JP2017140799A - Transparent laminated film, transparent conductive film, and touch panel having the same and method for producing transparent laminated film - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、透明基材上にインデックスマッチング層を有する透明積層フィルム、透明積層フィルム、これを備えた透明導電性フィルム及びタッチパネル、並びに、透明積層フィルムの製造方法に関する。 The present invention relates to a transparent laminated film having an index matching layer on a transparent substrate, a transparent laminated film, a transparent conductive film and a touch panel provided with the transparent laminated film, and a method for producing the transparent laminated film.
電子機器の表示装置として、液晶表示パネルの偏光板の表面に、透明導電性フィルムを貼り合わせて構成したタッチパネルが広く利用されている。透明導電性フィルムは、透明基材を主体として構成した透明積層フィルムに、ITO等の透明導電材料からなる透明電極をマトリクス状に設けたものである。透明電極がある領域とない領域との屈折率差を調整し、透明電極のパターンを見えにくくするために、透明導電性フィルムにはインデックスマッチング層(以下、「IM層」という)と呼ばれる光学調整層が設けられることがある。 As a display device of an electronic device, a touch panel configured by bonding a transparent conductive film to the surface of a polarizing plate of a liquid crystal display panel is widely used. The transparent conductive film is a transparent laminated film composed mainly of a transparent substrate, and transparent electrodes made of a transparent conductive material such as ITO are provided in a matrix. Optical adjustment called index matching layer (hereinafter referred to as “IM layer”) is used for transparent conductive film to adjust the refractive index difference between the region with and without the transparent electrode and make the pattern of the transparent electrode difficult to see. A layer may be provided.
特許文献1には、透明基材上に積層したハードコート層上に、高屈折率層及び低屈折率層をドライ塗工で複数回積層することでIM層を構成し、その後、透明電極層を積層した、透明導電性フィルムが記載されている。特許文献1では、ドライ塗工でIM層を積層するため、広い面積に渡って均一のIM層を持つ透明電極フィルムを作製することが困難である。また、IM層を形成するための塗工プロセスが複数回に及ぶため、製造コストが増加すると共に、収率が低下するという問題があった。 In Patent Document 1, an IM layer is formed by laminating a high refractive index layer and a low refractive index layer a plurality of times by dry coating on a hard coat layer laminated on a transparent substrate, and then a transparent electrode layer A transparent conductive film in which is laminated is described. In Patent Document 1, since the IM layer is laminated by dry coating, it is difficult to produce a transparent electrode film having a uniform IM layer over a wide area. Moreover, since the coating process for forming the IM layer is performed a plurality of times, there are problems that the manufacturing cost increases and the yield decreases.
特許文献2には、高屈折率層及び低屈折率層をウェット塗工で形成した透明導電材料が記載されている。この方法でも、高屈折率層と低屈折率層とを別々に塗工・成膜する必要があるため、塗工プロセスが長くなり、製造コストの増加や収率の低下を抜本的に改善することはできない。更に、低屈折率層は20〜120nmと薄いため、ウェット塗工での膜厚制御が困難であり、この結果、膜厚が不均一になりやすいという問題がある。
特許文献3には、2種類の無機粒子の1種類として、フッ素鎖で表面修飾された低屈折率粒子を使用し、2種類の無機粒子の表面自由エネルギー差で低屈折率粒子を表面偏在させことにより、1回の塗工プロセスで低屈折率層及び高屈折率層を作製する方法が記載されている。
In
しかしながら、特許文献3の方法では、低屈折率層に微粒子を用いているためIM層の表面平滑性が損なわれてしまう。また、フルオロ基によって他のバインダーや溶剤との相溶性が低下し、海島構造が形成され、表面荒れや塗膜の白化が起こりやすくなる。更に、表面に他の分子との相溶性が悪いフルオロ基があるため、透明電極層の密着性が低下するという問題もある。
However, in the method of
それ故に、本発明は、表面平滑性及び透明性に優れ、透明電極層との密着性に優れたインデックスマッチング層を備える透明積層フィルム、これを備えた透明導電性フィルムおよびタッチパネル、並びに、当該インデックスマッチング層を1回のウェット塗工プロセスで形成できる透明積層フィルムの製造方法を提供することを目的とする。 Therefore, the present invention provides a transparent laminated film including an index matching layer having excellent surface smoothness and transparency and excellent adhesion to the transparent electrode layer, a transparent conductive film and a touch panel including the same, and the index. It aims at providing the manufacturing method of the transparent laminated | multilayer film which can form a matching layer by one wet coating process.
本発明は、透明基材の一方の面に、高屈折率層及び低屈折率層がこの順番で積層されてなるインデックスマッチング層を有する透明積層フィルムにおいて、一辺が1μm四方の微小領域における算術平均粗さ(Ra)が0.7nm/μm□未満であり、220〜280nmの光の反射率が3.3〜6.5%であり、220〜280nmの光の平均反射率の変動係数が15%以下であることを特徴とするものである。 The present invention provides a transparent laminated film having an index matching layer in which a high refractive index layer and a low refractive index layer are laminated in this order on one surface of a transparent substrate, and an arithmetic average in a minute region having a side of 1 μm square. The roughness (Ra) is less than 0.7 nm / μm □, the reflectance of light of 220 to 280 nm is 3.3 to 6.5%, and the variation coefficient of the average reflectance of light of 220 to 280 nm is 15 % Or less.
また、本発明は、透明基材の一方の面に、高屈折率層及び低屈折率層がこの順番で積層されてなるインデックスマッチング層を有する透明積層フィルムの製造方法に関するものであって、透明基材の一方の面に、高屈折率微粒子、アクリルモノマー、レベリング剤、光重合開始剤、溶剤を含有する塗液を塗工し、塗膜を光硬化させることによってインデックスマッチング層を形成し、アクリルモノマーが、ウレタン結合、ヒドロキシル基、芳香環、アミノ基、カルボキシル基、リン酸エステルのいずれかを1つ以上有し、レベリング剤が、下記一般式(1)で表される繰り返し構造を持つアクリルポリマーである。
本発明によれば、表面平滑性及び透明性に優れ、透明電極層との密着性に優れたインデックスマッチング層を備える透明積層フィルム、これを備えた透明導電性フィルムおよびタッチパネル、並びに、当該インデックスマッチング層を1回のウェット塗工プロセスで形成できる透明積層フィルムの製造方法を提供できる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, it is excellent in surface smoothness and transparency, and the transparent laminated film provided with the index matching layer excellent in adhesiveness with a transparent electrode layer, the transparent conductive film and touch panel provided with this, and the said index matching The manufacturing method of the transparent laminated film which can form a layer by one wet coating process can be provided.
図1は、タッチパネルを備える画像表示装置の構成例を示す断面図である。 FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating a configuration example of an image display device including a touch panel.
画像表示装置1は、画像表示パネル2と、画像表示パネル2に接着層8を介して貼り合わされたタッチパネル3と、タッチパネル3の表面に接着層11を介して貼り合わされたカバーガラス12とを備える。尚、図1における上側が画像表示装置1の前面側(視認される側)に対応し、図1における下側が画像表示装置1の背面側に対応する。
The image display device 1 includes an
画像表示パネル2は、画像表示装置1の背面側から順に、バックライト4と、偏光板5と、液晶パネル6と、偏光板7とを備える。タッチパネル3は、透明電極を有する透明導電性フィルム9a及び9bを接着層10を介して積層することによって構成されている。画像表示パネル2の偏光板7と、タッチパネル3の透明導電性フィルム9aとは、偏光板7の周縁部にのみ設けられた接着層8を介して、エアギャップ方式により貼り合わされている。上述した接着層8、10及び11は、例えば、透明光学粘着フィルム(OCA;Optical Clear Adhesiveフィルム)により構成される。
The
図2は、図1に示す透明導電性フィルムに用いる積層フィルムの層構成の一例を示す断面図である。 FIG. 2 is a cross-sectional view showing an example of a layer structure of a laminated film used for the transparent conductive film shown in FIG.
図2に示す透明導電性フィルム9a及び9bは、透明積層フィルム15aと、透明積層フィルム15a上に積層される透明導電層23とを備える。透明積層フィルム15aは、透明基材22と、透明基材22の一方面に積層されたインデックスマッチング層(IM層)16とを備える。IM層16は、透明基材22の一方面側から順に、高屈折率層20及び低屈折率層21が積層されて構成されている。透明導電層23は、透明導電材料からなり、透明積層フィルム15aのIM層16(低屈折率層21)上に積層されている。尚、図示を省略しているが、透明導電層23は、所定形状にパターニングされており、マトリクス状に配列された複数の透明電極が形成されている。
The transparent
透明導電層23は、ITO(Indiumu Tin Oxide)、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化チタン等の屈折率が1.7〜2.2の透明導電材料を用いて形成される。透明導電層23の膜厚は、10〜30nmとすることが好ましい。透明導電層23の膜厚が10nmを下回ると、透明導電層23の抵抗値が小さくなり過ぎ、透明電極としての機能を発揮することができなくなる。一方、透明導電層23の膜厚が30nmを超えると、透明導電層23の透過率が低下する。
The transparent
透明導電層23の形成方法は、特に限定されないが、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレート法、化学気相成長法(CVD法)等により成膜できる。透明導電層23をITOにより形成する場合、ITOを結晶化させるため、成膜後に100〜200℃程度でアニール処理を行う。
The method for forming the transparent
ここで、本実施形態に係る透明積層フィルム15aにおいて、IM層16の表面の1μm四方の正方形領域の算術平均粗さ(Ra)が、0.7nm/μm□未満である。IM層16の表面の算術平均粗さ(Ra)が0.7nm/μm□未満であるため、IM層16の表面平滑性に優れ、透明電極層23の密着性を向上させることができる。また、透明積層フィルム15aの220〜280nmの光の反射率が3.3〜6.5%の範囲内である。220〜280nmの光の反射率を3.3〜6.5%の範囲内とすることによって、透明電極層23の形成後における着色を抑制することができる。更に、透明積層フィルム15a上の複数箇所で測定した、220〜280nmの光の平均反射率の変動係数が15%以下である。変動係数とは、IM層16の膜厚のバラツキを表す指標であり、透明積層フィルム15a上の複数箇所について220〜280nmの光の平均反射率を求め、求めた複数箇所の平均反射率の標準偏差を、求めた複数箇所の平均値で割った値として定義される。220〜280nmの平均反射率の変動係数が15%以下である場合、透明積層フィルム15a全体でIM層16の膜厚がほぼ均一となり、透明電極層23の形成後の着色を抑制することができる。
Here, in the transparent laminated
以下、透明積層フィルム15aが備える各層の詳細を説明する。
Hereinafter, the detail of each layer with which the transparent laminated
(透明基材)
透明基材22は、透明積層フィルム15aの基体となるフィルムであり、可視光線の透過性に優れた材料により形成される。透明基材22の形成材料としては、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ナイロン6、ナイロン66等のポリアミド、ポリイミド、ポリアリレート、ポリカーボネート、ポリアクリレート、ポリエーテルサルフォン、ポリサルフォン等の透明樹脂や無機ガラスを利用できる。また、透明基材22は、複数の材料が積層された複合フィルムであってもよい。透明基材の厚みは、特に限定されないが、10〜200μmとすることが好ましい。
(Transparent substrate)
The
(IM層)
IM層16は、透明電極がある部分とない部分との光学特性の差を小さくするために設けられる光学調整層であり、IM層16を設けることによって、透明電極のパターンを視認し難くすることができる。上述したように、IM層16は、透明基材22側から順に、高屈折率層20及び低屈折率層21の層構成を有する。
(IM layer)
The
本実施形態において、IM層16は、高屈折微粒子、アクリルモノマー、レベリング剤、光重合開始剤及び溶剤を含有するIM層形成用塗工液を透明基材22に塗布し、光硬化させることによって形成される。
In the present embodiment, the
IM層形成用塗工液の塗工方法は特に限定されず、フローコーティング法、スプレーコーティング法、ロールコーティング法、グラビアロールコーティング法、エアドクターコーティング法、プレードコーティング法、ワイヤードクターコーティング法、ナイフコーティング法、リバースコーティング法、トランスファロールコーティング法、マイクログラビアコーティング法、キスコーティング法、キャストコーティング法、スロットオリフィスコーティング法、カレンダーコーティング法、ダイコーティング法等の公知のウェットコーティング法を採用することができる。塗工液の塗膜を硬化させる方法としては、例えば、紫外線照射や電子線照射を利用することができる。紫外線照射の場合、高圧水銀ランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、フュージョンランプ等を使用することができる。紫外線照射量は、通常100〜800mJ/cm2程度である。 The coating method of the IM layer forming coating liquid is not particularly limited, and is a flow coating method, a spray coating method, a roll coating method, a gravure roll coating method, an air doctor coating method, a blade coating method, a wire doctor coating method, a knife coating. Known wet coating methods such as a method, a reverse coating method, a transfer roll coating method, a micro gravure coating method, a kiss coating method, a cast coating method, a slot orifice coating method, a calendar coating method, and a die coating method can be employed. As a method for curing the coating film of the coating liquid, for example, ultraviolet irradiation or electron beam irradiation can be used. In the case of ultraviolet irradiation, a high pressure mercury lamp, a halogen lamp, a xenon lamp, a fusion lamp, or the like can be used. The amount of ultraviolet irradiation is usually about 100 to 800 mJ / cm 2 .
高屈折率微粒子としては、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化ニオブ、三酸化アンチモン、五酸化アンチモン、酸化スズ、ATO、酸化インジウム、ITO、酸化亜鉛等の金属酸化物等を使用できる。これらの高屈折率材料の中でも、酸化ジルコニウムは、屈折率が相対的に高く、かつ、IM層16の透明性を向上できるためより好ましい。高屈折微粒子の粒径は、10〜100nmである。バインダー樹脂との結合力を向上させるため、高屈折率微粒子として、表面が有機鎖により修飾されたものを使用することがより好ましい。高屈折率微粒子の表面を修飾する有機鎖は、エステル結合、ウレタン結合、ヒドロキシル基、芳香環、アミノ基、カルボキシル基、リン酸エステルの少なくとも1つを備えた化学構造を有するものであれば良い。これらの中でも、高屈折率微粒子の表面を修飾する有機鎖が、アクリロイル基を有するエステル結合を持つものであることが好ましい。高屈折率微粒子表面の有機鎖がアクリロイル基を有する場合、高屈折率微粒子がアクリルモノマーと結合し、アクリルモノマーからの脱離が抑制される。ここで例示した化学構造を有することによって、高屈折率微粒子表面自由エネルギーをレベリング材よりも大きくすることができる。
As the high refractive index fine particles, metal oxides such as zirconium oxide, titanium oxide, niobium oxide, antimony trioxide, antimony pentoxide, tin oxide, ATO, indium oxide, ITO, and zinc oxide can be used. Among these high refractive index materials, zirconium oxide is more preferable because it has a relatively high refractive index and can improve the transparency of the
アクリルモノマーは、バインダーとなる樹脂である。本実施形態では、アクリルモノマーとして、光硬化性のアクリレートまたはメタクリレートであって、エステル結合の他に、ウレタン結合、ヒドロキシル基、芳香環、アミノ基、カルボキシル基、リン酸エステルの少なくとも1つを備えた化学構造を有するものを使用できる。この場合、アクリルモノマーの表面自由エネルギーをレベリング材よりも大きくすることができる。 The acrylic monomer is a resin that serves as a binder. In this embodiment, the acrylic monomer is a photocurable acrylate or methacrylate, and includes at least one of a urethane bond, a hydroxyl group, an aromatic ring, an amino group, a carboxyl group, and a phosphate ester in addition to an ester bond. Those having a chemical structure can be used. In this case, the surface free energy of the acrylic monomer can be made larger than that of the leveling material.
レベリング剤は、塗膜形成過程で油滴状になって塗膜表面に配向し、塗膜表面からの溶剤の蒸発を均一化すると共に、表面張力変化を小さくすることによって表面を平滑化する機能を有する添加剤である。レベリング剤としては、下記一般式(1)に示すアクリルポリマーを使用できる。下記一般式(1)に示すレベリング剤の表面自由エネルギーは、上述した高屈折率微粒子及びアクリルモノマーよりも小さい。 Leveling agents are oil droplets in the process of forming a film and are oriented on the surface of the film, making the evaporation of the solvent from the surface of the film uniform and smoothing the surface by reducing the change in surface tension. Is an additive. As the leveling agent, an acrylic polymer represented by the following general formula (1) can be used. The surface free energy of the leveling agent represented by the following general formula (1) is smaller than the above-described high refractive index fine particles and acrylic monomers.
一般式(1)に示すアクリルポリマーの配合量は、0.2〜1.3%である。一般式(1)に示すアクリルポリマーの配合量により低屈折率層の厚みを調整することができ、一般式(1)に示すアクリルポリマーの配合量が多くなるにつれて、低屈折率層の厚みが大きくなる。アクリルポリマーの配合量が上記下限値を下回ると、低屈折率層の厚みが20nm未満となり、220〜280nmの光の反射率が上述した3.3〜6.5%の範囲を超えてしまう。この場合、透明電極層23の形成後に透明導電性フィルムが黄色を呈するため、好ましくない。一方、アクリルポリマーの配合量が上記上限値を超えると、低屈折率層の厚みが厚くなり過ぎ、220〜280nmの光の反射率が上述した3.3〜6.5%の範囲を下回ってしまう。この場合、透明電極層23の形成後に透明導電性フィルムが青色を呈するため、好ましくない。
The compounding quantity of the acrylic polymer shown in General formula (1) is 0.2 to 1.3%. The thickness of the low refractive index layer can be adjusted by the blending amount of the acrylic polymer represented by the general formula (1), and the thickness of the low refractive index layer increases as the blending amount of the acrylic polymer represented by the general formula (1) increases. growing. When the blending amount of the acrylic polymer is below the lower limit, the thickness of the low refractive index layer is less than 20 nm, and the reflectance of light at 220 to 280 nm exceeds the above-mentioned range of 3.3 to 6.5%. In this case, since the transparent conductive film exhibits a yellow color after the formation of the
光重合開始剤は、紫外線が照射された際にラジカルを発生するものであれば良く、例えば、アセトフェノン系、ベンゾフェノン系、チオキサントン系、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル等のラジカル重合開始剤、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタロセン化合物等のカチオン重合開始剤を単独でまたは混合して使用できる。 The photopolymerization initiator only needs to generate radicals when irradiated with ultraviolet rays. For example, radical polymerization initiators such as acetophenone, benzophenone, thioxanthone, benzoin, and benzoin methyl ether, aromatic diazonium salts Cationic polymerization initiators such as aromatic sulfonium salts, aromatic iodonium salts, and metallocene compounds can be used alone or in combination.
溶剤としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、2−メトキシエタノール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、ジイソプロピルエーテル等のエーテル類、エチレングリコール、プロピレングリコール、へキシレングリコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のグリコール類、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、エチルカルビトール、ブチルカルビトール等のグリコールエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、N‐メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド等を単独でまたは混合して使用できる。 Solvents include alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol, butanol and 2-methoxyethanol, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, esters such as methyl acetate, ethyl acetate and butyl acetate, and diisopropyl ether. Ethers, glycols such as ethylene glycol, propylene glycol, hexylene glycol, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, glycol ethers such as ethyl cellosolve, butyl cellosolve, ethyl carbitol, butyl carbitol, hexane, heptane, Aliphatic hydrocarbons such as octane, halogenated hydrocarbons, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, N-methylpyrrole Down, dimethylformamide and the like either alone or in combination can be used.
硬化前の塗膜では、塗膜表面の自由エネルギーが小さくなるように膜内の成分が分離する。本実施形態では、表面に偏析させたい成分(レベリング材)の表面自由エネルギーを相対的に小さくし、バルク内に存在させたい成分(高屈折率微粒子、アクリルモノマー)の表面自由エネルギーを相対的に大きくすることによって相分離を制御する。つまり、表面自由エネルギーが相対的に高い成分と相対的に低い成分とを含有する塗工液を透明基材上に塗布した場合、表面自由エネルギーが相対的に小さいレベリング剤が表層に配向する。この状態で、塗膜に紫外線または電離放射線を照射して光重合反応を生じさせると、屈折率の低いレベリング剤が表層に偏在したまま塗膜が硬化する。この結果、表層側に相対的に屈折率が低い低屈折率層が形成され、透明基材側に高屈折率微粒子が偏在した高屈折率層が形成され、硬化後の塗膜をIM層16として機能させることができる。 In the coating film before curing, the components in the film are separated so that the free energy on the coating film surface becomes small. In this embodiment, the surface free energy of the component (leveling material) to be segregated on the surface is relatively small, and the surface free energy of the component (high refractive index fine particles, acrylic monomer) to be present in the bulk is relatively Control phase separation by increasing it. That is, when a coating liquid containing a component having a relatively high surface free energy and a component having a relatively low surface free energy is applied on the transparent substrate, a leveling agent having a relatively small surface free energy is oriented on the surface layer. In this state, when the coating film is irradiated with ultraviolet rays or ionizing radiation to cause a photopolymerization reaction, the coating film is cured while the leveling agent having a low refractive index is unevenly distributed on the surface layer. As a result, a low refractive index layer having a relatively low refractive index is formed on the surface layer side, and a high refractive index layer in which high refractive index fine particles are unevenly distributed is formed on the transparent substrate side. Can function as.
また、IM層形成用塗工液が含有するアクリルモノマー及びレベリング剤のいずれもがアクリル系であるため、親和性が高く、硬化時に海島構造の形成が抑制される。この結果、表面平滑性及び透明性に優れ、透明電極層23との密着性も向上する。
In addition, since both the acrylic monomer and the leveling agent contained in the IM layer forming coating solution are acrylic, the affinity is high, and the formation of a sea-island structure is suppressed during curing. As a result, the surface smoothness and transparency are excellent, and the adhesion with the
図3は、図1に示す透明導電性フィルムに用いる積層フィルムの層構成の他の一例を示す断面図である。 FIG. 3 is a cross-sectional view showing another example of the layer structure of the laminated film used in the transparent conductive film shown in FIG.
図3に示す積層フィルム15bは、図2に示した積層フィルム15aの層構成に加え、更に、ハードコート層24を備える。ハードコート層24は、透明基材22の他方面(IM層16が積層された面と反対側の面)に積層されている。
The
ハードコート層は、ウェットコーティング法により形成できる。例えば、ハードコート層は、アクリレートモノマーと、光重合開始剤とを含有するハードコート層形成用塗工液を塗布し、塗膜を光重合により硬化させることによって形成することができる。アクリレートモノマーとしては、例えば、トリメチロールプロパントリアクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、トリス2−ヒドロキシエチルイソシアヌレートトリアクリレート、グリセリントリアクリレート等のトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジトリメチロールプロパントリアクリレート等の3官能のアクリレート化合物や、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジトリメチロールプロパンペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジトリメチロールプロパンヘキサアクリレート等の3官能以上の多官能アクリレート化合物や、これらアクリレートの一部をアルキル基やε−カプロラクトンで置換した多官能アクリレート化合物等が挙げられる。 The hard coat layer can be formed by a wet coating method. For example, the hard coat layer can be formed by applying a hard coat layer forming coating solution containing an acrylate monomer and a photopolymerization initiator and curing the coating film by photopolymerization. Examples of the acrylate monomer include trimethylolpropane triacrylate, ethoxylated trimethylolpropane triacrylate, propoxylated trimethylolpropane triacrylate, tris such as tris 2-hydroxyethyl isocyanurate triacrylate, glycerin triacrylate, pentaerythritol triacrylate. Trifunctional acrylate compounds such as acrylate, dipentaerythritol triacrylate, ditrimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, dipentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, ditrimethylolpropane pentaacrylate Dipentaellis Hexaacrylate, and ditrimethylolpropane polyfunctional acrylate compounds of trifunctional or more such hexaacrylate, polyfunctional acrylate compounds some of these acrylate was substituted with an alkyl group and ε- caprolactone.
上述した光重合開始剤としては、例えば、2,2−エトキシアセトフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ジベンゾイル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、p−クロロベンゾフェノン、p−メトキシベンゾフェノン、ミヒラーケトン、アセトフェノン、2−クロロチオキサントン等が挙げられる。これらを単独、もしくは2種類以上合わせて用いても良い。 Examples of the photopolymerization initiator include 2,2-ethoxyacetophenone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, dibenzoyl, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, p-chlorobenzophenone, p-methoxybenzophenone, Michler ketone, acetophenone. , 2-chlorothioxanthone and the like. You may use these individually or in combination of 2 or more types.
尚、ウェットコーティング法で層形成を行う場合、フローコーティング法、スプレーコーティング法、ロールコーティング法、グラビアロールコーティング法、エアドクターコーティング法、プレードコーティング法、ワイヤードクターコーティング法、ナイフコーティング法、リバースコーティング法、トランスファロールコーティング法、マイクログラビアコーティング法、キスコーティング法、キャストコーティング法、スロットオリフィスコーティング法、カレンダーコーティング法、ダイコーティング法等の公知のウェットコーティング法により塗工液を塗布した後、塗膜を硬化させる。塗工液の塗膜を硬化させる方法としては、例えば、紫外線照射、加熱等を用いることができる。紫外線照射の場合、高圧水銀ランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、フュージョンランプ等を使用することができる。紫外線照射量は、通常100〜800mJ/cm2程度である。 In addition, when performing layer formation by wet coating method, flow coating method, spray coating method, roll coating method, gravure roll coating method, air doctor coating method, blade coating method, wire doctor coating method, knife coating method, reverse coating method The coating liquid is applied by a known wet coating method such as transfer roll coating method, micro gravure coating method, kiss coating method, cast coating method, slot orifice coating method, calendar coating method, die coating method, etc. Harden. As a method for curing the coating film of the coating liquid, for example, ultraviolet irradiation, heating, or the like can be used. In the case of ultraviolet irradiation, a high pressure mercury lamp, a halogen lamp, a xenon lamp, a fusion lamp, or the like can be used. The amount of ultraviolet irradiation is usually about 100 to 800 mJ / cm 2 .
ドライコーティング法で層形成を行う場合、真空蒸着法、スパッタリング法、イオン化蒸着法、イオンビーム法等の物理気相成長法(PVD法)または化学気相成長法(CVD法)を利用できる。 When the layer is formed by the dry coating method, a physical vapor deposition method (PVD method) or a chemical vapor deposition method (CVD method) such as a vacuum deposition method, a sputtering method, an ionization deposition method, or an ion beam method can be used.
図2及び3に示した透明積層フィルム15a及び15bは、ロール状に巻回された透明基材22を巻き出して搬送しながら、透明基材22の一方面に対してIM層16を連続して形成し、IM層16形成後の透明基材22を再度巻き取るロール・ツー・ロール法により形成することができる。その後、図3に示したように、ハードコート層24を設ける場合は、巻回した透明基材22を再度巻き出して搬送しながら、透明基材22の他方面にハードコート層24を形成する。
The transparent
以下、本発明に係る透明積層フィルムを具体的に実施した実施例を説明する。 Examples in which the transparent laminated film according to the present invention is specifically implemented will be described below.
(実施例1)
厚み100μmのポリエチレンテレフタレートフィルムの一方面に、以下の組成のIM層形成用塗工液1を乾燥後の膜厚が2.0μmとなるように塗布し、乾燥させた。その後、紫外線照射装置を用いて照射線量200mJ/cm2で紫外線照射を行うことにより塗膜を硬化させて、IM層を形成した。
Example 1
The IM layer forming coating solution 1 having the following composition was applied to one surface of a 100 μm thick polyethylene terephthalate film so that the film thickness after drying was 2.0 μm and dried. Then, the coating film was hardened by irradiating with an ultraviolet ray at an irradiation dose of 200 mJ / cm 2 using an ultraviolet irradiation device to form an IM layer.
[IM層形成用塗工液1]
・高屈折率微粒子:ジルコニア微粒子(ジルコスター、株式会社日本触媒) 25重量部
・アクリルモノマー:ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサメチレンジイソシアネート ウレタンプレポリマー(UA−306H、共栄社化学株式会社) 23重量部
・光重合開始剤:1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン(Irgacure(登録商標)184、BASF社) 1.5重量部
・レベリング剤:アクリルポリマー(TEGO(登録商標) Flow 370、Evonik社) 0.5重量部
・溶剤1:プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGME) 25重量部
・溶剤2:メチルイソブチルケトン(MIBK) 25重量部
[IM layer forming coating solution 1]
・ High refractive index fine particles: Zirconia fine particles (Zircoster, Nippon Shokubai Co., Ltd.) 25 parts by weight Acrylic monomer: Pentaerythritol triacrylate hexamethylene diisocyanate Urethane prepolymer (UA-306H, Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) 23 parts by weight Agent: 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone (Irgacure (registered trademark) 184, BASF) 1.5 parts by weight Leveling agent: Acrylic polymer (TEGO (registered trademark) Flow 370, Evonik) 0.5 parts by weight Solvent 1: 25 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether (PGME) Solvent 2: 25 parts by weight of methyl isobutyl ketone (MIBK)
次に、ポリエチレンテレフタレートフィルムの他方面に、以下の組成のハードコート層形成用塗工液を乾燥後の膜厚が1.0μmとなるように塗布し、乾燥させた。その後、紫外線照射装置を用いて照射線量200mJ/cm2で紫外線照射を行うことにより塗膜を硬化させて、ハードコート層を形成し、実施例1に係る透明積層フィルムを得た。 Next, a hard coat layer-forming coating solution having the following composition was applied to the other surface of the polyethylene terephthalate film so that the film thickness after drying was 1.0 μm and dried. Then, the coating film was hardened by performing ultraviolet irradiation with an irradiation dose of 200 mJ / cm 2 using an ultraviolet irradiation device to form a hard coat layer, and the transparent laminated film according to Example 1 was obtained.
[ハードコート層形成用塗工液]
・シリカフィラー:オルガノシリカゾル MEK−AC−4130Y(日産化学工業株式会社) 2.5重量部
・アクリルモノマー:ペンタエリスリトールトリアクリレート(A−TMM−3L、新中村化学社製) 44.5重量部
・光重合開始剤:2,4,6−トリメチルベンゾイル-ジフェニル-フォスフィンオキサイド(TPO、BASF社製) 3重量部
・溶剤1:アセトン 25重量部
・溶剤2:プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGME) 25重量部
[Coating liquid for forming hard coat layer]
Silica filler: Organosilica sol MEK-AC-4130Y (Nissan Chemical Co., Ltd.) 2.5 parts by weight Acrylic monomer: Pentaerythritol triacrylate (A-TMM-3L, Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) 44.5 parts by weight Photopolymerization initiator: 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide (TPO, manufactured by BASF) 3 parts by weight, solvent 1: 25 parts by weight of acetone, solvent 2: propylene glycol monomethyl ether (PGME) 25 parts by weight Part
(実施例2)
以下の組成のIM層形成用塗工液2を用いたことを除き、実施例1と同様の方法により実施例2に係る透明積層フィルムを作製した。
(Example 2)
A transparent laminated film according to Example 2 was produced in the same manner as in Example 1 except that the IM layer forming
[IM層形成用塗工液2]
・高屈折率微粒子:ジルコニア微粒子(ジルコスター、株式会社日本触媒) 25重量部
・アクリルモノマー:ペンタエリスリトールトリアクリレートイソホロンジイソシアネート ウレタンプレポリマー(UA−306I、共栄社化学株式会社) 22.5重量部
・光重合開始剤:2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキサイド(TPO、BASF社) 1.5重量部
・レベリング剤:アクリルポリマー(ポリフローNo.77、共栄社化学株式会社)
1.0重量部
・溶剤1:プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGME) 25重量部
・溶剤2:メチルイソブチルケトン(MIBK) 25重量部
[IM layer forming coating solution 2]
High refractive index fine particles: Zirconia fine particles (Zircoster, Nippon Shokubai Co., Ltd.) 25 parts by weight Acrylic monomer: Pentaerythritol triacrylate isophorone diisocyanate Urethane prepolymer (UA-306I, Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) 22.5 parts by weight Photopolymerization Initiator: 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide (TPO, BASF) 1.5 parts by weight Leveling agent: Acrylic polymer (Polyflow No. 77, Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)
1.0 part by weight / solvent 1: 25 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether (PGME) / solvent 2: 25 parts by weight of methyl isobutyl ketone (MIBK)
(実施例3)
以下の組成のIM層形成用塗工液3を用いたことを除き、実施例1と同様の方法により実施例3に係る透明積層フィルムを作製した。
(Example 3)
A transparent laminated film according to Example 3 was produced in the same manner as in Example 1 except that the IM layer forming
[IM層形成用塗工液3]
・高屈折率微粒子:ジルコニア微粒子(ジルコスター、株式会社日本触媒) 25重量部
・アクリルモノマー:ペンタエリスリトールトリアクリレート(ビスコート#300、大阪有機化学工業株式会社) 23重量部
・光重合開始剤:1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン(Irgacure 184、BASF社) 1.5重量部
・レベリング剤:アクリルポリマー(BYK−350、BYK社) 0.5重量部
・溶剤1:プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGME) 25重量部
・溶剤2:メチルイソブチルケトン(MIBK) 25重量部
[IM layer forming coating solution 3]
High refractive index fine particles: Zirconia fine particles (Zircoster, Nippon Shokubai Co., Ltd.) 25 parts by weight Acrylic monomer: Pentaerythritol triacrylate (
(実施例4)
以下の組成のIM層形成用塗工液4を用いたことを除き、実施例1と同様の方法により実施例4に係る透明積層フィルムを作製した。
Example 4
A transparent laminated film according to Example 4 was produced in the same manner as in Example 1 except that the IM layer forming
[IM層形成用塗工液4]
・高屈折率微粒子:ジルコニア微粒子(ジルコスター、株式会社日本触媒) 25重量部
・アクリルモノマー:KAYAMAR PM−2(日本化薬株式会社) 22.5重量部
・光重合開始剤:2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキサイド(TPO、BASF社) 1.5重量部
・レベリング剤:アクリルポリマー(BYK−354、BYK社) 1.0重量部
・溶剤1:プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGME) 25重量部
・溶剤2:メチルイソブチルケトン(MIBK) 25重量部
[IM layer forming coating solution 4]
・ High refractive index fine particles: Zirconia fine particles (Zircoster, Nippon Shokubai Co., Ltd.) 25 parts by weightAcrylic monomer: KAYAMAAR PM-2 (Nippon Kayaku Co., Ltd.) 22.5 parts by weightPhotopolymerization initiator: 2, 4, 6 -Trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide (TPO, BASF) 1.5 parts by weight Leveling agent: Acrylic polymer (BYK-354, BYK) 1.0 parts by weight Solvent 1: Propylene glycol monomethyl ether (PGME) 25 parts by weight / solvent 2: 25 parts by weight of methyl isobutyl ketone (MIBK)
(実施例5)
以下の組成のIM層形成用塗工液5を用いたことを除き、実施例1と同様の方法により実施例5に係る透明積層フィルムを作製した。
(Example 5)
A transparent laminated film according to Example 5 was produced in the same manner as in Example 1 except that IM layer forming
[IM層形成用塗工液5]
・高屈折率微粒子:ジルコニア微粒子(ジルコスター、株式会社日本触媒) 25重量部
・アクリルモノマー:カルボン酸含有ウレタンアクリレートオリゴマー(DAUA−167、共栄社化学株式会社) 22.5重量部
・光重合開始剤:1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン(Irgacure 184、BASF社) 1.5重量部
・レベリング剤:アクリルポリマー(TEGO Flow 370、Evonik社)
1.0重量部
・溶剤1:プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGME) 25重量部
・溶剤2:メチルイソブチルケトン(MIBK) 25重量部
[IM layer forming coating solution 5]
・ High refractive index fine particles: 25 parts by weight of zirconia fine particles (Zircoster, Nippon Shokubai Co., Ltd.) Acrylic monomer: Carboxylic acid-containing urethane acrylate oligomer (DAUA-167, Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) 22.5 parts by weight 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone (Irgacure 184, BASF) 1.5 parts by weight leveling agent: acrylic polymer (TEGO Flow 370, Evonik)
1.0 part by weight / solvent 1: 25 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether (PGME) / solvent 2: 25 parts by weight of methyl isobutyl ketone (MIBK)
(実施例6)
以下の組成のIM層形成用塗工液6を用いたことを除き、実施例1と同様の方法により実施例6に係る透明積層フィルムを作製した。
(Example 6)
A transparent laminated film according to Example 6 was produced in the same manner as in Example 1 except that the IM layer forming
[IM層形成用塗工液6]
・高屈折率微粒子:ジルコニア微粒子(ジルコスター、株式会社日本触媒) 25重量部
・アクリルモノマー:ペンタエリスリトールトリアクリレート(ビスコート#300、大阪有機化学工業株式会社) 22.5重量部
・光重合開始剤:2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキサイド(TPO、BASF社) 1.5重量部
・レベリング剤:アクリルポリマー(TEGO Flow 370、Evonik社)
1.0重量部
・溶剤1:プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGME) 25重量部
・溶剤2:メチルイソブチルケトン(MIBK) 25重量部
[IM layer forming coating solution 6]
・ High refractive index fine particles: 25 parts by weight of zirconia fine particles (Zircoster, Nippon Shokubai Co., Ltd.) ・ Acrylic monomer: Pentaerythritol triacrylate (
1.0 part by weight / solvent 1: 25 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether (PGME) / solvent 2: 25 parts by weight of methyl isobutyl ketone (MIBK)
(実施例7)
以下の組成のIM層形成用塗工液7を用いたことを除き、実施例1と同様の方法により実施例7に係る透明積層フィルムを作製した。
(Example 7)
A transparent laminated film according to Example 7 was produced in the same manner as in Example 1 except that the IM layer forming
[IM層形成用塗工液7]
・高屈折率微粒子:ジルコニア微粒子(ジルコスター、株式会社日本触媒) 25重量部
・アクリルモノマー:KAYAMAR PM−2(日本化薬株式会社) 23重量部
・光重合開始剤:1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン(Irgacure 184、BASF社) 1.5重量部
・レベリング剤:アクリルポリマー(ポリフローNo.77、共栄社化学株式会社)
0.5重量部
・溶剤1:プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGME) 25重量部
・溶剤2:メチルイソブチルケトン(MIBK) 25重量部
[IM layer forming coating solution 7]
・ High refractive index fine particles: Zirconia fine particles (Zircoster, Nippon Shokubai Co., Ltd.) 25 parts by weight ・ Acrylic monomer: KAYAMA PM-2 (Nippon Kayaku Co., Ltd.) 23 parts by weight ・ Photopolymerization initiator: 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl -Ketone (Irgacure 184, BASF) 1.5 parts by weight Leveling agent: Acrylic polymer (Polyflow No. 77, Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)
0.5 parts by weight / solvent 1: 25 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether (PGME) / solvent 2: 25 parts by weight of methyl isobutyl ketone (MIBK)
(比較例1)
以下の組成のIM層形成用塗工液8を用いたことを除き、実施例1と同様の方法により比較例1に係る透明積層フィルムを作製した。
(Comparative Example 1)
A transparent laminated film according to Comparative Example 1 was produced in the same manner as in Example 1 except that the IM layer forming
[IM層形成用塗工液8]
・高屈折率微粒子:ジルコニア微粒子(ジルコスター、株式会社日本触媒) 25重量部
・アクリルモノマー:ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサメチレンジイソシアネート ウレタンプレポリマー(UA−306H、共栄社化学株式会社)
23.45重量部
・光重合開始剤:2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキサイド(TPO、BASF社) 1.5重量部
・レベリング剤:アクリルポリマー(TEGO Flow 370、Evonik社)
0.05重量部
・溶剤1:プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGME) 25重量部
・溶剤2:メチルイソブチルケトン(MIBK) 25重量部
[IM layer forming coating solution 8]
-High refractive index fine particles: Zirconia fine particles (Zircoster, Nippon Shokubai Co., Ltd.) 25 parts by weight-Acrylic monomer: Pentaerythritol triacrylate hexamethylene diisocyanate Urethane prepolymer (UA-306H, Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)
23.45 parts by weight-photopolymerization initiator: 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide (TPO, BASF) 1.5 parts by weight-leveling agent: acrylic polymer (TEGO Flow 370, Evonik)
0.05 part by weight / solvent 1: 25 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether (PGME) / solvent 2: 25 parts by weight of methyl isobutyl ketone (MIBK)
(比較例2)
以下の組成のIM層形成用塗工液9を用いたことを除き、実施例1と同様の方法により比較例2に係る透明積層フィルムを作製した。
(Comparative Example 2)
A transparent laminated film according to Comparative Example 2 was produced in the same manner as in Example 1 except that the IM layer forming
[IM層形成用塗工液9]
・高屈折率微粒子:ジルコニア微粒子(ジルコスター、株式会社日本触媒) 25重量部
・アクリルモノマー:ペンタエリスリトールトリアクリレートイソホロンジイソシアネート ウレタンプレポリマー(UA−306I、共栄社化学株式会社) 22重量部
・光重合開始剤:1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン(Irgacure 184、BASF社) 1.5重量部
・レベリング剤:アクリルポリマー(ポリフローNo.77、共栄社化学株式会社)
1.5重量部
・溶剤1:プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGME) 25重量部
・溶剤2:メチルイソブチルケトン(MIBK) 25重量部
[IM layer forming coating solution 9]
・ High refractive index fine particles: Zirconia fine particles (Zircoster, Nippon Shokubai Co., Ltd.) 25 parts by weightAcrylic monomer: Pentaerythritol triacrylate isophorone diisocyanate urethane prepolymer (UA-306I, Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) 22 parts by weight : 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone (Irgacure 184, BASF) 1.5 parts by weight Leveling agent: Acrylic polymer (Polyflow No. 77, Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)
1.5 parts by weight / solvent 1: 25 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether (PGME) / solvent 2: 25 parts by weight of methyl isobutyl ketone (MIBK)
(比較例3)
以下の組成のIM層形成用塗工液10を用いたことを除き、実施例1と同様の方法により比較例3に係る透明積層フィルムを作製した。
(Comparative Example 3)
A transparent laminated film according to Comparative Example 3 was produced in the same manner as in Example 1 except that the IM layer forming
[IM層形成用塗工液10]
・高屈折率微粒子:ジルコニア微粒子(ジルコスター、株式会社日本触媒) 25重量部
・アクリルモノマー:1,6−ヘキサンジオールジアクリレート(共栄社化学株式会社)
23重量部
・光重合開始剤:2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキサイド(TPO、BASF社) 1.5重量部
・レベリング剤:アクリルポリマー(TEGO Flow 370、Evonik社)
0.5重量部
・溶剤1:プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGME) 25重量部
・溶剤2:メチルイソブチルケトン(MIBK) 25重量部
[IM layer forming coating solution 10]
・ High refractive index fine particles: Zirconia fine particles (Zircoster, Nippon Shokubai Co., Ltd.) 25 parts by weightAcrylic monomer: 1,6-hexanediol diacrylate (Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)
23 parts by weight-photopolymerization initiator: 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide (TPO, BASF) 1.5 parts by weight-leveling agent: acrylic polymer (TEGO Flow 370, Evonik)
0.5 parts by weight / solvent 1: 25 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether (PGME) / solvent 2: 25 parts by weight of methyl isobutyl ketone (MIBK)
(比較例4)
以下の組成のIM層形成用塗工液11を用いたことを除き、実施例1と同様の方法により比較例4に係る透明積層フィルムを作製した。
(Comparative Example 4)
A transparent laminated film according to Comparative Example 4 was produced in the same manner as in Example 1 except that the IM layer forming
[IM層形成用塗工液11]
・高屈折率微粒子:ジルコニア微粒子(ジルコスター、株式会社日本触媒) 25重量部
・アクリルモノマー:ペンタエリスリトールトリアクリレート(ビスコート#300、大阪有機化学工業株式会社) 23重量部
・光重合開始剤:1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン(Irgacure 184、BASF社) 1.5重量部
・レベリング剤:フッ素界面活性剤(RS−75、DIC株式会社) 0.5重量部
・溶剤1:プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGME) 25重量部
・溶剤2:メチルイソブチルケトン(MIBK) 25重量部
[IM layer forming coating solution 11]
High refractive index fine particles: Zirconia fine particles (Zircoster, Nippon Shokubai Co., Ltd.) 25 parts by weight Acrylic monomer: Pentaerythritol triacrylate (
(比較例5)
以下の組成のIM層形成用塗工液12を用いたことを除き、実施例1と同様の方法により比較例5に係る透明積層フィルムを作製した。
(Comparative Example 5)
A transparent laminated film according to Comparative Example 5 was produced in the same manner as in Example 1 except that the IM layer forming
[フルオロ基を有する中空シリカ]
比較例5では、レベリング材としてフルオロ基を有する中空シリカを使用した。このフルオロ基を有する中空シリカは、特許第5309597号に記載の「低屈折率成分(a)の調整」方法に従って調整した。具体的には、中空シリカであるスルーリアTR−113(触媒化成工業株式会社製:固形分20重量%)20gにメタクリロキシプロピルトリメトキシシラン2.75gと10重量%蟻酸水溶液0.34gを混合し、70℃にて1時間撹拌した。ついで、2−ペルフルオロオクチルエチルアクリレート2.76gおよび2,2−アゾビスイソブチロニトリル0.115gを加えた後、1時間90℃にて加熱撹拌した。得られた液を、イソプロピルアルコールで希釈し、フルオロ基を有する中空シリカを含有するレベリング材とした。
[IM層形成用塗工液12]
・高屈折率微粒子:ジルコニア微粒子(ジルコスター、株式会社日本触媒) 25重量部
・アクリルモノマー:ペンタエリスリトールトリアクリレート(ビスコート#300、大阪有機化学工業株式会社) 23.45重量部
・光重合開始剤:2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキサイド(TPO、BASF社) 1.5重量部・レベリング剤:フルオロ基を有する中空シリカ 1.4重量部
・溶剤1:プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGME) 24.3重量部
・溶剤2:メチルイソブチルケトン(MIBK) 24.3重量部
[Hollow silica having a fluoro group]
In Comparative Example 5, hollow silica having a fluoro group was used as the leveling material. This hollow silica having a fluoro group was prepared according to the “adjustment of low refractive index component (a)” method described in Japanese Patent No. 5309597. Specifically, 2.75 g of methacryloxypropyltrimethoxysilane and 0.34 g of 10% by weight aqueous formic acid solution were mixed with 20 g of throughria TR-113 (made by Catalyst Chemical Industry Co., Ltd .:
[IM layer forming coating solution 12]
-High refractive index fine particles: Zirconia fine particles (Zircoster, Nippon Shokubai Co., Ltd.) 25 parts by weight-Acrylic monomer: Pentaerythritol triacrylate (
(比較例6)
比較例6に係る透明積層フィルムは、高屈折率層及び低屈折率を別の塗工プロセスで形成したものである。具体的に、厚み100μmのポリエチレンテレフタレートフィルムの一方面に、以下の組成の高屈折率層形成用塗工液1を乾燥後の膜厚が2.0μmとなるように塗布し、乾燥させた。その後、紫外線照射装置を用いて照射線量200mJ/cm2で紫外線照射を行うことにより塗膜を硬化させて、高屈折率層を形成した。
(Comparative Example 6)
The transparent laminated film according to Comparative Example 6 is obtained by forming a high refractive index layer and a low refractive index by another coating process. Specifically, the coating liquid 1 for forming a high refractive index layer having the following composition was applied on one surface of a polyethylene terephthalate film having a thickness of 100 μm so that the film thickness after drying was 2.0 μm and dried. Then, the coating film was hardened by irradiating with an ultraviolet ray at an irradiation dose of 200 mJ / cm 2 using an ultraviolet irradiation device to form a high refractive index layer.
[高屈折率層形成用塗工液1]
・高屈折率微粒子:ジルコニア微粒子(ジルコスター、株式会社日本触媒) 25重量部
・アクリルモノマー:ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサメチレンジイソシアネート ウレタンプレポリマー(UA−306H、共栄社化学株式会社)
23.5重量部
・光重合開始剤:1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン(Irgacure 184、BASF社) 1.5重量部
・溶剤1:プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGME) 25重量部
・溶剤2:メチルイソブチルケトン(MIBK) 25重量部
[High refractive index layer forming coating solution 1]
-High refractive index fine particles: Zirconia fine particles (Zircoster, Nippon Shokubai Co., Ltd.) 25 parts by weight-Acrylic monomer: Pentaerythritol triacrylate hexamethylene diisocyanate Urethane prepolymer (UA-306H, Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)
23.5 parts by weight Photopolymerization initiator: 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone (Irgacure 184, BASF) 1.5 parts by weight Solvent 1: 25 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether (PGME) Solvent 2: Methyl isobutyl ketone (MIBK) 25 parts by weight
次に、形成した高屈折率層上に、以下の組成の低屈折率層形成用塗工液を乾燥後の膜厚が22nmとなるように塗布し、乾燥させた。その後、紫外線照射装置を用いて照射線量200mJ/cm2で紫外線照射を行うことにより塗膜を硬化させて、低屈折率層を形成した。 Next, a coating solution for forming a low refractive index layer having the following composition was applied on the formed high refractive index layer so that the film thickness after drying was 22 nm and dried. Then, the coating film was hardened by irradiating with an ultraviolet ray at an irradiation dose of 200 mJ / cm 2 using an ultraviolet ray irradiating device to form a low refractive index layer.
[低屈折率層形成用塗工液]
・アクリルモノマー:プロポキシ化(6)トリメチロールプロパントリアクリレート(CD501、サートマー社) 0.9重量部
・光重合開始剤:2,4,6−トリメチルベンゾイル-ジフェニル-フォスフィンオキサイド(TPO、BASF社製) 0.1重量部
・溶剤1:エタノール 69.3重量部
・溶剤2:ダイアセトンアルコール 29.7重量部
[Coating liquid for forming low refractive index layer]
Acrylic monomer: Propoxylation (6) Trimethylolpropane triacrylate (CD501, Sartomer) 0.9 parts by weight Photopolymerization initiator: 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide (TPO, BASF) 0.1 parts by weight, solvent 1: ethanol 69.3 parts by weight, solvent 2: diacetone alcohol 29.7 parts by weight
次に、実施例1と同様の方法により、ポリエチレンテレフタレートフィルムの他方面にハードコート層を形成し、比較例6に係る透明積層フィルムを得た。 Next, a hard coat layer was formed on the other surface of the polyethylene terephthalate film by the same method as in Example 1, and a transparent laminated film according to Comparative Example 6 was obtained.
(比較例7)
比較例7に係る透明積層フィルムは、高屈折率層上の低屈折率層を省略したものである。具体的に、厚み100μmのポリエチレンテレフタレートフィルムの一方面に、以下の組成の高屈折率層形成用塗工液2を乾燥後の膜厚が2.0μmとなるように塗布し、乾燥させた。その後、紫外線照射装置を用いて照射線量200mJ/cm2で紫外線照射を行うことにより塗膜を硬化させて、比較例7に係る透明積層フィルムを得た。
(Comparative Example 7)
The transparent laminated film according to Comparative Example 7 is obtained by omitting the low refractive index layer on the high refractive index layer. Specifically, the
[高屈折率層形成用塗工液2]
・高屈折率微粒子:ジルコニア微粒子(ジルコスター、株式会社日本触媒) 25重量部
・アクリルモノマー:ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサメチレンジイソシアネート ウレタンプレポリマー(UA−306H、共栄社化学株式会社)
23.5重量部
・光重合開始剤:2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキサイド(TPO、BASF社) 1.5重量部・溶剤1:プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGME) 25重量部
・溶剤2:メチルイソブチルケトン(MIBK) 25重量部
[High refractive index layer forming coating solution 2]
-High refractive index fine particles: Zirconia fine particles (Zircoster, Nippon Shokubai Co., Ltd.) 25 parts by weight-Acrylic monomer: Pentaerythritol triacrylate hexamethylene diisocyanate Urethane prepolymer (UA-306H, Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)
23.5 parts by weight Photopolymerization initiator: 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide (TPO, BASF) 1.5 parts by weight Solvent 1: propylene glycol monomethyl ether (PGME) 25 parts by weight・ Solvent 2: 25 parts by weight of methyl isobutyl ketone (MIBK)
実施例1〜7及び比較例1〜7に係る透明積層フィルムについて、220〜280nmの反射率、220〜280nmの光の平均反射率の変動係数、透明電極層形成後の着色の有無、IM層表面の算術平均粗さ(Ra)、白化の有無、透明電極層との密着性、ヘーズ、低屈折率層の膜厚を評価した。評価方法を以下に示す。 About transparent laminated film which concerns on Examples 1-7 and Comparative Examples 1-7, the reflectance of 220-280 nm, the variation coefficient of the average reflectance of 220-280 nm light, the presence or absence of coloring after transparent electrode layer formation, IM layer The arithmetic average roughness (Ra) of the surface, the presence or absence of whitening, the adhesion with the transparent electrode layer, the haze, and the film thickness of the low refractive index layer were evaluated. The evaluation method is shown below.
[220〜280nmの反射率]
分光光度計(U−4100、株式会社日立製作所)を用いて、220〜280nmの波長範囲で1nmずつ波長を変化させながら光反射率を測定し、反射率の範囲(最小値〜最大値の範囲)を求めた。
[Reflectance between 220 and 280 nm]
Using a spectrophotometer (U-4100, Hitachi, Ltd.), the light reflectance is measured while changing the wavelength by 1 nm in the wavelength range of 220 to 280 nm, and the reflectance range (minimum value to maximum value range). )
[220〜280nmの光の平均反射率の変動係数]
ロール・ツー・ロールで作成した透明積層フィルム(幅1550cm)の巻き始め部分(巻内)及び巻き終わり部分(巻外)のそれぞれで、幅方向に5cm間隔でサンプルを取得した。次に、各サンプルについて、220〜280nmの波長範囲で1nmずつ波長を変化させながら光反射率を測定し、平均反射率を算出した。そして、複数のサンプルの平均反射率の平均値及び標準偏差を算出し、標準偏差を平均値で割った値を変動係数として算出した。
[Coefficient of variation of average reflectance of light of 220 to 280 nm]
Samples were obtained at intervals of 5 cm in the width direction at each of the winding start portion (inside winding) and winding end portion (outside winding) of the transparent laminated film (width 1550 cm) prepared by roll-to-roll. Next, for each sample, the light reflectance was measured while changing the wavelength by 1 nm in the wavelength range of 220 to 280 nm, and the average reflectance was calculated. And the average value and standard deviation of the average reflectance of a plurality of samples were calculated, and the value obtained by dividing the standard deviation by the average value was calculated as the coefficient of variation.
[透明電極層形成後の着色の有無]
実施例1〜7及び比較例1〜7に係る透明積層フィルムのIM層上に、スパッタリング法によりITOを厚み22nmで成膜し、成膜後に150℃でアニール処理を行って、透明電極層を積層した。透明電極層の積層後、着色の有無を目視にて確認した。
[Presence or absence of coloring after forming transparent electrode layer]
On the IM layer of the transparent laminated film according to Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 to 7, ITO was formed into a film with a thickness of 22 nm by a sputtering method, and after the film formation, an annealing treatment was performed at 150 ° C. Laminated. After lamination of the transparent electrode layer, the presence or absence of coloring was visually confirmed.
[IM層表面の算術平均粗さ(Ra)]
原子間力顕微鏡(AFM)を用いて低屈折率層の凹凸形状を観察し、1μm四方の正方形の領域における算術平均粗さ(Ra)を算出した。
[Arithmetic mean roughness (Ra) of IM layer surface]
The uneven shape of the low refractive index layer was observed using an atomic force microscope (AFM), and the arithmetic average roughness (Ra) in a 1 μm square area was calculated.
[白化の有無]
透明積層フィルムに白もやがあるかどうかを目視にて確認した。
[Presence of whitening]
It was visually confirmed whether the transparent laminated film had white haze.
[透明電極層との密着性]
実施例1〜7及び比較例1〜7に係る透明積層フィルムのIM層上に、スパッタリング法によりITOを厚み22nmで成膜し、成膜後に150℃でアニール処理を行って、透明電極層を積層した。透明電極層の積層後、JIS K5600−5−6に準拠してクロスカット試験を行い、剥離せずに残存した透明電極層の面積の割合を求めた。
[Adhesion with transparent electrode layer]
On the IM layer of the transparent laminated film according to Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 to 7, ITO was formed into a film with a thickness of 22 nm by a sputtering method, and after the film formation, an annealing treatment was performed at 150 ° C. Laminated. After lamination of the transparent electrode layer, a cross-cut test was performed in accordance with JIS K5600-5-6, and the ratio of the area of the transparent electrode layer remaining without peeling was determined.
[ヘーズ]
ヘーズは、JIS K 7105に準拠し、ヘーズメーター(NDH2000、日本電色工業株式会社)を用いて測定した。
[Haze]
Haze was measured according to JIS K 7105 using a haze meter (NDH2000, Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.).
[低屈折率層の膜厚]
分光光度計(U−4100、株式会社日立製作所)を用いて反射分光を測定し、薄膜計算ソフトウェア「Essential Macleod」を用いたシミュレーションにより、低屈折率層の膜厚を算出した。
[Thickness of low refractive index layer]
Reflection spectroscopy was measured using a spectrophotometer (U-4100, Hitachi, Ltd.), and the film thickness of the low refractive index layer was calculated by simulation using thin film calculation software “Essential Macleod”.
表1に、実施例1〜7及び比較例1〜7に係る透明積層フィルムの作成に用いた塗液の組成と、上述した評価項目の評価結果とを示す。 In Table 1, the composition of the coating liquid used for preparation of the transparent laminated film which concerns on Examples 1-7 and Comparative Examples 1-7 and the evaluation result of the evaluation item mentioned above are shown.
表1に示すように、実施例1〜7に係る透明積層フィルムは、いずれも表面平滑性、透明性、透明電極層との密着性に優れていた。また、実施例1〜7に係る透明積層フィルムのIM層上に透明電極層を形成しても着色が見られなかった。更に、実施例1〜7に係る透明積層フィルムの評価結果から、本発明に係る透明積層フィルムの製造方法によれば、1回の塗液の塗工プロセスによって高屈折率層と低屈折率層を作り分けることができ、透明積層フィルム全体で膜厚のバラツキが抑制されることが確認された。 As shown in Table 1, all of the transparent laminated films according to Examples 1 to 7 were excellent in surface smoothness, transparency, and adhesion with the transparent electrode layer. Moreover, coloring was not seen even if it formed the transparent electrode layer on the IM layer of the transparent laminated film which concerns on Examples 1-7. Furthermore, from the evaluation results of the transparent laminated films according to Examples 1 to 7, according to the method for producing a transparent laminated film according to the present invention, the high refractive index layer and the low refractive index layer are formed by a single coating liquid coating process. It was confirmed that variation in film thickness was suppressed throughout the transparent laminated film.
これに対して、比較例1〜3に係る透明積層フィルムは、220〜280nmの光の反射率が3.3〜6.5%の範囲から外れているため、透明電極層形成後に黄色または青色を呈し、透明導電性フィルムの用途には適していなかった。 On the other hand, the transparent laminated films according to Comparative Examples 1 to 3 have a light reflectance of 220 to 280 nm that is out of the range of 3.3 to 6.5%. It was not suitable for the use of a transparent conductive film.
また、比較例4及び5では、IM層形成用塗液に添加するレベリング剤としてフルオロ基を有する化合物を用いたため、フルオロ基によってアクリルポリマーや溶剤との相溶性が低下し、海島構造が形成されたことにより、IM層表面の平滑性が低下し、かつ、IM層の白化が生じた。また、表面平滑性が低下したことにより、透明電極層との密着性も悪かった。 In Comparative Examples 4 and 5, since a compound having a fluoro group was used as a leveling agent to be added to the IM layer forming coating solution, the compatibility with the acrylic polymer or the solvent was lowered by the fluoro group, and a sea-island structure was formed. As a result, the smoothness of the surface of the IM layer was lowered, and whitening of the IM layer occurred. Moreover, adhesiveness with a transparent electrode layer was also bad because surface smoothness fell.
また、比較例6では、高屈折率層と低屈折率層とを別の塗工プロセスにより形成したものであるが、低屈折率層の膜厚が22nm程度と薄いため、塗工時の膜厚制御が困難であり、膜厚がバラツキ、220〜280nmの光の平均反射率の変動係数が相対的に大きくなった。また、比較例6に係る透明積層フィルムの製造方法では、2回の塗工プロセスでIM層を形成するため、製造コストや製造効率も悪くなった。 In Comparative Example 6, the high refractive index layer and the low refractive index layer are formed by different coating processes. However, since the film thickness of the low refractive index layer is as thin as about 22 nm, Thickness control was difficult, the film thickness varied, and the variation coefficient of the average reflectance of light of 220 to 280 nm was relatively large. Moreover, in the manufacturing method of the transparent laminated film which concerns on the comparative example 6, in order to form IM layer by two coating processes, manufacturing cost and manufacturing efficiency also worsened.
また、比較例7では、低屈折率層を設けていないため、220〜280nmの光の反射率が3.3〜6.5%の範囲から外れ、透明電極層形成後に黄色を呈し、透明導電性フィルムの用途には適していなかった。 Further, in Comparative Example 7, since the low refractive index layer is not provided, the reflectance of light at 220 to 280 nm is out of the range of 3.3 to 6.5%, and yellow is formed after the transparent electrode layer is formed. The film was not suitable for use as a protective film.
図4、5、6及び7は、実施例1、実施例2、比較例2及び比較例7に係る透明積層フィルムの反射スペクトルを示すグラフである。図4〜7において、(a)は、200〜800nmの波長範囲において、1nmずつ波長を変化させながら測定した反射率をプロットしたグラフであり、(b)は、(a)に示す200〜300nmの範囲の拡大図である。 4, 5, 6 and 7 are graphs showing the reflection spectra of the transparent laminated films according to Example 1, Example 2, Comparative Example 2 and Comparative Example 7. FIG. 4 to 7, (a) is a graph plotting the reflectance measured while changing the wavelength by 1 nm in the wavelength range of 200 to 800 nm, and (b) is 200 to 300 nm shown in (a). It is an enlarged view of the range.
図4及び5に示す実施例1及び2に係る透明積層フィルムの反射スペクトルでは、220〜280nmの光の反射率が3.3〜6.5%の範囲に収まっている。これに対して、図6に示す比較例2に係る透明積層フィルムの反射スペクトルでは、220〜280nmの光の反射率が3.0〜3.5%であり、好ましい反射率よりも低く、図7に示す比較例7に係る透明積層フィルムの反射スペクトルでは、220〜280nmの光の反射率が7.2〜9.0%であり、好ましい反射率よりも高くなっていることが分かる。 In the reflection spectrum of the transparent laminated film according to Examples 1 and 2 shown in FIGS. 4 and 5, the reflectance of light at 220 to 280 nm is within the range of 3.3 to 6.5%. On the other hand, in the reflection spectrum of the transparent laminated film according to Comparative Example 2 shown in FIG. 6, the reflectance of light at 220 to 280 nm is 3.0 to 3.5%, which is lower than the preferred reflectance. In the reflection spectrum of the transparent laminated film according to Comparative Example 7 shown in FIG. 7, the reflectance of light at 220 to 280 nm is 7.2 to 9.0%, which is higher than the preferred reflectance.
本発明は、タッチパネルに使用される透明導電性フィルムに利用できる。 The present invention can be used for a transparent conductive film used for a touch panel.
1 画像表示装置
2 画像表示パネル
3 タッチパネル
4 バックライト
5 偏光板
6 液晶パネル
7 偏光板
8 接着層
9a、9b 透明導電性フィルム
10 接着層
11 接着層
12 カバーガラス
15a、15b 透明積層フィルム
16 インデックスマッチング層(IM層)
20 高屈折率層
21 低屈折率層
22 透明基材
23 透明電極層
24 ハードコート層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1
20 High
Claims (6)
一辺が1μm四方の微小領域における算術平均粗さ(Ra)が0.7nm/μm□未満であり、
220〜280nmの光の反射率が3.3〜6.5%であり、
220〜280nmの光の平均反射率の変動係数が15%以下であることを特徴とする透明積層フィルム。 In a transparent laminated film having an index matching layer in which a high refractive index layer and a low refractive index layer are laminated in this order on one surface of a transparent substrate,
Arithmetic mean roughness (Ra) in a minute region of 1 μm square is less than 0.7 nm / μm □,
The reflectance of 220-280 nm light is 3.3-6.5%,
A transparent laminated film having a coefficient of variation of an average reflectance of light of 220 to 280 nm of 15% or less.
ヘーズが0.5%未満であることを特徴とする、請求項1記載の透明積層フィルム。 On the surface opposite to the surface on which the index matching layer of the transparent substrate is laminated, a hard coat layer is further provided,
The transparent laminated film according to claim 1, wherein the haze is less than 0.5%.
前記透明積層フィルムの前記低屈折率層上に積層された透明電極層とを備える、透明導電性フィルム。 The transparent laminated film according to claim 1 or 2,
A transparent conductive film comprising: a transparent electrode layer laminated on the low refractive index layer of the transparent laminated film.
前記透明基材の前記一方の面に、高屈折率微粒子、アクリルモノマー、レベリング剤、光重合開始剤、溶剤を含有する塗液を塗工し、塗膜を光硬化させることによって前記インデックスマッチング層を形成し、
前記アクリルモノマーが、ウレタン結合、ヒドロキシル基、芳香環、アミノ基、カルボキシル基、リン酸エステルのいずれかを1つ以上有し、
前記レベリング剤が、下記一般式(1)で表される繰り返し構造を持つアクリルポリマーである、透明積層フィルムの製造方法。
The index matching layer is formed by coating a coating liquid containing high refractive index fine particles, an acrylic monomer, a leveling agent, a photopolymerization initiator, and a solvent on the one surface of the transparent substrate, and photocuring the coating film. Form the
The acrylic monomer has at least one of a urethane bond, a hydroxyl group, an aromatic ring, an amino group, a carboxyl group, and a phosphate ester,
The method for producing a transparent laminated film, wherein the leveling agent is an acrylic polymer having a repeating structure represented by the following general formula (1).
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2020056019A (en) * | 2018-09-26 | 2020-04-09 | 荒川化学工業株式会社 | Active energy ray-curable resin composition, cured product, and laminate |
JP2021091194A (en) * | 2019-12-12 | 2021-06-17 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | Transparent conductive film, optical member, and electronic apparatus |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007293313A (en) * | 2006-03-30 | 2007-11-08 | Fujifilm Corp | Coating composition, optical film, polarizing plate, image display device and method for manufacturing optical film |
JP2012066481A (en) * | 2010-09-24 | 2012-04-05 | Nippon Zeon Co Ltd | Laminated film having hard coat layer, and laminated film for touch panel |
JP2014119475A (en) * | 2012-12-13 | 2014-06-30 | Toray Advanced Film Co Ltd | Base film of transparent conductive film for touch panel, and transparent conductive film for touch panel |
JP2015062070A (en) * | 2009-11-12 | 2015-04-02 | 凸版印刷株式会社 | Antireflection film and anti-reflection film manufacturing method |
WO2016002169A1 (en) * | 2014-07-01 | 2016-01-07 | グンゼ株式会社 | Transparent conductive laminate, touchscreen, and method for manufacturing transparent conductive laminate |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003080624A (en) * | 2001-09-07 | 2003-03-19 | Nof Corp | Transparent conducting material and touch panel |
JP5574253B1 (en) * | 2013-10-08 | 2014-08-20 | 大日本印刷株式会社 | Laminated body and touch panel sensor |
CN106132686B (en) * | 2014-03-25 | 2018-02-13 | 东丽株式会社 | Laminated body, transparent conductive laminate and touch panel |
-
2016
- 2016-02-12 JP JP2016025055A patent/JP6603595B2/en active Active
-
2017
- 2017-02-09 CN CN201710071026.9A patent/CN107082901B/en active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007293313A (en) * | 2006-03-30 | 2007-11-08 | Fujifilm Corp | Coating composition, optical film, polarizing plate, image display device and method for manufacturing optical film |
JP2015062070A (en) * | 2009-11-12 | 2015-04-02 | 凸版印刷株式会社 | Antireflection film and anti-reflection film manufacturing method |
JP2012066481A (en) * | 2010-09-24 | 2012-04-05 | Nippon Zeon Co Ltd | Laminated film having hard coat layer, and laminated film for touch panel |
JP2014119475A (en) * | 2012-12-13 | 2014-06-30 | Toray Advanced Film Co Ltd | Base film of transparent conductive film for touch panel, and transparent conductive film for touch panel |
WO2016002169A1 (en) * | 2014-07-01 | 2016-01-07 | グンゼ株式会社 | Transparent conductive laminate, touchscreen, and method for manufacturing transparent conductive laminate |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2020056019A (en) * | 2018-09-26 | 2020-04-09 | 荒川化学工業株式会社 | Active energy ray-curable resin composition, cured product, and laminate |
JP7160008B2 (en) | 2018-09-26 | 2022-10-25 | 荒川化学工業株式会社 | Active energy ray-curable resin composition, cured product and laminate |
JP2021091194A (en) * | 2019-12-12 | 2021-06-17 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | Transparent conductive film, optical member, and electronic apparatus |
KR20210075016A (en) * | 2019-12-12 | 2021-06-22 | 토요잉크Sc홀딩스주식회사 | Transparent conductive film, patterned transparent conductive film, optical member, and electronic device |
KR102616175B1 (en) | 2019-12-12 | 2023-12-20 | 토요잉크Sc홀딩스주식회사 | Transparent conductive film, patterned transparent conductive film, optical member, and electronic device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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