JP2017179405A - Copper bus bar - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、銅やニッケルの電解精錬に用いる銅ブスバーに関し、より詳しくは、アノードビームやカソードビームとの接点数を減らし、電気抵抗の増大を抑制できる銅ブスバーに関するものである。 The present invention relates to a copper bus bar used for electrolytic refining of copper or nickel, and more particularly to a copper bus bar capable of reducing the number of contacts with an anode beam or a cathode beam and suppressing an increase in electric resistance.
銅やニッケルの電解精製においては、不溶性アノードや目的金属のアノードを陽極とし、目的金属製の種板をカソード(陰極)として電解槽中に交互に吊下げ、電解浴中で通電する方法が一般的に採用されている(例えば特許文献1参照)。 In electrolytic refining of copper and nickel, a general method is to use an insoluble anode or target metal anode as an anode and a target metal seed plate as a cathode (cathode) to suspend them alternately in an electrolytic cell and energize in an electrolytic bath. (For example, refer to Patent Document 1).
電解精製用カソードとなる種板は、チタン、ステンレス等の母板をカソードとして同様の電解処理を行い、目的金属が薄く電着したところで、この電着物を母板から剥ぎ取ることによって得られる。そして、この種板を電解精製用のカソードとするには、同じ種板を裁断してループ状に形成して得られたリボンを用い、種板をカソードビームに吊り下げることによって取り付ける。 A seed plate serving as a cathode for electrolytic purification is obtained by performing the same electrolytic treatment using a base plate made of titanium, stainless steel or the like as a cathode, and peeling the electrodeposit from the base plate when the target metal is thinly electrodeposited. In order to use this seed plate as a cathode for electrolytic purification, a ribbon obtained by cutting the same seed plate into a loop shape is used, and the seed plate is attached by being suspended from the cathode beam.
このように、種板とされる電解精製用のカソード(陰極板)は、カソードビームを使用して電解槽に装入され、陽極である不溶性アノードや目的金属アノードと交互に平行となるように配置される。具体的には、例えば、電解槽1基あたり、アノードが50枚、カソードが49枚、交互に平行に配置される。 As described above, the cathode for cathode purification (cathode plate) used as a seed plate is inserted into the electrolytic cell using the cathode beam so that it is alternately parallel to the insoluble anode as the anode and the target metal anode. Be placed. Specifically, for example, 50 anodes and 49 cathodes are alternately arranged in parallel per electrolytic cell.
銅やニッケルの電解精製においては、上述のように配置されたカソードの種板上に目的金属を所定の厚さに電着させた後、カソードを電解槽から引き上げ、カソードビームを抜き取って吊り手が付いたまま製品として出荷し、新たなカソードの種板を装入して順次生産を行っている。 In electrolytic refining of copper and nickel, after depositing the target metal to a predetermined thickness on the cathode seed plate arranged as described above, the cathode is lifted from the electrolytic cell, the cathode beam is extracted, and It is shipped as a product with the mark attached, and a new cathode seed plate is inserted and production is carried out sequentially.
さて、電解槽の槽壁上にはブスバーが設けられており、このブスバー上には、アノードを固定するための金具及びカソードビームを受ける金具が配置されている。そして、このカソードビーム受金具から接触面を通じてブスバーへ、ブスバーから接触面を通じてアノード固定金具へと電流が通れる構造となっている。したがって、カソードビーム受金具とブスバー、ブスバーとアノード固定金具との、それぞれの電気的接触部分では、電気的に良好な接触状態を保つことが必要となる。 Now, a bus bar is provided on the tank wall of the electrolytic cell, and a metal fitting for fixing the anode and a metal fitting for receiving the cathode beam are arranged on the bus bar. A current can be passed from the cathode beam receiving bracket to the bus bar through the contact surface and from the bus bar to the anode fixing bracket through the contact surface. Therefore, it is necessary to maintain a good electrical contact state at each electrical contact portion between the cathode beam receiving bracket and the bus bar and between the bus bar and the anode fixing bracket.
しかしながら、カソードビーム受金具には、電解操業中に電解液等が付着することにより酸化物や硫酸化物の被膜が生成し、また、カソードビーム受金具とブスバーとの間、アノード固定金具とブスバーとの間においても、同様な被膜が生成する。 However, an oxide or sulfate film is formed on the cathode beam bracket due to adhesion of an electrolyte or the like during the electrolytic operation, and between the cathode beam bracket and the bus bar, the anode fixing bracket and the bus bar In the meantime, a similar film is formed.
このような被膜が形成された状態のままで放置しておくと、電気抵抗が増加し、それに伴ってカソードビームとカソードビーム受金具、カソードビーム受金具とブスバー、ブスバーとアノード固定金具のそれぞれの接触部分で電圧降下が起こり、消費電力の増加や槽内の電流分布に不均一化が生じる。 If the film is left in a state where such a film is formed, the electrical resistance increases, and accordingly, the cathode beam and the cathode beam bracket, the cathode beam bracket and the bus bar, the bus bar and the anode fixing bracket, respectively. A voltage drop occurs at the contact portion, resulting in an increase in power consumption and uneven current distribution in the tank.
また、電流分布が不均一であると、局部的な電流集中が生じるため、電着物が樹枝状の形態となり、また短絡が発生して電流効率の低下を招くことになる。さらに、電圧降下が過剰に生じた場合には、発熱によってブスバーの変形を招くこともあり、変形が生じるとブスバーの交換が必要となるため、生産効率が極めて低下し、作業負荷が著しく増加してしまうなど、大きな問題となっている。 Further, if the current distribution is not uniform, local current concentration occurs, so that the electrodeposit is in a dendritic form, and a short circuit occurs, resulting in a decrease in current efficiency. Furthermore, if the voltage drop occurs excessively, the bus bar may be deformed due to heat generation. When the deformation occurs, the bus bar needs to be replaced, so that the production efficiency is extremely reduced and the work load is significantly increased. It has become a big problem.
酸性溶液による洗浄や研磨によって、生成した被膜を除去し、電気的な接触部分の清浄度を高めるように担保しているものの、いずれの処理も長期に亘っての効果を持続させることは困難であるため、更なる改善が求められている。 Although it is ensured that the generated film is removed by washing with an acidic solution and polishing, and the cleanliness of the electrical contact part is increased, it is difficult to maintain the effect over a long period of time in any treatment. Therefore, further improvement is required.
なお、特許文献2には、電解槽における電極とブスバーとの間の電気的接触部の状態を清浄に保つことによって電流のばらつきを化学的に小さくする技術が開示されている。具体的には、アノードおよびカソードの電極と導電部材との接触部を濃度20%の硫酸で化学研磨した後に水で洗浄し、洗浄部が乾燥しないうちに電極をブスバーに設置して、通電した直後にその接触部の周辺部を追い水で洗浄するというものである。
本発明は、このような実情に鑑みて提案されたものであり、電解精製時における電気抵抗の増加を抑制して、生産効率の低下を防止することができる方法を提供することを目的とする。 This invention is proposed in view of such a situation, and it aims at providing the method of suppressing the increase in the electrical resistance at the time of electrolytic refining, and preventing the fall of production efficiency. .
本発明者は、上述した課題を解決するため、電解槽の槽壁上に設けられるブスバーについて鋭意検討を重ねた。その結果、ブスバーの形状を特定の形状に改良することにより、金属同士の接触点を減少させることができ、電気抵抗の増加を有効に抑制できることを見出し、本発明を完成するに至った。 In order to solve the above-described problems, the present inventor has intensively studied the bus bar provided on the tank wall of the electrolytic cell. As a result, it has been found that by improving the shape of the bus bar to a specific shape, the number of contact points between metals can be reduced, and an increase in electrical resistance can be effectively suppressed, and the present invention has been completed.
(1)本発明の第1の発明は、アノードと該アノードに対置して用いるカソードとが交互に複数設置されている電解槽において、2つの該電槽槽の間に設置される銅又は銅合金からなる銅ブスバーであって、1つの板状の部材から構成され、アノードビームと接触する複数のアノードビーム接触部と、カソードビームと接触する複数のカソードビーム接触部と、を備え、平面視したとき、当該銅ブスバーの長手方向に垂直な方向の一方の端部に規則的な凹凸を有する板状の形状からなり、前記アノードビーム接触部により凸部が構成され、隣り合う該アノードビーム接触部の間が凹部となる、銅ブスバーである。 (1) The first invention of the present invention is an electrolytic cell in which a plurality of anodes and a plurality of cathodes used in opposition to the anode are alternately installed. A copper bus bar made of an alloy comprising a plurality of anode beam contact portions that are in contact with the anode beam and a plurality of cathode beam contact portions that are in contact with the cathode beam. The copper bus bar has a plate-like shape having regular irregularities at one end in a direction perpendicular to the longitudinal direction of the copper bus bar, and the anode beam contact portion forms a convex portion, and the adjacent anode beam contact It is a copper bus bar which becomes a recessed part between parts.
(2)本発明の第2の発明は、第1の発明において、前記長手方向に垂直な側面で視たとき、該アノードビーム接触部が水平面から略90度立ち上がった形状となっており、該立ち上がった部分の面において前記アノードビームと接触する、銅ブスバーである。 (2) According to a second aspect of the present invention, in the first aspect, when viewed from a side surface perpendicular to the longitudinal direction, the anode beam contact portion has a shape rising approximately 90 degrees from a horizontal plane, A copper bus bar in contact with the anode beam at the surface of the raised portion.
(3)本発明の第3の発明は、第2の発明において、前記アノードビーム接触部では、該アノードビーム接触部とボルト締めされるアノードビーム固定用部材を介して、前記アノードビームが接触固定される、銅ブスバーである。 (3) According to a third aspect of the present invention, in the second aspect of the invention, in the anode beam contact portion, the anode beam is contact-fixed via an anode beam fixing member bolted to the anode beam contact portion. It is a copper bus bar.
(4)本発明の第4の発明は、第1乃至第3の発明において、前記カソードビーム接触部には、当該銅ブスバーの長手方向に平行な側面から視たときに、所定の角度を有するV字状の溝が設けられている、銅ブスバーである。 (4) According to a fourth aspect of the present invention, in the first to third aspects, the cathode beam contact portion has a predetermined angle when viewed from a side surface parallel to the longitudinal direction of the copper bus bar. This is a copper bus bar provided with a V-shaped groove.
本発明によれば、電解精製時における電気抵抗の増加を抑制して、生産効率の低下を防止することができる。 According to the present invention, it is possible to prevent an increase in electrical resistance during electrolytic purification and prevent a decrease in production efficiency.
以下、本発明の具体的な実施形態(以下、「本実施の形態」という)について、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、本発明は以下の実施形態に何ら限定されるものではなく、本発明の要旨を変更しない範囲で種々の変更が可能である。 Hereinafter, a specific embodiment of the present invention (hereinafter referred to as “the present embodiment”) will be described in detail with reference to the drawings. In addition, this invention is not limited to the following embodiment at all, A various change is possible in the range which does not change the summary of this invention.
[銅ブスバーの全体構成]
本実施の形態に係る銅ブスバーは、アノードとそのアノードに対置して用いるカソードとが交互に複数設置されている電解槽において、2つの電槽槽の間に設置されるブスバーであって、銅又は銅合金からなる銅ブスバーである。
[Overall structure of copper bus bar]
The copper bus bar according to the present embodiment is a bus bar installed between two battery tanks in an electrolytic cell in which a plurality of anodes and a plurality of cathodes used opposite to the anode are alternately installed. Or it is a copper bus bar which consists of copper alloys.
図1は、銅ブスバーの構成を説明するための図であり、アノードビーム及びカソードビームとの接触関係も併せて示すものである。なお、図1(A)は平面図であり、図1(B)は当該銅ブスバーの側面(長手方向に視る側面)であって、銅ブスバーと、アノードビーム接触部及びカソードビーム接触部とのそれぞれの接続関係を示す図である。 FIG. 1 is a diagram for explaining the configuration of a copper bus bar, and also shows the contact relationship between an anode beam and a cathode beam. 1A is a plan view, and FIG. 1B is a side surface (side surface viewed in the longitudinal direction) of the copper bus bar, which includes a copper bus bar, an anode beam contact portion, and a cathode beam contact portion. It is a figure which shows each connection relationship of these.
図1に示すように、銅ブスバー1は、1つの板状の部材から構成されており、アノードビーム21と接触する複数のアノードビーム接触部11と、カソードビーム22と接触する複数のカソードビーム接触部12と、を備える。なお、「1つの板状の部材から構成されている」とは、従来のように、板状の銅ブスバー上に、別の銅板からなるアノードビーム固定金具やカソードビーム受金具が設置固定されているのではなく、1つの銅板により一体成形されているなることを意味する。
As shown in FIG. 1, the copper bus bar 1 is composed of a single plate-like member, and a plurality of anode
そして、銅ブスバー1は、図1に示すように平面視したとき、その長手方向に垂直な方向の一方の端部に規則的な凹凸を有する板状の形状からなり、アノードビーム接触部11により凸部1Aが構成され、隣り合うアノードビーム接触部11の間が凹部1Bとなる。
The copper bus bar 1 has a plate-like shape having regular irregularities at one end in a direction perpendicular to the longitudinal direction when viewed in plan as shown in FIG. Convex
銅ブスバー1を平面視したときに、アノードビーム接触部11により形成される凸部1Aと、隣り合うアノードビーム接触部11の間の凹部1Bとにより、凹凸の形状となることで、凸部1Aを構成するアノードビーム接触部11ではアノードビーム21が接触固定される一方で、その凹部1Bの位置には、カソードビーム22が銅ブスバー1に接触しない状態で挟まれるように位置する。
When the copper bus bar 1 is viewed in plan, the
凹部1Bの凹みの深さ、言い換えると、凸部1Aの先端の高さから凹部1Bの底部までのクリアランス(図1中の「C」)としては、そのカソードビーム22が銅ブスバー1に接触しない範囲で調整すれば特に限定されない。具体的には、電解槽の大きさや、アノードビーム及びカソードビームの大きさ等に応じて適宜決定すればよいが、例えば、25mm〜45mm程度とすることができる。
The
また、隣り合う凸部1Aを構成するアノードビーム接触部11同士の間隔についても、カソードビーム22が接触しない範囲で、そのカソードビーム22の幅の大きさに応じて適宜決定すればよいが、例えば、50mm〜70mm程度とすることができる。
Further, the interval between the anode
このように、銅ブスバー1を櫛歯状にして、カソードビーム22が配置される位置が凹部1Bとなるようにクリアランスを設けることによって、そのカソードビーム22が接触して短絡することを効果的に防ぐことができる。
Thus, by making the copper bus bar 1 comb-like and providing a clearance so that the position where the
[アノードビーム接触部]
銅ブスバー1は、図1(B)に示すように、当該銅ブスバー1の長手方向に垂直な側面から視たとき、アノードビーム接触部11が水平面から略90度(°)立ち上がった形状となっている。また、図2に示す、当該銅ブスバー1の長手方向に平行な側面から視た側面図にあるように、水平面から略90度立ち上がって形成されるアノードビーム接触部11は、面を有しており、その立ち上がった部分の面においてアノードビーム11と接触する。
[Anode beam contact area]
As shown in FIG. 1B, the copper bus bar 1 has a shape in which the anode
また、アノードビーム接触部11には、ボルトを貫通させるためのボルト穴11a(図2参照)が設けられており、アノードビーム接触部11とボルト締めされるアノードビーム固定用部材21pを介して、アノードビーム21が接触固定される。
Further, the anode
このように、銅ブスバー1においては、従来の銅ブスバーのように、板状の銅ブスバー上に載置されたアノードビーム接触部によりアノードビームが接触固定されるのではなく、そのアノードビーム接触部11を介して直接アノードビーム21が接触固定される。これにより、アノードビーム21と銅ブスバー1との接触箇所を減らすことができる。
As described above, in the copper bus bar 1, the anode beam is not contact-fixed by the anode beam contact portion placed on the plate-like copper bus bar as in the conventional copper bus bar, but the anode beam contact portion. The
[カソードビーム接触部]
カソードビーム接触部12は、図1(A)に示すように、凹凸形状となっている当該銅ブスバー1の端部とは反対の端部に位置する。このカソードビーム接触部12は、従来のように、カソードビーム固定用金具等により構成されるものではなく、板状の部材からなる当該銅ブスバー1の一部により構成される。
[Cathode beam contact area]
As shown in FIG. 1A, the cathode
また、図2に示すように、カソードビーム接触部12には、当該銅ブスバー1の長手方向に平行な側面で視たときに、所定の角度を有するV字状の溝12aが設けられている。例えば、カソードビーム22は、このカソードビーム接触部12と接触する面においてV字状の凸部を有しており、そのV字状の凸部を、カソードビーム接触部12に設けられたV字状の溝12aに嵌め込むことによって、接触固定する。
As shown in FIG. 2, the cathode
V字状の溝12aの角度としては、特に限定されないが、例えば、100度(°)〜130度程度とすることができる。
The angle of the V-shaped
[銅ブスバー1による効果]
銅やニッケルの電解精製では、カソードの種板上に目的金属を所定の厚さに電着させた後、カソードを電解槽から引き上げて、カソードビームを抜き取って吊り手の付いたまま製品として出荷し、新たなカソードの種板を装入し生産を行っている。このように、カソードが引き上げられると、新たなカソードが装入されることを繰り返す。
[Effects of copper bus bar 1]
In the electrolytic refining of copper and nickel, the target metal is electrodeposited to a predetermined thickness on the cathode seed plate, then the cathode is pulled out of the electrolytic cell, the cathode beam is pulled out and shipped as a product with a hanging hand attached. In addition, a new cathode seed plate is charged for production. As described above, when the cathode is pulled up, a new cathode is repeatedly inserted.
このような電解精製では、例えば、ブスバー等に電解液等が付着して酸化物や硫酸化物といった付着物が生じる。通常の操業においては、生成した付着物を除去するために、酸性溶液を用いて洗浄処理を行うが、これにより、ブスバーを構成する構成部品の表面が溶解して徐々に厚みが減少していく。また、その減少速度は一様でない。 In such electrolytic purification, for example, an electrolytic solution or the like adheres to a bus bar or the like, and deposits such as oxides and sulfates are generated. In normal operation, a cleaning process is performed using an acidic solution in order to remove the generated deposits. However, the surface of the component parts constituting the bus bar dissolves and the thickness gradually decreases. . Moreover, the rate of decrease is not uniform.
表面が徐々に溶解して均一性を失っていくと、ブスバー等に流れる電流に偏りが生じ、電圧降下を増大させ、延いては生産効率をも低下させる。 When the surface gradually melts and loses uniformity, the current flowing through the bus bar or the like is biased, increasing the voltage drop and thus reducing the production efficiency.
この点において、本実施の形態に係る銅ブスバー1では、1つの板状の部材から構成され、アノードビーム21と接触する複数のアノードビーム接触部11と、カソードビーム22と接触する複数のカソードビーム接触部12と、を備えている。このように、1つの銅又は銅合金からなる板状の部材から、アノードビーム接触部11とカソードビーム接触部12とが一体成形されてなることにより、少ない部品点数で簡易に製造することがでっき、銅ブスバー1に対するアノードビーム21及びカソードビーム22の一対あたりの接点が減少し、接点抵抗を少なくすることができる。すなわち、電気抵抗の増大を効果的に抑えることができる。
In this regard, in the copper bus bar 1 according to the present embodiment, a plurality of anode
また、銅ブスバー1においては、その銅ブスバー1を平面視したとき、長手方向に垂直な方向の一方の端部に規則的な凹凸を有する板状の形状からなり、アノードビーム接触部11により凸部1Aが構成され、隣り合うアノードビーム接触部11の間が凹部1Bとなる。つまり、凹部1Bの箇所は、カソードビーム22が配置される位置となるため、このように凹部1Bとなるようにすることで、カソードビーム22と銅ブスバー1との接触を防ぎ、またその接触にとる短絡の発生を有効に防ぐことができる。
Further, the copper bus bar 1 has a plate-like shape having regular irregularities at one end in a direction perpendicular to the longitudinal direction when the copper bus bar 1 is viewed in plan, and is projected by the anode
以下、本発明の実施例を示してより具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に何ら限定されるものではない。 EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to the following examples.
[実施例1]
実施例1では、図1の平面図、図2の長手方向に平行な側面視図に示す銅ブスバー1を、アノードとカソードとが交互に複数設置されている電解槽Aと、同様に構成されている電解槽Bとの間に設置した。
[Example 1]
In Example 1, the copper bus bar 1 shown in the plan view of FIG. 1 and the side view parallel to the longitudinal direction of FIG. 2 is configured in the same manner as the electrolytic cell A in which a plurality of anodes and cathodes are alternately installed. It was installed between the electrolytic cell B.
具体的に、銅ブスバー1は、W200mm×D15mm×L5,570mmの銅板からなり、53個のアノードビーム接触部11だけを残して、カソードビーム22が接触して短絡することを防ぐために、クリアランスCを設けて櫛歯状に銅板を切削加工した(図1(A))。
Specifically, the copper bus bar 1 is made of a copper plate of W200 mm × D15 mm × L5, 570 mm and leaves only 53 anode
銅版を切削したのち、櫛歯状になった凸部の先端部分を90度立ち上げるように曲げ加工することで、L字型の銅ブスバー1とした(図1(B))。なお、この立ち上がり部分がアノードビーム接触部11となる。また、そのアノードビーム接触部11に、アノードビームを固定するためのボルト穴11aを開けた(図2)。
After cutting the copper plate, the L-shaped copper bus bar 1 was formed by bending the tip of the convex portion that has a comb-teeth shape so as to rise 90 degrees (FIG. 1B). This rising portion becomes the anode
一方、カソードビーム接触部12の部分には、110mmピッチの間隔で120度に溝を切ったV字状の溝12aを53個切削加工した(図2)。
On the other hand, 53 V-shaped
以上のように、実施例1では、所定の大きさの銅板を用いて、アノードビーム接触部11とカソードビーム接触部12とを一体に形成させた。銅ブスバー1に対する、アノードビーム21及びカソードビーム22の一対あたりの接点数は2箇所であった。
As described above, in Example 1, the anode
このような銅ブスバー1を用いて、所定の期間に亘って電解処理を行った結果、電気抵抗が増加することはなく、生産効率の低下を抑制することができた。このことは、銅ブスバー1に対する、アノードビーム21及びカソードビーム22の一対あたりの接点数が2箇所と少なかったことから、接触面積を減らし接点抵抗を減少させることができたためと考えられる。
As a result of performing electrolytic treatment over a predetermined period using such a copper bus bar 1, the electrical resistance did not increase, and a decrease in production efficiency could be suppressed. This is presumably because the contact number per pair of the
[比較例1]
比較例1では、図3の平面図及び側面視図、図4の長手方向に平行な側面視図に示す銅ブスバー50を、アノードとカソードとが交互に複数設置されている電解槽Aと、同様に構成されている電解槽Bとの間に設置した。
[Comparative Example 1]
In Comparative Example 1, an electrolytic cell A in which a plurality of copper bus bars 50 shown in a plan view and a side view in FIG. 3 and a side view parallel to the longitudinal direction in FIG. It installed between the electrolytic vessel B similarly comprised.
具体的に、銅ブスバー50は、W200mm×D20mm×L5,570mmの銅板からなるものとした。この銅ブスバー50には、W50mm×D10mm×L200mmの銅板からなるアノードビーム固定金具51を設置固定した。アノードビーム固定金具51においては、銅ブスバー50にボルトで固定するためのボルト穴51aを開け、また、90度立ち上げるように曲げ加工することで、L字型にした。このようなアノードビーム固定金具51を53個分製作し、全てを所定の間隔をあけてボルトで銅ブスバー50に固定した(図3(A)及び(B))。
Specifically, the
一方、この銅ブスバー50には、W20mm×H15mm×L5,700mmの銅板からなるカソードビーム受金具52を設置固定した。カソードビーム受金具52においては、銅ブスバー50にボルトで固定するためのボルト穴(図示しない)を開け、また、カソードビームが接触する箇所に、110mmピッチの間隔で120度に溝を切ったV字状の溝52aを53個切削加工した(図4)。
On the other hand, a cathode
以上のように、比較例1では、板状の銅ブスバー50上に、アノードビーム固定金具51と、カソードビーム受金具52とをボルトで固定して設けた。これにより、銅ブスバー50に対する、アノードビーム21及びカソードビーム22の一対あたりの接点数は4箇所となった。
As described above, in Comparative Example 1, the anode beam fixing
このような銅ブスバー50を用いて、所定の期間に亘って電解処理を行った結果、電気抵抗が増加してしまい、銅ブスバー50の交換を余儀なくされ、生産効率が著しく低下した。このことは、銅ブスバー50に対する、アノードビーム21及びカソードビーム22の一対あたりの接点数が4箇所と多かったことにより、接点抵抗が大きくなってしまったためであると考えられる。
As a result of performing electrolytic treatment over a predetermined period using such a
1 銅ブスバー
1A 凸部
1B 凹部
11 アノードビーム接触部
12 カソードビーム接触部
21 アノードビーム
22 カソードビーム
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1
Claims (4)
1つの板状の部材から構成され、
アノードビームと接触する複数のアノードビーム接触部と、
カソードビームと接触する複数のカソードビーム接触部と、を備え、
平面視したとき、当該銅ブスバーの長手方向に垂直な方向の一方の端部に規則的な凹凸を有する板状の形状からなり、前記アノードビーム接触部により凸部が構成され、隣り合う該アノードビーム接触部の間が凹部となる
銅ブスバー。 In an electrolytic cell in which a plurality of anodes and cathodes used in opposition to the anode are alternately installed, a copper bus bar made of copper or a copper alloy installed between the two battery cells,
It is composed of one plate-shaped member,
A plurality of anode beam contact portions in contact with the anode beam;
A plurality of cathode beam contact portions in contact with the cathode beam,
When viewed in plan, the copper bus bar has a plate-like shape having regular irregularities at one end in a direction perpendicular to the longitudinal direction, and the anode beam contact portion forms a convex portion, and the adjacent anode A copper bus bar with a recess between the beam contact parts.
請求項1に記載の銅ブスバー。 The anode beam contact portion has a shape that rises approximately 90 degrees from a horizontal plane when viewed from a side surface perpendicular to the longitudinal direction, and contacts the anode beam at the surface of the raised portion. Copper busbar.
請求項2に記載の銅ブスバー。 3. The copper bus bar according to claim 2, wherein the anode beam contact portion is fixed in contact with the anode beam contact portion via an anode beam fixing member bolted to the anode beam contact portion.
請求項1乃至3のいずれか1項に記載の銅ブスバー。 4. The V-shaped groove having a predetermined angle when provided from the side parallel to the longitudinal direction of the copper bus bar is provided in the cathode beam contact portion. 5. The copper bus bar described.
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