JP2017200687A - Agitator and agitation method - Google Patents

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幹晴 高木
Mikiharu Takagi
幹晴 高木
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an agitator for agitating a small amount of fine components; and to provide an agitation method.SOLUTION: In a representative constitution, an agitator (plating device 100) for agitating fine components includes a container 104 for storing a plurality of components, an ultrasonic vibration part 126 for applying ultrasonic vibration to the container, a plurality of vibration motors 152a-152d installed on an outer wall of the container, and a control part 154 for actuating the vibration motors successively by shifting each phase of the plurality of vibration motors.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、微小な部品を撹拌する撹拌装置および撹拌方法に関する。   The present invention relates to a stirring device and a stirring method for stirring minute parts.

従来、微小な被めっき部品をめっき処理する場合には、バレルめっき装置が使用されていた(例えば、特許文献1)。バレルは多角形柱(主に六角形)の形状をしていて、壁面がメッシュになっており、壁面をめっき液が流通するようになっている。めっき処理を行う際、このバレル内に被めっき部品を収容し、バレルごとめっき液に浸した状態でバレルを回転させる。   Conventionally, a barrel plating apparatus has been used when plating a minute part to be plated (for example, Patent Document 1). The barrel is in the shape of a polygonal column (mainly hexagonal), the wall surface is a mesh, and the plating solution flows through the wall surface. When performing the plating process, the part to be plated is accommodated in the barrel, and the barrel is rotated in a state where the barrel is immersed in the plating solution.

バレルが多角形をしていることから、バレルを回転させると被めっき部品の山が崩れ続ける。バレル内には電極が回転しないように支持されていて、バレルの下部にたまった被めっき部品の山に接触して通電する。つまり、バレルが回転することにより、被めっき部品は撹拌されながら通電されて、互いに凝集することなく電解めっきが行われる。   Since the barrel is polygonal, the piles of the parts to be plated continue to collapse when the barrel is rotated. An electrode is supported in the barrel so as not to rotate, and is energized in contact with a pile of parts to be plated that has accumulated at the bottom of the barrel. That is, by rotating the barrel, the parts to be plated are energized while being stirred, and electrolytic plating is performed without agglomeration.

上記構成のバレルでは、被めっき部品に通電させるために、被めっき部品の山と電極が接触する必要がある。しかしながら被めっき部品が少量であると、被めっき部品の山が電極に届かなかったり、電極間の通電が切れてしまったりするため、電解めっきが円滑に行われない。そのため被めっき部品が少量である場合にはダミー部品を入れて量を増やすことが行われていた。   In the barrel having the above-described configuration, in order to energize the component to be plated, it is necessary that the peak of the component to be plated and the electrode are in contact with each other. However, if the amount of parts to be plated is small, electrolytic plating is not performed smoothly because the peaks of the parts to be plated do not reach the electrodes or the power supply between the electrodes is cut off. For this reason, when the amount of parts to be plated is small, dummy parts are added to increase the amount.

特開平05−263298号公報JP 05-263298 A

しかしながらダミー部品を混入してめっきを行うと、当然にダミー部品もめっきされるため、材料(金めっきなど)に無駄が生じる。ダミー部品のめっきを溶かして再利用することも可能ではあるが、電力、時間、労力、溶剤に著しい無駄を生じるという問題がある。またこれに伴い、少量のめっきでも単価があがってしまうという問題がある。また、ダミー部品を混入することで、めっき後、被めっき部品と選別しなくてはならないために、選別にかかる費用もめっき加工にかかる以上の金額となってしまう場合が多く、これも大きな問題である。   However, when plating is performed with a dummy part mixed in, the dummy part is naturally also plated, resulting in wasted material (gold plating or the like). Although it is possible to melt and reuse the plating of the dummy parts, there is a problem in that power, time, labor, and solvent are significantly wasted. Along with this, there is a problem that the unit price increases even with a small amount of plating. In addition, by mixing dummy parts, after plating, it must be sorted out from the parts to be plated, so the cost of sorting is often more than the plating process, which is also a major problem It is.

一方、超音波は被洗浄物の洗浄力を向上させる方法として一般的であり、洗浄槽内のカゴやガラス等の容器に入っている微小部品が超音波によって微振動することも知られているが、その振動により部品を大きく流動させることはできない。また、その振動は部品の大きさ、形状、部品を入れる容器の形状、材質の影響を大きく受け、部品の動きが安定せず、方向性も定まらないという問題があることから、超音波は部品の移動や流動を目的とする方法としては使用されていない。   On the other hand, ultrasonic is a general method for improving the cleaning power of an object to be cleaned, and it is also known that micro parts contained in a container such as a basket or glass in a cleaning tank are vibrated by ultrasonic waves. However, the parts cannot flow greatly due to the vibration. In addition, since the vibration is greatly affected by the size and shape of the part, the shape of the container in which the part is placed, and the material, the movement of the part is not stable and the directionality is not fixed. It is not used as a method for the purpose of movement or flow.

本発明は、このような課題に鑑み、少量の微小な部品に対してダミーを使用せずにめっき処理を施すために、少量の微小な部品を撹拌する撹拌装置および撹拌方法を提供することを目的としている。当該撹拌装置は、電気めっき以外にも、少量の微小な部品に対して無電解めっき、洗浄、化学研磨、電解研磨の際に利用することができる。   In view of such a problem, the present invention provides an agitation device and an agitation method for agitating a small amount of minute parts in order to perform a plating process on a small amount of minute parts without using a dummy. It is aimed. In addition to electroplating, the stirrer can be used for electroless plating, cleaning, chemical polishing, and electrolytic polishing for a small amount of minute parts.

上記課題を解決するために、本発明の代表的な構成は、微小な部品を撹拌する撹拌装置において、複数の部品を収容する容器と、容器に超音波振動を印加する超音波振動部と、容器の外壁に設置された複数の振動モータと、複数の振動モータの位相をずらして該振動モータを順次作動させる制御部とを備えることを特徴とする。なお、本発明にかかる撹拌装置は、電気めっきまたは無電解めっきに限らず、洗浄、化学研磨、電解研磨などにも適用可能である。   In order to solve the above-described problem, a typical configuration of the present invention is a stirring device that stirs minute parts, a container that houses a plurality of parts, an ultrasonic vibration unit that applies ultrasonic vibrations to the container, A plurality of vibration motors installed on the outer wall of the container, and a control unit that sequentially operates the vibration motors by shifting the phases of the plurality of vibration motors. The stirring device according to the present invention is not limited to electroplating or electroless plating, and can be applied to cleaning, chemical polishing, electrolytic polishing, and the like.

上記構成によれば、容器に超音波振動を印加し、被めっき部品を容器内で流動させることができる。このため、被めっき部品が少量であっても、電極に接触させながら撹拌させることができる。したがって、少量の微小な被めっき部品に対して、ダミーを使用せずに良好にめっきを行うことができる。また、この方式でめっきすると、回転するバレルのようにバレル内にめっき液流入させるために容器に多くの孔を開けなくてもよく、被めっき物が容器外にこぼれ出すことを防止するために容器に蓋をする必要もないため、どのような小さな微小部品、粉体、微粒子でもめっき可能になる。   According to the said structure, a to-be-plated component can be made to flow in a container by applying an ultrasonic vibration to a container. For this reason, even if it is a small amount of parts to be plated, it can be stirred while being in contact with the electrodes. Therefore, it is possible to satisfactorily plate a small amount of minute parts to be plated without using a dummy. In addition, when plating is performed in this manner, it is not necessary to open many holes in the container in order to allow the plating solution to flow into the barrel like a rotating barrel, in order to prevent the object to be plated from spilling out of the container. Since it is not necessary to cover the container, any small microparts, powders and fine particles can be plated.

上記の容器は、底面が曲面であって、外壁が斜めになるように設置されているとよい。底面の曲面の一例として、半球状が好適である。容器に印加された超音波振動によって被めっき部品は一方向に進行するが、半球状の底面を有する容器の外壁が斜めになっていることにより、外壁に沿って上に登った被めっき部品が崩れ落ちる。これにより被めっき部品が撹拌され、互いに凝集することがない。   Said container is good to be installed so that a bottom face may be a curved surface and an outer wall may become diagonal. A hemispherical shape is suitable as an example of the curved surface of the bottom surface. The component to be plated advances in one direction due to the ultrasonic vibration applied to the container, but the outer part of the container having a hemispherical bottom surface is slanted, so that the component to be plated climbed upward along the outer wall. Collapse. As a result, the parts to be plated are agitated and do not aggregate with each other.

上記課題を解決するために、本発明にかかる撹拌方法の代表的な構成は、微小な部品を撹拌する撹拌方法において、複数の部品を容器に収容し、容器に超音波振動を印加すると共に、容器の外壁に設置された複数の振動モータの位相をずらして振動を加えることにより、部品を容器内で流動させることを特徴とする。   In order to solve the above-described problems, a typical configuration of the stirring method according to the present invention is a stirring method for stirring minute parts, in which a plurality of parts are accommodated in a container, and ultrasonic vibration is applied to the container. A component is caused to flow in the container by applying a vibration by shifting the phases of a plurality of vibration motors installed on the outer wall of the container.

上述しためっき装置における技術的思想に対応する構成要素やその説明は、当該方法にも適用可能である。   The component corresponding to the technical idea in the plating apparatus mentioned above and its description are applicable also to the said method.

本発明によれば、少量の微小な部品を撹拌する撹拌装置および撹拌方法を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the stirring apparatus and stirring method which stir a small amount of micro components can be provided.

本実施形態における撹拌装置を用いためっき装置の概略構成を示す図である。It is a figure which shows schematic structure of the plating apparatus using the stirring apparatus in this embodiment. 図1のめっき装置の容器およびキャップを示す断面図である。It is sectional drawing which shows the container and cap of the plating apparatus of FIG. 図1のめっき装置の振動印加部の概略構成を示す図である。It is a figure which shows schematic structure of the vibration application part of the plating apparatus of FIG.

以下に添付図面を参照しながら、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。かかる実施形態に示す寸法、材料、その他具体的な数値などは、発明の理解を容易とするための例示に過ぎず、特に断る場合を除き、本発明を限定するものではない。なお、本明細書および図面において、実質的に同一の機能、構成を有する要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略し、また本発明に直接関係のない要素は図示を省略する。   Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. The dimensions, materials, and other specific numerical values shown in the embodiments are merely examples for facilitating understanding of the invention, and do not limit the present invention unless otherwise specified. In the present specification and drawings, elements having substantially the same function and configuration are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted, and elements not directly related to the present invention are not illustrated. To do.

図1は、本実施形態における撹拌装置を用いためっき装置の概略構成を示す図である。めっき装置100は、めっきを行うことで、微小な被めっき部品102の表面にめっき皮膜を形成する装置である。めっき装置100は、複数の被めっき部品102を収容する容器104を備える。容器104は、半球状の底面108を有する。容器104は、図示のように複数の被めっき部品102をめっき液110に浸漬させた状態で収容している。なお被めっき部品102の量は、容器104の底面108付近に沈積する程度の少量とされる。   FIG. 1 is a diagram showing a schematic configuration of a plating apparatus using a stirring device in the present embodiment. The plating apparatus 100 is an apparatus that forms a plating film on the surface of a minute component 102 by performing plating. The plating apparatus 100 includes a container 104 that houses a plurality of components 102 to be plated. The container 104 has a hemispherical bottom surface 108. The container 104 accommodates a plurality of parts 102 to be plated immersed in a plating solution 110 as shown in the figure. Note that the amount of the part 102 to be plated is small enough to deposit near the bottom surface 108 of the container 104.

めっき装置100はさらに、容器104の開口112を塞ぐキャップ114と、陰極116および陽極118と、両電極間に電圧を印加する電源120と、振動印加部122と、恒温槽124および超音波振動部126とを備える。陰極116および陽極118は、キャップ114を介して容器104内に挿入されている。陰極116は、容器104内に収容された被めっき部品102に通電させるために、被めっき部品102に接触するように配置されている。陽極118は、めっき液110に浸漬されていて、被めっき部品102に接触した陰極116と通電する。   The plating apparatus 100 further includes a cap 114 that closes the opening 112 of the container 104, a cathode 116 and an anode 118, a power source 120 that applies a voltage between both electrodes, a vibration applying unit 122, a thermostat 124, and an ultrasonic vibration unit. 126. The cathode 116 and the anode 118 are inserted into the container 104 through the cap 114. The cathode 116 is disposed in contact with the component to be plated 102 in order to energize the component to be plated 102 accommodated in the container 104. The anode 118 is immersed in the plating solution 110 and is energized with the cathode 116 in contact with the part to be plated 102.

図2は、図1のめっき装置100の容器104およびキャップ114を示す断面図である。図3は、図1のめっき装置100の振動印加部122の概略構成を示す図である。図3では、キャップ114で塞がれた容器104、および振動印加部122を上方から見た状態で示している。   FIG. 2 is a cross-sectional view showing the container 104 and the cap 114 of the plating apparatus 100 of FIG. FIG. 3 is a diagram showing a schematic configuration of the vibration applying unit 122 of the plating apparatus 100 of FIG. In FIG. 3, the container 104 closed by the cap 114 and the vibration applying unit 122 are shown as viewed from above.

キャップ114は、陰極116および陽極118が挿入される電極用挿入口128と、めっき液110が流入する流入口130と、めっき液110が吐出する吐出口132とを有し、図2に示すように、容器104の開口112を塞いでいる。キャップ114の流入口130および吐出口132は、図1に示すように、流路134、136を介してめっき液槽138にそれぞれ接続されている。   The cap 114 has an electrode insertion port 128 into which the cathode 116 and the anode 118 are inserted, an inlet 130 into which the plating solution 110 flows, and a discharge port 132 through which the plating solution 110 discharges, as shown in FIG. In addition, the opening 112 of the container 104 is closed. As shown in FIG. 1, the inflow port 130 and the discharge port 132 of the cap 114 are connected to the plating solution tank 138 via flow paths 134 and 136, respectively.

図1に戻って、流路134の途中にはポンプ140が配置されている。めっき液110は、ポンプ140を駆動することで容器104とめっき液槽138との間を、流路134、136を通って循環する。また、流入口130、吐出口132は、接続部142、144を介して流路134、136にそれぞれ接続されている。なお流入口130には、容器104内にめっき液110を供給する供給口146も接続されている。   Returning to FIG. 1, a pump 140 is disposed in the middle of the flow path 134. The plating solution 110 circulates between the container 104 and the plating solution tank 138 through the flow paths 134 and 136 by driving the pump 140. The inflow port 130 and the discharge port 132 are connected to the flow paths 134 and 136 through connection portions 142 and 144, respectively. A supply port 146 for supplying the plating solution 110 into the container 104 is also connected to the inlet 130.

振動印加部122は、容器104を保持する保持部148と、容器104の外壁150に設置された複数の振動モータ152a〜152dと、制御部154(図1参照)とを有する。保持部148は、図1に示すように容器104の外壁150を保持し、外壁150が斜めになるように容器104を設置する。容器104を斜めに設置していることにより、複数の振動モータ152a〜152dは斜めの平面上に配置されることになる。   The vibration application unit 122 includes a holding unit 148 that holds the container 104, a plurality of vibration motors 152a to 152d installed on the outer wall 150 of the container 104, and a control unit 154 (see FIG. 1). The holding part 148 holds the outer wall 150 of the container 104 as shown in FIG. 1 and installs the container 104 so that the outer wall 150 is inclined. Since the container 104 is installed obliquely, the plurality of vibration motors 152a to 152d are arranged on an oblique plane.

制御部154は、振動モータ152a〜152dが容器104に振動を印加できるように所定の周波数で振動モータ152a〜152dを作動させる。さらに制御部154は、複数の振動モータ152a〜152dの位相をずらして、振動モータ152a〜152dを順次作動させる。なお図中では、容器104を挟んで対向するように4つの振動モータ152a〜152dを設置したが、設置位置や数は特に限定されない。   The control unit 154 operates the vibration motors 152a to 152d at a predetermined frequency so that the vibration motors 152a to 152d can apply vibration to the container 104. Further, the control unit 154 shifts the phases of the plurality of vibration motors 152a to 152d and sequentially operates the vibration motors 152a to 152d. In the figure, the four vibration motors 152a to 152d are installed so as to face each other with the container 104 interposed therebetween, but the installation position and number are not particularly limited.

恒温槽124は、図1に示すように、容器104を恒温水156に浸漬し、容器104を保温する。まためっき液槽138は、他の恒温槽158により恒温水160に浸漬され保温されている。このようにしてめっき液110は、所定の温度に保たれている。超音波振動部126は、恒温槽124内の恒温水156に超音波振動を印加することで、容器104に間接的に超音波振動を印加する。   As shown in FIG. 1, the constant temperature bath 124 immerses the container 104 in constant temperature water 156 to keep the container 104 warm. The plating bath 138 is immersed and kept warm in the constant temperature water 160 by another constant temperature bath 158. In this way, the plating solution 110 is maintained at a predetermined temperature. The ultrasonic vibration unit 126 applies ultrasonic vibration to the container 104 indirectly by applying ultrasonic vibration to the constant temperature water 156 in the constant temperature bath 124.

以下、本実施形態のめっき装置100を用いためっき方法について説明する。まず、複数の被めっき部品102をめっき液110に浸漬させた状態で容器104に収容し、開口112をキャップ114で塞ぐ。また、図1に示すように保持部148によって容器104の外壁150が斜めになるように容器104を設置し、容器104を恒温槽124の恒温水156に浸漬させる。さらに、容器104内に配置された陰極116に被めっき部品102を接触させる。   Hereinafter, a plating method using the plating apparatus 100 of the present embodiment will be described. First, a plurality of parts to be plated 102 are immersed in the plating solution 110 and accommodated in the container 104, and the opening 112 is closed with the cap 114. Further, as shown in FIG. 1, the container 104 is installed by the holding portion 148 so that the outer wall 150 of the container 104 is inclined, and the container 104 is immersed in the constant temperature water 156 of the constant temperature bath 124. Further, the part to be plated 102 is brought into contact with the cathode 116 disposed in the container 104.

つぎに、陰極116と陽極118との間に電源120により電圧を印加し、被めっき部品102を通電させ、めっき処理を開始する。なお容器104とめっき液槽138との間をめっき液110が循環するように、ポンプ140を適宜駆動させる。めっき処理を開始すると、超音波振動部126により恒温水156に超音波振動を印加して、容器104内の被めっき部品102を振動させる。その上で、振動印加部122の振動モータ152a〜152dを作動させて容器104に振動を印加する。これにより、被めっき部品102を容器104内で流動させる。   Next, a voltage is applied by the power source 120 between the cathode 116 and the anode 118 to energize the component 102 to be plated, and the plating process is started. The pump 140 is appropriately driven so that the plating solution 110 circulates between the container 104 and the plating solution tank 138. When the plating process is started, ultrasonic vibration is applied to the constant temperature water 156 by the ultrasonic vibration unit 126 to vibrate the component 102 to be plated in the container 104. Then, the vibration motors 152 a to 152 d of the vibration applying unit 122 are operated to apply vibration to the container 104. As a result, the part 102 to be plated is caused to flow in the container 104.

具体的には、被めっき部品102は、超音波振動部126からの超音波振動によって流動的になるとともに、振動モータ152a〜152dからの振動によって一方向に進行する。この方向は、半球状の底面108に連続する外壁150の円周方向であり、複数の振動モータ152a〜152dが配置された平面と平行な平面内での回転運動である。一方、外壁150が斜めになるように容器104が設置されているため、外壁150の壁面に沿って上に登った被めっき部品102は崩れ落ちることになる。このような挙動が繰り返されることにより、被めっき部品102は撹拌され、互いに凝集することがない。   Specifically, the part to be plated 102 becomes fluid by the ultrasonic vibration from the ultrasonic vibration unit 126 and advances in one direction by the vibration from the vibration motors 152a to 152d. This direction is a circumferential direction of the outer wall 150 continuous with the hemispherical bottom surface 108, and is a rotational motion in a plane parallel to the plane on which the plurality of vibration motors 152a to 152d are arranged. On the other hand, since the container 104 is installed so that the outer wall 150 is inclined, the part 102 to be plated that has climbed up along the wall surface of the outer wall 150 collapses. By repeating such behavior, the parts to be plated 102 are agitated and do not aggregate with each other.

特に、制御部154が複数の振動モータ152a〜152dの位相をずらして順次に作動させることで、容器104内での被めっき部品102の流動方向や流動速度を制御することもできる。これにより、被めっき部品の流動を安定化させることができる。   In particular, the control unit 154 can control the flow direction and flow speed of the component 102 to be plated in the container 104 by sequentially operating the plurality of vibration motors 152a to 152d while shifting the phases thereof. Thereby, the flow of parts to be plated can be stabilized.

このように、本実施形態のめっき装置100によれば、容器104に超音波振動を印加し、被めっき部品102を容器104内で流動させることで、被めっき部品102がたとえ少量であっても、陰極116に接触させながら撹拌させることができる。したがって、少量の微小な被めっき部品102に対して、ダミーを使用せずに良好にめっきを行うことができる。また、部品がその場で振動するのではなく、全体的に流動することから、部品間でめっき皮膜の厚みを均一にすることができる。   As described above, according to the plating apparatus 100 of the present embodiment, even if the component to be plated 102 is a small amount by applying ultrasonic vibration to the container 104 and causing the component to be plated 102 to flow in the container 104. , Stirring can be performed while contacting the cathode 116. Therefore, it is possible to satisfactorily perform plating on a small amount of the component to be plated 102 without using a dummy. In addition, since the component does not vibrate on the spot but flows as a whole, the thickness of the plating film can be made uniform between the components.

なお、上記実施形態においては、撹拌装置として、電気めっきを行うめっき装置を例に挙げて説明した。しかし本発明はこれに限定するものではなく、無電解めっき、洗浄、化学研磨、電解研磨する際の撹拌装置としても適用可能である。   In the above-described embodiment, a plating apparatus that performs electroplating is described as an example of the stirring apparatus. However, the present invention is not limited to this, and can also be applied as an agitator for electroless plating, cleaning, chemical polishing, and electrolytic polishing.

また、上記実施形態では、容器104として底面108が半球状のものを使用したが、これに限らず、底面108の形状は曲面であってもよい。このようにすれば、容器104として各種のものも使用できるため、利便性を向上できる。   In the above embodiment, the container 104 has a hemispherical bottom surface 108. However, the shape is not limited to this, and the shape of the bottom surface 108 may be a curved surface. In this way, since various containers 104 can be used, convenience can be improved.

また、上記の実施形態ではキャップ114を用いるように説明したが、容器104内のめっき液の液量を確保できるのであれば、キャップを用いなくてもよい。   In the above embodiment, the cap 114 is used. However, the cap may not be used as long as the amount of the plating solution in the container 104 can be secured.

以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明はかかる例に限定されないことは言うまでもない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。   As mentioned above, although preferred embodiment of this invention was described referring an accompanying drawing, it cannot be overemphasized that this invention is not limited to this example. It will be apparent to those skilled in the art that various changes and modifications can be made within the scope of the claims, and these are naturally within the technical scope of the present invention. Understood.

本発明は、少量の微小な部品を撹拌する撹拌装置および撹拌方法として利用することができる。   The present invention can be used as a stirring device and a stirring method for stirring a small amount of minute parts.

100…めっき装置、102…被めっき部品、104…容器、108…底面、110…めっき液、112…開口、114…キャップ、116…陰極、118…陽極、120…電源、122…振動印加部、124、158…恒温槽、126…超音波振動部、128…電極用挿入口、130…流入口、132…吐出口、134、136…流路、138…めっき液槽、140…ポンプ、142、144…接続部、146…供給口、148…保持部、150…外壁、152a、152b、152c、152d…振動モータ、154…制御部、156、160…恒温水 DESCRIPTION OF SYMBOLS 100 ... Plating apparatus, 102 ... Component to be plated, 104 ... Container, 108 ... Bottom surface, 110 ... Plating solution, 112 ... Opening, 114 ... Cap, 116 ... Cathode, 118 ... Anode, 120 ... Power source, 122 ... Vibration application part, 124, 158 ... constant temperature bath, 126 ... ultrasonic vibration part, 128 ... electrode insertion port, 130 ... inflow port, 132 ... discharge port, 134, 136 ... flow path, 138 ... plating bath, 140 ... pump, 142, 144 ... Connection part, 146 ... Supply port, 148 ... Holding part, 150 ... Outer wall, 152a, 152b, 152c, 152d ... Vibration motor, 154 ... Control part, 156,160 ... Constant water

Claims (3)

微小な部品を撹拌する撹拌装置において、
複数の前記部品を収容する容器と、
前記容器に超音波振動を印加する超音波振動部と、
前記容器の外壁に設置された複数の振動モータと、
前記複数の振動モータの位相をずらして該振動モータを順次作動させる制御部とを備えることを特徴とする撹拌装置。
In a stirrer that stirs minute parts,
A container containing a plurality of the parts;
An ultrasonic vibration unit for applying ultrasonic vibration to the container;
A plurality of vibration motors installed on the outer wall of the container;
And a control unit that sequentially operates the vibration motors while shifting the phases of the plurality of vibration motors.
前記容器は、底面が曲面であって、前記外壁が斜めになるように設置されていることを特徴とする請求項1に記載の撹拌装置。   The stirring device according to claim 1, wherein the container is installed so that a bottom surface is a curved surface and the outer wall is inclined. 微小な部品を撹拌する撹拌方法において、
複数の前記部品を容器に収容し、
前記容器に超音波振動を印加すると共に、
前記容器の外壁に設置された複数の振動モータの位相をずらして振動を加えることにより、前記部品を前記容器内で流動させることを特徴とする撹拌方法。
In the stirring method of stirring minute parts,
Housing a plurality of said parts in a container;
Applying ultrasonic vibrations to the container;
A stirring method, wherein the components are caused to flow in the container by applying vibrations by shifting phases of a plurality of vibration motors installed on the outer wall of the container.
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