JP2017151801A - Laminate of light transmissive conductive material - Google Patents

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正博 川崎
Masahiro Kawasaki
正博 川崎
武宣 吉城
Takenobu Yoshiki
武宣 吉城
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a laminate of a light transmissive conductive material that prevents the occurrence of moire and grains even when overlapped on a liquid crystal display and provides excellent sharpness to an image displayed on the liquid crystal display.SOLUTION: There is provided a laminate of a light transmissive conductive material that includes at least an adhesive layer and a light transmissive functional material in this order on a light transmissive conductive layer of a light transmissive conductive material including the light transmissive conductive layer on a light transmissive conductive substrate, where the light transmissive conductive layer includes a metal thin line pattern formed with a random pattern; the arithmetic average roughness Ra of the light transmissive functional material on a surface in contact with the adhesive layer is 0.085 to 0.23 μm.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は光透過性導電材料積層体に関し、特に投影型静電容量方式のタッチパネルに好適な光透過性導電材料積層体に関するものである。   The present invention relates to a light transmissive conductive material laminate, and particularly to a light transmissive conductive material laminate suitable for a projected capacitive touch panel.

パーソナル・デジタル・アシスタント(PDA)、ノートPC、OA機器、医療機器、あるいはカーナビゲーションシステム等の電子機器においては、これらのディスプレイに入力手段としてタッチパネルが広く用いられている。   In electronic devices such as personal digital assistants (PDAs), notebook PCs, OA devices, medical devices, and car navigation systems, touch panels are widely used as input means for these displays.

タッチパネルには、位置検出の方法により光学方式、超音波方式、表面型静電容量方式、投影型静電容量方式、抵抗膜方式などがある。抵抗膜方式のタッチパネルでは、タッチセンサーとなる光透過性電極として、光透過性導電材料と光透過性導電層付ガラスとがスペーサーを介して対向配置されており、光透過性導電材料に電流を流し光透過性導電層付ガラスにおける電圧を計測するような構造となっている。一方、静電容量方式のタッチパネルでは、タッチセンサーとなる光透過性電極として、基材上に光透過性導電層を有する光透過性導電材料を基本的構成とし、可動部分が無いことを特徴とすることから、高い耐久性および光透過性を有するため、様々な用途において適用されている。更に、投影型静電容量方式のタッチパネルは、多点を同時に検出することが可能であるため、スマートフォンやタブレットPC等に幅広く用いられている。   The touch panel includes an optical method, an ultrasonic method, a surface capacitance method, a projection capacitance method, a resistance film method, and the like depending on a position detection method. In a resistive touch panel, a light-transmitting conductive material and a glass with a light-transmitting conductive layer are arranged to face each other with a spacer as a light-transmitting electrode serving as a touch sensor. It has a structure that measures the voltage in the glass with a flowing light transmissive conductive layer. On the other hand, the capacitive touch panel has a basic structure of a light transmissive conductive material having a light transmissive conductive layer on a base material as a light transmissive electrode serving as a touch sensor, and has no moving parts. Therefore, since it has high durability and light transmittance, it is applied in various applications. Furthermore, since the projected capacitive touch panel can simultaneously detect multiple points, it is widely used for smartphones, tablet PCs, and the like.

従来、タッチパネルの光透過性電極に用いられる光透過性導電材料としては、基材上にITO(酸化インジウムスズ)導電膜からなる光透過性導電層が形成されたものが使用されてきた。しかしながら、ITO導電膜は屈折率が大きく、光の表面反射が大きいため、光透過性導電材料の光透過性が低下する問題があった。またITO導電膜は可撓性が低いため、光透過性導電材料を屈曲させた際にITO導電膜に亀裂が生じて光透過性導電材料の電気抵抗値が高くなる問題があった。   Conventionally, as a light-transmitting conductive material used for a light-transmitting electrode of a touch panel, a material in which a light-transmitting conductive layer made of an ITO (indium tin oxide) conductive film is formed on a base material has been used. However, since the ITO conductive film has a large refractive index and a large surface reflection of light, there is a problem that the light transmittance of the light transmissive conductive material is lowered. In addition, since the ITO conductive film has low flexibility, there is a problem that when the light-transmitting conductive material is bent, the ITO conductive film is cracked and the electric resistance value of the light-transmitting conductive material is increased.

ITO導電膜からなる光透過性導電層を有する光透過性導電材料に代わる材料として、光透過性支持体上に光透過性導電層として金属細線パターンを、例えば、金属細線パターンの線幅やピッチ、更にはパターン形状などを調整して網目形状の金属細線パターンを形成した光透過性導電材料が知られている。この技術により、高い光透過性を維持し、高い導電性を有する光透過性導電材料が得られる。網目形状の金属細線パターン(以下、金属パターンとも記載)が有する網目形状に関しては、各種形状の単位図形を利用できることが知られており、例えば特開2013−30378号公報では、正三角形、二等辺三角形、直角三角形などの三角形、正方形、長方形、菱形、平行四辺形、台形などの四角形、(正)六角形、(正)八角形、(正)十二角形、(正)二十角形などの(正)n角形、円、楕円、星形等の単位図形を繰り返したパターンや、及びこれらの2種類以上の単位図形を組み合わせ、繰り返したパターンが開示されている。   As a material replacing the light transmissive conductive material having a light transmissive conductive layer made of an ITO conductive film, a metal fine wire pattern is formed on the light transmissive support as a light transmissive conductive layer, for example, the line width or pitch of the metal fine wire pattern. Furthermore, a light-transmitting conductive material is known in which a mesh-shaped fine metal wire pattern is formed by adjusting the pattern shape and the like. By this technique, a light-transmitting conductive material that maintains high light transmittance and has high conductivity can be obtained. With regard to the mesh shape of the mesh-shaped fine metal wire pattern (hereinafter also referred to as a metal pattern), it is known that unit graphics of various shapes can be used. For example, in JP 2013-30378 A, an equilateral triangle, an isosceles side Triangles such as triangles, right triangles, squares, rectangles, rhombuses, parallelograms, trapezoids, etc., (positive) hexagons, (positive) octagons, (positive) dodecagons, (positive) dodecagons, etc. (Correct) A pattern in which unit graphics such as an n-gon, a circle, an ellipse, and a star are repeated, and a pattern in which these two or more types of unit graphics are combined are disclosed.

上記した網目形状の金属パターンを有する光透過性導電材料の製造方法としては、支持体上に薄い触媒層を形成し、その上にレジストパターンを形成した後、めっき法によりレジスト開口部に金属層を積層し、最後にレジスト層及びレジスト層で保護された下地金属を除去することにより、金属パターンを形成するセミアディティブ方法が、例えば特開2007−287994号公報、特開2007−287953号公報などに開示されている。   As a manufacturing method of the light-transmitting conductive material having the above-described mesh-shaped metal pattern, a thin catalyst layer is formed on a support, a resist pattern is formed thereon, and then a metal layer is formed on the resist opening by plating. Are semi-additive methods for forming a metal pattern by finally removing the resist layer and the base metal protected by the resist layer, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 2007-287994, Japanese Patent Laid-Open No. 2007-28753, etc. Is disclosed.

また近年、銀塩拡散転写法を用いた銀塩写真感光材料を導電性材料前駆体として用いる方法が知られている。例えば特開2003−77350号公報、特開2005−250169号公報や特開2007−188655号公報等では、支持体上に物理現像核層とハロゲン化銀乳剤層を少なくともこの順に有する銀塩写真感光材料(導電性材料前駆体)に、可溶性銀塩形成剤及び還元剤をアルカリ液中で作用させて、金属(銀)パターンを形成させる技術が開示されている。この方式によるパターニングは均一な線幅を再現することができることに加え、銀は金属の中で最も導電性が高いため、他方式に比べ、より細い線幅で高い導電性を得ることができる。更に、この方法で得られた金属パターンを有する層はITO導電膜よりも可撓性が高く折り曲げに強いという利点がある。   In recent years, a method using a silver salt photographic light-sensitive material using a silver salt diffusion transfer method as a conductive material precursor is known. For example, in JP-A-2003-77350, JP-A-2005-250169, JP-A-2007-188655, etc., a silver salt photographic photosensitive material having a physical development nucleus layer and a silver halide emulsion layer at least in this order on a support. A technique for forming a metal (silver) pattern by causing a soluble silver salt forming agent and a reducing agent to act on a material (conductive material precursor) in an alkaline solution is disclosed. Patterning by this method can reproduce a uniform line width, and since silver has the highest conductivity among metals, higher conductivity can be obtained with a narrower line width than other methods. Furthermore, the layer having the metal pattern obtained by this method has an advantage that it is more flexible than ITO conductive film and strong against bending.

光透過性支持体上にこれらの金属パターンを有する光透過性導電材料は、液晶ディスプレイ上に重ねて配置されるため、金属パターンの周期と液晶ディスプレイ素子の周期とが干渉し合い、モアレが発生するという問題があった。近年では液晶ディスプレイには様々な解像度のものが使用されており、このことは上記した問題を更に複雑にしている。   Since the light-transmitting conductive material having these metal patterns on the light-transmitting support is placed on the liquid crystal display, the period of the metal pattern interferes with the period of the liquid crystal display element, causing moiré. There was a problem to do. In recent years, liquid crystal displays having various resolutions have been used, which further complicates the above problem.

この問題に対し、例えば特開2011−216377号公報、特開2013−37683号公報、特開2014−17519号公報、特表2013−540331号公報などでは、金属細線のパターンとして、例えば「なわばりの数理モデル ボロノイ図からの数理工学入門」(共立出版 2009年2月)などに記載された、古くから知られているランダムパターンを用いることで、干渉を抑制する方法が提案されている。   For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2011-216377, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2013-37683, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2014-17519, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2013-540331, for example, “ Mathematical models of Mathematical models from Voronoi diagrams ”(Kyoritsu Publishing Co., Ltd. February 2009), etc., has been proposed a method for suppressing interference by using a long-known random pattern.

これらランダム図形は、パターンが不規則であるため、液晶ディスプレイ素子の周期と干渉を起こすことは原理的にありえず、モアレが発生することはない。しかしながら該ランダムパターンは不規則に金属パターンが粗になる部分と密になる部分が現れ、それが視認される、所謂「砂目」という問題を有していた。   Since these random figures have irregular patterns, it is impossible in principle to cause interference with the period of the liquid crystal display element, and no moiré occurs. However, the random pattern has a problem of so-called “grainy” in which a portion where the metal pattern is irregularly roughed and a portion where the metal pattern is irregularly appear and are visually recognized.

上記した「砂目」を改善するための手段としては、例えば特開2015−210615号公報(特許文献1)には、ランダムパターンを形成するボロノイ辺を得るための母点の配置方法を工夫することで得られた金属パターンや、単位図形が規則的に配置された網目図形に対し、各繰り返し単位の頂点を不規則にずらすことで得られたランダムパターンを、光透過性支持体上の光透過性導電層面内で少なくとも2方向に繰り返して得られた金属パターンを利用する方法が提案されている。しかしこのようにして得られた金属パターンを有する光透過性導電材料であっても、液晶ディスプレイ上に装着し、濃淡の少ない均一な緑色の画像が表示された際には、モアレや砂目が視認される場合があり、更なる改良が求められている。   As means for improving the above-mentioned “grain texture”, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 2015-210615 (Patent Document 1) devises a method for arranging generating points for obtaining a Voronoi side forming a random pattern. Random patterns obtained by irregularly shifting the vertices of each repeating unit with respect to the metal pattern obtained by the above and the mesh figure in which the unit figures are regularly arranged are converted into light on the light-transmitting support. There has been proposed a method using a metal pattern obtained repeatedly in at least two directions within the surface of a transparent conductive layer. However, even if the light-transmitting conductive material having a metal pattern obtained in this way is mounted on a liquid crystal display and a uniform green image with little shading is displayed, moire or graininess is present. There are cases where it is visually recognized, and further improvements are required.

特表2006−521634号公報(特許文献2)では、ランダムに配置された空隙を有する透明導電層を用いたタッチセンサーによって高い透明性と高シート抵抗を有するタッチセンサーが得られることが提案され、タッチ面を形成する上部基板の双方の面に追加層を設けることで耐引掻き性が改善されることが記載されている。また追加層の例として反射防止またはぎらつき防止コーティング層が記載されている。   JP-T-2006-521634 (Patent Document 2) proposes that a touch sensor having high transparency and high sheet resistance can be obtained by a touch sensor using a transparent conductive layer having voids randomly arranged. It is described that the scratch resistance is improved by providing additional layers on both surfaces of the upper substrate forming the touch surface. Further, as an example of the additional layer, an antireflection coating or an antiglare coating layer is described.

特開2013−152578号公報(特許文献3)では、透明導電層が存在する箇所と、透明導電層が存在しない箇所とで生じる光学特性差の改善を目的に、表面を有する基材と、表面に平面的に交互に並べられた透明導電部および透明絶縁部とを備えた透明導電性素子であって、透明絶縁部は複数の島部からなる透明導電層であり、透明導電部および透明絶縁部の平均境界線長さが20mm/mm以下である透明導電性素子が提案されている。また透明導電性素子の両主面のうち、透明導電層が設けられる側とは反対側の主面に反射防止層を設けた一例が記載されている。 JP 2013-152578 A (Patent Document 3) discloses a substrate having a surface for the purpose of improving a difference in optical properties produced between a location where the transparent conductive layer is present and a location where the transparent conductive layer is not present, A transparent conductive element having transparent conductive portions and transparent insulating portions arranged alternately in a plane, wherein the transparent insulating portion is a transparent conductive layer composed of a plurality of island portions, and the transparent conductive portion and the transparent insulating portion. A transparent conductive element having an average boundary line length of 20 mm / mm 2 or less has been proposed. In addition, an example in which an antireflection layer is provided on the main surface opposite to the side on which the transparent conductive layer is provided, of both main surfaces of the transparent conductive element is described.

また特開2005−38288号公報(特許文献4)では、タッチパネル用ガラスのガラス基板上の一方に形成された透明層の表面における十点平均粗さRzを0.5〜6.0μmとすることで、透明性や耐磨耗性、および指先が接触した時の指滑り性等に優れ、さらにアンチグレア機能を有するタッチパネル用ガラスを得られることが提案され、該透明層の算術平均粗さRaは0.05〜0.20μmであることが記載されている。しかし特許文献4は、該タッチパネル用ガラスによって、ランダムパターンにより形成された金属細線パターンを有する光透過性導電材料を液晶ディスプレイ上に装着した際のモアレや砂目を改善できることを、何ら示唆しない。   In JP-A-2005-38288 (Patent Document 4), the ten-point average roughness Rz on the surface of the transparent layer formed on one side of the glass substrate for touch panel is set to 0.5 to 6.0 μm. Thus, it has been proposed that a glass for a touch panel having excellent transparency, wear resistance, finger slipping property when a fingertip is in contact and the like and having an anti-glare function can be obtained, and the arithmetic average roughness Ra of the transparent layer is It is described that it is 0.05-0.20 micrometers. However, Patent Document 4 does not suggest that the touch panel glass can improve moire and grain when a light-transmitting conductive material having a thin metal line pattern formed by a random pattern is mounted on a liquid crystal display.

特開2015−210615号公報JP2015-210615A 特表2006−521634号公報JP-T-2006-521634 特開2013−152578号公報JP 2013-152578 A 特開2005−38288号公報JP 2005-38288 A

本発明の課題は、液晶ディスプレイに重ねてもモアレや砂目が発生せず、かつ液晶ディスプレイに表示された画像の鮮明性に優れた光透過性導電材料積層体を提供することである。   An object of the present invention is to provide a light-transmitting conductive material laminate in which moire and grain are not generated even when stacked on a liquid crystal display and the image displayed on the liquid crystal display is excellent in sharpness.

上記の課題は、以下の発明によって解決される。
(1)光透過性支持体上に光透過性導電層を有する光透過性導電材料の光透過性導電層上に、粘着剤層および光透過性機能材料を少なくともこの順に有する光透過性導電材料積層体であって、該光透過性導電層がランダムパターンより形成される網目形状の金属細線パターンを有し、かつ該光透過性機能材料の粘着剤層に接する面における算術平均粗さRaが0.085〜0.23μmであることを特徴とする光透過性導電材料積層体。
Said subject is solved by the following invention.
(1) A light-transmitting conductive material having a light-transmitting conductive layer having a light-transmitting conductive layer on a light-transmitting conductive layer, and having a pressure-sensitive adhesive layer and a light-transmitting functional material at least in this order on the light-transmitting conductive layer Arithmetic average roughness Ra on the surface of the laminate, the light-transmitting conductive layer having a network-shaped metal fine wire pattern formed from a random pattern and in contact with the pressure-sensitive adhesive layer of the light-transmitting functional material A light-transmitting conductive material laminate having a thickness of 0.085 to 0.23 μm.

本発明により、液晶ディスプレイに重ねてもモアレや砂目が発生せず、かつ液晶ディスプレイに表示された画像の鮮明性に優れた光透過性導電材料積層体を提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide a light-transmitting conductive material laminate in which moire and grain are not generated even when stacked on a liquid crystal display, and the image displayed on the liquid crystal display is excellent in sharpness.

本発明の光透過性導電材料積層体の一例を示す概略断面図Schematic sectional view showing an example of the light-transmitting conductive material laminate of the present invention 本発明の光透過性導電材料積層体が有する光透過性導電材料の一例を示す概略図Schematic which shows an example of the light transmissive conductive material which the light transmissive conductive material laminated body of this invention has タイプaの網目形状を有する金属細線パターンを説明するための概略図Schematic for demonstrating the metal fine wire pattern which has a mesh shape of type a タイプcの網目形状を有する金属細線パターンを説明するための概略図Schematic for demonstrating the metal fine wire pattern which has a mesh shape of type c 金属細線パターン領域を説明するための概略図Schematic for explaining metal fine line pattern region 光透過性導電材料のセンサー部とダミー部の一例を示す概略図Schematic showing an example of a sensor part and a dummy part of a light transmissive conductive material 単位パターン領域の繰り返し周期を説明するための図The figure for demonstrating the repetition period of a unit pattern area | region 実施例で用いた透過原稿Transparent original used in the example

以下、本発明について詳細に説明するにあたり、図面を用いて説明する。本発明はその技術的範囲を逸脱しない限り様々な変形や修正が可能であり、以下の実施形態に限定されないことは言うまでもない。   Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the drawings. It goes without saying that the present invention can be variously modified and modified without departing from the technical scope thereof and is not limited to the following embodiments.

図1は本発明の光透過性導電材料積層体の一例を示す概略断面図である。図1において本発明の光透過性導電材料積層体aは、光透過性支持体2上に金属細線パターン3を有する光透過性導電材料1と、光透過性支持体2上に金属細線パターン3を有する別の光透過性導電材料1′とが、粘着剤層4を介して積層されており、別の光透過性導電材料1′は粘着剤層4を介して、光透過性機能材料5と積層されている。   FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of a light transmissive conductive material laminate of the present invention. In FIG. 1, a light transmissive conductive material laminate a of the present invention includes a light transmissive conductive material 1 having a metal fine wire pattern 3 on a light transmissive support 2 and a metal fine wire pattern 3 on a light transmissive support 2. And another light-transmitting conductive material 1 ′ is laminated via the pressure-sensitive adhesive layer 4, and the other light-transmissive conductive material 1 ′ is stacked via the pressure-sensitive adhesive layer 4. Are stacked.

光透過性導電材料積層体aにおける金属細線パターン3は、金、銀、銅、ニッケル、アルミニウム、およびこれらの複合材からなることが好ましい。これら金属細線パターン3を形成する方法としては、銀塩感光材料を用いる方法、同方法を用いて更に得られた銀画像に無電解めっきや電解めっきを施す方法、スクリーン印刷法を用いて銀ペーストなどの導電性インキを印刷する方法、銀インクなどの導電性インクをインクジェット法で印刷する方法など、公知の方法を用いることができる。中でも得られる金属パターンの厚みが薄くでき、さらに極微細な金属パターンも容易に形成できる銀塩拡散転写法を用いることが好ましい。銀塩拡散転写法としては、例えば特開2003−77350号公報や特開2005−250169号公報に記載されている。   The thin metal wire pattern 3 in the light-transmissive conductive material laminate a is preferably made of gold, silver, copper, nickel, aluminum, and a composite material thereof. Methods for forming these fine metal wire patterns 3 include a method using a silver salt photosensitive material, a method of applying electroless plating or electrolytic plating to a silver image further obtained using the method, and a silver paste using a screen printing method. A known method such as a method of printing a conductive ink such as silver or a method of printing a conductive ink such as silver ink by an inkjet method can be used. Among them, it is preferable to use a silver salt diffusion transfer method that can reduce the thickness of the obtained metal pattern and can easily form an extremely fine metal pattern. The silver salt diffusion transfer method is described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 2003-77350 and 2005-250169.

本発明において光透過性導電材料は、光透過性支持体上に光透過性導電層を有する。図2は、本発明の光透過性導電材料積層体が有する光透過性導電材料の一例を示す概略図であり、静電容量方式を用いたタッチパネルの光透過性電極の例を示した。図2において光透過性導電材料1は、光透過性支持体2上の少なくとも一方に、金属パターンからなるセンサー部11、ダミー部12、周辺配線部14、端子部15と、金属パターンがない非画像部13を有する。ここで、センサー部11及びダミー部12はランダムパターンより形成される網目形状の金属細線から構成されるが、便宜上、それらの範囲を輪郭線で示している。センサー部11は周辺配線部14を介して端子部15に電気的に接続しており、この端子部15を通して外部に電気的に接続することで、センサー部11で感知した静電容量の変化を捉えることができる。本発明において、センサー部11は端子部15と直接に接することで電気的に接続されていてもよいが、図2に示すように、複数の端子部15を近傍に集めるために、周辺配線部14を介してセンサー部11が端子部15と電気的に接続されていることは好ましい。一方、端子部15に電気的に接続していない金属パターンは本発明では全てダミー部12となる。周辺配線部14、端子部15は特に光透過性を有する必要はないためベタパターン(光透過性を有さないパターン)でも良く、あるいはセンサー部11やダミー部12などのように光透過性を有していても良い。   In the present invention, the light transmissive conductive material has a light transmissive conductive layer on a light transmissive support. FIG. 2 is a schematic diagram illustrating an example of a light transmissive conductive material included in the light transmissive conductive material laminate of the present invention, and illustrates an example of a light transmissive electrode of a touch panel using a capacitance method. In FIG. 2, the light-transmitting conductive material 1 has a sensor part 11, a dummy part 12, a peripheral wiring part 14, and a terminal part 15 made of a metal pattern on at least one side of the light-transmitting support 2, and has no metal pattern. It has an image part 13. Here, although the sensor part 11 and the dummy part 12 are comprised from the mesh-shaped metal fine wire formed from a random pattern, those ranges are shown with the outline for convenience. The sensor unit 11 is electrically connected to the terminal unit 15 via the peripheral wiring unit 14, and the capacitance change sensed by the sensor unit 11 is electrically connected to the outside through the terminal unit 15. Can be caught. In the present invention, the sensor unit 11 may be electrically connected by directly contacting the terminal unit 15, but as shown in FIG. 2, in order to collect a plurality of terminal units 15 in the vicinity, the peripheral wiring unit It is preferable that the sensor unit 11 is electrically connected to the terminal unit 15 via 14. On the other hand, all metal patterns not electrically connected to the terminal portion 15 become the dummy portion 12 in the present invention. Since the peripheral wiring part 14 and the terminal part 15 do not need to have a light transmission property in particular, they may be solid patterns (patterns having no light transmission property), or light transmission properties such as the sensor part 11 and the dummy part 12. You may have.

図2において光透過性導電材料1が有するセンサー部11は、光透過性導電層面内のx方向に伸びた列電極であり、ダミー部12を挟んで、光透過性導電層面内でx方向と垂直な方向であるy方向に複数列が並んでいる。本発明において、センサー部11は図2にあるように、y方向に任意の周期をもって並んでいることが好ましい。センサー部11の周期は、タッチセンサーとしての分解能を保つことができる範囲で任意に設定することができる。センサー部11は一定の幅であっても良いが、図2に示すようにx方向にパターン周期を持つことが好ましい。また、センサー部11の幅も、タッチセンサーとしての分解能を保つことができる範囲で任意に設定することができ、それに応じてダミー部12の幅や形状も設定できる。   In FIG. 2, the sensor portion 11 included in the light transmissive conductive material 1 is a column electrode extending in the x direction within the light transmissive conductive layer surface, and the x direction within the light transmissive conductive layer surface with the dummy portion 12 interposed therebetween. A plurality of rows are arranged in the y direction which is a vertical direction. In the present invention, as shown in FIG. 2, the sensor units 11 are preferably arranged with an arbitrary period in the y direction. The period of the sensor unit 11 can be arbitrarily set as long as the resolution as a touch sensor can be maintained. The sensor unit 11 may have a constant width, but preferably has a pattern period in the x direction as shown in FIG. Also, the width of the sensor unit 11 can be arbitrarily set within a range in which the resolution as a touch sensor can be maintained, and the width and shape of the dummy unit 12 can be set accordingly.

本発明において光透過性導電層はランダムパターンより形成される網目形状の金属細線パターンを有する。ランダムパターンより形成される金属細線パターンは、センサー部および/またはダミー部の何れに適用されていても良いが、センサー部に適用されていることが好ましく、センサー部およびダミー部に適用されていることが好ましい。以下に、本発明においてランダムパターンより形成される金属細線パターンについて説明する。   In the present invention, the light-transmitting conductive layer has a mesh-shaped fine metal wire pattern formed from a random pattern. The metal fine line pattern formed from the random pattern may be applied to either the sensor part and / or the dummy part, but is preferably applied to the sensor part, and is applied to the sensor part and the dummy part. It is preferable. Below, the metal fine wire pattern formed from a random pattern in this invention is demonstrated.

本発明において、光透過性導電層を構成する金属細線パターンは、下記のa、b、cの何れかの方法によって得られた網目形状を有する金属細線パターンからなる単位パターン領域を、光透過性支持体上の光透過性導電層面内で少なくとも2方向に繰り返して有することが好ましい。これにより砂目の視認性(難視認性)をより向上させることができる。   In the present invention, the fine metal wire pattern constituting the light transmissive conductive layer is obtained by converting a unit pattern region composed of a fine metal wire pattern having a mesh shape obtained by any one of the following methods a, b, and c into a light transmissive shape. It is preferable to repeatedly have at least two directions within the surface of the light-transmitting conductive layer on the support. Thereby, the visibility (difficult visibility) of grain can be improved more.

<a:ボロノイ図形タイプ>
本発明で用いる網目形状の金属細線パターンの中で最も好ましいものは、以下に示す方法によって得られたボロノイ図形による金属細線パターンである。ボロノイ図形とは、情報処理などの様々な分野で応用されている公知の図形であり、これを説明するために図3を用いる。図3はタイプaの網目形状を有する金属細線パターンを説明するための概略図である。図3の(3−a)において、平面20上に複数の母点211が配置されている時、一つの任意の母点211に最も近い領域21と、他の母点に最も近い領域21とを境界線22で区切ることで、平面20を分割した場合に、各領域21の境界線22をボロノイ辺と呼び、ボロノイ辺を集めてできる図形をボロノイ図形と呼ぶ。
<A: Voronoi figure type>
Among the mesh-shaped fine metal wire patterns used in the present invention, the most preferred is a fine metal wire pattern based on Voronoi figures obtained by the method described below. A Voronoi figure is a known figure applied in various fields such as information processing, and FIG. 3 is used to explain this figure. FIG. 3 is a schematic view for explaining a fine metal wire pattern having a type a mesh shape. In (3-a) of FIG. 3, when a plurality of generating points 211 are arranged on the plane 20, a region 21 closest to one arbitrary generating point 211 and a region 21 closest to another generating point When the plane 20 is divided by dividing the line 20 by the boundary line 22, the boundary line 22 of each region 21 is called a Voronoi side, and a figure formed by collecting the Voronoi sides is called a Voronoi figure.

図3の(3−b)は母点の配置方法を説明するための図である。平面20は12個の四角形23で隙間無く平面充填されており、四角形23の中には常に一つの母点211が配置されている。図3においては平面を充填する多角形として四角形を用いたが、本発明においては、四角形以外に三角形や六角形を用いても良く、また複数の種類、複数の大きさの多角形を用いても良い。それらの選択の中では、単一の形状で、単一の大きさの多角形による平面充填が好ましい。なお、多角形の一辺の長さは好ましくは100〜2000μm、より好ましくは150〜800μmである。前述の通り、母点は多角形内に一点のみ配置される。その位置としては図3の(3−b)、あるいはその拡大図である(3−c)を用いて説明する。四角形23の重心24と四角形23の各頂点を結んだ直線において、その重心24から各頂点までの距離の、重心から90%の位置251、252、253、254を結んでできる縮小多角形である縮小四角形25内の任意の位置に母点は配置される。なお、本発明においてボロノイ辺は直線であることが最も好ましいが、曲線、波線、ジグザグ線などを用いることもできる。   (3-b) in FIG. 3 is a diagram for explaining a generating point arrangement method. The plane 20 is filled with twelve quadrilaterals 23 without gaps, and one generating point 211 is always arranged in the quadrangle 23. In FIG. 3, a quadrangle is used as the polygon filling the plane. However, in the present invention, a triangle or a hexagon may be used in addition to the quadrangle, and a plurality of types and sizes of polygons may be used. Also good. Among those choices, plane filling with a single shape and a single size polygon is preferred. The length of one side of the polygon is preferably 100 to 2000 μm, more preferably 150 to 800 μm. As described above, only one generating point is arranged in the polygon. The position will be described using (3-b) in FIG. 3 or (3-c) which is an enlarged view thereof. In the straight line connecting the center of gravity 24 of the rectangle 23 and each vertex of the rectangle 23, the reduced polygon is formed by connecting the positions 251, 252, 253, 254 90% of the distance from the center of gravity 24 to each vertex. The mother point is arranged at an arbitrary position in the reduced square 25. In the present invention, the Voronoi side is most preferably a straight line, but a curved line, a wavy line, a zigzag line, or the like can also be used.

<b:非周期充填図形タイプ>
本発明に用いる別の網目形状を有する金属細線パターンとして、複数の多角形を用いて非周期平面充填した非周期充填図形(タイプb)が挙げられる。非周期充填図形の形成方法としては公知の方法を用いることができ、例えばロジャー・ペンローズが考案した、鋭角72°、鈍角108°の菱形と、鋭角36°、鈍角144°の菱形の2種類の菱形を組み合わせて用いるペンローズタイルや、その他にも正方形、正三角形、30°と150°の角を持つ平行四辺形の3つの多角形による非周期平面充填図形、中世イスラムでデザインとして用いられた「ギリー」パターンなどが挙げられる。これらの図形の辺は直線であることが好ましいが、曲線、波線、ジグザグ線などを用いることもできる。非周期平面充填図形に用いられる全ての多角形が有する辺の内で最も長い辺の長さ(波線、曲線などを用いる場合は頂点間の距離を辺の長さとする)は、第二の方向に並ぶセンサー部間の周期の1/3以下であり、好ましくは100〜1000μm、より好ましくは150〜500μmである。
<B: Non-periodic filling figure type>
Examples of the metal fine line pattern having another mesh shape used in the present invention include a non-periodic filling figure (type b) filled with a non-periodic plane using a plurality of polygons. As a method for forming the non-periodic filling figure, a known method can be used. For example, there are two types of diamonds devised by Roger Penrose, a rhombus with an acute angle of 72 ° and an obtuse angle of 108 °, and a rhombus with an acute angle of 36 ° and an obtuse angle of 144 °. Penrose tiles that use rhombuses in combination, and other non-periodic plane-filled figures made up of three polygons: squares, equilateral triangles, and parallelograms with angles of 30 ° and 150 °. "Gilly" pattern. The sides of these figures are preferably straight lines, but curved lines, wavy lines, zigzag lines, and the like can also be used. The length of the longest side of all the polygons used in the non-periodic filled figure (the distance between vertices is the length of the side when using wavy lines, curves, etc.) is the second direction. 1/3 or less of the period between the sensor parts arranged in a row, preferably 100 to 1000 μm, more preferably 150 to 500 μm.

<c:ランダム網目タイプ>
本発明に用いるまた別の網目形状を有する金属細線パターンとして、一般的に使われている規則的な網目の頂点を不規則にずらしたランダム網目(タイプc)が挙げられる。以下、図4を用いてランダム網目について説明する。図4はタイプcの網目形状を有する金属細線パターンを説明するための概略図である。当該説明において、不規則に頂点をずらす前の図形を原図形と呼び、図4の(4−a)における31がこれにあたる。原図形31は原単位図形32(説明のため太線で図示している)を繰り返すことにより構成されている。原単位図形32としては公知の形状を用いることができ、例えば正三角形、二等辺三角形、直角三角形などの三角形、正方形、長方形、菱形、平行四辺形、台形などの四角形、六角形、八角形、十二角形、二十角形などのn角形、円、楕円、星形などが挙げられ、これらの形状を単独で繰り返して形成した原図形、あるいは2種類以上を組み合わせて形成した原図形などを用いることができる。また、辺が直線でなくとも例えばジグザグ線、波線などで構成されていても良い。更に特開2002−223095号公報で開示されているような、煉瓦積み模様状のパターンも用いることができる。本発明では、これらのいずれの形状の原単位図形も用いることができるが、好ましくは正方形あるいは菱形であり、より好ましくは鋭角が30〜70°の菱形である。原単位図形32の辺の長さは(波線、曲線などを用いる場合は頂点間の距離を長さとする)好ましくは1000μm以下、より好ましくは150〜500μmである。
<C: Random mesh type>
Examples of the fine metal wire pattern having another mesh shape used in the present invention include a random mesh (type c) in which the vertices of a regular mesh that are generally used are irregularly shifted. Hereinafter, the random mesh will be described with reference to FIG. FIG. 4 is a schematic view for explaining a fine metal wire pattern having a type c mesh shape. In the description, the figure before irregularly shifting the vertices is referred to as an original figure, and 31 in (4-a) of FIG. The original figure 31 is configured by repeating an original unit figure 32 (shown by a bold line for the sake of explanation). A known shape can be used as the basic figure 32, for example, a triangle such as an equilateral triangle, an isosceles triangle, a right triangle, a square, a rectangle, a rhombus, a parallelogram, a trapezoid, a quadrangle, a hexagon, an octagon, These include n-gons such as dodecagons and icosahedrons, circles, ellipses, and star shapes, and original shapes formed by repeating these shapes alone or in combination of two or more types are used. be able to. Further, even if the side is not a straight line, it may be constituted by, for example, a zigzag line or a wavy line. Furthermore, a brickwork pattern as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-223095 can also be used. In the present invention, any of these basic unit figures can be used, but is preferably a square or rhombus, more preferably a rhombus having an acute angle of 30 to 70 °. The length of the side of the basic unit graphic 32 (when using a wavy line, a curve, or the like, the distance between vertices is the length) is preferably 1000 μm or less, and more preferably 150 to 500 μm.

原図形から頂点をずらす方法について説明する。図4の(4−b)において、原単位図形32を破線で示した。原単位図形32の4つの頂点321、322、323、324がそれぞれずれた頂点331、332、333、334を結ぶことで、実線で示した新たな図形33ができている。頂点321から頂点331のズレ距離zは、原単位図形の重心と、それに最も近い頂点(図4の場合、321あるいは323)の間の距離の1/2より小さくなっている。言い換えると、ズレ距離zは、原単位図形の重心を中心とし、その半径が、中心から最も近い頂点(図4の場合、321あるいは323)までの距離に等しい円34の半径rの1/2より小さくなっており(理解し易くするため、図4の(4−b)においては頂点321、322、323、324を中心とする半径r/2の円を図示しておいた。)、その方向については、任意の方向である。他の頂点332、333、334のズレ距離及び方向も同様である。   A method for shifting the vertex from the original figure will be described. In (4-b) of FIG. 4, the basic unit graphic 32 is indicated by a broken line. By connecting the vertices 331, 332, 333, and 334 where the four vertices 321, 322, 323, and 324 of the basic unit graphic 32 are shifted, a new graphic 33 indicated by a solid line is formed. The shift distance z from the vertex 321 to the vertex 331 is smaller than ½ of the distance between the center of gravity of the basic unit graphic and the closest vertex (321 or 323 in the case of FIG. 4). In other words, the deviation distance z is centered on the center of gravity of the basic figure, and its radius is 1/2 of the radius r of the circle 34 equal to the distance from the center to the nearest vertex (321 or 323 in the case of FIG. 4). (For the sake of easy understanding, in FIG. 4 (4-b), a circle with a radius r / 2 centered on the vertices 321, 322, 323, and 324 is shown in FIG. 4). About a direction, it is arbitrary directions. The same applies to the shift distances and directions of the other vertices 332, 333, and 334.

原単位図形32の頂点を図4の(4−b)のようにずらし、その各頂点を結んだ図形が図4の(4−c)であり、これが本発明で用いるタイプcの網目形状の一例となる。(4−c)のランダム網目35では原図形31の84個の交点の内、81個(96%)の交点が原図形の元の位置からずれている。本発明においてはこのように一部の交点が原図形と同じ位置にあっても良いが、少なくとも個数で50%以上の交点が原図形の交点の位置からずれており、75%以上の交点が原図形の交点の位置からずれていることが好ましい。   The vertices of the basic figure 32 are shifted as shown in FIG. 4 (4-b), and the figure connecting the vertices is (4-c) in FIG. 4, which is the type c mesh shape used in the present invention. An example. In the random mesh 35 of (4-c), 81 (96%) of 84 intersections of the original figure 31 are shifted from the original position of the original figure. In the present invention, some of the intersections may be at the same position as the original figure as described above, but at least 50% or more of the intersections are deviated from the positions of the intersections of the original figure, and 75% or more of the intersections. It is preferable to deviate from the position of the intersection of the original figures.

本発明においては前述の通り、上記説明したタイプa、タイプb、タイプcのいずれかの網目形状を有する金属細線パターンからなる単位パターン領域を、光透過性導電層面内で少なくとも2方向に繰り返すことで、図3におけるセンサー部11とダミー部12を形成することが好ましい。図5はこの金属細線パターン領域を説明するための概略図である。(5−a)は、左からタイプa、タイプb、タイプcの網目形状を有する単位パターン領域の例である。例えば、この内のタイプaの網目形状を有する単位パターン領域41を繰り返した例が(5−b)になる。単位パターン領域41の網目形状は、四角44で囲まれた単位パターン領域の範囲内で周期の無いランダムなパターンである。この単位パターン領域41(x方向の長さが42、y方向の長さが43)が、x方向に繰り返し周期42、y方向に繰り返し周期43で繰り返されて、一連の大きな金属細線パターンを形成している。ランダムな網目形状を有する単位パターン領域をこのように繰り返した場合、隣り合う単位パターン領域との境界部で金属細線同士が繋がらず、特にセンサー部11においては断線してしまうことがあるので、単位パターン領域41の四角44上に位置する金属細線の位置は、繰り返した際に隣り合う単位パターン領域の金属細線と繋がるように、元の図形から修正することが好ましい。   In the present invention, as described above, the unit pattern region composed of the fine metal wire pattern having the mesh shape of any of type a, type b, or type c described above is repeated in at least two directions within the surface of the light-transmitting conductive layer. Thus, it is preferable to form the sensor part 11 and the dummy part 12 in FIG. FIG. 5 is a schematic view for explaining the metal fine line pattern region. (5-a) is an example of a unit pattern region having a mesh shape of type a, type b, and type c from the left. For example, an example in which the unit pattern area 41 having a mesh shape of type a is repeated is (5-b). The mesh shape of the unit pattern area 41 is a random pattern having no period within the range of the unit pattern area surrounded by the square 44. This unit pattern region 41 (the length in the x direction is 42 and the length in the y direction is 43) is repeated with a repetition period 42 in the x direction and a repetition period 43 in the y direction to form a series of large fine metal wire patterns. doing. When the unit pattern region having a random mesh shape is repeated in this way, the fine metal wires are not connected to each other at the boundary between adjacent unit pattern regions, and in particular, the sensor unit 11 may be disconnected. The position of the fine metal line located on the square 44 of the pattern area 41 is preferably corrected from the original figure so as to be connected to the fine metal line of the adjacent unit pattern area when repeated.

図5の(5−b)では、正方形の単位パターン領域41を光透過性導電層面内で直交する2方向に繰り返してセンサー部11とダミー部12を形成しているが、単位パターン領域の範囲の輪郭形状は、それを用いて平面充填できる形状であれば、例えば正三角形、二等辺三角形、直角三角形などの三角形、正方形、長方形、菱形、平行四辺形、台形などの四角形、正六角形、及びこれらや他の形状との2種類以上の組み合わせなど、どのような形状でも構わない。また、繰り返す方向も単位パターン領域の範囲の輪郭形状に合わせて、光透過性導電層面内における少なくとも二方向を選択することができる。本発明においては、図5の(5−b)に示すように、範囲の輪郭形状が正方形の単位パターン領域を光透過性導電層面内で直交する2方向に繰り返して、センサー部11および/またはダミー部12を形成することが好ましい。   In (5-b) of FIG. 5, the sensor unit 11 and the dummy unit 12 are formed by repeating a square unit pattern region 41 in two directions orthogonal to each other in the light-transmitting conductive layer surface. If the shape of the shape can be filled with a plane using the same, for example, a triangle such as a regular triangle, an isosceles triangle, a right triangle, a square, a rectangle, a rhombus, a parallelogram, a square such as a trapezoid, a regular hexagon, and Any shape such as a combination of two or more of these and other shapes may be used. Moreover, the direction to repeat can also select at least two directions in the light-transmitting conductive layer surface according to the contour shape in the range of the unit pattern region. In the present invention, as shown in FIG. 5 (5-b), the unit pattern region having a square outline shape is repeated in two directions orthogonal to each other in the plane of the light-transmitting conductive layer, and the sensor unit 11 and / or It is preferable to form the dummy part 12.

図2の説明において述べたように、センサー部とダミー部の間には電気的接続はない。図6は光透過性導電材料のセンサー部とダミー部の一例を示す概略図である。図6の(6−a)において、センサー部11とダミー部12はタイプaの網目形状を有する金属細線パターンからなる単位パターン領域によって形成され、センサー部11は周辺配線14と電気的に接続している。センサー部11とダミー部12の境界に仮の境界線Rを図示しており(実際には、境界線Rが示す線は金属パターンではない。)、この仮の境界線Rの位置で、センサー部11とダミー部12の間には、電気的接続を断つための断線部が設けられている。断線部の長さ(金属細線が途切れている長さ)は好ましくは3〜100μm、より好ましくは5〜20μmである。図5では断線部は仮の境界線Rに沿った位置にのみ設けているが、それ以外にも、必要に応じてダミー部内などに単数あるいは複数設けることもできる。図6の(6−a)から仮の境界線Rを消し、実際の金属パターンのみを図示したのが図6の(6−b)である。   As described in the description of FIG. 2, there is no electrical connection between the sensor unit and the dummy unit. FIG. 6 is a schematic view showing an example of a sensor part and a dummy part of a light transmissive conductive material. In FIG. 6 (6-a), the sensor unit 11 and the dummy unit 12 are formed by a unit pattern region composed of a fine metal line pattern having a type a mesh shape, and the sensor unit 11 is electrically connected to the peripheral wiring 14. ing. A temporary boundary line R is illustrated at the boundary between the sensor unit 11 and the dummy unit 12 (in practice, the line indicated by the boundary line R is not a metal pattern), and the sensor is located at the position of the temporary boundary line R. Between the part 11 and the dummy part 12, the disconnection part for disconnecting an electrical connection is provided. The length of the disconnection portion (the length at which the fine metal wire is interrupted) is preferably 3 to 100 μm, more preferably 5 to 20 μm. In FIG. 5, the disconnection portion is provided only at a position along the temporary boundary line R, but in addition to that, one or a plurality of disconnection portions may be provided in the dummy portion or the like as necessary. FIG. 6 (6-b) shows only the actual metal pattern by removing the temporary boundary line R from (6-a) in FIG. 6.

図7は単位パターン領域の繰り返し周期を説明するための図である。四角44(実際には、四角44が示す線は金属パターンでは無く、説明のために図示している。)で囲まれた不規則な網目形状を有する金属細線パターンからなる単位パターン領域41を繰り返して配置することにより、センサー部11とダミー部12が構成されている。センサー部11とダミー部12の境界には仮の境界線Rを図示しており、このRの位置に断線部が設けられ、センサー部11とダミー部12の間では電気的接続が断たれている。単位パターン領域41はx方向に繰り返し周期42、y方向に繰り返し周期43で繰り返して配置され、全体が敷き詰められている。図7において、繰り返し周期43はセンサー部11がy方向に並んだ列周期63と同じになっている。繰り返し周期43と列周期63の関係は、繰り返し周期43が列周期63の整数倍になっているか、もしくは列周期63が繰り返し周期43の整数倍になっていることが好ましく、図6のように同じであることがより好ましい。更に、繰り返し周期43は好ましくは1mm以上、あるいは、タッチパネルとするとき光透過性電極と貼り合わせるディスプレイの素子にy方向の周期がある場合は、その周期の5倍以上であり、より好ましくは10倍以上である。繰り返し周期43の最大値は、列周期63の10倍以下であることが好ましい。   FIG. 7 is a diagram for explaining the repetition cycle of the unit pattern region. The unit pattern region 41 composed of a metal fine line pattern having an irregular mesh shape surrounded by a square 44 (in practice, the line indicated by the square 44 is not a metal pattern but is shown for explanation) is repeated. Thus, the sensor unit 11 and the dummy unit 12 are configured. A temporary boundary line R is illustrated at the boundary between the sensor unit 11 and the dummy unit 12, and a disconnection unit is provided at the position of R, and the electrical connection between the sensor unit 11 and the dummy unit 12 is disconnected. Yes. The unit pattern areas 41 are repeatedly arranged with a repetition period 42 in the x direction and a repetition period 43 in the y direction, and are entirely spread. In FIG. 7, the repetition period 43 is the same as the column period 63 in which the sensor units 11 are arranged in the y direction. The relationship between the repetition period 43 and the column period 63 is preferably such that the repetition period 43 is an integer multiple of the column period 63 or the column period 63 is an integer multiple of the repetition period 43, as shown in FIG. More preferably, they are the same. Further, the repetition period 43 is preferably 1 mm or more, or when the display element to be bonded to the light transmissive electrode has a y-direction period when it is used as a touch panel, it is 5 times or more, more preferably 10 times. It is more than double. The maximum value of the repetition period 43 is preferably 10 times or less of the column period 63.

図7において、繰り返し周期42はセンサー部11のx方向におけるパターン周期62と同じになっている。繰り返し周期42とパターン周期62との関係は、周期42がパターン周期62の整数倍になっているか、もしくはパターン周期62が繰り返し周期42の整数倍になっていることが好ましく、同じであることがより好ましい。更に、繰り返し周期42は好ましくは1mm以上、あるいは、タッチパネルとするとき光透過性電極と貼り合わせるディスプレイの素子にx方向の周期がある場合は、その周期の5倍以上であり、より好ましくは10倍以上である。繰り返し周期42の最大値は、パターン周期62の10倍以下であることが好ましい。   In FIG. 7, the repetition period 42 is the same as the pattern period 62 in the x direction of the sensor unit 11. The relationship between the repetition period 42 and the pattern period 62 is preferably the same as the period 42 is an integral multiple of the pattern period 62 or the pattern period 62 is an integral multiple of the repetition period 42. More preferred. Further, the repetition period 42 is preferably 1 mm or more, or, when a touch panel is used, if the display element to be bonded to the light transmissive electrode has a period in the x direction, it is 5 times or more, more preferably 10 times. It is more than double. The maximum value of the repetition period 42 is preferably 10 times or less of the pattern period 62.

ここまでの説明ではx方向に伸びたセンサー部を有する光透過性導電材料のみについて説明しているが、実際のタッチパネルの光透過性電極では、この光透過性導電材料と対になるy方向に伸びたセンサー部を有する光透過性導電材料を重ねて用いるため、このy方向に伸びたセンサー部はx方向に任意の周期を保って並ぶことが好ましい。前述の図1に示した光透過性導電材料積層体の一例では、光透過性導電材料1が有する金属細線パターン3がx方向に伸びたセンサー部に相当し、別の光透過性導電材料1′が有する金属細線パターン3がy方向に伸びたセンサー部に相当する。仮にこのx方向の列周期を64とすると、列周期64は図7におけるセンサー部11のx方向におけるパターン周期62と同じであることが好ましく、単位パターン領域の繰り返し周期42と同じであることが好ましい。   In the above description, only the light transmissive conductive material having the sensor portion extending in the x direction is described. However, in the light transmissive electrode of the actual touch panel, the light transmissive conductive material is paired with the light transmissive conductive material in the y direction. Since the light-transmitting conductive material having the extended sensor part is used in an overlapping manner, it is preferable that the sensor parts extended in the y direction are arranged with an arbitrary period in the x direction. In the example of the light transmissive conductive material laminate shown in FIG. 1 described above, the thin metal wire pattern 3 included in the light transmissive conductive material 1 corresponds to a sensor portion extending in the x direction. The metal thin line pattern 3 included in ′ corresponds to a sensor portion extending in the y direction. If the column period in the x direction is 64, the column period 64 is preferably the same as the pattern period 62 in the x direction of the sensor unit 11 in FIG. 7, and may be the same as the repetition period 42 of the unit pattern region. preferable.

図1の光透過性導電材料積層体aにおける光透過性導電材料を構成する光透過性支持体2としては、ガラスやあるいはポリエチレンテレフタレート(PET)やポリエチレンナフタレート(PEN)等のポリエステル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、フッ素樹脂、シリコーン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ジアセテート樹脂、トリアセテート樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリスルフォン樹脂、ポリエーテルスルフォン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、環状ポリオレフィン樹脂等などの公知の光透過性を有するシートを用いることが好ましい。ここで光透過性とは全光線透過率が60%以上であることを意味し、光透過性支持体の全光線透過率は85%以上であることが好ましい。光透過性支持体2の厚みは50μm〜5mmであることが好ましい。また光透過性支持体2には指紋防汚層、ハードコート層、反射防止層、防眩層などの公知の層を付与することもできる。   As the light transmissive support 2 constituting the light transmissive conductive material in the light transmissive conductive material laminate a in FIG. 1, polyester resin such as glass or polyethylene terephthalate (PET) or polyethylene naphthalate (PEN), acrylic Resin, epoxy resin, fluorine resin, silicone resin, polycarbonate resin, diacetate resin, triacetate resin, polyarylate resin, polyvinyl chloride, polysulfone resin, polyethersulfone resin, polyimide resin, polyamide resin, polyolefin resin, cyclic polyolefin resin It is preferable to use a known light-transmitting sheet such as. Here, light transmittance means that the total light transmittance is 60% or more, and the total light transmittance of the light transmissive support is preferably 85% or more. The thickness of the light transmissive support 2 is preferably 50 μm to 5 mm. The light transmissive support 2 may be provided with a known layer such as a fingerprint antifouling layer, a hard coat layer, an antireflection layer, or an antiglare layer.

本発明の光透過性導電材料積層体が有する粘着剤層4は、粘着性を有する材料から構成される層であることを意味し、公知の材料を用いることができる。一般的に粘着性を有する材料としては、アクリル系樹脂が好ましく用いられる。   The pressure-sensitive adhesive layer 4 included in the light-transmitting conductive material laminate of the present invention means a layer composed of a material having adhesiveness, and a known material can be used. In general, an acrylic resin is preferably used as an adhesive material.

粘着剤層4を構成するアクリル系樹脂としては、(メタ)アクリル酸エステル系単量体、及び(メタ)アクリル酸エステル系単量体と多官能性架橋剤を含む混合物の重合体を例示できる。(メタ)アクリル酸エステル系単量体の種類は特に限定されなく、例えば、アルキル(メタ)アクリレートを使用できる。この場合、構造中に含まれるアルキル鎖が長すぎると、硬化物の凝集力が低下し、ガラス転移温度や粘着性の調節が困難になる虞があるため、炭素数が1〜14、好ましくは炭素数が1〜8のアルキル基を有するアルキル(メタ)アクリレートを使用できる。このような単量体の例としては、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n−プロピル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、sec−ブチル(メタ)アクリレート、ペンチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、2−エチルブチル(メタ)アクリレート、n−オクチル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレート、イソボニル(メタ)アクリレート又はイソノニル(メタ)アクリレート等を挙げることができ、本発明では前記の一種又は二種以上の混合を使用することができる。   As an acrylic resin which comprises the adhesive layer 4, the polymer of the mixture containing a (meth) acrylic acid ester type monomer and a (meth) acrylic acid ester type monomer and a polyfunctional crosslinking agent can be illustrated. . The kind of (meth) acrylic acid ester monomer is not particularly limited, and for example, alkyl (meth) acrylate can be used. In this case, if the alkyl chain contained in the structure is too long, the cohesive strength of the cured product is lowered, and it may be difficult to adjust the glass transition temperature and the adhesiveness. An alkyl (meth) acrylate having an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms can be used. Examples of such monomers include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) ) Acrylate, sec-butyl (meth) acrylate, pentyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, 2-ethylbutyl (meth) acrylate, n-octyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, isobonyl (meth) ) Acrylate or isononyl (meth) acrylate, and the like. In the present invention, one or a mixture of two or more of the above can be used.

前記した多官能性架橋剤は、その使用量によって前記したアクリル系樹脂の硬化物の凝集力又は粘着特性を調節できる。多官能性架橋剤の種類は特に限定されなく、例えば、イソシアネート系化合物、エポキシ系化合物、アジリジン系化合物及び金属キレート系化合物のような一般的な多官能性架橋剤を使用できる。前記において、イソシアネート系化合物の例としては、トリレンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、テトラメチルキシレンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート及び前記の一つ以上のイソシアネート化合物とポリオール(例えばトリメチロールプロパン)との反応物からなる群から選ばれた一つ以上を挙げることができ;エポキシ系化合物の例としては、エチレングリコールジグリシジルエーテル、トリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、N,N,N′,N′−テトラグリシジルエチレンジアミン及びグリセリンジグリシジルエーテルからなる群から選ばれた一つ以上を挙げることができ;アジリジン系化合物の例としては、N,N′−トルエン−2,4−ビス(1−アジリジンカルボキサミド)、N,N′−ジフェニルメタン−4,4′−ビス(1−アジリジンカルボキサミド)、トリエチレンメラミン、ビスイソプロタロイル−1−(2−メチルアジリジン)及びトリ−1−アジリジニルホスフィンオキシドからなる群から選ばれた一つ以上を挙げることができる。また、前記金属キレート系化合物の例としては、アルミニウム、鉄、亜鉛、スズ、チタン、アンチモン、マグネシウム及び/又はバナジウムのような多価金属がアセチルアセトン又はアセト酢酸エチル等に配位している化合物を使用できるが、これに制限されるものではない。   The polyfunctional crosslinking agent described above can adjust the cohesive force or adhesive property of the cured product of the acrylic resin described above depending on the amount of use. The kind of polyfunctional crosslinking agent is not specifically limited, For example, common polyfunctional crosslinking agents like an isocyanate type compound, an epoxy type compound, an aziridine type compound, and a metal chelate type compound can be used. In the above, examples of the isocyanate compound include tolylene diisocyanate, xylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, tetramethylxylene diisocyanate, naphthalene diisocyanate, and one or more isocyanate compounds and polyols (for example, trimethylol). One or more selected from the group consisting of reactants with propane); examples of epoxy compounds include ethylene glycol diglycidyl ether, triglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, N, N , N ′, N′-tetraglycidylethylenediamine and one or more selected from the group consisting of glycerin diglycidyl ether Examples of aziridine compounds include N, N'-toluene-2,4-bis (1-aziridinecarboxamide), N, N'-diphenylmethane-4,4'-bis (1-aziridinecarboxamide) And one or more selected from the group consisting of triethylenemelamine, bisisoprotaloyl-1- (2-methylaziridine) and tri-1-aziridinylphosphine oxide. Examples of the metal chelate compounds include compounds in which a polyvalent metal such as aluminum, iron, zinc, tin, titanium, antimony, magnesium and / or vanadium is coordinated to acetylacetone or ethyl acetoacetate. It can be used but is not limited to this.

また粘着剤層4の形成に用いられる市販品としては、例えばリンテック(株)製静電容量方式フィルムセンサー用光学用粘着シートMOseriesや日栄化工(株)製高透明基材レス両面粘着シートMHM−FWDなどが例示される。   Moreover, as a commercial item used for formation of the adhesive layer 4, for example, the pressure-sensitive adhesive sheet MOseries for capacitance type film sensor manufactured by Lintec Co., Ltd. or the highly transparent base material-less double-sided adhesive sheet MHM- manufactured by Nichiei Kako Co., Ltd. FWD etc. are illustrated.

本発明の光透過性導電材料積層体が有する光透過性機能材料5としては、例えばカバーガラス、ハードコートフィルム、反射防止フィルム、防眩フィルム、光透過性導電フィルム、偏光フィルムなど各種公知の光透過性機能材料が使用可能であり、本発明の効果を得るためには光透過性機能材料の粘着剤層に接する面の算術平均粗さRaが0.085〜0.23μmであることが必要である。光透過性機能材料の算術平均粗さRaが0.085μm未満であれば、「モアレ」や「砂目」が視認され、また算術平均粗さRaが0.23μmを超えるものであれば、液晶ディスプレイに表示される画像の鮮明性に劣る。本発明では、光透過性機能材料の粘着剤層に接する面の算術平均粗さRaが0.11〜0.23μmであることがより好ましく、これにより「モアレ」や「砂目」の視認性(難視認性)にとりわけ優れた光透過性導電材料積層体を得ることが可能である。   Examples of the light transmissive functional material 5 included in the light transmissive conductive material laminate of the present invention include various known lights such as a cover glass, a hard coat film, an antireflection film, an antiglare film, a light transmissive conductive film, and a polarizing film. A transparent functional material can be used, and in order to obtain the effects of the present invention, the arithmetic average roughness Ra of the surface in contact with the pressure-sensitive adhesive layer of the light transparent functional material needs to be 0.085 to 0.23 μm. It is. If the arithmetic average roughness Ra of the light-transmitting functional material is less than 0.085 μm, “moire” or “grainy” is visually recognized, and if the arithmetic average roughness Ra exceeds 0.23 μm, the liquid crystal The image displayed on the display is inferior in sharpness. In the present invention, the arithmetic average roughness Ra of the surface in contact with the pressure-sensitive adhesive layer of the light-transmitting functional material is more preferably from 0.11 to 0.23 μm, whereby the visibility of “moire” and “grainy” is improved. It is possible to obtain a light-transmitting conductive material laminate that is particularly excellent in (difficult visibility).

なお、本発明において光透過性機能材料5の粘着剤層に接しない面における算術平均粗さは特に規定されるものではなく、例えば光透過性機能材料の粘着剤層に接する面と同じように算術平均粗さRaが0.085〜0.23μmであっても良い。   In the present invention, the arithmetic average roughness on the surface of the light-transmitting functional material 5 that does not contact the pressure-sensitive adhesive layer is not particularly defined. For example, the same as the surface that contacts the pressure-sensitive adhesive layer of the light-transmitting functional material. The arithmetic average roughness Ra may be 0.085 to 0.23 μm.

本発明の効果を得るための光透過性機能材料として、例えばカバーガラスを例に、その製造方法を以下に示す。   As a light-transmitting functional material for obtaining the effects of the present invention, for example, a cover glass is taken as an example, and a manufacturing method thereof is shown below.

まず、ガラス基板を準備する。ガラス基板の種類は特に限定されない。ガラス基板としては、例えば、ソーダライムガラス、ソーダライムシリケートガラス、アルミノシリケートガラス、ボレートガラス、リチウムアルミノシリケートガラス、石英ガラス、ホウ珪酸ガラス、無アルカリガラス、およびその他の各種ガラスからなる透明ガラス基板を用いることができる。   First, a glass substrate is prepared. The kind of glass substrate is not specifically limited. As the glass substrate, for example, a transparent glass substrate made of soda lime glass, soda lime silicate glass, aluminosilicate glass, borate glass, lithium aluminosilicate glass, quartz glass, borosilicate glass, non-alkali glass, and other various glasses. Can be used.

次に、ガラス基板の表面を粗くすることで表面に凹凸を形成する。このような表面に凹凸を形成する処理は、例えば、ブラスト処理、湿式処理、または型押し処理によって実施される。   Next, unevenness is formed on the surface by roughening the surface of the glass substrate. Such a process for forming irregularities on the surface is performed, for example, by a blast process, a wet process, or an embossing process.

このうち、ブラスト処理は、ガラス基板の表面にアルミナ等を衝突させて表面を粗くする処理(例えば、サンドブラスト処理、ウオータブラスト処理、およびドライアイスブラスト処理等)の総称を意味する。また湿式処理は、ガラス基板を各種溶液中に浸漬させて表面を粗くする処理の総称を意味する。さらに、型押し処理は、型板ガラスのようにガラス基板の表面に凹凸パターンを有する型を押し付けて、ガラス基板にパターンを転写させる処理の総称を意味する。   Among these, the blasting process is a general term for a process (for example, a sandblasting process, a water blasting process, a dry ice blasting process, etc.) that makes alumina or the like collide with the surface of the glass substrate to roughen the surface. In addition, wet processing means a general term for processing in which a glass substrate is immersed in various solutions to roughen the surface. Furthermore, the die pressing process is a general term for a process of transferring a pattern to a glass substrate by pressing a mold having a concavo-convex pattern onto the surface of the glass substrate like a plate glass.

なお前項では、ガラス基板の表面を処理することにより、ガラス基板の表面を粗くし、凹凸を形成する方法について説明したが、本発明では前記した方法以外にも、例えばコーティングによって、あるいは前記した処理とコーティングを組み合わせて、算術平均粗さRaを0.085〜0.23μmに調整することも可能である。   In the previous section, the method for roughening the surface of the glass substrate by treating the surface of the glass substrate and forming the irregularities has been described. However, in the present invention, in addition to the method described above, for example, by coating or the above-described treatment It is also possible to adjust the arithmetic average roughness Ra to 0.085 to 0.23 μm by combining the coating and the coating.

本発明における算術平均粗さRaは、JIS B0601(2001)の測定方法に準拠しており、例えば(株)東京精密製表面粗さ測定機サーフコム1400Dなどによって測定することができる。   The arithmetic average roughness Ra in the present invention is based on the measurement method of JIS B0601 (2001), and can be measured by, for example, a surface roughness measuring machine Surfcom 1400D manufactured by Tokyo Seimitsu Co., Ltd.

以下、本発明に関し実施例を用いて詳細に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated in detail using an Example, this invention is not limited to a following example, unless the summary is exceeded.

<光透過性導電材料積層体1の作製>
光透過性支持体として、厚み100μmのポリエチレンテレフタレートフィルムを用いた。なおこの光透過性支持体の全光線透過率は91%であった。
<Preparation of light transmissive conductive material laminate 1>
A polyethylene terephthalate film having a thickness of 100 μm was used as the light transmissive support. The total light transmittance of this light transmissive support was 91%.

次に下記処方に従い、物理現像核層塗液を作製し、上記光透過性支持体上に塗布、乾燥して物理現像核層を設けた。   Next, according to the following prescription, a physical development nucleus layer coating solution was prepared, applied onto the light transmissive support, and dried to provide a physical development nucleus layer.

<硫化パラジウムゾルの調製>
A液 塩化パラジウム 5g
塩酸 40ml
蒸留水 1000ml
B液 硫化ソーダ 8.6g
蒸留水 1000ml
A液とB液を撹拌しながら混合し、30分後にイオン交換樹脂の充填されたカラムに通し硫化パラジウムゾルを得た。
<Preparation of palladium sulfide sol>
Liquid A Palladium chloride 5g
Hydrochloric acid 40ml
1000ml distilled water
B liquid sodium sulfide 8.6g
1000ml distilled water
Liquid A and liquid B were mixed with stirring, and 30 minutes later, the solution was passed through a column filled with an ion exchange resin to obtain palladium sulfide sol.

<物理現像核層塗液の調製>銀塩感光材料の1mあたりの量
前記硫化パラジウムゾル 0.4mg
2質量%グリオキザール水溶液 0.2ml
界面活性剤(S−1) 4mg
デナコールEX−830 50mg
(ナガセケムテックス(株)製ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル)
10質量%SP−200水溶液 0.5mg
((株)日本触媒製ポリエチレンイミン;平均分子量10,000)
<Preparation of coating solution for physical development nucleus layer> Amount of silver salt photosensitive material per 1 m 2 The palladium sulfide sol 0.4 mg
0.2% aqueous 2 mass% glyoxal solution
Surfactant (S-1) 4mg
Denacol EX-830 50mg
(Polyethylene glycol diglycidyl ether manufactured by Nagase ChemteX Corporation)
10 mass% SP-200 aqueous solution 0.5 mg
(Nippon Shokubai Polyethyleneimine; average molecular weight 10,000)

続いて、光透過性支持体に近い方から順に下記組成の中間層、ハロゲン化銀乳剤層、及び保護層を上記物理現像核液層の上に塗布、乾燥して、銀塩感光材料を得た。ハロゲン化銀乳剤は、写真用ハロゲン化銀乳剤の一般的なダブルジェット混合法で製造した。このハロゲン化銀乳剤は、塩化銀95モル%と臭化銀5モル%で、平均粒径が0.15μmになるように調製した。このようにして得られたハロゲン化銀乳剤を定法に従いチオ硫酸ナトリウムと塩化金酸を用い、金イオウ増感を施した。こうして得られたハロゲン化銀乳剤は銀1gあたり0.5gのゼラチンを含む。   Subsequently, an intermediate layer, a silver halide emulsion layer, and a protective layer having the following composition are coated on the physical development nucleus solution layer in order from the side closest to the light-transmitting support and dried to obtain a silver salt photosensitive material. It was. The silver halide emulsion was prepared by a general double jet mixing method for photographic silver halide emulsions. This silver halide emulsion was prepared with 95 mol% of silver chloride and 5 mol% of silver bromide, and an average grain size of 0.15 μm. The silver halide emulsion thus obtained was subjected to gold sulfur sensitization using sodium thiosulfate and chloroauric acid according to a conventional method. The silver halide emulsion thus obtained contains 0.5 g of gelatin per gram of silver.

<中間層組成>銀塩感光材料の1mあたりの量
ゼラチン 0.5g
界面活性剤(S−1) 5mg
染料1 50mg
<Interlayer composition> Amount of silver salt photosensitive material per 1 m 2 Gelatin 0.5 g
Surfactant (S-1) 5mg
Dye 1 50mg

<ハロゲン化銀乳剤層組成>銀塩感光材料の1mあたりの量
ゼラチン 0.5g
ハロゲン化銀乳剤 3.0g銀相当
1−フェニル−5−メルカプトテトラゾール 3mg
界面活性剤(S−1) 20mg
<Silver halide emulsion layer composition> Amount of silver salt photosensitive material per 1 m 2 Gelatin 0.5 g
Silver halide emulsion 3.0g Silver equivalent 1-Phenyl-5-mercaptotetrazole 3mg
Surfactant (S-1) 20mg

<保護層組成>銀塩感光材料の1mあたりの量
ゼラチン 1g
不定形シリカマット剤(平均粒径3.5μm) 10mg
界面活性剤(S−1) 10mg
<Protective layer composition> Silver salt photosensitive material per 1 m 2 Gelatin 1 g
Amorphous silica matting agent (average particle size 3.5μm) 10mg
Surfactant (S-1) 10mg

このようにして得た銀塩感光材料に、図2のパターンの画像を有する透過原稿を密着し、水銀灯を光源とする密着プリンターで400nm以下の光をカットする樹脂フィルターを介して露光した。なお、透過原稿の一部を拡大したのが図8の(8−a)である。更に、実際には画像は無いが、理解のため、センサー部とダミー部の仮の境界線Rと、単位パターン領域の輪郭44を加筆したのが図8の(8−b)である。単位パターン領域のx方向の繰り返し周期はセンサー部のx方向のパターン周期と等しく5mmであり、単位パターン領域のy方向の繰り返し周期はセンサー部のy方向の列周期と等しく5mmである。単位パターン領域を構成している網目形状はタイプaのボロノイ図形によるものである。ボロノイ図形の母点は、x方向の一辺の長さが0.6mm、y方向の一辺の長さが0.4mmである長方形をx方向、y方向に並べて平面充填し、その長方形の重心から各頂点までの距離の80%の位置を結んでできる縮小長方形の中に不規則に配置した。ボロノイ辺の形状を有する細線画像の線幅は4μmとした。センサー部とダミー部との境界(仮の境界線Rの位置)にある全ての細線画像には長さ20μmの断線部を設けている。センサー部の全光線透過率は89.5%、ダミー部の全光線透過率は89.5%である。   A transparent original having the pattern image of FIG. 2 was brought into close contact with the silver salt light-sensitive material thus obtained, and exposed through a resin filter that cut light of 400 nm or less with a contact printer using a mercury lamp as a light source. Note that (8-a) in FIG. 8 is an enlarged view of a part of the transparent original. Further, although there is no actual image, for the sake of understanding, the provisional boundary R between the sensor part and the dummy part and the outline 44 of the unit pattern area are added as shown in FIG. 8B. The repetition period in the x direction of the unit pattern area is 5 mm, which is equal to the pattern period in the x direction of the sensor part, and the repetition period in the y direction of the unit pattern area is 5 mm, which is equal to the column period in the y direction of the sensor part. The mesh shape constituting the unit pattern region is a type a Voronoi figure. The base point of the Voronoi figure is filled with a rectangle with one side in the x direction having a length of 0.6 mm and one side in the y direction having a length of 0.4 mm in the x and y directions. Randomly placed in a reduced rectangle formed by connecting 80% of the distance to each vertex. The line width of the thin line image having the shape of the Voronoi side was 4 μm. All thin line images at the boundary between the sensor part and the dummy part (position of the temporary boundary line R) are provided with a disconnection part having a length of 20 μm. The total light transmittance of the sensor part is 89.5%, and the total light transmittance of the dummy part is 89.5%.

その後、下記拡散転写現像液中に20℃で60秒間浸漬した後、続いてハロゲン化銀乳剤層、中間層、および保護層を40℃の温水で水洗除去し、乾燥処理した。こうして光透過性導電層として、図8の形状を有する金属銀画像を有する光透過性導電材料1を得た。得られた光透過性導電材料が有する光透過性導電層の金属銀画像は、図8の形状を有する透過原稿と同じ形状、同じ線幅であった。また金属銀画像の膜厚は共焦点顕微鏡(レーザーテック社製、オプテリクスC130)で調べ、0.1μmであった。   Thereafter, the film was immersed in the following diffusion transfer developer at 20 ° C. for 60 seconds, and then the silver halide emulsion layer, intermediate layer, and protective layer were washed away with warm water at 40 ° C. and dried. Thus, a light transmissive conductive material 1 having a metal silver image having the shape of FIG. 8 was obtained as a light transmissive conductive layer. The metallic silver image of the light transmissive conductive layer of the obtained light transmissive conductive material had the same shape and the same line width as the transmissive original having the shape of FIG. The film thickness of the metal silver image was 0.1 μm as determined by a confocal microscope (Latertec Corp., Optics C130).

次に、図2のパターンの画像を有する透過原稿において、センサー部が伸びる方向をx方向からy方向に変更した以外は同様の透過原稿を準備し、該透過原稿を用いて露光した以外は光透過性導電材料1の作製と同様にして、光透過性導電材料2を得た。なお、光透過性導電材料2の金属メッシュパターン部とトレース部の細線幅、および細線間隔は、光透過性導電材料1と同様であった。   Next, in the transparent original having the pattern image of FIG. 2, a similar transparent original is prepared except that the direction in which the sensor unit extends is changed from the x direction to the y direction, and light is used except that the transparent original is exposed. The light transmissive conductive material 2 was obtained in the same manner as the production of the transmissive conductive material 1. In addition, the fine line width and fine line interval of the metal mesh pattern part and the trace part of the light transmissive conductive material 2 were the same as those of the light transmissive conductive material 1.

<拡散転写現像液組成>
水酸化カリウム 25g
ハイドロキノン 18g
1−フェニル−3−ピラゾリドン 2g
亜硫酸カリウム 80g
N−メチルエタノールアミン 15g
臭化カリウム 1.2g
全量を水で1000ml
pH=12.2に調整する。
<Diffusion transfer developer composition>
Potassium hydroxide 25g
Hydroquinone 18g
1-phenyl-3-pyrazolidone 2g
Potassium sulfite 80g
N-methylethanolamine 15g
Potassium bromide 1.2g
Total volume 1000ml with water
Adjust to pH = 12.2.

次に、得られた光透過性導電材料2の金属細線パターン面と光透過性導電材料1の支持体側の面とを、MHM−FW175(日栄化工(株)製光学用透明粘着シート)を用いて、互いの光透過性導電材料のセンサー部が直交するように貼合した。続けて、光透過性導電材料1の金属細線パターンを有する側の面と、光透過性機能材料としてGs50%品(フィグラ(株)製AGガラス)を、MHM−FW175(日栄化工(株)製光学用透明粘着シート)を用いて貼合して、光透過性導電材料積層体1を得た。なお、Gs50%品のMHM−FW175に接する面の算術平均粗さを(株)東京精密製表面粗さ測定機サーフコム1400Dで測定したところ0.18μmであった。   Next, the metal fine wire pattern surface of the obtained light-transmitting conductive material 2 and the surface on the support side of the light-transmitting conductive material 1 are used with MHM-FW175 (Nichiei Kako Co., Ltd. optical transparent adhesive sheet). Then, they were bonded so that the sensor parts of the light transmissive conductive materials were orthogonal to each other. Subsequently, the surface of the light transmissive conductive material 1 having the fine metal wire pattern and Gs 50% product (AG glass manufactured by Figura Co., Ltd.) as the light transmissive functional material are manufactured by MHM-FW175 (manufactured by Nichiei Chemical Co., Ltd.). An optically transparent adhesive sheet) was used to obtain a light transmissive conductive material laminate 1. In addition, it was 0.18 micrometer when the arithmetic mean roughness of the surface which contact | connects MHM-FW175 of Gs50% goods was measured with the Tokyo Seimitsu Co., Ltd. surface roughness measuring machine Surfcom 1400D.

<光透過性導電材料積層体2の作製>
光透過性機能材料としてGs65%品(フィグラ(株)製AGガラス)を用いる以外は光透過性導電材料積層体1の作製と同様にして、光透過性導電材料積層体2を得た。なお、Gs65%品のMHM−FW175に接する面の算術平均粗さは0.12μmであった。
<Preparation of light transmissive conductive material laminate 2>
A light transmissive conductive material laminate 2 was obtained in the same manner as the light transmissive conductive material laminate 1 except that a Gs65% product (AG glass manufactured by Figra Co., Ltd.) was used as the light transmissive functional material. The arithmetic average roughness of the surface in contact with the GHM65% MHM-FW175 was 0.12 μm.

<光透過性導電材料積層体3の作製>
光透過性機能材料としてGs85%品(フィグラ(株)製AGガラス)を用いる以外は光透過性導電材料積層体1の作製と同様にして、光透過性導電材料積層体3を得た。なお、Gs85%品のMHM−FW175に接する面の算術平均粗さは0.09μmであった。
<Preparation of light transmissive conductive material laminate 3>
A light transmissive conductive material laminate 3 was obtained in the same manner as the light transmissive conductive material laminate 1 except that a Gs85% product (AG glass manufactured by Figura Co., Ltd.) was used as the light transmissive functional material. In addition, the arithmetic mean roughness of the surface which touches MHM-FW175 of Gs85% goods was 0.09 micrometer.

<光透過性導電材料積層体4の作製>
光透過性機能材料としてGs110%品(フィグラ(株)製AGガラス)を用いる以外は光透過性導電材料積層体1の作製と同様にして、光透過性導電材料積層体4を得た。なお、Gs110%品のMHM−FW175に接する面の算術平均粗さは0.08μmであった。
<Preparation of light transmissive conductive material laminate 4>
A light-transmitting conductive material laminate 4 was obtained in the same manner as the light-transmitting conductive material laminate 1 except that a Gs 110% product (AG glass manufactured by Figra Co., Ltd.) was used as the light-transmitting functional material. The arithmetic average roughness of the surface in contact with the GHM110% MHM-FW175 was 0.08 μm.

<光透過性導電材料積層体5の作製>
光透過性機能材料としてGs35%品(フィグラ(株)製AGガラス)を用いる以外は光透過性導電材料積層体1の作製と同様にして、光透過性導電材料積層体5を得た。なお、Gs35%品のMHM−FW175に接する面の算術平均粗さは0.27μmであった。
<Preparation of light transmissive conductive material laminate 5>
A light-transmitting conductive material laminate 5 was obtained in the same manner as the light-transmitting conductive material laminate 1 except that a Gs35% product (AG glass manufactured by Figura Co., Ltd.) was used as the light-transmitting functional material. The arithmetic average roughness of the surface in contact with GHM35% MHM-FW175 was 0.27 μm.

得られた光透過性導電材料積層体1〜5のそれぞれについて、視認性、表示画像の鮮明性を評価した。結果を表1に示す。なお視認性については、得られた光透過性導電材料積層体を、全面緑ベタ画像を表示したFlatron23EN43V−B2 23型ワイド液晶モニター(LG Electronics社製)の上に載せ、目視で観察し、モアレ、あるいは砂目がはっきり視認されるものを×、モアレ、あるいは砂目がよく見れば視認されるものを△、モアレ、あるいは砂目が全くわからないものを○と評価した。表示画像の鮮明性については、同モニターに画像(草原の風景画)を表示させた際の画像の鮮明さについて、鮮明さに劣ると判断したものを×、鮮明であると判断したものを○とした。この結果を表1に示す。   About each of the obtained light transmissive conductive material laminated bodies 1-5, visibility and the clarity of a display image were evaluated. The results are shown in Table 1. Regarding the visibility, the obtained light-transmitting conductive material laminate was placed on a Flatron 23EN43V-B2 23-type wide liquid crystal monitor (LG Electronics Co., Ltd.) displaying a green solid image, observed visually, and moire. In addition, the case where the grain was clearly visible was evaluated as x, the case where the moire or the grain was clearly observed was evaluated as Δ, and the case where the moire or the grain was not recognized was evaluated as ◯. As for the clearness of the displayed image, when the image (grass landscape image) is displayed on the same monitor, the image is judged to be inferior, x, and the image judged to be clear It was. The results are shown in Table 1.

以上の結果から明らかなように、本発明によって液晶ディスプレイに重ねてもモアレや砂目が発生せず、かつ液晶ディスプレイに表示された画像の鮮明性に優れた光透過性導電材料積層体が得られることがわかる。   As is clear from the above results, a light-transmitting conductive material laminate having excellent crispness of the image displayed on the liquid crystal display without causing moire or graininess even when stacked on the liquid crystal display is obtained by the present invention. I understand that

a 光透過性導電材料積層体
1 1′ 光透過性導電材料
2 光透過性支持体
3 金属細線パターン
4 粘着剤層
5 光透過性機能材料
11 センサー部
12 ダミー部
13 非画像部
14 周辺配線部
15 端子部
a Light transmissive conductive material laminate 1 1 ′ Light transmissive conductive material 2 Light transmissive support 3 Metal fine wire pattern 4 Adhesive layer 5 Light transmissive functional material 11 Sensor portion 12 Dummy portion 13 Non-image portion 14 Peripheral wiring portion 15 Terminal section

Claims (1)

光透過性支持体上に光透過性導電層を有する光透過性導電材料の光透過性導電層上に、粘着剤層および光透過性機能材料を少なくともこの順に有する光透過性導電材料積層体であって、該光透過性導電層がランダムパターンより形成される網目形状の金属細線パターンを有し、かつ該光透過性機能材料の粘着剤層に接する面における算術平均粗さRaが0.085〜0.23μmであることを特徴とする光透過性導電材料積層体。   A light transmissive conductive material laminate comprising a light transmissive conductive material having a light transmissive conductive layer on a light transmissive support and having a pressure-sensitive adhesive layer and a light transmissive functional material at least in this order on the light transmissive conductive layer. The light-transmitting conductive layer has a network-like fine metal wire pattern formed from a random pattern, and the arithmetic average roughness Ra on the surface in contact with the pressure-sensitive adhesive layer of the light-transmitting functional material is 0.085. A light-transmitting conductive material laminate having a thickness of ˜0.23 μm.
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