JP2017171833A - Adhesive and composite conjugate - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an adhesive having low dielectric constant and low dielectric loss tangent and capable of adhering a metal layer and a heat resistant resin layer rigidly and a composite conjugate by rigidly adhering the metal layer and the heat resistant resin layer by the additive.SOLUTION: There is provided an adhesive used for adhering a metal layer and a heat resistant layer and mainly containing a modified block copolymer hydride (E) by introducing an alkoxysilyl group into a bock copolymer hydride (D) by hydrogenating 90% or more of carbon-carbon unsaturated bonds of a main chain and a side chain and carbon-carbon unsaturated bonds of an aromatic ring of a bock copolymer (C) consisting of at least two polymer blocks (A) mainly containing a constitutional unit derived from an aromatic vinyl compound and at least a polymer bock (B) mainly containing a constitutional unit derived from a chain conjugated diene compound, and having a ratio of wA and wB, wA:wB, where wA is weight fraction of all polymer block (A) in the whole block copolymer (C) and wB is weight fraction of all polymer block (B) in the whole block copolymer (C) of 30:70 to 60:40. There is also provided a composite conjugate by adhering the heat resistant resin layer and a metal layer by the adhesive.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、金属層と耐熱性樹脂層とを強固に接着することができる、低誘電率の接着剤、及び、金属層と耐熱性樹脂層とが前記接着剤により強固に接着されてなる複合接合体に関する。   The present invention provides a low dielectric constant adhesive capable of firmly bonding a metal layer and a heat resistant resin layer, and a composite in which the metal layer and the heat resistant resin layer are firmly bonded by the adhesive. It relates to the joined body.

近年、電子機器の小型・薄型化、軽量化が要望されており、それに伴いプリント基板の高密度化の要求が増加している。また、高周波用途では伝送損失を低下させるために表面粗度の小さい銅箔が必要となっており、電解銅箔のマット面の凹凸を抑えたロープロファイル銅箔や表面粗さが小さい圧延銅箔が使用されるようになっている。
しかしながら、表面粗度の小さい銅箔は樹脂基材との接着力が弱く、細密回路では接着力が不足し、高密度化への障害となっている。
In recent years, there has been a demand for downsizing, thinning, and weight reduction of electronic devices, and accordingly, there has been an increasing demand for higher density printed circuit boards. For high frequency applications, copper foil with low surface roughness is required to reduce transmission loss. Low profile copper foil with reduced unevenness on the matte surface of electrolytic copper foil and rolled copper foil with low surface roughness Has come to be used.
However, the copper foil having a small surface roughness has a weak adhesive force with the resin base material, and the fine circuit has an insufficient adhesive force, which is an obstacle to high density.

表面粗度の小さい銅箔と樹脂基材との接着力を向上させる手段として、これまでにも、銅箔表面にシランカップリング剤を塗布する方法が多数提案されている(特許文献1〜4)。また、銅箔とシランカップリング剤の反応性を向上させるため、金属アルコラ−ト等により銅箔表面を前処理する方法(特許文献5)や、銅箔表面にポリシロキサン膜を付与する方法(特許文献6)等も提案されている。
しかしながら、これらの方法では、耐湿性や耐熱性等の、接着特性の耐環境安定性は改善されるものの、初期の接着強度そのものは、電解銅箔の粗化処理によるアンカ−効果の低減分を十分に補うことができるものではなかった。
A number of methods for applying a silane coupling agent to the surface of a copper foil have been proposed as means for improving the adhesive force between a copper foil having a small surface roughness and a resin substrate (Patent Documents 1 to 4). ). Moreover, in order to improve the reactivity of copper foil and a silane coupling agent, the method of pre-processing the copper foil surface with a metal alcoholate etc. (patent document 5), The method of providing a polysiloxane film on the copper foil surface ( Patent Document 6) and the like have also been proposed.
However, although these methods improve the environmental stability of the adhesive properties such as moisture resistance and heat resistance, the initial adhesive strength itself is reduced by the anchor effect due to the roughening treatment of the electrolytic copper foil. It was not enough to make up.

一方、プリント基板の一種であるフレキシブルプリント基板は、機器の内部配線や部品搭載基板として重要な部材である。フレキシブルプリント基板としては、ポリイミドフィルムに代表される絶縁フィルムと銅箔が直接接着された2層CCL(Copper Clad Laminate)や、絶縁フィルムと銅箔が接着剤を介して接着された3層CCLが知られている。2層CCLは接着剤を介さないものであるため、高温時の信頼性に優れるが、銅箔にポリイミドの前駆体であるポリアミック酸溶液を塗布し、乾燥、加熱イミド化する等の工程を要し、その製造は必ずしも容易ではない。一方、3層CCLはポリイミドフィルム等の絶縁フィルムと銅箔を接着剤により接着して積層するものであるため、工業的に製造が容易でコストも安価であり、また絶縁フィルムと銅箔の接着性にも優れる。このため、汎用用途では3層CCLが主に使用されている。   On the other hand, a flexible printed circuit board, which is a kind of printed circuit board, is an important member for internal wiring of devices and component mounting boards. As a flexible printed circuit board, there are two-layer CCL (Copper Clad Laminate) in which an insulating film represented by polyimide film and copper foil are directly bonded, and three-layer CCL in which the insulating film and copper foil are bonded via an adhesive. Are known. The two-layer CCL is superior in reliability at high temperatures because it does not involve an adhesive, but requires a process such as applying a polyamic acid solution, which is a polyimide precursor, to a copper foil, drying, and heating imidization. However, its manufacture is not always easy. On the other hand, the three-layer CCL is made by adhering an insulating film such as a polyimide film and a copper foil with an adhesive, so that it is industrially easy to manufacture and inexpensive, and the insulating film and the copper foil are bonded. Excellent in properties. For this reason, three-layer CCL is mainly used in general purpose applications.

3層CCLの製造に使用される接着剤には、接着性、電気絶縁性、耐薬品性、半田耐熱性等の特性が要求される。従来、これらの要求を満たす接着剤として、ポリアミド(ナイロン)/エポキシ系、ポリエステル/エポキシ系、フェノール/ブチラール系、ニトリルゴム/エポキシ系、アクリル系、ウレタン系等のものが使用されている。
しかし、これらの接着剤を使用して、表面粗度の小さい銅箔とポリイミド系フィルムとを強固に接着するためには、例えば、ポリアミド/エポキシ系接着剤を使用する場合において、予め銅箔表面をアミノシランカップリング剤で処理する必要があった(特許文献7)。
The adhesive used for the production of the three-layer CCL is required to have properties such as adhesion, electrical insulation, chemical resistance, and solder heat resistance. Conventionally, polyamide (nylon) / epoxy system, polyester / epoxy system, phenol / butyral system, nitrile rubber / epoxy system, acrylic system, urethane system, and the like have been used as adhesives that satisfy these requirements.
However, in order to firmly bond a copper foil having a small surface roughness to a polyimide film using these adhesives, for example, when using a polyamide / epoxy adhesive, Must be treated with an aminosilane coupling agent (Patent Document 7).

本願発明に関連して、特許文献8には、ブロック共重合体水素化物にアルコキシシリル基が導入された変性ブロック共重合体水素化物(E)は、ガラスや金属に対する接着性を有し、電気絶縁性にも優れていることから、太陽電池の封止材に利用できることが開示されている。   In relation to the present invention, Patent Document 8 discloses that a modified block copolymer hydride (E) in which an alkoxysilyl group is introduced into a block copolymer hydride has adhesion to glass or metal, Since it is excellent also in insulation, it is disclosed that it can utilize for the sealing material of a solar cell.

特公昭60−15654号公報Japanese Patent Publication No. 60-15654 特公平2−19994号号公報Japanese Patent Publication No. 2-19994 特開昭63−183178号公報JP 63-183178 A 特開平2−26097号公報JP-A-2-26097 特開平5−230667号公報JP-A-5-230667 特開平10−226009号公報JP-A-10-226209 特開2003−298230号公報JP 2003-298230 A WO2012/043708号パンフレットWO2012 / 043708 pamphlet

本発明は、上記した従来技術の実情に鑑みてなされたものであり、その目的は、表面粗度の小さい金属層と耐熱性樹脂層との接着性に優れ、かつ低誘電率で電気絶縁性に優れた新規な接着剤、及び、金属層と耐熱性樹脂層とが前記接着剤により強固に接着されてなる複合接合体を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above-described prior art, and its purpose is to provide excellent adhesion between a metal layer having a small surface roughness and a heat-resistant resin layer, and a low dielectric constant and electrical insulation. It is an object of the present invention to provide a novel bonded adhesive and a composite joined body in which a metal layer and a heat-resistant resin layer are firmly bonded by the adhesive.

本発明者らは、上記目的を達成するために鋭意検討した結果、アルコキシシリル基が導入されてなる特定の変性ブロック共重合体水素化物を(E)主成分として含有する接着剤が、金属層及び耐熱性樹脂層に対して強固な接着性を示すことを見出し、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventors have found that an adhesive containing a specific modified block copolymer hydride having an alkoxysilyl group introduced as a main component (E) is a metal layer. And it discovered that it showed strong adhesiveness with respect to a heat resistant resin layer, and came to complete this invention.

かくして本発明によれば、下記(1)〜(3)の接着剤、及び、(4)の複合接合体が提供される。
(1)金属層と耐熱性樹脂層との接着に用いられる接着剤であって、
芳香族ビニル化合物由来の構造単位を主成分とする、少なくとも2つの重合体ブロック(A)と、鎖状共役ジエン化合物由来の構造単位を主成分とする、少なくとも1つの重合体ブロック(B)とからなり、全重合体ブロック(A)がブロック共重合体(C)全体に占める重量分率をwAとし、全重合体ブロック(B)がブロック共重合体(C)全体に占める重量分率をwBとしたときに、wAとwBとの比wA:wBが30:70〜60:40であるブロック共重合体(C)の、主鎖及び側鎖の炭素−炭素不飽和結合及び芳香環の炭素−炭素不飽和結合の90%以上を水素化したブロック共重合体水素化物(D)に、アルコキシシリル基が導入されてなる変性ブロック共重合体水素化物(E)を主成分とする接着剤。
(2)変性ブロック共重合体水素化物(E)100重量部に対して、シランカップリング剤が0.1〜10重量部の割合で配合されてなる、(1)に記載の接着剤。
(3)沸点90℃以上の有機溶剤をさらに含み、変性ブロック共重合体水素化物(E)100重量部が、前記沸点90℃以上の有機溶剤に100〜1000重量部の割合で溶解されてなる、(1)又は(2)に記載の接着剤。
(4)耐熱性樹脂層と金属層とが、前記(1)〜(3)のいずれかに記載の接着剤で接着されてなる複合接合体。
Thus, according to the present invention, the following adhesives (1) to (3) and the composite assembly (4) are provided.
(1) An adhesive used for bonding a metal layer and a heat resistant resin layer,
At least two polymer blocks (A) mainly comprising a structural unit derived from an aromatic vinyl compound, and at least one polymer block (B) mainly comprising a structural unit derived from a chain conjugated diene compound. The weight fraction of the entire polymer block (A) in the entire block copolymer (C) is wA, and the weight fraction of the entire polymer block (B) in the entire block copolymer (C) is The ratio of wA to wB, wA: wB is 30: 70-60: 40, and the main chain and side chain carbon-carbon unsaturated bonds and aromatic rings of the block copolymer (C) Adhesive mainly comprising a modified block copolymer hydride (E) in which an alkoxysilyl group is introduced into a block copolymer hydride (D) obtained by hydrogenating 90% or more of carbon-carbon unsaturated bonds. .
(2) The adhesive according to (1), wherein the silane coupling agent is blended at a ratio of 0.1 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the modified block copolymer hydride (E).
(3) An organic solvent having a boiling point of 90 ° C. or higher is further included, and 100 parts by weight of the modified block copolymer hydride (E) is dissolved in the organic solvent having a boiling point of 90 ° C. or higher in a proportion of 100 to 1000 parts by weight. The adhesive according to (1) or (2).
(4) A composite joined body in which a heat-resistant resin layer and a metal layer are bonded with the adhesive according to any one of (1) to (3).

本発明によれば、表面粗度の小さい金属層と耐熱性樹脂層とを強固に接着性できる、高密度プリント基板等の製造に好適に使用される低誘電率、低誘電正接の接着剤、及び、金属層と耐熱性樹脂層とが、前記接着剤により強固に接着されてなる複合接合体が提供される。   According to the present invention, an adhesive having a low dielectric constant and a low dielectric loss tangent that can be used for the production of a high-density printed circuit board, etc., capable of firmly adhering a metal layer having a small surface roughness and a heat-resistant resin layer, And the composite conjugate | bonded_body by which a metal layer and a heat resistant resin layer are adhere | attached firmly with the said adhesive agent is provided.

以下、本発明を、1)接着剤、及び、2)複合接合体に項分けして、詳細に説明する。
1)接着剤
本発明の接着剤は、金属層と耐熱性樹脂層との接着に用いられる接着剤であって、
芳香族ビニル化合物由来の構造単位を主成分とする、少なくとも2つの重合体ブロック(A)と、鎖状共役ジエン化合物由来の構造単位を主成分とする、少なくとも1つの重合体ブロック(B)とからなり、全重合体ブロック(A)がブロック共重合体(C)全体に占める重量分率をwAとし、全重合体ブロック(B)がブロック共重合体(C)全体に占める重量分率をwBとしたときに、wAとwBとの比wA:wBが30:70〜60:40であるブロック共重合体(C)の、主鎖及び側鎖の炭素−炭素不飽和結合及び芳香環の炭素−炭素不飽和結合の90%以上を水素化したブロック共重合体水素化物(D)に、アルコキシシリル基が導入されてなる変性ブロック共重合体水素化物(E)を主成分とするものである。
Hereinafter, the present invention will be described in detail by dividing it into 1) an adhesive and 2) a composite joined body.
1) Adhesive The adhesive of the present invention is an adhesive used for adhesion between a metal layer and a heat-resistant resin layer,
At least two polymer blocks (A) mainly comprising a structural unit derived from an aromatic vinyl compound, and at least one polymer block (B) mainly comprising a structural unit derived from a chain conjugated diene compound. The weight fraction of the entire polymer block (A) in the entire block copolymer (C) is wA, and the weight fraction of the entire polymer block (B) in the entire block copolymer (C) is The ratio of wA to wB, wA: wB is 30: 70-60: 40, and the main chain and side chain carbon-carbon unsaturated bonds and aromatic rings of the block copolymer (C) The main component is a modified block copolymer hydride (E) in which an alkoxysilyl group is introduced into a block copolymer hydride (D) obtained by hydrogenating 90% or more of carbon-carbon unsaturated bonds. is there.

(1)ブロック共重合体(C)
ブロック共重合体(C)は、芳香族ビニル化合物由来の構造単位を主成分とする、少なくとも2つの重合体ブロック(A)と、鎖状共役ジエン化合物由来の構造単位を主成分とする、少なくとも1つの重合体ブロック(B)とからなるブロック共重合体である。
(1) Block copolymer (C)
The block copolymer (C) has at least two polymer blocks (A) having a structural unit derived from an aromatic vinyl compound as a main component, and a structural unit derived from a chain conjugated diene compound as a main component, at least It is a block copolymer composed of one polymer block (B).

重合体ブロック(A)は、芳香族ビニル化合物由来の構造単位を主成分とするものである。重合体ブロック(A)中の芳香族ビニル化合物由来の構造単位の含有量は、通常95重量%以上、好ましくは97重量%以上、より好ましくは99重量%以上である。重合体ブロック(A)は、芳香族ビニル化合物由来の構造単位以外の成分として、鎖状共役ジエン由来の構造単位及び/又はその他のビニル化合物由来の構造単位を含むことができる。その含有量は通常5重量%以下、好ましくは3重量%以下、より好ましくは1重量%以下である。
重合体ブロック(A)中の芳香族ビニル化合物由来の構造単位が少なすぎると、接着剤の耐熱性が低下するおそれがある。
The polymer block (A) has a structural unit derived from an aromatic vinyl compound as a main component. The content of the structural unit derived from the aromatic vinyl compound in the polymer block (A) is usually 95% by weight or more, preferably 97% by weight or more, more preferably 99% by weight or more. The polymer block (A) can contain a structural unit derived from a chain conjugated diene and / or a structural unit derived from another vinyl compound as a component other than the structural unit derived from the aromatic vinyl compound. The content is usually 5% by weight or less, preferably 3% by weight or less, more preferably 1% by weight or less.
When there are too few structural units derived from the aromatic vinyl compound in the polymer block (A), the heat resistance of the adhesive may be lowered.

芳香族ビニル化合物としては、スチレン;2−メチルスチレン、3−メチルスチレン、4−メチルスチレン、2,4−ジイソプロピルスチレン、2,4−ジメチルスチレン、4−t−ブチルスチレン、5−t−ブチル−2−メチルスチレン等の置換基としてアルキル基を有するスチレン類;4−モノクロロスチレン、ジクロロスチレン、4−モノフルオロスチレン等の置換基としてハロゲン原子を有するスチレン類;4−フェニルスチレン等の置換基としてアリール基を有するスチレン類;等が挙げられる。なかでも、低誘電率、低吸湿性の面で極性基を含有しないものが好ましく、工業的な入手の容易さからスチレンが特に好ましい。
芳香族ビニル化合物と共重合させることができる鎖状共役ジエン及びその他のビニル化合物としては、後述する重合体ブロック(B)の構造単位となる鎖状共役ジエン及びその他のビニル化合物と同様のものがあげられる。
As the aromatic vinyl compound, styrene; 2-methylstyrene, 3-methylstyrene, 4-methylstyrene, 2,4-diisopropylstyrene, 2,4-dimethylstyrene, 4-t-butylstyrene, 5-t-butyl Styrenes having an alkyl group as a substituent such as 2-methylstyrene; Styrenes having a halogen atom as a substituent such as 4-monochlorostyrene, dichlorostyrene, 4-monofluorostyrene; Substituents such as 4-phenylstyrene And styrenes having an aryl group; and the like. Among them, those having no polar group are preferable in terms of low dielectric constant and low hygroscopicity, and styrene is particularly preferable from the viewpoint of industrial availability.
Examples of the chain conjugated diene and other vinyl compounds that can be copolymerized with the aromatic vinyl compound include those similar to the chain conjugated diene and other vinyl compounds that form the structural unit of the polymer block (B) described later. can give.

重合体ブロック(B)は、鎖状共役ジエン化合物由来の構造単位を主成分とするものである。重合体ブロック(B)中の鎖状共役ジエン化合物由来の構造単位の含有量は、通常95重量%以上、好ましくは97重量%以上、より好ましくは99重量%以上である。重合体ブロック(B)は、鎖状共役ジエン化合物由来の構造単位以外の成分として、芳香族ビニル化合物由来の構造単位及び/又はその他のビニル化合物由来の構造単位を含むことができる。その含有量は、通常5重量%以下、好ましくは3重量%以下、より好ましくは1重量%以下である。
鎖状共役ジエン化合物由来の構造単位が上記範囲にあると、接着剤の接着性が優れる。
The polymer block (B) has a structural unit derived from a chain conjugated diene compound as a main component. The content of the structural unit derived from the chain conjugated diene compound in the polymer block (B) is usually 95% by weight or more, preferably 97% by weight or more, more preferably 99% by weight or more. The polymer block (B) can contain a structural unit derived from an aromatic vinyl compound and / or a structural unit derived from another vinyl compound as a component other than the structural unit derived from the chain conjugated diene compound. Its content is usually 5% by weight or less, preferably 3% by weight or less, more preferably 1% by weight or less.
When the structural unit derived from the chain conjugated diene compound is in the above range, the adhesiveness of the adhesive is excellent.

鎖状共役ジエン系化合物としては、1,3−ブタジエン、イソプレン、2,3−ジメチル−1,3−ブタジエン、1,3−ペンタジエン等が挙げられる。なかでも、吸湿性の観点から、極性基を含有しない鎖状共役ジエン系化合物が好ましく、工業的な入手の容易さから、1,3−ブタジエン、イソプレンが特に好ましい。   Examples of the chain conjugated diene compound include 1,3-butadiene, isoprene, 2,3-dimethyl-1,3-butadiene, 1,3-pentadiene and the like. Of these, a chain conjugated diene compound containing no polar group is preferable from the viewpoint of hygroscopicity, and 1,3-butadiene and isoprene are particularly preferable from the viewpoint of industrial availability.

その他のビニル系化合物としては、鎖状ビニル化合物、環状ビニル化合物、不飽和の環状酸無水物、不飽和イミド化合物等が挙げられる。これらの化合物は、ニトリル基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシカルボニル基、ハロゲン原子等の置換基を有していてもよい。これらの中でも、吸湿性の観点から、エチレン、プロピレン、1−ブテン、1−ペンテン、1−ヘキセン、1−ヘプテン、1−オクテン、1−ノネン、1−デセン、1−ドデセン、1−エイコセン、4−メチル−1−ペンテン、4,6−ジメチル−1−ヘプテン等の炭素数2〜20の鎖状オレフィン;ビニルシクロヘキサン、ノルボルネン等の炭素数5〜20の環状オレフィン;1,3−シクロヘキサジエン、ノルボルナジエン等の環状ジエン化合物;等の極性基を含有しないものが好ましい。   Examples of other vinyl compounds include chain vinyl compounds, cyclic vinyl compounds, unsaturated cyclic acid anhydrides, and unsaturated imide compounds. These compounds may have a substituent such as a nitrile group, an alkoxycarbonyl group, a hydroxycarbonyl group, or a halogen atom. Among these, from the viewpoint of hygroscopicity, ethylene, propylene, 1-butene, 1-pentene, 1-hexene, 1-heptene, 1-octene, 1-nonene, 1-decene, 1-dodecene, 1-eicosene, C2-C20 chain olefins such as 4-methyl-1-pentene and 4,6-dimethyl-1-heptene; C5-C20 cyclic olefins such as vinylcyclohexane and norbornene; 1,3-cyclohexadiene And those containing no polar group such as cyclic diene compounds such as norbornadiene;

ブロック共重合体(C)は、全重合体ブロック(A)のブロック共重合体(C)全体に占める重量分率をwAとし、全重合体ブロック(B)のブロック共重合体(C)全体に占める重量分率をwBとしたときに、wAとwBとの比wA:wBが20:80〜60:40、好ましくは25:75〜55:45、より好ましくは30:70〜50:50のものである。wAとwBとの比wA:wBがこの範囲にあれば、良好な接着強度を有する接着剤が得られる。   In the block copolymer (C), the weight fraction of the whole block copolymer (C) in the whole polymer block (A) is wA, and the whole block copolymer (C) in the whole polymer block (B). When the weight fraction of wA is wB, the ratio wA: wB of wA: wB is 20: 80-60: 40, preferably 25: 75-55: 45, more preferably 30: 70-50: 50. belongs to. If the ratio wA: wB of wA and wB is in this range, an adhesive having good adhesive strength can be obtained.

ブロック共重合体(C)中の重合体ブロック(A)の数は、通常3個以下、好ましくは2個であり、重合体ブロック(B)の数は、通常2個以下、好ましくは1個である。
ブロック共重合体(C)のブロックの形態は、鎖状型ブロックでもラジアル型ブロックでも良いが、鎖状型ブロックであるものが、機械的強度に優れ好ましい。ブロック共重合体(C)の最も好ましい形態は、重合体ブロック(B)の両端に重合体ブロック(A)が結合した、(A)−(B)−(A)型のトリブロック共重合体である。
複数の重合体ブロック(A)同士は、互いに同一であっても、相異なっていても良い。また、重合体ブロック(B)が複数有る場合には、重合体ブロック(B)同士は、互いに同一であっても、相異なっていても良い。
The number of polymer blocks (A) in the block copolymer (C) is usually 3 or less, preferably 2 and the number of polymer blocks (B) is usually 2 or less, preferably 1 It is.
The form of the block of the block copolymer (C) may be a chain type block or a radial type block, but a chain type block is preferred because of excellent mechanical strength. The most preferable form of the block copolymer (C) is a (A)-(B)-(A) type triblock copolymer in which the polymer block (A) is bonded to both ends of the polymer block (B). It is.
The plurality of polymer blocks (A) may be the same as or different from each other. When there are a plurality of polymer blocks (B), the polymer blocks (B) may be the same as or different from each other.

ブロック共重合体[C]の分子量は、テトラヒドロフラン(THF)を溶媒とするゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー(GPC)により測定されるポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)で、通常40,000〜200,000、好ましくは45,000〜150,000、より好ましくは50,000〜100,000である。また、ブロック共重合体[C]の分子量分布(Mw/Mn)は、好ましくは3以下、より好ましくは2以下、特に好ましくは1.5以下である。Mw及びMw/Mnが上記範囲となるようにすると、機械的強度の良好な接着剤が得られる。   The molecular weight of the block copolymer [C] is a polystyrene-reduced weight average molecular weight (Mw) measured by gel permeation chromatography (GPC) using tetrahydrofuran (THF) as a solvent, and usually 40,000 to 200. , Preferably 45,000 to 150,000, more preferably 50,000 to 100,000. Further, the molecular weight distribution (Mw / Mn) of the block copolymer [C] is preferably 3 or less, more preferably 2 or less, and particularly preferably 1.5 or less. When Mw and Mw / Mn are within the above ranges, an adhesive having good mechanical strength can be obtained.

ブロック共重合体[C]の製造方法としては、例えば、リビングアニオン重合等の方法により、芳香族ビニル化合物を主成分として含有するモノマー混合物(a)と鎖状共役ジエン系化合物を主成分として含有するモノマー混合物(b)を交互に重合させる方法;芳香族ビニル化合物を主成分として含有するモノマー混合物(a)と鎖状共役ジエン系化合物を主成分として含有するモノマー混合物(b)を順に重合させた後、重合体ブロック[B]の末端同士を、カップリング剤によりカップリングさせる方法等が挙げられる。   As a method for producing the block copolymer [C], for example, a monomer mixture (a) containing an aromatic vinyl compound as a main component and a chain conjugated diene compound as a main component by a method such as living anion polymerization. A method of alternately polymerizing the monomer mixture (b) to be polymerized; a monomer mixture (a) containing an aromatic vinyl compound as a main component and a monomer mixture (b) containing a chain conjugated diene compound as a main component in order. Then, the method etc. of coupling the terminal of polymer block [B] with a coupling agent are mentioned.

(2)ブロック共重合体水素化物(D)
ブロック共重合体水素化物(D)は、上記のブロック共重合体(C)の主鎖及び側鎖の炭素−炭素不飽和結合及び芳香環の炭素−炭素不飽和結合を水素化して得られる高分子である。その水素化率は通常90%以上、好ましくは97%以上、より好ましくは99%以上である。水素化率が高いほど、耐酸化劣化性や耐光性の良好な接着剤が得られる。
ブロック共重合体水素化物(D)の水素化率は、ブロック共重合体水素化物(D)のH−NMRを測定することにより求めることができる。
(2) Block copolymer hydride (D)
The block copolymer hydride (D) is obtained by hydrogenating the carbon-carbon unsaturated bond of the main chain and the side chain and the carbon-carbon unsaturated bond of the aromatic ring of the block copolymer (C). Is a molecule. The hydrogenation rate is usually 90% or more, preferably 97% or more, more preferably 99% or more. As the hydrogenation rate is higher, an adhesive having better oxidation resistance and light resistance can be obtained.
The hydrogenation rate of the block copolymer hydride (D) can be determined by measuring 1 H-NMR of the block copolymer hydride (D).

不飽和結合の水素化方法や反応形態等は特に限定されず、公知の方法を利用することができる。なかでも、水素化率を高くでき、重合体鎖切断反応の少ない水素化方法が好ましい。このような水素化方法としては、WO2011/096389号パンフレット、WO2012/043708号パンフレット等に記載された方法を挙げることができる。   There are no particular limitations on the method for hydrogenating unsaturated bonds, the reaction mode, and the like, and known methods can be used. Among these, a hydrogenation method that can increase the hydrogenation rate and has few polymer chain scission reactions is preferable. Examples of such a hydrogenation method include the methods described in WO 2011/096389 pamphlet, WO 2012/043708 pamphlet and the like.

上記した方法で得られるブロック共重合体水素化物(D)は、水素化触媒および/または重合触媒を、ブロック共重合体水素化物(D)を含む反応溶液から除去した後、反応溶液から回収される。回収されたブロック共重合体水素化物(D)の形態は限定されるものではないが、通常はペレット形状にして、その後のアルコキシシリル基の導入反応に供することができる。   The block copolymer hydride (D) obtained by the above method is recovered from the reaction solution after removing the hydrogenation catalyst and / or the polymerization catalyst from the reaction solution containing the block copolymer hydride (D). The Although the form of the recovered block copolymer hydride (D) is not limited, it can usually be formed into a pellet shape and subjected to subsequent alkoxysilyl group introduction reaction.

ブロック共重合体水素化物(D)の分子量は、THFを溶媒としたGPCにより測定されるポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)で、通常40,000〜200,000、好ましくは45,000〜150,000、より好ましくは50,000〜100,000である。また、ブロック共重合体水素化物(D)の分子量分布(Mw/Mn)は、好ましくは3以下、より好ましくは2以下、特に好ましくは1.5以下である。Mw及びMw/Mnが上記範囲となるようにすると、機械的強度が良好な接着剤が得られる。   The molecular weight of the block copolymer hydride (D) is a polystyrene-equivalent weight average molecular weight (Mw) measured by GPC using THF as a solvent, and is usually 40,000 to 200,000, preferably 45,000 to 150. 1,000, more preferably 50,000 to 100,000. The molecular weight distribution (Mw / Mn) of the block copolymer hydride (D) is preferably 3 or less, more preferably 2 or less, and particularly preferably 1.5 or less. When Mw and Mw / Mn are within the above ranges, an adhesive having good mechanical strength can be obtained.

(3)変性ブロック共重合体水素化物(E)
変性ブロック共重合体水素化物(E)は、上記のブロック共重合体水素化物(D)に、アルコキシシリル基が導入されることにより得られたものである。
ブロック共重合体水素化物(D)にアルコキシシリル基を導入することにより、金属層及び耐熱性樹脂層に対する強固な接着性を付与することができる。
(3) Modified block copolymer hydride (E)
The modified block copolymer hydride (E) is obtained by introducing an alkoxysilyl group into the above block copolymer hydride (D).
By introducing an alkoxysilyl group into the block copolymer hydride (D), it is possible to impart strong adhesion to the metal layer and the heat-resistant resin layer.

アルコキシシリル基としては、トリメトキシシリル基、トリエトキシシリル基等の、トリ(炭素数1〜6アルコキシ)シリル基;メチルジメトキシシリル基、メチルジエトキシシリル基、エチルジメトキシシリル基、エチルジエトキシシリル基、プロピルジメトキシシリル基、プロピルジエトキシシリル基等の、(炭素数1〜20アルキル)ジ(炭素数1〜6アルコキシ)シリル基;フェニルジメトキシシリル基、フェニルジエトキシシリル基等の、(アリール)ジ(炭素数1〜6アルコキシ)シリル基;等が挙げられる。また、アルコキシシリル基は、ブロック共重合体水素化物(D)に、炭素数1〜20のアルキレン基や、炭素数2〜20のアルキレンオキシカルボニルアルキレン基等の2価の有機基を介して結合していても良い。   Examples of the alkoxysilyl group include tri (C1-C6 alkoxy) silyl groups such as trimethoxysilyl group and triethoxysilyl group; methyldimethoxysilyl group, methyldiethoxysilyl group, ethyldimethoxysilyl group, ethyldiethoxysilyl group Group, propyldimethoxysilyl group, propyldiethoxysilyl group, (C1-C20 alkyl) di (C1-C6 alkoxy) silyl group; phenyldimethoxysilyl group, phenyldiethoxysilyl group, (aryl ) Di (C1-C6 alkoxy) silyl group; and the like. The alkoxysilyl group is bonded to the block copolymer hydride (D) via a divalent organic group such as an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms or an alkyleneoxycarbonylalkylene group having 2 to 20 carbon atoms. You may do it.

ブロック共重合体水素化物(D)へのアルコキシシリル基の導入量は、通常、ブロック共重合体水素化物(D)100重量部に対し、0.1〜10重量部、好ましくは0.2〜5重量部、より好ましくは0.5〜3重量部である。アルコキシシリル基の導入量が多過ぎると、得られる変性ブロック共重合体水素化物(E)を保存中に微量の水分等で分解されたアルコキシシリル基同士の架橋が進み、ゲル化したり、溶融成形時の流動性が低下して、接着剤としての接着性が低下するおそれがある。また、アルコキシシリル基の導入量が少な過ぎると、接着剤として金属層及び耐熱性樹脂層に対する接着性が低下するおそれがある。   The amount of the alkoxysilyl group introduced into the block copolymer hydride (D) is usually 0.1 to 10 parts by weight, preferably 0.2 to 100 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the block copolymer hydride (D). 5 parts by weight, more preferably 0.5 to 3 parts by weight. When the introduction amount of alkoxysilyl groups is too large, the resulting modified block copolymer hydride (E) is cross-linked with alkoxysilyl groups that have been decomposed with a small amount of moisture during storage, resulting in gelation or melt molding. There is a possibility that the fluidity at the time is lowered and the adhesiveness as an adhesive is lowered. Moreover, when there is too little introduction amount of an alkoxy silyl group, there exists a possibility that the adhesiveness with respect to a metal layer and a heat resistant resin layer as an adhesive agent may fall.

変性ブロック共重合体水素化物(E)は、公知の方法に従って製造することができる。製造方法としては、例えば、WO2012/043708号パンフレット、国WO2013/176258号パンフレット等に記載された方法が挙げられる。より具体的には、上記のブロック共重合体水素化物(D)に、有機過酸化物の存在下で、エチレン性不飽和シラン化合物を反応させる方法が挙げられる。   The modified block copolymer hydride (E) can be produced according to a known method. As a manufacturing method, the method described in WO2012 / 043708 pamphlet, country WO2013 / 176258 pamphlet, etc. are mentioned, for example. More specifically, a method of reacting the block copolymer hydride (D) with an ethylenically unsaturated silane compound in the presence of an organic peroxide can be mentioned.

用いるエチレン性不飽和シラン化合物としては、ブロック共重合体水素化物[D]とグラフト重合し、ブロック共重合体水素化物[D]にアルコキシシリル基を導入するものであれば、特に限定されない。例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、アリルトリエトキシシラン、ジメトキシメチルビニルシラン、ジエトキシメチルビニルシラン、p−スチリルトリメトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラ、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、等が好適に用いられる。これらのエチレン性不飽和シラン化合物は、それぞれ単独で用いてもよいし、2種以上を組み合せて使用してもよい。
エチレン性不飽和シラン化合物の使用量は、ブロック共重合体水素化物(D)100重量部に対して、通常0.1〜10重量部、好ましくは0.2〜5重量部、より好ましくは0.5〜3重量部である。
The ethylenically unsaturated silane compound to be used is not particularly limited as long as it is graft-polymerized with the block copolymer hydride [D] and introduces an alkoxysilyl group into the block copolymer hydride [D]. For example, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, allyltrimethoxysilane, allyltriethoxysilane, dimethoxymethylvinylsilane, diethoxymethylvinylsilane, p-styryltrimethoxysilane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, 3-acrylic Loxypropyltriethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltriethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldiethoxysila, 3-acryloxypropyltrimethoxy Silane and the like are preferably used. These ethylenically unsaturated silane compounds may be used alone or in combination of two or more.
The amount of the ethylenically unsaturated silane compound used is usually 0.1 to 10 parts by weight, preferably 0.2 to 5 parts by weight, and more preferably 0 to 100 parts by weight of the block copolymer hydride (D). 0.5 to 3 parts by weight.

有機過酸化物としては、1分間半減期温度が170〜190℃のものが好ましく使用される。例えば、t−ブチルクミルパーオキシド、ジクミルパーオキサイド、ジ−t−ヘキシルパーオキシド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキサン、ジ−t−ブチルパーオキシド、ジ(2−t−ブチルパーオキシイソプロピル)ベンゼン等が好適に用いられる。これらの過酸化物は、それぞれ単独で用いてもよいし、2種以上を組み合せて使用してもよい。過酸化物の使用量は、ブロック共重合体水素化物(D)100重量部に対して、通常0.05〜2重量部、好ましくは0.1〜1重量部、より好ましくは0.2〜0.5重量である。   As the organic peroxide, those having a 1-minute half-life temperature of 170 to 190 ° C. are preferably used. For example, t-butyl cumyl peroxide, dicumyl peroxide, di-t-hexyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) hexane, di-t-butyl peroxide, Di (2-t-butylperoxyisopropyl) benzene or the like is preferably used. These peroxides may be used alone or in combination of two or more. The amount of peroxide used is usually 0.05 to 2 parts by weight, preferably 0.1 to 1 part by weight, more preferably 0.2 to 100 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the block copolymer hydride (D). 0.5 weight.

上記のブロック共重合体水素化物(D)とエチレン性不飽和シラン化合物とを、過酸化物の存在下で反応させる方法は、特に限定されない。例えば、二軸混練機にて所望の温度で所望の時間混練することにより、ブロック共重合体水素化物(D)にアルコキシシリル基を導入することができる。二軸混練機による混練温度は、通常180〜220℃、好ましくは185〜210℃、より好ましくは190〜200℃である。加熱混練時間は、通常0.1〜10分、好ましくは0.2〜5分、より好ましくは0.3〜2分程度である。温度、滞留時間が上記範囲になるようにして、連続的に混練、押出しをすればよい。得られた変性ブロック共重合体水素化物(E)の形態は限定されるものではないが、通常はペレット形状にして、その後の接着剤の製造に供することができる。   The method for reacting the block copolymer hydride (D) with the ethylenically unsaturated silane compound in the presence of peroxide is not particularly limited. For example, an alkoxysilyl group can be introduced into the block copolymer hydride (D) by kneading for a desired time at a desired temperature in a biaxial kneader. The kneading temperature by the biaxial kneader is usually 180 to 220 ° C, preferably 185 to 210 ° C, more preferably 190 to 200 ° C. The heat kneading time is usually about 0.1 to 10 minutes, preferably about 0.2 to 5 minutes, and more preferably about 0.3 to 2 minutes. What is necessary is just to knead | mix and extrude continuously so that temperature and residence time may become the said range. Although the form of the obtained modified block copolymer hydride (E) is not limited, it can usually be formed into a pellet shape and used for the subsequent production of an adhesive.

変性ブロック共重合体水素化物(E)の分子量は、導入されるアルコキシシリル基の量が少ないため、原料として用いたブロック共重合体水素化物(D)の分子量と実質的には変わらない。一方、過酸化物の存在下で、エチレン性不飽和シラン化合物と反応させるため、重合体の架橋反応、切断反応が併発し、変性ブロック共重合体水素化物(E)の分子量分布の値は大きくなる。   The molecular weight of the modified block copolymer hydride (E) is substantially the same as the molecular weight of the block copolymer hydride (D) used as a raw material because the amount of alkoxysilyl groups introduced is small. On the other hand, in order to react with the ethylenically unsaturated silane compound in the presence of peroxide, the cross-linking reaction and cleavage reaction of the polymer occur simultaneously, and the molecular weight distribution value of the modified block copolymer hydride (E) is large. Become.

変性ブロック共重合体水素化物(E)の分子量は、THFを溶媒としたGPCにより測定されるポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)で、通常40,000〜200,000、好ましくは50,000〜150,000、より好ましくは60,000〜100,000である。また、分子量分布(Mw/Mn)は、好ましくは3.5以下、より好ましくは2.5以下、特に好ましくは2.0以下である。Mw及びMw/Mnが上記範囲となるようにすると、変性ブロック共重合体水素化物(E)の機械的強度が維持される。   The molecular weight of the modified block copolymer hydride (E) is a polystyrene-reduced weight average molecular weight (Mw) measured by GPC using THF as a solvent, and is usually 40,000 to 200,000, preferably 50,000 to 150,000, more preferably 60,000 to 100,000. The molecular weight distribution (Mw / Mn) is preferably 3.5 or less, more preferably 2.5 or less, and particularly preferably 2.0 or less. When Mw and Mw / Mn are within the above ranges, the mechanical strength of the modified block copolymer hydride (E) is maintained.

(4)接着剤
本発明の変性ブロック共重合体水素化物(E)を主成分として含有する接着剤は、金属層および耐熱性樹脂層との接着性に優れるものである。
本発明の接着剤において、変性ブロック共重合体水素化物(E)の含有量は、表面粗度の小さい金属層と耐熱性樹脂層とを強固に接着する観点から、通常9重量%以上、好ましくは11重量%以上、より好ましくは14重量%以上である。
(4) Adhesive The adhesive containing the modified block copolymer hydride (E) of the present invention as a main component is excellent in adhesion to the metal layer and the heat-resistant resin layer.
In the adhesive of the present invention, the content of the modified block copolymer hydride (E) is usually 9% by weight or more, preferably from the viewpoint of firmly bonding the metal layer having a small surface roughness and the heat-resistant resin layer. Is 11% by weight or more, more preferably 14% by weight or more.

本発明の接着剤は、耐熱性樹脂層との接着強度をさらに高めるために、主成分としての変性ブロック共重合体水素化物(E)に加えてシランカップリング剤を含むことが好ましい。   The adhesive of the present invention preferably contains a silane coupling agent in addition to the modified block copolymer hydride (E) as a main component in order to further increase the adhesive strength with the heat resistant resin layer.

配合するシランカップリング剤としては、接着剤の特性をより向上させる観点から、エポキシシラン系カップリング剤、アミノシラン系カップリング剤が好ましく、エポキシシラン系カップリング剤が特に好ましい。   As the silane coupling agent to be blended, from the viewpoint of further improving the properties of the adhesive, an epoxy silane coupling agent and an amino silane coupling agent are preferable, and an epoxy silane coupling agent is particularly preferable.

エポキシシラン系カップリング剤の具体例としては、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。
アミノシラン系カップリング剤の具体例としては、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−トリエトキシシリル−N−(1,3−ジメチル−ブチリデン)プロピルアミン、N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−(ビニルベンジル)−2−アミノエチル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。
Specific examples of the epoxysilane coupling agent include 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, and 3-glycol. Sidoxypropyltriethoxysilane etc. are mentioned.
Specific examples of the aminosilane coupling agent include N-2- (aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, N-2- ( Aminoethyl) -3-aminopropyltriethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-triethoxysilyl-N- (1,3-dimethyl-butylidene) propylamine, N- Examples include phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, N- (vinylbenzyl) -2-aminoethyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, and the like.

シランカップリング剤の配合量は、変性ブロック共重合体水素化物(E)100重量部に対して、通常、0.1〜10重量部以下、好ましくは0.1〜5重量部、より好ましくは0.5〜3重量部の割合で配合される。シランカップリング剤の配合量を上記範囲とすることにより、本発明の接着剤と極性基を有する耐熱性樹脂層との接着性をさらに高めることができ、ブロック共重合体水素化物(D)が有する低誘電率特性が維持される。   The amount of the silane coupling agent is usually 0.1 to 10 parts by weight, preferably 0.1 to 5 parts by weight, more preferably 100 parts by weight of the modified block copolymer hydride (E). It mix | blends in the ratio of 0.5-3 weight part. By making the compounding quantity of a silane coupling agent into the said range, the adhesiveness of the adhesive of this invention and the heat resistant resin layer which has a polar group can further be improved, and block copolymer hydride (D) becomes The low dielectric constant characteristics are maintained.

本発明の接着剤の耐熱変形性をさらに向上させる目的で、変性ブロック共重合体水素化物(E)に架橋助剤及び有機過酸化物を配合することができる。
架橋助剤としては、トリアリルイソシアヌレート、多価アクリル酸エステル、多価メタクリル酸エステル等が挙げられる。これらの架橋助剤は、それぞれ単独で使用してもよく、また2種以上を組み合わせて使用してもよい。
架橋助剤の配合量は、変性ブロック共重合体水素化物(E)100重量部に対して、通常5重量部以下、好ましくは3重量部以下、より好ましくは2重量部以下である。この範囲であれば、接着剤の耐熱変形性を改善し、誘電率の増大を小さく抑えることができる。
In order to further improve the heat distortion resistance of the adhesive of the present invention, a crosslinking assistant and an organic peroxide can be blended with the modified block copolymer hydride (E).
Examples of the crosslinking aid include triallyl isocyanurate, polyvalent acrylic acid ester, and polyvalent methacrylate acid. These crosslinking aids may be used alone or in combination of two or more.
The amount of the crosslinking aid is usually 5 parts by weight or less, preferably 3 parts by weight or less, more preferably 2 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the modified block copolymer hydride (E). If it is this range, the heat-resistant deformation property of an adhesive agent can be improved and the increase in a dielectric constant can be suppressed small.

有機過酸化物としては、1,1−ジ(t−ブチルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルチクロヘキサン、1,1−ジ(t−ブチルパーオキシ)−2−メチルシクロヘキサン、1,1−ジ(t−ブチルパーオキシ)シクロヘキサン、2,5−ジメチル−2,5−ジ(ベンゾイルパーオキシ)ヘキサン、2,2−ジ(t−ブチルパーオキシ)ブタン、n−ブチル−4,4−ジ(t−ブチルパーオキシ)バレレート、t−ブチルパーオキシベンゾエート、t−ブチルクミルパーオキシド、ジクミルパーオキサイド、ジ−t−ヘキシルパーオキシド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキサン、ジ−t−ブチルパーオキシド、t−ブチルパーオキシイソブチレート、ラウロイルパーオキシド、ジプロピオニルパーオキシド、p−メンタンハイドロパーオキサイド等が挙げられる。これらの有機過酸化物は、それぞれ単独で使用してもよく、また2種以上を組み合わせて使用してもよい。
架橋剤の使用量は変性ブロック共重合体水素化物[E]100重量部に対して、通常1重量部以下、好ましくは0.5重量部以下、より好ましくは0.3重量部以下である。この範囲であれば接着剤の耐熱変形性を改善し、誘電率の増大を小さく抑えることができる。
Examples of the organic peroxide include 1,1-di (t-butylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1-di (t-butylperoxy) -2-methylcyclohexane, 1-di (t-butylperoxy) cyclohexane, 2,5-dimethyl-2,5-di (benzoylperoxy) hexane, 2,2-di (t-butylperoxy) butane, n-butyl-4, 4-di (t-butylperoxy) valerate, t-butylperoxybenzoate, t-butylcumyl peroxide, dicumyl peroxide, di-t-hexyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di (T-butylperoxy) hexane, di-t-butyl peroxide, t-butylperoxyisobutyrate, lauroyl peroxide, dipropionyl peroxide, - menthane hydroperoxide, and the like. These organic peroxides may be used alone or in combination of two or more.
The amount of the crosslinking agent used is usually 1 part by weight or less, preferably 0.5 parts by weight or less, more preferably 0.3 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the modified block copolymer hydride [E]. If it is this range, the heat-resistant deformation property of an adhesive agent can be improved and the increase in a dielectric constant can be suppressed small.

本発明の接着剤には、耐熱劣化性をさらに向上させるために、酸化防止剤を配合することができる。酸化防止剤としては、フェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤、等が使用できる。酸化防止剤の配合量は、変性ブロック共重合体水素化物(E)100重量部に対して0.3重量部以下、好ましくは0.2重量部以下、より好ましくは0.1重量部以下である。この範囲であれば、接着剤の耐熱劣化性を改善し、誘電率の増加を抑止できる。   In the adhesive of the present invention, an antioxidant can be blended in order to further improve the heat deterioration resistance. As the antioxidant, a phenol-based antioxidant, a phosphorus-based antioxidant, a sulfur-based antioxidant, and the like can be used. The blending amount of the antioxidant is 0.3 parts by weight or less, preferably 0.2 parts by weight or less, more preferably 0.1 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the modified block copolymer hydride (E). is there. If it is this range, the heat-resistant deterioration property of an adhesive agent can be improved and the increase in a dielectric constant can be suppressed.

本発明の接着剤には、難燃性を付与するために、難燃化剤を配合することができる。難燃剤としては、ハロゲン系難燃剤、リン系難燃剤、金属水酸化物系難燃剤、等が使用できる。難燃剤の配合量は、変性ブロック共重合体水素化物(E)100重量部に対して10重量部以下、好ましくは5重量部以下、より好ましくは2重量部以下である。この範囲であれば、接着剤の難燃性を改善しつつ、誘電率の増加を抑止できる。   In order to impart flame retardancy, a flame retardant can be blended in the adhesive of the present invention. As the flame retardant, a halogen flame retardant, a phosphorus flame retardant, a metal hydroxide flame retardant, or the like can be used. The blending amount of the flame retardant is 10 parts by weight or less, preferably 5 parts by weight or less, and more preferably 2 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the modified block copolymer hydride (E). If it is this range, the increase in a dielectric constant can be suppressed, improving the flame retardance of an adhesive agent.

本発明の接着剤は、通常、有機溶剤、変性ブロック共重合体水素化物(E)、及び必要に応じて配合剤からなる。
有機溶剤としては、変性ブロック共重合体水素化物(E)を溶解する有機溶剤が使用できる。具体的には、例えば、トルエン、キシレン、ソルベントナフサ等の芳香族系溶剤;デカリン等の飽和炭化水系溶剤;シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ジメチルシクロヘキサン等の脂環式炭化水素系溶剤;テトラヒドロフラン等のエーテル系溶剤;リモネン等のテルペン系溶剤;シクロヘキサノン等のケトン系溶剤;等が挙げられる。
これらの有機溶剤はそれぞれ単独で使用してもよく、また2種以上を組み合わせて使用してもよい。
これらの中でも、基材へ塗布された接着剤からの溶剤の揮発性及び塗布工程での作業性の観点から、沸点(1気圧=1024hPaにおける沸点)90℃以上の有機溶剤が好ましく、沸点が100〜150℃の有機溶剤が特に好ましい。これらの溶剤には、沸点が90℃を下まわる有機溶剤を混合して使用することもできる。
The adhesive of the present invention usually comprises an organic solvent, a modified block copolymer hydride (E), and, if necessary, a compounding agent.
As the organic solvent, an organic solvent capable of dissolving the modified block copolymer hydride (E) can be used. Specifically, for example, aromatic solvents such as toluene, xylene and solvent naphtha; saturated hydrocarbon solvents such as decalin; alicyclic hydrocarbon solvents such as cyclohexane, methylcyclohexane and dimethylcyclohexane; ethers such as tetrahydrofuran Solvent; terpene solvents such as limonene; ketone solvents such as cyclohexanone; and the like.
These organic solvents may be used alone or in combination of two or more.
Among these, from the viewpoint of the volatility of the solvent from the adhesive applied to the substrate and the workability in the coating process, an organic solvent having a boiling point (boiling point at 1 atm = 1024 hPa) of 90 ° C. or higher is preferable, and the boiling point is 100. An organic solvent of ˜150 ° C. is particularly preferred. These solvents can also be used by mixing with an organic solvent having a boiling point lower than 90 ° C.

本発明の接着剤が有機溶剤を含む場合、有機溶剤の使用量は、本発明の接着剤を基材に塗布する工程での作業性を考慮して適宜選定すればよい。また、変性ブロック共重合体水素化物(E)の他の各種配合剤も溶液中に溶解乃至混合して使用できる。有機溶剤の含有量は、変性ブロック共重合体水素化物(E)100重量部に対し、通常100〜1000重量部、好ましくは150〜800重量部、より好ましくは200〜600重量部の割合である。   When the adhesive of the present invention contains an organic solvent, the amount of the organic solvent used may be appropriately selected in consideration of workability in the step of applying the adhesive of the present invention to a substrate. Various other compounding agents of the modified block copolymer hydride (E) can also be used by dissolving or mixing in the solution. The content of the organic solvent is usually 100 to 1000 parts by weight, preferably 150 to 800 parts by weight, and more preferably 200 to 600 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the modified block copolymer hydride (E). .

本発明の接着剤は、表面粗度の小さい金属層と耐熱性樹脂層との接着性に優れ、かつ低誘電率で電気絶縁性に優れる。
本発明の接着剤が、接着性に優れることは、例えば、実施例に記載のようにして測定される剥離強度が4N/cm以上であることから、確認することができる。本発明の接着剤が低誘電率で電気絶縁性に優れることは、例えば、実施例に記載の、空洞共振器摂動法(ASTM D2520)により測定される、5GHzにおける誘電率が、2.5以下であり、誘電正接が0.002以下であることから、確認することができる。
The adhesive of the present invention has excellent adhesion between a metal layer having a small surface roughness and a heat-resistant resin layer, and has a low dielectric constant and excellent electrical insulation.
It can be confirmed that the adhesive of the present invention is excellent in adhesiveness because, for example, the peel strength measured as described in Examples is 4 N / cm or more. The adhesive of the present invention has a low dielectric constant and excellent electrical insulation. For example, the dielectric constant at 5 GHz measured by the cavity resonator perturbation method (ASTM D2520) described in the Examples is 2.5 or less. Since the dielectric loss tangent is 0.002 or less, it can be confirmed.

(5)接着剤の使用方法
本発明の有機溶剤を含む接着剤は、通常、耐熱性樹脂層及び/又は金属層に塗布した後、溶剤を揮発除去して接着剤を塗膜状にして使用する。
本発明の接着剤の塗膜が形成された耐熱性樹脂層及び/又は金属層は、塗膜面にもう一方の被着体である金属層及び/又は耐熱性樹脂層を積層して、加熱及び加圧することにより、耐熱性樹脂層と金属層が本発明の接着剤で接着された複合接合体となる。
(5) Method of using the adhesive The adhesive containing the organic solvent of the present invention is usually applied to the heat-resistant resin layer and / or the metal layer, and then the solvent is removed by volatilization and the adhesive is used as a coating. To do.
The heat resistant resin layer and / or metal layer on which the coating film of the adhesive of the present invention is formed is heated by laminating the metal layer and / or heat resistant resin layer as the other adherend on the coating film surface. Then, by applying pressure, a composite joined body in which the heat-resistant resin layer and the metal layer are bonded with the adhesive of the present invention is obtained.

本発明の有機溶剤を含む接着剤を使用する場合、溶剤を揮発除去した後の接着剤の厚さは、通常5〜100μm、好ましくは8〜70μm、より好ましくは10〜50μmである。接着剤の厚さがこの範囲であれば、残留する有機溶剤が少なく、他の被着体層と良好な接着性が得られる。   When using the adhesive agent containing the organic solvent of this invention, the thickness of the adhesive agent after volatilizing and removing a solvent is 5-100 micrometers normally, Preferably it is 8-70 micrometers, More preferably, it is 10-50 micrometers. If the thickness of the adhesive is within this range, the remaining organic solvent is small and good adhesion to other adherend layers can be obtained.

本発明の接着剤を使用して耐熱性樹脂層と金属層を接着する際の加熱温度は、通常、100〜200℃、好ましくは110〜190℃、より好ましくは120〜180℃である。本発明の接着剤を使用して耐熱性樹脂層と金属層を接着する際の被着体にかける圧力は、通常、0.01〜10MPa、好ましくは0.05〜5MPa、より好ましくは0.1〜1MPaである。また、加熱及び加圧する時間は、通常、1〜90分、好ましくは3〜60分、より好ましくは5〜30分である。
温度、圧力及び時間がこの範囲であれば、耐熱性樹脂層と金属層との良好な接着性が得られる。
The heating temperature when the heat-resistant resin layer and the metal layer are bonded using the adhesive of the present invention is usually 100 to 200 ° C, preferably 110 to 190 ° C, more preferably 120 to 180 ° C. The pressure applied to the adherend when the heat-resistant resin layer and the metal layer are bonded using the adhesive of the present invention is usually 0.01 to 10 MPa, preferably 0.05 to 5 MPa, more preferably 0.00. 1 to 1 MPa. Moreover, the time to heat and pressurize is 1 to 90 minutes normally, Preferably it is 3 to 60 minutes, More preferably, it is 5 to 30 minutes.
When the temperature, pressure and time are within this range, good adhesion between the heat-resistant resin layer and the metal layer can be obtained.

本発明の接着剤は、金属層とセラミック層と強固に接着させることもできる。
セラミック層は、通常、無機粉末に、適宜、焼結助剤や、有機溶媒や水等の混合用補助剤を配合して均一混合物として、プレス成形等により成形品とし、さらに、混合補助剤を乾燥、加熱等により除去した後、焼成して焼結させて製造されるシート状のものが使用できる。
The adhesive of the present invention can be firmly bonded to the metal layer and the ceramic layer.
The ceramic layer is usually formed into a molded product by press molding or the like as a uniform mixture by appropriately mixing a sintering aid or a mixing aid such as an organic solvent or water with inorganic powder, and further adding a mixing aid. After removing by drying, heating or the like, a sheet-like product produced by firing and sintering can be used.

使用するセラミックスの具体例としては、窒化アルミ−窒化硼素複合体、アルミナ−窒化硼素複合体、酸化ジルコニウム−窒化硼素複合体、窒化珪素−窒化硼素複合体、β−ウォラストナイト、コーディエライト、雲母、等を主原料としてなる焼結体;アルミニウム、珪素、ストロンチウム等主成分として、チタン、ビスマス、銅、マンガン、ナトリウム、カリウム等を副成分とするセラミック;アルミニウム、マグネシウム及び珪素を含むセラミック;アルミニウム、珪素、ジルコニウム及びマグネシウムを含むセラミック;アルミナ、チタン酸バリウム、窒化アルミニウム等;が挙げられる。   Specific examples of ceramics used include aluminum nitride-boron nitride composite, alumina-boron nitride composite, zirconium oxide-boron nitride composite, silicon nitride-boron nitride composite, β-wollastonite, cordierite, Sintered body mainly composed of mica, etc .; ceramics mainly composed of aluminum, silicon, strontium, etc., and titanium, bismuth, copper, manganese, sodium, potassium, etc. as minor components; ceramics containing aluminum, magnesium and silicon; Ceramics containing aluminum, silicon, zirconium and magnesium; alumina, barium titanate, aluminum nitride and the like.

セラミック層の厚さは特に限定されないが、通常0.5〜2mm、好ましくは0.6〜1.5mm、より好ましくは0.7〜1.2mmである。厚さがこの範囲にあれば、取扱作業性、機械的強度、等が良好である。   Although the thickness of a ceramic layer is not specifically limited, Usually, 0.5-2 mm, Preferably it is 0.6-1.5 mm, More preferably, it is 0.7-1.2 mm. If the thickness is within this range, the handling workability, mechanical strength, etc. are good.

金属層とセラミック層とを本発明の接着剤により接着されてなる複合接合体の例としては、セラミック層/接着剤層/銅層等のような3層の複合接合体;銅層/接着剤層/セラミック層/接着剤層/銅層等のような5層の複合接合体;等が挙げられる。   Examples of composite joints obtained by bonding a metal layer and a ceramic layer with the adhesive of the present invention include three-layer composite joints such as ceramic layer / adhesive layer / copper layer; copper layer / adhesive 5-layer composite joined body such as layer / ceramic layer / adhesive layer / copper layer; and the like.

2)複合接合体
本発明の複合接合体は、耐熱性樹脂層と金属層とが本発明の接着剤で接着されてなることを特徴とする。
2) Composite bonded body The composite bonded body of the present invention is characterized in that a heat-resistant resin layer and a metal layer are bonded with the adhesive of the present invention.

(1)金属層
本発明の複合接合体の金属層は、本発明の接着剤で接着する被着体である。当該金属層としては、基材の上に鍍金や蒸着等の方法により積層された金属層、基材の上に接着剤で金属箔が接着された金属層、金属からなる単層又は多層のシート状のもの等が挙げられる。また、金属層は電気回路のように基材の上に線状や面状のパターンが形成されたものであってもよい。
(1) Metal layer The metal layer of the composite joined body of the present invention is an adherend bonded with the adhesive of the present invention. As the metal layer, a metal layer laminated on a substrate by a method such as plating or vapor deposition, a metal layer in which a metal foil is adhered to the substrate with an adhesive, a single layer or a multilayer sheet made of metal And the like. Further, the metal layer may have a linear or planar pattern formed on a base material like an electric circuit.

金属層を構成する金属の具体例としては、アルミニウム、ガリウム、インジウム、チタン、バナジウム、クロム、モリブデン、タングステン、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、パラジウム、白金、銅、銀、金、亜鉛等の金属;鉄合金、銅合金、アルミ合金、ニッケル合金、半田、ウッドメタル、超鋼合金、ホワイトゴールド等の合金;等が挙げられる。   Specific examples of the metal constituting the metal layer include metals such as aluminum, gallium, indium, titanium, vanadium, chromium, molybdenum, tungsten, manganese, iron, cobalt, nickel, palladium, platinum, copper, silver, gold, and zinc. An alloy such as iron alloy, copper alloy, aluminum alloy, nickel alloy, solder, wood metal, super steel alloy, and white gold;

金属層の厚さは特に限定されないが、通常0.01〜300μm、好ましくは0.05〜200μm、より好ましくは0.1〜100μmである。金属層の厚みは、電気回路、導電層、電磁波遮蔽層、酸素、水、等のバリアー層、選択的光反射層、等の目的により適宜選定される   Although the thickness of a metal layer is not specifically limited, Usually, 0.01-300 micrometers, Preferably it is 0.05-200 micrometers, More preferably, it is 0.1-100 micrometers. The thickness of the metal layer is appropriately selected according to the purpose such as an electric circuit, a conductive layer, an electromagnetic wave shielding layer, a barrier layer such as oxygen and water, and a selective light reflecting layer.

金属層の表面粗さも目的により適宜選定される。例えば、金属層が高周波電気回路である場合は、金属層の表面粗度は、最大高さ粗さRzで通常3.0μm以下、好ましくは1.5μm以下、より好ましくは1.0μm以下である。最大高さ粗さRzがこの範囲にあれば、高周波領域での伝送損失が小さくなる。上述のように、本発明の接着剤を用いることにより、最大高さ粗さRzで通常3.0μm以下、好ましくは1.5μm以下、より好ましくは1.0μm以下という表面粗度の小さい金属層と耐熱性樹脂層とが強固に接着された複合接合体が得られる。   The surface roughness of the metal layer is also appropriately selected depending on the purpose. For example, when the metal layer is a high-frequency electric circuit, the surface roughness of the metal layer is usually 3.0 μm or less, preferably 1.5 μm or less, more preferably 1.0 μm or less in terms of the maximum height roughness Rz. . If the maximum height roughness Rz is within this range, transmission loss in the high frequency region is reduced. As described above, by using the adhesive of the present invention, a metal layer having a small surface roughness such as a maximum height roughness Rz of usually 3.0 μm or less, preferably 1.5 μm or less, more preferably 1.0 μm or less. And a composite bonded body in which the heat-resistant resin layer is firmly bonded.

(2)耐熱性樹脂層
本発明の複合接合体の耐熱性樹脂層は、本発明の接着剤で接着する被着体である。当該耐熱性樹脂層は、通常180℃以上、好ましくは220℃以上、より好ましくは260℃以上の耐熱変形性を有する耐熱性樹脂からなる層である。
耐熱変形性は、JIS K7919−1法(プラスチック−荷重たわみ温度の求め方)に従って求められる荷重たわみ温度で評価できる。
耐熱性樹脂の荷重たわみ温度が上記範囲であれば、電気絶縁材料等として有用である。
(2) Heat-resistant resin layer The heat-resistant resin layer of the composite joined body of the present invention is an adherend bonded with the adhesive of the present invention. The heat-resistant resin layer is a layer made of a heat-resistant resin having a heat-deformability that is usually 180 ° C. or higher, preferably 220 ° C. or higher, more preferably 260 ° C. or higher.
The heat deformation resistance can be evaluated by a load deflection temperature obtained according to JIS K7919-1 method (plastic-method for obtaining a deflection temperature under load).
If the deflection temperature under load of the heat resistant resin is in the above range, it is useful as an electrically insulating material.

耐熱性樹脂層は、基材の上に積層された耐熱性樹脂からなる層であっても、耐熱性樹脂からなる単層又は多層のフィルム状のものであってもよい。
耐熱性樹脂層を構成する耐熱性樹脂の具体例としては、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエーテルルイミド樹脂、芳香族ポリアミド樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエーテルサルホン樹脂、液晶ポリマー、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ビスマレイミド樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂等が挙げられる。
The heat-resistant resin layer may be a layer made of a heat-resistant resin laminated on a base material, or may be a single layer or multilayer film made of a heat-resistant resin.
Specific examples of the heat resistant resin constituting the heat resistant resin layer include polyimide resin, polyamideimide resin, polyether imide resin, aromatic polyamide resin, polyarylate resin, polyether sulfone resin, liquid crystal polymer, polyphenylene sulfide resin. , Bismaleimide resin, epoxy resin, unsaturated polyester resin and the like.

耐熱性樹脂層の厚さは特に限定されないが、通常1〜500μm、好ましくは10〜300μm、より好ましくは20〜200μmである。厚さがこの範囲にあれば、耐熱性樹脂層の電気絶縁性、機械的強度、等が良好である。   Although the thickness of a heat resistant resin layer is not specifically limited, Usually, 1-500 micrometers, Preferably it is 10-300 micrometers, More preferably, it is 20-200 micrometers. When the thickness is within this range, the electrical insulation property, mechanical strength, etc. of the heat resistant resin layer are good.

(3)複合接合体
本発明の複合接合体は、耐熱性樹脂層と金属層が本発明の接着剤で接着されてなる積層体である。
本発明の複合接合体は、少なくとも、耐熱性樹脂層、接着剤層及び金属層をこの順で有する積層体であれば、その層構成に特に制限されない。
本発明の複合接合体の具体例としては、ポリイミド樹脂層/接着剤層/銅層、液晶ポリマー層/接着剤層/銅層、ポリエーテルサルホン樹脂層/接着剤層/銅層、等のような3層の複合接合体;銅層/接着剤層/ガラス繊維・エポキシ樹脂層/接着剤層/銅層、銅層/接着剤層/ポリイミド樹脂層/接着剤層/銅層等のような5層の積層体;等が挙げられる。
(3) Composite Joint The composite joint of the present invention is a laminate in which a heat resistant resin layer and a metal layer are bonded with the adhesive of the present invention.
If the composite joined body of this invention is a laminated body which has a heat resistant resin layer, an adhesive bond layer, and a metal layer in this order at least, it will not restrict | limit especially in the layer structure.
Specific examples of the composite joined body of the present invention include polyimide resin layer / adhesive layer / copper layer, liquid crystal polymer layer / adhesive layer / copper layer, polyethersulfone resin layer / adhesive layer / copper layer, and the like. Such a three-layer composite joint; copper layer / adhesive layer / glass fiber / epoxy resin layer / adhesive layer / copper layer, copper layer / adhesive layer / polyimide resin layer / adhesive layer / copper layer, etc. 5 layer laminates; and the like.

本発明の複合接合体は、例えば、次のステップ(I)、ステップ(II)及びステップ(III)を経ることにより製造することができる。
・ステップ(I):まず、耐熱性樹脂フィルム及び/又は金属箔に、有機溶剤を含む本発明の接着剤(接着剤溶液)を塗布し、得られた塗膜から溶剤を蒸発除去させ、接着剤層を形成する。溶剤を蒸発除去した後の接着剤の厚さは、通常5〜100μm、好ましくは8〜70μm、より好ましくは10〜50μmである。
・ステップ(II):次いで、接着剤層(本発明の接着剤の塗膜)が形成された耐熱性樹脂層及び/又は金属層の接着剤層面と、もう一方の被着体である金属層及び/又は耐熱性樹脂層とを積層して、積層物を得る。
・ステップ(III):次いで、得られた積層物を加熱及び加圧することにより、耐熱性樹脂層と金属層が本発明の接着剤で接着された複合接合体を得ることができる。
The composite conjugate | zygote of this invention can be manufactured by passing through following step (I), step (II), and step (III), for example.
Step (I): First, the adhesive (adhesive solution) of the present invention containing an organic solvent is applied to a heat-resistant resin film and / or a metal foil, and the solvent is evaporated and removed from the obtained coating film. An agent layer is formed. The thickness of the adhesive after removing the solvent by evaporation is usually 5 to 100 μm, preferably 8 to 70 μm, more preferably 10 to 50 μm.
Step (II): Next, the adhesive layer surface of the heat-resistant resin layer and / or metal layer on which the adhesive layer (the adhesive coating film of the present invention) is formed, and the metal layer as the other adherend And / or a heat resistant resin layer is laminated | stacked, and a laminated body is obtained.
Step (III): Next, by heating and pressurizing the obtained laminate, a composite joined body in which the heat-resistant resin layer and the metal layer are bonded with the adhesive of the present invention can be obtained.

得られた積層物を加熱する温度は、通常、100〜200℃、好ましくは110〜190℃、より好ましくは120〜180℃である。加圧圧力は、通常、0.01〜10MPa、好ましくは0.05〜5MPa、より好ましくは0.1〜1MPaである。また、加熱及び加圧する時間は、通常、1〜90分、好ましくは3〜60分、より好ましくは5〜30分である。
温度、圧力及び時間がこの範囲であれば、耐熱性樹脂層と金属層との良好な接着性が得られる。
The temperature which heats the obtained laminated body is 100-200 degreeC normally, Preferably it is 110-190 degreeC, More preferably, it is 120-180 degreeC. The pressurizing pressure is usually 0.01 to 10 MPa, preferably 0.05 to 5 MPa, more preferably 0.1 to 1 MPa. Moreover, the time to heat and pressurize is 1 to 90 minutes normally, Preferably it is 3 to 60 minutes, More preferably, it is 5 to 30 minutes.
When the temperature, pressure and time are within this range, good adhesion between the heat-resistant resin layer and the metal layer can be obtained.

本発明の複合接合体の製造方法において、前記ステップ(III)は、より具体的には次のようにして実施することができる。すなわち、ステップ(II)により得られた積層物を、NY(ナイロン)/接着層/PP(ポリプロピレン)の層構成を有する所定厚み(例えば、75μm)の樹脂製の袋に入れる。次いで、袋の開口部の中央部を所定の幅(例えば、200mm幅)を残して両側をヒートシーラーでヒートシールした後、市販の密封パック器を使用して、袋内を脱気しながら開口部をヒートシールして積層物を密封包装する。その後、密封包装した積層物をオートクレーブに入れて、所定温度、圧力(例えば、温度150℃、圧力0.8MPa)で所定時間(例えば、30分間)加熱加圧し、耐熱性樹脂フィルム/接着剤層/金属層の層構成を有する複合接合体を得ることができる。   In the method for producing a composite joined body of the present invention, the step (III) can be more specifically performed as follows. That is, the laminate obtained in step (II) is put in a resin bag having a predetermined thickness (for example, 75 μm) having a layer structure of NY (nylon) / adhesive layer / PP (polypropylene). Next, the center of the opening of the bag is heat-sealed on both sides with a heat sealer while leaving a predetermined width (for example, 200 mm width), and then opened using a commercially available sealed pack device while degassing the inside of the bag Heat seal the part and seal the laminate. After that, the hermetically sealed laminate is put in an autoclave and heated and pressurized at a predetermined temperature and pressure (for example, temperature 150 ° C., pressure 0.8 MPa) for a predetermined time (for example, 30 minutes), and a heat resistant resin film / adhesive layer / A composite assembly having a metal layer structure can be obtained.

本発明の接着剤を使用して製造されるポリイミド樹脂層と表面粗度の小さい銅層を積層した複合接合体は、高周波フレキシブルプリント基板用材料等として好適に使用することができる。   A composite joined body obtained by laminating a polyimide resin layer produced using the adhesive of the present invention and a copper layer having a small surface roughness can be suitably used as a material for a high-frequency flexible printed circuit board.

以下に実施例を示しながら、本発明をさらに詳細に説明するが、本発明は以下の実施例のみに限定されるものではない。なお「部」及び「%」は特に断りのない限り重量基準である。   The present invention will be described in more detail with reference to the following examples, but the present invention is not limited to the following examples. “Parts” and “%” are based on weight unless otherwise specified.

本実施例における評価は、以下の方法によって行う。
(1)重量平均分子量(Mw)及び分子量分布(Mw/Mn)の測定
ブロック共重合体及びブロック共重合体水素化物の分子量は、GPCにより38℃において測定し、標準ポリスチレン換算値として求めた。測定装置としては、東ソー社製HLC8020GPCを用いた。
(2)水素化率の測定
ブロック共重合体水素化物[D]の主鎖、側鎖及び芳香環の水素化率は、H−NMRスペクトルを測定して算出した。
Evaluation in this example is performed by the following method.
(1) Measurement of weight average molecular weight (Mw) and molecular weight distribution (Mw / Mn) The molecular weights of the block copolymer and the block copolymer hydride were measured by GPC at 38 ° C. and obtained as standard polystyrene conversion values. As a measuring apparatus, HLC8020GPC manufactured by Tosoh Corporation was used.
(2) Measurement of hydrogenation rate The hydrogenation rate of the main chain, the side chain and the aromatic ring of the block copolymer hydride [D] was calculated by measuring a 1 H-NMR spectrum.

(3)誘電率、誘電正接の評価方法
離形性PETフィルム(厚さ100μm)上に、接着剤層の厚みが20〜30μmになるように接着剤溶液を塗布し、イナートオーブン中で溶剤を蒸発除去させた。離形性PETフィルムから接着剤層を剥がし、接着剤層を多数重ねて、140℃で真空プレス成形して、厚み700〜760μmの接着剤シートを成形した。得られた接着剤シートを、イナートオーブン中で、150℃で1時間加熱処理して揮発成分を除去させ、誘電率、誘電正接を評価する試料とした。
この接着剤シートから、縦80mm、横1.5mmの試験片を作製し、空洞共振器摂動法(ASTM D2520)より、5GHzにおける誘電率、誘電正接を測定した。
(3) Evaluation method of dielectric constant and dielectric loss tangent
An adhesive solution was applied onto a releasable PET film (thickness: 100 μm) so that the thickness of the adhesive layer was 20 to 30 μm, and the solvent was removed by evaporation in an inert oven. The adhesive layer was peeled off from the releasable PET film, a large number of adhesive layers were stacked, and vacuum press-molded at 140 ° C. to form an adhesive sheet having a thickness of 700 to 760 μm. The obtained adhesive sheet was heat-treated at 150 ° C. for 1 hour in an inert oven to remove volatile components, and used as a sample for evaluating dielectric constant and dielectric loss tangent.
A test piece having a length of 80 mm and a width of 1.5 mm was prepared from the adhesive sheet, and a dielectric constant and a dielectric loss tangent at 5 GHz were measured by a cavity resonator perturbation method (ASTM D2520).

(4)接着性の評価方法
耐熱性樹脂層と接着剤の接着性、及び金属層と接着剤の接着性を、以下のようにして評価した。
耐熱性樹脂フィルム(厚み50〜150μm)又は金属箔(厚み10〜50μm)の片面に、部分的に接着剤を塗布しない箇所を残し、溶剤を除去させた後の接着剤層の厚みが10〜20μmになるように接着剤溶液を塗布し、イナートオーブン中で溶剤を蒸発除去させた。
接着剤を塗布した耐熱性樹脂フィルム又は金属箔を、接着剤を塗布していない箇所を含み、接着剤の塗布面が幅15mm×長さ150mmの大きさになるように切断して試験片とした。次に、この試験片2枚を、接着剤塗布面を対向させて重ね合わせ、所定の条件で加熱加圧して接着して剥離強度測定用の試験片を作製した。
耐熱性樹脂フィルム又は金属箔の接着剤を塗布していない部分を引張り試験機(製品名「AGS−10KNX」、島津製作所社製)に固定し、剥離速度100mm/分で、JIS K 6854−2に準じて180°剥離試験を行い、剥離強度を測定した。
接着性は、剥離強度が4N/cm以上の場合、接着性は良好(○)、4N/cmを下回る場合は不十分(×)と評価した。
(4) Adhesive evaluation method The adhesiveness between the heat-resistant resin layer and the adhesive and the adhesiveness between the metal layer and the adhesive were evaluated as follows.
On one side of the heat resistant resin film (thickness 50 to 150 μm) or metal foil (thickness 10 to 50 μm), the part where the adhesive is not applied partially is left, and the thickness of the adhesive layer after removing the solvent is 10 to 10 mm. The adhesive solution was applied to a thickness of 20 μm, and the solvent was removed by evaporation in an inert oven.
Cut the heat-resistant resin film or metal foil to which the adhesive was applied, including the part where the adhesive was not applied, so that the adhesive application surface is 15 mm wide x 150 mm long. did. Next, the two test pieces were overlapped with the adhesive-coated surfaces facing each other, and heated and pressed under predetermined conditions to bond them to prepare a test piece for peel strength measurement.
The portion of the heat-resistant resin film or metal foil that is not coated with the adhesive is fixed to a tensile tester (product name “AGS-10KNX”, manufactured by Shimadzu Corporation) and peeled at a rate of 100 mm / min. JIS K 6854-2 The peel strength was measured by performing a 180 ° peel test.
The adhesiveness was evaluated as good (◯) when the peel strength was 4 N / cm or more, and insufficient (×) when it was below 4 N / cm.

[製造例1]変性ブロック共重合体水素化物(E1)のペレットの製造
WO2012/043708号パンフレット及び/又はWO2014/077267号パンフレットに記載の方法を参考にして、ブロック共重合体水素化物(D1)(重量平均分子量(Mw):55,200、分子量分布(Mw/Mn):1.05、水素化率:ほぼ100%)100部に対して、ビニルトリメトキシシラン1.8部が結合したアルコキシシリル基が導入された変性ブロック共重合体水素化物(E1)を製造した。
変性ブロック共重合体水素化物(E1)には、上記特許文献に記載の方法と同様にして、変性ブロック共重合体水素化物(E1)100部に対して、フェノール系酸化防止剤であるペンタエリスリチル・テトラキス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]0.1部を配合して、変性ブロック共重合体水素化物(E1)のペレットを得た。
[Production Example 1] Production of pellets of modified block copolymer hydride (E1) Block copolymer hydride (D1) with reference to the method described in WO2012 / 043708 and / or WO2014 / 077267 (Weight average molecular weight (Mw): 55,200, molecular weight distribution (Mw / Mn): 1.05, hydrogenation rate: almost 100%) alkoxy having 1.8 parts of vinyltrimethoxysilane bonded to 100 parts A modified block copolymer hydride (E1) into which a silyl group was introduced was produced.
In the modified block copolymer hydride (E1), in the same manner as in the method described in the above-mentioned patent document, pentaerythrine which is a phenolic antioxidant is used with respect to 100 parts of the modified block copolymer hydride (E1). 0.1 part of lithyl tetrakis [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate] was blended to obtain pellets of a modified block copolymer hydride (E1).

[実施例1]接着剤(F1)の製造
製造例1で得た変性ブロック共重合体水素化物(E1)のペレット100部を、トルエン(沸点110℃)300部に溶解させた後、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(KBM−403、信越シリコーン社製)1部を添加して溶解させ、接着剤(F1)溶液を製造した。
[Example 1] Production of adhesive (F1) After 100 parts of the modified block copolymer hydride (E1) obtained in Production Example 1 were dissolved in 300 parts of toluene (boiling point 110 ° C), 3- One part of glycidoxypropyltrimethoxysilane (KBM-403, manufactured by Shin-Etsu Silicone) was added and dissolved to prepare an adhesive (F1) solution.

接着剤(F1)溶液から溶剤を除去させて作製した接着剤(F1)シートの、周波数5GHzでの誘電率は2.14、誘電正接は0.00098であり、高周波絶縁材料として十分低い値であった。   The adhesive (F1) sheet produced by removing the solvent from the adhesive (F1) solution has a dielectric constant of 2.14 at a frequency of 5 GHz and a dielectric loss tangent of 0.00098, which is a sufficiently low value as a high-frequency insulating material. there were.

縦300mm、横300mmの下記の耐熱性樹脂フィルム又は金属箔に、バーコーターを使用して接着剤(F1)溶液を塗布し、イナートオーブン中で、50℃で溶剤を蒸発除去させ、厚み10〜15μmの接着剤層を形成させた。
使用した耐熱性樹脂フィルムは、ポリイミドフィルム(製品名「カプトン(登録商標) 200H」、厚さ50μm、東レ・デュポン社製)、ポリエーテルサルホンフィルム(製品名「スミライト(登録商標) FS−1300」、厚さ100μm、住友ベークライト社製)、及び、液晶ポリマーフィルム(製品名「ベクスター(登録商標) CT−Z」、厚さ100μm、クラレ社製)である。また、使用した金属箔は、アルミニウム箔(材質(JIS H 4160合金番号):1N30、厚さ30μm)、銅箔(商品名「FV−WS」、厚さ18μm、最大高さ粗さRz:1.5μm、古河電工社製)、及び、ステンレス箔(材質SUS304、厚さ50μm)である。
The adhesive (F1) solution was applied to the following heat-resistant resin film or metal foil having a length of 300 mm and a width of 300 mm using a bar coater, and the solvent was evaporated and removed at 50 ° C. in an inert oven. A 15 μm adhesive layer was formed.
The heat-resistant resin film used was a polyimide film (product name “Kapton (registered trademark) 200H”, thickness 50 μm, manufactured by Toray DuPont), polyethersulfone film (product name “Sumilite (registered trademark) FS-1300). ”, Thickness 100 μm, manufactured by Sumitomo Bakelite Co., Ltd.) and liquid crystal polymer film (product name“ Bexter (registered trademark) CT-Z ”, thickness 100 μm, manufactured by Kuraray Co., Ltd.). The metal foil used was aluminum foil (material (JIS H 4160 alloy number): 1N30, thickness 30 μm), copper foil (trade name “FV-WS”, thickness 18 μm, maximum height roughness Rz: 1). 0.5 μm, manufactured by Furukawa Electric Co., Ltd.) and stainless steel foil (material SUS304, thickness 50 μm).

接着剤(F1)を塗布した耐熱性樹脂フィルム2枚又は金属箔2枚の同種同士を、接着剤層面を対向させて重ね合わせた。得られた積層物を、NY/接着層/PPの層構成を有する厚み75μmの樹脂製の袋に入れた。袋の開口部の中央部を200mm幅残して両側をヒートシーラーでヒートシールした後、密封パック器(BH−951、パナソニック社製)を使用して、袋内を脱気しながら開口部をヒートシールして積層物を密封包装した。
その後、密封包装した積層物をオートクレーブに入れて、温度150℃、圧力0.8MPaで30分間加熱加圧し、耐熱性樹脂フィルム/接着剤(F1)層/耐熱性樹脂フィルム又は金属箔/接着剤(F1)層/金属箔からなる複合接合体を製造した。
The same kind of two heat resistant resin films or two metal foils coated with the adhesive (F1) were overlapped with the adhesive layer surface facing each other. The obtained laminate was put in a resin bag having a layer configuration of NY / adhesive layer / PP and having a thickness of 75 μm. The center of the opening of the bag is left 200 mm wide, and both sides are heat-sealed with a heat sealer, and then the opening is heated using a sealed pack device (BH-951, manufactured by Panasonic Corporation) while degassing the inside of the bag. The laminate was sealed and sealed.
Then, the sealed package is put in an autoclave and heated and pressurized at a temperature of 150 ° C. and a pressure of 0.8 MPa for 30 minutes to form a heat resistant resin film / adhesive (F1) layer / heat resistant resin film or metal foil / adhesive. A composite joined body comprising (F1) layer / metal foil was produced.

得られた複合接合体から、幅15mm×長さ200mmの大きさになるように剥離強度測定用の試験片を切り出し、剥離強度測定用の試験片とした。この試験片を用いて、複合接合体の剥離強度を測定して、接着剤(F1)と耐熱性樹脂層又は接着剤(F1)と金属層との接着性を評価した。
その結果、各層に対する接着力の値及びその評価は、接着剤(F1)/ポリイミド層間では24N/cmであり、接着性の評価は良好(○)、接着剤(F1)/ポリエーテルサルホン層間では13N/cmであり、接着性の評価は良好(○)、接着剤(F1)/液晶ポリマー層間では11N/cmであり、接着性の評価は良好(○)、接着剤(F1)/アルミニウム層間では14N/cmであり、接着性の評価は良好(○)、接着剤(F1)/銅層間では18N/cmであり、接着性の評価は良好(○)、また、接着剤(F1)/ステンレス層間では15N/cmであり、接着性の評価は良好(○)であった。
From the obtained composite joined body, a test piece for peel strength measurement was cut out so as to have a size of 15 mm width × 200 mm length to obtain a test piece for peel strength measurement. Using this test piece, the peel strength of the composite joined body was measured to evaluate the adhesiveness between the adhesive (F1) and the heat-resistant resin layer or adhesive (F1) and the metal layer.
As a result, the value of the adhesive strength with respect to each layer and the evaluation thereof are 24 N / cm between the adhesive (F1) / polyimide layer, the evaluation of adhesiveness is good (◯), and the adhesive (F1) / polyethersulfone layer. Is 13 N / cm, the evaluation of adhesion is good (◯), and between the adhesive (F1) / liquid crystal polymer layer is 11 N / cm, and the evaluation of adhesion is good (◯), adhesive (F1) / aluminum It is 14 N / cm between the layers, and the evaluation of adhesiveness is good (◯), and between the adhesive (F1) / copper layers is 18 N / cm, and the evaluation of adhesiveness is good (◯), and the adhesive (F1) / Stainless steel layer was 15 N / cm, and the evaluation of adhesion was good (◯).

接着剤(F1)を塗布したポリイミドフィルムと接着剤(F1)を塗布した銅箔を、接着剤面を対向させて重ね、上記と同様にして、ポリイミドフィルム/接着剤(F1)層/銅箔からなる複合接合体を製造した。
この複合接合体の剥離試験を実施すると、銅箔と接着剤(F1)層の界面で剥離し、剥離強度は18N/cmであり、接着性は良好(〇)であった。
この複合接合体を、オーブン中で260℃に60秒間保持したところ、外観上の大きな変形は無かったが、ポリイミドフィルムと銅箔の間に部分的な剥離が認められ、必ずしも十分な耐熱性を示してはいなかった。
The polyimide film coated with the adhesive (F1) and the copper foil coated with the adhesive (F1) are stacked with the adhesive surfaces facing each other, and in the same manner as described above, the polyimide film / adhesive (F1) layer / copper foil. A composite assembly comprising:
When the peel test of this composite joined body was carried out, it peeled at the interface between the copper foil and the adhesive (F1) layer, the peel strength was 18 N / cm, and the adhesiveness was good (◯).
When this composite joined body was held in an oven at 260 ° C. for 60 seconds, there was no significant deformation in appearance, but partial peeling was observed between the polyimide film and the copper foil, and sufficient heat resistance was not necessarily obtained. It was not shown.

[実施例2]接着剤(F2)の製造
製造例1で得た変性ブロック共重合体水素化物(E1)のペレット100部を、トルエン300部に溶解させた後、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン(KBM−503、信越シリコーン社製)1部、トリアリルイソシアヌレート(製品名「TAIC(登録商標)」、日本化成社製)3部、2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキサン(製品名「パーヘキサ(登録商標)25B」、日油社製)0.2部加えて、均一に混合して、接着剤(F2)溶液を製造した。
[Example 2] Production of adhesive (F2) After 100 parts of the modified block copolymer hydride (E1) obtained in Production Example 1 were dissolved in 300 parts of toluene, 3-methacryloxypropyltrimethoxy was dissolved. Silane (KBM-503, manufactured by Shin-Etsu Silicone) 1 part, triallyl isocyanurate (product name "TAIC (registered trademark)", manufactured by Nippon Kasei Co., Ltd.), 2,5-dimethyl-2,5-di (t -Butylperoxy) hexane (product name "Perhexa (registered trademark) 25B", manufactured by NOF Corporation) (0.2 parts) was added and mixed uniformly to prepare an adhesive (F2) solution.

接着剤(F2)溶液から溶剤を除去して作製した接着剤(F2)シートの、周波数5GHzでの誘電率は2.17、誘電正接は0.00104であり、高周波絶縁材料として十分低い値であった。   The adhesive (F2) sheet prepared by removing the solvent from the adhesive (F2) solution has a dielectric constant of 2.17 at a frequency of 5 GHz and a dielectric loss tangent of 0.00104, which is a sufficiently low value as a high-frequency insulating material. there were.

実施例1において、接着剤(F1)に代えて接着剤(F2)を使用し、オートクレーブでの加熱加圧条件を温度160℃にする以外は、実施例1と同様にして、耐熱性樹脂フィルム/接着剤(F2)層/耐熱性樹脂フィルム又は金属箔/接着剤(F2)層/金属箔からなる複合接合体を製造した。   In Example 1, a heat resistant resin film was used in the same manner as in Example 1 except that the adhesive (F2) was used in place of the adhesive (F1) and the heating and pressing conditions in the autoclave were set to 160 ° C. A composite assembly comprising: / adhesive (F2) layer / heat-resistant resin film or metal foil / adhesive (F2) layer / metal foil was produced.

得られた複合接合体を使用して、実施例1と同様にして、接着剤(F2)と耐熱性樹脂層又は接着剤(F2)と金属層との接着性を評価した。
その結果、各層に対する接着力は、接着剤(F2)/ポリイミド層間では26N/cmであり、接着性の評価は良好(○)、接着剤(F2)/ポリエーテルサルホン層間では14N/cmであり、接着性の評価は良好(○)、接着剤(F2)/液晶ポリマー層間では15N/cmであり、接着性の評価は良好(○)、接着剤(F2)/アルミニウム層間では13N/cmであり、接着性の評価は良好(○)、接着剤(F2)/銅層間では16N/cmであり、接着性の評価は良好(○)、また、接着剤(F2)/ステンレス層間では14N/cmであり、接着性の評価は良好(○)であった。
Using the obtained composite joined body, the adhesiveness between the adhesive (F2) and the heat-resistant resin layer or adhesive (F2) and the metal layer was evaluated in the same manner as in Example 1.
As a result, the adhesive strength to each layer was 26 N / cm between the adhesive (F2) / polyimide layer, and the evaluation of adhesiveness was good (◯), and 14 N / cm between the adhesive (F2) / polyethersulfone layer. Yes, the evaluation of adhesion is good (◯), 15 N / cm between the adhesive (F2) / liquid crystal polymer layer, and the evaluation of adhesion is good (◯), 13 N / cm between the adhesive (F2) / aluminum layer The adhesive evaluation is good (◯), and the adhesive (F2) / copper layer is 16 N / cm, the adhesive evaluation is good (◯), and the adhesive (F2) / stainless layer is 14 N. / Cm, and the evaluation of adhesion was good (◯).

接着剤(F2)を塗布したポリイミドフィルムと接着剤(F2)を塗布した銅箔を、接着剤層面を対向させて重ね、上記と同様にして、ポリイミドフィルム/接着剤(F2)層/銅箔からなる複合接合体を製造した。製造した複合接合体は、更にイナートオーブン中で、160℃で60分の加熱処理を行った。   The polyimide film coated with the adhesive (F2) and the copper foil coated with the adhesive (F2) are stacked with the adhesive layer surfaces facing each other, and in the same manner as described above, polyimide film / adhesive (F2) layer / copper foil. A composite assembly comprising: The manufactured composite joined body was further heat-treated at 160 ° C. for 60 minutes in an inert oven.

得られた複合接合体の剥離試験では、銅箔と接着剤(F2)層の界面で剥離し、剥離強度は16N/cmであり、接着性は良好(〇)であった。
また、この複合接合体を、オーブン中で260℃に60秒間保持したが、試験片の外観上の異常は認められず、接着剤(F2)の耐熱性が高いことが確認された。
In the peeling test of the obtained composite joined body, peeling occurred at the interface between the copper foil and the adhesive (F2) layer, the peeling strength was 16 N / cm, and the adhesiveness was good (◯).
Moreover, although this composite joined body was hold | maintained at 260 degreeC for 60 second in oven, the abnormality on the external appearance of a test piece was not recognized, but it was confirmed that the heat resistance of an adhesive agent (F2) is high.

[実施例3]接着剤(F3)の製造
製造例1で得た変性ブロック共重合体水素化物(E1)のペレット100部を、シクロヘキサン(沸点80℃)300部に溶解させた後、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン(KBM−603、信越シリコーン社製)1部、トリアリルイソシアヌレート(製品名「TAIC(登録商標)」、日本化成社製)2部、2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキサン(製品名「パーヘキサ(登録商標) 25B」、日油社製)0.2部加えて、均一に混合して、接着剤(F3)溶液を製造した。
[Example 3] Production of adhesive (F3) After 100 parts of the modified block copolymer hydride (E1) obtained in Production Example 1 were dissolved in 300 parts of cyclohexane (boiling point 80 ° C), N- 1 part of 2- (aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane (KBM-603, manufactured by Shin-Etsu Silicone), 2 parts of triallyl isocyanurate (product name “TAIC (registered trademark)”, manufactured by Nippon Kasei Co., Ltd.), Add 0.2 part of 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) hexane (product name “Perhexa (registered trademark) 25B”, manufactured by NOF Corporation), mix uniformly, and bond An agent (F3) solution was prepared.

接着剤(F2)溶液から溶剤を除去して作製した接着剤(F2)シートの、周波数5GHzでの誘電率は2.19、誘電正接は0.00110であり、高周波絶縁材料として十分低い値であった。   The adhesive (F2) sheet produced by removing the solvent from the adhesive (F2) solution has a dielectric constant of 2.19 at a frequency of 5 GHz and a dielectric loss tangent of 0.00110, which is a sufficiently low value as a high-frequency insulating material. there were.

実施例2において、接着剤(F2)に代えて接着剤(F3)を使用する以外は、実施例2と同様にして、耐熱性樹脂フィルム/接着剤(F3)層/耐熱性樹脂フィルム又は金属箔/接着剤(F3)層/金属箔からなる複合接合体を製造した。接着剤(F3)のシクロヘキサン溶液を使用した場合、耐熱性樹脂フィルム又は金属箔にバーコーターを使用して塗布し、イナートオーブン中で乾燥させた段階では塗膜面に多くの発泡を生じ、外観上は不良であった。しかし、オートクレーブで加熱加圧して複合接合体を製造するのに支障はなかった。   In Example 2, a heat resistant resin film / adhesive (F3) layer / heat resistant resin film or metal is used in the same manner as in Example 2 except that the adhesive (F3) is used instead of the adhesive (F2). A composite joined body comprising foil / adhesive (F3) layer / metal foil was produced. When a cyclohexane solution of adhesive (F3) is used, it is applied to a heat-resistant resin film or metal foil using a bar coater and dried in an inert oven. The top was bad. However, there was no problem in producing a composite joined body by heating and pressing with an autoclave.

得られた複合接合体を使用して、実施例1と同様にして、接着剤(F3)と耐熱性樹脂層又は接着剤(F3)と金属層との接着性を評価した。
その結果、各層に対する接着力は、接着剤(F3)/ポリイミド層間では25N/cmであり、接着性の評価は良好(○)、接着剤(F3)/ポリエーテルサルホン層間では14N/cm、接着性の評価は良好(○)、接着剤(F3)/液晶ポリマー層間では11N/cmであり、接着性の評価は良好(○)、接着剤(F3)/アルミニウム層間では15N/cmであり、接着性の評価は良好(○)、接着剤(F3)/銅層間では20N/cmであり、接着性の評価は良好(○)、また、接着剤(F3)/ステンレス層間では17N/cmであり、接着性の評価は良好(○)であった。
Using the obtained composite joined body, the adhesion between the adhesive (F3) and the heat-resistant resin layer or adhesive (F3) and the metal layer was evaluated in the same manner as in Example 1.
As a result, the adhesive strength with respect to each layer is 25 N / cm between the adhesive (F3) / polyimide layer, the evaluation of adhesiveness is good (◯), 14 N / cm between the adhesive (F3) / polyethersulfone layer, Evaluation of adhesion is good (◯), 11 N / cm between the adhesive (F3) / liquid crystal polymer layer, and evaluation of adhesion is good (◯), 15 N / cm between the adhesive (F3) / aluminum layer The adhesive evaluation is good (◯), 20N / cm between the adhesive (F3) / copper layer, the adhesive evaluation is good (◯), and 17N / cm between the adhesive (F3) / stainless layer. And the evaluation of adhesiveness was good (◯).

接着剤(F3)を塗布したポリイミドフィルムと接着剤(F3)を塗布した銅箔を、接着剤層面を対向させて重ね、上記と同様にして、ポリイミドフィルム/接着剤(F3)層/銅箔からなる複合接合体を製造した。製造した複合接合体は、更にイナートオーブン中で、160℃で60分の加熱処理を行った。   The polyimide film coated with the adhesive (F3) and the copper foil coated with the adhesive (F3) are stacked with the adhesive layer surfaces facing each other, and in the same manner as described above, polyimide film / adhesive (F3) layer / copper foil. A composite assembly comprising: The manufactured composite joined body was further heat-treated at 160 ° C. for 60 minutes in an inert oven.

得られた複合接合体の剥離試験では、銅箔と接着剤(F3)層の界面で剥離し、剥離強度は19N/cmであり、接着性は良好(○)であった。
また、この複合接合体を、オーブン中で260℃に60秒間保持したが、試験片の外観上の異常は認められず、接着剤(F3)の耐熱性が高いことが確認された。
In the peeling test of the obtained composite joined body, peeling occurred at the interface between the copper foil and the adhesive (F3) layer, the peeling strength was 19 N / cm, and the adhesiveness was good (◯).
Moreover, although this composite joined body was hold | maintained at 260 degreeC for 60 second in oven, the abnormality on the external appearance of a test piece was not recognized, but it was confirmed that the heat resistance of an adhesive agent (F3) is high.

本実施例の結果から以下のことがわかる。
アルコキシシリル基を導入した変性ブロック共重合体水素化物(E)を主成分とする接着剤は、耐熱性樹脂層及び金属層に対する良好な接着性及び高周波領域でも良好な電気特性(低誘電率、低誘電正接)を示す(実施例1〜3)。
アルコキシシリル基を導入した変性ブロック共重合体水素化物(E)を主成分とする接着剤は、表面粗度の小さい金属面に対しても良好な接着性を示す(実施例1〜3の銅箔との接着例)。
アルコキシシリル基を導入した変性ブロック共重合体水素化物(E)を主成分とする接着剤を使用することで、耐熱性樹脂層と金属層の複合接合体を製造できる(実施例1〜3)。
アルコキシシリル基を導入した変性ブロック共重合体水素化物(E)に架橋助剤を配合した接着剤は、リフロー半田工程に対応した260℃の熱処理に対しても十分な耐熱性を有する(実施例2、3)。
アルコキシシリル基を導入した変性ブロック共重合体水素化物(E)を主成分とする接着剤を溶液として使用する場合、沸点が90℃以上の有機溶剤を使用することにより、基材へ接着剤を塗布する工程での、発泡等の外観上の不良が低減される(実施例1、2と実施例3の比較)。
The following can be seen from the results of this example.
The adhesive mainly composed of a modified block copolymer hydride (E) having an alkoxysilyl group introduced therein has good adhesion to a heat-resistant resin layer and a metal layer and good electrical characteristics even in a high frequency region (low dielectric constant, (Low dielectric loss tangent) is shown (Examples 1-3).
The adhesive mainly composed of the modified block copolymer hydride (E) having an alkoxysilyl group introduced exhibits good adhesion even to a metal surface having a small surface roughness (the copper of Examples 1 to 3). Example of adhesion to foil).
By using an adhesive mainly composed of a modified block copolymer hydride (E) introduced with an alkoxysilyl group, a composite joined body of a heat-resistant resin layer and a metal layer can be produced (Examples 1 to 3). .
An adhesive prepared by blending a modified block copolymer hydride (E) introduced with an alkoxysilyl group with a crosslinking aid has sufficient heat resistance even at a heat treatment of 260 ° C. corresponding to the reflow soldering process (Example) 2, 3).
In the case where an adhesive mainly composed of a modified block copolymer hydride (E) introduced with an alkoxysilyl group is used as a solution, the adhesive is applied to the substrate by using an organic solvent having a boiling point of 90 ° C. or higher. Defects in appearance such as foaming in the coating step are reduced (comparison between Examples 1 and 2 and Example 3).

本発明の接着剤及び複合接合体は、耐熱性樹脂層と表面粗度の小さい金属層に対する接着性に優れ、かつ低誘電率で電気絶縁性に優れるため、高周波回路基板の製造に有用である。   The adhesive and composite assembly of the present invention are excellent in adhesion to a heat-resistant resin layer and a metal layer having a small surface roughness, and have a low dielectric constant and excellent electrical insulation, and thus are useful for the production of high-frequency circuit boards. .

Claims (4)

耐熱性樹脂層と金属層との接着に用いられる接着剤であって、
芳香族ビニル化合物由来の構造単位を主成分とする、少なくとも2つの重合体ブロック(A)と、鎖状共役ジエン化合物由来の構造単位を主成分とする、少なくとも1つの重合体ブロック(B)とからなり、全重合体ブロック(A)がブロック共重合体(C)全体に占める重量分率をwAとし、全重合体ブロック(B)がブロック共重合体(C)全体に占める重量分率をwBとしたときに、wAとwBとの比wA:wBが30:70〜60:40であるブロック共重合体(C)の、主鎖及び側鎖の炭素−炭素不飽和結合及び芳香環の炭素−炭素不飽和結合の90%以上を水素化したブロック共重合体水素化物(D)に、アルコキシシリル基が導入されてなる変性ブロック共重合体水素化物(E)を主成分とする接着剤。
An adhesive used for bonding the heat-resistant resin layer and the metal layer,
At least two polymer blocks (A) mainly comprising a structural unit derived from an aromatic vinyl compound, and at least one polymer block (B) mainly comprising a structural unit derived from a chain conjugated diene compound. The weight fraction of the entire polymer block (A) in the entire block copolymer (C) is wA, and the weight fraction of the entire polymer block (B) in the entire block copolymer (C) is The ratio of wA to wB, wA: wB is 30: 70-60: 40, and the main chain and side chain carbon-carbon unsaturated bonds and aromatic rings of the block copolymer (C) Adhesive mainly comprising a modified block copolymer hydride (E) in which an alkoxysilyl group is introduced into a block copolymer hydride (D) obtained by hydrogenating 90% or more of carbon-carbon unsaturated bonds. .
変性ブロック共重合体水素化物(E)100重量部に対して、シランカップリング剤が0.1〜10重量部の割合で配合されてなる、請求項1に記載の接着剤。   The adhesive according to claim 1, wherein the silane coupling agent is blended at a ratio of 0.1 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the modified block copolymer hydride (E). 沸点90℃以上の有機溶剤をさらに含み、変性ブロック共重合体水素化物(E)100重量部が、前記沸点90℃以上の有機溶剤に100〜1000重量部の割合で溶解されてなる、請求項1又は2に記載の接着剤。   The organic solvent having a boiling point of 90 ° C or higher is further included, and 100 parts by weight of the modified block copolymer hydride (E) is dissolved in the organic solvent having a boiling point of 90 ° C or higher at a ratio of 100 to 1000 parts by weight. The adhesive according to 1 or 2. 耐熱性樹脂層と金属層とが、請求項1〜3のいずれかに記載の接着剤で接着されてなる複合接合体。   The composite joined_body | complex by which a heat resistant resin layer and a metal layer are adhere | attached with the adhesive agent in any one of Claims 1-3.
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