JP2017173614A - Optical body, and method for manufacturing optical body - Google Patents

Optical body, and method for manufacturing optical body Download PDF

Info

Publication number
JP2017173614A
JP2017173614A JP2016060541A JP2016060541A JP2017173614A JP 2017173614 A JP2017173614 A JP 2017173614A JP 2016060541 A JP2016060541 A JP 2016060541A JP 2016060541 A JP2016060541 A JP 2016060541A JP 2017173614 A JP2017173614 A JP 2017173614A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
optical
optical body
shape
transfer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2016060541A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP6637354B2 (en
Inventor
諒子 佐久間
Ryoko Sakuma
諒子 佐久間
佐藤 武俊
Taketoshi Sato
武俊 佐藤
勉 長浜
Tsutomu Nagahama
勉 長浜
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dexerials Corp
Original Assignee
Dexerials Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dexerials Corp filed Critical Dexerials Corp
Priority to JP2016060541A priority Critical patent/JP6637354B2/en
Publication of JP2017173614A publication Critical patent/JP2017173614A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6637354B2 publication Critical patent/JP6637354B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical body which has a fine rugged shape, in which a gauge band is not generated, and whose appearance and optical performance are satisfactory.SOLUTION: An optical body has: a first optical layer 2 in a fine rugged shape; and a reflective layer 3, in which the first optical layer has: knurling parts on both ends in a widthwise direction; and areas with the fine rugged shapes formed inside the knurling parts, in layer thickness distribution of the first optical layer in the areas with the fine rugged shapes formed, a cross-sectional shape in a thickness direction thickening from both ends of the widthwise direction toward the center part has a projection, and at least one recessed area is formed in a layer thickness distribution curve of the projection of the first optical layer, and a recess amount to be represented by a formula (I) of the recessed area in the layer thickness distribution of the first optical layer is 4% or less. The recess amount=[(M-m)/m]×100(%)(I), m represents the smallest value of layer thickness of the first optical layer of a recessed part of the recessed area, and M represents the largest value of the layer thickness of the first optical layer in front of start of the recessed area.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、光学体、及び光学体の製造方法に関する。   The present invention relates to an optical body and a method for manufacturing the optical body.

近年、空調の負荷を低減するために、日光を遮蔽する窓用フィルム等、各種光学フィルムが広く使用されている。
このような光学フィルムの製造プロセスでは、製品となる光学体フィルムを長尺に巻き取ることが必要である。しかし、その巻き取ったロールにおいて、フィルムの長手方向にスジ状の波打ち(ゲージバンド、又は黒帯と呼ばれる)の形状不良が生じる場合がある。この形状不良は、透過像の歪み、外観不良や光学性能低下といった光学フィルムの品質低下の問題を生じさせる。光学フィルムのロールにおけるこの形状不良の問題は、製品の基材物性、表面状態、厚みムラ、プロセス温度、巻取り張力など多くの項目が要因とされており、このゲージバンドの発生を防止するため、従来から、ナーリングと呼ばれるフィルムの一部に凸形状部分を形成する処理や薄いサイドテープの挿入をフィルム両端部に実施する方法が提案されている(例えば、特許文献1から3参照)。
In recent years, in order to reduce the load of air conditioning, various optical films such as window films for shielding sunlight have been widely used.
In the manufacturing process of such an optical film, it is necessary to wind up the optical film used as a product in elongate form. However, in the wound roll, a streak-like wavy shape (called a gauge band or a black band) may occur in the longitudinal direction of the film. This defective shape causes problems such as distortion of the transmission image, poor appearance, and poor optical film quality. In order to prevent the occurrence of this gauge band, many problems such as product substrate physical properties, surface condition, thickness unevenness, process temperature, winding tension, etc. are caused by this shape defect problem in optical film rolls. Conventionally, there has been proposed a method of forming a convex portion on a part of a film called knurling and inserting thin side tapes at both ends of the film (see, for example, Patent Documents 1 to 3).

ところで、日光を遮蔽する窓用フィルムのうち、ヒートアイランドの増長を抑制するため、近年、熱線再帰性反射フィルムが提案されている(例えば、特許文献4参照)。   By the way, in order to suppress the increase in heat island among window films that shield sunlight, a heat ray retroreflective film has recently been proposed (for example, see Patent Document 4).

特開2002−211803号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2002- 211803 特開2005−77795号公報JP-A-2005-77795 特開2009−223129号公報JP 2009-223129 A 特開2015−99397号公報JP2015-99397A

しかし、熱線再帰性反射フィルムのような透明基材と微細凹凸形状の樹脂層及び樹脂層の上に形成された反射層を含む光学層を有する光学体に対しては、従来知られているゲージバンド発生防止策では、ゲージバンドの防止が十分とはいえなかった。
そこで、熱線再帰性反射フィルムのような微細凹凸形状からなる光学層を有する光学体をロールに巻き取る場合においても、ゲージバンドの発生を有効に防止でき、外観不良や光学性能低下を生じさせない光学体の提供が望まれていた。
However, for an optical body having a transparent base material such as a heat ray retroreflective film, a fine uneven resin layer, and an optical layer including a reflective layer formed on the resin layer, a conventionally known gauge With the band generation prevention measure, it was not sufficient to prevent the gauge band.
Therefore, even when an optical body having an optical layer having a fine concavo-convex shape such as a heat ray retroreflective film is wound around a roll, it is possible to effectively prevent the occurrence of a gauge band, and optical that does not cause poor appearance or optical performance deterioration. The body was desired.

本発明は、従来における前記諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、微細凹凸形状からなる光学層を有する光学体であって、巻き取ったロールにおいて、ゲージバンドが発生せず、外観及び光学性能が良好な光学体を提供することを目的とする。   An object of the present invention is to solve the above-described problems and achieve the following objects. That is, an object of the present invention is to provide an optical body having an optical layer having a fine concavo-convex shape, in which a wound band does not generate a gauge band and has good appearance and optical performance. To do.

前記課題を解決するための手段としては、以下の通りである。即ち、
<1> 微細な凹凸形状の第1の光学層と、前記第1の光学層上に形成される反射層とを有する、長尺の光学体であって、
前記第1の光学層は、幅手方向において、両端部にナーリング部と、前記ナーリング部の内側に前記微細な凹凸形状が形成された領域とを有し、
前記微細な凹凸形状が形成された領域において、前記第1の光学層の層厚み分布が、幅手方向の両端部から中央部に向かって厚くなる、厚み方向の断面形状が凸型を有し、かつ前記第1の光学層の前記凸型の層厚み分布曲線には、少なくとも1つの凹み領域が形成されており、
前記第1の光学層の層厚み分布における前記凹み領域の下記式(I)で表される凹み量が、4%以下であることを特徴とする光学体である。
凹み量=〔(M−m)/m〕×100(%) (I)
上記式(I)中、mは、前記凹み領域の凹んだ部分の前記第1の光学層の層厚みの最も小さい値を表し、Mは、前記凹み領域が始まる手前の前記第1の光学層の層厚みの最も大きい値を表す。
<2> 前記第1の光学層が、透明基材と微細な凹凸形状の凹凸層とを有する前記<1>に記載の光学体である。
<3> 前記第1の光学層において、前記ナーリング部における前記第1の光学層の層厚みと、前記微細な凹凸形状が形成された領域における前記第1の光学層の層厚みとの差Δtが、前記透明基材の層厚みに対し、3%から10%である前記<2>に記載の光学体である。
<4>前記凹み量が、2%から4%である前記<1>から<3>ののいずれかに記載の光学体である。
<5> 前記反射層が、少なくとも金属層を有する前記<1>から<4>のいずれかに記載の光学体である。
<6> 前記第1の光学層の微細な凹凸形状が、多数の構造体の1次元配列及び2次元配列のいずれかにより形成され、前記構造体が、プリズム形状、レンチキュラー形状、半球状、及びコーナーキューブ状のいずれかである前記<1>から<5>のいずれかに記載の光学体である。
<7> 透明基材上に微細な凹凸形状の転写層が積層されてなる微細な凹凸形状の第1の光学層と、前記第1の光学層上に形成される反射層とを有する長尺の光学体の製造方法であって、
転写用原盤を用いて、前記転写層に微細凹凸形状を転写する転写層形成工程と、
前記微細凹凸形状上に、少なくとも金属層を有する反射層を形成する反射層形成工程とを有し、
前記転写層形成工程において、前記転写用原盤の温度は、前記転写層を構成する転写樹脂の温度より0℃から7℃低く設定し、
前記光学体は、
前記第1の光学層が、幅手方向において、両端部にナーリング部と、前記ナーリング部の内側に微細な凹凸形状が形成された領域とを有し、
前記微細な凹凸形状が形成された領域において、前記第1の光学層の層厚み分布が、幅手方向の両端部から中央部に向かって厚くなる、厚み方向の断面形状が凸型を有し、かつ前記第1の光学層の前記凸型の層厚み分布曲線には、少なくとも1つの凹み領域が形成されている光学体である、
ことを特徴とする光学体の製造方法である。
<8> さらに、包埋層形成工程、及び規格寸法の光学体に切りそろえるスリット・打ち抜き工程を有する前記<7>に記載の光学体の製造方法である。
Means for solving the problems are as follows. That is,
<1> A long optical body having a first optical layer having a fine irregular shape and a reflective layer formed on the first optical layer,
The first optical layer has a knurling portion at both ends in the width direction, and a region in which the fine uneven shape is formed inside the knurling portion,
In the region where the fine concavo-convex shape is formed, the layer thickness distribution of the first optical layer becomes thicker from both ends in the width direction toward the center, and the cross-sectional shape in the thickness direction has a convex shape. And the convex layer thickness distribution curve of the first optical layer is formed with at least one recessed region,
The optical body is characterized in that a dent amount represented by the following formula (I) of the dent region in the layer thickness distribution of the first optical layer is 4% or less.
Depression amount = [(M−m) / m] × 100 (%) (I)
In the above formula (I), m represents the smallest value of the thickness of the first optical layer in the recessed portion of the recessed area, and M represents the first optical layer before the recessed area starts. This represents the largest value of the layer thickness.
<2> The optical body according to <1>, wherein the first optical layer includes a transparent base material and a fine uneven layer.
<3> In the first optical layer, a difference Δt between a layer thickness of the first optical layer in the knurling portion and a layer thickness of the first optical layer in a region where the fine uneven shape is formed. Is the optical body according to <2>, wherein the thickness is 3% to 10% with respect to the layer thickness of the transparent substrate.
<4> The optical body according to any one of <1> to <3>, wherein the dent amount is 2% to 4%.
<5> The optical body according to any one of <1> to <4>, wherein the reflective layer includes at least a metal layer.
<6> The fine uneven shape of the first optical layer is formed by one of a one-dimensional array and a two-dimensional array of a large number of structures, and the structure has a prism shape, a lenticular shape, a hemispherical shape, and The optical body according to any one of <1> to <5>, wherein the optical body is in a corner cube shape.
<7> A long length having a fine uneven first optical layer formed by laminating a fine uneven transfer layer on a transparent substrate, and a reflective layer formed on the first optical layer. An optical body manufacturing method of
Using a transfer master, a transfer layer forming step of transferring a fine uneven shape to the transfer layer;
A reflective layer forming step of forming a reflective layer having at least a metal layer on the fine uneven shape;
In the transfer layer forming step, the temperature of the transfer master is set to 0 ° C. to 7 ° C. lower than the temperature of the transfer resin constituting the transfer layer,
The optical body is
The first optical layer has, in the width direction, a knurling portion at both ends, and a region in which a fine uneven shape is formed inside the knurling portion,
In the region where the fine concavo-convex shape is formed, the layer thickness distribution of the first optical layer becomes thicker from both ends in the width direction toward the center, and the cross-sectional shape in the thickness direction has a convex shape. And the convex layer thickness distribution curve of the first optical layer is an optical body in which at least one recessed region is formed.
This is a method for manufacturing an optical body.
<8> Furthermore, it is a manufacturing method of the optical body as described in said <7> which has an embedded layer formation process and the slit and the punching process cut into the optical body of a standard dimension.

本発明によれば、従来における前記諸問題を解決し、前記目的を達成することができ、微細凹凸形状からなる光学層を有する光学体であって、巻き取ったロールにおいて、ゲージバンドが発生せず、外観及び光学性能が良好な光学体を提供することができる。   According to the present invention, the above-mentioned problems can be solved and the above-mentioned object can be achieved, and an optical body having an optical layer having a fine concavo-convex shape, in which a gauge band is generated in a wound roll. In addition, an optical body with good appearance and optical performance can be provided.

図1は、本発明の光学体の構成の一例を説明するための断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view for explaining an example of the configuration of the optical body of the present invention. 図2は、本発明の光学体の構造の一例を説明するための断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view for explaining an example of the structure of the optical body of the present invention. 図3Aは、本発明の光学体における凹み領域の凹み量を測定するために用いる凹み領域が始まる手前の第1の光学層の層厚みの最も大きい値Mを説明するための断面図である。FIG. 3A is a cross-sectional view for explaining the maximum value M of the layer thickness of the first optical layer before the start of the recessed area used for measuring the amount of the recessed area in the optical body of the present invention. 図3Bは、本発明の光学体における凹み領域の凹み量を測定するために用いる凹み領域の凹んだ部分の第1の光学層の層厚みの最も小さい値mを説明するための断面図である。FIG. 3B is a cross-sectional view for explaining the smallest value m of the layer thickness of the first optical layer in the recessed portion of the recessed area used for measuring the recessed amount of the recessed area in the optical body of the present invention. . 図4Aは、ナーリング部を有さない光学体をロールで巻き取った場合に生じる問題を説明するための概略図である。FIG. 4A is a schematic diagram for explaining a problem that occurs when an optical body that does not have a knurling portion is wound with a roll. 図4Bは、ナーリング部を有する従来の光学体をロールで巻き取った場合に生じる問題を説明するための概略図である。FIG. 4B is a schematic diagram for explaining a problem that occurs when a conventional optical body having a knurling portion is wound with a roll. 図4Cは、本発明の光学体をロールで巻き取った場合の本発明の光学体が示す効果を説明するための概略図である。FIG. 4C is a schematic diagram for explaining the effect exhibited by the optical body of the present invention when the optical body of the present invention is wound with a roll. 図5は、本発明の光学体の層厚みを説明するための断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view for explaining the layer thickness of the optical body of the present invention. 図6Aは、本発明の光学体におけるナーリング部の層厚みと第1の光学層の層厚みとの関係を説明するための断面図である。FIG. 6A is a cross-sectional view for explaining the relationship between the layer thickness of the knurling portion and the layer thickness of the first optical layer in the optical body of the present invention. 図6Bは、本発明の光学体における幅手方向全体の層厚み分布を説明するための断面図である。FIG. 6B is a cross-sectional view for explaining the layer thickness distribution in the entire width direction in the optical body of the present invention. 図7Aは、本発明の光学体の構成の他の一例を説明するための断面図である。FIG. 7A is a cross-sectional view for explaining another example of the configuration of the optical body of the present invention. 図7Bは、本発明の光学体の構成の他の一例を説明するための断面図である。FIG. 7B is a cross-sectional view for explaining another example of the configuration of the optical body of the present invention. 図7Cは、本発明の光学体の構成の他の一例を説明するための断面図である。FIG. 7C is a cross-sectional view for explaining another example of the configuration of the optical body of the present invention. 図8Aは、本発明の光学体の製造方法の一例について説明するための工程図である。FIG. 8A is a process diagram for explaining an example of the method of manufacturing an optical body according to the present invention. 図8Bは、本発明の光学体の製造方法の一例について説明するための工程図である。FIG. 8B is a process diagram for explaining an example of the method for producing an optical body of the present invention. 図8Cは、本発明の光学体の製造方法の一例について説明するための工程図である。FIG. 8C is a process diagram for explaining an example of the method for producing an optical body of the present invention. 図8Dは、本発明の光学体の製造方法の一例について説明するための工程図である。FIG. 8D is a process diagram for describing an example of the method of manufacturing an optical body of the present invention. 図8Eは、本発明の光学体の製造方法の一例について説明するための工程図である。FIG. 8E is a process diagram for describing an example of the method of manufacturing an optical body of the present invention. 図9は、本発明の光学体の製造装置の一構成例を示す概略図である。FIG. 9 is a schematic view showing one configuration example of the optical body manufacturing apparatus of the present invention. 図10は、本発明の光学体の製造装置の一構成例を示す概略図である。FIG. 10 is a schematic view showing one configuration example of the optical body manufacturing apparatus of the present invention. 図11Aは、本発明の光学体の製造方法の他の一例について説明するための工程図である。FIG. 11A is a process diagram for describing another example of the method of manufacturing an optical body of the present invention. 図11Bは、本発明の光学体の製造方法の他の一例について説明するための工程図である。FIG. 11B is a process diagram for explaining another example of the method of manufacturing an optical body of the present invention. 図12は、本発明の光学体にスリットを形成する場合の説明図である。FIG. 12 is an explanatory diagram when a slit is formed in the optical body of the present invention. 図13は、実施例で行った本発明の光学体を評価する評価方法を説明するための概略図である。FIG. 13 is a schematic diagram for explaining an evaluation method for evaluating the optical body of the present invention performed in the examples. 図14は、実施例で行った本発明の光学体を評価する評価方法を説明するための概略図である。FIG. 14 is a schematic diagram for explaining an evaluation method for evaluating the optical body of the present invention performed in the examples. 図15は、本発明の光学体の構造の一例を説明するための断面図である。FIG. 15 is a cross-sectional view for explaining an example of the structure of the optical body of the present invention. 図16は、本発明の光学体の層厚みを説明するための断面図である。FIG. 16 is a cross-sectional view for explaining the layer thickness of the optical body of the present invention.

(光学体)
本発明の光学体は、長尺の光学体である。
長尺の光学体は、円筒形のコアに巻かれたものであって、通常200周以上巻かれている。コアは、通常、内径が3インチ〜8インチのものが用いられる。
前記光学体は、微細な凹凸形状の第1の光学層と、前記第1の光学層上に形成される反射層とを有する。
前記第1の光学層は、幅手方向において、両端部にナーリング部と、前記ナーリング部の内側に微細な凹凸形状が形成された領域とを有する。
前記微細な凹凸形状が形成された領域において、前記第1の光学層の層厚み分布が、幅手方向の両端部から中央部に向かって厚くなる、厚み方向の断面形状が凸型を有し、かつ前記第1の光学層の前記凸型の層厚み分布曲線には、少なくとも1つの凹み領域が形成されている。
前記第1の光学層の層厚み分布における前記凹み領域の下記式(I)で表される凹み量は、4%以下である。
凹み量=〔(M−m)/m〕×100(%) (I)
上記式(I)中、mは、前記凹み領域の凹んだ部分の前記第1の光学層の層厚みの最も小さい値を表し、Mは、前記凹み領域が始まる手前の前記第1の光学層の層厚みの最も大きい値を表す。
上記特徴を有する光学体は、巻き取ったロールにおいて、ゲージバンドが発生せず、外観及び光学性能を良好に維持することができる。
(Optical body)
The optical body of the present invention is a long optical body.
The long optical body is wound around a cylindrical core and is usually wound around 200 or more times. A core having an inner diameter of 3 to 8 inches is usually used.
The optical body includes a fine concavo-convex first optical layer and a reflective layer formed on the first optical layer.
In the width direction, the first optical layer has a knurling portion at both ends and a region in which a fine uneven shape is formed inside the knurling portion.
In the region where the fine concavo-convex shape is formed, the layer thickness distribution of the first optical layer becomes thicker from both ends in the width direction toward the center, and the cross-sectional shape in the thickness direction has a convex shape. In the convex layer thickness distribution curve of the first optical layer, at least one concave region is formed.
The dent amount represented by the following formula (I) of the dent region in the layer thickness distribution of the first optical layer is 4% or less.
Depression amount = [(M−m) / m] × 100 (%) (I)
In the above formula (I), m represents the smallest value of the thickness of the first optical layer in the recessed portion of the recessed area, and M represents the first optical layer before the recessed area starts. This represents the largest value of the layer thickness.
The optical body having the above characteristics can maintain a good appearance and optical performance without generating a gauge band in the wound roll.

<光学体の構成>
本発明の光学体は、第1の光学層と、反射層とを有してなり、更に必要に応じてその他の層を有してなる。
図1に、本発明の光学体の構成を説明するための断面図を示す。図1では、第1の光学層2が微細な凹凸形状を有しており、第1の光学層2上に反射層3が形成された光学体1が示されている。光学体1には、反射層3上に第1の光学層の微細な凸形状を埋め合わせるような凹形状の第2の光学層6が形成されている。
図1では、前記第1の光学層2は、透明基材4a、及び凹凸層4(凹凸形状が形成された樹脂層:本発明では転写層4ともいう)から形成されており、前記第2の光学層6は、前記微細な凹凸形状を包埋するための樹脂層である包埋層5、及び透明基材5aから形成されている。
前記その他の層として、図1の第2の光学層6上に、さらに粘着層や剥離層等を設けてもよい。
光学体を構成する上記各層については、以下で詳しく説明する。
<Configuration of optical body>
The optical body of the present invention includes a first optical layer and a reflective layer, and further includes other layers as necessary.
FIG. 1 is a cross-sectional view for explaining the configuration of the optical body of the present invention. FIG. 1 shows an optical body 1 in which a first optical layer 2 has a fine uneven shape, and a reflective layer 3 is formed on the first optical layer 2. In the optical body 1, a concave second optical layer 6 is formed on the reflective layer 3 so as to make up the fine convex shape of the first optical layer.
In FIG. 1, the first optical layer 2 is formed of a transparent substrate 4 a and a concavo-convex layer 4 (resin layer having a concavo-convex shape: also referred to as a transfer layer 4 in the present invention). The optical layer 6 is formed of an embedding layer 5 which is a resin layer for embedding the fine uneven shape, and a transparent substrate 5a.
As the other layer, an adhesive layer, a release layer, or the like may be further provided on the second optical layer 6 in FIG.
The respective layers constituting the optical body will be described in detail below.

<光学体の構造>
本発明の光学体の構造について図2を用いて説明する。図2は、微細な凹凸形状を有する第1の光学層の幅手方向に対する層厚み分布を示す概略図である。図2の実線は、前記第1の光学層の層厚み分布曲線を示している。
つまり、図2で示すように、第1の光学層には、幅手方向xにおいて、両端部にナーリング部Bが形成されており、前記ナーリング部Bの内側には微細な凹凸形状が形成された領域Aがある。そして、微細な凹凸形状が形成された領域Aにおける第1の光学層の層厚み分布は、幅手方向の両端部から中央部に向かって厚くなる、厚み方向yの断面形状がゆるやかな凸型を有しており、かつこの第1の光学層のゆるやかな凸型の層厚み分布曲線には、少なくとも1つの凹み領域が形成されている。
つまり、図2で示すように第1の光学層を厚み方向の断面でみたとき、第1の光学層の層厚み分布曲線で示される凸部の形の中に凹部が形成されている。
図2中のR地点における第1の光学層の幅手方向における断面図を図3Aに示す。R地点は、凹み領域が始まる手前の第1の光学層の層厚みが最も大きい箇所となっている。また、図2中のQ地点における第1の光学層の幅手方向における断面図を図3Bに示す。Q地点は、凹み領域の凹んだ部分の第1の光学層の層厚みが最も小さい箇所となっている。
図2中のナーリング部Bには、ゲージバンドの発生防止のため第1の光学層上に凸部形状の突出部が形成される。本発明でいうナーリング処理は、ゲージバンド発生防止のために設けられるものであるため、図2中A領域の微細な凹凸形状における凸部とはスケールが異なっている。ナーリング処理で形成される突出部は、一般に2μmから15μmの高さを有する。商品として使用される際にはナーリング部は使用しない。
<Structure of optical body>
The structure of the optical body of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 2 is a schematic diagram showing a layer thickness distribution in the width direction of the first optical layer having a fine uneven shape. A solid line in FIG. 2 indicates a layer thickness distribution curve of the first optical layer.
That is, as shown in FIG. 2, the first optical layer has a knurling portion B formed at both ends in the width direction x, and a fine uneven shape is formed inside the knurling portion B. There is a region A. And the layer thickness distribution of the 1st optical layer in the area | region A in which the fine uneven | corrugated shape was formed becomes thick convex from the both ends of a width direction toward a center part, and the cross-sectional shape of the thickness direction y is gentle. And at least one recessed region is formed in the gently convex layer thickness distribution curve of the first optical layer.
That is, as shown in FIG. 2, when the first optical layer is viewed in a cross section in the thickness direction, the concave portion is formed in the shape of the convex portion indicated by the layer thickness distribution curve of the first optical layer.
A cross-sectional view in the width direction of the first optical layer at point R in FIG. 2 is shown in FIG. 3A. The point R is a point where the layer thickness of the first optical layer before the beginning of the recessed region is the largest. Moreover, FIG. 3B shows a cross-sectional view in the width direction of the first optical layer at the point Q in FIG. The point Q is a place where the layer thickness of the first optical layer in the recessed portion of the recessed region is the smallest.
In the knurling portion B in FIG. 2, a protruding portion having a convex shape is formed on the first optical layer in order to prevent the occurrence of a gauge band. Since the knurling process as used in the present invention is provided to prevent the occurrence of a gauge band, the scale is different from the convex part in the fine concavo-convex shape in the region A in FIG. The protrusion formed by the knurling process generally has a height of 2 μm to 15 μm. When used as a product, the knurling part is not used.

本発明者らは、光学体をロールに巻き取った際に生じる問題と光学体の幅手方向における光学層の厚み分布との関係について詳しく研究したところ以下のことを見出した。図4Aから図4Cをもとに説明する。ここで、図4Aは、ナーリング部を有さない光学体をロールで巻き取った場合を示し、図4Bは、ナーリング部を有する従来の光学体をロールで巻き取った場合を示し、図4Cは、本発明の光学体をロールで巻き取った場合を示している。図4A〜Cにおいて、(1)欄は、図2で示すように第1の光学層の幅手方向に対する層厚み分布を示している。(2)欄は、転写層に凹凸形状を転写した後、その光学体フィルムをロールに巻き取った際の巻姿を示している。(3)欄は、反射層上に包埋層を配した後、その光学体フィルムをロールに巻き取った際の巻姿を示している。
微細な凹凸形状を有する第1の光学層からなるフィルムを、なんらフィルムに対策を講ずることなく(図4Aの(1)欄参照)、ロールに巻き取ると、図4Aの(2)欄で示すように、フィルムの膜厚が全体の中で特に厚くなる中央付近にゲージバンドが現れる。
そこで、このフィルムに先行技術のように両端部にナーリング部を設けて(図4Bの(1)欄参照)、ロールに巻き取ると、図4Bの(2)欄で示すように、端部にゲージバンドが発生するが、製品部分である中央部にはゲージバンドは発生せず、製品部分の品質は合格となる。
しかし、微細な凹凸形状を有する第1の光学層上に図1で示すような第2の光学層を形成した場合、つまり図4B(2)の後に、さらに塗布やラミネートによって微細形状を埋めた包埋加工後の光学フィルムに対し、係る光学フィルムをロールに巻き取ると、図4B(3)で示すように、製品として使用する領域内に、ゲージバンドが浮き出てくるという問題が発生する。ゲージバンドが後工程で浮き出てくると、透過像が歪み、外観不良、光学性能低下の問題につながる。
このゲージバンドの問題は、転写層を構成する転写樹脂の流れパターンや転写層の層厚み分布が影響しているものと思われる。
本発明者らは、研究を重ねた結果、フィルムの中央付近の転写層の層厚み分布が上に凸部傾向が強いとゲージバンドが顕著となることや、層厚み分布を均一にしても転写樹脂の流れパターンに沿ったゲージバンドが現れることを確認した。
The present inventors have studied in detail the relationship between the problem that occurs when the optical body is wound on a roll and the thickness distribution of the optical layer in the width direction of the optical body, and have found the following. This will be described with reference to FIGS. 4A to 4C. Here, FIG. 4A shows a case where an optical body having no knurling portion is wound by a roll, FIG. 4B shows a case where a conventional optical body having a knurling portion is wound by a roll, and FIG. The case where the optical body of this invention is wound up with the roll is shown. 4A to 4C, column (1) indicates the layer thickness distribution in the width direction of the first optical layer as shown in FIG. The column (2) shows the winding shape when the optical film is wound around a roll after the concavo-convex shape is transferred to the transfer layer. The column (3) shows the winding shape when the optical film is wound on a roll after the embedding layer is arranged on the reflective layer.
When a film made of the first optical layer having a fine uneven shape is wound on a roll without taking any measures on the film (see column (1) in FIG. 4A), it is shown in column (2) in FIG. 4A. Thus, a gauge band appears in the vicinity of the center where the film thickness becomes particularly thick in the whole.
Therefore, when this film is provided with a knurling portion at both ends as in the prior art (see column (1) in FIG. 4B) and wound on a roll, as shown in column (2) in FIG. Although a gauge band is generated, a gauge band is not generated in the central portion which is a product part, and the quality of the product part is passed.
However, when the second optical layer as shown in FIG. 1 is formed on the first optical layer having a fine concavo-convex shape, that is, after FIG. 4B (2), the fine shape is further filled by coating or laminating. When the optical film is wound on a roll with respect to the optical film after embedding processing, as shown in FIG. 4B (3), there is a problem that a gauge band is raised in an area used as a product. If the gauge band emerges in a later process, the transmitted image is distorted, leading to problems of poor appearance and poor optical performance.
This gauge band problem seems to be affected by the flow pattern of the transfer resin constituting the transfer layer and the layer thickness distribution of the transfer layer.
As a result of repeated research, the inventors have found that when the layer thickness distribution of the transfer layer near the center of the film has a tendency to protrude upward, the gauge band becomes prominent, or even if the layer thickness distribution is uniform It was confirmed that a gauge band along the resin flow pattern appeared.

そこで、本発明者らは、第1の光学層に対し、ナーリング部を設けるだけでなく、微細な凹凸形状が形成された領域において、第1の光学層の層厚み分布を、幅手方向に対し、中央部で厚く、両端部で薄い凸型形状とし、かつ第1の光学層の凸型形状の層厚み分布曲線において少なくとも1つの凹み領域を設けた光学フィルムを作製した(図4C(1)参照)。
係る光学フィルムをロールに巻き取ったところ、図4Cの(2)欄で示すように、端部にゲージバンドが発生するが、製品部分である中央部にはゲージバンドは発生せず、製品部分の品質は合格となること、さらに、図4C(2)の後に塗布やラミネートによって微細形状を埋めた包埋加工後の光学フィルムに対しても、製品として使用する領域内にゲージバンドが発生せず品質が合格の製品が得られることを見出した。
本発明は、かかる知見をもとになされたものである。
以下、本発明の光学体を構成する各構成要素について説明する。
Therefore, the present inventors not only provide a knurling portion for the first optical layer, but also the layer thickness distribution of the first optical layer in the width direction in a region where a fine uneven shape is formed. On the other hand, an optical film having a convex shape that is thick at the center and thin at both ends, and provided with at least one concave region in the convex thickness distribution curve of the first optical layer was produced (FIG. 4C (1 )reference).
When the optical film is wound on a roll, as shown in the column (2) of FIG. 4C, a gauge band is generated at the end portion, but no gauge band is generated at the center portion, which is a product portion. In addition, a gauge band is generated in an area used as a product even for an optical film after embedding processing in which a fine shape is embedded by coating or laminating after FIG. 4C (2). We found that a product with acceptable quality was obtained.
The present invention has been made based on such knowledge.
Hereafter, each component which comprises the optical body of this invention is demonstrated.

<光学体の各構成要素>
<<第1の光学層>>
前記第1の光学層は、微細な凹凸形状を有し、可視光に対して透明である。
前記第1の光学層としては、前記反射層を支持するための支持体であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
前記第1の光学層は、凹凸層(本発明では転写層ともいう)と透明基材を有していることが好ましい。
<Each component of the optical body>
<< first optical layer >>
The first optical layer has a fine uneven shape and is transparent to visible light.
The first optical layer is not particularly limited as long as it is a support for supporting the reflective layer, and can be appropriately selected according to the purpose.
The first optical layer preferably has an uneven layer (also referred to as a transfer layer in the present invention) and a transparent substrate.

−凹凸層(転写層)−
前記凹凸層(転写層)を構成する転写樹脂としては、例えば、熱可塑性樹脂、活性エネルギー線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂などの樹脂が挙げられる。
前記転写層は、光学体や窓材などに意匠性を付与する観点から、可視光に対する透明性を阻害しない範囲で、可視領域における特定の波長の光を吸収する特性を有していてもよい。
意匠性の付与、即ち可視領域における特定の波長の光を吸収する特性は、例えば、前記転写層に顔料を含有させることにより行うことができる。
-Uneven layer (transfer layer)-
As transfer resin which comprises the said uneven | corrugated layer (transfer layer), resin, such as a thermoplastic resin, active energy ray curable resin, and a thermosetting resin, is mentioned, for example.
The transfer layer may have a characteristic of absorbing light of a specific wavelength in the visible region within a range not impairing transparency to visible light from the viewpoint of imparting design properties to an optical body, a window material, and the like. .
Design characteristics, that is, the property of absorbing light of a specific wavelength in the visible region can be performed, for example, by incorporating a pigment into the transfer layer.

−透明基材−
透明基材の形状としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、フィルム状、シート状、プレート状、ブロック状などが挙げられる。透明基材の材料としては、例えば、公知の高分子材料を用いることができる。前記公知の高分子材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリカーボネート(PC)、トリアセテート(TAC),シクロオレフィンコポリマー(COC)、シクロオレフィンポリマー(COP)などが挙げられる。
透明基材の層厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、生産性の観点から23μm〜125μmであることが好ましい。
また、透明基材として、図5で示すように、PETなどの透明基材4aの他に撥水性のハードコート層4bを設けてもよい。ハードコート層(HC層)は、アクリル系樹脂のようなものをいう。また、ハードコート層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、1μm〜6μmであることが好ましい。
-Transparent substrate-
There is no restriction | limiting in particular as a shape of a transparent base material, According to the objective, it can select suitably, For example, a film form, a sheet form, plate shape, block shape etc. are mentioned. As a material for the transparent substrate, for example, a known polymer material can be used. The known polymer material is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. For example, polyethylene terephthalate (PET), polycarbonate (PC), triacetate (TAC), cycloolefin copolymer (COC), Examples thereof include cycloolefin polymer (COP).
There is no restriction | limiting in particular as layer thickness of a transparent base material, Although it can select suitably according to the objective, It is preferable that it is 23 micrometers-125 micrometers from a viewpoint of productivity.
As the transparent substrate, as shown in FIG. 5, a water-repellent hard coat layer 4b may be provided in addition to the transparent substrate 4a such as PET. The hard coat layer (HC layer) refers to something like an acrylic resin. Moreover, there is no restriction | limiting in particular as thickness of a hard-coat layer, Although it can select suitably according to the objective, It is preferable that they are 1 micrometer-6 micrometers.

−微細な凹凸形状−
前記第1の光学層には、微細な複数の凹凸部が形成されているが、「凹凸部」は、基準面のとり方により、凸部のみ、あるいは凹部のみの場合もあり、本発明でいう「凹凸部」とは、凸部、凹部、及び凹凸部のいずれの形状も含む趣旨である。
前記第1の光学層の微細な凹凸形状のピッチとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、300μm以下が好ましく、200μm以下がより好ましく、20μm〜150μmが特に好ましい。
前記第1の光学層の凹凸形状のピッチの測定方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、光学顕微鏡による観察、SEMの断面観察などが挙げられる。
ここで、前記第1の光学層の凹凸形状のピッチとは、図5に示すPを指す。すなわち、前記第1の光学層の凹凸形状の一山の一端と他端の距離である。ただし、凹凸形状に複数のピッチが含まれる場合は、その平均とする。
前記第1の光学層の凹凸形状は、多数の構造体の1次元配列及び2次元配列のいずれかにより形成される。前記構造体としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、プリズム形状、レンチキュラー形状、半球状、コーナーキューブ状などが挙げられる。
-Fine irregular shape-
The first optical layer has a plurality of fine irregularities, but the “irregularity” may be only a convex portion or only a concave portion depending on how the reference surface is taken, and is referred to in the present invention. The “concavo-convex portion” is intended to include any shapes of convex portions, concave portions, and concave-convex portions.
The pitch of the fine uneven shape of the first optical layer is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose, but is preferably 300 μm or less, more preferably 200 μm or less, and particularly preferably 20 μm to 150 μm. .
There is no restriction | limiting in particular as a measuring method of the uneven | corrugated shaped pitch of a said 1st optical layer, According to the objective, it can select suitably, For example, observation with an optical microscope, cross-sectional observation of SEM, etc. are mentioned.
Here, the pitch of the concavo-convex shape of the first optical layer indicates P shown in FIG. That is, it is the distance between one end and the other end of the concavo-convex shape of the first optical layer. However, when the concavo-convex shape includes a plurality of pitches, the average is taken.
The uneven shape of the first optical layer is formed by either a one-dimensional array or a two-dimensional array of a large number of structures. There is no restriction | limiting in particular as said structure, According to the objective, it can select suitably, For example, prism shape, lenticular shape, hemispherical shape, corner cube shape etc. are mentioned.

前記第1の光学層の層厚みについて、図5の幅手方向における光学体の構成図をもとに説明する。
図5中、(i)は第1の光学層の層厚み、(ii)は転写層4の凹凸部の厚み、(iii)は転写層4の袴部の厚み、(iv)は透明基材4a(あるいは、透明基材4aとハードコート層4bを合わせた場合も含む)の基材部の層厚みを表す。
ここで、袴部の厚みは、基材部の層厚みの4%から20%であることが好ましい。袴部の厚みが上記範囲内であると、所望の凹み量を有する凹み領域を形成することができるからである。特に、袴部の厚みは、2μm以上であるのが好ましい。1μm以下であると、最終製品に白濁が生じるなどの不具合が生じる場合があるからである。
The layer thickness of the first optical layer will be described based on the configuration diagram of the optical body in the width direction of FIG.
In FIG. 5, (i) is the thickness of the first optical layer, (ii) is the thickness of the uneven portion of the transfer layer 4, (iii) is the thickness of the ridge portion of the transfer layer 4, and (iv) is the transparent substrate. 4a (or including the case where the transparent base material 4a and the hard coat layer 4b are combined) represents the layer thickness of the base material portion.
Here, the thickness of the collar portion is preferably 4% to 20% of the layer thickness of the base material portion. It is because the dent area | region which has a desired dent amount can be formed as the thickness of a collar part is in the said range. In particular, the thickness of the collar portion is preferably 2 μm or more. This is because if it is 1 μm or less, problems such as white turbidity may occur in the final product.

−ナーリング部−
前記第1の光学層において、ナーリング部における前記第1の光学層の層厚みと、前記微細な凹凸形状が形成された領域における前記第1の光学層の層厚みとの差Δtは、図6Aで示すように、前記基材部の層厚みに対し、3%から10%であることが好ましい。
ナーリング部の凸部形状の突出部は、転写用原盤の両端部に凹凸部を設け、転写時に上記膜厚分布が生じるように調整することにより形成することができる。
-Knurling part-
In the first optical layer, the difference Δt between the layer thickness of the first optical layer in the knurling portion and the layer thickness of the first optical layer in the region where the fine concavo-convex shape is formed is shown in FIG. As shown by, it is preferably 3% to 10% with respect to the layer thickness of the base material portion.
The protruding part of the convex shape of the knurling part can be formed by providing an uneven part at both ends of the transfer master and adjusting so that the film thickness distribution is generated during transfer.

−第1の光学層の層厚み分布について−
前記微細な凹凸形状が形成された領域における前記第1の光学層の層厚み分布は、幅手方向の両端部から中央部に向かって厚くなる、厚み方向の断面形状が凸型を有し、かつ前記第1の光学層の前記凸型の層厚み分布曲線には、少なくとも1つの凹み領域を有する。
本発明では、前記第1の光学層の前記凸型の層厚み分布曲線に、前記光学体をロールに巻き取った際に生じうる歪みを防ぐための、凹み領域が形成されていることが特徴である。
ここで、上記ゆるやかな凸型形状、及び凹み領域が形成できるよう、第1の光学層の層厚み分布に変化をもたらせる方法としては、転写用原盤と転写樹脂の温度を調整することが挙げられる。本発明者らは、転写用原盤に対して、転写樹脂の温度を上げると樹脂の粘度が低くなり、製造工程において転写樹脂が供給される供給部付近において樹脂層の厚みを薄くすることができることを見出した。
そこで、転写樹脂の温度、転写用原盤の温度、ニップロール形状等を調整することにより、第1の光学層の層厚み分布を制御するとよい。まず、製造時における成形性、反応性、脱泡性を最適化するような転写樹脂の温度を調整し、そのうえで、転写樹脂温度より転写用原盤の温度を同等またはやや低く調整することにより、凹み領域を形成させる。さらにその際、ニップロールにクラウン加工を加えてもよい。転写用原盤の温度は、転写樹脂の温度より0℃から7℃低く設定することが好ましい。
-Regarding the layer thickness distribution of the first optical layer-
The layer thickness distribution of the first optical layer in the region where the fine concavo-convex shape is formed becomes thicker from both ends in the width direction toward the center, the cross-sectional shape in the thickness direction has a convex shape, In addition, the convex layer thickness distribution curve of the first optical layer has at least one concave region.
In the present invention, the convex layer thickness distribution curve of the first optical layer is formed with a concave region for preventing distortion that may occur when the optical body is wound on a roll. It is.
Here, as a method for changing the layer thickness distribution of the first optical layer so that the above-described gently convex shape and the recessed region can be formed, the temperature of the transfer master and the transfer resin can be adjusted. Can be mentioned. When the temperature of the transfer resin is raised with respect to the master for transfer, the present inventors can reduce the viscosity of the resin, and the thickness of the resin layer can be reduced in the vicinity of the supply portion to which the transfer resin is supplied in the manufacturing process. I found.
Therefore, the layer thickness distribution of the first optical layer may be controlled by adjusting the temperature of the transfer resin, the temperature of the transfer master, the nip roll shape, and the like. First, the temperature of the transfer resin is adjusted to optimize the moldability, reactivity, and defoamability during manufacturing, and then the temperature of the transfer master is adjusted to be equal or slightly lower than the transfer resin temperature. A region is formed. Further, at that time, crown processing may be added to the nip roll. The temperature of the transfer master is preferably set to 0 ° C. to 7 ° C. lower than the temperature of the transfer resin.

前記第1の光学層の層厚み分布には、少なくとも1つ凹み領域が形成されているとよい。
下記で記載する転写層形成工程において、樹脂供給部から原盤または、透明基材上へ転写樹脂を供給する際、樹脂供給位置が1箇所である場合、その樹脂供給位置は、幅手方向において前記第1の光学層の中央部付近であるとよく、その際、前記凹み領域は、該中央部付近に形成させるとよい。
樹脂供給位置は数か所であってもよく、その場合には、前記微細な凹凸形状が形成された領域の大きさや樹脂供給部の供給幅等考慮して適宜選択するとよい。その際、前記凹み領域は、該複数の樹脂供給位置に対応した箇所に形成させるとよい。
The layer thickness distribution of the first optical layer may be formed with at least one recessed region.
In the transfer layer forming process described below, when the transfer resin is supplied from the resin supply unit to the master disk or the transparent substrate, when the resin supply position is one place, the resin supply position is the width direction in the width direction. The central portion of the first optical layer may be in the vicinity of the central portion, and the concave region may be formed in the vicinity of the central portion.
There may be several resin supply positions. In that case, the resin supply position may be appropriately selected in consideration of the size of the region where the fine unevenness is formed, the supply width of the resin supply portion, and the like. At this time, the recessed area may be formed at a location corresponding to the plurality of resin supply positions.

−凹み量−
前記凹み領域の凹み程度としては、下記式(I)で計算される凹み量が、4%以下である。また、凹み量が、1%から4%であることが好ましく、2%から4%であることがより好ましく、2%から3.4%であることがさらに好ましく、2%から3%であることが特に好ましい。
凹み量=〔(M−m)/m〕×100(%) (I)
ここで、上記式(I)中、mは、図3Bで示されるように、前記凹み領域の凹んだ部分の前記第1の光学層の層厚みの最も小さい値を表し、Mは、図3Aで示されるように、前記凹み領域が始まる手前の前記第1の光学層の層厚みの最も大きい値を表す。尚、図3A及び図3Bに、透明基材4aの下にさらにハードコート層4bが設けられている場合は、上記式(I)中、M及びmの値にハードコート層の厚みも加えて凹みの計算を行うこととする。
凹み量が4%より大きい場合、ロールに巻き取った巻姿が円筒状から多角柱状となり、横段など別のモード不良が発生することもある。
上記凹み量は、光学体の幅手方向における断面をミクロトーム等で加工し、SEMまたは光学顕微鏡によって観察し、光学層の層厚みを画像ソフトにより計測し、上記式(I)に値を代入することにより求めることができる。
−Dent amount−
As the degree of dent in the dent area, the dent amount calculated by the following formula (I) is 4% or less. Further, the dent amount is preferably 1% to 4%, more preferably 2% to 4%, further preferably 2% to 3.4%, and 2% to 3%. It is particularly preferred.
Depression amount = [(M−m) / m] × 100 (%) (I)
Here, in the above formula (I), m represents the smallest value of the layer thickness of the first optical layer in the recessed portion of the recessed region, as shown in FIG. 3B, and M represents the value in FIG. 3A. As shown by the above, it represents the largest value of the layer thickness of the first optical layer just before the indented region starts. 3A and 3B, when the hard coat layer 4b is further provided under the transparent substrate 4a, the thickness of the hard coat layer is added to the values of M and m in the above formula (I). The dent will be calculated.
When the dent amount is larger than 4%, the winding form wound on the roll is changed from a cylindrical shape to a polygonal column shape, and another mode failure such as a horizontal step may occur.
The dent amount is obtained by processing a cross section of the optical body in the width direction with a microtome, observing with a SEM or an optical microscope, measuring the layer thickness of the optical layer with image software, and substituting the value into the above formula (I) Can be obtained.

−本発明の光学体における幅手方向全体の層厚み分布−
本発明の光学体の幅手方向における全体の層厚み分布は、7%以下であることが好ましく、5%以下であることがより好ましい。
ここで、前記全体の層厚み分布とは、ナーリング部と凹み領域を除いた時の、第1の光学層の層厚みの最大膜厚から最小膜厚を引いた値を求め、その値の該最小膜厚に対する割合をいい、下記式(II)で表される。
全体の層厚み分布=
〔(TMAX−tmin)/tmin〕×100(%) (II)
上記式(II)中、TMAXは、前記ナーリング部と前記凹み領域を除いた時の、第1の光学層の層厚みの最大膜厚を表し、tminは、前記ナーリング部と前記凹み領域を除いた時の、第1の光学層の層厚みの最小膜厚を表す。
前記TMAX、及び前記tminは、図6B中のTMAX、及びtmin部分に相当しており、図5中(i)部分の長さを示している。
全体の層厚み分布が、7%より大きいと、凹みの両側に弱いゲージバンドが発生する場合がある。但し、この場合、目線の高さではなく、床付近や天井付近にこの光学体を貼り使用するなら、使用可能である。
-Layer thickness distribution in the entire width direction in the optical body of the present invention-
The total layer thickness distribution in the width direction of the optical body of the present invention is preferably 7% or less, and more preferably 5% or less.
Here, the total layer thickness distribution is a value obtained by subtracting the minimum film thickness from the maximum film thickness of the first optical layer when the knurling portion and the recessed region are excluded, and The ratio to the minimum film thickness is expressed by the following formula (II).
Overall layer thickness distribution =
[(TMAX-tmin) / tmin] × 100 (%) (II)
In the above formula (II), TMAX represents the maximum film thickness of the first optical layer when the knurling part and the recessed area are excluded, and tmin excludes the knurling part and the recessed area. Represents the minimum thickness of the first optical layer.
The TMAX and the tmin correspond to the TMAX and tmin portions in FIG. 6B and indicate the length of the portion (i) in FIG.
If the overall layer thickness distribution is greater than 7%, weak gauge bands may occur on both sides of the recess. However, in this case, the optical body can be used if it is used in the vicinity of the floor or ceiling instead of the height of the line of sight.

<<反射層>>
前記反射層は、少なくとも金属層を有し、好ましくは高屈折率層を有し、さらに必要に応じて、その他の層を有する。
前記反射層は、前記第1の光学層の凸形状上に形成される。
前記反射層は、少なくとも赤外光を含んだ光を反射する。
前記反射層の層厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて選択することができるが、20μm以下が好ましく、5μm以下がより好ましく、1μm以下が特に好ましい。
<< Reflection layer >>
The reflective layer includes at least a metal layer, preferably a high refractive index layer, and further includes other layers as necessary.
The reflective layer is formed on the convex shape of the first optical layer.
The reflective layer reflects light containing at least infrared light.
There is no restriction | limiting in particular as layer thickness of the said reflection layer, Although it can select according to the objective, 20 micrometers or less are preferable, 5 micrometers or less are more preferable, and 1 micrometer or less are especially preferable.

−金属層−
前記金属層の材質としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、金属単体、合金などが挙げられる。
-Metal layer-
There is no restriction | limiting in particular as a material of the said metal layer, According to the objective, it can select suitably, For example, a metal simple substance, an alloy, etc. are mentioned.

<<第2の光学層>>
前記第2の光学層は、例えば、前記第1の光学層の凸形状を埋め合わせるような凹形状を有している。
前記第2の光学層は、透過写像鮮明度や全光線透過率を向上するとともに、前記反射層を保護するための層である。
前記第2の光学層6は、図1で示すように、包埋層5と透明基材5aから形成されていることが好ましい。
前記包埋層5は、前記微細な凹凸形状を包埋するための樹脂層であり、該包埋層5を構成する包埋樹脂としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリカーカーボネート等の熱可塑性樹脂、アクリル等の活性エネルギー線硬化性樹脂などの樹脂が挙げられる。
前記透明基材5aは、上述の透明基材4aと同様のものが使用できる。
前記第2の光学層は、光学体や窓材などに意匠性を付与する観点から、可視光に対する透明性を阻害しない範囲で、可視領域における特定の波長の光を吸収する特性を有していてもよい。
意匠性の付与、即ち可視領域における特定の波長の光を吸収する特性は、例えば、前記第2の光学層に顔料を含有させることにより行うことができる。
<< second optical layer >>
The second optical layer has, for example, a concave shape that fills the convex shape of the first optical layer.
The second optical layer is a layer for improving the transmission map definition and the total light transmittance and protecting the reflection layer.
As shown in FIG. 1, the second optical layer 6 is preferably formed of an embedding layer 5 and a transparent substrate 5a.
The embedding layer 5 is a resin layer for embedding the fine concavo-convex shape, and the embedding resin constituting the embedding layer 5 is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose. Examples thereof include resins such as thermoplastic resins such as polycarbonate and active energy ray-curable resins such as acrylic.
The transparent substrate 5a can be the same as the transparent substrate 4a described above.
The second optical layer has a characteristic of absorbing light of a specific wavelength in the visible region within a range not impairing transparency to visible light from the viewpoint of imparting design properties to an optical body or a window material. May be.
Design characteristics, that is, the property of absorbing light having a specific wavelength in the visible region can be achieved, for example, by incorporating a pigment into the second optical layer.

<<その他の層>>
前記その他の層として、粘着層や剥離層等を設けてもよい。
<< Other layers >>
An adhesive layer, a release layer, or the like may be provided as the other layer.

<光学体の構成の他の態様>
本発明の光学体は、図7AからCで示す構成であってもよい。図7Aで示すように、前記基材部として、PETなどの透明基材4aの他に撥水性のハードコート層4bを設けてもよい。また、図7Bで示すように、反射層の上に包埋樹脂からなる包埋層のみ形成した光学体としてもよい。さらにまた、図7Cで示すように、第2の光学層の上にさらに粘着層7や剥離層8などのその他の層を加えた構成の光学体であってもよい。
本発明においては、第1の光学層の層厚み分布に特徴を有しているため、光学層の層構成には特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、特開2015−99397号公報に記載の熱線再帰性反射フィルムの光学体の構成を適用することができる。
<Another aspect of configuration of optical body>
The optical body of the present invention may have a configuration shown in FIGS. 7A to 7C. As shown in FIG. 7A, a water-repellent hard coat layer 4b may be provided as the base portion in addition to the transparent base material 4a such as PET. Further, as shown in FIG. 7B, an optical body in which only an embedding layer made of an embedding resin is formed on the reflection layer may be used. Furthermore, as shown in FIG. 7C, an optical body having a configuration in which other layers such as an adhesive layer 7 and a release layer 8 are further added on the second optical layer may be used.
In the present invention, since the layer thickness distribution of the first optical layer is characteristic, the layer structure of the optical layer is not particularly limited and can be appropriately selected according to the purpose. The structure of the optical body of the heat ray retroreflective film described in JP-A-2015-99397 can be applied.

<光学体の製造方法>
本発明の光学体の製造方法は、転写層形成工程と、反射層形成工程とを少なくとも含み、更に必要に応じてその他の工程を含む。
<Optical body manufacturing method>
The method for producing an optical body of the present invention includes at least a transfer layer forming step and a reflective layer forming step, and further includes other steps as necessary.

<転写層形成工程>
前記転写層形成工程においては、凹形状を有する転写用原盤を用いて、凸形状を有する転写層を形成する工程であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
前記転写層形成工程において、前記凹形状を有する転写用原盤(以下、「金型」ともいう)を用いて、前記凸形状を有する前記転写層を形成する際に、前記凹形状を有する転写用原盤の表面粗さを制御することにより、前記凸形状の粗さを制御できる。
<Transfer layer forming step>
The transfer layer forming step is not particularly limited as long as it is a step of forming a transfer layer having a convex shape using a transfer master having a concave shape, and can be appropriately selected according to the purpose.
In the transfer layer forming step, when the transfer layer having the convex shape is formed using the transfer master having the concave shape (hereinafter also referred to as “mold”), the transfer layer having the concave shape is formed. By controlling the surface roughness of the master, the roughness of the convex shape can be controlled.

前記凹形状を有する転写用原盤の表面粗さを制御する方法としては、例えば、SUSロール等の原盤基材に微細孔のない又は微細孔の小さい均質なニッケルリンめっきを施し、その微細孔のない又は微細孔の小さい均質なニッケルリンめっき面を超精密切削する方法、摩耗の異なる任意のバイト(切削工具)を用いてめっきされたSUSロール等の原盤基材の切削加工を行う方法などが挙げられる。
本発明においては、前記転写層形成工程において、前記転写用原盤の温度は、前記転写層を構成する転写樹脂の温度より同等またはやや低く調整することが好ましい。より具体的には、転写用原盤の温度は、転写樹脂の温度より0℃から7℃低く設定することが好ましい。
As a method for controlling the surface roughness of the transfer master having the concave shape, for example, a uniform nickel phosphorus plating having no micropores or small micropores is applied to a master substrate such as a SUS roll, and the micropores There is a method of ultra-precise cutting of a uniform nickel-phosphorus plated surface with no or small pores, a method of cutting a base material such as a SUS roll plated with an arbitrary cutting tool (cutting tool) with different wear, etc. Can be mentioned.
In the present invention, in the transfer layer forming step, the temperature of the transfer master is preferably adjusted to be equal to or slightly lower than the temperature of the transfer resin constituting the transfer layer. More specifically, the temperature of the transfer master is preferably set to be 0 ° C. to 7 ° C. lower than the temperature of the transfer resin.

<反射層形成工程>
前記反射層形成工程としては、前記第1の光学層上に、反射層を形成する工程であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
<Reflective layer forming step>
The reflective layer forming step is not particularly limited as long as it is a step of forming a reflective layer on the first optical layer, and can be appropriately selected according to the purpose.

<第2の光学層形成工程>
前記第2の光学層形成工程としては、前記反射層上に第2の光学層を形成する工程であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記反射層上に、活性エネルギー線硬化性樹脂を塗布し、硬化する工程などが挙げられる。
<Second optical layer forming step>
The second optical layer forming step is not particularly limited as long as it is a step of forming a second optical layer on the reflective layer, and can be appropriately selected according to the purpose. For example, the reflective layer The process of apply | coating and hardening | curing active energy ray curable resin on the top is mentioned.

前記光学体の製造方法の他の一例を説明する。
SUSロールなどの原盤基材上に微細孔のない又は微細孔の小さい均質なニッケルリンめっきを成膜し、めっき面をバイト(切削工具)を用いた切削加工、超精密切削加工、レーザー加工などより切削し、構造体と同一の凸形状、又はその反転形状を有する転写用原盤(以下、「金型」ともいう)を準備する。
Another example of the method for manufacturing the optical body will be described.
A uniform nickel-phosphorous plating with no micropores or small micropores is formed on a master substrate such as a SUS roll, and the plated surface is cut using a tool (cutting tool), ultra-precise cutting, laser processing, etc. Cutting is further performed to prepare a master for transfer (hereinafter also referred to as “mold”) having the same convex shape as the structure or its inverted shape.

図8Aで示すようにハードコート層4bの上に透明基材4aが積層された基材部上に凹凸形状を有する転写樹脂層を積層するには、上記転写用原盤を用い、転写樹脂層に以下の転写層形成工程を施す。   As shown in FIG. 8A, in order to laminate a transfer resin layer having a concavo-convex shape on a base material portion in which a transparent base material 4a is laminated on a hard coat layer 4b, the transfer master layer is used to form a transfer resin layer. The following transfer layer forming step is performed.

例えば、溶融押し出し法、転写法などを用いて、前記金型の凸形状をフィルム状又はシート状の樹脂材料に転写する。前記転写法としては、型に活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を流し込み、活性エネルギー線を照射して硬化させる方法や、樹脂に熱や圧力を印加し、形状を転写する方法などが挙げられる。例えば、樹脂供給部から透明基材または転写用原盤へ転写樹脂を供給する。透明基材4の上に転写樹脂を塗布し、それに対して転写用原盤を密着させた状態で樹脂を硬化させ凹凸形状の転写層を形成させても、転写用原盤に転写樹脂を塗布し樹脂を硬化させ凹凸形状の転写層を形成した後、透明基板4aと貼り合わせても、いずれの態様であっても構わない。但し、転写用原盤へ供給した方が品質面からより好ましい。上述のようにして、図8Bに示すように、第1の光学層2(転写樹脂層4、透明基材4a、ハードコート層4b含む)を得る。   For example, the convex shape of the mold is transferred to a film-like or sheet-like resin material using a melt extrusion method, a transfer method, or the like. Examples of the transfer method include a method of pouring an active energy ray-curable resin composition into a mold and irradiating and curing the active energy ray, and a method of transferring a shape by applying heat and pressure to the resin. For example, the transfer resin is supplied from the resin supply unit to the transparent substrate or the transfer master. Even if the transfer resin is applied on the transparent substrate 4 and the transfer master is in close contact with the transfer resin, the resin is cured to form a concavo-convex transfer layer. After the is cured to form a concavo-convex shaped transfer layer, it may be bonded to the transparent substrate 4a in any manner. However, it is more preferable in terms of quality to supply it to the transfer master. As described above, as shown in FIG. 8B, the first optical layer 2 (including the transfer resin layer 4, the transparent base material 4a, and the hard coat layer 4b) is obtained.

次に、図8Cに示すように、その転写樹脂層4の面上に反射層3を形成する。反射層3の金属層の形成方法としては、例えば、スパッタリング法、蒸着法、CVD(Chemical Vapor Deposition)法、ディップコーティング法、ダイコーティング法、ウェットコーティング法、スプレーコーティング法などが挙げられる。   Next, as shown in FIG. 8C, the reflective layer 3 is formed on the surface of the transfer resin layer 4. Examples of the method for forming the metal layer of the reflective layer 3 include a sputtering method, a vapor deposition method, a CVD (Chemical Vapor Deposition) method, a dip coating method, a die coating method, a wet coating method, and a spray coating method.

次に、図8Dに示すように、反射層3の上部に透明基材5aを配してニップ部を形成する。
活性エネルギー線硬化性樹脂である包埋樹脂を前記ニップ部に供給する。
次に、透明基材5a上から、UV光を包埋樹脂に照射して樹脂を硬化させ、包埋層5を形成する。
Next, as shown in FIG. 8D, a transparent base material 5a is disposed on the upper part of the reflective layer 3 to form a nip portion.
An embedded resin that is an active energy ray-curable resin is supplied to the nip portion.
Next, the embedded resin is cured by irradiating the embedding resin with UV light from the transparent substrate 5 a to form the embedding layer 5.

このような包埋層形成工程を経ることにより、図8Dに示すように、表面が平滑な第2の光学層5が反射層3上に形成される。
さらに、透明基材5aの上に粘着層7や剥離層8の各層を粘着させて図8Eの光学体を形成してもよい。
Through such an embedded layer forming step, the second optical layer 5 having a smooth surface is formed on the reflective layer 3 as shown in FIG. 8D.
Furthermore, the optical body of FIG. 8E may be formed by adhering each layer of the adhesive layer 7 and the release layer 8 on the transparent substrate 5a.

前記光学体の製造方法の他の一例を説明する。
SUSロールなどの原盤基材上に微細孔のない又は微細孔の小さい均質なニッケルリンめっきを成膜し、めっき面をバイト(切削工具)を用いた切削加工、超精密切削加工、レーザー加工などより切削し、構造体と同一の凸形状、又はその反転形状を有する金型を準備する。
Another example of the method for manufacturing the optical body will be described.
A uniform nickel-phosphorous plating with no micropores or small micropores is formed on a master substrate such as a SUS roll, and the plated surface is cut using a tool (cutting tool), ultra-precise cutting, laser processing, etc. Cutting is further performed to prepare a mold having the same convex shape as that of the structure or an inverted shape thereof.

次に、例えば、溶融押し出し法、転写法などを用いて、前記金型の凸形状をフィルム状又はシート状の樹脂材料に転写する。前記転写法としては、型に活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を流し込み、活性エネルギー線を照射して硬化させる方法や、樹脂に熱や圧力を印加し、形状を転写する方法などが挙げられる。これにより、主面に微細凹凸形状を有する第1の光学層が形成される。   Next, the convex shape of the mold is transferred to a film-like or sheet-like resin material using, for example, a melt extrusion method or a transfer method. Examples of the transfer method include a method of pouring an active energy ray-curable resin composition into a mold and irradiating and curing the active energy ray, and a method of transferring a shape by applying heat and pressure to the resin. Thereby, the 1st optical layer which has a fine uneven | corrugated shape in a main surface is formed.

図9に示す製造装置を用いて、以下のようにして反射層付き第1の光学層を作製する。
図9に示す製造装置は、スパッタリング用の製造装置であり、巻き出しロール101と、支持ロール102と、巻き取りロール103と、スパッタターゲット104とを有する。
長尺の第1の光学層2を、巻き出しロール101に密着させながら支持ロール102に送出し、支持ロール102に密着させた状態で、スパッタターゲット104を用いてスパッタを行い第1の光学層2の凸形状(構造体)上に反射層を形成する。反射層が形成された第1の光学層2を、支持ロール102を介して巻き取りロール103に搬送し、巻き取る。
Using the manufacturing apparatus shown in FIG. 9, a first optical layer with a reflective layer is produced as follows.
The manufacturing apparatus shown in FIG. 9 is a manufacturing apparatus for sputtering, and includes an unwinding roll 101, a support roll 102, a winding roll 103, and a sputter target 104.
The first optical layer 2 is sputtered using the sputter target 104 in a state in which the long first optical layer 2 is sent to the support roll 102 while being in close contact with the unwinding roll 101 and is in close contact with the support roll 102. A reflective layer is formed on the second convex shape (structure). The first optical layer 2 on which the reflective layer is formed is conveyed to the take-up roll 103 via the support roll 102 and taken up.

続いて、図10に示す製造装置を用いて、以下のようにして光学体1を作製する。
まず、この製造装置の構成について説明する。この製造装置は、巻き出しロール51と、巻き出しロール52と、巻き取りロール53と、ラミネートロール54、55と、ガイドロール56〜60と、塗布装置61と、照射装置62とを備える。
Then, the optical body 1 is produced as follows using the manufacturing apparatus shown in FIG.
First, the configuration of this manufacturing apparatus will be described. This manufacturing apparatus includes an unwinding roll 51, an unwinding roll 52, a winding roll 53, laminate rolls 54 and 55, guide rolls 56 to 60, a coating apparatus 61, and an irradiation apparatus 62.

巻き出しロール51及び巻き出しロール52にはそれぞれ、帯状の基材5a及び帯状の反射層3付き第1の光学層2(この反射層付き第1の光学層をまとめて符号9で表す)がロール状に巻かれ、ガイドロール56、57などにより基材5a及び反射層付き第1の光学層9を連続的に送出できるように配置されている。図中の矢印は、基材5a及び反射層付き第1の光学層9が搬送される方向を示す。反射層付き第1の光学層9は、凸形状(構造体)上に反射層3が形成された第1の光学層2である。   Each of the unwinding roll 51 and the unwinding roll 52 has a belt-like base material 5a and a first optical layer 2 with a belt-like reflective layer 3 (the first optical layer with the reflective layer is collectively denoted by reference numeral 9). It is wound in a roll shape and is arranged so that the base 5a and the first optical layer 9 with the reflective layer can be continuously sent out by the guide rolls 56, 57 and the like. The arrow in the figure indicates the direction in which the substrate 5a and the first optical layer 9 with the reflective layer are conveyed. The first optical layer 9 with a reflective layer is the first optical layer 2 in which the reflective layer 3 is formed on a convex shape (structure).

巻き取りロール53は、この製造装置により作製された帯状の光学体1を巻き取りできるように配置されている。ラミネートロール54、55は、巻き出しロール52から送出された反射層付き第1の光学層9と、巻き出しロール51から送出された基材5aとをニップできるように配置されている。ガイドロール56〜60は、帯状の反射層付き第1の光学層9、帯状の基材5a、及び帯状の光学体1を搬送できるように、この製造装置内の搬送路に配置されている。ラミネートロール54、55及びガイドロール56〜60の材質としては、特に限定されるものではなく、所望とするロール特性に応じてステンレスなどの金属、ゴム、シリコーンなどを適宜選択して用いることができる。   The take-up roll 53 is arranged so that the belt-like optical body 1 produced by this manufacturing apparatus can be taken up. The laminating rolls 54 and 55 are arranged so that the first optical layer 9 with a reflective layer fed from the unwinding roll 52 and the base material 5 a sent from the unwinding roll 51 can be nipped. The guide rolls 56 to 60 are arranged on a conveyance path in the manufacturing apparatus so that the first optical layer 9 with a belt-like reflection layer, the belt-like base material 5a, and the belt-like optical body 1 can be carried. The material of the laminate rolls 54 and 55 and the guide rolls 56 to 60 is not particularly limited, and a metal such as stainless steel, rubber, silicone, or the like can be appropriately selected and used according to desired roll characteristics. .

塗布装置61は、例えば、コーターなどの塗布手段を備える装置を用いることができる。コーターとしては、例えば、塗布する樹脂組成物の物性などを考慮して、グラビア、ワイヤバー、ダイなどのコーターを適宜使用することができる。照射装置62は、例えば、電子線、紫外線、可視光線、ガンマ線などの活性エネルギー線を照射する照射装置である。   As the coating device 61, for example, a device including coating means such as a coater can be used. As the coater, for example, a coater such as a gravure, a wire bar, or a die can be appropriately used in consideration of the physical properties of the resin composition to be applied. The irradiation device 62 is an irradiation device that irradiates active energy rays such as electron beams, ultraviolet rays, visible rays, and gamma rays.

続いて、この製造装置を用いた光学体の製造方法について説明する。
まず、巻き出しロール51から基材5aを送り出す。送り出された基材5aは、ガイドロール56を経て塗布装置61の下を通過する。次に、塗布装置61の下を通過する基材5a上に、塗布装置61により活性エネルギー線硬化性樹脂を塗布する。次に、活性エネルギー線硬化性樹脂が塗布された基材5aをラミネートロールに向けて搬送する。一方、巻き出しロール52から反射層付き第1の光学層9を送り出し、ガイドロール57を経てラミネートロール54、55に向けて搬送する。
Then, the manufacturing method of the optical body using this manufacturing apparatus is demonstrated.
First, the base material 5 a is sent out from the unwinding roll 51. The fed base material 5 a passes under the coating device 61 through the guide roll 56. Next, the active energy ray-curable resin is applied by the coating device 61 onto the base material 5 a that passes under the coating device 61. Next, the base material 5a coated with the active energy ray curable resin is conveyed toward the laminate roll. On the other hand, the first optical layer 9 with a reflective layer is fed out from the unwinding roll 52 and conveyed toward the laminating rolls 54 and 55 through the guide roll 57.

次に、基材5aと反射層付き第1の光学層9との間に気泡が入らないように、搬入された基材5aと反射層付き第1の光学層9とをラミネートロール54、55により挟み合わせ、基材5aに対して反射層付き第1の光学層9をラミネートする。次に、反射層付き第1の光学層9によりラミネートされた基材5aを、ラミネートロール55の外周面に沿わせながら搬送するとともに、照射装置62により基材5a側から活性エネルギー線硬化性樹脂に活性エネルギー線を照射し、活性エネルギー線硬化性樹脂を硬化させる。これにより、基材5aと反射層付き第1の光学層9とが活性エネルギー線硬化性樹脂の硬化物である樹脂層(以下、樹脂層5とする)を介して貼り合わされ、目的とする光学体1が作製される。次に、作製された帯状の光学体1をガイドロール58、59、60を介して巻き取りロール53に搬送し、光学体1を巻き取りロール53によりを巻き取る。   Next, the carried-in base material 5a and the 1st optical layer 9 with a reflection layer are laminated roll 54, 55 so that a bubble may not enter between the base material 5a and the 1st optical layer 9 with a reflection layer. And the first optical layer 9 with the reflective layer is laminated on the base material 5a. Next, while conveying the base material 5a laminated | stacked by the 1st optical layer 9 with a reflection layer along the outer peripheral surface of the lamination roll 55, active energy ray curable resin is used from the base material 5a side by the irradiation apparatus 62. FIG. An active energy ray is irradiated to harden the active energy ray-curable resin. As a result, the base 5a and the first optical layer 9 with a reflective layer are bonded together via a resin layer (hereinafter referred to as the resin layer 5) that is a cured product of the active energy ray-curable resin, and the target optical A body 1 is produced. Next, the produced belt-like optical body 1 is conveyed to the take-up roll 53 through the guide rolls 58, 59, 60, and the optical body 1 is taken up by the take-up roll 53.

また、さらに前記光学体の製造方法の他の一例を説明する。
図8Cで示されるように、反射層形成工程を施し、反射層3を第1の光学層2上に形成した後、図11Aで示されるように、塗布法により反射層3上に包埋樹脂からなる包埋層5を形成してもよい。続いて、包埋層5上に粘着層7や剥離層8の各層を粘着させて図11Bの光学体を形成してもよい。
Furthermore, another example of the method for manufacturing the optical body will be described.
As shown in FIG. 8C, after the reflective layer forming step is performed and the reflective layer 3 is formed on the first optical layer 2, an embedding resin is formed on the reflective layer 3 by a coating method as shown in FIG. 11A. You may form the embedding layer 5 which consists of. Subsequently, the adhesive layer 7 and the release layer 8 may be adhered to the embedding layer 5 to form the optical body of FIG. 11B.

<<その他の加工工程>>
所望の光学体を作製した後、図12で示すように、スリットを入れる加工工程をさらに加えてもよい。製造時に転写樹脂を供給する供給位置に相当する箇所やナーリング部を除くようスリットを入れることにより、よりフィルム形状が良好な領域のみ使用できる短冊状のフィルム形状の光学体を作製することができる。
本発明の長尺の光学体に対し、スリット・打ち抜き工程を経ることにより、規格の寸法に切りそろえた光学体を得ることができる。
本発明の光学体の製造方法の好ましい態様としては、前記転写層形成工程、及び前記反射層形成工程に加え、さらに前記包埋層形成工程、及び前記スリット・打ち抜き工程を有することである。
<< Other processing steps >>
After producing a desired optical body, as shown in FIG. 12, a processing step for inserting a slit may be further added. A slit-shaped optical body that can be used only in a region having a better film shape can be manufactured by inserting a slit so as to exclude a portion corresponding to a supply position for supplying the transfer resin at the time of manufacture and a knurling portion.
By subjecting the long optical body of the present invention to a slit / punching process, an optical body cut to a standard size can be obtained.
In a preferred embodiment of the method for producing an optical body of the present invention, in addition to the transfer layer forming step and the reflective layer forming step, the embedded layer forming step and the slit / punching step are further included.

<光学体の特性>
光学体の転写工程後におけるロール巻姿を評価する1つの手法として、ロール硬度の測定が挙げられる。
本発明の光学体において、転写工程後のフィルムをロールに巻き取り、そのロールフィルムを接触式ロール硬度計にてロール硬度分布を測定した場合、ロール硬度差(ロール硬度の最大値と最小値の差)が250g以下、より好ましくは200g以下、特に好ましくは150g以下を示すものであるとよい。
<Characteristics of optical body>
One method for evaluating the roll winding appearance after the optical body transfer step is to measure roll hardness.
In the optical body of the present invention, when the film after the transfer process is wound on a roll and the roll film is measured for the roll hardness distribution with a contact-type roll hardness meter, the difference in roll hardness (the maximum and minimum roll hardness values) The difference) is 250 g or less, more preferably 200 g or less, and particularly preferably 150 g or less.

<光学体の使用態様>
本発明の長尺形状の光学体は、スリット・打ち抜き工程等を経て、所定の寸法に切り取られシート上で(枚葉にて)使用されてもよい。
<Usage of optical body>
The elongated optical body of the present invention may be cut out to a predetermined size through a slit / punching process and used on a sheet (in a sheet).

以下、本発明の実施例を説明するが、本発明は、これらの実施例に何ら限定されるものではない。
また、以下の各実施例・比較例において、転写層形成工程の際、転写樹脂を供給する樹脂供給位置としては、微細な凹凸形状が形成された領域の幅手方向に対し中央の位置(一箇所供給)とした。
Examples of the present invention will be described below, but the present invention is not limited to these examples.
Further, in each of the following examples and comparative examples, in the transfer layer forming step, the resin supply position for supplying the transfer resin is a central position with respect to the width direction of the region where the fine uneven shape is formed (one Supply).

(実施例1)
微細孔のない均質なニッケルリンめっきをSUSロール上に成膜し、めっき面を超精密切削することによって、転写用原盤を得た。前記転写用原盤を洗浄後、熱硬化性樹脂を用いて、形状転写を行い微細な凹凸形状を有する転写層を形成した。50μm厚の透明基材(PET)上に係る転写層を形成し、微細な凹凸形状を有する第1の光学層を形成した。
尚、上記形状転写を行う転写層形成工程において、第1の光学層の全体の層厚み分布が、7%、中央部に形成された凹み領域の凹み量が2%となるように、転写樹脂の温度を51℃に設定し、転写用原盤の温度を51℃に設定した。尚、上記転写樹脂の温度は、成形性、反応性、脱泡性等を考慮して設定した。
Example 1
A uniform nickel-phosphorous plating without micropores was formed on a SUS roll, and the plated surface was ultra-precisely cut to obtain a master for transfer. After the transfer master was washed, shape transfer was performed using a thermosetting resin to form a transfer layer having a fine uneven shape. A transfer layer was formed on a transparent substrate (PET) having a thickness of 50 μm, and a first optical layer having a fine uneven shape was formed.
In the transfer layer forming step for transferring the shape, the transfer resin is formed so that the entire thickness distribution of the first optical layer is 7%, and the amount of the recessed area formed in the central portion is 2%. Was set to 51 ° C., and the temperature of the transfer master was set to 51 ° C. The temperature of the transfer resin was set in consideration of moldability, reactivity, defoaming property and the like.

得られた第1の光学層の層厚みは、図15のR地点で76.0μm、Q地点で74.5μm、T地点で71.0μm、U地点で73.0μmであった。
実施例1の第1の光学層の各構成部分の層厚みは、以下のとおりである。
図15中R地点における値:図16中、(i)76.0μm、(ii)14μm、(iii)8μm、(iv−1)PET基材50μm、(iv−2)HC層4μm、(vi)30μmである。
図15中Q地点における値:図16中、(i)74.5μm、(ii)14μm、(iii)6.5μm、(iv−1)PET基材50μm、(iv−2)HC層4μm、(vi)30μmである。
実施例1の光学体における凹み量は、式(I)より〔(76−74.5)/74.5〕×100=2%である。
また、実施例1の光学体における全体の層厚み分布は、式(II)より〔(76−71)/71〕×100=7%である。
The thickness of the obtained first optical layer was 76.0 μm at the point R in FIG. 15, 74.5 μm at the point Q, 71.0 μm at the point T, and 73.0 μm at the point U.
The layer thickness of each component of the first optical layer of Example 1 is as follows.
Values at point R in FIG. 15: (i) 76.0 μm, (ii) 14 μm, (iii) 8 μm, (iv-1) PET substrate 50 μm, (iv-2) HC layer 4 μm, (vi) ) 30 μm.
Values at point Q in FIG. 15: In FIG. 16, (i) 74.5 μm, (ii) 14 μm, (iii) 6.5 μm, (iv-1) PET substrate 50 μm, (iv-2) HC layer 4 μm, (Vi) 30 μm.
The dent amount in the optical body of Example 1 is [(76-74.5) /74.5] × 100 = 2% from the formula (I).
Further, the overall layer thickness distribution in the optical body of Example 1 is [(76−71) / 71] × 100 = 7% from the formula (II).

次に、第1の光学層の凸形状が付与された面上に、真空スパッタ法により、構造A〔GZO(ガリウムドープ酸化亜鉛)/AgNdCu/GZO/AgNdCu/GZO〕をこの順で成膜して、傾斜面に垂直な方向にGZO/AgNdCu/GZO/AgNdCu/GZOが交互積層されるようにし、反射層を形成した。なお、銀合金層であるAgNdCu層(金属層)の成膜には、Ag/Nd/Cu=99.0at%/0.4at%/0.6at%の組成を含有する合金ターゲットを使用した。GZO層(高屈折率層)の成膜には、Ga/ZnO=1at%/99at%の組成を有するセラミックスターゲットを使用した。高屈折率層は、ロールを用いて、基材であるPETフィルムの成膜面の背面側を前記ロールで支持した状態で成膜した。
以上により、反射層付き第1の光学層を得た。
次に、反射層を紫外線硬化性樹脂で包埋し、光学体を得た。
包埋層の層厚みは、20μmであった。包埋層形成後の光学体フィルムをロールに巻き取った(製品態様のロールフィルム)。
Next, the structure A [GZO (gallium-doped zinc oxide) / AgNdCu / GZO / AgNdCu / GZO] is formed in this order on the surface of the first optical layer having the convex shape by vacuum sputtering. Thus, GZO / AgNdCu / GZO / AgNdCu / GZO were alternately laminated in a direction perpendicular to the inclined surface to form a reflective layer. In addition, the alloy target containing the composition of Ag / Nd / Cu = 99.0 at% / 0.4 at% / 0.6 at% was used for film-forming of the AgNdCu layer (metal layer) which is a silver alloy layer. A ceramic target having a composition of Ga 2 O 3 / ZnO = 1 at% / 99 at% was used for forming the GZO layer (high refractive index layer). The high refractive index layer was formed using a roll in a state where the back side of the film formation surface of the PET film as a substrate was supported by the roll.
Thus, a first optical layer with a reflective layer was obtained.
Next, the reflective layer was embedded with an ultraviolet curable resin to obtain an optical body.
The layer thickness of the embedded layer was 20 μm. The optical body film after embedding layer formation was wound up on the roll (roll film of a product aspect).

上記製造法により転写工程後に得られる本発明の光学体フィルムをロールに巻き取り、この巻き取ったロールフィルム(図13参照)に対し、接触式ロール硬度計(TAPIO Technologies社製)にてロール硬度分布を測定した。
[評価基準]
○:ロール硬度差が200g以下
△:ロール硬度差が200gより大きく250g以下
×:ロール硬度差が250gより大きい
The optical film of the present invention obtained after the transfer step by the above production method is wound on a roll, and the roll film is wound with a contact-type roll hardness meter (manufactured by TAPIO Technologies) on the rolled film (see FIG. 13). Distribution was measured.
[Evaluation criteria]
○: Roll hardness difference is 200 g or less. Δ: Roll hardness difference is larger than 200 g and 250 g or less. X: Roll hardness difference is larger than 250 g.

また、上記製品態様のロールフィルムからフィルムを剥がし、基材全幅を100cmの長さのサイズに切り取った。このシート状の光学体を一般に使用される態様で目視評価した。図14中、符号(a)は格子状背景、符号(b)は製品(本発明のシート状光学体)を表す。図14に示すように、人から90cm離した場所にこの光学体を(b)の位置に配置し、この光学体から3m離した(a)の場所に格子状の背景を置き、明るい部屋にて、人による透過観察を行い、格子状背景の歪みを確認した。前記格子状背景は、白背景で格子は黒印刷のものを使用し、図14に示される格子のピッチは50mm、格子の太さは5mmとした。
[評価基準]
○:不良位置を指摘され、注視しないとわからないレベル
△:不良位置を指摘されなくても、注視するとわかるレベル
×:注視しなくてもわかるレベル
実施例1の評価結果を下記表1に記載した。
Moreover, the film was peeled off from the roll film of the said product aspect, and the base-material whole width was cut off to the size of the length of 100 cm. This sheet-like optical body was visually evaluated in a manner generally used. In FIG. 14, symbol (a) represents a lattice background, and symbol (b) represents a product (sheet-like optical body of the present invention). As shown in FIG. 14, this optical body is placed at the position (b) at a position 90 cm away from a person, and a grid-like background is placed at the position (a) at a distance of 3 m from this optical body, in a bright room. Then, transmission observation by humans was performed, and the distortion of the lattice background was confirmed. The grid background used was a white background and the grid was black printed. The grid pitch shown in FIG. 14 was 50 mm and the grid thickness was 5 mm.
[Evaluation criteria]
◯: Level at which the defective position is pointed out and is not known unless it is watched △: Level that can be understood by paying attention even if the defective position is not pointed out ×: Level that can be understood without staring at Table 1 shows the evaluation results of Example 1 .

(実施例2から実施例6)
実施例1に対し、透明基材の厚み、凹み量、全体の層厚み分布を表1に示すように変えた以外は、実施例1と同様に光学体を作製し、ロールに巻き取り、フィルムロールを得た。
実施例2では、転写用原盤の温度を転写樹脂の温度より4℃低く設定し、実施例3では、7℃低く設定した。
実施例4は、転写用原盤の温度を転写樹脂の温度より4℃低く設定した。実施例5は2℃低く、実施例6は5℃低く設定した。尚、実施例4では、転写時ニップロールを円筒形のものから逆クラウン形状のものに変えて使用した。
実施例2から6の光学体に対し、実施例1と同様の評価を行い、結果を表1に示した。
(Example 2 to Example 6)
In contrast to Example 1, except that the thickness of the transparent substrate, the amount of dents, and the overall layer thickness distribution were changed as shown in Table 1, an optical body was prepared in the same manner as in Example 1, wound up on a roll, and film Got a roll.
In Example 2, the temperature of the transfer master was set 4 ° C. lower than the temperature of the transfer resin, and in Example 3, 7 ° C. was set lower.
In Example 4, the temperature of the transfer master was set 4 ° C. lower than the temperature of the transfer resin. Example 5 was set 2 ° C. lower and Example 6 was set 5 ° C. lower. In Example 4, the transfer nip roll was changed from a cylindrical one to an inverted crown shape.
Evaluations similar to Example 1 were performed on the optical bodies of Examples 2 to 6, and the results are shown in Table 1.

(比較例1から比較例3)
実施例1に対し、透明基材の厚み、凹み量、全体の層厚み分布を表1に示すように変えた以外は、実施例1と同様に光学体を作製し、ロールに巻き取り、フィルムロールを得た。
尚、比較例1では、転写用原盤の温度を転写樹脂の温度より15℃低く設定し、比較例2では、転写用原盤の温度を転写樹脂の温度より6℃高く設定し、比較例3では、転写用原盤の温度を転写樹脂の温度より10℃高く設定した。
比較例1から3の光学体に対し、実施例1と同様の評価を行い、結果を表1に示した。
(Comparative Example 1 to Comparative Example 3)
In contrast to Example 1, except that the thickness of the transparent substrate, the amount of dents, and the overall layer thickness distribution were changed as shown in Table 1, an optical body was prepared in the same manner as in Example 1, wound up on a roll, and film Got a roll.
In Comparative Example 1, the temperature of the transfer master is set to be 15 ° C. lower than the temperature of the transfer resin. In Comparative Example 2, the temperature of the transfer master is set to be 6 ° C. higher than the temperature of the transfer resin. The temperature of the transfer master was set 10 ° C. higher than the temperature of the transfer resin.
Evaluation similar to Example 1 was performed with respect to the optical bodies of Comparative Examples 1 to 3, and the results are shown in Table 1.

(実施例1から実施例3、及び比較例2との比較)
凹み量の調整に、転写用原盤と転写樹脂の温度設定が寄与することを示すため、実施例1から実施例3、及び比較例2における転写用原盤と転写樹脂の温度条件と、その結果得られた光学体の凹み量、及び包埋加工後の巻姿(製品態様)でのフィルムロール)の外観の結果をまとめて表2に示した。
(Comparison with Examples 1 to 3 and Comparative Example 2)
In order to show that the temperature setting of the transfer master and the transfer resin contributes to the adjustment of the dent amount, the temperature conditions of the transfer master and the transfer resin in Examples 1 to 3 and Comparative Example 2 and the result obtained are shown. Table 2 summarizes the results of the appearance of the dent amount of the obtained optical body and the appearance of the film roll in the wound form (product form) after embedding.

以上、実施例1から6の結果から、本発明の光学体は、巻き取ったロールにおいて、ゲージバンドが発生せず、外観及び光学性能が良好な光学体となることが確認できた。
実施例4では、全体の層厚み分布を14%としたため、弱い歪が存在したが、製品として外観上問題となるレベルではなかった。実施例5及び6は、透明基材の厚みを厚くしたが、外観上問題は生じなかった。
比較例1で示すように、凹み領域における凹み量を4%より大きくすると、転写工程後のフィルムロールのロール硬度差は大きくなり、製品レベルでは歪が確認され、目視での外観が不合格となった。比較例2で示すように、凹み領域を形成させないと、ロール硬度差に問題はないが、製品レベルでの包埋加工後の巻姿にスジが現れ、目視での外観が不合格となった。比較例3で示すように、凹み量をマイナス(つまり凸状)とすると、転写工程後のフィルムロールのロール硬度差は大きくなり、製品レベルでは目視での外観が不合格となった。
As described above, from the results of Examples 1 to 6, it was confirmed that the optical body of the present invention was an optical body with good appearance and optical performance without generating a gauge band in the wound roll.
In Example 4, since the total layer thickness distribution was set to 14%, there was weak distortion, but this was not at a level causing a problem in appearance as a product. In Examples 5 and 6, the thickness of the transparent substrate was increased, but no problem was caused in appearance.
As shown in Comparative Example 1, when the dent amount in the dent area is larger than 4%, the difference in roll hardness of the film roll after the transfer process is increased, distortion is confirmed at the product level, and the visual appearance is rejected. became. As shown in Comparative Example 2, there is no problem in the roll hardness difference unless the dent area is formed, but streaks appear in the wound form after embedding at the product level, and the visual appearance is rejected. . As shown in Comparative Example 3, when the dent amount was negative (that is, convex), the difference in roll hardness of the film roll after the transfer process was large, and the visual appearance was rejected at the product level.

微細凹凸形状からなる光学層を有する本発明の光学体は、巻き取ったロールにおいて、ゲージバンドが発生せず、良好な外観及び光学性能維持することができることから、熱線反射光学部材として、好適に用いられる。
具体的には、透過した特定波長以外の光に対して主に透過性を有する剛体、例えば、窓材に粘着剤などを介して貼り合わせて使用される。窓材としては、高層ビルや住宅などの建築用窓材、車両用の窓材などが挙げられる。
The optical body of the present invention having an optical layer having a fine concavo-convex shape is suitable as a heat ray reflective optical member because a gauge band does not occur in a wound roll and a good appearance and optical performance can be maintained. Used.
Specifically, it is used by being bonded to a rigid body mainly having transparency with respect to light other than the transmitted specific wavelength, for example, a window material via an adhesive or the like. Examples of window materials include architectural window materials for high-rise buildings and houses, vehicle window materials, and the like.

1 光学体
2 第1の光学層
3 反射層
4 転写層
4a 透明基材
4b ハードコート層
5 包埋層
5a 透明基材
6 第2の光学層
7 粘着層
8 剥離層
9 反射層3付き第1の光学層2
51 巻き出しロール
52 巻き出しロール
53 巻き取りロール
54 ラミネートロール
55 ラミネートロール
56 ガイドロール
57 ガイドロール
58 ガイドロール
59 ガイドロール
60 ガイドロール
61 塗布装置
62 照射装置
101 巻き出しロール
102 支持ロール
103 巻き取りロール
104 スパッタターゲット
x 幅手方向
y 厚み方向
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Optical body 2 1st optical layer 3 Reflective layer 4 Transfer layer 4a Transparent base material 4b Hard coat layer 5 Embedding layer 5a Transparent base material 6 2nd optical layer 7 Adhesive layer 8 Release layer 9 1st with the reflective layer 3 Optical layer 2
DESCRIPTION OF SYMBOLS 51 Unwinding roll 52 Unwinding roll 53 Winding roll 54 Laminating roll 55 Laminating roll 56 Guide roll 57 Guide roll 58 Guide roll 59 Guide roll 60 Guide roll 61 Application apparatus 62 Irradiation apparatus 101 Unwinding roll 102 Support roll 103 Winding roll 104 Sputter target x width direction y thickness direction

Claims (8)

微細な凹凸形状の第1の光学層と、前記第1の光学層上に形成される反射層とを有する、長尺の光学体であって、
前記第1の光学層は、幅手方向において、両端部にナーリング部と、前記ナーリング部の内側に前記微細な凹凸形状が形成された領域とを有し、
前記微細な凹凸形状が形成された領域において、前記第1の光学層の層厚み分布が、幅手方向の両端部から中央部に向かって厚くなる、厚み方向の断面形状が凸型を有し、かつ前記第1の光学層の前記凸型の層厚み分布曲線には、少なくとも1つの凹み領域が形成されており、
前記第1の光学層の層厚み分布における前記凹み領域の下記式(I)で表される凹み量が、4%以下であることを特徴とする光学体。
凹み量=〔(M−m)/m〕×100(%) (I)
上記式(I)中、mは、前記凹み領域の凹んだ部分の前記第1の光学層の層厚みの最も小さい値を表し、Mは、前記凹み領域が始まる手前の前記第1の光学層の層厚みの最も大きい値を表す。
A long optical body having a first optical layer having a fine uneven shape and a reflective layer formed on the first optical layer,
The first optical layer has a knurling portion at both ends in the width direction, and a region in which the fine uneven shape is formed inside the knurling portion,
In the region where the fine concavo-convex shape is formed, the layer thickness distribution of the first optical layer becomes thicker from both ends in the width direction toward the center, and the cross-sectional shape in the thickness direction has a convex shape. And the convex layer thickness distribution curve of the first optical layer is formed with at least one recessed region,
An optical body, wherein a dent amount represented by the following formula (I) of the dent region in the layer thickness distribution of the first optical layer is 4% or less.
Depression amount = [(M−m) / m] × 100 (%) (I)
In the above formula (I), m represents the smallest value of the thickness of the first optical layer in the recessed portion of the recessed area, and M represents the first optical layer before the recessed area starts. This represents the largest value of the layer thickness.
前記第1の光学層が、透明基材と微細な凹凸形状の凹凸層とを有する請求項1に記載の光学体。   The optical body according to claim 1, wherein the first optical layer has a transparent substrate and a fine uneven layer. 前記第1の光学層において、前記ナーリング部における前記第1の光学層の層厚みと、前記微細な凹凸形状が形成された領域における前記第1の光学層の層厚みとの差Δtが、前記透明基材の層厚みに対し、3%から10%である請求項2に記載の光学体。   In the first optical layer, the difference Δt between the layer thickness of the first optical layer in the knurling portion and the layer thickness of the first optical layer in the region where the fine uneven shape is formed is The optical body according to claim 2, which is 3% to 10% with respect to the layer thickness of the transparent substrate. 前記凹み量が、2%から4%である請求項1から3のいずれかに記載の光学体。   The optical body according to any one of claims 1 to 3, wherein the dent amount is 2% to 4%. 前記反射層が、少なくとも金属層を有する請求項1から4のいずれかに記載の光学体。   The optical body according to claim 1, wherein the reflective layer has at least a metal layer. 前記第1の光学層の微細な凹凸形状が、多数の構造体の1次元配列及び2次元配列のいずれかにより形成され、前記構造体が、プリズム形状、レンチキュラー形状、半球状、及びコーナーキューブ状のいずれかである請求項1から5のいずれかに記載の光学体。   The fine uneven shape of the first optical layer is formed by one of a one-dimensional array and a two-dimensional array of a large number of structures, and the structure has a prism shape, a lenticular shape, a hemispherical shape, and a corner cube shape. The optical body according to claim 1, which is any one of the above. 透明基材上に微細な凹凸形状の転写層が積層されてなる微細な凹凸形状の第1の光学層と、前記第1の光学層上に形成される反射層とを有する長尺の光学体の製造方法であって、
転写用原盤を用いて、前記転写層に微細凹凸形状を転写する転写層形成工程と、
前記微細凹凸形状上に、少なくとも金属層を有する反射層を形成する反射層形成工程とを有し、
前記転写層形成工程において、前記転写用原盤の温度は、前記転写層を構成する転写樹脂の温度より0℃から7℃低く設定し、
前記光学体は、
前記第1の光学層が、幅手方向において、両端部にナーリング部と、前記ナーリング部の内側に微細な凹凸形状が形成された領域とを有し、
前記微細な凹凸形状が形成された領域において、前記第1の光学層の層厚み分布が、幅手方向の両端部から中央部に向かって厚くなる、厚み方向の断面形状が凸型を有し、かつ前記第1の光学層の前記凸型の層厚み分布曲線には、少なくとも1つの凹み領域が形成されている光学体である、
ことを特徴とする光学体の製造方法。
A long optical body having a fine concavo-convex shaped first optical layer in which a fine concavo-convex shaped transfer layer is laminated on a transparent substrate, and a reflective layer formed on the first optical layer. A manufacturing method of
Using a transfer master, a transfer layer forming step of transferring a fine uneven shape to the transfer layer;
A reflective layer forming step of forming a reflective layer having at least a metal layer on the fine uneven shape;
In the transfer layer forming step, the temperature of the transfer master is set to 0 ° C. to 7 ° C. lower than the temperature of the transfer resin constituting the transfer layer,
The optical body is
The first optical layer has, in the width direction, a knurling portion at both ends, and a region in which a fine uneven shape is formed inside the knurling portion,
In the region where the fine concavo-convex shape is formed, the layer thickness distribution of the first optical layer becomes thicker from both ends in the width direction toward the center, and the cross-sectional shape in the thickness direction has a convex shape. And the convex layer thickness distribution curve of the first optical layer is an optical body in which at least one recessed region is formed.
An optical body manufacturing method characterized by the above.
さらに、包埋層形成工程、及び規格寸法の光学体に切りそろえるスリット・打ち抜き工程を有する請求項7に記載の光学体の製造方法。   Furthermore, the manufacturing method of the optical body of Claim 7 which has the slit and the punching process cut into the optical body of an embedded layer formation process, and an optical body of a standard dimension.
JP2016060541A 2016-03-24 2016-03-24 Optical body and method for manufacturing optical body Active JP6637354B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016060541A JP6637354B2 (en) 2016-03-24 2016-03-24 Optical body and method for manufacturing optical body

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016060541A JP6637354B2 (en) 2016-03-24 2016-03-24 Optical body and method for manufacturing optical body

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2017173614A true JP2017173614A (en) 2017-09-28
JP6637354B2 JP6637354B2 (en) 2020-01-29

Family

ID=59973219

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016060541A Active JP6637354B2 (en) 2016-03-24 2016-03-24 Optical body and method for manufacturing optical body

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6637354B2 (en)

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009186879A (en) * 2008-02-08 2009-08-20 Fujifilm Corp Optical path control device
JP2015197467A (en) * 2014-03-31 2015-11-09 凸版印刷株式会社 Polarizer protection film and manufacturing method thereof

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009186879A (en) * 2008-02-08 2009-08-20 Fujifilm Corp Optical path control device
JP2015197467A (en) * 2014-03-31 2015-11-09 凸版印刷株式会社 Polarizer protection film and manufacturing method thereof

Also Published As

Publication number Publication date
JP6637354B2 (en) 2020-01-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US9063287B2 (en) Optical body with diffusion reflectivity, wall member, fitting, and solar shading device
JP4736953B2 (en) Fly-eye lens sheet with light-shielding layer and method for manufacturing the same, transmissive screen, and rear projection image display device
KR101395700B1 (en) Anti-glare film and image display device
CN101793379B (en) Optical sheet for liquid crystal display apparatus and backlight unit using the same
JP5579082B2 (en) Optical film and manufacturing method
CN106461832A (en) Optical member, production method therefor, window material, and fixture
US7919021B2 (en) Method for producing optical sheet
CN101793378A (en) Optical sheet for liquid crystal display apparatus and backlight unit using the same
JP7221695B2 (en) Film, molding transfer foil using the same, film roll, and film manufacturing method
JP2012018424A (en) Optical body, wall material, fittings and solar shading device
JP6637354B2 (en) Optical body and method for manufacturing optical body
KR102630911B1 (en) Surface uneven sheets, screens, video display systems and transfer rolls
WO2001048061A1 (en) Polyester film roll
JP6402503B2 (en) Laminated material, touch panel sensor, electromagnetic shielding material, and image display device
KR20200026210A (en) Fine grooving | roughness laminated body, its manufacturing method, and camera module mounting apparatus
US20090269550A1 (en) Diffuser film and method of manufacturing the same
JP6660568B2 (en) Roughened sheet, method for producing printing resin original plate using the same, and method for producing flexographic printing plate
JP2018040909A (en) Optical member and window material
JP2014172356A (en) Method of producing laminate sheet
JP6232840B2 (en) blind
KR101582373B1 (en) Method for preparing light guide plate, light guide plate prepared from the same and liquid crystal display comprising the same
JP7230571B2 (en) film roll
JP6263905B2 (en) Transmittance anisotropic member, method for manufacturing transmittance anisotropic member, and display device
KR20220134533A (en) Metallized film and manufacturing method thereof
IT201800003096A1 (en) Method of applying a transparent protective top coat layer to a reflective layered structure

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20181011

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20190220

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20190828

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20190903

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20191031

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20191203

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20191220

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6637354

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250