JP2017187537A - Color filter substrate and liquid crystal display device using the same - Google Patents

Color filter substrate and liquid crystal display device using the same Download PDF

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匠 齋藤
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a color filter substrate having a structure that allows manufacturing with less manufacturing processes than a conventional one, and also to provide a liquid crystal display device using the same.SOLUTION: A color filter substrate includes a black matrix, part of which forms a protrusion of a spacer holding a cell gap between the color filter substrate and a TFT array substrate. The spacer preferably includes two or more types of spacers having different heights. A liquid crystal display device uses the color filter substrate.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は液晶表示装置用カラーフィルタ基板、及びそれを用いた液晶表示装置に関する。   The present invention relates to a color filter substrate for a liquid crystal display device and a liquid crystal display device using the same.

液晶表示装置は、ガラス基板上に薄膜トランジスタ(TFT)のスイッチング素子を形成したTFTアレイ基板とカラーフィルタ基板を所定の間隔を設けて対向させて配置し、シール材によってこれらの基板を貼り合わせた液晶パネルにより構成される。カラーフィルタは液晶表示装置をカラー表示するために必要な部材であり、ガラス基板に形成された格子状のブラックマトリクスの間に赤色画素、緑色画素、青色画素の着色層が微細にパターンニングされた構造が一般的である。(以下ブラックマトリクスをBMと略記する)。   A liquid crystal display device is a liquid crystal in which a TFT array substrate on which a thin film transistor (TFT) switching element is formed on a glass substrate and a color filter substrate are arranged to face each other with a predetermined interval, and these substrates are bonded together by a sealing material Consists of panels. A color filter is a member necessary for color display of a liquid crystal display device, and a colored layer of red pixels, green pixels, and blue pixels is finely patterned between a grid-like black matrix formed on a glass substrate. The structure is common. (Hereinafter, the black matrix is abbreviated as BM).

カラーフィルタ基板とTFTアレイ基板間のセルギャップを保持するために、カラーフィルタ上に透明樹脂をパターニングしてスペーサを形成する方法が一般的であるが、液晶パネル内におけるスペーサ部の断面積が小さいとパネル組み立て工程で基板間のセルギャップが均一になりにくく、液晶表示装置に色ムラなどが発生し易くなる。また、局部的に過剰な荷重を受けた場合にも液晶表示装置に色ムラなどが発生し易くなる。   In order to maintain a cell gap between the color filter substrate and the TFT array substrate, a method of forming a spacer by patterning a transparent resin on the color filter is generally used, but the cross-sectional area of the spacer portion in the liquid crystal panel is small. In the panel assembly process, the cell gap between the substrates is difficult to be uniform, and the liquid crystal display device is liable to cause color unevenness. Further, even when an excessive load is locally applied, color unevenness or the like is likely to occur in the liquid crystal display device.

逆に、スペーサ部の断面積が大きいとパネル組み立て工程で基板間のセルギャップは均一なものとなるが、シール材焼成時の熱収縮時にセルギャップが追従せず液晶セル内で真空気泡が発生し易くなる。   Conversely, if the spacer cross-sectional area is large, the cell gap between the substrates will be uniform during the panel assembly process, but the cell gap does not follow when heat shrinks during firing of the sealing material, and vacuum bubbles are generated in the liquid crystal cell. It becomes easy to do.

これらの問題を解決する方法として、基板間のセルギャップを保持するスペーサ(メインスペーサ)よりも高さの低いスペーサ(サブスペーサ)を形成する方法が特許文献1に記載されている。   As a method for solving these problems, Patent Document 1 discloses a method of forming a spacer (sub-spacer) having a height lower than that of a spacer (main spacer) that holds a cell gap between substrates.

一方、近年の高精細液晶表示装置において、斜めから視認した際に隣接画素からの漏れ光が混ざり白化して見える斜視混色が問題となっている。この斜視混色を改善するためにガラス基板上に赤色画素、緑色画素、青色画素の着色層を形成した後にBMを形成するBOC(BM on Color)の構成が提案されている。   On the other hand, in recent high-definition liquid crystal display devices, there is a problem of perspective color mixture that appears white when light leaked from adjacent pixels is mixed when viewed obliquely. In order to improve this perspective color mixture, a BOC (BM on Color) configuration is proposed in which a BM is formed after a colored layer of red pixels, green pixels, and blue pixels is formed on a glass substrate.

図6にBMを形成した後に着色層を形成した従来のカラーフィルタ基板、図7に着色層を形成した後にBMを形成したBOC構成のカラーフィルタ基板の模式断面図を示す。   FIG. 6 shows a schematic cross-sectional view of a conventional color filter substrate in which a colored layer is formed after BM is formed, and FIG. 7 shows a BOC configuration color filter substrate in which BM is formed after forming a colored layer.

特許第3925142号公報Japanese Patent No. 3925142

高さの異なるメインスペーサ、及びサブスペーサを形成するためには、露光量を変化させ複数の露光工程を実施する、あるいは透過率の異なる複数のフォトマスクを用いて複数の露光工程を実施する、もしくは透過率の異なる光透過部を持つ階調マスクを使用する方法があるが、いずれもスペーサ形成のみを目的とした工程が必要であり、露光工程数が多くなるという課題があった。   In order to form main spacers and sub-spacers having different heights, a plurality of exposure processes are performed by changing the exposure amount, or a plurality of exposure processes are performed using a plurality of photomasks having different transmittances. Alternatively, there is a method of using a gradation mask having light transmitting portions having different transmittances, but each of them requires a process only for forming a spacer, and there is a problem that the number of exposure processes increases.

本発明は、前記課題に鑑みてなされたものであって、その目的とするところは、着色層を形成した後にBMを形成するBOC構成のカラーフィルタ基板において、従来よりも少ない工程で作製できる構造を備えたカラーフィルタ基板、及びそれを用いた液晶表示装置を提供することである。   The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and the object of the present invention is a structure that can be manufactured with fewer steps than before in a BOC-structured color filter substrate in which a BM is formed after forming a colored layer. And a liquid crystal display device using the color filter substrate.

上述の課題を解決するために、請求項1に記載の発明は、液晶表示装置に用いられ、着色層と、ブラックマトリクスと、TFTアレイ基板とのセルギャップを保持するスペーサと、を備えるカラーフィルタ基板において、
前記ブラックマトリクスの一部が前記スペーサの凸部を形成している事を特徴とするカラーフィルタ基板としたものである。
In order to solve the above-described problem, the invention described in claim 1 is used in a liquid crystal display device, and includes a color layer, a black matrix, and a spacer that holds a cell gap between the TFT array substrate. In the substrate,
The color filter substrate is characterized in that a part of the black matrix forms a convex portion of the spacer.

請求項2に記載の発明は、前記スペーサは高さの異なる2種類以上のスペーサである事を特徴とする請求項1に記載のカラーフィルタ基板としたものである。   The invention according to claim 2 is the color filter substrate according to claim 1, wherein the spacer is two or more kinds of spacers having different heights.

請求項3に記載の発明は、前記高さの異なる2種類以上のスペーサのうち、少なくとももっとも低いスペーサの下部は、異なる着色層の境界部に、断面視で1〜5μmの幅で存在する事を特徴とする請求項2に記載のカラーフィルタ基板としたものである。   According to a third aspect of the present invention, at least the lower part of the lowest spacer among the two or more types of spacers having different heights is present at a boundary portion of different colored layers with a width of 1 to 5 μm in a sectional view. The color filter substrate according to claim 2.

請求項4に記載の発明は、前記高さの異なる2種類以上のスペーサのうち、少なくとももっとも高いスペーサの下には、異なる着色層の境界部が存在し、前記境界部では一方の着色層が凸部を形成している事を特徴とする請求項2に記載のカラーフィルタ基板としたものである。   According to a fourth aspect of the present invention, a boundary portion of different colored layers exists below at least the highest spacer among the two or more types of spacers having different heights, and one colored layer is present at the boundary portion. 3. A color filter substrate according to claim 2, wherein convex portions are formed.

請求項5に記載の発明は、前記高さの異なる2種類以上のスペーサのうち、少なくとももっとも高いスペーサの下には、異なる着色層が積層している事を特徴とする請求項2に記載のカラーフィルタ基板としたものである。   The invention according to claim 5 is characterized in that, among the two or more kinds of spacers having different heights, different colored layers are laminated under at least the highest spacer. This is a color filter substrate.

請求項6に記載の発明は、前記高さの異なる2種類以上のスペーサのうち、もっとも高いスペーサともっとも低いスペーサの高さの差は、0.3〜0.7μmである事を特徴とする請求項1〜5のいずれか一項に記載のカラーフィルタ基板としたものである。   The invention according to claim 6 is characterized in that a difference in height between the highest spacer and the lowest spacer among the two or more kinds of spacers having different heights is 0.3 to 0.7 μm. The color filter substrate according to any one of claims 1 to 5.

請求項7に記載の発明は、請求項1〜6のいずれか一項に記載のカラーフィルタ基板を備える事を特徴とする液晶表示装置としたものである。   The invention according to claim 7 is a liquid crystal display device comprising the color filter substrate according to any one of claims 1 to 6.

本発明のカラーフィルタ基板の構造によれば、着色層が形成された後にBMが形成されるBOC構成において、BMの一部がスペーサの凸部を形成しているので、BM形成とスペーサ形成を同一の露光工程で行うことができ、カラーフィルタ基板、及びそれを用いた液晶表示装置の生産性と製造コストの改善に寄与することができる。   According to the structure of the color filter substrate of the present invention, in the BOC configuration in which the BM is formed after the colored layer is formed, a part of the BM forms the convex portion of the spacer. This can be performed in the same exposure process, and can contribute to the improvement of the productivity and manufacturing cost of the color filter substrate and the liquid crystal display device using the same.

本発明のカラーフィルタ基板に係る、第1の実施形態を示す模式断面図である。It is a schematic cross section which shows 1st Embodiment based on the color filter substrate of this invention. 本発明のカラーフィルタ基板に係る、第1の実施形態の変形例を示す模式断面図である。It is a schematic cross section which shows the modification of 1st Embodiment based on the color filter substrate of this invention. 本発明のカラーフィルタ基板に係る、第2の実施形態を示す模式断面図である。It is a schematic cross section which shows 2nd Embodiment based on the color filter substrate of this invention. 本発明のカラーフィルタ基板の第1の実施形態に係る、製造工程の一部を示す模式断面図である。It is a schematic cross section which shows a part of manufacturing process based on 1st Embodiment of the color filter substrate of this invention. 本発明のカラーフィルタ基板の第2の実施形態に係る、製造工程の一部を示す模式断面図である。It is a schematic cross section which shows a part of manufacturing process based on 2nd Embodiment of the color filter substrate of this invention. 従来のカラーフィルタ基板を示す模式断面図である。It is a schematic cross section showing a conventional color filter substrate. 従来のBOC構成のカラーフィルタ基板を示す模式断面図である。It is a schematic cross section which shows the color filter substrate of the conventional BOC structure.

以下、本発明のカラーフィルタ基板の実施形態について、図面を用いて詳細に説明するが、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、以下の実施形態に限定されるものではない。尚、同一の構成要素については便宜上の理由がない限り同一の符号を付け、重複する説明は省略する。また、以下の説明で用いる図面は、特徴をわかりやすくするために、特徴となる部分を拡大して示しており、各構成要素の寸法比率などは実際と同じではない。   Hereinafter, embodiments of the color filter substrate of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. However, the present invention is not limited to the following embodiments without departing from the spirit of the present invention. In addition, the same code | symbol is attached | subjected about the same component unless there is a reason for convenience, and the overlapping description is abbreviate | omitted. Further, in the drawings used in the following description, in order to make the features easier to understand, the portions that become the features are enlarged and shown, and the dimensional ratios of the respective constituent elements are not the same as actual.

図1は、本発明のカラーフィルタ基板の第1の実施形態を示す模式断面図である。ここでは、透明基板1の上に赤、青、緑の着色層2(R)、2(B)、2(G)が形成され、BOC構成のBM(4a)が形成されている。さらに高さの異なる2種類のスペーサ(メインスペーサ6c−1、サブスペーサ6b−1)が形成されているが、液晶表示装置の目的や用途によっては、同じ高さの1種類のスペーサでもよく、高さの異なる3種類以上であってもよい。   FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a first embodiment of a color filter substrate of the present invention. Here, red, blue, and green colored layers 2 (R), 2 (B), and 2 (G) are formed on the transparent substrate 1 to form a BOC-structured BM (4a). Furthermore, two types of spacers (main spacer 6c-1 and sub-spacer 6b-1) having different heights are formed, but depending on the purpose and application of the liquid crystal display device, one type of spacer having the same height may be used. Three or more different heights may be used.

また、全面に保護膜としてオーバーコート層5が形成され、従ってメインスペーサ6c−1、サブスペーサ6b−1上はそれぞれ、メインスペーサ用レジストパターン4c−1、サブスペーサ用レジストパターン4b−1とオーバーコート層5により構成されている。   Further, an overcoat layer 5 is formed on the entire surface as a protective film. Therefore, the main spacer 6c-1 and the sub spacer 6b-1 are overcoated with the main spacer resist pattern 4c-1 and the sub spacer resist pattern 4b-1, respectively. A coat layer 5 is used.

さらに、本発明のカラーフィルタ基板の特徴は、BMの一部がスペーサの凸部を形作るメインスペーサ用レジストパターン4c−1、サブスペーサ用レジストパターン4b−1となっていることである。これはメインスペーサ用レジストパターン4c−1、サブスペーサ用レジストパターン4b−1、及びBM(4a)を同じ露光工程で作製したことによるものであり、従ってメインスペーサ用レジストパターン4c−1、サブスペーサ用レジストパターン4b−1、及びBM(4a)は、同じレジスト組成物(以下レジストと略記する)から成っている。   Further, the color filter substrate of the present invention is characterized in that a part of the BM is a main spacer resist pattern 4c-1 and a sub-spacer resist pattern 4b-1 that form a convex portion of the spacer. This is because the main spacer resist pattern 4c-1, the sub spacer resist pattern 4b-1, and the BM (4a) are produced in the same exposure process. The resist pattern 4b-1 and BM (4a) are made of the same resist composition (hereinafter abbreviated as resist).

また、本発明のカラーフィルタ基板の第1の実施形態では、図1のように、高さの低いサブスペーサ6b−1の凸部を形作るサブスペーサ用レジストパターン4b−1は、異なる着色層の境界部に、断面視でBMの幅よりも小さい1〜5μmの幅で存在する部分を有している。(BMの幅よりも小さい理由は、後述の製造工程に関する部分で説明する)。   In the first embodiment of the color filter substrate of the present invention, as shown in FIG. 1, the sub-spacer resist pattern 4b-1 that forms the convex portion of the sub-spacer 6b-1 having a low height is formed of different colored layers. The boundary portion has a portion having a width of 1 to 5 μm smaller than the width of the BM in a cross-sectional view. (The reason why the width is smaller than the width of the BM will be described in the part relating to the manufacturing process described later).

さらに、本発明のカラーフィルタ基板の第1の実施形態では、図1のように、高い方のメインスペーサ6c−1の凸部を形作るメインスペーサ用レジストパターン4c−1の下には、異なる着色層の境界部が存在し、該境界部では一方の着色層が凸部を形成している。(凸部を形成する理由は、後述の製造工程に関する部分で説明する)。   Further, in the first embodiment of the color filter substrate of the present invention, as shown in FIG. 1, the main spacer resist pattern 4c-1 that forms the convex portion of the higher main spacer 6c-1 is colored differently. There is a boundary between layers, and one colored layer forms a convex portion at the boundary. (The reason for forming the convex portion will be described in the part relating to the manufacturing process described later).

図2は、本発明のカラーフィルタ基板の第1の実施形態の変形例を示す模式断面図である。図1と異なる点は、サブスペーサ6b−1の凸部を形作るサブスペーサ用レジストパターン4b−1の、異なる着色層の境界部に存在する部分の形状であり、図1が逆台形状であったのに対し、図2の変形例では長方形状となっている。長方形状であっても、断面視でBMの幅よりも小さい1〜5μmの幅であることは図1の逆台形状の場合と同じである。   FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing a modification of the first embodiment of the color filter substrate of the present invention. The difference from FIG. 1 is the shape of the portion of the sub-spacer resist pattern 4b-1 that forms the convex portion of the sub-spacer 6b-1, which exists at the boundary between different colored layers. FIG. In contrast, the modification of FIG. 2 has a rectangular shape. Even if it is a rectangular shape, it is the same as the case of the inverted trapezoidal shape of FIG.

図1、(b)では、前記異なる着色層の境界部に存在する部分の形状が逆台形状、長方形状の場合を示したが、下辺が透明基板1に到達しない逆三角形状であってもよい。これらの形状の作り分けは、液晶表示装置の目的や用途に応じて作り分け、スペーサの種類や高さ、レジスト特性に依存する。   In FIG. 1B, the shape of the portion existing at the boundary between the different colored layers is an inverted trapezoidal shape or a rectangular shape, but even if the lower side is an inverted triangular shape that does not reach the transparent substrate 1. Good. These shapes are made according to the purpose and application of the liquid crystal display device and depend on the type and height of the spacer and the resist characteristics.

図3は、本発明のカラーフィルタ基板の第2の実施形態を示す模式断面図である。ここでは、サブスペーサ6b−2、及びその凸部を形作るサブスペーサ用レジストパターン4b−2は、図1のメインスペーサ6c−1、及びその凸部を形作るメインスペーサ用レジストパターン4c−1と同じ形状であり、サブスペーサ用レジストパターン4b−2の下には、異なる着色層の境界部が存在し、該境界部では一方の着色層が凸部を形成している。   FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing a second embodiment of the color filter substrate of the present invention. Here, the sub-spacer 6b-2 and the sub-spacer resist pattern 4b-2 forming the convex portion are the same as the main spacer 6c-1 and the main spacer resist pattern 4c-1 forming the convex portion in FIG. The boundary portion of the different colored layer exists under the resist pattern 4b-2 for the sub-spacer, and one colored layer forms a convex portion at the boundary portion.

一方、第2の実施形態では、図3のように、高い方のメインスペーサ6c−2の凸部を形作るメインスペーサ用レジストパターン4c−2の下でメインスペーサ6c−2の土台となる領域には、異なる着色層が積層している。積層していることにより、着色層がより高く(厚く)なり、メインスペーサ6c−2の高さをサブスペーサ6b−2よりも高くすることができる。   On the other hand, in the second embodiment, as shown in FIG. 3, in the region serving as the base of the main spacer 6 c-2 under the main spacer resist pattern 4 c-2 that forms the convex portion of the higher main spacer 6 c-2. Are stacked with different colored layers. By laminating, the colored layer becomes higher (thick), and the height of the main spacer 6c-2 can be made higher than that of the sub-spacer 6b-2.

本発明のカラーフィルタ基板では、高さの異なる2種類以上のスペーサのうち、もっとも高いスペーサともっとも低いスペーサの高さの差は、0.3〜0.7μmであることがスペーサに必要な基本的特性の観点から好ましい。   In the color filter substrate of the present invention, it is necessary for the spacer that the difference in height between the highest spacer and the lowest spacer among the two or more kinds of spacers having different heights is 0.3 to 0.7 μm. From the viewpoint of mechanical characteristics.

以下、本発明のカラーフィルタ基板の構造を作製する製造工程について説明する。   Hereinafter, the manufacturing process for producing the structure of the color filter substrate of the present invention will be described.

図4は、本発明のカラーフィルタ基板の第1の実施形態(図1)を作製する製造工程の一部を示す模式断面図である。図4(a)は、透明基板1上に、着色層2(R)、2(B)、2(G)を形成した状態を示している。ここで特徴的なことは、BMのみとして機能するBM用スペース部2a、BMに加えサブスペースとして機能するサブスペーサ用スペース部2b−1、BMに加えメインスペースとして機能するメインスペーサ用着色層凸部2c−1が存在することである。   FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing a part of the manufacturing process for producing the first embodiment (FIG. 1) of the color filter substrate of the present invention. FIG. 4A shows a state where the colored layers 2 (R), 2 (B), and 2 (G) are formed on the transparent substrate 1. What is characteristic here is that the BM space portion 2a that functions only as a BM, the subspacer space portion 2b-1 that functions as a subspace in addition to the BM, and the main spacer coloring layer projection that functions as a main space in addition to the BM. That is, the part 2c-1 exists.

サブスペーサ用スペース部2b−1は、異なる着色層の境界部のサブスペーサを形成する位置にあり、断面視でBM用スペース部2aの幅よりも小さい1〜5μmの幅となっている。従ってサブスペーサ用スペース部2b−1の容積は、BM用スペース部2aのそれよりも小さい。また、メインスペーサ用着色層凸部2c−1の凸形状は、着色層2(R)のパターンを形成した後、着色層2(B)を塗布し、着色層2(R)の端面に着色層2(B)の端面が乗り上げた状態で残るように着色層2(B)のパターニングを行うことで形成する。   The space part 2b-1 for subspacers is in the position which forms the subspacer of the boundary part of a different colored layer, and has a width | variety of 1-5 micrometers smaller than the width | variety of the space part 2a for BM by sectional view. Accordingly, the volume of the sub-spacer space 2b-1 is smaller than that of the BM space 2a. The convex shape of the colored layer convex portion 2c-1 for the main spacer is formed by forming the pattern of the colored layer 2 (R), and then applying the colored layer 2 (B) to color the end face of the colored layer 2 (R). The colored layer 2 (B) is formed by patterning so that the end face of the layer 2 (B) remains on the surface.

図4(b)は、図4(a)の形態上に、BM及びスペーサを形成するためのレジスト3を塗布した状態を示している。ここで、前記のようにBM用スペース部2a、サブスペーサ用スペース部2b−1、メインスペーサ用着色層凸部2c−1が存在することにより、レジスト3の表面にも高低差が生じている。すなわち、メインスペーサ用着色層凸部2c−1上の3c−1がもっとも高く、次にサブスペーサ用スペース部2b−1の容積がBM用スペース部2aの容積よりも小さい効果により、サブスペーサ用スペース部2b−1上の3b−1、BM用スペース部2a上の3aの高さの順になる。   FIG. 4B shows a state in which a resist 3 for forming BM and spacers is applied on the configuration of FIG. Here, as described above, the presence of the BM space portion 2a, the sub-spacer space portion 2b-1, and the main spacer colored layer convex portion 2c-1 causes a difference in height on the surface of the resist 3. . That is, 3c-1 on the coloring layer convex part 2c-1 for the main spacer is the highest, and then the volume of the subspacer space part 2b-1 is smaller than the volume of the BM space part 2a. The height is 3b-1 on the space 2b-1 and 3a on the BM space 2a.

図4(c)は、図4(b)の形態に露光、現像を行い、BM(4a)のパターン、サブスペーサ用レジストパターン4b−1、メインスペーサ用レジストパターン4c−1を形成した状態を示している。ここで、露光に用いるフォトマスクは、レジスト3の表面に前記のような高低差が生じているため、透過率が一定のフォトマスクでもよいが、より確実にBM(4a)のパターン、サブスペーサ用レジストパターン4b−1、メインスペーサ用レジストパターン4c−1の高さを目標に合わせるためには、透過率の異なる光透過部を持つ階調マスクを使用することが好ましい。いずれであっても、BMとスペーサを同一の工程で形成することができる。   FIG. 4C shows a state in which the pattern of BM (4a), the sub-spacer resist pattern 4b-1, and the main spacer resist pattern 4c-1 are formed by performing exposure and development in the form of FIG. 4B. Show. Here, the photomask used for exposure has the above-described height difference on the surface of the resist 3, and thus may be a photomask having a constant transmittance. However, the BM (4a) pattern and sub-spacer can be more reliably used. In order to match the height of the resist pattern 4b-1 for main and the resist pattern 4c-1 for main spacer to the target, it is preferable to use a gradation mask having light transmitting portions having different transmittances. In any case, the BM and the spacer can be formed in the same process.

図4(d)は、図4(c)の形態にオーバーコート層5を積層した形態を示している。オーバーコート層には透明樹脂を用いることで、スペーサ部の絶縁性を好適に高めることができる。以上によりメインスペーサ6c−1、サブスペーサ6b−1の全体が形成され、本発明のカラーフィルタ基板の第1の実施形態(図1)が作製される。   FIG. 4D shows a form in which the overcoat layer 5 is laminated on the form of FIG. By using a transparent resin for the overcoat layer, the insulating property of the spacer portion can be preferably increased. Thus, the main spacer 6c-1 and the sub-spacer 6b-1 are entirely formed, and the first embodiment (FIG. 1) of the color filter substrate of the present invention is manufactured.

図5は、本発明のカラーフィルタ基板の第2の実施形態(図3)を作製する製造工程の一部を示す模式断面図である。図5(a)は、透明基板1上に、着色層2(R)、2(B)、2(G)を形成した状態を示している。ここで特徴的なことは、BMのみとして機能するBM用スペース部2a、BMに加えサブスペースとして機能するサブスペーサ用着色層凸部2b−2、BMに加えメインスペースとして機能するメインスペーサ用着色層積層部2c−2が存在することである。   FIG. 5 is a schematic cross-sectional view showing a part of the manufacturing process for producing the second embodiment (FIG. 3) of the color filter substrate of the present invention. FIG. 5A shows a state where the colored layers 2 (R), 2 (B), and 2 (G) are formed on the transparent substrate 1. What is characteristic here is the BM space 2a that functions only as a BM, the sub-spacer coloring layer projection 2b-2 that functions as a subspace in addition to the BM, and the coloring for the main spacer that functions as a main space in addition to the BM. That is, the layer stacking portion 2c-2 exists.

サブスペーサ用着色層凸部2b−2の凸形状は、着色層2(G)のパターンを形成した後、着色層2(B)を塗布し、着色層2(G)の端面に着色層2(B)の端面が乗り上げた状態で残るように着色層2(B)のパターニングを行うことで形成する。また、メインスペーサ用着色層積層部2c−2は、着色層2(R)のパターンを形成した後、着色層2(B)を塗布し、着色層2(R)に乗り上げたメインスペーサの土台となる領域の着色層2(B)が積層するように着色層2(B)のパターニングを行うことで形成する。従って、メインスペーサ用着色層積層部2c−2の高さは、サブスペーサ用着色層凸部2b−2の高さよりも高くなる。   The convex shape of the colored layer convex portion 2b-2 for the sub-spacer is formed by forming the pattern of the colored layer 2 (G), then applying the colored layer 2 (B), and coloring layer 2 (G) on the end surface of the colored layer 2 (G). It is formed by patterning the colored layer 2 (B) so that the end face of (B) remains on the surface. The main spacer colored layer laminate 2c-2 is formed with a pattern of the colored layer 2 (R), and then the colored layer 2 (B) is applied, and the base layer of the main spacer that rides on the colored layer 2 (R). The colored layer 2 (B) is formed by patterning so that the colored layer 2 (B) in the region to be stacked. Therefore, the height of the colored layer laminated portion 2c-2 for the main spacer is higher than the height of the colored layer convex portion 2b-2 for the sub-spacer.

図5(b)は、図5(a)の形態上に、BM及びスペーサを形成するためのレジスト3を塗布した状態を示している。ここで、前記のようにBM用スペース部2a、サブスペーサ用着色層凸部2b−2、メインスペーサ用着色層積層部2c−2が存在することにより、レジスト3の表面にも高低差が生じている。すなわち、メインスペーサ用着色層積層部2c−2上の3c−2がもっとも高く、次にサブスペーサ用着色層凸部2b−2上の3b−2、BM用スペース部2a上の3aの高さの順になる。   FIG. 5B shows a state in which a resist 3 for forming BM and spacers is applied on the configuration of FIG. Here, as described above, the presence of the BM space 2a, the sub-spacer colored layer projection 2b-2, and the main spacer colored layer laminate 2c-2 causes a difference in height on the surface of the resist 3 as well. ing. That is, 3c-2 on the colored layer laminate portion 2c-2 for the main spacer is the highest, next 3b-2 on the colored layer convex portion 2b-2 for the sub-spacer, and 3a on the BM space portion 2a. It becomes in order.

図5(c)は、図5(b)の形態に露光、現像を行い、BM(4a)のパターン、サブスペーサ用レジストパターン4b−2、メインスペーサ用レジストパターン4c−2を形成した状態を示している。ここで、露光に用いるフォトマスクは、レジスト3の表面に前記のような高低差が生じているため、透過率が一定のフォトマスクでもよいが、より確実にBM(4a)のパターン、サブスペーサ用レジストパターン4b−2、メインスペーサ用レジストパターン4c−2の高さを目標に合わせるためには、透過率の異なる光透過部を持つ階調マスクを使用することが好ましい。いずれであっても、BMとスペーサを同一の工程で作成することができる。   FIG. 5C shows a state in which the pattern of BM (4a), the sub-spacer resist pattern 4b-2, and the main spacer resist pattern 4c-2 are formed by performing exposure and development in the form of FIG. 5B. Show. Here, the photomask used for exposure has the above-described height difference on the surface of the resist 3, and thus may be a photomask having a constant transmittance. However, the BM (4a) pattern and sub-spacer can be more reliably used. In order to match the height of the resist pattern 4b-2 for main and the resist pattern 4c-2 for main spacer to the target, it is preferable to use a gradation mask having light transmitting portions having different transmittances. In either case, the BM and the spacer can be created in the same process.

図5(d)は、図5(c)の形態にオーバーコート層5を積層した形態を示している。オーバーコート層には透明樹脂を用いることで、スペーサ部の絶縁性を好適に高めることができる。以上により、メインスペーサ6c−2、サブスペーサ6b−2の全体が形成され、本発明のカラーフィルタ基板の第2の実施形態(図3)が作製される。   FIG. 5D shows a form in which the overcoat layer 5 is laminated on the form shown in FIG. By using a transparent resin for the overcoat layer, the insulating property of the spacer portion can be preferably increased. As described above, the entire main spacer 6c-2 and sub-spacer 6b-2 are formed, and the second embodiment (FIG. 3) of the color filter substrate of the present invention is manufactured.

BMの厚さは1.0〜3.5μm、断面視で厚さ中央部の幅は3.0〜40μmの範囲で形成される。また、赤色、青色、緑色の着色層の膜厚は1.5〜3.5μmである。   The thickness of the BM is 1.0 to 3.5 μm, and the width of the central portion of the thickness in the sectional view is 3.0 to 40 μm. The film thickness of the red, blue and green colored layers is 1.5 to 3.5 μm.

本発明の液晶表示装置は、カラーフィルタ基板に本発明のカラーフィルタ基板を備える以外は公知の構成を備えており、従来の製造方法と同様の方法で製造することができる。   The liquid crystal display device of the present invention has a known configuration except that the color filter substrate includes the color filter substrate of the present invention, and can be manufactured by a method similar to the conventional manufacturing method.

以下、本発明のカラーフィルタ基板を構成する材料について説明する。   Hereinafter, materials constituting the color filter substrate of the present invention will be described.

BMは(本発明ではBMの一部がスペーサを兼ねるが、同じ材料を用いるので、以下BM用材料として記載する)、黒色感光性樹脂を用いフォトリソグラフィ法によってマトリックス状に形成する。黒色の色材としては、カーボンブラックや酸化チタン等を用いることができる。   The BM (in the present invention, a part of the BM also serves as a spacer, but since the same material is used, it will be described as a BM material hereinafter) is formed in a matrix by a photolithography method using a black photosensitive resin. As the black color material, carbon black, titanium oxide, or the like can be used.

BM及び着色層の形成に用いる黒色感光性樹脂及び着色感光性樹脂は、例えば、樹脂バインダに顔料を分散剤を用いて分散させ、この分散液にモノマー、開始剤、増感剤、溶剤などを添加して調製される。   For example, the black photosensitive resin and the colored photosensitive resin used for forming the BM and the colored layer are obtained by dispersing a pigment in a resin binder using a dispersant, and adding a monomer, an initiator, a sensitizer, a solvent, and the like to the dispersion. It is prepared by adding.

本発明のカラーフィルタ基板においては、BM及び着色層の形成に用いる黒色感光性樹脂及び着色感光性樹脂は、樹脂バインダと開始剤を主成分として、樹脂バインダが光重合、又は熱重合、或いは光重合及び熱重合を経て、三次元架橋される。BM及び着色層の樹脂バインダを三次元架橋させることによって、パネル組み立て工程における荷重によりBM及び着色層の厚みが減じるのを抑制することができる。   In the color filter substrate of the present invention, the black photosensitive resin and the colored photosensitive resin used for forming the BM and the colored layer are mainly composed of a resin binder and an initiator, and the resin binder is photopolymerized, thermally polymerized, or photopolymerized. It undergoes three-dimensional crosslinking through polymerization and thermal polymerization. By three-dimensionally cross-linking the BM and the resin binder of the colored layer, it is possible to suppress the thickness of the BM and the colored layer from being reduced by the load in the panel assembling process.

光重合に適合する樹脂バインダとしては、例えば、アクリレート樹脂、熱重合に適合する樹脂バインダとしては、例えば、エポキシ樹脂、光重合及び熱重合に適合する樹脂バインダとしては、例えば、エポキシアクリレート樹脂が挙げられる。   Examples of resin binders suitable for photopolymerization include acrylate resins, examples of resin binders suitable for thermal polymerization include epoxy resins, and examples of resin binders suitable for photopolymerization and thermal polymerization include epoxy acrylate resins. It is done.

アルカリ可溶性樹脂としては、アクリル酸を含む(メタ)アクリル系樹脂、マレイン酸系樹脂、ロジン系樹脂、ノボラック樹脂などが挙げられる。   Examples of the alkali-soluble resin include (meth) acrylic resins containing maleic acid, maleic resins, rosin resins, and novolac resins.

重合性モノマーとしては、以下に示すようなモノマーを混合して、又は単独で使用することができる。例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート等の水酸基を含むモノマーや、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラメチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、グリセロール(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸エステル類、あるいは、ペンタエリストールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリストールヘキサ(メタ)アクリレート、トリシクロデカニル(メタ)アクリレート、ジペンタエリストールヘキサ(メタ)アクリレートのカプロラクトン付加物のヘキサ(メタ)アクリレート、メラミン(メタ)アクリレートなどが挙げられる。   As the polymerizable monomer, the following monomers can be mixed or used alone. For example, monomers containing a hydroxyl group such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, Triethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, tetramethylene glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, pentaerythritol di (meth) ) Acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate , (Meth) acrylic acid esters such as dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, glycerol (meth) acrylate, or pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, tricyclodecanyl Examples include (meth) acrylates, hexa (meth) acrylates of caprolactone adducts of dipentaerystol hexa (meth) acrylate, and melamine (meth) acrylates.

前記重合性モノマーの一部が、カルボキシル基含有多官能性単量体を含む重合性モノマーであることは、好ましい。例えば、ペンタエリスリトール又はその誘導体であっても良い。これらモノマーは、他の樹脂固形分を増やさずに現像性などのフォトリソグラ
フィ適性を保持したまま、さらには、スペーサの弾性復元率を保持したまま、重合性モノマーの混合比率を高めることができる。
It is preferable that a part of the polymerizable monomer is a polymerizable monomer containing a carboxyl group-containing polyfunctional monomer. For example, pentaerythritol or a derivative thereof may be used. These monomers can increase the mixing ratio of the polymerizable monomer while maintaining the photolithographic suitability such as developability without increasing the other resin solid content and further maintaining the elastic recovery rate of the spacer.

光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン、2,2’−ジエトキシアセトフェノン、p−ジメチルアセトフェノン、p−ジメチルアミノプロピオフェノン、ジクロロアセトフェノン、トリクロロアセトフェノン、p−tert−ブチルアセトフェノン等のアセトフェノン類、ベンゾフェノン、2−クロロベンゾフェノン、p,p’−ビスジメチルアミノベンゾフェノン等のベンゾフェノン類、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾインエーテル類、ベンジルジメチルケタール、チオキサンソン、2−クロロチオサンソン、2,4−ジエチルチオキサンソン、2−メチルチオキサンソン、2−イソプロピルチオキサンソン等の硫黄化合物、2−エチルアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、1,2−ベンズアントラキノン、2,3−ジフェニルアントラキノン等のアントラキノン類、2,4−トリクロロメチル−(4’−メトキシフェニル)−6−トリアジン、2,4−トリクロロメチル−(4’−メトキシナフチル)−6−トリアジン、2,4−トリクロロメチル−(ピペロニル)−6−トリアジン、2,4−トリクロロメチル−(4’−メトキシスチリル)−6−トリアジン等のトリアジン類、アゾビスイソブチロニトリル、ベンゾイルパーオキサイド、クメンパーオキシド等の有機過酸化物、2−メルカプトベンゾイミダゾール、2−メルカプトベンゾオキサゾール、2−メルカプトベンゾチアゾール等のチオール化合物等α−アミノケトン系光重合開始剤である2−メチル−1[4−(メチルチオ)フェニルト2]−モルフオリノプロパン−1−オン(イルガキュア907:チバスペシャリティーケミカルズ社製:商品名)、2−ベンジル−2−ジメチルアミノート(4−モルフオリノフェニルトブノン−1(イルガキュア369:BASF社製)などが挙げられる。   Examples of the photopolymerization initiator include acetophenones such as acetophenone, 2,2′-diethoxyacetophenone, p-dimethylacetophenone, p-dimethylaminopropiophenone, dichloroacetophenone, trichloroacetophenone, p-tert-butylacetophenone, Benzophenones such as benzophenone, 2-chlorobenzophenone, p, p'-bisdimethylaminobenzophenone, benzoin ethers such as benzyl, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, benzyldimethyl ketal, thioxanthone, 2- Sulfur compounds such as chlorothiosanson, 2,4-diethylthioxanthone, 2-methylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, 2-ethyl Anthraquinones such as anthraquinone, octamethylanthraquinone, 1,2-benzanthraquinone, 2,3-diphenylanthraquinone, 2,4-trichloromethyl- (4′-methoxyphenyl) -6-triazine, 2,4-trichloromethyl- Triazines such as (4′-methoxynaphthyl) -6-triazine, 2,4-trichloromethyl- (piperonyl) -6-triazine, 2,4-trichloromethyl- (4′-methoxystyryl) -6-triazine, Α-amino ketone photopolymerization such as organic peroxides such as azobisisobutyronitrile, benzoyl peroxide, cumene peroxide, thiol compounds such as 2-mercaptobenzimidazole, 2-mercaptobenzoxazole, 2-mercaptobenzothiazole, etc. Agent 2-methyl-1 [4 -(Methylthio) phenylto2] -morpholinopropan-1-one (Irgacure 907: manufactured by Ciba Specialty Chemicals: trade name), 2-benzyl-2-dimethylaminoate (4-morpholinophenyltobunon- 1 (Irgacure 369: manufactured by BASF).

赤色着色層には、例えば、色材として、C.I.Pigment Red 7、14、41、48:2、48:3、48:4、81:1、81:2、81:3、81:4、146、168、177、178、179、184、185、187、200、202、208、210、246、254、255、264、270、272、279等の赤色顔料を用いることができ、黄色顔料や橙色顔料を併用することもできる。   For the red colored layer, for example, C.I. I. Pigment Red 7, 14, 41, 48: 2, 48: 3, 48: 4, 81: 1, 81: 2, 81: 3, 81: 4, 146, 168, 177, 178, 179, 184, 185, Red pigments such as 187, 200, 202, 208, 210, 246, 254, 255, 264, 270, 272, and 279 can be used, and a yellow pigment and an orange pigment can also be used in combination.

黄色顔料としては、C.I. Pigment Yellow 1、2、3、4、5、6、10、12、13、14、15、16、17、18、24、31、32、34、35、35:1、36、36:1、37、37:1、40、42、43、53、55、60、61、62、63、65、73、74、77、81、83、93、94、95、97、98、100、101、104、106、108、109、110、113、114、115、116、117、118、119、120、123、126、127、128、129、138、139、147、150、151、152、153、154、155、156、161、162、164、166、167、168、169、170、171、172、173、174、175、176、177、179、180、181、182、187、188、193、194、199、198、213、214等が挙げられる。   Examples of yellow pigments include C.I. I. Pigment Yellow 1, 2, 3, 4, 5, 6, 10, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 24, 31, 32, 34, 35, 35: 1, 36, 36: 1, 37, 37: 1, 40, 42, 43, 53, 55, 60, 61, 62, 63, 65, 73, 74, 77, 81, 83, 93, 94, 95, 97, 98, 100, 101, 104, 106, 108, 109, 110, 113, 114, 115, 116, 117, 118, 119, 120, 123, 126, 127, 128, 129, 138, 139, 147, 150, 151, 152, 153, 154, 155, 156, 161, 162, 164, 166, 167, 168, 169, 170, 171, 172, 173, 174, 175, 176, 177, 179, 180 181,182,187,188,193,194,199,198,213,214, and the like.

橙色顔料としては、C.I. Pigment Orange 36、43、51、55、59、61、71、73等が挙げられる。   Examples of the orange pigment include C.I. I. Pigment Orange 36, 43, 51, 55, 59, 61, 71, 73 and the like.

緑色着色層には、例えば、C.I.Pigment Green 7、10、36、37、58等の緑色顔料を用いることができ、黄色顔料を併用することもできる。黄色顔料としては、赤色着色層に用いる顔料として挙げたものと同様のものが使用可能である。   Examples of the green colored layer include C.I. I. Green pigments such as Pigment Green 7, 10, 36, 37, and 58 can be used, and a yellow pigment can be used in combination. As the yellow pigment, the same pigments as those mentioned for the pigment used in the red colored layer can be used.

青色着色層には、例えば、C.I.Pigment Blue 15、15:1、15:2、15:3、15:4、15:6、16、22、60、64等の青色顔料を用いることができ、紫色顔料を併用することもできる。紫色顔料としては、C.I.PigmentViolet 1、19、23、27、29、30、32、37、40、42、50等が挙げられる。   For the blue colored layer, for example, C.I. I. Pigment Blue 15, 15: 1, 15: 2, 15: 3, 15: 4, 15: 6, 16, 22, 60, 64, and the like can be used, and a purple pigment can be used in combination. Examples of purple pigments include C.I. I. PigmentViolet 1, 19, 23, 27, 29, 30, 32, 37, 40, 42, 50 and the like.

青色着色層が、これら顔料のなかで金属フタロシアニン系青色顔料と、ジオキサジン系紫色顔料のうち1種類以上を含む場合には、0に近い位相差を得ることが容易になる。その使用量は、顔料の合計重量を基準として、金属フタロシアニン系青色顔料を40〜100重量%、ジオキサジン系紫色顔料を1〜50重量%とすることが、着色層の色相や明度、膜厚等の点から好ましく、さらに、金属フタロシアニン系青色顔料を50〜98重量%、ジオキサジン系紫色顔料を2〜25重量%とすることがより好ましい。   When the blue colored layer contains at least one of a metal phthalocyanine blue pigment and a dioxazine purple pigment among these pigments, it is easy to obtain a phase difference close to zero. The amount used is 40 to 100% by weight of the metal phthalocyanine blue pigment and 1 to 50% by weight of the dioxazine violet pigment based on the total weight of the pigment. From the above point, it is preferable that the metal phthalocyanine blue pigment is 50 to 98% by weight, and the dioxazine purple pigment is 2 to 25% by weight.

上記において金属フタロシアニン系青色顔料としてはC.I.PigmentBlue
15:6、ジオキサジン系紫色顔料としてはC.I.PigmentViolet 23が、優れた耐光性、耐熱性、透明性、及び着色力等の点から好適である。
In the above, examples of the metal phthalocyanine blue pigment include C.I. I. PigmentBlue
15: 6, and dioxazine-based purple pigments include C.I. I. PigmentViolet 23 is preferable in terms of excellent light resistance, heat resistance, transparency, coloring power, and the like.

上記赤色着色層、緑色着色層、青色着色層については顔料のほか、任意の染料と併用しても良い。   The red colored layer, green colored layer, and blue colored layer may be used in combination with an arbitrary dye in addition to the pigment.

以下、実施例により、本発明のカラーフィルタ基板をさらに詳細に説明するが、実施例1〜3に共通する条件を先に説明する。   Hereinafter, the color filter substrate of the present invention will be described in more detail with reference to examples. Conditions common to the examples 1 to 3 will be described first.

[顔料の選定]
着色層を形成するための顔料としては以下のものを使用した。
<赤色顔料1(R−1)>
赤色顔料1(C.I. Pigment Red 254、BASF社製「IRギャップHOR RED B−CF」;R−1)を使用した。
<赤色顔料2(R−2)>
赤色顔料2(C.I. Pigment Red 177、BASF社製「CROMOPHTAL RED A2B」;R−2)を使用した。
[Pigment selection]
The following were used as pigments for forming the colored layer.
<Red Pigment 1 (R-1)>
Red pigment 1 (CI Pigment Red 254, “IR Gap HOR RED B-CF” manufactured by BASF; R-1) was used.
<Red Pigment 2 (R-2)>
Red pigment 2 (CI Pigment Red 177, “CROMOPHTAL RED A2B” manufactured by BASF; R-2) was used.

<緑色顔料1(G−1)>
緑色顔料(C.I. Pigment Green 36、東洋インキ製造社製「LIONOL GREEN 6YK」;G−1)500部、塩化ナトリウム1300部、及びジエチレングリコール(東京化成社製)270部をステンレス製1ガロンニーダー(井上製作所社製)に仕込み、70℃で3時間混練した。次に、この混合物を約5リットルの温水に投入し、約70℃に加熱しながらハイスピードミキサーで約1時間撹拌してスラリー状とした後、濾過、水洗して塩化ナトリウム及びジエチレングリコールを除き、80℃で24時間乾燥し、496部のソルトミリング処理顔料を得た。
<Green Pigment 1 (G-1)>
Green pigment (CI Pigment Green 36, “LIONOL GREEN 6YK” manufactured by Toyo Ink Co., Ltd .; G-1) 500 parts, sodium chloride 1300 parts, and diethylene glycol (Tokyo Kasei Co., Ltd.) 270 parts made of stainless steel 1 gallon kneader (Made by Inoue Seisakusho) and kneaded at 70 ° C. for 3 hours. Next, this mixture is poured into about 5 liters of warm water, heated to about 70 ° C. and stirred with a high speed mixer for about 1 hour to form a slurry, then filtered and washed to remove sodium chloride and diethylene glycol, It was dried at 80 ° C. for 24 hours to obtain 496 parts of a salt milled pigment.

<黄色顔料1(Y−1)>
黄色顔料(C.I. Pigment Yellow 138、BASF社製「PALIOTOL YELLOW K0961HD」)200部、塩化ナトリウム1500部、及びジエチレングリコール(東京化成社製)270部ステンレス製1ガロンニーダー(井上製作所社製)に仕込み、60℃で6時間混練した。次に、この混合物を約5リットルの温水に投入し、約70℃に加熱しながらハイスピードミキサーで約1時間撹拌してスラリー状とした後、濾過し、水洗して塩化ナトリウム及びジエチレングリコールを除き、80℃で24時間乾燥し、196部のソルトミリング処理顔料を得た。
<Yellow Pigment 1 (Y-1)>
200 parts of yellow pigment (CI Pigment Yellow 138, “PALIOTOL YELLOW K0961HD” manufactured by BASF), 1500 parts of sodium chloride, and 270 parts of diethylene glycol (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 1 gallon kneader (manufactured by Inoue Seisakusho) The mixture was kneaded at 60 ° C. for 6 hours. Next, this mixture is poured into about 5 liters of warm water, stirred in a high speed mixer for about 1 hour while being heated to about 70 ° C. to form a slurry, filtered, washed with water to remove sodium chloride and diethylene glycol. And dried at 80 ° C. for 24 hours to obtain 196 parts of a salt milled pigment.

<青色顔料1(B−1)>
青色顔料1(C.I. Pigment Blue 15:6、東洋インキ製造社製「LIONOL BLUE ES」を使用した。
<Blue Pigment 1 (B-1)>
Blue Pigment 1 (CI Pigment Blue 15: 6, “LIONOL BLUE ES” manufactured by Toyo Ink Co., Ltd.) was used.

<紫色顔料1(V−1)>
紫色顔料1(C.I. Pigment Violet 23、東洋インキ製造社製「LIONOGEN VIOLET RL」を使用した。
<Purple Pigment 1 (V-1)>
Purple Pigment 1 (CI Pigment Violet 23, “LIONOGEN VIOLET RL” manufactured by Toyo Ink Co., Ltd.) was used.

[アクリル樹脂溶液の調製]
アクリル樹脂溶液の調製について説明する。樹脂の分子量は、GPC(ゲルパーミエーションクロマトグラフィ)により測定したポリスチレン換算の重量平均分子量である。
[Preparation of acrylic resin solution]
The preparation of the acrylic resin solution will be described. The molecular weight of the resin is a weight average molecular weight in terms of polystyrene measured by GPC (gel permeation chromatography).

反応容器にシクロヘキサノン370部を入れ、容器に窒素ガスを注入しながら80℃に加熱して、同温度で下記モノマー及び熱重合開始剤の混合物を1時間かけて滴下して、重合反応を行った。
メタクリル酸 20.0部
メチルメタクリレート 10.0部
n−ブチルメタクリレート 35.0部
2−ヒドロキシエチルメタクリレート 15.0部
2,2’−アゾビスイソブチロニトリル 4.0部
パラクミルフェノールエチレンオキサイド変性アクリレート 20.0部(東亜合成株式会社製「アロニックスM110」)
370 parts of cyclohexanone was placed in a reaction vessel, heated to 80 ° C. while injecting nitrogen gas into the vessel, and a mixture of the following monomer and thermal polymerization initiator was added dropwise at the same temperature over 1 hour to carry out a polymerization reaction. .
Methacrylic acid 20.0 parts Methyl methacrylate 10.0 parts n-Butyl methacrylate 35.0 parts 2-Hydroxyethyl methacrylate 15.0 parts 2,2'-azobisisobutyronitrile 4.0 parts paracumylphenol ethylene oxide modification Acrylate 20.0 parts ("Aronix M110" manufactured by Toa Gosei Co., Ltd.)

滴下終了後、さらに80℃で3時間反応させた後、アゾビスイソブチロニトリル1.0部をシクロヘキサノン50部に溶解させたものを添加し、さらに80℃で1時間反応を続行して、アクリル樹脂の溶液を得た。このアクリル樹脂の重量平均分子量は、約40000であった。   After completion of the dropwise addition, the mixture was further reacted at 80 ° C. for 3 hours, then 1.0 part of azobisisobutyronitrile dissolved in 50 parts of cyclohexanone was added, and the reaction was further continued at 80 ° C. for 1 hour, An acrylic resin solution was obtained. The weight average molecular weight of this acrylic resin was about 40,000.

室温まで冷却した後、樹脂溶液約2gをサンプリングして180℃で20分間加熱乾燥し、不揮発分を測定し、先に合成した樹脂溶液に不揮発分が20重量%になるようにシクロヘキサノンを添加して、アクリル樹脂溶液を調製した。   After cooling to room temperature, about 2 g of the resin solution was sampled and heat-dried at 180 ° C. for 20 minutes, the non-volatile content was measured, and cyclohexanone was added to the previously synthesized resin solution so that the non-volatile content was 20 wt%. An acrylic resin solution was prepared.

[顔料分散体の調製]
下記表1に示す組成(重量%)の混合物を均一に撹拌混合した後、直径0.5mmのジルコニアビーズを用いて、アイガーミルで2時間分散した後、5μmのフィルタで濾過し、顔料分散体RP−1、GP−1、BP−1を作製した。

Figure 2017187537
[Preparation of pigment dispersion]
The mixture of the composition (% by weight) shown in Table 1 below was uniformly stirred and mixed, then dispersed with an Eiger mill for 2 hours using zirconia beads having a diameter of 0.5 mm, filtered through a 5 μm filter, and pigment dispersion RP -1, GP-1, and BP-1.
Figure 2017187537

[着色組成物の調製]
下記表2に示す組成(重量%)の混合物を均一になるように攪拌混合した後、1μmのフィルタで濾過して、各色の着色組成物であるRR−1(赤色)、GR−1(緑色)、BR−1(青色)を作製した。

Figure 2017187537
[Preparation of colored composition]
After stirring and mixing the mixture of the composition (% by weight) shown in Table 2 to be uniform, the mixture is filtered through a 1 μm filter, and RR-1 (red) and GR-1 (green) which are colored compositions of each color. ), BR-1 (blue).
Figure 2017187537

上記表2の材料の具体例を以下に示す。
モノマー:トリメチロールプロパントリアクリレート(新中村化学社製「NKエステルATMPT」)
光開始剤:2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン-1-オン(BASF社製「イルガキュア 907」)
増感剤:4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン(保土ヶ谷化学社製「EAB−F」)
有機溶剤:シクロヘキサノン
Specific examples of the materials shown in Table 2 are shown below.
Monomer: Trimethylolpropane triacrylate (Shin Nakamura Chemical "NK Ester ATMPT")
Photoinitiator: 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one (“Irgacure 907” manufactured by BASF)
Sensitizer: 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone (“EAB-F” manufactured by Hodogaya Chemical Co., Ltd.)
Organic solvent: cyclohexanone

<実施例1>
表1の着色組成物を用いて、ガラス基板上に赤、緑、青の各着色層を形成した。
<Example 1>
Using the colored composition of Table 1, red, green, and blue colored layers were formed on a glass substrate.

すなわち、透明基板に、赤色の着色組成物であるRR−1をダイコートにより仕上り膜厚2.5μmとなるように塗布した。減圧乾燥した後、画素形成用のストライプ状パターンをもつフォトマスクを通して高圧水銀灯の光を50mJ/cm照射し、アルカリ現像液にて60秒間現像した。その後、230℃で30分硬膜し、赤色着色層を形成した。尚、仕上り膜厚とは、230℃で30分硬膜後の膜厚を意味する。 That is, RR-1 which is a red coloring composition was apply | coated to the transparent substrate by die coating so that it might become a finished film thickness of 2.5 micrometers. After drying under reduced pressure, light from a high-pressure mercury lamp was irradiated at 50 mJ / cm 2 through a photomask having a stripe pattern for pixel formation, and developed with an alkali developer for 60 seconds. Then, it hardened | cured for 30 minutes at 230 degreeC, and formed the red colored layer. The finished film thickness means the film thickness after hardening at 230 ° C. for 30 minutes.

次に、同様にして、緑色の着色組成物であるGR−1をダイコートにより仕上り膜厚が2.5μmとなるように塗布し、減圧乾燥した後、フォトマスクを通して露光、現像し、230℃で30分硬膜することで、緑色着色層を形成した。   Next, in the same manner, GR-1 which is a green coloring composition is applied by die coating so that the finished film thickness becomes 2.5 μm, dried under reduced pressure, exposed and developed through a photomask, and at 230 ° C. By hardening for 30 minutes, a green colored layer was formed.

さらに、同様にして、青色の着色組成物であるBR−1をダイコートにより仕上り膜厚が2.5μmとなるように塗布し、減圧乾燥した後、フォトマスクを通して露光、現像し、230℃で30分硬膜することで、青色着色層を形成した。   Similarly, BR-1 which is a blue coloring composition is applied by die coating so that the final film thickness is 2.5 μm, dried under reduced pressure, exposed and developed through a photomask, and 30 ° C. at 30 ° C. The blue colored layer was formed by carrying out partial hardening.

前記の赤、緑、青色着色層を形成する露光においては、BMのみとして機能するBMを配置する位置には、隣接する着色層同士が重ならず、断面視で3.0〜4.0μmの幅をもつスペース部(図4(a)の2a)が形成され、サブスペーサを形成する位置には、隣接する着色層同士が重ならず、断面視で逆台形状の上底が2.5μmの幅をもつスペース部(図4(a)の2b−1)が形成され、メインスペーサを形成する位置には、前工程で形成した着色層パターンの端面に後工程で形成する着色層パターンの端面が乗り上げて凸部(図4(a)の2c−1)が形成されるように設計されたフォトマスクをそれぞれ用いた。   In the exposure for forming the red, green, and blue colored layers, the adjacent colored layers do not overlap each other at the position where the BM that functions only as the BM is disposed, and is 3.0 to 4.0 μm in a sectional view. A space portion having a width (2a in FIG. 4A) is formed, and adjacent colored layers do not overlap each other at the position where the sub-spacer is formed, and the upper base of the inverted trapezoidal shape is 2.5 μm in a sectional view. A space portion (2b-1 in FIG. 4 (a)) having a width of 5 mm is formed, and the colored spacer pattern formed in the subsequent process is formed on the end surface of the colored layer pattern formed in the previous process at the position where the main spacer is formed. Each photomask was designed so that the end surface climbed and a convex portion (2c-1 in FIG. 4A) was formed.

その後、BM及びスペーサ形成用レジストをダイコートによりメインスペーサ部の高さが2.5μmとなるように塗布した後、BM用光透過部とスペーサ用光透過部を持つフォトマスクを通して高圧水銀灯の光を50mJ/cm照射し、アルカリ現像液にて60秒間現像した。その後、230℃で30分硬膜しBMとサブスペーサ、及びメインスペーサを一括形成した。 Thereafter, BM and a spacer forming resist are applied by die coating so that the height of the main spacer portion is 2.5 μm, and then the light of the high-pressure mercury lamp is passed through a photomask having a light transmission portion for BM and a light transmission portion for spacer. The film was irradiated with 50 mJ / cm 2 and developed with an alkali developer for 60 seconds. Then, it hardened | cured for 30 minutes at 230 degreeC, and formed BM, the subspacer, and the main spacer collectively.

尚、以上の各着色層、BM及びスペーサ形成におけるアルカリ現像液は以下の組成とした。
炭酸ナトリウム 1.5重量%
炭酸水素ナトリウム 0.5重量%
水 90.0重量%
In addition, the alkali developing solution in the above-mentioned each colored layer, BM, and spacer formation was set as the following compositions.
Sodium carbonate 1.5% by weight
Sodium bicarbonate 0.5% by weight
90.0% by weight of water

上記のようにして得られた基板の全面に、保護膜としてオーバーコート層を形成した。オーバーコート層には熱硬化性の透明樹脂を使用し、ダイコート法により塗布、減圧下で乾燥させた後230℃30min間ベークを実施した。   An overcoat layer was formed as a protective film on the entire surface of the substrate obtained as described above. A thermosetting transparent resin was used for the overcoat layer, which was applied by a die coating method and dried under reduced pressure, followed by baking at 230 ° C. for 30 minutes.

以上のようにして、図1に示す本発明の第1の実施形態のカラーフィルタ基板が得られた。該カラーフィルタ基板のメインスペーサとサブスペーサの高さの差は0.4μmであり、本発明の範囲内であることを確認した。   As described above, the color filter substrate of the first embodiment of the present invention shown in FIG. 1 was obtained. The difference in height between the main spacer and the sub-spacer of the color filter substrate was 0.4 μm, which was confirmed to be within the scope of the present invention.

<実施例2>
実施例2のカラーフィルタ基板の作製では、赤、緑、青色着色層を形成する露光において、サブスペーサを形成する位置には、隣接する着色層同士が重ならず、断面視で長方形状の2.0μmの幅をもつスペース部が形成されるように設計されたフォトマスクをそれぞれ用いた以外は、実施例1と同様の作製方法とした。
<Example 2>
In the production of the color filter substrate of Example 2, in the exposure for forming the red, green, and blue colored layers, the adjacent colored layers do not overlap with each other at the position where the sub-spacer is formed. A manufacturing method similar to that of Example 1 was used except that each photomask designed to form a space portion having a width of 0.0 μm was used.

その結果、図2に示す本発明の第1の実施形態の変形例のカラーフィルタ基板が得られた。該カラーフィルタ基板のメインスペーサとサブスペーサの高さの差は0.5μmであり、本発明の範囲内であることを確認した。   As a result, the color filter substrate of the modification of the first embodiment of the present invention shown in FIG. 2 was obtained. The difference in height between the main spacer and the sub-spacer of the color filter substrate was 0.5 μm, which was confirmed to be within the scope of the present invention.

<実施例3>
実施例3のカラーフィルタ基板の作製では、赤、緑、青色着色層を形成する露光において、サブスペーサを形成する位置には、前工程で形成した着色層パターンの端面に後工程で形成する着色層パターンの端面が乗り上げて凸部(図5(a)の2b−2)が形成され、メインスペーサを形成する位置には、前工程で形成した着色層パターンのメインスペーサの土台となる領域に後工程で形成する着色層パターンが重なり、積層部(図5(a)の2c−2)が形成されるように設計されたフォトマスクをそれぞれ用いた以外は、実施例1と同様の作製方法とした。
<Example 3>
In the production of the color filter substrate of Example 3, in the exposure for forming the red, green, and blue colored layers, the color formed on the end face of the colored layer pattern formed in the previous step at the position where the sub-spacer is formed in the subsequent step. The end surface of the layer pattern rides up to form a convex portion (2b-2 in FIG. 5A), and the main spacer is formed at a region that becomes the base of the main spacer of the colored layer pattern formed in the previous step. A manufacturing method similar to that in Example 1 except that each of the photomasks designed so that the colored layer patterns to be formed in the subsequent process overlap and a stacked portion (2c-2 in FIG. 5A) is formed is used. It was.

その結果、図3に示す本発明の第2の実施形態のカラーフィルタ基板が得られた。該カラーフィルタ基板のメインスペーサとサブスペーサの高さの差は0.6μmであり、本発明の範囲内であることを確認した。   As a result, the color filter substrate of the second embodiment of the present invention shown in FIG. 3 was obtained. The difference in height between the main spacer and the sub-spacer of the color filter substrate was 0.6 μm, which was confirmed to be within the scope of the present invention.

1、11・・・・・・透明基板
2(R)、12(R)・・・着色層(赤)
2(B)、12(B)・・・着色層(青)
2(G)、12(G)・・・着色層(緑)
2a・・・・・スペース部(ブラックマトリクス用)
2b−1・・・スペース部(サブスペーサ用)
2b−2・・・着色層凸部(サブスペーサ用)
2c−1・・・着色層凸部(メインスペーサ用)
2c−2・・・着色層積層部(メインスペーサ用)
3・・・・・・レジスト
3a・・・・・レジスト凹部(ブラックマトリクス用)
3b−1・・・レジスト凹部(サブスペーサ用)
3c−1・・・レジスト凹部(メインスペーサ用)
3b−2・・・レジスト凸部(サブスペーサ用)
3c−2・・・レジスト凹部(メインスペーサ用)
4a、14a−1、14a−2・・・・・ブラックマトリクス
4b−1、4b−2・・・レジストパターン(サブスペーサ用)
4c−1、4c−2・・・レジストパターン(メインスペーサ用)
5、15・・・・・・オーバーコート層
6b−1、6b−2、16b・・・サブスペーサ
6c−1、6c−2、16c・・・メインスペーサ
1, 11... Transparent substrate 2 (R), 12 (R) ... Colored layer (red)
2 (B), 12 (B) ... colored layer (blue)
2 (G), 12 (G) ... colored layer (green)
2a: Space (for black matrix)
2b-1 Space part (for sub-spacer)
2b-2 ... Colored layer protrusion (for sub-spacer)
2c-1 Colored layer convex part (for main spacer)
2c-2 ... Colored layer laminate (for main spacer)
3 .... Resist 3a ... Resist recess (for black matrix)
3b-1 ... Resist recess (for sub-spacer)
3c-1 ... Resist recess (for main spacer)
3b-2 ... Resist convex part (for sub-spacer)
3c-2 ... Resist recess (for main spacer)
4a, 14a-1, 14a-2 Black matrix 4b-1, 4b-2 ... Resist pattern (for sub-spacer)
4c-1, 4c-2 ... Resist pattern (for main spacer)
5, 15... Overcoat layers 6b-1, 6b-2, 16b ... Sub-spacers 6c-1, 6c-2, 16c ... Main spacers

Claims (7)

液晶表示装置に用いられ、着色層と、ブラックマトリクスと、TFTアレイ基板とのセルギャップを保持するスペーサと、を備えるカラーフィルタ基板において、
前記ブラックマトリクスの一部が前記スペーサの凸部を形成している事を特徴とするカラーフィルタ基板。
In a color filter substrate that is used in a liquid crystal display device and includes a colored layer, a black matrix, and a spacer that holds a cell gap between the TFT array substrate,
A color filter substrate, wherein a part of the black matrix forms a convex portion of the spacer.
前記スペーサは高さの異なる2種類以上のスペーサである事を特徴とする請求項1に記載のカラーフィルタ基板。   2. The color filter substrate according to claim 1, wherein the spacer is at least two kinds of spacers having different heights. 前記高さの異なる2種類以上のスペーサのうち、少なくとももっとも低いスペーサの下部は、異なる着色層の境界部に、断面視で1〜5μmの幅で存在する事を特徴とする請求項2に記載のカラーフィルタ基板。   3. The lower part of at least the lowest spacer among the two or more kinds of spacers having different heights is present at a boundary portion of different colored layers with a width of 1 to 5 μm in cross-sectional view. Color filter substrate. 前記高さの異なる2種類以上のスペーサのうち、少なくとももっとも高いスペーサの下には、異なる着色層の境界部が存在し、前記境界部では一方の着色層が凸部を形成している事を特徴とする請求項2に記載のカラーフィルタ基板。   Among the two or more types of spacers having different heights, there is a boundary portion of different colored layers below at least the highest spacer, and one colored layer forms a convex portion at the boundary portion. The color filter substrate according to claim 2, wherein 前記高さの異なる2種類以上のスペーサのうち、少なくとももっとも高いスペーサの下には、異なる着色層が積層している事を特徴とする請求項2に記載のカラーフィルタ基板。   3. The color filter substrate according to claim 2, wherein among the two or more types of spacers having different heights, different colored layers are laminated under at least the highest spacer. 4. 前記高さの異なる2種類以上のスペーサのうち、もっとも高いスペーサともっとも低いスペーサの高さの差は、0.3〜0.7μmである事を特徴とする請求項1〜5のいずれか一項に記載のカラーフィルタ基板。   The difference in height between the highest spacer and the lowest spacer among the two or more types of spacers having different heights is 0.3 to 0.7 µm. The color filter substrate according to item. 請求項1〜6のいずれか一項に記載のカラーフィルタ基板を備える事を特徴とする液晶表示装置。   A liquid crystal display device comprising the color filter substrate according to claim 1.
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