、160℃で20時間撹拌した。反応液を冷却後、GC分析により定量したところ、ジオクチルエーテルが収率90%で生成していることを確認した。その結果を表1に示す。
[Example 1a-1] Synthesis of dioctyl ether using complex 1a (with hydrogenation)
Complex 1a (13.0 mg, 1.2 × 10 −5 mol) (2.0 mol%), 1-octanol (78 mg, 0.60 mmol), toluene (10.8 mL) was added to a 30 mL stainless steel sealed container. After purging with hydrogen, the mixture was stirred at 160 ° C. for 20 hours. When the reaction solution was cooled and quantified by GC analysis, it was confirmed that dioctyl ether was produced in a yield of 90%. The results are shown in Table 1.
[実施例1a−2]イリジウム錯体1aを用いたジオクチルエーテルの合成(ディーンスターク装置を利用した水抜き条件下)
ディーンスターク装置を装着した30mLのガラス試験管に、イリジウム錯体1a(24.5mg,2.27×10−5mol)(0.1mol%)、1−オクタノール(2.95g,22.7mmol)、トルエン(6.8mL)を加え、窒素置換後、130℃で4時間撹拌した。反応液を冷却後、GC分析により定量したところ、ジオクチルエーテルが収率90%で生成していることを確認した。その結果を表3に示す。
[Example 1a-2] Synthesis of dioctyl ether using iridium complex 1a (under drainage condition using Dean-Stark apparatus)
In a 30 mL glass test tube equipped with a Dean-Stark apparatus, iridium complex 1a (24.5 mg, 2.27 × 10 −5 mol) (0.1 mol%), 1-octanol (2.95 g, 22.7 mmol), Toluene (6.8 mL) was added, and after purging with nitrogen, the mixture was stirred at 130 ° C. for 4 hours. When the reaction solution was cooled and quantified by GC analysis, it was confirmed that dioctyl ether was produced in a yield of 90%. The results are shown in Table 3.
[比較例1]イリジウム錯体12aを用いたジオクチルエーテルの合成
ディーンスターク装置を装着した30mLガラス試験管に、イリジウム錯体12a(13.0mg,2.27×10−5mol)(0.1mol%)、1−オクタノール(2.95g,22.7mmol)、トルエン(6.8mL)を加え、窒素置換後、130℃で4時間撹拌した。反応液を冷却後、GC分析により定量したところ、ジオクチルエーテルの生成を確認することはできなかった。その結果を表3に示す。
[Comparative Example 1] Synthesis of dioctyl ether using iridium complex 12a Iridium complex 12a (13.0 mg, 2.27 x 10-5 mol) (0.1 mol%) was placed in a 30 mL glass test tube equipped with a Dean-Stark apparatus. , 1-octanol (2.95 g, 22.7 mmol) and toluene (6.8 mL) were added, and after purging with nitrogen, the mixture was stirred at 130 ° C. for 4 hours. After the reaction solution was cooled and quantified by GC analysis, it was not possible to confirm the formation of dioctyl ether. The results are shown in Table 3.
[比較例2]イリジウム錯体15を用いたジオクチルエーテルの合成
ディーンスターク装置を装着した30mLのガラス試験管に、イリジウム錯体15(17.2mg, 2.27×10−5mol)(0.1mol%)、1−オクタノール(2.95g,22.7mmol)、トルエン(6.8mL)を加え、窒素置換後、130℃で4時間撹拌した。反応液を冷却後、GC分析により定量したところ、ジオクチルエーテルの収率は、1.0%以下であった。生成物の収率は、ビフェニルを内部標準に用いるGC分析の結果から算出した。その結果を表3に示す。
[Comparative Example 2] Synthesis of dioctyl ether using iridium complex 15 Iridium complex 15 (17.2 mg, 2.27 x 10 -5 mol) was added to a 30 mL glass test tube equipped with a Dean-Stark apparatus ( 0.1 mol%), 1-octanol (2.95 g, 22.7 mmol), and toluene (6.8 mL) were added, and after purging with nitrogen, the mixture was stirred at 130 ° C. for 4 hours. When the reaction solution was cooled and quantified by GC analysis, the yield of dioctyl ether was 1.0% or less. The yield of the product was calculated from the result of GC analysis using biphenyl as an internal standard. The results are shown in Table 3.
[比較例3]LiTFSIを用いたジオクチルエーテルの合成
ディーンスターク装置を装着した30mLのガラス試験管に、LiTFSI(13.0mg, 4.5×10−5mol)(0.2mol%)、1−オクタノール(2.95g,22.7mmol)、トルエン(6.8mL)を加え、窒素置換後、130℃で4時間撹拌した。反応液を冷却後、GC分析を行ったが、ジオクチルエーテルの生成を確認することはできなかった。その結果を表3に示す。
Comparative Example 3 Synthesis of Dioctyl Ether Using LiTFSI To a 30 mL glass test tube equipped with a Dean-Stark apparatus, LiTFSI (13.0 mg, 4.5 × 10 −5 mol) (0.2 mol%), 1− Octanol (2.95 g, 22.7 mmol) and toluene (6.8 mL) were added, and after purging with nitrogen, the mixture was stirred at 130 ° C. for 4 hours. GC analysis was performed after cooling the reaction solution, but formation of dioctyl ether could not be confirmed. The results are shown in Table 3.
[比較例4]トルフルオロメタンスルホン酸を用いたジオクチルエーテルの合成
ディーンスターク装置を装着した30mLのガラス試験管に、トリフルオロメタンスルホン酸(6.8mg,4.5×10−5mol)(0.2mol%)、1−オクタノール(2.95g,22.7mmol)、トルエン(6.8mL)を加え、窒素置換後、130℃で4時間撹拌した。反応液を冷却後、GC分析により定量したところ、ジオクチルエーテルの収率は1.0%以下であった。生成物の収率は、ビフェニルを内部標準に用いるGC分析の結果から算出した。その結果を表3に示す。
[Comparative Example 4] Synthesis of dioctyl ether using trifluoromethanesulfonic acid A 30 mL glass test tube equipped with a Dean-Stark apparatus was charged with trifluoromethanesulfonic acid (6.8 mg, 4.5 x 10-5 mol) (0 0.2 mol%), 1-octanol (2.95 g, 22.7 mmol) and toluene (6.8 mL) were added, and the mixture was purged with nitrogen and stirred at 130 ° C. for 4 hours. When the reaction solution was cooled and quantified by GC analysis, the yield of dioctyl ether was 1.0% or less. The yield of the product was calculated from the result of GC analysis using biphenyl as an internal standard. The results are shown in Table 3.
[比較例5]ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド酸を用いたジオクチルエーテルの合成
ディーンスターク装置を装着した30mLのガラス試験管に、ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド酸(12.7mg,4.5×10−5mol)(0.2mol%)、1−オクタノール(2.95g,22.7mmol)、トルエン(6.8mL)を加え、窒素置換後、130℃で4時間撹拌した。反応液を冷却後、GC分析により定量したところ、ジオクチルエーテルの収率は1.0%以下であった。生成物の収率は、ビフェニルを内部標準に用いるGC分析の結果から算出した。その結果を表3に示す。
[Comparative Example 5] Synthesis of dioctyl ether using bis (trifluoromethanesulfonyl) imidic acid To a 30 mL glass test tube equipped with a Dean-Stark apparatus, bis (trifluoromethanesulfonyl) imidic acid (12.7 mg, 4.5 × 10 −5 mol) (0.2 mol%), 1-octanol (2.95 g, 22.7 mmol) and toluene (6.8 mL) were added, and after purging with nitrogen, the mixture was stirred at 130 ° C. for 4 hours. When the reaction solution was cooled and quantified by GC analysis, the yield of dioctyl ether was 1.0% or less. The yield of the product was calculated from the result of GC analysis using biphenyl as an internal standard. The results are shown in Table 3.
Claims (9)
一般式(1):
General formula (1):
R8SO3 − (3)
(一般式(3)中、R8は炭素数1〜20のアルキル基、炭素数2〜20のパーフルオロアルキル基、炭素数3〜20のシクロアルキル基、炭素数6〜20のアリール基又は炭素数6〜20のパーフルオロアリール基である。)
で表されるスルホン酸イオン、一般式(4):
で表されるビス(スルホニル)イミドイオン又は一般式(5):
(R11SO2)3C− (5)
(一般式(5)中、R11は炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のパーフルオロアルキル基、炭素数3〜20のシクロアルキル基、炭素数6〜20のアリール基又は炭素数6〜20のパーフルオロアリール基である。)
で表されるトリス(スルホニル)メチドイオンである請求項1〜3のいずれかに記載の遷移金属錯体。 Y − represents the general formula (3):
R 8 SO 3 - (3)
(In General Formula (3), R 8 is an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a perfluoroalkyl group having 2 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, or (It is a C6-C20 perfluoroaryl group.)
A sulfonate ion represented by the general formula (4):
A bis (sulfonyl) imide ion represented by the general formula (5):
(R 11 SO 2) 3 C - (5)
(In the general formula (5), R 11 is an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a perfluoroalkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, or (It is a C6-C20 perfluoroaryl group.)
The transition metal complex according to claim 1, which is a tris (sulfonyl) methide ion represented by the formula:
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016229171A JP6873661B2 (en) | 2016-11-25 | 2016-11-25 | New transition metal complex |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016229171A JP6873661B2 (en) | 2016-11-25 | 2016-11-25 | New transition metal complex |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018083792A true JP2018083792A (en) | 2018-05-31 |
JP2018083792A5 JP2018083792A5 (en) | 2020-01-09 |
JP6873661B2 JP6873661B2 (en) | 2021-05-19 |
Family
ID=62236953
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016229171A Active JP6873661B2 (en) | 2016-11-25 | 2016-11-25 | New transition metal complex |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6873661B2 (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2022512919A (en) * | 2018-11-06 | 2022-02-07 | シンジェンタ クロップ プロテクション アクチェンゲゼルシャフト | Enantioselective process |
JP2022513588A (en) * | 2018-11-06 | 2022-02-09 | シンジェンタ クロップ プロテクション アクチェンゲゼルシャフト | Hydrogenation process of oxime derivatives |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2010086139A1 (en) * | 2009-01-28 | 2010-08-05 | Resolution Research Nederland B.V. | Process for the preparation of an ally alkyl ehter by catalytic allyation |
US20110042227A1 (en) * | 2009-08-24 | 2011-02-24 | Javier Jesus Concepcion Corbea | Ruthenium or Osmium Complexes and Their Uses as Catalysts for Water Oxidation |
-
2016
- 2016-11-25 JP JP2016229171A patent/JP6873661B2/en active Active
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2010086139A1 (en) * | 2009-01-28 | 2010-08-05 | Resolution Research Nederland B.V. | Process for the preparation of an ally alkyl ehter by catalytic allyation |
US20110042227A1 (en) * | 2009-08-24 | 2011-02-24 | Javier Jesus Concepcion Corbea | Ruthenium or Osmium Complexes and Their Uses as Catalysts for Water Oxidation |
Non-Patent Citations (5)
Title |
---|
CONCEPCION, JAVIER J. ET AL.: "Catalytic Water Oxidation by Single-Site Ruthenium Catalysts", INORGANIC CHEMISTRY, vol. 49, no. 4, JPN6020048345, 2010, pages 1277 - 1279, ISSN: 0004407131 * |
DAKKACH, MOHAMED ET AL.: "A Novel Carbene Ruthenium Complex as Reusable and Selective Two-Electron Catalyst for Alkene Epoxida", ADVANCED SYNTHESIS & CATALYSIS, vol. Vol.353,No.2-3, JPN6020048351, 2011, pages 231 - 238, ISSN: 0004407130 * |
DAKKACH, MOHAMED ET AL.: "Polypyrrole-functionalized ruthenium carbene catalysts as efficient heterogeneous systems for olefin", DALTON TRANSACTIONS, vol. 43, no. 26, JPN6020048349, 2014, pages 9916 - 9923, ISSN: 0004407133 * |
FUJITA,K. ET AL.: "Dehydrogenative Oxidation of Alcohols in Aqueous Media Catalyzed by a Water-Soluble Dicationic Iridi", ACS CATALYSIS, vol. 7, no. 10, JPN6020048342, 2017, pages 7226 - 7230, ISSN: 0004407134 * |
KANG, PENG ET AL.: "Electrocatalytic reduction of CO2 in water to CO+H2 syngas mixtures", PREPRINTS - AMERICAN CHEMICAL SOCIETY, DIVISION OF ENERGY & FUELS, vol. 60, no. 1, JPN6020048347, 2015, pages 220, ISSN: 0004407132 * |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2022512919A (en) * | 2018-11-06 | 2022-02-07 | シンジェンタ クロップ プロテクション アクチェンゲゼルシャフト | Enantioselective process |
JP2022513588A (en) * | 2018-11-06 | 2022-02-09 | シンジェンタ クロップ プロテクション アクチェンゲゼルシャフト | Hydrogenation process of oxime derivatives |
JP7466538B2 (en) | 2018-11-06 | 2024-04-12 | シンジェンタ クロップ プロテクション アクチェンゲゼルシャフト | Hydrogenation process of oxime derivatives |
JP7569314B2 (en) | 2018-11-06 | 2024-10-17 | シンジェンタ クロップ プロテクション アクチェンゲゼルシャフト | Enantioselective Processes |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6873661B2 (en) | 2021-05-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Iwasaki et al. | Palladium-catalyzed peri-selective chalcogenation of naphthylamines with diaryl disulfides and diselenides via C–H bond cleavage | |
KR20200120941A (en) | Methods and intermediates for making therapeutic compounds useful for the treatment of retroviridae viral infections | |
JP6696986B2 (en) | Method for preparing diarylthiohydantoin compounds | |
US10421702B2 (en) | Method for producing fluorine-containing olefin | |
Hasegawa et al. | Facile synthesis of aryl-and alkyl-bis (trifluoromethylsulfonyl) methanes | |
JP6873661B2 (en) | New transition metal complex | |
WO2011127579A1 (en) | Cationic palladium complexes comprising diamino carbene ligands and their use in catalysis | |
Karataş et al. | N-heterocyclic carbene palladium complexes with different N-coordinated ligands: Comparison of their catalytic activities in Suzuki-Miyaura and Mizoroki-Heck reactions | |
Zhang et al. | Synthesis and structure of an air-stable bis (isopropylcyclopentadienyl) zirconium perfluorooctanesulfonate and its catalyzed benzylation of 1, 3-dicarbonyl derivatives with alcohols | |
JP2001247487A (en) | Optically active ionic liquid | |
US10654862B2 (en) | Methods for the chemical synthesis of pyrrole-linked bivalent compounds, and compositions thereof | |
US20170166542A1 (en) | Process for the Synthesis of Sulfones and Sulfonamides | |
JP2018083174A (en) | Etherification catalyst composition and method for producing ether compound using the etherification catalyst composition | |
JP7184873B2 (en) | Method for producing cyclic carbonate | |
JP7331992B2 (en) | Fluorine-containing silane compound | |
Damljanović et al. | The palladium (II) complex of N, N-diethyl-1-ferrocenyl-3-thiabutanamine: Synthesis, solution and solid state structure and catalytic activity in Suzuki–Miyaura reaction | |
US20180237459A1 (en) | Method for coupling an aromatic or vinylic compound to a boron-containing compound | |
US6620954B1 (en) | Phosphinometallocenylamides as novel ligands for asymmetric catalysis | |
WO2012075316A2 (en) | Cyclopropyl mida boronate | |
EP3239125B1 (en) | Method for producing olefin | |
EP3239126A1 (en) | Method for producing olefin containing chlorine and fluorine | |
JP2017132738A (en) | Manufacturing method of bipyridyl compound | |
EP3266758B1 (en) | Production method for fluorine-containing olefin compound | |
Wolan et al. | A convenient titanium-mediated intermolecular alkyne–carbonate coupling reaction | |
JP2021525712A (en) | Ionic metal alkylene compounds and their use in olefin metathesis reactions |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20191121 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20191122 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20201119 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20201222 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210219 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20210406 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20210421 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6873661 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |