JP2017149630A - Composite material, ceramic substrate, and particles for forming cavity - Google Patents

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恭幸 山田
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沙織 上田
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Hideyuki Takahashi
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a composite material which can easily form uniform cavities in a ceramic substrate; to provide a ceramic substrate that is formed of the composite material; to provide a method for producing a ceramic substrate; and to provide particles for forming a cavity.SOLUTION: The composite material includes organic-inorganic composite particles and ceramic particles. In the composite material, the organic-inorganic composite particles have a core-shell structure formed by a core including an organic resin and a shell including a metal oxide, a ceramic substrate includes, as a component, a sintered body of a layered body of a ceramic green sheet including the composite material, and cavities are formed in the sintered body. In the composite material, the organic resin has a thermal decomposition temperature of 270 to less than 500°C under nitrogen atmosphere, and the organic-inorganic composite particles have a number average particle diameter of 0.1-5.0 μm and have an aspect ratio of 1.10 or less after heat treatment at 500°C under nitrogen atmosphere.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、複合材料、セラミック基材及び空孔形成用粒子に関する。   The present invention relates to a composite material, a ceramic substrate and pore forming particles.

従来、コンピューター回路基板は、LTCC(Low Temperature Co−fired Ceramics)と称される低温焼結できるセラミック基材によって構成されていることが知られている。近年では、1000℃以下、特に、500〜600℃領域で焼結させることが可能なセラミック基材形成用材料が種々提案されている(例えば、特許文献1等を参照)。このようなセラミック基材は、電子機器類の高周波化に伴い、より低誘電率で、低誘電損失という特性を備えることが求められている。   Conventionally, it is known that a computer circuit board is made of a ceramic base material that can be sintered at low temperature called LTCC (Low Temperature Co-fired Ceramics). In recent years, various ceramic base material forming materials that can be sintered at 1000 ° C. or lower, particularly 500 to 600 ° C. have been proposed (see, for example, Patent Document 1). Such a ceramic substrate is required to have characteristics of a lower dielectric constant and a lower dielectric loss in accordance with the higher frequency of electronic devices.

セラミック基材の誘電率を低くさせるための技術は種々提案されており、その一つとして、セラミック基材内部に空孔を形成させる方法が知られている。例えば、特許文献2には、セラミックス破片による間隙でセラミック基材内部に空孔形成を期待する方法、特許文献3には、中空シリカガラスを含有させることにより、セラミック基材内部に空孔を形成させる方法が開示されている。   Various techniques for lowering the dielectric constant of a ceramic substrate have been proposed, and as one of them, a method of forming pores inside the ceramic substrate is known. For example, Patent Document 2 discloses a method of expecting void formation inside a ceramic substrate with a gap due to ceramic fragments, and Patent Document 3 forms voids inside the ceramic substrate by containing hollow silica glass. Is disclosed.

国際公開第2014/196348号International Publication No. 2014/196348 特開2004−296544号公報JP 2004-296544 A 特開平05−067854号公報Japanese Patent Laid-Open No. 05-067854

しかしながら、上記特許文献2に開示の技術のように、セラミックス破片による間隙で空孔形成を期待する場合は、空孔のサイズを制御することは困難であり、均一な空孔を得ることができず、セラミック基材の強度が低下する問題があった。また、この場合、形成される空孔を球状に調整することも難しく、これによってもセラミック基材の強度が低下することが懸念されていた。さらに、上記特許文献3に開示の技術のように、中空シリカ粒子を用いて空孔を形成させる技術では、焼成によってセラミック基材を得る際に中空シリカ粒子が破壊されるなどのおそれがある。そのため、セラミック基材に均一な空孔を得ることが難しく、結果としてセラミック基材の強度が低下する問題を引き起こしていた。一方で、他の技術として樹脂粒子を用いて空孔を形成させる試みもなされているものの、この場合、焼結時に樹脂粒子の収縮が起こるため、やはり均一な空孔を得ることができなかった。また、焼結後に樹脂に由来する炭素(スス等)が残存することがあるため、セラミック基材の導電性の発現を回避すべく、別途、脱灰工程が必要になるという問題も生じていた。以上のように、セラミック基材に形成させる空孔の均一性、形状及び炭素の残存等はセラミック基材の性能に影響しやすいことから、さらなる改善が求められていた。   However, as in the technique disclosed in Patent Document 2, when the formation of holes is expected in the gap due to ceramic fragments, it is difficult to control the size of the holes, and uniform holes can be obtained. However, there was a problem that the strength of the ceramic substrate was lowered. In this case, it is also difficult to adjust the formed pores to be spherical, and there is a concern that the strength of the ceramic base material may be lowered. Furthermore, as in the technique disclosed in Patent Document 3, the technique of forming pores using hollow silica particles may cause the hollow silica particles to be destroyed when a ceramic substrate is obtained by firing. For this reason, it is difficult to obtain uniform pores in the ceramic substrate, resulting in a problem that the strength of the ceramic substrate is lowered. On the other hand, as another technique, attempts have been made to form pores using resin particles, but in this case, since the resin particles contracted during sintering, uniform pores could not be obtained. . In addition, since carbon (soot, etc.) derived from the resin may remain after sintering, there has been a problem that a separate deashing step is required to avoid the development of the conductivity of the ceramic base material. . As described above, since the uniformity, shape, carbon remaining, and the like of the holes formed in the ceramic base material are likely to affect the performance of the ceramic base material, further improvement has been demanded.

本発明は、上記に鑑みてなされたものであり、セラミック基材に均一な空孔を容易に形成することができる複合材料、この複合材料によって形成されるセラミック基材及びその製造方法、並びに空孔形成用粒子を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above, and a composite material capable of easily forming uniform pores in a ceramic substrate, a ceramic substrate formed by the composite material, a method for producing the same, and a void An object is to provide pore-forming particles.

本発明者は、上記目的を達成すべく鋭意研究を重ねた結果、いわゆるコアシェル構造を有する有機無機複合粒子によって空孔を形成させることにより、上記目的を達成できることを見出し、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventor has found that the above object can be achieved by forming pores with organic-inorganic composite particles having a so-called core-shell structure, and to complete the present invention. It came.

すなわち、本発明は、例えば以下の項に記載の主題を包含する。
項1.有機無機複合粒子と、セラミック粒子とを含み、
前記有機無機複合粒子は、有機樹脂を含むコア及び金属酸化物を含むシェルで形成されるコアシェル構造を有する、複合材料。
項2.前記有機樹脂は、窒素雰囲気下での熱分解温度が270℃以上500℃未満である、上記項1に記載の複合材料。
項3.前記有機無機複合粒子の数平均粒子径が0.1μm以上5.0μm以下である、上記項1又は2に記載の複合材料。
項4.前記有機無機複合粒子は、窒素雰囲気下、雰囲気温度500℃で加熱処理をした後のアスペクト比が1.10以下である、上記項1〜3のいずれか1項に記載の複合材料。
項5.前記金属酸化物がシリカを含む、上記項1〜4のいずれか1項に記載の複合材料。
項6.上記項1〜5のいずれか1項に記載の複合材料を含むセラミックシートの積層体の焼結体を構成要素として含み、前記焼結体の内部に空孔が形成されている、セラミック基材。
項7.上記項1〜5のいずれか1項に記載の複合材料によりセラミックシートを形成する工程、及び、前記セラミックシートを積層して得られる積層体を焼成する工程を備える、セラミック基材の製造方法。
項8.セラミック基材に空孔を形成するための空孔形成用粒子であって、
有機樹脂を含むコア及び金属酸化物を含むシェルで形成されるコアシェル構造を有する有機無機複合粒子を含む、空孔形成用粒子。
項9.前記有機樹脂は、窒素雰囲気下での熱分解温度が270℃以上500℃未満である、上記項8に記載の空孔形成用粒子。
項10.前記有機無機複合粒子の数平均粒子径が0.1μm以上5.0μm以下である、上記項8又は9に記載の空孔形成用粒子。
項11.前記有機無機複合粒子は、窒素雰囲気下、雰囲気温度500℃で加熱処理をした後のアスペクト比が1.10以下である、上記項8〜10のいずれか1項に記載の空孔形成用粒子。
項12.前記金属酸化物がシリカである、上記項8〜11のいずれか1項に記載の空孔形成用粒子。
That is, the present invention includes, for example, the subject matters described in the following sections.
Item 1. Including organic-inorganic composite particles and ceramic particles,
The organic-inorganic composite particle is a composite material having a core-shell structure formed of a core containing an organic resin and a shell containing a metal oxide.
Item 2. Item 2. The composite material according to Item 1, wherein the organic resin has a thermal decomposition temperature in a nitrogen atmosphere of 270 ° C or higher and lower than 500 ° C.
Item 3. Item 3. The composite material according to Item 1 or 2, wherein the organic-inorganic composite particles have a number average particle size of 0.1 μm or more and 5.0 μm or less.
Item 4. Item 4. The composite material according to any one of Items 1 to 3, wherein the organic-inorganic composite particle has an aspect ratio of 1.10 or less after heat treatment at 500 ° C in an atmosphere of nitrogen.
Item 5. Item 5. The composite material according to any one of Items 1 to 4, wherein the metal oxide contains silica.
Item 6. The ceramic base material which contains the sintered compact of the laminated body of the ceramic sheet containing the composite material of any one of said claim | item 1-5 as a component, and the void | hole is formed inside the said sintered compact. .
Item 7. A method for producing a ceramic substrate, comprising: a step of forming a ceramic sheet from the composite material according to any one of items 1 to 5; and a step of firing a laminate obtained by laminating the ceramic sheets.
Item 8. Pore-forming particles for forming pores in a ceramic substrate,
A pore-forming particle comprising organic-inorganic composite particles having a core-shell structure formed of a core containing an organic resin and a shell containing a metal oxide.
Item 9. Item 9. The pore forming particle according to Item 8, wherein the organic resin has a thermal decomposition temperature in a nitrogen atmosphere of 270 ° C or higher and lower than 500 ° C.
Item 10. Item 10. The pore forming particle according to Item 8 or 9, wherein the organic-inorganic composite particle has a number average particle size of 0.1 μm or more and 5.0 μm or less.
Item 11. The pore-forming particle according to any one of the above items 8 to 10, wherein the organic-inorganic composite particle has an aspect ratio of 1.10 or less after being heat-treated at 500 ° C. in a nitrogen atmosphere. .
Item 12. Item 12. The void forming particle according to any one of Items 8 to 11, wherein the metal oxide is silica.

本発明に係る複合材料は、セラミック基材の空孔形成剤として作用する有機無機複合粒子を含有することで、セラミック基材に均一な空孔を容易に形成させることができる。そのため、上記複合材料は、より低誘電化され、しかも、強度も優れるセラミック基材を形成するための材料として適している。その上、有機無機複合粒子の焼成後に形成される炭化層はセラミック基材の導電性付与に寄与しにくいので、焼成後に脱灰工程を実施する必要性も低いため、上記複合材料を使用すれば簡便な方法でセラミック基材を製造できる。   The composite material which concerns on this invention can form a uniform void | hole in a ceramic base material easily by containing the organic inorganic composite particle which acts as a pore formation agent of a ceramic base material. Therefore, the composite material is suitable as a material for forming a ceramic substrate having a lower dielectric constant and excellent strength. In addition, since the carbonized layer formed after firing the organic-inorganic composite particles is unlikely to contribute to the conductivity imparting of the ceramic substrate, it is less necessary to carry out the deashing step after firing. A ceramic substrate can be manufactured by a simple method.

本発明に係るセラミック基材は、均一な空孔を有するため、より低誘電化され、しかも、強度も優れる基材と成り得る。   Since the ceramic substrate according to the present invention has uniform pores, it can be a substrate having a lower dielectric constant and excellent strength.

本発明に係る空孔形成用粒子は、いわゆるコアシェル構造を有する有機無機複合粒子であるため、セラミック原料との混合時及び焼成時において粒子の崩壊が起こりにくい。そのため、セラミック基材に均一な空孔を容易に形成させることができるので、上記空孔形成用粒子は、セラミックス基材などに空孔を形成するための材料として適している。   Since the pore-forming particles according to the present invention are organic-inorganic composite particles having a so-called core-shell structure, the particles are unlikely to collapse during mixing with the ceramic raw material and firing. For this reason, uniform pores can be easily formed in the ceramic substrate, and thus the pore-forming particles are suitable as a material for forming pores in the ceramic substrate.

以下、本発明の実施形態について詳細に説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail.

(複合材料)
本実施形態の複合材料は、有機無機複合粒子と、セラミック粒子とを含み、前記有機無機複合粒子は、有機樹脂を含むコア及び金属酸化物を含むシェルで形成されるコアシェル構造を有する。上記複合材料は、セラミックス基材を形成するための原料として使用することができる。上記複合材料からセラミック基材を作製すると、得られるセラミック基材の内部には、均一な空孔が形成され得る。このため、上記複合材料は、より低誘電化されたセラミック基材を形成するための材料として適しているものである。
(Composite material)
The composite material of the present embodiment includes organic-inorganic composite particles and ceramic particles, and the organic-inorganic composite particles have a core-shell structure formed of a core containing an organic resin and a shell containing a metal oxide. The composite material can be used as a raw material for forming a ceramic substrate. When a ceramic substrate is produced from the composite material, uniform pores can be formed inside the obtained ceramic substrate. For this reason, the composite material is suitable as a material for forming a ceramic substrate having a lower dielectric constant.

さらに詳述すると、上記複合材料をペーストにしてセラミックシートを形成した後、これを焼成することでセラミックシートが焼結し、セラミック基材として得られる。この焼成時において、有機無機複合粒子における有機樹脂を含むコアが焼失する一方、金属酸化物を含むシェルは焼失しない。これにより、コアが焼失した部分は空孔として形成されるので、有機無機複合粒子は空孔を有する粒子へと変化する。このように形成される空孔がセラミック基材の空孔となる。そして、焼成後に残存するシェルはセラミックス基材の構成要素の一部となり、空孔を覆うようにセラミックス基材に存在する。   More specifically, a ceramic sheet is formed by using the composite material as a paste, and then fired to sinter the ceramic sheet to obtain a ceramic substrate. During the firing, the core containing the organic resin in the organic-inorganic composite particles is burned out, while the shell containing the metal oxide is not burned out. As a result, the portion where the core is burned out is formed as pores, so that the organic-inorganic composite particles are changed to particles having pores. The holes thus formed become the holes of the ceramic substrate. And the shell which remains after baking becomes a part of component of a ceramic base material, and exists in a ceramic base material so that a void | hole may be covered.

以下、複合材料の構成について詳述する。   Hereinafter, the configuration of the composite material will be described in detail.

上記有機無機複合粒子は、有機樹脂を含むコア及び金属酸化物を含むシェルで形成されるコアシェル構造を有する限りは、その種類は特に制限されない。   The type of the organic-inorganic composite particles is not particularly limited as long as it has a core-shell structure formed of a core containing an organic resin and a shell containing a metal oxide.

上記有機樹脂を含むコアは、例えば、当該有機樹脂で形成される有機粒子とすることができる。有機樹脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブタジエン等のポリオレフィン樹脂;ポリメチルメタクリレート、ポリメチルアクリレート等のアクリル樹脂;ポリアルキレンテレフタレート、ポリスルホン、ポリカーボネート、ポリアミド、フェノールホルムアルデヒド樹脂、メラミンホルムアルデヒド樹脂、ベンゾグアナミンホルムアルデヒド樹脂、尿素ホルムアルデヒド樹脂、及び、エチレン性不飽和基を有する種々の重合性単量体を1種もしくは2種以上重合させて得られる重合体等が挙げられる。エチレン性不飽和基を有する種々の重合性単量体を1種もしくは2種以上重合させることにより、有機無機複合粒子の設計の自由度が高くなり、また、合成も容易となる。   The core containing the organic resin can be, for example, organic particles formed of the organic resin. Examples of the organic resin include polyolefin resins such as polyethylene, polypropylene, polystyrene, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polypropylene, polyisobutylene, and polybutadiene; acrylic resins such as polymethyl methacrylate and polymethyl acrylate; polyalkylene terephthalate, polysulfone, Polymer obtained by polymerizing one or more kinds of polycarbonate, polyamide, phenol formaldehyde resin, melamine formaldehyde resin, benzoguanamine formaldehyde resin, urea formaldehyde resin, and various polymerizable monomers having an ethylenically unsaturated group Etc. By polymerizing one or more of various polymerizable monomers having an ethylenically unsaturated group, the degree of freedom in designing the organic-inorganic composite particles is increased, and the synthesis is facilitated.

上記有機樹脂を含むコアを、上記エチレン性不飽和基を有する単量体を重合させて得る場合には、当該エチレン性不飽和基を有する単量体としては、非架橋性の単量体と架橋性の単量体とが挙げられる。   When the core containing the organic resin is obtained by polymerizing the monomer having the ethylenically unsaturated group, the monomer having the ethylenically unsaturated group includes a non-crosslinkable monomer and And a crosslinkable monomer.

上記非架橋性の単量体としては、例えば、スチレン、α−メチルスチレン等のスチレン系単量体;(メタ)アクリル酸、マレイン酸、無水マレイン酸等のカルボキシル基含有単量体;メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、セチル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート等のアルキル(メタ)アクリレート類;2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、グリセロール(メタ)アクリレート、ポリオキシエチレン(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート等の酸素原子含有(メタ)アクリレート類;(メタ)アクリロニトリル等のニトリル含有単量体;メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル等のビニルエーテル類;酢酸ビニル、酪酸ビニル、ラウリン酸ビニル、ステアリン酸ビニル等の酸ビニルエステル類;エチレン、プロピレン、イソプレン、ブタジエン等の不飽和炭化水素;トリフルオロメチル(メタ)アクリレート、ペンタフルオロエチル(メタ)アクリレート、塩化ビニル、フッ化ビニル、クロルスチレン等のハロゲン含有単量体等が挙げられる。   Examples of the non-crosslinkable monomer include styrene monomers such as styrene and α-methylstyrene; carboxyl group-containing monomers such as (meth) acrylic acid, maleic acid, and maleic anhydride; (Meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, cetyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, cyclohexyl ( Alkyl (meth) acrylates such as meth) acrylate and isobornyl (meth) acrylate; oxygen such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, glycerol (meth) acrylate, polyoxyethylene (meth) acrylate and glycidyl (meth) acrylate (Meth) acrylates; nitrile-containing monomers such as (meth) acrylonitrile; vinyl ethers such as methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, propyl vinyl ether; vinyl acids such as vinyl acetate, vinyl butyrate, vinyl laurate, vinyl stearate Esters; Unsaturated hydrocarbons such as ethylene, propylene, isoprene and butadiene; Halogen-containing monomers such as trifluoromethyl (meth) acrylate, pentafluoroethyl (meth) acrylate, vinyl chloride, vinyl fluoride and chlorostyrene Is mentioned.

なお、本明細書において、「(メタ)アクリ」の用語を含む化学物質は「アクリ」と「メタクリ」との一方又は双方を意味するものとする。例えば、「(メタ)アクリル」は「アクリル」と「メタクリル」との一方又は双方を意味し、「(メタ)アクリレート」は「アクリレート」と「メタクリレート」との一方又は双方を意味する。   In this specification, a chemical substance including the term “(meth) acryl” means one or both of “acryl” and “methacryl”. For example, “(meth) acryl” means one or both of “acryl” and “methacryl”, and “(meth) acrylate” means one or both of “acrylate” and “methacrylate”.

上記架橋性の単量体としては、例えば、テトラメチロールメタンテトラ(メタ)アクリレート、テトラメチロールメタントリ(メタ)アクリレート、テトラメチロールメタンジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、グリセロールトリ(メタ)アクリレート、グリセロールジ(メタ)アクリレート、(ポリ)エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、(ポリ)プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、(ポリ)テトラメチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート等の多官能(メタ)アクリレート類;トリアリル(イソ)シアヌレート、トリアリルトリメリテート、ジビニルベンゼン、ジアリルフタレート、ジアリルアクリルアミド、ジアリルエーテル、γ−(メタ)アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、トリメトキシシリルスチレン、ビニルトリメトキシシラン等のシラン含有単量体等が挙げられる。   Examples of the crosslinkable monomer include tetramethylolmethane tetra (meth) acrylate, tetramethylolmethane tri (meth) acrylate, tetramethylolmethane di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, and dipenta Erythritol hexa (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, glycerol tri (meth) acrylate, glycerol di (meth) acrylate, (poly) ethylene glycol di (meth) acrylate, (poly) propylene glycol di (meth) Polyfunctional (meth) acrylates such as acrylate, (poly) tetramethylene glycol di (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate; triallyl (iso) cyanure And silane-containing monomers such as triallyl trimellitate, divinylbenzene, diallyl phthalate, diallylacrylamide, diallyl ether, γ- (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane, trimethoxysilylstyrene, vinyltrimethoxysilane It is done.

上記重合性単量体は、非架橋性の単量体単独であってもよいし、架橋性の単量体単独であってもよいし、あるいは、これらの混合物であってもよい
上記エチレン性不飽和基を有する重合性単量体を重合させることで、上記有機樹脂を含むコアを得ることができる。重合の方法は特に限定されず、例えば、ラジカル重合開始剤の存在下で懸濁重合する方法、並びに非架橋の種粒子を用いてラジカル重合開始剤とともに単量体を膨潤させて重合する方法等が挙げられる。
The polymerizable monomer may be a non-crosslinkable monomer alone, may be a crosslinkable monomer alone, or may be a mixture thereof. By polymerizing a polymerizable monomer having an unsaturated group, a core containing the organic resin can be obtained. The method of polymerization is not particularly limited, for example, a method of suspension polymerization in the presence of a radical polymerization initiator, a method of polymerizing by swelling a monomer together with a radical polymerization initiator using non-crosslinked seed particles, etc. Is mentioned.

上記有機樹脂を含むコアは、有機樹脂のみで形成されていてもよいし、有機樹脂以外の成分が含有されていてもよい。有機樹脂以外の成分としては、例えば、有機樹脂の製造時に使用する原料等が挙げられるがこれに限定されるわけではない。   The core containing the organic resin may be formed of only the organic resin, or may contain components other than the organic resin. Examples of components other than the organic resin include, but are not limited to, raw materials used during the production of the organic resin.

上記有機樹脂を含むコア100重量%中、上記有機樹脂を含むコアに含まれる珪素原子の含有量は好ましくは10重量%以下、より好ましくは5重量%以下である。上記有機樹脂を含むコアは、珪素原子を含んでいなくてもよい。上記有機樹脂を含むコアは珪素原子を含まないことが好ましい。   In 100% by weight of the core containing the organic resin, the content of silicon atoms contained in the core containing the organic resin is preferably 10% by weight or less, more preferably 5% by weight or less. The core containing the organic resin may not contain silicon atoms. The core containing the organic resin preferably does not contain a silicon atom.

上記有機樹脂の分解温度は特に限定的ではない。   The decomposition temperature of the organic resin is not particularly limited.

例えば、上記有機樹脂は、窒素雰囲気下での熱分解温度が270℃以上500℃未満であることが好ましい。この場合、後述するセラミックシートの焼結初期において有機樹脂を含むコアが分解しにくいため、粒子強度を保つことができることにより有機無機複合粒子が球状を維持しやすい。このため、セラミック基材により均一な空孔を形成することができ、しかも、セラミック基材の製造をより容易に行うことができる。なお、本明細書における「熱分解温度」とは特に、窒素雰囲気下において有機樹脂の熱分解が開始する温度を示す。   For example, the organic resin preferably has a thermal decomposition temperature in a nitrogen atmosphere of 270 ° C. or higher and lower than 500 ° C. In this case, since the core containing the organic resin is difficult to be decomposed at the initial stage of sintering of the ceramic sheet described later, the organic-inorganic composite particles can easily maintain a spherical shape because the particle strength can be maintained. For this reason, a uniform void | hole can be formed with a ceramic base material, and also a ceramic base material can be manufactured more easily. The “thermal decomposition temperature” in the present specification particularly indicates a temperature at which thermal decomposition of an organic resin starts in a nitrogen atmosphere.

上記有機樹脂を含むコアの平均粒子径は特に限定的ではない。例えば、上記有機樹脂を含むコアの平均粒子径は、0.1μm以上とすることができ、好ましくは0.2μm以上、より好ましくは0.5μm以上、更に好ましくは1.0μm以上、特に好ましくは1.5μm以上とすることができる。また、上記有機樹脂を含むコアの平均粒子径は、500μm以下とすることができ、好ましくは300μm以下、より好ましくは100μm以下であってもよい。また、上記有機樹脂を含むコアの平均粒子径は、50μm以下であってもよく、より好ましくは30μm以下、さらに好ましくは5μm以下、特に好ましくは3μm以下とすることができる。   The average particle diameter of the core containing the organic resin is not particularly limited. For example, the average particle diameter of the core containing the organic resin can be 0.1 μm or more, preferably 0.2 μm or more, more preferably 0.5 μm or more, still more preferably 1.0 μm or more, particularly preferably. It can be 1.5 μm or more. Moreover, the average particle diameter of the core containing the organic resin can be 500 μm or less, preferably 300 μm or less, more preferably 100 μm or less. The average particle size of the core containing the organic resin may be 50 μm or less, more preferably 30 μm or less, still more preferably 5 μm or less, and particularly preferably 3 μm or less.

なお、上記有機樹脂を含むコアの粒径は、上記有機樹脂を含むコアが真球状である場合には直径を意味し、上記有機樹脂を含むコアが真球状以外の形状である場合には最大径を意味する。そして、上記有機樹脂を含むコアの平均粒子径は、有機樹脂を含むコアを、走査型電子顕微鏡を用いて観察し、任意に選択した50個の有機樹脂を含むコアの粒径をノギスで測定した平均値を意味する。   The particle diameter of the core containing the organic resin means the diameter when the core containing the organic resin is a true sphere, and the maximum when the core containing the organic resin is a shape other than a true sphere. Means diameter. The average particle diameter of the core containing the organic resin is measured by observing the core containing the organic resin using a scanning electron microscope and measuring the particle diameter of the core containing 50 arbitrarily selected organic resins with a caliper. Means the average value.

上記金属酸化物を含むシェルは、上記有機樹脂を含むコアの表面上に配置され得る。上記金属酸化物を含むシェルは、上記有機樹脂を含むコアの表面を被覆していることが好ましい。   The shell containing the metal oxide may be disposed on the surface of the core containing the organic resin. The shell containing the metal oxide preferably covers the surface of the core containing the organic resin.

上記金属酸化物は特に限定的でないが、例えば、上記金属酸化物は珪素原子を50重量%以上含むことができる。この場合は、上記金属酸化物を含むシェルは、珪素原子を主成分として含むシェルとして形成される。なお、上記金属酸化物を含むシェルは、その他の金属元素を含む酸化物で形成されていてもよいし、あるいは、炭素原子を含んでいてもよい。   Although the said metal oxide is not specifically limited, For example, the said metal oxide can contain 50 weight% or more of silicon atoms. In this case, the shell containing the metal oxide is formed as a shell containing silicon atoms as a main component. Note that the shell containing the metal oxide may be formed of an oxide containing another metal element or may contain a carbon atom.

上記金属酸化物を含むシェル100重量%中、上記金属酸化物を含むシェルに含まれる珪素原子の含有量は好ましくは50重量%以上、より好ましくは54重量%以上、更に好ましくは56重量%以上である。上記金属酸化物を含むシェル100重量%中、上記金属酸化物を含むシェルに含まれる炭素原子の含有量は好ましくは30重量%以下、より好ましくは20重量%以下、更に好ましくは10重量%以下である。上記金属酸化物を含むシェルは炭素原子を含まないことが好ましい。上記金属酸化物を含むシェルにおける珪素原子の含有量が多いほど、また上記金属酸化物を含むシェルにおける炭素原子の含有量が少ないほど、有機無機複合粒子の強度が良好になるので、セラミック基材により均一な空孔を形成しやすくなり、また、形成された空孔の崩壊も生じにくい。   In 100% by weight of the shell containing the metal oxide, the content of silicon atoms contained in the shell containing the metal oxide is preferably 50% by weight or more, more preferably 54% by weight or more, and still more preferably 56% by weight or more. It is. In 100% by weight of the shell containing the metal oxide, the content of carbon atoms contained in the shell containing the metal oxide is preferably 30% by weight or less, more preferably 20% by weight or less, still more preferably 10% by weight or less. It is. It is preferable that the shell containing the metal oxide does not contain a carbon atom. The higher the content of silicon atoms in the shell containing the metal oxide, and the lower the content of carbon atoms in the shell containing the metal oxide, the better the strength of the organic-inorganic composite particles. Therefore, uniform vacancies can be easily formed, and the formed vacancies are less likely to collapse.

中でも、上記金属酸化物はシリカを含むことが好ましい。この場合、セラミック基材により均一な空孔を形成することができ、しかも、材料がシリカであることによって、シェルがセラミック基材に残存しても、セラミック基材自体の特性が損なわれるおそれが小さい。   Especially, it is preferable that the said metal oxide contains a silica. In this case, uniform pores can be formed by the ceramic base material, and the characteristics of the ceramic base material itself may be impaired even if the shell remains on the ceramic base material due to the material being silica. small.

上記有機無機複合粒子における有機樹脂を含むコア及び金属酸化物を含むシェル中での珪素原子及び炭素原子の含有量は、TEM/EDS法による線分析により測定することができる。   The content of silicon atoms and carbon atoms in the core containing the organic resin and the shell containing the metal oxide in the organic-inorganic composite particles can be measured by line analysis using a TEM / EDS method.

上記金属酸化物を含むシェルは、例えば、上記有機樹脂を含むコアの表面上で、金属アルコキシドをゾルゲル法によりシェル状物とした後、該シェル状物を焼成させることにより形成され得る。当該ゾルゲル法では、上記有機樹脂を含むコアの表面上にシェル状物を配置することが容易である。上記シェル状物の焼成を行っても、上記有機樹脂を含むコアは揮発等により除去されず、有機無機複合粒子に残存している。   The shell containing the metal oxide can be formed, for example, by forming a metal alkoxide into a shell-like material by a sol-gel method on the surface of the core containing the organic resin and then firing the shell-like material. In the sol-gel method, it is easy to dispose a shell-like material on the surface of the core containing the organic resin. Even when the shell-like material is fired, the core containing the organic resin is not removed by volatilization or the like and remains in the organic-inorganic composite particles.

上記ゾルゲル法の具体的な方法としては、有機樹脂を含むコア、水やアルコール等の溶媒、界面活性剤、及びアンモニア水溶液等の触媒を含む分散液に、テトラエトキシシラン等の無機モノマーを共存させて界面ゾル反応を行う方法、並びに水やアルコール等の溶媒、及びアンモニア水溶液と共存させたテトラエトキシシラン等の無機モノマーによりゾルゲル反応を行った後、有機樹脂を含むコアにゾルゲル反応物をヘテロ凝集させる方法等が挙げられる。上記ゾルゲル法において、上記金属アルコキシドは、加水分解及び重縮合することが好ましい。   As a specific method of the sol-gel method, an inorganic monomer such as tetraethoxysilane is allowed to coexist in a dispersion containing a core containing an organic resin, a solvent such as water or alcohol, a surfactant, and a catalyst such as an aqueous ammonia solution. The interfacial sol reaction is performed, and after the sol-gel reaction is performed with an inorganic monomer such as tetraethoxysilane coexisting with a solvent such as water or alcohol, and an aqueous ammonia solution, the sol-gel reaction product is heteroaggregated in a core containing an organic resin. And the like. In the sol-gel method, the metal alkoxide is preferably hydrolyzed and polycondensed.

上記ゾルゲル法では、界面活性剤を用いることが好ましい。界面活性剤の存在下で、上記金属アルコキシドをゾルゲル法によりシェル状物にすることが好ましい。上記界面活性剤は特に限定されない。上記界面活性剤は、良好なシェル状物を形成するように適宜選択して用いられる。上記界面活性剤としては、カチオン性界面活性剤、アニオン性界面活性剤及びノニオン性界面活性剤等が挙げられる。なかでも、良好な金属酸化物を含むシェルを形成できることから、カチオン性界面活性剤が好ましい。   In the sol-gel method, it is preferable to use a surfactant. In the presence of a surfactant, the metal alkoxide is preferably made into a shell by a sol-gel method. The surfactant is not particularly limited. The surfactant is appropriately selected and used so as to form a good shell. Examples of the surfactant include a cationic surfactant, an anionic surfactant, and a nonionic surfactant. Among these, a cationic surfactant is preferable because a shell containing a good metal oxide can be formed.

上記カチオン性界面活性剤としては、4級アンモニウム塩及び4級ホスホニウム塩等が挙げられる。上記カチオン性界面活性剤の具体例としては、ヘキサデシルアンモニウムブロミド等が挙げられる。   Examples of the cationic surfactant include quaternary ammonium salts and quaternary phosphonium salts. Specific examples of the cationic surfactant include hexadecyl ammonium bromide.

上記有機樹脂を含むコアの表面上で、上記金属酸化物を含むシェルを形成するために、上記シェル状物は焼成されることが好ましい。焼成条件により、金属酸化物を含むシェルにおける架橋度が調整され得る。また、焼成を行うことで、焼成を行わない場合と比べて、得られる有機無機複合粒子の強度を高めることができる。特に、上記金属酸化物を含むシェルの架橋度を高めることで、有機無機複合粒子強度を十分に高くすることができる。なお、ここでいう粒子強度は、微小圧縮試験機による10%K値(粒子を10%圧縮したときの圧縮弾性率)で評価することができる。   In order to form a shell containing the metal oxide on the surface of the core containing the organic resin, the shell-like material is preferably fired. The degree of crosslinking in the shell containing the metal oxide can be adjusted by the firing conditions. Moreover, the intensity | strength of the organic-inorganic composite particle obtained can be improved by baking compared with the case where baking is not performed. In particular, the organic-inorganic composite particle strength can be sufficiently increased by increasing the degree of crosslinking of the shell containing the metal oxide. In addition, the particle | grain intensity | strength here can be evaluated by 10% K value (compression elastic modulus when a particle | grain is compressed 10%) by a micro compression tester.

上記金属酸化物を含むシェルは、上記有機樹脂を含むコアの表面上で、金属アルコキシドをゾルゲル法によりシェル状物とした後、該シェル状物を100℃以上(焼成温度)で焼成させることにより形成されていることが好ましい。上記焼成温度はより好ましくは150℃以上、更に好ましくは200℃以上である。上記焼成温度が上記下限以上であると、金属酸化物を含むシェルにおける架橋度がより一層適度になり、高い粒子強度を保持しやすい。   The shell containing the metal oxide is formed by forming a metal alkoxide into a shell-like material by a sol-gel method on the surface of the core containing the organic resin, and then firing the shell-like material at 100 ° C. or higher (firing temperature). Preferably it is formed. The firing temperature is more preferably 150 ° C. or higher, and further preferably 200 ° C. or higher. When the firing temperature is equal to or higher than the lower limit, the degree of cross-linking in the shell containing the metal oxide becomes more appropriate, and high particle strength can be easily maintained.

上記金属酸化物を含むシェルは、上記有機樹脂を含むコアの表面上で、金属アルコキシドをゾルゲル法によりシェル状物とした後、該シェル状物を、上記有機樹脂を含むコアの分解温度以下(焼成温度)で焼成させることにより形成されることが好ましい。上記焼成温度は、上記有機樹脂を含むコアの分解温度よりも5℃以上低い温度であることが好ましく、上記有機樹脂を含むコアの分解温度よりも10℃以上低い温度であることがより好ましい。また、上記焼成温度は、好ましくは800℃以下、より好ましくは600℃以下、更に好ましくは500℃以下である。上記焼成温度が上記上限以下であると、上記有機樹脂を含むコアの熱劣化及び変形を抑制でき、高い粒子強度が保持された有機無機複合粒子を形成しやすい。   On the surface of the core containing the organic resin, the shell containing the metal oxide is converted into a shell-like material by sol-gel method on the surface of the core containing the organic resin, and then the shell-like material is heated below the decomposition temperature of the core containing the organic resin ( It is preferably formed by firing at a firing temperature. The firing temperature is preferably 5 ° C. or more lower than the decomposition temperature of the core containing the organic resin, and more preferably 10 ° C. or more lower than the decomposition temperature of the core containing the organic resin. Moreover, the said calcination temperature becomes like this. Preferably it is 800 degrees C or less, More preferably, it is 600 degrees C or less, More preferably, it is 500 degrees C or less. When the firing temperature is not more than the above upper limit, it is possible to suppress thermal deterioration and deformation of the core containing the organic resin, and to easily form organic-inorganic composite particles having high particle strength.

上記金属アルコキシドとしては、シランアルコキシド、チタンアルコキシド、ジルコニウムアルコキシド及びアルミニウムアルコキシド等が挙げられる。良好な金属酸化物を含むシェルを形成する観点からは、上記金属アルコキシドは、シランアルコキシド、チタンアルコキシド、ジルコニウムアルコキシド又はアルミニウムアルコキシドであることが好ましく、シランアルコキシド、チタンアルコキシド又はジルコニウムアルコキシドであることがより好ましく、シランアルコキシドであることが更に好ましい。良好な金属酸化物を含むシェルを形成する観点からは、上記金属アルコキシドにおける金属原子は、珪素原子、チタン原子、ジルコニウム原子又はアルミニウム原子であることが好ましく、珪素原子、チタン原子又はジルコニウム原子であることがより好ましく、珪素原子であることが更に好ましい。上記金属アルコキシドは、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。   Examples of the metal alkoxide include silane alkoxide, titanium alkoxide, zirconium alkoxide, and aluminum alkoxide. From the viewpoint of forming a shell containing a good metal oxide, the metal alkoxide is preferably a silane alkoxide, a titanium alkoxide, a zirconium alkoxide, or an aluminum alkoxide, and more preferably a silane alkoxide, a titanium alkoxide, or a zirconium alkoxide. Preferably, it is a silane alkoxide. From the viewpoint of forming a shell containing a good metal oxide, the metal atom in the metal alkoxide is preferably a silicon atom, a titanium atom, a zirconium atom or an aluminum atom, and is a silicon atom, a titanium atom or a zirconium atom. It is more preferable that it is a silicon atom. As for the said metal alkoxide, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

良好な金属酸化物を含むシェルを形成する観点からは、上記金属アルコキシドは、下記式(1)で表される金属アルコキシドであることが好ましい。   From the viewpoint of forming a shell containing a good metal oxide, the metal alkoxide is preferably a metal alkoxide represented by the following formula (1).

M(R1)(OR2)4−n ・・・式(1)
上記式(1)中、Mは珪素原子、チタン原子又はジルコニウム原子であり、R1はフェニル基、炭素数1〜30のアルキル基、重合性二重結合を有する炭素数1〜30の有機基又はエポキシ基を有する炭素数1〜30の有機基を表し、R2は炭素数1〜6のアルキル基を表し、nは0〜2の整数を表す。nが2であるとき、複数のR1は同一であってもよく、異なっていてもよい。複数のR2は同一であってもよく、異なっていてもよい。
M (R1) n (OR2) 4-n (1)
In said formula (1), M is a silicon atom, a titanium atom, or a zirconium atom, R1 is a phenyl group, a C1-C30 alkyl group, a C1-C30 organic group which has a polymerizable double bond, or A C1-C30 organic group which has an epoxy group is represented, R2 represents a C1-C6 alkyl group, and n represents the integer of 0-2. When n is 2, the plurality of R1s may be the same or different. Several R2 may be the same and may differ.

良好な金属酸化物を含むシェルを形成する観点からは、上記金属アルコキシドは、下記式(1A)で表されるシランアルコキシドであることが好ましい。   From the viewpoint of forming a shell containing a good metal oxide, the metal alkoxide is preferably a silane alkoxide represented by the following formula (1A).

Si(R1)(OR2)4−n ・・・式(1A)
上記式(1A)中、R1はフェニル基、炭素数1〜30のアルキル基、重合性二重結合を有する炭素数1〜30の有機基又はエポキシ基を有する炭素数1〜30の有機基を表し、R2は炭素数1〜6のアルキル基を表し、nは0〜2の整数を表す。nが2であるとき、複数のR1は同一であってもよく、異なっていてもよい。複数のR2は同一であってもよく、異なっていてもよい。金属酸化物を含むシェルに含まれる珪素原子の含有量を効果的に高めるために、上記式(1A)中のnは0又は1を表すことが好ましく、0を表すことがより好ましい。金属酸化物を含むシェルに含まれる珪素原子の含有量が高いと、本発明の効果により一層優れる。
Si (R1) n (OR2) 4-n Formula (1A)
In the above formula (1A), R1 represents a phenyl group, an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, an organic group having 1 to 30 carbon atoms having a polymerizable double bond, or an organic group having 1 to 30 carbon atoms having an epoxy group. R2 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and n represents an integer of 0 to 2. When n is 2, the plurality of R1s may be the same or different. Several R2 may be the same and may differ. In order to effectively increase the content of silicon atoms contained in the shell containing the metal oxide, n in the above formula (1A) preferably represents 0 or 1, and more preferably represents 0. When the content of silicon atoms contained in the shell containing the metal oxide is high, the effect of the present invention is further improved.

上記R1が炭素数1〜30のアルキル基である場合、R1の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、イソブチル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基、n−オクチル基、及びn−デシル基等が挙げられる。このアルキル基の炭素数は好ましくは10以下、より好ましくは6以下である。なお、アルキル基には、シクロアルキル基が含まれる。   When R1 is an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, specific examples of R1 include methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, isobutyl group, n-hexyl group, cyclohexyl group, n-octyl group, And n-decyl group. This alkyl group preferably has 10 or less carbon atoms, more preferably 6 or less. The alkyl group includes a cycloalkyl group.

上記重合性二重結合としては、炭素−炭素二重結合が挙げられる。上記R1が重合性二重結合を有する炭素数1〜30の有機基である場合に、R1の具体例としては、ビニル基、アリル基、イソプロペニル基、及び3−(メタ)アクリロキシアルキル基等が挙げられる。上記(メタ)アクリロキシアルキル基としては、(メタ)アクリロキシメチル基、(メタ)アクリロキシエチル基及び(メタ)アクリロキシプロピル基等が挙げられる。上記重合性二重結合を有する炭素数1〜30の有機基の炭素数は好ましくは2以上、好ましくは30以下、より好ましくは10以下である。上記「(メタ)アクリロキシ」は、メタクリロキシ又はアクリロキシを意味する。   Examples of the polymerizable double bond include a carbon-carbon double bond. When R1 is an organic group having 1 to 30 carbon atoms having a polymerizable double bond, specific examples of R1 include a vinyl group, an allyl group, an isopropenyl group, and a 3- (meth) acryloxyalkyl group. Etc. Examples of the (meth) acryloxyalkyl group include a (meth) acryloxymethyl group, a (meth) acryloxyethyl group, and a (meth) acryloxypropyl group. The carbon number of the organic group having 1 to 30 carbon atoms having a polymerizable double bond is preferably 2 or more, preferably 30 or less, more preferably 10 or less. The above “(meth) acryloxy” means methacryloxy or acryloxy.

上記R1がエポキシ基を有する炭素数1〜30の有機基である場合、R1の具体例としては、1,2−エポキシエチル基、1,2−エポキシプロピル基、2,3−エポキシプロピル基、3,4−エポキシブチル基、3−グリシドキシプロピル基、及び2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチル基等が挙げられる。上記エポキシ基を有する炭素数1〜30の有機基の炭素数は好ましくは8以下、より好ましくは6以下である。なお、上記エポキシ基を有する炭素数1〜30の有機基は、炭素原子及び水素原子に加えて、エポキシ基に由来する酸素原子を含む基である。   When R1 is an organic group having 1 to 30 carbon atoms having an epoxy group, specific examples of R1 include 1,2-epoxyethyl group, 1,2-epoxypropyl group, 2,3-epoxypropyl group, Examples include 3,4-epoxybutyl group, 3-glycidoxypropyl group, and 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyl group. Carbon number of the C1-C30 organic group which has the said epoxy group becomes like this. Preferably it is 8 or less, More preferably, it is 6 or less. In addition, the C1-C30 organic group which has the said epoxy group is group containing the oxygen atom derived from an epoxy group in addition to a carbon atom and a hydrogen atom.

上記R2の具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、及びイソブチル基等が挙げられる。金属酸化物を含むシェルに含まれる珪素原子の含有量を効果的に高めるために、上記R2は、メチル基又はエチル基を表すことが好ましい。   Specific examples of R2 include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, and an isobutyl group. In order to effectively increase the content of silicon atoms contained in the shell containing the metal oxide, R2 preferably represents a methyl group or an ethyl group.

上記シランアルコキシドの具体例としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、イソプロピルトリメトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、シクロヘキシルトリメトキシシラン、n−ヘキシルトリメトキシシラン、n−オクチルトリエトキシシラン、n−デシルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、及びジイソプロピルジメトキシシラン等が挙げられる。これら以外のシランアルコキシドを用いてもよい。   Specific examples of the silane alkoxide include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, isopropyltrimethoxysilane, isobutyltrimethoxysilane, cyclohexyltrimethoxy. Examples include silane, n-hexyltrimethoxysilane, n-octyltriethoxysilane, n-decyltrimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, and diisopropyldimethoxysilane. Silane alkoxides other than these may be used.

金属酸化物を含むシェルに含まれる珪素原子の含有量を効果的に高めるために、上記金属酸化物を含むシェルの材料として、テトラメトキシシラン又はテトラエトキシシランを用いることが好ましい。上記金属酸化物を含むシェルの材料の100重量%中、テトラメトキシシランとテトラエトキシシランとの合計の含有量は好ましくは50重量%以上である(全量でもよい)。上記金属酸化物を含むシェル100重量%中、テトラメトキシシランに由来する骨格とテトラエトキシシランに由来する骨格との合計の含有量は好ましくは50重量%以上である(全量でもよい)。   In order to effectively increase the content of silicon atoms contained in the shell containing the metal oxide, it is preferable to use tetramethoxysilane or tetraethoxysilane as the material of the shell containing the metal oxide. In 100% by weight of the shell material containing the metal oxide, the total content of tetramethoxysilane and tetraethoxysilane is preferably 50% by weight or more (or the total amount may be sufficient). The total content of the skeleton derived from tetramethoxysilane and the skeleton derived from tetraethoxysilane is preferably 50% by weight or more (100% by weight) in 100% by weight of the shell containing the metal oxide.

上記チタンアルコキシドの具体例としては、チタンテトラメトキシド、チタンテトラエトキシド、チタンテトライソプロポキシド、及びチタンテトラブトキシド等が挙げられる。これら以外のチタンアルコキシドを用いてもよい。   Specific examples of the titanium alkoxide include titanium tetramethoxide, titanium tetraethoxide, titanium tetraisopropoxide, titanium tetrabutoxide, and the like. Titanium alkoxides other than these may be used.

上記ジルコニウムアルコキシドの具体例としては、ジルコニウムテトラメトキシド、ジルコニウムテトラエトキシド、ジルコニウムテトライソプロポキシド、及びジルコニウムテトラブトキシド等が挙げられる。これら以外のジルコニウムアルコキシドを用いてもよい。   Specific examples of the zirconium alkoxide include zirconium tetramethoxide, zirconium tetraethoxide, zirconium tetraisopropoxide, zirconium tetrabutoxide and the like. Other zirconium alkoxides may be used.

上記金属アルコキシドは、金属原子に4つの酸素原子が直接結合している構造を有する金属アルコキシドを含むことが好ましい。上記金属アルコキシドは、下記式(1a)で表される金属アルコキシドを含むことが好ましい。   The metal alkoxide preferably includes a metal alkoxide having a structure in which four oxygen atoms are directly bonded to a metal atom. The metal alkoxide preferably includes a metal alkoxide represented by the following formula (1a).

M(OR2) ・・・式(1a)
上記式(1a)中、Mは珪素原子、チタン原子又はジルコニウム原子であり、R2は炭素数1〜6のアルキル基を表す。複数のR2は同一であってもよく、異なっていてもよい。
M (OR2) 4 Formula (1a)
In said formula (1a), M is a silicon atom, a titanium atom, or a zirconium atom, R2 represents a C1-C6 alkyl group. Several R2 may be the same and may differ.

上記金属アルコキシドは、珪素原子に4つの酸素原子が直接結合している構造を有するシランアルコキシドを含むことが好ましい。このシランアルコキシドでは、一般に珪素原子に4つの酸素原子が単結合により結合している。上記金属アルコキシドは、下記式(1Aa)で表されるシランアルコキシドを含むことが好ましい。   The metal alkoxide preferably includes a silane alkoxide having a structure in which four oxygen atoms are directly bonded to a silicon atom. In this silane alkoxide, generally, four oxygen atoms are bonded to a silicon atom by a single bond. The metal alkoxide preferably includes a silane alkoxide represented by the following formula (1Aa).

Si(OR2) ・・・式(1Aa)
上記式(1Aa)中、R2は炭素数1〜6のアルキル基を表す。複数のR2は同一であってもよく、異なっていてもよい。有機無機複合粒子の粒子強度を適切な範囲にする観点からは、上記金属酸化物を含むシェルを形成するために用いる金属アルコキシド100モル%中、上記金属原子に4つの酸素原子が直接結合している構造を有する金属アルコキシド、上記式(1a)で表される金属アルコキシド、上記珪素原子に4つの酸素原子が直接結合している構造を有するシランアルコキシド、又は上記式(1Aa)で表されるシランアルコキシドの各含有量は、好ましくは20モル%以上、より好ましくは40モル%以上、更に好ましくは50モル%以上、更に一層好ましくは55モル%以上、特に好ましくは60モル%以上、100モル%以下である。上記金属酸化物を含むシェルを形成するために用いる金属アルコキシドの全量が、上記金属原子に4つの酸素原子が直接結合している構造を有する金属アルコキシド、上記式(1a)で表される金属アルコキシド、上記珪素原子に4つの酸素原子が直接結合している構造を有するシランアルコキシド、又は上記式(1Aa)で表されるシランアルコキシドであってもよい。
Si (OR2) 4 Formula (1Aa)
In said formula (1Aa), R2 represents a C1-C6 alkyl group. Several R2 may be the same and may differ. From the viewpoint of adjusting the particle strength of the organic-inorganic composite particles to an appropriate range, four oxygen atoms are directly bonded to the metal atom in 100 mol% of the metal alkoxide used for forming the shell containing the metal oxide. A metal alkoxide having a structure, a metal alkoxide represented by the above formula (1a), a silane alkoxide having a structure in which four oxygen atoms are directly bonded to the silicon atom, or a silane represented by the above formula (1Aa) The content of each alkoxide is preferably 20 mol% or more, more preferably 40 mol% or more, still more preferably 50 mol% or more, still more preferably 55 mol% or more, particularly preferably 60 mol% or more, 100 mol%. It is as follows. A metal alkoxide having a structure in which four oxygen atoms are directly bonded to the metal atom, wherein the metal alkoxide used for forming the shell containing the metal oxide is a metal alkoxide represented by the formula (1a); A silane alkoxide having a structure in which four oxygen atoms are directly bonded to the silicon atom, or a silane alkoxide represented by the formula (1Aa) may be used.

有機無機複合粒子の粒子強度を適切な範囲にする観点からは、上記金属酸化物を含むシェルに含まれる上記金属アルコキシドに由来する金属原子の全個数100%中、4つの酸素原子が直接結合している金属原子の個数の割合、4つの−O−Si基が直接結合しており、かつ、4つの上記−O−Si基における4つの酸素原子が直接結合している珪素原子の個数の割合はそれぞれ、好ましくは20%以上、より好ましくは40%以上、更に好ましくは50%以上、更に一層好ましくは55モル%以上、特に好ましくは60%以上である。   From the viewpoint of adjusting the particle strength of the organic-inorganic composite particles to an appropriate range, four oxygen atoms are directly bonded in 100% of the total number of metal atoms derived from the metal alkoxide contained in the shell containing the metal oxide. The ratio of the number of metal atoms in which the four —O—Si groups are directly bonded, and the ratio of the number of silicon atoms in which the four oxygen atoms in the four —O—Si groups are directly bonded Is preferably 20% or more, more preferably 40% or more, still more preferably 50% or more, still more preferably 55 mol% or more, and particularly preferably 60% or more.

さらに、有機無機複合粒子の粒子強度を適切な範囲にする観点からは、上記金属酸化物を含むシェルに含まれている金属原子の全個数100%中、4つの酸素原子が直接結合している金属原子の個数の割合は、好ましくは20%以上、より好ましくは40%以上、更に好ましくは50%以上、更に一層好ましくは55モル%以上、特に好ましくは60%以上である。有機無機複合粒子の粒子強度を適切な範囲にする観点からは、上記金属アルコキシドがシランアルコキシドであり、かつ上記金属酸化物を含むシェルに含まれている珪素原子の全個数100%中、4つの−O−Si基が直接結合しておりかつ4つの上記−O−Si基における4つの酸素原子が直接結合している珪素原子の個数の割合は、好ましくは20%以上、より好ましくは40%以上、更に好ましくは50%以上、特に好ましくは60%以上である。   Furthermore, from the viewpoint of setting the particle strength of the organic-inorganic composite particles to an appropriate range, four oxygen atoms are directly bonded in 100% of the total number of metal atoms contained in the shell containing the metal oxide. The ratio of the number of metal atoms is preferably 20% or more, more preferably 40% or more, still more preferably 50% or more, still more preferably 55 mol% or more, and particularly preferably 60% or more. From the viewpoint of adjusting the particle strength of the organic-inorganic composite particles to an appropriate range, the metal alkoxide is a silane alkoxide, and 4 out of 100% of the total number of silicon atoms contained in the shell containing the metal oxide. The ratio of the number of silicon atoms in which —O—Si groups are directly bonded and in which the four oxygen atoms in the four —O—Si groups are directly bonded is preferably 20% or more, more preferably 40%. Above, more preferably 50% or more, particularly preferably 60% or more.

なお、4つの−O−Si基が直接結合しており、かつ、4つの上記−O−Si基における4つの酸素原子が直接結合している珪素原子は、例えば、下記式(11)で表される構造における珪素原子である。具体的には、下記式(11X)で表される構造における矢印Aを付して示す珪素原子である。   Note that a silicon atom in which four —O—Si groups are directly bonded and four oxygen atoms in the four —O—Si groups are directly bonded is represented by, for example, the following formula (11). It is a silicon atom in the structure. Specifically, it is a silicon atom indicated by an arrow A in the structure represented by the following formula (11X).

Figure 2017149630
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なお、上記式(11)における酸素原子は、一般に隣接する珪素原子とシロキサン結合を形成している。   The oxygen atom in the above formula (11) generally forms a siloxane bond with the adjacent silicon atom.

Figure 2017149630
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4つの−O−Si基が直接結合しておりかつ4つの上記−O−Si基における4つの酸素原子が直接結合している珪素原子の個数の割合(Q4の個数の割合(%))を測定する方法としては、例えば、NMRスペクトル解析装置を用いて、Q4(4つの−O−Si基が直接結合しており、かつ、4つの上記−O−Si基における4つの酸素原子が直接結合している珪素原子)のピーク面積、及び、Q1〜Q3(1〜3つの−O−Si基が直接結合しており、かつ、1〜3つの上記−O−Si基における1〜3つの酸素原子が直接結合している珪素原子)のピーク面積を比較する方法が挙げられる。この方法により、上記金属酸化物を含むシェルに含まれている珪素原子の全個数100%中、4つの−O−Si基が直接結合しておりかつ4つの上記−O−Si基における4つの酸素原子が直接結合している珪素原子の個数の割合(Q4の個数の割合)を求めることができる。   The ratio of the number of silicon atoms in which the four —O—Si groups are directly bonded and the four oxygen atoms in the four —O—Si groups are directly bonded (the ratio of the number of Q4 (%)). As a measuring method, for example, using an NMR spectrum analyzer, Q4 (four —O—Si groups are directly bonded, and four oxygen atoms in the four —O—Si groups are directly bonded. Peak area of silicon atoms) and Q1 to Q3 (1 to 3 —O—Si groups are directly bonded, and 1 to 3 oxygens in 1 to 3 —O—Si groups) And a method of comparing the peak areas of silicon atoms to which atoms are directly bonded. By this method, in the total number of 100% of silicon atoms contained in the shell containing the metal oxide, four —O—Si groups are directly bonded, and four of the four —O—Si groups The ratio of the number of silicon atoms to which oxygen atoms are directly bonded (the ratio of the number of Q4) can be determined.

上記金属酸化物を含むシェルの厚みは、好ましくは1nm以上、より好ましくは10nm以上、更に好ましくは50nm以上、特に好ましくは100nm以上、好ましくは100000nm以下、より好ましくは10000nm以下、更に好ましくは2000nm以下とすることができる。上記金属酸化物を含むシェルの厚みが上記下限以上及び上記上限以下であると、シェルによる形状を保持したまま、有機樹脂を含むコアの分解をスムーズに行いやすくなる。これにより、セラミック基材に均一な空孔が安定的に形成され得る。また、一旦、セラミック基材に空孔が形成された後も空孔の崩壊が生じにくい。また、後述するように有機無機複合粒子のコアの焼失により生成する炭化層がシェルの中に閉じ込められやすくなり、セラミック基板の導電性が高くなるのを防止しやすい。   The thickness of the shell containing the metal oxide is preferably 1 nm or more, more preferably 10 nm or more, still more preferably 50 nm or more, particularly preferably 100 nm or more, preferably 100,000 nm or less, more preferably 10,000 nm or less, still more preferably 2000 nm or less. It can be. When the thickness of the shell containing the metal oxide is not less than the above lower limit and not more than the above upper limit, the core containing the organic resin can be easily decomposed smoothly while maintaining the shape of the shell. Thereby, uniform voids can be stably formed in the ceramic substrate. Moreover, even after the holes are once formed in the ceramic base material, the holes are not easily collapsed. Further, as will be described later, the carbonized layer generated by burning out the core of the organic-inorganic composite particles is easily confined in the shell, and it is easy to prevent the ceramic substrate from becoming highly conductive.

ここで、上記金属酸化物を含むシェルの厚みとは、有機無機複合粒子1個あたりの平均厚みである。ゾルゲル法の制御によって、上記金属酸化物を含むシェルの厚みを制御可能である。   Here, the thickness of the shell containing the metal oxide is an average thickness per organic-inorganic composite particle. By controlling the sol-gel method, the thickness of the shell containing the metal oxide can be controlled.

金属酸化物を含むシェルの厚みの値は、例えば、有機無機複合粒子を、走査型電子顕微鏡を用いて観察し、任意に選択した50個の有機無機複合粒子の粒径をノギスで測定した平均値と、有機樹脂を含むコアの粒径の平均値との差から求めることができる。上記有機無機複合粒子の粒径は、上記有機無機複合粒子が真球状である場合には直径を意味し、上記有機無機複合粒子が真球状以外の形状である場合には最大径を意味する。   The value of the thickness of the shell containing the metal oxide is, for example, an average obtained by observing the organic / inorganic composite particles using a scanning electron microscope and measuring the particle size of 50 arbitrarily selected organic / inorganic composite particles with calipers. It can be determined from the difference between the value and the average particle size of the core containing the organic resin. The particle diameter of the organic-inorganic composite particle means a diameter when the organic-inorganic composite particle is a true sphere, and means a maximum diameter when the organic-inorganic composite particle is a shape other than a true sphere.

上記有機無機複合粒子では、上記金属酸化物を含むシェルの厚みの、上記有機樹脂を含むコアの半径に対する比(金属酸化物を含むシェルの厚み/有機樹脂を含むコアの半径)を0.05以上かつ0.70以下とすることができる。上記金属酸化物を含むシェルの厚みの、上記有機樹脂を含むコアの半径に対する比が上記範囲内であると、セラミック基材中に均一な空孔を形成するのに上記有機無機複合粒子の添加量を最小限に抑えやすい。これにより、セラミック基材の性能低減を防止しやすい。   In the organic-inorganic composite particles, the ratio of the thickness of the shell containing the metal oxide to the radius of the core containing the organic resin (the thickness of the shell containing the metal oxide / the radius of the core containing the organic resin) is 0.05. Above and below 0.70. When the ratio of the thickness of the shell containing the metal oxide to the radius of the core containing the organic resin is within the above range, the addition of the organic-inorganic composite particles to form uniform pores in the ceramic substrate Easy to minimize the amount. Thereby, it is easy to prevent the performance reduction of the ceramic base material.

上記有機無機複合粒子のアスペクト比は、例えば、2以下とすることができる。上記有機無機複合粒子のアスペクト比は、好ましくは1.5以下、より好ましくは1.2以下とすることができる。なお、上記アスペクト比とは、上記有機無機複合粒子の長径/短径の値を示す。   The aspect ratio of the organic-inorganic composite particles can be set to 2 or less, for example. The aspect ratio of the organic-inorganic composite particles can be preferably 1.5 or less, more preferably 1.2 or less. In addition, the said aspect ratio shows the value of the major axis / minor axis of the said organic inorganic composite particle.

特に、有機無機複合粒子は、窒素雰囲気下、雰囲気温度500℃で加熱処理をした後のアスペクト比が1.10以下であることが好ましい。この場合、セラミック基材に形成される空孔が真球状に近くなるので、セラミック基材の強度の低下を起こりにくくすることができ、優れた強度のセラミック基材が形成されやすい。   In particular, the organic-inorganic composite particles preferably have an aspect ratio of 1.10 or less after being heat-treated at 500 ° C. in a nitrogen atmosphere. In this case, since the pores formed in the ceramic base material are nearly spherical, the strength of the ceramic base material can be prevented from being lowered, and a ceramic base material having excellent strength is easily formed.

有機無機複合粒子の大きさは特に限定されない。例えば、有機無機複合粒子の数平均粒子径は0.1μm以上、5.0μm以下とすることができる。有機無機複合粒子の数平均粒子径が上記範囲であれば、セラミック基材に空孔を十分に形成することができ、より誘電率の低いセラミック基材となり得る上、高い強度を備えるセラミック基材となり得る。   The size of the organic-inorganic composite particles is not particularly limited. For example, the number average particle size of the organic-inorganic composite particles can be 0.1 μm or more and 5.0 μm or less. If the number average particle diameter of the organic-inorganic composite particles is within the above range, the ceramic substrate can sufficiently form pores, and can be a ceramic substrate having a lower dielectric constant, and has a high strength. Can be.

上記有機無機複合粒子の数平均粒子径は、有機無機複合粒子が真球状である場合には直径を意味し、有機無機複合粒子が真球状以外の形状である場合には最大径と最小径の平均値を意味する。そして、有機無機複合粒子の平均粒子径は、有機無機複合粒子を、走査型電子顕微鏡を用いて観察し、任意に選択した50個の有機無機複合粒子の粒径をノギスで測定した平均値を意味する。   The number average particle diameter of the organic-inorganic composite particles means the diameter when the organic-inorganic composite particles are spherical, and the maximum and minimum diameters when the organic-inorganic composite particles are other than spherical. Mean value. The average particle diameter of the organic-inorganic composite particles is the average value obtained by observing the organic-inorganic composite particles using a scanning electron microscope and measuring the particle diameters of 50 arbitrarily selected organic-inorganic composite particles with a caliper. means.

有機無機複合粒子において、有機樹脂を含むコアと金属酸化物を含むシェルとの間で化学結合していないことが好ましい。上記有機樹脂を含むコアと上記金属酸化物を含むシェルとの間で化学結合していない場合には、金属酸化物を含むシェルが過度に割れにくくなり、セラミック基材に均一な空孔を形成しやすくなる。なお、上記有機樹脂を含むコアと上記金属酸化物を含むシェルとの間で化学結合していてもよい。両者を化学結合させる方法としては、有機樹脂を含むコアの表面に、金属酸化物を含むシェルを構成する材料の官能基と反応可能な官能基を導入した後、有機樹脂を含むコアの表面上で上記金属酸化物を含むシェルを構成する材料により金属酸化物を含むシェルを形成する方法等が挙げられる。具体的には、有機樹脂を含むコアの表面をカップリング剤により表面処理した後に、上記有機樹脂を含むコアの表面上で、金属アルコキシドをゾルゲル法によりシェル状物とする方法等が挙げられる。   In the organic-inorganic composite particles, it is preferable that no chemical bond is formed between the core containing the organic resin and the shell containing the metal oxide. If the core containing the organic resin and the shell containing the metal oxide are not chemically bonded, the shell containing the metal oxide is not easily cracked, and uniform pores are formed in the ceramic substrate. It becomes easy to do. In addition, you may chemically bond between the core containing the said organic resin, and the shell containing the said metal oxide. As a method of chemically bonding the two, a functional group capable of reacting with a functional group of a material constituting a shell containing a metal oxide is introduced on the surface of the core containing the organic resin, and then the surface of the core containing the organic resin is introduced. And a method of forming a shell containing a metal oxide with a material constituting the shell containing the metal oxide. Specifically, the surface of the core containing the organic resin is surface-treated with a coupling agent, and then the metal alkoxide is formed into a shell-like material by the sol-gel method on the surface of the core containing the organic resin.

有機無機複合粒子を10%圧縮変形したときの圧縮弾性率(10%K値)は、好ましくは2000N/mm以上、より好ましくは2500N/mm以上、更に好ましくは3000N/mm以上、好ましくは10000N/mm以下、より好ましくは8500N/mm以下、更に好ましくは6000N/mm以下である。上記10%K値が上記下限以上及び上記上限以下である有機無機複合粒子は、セラミック粒子との混合においても上記金属酸化物を含むシェルの破壊を防止しやすくなる。 Compression modulus when the organic-inorganic composite particles was 10% compressive deformation (10% K value) is preferably 2000N / mm 2 or more, more preferably 2500N / mm 2 or more, more preferably 3000N / mm 2 or more, preferably is 10000 N / mm 2 or less, more preferably 8500N / mm 2, more preferably not more than 6000 N / mm 2. The organic-inorganic composite particles having the 10% K value of not less than the above lower limit and not more than the above upper limit can easily prevent the shell containing the metal oxide from being broken even when mixed with ceramic particles.

上記有機無機複合粒子における上記圧縮弾性率(10%K値)は、以下のようにして測定できる。   The compression elastic modulus (10% K value) in the organic-inorganic composite particles can be measured as follows.

微小圧縮試験機を用いて、円柱(直径100μm、ダイヤモンド製)の平滑圧子端面で、25℃、圧縮速度0.3mN/秒、及び最大試験荷重20mNの条件下で有機無機複合粒子を圧縮する。このときの荷重値(N)及び圧縮変位(mm)を測定する。得られた測定値から、上記圧縮弾性率を下記式により求めることができる。上記微小圧縮試験機として、例えば、フィッシャー社製「フィッシャースコープH−100」等が用いられる。   Using a micro-compression tester, the organic-inorganic composite particles are compressed under the conditions of 25 ° C., compression speed of 0.3 mN / second, and maximum test load of 20 mN on the end face of a cylindrical indenter (diameter: 100 μm, made of diamond). The load value (N) and compression displacement (mm) at this time are measured. From the measured value obtained, the compression elastic modulus can be obtained by the following formula. As the micro compression tester, for example, “Fischer Scope H-100” manufactured by Fischer is used.

K値(N/mm)=(3/21/2)・F・S−3/2・R−1/2
ここで、Fは有機無機複合粒子が10%圧縮変形したときの荷重値(N)、Sは有機無機複合粒子が10%圧縮変形したときの圧縮変位(mm)、Rは有機無機複合粒子の半径(mm)である。
K value (N / mm 2 ) = (3/2 1/2 ) · F · S −3 / 2 · R −1/2
Here, F is a load value (N) when the organic-inorganic composite particles are 10% compressively deformed, S is a compression displacement (mm) when the organic-inorganic composite particles are 10% compressively deformed, and R is the organic-inorganic composite particles. Radius (mm).

上記圧縮弾性率は、有機無機複合粒子の硬さを普遍的かつ定量的に表す。上記圧縮弾性率の使用により、有機無機複合粒子の硬さを定量的かつ一義的に表すことができる。   The compression elastic modulus universally and quantitatively represents the hardness of the organic-inorganic composite particles. By using the compression elastic modulus, the hardness of the organic-inorganic composite particles can be expressed quantitatively and uniquely.

なお、上述した有機無機複合粒子の形態は一例であって、その他、例えば公知のコアシェル構造を有する有機無機複合粒子を、本実施形態の複合材料に採用することもできる。   In addition, the form of the organic-inorganic composite particles described above is an example, and other organic-inorganic composite particles having a known core-shell structure, for example, can also be employed for the composite material of the present embodiment.

上記セラミック粒子は特に制限されず、例えば、LTCC基板等のセラミックス基材を形成するために用いられている公知のセラミック原料が挙げられる。具体的にセラミック原料としては、アルミナ、シリカ、窒化アルミニウム、窒化珪素、マグネシア、スピネル、ムライト、フォルステライト、ステアタイト、コージェライト、ストロンチウム長石、石英、ケイ酸亜鉛、ジルコニア、チタニア等の粒子が例示される。また、上記セラミック粒子は、2種以上の酸化物(例えば、SiO、BaO、B、MgO、Al、Y等)を含むガラス成分であってもよい。 The ceramic particles are not particularly limited, and examples thereof include known ceramic raw materials used for forming a ceramic base material such as an LTCC substrate. Specific examples of ceramic raw materials include particles of alumina, silica, aluminum nitride, silicon nitride, magnesia, spinel, mullite, forsterite, steatite, cordierite, strontium feldspar, quartz, zinc silicate, zirconia, titania and the like. Is done. The ceramic particles may be a glass component containing two or more oxides (for example, SiO 2 , BaO, B 2 O 3 , MgO, Al 2 O 3 , Y 2 O 3, etc.).

上記セラミック粒子は、その他のガラス成分であってもよい。その他のガラス成分としては、例えば、ホウケイ酸ガラス、ホウケイ酸バリウムガラス、ホウケイ酸ストロンチウムガラス、ホウケイ酸亜鉛ガラス、ホウケイ酸カリウムガラス等が挙げられる。   The ceramic particles may be other glass components. Examples of other glass components include borosilicate glass, borosilicate barium glass, strontium borosilicate glass, zinc borosilicate glass, and potassium borosilicate glass.

セラミック粒子は、セラミック原料のみで形成されていてもよいし、ガラス成分のみで形成されていてもよいし、あるいは、セラミック原料とガラス成分の両方を含有していてもよい。   The ceramic particles may be formed of only the ceramic raw material, may be formed of only the glass component, or may contain both the ceramic raw material and the glass component.

上記セラミック粒子の形状、大きさは特に限定的でない。   The shape and size of the ceramic particles are not particularly limited.

本実施形態の複合材料は、さらに、有機バインダー、焼結助剤、可塑剤、溶剤等を含んでいてもよい。上記有機バインダーとしては、例えば、アクリル系樹脂、ポリビニルブチラ−ル系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、アクリル−スチレン系樹脂、ポリプロピレンカーボネート樹脂、エチルセルロース等のセルロース誘導体等が挙げられる。上記可塑剤としては、例えばフタル酸ジブチル、フタル酸ジオクチル等が挙げられる。上記溶剤としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン等のケトン類;メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール等のアルコール類;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸ブチル、ブタン酸メチル、ブタン酸エチル、ブタン酸ブチル、ペンタン酸メチル、ペンタン酸エチル、ペンタン酸ブチル、ヘキサン酸メチル、ヘキサン酸エチル、ヘキサン酸ブチル、酢酸2−エチルヘキシル、酪酸2−エチルヘキシル等のエステル類;メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、ブチルセルソルブ、α−テルピネオール、ターピニルアセテート、ジヒドロテルピネオール、ジヒドロテルピネオールアセテート、ブチルセルソルブアセテート、ブチルカルビトールアセテート等が挙げられる。   The composite material of this embodiment may further contain an organic binder, a sintering aid, a plasticizer, a solvent, and the like. Examples of the organic binder include acrylic resins, polyvinyl butyral resins, polyvinyl alcohol resins, acrylic-styrene resins, polypropylene carbonate resins, and cellulose derivatives such as ethyl cellulose. Examples of the plasticizer include dibutyl phthalate and dioctyl phthalate. Examples of the solvent include ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, dipropyl ketone and diisobutyl ketone; alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol and butanol; aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; methyl propionate and propionate. Ethyl acetate, butyl propionate, methyl butanoate, ethyl butanoate, butyl butanoate, methyl pentanoate, ethyl pentanoate, butyl pentanoate, methyl hexanoate, ethyl hexanoate, butyl hexanoate, 2-ethylhexyl acetate, butyric acid 2 -Esters such as ethyl hexyl; methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, α-terpineol, terpinyl acetate, dihydroterpineol, dihydroterpineol acetate, butyl cellosolve Tate, butyl carbitol acetate.

本実施形態の複合材料において、有機無機複合粒子及びセラミック粒子の含有量は特に制限されない。例えば、有機無機複合粒子及びセラミック粒子の総質量に対して、有機無機複合粒子を1質量%以上、50質量%以下とすることができる。有機無機複合粒子の含有割合が上記範囲であれば、有機無機複合粒子及びセラミック粒子が均一に混合されやすく、得られるセラミック基材に形成される空孔もより均一に形成され得るものとなる。その結果、低誘電率、かつ、強度に優れるセラミック基材を得ることができる。   In the composite material of the present embodiment, the contents of the organic-inorganic composite particles and the ceramic particles are not particularly limited. For example, the organic-inorganic composite particles can be 1% by mass to 50% by mass with respect to the total mass of the organic-inorganic composite particles and ceramic particles. When the content ratio of the organic-inorganic composite particles is within the above range, the organic-inorganic composite particles and the ceramic particles are easily mixed uniformly, and the pores formed in the obtained ceramic base material can be formed more uniformly. As a result, a ceramic base material having a low dielectric constant and excellent strength can be obtained.

本実施形態の複合材料は、適宜の方法で調製することができ、その調製方法は限定されない。例えば、所定量の有機無機複合粒子、セラミック粒子、及び、その他適宜に添加される溶剤等の添加剤を混合することで、複合材料を調製することができる。混合方法も特に制限されず、例えば、市販のボールミル、ジェットミル、ビーズミル等の混合機や分散機を使用して混合を行ってよい。   The composite material of this embodiment can be prepared by an appropriate method, and the preparation method is not limited. For example, a composite material can be prepared by mixing a predetermined amount of organic-inorganic composite particles, ceramic particles, and other additives such as a solvent added as appropriate. The mixing method is not particularly limited, and for example, mixing may be performed using a commercially available ball mill, jet mill, bead mill, or other mixer or disperser.

上記複合材料の形態は、ペースト状、スラリー状、粉体状、分散液等のいずれでもよいが、後述するセラミックグリーンシートを形成してセラミック基材を作製するという点でスラリー状であることが好ましい。   The composite material may be in the form of a paste, slurry, powder, or dispersion, but may be in the form of a slurry in that a ceramic green sheet to be described later is formed to produce a ceramic substrate. preferable.

(セラミック基材)
上記複合材料を使用することで、セラミック基材を製造することができる。セラミック基材を製造する方法は特に限定されない。
(Ceramic substrate)
A ceramic substrate can be produced by using the composite material. The method for producing the ceramic substrate is not particularly limited.

例えば、上記複合材料によりセラミックシートを形成する工程、及び、前記セラミックシートを積層して得られる積層体を焼成する工程、を備える方法によって、セラミック基材を製造することができる。以下、前者の工程を「工程1」、後者の工程を「工程2」と略記する。   For example, a ceramic substrate can be produced by a method comprising a step of forming a ceramic sheet from the composite material and a step of firing a laminate obtained by laminating the ceramic sheets. Hereinafter, the former process is abbreviated as “process 1”, and the latter process is abbreviated as “process 2”.

工程1において、セラミックシートを形成する方法は限定的でなく、例えば、公知のセラミックグリーンシートを作製する方法と同様の方法を採用することができる。例えば、スラリー状の複合材料を従来周知のドクターブレードやカレンダーロールを用いる方法、あるいは圧延法、プレス成型法によりシート上に成形することができる。   In step 1, the method for forming the ceramic sheet is not limited. For example, a method similar to the method for producing a known ceramic green sheet can be employed. For example, a slurry-like composite material can be formed on a sheet by a method using a conventionally known doctor blade or calendar roll, a rolling method, or a press molding method.

上記のように形成されるセラミックシートの厚みは、例えば、1〜500μmであるが、これに限定されるわけではない。   The thickness of the ceramic sheet formed as described above is, for example, 1 to 500 μm, but is not limited thereto.

上記のように得られるセラミックシートは、シート状に形成される。セラミックシートの種類は特に制限はないが、例えば、公知のセラミックグリーンシートと同様の構成であってもよいし、その他の構成であってもよい。いずれにおいてもセラミックシートには、有機無機複合粒子が分散した状態で含有されている。   The ceramic sheet obtained as described above is formed into a sheet shape. The type of the ceramic sheet is not particularly limited. For example, the ceramic sheet may have the same configuration as that of a known ceramic green sheet, or may have another configuration. In any case, the ceramic sheet contains organic-inorganic composite particles in a dispersed state.

工程2では、上記工程1で形成させたセラミックシートを積層して得られる積層体を焼成する。   In step 2, the laminate obtained by laminating the ceramic sheets formed in step 1 is fired.

積層体は、工程1で形成されるセラミックシートを複数枚、積層させることで得ることができる。セラミックシートを積層する方法は特に制限されず、適宜の方法で行うことができる。例えば、最初に形成させたセラミックシートの表面にさらに、セラミックシートを形成させ、これを繰り返し行うことで、セラミックシートの積層体を得ることができる。セラミックシートの積層後は、例えば、所定の温度及び圧力で熱圧着をしてもよい。積層体の厚みは、例えば、200〜10000μmとすることができる。   The laminate can be obtained by laminating a plurality of ceramic sheets formed in step 1. The method for laminating the ceramic sheets is not particularly limited, and can be performed by an appropriate method. For example, a ceramic sheet can be formed by further forming a ceramic sheet on the surface of the first formed ceramic sheet, and repeating this to obtain a laminate of ceramic sheets. After lamination of the ceramic sheets, for example, thermocompression bonding may be performed at a predetermined temperature and pressure. The thickness of a laminated body can be 200-10000 micrometers, for example.

工程2ではさらに、上記積層体の焼成を行う。積層体を焼成する方法は特に限定されず、例えば、従来から行われているセラミックグリーンシートの焼成条件と同様にすることができる。例えば、市販の焼結炉等を用いて積層体を焼結させることができる。   In step 2, the laminate is further fired. The method for firing the laminate is not particularly limited, and can be the same as, for example, the conventional firing conditions for ceramic green sheets. For example, the laminate can be sintered using a commercially available sintering furnace or the like.

焼成条件も適宜設定することができるが、例えば、400〜600℃で脱バインダー処理をした後、焼成温度を650〜1500℃、好ましくは700〜1100℃、焼成時間を0.02〜10時間とすることができる。焼成は、大気雰囲気下で行ってもよいし、窒素等の不活性ガス雰囲気下で行ってもよい。焼結後は適宜の方法によって冷却処理を行うことができる。   The firing conditions can also be set as appropriate. For example, after the binder removal treatment at 400 to 600 ° C., the firing temperature is 650 to 1500 ° C., preferably 700 to 1100 ° C., and the firing time is 0.02 to 10 hours. can do. Firing may be performed in an air atmosphere or an inert gas atmosphere such as nitrogen. After sintering, a cooling process can be performed by an appropriate method.

上記工程2の焼成によって、積層体が焼結されて焼結体となり、これによりセラミック基材が製造される。   By the firing in the above step 2, the laminate is sintered to form a sintered body, thereby producing a ceramic substrate.

工程2の焼成によって、セラミック粒子の焼結が進行する一方、複合材料に含まれていた有機無機複合粒子における有機樹脂を含むコアは、有機成分であるがゆえに焼失する。このように、有機無機複合粒子において有機樹脂を含むコアの部分が焼失することで、焼成後は、有機無機複合粒子は内部に空孔が形成される。この結果、工程2の焼成によって得られるセラミック基材の内部には、空孔を有する粒子が分散した状態となる。これによって、内部に空孔を有するセラミック基材が形成される。つまり、工程1及び工程2を経て得られるセラミック基材は、複合材料を含むセラミックシートの積層体の焼結体を構成要素として含み、焼結体の内部に空孔が形成されている。   While the sintering of the ceramic particles proceeds by the firing in step 2, the core containing the organic resin in the organic-inorganic composite particles contained in the composite material is burned out because it is an organic component. As described above, the core portion containing the organic resin in the organic-inorganic composite particles is burned out, and thus the organic-inorganic composite particles have pores formed therein after the firing. As a result, particles having pores are dispersed in the ceramic substrate obtained by firing in step 2. As a result, a ceramic substrate having pores therein is formed. That is, the ceramic base material obtained through the steps 1 and 2 includes a sintered body of a laminate of ceramic sheets including a composite material as a constituent element, and pores are formed inside the sintered body.

上記のようにセラミック基材内部に形成される空孔は、複合材料に含まれる有機無機複合粒子によって形成されるものである。この有機無機複合粒子はコアシェル構造を有しているため、複合材料の調製からセラミックシートを焼成処理するに至るまで、有機無機複合粒子の破壊等が生じにくい。そのため、セラミックシートを焼成処理することによって、得られるセラミック基材の内部に空孔が均一に形成され得る。従来、空孔形成に使用されていた中空シリカ粒子等では、セラミックペーストを焼成処理するまでの過程で破壊等が生じて、均一な空孔の形成が困難である場合があったが、上記有機無機複合粒子によって空孔を形成する場合はそのようなおそれが小さい。しかも、有機無機複合粒子の形状の調節によって、空孔を球状又はこれに近い形状に制御しやすくなる。このように、均一で、かつ、球状の空孔が形成されやすくなることで、得られるセラミック基材が従来よりも低誘電率となり、その上、強度も優れたものになる。   As described above, the pores formed in the ceramic base are formed by organic-inorganic composite particles contained in the composite material. Since the organic-inorganic composite particles have a core-shell structure, the organic-inorganic composite particles are unlikely to break down from the preparation of the composite material to the firing of the ceramic sheet. Therefore, by firing the ceramic sheet, pores can be uniformly formed inside the obtained ceramic substrate. Conventionally, in hollow silica particles and the like that have been used for pore formation, there have been cases in which it is difficult to form uniform pores due to destruction or the like in the process until the ceramic paste is fired. Such a possibility is small when a void | hole is formed with an inorganic composite particle. Moreover, by adjusting the shape of the organic-inorganic composite particles, the pores can be easily controlled to be spherical or a shape close thereto. As described above, since uniform and spherical pores are easily formed, the obtained ceramic substrate has a lower dielectric constant than that of the conventional one, and also has excellent strength.

また、従来のようにシェルに覆われていない樹脂粒子を使用して空孔を形成させると、収縮等の問題で安定な空孔を形成することができない場合があるが、上記有機無機複合粒子では、有機樹脂であるコアが金属酸化物を含むシェルで覆われているので、そのようなおそれが小さいものである。   In addition, when pores are formed using resin particles not covered with a shell as in the past, stable pores may not be formed due to problems such as shrinkage, but the organic-inorganic composite particles Then, since the core which is an organic resin is covered with the shell containing a metal oxide, such a possibility is small.

セラミック基材に形成される空孔の大きさは、使用する有機無機複合粒子の大きさ、特に、コアの大きさを適宜選択することによって所望の範囲に調整することが可能である。また、セラミック基材に形成される空孔の形状は、使用する有機無機複合粒子の形状、特に、コアの形状に依存するので、コアの形状を適宜選択することによって、空孔の形状も制御することが可能である。例えば、セラミック基材に形成される空孔のアスペクト比は、2以下とすることがき、好ましくは1.7以下、より好ましくは1.5以下とすることができる。また、セラミック基材に形成される空孔の数も、使用する有機無機複合粒子の量を調節することによって、容易に制御することが可能である。   The size of the pores formed in the ceramic substrate can be adjusted to a desired range by appropriately selecting the size of the organic-inorganic composite particles to be used, particularly the size of the core. In addition, the shape of the pores formed in the ceramic substrate depends on the shape of the organic-inorganic composite particles used, especially the shape of the core. Therefore, the shape of the pores can also be controlled by appropriately selecting the shape of the core Is possible. For example, the aspect ratio of the pores formed in the ceramic substrate can be 2 or less, preferably 1.7 or less, more preferably 1.5 or less. In addition, the number of pores formed in the ceramic substrate can be easily controlled by adjusting the amount of organic-inorganic composite particles used.

セラミック基材内部に形成される空孔の割合も限定的ではない。例えば、セラミックス基材を切断した場合において、その切断面の断面積に対して、空孔の断面積が0.1以上の比で空孔が形成されていればよい。セラミックス基材の断面積に対して、空孔の断面積が0.15以上の比で空孔が形成されていることが好ましく、0.2以上の比で空孔が形成されていることがより好ましく、0.25以上の比で空孔が形成されていることが特に好ましい。セラミックス基材の断面積に対する空孔の断面積の上限は特に制限されないが、通常、0.7程度である。   The ratio of pores formed inside the ceramic substrate is not limited. For example, when a ceramic substrate is cut, the holes may be formed in a ratio that the cross-sectional area of the holes is 0.1 or more with respect to the cross-sectional area of the cut surface. It is preferable that the pores are formed at a ratio of the cross-sectional area of the pores of 0.15 or more with respect to the cross-sectional area of the ceramic substrate, and the pores are formed at a ratio of 0.2 or more. More preferably, pores are particularly preferably formed at a ratio of 0.25 or more. The upper limit of the cross-sectional area of the pores relative to the cross-sectional area of the ceramic substrate is not particularly limited, but is usually about 0.7.

以上のように、本実施形態のセラミック基材は、均一な空孔を有するため、より低誘電化され、強度にも優れる基材と成り得ることから、LTCC基板等の用途に好適に採用され得る。   As described above, since the ceramic base material of the present embodiment has uniform pores, it can be a base material that has a lower dielectric constant and is excellent in strength, and thus is suitably used for applications such as LTCC substrates. obtain.

さらに、セラミックシート焼成によって、有機無機複合粒子のコアが焼失する際にスス等の発生による炭化層が生成するが、この炭化層は、例えば、シェルの内面に付着する。つまり、焼成によって生じる炭化層は、シェル内に閉じ込められた状態である。このため、スス等の炭化層が生成したとしても、この炭化層がセラミックス基材自体の導電性に影響しにくく、コアの焼失によってセラミック基材の特性が損なわれるおそれが小さい。このように、有機無機複合粒子の焼成後に形成される炭化層はセラミック基材の導電性付与に寄与しにくいので、焼成後に別途、脱灰工程を実施する必要性も低く、より簡便なプロセスによってセラミック基材を製造することができる。   Furthermore, when the core of the organic-inorganic composite particles is burned out by firing the ceramic sheet, a carbonized layer is generated due to the generation of soot or the like. This carbonized layer adheres to the inner surface of the shell, for example. That is, the carbonized layer generated by firing is confined in the shell. For this reason, even if a carbonized layer such as soot is generated, the carbonized layer hardly affects the conductivity of the ceramic base material itself, and there is little possibility that the characteristics of the ceramic base material are impaired by the core being burned out. In this way, the carbonized layer formed after firing the organic-inorganic composite particles is unlikely to contribute to imparting electrical conductivity to the ceramic substrate, so there is less need for a separate deashing step after firing, and a simpler process. Ceramic substrates can be manufactured.

以上詳述したように、本実施形態の複合材料を使用すれば、セラミック基材に均一な空孔を容易に形成させることができることから、低誘電率を有し、かつ、強度に優れるセラミック基材を形成するための材料(セラミックペースト)として適している。   As described above in detail, if the composite material of the present embodiment is used, uniform voids can be easily formed in the ceramic substrate, and therefore, the ceramic substrate having a low dielectric constant and excellent strength. Suitable as a material (ceramic paste) for forming the material.

そして、複合材料に含まれる有機無機複合粒子は、セラミック基材に均一な空孔を容易に形成させることができることから、セラミックス基材などに空孔を形成するための材料、いわゆる空孔形成用粒子として適した材料である。   The organic-inorganic composite particles contained in the composite material can easily form uniform pores in the ceramic base material. Therefore, a material for forming pores in the ceramic base material, so-called pore formation It is a material suitable as particles.

以下、実施例により本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれら実施例の態様に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention more concretely, this invention is not limited to the aspect of these Examples.

(調製例1)
有機樹脂を含むコアは以下のように調製した。1,4−ブタンジオールジアクリレート950重量部と、エチレングリコールジメタクリレート50重量部とを混合し、混合液を得た。得られた混合液に過酸化ベンゾイル20重量部を加えて、均一に溶解するまで撹拌し、モノマー混合液を得た。分子量約1700のポリビニルアルコールを純水に溶解させた2重量%の水溶液4000重量部を、反応釜に入れた。この中に、得られたモノマー混合溶液を入れ、4時間撹拌することで、モノマーの液滴が所定の粒径になるように、粒径を調整した。この後、85℃の窒素雰囲気下で9時間反応を行い、モノマー液滴の重合反応を行って、粒子を得た。得られた粒子を水にて数回洗浄した後、分級操作を行って、2.75μmのコア(有機樹脂を含むコア)を用意した。このコア30重量部と、界面活性剤であるヘキサデシルトリメチルアンミニウムブロミド12重量部とを、イソプロピルアルコール540重量部と水60重量部との混合溶媒に分散させ、セパラブルフラスコ内に入れた。25重量%アンモニア水溶液24重量部を加え、超音波をかけながら攪拌した。テトラエトキシシラン170重量部を加え、超音波をかけながら25℃で12時間撹拌した。反応液を取り出し、メンブレンフィルターで吸引濾過し、エタノールを用いた洗浄を2回繰り返した後、50℃の真空乾燥機で24時間乾燥させ、有機無機複合粒子を得た。有機樹脂を含むコアの窒素雰囲気下における熱分解開始温度は、388℃であった。
(Preparation Example 1)
The core containing the organic resin was prepared as follows. 950 parts by weight of 1,4-butanediol diacrylate and 50 parts by weight of ethylene glycol dimethacrylate were mixed to obtain a mixed solution. 20 parts by weight of benzoyl peroxide was added to the obtained mixed solution and stirred until it was uniformly dissolved to obtain a monomer mixed solution. 4000 parts by weight of a 2% by weight aqueous solution prepared by dissolving polyvinyl alcohol having a molecular weight of about 1700 in pure water was placed in a reaction kettle. The obtained monomer mixed solution was put into this, and stirred for 4 hours to adjust the particle size so that the monomer droplets had a predetermined particle size. Thereafter, the reaction was performed in a nitrogen atmosphere at 85 ° C. for 9 hours, and the polymerization reaction of the monomer droplets was performed to obtain particles. The obtained particles were washed several times with water and then classified to prepare a 2.75 μm core (a core containing an organic resin). 30 parts by weight of the core and 12 parts by weight of hexadecyltrimethylammonium bromide as a surfactant were dispersed in a mixed solvent of 540 parts by weight of isopropyl alcohol and 60 parts by weight of water, and placed in a separable flask. 24 parts by weight of 25% by weight aqueous ammonia solution was added and stirred while applying ultrasonic waves. 170 parts by weight of tetraethoxysilane was added, and the mixture was stirred at 25 ° C. for 12 hours while applying ultrasonic waves. The reaction solution was taken out, suction filtered through a membrane filter, and washed twice using ethanol, and then dried in a vacuum dryer at 50 ° C. for 24 hours to obtain organic-inorganic composite particles. The thermal decomposition starting temperature in the nitrogen atmosphere of the core containing the organic resin was 388 ° C.

(調製例2)
有機樹脂を含むコアを以下のように調製した。ジビニルベンゼン(純度96%)1000重量部に過酸化ベンゾイル40重量部を加えて、均一に溶解するまで撹拌し、モノマー混合液を得た。分子量約1700のポリビニルアルコールを純水に溶解させた2重量%の水溶液4000重量部を、反応釜に入れた。この中に、得られたモノマー混合溶液を入れ、4時間撹拌することで、モノマーの液滴が所定の粒径になるように、粒径を調整した。この後、85℃の窒素雰囲気下で9時間反応を行い、モノマー液滴の重合反応を行って、粒子を得た。得られた粒子を水にて数回洗浄した後、分級操作を行って、2.78μmの樹脂コアを用意した。有機樹脂を含むコアの窒素雰囲気下における熱分解開始温度は、453℃であった。上記のように得られたコアを用いたこと以外は、実施例1と同様にして有機無機複合粒子を得た。
(Preparation Example 2)
A core containing an organic resin was prepared as follows. To 1000 parts by weight of divinylbenzene (purity 96%), 40 parts by weight of benzoyl peroxide was added and stirred until evenly dissolved to obtain a monomer mixture. 4000 parts by weight of a 2% by weight aqueous solution prepared by dissolving polyvinyl alcohol having a molecular weight of about 1700 in pure water was placed in a reaction kettle. The obtained monomer mixed solution was put into this, and stirred for 4 hours to adjust the particle size so that the monomer droplets had a predetermined particle size. Thereafter, the reaction was performed in a nitrogen atmosphere at 85 ° C. for 9 hours, and the polymerization reaction of the monomer droplets was performed to obtain particles. The obtained particles were washed several times with water, and then classified to prepare a 2.78 μm resin core. The thermal decomposition starting temperature in the nitrogen atmosphere of the core containing the organic resin was 453 ° C. Organic-inorganic composite particles were obtained in the same manner as in Example 1 except that the core obtained as described above was used.

(調製例3)
有機樹脂を含むコアを以下のように調製した。ジビニルベンゼン(純度96%)600重量部と、イソボルニルアクリレート40重量部とを混合し、混合液を得た。得られた混合液に過酸化ベンゾイル20重量部を加えて、均一に溶解するまで撹拌し、モノマー混合液を得た。分子量約1700のポリビニルアルコールを純水に溶解させた2重量%の水溶液4000重量部を、反応釜に入れた。この中に、得られたモノマー混合溶液を入れ、4時間撹拌することで、モノマーの液滴が所定の粒径になるように、粒径を調整した。この後、85℃の窒素雰囲気下で9時間反応を行い、モノマー液滴の重合反応を行って、粒子を得た。得られた粒子を水にて数回洗浄した後、分級操作を行って、2.70μmの樹脂コアを用意した。窒素雰囲気下における熱分解開始温度は、330℃であった。上記のように得られたコアを用いたこと以外は、実施例1と同様にして有機無機複合粒子を得た。
(Preparation Example 3)
A core containing an organic resin was prepared as follows. 600 parts by weight of divinylbenzene (purity 96%) and 40 parts by weight of isobornyl acrylate were mixed to obtain a mixed solution. 20 parts by weight of benzoyl peroxide was added to the obtained mixed solution and stirred until it was uniformly dissolved to obtain a monomer mixed solution. 4000 parts by weight of a 2% by weight aqueous solution prepared by dissolving polyvinyl alcohol having a molecular weight of about 1700 in pure water was placed in a reaction kettle. The obtained monomer mixed solution was put into this, and stirred for 4 hours to adjust the particle size so that the monomer droplets had a predetermined particle size. Thereafter, the reaction was performed in a nitrogen atmosphere at 85 ° C. for 9 hours, and the polymerization reaction of the monomer droplets was performed to obtain particles. The obtained particles were washed several times with water and then classified to prepare a 2.70 μm resin core. The thermal decomposition starting temperature in a nitrogen atmosphere was 330 ° C. Organic-inorganic composite particles were obtained in the same manner as in Example 1 except that the core obtained as described above was used.

(調製例4)
有機樹脂を含むコアを以下のように調製した。エチレングリコールジメタクリレート1000重量部に過酸化ベンゾイル20重量部を加えて、均一に溶解するまで撹拌し、モノマー混合液を得た。分子量約1700のポリビニルアルコールを純水に溶解させた2重量%の水溶液4000重量部を、反応釜に入れた。この中に、得られたモノマー混合溶液を入れ、4時間撹拌することで、モノマーの液滴が所定の粒径になるように、粒径を調整した。この後、85℃の窒素雰囲気下で9時間反応を行い、モノマー液滴の重合反応を行って、粒子を得た。得られた粒子を水にて数回洗浄した後、分級操作を行って、2.68μmの樹脂コアを用意した。熱分解開始温度は、189℃であった。上記のように得られたコアを用いたこと以外は、実施例1と同様にして有機無機複合粒子を得た。
(Preparation Example 4)
A core containing an organic resin was prepared as follows. 20 parts by weight of benzoyl peroxide was added to 1000 parts by weight of ethylene glycol dimethacrylate and stirred until it was uniformly dissolved to obtain a monomer mixture. 4000 parts by weight of a 2% by weight aqueous solution prepared by dissolving polyvinyl alcohol having a molecular weight of about 1700 in pure water was placed in a reaction kettle. The obtained monomer mixed solution was put into this, and stirred for 4 hours to adjust the particle size so that the monomer droplets had a predetermined particle size. Thereafter, the reaction was performed in a nitrogen atmosphere at 85 ° C. for 9 hours, and the polymerization reaction of the monomer droplets was performed to obtain particles. The obtained particles were washed several times with water and then classified to prepare a 2.68 μm resin core. The thermal decomposition starting temperature was 189 ° C. Organic-inorganic composite particles were obtained in the same manner as in Example 1 except that the core obtained as described above was used.

(調製例5)
実施例1で得られた有機樹脂を含むコア30重量部を、イソプロピルアルコール1100重量部と水20重量部との混合溶媒に分散させ、セパラブルフラスコ内において超音波をかけながら撹拌した。そこへ、チタン(IV)テトラブトキシドモノマー90重量部とイソプロピルアルコール3000重量部の混合溶液を加え、超音波をかけながら25℃で3時間撹拌を行った。その後、さらに追加でチタン(IV)テトラブトキシドモノマー90重量部を加えて25℃で9時間撹拌した。反応液を取り出し、メンブレンフィルターで吸引濾過し、エタノールを用いた洗浄を2回繰り返した後、50℃の真空乾燥機で24時間乾燥させ、有機無機複合粒子を得た。
(Preparation Example 5)
30 parts by weight of the core containing the organic resin obtained in Example 1 was dispersed in a mixed solvent of 1100 parts by weight of isopropyl alcohol and 20 parts by weight of water, and stirred in a separable flask while applying ultrasonic waves. Thereto was added a mixed solution of 90 parts by weight of titanium (IV) tetrabutoxide monomer and 3000 parts by weight of isopropyl alcohol, and the mixture was stirred at 25 ° C. for 3 hours while applying ultrasonic waves. Thereafter, 90 parts by weight of titanium (IV) tetrabutoxide monomer was further added, and the mixture was stirred at 25 ° C. for 9 hours. The reaction solution was taken out, suction filtered through a membrane filter, and washed twice using ethanol, and then dried in a vacuum dryer at 50 ° C. for 24 hours to obtain organic-inorganic composite particles.

(実施例1)
セラミック組成物として、重量比でSiO/BaO/B/MgO/Al/Y=29/23/9/16/16/7の組成からなる平均粒子径が2μmのガラスAを準備した。このガラスAを75重量%と、平均粒子径が2μmのアルミナ25重量%との混合物100重量部に対し、調製例1で得た有機無機複合粒子20重量部を配合し、アクリル樹脂と、可塑剤としてフタル酸ジオクチル(DOP)、トルエンを適量添加してスラリー化して複合材料を得た。この複合材料をドクターブレード法により厚さ100μmのセラミックグリーンシートを作製した。さらに、このセラミックグリーンシートを所望の厚さになるよう複数枚積層し、60℃で10MPaの圧力を加えて熱圧着した。
Example 1
As the ceramic composition, the average particle diameter having a composition of SiO 2 / BaO / B 2 O 3 / MgO / Al 2 O 3 / Y 2 O 3 = 29/23/9/16/16/7 is 2μm in a weight ratio of Glass A was prepared. 20 parts by weight of the organic-inorganic composite particles obtained in Preparation Example 1 are blended with 100 parts by weight of a mixture of 75% by weight of this glass A and 25% by weight of alumina having an average particle diameter of 2 μm. A suitable amount of dioctyl phthalate (DOP) and toluene was added as an agent to form a slurry to obtain a composite material. A ceramic green sheet having a thickness of 100 μm was produced from this composite material by a doctor blade method. Further, a plurality of the ceramic green sheets were laminated so as to have a desired thickness, and thermocompression bonded by applying a pressure of 10 MPa at 60 ° C.

次いで、積層体を500℃で脱バインダー工程を行い、200℃/時間で昇温した後、900℃で1時間保持して焼成することで、焼結体を形成し、セラミック基材を得た。   Next, the binder was subjected to a binder removal step at 500 ° C., heated at 200 ° C./hour, then held at 900 ° C. for 1 hour and fired to form a sintered body to obtain a ceramic substrate. .

(実施例2)
調製例1で得られた有機無機複合粒子を調製例2で得られた有機無機複合粒子に変更したこと以外は実施例1と同様の方法でセラミック基材を得た。
(Example 2)
A ceramic base material was obtained in the same manner as in Example 1 except that the organic-inorganic composite particles obtained in Preparation Example 1 were changed to the organic-inorganic composite particles obtained in Preparation Example 2.

(実施例3)
調製例1で得られた有機無機複合粒子を調製例3で得られた有機無機複合粒子に変更したこと以外は実施例1と同様の方法でセラミック基材を得た。
(Example 3)
A ceramic base material was obtained in the same manner as in Example 1, except that the organic-inorganic composite particles obtained in Preparation Example 1 were changed to the organic-inorganic composite particles obtained in Preparation Example 3.

(実施例4)
調製例1で得られた有機無機複合粒子を調製例4で得られた有機無機複合粒子に変更したこと以外は実施例1と同様の方法でセラミック基材を得た。
Example 4
A ceramic substrate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the organic-inorganic composite particles obtained in Preparation Example 1 were changed to the organic-inorganic composite particles obtained in Preparation Example 4.

(実施例5)
調製例1で得られた有機無機複合粒子を調製例5で得られた有機無機複合粒子に変更したこと以外は実施例1と同様の方法でセラミック基材を得た。
(Example 5)
A ceramic substrate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the organic-inorganic composite particles obtained in Preparation Example 1 were changed to the organic-inorganic composite particles obtained in Preparation Example 5.

(比較例1)
調製例1で得られた有機無機複合粒子の代わりに、調製例1の有機無機複合粒子の製造過程で調製した有機樹脂を含むコアに変更したこと以外は実施例1と同様の方法でセラミック基材を得た。
(Comparative Example 1)
In place of the organic-inorganic composite particles obtained in Preparation Example 1, a ceramic substrate was prepared in the same manner as in Example 1 except that the core was changed to a core containing an organic resin prepared in the production process of the organic-inorganic composite particles in Preparation Example 1. I got the material.

(比較例2)
調製例1で得られた有機無機複合粒子の代わりに、市販されている中空ガラスビーズ(平均粒子径3.79μm)に変更したこと以外は実施例1と同様の方法でセラミック基材を得た。
(Comparative Example 2)
A ceramic base material was obtained in the same manner as in Example 1 except that instead of the organic-inorganic composite particles obtained in Preparation Example 1, it was changed to commercially available hollow glass beads (average particle diameter: 3.79 μm). .

<評価方法>
(1)有機無機複合粒子の平均粒子径、コアの粒径及びシェルの厚み
得られた有機無機複合粒子を、走査型電子顕微鏡(日立ハイテクノロジー社製「S−3500N」)にて3000倍の粒子画像を撮影し、得られた画像中の粒子100個の粒径をノギスで測定し、個数平均を求めて有機無機複合粒子の粒径を求めた。有機無機複合粒子を作製する際に使用したコアについても、上記と同様の方法により粒径を測定した。有機無機複合粒子の粒径と有機コアの粒径との差から、シェルの厚みを求めた。中空粒子のシェルの厚みについては、粒子断面の画像を撮影し、得られた画像のシェル厚み100箇所をノギスで測定し、個数平均を求めて、シェル厚みとした。
<Evaluation method>
(1) Average particle size of organic-inorganic composite particles, core particle size, and shell thickness The obtained organic-inorganic composite particles were 3000 times larger with a scanning electron microscope ("S-3500N" manufactured by Hitachi High-Technology Corporation). A particle image was taken, the particle size of 100 particles in the obtained image was measured with calipers, and the number average was determined to determine the particle size of the organic-inorganic composite particles. The particle size of the core used for producing the organic / inorganic composite particles was also measured by the same method as described above. From the difference between the particle size of the organic-inorganic composite particles and the particle size of the organic core, the thickness of the shell was determined. Regarding the shell thickness of the hollow particles, an image of the cross section of the particle was taken, and 100 shell thicknesses of the obtained image were measured with calipers, and the number average was obtained to obtain the shell thickness.

(2)有機無機複合粒子のコアの熱分解温度
得られたコアを、TG/DTA(TG/DTA7300、日立ハイテクサイエンス社製)にて10mgの樹脂コア粒子を秤量し、窒素流量100ml/minの雰囲気下において開始温度30℃で10℃/minで550℃まで昇温し5分保持した。重量減少が確認された温度を熱分解温度として測定した。
(2) Thermal decomposition temperature of core of organic / inorganic composite particles 10 mg of resin core particles were weighed with TG / DTA (TG / DTA7300, manufactured by Hitachi High-Tech Science Co., Ltd.), and the flow rate of nitrogen was 100 ml / min. Under an atmosphere, the temperature was raised to 550 ° C. at a starting temperature of 30 ° C. at 10 ° C./min and held for 5 minutes. The temperature at which weight reduction was confirmed was measured as the thermal decomposition temperature.

(3)加熱後のアスペクト比
試料(有機無機複合粒子、有機樹脂を含むコア又は中空ガラスビーズ)を窒素ガス雰囲気炉で500℃、1時間加熱したのちに、走査型電子顕微鏡(日立ハイテクノロジー社製「S−3500N」)にて3000倍の粒子画像を撮影し、得られた画像中の粒子100個の粒子の長径および短径をノギスで測定し、長径/短径を求めて加熱後のアスペクト比を測定した。
(3) Aspect ratio after heating The sample (organic-inorganic composite particles, core containing organic resin or hollow glass beads) is heated in a nitrogen gas atmosphere furnace at 500 ° C. for 1 hour, and then a scanning electron microscope (Hitachi High-Technology Corporation) (“S-3500N” manufactured by Kobayashi Co., Ltd.)) was photographed at a magnification of 3000 times, and the major axis and minor axis of 100 particles in the obtained image were measured with a caliper, and the major axis / minor axis was obtained to obtain the The aspect ratio was measured.

(4)セラミック基材の空孔の面積比、アスペクト比
得られたセラミック基板の断面を、走査型電子顕微鏡(日立ハイテクノロジー社製「S−3500N」)にて3000倍のセラミック基材断面画像を撮影し、得られた画像を撮影し、1画像上にある空孔部の全ての断面積を測定し、セラミック基板に占める空孔部の面積比を求めた。なお、断面積を算出するにあたっての空孔の半径は、シェルの内径に基づくものであり、かつ、空孔が長径及び短径を有する場合はシェルの長径に基づくものである。また、長径/短径を求めて空孔部のアスペクト比を測定した。
(4) Area ratio of pores and aspect ratio of ceramic base material Cross section image of ceramic base material obtained by scanning electron microscope ("S-3500N" manufactured by Hitachi High-Technology Corporation) with a magnification of 3000 times. The obtained image was photographed, and all cross-sectional areas of the hole portions on one image were measured, and the area ratio of the hole portions in the ceramic substrate was obtained. In addition, the radius of the hole for calculating the cross-sectional area is based on the inner diameter of the shell, and when the hole has a major axis and a minor axis, it is based on the major axis of the shell. Further, the aspect ratio of the pores was measured by determining the major axis / minor axis.

(5)セラミック基材の強度
得られたセラミック基材を3mm×4mm×50mmに加工し、オートグラフを用いてJIS R−1601に基づく3点曲げ強度を測定した。基材強度は、実施例1において有機無機複合粒子を入れずに作製したサンプル基材を別途調製して、このサンプル基材を1とした相対評価を行った。
(5) Strength of Ceramic Base Material The obtained ceramic base material was processed into 3 mm × 4 mm × 50 mm, and a three-point bending strength based on JIS R-1601 was measured using an autograph. For the base material strength, a sample base material prepared without putting organic-inorganic composite particles in Example 1 was prepared separately, and relative evaluation was performed with this sample base material as 1.

(6)セラミック基材の誘電率
得られたセラミック基材を50mm×50mm×1mmの大きさに加工し、誘電体充填空洞共振器法にて、2GHzにおける誘電率を測定した。測定した誘電率は、上記サンプル基材を1とした相対評価を行った。
(6) Dielectric constant of ceramic substrate The obtained ceramic substrate was processed into a size of 50 mm x 50 mm x 1 mm, and the dielectric constant at 2 GHz was measured by a dielectric-filled cavity resonator method. The measured dielectric constant was evaluated relative to the sample substrate as 1.

Figure 2017149630
Figure 2017149630

表1には、調製例1〜5で得られた有機無機複合粒子の平均粒子径、シェルの厚み、シェル厚み/コアの半径の値、有機樹脂コアの分解開始温度及び加熱後の有機無機複合粒子のアスペクト比を示している。また、表1にはあわせて実施例1の有機樹脂を含むコアの平均粒子径、有機樹脂コアの分解開始温度及び加熱後のアスペクト比、並びに、中空ガラスビーズの平均粒子径、シェルの厚み及び加熱後のアスペクト比を示している。   Table 1 shows the average particle diameter of the organic-inorganic composite particles obtained in Preparation Examples 1 to 5, the shell thickness, the shell thickness / core radius value, the decomposition start temperature of the organic resin core, and the organic-inorganic composite after heating. The aspect ratio of the particles is shown. In addition, in Table 1, the average particle diameter of the core containing the organic resin of Example 1, the decomposition start temperature of the organic resin core and the aspect ratio after heating, the average particle diameter of the hollow glass beads, the thickness of the shell, and The aspect ratio after heating is shown.

Figure 2017149630
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表2には、各実施例及び比較例で得られたセラミック基材の評価結果を示しており、具体的には、空孔の面積比、空孔のアスペクト比、セラミック基材の強度及びセラミック基材の誘電率を示している。   Table 2 shows the evaluation results of the ceramic substrates obtained in each of the examples and comparative examples. Specifically, the area ratio of the pores, the aspect ratio of the pores, the strength of the ceramic substrate, and the ceramic The dielectric constant of the substrate is shown.

実施例1〜5のように、コア及びシェルで形成されるコアシェル構造を有する有機無機複合粒子を用いて形成されたセラミック基材では、比較例1(コアのみ)、比較例2(中空ガラス)に比べて、空孔の面積比が高く、効果的に空孔が形成されていることがわかる。また、このように形成された実施例1〜5のセラミック基材の空孔は、アスペクト比が小さいことから、真球状に近い形状で形成されていることがわかる。これにより、実施例1〜5で得られたセラミック基材は、高い基材強度を有するものであった。   As in Examples 1 to 5, in the ceramic substrate formed using the organic-inorganic composite particles having the core-shell structure formed of the core and the shell, Comparative Example 1 (core only), Comparative Example 2 (hollow glass) It can be seen that the area ratio of the vacancies is high and the vacancies are effectively formed. Moreover, since the pores of the ceramic substrates of Examples 1 to 5 formed in this way have a small aspect ratio, it can be seen that they are formed in a shape close to a true sphere. Thereby, the ceramic base material obtained in Examples 1-5 has high base-material intensity | strength.

また、比較例1では、有機樹脂を含むコアの焼失によって形成されるカーボン層の影響により誘電率が高くなっているのに対し、実施例1〜5では、有機樹脂を含むコアはシェルの内部で焼失するので、有機樹脂を含むコアの焼失によって形成されるカーボン層の影響が小さいといえる。   In Comparative Example 1, the dielectric constant is increased due to the influence of the carbon layer formed by burning the core containing the organic resin, whereas in Examples 1 to 5, the core containing the organic resin is inside the shell. It can be said that the influence of the carbon layer formed by burning out the core containing the organic resin is small.

Claims (12)

有機無機複合粒子と、セラミック粒子とを含み、
前記有機無機複合粒子は、有機樹脂を含むコア及び金属酸化物を含むシェルで形成されるコアシェル構造を有する、複合材料。
Including organic-inorganic composite particles and ceramic particles,
The organic-inorganic composite particle is a composite material having a core-shell structure formed of a core containing an organic resin and a shell containing a metal oxide.
前記有機樹脂は、窒素雰囲気下での熱分解温度が270℃以上500℃未満である、請求項1に記載の複合材料。   2. The composite material according to claim 1, wherein the organic resin has a thermal decomposition temperature in a nitrogen atmosphere of 270 ° C. or higher and lower than 500 ° C. 3. 前記有機無機複合粒子の数平均粒子径が0.1μm以上5.0μm以下である、請求項1又は2に記載の複合材料。   The composite material according to claim 1 or 2, wherein the organic-inorganic composite particles have a number average particle diameter of 0.1 µm or more and 5.0 µm or less. 前記有機無機複合粒子は、窒素雰囲気下、雰囲気温度500℃で加熱処理をした後のアスペクト比が1.10以下である、請求項1〜3のいずれか1項に記載の複合材料。   The composite material according to any one of claims 1 to 3, wherein the organic-inorganic composite particles have an aspect ratio of 1.10 or less after being subjected to heat treatment at 500 ° C in an atmosphere of nitrogen. 前記金属酸化物がシリカを含む、請求項1〜4のいずれか1項に記載の複合材料。   The composite material according to claim 1, wherein the metal oxide includes silica. 請求項1〜5のいずれか1項に記載の複合材料を含むセラミックシートの積層体の焼結体を構成要素として含み、前記焼結体の内部に空孔が形成されている、セラミック基材。   A ceramic base material comprising a sintered body of a laminate of ceramic sheets containing the composite material according to any one of claims 1 to 5 as a constituent element, wherein pores are formed inside the sintered body. . 請求項1〜5のいずれか1項に記載の複合材料によりセラミックシートを形成する工程、及び、前記セラミックシートを積層して得られる積層体を焼成する工程を備える、セラミック基材の製造方法。   The manufacturing method of a ceramic base material provided with the process of forming a ceramic sheet with the composite material of any one of Claims 1-5, and the process of baking the laminated body obtained by laminating | stacking the said ceramic sheet. セラミック基材に空孔を形成するための空孔形成用粒子であって、
有機樹脂を含むコア及び金属酸化物を含むシェルで形成されるコアシェル構造を有する有機無機複合粒子を含む、空孔形成用粒子。
Pore-forming particles for forming pores in a ceramic substrate,
A pore-forming particle comprising organic-inorganic composite particles having a core-shell structure formed of a core containing an organic resin and a shell containing a metal oxide.
前記有機樹脂は、窒素雰囲気下での熱分解温度が270℃以上500℃未満である、請求項8に記載の空孔形成用粒子。   The hole forming particles according to claim 8, wherein the organic resin has a thermal decomposition temperature in a nitrogen atmosphere of 270 ° C or higher and lower than 500 ° C. 前記有機無機複合粒子の数平均粒子径が0.1μm以上5.0μm以下である、請求項8又は9に記載の空孔形成用粒子。   The hole forming particles according to claim 8 or 9, wherein the number average particle diameter of the organic-inorganic composite particles is 0.1 µm or more and 5.0 µm or less. 前記有機無機複合粒子は、窒素雰囲気下、雰囲気温度500℃で加熱処理をした後のアスペクト比が1.10以下である、請求項8〜10のいずれか1項に記載の空孔形成用粒子。   The pore-forming particles according to any one of claims 8 to 10, wherein the organic-inorganic composite particles have an aspect ratio of 1.10 or less after being heat-treated at 500 ° C in an atmosphere of nitrogen. . 前記金属酸化物がシリカである、請求項8〜11のいずれか1項に記載の空孔形成用粒子。   The particle | grain for void | hole formation of any one of Claims 8-11 whose said metal oxide is a silica.
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