JP2018008496A - Metal-clad laminate and method for producing the same - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、金属張積層板及びその製造方法に関する。 The present invention relates to a metal-clad laminate and a method for producing the same.
ユビキタス社会の実現を目指し、情報伝達の高速化は継続して進展を続けている。高速信号を処理するために使用されるプリント配線板は、例えば、金属張積層板に導体パターンを形成することによって作製することができる。このような金属張積層板として、従来、導体層と、液晶ポリマー樹脂やフッ素樹脂等から作製された絶縁層と、を備える金属張積層板が提供されている。例えば、特許文献1には、導体層及び絶縁層を交互に積層して形成された多層金属張積層板において、絶縁層が、熱硬化性樹脂層と、液晶ポリマー樹脂層とで形成されていることが、開示されている。
Aiming at the realization of a ubiquitous society, the speed of information transmission continues to advance. A printed wiring board used for processing high-speed signals can be produced, for example, by forming a conductor pattern on a metal-clad laminate. As such a metal-clad laminate, conventionally, a metal-clad laminate comprising a conductor layer and an insulating layer made of a liquid crystal polymer resin, a fluororesin, or the like has been provided. For example, in
液晶ポリマー樹脂やフッ素樹脂等から作製された絶縁層を備える金属張積層板は、低い誘電率及び低い誘電正接を有しうるという利点がある。このため、この金属張積層板から、高速信号の伝送性に優れるプリント配線板を作製できる。 A metal-clad laminate including an insulating layer made of a liquid crystal polymer resin or a fluororesin has an advantage that it can have a low dielectric constant and a low dielectric loss tangent. For this reason, a printed wiring board excellent in high-speed signal transmission can be produced from this metal-clad laminate.
しかし、高速信号の更なる高速化及び複雑化、並びにプリント配線板の薄型化に伴い、金属張積層板には高い放熱性が求められている。 However, as the high-speed signal is further increased in speed and complexity, and the printed wiring board is made thinner, high heat dissipation is required for the metal-clad laminate.
そこで、発明者らは、金属張積層板の表面に、放熱材料であるグラファイトシートを、接着剤等を介して貼り付けることで、放熱性を高めることを検討した。しかし、グラファイトシートを金属張積層板の表面に貼り付けると、厚みが大きくなるため、薄型化を実現するのが難しい。さらに、グラファイトシートは破損しやすいため、グラファイトシートからは鱗片状の破片が剥がれ易い。そのため、グラファイトシートを表面に有する金属張積層板の加工時の取り扱い性は低く、またこの金属張積層板から、例えばフレキシブルなプリント配線板に作製することは難しい。 Then, the inventors examined improving heat dissipation by sticking a graphite sheet, which is a heat dissipation material, to the surface of the metal-clad laminate via an adhesive or the like. However, when a graphite sheet is attached to the surface of a metal-clad laminate, the thickness increases, making it difficult to achieve a reduction in thickness. Furthermore, since the graphite sheet is easily damaged, scaly fragments are easily peeled off from the graphite sheet. Therefore, the handling property at the time of processing of the metal-clad laminate having a graphite sheet on the surface is low, and it is difficult to produce, for example, a flexible printed wiring board from the metal-clad laminate.
そこで、発明者らは、更なる検討の結果、金属張積層板の絶縁層にグラファイトシートを埋め込むことで、金属張積層板の厚みを小さくするとともに、グラファイトシートの破損を抑制し、放熱性及び取り扱い性を更に向上させようとした。しかし、グラファイトシートが絶縁層に埋まっていると、グラファイトシートの位置がわからなくなってしまい、そのためグラファイトシートの位置に合わせて、積層板に導体配線を形成したり積層板を切断したりすることが困難であるという問題がある。 Therefore, as a result of further studies, the inventors have embedded the graphite sheet in the insulating layer of the metal-clad laminate, thereby reducing the thickness of the metal-clad laminate and suppressing the breakage of the graphite sheet. An attempt was made to further improve handling. However, if the graphite sheet is buried in the insulating layer, the position of the graphite sheet becomes unclear, and accordingly, conductor wiring may be formed on the laminated board or the laminated board may be cut according to the position of the graphite sheet. There is a problem that it is difficult.
本発明の目的は、絶縁層が放熱材料としてグラファイトシートを備え、グラファイトシートの破損を抑制できるとともに、絶縁層におけるグラファイトシートの位置を容易に確認できる金属張積層板及びその製造方法を提供することである。 An object of the present invention is to provide a metal-clad laminate and a method for manufacturing the metal-clad laminate, in which the insulating layer includes a graphite sheet as a heat dissipation material, can suppress damage to the graphite sheet, and can easily check the position of the graphite sheet in the insulating layer. It is.
本発明の一実施形態に係る金属張積層板は、導体層と、前記導体層上に重なる絶縁層と、を備える。前記絶縁層は、電気絶縁性を有する母材と、前記母材に埋まっているグラファイトシート及びガイド部材と、を含む。前記ガイド部材と前記グラファイトシートとは、特定の位置関係にある。前記ガイド部材は、金属を含む。 A metal-clad laminate according to an embodiment of the present invention includes a conductor layer and an insulating layer overlapping the conductor layer. The insulating layer includes a base material having electrical insulation, and a graphite sheet and a guide member embedded in the base material. The guide member and the graphite sheet are in a specific positional relationship. The guide member includes a metal.
前記一実施形態にあっては、前記金属張積層板は、前記絶縁層上に重なる第二導体層を備えることが好ましい。 In the embodiment, it is preferable that the metal-clad laminate includes a second conductor layer that overlaps the insulating layer.
前記一実施形態にあっては、前記グラファイトシート及び前記ガイド部材は、前記絶縁層の厚み方向と直交する方向に並んでいることが好ましい。 In the embodiment, it is preferable that the graphite sheet and the guide member are arranged in a direction orthogonal to the thickness direction of the insulating layer.
前記一実施形態にあっては、前記ガイド部材は、金属箔であることが好ましい。 In the embodiment, the guide member is preferably a metal foil.
前記一実施形態にあっては、前記金属張積層板は、外部から視認可能なガイドマークを更に備え、前記ガイドマークと前記ガイド部材とは、特定の位置関係にあることが好ましい。 In the embodiment, it is preferable that the metal-clad laminate further includes a guide mark visible from the outside, and the guide mark and the guide member have a specific positional relationship.
前記一実施形態にあっては、前記ガイドマークは、穴であることが好ましい。 In the embodiment, the guide mark is preferably a hole.
前記一実施形態にあっては、前記母材は、熱硬化性樹脂組成物の硬化物を含むことが好ましい。 In the one embodiment, the base material preferably includes a cured product of a thermosetting resin composition.
前記一実施形態にあっては、前記母材は、第一の層と、第二の層と、を備え、前記第一の層は、熱可塑性樹脂組成物を含み、前記第二の層は、熱硬化性樹脂組成物の硬化物からなることが好ましい。 In the one embodiment, the base material includes a first layer and a second layer, the first layer includes a thermoplastic resin composition, and the second layer includes It is preferable to consist of a cured product of a thermosetting resin composition.
前記一実施形態にあっては、前記グラファイトシート及び前記ガイド部材は、前記第二の層に埋まっていることが好ましい。 In the embodiment, it is preferable that the graphite sheet and the guide member are embedded in the second layer.
前記一実施形態にあっては、前記熱可塑性樹脂組成物は、液晶ポリマー樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、及びフッ素樹脂からなる群から選択される少なくとも一種の成分を含むことが好ましい。 In the embodiment, the thermoplastic resin composition preferably includes at least one component selected from the group consisting of a liquid crystal polymer resin, a polyimide resin, a polyamideimide resin, and a fluororesin.
前記一実施形態にあっては、前記熱硬化性樹脂組成物は、エポキシ化合物(A)と、ビスマレイミド(B)と、炭素−炭素二重結合を有する置換基(c2)を末端に有するポリフェニレンエーテル樹脂(C)と、下記式(1)で示されるブロック共重合体(D)と、を含有し、
PS−X−PS (1)
前記式(1)中のPSは各々ポリスチレンブロックであり、前記式(1)中のXはポリオレフィンブロックであり、前記ポリオレフィンブロックは、イソプレンユニット及び水添イソプレンユニットのうち少なくとも一方を含有し、前記ブロック共重合体(D)全体に対する、前記ブロック共重合体(D)中の前記ポリオレフィンブロックの合計は、70〜90質量%の範囲内であり、前記ブロック共重合体(D)の損失正接tanδが極大値を示す温度は、−20℃以上であることが好ましい。
In the embodiment, the thermosetting resin composition includes an epoxy compound (A), a bismaleimide (B), and a polyphenylene having a substituent (c2) having a carbon-carbon double bond at the terminal. An ether resin (C) and a block copolymer (D) represented by the following formula (1),
PS-X-PS (1)
Each PS in the formula (1) is a polystyrene block, X in the formula (1) is a polyolefin block, and the polyolefin block contains at least one of an isoprene unit and a hydrogenated isoprene unit, The total of the polyolefin blocks in the block copolymer (D) with respect to the entire block copolymer (D) is in the range of 70 to 90% by mass, and the loss tangent tan δ of the block copolymer (D) The temperature at which shows a maximum value is preferably −20 ° C. or higher.
前記一実施形態にあっては、前記熱硬化性樹脂組成物に対する、前記ポリフェニレンエーテル樹脂(C)の量は、8〜35質量%の範囲内であることが好ましい。 In the embodiment, the amount of the polyphenylene ether resin (C) with respect to the thermosetting resin composition is preferably in the range of 8 to 35% by mass.
前記一実施形態にあっては、前記熱硬化性樹脂組成物に対する、前記ビスマレイミド(B)の量は、3〜20質量%の範囲内であることが好ましい。 In the embodiment, the amount of the bismaleimide (B) with respect to the thermosetting resin composition is preferably in the range of 3 to 20% by mass.
前記一実施形態にあっては、前記熱硬化性樹脂組成物に対する、前記エポキシ化合物(A)の量は、3〜10質量%の範囲内であることが好ましい。 In the embodiment, the amount of the epoxy compound (A) with respect to the thermosetting resin composition is preferably in the range of 3 to 10% by mass.
本発明の一実施形態に係る金属張積層板の製造方法において、前記金属張積層板は、導体層と、前記導体層上に重なる絶縁層と、前記絶縁層上に重なる第二導体層とを備え、前記絶縁層は、電気絶縁性を有する母材と、前記母材に埋まっているグラファイトシート及びガイド部材と、を含み、前記ガイド部材と前記グラファイトシートとは、特定の位置関係にあり、前記ガイド部材は、金属を含む。前記製造方法は、第一の金属箔、第一の樹脂シート、グラファイトシート及びガイド部材、第二の樹脂シート、並びに第二の金属箔をこの順に重ねて熱プレスすることで、前記第一の金属箔からなる前記導体層と、前記第一の樹脂シートの硬化物及び前記第二の樹脂シートの硬化物からなる母材と、前記第二の金属箔からなる前記第二導体層とを作製する工程を含む。 In the method for manufacturing a metal-clad laminate according to an embodiment of the present invention, the metal-clad laminate includes a conductor layer, an insulating layer overlying the conductor layer, and a second conductor layer overlying the insulating layer. The insulating layer includes a base material having electrical insulation, a graphite sheet and a guide member embedded in the base material, and the guide member and the graphite sheet are in a specific positional relationship, The guide member includes a metal. In the manufacturing method, the first metal foil, the first resin sheet, the graphite sheet and the guide member, the second resin sheet, and the second metal foil are stacked in this order and hot pressed, Producing the conductor layer made of metal foil, the base material made of the cured product of the first resin sheet and the cured product of the second resin sheet, and the second conductor layer made of the second metal foil The process of carrying out is included.
前記金属張積層板の製造方法の前記一実施形態にあっては、前記金属張積層板の製造方法は、前記前記絶縁層内の前記ガイド部材の位置を検出する工程と、前記位置と特定の位置関係にある、外部から視認可能なガイドマークを形成する工程と、を更に含むことが好ましい。 In the embodiment of the method for manufacturing the metal-clad laminate, the method for manufacturing the metal-clad laminate includes a step of detecting a position of the guide member in the insulating layer, It is preferable to further include a step of forming guide marks that are in a positional relationship and are visible from the outside.
本発明によれば、絶縁層が放熱材料としてグラファイトシートを備え、グラファイトシートの破損を抑制できるとともに、絶縁層におけるグラファイトシートの位置を容易に確認できる金属張積層板及びその製造方法を得ることができる。 According to the present invention, it is possible to obtain a metal-clad laminate and a method for manufacturing the same, in which the insulating layer includes a graphite sheet as a heat dissipating material and can suppress damage to the graphite sheet, and can easily check the position of the graphite sheet in the insulating layer. it can.
<金属張積層板>
図1を参照して、本発明の一実施形態に係る金属張積層板1について説明する。
<Metal-clad laminate>
With reference to FIG. 1, the metal-
本発明の一実施形態に係る金属張積層板1は、導体層10(11)と、前記導体層10(11)上に重なる絶縁層20と、を備える。
The metal-
絶縁層20は、電気絶縁性を有する母材21と、母材21に埋まっているグラファイトシート22及びガイド部材23と、を含む。
The
ガイド部材23とグラファイトシート22とは、特定の位置関係にある。ガイド部材23は、金属を含む。
The
金属張積層板1が、放熱材料であるグラファイトシート22を含む絶縁層20を備えることで、金属張積層板1の放熱性が向上しうる。また、グラファイトシート22が、絶縁層20中の電気絶縁性を有する母材21に埋まっていることで、グラファイトシート22の破損が抑制され、金属張積層板1の取扱性が向上しうる。そのため、この金属張積層板1から、例えばフレキシブルなプリント配線板を作製することが可能になる。さらに、グラファイトシート22を金属張積層板1の表面に貼り付ける場合と比較して、グラファイトシート22が、母材21に埋まっていると、金属積層板1の薄型化を達成でき、更にそれによって放熱性が高まりうる。
Since the metal-
また、グラファイトシート22と特定の位置関係にあるガイド部材23が母材21に埋まっているため、絶縁層20におけるグラファイトシート22の位置を容易に確認しうる。ガイド部材23が金属を含むことで、ガイド部材23の位置を、例えばX線検知機等によって容易に検出することができる。このため、グラファイトシート22とガイド部材23との位置関係から、グラファイトシート22の位置を特定することができる。
Further, since the
上記のように、金属積層板1において、絶縁層20が放熱材料としてグラファイトシート22を母材21内に備えることで、グラファイトシート22の破損を抑制できるとともに、ガイド部材23によって、絶縁層20におけるグラファイトシート22の位置を容易に確認することができる。
As described above, in the
本発明の第一の実施形態に係る金属張積層板1について、図1〜図3を参照して説明する。なお図1は、図3の切断線A−Aにおける金属張積層板1の断面図である。
A metal-clad
第一実施形態の金属張積層板1は、少なくとも一つの導体層10と絶縁層20とを備える。
The metal-clad
導体層10は例えば銅箔などの金属箔であってもよく、導体配線でもよい。導体層10の厚みは、例えば2〜105μmの範囲内である。銅箔としては、例えば18μm銅箔のキャリア箔付き2μmを用いることができる。
The
本実施形態の金属張積層板1は、導体層10を二つ有する。金属張積層板1は、第一導体層11と、第一導体層11上に重なる絶縁層20と、絶縁層20上に重なる第二導体層12とを備える。すなわち、金属張積層板1において、第一導体層11と、絶縁層20と、第二導体層12とが、この順で積層している。
The metal-clad
絶縁層20は、母材21と、母材21に埋まっているグラファイトシート22及びガイド部材23と、を含む。絶縁層20の厚みは、例えば12〜200μmの範囲内であることが好ましい。絶縁層20の厚みがこの範囲内であることで、グラファイトシート22及びガイド部材23を、絶縁層20の母材21に良好に埋め込みやすくなる。また、絶縁層20の厚みがこの範囲内であることで、絶縁層20の厚みが大きくなりすぎることを防げるため、グラファイトシート22による十分な放熱性を確保しやすくなる。絶縁層20の厚みは、12〜150μmの範囲内であることが更に好ましい。
The insulating
母材21は、上記の通り、電気絶縁性を有する。母材21は、熱硬化性樹脂組成物の硬化物を含むことが好ましい。母材21が、熱硬化性樹脂組成物の硬化物を含むことで、金属張積層板1に優れた耐熱性を付与することができる。母材21は、後述する熱硬化性樹脂である組成物(X)の硬化物を含むことが更に好ましい。この場合、母材21を含む絶縁層20を低温で成形することができるとともに、絶縁層20は高い耐熱性を有することができる。さらに、母材21が組成物(X)の硬化物を含むと、絶縁層20の低誘電率化及び低誘電正接化が可能であり、そのため、金属張積層板1及びこれを材料にして作製されるプリント配線板は、良好な高周波特性を有することができる。
As described above, the
母材21は、熱可塑性樹脂組成物を含んでいてもよい。母材21が、熱可塑性樹脂組成物を含むことで、金属張積層板1に柔軟性を付与することができる。熱可塑性樹脂組成物の例は、液晶ポリマー樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、及びフッ素樹脂を含む。熱可塑性樹脂組成物が液晶ポリマー樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、及びフッ素樹脂からなる群から選択される少なくとも一種の成分を含有する場合、絶縁層20の低誘電率化及び低誘電正接化が可能である。この場合、金属張積層板1及びこれを材料にして作製されるプリント配線板は、良好な高周波特性を有することができる。
The
グラファイトシート22は、グラファイトをシート状に加工したものである。グラファイトシート22は、母材21に埋まっている。グラファイトシート22が、母材21に埋まっていることで、グラファイトシート22の破損が抑制され、金属張積層板1の取扱性が向上しうる。
The
金属張積層板1は、図3に示すように、複数のグラファイトシート22を有しているが、グラファイトシート22を一枚のみ有していてもよく、二枚以上有していてもよい。図3では、等しいサイズの複数のグラファイトシート22が、平面視において規則的に配置されている。もちろん、複数のグラファイトシート22の形状やサイズは、同じであってもよく、異なっていてもよい。また、複数のグラファイトシート22は、規則的に配置されていてもよく、不規則に配置されていてもよい。図3では、グラファイトシート22の形状は四角形である。グラファイトシート22が、四角形であると、金属張積層板1を、グラファイトシート22の位置に合わせて切断する際に、切断が容易になる。グラファイトシート22が、四角形である場合、グラファイトシート22の平面視におけるサイズは、長辺が10〜500mm、短辺が2〜300mmの範囲内であることが好ましい。また、グラファイトシート22の厚みは、例えば10〜70μmの範囲内であることが好ましい。
As shown in FIG. 3, the metal-clad
ガイド部材23は、母材21に埋まっている。ガイド部材23が、母材21に埋まっていることで、ガイド部材23が金属張積層板1の表面に設けられる場合と比較して、金属張積層板1の厚みが大きくなりすぎないようにすることができる。また、ガイド部材23とグラファイトシート22とは、特定の位置関係にある。すなわち、絶縁層20内におけるガイド部材23の位置が特定されたならば、絶縁層20内におけるグラファイトシート22の位置も特定される。そのような関係である限り、ガイド部材23とグラファイトシート22とは、いかなる位置関係にあってもよい。グラファイトシート22とガイド部材23との位置関係は、例えば金属張積層板1の開発又は製造に携わる者が任意に決定する。
The
ガイド部材23は、金属を含む。ガイド部材23に含まれる金属の例は、銅、アルミニウム、及びステンレスを含む。ガイド部材23が金属を含むことで、絶縁層20内のガイド部材23の位置を、例えばX線検知機等によって容易に検出することができる。グラファイトシート22は、X線検知機等によって検出できないが、ガイド部材23の位置が検出できれば、グラファイトシート22とガイド部材23との位置関係によって、グラファイトシート22の位置を確認することができる。ガイド部材23は、金属箔であることが好ましい。金属箔の例は、銅箔、アルミニウム箔、及びステンレス箔を含む。ガイド部材23が、金属箔であることで、金属張積層板1を容易に作製できる。
The
絶縁層20が複数のグラファイトシート22を含む場合、絶縁層20は、少なくとも二つのガイド部材23を含むことが好ましい。例えば、図3に示す金属張積層板1では、絶縁層20は二つのガイド部材23を備え、これらは平面視において、絶縁層20の対向し合う二つの隅部にそれぞれ配置されている。絶縁層20が、ガイド部材23を、少なくとも二つ含むことで、複数のグラファイトシート22の位置を特定しやすくなる。絶縁層20が、二つのガイド部材23を含む場合、二つのガイド部材23は、絶縁層20の平面視において対向する2つの端部に配置されることが好ましい。
When the insulating
ガイド部材23の形状は、図3においては、四角形であるが、他の形状を有していてもよい。ガイド部材23は、四角形である場合、平面視におけるガイド部材23のサイズは、長辺が2〜10mm、短辺が2〜10mmの範囲内であることが好ましい。また、ガイド部材23の厚みは、例えば10〜70μmの範囲内であることが好ましい。
The shape of the
また、グラファイトシート22の厚みとガイド部材23の厚みとは、同じであることが好ましい。グラファイトシート22の厚みとガイド部材23の厚みとが、同じであることで、金属張積層板1の作製が容易になる。
Moreover, it is preferable that the thickness of the
グラファイトシート22及びガイド部材23は、絶縁層20の厚み方向と直交する方向に並んでいることが好ましい。すなわち、図3に示すように、グラファイトシート22及びガイド部材23は、平面視において並んでいることが好ましい。グラファイトシート22及びガイド部材23が、平面視において重なると、絶縁層20の厚みが大きくなりやすい。そのため、グラファイトシート22及びガイド部材23は、平面視において重ならないように配置されることが好ましい。
The
ガイド部材23と、グラファイトシート22との最短距離は、例えば、1〜50mmの範囲内である。
The shortest distance between the
金属張積層板1は、外部から視認可能なガイドマーク30を更に備えることが好ましい。ガイドマーク30とガイド部材23とは、特定の位置関係にある。すなわち、ガイドマーク30の位置が特定されたならば、絶縁層20内におけるガイド部材23の位置も特定される。そのような関係である限り、ガイドマーク30とガイド部材23との位置関係は、いかなるものであってもよい。ガイド部材23とガイドマーク30との位置関係は、例えば金属張積層板1の開発又は製造に携わる者が任意に決定する。
It is preferable that the metal-clad
金属張積層板1が視認可能なガイドマーク30を備えると、X線検査機等を使用してガイド部材23の位置を直接確認しなくても、ガイドマーク30を視認してその位置を確認すれば、ガイドマーク30とガイド部材23との位置関係、及びガイド部材23とグラファイトシート23との位置関係に基づいて、グラファイトシート22の位置を特定することができる。したがって、グラファイトシート22の位置に合わせて、金属張積層板1に導体配線を形成したり、金属張積層板1を切断したりすることが容易になる。
If the metal-clad
絶縁層20が複数のガイド部材23を含む場合、ガイドマーク30は、金属張積層板1において、少なくとも2箇所以上に形成されていることが好ましい。絶縁層20が複数のガイド部材23を含む場合、金属張積層板1は、複数のガイド部材23にそれぞれ対応する複数のガイドマーク30を備えることが好ましい。この場合、複数のガイドマーク30の各々と対応するガイド部材23とは、特定の位置関係にある。この場合、複数のガイドマーク30を目視すると、複数のガイド部材23の位置を特定できるため、複数のグラファイトシート22の位置を確認しやすい。
When the insulating
ガイドマーク30は、例えば、導体層10上の、ガイド部材23に対して特定の位置に印刷される図形、文字、パターン等のマーク、又はガイド部材23に対して特定の位置に設けられる穴31であってよい。ただし、ガイドマーク30は、印刷されるマークや穴に限定されず、外部から視認可能な印であればよい。
The
ガイドマーク30は、穴31であることが好ましい。例えば、図2では、金属張積層板1をガイド部材23が配置される位置で貫通する穴31であるガイドマーク30が形成されている。ただし、ガイドマーク30として形成される穴31は、金属張積層板1を貫通していなくてもよく、例えば、導体層10のみに設けられる穴31であってもよく、導体層10と母材21とを貫通しガイド部材23を貫通しない穴31であってもよい。穴31は、金属張積層板1を貫通していることが好ましい。この場合、ガイドマーク30を、金属張積層板1の両面から視認することができる。
The
本発明の第二の実施形態に係る金属張積層板1について、図4を参照して説明する。以下では、第一の実施形態に係る金属張積層板1と同様の構成については図中に同じ符号を付して詳しい説明を省略する。
A metal-clad
第二の実施形態では、金属張積層板1は、導体層10(11)と、前記導体層10(11)上に重なる絶縁層20と、を備える。
In the second embodiment, the metal-clad
絶縁層20は、電気絶縁性を有する母材21と、母材21に埋まっているグラファイトシート22及びガイド部材23と、を含む。
The insulating
ガイド部材23とグラファイトシート22とは、特定の位置関係にある。ガイド部材23は、金属を含む。
The
第二の実施形態では、母材21は、第一の層211と、第二の層212と、を備える。すなわち、第二の実施形態では、絶縁層20は、第一の層211と、第二の層212と、グラファイトシート22と、ガイド部材23と、を含む。
In the second embodiment, the
図4に示す金属張積層板1において、母材21は、二つの第一の層211、及び二つの第一の層211の間にある第二の層212を備える。すなわち、母材21は、第一の像211、第二の層212、及び第一の層211を備え、これらはこの順に積層している。
In the metal-clad
第一の層211は、熱可塑性樹脂組成物を含む。絶縁層20が、熱可塑性樹脂組成物を含む第一の層211を有することで、絶縁層20に柔軟性を付与できる。熱可塑性樹脂組成物の例は、液晶ポリマー樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、及びフッ素樹脂を含む。熱可塑性樹脂組成物が液晶ポリマー樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、及びフッ素樹脂からなる群から選択される少なくとも一種の成分を含有する場合、絶縁層20の低誘電率化及び低誘電正接化が可能である。この場合、金属張積層板1及びこれを材料にして作製されるプリント配線板は、良好な高周波特性を有することができる。
The
第二の層212は、熱硬化性樹脂組成物の硬化物からなる。絶縁層20が、熱硬化性樹脂組成物の硬化物からなる第二の層212を有することで、絶縁層20に耐熱性を付与できる。第二の層212は、後述する熱硬化性樹脂組成物である組成物(X)の硬化物を含むことが好ましい。この場合、第二の層212を低温で成形することができるとともに、絶縁層20は高い耐熱性を有することができる。さらに、第二の層212が組成物(X)の硬化物を含むと、絶縁層20の低誘電率化及び低誘電正接化が可能であり、そのため、金属張積層板1及びこれを材料にして作製されるプリント配線板は、良好な高周波特性を有することができる。
The
母材21が、熱可塑性樹脂組成物を含む第一の層211と、熱硬化性樹脂組成物の硬化物からなる第二の層212とを備えることで、金属張積層板1の耐熱性及び柔軟性の両方を向上させることができる。
Since the
第二の実施形態では、グラファイトシート22及びガイド部材23は、第二の層212に埋まっている。この場合、金属張積層板1の放熱性及び取扱性を保ちつつ、耐熱性及び柔軟性を向上させることができる。
In the second embodiment, the
第一の層211の厚みは、例えば1〜25μmの範囲内であることが好ましい。図4に示すように、母材21が二つの第一の層211を含む場合、各第一の層211の厚みが1〜25μmの範囲内であることが好ましい。それにより、金属張積層板1の柔軟性が低下したり、厚みが大きくなりすぎたりすることを抑制できる。第二の層212の厚みは、例えば10〜100μmの範囲内であることが好ましい。それにより、金属張積層板1の放熱性を確保するとともに、グラファイトシート22及びガイド部材23を、第二の層212に良好に埋め込むことができる。
The thickness of the
本発明の第一の実施形態及び第二の実施形態では、金属張積層板1は、二つの導体層10と一つの絶縁層20とを備えるが、これに限られない。金属張積層板1は、導体層10を一つのみ備えていてもよく、導体層10を三つ以上備えていてもよい。金属張積層板1が、導体層10を二つ以上有していると、金属張積層板1の両面に導体パターンや導体配線等を形成することが可能になる。金属張積層板1が、導体層10を一つのみ有している場合、金属張積層板1は、第1導体層11のみを有していてもよく、第二導体層12のみを有していてもよい。また、金属張積層板1は、絶縁層20を二つ以上備えていてもよい。金属張積層板1が複数の絶縁層20を備える場合、複数の絶縁層20のうち少なくとも一つの絶縁層20が、母材21、グラファイトシート22及びガイド部材23を備えていればよい。
In the first embodiment and the second embodiment of the present invention, the metal-clad
<熱硬化性樹脂組成物>
本発明の第一の実施形態に係る金属張積層板1において、上記の通り、母材21は熱硬化性樹脂組成物の硬化物を含んでいてもよい。また、本発明の第二の実施形態に係る金属張積層板1において、上記の通り、母材21中の第二の層212は、熱硬化性樹脂組成物の硬化物からなる。これらの熱硬化性樹脂組成物は、後述する熱硬化性樹脂組成物(以下、組成物(X)という)を含むことが好ましい。以下、組成物(X)について説明する。
<Thermosetting resin composition>
In the metal-clad
組成物(X)は、有機材料を含有する。なお、組成物(X)が有機溶剤を含有する場合、有機溶剤は有機材料には含まれない。 The composition (X) contains an organic material. In addition, when the composition (X) contains an organic solvent, the organic solvent is not included in the organic material.
有機材料は、エポキシ化合物(A)と、ビスマレイミド(B)と、炭素−炭素二重結合を有する置換基(c2)を末端に有するポリフェニレンエーテル樹脂(C)と、下記式(1)で示されるブロック共重合体(D)とを含有する。 The organic material is represented by the following formula (1): epoxy compound (A), bismaleimide (B), polyphenylene ether resin (C) having a substituent (c2) having a carbon-carbon double bond at the terminal. Block copolymer (D).
PS−X−PS (1)
式(1)中のPSの各々はポリスチレンブロックであり、式(1)中のXはポリオレフィンブロックである。ポリオレフィンブロックは、イソプレンユニット及び水添イソプレンユニットのうち少なくとも一方を有する。
PS-X-PS (1)
Each PS in the formula (1) is a polystyrene block, and X in the formula (1) is a polyolefin block. The polyolefin block has at least one of an isoprene unit and a hydrogenated isoprene unit.
ブロック共重合体(D)全体に対する、ブロック共重合体(D)中のポリオレフィンブロックの合計は、70〜90質量%の範囲内である。 The sum total of the polyolefin block in a block copolymer (D) with respect to the whole block copolymer (D) exists in the range of 70-90 mass%.
さらに、ブロック共重合体(D)の損失正接tanδが極大値を示す温度は、−20℃以上である。なお、ブロック共重合体(D)の損失正接tanδは、動的粘弾性測定によって測定される。動的粘弾性は、例えばセイコーインスツルメンツ株式会社製の粘度弾性測定装置「DMS6100」によって測定された値から算出される。 Furthermore, the temperature at which the loss tangent tan δ of the block copolymer (D) exhibits a maximum value is −20 ° C. or higher. The loss tangent tan δ of the block copolymer (D) is measured by dynamic viscoelasticity measurement. The dynamic viscoelasticity is calculated from a value measured by, for example, a viscoelasticity measuring device “DMS6100” manufactured by Seiko Instruments Inc.
本実施形態では、組成物(X)が上記のエポキシ化合物(A)、ビスマレイミド(B)及びポリフェニレンエーテル樹脂(C)を含有することで、組成物(X)の硬化物の低誘電率化及び低誘電正接化を達成できる。また、組成物(X)がブロック共重合体(D)を含有することで、その硬化物は良好な柔軟性を有する。このため、硬化物を含む絶縁層20は良好なフレキシブル性を有しうる。さらに、組成物(X)を180〜200℃の範囲内の温度といった、低温で成形することもできる。これは、ブロック共重合体(D)の分子同士が、低温でも反応可能であるとともに、ポリフェニレンエーテル樹脂(C)とブロック共重合体(D)とが、低温でも反応可能であるためと考えられる。さらに、組成物(X)の硬化物は、良好な耐熱性をも有しうる。
In the present embodiment, the composition (X) contains the epoxy compound (A), bismaleimide (B) and polyphenylene ether resin (C), thereby reducing the dielectric constant of the cured product of the composition (X). In addition, a low dielectric loss tangent can be achieved. Moreover, the cured | curing material has favorable softness | flexibility because composition (X) contains a block copolymer (D). For this reason, the insulating
このため、組成物(X)は、低温で成形可能であり、その硬化物は低い誘電率及び低い誘電正接を有しうるとともに高い耐熱性も有しうる。 Therefore, the composition (X) can be molded at a low temperature, and the cured product can have a low dielectric constant and a low dielectric loss tangent, and can also have high heat resistance.
エポキシ化合物(A)について説明する。組成物(X)がエポキシ化合物(A)を含有することで、組成物(X)の硬化物は、特に高い耐熱性を有しうる。さらに、組成物(X)がエポキシ化合物(A)を含有することで、硬化物は、金属及び樹脂材料との良好な密着性を有しうる。 The epoxy compound (A) will be described. When the composition (X) contains the epoxy compound (A), the cured product of the composition (X) can have particularly high heat resistance. Furthermore, cured | curing material can have favorable adhesiveness with a metal and a resin material because composition (X) contains an epoxy compound (A).
エポキシ化合物(A)は、好ましくは、ナフタレン骨格を有する多官能エポキシ樹脂を含有する。ナフタレン骨格を有する多官能エポキシ樹脂の例は、ノボラック型エポキシ樹脂、3官能型エポキシ樹脂、アラルキル型エポキシ樹脂、及びクレゾール型共縮合型エポキシ樹脂を含む。エポキシ化合物(A)は、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ポリフェノール型エポキシ樹脂、ポリグリシジルアミン型エポキシ樹脂、アルコール型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、及びフェノール骨格とビフェニル骨格を有するノボラック型エポキシ樹脂からなる群から選択される少なくとも一種の多官能エポキシ樹脂を含有してもよい。 The epoxy compound (A) preferably contains a polyfunctional epoxy resin having a naphthalene skeleton. Examples of the polyfunctional epoxy resin having a naphthalene skeleton include a novolac type epoxy resin, a trifunctional type epoxy resin, an aralkyl type epoxy resin, and a cresol type cocondensation type epoxy resin. The epoxy compound (A) comprises a bisphenol A type epoxy resin, a polyphenol type epoxy resin, a polyglycidylamine type epoxy resin, an alcohol type epoxy resin, an alicyclic epoxy resin, and a novolac type epoxy resin having a phenol skeleton and a biphenyl skeleton. You may contain the at least 1 type of polyfunctional epoxy resin selected from a group.
組成物(X)中の有機材料に対する、エポキシ化合物(A)の量は、好ましくは3〜10質量%の範囲内である。このエポキシ化合物(A)の量が、3質量%以上であることで、硬化物は、特に高い耐熱性を有しうるとともに、金属及び樹脂材料との特に高い密着性を有しうる。また、この量が10質量%以下であることで、硬化物の良好な柔軟性が保たれうる。このエポキシ化合物(A)の量は、より好ましくは3〜7質量%の範囲内である。 The amount of the epoxy compound (A) with respect to the organic material in the composition (X) is preferably in the range of 3 to 10% by mass. When the amount of the epoxy compound (A) is 3% by mass or more, the cured product can have particularly high heat resistance and can have particularly high adhesion to a metal and a resin material. Moreover, the favorable softness | flexibility of hardened | cured material can be maintained because this quantity is 10 mass% or less. The amount of the epoxy compound (A) is more preferably in the range of 3 to 7% by mass.
ビスマレイミド(B)について説明する。組成物(X)がビスマレイミド(B)を含有することで、組成物(X)の硬化物がより高い耐熱性を有しうる。 The bismaleimide (B) will be described. When the composition (X) contains the bismaleimide (B), the cured product of the composition (X) can have higher heat resistance.
ビスマレイミド(B)は、好ましくはモノマーである。この場合、組成物(X)中の有機材料におけるビスマレイミド(B)の溶解性が良好であるとともに、硬化物がより高い耐熱性を有しうる。 The bismaleimide (B) is preferably a monomer. In this case, the solubility of the bismaleimide (B) in the organic material in the composition (X) is good, and the cured product can have higher heat resistance.
ビスマレイミド(B)は、好ましくは、4,4’−ジフェニルメタンビスマレイミド、ビスフェノールAジフェニルエーテルビスマレイミド、3,3’−ジメチル−5,5’−ジエチル−4,4’−ジフェニルメタンビスマレイミド、及び1,6’−ビスマレイミド−(2,2,4−トリメチル)ヘキサンからなる群から選択される少なくとも一種の成分を含有する。この場合、誘電損失が特に低減する。 The bismaleimide (B) is preferably 4,4′-diphenylmethane bismaleimide, bisphenol A diphenyl ether bismaleimide, 3,3′-dimethyl-5,5′-diethyl-4,4′-diphenylmethane bismaleimide, and 1 , 6'-bismaleimide- (2,2,4-trimethyl) hexane, which contains at least one component selected from the group consisting of. In this case, the dielectric loss is particularly reduced.
組成物(X)中の有機材料に対する、ビスマレイミド(B)の量は、好ましくは3〜20質量%の範囲内である。このビスマレイミド(B)の量が3質量%以上であると、硬化物が特に高い耐熱性を有しうる。また、この量が20質量%以下であると、硬化物は良好な柔軟性を有しうる。このビスマレイミド(B)の量は、より好ましくは3〜15質量%の範囲内、更に好ましくは3〜10質量%の範囲内である。 The amount of bismaleimide (B) with respect to the organic material in the composition (X) is preferably in the range of 3 to 20% by mass. When the amount of the bismaleimide (B) is 3% by mass or more, the cured product can have particularly high heat resistance. Moreover, hardened | cured material can have a favorable softness | flexibility as this quantity is 20 mass% or less. The amount of this bismaleimide (B) is more preferably in the range of 3 to 15% by mass, and still more preferably in the range of 3 to 10% by mass.
ポリフェニレンエーテル樹脂(C)について説明する。ポリフェニレンエーテル樹脂(C)は、例えばポリフェニレンエーテル鎖(c1)と、ポリフェニレンエーテル鎖(c1)の末端に結合している置換基(c2)とを、有する。置換基(c2)は、炭素−炭素二重結合を有する。 The polyphenylene ether resin (C) will be described. The polyphenylene ether resin (C) has, for example, a polyphenylene ether chain (c1) and a substituent (c2) bonded to the terminal of the polyphenylene ether chain (c1). The substituent (c2) has a carbon-carbon double bond.
置換基(c2)は、例えば下記式(6)に示す置換基(c21)又は下記式(7)に示す置換基(c22)である。 The substituent (c2) is, for example, a substituent (c21) represented by the following formula (6) or a substituent (c22) represented by the following formula (7).
式(6)において、nは0〜10の整数であり、Zはアリーレン基であり、R1〜R3は各々独立に水素又はアルキル基である。なお、式(6)におけるnが0である場合は、Zはポリフェニレンエーテル樹脂(C)におけるポリフェニレンエーテル鎖(c1)の末端に直接結合している。 In the formula (6), n is an integer of 0 to 10, Z is an arylene group, and R 1 to R 3 are each independently hydrogen or an alkyl group. When n in the formula (6) is 0, Z is directly bonded to the end of the polyphenylene ether chain (c1) in the polyphenylene ether resin (C).
式(7)において、R4は水素又はアルキル基である。 In the formula (7), R 4 is hydrogen or an alkyl group.
置換基(c21)に関し、式(6)中のZの具体例は、フェニレン基等の二価の単環芳香族基、及びナフチレン基の二価の多官能芳香族基を含む。Z中の芳香環における少なくとも一つの水素が、アルケニル基、アルキニル基、ホルミル基、アルキルカルボニル基、アルケニルカルボニル基、又はアルキルカルボニル基で、置換されていてもよい。 Regarding the substituent (c21), specific examples of Z in the formula (6) include a divalent monocyclic aromatic group such as a phenylene group and a divalent polyfunctional aromatic group such as a naphthylene group. At least one hydrogen in the aromatic ring in Z may be substituted with an alkenyl group, an alkynyl group, a formyl group, an alkylcarbonyl group, an alkenylcarbonyl group, or an alkylcarbonyl group.
置換基(c21)は、好ましくは、ビニルベンジル基を有する。置換基(c21)は、例えば下記式(61)に示す置換基又は下記式(62)に示す置換基である。 The substituent (c21) preferably has a vinylbenzyl group. The substituent (c21) is, for example, a substituent represented by the following formula (61) or a substituent represented by the following formula (62).
ポリフェニレンエーテル鎖(c1)は、例えば下記式(8)に示す構造を有する。 The polyphenylene ether chain (c1) has, for example, a structure represented by the following formula (8).
式(8)において、mは1〜50の範囲内の数であり、R5〜R8は、各々独立に、水素、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、ホルミル基、アルキルカルボニル基、アルケニルカルボニル基、又はアルキニルカルボニル基である。 In the formula (8), m is a number in the range of 1 to 50, and R 5 to R 8 are each independently hydrogen, alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, formyl group, alkylcarbonyl group, alkenylcarbonyl. Or an alkynylcarbonyl group.
アルキル基の炭素数は、好ましくは1〜18、より好ましくは1〜10である。より具体的には、アルキル基は、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ヘキシル基又はデシル基である。アルケニル基の炭素数は、好ましくは2〜18、より好ましくは2〜10である。より具体的には、アルケニル基は、例えばビニル基、アリル基又は3−ブテニル基である。アルキニル基の炭素数は、好ましくは2〜18、より好ましくは2〜10である。より具体的には、アルキニル基は、例えばエチニル基又はプロパ−2−イン−1−イル基(プロパギル基ともいう)である。アルキルカルボニル基の炭素数は、好ましくは2〜18、より好ましくは2〜10である。より具体的には、アルキルカルボニル基は、例えばアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、ピバロイル基、ヘキサノイル基、オクタノイル基又はシクロヘキシルカルボニル基である。アルケニルカルボニル基の炭素数は、好ましくは3〜18、より好ましくは3〜10である。より具体的には、アルケニルカルボニル基は、例えばアクリロイル基、メタクリロイル基又はクロトノイル基である。アルキニルカルボニル基の炭素数は、好ましくは3〜18、より好ましくは3〜10である。より具体的には、アルキニルカルボニル基は、例えばプロピオロイル基である。特に好ましくは、R5〜R8は、各々独立に、水素又はアルキル基である。 Carbon number of an alkyl group becomes like this. Preferably it is 1-18, More preferably, it is 1-10. More specifically, the alkyl group is, for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a hexyl group, or a decyl group. The carbon number of the alkenyl group is preferably 2 to 18, more preferably 2 to 10. More specifically, the alkenyl group is, for example, a vinyl group, an allyl group or a 3-butenyl group. The carbon number of the alkynyl group is preferably 2-18, more preferably 2-10. More specifically, the alkynyl group is, for example, an ethynyl group or a prop-2-yn-1-yl group (also referred to as a propargyl group). The carbon number of the alkylcarbonyl group is preferably 2-18, more preferably 2-10. More specifically, the alkylcarbonyl group is, for example, an acetyl group, a propionyl group, a butyryl group, an isobutyryl group, a pivaloyl group, a hexanoyl group, an octanoyl group, or a cyclohexylcarbonyl group. The carbon number of the alkenylcarbonyl group is preferably 3-18, more preferably 3-10. More specifically, the alkenylcarbonyl group is, for example, an acryloyl group, a methacryloyl group or a crotonoyl group. The alkynylcarbonyl group preferably has 3 to 18 carbon atoms, more preferably 3 to 10 carbon atoms. More specifically, the alkynylcarbonyl group is, for example, a propioloyl group. Particularly preferably, R 5 to R 8 are each independently hydrogen or an alkyl group.
ポリフェニレンエーテル樹脂(C)の数平均分子量は、好ましくは1000〜7000の範囲内である。この場合、組成物(X)の硬化物は、特に優れた誘電特性を有するとともに、この硬化物の高ガラス転移温度化、密着性向上及び耐熱性向上を、バランス良く達成できる。なお、この数平均分子量は、ポリフェニレンエーテル樹脂(C)のゲルパーミエーションクロマトグラフィーによる分析結果から算出される。 The number average molecular weight of the polyphenylene ether resin (C) is preferably in the range of 1000 to 7000. In this case, the cured product of the composition (X) has particularly excellent dielectric properties, and can achieve a high glass transition temperature, improved adhesion, and improved heat resistance in a well-balanced manner. In addition, this number average molecular weight is computed from the analysis result by the gel permeation chromatography of polyphenylene ether resin (C).
ポリフェニレンエーテル樹脂(C)の、一分子当たりの置換基(c2)の数は、好ましくは1.5〜3の範囲内である。この置換基(c2)の数が1.5以上であると、エラストマー(A)とポリフェニレンエーテル樹脂(C)の反応生成物の架橋密度が十分に高くなるため、硬化物の耐熱性が特に向上しうる。この置換基(c2)の数が3.0以下であると、組成物(X)の過度な反応性が抑制されるため、組成物(X)の保存安定性、及び組成物(X)の成形時の流動性が、向上しうる。この数は、好ましくは1.7〜2.7の範囲内であり、より好ましくは1.8〜2.5の範囲内である。 The number of substituents (c2) per molecule in the polyphenylene ether resin (C) is preferably in the range of 1.5 to 3. When the number of the substituents (c2) is 1.5 or more, the crosslinking density of the reaction product of the elastomer (A) and the polyphenylene ether resin (C) is sufficiently high, so that the heat resistance of the cured product is particularly improved. Yes. When the number of the substituents (c2) is 3.0 or less, excessive reactivity of the composition (X) is suppressed, so that the storage stability of the composition (X) and the composition (X) The fluidity during molding can be improved. This number is preferably in the range of 1.7 to 2.7, more preferably in the range of 1.8 to 2.5.
ポリフェニレンエーテル樹脂(C)の固有粘度は、好ましくは0.03〜0.12dL/gの範囲内である。固有粘度が0.03dL/g以上であれば、硬化物の誘電率及び誘電性正接が特に低下しうる。また、固有粘度が0.12dL/g以下であれば、組成物(X)の成形時の流動性が特に向上しうる。この固有粘度は、より好ましくは0.04〜0.11dL/gの範囲内であり、更に好ましくは0.06〜0.095dL/gの範囲内である。なお、この固有粘度は、ポリフェニレンエーテル樹脂(C)を塩化メチレンに0.18g/45mlの濃度で溶解させて調製される溶液の、25℃における粘度である。この粘度は、Schott社製のAVS500 Visco System等の粘度計で測定される。 The intrinsic viscosity of the polyphenylene ether resin (C) is preferably in the range of 0.03 to 0.12 dL / g. If the intrinsic viscosity is 0.03 dL / g or more, the dielectric constant and dielectric loss tangent of the cured product can be particularly lowered. Moreover, if intrinsic viscosity is 0.12 dL / g or less, the fluidity | liquidity at the time of shaping | molding of a composition (X) can improve especially. This intrinsic viscosity is more preferably in the range of 0.04 to 0.11 dL / g, and still more preferably in the range of 0.06 to 0.095 dL / g. The intrinsic viscosity is a viscosity at 25 ° C. of a solution prepared by dissolving polyphenylene ether resin (C) in methylene chloride at a concentration of 0.18 g / 45 ml. This viscosity is measured with a viscometer such as AVS500 Visco System manufactured by Schott.
ポリフェニレンエーテル樹脂(C)に対する、このポリフェニレンエーテル樹脂(C)中の分子量13000以上の成分の量は、好ましくは5質量%以下である。この場合、組成物(X)の成形時の流動性が特に向上するとともに、組成物(X)の硬化性が特に向上しうる。この分子量13000以上の成分の量は、より好ましくは0〜5質量%の範囲内であり、更に好ましくは0〜3質量%の範囲内である。ポリフェニレンエーテル樹脂(C)が分子量13000以上の成分を含有しなければ、特に好ましい。 The amount of the component having a molecular weight of 13000 or more in the polyphenylene ether resin (C) with respect to the polyphenylene ether resin (C) is preferably 5% by mass or less. In this case, the fluidity at the time of molding the composition (X) is particularly improved, and the curability of the composition (X) can be particularly improved. The amount of the component having a molecular weight of 13,000 or more is more preferably in the range of 0 to 5% by mass, and still more preferably in the range of 0 to 3% by mass. It is particularly preferable if the polyphenylene ether resin (C) does not contain a component having a molecular weight of 13,000 or more.
なお、ポリフェニレンエーテル樹脂(C)に対する、このポリフェニレンエーテル樹脂(C)中の分子量13000以上の成分の量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで得られるポリフェニレンエーテル樹脂(C)の分子量分布から算出される。 The amount of the component having a molecular weight of 13,000 or more in the polyphenylene ether resin (C) relative to the polyphenylene ether resin (C) is calculated from the molecular weight distribution of the polyphenylene ether resin (C) obtained by gel permeation chromatography.
組成物(X)に対する、ポリフェニレンエーテル樹脂(C)の量は、好ましくは8〜35質量%の範囲内である。このポリフェニレンエーテル樹脂(C)の量が8質量%以上であると、硬化物がより高い耐熱性を有しうる。また、この量が35質量%以下であると、硬化物がより高い柔軟性を有しうる。この量は、より好ましくは10〜30質量%の範囲内であり、更に好ましくは10〜25質量%の範囲内である。 The amount of the polyphenylene ether resin (C) with respect to the composition (X) is preferably in the range of 8 to 35% by mass. When the amount of the polyphenylene ether resin (C) is 8% by mass or more, the cured product can have higher heat resistance. Moreover, hardened | cured material can have a higher softness | flexibility as this quantity is 35 mass% or less. This amount is more preferably in the range of 10 to 30% by mass, and still more preferably in the range of 10 to 25% by mass.
ポリフェニレンエーテル樹脂(C)は、例えば次の方法で合成される。 The polyphenylene ether resin (C) is synthesized, for example, by the following method.
まず、ポリフェニレンエーテルを準備する。ポリフェニレンエーテルは、例えば2,6−ジメチルフェノールと2官能フェノール及び3官能フェノールの少なくとも一方とを含むモノマーの共重合体と、ポリ(2,6−ジメチル−1,4−フェニレンオキサイド)とのうち、少なくとも一方を含有する。 First, polyphenylene ether is prepared. Polyphenylene ether is, for example, a copolymer of monomers containing 2,6-dimethylphenol and at least one of bifunctional phenol and trifunctional phenol, and poly (2,6-dimethyl-1,4-phenylene oxide). , Containing at least one.
より具体的には、例えばポリフェニレンエーテルは、下記式(81)で示される。 More specifically, for example, polyphenylene ether is represented by the following formula (81).
式(81)において、sは0以上の数、tは0以上の数であり、sとtの合計は1以上の数である。sは好ましくは0〜20の範囲内の数であり、tは好ましくは0〜20の範囲内の数であり、sとtの合計値は好ましくは1〜30の範囲内の数である。 In the formula (81), s is a number of 0 or more, t is a number of 0 or more, and the sum of s and t is a number of 1 or more. s is preferably a number in the range of 0 to 20, t is preferably a number in the range of 0 to 20, and the total value of s and t is preferably a number in the range of 1 to 30.
ポリフェニレンエーテルの末端の水酸基を、置換基(c2)で置換することで、ポリフェニレンエーテル樹脂(C)を合成できる。そのためには、例えばポリフェニレンエーテルと、下記式(63)に示す化合物とを、反応させる。 The polyphenylene ether resin (C) can be synthesized by substituting the terminal hydroxyl group of the polyphenylene ether with the substituent (c2). For this purpose, for example, polyphenylene ether is reacted with a compound represented by the following formula (63).
式(63)において、nは0〜10の整数であり、Zはアリーレン基であり、R1〜R3は各々独立に水素又はアルキル基である。Xは、ハロゲノ基であり、より具体的には例えばクロロ基、ブロモ基、ヨード基、又はフルオロ基である。Xは、特に好ましくはクロロ基である。なお、式(63)におけるnが0である場合は、ZはXと直接結合している。 In Formula (63), n is an integer of 0 to 10, Z is an arylene group, and R 1 to R 3 are each independently hydrogen or an alkyl group. X is a halogeno group, and more specifically, for example, a chloro group, a bromo group, an iodo group, or a fluoro group. X is particularly preferably a chloro group. In addition, when n in Formula (63) is 0, Z is directly bonded to X.
式(63)に示す化合物は、例えばp−クロロメチルスチレン及びm−クロロメチルスチレンのうち少なくとも一方を含有する。 The compound represented by the formula (63) contains, for example, at least one of p-chloromethylstyrene and m-chloromethylstyrene.
好ましくは、ポリフェニレンエーテルと式(63)に示す化合物とを、溶媒中で、アルカリ金属水酸化物の存在下で反応させる。この場合、アルカリ金属水酸化物が脱ハロゲン化剤として働くことで、反応が効率良く進行しうる。アルカリ金属水酸化物は、例えば水酸化ナトリウムである。溶媒は例えばトルエンである。 Preferably, polyphenylene ether and the compound represented by formula (63) are reacted in a solvent in the presence of an alkali metal hydroxide. In this case, the reaction can proceed efficiently because the alkali metal hydroxide acts as a dehalogenating agent. The alkali metal hydroxide is sodium hydroxide, for example. The solvent is for example toluene.
ポリフェニレンエーテルと式(63)に示す化合物とを、溶媒中で、アルカリ金属水酸化物と相間移動触媒との存在下で反応させることも好ましい。この場合、反応がより効率良く進行しうる。相間移動触媒は、例えばテトラ−n−ブチルアンモニウムブロマイド等の第4級アンモニウム塩である。 It is also preferable to react the polyphenylene ether and the compound represented by the formula (63) in a solvent in the presence of an alkali metal hydroxide and a phase transfer catalyst. In this case, the reaction can proceed more efficiently. The phase transfer catalyst is a quaternary ammonium salt such as tetra-n-butylammonium bromide.
ポリフェニレンエーテルと、式(63)に示す化合物との反応時の温度は、好ましくは室温〜100℃の範囲内、より好ましくは30〜100℃の範囲内であり、この反応の時間は、好ましくは0.5〜20時間の範囲内、より好ましくは0.5〜10時間の範囲内である。 The temperature at the time of reaction between the polyphenylene ether and the compound represented by the formula (63) is preferably in the range of room temperature to 100 ° C, more preferably in the range of 30 to 100 ° C. The time of this reaction is preferably It is in the range of 0.5 to 20 hours, more preferably in the range of 0.5 to 10 hours.
ブロック共重合体(D)について説明する。ブロック共重合体(D)は、上述の通り、式(1)で示される。ブロック共重合体(D)中のポリスチレンブロックは、ポリスチレン鎖からなるブロックである。ブロック共重合体(D)中のポリオレフィンブロックは、上述の通り、イソプレンユニット及び水添イソプレンユニットのうち少なくとも一方を有する。 The block copolymer (D) will be described. The block copolymer (D) is represented by the formula (1) as described above. The polystyrene block in the block copolymer (D) is a block composed of polystyrene chains. As described above, the polyolefin block in the block copolymer (D) has at least one of an isoprene unit and a hydrogenated isoprene unit.
イソプレンユニットは、イソプレンに由来する、C5H8で表されるユニットである。具体的には、イソプレンユニットは、下記式(11)で示される3,4−イソプレンユニット、下記式(12)で示される1,2−イソプレンユニット及び下記式(13)で示される1,4−イソプレンユニットからなる群から選択される少なくとも一種のユニットを含有できる。 The isoprene unit is a unit represented by C 5 H 8 derived from isoprene. Specifically, the isoprene unit includes a 3,4-isoprene unit represented by the following formula (11), a 1,2-isoprene unit represented by the following formula (12), and 1,4 represented by the following formula (13). -It can contain at least one unit selected from the group consisting of isoprene units.
水添イソプレンユニットは、イソプレンユニットが水素添加された構造を有し、C5H10で表される。具体的には、水添イソプレンユニットは、下記式(14)で示される3,4−水添イソプレンユニット、下記式(15)で示される1,2−水添イソプレンユニット及び下記式(16)で示される1,4−水添イソプレンユニットからなる群から選択される少なくとも一種のユニットを含有できる。 The hydrogenated isoprene unit has a structure in which the isoprene unit is hydrogenated, and is represented by C 5 H 10 . Specifically, the hydrogenated isoprene unit includes a 3,4-hydrogenated isoprene unit represented by the following formula (14), a 1,2-hydrogenated isoprene unit represented by the following formula (15), and the following formula (16). And at least one unit selected from the group consisting of 1,4-hydrogenated isoprene units.
ポリフェニレンエーテル樹脂(C)とブロック共重合体(D)との反応性が良好である理由は、置換基(c2)とイソプレンユニット及び水添イソプレンユニットとが高い反応性を有するためであると、推察される。 The reason why the reactivity between the polyphenylene ether resin (C) and the block copolymer (D) is good is that the substituent (c2), the isoprene unit and the hydrogenated isoprene unit have high reactivity. Inferred.
ポリフェニレンエーテル樹脂(C)とブロック共重合体(D)との反応性が特に良好であるためには、ポリオレフィンブロックは、3,4−イソプレンユニット、1,2−イソプレンユニット、3,4−水添イソプレンユニット、及び1,2−水添イソプレンユニットからなる群から選択される、少なくとも一種のユニットを有することが好ましい。 In order to have particularly good reactivity between the polyphenylene ether resin (C) and the block copolymer (D), the polyolefin block is composed of 3,4-isoprene units, 1,2-isoprene units, 3,4-water. It is preferable to have at least one unit selected from the group consisting of an added isoprene unit and a 1,2-hydrogenated isoprene unit.
また、組成物(X)の硬化物が特に良好な耐熱性を有するためには、ポリオレフィンブロックが水添ポリイソプレンユニットを有することが好ましい。耐熱性が向上する理由は、水添ポリイソプレンブロックが不飽和二重結合を有さないことで、硬化物に不飽和二重結合が残存しにくくなるからであると、推察される。 In order for the cured product of the composition (X) to have particularly good heat resistance, the polyolefin block preferably has a hydrogenated polyisoprene unit. The reason why the heat resistance is improved is presumed that the hydrogenated polyisoprene block does not have an unsaturated double bond, so that the unsaturated double bond hardly remains in the cured product.
ポリオレフィンブロックは、イソプレンユニット及び水添イソプレンユニット以外のユニットを更に有していてもよい。イソプレンユニット及び水添イソプレンユニット以外のユニットの例は、水添ポリブタジエンを含む。 The polyolefin block may further have units other than the isoprene unit and the hydrogenated isoprene unit. Examples of units other than isoprene units and hydrogenated isoprene units include hydrogenated polybutadiene.
ただし、ブロック共重合体(D)の分子同士の反応性、及びポリフェニレンエーテル樹脂(C)とブロック共重合体(D)との反応性が特に良好であるためには、ポリオレフィンブロック全体に対する、イソプレンユニット及び水添イソプレンユニットの合計の量は、90質量%以上であることが好ましい。ポリオレフィンブロック全体に対する、3,4−イソプレンユニット、1,2−イソプレンユニット、3,4−水添イソプレンユニット、及び1,2−水添イソプレンユニットの合計量が60質量%以上であれば特に好ましい。 However, in order for the reactivity between the molecules of the block copolymer (D) and the reactivity between the polyphenylene ether resin (C) and the block copolymer (D) to be particularly good, isoprene with respect to the entire polyolefin block. The total amount of units and hydrogenated isoprene units is preferably 90% by mass or more. It is particularly preferable if the total amount of 3,4-isoprene unit, 1,2-isoprene unit, 3,4-hydrogenated isoprene unit, and 1,2-hydrogenisoprene unit with respect to the entire polyolefin block is 60% by mass or more. .
上述のとおり、ブロック共重合体(D)全体に対する、ブロック共重合体(D)中のポリオレフィンブロックの合計量は、70〜90質量%の範囲内である。ポリオレフィンブロックの合計量が70質量%以上であることで、ブロック共重合体(D)の分子同士の反応性、及びポリフェニレンエーテル樹脂(C)とブロック共重合体(D)との反応性が良好であるとともに、ブロック共重合体(D)の分子同士の反応、及びポリフェニレンエーテル樹脂(C)とブロック共重合体(D)との反応によって生成する反応生成物は十分に高い架橋密度を有しうる。このため、硬化物が高い耐熱性を有しうる。また、ポリオレフィンブロックの合計量が90質量%以下であることで、ブロック共重合体(D)は、ポリフェニレンエーテル樹脂(C)との優れた相溶性を有することができる。ポリオレフィンブロックの合計量は、より好ましくは70〜88質量%の範囲内であり、更に好ましくは75〜88質量%の範囲内である。 As above-mentioned, the total amount of the polyolefin block in a block copolymer (D) with respect to the whole block copolymer (D) exists in the range of 70-90 mass%. When the total amount of the polyolefin block is 70% by mass or more, the reactivity between the molecules of the block copolymer (D) and the reactivity between the polyphenylene ether resin (C) and the block copolymer (D) are good. And the reaction product produced by the reaction between the molecules of the block copolymer (D) and the reaction between the polyphenylene ether resin (C) and the block copolymer (D) has a sufficiently high crosslinking density. sell. For this reason, hardened | cured material can have high heat resistance. Moreover, a block copolymer (D) can have the outstanding compatibility with polyphenylene ether resin (C) because the total amount of a polyolefin block is 90 mass% or less. The total amount of the polyolefin block is more preferably in the range of 70 to 88% by mass, and still more preferably in the range of 75 to 88% by mass.
また、上述の通り、ブロック共重合体(D)の損失正接tanδが極大値を示す温度は、−20℃以上である。このため、組成物(X)の乾燥物又は半硬化物のタック性が抑制されうるとともに、硬化物が高い耐熱性を有しうる。損失正接tanδが極大値を示す温度は、より好ましくは−10℃以上であり、更に好ましくは10℃以上である。 Further, as described above, the temperature at which the loss tangent tan δ of the block copolymer (D) exhibits a maximum value is −20 ° C. or higher. For this reason, the tackiness of the dried or semi-cured product of the composition (X) can be suppressed, and the cured product can have high heat resistance. The temperature at which the loss tangent tan δ exhibits the maximum value is more preferably −10 ° C. or higher, and further preferably 10 ° C. or higher.
組成物(X)中の有機材料に対する、ブロック共重合体(D)の量は、40〜80質量%の範囲内であることが好ましい。この量が40質量%以上であると、硬化物が高い柔軟性を有しうる。また、このブロック共重合体(D)の量が80重量%以下であると、硬化物がより高い耐熱性を有しうるとともに低い線膨張係数も有しうる。 It is preferable that the quantity of block copolymer (D) with respect to the organic material in composition (X) exists in the range of 40-80 mass%. When this amount is 40% by mass or more, the cured product can have high flexibility. Further, when the amount of the block copolymer (D) is 80% by weight or less, the cured product may have higher heat resistance and may have a low linear expansion coefficient.
組成物(X)は、好ましくは、難燃剤を含有する。この場合、組成物(X)の硬化物は、良好な難燃性を有しうる。難燃剤は、例えばハロゲン系難燃剤とリン系難燃剤とのうち少なくとも一方を含有する。ハロゲン系難燃剤は、例えば臭素系難燃剤と塩素系難燃剤とのうち少なくとも一方を含有する。臭素系難燃剤の例は、ペンタブロモジフェニルエーテル、オクタブロモジフェニルエーテル、デカブロモジフェニルエーテル、テトラブロモビスフェノールA、及びヘキサブロモシクロドデカンを含む。塩素系難燃剤の例は、塩素化パラフィン等の塩素系難燃剤を含む。リン系難燃剤の例は、例えばリン酸エステル、ホスファゼン化合物、ホスフィン酸塩系難燃剤、及びメラミン系難燃剤からなる群から選択される少なくとも一種の成分を含有する。リン酸エステルの例は、縮合リン酸エステル、及び環状リン酸エステルを含む。ホスファゼン化合物の例は、環状ホスファゼン化合物を含む。ホスフィン酸塩系難燃剤の例はホスフィン酸金属塩を含み、ホスフィン酸金属塩の例はジアルキルホスフィン酸アルミニウム塩を含む。メラミン系難燃剤の例は、リン酸メラミン、及びポリリン酸メラミンを含む。 The composition (X) preferably contains a flame retardant. In this case, the cured product of the composition (X) can have good flame retardancy. The flame retardant contains, for example, at least one of a halogen flame retardant and a phosphorus flame retardant. The halogen flame retardant contains, for example, at least one of a bromine flame retardant and a chlorine flame retardant. Examples of brominated flame retardants include pentabromodiphenyl ether, octabromodiphenyl ether, decabromodiphenyl ether, tetrabromobisphenol A, and hexabromocyclododecane. Examples of chlorinated flame retardants include chlorinated flame retardants such as chlorinated paraffin. Examples of the phosphorus flame retardant include at least one component selected from the group consisting of a phosphate ester, a phosphazene compound, a phosphinate flame retardant, and a melamine flame retardant, for example. Examples of phosphate esters include condensed phosphate esters and cyclic phosphate esters. Examples of phosphazene compounds include cyclic phosphazene compounds. Examples of phosphinate flame retardants include phosphinic acid metal salts, and examples of phosphinic acid metal salts include dialkylphosphinic acid aluminum salts. Examples of the melamine flame retardant include melamine phosphate and melamine polyphosphate.
難燃剤は、好ましくは臭素系難燃剤を含有し、より好ましくは非相溶型の臭素含有化合物を含有する。非相溶型の臭素含有化合物は、少量であっても硬化物に高い難燃性を付与でき、しかも硬化物のガラス転移温度を低下させにくいため硬化物の良好な耐熱性を維持できる。組成物(X)中の有機材料に対する、非相溶型の臭素含有化合物中の臭素の量は、好ましくは8〜20質量%の範囲内である。この場合、硬化物が好な難燃性を有しうるとともに、組成物(X)の良好な流動性及び硬化物の良好な耐熱性が維持されうる。 The flame retardant preferably contains a brominated flame retardant, and more preferably contains an incompatible bromine-containing compound. The incompatible bromine-containing compound can impart high flame retardancy to the cured product even in a small amount, and it is difficult to lower the glass transition temperature of the cured product, so that good heat resistance of the cured product can be maintained. The amount of bromine in the incompatible bromine-containing compound with respect to the organic material in the composition (X) is preferably in the range of 8 to 20% by mass. In this case, the cured product can have favorable flame retardancy, and good fluidity of the composition (X) and good heat resistance of the cured product can be maintained.
組成物(X)は、無機充填材を含有してもよい。組成物(X)が無機充填材を含有すると、組成物(X)の硬化物は、特に高い耐熱性及び難燃性を有しうる。 The composition (X) may contain an inorganic filler. When the composition (X) contains an inorganic filler, the cured product of the composition (X) may have particularly high heat resistance and flame retardancy.
また、一般に、エラストマーを含む樹脂組成物の硬化物の架橋密度は低いため、この硬化物の熱膨張係数は高く、特にガラス転移温度より高い温度での熱膨張係数が高い。しかし、組成物(X)が無機充填材を含有すると、組成物(X)の硬化物は良好な誘電特性、耐熱性及び難燃性を有しうるとともに、組成物(X)の粘度上昇が抑制され、しかも硬化物の熱膨張係数が低減されうる。特に、ガラス転移温度より高い温度での硬化物の熱膨張係数が低減されうる。さらに、硬化物は、高い靱性を有しうる。 In general, since the crosslinked density of a cured product of a resin composition containing an elastomer is low, the cured product has a high coefficient of thermal expansion, and in particular, has a high coefficient of thermal expansion at a temperature higher than the glass transition temperature. However, when the composition (X) contains an inorganic filler, the cured product of the composition (X) may have good dielectric properties, heat resistance and flame retardancy, and increase in the viscosity of the composition (X). In addition, the thermal expansion coefficient of the cured product can be reduced. In particular, the thermal expansion coefficient of the cured product at a temperature higher than the glass transition temperature can be reduced. Furthermore, the cured product can have high toughness.
無機充填材は、例えばシリカ、アルミナ、タルク、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、酸化チタン、マイカ、ホウ酸アルミニウム、硫酸バリウム、及び炭酸カルシウムからなる群から選択される少なくとも一種の材料を含有できる。 The inorganic filler can contain at least one material selected from the group consisting of silica, alumina, talc, aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, titanium oxide, mica, aluminum borate, barium sulfate, and calcium carbonate, for example.
無機充填材は、ビニルシランタイプ、スチリルシランタイプ、メタクリルシランタイプ、又はアクリルシランタイプのシランカップリング剤で表面処理されていてもよい。この場合、組成物(X)の硬化物を含む絶縁層20を備える金属張積層板1は、高い吸湿時の耐熱性を有しうるとともに、高い層間ピール強度を有しうる。
The inorganic filler may be surface-treated with a silane coupling agent of vinyl silane type, styryl silane type, methacryl silane type, or acryl silane type. In this case, the metal-clad
組成物(X)が無機充填材を含有する場合、組成物(X)に対する、無機充填材の量は、好ましくは10〜150質量%の範囲内、より好ましくは10〜100質量%の範囲内、更に好ましくは20〜100質量%の範囲内である。 When the composition (X) contains an inorganic filler, the amount of the inorganic filler with respect to the composition (X) is preferably in the range of 10 to 150% by mass, more preferably in the range of 10 to 100% by mass. More preferably, it is in the range of 20 to 100% by mass.
組成物(X)は、上記成分以外の添加剤を更に含有してもよい。添加剤の例は、シリコーン系消泡剤、及びアクリル酸エステル系消泡剤等の消泡剤、熱安定剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤、染料、顔料、滑剤、並びに湿潤分散剤等の分散剤を含む。組成物(X)は、必要により、溶剤を含有してもよい。溶剤の例は、トルエンを含む。 The composition (X) may further contain additives other than the above components. Examples of additives include silicone antifoaming agents and antifoaming agents such as acrylic ester antifoaming agents, heat stabilizers, antistatic agents, ultraviolet absorbers, dyes, pigments, lubricants, and wetting and dispersing agents. Contains a dispersant. The composition (X) may contain a solvent, if necessary. An example of the solvent includes toluene.
<熱可塑性樹脂組成物>
本発明の第一の実施形態に係る金属張積層板1において、上記の通り、母材21は熱可塑性樹脂組成物を含んでいてもよい。また、本発明の第二の実施形態に係る金属張積層板1において、上記の通り、母材21中の第一の層211は、熱可塑性樹脂組成物を含む。これらの熱可塑性樹脂組成物について説明する。
<Thermoplastic resin composition>
In the metal-clad
熱可塑性樹脂組成物は、液晶ポリマー樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、及びフッ素樹脂からなる群から選択される少なくとも一種の成分を含む。金属張積層板1において、熱可塑性樹脂組成物は層状であってよい。以下、液晶ポリマー樹脂を含む層を液晶ポリマー樹脂層といい、ポリイミド樹脂を含む層をポリイミド層といい、ポリアミドイミド樹脂を含む層をポリアミドイミド層といい、フッ素樹脂を含む層をフッ素樹脂層という。これらの語は、本明細書中では普通名詞とみなされる。
The thermoplastic resin composition includes at least one component selected from the group consisting of a liquid crystal polymer resin, a polyimide resin, a polyamideimide resin, and a fluororesin. In the metal-clad
液晶ポリマー樹脂層、ポリイミド樹脂層、ポリアミドイミド樹脂層、及びフッ素樹脂層の各々は、例えば材料である樹脂を含む樹脂液又は樹脂を含むシート材から作製される。シート材は、その内部にガラスクロスなどの基材を有し、この基材で強化されていてもよい。シート材は、例えばプリプレグであってもよい。 Each of the liquid crystal polymer resin layer, the polyimide resin layer, the polyamideimide resin layer, and the fluororesin layer is produced from, for example, a resin liquid containing a resin as a material or a sheet material containing a resin. The sheet material may have a base material such as glass cloth inside thereof and may be reinforced with this base material. The sheet material may be, for example, a prepreg.
液晶ポリマー樹脂は、例えば、エチレンテレフタレートとパラヒドロキシ安息香酸との重縮合体、フェノール及びフタル酸とパラヒドロキシ安息香酸との重縮合体、2,6−ヒドロキシナフトエ酸とパラヒドロキシ安息香酸との重縮合体からなる群から選択される少なくとも一種の成分を含有できる。 Liquid crystal polymer resins include, for example, polycondensates of ethylene terephthalate and parahydroxybenzoic acid, polycondensates of phenol and phthalic acid and parahydroxybenzoic acid, and polycondensates of 2,6-hydroxynaphthoic acid and parahydroxybenzoic acid. It can contain at least one component selected from the group consisting of condensates.
液晶ポリマー樹脂層を作製する場合、例えば液晶ポリマー樹脂をシート状に成形してシート材を作製し、このシート材を金属箔等の上に重ねることで、この樹脂層を作製できる。 When producing a liquid crystal polymer resin layer, for example, a liquid crystal polymer resin is formed into a sheet shape to produce a sheet material, and this resin layer can be produced by stacking the sheet material on a metal foil or the like.
ポリイミド樹脂は、例えば次のようにしてポリイミド樹脂を含有する樹脂液を調製することにより得られる。まず、テトラカルボン酸二無水物とジアミン成分との重縮合によりポリアミド酸を生成させる。テトラカルボン酸二無水物は、3,3’,4,4’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物を含有することが好ましい。ジアミン成分は、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、及び4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]スルホンからなる群から選択される少なくとも一種の成分を含有することが好ましい。続いて、ポリアミド酸を溶剤中で加熱する。溶剤は、例えばN−メチル−2−ピロリドン、メチルエチルケトン、トルエン、ジメチルアセトアミド、ジメチルフォルムアミド、及びメトキシプロパノールからなる成分から選択される少なくとも一種の成分を含有する。加熱温度は、例えば60〜250℃の範囲内、好ましくは100〜200℃の範囲内であり、加熱時間は、例えば0.5〜50時間の範囲内である。これにより、ポリアミド酸が環化反応によりイミド化し、ポリイミド樹脂が生成する。これにより、ポリイミド樹脂を含有する樹脂液が得られる。 The polyimide resin is obtained, for example, by preparing a resin liquid containing a polyimide resin as follows. First, polyamic acid is produced by polycondensation of tetracarboxylic dianhydride and a diamine component. The tetracarboxylic dianhydride preferably contains 3,3 ', 4,4'-diphenylsulfone tetracarboxylic dianhydride. The diamine component is selected from the group consisting of 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, and 4,4′-diaminodiphenyl ether, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone. It is preferable to contain at least one component. Subsequently, the polyamic acid is heated in a solvent. The solvent contains at least one component selected from components consisting of N-methyl-2-pyrrolidone, methyl ethyl ketone, toluene, dimethylacetamide, dimethylformamide, and methoxypropanol, for example. The heating temperature is, for example, in the range of 60 to 250 ° C., preferably in the range of 100 to 200 ° C., and the heating time is, for example, in the range of 0.5 to 50 hours. Thereby, the polyamic acid is imidized by a cyclization reaction, and a polyimide resin is generated. Thereby, the resin liquid containing a polyimide resin is obtained.
ポリイミド樹脂層を作製する場合、例えば金属箔等の上にポリイミド樹脂を含有する樹脂液を塗布してから、加熱して乾燥させることで、同層を作製できる。 When producing a polyimide resin layer, for example, the resin layer containing a polyimide resin is applied onto a metal foil or the like, and then heated and dried to produce the same layer.
ポリアミドイミド樹脂は、例えば次のようにしてポリアミドイミド樹脂を含有する樹脂液を調整することにより得られる。まず、無水トリメリット酸、4,4’−ジイソシアナト−3,3’−ジメチルビフェニル、2,4―ジイソシアン酸トリレン、ジアザビシクロウンデセン、及びN,N−ジメチルアセトアミドを混合して混合物を調製する。この混合物を加熱して反応させることで、ポリアミドイミドを含有する混合液を得る。続いて、混合液を冷却する。さらに、この混合液にビスマレイミドを配合する。これにより、ポリアミドイミドを含有する樹脂液が得られる。 The polyamideimide resin can be obtained, for example, by adjusting a resin liquid containing a polyamideimide resin as follows. First, a mixture is prepared by mixing trimellitic anhydride, 4,4′-diisocyanato-3,3′-dimethylbiphenyl, tolylene 2,4-diisocyanate, diazabicycloundecene, and N, N-dimethylacetamide. To do. By heating and reacting this mixture, a mixed liquid containing polyamideimide is obtained. Subsequently, the mixed solution is cooled. Further, bismaleimide is blended into this mixed solution. Thereby, the resin liquid containing a polyamideimide is obtained.
ポリアミドイミド樹脂層を作製する場合、例えばポリアミドイミド樹脂を含有する樹脂液を金属箔等の上に塗布してから、加熱して乾燥させることで、同層を作製できる。 When producing a polyamide-imide resin layer, for example, a resin solution containing a polyamide-imide resin is applied onto a metal foil or the like, and then heated and dried to produce the same layer.
フッ素樹脂は、例えばポリテトラフルオロエチレンを含む。 The fluororesin includes, for example, polytetrafluoroethylene.
<金属張積層板の製造方法>
図1〜4を参照して、本実施形態の金属張積層板1の製造方法を説明する。
<Method for producing metal-clad laminate>
With reference to FIGS. 1-4, the manufacturing method of the metal-clad
本実施形態の金属張積層板の製造方法は、第一の金属箔、第一の樹脂シート、グラファイトシート22及びガイド部材23、第二の樹脂シート、並びに第二の金属箔をこの順に重ねて熱プレスすることで、第一の金属箔からなる第一導体層11と、第一の樹脂シートの硬化物及び第二の樹脂シートの硬化物からなる母材21と、第二の金属箔からなる第二導体層12とを作製する工程を含む。
The manufacturing method of the metal-clad laminate of this embodiment is obtained by stacking the first metal foil, the first resin sheet, the
図1に示す金属張積層板1を製造するためには、一つの金属箔(以下、第一の金属箔という)、母材21の成分を含有する樹脂シート(以下、第一の樹脂シートという)、グラファイトシート22及びガイド部材23、母材21の成分を含有する樹脂シート(以下、第二の樹脂シートという)、及び別の金属箔(以下、第二の金属箔という)をこの順番に重ねてから、これらを、例えば熱プレスすることにより、金属張積層板1を製造することができる。この場合、第一の金属箔及び第二の金属箔が、それぞれ金属張積層板1における第一導体層11及び第二導体層12となる。また第一の樹脂シートの硬化物及び第二の樹脂シートの硬化物が、金属張積層板1における母材21となる。
In order to manufacture the metal-clad
第一の樹脂シートと第二の樹脂シートの成分は、同じであってもよく、異なっていてもよいが、同じであることが好ましい。第一の樹脂シート及び第二の樹脂シートの成分は、熱硬化性樹脂組成物を含むことが好ましく、上述の組成物(X)を含むことがより好ましい。また、第一の樹脂シート及び第二の樹脂シートは、熱可塑性樹脂組成物のシート材であってもよい。 The components of the first resin sheet and the second resin sheet may be the same or different, but are preferably the same. The components of the first resin sheet and the second resin sheet preferably include a thermosetting resin composition, and more preferably include the above-described composition (X). The first resin sheet and the second resin sheet may be a sheet material of a thermoplastic resin composition.
またグラファイトシート22とガイド部材23とは、第一の樹脂シート上に、お互いに特定の位置関係にあるように配置される。グラファイトシート22と、ガイド部材23とを、第一の樹脂シート上に、重なり合わないように配置することが好ましい態様である。また、ガイド部材23は、第一の樹脂シート上の少なくとも2箇所に配置されることが好ましい。
The
グラファイトシート22とガイド部材23とを、第一の樹脂シート及び第二の樹脂シートで挟んで熱プレスすることで、第一の樹脂シート及び第二の樹脂シートが硬化する際に、グラファイトシート22とガイド部材23とが第一の樹脂シートの硬化物及び第二の樹脂シートの硬化物からなる母材21に埋め込まれる。
When the first resin sheet and the second resin sheet are cured by sandwiching the
なお、第二の導体層12をエッチング処理等により全て除去することで、片面のみに導体層10を有する金属張積層板1を作製することもできる。
In addition, the metal-clad
図1に示す金属張積層板1を製造するための他の方法では、例えば樹脂付き金属箔を使用することができる。
In another method for manufacturing the metal-clad
樹脂付き金属箔を使用して、図1に示す金属張積層板1を製造する場合、まず、一つの金属箔(以下、第一の金属箔という)を用意し、第一の金属箔上に、母材21の成分を含む樹脂液を塗布してから、乾燥や加熱等適宜の方法で樹脂液を乾燥又は半硬化させる。これによって、第一の金属箔上に母材21の成分を含む樹脂液の乾燥物又は半硬化物(以下、第一の樹脂シートという)を備える樹脂付き金属箔(以下、第一の樹脂付き金属箔という)を得ることができる。第一の樹脂付き金属箔は、第一の金属箔上に、第一の樹脂シートとして、母材21の成分を含む樹脂のシート材を重ねてから、必要に応じてこれらを熱プレスすることで、作製することもできる。
When using the metal foil with resin to manufacture the metal-clad
次に、別の金属箔(以下、第二の金属箔という)を用意し、第一の樹脂付き金属箔を作製したのと同様の手順で、第二の金属箔上に母材21の成分を含む樹脂液の乾燥物又は半硬化物(以下、第二の樹脂シートという)を備える樹脂付き金属箔(以下、第二の樹脂付き金属箔という)を作製する。もちろん、第二の樹脂付き金属箔も、第二の金属箔上に、第二の樹脂シートとして、母材21の成分を含む樹脂のシート材を重ねてから、必要に応じてこれらを熱プレスすることで、作製することができる。
Next, another metal foil (hereinafter referred to as the second metal foil) is prepared, and the components of the
次に、第一の樹脂付き金属箔の第一の樹脂シート上に、グラファイトシート22及びガイド部材23を配置する。これらの配置に関しては、上記で説明した通りである。そして、グラファイトシート22及びガイド部材23上に、第二の樹脂シートがグラファイトシート22及びガイド部材23側になるように、第二の樹脂付き金属箔を重ねて熱プレスすることによって金属張積層板1を作製することができる。
Next, the
この場合、第一の樹脂付き金属箔の第一の金属箔及び第二の樹脂付き金属箔の第二の金属箔が、それぞれ金属張積層板1における第一導体層11及び第二導体層12となる。また、第一の樹脂付き金属箔における第一の樹脂シートの硬化物、及び第二の樹脂付き金属箔における第二の樹脂シートの硬化物が、金属張積層板1における母材21となる。グラファイトシート22及びガイド部材23は、第一の樹脂シートと第二の樹脂シートとによって挟まれることで、第一の樹脂シート及び第二の樹脂シートが硬化する際に、グラファイトシート22とガイド部材23とが第一の樹脂シートの硬化物及び第二の樹脂シートの硬化物からなる母材21に埋め込まれる。
In this case, the first metal foil of the first metal foil with resin and the second metal foil of the second metal foil with resin are respectively the
母材21の成分が、熱硬化性樹脂組成物を含む場合、第一の樹脂シート及び第二の樹脂シートの各々は、熱硬化性樹脂組成物の乾燥物又は半硬化物を含む。また、母材21の成分が、熱可塑性樹脂組成物を含む場合、第一の樹脂シート及び第二の樹脂シートの各々は、熱可塑性樹脂組成物を含む。
When the component of the
なお、第一の樹脂付き金属箔の第一の樹脂シート上に、グラファイトシート22及びガイド部材23を配置し、その上に、母材21の成分を含む樹脂のシート材を重ねてから、これらを、例えば熱プレスすることにより、片面のみに導体層10を有する金属張積層板1を作製することもできる。
In addition, the
図4に示す金属張積層板1を製造するためには、一つの金属箔(以下、第一の金属箔という)、第一の樹脂シート、グラファイトシート22及びガイド部材23、第二の樹脂シート、及び別の金属箔(以下、第二の金属箔という)をこの順番に重ねてから、これらを、例えば熱プレスすることにより、金属張積層板1を製造することができる。図4に示す金属張積層板1を製造する場合、第一の樹脂シート及び第二の樹脂シートの各々は、熱硬化性樹脂組成物の乾燥物又は半硬化物を含むシート材(以下、熱硬化性シート材という)と、熱可塑性樹脂組成物を含むシート材(以下、熱可塑性シート材という)とを含む。すなわち、図4に示す金属張積層板1は、第一の金属箔、熱可塑性シート材、熱硬化性シート材、グラファイトシート22及びガイド部材23、熱硬化性シート材、熱可塑性シート材、及び第二の金属箔を、この順に積層して、熱プレスすることによって製造することができる。
In order to manufacture the metal-clad
この場合、第一の金属箔及び第二の金属箔が、それぞれ金属張積層板1における第一導体層11及び第二導体層12となる。また第一の樹脂シートの硬化物及び第二の樹脂シートの硬化物が、金属張積層板1における母材21となる。第一の樹脂シートに含まれる熱可塑性シート材、及び第二の樹脂シートに含まれる熱可塑性シート材が、母材21における第一の層211となる。第一の樹脂シートに含まれる熱硬化性シート材の硬化物、及び第二の樹脂シートに含まれる熱硬化性シート材の硬化物が、母材21における第二の層212となる。
In this case, the first metal foil and the second metal foil become the
第一の樹脂シートと第二の樹脂シートとに含まれる、熱硬化性シート材の成分は、同じであることが好ましい。熱硬化性シート材の成分は、上述の組成物(X)を含むことが好ましい。第一の樹脂シートと第二の樹脂シートとに含まれる、熱可塑性シート材の成分は、同じであることが好ましい。熱可塑性シート材の成分は、液晶ポリマー樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、及びフッ素樹脂からなる群から選択される少なくとも一種の成分を含むことが好ましい。 The components of the thermosetting sheet material contained in the first resin sheet and the second resin sheet are preferably the same. It is preferable that the component of a thermosetting sheet material contains the above-mentioned composition (X). The components of the thermoplastic sheet material contained in the first resin sheet and the second resin sheet are preferably the same. The component of the thermoplastic sheet material preferably includes at least one component selected from the group consisting of a liquid crystal polymer resin, a polyimide resin, a polyamideimide resin, and a fluororesin.
グラファイトシート22とガイド部材23とは、第一の樹脂シートに含まれる熱硬化性シート材上に、お互いに特定の位置関係にあるように配置される。これらの配置に関しては、図1に示す金属張積層板1を製造する場合と同様であってよい。
The
グラファイトシート22とガイド部材23とは、第一の樹脂シート及び第二の樹脂シートに含まれる熱硬化性シート材によって挟まれる。このため、グラファイトシート22とガイド部材23とは、熱硬化性シート材が硬化する際に、熱硬化性シート材の硬化物からなる第二の層212に埋め込まれる。
The
なお、第二の導体層12をエッチング処理等により全て除去することで、片面のみに導体層10を有する金属張積層板1を作製することもできる。
In addition, the metal-clad
図4に示す金属張積層板1を製造するための他の方法としては、例えば、まず金属箔などの第一導体層11を用意し、この第一導体層11上に、第一の層211を形成する。第一の層211は、例えば既に説明した樹脂液又はシート材から作製される。すなわち、第一導体層11上に、第一の層211の成分を含有する樹脂液を塗布してから乾燥することで、第一導体層11上に第一の層211を作製することができる。なお、第一導体層11上に、第一の層211の成分を含むシート材を重ねてから熱プレスすることで、第一の層211を作製することもできる。
As another method for manufacturing the metal-clad
次に、第一の層211上に第二の層212を作製する。例えば、組成物(X)を第一の層211上に塗布した後、組成物(X)の塗膜を加熱して、乾燥又は半硬化させる。乾燥又は半硬化状態の塗膜上に、グラファイトシート22とガイド部材23とを、配置し、続いて、この上に更に組成物(X)を塗布し加熱して硬化させる。これにより、第二の層212を作製することができる。組成物(X)は、低温で成形可能である。このため、組成物(X)の乾燥又は半硬化は、例えば、加熱温度100〜160℃の範囲内、加熱時間5〜10分の範囲内の条件下での加熱処理でできる。また、組成物の(X)の硬化は、例えば、加熱温度160℃〜200℃の範囲内、加熱の時間30〜120分の範囲内の条件下での加熱処理でできる。この工程によって、グラファイトシート22及びガイド部材23が、第二の層212に埋め込まれる。
Next, the
次に、第二の層212上に更に、第一の層211と第二導体層12とを形成する。第一の層211は、例えば、組成物(X)の硬化物からなる第二の層212上に、第一の層211の成分を含有する樹脂液を塗布し、その上に金属箔などの第二導体層12を重ねてから乾燥することで、第二の層212上に第一の層211と第二導体層12とを作製することができる。なお、第二の層212上に、第一の層211の成分を含む樹脂シートと金属箔を重ねてから熱プレスすることで、第一の層211と第二導体層12とを作製することもできる。これにより、図4に示す金属張積層板1を作製することができる。第二導体層12を積層せずに、片面金属張積層板を作製してもよい。
Next, the
図4に示す金属張積層板1を製造するための他の方法としては、例えば樹脂付き金属箔を使用することができる。
As another method for manufacturing the metal-clad
樹脂付き金属箔を製造するためには、例えば金属箔を用意し、この金属箔上に、母材21となる第一の層211及び第二の層212を形成する。第一の層211は、例えば既に説明した樹脂液又はシート材から作製される。例えば、金属箔上に樹脂液を塗布してから乾燥することで、第一の層211を作製することができる。金属箔上にシート材を重ねてからこれらを熱プレスすることで、第一の層211を作製することもできる。
In order to manufacture a metal foil with a resin, for example, a metal foil is prepared, and a
次に、第一の層211上に第二の層212を作製する。例えば組成物(X)を第一の層211上に塗布した後、組成物(X)の塗膜を加熱して乾燥又は半硬化させることにより第二の層212を作製することができる。なお、組成物(X)の乾燥物又は半硬化物を含む樹脂シートを第一の層211上に重ねることで第二の層212を作製してもよい。組成物(X)は低温で成形可能である。そのため組成物(X)の乾燥又は半硬化は、例えば、加熱温度100〜160℃の範囲内、加熱時間5〜10分の範囲内の条件下での加熱処理でできる。また、組成物の(X)の硬化は、例えば、加熱温度160℃〜200℃の範囲内、加熱の時間30〜120分の範囲内の条件下での加熱処理でできる。これにより、樹脂付き金属箔を作製することができる。
Next, the
第一導体層11となる金属箔を有する樹脂付き金属箔の乾燥又は半硬化状態の樹脂上にグラファイトシート22及びガイド部材23を配置する。そして、同様に作製された第二導体層12となる金属箔を含む樹脂付き金属箔を、グラファイトシート22及びガイド部材23に重ねて熱プレスすることによって図4に示す金属張積層板1を作製することができる。このとき、グラファイトシート22及びガイド部材23は、二つの樹脂付き金属箔の第二の層212によって挟まれることで、グラファイトシート22及びガイド部材23が、第二の層212に埋め込まれる。
The
次に、図1及び図4に示す金属張積層板1の製造方法において、図2に示すガイドマーク30を形成する方法を説明する。
Next, a method for forming the
本実施形態の金属張積層板1の製造方法は、絶縁層20内のガイド部材23の位置を検出する工程と、前記位置と特定の位置関係にある、外部から視認可能なガイドマーク30を形成する工程と、を更に含む。
The manufacturing method of the metal-clad
前述のようにして形成される、金属張積層板1において、グラファイトシート22及びガイド部材23は、母材21に埋まっているため、外部からはそれらの位置を確認することができない。そこで、例えば、X線検査機等を用いてガイド部材23の位置を検出する。
In the metal-clad
ガイド部材23の位置を検出した後、金属張積層板1に、外部から視認可能なガイドマーク30を形成する。ガイドマーク30は、金属張積層板1において、少なくとも2箇所に形成されていることが好ましい。ガイドマーク30は、例えば、金属積層板1にドリルで穴31をあけることによって形成される。ドリル穴は、直径約10mm程度であってよい。
After detecting the position of the
図2では、穴31は金属積層板1を貫通しているが、穴31は、金属積層板1を貫通せずに、一つの導体層10のみに開いているものでもよく、一つの導体層10と母材21とを通ってガイド部材23の手前まで開いているものでもよい。
In FIG. 2, the
また、図2では、穴31はガイド部材23を貫通して設けられているが、ガイド部材23は母材21内に残存している。ガイド部材23が、母材21内に残存していることが好ましいが、穴31は、ガイド部材23が残存しないように設けられていてもよい。
In FIG. 2, the
また、図2では、平面視においてガイド部材23と重なる位置に、金属張積層板1を貫通する穴31がガイドマーク30として設けられているが、ガイドマーク30は、平面視においてガイド部材23と重ならない位置に設けられていてもよい。すなわち、ガイドマーク30は、ガイド部材23と特定の位置関係にあるように形成されていればよい。ガイドマーク30は、平面視においてグラファイトシート22と重ならないように設けられることが好ましい。
In FIG. 2, a
図2では、ガイドマーク30として、穴31があけられているが、ガイドマーク30は、エッチング等によって金属張積層板1の表面に印刷される図形、文字、パターン等のマークであってもよい。
In FIG. 2, a
視認可能なガイドマーク30の位置を基準として、ガイドマーク30とガイド部材23との位置関係、及びガイド部材23とグラファイトシート22との位置関係から、金属張積層板1内のグラファイトシート22の位置を特定することができる。グラファイトシート22の位置に合わせて、金属張積層板1に導体配線を形成したり、金属張積層板1を切断し、その後導体配線を形成したりすることによって、プリント配線板を作製することが可能である。
The position of the
1 金属張積層板
10 導体層
20 絶縁層
21 母材
22 グラファイトシート
23 ガイド部材
1 Metal-clad
Claims (16)
前記絶縁層は、電気絶縁性を有する母材と、前記母材に埋まっているグラファイトシート及びガイド部材と、を含み、
前記ガイド部材と前記グラファイトシートとは、特定の位置関係にあり、
前記ガイド部材は、金属を含む、
金属張積層板。 A conductor layer, and an insulating layer overlying the conductor layer,
The insulating layer includes a base material having electrical insulation, a graphite sheet and a guide member embedded in the base material,
The guide member and the graphite sheet are in a specific positional relationship,
The guide member includes a metal,
Metal-clad laminate.
請求項1に記載の金属張積層板。 A second conductor layer overlying the insulating layer;
The metal-clad laminate according to claim 1.
請求項1又は2に記載の金属張積層板。 The graphite sheet and the guide member are arranged in a direction orthogonal to the thickness direction of the insulating layer,
The metal-clad laminate according to claim 1 or 2.
請求項1から3のいずれか一項に記載の金属張積層板。 The guide member is a metal foil,
The metal-clad laminate according to any one of claims 1 to 3.
前記ガイドマークと前記ガイド部材とは、特定の位置関係にある、
請求項1から4のいずれか一項に記載の金属張積層板。 A guide mark that is visible from the outside is further provided.
The guide mark and the guide member are in a specific positional relationship.
The metal-clad laminate according to any one of claims 1 to 4.
請求項5に記載の金属張積層板。 The guide mark is a hole,
The metal-clad laminate according to claim 5.
請求項1から6のいずれか一項に記載の金属張積層板。 The base material includes a cured product of a thermosetting resin composition,
The metal-clad laminate according to any one of claims 1 to 6.
前記第一の層は、熱可塑性樹脂組成物を含み、
前記第二の層は、熱硬化性樹脂組成物の硬化物からなる、
請求項1から7のいずれか一項に記載の金属張積層板。 The base material includes a first layer and a second layer,
The first layer includes a thermoplastic resin composition;
The second layer is composed of a cured product of a thermosetting resin composition.
The metal-clad laminate according to any one of claims 1 to 7.
請求項8に記載の金属張積層板。 The graphite sheet and the guide member are embedded in the second layer,
The metal-clad laminate according to claim 8.
請求項8又は9に記載の金属張積層板。 The metal-clad laminate according to claim 8 or 9, wherein the thermoplastic resin composition includes at least one component selected from the group consisting of a liquid crystal polymer resin, a polyimide resin, a polyamideimide resin, and a fluororesin.
PS−X−PS (1)
前記式(1)中のPSは各々ポリスチレンブロックであり、
前記式(1)中のXはポリオレフィンブロックであり、
前記ポリオレフィンブロックは、イソプレンユニット及び水添イソプレンユニットのうち少なくとも一方を含有し、
前記ブロック共重合体(D)全体に対する、前記ブロック共重合体(D)中の前記ポリオレフィンブロックの合計は、70〜90質量%の範囲内であり、
前記ブロック共重合体(D)の損失正接tanδが極大値を示す温度は、−20℃以上である、
請求項7から10のいずれか一項に記載の金属張積層板。 The thermosetting resin composition comprises an epoxy compound (A), a bismaleimide (B), a polyphenylene ether resin (C) having a substituent (c2) having a carbon-carbon double bond at the end, and the following formula: A block copolymer (D) represented by (1),
PS-X-PS (1)
Each PS in the formula (1) is a polystyrene block,
X in the formula (1) is a polyolefin block,
The polyolefin block contains at least one of an isoprene unit and a hydrogenated isoprene unit,
The total of the polyolefin blocks in the block copolymer (D) with respect to the entire block copolymer (D) is in the range of 70 to 90% by mass,
The temperature at which the loss tangent tan δ of the block copolymer (D) exhibits a maximum value is −20 ° C. or higher.
The metal-clad laminate according to any one of claims 7 to 10.
請求項11に記載の金属張積層板。 The amount of the polyphenylene ether resin (C) with respect to the thermosetting resin composition is in the range of 8 to 35% by mass.
The metal-clad laminate according to claim 11.
請求項11又は12に記載の金属張積層板。 The amount of the bismaleimide (B) with respect to the thermosetting resin composition is in the range of 3 to 20% by mass.
The metal-clad laminate according to claim 11 or 12.
請求項11から13のいずれか一項に記載の金属張積層板。 The amount of the epoxy compound (A) with respect to the thermosetting resin composition is in the range of 3 to 10% by mass.
The metal-clad laminate according to any one of claims 11 to 13.
前記金属張積層板は、導体層と、前記導体層上に重なる絶縁層と、前記絶縁層上に重なる第二導体層とを備え、
前記絶縁層は、電気絶縁性を有する母材と、前記母材に埋まっているグラファイトシート及びガイド部材と、を含み、
前記ガイド部材と前記グラファイトシートとは、特定の位置関係にあり、
前記ガイド部材は、金属を含み、
前記製造方法は、第一の金属箔、第一の樹脂シート、グラファイトシート及びガイド部材、第二の樹脂シート、並びに第二の金属箔をこの順に重ねて熱プレスすることで、前記第一の金属箔からなる前記導体層と、前記第一の樹脂シートの硬化物及び前記第二の樹脂シートの硬化物からなる母材と、前記第二の金属箔からなる前記第二導体層とを作製する工程を含む、
金属張積層板の製造方法。 A method for producing a metal-clad laminate,
The metal-clad laminate includes a conductor layer, an insulating layer overlying the conductor layer, and a second conductor layer overlying the insulating layer,
The insulating layer includes a base material having electrical insulation, a graphite sheet and a guide member embedded in the base material,
The guide member and the graphite sheet are in a specific positional relationship,
The guide member includes a metal,
In the manufacturing method, the first metal foil, the first resin sheet, the graphite sheet and the guide member, the second resin sheet, and the second metal foil are stacked in this order and hot pressed, Producing the conductor layer made of metal foil, the base material made of the cured product of the first resin sheet and the cured product of the second resin sheet, and the second conductor layer made of the second metal foil Including the step of
A method for producing a metal-clad laminate.
前記位置と特定の位置関係にある、外部から視認可能なガイドマークを形成する工程と、を更に含む、
請求項15に記載の金属張積層板の製造方法。 Detecting the position of the guide member in the insulating layer;
Further forming a guide mark that is in a specific positional relationship with the position and is visible from the outside,
The method for producing a metal-clad laminate according to claim 15.
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JPWO2020158151A1 (en) * | 2019-01-31 | 2021-11-18 | 株式会社村田製作所 | Multi-layer wiring board |
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