JP2017174802A - 結晶性炭素ナノ材料を含む導電性材料の製造方法、導電性材料、透明電極、電極、配線、電子装置および半導体装置 - Google Patents
結晶性炭素ナノ材料を含む導電性材料の製造方法、導電性材料、透明電極、電極、配線、電子装置および半導体装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2017174802A JP2017174802A JP2017011762A JP2017011762A JP2017174802A JP 2017174802 A JP2017174802 A JP 2017174802A JP 2017011762 A JP2017011762 A JP 2017011762A JP 2017011762 A JP2017011762 A JP 2017011762A JP 2017174802 A JP2017174802 A JP 2017174802A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- catalytic metal
- metal material
- film
- crystalline carbon
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 259
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 110
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 93
- 239000002086 nanomaterial Substances 0.000 title claims abstract description 61
- 239000004020 conductor Substances 0.000 title claims abstract description 49
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 24
- 239000007769 metal material Substances 0.000 claims abstract description 172
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 119
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 119
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 66
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 59
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 44
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims abstract description 40
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims abstract description 38
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims abstract description 38
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 27
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims abstract description 22
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 claims abstract description 21
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 21
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims abstract description 21
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 19
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 19
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 claims abstract description 19
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 19
- 229910052701 rubidium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 19
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 19
- 229910052716 thallium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 19
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 claims description 222
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 75
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 66
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 41
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 28
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 18
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 11
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 claims description 5
- 238000007639 printing Methods 0.000 claims description 5
- 238000007654 immersion Methods 0.000 claims description 3
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 claims description 3
- 239000007790 solid phase Substances 0.000 claims description 3
- 229910021389 graphene Inorganic materials 0.000 abstract description 145
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 19
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 14
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 12
- 238000005755 formation reaction Methods 0.000 description 11
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 10
- 238000001069 Raman spectroscopy Methods 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 description 7
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000003575 carbonaceous material Substances 0.000 description 5
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000001237 Raman spectrum Methods 0.000 description 4
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 4
- 229910021393 carbon nanotube Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002041 carbon nanotube Substances 0.000 description 4
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 4
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 4
- 238000000608 laser ablation Methods 0.000 description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 4
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 4
- 238000010532 solid phase synthesis reaction Methods 0.000 description 4
- 239000013077 target material Substances 0.000 description 4
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 4
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910003481 amorphous carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 3
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 3
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 3
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical class C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 3
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 3
- 229910018956 Sn—In Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002134 carbon nanofiber Substances 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 2
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 description 2
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 2
- 229920000049 Carbon (fiber) Polymers 0.000 description 1
- 229910000807 Ga alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004917 carbon fiber Substances 0.000 description 1
- 238000005234 chemical deposition Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- -1 for example Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000005087 graphitization Methods 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005289 physical deposition Methods 0.000 description 1
- 229920003217 poly(methylsilsesquioxane) Polymers 0.000 description 1
- 238000001226 reprecipitation Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Carbon And Carbon Compounds (AREA)
- Catalysts (AREA)
- Non-Insulated Conductors (AREA)
- Manufacturing Of Electric Cables (AREA)
Abstract
Description
少なくとも結晶性炭素ナノ材料を含む導電性材料の製造方法であって、
結晶性炭素ナノ材料の原料となる炭素原料(24、25、42a)と、結晶性炭素ナノ材料を形成するための触媒金属材料(22、23、42b)とを、430℃以下の温度で加熱して、結晶性炭素ナノ材料(26、27、44、48)を形成する形成工程を有し、
触媒金属材料として、融点温度が430℃以下の金属元素群(Zn、Sn、Bi、Pb、Tl、Cs、In、Cd、Rb、Ga、K、Na、Li、Se)のいずれか1つ以上を含むものを用いる。
本実施形態では、透明電極を備える電子装置および透明電極の製造方法について説明する。本実施形態の透明電極およびその製造方法が、本発明の導電性材料およびその製造方法に相当する。
図4、5に示すように、本実施形態の電子装置10は、第1実施形態の電子装置10に対して、透明電極14を構成する触媒金属材料の形状が異なる。
本実施形態では、配線を備える半導体装置および配線の製造方法について説明する。配線が本発明の導電性材料に相当する。
図9、10に示すように、本実施形態の半導体装置30は、第3実施形態の半導体装置30に対して、配線36を構成する触媒金属材料の形状が異なる。
本実施形態では、第1実施形態の導電性材料の製造方法とは異なる導電性材料の製造方法について説明する。本実施形態では、グラフェン膜を固相合成法によって製造する。
本実施形態では、第1実施形態と異なる導電性材料の製造方法について説明する。本実施形態では、グラフェン膜を固相合成法によって製造する。
本実施形態では、第1実施形態と異なる導電性材料の製造方法について説明する。本実施形態では、グラフェン膜を化学気相合成法によって製造する。
本実施形態では、電極を備える電子装置について説明する。電極が本発明の導電性材料に相当する。
図16、17に示すように、本実施形態の電子装置50は、第8実施形態の電子装置50に対して、電極56を構成する触媒金属材料の形状が異なる。
図19に示すように、本実施形態は、透明基板上に島状の触媒金属膜の表面および、透明基板と触媒金属膜との界面にもグラフェン膜を成長させた配線、あるいは配線接続用の電極である。本形態において、触媒金属材料としてSnを使用し、界面に成長するグラフェン膜が、島状の触媒金属膜の底面とほぼ対応する形状に成長することが確認された。
本実施形態は、触媒金属材料としてIn(インジウム)を使用した。
本発明は上記した実施形態に限定されるものではなく、下記のように、特許請求の範囲に記載した範囲内において適宜変更が可能である。
第1実施形態における導電性材料の製造方法を用いて試料を作製した。具体的には、熱酸化シリコン(SiO2)基板上に、レーザアブレーション法により真空中で、Snで構成される触媒金属膜を15nm堆積させた。さらに、触媒金属膜の上に、レーザアブレーション法により真空中で、非晶質炭素膜を5nm堆積させた。何れの膜の堆積時も、真空度は、1.0×10−5〜9.9×10−5Paの範囲内、具体的には、3×10−5〜7×10−5の範囲内であった。その後、この試料を基板加熱ホルダー上に装着し、真空中で250℃、1時間の加熱を行った。加熱時の真空度は、1.0×10−4〜9.9×10−4Paの範囲内、具体的には、1×10−4〜7×10−4の範囲内であった。その後、室温まで冷却された試料のラマン分光分析を行った。このラマン分光分析結果を図18に示す。
実施例1と同様の方法により、触媒金属膜の厚さが30nm、非晶質炭素膜の厚さが10nmの試料を作製した。実施例1と同じ加熱条件で加熱した試料のラマン分光分析を行った。その結果、試料全面で、実施例1と同様のラマンスペクトルが確認された。すなわち、グラフェン層は基板全面に形成されていることが確認された。
第5実施形態における導電性材料の製造方法を用いて試料を作製した。すなわち、実施例1とは膜の堆積順序を逆にした試料を作製した。実施例1と同じ加熱条件で加熱した試料のラマン分光分析を行った。その結果、試料全面で、実施例1と同様のラマンスペクトルが確認された。すなわち、グラフェン層は基板全面に形成されていることが確認された。
第6実施形態における導電性材料の製造方法を用いて試料を作製した。すなわち、基板上に、レーザアブレーション法により真空中で、触媒金属材料と非晶質炭素の混合膜を形成した。混合膜の厚さは20nmである。実施例1と同じ加熱条件で加熱した試料のラマン分光分析を行った。その結果、試料全面で、実施例1と同様のラマンスペクトルが確認された。すなわち、グラフェン層は基板全面に形成されていることが確認された。
第10、11実施形態において、触媒金属材料としてSn、In、またはSn−In合金を使用しても、透明基板上に島状の触媒金属材料とその表面、および基板と触媒金属材料との界面、にグラフェン膜が、島状の触媒金属膜の底面とほぼ対応する形状に成長することを、実施例1と同様の条件でラマン分光分析にて、確認された。なお、触媒金属材料としてIn−Ga合金を使用しても、同様にグラフェン膜が成長することが確認できる。
14a 触媒金属膜
14b グラフェン膜
20 基材
22 触媒金属膜
24 炭素原料膜
26 グラフェン膜
36 配線
36a 触媒金属膜
36b グラフェン膜
Claims (16)
- 結晶性炭素ナノ材料の原料となる炭素原料(24、25、42a)と、前記結晶性炭素ナノ材料を形成するための触媒金属材料(22、23、42b)とを、430℃以下の温度で加熱して、結晶性炭素ナノ材料(26、27、44、48)を形成する形成工程を有し、
前記触媒金属材料として、融点温度が430℃以下の金属元素群のいずれか1つ以上を含むものを用いる結晶性炭素ナノ材料を含む導電性材料の製造方法。 - 前記形成工程は、
基材(20)の表面上に前記触媒金属材料(22)を堆積させた後、前記触媒金属材料の表面上に前記炭素原料(24)を堆積させる堆積工程と、
前記堆積工程の後、前記炭素原料と前記触媒金属材料とを加熱する加熱工程とを含む請求項1に記載の導電性材料の製造方法。 - 前記形成工程は、
基材(20)の表面上に前記炭素原料(24)を堆積させた後、前記炭素原料の表面上に前記触媒金属材料(22)を堆積させる堆積工程と、
前記堆積工程の後、前記炭素原料と前記触媒金属材料とを加熱する加熱工程とを含む請求項1に記載の導電性材料の製造方法。 - 前記形成工程は、
基材の表面上に前記炭素原料(42a)と前記触媒金属材料(42b)の混合物(42)を堆積させる堆積工程と、
前記混合物を加熱する加熱工程とを含む請求項1に記載の導電性材料の製造方法。 - 基材(20)と触媒金属膜との界面にも結晶性炭素ナノ材料膜を成長させたことを特徴とする請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載の導電性材料の製造方法。
- 前記加熱工程の前記温度が、前記触媒金属材料の融点以上とし、液相から結晶性炭素ナノ材料膜を成長させることを特徴とする請求項1〜請求項5のいずれか1項に記載の導電性材料の製造方法。
- 前記加熱工程の前記温度が、前記触媒金属材料の融点未満とし、固相から結晶性炭素ナノ材料膜を成長させることを特徴とする請求項1〜請求項5のいずれか1項に記載の導電性材料の製造方法。
- 前記堆積工程では、インクジェット法、印刷法または浸漬法によって、前記混合物を堆積させる請求項4〜請求項7のいずれか1項に記載の導電性材料の製造方法。
- 触媒金属材料(14a、14c、36a、36c、56a、56c)と、
前記触媒金属材料の表面上に形成された結晶性炭素ナノ材料(14b、14d、36b、36d、56b、56d)とを備え、
前記触媒金属材料は、融点温度が430℃以下の金属元素群である、Zn、Sn、Bi、Pb、Tl、Cs、In、Cd、Rb、Ga、K、Na、Li、Seのいずれか1つ以上を含んでいる導電性材料。 - 触媒金属材料(14a、14c)と、
前記触媒金属材料の表面上に形成された結晶性炭素ナノ材料(14b、14d)とを備え、
前記触媒金属材料は、融点温度が430℃以下の金属元素群である、Zn、Sn、Bi、Pb、Tl、Cs、In、Cd、Rb、Ga、K、Na、Li、Seのいずれか1つ以上を含んでいる透明電極。 - 触媒金属材料(56a、56c)と、
前記触媒金属材料の表面上に形成された結晶性炭素ナノ材料(56b、56d)とを備え、
前記触媒金属材料は、融点温度が430℃以下の金属元素群である、Zn、Sn、Bi、Pb、Tl、Cs、In、Cd、Rb、Ga、K、Na、Li、Seのいずれか1つ以上を含んでいる電極。 - 触媒金属材料(36a、36c)と、
前記触媒金属材料の表面上に形成された結晶性炭素ナノ材料(36b、36d)とを備え、
前記触媒金属材料は、融点温度が430℃以下の金属元素群である、Zn、Sn、Bi、Pb、Tl、Cs、In、Cd、Rb、Ga、K、Na、Li、Seのいずれか1つ以上を含んでいる配線。 - 基材(12)と、
前記基材の表面上に形成された透明電極(14)とを備え、
前記透明電極は、触媒金属材料(14a、14c)と結晶性炭素ナノ材料(14b、14d)の複合材料で構成され、
前記触媒金属材料は、融点温度が430℃以下の金属元素群である、Zn、Sn、Bi、Pb、Tl、Cs、In、Cd、Rb、Ga、K、Na、Li、Seのいずれか1つ以上を含んでいる電子装置。 - 基材(54)と、
前記基材の表面上に形成された電極(56)とを備え、
前記電極は、触媒金属材料(56a、56c)と結晶性炭素ナノ材料(56b、56d)の複合材料で構成され、
前記触媒金属材料は、融点温度が430℃以下の金属元素群である、Zn、Sn、Bi、Pb、Tl、Cs、In、Cd、Rb、Ga、K、Na、Li、Seのいずれか1つ以上を含んでいる電子装置。 - 基材(34)と、
前記基材の表面上に形成された配線(36)とを備え、
前記配線は、触媒金属材料(36a、36c)と結晶性炭素ナノ材料(36b、36d)の複合材料で構成され、
前記触媒金属材料は、融点温度が430℃以下の金属元素群である、Zn、Sn、Bi、Pb、Tl、Cs、In、Cd、Rb、Ga、K、Na、Li、Seのいずれか1つ以上を含んでいる半導体装置。 - 前記触媒金属材料が、Sn、Zn、Bi、In、およびSeの少なくともいずれか1つを含むことを特徴とする請求項9〜請求項15のいずれか1項に記載の導電性材料、透明電極、電極、配線、電子装置、半導体装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016053987 | 2016-03-17 | ||
JP2016053987 | 2016-03-17 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017174802A true JP2017174802A (ja) | 2017-09-28 |
JP6937505B2 JP6937505B2 (ja) | 2021-09-22 |
Family
ID=59971433
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017011762A Active JP6937505B2 (ja) | 2016-03-17 | 2017-01-26 | 結晶性炭素ナノ材料を含む導電性材料の製造方法、導電性材料、透明電極、電極、配線、電子装置および半導体装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6937505B2 (ja) |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011105569A (ja) * | 2009-11-20 | 2011-06-02 | Fuji Electric Holdings Co Ltd | グラフェン薄膜の製膜方法 |
JP2014198405A (ja) * | 2013-03-29 | 2014-10-23 | パナソニック株式会社 | 導電性光学部材 |
JP5871213B2 (ja) * | 2010-12-21 | 2016-03-01 | 日本電気株式会社 | グラフェン基板の製造方法およびグラフェン基板 |
-
2017
- 2017-01-26 JP JP2017011762A patent/JP6937505B2/ja active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011105569A (ja) * | 2009-11-20 | 2011-06-02 | Fuji Electric Holdings Co Ltd | グラフェン薄膜の製膜方法 |
JP5871213B2 (ja) * | 2010-12-21 | 2016-03-01 | 日本電気株式会社 | グラフェン基板の製造方法およびグラフェン基板 |
JP2014198405A (ja) * | 2013-03-29 | 2014-10-23 | パナソニック株式会社 | 導電性光学部材 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6937505B2 (ja) | 2021-09-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Liu et al. | Controllable growth of graphene on liquid surfaces | |
Hasani et al. | Direct synthesis of two-dimensional MoS2 on p-type Si and application to solar hydrogen production | |
Feng et al. | Experimental realization of two-dimensional boron sheets | |
Shi et al. | Temperature‐Mediated Selective Growth of MoS2/WS2 and WS2/MoS2 Vertical Stacks on Au Foils for Direct Photocatalytic Applications | |
Sun et al. | Direct chemical-vapor-deposition-fabricated, large-scale graphene glass with high carrier mobility and uniformity for touch panel applications | |
An et al. | Self-Junctioned Copper Nanofiber Transparent Flexible Conducting Film via Electrospinning and Electroplating. | |
Cao et al. | Ambient fabrication of large‐area graphene films via a synchronous reduction and assembly strategy | |
Zhuo et al. | Transfer-free synthesis of doped and patterned graphene films | |
Zhao et al. | High-performance flexible transparent conductive films based on copper nanowires with electroplating welded junctions | |
US20140205763A1 (en) | Growth of graphene films and graphene patterns | |
Wu et al. | Facile synthesis of Ag interlayer doped graphene by chemical vapor deposition using polystyrene as solid carbon source | |
JP5956645B2 (ja) | 結晶表面構造およびその製造方法 | |
US20120241069A1 (en) | Direct Synthesis of Patterned Graphene by Deposition | |
US20100045610A1 (en) | Transparent conductive films | |
Han et al. | Flexible transparent electrodes for organic light-emitting diodes | |
EP3152158A1 (en) | A method for graphene and carbon nanotube growth | |
Wang et al. | Germanium‐assisted direct growth of graphene on arbitrary dielectric substrates for heating devices | |
US20150221408A1 (en) | Graphene based hybrid thin films and their applications | |
TWI526559B (zh) | 藉由物理氣相沉積法在基板上成長碳薄膜或無機材料薄膜的方法 | |
Chang-Jian et al. | Laser patterning of carbon-nanotubes thin films and their applications | |
Park et al. | Highly Integrated, Wearable Carbon‐Nanotube‐Yarn‐Based Thermoelectric Generators Achieved by Selective Inkjet‐Printed Chemical Doping | |
CN106148909A (zh) | 一种在基材上图案化石墨烯的方法及用于所述方法的模板 | |
Xie et al. | H2o‐etchant‐promoted synthesis of high‐quality graphene on glass and its application in see‐through thermochromic displays | |
JP2018035010A (ja) | 多層グラフェンの製造方法及び多層グラフェン積層体 | |
CN102709132A (zh) | 纳米结构在基底上的可控生长以及基于此的电子发射器件 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20200108 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20201020 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20201201 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20210113 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210310 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20210817 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20210824 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6937505 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |