JP2017227721A - Special-ink application-type optical low-pass filter and manufacturing method - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は光学ローパスフィルターの技術分野に関し，さらに具体的には特殊インク塗布式光学ローパスフィルター及び製造方法に関する。 The present invention relates to the technical field of optical low-pass filters, and more specifically to a special ink-coated optical low-pass filter and a manufacturing method.
光学ローパスフィルターの多くは２枚又は複数枚の水晶やガラスなどによって構成され、ＣＣＤセンサーの前面に置かれる。その役割は、水晶の複屈折という線などが二重に見える特性を利用し、画像に含まれる高周波成分を除去させモアレ縞を消し、像の輪郭を不明瞭にさせる効果を持つ。また、ＣＣＤやＣＭＯＳセンサーは人の眼では捉えることが出来ない色も検出してしまうので、見た目と違う映像になってしまう。それを防ぐ為、可視範囲以外の光を吸収する赤外線を吸収するガラスを用いて余計な赤外光をカットする効果を持つ。 Most of the optical low-pass filters are composed of two or a plurality of crystals or glass, and are placed on the front surface of the CCD sensor. Its role is to use the characteristic that the double refraction line of the crystal looks double, removes the high frequency components contained in the image, eliminates the moire fringes, and makes the outline of the image unclear. In addition, the CCD and CMOS sensors detect colors that cannot be captured by the human eye, resulting in an image different from the appearance. In order to prevent this, it has the effect of cutting excess infrared light using glass that absorbs infrared light that absorbs light outside the visible range.
これら複屈折及び赤外線吸収などの特性を持つ水晶やガラスなどを複数枚組み合わせることにより、これらの問題を解決することが出来るが、製品の厚みが増える。昨今の薄型製品においてこの厚みが問題となっている。そこで、これら複屈折、赤外線吸収及び薄型化の問題を解決する方法として本発明の『特殊インク塗布式光学ローパスフィルター』を提示する。 These problems can be solved by combining a plurality of crystals or glass having characteristics such as birefringence and infrared absorption, but the thickness of the product increases. This thickness is a problem in recent thin products. Therefore, the “special ink application type optical low-pass filter” of the present invention is presented as a method for solving these problems of birefringence, infrared absorption and thinning.
この発明に関して、実施例を添付図面に基づいて説明する。但し、実施例はこの発明における一例であり、容易に想定することが出来る事項についても、この発明の範囲に属するものとする。 Embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. However, the embodiment is an example of the present invention, and matters that can be easily assumed shall belong to the scope of the present invention.
本発明の『特殊インク塗布式光学ローパスフィルター』は、従来の赤外線吸収ガラスを置き換えることが出来る。特殊インクは赤外線吸収特性を保有しており、赤外線吸収ガラスを無くすことができる。その為、従来の赤外線吸収ガラスの光学ローパスフィルターと比べて、製品を薄くすることができる。また、従来の赤外線吸収ガラスは脆く、落下時に壊れやすかったが、無くすことによりその改善ができる。 The “special ink application type optical low-pass filter” of the present invention can replace the conventional infrared absorbing glass. Special inks possess infrared absorption characteristics and can eliminate infrared absorption glass. Therefore, the product can be made thinner than the conventional optical low-pass filter of infrared absorbing glass. Further, the conventional infrared absorbing glass is brittle and easily broken when dropped, but it can be improved by eliminating it.
本発明は、ＵＶ−ＩＲカット膜１、水晶基板、インク３とＡＲ膜４からなる。なお、ＵＶ−ＩＲカット膜をＩＲ膜に変更可能である。更に、ＣＣＤやＣＭＯＳセンサーは多様に存在し、それぞれ違うノイズ方向性を持っている。それらに合わせて、水晶基板は厚み、枚数、角度を組み合わせることにより解決される。また、水晶基板同士はＵＶ接着剤で貼り合わせる。水晶の構成は要求される仕様により決められ、本発明は考え得る全ての組み合わせに対して権利を有する。インク３は専用の回転式塗布設備で水晶基板に塗布する。また、ＵＶ−ＩＲカット膜、ＡＲ膜、ＩＲ膜などは真空蒸着機で蒸着する。 The present invention comprises a UV-IR cut film 1, a quartz substrate, an ink 3 and an AR film 4. The UV-IR cut film can be changed to an IR film. Furthermore, there are various CCD and CMOS sensors, and each has a different noise directionality. In accordance with them, the quartz substrate is solved by combining thickness, number of sheets, and angle. Further, the quartz substrates are bonded together with a UV adhesive. The crystal configuration is determined by the required specifications, and the present invention is entitled to all possible combinations. The ink 3 is applied to the quartz substrate with a dedicated rotary application equipment. Further, the UV-IR cut film, the AR film, the IR film, and the like are deposited by a vacuum deposition machine.
次に『特殊インク塗布式光学ローパスフィルター』の作成ステップを述べる。
（１） 原石カット：水晶Ｚ軸に対して４５°の角度で切断。
（２）水晶の研削：
１） 粗研削：切断後の水晶に粗研削材を用いて、研削圧力と速度をコントロールし、要求される厚み・平行度に加工する。
２） 細研削：粗研削後の水晶に細研削材を用いて、研削圧力と速度をコントロールし、要求される厚み、平行度に加工する。
３） 研磨：細研削後の水晶にＧＣ微粉を用いて、研磨の圧力・速度をコントロールし、要求される厚み、平行度に加工する。
（３）水晶基板の洗浄：ステップ（２）まで行った水晶基板を自動洗浄機で洗浄する。
（４）水晶基板の塗布：水晶基板の表面に特殊インクを塗布する。塗布の際、回転数と時間を調整し、特殊インクの塗布量をコントロールする。その後、オーブンの温度と時間をコントロールして熱処理を行う。そして、製品要求される分光特性を達成させ、半値公差は±１％以内にする。
（５）工程内検査と洗浄：ステップ（４）までに得た製品の外観検査・光学特性の検査と洗浄を行う。
（６）蒸着：特殊インクの耐熱範囲で、真空蒸着機を用いて水晶基板を常温或は高温で蒸着し、要求される性能を達成させる。
（７）最終検査：要求される性能における外観検査・光学特性の検査を行う。
Next, the steps for creating a “special ink application type optical low-pass filter” will be described.
(1) Rough cut: Cut at an angle of 45 ° to the crystal Z axis.
(2) Quartz grinding:
1) Coarse grinding: A coarse abrasive is used for the crystal after cutting, and the grinding pressure and speed are controlled to process the required thickness and parallelism.
2) Fine grinding: Fine grinding material is used for the quartz after rough grinding, and the grinding pressure and speed are controlled, and it is processed to the required thickness and parallelism.
3) Polishing: GC fine powder is used for the finely ground quartz to control the pressure and speed of polishing and to process to the required thickness and parallelism.
(3) Cleaning the quartz substrate: The quartz substrate that has been subjected to step (2) is washed with an automatic washing machine.
(4) Application of crystal substrate: Special ink is applied to the surface of the crystal substrate. During application, the number of revolutions and time are adjusted to control the amount of special ink applied. Thereafter, heat treatment is performed by controlling the temperature and time of the oven. The required spectral characteristics of the product are achieved, and the half-value tolerance is within ± 1%.
(5) In-process inspection and cleaning: Appearance inspection and optical property inspection and cleaning of the product obtained up to step (4) are performed.
(6) Vapor deposition: A quartz substrate is vapor-deposited at room temperature or high temperature using a vacuum vapor deposition machine within the heat resistance range of special ink to achieve the required performance.
(7) Final inspection: Appearance inspection and optical characteristic inspection are performed at the required performance.
また、ステップ（４）の水晶表面に特殊インクを塗布する際、製品の透過率、耐熱性などの特性を基に、前処理をやるかやらないかを決める。その時の前処理のステップは、専用の回転式塗布設備の回転数を調整し、水晶表面に前処理専用液を塗布した後、熱処理を行う。前処理後、特殊インクを塗布する。 In addition, when applying special ink to the crystal surface in step (4), it is determined whether or not to perform pretreatment based on characteristics such as transmittance and heat resistance of the product. In the pretreatment step at that time, the number of revolutions of the dedicated rotary coating equipment is adjusted, and after applying the pretreatment liquid on the crystal surface, heat treatment is performed. After pre-treatment, apply special ink.
ステップ（４）の専用の回転式塗布設備の回転数の設定範囲は５００ｒｐｍ〜４０００ｒｐｍで調整する。また、熱処理温度の設定範囲は８５℃〜４００℃で調整する。水晶のどのような厚みでも製作可能である。 The setting range of the rotational speed of the dedicated rotary coating equipment in step (4) is adjusted from 500 rpm to 4000 rpm. Moreover, the setting range of heat processing temperature is adjusted at 85 to 400 degreeC. Any thickness of quartz can be produced.
本発明の実施例又は従来技術の技術的解決手段をより明確に説明するため，以下で実施例又は従来技術に使用される図面を簡単に説明する。
明らかに，以下で説明する図面は単に本発明の実施例であり，当業者に対して，創作活動をせずに，提供する図面によって他の図面を取得できる。
To describe the technical solutions of the embodiments of the present invention or the prior art more clearly, the drawings used in the embodiments or the prior art will be briefly described below.
Obviously, the drawings described below are merely examples of the present invention, and other drawings can be obtained by those of ordinary skill in the art without providing creative activities.
図１において：１’はＵＶ−ＩＲカット膜又はＩＲ膜、２１’は−４５°の水晶、２２’は０°の水晶、２３’は＋４５°水晶であり、４’はＡＲ膜である。 In FIG. 1, 1 'is a UV-IR cut film or IR film, 21' is a -45 ° crystal, 22 'is a 0 ° crystal, 23' is a + 45 ° crystal, and 4 'is an AR film.
図２において：１はＵＶ−ＩＲカット膜又はＩＲ膜、２１は−４５°の水晶、２２は０°の水晶、２３は＋４５°の水晶、３はインク層、４はＡＲ膜である。 In FIG. 2, 1 is a UV-IR cut film or IR film, 21 is a -45 ° crystal, 22 is a 0 ° crystal, 23 is a + 45 ° crystal, 3 is an ink layer, and 4 is an AR film.
この発明に関して、実施例を添付図面に基づいて説明する。但し、実施例はこの発明における一例であり、容易に想定することが出来る事項についても、この発明の範囲に属するものとする。 Embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. However, the embodiment is an example of the present invention, and matters that can be easily assumed shall belong to the scope of the present invention.
本発明の『特殊インク塗布式光学ローパスフィルター』は、従来の赤外線吸収ガラスを置き換えることが出来る。 The “special ink application type optical low-pass filter” of the present invention can replace the conventional infrared absorbing glass.
特殊インクは赤外線吸収特性を保有しており、赤外線吸収ガラスを無くすことができる。 Special inks possess infrared absorption characteristics and can eliminate infrared absorption glass.
その為、従来の赤外線吸収ガラスの光学ローパスフィルターと比べて、製品を薄くすることができる。また、従来の赤外線吸収ガラスは脆く、落下時に壊れやすかったが、無くすことによりその改善ができる。 Therefore, the product can be made thinner than the conventional optical low-pass filter of infrared absorbing glass. Further, the conventional infrared absorbing glass is brittle and easily broken when dropped, but it can be improved by eliminating it.
本発明は、ＵＶ−ＩＲカット膜１、水晶基板、インク３とＡＲ膜４からなる。なお、ＵＶ−ＩＲカット膜をＩＲ膜に変更可能である。更に、ＣＣＤやＣＭＯＳセンサーは多様に存在し、それぞれ違うノイズ方向性を持っている。それらに合わせて、水晶基板は厚み、枚数、角度を組み合わせることにより解決される。また、水晶基板同士はＵＶ接着剤で貼り合わせる。水晶の構成は要求される仕様により決められ、本発明は考え得る全ての組み合わせに対して権利を有する。インク３は専用の回転式塗布設備で水晶基板に塗布する。また、ＵＶ−ＩＲカット膜、ＡＲ膜、ＩＲ膜などは真空蒸着機で蒸着する。 The present invention comprises a UV-IR cut film 1, a quartz substrate, an ink 3 and an AR film 4. The UV-IR cut film can be changed to an IR film. Furthermore, there are various CCD and CMOS sensors, and each has a different noise directionality. In accordance with them, the quartz substrate is solved by combining thickness, number of sheets, and angle. Further, the quartz substrates are bonded together with a UV adhesive. The crystal configuration is determined by the required specifications, and the present invention is entitled to all possible combinations. The ink 3 is applied to the quartz substrate with a dedicated rotary application equipment. Further, the UV-IR cut film, the AR film, the IR film, and the like are deposited by a vacuum deposition machine.
次に『特殊インク塗布式光学ローパスフィルター』の作成ステップを述べる。
（１）原石カット：水晶Ｚ軸に対して４５°の角度で切断。
（２）水晶の研削：
ｉ． 粗研削：切断後の水晶に粗研削材を用いて、研削圧力と速度をコントロールし、要求される厚み・平行度に加工する。
ｉｉ． 細研削：粗研削後の水晶に細研削材を用いて、研削圧力と速度をコントロールし、要求される厚み、平行度に加工する。
ｉｉｉ． 研磨：細研削後の水晶にＧＣ微粉を用いて、研磨の圧力・速度をコントロールし、要求される厚み、平行度に加工する。
（３）水晶基板の洗浄：ステップ（２）まで行った水晶基板を自動洗浄機で洗浄する。
（４）水晶基板の塗布：水晶基板の表面に特殊インクを塗布する。塗布の際、回転数と時間を調整し、特殊インクの塗布量をコントロールする。その後、オーブンの温度と時間をコントロールして熱処理を行う。そして、製品要求される分光特性を達成させ、半値公差は±１％以内にする。
（５）工程内検査と洗浄：ステップ（４）までに得た製品の外観検査・光学特性の検査と洗浄を行う。
（６）蒸着：特殊インクの耐熱範囲で、真空蒸着機を用いて水晶基板を常温或は高温で蒸着し、要求される性能を達成させる。
（７）最終検査：要求される性能における外観検査・光学特性の検査を行う。
Next, the steps for creating a “special ink application type optical low-pass filter” will be described.
(1) Rough cut: Cut at an angle of 45 ° with respect to the crystal Z axis.
(2) Quartz grinding:
i. Coarse grinding: A rough grinding material is used for the crystal after cutting, and the grinding pressure and speed are controlled to achieve the required thickness and parallelism.
ii. Fine grinding: Fine grinding material is used for the quartz after rough grinding, and the grinding pressure and speed are controlled to achieve the required thickness and parallelism.
iii. Polishing: GC fine powder is used for the finely ground quartz to control the pressure and speed of polishing and process to the required thickness and parallelism.
(3) Cleaning the quartz substrate: The quartz substrate that has been subjected to step (2) is washed with an automatic washing machine.
(4) Application of crystal substrate: Special ink is applied to the surface of the crystal substrate. During application, the number of revolutions and time are adjusted to control the amount of special ink applied. Thereafter, heat treatment is performed by controlling the temperature and time of the oven. The required spectral characteristics of the product are achieved, and the half-value tolerance is within ± 1%.
(5) In-process inspection and cleaning: Appearance inspection and optical property inspection and cleaning of the product obtained up to step (4) are performed.
(6) Vapor deposition: A quartz substrate is vapor-deposited at room temperature or high temperature using a vacuum vapor deposition machine within the heat resistance range of special ink to achieve the required performance.
(7) Final inspection: Appearance inspection and optical characteristic inspection are performed at the required performance.
また、ステップ（４）の水晶表面に特殊インクを塗布する際、製品の透過率、耐熱性などの特性を基に、前処理をやるかやらないかを決める。その時の前処理のステップは、専用の回転式塗布設備の回転数を調整し、水晶表面に前処理専用液を塗布した後、熱処理を行う。前処理後、特殊インクを塗布する。 In addition, when applying special ink to the crystal surface in step (4), it is determined whether or not to perform pretreatment based on characteristics such as transmittance and heat resistance of the product. In the pretreatment step at that time, the number of revolutions of the dedicated rotary coating equipment is adjusted, and after applying the pretreatment liquid on the crystal surface, heat treatment is performed. After pre-treatment, apply special ink.
ステップ（４）の専用の回転式塗布設備の回転数の設定範囲は５００ｒｐｍ〜４０００ｒｐｍで調整する。また、熱処理温度の設定範囲は８５℃〜４００℃で調整する。水晶のどのような厚みでも製作可能である。 The setting range of the rotational speed of the dedicated rotary coating equipment in step (4) is adjusted from 500 rpm to 4000 rpm. Moreover, the setting range of heat processing temperature is adjusted at 85 to 400 degreeC. Any thickness of quartz can be produced.
実施例１
添付図を参照。ＵＶ−ＩＲカット膜１、水晶基板、インク３とＡＲ膜４からなる。なお、ＵＶ−ＩＲカット膜をＩＲ膜に変更可能である。
Example 1
See attached figure. It consists of a UV-IR cut film 1, a quartz substrate, ink 3 and an AR film 4. The UV-IR cut film can be changed to an IR film.
また、−４５°の水晶基板２１、０°の水晶基板２２、＋４５°の水晶片２３からなる。−４５°の水晶基板２１の表面にＵＶ−ＩＲカット膜１或はＩＲ膜を蒸着し、 ＋４５°の水晶基板２３の表面にインク３を塗布する。水晶基板同士 はＵＶ接着剤で貼り合わせる。 Further, it comprises a −45 ° quartz substrate 21, a 0 ° quartz substrate 22, and a + 45 ° quartz piece 23. The UV-IR cut film 1 or the IR film is deposited on the surface of the quartz substrate 21 at −45 °, and the ink 3 is applied to the surface of the quartz substrate 23 at + 45 °. The quartz substrates are bonded together with UV adhesive.
更に、ＣＣＤやＣＭＯＳセンサーは多様に存在し、それぞれ違うノイズ方向性を持っている。それらに合わせて、水晶基板は厚み、枚数、角度を組み合わせることにより解決される。また、水晶基板同士はＵＶ接着剤で貼り合わせる。水晶基板の構成は要求される仕様により決められ、本発明は考え得る全ての組み合わせに対して権利を有する。インク３は専用の回転式塗布設備で水晶基板に塗布する。また、ＵＶ−ＩＲカット膜、ＡＲ膜、ＩＲ膜などは真空蒸着機で蒸着する。 Furthermore, there are various CCD and CMOS sensors, and each has a different noise directionality. In accordance with them, the quartz substrate is solved by combining thickness, number of sheets, and angle. Further, the quartz substrates are bonded together with a UV adhesive. The configuration of the quartz substrate is determined by the required specifications, and the present invention is entitled to all possible combinations. The ink 3 is applied to the quartz substrate with a dedicated rotary application equipment. Further, the UV-IR cut film, the AR film, the IR film, and the like are deposited by a vacuum deposition machine.
次に『特殊インク塗布式光学ローパスフィルター』の作成ステップを述べる。
（１）原石カット：水晶Ｚ軸に対して４５°の角度で切断。
（２）水晶の研削：
ｉ． 粗研削：切断後の水晶に粗研削材を用いて、研削圧力と速度をコントロールし、要求される厚み・平行度に加工する。
ｉｉ． 細研削：粗研削後の水晶に細研削材を用いて、研削圧力と速度をコントロールし、要求される厚み、平行度に加工する。
ｉｉｉ． 研磨：細研削後の水晶にＧＣ微粉を用いて、研磨の圧力・速度をコントロールし、要求される厚み、平行度に加工する。
（３）水晶基板の洗浄：ステップ（２）まで行った水晶基板を自動洗浄機で洗浄する。
（４）水晶基板の塗布：水晶基板の表面に特殊インクを塗布する。塗布の際、回転数と時間を調整し、特殊インクの塗布量をコントロールする。その後、オーブンの温度と時間をコントロールして熱処理を行う。そして、製品要求される分光特性を達成させ、半値公差は±１％以内にする。
（５）工程内検査と洗浄：ステップ（４）までに得た製品の外観検査・光学特性の検査と洗浄を行う。
（６）蒸着：特殊インクの耐熱範囲で、真空蒸着機を用いて水晶基板を常温或は高温で蒸着し、要求される性能を達成させる。
（７）最終検査：要求される性能における外観検査・光学特性の検査を行う。
Next, the steps for creating a “special ink application type optical low-pass filter” will be described.
(1) Rough cut: Cut at an angle of 45 ° with respect to the crystal Z axis.
(2) Quartz grinding:
i. Coarse grinding: A rough grinding material is used for the crystal after cutting, and the grinding pressure and speed are controlled to achieve the required thickness and parallelism.
ii. Fine grinding: Fine grinding material is used for the quartz after rough grinding, and the grinding pressure and speed are controlled to achieve the required thickness and parallelism.
iii. Polishing: GC fine powder is used for the finely ground quartz to control the pressure and speed of polishing and process to the required thickness and parallelism.
(3) Cleaning the quartz substrate: The quartz substrate that has been subjected to step (2) is washed with an automatic washing machine.
(4) Application of crystal substrate: Special ink is applied to the surface of the crystal substrate. During application, the number of revolutions and time are adjusted to control the amount of special ink applied. Thereafter, heat treatment is performed by controlling the temperature and time of the oven. The required spectral characteristics of the product are achieved, and the half-value tolerance is within ± 1%.
(5) In-process inspection and cleaning: Appearance inspection and optical property inspection and cleaning of the product obtained up to step (4) are performed.
(6) Vapor deposition: A quartz substrate is vapor-deposited at room temperature or high temperature using a vacuum vapor deposition machine within the heat resistance range of special ink to achieve the required performance.
(7) Final inspection: Appearance inspection and optical characteristic inspection are performed at the required performance.
また、ステップ（４）の水晶表面に特殊インクを塗布する際、製品の透過率、耐熱性などの特性を基に、前処理をやるかやらないかを決める。その時の前処理のステップは、専用の回転式塗布設備の回転数を調整し、水晶表面に前処理専用液を塗布した後、熱処理を行う。前処理後、特殊インクを塗布する。 In addition, when applying special ink to the crystal surface in step (4), it is determined whether or not to perform pretreatment based on characteristics such as transmittance and heat resistance of the product. In the pretreatment step at that time, the number of revolutions of the dedicated rotary coating equipment is adjusted, and after applying the pretreatment liquid on the crystal surface, heat treatment is performed. After pre-treatment, apply special ink.
ステップ（４）の専用の回転式塗布設備の回転数の設定範囲は５００ｒｐｍ〜４０００ｒｐｍで調整する。また、熱処理温度の設定範囲は８５℃〜４００℃で調整する。水晶のどのような厚みでも製作可能である。 The setting range of the rotational speed of the dedicated rotary coating equipment in step (4) is adjusted from 500 rpm to 4000 rpm. Moreover, the setting range of heat processing temperature is adjusted at 85 to 400 degreeC. Any thickness of quartz can be produced.
実施例２
添付図を参照。ＵＶ−ＩＲカット膜１、０°の水晶基板、インク３とＡＲ膜４からなる。なお、ＵＶ−ＩＲカット膜をＩＲ膜に変更可能である。
Example 2
See attached figure. It comprises a UV-IR cut film 1, a 0 ° quartz substrate, an ink 3 and an AR film 4. The UV-IR cut film can be changed to an IR film.
更に、ＣＣＤやＣＭＯＳセンサーは多様に存在し、それぞれ違うノイズ方向性を持っている。それらに合わせて、水晶基板は厚み、枚数、角度を組み合わせることにより解決される。また、水晶基板同士はＵＶ接着剤で貼り合わせる。水晶の構成は要求される仕様により決められ、本発明は考え得る全ての組み合わせに対して権利を有する。インク３は専用の回転式塗布設備で水晶基板に塗布する。また、ＵＶ−ＩＲカット膜、ＡＲ膜、ＩＲ膜などは真空蒸着機で蒸着する。 Furthermore, there are various CCD and CMOS sensors, and each has a different noise directionality. In accordance with them, the quartz substrate is solved by combining thickness, number of sheets, and angle. Further, the quartz substrates are bonded together with a UV adhesive. The crystal configuration is determined by the required specifications, and the present invention is entitled to all possible combinations. The ink 3 is applied to the quartz substrate with a dedicated rotary application equipment. Further, the UV-IR cut film, the AR film, the IR film, and the like are deposited by a vacuum deposition machine.
次に『特殊インク塗布式光学ローパスフィルター』の作成ステップを述べる。
（１）原石カット：水晶Ｚ軸に対して４５°の角度で切断。
（２）水晶の研削：
ｉ． 粗研削：切断後の水晶に粗研削材を用いて、研削圧力と速度をコントロールし、要求される厚み・平行度に加工する。
ｉｉ． 細研削：粗研削後の水晶に細研削材を用いて、研削圧力と速度をコントロールし、要求される厚み、平行度に加工する。
ｉｉｉ． 研磨：細研削後の水晶にＧＣ微粉を用いて、研磨の圧力・速度をコントロールし、要求される厚み、平行度に加工する。
（３）水晶基板の洗浄：ステップ（２）まで行った水晶基板を自動洗浄機で洗浄する。
（４）水晶基板の塗布：水晶基板の表面に特殊インクを塗布する。塗布の際、回転数と時間を調整し、特殊インクの塗布量をコントロールする。その後、オーブンの温度と時間をコントロールして熱処理を行う。そして、製品要求される分光特性を達成させ、半値公差は±１％以内にする。
（５）工程内検査と洗浄：ステップ（４）までに得た製品の外観検査・光学特性の検査と洗浄を行う。
（６）蒸着：特殊インクの耐熱範囲で、真空蒸着機を用いて水晶基板を常温或は高温で蒸着し、要求される性能を達成させる。
（７）最終検査：要求される性能における外観検査・光学特性の検査を行う。
Next, the steps for creating a “special ink application type optical low-pass filter” will be described.
(1) Rough cut: Cut at an angle of 45 ° with respect to the crystal Z axis.
(2) Quartz grinding:
i. Coarse grinding: A rough grinding material is used for the crystal after cutting, and the grinding pressure and speed are controlled to achieve the required thickness and parallelism.
ii. Fine grinding: Fine grinding material is used for the quartz after rough grinding, and the grinding pressure and speed are controlled to achieve the required thickness and parallelism.
iii. Polishing: GC fine powder is used for the finely ground quartz to control the pressure and speed of polishing and process to the required thickness and parallelism.
(3) Cleaning the quartz substrate: The quartz substrate that has been subjected to step (2) is washed with an automatic washing machine.
(4) Application of crystal substrate: Special ink is applied to the surface of the crystal substrate. During application, the number of revolutions and time are adjusted to control the amount of special ink applied. Thereafter, heat treatment is performed by controlling the temperature and time of the oven. The required spectral characteristics of the product are achieved, and the half-value tolerance is within ± 1%.
(5) In-process inspection and cleaning: Appearance inspection and optical property inspection and cleaning of the product obtained up to step (4) are performed.
(6) Vapor deposition: A quartz substrate is vapor-deposited at room temperature or high temperature using a vacuum vapor deposition machine within the heat resistance range of special ink to achieve the required performance.
(7) Final inspection: Appearance inspection and optical characteristic inspection are performed at the required performance.
また、ステップ（４）の水晶表面に特殊インクを塗布する際、製品の透過率、耐熱性などの特性を基に、前処理をやるかやらないかを決める。その時の前処理のステップは、専用の回転式塗布設備の回転数を調整し、水晶表面に前処理専用液を塗布した後、熱処理を行う。前処理後、特殊インクを塗布する。 In addition, when applying special ink to the crystal surface in step (4), it is determined whether or not to perform pretreatment based on characteristics such as transmittance and heat resistance of the product. In the pretreatment step at that time, the number of revolutions of the dedicated rotary coating equipment is adjusted, and after applying the pretreatment liquid on the crystal surface, heat treatment is performed. After pre-treatment, apply special ink.
ステップ（４）の専用の回転式塗布設備の回転数の設定範囲は５００ｒｐｍ〜４０００ｒｐｍで調整する。また、熱処理温度の設定範囲は８５℃〜４００℃で調整する。水晶のどのような厚みでも製作可能である。 The setting range of the rotational speed of the dedicated rotary coating equipment in step (4) is adjusted from 500 rpm to 4000 rpm. Moreover, the setting range of heat processing temperature is adjusted at 85 to 400 degreeC. Any thickness of quartz can be produced.
本明細書は各実施例をプログレッシブ方式で説明し，各実施例は他の実施例との相違点を中心に説明し，各実施例の同一または類似の部分は互いに参考できる。実施例の開示する装置に対して，それは実施例の開示する方法と対応するため，簡単に説明し，関連するところは方法に参考して説明できる。 In this specification, each embodiment will be described in a progressive manner. Each embodiment will be described with a focus on differences from other embodiments, and the same or similar parts of each embodiment can be referred to each other. For the device disclosed in the embodiment, it corresponds briefly to the method disclosed in the embodiment, so that it will be briefly described and the relevant part can be described with reference to the method.
上記の開示される実施例の説明に対して，当業者は本発明を実現又は使用できるようにする。それらの実施例の様々な修正に対して当業者にとって明らかであり，本発明に定義される一般的な原理は本発明の精神または範囲から逸脱せずに，他の実施例に実現できる。従って，本発明はここに示した実施例に制限せず，本明細書に開示された原理及び新規な特徴に応じる最も広い範囲と一致する。
With reference to the above description of the disclosed embodiments, those skilled in the art will be able to implement or use the invention. Various modifications to these embodiments will be apparent to those skilled in the art, and the general principles defined herein may be implemented in other embodiments without departing from the spirit or scope of the invention. Accordingly, the present invention is not limited to the embodiments shown herein but is consistent with the widest scope depending on the principles and novel features disclosed herein.
Claims (9)
ＵＶ−ＩＲカット膜と、
水晶基板と、
インク層及びＡＲ膜と、
を備え、
前記ＵＶ−ＩＲカット膜をＩＲ膜に変更可能である特殊インク塗布式光学ローパスフィルター。 Special ink application type optical low-pass filter,
A UV-IR cut film;
A quartz substrate,
An ink layer and an AR film;
With
A special ink application type optical low-pass filter capable of changing the UV-IR cut film into an IR film.
前記水晶基板は紫外線接着剤で貼り合わせる、
請求項１に記載の特殊インク塗布式光学ローパスフィルター。 There are a variety of CCD and CMOS image sensors of different models, and the quartz substrate can be solved by combining quartz substrates of different thickness, number, and angle with different noise directions.
The quartz substrate is bonded with an ultraviolet adhesive,
The special ink application type optical low-pass filter according to claim 1.
請求項１に記載の特殊インク塗布式光学ローパスフィルター。 The ink layer is coated on the quartz substrate by a spin coater, and the ink used has an infrared absorption effect.
The special ink application type optical low-pass filter according to claim 1.
請求項１に記載の特殊インク塗布式光学ローパスフィルター。 The UV-IR cut film, the AR film, the IR film, and the like are deposited by a vacuum deposition machine.
The special ink application type optical low-pass filter according to claim 1.
（１）原石カット：水晶Ｚ軸に対して４５°の角度で切断。
（２）水晶の研削：
ｉ． 粗研削：切断後の水晶に粗研削材を用いて、研削圧力と速度をコントロールし、要求される厚み・平行度に加工する。
ｉｉ． 細研削：粗研削後の水晶に細研削材を用いて、研削圧力と速度をコントロールし、要求される厚み、平行度に加工する。
ｉｉｉ． 研磨：細研削後の水晶にＧＣ微粉を用いて、研磨の圧力・速度をコントロールし、要求される厚み、平行度に加工する。
（３）水晶基板の洗浄：ステップ（２）まで行った水晶基板を自動洗浄機で洗浄する。
（４）水晶基板の塗布：水晶基板の表面に特殊インクを塗布する。塗布の際、回転数と時間を調整し、特殊インクの塗布量をコントロールする。その後、オーブンの温度と時間をコントロールして熱処理を行う。そして、製品要求される分光特性を達成させ、半値公差は±１％以内にする。
（５）工程内検査と洗浄：ステップ（４）までに得た製品の外観検査・光学特性の検査と洗浄を行う。
（６）蒸着：特殊インクの耐熱範囲で、真空蒸着機を用いて水晶基板を常温或は高温で蒸着し、要求される性能を達成させる。
（７）最終検査：要求される性能における外観検査・光学特性の検査を行う。 A method for producing a special ink-coated optical low-pass filter according to claim 1, characterized in that it comprises the following steps:
(1) Rough cut: Cut at an angle of 45 ° with respect to the crystal Z axis.
(2) Quartz grinding:
i. Coarse grinding: A rough grinding material is used for the crystal after cutting, and the grinding pressure and speed are controlled to achieve the required thickness and parallelism.
ii. Fine grinding: Fine grinding material is used for the quartz after rough grinding, and the grinding pressure and speed are controlled to achieve the required thickness and parallelism.
iii. Polishing: GC fine powder is used for the finely ground quartz to control the pressure and speed of polishing and process to the required thickness and parallelism.
(3) Cleaning the quartz substrate: The quartz substrate that has been subjected to step (2) is washed with an automatic washing machine.
(4) Application of crystal substrate: Special ink is applied to the surface of the crystal substrate. During application, the number of revolutions and time are adjusted to control the amount of special ink applied. Thereafter, heat treatment is performed by controlling the temperature and time of the oven. The required spectral characteristics of the product are achieved, and the half-value tolerance is within ± 1%.
(5) In-process inspection and cleaning: Appearance inspection and optical property inspection and cleaning of the product obtained up to step (4) are performed.
(6) Vapor deposition: A quartz substrate is vapor-deposited at room temperature or high temperature using a vacuum vapor deposition machine within the heat resistance range of special ink to achieve the required performance.
(7) Final inspection: Appearance inspection and optical characteristic inspection are performed at the required performance.
前記前処理プロセスとして、まず回転式塗布設備の回転数を調整し、次に水晶表面に前処理専用液を塗布した後、熱処理を行う、
前記前処理後、特殊インクを塗布する、
請求項５に記載の特殊インク塗布式光学ローパスフィルターの製造方法。 When applying special ink to the crystal surface in the above step (4), decide which characteristics such as visible light transmittance and heat resistance of the product should be pretreated.
As the pretreatment process, first, the rotational speed of the rotary coating equipment is adjusted, and then the pretreatment liquid is applied to the crystal surface, followed by heat treatment.
After the pretreatment, apply special ink.
A method for producing the special ink-coated optical low-pass filter according to claim 5.
請求項５に記載の特殊インク塗布式光学ローパスフィルターの製造方法。 The setting range of the spin coater rotation speed in the above step (4) is 500 rpm to 4000 rpm,
A method for producing the special ink-coated optical low-pass filter according to claim 5.
請求項５に記載の特殊インク塗布式光学ローパスフィルターの製造方法。 The set temperature for baking in the above step (4) is 85 ° C. to 400 ° C.,
A method for producing the special ink-coated optical low-pass filter according to claim 5.
請求項５に記載の特殊インク塗布式光学ローパスフィルターの製造方法。
The thickness of the ink-coated quartz substrate in the above step (5) reaches 0.1 mm or less.
A method for producing the special ink-coated optical low-pass filter according to claim 5.
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