JP2017219703A - Liquid crystal display device - Google Patents

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村井 博之
Hiroyuki Murai
博之 村井
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a technique capable of actualizing display characteristics of high quality for a liquid crystal display device having its frame made narrow.SOLUTION: A liquid crystal display device comprises a plurality of gate connection wirings which electrically connect a plurality of gate wirings to a gate wiring drive part. The gate connection wirings include a plurality of first partial gate connection wirings arranged apart in a frame region of a first substrate, and a second partial gate connection wiring which is arranged on a black matrix of a second substrate, and electrically connects the plurality of first partial gate connection wirings through respective conductive members.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、第1基板と、それに対向して配設された第2基板とを備える液晶表示装置に関する。   The present invention relates to a liquid crystal display device including a first substrate and a second substrate disposed to face the first substrate.

一般に、アクティブマトリクス型の液晶表示装置は、互いに対向する2枚の絶縁性のガラス基板で構成される液晶パネルを備えている。液晶パネルの一方のガラス基板であるTFT基板には、互いに絶縁されたゲート配線及びソース配線からなる平面視格子状の配線が配設され、ゲート配線とソース配線との各交差点にはTFT(薄膜トランジスタ)が配設されている。TFTは、ゲート配線に接続されたゲート電極、ソース配線に接続されたソース電極、及び、ドレイン電極などから構成される。ドレイン電極は、画像を表示するためにTFT基板上にマトリクス状に配設された画素電極に接続されている。TN(Twisted Nematic)型液晶パネルの場合には、液晶パネルの他方のガラス基板であるCF(Color Filter)基板に、液晶層を介して画素電極との間に電圧を印加するための共通電極が配設されている。また、IPS(In Plane Switching)(登録商標)型液晶パネルの場合には、液晶層に電圧を印加するための共通電極が、CF基板ではなくTFT基板上に配設されている。   In general, an active matrix liquid crystal display device includes a liquid crystal panel including two insulating glass substrates facing each other. A TFT substrate, which is one glass substrate of the liquid crystal panel, is provided with a grid-like wiring composed of a gate wiring and a source wiring which are insulated from each other, and a TFT (thin film transistor) is provided at each intersection of the gate wiring and the source wiring. ) Is arranged. The TFT includes a gate electrode connected to the gate wiring, a source electrode connected to the source wiring, a drain electrode, and the like. The drain electrode is connected to pixel electrodes arranged in a matrix on the TFT substrate in order to display an image. In the case of a TN (Twisted Nematic) type liquid crystal panel, a common electrode for applying a voltage to a pixel electrode via a liquid crystal layer is provided on a CF (Color Filter) substrate which is the other glass substrate of the liquid crystal panel. It is arranged. In the case of an IPS (In Plane Switching) (registered trademark) type liquid crystal panel, a common electrode for applying a voltage to the liquid crystal layer is disposed on the TFT substrate instead of the CF substrate.

各TFTのゲート電極がゲート配線からTFTをオンするための走査信号を受けたときに、当該TFTのソース電極がソース配線から受ける映像信号に基づいて、当該映像信号の電位と共通電極に与えられている電位との差である電圧が液晶層に印加される。これにより液晶が画素単位で駆動され、画面上に所望の画像が表示される。   When the gate electrode of each TFT receives a scanning signal for turning on the TFT from the gate wiring, the potential of the video signal is applied to the common electrode based on the video signal received by the source electrode of the TFT from the source wiring. A voltage that is a difference from the potential is applied to the liquid crystal layer. As a result, the liquid crystal is driven in units of pixels, and a desired image is displayed on the screen.

さて、以上のように構成されたアクティブマトリクス型の液晶表示装置において、近年、狭額縁化が求められている。一方、ゲート配線数は、液晶表示装置の高解像度化に伴い、例えば1000本規模のように多数本化している。このため、ゲートIC(Integrated Circuit)からゲート配線に走査信号を供給するためのゲート接続配線が配設される、表示領域の外側の額縁領域の幅は拡大しており、狭額縁の実現が困難となっている。   In the active matrix liquid crystal display device configured as described above, in recent years, a narrow frame has been demanded. On the other hand, the number of gate wirings is increasing in number, for example, on the scale of 1000 with the increase in resolution of liquid crystal display devices. For this reason, the width of the frame area outside the display area in which the gate connection wiring for supplying the scanning signal from the gate IC (Integrated Circuit) to the gate wiring is arranged is enlarged, and it is difficult to realize a narrow frame. It has become.

この問題を解決するための技術として、特許文献1には、ゲート接続配線を、TFT基板に配設された配線と、CF基板に配設された配線とから構成する技術が提案されている。   As a technique for solving this problem, Patent Document 1 proposes a technique in which a gate connection wiring is composed of a wiring disposed on a TFT substrate and a wiring disposed on a CF substrate.

特開2015−55712号公報JP2015-55712A

しかしながら、特許文献1の技術では、ブラックマトリクス(以下「BM」と記すこともある)を、ゲート接続配線のうちCF基板に配設された配線として用いる。このような構成では、CF基板に配設された各々の配線を電気的に分離するために、ブラックマトリクスにスリットなどの切れ目を設ける必要であり、当該切れ目から光が漏れるという問題があった。   However, in the technique of Patent Document 1, a black matrix (hereinafter sometimes referred to as “BM”) is used as a wiring disposed on the CF substrate among the gate connection wirings. In such a configuration, in order to electrically isolate each wiring disposed on the CF substrate, it is necessary to provide a cut such as a slit in the black matrix, and there is a problem that light leaks from the cut.

そこで、本発明は、上記のような問題点を鑑みてなされたものであり、狭額縁化された液晶表示装置において、高品質な表示特性を実現可能な技術を提供することを目的とする。   Accordingly, the present invention has been made in view of the above-described problems, and an object of the present invention is to provide a technology capable of realizing high-quality display characteristics in a narrow frame liquid crystal display device.

本発明に係る液晶表示装置は、表示領域と、前記表示領域に隣接する額縁領域とが規定された第1基板と、前記表示領域に配設され、平面視において互いに交差された複数のソース配線及び複数のゲート配線と、前記表示領域に配設され、前記複数のソース配線及び前記複数のゲート配線と接続された複数の薄膜トランジスタと、前記額縁領域であって前記複数のソース配線の一端側の領域である一端額縁領域に配設された、前記複数のソース配線に映像信号を供給可能なソース配線駆動部と、前記一端額縁領域に配設された、前記複数のゲート配線に走査信号を供給可能なゲート配線駆動部と、前記額縁領域に配設された、前記複数のソース配線と前記ソース配線駆動部とを電気的に接続する複数のソース接続配線と、前記複数のゲート配線と前記ゲート配線駆動部とを電気的に接続する複数のゲート接続配線と、前記第1基板と対向して配設され、前記第1基板と対向する面上に絶縁性のブラックマトリクスが配設された第2基板とを備え、前記ゲート接続配線は、前記第1基板の前記額縁領域において離間して配設された複数の第1部分ゲート接続配線と、前記第2基板の前記ブラックマトリクス上に配設され、各導電部材を介して前記複数の第1部分ゲート接続配線を電気的に接続する第2部分ゲート接続配線とを含む。   A liquid crystal display device according to the present invention includes a first substrate in which a display area and a frame area adjacent to the display area are defined, and a plurality of source wirings arranged in the display area and intersecting each other in plan view And a plurality of gate wirings, a plurality of thin film transistors disposed in the display region and connected to the plurality of source wirings and the plurality of gate wirings, and the frame region on one end side of the plurality of source wirings A source line driving unit capable of supplying a video signal to the plurality of source lines disposed in the one end frame region, and a scanning signal to the plurality of gate lines disposed in the one end frame region. Possible gate wiring driving units, a plurality of source connection wirings arranged in the frame region and electrically connecting the plurality of source wirings and the source wiring driving unit, and the plurality of gate wirings. And a plurality of gate connection wirings that electrically connect the gate wiring driving unit and the first substrate, and an insulating black matrix is disposed on a surface facing the first substrate. A plurality of first partial gate connection wirings spaced apart from each other in the frame region of the first substrate and the black matrix of the second substrate. And a second partial gate connection wiring that electrically connects the plurality of first partial gate connection wirings through each conductive member.

本発明によれば、ゲート接続配線は、第1基板の額縁領域において離間して配設された複数の第1部分ゲート接続配線と、第2基板のブラックマトリクス上に配設され、各導電部材を介して複数の第1部分ゲート接続配線を電気的に接続する第2部分ゲート接続配線とを含む。このような構成によれば、狭額縁化された液晶表示装置において、高品質な表示特性を実現することができる。   According to the present invention, the gate connection wiring is disposed on the plurality of first partial gate connection wirings spaced apart in the frame region of the first substrate and the black matrix of the second substrate, and each conductive member. And a second partial gate connection wiring that electrically connects the plurality of first partial gate connection wirings. According to such a configuration, high quality display characteristics can be realized in a liquid crystal display device with a narrow frame.

実施の形態1に係る液晶パネルのうちTFT基板の概略構成を示す平面図である。4 is a plan view showing a schematic configuration of a TFT substrate in the liquid crystal panel according to Embodiment 1. FIG. 実施の形態1に係る液晶パネルのうちCF基板の概略構成を示す平面図である。4 is a plan view showing a schematic configuration of a CF substrate in the liquid crystal panel according to Embodiment 1. FIG. 実施の形態1に係る液晶パネルの概略構成を示す断面図である。1 is a cross-sectional view showing a schematic configuration of a liquid crystal panel according to Embodiment 1. FIG. 実施の形態1に係るCF基板の概略構成を示す拡大平面図である。3 is an enlarged plan view showing a schematic configuration of a CF substrate according to Embodiment 1. FIG. 実施の形態1に係るゲートICの出力の並びの一例を示す平面図である。6 is a plan view showing an example of an output sequence of gate ICs according to the first embodiment. FIG. 実施の形態2に係る液晶パネルのうちTFT基板の概略構成を示す平面図である。5 is a plan view showing a schematic configuration of a TFT substrate in a liquid crystal panel according to Embodiment 2. FIG. 実施の形態2に係る液晶パネルのうちCF基板の概略構成を示す平面図である。6 is a plan view showing a schematic configuration of a CF substrate in a liquid crystal panel according to Embodiment 2. FIG. 実施の形態2に係る液晶パネルの概略構成を示す断面図である。5 is a cross-sectional view illustrating a schematic configuration of a liquid crystal panel according to Embodiment 2. FIG. 実施の形態2に係るゲートICの出力の並びの一例を示す平面図である。FIG. 10 is a plan view illustrating an example of an output sequence of gate ICs according to the second embodiment. 実施の形態3に係る液晶パネルのうちTFT基板の概略構成を示す平面図である。5 is a plan view showing a schematic configuration of a TFT substrate in a liquid crystal panel according to Embodiment 3. FIG. 実施の形態3に係る液晶パネルのうちCF基板の概略構成を示す平面図である。6 is a plan view showing a schematic configuration of a CF substrate in a liquid crystal panel according to Embodiment 3. FIG. 実施の形態3に係る液晶パネルの概略構成の一例を示す断面図である。6 is a cross-sectional view illustrating an example of a schematic configuration of a liquid crystal panel according to Embodiment 3. FIG. 実施の形態3に係る液晶パネルの概略構成の別例を示す断面図である。12 is a cross-sectional view showing another example of the schematic configuration of the liquid crystal panel according to Embodiment 3. FIG. 実施の形態4に係る液晶パネルのうちTFT基板の概略構成を示す平面図である。6 is a plan view showing a schematic configuration of a TFT substrate in a liquid crystal panel according to Embodiment 4. FIG. 実施の形態4に係る液晶パネルのうちCF基板の概略構成を示す平面図である。6 is a plan view showing a schematic configuration of a CF substrate in a liquid crystal panel according to Embodiment 4. FIG. 実施の形態5に係る液晶パネルのうちTFT基板の概略構成を示す平面図である。10 is a plan view showing a schematic configuration of a TFT substrate in a liquid crystal panel according to Embodiment 5. FIG. 実施の形態5に係る液晶パネルのうちCF基板の概略構成を示す平面図である。10 is a plan view showing a schematic configuration of a CF substrate in a liquid crystal panel according to Embodiment 5. FIG. 実施の形態5に係る液晶パネルの概略構成を示す断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view illustrating a schematic configuration of a liquid crystal panel according to Embodiment 5.

<実施の形態1>
図1及び図2は、本発明の実施の形態1に係る液晶表示装置が備える液晶パネルを構成するTFT基板及びCF基板の概略構成を示す平面図である。図3は、後述するゲート接続配線に沿った液晶パネルの概略構成を示す断面図である。
<Embodiment 1>
1 and 2 are plan views showing schematic configurations of a TFT substrate and a CF substrate that constitute a liquid crystal panel included in the liquid crystal display device according to Embodiment 1 of the present invention. FIG. 3 is a cross-sectional view showing a schematic configuration of a liquid crystal panel along a gate connection wiring described later.

図3に示すように、図2のCF基板2は、図1のTFT基板1と対向して配設されている。図1及び図2はいずれも、図3の上側、つまりCF基板2に対してTFT基板1と逆側から見た平面図である。本来であれば、図2のCF基板2に対して向こう側に、不透明膜、部分ゲート接続配線64などの配線が順に配設されるので、不透明膜により配線を見ることはできない。しかしながら、図2では説明の便宜上、不透明膜が透明であるかのような方式で配線の概略構成を図示している。なお、このことは、図2以降において図2と同様にCF基板2を示す平面図においても同様である。   As shown in FIG. 3, the CF substrate 2 in FIG. 2 is disposed to face the TFT substrate 1 in FIG. 1 and 2 are both plan views as viewed from the upper side of FIG. 3, that is, from the side opposite to the TFT substrate 1 with respect to the CF substrate 2. Originally, the wiring such as the opaque film and the partial gate connection wiring 64 is sequentially arranged on the other side with respect to the CF substrate 2 in FIG. 2, so that the wiring cannot be seen by the opaque film. However, in FIG. 2, for convenience of explanation, the schematic configuration of the wiring is illustrated in a manner as if the opaque film is transparent. This also applies to plan views showing the CF substrate 2 in FIG.

TFT基板1及びCF基板2は、透明な絶縁性の基板であり、例えばガラス基板などが適用される。本発明に係る第1基板はTFT基板1と呼ぶことができ、本発明に係る第2基板はCF基板2と呼ぶことができる。なお、TFT基板1及びCF基板2は、ガラス基板だけに限ったものではなく、例えば、膜が形成されたガラス基板などであってもよい。   The TFT substrate 1 and the CF substrate 2 are transparent insulating substrates, and for example, a glass substrate or the like is applied. The first substrate according to the present invention can be called a TFT substrate 1, and the second substrate according to the present invention can be called a CF substrate 2. The TFT substrate 1 and the CF substrate 2 are not limited to glass substrates, and may be glass substrates on which films are formed, for example.

次に、TFT基板1側の構成について詳細に説明する。TFT基板1には、表示領域3と、表示領域3に隣接する額縁領域とが規定されている。図1の例では、表示領域3に隣接する額縁領域として、額縁領域41,42,43,44が適用されている。ただし、表示領域3に隣接する額縁領域は、これに限ったものではなく、例えば、額縁領域41,42だけが適用されても良い。なお、以下の説明において、構成要素が表示領域に配設されることは、構成要素が表示領域3上に直接的に配設されること、または、構成要素が表示領域3上に間接的に配設されることを意味するものとする。同様に、構成要素が額縁領域に配設されることは、構成要素が額縁領域上に直接的に配設されること、または、構成要素が額縁領域上に間接的に配設されることを意味するものとする。   Next, the configuration on the TFT substrate 1 side will be described in detail. In the TFT substrate 1, a display area 3 and a frame area adjacent to the display area 3 are defined. In the example of FIG. 1, frame areas 41, 42, 43, and 44 are applied as frame areas adjacent to the display area 3. However, the frame area adjacent to the display area 3 is not limited to this. For example, only the frame areas 41 and 42 may be applied. In the following description, the constituent elements are arranged in the display area when the constituent elements are arranged directly on the display area 3 or the constituent elements are indirectly arranged on the display area 3. It is meant to be arranged. Similarly, the component being disposed in the frame region means that the component is disposed directly on the frame region or that the component is indirectly disposed on the frame region. Shall mean.

表示領域3には、平面視において互いに交差された複数のソース配線5及び複数のゲート配線6が配設されている。複数のソース配線5と、複数のゲート配線6とは、それらの間に配設された図示しない絶縁膜によって電気的に絶縁されている。   In the display area 3, a plurality of source lines 5 and a plurality of gate lines 6 are disposed so as to intersect with each other in plan view. The plurality of source wirings 5 and the plurality of gate wirings 6 are electrically insulated by an insulating film (not shown) disposed between them.

また、表示領域3には、複数のソース配線5及び複数のゲート配線6と接続された複数のTFT71が配設されている。例えば、複数のTFT71は、複数のソース配線5及び複数のゲート配線6の複数の交差点に対応して配設される。複数のTFT71のドレイン電極は、表示領域3にマトリクス状に配設された、ここでは図示しない複数の画素電極と接続されている。   In the display area 3, a plurality of TFTs 71 connected to the plurality of source lines 5 and the plurality of gate lines 6 are disposed. For example, the plurality of TFTs 71 are disposed corresponding to the plurality of intersections of the plurality of source lines 5 and the plurality of gate lines 6. The drain electrodes of the plurality of TFTs 71 are connected to a plurality of pixel electrodes (not shown here) arranged in a matrix in the display region 3.

なお、上述した額縁領域であって複数のソース配線5の一端側の領域を、一端額縁領域41と記すこともある。   Note that the above-described frame region on one end side of the plurality of source wirings 5 may be referred to as a one-end frame region 41.

一端額縁領域41には、ソースIC500及びゲートIC600が配設されている。ソースIC500は、複数のソース配線5に駆動用の映像信号を供給することが可能となっている。ゲートIC600は、複数のゲート配線6に走査信号を供給することが可能となっている。本発明に係るソース配線駆動部はソースIC500と呼ぶことができ、本発明に係るゲート配線駆動部はゲートIC600と呼ぶことができる。   A source IC 500 and a gate IC 600 are disposed in the one-end frame region 41. The source IC 500 can supply driving video signals to the plurality of source lines 5. The gate IC 600 can supply scanning signals to the plurality of gate wirings 6. The source line driver according to the present invention can be called a source IC 500, and the gate line driver according to the present invention can be called a gate IC 600.

額縁領域の一端額縁領域41には、複数のソース配線5とソースIC500とを電気的に接続する複数のソース接続配線51が配設されている。このソース接続配線51はソース配線5を延長して形成しても良いし、または、TFT基板1に形成された他の導電膜によって形成しても良い。例えば、ソース接続配線51は、ソース配線5及びゲート配線6の少なくともいずれか一方を形成する導電膜から形成しても良い。この場合、ソース接続配線51は、ソース配線5及びゲート配線6の少なくともいずれか一方と直列または並列に接続されることがある。   In one end frame region 41 of the frame region, a plurality of source connection wirings 51 for electrically connecting the plurality of source wirings 5 and the source IC 500 are disposed. The source connection wiring 51 may be formed by extending the source wiring 5, or may be formed by another conductive film formed on the TFT substrate 1. For example, the source connection wiring 51 may be formed of a conductive film that forms at least one of the source wiring 5 and the gate wiring 6. In this case, the source connection wiring 51 may be connected in series or in parallel with at least one of the source wiring 5 and the gate wiring 6.

なお、本実施の形態1に係る液晶表示装置は、複数のソース接続配線51と同様に、複数のゲート配線6とゲートIC600とを電気的に接続する複数のゲート接続配線を備える。ただし、複数のゲート接続配線については後で詳細に説明する。   Note that the liquid crystal display device according to the first embodiment includes a plurality of gate connection lines that electrically connect the plurality of gate lines 6 and the gate IC 600 in the same manner as the plurality of source connection lines 51. However, the plurality of gate connection wirings will be described in detail later.

次に、CF基板2側の構成について詳細に説明する。以下、CF基板2にも、TFT基板1と同様に、表示領域3と、表示領域3に隣接する額縁領域とが規定されているものとして説明する。   Next, the configuration on the CF substrate 2 side will be described in detail. In the following description, it is assumed that the CF substrate 2 also has a display area 3 and a frame area adjacent to the display area 3, as in the TFT substrate 1.

図3に示すように、CF基板2のTFT基板1と対向する面上に、光漏れを抑制するための黒色の樹脂からなる樹脂BM201が配設されている。この樹脂BM201は、図2の表示領域3だけでなく額縁領域にも配設されている。なお、本発明に係る絶縁性のブラックマトリクスは、樹脂BM201と呼ぶことができる。   As shown in FIG. 3, a resin BM 201 made of a black resin for suppressing light leakage is disposed on the surface of the CF substrate 2 that faces the TFT substrate 1. The resin BM 201 is disposed not only in the display area 3 of FIG. 2 but also in the frame area. The insulating black matrix according to the present invention can be referred to as a resin BM201.

図4は、CF基板2の表示領域3内側の概略構成を示す拡大平面図である。図4に示されるように表示領域3内側では格子状の樹脂BM201が配設され、樹脂BM201の各開口部には色材210,211,212が周期的に配設されている。色材210,211,212には、例えば、透過光の主波長が赤(R),緑(G),青(B)である3種類の樹脂が用いられる。しかしながら、色材は、これに限ったものではなく、例えば、1種類の無色でも良いし、または、赤(R),黄(Y),緑(G)及び青(B)、もしくは、白(W),赤(R),緑(G),青(B)等の4色であっても良い。   FIG. 4 is an enlarged plan view showing a schematic configuration inside the display region 3 of the CF substrate 2. As shown in FIG. 4, a lattice-shaped resin BM 201 is disposed inside the display region 3, and coloring materials 210, 211, and 212 are periodically disposed in the openings of the resin BM 201. For the color materials 210, 211, and 212, for example, three kinds of resins whose transmitted light has main wavelengths of red (R), green (G), and blue (B) are used. However, the color material is not limited to this. For example, one kind of colorless material may be used, or red (R), yellow (Y), green (G) and blue (B), or white ( Four colors such as W), red (R), green (G), and blue (B) may be used.

図3に示すように、TFT基板1及びCF基板2は、額縁領域41〜44に配設されたシール材91によって貼り合わされている。そして、図3では図示しないが、液晶が、TFT基板1の表示領域3及びCF基板2の表示領域3の間にシール材91によって封止されている。   As shown in FIG. 3, the TFT substrate 1 and the CF substrate 2 are bonded together by a sealing material 91 disposed in the frame regions 41 to 44. Although not shown in FIG. 3, the liquid crystal is sealed between the display region 3 of the TFT substrate 1 and the display region 3 of the CF substrate 2 by a sealing material 91.

次に、複数のゲート配線6とゲートIC600とを電気的に接続する複数のゲート接続配線について詳細に説明する。本実施の形態1では、複数のゲート接続配線は、2種類のゲート接続配線を含んでいる。具体的には、CF基板2に配設されずにTFT基板1の額縁領域に配設されたゲート接続配線61(以下「一基板ゲート接続配線61」と記すこともある)と、TFT基板1及びCF基板2に跨って配設されたゲート接続配線(以下「二基板ゲート接続配線」と記すこともある)とを含んでいる。なお、二基板ゲート接続配線は、部分ゲート接続配線62,63,64を含んでいる。   Next, the plurality of gate connection wirings that electrically connect the plurality of gate wirings 6 and the gate IC 600 will be described in detail. In the first embodiment, the plurality of gate connection wirings include two types of gate connection wirings. Specifically, the gate connection wiring 61 (hereinafter also referred to as “one substrate gate connection wiring 61”) disposed in the frame region of the TFT substrate 1 without being disposed on the CF substrate 2, and the TFT substrate 1 And a gate connection wiring (hereinafter also referred to as “two-substrate gate connection wiring”) disposed across the CF substrate 2. The two-substrate gate connection wiring includes partial gate connection wirings 62, 63, 64.

図1及び図2の例では、TFT基板1に配設された一基板ゲート接続配線61は、1080本を総本数とするG1からG1080までのゲート配線6のうちG541からG1080までのゲート配線6、つまり一端額縁領域41から比較的近くに配設された半数のゲート配線6と接続されている。この一基板ゲート接続配線61は、ゲート配線6を延長して形成しても良いし、または、TFT基板1に形成された他の導電膜によって形成しても良い。例えば、一基板ゲート接続配線61は、ソース配線5及びゲート配線6の少なくともいずれか一方を形成する導電膜から形成しても良い。   In the example of FIGS. 1 and 2, the single substrate gate connection wiring 61 disposed on the TFT substrate 1 is the gate wiring 6 from G541 to G1080 among the gate wirings 6 from G1 to G1080 having a total number of 1080. That is, one end is connected to half of the gate wirings 6 disposed relatively close to the frame region 41. The one-substrate gate connection wiring 61 may be formed by extending the gate wiring 6 or may be formed by another conductive film formed on the TFT substrate 1. For example, the one-substrate gate connection wiring 61 may be formed of a conductive film that forms at least one of the source wiring 5 and the gate wiring 6.

一方、TFT基板1及びCF基板2に跨って配設された二基板ゲート接続配線は、G1からG540までのゲート配線6、つまり一端額縁領域41から比較的遠くに配設された半数のゲート配線6と接続されている。上述したように、二基板ゲート接続配線は、部分ゲート接続配線62,63,64を含んでいる。   On the other hand, the two-substrate gate connection wirings disposed across the TFT substrate 1 and the CF substrate 2 are the gate wirings 6 from G1 to G540, that is, half of the gate wirings disposed relatively far from the one end frame region 41. 6 is connected. As described above, the two-substrate gate connection wiring includes the partial gate connection wirings 62, 63 and 64.

部分ゲート接続配線62,63は、TFT基板1の額縁領域において離間して配設されている。このうち部分ゲート接続配線62の端部はゲートIC600と接続され、部分ゲート接続配線63の端部はG1からG540までのゲート配線6のいずれかと接続されている。本発明に係る複数の第1部分ゲート接続配線は、部分ゲート接続配線62,63と呼ぶことができる。ただし、複数の第1部分ゲート接続配線は、これに限ったものではなく、例えば、ゲートIC600及びゲート配線とのいずれとも接続されていない配線を含んでもよい。これら部分ゲート接続配線62,63は、ゲート配線6を形成する導電膜から形成しても良いし、または、TFT基板1に形成された他の導電膜によって形成しても良い。例えば、部分ゲート接続配線62,63は、ソース配線5及びゲート配線6の少なくともいずれか一方を形成する導電膜から形成しても良い。   The partial gate connection wirings 62 and 63 are spaced apart in the frame region of the TFT substrate 1. Among these, the end of the partial gate connection wiring 62 is connected to the gate IC 600, and the end of the partial gate connection wiring 63 is connected to one of the gate wirings 6 from G1 to G540. The plurality of first partial gate connection lines according to the present invention can be referred to as partial gate connection lines 62 and 63. However, the plurality of first partial gate connection wirings is not limited to this, and may include, for example, a wiring that is not connected to either the gate IC 600 or the gate wiring. These partial gate connection wirings 62 and 63 may be formed from a conductive film for forming the gate wiring 6, or may be formed from another conductive film formed on the TFT substrate 1. For example, the partial gate connection wirings 62 and 63 may be formed of a conductive film that forms at least one of the source wiring 5 and the gate wiring 6.

一方、部分ゲート接続配線64は、TFT基板1ではなく、図3に示すようにCF基板2の樹脂BM201上に配設されている。そして、図2及び図3に示すように、部分ゲート接続配線64は、シール材91中に混ぜ込んだ導電性粒子92a,92bを介して部分ゲート接続配線62と部分ゲート接続配線63とを電気的に接続している。本発明に係る第2部分ゲート接続配線は、部分ゲート接続配線64と呼ぶことができ、本発明に係る各導電部材は、導電性粒子92a,92bと呼ぶことができる。   On the other hand, the partial gate connection wiring 64 is disposed not on the TFT substrate 1 but on the resin BM 201 of the CF substrate 2 as shown in FIG. 2 and 3, the partial gate connection wiring 64 electrically connects the partial gate connection wiring 62 and the partial gate connection wiring 63 via the conductive particles 92a and 92b mixed in the sealing material 91. Connected. The second partial gate connection wiring according to the present invention can be referred to as a partial gate connection wiring 64, and the respective conductive members according to the present invention can be referred to as conductive particles 92a and 92b.

なお本実施の形態1では、図1及び図2に示すように、導電性粒子92a,92bは額縁領域に配設されている。また本実施の形態1では、図2及び図3に示すように、部分ゲート接続配線64は、一端額縁領域41近傍のゲート配線6と接続された一基板ゲート接続配線61と対向して配設されている。   In the first embodiment, as shown in FIGS. 1 and 2, the conductive particles 92a and 92b are arranged in the frame region. In the first embodiment, as shown in FIGS. 2 and 3, the partial gate connection wiring 64 is disposed to face the one-substrate gate connection wiring 61 connected to the gate wiring 6 in the vicinity of the one end frame region 41. Has been.

次に、部分ゲート接続配線62,63と、部分ゲート接続配線64との電気接続について詳細に説明する。   Next, electrical connection between the partial gate connection wirings 62 and 63 and the partial gate connection wiring 64 will be described in detail.

図1及び図2に示すように、TFT基板1に配設された部分ゲート接続配線62,63の一端には、CF基板2に配設された部分ゲート接続配線64と接続するためのコンタクト62a,63aがそれぞれ配設される。図3に示すように、コンタクト62a,63aは、部分ゲート接続配線62,63上に配設された絶縁膜101の開口によって、絶縁膜101から露出されている。これらの開口は、画素電極等を形成するITO(Indium Tin Oxide)等の透明導電膜で被覆されても良い。これにより、導電性粒子92a,92bとの接続抵抗が安定する。   As shown in FIGS. 1 and 2, a contact 62 a for connecting to a partial gate connection wiring 64 disposed on the CF substrate 2 is connected to one end of the partial gate connection wirings 62 and 63 disposed on the TFT substrate 1. 63a are disposed. As shown in FIG. 3, the contacts 62 a and 63 a are exposed from the insulating film 101 through openings of the insulating film 101 disposed on the partial gate connection wirings 62 and 63. These openings may be covered with a transparent conductive film such as ITO (Indium Tin Oxide) that forms pixel electrodes and the like. Thereby, the connection resistance with the conductive particles 92a and 92b is stabilized.

図1及び図2に示すように、部分ゲート接続配線62,63と同様に、CF基板2に配設された部分ゲート接続配線64の両端には、コンタクト64a,64bがコンタクト62a,63aの位置と対応させてそれぞれ配設される。図3に示すように、コンタクト64a,64bは、部分ゲート接続配線64上に配設された絶縁膜202の開口によって、絶縁膜202から露出されている。これらの開口は、導電膜203がITO等の透明導電膜である場合などに、当該透明導電膜で被覆されても良い。これにより、導電性粒子92a,92bとの接続抵抗が安定する。   As shown in FIG. 1 and FIG. 2, the contacts 64a and 64b are located at both ends of the partial gate connection wiring 64 disposed on the CF substrate 2 in the same manner as the partial gate connection wirings 62 and 63. Are arranged in correspondence with each other. As shown in FIG. 3, the contacts 64 a and 64 b are exposed from the insulating film 202 through the opening of the insulating film 202 disposed on the partial gate connection wiring 64. These openings may be covered with the transparent conductive film when the conductive film 203 is a transparent conductive film such as ITO. Thereby, the connection resistance with the conductive particles 92a and 92b is stabilized.

コンタクト62aは、導電性粒子92aによってコンタクト64aと電気的に接続され、コンタクト63aは、導電性粒子92bによってコンタクト64bと電気的に接続される。コンタクト62a,63a,64a,64bは、液晶パネルを形成する工程のうちTFT基板1とCF基板2とを貼り合わせる工程が行われる際に、電気的に接続される。これにより、液晶パネルの貼り合わせ工程の完了後には、G1からG540までのゲート配線6は、部分ゲート接続配線62,63,64などを介してゲートIC600に電気的に接続される。   The contact 62a is electrically connected to the contact 64a by the conductive particle 92a, and the contact 63a is electrically connected to the contact 64b by the conductive particle 92b. The contacts 62a, 63a, 64a, and 64b are electrically connected when the step of bonding the TFT substrate 1 and the CF substrate 2 is performed in the step of forming the liquid crystal panel. Thus, after the liquid crystal panel bonding step is completed, the gate wirings 6 from G1 to G540 are electrically connected to the gate IC 600 through the partial gate connection wirings 62, 63, 64 and the like.

さて図3に示すように、部分ゲート接続配線64は、樹脂BM201上に配設される。樹脂BM201は黒色の不透明層であるので、液晶表示装置として動作する際に、観察方向から部分ゲート接続配線64が視認されてしまうことを防止することができる。また、本実施の形態1では、樹脂BM201に切れ目を設ける必要がないので、表示領域3及び額縁領域に均一な黒枠を形成することができ、違和感のない外観を保つことができる。なお、樹脂BM201のシート抵抗は、部分ゲート接続配線64間のリークを抑制する観点から、1×1011Ω/□以上であることが好ましい。 Now, as shown in FIG. 3, the partial gate connection wiring 64 is disposed on the resin BM 201. Since the resin BM201 is a black opaque layer, it is possible to prevent the partial gate connection wiring 64 from being viewed from the observation direction when operating as a liquid crystal display device. Further, in the first embodiment, since it is not necessary to provide a cut in the resin BM 201, a uniform black frame can be formed in the display area 3 and the frame area, and an uncomfortable appearance can be maintained. The sheet resistance of the resin BM 201 is preferably 1 × 10 11 Ω / □ or more from the viewpoint of suppressing leakage between the partial gate connection wirings 64.

また図3に示すように本実施の形態1では、部分ゲート接続配線64の少なくとも一部分上に、絶縁膜202を介して導電膜203が配設される。このような導電膜203によれば、部分ゲート接続配線64に印加される走査信号が、部分ゲート接続配線64近傍の液晶に干渉することを抑制することができるので、光漏れ等の表示異常を抑制することができる。なお、本実施の形態1では、部分ゲート接続配線64のうちの上述の少なくとも一部分は、TFT基板1の額縁領域と対向して配設されているが、これに限ったものではなく、例えば後述する実施の形態3のように、TFT基板1の表示領域3と対向して配設されてもよい。   As shown in FIG. 3, in the first embodiment, a conductive film 203 is disposed on at least a part of the partial gate connection wiring 64 with an insulating film 202 interposed therebetween. According to such a conductive film 203, the scanning signal applied to the partial gate connection wiring 64 can be prevented from interfering with the liquid crystal in the vicinity of the partial gate connection wiring 64. Can be suppressed. In the first embodiment, at least a part of the partial gate connection wiring 64 is disposed to face the frame region of the TFT substrate 1. However, the present invention is not limited to this. As in the third embodiment, the display area 3 of the TFT substrate 1 may be disposed to face the display area 3.

図5は、ゲート配線6の総本数が1080本である場合の、ゲートIC600の出力の並びの一例を示す。この例では、ゲートIC600の長手方向の中央部から一端部に向かってG1からG540までの出力が配設され、当該中央部から他端部に向かってG541からG1080までの出力が配設されている。図5に示すような出力の並びを有するゲートIC600を用いることにより、一基板ゲート接続配線61を、ゲートIC600に比較的近いゲート配線6に接続し、二基板ゲート接続配線を、ゲートIC600に比較的遠いゲート配線6に接続することができる。これにより、ゲート接続配線間の交差を避けることができ、その結果として複雑な導電膜の組合せを使う必要がなくなるので、液晶パネルの構成を簡素化することができる。   FIG. 5 shows an example of the arrangement of the outputs of the gate IC 600 when the total number of the gate wirings 6 is 1080. In this example, outputs from G1 to G540 are arranged from the central part in the longitudinal direction of the gate IC 600 toward one end, and outputs from G541 to G1080 are arranged from the central part to the other end. Yes. By using a gate IC 600 having an output arrangement as shown in FIG. 5, the one-substrate gate connection wiring 61 is connected to the gate wiring 6 relatively close to the gate IC 600, and the two-substrate gate connection wiring is compared with the gate IC 600. It can be connected to the gate wiring 6 that is far away. As a result, crossing between the gate connection wirings can be avoided, and as a result, it is not necessary to use a complicated combination of conductive films, so that the configuration of the liquid crystal panel can be simplified.

<実施の形態1のまとめ>
以上のような本実施の形態1に係る液晶表示装置によれば、ゲートIC600から出力される走査信号をゲート配線6に伝達するためのゲート接続配線は、CF基板2に配設された部分ゲート接続配線64を含んでいる。このため、ゲート接続配線に必要な配線領域を削減できるので、額縁領域42などの額縁領域を削減することができる。また、CF基板2に配設された部分ゲート接続配線64は、樹脂BM201上に配設されている。これにより、液晶表示装置として動作する際に、観察方向から部分ゲート接続配線64が視認されてしまうことを防止することができる。また、樹脂BM201に切れ目を設ける必要がないので、表示領域3及び額縁領域に均一な黒枠を形成することができ、違和感のない外観を保つことができる。このように本実施の形態1によれば、狭額縁化された液晶表示装置において、高品質な表示特性を実現することができる。
<Summary of Embodiment 1>
According to the liquid crystal display device according to the first embodiment as described above, the gate connection wiring for transmitting the scanning signal output from the gate IC 600 to the gate wiring 6 is the partial gate disposed on the CF substrate 2. Connection wiring 64 is included. For this reason, since a wiring area required for the gate connection wiring can be reduced, a frame area such as the frame area 42 can be reduced. The partial gate connection wiring 64 disposed on the CF substrate 2 is disposed on the resin BM 201. Thereby, when operating as a liquid crystal display device, it is possible to prevent the partial gate connection wiring 64 from being viewed from the observation direction. In addition, since it is not necessary to provide a cut in the resin BM 201, a uniform black frame can be formed in the display area 3 and the frame area, and an uncomfortable appearance can be maintained. As described above, according to the first embodiment, high quality display characteristics can be realized in a liquid crystal display device with a narrow frame.

また本実施の形態1では、部分ゲート接続配線64上方に導電膜203が配設されている。これにより、液晶パネルの表示動作の際に、部分ゲート接続配線64に印加される走査信号が、部分ゲート接続配線64近傍の液晶に干渉することを抑制することができるので、光漏れ等の表示異常を抑制することができる。   In the first embodiment, the conductive film 203 is disposed above the partial gate connection wiring 64. Accordingly, it is possible to suppress the scanning signal applied to the partial gate connection wiring 64 from interfering with the liquid crystal in the vicinity of the partial gate connection wiring 64 during the display operation of the liquid crystal panel. Abnormalities can be suppressed.

なお、以上の説明では、一基板ゲート接続配線61と電気的に接続されたゲート配線6の本数と、二基板ゲート接続配線と電気的に接続されたゲート配線6の本数との比率は1:1であった。しかし、この比率はこれに限ったものではなく、額縁領域を最小にできるなどの効果が得られるのであれば、他の比率であってもよい。   In the above description, the ratio between the number of gate wirings 6 electrically connected to one substrate gate connection wiring 61 and the number of gate wirings 6 electrically connected to two substrate gate connection wirings is 1: 1 However, this ratio is not limited to this, and other ratios may be used as long as the effect of minimizing the frame area can be obtained.

また、本実施の形態1によれば、ゲートIC600は、一端額縁領域41のうち端部の領域に配設され、ゲート接続配線は、ゲートIC600が配設された端部側に配設されていた。しかしこれに限ったものではなく、後述する実施の形態3のように、ゲートIC600が、一端額縁領域41のうち中央部の領域に配設され、ゲート接続配線が、当該中央部から左右に分かれるように配設された構成であっても、上述と同様の効果を得ることができる。   Further, according to the first embodiment, the gate IC 600 is disposed in the end region of the one-end frame region 41, and the gate connection wiring is disposed on the end side where the gate IC 600 is disposed. It was. However, the present invention is not limited to this, and the gate IC 600 is arranged in the central region of the one-end frame region 41, and the gate connection wiring is divided into right and left from the central portion as in the third embodiment to be described later. Even if it is the structure arrange | positioned in this way, the effect similar to the above-mentioned can be acquired.

<実施の形態2>
図6及び図7は、本発明の実施の形態2に係る液晶表示装置が備える液晶パネルを構成するTFT基板及びCF基板の概略構成を示す平面図である。図8は、ゲート接続配線に沿った液晶パネルの概略構成を示す断面図である。以下、本実施の形態2で説明する構成要素のうち、実施の形態1と同じまたは類似する構成要素については同じ参照符号を付し、異なる構成要素について主に説明する。
<Embodiment 2>
6 and 7 are plan views showing a schematic configuration of a TFT substrate and a CF substrate constituting a liquid crystal panel included in the liquid crystal display device according to Embodiment 2 of the present invention. FIG. 8 is a cross-sectional view showing a schematic configuration of the liquid crystal panel along the gate connection wiring. Hereinafter, among the constituent elements described in the second embodiment, the same or similar constituent elements as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and different constituent elements will be mainly described.

実施の形態1では、図3に示したように、部分ゲート接続配線63は、TFT基板1の額縁領域上に配設されていた。これに対して本実施の形態2では、図8に示すように、部分ゲート接続配線63は、TFT基板1の額縁領域上に絶縁膜101を介して配設されている。つまり、部分ゲート接続配線63はTFT基板1の額縁領域上方に配設されている。そして、部分ゲート接続配線62上には絶縁膜101,102が配設され、部分ゲート接続配線63上には絶縁膜102が配設されている。   In the first embodiment, as shown in FIG. 3, the partial gate connection wiring 63 is disposed on the frame region of the TFT substrate 1. On the other hand, in the second embodiment, as shown in FIG. 8, the partial gate connection wiring 63 is disposed on the frame region of the TFT substrate 1 via the insulating film 101. That is, the partial gate connection wiring 63 is disposed above the frame region of the TFT substrate 1. Insulating films 101 and 102 are disposed on the partial gate connection wiring 62, and an insulating film 102 is disposed on the partial gate connection wiring 63.

コンタクト62aは、部分ゲート接続配線62上に配設された絶縁膜101,102の開口によって、絶縁膜101,102から露出されている。コンタクト63aは、部分ゲート接続配線63上に配設された絶縁膜102の開口によって、絶縁膜102から露出されている。これらの開口は、画素電極等を形成するITO等の透明導電膜で被覆されても良い。これにより、導電性粒子92a,92bとの接続抵抗が安定する。   The contact 62 a is exposed from the insulating films 101 and 102 through the openings of the insulating films 101 and 102 disposed on the partial gate connection wiring 62. The contact 63 a is exposed from the insulating film 102 through an opening of the insulating film 102 disposed on the partial gate connection wiring 63. These openings may be covered with a transparent conductive film such as ITO forming a pixel electrode or the like. Thereby, the connection resistance with the conductive particles 92a and 92b is stabilized.

そして実施の形態1と同様に、コンタクト62aは、シール材91中に混ぜ込んだ導電性粒子92aによってコンタクト64aと電気的に接続され、コンタクト63aは、シール材91中に混ぜ込んだ導電性粒子92bによってコンタクト64bと電気的に接続される。   Similarly to the first embodiment, the contact 62a is electrically connected to the contact 64a by the conductive particles 92a mixed in the sealing material 91, and the contact 63a is conductive particles mixed in the sealing material 91. 92b is electrically connected to contact 64b.

以上のような構成により、図6に示すように、平面視において部分ゲート接続配線63と一基板ゲート接続配線61とが交差されても、部分ゲート接続配線63と一基板ゲート接続配線61とを絶縁膜101によって電気的に絶縁することができる。   With the above configuration, as shown in FIG. 6, even if the partial gate connection wiring 63 and the one substrate gate connection wiring 61 intersect each other in plan view, the partial gate connection wiring 63 and the one substrate gate connection wiring 61 are connected. The insulating film 101 can be electrically insulated.

図9は、ゲート配線6の総本数が1080本である場合の、ゲートIC600の出力の並びの一例を示す。この例では、ゲートIC600の長手方向の一端部において、G1及びG1080の出力が配設され、ゲートIC600の長手方向の他端部において、G2及びG1079の出力が配設されている。そして、ゲートIC600の長手方向の一端部において、G1及びG1080の出力よりも中央部側にG3及びG1078が配設され、ゲートIC600の長手方向の他端部において、G2及びG1079の出力よりも中央部側にG4及びG1077が配設される。   FIG. 9 shows an example of the arrangement of the outputs of the gate IC 600 when the total number of the gate wirings 6 is 1080. In this example, outputs of G1 and G1080 are arranged at one end of the gate IC 600 in the longitudinal direction, and outputs of G2 and G1079 are arranged at the other end of the gate IC 600 in the longitudinal direction. G3 and G1078 are arranged at one end portion in the longitudinal direction of the gate IC 600 and closer to the center portion than the outputs from G1 and G1080, and at the other end portion in the longitudinal direction of the gate IC 600, the outputs from the G2 and G1079 are centered. G4 and G1077 are disposed on the part side.

図9に示すような出力の並びを有するゲートIC600を用いることにより、一基板ゲート接続配線61と接続されるゲート配線6と、二基板ゲート接続配線と接続されるゲート配線6とを、表示領域3内において配列方向に沿って交互に配設することができる。ここで、一般に、ゲート接続配線の経路の長さの差異によって、ゲートIC600からゲート配線6までの接続抵抗に差異が生じ、接続抵抗の差異によって走査信号の鈍りに差異が生じ、操作信号の鈍りの差異によって表示性能に差異が生じる。これに対して、以上のような本実施の形態2に係る液晶表示装置によれば、表示性能の差異を、ゲート配線6の配設周期と同様に交互に分布させることができるので、表示領域3内で均一化することができる。   By using the gate IC 600 having the output arrangement as shown in FIG. 9, the gate wiring 6 connected to the one-substrate gate connection wiring 61 and the gate wiring 6 connected to the two-substrate gate connection wiring are displayed in the display region. 3 can be alternately arranged along the arrangement direction. Here, generally, a difference in the connection resistance from the gate IC 600 to the gate wiring 6 occurs due to a difference in the path length of the gate connection wiring, and a difference in the scanning signal due to the difference in the connection resistance results in a dull operation signal. Differences in display performance occur due to differences in On the other hand, according to the liquid crystal display device according to the second embodiment as described above, the difference in display performance can be distributed alternately in the same manner as the arrangement period of the gate wirings 6. 3 can be made uniform.

<実施の形態2のまとめ>
以上のような本実施の形態2に係る液晶表示装置によれば、部分ゲート接続配線63をTFT基板1の額縁領域上方に配設することによって、部分ゲート接続配線63と一基板ゲート接続配線61との間を電気的に絶縁した状態で、それらを平面視にて交差させることができる。このため、図9のような出力の並びを有するゲートIC600などを用いた場合には、表示領域3内での急峻な表示特性の差異を均一化することができるので、高品質な液晶表示装置を提供することが可能となる。
<Summary of Embodiment 2>
According to the liquid crystal display device according to the second embodiment as described above, the partial gate connection wiring 63 and the one-substrate gate connection wiring 61 are arranged by arranging the partial gate connection wiring 63 above the frame region of the TFT substrate 1. They can be crossed in a plan view while being electrically insulated from each other. For this reason, when the gate IC 600 having the output arrangement as shown in FIG. 9 is used, the steep display characteristic difference in the display region 3 can be made uniform, so that a high-quality liquid crystal display device can be obtained. Can be provided.

<実施の形態3>
図10及び図11は、本発明の実施の形態3に係る液晶表示装置が備える液晶パネルを構成するTFT基板及びCF基板の概略構成を示す平面図である。図12及び図13は、図11のA−A’線に沿った液晶パネルの概略構成の一例及び別例を示す断面図である。なお、図12は、本実施の形態3に係る液晶パネルがTN型液晶パネルである場合の断面図であり、図13は、本実施の形態3に係る液晶パネルがIPS(登録商標)型液晶パネルである場合の断面図である。以下、本実施の形態3で説明する構成要素のうち、実施の形態1と同じまたは類似する構成要素については同じ参照符号を付し、異なる構成要素について主に説明する。
<Embodiment 3>
10 and 11 are plan views showing a schematic configuration of a TFT substrate and a CF substrate constituting a liquid crystal panel included in the liquid crystal display device according to Embodiment 3 of the present invention. 12 and 13 are cross-sectional views showing an example and another example of the schematic configuration of the liquid crystal panel along the line AA ′ in FIG. 11. 12 is a cross-sectional view when the liquid crystal panel according to the third embodiment is a TN type liquid crystal panel, and FIG. 13 is a sectional view when the liquid crystal panel according to the third embodiment is an IPS (registered trademark) type liquid crystal. It is sectional drawing in the case of being a panel. Hereinafter, among the constituent elements described in the third embodiment, constituent elements that are the same as or similar to those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and different constituent elements are mainly described.

実施の形態1では、図2及び図3に示すように、部分ゲート接続配線64のうち導電膜203により覆われた少なくとも一部分は、TFT基板1の額縁領域と対向して配設されていた。これに対して本実施の形態3では、図11〜図13に示すように、部分ゲート接続配線64のうち導電膜203により覆われた少なくとも一部分は、TFT基板1の表示領域3と対向して配設されている。この結果として、部分ゲート接続配線64は、表示領域3を通り抜けるように配設されている。   In the first embodiment, as shown in FIGS. 2 and 3, at least a part of the partial gate connection wiring 64 covered with the conductive film 203 is disposed to face the frame region of the TFT substrate 1. On the other hand, in the third embodiment, as shown in FIGS. 11 to 13, at least a part of the partial gate connection wiring 64 covered with the conductive film 203 faces the display region 3 of the TFT substrate 1. It is arranged. As a result, the partial gate connection wiring 64 is disposed so as to pass through the display region 3.

なお、以上の構成に伴って、図10に示すように、ゲートIC600は、一端額縁領域41のうち中央部の領域に配設され、複数のゲート接続配線は、図1の一基板ゲート接続配線61を含まずに、二基板ゲート接続配線を含んでいる。   With the above configuration, as shown in FIG. 10, the gate IC 600 is disposed in the central region of the one-end frame region 41, and the plurality of gate connection wirings are one-substrate gate connection wirings in FIG. 1. 61 is not included, but a two-substrate gate connection wiring is included.

以下、図12を用いて、液晶パネルがTN型液晶パネルである場合の構成について説明する。   Hereinafter, a configuration when the liquid crystal panel is a TN liquid crystal panel will be described with reference to FIG.

CF基板2に配設された部分ゲート接続配線64は、表示領域3内に配設された格子状の樹脂BM201上に配設される。樹脂BM201は黒色の不透明層であるので、液晶表示装置として動作する際に、観察方向から部分ゲート接続配線64が視認されてしまうことを防止することができるとともに、違和感のない表示を行うことができる。   The partial gate connection wiring 64 disposed on the CF substrate 2 is disposed on the lattice-shaped resin BM 201 disposed in the display region 3. Since the resin BM201 is a black opaque layer, when operating as a liquid crystal display device, the partial gate connection wiring 64 can be prevented from being visually recognized from the observation direction, and display without a sense of incongruity can be performed. it can.

また、図12の構成では、色材210〜212上に、絶縁膜202を介して導電膜203が配設されている。この導電膜203は、液晶層8を介してTFT基板1上の画素電極72との間に電圧を印加する共通電極として用いられる。なお、共通電極として用いられる導電膜203は、表示領域3内に面状に配設される。このため、導電膜203は、部分ゲート接続配線64の走査信号による液晶層8の液晶への干渉を抑制するシールドとしても機能する。   In the configuration of FIG. 12, the conductive film 203 is disposed on the color materials 210 to 212 with the insulating film 202 interposed therebetween. The conductive film 203 is used as a common electrode for applying a voltage to the pixel electrode 72 on the TFT substrate 1 through the liquid crystal layer 8. Note that the conductive film 203 used as a common electrode is disposed in a planar shape in the display region 3. Therefore, the conductive film 203 also functions as a shield that suppresses interference of the liquid crystal layer 8 with the liquid crystal due to the scanning signal of the partial gate connection wiring 64.

なお、図12の構成では、色材210〜212と導電膜203との間に絶縁膜202が配設されている。しかしこれに限ったものではなく、色材210〜212によって、部分ゲート接続配線64と導電膜203との間の絶縁性能が十分に確保できる場合には、絶縁膜202を省略して、色材210〜212を絶縁膜として用いることが可能である。また、絶縁膜202は、上述の位置に配設される代わりに、部分ゲート接続配線64と色材210〜212のそれぞれとの間に配設されても良い。   In the configuration of FIG. 12, an insulating film 202 is provided between the color materials 210 to 212 and the conductive film 203. However, the present invention is not limited to this, and when the color material 210 to 212 can sufficiently ensure the insulation performance between the partial gate connection wiring 64 and the conductive film 203, the insulation film 202 is omitted and the color material is omitted. 210 to 212 can be used as the insulating film. Further, the insulating film 202 may be disposed between the partial gate connection wiring 64 and each of the color materials 210 to 212 instead of being disposed at the above-described position.

次に、図13を用いて、液晶パネルがIPS(登録商標)型液晶パネルである場合の構成について説明する。このような液晶パネルでは、画素電極72との間に電圧を印加する共通電極73が、TFT基板1に配設される。   Next, a configuration when the liquid crystal panel is an IPS (registered trademark) liquid crystal panel will be described with reference to FIG. In such a liquid crystal panel, a common electrode 73 that applies a voltage to the pixel electrode 72 is disposed on the TFT substrate 1.

CF基板2に配設された部分ゲート接続配線64は、表示領域3内に配設された格子状の樹脂BM201上に配設される。樹脂BM201は黒色の不透明層であるので、液晶表示装置として動作する際に、観察方向から部分ゲート接続配線64が視認されてしまうことを防止することができるとともに、違和感のない表示を行うことができる。   The partial gate connection wiring 64 disposed on the CF substrate 2 is disposed on the lattice-shaped resin BM 201 disposed in the display region 3. Since the resin BM201 is a black opaque layer, when operating as a liquid crystal display device, the partial gate connection wiring 64 can be prevented from being visually recognized from the observation direction, and display without a sense of incongruity can be performed. it can.

また、図13の構成では、色材210〜212上に、絶縁膜202を介して導電膜203が配設されている。このような導電膜203によれば、部分ゲート接続配線64に印加される走査信号が、部分ゲート接続配線64近傍の液晶層8の液晶に干渉することを抑制することができるので、光漏れ等の表示異常を抑制することができる。なお、導電膜203の有無による液晶の不均一な動作を避けるため、導電膜203が表示領域3内に均一に配設されるように、部分ゲート接続配線64が配設されていない部分の上方にも配設されることが好ましい。そのような導電膜203のパターンとして、例えば樹脂BM201と同様の格子状のパターンが有効である。この場合、導電膜203は、平面視において画素電極72同士の間に配設されることになる。   In the configuration of FIG. 13, a conductive film 203 is disposed on the color materials 210 to 212 with an insulating film 202 interposed therebetween. According to such a conductive film 203, it is possible to prevent the scanning signal applied to the partial gate connection wiring 64 from interfering with the liquid crystal of the liquid crystal layer 8 in the vicinity of the partial gate connection wiring 64. Display abnormality can be suppressed. Note that, in order to avoid the non-uniform operation of the liquid crystal due to the presence or absence of the conductive film 203, the upper part of the portion where the partial gate connection wiring 64 is not provided so that the conductive film 203 is provided uniformly in the display region 3. It is also preferable to be disposed in the case. As such a pattern of the conductive film 203, for example, a lattice pattern similar to the resin BM201 is effective. In this case, the conductive film 203 is disposed between the pixel electrodes 72 in plan view.

なお、図13の構成では、色材210〜212と導電膜203との間に絶縁膜202が配設されている。しかしこれに限ったものではなく、色材210〜212によって、部分ゲート接続配線64と導電膜203との間の絶縁性能が十分に確保できる場合には、絶縁膜202を省略して、色材210〜212を絶縁膜として用いることが可能である。また、絶縁膜202は、上述の位置に配置される代わりに、部分ゲート接続配線64と色材210〜212のそれぞれとの間に配設されても良い。   In the configuration of FIG. 13, an insulating film 202 is disposed between the color materials 210 to 212 and the conductive film 203. However, the present invention is not limited to this, and when the color material 210 to 212 can sufficiently ensure the insulation performance between the partial gate connection wiring 64 and the conductive film 203, the insulation film 202 is omitted and the color material is omitted. 210 to 212 can be used as the insulating film. Further, the insulating film 202 may be disposed between the partial gate connection wiring 64 and each of the color materials 210 to 212 instead of being disposed at the above-described position.

<実施の形態3のまとめ>
以上のような本実施の形態3に係る液晶表示装置によれば、部分ゲート接続配線64のうち導電膜203により覆われた少なくとも一部分は、TFT基板1の表示領域3と対向して配設される。これにより、実施の形態1と同様に、ゲート接続配線に必要な配線領域を削減できるので、額縁領域42などの額縁領域を削減することができる。また、ゲートIC600の全ての出力を、CF基板2に配設された部分ゲート接続配線64を介してゲート配線6に均質に接続することができるため、高品質な表示特性をもつ液晶表示装置を提供することが可能となる。
<Summary of Embodiment 3>
According to the liquid crystal display device according to the third embodiment as described above, at least a part of the partial gate connection wiring 64 covered with the conductive film 203 is disposed to face the display region 3 of the TFT substrate 1. The Thus, as in the first embodiment, the wiring area necessary for the gate connection wiring can be reduced, so that the frame area such as the frame area 42 can be reduced. Further, since all the outputs of the gate IC 600 can be uniformly connected to the gate wiring 6 via the partial gate connection wiring 64 disposed on the CF substrate 2, a liquid crystal display device having high quality display characteristics can be obtained. It becomes possible to provide.

また、本実施の形態3では、図13のような横電界方式の液晶パネルを備える液晶表示装置において、導電膜203は、平面視において画素電極72同士の間に配設される。このような構成によれば、液晶の不均一な動作を避けるための導電膜203をなるべく少なくすることができる。   In the third embodiment, in the liquid crystal display device including the horizontal electric field type liquid crystal panel as shown in FIG. 13, the conductive film 203 is disposed between the pixel electrodes 72 in a plan view. According to such a configuration, the conductive film 203 for avoiding uneven operation of the liquid crystal can be reduced as much as possible.

なお、以上の説明では、液晶パネルは、IPS(登録商標)型液晶パネルであったが、これに限ったものではなく、例えばFFS(fringe field switching)型液晶パネルなどの横電界方式の液晶パネルであればよい。   In the above description, the liquid crystal panel is an IPS (registered trademark) type liquid crystal panel. However, the liquid crystal panel is not limited to this. For example, a horizontal electric field type liquid crystal panel such as an FFS (fringe field switching) type liquid crystal panel is used. If it is.

<実施の形態4>
図14及び図15は、本発明の実施の形態4に係る液晶表示装置が備える液晶パネルを構成するTFT基板及びCF基板の概略構成を示す平面図である。以下、本実施の形態4で説明する構成要素のうち、実施の形態3と同じまたは類似する構成要素については同じ参照符号を付し、異なる構成要素について主に説明する。
<Embodiment 4>
14 and 15 are plan views showing schematic configurations of a TFT substrate and a CF substrate that constitute a liquid crystal panel included in the liquid crystal display device according to Embodiment 4 of the present invention. Hereinafter, among the constituent elements described in the fourth embodiment, constituent elements that are the same as or similar to those in the third embodiment are denoted by the same reference numerals, and different constituent elements are mainly described.

図14及び図15に示すように、TFT基板1、CF基板2及び表示領域3の平面視における外郭形状は、一端額縁領域41側において直線形状を有しており、一端額縁領域41と逆側において曲線形状を有している。このように、本実施の形態4では、TFT基板1、CF基板2及び表示領域3の平面視における外郭形状は、曲線形状を含んでいる。   As shown in FIGS. 14 and 15, the outline shape of the TFT substrate 1, the CF substrate 2, and the display region 3 in a plan view has a linear shape on the one end frame region 41 side, and is opposite to the one end frame region 41. Has a curved shape. As described above, in the fourth embodiment, the outline shape of the TFT substrate 1, the CF substrate 2, and the display region 3 in plan view includes a curved shape.

そして、部分ゲート接続配線62,63のうち導電性粒子92a,92bと接続される部分であるコンタクト62a,63a、及び、部分ゲート接続配線64のうち導電性粒子92a,92bと接続される部分であるコンタクト64a,64bは、平面視において表示領域3の曲線形状に沿って配設されている。   In the partial gate connection wirings 62 and 63, contacts 62a and 63a which are parts connected to the conductive particles 92a and 92b, and in the partial gate connection wiring 64, parts connected to the conductive particles 92a and 92b. The contacts 64a and 64b are arranged along the curved shape of the display area 3 in plan view.

<実施の形態4のまとめ>
以上のような本実施の形態4に係る液晶表示装置によれば、直線形状ではない外郭形状を有する液晶表示装置においても、実施の形態1と同様に額縁領域を削減することができる。
<Summary of Embodiment 4>
According to the liquid crystal display device according to the fourth embodiment as described above, the frame area can be reduced in the liquid crystal display device having an outer shape that is not a linear shape as in the first embodiment.

<実施の形態5>
図16及び図17は、本発明の実施の形態5に係る液晶表示装置が備える液晶パネルを構成するTFT基板及びCF基板の概略構成を示す平面図である。図18は、後述するゲート配線間接続配線に沿った液晶パネルの概略構成を示す断面図である。以下、本実施の形態5で説明する構成要素のうち、実施の形態3と同じまたは類似する構成要素については同じ参照符号を付し、異なる構成要素について主に説明する。
<Embodiment 5>
16 and 17 are plan views showing schematic configurations of a TFT substrate and a CF substrate that constitute a liquid crystal panel included in the liquid crystal display device according to Embodiment 5 of the present invention. FIG. 18 is a cross-sectional view showing a schematic configuration of a liquid crystal panel along a connecting line between gate lines to be described later. Hereinafter, among the constituent elements described in the fifth embodiment, the same or similar constituent elements as those in the third embodiment are denoted by the same reference numerals, and different constituent elements will be mainly described.

図16及び図17に示すように、TFT基板1、CF基板2及び表示領域3の平面視における外郭形状は、一端額縁領域41側において直線形状を有し、一端額縁領域41と逆側において曲線形状及び凹部形状を有している。   As shown in FIGS. 16 and 17, the outline shape of the TFT substrate 1, the CF substrate 2, and the display region 3 in a plan view has a linear shape on one end frame region 41 side and a curve on the opposite side to the one end frame region 41. It has a shape and a concave shape.

図16に示すように、いくつかのゲート配線6のそれぞれは、TFT基板1の表示領域3において離間してされた部分ゲート配線6a,6bを含んでおり、部分ゲート配線6a,6bは、上述の凹部を挟んで配設されている。つまり、凹部形状によって、部分ゲート配線6a,6bが分断されている。なお本発明に係る複数の部分ゲート配線は、部分ゲート配線6a,6bと呼ぶことができる。   As shown in FIG. 16, each of the several gate wirings 6 includes partial gate wirings 6a and 6b spaced apart in the display region 3 of the TFT substrate 1, and the partial gate wirings 6a and 6b are described above. Are disposed with a concave portion therebetween. That is, the partial gate wirings 6a and 6b are divided by the concave shape. The plurality of partial gate wirings according to the present invention can be referred to as partial gate wirings 6a and 6b.

ここで、本実施の形態5に係る液晶表示装置は、実施の形態3の構成に加えて、部分ゲート配線6a,6bを電気的に接続するゲート配線間接続配線を備えている。そして、ゲート配線間接続配線は、部分ゲート配線間接続配線67,68,69を含んでいる。   Here, in addition to the configuration of the third embodiment, the liquid crystal display device according to the fifth embodiment includes inter-gate wiring connection wirings that electrically connect the partial gate wirings 6a and 6b. The inter-gate wiring connection wiring includes partial gate wiring connection wirings 67, 68 and 69.

部分ゲート配線間接続配線67,68は、TFT基板1の額縁領域において離間して配設されている。このうち部分ゲート配線間接続配線67の端部は部分ゲート配線6aと接続され、部分ゲート配線間接続配線68の端部は部分ゲート配線6bと接続されている。本発明に係る複数の第1部分ゲート配線間接続配線は、部分ゲート配線間接続配線67,68と呼ぶことができる。ただし、複数の第1部分ゲート配線間接続配線は、これに限ったものではなく、例えば、部分ゲート配線6a,6bのいずれとも接続されていない配線を含んでもよい。   The connection wirings 67 and 68 between the partial gate wirings are spaced apart in the frame region of the TFT substrate 1. Among these, the end portion of the connection line 67 between the partial gate lines is connected to the partial gate line 6a, and the end part of the connection line 68 between the partial gate lines is connected to the partial gate line 6b. The plurality of first inter-partial interconnect lines can be referred to as inter-partial interconnect lines 67 and 68. However, the plurality of connection lines between the first partial gate lines are not limited to this, and may include, for example, a line that is not connected to any of the partial gate lines 6a and 6b.

一方、部分ゲート配線間接続配線69は、図18に示すようにCF基板2の樹脂BM201上に配設されている。そして、図17及び図18に示すように、部分ゲート配線間接続配線69は、シール材91中に混ぜ込んだ導電性粒子92c,92dを介して部分ゲート配線間接続配線67と部分ゲート配線間接続配線68とを電気的に接続している。本発明に係る第2部分ゲート配線間接続配線は、部分ゲート配線間接続配線69と呼ぶことができ、本発明に係る各導電部材は、導電性粒子92c,92dと呼ぶことができる。なお本実施の形態5では、図16及び図17に示すように、導電性粒子92c,92dは額縁領域に配設されている。   On the other hand, the connection wiring 69 between the partial gate wirings is disposed on the resin BM 201 of the CF substrate 2 as shown in FIG. As shown in FIGS. 17 and 18, the inter-partial gate connection line 69 is connected between the inter-partial gate connection line 67 and the partial gate line via the conductive particles 92c and 92d mixed in the sealing material 91. The connection wiring 68 is electrically connected. The second partial gate wiring connection wiring according to the present invention can be referred to as a partial gate wiring connection wiring 69, and the respective conductive members according to the present invention can be referred to as conductive particles 92c and 92d. In the fifth embodiment, as shown in FIGS. 16 and 17, the conductive particles 92c and 92d are arranged in the frame region.

さて、凹部形状により分断されたゲート配線6の本数が少ない場合、実施の形態1などで説明した二基板ゲート接続配線によって、部分ゲート配線6aまたは部分ゲート配線6bとゲートIC600との間を電気的に接続することは可能である。しかしながら、凹部形状により分断されたゲート配線6の本数が多い場合には、表示領域3または額縁領域に二基板ゲート接続配線を配設することが困難になるので、要求される液晶パネルの外郭形状を維持しつつ、部分ゲート配線6a及び部分ゲート配線6bとゲートIC600との間を電気的に接続することが困難になる。   When the number of gate wirings 6 divided by the concave shape is small, the two-substrate gate connection wiring described in the first embodiment or the like electrically connects between the partial gate wiring 6a or the partial gate wiring 6b and the gate IC 600. It is possible to connect to. However, when the number of gate lines 6 divided by the concave shape is large, it is difficult to dispose the two-substrate gate connection lines in the display area 3 or the frame area. It is difficult to electrically connect the partial gate wiring 6a and the partial gate wiring 6b and the gate IC 600 while maintaining the above.

これに対して、本実施の形態5によれば、凹部形状により分断されたゲート配線6の本数が多い場合にも、要求される液晶パネルの外郭形状を維持しつつ、部分ゲート配線6a及び部分ゲート配線6bとゲートIC600とを電気的に接続することができる。この結果、必要な表示領域3を確保することができる。   On the other hand, according to the fifth embodiment, even when the number of gate wirings 6 divided by the concave shape is large, the partial gate wiring 6a and the partial gate wiring 6a and the part are maintained while maintaining the required outer shape of the liquid crystal panel. The gate wiring 6b and the gate IC 600 can be electrically connected. As a result, the necessary display area 3 can be secured.

図16及び図17に示すように、TFT基板1に配設された部分ゲート配線間接続配線67,68の一端には、CF基板2に配設された部分ゲート配線間接続配線69と接続するためのコンタクト67a,68aがそれぞれ配設される。図18に示すように、コンタクト67a,68aは、部分ゲート配線間接続配線67,68上に配設された絶縁膜101の開口によって、絶縁膜101から露出されている。これらの開口は、画素電極等を形成するITO等の透明導電膜で被覆されても良い。これにより、導電性粒子92c,92dとの接続抵抗が安定する。   As shown in FIG. 16 and FIG. 17, one end of connection wiring 67 and 68 between the partial gate wirings disposed on the TFT substrate 1 is connected to a connection wiring 69 between the partial gate wirings disposed on the CF substrate 2. For this purpose, contacts 67a and 68a are provided. As shown in FIG. 18, the contacts 67 a and 68 a are exposed from the insulating film 101 through the openings of the insulating film 101 disposed on the partial inter-gate wiring connecting wirings 67 and 68. These openings may be covered with a transparent conductive film such as ITO forming a pixel electrode or the like. Thereby, the connection resistance with the conductive particles 92c and 92d is stabilized.

図16及び図17に示すように、部分ゲート配線間接続配線67,68と同様に、CF基板2に配設された部分ゲート配線間接続配線69の両端には、コンタクト69a,69bがコンタクト67a,68aの位置と対応させてそれぞれ配設される。図18に示すように、コンタクト69a,69bは、部分ゲート配線間接続配線69上に配設された絶縁膜202の開口によって、絶縁膜202から露出されている。これらの開口は、導電膜203がITO等の透明導電膜である場合などに、当該透明導電膜で被覆されても良い。これにより、導電性粒子92c,92dとの接続抵抗が安定する。   As shown in FIGS. 16 and 17, contacts 69a and 69b are provided at both ends of the connection gate 69 between the partial gate wirings disposed on the CF substrate 2 in the same manner as the connection wiring 67 and 68 between the partial gate wirings. , 68a, respectively. As shown in FIG. 18, the contacts 69 a and 69 b are exposed from the insulating film 202 through openings of the insulating film 202 disposed on the inter-part gate wiring connection wiring 69. These openings may be covered with the transparent conductive film when the conductive film 203 is a transparent conductive film such as ITO. Thereby, the connection resistance with the conductive particles 92c and 92d is stabilized.

コンタクト67aは、導電性粒子92cによってコンタクト69aと電気的に接続され、コンタクト68aは、導電性粒子92dによってコンタクト69bと電気的に接続される。   Contact 67a is electrically connected to contact 69a by conductive particle 92c, and contact 68a is electrically connected to contact 69b by conductive particle 92d.

さて図18に示すように、部分ゲート配線間接続配線69は、樹脂BM201上に配設される。樹脂BM201は黒色の不透明層であるので、液晶表示装置として動作する際に、観察方向から部分ゲート配線間接続配線69が視認されてしまうことを防止することができる。また、本実施の形態5では、樹脂BM201に切れ目を設ける必要がないので、表示領域3及び額縁領域に均一な黒枠を形成することができ、違和感のない外観を保つことができる。   As shown in FIG. 18, the partial inter-gate wiring connection wiring 69 is disposed on the resin BM 201. Since the resin BM201 is a black opaque layer, it is possible to prevent the partial inter-gate wiring connection wiring 69 from being viewed from the observation direction when operating as a liquid crystal display device. Further, in the fifth embodiment, since it is not necessary to provide a cut in the resin BM 201, a uniform black frame can be formed in the display area 3 and the frame area, and an uncomfortable appearance can be maintained.

また図18に示すように本実施の形態5では、部分ゲート配線間接続配線69の少なくとも一部分上に、絶縁膜202を介して導電膜203が配設される。このような導電膜203によれば、部分ゲート配線間接続配線69に印加される走査信号が、部分ゲート配線間接続配線69近傍の液晶層8の液晶に干渉することを抑制することができるので、光漏れ等の表示異常を抑制することができる。   As shown in FIG. 18, in the fifth embodiment, a conductive film 203 is disposed on at least a part of the inter-partial gate line connection wiring 69 via an insulating film 202. According to such a conductive film 203, it is possible to suppress the scanning signal applied to the inter-partial gate connection line 69 from interfering with the liquid crystal of the liquid crystal layer 8 in the vicinity of the inter-partial gate connection line 69. Display abnormalities such as light leakage can be suppressed.

<実施の形態5のまとめ>
以上のような本実施の形態5に係る液晶表示装置によれば、表示領域3の凹部形状によってゲート配線6が分断される場合であっても、ゲート接続配線に必要な配線領域を削減できるので、額縁領域を削減することができる。また、CF基板2に配設された部分ゲート配線間接続配線69は、樹脂BM201上に配設されているので、液晶表示装置として動作する際に、観察方向から部分ゲート配線間接続配線69が視認されてしまうことを防止することができる。
<Summary of Embodiment 5>
According to the liquid crystal display device according to the fifth embodiment as described above, the wiring region necessary for the gate connection wiring can be reduced even when the gate wiring 6 is divided by the concave shape of the display region 3. The frame area can be reduced. Further, since the connection wiring 69 between the partial gate wirings disposed on the CF substrate 2 is disposed on the resin BM 201, the connection wiring 69 between the partial gate wirings is viewed from the observation direction when operating as a liquid crystal display device. It can be prevented from being visually recognized.

また本実施の形態5では、部分ゲート配線間接続配線69上方に導電膜203が配設されている。これにより、液晶パネルの表示動作の際に、部分ゲート配線間接続配線69に印加される走査信号が、部分ゲート配線間接続配線69近傍の液晶に干渉することを抑制することができるので、光漏れ等の表示異常を抑制することができる。   In the fifth embodiment, the conductive film 203 is disposed above the connection wiring 69 between the partial gate wirings. Thereby, during the display operation of the liquid crystal panel, it is possible to suppress the scanning signal applied to the connection wiring 69 between the partial gate wirings from interfering with the liquid crystal in the vicinity of the connection wiring 69 between the partial gate wirings. Display abnormality such as leakage can be suppressed.

なお、本発明は、その発明の範囲内において、各実施の形態を自由に組み合わせたり、各実施の形態を適宜、変形、省略したりすることが可能である。   It should be noted that the present invention can be freely combined with each other within the scope of the invention, and each embodiment can be appropriately modified or omitted.

1 TFT基板、2 CF基板、3 表示領域、5 ソース配線、6 ゲート配線、6a,6b 部分ゲート配線、41,42,43,44 額縁領域、51 ソース接続配線、62,63,64 部分ゲート接続配線、62a,63a,64a,64b コンタクト、67,68,69 部分ゲート配線間接続配線、71 TFT、72 画素電極、92a,92b,92c,92d 導電性粒子、201 樹脂BM、202 絶縁膜、203 導電膜、500 ソースIC、600 ゲートIC。   1 TFT substrate, 2 CF substrate, 3 display area, 5 source wiring, 6 gate wiring, 6a, 6b partial gate wiring, 41, 42, 43, 44 frame area, 51 source connection wiring, 62, 63, 64 partial gate connection Wiring, 62a, 63a, 64a, 64b Contact, 67, 68, 69 Partial gate wiring connection wiring, 71 TFT, 72 Pixel electrode, 92a, 92b, 92c, 92d Conductive particles, 201 Resin BM, 202 Insulating film, 203 Conductive film, 500 source IC, 600 gate IC.

Claims (8)

表示領域と、前記表示領域に隣接する額縁領域とが規定された第1基板と、
前記表示領域に配設され、平面視において互いに交差された複数のソース配線及び複数のゲート配線と、
前記表示領域に配設され、前記複数のソース配線及び前記複数のゲート配線と接続された複数の薄膜トランジスタと、
前記額縁領域であって前記複数のソース配線の一端側の領域である一端額縁領域に配設された、前記複数のソース配線に映像信号を供給可能なソース配線駆動部と、
前記一端額縁領域に配設された、前記複数のゲート配線に走査信号を供給可能なゲート配線駆動部と、
前記額縁領域に配設された、前記複数のソース配線と前記ソース配線駆動部とを電気的に接続する複数のソース接続配線と、
前記複数のゲート配線と前記ゲート配線駆動部とを電気的に接続する複数のゲート接続配線と、
前記第1基板と対向して配設され、前記第1基板と対向する面上に絶縁性のブラックマトリクスが配設された第2基板と
を備え、
前記ゲート接続配線は、
前記第1基板の前記額縁領域において離間して配設された複数の第1部分ゲート接続配線と、
前記第2基板の前記ブラックマトリクス上に配設され、各導電部材を介して前記複数の第1部分ゲート接続配線を電気的に接続する第2部分ゲート接続配線と
を含む、液晶表示装置。
A first substrate in which a display area and a frame area adjacent to the display area are defined;
A plurality of source lines and a plurality of gate lines arranged in the display region and intersecting each other in plan view;
A plurality of thin film transistors disposed in the display region and connected to the plurality of source lines and the plurality of gate lines;
A source line driving unit capable of supplying a video signal to the plurality of source lines, the frame area being arranged in one end frame area that is an area on one end side of the plurality of source lines;
A gate line driving unit arranged in the one end frame region and capable of supplying a scanning signal to the plurality of gate lines;
A plurality of source connection wirings disposed in the frame region for electrically connecting the plurality of source wirings and the source wiring driving unit;
A plurality of gate connection lines for electrically connecting the plurality of gate lines and the gate line driving unit;
A second substrate disposed opposite to the first substrate and having an insulating black matrix disposed on a surface facing the first substrate;
The gate connection wiring is
A plurality of first partial gate connection wirings spaced apart in the frame region of the first substrate;
And a second partial gate connection wiring disposed on the black matrix of the second substrate and electrically connecting the plurality of first partial gate connection wirings through the conductive members.
請求項1に記載の液晶表示装置であって、
前記第2部分ゲート接続配線の少なくとも一部分上に、絶縁膜を介して配設された導電膜をさらに備える、液晶表示装置。
The liquid crystal display device according to claim 1,
The liquid crystal display device further comprising a conductive film disposed on at least a part of the second partial gate connection wiring via an insulating film.
請求項2に記載の液晶表示装置であって、
前記第2部分ゲート接続配線の前記少なくとも一部分は、前記表示領域と対向して配設されている、液晶表示装置。
The liquid crystal display device according to claim 2,
The liquid crystal display device, wherein the at least part of the second partial gate connection wiring is disposed to face the display region.
請求項3に記載の液晶表示装置であって、
前記表示領域に配設され、前記複数の薄膜トランジスタと接続された複数の画素電極をさらに備え、
前記液晶表示装置は、横電界方式の液晶表示装置であり、
前記導電膜は、平面視において前記画素電極同士の間に配設されている、液晶表示装置。
The liquid crystal display device according to claim 3,
A plurality of pixel electrodes disposed in the display region and connected to the plurality of thin film transistors;
The liquid crystal display device is a horizontal electric field type liquid crystal display device,
The liquid crystal display device, wherein the conductive film is disposed between the pixel electrodes in a plan view.
請求項1から請求項4のうちのいずれか1項に記載の液晶表示装置であって、
前記表示領域の平面視における外郭形状は、曲線形状を含み、
前記第1部分ゲート接続配線のうち前記各導電部材と接続される部分は、平面視において前記表示領域の前記曲線形状に沿って配設されている、液晶表示装置。
The liquid crystal display device according to any one of claims 1 to 4,
The outline shape in plan view of the display area includes a curved shape,
A portion of the first partial gate connection wiring that is connected to the conductive members is disposed along the curved shape of the display region in plan view.
請求項1に記載の液晶表示装置であって、
前記ゲート配線は、
前記第1基板の前記表示領域において離間して配設された複数の部分ゲート配線を含み、
前記複数の部分ゲート配線を電気的に接続するゲート配線間接続配線をさらに備え、
前記ゲート配線間接続配線は、
前記第1基板の前記額縁領域において離間して配設された複数の第1部分ゲート配線間接続配線と、
前記第2基板の前記ブラックマトリクス上に配設され、各導電部材を介して前記複数の第1部分ゲート配線間接続配線を電気的に接続する第2部分ゲート配線間接続配線と
を含む、液晶表示装置。
The liquid crystal display device according to claim 1,
The gate wiring is
A plurality of partial gate wirings spaced apart in the display area of the first substrate;
Further comprising an inter-gate wiring connection wiring for electrically connecting the plurality of partial gate wirings,
The gate wiring connection wiring is
A plurality of first partial gate-wiring connection wirings spaced apart in the frame region of the first substrate;
A liquid crystal, which is disposed on the black matrix of the second substrate, and includes a second inter-partial gate line connection wiring that electrically connects the plurality of first partial gate-line connection lines via each conductive member. Display device.
請求項6に記載の液晶表示装置であって、
前記表示領域の平面視における外郭形状は、凹部形状を含み、
前記複数の部分ゲート配線は、前記凹部を挟んで配設されている、液晶表示装置。
The liquid crystal display device according to claim 6,
The outline shape in plan view of the display area includes a concave shape,
The liquid crystal display device, wherein the plurality of partial gate lines are arranged with the concave portion interposed therebetween.
請求項6または請求項7に記載の液晶表示装置であって、
前記第2部分ゲート配線間接続配線の少なくとも一部分上に、絶縁膜を介して配設された導電膜をさらに備える、液晶表示装置。
The liquid crystal display device according to claim 6 or 7, wherein
A liquid crystal display device, further comprising: a conductive film disposed on at least a part of the second partial gate-wiring connection wiring via an insulating film.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN111161639A (en) * 2020-01-03 2020-05-15 厦门天马微电子有限公司 Display panel and display device

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