JP2017182861A - Method for manufacturing vertical magnetic recording medium - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing a magnetic recording medium which excels in magnetic head floatability and includes a protective layer having excellent corrosion resistance.SOLUTION: The present invention relates to a method for manufacturing a magnetic recording medium which includes a substrate, a magnetic recording layer including regular alloy and nonmagnetic grain boundary material and a protective layer. This method includes: (a) a step for preparing the substrate; (b) a step for sputtering an element constituting the regular alloy and the nonmagnetic grain boundary material and forming a magnetic recording layer that includes a first magnetic layer and a thin layer comprising the nonmagnetic grain boundary material on the first magnetic layer; and (c) a step for forming the protective layer, characterized in that in the step (c), a gas pressure at sputtering time is set to 1.5 Pa or higher and a thin layer comprising the nonmagnetic grain boundary material is formed on the first magnetic layer. The step (b) of this method may further include a step for forming a second magnetic layer comprising a regular alloy-C layer before the magnetic recording layer is formed.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、磁気記録媒体の製造方法に関する。具体的には、ハードディスク磁気記録装置(HDD)に用いられる磁気記録媒体の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing a magnetic recording medium. Specifically, the present invention relates to a method for manufacturing a magnetic recording medium used in a hard disk magnetic recording device (HDD).

近年、コンピューターなどの情報処理機器で取り扱う情報量の増加及び情報処理機器の小型化に伴って、情報記録装置の記憶容量の増大が図られ、情報記録装置に使用される磁気記録媒体に求められる記憶容量は増加の一途を辿っている。   In recent years, with the increase in the amount of information handled by information processing devices such as computers and the miniaturization of information processing devices, the storage capacity of information recording devices has been increased, and there is a need for magnetic recording media used in information recording devices. Memory capacity is steadily increasing.

磁気記録の高密度化を実現する技術として、垂直磁気記録方式が採用されている。垂直磁気記録媒体は、基板と、硬質磁性材料から形成される磁気記録層を少なくとも含む。垂直磁気記録媒体は、任意選択的に、軟磁性材料から形成されて、磁気ヘッドが発生する磁束を磁気記録層に集中させる役割を担う軟磁性裏打ち層、磁気記録層の硬質磁性材料を目的の方向に配向させるための下地層、磁気記録層の表面を保護する保護層などを更に含んでもよい。   As a technique for realizing high density magnetic recording, a perpendicular magnetic recording system is adopted. The perpendicular magnetic recording medium includes at least a substrate and a magnetic recording layer formed of a hard magnetic material. The perpendicular magnetic recording medium is optionally formed of a soft magnetic material, and a soft magnetic backing layer that plays a role of concentrating the magnetic flux generated by the magnetic head on the magnetic recording layer, and a hard magnetic material of the magnetic recording layer. It may further include an underlayer for orientation in the direction, a protective layer for protecting the surface of the magnetic recording layer, and the like.

良好な磁気特性を得ることを目的として、グラニュラー磁性材料を用いて垂直磁気記録媒体の磁気記録層を形成することが提案されている。グラニュラー磁性材料は、規則合金からなる磁性結晶粒と、磁性結晶粒の周囲を取り囲むように偏析した非磁性粒界材料からなる粒界部分とを含む。グラニュラー磁性材料中の個々の磁性結晶粒は、非磁性粒界材料の粒界部分によって磁気的に分離されている。   For the purpose of obtaining good magnetic properties, it has been proposed to form a magnetic recording layer of a perpendicular magnetic recording medium using a granular magnetic material. The granular magnetic material includes a magnetic crystal grain made of an ordered alloy and a grain boundary part made of a non-magnetic grain boundary material segregated so as to surround the periphery of the magnetic crystal grain. The individual magnetic crystal grains in the granular magnetic material are magnetically separated by the grain boundary portion of the nonmagnetic grain boundary material.

磁気記録媒体の記録密度を引き上げるには、磁気ヘッドの保護層の厚さ、磁気ヘッド最表面と磁気記録媒体最表面の間隔(ヘッド浮上高さ)、磁気記録媒体の潤滑層の厚さなどを更に薄くすることが必要とされている。   To increase the recording density of the magnetic recording medium, the thickness of the protective layer of the magnetic head, the distance between the outermost surface of the magnetic head and the outermost surface of the magnetic recording medium (head flying height), the thickness of the lubricating layer of the magnetic recording medium, etc. Further thinning is required.

また、磁気記録媒体の信頼性を向上させるには、特に、保護層に十分な信頼性を確保することが望まれる。即ち、保護層には、耐食性、摺動耐久性、磁気ヘッド浮上性が求められ、薄膜化しても従来と同様の信頼性を有することが求められる。しかし、従来の方法で形成された保護層は諸性能に関して十分な信頼性を得られていないことがあった。   In order to improve the reliability of the magnetic recording medium, it is particularly desirable to ensure sufficient reliability in the protective layer. That is, the protective layer is required to have corrosion resistance, sliding durability, and magnetic head flying property, and is required to have the same reliability as before even if it is thinned. However, the protective layer formed by the conventional method may not obtain sufficient reliability with respect to various performances.

そこで、かかる問題を改善するため、例えば特開平9−138943号公報(特許文献1)に記載の発明が提案されている。すなわち特許文献1では、磁性層と保護層との間にSi、Ge、Sn等を材料とした下地層を介在させて、これを緩衝膜とすることでカーボン層である保護層の残留歪を低減させている。これにより摺動耐久性を改善し、緩衝膜と保護層の合計の薄膜化を図るとしているが、まだ不十分である。   Therefore, in order to improve such a problem, for example, an invention described in JP-A-9-138943 (Patent Document 1) has been proposed. That is, in Patent Document 1, an underlying layer made of Si, Ge, Sn, or the like is interposed between the magnetic layer and the protective layer, and this is used as a buffer film to reduce the residual strain of the protective layer that is a carbon layer. It is reduced. This improves sliding durability and attempts to reduce the total thickness of the buffer film and the protective layer, but is still insufficient.

特開2008−176915号公報(特許文献2)、特開2008−192288号公報(特許文献3)及び特開2008−234828号公報(特許文献4)では、耐摩耗性、耐食性に優れた二重保護層が提案されている。二重保護層中の下地層として、アルミニウム酸化窒化物、シリコン酸化窒化物、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo又はWからなる遷移金属の酸化窒化物が提案されている。この下地層によって、保護層であるカーボン層の応力を補償し、カーボン層が磁性層に効果的に付着し、強固で安定した接合を形成するとしている。   In JP 2008-176915 A (Patent Document 2), JP 2008-192288 A (Patent Document 3) and JP 2008-234828 A (Patent Document 4), the double excellent in wear resistance and corrosion resistance. A protective layer has been proposed. As the underlayer in the double protective layer, transition metal oxynitrides composed of aluminum oxynitride, silicon oxynitride, Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Cr, Mo or W have been proposed. . The underlayer compensates for the stress of the carbon layer as the protective layer, and the carbon layer is effectively attached to the magnetic layer to form a strong and stable bond.

しかしながら、保護層の厚みが小さくなると、保護層のミクロ的な粗密が大きくなることから潤滑層を設ける場合、その潤滑層の膜厚に偏りが発生し、磁気ヘッドの浮上性が不安定になることが問題になっている。   However, if the thickness of the protective layer is reduced, the microscopic density of the protective layer is increased. Therefore, when a lubricating layer is provided, the thickness of the lubricating layer is biased and the flying performance of the magnetic head becomes unstable. That is a problem.

また、特開2014−49156号公報(特許文献5)には、磁性層上にアモルファス金属層を形成し、その上にカーボン層を形成することで、保護層の膜厚を薄くしても良好な磁気ヘッド浮上性及び耐食性が得られることが示されている。この文献に記載の記録媒体でも、アモルファス金属層を形成する工程が必要となる。   Japanese Patent Laid-Open No. 2014-49156 (Patent Document 5) is good even if the thickness of the protective layer is reduced by forming an amorphous metal layer on the magnetic layer and forming a carbon layer thereon. It has been shown that high magnetic head flying characteristics and corrosion resistance can be obtained. The recording medium described in this document also requires a process for forming an amorphous metal layer.

更に、特開2011−154746号公報(特許文献6)には、高い記録密度を有する熱アシスト磁気記録媒体が開示されている。この熱アシスト磁気記録媒体は、少なくとも基板上に第1の磁性層と第2の磁性層を含む磁性層を有し、第1の磁性層が、FePt規則合金とSiO2非磁性粒界材料を含むグラニュラー磁性材料を含み、非磁性粒界材料の含有率が基板から磁性層表面側に向かって減少しているものである。この文献は、熱アシスト磁気記録媒体の保護層に関する磁気ヘッド浮上性及び耐食性については何ら着目していない。従って、この文献には、保護層との関係において、磁気ヘッド浮上性及び耐食性の特性を改善するための磁気記録媒体の製造方法への言及はない。 Further, JP 2011-154746 A (Patent Document 6) discloses a heat-assisted magnetic recording medium having a high recording density. This heat-assisted magnetic recording medium has a magnetic layer including at least a first magnetic layer and a second magnetic layer on a substrate, and the first magnetic layer is made of an FePt ordered alloy and a SiO 2 nonmagnetic grain boundary material. The content of the nonmagnetic grain boundary material is reduced from the substrate toward the magnetic layer surface side. This document does not pay attention to the magnetic head flying property and corrosion resistance related to the protective layer of the heat-assisted magnetic recording medium. Therefore, this document does not mention a method for manufacturing a magnetic recording medium for improving the magnetic head flying characteristics and corrosion resistance characteristics in relation to the protective layer.

特開平9−138943号公報Japanese Patent Laid-Open No. 9-138943 特開2008−176915号公報JP 2008-176915 A 特開2008−192288号公報JP 2008-192288 A 特開2008−234828号公報JP 2008-234828 A 特開2014−49156号公報JP 2014-49156 A 特開2011−154746号公報JP 2011-154746 A

上述のように、磁気ヘッドの浮上性及び耐食性に優れた保護層を得ることを目的とした磁気記録媒体の製造方法は、保護層とは別の下地層などを別途設ける工程を含むものであり、生産性等に問題があった。   As described above, a method for manufacturing a magnetic recording medium for the purpose of obtaining a protective layer excellent in flying characteristics and corrosion resistance of a magnetic head includes a step of separately providing a base layer other than the protective layer. There was a problem in productivity.

従って、磁気ヘッドの浮上性がよく、しかも耐食性に優れた保護層を形成することができる磁気記録媒体の効率的な製造方法が望まれている。   Therefore, an efficient method for manufacturing a magnetic recording medium is desired which can form a protective layer with good floating properties of the magnetic head and excellent corrosion resistance.

1つの実施形態の磁気記録媒体の製造方法は、基板と、規則合金及び非磁性粒界材料を含む磁気記録層と、保護層とを含む磁気記録媒体の製造方法であって、
(a)前記基板を準備する工程と、
(b)前記規則合金を構成する元素と、前記非磁性粒界材料とをスパッタして、第1磁性層と、前記第1磁性層上に前記非磁性粒界材料からなる簿層を含む磁気記録層を形成する工程と、
(c)前記保護層を形成する工程と
を含み、
前記工程(b)の前記磁気記録層の形成において、スパッタ時のガス圧を1.5Pa以上に設定し、前記非磁性粒界材料からなる簿層が前記第1磁性層上に形成されることを特徴とする。
A method of manufacturing a magnetic recording medium according to one embodiment is a method of manufacturing a magnetic recording medium including a substrate, a magnetic recording layer including an ordered alloy and a nonmagnetic grain boundary material, and a protective layer.
(A) preparing the substrate;
(B) A magnet including a first magnetic layer and a book layer made of the nonmagnetic grain boundary material on the first magnetic layer by sputtering the elements constituting the ordered alloy and the nonmagnetic grain boundary material. Forming a recording layer;
(C) forming the protective layer,
In the formation of the magnetic recording layer in the step (b), a gas pressure during sputtering is set to 1.5 Pa or more, and a book layer made of the nonmagnetic grain boundary material is formed on the first magnetic layer. It is characterized by.

前記工程(b)は、前記磁気記録層の形成前に、規則合金を構成する元素と、炭素(C)をスパッタして、第2磁性層を形成する工程を更に含んでいてもよい。   The step (b) may further include a step of forming a second magnetic layer by sputtering an element constituting the ordered alloy and carbon (C) before forming the magnetic recording layer.

また、第1磁性層及び第2磁性層の規則合金は、Fe及びCoからなる群から選択される少なくとも1つの元素と、Pt、Pd、Au及びIrからなる群から選択される少なくとも1つの元素とを含むことが好ましい。   Further, the ordered alloy of the first magnetic layer and the second magnetic layer is at least one element selected from the group consisting of Fe and Co and at least one element selected from the group consisting of Pt, Pd, Au and Ir Are preferably included.

また、非磁性粒界材料は、C、B、Ag、Ge、W、SiO2、Al23、TiO2、GeO2及びB23からなる群から選択される少なくとも1種の材料を含むことが好ましい。 The nonmagnetic grain boundary material is at least one material selected from the group consisting of C, B, Ag, Ge, W, SiO 2 , Al 2 O 3 , TiO 2 , GeO 2 and B 2 O 3. It is preferable to include.

好ましい実施形態では、規則合金がFePtであり、非磁性粒界材料がSiO2である。 In a preferred embodiment, the ordered alloy is FePt and the nonmagnetic grain boundary material is SiO 2 .

上記発明の磁気記録媒体の製造方法によれば、磁気ヘッドの浮上性がよく、しかも耐食性に優れた磁気記録媒体を形成することができる。   According to the method for manufacturing a magnetic recording medium of the above invention, it is possible to form a magnetic recording medium with good magnetic head flying and excellent corrosion resistance.

1つの実施形態の磁気記録媒体を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the magnetic recording medium of one embodiment. 1つの実施形態の磁気記録媒体を製造する工程を示す概略図である。It is the schematic which shows the process of manufacturing the magnetic-recording medium of one embodiment. 磁気記録媒体を製造する場合における、磁気記録層を形成する際の状態を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the state at the time of forming a magnetic-recording layer in the case of manufacturing a magnetic-recording medium. 別の実施形態の磁気記録媒体を製造する工程を示す概略図である。It is the schematic which shows the process of manufacturing the magnetic recording medium of another embodiment. 実施例において作成された磁気記録媒体の磁気記録層及び保護層を示す透過電子顕微鏡(TEM)の断面画像である。It is a transmission electron microscope (TEM) cross-sectional image which shows the magnetic-recording layer and protective layer of the magnetic-recording medium produced in the Example.

以下に、図面を参照しながら、磁気記録媒体の製造方法及び当該製造方法により製造される磁気記録媒体について説明するが、以下の説明は単なる例示であり、本発明を制限することを意図するものではない。   Hereinafter, a magnetic recording medium manufacturing method and a magnetic recording medium manufactured by the manufacturing method will be described with reference to the drawings, but the following description is merely an example and is intended to limit the present invention. is not.

1つの実施形態の磁気記録媒体の製造方法は、基板と、規則合金及び非磁性粒界材料を含む磁気記録層と、保護層とを含む磁気記録媒体の製造方法であって、
(a)前記基板を準備する工程と、
(b)前記規則合金を構成する元素と、前記非磁性粒界材料とをスパッタして、第1磁性層と、前記第1磁性層上に前記非磁性粒界材料からなる簿層とを含む磁気記録層を形成する工程と、
(c)前記保護層を形成する工程と
を含み、
前記工程(b)の前記磁気記録層の形成において、スパッタ時のガス圧が1.5Pa以上に設定し、前記非磁性粒界材料からなる簿層が前記第1磁性層上に形成されることを特徴とする。本明細書において、この実施形態の製造方法を第1実施形態の製造方法、第1実施形態の磁気記録媒体の製造方法などとも称する。
A method of manufacturing a magnetic recording medium according to one embodiment is a method of manufacturing a magnetic recording medium including a substrate, a magnetic recording layer including an ordered alloy and a nonmagnetic grain boundary material, and a protective layer.
(A) preparing the substrate;
(B) Sputtering the elements constituting the ordered alloy and the nonmagnetic grain boundary material to include a first magnetic layer and a book layer made of the nonmagnetic grain boundary material on the first magnetic layer. Forming a magnetic recording layer;
(C) forming the protective layer,
In the formation of the magnetic recording layer in the step (b), a gas pressure during sputtering is set to 1.5 Pa or more, and a book layer made of the nonmagnetic grain boundary material is formed on the first magnetic layer. It is characterized by. In this specification, the manufacturing method of this embodiment is also referred to as the manufacturing method of the first embodiment, the manufacturing method of the magnetic recording medium of the first embodiment, or the like.

ここで、第1実施形態の製造方法で製造される磁気記録媒体は、基板、磁気記録層を含むが、これらの層の間に、密着層、軟磁性裏打ち層、ヒートシンク層、下地層及び/又はシード層のような当該技術において知られている層を更に含んでもよい。加えて、磁気記録媒体は、磁気記録層の上に、保護層を含む。更に任意選択的に、液体潤滑剤層のような当該技術において知られている層を更に含んでもよい。図1に、基板20、シード層40、磁気記録層60、及び保護層80を含む磁気記録媒体100の1つの構成例を示す。磁気記録媒体100の磁気記録層60は、規則合金及び当該規則合金を取り囲む非磁性粒界材料を含む第1磁性層62を含む。また、磁気記録層60は、第1の磁性層の表面側に非磁性粒界材料が析出して形成された簿層64を含む。本明細書では、この簿層64を非磁性粒界材料層とも称する。   Here, the magnetic recording medium manufactured by the manufacturing method of the first embodiment includes a substrate and a magnetic recording layer, and an adhesion layer, a soft magnetic backing layer, a heat sink layer, an underlayer, and / or a layer between these layers. Or it may further comprise a layer known in the art such as a seed layer. In addition, the magnetic recording medium includes a protective layer on the magnetic recording layer. Further optionally, it may further comprise a layer known in the art such as a liquid lubricant layer. FIG. 1 shows one configuration example of a magnetic recording medium 100 including a substrate 20, a seed layer 40, a magnetic recording layer 60, and a protective layer 80. The magnetic recording layer 60 of the magnetic recording medium 100 includes a first magnetic layer 62 including an ordered alloy and a nonmagnetic grain boundary material surrounding the ordered alloy. The magnetic recording layer 60 also includes a book layer 64 formed by depositing a nonmagnetic grain boundary material on the surface side of the first magnetic layer. In the present specification, the book layer 64 is also referred to as a nonmagnetic grain boundary material layer.

第1実施形態の磁気記録媒体の製造方法の各工程について、図2を参照して説明する。   Each process of the manufacturing method of the magnetic recording medium of 1st Embodiment is demonstrated with reference to FIG.

工程(a)は、磁気記録媒体の基板20を準備する工程である(図2(a))。基板は、表面が平滑な基板であれば、特に限定されない。例えば、磁気記録媒体に一般的に用いられる材料を用いて、基板を形成することができる。用いることができる材料は、NiPメッキを施したAl合金、MgO単結晶、MgAl24、SrTiO3、強化ガラス、結晶化ガラス、Si/SiO2等を含む。 Step (a) is a step of preparing a magnetic recording medium substrate 20 (FIG. 2A). The substrate is not particularly limited as long as the substrate has a smooth surface. For example, the substrate can be formed using a material generally used for magnetic recording media. Materials that can be used include Ni alloy plated Al alloy, MgO single crystal, MgAl 2 O 4 , SrTiO 3 , tempered glass, crystallized glass, Si / SiO 2 and the like.

工程(b)は、基板20上に、規則合金を構成する元素と、前記非磁性粒界材料とをスパッタして、第1磁性層62と、第1磁性層上に前記非磁性粒界材料からなる簿層64とを含む磁気記録層60を形成する(図2(b))。   In the step (b), the element constituting the ordered alloy and the nonmagnetic grain boundary material are sputtered on the substrate 20 to form the first magnetic layer 62 and the nonmagnetic grain boundary material on the first magnetic layer. Then, the magnetic recording layer 60 including the book layer 64 made of is formed (FIG. 2B).

規則合金を構成する元素は、Fe及びCoからなる群から選択される少なくとも1つの元素と、Pt、Pd、Au及びIrからなる群から選択される少なくとも1つの元素であることが好ましい。好ましい規則合金は、FePt、CoPt、FePd、及びCoPdからなる群から選択されるL10型規則合金である。特性変調のために、規則合金は、Ni、Mn、Cu、Ru、Ag、Au、及びCrからなる群から選択される少なくとも1種の元素を更に含んでもよい。望ましい特性変調は、規則合金の規則化に必要な温度の低下を含む。好ましい規則合金はFePtである。特に好ましい規則合金は、L10型FePtである。 The element constituting the ordered alloy is preferably at least one element selected from the group consisting of Fe and Co and at least one element selected from the group consisting of Pt, Pd, Au, and Ir. Preferred ordered alloy is FePt, CoPt, FePd, and L1 0 type ordered alloy selected from the group consisting of CoPd. For property modulation, the ordered alloy may further include at least one element selected from the group consisting of Ni, Mn, Cu, Ru, Ag, Au, and Cr. Desirable property modulation includes a decrease in temperature required for ordering of the ordered alloy. A preferred ordered alloy is FePt. Particularly preferred ordered alloy is L1 0 type FePt.

非磁性粒界材料は、C、B等の元素、金属、炭化物、酸化物、窒化物等から選択される。好ましくは、C、B、Ag、Ge、W、SiO2、Al23、TiO2、GeO2、B23から選択される少なくとも1種の材料を含むことができる。特に好ましい非磁性粒界材料はSiO2である。 The nonmagnetic grain boundary material is selected from elements such as C and B, metals, carbides, oxides, nitrides and the like. Preferably, at least one material selected from C, B, Ag, Ge, W, SiO 2 , Al 2 O 3 , TiO 2 , GeO 2 , and B 2 O 3 can be included. Particularly preferred non-magnetic grain boundary material is SiO 2.

磁気記録層60の第1磁性層62及び非磁性粒界材料からなる非磁性粒界材料層64は、規則合金の構成元素と、非磁性粒界材料とをスパッタ法により基板上に堆積させることにより形成することができる。   The first magnetic layer 62 of the magnetic recording layer 60 and the nonmagnetic grain boundary material layer 64 made of a nonmagnetic grain boundary material are formed by depositing a constituent element of an ordered alloy and a nonmagnetic grain boundary material on a substrate by sputtering. Can be formed.

本明細書における「スパッタする」とは、高エネルギーイオンの衝突によりターゲットから原子、クラスター又はイオンを射出させる段階のみを意味し、射出された原子、クラスター又はイオンに含まれる元素の全てが基板上に固定されることを意味しない。即ち、本明細書における「スパッタする」工程で得られる薄膜は、基板に到達した元素を必ずしも到達量の比で含有しない。   In this specification, “sputtering” means only a step of ejecting atoms, clusters, or ions from a target by collision of high-energy ions, and all of the elements contained in the ejected atoms, clusters, or ions are on the substrate. Does not mean to be fixed to. That is, the thin film obtained in the “sputtering” step in this specification does not necessarily contain the element that has reached the substrate in the ratio of the amount reached.

スパッタは、規則合金のターゲットと、非磁性粒界材料のターゲットを用いたコスパッタ法により実施することができる。例えば、第1磁性層62を規則合金FePtとSiO2非磁性粒界材料で形成する場合、Fe及びPtを所定の比率で含む規則合金のターゲットと、SiO2ターゲットを用いることができる。また、規則合金のターゲットとして、FeターゲットとPtターゲットを用いてもよい。或いは、Fe、Pt及びSiO2を特定の比率で含むターゲットを用いてもよい。磁気記録層における規則合金の割合、非磁性粒界材料の割合は、それぞれのターゲットに印加する電力を調整して制御することができる。 Sputtering can be performed by a co-sputtering method using an ordered alloy target and a nonmagnetic grain boundary material target. For example, when the first magnetic layer 62 is formed of an ordered alloy FePt and an SiO 2 nonmagnetic grain boundary material, an ordered alloy target containing Fe and Pt in a predetermined ratio and an SiO 2 target can be used. Further, an Fe target and a Pt target may be used as the target of the ordered alloy. Alternatively, a target containing Fe, Pt, and SiO 2 at a specific ratio may be used. The ratio of the ordered alloy and the ratio of the nonmagnetic grain boundary material in the magnetic recording layer can be controlled by adjusting the power applied to each target.

工程(b)では、図2(b)に示すように、基板20上に磁気記録層60として、規則合金及び非磁性粒界材料からなる第1磁性層62と、非磁性粒界材料からなる非磁性粒界材料層64が形成される。非磁性粒界材料層64は、工程(b)の工程中に形成される。   In the step (b), as shown in FIG. 2B, the magnetic recording layer 60 is formed on the substrate 20 as a first magnetic layer 62 made of an ordered alloy and a nonmagnetic grain boundary material, and a nonmagnetic grain boundary material. A nonmagnetic grain boundary material layer 64 is formed. The nonmagnetic grain boundary material layer 64 is formed during the step (b).

工程(b)について、図3を参照して更に詳細に説明する。以下の説明では、基板上にシード層を設け、このシード層上にFePt−SiO2の層をスパッタ法により形成する場合を例に取る。 Step (b) will be described in more detail with reference to FIG. In the following description, a case where a seed layer is provided on a substrate and an FePt—SiO 2 layer is formed on the seed layer by a sputtering method is taken as an example.

図3(a)及び(b)は、FePt−SiO2をスパッタ法によりシード層310上に堆積させた際の成長過程を示す図である。図3(a)に示すように、FePt−SiO2をスパッタ法で堆積させると、シード層310上で、図3(a)の330の方向として示した磁気記録媒体の表面に向けてFePt規則合金の磁性結晶粒300とその周りを取り囲むSiO2の非磁性粒界材料からなる粒界部分320が成長する。この状態から更にFePt−SiO2の堆積を進めると、FePt規則合金の磁性結晶粒の磁気記録媒体の表面側にSiO2が回り込み、この磁性結晶粒の表面上で、図3(b)のdの厚みで示されるようなSiO2薄膜が形成される。このように、工程(b)では、磁気記録層60を形成するためのスパッタ工程中に、第1磁性層62と非磁性粒界材料層64が形成される。 FIGS. 3A and 3B are views showing a growth process when FePt—SiO 2 is deposited on the seed layer 310 by a sputtering method. As shown in FIG. 3A, when FePt—SiO 2 is deposited by the sputtering method, the FePt rule is formed on the seed layer 310 toward the surface of the magnetic recording medium shown as the direction 330 in FIG. A grain boundary portion 320 made of a non-magnetic grain boundary material of SiO 2 surrounding the magnetic crystal grains 300 of the alloy grows. When deposition of FePt—SiO 2 is further advanced from this state, SiO 2 wraps around the surface of the magnetic recording medium of the magnetic crystal grains of the FePt ordered alloy, and d in FIG. A SiO 2 thin film as shown by the thickness is formed. Thus, in the step (b), the first magnetic layer 62 and the nonmagnetic grain boundary material layer 64 are formed during the sputtering step for forming the magnetic recording layer 60.

また、工程(b)の磁気記録層のスパッタ時のガス圧を1.5Pa以上とすることが好ましい。このようなガス圧で磁気記録層60を形成することで、第1磁性層62の良好なグラニュラー構造を維持しつつ、第1磁性層62の表面上に非磁性粒界材料層64を形成することができる。また、用いるガスは、Ar、N等が好ましく、Arがより好ましい。 In addition, the gas pressure during sputtering of the magnetic recording layer in the step (b) is preferably 1.5 Pa or more. By forming the magnetic recording layer 60 with such a gas pressure, the nonmagnetic grain boundary material layer 64 is formed on the surface of the first magnetic layer 62 while maintaining a good granular structure of the first magnetic layer 62. be able to. Moreover, Ar, N, etc. are preferable and the gas to be used has more preferable Ar.

上記の条件を用いることで、非磁性粒界材料層64を別途設ける工程を付加することなく、規則合金−非磁性粒界材料の第1磁性層62上に、非磁性粒界材料からなる非磁性粒界材料層64を形成することができる。このように、非磁性粒界材料層64は、磁気記録層を形成するスパッタ工程中に形成される。この非磁性粒界材料層64は保護層80の性能を改善する。このため非磁性粒界材料層64は保護層の下地層の機能を有する。この非磁性粒界材料層64の厚さ(図3(b)のd)は、記録の観点からは、保護層の下地層の機能を発揮できる限り、できるだけ薄い方がよい。   By using the above conditions, a nonmagnetic grain boundary material made of a nonmagnetic grain boundary material is formed on the first magnetic layer 62 of the ordered alloy-nonmagnetic grain boundary material without adding a step of separately providing the nonmagnetic grain boundary material layer 64. The magnetic grain boundary material layer 64 can be formed. Thus, the nonmagnetic grain boundary material layer 64 is formed during the sputtering process for forming the magnetic recording layer. This nonmagnetic grain boundary material layer 64 improves the performance of the protective layer 80. For this reason, the nonmagnetic grain boundary material layer 64 functions as an underlayer for the protective layer. From the viewpoint of recording, the thickness of the nonmagnetic grain boundary material layer 64 (d in FIG. 3B) is preferably as thin as possible as long as the function of the underlayer of the protective layer can be exhibited.

磁気記録層60の形成時の基板の温度は、規則合金の規則度が十分に高くなる温度であり、かつ粒径の増大が生じない程度の温度に設定することが望ましい。より好ましくは、基板の温度は400℃以上、好ましくは400℃〜700℃である。また、磁気記録層60の形成時のスパッタのターゲットへの印加電力は、所望の磁気記録層の組成となるものであれば、特に限定されない。   The temperature of the substrate at the time of forming the magnetic recording layer 60 is desirably set to a temperature at which the degree of ordering of the ordered alloy is sufficiently high and does not cause an increase in grain size. More preferably, the temperature of the substrate is 400 ° C. or higher, preferably 400 ° C. to 700 ° C. Further, the power applied to the sputtering target at the time of forming the magnetic recording layer 60 is not particularly limited as long as it has a desired composition of the magnetic recording layer.

磁気記録媒体の製造方法では、磁気記録層60の膜厚は、4.2〜19nm、好ましくは6.2〜13nmである。また、磁気記録層60の第1磁性層62の膜厚は、記録保持の観点からは厚いほうが好ましい。例えば、第1磁性層62の膜厚は4〜16nm、好ましくは6〜12nmである。非磁性粒界材料層64の膜厚は、保護ができる程度の厚さは必要であるが、記録の観点からは薄い方がよい。非磁性粒界材料層64の膜厚は、0.2〜3nm、好ましくは0.2〜1nmである。   In the method for manufacturing a magnetic recording medium, the thickness of the magnetic recording layer 60 is 4.2 to 19 nm, preferably 6.2 to 13 nm. Further, the thickness of the first magnetic layer 62 of the magnetic recording layer 60 is preferably thicker from the viewpoint of recording retention. For example, the film thickness of the first magnetic layer 62 is 4 to 16 nm, preferably 6 to 12 nm. The film thickness of the nonmagnetic grain boundary material layer 64 needs to be thick enough to protect, but is preferably thinner from the viewpoint of recording. The film thickness of the nonmagnetic grain boundary material layer 64 is 0.2 to 3 nm, preferably 0.2 to 1 nm.

規則合金と非磁性粒界材料の割合は、vol%で、規則合金:非磁性粒界材料=90:10〜50:50であることが好ましい。また、規則合金の材料であるFe及びCoからなる群から選択される少なくとも1つの元素(A)と、Pt、Pd、Au及びIrからなる群から選択される少なくとも1つの元素(B)との割合は、at%で、(A):(B)=42:58〜58:42であることが好ましい。例えば、FePt規則合金の場合、Fe(at%):Pt(at%)=48:52〜52:48であることが好ましい。   The ratio of the ordered alloy to the nonmagnetic grain boundary material is preferably vol%, and the ordered alloy: nonmagnetic grain boundary material = 90: 10 to 50:50. Further, at least one element (A) selected from the group consisting of Fe and Co, which is an ordered alloy material, and at least one element (B) selected from the group consisting of Pt, Pd, Au and Ir The ratio is at% and is preferably (A) :( B) = 42: 58 to 58:42. For example, in the case of an FePt ordered alloy, it is preferable that Fe (at%): Pt (at%) = 48:52 to 52:48.

磁気記録層60は更に多くの磁気記録層が積層された構造を有していてもよい。例えば、磁気記録層60は、上記の第1磁性層62に、追加の層として、第1磁性層とは組成又は構成元素の異なる材料からなる磁性層を更に積層した構造を有していてもよい。また、本発明では、磁気記録層60にCAP層のような追加の層を設けてもよい。   The magnetic recording layer 60 may have a structure in which more magnetic recording layers are stacked. For example, the magnetic recording layer 60 may have a structure in which a magnetic layer made of a material having a composition or a constituent element different from that of the first magnetic layer is further stacked on the first magnetic layer 62 as an additional layer. Good. In the present invention, the magnetic recording layer 60 may be provided with an additional layer such as a CAP layer.

工程(c)は、保護層80を形成する工程である。   Step (c) is a step of forming the protective layer 80.

保護層80は、磁気記録媒体の分野で慣用的に使用されている材料を用いて形成することができる。具体的には、Ptなどの非磁性金属、ダイアモンドライクカーボンなどのカーボン系材料、あるいは窒化シリコンなどのシリコン系材料を用いて、保護層80を形成することができる。また、保護層80は、単層であってもよく、積層構造を有してもよい。積層構造の保護層80は、例えば、特性の異なる2種のカーボン系材料の積層構造、金属とカーボン系材料との積層構造、又は金属酸化物層とカーボン系材料との積層構造であってもよい。保護層80は、CVD法、DCマグネトロンスパッタリング法などを含むスパッタ法、真空蒸着法などの当該技術において知られている任意の方法を用いて形成することができる。   The protective layer 80 can be formed using a material conventionally used in the field of magnetic recording media. Specifically, the protective layer 80 can be formed using a nonmagnetic metal such as Pt, a carbon-based material such as diamond-like carbon, or a silicon-based material such as silicon nitride. The protective layer 80 may be a single layer or may have a laminated structure. The laminated protective layer 80 may be, for example, a laminated structure of two types of carbon materials having different characteristics, a laminated structure of a metal and a carbon material, or a laminated structure of a metal oxide layer and a carbon material. Good. The protective layer 80 can be formed using any method known in the art such as a CVD method, a sputtering method including a DC magnetron sputtering method, and a vacuum deposition method.

磁気記録媒体の製造方法は、上述したように、少なくとも、基板20、第1磁性層62とその上に非磁性粒界材料層64とが形成された磁気記録層60、及び、保護層80を含む磁気記録媒体を製造する方法である。上述の通り、非磁性粒界材料層64は、保護層80の特性を改善するための下地層の機能を有するものである。この製造方法は、非磁性粒界材料層64を作成する別途の工程を必要とせずに、第1磁性層62の良好なグラニュラー構造を維持しながら、第1磁性層62上に非磁性粒界材料層64を形成することができる。そして、この非磁性粒界材料層64上に保護層80を形成することで、良好な磁気ヘッド浮上性及び耐食性を実現することができる。   As described above, the method of manufacturing the magnetic recording medium includes at least the substrate 20, the first magnetic layer 62, the magnetic recording layer 60 on which the nonmagnetic grain boundary material layer 64 is formed, and the protective layer 80. A method of manufacturing a magnetic recording medium including the same. As described above, the nonmagnetic grain boundary material layer 64 has a function of an underlayer for improving the characteristics of the protective layer 80. This manufacturing method does not require a separate process for forming the nonmagnetic grain boundary material layer 64, and maintains a good granular structure of the first magnetic layer 62 while maintaining the nonmagnetic grain boundary on the first magnetic layer 62. A material layer 64 can be formed. By forming the protective layer 80 on the nonmagnetic grain boundary material layer 64, good magnetic head flying characteristics and corrosion resistance can be realized.

次に、磁気記録媒体の別の実施形態について説明する。この実施形態の磁気記録媒体の製造方法を、第2実施形態の磁気記録媒体の製造方法、第2実施形態の製造方法等とも称する。   Next, another embodiment of the magnetic recording medium will be described. The magnetic recording medium manufacturing method of this embodiment is also referred to as a magnetic recording medium manufacturing method of the second embodiment, a manufacturing method of the second embodiment, and the like.

この磁気記録媒体の製造方法は、上述した第1実施形態の製造方法の工程(b)が、磁気記録層の形成前に、規則合金を構成する元素と、炭素(C)とをスパッタして、第2磁性層を形成する工程を更に含むことを特徴とする。   In this method of manufacturing a magnetic recording medium, step (b) of the manufacturing method of the first embodiment described above is performed by sputtering the elements constituting the ordered alloy and carbon (C) before forming the magnetic recording layer. The method further includes the step of forming a second magnetic layer.

より具体的には、磁気記録媒体の製造方法は、基板と、規則合金及び非磁性粒界材料を含む磁気記録層と、保護層とを少なくとも含む磁気記録媒体の方法であり、
(a)前記基板を準備する工程と、
(b)前記磁気記録層を形成する工程であって、
(b−1) 前記規則合金を構成する元素と炭素(C)とをスパッタして、第2磁性層を形成する工程、及び
(b−2) 前記規則合金を構成する元素と、前記非磁性粒界材料とをスパッタして、第1磁性層と、前記第1磁性層上に前記非磁性粒界材料からなる簿層とを含む第1磁気記録層を形成する工程、
を含む工程と、
(c)前記保護層を形成する工程と
を含み、
前記工程(b)の前記磁気記録層の形成において、(b−2)のスパッタ時のガス圧を1.5Pa以上に設定し、工程(b−2)の前記非磁性粒界材料からなる簿層が前記第1磁性層上に形成されることを特徴とする。
More specifically, the method of manufacturing a magnetic recording medium is a method of a magnetic recording medium including at least a substrate, a magnetic recording layer including an ordered alloy and a nonmagnetic grain boundary material, and a protective layer.
(A) preparing the substrate;
(B) forming the magnetic recording layer,
(B-1) a step of forming a second magnetic layer by sputtering an element constituting the ordered alloy and carbon (C); and (b-2) an element constituting the ordered alloy and the non-magnetic. Sputtering a grain boundary material to form a first magnetic recording layer including a first magnetic layer and a book layer made of the nonmagnetic grain boundary material on the first magnetic layer;
A process including:
(C) forming the protective layer,
In the formation of the magnetic recording layer in the step (b), the gas pressure at the time of sputtering in the step (b-2) is set to 1.5 Pa or more, and the book made of the nonmagnetic grain boundary material in the step (b-2). A layer is formed on the first magnetic layer.

図4を参照して、上記磁気記録媒体の製造方法を説明する。なお、この製造方法において、工程(a)及び工程(c)は上述の第1実施形態の製造方法と同様である。   With reference to FIG. 4, a method of manufacturing the magnetic recording medium will be described. In this manufacturing method, step (a) and step (c) are the same as the manufacturing method of the first embodiment described above.

まず、工程(a)において、上記第1実施形態の製造方法と同様に、基板20を準備する(図4(a))。   First, in the step (a), the substrate 20 is prepared similarly to the manufacturing method of the first embodiment (FIG. 4A).

工程(b)は磁気記録層60を形成する工程である(図4(b))。この工程では、磁気記録層60の形成は、まず、第2磁性層61を形成し(工程(b−1))、次いで第1磁性層62と、第1磁性層の非磁性粒界材料からなる非磁性粒界材料層64層とを含む第1磁気記録層65を形成する(工程(b−2))。   Step (b) is a step of forming the magnetic recording layer 60 (FIG. 4B). In this step, the magnetic recording layer 60 is formed by first forming the second magnetic layer 61 (step (b-1)), and then from the first magnetic layer 62 and the nonmagnetic grain boundary material of the first magnetic layer. The first magnetic recording layer 65 including the nonmagnetic grain boundary material layer 64 is formed (step (b-2)).

工程(b−1)は、基板20上に、規則合金を構成する元素と、非磁性粒界材料である炭素(C)とをスパッタして、第2磁性層61を形成する(図4(b))。   In the step (b-1), the element constituting the ordered alloy and the carbon (C) which is a nonmagnetic grain boundary material are sputtered on the substrate 20 to form the second magnetic layer 61 (FIG. 4 ( b)).

第2磁性層の規則合金は、Fe、Co、Ni等から選択される少なくとも一種の元素と、Pt、Pd、Au、Cu、Ir等から選択される少なくとも一種の元素とを含む合金が好ましい。より好ましくは、規則合金はFePt、CoPt、FePd、及びCoPdからなる群から選択される材料で構成されるL10型合金であり、最も好ましくは、L10型のFePt合金である。 The ordered alloy of the second magnetic layer is preferably an alloy containing at least one element selected from Fe, Co, Ni and the like and at least one element selected from Pt, Pd, Au, Cu, Ir and the like. More preferably, the ordered alloy is an L1 0 type alloy composed of a material selected from the group consisting of FePt, CoPt, FePd, and CoPd, and most preferably an L1 0 type FePt alloy.

従って、特に好ましい実施形態では、第2磁性層61は、規則合金がL10型のFePt合金であり、規則合金を取り囲む非磁性粒界材料が炭素(C)である。なお、本実施形態では、第1磁気記録層65は上記第1実施形態と同じであるから、第1磁気記録層65の規則合金はL10型のFePt合金であることが特に好ましく、非磁性粒界材料はSiO2であることが好ましい。なお、第2磁性層61の規則合金は、第1磁性層62と同じであることが好ましいが、これに限定されず、第1磁性層62と異なる元素を用いてもよい。 Thus, in a particularly preferred embodiment, the second magnetic layer 61 is ordered alloy is L1 0 type FePt alloy, nonmagnetic grain boundary material surrounding the ordered alloy is carbon (C). In the present embodiment, since the first magnetic recording layer 65 are the same as those in the first embodiment is particularly preferred that an ordered alloy of the first magnetic recording layer 65 is L1 0 type FePt alloy, nonmagnetic The grain boundary material is preferably SiO 2 . The ordered alloy of the second magnetic layer 61 is preferably the same as that of the first magnetic layer 62, but is not limited to this, and an element different from that of the first magnetic layer 62 may be used.

第2磁性層61は、規則合金と炭素(C)からなる非磁性粒界材料とから構成されるグラニュラー構造を有する。第2磁性層61はテンプレート層として機能し、第2磁性層61のグラニュラー構造にならったグラニュラー構造の第1磁性層62を効率よく形成できる。また、本実施形態では、第1磁性層62上に非磁性粒界材料層64が形成された第1磁気記録層65を高率よく形成できる。   The second magnetic layer 61 has a granular structure composed of an ordered alloy and a nonmagnetic grain boundary material made of carbon (C). The second magnetic layer 61 functions as a template layer, and the first magnetic layer 62 having a granular structure similar to the granular structure of the second magnetic layer 61 can be efficiently formed. In the present embodiment, the first magnetic recording layer 65 in which the nonmagnetic grain boundary material layer 64 is formed on the first magnetic layer 62 can be formed with high efficiency.

規則合金と炭素(C)のスパッタは、規則合金のターゲットと、非磁性粒界材料である炭素(C)のターゲットを用いたコスパッタ法により実施することができる。例えば、第2磁性層61を規則合金FePtと炭素(C)で形成する場合、Fe及びPtを所定の比率で含む規則合金のターゲットと、炭素(C)ターゲットを用いることができる。また、規則合金のターゲットとして、FeターゲットとPtターゲットを用いてもよい。或いは、Fe、Pt及びCを特定の比率で含むターゲットを用いてもよい。第2磁性層61における規則合金の割合、非磁性粒界材料である炭素(C)の割合は、それぞれのターゲットに印加する電力を調整して制御することができる。   Sputtering of an ordered alloy and carbon (C) can be carried out by a co-sputtering method using an ordered alloy target and a target of carbon (C) that is a nonmagnetic grain boundary material. For example, when the second magnetic layer 61 is formed of ordered alloy FePt and carbon (C), an ordered alloy target containing Fe and Pt in a predetermined ratio and a carbon (C) target can be used. Further, an Fe target and a Pt target may be used as the target of the ordered alloy. Alternatively, a target containing Fe, Pt, and C at a specific ratio may be used. The ratio of the ordered alloy in the second magnetic layer 61 and the ratio of carbon (C) which is a nonmagnetic grain boundary material can be controlled by adjusting the power applied to each target.

また、第2磁性層61を形成する際のスパッタ時のガス圧は、規則合金−炭素(C)の良好なグラニュラー構造を実現できるものであれば特に限定されないが、1.0Pa以上が好ましく、1.5Pa以上とすることがより好ましい。また、用いるガスは、Ar、N等が好ましく、Arがより好ましい。   Further, the gas pressure during sputtering when forming the second magnetic layer 61 is not particularly limited as long as it can realize a good granular structure of ordered alloy-carbon (C), but is preferably 1.0 Pa or more, More preferably, the pressure is 1.5 Pa or more. Moreover, Ar, N, etc. are preferable and the gas to be used has more preferable Ar.

第2磁性層61を形成する際のスパッタ時の基板の温度は、規則合金の規則度が十分に高くなる温度であり、かつ粒径の増大が生じない程度の温度に設定することが望ましい。例えば、基板の温度は400℃以上、好ましくは400℃〜700℃である。また、第2磁性層61の形成時のスパッタのターゲットへの印加電力は、所望の組成の第2磁性層61が形成されるものであれば特に限定されない。   The temperature of the substrate during sputtering when forming the second magnetic layer 61 is desirably set to a temperature at which the degree of ordering of the ordered alloy is sufficiently high and does not increase the grain size. For example, the temperature of the substrate is 400 ° C. or higher, preferably 400 ° C. to 700 ° C. The power applied to the sputtering target when forming the second magnetic layer 61 is not particularly limited as long as the second magnetic layer 61 having a desired composition is formed.

規則合金と非磁性粒界材料である炭素の割合は、vol%で、規則合金:炭素=90:10〜50:50であることが好ましい。また、規則合金であるFe及びCoからなる群から選択される少なくとも1つの元素(A)と、Pt、Pd、Au及びIrからなる群から選択される少なくとも1つの元素(B)との割合は、at%で、(A):(B)=42:58〜58:42であることが好ましい。例えば、FePt規則合金の場合、好ましくはFe:Pt=42:58〜58:42、より好ましくはFe(at%):Pt(at%)=48:52〜52:48である。   The proportion of carbon which is an ordered alloy and a non-magnetic grain boundary material is preferably vol%, and is ordered alloy: carbon = 90: 10 to 50:50. The ratio of at least one element (A) selected from the group consisting of Fe and Co, which is an ordered alloy, and at least one element (B) selected from the group consisting of Pt, Pd, Au, and Ir is: , At%, (A) :( B) = 42: 58 to 58:42 is preferable. For example, in the case of an FePt ordered alloy, Fe: Pt = 42: 58 to 58:42 is preferable, and Fe (at%): Pt (at%) = 48:52 to 52:48 is more preferable.

工程(b−2)は第1磁気記録層65を形成する工程である。この工程(b−2)は、第1実施形態の製造方法で説明した磁気記録層60の形成工程である工程(b)と同様である。   Step (b-2) is a step of forming the first magnetic recording layer 65. This step (b-2) is the same as the step (b) which is the step of forming the magnetic recording layer 60 described in the manufacturing method of the first embodiment.

本製造方法では、磁気記録層60は、第1磁性層62と、第1磁性層の非磁性粒界材料からなる非磁性粒界材料層64層とを含む第1磁気記録層65、及び第2磁性層61を少なくとも含む。第1磁気記録層65は、上記第1実施形態の磁気記録層60として説明したものと同じである。従って、規則合金及び当該規則合金を取り囲む非磁性粒界材料は第1実施形態で説明したとおりである。なお、本発明の磁気記録媒体では、第2磁性層61上に第1磁気記録層65を形成した場合、第2磁性層61の磁性粒子と第1磁気記録層65の磁性粒子が一対一で成長する、いわゆる1by1成長して一体化した磁気記録層60となってもよい。   In this manufacturing method, the magnetic recording layer 60 includes a first magnetic recording layer 65 including a first magnetic layer 62 and a nonmagnetic grain boundary material layer 64 made of a nonmagnetic grain boundary material of the first magnetic layer, and a first magnetic recording layer 65. 2 magnetic layer 61 is included at least. The first magnetic recording layer 65 is the same as that described as the magnetic recording layer 60 of the first embodiment. Therefore, the ordered alloy and the nonmagnetic grain boundary material surrounding the ordered alloy are as described in the first embodiment. In the magnetic recording medium of the present invention, when the first magnetic recording layer 65 is formed on the second magnetic layer 61, the magnetic particles of the second magnetic layer 61 and the magnetic particles of the first magnetic recording layer 65 are one to one. The magnetic recording layer 60 may be a so-called 1by1 grown and integrated magnetic recording layer 60.

第1及び第2磁性層の膜厚は、記録保持の観点からは厚いほうが好ましい。第2磁性層の膜厚は、4nm以下、好ましくは2〜4nmである。4nmを越えると、炭素(C)による規則合金の成長阻害及び二次成長が起こる。次に、第1磁性層62の膜厚は、高い磁気異方性を維持する観点から、3〜7nmであることが好ましい。また、非磁性粒界材料層64の膜厚は、0.2〜3.0nm、好ましくは0.2〜1.0nmである。   The film thicknesses of the first and second magnetic layers are preferably thicker from the viewpoint of record retention. The film thickness of the second magnetic layer is 4 nm or less, preferably 2 to 4 nm. If the thickness exceeds 4 nm, growth inhibition and secondary growth of the ordered alloy by carbon (C) occur. Next, the thickness of the first magnetic layer 62 is preferably 3 to 7 nm from the viewpoint of maintaining high magnetic anisotropy. The film thickness of the nonmagnetic grain boundary material layer 64 is 0.2 to 3.0 nm, preferably 0.2 to 1.0 nm.

磁気記録媒体の製造方法において、第2磁性層61及び第1磁気記録層65を含む磁気記録層60の全膜厚は、特に限定されるものではない。しかしながら、高い生産性及び高い記録密度を両立させる観点から、磁気記録層60の全膜厚は、少なくとも5nm以上、好ましくは8nm以上であることが望ましい。磁気記録層60のより好ましい膜厚は、6〜16nm、より好ましくは、8〜11nmである。   In the method for manufacturing a magnetic recording medium, the total film thickness of the magnetic recording layer 60 including the second magnetic layer 61 and the first magnetic recording layer 65 is not particularly limited. However, from the viewpoint of achieving both high productivity and high recording density, the total film thickness of the magnetic recording layer 60 is desirably at least 5 nm, preferably 8 nm. A more preferable film thickness of the magnetic recording layer 60 is 6 to 16 nm, and more preferably 8 to 11 nm.

次に、工程(c)は、保護層80を形成する工程である。保護層80は上記第1実施形態の製造方法と同様にして形成することができる。   Next, step (c) is a step of forming the protective layer 80. The protective layer 80 can be formed in the same manner as the manufacturing method of the first embodiment.

本製造方法で磁気記録層60を形成することで、規則合金−炭素(C)の第2磁性層61上に、規則合金−非磁性粒界材料の第1磁性層62と、前記非磁性粒界材料からなる非磁性粒界材料層64を少なくとも形成することができる。   By forming the magnetic recording layer 60 by this manufacturing method, the first magnetic layer 62 of the ordered alloy-nonmagnetic grain boundary material on the ordered magnetic alloy-carbon (C) second magnetic layer 61, and the nonmagnetic grains. At least a nonmagnetic grain boundary material layer 64 made of a field material can be formed.

磁気記録媒体の製造方法によれば、基板20上に複数の磁性層を含む磁気記録層60として、その最上層に、非磁性粒界材料層64が形成された第1磁気記録層65を有し、この第1磁気記録層上に保護層80を設けた磁気記録媒体を製造することができる。この製造方法は、非磁性粒界材料層64を作成する別途の工程を必要とせずに、各磁性層の良好なグラニュラー構造を維持しながら、その上に非磁性粒界材料層64を形成することができる。そして、この非磁性粒界材料層上に保護層を形成することで、良好な磁気ヘッド浮上性及び耐食性を実現することができる。なお、非磁性粒界材料層64は保護層80の性能を改善するための下地層の機能を有するものである。この非磁性粒界材料層64の厚さは、記録の観点からは、保護層の下地層の機能を発揮できる限り、できるだけ薄い方がよい。   According to the method for manufacturing a magnetic recording medium, the magnetic recording layer 60 including a plurality of magnetic layers on the substrate 20 has the first magnetic recording layer 65 having the nonmagnetic grain boundary material layer 64 formed as the uppermost layer. Thus, a magnetic recording medium in which the protective layer 80 is provided on the first magnetic recording layer can be manufactured. This manufacturing method does not require a separate step of forming the nonmagnetic grain boundary material layer 64, and forms the nonmagnetic grain boundary material layer 64 thereon while maintaining a good granular structure of each magnetic layer. be able to. Then, by forming a protective layer on this nonmagnetic grain boundary material layer, it is possible to achieve good magnetic head flying characteristics and corrosion resistance. The nonmagnetic grain boundary material layer 64 has a function of an underlayer for improving the performance of the protective layer 80. The thickness of the nonmagnetic grain boundary material layer 64 is preferably as thin as possible from the viewpoint of recording as long as the function of the underlayer of the protective layer can be exhibited.

また、磁気記録媒体の製造方法は、あらかじめ、第2磁性層61を、規則合金−炭素(C)を材料とした磁性層として形成し、この第2磁性層61上に規則合金−SiO2等の規則合金−非磁性粒界材料による第1磁性層62を形成することで、高い磁気異方性を維持しながら、磁気記録層60全体の厚膜化を実現できる。 Also, in the method of manufacturing a magnetic recording medium, the second magnetic layer 61 is formed in advance as a magnetic layer made of ordered alloy-carbon (C), and the ordered alloy-SiO 2 or the like is formed on the second magnetic layer 61. By forming the first magnetic layer 62 of the ordered alloy-nonmagnetic grain boundary material, it is possible to increase the thickness of the entire magnetic recording layer 60 while maintaining high magnetic anisotropy.

この実施形態の磁気記録層60は、更に多くの磁気記録層が積層された構造を有していてもよい。例えば、磁気記録層60は、上記の第1磁性層及び第2磁性層を1組として、これらが複数積層された構造を有し、最上層として非磁性粒界材料層64を有してもよい。或いは、上記の第1磁性層及び第2磁性層上に、これらの磁気記録層とは組成又は構成元素の異なる材料からなる磁気記録層を更に積層した構造を有し、最上層として非磁性粒界材料層64を有してもよい。また、磁気記録層60は、例えば、第1磁性層、第2磁性層、第1磁気記録層の順に積層された構造を有してもよい。更に、本発明では、磁気記録層60にCAP層のような追加の層を設けてもよい。   The magnetic recording layer 60 of this embodiment may have a structure in which more magnetic recording layers are stacked. For example, the magnetic recording layer 60 has a structure in which a plurality of the first magnetic layer and the second magnetic layer described above are stacked, and a nonmagnetic grain boundary material layer 64 is provided as the uppermost layer. Good. Alternatively, it has a structure in which a magnetic recording layer made of a material having a different composition or constituent element from those of the first magnetic layer and the second magnetic layer is further laminated, and the top layer is a non-magnetic grain. A field material layer 64 may be included. The magnetic recording layer 60 may have a structure in which, for example, a first magnetic layer, a second magnetic layer, and a first magnetic recording layer are stacked in this order. Furthermore, in the present invention, the magnetic recording layer 60 may be provided with an additional layer such as a CAP layer.

磁気記録媒体は、上述したとおり、磁気記録層以外に種々の層を任意選択的に設けてもよい。以下にこれらの層について説明する。   As described above, the magnetic recording medium may optionally include various layers other than the magnetic recording layer. These layers are described below.

任意選択的に設けてもよい密着層(不図示)は、密着層の上に形成される層と密着層の下に形成される層との密着性を高めるために用いられる。密着層の下に形成される層としては基板20が含まれる。密着層を形成するための材料はNi、W、Ta、Cr、Ruなどの金属、前述の金属を含む合金を含む。密着層は、単一の層であってもよいし、複数の層の積層構造を有してもよい。密着層は、スパッタ法、真空蒸着法などの当該技術において知られている任意の方法を用いて形成することができる。   An adhesion layer (not shown) that may be optionally provided is used to enhance adhesion between a layer formed on the adhesion layer and a layer formed below the adhesion layer. The layer formed below the adhesion layer includes the substrate 20. The material for forming the adhesion layer includes metals such as Ni, W, Ta, Cr, and Ru, and alloys containing the aforementioned metals. The adhesion layer may be a single layer or may have a laminated structure of a plurality of layers. The adhesion layer can be formed using any method known in the art such as sputtering and vacuum deposition.

任意選択的に設けてもよい軟磁性裏打ち層(不図示)は、磁気ヘッドからの磁束を制御して、磁気記録媒体の記録・再生特性を向上させる。軟磁性裏打ち層を形成するための材料は、NiFe合金、センダスト(FeSiAl)合金、CoFe合金などの結晶質材料、FeTaC、CoFeNi、CoNiPなどの微結晶質材料、CoZrNb、CoTaZrなどのCo合金を含む非晶質材料を含む。軟磁性裏打ち層の膜厚の最適値は、磁気記録に用いる磁気ヘッドの構造及び特性に依存する。他の層と連続して軟磁性裏打ち層を形成する場合、生産性との兼ね合いから、軟磁性裏打ち層が10nm〜500nmの範囲内(両端を含む)の膜厚を有することが好ましい。軟磁性裏打ち層は、スパッタ法、真空蒸着法などの当該技術において知られている任意の方法を用いて形成することができる。   An optional soft magnetic backing layer (not shown) controls the magnetic flux from the magnetic head to improve the recording / reproducing characteristics of the magnetic recording medium. Materials for forming the soft magnetic underlayer include crystalline materials such as NiFe alloy, Sendust (FeSiAl) alloy, CoFe alloy, microcrystalline materials such as FeTaC, CoFeNi, CoNiP, and Co alloys such as CoZrNb and CoTaZr. Includes amorphous material. The optimum value of the thickness of the soft magnetic underlayer depends on the structure and characteristics of the magnetic head used for magnetic recording. When the soft magnetic backing layer is formed continuously with the other layers, it is preferable that the soft magnetic backing layer has a film thickness in the range of 10 nm to 500 nm (including both ends) in consideration of productivity. The soft magnetic backing layer can be formed using any method known in the art such as sputtering or vacuum deposition.

本発明の磁気記録媒体を熱アシスト磁気記録方式において使用する場合、ヒートシンク層(不図示)を設けてもよい。ヒートシンク層は、熱アシスト磁気記録時に発生する磁気記録層60の余分な熱を効果的に吸収するための層である。ヒートシンク層は、熱伝導率及び比熱容量が高い材料を用いて形成することができる。そのような材料は、Cu単体、Ag単体、Au単体、又はそれらを主体とする合金材料を含む。ここで、「主体とする」とは、当該材料の含有量が50wt%以上であることを示す。また、強度などの観点から、Al−Si合金、Cu−B合金などを用いて、ヒートシンク層を形成することができる。更に、センダスト(FeSiAl)合金、軟磁性のCoFe合金などを用いてヒートシンク層を形成することができる。軟磁性材料を用いることによって、ヘッドの発生する垂直方向磁界を磁気記録層60に集中させる機能をヒートシンク層に付与し、軟磁性裏打ち層の機能を補完することもできる。ヒートシンク層の膜厚の最適値は、熱アシスト磁気記録時の熱量及び熱分布、ならびに磁気記録媒体の層構成及び各構成層の厚さによって変化する。他の構成層と連続して形成する場合などは、生産性との兼ね合いから、ヒートシンク層の膜厚は10nm以上100nm以下であることが好ましい。ヒートシンク層は、スパッタ法、真空蒸着法などの当該技術において知られている任意の方法を用いて形成することができる。通常の場合、ヒートシンク層は、スパッタ法を用いて形成される。ヒートシンク層は、磁気記録媒体に求められる特性を考慮して、基板20と密着層との間、密着層と下地層との間などに設けることができる。   When the magnetic recording medium of the present invention is used in a heat-assisted magnetic recording system, a heat sink layer (not shown) may be provided. The heat sink layer is a layer for effectively absorbing excess heat of the magnetic recording layer 60 generated during heat-assisted magnetic recording. The heat sink layer can be formed using a material having high thermal conductivity and specific heat capacity. Such a material includes Cu simple substance, Ag simple substance, Au simple substance, or an alloy material mainly composed of them. Here, “mainly” means that the content of the material is 50 wt% or more. Further, from the viewpoint of strength and the like, the heat sink layer can be formed using an Al—Si alloy, a Cu—B alloy, or the like. Furthermore, the heat sink layer can be formed using Sendust (FeSiAl) alloy, soft magnetic CoFe alloy, or the like. By using a soft magnetic material, the function of concentrating the perpendicular magnetic field generated by the head on the magnetic recording layer 60 can be imparted to the heat sink layer, and the function of the soft magnetic backing layer can be supplemented. The optimum value of the film thickness of the heat sink layer varies depending on the heat quantity and heat distribution during heat-assisted magnetic recording, the layer configuration of the magnetic recording medium, and the thickness of each component layer. In the case of continuously forming with other constituent layers, the thickness of the heat sink layer is preferably 10 nm or more and 100 nm or less in consideration of productivity. The heat sink layer can be formed using any method known in the art, such as a sputtering method or a vacuum evaporation method. Usually, the heat sink layer is formed using a sputtering method. The heat sink layer can be provided between the substrate 20 and the adhesion layer, between the adhesion layer and the underlayer, etc. in consideration of characteristics required for the magnetic recording medium.

下地層(不図示)は、上方に形成されるシード層40の結晶性及び/又は結晶配向を制御するための層である。下地層は単層であっても多層であってもよい。下地層は、非磁性であることが好ましい。下地層の形成に用いられる非磁性材料は、Pt金属、Cr金属、又は主成分であるCrにMo、W、Ti、V、Mn、Ta、及びZrからなる群から選択される少なくとも1種の金属が添加された合金を含む。下地層は、スパッタ法などの当該技術において知られている任意の方法を用いて形成することができる。   The underlayer (not shown) is a layer for controlling the crystallinity and / or crystal orientation of the seed layer 40 formed thereabove. The underlayer may be a single layer or a multilayer. The underlayer is preferably nonmagnetic. The nonmagnetic material used for forming the underlayer is at least one selected from the group consisting of Pt metal, Cr metal, or Cr, which is a main component, Mo, W, Ti, V, Mn, Ta, and Zr. Includes alloys with added metals. The underlayer can be formed using any method known in the art such as sputtering.

シード層40の機能は、上層である磁気記録層60中の規則合金の磁性結晶粒の粒径及び結晶配向を制御することである。シード層40に、シード層40の下にある層と磁気記録層60との間の密着性を確保する機能を持たせてもよい。また、シード層40と磁気記録層60の間に中間層等の他の層を配置してもよい。中間層等を配置する場合は、中間層等の規則合金の磁性結晶粒の粒径及び結晶配向を制御することにより磁気記録層60の規則合金の磁性結晶粒の粒径及び結晶配向を制御する機能を担うことになる。シード層40は非磁性であることが好ましい。シード層40の材料は、磁気記録層60の材料に合わせて適宜選択される。より具体的には、シード層40の材料は、磁気記録層の規則合金の材料に合わせて選択される。例えば、磁気記録層60がL10型規則合金で形成される場合、NaCl型の化合物を用いてシード層40を形成することが好ましい。特に好ましくは、MgO、SrTiO3などの酸化物、あるいはTiNなどの窒化物を用いてシード層40を形成する。また、上記の材料からなる複数の層を積層して、シード層40を形成することもできる。磁気記録層60の規則合金の磁性結晶粒の結晶性の向上、及び生産性の向上の観点から、シード層40は、1nm〜60nm、好ましくは1nm〜20nmの膜厚を有することが好ましい。シード層40は、スパッタ法などの当該技術において知られている任意の方法を用いて形成することができる。 The function of the seed layer 40 is to control the grain size and crystal orientation of the ordered alloy magnetic crystal grains in the upper magnetic recording layer 60. The seed layer 40 may have a function of ensuring adhesion between the layer under the seed layer 40 and the magnetic recording layer 60. Further, another layer such as an intermediate layer may be disposed between the seed layer 40 and the magnetic recording layer 60. When an intermediate layer or the like is disposed, the grain size and crystal orientation of the ordered magnetic alloy grains of the magnetic recording layer 60 are controlled by controlling the grain size and crystal orientation of the ordered alloy magnetic crystal grains of the intermediate layer. It will take on the function. The seed layer 40 is preferably nonmagnetic. The material of the seed layer 40 is appropriately selected according to the material of the magnetic recording layer 60. More specifically, the material of the seed layer 40 is selected according to the ordered alloy material of the magnetic recording layer. For example, if the magnetic recording layer 60 is formed by L1 0 type ordered alloy, it is preferable to form the seed layer 40 by using a NaCl-type compounds. Particularly preferably, the seed layer 40 is formed using an oxide such as MgO or SrTiO 3 or a nitride such as TiN. The seed layer 40 can also be formed by stacking a plurality of layers made of the above materials. From the viewpoint of improving the crystallinity of the magnetic crystal grains of the ordered alloy of the magnetic recording layer 60 and improving the productivity, the seed layer 40 preferably has a thickness of 1 nm to 60 nm, preferably 1 nm to 20 nm. The seed layer 40 can be formed using any method known in the art such as sputtering.

以上の磁気記録層の形成よりも前に基板上に形成される、密着層、軟磁性裏打ち層、ヒートシンク層、下地層及び/又はシード層のような当該技術において知られている層は、上記磁気記録媒体の製造方法において、磁気記録層の形成工程よりも前に形成すればよい。   Layers known in the art, such as adhesion layers, soft magnetic backing layers, heat sink layers, underlayers and / or seed layers, which are formed on the substrate prior to the formation of the above magnetic recording layers, In the method for manufacturing a magnetic recording medium, it may be formed before the step of forming the magnetic recording layer.

また、任意選択的に、本発明の磁気記録媒体は、保護層80の上に設けられる液体潤滑剤層(不図示)を更に含んでもよい。液体潤滑剤層は、磁気記録媒体の分野で慣用的に使用されている材料を用いて形成することができる。液体潤滑剤層の材料は、例えば、パーフルオロポリエーテル系の潤滑剤などを含む。液体潤滑剤層は、例えば、ディップコート法、スピンコート法などの塗布法を用いて形成することができる。   In addition, optionally, the magnetic recording medium of the present invention may further include a liquid lubricant layer (not shown) provided on the protective layer 80. The liquid lubricant layer can be formed using a material conventionally used in the field of magnetic recording media. The material of the liquid lubricant layer includes, for example, a perfluoropolyether lubricant. The liquid lubricant layer can be formed using, for example, a coating method such as a dip coating method or a spin coating method.

保護層80上に掲載される液体潤滑剤層のような当該技術において知られている層は、上記磁気記録媒体の製造方法において、保護層80を形成する上記工程(c)の後に形成すればよい。   A layer known in the art such as a liquid lubricant layer placed on the protective layer 80 may be formed after the step (c) of forming the protective layer 80 in the method for manufacturing the magnetic recording medium. Good.

(実施例)
(実施例1)
表面が平滑な化学強化ガラス基板(HOYA社製N−10ガラス基板)を洗浄し、基板20を準備した。洗浄後の基板20を、スパッタ装置内に導入した。
(Example)
Example 1
A chemically strengthened glass substrate (N-10 glass substrate manufactured by HOYA) having a smooth surface was washed to prepare a substrate 20. The cleaned substrate 20 was introduced into the sputtering apparatus.

次に、磁気記録媒体の各層を、大気解放することなく、インライン式の成膜装置で成膜した。まず、基板20上にTa密着層を、純Taターゲットを用いて、Ar雰囲気中でDCマグネトロンスパッタ法により、膜厚5nmで成膜した。成膜に際してのArガスの圧力は0.5Paであった。また、成膜中の基板の温度は室温であり、DCの電力は100Wであった。   Next, each layer of the magnetic recording medium was formed with an in-line film forming apparatus without being released to the atmosphere. First, a Ta adhesion layer was formed on the substrate 20 with a film thickness of 5 nm by a DC magnetron sputtering method in an Ar atmosphere using a pure Ta target. The pressure of Ar gas during film formation was 0.5 Pa. Further, the temperature of the substrate during film formation was room temperature, and the DC power was 100 W.

次に、Cr下地層を、純Crターゲットを用いて、Ar雰囲気中でDCマグネトロンスパッタ法により、膜厚20nmで成膜した。成膜に際してのArガスの圧力は0.25Paであった。また、成膜中の基板の温度は室温であり、DCの電力は300Wであった。   Next, a Cr underlayer was formed to a thickness of 20 nm by a DC magnetron sputtering method in an Ar atmosphere using a pure Cr target. The pressure of Ar gas during film formation was 0.25 Pa. Further, the temperature of the substrate during film formation was room temperature, and the DC power was 300 W.

次に、基体を430℃に加熱し、MgOターゲットを用いて、RFスパッタリング法で、膜厚5nmのシード層40を成膜した。シード層であるMgO層は、Arガスの圧力0.1Paの条件下、RFの電力200Wで成膜した。   Next, the substrate was heated to 430 ° C., and a seed layer 40 having a thickness of 5 nm was formed by RF sputtering using an MgO target. The MgO layer as a seed layer was formed with an RF power of 200 W under the condition of Ar gas pressure of 0.1 Pa.

次に、第2磁性層61を成膜した。第2磁性層はFePt−C層である。第2磁性層61の成膜は、まず、上記の各層を成膜した基体を430℃に加熱したまま、FePt合金ターゲット及びCターゲットを用いるコスパッタ法で行った。コスパッタには、DCマグネトロンスパッタ法を用い、膜厚2nmの第2磁性層を成膜した。FePt−C層の成膜は、ターゲットへの印加電力を、FePt合金ターゲットに対して40W、Cターゲットに対して210Wに調整して行った。この電力により、FePt(60vol%)−C(40vol%)のFePt−C層を得た。また、FePt合金ターゲットは、FePt−C層のFePtが、Fe(at%):Pt(at%)=50:50の組成となるように調製されたものである。   Next, the second magnetic layer 61 was formed. The second magnetic layer is a FePt—C layer. First, the second magnetic layer 61 was formed by a co-sputtering method using an FePt alloy target and a C target while heating the substrate on which the above layers were formed to 430 ° C. A DC magnetron sputtering method was used for co-sputtering to form a second magnetic layer having a thickness of 2 nm. The FePt—C layer was formed by adjusting the power applied to the target to 40 W for the FePt alloy target and 210 W for the C target. With this power, an FePt-C layer of FePt (60 vol%)-C (40 vol%) was obtained. The FePt alloy target is prepared such that the FePt of the FePt-C layer has a composition of Fe (at%): Pt (at%) = 50:50.

次に、第1磁気記録層65を成膜した。本実施例の第1磁気記録層65はFePt−SiO2層の第1磁性層62及びSiO2からなる非磁性粒界材料層64を含む。第1磁気記録層65の成膜は、FePt合金ターゲット及びSiO2ターゲットを用いるコスパッタ法で行った。ここで、FePtに対しては40Wの電力を用いたDCマグネトロンスパッタ法を用い、SiO2に対しては200Wの電力を用いたRFスパッタ法を用いた。この電力により、FePt(70vol%)−SiO2(30vol%)のFePt−SiO2層を得た。また、FePt合金ターゲットは、FePt−SiO2層のFePtが、Fe(at%):Pt(at%)=50:50の組成となるように調製されたものである。得られた第1磁気記録層65の膜厚は、6nmであった。 Next, the first magnetic recording layer 65 was formed. The first magnetic recording layer 65 of this embodiment includes a first magnetic layer 62 of FePt—SiO 2 layer and a nonmagnetic grain boundary material layer 64 made of SiO 2 . The first magnetic recording layer 65 was formed by co-sputtering using an FePt alloy target and a SiO 2 target. Here, a DC magnetron sputtering method using a power of 40 W was used for FePt, and a RF sputtering method using a power of 200 W was used for SiO 2 . With this electric power, an FePt—SiO 2 layer of FePt (70 vol%) — SiO 2 (30 vol%) was obtained. The FePt alloy target is prepared so that the FePt of the FePt—SiO 2 layer has a composition of Fe (at%): Pt (at%) = 50:50. The thickness of the obtained first magnetic recording layer 65 was 6 nm.

第1磁気記録層及び第2磁性層を形成する際のArガスの圧力は、1.0Pa、1.5Pa及び3.0Paの三種類に調整した。   The pressure of Ar gas when forming the first magnetic recording layer and the second magnetic layer was adjusted to three types of 1.0 Pa, 1.5 Pa, and 3.0 Pa.

次に、0.5PaのArガス圧の下で、Ptターゲットを用いたDCマグネトロンスパッタ法により、膜厚2nmのPt保護層を形成した。成膜時の基板の温度は室温であり、スパッタ時の電力は50Wであった。以上の手順により、磁気記録媒体を得た。   Next, a 2 nm thick Pt protective layer was formed by DC magnetron sputtering using a Pt target under an Ar gas pressure of 0.5 Pa. The temperature of the substrate during film formation was room temperature, and the power during sputtering was 50 W. A magnetic recording medium was obtained by the above procedure.

磁気記録媒体の成膜時の条件を以下の表にまとめた。   The conditions for film formation of the magnetic recording medium are summarized in the following table.

(結果)
上記条件で得られた各磁気記録媒体について、透過電子顕微鏡(TEM)により、断面TEM画像を測定し、磁気記録媒体の粒子構造を確認した。結果を図5に示す。図5に示されるように、FePt−SiO2の成膜時のArガス圧が1.5Pa以上の場合にFePt−SiO2層上に、SiO2からなる非磁性粒界材料層が形成さることがわかった。なお、図5において、SiO2からなる非磁性粒界材料層は、「SiO2薄膜」として示した。また、本実施例の場合、磁気記録層は、第2磁性層の磁性粒子と第1磁気記録層の磁性粒子が一対一で成長する、いわゆる1by1成長して一体化していた。
(result)
About each magnetic recording medium obtained on the said conditions, the cross-sectional TEM image was measured with the transmission electron microscope (TEM), and the particle structure of the magnetic recording medium was confirmed. The results are shown in FIG. As shown in FIG. 5, a nonmagnetic grain boundary material layer made of SiO 2 is formed on the FePt—SiO 2 layer when the Ar gas pressure during film formation of FePt—SiO 2 is 1.5 Pa or more. I understood. In FIG. 5, consisting of SiO 2 nonmagnetic grain boundary material layer, indicated as "SiO 2 thin film". In the case of this example, the magnetic recording layer was integrated by so-called 1-by 1 growth in which the magnetic particles of the second magnetic layer and the magnetic particles of the first magnetic recording layer were grown one-to-one.

磁気記録媒体の製造方法では、磁気記録層の成膜時のArガス圧が1.5Pa以上であると、磁気記録層の最上部に非磁性粒界材料層が形成される。そして、この非磁性粒界材料層上に保護層を設けることで、磁気ヘッドの浮上性がよく、しかも耐食性に優れた保護層を含む磁気記録媒体を形成することができる。   In the method for manufacturing a magnetic recording medium, a nonmagnetic grain boundary material layer is formed on the uppermost part of the magnetic recording layer when the Ar gas pressure during the formation of the magnetic recording layer is 1.5 Pa or more. Then, by providing a protective layer on the nonmagnetic grain boundary material layer, a magnetic recording medium including a protective layer having good magnetic head floating properties and excellent corrosion resistance can be formed.

20 基板
40 シード層
60 磁気記録層
61 第2磁性層
62 第1磁性層
64 非磁性粒界材料層
65 第1磁気記録層
80 保護層
20 substrate 40 seed layer 60 magnetic recording layer 61 second magnetic layer 62 first magnetic layer 64 nonmagnetic grain boundary material layer 65 first magnetic recording layer 80 protective layer

Claims (5)

基板と、規則合金及び非磁性粒界材料を含む磁気記録層と、保護層とを含む磁気記録媒体の製造方法であって、
(a)前記基板を準備する工程と、
(b)前記規則合金を構成する元素と、前記非磁性粒界材料とをスパッタして、第1磁性層と、前記第1磁性層上に前記非磁性粒界材料からなる簿層とを含む磁気記録層を形成する工程と、
(c)前記保護層を形成する工程と
を含み、
前記工程(b)の磁気記録層の形成において、スパッタ時のガス圧が1.5Pa以上に設定し、前記非磁性粒界材料からなる簿層が前記第1磁性層上に形成されることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
A method for producing a magnetic recording medium comprising a substrate, a magnetic recording layer containing an ordered alloy and a nonmagnetic grain boundary material, and a protective layer,
(A) preparing the substrate;
(B) Sputtering the elements constituting the ordered alloy and the nonmagnetic grain boundary material to include a first magnetic layer and a book layer made of the nonmagnetic grain boundary material on the first magnetic layer. Forming a magnetic recording layer;
(C) forming the protective layer,
In the formation of the magnetic recording layer in the step (b), the gas pressure during sputtering is set to 1.5 Pa or more, and the book layer made of the nonmagnetic grain boundary material is formed on the first magnetic layer. A method of manufacturing a magnetic recording medium.
前記工程(b)は、前記磁気記録層の形成前に、規則合金を構成する元素と、炭素(C)をスパッタして、第2磁性層を形成する工程を更に含むことを特徴とする請求項1に記載の磁気記録媒体の製造方法。   The step (b) further includes a step of forming a second magnetic layer by sputtering an element constituting the ordered alloy and carbon (C) before forming the magnetic recording layer. Item 2. A method for manufacturing a magnetic recording medium according to Item 1. 前記規則合金は、Fe及びCoからなる群から選択される少なくとも1つの元素と、Pt、Pd、Au及びIrからなる群から選択される少なくとも1つの元素とを含むことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の磁気記録媒体の製造方法。   2. The ordered alloy includes at least one element selected from the group consisting of Fe and Co and at least one element selected from the group consisting of Pt, Pd, Au, and Ir. Or the manufacturing method of the magnetic-recording medium of Claim 2. 前記非磁性粒界材料は、C、B、Ag、Ge、W、SiO2、Al23、TiO2、GeO2及びB23からなる群から選択される少なくとも1種の材料を含むことを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載の磁気記録媒体の製造方法。 The nonmagnetic grain boundary material includes at least one material selected from the group consisting of C, B, Ag, Ge, W, SiO 2 , Al 2 O 3 , TiO 2 , GeO 2, and B 2 O 3. The method of manufacturing a magnetic recording medium according to claim 1, wherein the magnetic recording medium is a magnetic recording medium. 前記規則合金がFePtであり、前記非磁性粒界材料がSiO2であることを特徴とする請求項1から4のいずれか1項に記載の磁気記録媒体の製造方法。 5. The method of manufacturing a magnetic recording medium according to claim 1, wherein the ordered alloy is FePt, and the nonmagnetic grain boundary material is SiO 2 .
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