JP2017214528A - Pressure-sensitive adhesive tape for vacuum process - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a pressure-sensitive adhesive tape which produces less out gas leading to deposition generated inside an apparatus (for instance, a decompression piping) in a vacuum process.SOLUTION: A pressure-sensitive adhesive tape for a vacuum process includes a base material and an adhesive layer arranged at least on one side of the base material. The adhesive layer includes an active energy ray-curable adhesive agent including a base polymer and a photoinitiator. A 5% weight loss temperature is 160°C or higher in a TGA (thermogravimetry analysis) of the photoinitiator.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、真空プロセス用粘着テープに関する。   The present invention relates to an adhesive tape for vacuum process.

従来、粘着テープの貼り付け方法として、被着体上方に粘着テープを配置した状態で、粘着テープの上方および下方において別々の気密空間を形成し、上方の気密空間および下方の気密空間ともに減圧し、その後、上方の気密空間のみ大気圧に戻すことにより、差圧を利用して、被着体に粘着テープを貼り付けるという方法が知られている。例えば、近年、フリップチップ実装時の半導体チップのバンプを補強・保護するために、シート状のアンダーフィル材が用いられることがあり、該アンダーフィル材の貼り付けには、上記のような減圧による貼り付け方法が採用され得る。   Conventionally, as a method of attaching an adhesive tape, with the adhesive tape disposed above the adherend, separate airtight spaces are formed above and below the adhesive tape, and both the upper airtight space and the lower airtight space are decompressed. Then, a method is known in which only the upper airtight space is returned to atmospheric pressure, and a pressure-sensitive adhesive tape is attached to the adherend using the differential pressure. For example, in recent years, a sheet-like underfill material may be used to reinforce and protect the bumps of a semiconductor chip during flip-chip mounting. A pasting method may be employed.

しかしながら、上記のような減圧による貼り付け方法に代表される真空プロセスに、粘着テープを用いると、減圧配管に析出物が生じ、その結果、減圧時の真空度が低下するという問題がある。   However, when an adhesive tape is used in a vacuum process typified by the above-described method of applying pressure by reduced pressure, there is a problem that precipitates are generated in the reduced pressure piping, and as a result, the degree of vacuum at the time of reduced pressure is lowered.

特開2014−203964号公報JP 2014-203964 A 特開2014−236152号公報JP 2014-236152 A

本発明の発明者らは、減圧配管の析出物が粘着テープからのアウトガスに起因することを見いだした。本発明は上記従来の課題を解決するためになされたものであり、その目的とするところは、真空プロセスにおいて装置内(例えば、減圧配管)に生じる析出物の原因となるアウトガスの発生が少ない粘着テープを提供することにある。   The inventors of the present invention have found that the deposit in the decompression pipe is caused by outgas from the adhesive tape. The present invention has been made to solve the above-described conventional problems, and an object of the present invention is to provide an adhesive that generates less outgas which causes precipitates generated in the apparatus (for example, decompression piping) in a vacuum process. To provide a tape.

本発明の真空プロセス用粘着テープは、基材と、該基材の少なくとも片側に配置された粘着剤層とを備え、該粘着剤層が、ベースポリマーと光重合開始剤とを含む活性エネルギー線硬化型粘着剤から構成され、該光重合開始剤のTGA(熱重量解析)における5%重量減少温度が160℃以上である。
1つの実施形態においては、上記光重合開始剤が、前記ベースポリマーと結合可能な官能基を有する。
1つの実施形態においては、上記官能基が、ヒドロキシエトキシ基である。
1つの実施形態においては、上記光重合開始剤の分子量が、150〜600である。
1つの実施形態においては、上記活性エネルギー線硬化型粘着剤が、架橋剤をさらに含み、該架橋剤の含有割合が、前記ベースポリマー100重量部に対して、3重量部以上である。
The pressure-sensitive adhesive tape for vacuum process of the present invention comprises a base material and a pressure-sensitive adhesive layer disposed on at least one side of the base material, and the pressure-sensitive adhesive layer contains a base polymer and a photopolymerization initiator. It is composed of a curable pressure-sensitive adhesive, and the 5% weight loss temperature in TGA (thermogravimetric analysis) of the photopolymerization initiator is 160 ° C. or higher.
In one embodiment, the photopolymerization initiator has a functional group capable of binding to the base polymer.
In one embodiment, the functional group is a hydroxyethoxy group.
In one embodiment, the molecular weight of the said photoinitiator is 150-600.
In one embodiment, the said active energy ray hardening-type adhesive further contains a crosslinking agent, and the content rate of this crosslinking agent is 3 weight part or more with respect to 100 weight part of said base polymers.

本発明によれば、特定の光重合開始剤を含む活性エネルギー線硬化型粘着剤により構成された粘着剤層を備えることにより、真空プロセスにおいて装置内(例えば、減圧配管)に生じる析出物の原因となるアウトガスの発生が少ない粘着テープを得ることができる。   According to the present invention, by providing an adhesive layer composed of an active energy ray-curable adhesive containing a specific photopolymerization initiator, the cause of precipitates generated in the apparatus (for example, decompression piping) in a vacuum process Thus, an adhesive tape with less outgassing can be obtained.

本発明の1つの実施形態による真空プロセス用粘着テープの概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of the adhesive tape for vacuum processes by one Embodiment of this invention.

A.真空プロセス用粘着テープの概要
図1は、本発明の1つの実施形態による真空プロセス用粘着テープの概略断面図である。真空プロセス用粘着テープ100、基材10と基材10の少なくとも片側に配置された粘着剤層20とを備える。図示していないが、本発明の粘着テープは、使用に供するまでの間、粘着面を保護する目的で、粘着剤層の外側に剥離ライナーが設けられていてもよい。なお、以下、本明細書において、真空プロセス用粘着テープを単に粘着テープということもある。
A. Overview of Vacuum Process Adhesive Tape FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a vacuum process adhesive tape according to one embodiment of the present invention. The vacuum process pressure-sensitive adhesive tape 100 includes a base material 10 and a pressure-sensitive adhesive layer 20 disposed on at least one side of the base material 10. Although not shown, the adhesive tape of the present invention may be provided with a release liner on the outside of the adhesive layer for the purpose of protecting the adhesive surface until it is used. Hereinafter, in the present specification, the vacuum process adhesive tape may be simply referred to as an adhesive tape.

上記粘着剤層は、ベースポリマーおよび光重合開始剤を含む活性エネルギー線硬化型粘着剤から構成される。活性エネルギー線硬化型粘着剤とは、紫外線等の活性エネルギー線を照射することにより硬化して粘着力が低下する粘着剤であり、活性エネルギー線照射前には所定の粘着力を有する粘着剤のことをいう。上記活性エネルギー線硬化型粘着剤に含有される光重合開始剤は、TGA(熱重量解析)における5%重量減少温度が160℃以上である。このような光重合開始剤を含有させることにより、真空下でのアウトガス発生を抑制することができる。このような粘着テープを、真空プロセスに用いれば、該プロセスに用いられる装置内において、アウトガスを原因とする析出物の発生が防止され得る。1つの実施形態においては、本発明の粘着テープを用いれば、減圧配管での析出物発生が抑制され、該減圧配管の狭窄および閉塞を防止することができ、その結果、真空プロセスにおける真空度を良好に維持することができる。なお、真空プロセスとは、大気圧から減圧された環境下で行われるプロセスを意味する。1つの実施形態においては、上記粘着テープは、加温処理(例えば、70℃〜80℃)を含む真空プロセスに用いられ得る。   The pressure-sensitive adhesive layer is composed of an active energy ray-curable pressure-sensitive adhesive containing a base polymer and a photopolymerization initiator. The active energy ray-curable adhesive is an adhesive that is cured by irradiating with an active energy ray such as an ultraviolet ray to reduce the adhesive force, and is an adhesive having a predetermined adhesive force before irradiation with the active energy ray. That means. The photopolymerization initiator contained in the active energy ray-curable pressure-sensitive adhesive has a 5% weight reduction temperature of 160 ° C. or higher in TGA (thermogravimetric analysis). By containing such a photopolymerization initiator, outgas generation under vacuum can be suppressed. When such an adhesive tape is used in a vacuum process, generation of precipitates due to outgas can be prevented in an apparatus used in the process. In one embodiment, if the pressure-sensitive adhesive tape of the present invention is used, the generation of precipitates in the decompression pipe can be suppressed, and the narrowing and blockage of the decompression pipe can be prevented. As a result, the degree of vacuum in the vacuum process can be reduced. It can be maintained well. In addition, a vacuum process means the process performed in the environment decompressed from atmospheric pressure. In one embodiment, the pressure-sensitive adhesive tape can be used in a vacuum process including a heating process (for example, 70 ° C. to 80 ° C.).

真空プロセスの一例として、フリップチップ実装時の半導体チップのバンプを補強・保護するために、アンダーフィル材としての粘着テープを該半導体チップに貼り付けるプロセスが挙げられる。該プロセスにおいては、半導体チップ上方(バンプ形成面)に粘着テープを配置した状態で、粘着テープの上方および下方において別々の気密空間を形成し、上方の気密空間および下方の気密空間ともに減圧し、その後、上方の気密空間のみ大気圧に戻すことにより、差圧を利用して、被着体に粘着テープを貼り付ける。上方の気密空間および下方の気密空間ともに減圧するプロセスが、真空プロセスに該当する。   As an example of the vacuum process, there is a process of sticking an adhesive tape as an underfill material to the semiconductor chip in order to reinforce and protect the bumps of the semiconductor chip during flip chip mounting. In the process, with the adhesive tape disposed above the semiconductor chip (bump forming surface), separate airtight spaces are formed above and below the adhesive tape, and both the upper airtight space and the lower airtight space are decompressed, Thereafter, only the upper airtight space is returned to atmospheric pressure, and the pressure-sensitive adhesive tape is attached to the adherend using the differential pressure. A process of reducing the pressure in both the upper airtight space and the lower airtight space corresponds to a vacuum process.

本発明の粘着シートは、半導体ミラーウエハ(シリコン製)に対する23℃における初期粘着力が、好ましくは0.1N/20mm〜30.0N/20mmであり、さらに好ましくは1.0N/20mm〜25.0N/20mmであり、特に好ましくは2.0N/20mm〜20.0N/20mmである。本明細書において、「初期粘着力」とは、活性エネルギー線の照射により粘着シートの粘着力を低下させる前の粘着力を意味する。粘着力はJIS Z 0237(2000)に準じた方法(貼り合わせ条件:2kgローラー1往復、剥離速度:300mm/min、剥離角度180°)により測定される。   The adhesive sheet of the present invention has an initial adhesive force at 23 ° C. to a semiconductor mirror wafer (made of silicon) of preferably 0.1 N / 20 mm to 30.0 N / 20 mm, and more preferably 1.0 N / 20 mm to 25.25 mm. 0 N / 20 mm, particularly preferably 2.0 N / 20 mm to 20.0 N / 20 mm. In this specification, “initial adhesive strength” means the adhesive strength before reducing the adhesive strength of the adhesive sheet by irradiation with active energy rays. The adhesive strength is measured by a method according to JIS Z 0237 (2000) (bonding conditions: 2 kg roller 1 reciprocation, peeling speed: 300 mm / min, peeling angle 180 °).

本発明の粘着シートは、粘着剤層に活性エネルギー線を照射することにより、粘着力が、2N/20mm以下となることが好ましく、1N/20mm以下となることがより好ましく、0.4N/20mm以下となることがさらに好ましい。本発明の粘着シートは、活性エネルギー線を照射することにより粘着力が低下するため、再剥離性に優れる。より具体的には、粘着剤層に残存しやすい光重合開始剤(すなわち、TGA(熱重量解析)における5%重量減少温度が160℃以上である光重合開始剤、後述のように特定の官能基を有する光重合開始剤)を用いても、再剥離時の糊残りが抑制され得る。   The pressure-sensitive adhesive sheet of the present invention has an adhesive strength of preferably 2 N / 20 mm or less, more preferably 1 N / 20 mm or less, more preferably 0.4 N / 20 mm by irradiating the adhesive layer with active energy rays. More preferably, The pressure-sensitive adhesive sheet of the present invention is excellent in removability because the adhesive strength is reduced by irradiating active energy rays. More specifically, a photopolymerization initiator that is likely to remain in the pressure-sensitive adhesive layer (that is, a photopolymerization initiator having a 5% weight loss temperature of 160 ° C. or more in TGA (thermogravimetric analysis), a specific functionality as described later. Even when a photopolymerization initiator having a group) is used, adhesive residue at the time of re-peeling can be suppressed.

粘着シートの厚みは、好ましくは10μm〜200μmであり、より好ましくは30μm〜100μmである。   The thickness of the pressure-sensitive adhesive sheet is preferably 10 μm to 200 μm, more preferably 30 μm to 100 μm.

B.粘着剤層
上記のとおり、粘着剤層は、ベースポリマーおよび光重合開始剤を含む活性エネルギー線硬化型粘着剤から構成される。活性エネルギー線硬化型粘着剤を用いれば、貼り付け時には低弾性で柔軟性が高く取り扱い性に優れ、剥離を要する場面においては、活性エネルギー線を照射することにより粘着力を低下させ得る粘着シートを得ることができる。活性エネルギー線としては、例えば、ガンマ線、紫外線、可視光線、赤外線(熱線)、ラジオ波、アルファ線、ベータ線、電子線、プラズマ流、電離線、粒子線等が挙げられる。なお、本明細書において、特にことわりのない場合、「粘着剤層」とは粘着力低下前(活性エネルギー線照射前)の粘着剤層を意味する。
B. As described above, the pressure-sensitive adhesive layer is composed of an active energy ray-curable pressure-sensitive adhesive containing a base polymer and a photopolymerization initiator. If an active energy ray-curable adhesive is used, an adhesive sheet that has low elasticity and high flexibility at the time of application and is easy to handle, and that can be peeled off can be reduced by irradiating active energy rays. Can be obtained. Examples of the active energy rays include gamma rays, ultraviolet rays, visible rays, infrared rays (heat rays), radio waves, alpha rays, beta rays, electron beams, plasma flows, ionizing rays, particle rays and the like. In the present specification, unless otherwise specified, the “pressure-sensitive adhesive layer” means a pressure-sensitive adhesive layer before the decrease in adhesive strength (before irradiation with active energy rays).

(ベースポリマー)
1つの実施形態においては、活性エネルギー線硬化型粘着剤として、母剤となるベースポリマーと、該ベースポリマーと結合可能な活性エネルギー線反応性化合物(モノマーまたはオリゴマー)とを含む活性エネルギー線硬化型粘着剤(A1)が用いられる。別の実施形態においては、ベースポリマーとして活性エネルギー線反応性ポリマーを含む活性エネルギー線硬化型粘着剤(A2)が用いられる。好ましくは、上記ベースポリマーは、光重合開始剤と反応し得る官能基を有する。該官能基としては、例えば、ヒドロキシル基、カルボキシル基等が挙げられる。
(Base polymer)
In one embodiment, the active energy ray-curable pressure-sensitive adhesive includes an active energy ray-curable adhesive (base monomer) and an active energy ray-reactive compound (monomer or oligomer) that can be bound to the base polymer. An adhesive (A1) is used. In another embodiment, an active energy ray-curable pressure-sensitive adhesive (A2) containing an active energy ray-reactive polymer as a base polymer is used. Preferably, the base polymer has a functional group capable of reacting with a photopolymerization initiator. Examples of the functional group include a hydroxyl group and a carboxyl group.

上記粘着剤(A1)において用いられるベースポリマーとしては、例えば、天然ゴム、ポリイソブチレンゴム、スチレン・ブタジエンゴム、スチレン・イソプレン・スチレンブロック共重合体ゴム、再生ゴム、ブチルゴム、ポリイソブチレンゴム、ニトリルゴム(NBR)等のゴム系ポリマー;シリコーン系ポリマー;アクリル系ポリマー等が挙げられる。これらのポリマーは、単独で、または2種以上組み合わせて用いてもよい。なかでも好ましくは、アクリル系ポリマーである。アクリル系ポリマーを用いれば、半導体プロセスに好適な特性(例えば、粘着力、弾性率等)を有する粘着剤層を形成することができる。   Examples of the base polymer used in the pressure-sensitive adhesive (A1) include natural rubber, polyisobutylene rubber, styrene / butadiene rubber, styrene / isoprene / styrene block copolymer rubber, recycled rubber, butyl rubber, polyisobutylene rubber, and nitrile rubber. Examples thereof include rubber polymers such as (NBR); silicone polymers; acrylic polymers. These polymers may be used alone or in combination of two or more. Of these, acrylic polymers are preferred. If an acrylic polymer is used, a pressure-sensitive adhesive layer having properties suitable for semiconductor processes (for example, adhesive strength, elastic modulus, etc.) can be formed.

上記アクリル系ポリマーは、代表的には、アルキル(メタ)アクリレートの1種または2種以上を単量体成分として形成されたアクリル系ポリマー(ホモポリマーまたはコポリマー)である。上記アルキル(メタ)アクリレートの具体例としては、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、s−ブチル(メタ)アクリレート、ペンチル(メタ)アクリレート、イソペンチル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、ヘプチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、オクチル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレート、ノニル(メタ)アクリレート、イソノニル(メタ)アクリレート、デシル(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレート、ウンデシル(メタ)アクリレート、ドデシル(メタ)アクリレート、トリデシル(メタ)アクリレート、テトラデシル(メタ)アクリレート、ペンタデシル(メタ)アクリレート、ヘキサデシル(メタ)アクリレート、ヘプタデシル(メタ)アクリレート、オクタデシル(メタ)アクリレート、ノナデシル(メタ)アクリレート、エイコシル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸C1−20アルキルエステルが挙げられる。   The acrylic polymer is typically an acrylic polymer (homopolymer or copolymer) formed using one or more alkyl (meth) acrylates as monomer components. Specific examples of the alkyl (meth) acrylate include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, s-butyl (meth) acrylate, pentyl (meth) acrylate, isopentyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, heptyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) Acrylate, nonyl (meth) acrylate, isononyl (meth) acrylate, decyl (meth) acrylate, isodecyl (meth) acrylate, undecyl (meth) acrylate, dodecyl (meth) acrylate Rate, tridecyl (meth) acrylate, tetradecyl (meth) acrylate, pentadecyl (meth) acrylate, hexadecyl (meth) acrylate, heptadecyl (meth) acrylate, octadecyl (meth) acrylate, nonadecyl (meth) acrylate, eicosyl (meth) acrylate, etc. (Meth) acrylic acid C1-20 alkyl ester.

上記アクリル系ポリマーは、凝集力、耐熱性、架橋性等の改質を目的として、必要に応じて、上記(メタ)アクリル酸アルキルエステルと共重合可能な他の単量体成分に対応する構成単位を含んでいてもよい。このような単量体成分として、例えば、アクリル酸、メタクリル酸等のカルボキシル基含有モノマー;無水マレイン酸、無水イコタン酸等の酸無水物モノマー;(メタ)アクリル酸ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシプロピル等のヒドロキシル基含有モノマー;スチレンスルホン酸、アリルスルホン酸、等のスルホン酸基含有モノマー;(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミド、等の(N−置換)アミド系モノマー;(メタ)アクリル酸アミノエチル等の(メタ)アクリル酸アミノアルキル系モノマー;(メタ)アクリル酸メトキシエチル等の(メタ)アクリル酸アルコキシアルキル系モノマー;N−シクロヘキシルマレイミド、N−イソプロピルマレイミド等のマレイミド系モノマー;N−メチルイタコンイミド、N−エチルイタコンイミド等のイタコンイミド系モノマー;スクシンイミド系モノマー;酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、N−ビニルピロリドン、メチルビニルピロリドン等のビニル系モノマー;アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のシアノアクリレートモノマー;(メタ)アクリル酸グリシジル等のエポキシ基含有アクリル系モノマー;(メタ)アクリル酸ポリエチレングリコール、(メタ)アクリル酸ポリプロピレングリコール等のグリコール系アクリルエステルモノマー;(メタ)アクリル酸テトラヒドロフルフリル、フッ素(メタ)アクリレート、シリコーン(メタ)アクリレート等の複素環、ハロゲン原子、ケイ素原子等を有するアクリル酸エステル系モノマー;イソプレン、ブタジエン、イソブチレン等のオレフィン系モノマー;ビニルエーテル等のビニルエーテル系モノマー等が挙げられる。これらの単量体成分は、単独で、または2種以上組み合わせて用いてもよい。上記の中でも、より好ましくはカルボキシル基含有モノマー(特に好ましくはアクリル酸またはメタクリル酸)またはヒドロキシル基含有モノマー(特に好ましくは(メタ)アクリル酸ヒドロキシエチル)である。このようなモノマー由来の構成単位を導入すれば、光重合開始剤とアクリル系ポリマー(ベースポリマー)とを結合させることが可能となり、本発明の効果はより顕著となる。カルボキシル基含有モノマー由来の構成単位の含有割合は、アクリル系ポリマー100重量部に対して、好ましくは0.5重量部〜20重量部であり、より好ましくは1重量部〜10重量部である。ヒドロキシル基含有モノマー由来の構成単位の含有割合は、アクリル系ポリマー100重量部に対して、好ましくは0.5重量部〜20重量部であり、より好ましくは1重量部〜10重量部である。   The acrylic polymer has a configuration corresponding to other monomer components copolymerizable with the alkyl (meth) acrylate as necessary for the purpose of modifying cohesive force, heat resistance, crosslinkability, and the like. Units may be included. Examples of such monomer components include carboxyl group-containing monomers such as acrylic acid and methacrylic acid; acid anhydride monomers such as maleic anhydride and itaconic anhydride; hydroxyethyl (meth) acrylate, and (meth) acrylic acid Hydroxyl group-containing monomers such as hydroxypropyl; sulfonic acid group-containing monomers such as styrene sulfonic acid and allyl sulfonic acid; (N-substituted) amide monomers such as (meth) acrylamide and N, N-dimethyl (meth) acrylamide ; (Meth) acrylic acid aminoalkyl monomers such as (meth) acrylic acid aminoethyl; (meth) acrylic acid alkoxyalkyl monomers such as methoxyethyl (meth) acrylate; N-cyclohexylmaleimide, N-isopropylmaleimide, etc. Maleimide monomer; N-methyl Itaconimide monomers such as itaconimide and N-ethylitaconimide; succinimide monomers; vinyl monomers such as vinyl acetate, vinyl propionate, N-vinylpyrrolidone and methylvinylpyrrolidone; cyanoacrylate monomers such as acrylonitrile and methacrylonitrile; Epoxy group-containing acrylic monomers such as glycidyl acrylate; glycol acrylic ester monomers such as polyethylene glycol (meth) acrylate and polypropylene glycol (meth) acrylate; tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, fluorine (meth) Acrylic acid ester monomers having heterocycles such as acrylate and silicone (meth) acrylate, halogen atoms, silicon atoms, etc .; isoprene, butadiene, isobutylene Olefin monomer and the like; vinyl ether monomers such as vinyl ether. These monomer components may be used alone or in combination of two or more. Among these, a carboxyl group-containing monomer (particularly preferably acrylic acid or methacrylic acid) or a hydroxyl group-containing monomer (particularly preferably hydroxyethyl (meth) acrylate) is more preferable. If such a monomer-derived constitutional unit is introduced, the photopolymerization initiator and the acrylic polymer (base polymer) can be bonded, and the effect of the present invention becomes more remarkable. The content of the structural unit derived from the carboxyl group-containing monomer is preferably 0.5 parts by weight to 20 parts by weight, more preferably 1 part by weight to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the acrylic polymer. The content ratio of the structural unit derived from the hydroxyl group-containing monomer is preferably 0.5 to 20 parts by weight, more preferably 1 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the acrylic polymer.

上記粘着剤(A1)に用いられ得る上記活性エネルギー線反応性化合物としては、例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリル基、アセチレン基等の炭素−炭素多重結合を有する官能基を有する光反応性のモノマーまたはオリゴマーが挙げられる。該光反応性のモノマーの具体例としては、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸と多価アルコールとのエステル化物;多官能ウレタン(メタ)アクリレート;エポキシ(メタ)アクリレート;オリゴエステル(メタ)アクリレート等が挙げられる。光反応性のオリゴマーの具体例としては、上記モノマーの2〜5量体等が挙げられる。   Examples of the active energy ray-reactive compound that can be used in the pressure-sensitive adhesive (A1) include light having a functional group having a carbon-carbon multiple bond such as acryloyl group, methacryloyl group, vinyl group, allyl group, and acetylene group. Examples include reactive monomers or oligomers. Specific examples of the photoreactive monomer include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, tetramethylolmethanetetra (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, and dipentaerythritol mono. Such as hydroxypenta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, etc. Examples include esterified products of (meth) acrylic acid and polyhydric alcohols; polyfunctional urethane (meth) acrylates; epoxy (meth) acrylates; oligoester (meth) acrylates. Specific examples of the photoreactive oligomer include dimers and pentamers of the above monomers.

また、上記活性エネルギー線反応性化合物として、エポキシ化ブタジエン、グリシジルメタクリレート、アクリルアミド、ビニルシロキサン等のモノマー;または該モノマーから構成されるオリゴマーを用いてもよい。これらの化合物を含む粘着剤(A1)は、紫外線、電子線等の高エネルギー線により硬化することができる。   Further, as the active energy ray-reactive compound, monomers such as epoxidized butadiene, glycidyl methacrylate, acrylamide, and vinyl siloxane; or oligomers composed of the monomers may be used. The pressure-sensitive adhesive (A1) containing these compounds can be cured by high energy rays such as ultraviolet rays and electron beams.

さらに、上記活性エネルギー線反応性化合物として、オニウム塩等の有機塩類と、分子内に複数の複素環を有する化合物との混合物を用いてもよい。該混合物は、活性エネルギー線(例えば、紫外線、電子線)の照射により有機塩が開裂してイオンを生成し、これが開始種となって複素環の開環反応を引き起こして3次元網目構造を形成し得る。上記有機塩類としては、例えば、ヨードニウム塩、フォスフォニウム塩、アンチモニウム塩、スルホニウム塩、ボレート塩等が挙げられる。上記分子内に複数の複素環を有する化合物における複素環としては、オキシラン、オキセタン、オキソラン、チイラン、アジリジン等が挙げられる。   Furthermore, as the active energy ray-reactive compound, a mixture of an organic salt such as an onium salt and a compound having a plurality of heterocyclic rings in the molecule may be used. In the mixture, an organic salt is cleaved by irradiation with active energy rays (for example, ultraviolet rays and electron beams) to generate ions, which act as starting species to cause a ring opening reaction of the heterocyclic ring to form a three-dimensional network structure. Can do. Examples of the organic salts include iodonium salts, phosphonium salts, antimonium salts, sulfonium salts, and borate salts. Examples of the heterocyclic ring in the compound having a plurality of heterocyclic rings in the molecule include oxirane, oxetane, oxolane, thiirane, aziridine and the like.

上記粘着剤(A1)において、活性エネルギー線反応性化合物の含有割合は、ベースポリマー100重量部に対して、好ましくは0.1重量部〜500重量部であり、より好ましくは1重量部〜300重量部であり、さらに好ましくは10重量部〜200重量部である。   In the pressure-sensitive adhesive (A1), the content ratio of the active energy ray-reactive compound is preferably 0.1 parts by weight to 500 parts by weight, more preferably 1 part by weight to 300 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the base polymer. Parts by weight, more preferably 10 parts by weight to 200 parts by weight.

上記粘着剤(A2)に含まれる活性エネルギー線反応性ポリマー(ベースポリマー)としては、例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリル基、アセチレン基等の炭素−炭素多重結合を有する官能基を有するポリマーが挙げられる。活性エネルギー線反応性官能基を有するポリマーの具体例としては、多官能(メタ)アクリレートから構成されるポリマー;光カチオン重合型ポリマー;ポリビニルシンナマート等のシンナモイル基含有ポリマー;ジアゾ化されたアミノノボラック樹脂;ポリアクリルアミド;等が挙げられる。   Examples of the active energy ray-reactive polymer (base polymer) contained in the pressure-sensitive adhesive (A2) include functional groups having carbon-carbon multiple bonds such as acryloyl group, methacryloyl group, vinyl group, allyl group, and acetylene group. The polymer which has is mentioned. Specific examples of the polymer having an active energy ray-reactive functional group include a polymer composed of a polyfunctional (meth) acrylate; a photocationic polymerization type polymer; a cinnamoyl group-containing polymer such as polyvinyl cinnamate; a diazotized amino novolak Resin; polyacrylamide; and the like.

上記粘着剤(A2)は、上記活性エネルギー線反応性化合物(モノマーまたはオリゴマー)をさらに含んでいてもよい。   The pressure-sensitive adhesive (A2) may further contain the active energy ray-reactive compound (monomer or oligomer).

上記粘着剤を構成するベースポリマーの重量平均分子量は、好ましくは30万〜200万であり、より好ましくは50万〜150万である。重量平均分子量は、GPC(溶媒:THF)により測定され得る。   The weight average molecular weight of the base polymer constituting the pressure-sensitive adhesive is preferably 300,000 to 2,000,000, more preferably 500,000 to 1,500,000. The weight average molecular weight can be measured by GPC (solvent: THF).

上記粘着剤を構成するベースポリマーのガラス転移温度は、好ましくは−50℃〜30℃であり、より好ましくは−40℃〜20℃である。このような範囲であれば、耐熱性に優れ、加熱工程で好適に使用され得る粘着シートを得ることができる。   The glass transition temperature of the base polymer constituting the pressure-sensitive adhesive is preferably -50 ° C to 30 ° C, more preferably -40 ° C to 20 ° C. If it is such a range, it will be excellent in heat resistance and the adhesive sheet which can be used suitably at a heating process can be obtained.

(光重合開始剤)
上記のとおり、光重合開始剤のTGA(熱重量解析)における5%重量減少温度は、160℃以上である。5%重量減少温度とは、光重合開始剤を、窒素雰囲気下に置き、常温(23℃)から昇温速度10℃/minで環境温度を上昇させた際に、光重合開始剤の重量が、昇温前の重量に対して5重量%減少した(すなわち、光重合開始剤の重量が、昇温前の重量に対して95重量%となった)時点での該環境温度を意味する。光重合開始剤の5%重量減少温度は、より好ましくは170℃以上であり、さらに好ましくは170℃〜300℃である。5%重量減少温度がこのような範囲である光重合開始剤としては、例えば、BASF社製の商品名「イルガキュア651」、「イルガキュア2959」、「イルガキュア369」、「イルガキュア127」、「イルガキュア379」、「イルガキュア819」等が挙げられる。
(Photopolymerization initiator)
As described above, the 5% weight loss temperature in TGA (thermogravimetric analysis) of the photopolymerization initiator is 160 ° C. or higher. The 5% weight loss temperature means that when the photopolymerization initiator is placed in a nitrogen atmosphere and the environmental temperature is increased from room temperature (23 ° C.) at a rate of temperature increase of 10 ° C./min, the weight of the photopolymerization initiator is The environmental temperature at the time when the weight is decreased by 5% by weight with respect to the weight before temperature increase (that is, the weight of the photopolymerization initiator becomes 95% by weight with respect to the weight before temperature increase). The 5% weight loss temperature of the photopolymerization initiator is more preferably 170 ° C or higher, and further preferably 170 ° C to 300 ° C. Examples of the photopolymerization initiator having a 5% weight loss temperature within such a range include trade names “Irgacure 651”, “Irgacure 2959”, “Irgacure 369”, “Irgacure 127”, “Irgacure 379” manufactured by BASF. And “Irgacure 819”.

1つの実施形態においては、上記光重合開始剤は、上記ベースポリマーと結合可能な官能基を有する。1つの実施形態においては、ベースポリマーとして、ヒドロキシル基またはカルボキシル基を含むベースポリマーが用いられ、光重合開始剤として、該ベースポリマー(実質的には、ヒドロキシル基またはカルボキシル基)と結合可能な官能基を有する光重合開始剤が用いられる。本発明においては、ベースポリマーと結合可能な官能基を有する光重合開始剤を用いることにより、真空下でのアウトガスが顕著に抑制され得る粘着テープを得ることができる。   In one embodiment, the photopolymerization initiator has a functional group capable of binding to the base polymer. In one embodiment, a base polymer containing a hydroxyl group or a carboxyl group is used as the base polymer, and a functional group capable of binding to the base polymer (substantially a hydroxyl group or a carboxyl group) is used as a photopolymerization initiator. A photopolymerization initiator having a group is used. In the present invention, by using a photopolymerization initiator having a functional group capable of binding to the base polymer, an adhesive tape capable of significantly suppressing outgassing under vacuum can be obtained.

上記光重合開始剤が有するベースポリマーと結合可能な官能基としては、ヒドロキシル基、ヒドロキシエトキシ基等が挙げられる。また、このような官能基を有する光重合開始剤として用いられ得る化合物としては、例えば、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン(BASF社製、商品名「イルガキュア2959」、オリゴ(2−ヒドロキシ−2−メチル−1−[4−(1−メチルビニル)フェニル]プロパノン)(Lamberti社製、商品名「Esacure One」)、オリゴマー多官能価アルファーヒドロキシケトン(Lamberti社製、商品名「Esacure KIP150」)等が挙げられる。   Examples of the functional group that can be bonded to the base polymer of the photopolymerization initiator include a hydroxyl group and a hydroxyethoxy group. Examples of the compound that can be used as a photopolymerization initiator having such a functional group include 1- [4- (2-hydroxyethoxy) -phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propane- 1-one (trade name “Irgacure 2959” manufactured by BASF AG, oligo (2-hydroxy-2-methyl-1- [4- (1-methylvinyl) phenyl] propanone) (trade name “Esacure One” manufactured by Lamberti) )), An oligomer polyfunctional alpha-hydroxyketone (manufactured by Lamberti, trade name “Esacure KIP150”) and the like.

上記光重合開始剤として用いられ得る化合物の分子量は、好ましくは150〜600であり、より好ましくは200〜500であり、さらに好ましくは220〜400である。このような範囲であれば、本発明の効果がより顕著となる。   The molecular weight of the compound that can be used as the photopolymerization initiator is preferably 150 to 600, more preferably 200 to 500, and still more preferably 220 to 400. If it is such a range, the effect of this invention will become more remarkable.

上記光重合開始剤の含有割合は、上記ベースポリマー100重量部に対して、好ましくは0.1重量部〜20重量部であり、より好ましくは1重量部〜15重量部であり、さらに好ましくは3重量部〜10重量部である。このような範囲であれば、アウトガスの発生が抑制され、かつ、活性エネルギー線による硬化が十分に進み、適切に粘着力が低下する粘着剤層を形成することができる。   The content of the photopolymerization initiator is preferably 0.1 parts by weight to 20 parts by weight, more preferably 1 part by weight to 15 parts by weight, further preferably 100 parts by weight of the base polymer. 3 to 10 parts by weight. If it is such a range, generation | occurrence | production of outgas is suppressed, hardening by an active energy ray fully progresses, and the adhesive layer from which adhesive force falls appropriately can be formed.

(その他の成分)
活性エネルギー線硬化型粘着剤は、必要に応じて、任意の適切な添加剤を含み得る。添加剤としては、例えば、活性エネルギー線重合促進剤、架橋剤、ラジカル捕捉剤、粘着付与剤、可塑剤(例えば、トリメリット酸エステル系可塑剤、ピロメリット酸エステル系可塑剤等)、顔料、染料、充填剤、老化防止剤、導電材、帯電防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、剥離調整剤、軟化剤、界面活性剤、難燃剤、酸化防止剤等が挙げられる。
(Other ingredients)
The active energy ray-curable pressure-sensitive adhesive may contain any appropriate additive as required. Examples of the additive include an active energy ray polymerization accelerator, a crosslinking agent, a radical scavenger, a tackifier, a plasticizer (for example, trimellitic acid ester plasticizer, pyromellitic acid ester plasticizer, etc.), pigment, Examples include dyes, fillers, anti-aging agents, conductive materials, antistatic agents, ultraviolet absorbers, light stabilizers, release modifiers, softeners, surfactants, flame retardants, and antioxidants.

上記架橋剤としては、例えば、イソシアネート系架橋剤、エポキシ系架橋剤、メラミン系架橋剤、過酸化物系架橋剤の他、尿素系架橋剤、金属アルコキシド系架橋剤、金属キレート系架橋剤、金属塩系架橋剤、カルボジイミド系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤、アジリジン系架橋剤、アミン系架橋剤などが挙げられる。なかでも好ましくは、イソシアネート系架橋剤である。   Examples of the crosslinking agent include an isocyanate crosslinking agent, an epoxy crosslinking agent, a melamine crosslinking agent, a peroxide crosslinking agent, a urea crosslinking agent, a metal alkoxide crosslinking agent, a metal chelate crosslinking agent, and a metal. Examples thereof include salt-based crosslinking agents, carbodiimide-based crosslinking agents, oxazoline-based crosslinking agents, aziridine-based crosslinking agents, and amine-based crosslinking agents. Of these, an isocyanate-based crosslinking agent is preferable.

上記イソシアネート系架橋剤の具体例としては、ブチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート等の低級脂肪族ポリイソシアネート類;シクロペンチレンジイソシアネート、シクロへキシレンジイソシアネート、イソホロン ジイソシアネート等の脂環族イソシアネート類;2,4−トリレンジイソシアネート、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート等の芳香族イソシアネート類;トリメチロールプロパン/トリレンジイソシアネート3量体付加物(日本ポリウレタン工業社製、商品名「コロネートL」)、トリメチロールプロパン/へキサメチレンジイソシアネート3量体付加物(日本ポリウレタン工業社製、商品名「コロネートHL」)、ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート体(日本ポリウレタン工業社製、商品名「コロネートHX」)等のイソシアネート付加物;等が挙げられる。   Specific examples of the isocyanate-based crosslinking agent include lower aliphatic polyisocyanates such as butylene diisocyanate and hexamethylene diisocyanate; alicyclic isocyanates such as cyclopentylene diisocyanate, cyclohexylene diisocyanate and isophorone diisocyanate; 2,4- Aromatic isocyanates such as tolylene diisocyanate, 4,4′-diphenylmethane diisocyanate, xylylene diisocyanate; trimethylolpropane / tolylene diisocyanate trimer adduct (trade name “Coronate L” manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.), tri Methylolpropane / hexamethylene diisocyanate trimer adduct (manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd., trade name “Coronate HL”), hexamethylene diisocyanate isocyanate Isocyanurate body (Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd. under the trade name "Coronate HX") isocyanate adducts of the like; and the like.

上記架橋剤の含有割合は、上記ベースポリマー100重量部に対して、好ましくは3重量部以上であり、より好ましくは3重量部〜10重量部である。このような範囲であれば、粘着剤層に残存しやすい光重合開始剤(すなわち、TGA(熱重量解析)における5%重量減少温度が160℃以上である光重合開始剤、上記特定の官能基を有する光重合開始剤)を用いても糊残りが抑制され得る。   The content of the crosslinking agent is preferably 3 parts by weight or more, more preferably 3 parts by weight to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the base polymer. Within such a range, a photopolymerization initiator that is likely to remain in the pressure-sensitive adhesive layer (that is, a photopolymerization initiator having a 5% weight loss temperature of 160 ° C. or more in TGA (thermogravimetric analysis), the above-mentioned specific functional group Even when using a photopolymerization initiator having the above, adhesive residue can be suppressed.

(粘着剤層の特性)
上記粘着剤層の厚みは、好ましくは5μm〜300μmであり、より好ましくは10μm〜250μmであり、さらに好ましくは20μm〜200μmであり、特に好ましくは50μm〜150μmである。1つの実施形態においては、粘着剤層の厚みは50μm以上である。粘着剤層の厚みをこのような範囲にすれば、段差追従性に優れ、凹凸のある被着体(例えば、バンプを有する半導体チップ)を空隙無く被覆し得る粘着テープを得ることができる。
(Characteristics of adhesive layer)
The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is preferably 5 μm to 300 μm, more preferably 10 μm to 250 μm, still more preferably 20 μm to 200 μm, and particularly preferably 50 μm to 150 μm. In one embodiment, the thickness of an adhesive layer is 50 micrometers or more. When the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is in such a range, a pressure-sensitive adhesive tape that has excellent step following ability and can cover an uneven adherend (for example, a semiconductor chip having bumps) without a gap can be obtained.

上記粘着剤層の23℃における初期貯蔵弾性率E’は、好ましくは0.5×10Pa〜1.0×10Paであり、より好ましくは0.8×10Pa〜3.0×10Paである。このような範囲であれば、段差追従性に優れ、凹凸のある被着体(例えば、バンプを有する半導体チップ)を空隙無く被覆し得る粘着テープを得ることができる。また、80℃における上記粘着剤層の初期貯蔵弾性率E’は、好ましくは0.5×10Pa〜1.0×10Paであり、より好ましくは1.0×10Pa〜1.0×10Paである。なお、「初期弾性率」とは、粘着剤層に活性エネルギー線を照射して、粘着シートの粘着力を低下させる前の弾性率を意味する。初期貯蔵弾性率E’は、動的粘弾性測定装置(例えば、レオメトリックス社製の商品名「ARES」)を用いて、周波数1Hz、昇温速度10℃/minの測定条件により測定され得る。 The initial storage elastic modulus E ′ at 23 ° C. of the pressure-sensitive adhesive layer is preferably 0.5 × 10 6 Pa to 1.0 × 10 8 Pa, more preferably 0.8 × 10 6 Pa to 3.0. × 10 7 Pa. If it is such a range, the adhesive tape which is excellent in level | step difference followable | trackability and can coat | cover the uneven adherend (for example, semiconductor chip which has bump) without a space | gap can be obtained. Moreover, the initial storage elastic modulus E ′ of the pressure-sensitive adhesive layer at 80 ° C. is preferably 0.5 × 10 4 Pa to 1.0 × 10 6 Pa, and more preferably 1.0 × 10 4 Pa to 1. 0.0 × 10 5 Pa. The “initial elastic modulus” means an elastic modulus before the adhesive layer is irradiated with active energy rays to reduce the adhesive strength of the adhesive sheet. The initial storage elastic modulus E ′ can be measured using a dynamic viscoelasticity measuring apparatus (for example, trade name “ARES” manufactured by Rheometrics) under measurement conditions of a frequency of 1 Hz and a heating rate of 10 ° C./min.

C.基材
上記基材は、任意の適切な樹脂から構成され得る。該樹脂としては、例えば、低密度ポリエチレン、直鎖状ポリエチレン、中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、超低密度ポリエチレン、ランダム共重合ポリプロピレン、ブロック共重合ポリプロピレン、ホモポリプロピレン、ポリブテン、ポリメチルペンテン等のポリオレフィン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、アイオノマー樹脂、エチレン−(メタ)アクリル酸共重合体、エチレン−(メタ)アクリル酸エステル(ランダム、交互)共重合体、エチレン−ブテン共重合体、エチレン−ヘキセン共重合体、ポリウレタン、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ポリイミド、ポリエーテルケトン、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、フッ素樹脂、シリコン樹脂、セルロース系樹脂、および、これらの架橋体等が挙げられる。
C. Substrate The substrate can be composed of any suitable resin. Examples of the resin include polyolefins such as low density polyethylene, linear polyethylene, medium density polyethylene, high density polyethylene, ultra low density polyethylene, random copolymer polypropylene, block copolymer polypropylene, homopolypropylene, polybutene, and polymethylpentene. , Ethylene-vinyl acetate copolymer, ionomer resin, ethylene- (meth) acrylic acid copolymer, ethylene- (meth) acrylic acid ester (random, alternating) copolymer, ethylene-butene copolymer, ethylene-hexene Copolymers, Polyesters such as polyurethane and polyethylene naphthalate, Polyimide, Polyetherketone, Polystyrene, Polyvinyl chloride, Polyvinylidene chloride, Fluororesin, Silicone resin, Cellulosic resin, and cross-linked products thereof And the like.

上記基材を構成する樹脂のガラス転移温度は、好ましくは60℃〜500℃であり、より好ましくは100℃〜500℃である。このような範囲であれば、耐熱性に優れ、加熱工程で好適に使用され得る粘着シートを得ることができる。なお、「ガラス転移温度」とは、DMA法(引っ張り法)において、昇温速度5℃/min、サンプル幅5mm、チャック間距離20mm、周波数10Hzの条件において確認される損失正接(tanδ)のピークを示す温度を意味する。   The glass transition temperature of the resin constituting the substrate is preferably 60 ° C to 500 ° C, more preferably 100 ° C to 500 ° C. If it is such a range, it will be excellent in heat resistance and the adhesive sheet which can be used suitably at a heating process can be obtained. The “glass transition temperature” is a peak of loss tangent (tan δ) that is confirmed in the DMA method (tensile method) under the conditions of a heating rate of 5 ° C./min, a sample width of 5 mm, a distance between chucks of 20 mm, and a frequency of 10 Hz. Means the temperature.

上記基材の厚みは、好ましくは50μm〜300μmであり、より好ましくは80μm〜250μmであり、さらに好ましくは100μm〜200μmである。   The thickness of the substrate is preferably 50 μm to 300 μm, more preferably 80 μm to 250 μm, and still more preferably 100 μm to 200 μm.

上記基材の表面は、隣接する層との密着性、および、保持性等を向上させるため、任意の表面処理が施されていてもよい。上記表面処理としては、例えば、クロム酸処理、オゾン暴露、火炎暴露、高圧電撃暴露、イオン化放射線処理等の化学的又は物理的処理、コーティング処理が挙げられる。   The surface of the base material may be subjected to any surface treatment in order to improve adhesion with adjacent layers, retention, and the like. Examples of the surface treatment include chemical or physical treatment such as chromic acid treatment, ozone exposure, flame exposure, high piezoelectric impact exposure, ionizing radiation treatment, and coating treatment.

D.粘着テープの製造方法
上記粘着テープは、任意の適切な方法により製造され得る。粘着テープは、例えば、基材上に、上記粘着剤を塗工して得られ得る。塗工方法としては、バーコーター塗工、エアナイフ塗工、グラビア塗工、グラビアリバース塗工、リバースロール塗工、リップ塗工、ダイ塗工、ディップ塗工、オフセット印刷、フレキソ印刷、スクリーン印刷など種々の方法を採用することができる。また、別途、剥離ライナーに粘着剤層を形成した後、それを基材に貼り合せる方法等を採用してもよい。
D. Manufacturing method of adhesive tape The said adhesive tape may be manufactured by arbitrary appropriate methods. The pressure-sensitive adhesive tape can be obtained, for example, by coating the pressure-sensitive adhesive on a substrate. Coating methods include bar coater coating, air knife coating, gravure coating, gravure reverse coating, reverse roll coating, lip coating, die coating, dip coating, offset printing, flexographic printing, screen printing, etc. Various methods can be employed. In addition, a method in which a pressure-sensitive adhesive layer is separately formed on a release liner and then bonded to a substrate may be employed.

以下、実施例によって本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例によって限定されるものではない。また、実施例において、特に明記しない限り、「部」および「%」は重量基準である。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention concretely, this invention is not limited by these Examples. In Examples, unless otherwise specified, “parts” and “%” are based on weight.

[実施例1]
ベースポリマーとしてのアクリル系コポリマー(2−エチルヘキシル(メタ)アクリレートとメチルアクリレートとアクリル酸のコポリマー、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート構成単位:メチルアクリレート構成単位:アクリル酸構成単位=25:70:5(重量比))100重量部と、多官能オリゴマー(ウレタンアクリレート、日本合成化学、商品名「UV−1700TL」)90重量部と、多官能オリゴマー(ウレタンアクリレート、日本合成化学、商品名「UV−3000TL」)90重量部と、イソシアネート系架橋剤(東ソー社製、商品名「コロネートL」)3重量部と、光重合開始剤(BASF社製、商品名「イルガキュア651」;分子量:256.3)7重量部とを混合して粘着剤Aを得た。
この粘着剤Aを、基材としての低密度ポリエチレンフィルム(厚み:150μm)の片面に塗工して、基材と粘着剤層(厚み:50μm)とから構成される粘着シートを得た。
[Example 1]
Acrylic copolymer as a base polymer (2-ethylhexyl (meth) acrylate, copolymer of methyl acrylate and acrylic acid, 2-ethylhexyl (meth) acrylate constitutional unit: methyl acrylate constitutional unit: acrylic acid constitutional unit = 25: 70: 5 ( (Weight ratio)) 100 parts by weight, polyfunctional oligomer (urethane acrylate, Nippon Synthetic Chemical, trade name “UV-1700TL”) 90 parts by weight and polyfunctional oligomer (urethane acrylate, Nippon Synthetic Chemical, trade name “UV-3000TL”) 90 parts by weight, 3 parts by weight of an isocyanate-based crosslinking agent (trade name “Coronate L” manufactured by Tosoh Corporation), and a photopolymerization initiator (trade name “Irgacure 651” manufactured by BASF Corporation; molecular weight: 256.3) Adhesive A was obtained by mixing 7 parts by weight.
This pressure-sensitive adhesive A was applied to one side of a low-density polyethylene film (thickness: 150 μm) as a base material to obtain a pressure-sensitive adhesive sheet composed of a base material and a pressure-sensitive adhesive layer (thickness: 50 μm).

[実施例2]
光重合開始剤(BASF社製、商品名「イルガキュア651」)7重量部に代えて、光重合開始剤(BASF社製、商品名「イルガキュア369」;分子量:366.5)7重量部を用いたこと以外は、実施例1と同様にして粘着シートを得た。
[Example 2]
Instead of 7 parts by weight of photopolymerization initiator (BASF, trade name “Irgacure 651”), 7 parts by weight of photopolymerization initiator (BASF, trade name “Irgacure 369”; molecular weight: 366.5) is used. A pressure-sensitive adhesive sheet was obtained in the same manner as in Example 1 except that it was.

[実施例3]
光重合開始剤(BASF社製、商品名「イルガキュア651」)7重量部に代えて、光重合開始剤(BASF社製、商品名「イルガキュア2959」;分子量:224.3)7重量部を用いたこと以外は、実施例1と同様にして粘着シートを得た。なお、光重合開始剤「イルガキュア2959」は、下記一般式(1)で表される構造を有する。
[Example 3]
Instead of 7 parts by weight of photopolymerization initiator (BASF, trade name “Irgacure 651”), 7 parts by weight of photopolymerization initiator (BASF, trade name “Irgacure 2959”; molecular weight: 224.3) is used. A pressure-sensitive adhesive sheet was obtained in the same manner as in Example 1 except that it was. The photopolymerization initiator “Irgacure 2959” has a structure represented by the following general formula (1).

[比較例1]
光重合開始剤(BASF社製、商品名「イルガキュア651」)7重量部に代えて、光重合開始剤(BASF社製、商品名「イルガキュア184」;分子量:204.3)7重量部を用いたこと以外は、実施例1と同様にして粘着シートを得た。
[Comparative Example 1]
Instead of 7 parts by weight of photopolymerization initiator (BASF, trade name “Irgacure 651”), 7 parts by weight of photopolymerization initiator (BASF, trade name “Irgacure 184”; molecular weight: 204.3) is used. A pressure-sensitive adhesive sheet was obtained in the same manner as in Example 1 except that it was.

[比較例2]
光重合開始剤(BASF社製、商品名「イルガキュア651」)7重量部に代えて、光重合開始剤(BASF社製、商品名「イルガキュア1173」;分子量:164.2)7重量部を用いたこと以外は、実施例1と同様にして粘着シートを得た。
[Comparative Example 2]
Instead of 7 parts by weight of photopolymerization initiator (BASF, trade name “Irgacure 651”), 7 parts by weight of photopolymerization initiator (BASF, trade name “Irgacure 1173”; molecular weight: 164.2) is used. A pressure-sensitive adhesive sheet was obtained in the same manner as in Example 1 except that it was.

[評価]
(1)光重合開始剤の5%重量減少温度
示差熱分析装置(SII Nano Technology inc社製、商品名「TG/DTA220」)を用いて、粘着シートを昇温温度10℃/分、大気雰囲気下、流量は200ml/分とし、重量が5%減少する温度を測定した。
[Evaluation]
(1) 5% weight reduction temperature of photopolymerization initiator Using a differential thermal analyzer (trade name “TG / DTA220” manufactured by SII Nano Technology Inc.), the pressure-sensitive adhesive sheet was heated at a temperature of 10 ° C./minute, and the atmosphere Below, the flow rate was 200 ml / min, and the temperature at which the weight decreased by 5% was measured.

(2)アウトガス量
粘着シート1gと吸着材(TenaxTA)とを、加温減圧環境下(100℃、1000Pa)に1時間放置し、粘着シートからのアウトがアスを該吸着材に吸着させた。その後、吸着材をガスクロマトグラフ質量分析計(Agilent Technologies社製、商品名「HP6890pls/HP5973」)に直結した加熱脱着装置(Agilent Technologies社製、商品名「TDS/CIS」)で加熱し、吸着物(すなわち、上記アウトガス)を脱離させた。加熱脱離による脱離成分は、ガスクロマトグラフ質量分析計の注入口部分を液体窒素で冷却によりコールドトラップした。その後、該分析計の注入口を急速加熱して該分析計が備えるカラムに脱離成分を導入し、脱離成分量(すなわち、上記アウトガス量)を測定した。
なお、トルエン純薬をメタノールで希釈して調製した所定濃度の標品について、粘着テープと同様にアウトガス量を測定することにより、調製濃度(標品調製時の濃度)とピーク濃度(ガスクロマトグラフ検出値)とから検量線を作成し、該検量線を用いて、粘着シート1gあたりのアウトガス量をトルエン換算で求めた。
(2) Outgas amount 1 g of the pressure-sensitive adhesive sheet and the adsorbent (TenaxTA) were allowed to stand in a heated and reduced pressure environment (100 ° C., 1000 Pa) for 1 hour, and out of the pressure-sensitive adhesive sheet adsorbed ass on the adsorbent. Then, the adsorbent is heated with a heat desorption apparatus (Agilent Technologies, trade name “TDS / CIS”) directly connected to a gas chromatograph mass spectrometer (Agilent Technologies, trade name “HP6890pls / HP5973”). (Ie, the outgas) was desorbed. The desorption component due to heat desorption was cold trapped by cooling the inlet portion of the gas chromatograph mass spectrometer with liquid nitrogen. Thereafter, the inlet of the analyzer was rapidly heated to introduce the desorbed component into the column provided in the analyzer, and the amount of desorbed component (that is, the amount of outgas) was measured.
For preparations with a predetermined concentration prepared by diluting toluene pure drug with methanol, measuring the outgas amount in the same manner as the adhesive tape, the preparation concentration (concentration at the time of preparation) and peak concentration (gas chromatographic detection) Value) and a calibration curve was created, and the amount of outgas per 1 g of the pressure-sensitive adhesive sheet was determined in terms of toluene using the calibration curve.

Figure 2017214528
Figure 2017214528

本発明の粘着テープは、真空プロセス(例えば、半導体製造における真空プロセス)用の粘着テープとして好適に用いられ得る。   The pressure-sensitive adhesive tape of the present invention can be suitably used as a pressure-sensitive adhesive tape for a vacuum process (for example, a vacuum process in semiconductor production).

10 基材
20 粘着剤層
100 粘着テープ
10 Substrate 20 Adhesive layer 100 Adhesive tape

Claims (5)

基材と、該基材の少なくとも片側に配置された粘着剤層とを備え、
該粘着剤層が、ベースポリマーと光重合開始剤とを含む活性エネルギー線硬化型粘着剤から構成され、
該光重合開始剤のTGA(熱重量解析)における5%重量減少温度が160℃以上である、
真空プロセス用粘着テープ。
A substrate and a pressure-sensitive adhesive layer disposed on at least one side of the substrate;
The pressure-sensitive adhesive layer is composed of an active energy ray-curable pressure-sensitive adhesive containing a base polymer and a photopolymerization initiator,
5% weight loss temperature in TGA (thermogravimetric analysis) of the photopolymerization initiator is 160 ° C. or higher.
Adhesive tape for vacuum process.
前記光重合開始剤が、前記ベースポリマーと結合可能な官能基を有する、請求項1に記載の真空プロセス用粘着テープ。   The pressure-sensitive adhesive tape for vacuum process according to claim 1, wherein the photopolymerization initiator has a functional group capable of binding to the base polymer. 前記官能基が、ヒドロキシエトキシ基である、請求項2に記載の真空プロセス用粘着テープ。   The pressure-sensitive adhesive tape for vacuum process according to claim 2, wherein the functional group is a hydroxyethoxy group. 前記光重合開始剤の分子量が、150〜600である、請求項1から3のいずれかに記載の真空プロセス用粘着テープ。   The pressure-sensitive adhesive tape for vacuum process according to any one of claims 1 to 3, wherein the molecular weight of the photopolymerization initiator is 150 to 600. 前記活性エネルギー線硬化型粘着剤が、架橋剤をさらに含み、
該架橋剤の含有割合が、前記ベースポリマー100重量部に対して、3重量部以上である、請求項1から4のいずれかに記載の真空プロセス用粘着テープ。
The active energy ray-curable pressure-sensitive adhesive further contains a crosslinking agent,
The pressure-sensitive adhesive tape for vacuum process according to any one of claims 1 to 4, wherein a content ratio of the crosslinking agent is 3 parts by weight or more with respect to 100 parts by weight of the base polymer.
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