JP2017178733A - Production method of glass sheet - Google Patents

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PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for controlling a temperature efficiently without occurrence of abnormal temperature rise, in introduction of molten glass from a melting furnace to a processing unit in the initial operation.SOLUTION: When raising a temperature of a processing unit by introducing molten glass from a melting furnace to the processing unit at the time of operation start, the processing unit is maintained at a stand-by temperature Tlower than an operation temperature T, and when an introduction rate of the molten glass at which a heat quantity (A) brought into the processing unit by the molten glass and a heat release amount (B) from the processing unit satisfy an inequality (A)<(B) is expressed as an introduction standard flow rate X(kg/s), a flow rate of the molten glass is regulated based on the introduction standard flow rate Xin each prescribed time, when introducing the molten glass, to thereby heat the processing unit up to the operation temperature T.SELECTED DRAWING: Figure 3

Description

本発明は、ガラス板の製造方法および製造装置に関する。   The present invention relates to a glass plate manufacturing method and a manufacturing apparatus.

ガラス板の製造では、溶解炉でガラス原料を溶解して熔融ガラスがつくられ、ガラス供給管を通し、清澄管、攪拌槽などの溶融ガラス処理装置へ送られる。溶融ガラス処理装置へ送られた溶融ガラスは、清澄管で清澄され、攪拌槽でスターラにより攪拌されてガラス成分の均質化を行った後、成形体へ送られてシートガラスへと成形される。   In the production of a glass plate, a glass raw material is melted in a melting furnace to produce a molten glass, which is sent through a glass supply pipe to a molten glass processing apparatus such as a clarification pipe or a stirring tank. The molten glass sent to the molten glass processing apparatus is clarified by a clarification tube, stirred by a stirrer in a stirring tank to homogenize glass components, and then sent to a molded body to be formed into sheet glass.

溶解炉、処理装置および成形体を備えたガラス板の製造装置の操業初期においては、高温の溶融ガラスを、ガラス供給管を通して、溶解炉から処理装置、成形対へと順に導入しながらガラス供給管や処理装置が加熱され昇温制御される。   In the initial stage of operation of a glass plate production apparatus equipped with a melting furnace, a processing apparatus and a molded body, a glass supply pipe is introduced while introducing high-temperature molten glass through the glass supply pipe from the melting furnace to the processing apparatus and the forming pair in order. And the temperature of the processing apparatus is controlled by heating.

操業開始時に高温の溶融ガラスを供給管、処理装置へ導入しながらこれらの装置を加熱するには、装置の昇温異常を招かないように、溶融ガラスの導入速度をコントロールする必要がある。溶解炉から供給管へ高温の溶融ガラスを流出したとき、装置温度が急上昇して装置の昇温機能が異状を示した場合には、一時的に冷却機能で装置温度を調整するなど対処が必要となる。
しかし、このような対処は、安定した操業を得るまでに長時間を要するだけでなく、処理装置の温度を管理して目的とする溶融ガラスの温度履歴を形成するという点において不利となり、製品の品質に影響を及ぼす。
In order to heat these apparatuses while introducing high-temperature molten glass into the supply pipe and the processing apparatus at the start of operation, it is necessary to control the introduction speed of the molten glass so as not to cause an abnormal temperature rise of the apparatus. When high temperature molten glass flows out from the melting furnace to the supply pipe, if the temperature of the equipment rises rapidly and the temperature rise function of the equipment is abnormal, it is necessary to take measures such as temporarily adjusting the equipment temperature with the cooling function It becomes.
However, such measures are disadvantageous not only in that it takes a long time to obtain a stable operation, but also in that the temperature of the processing apparatus is controlled to form the temperature history of the target molten glass. Affects quality.

溶融ガラスの供給管や清澄管に関して、白金又は白金合金で構成された供給管及び清澄管が知られている(特許文献1)。また、白金又は白金合金で構成された溶融ガラス処理装置に必要な温度管理と溶融ガラスの温度制御について開示されている(特許文献2)。   Regarding a molten glass supply pipe and a clarification pipe, a supply pipe and a clarification pipe made of platinum or a platinum alloy are known (Patent Document 1). Moreover, it discloses about the temperature control required for the molten glass processing apparatus comprised with platinum or a platinum alloy, and the temperature control of a molten glass (patent document 2).

特表2008−539162号公報Special table 2008-539162 特開2015−199642号公報Japanese Patent Laying-Open No. 2015-199642

上述のとおり、ガラス板の製造装置の操業開始においては、高温の溶融ガラスを、ガラス供給管を通して清澄管、攪拌槽へと順に導入するには、溶融ガラスの導入量(導入速度)を制御しながら装置各々の昇温管理を行う必要がある。   As described above, at the start of the operation of the glass plate manufacturing apparatus, in order to introduce high-temperature molten glass sequentially into the clarification tube and the stirring tank through the glass supply tube, the amount of molten glass introduced (introduction rate) is controlled. However, it is necessary to manage the temperature rise of each device.

しかし、供給管、清澄管、攪拌槽を含む、熔融ガラス処理装置それぞれについて、装置の構造や材料、溶融ガラスの温度、装置各々の設置条件を踏まえ、溶融ガラスの導入量(導入速度)を適切にコントロールしながら装置それぞれを加熱制御するのは容易ではない。   However, for each of the molten glass processing equipment, including the supply pipe, clarification pipe, and stirring tank, the amount of molten glass introduced (introduction speed) is appropriate based on the equipment structure and materials, the temperature of the molten glass, and the installation conditions of each equipment. It is not easy to control the heating of each device while controlling them.

本発明の目的は、操業開始から安定した操業へ到達するまでの操業初期において、溶解炉から熔融ガラスを処理装置へ順次、導入するのに、処置装置の昇温異常を起こすことなく、導入量(導入速度)を最適に維持しながら装置を昇温制御でき、処理装置を安定した操業へ効率的に到達できる、ガラス板の製造方法及びガラス板の製造装置の提供にある。   The purpose of the present invention is to introduce the molten glass from the melting furnace to the processing device sequentially in the initial stage of operation from the start of operation until reaching stable operation, without causing an abnormal temperature rise of the treatment device. An object of the present invention is to provide a glass plate manufacturing method and a glass plate manufacturing apparatus that can control the temperature of the apparatus while maintaining the (introduction speed) optimally and can efficiently reach a stable operation of the processing apparatus.

〔1〕熔解炉でガラス原料を熔解して熔融ガラスを生成する溶解工程と、前記熔解炉でつくられた熔融ガラスを処理する処理装置を用いて溶融ガラスを処理する熔融ガラス処理工程と、前記処理工程で処理された熔融ガラスを成形してシートガラスを形成する成形工程とを含むガラス板の製造方法であって、
操業開始時に、前記溶解炉からの溶融ガラスを前記処理装置へ導入し、前記処理装置を加熱するのに、前記処理装置を操業温度Tよりも低い待機温度Tで維持し、溶融ガラスが前記処理装置へ持ち込む熱量(A)および前記処理装置の放熱量(B)が(A)<(B)となる溶融ガラスの導入速度を導入基準流量X(kg/s)とすると、熔融ガラスを導入するとき、所定時間ごと、前記導入基準流量Xに基づいて前記溶融ガラスの流量を規制して、前記処理装置が操業温度Tまで加熱される、ことを特徴とするガラス板の製造方法。
[1] A melting step of melting a glass raw material in a melting furnace to produce a molten glass, a molten glass processing step of processing the molten glass using a processing apparatus for processing the molten glass made in the melting furnace, A glass plate manufacturing method including a forming step of forming a sheet glass by forming the molten glass processed in the processing step,
At the start of operation, the molten glass from the melting furnace is introduced into the processing apparatus and the processing apparatus is heated to maintain the processing apparatus at a standby temperature T 2 lower than the operating temperature T 1. Assuming that the introduction rate of molten glass at which the amount of heat (A) brought into the processing apparatus and the heat dissipation amount (B) of the processing apparatus is (A) <(B) is the introduction reference flow rate X 0 (kg / s), molten glass When the glass plate is introduced, the flow rate of the molten glass is regulated every predetermined time based on the introduction reference flow rate X 0 , and the processing apparatus is heated to the operating temperature T 1. Method.

〔2〕前記処理装置は、熔融ガラスに含まれるO2を脱泡して熔融ガラスを清澄する清澄管と、熔融ガラスを均質化する攪拌槽と、前記熔解炉から前記清澄管へ熔融ガラスを所定の温度で移送するガラス供給管1と、前記清澄管から攪拌槽へ熔融ガラスを所定の温度で移送するガラス供給管2と、前記攪拌槽から前記成形体へ所定の温度で熔融ガラスを移送するガラス供給管3と、を備え、
操業開始時に、前記溶解炉から溶融ガラスを流出させ、前記ガラス供給管1、前記清澄管、前記ガラス供給管2、前記攪拌槽、前記ガラス供給管3に、順に熔融ガラスを導入するとき、処理装置の各々が、熔融ガラスの流量がそれぞれの前記導入基準流量Xで規制され、それぞれの操業温度Tまで加熱される、〔1〕に記載のガラス板の製造方法。
[2] The processing apparatus includes: a refining tube for defoaming O 2 contained in the molten glass to clarify the molten glass; a stirring tank for homogenizing the molten glass; and the molten glass from the melting furnace to the refining tube. A glass supply pipe 1 for transferring at a predetermined temperature, a glass supply pipe 2 for transferring molten glass from the clarification pipe to the stirring tank at a predetermined temperature, and transferring the molten glass from the stirring tank to the molded body at a predetermined temperature. A glass supply pipe 3
When the molten glass is caused to flow out of the melting furnace at the start of operation and the molten glass is introduced into the glass supply pipe 1, the clarification pipe, the glass supply pipe 2, the stirring tank, and the glass supply pipe 3 in this order, each device, the flow rate of the molten glass is regulated by the introduction reference flow rate X 0 respectively, are heated to the respective operating temperature T 1, the manufacturing method of a glass plate according to [1].

〔3〕前記処理装置は、熔融ガラスを導入するとき、前記導入基準流量Xを超えないように、熔融ガラスの流量が規制され、操業温度Tまで加熱される、請求項1又は2に記載のガラス板の製造方法。 [3] The processing unit, when introducing the molten glass, so as not to exceed the introduction reference flow X 0, the flow rate of the molten glass is regulated, is heated to operating temperature T 1, to claim 1 or 2 The manufacturing method of the glass plate of description.

〔4〕前記処理装置の放熱量(B)は自然放熱によるものである、〔1〕から〔3〕のいずれか1つに記載の製造方法。 [4] The manufacturing method according to any one of [1] to [3], wherein the heat dissipation amount (B) of the processing apparatus is due to natural heat dissipation.

〔5〕ガラス原料を熔解して熔融ガラスを生成する溶解炉と、加熱手段が備えられ、前記熔解炉でつくられた熔融ガラスを処理する処理装置と、前記処理装置で処理された溶融ガラスを成形してシートガラスを形成する成形装置と、
を備え、
操業開始時に、前記溶解炉からの溶融ガラスを前記処理装置へ導入し、前記処理装置を加熱するのに、前記処理装置を操業温度Tよりも低い待機温度Tで維持し、溶融ガラスが前記処理装置へ持ち込む熱量(A)および前記処理装置の放熱量(B)が(A)<(B)となる溶融ガラスの導入速度を導入基準流量X(kg/s)とすると、熔融ガラスを導入するとき、所定時間ごと、前記導入基準流量Xに基づいて前記溶融ガラスの流量を規制して、前記処理装置が前記加熱手段により操業温度Tまで加熱される、ことを特徴とするガラス板の製造装置。
[5] A melting furnace for melting glass raw material to produce molten glass, a heating means, a processing apparatus for processing the molten glass made in the melting furnace, and a molten glass processed by the processing apparatus. A molding apparatus for forming a sheet glass by molding;
With
At the start of operation, the molten glass from the melting furnace is introduced into the processing apparatus and the processing apparatus is heated to maintain the processing apparatus at a standby temperature T 2 lower than the operating temperature T 1. Assuming that the introduction rate of molten glass at which the amount of heat (A) brought into the processing apparatus and the heat dissipation amount (B) of the processing apparatus is (A) <(B) is the introduction reference flow rate X 0 (kg / s), molten glass When the process is introduced, the flow rate of the molten glass is regulated every predetermined time based on the introduction reference flow rate X 0 , and the processing device is heated to the operation temperature T 1 by the heating means. Glass plate manufacturing equipment.

〔6〕前記処理装置は、熔融ガラスに含まれるO2を脱泡して熔融ガラスを清澄する清澄管と、熔融ガラスを均質化する攪拌槽と、前記熔解炉から前記清澄管へ熔融ガラスを所定の温度で移送するガラス供給管1と、前記清澄管から攪拌槽へ熔融ガラスを所定の温度で移送するガラス供給管2と、前記攪拌槽から前記成形体へ所定の温度で熔融ガラスを移送するガラス供給管3と、を備え、
操業開始時に、前記溶解炉から溶融ガラスを流出させ、前記ガラス供給管1、前記清澄管、前記ガラス供給管2、前記攪拌槽、前記ガラス供給管3に、順に熔融ガラスを導入するとき、処理装置の各々は、熔融ガラスの流量がそれぞれの前記導入基準流量Xで規制され、それぞれの操業温度Tまで加熱される、〔5〕に記載のガラス板の製造装置。
[6] The processing apparatus includes: a refining tube for defoaming O 2 contained in the molten glass to clarify the molten glass; a stirring tank for homogenizing the molten glass; and the molten glass from the melting furnace to the refining tube. A glass supply pipe 1 for transferring at a predetermined temperature, a glass supply pipe 2 for transferring molten glass from the clarification pipe to the stirring tank at a predetermined temperature, and transferring the molten glass from the stirring tank to the molded body at a predetermined temperature. A glass supply pipe 3
When the molten glass is caused to flow out of the melting furnace at the start of operation and the molten glass is introduced into the glass supply pipe 1, the clarification pipe, the glass supply pipe 2, the stirring tank, and the glass supply pipe 3 in this order, each device, the flow rate of molten glass is regulated by the introduction reference flow rate X 0 respectively, are heated to the respective operating temperature T 1, the manufacturing apparatus of glass plate according to [5].

〔7〕前記処理装置は、熔融ガラスを導入するとき、前記導入基準流量Xを超えないように、熔融ガラスの流量が規制され、操業温度Tまで加熱される、〔1〕又は〔2〕に記載のガラス板の製造装置。 [7] The processing unit, when introducing the molten glass, so as not to exceed the introduction reference flow X 0, the flow rate of the molten glass is regulated, is heated to operating temperature T 1, [1] or [2 ] The manufacturing apparatus of the glass plate of description.

本発明によれば、操業初期の溶解炉からの処理装置への溶融ガラスの導入は、導入基準流量Xに基づいて、導入速度が最適に維持される。溶融ガラスの導入速度が最適にコントロールされているため、操業初期の処理装置の昇温制御は、昇温異常を招くことなく効率的に温度制御できる。 According to the present invention, the introduction of the molten glass to the processing unit from the operation initial melting furnace, based on the introduction reference flow X 0, rate of introduction is optimally maintained. Since the introduction speed of the molten glass is optimally controlled, the temperature control of the processing apparatus in the initial stage of operation can be efficiently controlled without causing a temperature increase abnormality.

本発明のガラス基板の製造方法の工程の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the process of the manufacturing method of the glass substrate of this invention. 本発明のガラス基板の製造方法における熔解工程〜切断工程を行う装置の一例を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically an example of the apparatus which performs the melting process-cutting process in the manufacturing method of the glass substrate of this invention. 本発明に係る操業開始時の熔融ガラスの導入制御方法における温度管理(待機温度、操業温度)の関係を示すイメージ図である。It is an image figure which shows the relationship of the temperature management (standby temperature, operation temperature) in the introduction control method of the molten glass at the time of the operation start which concerns on this invention. 本発明に係る操業開始時の熔融ガラスの導入制御方法における処理装置への持ち込み熱量(A)および前記処理装置の放熱量(B)の関係(A)<(B)を示すイメージ図である。It is an image figure which shows the relationship (A) <(B) of the amount of heat (A) brought into the processing apparatus in the introduction control method of the molten glass at the time of the operation start which concerns on this invention, and the heat dissipation (B) of the said processing apparatus. 本発明に係る熔融ガラスの処理装置1から5の一例を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically an example of the processing apparatuses 1 to 5 of the molten glass which concern on this invention. 本発明に係る熔融ガラスの処理装置(1から5)の昇温制御の温度管理(待機温度、操業温度)の関係を示すイメージ図である全体を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the whole which is an image figure which shows the relationship of the temperature management (standby temperature, operation temperature) of temperature rising control of the processing apparatus (1 to 5) of the molten glass which concerns on this invention.

以下、本実施形態のガラス基板の製造方法及び製造装置、及び攪拌槽について説明する。図1は、本発明のガラス基板の製造方法の工程の一例を示す図である。   Hereafter, the manufacturing method and manufacturing apparatus of the glass substrate of this embodiment, and a stirring tank are demonstrated. FIG. 1 is a diagram showing an example of steps of a method for producing a glass substrate according to the present invention.

(1)ガラス基板の製造方法の全体概要
ガラス基板の製造方法は、熔解工程(ST1)と、清澄工程(ST2)と、均質化工程(ST3)と、供給工程(ST4)と、成形工程(ST5)と、徐冷工程(ST6)と、切断工程(ST7)と、を主に有する。この他に、切断研削工程、洗浄工程、検査工程、梱包工程等を有し、梱包工程で積槽された複数のガラス基板は、納入先の業者に搬送される。
(1) Overview of Manufacturing Method of Glass Substrate The manufacturing method of the glass substrate includes a melting step (ST1), a clarification step (ST2), a homogenization step (ST3), a supply step (ST4), and a molding step ( ST5), a slow cooling step (ST6), and a cutting step (ST7) are mainly included. In addition to this, a plurality of glass substrates having a cutting and grinding process, a cleaning process, an inspection process, a packing process, and the like and stacked in the packing process are transported to a supplier.

熔解工程(ST1)は熔解槽で行われる。熔解工程では、熔解槽に蓄えられた熔融ガラスの液面にガラス原料を投入することにより熔融ガラスを作る。さらに、熔解槽の底部に設けられた流出口から後工程に向けて熔融ガラスを流す。   The melting step (ST1) is performed in a melting tank. In the melting step, molten glass is made by introducing a glass raw material to the liquid surface of the molten glass stored in the melting tank. Furthermore, molten glass is poured from the outlet provided at the bottom of the melting tank toward the subsequent process.

熔解工程(ST1)は熔解炉で行われる。熔解炉では、ガラス原料を、熔解炉に蓄えられた熔融ガラスの液面に投入し、加熱することにより熔融ガラスを作る。さらに、熔解炉の内側側壁の1つの底部に設けられた流出口から下流工程に向けて熔融ガラスを流す。
熔解炉の熔融ガラスの加熱は、熔融ガラス自身に電気が流れて自ら発熱して加熱する方法に加えて、バーナーによる火焔を補助的に与えてガラス原料を熔解することもできる。なお、ガラス原料には清澄剤が添加される。清澄剤として、SnO2,As23,Sb23,Fe23等、高温で還元反応により酸素を放出するタイプの金属酸化物が知られているが、特に制限されない。しかし、環境負荷低減の点から、清澄剤としてAs23の使用は望ましくない。
The melting step (ST1) is performed in a melting furnace. In a melting furnace, a glass raw material is put into a liquid surface of molten glass stored in a melting furnace and heated to make molten glass. Furthermore, molten glass is flowed toward the downstream process from the outlet provided in one bottom part of the inner side wall of the melting furnace.
In addition to the method in which electricity flows through the molten glass itself and heats itself by heating, the glass raw material can be melted by supplementing a flame with a burner. A clarifier is added to the glass raw material. As a fining agent, a metal oxide of a type that releases oxygen by a reduction reaction at a high temperature, such as SnO 2 , As 2 O 3 , Sb 2 O 3 , and Fe 2 O 3 , is known, but is not particularly limited. However, the use of As 2 O 3 as a clarifying agent is not desirable from the viewpoint of reducing environmental burden.

清澄工程(ST2)は、少なくとも清澄槽において行われる。清澄工程では、最初に、清澄槽内の熔融ガラスを昇温することで、溶融ガラス中に含まれる清澄剤に還元反応を起こさせ、O2を発生させる。このO2が、ガラス原料の分解反応やガラス原料中の不純物、溶解時の雰囲気の巻き込み等により、熔融ガラス中に含まれる、CO2、SO2あるいはN2等を含んだ気泡に吸収されることで、熔融ガラス中の気泡の泡径が拡大し、気泡の浮上速度が高まる。この気泡の浮上速度の向上により熔融ガラスの液面に気泡を浮上させて脱泡が促進される。すなわち、熔融ガラスの液面まで浮上した気泡は、液面で破泡し、気泡に含まれていたガスが清澄槽内の気相空間に放出される。
その後、溶融ガラスの温度を下げていき、清澄剤に酸化反応を起こさせ、溶融ガラス中のO2を再吸収させる。このO2の再吸収により、脱泡しきれなかった溶融ガラス中の小泡は、泡内のO2が脱泡とガラス温度の低下とが相まって、小泡内のガス圧が低下し、縮小消滅する。なお、清澄管は、熔融ガラスから気相空間に放出されたガスを大気に放出するために、大気に連通した通気管を備える。
The clarification step (ST2) is performed at least in the clarification tank. In the clarification step, first, the molten glass in the clarification tank is heated to cause a reductive reaction in the clarifier contained in the molten glass to generate O 2 . This O 2 is absorbed by bubbles containing CO 2 , SO 2, N 2, etc. contained in the molten glass due to decomposition reaction of the glass raw material, impurities in the glass raw material, entrainment of the atmosphere during melting, etc. As a result, the bubble diameter of the bubbles in the molten glass is enlarged, and the rising speed of the bubbles is increased. By improving the rising speed of the bubbles, the bubbles are lifted to the liquid surface of the molten glass to promote defoaming. That is, the bubbles that have risen to the liquid surface of the molten glass are broken at the liquid surface, and the gas contained in the bubbles is released into the gas phase space in the clarification tank.
Thereafter, the temperature of the molten glass is lowered to cause the fining agent to oxidize and reabsorb O 2 in the molten glass. The resorption of the O 2, the small bubbles in the molten glass that has not been degassed, together have a reduced O 2 is degassing the glass temperature of Awanai, gas pressure in the small bubbles is reduced, the reduction Disappear. In addition, a clarification pipe | tube is provided with the vent pipe connected to air | atmosphere in order to discharge | release the gas discharge | released from the molten glass to the gaseous-phase space to air | atmosphere.

均質化工程(ST3)では、清澄管から延びる配管を通って供給された攪拌槽内の熔融ガラスを、スターラを用いて攪拌することにより、ガラス成分の均質化を行う。これにより、脈理等の原因であるガラスの組成ムラを低減することができる。
供給工程(ST4)では、攪拌槽から延びる配管を通して熔融ガラスが成形装置に供給される。
In the homogenization step (ST3), the glass component is homogenized by stirring the molten glass in the stirring tank supplied through the pipe extending from the clarification pipe using a stirrer. Thereby, the composition unevenness of the glass which is a cause of striae or the like can be reduced.
In the supply step (ST4), the molten glass is supplied to the molding apparatus through a pipe extending from the stirring tank.

成形装置では、成形工程(ST5)及び徐冷工程(ST6)が行われる。
成形工程(ST5)では、熔融ガラスをシートガラスに成形し、シートガラスの流れを作る。成形は、オーバーフローダウンドロー法が用いられる。
徐冷工程(ST6)では、成形されて流れるシートガラスが所望の厚さになり、内部歪が生じないように、さらに、反りが生じないように冷却される。
切断工程(ST7)では、切断装置において、成形装置から供給されたシートガラスを所定の長さに切断することで、板状のガラス基板を得る。切断されたガラス基板はさらに、所定のサイズに切断され、目標サイズのガラス基板が作られる。この後、ガラス基板の端面の研削、研磨が行われ、ガラス基板の洗浄が行われ、さらに、気泡等の異常欠陥の有無が検査された後、検査合格品のガラス基板が最終製品として梱包される。
In the molding apparatus, a molding step (ST5) and a slow cooling step (ST6) are performed.
In the forming step (ST5), the molten glass is formed into a sheet glass to make a flow of the sheet glass. For forming, an overflow downdraw method is used.
In the slow cooling step (ST6), the sheet glass that has been formed and flowed is cooled to a desired thickness, so that internal distortion does not occur and warpage does not occur.
In the cutting step (ST7), the sheet glass supplied from the forming device is cut into a predetermined length in the cutting device to obtain a plate-like glass substrate. The cut glass substrate is further cut into a predetermined size to produce a glass substrate having a target size. After this, the end surface of the glass substrate is ground and polished, the glass substrate is cleaned, and after checking for abnormal defects such as bubbles, the glass substrate that has passed the inspection is packed as the final product. The

図2は、本実施形態における熔解工程(ST1)〜切断工程(ST7)を行うガラス基板の製造装置の一例を模式的に示す図である。当該装置は、図2に示すように、主に熔解装置100と、成形装置200と、切断装置300と、を有する。熔解装置100は、熔解炉101と、清澄管102と、攪拌槽103と、ガラス供給管104,105,106と、を有する。   Drawing 2 is a figure showing typically an example of the manufacture device of the glass substrate which performs the melting process (ST1)-cutting process (ST7) in this embodiment. As shown in FIG. 2, the apparatus mainly includes a melting apparatus 100, a forming apparatus 200, and a cutting apparatus 300. The melting apparatus 100 includes a melting furnace 101, a clarification tube 102, a stirring tank 103, and glass supply tubes 104, 105, and 106.

図2に示す熔解装置101では、ガラス原料の投入がバケット101dを用いて行われるが、原料投入方法に制約は無く、スクリューフィーダー方式や、ブッシュープレート方式の投入機を用いてもよい。
清澄管102では、熔融ガラスMGの温度を調整して、清澄剤の酸化還元反応を利用して熔融ガラスMGの清澄が行われる。さらに、攪拌槽103では、スターラ103aによって熔融ガラスMGが攪拌されて均質化される。成形装置200では、成形体210を用いたオーバーフローダウンドロー法により、熔融ガラスMGからシートガラスSGが成形される。
なお、図2に示す熔解炉101から成形装置200にいたる熔融ガラスMGの流路、具体的には、ガラス供給管104、清澄管102、ガラス供給管105、攪拌槽103、およびガラス供給管106の熔融ガラスMGの流路を形成する流路内表面は、少なくてもその一部が、白金あるいは白金合金で構成されている。
In the melting apparatus 101 shown in FIG. 2, the glass raw material is charged using the bucket 101d, but the raw material charging method is not limited, and a screw feeder type or bush plate type charging machine may be used.
In the clarification tube 102, the temperature of the molten glass MG is adjusted, and the clarification of the molten glass MG is performed using the oxidation-reduction reaction of the clarifier. Further, in the stirring vessel 103, the molten glass MG is stirred and homogenized by the stirrer 103a. In the forming apparatus 200, the sheet glass SG is formed from the molten glass MG by the overflow down draw method using the formed body 210.
A flow path of the molten glass MG from the melting furnace 101 to the molding apparatus 200 shown in FIG. 2, specifically, a glass supply pipe 104, a clarification pipe 102, a glass supply pipe 105, a stirring tank 103, and a glass supply pipe 106. At least a part of the inner surface of the flow path forming the flow path of the molten glass MG is made of platinum or a platinum alloy.

(2)ガラス基板
以下、本発明にかかるガラス基板の製造方法の一実施形態について説明する。
本発明の実施形態において製造されるガラス基板は、例えば、フラットパネルディスプレイ用ガラス基板、またはカーブドパネルディスプレイ用ガラス基板で、例えば、液晶ディスプレイ用ガラス基板あるいは、有機ELディスプレイ用のガラス基板として好適である。また、このガラス基板は、その他、携帯端末機器などのディスプレイや筐体用のカバーガラス、タッチパネル板、太陽電池のガラス基板やカバーガラスとしても用いることができる。特に、液晶ディスプレイ用ガラス基板に好適である。その中でも特に熱収縮率の小さいことが要求される、LTPS(低温ポリシリコン)・TFTや、酸化物半導体・TFT、IGZO(Indium-Gallium-Zinc-Oxide)・TFTディスプレイ用ガラス基板など、パネル製造工程において高温処理を必要とする製品に好適に用いることができる。
(2) Glass substrate Hereinafter, an embodiment of a method for producing a glass substrate according to the present invention will be described.
The glass substrate manufactured in the embodiment of the present invention is, for example, a glass substrate for flat panel display or a glass substrate for curved panel display, and is suitable as a glass substrate for liquid crystal display or a glass substrate for organic EL display, for example. is there. In addition, the glass substrate can also be used as a display for a portable terminal device, a cover glass for a housing, a touch panel plate, a glass substrate for a solar cell, or a cover glass. Particularly, it is suitable for a glass substrate for liquid crystal display. Panel manufacturing such as LTPS (low temperature polysilicon) TFT, oxide semiconductor TFT, IGZO (Indium-Gallium-Zinc-Oxide) TFT display glass substrate, etc., which are required to have particularly low thermal shrinkage. It can be suitably used for products that require high temperature treatment in the process.

本実施形態において製造されるガラス基板は、特に制限されないが、例えば縦寸法及び横寸法のそれぞれが、500mm〜3500mm、1500mm〜3500mm、1800〜3500mm、2000mm〜3500mmなどが挙げられ、2000mm〜3500mmであることが好ましい。
ガラス基板の厚さは、例えば0.01mm〜1.1mmである。より好ましくは0.75mm以下の極めて薄い矩形形状の板で、例えば、0.55mm以下、さらには0.45mm以下の厚さがより好ましい。ガラス基板の厚さの下限値としては、0.15mm以上が好ましく、0.25mm以上がより好ましい。
Although the glass substrate manufactured in this embodiment is not particularly limited, for example, the vertical dimension and the horizontal dimension are 500 mm to 3500 mm, 1500 mm to 3500 mm, 1800 to 3500 mm, 2000 mm to 3500 mm, etc., and 2000 mm to 3500 mm. Preferably there is.
The thickness of the glass substrate is, for example, 0.01 mm to 1.1 mm. More preferably, it is a very thin rectangular plate of 0.75 mm or less, and for example, a thickness of 0.55 mm or less, more preferably 0.45 mm or less is more preferable. As a lower limit of the thickness of a glass substrate, 0.15 mm or more is preferable and 0.25 mm or more is more preferable.

本実施形態で製造されるガラス基板として、以下のガラス組成のガラス基板が例示される。つまり、以下のガラス組成のガラス基板が製造されるように、熔融ガラスの原料が調合される。
<ガラス組成>
本実施形態が適用するガラス組成として、例えば、次が挙げられる(質量%表示)。
SiO:50〜70%(好ましくは、57〜64%)、Al:5〜25%(好ましくは、12〜18%)、B:0〜15%(好ましくは、6〜13%)を含み、さらに、次に示す組成を任意に含んでもよい。任意で含む成分として、MgO:0〜10%(好ましくは、0.5〜4%)、CaO:0〜20%(好ましくは、3〜7%)、SrO:0〜20%(好ましくは、0.5〜8%、より好ましくは3〜7%)、BaO:0〜10%(好ましくは、0〜3%、より好ましくは0〜1%)、ZrO:0〜10%(好ましくは、0〜4%,より好ましくは0〜1%)が挙げられる。さらに、R’O:0.10%を超え2.0%以下(ただし、R’はLi、NaおよびKから選ばれる少なくとも1種である)を含むことがより好ましい。
或いは、SiO:50〜70%(好ましくは、55〜65%)、B:0〜10%(好ましくは、0〜5%、1.3〜5%)、Al:10〜25%(好ましくは、16〜22%)、MgO:0〜10%(好ましくは、0.5〜4%)、CaO:0〜20%(好ましくは、2〜10%、2〜6%)、SrO:0〜20%(好ましくは、0〜4%、0.4〜3%)、BaO:0〜15%(好ましくは、4〜11%)、RO:5〜20%(好ましくは、8〜20%、14〜19%),を含有することが好ましい(ただし、RはMg、Ca、SrおよびBaから選ばれる少なくとも1種である)。さらに、R’Oが0.10%を超え2.0%以下(ただし、R’はLi、NaおよびKから選ばれる少なくとも1種である)を含むことがより好ましい。
さらに本実施形態のガラス基板の物性値として次が挙げられる。
<ヤング率>
本実施形態が適用されるガラス基板のヤング率として、例えば、72(Gpa)以上が好ましく、75(Gpa)以上がより好ましく、77(Gpa)以上がより更に好ましい。
<歪点>
本実施形態が適用されるガラス基板の歪率として、例えば、650℃以上が好ましく、680℃以上がより好ましく、700℃以上、720℃以上が更により好ましい。
また、例えば、ガラス基板の液相粘度は、104.3poise〜106.7poiseである。
もちろん、本発明においては、ガラス基板のガラス組成を限定するものではない。
<その他>
本実施形態における熔融ガラスからシートガラスを成形する方法として、フロート法やフュージョン法等が用いられるが、本実施形態のガラス基板のオフラインにおける熱処理を含むガラス基板の製造方法は、フュージョン法(オーバーダウンドロー法)において製造ライン上の徐冷装置を長くすることが困難である点から、フュージョン法に適している。本実施形態の熱処理により熱収縮率を低減する前のガラス基板の熱収縮率は、50ppm以下であり、好ましくは40ppm以下、より好ましくは30ppm以下、更により好ましくは20ppm以下である。熱収縮率を低減する前のガラス基板の熱収縮率の範囲としては、10ppm〜40ppmが好ましい。
As a glass substrate manufactured by this embodiment, the glass substrate of the following glass compositions is illustrated. That is, the raw material of molten glass is prepared so that the glass substrate of the following glass compositions is manufactured.
<Glass composition>
Examples of the glass composition to which the present embodiment is applied include the following (mass% display).
SiO 2: 50~70% (preferably, 57~64%), Al 2 O 3: 5~25% ( preferably, 12~18%), B 2 O 3: 0~15% ( preferably, 6 ~ 13%), and may optionally contain the following composition. As optional components, MgO: 0 to 10% (preferably 0.5 to 4%), CaO: 0 to 20% (preferably 3 to 7%), SrO: 0 to 20% (preferably, from 0.5 to 8%, more preferably 3~7%), BaO: 0~10% ( preferably 0-3%, more preferably 0~1%), ZrO 2: 0~10 % ( preferably 0 to 4%, more preferably 0 to 1%). Furthermore, it is more preferable that R ′ 2 O: more than 0.10% and 2.0% or less (provided that R ′ is at least one selected from Li, Na, and K).
Alternatively, SiO 2: 50~70% (preferably, 55~65%), B 2 O 3: 0~10% ( preferably, 0~5%, 1.3~5%), Al 2 O 3: 10-25% (preferably 16-22%), MgO: 0-10% (preferably 0.5-4%), CaO: 0-20% (preferably 2-10%, 2-6 %), SrO: 0 to 20% (preferably 0 to 4%, 0.4 to 3%), BaO: 0 to 15% (preferably 4 to 11%), RO: 5 to 20% (preferably Is preferably 8 to 20%, 14 to 19%) (wherein R is at least one selected from Mg, Ca, Sr and Ba). Furthermore, it is more preferable that R ′ 2 O contains more than 0.10% and 2.0% or less (provided that R ′ is at least one selected from Li, Na and K).
Furthermore, the following are mentioned as a physical-property value of the glass substrate of this embodiment.
<Young's modulus>
As a Young's modulus of the glass substrate to which this embodiment is applied, for example, 72 (Gpa) or more is preferable, 75 (Gpa) or more is more preferable, and 77 (Gpa) or more is even more preferable.
<Strain point>
As a distortion rate of the glass substrate to which this embodiment is applied, 650 degreeC or more is preferable, for example, 680 degreeC or more is more preferable, 700 degreeC or more and 720 degreeC or more are still more preferable.
Further, for example, the liquid phase viscosity of the glass substrate is 10 4.3 poise to 10 6.7 poise.
Of course, in the present invention, the glass composition of the glass substrate is not limited.
<Others>
As a method for forming sheet glass from molten glass in this embodiment, a float method, a fusion method, or the like is used. However, a method for manufacturing a glass substrate including offline heat treatment of the glass substrate in this embodiment is a fusion method (overdown). The draw method is suitable for the fusion method because it is difficult to lengthen the slow cooling device on the production line. The thermal contraction rate of the glass substrate before reducing the thermal contraction rate by the heat treatment of this embodiment is 50 ppm or less, preferably 40 ppm or less, more preferably 30 ppm or less, and even more preferably 20 ppm or less. The range of the heat shrinkage rate of the glass substrate before reducing the heat shrinkage rate is preferably 10 ppm to 40 ppm.

本実施形態における熔融ガラスからシートガラスを成形する方法として、フロート法やフュージョン法等が用いられるが、本実施形態のガラス基板のオフラインにおける熱処理を含むガラス基板の製造方法は、フュージョン法(オーバーダウンドロー法)において製造ライン上の徐冷装置を長くすることが困難である点から、フュージョン法に適している。   As a method for forming sheet glass from molten glass in this embodiment, a float method, a fusion method, or the like is used. However, a method for manufacturing a glass substrate including offline heat treatment of the glass substrate in this embodiment is a fusion method (overdown). The draw method is suitable for the fusion method because it is difficult to lengthen the slow cooling device on the production line.

(3)特徴「操業開始時の熔融ガラス処理装置の昇温制御」
図5は、ガラス板の製造において、本実施形態の昇温方法により昇温される溶融ガラスの処理装置の概略図で、処理装置として、ガラス供給管104(昇温制御1)、清澄管102(昇温制御2)、ガラス供給管105(昇温制御3)、攪拌槽103(昇温制御4)、およびガラス供給管106(昇温制御5)を含む処理装置が示されている。
以下、ガラス板製造における溶融ガラスの処理装置の昇温方法で、熔解炉101に接続されたガラス供給管104、清澄管102、ガラス供給管105、攪拌槽103、及びガラス供給管106を含む処理装置の昇温方法について説明する。
(3) Feature “Temperature control of molten glass processing equipment at start of operation”
FIG. 5 is a schematic view of a molten glass processing apparatus heated by the temperature increasing method of the present embodiment in the production of a glass plate. As the processing apparatus, a glass supply pipe 104 (temperature increase control 1) and a fining pipe 102 are used. A processing apparatus including a (temperature increase control 2), a glass supply pipe 105 (temperature increase control 3), a stirring vessel 103 (temperature increase control 4), and a glass supply pipe 106 (temperature increase control 5) is shown.
Hereinafter, a method including a glass supply pipe 104, a clarification pipe 102, a glass supply pipe 105, a stirring tank 103, and a glass supply pipe 106 connected to the melting furnace 101 by a temperature raising method of a molten glass processing apparatus in glass plate manufacturing. A method for raising the temperature of the apparatus will be described.

[ガラス供給管104の昇温制御]
ガラス供給管104の昇温制御について説明する。
熔解炉101には、図示されないバーナーおよび電極が設けられている。溶解炉を含むガラス板製造装置の操業を開始する準備が完了したところで、溶解槽101内へ清澄剤を含むガラス原料を所定量投入し、投入されたガラス原料をバーナー火焔によるバーナー加熱および通電加熱して、ガラス供給管104へ最初(操業開始時)に導入される溶融ガラスMGがつくられる。
[Temperature control of glass supply pipe 104]
The temperature increase control of the glass supply pipe 104 will be described.
The melting furnace 101 is provided with a burner and electrodes not shown. When the preparation for starting the operation of the glass plate manufacturing apparatus including the melting furnace is completed, a predetermined amount of glass raw material containing a refining agent is charged into the melting tank 101, and the charged glass raw material is burner heated and energized with a burner flame. Thus, a molten glass MG that is initially introduced into the glass supply pipe 104 (at the start of operation) is produced.

溶解炉101でつくられる溶融ガラスMGがガラス供給管104へ導入される前に、ガラス供給管104は、ガラス供給管104の操業温度(例えば約1650℃)よりも低い温度、例えば約100℃〜200℃低い温度、の待機温度Tで維持される。待機温度Tで維持されているガラス供給管104へ、溶解炉101でつくられた溶融ガラスMGを所定の流量速度(kg/s)で導入しつつ、ガラス供給管を操業温度Tまで昇温する(昇温制御1)(図3)。熔融ガラスの処理装置の待機温度Tは、熔解炉101でつられる熔融ガラス温度、処理装置の供給管104におけるガラスの温度条件、操業温度T、これらに基づいて設定することができる。 Before the molten glass MG produced in the melting furnace 101 is introduced into the glass supply pipe 104, the glass supply pipe 104 is cooled to a temperature lower than the operating temperature of the glass supply pipe 104 (eg, about 1650 ° C.), for example, about 100 ° C. The temperature is maintained at a standby temperature T 1 of 200 ° C. lower. To glass supply tube 104 which is maintained at a standby temperature T 1, while introducing molten glass MG made in a melting furnace 101 at a predetermined flowrate (kg / s), temperature of the glass supply tube to operating temperature T 2 Warming up (temperature rise control 1) (FIG. 3). Standby temperature T 1 of the processing apparatus of the molten glass, a molten glass temperature Tsurareru in melter 101, the temperature condition of the glass in the supply pipe 104 of the processing unit, operating temperature T 2, can be set on the basis of these.

溶解炉101からガラス供給管104への溶融ガラスMG導入については、溶融ガラスMGからガラス供給管104へ持ち込まれる熱量(A)と、ガラス供給管104を含む供給管ユニット全体から放熱される放熱量(B)との関係が(A)<(B)となる溶融ガラスMGの導入速度(kg/s)を導入基準流量X(kg/s)とし、導入速度は導入基準流量Xに基づいて設定され、導入基準流量X(kg/s)を超えないように導入速度が決定され、溶融ガラスMGを少しずつ導入する。このように溶融ガラスMGの導入流量を規制することで、ガラス供給管104を待機温度Tから操業温度Tまで昇温するのに最適な装置の昇温幅を確保することができる(図3及び図4)。 Regarding the introduction of the molten glass MG from the melting furnace 101 to the glass supply tube 104, the amount of heat (A) brought from the molten glass MG into the glass supply tube 104 and the heat dissipation amount radiated from the entire supply tube unit including the glass supply tube 104. The introduction speed (kg / s) of the molten glass MG having the relationship (B) with (A) <(B) is defined as the introduction reference flow rate X 0 (kg / s), and the introduction speed is based on the introduction reference flow rate X 0 . The introduction speed is determined so as not to exceed the introduction reference flow rate X 0 (kg / s), and the molten glass MG is introduced little by little. By thus regulating the introduction flow rate of the molten glass MG, it is possible to ensure the Atsushi Nobori width of the optimum device for raising the temperature of the glass supply tube 104 from the standby temperature T 1 of up to operating temperature T 2 (FIG. 3 and FIG. 4).

溶解炉101からガラス供給管104へ溶融ガラスMGを導入するのに、上述のような溶融ガラスMGの導入速度を規制せず、溶融ガラスMGからガラス供給管104へ持ち込まれる熱量が、ガラス供給管104を含む供給管ユニット全体(保温部材を含む)から放熱される放熱量(B)を超える導入速度で溶融ガラスが導入されると、ガラス供給管104は待機温度Tから急速な勢いで操業温度Tを超えて上昇し、ガラス供給管104を昇温コントロールすることが不可能となる場合がある。また、急速な勢いで装置温度が上昇し、操業温度Tを超えた想定以上の高い装置温度となった処理装置を冷却機能などで冷却しても、装置の温度を制御可能な状態とするまでに時間を要する、あるいは、操業の定常状態に入るための温度制御を得るのは困難となる場合がある。 When introducing the molten glass MG from the melting furnace 101 to the glass supply pipe 104, the introduction rate of the molten glass MG as described above is not regulated, and the amount of heat brought into the glass supply pipe 104 from the molten glass MG is the glass supply pipe. When the entire supply tube unit containing 104 molten glass in the introduction rate exceeding the heat radiation amount is radiated from (including heat insulating member) (B) is introduced, the glass supply tube 104 is operating in a rapid pace from the standby temperature T 1 of In some cases, the temperature rises above the temperature T 2, and it becomes impossible to control the temperature of the glass supply pipe 104. In addition, the temperature of the apparatus rises rapidly, and even if the processing apparatus having a higher apparatus temperature than expected exceeding the operating temperature T 2 is cooled by a cooling function, the apparatus temperature can be controlled. It may take time, or it may be difficult to obtain temperature control to enter a steady state of operation.

(導入基準流量Xの算出)
ガラス供給管104へ熔融ガラスを導入する際、導入基準流量Xに基づいて導入速度(kg/s)を決定し、ガラス供給管104の所定の液面位置(例えば、図5のL)まで、少しずつ熔融ガラスMGを導入する。待機温度Tで維持されていたガラス供給管に熔融ガラスMGを導入して、ガラス供給管104の所定の液面位置まで熔融ガラスで満たし、操業温度Tまで加熱して操業温度が安定したら、操業温度Tを維持しながら次工程への熔融ガラスの導入を待機する。
(Calculation of introduction reference flow rate X 0)
When introducing molten glass into the glass supply tube 104, to determine the introduction rate based on the introduction reference flow X 0 (kg / s), a predetermined liquid level position of the glass supply tube 104 (e.g., L 1 in FIG. 5) Until then, molten glass MG is introduced little by little. By introducing wait temperature T 1 of molten glass MG into a glass feed tube was maintained at a until a predetermined liquid level position of the glass supply tube 104 filled with molten glass, operating temperature and heated to operating temperature T 2 is when stabilized , while maintaining the operating temperature T 2 to wait for the introduction of the molten glass to the next step.

導入基準流量Xの設定のために、まず、放熱量(B)を算出する。ガラス供給管104への溶融ガラスMG導入の際の放熱量(導入開始から所定の液面位置まで導入する導入時間における放熱量あるいは単位時間あたりの放熱量)を算出するために、流体および構造解析シミュレーションを用いて予測算出することができる。
通常、ガラス供給管104は耐火物材料などで覆われ、保温構造が備えられる。待機温度Tまで加熱された供給管104に所定の温度の熔融ガラスMGを導入するときの放熱量として、供給管104および保温構造に使用されている材料の熱伝導度[W/m/K]、さらに、ガラス供給管ユニット周囲の温度等、環境条件を考慮することで、ガラス供給管ユニット全体が外部空間へ放熱する放熱量(B)をシミュレーションにより算出することができる。あるいは、設備仕様と同等の構成を備えたスケールの小規模な装置で得られた放熱量データを元に、放熱量(B)を算出してもよい。
For setting the introduction reference flow X 0, first calculates the heat radiation amount (B). Fluid and structural analysis to calculate the amount of heat release when introducing molten glass MG into the glass supply pipe 104 (heat release amount during introduction time from introduction start to predetermined liquid level position or heat release amount per unit time) Prediction can be calculated using simulation.
Usually, the glass supply pipe 104 is covered with a refractory material or the like, and is provided with a heat retaining structure. As the heat radiation amount when introducing the molten glass MG predetermined temperature in the supply pipe 104 which is heated to the standby temperature T 1, the thermal conductivity of the materials used in the supply pipe 104 and the thermal insulation structure [W / m / K Furthermore, by considering environmental conditions such as the temperature around the glass supply tube unit, the heat release amount (B) that the entire glass supply tube unit radiates to the external space can be calculated by simulation. Alternatively, the heat release amount (B) may be calculated based on the heat release amount data obtained by a small-scale apparatus having a configuration equivalent to the facility specification.

待機温度Tまで加熱されている供給管104に所定の温度の熔融ガラスMGを導入する間の放熱量(B)よりも、導入される熔融ガラスMGからガラス供給管104へ持ち込まれる持ち込み熱量(A)が小さい熱量となるように、導入基準流量X(kg/s)が設定される。すなわち、熔融ガラス処理装置であるガラス供給管104への熔融ガラスMGの持ち込み熱量(A)と、ガラス供給管104を含む供給管ユニット全体から放熱される放熱量(B)との関係が、(A)<(B)となる溶融ガラスMGの導入速度として(kg/s)導入基準流量Xが設定される。熔融ガラス処理装置への熔融ガラスMGの持ち込み熱量(A)は、ガラスの密度[kg/m]、粘度[Pa・s]、比熱[J/kg・K]から計算される。 Heat radiation amount between introducing the molten glass MG standby temperature T 1 of the predetermined temperature to supply pipe 104 which is heated up (B) than, bringing the amount of heat introduced into the glass supply tube 104 from the molten glass MG introduced ( The introduction reference flow rate X 0 (kg / s) is set so that A) is a small amount of heat. That is, the relationship between the amount of heat (A) brought into the glass supply pipe 104 that is a molten glass processing apparatus and the amount of heat released from the entire supply pipe unit including the glass supply pipe 104 (B) is ( a) <(B) and made as an introduction rate of the molten glass MG is (kg / s) introduced the reference flow X 0 is set. The amount of heat (A) brought into the molten glass processing apparatus by the molten glass MG is calculated from the density [kg / m 3 ], the viscosity [Pa · s], and the specific heat [J / kg · K] of the glass.

(導入基準流量Xによる導入における液面位置の管理)
溶解炉101からガラス供給管104へ導入される溶解ガラスMGの流量制御(導入速度の制御)については、ガラス供給管104の入口付近から出口までに複数の温度計、液面レベル計、流速計、などを備えることにより、導入基準流量Xに対する変化(差分)をモニタリングして、溶解炉101からの溶融ガラスMGの導入量(導入速度)をコントロールすることができる。溶融ガラスMGの導入流量(kg/s)が導入基準流量X付近に近づいたときには、溶解炉101へ投入するガラス原料の量を抑えることで、ガラス供給管へ流出する溶融ガラスMGの液位をコントロールして、溶融ガラスMGの導入流量を調節してもよい。このような溶融ガラスMGの導入速度の導入コントロールを、所定の時間ごとに適切に管理することで、より安定的に溶融ガラスの導入とガラス供給管104の昇温制御を実施することができる。
ガラス供給管104(昇温制御1)には次工程への導入を待機させる基準位置L(図5のL)が設定される。上述のとおり導入基準流量Xに基づいてガラス供給管への導入を規制しつつ供給管104を加熱し、基準位置Lの液面位置まで導入されたところで熔融ガラスMGの導入を待機させ供給管104の加熱を続ける。
(Management of the liquid surface position in the introduction by introducing a reference flow X 0)
Regarding the flow rate control (control of introduction speed) of the molten glass MG introduced from the melting furnace 101 into the glass supply pipe 104, a plurality of thermometers, liquid level meters, and velocimeters from the vicinity of the inlet of the glass supply pipe 104 to the outlet. , by providing the like, can be controlled by monitoring change (difference) to the introduction reference flow X 0, the introduction of the molten glass MG from the melting furnace 101 (introduction rate). When the introduction flow rate (kg / s) of the molten glass MG approaches the introduction reference flow rate X 0 , the liquid level of the molten glass MG flowing out to the glass supply pipe is suppressed by suppressing the amount of the glass raw material introduced into the melting furnace 101. May be controlled to adjust the flow rate of the molten glass MG introduced. By appropriately managing the introduction control of the introduction speed of the molten glass MG every predetermined time, the introduction of the molten glass and the temperature increase control of the glass supply pipe 104 can be more stably performed.
A reference position L (L 1 in FIG. 5) for waiting for introduction into the next process is set in the glass supply pipe 104 (temperature increase control 1). As described above, the supply pipe 104 is heated while restricting the introduction to the glass supply pipe based on the introduction reference flow rate X 0 , and when the liquid level is introduced to the reference position L 1 , the introduction of the molten glass MG is waited and supplied. Continue heating tube 104.

上述のように、導入基準流量Xに基づいて溶融ガラスを供給管104へ導入する際、ガラス供給管104は、流量規制(流量制御)を行いながら待機温度Tから操業温度Tまで少しずつ段階的に昇温される。溶融ガラスMGの液位が、ガラス供給管104の所定の液面位置Lに達したところで、ガラス供給管104の操業温度Tが一定となる温度制御を確保し、ガラス供給管104から清澄管102へ溶融ガラスMGを導入するのを待機する。
ガラス供給管104の液面位置Lと同じ液面高さ位置を、直前の前工程の熔解炉において特定することで、溶解炉から供給管104への熔融ガラスMGの導入プロセス(昇温制御1)の終了位置を正確に制御できる。また、このような基準位置(L)を直前の工程で特定しておくことで、熔融ガラスの導入速度の導入コントロール手段としても使用することができる(図5)。
As described above, when introducing molten glass into the supply pipe 104 on the basis of the introduced reference flow X 0, the glass supply tube 104 is slightly from the standby temperature T 1 of up to operating temperature T 2 while the flow rate regulating (flow control) The temperature is raised step by step. When the liquid level of the molten glass MG reaches the predetermined liquid level position L 1 of the glass supply pipe 104, temperature control is ensured so that the operation temperature T 2 of the glass supply pipe 104 becomes constant, and the glass supply pipe 104 is clarified. Wait until the molten glass MG is introduced into the tube 102.
The process of introducing the molten glass MG from the melting furnace to the supply pipe 104 (temperature increase control) by specifying the same liquid level height position as the liquid level position L 1 of the glass supply pipe 104 in the previous melting furnace. The end position of 1) can be accurately controlled. Further, by specifying such a reference position (L 1 ) in the immediately preceding process, it can be used as an introduction control means for the introduction speed of the molten glass (FIG. 5).

ガラス供給管104は、白金あるいは白金合金を用いて構成する、あるいは、白金または白金合金に金属酸化物粒子を分散させた材料で構成することができる。すなわち、ガラス供給管には、白金あるいは白金合金に金属酸化物粒子が分散した強化白金あるいは強化白金合金を用いることができる。   The glass supply tube 104 can be made of platinum or a platinum alloy, or can be made of a material in which metal oxide particles are dispersed in platinum or a platinum alloy. That is, reinforced platinum or reinforced platinum alloy in which metal oxide particles are dispersed in platinum or a platinum alloy can be used for the glass supply tube.

ガラス供給管104は、アルミナセメント114aで被覆され、その外側には、耐火物レンガ等の断熱部材114bが積み重ねられて移送管ユニット114が形成されている。すなわち、ガラス供給管104の周りには、保温構造114bが設けられている。また、ガラス供給管104の両端部104a,104bは、フランジ形状を成し、保温構造114bの外に突出している。本実施形態の両端部104a,104bはフランジ形状を成しているが、両端部104a,104bが管外部から冷却される限りにおいて、フランジ形状でなくてもよい。   The glass supply pipe 104 is covered with an alumina cement 114a, and a heat transfer member 114b such as a refractory brick is stacked on the outer side to form a transfer pipe unit 114. That is, a heat retaining structure 114 b is provided around the glass supply tube 104. Further, both end portions 104a and 104b of the glass supply tube 104 have a flange shape and project outside the heat retaining structure 114b. Both end portions 104a and 104b of the present embodiment have a flange shape. However, as long as the both end portions 104a and 104b are cooled from the outside of the pipe, they may not have the flange shape.

[昇温制御2から昇温制御5]
本実施形態における処理装置は、上述の熔解炉から清澄管へ熔融ガラスMGを所定の温度で移送するガラス供給管104のほかに、さらに、熔解炉から熔融ガラスMGに含まれるO2を脱泡して熔融ガラスを清澄する清澄管と、熔融ガラスMGを均質化する攪拌槽と、清澄管から攪拌槽へ熔融ガラスを所定の温度で移送するガラス供給管2と、攪拌槽から成形体へ所定の温度で熔融ガラスMGを移送するガラス供給管3と、を備え;
さらに、操業開始時に、前記溶解炉から溶融ガラスを流出させて、上述のガラス供給管1から、清澄管、ガラス供給管2、攪拌槽、ガラス供給管3へと、順に、熔融ガラスMGを所定の基準位置まで導入するとき、これらの処理装置の各々において、それぞれの導入基準流量Xに基づいて熔融ガラスの流量が規制され、それぞれの操業温度Tまで加熱される(図6)。
[Temperature control 2 to Temperature control 5]
The processing apparatus in this embodiment defoams O 2 contained in the molten glass MG from the melting furnace in addition to the glass supply pipe 104 that transfers the molten glass MG from the melting furnace to the clarification tube at a predetermined temperature. A clarification tube for refining the molten glass, a stirring vessel for homogenizing the molten glass MG, a glass supply tube 2 for transferring the molten glass from the clarification tube to the stirring vessel at a predetermined temperature, and a predetermined amount from the stirring vessel to the compact. A glass supply pipe 3 for transferring the molten glass MG at a temperature of;
Furthermore, at the start of operation, the molten glass is caused to flow out of the melting furnace, and the molten glass MG is predetermined in order from the glass supply pipe 1 to the refining pipe, the glass supply pipe 2, the stirring tank, and the glass supply pipe 3. when introducing to the reference position, in each of these processing devices, the flow rate of the molten glass on the basis of the respective introduction reference flow X 0 is regulated, it is heated to the respective operating temperature T 2 (FIG. 6).

ガラス供給管104から清澄管102への溶融ガラスMGの導入(昇温制御2)、清澄管102からガラス供給管105への溶融ガラスMGの導入(昇温制御3)、ガラス供給管105から攪拌槽103への溶融ガラスMGの導入(昇温制御4)、攪拌槽103からガラス供給管106への溶融ガラスMGの導入(昇温制御5)についても(図5)、上述の昇温制御1と同様に、処理装置へ持ち込む熔融ガラスMGの熱量(A)<放熱量(B)となる溶融ガラスの導入速度である導入基準流量X(kg/s)を特定し、導入基準流量Xに基づいて溶融ガラスの導入量を規制しながら溶融ガラスの処理装置を昇温する。
このように、昇温制御2、昇温制御3、昇温制御4、昇温制御5においても、溶融ガラスMGの導入流量を規制することで、待機温度Tから操業温度Tまで昇温するのに最適な処理装置の昇温幅を確保することができる(図3及び図4)。
Introduction of molten glass MG from the glass supply tube 104 to the clarification tube 102 (temperature increase control 2), introduction of molten glass MG from the clarification tube 102 to the glass supply tube 105 (temperature increase control 3), and stirring from the glass supply tube 105 The introduction of the molten glass MG to the tank 103 (temperature increase control 4) and the introduction of the molten glass MG from the agitation tank 103 to the glass supply pipe 106 (temperature increase control 5) (FIG. 5) are also described above. Similarly, to identify the heat of the molten glass MG to bring the processor (a) <heat radiation amount (B) and a rate of introduction of molten glass comprising introducing reference flow X 0 (kg / s) and, introducing the reference flow X 0 The temperature of the molten glass processing apparatus is raised while regulating the amount of molten glass introduced based on the above.
Thus, temperature increase control 2, Atsushi Nobori control 3, Atsushi Nobori control 4, also in the Atsushi Nobori control 5, by regulating the introduction flow rate of the molten glass MG, heated from standby temperatures T 1 until operating temperature T 2 Therefore, it is possible to secure a temperature increase range of the processing apparatus that is optimal for the above (FIGS. 3 and 4).

昇温制御2、昇温制御3、昇温制御4、昇温制御5それぞれにおいても、溶融ガラスMGを導入するのに、上述のような溶融ガラスMGの導入速度を規制せず、溶融ガラスMGから処理装置それぞれに持ち込まれる熱量が、処理装置に備えられる保温機構を含むユニット全体から放熱される放熱量(B)を超える導入速度で溶融ガラスが導入されると、処理装置は待機温度Tから急速な勢いで操業温度Tを超えて上昇し、昇温コントロールすることが不可能となる場合がある。急速な勢いで装置温度が上昇し、操業温度Tを超えた、想定以上の高い装置温度の状況にある処理装置を冷却機能などで冷却しても、装置の温度を制御可能な状態とするまでに時間を要する、あるいは、操業の定常状態に入るための温度制御を得るのは困難となる場合がある。 In each of the temperature increase control 2, the temperature increase control 3, the temperature increase control 4, and the temperature increase control 5, the introduction rate of the molten glass MG as described above is not regulated to introduce the molten glass MG, and the molten glass MG is not regulated. When the molten glass is introduced at an introduction rate that exceeds the heat dissipation amount (B) radiated from the entire unit including the heat retaining mechanism provided in the processing device, the processing device is set to the standby temperature T 1. rises above the operating temperature T 2 at a rapid pace from, it may become impossible to raise the temperature control. The temperature of the device rises rapidly, and the temperature of the device can be controlled even if the processing device that has exceeded the operating temperature T 2 and has a higher temperature than expected is cooled by the cooling function. It may take time, or it may be difficult to obtain temperature control to enter a steady state of operation.

昇温制御2、昇温制御3、昇温制御4、昇温制御5それぞれにおいても、処理装置へ熔融ガラスを導入する際、導入基準流量Xに基づいて導入速度(kg/s)を決定して、待機温度Tにある処理装置の定の液面位置まで、少しずつ熔融ガラスMGを導入する。所定の液面位置まで熔融ガラスで満たし、操業温度Tまで加熱して操業温度が安定したら、操業温度Tを維持しながら次工程への熔融ガラスの導入を待機する。 Atsushi Nobori control 2, Atsushi Nobori control 3, Atsushi Nobori control 4, temperature increase control 5 also in each case to introduce molten glass to the processor, determine the introduction rate (kg / s) based on the introduction reference flow X 0 and, up to a constant liquid level position of the processing device in a standby temperature T 1, to introduce the molten glass MG gradually. When the molten glass is filled up to a predetermined liquid surface position and heated to the operating temperature T 2 and the operating temperature is stabilized, introduction of the molten glass to the next process is awaited while maintaining the operating temperature T 2 .

昇温制御2、昇温制御3、昇温制御4、昇温制御5それぞれにおいても、導入基準流量Xの設定のために、まず、放熱量(B)を算出する。供給管104と同様にして、溶融ガラスMG導入の際の放熱量(導入開始から所定の液面位置まで導入する導入時間における放熱量あるいは単位時間あたりの放熱量)の算出も、流体および構造解析シミュレーションなどにより算出することができる。熔融ガラス処理装置への熔融ガラスMGの持ち込み熱量(A)は、ガラスの密度[kg/m]、粘度[Pa・s]、比熱[J/kg・K]から計算される。 Atsushi Nobori control 2, Atsushi Nobori control 3, Atsushi Nobori control 4, also in the Atsushi Nobori control 5 respectively, for setting the introduction reference flow X 0, first calculates the heat radiation amount (B). In the same manner as the supply pipe 104, the calculation of the amount of heat released when the molten glass MG is introduced (the amount of heat released during the introduction time from the start of introduction to the predetermined liquid surface position or the amount of heat released per unit time) is also calculated by the fluid and structural analysis. It can be calculated by simulation or the like. The amount of heat (A) brought into the molten glass processing apparatus by the molten glass MG is calculated from the density [kg / m 3 ], the viscosity [Pa · s], and the specific heat [J / kg · K] of the glass.

昇温制御2、昇温制御3、昇温制御4、昇温制御5それぞれにおいても、待機温度Tまで加熱されている供給管104に所定の温度の熔融ガラスMGを導入する間の放熱量(B)よりも、導入される熔融ガラスMGからガラス供給管104へ持ち込まれる持ち込み熱量(A)が小さい熱量となるように、導入基準流量X(kg/s)が設定される。 In each of the temperature increase control 2, the temperature increase control 3, the temperature increase control 4, and the temperature increase control 5, the amount of heat released while the molten glass MG having a predetermined temperature is introduced into the supply pipe 104 heated to the standby temperature T 1. The introduction reference flow rate X 0 (kg / s) is set so that the amount of heat (A) brought into the glass supply tube 104 from the introduced molten glass MG is smaller than that in (B).

昇温制御2、昇温制御3、昇温制御4、昇温制御5それぞれにおいても、上述と同様、導入基準流量Xに対する変化(差分)をモニタリングする方法及び手段を備えることができ、溶解炉101からの溶融ガラスMGの導入量(導入速度)をコントロールすることができる。溶融ガラスMGの導入速度の導入コントロールを、所定の時間ごとに適切に管理することで、より安定的に溶融ガラスの導入と処理装置の昇温制御を実施することができる。 Atsushi Nobori control 2, Atsushi Nobori control 3, Atsushi Nobori control 4, temperature increase control 5 also in each as described above, may comprise a method and means for monitoring changes (difference) to the introduction reference flow X 0, dissolution The introduction amount (introduction speed) of the molten glass MG from the furnace 101 can be controlled. By appropriately managing the introduction control of the introduction speed of the molten glass MG every predetermined time, the introduction of the molten glass and the temperature rise control of the processing apparatus can be more stably performed.

上述のように、導入基準流量Xに基づいて溶融ガラスを供給管104へ導入する際、ガラス供給管104は、流量規制(流量制御)を行いながら待機温度Tから操業温度Tまで少しずつ段階的に昇温される。溶融ガラスMGの液位が、ガラス供給管104の所定の液面位置Lに達したところで、ガラス供給管104の操業温度Tが一定となる温度制御を確保し、ガラス供給管104から清澄管102へ溶融ガラスMGを導入するのを待機する。
昇温制御2、昇温制御3、昇温制御4、昇温制御5の処理装置それぞれにおいても、供給管104と同様に、次工程へのガラス導入開始を待機するための基準位置を特定するのが好ましい。
As described above, when introducing molten glass into the supply pipe 104 on the basis of the introduced reference flow X 0, the glass supply tube 104 is slightly from the standby temperature T 1 of up to operating temperature T 2 while the flow rate regulating (flow control) The temperature is raised step by step. When the liquid level of the molten glass MG reaches the predetermined liquid level position L 1 of the glass supply pipe 104, temperature control is ensured so that the operation temperature T 2 of the glass supply pipe 104 becomes constant, and the glass supply pipe 104 is clarified. Wait until the molten glass MG is introduced into the tube 102.
In each of the temperature rise control 2, the temperature rise control 3, the temperature rise control 4, and the temperature rise control 5 processing devices, as in the supply pipe 104, the reference position for waiting for the start of glass introduction to the next process is specified. Is preferred.

昇温制御2、昇温制御3、昇温制御4、昇温制御5における処理装置も、ガラス供給管104と同様に、白金あるいは白金合金を用いて構成する、あるいは、白金または白金合金に金属酸化物粒子を分散させた材料で構成することができる。   Similarly to the glass supply pipe 104, the processing devices in the temperature raising control 2, the temperature raising control 3, the temperature raising control 4, and the temperature raising control 5 are also configured using platinum or a platinum alloy, or platinum or a platinum alloy is made of metal. It can be made of a material in which oxide particles are dispersed.

以上、本発明を実施の形態により説明したが、本発明は上記実施形態には限定されず、本発明の主旨を逸脱しない範囲において、種々の改良や変更をしてもよいのはもちろんである。   Although the present invention has been described above with reference to the embodiments, the present invention is not limited to the above embodiments, and various modifications and changes may be made without departing from the spirit of the present invention. .

以上のとおり、熔融ガラスを処理する処理装置への溶融ガラスMG導入については、それぞれの処理装置において、溶融ガラスMGから処理装置へ持ち込まれる熱量(A)と、処理装置ユニット全体から放熱される放熱量(B)との関係が(A)<(B)となる溶融ガラスMGの導入速度(kg/s)を導入基準流量X(kg/s)として、それぞれの導入速度が導入基準流量Xに基づいて設定され、導入基準流量X(kg/s)に基づいて溶融ガラスMGを少しずつ導入する。このように溶融ガラスMGの導入流量を規制することで、処理装置それぞれが待機温度Tから操業温度Tまで昇温するのに最適な装置の昇温幅を確保することができる(図6)。
処理装置それぞれにおいて、操業開始時に導入基準流量X(kg/s)に基づいて熔融ガラスの導入速度が最適にコントロールされているため、操業初期の処理装置の昇温制御は、昇温異常を招くことなく、また、冷却機能で装置温度を調整するなどの対処する必要がなく、効率的に安定した定常状態に到達できる。さらに、定常状態に異状なくスムーズに到達できるため、処理装置それぞれで目的とする溶融ガラスの温度履歴を形成するという点において有利となり、良い品質のガラス基板を量産できる。
As described above, regarding the introduction of the molten glass MG into the processing apparatus for processing the molten glass, in each processing apparatus, the amount of heat (A) brought from the molten glass MG to the processing apparatus and the heat released from the entire processing apparatus unit. The introduction speed (kg / s) of the molten glass MG that has a relationship with the amount of heat (B) where (A) <(B) is taken as the introduction reference flow rate X 0 (kg / s). It is set based on 0 , and the molten glass MG is introduced little by little based on the introduction reference flow rate X 0 (kg / s). By thus regulating the introduction flow rate of the molten glass MG, can each processor to ensure the Atsushi Nobori width of the optimum device for heating from the standby temperature T 1 of up to operating temperature T 2 (FIG. 6 ).
In each processing apparatus, the introduction speed of the molten glass is optimally controlled based on the introduction reference flow rate X 0 (kg / s) at the start of operation. There is no need to take measures such as adjusting the temperature of the apparatus with a cooling function, and an efficient and stable steady state can be reached. Furthermore, since the steady state can be reached smoothly without any abnormality, it is advantageous in that the temperature history of the target molten glass is formed in each processing apparatus, and a glass substrate of good quality can be mass-produced.

101 熔解炉(熔解装置)
102 清澄管
103 撹拌槽(攪拌装置)
104 ガラス供給管1
105 ガラス供給管2
106 ガラス供給管3
200 成形装置
210 成形体
300 切断装置
101 Melting furnace (melting equipment)
102 clarification tube 103 stirring tank (stirring device)
104 Glass supply pipe 1
105 Glass supply tube 2
106 Glass supply tube 3
200 Molding device 210 Molded body 300 Cutting device

Claims (7)

熔解炉でガラス原料を熔解して熔融ガラスを生成する溶解工程と、前記熔解炉でつくられた熔融ガラスを処理する処理装置を用いて溶融ガラスを処理する熔融ガラス処理工程と、前記熔融ガラス処理工程で処理された熔融ガラスを成形してシートガラスを形成する成形工程とを含むガラス板の製造方法であって、
操業開始時に、前記溶解炉からの溶融ガラスを前記処理装置へ導入し、前記処理装置を加熱するのに、前記処理装置を操業温度Tよりも低い待機温度Tで維持し、溶融ガラスが前記処理装置へ持ち込む熱量(A)および前記処理装置の放熱量(B)が(A)<(B)となる溶融ガラスの導入速度を導入基準流量X(kg/s)とすると、熔融ガラスを導入するとき、所定時間ごと、前記導入基準流量Xに基づいて前記溶融ガラスの流量を規制して、前記処理装置が操業温度Tまで加熱される、ことを特徴とするガラス板の製造方法。
A melting step of melting glass raw material in a melting furnace to produce molten glass, a molten glass processing step of processing molten glass using a processing apparatus for processing the molten glass made in the melting furnace, and the molten glass processing A glass plate manufacturing method including a forming step of forming a sheet glass by forming a molten glass processed in the step,
At the start of operation, the molten glass from the melting furnace is introduced into the processing apparatus, and the processing apparatus is heated to maintain the processing apparatus at a standby temperature T 1 lower than the operating temperature T 2. Assuming that the introduction rate of molten glass at which the amount of heat (A) brought into the processing apparatus and the heat dissipation amount (B) of the processing apparatus is (A) <(B) is the introduction reference flow rate X 0 (kg / s), molten glass When the glass plate is introduced, the flow rate of the molten glass is regulated every predetermined time based on the introduction reference flow rate X 0 , and the processing apparatus is heated to the operating temperature T 2. Method.
前記処理装置は、前記熔解炉から熔融ガラスに含まれるO2を脱泡して前記熔融ガラスを清澄する清澄管と、前記熔融ガラスを均質化する攪拌槽と、前記熔解炉から前記清澄管へ熔融ガラスを所定の温度で移送するガラス供給管1と、前記清澄管から攪拌槽へ熔融ガラスを所定の温度で移送するガラス供給管2と、前記攪拌槽から前記成形体へ所定の温度で熔融ガラスを移送するガラス供給管3と、を備え、
操業開始時に、前記溶解炉から溶融ガラスを流出させ、前記ガラス供給管1、前記清澄管、前記ガラス供給管2、前記攪拌槽、前記ガラス供給管3へ、順に、前記熔融ガラスを所定の基準位置まで導入するとき、前記処理装置の各々において、それぞれの前記導入基準流量Xに基づいて前記熔融ガラスの流量が規制され、それぞれの操業温度Tまで加熱される、請求項1に記載のガラス板の製造方法。
The processing apparatus includes: a refining tube for defoaming O 2 contained in the molten glass from the melting furnace to clarify the molten glass; a stirring tank for homogenizing the molten glass; and the melting furnace to the refining tube. A glass supply pipe 1 for transferring the molten glass at a predetermined temperature, a glass supply pipe 2 for transferring the molten glass from the clarification pipe to the stirring tank at a predetermined temperature, and melting from the stirring tank to the molded body at the predetermined temperature. A glass supply pipe 3 for transferring glass,
At the start of operation, the molten glass is caused to flow out of the melting furnace, and the molten glass is sequentially supplied to the glass supply pipe 1, the refining pipe, the glass supply pipe 2, the stirring tank, and the glass supply pipe 3 in order. when introducing to a position, in each of the processing apparatus, the flow rate of the molten glass on the basis of each of the introduction reference flow X 0 is regulated, is heated to the respective operating temperature T 2, according to claim 1 Manufacturing method of glass plate.
前記処理装置における前記熔融ガラスの導入は、前記導入基準流量Xを超えないように流量が規制されて、前記操業温度Tまで加熱される、請求項1又は2に記載のガラス板の製造方法。 The treatment the introduction of the molten glass in the apparatus, the introduced reference flow X 0 and not as being flow restriction than is heated until said operating temperature T 2, the manufacture of glass plate according to claim 1 or 2 Method. 前記処理装置は冷却を伴わずに法熱量(B)を放熱する、請求項1から3のいずれか一項に記載のガラス板の製造方法。   The said processing apparatus is a manufacturing method of the glass plate as described in any one of Claim 1 to 3 which thermally radiates the amount of method heat (B), without being accompanied by cooling. ガラス原料を熔解して熔融ガラスを生成する溶解炉と、
加熱手段が備えられ、前記熔融ガラスを導入して処理する処理装置と、
前記処理装置で処理された溶融ガラスを成形してシートガラスを形成する成形装置と、を備え、
操業開始時に、前記溶解炉からの溶融ガラスを前記処理装置へ導入し、前記処理装置を加熱するのに、前記処理装置を操業温度Tよりも低い待機温度Tで維持し、前記溶融ガラスが前記処理装置へ持ち込む熱量(A)および前記処理装置の放熱量(B)が(A)<(B)となる前記溶融ガラスの導入速度を導入基準流量X(kg/s)とすると、前記熔融ガラスを導入するとき、所定時間ごと、前記導入基準流量Xに基づいて前記溶融ガラスの流量を規制して、前記処理装置が前記加熱手段により操業温度Tまで加熱される、ことを特徴とするガラス板の製造装置。
A melting furnace for melting glass raw material to produce molten glass;
A processing device provided with heating means, for introducing and processing the molten glass;
A molding apparatus for forming a sheet glass by molding the molten glass processed by the processing apparatus,
At start operations, the molten glass from the melting furnace is introduced into the processing apparatus, to heat the apparatus, maintaining said processing apparatus at operating temperature T 2 lower standby temperatures T 1 than the molten glass Is the introduction reference flow rate X 0 (kg / s), the amount of heat introduced into the processing apparatus (A) and the heat dissipation amount (B) of the processing apparatus is (A) <(B). when introducing the molten glass, every predetermined time, the introduction reference flow X 0 to regulate the flow rate of the molten glass on the basis of said processing apparatus is heated to operating temperature T 2 by the heating means, that A glass plate manufacturing apparatus.
前記処理装置は、熔融ガラスに含まれるO2を脱泡して熔融ガラスを清澄する清澄管と、熔融ガラスを均質化する攪拌槽と、前記熔解炉から前記清澄管へ熔融ガラスを所定の温度で移送するガラス供給管1と、前記清澄管から攪拌槽へ熔融ガラスを所定の温度で移送するガラス供給管2と、前記攪拌槽から前記成形体へ所定の温度で熔融ガラスを移送するガラス供給管3と、を備え、
操業開始時に、前記溶解炉から前記溶融ガラスを流出させ、前記ガラス供給管1、前記清澄管、前記ガラス供給管2、前記攪拌槽、前記ガラス供給管3に、順に、前記熔融ガラスを所定の基準位置まで導入するとき、処理装置の各々は、それぞれの前記導入基準流量Xに基づいて前記熔融ガラスの流量が規制され、それぞれの操業温度Tまで加熱される、請求項5に記載のガラス板の製造装置。
The processing apparatus includes: a refining tube for defoaming O 2 contained in the molten glass to clarify the molten glass; a stirring tank for homogenizing the molten glass; and the molten glass from the melting furnace to the refining tube at a predetermined temperature. A glass supply pipe 1 for transferring at a predetermined temperature, a glass supply pipe 2 for transferring molten glass from the clarification pipe to the stirring tank at a predetermined temperature, and a glass supply for transferring molten glass from the stirring tank to the molded body at a predetermined temperature. A tube 3;
At the start of the operation, the molten glass is caused to flow out of the melting furnace, and the molten glass is supplied to the glass supply pipe 1, the clarification pipe, the glass supply pipe 2, the stirring tank, and the glass supply pipe 3 in order. when introducing to the reference position, each processing device is the flow rate of the molten glass on the basis of each of the introduction reference flow X 0 is regulated, it is heated to the respective operating temperature T 2, according to claim 5 Glass plate manufacturing equipment.
前記処理装置は、前記熔融ガラスを導入するとき、前記導入基準流量Xを超えないように、前記熔融ガラスの流量が規制される規制手段を備え、前期操業温度Tまで加熱される、請求項5又は6に記載のガラス板の製造装置。 The processing unit, when introducing the molten glass, so as not to exceed the introduction reference flow X 0, comprising a regulating means for the flow rate of the molten glass is regulated, is heated to a year operating temperature T 2, wherein Item 7. An apparatus for producing a glass plate according to Item 5 or 6.
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