JP2018064676A - Washing device - Google Patents
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- 238000005406 washing Methods 0.000 title claims abstract description 31
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims abstract description 143
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 98
- QWPPOHNGKGFGJK-UHFFFAOYSA-N hypochlorous acid Chemical compound ClO QWPPOHNGKGFGJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 68
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 55
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 37
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims abstract description 6
- 238000003780 insertion Methods 0.000 claims abstract description 5
- 230000037431 insertion Effects 0.000 claims abstract description 5
- 238000000746 purification Methods 0.000 claims description 11
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 claims description 3
- 230000001954 sterilising effect Effects 0.000 abstract description 19
- 238000010790 dilution Methods 0.000 abstract description 13
- 239000012895 dilution Substances 0.000 abstract description 13
- 238000009434 installation Methods 0.000 abstract description 6
- 238000002156 mixing Methods 0.000 abstract description 6
- 230000000844 anti-bacterial effect Effects 0.000 abstract description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 abstract description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 29
- 238000004659 sterilization and disinfection Methods 0.000 description 15
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 7
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 6
- 241000894006 Bacteria Species 0.000 description 5
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 4
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- 230000000249 desinfective effect Effects 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 239000008399 tap water Substances 0.000 description 3
- 235000020679 tap water Nutrition 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 2
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 2
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 2
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N Chlorine Chemical compound ClCl KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 208000035473 Communicable disease Diseases 0.000 description 1
- 239000005708 Sodium hypochlorite Substances 0.000 description 1
- 241000700605 Viruses Species 0.000 description 1
- 238000004887 air purification Methods 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- QBWCMBCROVPCKQ-UHFFFAOYSA-N chlorous acid Chemical compound OCl=O QBWCMBCROVPCKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940077239 chlorous acid Drugs 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004332 deodorization Methods 0.000 description 1
- 239000000645 desinfectant Substances 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007323 disproportionation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 239000003925 fat Substances 0.000 description 1
- 239000002778 food additive Substances 0.000 description 1
- 235000013373 food additive Nutrition 0.000 description 1
- JEGUKCSWCFPDGT-UHFFFAOYSA-N h2o hydrate Chemical compound O.O JEGUKCSWCFPDGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKAGJZJALZXOOV-UHFFFAOYSA-N hydrate;hydrochloride Chemical compound O.Cl DKAGJZJALZXOOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WQYVRQLZKVEZGA-UHFFFAOYSA-N hypochlorite Chemical compound Cl[O-] WQYVRQLZKVEZGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 239000003595 mist Substances 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 238000006864 oxidative decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010979 pH adjustment Methods 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 102000004169 proteins and genes Human genes 0.000 description 1
- 108090000623 proteins and genes Proteins 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000011012 sanitization Methods 0.000 description 1
- SUKJFIGYRHOWBL-UHFFFAOYSA-N sodium hypochlorite Chemical compound [Na+].Cl[O-] SUKJFIGYRHOWBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000009423 ventilation Methods 0.000 description 1
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- Apparatus For Disinfection Or Sterilisation (AREA)
- Disinfection, Sterilisation Or Deodorisation Of Air (AREA)
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Abstract
Description
本発明は、手指等(洗浄対象)の洗浄(除菌、殺菌等を含む)を行える洗浄装置に関する。 The present invention relates to a cleaning apparatus that can perform cleaning (including sterilization and sterilization) of fingers and the like (objects to be cleaned).
衛生意識の高揚や種々の細菌やウイルスに起因した感染症を防止するために、洗浄または除菌を行う装置が種々提案されている。特に、洗浄後の水分等が装置を設置した周辺に飛散しないように、洗浄と洗浄後の水切(乾燥を含む)とを同じ収容室(洗浄槽)内で行う装置も提案されている。これに関連する記載が下記の特許文献にある。 In order to prevent hygiene awareness and infectious diseases caused by various bacteria and viruses, various apparatuses for cleaning or sterilizing have been proposed. In particular, an apparatus has been proposed in which cleaning and draining (including drying) after cleaning are performed in the same storage chamber (cleaning tank) so that water after cleaning does not scatter around the apparatus. There is a description related to this in the following patent document.
特許文献1は、挿入部内に入れられた手へ洗浄用ミストを噴出させた後、そのまま送風により洗浄後の手を乾燥させる手洗浄乾燥装置を提案している。 Patent Document 1 proposes a hand washing / drying device for drying a hand after washing by blowing air as it is after jetting washing mist into a hand placed in an insertion portion.
特許文献2は、pH6〜7の次亜塩素酸水を一回あたり0.5〜10cc噴霧して洗浄した後に、オゾンを含む空気で乾燥させる手指洗浄乾燥装置を提案している。 Patent Document 2 proposes a hand washing / drying apparatus that sprays 0.5 to 10 cc of hypochlorous acid water having a pH of 6 to 7 per time and then dries it with air containing ozone.
いずれもの場合も、一回あたりに供給される洗浄液量が非常に少なく、洗浄性または除菌性等が十分とは言い難い。また、特許文献1には洗浄液に関する具体的な記載がない。特許文献2で用いているpH6〜7の微酸性の次亜塩素酸水は、殺菌に有効な次亜塩素酸(HClOまたはHOCl)の存在比率が低く、上記のような極少量では効率的な洗浄や除菌を行えない。 In any case, the amount of the cleaning solution supplied at one time is very small, and it is difficult to say that the cleaning property or the sterilizing property is sufficient. Further, Patent Document 1 does not have a specific description regarding the cleaning liquid. Slightly acidic hypochlorous acid water having a pH of 6 to 7 used in Patent Document 2 has a low abundance ratio of hypochlorous acid (HClO or HOCl) effective for sterilization, and is efficient when used in a very small amount as described above. Cannot be cleaned or disinfected.
本発明はこのような事情に鑑みて為されたものであり、従来の装置とは異なる洗浄装置を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of such circumstances, and an object thereof is to provide a cleaning apparatus different from the conventional apparatus.
本発明者はこの課題を解決すべく鋭意研究した結果、共通のシンク内で手等の洗浄と水切(乾燥)を行うことを前提に、殺菌活性に優れる次亜塩素酸の存在比率が高い洗浄液を洗浄対象へ比較的多く供給して、確実な除菌等を効率的に行う装置を着想した。この着想を具現化することにより、以降に述べる本発明を完成するに至った。 As a result of diligent research to solve this problem, the present inventor, as a result of washing hands and draining (drying) in a common sink, a cleaning solution with a high proportion of hypochlorous acid having excellent bactericidal activity The idea was to provide a device that efficiently supplies sterilization etc. to the object to be cleaned to efficiently perform sterilization. By realizing this idea, the present invention described below has been completed.
《洗浄装置》
(1)本発明の洗浄装置は、洗浄対象を出し入れする挿入口を有し該洗浄対象を収容できると共に使用した洗浄液を排出させる排出口を有するシンクと、該シンク内へ洗浄液を吐出する洗浄手段と、該シンク内へ送気する送気手段と、を備える洗浄装置であって、前記洗浄手段は、pH6〜7の高濃度次亜塩素酸水へ希釈水を混合したpH4〜6の希釈次亜塩素酸水を前記洗浄液として吐出することを特徴とする。
《Cleaning device》
(1) The cleaning apparatus of the present invention has a sink having an insertion port for taking in and out a cleaning target, a sink having a discharge port for discharging the used cleaning liquid, and a cleaning means for discharging the cleaning liquid into the sink And an air supply means for supplying air into the sink, wherein the cleaning means comprises a diluted pH 4-6 mixture obtained by mixing diluted water with a high concentration hypochlorous acid water having pH 6-7. It is characterized in that chlorous acid water is discharged as the cleaning liquid.
(2)本発明の洗浄装置は、先ず、上述した洗浄手段と送気手段を備えることにより、洗浄対象の洗浄と洗浄対象から洗浄液を除去する水切(乾燥)とを、同一のシンク(洗浄槽)内で行える。このため、洗浄装置を設置した周辺を水滴等で濡らしたりすることがなく、装置を設置する周辺空間の環境も衛生的な状態に維持できる。 (2) The cleaning device of the present invention is provided with the above-described cleaning means and air supply means, so that the cleaning of the object to be cleaned and the draining (drying) to remove the cleaning liquid from the object to be cleaned can be performed in the same sink (cleaning tank). ). For this reason, the surroundings where the cleaning device is installed are not wetted with water droplets or the like, and the environment of the surrounding space where the device is installed can be maintained in a hygienic state.
次に本発明の洗浄装置では、高濃度次亜塩素酸水を上水等で希釈して用いる。このため、洗浄時に洗浄対象へ供給する洗浄液の濃度や供給量等の調整自由度を大きくできる。例えば、本発明の洗浄装置によれば、洗浄対象へ比較的多くの洗浄液を掛け流して、洗浄対象に付着している菌等を殺菌しつつ十分に洗い流すこともできる。また、そのように一回あたりに多くの洗浄液を使用しても、希釈水が随時補給される環境下であれば、高濃度次亜塩素酸水を補充または交換する頻度を低減できる。 Next, in the cleaning apparatus of the present invention, highly concentrated hypochlorous acid water is diluted with tap water or the like. For this reason, it is possible to increase the degree of freedom in adjusting the concentration and supply amount of the cleaning liquid supplied to the cleaning target during cleaning. For example, according to the cleaning apparatus of the present invention, a relatively large amount of cleaning liquid can be poured over the object to be cleaned, and the bacteria attached to the object to be cleaned can be sufficiently washed away. In addition, even if a large amount of cleaning liquid is used at a time, the frequency of replenishing or replacing the high-concentration hypochlorous acid water can be reduced in an environment where dilution water is replenished as needed.
さらに本発明の洗浄装置では、高濃度次亜塩素酸水自体ではなく、pH4〜6に調整された希釈次亜塩素酸水からなる洗浄液を用いている。高い殺菌効果を発揮する次亜塩素酸(HClO)は、pH4〜6さらにはpH4.5〜5.5の水溶液中で存在比率が極大化(または最大化)する。従って本発明の洗浄装置によれば、高濃度次亜塩素酸水の使用量を抑制しつつも、次亜塩素酸を有効に活用した洗浄・除菌が可能となる。 Furthermore, in the cleaning apparatus of the present invention, a cleaning liquid composed of diluted hypochlorous acid water adjusted to pH 4 to 6 is used instead of the high concentration hypochlorous acid water itself. Hypochlorous acid (HClO) exhibiting a high bactericidal effect is maximized (or maximized) in an aqueous solution having a pH of 4 to 6, and further pH of 4.5 to 5.5. Therefore, according to the cleaning apparatus of the present invention, it is possible to perform cleaning and sterilization using hypochlorous acid effectively while suppressing the amount of highly concentrated hypochlorous acid water used.
《その他》
(1)本明細書でいう高濃度次亜塩素酸水は、それを水で希釈した希釈次亜塩素酸水を調製するために用いる原料となる次亜塩素酸水という意味である。高濃度次亜塩素酸水と希釈次亜塩素酸水は、pHの相違からも明確に区別し得る。従って、高濃度次亜塩素酸水の具体的な濃度は問わない。
<Others>
(1) High concentration hypochlorous acid water as used in this specification means hypochlorous acid water which is a raw material used to prepare diluted hypochlorous acid water obtained by diluting it with water. High-concentration hypochlorous acid water and diluted hypochlorous acid water can be clearly distinguished from differences in pH. Therefore, the specific concentration of the high concentration hypochlorous acid water is not limited.
敢えて濃度をいうなら、高濃度次亜塩素酸水は、有効塩素濃度が500mg/L以上、1000mg/L以上さらには1500mg/L以上であると好ましい。また生産性や管理性等の観点から敢えていうと、有効塩素濃度は2500mg/L以下さらには2000mg/L以下であると好ましい。また希釈次亜塩素酸水は、例えば、高濃度次亜塩素酸水を10〜100倍、20〜60倍さらには30〜50倍に希釈し、有効塩素濃度が5〜100mg/L、10〜80mg/Lさらには20〜60mg/Lであると好ましい。 In terms of concentration, the high-concentration hypochlorous acid water preferably has an effective chlorine concentration of 500 mg / L or more, 1000 mg / L or more, and further 1500 mg / L or more. From the viewpoint of productivity, manageability, etc., the effective chlorine concentration is preferably 2500 mg / L or less, more preferably 2000 mg / L or less. Diluted hypochlorous acid water is, for example, diluted high concentration hypochlorous acid water 10 to 100 times, 20 to 60 times, further 30 to 50 times, and effective chlorine concentration is 5 to 100 mg / L, 10 to 10 times. 80 mg / L and more preferably 20 to 60 mg / L.
高濃度次亜塩素酸水はpH6(超)〜7さらには6.2〜6.8が好ましい。そのpHが高くなると、次亜塩素酸(HClO)は殺菌力の弱い次亜塩素酸イオン(ClO-)または次亜塩素酸ナトリウム等へ変化し得る。逆にpHが低下すると、塩素ガス(Cl2)を発生し得る。いずれの場合も、殺菌力の強い次亜塩素酸の減少や有効塩素濃度の低下を招くため好ましくない。 The high-concentration hypochlorous acid water preferably has a pH of 6 (over) to 7, and more preferably 6.2 to 6.8. When the pH increases, hypochlorous acid (HClO) can be changed to hypochlorite ion (ClO − ) or sodium hypochlorite having a weak sterilizing power. Conversely, when the pH is lowered, chlorine gas (Cl 2 ) can be generated. In either case, it is not preferable because it causes a decrease in hypochlorous acid having a strong sterilizing power and a decrease in effective chlorine concentration.
なお、高濃度次亜塩素酸水と希釈水の混合により、高濃度次亜塩素酸水中の次亜塩素酸は不均化反応(2HClO→2HCl+O2)を生じる。これにより希釈次亜塩素酸水は高濃度次亜塩素酸水よりも酸性側へシフトし、次亜塩素酸の存在比率が高いpH4〜6となる。ちなみに次亜塩素酸水は、食塩水や塩酸水を電気分解して生成され、食品添加物(殺菌料)としても認められた安全な洗浄液(除菌液)である。但し、本発明に係る洗浄液は、次亜塩素酸を主成分(濃度が最大な成分)としつつ、他の安全な洗浄成分または除菌成分をさらに含んでもよい。 In addition, by mixing high concentration hypochlorous acid water and dilution water, hypochlorous acid in the high concentration hypochlorous acid water causes a disproportionation reaction (2HClO → 2HCl + O 2 ). Thereby, diluted hypochlorous acid water shifts to an acidic side rather than high concentration hypochlorous acid water, and it becomes pH 4-6 in which the abundance ratio of hypochlorous acid is high. By the way, hypochlorous acid water is a safe cleaning liquid (disinfecting liquid) that is produced by electrolyzing salt water and hydrochloric acid water and recognized as a food additive (disinfectant). However, the cleaning liquid according to the present invention may further contain other safe cleaning components or disinfecting components while using hypochlorous acid as a main component (a component having the maximum concentration).
(2)特に断らない限り本明細書でいう「x〜y」は下限値xおよび上限値yを含む。本明細書に記載した種々の数値または数値範囲に含まれる任意の数値を新たな下限値または上限値として「a〜b」のような範囲を新設し得る。 (2) Unless otherwise specified, “x to y” in this specification includes a lower limit value x and an upper limit value y. A range such as “a to b” can be newly established with any numerical value included in various numerical values or numerical ranges described in the present specification as a new lower limit value or upper limit value.
上述した本発明の構成要素に、本明細書中から任意に選択した一つまたは二つ以上の構成要素を付加し得る。方法的な構成要素でも物に関する構成要素ともなり得る。いずれの実施形態が最良であるか否かは、対象、要求性能等によって異なる。 One or two or more components arbitrarily selected from the present specification may be added to the above-described components of the present invention. It can be a method component or a component related to an object. Which embodiment is the best depends on the target, required performance, and the like.
《洗浄手段》
(1)本発明に係る洗浄手段は、高濃度次亜塩素酸水(以下、単に「原水」ともいう。)と希釈水を混合して得られた希釈次亜塩素酸水(洗浄液)をシンク内へ吐出する。この洗浄手段は、例えば、高濃度次亜塩素酸水を汲み上げて圧送する第1ポンプと、希釈水を汲み上げて圧送する第2ポンプと、両ポンプから圧送された高濃度次亜塩素酸水と希釈水を混合する混合器(継手)と、希釈次亜塩素酸水をシンクへ吐出(噴出)させる洗浄ノズルと、第1ポンプから混合器までを連通させる第1配管と、第2ポンプから混合器までを連通させる第2配管と、混合器から洗浄ノズルまでを連通させる第3配管とを備える。
《Cleaning means》
(1) The cleaning means according to the present invention sinks diluted hypochlorous acid water (cleaning liquid) obtained by mixing high-concentration hypochlorous acid water (hereinafter also simply referred to as “raw water”) and dilution water. Discharge inside. This cleaning means includes, for example, a first pump that pumps high-concentration hypochlorous acid water and pumps it, a second pump that pumps and pumps dilution water, and high-concentration hypochlorous acid water pumped from both pumps. Mixing from a mixer (joint) that mixes dilution water, a cleaning nozzle that discharges (spouts) diluted hypochlorous acid water to a sink, a first pipe that communicates from the first pump to the mixer, and a second pump A second pipe for communicating up to the vessel and a third pipe for communicating from the mixer to the washing nozzle.
洗浄液の吐出の開始や停止は、各ポンプの起動・停止と連動させても良いし、開閉弁等を別途設けて行ってもよい。洗浄ノズルからの吐出流量(ml/min)や希釈率(高濃度次亜塩素酸水と希釈水の混合割合)の調整も、各ポンプ自体の出力(流量)調整により行ってもよいし、配管中に流量調整弁等を配設して行ってもよい。なお、各ポンプの起動・停止(オン・オフ)や別途設けた電磁弁等の制御は、後述する制御手段によりなされる。また、第1ポンプと第2ポンプは独立した二つのポンプからなる場合に限らず、一つのポンプを兼用してもよい。 The start and stop of the discharge of the cleaning liquid may be interlocked with the start and stop of each pump, or may be performed by separately providing an on-off valve or the like. The discharge flow rate (ml / min) from the cleaning nozzle and the dilution rate (mixing ratio of high-concentration hypochlorous acid water and dilution water) may be adjusted by adjusting the output (flow rate) of each pump itself. A flow rate adjusting valve or the like may be provided inside. In addition, starting / stopping (on / off) of each pump and control of a separately provided solenoid valve or the like are performed by a control means described later. The first pump and the second pump are not limited to two independent pumps, and a single pump may be used.
(2)高濃度次亜塩素酸水は、取替自在なカートリッジタンク内に収容されて供給されると好ましい。これにより、次亜塩素酸水の生成装置(電解装置)を設ける必要がなく、洗浄装置のコンパクト化を図れる。また、洗浄装置の維持や管理も容易となる。なお、高濃度次亜塩素酸水の残量がわかる表示手段(残量警告等を含む)または検知手段がカートリッジタンクや洗浄装置に設けられていると好ましい。洗浄装置に設ける検知手段は、例えば、カートリッジタンクの重量変化をロードセルやスプリングの変位で検出することにより行える。 (2) The high-concentration hypochlorous acid water is preferably stored and supplied in a replaceable cartridge tank. Thereby, it is not necessary to provide a hypochlorous acid water generator (electrolyzer), and the cleaning device can be made compact. In addition, maintenance and management of the cleaning device are facilitated. In addition, it is preferable that a display unit (including a remaining amount warning or the like) or a detection unit that knows the remaining amount of high-concentration hypochlorous acid water is provided in the cartridge tank or the cleaning device. The detection means provided in the cleaning device can be performed by detecting, for example, a change in the weight of the cartridge tank by displacement of a load cell or a spring.
一方、希釈水は、上水道または上水タンクから供給されると好ましい。これにより洗浄装置を設置する場所で多量の希釈水を取得できるようになり、吐出する洗浄液の流量や希釈率の調整自由度が高まる。なお、ここでいう「上水」とは、通常、いわゆる水道水であるが、浄化された衛生的な水であれば水道水には限らない。上水タンクは、孤立した貯水タンク(リザーブタンク)でもよいが、上水道に連結されていてもよい。後者の場合、例えば、上水道と上水道タンクの連通が開閉弁等で制御されると、上水タンク内の水位が低下したときに上水道から上水が適宜補充されて好ましい。なお、そのような開閉弁は、電磁弁の他、ボールタップ式等の機械弁でもよい。 On the other hand, the dilution water is preferably supplied from a water supply or a water tank. As a result, a large amount of dilution water can be obtained at the place where the cleaning apparatus is installed, and the degree of freedom in adjusting the flow rate and dilution rate of the discharged cleaning liquid is increased. The “water supply” here is usually so-called tap water, but is not limited to tap water as long as it is sanitized water that has been purified. The water tank may be an isolated water storage tank (reserve tank), but may be connected to a water supply. In the latter case, for example, if communication between the water supply and the water supply tank is controlled by an on-off valve or the like, it is preferable that the water supply is appropriately replenished from the water supply when the water level in the water supply tank decreases. In addition, such an on-off valve may be a mechanical valve such as a ball tap type in addition to a solenoid valve.
(3)洗浄手段は、一回の洗浄あたり洗浄液を150〜1000ml、250〜500mlさらには300〜400ml吐出するようにすると好ましい。吐出量が過少では、次亜塩素酸水による十分な洗い流しができず、洗浄性や除菌性が低下し得る。吐出量が過多では、高濃度次亜塩素酸水等の浪費になる。また一回の洗浄あたりの吐出時間(洗浄時間)は10〜30秒さらには15〜20秒であると好ましい。吐出時間が過小では洗浄性や除菌性が低下し、過大な吐出時間は非効率である。 (3) It is preferable that the cleaning means discharge 150 to 1000 ml, 250 to 500 ml, and further 300 to 400 ml of the cleaning liquid per cleaning. If the discharge amount is too small, sufficient washing with hypochlorous acid water cannot be performed, and the cleaning performance and sterilization performance may be reduced. When the discharge amount is excessive, high concentration hypochlorous acid water or the like is wasted. The discharge time (cleaning time) per cleaning is preferably 10 to 30 seconds, more preferably 15 to 20 seconds. If the discharge time is too short, the cleaning property and sterilization performance are lowered, and the excessive discharge time is inefficient.
《送気手段》
送気手段は、シンク内へ送気して、少なくとも洗浄液で洗い流された洗浄対象の水切または乾燥を行う。送気手段は、例えば、洗浄装置の筐体外から空気(外気)を導入するブロワーと、ブロワーによる送風をシンクの通気口(送気口、送風口またはエアーノズル)へ誘導するダクトを備える。ブロワーは一つでも良いが、風量を確保するために複数設けられてもよい。なお、送気手段は、外気温等に応じて適宜、送風を加温する加温手段を備えると好ましい。加温手段は、種々のヒータでもよいが、例えば、ブロワーの吹き出し圧力により空気が圧縮されて、空気温度が自然と上昇する圧力加温式を採用すると、省エネルギー化も図れて好ましい。
《Air supply means》
The air supply means supplies air into the sink and drains or dries the object to be cleaned that has been washed away with at least the cleaning liquid. The air supply means includes, for example, a blower that introduces air (outside air) from the outside of the housing of the cleaning device, and a duct that guides air blown by the blower to a vent of the sink (air supply port, air supply port, or air nozzle). One blower may be used, but a plurality of blowers may be provided in order to secure the air volume. In addition, it is preferable that an air supply means is equipped with the heating means which heats ventilation suitably according to external temperature etc. The heating means may be various heaters. For example, it is preferable to use a pressure heating type in which air is compressed by blower blowing pressure and the air temperature naturally rises in order to save energy.
さらにブロワーの上流側に浄化フィルターが配設されていると好ましい。これによりシンクへ清浄な空気が送気され、水切・乾燥時に洗浄対象が再汚染されることが防止される。浄化フィルターは、ブロワーが取り込む空気中からゴミ、塵埃、細菌等を取り除くフィルターであり、洗浄装置の用途や仕様に応じた適切な性能を有すると好ましい。例えば、JIS(Z8122)にも規定されているような、HEPAフィルター(High Efficiency Particulate Air Filter)やULPAフィルター (Ultra Low Penetration Air Filter) 等を用いるとよい。 Further, it is preferable that a purification filter is disposed on the upstream side of the blower. As a result, clean air is supplied to the sink, and the object to be cleaned is prevented from being recontaminated when draining or drying. The purification filter is a filter that removes dust, dust, bacteria, and the like from the air taken in by the blower, and preferably has an appropriate performance according to the use and specifications of the cleaning device. For example, a HEPA filter (High Efficiency Particulate Air Filter) or a ULPA filter (Ultra Low Penetration Air Filter) as defined in JIS (Z8122) may be used.
《オゾン供給手段》
本発明の洗浄装置は、シンク内へオゾンを供給するオゾン供給手段を備えると好適である。これにより、オゾンで除菌等された清浄な空気で洗浄後の水切・乾燥を行うことが可能となる。また、洗浄後の水切・乾燥を行うとき以外(例えば、洗浄対象がシンク内になく、送気手段が停止しているとき)にも、オゾン供給手段を作動させて、シンクの通気口(送気口)を通じてオゾンを放出させると、洗浄装置を設置している空間の空気清浄、除菌、脱臭等(以下、これらを「空間清浄」という。)を行うこともできる。さらに、シンクの内壁面等に付着した有機物等(タンパク質、油脂等)をオゾンで分解することもできる。なお、オゾンで有機物等が分解されることにより、後述する自己浄化がより有効に促進される。
<< Ozone supply means >>
The cleaning apparatus of the present invention preferably includes an ozone supply means for supplying ozone into the sink. Thereby, it becomes possible to drain and dry after washing with clean air sterilized with ozone. In addition, the ozone supply means is activated and the sink vent (feed) is also used, except when draining and drying after washing (for example, when the object to be washed is not in the sink and the air feeding means is stopped). If ozone is released through the air vent), air purification, sterilization, deodorization, etc. (hereinafter referred to as “space purification”) of the space where the cleaning device is installed can be performed. Furthermore, organic substances (protein, fats and oils) adhering to the inner wall surface of the sink can be decomposed with ozone. In addition, the organic matter etc. are decomposed | disassembled by ozone, and the self-cleaning mentioned later is accelerated | stimulated more effectively.
オゾン供給手段は、例えば、オゾン発生器と、オゾン発生器で発生したオゾンを送気するファンと、オゾンを送気手段のダクトまたはシンクまで誘導する導管からなる。オゾンを送気手段のダクトへ流入させる場合、導管は送気手段(特にブロワー)の下流側に接続されると好ましい。これにより、オゾンによるブロワーの劣化促進やブロワーへのオゾン対策を回避できる。 The ozone supply means includes, for example, an ozone generator, a fan for supplying ozone generated by the ozone generator, and a conduit for guiding ozone to a duct or a sink of the air supply means. When ozone is allowed to flow into the duct of the air supply means, the conduit is preferably connected downstream of the air supply means (particularly the blower). Thereby, the deterioration promotion of the blower by ozone and the ozone countermeasure to a blower can be avoided.
オゾンを供給する際に(水切・乾燥時に限らない)、導管がダクトに接続された状態で送気手段のブロワーを作動させるなら、上述したファンを省略することもできる。ダクト内を流れる送風により生じる負圧(ベンチュリー効果)で、オゾンは導管からダクトへ自ずと流入するからである。 When supplying ozone (not limited to draining / drying), if the blower of the air supply means is operated with the conduit connected to the duct, the above-described fan can be omitted. This is because ozone naturally flows from the conduit into the duct due to the negative pressure (venturi effect) generated by the airflow flowing in the duct.
オゾンの供給量は、洗浄装置の設置空間におけるオゾン濃度が0.02〜0.06mg/Lさらには0.03〜0.05mg/Lとなるように調整されると好ましい。オゾン濃度が過小では空間清浄や自己浄化の効果が乏しく、オゾン濃度が過大では不快感を人に与え得る。設置空間の大きさにも依るが、オゾンの供給量は、例えば、1〜10mg/hさらには2〜6mg/hとするとよい。なお、オゾン濃度が異常に上昇し得る環境下では、オゾン分解触媒を、送気手段やオゾン供給手段の外気取込口側に設けてもよい。 The ozone supply amount is preferably adjusted so that the ozone concentration in the installation space of the cleaning device is 0.02 to 0.06 mg / L, more preferably 0.03 to 0.05 mg / L. If the ozone concentration is too low, the effect of space purification and self-purification is poor, and if the ozone concentration is too high, it can give people discomfort. Although it depends on the size of the installation space, the supply amount of ozone is preferably 1 to 10 mg / h, more preferably 2 to 6 mg / h. In an environment where the ozone concentration can rise abnormally, an ozone decomposition catalyst may be provided on the outside air intake side of the air supply means or the ozone supply means.
《制御手段》
制御手段は、各手段の作動(起動・停止等)を制御する。例えば、シンク内に洗浄対象が挿入されているときに、制御手段は洗浄手段を所定時間作動させて洗浄対象へ洗浄液を吐出する洗浄モードを行った後、さらに送気手段を所定時間作動させて洗浄対象に付着した洗浄液を気流により吹き払う乾燥モードを行う。
<Control means>
The control means controls the operation (starting / stopping etc.) of each means. For example, when a cleaning target is inserted in the sink, the control unit operates the cleaning unit for a predetermined time to perform a cleaning mode in which the cleaning liquid is discharged to the cleaning target, and then operates the air supply unit for a predetermined time. A drying mode is performed in which the cleaning liquid adhering to the object to be cleaned is blown off by an air flow.
また制御手段は、例えば、シンク内に洗浄対象が挿入されていない所定時期に、洗浄手段を所定時間作動させてシンクへ洗浄液を吐出する自己浄化モードを行う。ここで、オゾン供給手段は、制御手段により起動・停止等が制御されても良いが、単に洗浄装置の電源のON・OFFと連動して起動・停止してもよい。後者の場合、オゾン供給手段は、電源がON状態にあるときは常時稼働しており、水切・乾燥時以外のときもオゾンがシンク内や洗浄装置の設置空間へ放出される。これにより空間清浄がなされ、また自己浄化を促進できる。 Further, the control unit performs, for example, a self-cleaning mode in which the cleaning unit is operated for a predetermined time to discharge the cleaning liquid to the sink at a predetermined time when the cleaning target is not inserted into the sink. Here, the ozone supply means may be controlled to be started / stopped by the control means, but may simply be started / stopped in conjunction with the power ON / OFF of the cleaning device. In the latter case, the ozone supply means is always in operation when the power supply is in an ON state, and ozone is released into the sink or the installation space of the cleaning device even when not draining or drying. As a result, the space is cleaned and self-cleaning can be promoted.
なお、オゾンによって自己浄化が促進される理由は次の通りである。先ず、オゾンによってシンクに付着していた有機物等が酸化分解される。この状態で洗浄液が供給されると、次亜塩素酸水が有機物等により撥水されずに細菌等へ直接作用し、自己浄化による除菌効果等が高まる。 The reason why self-purification is promoted by ozone is as follows. First, organic substances and the like attached to the sink are oxidized and decomposed by ozone. When the cleaning liquid is supplied in this state, hypochlorous acid water directly acts on bacteria and the like without being water-repellent by organic matter and the like, and the sterilization effect by self-purification is enhanced.
《その他》
本発明の洗浄装置は、食品加工工場、クリーンルーム、病院、トイレ等に設置して、指・手・腕等の洗浄・除菌(さらに空間清浄)に利用できる。洗浄対象は、手指等の人体に限らず、シンクの形状や大きさを調整すれば、医療器具や衛生器具など様々な物も洗浄対象となる。
<Others>
The cleaning apparatus of the present invention can be installed in food processing factories, clean rooms, hospitals, toilets, etc., and can be used for cleaning / disinfecting fingers (hands, arms, arms, etc.) (further cleaning the space). The object to be cleaned is not limited to a human body such as a finger, and various objects such as medical instruments and sanitary instruments can be cleaned by adjusting the shape and size of the sink.
本発明の洗浄装置の一実施例である手指洗浄乾燥除菌装置M(単に「洗浄乾燥装置M」という。)を取り上げて、以下に本発明を具体的に詳しく説明する。 The present invention will be described in detail below by taking a hand washing / drying sterilization apparatus M (hereinafter simply referred to as “washing / drying apparatus M”) which is an embodiment of the washing apparatus of the present invention.
《構成》
洗浄乾燥装置Mの外観は、図1に示すような略直方体状の筐体40からなる。筐体40の上方には挿入口410から差し入れた手指を収容可能な洗浄槽であるシンク41があり、その前方下方には開閉扉42がある。開閉扉42を通じて、後述する高濃度次亜塩素酸水のカートリッジタンク110の出し入れ(交換)が可能となっている。また筐体40の上端付近には制御盤50が設けられており、洗浄乾燥装置Mの作動状態を示すインジケータや電源スイッチ等が配置されている。
"Constitution"
The appearance of the cleaning / drying apparatus M includes a substantially
洗浄乾燥装置Mの内部構造を図2に模式的に示した。洗浄乾燥装置Mは、洗浄手段と、送気手段およびオゾン供給手段を備える。洗浄手段は、カートリッジタンク110内の高濃度次亜塩素酸水を配管111を通じて汲み上げるポンプ11(第1ポンプ)と、リザーブタンク120内の上水(希釈水)を配管121を通じて汲み上げるポンプ12(第2ポンプ)と、ポンプ11から配管112を通じて圧送された高濃度次亜塩素酸水とポンプ12から配管122を通じて圧送された希釈水とを混合する連結部13(混合器)と、連結部13で生じた希釈次亜塩素酸水(洗浄液)を配管131を通じてシンク内へ噴出させる洗浄ノズル14とを備える。
The internal structure of the washing / drying apparatus M is schematically shown in FIG. The cleaning / drying apparatus M includes a cleaning unit, an air supply unit, and an ozone supply unit. The cleaning means includes a pump 11 (first pump) that pumps high-concentration hypochlorous acid water in the
なお、リザーブタンク12の側面には、ボールタップ式の自動開閉弁を介して上水道が配管されている。これによりリザーブタンク12内で希釈水の水位が低下すると、希釈水が所定の水位となるまで、上水道からリザーブタンク12内へ自動的に補水される。また、洗浄ノズル14は、シンク41の両側にある壁面上方に複数配置されている。そして洗浄ノズル14から吐出された希釈次亜塩素酸水は、シンク41の排出口から配管43を通じて下水道等へ排水される。なお、図示していないが、リザーブタンク12またはリザーブタンク12から洗浄ノズル14に至る配管の少なくとも一部にヒーターを設置して、洗浄液を加温してもよい。これにより冬季等も、快適な洗浄を行うことができる。
In addition, water supply is piped on the side surface of the
本実施例では、高濃度次亜塩素酸水として、高橋金属株式会社製SAN−TIWS(サンティウス)を用いた。この高濃度次亜塩素酸水は、pH調整用の塩酸を適宜添加した塩化ナトリウム水溶液を二室型電解槽の一方の電解室(例えば陰極室)に通水した後、もう一方の電解室(例えば陽極室)へ通水して得られたものである。高濃度次亜塩素酸水は、二室型電解槽の代わりに無隔膜一室型電解槽で電気分解して得られたものでもよい。さらに高濃度次亜塩素酸水は、塩化ナトリウム水溶液を電気分解して得られた強酸性電解水に、同電気分解時に得られた強アルカリ性電解水の一部を混合したものでもよい。 In this example, SAN-TIWS (Santius) manufactured by Takahashi Metal Co., Ltd. was used as the high concentration hypochlorous acid water. This high-concentration hypochlorous acid water is prepared by passing a sodium chloride aqueous solution to which hydrochloric acid for pH adjustment is appropriately added through one electrolytic chamber (for example, the cathode chamber) of a two-chamber electrolytic cell, and then the other electrolytic chamber ( For example, it is obtained by passing water through an anode chamber). The high-concentration hypochlorous acid water may be obtained by electrolysis in a diaphragmless single-chamber electrolytic cell instead of the two-chamber electrolytic cell. Further, the high-concentration hypochlorous acid water may be a mixture of strong acidic electrolyzed water obtained by electrolyzing a sodium chloride aqueous solution and a part of strongly alkaline electrolyzed water obtained during the electrolysis.
カートリッジタンク110は、例えば、そのサンティウス(pH6.5、有効塩素濃度:約1800mg/L)を10L収容したパウチ容器からなる。本実施例では、ポンプ11とポンプ12の各流量を調整して、その高濃度次亜塩素酸水を上水で40倍程度に希釈した。得られた希釈次亜塩素酸水は、pH5付近で有効塩素濃度が約50ml/Lとなった。
The
送気手段は、筐体40の側面に設けられた多数の開孔401を通じて吸引した外気をダクト211を通じて送気するブロワー21と、ブロワー21の上流側(開孔401側)に配設されたHEPAフィルターからなる浄化フィルター22と、連結部23およびダクト212を通じてシンク41に設けた送気口411(通気口)とを備える。
The air supply means is disposed on the
なお、送気口411も、シンク41の両側にある壁面上方にそれぞれ配置されている。また、ブロワー21も各送気口411に対応して複数設けられており、十分な風量で短時間の水切や乾燥が可能となっている。
The
オゾン供給手段は、オゾン発生器31と、オゾン発生器31で生成されたオゾンを導管33および連結部23を通じてブロワー21の下流側にあるダクト212へ送気するファン32とを有する。なお、本実施例では、オゾン発生器31によるオゾン発生量を4mg/hとした。
The ozone supply means includes an
《作動》
制御盤50に内蔵されたマイコン(図略/制御手段)により、電源がONされた洗浄乾燥装置Mは、図3に示すように作動する。
<Operation>
The washing / drying apparatus M that is powered on by a microcomputer (not shown / control means) built in the
(1)洗浄乾燥装置Mの電源がONされると、オゾン発生器31とファン32が連続的に稼働してオゾンを送気口411へ常時供給する(ステップS1)。
(1) When the power of the cleaning / drying apparatus M is turned on, the
シンク41内に洗浄対象である手指等が挿入されたことが赤外線センサー等(図略)により検知されると(ステップS2)、ポンプ11、12を稼働させる(ステップS3)。これにより洗浄ノズル14からシンク41内に挿入された手指へ希釈次亜塩素酸水が噴出されて洗浄モードが開始される。そして、予め設定した洗浄時間が経過すると(ステップS4)、ポンプ11、12を停止させる(ステップS5)。ポンプ11、の停止により洗浄モードが終了する。なお、例えば、洗浄モードのときの洗浄時間(洗浄液の吐出時間)は16〜18秒程度、洗浄液の噴出量は320〜360ml程度とするとよい。
When an infrared sensor or the like (not shown) detects that a finger or the like to be cleaned has been inserted into the sink 41 (step S2), the
シンク41内から手指が抜かれていないことを確認した後(ステップS6)、ブロワー21を稼働させる(ステップS7)。これにより送気口411からの送風によってシンク41内に挿入された手指に付着している希釈次亜塩素酸水を水切・乾燥させる乾燥モードが開始される。ブロワー21は、シンク41内に手指がある間は継続して稼働する(ステップS8)。但し、シンク41内から手指が抜かれるか(ステップS8)、予め設定した乾燥時間(例えば30秒)が経過すると(ステップS9)、ブロワー21は停止する(ステップS10)。ブロワー21の停止により乾燥モードが終了する。
After confirming that fingers have not been removed from the sink 41 (step S6), the
(2)シンク41内で手指等が検知されない状態が予め設定した時間(例えば1時間)を経過すると(ステップS2、ステップS11)、ポンプ11、12を稼働させて洗浄液をシンク41内へ噴出させる(ステップS12)。予め設定した洗浄時間(例えば5秒)が経過すると(ステップS13)、ポンプ11、12を停止させて洗浄液の噴出を止める(ステップS14)。このように洗浄モードおよび乾燥モードがなされていないときでも、定期的に自己浄化モードがなされる。なお、自己浄化モードのときの洗浄液の噴出量は、例えば100ml程度にすればよい。
(2) When a preset time (for example, 1 hour) elapses when a finger or the like is not detected in the sink 41 (step S2, step S11), the
ちなみに、自己浄化モードの開始前からシンク41内にはオゾンが継続的に供給されている。このため、シンク41内に付着している有機物等は、そのオゾンにより予め酸化分解された状態となっている。その結果、自己浄化モードで噴出された希釈次亜塩素酸水はシンク41内であまり撥水等せずに、直接的に細菌等へ作用する。従って、本実施例の自己浄化モードは高い除菌効果を発揮する。
Incidentally, ozone is continuously supplied into the
(3)乾燥モードでないときでも、オゾン発生器31で生成されたオゾンが、ファン32によって送気口411から送気されている。そのオゾンの一部は、上述したようにシンク41内に付着している有機物等の酸化分解に使用されるが、その大部分は洗浄乾燥装置Mの設置空間へ放出される。このため、少なくとも洗浄乾燥装置Mが設定されている近傍の設置空間は、そのオゾンによって空気清浄もなされる。
(3) Even when not in the dry mode, ozone generated by the
このように本実施例に係る洗浄乾燥装置Mは、手指等の洗浄・除菌・乾燥等のみならず、装置自体の自己浄化や装置を設定している空間の清浄等も併せてなし得る。 As described above, the cleaning / drying apparatus M according to the present embodiment can perform not only cleaning / disinfection / drying of fingers and the like, but also self-cleaning of the apparatus itself and cleaning of a space in which the apparatus is set.
M 手指洗浄乾燥除菌装置(洗浄装置)
14 洗浄ノズル
40 筐体
41 シンク
411 送気口
M hand washing dry sterilization device (cleaning device)
14
Claims (8)
該シンク内へ洗浄液を吐出する洗浄手段と、
該シンク内へ送気する送気手段と、
を備える洗浄装置であって、
前記洗浄手段は、pH6〜7の高濃度次亜塩素酸水へ希釈水を混合したpH4〜6の希釈次亜塩素酸水を前記洗浄液として吐出することを特徴とする洗浄装置。 A sink having an insertion port for taking in and out the object to be cleaned, and having a discharge port for discharging the used cleaning liquid while accommodating the object to be cleaned;
Cleaning means for discharging cleaning liquid into the sink;
An air supply means for supplying air into the sink;
A cleaning device comprising:
The cleaning device discharges diluted hypochlorous acid water having a pH of 4 to 6 in which diluted water is mixed with a highly concentrated hypochlorous acid water having a pH of 6 to 7 as the cleaning liquid.
前記制御手段は、前記シンク内に前記洗浄対象が挿入されていない所定時期に、前記洗浄手段を所定時間作動させて前記シンクへ前記洗浄液を吐出する自己浄化モードを行う請求項1〜7のいずれかに記載の洗浄装置。 Furthermore, it comprises at least control means for controlling the operation of the cleaning means,
The control unit performs a self-cleaning mode in which the cleaning unit is operated for a predetermined time to discharge the cleaning liquid to the sink at a predetermined time when the cleaning target is not inserted into the sink. A cleaning apparatus according to claim 1.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Applications Claiming Priority (1)
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2021045374A (en) * | 2019-09-19 | 2021-03-25 | ▲高▼橋金属株式会社 | Commercial hand washing device |
WO2024185011A1 (en) * | 2023-03-06 | 2024-09-12 | 三菱電機株式会社 | Hand drying device |
Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11152775A (en) * | 1997-11-21 | 1999-06-08 | Toto Ltd | Sterilized water supply device |
JPH11235378A (en) * | 1998-02-19 | 1999-08-31 | Morinaga Milk Ind Co Ltd | Electrolytic water hand-washing unit |
JP2001137150A (en) * | 1999-11-10 | 2001-05-22 | Asahi Glass Engineering Co Ltd | Hand washer and dryer |
JP2002336145A (en) * | 2001-05-15 | 2002-11-26 | Koken Ltd | Hand washing apparatus with acidic water |
JP2004147717A (en) * | 2002-10-29 | 2004-05-27 | Mitsubishi Electric Corp | Hand drying apparatus |
JP3102108U (en) * | 2003-12-06 | 2004-07-02 | ニッポー・コーポレーション株式会社 | Hand disinfection equipment |
JP2005007102A (en) * | 2003-06-16 | 2005-01-13 | Mututry:Kk | Hand washer with small electrolytic water |
JP4369530B2 (en) * | 2008-02-08 | 2009-11-25 | 野口歯科医学研究所株式会社 | Dental sterilizing water, method for producing the same, and device for producing the same |
JP2011245109A (en) * | 2010-05-28 | 2011-12-08 | Teranishi Denki Seisakusho:Kk | Disinfection and drying device |
JP2012120717A (en) * | 2010-12-09 | 2012-06-28 | Ties Co Ltd | Finger washing and drying apparatus |
JP2016155127A (en) * | 2016-03-10 | 2016-09-01 | 株式会社エピオス | Washing water and production method therefor |
-
2016
- 2016-10-17 JP JP2016203950A patent/JP6785615B2/en active Active
Patent Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11152775A (en) * | 1997-11-21 | 1999-06-08 | Toto Ltd | Sterilized water supply device |
JPH11235378A (en) * | 1998-02-19 | 1999-08-31 | Morinaga Milk Ind Co Ltd | Electrolytic water hand-washing unit |
JP2001137150A (en) * | 1999-11-10 | 2001-05-22 | Asahi Glass Engineering Co Ltd | Hand washer and dryer |
JP2002336145A (en) * | 2001-05-15 | 2002-11-26 | Koken Ltd | Hand washing apparatus with acidic water |
JP2004147717A (en) * | 2002-10-29 | 2004-05-27 | Mitsubishi Electric Corp | Hand drying apparatus |
JP2005007102A (en) * | 2003-06-16 | 2005-01-13 | Mututry:Kk | Hand washer with small electrolytic water |
JP3102108U (en) * | 2003-12-06 | 2004-07-02 | ニッポー・コーポレーション株式会社 | Hand disinfection equipment |
JP4369530B2 (en) * | 2008-02-08 | 2009-11-25 | 野口歯科医学研究所株式会社 | Dental sterilizing water, method for producing the same, and device for producing the same |
JP2011245109A (en) * | 2010-05-28 | 2011-12-08 | Teranishi Denki Seisakusho:Kk | Disinfection and drying device |
JP2012120717A (en) * | 2010-12-09 | 2012-06-28 | Ties Co Ltd | Finger washing and drying apparatus |
JP2016155127A (en) * | 2016-03-10 | 2016-09-01 | 株式会社エピオス | Washing water and production method therefor |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2021045374A (en) * | 2019-09-19 | 2021-03-25 | ▲高▼橋金属株式会社 | Commercial hand washing device |
WO2024185011A1 (en) * | 2023-03-06 | 2024-09-12 | 三菱電機株式会社 | Hand drying device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6785615B2 (en) | 2020-11-18 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20190722 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20200529 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20200609 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
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|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20201020 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20201027 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |