JP2018071651A - Base isolation structure - Google Patents

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吾郎 三輪田
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce cots and also suppress excessive displacement.SOLUTION: A base isolation structure includes a base isolation layer having a space with a predetermined height from a lower structure, between an upper structure and the lower structure. The base isolation layer includes: an erected part erecting from the lower structure so as to be higher than a predetermined height; a base isolation mechanism provided between the upper structure and the erected part; a drooped part drooping from the upper structure to a predetermined height, and separated from the erected part in a horizontal direction; and a contact part provided on at least one of the erected part and drooped part, and configured to, when the upper structure and the lower structure are relatively displaced by a predetermined distance in the horizontal direction, contact with the other one of the erected part and drooped part.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、免震構造に関する。 The present invention relates to a seismic isolation structure.

建物などにおける上部構造と下部構造との隙間に免震装置(例えば、積層ゴム)や減衰装置(例えば、ダンパー)を設けた免震構造が知られている。   There is known a seismic isolation structure in which a seismic isolation device (for example, laminated rubber) or a damping device (for example, a damper) is provided in a gap between an upper structure and a lower structure in a building or the like.

また、特許文献1には、上部構造に下方に突出した基礎(凹状部材)を設け、下部構造に上方に突出した基礎(凸状部材)を設け、大地震時にこの基礎同士を衝突させて上部構造と下部構造との過大変位を抑制するようにした構造が記載されている。   Further, in Patent Document 1, a base (concave member) that protrudes downward is provided in the upper structure, and a base (convex member) that protrudes upward is provided in the lower structure. A structure is described in which excessive displacement between the structure and the substructure is suppressed.

特開2014−35019号公報JP 2014-35019 A

しかしながら、上述したような過大変位抑制用の基礎を一対設置するにはコストがかかる。特に、建物の上層部と下層部の間(中間階)に免震装置を設置する中間層免震や、特定階(1階など)の柱頭部に免震装置を設置する柱頭免震の場合、基礎免震と比べて上部構造と下部構造との間隔(免震層の高さ)が大きくなることが多く、コストが増大するおそれがある。また、衝突の際の曲げモーメントに抵抗できるように基礎の断面積や配筋超を大幅に増やす必要があり、さらにコストがかかるおそれがある。   However, it is costly to install a pair of excessive displacement suppression foundations as described above. Especially in the case of middle-layer seismic isolation that installs a seismic isolation device between the upper and lower part of the building (intermediate floor), and stigma isolation that installs a seismic isolation device on the head of a specific floor (such as the first floor) The distance between the upper structure and the lower structure (the height of the base isolation layer) is often larger than that of the base base isolation, which may increase the cost. Further, it is necessary to greatly increase the cross-sectional area of the foundation and the bar arrangement so as to resist the bending moment at the time of collision, which may further increase the cost.

本発明は、かかる課題に鑑みてなされたものであって、その目的とするところは、コストの低減を図りつつ過大変位を抑制することにある。   This invention is made | formed in view of this subject, The place made into the objective is to suppress an excessive displacement, aiming at the reduction of cost.

かかる目的を達成するため、本発明の免震構造は、上部構造と下部構造との間に、前記下部構造から所定高さの空間を有する免震層を備えた免震構造であって、前記免震層は、前記下部構造から前記所定高さより高く立設された立設部と、前記上部構造と前記立設部との間に設けられた免震機構と、前記上部構造から前記所定高さまで下垂する下垂部であって、前記立設部と水平方向に離間した下垂部と、前記立設部及び前記下垂部の一方に設けられ、前記上部構造と前記下部構造とが前記水平方向に所定距離相対変位したときに、前記立設部及び前記下垂部の他方と当接する当接部と、を備えることを特徴とする。
このような免震構造によれば、コストの低減を図りつつ過大変位を抑制することができる。
In order to achieve such an object, the seismic isolation structure of the present invention is a seismic isolation structure including a base isolation layer having a space of a predetermined height from the lower structure between the upper structure and the lower structure, The seismic isolation layer includes a standing part standing higher than the predetermined height from the lower structure, a seismic isolation mechanism provided between the upper structure and the standing part, and a predetermined height from the upper structure. A drooping portion that hangs down from the standing portion, and is provided on one of the standing portion and the drooping portion, and the upper structure and the lower structure are arranged in the horizontal direction. And an abutting portion that abuts against the other of the standing portion and the hanging portion when a predetermined distance is relatively displaced.
According to such a seismic isolation structure, it is possible to suppress excessive displacement while reducing costs.

かかる免震構造であって、前記当接部は、緩衝材を備えることが望ましい。
このような免震構造によれば、当接による衝撃を緩衝することができる。
In such a seismic isolation structure, it is preferable that the contact portion includes a cushioning material.
According to such a seismic isolation structure, it is possible to buffer an impact caused by contact.

かかる免震構造であって、前記所定距離をcとし、前記当接部の前記水平方向と直交する水平幅方向の長さをaとしたとき、前記立設部及び前記下垂部の他方の前記水平幅方向の長さは、前記当接部の前記水平幅方向の中心に対応する位置から前記水平幅方向の一方側と他方側にそれぞれ(a/2+c)以上であることが望ましい。
このような免震構造によれば、振動の方向が水平方向や水平幅方向に対して斜めの方向であっても、当接させやすくすることができる。
In this seismic isolation structure, when the predetermined distance is c and the length of the abutting portion in the horizontal width direction orthogonal to the horizontal direction is a, the other of the standing portion and the hanging portion The length in the horizontal width direction is preferably (a / 2 + c) or more on one side and the other side in the horizontal width direction from a position corresponding to the center in the horizontal width direction of the contact portion.
According to such a seismic isolation structure, even if the direction of vibration is oblique to the horizontal direction or the horizontal width direction, it is possible to facilitate contact.

かかる免震構造であって、前記立設部は、平面多角形の柱状体であり、前記下垂部は、前記柱状体の各側面の側方に設けられていてもよい。
このような免震構造によれば、振動の方向に関わらずに過大変位を抑制することができる。
In this seismic isolation structure, the standing portion may be a planar polygonal columnar body, and the hanging portion may be provided on a side of each side surface of the columnar body.
According to such a seismic isolation structure, excessive displacement can be suppressed regardless of the direction of vibration.

かかる免震構造であって、前記立設部は、平面円形の柱状体であり、前記下垂部は、前記柱状体の周囲の側方に設けられていてもよい。
このような免震構造によれば、振動の方向に関わらずに過大変位を抑制することができる。
In this seismic isolation structure, the standing portion may be a planar circular columnar body, and the hanging portion may be provided on a lateral side of the columnar body.
According to such a seismic isolation structure, excessive displacement can be suppressed regardless of the direction of vibration.

かかる免震構造であって、前記下垂部は、前記立設部を一体的に囲繞していてもよい。
このような免震構造によれば、確実に過大変位を抑制することができる。
In this seismic isolation structure, the hanging part may integrally surround the standing part.
According to such a seismic isolation structure, excessive displacement can be reliably suppressed.

かかる免震構造であって、前記所定高さは2.1m以上であることが望ましい。
このような免震構造によれば、居室を構成することができる。
In this seismic isolation structure, it is desirable that the predetermined height is 2.1 m or more.
According to such a seismic isolation structure, a living room can be configured.

かかる免震構造であって、前記下垂部は、前記所定高さから前記立設部の高さまでの範囲を含む第一部位と、前記第一部位と前記上部構造との間の第二部位と、を有し、前記第一部位は、前記第二部位よりも塑性変形しやすいことが望ましい。
このような免震構造によれば、立設部や上部構造に過剰な応力がかからないようにすることができる。
In this seismic isolation structure, the hanging part includes a first part including a range from the predetermined height to a height of the standing part, and a second part between the first part and the superstructure. It is desirable that the first part is more easily plastically deformed than the second part.
According to such a seismic isolation structure, it is possible to prevent excessive stress from being applied to the standing portion and the upper structure.

かかる免震構造であって、前記下垂部は、前記上部構造から下垂する昇降設備、又は、機械設備室であってもよい。
このような免震構造によれば、よりコストの低減を図ることが可能である。
In this seismic isolation structure, the hanging part may be a lifting equipment or a mechanical equipment room hanging from the upper structure.
According to such a seismic isolation structure, it is possible to further reduce the cost.

かかる免震構造であって、前記免震機構は、高減衰積層ゴムであってもよい。
このような免震構造によれば、免震、復元、及び、減衰の各機能を単独で実現できる。
In such a base isolation structure, the base isolation mechanism may be a high damping laminated rubber.
According to such a base isolation structure, the functions of base isolation, restoration, and attenuation can be realized independently.

かかる免震構造であって、前記免震機構は、弾塑性支承、又は、剛塑性支承、又は、弾性すべり支承であってもよい。
このような免震構造によれば、立設部の負担荷重の低減を図ることができる。
In such a seismic isolation structure, the seismic isolation mechanism may be an elasto-plastic bearing, a rigid plastic bearing, or an elastic sliding bearing.
According to such a seismic isolation structure, it is possible to reduce the burden load on the standing portion.

かかる免震構造であって、前記免震層は、複数の前記立設部を備え、前記免震機構、前記下垂部、及び、前記当接部は、或る前記立設部に対して設けられており、別の前記立設部と前記上部構造との間には前記免震機構と比較して前記水平方向において負担する最大荷重が高い免震機構が設けられていることが望ましい。
このような免震構造によれば、或る立設部の免震機構が降伏しても、別の立設部の免震機構によって上部構造を支承することができる。
In this seismic isolation structure, the seismic isolation layer includes a plurality of the standing portions, and the seismic isolation mechanism, the hanging portion, and the contact portion are provided with respect to the certain standing portion. It is desirable that a seismic isolation mechanism having a higher maximum load in the horizontal direction than that of the seismic isolation mechanism is provided between the other standing part and the upper structure.
According to such a seismic isolation structure, even if the seismic isolation mechanism of a certain standing part yields, the upper structure can be supported by the seismic isolation mechanism of another standing part.

また、前記免震機構は、復元機構であってもよいし、減衰機構であってもよい。   The seismic isolation mechanism may be a restoration mechanism or a damping mechanism.

本発明によれば、コストの低減を図りつつ過大変位を抑制することが可能である。   According to the present invention, it is possible to suppress excessive displacement while reducing costs.

第1実施形態の免振構造の構成を示す立面図である。It is an elevation view which shows the structure of the vibration isolation structure of 1st Embodiment. 図1のA−A´平面図である。It is an AA 'top view of FIG. 突設基礎及び緩衝材の配置例を示す図である。It is a figure which shows the example of arrangement | positioning of a protrusion base and a shock absorbing material. 第1実施形態の免震構造の第1変形例を示す図である。It is a figure which shows the 1st modification of the seismic isolation structure of 1st Embodiment. 第1実施形態の免震構造の第2変形例を示す図である。It is a figure which shows the 2nd modification of the seismic isolation structure of 1st Embodiment. 第1実施形態の免震構造の第3変形例を示す図である。It is a figure which shows the 3rd modification of the seismic isolation structure of 1st Embodiment. 第2実施形態の免振構造の構成を示す立面図である。It is an elevation view which shows the structure of the vibration isolation structure of 2nd Embodiment. 第3実施形態の免振構造の構成を示す立面図である。It is an elevation view which shows the structure of the vibration isolation structure of 3rd Embodiment. 突設基礎の変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of a protruding foundation. 図9の突設基礎及び緩衝材の復元力特性を示す図である。It is a figure which shows the restoring force characteristic of the protruding foundation of FIG. 9, and a shock absorbing material. 免震構造の変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of a seismic isolation structure.

以下、本発明の一実施形態について図面を参照しつつ説明する。   Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

===第1実施形態===
<免震構造の構成について>
図1は、第1実施形態の免振構造の構成を示す立面図である。図2は、図1のA−A´平面図である。以下の説明では、図に示すように方向を定めている。すなわち、水平面において直交する2方向のうちの一方をX軸方向とし、他方をY軸方向とする。また、上記水平面に垂直な方向(X軸方向及びY軸方向に直交する方向)をZ軸方向(鉛直方向)とする。
=== First Embodiment ===
<About seismic isolation structure>
FIG. 1 is an elevation view showing the configuration of the vibration isolation structure of the first embodiment. FIG. 2 is a plan view taken along the line AA ′ of FIG. In the following description, the direction is determined as shown in the figure. That is, one of the two directions orthogonal to each other on the horizontal plane is taken as the X-axis direction, and the other is taken as the Y-axis direction. A direction perpendicular to the horizontal plane (a direction orthogonal to the X-axis direction and the Y-axis direction) is defined as a Z-axis direction (vertical direction).

本実施形態の免震構造は、図1に示すように、上部構造2と下部構造4との間に免震層Sを備えて構成されている。なお、本実施形態の免震構造は柱頭免震であり、上部構造2と下部構造4は、建物の特定階(例えば1階)を構成する構造物(床など)である。上部構造2は、免震層Sを介して下部構造4の上方に設けられている。下部構造4は、上部構造2を支えて荷重を地盤に伝達させる。   As shown in FIG. 1, the seismic isolation structure of the present embodiment is configured to include a seismic isolation layer S between the upper structure 2 and the lower structure 4. In addition, the seismic isolation structure of this embodiment is a capital isolation, and the upper structure 2 and the lower structure 4 are structures (floor etc.) which comprise the specific floor (for example, 1st floor) of a building. The upper structure 2 is provided above the lower structure 4 with the seismic isolation layer S interposed therebetween. The lower structure 4 supports the upper structure 2 and transmits a load to the ground.

免震層Sには、下部構造4から高さh(所定高さに相当)の空間Kが設けられている。換言すると、免震層Sは、下部構造4から高さhの空間Kを有している。本実施形態において空間Kは居室であり、天井高さ(高さh)は2.1m以上である(建築基準法)。このため、本実施形態の免震層Sの高さ(上部構造2と下部構造4との間隔)は、基礎免震の免震層の高さよりも大きくなっている。なお、空間Kは居室には限られない。例えば、建物における供用空間や駐車設備などであってもよい。   The seismic isolation layer S is provided with a space K having a height h (corresponding to a predetermined height) from the lower structure 4. In other words, the seismic isolation layer S has a space K having a height h from the lower structure 4. In this embodiment, the space K is a living room, and the ceiling height (height h) is 2.1 m or more (Building Standard Act). For this reason, the height of the base isolation layer S of the present embodiment (the interval between the upper structure 2 and the lower structure 4) is larger than the height of the base isolation base. The space K is not limited to a living room. For example, it may be a service space or a parking facility in a building.

また、本実施形態の免震層Sは、免震装置10、免震用基礎22、柱部42(立設部に相当)、突設基礎24(下垂部に相当)を備えている。   Moreover, the seismic isolation layer S of this embodiment is provided with the seismic isolation apparatus 10, the base 22 for seismic isolation, the column part 42 (equivalent to a standing part), and the protruding foundation 24 (equivalent to a drooping part).

免震用基礎22は、免震装置10を設置するための基礎であり、上部構造2から下方(免震層S)に突出するように設けられている。   The base for seismic isolation 22 is a base for installing the base isolation device 10 and is provided so as to protrude downward (the base isolation layer S) from the upper structure 2.

柱部42は、下部構造4から上方に立設された柱状体である。また、図1に示すように、柱部42のZ軸方向の高さ(高さH)は、高さhよりも高い(H>h)。また、図2に示すように、本実施形態の柱部42の平面形状は四角形(平面四角形)である。具体的には、柱部42の平面形状は図2に示すように一辺の長さがLの正方形である。なお、柱部42と免震用基礎22は、水平方向(X軸方向、Y軸方向)の位置が同じである(水平方向に離間していない)。   The column part 42 is a columnar body erected upward from the lower structure 4. Moreover, as shown in FIG. 1, the height (height H) of the column part 42 in the Z-axis direction is higher than the height h (H> h). Moreover, as shown in FIG. 2, the planar shape of the column part 42 of this embodiment is a quadrangle (planar quadrangle). Specifically, the planar shape of the pillar portion 42 is a square having a side length L as shown in FIG. The column part 42 and the base for seismic isolation 22 have the same position in the horizontal direction (X-axis direction, Y-axis direction) (not separated in the horizontal direction).

免震装置10は、図2に示すように、上部構造2と下部構造4との間に介在されている。より具体的には、免震装置10は、免震用基礎22と、柱部42との間に設けられている。   As shown in FIG. 2, the seismic isolation device 10 is interposed between the upper structure 2 and the lower structure 4. More specifically, the seismic isolation device 10 is provided between the base 22 for seismic isolation and the column part 42.

本実施形態の免震装置10は、図2に示すように、積層ゴム12(例えば、円形の薄い鋼板とゴム層とを上下に交互に積層してなる円柱状の弾性体)を、上下一対のフランジ板(上フランジ板13a、下フランジ板13b)で挟んで構成されている。また、下フランジ板13bは、不図示のボルトなどにより柱部42の上面に固定され、上フランジ板13aは、不図示のボルトなどにより免震用基礎22の下面に固定されている。そして、免震装置10は、上部構造2を支承するとともに、上部構造2と下部構造4との相対変位による水平力に応じて積層ゴム12が水平方向に剪断変形して、上部構造2の水平振動を長周期化する(免震支承として機能する)。また、本実施形態の積層ゴム12は、内部に鉛プラグ(減衰材)が設けられた高減衰積層ゴムであり、(免震機能、復元機能に加えて)減衰機能も備えている。   As shown in FIG. 2, the seismic isolation device 10 of the present embodiment has a laminated rubber 12 (for example, a columnar elastic body formed by alternately laminating circular thin steel plates and rubber layers) in a pair of upper and lower sides. Are sandwiched between flange plates (upper flange plate 13a and lower flange plate 13b). Further, the lower flange plate 13b is fixed to the upper surface of the column portion 42 by bolts (not shown) or the like, and the upper flange plate 13a is fixed to the lower surface of the seismic isolation base 22 by bolts (not shown). The seismic isolation device 10 supports the upper structure 2, and the laminated rubber 12 shears and deforms in the horizontal direction according to the horizontal force due to the relative displacement between the upper structure 2 and the lower structure 4, thereby Increase the period of vibration (function as a seismic isolation bearing). Moreover, the laminated rubber 12 of this embodiment is a high-damping laminated rubber having a lead plug (damping material) provided therein, and also has a damping function (in addition to the seismic isolation function and the restoration function).

免震装置10を上部構造2と下部構造4との間に設けていることにより、水平方向の振動が発生した場合に、上部構造2の振動を長周期化できるとともに、上部構造2と下部構造4との間の水平振動を減衰させることができる。   By providing the seismic isolation device 10 between the upper structure 2 and the lower structure 4, when horizontal vibration occurs, the vibration of the upper structure 2 can be lengthened, and the upper structure 2 and the lower structure 4 can be damped.

しかし、上部構造2と下部構造4との水平方向の変位(相対変位)が過大になると、積層ゴム12の変形量が大きくなり、積層ゴム12が破断してしまうおそれや、上部構造2を免震支持できなくなるおそれがある。このため、過大変位を抑制することが必要になる。例えば、上部構造2と下部構造4に過大変位を抑制するための部材(基礎)を一対設けてもよいが、この場合、コストが増大するおそれがある。特に本実施形態のような柱頭免震の場合、上部構造2と下部構造4との間隔(免震層Sの高さ)が大きいため、一対の基礎を設けるにはコストがかかる。そこで、本実施形態では、上部構造2に突設基礎24を設けることで、コストの低減を図りつつ、過大変位を効率的に抑制するようにしている。   However, if the horizontal displacement (relative displacement) between the upper structure 2 and the lower structure 4 becomes excessive, the amount of deformation of the laminated rubber 12 increases, and the laminated rubber 12 may break, There is a risk that you will not be able to support the earthquake. For this reason, it is necessary to suppress excessive displacement. For example, a pair of members (foundations) for suppressing excessive displacement may be provided in the upper structure 2 and the lower structure 4, but in this case, the cost may increase. In particular, in the case of stigma isolation as in the present embodiment, since the distance between the upper structure 2 and the lower structure 4 (height of the seismic isolation layer S) is large, it is expensive to provide a pair of foundations. Therefore, in the present embodiment, by providing the protruding foundation 24 in the upper structure 2, excessive displacement is efficiently suppressed while reducing costs.

突設基礎24は、過大変位を抑制するために設けられた部材(基礎)であり、上部構造2から高さhまで下垂している。また、突設基礎24は、柱部42と水平方向(図1、図2ではX軸方向)に離間している。なお、図2に示すように、突設基礎24の平面形状は、柱部42よりも一辺の長さが短い四角形(正方形)である。柱部42の高さHは、突設基礎24の下面の高さ(高さh)より高いので、柱部42と突設基礎24は、Z軸方向に一部重複していることになる。   The protruding foundation 24 is a member (foundation) provided to suppress excessive displacement, and hangs down from the upper structure 2 to a height h. Further, the protruding foundation 24 is separated from the column portion 42 in the horizontal direction (X-axis direction in FIGS. 1 and 2). As shown in FIG. 2, the planar shape of the protruding foundation 24 is a quadrangle (square) whose one side is shorter than the column part 42. Since the height H of the column portion 42 is higher than the height (height h) of the lower surface of the protruding foundation 24, the column portion 42 and the protruding foundation 24 partially overlap in the Z-axis direction. .

また、この重複部分において、柱部42と対向する突設基礎24の部位(側面)には緩衝材30(緩衝部に相当)が設けられている。   Further, in this overlapping portion, a cushioning material 30 (corresponding to a cushioning portion) is provided on a portion (side surface) of the protruding foundation 24 facing the column portion 42.

緩衝材30は、所定の弾性係数を有する弾性部材(例えばゴムなど)である。この緩衝材30を設けていることにより、突設基礎24と柱部42とが衝突する際の衝撃を緩和することができる。   The buffer material 30 is an elastic member (for example, rubber) having a predetermined elastic coefficient. By providing the cushioning material 30, it is possible to mitigate an impact when the protruding foundation 24 and the column part 42 collide with each other.

図2に示すように、緩衝材30は、柱部42とX軸方向に所定距離(ここでは長さc)離間している。よって、突設基礎24が、柱部42に対してX軸方向へ長さc変位すると(上部構造2と下部構造4とがX軸方向へ長さc相対変位すると)、緩衝材30は柱部42と当接する。すなわち、本実施形態において緩衝材30は当接部に相当する。この当接によって、長さcよりも大きい相対変位(過大変位)を抑制することができる。   As shown in FIG. 2, the cushioning material 30 is separated from the column portion 42 by a predetermined distance (here, length c) in the X-axis direction. Therefore, when the protruding foundation 24 is displaced by the length c in the X-axis direction with respect to the column part 42 (when the upper structure 2 and the lower structure 4 are displaced by the length c in the X-axis direction), the cushioning material 30 is It abuts on the part 42. That is, in the present embodiment, the cushioning material 30 corresponds to a contact portion. By this contact, a relative displacement (excessive displacement) larger than the length c can be suppressed.

また、本実施形態では、図2に示すように、柱部42の1辺の幅方向(水平幅方向に相当)の長さLを、緩衝材30の端面(側面)の幅方向の長さaよりも長くしている。具体的には、L=a+2cとしている。より具体的には、柱部42の長さLを、緩衝材30の幅方向(ここではY軸方向)の中点に対応する位置から、Y軸方向の一方側と他方側にそれぞれ(a/2+c)の長さにしている。この場合、柱部42と緩衝材30の角部を結ぶ線(図の破線)とX軸(及びY軸)との間の角度が45°となる。なお、これには限らず、柱部42の長さを、緩衝材30のY軸方向の中点に対応する位置から、Y軸方向の一方側と他方側にそれぞれ(a/2+c)より長くしてもよい。すなわち、L≧a+2cであることが望ましい。こうすることにより、振動の方向がX軸方向、Y軸方向に対して斜めの方向であっても、緩衝材30(突設基礎24)を柱部42に当接させやすい。   In the present embodiment, as shown in FIG. 2, the length L of one side of the pillar portion 42 in the width direction (corresponding to the horizontal width direction) is set to the length in the width direction of the end face (side surface) of the cushioning material 30. It is longer than a. Specifically, L = a + 2c. More specifically, the length L of the column part 42 is respectively set to one side and the other side in the Y-axis direction from the position corresponding to the midpoint of the buffer material 30 in the width direction (here, the Y-axis direction) (a / 2 + c). In this case, the angle between the line (dashed line in the figure) connecting the column part 42 and the corner of the cushioning material 30 and the X axis (and the Y axis) is 45 °. However, the length of the column part 42 is longer than (a / 2 + c) from the position corresponding to the midpoint of the buffer material 30 in the Y-axis direction to one side and the other side in the Y-axis direction. May be. That is, it is desirable that L ≧ a + 2c. By doing so, it is easy to bring the cushioning material 30 (projecting foundation 24) into contact with the column portion 42 even if the direction of vibration is oblique to the X-axis direction and the Y-axis direction.

特に、図3のように配置すると、振動の方向に関わらずに、緩衝材30を柱部42に当接させることができる。なお、図3は、突設基礎24及び緩衝材30の配置例を示す図である。この図3では、柱部42の各側面(四側面)の側方に、それぞれ、突設基礎24を設けている。つまり、柱部42をX軸方向に挟む位置、及び、柱部42をY軸方向に挟む位置に、それぞれ、突設基礎24を設けている。そして、柱部42と対向する各突設基礎24の部位(端面)に緩衝材30を設けている。このような構成にすることにより、振動方向に関わらずに、過大変位を抑制することができる。   In particular, when arranged as shown in FIG. 3, the cushioning material 30 can be brought into contact with the column portion 42 regardless of the direction of vibration. FIG. 3 is a diagram illustrating an arrangement example of the protruding foundation 24 and the cushioning material 30. In FIG. 3, projecting foundations 24 are provided on the sides of the side surfaces (four side surfaces) of the column portion 42. That is, the protruding foundation 24 is provided at a position where the column portion 42 is sandwiched in the X-axis direction and a position where the column portion 42 is sandwiched in the Y-axis direction, respectively. And the buffer material 30 is provided in the site | part (end surface) of each protrusion base 24 facing the pillar part 42. As shown in FIG. With such a configuration, excessive displacement can be suppressed regardless of the vibration direction.

以上、説明したように、本実施形態の免震構造は、上部構造2と下部構造4との間に、下部構造4から高さhの空間Kを有する免震層Sを備えたものである。免震層Sは、下部構造4から高さhより高く(高さHに)立設された柱部42と、上部構造2と柱部42との間に設けられた免震装置10と、上部構造2から高さhまで下垂する突設基礎24であって、柱部42と水平方向(X軸方向、Y軸方向)に離間した突設基礎24を備えている。また、突設基礎24には、緩衝材30が、上部構造2と下部構造4が水平方向に長さc相対変位したときに、柱部42と当接するように設けられている。   As described above, the base isolation structure of the present embodiment includes the base isolation layer S having the space K having a height h from the lower structure 4 between the upper structure 2 and the lower structure 4. . The seismic isolation layer S includes a column part 42 erected from the lower structure 4 higher than the height h (at a height H), a seismic isolation device 10 provided between the upper structure 2 and the column part 42, A protruding foundation 24 that hangs down to a height h from the upper structure 2 and includes a protruding foundation 24 that is spaced apart from the column portion 42 in the horizontal direction (X-axis direction, Y-axis direction). In addition, the cushioning material 30 is provided on the protruding foundation 24 so as to abut against the column portion 42 when the upper structure 2 and the lower structure 4 are displaced relative to each other in the horizontal direction by the length c.

これにより、上部構造2と下部構造4のそれぞれに一対の過大変位抑制用の基礎を設けなくてすむので、コストの低減を図りつつ過大変位を抑制することができる。   As a result, it is not necessary to provide a pair of excessive displacement suppression foundations in each of the upper structure 2 and the lower structure 4, so that excessive displacement can be suppressed while reducing costs.

<第1変形例>
図4は、第1実施形態の免震構造の第1変形例を示す図である。前述の実施形態と同一構成には同一符号を付し説明を省略する。
<First Modification>
FIG. 4 is a diagram illustrating a first modification of the seismic isolation structure according to the first embodiment. The same components as those of the above-described embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.

この第1変形例の免震構造は、柱部421と、突設基礎241を備えている。   The seismic isolation structure of the first modification includes a column part 421 and a protruding foundation 241.

柱部421は、図4に示すように平面形状が円形(平面円形)である。また。突設基礎241は、柱部421の周りを一体的に囲繞するように設けられている。突設基礎241の外形(平面形状)は四角形であり、内側には正八角形の空間が形成されている。そして、その空間の中心に柱部421が配置されている。また、突設基礎241の内側の正八角形の各辺(側面)には、柱部421と対向するように緩衝材30が設けられている。各緩衝材30と下側基部421とは、それぞれ所定距離(長さc)離間している。この場合においても、図3の場合と同様に振動の方向に関わらずに過大変位を抑制することができる。なお、この例では突設基礎241の内側は正八角形であったがこれには限られない。例えば、正六角形でもよいし、正十角形でもよい。これらの場合も、柱部421と対向するように緩衝材30を設ければよい。   As shown in FIG. 4, the pillar portion 421 has a circular planar shape (planar circle). Also. The protruding foundation 241 is provided so as to integrally surround the column portion 421. The external shape (planar shape) of the protruding foundation 241 is a quadrangle, and a regular octagonal space is formed inside. And the pillar part 421 is arrange | positioned in the center of the space. In addition, the cushioning material 30 is provided on each side (side surface) of the regular octagon inside the protruding foundation 241 so as to face the column portion 421. Each buffer material 30 and the lower base 421 are separated from each other by a predetermined distance (length c). In this case as well, excessive displacement can be suppressed regardless of the direction of vibration as in the case of FIG. In this example, the inside of the protruding foundation 241 is a regular octagon, but the present invention is not limited to this. For example, it may be a regular hexagon or a regular decagon. In these cases, the buffer material 30 may be provided so as to face the column portion 421.

<第2変形例>
図5は、第1実施形態の免震構造の第2変形例を示す図である。前述の実施形態と同一構成には同一符号を付し説明を省略する。
<Second Modification>
FIG. 5 is a diagram illustrating a second modification of the seismic isolation structure according to the first embodiment. The same components as those of the above-described embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.

第2変形例の免震構造は、突設基礎242を備えている。突設基礎242は、突設基礎241と同様に柱部421の周りを一体的に囲繞するように設けられており、内側には円形の空間が形成されている。そして、その空間の中心に柱部421が配置されている。また、突設基礎242の内側には、内周に沿って緩衝材302が円形に配置されており、緩衝材302と柱部421は所定距離(長さc)離間している。この場合においても、振動の方向に関わらずに過大変位を抑制することができる。   The seismic isolation structure of the second modified example includes a protruding foundation 242. The protruding foundation 242 is provided so as to integrally surround the column portion 421 similarly to the protruding foundation 241, and a circular space is formed inside. And the pillar part 421 is arrange | positioned in the center of the space. Further, the buffer material 302 is circularly arranged along the inner periphery of the protruding foundation 242, and the buffer material 302 and the column part 421 are separated from each other by a predetermined distance (length c). Even in this case, an excessive displacement can be suppressed regardless of the direction of vibration.

<第3変形例>
図6は、第1実施形態の免震構造の第3変形例を示す図である。前述の実施形態と同一構成には同一符号を付し説明を省略する。
<Third Modification>
FIG. 6 is a diagram illustrating a third modification of the seismic isolation structure according to the first embodiment. The same components as those of the above-described embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.

第3変形例の免震構造は、柱部422を備えている。   The seismic isolation structure of the third modified example includes a column portion 422.

柱部422は、図6に示すように、平面形状が正八角形の柱部材である。そして、その柱部422の8つの各側面に対応して、突設基礎24及び緩衝材30が、それぞれ(8つ)設けられている。なお、前述の実施形態と同様に、緩衝材30の端面の長さはaであり、各緩衝材30と柱部422とは所定距離(長さc)離間している。この場合、柱部422の各辺の長さがa+2cより小さくても(さらにはaよりも小さくても)、振動の方向に関わらずに過大変形を抑制することができる。   As shown in FIG. 6, the pillar portion 422 is a pillar member having a regular octagonal plan shape. And the protrusion foundation 24 and the shock absorbing material 30 are each provided (eight) corresponding to each eight side surfaces of the pillar part 422. As in the above-described embodiment, the length of the end face of the cushioning material 30 is a, and each cushioning material 30 and the column portion 422 are separated by a predetermined distance (length c). In this case, even if the length of each side of the column portion 422 is smaller than a + 2c (and even smaller than a), excessive deformation can be suppressed regardless of the direction of vibration.

===第2実施形態===
図7は、第2実施形態の免振構造の構成を示す立面図である。前述の実施形態と同一構成の部分には同一符号を付し説明を省略する。
=== Second Embodiment ===
FIG. 7 is an elevation view showing the configuration of the vibration isolation structure of the second embodiment. Parts having the same configurations as those of the above-described embodiment are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.

第2実施形態の免震構造の免震層Sは、減衰装置16、柱部42、減衰用基礎23、突設基礎24(及び緩衝材30)を備えている。この第2実施形態では、免震機構として減衰装置16(減衰機構に相当)が設けられている。また、図では示していないが、免震層Sの他の場所には、第1実施形態と同様の免震用基礎22、柱部42、及び、免震装置(ここでは通常の積層ゴムなど)の組み合わせが設けられている。これにより、柱頭免震が構成されている。   The seismic isolation layer S of the seismic isolation structure of the second embodiment includes the damping device 16, the column part 42, the damping foundation 23, and the protruding foundation 24 (and the cushioning material 30). In the second embodiment, a damping device 16 (corresponding to a damping mechanism) is provided as a seismic isolation mechanism. Further, although not shown in the figure, in other places of the seismic isolation layer S, the base for seismic isolation 22, the column part 42, and the seismic isolation device (here, ordinary laminated rubber, etc.) are the same as in the first embodiment. ) Is provided. As a result, stigma isolation is configured.

減衰用基礎23は、柱部42と水平方向(図ではX軸方向)に離間した位置において、上部構造2から下方に突出するように設けられている。   The damping base 23 is provided so as to protrude downward from the upper structure 2 at a position spaced apart from the column portion 42 in the horizontal direction (X-axis direction in the drawing).

減衰装置16は、本実施形態では、オイルを用いたオイルダンパーである。減衰装置16は水平方向(X軸方向)に沿って配置されており、減衰装置16の一端は減衰用基礎23に接続され、他端は柱部42に接続されている。そして、減衰装置16は、減衰用基礎23と柱部42との相対変位(換言すると上部構造2と下部構造4との相対変位)に応じて減衰力を発生する。   The damping device 16 is an oil damper using oil in this embodiment. The attenuation device 16 is disposed along the horizontal direction (X-axis direction), and one end of the attenuation device 16 is connected to the attenuation base 23 and the other end is connected to the column portion 42. The damping device 16 generates a damping force in accordance with the relative displacement between the damping foundation 23 and the column portion 42 (in other words, the relative displacement between the upper structure 2 and the lower structure 4).

このように第2実施形態では免震機構として、減衰装置16が用いられている。減衰装置16は、柱部42と上部構造2(より具体的には減衰用基礎23)の間に設けられている。この場合においても第1実施形態と同様に、突設基礎24(及び緩衝材30)を設けることにより、過大変位を抑制することができる。   Thus, in the second embodiment, the damping device 16 is used as a seismic isolation mechanism. The damping device 16 is provided between the column portion 42 and the upper structure 2 (more specifically, the damping foundation 23). In this case as well, as in the first embodiment, the excessive displacement can be suppressed by providing the protruding foundation 24 (and the buffer material 30).

===第3実施形態===
図8は、第3実施形態の免振構造の構成を示す立面図である。前述の実施形態と同一構成の部分には同一符号を付し説明を省略する。
=== Third Embodiment ===
FIG. 8 is an elevation view showing the configuration of the vibration isolation structure of the third embodiment. Parts having the same configurations as those of the above-described embodiment are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.

第3実施形態では、上部構造2にエレベーターシャフト50(下垂部に相当)が設けられている。エレベーターシャフト50は、エレベーターの昇降路であり、上部構造2から下垂して設けられている。また、上部構造2と下部構造4を相対変位可能にするため、下部構造4とエレベーターシャフト50との間にはZ軸方向に長さh´の空間K´が設けられている。つまり、免震層Sは、エレベーターシャフト50と下部構造4との間に高さh´の空間K´を有している。そして、柱部42と対向するエレベーターシャフト50の側面には緩衝材30が設けられている。緩衝材30と柱部42とはX軸方向に所定距離(長さc)離間している。なお、本実施形態のエレベーターシャフト50は、通常よりも剛性が高くなるように補強されている。   In the third embodiment, the upper structure 2 is provided with an elevator shaft 50 (corresponding to a hanging part). The elevator shaft 50 is an elevator hoistway, and is provided so as to hang down from the upper structure 2. Further, in order to enable relative displacement between the upper structure 2 and the lower structure 4, a space K ′ having a length h ′ is provided between the lower structure 4 and the elevator shaft 50 in the Z-axis direction. That is, the seismic isolation layer S has a space K ′ having a height h ′ between the elevator shaft 50 and the lower structure 4. A cushioning material 30 is provided on the side surface of the elevator shaft 50 facing the column portion 42. The cushioning material 30 and the column part 42 are separated from each other by a predetermined distance (length c) in the X-axis direction. In addition, the elevator shaft 50 of this embodiment is reinforced so that rigidity may become higher than usual.

これにより、エレベーターシャフト50が、柱部42に対してX軸方向へ長さc変位すると(すなわち、上部構造2と下部構造4とがX軸方向へ長さc相対変位すると)、緩衝材30は柱部42と当接する。この当接によって、過大変位を抑制することができる。   Thus, when the elevator shaft 50 is displaced by the length c in the X-axis direction with respect to the column part 42 (that is, when the upper structure 2 and the lower structure 4 are displaced by the length c in the X-axis direction), the cushioning material 30 Is in contact with the column part 42. By this contact, excessive displacement can be suppressed.

この第3実施形態では、建物の部材(エレベーターシャフト50)を過大変位抑制の部材(下垂部)として用いるので、新たに基礎を設ける必要がなく、さらにコストの低減を図ることができる。なお、本実施形態では、エレベーターシャフト50を過大変位抑制するための部材(下垂部)として用いたがこれには限られない。例えば、他の昇降設備(階段室など)や、設備機械室などを用いてもよい。   In this 3rd Embodiment, since the member (elevator shaft 50) of a building is used as a member (hanging part) of excessive displacement suppression, it is not necessary to newly provide a foundation and cost reduction can be further achieved. In addition, in this embodiment, although the elevator shaft 50 was used as a member (hanging part) for suppressing an excessive displacement, it is not restricted to this. For example, other lifting equipment (such as a staircase) or an equipment machine room may be used.

===その他の実施形態について===
上記実施形態は、本発明の理解を容易にするためのものであり、本発明を限定して解釈するためのものではない。本発明は、その趣旨を逸脱することなく、変更、改良され得ると共に、本発明にはその等価物が含まれることはいうまでもない。特に、以下に述べる実施形態であっても、本発明に含まれるものである。
=== About Other Embodiments ===
The above embodiment is for facilitating the understanding of the present invention, and is not intended to limit the present invention. The present invention can be changed and improved without departing from the gist thereof, and it is needless to say that the present invention includes equivalents thereof. In particular, the embodiments described below are also included in the present invention.

<免震構造について>
前述の実施形態の免震構造は柱頭免震であったが、これには限られない。例えば建物の中間階に免震装置を設ける中間層免震であってもよい。この場合、柱部42の代わりに、下部構造4から上方に突出する基礎(立設部に相当)を設ければよい。
<Seismic isolation structure>
Although the seismic isolation structure of the above-mentioned embodiment was a stigma isolation, it is not limited to this. For example, it may be an intermediate layer seismic isolation system in which a seismic isolation device is provided on an intermediate floor of a building. In this case, a foundation (corresponding to a standing portion) that protrudes upward from the lower structure 4 may be provided instead of the column portion 42.

<緩衝材について>
前述の実施形態では、緩衝材30は弾性部材(ゴムなど)であったが、衝突の衝撃を緩和するものであればよく、弾性部材には限られない。例えば、荷重が所定値に達すると降伏(塑性変形)する部材でもよい(図10参照)。
<About buffer material>
In the above-described embodiment, the cushioning material 30 is an elastic member (rubber or the like). However, the cushioning material 30 is not limited to an elastic member as long as it can reduce the impact of a collision. For example, a member that yields (plastically deforms) when the load reaches a predetermined value may be used (see FIG. 10).

また、前述の実施形態では緩衝材30を上部構造2から下垂する下垂部(突設基礎24やエレベーターシャフト50など)に設けていたが、柱部42の側に設けてもよい。   Further, in the above-described embodiment, the cushioning material 30 is provided on the hanging portion (such as the protruding foundation 24 and the elevator shaft 50) that hangs down from the upper structure 2, but may be provided on the column portion 42 side.

あるいは、緩衝材30を設けずに柱部42と下垂部とを衝突(当接)させるようにしてもよい。この場合、柱部42及び下垂部の何れか一方の側面(当接面)が当接部に相当する。   Or you may make it collide (contact | abut) the pillar part 42 and the drooping part, without providing the shock absorbing material 30. FIG. In this case, any one side surface (contact surface) of the column portion 42 and the hanging portion corresponds to the contact portion.

<突設基礎について>
前述の実施形態の突設基礎42は、上端から下端まで同一形状(断面矩形)であったがこれには限られない。
<About the protruding foundation>
The protruding foundation 42 of the above-described embodiment has the same shape (rectangular section) from the upper end to the lower end, but is not limited thereto.

図9は、突設基礎の変形例を示す図である。図9において、図1と同一構成の部分には同一符号を付し、説明を省略する。   FIG. 9 is a view showing a modified example of the protruding foundation. 9, parts having the same configurations as those in FIG.

図9では、突設基礎24´が設けられている。突設基礎24´は、例えば、鉄骨の変断面で構成されている。具体的には、突設基礎24´は、柱部42とZ軸方向に重複する範囲(高さhから高さHまでの範囲)を含む下部24a(第一部位に相当)と、下部24aと上部構造2との間の上部24b(第二部位に相当)とを有している。そして、下部24aは、上部24bよりも断面が小さく構成されている。このため、下部24aは上部24bよりも降伏(塑性変形)しやすくなっている。   In FIG. 9, a projecting foundation 24 'is provided. The protruding foundation 24 ′ is constituted by, for example, a steel cross section. Specifically, the protruding foundation 24 'includes a lower portion 24a (corresponding to a first portion) including a range overlapping with the column portion 42 in the Z-axis direction (a range from height h to height H), and a lower portion 24a. And the upper part 24b (corresponding to the second part) between the upper part 2 and the upper part 2. And the lower part 24a is comprised by the cross section smaller than the upper part 24b. For this reason, the lower part 24a is easier to yield (plastic deformation) than the upper part 24b.

また、ここでは緩衝材30として、荷重が所定値に達すると降伏(塑性変形)する部材を用いている。   Here, a member that yields (plastically deforms) when the load reaches a predetermined value is used as the buffer material 30.

図10は、図9の突設基礎24´及び緩衝材30の復元力特性の一例を示す図である。図10の横軸は変位を示し、縦軸は荷重を示している。なお、変位は圧縮力のかかっていない状態からの変位で示している。図10において一点鎖線は緩衝材30の特性であり、破線は突設基礎24´の特性である。また、緩衝材30と突設基礎24´を合わせた特性を灰色の線で示している。   FIG. 10 is a diagram illustrating an example of restoring force characteristics of the protruding foundation 24 ′ and the buffer material 30 of FIG. 9. The horizontal axis of FIG. 10 indicates the displacement, and the vertical axis indicates the load. The displacement is indicated by the displacement from the state where no compressive force is applied. In FIG. 10, the alternate long and short dash line is the characteristic of the cushioning material 30, and the broken line is the characteristic of the protruding foundation 24 '. Moreover, the characteristic which put together the shock absorbing material 30 and the protrusion base 24 'is shown with the gray line.

荷重の小さい領域では、緩衝材30及び突設基礎24´ともに変位と荷重とが比例関係にあり(弾性領域)、緩衝材30と突設基礎24´を組み合わせた特性(図の灰色の線)は、緩衝材30の特性に従う。荷重が増えて図の点Aを超えると、緩衝材30が塑性域になり緩衝材30が塑性変形する。これにより緩衝材30と突設基礎24´を組み合わせた特性は、突設基礎24´の特性(破線)に従うようになる。また、点Bを超えると突設基礎24´の下部24aが塑性域になり、降伏(塑性変形)する。 図1の突設基礎24を用いた場合は、点Bにおいて降伏せず(点Bで変位―荷重特性が折れ曲がらずに)比例関係が続く。このため、柱部42と衝突した際に、過大な水平荷重が上部構造2や柱部42にかかるおそれがある。これに対し、この変形例の突設基礎24´では、下部24aが上部24bよりも塑性変形しやすい(図10の点Bで塑性変形する)ので、上部構造2や柱部42に過大な水平荷重がかかることを抑制できる。   In the region where the load is small, the displacement and the load are proportional to each other in the cushioning material 30 and the protruding foundation 24 '(elastic region), and the characteristics combining the cushioning material 30 and the protruding foundation 24' (gray line in the figure) Follows the characteristics of the cushioning material 30. When the load increases and exceeds the point A in the figure, the buffer material 30 becomes a plastic region and the buffer material 30 is plastically deformed. Thereby, the characteristic which combined the shock absorbing material 30 and the protruding foundation 24 'comes to follow the characteristic (broken line) of the protruding foundation 24'. When the point B is exceeded, the lower portion 24a of the protruding foundation 24 'becomes a plastic region and yields (plastic deformation). When the protruding foundation 24 of FIG. 1 is used, the proportional relationship continues without yielding at point B (without displacement-load characteristics being bent at point B). For this reason, when it collides with the column part 42, there exists a possibility that an excessive horizontal load may be applied to the upper structure 2 or the column part 42. FIG. On the other hand, in the protruding foundation 24 ′ of this modification, the lower part 24 a is more easily plastically deformed than the upper part 24 b (plastic deformation is performed at the point B in FIG. 10). It can suppress that a load is applied.

なお、この例では突設基礎24´の上部24bと下部24aを鉄骨の変断面で構成していたが、これには限られない。例えば、図1の突設基礎24の上部と下部を異なる材料で構成してもよい。   In this example, the upper portion 24b and the lower portion 24a of the projecting foundation 24 'are configured with a steel cross section, but the present invention is not limited to this. For example, you may comprise the upper part and lower part of the protrusion base 24 of FIG. 1 with a different material.

<免震装置について>
前述の実施形態(第1実施形態)では、免震装置10として鉛プラグ入りの積層ゴム12(高減衰積層ゴム)を用いていたが、これには限られない。例えば、ゴム材自体が減衰機能を有する高減衰積層ゴムを用いてもよい。
<Seismic isolation device>
In the above-described embodiment (the first embodiment), the laminated rubber 12 containing a lead plug (high-attenuation laminated rubber) is used as the seismic isolation device 10, but the invention is not limited thereto. For example, a high damping laminated rubber whose rubber material itself has a damping function may be used.

また、前述の実施形態の免震装置10は、免震機能、復元機能、及び、減衰機能を備えていたが、これら全てを備えていなくてもよい。例えば、免震装置として通常の積層ゴム(減衰機能を備えない積層ゴム)や転がり支承を用いてもよい。この場合、他の場所に減衰装置(ダンパーなど)や復元装置(バネなど)を設ければよい。   Moreover, although the seismic isolation apparatus 10 of the above-mentioned embodiment was provided with the seismic isolation function, the restoration function, and the attenuation function, it is not necessary to provide all of them. For example, a normal laminated rubber (a laminated rubber having no damping function) or a rolling bearing may be used as the seismic isolation device. In this case, a damping device (such as a damper) or a restoring device (such as a spring) may be provided at another location.

また、種類の異なる免震装置を複数用いて免震構造を構成してもよい。
図11は、免震構造の変形例を示す図である。前述の実施形態と同一構成の部分には同一符号を付し説明を省略する。
Moreover, you may comprise a base isolation structure using two or more types of base isolation apparatuses.
FIG. 11 is a diagram illustrating a modification of the seismic isolation structure. Parts having the same configurations as those of the above-described embodiment are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.

図11では、上部構造2と下部構造4との間の免震層Sに複数(図では3つ)の柱部42と免震用基礎22が設けられている。そのうちの一つ(図の中央)の柱部42には弾塑性支承の免震装置100が設けられており、それ以外(図の右側及び左側)の柱部42には、弾性支承の免震装置10が設けられている。なお、免震装置10は、免震装置100と比較して水平方向において負担する最大荷重が高い。また、突設基礎24及び緩衝材30は、中央の柱部42(免震装置100が設けられた柱部42)に対してのみ設けられている。   In FIG. 11, a plurality of (three in the figure) column portions 42 and a base for seismic isolation 22 are provided in the base isolation layer S between the upper structure 2 and the lower structure 4. One of them (center in the figure) is provided with an elasto-plastic bearing isolation device 100, and the other (right and left) pillars 42 are provided with an elastic bearing isolation. A device 10 is provided. Note that the seismic isolation device 10 has a higher maximum load in the horizontal direction than the seismic isolation device 100. Further, the protruding foundation 24 and the cushioning material 30 are provided only for the central column portion 42 (the column portion 42 provided with the seismic isolation device 100).

図11の中段には、各免震支承(免震装置10、免震装置100)が設置される柱部42の復元力特性示している。図の右側と左側の免震装置10は、弾性支承であり同じ特性(変位と荷重が比例する特性)である(図の灰色の線)。これに対し、図の中央の柱部42に設けられた免震装置100は、弾塑性支承であり、弾性領域と塑性領域を有している。各図の破線は、免震装置100の弾性領域と塑性領域の境界の値を示している。また、突設基礎24と緩衝材30との特性における横軸との交点は、柱部42と衝突するときの変位に対応している。   The middle part of FIG. 11 shows the restoring force characteristics of the column part 42 where each seismic isolation bearing (the seismic isolation device 10 and the seismic isolation device 100) is installed. The seismic isolation devices 10 on the right and left sides of the figure are elastic bearings and have the same characteristics (characteristics in which displacement and load are proportional) (gray line in the figure). On the other hand, the seismic isolation device 100 provided in the central column part 42 in the figure is an elasto-plastic bearing and has an elastic region and a plastic region. A broken line in each figure indicates a boundary value between the elastic region and the plastic region of the seismic isolation device 100. Moreover, the intersection of the horizontal axis in the characteristics of the protruding foundation 24 and the cushioning material 30 corresponds to the displacement when colliding with the column part 42.

この免震装置100の特性と、突設基礎24と緩衝材30の特性を組み合わせると、図11の下段の黒線で示す特性になる。つまり、突設基礎24(緩衝材30)と免震装置100とが衝突した後に、免震装置100が塑性領域になり、荷重の増加が緩やかになる。このように、柱部42に突設基礎24(緩衝材30)が衝突するにもかかわらず、突設基礎24と衝突しない柱部42の荷重(図の灰色の線)よりも負担荷重が小さくなる。よって、突設基礎24(緩衝材30)と衝突する柱部42の最大負担荷重を、免震装置10を設置した柱部42の最大負担荷重と同程度にすることができ、負担荷重の低減を図ることができる。また、免震装置100が降伏しても、弾性支承の免震装置10によって、上部構造2を支承することができる。   When the characteristics of the seismic isolation device 100 are combined with the characteristics of the protruding foundation 24 and the buffer material 30, the characteristics indicated by the black line in the lower part of FIG. That is, after the protruding foundation 24 (the shock absorbing material 30) and the seismic isolation device 100 collide, the seismic isolation device 100 becomes a plastic region, and the increase in load becomes moderate. As described above, the burden load is smaller than the load (the gray line in the figure) of the column part 42 that does not collide with the protruding foundation 24 even though the protruding foundation 24 (buffer material 30) collides with the column part 42. Become. Therefore, the maximum burden load of the column part 42 colliding with the protruding foundation 24 (the buffer material 30) can be made to be approximately the same as the maximum burden load of the column part 42 where the seismic isolation device 10 is installed, and the burden load is reduced. Can be achieved. Even if the seismic isolation device 100 yields, the upper structure 2 can be supported by the seismic isolation device 10 of elastic bearing.

なお、図11では、弾塑性支承を用いたが、これには限られず、例えば、剛塑性支承を用いてもよい。あるいは、上端または下端にすべり材を設けた積層ゴムと、すべり板とを組み合わせた弾性すべり支承としてもよい。このように、突設基礎24及び緩衝材30と衝突する柱部42に設置する免震支承を弾塑性支承、剛塑性支承、あるいは、弾性すべり支承とすることで、当該柱部42の最大負担荷重の低減を図ることができる(例えば、弾性支承の免震装置10を設置した柱部42の最大負担荷重よりも小さくすることができる)。また、この例では免震装置10を弾性支承としたが、免震装置100と比較して水平方向において負担する最大荷重が高ければよく、他の支承であってもよい。   In FIG. 11, an elasto-plastic bearing is used. However, the present invention is not limited to this. For example, a rigid-plastic bearing may be used. Or it is good also as an elastic sliding bearing which combined the laminated rubber which provided the sliding material in the upper end or the lower end, and a sliding board. In this way, the seismic isolation bearing installed on the column part 42 that collides with the protruding foundation 24 and the cushioning material 30 is an elasto-plastic bearing, a rigid-plastic bearing, or an elastic sliding bearing, so that the maximum burden of the column part 42 is obtained. The load can be reduced (for example, it can be made smaller than the maximum burden load of the column portion 42 provided with the seismic isolation device 10 of the elastic bearing). In this example, the seismic isolation device 10 is an elastic bearing. However, as long as the maximum load applied in the horizontal direction is higher than that of the seismic isolation device 100, other bearings may be used.

<減衰装置について>
前述の実施形態(第2実施形態)の、減衰装置16はオイルダンパーであったが、これには限られない。例えば、粘(弾)性ダンパーや摩擦ダンパーであってもよい。
<About the damping device>
Although the damping device 16 of the above-described embodiment (second embodiment) is an oil damper, it is not limited to this. For example, a viscous (elastic) damper or a friction damper may be used.

2 上部構造
4 下部構造
10、10´ 免震装置
12 積層ゴム(高減衰積層ゴム)
13a 上フランジ板
13b 下フランジ板
16 減衰装置
22 免震用基礎
23 減衰用基礎
24 突設基礎(下垂部)
30 緩衝材
42 柱部(立設部)
50 エレベーターシャフト(下垂部)
2 Upper structure 4 Lower structure 10, 10 'Seismic isolation device 12 Laminated rubber (high damping laminated rubber)
13a Upper flange plate 13b Lower flange plate 16 Damping device 22 Base for seismic isolation 23 Foundation for damping 24 Projection foundation (hanging part)
30 cushioning material 42 pillar part (standing part)
50 Elevator shaft (hanging part)

Claims (14)

上部構造と下部構造との間に、前記下部構造から所定高さの空間を有する免震層を備えた免震構造であって、
前記免震層は、
前記下部構造から前記所定高さより高く立設された立設部と、
前記上部構造と前記立設部との間に設けられた免震機構と、
前記上部構造から前記所定高さまで下垂する下垂部であって、前記立設部と水平方向に離間した下垂部と、
前記立設部及び前記下垂部の一方に設けられ、前記上部構造と前記下部構造とが前記水平方向に所定距離相対変位したときに、前記立設部及び前記下垂部の他方と当接する当接部と、
を備えることを特徴とする免震構造。
A base isolation structure having a base isolation layer having a space of a predetermined height from the lower structure between the upper structure and the lower structure,
The seismic isolation layer is
A standing portion that is erected higher than the predetermined height from the lower structure;
A seismic isolation mechanism provided between the superstructure and the standing portion;
A hanging part that hangs down from the upper structure to the predetermined height, the hanging part spaced apart in a horizontal direction from the standing part,
An abutment provided on one of the standing portion and the hanging portion, and abutting against the other of the standing portion and the hanging portion when the upper structure and the lower structure are relatively displaced by a predetermined distance in the horizontal direction. And
A seismic isolation structure characterized by comprising.
請求項1に記載の免震構造であって、
前記当接部は、緩衝材を備える、
ことを特徴とする免震構造。
The seismic isolation structure according to claim 1,
The contact portion includes a cushioning material,
Seismic isolation structure characterized by that.
請求項1又は2に記載の免震構造であって、
前記所定距離をcとし、前記当接部の前記水平方向と直交する水平幅方向の長さをaとしたとき、
前記立設部及び前記下垂部の他方の前記水平幅方向の長さは、前記当接部の前記水平幅方向の中心に対応する位置から前記水平幅方向の一方側と他方側にそれぞれ(a/2+c)以上である、
ことを特徴とする免震構造。
The seismic isolation structure according to claim 1 or 2,
When the predetermined distance is c, and the length of the contact portion in the horizontal width direction orthogonal to the horizontal direction is a,
The length of the other of the standing portion and the hanging portion in the horizontal width direction is (a) from the position corresponding to the center of the contact portion in the horizontal width direction to one side and the other side in the horizontal width direction. / 2 + c) or more,
Seismic isolation structure characterized by that.
請求項1乃至請求項3の何れかに記載の免震構造であって、
前記立設部は、平面多角形の柱状体であり、前記下垂部は、前記柱状体の各側面の側方に設けられている、
ことを特徴とする免震構造。
A seismic isolation structure according to any one of claims 1 to 3,
The standing portion is a planar polygonal columnar body, and the hanging portion is provided on a side of each side surface of the columnar body.
Seismic isolation structure characterized by that.
請求項1又は請求項2に記載の免震構造であって、
前記立設部は、平面円形の柱状体であり、前記下垂部は、前記柱状体の周囲の側方に設けられている、
ことを特徴とする免震構造。
The seismic isolation structure according to claim 1 or claim 2,
The standing portion is a planar circular columnar body, and the hanging portion is provided on a side of the periphery of the columnar body,
Seismic isolation structure characterized by that.
請求項1乃至請求項5の何れかに記載の免震構造であって、
前記下垂部は、前記立設部を一体的に囲繞している、
ことを特徴とする免震構造。
A seismic isolation structure according to any one of claims 1 to 5,
The hanging part integrally surrounds the standing part,
Seismic isolation structure characterized by that.
請求項1乃至請求項6の何れかに記載の免震構造であって、
前記所定高さは2.1m以上である、
ことを特徴とする免震構造。
A seismic isolation structure according to any one of claims 1 to 6,
The predetermined height is 2.1 m or more.
Seismic isolation structure characterized by that.
請求項1乃至請求項7の何れかに記載の免震構造であって、
前記下垂部は、
前記所定高さから前記立設部の高さまでの範囲を含む第一部位と、
前記第一部位と前記上部構造との間の第二部位と、
を有し、
前記第一部位は、前記第二部位よりも塑性変形しやすい
ことを特徴とする免震構造。
A seismic isolation structure according to any one of claims 1 to 7,
The hanging part is
A first portion including a range from the predetermined height to the height of the standing portion;
A second site between the first site and the superstructure;
Have
The seismic isolation structure, wherein the first part is more easily plastically deformed than the second part.
請求項1乃至請求項6の何れかに記載の免震構造であって、
前記下垂部は、前記上部構造から下垂する昇降設備、又は、機械設備室である、
ことを特徴とする免震構造。
A seismic isolation structure according to any one of claims 1 to 6,
The hanging part is a lifting equipment hanging from the superstructure, or a machine equipment room,
Seismic isolation structure characterized by that.
請求項1乃至請求項9の何れかに記載の免震構造であって、
前記免震機構は、高減衰積層ゴムである、
ことを特徴とする免震構造。
A seismic isolation structure according to any one of claims 1 to 9,
The seismic isolation mechanism is a highly damped laminated rubber,
Seismic isolation structure characterized by that.
請求項1乃至請求項9の何れかに記載の免震構造であって、
前記免震機構は、弾塑性支承、又は、剛塑性支承、又は、弾性すべり支承である、
ことを特徴とする免震構造。
A seismic isolation structure according to any one of claims 1 to 9,
The seismic isolation mechanism is an elasto-plastic bearing, a rigid-plastic bearing, or an elastic sliding bearing.
Seismic isolation structure characterized by that.
請求項11に記載の免震構造であって、
前記免震層は、複数の前記立設部を備え、
前記免震機構、前記下垂部、及び、前記当接部は、或る前記立設部に対して設けられており、
別の前記立設部と前記上部構造との間には前記免震機構と比較して前記水平方向において負担する最大荷重が高い免震機構が設けられている、
ことを特徴とする免震構造。
The seismic isolation structure according to claim 11,
The seismic isolation layer includes a plurality of the standing portions,
The seismic isolation mechanism, the hanging part, and the contact part are provided with respect to a certain standing part,
A seismic isolation mechanism having a high maximum load to be borne in the horizontal direction compared to the seismic isolation mechanism is provided between the other standing part and the superstructure,
Seismic isolation structure characterized by that.
請求項1乃至請求項9の何れかに記載の免震構造であって、
前記免震機構は、復元機構である、
ことを特徴とする免震構造。
A seismic isolation structure according to any one of claims 1 to 9,
The seismic isolation mechanism is a restoration mechanism,
Seismic isolation structure characterized by that.
請求項1乃至請求項9の何れかに記載の免震構造であって、
前記免震機構は、減衰機構である、
ことを特徴とする免震構造。
A seismic isolation structure according to any one of claims 1 to 9,
The seismic isolation mechanism is a damping mechanism,
Seismic isolation structure characterized by that.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2020002614A (en) * 2018-06-28 2020-01-09 株式会社竹中工務店 Base isolated building
JP2020193672A (en) * 2019-05-29 2020-12-03 株式会社大林組 Base isolation structure and design method for base isolation structure
JP7455682B2 (en) 2020-06-25 2024-03-26 株式会社大林組 Buffer structure and buffer material

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2020002614A (en) * 2018-06-28 2020-01-09 株式会社竹中工務店 Base isolated building
JP7070900B2 (en) 2018-06-28 2022-05-18 株式会社竹中工務店 Seismic isolated building
JP2020193672A (en) * 2019-05-29 2020-12-03 株式会社大林組 Base isolation structure and design method for base isolation structure
JP7279515B2 (en) 2019-05-29 2023-05-23 株式会社大林組 Seismic isolation structure and design method of seismic isolation structure
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