JP2017121744A - Light-transmitting conductive film laminate - Google Patents

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義一 北島
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Takamaro Kakehi
鷹麿 筧
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元 野世渓
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a light-transmitting conductive film laminate having excellent flex resistance.SOLUTION: A light-transmitting conductive film laminate 1 has a light-transmitting conductive film 2, an adhesive layer 3 and a protection film 4, the light-transmitting conductive film 2 has a conductive layer 6, a first hard coat layer 7, a first substrate film 5 and a second hard coat layer 8, the protection film 4 has a second substrate film 9 and an oligomer prevention layer 10, the first and second hard coat layers 7,8 each have a thickness of 0.5 μm or more and 3.0 μm or less, the oligomer prevention layer 10 has a thickness of 0.01 μm or more and 0.1 μm or less, the first and second hard coat layers 7,8 each have a pencil hardness of 5B or more and 3B or less, the oligomer prevention layer 10 has a pencil hardness of F or more and 2H or less, and the adhesive layer 3 has a storage elastic modulus of 4.0×10Pa or more and 2.0×10Pa or less.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、光透過性及び導電性を有する光透過性導電フィルムの上に、保護フィルムが配置されている光透過性導電フィルム積層体に関する。   The present invention relates to a light transmissive conductive film laminate in which a protective film is disposed on a light transmissive conductive film having light transmissive and conductive properties.

近年、スマートフォン、携帯電話、ノートパソコン、タブレットPC、複写機又はカーナビゲーションなどの電子機器において、タッチパネル式の液晶表示装置が、広く用いられている。このような液晶表示装置では、基材フィルム上に透明導電層が積層された光透過性導電フィルムが用いられている。また、基材フィルムの上記透明導電層とは反対側の面には、保護フィルムが設けられることがある。保護フィルムを設けることにより、上記基材フィルムの透明導電層とは反対側の面の汚染や損傷が防止されている。   In recent years, touch panel liquid crystal display devices have been widely used in electronic devices such as smartphones, mobile phones, notebook computers, tablet PCs, copiers, and car navigation systems. In such a liquid crystal display device, a light transmissive conductive film in which a transparent conductive layer is laminated on a base film is used. Moreover, the protective film may be provided in the surface on the opposite side to the said transparent conductive layer of a base film. By providing the protective film, the surface of the base film opposite to the transparent conductive layer is prevented from being contaminated or damaged.

下記の特許文献1には、基材フィルムの透明導電層とは反対側の面に、粘着剤層を介して、保護フィルムが貼り合わされた光透過性導電フィルム積層体が開示されている。特許文献1では、上記粘着剤層の貯蔵弾性率が、2.0×10Pa以上、1.0×10Pa未満であることが記載されている。 Patent Document 1 below discloses a light-transmitting conductive film laminate in which a protective film is bonded to a surface of a base film opposite to the transparent conductive layer via an adhesive layer. Patent Document 1 describes that the storage elastic modulus of the pressure-sensitive adhesive layer is 2.0 × 10 5 Pa or more and less than 1.0 × 10 7 Pa.

特許第5529720号公報Japanese Patent No. 5529720

特許文献1のような光透過性導電フィルム積層体は、検査時や、使用時において、屈曲されることがある。光透過性導電フィルム積層体が屈曲されると、導電層にクラックが生じることがある。導電層にクラックが生じると、シート抵抗(フィルムの抵抗)が大きくなるという問題がある。   The light-transmitting conductive film laminate as in Patent Document 1 may be bent at the time of inspection or use. If the light-transmitting conductive film laminate is bent, a crack may occur in the conductive layer. When a crack occurs in the conductive layer, there is a problem that sheet resistance (film resistance) increases.

本発明の目的は、耐屈曲性に優れる、光透過性導電フィルム積層体を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a light-transmitting conductive film laminate having excellent bending resistance.

本発明の広い局面によれば、光透過性及び導電性を有する、光透過性導電フィルムと、前記光透過性導電フィルムの表面上に積層された、粘着剤層と、前記粘着剤層の前記光透過性導電フィルムとは反対側の表面上に積層された、保護フィルムと、を備え、前記光透過性導電フィルムが、導電層と、前記導電層の表面上に配置された第1のハードコート層と、前記第1のハードコート層の前記導電層とは反対側の表面上に配置された第1の基材フィルムと、前記第1の基材フィルムの前記第1のハードコート層とは反対側の表面上に配置された第2のハードコート層と、を有し、前記保護フィルムが、前記粘着剤層とは反対側に配置された第2の基材フィルムと、前記第2の基材フィルムの表面上に配置されており、かつ前記粘着剤層側に配置されたオリゴマー防止層と、を有し、前記第1のハードコート層の厚みが、0.5μm以上、3.0μm以下であり、前記第2のハードコート層の厚みが、0.5μm以上、3.0μm以下であり、前記オリゴマー防止層の厚みが、0.01μm以上、0.1μm以下であり、前記第1のハードコート層の鉛筆硬度が、5B以上、3B以下であり、前記第2のハードコート層の鉛筆硬度が、5B以上、3B以下であり、前記オリゴマー防止層の鉛筆硬度が、F以上、2H以下であり、前記粘着剤層の周波数1Hz、かつ温度23℃における貯蔵弾性率が、4.0×10Pa以上、2.0×10Pa以下である、光透過性導電フィルム積層体が提供される。 According to a wide aspect of the present invention, a light-transmitting conductive film having light transmittance and conductivity, a pressure-sensitive adhesive layer laminated on the surface of the light-transmitting conductive film, and the pressure-sensitive adhesive layer A protective film laminated on a surface opposite to the light transmissive conductive film, wherein the light transmissive conductive film is disposed on the surface of the conductive layer and the conductive layer. A coating layer; a first base film disposed on a surface of the first hard coat layer opposite to the conductive layer; and the first hard coat layer of the first base film; Has a second hard coat layer disposed on the surface on the opposite side, and the protective film has a second base film disposed on the opposite side to the pressure-sensitive adhesive layer, and the second Arranged on the surface of the base film and disposed on the adhesive layer side. An oligomer prevention layer, wherein the thickness of the first hard coat layer is 0.5 μm or more and 3.0 μm or less, and the thickness of the second hard coat layer is 0.5 μm or more, 3.0 μm or less, the thickness of the oligomer prevention layer is 0.01 μm or more and 0.1 μm or less, the pencil hardness of the first hard coat layer is 5B or more and 3B or less, and the second The pencil hardness of the hard coat layer is 5B or more and 3B or less, the pencil hardness of the oligomer prevention layer is F or more and 2H or less, and the storage elastic modulus at a frequency of 1 Hz and a temperature of 23 ° C. Is provided with a light-transmitting conductive film laminate having 4.0 × 10 4 Pa or more and 2.0 × 10 5 Pa or less.

本発明に係る光透過性導電フィルム積層体のある特定の局面では、前記第1のハードコート層が、樹脂部及びフィラーを有する。   On the specific situation with the transparent electroconductive film laminated body which concerns on this invention, a said 1st hard-coat layer has a resin part and a filler.

本発明に係る光透過性導電フィルム積層体のある特定の局面では、前記第2のハードコート層が、樹脂部及びフィラーを有する。   On the specific situation with the transparent electroconductive film laminated body which concerns on this invention, a said 2nd hard-coat layer has a resin part and a filler.

本発明に係る光透過性導電フィルム積層体は、液晶表示装置に好適に用いられる。   The light-transmitting conductive film laminate according to the present invention is suitably used for a liquid crystal display device.

本発明に係る光透過性導電フィルム積層体は、上記の構成を備えているので、耐屈曲性に優れている。耐屈曲性に優れているので、導電層にクラックが生じ難く、シート抵抗が上昇し難い。従って、本発明の光透過性導電フィルム積層体は、信頼性に優れている。   Since the light transmissive conductive film laminate according to the present invention has the above-described configuration, it has excellent bending resistance. Since it is excellent in bending resistance, it is difficult for cracks to occur in the conductive layer and sheet resistance is unlikely to increase. Therefore, the light transmissive conductive film laminate of the present invention is excellent in reliability.

図1は、本発明の一実施形態に係る光透過性導電フィルム積層体の模式的断面図である。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a light transmissive conductive film laminate according to an embodiment of the present invention. 図2は、耐屈曲性の評価方法を説明するための概略構成図である。FIG. 2 is a schematic configuration diagram for explaining a bending resistance evaluation method.

以下、本発明を詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail.

本発明に係る光透過性導電フィルム積層体は、光透過性導電フィルム、粘着剤層及び保護フィルムを備える。上記光透過性導電フィルムの表面上に、粘着剤層が積層されている。上記粘着剤層の上記光透過性導電フィルムとは反対側の表面上に、保護フィルムが積層されている。   The light transmissive conductive film laminate according to the present invention includes a light transmissive conductive film, a pressure-sensitive adhesive layer, and a protective film. An adhesive layer is laminated on the surface of the light transmissive conductive film. The protective film is laminated | stacked on the surface on the opposite side to the said light transmissive conductive film of the said adhesive layer.

上記光透過性導電フィルムは、導電層、第1のハードコート層、第1の基材フィルム及び第2のハードコート層を有する。上記導電層の表面上に、上記第1のハードコート層、上記第1の基材フィルム、上記第2のハードコート層がこの順に配置されている。   The light transmissive conductive film includes a conductive layer, a first hard coat layer, a first base film, and a second hard coat layer. On the surface of the conductive layer, the first hard coat layer, the first base film, and the second hard coat layer are arranged in this order.

上記保護フィルムは、第2の基材フィルムと、オリゴマー防止層とを備える。上記第2の基材フィルムは、上記粘着剤層とは反対側に配置されている。上記第2の基材フィルムの表面上に、オリゴマー防止層が積層されている。上記オリゴマー防止層は、上記粘着剤層側に配置され、上記粘着剤層と接している。   The protective film includes a second base film and an oligomer prevention layer. The second base film is disposed on the side opposite to the pressure-sensitive adhesive layer. An oligomer prevention layer is laminated on the surface of the second base film. The said oligomer prevention layer is arrange | positioned at the said adhesive layer side, and is in contact with the said adhesive layer.

本発明の光透過性導電フィルム積層体において、上記第1のハードコート層の厚みは、0.5μm以上、3.0μm以下である。上記第2のハードコート層の厚みは、0.5μm以上、3.0μm以下である。上記オリゴマー防止層の厚みは、0.01μm以上、0.1μm以下である。上記第1のハードコート層の鉛筆硬度は、5B以上、3B以下である。上記第2のハードコート層の鉛筆硬度は、5B以上、3B以下である。上記オリゴマー防止層の鉛筆硬度は、F以上、2H以下である。また、上記粘着剤層の周波数1Hz、かつ温度23℃における貯蔵弾性率は、4.0×10Pa以上、2.0×10Pa以下である。 In the light transmissive conductive film laminate of the present invention, the thickness of the first hard coat layer is 0.5 μm or more and 3.0 μm or less. The thickness of the second hard coat layer is not less than 0.5 μm and not more than 3.0 μm. The oligomer prevention layer has a thickness of 0.01 μm or more and 0.1 μm or less. The pencil hardness of the first hard coat layer is 5B or more and 3B or less. The pencil hardness of the second hard coat layer is 5B or more and 3B or less. The pencil hardness of the oligomer prevention layer is F or more and 2H or less. The storage elastic modulus at a frequency of 1 Hz and a temperature of 23 ° C. of the pressure-sensitive adhesive layer is 4.0 × 10 4 Pa or more and 2.0 × 10 5 Pa or less.

本発明の光透過性導電フィルム積層体は、上記の構成を備えているので、耐屈曲性に優れている。また、本発明の光透過性導電フィルム積層体は、耐屈曲性に優れているので、検査時や、使用時において、屈曲された場合においても、導電層にクラックなどが生じ難く、シート抵抗が上昇し難い。従って、本発明の光透過性導電フィルム積層体は、信頼性に優れている。   Since the light transmissive conductive film laminate of the present invention has the above-described configuration, it has excellent bending resistance. In addition, since the light-transmitting conductive film laminate of the present invention is excellent in bending resistance, cracks or the like hardly occur in the conductive layer even when bent at the time of inspection or use, and the sheet resistance is low. It is hard to rise. Therefore, the light transmissive conductive film laminate of the present invention is excellent in reliability.

また、本発明に係る光透過性導電フィルム積層体は、検査時や、使用時において、屈曲されても、シート抵抗が上昇し難いので、光透過性導電フィルム積層体を液晶表示装置に用いた場合、品質や信頼性を高めることができる。よって、光透過性導電フィルム積層体は、液晶表示装置に好適に用いることができ、タッチパネルにより好適に用いることができる。   In addition, the light-transmitting conductive film laminate is used in a liquid crystal display device because the sheet resistance hardly increases even when the light-transmitting conductive film laminate according to the present invention is bent during inspection or use. If so, quality and reliability can be improved. Therefore, the light-transmitting conductive film laminate can be suitably used for a liquid crystal display device, and can be suitably used for a touch panel.

以下、図面を参照しつつ、本発明の具体的な実施形態を説明する。   Hereinafter, specific embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

図1は、本発明の一実施形態に係る光透過性導電フィルム積層体の模式的断面図である。 図1に示すように、光透過性導電フィルム積層体1は、光透過性導電フィルム2、粘着剤層3及び保護フィルム4を備える。光透過性導電フィルム2上に、粘着剤層3及び保護フィルム4がこの順に配置され、積層されている。   FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a light transmissive conductive film laminate according to an embodiment of the present invention. As shown in FIG. 1, the light transmissive conductive film laminate 1 includes a light transmissive conductive film 2, an adhesive layer 3, and a protective film 4. An adhesive layer 3 and a protective film 4 are arranged and laminated in this order on the light transmissive conductive film 2.

光透過性導電フィルム2は、光透過性及び導電性を有するフィルムである。光透過性導電フィルム2は、導電層6、第1のハードコート層7、第1の基材フィルム5及び第2のハードコート層8を有する。導電層6の表面上に、第1のハードコート層7、第1の基材フィルム5、第2のハードコート層8がこの順に配置され、積層されている。   The light transmissive conductive film 2 is a film having light transmittance and conductivity. The light transmissive conductive film 2 includes a conductive layer 6, a first hard coat layer 7, a first base film 5, and a second hard coat layer 8. On the surface of the conductive layer 6, the first hard coat layer 7, the first base film 5, and the second hard coat layer 8 are arranged and laminated in this order.

第1の基材フィルム5は、光透過性の高い材料により構成されている。第1の基材フィルム5は、第1の表面5a及び第2の表面5bを有する。第1の表面5aと、第2の表面5bとは、互いに対向している。第1の表面5a上に、第1のハードコート層7及び導電層6がこの順に配置され、積層されている。第1の表面5aは、導電層6が配置される側の表面である。第1の基材フィルム5は、導電層6と保護フィルム4との間に配置される部材であり、導電層6の支持部材である。第1のハードコート層7は、特定の上記厚み及び上記鉛筆硬度を満足する。   The first base film 5 is made of a material having high light transmittance. The first base film 5 has a first surface 5a and a second surface 5b. The first surface 5a and the second surface 5b are opposed to each other. On the first surface 5a, the first hard coat layer 7 and the conductive layer 6 are arranged and laminated in this order. The first surface 5a is a surface on the side where the conductive layer 6 is disposed. The first base film 5 is a member disposed between the conductive layer 6 and the protective film 4 and is a support member for the conductive layer 6. The first hard coat layer 7 satisfies the specific thickness and the pencil hardness.

光透過性導電フィルム2は、第1のハードコート層7の表面上において、導電層6がある部分と、導電層6がない部分とを有する。導電層6は、第1のハードコート層7の第1の基材フィルム5とは反対側の表面全体に形成されていてもよい。なお、本発明においては、第1のハードコート層7の上に、アンダーコート層を介して、導電層6が設けられていてもよい。アンダーコート層は、例えば、屈折率調整層である。   The light transmissive conductive film 2 has a portion with the conductive layer 6 and a portion without the conductive layer 6 on the surface of the first hard coat layer 7. The conductive layer 6 may be formed on the entire surface of the first hard coat layer 7 opposite to the first base film 5. In the present invention, the conductive layer 6 may be provided on the first hard coat layer 7 via an undercoat layer. The undercoat layer is, for example, a refractive index adjustment layer.

第1の基材フィルム5の第2の表面5b上に、第2のハードコート層8が配置され、積層されている。第2の表面5bは、粘着剤層3及び保護フィルム4が配置される側の表面である。第2のハードコート層8の第1の基材フィルム5とは反対側に、粘着剤層3が配置され、積層されている。第2のハードコート層8は、特定の上記厚み及び上記鉛筆硬度を満足する。   A second hard coat layer 8 is disposed and laminated on the second surface 5 b of the first base film 5. The second surface 5b is a surface on the side where the pressure-sensitive adhesive layer 3 and the protective film 4 are arranged. The pressure-sensitive adhesive layer 3 is disposed and laminated on the opposite side of the second hard coat layer 8 from the first base film 5. The second hard coat layer 8 satisfies the specific thickness and the pencil hardness.

粘着剤層3は、光透過性を有している。粘着剤層3は、特定の上記貯蔵弾性率を満足する。粘着剤層3の光透過性導電フィルム2とは反対側に、保護フィルム4が配置され、積層されている。   The pressure-sensitive adhesive layer 3 has light transmittance. The pressure-sensitive adhesive layer 3 satisfies the specific storage elastic modulus. A protective film 4 is disposed and laminated on the side of the pressure-sensitive adhesive layer 3 opposite to the light transmissive conductive film 2.

保護フィルム4を設けることで、粘着剤層3の光透過性導電フィルム2とは反対側の表面を保護している。また、保護フィルム4及び粘着剤層3を設けることで、光透過性導電フィルム2の第2のハードコート層8側の表面を保護している。   By providing the protective film 4, the surface of the pressure-sensitive adhesive layer 3 opposite to the light transmissive conductive film 2 is protected. In addition, by providing the protective film 4 and the pressure-sensitive adhesive layer 3, the surface of the light transmissive conductive film 2 on the second hard coat layer 8 side is protected.

保護フィルム4は、第2の基材フィルム9と、オリゴマー防止層10とを備える。第2の基材フィルム9は、粘着剤層3とは反対側に配置されている。第2の基材フィルム9の表面上に、オリゴマー防止層10が配置され、積層されている。オリゴマー防止層10は、粘着剤層3側に配置され、粘着剤層3と接している。オリゴマー防止層10は、特定の上記厚み及び上記鉛筆硬度を満足する。   The protective film 4 includes a second base film 9 and an oligomer prevention layer 10. The second base film 9 is disposed on the side opposite to the pressure-sensitive adhesive layer 3. On the surface of the second base film 9, the oligomer prevention layer 10 is disposed and laminated. The oligomer prevention layer 10 is disposed on the pressure-sensitive adhesive layer 3 side and is in contact with the pressure-sensitive adhesive layer 3. The oligomer prevention layer 10 satisfies the specific thickness and the pencil hardness.

次に、図1に示す光透過性導電フィルム積層体1の製造方法の一例を説明する。   Next, an example of the manufacturing method of the transparent conductive film laminated body 1 shown in FIG. 1 is demonstrated.

光透過性導電フィルム積層体1は、例えば、以下の方法により作製することができる。   The light transmissive conductive film laminate 1 can be produced, for example, by the following method.

第1の基材フィルム5の第1の表面5a上に、第1のハードコート層7を形成する。具体的には、樹脂に紫外線硬化樹脂を用いる場合は、光硬化性モノマー及び光開始剤を、希釈剤中で撹拌して塗工液を作製する。得られた塗工液を第1の基材フィルム5の第1の表面5a上に塗布し、紫外線を照射して樹脂を硬化させ第1のハードコート層7を形成する。   A first hard coat layer 7 is formed on the first surface 5 a of the first base film 5. Specifically, when an ultraviolet curable resin is used as the resin, a photocurable monomer and a photoinitiator are stirred in a diluent to prepare a coating solution. The obtained coating liquid is applied onto the first surface 5 a of the first base film 5, and the resin is cured by irradiating ultraviolet rays to form the first hard coat layer 7.

続いて、第1の基材フィルム5の第2の表面5b上に、第2のハードコート層8を形成する。具体的には、樹脂に紫外線硬化樹脂を用いる場合は、光硬化性モノマー及び光開始剤を希釈剤中で撹拌して塗工液を作製する。得られた塗工液を第1の基材フィルム5の第2の表面5bに塗布し、紫外線を照射して樹脂を硬化させて、第2のハードコート層8を形成する。   Subsequently, the second hard coat layer 8 is formed on the second surface 5 b of the first base film 5. Specifically, when an ultraviolet curable resin is used as the resin, a photocurable monomer and a photoinitiator are stirred in a diluent to prepare a coating solution. The obtained coating liquid is applied to the second surface 5 b of the first base film 5, and the resin is cured by irradiating ultraviolet rays to form the second hard coat layer 8.

次に、第2のハードコート層8の第1の基材フィルム5とは反対側の表面上に、粘着剤層3を形成する。例えば、(メタ)アクリル粘着剤により、粘着剤層3を形成する場合は、(メタ)アクリル重合体及び架橋剤に、必要に応じて粘着付与樹脂等を加え、また溶剤を加えて粘着剤の溶液を作製する。この粘着剤の溶液を、第2のハードコート層8の第1の基材フィルム5とは反対側の表面上に塗布する。溶液中の溶剤を乾燥除去するとともに、(メタ)アクリル重合体の架橋を進行させ粘着剤層3を形成する。   Next, the pressure-sensitive adhesive layer 3 is formed on the surface of the second hard coat layer 8 opposite to the first base film 5. For example, when forming the pressure-sensitive adhesive layer 3 with a (meth) acrylic pressure-sensitive adhesive, a tackifying resin or the like is added to the (meth) acrylic polymer and the crosslinking agent as necessary, and a solvent is added to the pressure-sensitive adhesive layer. Make a solution. This adhesive solution is applied on the surface of the second hard coat layer 8 opposite to the first base film 5. While the solvent in the solution is removed by drying, the crosslinking of the (meth) acrylic polymer is advanced to form the pressure-sensitive adhesive layer 3.

続いて、粘着剤層3の第2のハードコート層8とは反対側の表面に保護フィルム4を配置する。保護フィルム4は、オリゴマー防止層10側から、粘着剤層3の表面に貼り合わせることにより配置する。オリゴマー防止層10は、第2の基材フィルム9の表面上に、例えば、塗工法、スプレー法、スピンコート法、蒸着法又はスパッタリング法を用いて、形成することができる。   Subsequently, the protective film 4 is disposed on the surface of the pressure-sensitive adhesive layer 3 opposite to the second hard coat layer 8. The protective film 4 is arrange | positioned by bonding together on the surface of the adhesive layer 3 from the oligomer prevention layer 10 side. The oligomer prevention layer 10 can be formed on the surface of the second base film 9 by using, for example, a coating method, a spray method, a spin coating method, a vapor deposition method or a sputtering method.

次に、第1のハードコート層7上に、導電層6を形成することにより、光透過性導電フィルム積層体1を作製することができる。   Next, by forming the conductive layer 6 on the first hard coat layer 7, the light transmissive conductive film laminate 1 can be produced.

導電層の形成方法としては、特に限定されない。例えば、蒸着又はスパッタリングにより形成した金属膜をエッチングする方法や、スクリーン印刷又はインクジェット印刷などの各種印刷方法、並びにレジストを用いたフォトリソグラフィー法等の公知のパターニング方法等を用いることができる。形成した導電層は、アニール処理により結晶性を高めて用いられることが好ましい。   The method for forming the conductive layer is not particularly limited. For example, a method of etching a metal film formed by vapor deposition or sputtering, various printing methods such as screen printing or inkjet printing, and a known patterning method such as a photolithography method using a resist can be used. The formed conductive layer is preferably used with its crystallinity enhanced by annealing treatment.

光透過性導電フィルム積層体1は、保護フィルム4を積層したまま使用してもよいし、保護フィルム4を剥がして使用してもよい。   The light transmissive conductive film laminate 1 may be used with the protective film 4 laminated, or may be used after the protective film 4 is peeled off.

以下、光透過性導電フィルム積層体を構成する各層の詳細を説明する。   Hereinafter, the detail of each layer which comprises a transparent conductive film laminated body is demonstrated.

(光透過性導電フィルム)
光透過性導電フィルムの全体の厚みは、好ましくは50μm以上、より好ましくは100μm以上、好ましくは300μm以下、より好ましくは200μm以下である。
(Light transmissive conductive film)
The total thickness of the light transmissive conductive film is preferably 50 μm or more, more preferably 100 μm or more, preferably 300 μm or less, more preferably 200 μm or less.

第1の基材フィルム;
第1の基材フィルムの厚みは、好ましくは2μm以上、より好ましくは10μm以上、好ましくは100μm以下、より好ましくは50μm以下である。第1の基材フィルムの厚みが、上記下限以上及び上記上限以下である場合、耐屈曲性をより一層高めることができる。
A first substrate film;
The thickness of the first base film is preferably 2 μm or more, more preferably 10 μm or more, preferably 100 μm or less, more preferably 50 μm or less. When the thickness of the first base film is not less than the above lower limit and not more than the above upper limit, the bending resistance can be further enhanced.

第1の基材フィルムは、高い光透過性を有することが好ましい。従って、第1の基材フィルムの材料としては、特に限定されないが、例えば、ポリオレフィン、ポリエーテルサルフォン、ポリスルホン、ポリカーボネート、シクロオレフィンポリマー、ポリアリレート、ポリアミド、ポリメチルメタクリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、トリアセチルセルロース、及びセルロースナノファイバー等が挙げられる。上記第1の基材フィルムの材料は、単独で用いてもよく、複数を併用してもよい。   The first base film preferably has high light transmittance. Accordingly, the material for the first base film is not particularly limited. For example, polyolefin, polyethersulfone, polysulfone, polycarbonate, cycloolefin polymer, polyarylate, polyamide, polymethyl methacrylate, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate. , Polyethylene naphthalate, triacetyl cellulose, and cellulose nanofibers. The material for the first base film may be used alone or in combination.

また、第1の基材フィルムの光透過率に関しては、波長380〜780nmの可視光領域における平均透過率が好ましくは85%以上、より好ましくは90%以上である。   Regarding the light transmittance of the first base film, the average transmittance in the visible light region with a wavelength of 380 to 780 nm is preferably 85% or more, more preferably 90% or more.

また、第1の基材フィルムは、各種安定剤、紫外線吸収剤、可塑剤、滑剤又は着色剤を含んでいてもよい。   Moreover, the 1st base film may contain various stabilizers, a ultraviolet absorber, a plasticizer, a lubricant, or a coloring agent.

第1及び第2のハードコート層;
第1及び第2のハードコート層の厚みはそれぞれ、0.5μm以上、3.0μm以下である。また、第1及び第2のハードコート層の鉛筆硬度はそれぞれ、5B以上、3B以下である。
First and second hard coat layers;
The thicknesses of the first and second hard coat layers are 0.5 μm or more and 3.0 μm or less, respectively. The pencil hardness of the first and second hard coat layers is 5B or more and 3B or less, respectively.

上記の特定の厚み及び鉛筆硬度を有する第1及び第2のハードコート層を形成することで、光透過性導電フィルム積層体の耐屈曲性を高めることができ、光透過性導電フィルム積層体のシート抵抗を上昇し難くすることができる。具体的には、第1及び第2のハードコート層の厚み及び鉛筆硬度が上記範囲内にある場合、第1の基材フィルムが引っ張られ難くなる。第1の基材フィルムが引っ張られ難いと、導電層にクラックが生じ難くなり、光透過性導電フィルム積層体の耐屈曲性が向上する。その結果、光透過性導電フィルム積層体を屈曲させても、光透過性導電フィルム積層体のシート抵抗が上昇し難くなる。   By forming the first and second hard coat layers having the above specific thickness and pencil hardness, the bending resistance of the light transmissive conductive film laminate can be improved, The sheet resistance can be made difficult to increase. Specifically, when the thickness and pencil hardness of the first and second hard coat layers are within the above ranges, the first base film is hardly pulled. If the first base film is difficult to be pulled, cracks are unlikely to occur in the conductive layer, and the flex resistance of the light transmissive conductive film laminate is improved. As a result, even if the light transmissive conductive film laminate is bent, the sheet resistance of the light transmissive conductive film laminate is difficult to increase.

光透過性導電フィルム積層体の耐屈曲性をより一層高め、シート抵抗をより一層上昇し難くする観点から、第1及び第2のハードコート層の厚みはそれぞれ、好ましくは0.6μm以上、好ましくは2.9μm以下である。   From the viewpoint of further improving the bending resistance of the light transmissive conductive film laminate and making it difficult to further increase the sheet resistance, the thicknesses of the first and second hard coat layers are each preferably 0.6 μm or more, preferably Is 2.9 μm or less.

第1及び第2のハードコート層はそれぞれ、バインダー樹脂により構成されていることが好ましい。上記バインダー樹脂は、硬化樹脂であることが好ましい。上記硬化樹脂としては、熱硬化樹脂や、活性エネルギー線硬化樹脂などを用いることができる。生産性及び経済性を良好にする観点から、上記硬化樹脂は、紫外線硬化樹脂であることが好ましい。   Each of the first and second hard coat layers is preferably composed of a binder resin. The binder resin is preferably a cured resin. As the curable resin, a thermosetting resin, an active energy ray curable resin, or the like can be used. From the viewpoint of improving productivity and economy, the curable resin is preferably an ultraviolet curable resin.

上記紫外線硬化樹脂を形成するための光硬化性モノマーとしては、例えば、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、1,4−ブタンジオールジアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、1,4−ブタンジオールジメタクリレート、ポリ(ブタンジオール)ジアクリレート、テトラエチレングリコールジメタクリレート、1,3−ブチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、トリイソプロピレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート及びビスフェノールAジメタクリレートのようなジアクリレート化合物;トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリトリトールモノヒドロキシトリアクリレート及びトリメチロールプロパントリエトキシトリアクリレートのようなトリアクリレート化合物;ペンタエリトリトールテトラアクリレート及びジ−トリメチロールプロパンテトラアクリレートのようなテトラアクリレート化合物;並びにジペンタエリトリトール(モノヒドロキシ)ペンタアクリレートのようなペンタアクリレート化合物等が挙げられる。上記紫外線硬化樹脂としては、5官能以上の多官能アクリレートも用いてもよい。上記多官能アクリレートは、単独で用いてもよく、複数を併用してもよい。また、上記多官能アクリレート化合物に、光開始剤、光増感剤、レベリング剤、希釈剤などを添加してもよい。   Examples of the photocurable monomer for forming the ultraviolet curable resin include 1,6-hexanediol diacrylate, 1,4-butanediol diacrylate, ethylene glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, and tetraethylene glycol diacrylate. , Tripropylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, 1,4-butanediol dimethacrylate, poly (butanediol) diacrylate, tetraethylene glycol dimethacrylate, 1,3-butylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate Such as triisopropylene glycol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate and bisphenol A dimethacrylate Triacrylate compounds such as trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, pentaerythritol monohydroxytriacrylate and trimethylolpropane triethoxytriacrylate; of pentaerythritol tetraacrylate and di-trimethylolpropane tetraacrylate And tetraacrylate compounds such as dipentaerythritol (monohydroxy) pentaacrylate. As the ultraviolet curable resin, a polyfunctional acrylate having 5 or more functional groups may be used. The said polyfunctional acrylate may be used independently and may use multiple together. Moreover, you may add a photoinitiator, a photosensitizer, a leveling agent, a diluent, etc. to the said polyfunctional acrylate compound.

また、第1及び第2のハードコート層はそれぞれ、樹脂部及びフィラーにより構成されていてもよい。第1及び第2のハードコート層がフィラーを含む場合、光透過性導電フィルム積層体の耐屈曲性をより一層高めることができる。第1及び第2のハードコート層はそれぞれ、樹脂部のみによって構成されていてもよい。   Moreover, the 1st and 2nd hard-coat layer may be comprised with the resin part and the filler, respectively. When the first and second hard coat layers contain a filler, the bending resistance of the light transmissive conductive film laminate can be further enhanced. Each of the first and second hard coat layers may be constituted only by the resin portion.

上記フィラーとしては、特に限定されないが、例えば、シリカ、酸化鉄、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化チタン、二酸化ケイ素、酸化アンチモン、酸化ジルコニウム、酸化錫、酸化セリウム、インジウム−錫酸化物などの金属酸化物粒子;シリコーン、(メタ)アクリル、スチレン、メラミンなどの樹脂粒子等が挙げられる。より具体的には、架橋ポリ(メタ)アクリル酸メチルなどの樹脂粒子を用いることができる。上記フィラーは、単独で用いてもよく、複数を併用してもよい。   Examples of the filler include, but are not limited to, metal oxides such as silica, iron oxide, aluminum oxide, zinc oxide, titanium oxide, silicon dioxide, antimony oxide, zirconium oxide, tin oxide, cerium oxide, and indium-tin oxide. Product particles; resin particles such as silicone, (meth) acryl, styrene, melamine, and the like. More specifically, resin particles such as crosslinked poly (meth) methyl acrylate can be used. The said filler may be used independently and may use multiple together.

また、第1及び第2のハードコート層はそれぞれ、各種安定剤、紫外線吸収剤、可塑剤、滑剤又は着色剤を含んでいてもよい。   The first and second hard coat layers may each contain various stabilizers, ultraviolet absorbers, plasticizers, lubricants, or colorants.

アンダーコート層;
アンダーコート層は、例えば、屈折率調整層である。アンダーコート層を設けることで、導電層と、第1のハードコート層又は第1の基材フィルムとの間の屈折率の差を小さくすることができるので、光透過性導電フィルム及び光透過性導電フィルム積層体の光透過性をより一層高めることができる。なお、アンダーコート層は設けられなくてもよい。
Undercoat layer;
The undercoat layer is, for example, a refractive index adjustment layer. By providing the undercoat layer, the difference in refractive index between the conductive layer and the first hard coat layer or the first base film can be reduced, so that the light transmissive conductive film and the light transmissive The light transmittance of the conductive film laminate can be further enhanced. Note that the undercoat layer may not be provided.

アンダーコート層を構成する材料としては、屈折率調整機能を有する材料などが適宜選択され、SiO(x=1.0〜2.0)、SiO、MgF、Alなどの無機材料や、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂及びシロキサンポリマーなどの有機材料が挙げられる。 As a material constituting the undercoat layer, a material having a refractive index adjusting function or the like is appropriately selected, and an inorganic material such as SiO x (x = 1.0 to 2.0), SiO 2 , MgF 2 , Al 2 O 3 or the like. Examples thereof include organic materials such as materials and acrylic resins, urethane resins, melamine resins, alkyd resins, and siloxane polymers.

アンダーコート層は、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法又は塗工法により形成することができる。   The undercoat layer can be formed by a vacuum deposition method, a sputtering method, an ion plating method, or a coating method.

導電層;
導電層は、光透過性を有する導電性材料により形成されている。上記導電性材料としては、特に限定されないが、例えば、IZO(インジウム亜鉛酸化物)や、ITO(インジウムスズ酸化物)などのIn系酸化物、SnO、FTO(フッ素ドープ酸化スズ)などのSn系酸化物、AZO(アルミニウム亜鉛酸化物)、GZO(ガリウム亜鉛酸化物)などのZn系酸化物、ナトリウム、ナトリウム−カリウム合金、リチウム、マグネシウム、アルミニウム、マグネシウム−銀混合物、マグネシウム−インジウム混合物、アルミニウム−リチウム合金、Al/Al混合物、Al/LiF混合物、金等の金属、CuI、Agナノワイヤー(AgNW)、カーボンナノチューブ(CNT)又は導電性透明ポリマーなどが挙げられる。上記導電性材料は、単独で用いてもよく、複数を併用してもよい。
Conductive layer;
The conductive layer is made of a light-transmitting conductive material. As the conductive material is not particularly limited, for example, IZO (indium zinc oxide) or, In-based oxides such as ITO (indium tin oxide), Sn, such as SnO 2, FTO (fluorine-doped tin oxide) Oxide, AZO (aluminum zinc oxide), Zn oxide such as GZO (gallium zinc oxide), sodium, sodium-potassium alloy, lithium, magnesium, aluminum, magnesium-silver mixture, magnesium-indium mixture, aluminum - lithium alloy, Al / Al 2 O 3 mixture, Al / LiF mixture, a metal such as gold, CuI, Ag nanowire (AgNW), such as carbon nanotubes (CNT) or conductive transparent polymers. The said electroconductive material may be used independently and may use multiple together.

導電性をより一層高め、光透過性をより一層高める観点から、上記導電性材料は、IZO(インジウム亜鉛酸化物)や、ITO(インジウムスズ酸化物)などのIn系酸化物、SnO、FTO(フッ素ドープ酸化スズ)などのSn系酸化物、AZO(アルミニウム亜鉛酸化物)、GZO(ガリウム亜鉛酸化物)などのZn系酸化物であることが好ましく、ITO(インジウムスズ酸化物)であることがより好ましい。 From the viewpoint of further increasing the conductivity and further increasing the light transmittance, the conductive material is selected from In-based oxides such as IZO (indium zinc oxide) and ITO (indium tin oxide), SnO 2 , FTO. Sn-based oxides such as (fluorine-doped tin oxide), Zn-based oxides such as AZO (aluminum zinc oxide) and GZO (gallium zinc oxide) are preferable, and ITO (indium tin oxide) is preferable. Is more preferable.

導電層の厚みは、好ましくは12nm以上、より好ましくは17nm以上、好ましくは50nm以下、より好ましくは30nm以下である。   The thickness of the conductive layer is preferably 12 nm or more, more preferably 17 nm or more, preferably 50 nm or less, more preferably 30 nm or less.

導電層の厚みが上記下限以上である場合、光透過性導電フィルム及び光透過性導電フィルム積層体の導電性をより一層高めることができる。   When the thickness of a conductive layer is more than the said minimum, the electroconductivity of a transparent conductive film and a transparent conductive film laminated body can be improved further.

また、導電層の光透過率に関しては、可視光領域における平均透過率が好ましくは85%以上、より好ましくは90%以上である。   Regarding the light transmittance of the conductive layer, the average transmittance in the visible light region is preferably 85% or more, more preferably 90% or more.

なお、導電層とハードコート層との間にアンダーコート層と同様の屈折率調整層を設けてもよい。   A refractive index adjusting layer similar to the undercoat layer may be provided between the conductive layer and the hard coat layer.

(粘着剤層)
粘着剤層の周波数1Hz、かつ温度23℃における貯蔵弾性率は、4.0×10Pa以上、2.0×10Pa以下である。なお、上記貯蔵弾性率は、動的粘弾性測定により測定される。上記動的粘弾性測定は、溶融粘弾性測定装置を用いて、周波数1Hz、ひずみ3%の条件下で行われる。
(Adhesive layer)
The storage elastic modulus at a frequency of 1 Hz and a temperature of 23 ° C. of the pressure-sensitive adhesive layer is 4.0 × 10 4 Pa or more and 2.0 × 10 5 Pa or less. The storage elastic modulus is measured by dynamic viscoelasticity measurement. The dynamic viscoelasticity measurement is performed under conditions of a frequency of 1 Hz and a strain of 3% using a melt viscoelasticity measuring device.

上記の特定の貯蔵弾性率を有する粘着剤層を形成することで、光透過性導電フィルム積層体の耐屈曲性を高めることができ、光透過性導電フィルム積層体のシート抵抗を上昇し難くすることができる。より具体的には、粘着剤層の貯蔵弾性率が、上記下限以上である場合、第1の基材フィルムが引っ張られ難くなり、光透過性導電フィルム積層体の耐屈曲性が向上する。また、粘着剤層の貯蔵弾性率が、上記上限以下である場合、光透過性導電フィルムが粘着剤層から剥離し難くなり、光透過性導電フィルム積層体の耐屈曲性が向上する。その結果、光透過性導電フィルム積層体を屈曲させても、光透過性導電フィルム積層体のシート抵抗が上昇し難くなる。   By forming the pressure-sensitive adhesive layer having the above specific storage elastic modulus, the bending resistance of the light transmissive conductive film laminate can be increased, and the sheet resistance of the light transmissive conductive film laminate is hardly increased. be able to. More specifically, when the storage elastic modulus of the pressure-sensitive adhesive layer is not less than the above lower limit, the first base film becomes difficult to be pulled, and the flex resistance of the light transmissive conductive film laminate is improved. Moreover, when the storage elastic modulus of an adhesive layer is below the said upper limit, a transparent conductive film becomes difficult to peel from an adhesive layer, and the bending resistance of a transparent conductive film laminated body improves. As a result, even if the light transmissive conductive film laminate is bent, the sheet resistance of the light transmissive conductive film laminate is difficult to increase.

粘着剤層は、(メタ)アクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、ウレタン系接着剤又はエポキシ系接着剤により構成することができる。熱処理による粘着力の上昇を抑制する観点から、上記粘着剤層は、(メタ)アクリル系粘着剤により構成されていることが好ましい。   The pressure-sensitive adhesive layer can be composed of a (meth) acrylic pressure-sensitive adhesive, a rubber-based pressure-sensitive adhesive, a urethane-based adhesive, or an epoxy-based adhesive. From the viewpoint of suppressing an increase in adhesive force due to heat treatment, the adhesive layer is preferably composed of a (meth) acrylic adhesive.

上記(メタ)アクリル系粘着剤は、(メタ)アクリル重合体に、必要に応じて架橋剤、粘着付与樹脂及び各種安定剤などを添加した粘着剤である。   The (meth) acrylic pressure-sensitive adhesive is a pressure-sensitive adhesive in which a crosslinking agent, a tackifier resin, various stabilizers, and the like are added to a (meth) acrylic polymer as necessary.

上記(メタ)アクリル重合体は、特に限定されないが、(メタ)アクリル酸エステルモノマーと、他の共重合可能な重合性モノマーとを含む混合モノマーを共重合して得られた(メタ)アクリル共重合体であることが好ましい。   The (meth) acrylic polymer is not particularly limited, but (meth) acrylic copolymer obtained by copolymerizing a mixed monomer containing a (meth) acrylic acid ester monomer and another copolymerizable monomer. A polymer is preferred.

上記(メタ)アクリル酸エステルモノマーとしては、特に限定されないが、アルキル基の炭素数が1〜12の1級又は2級のアルキルアルコールと、(メタ)アクリル酸とのエステル化反応により得られる(メタ)アクリル酸エステルモノマーが好ましく、具体的には、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸−2−エチルヘキシルなどが挙げられる。上記(メタ)アクリル酸エステルモノマーは、単独で用いてもよく、複数を併用してもよい。   Although it does not specifically limit as said (meth) acrylic acid ester monomer, It is obtained by esterification reaction of the primary or secondary alkyl alcohol whose carbon number of an alkyl group is 1-12, and (meth) acrylic acid ( A (meth) acrylate monomer is preferable, and specific examples include ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, and (meth) acrylate-2-ethylhexyl. The said (meth) acrylic acid ester monomer may be used independently and may use multiple together.

上記共重合可能な他の重合性モノマーとしては、例えば、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシブチル等の(メタ)アクリル酸ヒドロキシアルキル;(メタ)アクリル酸イソボルニル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシアルキル、グリセリンジメタクリレート、(メタ)アクリル酸グリシジル、2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート、(メタ)アクリル酸、イタコン酸、無水マレイン酸、クロトン酸、マレイン酸及びフマル酸等の官能性モノマーが挙げられる。上記共重合可能な他の重合性モノマーは、単独で用いてもよく、複数を併用してもよい。   Examples of other polymerizable monomers that can be copolymerized include hydroxyalkyl (meth) acrylates such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, and hydroxybutyl (meth) acrylate; Isobornyl (meth) acrylate, hydroxyalkyl (meth) acrylate, glycerin dimethacrylate, glycidyl (meth) acrylate, 2-methacryloyloxyethyl isocyanate, (meth) acrylic acid, itaconic acid, maleic anhydride, crotonic acid, malein Examples thereof include functional monomers such as acid and fumaric acid. The said other polymerizable monomer which can be copolymerized may be used independently, and may use multiple together.

上記架橋剤としては、特に限定されず、例えば、イソシアネート系架橋剤、エポキシ系架橋剤、メラミン系架橋剤、過酸化物系架橋剤、尿素系架橋剤、金属アルコキシド系架橋剤、金属キレート系架橋剤、金属塩系架橋剤、カルボジイミド系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤、アジリジン系架橋剤、アミン系架橋剤、多官能アクリレートなどが挙げられる。上記架橋剤は、単独で用いてもよく、複数を併用してもよい。   The crosslinking agent is not particularly limited, and for example, an isocyanate crosslinking agent, an epoxy crosslinking agent, a melamine crosslinking agent, a peroxide crosslinking agent, a urea crosslinking agent, a metal alkoxide crosslinking agent, a metal chelate crosslinking agent. Agents, metal salt crosslinking agents, carbodiimide crosslinking agents, oxazoline crosslinking agents, aziridine crosslinking agents, amine crosslinking agents, polyfunctional acrylates and the like. The above crosslinking agents may be used alone or in combination.

上記粘着付与樹脂としては、特に限定されないが、例えば、脂肪族系共重合体、芳香族系共重合体、脂肪族・芳香族系共重合体及び脂環式系共重合体等の石油系樹脂;クマロン−インデン系樹脂;テルペン系樹脂;テルペンフェノール系樹脂;重合ロジン等のロジン系樹脂;フェノール系樹脂;キシレン系樹脂等が挙げられる。上記粘着付与樹脂は、水素添加された樹脂であってもよい。上記粘着付与樹脂は、単独で用いてもよく、複数を併用してもよい。   The tackifying resin is not particularly limited, and examples thereof include petroleum resins such as aliphatic copolymers, aromatic copolymers, aliphatic / aromatic copolymers, and alicyclic copolymers. Coumarone-indene resin; terpene resin; terpene phenol resin; rosin resin such as polymerized rosin; phenol resin; xylene resin. The tackifying resin may be a hydrogenated resin. The tackifying resins may be used alone or in combination.

粘着剤層の厚みは、好ましくは2μm以上、より好ましくは5μm以上、好ましくは50μm以下、より好ましくは30μm以下である。粘着剤層の厚みが、上記下限以上及び上記上限以下である場合、耐屈曲性をより一層高めることができる。   The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is preferably 2 μm or more, more preferably 5 μm or more, preferably 50 μm or less, more preferably 30 μm or less. When the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is not less than the above lower limit and not more than the above upper limit, the bending resistance can be further enhanced.

(保護フィルム)
保護フィルムの全体の厚みは、好ましくは10μm以上、より好ましくは30μm以上、好ましくは200μm以下、より好ましくは150μm以下である。
(Protective film)
The total thickness of the protective film is preferably 10 μm or more, more preferably 30 μm or more, preferably 200 μm or less, more preferably 150 μm or less.

第2の基材フィルム;
上記第2の基材フィルムは、高い光透過性を有することが好ましい。但し、上記第2の基材フィルムは、光透過性を有していなくてもよい。上記第2の基材フィルムの材料としては、特に限定されないが、例えば、ポリオレフィン、ポリエーテルサルフォン、ポリスルホン、ポリカーボネート、シクロオレフィンポリマー、ポリアリレート、ポリアミド、ポリメチルメタクリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、トリアセチルセルロース、及びセルロースナノファイバー等が挙げられる。
A second substrate film;
The second substrate film preferably has high light transmittance. However, the second base film may not have light transmittance. The material for the second base film is not particularly limited. For example, polyolefin, polyethersulfone, polysulfone, polycarbonate, cycloolefin polymer, polyarylate, polyamide, polymethyl methacrylate, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, Examples thereof include polyethylene naphthalate, triacetyl cellulose, and cellulose nanofiber.

また、第2の基材フィルムの光透過率に関しては、波長380〜780nmの可視光領域における平均透過率が好ましくは85%以上、より好ましくは90%以上である。   Regarding the light transmittance of the second base film, the average transmittance in the visible light region with a wavelength of 380 to 780 nm is preferably 85% or more, more preferably 90% or more.

また、第2の基材フィルムは、各種安定剤、紫外線吸収剤、可塑剤、滑剤又は着色剤を含んでいてもよい。   The second base film may contain various stabilizers, ultraviolet absorbers, plasticizers, lubricants, or colorants.

オリゴマー防止層;
オリゴマー防止層は、第2の基材フィルム中に存在するオリゴマー成分の移行を防止するための層である。
Oligomer prevention layer;
The oligomer prevention layer is a layer for preventing migration of oligomer components present in the second base film.

オリゴマー防止層の厚みは、0.01μm以上、0.1μm以下である。また、オリゴマー防止層の鉛筆硬度は、F以上、2H以下である。   The thickness of the oligomer prevention layer is 0.01 μm or more and 0.1 μm or less. Moreover, the pencil hardness of an oligomer prevention layer is F or more and 2H or less.

上記の特定の厚み及び鉛筆硬度を有するオリゴマー防止層を形成することで、光透過性導電フィルム積層体の耐屈曲性を高めることができ、光透過性導電フィルム積層体のシート抵抗を上昇し難くすることができる。より具体的には、オリゴマー防止層の厚み及び鉛筆硬度が上記範囲内にある場合、第1の基材フィルムが引っ張られ難くなる。第1の基材フィルムが引っ張られ難いと、導電層にクラックが生じ難くなり、光透過性導電フィルム積層体の耐屈曲性が向上する。その結果、光透過性導電フィルム積層体を屈曲させても、光透過性導電フィルム積層体のシート抵抗が上昇し難くなる。   By forming the oligomer prevention layer having the above-mentioned specific thickness and pencil hardness, the bending resistance of the light transmissive conductive film laminate can be increased, and the sheet resistance of the light transmissive conductive film laminate is difficult to increase. can do. More specifically, when the thickness of the oligomer prevention layer and the pencil hardness are within the above ranges, the first base film is hardly pulled. If the first base film is difficult to be pulled, cracks are unlikely to occur in the conductive layer, and the flex resistance of the light transmissive conductive film laminate is improved. As a result, even if the light transmissive conductive film laminate is bent, the sheet resistance of the light transmissive conductive film laminate is difficult to increase.

光透過性導電フィルム積層体の耐屈曲性をより一層高め、シート抵抗をより一層上昇し難くする観点から、オリゴマー防止層の厚みは、好ましくは0.02μm以上、好ましくは0.09μm以下である。   From the viewpoint of further improving the bending resistance of the light transmissive conductive film laminate and making it difficult to further increase the sheet resistance, the thickness of the oligomer prevention layer is preferably 0.02 μm or more, preferably 0.09 μm or less. .

オリゴマー防止層は、無機物又は有機物により構成することができる。オリゴマー成分の移行をより確実に防止する観点から、酸化ケイ素などの無機酸化物により構成することが好ましい。また、オリゴマー防止層の表面にシリコーン離型剤等により形成された100nm程度の離型層を設けてもよい。   The oligomer prevention layer can be composed of an inorganic material or an organic material. From the viewpoint of more surely preventing migration of the oligomer component, it is preferable to use an inorganic oxide such as silicon oxide. Moreover, you may provide about 100 nm release layer formed with the silicone release agent etc. on the surface of the oligomer prevention layer.

以下、本発明について、具体的な実施例に基づき、更に詳しく説明する。なお、本発明は以下の実施例に限定されない。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail based on specific examples. The present invention is not limited to the following examples.

(実施例1)
第1のハードコート層の形成;
光硬化性モノマーとしてのウレタンアクリレートオリゴマー100重量部と、希釈溶剤としてのトルエン及びメチルイソブチルケトン(MIBK)の混合溶剤140重量部と、光開始剤としてのイルガキュア194(BASF社製)7重量部とを混合撹拌して、第1の塗工液を調製した。
Example 1
Forming a first hard coat layer;
100 parts by weight of urethane acrylate oligomer as a photocurable monomer, 140 parts by weight of a mixed solvent of toluene and methyl isobutyl ketone (MIBK) as a diluent solvent, 7 parts by weight of Irgacure 194 (manufactured by BASF) as a photoinitiator Were mixed and stirred to prepare a first coating solution.

厚み50μmのPETフィルムの一方側の表面上に上記第1の塗工液を塗布し、乾燥させた。乾燥後、高圧水銀ランプにより200mJ/cmの紫外線を照射することにより樹脂を硬化させ、厚み1.1μmの第1のハードコート層を形成した。 The first coating solution was applied on the surface of one side of a 50 μm thick PET film and dried. After drying, the resin was cured by irradiating UV light of 200 mJ / cm 2 with a high-pressure mercury lamp to form a first hard coat layer having a thickness of 1.1 μm.

第2のハードコート層の形成;
光硬化性モノマーとしてのウレタンアクリレートオリゴマー100重量部と、希釈溶剤としてのトルエン及びメチルイソブチルケトン(MIBK)の混合溶剤140重量部と、光開始剤としてのイルガキュア194(BASF社製)7重量部とを混合撹拌して、第2の塗工液を調製した。
Formation of a second hard coat layer;
100 parts by weight of urethane acrylate oligomer as a photocurable monomer, 140 parts by weight of a mixed solvent of toluene and methyl isobutyl ketone (MIBK) as a diluent solvent, 7 parts by weight of Irgacure 194 (manufactured by BASF) as a photoinitiator Were mixed and stirred to prepare a second coating solution.

PETフィルムの上記第1のハードコート層側とは反対側の表面上に上記第2の塗工液を塗布し、乾燥させた。乾燥後、高圧水銀ランプにより200mJ/cmの紫外線を照射することにより樹脂を硬化させ、厚み1.2μmの第2のハードコート層を形成した。 The second coating liquid was applied on the surface of the PET film opposite to the first hard coat layer side and dried. After drying, the resin was cured by irradiating UV light of 200 mJ / cm 2 with a high-pressure mercury lamp to form a second hard coat layer having a thickness of 1.2 μm.

粘着剤層の形成;
上記第2のハードコート層のPETフィルムとは反対側の表面上に、アクリル粘着剤(積水化学工業社製)の溶液を塗布し、加熱及び乾燥することで、貯蔵弾性率が1.10×10Paの粘着剤層を形成した。なお、粘着剤層の貯蔵弾性率は、動的粘弾性測定により測定した。上記動的粘弾性測定は、その温度依存性を、溶融粘弾性測定装置(ティー・エイ・インスツルメント・ジャパン社製、品番「ARES−G2」)を用いて、以下の条件で測定した。
Forming an adhesive layer;
By applying a solution of an acrylic pressure-sensitive adhesive (manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) on the surface of the second hard coat layer opposite to the PET film, the storage elastic modulus is 1.10 × by heating and drying. A pressure-sensitive adhesive layer of 10 5 Pa was formed. The storage elastic modulus of the pressure-sensitive adhesive layer was measured by dynamic viscoelasticity measurement. In the dynamic viscoelasticity measurement, the temperature dependency was measured using a melt viscoelasticity measuring apparatus (manufactured by TA Instruments Japan, product number “ARES-G2”) under the following conditions.

昇温速度:3℃/min
周波数:1Hz
ひずみ:3%
温度範囲:−50℃〜200℃
パラレルプレート:8mmφ
サンプル厚み:2mm
Temperature increase rate: 3 ° C / min
Frequency: 1Hz
Strain: 3%
Temperature range: -50 ° C to 200 ° C
Parallel plate: 8mmφ
Sample thickness: 2mm

保護フィルムの形成;
次に、基材フィルムとしてのPETフィルム(厚み125μm)の表面上に、厚み0.03μmのオリゴマー防止層としての酸化ケイ素層が形成された保護フィルムを用意した。この保護フィルムを、オリゴマー防止層側から上記粘着剤層に貼り合わせた。
Forming a protective film;
Next, a protective film was prepared in which a silicon oxide layer as an oligomer prevention layer having a thickness of 0.03 μm was formed on the surface of a PET film (thickness: 125 μm) as a base film. This protective film was bonded to the pressure-sensitive adhesive layer from the oligomer prevention layer side.

導電層の形成;
上記第1のハードコート層の表面上に厚み18nmのITO層(導電層)を堆積させた。ITO層を堆積したPETフィルムをオーブンにて150℃で60分加熱した。得られたフィルムにドライフィルムレジストを貼り、露光、現像を行った。続いて、エッチング、剥離、洗浄、乾燥の各工程をこの順に行い、ITO層のパターニングを行ない、光透過性導電フィルム積層体を得た。
Forming a conductive layer;
An ITO layer (conductive layer) having a thickness of 18 nm was deposited on the surface of the first hard coat layer. The PET film on which the ITO layer was deposited was heated in an oven at 150 ° C. for 60 minutes. A dry film resist was applied to the obtained film, and exposure and development were performed. Subsequently, the etching, peeling, washing, and drying steps were performed in this order, and the ITO layer was patterned to obtain a light transmissive conductive film laminate.

(実施例2〜16及び比較例1〜16)
第1のハードコート層を表1に記載した厚み及び鉛筆硬度の第1のハードコート層に変えたこと、第2のハードコート層を表1に記載した厚み及び鉛筆硬度の第2のハードコート層に変えたこと、オリゴマー防止層を表1に記載した厚み及び鉛筆硬度のオリゴマー防止層に変えたこと、並びに粘着剤層を表1に示す貯蔵弾性率の粘着剤層に変更したこと以外は実施例1と同様にして光透過性導電性フィルム積層体を作製した。
(Examples 2 to 16 and Comparative Examples 1 to 16)
The first hard coat layer was changed to the first hard coat layer having the thickness and pencil hardness described in Table 1, and the second hard coat layer was changed to the first hard coat layer having the thickness and pencil hardness described in Table 1. Except that the layer was changed to a layer, the oligomer prevention layer was changed to an oligomer prevention layer having the thickness and pencil hardness described in Table 1, and the pressure-sensitive adhesive layer was changed to a pressure-sensitive adhesive layer having a storage modulus shown in Table 1. A light-transmitting conductive film laminate was produced in the same manner as in Example 1.

(評価)
実施例1〜16及び比較例1〜16で得られた光透過性導電フィルム積層体について、下記の評価を行った。結果を下記の表1に示す。
(Evaluation)
The following evaluation was performed about the light transmissive conductive film laminated body obtained by Examples 1-16 and Comparative Examples 1-16. The results are shown in Table 1 below.

耐屈曲性;
得られた光透過性導電フィルム積層体について、以下の基準で耐屈曲性の評価を行った。
Flex resistance;
About the obtained light-transmitting conductive film laminated body, the bending resistance was evaluated according to the following criteria.

導電層を上向きにした状態で、図2に示すように、光透過性導電フィルム積層体1を直径11mmのステンレス製の棒11に巻きつけ、500gの第1の荷重12及び500gの第2の荷重13で光透過性導電フィルム積層体1の両端を鉛直下方に引っ張り、光透過性導電フィルム積層体1を摺動させ、1往復ごとに四探針法で抵抗値を測定した。10往復後の抵抗値を初期抵抗値で除したものを変化の値とした。   With the conductive layer facing upward, as shown in FIG. 2, the light transmissive conductive film laminate 1 is wound around a stainless steel rod 11 having a diameter of 11 mm, and a first load 12 of 500 g and a second load of 500 g. Both ends of the light-transmitting conductive film laminate 1 were pulled vertically downward with a load 13, the light-transmitting conductive film laminate 1 was slid, and the resistance value was measured by a four-probe method for each reciprocation. The value obtained by dividing the resistance value after 10 reciprocations by the initial resistance value was defined as the change value.

○…変化の値が1.3より小さい
×…変化の値が1.3以上
○: Change value is less than 1.3 ×: Change value is 1.3 or more

詳細及び結果を下記の表1に示す。   Details and results are shown in Table 1 below.

Figure 2017121744
Figure 2017121744

1…光透過性導電フィルム積層体
2…光透過性導電フィルム
3…粘着剤層
4…保護フィルム
5…第1の基材フィルム
5a…第1の表面
5b…第2の表面
6…導電層
7…第1のハードコート層
8…第2のハードコート層
9…第2の基材フィルム
10…オリゴマー防止層
11…棒
12…第1の荷重
13…第2の荷重
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Light transmissive conductive film laminated body 2 ... Light transmissive conductive film 3 ... Adhesive layer 4 ... Protective film 5 ... 1st base film 5a ... 1st surface 5b ... 2nd surface 6 ... Conductive layer 7 ... 1st hard coat layer 8 ... 2nd hard coat layer 9 ... 2nd base film 10 ... Oligomer prevention layer 11 ... Rod 12 ... 1st load 13 ... 2nd load

Claims (4)

光透過性及び導電性を有する、光透過性導電フィルムと、
前記光透過性導電フィルムの表面上に積層された、粘着剤層と、
前記粘着剤層の前記光透過性導電フィルムとは反対側の表面上に積層された、保護フィルムと、
を備え、
前記光透過性導電フィルムが、導電層と、前記導電層の表面上に配置された第1のハードコート層と、前記第1のハードコート層の前記導電層とは反対側の表面上に配置された
第1の基材フィルムと、前記第1の基材フィルムの前記第1のハードコート層とは反対側の表面上に配置された第2のハードコート層と、を有し、
前記保護フィルムが、前記粘着剤層とは反対側に配置された第2の基材フィルムと、前記第2の基材フィルムの表面上に配置されており、かつ前記粘着剤層側に配置されたオリゴマー防止層と、を有し、
前記第1のハードコート層の厚みが、0.5μm以上、3.0μm以下であり、
前記第2のハードコート層の厚みが、0.5μm以上、3.0μm以下であり、
前記オリゴマー防止層の厚みが、0.01μm以上、0.1μm以下であり、
前記第1のハードコート層の鉛筆硬度が、5B以上、3B以下であり、
前記第2のハードコート層の鉛筆硬度が、5B以上、3B以下であり、
前記オリゴマー防止層の鉛筆硬度が、F以上、2H以下であり、
前記粘着剤層の周波数1Hz、かつ温度23℃における貯蔵弾性率が、4.0×10Pa以上、2.0×10Pa以下である、光透過性導電フィルム積層体。
A light transmissive conductive film having light transmissive and conductive properties;
An adhesive layer laminated on the surface of the light transmissive conductive film;
A protective film laminated on the surface of the pressure-sensitive adhesive layer opposite to the light-transmissive conductive film;
With
The light transmissive conductive film is disposed on a conductive layer, a first hard coat layer disposed on the surface of the conductive layer, and a surface of the first hard coat layer opposite to the conductive layer. And a second hard coat layer disposed on the surface of the first base film opposite to the first hard coat layer, and
The protective film is disposed on the second base film disposed on the opposite side of the pressure-sensitive adhesive layer, on the surface of the second base film, and disposed on the pressure-sensitive adhesive layer side. An oligomer prevention layer,
The thickness of the first hard coat layer is 0.5 μm or more and 3.0 μm or less,
The thickness of the second hard coat layer is 0.5 μm or more and 3.0 μm or less,
The oligomer prevention layer has a thickness of 0.01 μm or more and 0.1 μm or less,
The pencil hardness of the first hard coat layer is 5B or more and 3B or less,
The pencil hardness of the second hard coat layer is 5B or more and 3B or less,
The oligomer hardness of the oligomer prevention layer is F or more and 2H or less,
The light-transmitting conductive film laminate, wherein the pressure-sensitive adhesive layer has a storage elastic modulus at a frequency of 1 Hz and a temperature of 23 ° C. of 4.0 × 10 4 Pa or more and 2.0 × 10 5 Pa or less.
前記第1のハードコート層が、樹脂部及びフィラーを有する、請求項1に記載の光透過性導電フィルム積層体。   The light-transmitting conductive film laminate according to claim 1, wherein the first hard coat layer has a resin portion and a filler. 前記第2のハードコート層が、樹脂部及びフィラーを有する、請求項1又は2に記載の光透過性導電フィルム積層体。   The light-transmitting conductive film laminate according to claim 1 or 2, wherein the second hard coat layer has a resin portion and a filler. 液晶表示装置に用いられる、請求項1〜3のいずれか1項に記載の光透過性導電フィルム積層体。   The transparent electroconductive film laminated body of any one of Claims 1-3 used for a liquid crystal display device.
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