JP2018054384A - 金属の腐食予測方法、鋼構造物の設計方法および腐食予測プログラム - Google Patents
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Abstract
Description
その結果、電解質溶液および金属の電位分布の数値計算を行うにあたり、数値計算モデルにおける電解質溶液と金属の間に、金属の電気伝導度を下回る値の電気伝導度となる仮想の金属抵抗層を設けることにより、金属の腐食の際に金属の表面に堆積する腐食生成物が腐食速度に及ぼす影響を模擬することが可能となり、実際に腐食生成物の形成を伴う場合の電位分布や電流密度分布を適切に予測することができるということに想到し、本発明を完成するに至った。
1.電解質溶液と接触した金属の腐食を数値解析によって予測する方法であって、
金属と電解質溶液とが接触した系の計算モデルを作成する工程と、
上記計算モデルにより、所定時刻での上記電解質溶液および上記金属の電位分布を数値解析により求める工程と、
を有し、
上記計算モデルにおいて、上記電解質溶液と金属の間に、上記金属の電気伝導度を下回る値の電気伝導度となる仮想の金属抵抗層を設ける、
ことを特徴とする金属の腐食予測方法。
前記計算モデルにおいて互いに隣接する仮想の電気抵抗層のセルiと電解質溶液のセルjについて、該セルiの電気伝導度をσi、該セルjの体積をV0j、該セルjにおいて腐食生成物が占める体積をVcj、前記金属の電気伝導度よりも小さい値から選択される基準電気伝導度をσ0としたとき、σi、V0j、Vcjおよびσ0が次式の関係を満足することを特徴とする前記1に記載の金属の腐食予測方法。
σi=α×σ0×(1-Vcj/V0j)、
ただし、0.001≦α<10 である。
図2に示す計算モデルでは、金属と、この金属に接触している電解質溶液の薄膜を、これらの断面において2次元の格子状の領域(以下、「セル」という。)に区切り、境界要素法や有限要素法などを用いて各セル中の電位、電流密度、化学種の濃度などを計算して、腐食量や化合物の沈殿反応を予測する。
以下、計算手順の典型的な例を説明する。
すなわち、ステップS2で設定した境界条件を用いて、(1)式に示すラプラス方程式を解く。
また、イオンの易動度ukの値は、式(3)に示すNernst-Einsteinの関係を用いて、イオン種kの拡散係数Dkから求められる。
さらに、得られた電位を、式(4)に代入することで、電流密度Iの分布が得られる。
なお、ここでは、電流密度および電位分布を計算するステップS3と、化学種の化学反応の平衡計算により、腐食生成物の生成の化学反応を考えるステップS5とが分かれているため、rkは腐食反応によるイオンの生成量のみを考慮している。
そして、腐食反応によるイオンの生成量、すなわち金属の腐食量は、金属と水溶液の界面における電流密度を用いて、式(6)に示すFaradayの法則により計算される。
なお、計算モデルにおける仮想の電気抵抗層の厚さは、少なくとも[電解質溶液の厚さ(mm)]×1/100とすることが好ましい。これは、電気抵抗層の厚さが薄すぎると抵抗としての働きが小さくなって、腐食生成物の抑制効果が発現しにくくなるだけではなく、セルがアスペクト比の大きい形状となり易く、計算の収束性を低下するからである。上限については特に限定されるものではないが、[電解質溶液の厚さ(mm)]以下とすることが好ましい。これは、電気抵抗層の厚さが厚くなりすぎると計算対象のモデル形状が不必要に大きくなり、計算に長時間を要するようになるからである。
また、計算モデルにおいて、仮想の電気抵抗層のセルの層数(金属のセルと電解質溶液のセルとの間の層数)は、セルのサイズなどに応じて1〜10層程度とすることが好適である。
σi=α×σ0×(1-Vcj/V0j)、
ただし、0.001≦α<10 である。
なお、αは時刻tによらず一定としてもよいが、腐食開始時点からの時間の経過とともに、腐食生成物の生成量は変化するため、腐食生成物の生成量に応じて変化させることが好ましい。
すなわち、
0≦Vcj/V0j≦0.01の場合、0.001≦α≦0.01
0.01<Vcj/V0j≦0.1の場合、0.005<α≦0.5
0.1<Vcj/V0j≦1の場合、0.01<α≦5
とすることが好ましい。
すなわち、まず、セルj内において、数値計算から生成が予測される時刻tでの腐食生成物(酸化物、水酸化物など)の総量(gまたはmol)を求め、この値を、これらの腐食生成物の密度で除することでVcjを求める。例えば、腐食生成物の質量を用いる場合には、Vcj=m/dにより計算する。ここで、Vcjはセルjにおいて腐食生成物が占める体積(cm3)、mは腐食生成物の生成質量(g)、dは腐食生成物の密度(g/cm3)を表す。なお、腐食生成物が多数の成分からなる場合は、全ての成分について計算しても良いが、腐食生成物の主成分となっている酸化物や水酸化物のみを用いて計算してもよい。そして、このVcjを、セルjの体積:V0j(元々は水溶液のみが占めていた初期のセルjの体積)で除することにより、Vcj/V0jを計算する。
なお、二次元モデルの場合には、セルの体積およびセルにおいて腐食生成物が占める体積を、それぞれ面積と読み替えてもよい。
例えば、腐食生成物に相当する純度の高い酸化物や水酸化物を準備できる場合、腐食生成物の成分ごとに上記比例定数を求め、次式によりαを求めればよい。
α=Σ(αm×Vm/Vc)
ここで、αmは腐食生成物成分mのαの値、Vmは腐食生成物成分mの体積、Vcは全ての腐食生成物成分の体積の総和である。
ただし、σ0が過度に小さくなると、電気抵抗層中の電流ロスが無視できなくなるため、σ0は、(2)式から計算される電解質溶液の電気伝導度よりも大きい値に設定することが好ましい。また、σ0は、電解質溶液の電気伝導度の100倍以上の値に設定することが好ましい。
[電解質溶液の電気伝導度]×100 ≦ σ0 < 金属の電気伝導度
また、上記以外の条件、例えば、計算モデルにおける電解質溶液および金属をそれぞれ複数のセルに分割する際の条件(セルの大きさや形状など)は特に限定されず、常法に従えばよい。
種々の厚さの電解質溶液下における亜鉛と鉄の異種金属接触腐食における亜鉛の腐食量を数値計算により予測した。
まず、数値計算結果の妥当性を評価するために行った、亜鉛と鉄の異種金属接触腐食の実験について説明する。図5に、亜鉛と鉄の異種金属接触腐食の実験の模式図を示す。電気めっきにより亜鉛めっき層の厚さを10μmとした電気めっき鋼板を作製し、めっきの一部を塩酸で溶解することで、亜鉛/鉄の異種金属接触腐食試験片を作製した。ここで、亜鉛および鉄の幅および奥行きはいずれも10mmである。この試験片上に、電解質溶液としてNaCl水溶液膜を形成させて、24時間の腐食試験を実施した。
表1に各試験条件におけるNaCl水溶液膜の厚さと、NaCl水溶液の濃度を示す。なお、NaCl水溶液は、試験片端部に囲いを設けた上で、その内部に表1に示す濃度のNaCl水溶液を、表1に示す水溶液膜厚さとなるように注入した。また、試験中の水分の蒸発を抑制するためにサンプル上部をフィルムで覆った状態で、腐食試験を行った。
なお、水溶液の組成は、各濃度のNaCl水溶液に、大気中のCO2が飽和した溶液とした。この溶液中において、考慮する化学種の初期濃度および拡散係数を表2および3に示す。
なお、当該異種金属接触腐食の計算では、亜鉛および鉄上では金属が溶解するアノード反応と、酸素が還元するカソード反応が生じているとした。亜鉛のアノード反応、鉄のアノード反応および亜鉛と鉄上の酸素の還元反応は、それぞれ式(7)、式(8)、式(9)で表される。
Zn → Zn2+ + 2e− ・・・・(7)
Fe → Fe2+ + 2e− ・・・・(8)
2H2O + O2 + 4e− → 4OH− ・・・・(9)
なお、比較のため、仮想の電気抵抗層を設けなかった計算モデルを用いて、電位分布およびZnの腐食量を求めた。
ここで、電位分布は、試験片長手方向1mmおきに全15点を比較した結果、計算結果がすべて実験結果に対して±50mVの範囲内となった場合を◎、8点以上について±50mVの範囲内となった場合を○、◎にも○にも該当しない場合を×とした。
また、表5に示すVcj/V0jの分類は、以下の基準に基づくものである。すなわち、仮想の電気抵抗層と隣接する電解質溶液の全てのセルにおいて、当該セルの体積と、24時間経過時の当該セルにおいて最も生成量の多い腐食生成物の体積との比を求め、これらの比が0以上、0.01以下の範囲となるものが最も多かった場合を「A」、0.01超、0.1以下の範囲となるものが最も多かった場合を「B」、0.1超、1以下の範囲となるものが最も多かった場合を「C」とした。
腐食量分布は、亜鉛/鉄界の境界から亜鉛側に0.5mm間隔で10点の亜鉛の腐食量を測定し、10点全ての測定点において、(計算の腐食量)/(実験の腐食量)=0.5〜1.5である場合を◎、5点以上の測定点において、(計算の腐食量)/(実験の腐食量)=0.5〜1.5である場合を○、◎にも○にも該当しない場合を×として評価した。
一方、腐食生成物の形成による電解液溶液の電気伝導度の低下、すなわち腐食生成物の堆積による腐食速度の低下を考慮していない比較例では、電位および腐食量の分布の計算結果とも精度が低く、実験結果とは一致しなかった。
Claims (8)
- 電解質溶液と接触した金属の腐食を数値解析によって予測する方法であって、
金属と電解質溶液とが接触した系の計算モデルを作成する工程と、
上記計算モデルにより、所定時刻での上記電解質溶液および上記金属の電位分布を数値解析により求める工程と、
を有し、
上記計算モデルにおいて、上記電解質溶液と金属の間に、上記金属の電気伝導度を下回る値の電気伝導度となる仮想の金属抵抗層を設ける、
ことを特徴とする金属の腐食予測方法。 - 前記計算モデルの電解質溶液、金属および仮想の金属抵抗層をそれぞれ複数のセルに分割し、
前記計算モデルにおいて互いに隣接する仮想の電気抵抗層のセルiと電解質溶液のセルjについて、該セルiの電気伝導度をσi、該セルjの体積をV0j、該セルjにおいて腐食生成物が占める体積をVcj、前記金属の電気伝導度よりも小さい値から選択される基準電気伝導度をσ0としたとき、σi、V0j、Vcjおよびσ0が次式の関係を満足することを特徴とする請求項1に記載の金属の腐食予測方法。
σi=α×σ0×(1-Vcj/V0j)、
ただし、0.001≦α<10である。 - 前記電解質溶液の厚さが10mm以下であることを特徴とする請求項1または2に記載の金属の腐食予測方法。
- 前記金属が亜鉛、鉄、アルミ、銅およびニッケルから選択される1種以上の金属、または該金属を主成分とする合金であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の金属の腐食予測方法。
- 前記腐食の形態が、二種の金属が接触し、金属間の電位差によって一方の金属の腐食が加速される異種金属接触腐食であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の金属の腐食予測方法。
- 請求項1〜5のいずれか一項の数値解析による金属の腐食予測方法によって、耐食性を予測して、材料を選定することを特徴とする鋼構造物の設計方法。
- 請求項1〜5のいずれか一項の数値解析による金属の腐食予測方法によって、耐食性を予測して、防錆性能を設計することを特徴とする鋼構造物の設計方法。
- コンピュータに、請求項1〜5のいずれか一項の数値解析による金属の腐食予測方法を実行させる腐食予測プログラム。
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岡田信宏,: "イオン移動と反応を考慮したガルバニック腐食の数値解析モデル", 鉄と鋼, vol. 95, no. 2, JPN6019008403, 2009, JP, pages 42 - 51 * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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JP6512198B2 (ja) | 2019-05-15 |
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