JP2017142331A - Optical film, production method, polarizing plate and display device - Google Patents

Optical film, production method, polarizing plate and display device Download PDF

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浩成 摺出寺
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide: an optical film and a production method thereof, the film having high mechanical strength and good optical characteristics such as a low retardation, having high durability against an organic solvent and suppressing occurrence of blocking, and being advantageously usable as a protective film in a polarizing plate; and a polarizing plate and a display device including the above optical film.SOLUTION: The optical film is made of a crosslinked product of an untreated film containing a hydrogenated block copolymer. The hydrogenated block copolymer is obtained by hydrogenating a specific block copolymer composed of two or more polymer blocks [A] essentially comprising a specific repeating unit [I] and at least one polymer block [B] essentially comprising a specific repeating unit [II] or a combination of the repeating unit [I] and the repeating unit [II]. The optical film has a specific tensile fraction elongation and a solvent-insoluble content percentage. A production method of the optical film, and a polarizing plate and a display device including the optical film are also disclosed.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は光学フィルム、その製造方法及び用途に関し、特に偏光板保護フィルムとして用いて好適な光学フィルムに関する。   The present invention relates to an optical film, a method for producing the same, and an application thereof, and more particularly to an optical film suitable for use as a polarizing plate protective film.

液晶表示装置などの表示装置には、偏光板、位相差板等の様々な光学素子が設けられる。このような光学素子の中にはフィルムにより構成されているものがある。例えば、偏光板は、ポリビニルアルコール等の材料で形成されたフィルム状の偏光子と、かかる偏光子を保護する保護フィルムとを含むことが一般的である。かかる保護フィルムの例としては、脂環式構造含有重合体を含む樹脂のフィルムが知られている(特許文献1)。脂環式構造含有重合体を含む樹脂のフィルムは、機械的強度及び光学的特性の観点から、偏光板における保護フィルムとして有用に用いうる。また特に、脂環式構造含有重合体として、特定のブロック共重合体を用いることにより、低位相差等の、保護フィルムとして特に好ましい光学的特性を有するものを得ることが知られている(特許文献2)。   A display device such as a liquid crystal display device is provided with various optical elements such as a polarizing plate and a retardation plate. Some of these optical elements are constituted by films. For example, the polarizing plate generally includes a film-like polarizer formed of a material such as polyvinyl alcohol and a protective film that protects the polarizer. As an example of such a protective film, a resin film containing an alicyclic structure-containing polymer is known (Patent Document 1). The resin film containing the alicyclic structure-containing polymer can be usefully used as a protective film in a polarizing plate from the viewpoint of mechanical strength and optical properties. In particular, it is known that a specific block copolymer is used as the alicyclic structure-containing polymer to obtain a polymer having particularly preferable optical characteristics as a protective film, such as a low retardation. 2).

特開2007−245551号公報JP 2007-245551 A 特開2011−013378号公報JP 2011-013378 A

偏光板は、表示装置の製造時及び使用時の環境において耐久性を発現することが求められる。例えば、偏光板の表面には、ハードコート層等の層をさらに設けることが必要になる場合があり、その際には、有機溶媒を含む溶液を偏光板の表面に塗布する工程を行う場合がある。この際、保護フィルムが、有機溶媒に対する耐性が低いものであると、表示装置の光学的性能が損なわれうる。   The polarizing plate is required to exhibit durability in an environment during production and use of the display device. For example, it may be necessary to further provide a layer such as a hard coat layer on the surface of the polarizing plate, and in that case, a step of applying a solution containing an organic solvent to the surface of the polarizing plate may be performed. is there. At this time, if the protective film has low resistance to the organic solvent, the optical performance of the display device may be impaired.

また、保護フィルム、及び偏光板は、長尺状の形状で製造しフィルムロールの形状で保存されることがある。この際、ブロッキング(フィルムロール内でフィルムの隣接する表面が付着する現象)が発生し、それによりフィルムの品質が損なわれることがある。   Moreover, a protective film and a polarizing plate may be manufactured in a long shape, and may be preserve | saved in the shape of a film roll. At this time, blocking (a phenomenon in which adjacent surfaces of the film adhere to each other in the film roll) may occur, thereby impairing the quality of the film.

従って、本発明の目的は、高い機械的強度及び低位相差等の良好な光学的特性を備え、加えて有機溶媒に対する耐性が高く且つブロッキングの発生が抑制され、偏光板における保護フィルムとして有用に用いることができる光学フィルム及びその製造方法、機械的強度が高く且つ光学的特性が良好であることに加え有機溶媒に対する耐性が高く且つブロッキングの発生が抑制された偏光板、並びに機械的強度が高く且つ光学的性能が良好な表示装置を提供することにある。   Accordingly, the object of the present invention is to provide a good optical property such as high mechanical strength and low retardation, and in addition, it has high resistance to an organic solvent and suppresses occurrence of blocking, and is useful as a protective film in a polarizing plate. Optical film and method for producing the same, polarizing plate having high mechanical strength and good optical properties, high resistance to organic solvents and suppressed occurrence of blocking, and high mechanical strength and The object is to provide a display device having good optical performance.

上述した課題を解決し目的を達成するため検討した結果、本発明者は、特定の共重合体のフィルムに特定の処理を施すことにより、前記課題を解決しうることを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、本発明によれば、以下の〔1〕〜〔8〕が提供される。
As a result of studying to solve the above-mentioned problems and achieving the object, the present inventors have found that the above-mentioned problems can be solved by applying a specific treatment to a specific copolymer film, and the present invention has been completed. I let you.
That is, according to the present invention, the following [1] to [8] are provided.

〔1〕 ブロック共重合体水素化物[D]を含む処理前フィルムの架橋物からなる光学フィルムであって、
前記ブロック共重合体水素化物[D]は、
環式炭化水素基含有化合物由来の繰り返し単位[I]を主成分とする、2つ以上の重合体ブロック[A]と、
鎖状炭化水素化合物由来の繰り返し単位[II]、又は前記繰り返し単位[I]及び前記繰り返し単位[II]の組み合わせを主成分とする1つ以上の重合体ブロック[B]と
からなるブロック共重合体[C]を水素化してなり:
(i)wAとwBとの比(wA/wB)が50/50〜75/25であり、ここでwAは前記重合体ブロック[A]が前記ブロック共重合体[C]に占める重量分率であり、wBは前記重合体ブロック[B]が前記ブロック共重合体[C]に占める重量分率であり、
(ii)w[IB]とw[IIB]との比(w[IB]/w[IIB])が50/50〜0/100であり、ここでw[IB]は前記重合体ブロック[B]に占める前記繰り返し単位[I]の重量分率であり、w[IIB]は前記重合体ブロック[B]に占める前記繰り返し単位[II]の重量分率であり、
(iii)前記ブロック共重合体水素化物[D]は、前記ブロック共重合体[C]の全不飽和結合の90%以上が水素化されたものであり、
前記光学フィルムは:
(iv)引張破断伸度が100%以上であり、
(v)溶剤不溶成分率が85%以上である
光学フィルム。
〔2〕 前記環式炭化水素基含有化合物が芳香族ビニル化合物であり、前記鎖状炭化水素化合物が鎖状共役ジエン系化合物である、〔1〕に記載の光学フィルム。
〔3〕 正面位相差Reが、5nm以下である、〔1〕又は〔2〕に記載の光学フィルム。
〔4〕 前記ブロック共重合体水素化物[D]を含む処理前フィルムに、電子線またはγ線を照射してなる、〔1〕〜〔3〕のいずれか1項に記載の光学フィルム。
〔5〕 〔1〕〜〔4〕のいずれか1項に記載の光学フィルムの製造方法であって、
ブロック共重合体水素化物[D]を含む処理前フィルムに、電子線またはγ線を照射する線照射工程を含む、製造方法。
〔6〕 前記線照射工程を行う雰囲気中の酸素濃度が300ppmより小さい、〔5〕に記載の製造方法。
〔7〕 前記線照射工程における線量が200kGy以上800kGy以下である〔5〕又は〔6〕に記載の製造方法。
〔8〕 〔1〕〜〔4〕のいずれか1項に記載の光学フィルムと偏光子とを備える偏光板。
〔9〕 〔1〕〜〔4〕のいずれか1項に記載の光学フィルムを備える表示装置。
[1] An optical film comprising a cross-linked product of a pre-treatment film containing a block copolymer hydride [D],
The block copolymer hydride [D] is:
Two or more polymer blocks [A] based on a repeating unit [I] derived from a cyclic hydrocarbon group-containing compound;
A block copolymer consisting of a repeating unit [II] derived from a chain hydrocarbon compound, or one or more polymer blocks [B] having as a main component a combination of the repeating unit [I] and the repeating unit [II] Hydrogenate the union [C]:
(I) The ratio of wA to wB (wA / wB) is 50/50 to 75/25, where wA is the weight fraction of the polymer block [A] in the block copolymer [C]. WB is a weight fraction of the polymer block [B] in the block copolymer [C],
(Ii) The ratio of w [IB] to w [IIB] (w [IB] / w [IIB]) is 50/50 to 0/100, where w [IB] is the polymer block [B ] And the weight fraction of the repeating unit [I] in the polymer block [B], and w [IIB] is the weight fraction of the repeating unit [II] in the polymer block [B].
(Iii) The block copolymer hydride [D] is obtained by hydrogenating 90% or more of the total unsaturated bonds of the block copolymer [C],
The optical film is:
(Iv) The tensile elongation at break is 100% or more,
(V) An optical film having a solvent-insoluble component ratio of 85% or more.
[2] The optical film according to [1], wherein the cyclic hydrocarbon group-containing compound is an aromatic vinyl compound, and the chain hydrocarbon compound is a chain conjugated diene compound.
[3] The optical film according to [1] or [2], wherein the front phase difference Re is 5 nm or less.
[4] The optical film according to any one of [1] to [3], wherein the pre-treatment film containing the block copolymer hydride [D] is irradiated with an electron beam or γ-ray.
[5] The method for producing an optical film according to any one of [1] to [4],
The manufacturing method including the line irradiation process of irradiating an electron beam or a gamma ray to the film before a process containing block copolymer hydride [D].
[6] The production method according to [5], wherein an oxygen concentration in an atmosphere in which the line irradiation step is performed is smaller than 300 ppm.
[7] The production method according to [5] or [6], wherein a dose in the line irradiation step is 200 kGy or more and 800 kGy or less.
[8] A polarizing plate comprising the optical film according to any one of [1] to [4] and a polarizer.
[9] A display device comprising the optical film according to any one of [1] to [4].

本発明の光学フィルムは、高い機械的強度及び低位相差等の良好な光学的特性を備え、加えて有機溶媒に対する耐性が高く且つブロッキングの発生が抑制され、偏光板における保護フィルムとして有用に用いることができる。また、本発明の光学フィルムの製造方法によれば、そのような光学フィルムを容易に製造しうる。本発明の偏光板は、機械的強度が高く且つ光学的特性が良好であることに加え有機溶媒に対する耐性が高く且つブロッキングの発生が抑制されたものとすることができる。本発明の表示装置は、機械的強度が高く且つ光学的性能が良好な表示装置とすることができる。   The optical film of the present invention has good mechanical properties such as high mechanical strength and low retardation, and in addition, has high resistance to organic solvents and suppresses occurrence of blocking, and is useful as a protective film in a polarizing plate. Can do. Moreover, according to the manufacturing method of the optical film of this invention, such an optical film can be manufactured easily. The polarizing plate of the present invention can have high mechanical strength and good optical properties, as well as high resistance to organic solvents and suppression of blocking. The display device of the present invention can be a display device with high mechanical strength and good optical performance.

以下、本発明について実施形態及び例示物を示して詳細に説明する。ただし、本発明は以下に示す実施形態及び例示物に限定されるものでは無く、本発明の特許請求の範囲及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施しうる。   Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to embodiments and examples. However, the present invention is not limited to the following embodiments and exemplifications, and can be implemented with arbitrary modifications without departing from the scope of the claims of the present invention and the equivalents thereof.

本願において、「長尺状」のフィルムとは、フィルムの幅に対して、5倍以上の長さを有するものをいい、好ましくは10倍若しくはそれ以上の長さを有し、具体的にはロール状に巻き取られて保管又は運搬される程度の長さを有するものをいう。フィルムの幅に対する長さの割合の上限は、特に限定されないが、例えば100,000倍以下としうる。   In the present application, the “long” film refers to a film having a length of 5 times or more, preferably 10 times or more of the width of the film, specifically, It has a length enough to be wound up in a roll and stored or transported. Although the upper limit of the ratio of the length with respect to the width of a film is not specifically limited, For example, it can be 100,000 times or less.

〔1.光学フィルム及びその製造方法:概要〕
本発明の光学フィルムは、特定の処理前フィルムの架橋物からなる。
[1. Optical Film and its Manufacturing Method: Overview]
The optical film of the present invention comprises a specific crosslinked film before processing.

〔1.1.処理前フィルムの材料〕
処理前フィルムは、特定のブロック共重合体水素化物[D]を含む。処理前フィルムは通常、ブロック共重合体水素化物[D]を含有する樹脂からなるものとしうる。
[1.1. Material of film before processing
The pre-treatment film contains a specific block copolymer hydride [D]. The pre-treatment film can usually be made of a resin containing a block copolymer hydride [D].

〔1.1.1.ブロック共重合体水素化物[D]〕
ブロック共重合体水素化物[D]は、特定のブロック共重合体[C]を水素化してなる。ブロック共重合体[C]は、1分子あたり2つ以上の特定の重合体ブロック[A]と、1分子あたり1つ以上の特定の重合体ブロック[B]からなる。
[1.1.1. Block copolymer hydride [D]]
The block copolymer hydride [D] is formed by hydrogenating a specific block copolymer [C]. The block copolymer [C] is composed of two or more specific polymer blocks [A] per molecule and one or more specific polymer blocks [B] per molecule.

〔1.1.1.1.重合体ブロック[A]〕
重合体ブロック[A]は、環式炭化水素基含有化合物由来の繰り返し単位[I]を主成分とする。本願において、ある化合物由来の単位とは、その化合物の重合により得られる構造を有する単位である。重合体ブロック[A]中の、繰り返し単位[I]の含有量は、好ましくは98重量%以上、より好ましくは99重量%以上である。重合体ブロック[A]の繰り返し単位[I]以外の繰り返し単位の例としては、鎖状炭化水素化合物由来の繰り返し単位[II]及び/又はその他のビニル化合物(即ち、ビニル化合物であって、且つ環式炭化水素基含有化合物でも鎖状炭化水素化合物でも無い化合物)由来の繰り返し単位[III]が挙げられる。その含有量は、好ましくは2重量%以下、より好ましくは1重量%以下である。
[1.1.1.1. Polymer block [A]]
The polymer block [A] contains a repeating unit [I] derived from a cyclic hydrocarbon group-containing compound as a main component. In the present application, a unit derived from a compound is a unit having a structure obtained by polymerization of the compound. The content of the repeating unit [I] in the polymer block [A] is preferably 98% by weight or more, more preferably 99% by weight or more. Examples of the repeating unit other than the repeating unit [I] of the polymer block [A] include a repeating unit [II] derived from a chain hydrocarbon compound and / or another vinyl compound (that is, a vinyl compound, and And a repeating unit [III] derived from a compound that is neither a cyclic hydrocarbon group-containing compound nor a chain hydrocarbon compound. The content is preferably 2% by weight or less, more preferably 1% by weight or less.

重合体ブロック[A]中の繰り返し単位[II]及び/又はその他のビニル化合物由来の繰り返し単位[III]の成分を前記下限値以下とすることにより、光学フィルムの耐熱性を向上させることができる。ブロック共重合体[C]に含まれる2つの重合体ブロック[A]同士は、上記の範囲を満足するものであれば、互いに同じであっても、相異なっていても良い。   By making the component of the repeating unit [II] and / or the repeating unit [III] derived from other vinyl compound in the polymer block [A] below the lower limit, the heat resistance of the optical film can be improved. . The two polymer blocks [A] contained in the block copolymer [C] may be the same as or different from each other as long as they satisfy the above range.

〔1.1.1.2.重合体ブロック[B]〕
重合体ブロック[B]は、鎖状炭化水素化合物由来の繰り返し単位[II]を主成分とするか、又は繰り返し単位[I]及び繰り返し単位[II]の組み合わせを主成分とするものである。重合体ブロック[B]に占める、繰り返し単位[I]の重量分率w[IB]及び繰り返し単位[II]の重量分率w[IIB]の比、即ちw[IB]/w[IIB]は、好ましくは50/50以下、より好ましくは45/55以下、さらにより好ましくは40/60以下であり、一方好ましくは0/100以上、より好ましくは5/95以上、さらにより好ましくは10/90以上である。
[1.1.1.2. Polymer block [B]]
The polymer block [B] has a repeating unit [II] derived from a chain hydrocarbon compound as a main component, or a combination of the repeating unit [I] and the repeating unit [II] as a main component. The ratio of the weight fraction w [IB] of the repeating unit [I] to the weight fraction w [IIB] of the repeating unit [II] in the polymer block [B], that is, w [IB] / w [IIB] is , Preferably 50/50 or less, more preferably 45/55 or less, even more preferably 40/60 or less, while preferably 0/100 or more, more preferably 5/95 or more, and even more preferably 10/90. That's it.

重合体ブロック[B]中の、繰り返し単位[I]及び繰り返し単位[II]の合計含有量は、好ましくは95重量%以上、より好ましくは97重量%以上、さらにより好ましくは99重量%以上である。重合体ブロック[B]中の、繰り返し単位[I]及び繰り返し単位[II]以外の成分としては、その他のビニル化合物由来の繰り返し単位[III]が挙げられる。その含有量は、好ましくは5重量%以下、より好ましくは3重量%以下、さらにより好ましくは1重量%以下である。   The total content of the repeating unit [I] and the repeating unit [II] in the polymer block [B] is preferably 95% by weight or more, more preferably 97% by weight or more, and even more preferably 99% by weight or more. is there. Components other than the repeating unit [I] and the repeating unit [II] in the polymer block [B] include repeating units [III] derived from other vinyl compounds. The content is preferably 5% by weight or less, more preferably 3% by weight or less, and even more preferably 1% by weight or less.

重合体ブロック[B]中の、繰り返し単位[I]及び繰り返し単位[II]の含有割合を上記範囲にすることにより、ブロック共重合体水素化物[D]及びそれを含む光学フィルムの機械的強度と柔軟性を向上させることができ、位相差変化に対する耐熱性を向上させることができる。   By making the content ratio of the repeating unit [I] and the repeating unit [II] in the polymer block [B] within the above range, the block copolymer hydride [D] and the mechanical strength of the optical film including the same are obtained. Flexibility can be improved, and heat resistance against a change in phase difference can be improved.

〔1.1.1.3.環式炭化水素基含有化合物〕
本願において「環式炭化水素基含有化合物」とは、脂環式炭化水素基、又は芳香族基等の環式炭化水素基を含有する化合物である。環式炭化水素基含有化合物はまた、重合反応によって繰り返し単位[I]を形成しうる、重合性基を有する。環式炭化水素基含有化合物は、それ自体脂環式構造を有する化合物であるか、又は、水素化されると脂環式構造を有する化合物となるものである。
[1.1.1.3. Cyclic hydrocarbon group-containing compound]
In the present application, the “cyclic hydrocarbon group-containing compound” is a compound containing a cyclic hydrocarbon group such as an alicyclic hydrocarbon group or an aromatic group. The cyclic hydrocarbon group-containing compound also has a polymerizable group that can form the repeating unit [I] by a polymerization reaction. The cyclic hydrocarbon group-containing compound itself is a compound having an alicyclic structure, or becomes a compound having an alicyclic structure when hydrogenated.

環式炭化水素基含有化合物の好ましい例としては、芳香族ビニル化合物が挙げられる。芳香族ビニル化合物の例としては、スチレン;α−メチルスチレン、2−メチルスチレン、3−メチルスチレン、4−メチルスチレン、2,4−ジイソプロピルスチレン、2,4−ジメチルスチレン、4−t−ブチルスチレン、5−t−ブチル−2−メチルスチレンなどの、置換基として炭素数1〜6のアルキル基を有するスチレン類;4−クロロスチレン、ジクロロスチレン、4−モノフルオロスチレンなどの、置換基としてハロゲン原子を有するスチレン類;4−メトキシスチレンなどの、置換基として炭素数1〜6のアルコキシ基を有するスチレン類;4−フェニルスチレンなどの、置換基としてアリール基を有するスチレン類;1−ビニルナフタレン、2−ビニルナフタレンなどのビニルナフタレン類;などが挙げられる。これらの中でも、吸湿性の観点から、スチレン、置換基として炭素数1〜6のアルキル基を有するスチレン類などの、極性基を含有しない芳香族ビニル化合物が好ましく、工業的な入手の容易さから、スチレンが特に好ましい。   Preferable examples of the cyclic hydrocarbon group-containing compound include aromatic vinyl compounds. Examples of aromatic vinyl compounds include styrene; α-methyl styrene, 2-methyl styrene, 3-methyl styrene, 4-methyl styrene, 2,4-diisopropyl styrene, 2,4-dimethyl styrene, 4-t-butyl. Styrenes having a C1-C6 alkyl group as a substituent, such as styrene and 5-t-butyl-2-methylstyrene; As substituents such as 4-chlorostyrene, dichlorostyrene, 4-monofluorostyrene Styrenes having a halogen atom; styrenes having a C1-C6 alkoxy group as a substituent such as 4-methoxystyrene; styrenes having an aryl group as a substituent such as 4-phenylstyrene; 1-vinyl And vinyl naphthalenes such as naphthalene and 2-vinylnaphthalene. Among these, from the viewpoint of hygroscopicity, aromatic vinyl compounds that do not contain a polar group, such as styrene and styrenes having a C 1-6 alkyl group as a substituent, are preferable, because of industrial availability. Styrene is particularly preferred.

〔1.1.1.4.鎖状炭化水素化合物〕
本願において、「鎖状炭化水素化合物」とは、環式炭化水素基を有しない炭化水素化合物である。鎖状炭化水素化合物はまた、重合反応によって繰り返し単位[I]を形成しうる、重合性基を有する。
[1.1.1.4. (Chain hydrocarbon compound)
In the present application, the “chain hydrocarbon compound” is a hydrocarbon compound having no cyclic hydrocarbon group. The chain hydrocarbon compound also has a polymerizable group that can form the repeating unit [I] by a polymerization reaction.

鎖状炭化水素化合物の好ましい例としては、鎖状共役ジエン系化合物が挙げられる。鎖状共役ジエン系化合物の例としては、1,3−ブタジエン、イソプレン、2,3−ジメチル−1,3−ブタジエン、1,3−ペンタジエンなどが挙げられる。なかでも、吸湿性の観点から、極性基を含有しない鎖状共役ジエン系化合物が好ましく、工業的な入手の容易さから、1,3−ブタジエン、イソプレンが特に好ましい。   Preferable examples of the chain hydrocarbon compound include a chain conjugated diene compound. Examples of the chain conjugated diene compound include 1,3-butadiene, isoprene, 2,3-dimethyl-1,3-butadiene, 1,3-pentadiene and the like. Of these, a chain conjugated diene compound containing no polar group is preferable from the viewpoint of hygroscopicity, and 1,3-butadiene and isoprene are particularly preferable from the viewpoint of industrial availability.

〔1.1.1.5.その他のビニル系化合物〕
その他のビニル系化合物の例としては、不飽和イミド化合物などが挙げられる。これらの化合物は、ニトリル基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシカルボニル基、又はハロゲン原子を置換基として有していてもよい。
[1.1.1.5. Other vinyl compounds]
Examples of other vinyl compounds include unsaturated imide compounds. These compounds may have a nitrile group, an alkoxycarbonyl group, a hydroxycarbonyl group, or a halogen atom as a substituent.

〔1.1.1.6.ブロック共重合体[C]〕
好ましい例において、1分子のブロック共重合体[C]が有する重合体ブロック[A]及び重合体ブロック[B]の数は、通常、重合体ブロック[A]が2つであり、且つ重合体ブロック[B]が1つである。従ってブロック共重合体[C]は通常[A]−[B]−[A]のトリブロック構造を有する。但しブロック共重合体[C]はトリブロック構造を有するものに限定されず、例えば[A]−[B]−[A]−[B]−[A]のペンタブロック構造を有するものであってもよい。
[1.1.1.6. Block copolymer [C]]
In a preferred example, the number of polymer blocks [A] and polymer blocks [B] contained in one molecule of the block copolymer [C] is usually two polymer blocks [A], and the polymer There is one block [B]. Accordingly, the block copolymer [C] usually has a triblock structure of [A]-[B]-[A]. However, the block copolymer [C] is not limited to one having a triblock structure, and for example, has a pentablock structure of [A]-[B]-[A]-[B]-[A] Also good.

ブロック共重合体[C]が2つ以上の重合体ブロック[A]を有する場合、これらは互いに同じであっても、相異なってもよい。1分子のブロック共重合体[C]が有する2つの重合体ブロック[A]の重量平均分子量は同一でも相異なってもよい。重合体ブロック[A]の重量平均分子量をMw(A)は各々3,000〜90,000、好ましくは3,500〜80,000、より好ましくは4,000〜60,000である。   When the block copolymer [C] has two or more polymer blocks [A], these may be the same as or different from each other. The weight average molecular weights of the two polymer blocks [A] contained in one molecule of the block copolymer [C] may be the same or different. The polymer block [A] has a weight average molecular weight Mw (A) of 3,000 to 90,000, preferably 3,500 to 80,000, more preferably 4,000 to 60,000.

重合体ブロック[A]のMw(A)が3,000以上であることにより、ブロック共重合体水素化物[D]の機械的強度を良好なものとすることができる。一方重合体ブロック[A]のMw(A)が90,000以下であることにより、ブロック共重合体水素化物[D]の溶融成形性を良好なものとすることができる。   When the Mw (A) of the polymer block [A] is 3,000 or more, the mechanical strength of the block copolymer hydride [D] can be improved. On the other hand, when the Mw (A) of the polymer block [A] is 90,000 or less, the melt moldability of the block copolymer hydride [D] can be improved.

ブロック共重合体[C]中の、全重合体ブロック[A]がブロック共重合体[C]に占める重量分率wAと、重合体ブロック[B]がブロック共重合体[C]に占める重量分率wBとは、所定の比率を有することが好ましい。即ちwAとwBとの比(wA/wB)は好ましくは50/50以上、より好ましくは53/47以上、さらにより好ましくは57/43以上であり、一方好ましくは75/25以下、より好ましくは70/30以下、さらにより好ましくは65/35以下である。wA/wBを前記上限以下とすることにより、ブロック共重合体水素化物[D]に柔軟性を付与し、良好な機械的強度を付与することができる。wA/wBを前記下限以上とすることにより、良好な耐熱性を付与することができる。   In the block copolymer [C], the weight fraction wA of the total polymer block [A] in the block copolymer [C], and the weight of the polymer block [B] in the block copolymer [C]. The fraction wB preferably has a predetermined ratio. That is, the ratio of wA to wB (wA / wB) is preferably 50/50 or higher, more preferably 53/47 or higher, even more preferably 57/43 or higher, while preferably 75/25 or lower, more preferably 70/30 or less, still more preferably 65/35 or less. By setting wA / wB below the upper limit, flexibility can be imparted to the block copolymer hydride [D] and good mechanical strength can be imparted. By setting wA / wB to be equal to or higher than the lower limit, good heat resistance can be imparted.

ブロック共重合体[C]の分子量は、テトラヒドロフラン(THF)を溶媒とするゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー(GPC)により測定されるポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)で、好ましくは60,000以上、より好ましくは65,000以上、さらにより好ましくは70,000以上であり、一方好ましくは150,000以下、より好ましくは130,000以下、さらにより好ましくは100,000以下である。また、ブロック共重合体[C]の分子量分布(Mw/Mn)は、好ましくは3以下、より好ましくは2以下、特に好ましくは1.5以下である。   The molecular weight of the block copolymer [C] is a polystyrene-reduced weight average molecular weight (Mw) measured by gel permeation chromatography (GPC) using tetrahydrofuran (THF) as a solvent, and preferably 60,000 or more. , More preferably 65,000 or more, even more preferably 70,000 or more, while preferably 150,000 or less, more preferably 130,000 or less, and even more preferably 100,000 or less. Further, the molecular weight distribution (Mw / Mn) of the block copolymer [C] is preferably 3 or less, more preferably 2 or less, and particularly preferably 1.5 or less.

ブロック共重合体[C]は、環式炭化水素基含有化合物を主成分として含有するモノマー混合物(a)、及び鎖状炭化水素化合物を主成分として含有するか、又は環式炭化水素基含有化合物及び鎖状炭化水素化合物を主成分として含有するモノマー混合物(b)を用いて製造することができる。例えば、リビングアニオン重合などの方法により、モノマー混合物(a)とモノマー混合物(b)とを交互に重合させる方法;モノマー混合物(a)とモノマー混合物(b)を順に重合させた後、重合体ブロック[B]の末端同士を、カップリング剤によりカップリングさせる方法;などにより製造することができる。   The block copolymer [C] contains a monomer mixture (a) containing a cyclic hydrocarbon group-containing compound as a main component and a chain hydrocarbon compound as a main component, or a cyclic hydrocarbon group-containing compound. And a monomer mixture (b) containing a chain hydrocarbon compound as a main component. For example, a method in which the monomer mixture (a) and the monomer mixture (b) are alternately polymerized by a method such as living anion polymerization; after the monomer mixture (a) and the monomer mixture (b) are sequentially polymerized, the polymer block It can be produced by a method of coupling the ends of [B] with a coupling agent.

モノマー混合物(b)が、環式炭化水素基含有化合物及び鎖状炭化水素化合物を主成分として含有する場合、モノマー混合物(b)を重合させて共重合体ブロック[B]を形成させる工程では、モノマー混合物(b)を重合反応系に少量ずつ連続的に供給することが好ましい。それにより、環式炭化水素基含有化合物と鎖状炭化水素化合物の重合速度が大きく異なる場合であっても、モノマー組成の均質な共重合体ブロック[B]を形成することができる。これにより、ブロック共重合体水素化物[D]の耐熱性を向上させることができる。   When the monomer mixture (b) contains a cyclic hydrocarbon group-containing compound and a chain hydrocarbon compound as main components, in the step of polymerizing the monomer mixture (b) to form a copolymer block [B], It is preferable to continuously supply the monomer mixture (b) to the polymerization reaction system little by little. Thereby, even when the polymerization rates of the cyclic hydrocarbon group-containing compound and the chain hydrocarbon compound are greatly different, a copolymer block [B] having a homogeneous monomer composition can be formed. Thereby, the heat resistance of block copolymer hydride [D] can be improved.

〔1.1.1.7.ブロック共重合体水素化物[D]〕
ブロック共重合体水素化物[D]は、ブロック共重合体[C]の主鎖及び側鎖の炭素−炭素不飽和結合、並びに、芳香環の炭素−炭素不飽和結合を水素化することにより得うる。
[1.1.1.7. Block copolymer hydride [D]]
The block copolymer hydride [D] is obtained by hydrogenating the carbon-carbon unsaturated bond of the main chain and side chain of the block copolymer [C] and the carbon-carbon unsaturated bond of the aromatic ring. sell.

ブロック共重合体水素化物[D]の水素化率(ブロック共重合体[C]の全不飽和結合のうち、ブロック共重合体水素化物[D]において水素化されたものの割合)は、好ましくは90%以上、好ましくは95%以上、より好ましくは99%以上である。水素化率が高いほど、成形体の耐候性、耐熱性及び透明性が良好である。ブロック共重合体水素化物[D]の水素化率は、H−NMR、又はGPCによるUV検出器及びRI検出器によるピーク面積の比較などにより求めうる。 The hydrogenation rate of the block copolymer hydride [D] (the ratio of the hydrogenation in the block copolymer hydride [D] out of the total unsaturated bonds of the block copolymer [C]) is preferably It is 90% or more, preferably 95% or more, more preferably 99% or more. The higher the hydrogenation rate, the better the weather resistance, heat resistance and transparency of the molded body. The hydrogenation rate of the block copolymer hydride [D] can be determined by 1 H-NMR, or comparison of peak areas by GPC UV detector and RI detector.

不飽和結合の水素化方法や反応形態などは特に限定されず、既知の方法にしたがって行いうる。水素化率を高くでき、重合体鎖切断反応の少ない水素化方法が好ましい。このような水素化方法の例としては、例えば、国際公開第2011/096389号に記載された方法、及び国際公開第2012/043708号に記載された方法が挙げられる。   There are no particular restrictions on the hydrogenation method or reaction mode of the unsaturated bond, and it can be carried out according to known methods. A hydrogenation method that can increase the hydrogenation rate and has less polymer chain scission reaction is preferred. As an example of such a hydrogenation method, the method described in the international publication 2011/096389 and the method described in the international publication 2012/043708 are mentioned, for example.

水素化反応終了後、水素化触媒及び/又は重合触媒を反応溶液から除去した後、得られた溶液からブロック共重合体水素化物[D]を回収することができる。ブロック共重合体水素化物[D]は、通常はペレット状の形状とし、その後の操作に供しうる。   After completion of the hydrogenation reaction, after removing the hydrogenation catalyst and / or the polymerization catalyst from the reaction solution, the block copolymer hydride [D] can be recovered from the resulting solution. The block copolymer hydride [D] is usually in the form of a pellet and can be subjected to subsequent operations.

ブロック共重合体水素化物[D]の分子量は、THFを溶媒としたGPCにより測定されるポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)で、好ましくは50,000以上、より好ましくは55,000以上、さらにより好ましくは60,000以上であり、一方好ましくは150,000以下、より好ましくは130,000以下、さらにより好ましくは100,000以下としうる。ブロック共重合体水素化物[D]の分子量分布(Mw/Mn)は、好ましくは3以下、より好ましくは2以下、特に好ましくは1.5以下にする。Mw及びMw/Mnが上記範囲となるようにすると、成形した光学フィルムの位相差の変化に対する耐熱性や機械的強度が良好である。   The molecular weight of the block copolymer hydride [D] is a polystyrene-equivalent weight average molecular weight (Mw) measured by GPC using THF as a solvent, preferably 50,000 or more, more preferably 55,000 or more, and further More preferably, it is 60,000 or more, while preferably 150,000 or less, more preferably 130,000 or less, and even more preferably 100,000 or less. The molecular weight distribution (Mw / Mn) of the block copolymer hydride [D] is preferably 3 or less, more preferably 2 or less, and particularly preferably 1.5 or less. When Mw and Mw / Mn are within the above ranges, heat resistance and mechanical strength against changes in retardation of the molded optical film are good.

〔1.1.2.ブロック共重合体水素化物[D]の割合〕
本発明の光学フィルムがブロック共重合体水素化物[D]を含む樹脂からなる場合、当該樹脂における、ブロック共重合体水素化物[D]の割合は、好ましくは50重量%以上、より好ましくは70重量%以上、特に好ましくは90重量%以上である。ブロック共重合体水素化物[D]の割合を当該範囲内とすることにより、高い機械的強度及び良好な光学的特性等の、ブロック共重合体水素化物[D]の利点を得ることができる。特に、本発明の光学フィルムがブロック共重合体水素化物[D]を含有するフィルムであることにより、容易に正面位相差Reの小さいフィルムとすることができ、表示装置において偏光子保護フィルムとして用いた場合、表示品質を損なわずに保護フィルムとしての機能を発揮しうる。
[1.1.2. Block copolymer hydride [D] ratio]
When the optical film of the present invention comprises a resin containing a block copolymer hydride [D], the proportion of the block copolymer hydride [D] in the resin is preferably 50% by weight or more, more preferably 70%. % By weight or more, particularly preferably 90% by weight or more. By setting the ratio of the block copolymer hydride [D] within the range, the advantages of the block copolymer hydride [D] such as high mechanical strength and good optical properties can be obtained. In particular, since the optical film of the present invention is a film containing a block copolymer hydride [D], a film having a small front phase difference Re can be easily obtained, and used as a polarizer protective film in a display device. If present, the function as a protective film can be exhibited without impairing the display quality.

〔1.1.3.任意の成分〕
処理前フィルムを構成する樹脂は、ブロック共重合体水素化物[D]以外に、任意の成分を含有しうる。
任意の成分の例としては、架橋助剤が挙げられる。架橋助剤を含有することにより、少ない線照射量で高い架橋度を達成することができる。
架橋助剤の例としては、p−キノンジオキシム、p,p’−ジベンゾイルキノンジオキシム等のオキシム類;エチレンジメタクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、アクリル酸/酸化亜鉛混合物、アリルメタクリレート等のアクリレート若しくはメタクリレート類;ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、ビニルピリジン等のビニルモノマー類;ヘキサメチレンジアリルナジイミド、ジアリルイタコネート、ジアリルフタレート、ジアリルイソフタレート、トリアリルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレート等のアリル化合物類;N,N’−m−フェニレンビスマレイミド、N,N’−(4,4’−メチレンジフェニレン)ジマレイミド等のマレイミド化合物類等が挙げられる。架橋助剤としては、一種類を単独で用いてもよく、二種類以上を任意の割合で組み合わせて用いてもよい。得られる光学フィルムの電気特性、耐熱性、耐溶剤性等の特性を向上させる観点からはアリル化合物類が好ましく、特に熱安定性の観点から、トリアリルイソシアヌレート(TAIC)が最も好ましい。
[1.1.3. (Optional ingredients)
The resin constituting the pre-treatment film may contain any component other than the block copolymer hydride [D].
Examples of optional components include crosslinking aids. By containing a crosslinking aid, a high degree of crosslinking can be achieved with a small dose of radiation.
Examples of crosslinking aids include oximes such as p-quinone dioxime and p, p′-dibenzoylquinone dioxime; ethylene dimethacrylate, polyethylene glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, cyclohexyl methacrylate, acrylic acid / Zinc oxide mixture, acrylates or methacrylates such as allyl methacrylate; vinyl monomers such as divinylbenzene, vinyltoluene, vinylpyridine; hexamethylene diallyl nadiimide, diallyl itaconate, diallyl phthalate, diallyl isophthalate, triallyl cyanurate, tri Allyl compounds such as allyl isocyanurate; males such as N, N′-m-phenylenebismaleimide and N, N ′-(4,4′-methylenediphenylene) dimaleimide And amide compounds. As a crosslinking assistant, one type may be used alone, or two or more types may be used in combination at any ratio. Allyl compounds are preferable from the viewpoint of improving characteristics such as electrical properties, heat resistance, and solvent resistance of the obtained optical film, and triallyl isocyanurate (TAIC) is most preferable from the viewpoint of thermal stability.

その他の任意の成分の例としては、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤などの安定剤;滑剤、可塑剤などの樹脂改質剤;染料や顔料などの着色剤;帯電防止剤などの配合剤が挙げられる。これらの配合剤は1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができ、その配合量は本発明の目的を損なわない範囲で適宜選択される。   Examples of other optional components include stabilizers such as antioxidants, UV absorbers and light stabilizers; resin modifiers such as lubricants and plasticizers; colorants such as dyes and pigments; antistatic agents and the like A compounding agent is mentioned. These compounding agents can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types, The compounding quantity is suitably selected in the range which does not impair the objective of this invention.

〔1.2.処理前フィルム〕
本発明の光学フィルムの製造に供する処理前フィルムは、上に述べたブロック共重合体水素化物[D]をフィルムの形状に成形することにより得られる。
[1.2. Film before processing)
The pre-treatment film used for the production of the optical film of the present invention can be obtained by molding the block copolymer hydride [D] described above into a film shape.

フィルムの成形方法は、特に限定されず、溶融押出成形等の既知の方法を採用しうる。   The method for forming the film is not particularly limited, and a known method such as melt extrusion can be employed.

成形されたフィルムは、そのまま処理前フィルムとして用いてもよい。又は、成形されたフィルムに線照射以外の任意の処理を行い、これを処理前フィルムとして用いてもよい。例えば、成形されたフィルムに延伸の処理を行い、延伸フィルムとし、これを処理前フィルムとして用いうる。   You may use the shape | molded film as a film before a process as it is. Or you may perform arbitrary processes other than line irradiation to the shape | molded film, and may use this as a film before a process. For example, the formed film can be stretched to obtain a stretched film, which can be used as a pre-processed film.

延伸の処理を行う場合の延伸の態様は、一軸延伸、二軸延伸等の任意の態様としうる。また、延伸前のフィルムが長尺状のフィルムである場合、延伸の方向は、縦方向(長尺状のフィルムの長手方向に平行な方向)、横方向(長尺状のフィルムの幅方向に平行な方向)、及び斜め方向(縦方向でも横方向でも無い方向)のいずれであってもよい。   The mode of stretching when performing the stretching process may be any mode such as uniaxial stretching or biaxial stretching. Moreover, when the film before extending | stretching is a long film, the direction of extending | stretching is a vertical direction (direction parallel to the longitudinal direction of an elongate film), a horizontal direction (the width direction of an elongate film). (Parallel direction) and diagonal direction (direction which is neither vertical nor horizontal).

延伸倍率は、好ましくは1.1倍以上、より好ましくは1.5倍以上であり、一方好ましくは7倍以下、より好ましくは6倍以下である。延伸温度は、好ましくは80℃以上、より好ましくは100℃以上であり、一方好ましくは200℃以下、より好ましくは180℃以下である。   The draw ratio is preferably 1.1 times or more, more preferably 1.5 times or more, and preferably 7 times or less, more preferably 6 times or less. The stretching temperature is preferably 80 ° C. or higher, more preferably 100 ° C. or higher, while preferably 200 ° C. or lower, more preferably 180 ° C. or lower.

このような延伸の処理を行うことにより、大面積のフィルムを容易に得ることができる。加えて、処理前フィルムとしてブロック共重合体水素化物[D]を含むものを採用することにより、延伸の工程を経ても位相差の少ないフィルムを容易に得ることができるので、位相差の少ないフィルムが求められる場合、そのようなフィルムを容易に得ることができる。   By performing such stretching treatment, a large-area film can be easily obtained. In addition, since a film containing a block copolymer hydride [D] is employed as a pre-treatment film, a film having a small retardation can be easily obtained even after a stretching process. When such is required, such a film can be easily obtained.

処理前フィルムの寸法は、製品たる光学フィルムとして所望の寸法を有するものが得られるよう適宜設定しうる。製造の効率上、処理前フィルムは長尺状のフィルムであることが好ましい。処理前フィルムの厚みは、好ましくは5μm以上、より好ましくは10μm以上であり、一方好ましくは50μm以下、より好ましくは40μm以下である。   The dimension of the film before a process can be suitably set so that what has a desired dimension can be obtained as an optical film which is a product. In view of production efficiency, the pre-treatment film is preferably a long film. The thickness of the pre-treatment film is preferably 5 μm or more, more preferably 10 μm or more, while preferably 50 μm or less, more preferably 40 μm or less.

〔1.3.線照射〕
本発明の光学フィルムは、処理前フィルムに電子線またはγ線を照射する線照射工程を行うことにより得うる。線照射工程において、電子線又はγ線を採用することにより、照射量を容易に制御することができ、得られる光学フィルムの特性を容易に調整することができる。特に、電子線を採用することにより、フィルムの不所望な黄変の発生を低減しながら線照射工程を行うことができる。
[1.3. Radiation)
The optical film of the present invention can be obtained by performing a line irradiation step of irradiating an electron beam or γ-ray to the pre-treatment film. By employing an electron beam or γ-ray in the beam irradiation step, the irradiation amount can be easily controlled, and the characteristics of the obtained optical film can be easily adjusted. In particular, by employing an electron beam, the line irradiation process can be performed while reducing the occurrence of undesired yellowing of the film.

一般的にブロック共重合体水素化物[D]を含むフィルムは、高い機械的強度及び低位相差等の良好な光学的特性を備える一方、有機溶媒に対する耐性が低く、且つブロッキングが発生しやすい傾向がある。本発明者が見出したところによれば、ブロック共重合体水素化物[D]を含む処理前フィルムを架橋物とすることにより、耐溶媒性を高め、且つブロッキングの発生を抑制することができる一方、高い機械的強度及び低位相差等の良好な光学的特性は損なわれず維持され、その結果、良好な特性を兼ね備えた光学フィルムを得ることができる。   In general, a film containing a block copolymer hydride [D] has good mechanical properties such as high mechanical strength and low retardation, but has low resistance to organic solvents and tends to cause blocking. is there. According to the finding of the present inventor, the film before treatment containing the block copolymer hydride [D] is made into a cross-linked product, whereby the solvent resistance can be improved and the occurrence of blocking can be suppressed. Good optical properties such as high mechanical strength and low retardation are maintained without being damaged, and as a result, an optical film having good properties can be obtained.

電子線の照射は、例えば、電子線照射装置などの線源から処理前フィルムに電子線を照射することにより行いうる。照射量は、所望の耐溶媒性及び耐ブロッキング性が得られるよう適宜調整しうる。具体的には、吸収線量として、好ましくは200kGy以上、より好ましくは1200kGy以下であり、一方好ましくは800kGy以下、より好ましくは500kGy以下である。電子線を照射する際の加速電圧は、好ましくは150kV以上であり、一方好ましくは250kV以下としうる。   The irradiation with the electron beam can be performed, for example, by irradiating the film before processing with an electron beam from a source such as an electron beam irradiation device. The irradiation dose can be appropriately adjusted so that desired solvent resistance and blocking resistance can be obtained. Specifically, the absorbed dose is preferably 200 kGy or more, more preferably 1200 kGy or less, and preferably 800 kGy or less, more preferably 500 kGy or less. The accelerating voltage when irradiating with an electron beam is preferably 150 kV or higher, while preferably 250 kV or lower.

γ線の照射は、例えば、γ線照射装置などの線源から処理前フィルムにγ線を照射することにより行いうる。照射量は、吸収線量として、電子線と同様の照射量としうる。   Irradiation with γ-rays can be performed, for example, by irradiating the pre-treatment film with γ-rays from a radiation source such as a γ-ray irradiation device. The dose can be the same dose as the electron beam as an absorbed dose.

線照射工程を行う際の雰囲気は特に限定されず、空気雰囲気又は不活性ガス雰囲気としうる。不活性ガスとしては、窒素、アルゴン、ヘリウム等のガスを用いうる。特に、酸素濃度が300ppmより小さい雰囲気とすることが、酸素による架橋阻害を抑制できるため好ましい。   The atmosphere at the time of performing the beam irradiation process is not particularly limited, and may be an air atmosphere or an inert gas atmosphere. As the inert gas, a gas such as nitrogen, argon, or helium can be used. In particular, an atmosphere having an oxygen concentration of less than 300 ppm is preferable because crosslinking inhibition by oxygen can be suppressed.

線照射工程を行う際の温度は特に限定されず、常温、例えば10℃以上30℃以下の温度としうる。   The temperature at the time of performing the beam irradiation process is not particularly limited, and may be room temperature, for example, a temperature of 10 ° C. or higher and 30 ° C. or lower.

〔1.4.光学フィルムの性質等〕
本発明の光学フィルムは、その引張破断伸度が100%以上である。引張破断伸度は、好ましくは110%以上、より好ましくは120%以上である。一方破断伸度の上限は特に限定されないが、例えば200%以下としうる。この範囲の引張破断伸度を有することにより、耐ブロッキング性に優れた光学フィルムとしうる。このような引張破断伸度を有する光学フィルムは、線照射工程における線量を適宜調整することにより容易に得うる。引張破断伸度は、JISK7127記載の試験片タイプ1Bの試験片を用いて、引っ張り速度20mm/分によって求めうる。
[1.4. Properties of optical film etc.)
The optical film of the present invention has a tensile elongation at break of 100% or more. The tensile elongation at break is preferably 110% or more, more preferably 120% or more. On the other hand, the upper limit of the breaking elongation is not particularly limited, but may be, for example, 200% or less. By having a tensile elongation at break in this range, an optical film excellent in blocking resistance can be obtained. An optical film having such a tensile elongation at break can be easily obtained by appropriately adjusting the dose in the line irradiation step. The tensile elongation at break can be determined by using a test piece type 1B test piece described in JISK7127 at a pulling speed of 20 mm / min.

本発明の光学フィルムの寸法は、製品の用途に応じて所望の寸法となるよう適宜設定しうる。本発明の光学フィルムは、耐ブロッキング性に優れるため、光学フィルム又はそれをその表面に備える偏光板をフィルムロールの形状で保存及び運搬する際の取り扱い性に優れる。したがって、本発明の光学フィルムは長尺状のフィルムであることが好ましい。本発明の光学フィルムの厚みは、好ましくは5μm以上、より好ましくは10μm以上であり、一方好ましくは50μm以下、より好ましくは40μm以下である。   The dimension of the optical film of the present invention can be appropriately set so as to have a desired dimension according to the use of the product. Since the optical film of the present invention is excellent in blocking resistance, it is excellent in handleability when storing and transporting an optical film or a polarizing plate provided on the optical film in the form of a film roll. Therefore, the optical film of the present invention is preferably a long film. The thickness of the optical film of the present invention is preferably 5 μm or more, more preferably 10 μm or more, while preferably 50 μm or less, more preferably 40 μm or less.

本発明の光学フィルムは、その溶剤不溶成分率が85%以上である。溶剤不溶成分率は、好ましくは86%以上、より好ましくは87%以上である。溶剤不溶成分率の上限は特に限定されないが、例えば100%以下としうる。この範囲の溶剤不溶成分率を有することにより、有機溶媒に対する耐性が高い光学フィルムとして有用に用いうる。このような溶剤不溶成分率を有する光学フィルムは、線照射工程における線量を適宜調整することにより容易に得うる。溶剤不溶成分率は、以下の方法により測定しうる。光学フィルムを裁断し40mm×40mmのサイズの試料とする。試料をトルエンを100mLに30日間浸漬した後、500メッシュの金網でろ過する。ろ取された残渣を100℃のオーブンに投入し10分間乾燥させ、乾燥物の重量を測定する。溶剤不溶成分率は、試料重量及び乾燥されたろ取物重量から、溶剤不溶成分率(%)=(ろ取物重量/試料重量)×100の式により求めうる。   The optical film of the present invention has a solvent-insoluble component ratio of 85% or more. The solvent-insoluble component ratio is preferably 86% or more, more preferably 87% or more. Although the upper limit of a solvent insoluble component rate is not specifically limited, For example, it can be 100% or less. By having a solvent insoluble component ratio in this range, it can be usefully used as an optical film having high resistance to organic solvents. An optical film having such a solvent-insoluble component ratio can be easily obtained by appropriately adjusting the dose in the line irradiation step. The solvent insoluble component ratio can be measured by the following method. The optical film is cut into a sample having a size of 40 mm × 40 mm. The sample is immersed in 100 mL of toluene for 30 days, and then filtered through a 500 mesh wire mesh. The residue collected by filtration is put into an oven at 100 ° C. and dried for 10 minutes, and the weight of the dried product is measured. The solvent-insoluble component ratio can be determined from the sample weight and the dried filter cake weight by the formula of solvent-insoluble component ratio (%) = (filter filter weight / sample weight) × 100.

本発明の光学フィルムは、その正面位相差Reが、好ましくは5nm以下、より好ましくは4nm以下である。正面位相差Reの値がこのように小さな値であることにより、表示装置において偏光子保護フィルムとして用いた場合、表示品質を損なわずに保護フィルムとしての機能を発揮しうる。このように小さい正面位相差Reを有する本発明の光学フィルムは、ブロック共重合体水素化物[D]を構成する繰り返し単位の割合を適宜調整し、フィルム中のブロック共重合体水素化物[D]の割合を高めることにより、容易に得ることができる。   The optical film of the present invention has a front phase difference Re of preferably 5 nm or less, more preferably 4 nm or less. When the value of the front phase difference Re is such a small value, when used as a polarizer protective film in a display device, the function as a protective film can be exhibited without impairing display quality. In the optical film of the present invention having such a small front phase difference Re, the proportion of the repeating units constituting the block copolymer hydride [D] is appropriately adjusted, and the block copolymer hydride [D] in the film is adjusted. By increasing the ratio, it can be easily obtained.

本願において、フィルムの正面位相差Reは、式Re=(nx−ny)×dに従って算出する。nxは、測定対象の面内の遅相軸方向の屈折率(面内の最大屈折率)であり、nyは、測定対象の面内の遅相軸に垂直な方向の屈折率であり、nzは、測定対象の厚み方向の屈折率であり、dは、測定対象の厚み(nm)である。測定波長は、別に断らない限り、590nmとする。   In the present application, the front phase difference Re of the film is calculated according to the formula Re = (nx−ny) × d. nx is the refractive index in the slow axis direction in the plane of the measurement target (maximum refractive index in the plane), ny is the refractive index in the direction perpendicular to the slow axis in the plane of the measurement target, and nz Is the refractive index in the thickness direction of the measurement object, and d is the thickness (nm) of the measurement object. The measurement wavelength is 590 nm unless otherwise specified.

〔2.偏光板〕
本発明の光学フィルムは、ブロック共重合体水素化物[D]を含むことによる高い機械的強度及び低位相差等の良好な光学的特性を有することに加え、耐溶媒性が高く且つブロッキングの発生が抑制されているため、液晶表示装置及び有機エレクトロルミネッセンス表示装置などの表示装置において、他の層を保護する保護フィルムとして好適に用いうる。特に、本発明の光学フィルムは、偏光板において偏光子を保護する保護フィルムとして特に良好に機能することができる。
[2. Polarizer〕
The optical film of the present invention has good mechanical properties such as high mechanical strength and low retardation due to the inclusion of the block copolymer hydride [D], and also has high solvent resistance and occurrence of blocking. Since it is suppressed, in a display device such as a liquid crystal display device and an organic electroluminescence display device, it can be suitably used as a protective film for protecting other layers. In particular, the optical film of the present invention can function particularly well as a protective film for protecting a polarizer in a polarizing plate.

本発明の偏光板は、前記本発明の光学フィルムと偏光子とを備える。本発明の偏光板において、光学フィルムは、偏光子保護フィルムとして機能しうる。本発明の偏光板はさらに、光学フィルムと偏光子との間に、これらを接着するための接着剤層を備えてもよい。   The polarizing plate of the present invention includes the optical film of the present invention and a polarizer. In the polarizing plate of the present invention, the optical film can function as a polarizer protective film. The polarizing plate of the present invention may further include an adhesive layer for bonding them between the optical film and the polarizer.

偏光子は、特に限定されず、任意の既知のものを用いうる。偏光子の例としては、ポリビニルアルコールフィルムに、ヨウ素、二色性染料等の材料を吸着させた後、延伸加工したものが挙げられる。接着剤層を構成する接着剤の例としては、各種の重合体をベースポリマーとしたものが挙げられる。かかるベースポリマーの例としては、例えば、アクリル重合体、シリコーン重合体、ポリエステル、ポリウレタン、ポリエーテル、及び合成ゴムが挙げられる。接着剤が紫外線硬化性の接着剤である場合、光学フィルムと偏光子とを接着剤を介して貼合させた後、必要に応じて紫外線を照射し、接着剤の層を硬化させうる。また、光学フィルムと偏光子との貼合に先立ち、必要に応じて、コロナ処理等の表面処理を行いうる。   The polarizer is not particularly limited, and any known one can be used. Examples of the polarizer include those obtained by adsorbing a material such as iodine or a dichroic dye on a polyvinyl alcohol film and then stretching the material. Examples of the adhesive constituting the adhesive layer include those having various polymers as base polymers. Examples of such base polymers include acrylic polymers, silicone polymers, polyesters, polyurethanes, polyethers, and synthetic rubbers. When the adhesive is an ultraviolet curable adhesive, the optical film and the polarizer can be bonded via the adhesive and then irradiated with ultraviolet rays as necessary to cure the adhesive layer. In addition, prior to the bonding of the optical film and the polarizer, surface treatment such as corona treatment can be performed as necessary.

本発明の偏光板が備える偏光子と保護フィルムの層の数は任意であるが、本発明の偏光板は、通常は、1層の偏光子と、その両面に設けられた2層の保護フィルムを備えうる。かかる2層の保護フィルムのうち、両方が本発明の光学フィルムであってもよく、どちらか一方のみが本発明の光学フィルムであってもよい。   Although the number of layers of the polarizer and the protective film provided in the polarizing plate of the present invention is arbitrary, the polarizing plate of the present invention is usually a single-layer polarizer and a two-layer protective film provided on both surfaces thereof. Can be provided. Of these two protective films, both may be the optical film of the present invention, and only one of them may be the optical film of the present invention.

本発明の偏光板は、本発明の光学フィルム及び偏光子に加えて、任意の層を備えうる。例えば、かかる層の材料及び有機溶媒を含む組成物を、光学フィルムの表面に塗布し、有機溶媒を揮発させることにより形成しうる各種の層を備えうる。本発明の光学フィルムは、有機溶媒に対する耐性が高いため、そのような任意の層を、光学的性能を損なうことなく容易に形成することができる。   The polarizing plate of the present invention can include an arbitrary layer in addition to the optical film and the polarizer of the present invention. For example, various layers that can be formed by applying a composition containing the material of such a layer and an organic solvent to the surface of the optical film and volatilizing the organic solvent can be provided. Since the optical film of the present invention has high resistance to an organic solvent, such an arbitrary layer can be easily formed without impairing optical performance.

任意の層の例としては、フィルムの滑り性を良くするマット層、耐衝撃性ポリメタクリレート樹脂層などのハードコート層、反射防止層、防汚層等が挙げられる。特に、本発明の光学フィルムは、ハードコート層を有することが好ましい。ハードコート層を有することにより、表示装置において、表示面側の偏光子よりも表示面側に位置し、装置の表示面最外層を構成する保護フィルムとして、本発明の光学フィルムを好適に用いうる。   Examples of the optional layer include a matte layer that improves the slipperiness of the film, a hard coat layer such as an impact-resistant polymethacrylate resin layer, an antireflection layer, and an antifouling layer. In particular, the optical film of the present invention preferably has a hard coat layer. By having a hard coat layer, in the display device, the optical film of the present invention can be suitably used as a protective film that is positioned on the display surface side of the display surface side polarizer and constitutes the display surface outermost layer of the device. .

表示装置において、装置の表示面最外層を構成する面の鉛筆硬度は2H以上であることが求められる場合が多い。本発明の偏光板は、光学フィルムの上にさらにハードコート層を形成することにより、その表面の鉛筆硬度を、容易に、2H以上といった高い値とすることができる。   In a display device, the pencil hardness of the surface constituting the display surface outermost layer of the device is often required to be 2H or more. In the polarizing plate of the present invention, by further forming a hard coat layer on the optical film, the pencil hardness of the surface can be easily set to a high value of 2H or more.

ハードコート層を構成する材料の例としては、有機系シリコーン系、メラミン系、エポキシ系、アクリル系、ウレタンアクリレート系などの有機ハードコート材料;および、二酸化ケイ素などの無機系ハードコート材料が挙げられる。なかでも、接着力が良好であり、生産性に優れる観点から、ウレタンアクリレート系および多官能アクリレート系ハードコート材料の使用が好ましい。ハードコート層の厚みは、好ましくは0.3μm以上、より好ましくは0.8μm以上、特に好ましくは1.0μm以上であり、好ましくは20μm以下、より好ましくは10μm以下、特に好ましくは3μm以下である。ハードコート層は、これらの材料と有機溶媒との組成物を、光学フィルムの表面に塗布し、有機溶媒を揮発させることにより形成しうる。かかる有機溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンシクロペンタノン、シクロヘキサノンなどのケトン類;酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル類;イソプロピルアルコール、エチルアルコールなどのアルコール類;ベンゼン、トルエン、キシレン、メトキシベンゼン、1,2−ジメトキベンゼンなどの芳香族炭化水素類;フェノール、パラクロロフェノールなどのフェノール類;クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、テトラクロロエタン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素類等があげられる。これら溶媒は1種を単独で、または2種以上を混合して用いることができる。   Examples of the material constituting the hard coat layer include organic hard coat materials such as organic silicone, melamine, epoxy, acrylic, and urethane acrylate; and inorganic hard coat materials such as silicon dioxide. . Of these, urethane acrylate-based and polyfunctional acrylate-based hard coat materials are preferably used from the viewpoint of good adhesive strength and excellent productivity. The thickness of the hard coat layer is preferably 0.3 μm or more, more preferably 0.8 μm or more, particularly preferably 1.0 μm or more, preferably 20 μm or less, more preferably 10 μm or less, and particularly preferably 3 μm or less. . The hard coat layer can be formed by applying a composition of these materials and an organic solvent to the surface of the optical film and volatilizing the organic solvent. Examples of such organic solvents include ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone cyclopentanone and cyclohexanone; esters such as ethyl acetate and butyl acetate; alcohols such as isopropyl alcohol and ethyl alcohol; benzene, toluene, xylene and methoxy. Aromatic hydrocarbons such as benzene and 1,2-dimethoxybenzene; phenols such as phenol and parachlorophenol; halogenated hydrocarbons such as chloroform, dichloromethane, dichloroethane, tetrachloroethane, trichloroethylene, tetrachloroethylene, and chlorobenzene can give. These solvents can be used alone or in combination of two or more.

〔3.表示装置〕
本発明の表示装置は前記本発明の光学フィルムを備える。本発明の表示装置は、液晶表示装置又は有機エレクトロルミネッセンス表示装置としうる。本発明の表示装置において、本発明の光学フィルムは、偏光板において偏光子を保護する保護フィルムとして設けうる。
[3. Display device)
The display device of the present invention includes the optical film of the present invention. The display device of the present invention can be a liquid crystal display device or an organic electroluminescence display device. In the display device of the present invention, the optical film of the present invention can be provided as a protective film for protecting the polarizer in the polarizing plate.

通常、液晶表示装置は、光源、光源側偏光板、液晶セル及び視認側偏光板を、この順に備える。本発明の表示装置が液晶表示装置である場合、本発明の光学フィルムは、例えば光源側偏光板及び視認側偏光板のいずれか又は両方の両面又は片面の保護フィルムとして用いうる。液晶表示装置の液晶セルの駆動方式としては、例えば、インプレーンスイッチング(IPS)モード、バーチカルアラインメント(VA)モード、マルチドメインバーチカルアラインメント(MVA)モード、コンティニュアスピンホイールアラインメント(CPA)モード、ハイブリッドアラインメントネマチック(HAN)モード、ツイステッドネマチック(TN)モード、スーパーツイステッドネマチック(STN)モード、オプチカルコンペンセイテッドベンド(OCB)モードなどが挙げられる。   Usually, the liquid crystal display device includes a light source, a light source side polarizing plate, a liquid crystal cell, and a viewing side polarizing plate in this order. When the display device of the present invention is a liquid crystal display device, the optical film of the present invention can be used, for example, as either a light source side polarizing plate or a viewing side polarizing plate, or both of both surfaces or a single side protective film. Examples of the driving method of the liquid crystal cell of the liquid crystal display device include an in-plane switching (IPS) mode, a vertical alignment (VA) mode, a multi-domain vertical alignment (MVA) mode, a continuous spin wheel alignment (CPA) mode, and a hybrid alignment. Nematic (HAN) mode, Twisted Nematic (TN) mode, Super Twisted Nematic (STN) mode, Optical Compensated Bend (OCB) mode, and the like can be given.

本発明の表示装置において、本発明の光学フィルムは、その他の用途に用いられる偏光板における保護フィルムとして設けうる。例えば、反射防止機能を発現するための構成要素、所謂サングラスリーダブル機能(観察者が偏光サングラスを着用している場合において、観察角度による表示の相違を低減する機能)を発現するための構成要素の一部である偏光板の保護フィルムとして、本発明の光学フィルムを設けうる。   In the display device of the present invention, the optical film of the present invention can be provided as a protective film in a polarizing plate used for other purposes. For example, a component for expressing an antireflection function, a so-called sunglasses readable function (a function for reducing a display difference depending on an observation angle when an observer wears polarized sunglasses) The optical film of the present invention can be provided as a protective film for a part of the polarizing plate.

本発明の表示装置は、光学フィルムと併せて、任意の層を有しうる。かかる任意の層としては、偏光板の構成要素として説明したハードコート層等の層が挙げられる。ハードコート層は、表示装置の表示面側の偏光子よりも表示面側に位置し、装置の表示面最外層を構成する層として設けうる。   The display device of the present invention may have an arbitrary layer in combination with the optical film. Examples of such an optional layer include layers such as the hard coat layer described as a constituent element of the polarizing plate. The hard coat layer is located closer to the display surface than the polarizer on the display surface side of the display device, and can be provided as a layer constituting the outermost layer of the display surface of the device.

以下、実施例を示して本発明について具体的に説明する。ただし、本発明は以下に示す実施例に限定されるものではなく、本発明の特許請求の範囲及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施しうる。
以下の説明において、量を表す「%」及び「部」は、別に断らない限り重量基準である。また、以下に説明する操作は、別に断らない限り、常温及び常圧の条件において行った。
Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples. However, the present invention is not limited to the following examples, and can be implemented with any modifications without departing from the scope of the claims of the present invention and the equivalents thereof.
In the following description, “%” and “part” representing amounts are based on weight unless otherwise specified. In addition, the operations described below were performed under normal temperature and normal pressure conditions unless otherwise specified.

〔評価方法〕
〔重量平均分子量及び数平均分子量の測定方法〕
重合体の重量平均分子量及び数平均分子量は、ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー(GPC)システム(東ソー社製「HLC−8320」)を用いて、ポリスチレン換算値として測定した。測定の際、カラムとしてはHタイプカラム(東ソー社製)を用い、溶媒としてはテトラヒドロフランを用いた。また、測定時の温度は、40℃であった。
〔Evaluation method〕
[Method for measuring weight average molecular weight and number average molecular weight]
The weight average molecular weight and number average molecular weight of the polymer were measured as polystyrene equivalent values using a gel permeation chromatography (GPC) system (“HLC-8320” manufactured by Tosoh Corporation). In the measurement, an H type column (manufactured by Tosoh Corporation) was used as the column, and tetrahydrofuran was used as the solvent. Moreover, the temperature at the time of measurement was 40 degreeC.

〔ガラス転移温度Tg測定方法〕
試料をプレス成形して、長さ50mm、幅10mm、厚さ1mmの試験片を作製し、JIS−K7244−4法に基づき、粘弾性測定装置(ティー・エイ・インスツルメント・ジャパン社製、ARES)を使用して、−100℃から+150℃の範囲で、昇温速度5℃/分で粘弾性スペクトルを測定した。損失正接tanδの低温側のピークトップ温度から、ソフトセグメントに由来するガラス転移温度Tg1、高温側のピークトップ温度から、ハードセグメントに由来するガラス転移温度Tg2を求めた。
[Method of measuring glass transition temperature Tg]
A sample was press-molded to produce a test piece having a length of 50 mm, a width of 10 mm, and a thickness of 1 mm. Based on the JIS-K7244-4 method, a viscoelasticity measuring device (manufactured by TA Instruments Japan, ARES) was used to measure the viscoelastic spectrum in the range of −100 ° C. to + 150 ° C. at a temperature rising rate of 5 ° C./min. From the peak top temperature on the low temperature side of the loss tangent tan δ, the glass transition temperature Tg1 derived from the soft segment and the glass transition temperature Tg2 derived from the hard segment were determined from the peak top temperature on the high temperature side.

〔ブロック共重合体水素化物[D]の水素化率の測定方法〕
重合体の水素化率は、オルトジクロロベンゼン−dを溶媒として、145℃で、H−NMR測定により測定した。
[Method for Measuring Hydrogenation Rate of Block Copolymer Hydride [D]]
The hydrogenation rate of the polymer was measured by 1 H-NMR measurement at 145 ° C. using orthodichlorobenzene-d 4 as a solvent.

〔破断伸度の測定〕
破断伸度は、JISK7127記載の試験片タイプ1Bの試験片を用いて、引っ張り速度20mm/分によって求めた。
(Measurement of elongation at break)
The breaking elongation was determined by using a test piece type 1B test piece described in JISK7127 at a pulling speed of 20 mm / min.

〔レターデーションの測定〕
正面位相差Reは、自動複屈折計(王子計測機器社製「KOBRA−21ADH」)を用いて、測定波長590nmで測定した。
[Measurement of retardation]
The front phase difference Re was measured at a measurement wavelength of 590 nm using an automatic birefringence meter (“KOBRA-21ADH” manufactured by Oji Scientific Instruments).

〔溶剤不溶成分率の測定方法〕
光学フィルムを裁断し40mm×40mmのサイズの試料とした。また、500メッシュの金網を用意し、その重量を電子天秤で測定した。試料を金網上に載せ、電子天秤でフィルム及び金網の合計重量を測定し、試料重量を求めた。その後、トルエンを100mL入れたガラス瓶に試料全体が浸かるように試料を浸漬した。30日間静置後、ガラス瓶の内容物を、上記金網で濾過し、ろ取物を金網と共に100℃のオーブンに投入し10分間乾燥させた。その後、金網及びろ取物の合計重量を電子天秤で測定し、ろ取物重量を求めた。溶剤不溶成分率は下記式で算出した。
溶剤不溶成分率(%)=(ろ取物重量/試料重量)×100
[Measurement method of solvent insoluble component ratio]
The optical film was cut into a sample having a size of 40 mm × 40 mm. In addition, a 500 mesh wire mesh was prepared, and the weight was measured with an electronic balance. The sample was placed on a wire mesh, the total weight of the film and the wire mesh was measured with an electronic balance, and the sample weight was determined. Thereafter, the sample was immersed so that the entire sample was immersed in a glass bottle containing 100 mL of toluene. After standing for 30 days, the contents of the glass bottle were filtered through the above-mentioned wire mesh, and the filtered material was put into an oven at 100 ° C. together with the wire mesh and dried for 10 minutes. Thereafter, the total weight of the wire mesh and the filtered material was measured with an electronic balance to determine the weight of the filtered material. The solvent insoluble component ratio was calculated by the following formula.
Solvent insoluble component ratio (%) = (weight of filtered material / sample weight) × 100

〔実施例1〕
(1−1.ブロック共重合体[C])
十分に乾燥し窒素置換した、攪拌装置を備えたステンレス鋼製反応器に、脱水シクロヘキサン256部、脱水スチレン25.0部、及びn−ジブチルエーテル0.65部を仕込み、60℃で攪拌しながらn−ブチルリチウム(15%シクロヘキサン溶液)1.35部を添加して重合反応を開始した。さらに、攪拌しながら60℃で60分反応させた。この時点での重合転化率は99.5%であった(ガスクロマトグラフィーにより測定、以下にて同じ。)。次に、脱水イソプレン50.0部を加え、同温度で30分攪拌を続けた。この時点での重合転化率は99%であった。その後、更に、脱水スチレンを25.0部加え、同温度で60分攪拌した。この時点での重合転化率はほぼ100%であった。次いで、反応液にイソプロピルアルコール0.5部を加えて反応を停止させ、ブロック共重合体[C]を含む重合反応溶液を得た。得られたブロック共重合体[C]の重量平均分子量(Mw)は44,900、分子量分布(Mw/Mn)は1.03であった。
[Example 1]
(1-1. Block copolymer [C])
A stainless steel reactor equipped with a stirrer and thoroughly dried and purged with nitrogen was charged with 256 parts of dehydrated cyclohexane, 25.0 parts of dehydrated styrene, and 0.65 part of n-dibutyl ether, and stirred at 60 ° C. 1.35 parts of n-butyllithium (15% cyclohexane solution) was added to initiate the polymerization reaction. Furthermore, it was made to react at 60 degreeC for 60 minutes, stirring. The polymerization conversion rate at this point was 99.5% (measured by gas chromatography, the same applies hereinafter). Next, 50.0 parts of dehydrated isoprene was added, and stirring was continued at the same temperature for 30 minutes. At this time, the polymerization conversion rate was 99%. Thereafter, 25.0 parts of dehydrated styrene was further added and stirred at the same temperature for 60 minutes. The polymerization conversion rate at this point was almost 100%. Next, 0.5 part of isopropyl alcohol was added to the reaction solution to stop the reaction, and a polymerization reaction solution containing a block copolymer [C] was obtained. The resulting block copolymer [C] had a weight average molecular weight (Mw) of 44,900 and a molecular weight distribution (Mw / Mn) of 1.03.

(1−2.ブロック共重合体水素化物[D])
(1−1)で得た重合反応溶液を、攪拌装置を備えた耐圧反応器に移送し、水素化触媒としてシリカ−アルミナ担持型ニッケル触媒(E22U、ニッケル担持量60%;日揮化学工業社製)4.0部及び脱水シクロヘキサン350部を添加して混合した。反応器内部を水素ガスで置換し、さらに溶液を攪拌しながら水素を供給し、温度170℃、圧力4.5MPaにて6時間水素化反応を行った。
(1-2. Block copolymer hydride [D])
The polymerization reaction solution obtained in (1-1) was transferred to a pressure-resistant reactor equipped with a stirrer, and a silica-alumina supported nickel catalyst (E22U, nickel supported amount 60%; manufactured by JGC Chemical Industries, Ltd.) as a hydrogenation catalyst. ) 4.0 parts and 350 parts dehydrated cyclohexane were added and mixed. The inside of the reactor was replaced with hydrogen gas, and hydrogen was supplied while stirring the solution. A hydrogenation reaction was performed at a temperature of 170 ° C. and a pressure of 4.5 MPa for 6 hours.

水素化反応終了後、反応溶液をろ過して水素化触媒を除去した。ろ液に、フェノール系酸化防止剤であるペンタエリスリチル・テトラキス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート](コーヨ化学研究所社製、製品名「Songnox1010」)0.1部を溶解したキシレン溶液1.0部を添加して溶解させた。次いで、上記溶液を、円筒型濃縮乾燥器(日立製作所社製、製品名「コントロ」)を用いて、温度260℃、圧力0.001MPa以下で、溶液から溶媒であるシクロヘキサン、キシレン及びその他の揮発成分を除去した。連続して溶融ポリマーを、濃縮乾燥器に連結した孔径20μmのステンレス製焼結フィルターを備えたポリマーフィルター(富士フィルター社製)により、温度260℃でろ過した後、ダイから溶融ポリマーをストランド状に押出し、冷却後、ペレタイザーによりブロック共重合体水素化物[D]を得た。   After completion of the hydrogenation reaction, the reaction solution was filtered to remove the hydrogenation catalyst. Pentaerythrityl tetrakis [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate] (product of Koyo Chemical Laboratory Co., Ltd., product name “Songnox 1010”, which is a phenolic antioxidant, was added to the filtrate. ) 1.0 part of xylene solution in which 0.1 part was dissolved was added and dissolved. Next, the above solution was subjected to cyclohexane, xylene and other volatilizations from the solution at a temperature of 260 ° C. and a pressure of 0.001 MPa or less using a cylindrical concentrating dryer (product name “Kontoro” manufactured by Hitachi, Ltd.). Ingredients were removed. The molten polymer is continuously filtered at a temperature of 260 ° C. with a polymer filter (manufactured by Fuji Filter Co., Ltd.) equipped with a stainless sintered filter having a pore diameter of 20 μm connected to a concentrating dryer, and then the molten polymer is stranded from the die. After extrusion and cooling, a block copolymer hydride [D] was obtained by a pelletizer.

得られたブロック共重合体水素化物[D]は、スチレン由来の繰り返し単位を含有するブロック(以下、適宜「St」という。)、及びイソプレン由来の繰り返し単位を含有するブロック(以下、適宜「Ip」という。)からなる3元ブロック共重合体であり、それぞれのブロックの重量比は、St:Ip:St=25:50:25であった。該ブロック共重合体水素化物[D]のMwは45,100、Mw/Mnは1.04、主鎖及び芳香環の水素化率はほぼ100%、ガラス転移温度Tg1は−50℃、Tg2は140℃であった。   The obtained block copolymer hydride [D] includes a block containing repeating units derived from styrene (hereinafter referred to as “St” as appropriate) and a block containing repeating units derived from isoprene (hereinafter referred to as “Ip” as appropriate). The weight ratio of each block was St: Ip: St = 25: 50: 25. The block copolymer hydride [D] has an Mw of 45,100, an Mw / Mn of 1.04, a hydrogenation rate of the main chain and the aromatic ring of almost 100%, a glass transition temperature Tg1 of −50 ° C., and a Tg2 of 140 ° C.

(1−3.樹脂の調製)
(1−2)で得られたブロック共重合体水素化物[D]100部と、架橋助剤(トリアリルイソシアヌレート、製品名タイク、日本化成株式会社製)5部とを混合して、フィルムの材料となる樹脂を得た。
(1-3. Preparation of resin)
A film obtained by mixing 100 parts of the block copolymer hydride [D] obtained in (1-2) with 5 parts of a crosslinking aid (triallyl isocyanurate, product name Thaik, manufactured by Nippon Kasei Co., Ltd.) As a result, a resin was obtained.

(1−4.処理前フィルムの製造)
(1−3)で得た樹脂を、内径3mmのダイ穴を4つ備えた二軸押出機に投入した。前記の二軸押出機によって、樹脂を熱溶融押出成形によりストランド状の成形体に成形した。この成形体をストランドカッターにて細断して、樹脂のペレットを得た。前記の二軸押出機の運転条件を、以下に示す。
・バレル設定温度:270℃〜280℃
・ダイ設定温度:250℃
・スクリュー回転数:145rpm
・フィーダー回転数:50rpm
(1-4. Production of film before treatment)
The resin obtained in (1-3) was charged into a twin screw extruder having four die holes with an inner diameter of 3 mm. The resin was molded into a strand-shaped molded body by hot melt extrusion molding using the above-described twin-screw extruder. The molded body was chopped with a strand cutter to obtain resin pellets. The operating conditions of the above twin screw extruder are shown below.
-Barrel set temperature: 270 ° C to 280 ° C
・ Die setting temperature: 250 ℃
・ Screw speed: 145rpm
・ Feeder rotation speed: 50 rpm

引き続き、得られたペレットを、Tダイを備える熱溶融押出しフィルム成形機に供給した。Tダイから樹脂を押出し、1m/分の速度でロールに巻き取ることにより、前記の樹脂からなる長尺の処理前フィルム(厚み100μm)を製造した。前記のフィルム成形機の運転条件を、以下に示す。
・バレル温度設定:280℃〜290℃
・ダイ温度:270℃
・スクリュー回転数:60rpm
Subsequently, the obtained pellets were supplied to a hot melt extrusion film forming machine equipped with a T die. Resin was extruded from a T-die and wound on a roll at a speed of 1 m / min to produce a long pre-treatment film (thickness 100 μm) made of the resin. The operating conditions of the film forming machine are shown below.
・ Barrel temperature setting: 280 ℃ ~ 290 ℃
-Die temperature: 270 ° C
-Screw rotation speed: 60rpm

(1−5.光学フィルムの製造及び評価)
電子線照射装置(アイ・エレクトロンビーム社製)を用いて、(1−4)で得た処理前フィルムに電子線照射雰囲気酸素濃度300ppm以下、加速電圧200kVの条件で吸収線量800kGyになるように電子線を照射し、光学フィルムを得た。得られた光学フィルムについて、正面位相差Re、引張破断伸度及び溶剤不溶成分率を測定した。
(1-5. Production and evaluation of optical film)
Using an electron beam irradiation apparatus (manufactured by I. Electron Beam Co., Ltd.) so that the pre-treatment film obtained in (1-4) has an absorbed dose of 800 kGy under conditions of electron beam irradiation atmosphere oxygen concentration of 300 ppm or less and acceleration voltage of 200 kV An optical film was obtained by irradiation with an electron beam. About the obtained optical film, front phase difference Re, tensile elongation at break, and solvent insoluble component ratio were measured.

〔実施例2〕
(2−1.ブロック共重合体[C])
十分に乾燥し窒素置換した、攪拌装置を備えたステンレス鋼製反応器に、脱水シクロヘキサン256部、脱水スチレン20.0部、及びn−ジブチルエーテル0.65部を仕込み、60℃で攪拌しながらn−ブチルリチウム(15%シクロヘキサン溶液)1.35部を添加して重合反応を開始した。さらに、攪拌しながら60℃で60分反応させた。次に、脱水イソプレン20.0部を加え、同温度で30分攪拌を続けた。その後、更に、脱水スチレンを20.0部加え、同温度で60分攪拌した。更に、脱水イソプレン20.0部を加え、同温度で30分攪拌を続けた。その後、更に、脱水スチレンを20.0部加え、同温度で60分攪拌した。この時点での重合転化率はほぼ100%であった。次いで、反応液にイソプロピルアルコール0.5部を加えて反応を停止させ、ブロック共重合体[C]を含む重合反応溶液を得た。
得られたブロック共重合体[C]の重量平均分子量(Mw)と分子量分布(Mw/Mn)を測定したところ、Mw=91,000、Mw/Mn=1.03であった。
[Example 2]
(2-1. Block copolymer [C])
A stainless steel reactor equipped with a stirrer that was thoroughly dried and purged with nitrogen was charged with 256 parts of dehydrated cyclohexane, 20.0 parts of dehydrated styrene, and 0.65 part of n-dibutyl ether and stirred at 60 ° C. 1.35 parts of n-butyllithium (15% cyclohexane solution) was added to initiate the polymerization reaction. Furthermore, it was made to react at 60 degreeC for 60 minutes, stirring. Next, 20.0 parts of dehydrated isoprene was added and stirring was continued for 30 minutes at the same temperature. Thereafter, 20.0 parts of dehydrated styrene was further added and stirred at the same temperature for 60 minutes. Furthermore, 20.0 parts of dehydrated isoprene was added and stirring was continued for 30 minutes at the same temperature. Thereafter, 20.0 parts of dehydrated styrene was further added and stirred at the same temperature for 60 minutes. The polymerization conversion rate at this point was almost 100%. Next, 0.5 part of isopropyl alcohol was added to the reaction solution to stop the reaction, and a polymerization reaction solution containing a block copolymer [C] was obtained.
When the weight average molecular weight (Mw) and molecular weight distribution (Mw / Mn) of the obtained block copolymer [C] were measured, they were Mw = 91,000 and Mw / Mn = 1.03.

(2−2.ブロック共重合体水素化物[D])
ブロック共重合体[C]を含む重合反応溶液として、(1−1)で得たものに代えて(2−1)で得たものを用いた他は、実施例1の(1−2)と同様にして、ブロック共重合体水素化物[D]を得た。
(2-2. Block copolymer hydride [D])
(1-2) of Example 1 except that the polymerization reaction solution containing the block copolymer [C] was replaced by the polymerization reaction solution obtained in (2-1) instead of the one obtained in (1-1). In the same manner as above, a block copolymer hydride [D] was obtained.

得られたブロック共重合体水素化物[D]は、StとIpとからなる5元ブロック共重合体であり、それぞれのブロックの重量比は、St:Ip:St:Ip:St=20:20:20:20:20であった。該ブロック共重合体水素化物[D]のMwは92,000、Mw/Mnは1.05、水素化率はほぼ100%、ガラス転移温度Tg1は−45°、Tg2は137℃であった。   The obtained block copolymer hydride [D] is a ternary block copolymer composed of St and Ip, and the weight ratio of each block is St: Ip: St: Ip: St = 20: 20. : 20: 20: 20. The block copolymer hydride [D] had an Mw of 92,000, an Mw / Mn of 1.05, a hydrogenation rate of almost 100%, a glass transition temperature Tg1 of -45 °, and a Tg2 of 137 ° C.

(2−3.光学フィルムの製造)
(1−3)で得た樹脂に代えて、(2−2)で得たブロック共重合体水素化物[D]を用いた他は、実施例1の(1−4)〜(1−5)と同様にして、光学フィルムを製造し評価した。
(2-3. Production of optical film)
(1-4) to (1-5) in Example 1 except that instead of the resin obtained in (1-3), the block copolymer hydride [D] obtained in (2-2) was used. The optical film was produced and evaluated in the same manner as in (1).

〔実施例3〕
(3−1.ブロック共重合体[C])
十分に乾燥し窒素置換した、攪拌装置を備えたステンレス鋼製反応器に、脱水シクロヘキサン256部、脱水スチレン25.0部、及びn−ジブチルエーテル0.65部を仕込み、60℃で攪拌しながらn−ブチルリチウム(15%シクロヘキサン溶液)0.82部を添加して重合反応を開始した。さらに、攪拌しながら60℃で60分反応させた。この時点での重合転化率は99.5%であった。
次に、反応溶液中に、スチレンモノマー25部とイソプレンモノマー25部からなる混合モノマー50部を150分間に亘って連続的に添加し、添加終了後そのまま20分間攪拌を続けた。この時点での重合転化率は99.5%であった。その後、更に、脱水スチレンを25.0部加え、同温度で60分攪拌した。この時点での重合転化率はほぼ100%であった。次いで、反応液にイソプロピルアルコール0.5部を加えて反応を停止させ、ブロック共重合体[C]を含む重合反応溶液を得た。得られたブロック共重合体[C]の重量平均分子量(Mw)は58,000、分子量分布(Mw/Mn)は1.03であった。
Example 3
(3-1. Block copolymer [C])
A stainless steel reactor equipped with a stirrer and thoroughly dried and purged with nitrogen was charged with 256 parts of dehydrated cyclohexane, 25.0 parts of dehydrated styrene, and 0.65 part of n-dibutyl ether, and stirred at 60 ° C. The polymerization reaction was initiated by adding 0.82 parts of n-butyllithium (15% cyclohexane solution). Furthermore, it was made to react at 60 degreeC for 60 minutes, stirring. The polymerization conversion rate at this time was 99.5%.
Next, 50 parts of a mixed monomer composed of 25 parts of styrene monomer and 25 parts of isoprene monomer was continuously added to the reaction solution over 150 minutes, and stirring was continued for 20 minutes after completion of the addition. The polymerization conversion rate at this time was 99.5%. Thereafter, 25.0 parts of dehydrated styrene was further added and stirred at the same temperature for 60 minutes. The polymerization conversion rate at this point was almost 100%. Next, 0.5 part of isopropyl alcohol was added to the reaction solution to stop the reaction, and a polymerization reaction solution containing a block copolymer [C] was obtained. The obtained block copolymer [C] had a weight average molecular weight (Mw) of 58,000 and a molecular weight distribution (Mw / Mn) of 1.03.

(3−2.ブロック共重合体水素化物[D])
ブロック共重合体[C]を含む重合反応溶液として、(1−1)で得たものに代えて(3−1)で得たものを用いた他は、実施例1の(1−2)と同様にして、ブロック共重合体水素化物[D]を得た。
(3-2. Block copolymer hydride [D])
(1-2) of Example 1 except that the polymerization reaction solution containing the block copolymer [C] was replaced by the one obtained in (3-1) instead of the one obtained in (1-1). In the same manner as above, a block copolymer hydride [D] was obtained.

得られたブロック共重合体は、Stと、スチレン由来の繰り返し単位とイソプレン由来の繰り返し単位とが共存するブロック(以下、適宜「St/Ip」という。)と、Ipとからなる3元ブロック共重合体であり、それぞれのブロックの重量比は、St:St/Ip:St=25:25/25:25であった。該ブロック共重合体のMwは59,000、Mw/Mnは1.05、水素化率はほぼ100%、ガラス転移温度Tg1は15℃、Tg2は129℃であった。   The obtained block copolymer is a ternary block copolymer comprising St, a block in which a repeating unit derived from styrene and a repeating unit derived from isoprene coexist (hereinafter referred to as “St / Ip” as appropriate) and Ip. It was a polymer, and the weight ratio of each block was St: St / Ip: St = 25: 25/25: 25. The block copolymer had Mw of 59,000, Mw / Mn of 1.05, a hydrogenation rate of almost 100%, a glass transition temperature Tg1 of 15 ° C., and Tg2 of 129 ° C.

(3−3.光学フィルムの製造)
下記の事項以外は、実施例1の(1−4)〜(1−5)と同様にして、光学フィルムを製造し評価した。
・(1−3)で得た樹脂に代えて、(3−2)で得たブロック共重合体水素化物[D]を用いた。
・(1−5)において、加速電圧は250kV、線量は400kGyに変更した。
(3-3. Production of optical film)
An optical film was produced and evaluated in the same manner as (1-4) to (1-5) in Example 1 except for the following items.
-It replaced with resin obtained by (1-3), and used the block copolymer hydride [D] obtained by (3-2).
In (1-5), the acceleration voltage was changed to 250 kV and the dose was changed to 400 kGy.

〔比較例1〕
電子線照射を行わなかった他は、実施例2と同様にして、光学フィルムを製造し評価した。
[Comparative Example 1]
An optical film was produced and evaluated in the same manner as in Example 2 except that the electron beam irradiation was not performed.

〔比較例2〕
電子線の照射に代えて、γ線の照射を行い、照射線量は100kGyとし、大気下で照射した他は、実施例1と同様にして、光学フィルムを製造し評価した。
[Comparative Example 2]
An optical film was produced and evaluated in the same manner as in Example 1 except that γ-ray irradiation was performed instead of electron beam irradiation, the irradiation dose was 100 kGy, and irradiation was performed in the atmosphere.

〔比較例3〕
(1−5)において、加速電圧を250kV、線量を1200kGyに変更した他は、実施例3と同様にして、光学フィルムを製造し評価した。
[Comparative Example 3]
In (1-5), an optical film was produced and evaluated in the same manner as in Example 3 except that the acceleration voltage was changed to 250 kV and the dose was changed to 1200 kGy.

〔比較例4〕
(C4−1.第1段階の重合反応:ブロックA1の伸長)
十分に乾燥し窒素置換した、攪拌装置を備えたステンレス鋼製反応器に、脱水シクロヘキサン320部、スチレン55部、及びジブチルエーテル0.38部を仕込み、60℃で攪拌しながらn−ブチルリチウム溶液(15重量%含有ヘキサン溶液)0.56部を添加して重合反応を開始させ、第1段階の重合反応を行った。反応開始後1時間の時点で、重合転化率は99.5%であった。
[Comparative Example 4]
(C4-1. First-stage polymerization reaction: extension of block A1)
A stainless steel reactor equipped with a stirrer and thoroughly dried and purged with nitrogen was charged with 320 parts of dehydrated cyclohexane, 55 parts of styrene, and 0.38 part of dibutyl ether, and stirred at 60 ° C. to obtain an n-butyllithium solution. (A 15 wt% hexane solution) 0.56 part was added to initiate the polymerization reaction, and the first stage polymerization reaction was performed. At 1 hour after the start of the reaction, the polymerization conversion was 99.5%.

(C4−2.第2段階の反応:ブロックBの伸長)
(C4−1)で得られた反応混合物に、スチレン20部及びイソプレン20部からなる混合モノマー40部を添加し、引き続き第2段階の重合反応を開始した。第2段階の重合反応開始後1時間の時点で、重合転化率は99.5%であった。
(C4-2. Second stage reaction: extension of block B)
To the reaction mixture obtained in (C4-1), 40 parts of a mixed monomer composed of 20 parts of styrene and 20 parts of isoprene was added, and then the second stage polymerization reaction was started. At 1 hour after the start of the second stage polymerization reaction, the polymerization conversion was 99.5%.

(C4−3.第3段階の反応:ブロックA2の伸長)
(C4−2)で得られた反応混合物に、スチレン5部を添加し、引き続き第3段階の重合反応を開始した。第3段階の重合反応開始後1時間の時点で、反応混合物から、試料をサンプリングし分析した結果、重合転化率はほぼ100%であった。その後直ちに、反応混合物にイソプロピルアルコール0.2部を添加して反応を停止させた。これにより、A1−B−A2のトリブロック分子構造を有するブロック共重合体[C]を含む混合物を得た。
(C4-3. Third stage reaction: extension of block A2)
5 parts of styrene was added to the reaction mixture obtained in (C4-2), and then the third stage polymerization reaction was started. As a result of sampling and analyzing a sample from the reaction mixture at 1 hour after the start of the third stage polymerization reaction, the polymerization conversion was almost 100%. Immediately thereafter, 0.2 part of isopropyl alcohol was added to the reaction mixture to stop the reaction. This obtained the mixture containing the block copolymer [C] which has a triblock molecular structure of A1-B-A2.

(C4−1)及び(C4−2)では重合反応を十分に進行させたことから、重合転化率は略100%であり、したがってブロックBにおけるSt/Ipの重量比は20/20であると考えられる。
これらの値から、得られたブロック共重合体[C]は、St−(St/Ip)−St=55−(20/20)−5のトリブロック分子構造を有する重合体であることが分かった。
In (C4-1) and (C4-2), since the polymerization reaction was sufficiently advanced, the polymerization conversion rate was about 100%. Therefore, the weight ratio of St / Ip in block B was 20/20. Conceivable.
From these values, the obtained block copolymer [C] was found to be a polymer having a triblock molecular structure of St- (St / Ip) -St = 55- (20/20) -5. It was.

(C4−4.ブロック共重合体水素化物[D])
次に、上記のブロック共重合体[C]を含む混合物を攪拌装置を備えた耐圧反応器に移送し、水素化触媒として珪藻土担持型ニッケル触媒(製品名「E22U」、ニッケル担持量60%、日揮触媒化成社製)8.0部及び脱水シクロヘキサン100部を添加して混合した。反応器内部を水素ガスで置換し、さらに溶液を攪拌しながら水素を供給し、温度190℃、圧力4.5MPaにて6時間水素化反応を行った。水素化反応により得られた反応溶液に含まれるブロック共重合体水素化物の重量平均分子量(Mw)は76,000、分子量分布(Mw/Mn)は1.05であった。
(C4-4. Block copolymer hydride [D])
Next, the mixture containing the block copolymer [C] is transferred to a pressure-resistant reactor equipped with a stirrer, and a diatomaceous earth-supported nickel catalyst (product name “E22U”, nickel-supported amount 60%, (JGC Catalysts & Chemicals Co., Ltd.) 8.0 parts and dehydrated cyclohexane 100 parts were added and mixed. The inside of the reactor was replaced with hydrogen gas, and hydrogen was supplied while stirring the solution. A hydrogenation reaction was performed at a temperature of 190 ° C. and a pressure of 4.5 MPa for 6 hours. The weight average molecular weight (Mw) of the block copolymer hydride contained in the reaction solution obtained by the hydrogenation reaction was 76,000, and the molecular weight distribution (Mw / Mn) was 1.05.

水素化反応終了後、反応溶液をろ過して水素化触媒を除去した後、フェノール系酸化防止剤であるペンタエリスリチル・テトラキス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート](製品名「Songnox1010」、松原産業社製)0.1部を溶解したキシレン溶液2.0部を添加して溶解させた。
次いで、上記溶液を、円筒型濃縮乾燥器(製品名「コントロ」、日立製作所社製)を用いて、温度260℃、圧力0.001MPa以下で、溶液から、溶媒であるシクロヘキサン、キシレン及びその他の揮発成分を除去した。溶融ポリマーをダイからストランド状に押出し、冷却後、ペレタイザーによりブロック共重合体水素化物[D]のペレット95部を作製した。
得られたペレット状のブロック共重合体水素化物[D]の重量平均分子量(Mw)は77,000、分子量分布(Mw/Mn)は1.06、水素化率はほぼ100%であった。
After completion of the hydrogenation reaction, the reaction solution was filtered to remove the hydrogenation catalyst, and then the phenol-based antioxidant pentaerythrityl tetrakis [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl). ) Propionate] (product name “Songnox 1010”, manufactured by Matsubara Sangyo Co., Ltd.) 2.0 parts of xylene solution in which 0.1 part was dissolved was added and dissolved.
Next, the above solution is mixed with a solvent such as cyclohexane, xylene and other solvents at a temperature of 260 ° C. and a pressure of 0.001 MPa or less using a cylindrical concentrating dryer (product name “Contro”, manufactured by Hitachi, Ltd.). Volatile components were removed. The molten polymer was extruded into a strand form from a die, and after cooling, 95 parts of pellets of the block copolymer hydride [D] were produced by a pelletizer.
The pelletized block copolymer hydride [D] had a weight average molecular weight (Mw) of 77,000, a molecular weight distribution (Mw / Mn) of 1.06, and a hydrogenation rate of almost 100%.

(C4−5.光学フィルムの製造)
下記の事項以外は、実施例1の(1−4)〜(1−5)と同様にして、光学フィルムを製造し評価した。
・(1−3)で得た樹脂に代えて、(C4−4)で得たブロック共重合体水素化物[D]を用いた。
・(1−5)において、加速電圧は250kV、線量は400kGyに変更した。
(C4-5. Production of optical film)
An optical film was produced and evaluated in the same manner as (1-4) to (1-5) in Example 1 except for the following items.
-Instead of the resin obtained in (1-3), the block copolymer hydride [D] obtained in (C4-4) was used.
In (1-5), the acceleration voltage was changed to 250 kV and the dose was changed to 400 kGy.

実施例及び比較例の結果を表1にまとめて示す。   The results of Examples and Comparative Examples are summarized in Table 1.

Figure 2017142331
Figure 2017142331

表1の結果から、本願実施例では、処理前フィルムに対する線照射によって、低い正面位相差Re、高い引張破断伸度、及び高い溶剤不溶成分率を有し、偏光板における保護フィルム等の用途に有用に用いうる光学フィルムが得られたことが分かる。   From the results of Table 1, in the present application example, the film has a low front phase difference Re, a high tensile elongation at break, and a high solvent-insoluble component ratio by irradiation of the pre-treatment film. It turns out that the optical film which can be used usefully was obtained.

Claims (9)

ブロック共重合体水素化物[D]を含む処理前フィルムの架橋物からなる光学フィルムであって、
前記ブロック共重合体水素化物[D]は、
環式炭化水素基含有化合物由来の繰り返し単位[I]を主成分とする、2つ以上の重合体ブロック[A]と、
鎖状炭化水素化合物由来の繰り返し単位[II]、又は前記繰り返し単位[I]及び前記繰り返し単位[II]の組み合わせを主成分とする1つ以上の重合体ブロック[B]と
からなるブロック共重合体[C]を水素化してなり:
(i)wAとwBとの比(wA/wB)が50/50〜75/25であり、ここでwAは前記重合体ブロック[A]が前記ブロック共重合体[C]に占める重量分率であり、wBは前記重合体ブロック[B]が前記ブロック共重合体[C]に占める重量分率であり、
(ii)w[IB]とw[IIB]との比(w[IB]/w[IIB])が50/50〜0/100であり、ここでw[IB]は前記重合体ブロック[B]に占める前記繰り返し単位[I]の重量分率であり、w[IIB]は前記重合体ブロック[B]に占める前記繰り返し単位[II]の重量分率であり、
(iii)前記ブロック共重合体水素化物[D]は、前記ブロック共重合体[C]の全不飽和結合の90%以上が水素化されたものであり、
前記光学フィルムは:
(iv)引張破断伸度が100%以上であり、
(v)溶剤不溶成分率が85%以上である
光学フィルム。
An optical film comprising a cross-linked product of a pre-treatment film containing a block copolymer hydride [D],
The block copolymer hydride [D] is:
Two or more polymer blocks [A] based on a repeating unit [I] derived from a cyclic hydrocarbon group-containing compound;
A block copolymer consisting of a repeating unit [II] derived from a chain hydrocarbon compound, or one or more polymer blocks [B] having as a main component a combination of the repeating unit [I] and the repeating unit [II] Hydrogenate the union [C]:
(I) The ratio of wA to wB (wA / wB) is 50/50 to 75/25, where wA is the weight fraction of the polymer block [A] in the block copolymer [C]. WB is a weight fraction of the polymer block [B] in the block copolymer [C],
(Ii) The ratio of w [IB] to w [IIB] (w [IB] / w [IIB]) is 50/50 to 0/100, where w [IB] is the polymer block [B ] And the weight fraction of the repeating unit [I] in the polymer block [B], and w [IIB] is the weight fraction of the repeating unit [II] in the polymer block [B].
(Iii) The block copolymer hydride [D] is obtained by hydrogenating 90% or more of the total unsaturated bonds of the block copolymer [C],
The optical film is:
(Iv) The tensile elongation at break is 100% or more,
(V) An optical film having a solvent-insoluble component ratio of 85% or more.
前記環式炭化水素基含有化合物が芳香族ビニル化合物であり、前記鎖状炭化水素化合物が鎖状共役ジエン系化合物である、請求項1に記載の光学フィルム。   The optical film according to claim 1, wherein the cyclic hydrocarbon group-containing compound is an aromatic vinyl compound, and the chain hydrocarbon compound is a chain conjugated diene compound. 正面位相差Reが、5nm以下である、請求項1又は2に記載の光学フィルム。   The optical film according to claim 1 or 2, wherein the front phase difference Re is 5 nm or less. 前記ブロック共重合体水素化物[D]を含む処理前フィルムに、電子線またはγ線を照射してなる、請求項1〜3のいずれか1項に記載の光学フィルム。   The optical film of any one of Claims 1-3 formed by irradiating an electron beam or a gamma ray to the film before a process containing the said block copolymer hydride [D]. 請求項1〜4のいずれか1項に記載の光学フィルムの製造方法であって、
ブロック共重合体水素化物[D]を含む処理前フィルムに、電子線またはγ線を照射する線照射工程を含む、製造方法。
It is a manufacturing method of the optical film given in any 1 paragraph of Claims 1-4,
The manufacturing method including the line irradiation process of irradiating an electron beam or a gamma ray to the film before a process containing block copolymer hydride [D].
前記線照射工程を行う雰囲気中の酸素濃度が300ppmより小さい、請求項5に記載の製造方法。   The manufacturing method according to claim 5, wherein an oxygen concentration in an atmosphere in which the line irradiation step is performed is smaller than 300 ppm. 前記線照射工程における線量が200kGy以上800kGy以下である請求項5又は6に記載の製造方法。   The manufacturing method according to claim 5 or 6, wherein a dose in the line irradiation step is 200 kGy or more and 800 kGy or less. 請求項1〜4のいずれか1項に記載の光学フィルムと偏光子とを備える偏光板。   A polarizing plate provided with the optical film of any one of Claims 1-4, and a polarizer. 請求項1〜4のいずれか1項に記載の光学フィルムを備える表示装置。   A display apparatus provided with the optical film of any one of Claims 1-4.
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