JP2018081253A - Electrophoresis apparatus, electronic apparatus, and method of manufacturing electrophoresis apparatus - Google Patents

Electrophoresis apparatus, electronic apparatus, and method of manufacturing electrophoresis apparatus Download PDF

Info

Publication number
JP2018081253A
JP2018081253A JP2016224798A JP2016224798A JP2018081253A JP 2018081253 A JP2018081253 A JP 2018081253A JP 2016224798 A JP2016224798 A JP 2016224798A JP 2016224798 A JP2016224798 A JP 2016224798A JP 2018081253 A JP2018081253 A JP 2018081253A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
hole
electrophoretic
dispersion liquid
electrophoretic dispersion
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2016224798A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
隆祐 天野
Ryusuke Amano
隆祐 天野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Priority to JP2016224798A priority Critical patent/JP2018081253A/en
Publication of JP2018081253A publication Critical patent/JP2018081253A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Electrochromic Elements, Electrophoresis, Or Variable Reflection Or Absorption Elements (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electrophoresis apparatus capable of preventing bonding failure between base plates due to attachment of extra electrophoretic dispersion.SOLUTION: The electrophoresis apparatus includes: electrophoretic dispersion liquid containing charged particles and a dispersion medium; a first base plate and a second base plate which are joined together by a joint to hold the electrophoretic dispersion liquid; and a partition wall that partitions a space between the first base plate and the second base plate into plural cells filled with the electrophoretic dispersion liquid. At least one of the first base plate and the second base plate is formed with a through hole at the outside of a pixel area in which the plural cells an arranged.SELECTED DRAWING: Figure 2

Description

本発明は、帯電粒子を分散媒に分散した分散液(以下「電気泳動分散液」という)を利用して画像を表示する技術に関する。   The present invention relates to a technique for displaying an image using a dispersion liquid (hereinafter referred to as “electrophoretic dispersion liquid”) in which charged particles are dispersed in a dispersion medium.

例えば特許文献1には、相互に対向する素子基板と対向基板との間隙に電気泳動分散液を保持した電気泳動装置が開示されている。素子基板と対向基板とは、矩形枠状のシール部により相互に接合される。複数の画素が配列する表示領域とシール部との間には、余分な電気泳動分散液を滞留させるための液溜り部が形成される。   For example, Patent Document 1 discloses an electrophoresis apparatus in which an electrophoresis dispersion liquid is held in a gap between an element substrate and a counter substrate that face each other. The element substrate and the counter substrate are bonded to each other by a rectangular frame-shaped seal portion. A liquid reservoir for retaining excess electrophoretic dispersion liquid is formed between the display area where the plurality of pixels are arranged and the seal portion.

特開2015−18060号公報Japanese Patent Laying-Open No. 2015-18060

特許文献1の技術では、矩形枠状のシール部が形成された素子基板の表面に電気泳動分散液を塗布した状態で、素子基板に対向基板が接合される。素子基板の表面に過剰な電気泳動分散液が塗布された場合、素子基板と対向基板とを接合する過程では、液溜り部で収容しきれない余分な電気泳動分散液がシール部の内側の空間から溢れる可能性がある。以上の状態では余分な電気泳動分散液がシール部の上面に付着するから、素子基板と対向基板とを充分に接合できない可能性がある。他方、液溜り部から電気泳動分散液が溢れないように電気泳動分散液の塗布量を抑制した場合、第1基板と第2基板との間に気泡が残留して表示不良の原因となり得る。以上の事情を考慮して、本発明は、余分な電気泳動分散液の付着に起因した基板間の接合不良を抑制することを目的とする。   In the technique of Patent Document 1, the counter substrate is bonded to the element substrate in a state where the electrophoretic dispersion liquid is applied to the surface of the element substrate on which the rectangular frame-shaped seal portion is formed. If excessive electrophoretic dispersion liquid is applied to the surface of the element substrate, excess electrophoretic dispersion liquid that cannot be accommodated in the liquid reservoir in the process of joining the element substrate and the counter substrate is inside the seal section. May overflow. In the above state, excess electrophoretic dispersion liquid adheres to the upper surface of the seal portion, so that there is a possibility that the element substrate and the counter substrate cannot be sufficiently bonded. On the other hand, when the application amount of the electrophoretic dispersion liquid is suppressed so that the electrophoretic dispersion liquid does not overflow from the liquid reservoir, bubbles may remain between the first substrate and the second substrate, causing display defects. In view of the above circumstances, an object of the present invention is to suppress a bonding failure between substrates due to adhesion of an excessive electrophoretic dispersion.

以上の課題を解決するために、本発明の好適な態様に係る電気泳動装置は、帯電粒子と分散媒とを含む電気泳動分散液と、前記電気泳動分散液を保持する第1基板および第2基板と、前記第1基板と前記第2基板との間隙を、前記電気泳動分散液が充填された複数のセルに区画する隔壁部とを具備し、前記第1基板および前記第2基板の少なくとも一方には、前記複数のセルが設けられた画素領域の外側に貫通孔が形成されている。以上の構成では、第1基板および第2基板の少なくとも一方に貫通孔が形成されているから、第1基板と第2基板とを相互に接合する工程において余分な電気泳動分散液が貫通孔から流出する。したがって、余分な電気泳動分散液の付着に起因した接合不良(例えば接合強度の不足)を抑制することが可能である。   In order to solve the above problems, an electrophoretic device according to a preferred embodiment of the present invention includes an electrophoretic dispersion liquid including charged particles and a dispersion medium, a first substrate holding the electrophoretic dispersion liquid, and a second substrate. A partition wall section that divides a gap between the substrate and the first substrate and the second substrate into a plurality of cells filled with the electrophoretic dispersion, and includes at least one of the first substrate and the second substrate. On one side, a through hole is formed outside the pixel region where the plurality of cells are provided. In the above configuration, since the through hole is formed in at least one of the first substrate and the second substrate, excess electrophoretic dispersion liquid is discharged from the through hole in the step of bonding the first substrate and the second substrate to each other. leak. Therefore, it is possible to suppress poor bonding (for example, insufficient bonding strength) due to adhesion of excess electrophoretic dispersion.

本発明の好適な態様に係る電気泳動装置は、前記貫通孔を閉塞する閉塞部を具備する。以上の態様では、貫通孔が閉塞部により閉塞されるから、閉塞後の状態では貫通孔を介した電気泳動分散液の流出を防止することが可能である。   The electrophoresis apparatus according to a preferred aspect of the present invention includes a closing portion that closes the through hole. In the above aspect, since the through hole is closed by the closing portion, it is possible to prevent the electrophoretic dispersion from flowing out through the through hole in the state after the closing.

本発明の好適な態様において、前記第1基板と前記第2基板とを接合する接合部を具備し、前記貫通孔は、平面視で前記接合部により包囲された領域内に位置する。以上の態様では、接合部により包囲された領域内に貫通孔が形成される。したがって、第1基板と第2基板とを接合する工程では、画素領域内に配置された電気泳動分散液を、接合部の上面に到達する以前に貫通孔から流出させることが可能である。   In a preferred aspect of the present invention, a bonding portion that bonds the first substrate and the second substrate is provided, and the through hole is located in a region surrounded by the bonding portion in plan view. In the above aspect, the through hole is formed in the region surrounded by the joint portion. Therefore, in the step of bonding the first substrate and the second substrate, the electrophoretic dispersion liquid arranged in the pixel region can be allowed to flow out of the through hole before reaching the upper surface of the bonding portion.

本発明の好適な態様において、前記貫通孔の内径は、前記帯電粒子の粒径よりも大きい。以上の態様では、貫通孔の内径が帯電粒子の粒径よりも大きいから、貫通孔が帯電粒子により閉塞される可能性が低減される。したがって、接合部に余分な電気泳動分散液が付着する可能性を低減できるという効果は格別に顕著である。   In a preferred aspect of the present invention, the inner diameter of the through hole is larger than the particle diameter of the charged particles. In the above aspect, since the inner diameter of the through hole is larger than the particle diameter of the charged particle, the possibility that the through hole is blocked by the charged particle is reduced. Therefore, the effect of reducing the possibility of extra electrophoresis dispersion liquid adhering to the junction is particularly remarkable.

本発明の好適な態様において、前記第1基板および前記第2基板の少なくとも一方には、相異なる位置に複数の前記貫通孔が形成されている。以上の態様では、相異なる位置に複数の貫通孔が形成されるから、余分な電気泳動分散液が接合部に付着する可能性を低減できるという前述の効果は格別に顕著である。   In a preferred aspect of the present invention, a plurality of the through holes are formed in different positions in at least one of the first substrate and the second substrate. In the above aspect, since a plurality of through holes are formed at different positions, the above-described effect of reducing the possibility of extra electrophoretic dispersion liquid adhering to the joint is particularly remarkable.

本発明の好適な態様に係る電子機器は、前述の各態様に係る電気泳動装置を具備する。例えば、時計や電子ペーパー等が電子機器の好例であるが、本発明の適用範囲は以上の例示に限定されない。   An electronic apparatus according to a preferred aspect of the present invention includes the electrophoresis apparatus according to each aspect described above. For example, watches and electronic paper are good examples of electronic devices, but the scope of application of the present invention is not limited to the above examples.

本発明の好適な態様に係る電気泳動装置の製造方法は、帯電粒子と分散媒とを含む電気泳動分散液と、前記電気泳動分散液を保持する第1基板および第2基板と、前記第1基板と前記第2基板との間隙を複数のセルに区画する隔壁部とを具備する電気泳動装置の製造方法であって、前記隔壁部が形成された前記第2基板の面上に前記電気泳動分散液を配置する第1工程と、接合部を介して前記第1基板と前記第2基板とを接合する第2工程とを含み、前記第1基板および前記第2基板の少なくとも一方には、前記複数のセルが設けられた画素領域の外側に貫通孔が形成され、前記第2工程では、前記電気泳動分散液を前記貫通孔から流出させる。以上の態様では、第1基板と第2基板とを接合する第2工程において、余分な電気泳動分散液が貫通孔から流出する。したがって、例えば第1基板と第2基板との間の気泡の残留を抑制するために充分な分量の電気泳動分散液を第1工程において第2基板の面上に配置しても、余分な電気泳動分散液が接合部に付着する可能性は低減される。すなわち、電気泳動分散液が接合部に付着することに起因した接合不良(例えば接合強度の不足)を抑制することが可能である。   According to a preferred aspect of the present invention, there is provided a method for manufacturing an electrophoretic device, an electrophoretic dispersion containing charged particles and a dispersion medium, a first substrate and a second substrate that hold the electrophoretic dispersion, and the first An electrophoretic device manufacturing method comprising: a partition wall partitioning a gap between a substrate and the second substrate into a plurality of cells, wherein the electrophoresis is performed on a surface of the second substrate on which the partition wall is formed. Including a first step of disposing a dispersion and a second step of bonding the first substrate and the second substrate via a bonding portion, and at least one of the first substrate and the second substrate includes: A through hole is formed outside the pixel region where the plurality of cells are provided, and in the second step, the electrophoretic dispersion liquid is caused to flow out of the through hole. In the above aspect, in the second step of joining the first substrate and the second substrate, excess electrophoresis dispersion liquid flows out from the through hole. Therefore, for example, even if an amount of the electrophoretic dispersion liquid sufficient to suppress the remaining of bubbles between the first substrate and the second substrate is disposed on the surface of the second substrate in the first step, the excess electricity The possibility that the electrophoretic dispersion liquid adheres to the junction is reduced. That is, it is possible to suppress bonding failure (for example, insufficient bonding strength) caused by the electrophoresis dispersion liquid adhering to the bonding portion.

本発明の好適な態様に係る電気泳動装置の製造方法は、前記第2工程の後に、前記貫通孔を閉塞する閉塞部を形成する第3工程を含む。以上の態様では、貫通孔を閉塞する閉塞部が形成されるから、貫通孔を介した電気泳動分散液の流出が防止される。   The method for manufacturing an electrophoretic device according to a preferred aspect of the present invention includes a third step of forming a closing portion for closing the through hole after the second step. In the above aspect, since the closed portion for closing the through hole is formed, the outflow of the electrophoretic dispersion liquid through the through hole is prevented.

本発明の第1実施形態に係る電気泳動装置の平面図である。1 is a plan view of an electrophoresis apparatus according to a first embodiment of the present invention. 図1におけるII−II線の断面図である。It is sectional drawing of the II-II line in FIG. 電気泳動装置の製造方法における工程P1の説明図である。It is explanatory drawing of process P1 in the manufacturing method of an electrophoresis apparatus. 電気泳動装置の製造方法における工程P2の説明図である。It is explanatory drawing of process P2 in the manufacturing method of an electrophoresis apparatus. 電気泳動装置の製造方法における工程P3の説明図である。It is explanatory drawing of process P3 in the manufacturing method of an electrophoresis apparatus. 電気泳動装置の製造方法における工程P4の説明図である。It is explanatory drawing of process P4 in the manufacturing method of an electrophoresis apparatus. 電気泳動装置の製造方法における工程P5の説明図である。It is explanatory drawing of process P5 in the manufacturing method of an electrophoresis apparatus. 電気泳動装置の製造方法における工程P5の説明図である。It is explanatory drawing of process P5 in the manufacturing method of an electrophoresis apparatus. 電気泳動装置の製造方法における工程P5の説明図である。It is explanatory drawing of process P5 in the manufacturing method of an electrophoresis apparatus. 電気泳動装置の製造方法における工程P6の説明図である。It is explanatory drawing of process P6 in the manufacturing method of an electrophoresis apparatus. 第2実施形態における電気泳動装置の断面図である。It is sectional drawing of the electrophoresis apparatus in 2nd Embodiment. 変形例における電気泳動装置の断面図である。It is sectional drawing of the electrophoresis apparatus in a modification. 変形例における電気泳動装置の平面図である。It is a top view of the electrophoresis device in a modification. 変形例における電気泳動装置の平面図である。It is a top view of the electrophoresis device in a modification. 変形例における工程P4の説明図である。It is explanatory drawing of process P4 in a modification. 電子機器の一例である腕時計の正面図である。It is a front view of the wristwatch which is an example of electronic equipment. 電子機器の一例である電子ペーパーの斜視図である。It is a perspective view of electronic paper which is an example of electronic equipment.

<第1実施形態>
図1は、本発明の第1実施形態に係る電気泳動装置100の平面図であり、図2は、図1におけるII−II線の断面図である。第1実施形態の電気泳動装置100は、相互に交差するX方向とY方向とにわたり画素領域A内に行列状に配列された複数の画素を利用して任意の画像を表示する表示機器である。図1および図2に例示される通り、電気泳動装置100は、相互に間隔をあけて対向する第1基板10と第2基板20とを具備する。第1基板10は、表示画像を視認する利用者側に位置し、第2基板20は利用者とは反対側(背面側)に位置する。第1基板10および第2基板20の各々は、光透過性の板状部材である。ただし、背面側に位置する第2基板20の光透過性は必須ではない。
<First Embodiment>
FIG. 1 is a plan view of an electrophoresis apparatus 100 according to the first embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line II-II in FIG. The electrophoretic device 100 according to the first embodiment is a display device that displays an arbitrary image by using a plurality of pixels arranged in a matrix in the pixel region A across an X direction and a Y direction that intersect each other. . As illustrated in FIGS. 1 and 2, the electrophoresis apparatus 100 includes a first substrate 10 and a second substrate 20 that face each other with a space therebetween. The 1st board | substrate 10 is located in the user side which visually recognizes a display image, and the 2nd board | substrate 20 is located in the opposite side (back side) from a user. Each of the first substrate 10 and the second substrate 20 is a light transmissive plate-like member. However, the light transmittance of the second substrate 20 located on the back side is not essential.

図1および図2に例示される通り、第1基板10と第2基板20とは接合部30を介して相互に接合される。接合部30は、第1基板10および第2基板20の各々の周縁に沿う環状(具体的には矩形枠状)に形成される。具体的には、第1実施形態の接合部30は、図2に例示される通り、基礎部32とシール材34とを含んで構成される。基礎部32は、アクリル系またはエポキシ系等の樹脂材料で形成された矩形枠状の構造体であり、シール材34は、同様の樹脂材料で基礎部32の上面に形成された接着層である。   As illustrated in FIG. 1 and FIG. 2, the first substrate 10 and the second substrate 20 are bonded to each other via the bonding portion 30. The joint portion 30 is formed in an annular shape (specifically, a rectangular frame shape) along the periphery of each of the first substrate 10 and the second substrate 20. Specifically, the joint portion 30 of the first embodiment includes a base portion 32 and a sealing material 34 as illustrated in FIG. The base portion 32 is a rectangular frame-like structure formed of an acrylic or epoxy resin material, and the sealing material 34 is an adhesive layer formed on the upper surface of the base portion 32 with the same resin material. .

図2に例示される通り、第1基板10と第2基板20との間隙には電気泳動分散液40が保持される。第1基板10と第2基板20との間隙内で接合部30により包囲された空間に電気泳動分散液40が封止される。電気泳動分散液40は、複数の帯電粒子42(42B,42W)の電気泳動を利用して階調を表示する表示媒体である。具体的には、電気泳動分散液40は、相互に逆極性に帯電した白色の帯電粒子42Wおよび黒色の帯電粒子42Bと、複数の帯電粒子42(42W,42B)が泳動可能に分散された分散媒44とを含んで構成される。   As illustrated in FIG. 2, the electrophoretic dispersion liquid 40 is held in the gap between the first substrate 10 and the second substrate 20. The electrophoretic dispersion liquid 40 is sealed in the space surrounded by the joint 30 in the gap between the first substrate 10 and the second substrate 20. The electrophoretic dispersion liquid 40 is a display medium that displays gradation using electrophoresis of a plurality of charged particles 42 (42B, 42W). Specifically, the electrophoretic dispersion liquid 40 is a dispersion in which white charged particles 42W and black charged particles 42B charged in opposite polarities and a plurality of charged particles 42 (42W, 42B) are dispersed so as to be able to migrate. Medium 44.

図2に例示される通り、第1基板10のうち第2基板20との対向面には共通電極12と絶縁層14とが形成される。共通電極12は、画素領域A内の複数の画素にわたり連続する電極であり、例えばITO(Indium Tin Oxide)やIZO(Indium Zinc Oxide)等の光透過性の導電材料で形成される。絶縁層14は、絶縁材料で形成されて共通電極12を覆う光透過性の被膜である。絶縁層14の材料は任意であるが、例えば酸化珪素または窒化珪素等の無機材料や各種の樹脂材料が好適である。   As illustrated in FIG. 2, the common electrode 12 and the insulating layer 14 are formed on the surface of the first substrate 10 facing the second substrate 20. The common electrode 12 is an electrode continuous over a plurality of pixels in the pixel region A, and is formed of a light-transmitting conductive material such as ITO (Indium Tin Oxide) or IZO (Indium Zinc Oxide). The insulating layer 14 is a light-transmitting film that is formed of an insulating material and covers the common electrode 12. Although the material of the insulating layer 14 is arbitrary, for example, inorganic materials such as silicon oxide or silicon nitride and various resin materials are suitable.

図2に例示される通り、第2基板20のうち第1基板10との対向面には回路層22が形成される。回路層22は、導電層と絶縁層とを含む複数層(図示略)の積層で構成され、複数の画素の各々を駆動するためのトランジスターや配線を内包する。回路層22の面上には複数の画素電極24が形成される。複数の画素電極24は、例えばITOやIZO等の光透過性の導電材料で形成される。各画素電極24は、画素毎に個別に形成された略矩形状の電極である。図1に例示される通り、画素領域Aの内側には、相互に間隔をあけてX方向およびY方向にわたり複数の画素電極24が行列状に配列する。   As illustrated in FIG. 2, a circuit layer 22 is formed on the surface of the second substrate 20 facing the first substrate 10. The circuit layer 22 is formed of a stack of a plurality of layers (not shown) including a conductive layer and an insulating layer, and includes a transistor and a wiring for driving each of the plurality of pixels. A plurality of pixel electrodes 24 are formed on the surface of the circuit layer 22. The plurality of pixel electrodes 24 are formed of a light transmissive conductive material such as ITO or IZO, for example. Each pixel electrode 24 is a substantially rectangular electrode formed individually for each pixel. As illustrated in FIG. 1, a plurality of pixel electrodes 24 are arranged in a matrix in the X direction and the Y direction at intervals inside the pixel region A.

画素電極24と共通電極12との間の電圧に応じて複数の帯電粒子42が泳動することで画素電極24毎に階調(白色/黒色)が制御される。例えば、白色の帯電粒子42Wが共通電極12に接近することで白色が表示され、黒色の帯電粒子42Bが共通電極12に接近することで黒色が表示される。以上の説明から理解される通り、画素電極24と共通電極12とが電気泳動分散液40を挟んで相互に対向する部分が画素として機能する。   A plurality of charged particles 42 migrate according to the voltage between the pixel electrode 24 and the common electrode 12, so that the gradation (white / black) is controlled for each pixel electrode 24. For example, white is displayed when the white charged particles 42 </ b> W approach the common electrode 12, and black is displayed when the black charged particles 42 </ b> B approach the common electrode 12. As understood from the above description, a portion where the pixel electrode 24 and the common electrode 12 face each other with the electrophoretic dispersion liquid 40 therebetween functions as a pixel.

図1および図2に例示される通り、第1基板10と第2基板20との間には隔壁部26が形成される。隔壁部26は、第2基板20の面上に形成される。具体的には、隔壁部26は、画素領域Aの内側に位置し、第1基板10と第2基板20との間隙を複数の空間(以下「セル」という)Cに区画する構造体である。隔壁部26の上面は、第1基板10の面上に形成された絶縁層14の表面に接触する。第1実施形態では、図1および図2に例示される通り、第1基板10と第2基板20との間隙が隔壁部26により画素毎に区画され、X方向とY方向とにわたり複数のセルCが行列状に配列する。すなわち、隔壁部26の平面形状は、Y方向に隣合う各画素電極24の間の領域内でX方向に延在する直線状の部分と、X方向に隣合う各画素電極24の間の領域内でY方向に延在する直線状の部分とを組合わせた格子状である。画素領域Aは、隔壁部26の外周縁により包囲された領域とも換言され得る。隔壁部26の材料は任意であるが、例えばアクリル系またはエポキシ系等の樹脂材料が好適である。なお、隔壁部26を遮光材料で形成すれば、各画素の間隙を遮光する遮光層として隔壁部26を利用することが可能である。   As illustrated in FIGS. 1 and 2, a partition wall portion 26 is formed between the first substrate 10 and the second substrate 20. The partition wall portion 26 is formed on the surface of the second substrate 20. Specifically, the partition wall portion 26 is a structure that is positioned inside the pixel region A and divides the gap between the first substrate 10 and the second substrate 20 into a plurality of spaces (hereinafter referred to as “cells”) C. . The upper surface of the partition wall portion 26 is in contact with the surface of the insulating layer 14 formed on the surface of the first substrate 10. In the first embodiment, as illustrated in FIG. 1 and FIG. 2, the gap between the first substrate 10 and the second substrate 20 is partitioned for each pixel by the partition wall 26, and a plurality of cells extends in the X direction and the Y direction. C is arranged in a matrix. That is, the planar shape of the partition wall portion 26 is such that a linear portion extending in the X direction within a region between the pixel electrodes 24 adjacent in the Y direction and a region between the pixel electrodes 24 adjacent in the X direction. It is the lattice shape which combined the linear part extended in a Y direction inside. The pixel area A can also be referred to as an area surrounded by the outer peripheral edge of the partition wall portion 26. Although the material of the partition wall portion 26 is arbitrary, for example, an acrylic or epoxy resin material is suitable. If the partition wall portion 26 is formed of a light shielding material, the partition wall portion 26 can be used as a light shielding layer that shields the gap between pixels.

図2に例示される通り、電気泳動分散液40は、隔壁部26で区画された複数のセルCの各々に充填される。第1実施形態では、隔壁部26の外周縁(最外周)と接合部30の内周縁との間の空間(以下「貯留空間」という)Rにも電気泳動分散液40が充填される。図1に例示される通り、貯留空間Rは、平面視で(すなわち第1基板10または第2基板20の表面に垂直な方向からみて)画素領域Aを包囲する矩形枠状の空間である。   As illustrated in FIG. 2, the electrophoretic dispersion liquid 40 is filled in each of the plurality of cells C partitioned by the partition walls 26. In the first embodiment, the electrophoretic dispersion liquid 40 is also filled in a space R (hereinafter referred to as “reserving space”) R between the outer peripheral edge (outermost periphery) of the partition wall 26 and the inner peripheral edge of the joint 30. As illustrated in FIG. 1, the storage space R is a rectangular frame-like space that surrounds the pixel region A in a plan view (that is, when viewed from a direction perpendicular to the surface of the first substrate 10 or the second substrate 20).

図1および図2に例示される通り、第1基板10には貫通孔16が形成される。第1実施形態の第1基板10には、平面視で相異なる位置に複数の貫通孔16が形成される。複数の貫通孔16の各々は、接合部30を介して第1基板10と第2基板20とを相互に接合する工程(後述の工程P5)において余分な電気泳動分散液40を外部に流出させるための空間である。図1に例示される通り、第1実施形態では、画素領域Aの外側に複数の貫通孔16が形成される。具体的には、各貫通孔16は、画素領域Aの外周縁と接合部30の内周縁との間に位置する。すなわち、各貫通孔16は貯留空間Rに連通する。以上の例示の通り、第1実施形態では画素領域Aの外側に貫通孔16が形成されるから、画素領域A内の画像表示に貫通孔16は影響しない。なお、貫通孔16の形成には公知の加工技術が任意に採用され得る。例えば、切削等の機械加工やエッチング等の化学加工により第1基板10に貫通孔16を形成することが可能である。   As illustrated in FIGS. 1 and 2, a through hole 16 is formed in the first substrate 10. In the first substrate 10 of the first embodiment, a plurality of through holes 16 are formed at different positions in plan view. Each of the plurality of through holes 16 causes the excess electrophoretic dispersion 40 to flow out to the outside in the step of bonding the first substrate 10 and the second substrate 20 to each other via the bonding portion 30 (step P5 described later). It is a space for. As illustrated in FIG. 1, in the first embodiment, a plurality of through holes 16 are formed outside the pixel region A. Specifically, each through hole 16 is located between the outer peripheral edge of the pixel region A and the inner peripheral edge of the joint portion 30. That is, each through hole 16 communicates with the storage space R. As described above, since the through hole 16 is formed outside the pixel region A in the first embodiment, the through hole 16 does not affect the image display in the pixel region A. In addition, a well-known processing technique can be arbitrarily employ | adopted for formation of the through-hole 16. FIG. For example, the through holes 16 can be formed in the first substrate 10 by mechanical processing such as cutting or chemical processing such as etching.

図1に例示される通り、第1実施形態における貫通孔16の断面形状は円形状である。各貫通孔16の内径は帯電粒子42の粒径(例えば平均径)よりも大きい。したがって、電気泳動分散液40の帯電粒子42は分散媒44とともに貫通孔16の内部を流動可能である。なお、貫通孔16の断面形状の典型例は円形状であるが、円形状以外の断面形状(例えば多角形状)の貫通孔16を形成することも可能である。   As illustrated in FIG. 1, the cross-sectional shape of the through hole 16 in the first embodiment is circular. The inner diameter of each through hole 16 is larger than the particle size (for example, average diameter) of the charged particles 42. Accordingly, the charged particles 42 of the electrophoretic dispersion liquid 40 can flow through the through holes 16 together with the dispersion medium 44. A typical example of the cross-sectional shape of the through-hole 16 is a circular shape, but it is also possible to form the through-hole 16 having a cross-sectional shape (for example, a polygonal shape) other than the circular shape.

図1および図2に例示される通り、第1基板10の複数の貫通孔16の各々は閉塞部18により閉塞される。閉塞部18は、第1基板10のうち第2基板20とは反対側の表面に形成されて貫通孔16を閉塞する。閉塞部18の材料は任意であるが、例えばアクリル系またはエポキシ系等の樹脂材料が好適である。以上に例示した通り、貯留空間Rに連通する貫通孔16が閉塞部18により閉塞された状態では、貯留空間R内の電気泳動分散液40が貫通孔16を介して外部空間に流出することはない。   As illustrated in FIGS. 1 and 2, each of the plurality of through holes 16 of the first substrate 10 is closed by a closing portion 18. The blocking portion 18 is formed on the surface of the first substrate 10 opposite to the second substrate 20 and closes the through hole 16. Although the material of the blocking part 18 is arbitrary, for example, an acrylic or epoxy resin material is suitable. As illustrated above, in a state where the through hole 16 communicating with the storage space R is closed by the closing portion 18, the electrophoresis dispersion liquid 40 in the storage space R does not flow out to the external space through the through hole 16. Absent.

<電気泳動装置100の製造方法>
以上に例示した電気泳動装置100の製造方法を説明する。図3から図9は、電気泳動装置100の製造方法の工程図である。工程P1では、図3に例示される通り、共通電極12と絶縁層14とが形成された第1基板10のうち画素領域Aの外側の相異なる位置に複数の貫通孔16が形成される。なお、貫通孔16の形成と共通電極12および絶縁層14の形成との順序は任意である。例えば、複数の貫通孔16が形成された第1基板10の面上に共通電極12と絶縁層14とを形成することも可能である。
<Method for Manufacturing Electrophoresis Device 100>
A method for manufacturing the electrophoresis apparatus 100 exemplified above will be described. 3 to 9 are process diagrams of the method for manufacturing the electrophoresis apparatus 100. FIG. In the process P1, as illustrated in FIG. 3, a plurality of through holes 16 are formed at different positions outside the pixel region A in the first substrate 10 on which the common electrode 12 and the insulating layer 14 are formed. In addition, the order of the formation of the through hole 16 and the formation of the common electrode 12 and the insulating layer 14 is arbitrary. For example, the common electrode 12 and the insulating layer 14 can be formed on the surface of the first substrate 10 in which the plurality of through holes 16 are formed.

工程P2では、図4に例示される通り、第2基板20の表面に、回路層22と複数の画素電極24と隔壁部26とが順次に形成される。工程P2での各層の形成には公知の成膜技術および加工技術が任意に採用され得る。なお、工程P1と工程P2との先後は任意である。   In the process P2, as illustrated in FIG. 4, the circuit layer 22, the plurality of pixel electrodes 24, and the partition walls 26 are sequentially formed on the surface of the second substrate 20. A known film forming technique and processing technique can be arbitrarily employed for forming each layer in the process P2. Note that the process P1 and the process P2 are optional.

工程P2の後の工程P3では、図5に例示される通り、第2基板20の面上に接合部30が形成される。具体的には、画素領域Aを包囲する矩形枠状の基礎部32が公知の製造技術により形成され、基礎部32の表面に樹脂材料のシール材34(すなわち、第1基板10と第2基板20とを接合するための接着剤)が塗布される。   In the process P3 after the process P2, as illustrated in FIG. 5, the bonding portion 30 is formed on the surface of the second substrate 20. Specifically, a rectangular frame-shaped base portion 32 surrounding the pixel region A is formed by a known manufacturing technique, and a sealing material 34 (that is, the first substrate 10 and the second substrate) is formed on the surface of the base portion 32. 20) is applied.

工程P3の後の工程P4(第1工程の例示)では、図6に例示される通り、第2基板20の面上に電気泳動分散液40が配置される。具体的には、隔壁部26で区画された各セルC(すなわち画素領域A内)に電気泳動分散液40が充填される。接合後の第1基板10と第2基板20との間隙内に気泡が残留しないように、工程P4では、充分な分量の電気泳動分散液40が第2基板20の面上に塗布される。具体的には、接合後の第1基板10と第2基板20との間隙に想定される容積を上回る分量の電気泳動分散液40が、工程P4では第2基板20の面上に塗布される。したがって、工程P4で画素領域A内に配置された電気泳動分散液40は、画素領域Aの内側から外側に流動して貯留空間R内にも到達し得る。ただし、工程P4で第2基板20の面上に配置される電気泳動分散液40の分量は、貯留空間Rからは溢れない程度に制限される。したがって、工程P4の段階で電気泳動分散液40が貯留空間Rに流動した場合でも、接合部30の上面まで電気泳動分散液40が到達することはない。   In step P4 (exemplification of the first step) after step P3, the electrophoretic dispersion liquid 40 is disposed on the surface of the second substrate 20 as illustrated in FIG. Specifically, the electrophoresis dispersion liquid 40 is filled in each cell C (that is, in the pixel region A) partitioned by the partition wall 26. In step P4, a sufficient amount of the electrophoretic dispersion 40 is applied onto the surface of the second substrate 20 so that no bubbles remain in the gap between the first substrate 10 and the second substrate 20 after bonding. Specifically, an amount of electrophoretic dispersion 40 that exceeds the volume assumed in the gap between the first substrate 10 and the second substrate 20 after bonding is applied onto the surface of the second substrate 20 in step P4. . Therefore, the electrophoretic dispersion liquid 40 disposed in the pixel region A in the process P4 can flow from the inside to the outside of the pixel region A and reach the storage space R. However, the amount of the electrophoretic dispersion 40 disposed on the surface of the second substrate 20 in the process P4 is limited to such an extent that it does not overflow from the storage space R. Therefore, even when the electrophoresis dispersion liquid 40 flows into the storage space R at the stage of the process P 4, the electrophoresis dispersion liquid 40 does not reach the upper surface of the joint portion 30.

工程P4の後の工程P5(第2工程の例示)では、図7から図10に例示される通り、工程P1の実行後の第1基板10と工程P4の実行後の第2基板20とが、工程P3で形成された接合部30を介して相互に接合される。工程P5において第1基板10を第2基板20に接近させる過程では、まず、図7に例示される通り、第1基板10のうち第2基板20との対向面が最初に接合部30のシール材34に接触する。すなわち、第1基板10と第2基板20との間の空間は、複数の貫通孔16を介して外部空間に連通した状態で接合部30により封止される。   In the process P5 (exemplification of the second process) after the process P4, as illustrated in FIGS. 7 to 10, the first substrate 10 after the execution of the process P1 and the second substrate 20 after the execution of the process P4 are performed. Are joined to each other through the joint 30 formed in the process P3. In the process of bringing the first substrate 10 closer to the second substrate 20 in the process P5, first, as illustrated in FIG. 7, the surface of the first substrate 10 facing the second substrate 20 is first sealed with the joint 30. Contact material 34. That is, the space between the first substrate 10 and the second substrate 20 is sealed by the joint portion 30 in a state where it communicates with the external space through the plurality of through holes 16.

第1基板10と第2基板20とが更に接近すると、図8に例示される通り、第1基板10の面上に形成された絶縁層14の表面が電気泳動分散液40に接触する。電気泳動分散液40は、第1基板10の接触により押圧されることで、画素領域Aの内側から貯留空間Rに流動する。第1基板10と第2基板20とが更に接近すると、電気泳動分散液40が貯留空間Rに充填され、図9に破線の矢印で図示される通り、貯留空間R内の余分な電気泳動分散液40が毛管力により第1基板10の各貫通孔16から外部空間に流出する。前述の通り、貫通孔16の内径は帯電粒子42の粒径よりも大きいから、帯電粒子42も分散媒44とともに貫通孔16から流出する。そして、図9に例示される通り、隔壁部26の上面が第1基板10の面上の絶縁層14に接触した状態で第1基板10と第2基板20とが保持される。以上に例示した通り、工程P5では、余分な電気泳動分散液40が貫通孔16を介して流出するから、第1基板10と第2基板20との間の空間の圧力の過度な上昇が抑制される。   When the first substrate 10 and the second substrate 20 further approach each other, the surface of the insulating layer 14 formed on the surface of the first substrate 10 comes into contact with the electrophoretic dispersion 40 as illustrated in FIG. The electrophoresis dispersion liquid 40 flows from the inside of the pixel region A to the storage space R by being pressed by the contact of the first substrate 10. When the first substrate 10 and the second substrate 20 further approach each other, the electrophoretic dispersion liquid 40 is filled in the storage space R, and as shown by the dashed arrows in FIG. The liquid 40 flows out from the through holes 16 of the first substrate 10 to the external space by capillary force. As described above, since the inner diameter of the through hole 16 is larger than the particle diameter of the charged particle 42, the charged particle 42 also flows out of the through hole 16 together with the dispersion medium 44. As illustrated in FIG. 9, the first substrate 10 and the second substrate 20 are held in a state where the upper surface of the partition wall portion 26 is in contact with the insulating layer 14 on the surface of the first substrate 10. As illustrated above, in the process P5, the excess electrophoretic dispersion 40 flows out through the through-holes 16, so that an excessive increase in the pressure in the space between the first substrate 10 and the second substrate 20 is suppressed. Is done.

工程P5の後の工程P6(第3工程の例示)では、図10に例示される通り、複数の貫通孔16の各々を閉塞する閉塞部18が形成される。具体的には、第1基板10のうち第2基板20とは反対側の表面に到達した電気泳動分散液40が払拭されたうえで、各貫通孔16を閉塞するように例えば樹脂材料が塗布および硬化されることで閉塞部18が形成される。工程P6における閉塞部18の形成により、貫通孔16を介した電気泳動分散液40の流出が停止する。すなわち、電気泳動装置100の製造後(例えば使用される段階)には、電気泳動分散液40が貫通孔16から流出することはない。   In the process P6 (exemplification of the third process) after the process P5, as illustrated in FIG. 10, a blocking portion 18 that closes each of the plurality of through holes 16 is formed. Specifically, for example, a resin material is applied so as to close each through-hole 16 after the electrophoretic dispersion liquid 40 that has reached the surface of the first substrate 10 opposite to the second substrate 20 is wiped off. And the obstruction | occlusion part 18 is formed by hardening. Due to the formation of the blocking portion 18 in the process P6, the outflow of the electrophoretic dispersion liquid 40 through the through hole 16 is stopped. That is, the electrophoretic dispersion liquid 40 does not flow out of the through hole 16 after the electrophoretic device 100 is manufactured (for example, at a stage where it is used).

以上に説明した通り、第1実施形態では、第1基板10と第2基板20とを接合する工程P5において、貫通孔16を介して余分な電気泳動分散液40が流出する。したがって、第1基板10と第2基板20との間の気泡の残留を抑制するために充分な分量の電気泳動分散液40を工程P4において第2基板20に配置した場合でも、電気泳動分散液40が接合部30の上面まで到達する可能性は低減される。すなわち、余分な電気泳動分散液40が接合部30の上面に付着することに起因した第1基板10と第2基板20との接合不良(例えば接合強度の不足)を抑制することが可能である。第1実施形態では特に、第1基板10に複数の貫通孔16が形成されるから、電気泳動分散液40が接合部30の上面まで到達する可能性を低減できる(ひいては基板間の接合不良を抑制できる)という効果は格別に顕著である。   As described above, in the first embodiment, in the process P5 for joining the first substrate 10 and the second substrate 20, excess electrophoresis dispersion liquid 40 flows out through the through holes 16. Accordingly, even when an amount of the electrophoresis dispersion liquid 40 sufficient to suppress the bubbles remaining between the first substrate 10 and the second substrate 20 is disposed on the second substrate 20 in the process P4, the electrophoresis dispersion liquid. The possibility of 40 reaching the upper surface of the joint 30 is reduced. That is, it is possible to suppress a bonding failure (for example, insufficient bonding strength) between the first substrate 10 and the second substrate 20 due to the extra electrophoresis dispersion liquid 40 adhering to the upper surface of the bonding portion 30. . Particularly in the first embodiment, since the plurality of through holes 16 are formed in the first substrate 10, it is possible to reduce the possibility that the electrophoretic dispersion liquid 40 reaches the upper surface of the bonding portion 30 (as a result, poor bonding between the substrates). The effect that it can be suppressed) is particularly remarkable.

また、第1実施形態では、平面視で接合部30により包囲された領域内(接合部30の内周縁の内側)に貫通孔16が形成される。したがって、第1基板10と第2基板20とを相互に接合する工程P5では、電気泳動分散液40が接合部30の上面に到達する以前に余分な電気泳動分散液40を貫通孔16から流出させることが可能である。   In the first embodiment, the through-hole 16 is formed in a region surrounded by the joint portion 30 (inside the inner peripheral edge of the joint portion 30) in plan view. Therefore, in the process P5 for joining the first substrate 10 and the second substrate 20 to each other, the excess electrophoresis dispersion liquid 40 flows out from the through holes 16 before the electrophoresis dispersion liquid 40 reaches the upper surface of the joint portion 30. It is possible to make it.

<第2実施形態>
本発明の第2実施形態を説明する。なお、以下に例示する各形態において作用または機能が第1実施形態と同様である要素については、第1実施形態の説明で使用した符号を流用して各々の詳細な説明を適宜に省略する。
Second Embodiment
A second embodiment of the present invention will be described. In addition, about the element which an effect | action or function is the same as that of 1st Embodiment in each form illustrated below, the code | symbol used by description of 1st Embodiment is diverted, and each detailed description is abbreviate | omitted suitably.

図11は、第2実施形態における電気泳動装置100の断面図である。第1実施形態では、第1基板10のうち画素領域Aの内側に共通電極12と絶縁層14とが形成された構成を例示した。第2実施形態では、図11に例示される通り、画素領域Aの内側から外側まで連続するように共通電極12と絶縁層14とが形成される。第2基板20の面上に形成された接合部30は、第1基板10の面上に形成された絶縁層14の表面に接触する。そして、第2実施形態では、図11に例示される通り、複数の貫通孔16が、第1基板10と共通電極12と絶縁層14との積層を貫通するように形成される。電気泳動装置100の他の構成や製造方法は第1実施形態と同様である。したがって、第2実施形態においても第1実施形態と同様の効果が実現される。   FIG. 11 is a cross-sectional view of the electrophoresis apparatus 100 according to the second embodiment. In the first embodiment, the configuration in which the common electrode 12 and the insulating layer 14 are formed inside the pixel region A in the first substrate 10 is illustrated. In the second embodiment, as illustrated in FIG. 11, the common electrode 12 and the insulating layer 14 are formed so as to continue from the inside to the outside of the pixel region A. The joint portion 30 formed on the surface of the second substrate 20 is in contact with the surface of the insulating layer 14 formed on the surface of the first substrate 10. In the second embodiment, as illustrated in FIG. 11, the plurality of through holes 16 are formed so as to penetrate the stack of the first substrate 10, the common electrode 12, and the insulating layer 14. Other configurations and manufacturing methods of the electrophoresis apparatus 100 are the same as those in the first embodiment. Therefore, the same effects as those of the first embodiment are realized in the second embodiment.

<変形例>
以上に例示した各態様は多様に変形され得る。具体的な変形の態様を以下に例示する。以下に例示する態様は、前述の各形態に適用され得る。また、以下の例示から任意に選択された2個以上の態様は、相互に矛盾しない範囲で適宜に併合され得る。
<Modification>
Each aspect illustrated above can be variously modified. Specific modifications are exemplified below. The aspects exemplified below can be applied to the above-described embodiments. In addition, two or more aspects arbitrarily selected from the following examples can be appropriately combined as long as they do not contradict each other.

(1)前述の各形態では、貫通孔16および閉塞部18を第1基板10に形成したが、図12に例示される通り、第2基板20にも同様に、貫通孔52および閉塞部54が形成され得る。具体的には、第2基板20のうち画素領域Aの外側の相異なる位置に複数の貫通孔52が形成される。各貫通孔52は、第2基板20と回路層22とを貫通するとともに貯留空間Rに連通する。各貫通孔52の内径は帯電粒子42の粒径よりも大きい。したがって、第1基板10と第2基板20とを相互に接合する工程P5では、第1基板10の各貫通孔16と第2基板20の各貫通孔52とを介して余分な電気泳動分散液40が外部空間に流出する。閉塞部54は、前述の閉塞部18と同様に、工程P5の後の工程P6で形成されて各貫通孔52を閉塞する。なお、図12では、第1基板10の貫通孔16と第2基板20の貫通孔52とを例示したが、第2基板20のみに貫通孔52を形成した構成(第1基板10には貫通孔16および閉塞部18を形成しない構成)も採用され得る。以上の例示から理解される通り、第1基板10および第2基板20の少なくとも一方に貫通孔(16,52)を形成した構成が好適である。 (1) In each of the above-described embodiments, the through hole 16 and the blocking portion 18 are formed in the first substrate 10, but as illustrated in FIG. 12, the through hole 52 and the blocking portion 54 are similarly formed in the second substrate 20. Can be formed. Specifically, a plurality of through holes 52 are formed at different positions outside the pixel region A in the second substrate 20. Each through hole 52 penetrates through the second substrate 20 and the circuit layer 22 and communicates with the storage space R. The inner diameter of each through hole 52 is larger than the particle diameter of the charged particles 42. Therefore, in the process P5 for bonding the first substrate 10 and the second substrate 20 to each other, excess electrophoretic dispersion liquid is passed through each through hole 16 of the first substrate 10 and each through hole 52 of the second substrate 20. 40 flows out to the external space. The closing part 54 is formed in the process P6 after the process P5 and closes each through-hole 52 in the same manner as the closing part 18 described above. In FIG. 12, the through hole 16 of the first substrate 10 and the through hole 52 of the second substrate 20 are illustrated, but the configuration in which the through hole 52 is formed only in the second substrate 20 (the first substrate 10 has a through hole). A configuration in which the hole 16 and the blocking portion 18 are not formed can also be employed. As understood from the above examples, a configuration in which through holes (16, 52) are formed in at least one of the first substrate 10 and the second substrate 20 is preferable.

(2)前述の各形態では、図1に例示した通り、平面視で画素領域Aの各縁辺の中点の近傍に合計4個の貫通孔16を形成したが、貫通孔16の位置や個数は任意である。例えば、図13に例示される通り、平面視で画素領域Aの四隅の近傍に合計4個の貫通孔16を形成することも可能である。また、画素領域Aの外側の任意の位置に1個から3個の貫通孔16を形成した構成や、図14に例示される通り、画素領域Aの外周縁に沿って5個以上の貫通孔16を形成した構成も採用され得る。 (2) In the above-described embodiments, as illustrated in FIG. 1, a total of four through holes 16 are formed near the midpoint of each edge of the pixel area A in plan view. Is optional. For example, as illustrated in FIG. 13, it is possible to form a total of four through holes 16 in the vicinity of the four corners of the pixel region A in plan view. Further, a configuration in which one to three through holes 16 are formed at an arbitrary position outside the pixel region A, or five or more through holes along the outer peripheral edge of the pixel region A as illustrated in FIG. A configuration in which 16 is formed may also be employed.

(3)前述の各形態では、図6に例示した工程P4において画素領域Aの内側に電気泳動分散液40を配置したが、図15に例示される通り、画素領域Aの内側および外側の双方に電気泳動分散液40を配置することも可能である。図15では、工程P4において、接合部30で包囲された空間の全体に電気泳動分散液40が充填された状態が例示されている。電気泳動分散液40の液面は、接合部30の上面(シール材34の表面)と隔壁部26の上面との間に位置する。 (3) In each of the above-described embodiments, the electrophoretic dispersion liquid 40 is disposed inside the pixel region A in the process P4 illustrated in FIG. 6, but as illustrated in FIG. 15, both inside and outside the pixel region A. It is also possible to dispose the electrophoretic dispersion liquid 40 on the surface. FIG. 15 illustrates a state in which the entire space surrounded by the joint 30 is filled with the electrophoretic dispersion 40 in the process P4. The liquid level of the electrophoretic dispersion liquid 40 is located between the upper surface of the bonding portion 30 (the surface of the sealing material 34) and the upper surface of the partition wall portion 26.

(4)前述の各形態では、第1基板10と第2基板20との間隙を画素毎に区画する形状の隔壁部26を例示したが、隔壁部26の形状は以上の例示に限定されない。例えば、第1基板10と第2基板20との間隙を、相互に隣合う複数の画素を単位として複数の空間に区画する形状の隔壁部26を形成することも可能である。また、隔壁部26が第2基板20の全面にわたり連続する必要はなく、相互に離間した複数の部分で隔壁部26を構成することも可能である。 (4) In each of the above-described embodiments, the partition wall portion 26 having a shape that partitions the gap between the first substrate 10 and the second substrate 20 for each pixel is illustrated, but the shape of the partition wall portion 26 is not limited to the above examples. For example, it is also possible to form the partition wall 26 having a shape that partitions the gap between the first substrate 10 and the second substrate 20 into a plurality of spaces in units of a plurality of adjacent pixels. Further, the partition wall portion 26 does not have to be continuous over the entire surface of the second substrate 20, and the partition wall portion 26 can be configured by a plurality of portions spaced from each other.

<電子機器>
以上に例示した電気泳動装置100は、種々の電子機器に利用され得る。電気泳動装置100を利用した電子機器の具体的な形態を以下に例示する。
<Electronic equipment>
The electrophoretic device 100 exemplified above can be used in various electronic devices. Specific modes of electronic devices using the electrophoresis apparatus 100 are exemplified below.

図16は、電気泳動装置100を表示機器として利用した腕時計92の正面図である。図16に例示される通り、腕時計92は、電気泳動装置100を収容する筐体921と、筐体921に連結されたバンド922とを具備するウェアラブル機器である。利用者はバンド922を手首に巻回することで腕時計92を装着可能である。電気泳動装置100の画素領域Aは筐体921の開口923から露出し、時刻等の各種の情報の表示に利用される。筐体921に設置された操作子924が操作されると、例えば画素領域Aに表示される画像が変更される。   FIG. 16 is a front view of a wristwatch 92 using the electrophoretic device 100 as a display device. As illustrated in FIG. 16, the wristwatch 92 is a wearable device including a housing 921 that houses the electrophoresis apparatus 100 and a band 922 that is coupled to the housing 921. The user can wear the wristwatch 92 by winding the band 922 around the wrist. The pixel area A of the electrophoretic device 100 is exposed from the opening 923 of the housing 921 and is used for displaying various information such as time. When the operation element 924 installed in the housing 921 is operated, for example, an image displayed in the pixel area A is changed.

図17は、電気泳動装置100を利用した電子ペーパー94の斜視図である。図17に例示される通り、電子ペーパー94は、弾性変形が可能なシートを第1基板10および第2基板20として利用した電気泳動装置100を具備し、画素領域A内に各種の画像を表示する。   FIG. 17 is a perspective view of an electronic paper 94 using the electrophoresis apparatus 100. As illustrated in FIG. 17, the electronic paper 94 includes an electrophoretic device 100 that uses elastically deformable sheets as the first substrate 10 and the second substrate 20, and displays various images in the pixel region A. To do.

本発明が適用される電子機器は以上の例示に限定されない。例えば、携帯電話機や電子書籍等の情報端末,携帯型の音響再生装置,タッチパネル搭載型の表示装置など、各種の電子機器に本発明の電気泳動装置を利用することが可能である。   The electronic device to which the present invention is applied is not limited to the above examples. For example, the electrophoretic device of the present invention can be used in various electronic devices such as an information terminal such as a mobile phone or an electronic book, a portable sound reproducing device, and a touch panel-mounted display device.

100…電気泳動装置、10…第1基板、12…共通電極、14…絶縁層、16,52…貫通孔、18,54…閉塞部、20…第2基板、22…回路層、24…画素電極、26…隔壁部、30…接合部、32…基礎部、34…シール材、40…電気泳動分散液、42(42B,42W)…帯電粒子、44…分散媒、A…画素領域、C…セル、R…貯留空間。 DESCRIPTION OF SYMBOLS 100 ... Electrophoresis apparatus, 10 ... 1st board | substrate, 12 ... Common electrode, 14 ... Insulating layer, 16, 52 ... Through-hole, 18, 54 ... Closure part, 20 ... 2nd board | substrate, 22 ... Circuit layer, 24 ... Pixel Electrode 26 ... Partition part 30 ... Joint part 32 ... Base part 34 ... Sealing material 40 ... Electrophoretic dispersion liquid 42 (42B, 42W) ... Charged particle 44 ... Dispersion medium A ... Pixel region C ... cell, R ... storage space.

Claims (8)

帯電粒子と分散媒とを含む電気泳動分散液と、
前記電気泳動分散液を保持する第1基板および第2基板と、
前記第1基板と前記第2基板との間隙を、前記電気泳動分散液が充填された複数のセルに区画する隔壁部とを具備し、
前記第1基板および前記第2基板の少なくとも一方には、前記複数のセルが設けられた画素領域の外側に貫通孔が形成されている
電気泳動装置。
An electrophoretic dispersion containing charged particles and a dispersion medium;
A first substrate and a second substrate holding the electrophoretic dispersion;
A partition that partitions a gap between the first substrate and the second substrate into a plurality of cells filled with the electrophoretic dispersion,
An electrophoretic device, wherein at least one of the first substrate and the second substrate has a through hole formed outside a pixel region in which the plurality of cells are provided.
前記貫通孔を閉塞する閉塞部
を具備する請求項1の電気泳動装置。
The electrophoretic device according to claim 1, further comprising a closing portion that closes the through hole.
前記第1基板と前記第2基板とを接合する接合部を具備し、
前記貫通孔は、平面視で前記接合部により包囲された領域内に位置する
請求項1から請求項3の何れかの電気泳動装置。
Comprising a bonding portion for bonding the first substrate and the second substrate;
The electrophoretic device according to any one of claims 1 to 3, wherein the through hole is located in a region surrounded by the joint portion in plan view.
前記貫通孔の内径は、前記帯電粒子の粒径よりも大きい
請求項1から請求項3の何れかの電気泳動装置。
The electrophoretic device according to claim 1, wherein an inner diameter of the through hole is larger than a particle size of the charged particles.
前記第1基板および前記第2基板の少なくとも一方には、相異なる位置に複数の前記貫通孔が形成されている
請求項1から請求項4の何れかの電気泳動装置。
The electrophoretic device according to claim 1, wherein a plurality of the through holes are formed at different positions in at least one of the first substrate and the second substrate.
請求項1から請求項5の何れかの電気泳動装置を具備する電子機器。   An electronic apparatus comprising the electrophoretic device according to claim 1. 帯電粒子と分散媒とを含む電気泳動分散液と、
前記電気泳動分散液を保持する第1基板および第2基板と、
前記第1基板と前記第2基板との間隙を複数のセルに区画する隔壁部と
を具備する電気泳動装置の製造方法であって、
前記隔壁部が形成された前記第2基板の面上に前記電気泳動分散液を配置する第1工程と、
接合部を介して前記第1基板と前記第2基板とを接合する第2工程とを含み、
前記第1基板および前記第2基板の少なくとも一方には、前記複数のセルが設けられた画素領域の外側に貫通孔が形成され、
前記第2工程では、前記電気泳動分散液を前記貫通孔から流出させる
電気泳動装置の製造方法。
An electrophoretic dispersion containing charged particles and a dispersion medium;
A first substrate and a second substrate holding the electrophoretic dispersion;
A method of manufacturing an electrophoresis apparatus comprising: a partition wall that partitions a gap between the first substrate and the second substrate into a plurality of cells,
A first step of disposing the electrophoretic dispersion on the surface of the second substrate on which the partition wall is formed;
A second step of bonding the first substrate and the second substrate through a bonding portion,
In at least one of the first substrate and the second substrate, a through hole is formed outside a pixel region where the plurality of cells are provided,
In the second step, the method for manufacturing an electrophoresis apparatus, wherein the electrophoresis dispersion liquid is caused to flow out of the through hole.
前記第2工程の後に、前記貫通孔を閉塞する閉塞部を形成する第3工程
を含む請求項7の電気泳動装置の製造方法。
The method for manufacturing an electrophoretic device according to claim 7, further comprising a third step of forming a closing portion that closes the through hole after the second step.
JP2016224798A 2016-11-18 2016-11-18 Electrophoresis apparatus, electronic apparatus, and method of manufacturing electrophoresis apparatus Pending JP2018081253A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016224798A JP2018081253A (en) 2016-11-18 2016-11-18 Electrophoresis apparatus, electronic apparatus, and method of manufacturing electrophoresis apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016224798A JP2018081253A (en) 2016-11-18 2016-11-18 Electrophoresis apparatus, electronic apparatus, and method of manufacturing electrophoresis apparatus

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2018081253A true JP2018081253A (en) 2018-05-24

Family

ID=62198930

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016224798A Pending JP2018081253A (en) 2016-11-18 2016-11-18 Electrophoresis apparatus, electronic apparatus, and method of manufacturing electrophoresis apparatus

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2018081253A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN107833978B (en) Display device
JP4386862B2 (en) Liquid crystal display device and manufacturing method thereof
JP5167624B2 (en) Electrophoretic display device and electronic apparatus
KR101247680B1 (en) Electrophoretic Display Device and Method for Manufacturing thereof
JP4727383B2 (en) Liquid crystal display
JPWO2008129709A1 (en) Liquid crystal display
JP2012237998A (en) Electronic appliance, liquid crystal display, and manufacturing method for the same
JP2010085566A (en) Electrophoretic display and electronic device
TW201325350A (en) A laminated structure, a touch display having a laminated structure, and a laminating method thereof
JP2010217770A (en) Electrooptical device and electronic equipment
JP2011075623A (en) Liquid crystal display device and manufacturing method thereof
TW201428401A (en) Electrophoretic display apparatus
JP2018092088A (en) Electrophoretic device, electronic apparatus, and method for manufacturing electrophoretic device
JP5170162B2 (en) Electrophoretic display device and electronic apparatus
CN110827702A (en) Assembled display panel and manufacturing process method of assembled display panel
JP5290850B2 (en) Reflective display device
JP6855581B2 (en) Terminal device housing components and terminals
JP2006098879A (en) Liquid crystal display device
JP2018081253A (en) Electrophoresis apparatus, electronic apparatus, and method of manufacturing electrophoresis apparatus
JP2019015811A (en) Electrophoretic device, electronic apparatus, and method for manufacturing electrophoretic device
JP2012093468A (en) Display device, liquid crystal display device, and touch panel device
JP2003255390A (en) Liquid crystal display
KR101363341B1 (en) Electrophoretic Display Device and Method for Manufacturing thereof
JP2007017474A (en) Liquid crystal display panel
JP2007156009A (en) Liquid crystal display device

Legal Events

Date Code Title Description
RD05 Notification of revocation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7425

Effective date: 20180910