JP2018073417A - プロセスデバイス状態及び性能監視 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】データがプラントから出ることを可能にするが、プラント及び関連するシステムへのデータの侵入を防止する、その間に配置されたデータダイオードを含む。その後、安全な通信からのプロセスプラントデータを分析して、様々な機械学習技術を使用してプロセスプラント内のプロセスプラントエンティティで発生する状態を検出する。プロセスプラントエンティティがバルブであるとき、バルブに対する動作モードが判定され、バルブが動作する各々のモードに対して異なる分析が適用される。付加的に、各々のバルブのプロセスプラントデータは、同じプロセスプラント、企業、工業などの他のバルブと比較される。したがって、各々のバルブの健全性は、互いに相対的にランク付けされ、各々のバルブに対するプロセスプラントデータは、並列比較されて表示される。
【選択図】図3
Description
本開示は、2014年10月6日に出願され、「Regional Big Data
in Process Control Systems」と題する共同所有の米国特許出願第14/507,188号、2016年9月23日に出願され、「Data Analytics Services for Distributed Industrial Performance Monitoring」という名称の米国特許出願第15/274,519号、2016年9月23日に出願され、「Distributed
Industrial Performance Monitoring and Analytics」という名称の米国特許出願第15/274,233号、及び米国特許出願第15/332,751号(本明細書と共に援用され、「Secured Process Control Communications」(代理人整理番号06005−593588)と題されている)に関連し、その全体の開示は参照により本明細書に組み込まれる。
<技術分野>
デバイス、データヒストリアン、レポートジェネレータ、集中型データベース、または典型的にはより厳しいプラント環境から離れた制御室もしくは他の場所に配置される他の集中管理コンピューティングデバイスなどの1つ以上の他のハードウェアデバイスに利用可能になる。これらのハードウェアデバイスの各々は、典型的には、プロセスプラントにわたって、またはプロセスプラントの一部にわたって集中化される。これらのハードウェアデバイスは、例えば、プロセス制御ルーチンの設定を変更すること、コントローラ及びフィールドデバイスプロセス内の制御モジュールの動作を修正すること、プロセスの現在の状態を視認すること、フィールドデバイス及びコントローラによって生成されたアラームを視認すること、人員の訓練またはプロセス制御ソフトウェアのテストの目的でプロセス動作をシミュレートすること、構成データベースを維持及び更新することなど、プロセスの制御及び/またはプロセスプラントの動作に関する機能を、オペレータが遂行することができるアプリケーションを実施することができる。ハードウェアデバイス、コントローラ、及びフィールドデバイスによって利用されるデータハイウェイは、有線通信経路、無線通信経路、または有線及び無線通信経路の組み合わせを含むことができる。
たは外部ネットワークで使用されるもののような、商用システム及びアプリケーションにおいて予想される脆弱性から生じ得る、サイバー侵入及び/または悪意のあるサイバー攻撃のリスクが高まる。プロセスプラント、ネットワーク、及び/または制御システムのサイバー侵入及び悪意のあるサイバー攻撃は、一般的に言えば、汎用コンピューティングネットワークの脆弱性と同様の脆弱性である情報資産の機密性、完全性、及び/または可用性に悪影響を与える可能性がある。しかしながら、汎用コンピュータネットワークとは異なり、プロセスプラント、ネットワーク、及び/または制御システムのサイバー侵入は、プラント設備、製品、及び他の物理的資産の損傷、破壊、及び/または損失だけでなく、人命の喪失をもたらす可能性がある。例えば、サイバー侵入によってプロセスが制御不能になり、爆発、火災、洪水、危険物への曝露などが生成する可能性がある。したがって、プロセス制御プラント及びシステムに関連する通信を、セキュリティ保護することが特に重要である。
Society of Automation))95.01−IEC(国際電気標準会議(International Electrotechnical Commission))62264−1で標準化されている制御階層(Purdue Model for Control Hierarchy)論理フレームワークのパーデュ(Purdue)モデルを使用すると、プロセス制御システムは一般にセキュリティレベル0〜2に分類され、製造、会社、及び企業システムは、一般にセキュリティレベル3〜5に分類される。
5C、ハイブリッド制御15D、及び/または他のタイプの制御を遂行するものを含むことができる。
って、ますます一般的に使用されるようになってきている。例えば、MicrosoftWindows(登録商標)オペレーティングシステムによって提供される遠隔デスクトップサービス製品を使用すると、ユーザは、会社ネットワーク及び/またはインターネットから、データセンター内のセッションベースのデスクトップ、仮想マシンベースのデスクトップ、及び/または他のアプリケーションにアクセスすることが可能になる。Intuit(登録商標)が提供するQuickBooks(登録商標)Online製品は、ユーザがキャッシュフロー管理、請求書発行、インターネットを介してのオンライン支払いなどの会計機能を遂行することを可能にする。一般的に言えば、遠隔サービスは、遠隔サービスにアクセスするシステムまたはユーザから遠隔操作で実行する1つ以上のアプリケーションによって提供される。例えば、1つ以上のアプリケーションは、サーバの遠隔バンク、クラウドなどでデータを実行及び管理し、企業ネットワーク及び/または公衆インターネットのような1つ以上のプライベート及び/または公衆ネットワークを介してアクセスされる。
フ表示で提示する。付加的に、この比較は、バルブの状態のさらなる尺度として使用される。例えば、バルブデータが履歴プロセスパラメータ値を使用して生成された統計的モデルと比較されるとき、コンピューティングデバイスは、バルブが過剰な不動時間(例えば、許容可能な閾値を超える不動時間)を経験していると判定することができる。しかしながら、バルブが同じ工業の他のすべてのバルブと比較されるとき、コンピューティングデバイスは、バルブが経験している不動時間が工業内の平均であり、したがって不動時間は許容範囲内であると判定する。
0〜3のプロセスプラントシステム、ネットワーク、及びデバイスは、レベル4〜5の企業ネットワークから、及び/または企業ネットワークを利用するレベル5より高い任意の外部ネットワークからの脅威から、DMZ22及び1つ以上のファイアウォール12Cを使用することによって、保護され得る。しかしながら、プロセスプラントデータ上で動作するより多くのサービス及びアプリケーションが、(例えば、企業またはビジネス内のレベル4及び/または5の)例えば、プロセスプラントの外部ネットワーク及びシステム上で、ならびに/または企業もしくは事業体の外部にあるネットワーク及びシステム(例えば、レベル5以上、インターネットもしくは他の公衆ネットワークを介して)上であっても、遠隔操作で実行するために移動されるとき、プロセスプラントシステム、ネットワーク、及びデバイスが危険に曝されるのを防ぐためのより強力な技術が必要である。
連する任意の所望のハードウェア及びソフトウェアを使用して通信可能に接続される。図2では、コントローラ111、フィールドデバイス115〜122及びI/Oカード126、128は、有線デバイスであり、フィールドデバイス140〜146は、無線フィールドデバイスである。当然のことながら、有線フィールドデバイス115〜122及び無線フィールドデバイス140〜146は、将来開発される任意の標準またはプロトコルを含む任意の有線または無線プロトコルのような任意の他の所望の標準またはプロトコルに準拠することができる。
バス通信プロトコルを使用してデジタルバスを介してI/Oカード128と通信するFOUNDATION(登録商標)Fieldbusフィールドデバイスなどのスマートデバイスである。しかし、いくつかの実施形態では、少なくとも一部の有線フィールドデバイス115、116、118〜121及び/または少なくとも一部のI/Oカード126、128は、プロセス制御データハイウェイ110を使用して及び/または他の適切な制御システムプロトコル(例えば、Profibus、DeviceNet、Foundation Fieldbus、ControlNet、Modbus、HARTなど)を使用することによって、コントローラ111と付加的または代替的に通信する。
tion)または他のITU−R(International Telecommunication Union Radiocommunication Sector)互換プロトコル、近距離無線通信(NFC)及びBluetoothなどの短波長無線通信、または他の無線通信プロトコルを使用して他のデバイスと通信する1つ以上の他の無線アクセスポイント174を含む。典型的には、そのような無線アクセスポイント174は、ハンドヘルドまたは他のポータブルコンピューティングデバイス(例えば、ユーザインターフェースデバイス175)が、無線ネットワーク170とは異なり、無線ネットワーク170とは異なる無線プロトコルをサポートするそれぞれの無線プロセス制御通信ネットワークにわたって通信することを可能にする。例えば、無線またはポータブルユーザインターフェースデバイス175は、プロセスプラント100内のオペレータ(例えば、オペレータワークステーション171の1つのインスタンス)によって利用されるモバイルワークステーションまたは診断テスト機器であってもよい。いくつかのシナリオでは、ポータブルコンピューティングデバイスに加えて、1つ以上のプロセス制御デバイス(例えば、コントローラ111、フィールドデバイス115〜122、または無線デバイス135、140〜158)も、アクセスポイント174によってサポートされる無線プロトコルを使用して通信する。
置してもよい。ゲートウェイ205A、205Bとデバイス202との間の通信接続は、参照番号204A、204Bで示されている。
Performance Monitoring)」と題する米国特許出願第15/274、519号、2016年9月23日に出願され、「分散産業性能監視及び分析(Distributed Industrial Performance Monitoring and Analytics)」と題する米国特許出願第15/274、233号に記載されており、その全体の開示内容は参照により本明細書に組み込まれる。アプリケーション及びサービス208の他の例は、プロセスプラント及び/または他のプロセスプラントによって生成された履歴データを分析することから、または下記に詳述するようにプロセスプラントエンティティのデータを、同じまたは類似のプロセスプラントエンティティと比較することから得られる知識で動作する。
た、その入力ポート222をその出力ポート222に接続する他の好適な技術の光ファイバまたは通信リンクを含む。データトラフィックがプロセス制御システム100に流れる(例えば、そこに進入する)のを防ぐために、例示的実装形態では、データダイオード215は、エッジゲートウェイ218(またはより高いセキュリティレベルの他の構成要素)からデータを受信する入力ポートを除外または省略し、及びまたはフィールドゲートウェイ212(またはより低いセキュリティレベルの他の構成要素)にデータを送信するために出力ポートを除外または省略する。付加的または代替的な実装形態では、データダイオード215は、データが出力ポート222から入力ポート220に流れることを可能にする送受信機を除外、省略、及び/または無効にし、及び/または出力ポート222から入力ポート220にデータが流れるための物理的な通信経路を除外する。さらに付加的または代替的に、データダイオード215は、ソフトウェアを介して、例えば、エッジゲートウェイ218(またはより高いセキュリティレベルの構成要素)から出力ポート222で受信された任意のメッセージをドロップまたはブロックすることによって、及び/またはフィールドゲートウェイ212(またはより低いセキュリティレベルの構成要素)宛ての任意のメッセージをドロップまたはブロックすることによって、入力ポート222から出力ポート222への単方向データフローのみをサポートすることができる。
キュリティ機構を使用して無線ゲートウェイ205A、205Bから、フィールドゲートウェイ212への転送225のためにセキュリティ保護され、第3のセキュリティ機構を使用してデータダイオード215を経由して転送するために引き続きセキュリティ保護され得る。
的機能を遂行するデバイス(例えば、バルブパラメータ、フィールドデバイスパラメータ、コントローラパラメータなど)のプロセスプラント内の設定点または測定値を含む。例えば、プロセスパラメータは、プロセスプラントまたはその設定点を流れる材料の温度、圧力、流量、質量、体積、密度、または面積を含む。プロセスパラメータはまた、プロセス(例えばバルブ)を制御するために物理的機能を実行するデバイスまたはその設定点の駆動信号、開度、圧力、または温度を含む。プロセスプラントエンティティは、バルブ、タンク、ミキサー、ポンプ、熱交換器などのプロセスを制御する物理的機能を遂行するプロセスプラント内のデバイスを含む。プロセスプラントエンティティは、場合によっては、コントローラ及び/またはI/Oデバイスを含むことができる。例示のために、例示的なシナリオを、バルブの状態を検出するために、バルブのプロセスパラメータが分析される図4を参照して以下で説明する。
含むトレーニングデータを使用して、1つ以上の統計的モデルが生成される。履歴プロセスパラメータ値は、例えば、図2に示すように、データヒストリアンデータベース173Bから取得することができる。
ナイーブベイズ
差、平均流量、及び流量標準偏差を判定する。コンピューティングデバイス250は、その後、第1のサブセットに対する圧力分布、温度分布、及び流量分布をそれに応じて生成する。第2の統計的モデルに対して、コンピューティングデバイス250は、プロセスパラメータ値の第2のサブセット(例えば、熱交換器漏れに関連しないもの)における圧力、温度、及び流量に対する平均圧力、圧力標準偏差、平均温度、温度標準偏差、平均流量、及び流量標準偏差を判定する。コンピューティングデバイス250は、第2のサブセットに対する圧力分布、温度分布、及び流量分布をそれに応じて生成する。
ると判定する。そうでない場合、コンピューティングデバイス250は、対応するプロセスプラントエンティティ、例えば熱交換器が漏れを経験していないと判定する。上述のように、コンピューティングデバイス250は、各々のタイプの状態について統計的モデルを生成し、対応するプロセスプラントエンティティがそれに応じて各々のタイプの状態を経験しているかどうかを判定する。
決定木
定木を結合及び/または集約することによって、コンピューティングデバイス250は、プロセスプラントエンティティが特定のタイプの状態を経験している可能性を判定するために最も重要な、プロセスパラメータメトリックを識別する。最も重要なプロセスパラメータメトリックは、決定木の早期分割を最も頻繁に行うものであり、プロセスプラントエンティティが状態を経験しているかどうかを最もよく表している。上記の決定木の例を参照すると、20秒移動平均圧力は、20秒移動平均圧力よりも温度の標準偏差が木内で低く表れるため、温度の標準偏差よりも重要である。したがって、この例では、20秒移動平均圧力が最も重要なプロセスパラメータメトリックである。
回帰
ンピューティングデバイス250は、バルブ内の過剰な不動帯を識別する。
の時間のインスタンスにわたっていくつかのプロセスパラメータ値を受信する。各々のプロセスパラメータ値は、例えば、プロセスパラメータ値がいつ生成されるかを示す対応するタイムスタンプを含む。
メータ値は、図2に示すように、データヒストリアンデータベース173Bに格納される。
/またはバルブの駆動信号を含み得る。バルブの動作モードを判定するために、コンピューティングデバイス250は、付加的または代替的に、時間経過に伴って収集されたプロセスパラメータ値に基づくプロセスパラメータメトリック、例えば反転あたりの平均バルブ開度、反転当たりの移動平均バルブ開度、反転あたりの減衰バルブ開度、バルブ開度の標準偏差、または時間周期当たりの逆転の数、を使用する。(反転とは、バルブ開度において開から閉へまたは閉から開への遷移である。)
数と類似の30パーセント(参照番号504b)に移行する。次に、時間t=18からt=28まで、バルブ開度は約2%の振幅で約30%の正弦波状のパターンで振動する。時間t=30付近では、バルブ開度は0パーセント(参照番号504c)に戻り、再び30パーセントに移行する前に時間t=35までそこにとどまる。周期的スロットルモードでの第2のバルブ504のバルブ開度は、0から30パーセントの間を行き来する第1の小さい周波数と、バルブ開度が0%から30%に移行するたびに、約29パーセントから約31パーセントまで前後に振動する第2の大きな周波数と、の2つの周波数を示す。
ダイオードを介してコンピューティングデバイス250に送信されてもよい。各々のプロセスパラメータまたはバルブパラメータに対して、コンピューティングデバイス250は、いくつかの時間のインスタンスに対応するいくつかのプロセスパラメータ値を受信する。各々のプロセスパラメータ値は、プロセスパラメータ値がいつ生成されたかを示す対応するタイムスタンプを含む。バルブの動作モードを検出または識別するためのプロセスまたはバルブパラメータは、(例えば、図5の方法400で説明したように)バルブで発生する状態を検出または識別するために使用されるプロセスまたはバルブパラメータの同じセット、バルブで発生する状態を検出または識別するために使用されるプロセスまたはバルブパラメータの異なるセット、またはそのセット内のいくつかのプロセス/バルブパラメータが同一であり、他のパラメータが異なる、プロセスまたはバルブパラメータの重複セットを含むことができる。バルブのプロセス/バルブパラメータは、バルブ開度測定値または指標、バルブの駆動信号、バルブ開度設定点、アクチュエータ圧力などを含むことができる
、飽和状態にあると判定する(ブロック561)。一方、バルブの開度が変化すると、コンピューティングデバイス250は、オンライン動作の間に受信されたバルブ開度値が時折、カットオフ(例えば、0パーセントまたは100パーセント)に達するかどうかを判定する(ブロック562)。バルブ開度値が時折、0パーセントまたは100パーセントのカットオフに達する(例えば、少なくとも1回)と、コンピューティングデバイス250は、バルブの動作モードが周期的スロットルであると判定する(ブロック564)。例えば、図6Aに示すように、第2のバルブ504のバルブ開度は、時間t=10からt=15まで0%である。いくつかの実施形態では、次いで、コンピューティングデバイス250は、その後、例えば、上記の機械学習技術を使用して、分析を遂行して、バルブに生じる状態を、もしあれば、検出または識別する。この状態は、周期的スロットルモードのバルブの履歴プロセスパラメータ値から生成された統計的モデルを使用して識別される。他の実施形態では、コンピューティングデバイス250内のモード判定アプリケーションまたはモジュールは、判定された動作モードの指標を、ユーザインターフェースデバイス235またはコンピューティングデバイス250または別のコンピューティングデバイス内の別のアプリケーションまたはモジュールに送信する。その後、他のアプリケーションまたはモジュールは、例えば、上記の機械学習技術を使用して、分析を遂行して、バルブに生じる状態を、もしあれば、検出または識別する。
応するタイムスタンプがコンピューティングデバイス250で受信されると、コンピューティングデバイス250はプロセスパラメータ値を各々の統計的モデルと比較してバルブの動作モードを判定する。
ロセスパラメータメトリックは、反転あたりの移動平均、反転当たりの移動平均バルブ開度、反転当たりの減衰バルブ開度、バルブ開度の標準偏差、時間周期当たりの反転回数、時間経過に伴うバルブの開度に対応する波の振幅、位相、及び/または周波数を含む。
れば、経験している状態あるかどうかを判定する。さらに別の例では、識別されたバルブ動作モードに対応し、ロジスティック回帰、線形回帰、多項式回帰などの回帰分析を使用して生成された統計的モデルに対して、コンピューティングデバイス250は、対象バルブのプロセスパラメータメトリックを対応する回帰式に適用して、バルブの性能監視メトリックまたは他の状態を検出または識別する。
プロセスプラント、企業、工業、またはすべての工業にわたっていくつかの他のバルブに対するバルブデータと比較することができる。このようにして、特定のバルブの健全性は、履歴プロセスパラメータに加えて、現在動作している他のバルブに対して識別される。いくつかの実施形態では、特定のバルブの健全性は、同じプロセスプラント、企業、工業、またはすべての工業にわたって動作するバルブのそれぞれにランク付けされる。
は、いくつかの時間のインスタンスで生成された、いくつかのプロセスパラメータ値を受信する。各々のプロセス/バルブパラメータ値は、例えば、プロセスパラメータがいつ生成されるかを示す対応するタイムスタンプを含む。バルブの健全性を比較するために使用されるプロセス/バルブパラメータは、バルブ(例えば、図5の方法400で説明したように)で発生する状態を検出または識別するために使用されるプロセスパラメータの同じセット、バルブで発生する状態を検出または識別するために使用されるパラメータの別のセット、またはセット内のいくつかのプロセスパラメータが同一であり、他のパラメータが異なるプロセスパラメータの重複セットを含むことができる。バルブの例示プロセスパラメータは、バルブ開度、バルブの駆動信号、バルブ開度設定点、アクチュエータ圧力などが含まれる。
タを判定する。
と比較されるとき、コンピューティングデバイス250は、バルブが過剰な不動時間を経験していると判定する。しかしながら、バルブが同じ工業の他のすべてのバルブと比較されるとき、コンピューティングデバイス250は、バルブが経験している不動時間が工業内の平均であり、したがって不動時間は許容範囲内であると判定する。
に配置された別のコンピューティングデバイスによって遂行される。しかし、特に、方法700は、本明細書に記載の技術、方法、システム、デバイス、及び/またはデバイスのいずれかと共に動作してもよい。
トリックメトリックを生成すること、を含む、態様1〜3のいずれか1つに記載の方法。
タを分析することが、プロセスプラントエンティティの動作モードに対応する技術またはモデルを利用してデータを分析することを含む、態様1〜13のいずれか1つに記載の方法。
ィティのプロセスパラメータ値の第2のセットに対応するものとして生成される、態様15〜19のいずれか1つに記載のシステム。
トを結合することと、1つ以上のバルブパラメータメトリックに基づいてバルブの状態を検出することと、を含む、態様27または態様28のいずれか1つに記載の方法。
れか1つに記載の方法。
体的なデバイス健全性パラメータ値の比較に基づいて、バルブの相対的健全性インジケータを判定することが、複数のバルブのそれぞれの全体的なデバイス健全性パラメータ値に基づいて複数のバルブをランク付けすることを含み、バルブの相対的健全性康指標を提供することが、バルブの全体的なデバイス健全性パラメータ値の指標と、複数のバルブのランク付けの指標を提供することを含む、態様52に記載の方法。
な描写で表示するために、ユーザインターフェースに提供することと、を含む、態様52〜60のいずれか1つに記載の方法。
らかであろう。
Claims (22)
- プロセスプラントからクラウドコンピューティングシステムに安全に転送されるデータを使用してプロセスプラントエンティティの状態を検出する方法であって、
前記プロセスプラントが工業プロセスを制御するように動作している間に、前記プロセスプラントの1つ以上のデバイスによって生成されたデータを、前記クラウドコンピューティングシステムにおいて受信することであって、前記データが、前記1つ以上のデバイスからデータダイオードを介して前記クラウドコンピューティングシステムへ送信するためにセキュリティ保護され、前記データダイオードが、前記プロセスプラントのネットワークと前記クラウドコンピューティングシステムのネットワークとの間の双方向通信を防止するように構成されている、受信することと、
前記クラウドコンピューティングシステムにおいて、前記データを分析して、それにより前記プロセスプラント内の前記工業プロセスを制御するために物理的機能を遂行しているプロセスプラントエンティティの状態を検出することであって、前記プロセスプラントエンティティが、前記1つ以上のデバイスに対応する、検出することと、
前記プロセスプラントエンティティの前記状態の指標をユーザインターフェースデバイスに送信して、オペレータに前記状態を警告することと、を含む、方法。 - 前記1つ以上のデバイスによって生成された前記データを受信することが、複数の時間のインスタンスにおいて、前記プロセスプラントエンティティの1つ以上のプロセスパラメータの各々に対してのそれぞれのプロセスパラメータ値を受信すること、を含む、請求項1に記載の方法。
- 前記データを分析して、それにより前記プロセスプラントエンティティの前記状態を検出することが、
前記1つ以上のプロセスパラメータの前記各々に対して、前記複数の時間のインスタンスにわたる前記1つ以上のプロセスパラメータの前記それぞれのプロセスパラメータ値を結合して、プロセスパラメータメトリックを生成することと、
前記プロセスパラメータメトリックに基づいて前記プロセスプラントエンティティの前記状態を検出することと、を含む、請求項2に記載の方法。 - 前記複数の時間のインスタンスにわたる前記1つ以上のプロセスパラメータの前記それぞれのプロセスパラメータ値を結合して前記プロセスパラメータメトリックを生成することが、前記それぞれのプロセスパラメータ値の移動平均、または前記複数の時間のインスタンスにわたる前記それぞれのプロセスパラメータ値の減衰平均のうちの少なくとも1つを計算して前記プロセスパラメトリックメトリックを生成すること、を含む、請求項3に記載の方法。
- 前記1つ以上のプロセスパラメータの履歴プロセスパラメータ値に基づいて統計的モデルを生成することをさらに含み、
前記プロセスパラメータメトリックに基づいて前記プロセスプラントエンティティの前記状態を検出することが、前記プロセスパラメータメトリックを前記統計的モデルに適用すること、を含む、請求項3に記載の方法。 - 前記1つ以上のプロセスパラメータの前記履歴プロセスパラメータ値に基づいて前記統計的モデルを生成することが、
各々の履歴プロセスパラメータ値を、前記状態を経験した1つ以上のプロセスプラントエンティティに対するプロセスパラメータ値の第1のセットに対応するものとして、または前記状態を経験していない1つ以上のプロセスプラントエンティティに対するプロセスパラメータ値の第2のセットに対応するものとして分類することと、
前記履歴プロセスパラメータ値の前記分類に基づいて、前記統計的モデルを生成することと、を含む、請求項5に記載の方法。 - 前記プロセスプラントエンティティが、前記状態を経験したか否かの指標を受信することと、
前記プロセスプラントエンティティの前記1つ以上のプロセスパラメータの前記それぞれのプロセスパラメータ値を含むように、かつ前記プロセスプラントエンティティが前記状態を経験したかどうかの前記指標に基づいて履歴プロセスパラメータ値を更新することと、をさらに含む、請求項5に記載の方法。 - 前記プロセスプラントエンティティの前記状態を検出することが、前記プロセスプラントエンティティの性能監視メトリックを検出すること、または前記プロセスプラントエンティティにおけるエラー、不動帯、不動時間、または漏れのうちの少なくとも1つを検出すること、のうちの少なくとも1つを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記プロセスプラントエンティティの前記検出された状態に基づいて前記プロセスプラントで警報またはイベントを発生させること、をさらに含む、請求項1に記載の方法。
- 前記プロセスプラントエンティティの前記検出された状態に基づいて前記プロセスプラントエンティティの動作を調整するために前記プロセスプラントに制御信号を送信すること、をさらに含む、請求項1に記載の方法。
- 前記1つ以上のデバイスによって生成されたデータを受信することが、前記1つ以上のデバイスから前記データダイオードを介して前記クラウドコンピューティングシステムにストリーミングされたリアルタイムデータを受信すること、を含む、請求項1に記載の方法。
- プロセスプラントのプロセスプラントエンティティの状態を検出するためのシステムであって、
前記プロセスプラントに配置されたプロセスプラントエンティティに対応し、工業プロセスを制御するための物理的機能を遂行する1つ以上のデバイスと、
前記1つ以上のデバイスを1つ以上のコンピューティングデバイスに通信可能に接続するデータダイオードであって、前記プロセスプラントのネットワークと前記1つ以上のコンピューティングデバイスとの間の双方向通信を防止するように構成される、データダイオードと、
前記1つ以上のコンピューティングデバイスであって、
1つ以上プロセッサと、
通信ユニットと、
前記1つ以上のプロセッサ及び前記通信ユニットに結合された1つ以上の固定コンピュータ可読媒体であって、前記1つ以上のプロセッサによって実行されると、
前記プロセスプラントがオンラインである間に前記プロセスプラントの前記1つ以上のデバイスによって生成されたデータを、前記データダイオード及び前記通信ユニットを介して受信することであって、前記データが、前記1つ以上のデバイスから前記データダイオードを介して前記1つ以上のデバイスから前記コンピューティングデバイスに送信するためにセキュリティ保護される、受信することと、
前記プロセスプラントエンティティの状態を検出するために前記データを分析することと、
前記プロセスプラントエンティティがオペレータに前記状態を警告するための前記状態の指標を、前記通信ユニットを介して前記ユーザインターフェースデバイスに送信することと、を前記コンピューティングデバイスにさせる命令を格納する、固定コンピュー
タ可読媒体と、を備える、システム。 - 前記1つ以上のデバイスによって生成された前記データが、複数の時間のインスタンスにおける前記プロセスプラントエンティティの1つ以上のプロセスパラメータの各々に対するそれぞれのプロセスパラメータ値を含む、請求項12に記載のシステム。
- 前記プロセスプラントエンティティの前記状態を検出するための前記データの前記分析が、1つ以上のプロセスパラメータメトリックを生成するために、前記複数の時間のインスタンスにわたる前記1つ以上のプロセスパラメータの前記それぞれのプロセスパラメータ値の組み合わせを含み、
前記プロセスプラントエンティティの前記状態が、前記1つ以上のプロセスパラメータメトリックに基づいて検出される、請求項13に記載のシステム。 - 前記それぞれのプロセスパラメータ値の前記組み合わせが、前記それぞれのプロセスパラメータ値の移動平均または前記それぞれのプロセスパラメータ値の減衰平均のうちの少なくとも1つを含む、請求項14に記載のシステム。
- 前記1つ以上のプロセスパラメータの履歴プロセスパラメータ値に基づいて生成された統計的モデルをさらに含み、
前記プロセスプラントエンティティの前記状態が、前記1つ以上のプロセスパラメータメトリックを前記統計的モデルに適用することによって検出される、請求項14に記載のシステム。 - 前記統計的モデルが、各々の履歴プロセスパラメータ値の分類に基づいて、前記状態を経験した1つ以上のプロセスプラントエンティティのプロセスパラメータ値の第1のセットに対応するものとしてまたは、前記状態を経験していない1つ以上のプロセスプラントエンティティのプロセスパラメータ値の第2のセットに対応するものとして生成される、請求項16に記載のシステム。
- 前記統計的モデルが、1つ以上の機械学習技術であって、線形回帰、多項式回帰、ロジスティック回帰、ナイーブベイズ、決定木、ランダムフォレスト、ブースティング、最近傍、またはニューラルネットワークを含む、1つ以上の機械学習技術を使用して生成される、請求項16に記載のシステム。
- 前記1つ以上のプロセスパラメータが、圧力、温度、流量、密度、面積、または体積のうちの少なくとも1つを示す、請求項13に記載のシステム。
- 前記プロセスプラントエンティティの前記状態が、前記プロセスプラントエンティティにおける性能監視メトリック、エラー、不動帯、不動時間、または漏れのうちの少なくとも1つを含む、請求項12に記載のシステム。
- 前記1つ以上のデバイスが、フィールドデバイスまたはコントローラであって、前記フィールドデバイスによって生成されるまたは送信されるうちの少なくとも1つである信号を利用する制御ルーチンを実行する前記フィールドデバイスまたはコントローラのうちの少なくとも1つを含む、請求項12に記載のシステム。
- 前記プロセスプラントエンティティが、バルブ、フィールドデバイス、I/Oデバイス、前記I/Oデバイスを介して前記フィールドデバイスに結合されたコントローラ、タンク、ミキサー、ポンプ、または熱交換器のうちの少なくとも1つを含む、請求項12に記載のシステム。
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