JP2017178724A - Manufacturing method for glass plate and melting tank - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、ガラス板の製造方法及び熔解槽に関する。 The present invention relates to a method for producing a glass plate and a melting tank.
近年、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイなどのフラットパネルディスプレイ(以下、FPDと言う)の分野では、画像表示の高精細化の進展に伴って、FPD用ガラス基板に対する品質要求は益々厳しくなってきている。特に、画素のピッチズレの原因となるディスプレイパネル製造時に生じるガラス基板の熱収縮を抑制するために、ガラス基板を従来よりさらに高温で成形し、熔融ガラスがより高温になる傾向にある。 In recent years, in the field of flat panel displays (hereinafter referred to as FPDs) such as liquid crystal displays and plasma displays, quality requirements for glass substrates for FPDs have become increasingly severe with the progress of high definition image display. In particular, in order to suppress the thermal shrinkage of the glass substrate that occurs during display panel manufacture, which causes pixel pitch shift, the glass substrate tends to be formed at a higher temperature than before, and the molten glass tends to have a higher temperature.
ダウンドロー法で熱収縮に対する品質要求に答えるガラス板を製造するためには、例えば、従来のガラス組成に比べて歪点の高いガラス組成のガラスを利用する。つまり、高温粘性の高いガラス組成のガラスを利用する。例えば、FPDのガラス基板として使用されるものなどの、高熔融温度のガラスまたは高歪み点ガラスにおいてガス状包有物を減少させるためのガラス製造システムおよび方法が知られている(特許文献1)。このシステム及び方法では、溶融容器内でバッチ材料を加熱して、溶融温度TMで、多価酸化物材料を含む熔融ガラスを形成し、その後、耐火性管内で熔融ガラスをTM未満の冷却温度TCに冷却し、熔融ガラスを該耐火性管内に所定の滞留時間に亘り滞留させる。この後、冷却された熔融ガラスを清澄温度TF≧TMまで加熱する。 In order to manufacture a glass plate that meets the quality requirements for thermal shrinkage by the downdraw method, for example, glass having a glass composition having a higher strain point than that of a conventional glass composition is used. That is, a glass having a high temperature viscosity is used. For example, a glass manufacturing system and method for reducing gaseous inclusions in high melting glass or high strain point glass such as those used as glass substrates for FPDs are known (Patent Document 1). . In this system and method, a batch material is heated in a melting vessel to form a molten glass containing a polyvalent oxide material at a melting temperature T M , and then the molten glass is cooled to less than T M in a refractory tube. Cooling to a temperature T C , the molten glass is retained in the refractory tube for a predetermined residence time. Thereafter, heating the cooled glass melt until a clear temperature T F ≧ T M.
一般に、高温粘性が高い、あるいは歪点が高いガラスとなるようにガラス組成を調整したガラスは、熔融ガラス時の電気抵抗率も大きくなる傾向にある。熔融ガラスを通電加熱する熔解工程においては、例えば、1550℃における電気抵抗率が160Ω・cm以上である熔融ガラスの場合、熔融ガラスの加熱のために熔融ガラスに通電させようとする電流の一部が熔解槽を形成する耐火レンガに流れて加熱されるため、その熱が熔解槽の底部を構成する敷き部の耐火レンガに蓄積されて温度がその周囲に比べて局所的に高くなる熱ごもりが無視できなくなる。局所的な熱ごもりにより、耐火レンガの強度は低下して変形し易くなり、場合によっては、耐火レンガが熔損する可能性がある。 In general, a glass whose glass composition is adjusted so as to be a glass having a high temperature viscosity or a high strain point tends to have a high electrical resistivity at the time of molten glass. In the melting process in which the molten glass is energized and heated, for example, in the case of a molten glass having an electrical resistivity at 1550 ° C. of 160 Ω · cm or more, part of the current to be applied to the molten glass for heating the molten glass Is heated and flows to the refractory bricks that form the melting tank, so that the heat is accumulated in the refractory bricks of the laying part that forms the bottom of the melting tank and the temperature rises locally compared to its surroundings Cannot be ignored. Due to local heat, the strength of the refractory brick is reduced and easily deformed, and in some cases, the refractory brick may be melted.
さらに、上述のような熔解槽では、熔解槽の側壁周辺、あるいは熔解槽の側壁下部に設けられる熔融ガラスの流出口の周辺では、熔解槽の外部への放熱により、熔融ガラスが側壁周辺で下降流をつくる傾向にある。特に、熔解槽の側壁下部に設けられる流出口周辺に発生する熔融ガラスの下降流は、熔融ガラスの表面(液面)に浮遊する未熔解の原料成分を含む異質素地を巻き込んで、ガラス品質にとって好ましくない脈理を引き起こす原因となる可能性がある。 Furthermore, in the melting tank as described above, the molten glass descends around the side wall of the melting tank around the side wall of the melting tank or around the outlet of the molten glass provided in the lower part of the side wall of the melting tank due to heat radiation to the outside of the melting tank. It tends to make a flow. In particular, the downward flow of the molten glass generated around the outlet provided in the lower part of the side wall of the melting tank entrains a heterogeneous substrate containing unmelted raw material components floating on the surface (liquid surface) of the molten glass. May cause undesirable striae.
このような状況から、電気抵抗率が大きくなる傾向にある熔融ガラスを熔解槽で通電加熱するとき、熔解槽の敷き部の局所的な熱ごもりを抑制し、かつ、ガラス品質における脈理の原因となる熔解槽の側壁周辺の下降流を抑えるように、熔解槽における熔融ガラスの温度分布をコントロールすることが好ましい。 From this situation, when the molten glass, which has a tendency to increase the electrical resistivity, is heated and energized in the melting tank, it suppresses the local heat build-up of the laying part of the melting tank, and the glass quality is striking. It is preferable to control the temperature distribution of the molten glass in the melting tank so as to suppress the downward flow around the side wall of the melting tank, which is the cause.
本発明の目的は、熔解槽の敷き部に生じる局所的な熱ごもりを抑制し、かつ、ガラス品質に好ましくない脈理の発生原因となる熔解槽の側壁周辺の下降流を抑えるガラス板の製造方法及び溶解槽を提供することにある。 The object of the present invention is to suppress the local heat accumulation generated in the laying part of the melting tank, and to suppress the downward flow around the side wall of the melting tank, which is a cause of unfavorable striations in the glass quality. It is in providing a manufacturing method and a dissolution tank.
本発明の一態様は、ガラス板の製造方法である。当該製造方法は、
熔解槽において熔融ガラスを通電加熱によりつくる工程と、
前記熔融ガラスを成形してガラス板をつくる工程と、を有する。
前記熔解槽の底部には第1保温抑制構造及び第2保温抑制構造が備えられ、
前記第1保温抑制構造の放熱量が前記第2保温抑制構造の放熱量より大きい。
前記熔解槽の、原料投入口から前記熔融ガラスの流出口に向かう方向を長手方向としたとき、
前記第1保温抑制構造が前記熔解槽の熔融ガラスと接する床壁の前記長手方向の中心位置から前記床壁の前記長手方向の中心長さの5%の範囲内の位置に1つ設けられ、
前記第1保温抑制構造の位置を基準にして前記床壁の領域を前記長手方向の前記原料投入口の側の第1床壁領域と、前記流出口の側の第2床壁領域とにわけたとき、前記第1床壁領域及び前記第2床壁領域のそれぞれに、少なくとも1つずつ第2保温抑制構造が設けられる。
One embodiment of the present invention is a method for manufacturing a glass plate. The manufacturing method is
A process of making molten glass by electric heating in a melting tank;
Forming a glass plate by forming the molten glass.
The bottom of the melting tank is provided with a first heat retention suppressing structure and a second heat retention suppressing structure,
The heat dissipation amount of the first heat retention suppression structure is larger than the heat dissipation amount of the second heat retention suppression structure.
When the direction from the raw material inlet to the outlet of the molten glass is the longitudinal direction of the melting tank,
The first heat retention suppressing structure is provided at a position within a range of 5% of the longitudinal center length of the floor wall from the longitudinal center position of the floor wall in contact with the molten glass of the melting tank,
The floor wall region is divided into a first floor wall region on the raw material input side in the longitudinal direction and a second floor wall region on the outlet side with respect to the position of the first heat retention suppressing structure. Then, at least one second heat retention suppressing structure is provided in each of the first floor wall region and the second floor wall region.
前記第1床壁領域のうち、前記長手方向の中心位置に比べて、前記長手方向において前記原料投入口の側の前記熔解槽の側壁に近い位置で前記第1床壁領域における前記熔融ガラスの温度が最高となり、前記第2床壁領域のうち、前記長手方向の中心位置に比べて、前記長手方向において前記流出口の側の前記熔解槽の側壁に近い位置で前記第2床壁領域における前記熔融ガラスの温度が最高となるように、前記第1保温抑制構造及び前記第2保温抑制構造が設けられる、ことが好ましい。 Compared to the center position in the longitudinal direction in the first floor wall region, the molten glass in the first floor wall region is closer to the side wall of the melting tank on the raw material inlet side in the longitudinal direction. In the second floor wall region, the temperature is the highest and the second floor wall region is closer to the side wall of the melting tank on the outlet side in the longitudinal direction than the central position in the longitudinal direction. It is preferable that the first heat retention suppressing structure and the second heat retention suppressing structure are provided so that the temperature of the molten glass becomes maximum.
前記第1床壁領域に位置する前記第2保温抑制構造の1つを第2保温抑制構造Aとし、前記第2床壁領域に位置する前記第2保温抑制構造の1つを第2保温抑制構造Bとしたとき、
前記第1床壁領域において前記熔融ガラスの温度が最高となる位置は、前記長手方向において、前記第2保温抑制構造Aの位置と前記原料投入口の側の前記熔解槽の側壁との間に位置し、前記第2床壁領域において前記熔融ガラスの温度が最高となる位置は、前記長手方向において、前記第2保温抑制構造Bの位置と、前記流出口の側の前記熔解槽の側壁との間に位置するように、前記第1保温抑制構造、前記第2保温抑制構造A、及び前記第2保温抑制構造Bが設けられる、ことが好ましい。
One of the second heat insulation suppressing structures positioned in the first floor wall region is a second heat insulation suppressing structure A, and one of the second heat insulation suppressing structures positioned in the second floor wall region is a second heat insulation suppressing structure. With structure B,
The position where the temperature of the molten glass is highest in the first floor wall region is between the position of the second heat retention suppressing structure A and the side wall of the melting tank on the raw material inlet side in the longitudinal direction. The position where the temperature of the molten glass is highest in the second floor wall region is, in the longitudinal direction, the position of the second heat retention suppressing structure B, and the side wall of the melting tank on the outlet side. It is preferable that the 1st heat retention suppression structure, the 2nd heat retention suppression structure A, and the 2nd heat retention suppression structure B are provided so that it may be located in between.
前記第2保温抑制構造が、前記第1保温抑制構造の位置を中心にして、前記長手方向に沿って前記中心長さの3分の1の長さの範囲内に設けられる、ことが好ましい。 It is preferable that the second heat retention suppressing structure is provided within a range of a length of one third of the center length along the longitudinal direction with the position of the first heat retention suppressing structure as a center.
本発明の他の一態様は、溶解ガラスをつくる熔解槽である。当該熔解槽の熔融ガラスを貯留する前記熔解槽の底部には、第1保温抑制構造及び第2保温抑制構造が備えられ、
前記第1保温抑制構造の放熱量は、前記第2保温抑制構造の放熱量より大きい。
前記熔解槽の、原料投入口から前記熔融ガラスの流出口に向かう方向を長手方向としたとき、
前記第1保温抑制構造が前記熔解槽の熔融ガラスと接する床壁の前記長手方向の中心位置から前記床壁の前記長さ方向の中心長さの5%の範囲内の位置に1つ設けられ、
前記第1保温抑制構造の位置を基準にして前記床壁の領域を前記長手方向の前記原料投入口の側の第1床壁領域と、前記流出口の側の第2床壁領域とにわけたとき、前記第1床壁領域及び前記第2床壁領域のそれぞれに、少なくとも1つずつ第2保温抑制構造が設けられる。
Another embodiment of the present invention is a melting tank for producing molten glass. The bottom portion of the melting tank for storing the molten glass of the melting tank is provided with a first heat retention suppressing structure and a second heat retention suppressing structure,
The heat dissipation amount of the first heat retention suppressing structure is larger than the heat dissipation amount of the second heat retention suppressing structure.
When the direction from the raw material inlet to the outlet of the molten glass is the longitudinal direction of the melting tank,
One of the first heat retention suppressing structures is provided at a position within a range of 5% of the center length of the floor wall in the longitudinal direction from the center position of the floor wall in contact with the molten glass of the melting tank. ,
The floor wall region is divided into a first floor wall region on the raw material input side in the longitudinal direction and a second floor wall region on the outlet side with respect to the position of the first heat retention suppressing structure. Then, at least one second heat retention suppressing structure is provided in each of the first floor wall region and the second floor wall region.
前記第1床壁領域のうち、前記長手方向の中心位置に比べて、前記長手方向において前記原料投入口の側の前記熔解槽の側壁に近い位置で前記第1床壁領域における前記熔融ガラスの温度が最高となり、前記第2床壁領域のうち、前記長手方向の中心位置に比べて、前記長手方向において前記流出口の側の前記熔解槽の側壁に近い位置で前記第2床壁領域における前記熔融ガラスの温度が最高となるように、前記第1保温抑制構造及び前記第2保温抑制構造が設けられる、ことが好ましい。 Compared to the center position in the longitudinal direction in the first floor wall region, the molten glass in the first floor wall region is closer to the side wall of the melting tank on the raw material inlet side in the longitudinal direction. In the second floor wall region, the temperature is the highest and the second floor wall region is closer to the side wall of the melting tank on the outlet side in the longitudinal direction than the central position in the longitudinal direction. It is preferable that the first heat retention suppressing structure and the second heat retention suppressing structure are provided so that the temperature of the molten glass becomes maximum.
前記第1床壁領域に位置する前記第2保温抑制構造の1つを第2保温抑制構造Aとし、前記第2床壁領域に位置する前記第2保温抑制構造の1つを第2保温抑制構造Bとしたとき、
前記第1床壁領域において前記熔融ガラスの温度が最高となる位置は、前記長手方向において、前記第2保温抑制構造Aの位置と前記原料投入口の側の前記熔解槽の側壁との間に位置し、前記第2床壁領域において前記熔融ガラスの温度が最高となる位置は、前記長手方向において、前記第2保温抑制構造Bの位置と、前記流出口の側の前記熔解槽の側壁との間に位置するように、前記第1保温抑制構造、前記第2保温抑制構造A、及び前記第2保温抑制構造Bが設けられる、ことが好ましい。
One of the second heat insulation suppressing structures positioned in the first floor wall region is a second heat insulation suppressing structure A, and one of the second heat insulation suppressing structures positioned in the second floor wall region is a second heat insulation suppressing structure. With structure B,
The position where the temperature of the molten glass is highest in the first floor wall region is between the position of the second heat retention suppressing structure A and the side wall of the melting tank on the raw material inlet side in the longitudinal direction. The position where the temperature of the molten glass is highest in the second floor wall region is, in the longitudinal direction, the position of the second heat retention suppressing structure B, and the side wall of the melting tank on the outlet side. It is preferable that the 1st heat retention suppression structure, the 2nd heat retention suppression structure A, and the 2nd heat retention suppression structure B are provided so that it may be located in between.
本発明のガラス板の製造方法及び熔解槽によれば、電気抵抗率が大きくなる傾向にある熔融ガラスを熔解槽で通電加熱した場合でも、熔解槽の敷き部に生じる局所的な熱ごもりを抑制し、かつ、ガラス品質に好ましくない脈理の発生原因となる熔解槽の側壁周辺の下降流を抑えるように、熔解槽における熔融ガラスの温度分布をコントロールすることができる。 According to the glass plate manufacturing method and the melting tank of the present invention, even when the molten glass that tends to increase the electrical resistivity is energized and heated in the melting tank, the local heat generated in the laying part of the melting tank is prevented. It is possible to control the temperature distribution of the molten glass in the melting tank so as to suppress the downward flow around the side wall of the melting tank, which is a cause of generation of striae that is unfavorable to the glass quality.
以下、本実施形態のガラス板の製造方法について説明する。
(本実施形態の概要説明)
図1は、本実施形態に係る熔解槽の床壁10における、後述する第1保温抑制構造12及び第2保温抑制構造14の配置を説明する概念図である。床壁10は、原料投入口側の端(床壁10が側壁と接する部分)16と、熔融ガラスの流出口側の端(床壁10が側壁と接する部分)18を有する。熔解槽の床壁10の長手方向は、端16から端18に向かう図中のX方向である。
本実施形態では、熔解槽の床壁10を含む底部には第1保温抑制構造12及び第2保温抑制構造14(第1保温抑制構造の放熱量>第2の保温抑制構造の放熱量)が備えられる。この第1保温抑制構造12が熔解槽の床壁10の長手方向(原料投入口側の端16から熔融ガラスの流出口側の端18に向かうX方向)の中心位置Cから床壁10の長手方向の中心長さLの5%の範囲内の位置に1つ設けられる。さらに、第1床壁領域20(第1保温抑制構造の位置を基準にして熔解槽の長手方向の原料投入口の側の領域)及び第2床壁領域22(第1保温抑制構造の位置を基準にして熔解槽の長手方向の流出口の側の領域)のそれぞれに、少なくとも1つずつ第2保温抑制構造14が設けられる。
Hereinafter, the manufacturing method of the glass plate of this embodiment is demonstrated.
(Overview of this embodiment)
Drawing 1 is a key map explaining arrangement of the 1st heat retention suppression structure 12 and the 2nd heat retention suppression structure 14 which are mentioned below in
In this embodiment, the 1st heat retention suppression structure 12 and the 2nd heat retention suppression structure 14 (The heat dissipation amount of a 1st heat retention suppression structure> The heat dissipation amount of a 2nd heat retention suppression structure) are provided in the bottom part containing the
ここで保温抑制構造は、熔解槽の底部に設けられる熔融ガラスのドレン孔、温度センサの設置用孔、および泡形成用気体導入孔の少なくとも1つを含む。保温抑制構造は、床壁の下方に設けられる複数の耐火レンガの積層構造の敷き部が設けられるとき、敷き部の耐火レンガの少なくとも一層において、敷き部の耐火レンガの熱伝導率を部分的に周囲に対して高くした構造をいう。
これらの保温抑制構造は、例えば、基準とする熔解槽のシミュレーションモデルを用いて熔融ガラスをつくるシミュレーション計算を行い熔解槽の底部の温度分布を予測計算し、予測計算で得られた温度分布から確かめることができる。ドレン孔、温度センサの設置用孔、および泡形成用気体導入孔の孔空間には、断熱性の高い耐火レンガないので、これらの孔は、孔空間に沿って放熱が生じ易い。このため、これらの孔を備えた領域の構造は、保温抑制構造といえる。
保温抑制構造における放熱量の大小は、例えば、保温抑制構造があるシミュレーションモデルと保温抑制構造のないシミュレーションモデルを用いて上記シミュレーション計算を行って、保温抑制構造の位置における熔融ガラスの温度の差分の大小により定めることができる。例えば、大きな孔は小さな孔に比べて、孔空間は大きいので、放熱量は多い。
Here, the heat retention suppressing structure includes at least one of a drain hole of a molten glass provided at the bottom of the melting tank, a hole for installing a temperature sensor, and a gas introduction hole for foam formation. The thermal insulation suppressing structure is configured such that when a laying portion of a plurality of refractory bricks provided below the floor wall is provided, the thermal conductivity of the refractory brick of the laying portion is partially set in at least one of the refractory bricks of the laying portion. A structure that is raised relative to the surroundings.
These thermal insulation control structures, for example, use the simulation model of the melting tank as a reference to perform simulation calculation to make molten glass, predict the temperature distribution at the bottom of the melting tank, and confirm from the temperature distribution obtained by the prediction calculation be able to. Since there is no refractory brick with high heat insulation in the hole space of the drain hole, the temperature sensor installation hole, and the bubble forming gas introduction hole, these holes are likely to radiate heat along the hole space. For this reason, it can be said that the structure of the area | region provided with these holes is a heat retention suppression structure.
The amount of heat radiation in the heat retention suppression structure is calculated by, for example, performing the above simulation calculation using a simulation model with a heat retention suppression structure and a simulation model without a heat retention suppression structure, and calculating the difference in temperature of the molten glass at the position of the heat retention suppression structure. Can be determined by size. For example, a large hole has a larger hole space than a small hole, and therefore a large amount of heat is released.
このように、熔解槽の底部に第1保温構造12及び第2保温構造14が設けられることにより、熔解槽の敷き部に生じる局所的な熱ごもりを抑制し、かつ、ガラス品質に好ましくない脈理の発生原因となる熔解槽の側壁周辺の下降流を抑えることができる。以下、本実施形態の詳細を説明する。 Thus, by providing the 1st heat retention structure 12 and the 2nd heat retention structure 14 in the bottom part of a melting tank, the local heat | fever mass produced in the laying part of a melting tank is suppressed, and it is unpreferable for glass quality. The downward flow around the side wall of the melting tank, which causes striae, can be suppressed. Details of this embodiment will be described below.
(ガラス板の製造方法の全体概要)
図2は、本実施形態のガラス板の製造方法の工程の一例を示す図である。
ガラス板の製造方法は、熔解工程(ST1)と、清澄工程(ST2)と、均質化工程(ST3)と、供給工程(ST4)と、成形工程(ST5)と、徐冷工程(ST6)と、切断工程(ST7)と、を主に有する。この他に、研削工程、研磨工程、洗浄工程、検査工程、梱包工程等を有し、梱包工程で積層された複数のガラス板は、納入先の業者に搬送される。
(Overall overview of glass plate manufacturing method)
Drawing 2 is a figure showing an example of a process of a manufacturing method of a glass plate of this embodiment.
The glass plate manufacturing method includes a melting step (ST1), a refining step (ST2), a homogenizing step (ST3), a supplying step (ST4), a forming step (ST5), and a slow cooling step (ST6). And a cutting step (ST7). In addition, a plurality of glass plates that have a grinding process, a polishing process, a cleaning process, an inspection process, a packing process, and the like and are stacked in the packing process are conveyed to a supplier.
熔解工程(ST1)は熔解槽で行われる。熔解槽では、ガラス原料を、熔解槽に蓄えられた熔融ガラスの液面に投入し、加熱することにより熔融ガラスを作る。さらに、熔解槽の内側側壁の1つに設けられた流出口から下流工程に向けて熔融ガラスを流す。
熔解槽の熔融ガラスの加熱は、熔融ガラス自身に電気が流れて自ら発熱し加熱するとともに、バーナーによる火焔を補助的に与えてガラス原料を熔解する。具体的には、投入されたガラス原料は、熔解槽の気相空間の壁面あるいはバーナーの火炎からの熱輻射伝熱で加熱され、熱分解して熔解される。こうしてできた熔融ガラスは、より高温に通電加熱される。なお、ガラス原料には清澄剤が添加される。清澄剤として、SnO2,As2O3,Sb2O3等が知られているが、特に制限されない。しかし、環境負荷低減の点から、清澄剤としてSnO2(酸化錫)を用いることが好ましい。熔解槽では、脈理が発生しないようにガラス原料が完全に熔解されるとともに、後工程が適切に行われるように所定の粘度の熔融ガラスが通電加熱によりつくられる。
The melting step (ST1) is performed in a melting tank. In the melting tank, a glass raw material is poured into the liquid surface of the molten glass stored in the melting tank and heated to make molten glass. Furthermore, molten glass is poured toward the downstream process from the outlet provided in one of the inner side walls of the melting tank.
Heating of the molten glass in the melting tank is performed by supplying electricity to the molten glass itself, generating heat, and heating the glass, and supplementing a flame with a burner to melt the glass raw material. Specifically, the charged glass raw material is heated by thermal radiation heat transfer from the wall surface of the gas phase space of the melting tank or the flame of the burner, and is pyrolyzed and melted. The molten glass produced in this way is heated to a higher temperature. A clarifier is added to the glass raw material. SnO 2 , As 2 O 3 , Sb 2 O 3 and the like are known as fining agents, but are not particularly limited. However, it is preferable to use SnO 2 (tin oxide) as a clarifying agent from the viewpoint of reducing environmental burden. In the melting tank, the glass raw material is completely melted so as not to cause striae, and a molten glass having a predetermined viscosity is produced by energization heating so that the subsequent process is appropriately performed.
清澄工程(ST2)は、少なくとも清澄槽において行われる。清澄工程では、清澄槽内の熔融ガラスが昇温されることにより、熔融ガラス中に含まれるO2、CO2あるいはSO2を含んだ泡が、清澄剤の還元反応により生じたO2を吸収して成長し、熔融ガラスの液面に泡は浮上して放出される。さらに、清澄工程では、熔融ガラスの温度を低下させることにより、清澄剤の還元反応により得られた還元物質が酸化反応をする。これにより、熔融ガラスに残存する泡中のO2等のガス成分が熔融ガラス中に再吸収されて、泡が消滅する。清澄剤による酸化反応及び還元反応は、熔融ガラスの温度を制御することにより行われる。なお、清澄工程では、酸化錫を清澄剤として用いた清澄方法を用いることができる。 The clarification step (ST2) is performed at least in the clarification tank. In the clarification process, when the molten glass in the clarification tank is heated, the bubbles containing O 2 , CO 2 or SO 2 contained in the molten glass absorb O 2 generated by the reductive reaction of the clarifier. As a result, the bubbles rise to the liquid surface of the molten glass and are discharged. Furthermore, in the clarification step, the reducing substance obtained by the reduction reaction of the clarifier undergoes an oxidation reaction by lowering the temperature of the molten glass. Thereby, gas components such as O 2 in the foam remaining in the molten glass are reabsorbed in the molten glass, and the foam disappears. The oxidation reaction and reduction reaction by the fining agent are performed by controlling the temperature of the molten glass. In the clarification step, a clarification method using tin oxide as a clarifier can be used.
均質化工程(ST3)では、清澄槽から延びる配管を通って供給された攪拌槽内の熔融ガラスを、スターラを用いて攪拌することにより、ガラス成分の均質化を行う。これにより、脈理等の原因であるガラスの組成ムラを低減することができる。
供給工程(ST4)では、攪拌槽から延びる配管を通して熔融ガラスが成形装置に供給される。
In the homogenization step (ST3), the glass components are homogenized by stirring the molten glass in the stirring tank supplied through the pipe extending from the clarification tank using a stirrer. Thereby, the composition unevenness of the glass which is a cause of striae or the like can be reduced.
In the supply step (ST4), the molten glass is supplied to the molding apparatus through a pipe extending from the stirring tank.
成形装置では、成形工程(ST5)及び徐冷工程(ST6)が行われる。
成形工程(ST5)では、熔融ガラスを帯状のガラス板に成形して、ガラス板の流れを作る。成形は、オーバーフローダウンドロー法が用いられる。
徐冷工程(ST6)では、成形されたガラス板が所望の厚さになり、内部歪が生じないように、さらに、反りが生じないように冷却される。
切断工程(ST7)では、切断装置において、成形装置から供給された帯状のガラス板を所定の長さに切断することで、一枚のガラス板を得る。切断されたガラス板はさらに、所定のサイズに切断され、目標サイズのガラス板が作られる。この後、ガラス板の端面の研削、研磨が行われ、ガラス板の洗浄が行われ、さらに、気泡や脈理等の異常欠陥の有無が検査された後、検査合格品のガラス板が最終製品として梱包される。
In the molding apparatus, a molding step (ST5) and a slow cooling step (ST6) are performed.
In the forming step (ST5), the molten glass is formed into a band-shaped glass plate to make a flow of the glass plate. For forming, an overflow downdraw method is used.
In the slow cooling step (ST6), the molded glass sheet is cooled to have a desired thickness, so that internal distortion does not occur and warpage does not occur.
In the cutting step (ST7), a single glass plate is obtained by cutting the strip-shaped glass plate supplied from the molding device into a predetermined length in the cutting device. The cut glass plate is further cut into a predetermined size to produce a target size glass plate. After this, the end face of the glass plate is ground and polished, the glass plate is cleaned, and further, the presence of abnormal defects such as bubbles and striae is inspected. Will be packed as.
図3は、本実施形態における熔解工程(ST1)〜切断工程(ST7)を行うガラス板製造装置の一例を模式的に示す図である。当該装置は、図3に示すように、主に熔解装置100と、成形装置200と、切断装置300と、を有する。熔解装置100は、熔解槽101と、清澄槽102と、攪拌槽103と、ガラス供給管104,105,106と、を有する。
図3に示す熔解装置101では、ガラス原料の投入がバケット101dを用いて行われ、このガラス原料の熔解により得られる熔融ガラスMGが所定の粘度になるように熔融ガラスMGは加熱される。清澄槽102では、熔融ガラスMGの温度を調整して、清澄剤の酸化還元反応を利用して熔融ガラスMGの清澄が行われる。さらに、攪拌槽103では、スターラ103aによって熔融ガラスMGが攪拌されて均質化される。成形装置200では、成形体210を用いたオーバーフローダウンドロー法により、熔融ガラスMGからシートガラスSGが成形される。本実施形態は、バケット101dをガラス原料の投入手段として用いるが、これに制限されない。例えば、スクリューフィーダを用いることもできる。
Drawing 3 is a figure showing typically an example of the glass plate manufacturing device which performs the melting process (ST1)-cutting process (ST7) in this embodiment. As shown in FIG. 3, the apparatus mainly includes a
In the
このようなガラス板の製造方法及びガラス板製造装置において、熱収縮の小さいガラス板をつくるために、高温粘性の高いガラス組成のガラスを利用する場合、熔解槽101では、高温粘性の高くないガラスに比べて多量の電流を流して通電加熱をしなければならない。しかし、高温粘性の高いガラスでは、熔融状態の電気抵抗率は大きくなる傾向にあり、熔融ガラスの電気抵抗率は、熔解槽101の側壁及び床壁に用いる耐火レンガの電気抵抗率と同等になる。このため、熔解槽101の側壁に設けられた電極対に電流を流して熔融ガラスに電流を流そうとすると、本来熔融ガラスに流れるべき電流の一部は、熔解槽101の側壁及び床壁に流れ、側壁および床壁が加熱される。特に、熔解槽101の床壁の下方の、複数層の断熱特性に優れた耐火レンガを敷き詰めた層構成の敷き部には、断熱特性によって熱が逃げず、部分的に熱が蓄積されて高温になった熱ごもりが発生する。このような熱ごもりは、床壁や敷き部の耐火レンガの機械的強度を低下させ、熱クリープが生じる他、耐火レンガの一部が熔損して貯留すべき熔融ガラスが外部に流出する虞もある。
このため、本実施形態では、熔解槽101の底部に設ける第1保温構造12及び第2保温構造14の配置位置を適切に定めることにより、熔解槽の敷き部に生じる局所的な熱ごもりを抑制し、かつ、ガラス品質に好ましくない脈理の発生原因となる熔解槽の側壁周辺の下降流を抑えることができる。以下、熔解槽の構成をより詳細に説明する。
In such a glass plate manufacturing method and glass plate manufacturing apparatus, in order to produce a glass plate having a small thermal shrinkage, when glass having a glass composition having a high temperature viscosity is used, the
For this reason, in this embodiment, by appropriately determining the arrangement positions of the first heat retaining structure 12 and the second heat retaining structure 14 provided at the bottom of the
(熔解槽)
図4は、熔解槽101の熔解槽本体とその周辺の構造の概略を説明する斜視図であり、図5は、熔解槽101の断面を簡略化して説明する図である。図5に示す断面は、図4に示す電極114が設けられた長手方向の位置における断面である。図6は、熔解槽本体の長手方向に沿った断面図である。
(Melting tank)
FIG. 4 is a perspective view for explaining the outline of the melting tank main body of the
本実施形態において、熔解槽101は、熔解槽本体110と、バーナー112と、電極対114と、迫部118と、を主に有する。
In the present embodiment, the
熔解槽本体110は、上部に気相空間を有し、下部において熔融ガラスを貯留する。
バーナー112は、熔解槽本体110の気相空間を囲う気相空間仕切り壁116上の長手方向の異なる位置に、互いに対向する両方の壁それぞれに3つ設けられている。このときバーナー112は、互いに対向する位置には設けられず、互い違いに設けられている。なお、バーナー112は、互いに対向する両壁の双方に設けられず、片方の壁に3つ設けてもよい。図4では、熔解槽本体110の奥側の壁に設けられるバーナー112のみが示されている。バーナー112は、燃料と酸素等を混合した燃焼ガスが燃焼して火炎を発する。図5では、2つのバーナー112が対向する壁の対向する位置に設けられるように示されるが、図5に示す2つバーナー112は、図4の紙面に対して垂直方向の異なる位置に設けられている。
The melting tank
Three
電極対114は、熔融ガラスを通電加熱するために熔解槽本体110の側壁部の、長手方向の3つの異なる位置に、熔融ガラスを挟んで互いに対向するように3対設けられている。図4では、熔解槽本体110の手前側の側壁部に設けられる電極のみが示されている。電極対114は、例えば、酸化錫あるいはモリブデン等の耐熱性を有する導電性材料が用いられる。電極対114は、制御ユニット120に接続され、制御ユニット120から制御された電流の供給を受ける。
Three pairs of the electrode pairs 114 are provided at three different positions in the longitudinal direction of the side wall portion of the melting tank
気相空間仕切り壁116は、熔解槽本体110の一部であり、溶融ガラスの貯留部分の上方に設けられた壁である。この壁にバーナー112が設けられている。また、気相空間仕切り壁116には、開閉自在な原料投入口101fが設けられ、この原料投入口101fを通してガラス原料を積んだバケット101d(図2参照)が出入りする。バケット101dにより、ガラス原料は熔解槽本体110に貯留する熔融ガラスの液面に投入される。熔解槽本体110の原料投入口101fと対向する側壁の床壁近傍には、流出口104aが設けられている。熔解槽101は、流出口104aから後工程に向けて熔融ガラスを流す。
The gas phase
迫部118は、熔解槽101の気相空間を閉じる天井壁である。
熔解槽本体110、気相空間仕切り壁116及び迫部118は、いずれも熔融ガラスの温度に対して耐熱性を有するものが用いられる。
The
As the melting tank
熔解槽本体110の下方には、耐火レンガによって構成された積層構造の敷き部124が設けられている。敷き部124は、4層構造の断熱層を有する。熔解槽101の底部126は、熔解槽本体110の槽の底に相当する床壁10と、敷き部124と、を備え、床壁10及び敷き部124は積層構造を構成している。熔融ガラスと接する熔解槽本体110の床壁10には、例えば、敷き部124に用いる耐火レンガに比べて気孔率の低い緻密な耐火レンガが用いられ、床壁110aに用いられる耐火レンガの熱伝導率は、敷き部124に用いられる耐火レンガに比べて高い。
Below the melting tank
熔解槽本体部110の底部126には、図6に示すように、温度センサ設置用孔126aとドレン孔126bが設けられている。
As shown in FIG. 6, a temperature
温度センサ設置用孔126aは、床壁10に位置する熔融ガラスMGの温度を計測する温度センサ、例えば熱電対を設置するために熔解槽本体110の床壁に設けられた孔である。したがって、温度センサ設置用孔126aは、熔融ガラスMGの粘度を高くして熔融ガラスMGが孔から漏出しないように、孔及び孔の周辺の保温は抑えられている。なお、温度センサ設置用孔126aは、床壁10及び敷き部124の耐火レンガに延びて途中で閉塞している。温度センサ設置用孔126aは、床壁10及び敷き部124の耐火レンガを貫通した孔でもよいし、途中で閉塞した孔でもよい。
ドレン孔126bは、熔融ガラスMGを後工程に流すことなく、ガラス板製造装置の外部に流出する、床壁10及び敷き部124の耐火レンガが貫通する排出口である。熔解槽本体110に貯留する熔融ガラスMGは、熔解槽101あるいは熔解装置100の補修のために、熔解槽本体110から完全に抜き出す場合がある。この場合、ドレン孔126bから熔融ガラスMGを排出させる。
The temperature
The
ドレン孔126bの孔径は、温度センサ設置用孔126aの孔径に比べて大きく、しかも底部126を貫通するので、ドレン孔126bを囲む層構造の放熱量は、温度センサ設置用孔126aを囲む層構造の放熱量に比べて大きい。したがって、ドレン孔126bを囲む層構造は、第1保温抑制構造であり、温度センサ設置用孔126aを囲む層構造は、第2保温抑制構造である。
ここで、ドレン孔126bを囲む層構造(第1保温抑制構造)が床壁10の長手方向の中心位置Cから床壁10の長手方向の中心長さLの5%の範囲内の位置に1つ設けられている。ドレン孔126bを囲む層構造(第1保温抑制構造)の位置は、ドレン孔126bの中心位置をいう。さらに、ドレン孔126bを囲む層構造の位置を基準にして床壁10の領域を長手方向(X方向)の原料投入口101fの側の第1床壁領域20と、流出口104aの側の第2床壁領域22にわけたとき、第1床壁領域20及び第2床壁領域22のそれぞれに、少なくとも1つずつ温度センサ設置用孔126aを囲む層構造(第2保温抑制構造)が設けられている。ドレン孔126bを囲む層構造(第1保温抑制構造)及び温度センサ設置用孔126aを囲む層構造(第2保温抑制構造)の、X方向と直交する床壁10の幅方向の位置は特に制限されない。
Since the hole diameter of the
Here, the layer structure (first heat retention suppressing structure) surrounding the
本実施形態では、保温抑制構造として、温度センサ設置用孔126aを囲む層構造とドレン孔126bを囲む層構造を挙げたが、これ以外の構造を含んでもよく、例えば、泡形成用気体導入孔を囲む層構造であってもよい。熔解槽本体110には、熔融ガラスMG中の泡を成長させて後工程の清澄工程で清澄しやすくするために、熔融ガラスMGに泡を導入する場合がある。この場合、熔融ガラスMGに泡を導入するための泡形成用気体導入孔が熔解槽本体110の床壁10に設けられる。泡形成用気体導入孔も、熔融ガラスMGの粘度を高くして熔融ガラスMGが孔から漏出しないように、孔及び孔の周辺の保温は抑えられている。また、敷き部124の下方から耐火レンガの積層の途中まで延びる孔を囲む層構造も保温抑制構造の一例として挙げることができる。このような孔を設けることで、孔を囲む層構造は外気に触れる面積が広くなるため熱放射をし易い。このため、孔の周辺の耐火レンガの保温は抑制される。
In this embodiment, the layer structure surrounding the temperature
本実施形態では、第1床壁領域20のうち、長手方向の中心位置Cに比べて、長手方向において原料投入口101fの側の熔解槽101の側壁に近い位置で第1床壁領域20における熔融ガラスの温度が最高となり、第2床壁領域22のうち、長手方向の中心位置Cと、流出口104aの側の熔解槽101の側壁とを長手方向において比べた時、長手方向において熔解槽101の側壁に近い位置で第2床壁領域22における熔融ガラスの温度が最高となるように、ドレン孔126bを囲む層構造(第1保温抑制構造)及び温度センサ設置用孔126aを囲む層構造(第2保温抑制構造)が設けられることが好ましい。第1床壁領域20及び第2床壁領域22を上記のように設けることにより、熔融ガラスのそれぞれの領域における最高温度が原料投入口101fの側及び流出口104aの側の側壁近くに位置するので、側壁に沿って熔融ガラスが下降する下降流を抑えることができる。熔解槽101内の熔融ガラスの表面(液面)には、投入されたガラス原料のうち未熔解のガラス成分の異質素地が浮遊している。特に、原料投入口101f及び流出口104aの側の側壁近傍には、未熔解のガラス成分の異質素地が多く浮遊しているので、熔融ガラスの大きな下降流があると、未熔解のガラス成分の異質素地は側壁に沿って下降し、流出口104aから流出して、清澄工程ST2に流れ易い。このような異質素地は、脈理の原因となり好ましくない。このため、熔融ガラスの下降流が生じ難いように、熔融ガラスの第1床壁領域20及び第2溝底領域22それぞれにおける最高温度が原料投入口101fの側及び流出口104aの側の側壁近くに位置するように、ドレン孔126bを囲む層構造(第1保温抑制構造)及び温度センサ設置用孔126aを囲む層構造(第2保温抑制構造)が設けられることが好ましい。すなわち、ガラス品質における脈理の原因となる熔解槽の側壁周辺の下降流を抑えるように、熔解槽101における熔融ガラスの温度分布をコントロールすることができる。
In the present embodiment, in the first
第1床壁領域20において熔融ガラスの温度が最高となる長手方向の位置は、長手方向において、第1床壁領域20に設けられる温度センサ設置用孔126aを囲む層構造(第2保温抑制構造A)の位置(温度センサ設置用孔126aの中心位置)と原料投入口101fの側の熔解槽101の側壁との間に位置し、第2床壁領域22において熔融ガラスの温度が最高となる長手方向の位置は、長手方向において、第2床壁領域22に設けられる温度センサ設置用孔126aを囲む層構造(第2保温抑制構造B)の位置(温度センサ設置用孔126aの中心位置)と、流出口104aの側の熔解槽101の側壁との間に位置するように、ドレン孔126bを囲む層構造(第1保温抑制構造)及び温度センサ設置用孔126aを囲む層構造(第2保温抑制構造A、B)が設けられることが好ましい。より具体的には、温度センサ設置用孔126aを囲む層構造(第2保温抑制構造A及び第2保温抑制構造B)が、それぞれ、ドレン孔126bを囲む層構造(第1保温抑制構造)の位置を中心にして、熔解槽101の長手方向に沿って中心長さLの3分の1の長さの範囲内に設けられることが好ましい。これにより、上述したように、側壁に沿って熔融ガラスが下降する下降流を抑えることができ、未熔解のガラス成分の異質素地が下降流に乗って流出口104aから流出することを抑制することができる。すなわち、ガラス品質に好ましくない脈理の発生原因となる熔解槽の側壁周辺の下降流を抑えるように、熔解槽101における熔融ガラスの温度分布をコントロールすることができる。
温度センサ設置用孔126aを囲む層構造(第2保温抑制構造A、B)をドレン孔126bを囲む層構造(第1保温抑制構造)に近づけると、側壁に沿って熔融ガラスが下降する下降流を抑えることができず、底部126の熱を分散して放射できないため熱ごもりも抑制できない。このため、温度センサ設置用孔126aを囲む層構造(第2保温抑制構造A、B)の長手方向の位置は、ドレン孔126bを囲む層構造(第1保温抑制構造)の位置を中心から遠ざけて設けることが好ましい。
The position in the longitudinal direction where the temperature of the molten glass is highest in the first
When the layer structure (second heat retention suppressing structure A, B) surrounding the temperature
図7は、熔解槽の熱伝導のシミュレーション計算に用いる熔解槽モデル101Mを示す図である(温度センサ設置用孔126a及びドレン孔126bの図示は省略されている)。図8は、熱伝導のシミュレーション計算の結果である熔融ガラスの温度分布の一例を示す図である。
図7は、熔解槽モデル101Mを、長手方向と直交する幅方向の中心位置を通り、長手方向に沿った垂直平面で切断した図を示している。熔解槽モデル101Mは、熔解槽本体モデル110Mと敷き部モデル124Mを含む。敷き部モデル124Mは、4層のレンガ層モデルで構成されている。
図7に示すモデルでは、ドレン孔126bを囲む層構造(第1保温抑制構造)が床壁10の長手方向の中心位置Cから床壁10の長手方向の中心長さLの5%の範囲内の位置に1つ設けられ、温度センサ設置用孔126aを囲む層構造(第2保温抑制構造A及び第2保温抑制構造B)が、それぞれ、ドレン孔126bを囲む層構造(第1保温抑制構造)の位置を中心にして、熔解槽101の長手方向に沿って中心長さLの3分の1の長さの範囲内に設けられる構成を採用している。
FIG. 7 is a diagram showing a
FIG. 7 shows a view of the
In the model shown in FIG. 7, the layer structure (first heat retention suppressing structure) surrounding the
熔解槽本体モデル110Mと敷き部モデル124Mの熱伝導率は、基準とする実際の熔解槽101の熔解槽本体110と敷き部124の熱伝導率の値を用いた。熔解槽本体モデル110Mの壁に対応する部分の熱伝導率は(3.18799×10-12T4 − 1.8239798×10-8T3 + 4.0884149 × 10-5T2 −0.0384005T+13.677581)[W/(m・K)](T:温度[K])とし、4層の敷き部モデル124Mの熱伝導率は、上層から順番にそれぞれ、
・(3.18799×10-12T4 −1.8239798×10-8T3 + 4.0884149 × 10-5T2 −0.0384005T+13.677581)[W/(m・K)](T:温度[K])、
・3.605[W/(m・K)]、
・2.093[W/(m・K)]、
・(3.05869×10-4T−0.159519)[W/(m・K)](T:温度[K])、
とした。
As the thermal conductivity of the melting tank
・ (3.18799 × 10 −12 T 4 −1.8239798 × 10 −8 T 3 + 4.0884149 × 10 −5 T 2 −0.0384005T + 13.677581) [W / (m · K)] (T: temperature [K]),
3.605 [W / (m · K)],
-2.093 [W / (mK)],
・ (3.05869 × 10 -4 T-0.159519) [W / (m ・ K)] (T: Temperature [K]),
It was.
熱伝導のシミュレーション計算として、熔融ガラスMGを模擬する流体要素を熔解槽本体モデル110Mに満たして、流体要素の液面に放射熱伝達境界条件(放射率0.7、参照温度1580℃)の温度境界条件を与え、流体要素に(流量6トン/日、流入温度1500℃、3つの電極について、原料投入口101fの側から順に114アンペア,125アンペア,138アンペア)の条件で加熱を与えて通電加熱をシミュレーションして熔融ガラスMG及び熔解槽101の熱伝導による温度分布のシミュレーション計算を行った。
As the heat conduction simulation calculation, the fluid element simulating the molten glass MG is filled in the melting tank
図8に示すシミュレーション結果である熔融ガラスの温度分布では、原料投入口101f側の熔解槽本体モデル110Mの側壁と温度センサ設置用孔モデル126Maを囲む層構造モデル(第2保温抑制構造Aのモデル)との間で第1床壁領域20における熔融ガラスの温度は最高温度Taとなり、流出口モデル104Ma側の熔解槽本体モデル110Mの側壁と温度センサ設置用孔モデル126Maを囲む層構造モデル(第2保温抑制構造Bのモデル)との間で第2床壁領域22における熔融ガラスの温度は最高温度Tbとなっている。
In the temperature distribution of the molten glass, which is the simulation result shown in FIG. 8, the layer structure model (the model of the second heat retention suppressing structure A) surrounding the side wall of the melting tank
このように、本実施形態の熔解槽101では、底部126にドレン孔126bを囲む層構造(第1保温抑制構造)及び温度センサ設置用孔126aを囲む層構造(第2保温抑制構造A,B)を上述した範囲に設けることにより、底部126における放熱が分散されるので、敷き部124に生じる局所的な熱ごもりを抑制し、かつ、脈理の発生原因となる熔解槽101の側壁周辺の下降流を抑えることができる。
Thus, in the
以上、本発明のガラス板の製造方法及び熔解槽について詳細に説明したが、本発明は上記実施形態に限定されず、本発明の主旨を逸脱しない範囲において、種々の改良や変更をしてもよいのはもちろんである。 As mentioned above, although the manufacturing method and melting tank of the glass plate of this invention were demonstrated in detail, this invention is not limited to the said embodiment, Even if it is variously improved and changed in the range which does not deviate from the main point of this invention. Of course it is good.
10 床壁
12 第1保温抑制構造
14 第2保温抑制構造
16,18 端
20 第1床壁領域
22 第2床壁領域
100 熔解装置
101 熔解槽
101d バケット
101f 原料投入口
102 清澄槽
103 攪拌槽
103a スターラ
104,105,106 ガラス供給管
104a 流出口
110 熔解槽本体
112 バーナー
114 電極対
116 気相空間仕切り壁
118 迫部
120 制御ユニット
124 敷き部
126 底部
126a 温度センサ設置用孔
126b ドレン孔
200 成形装置
210 成形体
300 切断装置
101M 熔解槽モデル
104Ma 流出口モデル
110M 熔解槽本体モデル
124M 敷き部モデル
126M 底部モデル
126Ma 温度センサ設置用孔モデル
126Mb ドレン孔モデル
DESCRIPTION OF
Claims (7)
前記熔融ガラスを成形してガラス板をつくる工程と、を有し、
前記熔解槽の底部には第1保温抑制構造及び第2保温抑制構造が備えられ、
前記第1保温抑制構造の放熱量が前記第2保温抑制構造の放熱量より大きく、
前記熔解槽の、原料投入口から前記熔融ガラスの流出口に向かう方向を長手方向としたとき、
前記第1保温抑制構造が前記熔解槽の熔融ガラスと接する床壁の前記長手方向の中心位置から前記床壁の前記長手方向の中心長さの5%の範囲内の位置に1つ設けられ、
前記第1保温抑制構造の位置を基準にして前記床壁の領域を前記長手方向の前記原料投入口の側の第1床壁領域と、前記流出口の側の第2床壁領域とにわけたとき、前記第1床壁領域及び前記第2床壁領域のそれぞれに、少なくとも1つずつ第2保温抑制構造が設けられる、ことを特徴とするガラス板の製造方法。 A process of making molten glass by electric heating in a melting tank;
Forming the glass melt by forming the molten glass,
The bottom of the melting tank is provided with a first heat retention suppressing structure and a second heat retention suppressing structure,
The heat dissipation amount of the first heat retention suppression structure is larger than the heat dissipation amount of the second heat retention suppression structure,
When the direction from the raw material inlet to the outlet of the molten glass is the longitudinal direction of the melting tank,
The first heat retention suppressing structure is provided at a position within a range of 5% of the longitudinal center length of the floor wall from the longitudinal center position of the floor wall in contact with the molten glass of the melting tank,
The floor wall region is divided into a first floor wall region on the raw material input side in the longitudinal direction and a second floor wall region on the outlet side with respect to the position of the first heat retention suppressing structure. Then, at least one second heat retention suppressing structure is provided in each of the first floor wall region and the second floor wall region.
前記第1床壁領域において前記熔融ガラスの温度が最高となる位置は、前記長手方向において、前記第2保温抑制構造Aの位置と前記原料投入口の側の前記熔解槽の側壁との間に位置し、前記第2床壁領域において前記熔融ガラスの温度が最高となる位置は、前記長手方向において、前記第2保温抑制構造Bの位置と、前記流出口の側の前記熔解槽の側壁との間に位置するように、前記第1保温抑制構造、前記第2保温抑制構造A、及び前記第2保温抑制構造Bが設けられる、請求項1または2に記載のガラス板の製造方法。 One of the second heat insulation suppressing structures positioned in the first floor wall region is a second heat insulation suppressing structure A, and one of the second heat insulation suppressing structures positioned in the second floor wall region is a second heat insulation suppressing structure. With structure B,
The position where the temperature of the molten glass is highest in the first floor wall region is between the position of the second heat retention suppressing structure A and the side wall of the melting tank on the raw material inlet side in the longitudinal direction. The position where the temperature of the molten glass is highest in the second floor wall region is, in the longitudinal direction, the position of the second heat retention suppressing structure B, and the side wall of the melting tank on the outlet side. The manufacturing method of the glass plate of Claim 1 or 2 with which the said 1st heat retention suppression structure, the said 2nd heat retention suppression structure A, and the said 2nd heat retention suppression structure B are provided so that it may be located in between.
熔融ガラスを貯留する前記熔解槽の底部には、第1保温抑制構造及び第2保温抑制構造が備えられ、
前記第1保温抑制構造の放熱量は、前記第2保温抑制構造の放熱量より大きく、
前記熔解槽の、原料投入口から前記熔融ガラスの流出口に向かう方向を長手方向としたとき、
前記第1保温抑制構造が前記熔解槽の熔融ガラスと接する床壁の前記長手方向の中心位置から前記床壁の前記長さ方向の中心長さの5%の範囲内の位置に1つ設けられ、
前記第1保温抑制構造の位置を基準にして前記床壁の領域を前記長手方向の前記原料投入口の側の第1床壁領域と、前記流出口の側の第2床壁領域とにわけたとき、前記第1床壁領域及び前記第2床壁領域のそれぞれに、少なくとも1つずつ第2保温抑制構造が設けられる、ことを特徴とする熔解槽。 A melting tank for making molten glass,
The bottom portion of the melting tank for storing the molten glass is provided with a first heat retention suppressing structure and a second heat retention suppressing structure,
The heat dissipation amount of the first heat retention suppression structure is greater than the heat dissipation amount of the second heat retention suppression structure,
When the direction from the raw material inlet to the outlet of the molten glass is the longitudinal direction of the melting tank,
One of the first heat retention suppressing structures is provided at a position within a range of 5% of the center length of the floor wall in the longitudinal direction from the center position of the floor wall in contact with the molten glass of the melting tank. ,
The floor wall region is divided into a first floor wall region on the raw material input side in the longitudinal direction and a second floor wall region on the outlet side with respect to the position of the first heat retention suppressing structure. Then, at least one second heat retention suppressing structure is provided in each of the first floor wall region and the second floor wall region.
前記第1床壁領域において前記熔融ガラスの温度が最高となる位置は、前記長手方向において、前記第2保温抑制構造Aの位置と前記原料投入口の側の前記熔解槽の側壁との間に位置し、前記第2床壁領域において前記熔融ガラスの温度が最高となる位置は、前記長手方向において、前記第2保温抑制構造Bの位置と、前記流出口の側の前記熔解槽の側壁との間に位置するように、前記第1保温抑制構造、前記第2保温抑制構造A、及び前記第2保温抑制構造Bが設けられる、請求項5または6に記載の熔解槽。 One of the second heat insulation suppressing structures positioned in the first floor wall region is a second heat insulation suppressing structure A, and one of the second heat insulation suppressing structures positioned in the second floor wall region is a second heat insulation suppressing structure. With structure B,
The position where the temperature of the molten glass is highest in the first floor wall region is between the position of the second heat retention suppressing structure A and the side wall of the melting tank on the raw material inlet side in the longitudinal direction. The position where the temperature of the molten glass is highest in the second floor wall region is, in the longitudinal direction, the position of the second heat retention suppressing structure B, and the side wall of the melting tank on the outlet side. The melting tank according to claim 5 or 6, wherein the first heat retention suppressing structure, the second heat retention suppressing structure A, and the second heat retention suppressing structure B are provided so as to be positioned between the two.
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JP2005047768A (en) * | 2003-07-31 | 2005-02-24 | Asahi Glass Co Ltd | Operation support system for glass melting vessel |
JP2012180268A (en) * | 2011-02-28 | 2012-09-20 | Corning Inc | Glass melting method, system, and apparatus |
JP2014224002A (en) * | 2013-05-15 | 2014-12-04 | AvanStrate株式会社 | Production method of glass plate, design method of dissolution tank, and dissolution tank |
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