JP2018058265A - Letterpress reversing offset printing machine and manufacturing method of printed matter - Google Patents

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Masahiro Yokoo
正浩 横尾
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a letterpress reversing offset printing member in which adhesion of a foreign matter due to release electrification of an ink film formation base material during printing is prevented from occurring, a manufacturing method thereof, and a manufacturing method of a printed matter which suppresses high definition pattern defects derived from the foreign matter by a letterpress reversing offset printing machine using the member.SOLUTION: In a letterpress reversing offset printing machine including: means for forming an ink film 43 on an ink film formation base material 42 wound to a plate cylinder 47; removal means for removing an unnecessary portion of the ink film from the ink film formation base material; and transfer means which transfers a necessary portion of the ink film left on the ink film formation base material to a printing object substrate 45, a conductive cushion layer 40 is interposed between the plate cylinder and the ink film formation base material.SELECTED DRAWING: Figure 4

Description

本発明は、反転オフセット印刷法に関し、特に凸版反転オフセット印刷機、さらにそれを用いた印刷物の製造方法に関するものである。   The present invention relates to a reversal offset printing method, and more particularly to a relief reversal offset printing machine, and further to a method for producing a printed matter using the same.

近年、電子部品の低コスト化および微細化に対応するため、電子部品が備える配線や絶縁層などのパターンを印刷法により形成することが試みられている。   In recent years, in order to cope with cost reduction and miniaturization of electronic components, it has been attempted to form a pattern such as a wiring or an insulating layer included in the electronic component by a printing method.

印刷法のなかでも、反転オフセット印刷法を微細なパターンを形成可能な候補として、挙げることができる(例えば特許文献1参照)。   Among the printing methods, the reverse offset printing method can be cited as a candidate capable of forming a fine pattern (see, for example, Patent Document 1).

図4に反転オフセット印刷法に用いる装置主要部の模式図を示す。図4中の白抜き矢印は移動または回転の方向を示している。図4には、筒状のインキ膜形成基材42と、インキ膜形成基材42にインキを供給しインキ膜43とするインキ供給手段41(図4(a)参照)と、インキ膜形成基材42上に形成されたインキ膜43から不要部43bを除去する除去版44(図4(b)参照)と、インキ膜形成基材上に残された要部43aが転写されて印刷物となる被印刷基材45と、除去版44および被印刷基材45を印刷に適切な位置へ搬送する定盤46が示されている(図4(c)参照)。インキ膜形成基材42には通常インキ膜が剥がれ易いような処理がなされ、例えばシリコーンゴムが用いられる。また、除去版44は板状のガラス版を用い、定盤46上に吸着設置する(図4(b)参照)。   FIG. 4 shows a schematic diagram of the main part of the apparatus used in the reverse offset printing method. The white arrow in FIG. 4 indicates the direction of movement or rotation. 4 shows a cylindrical ink film forming substrate 42, an ink supply means 41 (see FIG. 4A) for supplying ink to the ink film forming substrate 42 to form an ink film 43, and an ink film forming substrate. The removal plate 44 (see FIG. 4B) for removing the unnecessary portion 43b from the ink film 43 formed on the material 42 and the main portion 43a remaining on the ink film forming substrate are transferred to form a printed matter. The printing substrate 45, the removal plate 44, and the surface plate 46 which conveys the printing substrate 45 to the position suitable for printing are shown (refer FIG.4 (c)). The ink film forming substrate 42 is usually treated so that the ink film is easily peeled off, and, for example, silicone rubber is used. The removal plate 44 uses a plate-shaped glass plate and is placed on the surface plate 46 by suction (see FIG. 4B).

図4により順を追って、印刷工程を説明する。
まず、インキ供給手段41からインキをインキ膜形成基材42上に塗布してインキ膜43を形成する(図4(a))。このとき、インキはインキ膜形成基材上で予備乾燥状態に置かれ、多少の溶媒を失ってインキ膜となる。なお、インキ膜形成基材42の下にはクッション層40が備えられている。
次いで、該インキ膜43に対し所定形状の除去版44を接触させて、該インキ膜43の不要部43bを除去版44に転写することによりインキ膜形成基材42から除去する(図4(b))。ここでは除去版44として、被印刷基板にインキパターンとして転写される要部43aに対応する部位が凹部、転写されない不要部43bに対応する部位が凸部となった凸版を使用している。
次に、該インキ膜形成基材42上に残った該インキ膜43の要部43aを被印刷基板45に転写して、印刷物を得ることができる(図4(c))。
The printing process will be described step by step with reference to FIG.
First, ink is applied from the ink supply means 41 onto the ink film forming substrate 42 to form the ink film 43 (FIG. 4A). At this time, the ink is placed in a pre-dried state on the ink film-forming substrate and loses some solvent to form an ink film. A cushion layer 40 is provided below the ink film forming substrate 42.
Next, the removal plate 44 having a predetermined shape is brought into contact with the ink film 43, and the unnecessary portion 43b of the ink film 43 is transferred to the removal plate 44 to be removed from the ink film forming substrate 42 (FIG. 4B). )). Here, as the removal plate 44, a relief plate is used in which a portion corresponding to the main portion 43a transferred as an ink pattern to the substrate to be printed is a concave portion and a portion corresponding to the unnecessary portion 43b not transferred is a convex portion.
Next, the principal part 43a of the ink film 43 remaining on the ink film forming substrate 42 can be transferred to the substrate 45 to be printed to obtain a printed material (FIG. 4C).

このような凸版反転オフセット印刷法によりパターンを形成する例として、基材上に導電性インキを用いて印刷を行い、電磁波シールドを作製することが提案されている(例えば特許文献2参照)。このほかにも、さまざまなパターンを印刷した印刷物の製造が検討されている。特に、一つの印刷面に対し、大面積のべたパターンであるキャパシタ電極と、間隔が狭く細い配線パターンなど、が混在するパターンの形成が求められている。   As an example of forming a pattern by such a relief reversal offset printing method, it has been proposed to produce an electromagnetic wave shield by printing using conductive ink on a substrate (see, for example, Patent Document 2). In addition to this, the production of printed matter on which various patterns are printed has been studied. In particular, it is required to form a pattern in which a capacitor electrode, which is a solid pattern with a large area, and a thin wiring pattern with a narrow interval are mixed on one printed surface.

従来の凸版反転オフセット印刷機を用いてこの様なパターンを形成する場合、異物由来のパターン欠陥の発生を避けることが困難であった。
このような異物由来のパターン欠陥が発生する問題は、印刷中におけるインキ膜形成基材の剥離帯電による異物の付着が原因であることが明らかとなっている。そのため、この問題を解決した凸版反転オフセット印刷機が待望されていた。
When such a pattern is formed using a conventional relief printing offset printing press, it is difficult to avoid the occurrence of pattern defects due to foreign matters.
It has been clarified that the problem that such a pattern defect caused by a foreign substance occurs is caused by the adhesion of the foreign substance due to peeling charging of the ink film forming substrate during printing. Therefore, a letterpress reversal offset printing machine that solves this problem has been awaited.

特公昭60−29358号公報Japanese Patent Publication No. 60-29358 特開2005−175061号公報JP 2005-175061 A

本発明は、上記の事情に鑑み、印刷中におけるインキ膜形成基材の剥離帯電による異物の付着が起こらない凸版反転オフセット印刷機およびそれを用いた異物由来のパターン欠陥が抑制された印刷物の製造方法を提供することを課題とする。   In view of the above circumstances, the present invention is a relief printing offset printing machine in which foreign matter does not adhere due to peeling charging of an ink film-forming substrate during printing, and production of printed matter in which foreign-derived pattern defects are suppressed using the same. It is an object to provide a method.

上記の課題を解決する手段として、本発明の請求項1に記載の発明は、版胴に巻き付けられたインキ膜形成基材上に、インキ膜を形成する手段と、
インキ膜形成基材からインキ膜の不要部を除去する除去手段と、
インキ膜形成基材上に残ったインキ膜の要部を被印刷基板に転写する転写手段と、を備えた凸版反転オフセット印刷機において、
版胴とインキ膜形成基材の間には導電性のクッション層が介在していることを特徴とする凸版反転オフセット印刷機である。
As means for solving the above-mentioned problems, the invention according to claim 1 of the present invention comprises means for forming an ink film on an ink film forming substrate wound around a plate cylinder,
Removing means for removing unnecessary portions of the ink film from the ink film forming substrate;
In a letterpress reversal offset printing machine comprising a transfer means for transferring the main part of the ink film remaining on the ink film forming substrate to the substrate to be printed,
A letterpress reversal offset printing machine characterized in that a conductive cushion layer is interposed between the plate cylinder and the ink film forming substrate.

また、請求項2に記載の発明は、前記インキ膜形成基材の裏面と側面および印刷領域外周部に対して導電性材料Aがコーティングされていることを特徴とする請求項1に記載の凸版反転オフセット印刷機である。   The invention according to claim 2 is characterized in that the conductive material A is coated on the back and side surfaces of the ink film-forming substrate and the outer periphery of the printing region. This is a reverse offset printing machine.

また、請求項3に記載の発明は、前記導電性のクッション層が、導電性材料Bがコーティングされてなることを特徴とする請求項1または2に記載の凸版反転オフセット印刷機である。   The invention according to claim 3 is the letterpress reverse offset printing machine according to claim 1 or 2, wherein the conductive cushion layer is coated with a conductive material B.

また、請求項4に記載の発明は、前記導電性材料Aが、金属またはITO(インジウム錫複合酸化物)とIZO(インジウム亜鉛複合酸化物)と酸化錫と酸化亜鉛と酸化インジウムと酸化アルミニウム複合酸化物のいずれか1種、または2種以上を組み合わせた無機酸化物材料または有機材料であることを特徴とする請求項2に記載の凸版反転オフセット印刷機である。   According to a fourth aspect of the present invention, the conductive material A is a composite of metal or ITO (indium tin composite oxide), IZO (indium zinc composite oxide), tin oxide, zinc oxide, indium oxide, and aluminum oxide. The letterpress reverse offset printing press according to claim 2, which is an inorganic oxide material or an organic material obtained by combining any one of oxides or two or more oxides.

また、請求項5に記載の発明は、前記導電性材料Bが、金属、またはITO(インジウム錫複合酸化物)とIZO(インジウム亜鉛複合酸化物)と酸化錫と酸化亜鉛と酸化インジウムと酸化アルミニウム複合酸化物のいずれか1種、または2種以上を組み合わせた無機酸化物材料、または有機材料であることを特徴とする請求項3に記載の凸版反転オフセット印刷機である。   The conductive material B is a metal, or ITO (indium tin composite oxide), IZO (indium zinc composite oxide), tin oxide, zinc oxide, indium oxide, and aluminum oxide. 4. The relief printing press according to claim 3, which is an inorganic oxide material or an organic material obtained by combining any one or two or more of complex oxides. 5.

また、請求項6に記載の発明は、請求項1から5のいずれかに記載の凸版反転オフセット印刷機を用いることを特徴とする印刷物の製造方法である。   The invention described in claim 6 is a method for producing a printed matter, characterized in that the relief printing press according to any one of claims 1 to 5 is used.

請求項1から5に記載の凸版反転オフセット印刷機によれば、印刷中におけるインキ膜形成基材の剥離帯電を抑制することができるため、異物付着を低減することが可能となる。   According to the relief reversing offset printing machine according to claims 1 to 5, it is possible to suppress the peeling charging of the ink film forming substrate during printing, and therefore it is possible to reduce the adhesion of foreign matter.

請求項6に記載の印刷物の製造方法によれば、本発明の凸版反転オフセット印刷機を使用することにより、印刷中におけるインキ膜形成基材の剥離帯電を抑制することができ、異物付着を低減することが可能となるため、欠陥の少ない印刷物を製造することができる
According to the method for producing a printed matter according to claim 6, by using the relief reversal offset printing machine of the present invention, it is possible to suppress the peeling charge of the ink film forming substrate during printing, and to reduce the adhesion of foreign matter. Therefore, a printed matter with few defects can be manufactured.

本発明の凸版反転オフセット印刷用凸版の一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of the relief printing for relief printing reverse offset printing of this invention. (a)は本発明の凸版反転オフセット印刷用凸版の他の例を示す上面図であり、(b)は(a)で示す図のA−Bラインでの断面図である。(A) is a top view which shows the other example of the relief printing for letterpress reverse offset printing of this invention, (b) is sectional drawing in the AB line of the figure shown by (a). 本発明の凸版の製造工程の一例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows an example of the manufacturing process of the relief printing plate of this invention. 反転オフセット印刷法を説明する工程の模式図である。It is a schematic diagram of the process explaining the reverse offset printing method.

<凸版反転オフセット印刷機>
本発明の凸版反転オフセット印刷機について説明する。
本発明の凸版反転オフセット印刷機は、版胴に巻き付けられたインキ膜形成基材上に、インキ膜を形成する手段と、インキ膜形成基材からインキ膜の不要部を除去する除去手段と、インキ膜形成基材上に残ったインキ膜の要部を被印刷基板に転写する転写手段と、を備えた凸版反転オフセット印刷機である。
<Typographic reversal offset printer>
The letterpress reverse offset printing machine of the present invention will be described.
The relief reversal offset printing machine of the present invention is a means for forming an ink film on an ink film forming substrate wound around a plate cylinder, and a removing means for removing unnecessary portions of the ink film from the ink film forming substrate. A letterpress reversal offset printing machine comprising transfer means for transferring a main part of an ink film remaining on an ink film forming substrate to a substrate to be printed.

その版胴とインキ膜形成基材の間に、導電性のクッション層が介在していることが特徴である。この様な構成とすることにより、インキ膜形成基材上で、インキ膜の不要部を除去する工程において、剥離帯電が生じ、インキ膜形成基材が帯電する。また、インキ膜形成基材上に残ったインキ膜の要部を被印刷基板に転写する工程において、剥離帯電が生じ、インキ膜形成基材が帯電する。   It is characterized in that a conductive cushion layer is interposed between the plate cylinder and the ink film forming substrate. With such a configuration, in the step of removing unnecessary portions of the ink film on the ink film forming substrate, peeling charging occurs, and the ink film forming substrate is charged. Further, in the step of transferring the main part of the ink film remaining on the ink film forming substrate to the substrate to be printed, peeling electrification occurs and the ink film forming substrate is charged.

しかしながら、本発明の凸版反転オフセット印刷機においては、金属製の版胴にインキ膜形成基材を巻き付けて設置する際に、それらの間に導電性のクッション層を介在させているため、剥離帯電によってインキ膜形成基材に発生した静電気が、導電性のクッション層を通して、金属製の版胴に逃がすことができる。   However, in the relief reversal offset printing machine of the present invention, when an ink film forming base material is wound around a metal plate cylinder and installed, a conductive cushion layer is interposed between them, so that peeling charging Thus, static electricity generated on the ink film forming substrate can escape to the metal plate cylinder through the conductive cushion layer.

そのため、インキ膜形成基材が帯電することはなく、その周囲環境に存在する塵埃や異物が、電気的な静電引力によってインキ膜形成基材に付着することが抑制される。   For this reason, the ink film forming substrate is not charged, and dust and foreign matter existing in the surrounding environment are suppressed from adhering to the ink film forming substrate due to electrical electrostatic attraction.

<凸版>
本発明の凸版反転オフセット印刷用凸版について、図1を用いて説明する。
凸版10の材料は、堅牢で加工が容易であることから、ガラスが好ましい。
<Letterpress>
The relief printing for letterpress reverse offset printing of the present invention will be described with reference to FIG.
The material of the relief plate 10 is preferably glass because it is robust and easy to process.

図1に示す凸版10は、インキ膜形成基材上のインキ膜から不要部を除去し、要部を残すために、不要部に対応した部位が凸部(レリーフパターン)となるように形成されている。図1を用いて説明すると、本発明においては凸版10の表面の最も高い部位を凸部頂部14、最も低い部位を凹部底面16とし、凸部の側面、あるいは凹部の側面でもある部位は凸部側面15とする。凸部頂部14と凹部底面16の差を版深dとし、その許容される範囲は製造される印刷物によって選択される。凸部側面15と凹部底面16で囲まれた空間は凹部17である。   The relief plate 10 shown in FIG. 1 is formed such that a portion corresponding to the unnecessary portion becomes a convex portion (relief pattern) in order to remove the unnecessary portion from the ink film on the ink film forming substrate and leave the essential portion. ing. Referring to FIG. 1, in the present invention, the highest part of the surface of the relief plate 10 is the convex top 14 and the lowest part is the concave bottom 16, and the side of the convex or the side of the concave is the convex. Let it be side surface 15. The difference between the convex top 14 and the concave bottom 16 is the plate depth d, and the allowable range is selected depending on the printed matter to be manufactured. A space surrounded by the convex side surface 15 and the concave bottom surface 16 is a concave portion 17.

<凸版の製造方法>
除去版として使用する凸版の製造工程の一例を、図3を用いて説明する。
まず、凸版基材31の表面の、凸部頂部14(図1参照)に対応する位置に、所望のパターンからなるマスク32を形成する(図3(a))。マスク32は次に行われるレリーフ形成工程において基材表面を保護する役割を備え、材料としては、例えば金属薄膜を用いることができる。金属薄膜の場合は、蒸着の後、必要な部分を覆うようレジストパターンを形成し、金属薄膜のみを除去する条件でエッチングを行うことで、所望のパターンからなるマスク32を形成することができる。
<Method for producing letterpress>
An example of the manufacturing process of the relief plate used as the removal plate will be described with reference to FIG.
First, the mask 32 which consists of a desired pattern is formed in the position corresponding to the convex part top part 14 (refer FIG. 1) on the surface of the relief base 31 (FIG. 3 (a)). The mask 32 has a role of protecting the surface of the base material in the subsequent relief forming process, and as the material, for example, a metal thin film can be used. In the case of a metal thin film, a mask 32 having a desired pattern can be formed by forming a resist pattern so as to cover a necessary portion after vapor deposition and performing etching under conditions that remove only the metal thin film.

こうして得られた、マスク済みの凸版基材33のマスク32で覆われていない領域を除去することにより凹部18が形成され、レリーフ34を形成する(図3(b))。レリーフ34の形成方法は使用する凸版基材31に応じて適宜選択することができる。例えばサンドブラスト、ウェットブラストなどのブラスト法、FIB(収束イオンビーム)加工、ナノインプリンティング法、ドライエッチング法、ウエットエッチング法、等を挙げることができる。   By removing the region of the relief-printed base material 33 thus masked, which is not covered with the mask 32, the concave portion 18 is formed, and a relief 34 is formed (FIG. 3B). The formation method of the relief 34 can be suitably selected according to the relief base material 31 to be used. Examples thereof include blasting methods such as sand blasting and wet blasting, FIB (focused ion beam) processing, nanoimprinting method, dry etching method, wet etching method, and the like.

次に、場合によっては、マスク済みの凸版基材33のマスク32で覆われていない領域を除去することにより新たに形成された凸部側面15及び凹部底面16(図1参照)に対して、撥インキ処理35を行ってもよい(図3(c))。凸版の凹部18に撥インキ処理面36が形成される。この撥インキ処理面36は、例えば、シランカップリング剤単分子膜の形成によって実施することができる。   Next, in some cases, with respect to the convex side surface 15 and the concave bottom surface 16 (see FIG. 1) newly formed by removing the area not covered with the mask 32 of the masked relief base material 33, An ink repellent treatment 35 may be performed (FIG. 3C). An ink repellent surface 36 is formed in the concave portion 18 of the relief printing plate. The ink repellent surface 36 can be implemented, for example, by forming a silane coupling agent monomolecular film.

また、撥インキ処理35をするために選択する表面処理剤は、用いるインキによって異なるが、撥水性や撥油性の高いフッ素元素やシロキサン基が含まれるシランカップリング剤を用いるのが好ましい。好ましく用いることのできる化合物としては例えば、長鎖フルオロアルキルシラン、加水分解性基含有シロキサン、フルオロエーテル基含有ポリマー、フルオロアルキル基含有オリゴマーなどが挙げられる。   Further, although the surface treatment agent selected for the ink repellent treatment 35 varies depending on the ink used, it is preferable to use a silane coupling agent containing a fluorine element or a siloxane group having high water repellency and oil repellency. Examples of compounds that can be preferably used include long-chain fluoroalkylsilanes, hydrolyzable group-containing siloxanes, fluoroether group-containing polymers, and fluoroalkyl group-containing oligomers.

凸部側面15および凹部底面16に撥インキ処理を施す方法としては、上述のシランカップリング剤を凸版の表面に化学的に結合させて固定する方法を挙げることができる。例えば、シランカップリング剤を使用した公知のガラス表面処理方法を用いることができる。すなわち、シランカップリング剤を水、酢酸水、水−アルコール混合液、あるいはアルコールに溶解させてカップリング剤溶液を調製する。次いで、前記シランカップリング剤溶液を公知の塗工方法であるスピンコート、ロールコート、アプリケータなどを用いてガラス表面に塗工する。最後に加熱乾燥して溶媒を除くことでシランカップリング剤をガラスなどの凸版表面に固定できる。このとき加熱乾燥によって、シランカップリング剤とガラス表面はオリゴマー化することによって強固に結合するために、非常に耐性のある表面処理となる。   Examples of the method of performing the ink repellency treatment on the convex portion side surface 15 and the concave portion bottom surface 16 include a method of chemically bonding and fixing the above-described silane coupling agent to the surface of the relief plate. For example, a known glass surface treatment method using a silane coupling agent can be used. That is, a silane coupling agent is dissolved in water, acetic acid water, a water-alcohol mixed solution, or alcohol to prepare a coupling agent solution. Next, the silane coupling agent solution is applied to the glass surface using a known coating method such as spin coating, roll coating, and applicator. Finally, the silane coupling agent can be fixed to a relief surface such as glass by drying by heating and removing the solvent. At this time, by heat drying, the silane coupling agent and the glass surface are strongly bonded by oligomerization, so that the surface treatment is extremely resistant.

撥インキ処理後に、マスク32に付着した未反応のシランカップリング剤を洗浄して除去した後、最後に凸部頂部14の金属薄膜をエッチングして除去し、要部(パターン形成位置)に該当する凹部18(凸部側面と凹部底面)に撥インキ処理35が施され、撥インキ処理面36が形成された凸版30を得ることができる(図3(d))。   After the ink-repellent treatment, the unreacted silane coupling agent adhering to the mask 32 is washed and removed, and finally the metal thin film on the top 14 of the convex portion is removed by etching to correspond to the main part (pattern formation position). The concave plate 18 (the side surface of the convex portion and the bottom surface of the concave portion) is subjected to the ink repellent treatment 35 to obtain the relief plate 30 having the ink repellent treated surface 36 formed (FIG. 3D).

<印刷物の製造方法>
こうして得られた凸版を用いた凸版反転オフセット印刷機による印刷物の製造方法について図4を用い説明する。なお、既に説明したものについては説明を省略する。凸版は、凸版反転オフセット印刷法の除去版44(図4(b)参照)として使用される。
<Method for producing printed matter>
A method for producing a printed matter using a relief reversal offset printing machine using the relief plate thus obtained will be described with reference to FIG. Note that description of what has already been described is omitted. The relief plate is used as a removal plate 44 (see FIG. 4B) of the relief reverse printing method.

凸版反転オフセット印刷機に用いられるインキ膜形成基材42の材料としては、インキ膜の形成、凸版による非パターン部(不要部43b)のインキ膜除去及び被印刷基板45へのパターン部(要部43a)インキ膜の転写が可能なものが用いられる。インキ膜形成基材42の材料としては、変形の少ない材料が好ましいが、ある程度の柔軟性が求められる。このような材料として、シリコーン系エラストマー、ブチルゴム、エチレンプロピレンゴムなどを用いることができる。また、インキ膜形成基材42表面の濡れ性を調整するため、インキ膜形成基材42表面にフッ素樹脂およびシリコーンの塗布、プラズマ処理、UVオゾン洗浄処理などの表面処理を施しても良い。このようなインキ膜形成部材42は通常可とう性の板として供給されるので、これを円筒形の版胴47に巻きつけて用いたり
(図4参照)、強度のある平板に固定して用いたりすることができる。
Examples of the material of the ink film forming substrate 42 used in the letterpress reverse offset printing machine include the formation of an ink film, the removal of the ink pattern of the non-pattern part (unnecessary part 43b) by the letterpress, and the pattern part (main part) on the substrate 45 to be printed. 43a) A material capable of transferring an ink film is used. As the material of the ink film forming substrate 42, a material with little deformation is preferable, but a certain degree of flexibility is required. As such a material, silicone elastomer, butyl rubber, ethylene propylene rubber and the like can be used. Further, in order to adjust the wettability of the surface of the ink film forming substrate 42, the surface of the ink film forming substrate 42 may be subjected to a surface treatment such as application of a fluororesin and silicone, plasma treatment, or UV ozone cleaning treatment. Since such an ink film forming member 42 is usually supplied as a flexible plate, it is used by being wound around a cylindrical plate cylinder 47 (see FIG. 4) or by being fixed to a strong flat plate. Can be.

本発明の凸版反転オフセット印刷機に用いられるインキ膜形成基材42の裏面と側面および印刷領域外周部に対して導電性材料のコーティングを施すことで、印刷中におけるインキ膜形成基材42の剥離帯電を抑制することができる。印刷領域外周部とは、インキ膜形成基材42表面のインキ膜塗工領域の外側領域を指す。   Separation of the ink film forming substrate 42 during printing is performed by coating the back and side surfaces of the ink film forming substrate 42 used in the relief printing press of the present invention and the outer periphery of the printing region with a conductive material. Charge can be suppressed. The outer peripheral portion of the printing area refers to an outer area of the ink film coating area on the surface of the ink film forming substrate 42.

本発明の凸版反転オフセット印刷機に用いられるインキ膜形成基材42は、インキ膜形成基材42を版胴47に設置するクッション層40と版胴47とが導電性材料によって導通していることで、印刷中に発生する静電気をインキ膜形成基材42からクッション層を通して版胴47に逃がすことができるため、インキ膜形成基材42の帯電を抑制することができる。   In the ink film forming base material 42 used in the relief reversal offset printing machine of the present invention, the cushion layer 40 for installing the ink film forming base material 42 on the plate cylinder 47 and the plate cylinder 47 are electrically connected by a conductive material. Thus, since static electricity generated during printing can be released from the ink film forming base material 42 to the plate cylinder 47 through the cushion layer, charging of the ink film forming base material 42 can be suppressed.

前記インキ膜形成基材42と、インキ膜形成基材42を版胴に設置するクッション層40と、版胴47と、を導通する導電性材料としては、金属や導電性の無機酸化物材料や有機材料などが挙げられる。また、金属としては、例えば銅、チタン、アルミニウム、金、白金、クロム、ニッケル等であり、無機酸化物材料としては、例えば、ITO(インジウム錫複合酸化物)、IZO(インジウム亜鉛複合酸化物)、酸化錫、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化アルミニウム複合酸化物等であり、導電性有機材料としては、例えば、電化移動錯体、導電性有機低分子化合物、ポリチオフェンなどの導電性高分子に区分される。また、導電性材料のコーティング法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等のドライ成膜法やスピンコーター、バーコーター、ロールコーター、ダイコーター、グラビアコーター等の塗布法が用いられる。   Examples of the conductive material that conducts the ink film-forming base material 42, the cushion layer 40 on which the ink film-forming base material 42 is installed on the plate cylinder, and the plate cylinder 47 include metals and conductive inorganic oxide materials, Organic materials etc. are mentioned. Examples of the metal include copper, titanium, aluminum, gold, platinum, chromium, and nickel. Examples of the inorganic oxide material include ITO (indium tin composite oxide) and IZO (indium zinc composite oxide). , Tin oxide, zinc oxide, indium oxide, aluminum oxide composite oxide, etc., and the conductive organic material is classified into, for example, a conductive polymer such as a charge transfer complex, a conductive organic low-molecular compound, and polythiophene. . In addition, as a coating method for the conductive material, a dry film forming method such as a vacuum deposition method, a sputtering method, or an ion plating method, or a coating method such as a spin coater, a bar coater, a roll coater, a die coater, or a gravure coater is used. .

凸版反転オフセット印刷機に用いられるインキは、製造する印刷物の種類に応じて調整すればよく、金、銀、銅、ニッケル、白金、パラジウム、ロジウムなどの金属微粒子分散液に必要に応じて各種添加剤を加えた導電性インキや、有機エレクトロルミネッセンス(EL)材料を有機溶媒に溶解または分散させたインキ、カラーフィルタ用顔料分散液などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。インキ膜形成基材材料の膨潤などを考慮すると、水またはアルコール系溶媒を用いて調整することが好ましい。   The ink used in the letterpress reversal offset printing machine can be adjusted according to the type of printed matter to be produced, and various additions to the fine metal particle dispersions such as gold, silver, copper, nickel, platinum, palladium, and rhodium as required Examples include, but are not limited to, conductive ink with an additive, ink in which an organic electroluminescence (EL) material is dissolved or dispersed in an organic solvent, and a pigment dispersion for a color filter. In consideration of swelling of the ink film-forming base material, it is preferable to adjust using water or an alcohol solvent.

インキ膜形成基材42上へのインキの供給手段41としては、均一なインキ膜が形成できればよく、バーコート、ダイコート、キャップコート、スピンコート、スリットコート法等を用いることができるが、これらに限定されるものではない。   As the ink supply means 41 on the ink film forming substrate 42, a uniform ink film may be formed, and bar coating, die coating, cap coating, spin coating, slit coating, and the like can be used. It is not limited.

インキ膜の転写によってパターンが形成される被印刷基板45は、目的とする印刷物に応じて適宜選択することができる。電子部品を製造する場合は通常、ポリエチレンテレフタレート(PET)やポリイミド、ポリエーテルスルホン(PES)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリカーボネートなどのフレキシブルなプラスチック材料、石英などのガラス基板やシリコンウェハーなどを挙げることができる。印刷物が使用される環境に合わせてフィルム等のフレキシブルな基材を選択することも可能であり、この場合は生産効率の向上のために長尺の基材を用い、連続して印刷を行うことが好ましい。   The substrate to be printed 45 on which the pattern is formed by transferring the ink film can be appropriately selected according to the target printed matter. In the case of manufacturing electronic components, usually, polyethylene terephthalate (PET), polyimide, polyethersulfone (PES), polyethylene naphthalate (PEN), flexible plastic materials such as polycarbonate, glass substrates such as quartz, and silicon wafers are listed. be able to. It is also possible to select a flexible base material such as a film according to the environment in which the printed material is used. In this case, continuous printing is performed using a long base material to improve production efficiency. Is preferred.

インキ膜形成基材42からの不要なインキ膜除去後に、除去版である凸版10の凸部頂部14(図1参照)が保持するインキ膜は洗浄工程によって洗浄される。凸版10の洗浄方法としては、薬液や有機溶剤によって洗浄する方法と、粘着剤を担時した粘着性フィルムにインキ膜を押し当てて取り除く方法とを挙げることができる。   After the unnecessary ink film is removed from the ink film forming substrate 42, the ink film held by the convex portion top portion 14 (see FIG. 1) of the relief plate 10 as a removal plate is washed by a washing step. Examples of the method for cleaning the relief plate 10 include a method of cleaning with a chemical solution or an organic solvent, and a method of removing the ink film by pressing it against the adhesive film carrying the adhesive.

洗浄に使用することのできる薬液としては、例えば硫酸や塩酸等を挙げることができる。有機溶媒としては例えばトルエン等を挙げることができる。インキ膜の組成によって適宜選択すれば良く、インキ膜を容易に溶解または除去でき、且つ凸版10を構成する材料を腐食しない薬液を選べばよい。洗浄時には超音波により振動を与えることもできる。   Examples of chemicals that can be used for washing include sulfuric acid and hydrochloric acid. Examples of the organic solvent include toluene. What is necessary is just to select suitably by the composition of an ink film, and should just select the chemical | medical solution which can melt | dissolve or remove an ink film easily and does not corrode the material which comprises the relief plate 10. FIG. Vibration can also be applied by ultrasonic waves during cleaning.

また洗浄に用いることのできる粘着性フィルムとしては、市販の粘着性フィルムを使用することができ、例えばエチレン酢酸ビニル共重合体を基材フィルムとし、アクリル系粘着剤を塗布することによって粘着性の付与された粘着性フィルムを用いることができる。洗浄時に粘着剤が凸版10側に転移しなければよい。粘着性フィルムによる洗浄は、洗浄後即時印刷に用いることができるので、特に連続的に同じ凸版を用いて印刷を行う場合に適している。そのため、粘着性フィルムもロール状の形態で供給され、使用に応じて必要な部分を凸版10に押し当て、使用後のフィルムは巻き取られるようになっていてもよい。   Moreover, as an adhesive film which can be used for washing, a commercially available adhesive film can be used. For example, an ethylene vinyl acetate copolymer is used as a base film, and an adhesive is applied by applying an acrylic adhesive. The applied adhesive film can be used. It is only necessary that the adhesive does not transfer to the relief 10 side during cleaning. Washing with an adhesive film can be used for immediate printing after washing, and is particularly suitable for printing continuously using the same letterpress. Therefore, the adhesive film is also supplied in a roll form, and a necessary portion may be pressed against the relief plate 10 according to use, and the used film may be wound up.

印刷されるパターンとしては、例えば、薄膜トランジスタ基板の備える電極、キャパシタ電極、配線等を、また、カラーフィルタの備える着色層、有機エレクトロルミネッセンス素子の備える電極や有機エレクトロルミネッセンス層、プリント配線板の備える配線や、素子内蔵型のプリント配線板である場合はキャパシタ電極や誘電体層、抵抗素子電極や抵抗体、インダクタ、トランジスタ構成部材等の受動素子・能動素子を挙げることができる。   As a pattern to be printed, for example, an electrode provided in a thin film transistor substrate, a capacitor electrode, wiring, etc., a colored layer provided in a color filter, an electrode provided in an organic electroluminescence element, an organic electroluminescence layer, and a wiring provided in a printed wiring board In the case of an element-embedded printed wiring board, passive elements / active elements such as capacitor electrodes, dielectric layers, resistance element electrodes, resistors, inductors, and transistor components can be used.

次に、本発明の凸版反転オフセット印刷機を用いた印刷物の製造についての実施例を説明する。   Next, the Example about manufacture of the printed matter using the letterpress reverse offset printing machine of this invention is described.

<実施例1>
除去版である凸版の材料として、100mm×100mm、0.7mm厚のガラス板を用いた。このガラス板の表面及び裏面にクロム薄膜を蒸着により50nmの厚さに製膜した。このクロム薄膜上にポジレジストを用いたフォトリソグラフィー法によってレジストパターンを形成し、露出したクロム薄膜をエッチングした。その後レジストを剥離してクロムのパターンが形成されたガラス板を得た。
<Example 1>
As a material for the relief printing plate, a glass plate having a size of 100 mm × 100 mm and a thickness of 0.7 mm was used. A chromium thin film was deposited on the front and back surfaces of this glass plate to a thickness of 50 nm by vapor deposition. A resist pattern was formed on the chromium thin film by a photolithography method using a positive resist, and the exposed chromium thin film was etched. Thereafter, the resist was peeled off to obtain a glass plate on which a chromium pattern was formed.

ここで形成したパターンは、図2(a)で模式的に示したパターン疎部21とパターン密部22を1単位として、ガラス板中央部の100mm四方の領域に、10単位×10単位で計100単位配置したものである。パターン疎部21に対応するパターンは250μm×250μmの方形であり、パターン密部22に対応するパターンは140μm×250μmの矩形である。パターン密部22のライン/スペース幅は5μm/5μmである。   The pattern formed here is 10 units × 10 units in a 100 mm square region at the center of the glass plate, with the pattern sparse portion 21 and the pattern dense portion 22 schematically shown in FIG. 100 units are arranged. The pattern corresponding to the pattern sparse portion 21 is a square of 250 μm × 250 μm, and the pattern corresponding to the pattern dense portion 22 is a rectangle of 140 μm × 250 μm. The line / space width of the pattern dense portion 22 is 5 μm / 5 μm.

このクロム薄膜をマスクとし、フッ酸を用いたガラスエッチングにより、凹部の深さが5μmになるように凹凸を形成し、最後にクロム薄膜をエッチング除去して凸版反転オフセット印刷用凸版を作製した。   Using this chrome thin film as a mask, concavo-convex portions were formed by glass etching using hydrofluoric acid so that the depth of the concave portions became 5 μm, and finally, the chrome thin film was removed by etching to produce a relief plate for letterpress reverse offset printing.

(インキ)
インキとして、銀粒子水分散液(平均粒径20nm、住友電工製)にポリエチレンオキサイド(平均分子量10,000、アルドリッチ製)を、(ポリエチレンオキサイド/銀粒子/水)=(1/8/31)の重量比となるように溶解させ導電性インキを調製した。
(ink)
As an ink, polyethylene oxide (average molecular weight 10,000, manufactured by Aldrich) is added to an aqueous silver particle dispersion (average particle size 20 nm, manufactured by Sumitomo Electric), and (polyethylene oxide / silver particles / water) = (1/8/31). A conductive ink was prepared by dissolving so as to have a weight ratio.

(印刷物の製造方法)
本実施例に係る印刷物の製造は次のようにして行った。
まず、東芝GE社製の2液型シリコーンゴム(GE東芝シリコーン社製:商品名TSE3455T)を、厚さ2mm、大きさ150mm×120mmに成形した後、インキ膜形成基材の裏面と側面および印刷領域外周部にスパッタ法でITOを成膜した。
(Method for producing printed matter)
The printed material according to this example was manufactured as follows.
First, a two-component silicone rubber manufactured by Toshiba GE (manufactured by GE Toshiba Silicone Co., Ltd .: trade name TSE3455T) was molded to a thickness of 2 mm and a size of 150 mm × 120 mm, and then the back surface, side surface, and printing of the ink film forming substrate. An ITO film was formed on the outer periphery of the region by sputtering.

同様にスパッタ法でITOを成膜したクッション材を用いて、このインキ膜形成基材を版胴に巻き付け円筒形とした。一方、バーコーターでインキ膜形成基材上に導電性インキを塗布した後、室温で3分間乾燥させ、インキ膜形成基材上に導電性インキの膜を形成した。   Similarly, this ink film forming substrate was wound around a plate cylinder to form a cylindrical shape by using a cushion material in which ITO was formed by sputtering. On the other hand, after applying the conductive ink on the ink film-forming substrate with a bar coater, it was dried at room temperature for 3 minutes to form a film of conductive ink on the ink film-forming substrate.

次に、凸版をインキ膜形成基材上のインキ膜に密着させたのち剥離し、非パターン部のインキ膜を除去した。次に、パターン部のインキ膜が残されたインキ膜形成基材と、厚さ0.7mm、大きさが100mm×100mmのソーダライムガラス基板(被印刷基板)とを密着させたのち剥離して、インキ膜形成基材上のインキ膜を被印刷基板側に転写した。同様に、同一凸版で連続5枚印刷を繰返した後、それらの被印刷基板を200℃で30分間熱処理して導電性パターンを備えた印刷物を形成した。得られた導電性パターンを光学顕微鏡で観察したところ、異物由来のパターン欠陥はみられなかった。   Next, the letterpress was brought into close contact with the ink film on the ink film-forming substrate and then peeled to remove the non-patterned ink film. Next, the ink film-forming substrate on which the ink film of the pattern portion is left and the soda-lime glass substrate (printed substrate) having a thickness of 0.7 mm and a size of 100 mm × 100 mm are adhered and then peeled off. The ink film on the ink film forming substrate was transferred to the substrate to be printed. Similarly, after continuous printing of 5 sheets with the same letterpress, the substrates to be printed were heat-treated at 200 ° C. for 30 minutes to form printed matter having a conductive pattern. When the obtained electroconductive pattern was observed with the optical microscope, the pattern defect derived from the foreign material was not seen.

<実施例2>
インキとして、以下に示すように調整したカラーフィルタ用の着色インキを用いた他は実施例1と同様に凸版反転オフセット印刷用凸版を製造し、これを用いて印刷物の製造を行った。
<Example 2>
A relief printing for letterpress reversal offset printing was produced in the same manner as in Example 1 except that the color filter color ink adjusted as shown below was used as the ink, and a printed material was produced using this.

<着色インキ>
まず、赤色顔料分散液を下記の組成で調整した。
〔赤色顔料分散液〕
・赤色顔料
C.I.Pigment Red 254(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製「イルガーフォーレッドB−CF」)…18重量部
C.I.Pigment Red 177(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製「クロモフタールレッド A2B」)…2重量部
・アクリルワニス(固形分20%)…108重量部
<Colored ink>
First, a red pigment dispersion was prepared with the following composition.
[Red pigment dispersion]
-Red pigment C.I. I. Pigment Red 254 (“Ilgar For Red B-CF” manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 18 parts by weight C.I. I. Pigment Red 177 ("Chromophthal Red A2B" manufactured by Ciba Specialty Chemicals) ... 2 parts by weight • Acrylic varnish (solid content 20%) ... 108 parts by weight

〔赤色着色インキ〕
下記組成の混合物を均一になるように攪拌混合した後、5μmのフィルタで濾過して赤色着色インキを得た。
・赤色顔料分散液…100重量部
・メチル化メチロールメラミン(三洋化成工業株式会社製:MW−30)…20重量部
・レベリング剤(大日本インキ化学工業株式会社製:メガファック F−483SF)…1重量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテル…85重量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート…45重量部
[Red coloring ink]
A mixture having the following composition was stirred and mixed so as to be uniform, and then filtered through a 5 μm filter to obtain a red colored ink.
Red pigment dispersion: 100 parts by weight Methylated methylol melamine (manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd .: MW-30) 20 parts by weight Leveling agent (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc .: MegaFuck F-483SF) 1 part by weight, propylene glycol monomethyl ether ... 85 parts by weight, propylene glycol monomethyl ether acetate ... 45 parts by weight

こうして調整した赤色着色インキを実施例1と同様にインキ膜形成基材に塗布し、不要部の除去を行った後、被印刷基板への転写を行うことによりガラス基板上にインキパターンを得た。こうして得られた印刷物には、異物由来のパターン欠陥はみられなかった。   The red colored ink thus adjusted was applied to the ink film forming substrate in the same manner as in Example 1, and after removing unnecessary portions, the ink pattern was obtained on the glass substrate by transferring to the substrate to be printed. . The printed matter thus obtained did not show pattern defects due to foreign matters.

<比較例>
インキ膜形成基材とインキ膜形成基材を版胴に設置するクッション層に、スパッタ法でITO成膜を施さなかった他は、実施例1と同様に凸版反転オフセット印刷用凸版を製造し、印刷物の製造までを行った。得られた印刷物について、導電性パターンを光学顕微鏡で観察したところ、異物由来のパターン欠陥が顕著で、所々に印刷不良があった。
<Comparative example>
In addition to the ink film forming base material and the cushion layer on which the ink film forming base material is installed on the plate cylinder, except that the ITO film was not formed by the sputtering method, a relief printing plate for letterpress reverse offset printing was produced in the same manner as in Example 1. The production of printed materials was performed. When the conductive pattern of the obtained printed matter was observed with an optical microscope, pattern defects derived from foreign matters were remarkable, and there were printing defects in some places.

本発明の凸版反転オフセット印刷部材は、異物由来の印刷欠陥を低減することができ、
微細なパターンを連続的に印刷で形成可能であるため、薄膜トランジスタ、薄膜トランジスタアレイ、カラーフィルタなどのデバイスを印刷物として製造する際に応用することができる。
The relief reversal offset printing member of the present invention can reduce printing defects due to foreign matter,
Since a fine pattern can be continuously formed by printing, it can be applied when a device such as a thin film transistor, a thin film transistor array, or a color filter is manufactured as a printed matter.

10、20、30:凸版
11:撥インキ処理面
14:凸部頂部
15:凸部側面
16:凹部底面
17、18:凹部
21:パターン疎部
22:パターン密部
31:凸版基材
32:マスク
33:マスク済みの凸版基材
34:レリーフ
35:撥インキ処理
36:撥インキ処理面
40:クッション層
41:インキ供給手段
42:インキ膜形成基材
43:インキ膜
43a:インキ膜の要部
43b:インキ膜の不要部
44:除去版(凸版)
45:被印刷基板
46:定盤
47:版胴
d:版深
10, 20, 30: Letterpress 11: Ink repellent surface 14: Convex top 15: Convex side 16: Concave bottom 17, 18: Concave 21: Pattern sparse 22: Pattern dense 31: Letter base 32: Mask 33: Masked letterpress base material 34: Relief 35: Ink repellent treatment 36: Ink repellent surface 40: Cushion layer 41: Ink supply means 42: Ink film forming base material 43: Ink film 43a: Essential part 43b of ink film : Unnecessary portion 44 of ink film: Removal plate (letter plate)
45: Printed substrate 46: Surface plate 47: Plate cylinder d: Plate depth

Claims (6)

版胴に巻き付けられたインキ膜形成基材上に、インキ膜を形成する手段と、
インキ膜形成基材からインキ膜の不要部を除去する除去手段と、
インキ膜形成基材上に残ったインキ膜の要部を被印刷基板に転写する転写手段と、を備えた凸版反転オフセット印刷機において、
版胴とインキ膜形成基材の間には導電性のクッション層が介在していることを特徴とする凸版反転オフセット印刷機。
Means for forming an ink film on the ink film forming substrate wound around the plate cylinder;
Removing means for removing unnecessary portions of the ink film from the ink film forming substrate;
In a letterpress reversal offset printing machine comprising a transfer means for transferring the main part of the ink film remaining on the ink film forming substrate to the substrate to be printed,
A letterpress reverse offset printing machine characterized in that a conductive cushion layer is interposed between a plate cylinder and an ink film forming substrate.
前記インキ膜形成基材の裏面と側面および印刷領域外周部に対して導電性材料Aがコーティングされていることを特徴とする請求項1に記載の凸版反転オフセット印刷機。   2. The letterpress reverse offset printing press according to claim 1, wherein the conductive material A is coated on the back surface and side surfaces of the ink film forming substrate and the outer periphery of the printing region. 前記導電性のクッション層が、導電性材料Bがコーティングされてなることを特徴とする請求項1または2に記載の凸版反転オフセット印刷機。   The letterpress reverse offset printing machine according to claim 1 or 2, wherein the conductive cushion layer is coated with a conductive material B. 前記導電性材料Aが、金属またはITO(インジウム錫複合酸化物)とIZO(インジウム亜鉛複合酸化物)と酸化錫と酸化亜鉛と酸化インジウムと酸化アルミニウム複合酸化物のいずれか1種、または2種以上を組み合わせた無機酸化物材料または有機材料であることを特徴とする請求項2に記載の凸版反転オフセット印刷機。   The conductive material A is a metal, or any one or two of ITO (indium tin composite oxide), IZO (indium zinc composite oxide), tin oxide, zinc oxide, indium oxide, and aluminum oxide composite oxide. The letterpress reversal offset printing machine according to claim 2, which is an inorganic oxide material or an organic material combining the above. 前記導電性材料Bが、金属、またはITO(インジウム錫複合酸化物)とIZO(インジウム亜鉛複合酸化物)と酸化錫と酸化亜鉛と酸化インジウムと酸化アルミニウム複合酸化物のいずれか1種、または2種以上を組み合わせた無機酸化物材料、または有機材料であることを特徴とする請求項3に記載の凸版反転オフセット印刷機。   The conductive material B is a metal, or any one of ITO (indium tin composite oxide), IZO (indium zinc composite oxide), tin oxide, zinc oxide, indium oxide, and aluminum oxide composite oxide, or 2 The letterpress reverse offset printing machine according to claim 3, which is an inorganic oxide material or an organic material combining at least seeds. 請求項1から5のいずれかに記載の凸版反転オフセット印刷機を用いることを特徴とする印刷物の製造方法。   A method for producing a printed matter, wherein the relief printing press according to any one of claims 1 to 5 is used.
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