JP2018060856A - Coating composition and optical semiconductor device - Google Patents

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和久 小野
Kazuhisa Ono
和久 小野
好昭 竹澤
Yoshiaki Takezawa
好昭 竹澤
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To increase the adhesiveness of a substrate with an optical semiconductor element mounted thereon, and a cured product of an addition reaction curing type polyorganosiloxane composition for sealing the element and to prevent the corrosion of metal electrodes on the substrate.SOLUTION: A coating composition of the present invention comprises: (A) 100 parts of a polyorganosiloxane including a terminal blocked with a hydroxyl group or alkoxy group, and having a viscosity of 20-1,000,000 mPa s (at 23°C); (B) 0.1-20 parts of a tri- or tetra-functional silane compound and/or its partial hydrolysis condensate; (C) 0.01-15 parts of a cured catalyst; and (D) 0.0001-10 parts of a triazole compound. A cured product of the coating composition serves to bond a substrate with an optical semiconductor element mounted thereon with a cured product of an addition reaction curing type polyorganosiloxane composition sealing the element.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、コーティング組成物および光半導体装置に係り、特に、光半導体素子を実装した基板と、この光半導体素子を封止する付加反応硬化型ポリオルガノシロキサン組成物の硬化物とを接着するためのコーティング組成物と、このコーティング組成物を用いて前記基板と付加反応硬化型ポリオルガノシロキサン組成物の硬化物とを接着した光半導体装置に関する。   The present invention relates to a coating composition and an optical semiconductor device, and more particularly to bond a substrate on which an optical semiconductor element is mounted to a cured product of an addition reaction curable polyorganosiloxane composition that seals the optical semiconductor element. And an optical semiconductor device in which the substrate and the cured product of the addition reaction curable polyorganosiloxane composition are bonded using the coating composition.

発光ダイオード(LED)のような光半導体素子を有する光半導体装置(例えば、LEDランプ)は、基板に実装されたLEDを透明な封止材で封止した構造を有する。封止材としては、従来から、エポキシ樹脂を主体とする組成物が汎用されていたが、近年のLEDの高輝度化に伴う発熱量増大や発光の短波長化によって、クラッキングや黄変が発生しやすく、信頼性の低下を招いていた。   An optical semiconductor device (for example, an LED lamp) having an optical semiconductor element such as a light emitting diode (LED) has a structure in which an LED mounted on a substrate is sealed with a transparent sealing material. Conventionally, a composition mainly composed of epoxy resin has been widely used as a sealing material. However, cracking and yellowing occur due to an increase in the amount of heat generated due to the recent increase in brightness of LEDs and the shortening of light emission wavelength. It was easy to do and caused a decrease in reliability.

そこで、光半導体装置の封止材として、エポキシ樹脂組成物に代わり、耐熱性に優れ、かつ短時間で硬化する付加反応硬化型のポリオルガノシロキサン組成物が使用されている。以下、「ポリオルガノシロキサン組成物」を「シリコーン組成物」ともいう。また、「シリコーン組成物の硬化物」を「シリコーン硬化物」ともいう。   Therefore, as an encapsulant for optical semiconductor devices, an addition reaction curable polyorganosiloxane composition that is excellent in heat resistance and cures in a short time is used instead of an epoxy resin composition. Hereinafter, the “polyorganosiloxane composition” is also referred to as “silicone composition”. The “cured product of the silicone composition” is also referred to as “silicone cured product”.

しかしながら、付加反応硬化型シリコーン硬化物は、LEDを実装する基板との接着性が十分に良好ではなかった。特に、LEDを実装する基板として、機械的強度に優れることから、ポリフタルアミド(PPA)樹脂からなる基板が多用されているが、このPPA樹脂と前記シリコーン硬化物との接着性が不良であるため、硬化物が剥離を生じやすいという問題があった。   However, the addition reaction curable silicone cured product has not sufficiently good adhesion to the substrate on which the LED is mounted. In particular, a substrate made of polyphthalamide (PPA) resin is often used as a substrate for mounting an LED because of its excellent mechanical strength, but the adhesion between the PPA resin and the cured silicone is poor. For this reason, there is a problem that the cured product easily peels off.

また、シリコーン硬化物は気体透過性が高いため、付加反応硬化型シリコーン硬化物で封止された光半導体素子は、外部環境の影響を受けやすい。例えば、LEDランプのような光半導体装置が、大気中の硫黄化合物(例えば、硫化水素、硫酸ガス)等の腐食性ガスに曝されると、腐食性ガスが前記シリコーン硬化物を透過し、基板上の金属電極、特に銀(Ag)電極を経時的に腐食して黒変させる。   Moreover, since the cured silicone has a high gas permeability, the optical semiconductor element sealed with the addition reaction curable silicone cured product is easily affected by the external environment. For example, when an optical semiconductor device such as an LED lamp is exposed to a corrosive gas such as a sulfur compound (for example, hydrogen sulfide, sulfuric acid gas) in the atmosphere, the corrosive gas passes through the cured silicone and the substrate The upper metal electrode, particularly the silver (Ag) electrode, corrodes over time and turns black.

このようなAg電極の腐食や前記樹脂基板との接着不良の問題に対処するため、アクリル酸エステルの重合体と、エポキシ基を有するアルコキシシランと、白金化合物、および溶剤を含有するプライマー組成物により、基板と付加反応硬化型シリコーン硬化物とを接着した光半導体装置が提案されている(例えば、特許文献1参照。)。   In order to cope with such problems of corrosion of the Ag electrode and adhesion failure with the resin substrate, a primer composition containing an acrylic ester polymer, an alkoxysilane having an epoxy group, a platinum compound, and a solvent is used. An optical semiconductor device in which a substrate and an addition reaction curable silicone cured product are bonded has been proposed (see, for example, Patent Document 1).

しかしながら、特許文献1に記載された光半導体装置においては、シリコーン硬化物と、基板上に形成された金属電極との接着性が不十分であった。そのため、腐食性ガスを含む環境下でのAg電極の腐食を十分に防止することができなかった。また、シリコーン硬化物のプライマー層との界面に濁り(または曇り)があるため、光半導体素子からの発光の透過性が良好ではなかった。さらに、特許文献1に記載されたプライマー組成物は有機溶剤を含有するため、周辺の基材に影響を与えるばかりでなく、作業環境を悪化させるという問題があった。   However, in the optical semiconductor device described in Patent Document 1, the adhesiveness between the silicone cured product and the metal electrode formed on the substrate was insufficient. Therefore, corrosion of the Ag electrode under an environment containing corrosive gas could not be sufficiently prevented. Moreover, since there was turbidity (or cloudiness) at the interface with the primer layer of the silicone cured product, the light transmission from the optical semiconductor element was not good. Furthermore, since the primer composition described in Patent Document 1 contains an organic solvent, there is a problem that not only the peripheral substrate is affected but also the working environment is deteriorated.

特許5090000号公報Japanese Patent No. 5090000

本発明は、これらの問題を解決するためになされたもので、光半導体素子を実装した基板とこの光半導体素子を封止する付加反応硬化型シリコーン硬化物との接着性を向上させるとともに、基板上に形成された金属電極の腐食を防止することが可能なコーティング組成物、およびそれを用いた信頼性の高い光半導体装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made to solve these problems, and improves the adhesion between a substrate on which an optical semiconductor element is mounted and an addition reaction curable silicone cured material that seals the optical semiconductor element, and the substrate. It is an object of the present invention to provide a coating composition capable of preventing corrosion of a metal electrode formed thereon, and a highly reliable optical semiconductor device using the same.

本発明のコーティング組成物は、
(A)分子鎖末端が水酸基またはアルコキシ基で封鎖され、23℃における粘度が20〜1,000,000mPa・sであるポリオルガノシロキサン100質量部と、
(B)一般式:R Si(OR4−n………(1)
(式中、Rは同一または異なる置換もしくは非置換の1価の炭化水素基であり、Rは同一または異なる非置換の1価の炭化水素基である。nは0または1である。)で表される3官能性または4官能性のシラン化合物、および/またはその部分加水分解縮合物0.1〜20質量部と、
(C)硬化触媒0.01〜15質量部と、
(D)トリアゾール化合物0.0001〜10質量部
を含有する組成物であり、
該組成物の硬化物が、光半導体素子を実装した基板と、前記光半導体素子を封止する付加反応硬化型ポリオルガノシロキサン組成物の硬化物とを接着することを特徴とする。
The coating composition of the present invention comprises
(A) 100 parts by mass of a polyorganosiloxane whose molecular chain terminal is blocked with a hydroxyl group or an alkoxy group and has a viscosity at 23 ° C. of 20 to 1,000,000 mPa · s;
(B) General formula: R 1 n Si (OR 2 ) 4-n (1)
Wherein R 1 is the same or different substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group, R 2 is the same or different unsubstituted monovalent hydrocarbon group, and n is 0 or 1. 0.1 to 20 parts by mass of a trifunctional or tetrafunctional silane compound and / or a partially hydrolyzed condensate thereof,
(C) 0.01-15 parts by mass of a curing catalyst;
(D) a composition containing 0.0001 to 10 parts by mass of a triazole compound,
The cured product of the composition adheres a substrate on which an optical semiconductor element is mounted and a cured product of an addition reaction curable polyorganosiloxane composition that seals the optical semiconductor element.

また、本発明の光半導体装置は、光半導体素子を実装した基板と、前記光半導体素子を封止する付加反応硬化型ポリオルガノシロキサン組成物の硬化物と、前記基板上に形成され、該基板と前記付加反応硬化型ポリオルガノシロキサン組成物の硬化物とを接着するコーティング接着層とを有する光半導体装置であり、前記コーティング接着層が、前記本発明のコーティング組成物の硬化物からなることを特徴とする。   The optical semiconductor device of the present invention is formed on a substrate on which the optical semiconductor element is mounted, a cured product of an addition reaction curable polyorganosiloxane composition that seals the optical semiconductor element, and the substrate. And a coating adhesive layer for adhering the cured product of the addition reaction curable polyorganosiloxane composition, the coating adhesive layer comprising a cured product of the coating composition of the present invention. Features.

本発明のコーティング組成物は、腐食性ガスを捕捉する効果が高い成分(腐食防止成分)を含有しているうえに、PPA樹脂等の樹脂および金属に対する接着性が良好である硬化物を形成する。したがって、本発明のコーティング組成物によれば、光半導体素子を実装した基板および基板上に形成された金属電極と、光半導体素子を封止するシリコーン硬化物との接着性が改善されるとともに、腐食性ガスを含む環境下での金属電極の腐食が防止され、信頼性が高い光半導体装置を提供できる。   The coating composition of the present invention contains a component (corrosion prevention component) having a high effect of trapping corrosive gas and forms a cured product having good adhesion to a resin such as a PPA resin and a metal. . Therefore, according to the coating composition of the present invention, the adhesion between the substrate on which the optical semiconductor element is mounted and the metal electrode formed on the substrate and the cured silicone that seals the optical semiconductor element is improved. A highly reliable optical semiconductor device can be provided in which corrosion of the metal electrode in an environment containing a corrosive gas is prevented.

また、本発明のコーティング組成物の硬化物(以下、コーティング硬化物ともいう。)は、光半導体素子を封止する付加反応硬化型シリコーン硬化物との密着性および接着性が良好であり、かつ付加反応硬化型シリコーン硬化物は前記コーティング硬化物との接合界面に濁り(または曇り)がなく、両者の界面の光透過性が高いので、発光効率の高い光半導体装置が得られる。   Further, the cured product of the coating composition of the present invention (hereinafter also referred to as coating cured product) has good adhesion and adhesiveness with the addition reaction curable silicone cured product that seals the optical semiconductor element, and The addition reaction curable silicone cured product has no turbidity (or cloudiness) at the bonding interface with the coating cured product, and has high light transmittance at the interface between them, so that an optical semiconductor device with high luminous efficiency can be obtained.

本発明の光半導体装置の構成の一例を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically an example of a structure of the optical semiconductor device of this invention. 実施例おける接着性試験の方法を概略的に示す図である。It is a figure which shows roughly the method of the adhesive test in an Example.

以下、本発明の実施の形態について説明する。   Embodiments of the present invention will be described below.

[コーティング組成物]
本発明の第1の実施形態は、(A)分子鎖末端が水酸基またはアルコキシ基で封鎖され、粘度(23℃)が20〜1,000,000mPa・sであるポリオルガノシロキサン100質量部と、(B)3官能性または4官能性のシラン化合物および/またはその部分加水分解縮合物0.1〜20質量部と、(C)硬化触媒0.01〜15質量部と、(D)トリアゾール化合物0.0001〜10質量部をそれぞれ含有するコーティング組成物である。実施形態のコーティング組成物の硬化物(コーティング組成物)は、光半導体素子を実装した基板と、前記光半導体素子を封止する付加反応硬化型シリコーン硬化物とを強固に接着する。
以下、第1の実施形態のコーティング組成物に含有される各成分について説明する。
[Coating composition]
In the first embodiment of the present invention, (A) 100 parts by mass of a polyorganosiloxane whose molecular chain end is blocked with a hydroxyl group or an alkoxy group and whose viscosity (23 ° C.) is 20 to 1,000,000 mPa · s, (B) Trifunctional or tetrafunctional silane compound and / or its partial hydrolysis condensate 0.1-20 parts by mass, (C) curing catalyst 0.01-15 parts by mass, (D) triazole compound It is a coating composition containing 0.0001-10 mass parts, respectively. The cured product (coating composition) of the coating composition of the embodiment strongly bonds the substrate on which the optical semiconductor element is mounted and the addition reaction curable silicone cured product that seals the optical semiconductor element.
Hereinafter, each component contained in the coating composition of 1st Embodiment is demonstrated.

<(A)末端水酸基またはアルコキシ基封鎖ポリオルガノシロキサン>
(A)成分は、分子鎖末端が水酸基(ヒドロキシル基)またはアルコキシ基で封鎖されたポリオルガノシロキサンであり、実施形態のコーティング組成物のベース成分である。(A)成分の粘度は、低すぎると硬化物のゴム弾性が低くなり、高すぎると塗布作業性が低下することから、23℃における粘度が20〜1,000,000mPa・sの範囲とする。粘度は50〜500,000mPa・sが好ましく、100〜100,000mPa・sが特に好ましい。
<(A) Terminal hydroxyl group or alkoxy group-blocked polyorganosiloxane>
The component (A) is a polyorganosiloxane whose molecular chain end is blocked with a hydroxyl group (hydroxyl group) or an alkoxy group, and is a base component of the coating composition of the embodiment. If the viscosity of the component (A) is too low, the rubber elasticity of the cured product will be low, and if it is too high, the workability of coating will be reduced. . The viscosity is preferably 50 to 500,000 mPa · s, particularly preferably 100 to 100,000 mPa · s.

また、このポリオルガノシロキサンの分子構造は、下記一般式(2)で示される直鎖状であることが好ましいが、一部分岐鎖を有する構造でもよい。

Figure 2018060856
The molecular structure of the polyorganosiloxane is preferably a straight chain represented by the following general formula (2), but may have a partially branched structure.
Figure 2018060856

式(2)中、Rは互いに同一でも異なっていてもよい置換または非置換の1価の炭化水素基を表し、Rは−ZSiR 3−aで表される1価の有機基を表す。ここで、Zは酸素(オキソ基)または2価の炭化水素基を表し、Rは互いに同一でも異なっていてもよい置換または非置換の1価の炭化水素基を表す。Xは水酸基(ヒドロキシル基)またはアルコキシ基を表し、aは1〜3の整数である。また、mは当該(A)成分の23℃における粘度を20〜1,000,000mPa・sの範囲とする数である。 In the formula (2), R 3 represents a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group which may be the same or different from each other, and R 4 is a monovalent organic group represented by —ZSiR 5 3-a Xa. Represents a group. Here, Z represents oxygen (oxo group) or a divalent hydrocarbon group, and R 5 represents a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group which may be the same as or different from each other. X represents a hydroxyl group (hydroxyl group) or an alkoxy group, and a is an integer of 1 to 3. Moreover, m is a number which makes the viscosity at 23 degreeC of the said (A) component the range of 20-1,000,000 mPa * s.

としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基のようなアルキル基;ビニル基、アリル基のようなアルケニル基;フェニル基、トリル基、キシリル基のようなアリール基;2−フェニルエチル基、2−フェニルプロピル基のようなアラルキル基などが例示される。また、これらの炭化水素基の水素原子の一部が他の原子または基で置換されたもの、すなわちクロロメチル基、3−クロロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基のようなハロゲン化アルキル基;3−シアノプロピル基のようなシアノアルキル基などの置換炭化水素基も挙げられる。合成が容易であり、かつ(A)成分が分子量の割に低い粘度を有し、硬化前の組成物が良好な塗布性を有すること、および硬化物が良好な物理的性質を有することから、R全体の85%以上がメチル基であることが好ましく、実質的にすべてのRがメチル基であることがより好ましい。 R 3 includes methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, alkyl group such as dodecyl group; alkenyl group such as vinyl group and allyl group; phenyl group And aryl groups such as tolyl group and xylyl group; and aralkyl groups such as 2-phenylethyl group and 2-phenylpropyl group. In addition, hydrogen atoms of these hydrocarbon groups are substituted with other atoms or groups, that is, halogens such as chloromethyl group, 3-chloropropyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group A substituted hydrocarbon group such as a cyanoalkyl group such as a 3-cyanopropyl group. Since the synthesis is easy and the component (A) has a low viscosity for the molecular weight, the composition before curing has good coating properties, and the cured product has good physical properties. preferably R 3 over 85% of all are methyl groups, and more preferably substantially all of the R 3 is a methyl group.

特に、耐熱性、耐放射線性、耐寒性等を組成物に付与する場合には、Rの一部として必要量のフェニル基を、耐油性、耐溶剤性を付与する場合には、Rの一部として3,3,3−トリフルオロプロピル基や3−シアノプロピル基を、また塗装適性を有する表面を付与する場合には、Rの一部として長鎖アルキル基やアラルキル基を、メチル基と併用するなど、目的に応じて任意に選択することができる。 In particular, when imparting heat resistance, radiation resistance, cold resistance, etc. to the composition, a necessary amount of phenyl group as a part of R 3 , and when imparting oil resistance and solvent resistance, R 3 When a 3,3,3-trifluoropropyl group or 3-cyanopropyl group is added as a part of the surface, or a surface having paintability is imparted, a long chain alkyl group or an aralkyl group is added as a part of R 3 . It can be arbitrarily selected depending on the purpose, for example, in combination with a methyl group.

(A)成分の末端基Rは、式:−ZSiR 3−aで表され、ケイ素官能基である水酸基(ヒドロキシル基)またはアルコキシ基Xを少なくとも1個有するケイ素官能性シロキシ単位である。したがって、(A)成分は、分子の両末端にそれぞれ水酸基(ヒドロキシル基)またはアルコキシ基Xを少なくとも1個有する。 The terminal group R 4 of the component (A) is a silicon-functional siloxy unit represented by the formula: —ZSiR 5 3-a X a and having at least one hydroxyl group or hydroxyl group that is a silicon functional group. is there. Therefore, the component (A) has at least one hydroxyl group (hydroxyl group) or alkoxy group X at both ends of the molecule.

末端基Rにおいて、ケイ素原子に結合するRは、互いに同一でも異なっていてもよい置換または非置換の1価の炭化水素基であり、前記したRと同様なものが例示される。Rと同一であっても異なっていてもよい。合成が容易であり、かつ加水分解性基Xの反応性に優れていることから、メチル基またはビニル基が好ましい。また、Zは2価の酸素(オキシ基)または2価の炭化水素基であり、2価の炭化水素基としては、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基のようなアルキレン基;フェニレン基などが例示される。合成が容易なことから、オキシ基またはエチレン基が好ましく、オキシ基が特に好ましい。 In the terminal group R 4 , R 5 bonded to the silicon atom is a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group which may be the same as or different from each other, and examples thereof are the same as those described above for R 3 . R 3 may be the same as or different from R 3 . A methyl group or a vinyl group is preferred because synthesis is easy and the reactivity of the hydrolyzable group X is excellent. Z is a divalent oxygen (oxy group) or a divalent hydrocarbon group. Examples of the divalent hydrocarbon group include an alkylene group such as a methylene group, an ethylene group and a trimethylene group; a phenylene group and the like. Is done. In view of easy synthesis, an oxy group or an ethylene group is preferable, and an oxy group is particularly preferable.

Xは、末端基であるRに少なくとも1個存在する水酸基(ヒドロキシル基)またはアルコキシ基である。アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等が例示される。複数のアルコキシ基は、同一でも異なっていてもよい。 X is a hydroxyl group (hydroxyl group) or an alkoxy group present in at least one of R 4 as a terminal group. Examples of the alkoxy group include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, and a butoxy group. The plurality of alkoxy groups may be the same or different.

末端基Rにおいて、水酸基またはアルコキシ基Xの数aは1〜3個であることが好ましい。Xが水酸基であるケイ素官能性ポリジオルガノシロキサンは、例えば、オクタメチルシクロシロキサンのような環状ジオルガノシロキサン低量体を、水の存在下に酸性触媒またはアルカリ性触媒によって開環重合または開環共重合させ、直鎖状ポリジオルガノシロキサンの末端にケイ素原子に結合する水酸基を導入することにより得ることができる。 In the terminal group R 4 , the number a of the hydroxyl group or alkoxy group X is preferably 1 to 3. A silicon-functional polydiorganosiloxane in which X is a hydroxyl group is a ring-opening polymerization or ring-opening copolymerization of a cyclic diorganosiloxane low monomer such as octamethylcyclosiloxane in the presence of water using an acidic catalyst or an alkaline catalyst. And by introducing a hydroxyl group bonded to a silicon atom into the terminal of the linear polydiorganosiloxane.

Xがアルコキシ基であるケイ素官能性ポリジオルガノシロキサンは、例えば、末端に水酸基を有するポリオルガノシロキサンに、2個以上の任意のアルコキシ基を有するシランを縮合させることによって合成することができる。この場合、シランの有するアルコキシ基は、縮合反応によって1個が消費されるので、反応によって得られるポリオルガノシロサンの末端基RにおけるXの数は、用いられるアルコキシ基含有シランが有するアルコキシ基の数よりも1個少なくなる。 The silicon-functional polydiorganosiloxane in which X is an alkoxy group can be synthesized, for example, by condensing a silane having two or more arbitrary alkoxy groups with a polyorganosiloxane having a hydroxyl group at the terminal. In this case, since one alkoxy group of the silane is consumed by the condensation reaction, the number of X in the terminal group R 4 of the polyorganosilosan obtained by the reaction is the alkoxy group of the alkoxy group-containing silane used. One less than the number of.

水酸基により封鎖された分子鎖末端のシロキシ基としては、ジメチルヒドロキシシロキシ基、メチルフェニルヒドロキシシロキシ基などが例示される。アルコキシ基により封鎖された分子鎖末端のシロキシ基としては、ビニルジメトキシシロキシ基、メチルジメトキシシロキシ基、トリメトキシシロキシ基、メチルジエトキシシロキシ基、トリエトキシシロキシ基などが例示される。
そして、(A)成分の具体例としては、これらのシロキシ基が分子鎖の少なくとも一つの末端に結合された以下のポリオルガノシロキサン、すなわちジメチルポリシロキサン、メチルエチルポリシロキサン、メチルオクチルポリシロキサン、メチルビニルポリシロキサン、メチルフェニルポリシロキサン、メチル(3,3,3−トリフルオロプロピル)ポリシロキサン、ジメチルシロキサンとメチルフェニルシロキサンの共重合体、ジメチルシロキサンとメチル(3,3,3−トリフルオロプロピル)シロキサンの共重合体などが挙げられる。
Examples of the siloxy group at the end of the molecular chain blocked with a hydroxyl group include a dimethylhydroxysiloxy group and a methylphenylhydroxysiloxy group. Examples of the siloxy group at the end of the molecular chain blocked with an alkoxy group include vinyl dimethoxysiloxy group, methyldimethoxysiloxy group, trimethoxysiloxy group, methyldiethoxysiloxy group, triethoxysiloxy group and the like.
Specific examples of the component (A) include the following polyorganosiloxanes in which these siloxy groups are bonded to at least one terminal of a molecular chain, that is, dimethylpolysiloxane, methylethylpolysiloxane, methyloctylpolysiloxane, methyl Vinyl polysiloxane, methylphenyl polysiloxane, methyl (3,3,3-trifluoropropyl) polysiloxane, copolymer of dimethylsiloxane and methylphenylsiloxane, dimethylsiloxane and methyl (3,3,3-trifluoropropyl) Examples include siloxane copolymers.

(A)成分である末端水酸基またはアルコキシ基封鎖ポリオルガノシロキサンは、1種を単独で使用してもよく、2種以上を混合して使用してもよい。   As the component (A), the terminal hydroxyl group or alkoxy group-blocked polyorganosiloxane may be used alone or in combination of two or more.

<(B)シラン化合物および/またはその部分加水分解縮合物>
実施形態のコーティング組成物において、(B)成分であるシラン化合物および/またはその部分加水分解縮合物は、式:R Si(OR4−n………(1)で表される3官能性または4官能性のシラン化合物、および/またはその部分加水分解縮合物であり、前記(A)成分の架橋剤として作用する。
<(B) Silane compound and / or partial hydrolysis condensate thereof>
In the coating composition of the embodiment, the (B) component silane compound and / or a partial hydrolysis condensate thereof is represented by the formula: R 1 n Si (OR 2 ) 4-n (1) A trifunctional or tetrafunctional silane compound and / or a partially hydrolyzed condensate thereof, and acts as a crosslinking agent for the component (A).

式(1)中、Rは互いに同一であっても異なっていてもよい、置換もしくは非置換の1価の炭化水素基である。前記した(A)成分を示す式(2)におけるRと同様な基が例示される。Rに関する記載は全てRにも適用される。Rは互いに同一であっても異なっていてもよい、非置換の1価の炭化水素基である。Rとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基のようなアルキル基が例示される。RおよびRとしては、メチル基、エチル基、プロピル基が好ましい。nは0または1である。 In formula (1), R 1 is a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group which may be the same as or different from each other. Examples thereof include the same groups as R 3 in the formula (2) representing the component (A). All statements relating to R 3 also apply to R 1 . R 2 is an unsubstituted monovalent hydrocarbon group which may be the same as or different from each other. Examples of R 2 include alkyl groups such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, an octyl group, a decyl group, and a dodecyl group. R 1 and R 2 are preferably a methyl group, an ethyl group, or a propyl group. n is 0 or 1.

このような3官能性または4官能性のシラン化合物の部分加水分解縮合物は、1分子中のSi数が3〜20であることが好ましく、4〜15がより好ましい。Si数が3未満では、十分な硬化性が得られない。また、Si数が20を超えると、硬化性や硬化物の機械的特性が低下する。(B)成分であるシラン化合物およびその部分加水分解縮合物は、1種を単独で使用してもよく、2種以上を混合して使用してもよい。   Such a partial hydrolysis-condensation product of a trifunctional or tetrafunctional silane compound preferably has 3 to 20 Si atoms, more preferably 4 to 15 molecules. If the number of Si is less than 3, sufficient curability cannot be obtained. Moreover, when Si number exceeds 20, sclerosis | hardenability and the mechanical characteristic of hardened | cured material will fall. As the silane compound and its partial hydrolysis condensate as component (B), one type may be used alone, or two or more types may be mixed and used.

(B)成分の配合量は、前記(A)成分100質量部に対して0.1〜20質量部、好ましくは0.5〜15質量部である。0.1質量部未満では、架橋が十分に行われず、硬度の低い硬化物しか得られないばかりでなく、架橋剤を配合した組成物の保存安定性が不良となる。20質量部を超えると、硬化の際の収縮率が大きくなり、硬化物の物性が低下する。   (B) The compounding quantity of a component is 0.1-20 mass parts with respect to 100 mass parts of said (A) component, Preferably it is 0.5-15 mass parts. If the amount is less than 0.1 part by mass, crosslinking is not sufficiently performed and not only a cured product having low hardness is obtained, but also the storage stability of the composition containing the crosslinking agent becomes poor. If it exceeds 20 parts by mass, the shrinkage rate during curing increases, and the physical properties of the cured product decrease.

<(C)硬化触媒>
(C)成分である硬化触媒は、(A)成分の水酸基(ヒドロキシル基)および/またはアルコキシ基の縮合反応、ならびに(B)成分による架橋反応を促進し、組成物の硬化を進める働きをする触媒である。
(C)硬化触媒としては、テトラエトキシチタン、テトラプロポキシチタン、テトラブトキシチタン、ジイソプロポキシ−ビス(エチルアセトアセテート)チタン、ジイソプロポキシビス(メチルアセトアセテート)チタン、ジイソプロポキシビス(アセチルアセトナト)チタン、ジブトキシビス(エチルアセトアセテート)チタン、ジメトキシビス(エチルアセトアセテート)チタンのような有機チタン化合物;鉄オクトエート、マンガンオクトエート、亜鉛オクトエート、スズナフテート、スズカプリレート、スズオレートのようなカルボン酸金属塩;ジブチルスズジアセテート、ジブチルスズジオクトエート、ジブチルスズジラウレート、ジブチルスズジオレート、ジフェニルスズジアセテート、酸化ジブチルスズ、ジブチルスズジメトキサイド、ジブチルビス(トリエトキシシロキシ)スズ、ジオクチルスズジラウレートのような有機スズ化合物;テトラエトキシチタン、アルミニウムトリスアセチルアセトナート、アルミニウムトリスエチルアセトアセテート、ジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート、トリエトキシアルミニウムのような有機アルミニウム;ジルコニウムテトラアセチルアセトナート、テトライソプロポキシジルコニウム、テトラブトキシジルコニウム、トリブトキシジルコニウムアセチルアセトネート、トリブトキシジルコニウムステアレートのような有機ジルコニウム化合物等が例示される。これらは1種を単独で使用してもよく、2種以上を混合して使用してもよい。
微量の存在で大きな触媒能を持つうえに、不純物の少ない組成物が得られることから、有機チタン化合物が好ましい。特に、1,3−ジイソプロポキシ−ビス(エチルアセトアセテート)チタン、1,3−ジプロポキシビス(アセチルアセトナト)チタン等のチタンキレート類が好ましい。
<(C) Curing catalyst>
The curing catalyst as component (C) serves to promote the condensation reaction of the hydroxyl group (hydroxyl group) and / or alkoxy group of component (A) and the crosslinking reaction by component (B) to promote curing of the composition. It is a catalyst.
(C) As a curing catalyst, tetraethoxy titanium, tetrapropoxy titanium, tetrabutoxy titanium, diisopropoxy-bis (ethyl acetoacetate) titanium, diisopropoxy bis (methyl acetoacetate) titanium, diisopropoxy bis (acetylacetate) Organic titanium compounds such as nato) titanium, dibutoxybis (ethylacetoacetate) titanium, dimethoxybis (ethylacetoacetate) titanium; carboxylic acid metals such as iron octoate, manganese octoate, zinc octoate, tin naphthate, tin caprylate, tin oleate Salt: Dibutyltin diacetate, dibutyltin dioctoate, dibutyltin dilaurate, dibutyltin dioleate, diphenyltin diacetate, dibutyltin oxide, dibutyltin dimethyl Organotin compounds such as xoxide, dibutylbis (triethoxysiloxy) tin, dioctyltin dilaurate; such as tetraethoxytitanium, aluminum trisacetylacetonate, aluminum trisethylacetoacetate, diisopropoxyaluminum ethylacetoacetate, triethoxyaluminum Organic aluminum; organic zirconium compounds such as zirconium tetraacetylacetonate, tetraisopropoxyzirconium, tetrabutoxyzirconium, tributoxyzirconium acetylacetonate, and tributoxyzirconium stearate are exemplified. These may be used individually by 1 type, and may mix and use 2 or more types.
An organotitanium compound is preferred because it has a large catalytic ability in the presence of a small amount and a composition with few impurities can be obtained. In particular, titanium chelates such as 1,3-diisopropoxy-bis (ethylacetoacetate) titanium and 1,3-dipropoxybis (acetylacetonato) titanium are preferable.

(C)成分である硬化触媒の配合量は、(A)成分100質量部に対して0.01〜15質量部、好ましくは0.1〜10質量部である。0.01質量部未満では、硬化触媒として十分に作用せず、硬化に長い時間がかかる。逆に15質量部を超えると、配合量に見合う効果がなく非経済的である。また、保存安定性も低下する。   (C) The compounding quantity of the curing catalyst which is a component is 0.01-15 mass parts with respect to 100 mass parts of (A) component, Preferably it is 0.1-10 mass parts. If it is less than 0.01 parts by mass, it does not sufficiently act as a curing catalyst, and it takes a long time to cure. Conversely, when it exceeds 15 parts by mass, there is no effect corresponding to the blending amount, which is uneconomical. In addition, the storage stability is lowered.

<(D)トリアゾール化合物>
(D)成分であるトリアゾール化合物は、LEDランプのような光半導体装置が過酷な外部環境に曝され、例えば大気中の硫黄化合物のような腐食性ガスが封止材である付加反応硬化型シリコーン硬化物(封止用シリコーン硬化物)を透過した場合に、基板上の金属電極、特にAg電極の腐食を防止する効果を有する成分である。
<(D) Triazole compound>
The triazole compound as the component (D) is an addition reaction curable silicone in which an optical semiconductor device such as an LED lamp is exposed to a severe external environment, and a corrosive gas such as a sulfur compound in the atmosphere is a sealing material. It is a component having an effect of preventing corrosion of a metal electrode on a substrate, particularly an Ag electrode, when passing through a cured product (cured silicone for sealing).

トリアゾール化合物としては、ベンゾトリアゾールとその誘導体、例えば、1,2,3−ベンゾトリアゾール、トリルトリアゾール、カルボキシベンゾトリアゾール、ナトリウムベンゾトリアゾール、ナトリウムトリルトリアゾール、ベンゾトリアゾールブチルエステル、ナフトトリアゾール、クロロベンゾトリアゾール等;1,2,4−トリアゾールとその誘導体、例えば、1,2,4−トリアゾール、1−メチル−1,2,4−トリアゾール、1,3−ジフェニル−1,2,4−トリアゾール、5−アミノ−3−メチル−1,2,4−トリアゾール、3−メルカプト−1,2,4−トリアゾール、1,2,4−トリアゾール−3−カルボン酸、1−フェニル−1,2,4−トリアゾール−5−オン、1−フェニルウラゾール等が例示される。これらのトリアゾール化合物は、1種を単独で使用してもよく、2種以上を混合して使用してもよい。
Ag電極の腐食防止の効果が大きいことから、1,2,3−ベンゾトリアゾールの使用が最も好ましい。
Examples of triazole compounds include benzotriazole and derivatives thereof, such as 1,2,3-benzotriazole, tolyltriazole, carboxybenzotriazole, sodium benzotriazole, sodium tolyltriazole, benzotriazole butyl ester, naphthotriazole, chlorobenzotriazole, and the like; 1,2,4-triazole and its derivatives, such as 1,2,4-triazole, 1-methyl-1,2,4-triazole, 1,3-diphenyl-1,2,4-triazole, 5-amino -3-methyl-1,2,4-triazole, 3-mercapto-1,2,4-triazole, 1,2,4-triazole-3-carboxylic acid, 1-phenyl-1,2,4-triazole- 5-one, 1-phenylurazole and the like are exemplified. . These triazole compounds may be used individually by 1 type, and 2 or more types may be mixed and used for them.
The use of 1,2,3-benzotriazole is most preferred because it has a great effect of preventing corrosion of the Ag electrode.

トリアゾール化合物の配合量は、(A)成分100質量部に対して0.0001〜10質量部、好ましくは0.001〜5質量部である。配合量が0.0001質量部未満であると、Ag電極等の金属電極の腐食を十分に防止できない。配合量が10質量部を超えると、組成物の安定性や硬化性が低下し、得られる硬化物の機械的特性等にも悪影響があり好ましくない。   The compounding quantity of a triazole compound is 0.0001-10 mass parts with respect to 100 mass parts of (A) component, Preferably it is 0.001-5 mass parts. If the blending amount is less than 0.0001 parts by mass, corrosion of metal electrodes such as Ag electrodes cannot be sufficiently prevented. When the blending amount exceeds 10 parts by mass, the stability and curability of the composition are lowered, and the mechanical properties and the like of the resulting cured product are adversely affected.

<(E)未反応性ポリオルガノシロキサン>
実施形態のコーティング組成物には、組成物の粘度を調整するとともに、大気中に含まれる腐食性ガスによる金属電極の腐食を防止する効果をさらに高めるために、(E)未反応性ポリオルガノシロキサンを配合することができる。
<(E) Unreactive polyorganosiloxane>
The coating composition of the embodiment includes (E) an unreactive polyorganosiloxane in order to adjust the viscosity of the composition and further enhance the effect of preventing corrosion of the metal electrode by corrosive gas contained in the atmosphere. Can be blended.

(E)成分の未反応性ポリオルガノシロキサンは、ケイ素原子に結合する官能基(例えば、水酸基やアルコキシ基)を実質的に含有せず、したがって、前記(A)成分と反応しないポリオルガノシロキサンである。この未反応性ポリオルガノシロキサンは、硬化物からのブリードや揮発を防止するため、23℃における粘度が10mPa・s以上でかつ(A)成分の粘度よりも低粘度であることが好ましい。また、分離や硬化後のブリード防止のため、側鎖に有する有機基は(A)成分と同種であることが好ましい。   The unreacted polyorganosiloxane of component (E) is a polyorganosiloxane that does not substantially contain a functional group (for example, a hydroxyl group or an alkoxy group) bonded to a silicon atom and therefore does not react with the component (A). is there. The unreactive polyorganosiloxane preferably has a viscosity at 23 ° C. of 10 mPa · s or more and lower than the viscosity of the component (A) in order to prevent bleeding and volatilization from the cured product. In order to prevent bleeding after separation and curing, the organic group in the side chain is preferably the same type as the component (A).

(E)未反応性ポリオルガノシロキサンの配合量は、(A)成分100重量部に対して1〜50重量部が好ましく、3〜30重量部がより好ましい。1重量部未満では、配合による効果が十分に得られず、逆に50重量部を超えると、硬化物の機械的特性に悪影響を及ぼすおそれがある。   (E) 1-50 weight part is preferable with respect to 100 weight part of (A) component, and, as for the compounding quantity of unreactive polyorganosiloxane, 3-30 weight part is more preferable. If the amount is less than 1 part by weight, the effect of blending cannot be sufficiently obtained. Conversely, if it exceeds 50 parts by weight, the mechanical properties of the cured product may be adversely affected.

<(F)接着性付与剤>
本発明のコーティング組成物は(F)接着性付与剤を含有することができる。(F)接着性付与剤としては、例えば、ジアルコキシシリルプロピル基またはトリアルコキシシリルプロピル基を有するイソシアヌレート化合物を使用することができる。特に、トリス(N−トリアルコキシシリルプロピル)イソシアヌレートが好ましい。
<(F) Adhesiveness imparting agent>
The coating composition of the present invention can contain (F) an adhesion-imparting agent. (F) As an adhesion imparting agent, for example, an isocyanurate compound having a dialkoxysilylpropyl group or a trialkoxysilylpropyl group can be used. In particular, tris (N-trialkoxysilylpropyl) isocyanurate is preferable.

また、(F)接着性付与剤として、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−アミノプロピルトリイソプロポキシシラン、3−アミノプロピルトリアセトアミドシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−メチル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、 N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N,N−ジメチル−3−アミノプロピルトリメトキシシランのような置換または非置換のアミノ基含有シラン;3−グリシドキシトリメトキシシラン、3−グリシドキシメチルジメトキシシラン、3,4−エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシランのようなエポキシ基含有シラン;3−イソシアナトプロピルトリメトキシシラン、3−イソシアナトプロピルメチルジメトキシシランのようなイソシアナト基含有シラン;3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシランのような(メタ)アクリロキシ基含有シラン;3−メルカプトプロピルトリメトキシシランのようなメルカプト基含有シラン;および3−クロロプロピルトリメトキシシランのようなハロゲン原子含有シランを配合することもできる。   (F) As an adhesion-imparting agent, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-aminopropyltriisopropoxysilane, 3-aminopropyltriacetamidosilane, N- (2-amino) Ethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropyltriethoxysilane, N-methyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxy Silane, substituted or unsubstituted amino group-containing silane such as N, N-dimethyl-3-aminopropyltrimethoxysilane; 3-glycidoxytrimethoxysilane, 3-glycidoxymethyldimethoxysilane, 3,4-epoxy Epoxy like cyclohexylethyltrimethoxysilane Xy group-containing silanes; isocyanato group-containing silanes such as 3-isocyanatopropyltrimethoxysilane and 3-isocyanatopropylmethyldimethoxysilane; 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3- (Meth) acryloxy group-containing silanes such as acryloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane; mercapto group-containing silanes such as 3-mercaptopropyltrimethoxysilane; and 3-chloropropyltrimethoxysilane Such halogen atom-containing silanes can also be blended.

組成物への相溶性の観点から、(F)成分である接着性付与剤は、(A)成分100質量部に対して0.01〜5質量部配合することが好ましい。0.01質量部未満では接着性を向上させる効果が少なく、またその発現が遅い。また、5質量部を超えて配合すると、保存中の分離や硬化物の収縮が生じるばかりでなく、保存安定性と作業性が悪くなる。また、黄変現象が生じるおそれがある。(F)接着性付与剤の配合量は、(A)成分100質量部に対して0.1〜2質量部の範囲がより好ましい。   From the viewpoint of compatibility with the composition, the adhesiveness-imparting agent that is the component (F) is preferably blended in an amount of 0.01 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the component (A). If it is less than 0.01 parts by mass, the effect of improving the adhesiveness is small and the onset thereof is slow. Moreover, when it mix | blends exceeding 5 mass parts, not only the isolation | separation in storage but shrinkage | contraction of hardened | cured material will arise, but storage stability and workability | operativity will deteriorate. In addition, yellowing may occur. (F) As for the compounding quantity of an adhesive provision agent, the range of 0.1-2 mass parts is more preferable with respect to 100 mass parts of (A) component.

<その他の成分>
実施形態のコーティング組成物には、前記(A)〜(F)の各成分の他に、チキソトロピー付与剤、粘度調整剤、耐熱向上剤、難燃剤等の添加剤を、本発明の効果を阻害しない範囲で、必要に応じて配合することができる。
<Other ingredients>
In addition to the components (A) to (F), additives such as a thixotropy imparting agent, a viscosity modifier, a heat resistance improver, and a flame retardant are added to the coating composition of the embodiment to inhibit the effects of the present invention. In the range not to be, it can mix | blend as needed.

なお、実施形態のコーティング組成物は、ベンゼン、トルエン、キシレン、へプタン、ヘキサン、トリクロロエチレン、塩化メチレン、酢酸エチル、エタノール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール等の有機溶剤を含有しない。有機溶剤を含有しないので、光半導体装置の支持基材等への悪影響や、作業環境の悪化を生じさせないという利点がある。   The coating composition of the embodiment does not contain an organic solvent such as benzene, toluene, xylene, heptane, hexane, trichloroethylene, methylene chloride, ethyl acetate, ethanol, isopropyl alcohol, and butyl alcohol. Since the organic solvent is not contained, there is an advantage that the adverse effect on the support base material of the optical semiconductor device and the deterioration of the working environment are not caused.

第1の実施形態のコーティング組成物は、(A)〜(F)の各成分と前記任意成分を、湿気を遮断した状態で均一に混合することにより得られる。各成分の添加順序は、特に限定されるものではないが、(A)成分を(E)成分で希釈した後に、残りの(B)成分、(C)成分、(D)成分、(F)成分およびその他任意成分を添加することが好ましい。得られた組成物は、密閉容器中でそのまま保存し、使用時に空気中の水分に曝すことによってはじめて硬化する、いわゆる1包装型室温硬化性組成物として使用することができる。また、例えば(B)架橋剤と(C)硬化触媒とを分けた組成物として調製し、適宜2〜3個の別々の容器に分けて保存し、使用時にこれらを混合する、いわゆる多包装型室温硬化性組成物として使用することもできる。   The coating composition of 1st Embodiment is obtained by mixing each component of (A)-(F) and the said arbitrary component uniformly in the state which interrupted moisture. The order of addition of each component is not particularly limited, but after the component (A) is diluted with the component (E), the remaining component (B), component (C), component (D), (F) It is preferable to add components and other optional components. The obtained composition can be used as a so-called one-packaging room temperature curable composition that is stored as it is in a closed container and cured only by exposure to moisture in the air during use. Also, for example, a so-called multi-packaging type in which (B) a crosslinking agent and (C) a curing catalyst are prepared as separate compositions, stored in appropriate two or three separate containers, and mixed at the time of use. It can also be used as a room temperature curable composition.

本発明の実施形態のコーティング組成物は、(A)末端が水酸基またはアルコキシ基で封鎖された所定の粘度を有するポリオルガノシロキサンと、(B)3官能性または4官能性のシラン化合物および/またはその部分加水分解縮合物と、(C)有機チタン化合物のような硬化触媒を所定の割合で含有しているので、PPA樹脂等の樹脂およびAg等の金属に対する接着性に優れた硬化物を形成する。また、実施形態のコーティング組成物は、硫黄化合物のような腐食性ガスを捕捉する効果が高いトリアゾール化合物を含有しているので、前記硬化物により、腐食性ガスによる銀等の金属の変色や腐食が防止される。   A coating composition according to an embodiment of the present invention includes (A) a polyorganosiloxane having a predetermined viscosity blocked with a hydroxyl group or an alkoxy group, (B) a trifunctional or tetrafunctional silane compound, and / or Because it contains a partial hydrolysis condensate and a curing catalyst such as (C) an organotitanium compound, it forms a cured product with excellent adhesion to resins such as PPA resin and metals such as Ag. To do. Further, since the coating composition of the embodiment contains a triazole compound having a high effect of trapping corrosive gas such as sulfur compound, discoloration or corrosion of metal such as silver by corrosive gas due to the cured product. Is prevented.

したがって、光半導体素子を実装した基板と、前記素子を封止する付加反応硬化型シリコーン組成物の硬化物(封止用シリコーン硬化物)とを、実施形態のコーティング組成物の硬化物(コーティング硬化物)により接着することで、基板と封止用シリコーン硬化物とが強固に接着され、かつ基板上に形成された金属電極の腐食が防止され、信頼性の高い光半導体装置が得られる。   Therefore, the substrate on which the optical semiconductor element is mounted and the cured product of the addition reaction curable silicone composition (sealing silicone cured product) that seals the device are cured with the cured product of the coating composition (coating curing). The substrate and the cured silicone cured product are firmly bonded, and corrosion of the metal electrode formed on the substrate is prevented, and a highly reliable optical semiconductor device is obtained.

また、コーティング硬化物と封止用シリコーン硬化物との密着性が良好であるので、両者の界面のクラック発生も抑制される。さらに、コーティング硬化物と封止用シリコーン硬化物との接合界面に濁りや曇りがなく、光透過性が高いので、発光効率の高い光半導体装置が得られる。   Moreover, since the adhesiveness between the cured coating and the cured silicone for sealing is good, the occurrence of cracks at the interface between them is also suppressed. Furthermore, since there is no turbidity or cloudiness at the bonding interface between the cured coating and the cured silicone for sealing, and the light transmittance is high, an optical semiconductor device with high luminous efficiency can be obtained.

なお、従来から、液晶表示装置(LCD)やプラズマディスプレイパネル(PDP)において、大気中に含まれる腐食性ガスによる電極、配線の腐食やマイグレーションを防止するためのコーティング材料として、ケイ素原子に結合する水酸基やアルコキシ基のような官能基を有するポリオルガノシロキサンと、3官能性シランのような架橋剤と、硬化触媒、および腐食防止成分であるイミダゾール化合物またはチアゾール化合物を含有する縮合反応硬化型ポリオルガノシロキサン組成物が提案されている(例えば、特開平2006−152181号公報参照。)。また、ケイ素官能基含有ポリオルガノシロキサンと、3官能性シランまたは4官能性シランと、硬化触媒と、腐食防止成分である1,2,4−トリアゾールまたはその誘導体を含有する縮合反応硬化型ポリオルガノシロキサン組成物も提案されている(例えば、特開平2006−206817号公報参照。)   Conventionally, in liquid crystal display devices (LCD) and plasma display panels (PDP), it is bonded to silicon atoms as a coating material for preventing corrosion and migration of electrodes and wiring due to corrosive gas contained in the atmosphere. Condensation reaction curable polyorgano, which contains a polyorganosiloxane having a functional group such as a hydroxyl group or an alkoxy group, a crosslinking agent such as a trifunctional silane, a curing catalyst, and an imidazole compound or thiazole compound as a corrosion inhibitor. A siloxane composition has been proposed (see, for example, JP-A-2006-152181). Also, a condensation reaction curable polyorgano, which contains a silicon functional group-containing polyorganosiloxane, a trifunctional silane or a tetrafunctional silane, a curing catalyst, and 1,2,4-triazole or a derivative thereof as a corrosion inhibitor. A siloxane composition has also been proposed (see, for example, JP-A-2006-206817).

しかしながら、これらの組成物はいずれも、電極、配線のような金属層のうえに塗布されることを前提にして、組成物自体の硬化物の気体透過性の高さに起因する金属層の腐食防止を課題とするものであり、そのような観点から、腐食防止成分として、イミダゾール化合物またはチアゾール化合物、あるいは1,2,4−トリアゾールまたはその誘導体が選択されている。そして、これらの先行技術においては、金属層に対する接着性の改善ならびに樹脂基板に対する接着性向上の技術思想は持たれていなかった。   However, all these compositions are subject to corrosion of the metal layer due to the high gas permeability of the cured product of the composition itself, assuming that the composition is applied onto the metal layer such as electrodes and wiring. From such a viewpoint, an imidazole compound or a thiazole compound, or 1,2,4-triazole or a derivative thereof has been selected from such a viewpoint. In these prior arts, there has been no technical idea of improving adhesion to a metal layer and improving adhesion to a resin substrate.

本発明のコーティング組成物は、先行技術では金属層の腐食防止成分として挙げられていないトリアゾール化合物を含有する縮合反応硬化型シリコーン組成物であり、このような組成物を、光半導体素子を実装した基板と、該素子を封止する付加反応硬化型シリコーン組成物の硬化物(封止用シリコーン硬化物)とを接着する材料として用いたものである。   The coating composition of the present invention is a condensation reaction curable silicone composition containing a triazole compound which is not listed as a corrosion preventing component for a metal layer in the prior art, and such a composition is mounted on an optical semiconductor element. The substrate is used as a material for bonding the cured product of the addition reaction curable silicone composition (sealing silicone cured product) that seals the element.

そして、シリコーン組成物の硬化物は、それが縮合反応硬化型シリコーン組成物の硬化物であっても付加反応硬化型シリコーン組成物の硬化物であっても、いずれも十分な耐熱性を有する反面、各種の金属、プラスチック、樹脂基材に対する接着性が十分でないため、硬化反応のメカニズムの異なる組成物の硬化物を積層することは、いままでに考えられていなかった。したがって、本発明において、光半導体素子を封止する付加反応硬化型シリコーン組成物の硬化物の下地層として、縮合反応硬化型のコーティング組成物の硬化物を用いる技術思想は、前記先行技術から容易に想起されるものではない。   The cured product of the silicone composition has sufficient heat resistance, whether it is a cured product of a condensation reaction curable silicone composition or a cured product of an addition reaction curable silicone composition. Since the adhesiveness to various metals, plastics, and resin base materials is not sufficient, it has not been considered to laminate cured products of compositions having different curing reaction mechanisms. Therefore, in the present invention, the technical idea of using a cured product of a condensation reaction curable coating composition as an underlayer of a cured product of an addition reaction curable silicone composition for sealing an optical semiconductor element is easy from the prior art. It is not something that is recalled.

次に、本発明の第2の実施形態の光半導体装置について説明する。この光半導体装置は、光半導体素子を実装した基板と、前記光半導体素子を封止する付加反応硬化型シリコーン組成物の硬化物(封止用シリコーン硬化物)と、前記基板上に形成され、該基板と前記封止用シリコーン硬化物とを接着するコーティング接着層とを有する。そして、コーティング接着層が、前記した第1の実施形態のコーティング組成物の硬化物(コーティング硬化物)からなることを特徴とする。   Next, an optical semiconductor device according to a second embodiment of the present invention will be described. This optical semiconductor device is formed on a substrate on which an optical semiconductor element is mounted, a cured product of an addition reaction curable silicone composition that seals the optical semiconductor element (cured silicone cured product), A coating adhesive layer for adhering the substrate and the cured silicone cured product; And a coating adhesion layer consists of hardened | cured material (coating hardened | cured material) of the coating composition of 1st Embodiment mentioned above, It is characterized by the above-mentioned.

第2の実施形態の光半導体装置を、図面を参照して説明する。図1は、光半導体装置の一例であるLEDランプの断面図である。   An optical semiconductor device according to a second embodiment will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a cross-sectional view of an LED lamp which is an example of an optical semiconductor device.

光半導体装置1は、光半導体素子としてLED2を実装した基板3と、LED2を封止する付加反応硬化型シリコーン組成物の硬化物4を有する。基板3のLED搭載面には、Ag電極のような金属電極5が形成されており、LED2の電極端子(図示を省略。)と金属電極5とはボンディングワイヤ6により電気的に接続されている。また、金属電極5を有する基板3上には、前記コーティング硬化物7が形成されており、基板3と付加反応硬化型シリコーン組成物の硬化物4とは、コーティング硬化物7により接着されている。   The optical semiconductor device 1 includes a substrate 3 on which an LED 2 is mounted as an optical semiconductor element, and a cured product 4 of an addition reaction curable silicone composition that seals the LED 2. A metal electrode 5 such as an Ag electrode is formed on the LED mounting surface of the substrate 3, and an electrode terminal (not shown) of the LED 2 and the metal electrode 5 are electrically connected by a bonding wire 6. . Moreover, the coating cured product 7 is formed on the substrate 3 having the metal electrode 5, and the substrate 3 and the cured product 4 of the addition reaction curable silicone composition are bonded by the coating cured product 7. .

基板3の構成材料としては、PPA樹脂、各種繊維強化プラスチック、セラミックス等が挙げられる。機械的強度が大きい点から、特にPPA樹脂が好ましい。   Examples of the constituent material of the substrate 3 include PPA resin, various fiber reinforced plastics, and ceramics. PPA resin is particularly preferable because of its high mechanical strength.

付加反応硬化型シリコーン組成物の硬化物4は、例えば、ビニル基含有ポリオルガノシロキサン、ポリオルガノハイドロジェンシロキサンおよび白金系触媒を含有する付加反応硬化型シリコーン組成物を硬化させることによって得られる。透明な硬化物であることが好ましい。
ここで、「透明」とは、LED2のような光半導体素子から発生する光を実質的に透過する意味であり、具体的には、前記光の透過率が90%以上であることをいう。なお、光半導体素子の封止材料の光透過率について、具体的な規定はなく、光の透過率が高いほど優位であるが、用途によっては80%程度でも使用される場合がある。
The cured product 4 of the addition reaction curable silicone composition can be obtained, for example, by curing an addition reaction curable silicone composition containing a vinyl group-containing polyorganosiloxane, polyorganohydrogensiloxane, and a platinum-based catalyst. A transparent cured product is preferred.
Here, “transparent” means that light generated from an optical semiconductor element such as the LED 2 is substantially transmitted, and specifically, means that the light transmittance is 90% or more. In addition, there is no specific prescription | regulation about the light transmittance of the sealing material of an optical semiconductor element, and it is so dominant that the light transmittance is high, but depending on a use, it may be used even about 80%.

付加反応硬化型シリコーン組成物には、任意成分として、反応抑制剤、着色剤、難燃性付与剤、耐熱性向上剤、可塑剤、補強性シリカ、接着性付与剤等を、硬化物の透明性に影響を与えない範囲で添加してもよい。また、波長調整剤として、光半導体素子からの発光により励起されて可視光を発生する蛍光物質を含有することも可能である。   The addition reaction curable silicone composition includes, as optional components, a reaction inhibitor, a colorant, a flame retardant, a heat resistance improver, a plasticizer, reinforcing silica, an adhesion promoter, etc. You may add in the range which does not affect property. Moreover, it is also possible to contain the fluorescent substance which generate | occur | produces visible light by being excited by light emission from an optical semiconductor element as a wavelength adjusting agent.

付加反応硬化型シリコーン組成物としては、硬化物の透明性、硬度、引張り強度等の物性や、コーティング硬化物との接着性、密着性等の観点から、(a)分子中にケイ素原子に結合したアルケニル基を2個以上有し、23℃における粘度が100〜100,000mPa・sであるポリオルガノシロキサンを主体にし、(b)1分子中にケイ素原子に結合した水素原子を2個以上有するポリオルガノハイドロジェンシロキサンを、前記(a)成分中のアルケニル基1個当たり、本成分中の水素原子の量が0.1〜4.0個となる量と、(c)白金系触媒の触媒量を含有する組成物が好ましい。
以下、好ましい付加反応硬化型シリコーン組成物に含有される成分について説明する。
Addition reaction curable silicone compositions include: (a) Bonded to silicon atoms in the molecule from the viewpoints of physical properties such as transparency, hardness, and tensile strength of cured products, and adhesion and adhesion to cured cured products. A polyorganosiloxane having two or more alkenyl groups having a viscosity of 100 to 100,000 mPa · s at 23 ° C., and (b) having two or more hydrogen atoms bonded to silicon atoms in one molecule. Polyorganohydrogensiloxane, an amount of 0.1 to 4.0 hydrogen atoms in this component per alkenyl group in component (a), and (c) a catalyst for a platinum-based catalyst A composition containing the amount is preferred.
Hereinafter, components contained in a preferable addition reaction curable silicone composition will be described.

<(a)成分>
(a)成分であるアルケニル基を2個以上有するポリオルガノシロキサンの分子構造としては、直鎖状、分岐状、環状などが挙げられるが、主鎖が基本的にジオルガノシロキサン単位の繰り返しからなり、分子鎖両末端がトリオルガノシロキシ基で封鎖された直鎖状のものが好ましい。
<(A) component>
The molecular structure of the polyorganosiloxane having two or more alkenyl groups as component (a) includes linear, branched, cyclic, etc., but the main chain basically consists of repeating diorganosiloxane units. A straight chain in which both ends of the molecular chain are blocked with a triorganosiloxy group is preferable.

(a)成分中のケイ素原子に結合したアルケニル基としては、ビニル基、アリル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基などの、炭素原子数が2〜8個、より好ましくは2〜4個のアルケニル基が挙げられる。特にビニル基が好ましい。(a)成分であるポリオルガノシロキサンが直鎖状である場合、アルケニル基は、分子鎖末端と中間のいずれか一方のみでケイ素原子に結合していてもよいが、分子鎖末端と中間の両方でケイ素原子に結合していてもよい。   The alkenyl group bonded to the silicon atom in the component (a) has 2 to 8 carbon atoms, more preferably 2 to 8 carbon atoms such as vinyl group, allyl group, butenyl group, pentenyl group, hexenyl group, and heptenyl group. There are 4 alkenyl groups. A vinyl group is particularly preferable. When the polyorganosiloxane as the component (a) is linear, the alkenyl group may be bonded to the silicon atom at either the molecular chain terminal or the middle, but both the molecular chain terminal and the middle And may be bonded to a silicon atom.

(a)成分中のアルケニル基以外のケイ素原子に結合する有機基としては、例えばアルキル基、特に炭素原子数1〜10のアルキル基;アリール基、特に炭素原子数6〜14のアリール基;アラルキル基;ハロゲン化アルキル基のような、非置換またはハロゲン置換の1価の炭化水素基が挙げられる。特にメチル基あるいはフェニル基が好ましい。   Examples of the organic group bonded to the silicon atom other than the alkenyl group in component (a) include, for example, an alkyl group, particularly an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms; an aryl group, particularly an aryl group having 6 to 14 carbon atoms; Group: an unsubstituted or halogen-substituted monovalent hydrocarbon group such as a halogenated alkyl group. A methyl group or a phenyl group is particularly preferable.

(a)成分の粘度(23℃)は、100〜100,000mPa・sが好ましく、特に500〜10,000mPa・sが好ましい。   The viscosity (23 ° C.) of the component (a) is preferably 100 to 100,000 mPa · s, and particularly preferably 500 to 10,000 mPa · s.

(a)成分の具体例としては、分子鎖両末端トリメチルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサン共重合体、分子鎖両末端トリメチルシロキシ基封鎖メチルビニルポリシロキサン、分子鎖両末端トリメチルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサン・メチルフェニルシロキサン共重合体、分子鎖両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン、分子鎖両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖メチルビニルポリシロキサン、分子鎖両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサン共重合体、分子鎖両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサン・メチルフェニルシロキサン共重合体、分子鎖両末端トリビニルシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサンが挙げられる。   Specific examples of the component (a) include: a trimethylsiloxy group-capped dimethylsiloxane / methylvinylsiloxane copolymer at both ends of a molecular chain, a trimethylsiloxy group-capped methylvinylpolysiloxane at both ends of a molecular chain, and a trimethylsiloxy group-capped dimethyl at both molecular chains. Siloxane / methylvinylsiloxane / methylphenylsiloxane copolymer, dimethylpolysiloxane blocked with dimethylvinylsiloxy group at both ends of molecular chain, dimethylvinylsiloxy group-blocked methylvinylpolysiloxane with molecular chain at both ends, dimethylvinylsiloxy group-blocked dimethyl with molecular chain at both ends Siloxane / methyl vinyl siloxane copolymer, both ends of molecular chain dimethyl vinyl siloxy group blocked dimethyl siloxane / methyl vinyl siloxane / methyl phenyl siloxane copolymer, tri chain siloxy at both ends of molecular chain Blocked dimethylpolysiloxane.

<(b)成分>
(b)成分であるポリオルガノハイドロジェンシロキサンは、前記(a)成分の架橋剤として作用する。(b)成分の分子構造に特に制限はなく、直鎖状、環状、分岐状などのポリオルガノハイドロジェンシロキサンを使用することができる。また、三次元網目状(樹脂状)のポリオルガノハイドロジェンシロキサンの使用も可能である。
<(B) component>
The polyorganohydrogensiloxane as component (b) acts as a crosslinking agent for component (a). There is no restriction | limiting in particular in the molecular structure of (b) component, Polyorganohydrogensiloxane, such as linear, cyclic, and branched, can be used. It is also possible to use a three-dimensional network (resin-like) polyorganohydrogensiloxane.

(b)成分のポリオルガノハイドロジェンシロキサンは、1分子中に2個以上好ましくは3個以上の、ケイ素原子に結合した水素原子すなわちヒドロシリル基(Si−H基)を有する。(b)成分であるポリオルガノハイドロジェンシロキサンが直鎖状である場合、Si−H基は分子鎖末端と中間部のいずれか一方のみに位置していても、その両方に位置していてもよい。(b)成分の1分子中のケイ素原子の数(重合度)は2〜1,000であり、より好ましくは3〜100である。   The polyorganohydrogensiloxane of component (b) has 2 or more, preferably 3 or more hydrogen atoms bonded to silicon atoms, that is, hydrosilyl groups (Si-H groups) in one molecule. When the polyorganohydrogensiloxane as the component (b) is linear, the Si-H group may be located only at one of the molecular chain terminal or the middle part, or may be located at both of them. Good. The number (degree of polymerization) of silicon atoms in one molecule of the component (b) is 2 to 1,000, more preferably 3 to 100.

(b)成分の具体例としては、分子鎖両末端トリメチルシロキシ基封鎖メチルハイドロジェンポリシロキサン、分子鎖両末端トリメチルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルハイドロジェンシロキサン共重合体、分子鎖両末端トリメチルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルハイドロジェンシロキサン・メチルフェニルシロキサン共重合体、分子鎖両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン、分子鎖両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン・メチルハイドロジェンシロキサン共重合体、分子鎖両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルフェニルシロキサン共重合体、分子鎖両末端ジメチルハイドロジエンシロキシ基封鎖メチルフェニルポリシロキサンが挙げられる。   Specific examples of the component (b) include molecular chain both ends trimethylsiloxy group-capped methylhydrogenpolysiloxane, molecular chain both ends trimethylsiloxy group-capped dimethylsiloxane / methylhydrogensiloxane copolymer, molecular chain both ends trimethylsiloxy group. Blocked dimethylsiloxane / methylhydrogensiloxane / methylphenylsiloxane copolymer, dimethylhydrogensiloxy group-blocked dimethylpolysiloxane at both molecular chain ends, dimethylpolysiloxane / methylhydrogensiloxane copolymer blockade at both ends of molecular chain dimethylhydrogensiloxy group Combined, dimethylhydrogensiloxy group-blocked dimethylsiloxane / methylphenylsiloxane copolymer at both ends of molecular chain, dimethylhydrosiloxy group-blocked methylphenyl at both ends of molecular chain Include the polysiloxane.

(b)成分であるポリオルガノハイドロジェンシロキサンの配合量は、上記(a)成分の硬化有効量であり、特に(b)成分の有するSi−H基が(a)成分中のアルケニル基(例えばビニル基)の1個当たり0.1〜4.0個、より好ましくは1.0〜3.0個の割合となるような配合量で使用される。0.1個未満では硬化反応が進行せず、硬化物を得ることが困難になるおそれがあり、4.0個を超えると、未反応のSi−H基が硬化物中に多量に残存するため、硬化物の物性が経時的に変化するおそれがある。   The blending amount of the polyorganohydrogensiloxane as the component (b) is the effective curing amount of the component (a), and in particular, the Si-H group of the component (b) is an alkenyl group in the component (a) (for example, (Vinyl group) is used at a blending amount of 0.1 to 4.0, more preferably 1.0 to 3.0. If it is less than 0.1, the curing reaction does not proceed, and it may be difficult to obtain a cured product. If it exceeds 4.0, a large amount of unreacted Si—H groups remain in the cured product. Therefore, the physical properties of the cured product may change over time.

<(c)成分>
(c)成分である白金系触媒は、(a)成分中のアルケニル基と(b)成分中のSi−H基との付加反応(ヒドロシリル化反応)を促進する触媒である。(c)成分としては、塩化白金酸、塩化白金酸のアルコール溶液、オレフィン類やビニル基含有シロキサンまたはアセチレン化合物を配位子として有する白金錯体などを使用することができる。
<(C) component>
The platinum-based catalyst as the component (c) is a catalyst that promotes the addition reaction (hydrosilylation reaction) between the alkenyl group in the component (a) and the Si—H group in the component (b). As the component (c), chloroplatinic acid, an alcohol solution of chloroplatinic acid, a platinum complex having an olefin, a vinyl group-containing siloxane, or an acetylene compound as a ligand can be used.

(c)成分の配合量は、ヒドロシリル化反応の触媒として有効な量であれば特に限定されない。(a)成分と(b)成分の合計量に対して、白金元素に換算して0.1〜1,000ppm、より好ましくは1〜500ppm、さらに好ましくは1〜20ppmの範囲とする。配合量がこの範囲にある場合には、付加反応が促進される結果十分な硬化が得られ、かつ経済的に有利である。   The amount of component (c) is not particularly limited as long as it is an amount effective as a catalyst for the hydrosilylation reaction. The total amount of the component (a) and the component (b) is 0.1 to 1,000 ppm, more preferably 1 to 500 ppm, and still more preferably 1 to 20 ppm in terms of platinum element. When the blending amount is within this range, sufficient curing is obtained as a result of acceleration of the addition reaction, which is economically advantageous.

付加反応硬化型シリコーン組成物には、前記(a)〜(c)の各成分以外に、接着性付与剤を配合することができる。接着性付与剤としては、前記第1の実施形態のコーティング組成物に含有可能な(F)接着性付与剤として記載された、ジアルコキシシリルプロピル基またはトリアルコキシシリルプロピル基を有するイソシアヌレート化合物が挙げられる。また、イソシアヌレート化合物以外の接着性付与剤として記載された、置換または非置換のアミノ基含有シラン、エポキシ基含有シラン、イソシアナト基含有シラン、(メタ)アクリロキシ基含有シラン、メルカプト基含有シラン、およびハロゲン原子含有シランも含有することができる。   In addition to the components (a) to (c), an adhesion-imparting agent can be added to the addition reaction curable silicone composition. As the adhesion imparting agent, the isocyanurate compound having a dialkoxysilylpropyl group or trialkoxysilylpropyl group described as the (F) adhesion imparting agent that can be contained in the coating composition of the first embodiment is used. Can be mentioned. Further, substituted or unsubstituted amino group-containing silanes, epoxy group-containing silanes, isocyanato group-containing silanes, (meth) acryloxy group-containing silanes, mercapto group-containing silanes described as adhesiveness-imparting agents other than isocyanurate compounds, and Halogen atom-containing silanes can also be included.

さらに、付加反応硬化型シリコーン組成物には、必要に応じて公知の添加剤を配合することができる。例えば、ヒュームドシリカなどの補強性充填剤、炭酸カルシウム、ケイ酸カルシウム、二酸化チタン、酸化第二鉄、カーボンブラック、酸化亜鉛などの非補強性充填剤、蛍光物質のような波長調整剤を、本発明の目的を損なわない範囲で適宜配合することができる。ヒュームドシリカ、波長調整剤などの配合が好ましい。   Furthermore, a well-known additive can be mix | blended with an addition reaction curable silicone composition as needed. For example, reinforcing fillers such as fumed silica, non-reinforcing fillers such as calcium carbonate, calcium silicate, titanium dioxide, ferric oxide, carbon black, zinc oxide, wavelength adjusting agents such as fluorescent substances, It can mix | blend suitably in the range which does not impair the objective of this invention. Blends such as fumed silica and wavelength adjusting agents are preferred.

この付加反応硬化型シリコーン組成物は、上述した各成分を均一に混合することによって調製されるが、反応抑制剤の添加により任意に硬化性を調整することができる。硬化反応の抑制剤としては、3−メチル−1−ブチン−3−オール、2−フェニル−3−ブチン−2−オールのようなアセチレンアルコール、およびマレイン酸ジアリルのようなマレイン酸誘導体が挙げられる。このような反応抑制剤を使用することで、1液として用いることができる。   This addition reaction curable silicone composition is prepared by uniformly mixing the above-mentioned components, but the curability can be arbitrarily adjusted by adding a reaction inhibitor. Curing reaction inhibitors include acetylene alcohols such as 3-methyl-1-butyn-3-ol, 2-phenyl-3-butyn-2-ol, and maleic acid derivatives such as diallyl maleate. . By using such a reaction inhibitor, it can be used as one liquid.

また、硬化が進行しないように2液に分けて保存し、使用時に2液を混合して硬化を行うこともできる。2液混合タイプでは、脱水素反応の危険性の点から、(b)成分であるポリオルガノハイドロジェンシロキサンと(c)成分である白金系触媒を同一の包袋とすることは避ける必要がある。
こうして得られる付加反応硬化型シリコーン組成物の粘度は、23℃において回転粘度計で測定した値として、100〜50,000mPa・sが好ましく、特に300〜10,000mPa・sが好ましい。
Moreover, it can also be divided and stored in two liquids so that curing does not proceed, and the two liquids can be mixed and cured during use. In the case of the two-component mixing type, it is necessary to avoid using the same packaging for the polyorganohydrogensiloxane (b) component and the platinum catalyst (c) component because of the risk of dehydrogenation reaction. .
The viscosity of the addition reaction curable silicone composition thus obtained is preferably 100 to 50,000 mPa · s, particularly preferably 300 to 10,000 mPa · s, as measured by a rotational viscometer at 23 ° C.

付加反応硬化型シリコーン組成物は、必要に応じて加熱することにより硬化する。硬化条件は特に制限されるものではないが、通常40〜200℃、好ましくは60〜170℃で1分〜10時間、好ましくは30分〜6時間程度で硬化する。   The addition reaction curable silicone composition is cured by heating as necessary. The curing conditions are not particularly limited, but are usually cured at 40 to 200 ° C., preferably 60 to 170 ° C. for 1 minute to 10 hours, preferably about 30 minutes to 6 hours.

図2に示す光半導体装置1の製造は、以下の方法で行われる。すなわち、予めAgメッキによりAg電極などの金属電極5が形成された基板3に、LED2などの光半導体素子を接着剤で接合し、ワイヤボンディングによりLED2の電極端子(不図示)と金属電極5とを電気的に接続しておく。次いで、LED2が実装された基板3を必要に応じて清浄にしてから、基板3上に公知の塗布装置を用いてコーティング組成物を塗布した後、室温で硬化させて、好ましくは500μm以下、より好ましくは50〜300μmの厚さのコーティング硬化物7を形成する。その後、このコーティング硬化物7の上に、付加反応硬化型シリコーン組成物をディスペンサー等で塗布し、室温で放置または加熱硬化させて、LED2を封止する付加反応硬化型シリコーン組成物の硬化物4を形成する。   The optical semiconductor device 1 shown in FIG. 2 is manufactured by the following method. That is, an optical semiconductor element such as an LED 2 is bonded to a substrate 3 on which a metal electrode 5 such as an Ag electrode is previously formed by Ag plating, and an electrode terminal (not shown) of the LED 2 and the metal electrode 5 are bonded by wire bonding. Are electrically connected. Next, after the substrate 3 on which the LED 2 is mounted is cleaned as necessary, a coating composition is applied onto the substrate 3 using a known coating apparatus, and then cured at room temperature, preferably 500 μm or less, more Preferably, the cured coating 7 having a thickness of 50 to 300 μm is formed. Thereafter, an addition reaction curable silicone composition is applied onto the coating cured product 7 with a dispenser or the like, and left or heated and cured at room temperature to seal the LED 2. Form.

こうして、本発明のコーティング組成物を用いて、LED等の光半導体素子を実装した基板上にコーティング硬化物を形成し、その上に付加反応硬化型シリコーン組成物の硬化物(封止用シリコーン硬化物)を形成することで、基板と封止用シリコーン硬化物とを良好に接着することができる。また、コーティング硬化物と封止用シリコーン硬化物との密着性が良好であり、界面等にクラックの発生もないので、信頼性の高い光半導体装置、特にLEDランプを得ることができる。   Thus, using the coating composition of the present invention, a cured coating is formed on a substrate on which an optical semiconductor element such as an LED is mounted, and a cured product of an addition reaction curable silicone composition (a cured silicone for sealing). By forming the product, the substrate and the cured silicone cured product can be favorably bonded. Moreover, since the adhesiveness between the cured coating and the cured silicone for sealing is good and cracks are not generated at the interface or the like, a highly reliable optical semiconductor device, particularly an LED lamp can be obtained.

また、LEDランプが過酷な外部環境に曝されて、大気中の腐食性ガスが封止用シリコーン硬化物の内部を透過しても、本発明のコーティング硬化物により腐食性ガスが捕捉されるため、基板上の金属電極(Ag電極)の腐食が抑制される。   Further, even if the LED lamp is exposed to a harsh external environment and corrosive gas in the air permeates through the inside of the silicone cured product for sealing, the corrosive gas is captured by the cured coating product of the present invention. Corrosion of the metal electrode (Ag electrode) on the substrate is suppressed.

なお、上記実施形態では、光半導体素子の一例としてLEDを用いて説明したが、これ以外に、例えばフォトトランジスタ、フォトダイオード、CCD、太陽電池モジュール、EPROM、フォトカプラなどに適用することもできる。   In the above-described embodiment, the LED is used as an example of the optical semiconductor element. However, the present invention can be applied to, for example, a phototransistor, a photodiode, a CCD, a solar cell module, an EPROM, and a photocoupler.

以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されない。なお、「部」とあるのはいずれも「質量部」を表し、粘度は23℃、相対湿度50%における値である。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example is given and this invention is demonstrated concretely, this invention is not limited to these Examples. Note that “part” means “part by mass”, and the viscosity is a value at 23 ° C. and a relative humidity of 50%.

実施例1
(A1)分子鎖両末端がトリメトキシシロキシ基で封鎖されたポリジメチルシロキサン(以下、α,ω−ビス(トリメトキシシロキシ)ポリジメチルシロキサンともいう。)(粘度100mPa・s)52.6部と、(A2)分子鎖両末端がトリメトキシシロキシ基で封鎖されたα,ω−ビス(トリメトキシシロキシ)ポリジメチルシロキサン(粘度700mPa・s)22.5部との混合物に、(E)分子鎖両末端がトリメチルシロキシ基で封鎖されたポリジメチルシロキサン(粘度50mPa・s)15.0部、(B)メチルトリメトキシシラン7.5部、(C)ジイソプロポキシ−ビス(エチルアセトアセテート)チタン2.25部、(F)1,3,5−トリス(N−トリメトキシシリルプロピル)イソシアヌレート0.15部、および(D1)1,2,3−ベンゾトリアゾール0.1部を加え、湿気遮断下で均一になるまで混合し、コーティング組成物を得た。
Example 1
(A1) 52.6 parts of polydimethylsiloxane blocked at both ends of the molecular chain with a trimethoxysiloxy group (hereinafter also referred to as α, ω-bis (trimethoxysiloxy) polydimethylsiloxane) (viscosity 100 mPa · s) (A2) In a mixture with 22.5 parts of α, ω-bis (trimethoxysiloxy) polydimethylsiloxane (viscosity 700 mPa · s) blocked at both ends of the molecular chain with a trimethoxysiloxy group, (E) molecular chain Polydimethylsiloxane (viscosity 50 mPa · s) 15.0 parts blocked at both ends with trimethylsiloxy groups, (B) 7.5 parts of methyltrimethoxysilane, (C) diisopropoxy-bis (ethylacetoacetate) titanium 2.25 parts, (F) 1,3,5-tris (N-trimethoxysilylpropyl) isocyanurate 0.15 parts, and (D 1) 0.1 part of 1,2,3-benzotriazole was added and mixed under moisture blocking until uniform to obtain a coating composition.

実施例2〜4
表1に示す各成分を同表に示す組成で配合し、実施例1と同様に混合してコーティング組成物を得た。
Examples 2-4
Each component shown in Table 1 was blended in the composition shown in the same table and mixed in the same manner as in Example 1 to obtain a coating composition.

比較例1
(D)成分((D1)1,2,3−ベンゾトリアゾールおよび(D2)1,2,4−トリアゾール)を未配合とし、表1に示す各成分を同表に示す組成で配合した。そして、実施例1と同様に混合してコーティング組成物を得た。
Comparative Example 1
Component (D) ((D1) 1,2,3-benzotriazole and (D2) 1,2,4-triazole) was not blended, and each component shown in Table 1 was blended in the composition shown in the same table. And it mixed similarly to Example 1 and obtained the coating composition.

実施例1〜4および比較例1で得られたコーティング組成物について、以下に示す試験を行い、特性を測定し評価した。結果を表1に示す。   About the coating composition obtained in Examples 1-4 and Comparative Example 1, the test shown below was done and the characteristic was measured and evaluated. The results are shown in Table 1.

[接着性試験]
実施例1〜4および比較例1で得られたコーティング組成物を、2枚の基板の上にそれぞれ0.1mm(100μm)の厚さに塗布し、23℃、50%RHの雰囲気中に3日間放置して硬化させた。次いで、図2に示すように、硬化膜が形成された1対の基板11,12に、付加反応硬化型シリコーンゴム組成物(モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製、商品名:TSE3033)を1mm厚で挟み込むように塗布した(接着面積25mm×10mm)後、150℃で1時間加熱して硬化させ、硬化物層13を形成した。こうして、接着性試験用のテストピースを作製した。
[Adhesion test]
The coating compositions obtained in Examples 1 to 4 and Comparative Example 1 were each applied to two substrates to a thickness of 0.1 mm (100 μm), and 3 in an atmosphere of 23 ° C. and 50% RH. It was left for days to cure. Next, as shown in FIG. 2, an addition reaction curable silicone rubber composition (product name: TSE3033, manufactured by Momentive Performance Materials, Inc.) is 1 mm thick on a pair of substrates 11 and 12 on which a cured film is formed. After being applied so as to be sandwiched between (adhesive area 25 mm × 10 mm), it was cured by heating at 150 ° C. for 1 hour to form a cured product layer 13. Thus, a test piece for adhesion test was produced.

なお、基板11,12としては、PPA樹脂基板(ソルベイスペシャルティポリマーズジャパン株式会社製、商品名:アモデル)と、エポキシガラス基板(新神戸電気株式会社製、商品名:エポキシガラスKFL−GES)を使用した。   As the substrates 11 and 12, a PPA resin substrate (manufactured by Solvay Specialty Polymers Japan Co., Ltd., trade name: Amodel) and an epoxy glass substrate (manufactured by Shin-Kobe Electric Co., Ltd., trade name: epoxy glass KFL-GES) were used. .

次いで、作製されたテストピースの基板11,12を、引っ張り試験機(島津製作所製、オートグラフ)を用いて矢印方向(図2参照)に引張速度10mm/分で引っ張り、2枚の基板11,12を引き剥がした。そして、引き剥がされた基板11,12表面の硬化物層13における凝集破壊(シリコーンゴムの部分で破断)した部分の比率を、凝集破壊率として測定した。凝集破壊率80%以上を○、凝集破壊率40〜80%を△、凝集破壊率40%以下を×と評価した。   Next, the substrates 11 and 12 of the produced test pieces were pulled at a tensile speed of 10 mm / min in the direction of the arrow (see FIG. 2) using a tensile tester (manufactured by Shimadzu Corporation, Autograph). 12 was peeled off. And the ratio of the part which carried out the cohesive failure (breaking in the part of silicone rubber) in the hardened | cured material layer 13 of the board | substrates 11 and 12 peeled off was measured as a cohesive failure rate. The cohesive failure rate of 80% or more was evaluated as ◯, the cohesive failure rate of 40-80% was evaluated as Δ, and the cohesive failure rate of 40% or less was evaluated as ×.

[腐食性試験]
実施例1〜4および比較例1で得られたコーティング組成物を、銀メッキ板上に0.1mm(100μm)の厚さに塗布し、23℃、50%RHの雰囲気中に3日間放置して硬化させた。次いで、硬化膜の上に付加反応硬化型シリコーンゴム組成物(TSE3033)を0.1mm(100μm)の厚さで塗布した後、150℃で1時間加熱して硬化させ、テストピースを作製した。
[Corrosion test]
The coating compositions obtained in Examples 1 to 4 and Comparative Example 1 were applied to a thickness of 0.1 mm (100 μm) on a silver plated plate and left in an atmosphere of 23 ° C. and 50% RH for 3 days. And cured. Next, an addition reaction curable silicone rubber composition (TSE3033) was applied to a thickness of 0.1 mm (100 μm) on the cured film, and then cured by heating at 150 ° C. for 1 hour to prepare a test piece.

次いで、作製されたテストピースを、硫黄結晶0.1gとともに100ccのガラス瓶中に密閉し、70℃で放置した。そして、所定の時間後(1日後、7日後、14日後)に、硬化膜およびシリコーンゴム層を剥がし、銀メッキ板表面の腐食(変色)の程度を目視で観察した。銀メッキ板表面に腐食および変色が全くなしを○、多少の腐食(変色)ありを△、黒変ありを×と評価した。   Next, the produced test piece was sealed in a 100 cc glass bottle together with 0.1 g of sulfur crystals and left at 70 ° C. Then, after a predetermined time (1 day, 7 days, 14 days), the cured film and the silicone rubber layer were peeled off, and the degree of corrosion (discoloration) on the surface of the silver-plated plate was visually observed. The surface of the silver-plated plate was evaluated as ○ when there was no corrosion and discoloration, Δ when there was some corrosion (discoloration), and × when there was black discoloration.

[接合界面の密着性]
実施例1〜4および比較例1で得られたコーティング組成物を、PPA樹脂基板の上に100μm厚で塗布し、23℃、50%RHの雰囲気中に3日間放置して硬化させた後、こうして形成された硬化膜の上に、付加反応硬化型シリコーンゴム組成物(TSE3033)を1mm厚で塗布し、150℃で1時間加熱して硬化させた。次いで、こうして形成されたシリコーンゴム硬化層の上から、下地のコーティング組成物の硬化膜との界面を目視で観察した。シリコーンゴム硬化層と下地硬化膜との接合界面の密着性が良好なものを○、剥離やクラックがあり密着性が不良のものを×と評価した。また、シリコーンゴム硬化層の上から肉眼で観察し、シリコーンゴム硬化層を透して下地の硬化膜がはっきりと見えるものを○(Clear)、下地の硬化膜が曇ってまたは濁って見えるあるものを×(Hazy)、下地の硬化膜がわずかに曇って見えるものを△と評価した。
[Adhesion of bonding interface]
The coating compositions obtained in Examples 1 to 4 and Comparative Example 1 were applied on a PPA resin substrate at a thickness of 100 μm and allowed to cure in an atmosphere of 23 ° C. and 50% RH for 3 days. On the cured film thus formed, an addition reaction curable silicone rubber composition (TSE3033) was applied in a thickness of 1 mm and cured by heating at 150 ° C. for 1 hour. Subsequently, the interface between the thus formed silicone rubber cured layer and the cured film of the underlying coating composition was visually observed. The case where the adhesiveness at the bonding interface between the cured silicone rubber layer and the underlying cured film was good was evaluated as ◯, and the case where there was peeling or cracking and the adhesiveness was poor was evaluated as ×. In addition, when the cured silicone rubber layer is observed with the naked eye and the cured silicone rubber layer is clearly visible through the cured silicone rubber layer, ○ (Clear), the underlying cured film appears cloudy or cloudy X (Hazy), and the case where the underlying cured film appeared slightly cloudy was evaluated as Δ.

Figure 2018060856
Figure 2018060856

比較例2
銀メッキ板上に、コーティング組成物を塗布することなく、付加反応硬化型シリコーンゴム組成物(TSE3033)を1mm厚で塗布し、150℃で1時間加熱して硬化させて、テストピースを作製した。そして、こうして作製されたテストピースに対して前記腐食性試験を行った。結果を表2に示す。
なお、このテストピースについて、シリコーンゴム硬化層を上から目視で観察したところ、基板との界面まで透明(Clear)であった。
Comparative Example 2
On the silver-plated plate, an addition reaction curable silicone rubber composition (TSE3033) was applied at a thickness of 1 mm without applying a coating composition, and cured by heating at 150 ° C. for 1 hour to prepare a test piece. . And the said corrosivity test was done with respect to the test piece produced in this way. The results are shown in Table 2.
In addition, when this silicone rubber cured layer was visually observed from above, it was transparent to the interface with the substrate.

比較例3
メタクリル酸メチル83部、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン17部、IPA(イソプロピルアルコール)と酢酸エチルの混合溶剤200部、AIBN(2,2´−アゾビスイソブチロニトリル)0.5部を80℃で3時間加熱撹拌し、メタクリル酸メチル重合体を含有する溶液を調製した。
Comparative Example 3
83 parts of methyl methacrylate, 17 parts of γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 200 parts of a mixed solvent of IPA (isopropyl alcohol) and ethyl acetate, 0.5 part of AIBN (2,2′-azobisisobutyronitrile) The mixture was heated and stirred at 80 ° C. for 3 hours to prepare a solution containing a methyl methacrylate polymer.

次いで、こうして得られたメタクリル酸メチル重合体含有溶液300部を、IPA、酢酸エチルおよびトルエンの混合溶剤1800部で希釈した後、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン25部、塩化白金酸のアルコール溶液(Pt含有量1.8%)11部(白金量として92ppm)、テトラ−n−ブチルチタネート11部を添加、撹拌し、プライマー組成物を得た。   Next, after 300 parts of the methyl methacrylate polymer-containing solution thus obtained was diluted with 1800 parts of a mixed solvent of IPA, ethyl acetate and toluene, 25 parts of γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane and alcohol of chloroplatinic acid were used. 11 parts of a solution (Pt content 1.8%) (92 ppm as platinum amount) and 11 parts of tetra-n-butyl titanate were added and stirred to obtain a primer composition.

実施例1で得られたコーティング組成物の代わりに、上記プライマー組成物を使用し、実施例1と同様にテストピースを作製した。   A test piece was prepared in the same manner as in Example 1 by using the above-described primer composition instead of the coating composition obtained in Example 1.

比較例4〜6
実施例1で得られたコーティング組成物の代わりに、以下のコーティング材料を使用し、実施例1と同様にテストピースを作製した。
比較例4では、ポリオレフィン樹脂を主体とする有機溶剤タイプのプリント基板用コーティング材Hemiseal1B51(エア・ブラウン株式会社製)、比較例5では、ポリウレタン樹脂を主体とする有機溶剤タイプのプリント基板用コーティング材Hemiseal1A27NS(エア・ブラウン株式会社製)、比較例6では、アクリル樹脂を主体とする有機溶剤タイプのプリント基板用コーティング材Hemiseal1B73(エア・ブラウン株式会社製)をそれぞれ使用した。
Comparative Examples 4-6
Instead of the coating composition obtained in Example 1, the following coating materials were used, and test pieces were produced in the same manner as in Example 1.
In Comparative Example 4, organic solvent type printed circuit board coating material Hemiseal 1B51 (Air Brown Co., Ltd.) mainly composed of polyolefin resin, and in Comparative Example 5, organic solvent type printed circuit board coating material mainly composed of polyurethane resin. In Hemiseal 1A27NS (Air Brown Co., Ltd.) and Comparative Example 6, an organic solvent type printed circuit board coating material Hemiseal 1B73 (Air Brown Co., Ltd.) mainly composed of acrylic resin was used.

比較例3〜6で作製されたテストピースに対して、前記の方法で接着性試験と腐食性試験を行った。また、比較例3では、シリコーンゴム硬化層と基板との接合界面の密着性および基板の見え方を、比較例4〜6では、コーティング材の被膜とシリコーンゴム硬化層との接合界面の密着性および下地である被膜の見え方を、それぞれ前記と同様にして調べた。結果を表2に示す。   The test pieces produced in Comparative Examples 3 to 6 were subjected to an adhesion test and a corrosive test by the above methods. In Comparative Example 3, the adhesion at the bonding interface between the cured silicone rubber layer and the substrate and the appearance of the substrate are shown. In Comparative Examples 4 to 6, the adhesion at the bonding interface between the coating film of the coating material and the cured silicone rubber layer. The appearance of the coating film as the base was examined in the same manner as described above. The results are shown in Table 2.

Figure 2018060856
Figure 2018060856

表1および表2から、以下のことがわかる。
すなわち、(A)分子鎖末端がアルコキシ基で封鎖された粘度が20〜1,000,000mPa・sのポリオルガノシロキサンを主体とし、(B)3官能性または4官能性のシラン化合物および/またはその部分加水分解縮合物と、(C)硬化触媒および(D)トリアゾール化合物を所定の割合で含有する実施例1〜4のコーティング組成物は、その硬化物(コーティング硬化物)が、PPA樹脂等の基板と付加反応硬化型シリコーンゴム組成物の硬化物(シリコーンゴム硬化層)とを強固に接着するうえに、コーティング硬化物とシリコーンゴム硬化層との密着性および接着性が良好である。また、コーティング硬化物とシリコーンゴム硬化層との接合界面に濁りや曇りがなく、界面の光透過性が高い。さらに、実施例1〜4のコーティング組成物の硬化物により、銀メッキ板の腐食性ガスによる十分に腐食が防止されることがわかる。
From Table 1 and Table 2, the following can be understood.
That is, (A) a polyorganosiloxane having a molecular chain terminal blocked with an alkoxy group and having a viscosity of 20 to 1,000,000 mPa · s as a main component, and (B) a trifunctional or tetrafunctional silane compound and / or The coating compositions of Examples 1 to 4 containing the partially hydrolyzed condensate, (C) a curing catalyst, and (D) a triazole compound at a predetermined ratio, the cured product (coating cured product) is a PPA resin or the like In addition to firmly bonding the substrate and the cured product (silicone rubber cured layer) of the addition reaction curable silicone rubber composition, the adhesion and adhesion between the cured coating and the cured silicone rubber layer are good. In addition, there is no turbidity or cloudiness at the bonding interface between the cured cured product and the silicone rubber cured layer, and the light transmittance of the interface is high. Furthermore, it turns out that corrosion by the corrosive gas of a silver plating board is fully prevented by the hardened | cured material of the coating composition of Examples 1-4.

それに対して、トリアゾール化合物を含有しない縮合反応硬化型シリコーン組成物である比較例1のコーティング組成物を使用した場合には、PPA樹脂基板とシリコーンゴム硬化層との接着性が悪く、また銀メッキ板の腐食防止が不十分である。さらに、コーティング硬化物とシリコーンゴム硬化層との接合界面に若干濁りまたは曇りがあり、界面の光透過性が低くなっている。   On the other hand, when the coating composition of Comparative Example 1 which is a condensation reaction curable silicone composition containing no triazole compound is used, the adhesion between the PPA resin substrate and the silicone rubber cured layer is poor, and silver plating is used. Insufficient corrosion prevention of the plate. Furthermore, there is some turbidity or cloudiness at the bonding interface between the cured cured product and the cured silicone rubber layer, and the light transmittance at the interface is low.

また、銀メッキ板上に実施例のコーティング組成物を塗布することなく、直接シリコーンゴム硬化層を形成した比較例2では、銀メッキ板表面に著しい腐食および変色が生じている。   Further, in Comparative Example 2 in which the silicone rubber cured layer was directly formed without applying the coating composition of the example on the silver plated plate, significant corrosion and discoloration occurred on the surface of the silver plated plate.

実施例のコーティング組成物に代わり、アクリル系のプライマー組成物を用いた比較例3、およびアクリル樹脂を主体とするコーティング材を用いた比較例6では、シリコーンゴム硬化層と基板との接着性は良好であるが、銀メッキ板の腐食防止は不十分であり、時間の経過とともに銀メッキ板の表面に腐食や変色が生じている。また、シリコーンゴム硬化層と基板またはコーティング材層との界面に濁りや曇りがあり、光透過性の低下が生じている。   In Comparative Example 3 using an acrylic primer composition instead of the coating composition of Example and Comparative Example 6 using a coating material mainly composed of an acrylic resin, the adhesion between the cured silicone rubber layer and the substrate is Although good, the corrosion prevention of the silver-plated plate is insufficient, and corrosion and discoloration have occurred on the surface of the silver-plated plate over time. Further, the interface between the cured silicone rubber layer and the substrate or coating material layer is cloudy or cloudy, resulting in a decrease in light transmission.

さらに、実施例のコーティング組成物に代わり、ポリオレフィン樹脂を主体とするコーティング材を用いた比較例4、およびポリウレタン樹脂を主体とするコーティング材を用いた比較例5では、銀メッキ板の腐食防止が不十分であり、銀メッキ板の表面に腐食および変色が生じている。また、コーティング材層とシリコーンゴム硬化層との界面に濁りや曇りがあり、界面の光透過性が低くなっている。   Furthermore, in Comparative Example 4 using a coating material mainly composed of a polyolefin resin instead of the coating composition of the example, and in Comparative Example 5 using a coating material mainly composed of a polyurethane resin, corrosion prevention of the silver plated plate is prevented. It is insufficient, and corrosion and discoloration occur on the surface of the silver-plated plate. Further, the interface between the coating material layer and the silicone rubber cured layer is cloudy or cloudy, and the light transmittance at the interface is low.

本発明のコーティング組成物によれば、光半導体素子を実装した基板と、光半導体素子を封止する付加反応硬化型シリコーン組成物の硬化物とを良好に接着することができ、基板上に形成された金属電極の腐食を防止し、高発光効率で信頼性の高い光半導体装置を提供することができる。   According to the coating composition of the present invention, the substrate on which the optical semiconductor element is mounted and the cured product of the addition reaction curable silicone composition for sealing the optical semiconductor element can be satisfactorily adhered to each other, and formed on the substrate. Therefore, it is possible to provide an optical semiconductor device that prevents corrosion of the formed metal electrode and has high luminous efficiency and high reliability.

1…光半導体装置、2…LED、3…基板、4…付加反応硬化型シリコーン組成物の硬化物、5…金属電極、6…ボンディングワイヤ、7…コーティング硬化物。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Optical semiconductor device, 2 ... LED, 3 ... Board | substrate, 4 ... Hardened | cured material of addition reaction hardening type silicone composition, 5 ... Metal electrode, 6 ... Bonding wire, 7 ... Coating hardened | cured material.

Claims (10)

(A)分子鎖末端が水酸基またはアルコキシ基で封鎖され、23℃における粘度が20〜1,000,000mPa・sであるポリオルガノシロキサン100質量部と、
(B)一般式:R Si(OR4−n………(1)
(式中、Rは同一または異なる置換もしくは非置換の1価の炭化水素基であり、Rは同一または異なる非置換の1価の炭化水素基である。nは0または1である。)で表される3官能性または4官能性のシラン化合物、および/またはその部分加水分解縮合物0.1〜20質量部と、
(C)硬化触媒0.01〜15質量部と、
(D)トリアゾール化合物0.0001〜10質量部
を含有する組成物であり、
該組成物の硬化物が、光半導体素子を実装した基板と、前記光半導体素子を封止する付加反応硬化型ポリオルガノシロキサン組成物の硬化物とを接着することを特徴とするコーティング組成物。
(A) 100 parts by mass of a polyorganosiloxane whose molecular chain terminal is blocked with a hydroxyl group or an alkoxy group and has a viscosity at 23 ° C. of 20 to 1,000,000 mPa · s;
(B) General formula: R 1 n Si (OR 2 ) 4-n (1)
Wherein R 1 is the same or different substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group, R 2 is the same or different unsubstituted monovalent hydrocarbon group, and n is 0 or 1. 0.1 to 20 parts by mass of a trifunctional or tetrafunctional silane compound and / or a partially hydrolyzed condensate thereof,
(C) 0.01-15 parts by mass of a curing catalyst;
(D) a composition containing 0.0001 to 10 parts by mass of a triazole compound,
A cured composition of the composition adheres a substrate on which an optical semiconductor element is mounted and a cured product of an addition reaction curable polyorganosiloxane composition that seals the optical semiconductor element.
前記(D)トリアゾール化合物が、1,2,3−ベンゾトリアゾールまたはその誘導体であることを特徴とする請求項1記載のコーティング組成物。   The coating composition according to claim 1, wherein the (D) triazole compound is 1,2,3-benzotriazole or a derivative thereof. 有機溶剤を含有しないことを特徴とする請求項1または2記載のコーティング組成物。   The coating composition according to claim 1 or 2, which does not contain an organic solvent. 光半導体素子を実装した基板と、前記光半導体素子を封止する付加反応硬化型ポリオルガノシロキサン組成物の硬化物と、前記基板上に形成され、該基板と前記付加反応硬化型ポリオルガノシロキサン組成物の硬化物とを接着するコーティング接着層とを有する光半導体装置であり、
前記コーティング接着層が、請求項1乃至3のいずれか1項記載のコーティング組成物の硬化物からなることを特徴とする光半導体装置。
A substrate on which an optical semiconductor element is mounted, a cured product of an addition reaction curable polyorganosiloxane composition for sealing the optical semiconductor element, and the substrate and the addition reaction curable polyorganosiloxane composition formed on the substrate. It is an optical semiconductor device having a coating adhesive layer that adheres a cured product of the product,
4. The optical semiconductor device, wherein the coating adhesive layer is made of a cured product of the coating composition according to any one of claims 1 to 3.
前記付加反応硬化型ポリオルガノシロキサン組成物の硬化物が透明であることを特徴とする請求項4記載の光半導体装置。   The optical semiconductor device according to claim 4, wherein the cured product of the addition reaction curable polyorganosiloxane composition is transparent. 前記付加反応硬化型ポリオルガノシロキサン組成物は、
(a)分子中にケイ素原子に結合したアルケニル基を2個以上有し、23℃における粘度が100〜100,000mPa・sであるポリオルガノシロキサン100質量部と、
(b)分子中にケイ素原子に結合した水素原子を2個以上有するポリオルガノハイドロジェンシロキサンを、前記(a)成分中のアルケニル基1個当たり、本成分中の前記水素原子の量が0.1〜4.0個となる量と、
(c)白金系触媒の触媒量
を含有することを特徴とする請求項4または5記載の光半導体装置。
The addition reaction curable polyorganosiloxane composition is:
(A) 100 parts by mass of a polyorganosiloxane having 2 or more alkenyl groups bonded to silicon atoms in the molecule and having a viscosity at 23 ° C. of 100 to 100,000 mPa · s;
(B) A polyorganohydrogensiloxane having two or more hydrogen atoms bonded to silicon atoms in the molecule, the amount of the hydrogen atoms in the component is 0.1 per alkenyl group in the component (a). An amount of 1 to 4.0,
(C) The optical semiconductor device according to claim 4 or 5, which contains a catalytic amount of a platinum-based catalyst.
前記光半導体素子が発光ダイオードであることを特徴とする請求項4乃至6のいずれか1項記載の光半導体装置。   The optical semiconductor device according to claim 4, wherein the optical semiconductor element is a light emitting diode. 前記基板の構成材料が、ポリフタルアミド樹脂であることを特徴とする請求項4乃至7のいずれか1項記載の光半導体装置。   The optical semiconductor device according to claim 4, wherein the constituent material of the substrate is a polyphthalamide resin. 前記基板が、前記光半導体素子の搭載面に金属電極を有することを特徴とする請求項4乃至8のいずれか1項記載の光半導体装置。   The optical semiconductor device according to claim 4, wherein the substrate has a metal electrode on a mounting surface of the optical semiconductor element. 前記金属電極が銀電極であることを特徴とする請求項9記載の光半導体装置。   The optical semiconductor device according to claim 9, wherein the metal electrode is a silver electrode.
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