JP2017115055A - Phenoxy resin - Google Patents

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phenoxy resin
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phenoxy
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将司 大越
Shoji Okoshi
将司 大越
増田 克之
Katsuyuki Masuda
克之 増田
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a phenoxy resin having excellent heat resistance and excellent solubility in a general-purpose organic solvent.SOLUTION: The present invention provides a phenoxy resin comprising structural units represented by formula (1) and formula (2) [R-Rindependently represent H, a C1-10 alkyl group, a C3-10 cycloalkyl group, a C6-18 aryl group or a halogen atom, and * is a bond].SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、フェノキシ樹脂に関する。   The present invention relates to a phenoxy resin.

フェノキシ樹脂は、一般的に、透明性、可撓性、耐衝撃性、絶縁性及び機械的特性に優れることから、例えば、熱可塑性樹脂として、又は硬化剤と併用した硬化性樹脂として重要な材料であり、半導体、液晶ディスプレイ、電子基板等のIT機器を構成する部品の材料として、幅広く用いられている。   Phenoxy resin is generally excellent in transparency, flexibility, impact resistance, insulation, and mechanical properties. Therefore, for example, it is an important material as a thermoplastic resin or a curable resin used in combination with a curing agent. It is widely used as a material for parts constituting IT equipment such as semiconductors, liquid crystal displays, and electronic substrates.

例えば、特許文献1及び2には、9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレンを含む二価フェノール類とエピクロルヒドリンとの反応、又は、上記二価フェノール類のジグリシジルエーテルと二価フェノール類との反応により製造されるフェノキシ樹脂が記載されている。   For example, Patent Documents 1 and 2 include reactions of dihydric phenols containing 9,9-bis (4-hydroxyphenyl) fluorene with epichlorohydrin, or diglycidyl ethers and dihydric phenols of the above dihydric phenols. Phenoxy resins produced by reaction with are described.

特開平11−269264号公報JP-A-11-269264 特開平11−302373号公報JP 11-302373 A

近年のIT機器の進化により、年々、小型化、軽量化、大容量化といった高性能化に関する要求は厳しくなっており、これらを構成する材料として耐熱性に優れたフェノキシ樹脂が求められる。また、他の材料と混合する場合の取り扱い性等の観点から、フェノキシ樹脂は、汎用有機溶剤への溶解性に優れることが求められる。   With the recent evolution of IT equipment, demands for high performance such as miniaturization, weight reduction, and large capacity have become stricter year by year, and a phenoxy resin excellent in heat resistance is required as a material constituting these. Further, from the viewpoint of handleability when mixed with other materials, the phenoxy resin is required to have excellent solubility in a general-purpose organic solvent.

しかしながら、従来のフェノキシ樹脂においては、優れた耐熱性と、汎用有機溶剤への優れた溶解性とを両立することは難しい。   However, in the conventional phenoxy resin, it is difficult to achieve both excellent heat resistance and excellent solubility in general-purpose organic solvents.

本発明は、上記の事情に鑑みてなされたものであり、耐熱性に優れ、かつ、汎用有機溶剤への溶解性に優れるフェノキシ樹脂を提供することを目的とする。   This invention is made | formed in view of said situation, and it aims at providing the phenoxy resin which is excellent in heat resistance and excellent in the solubility to a general purpose organic solvent.

本発明者らは、上記目的を達成するために鋭意検討を行った結果、式(1)で示される構造単位及び式(2)で示される構造単位からなる群より選択される少なくとも一種を有するフェノキシ樹脂において、高耐熱性と汎用有機溶剤への良好な溶解性とを両立できることを見出し、本発明を完成させるに至った。   As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventors have at least one selected from the group consisting of a structural unit represented by formula (1) and a structural unit represented by formula (2). The phenoxy resin has been found to be compatible with both high heat resistance and good solubility in general-purpose organic solvents, and has completed the present invention.

すなわち、本発明は、式(1)で示される構造単位及び式(2)で示される構造単位からなる群より選択される少なくとも一種を有するフェノキシ樹脂を提供する。   That is, the present invention provides a phenoxy resin having at least one selected from the group consisting of a structural unit represented by formula (1) and a structural unit represented by formula (2).

Figure 2017115055
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Figure 2017115055
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式中、R、R、R、R、R、R、R、R、R、R10、R11、R12、R13、R14、R15及びR16は、それぞれ独立に水素原子、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数3〜10のシクロアルキル基、炭素数6〜18のアリール基又はハロゲン原子を示し、*は結合手を示す。 In the formula, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , R 10 , R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 and R 16 Each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 18 carbon atoms, or a halogen atom, and * represents a bond.

上記フェノキシ樹脂において、式(1)で示される構造単位及び式(2)で示される構造単位の合計質量は、フェノキシ樹脂の全質量を基準として、10質量%以上であってもよい。   In the phenoxy resin, the total mass of the structural unit represented by the formula (1) and the structural unit represented by the formula (2) may be 10% by mass or more based on the total mass of the phenoxy resin.

上記フェノキシ樹脂は、式(3)で示されるジオール化合物に由来する構造単位及び式(4)で示されるジオール化合物に由来する構造単位からなる群より選択される少なくとも一種を有していてもよい。   The phenoxy resin may have at least one selected from the group consisting of a structural unit derived from the diol compound represented by formula (3) and a structural unit derived from the diol compound represented by formula (4). .

Figure 2017115055
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Figure 2017115055
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式中、R、R、R、R、R、R、R、R、R、R10、R11、R12、R13、R14、R15及びR16は、上記と同義である。 In the formula, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , R 10 , R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 and R 16 Is as defined above.

上記フェノキシ樹脂は、式(5)で示されるジエポキシ化合物に由来する構造単位及び式(6)で示されるジエポキシ化合物に由来する構造単位からなる群より選択される少なくとも一種を有していてもよい。   The phenoxy resin may have at least one selected from the group consisting of a structural unit derived from the diepoxy compound represented by formula (5) and a structural unit derived from the diepoxy compound represented by formula (6). .

Figure 2017115055
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式中、R、R、R、R、R、R、R、R、R、R10、R11、R12、R13、R14、R15及びR16は、上記と同義であり、Rはグリシジル基を示す。 In the formula, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , R 10 , R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 and R 16 Is as defined above, and R represents a glycidyl group.

上記フェノキシ樹脂の重量平均分子量は10000以上であってもよい。   The phenoxy resin may have a weight average molecular weight of 10,000 or more.

上記フェノキシ樹脂のエポキシ当量は5000g/eq以上であってもよい。   The epoxy equivalent of the phenoxy resin may be 5000 g / eq or more.

本発明の一態様は、上記式(1)中、R、R、R及びRがメチル基であり、かつ、R、R、R及びRが水素原子であるフェノキシ樹脂であってもよい。 One embodiment of the present invention is a phenoxy in which R 1 , R 2 , R 3, and R 4 are methyl groups and R 5 , R 6 , R 7, and R 8 are hydrogen atoms in the above formula (1). Resin may be used.

本発明の一態様は、上記式(3)中、R、R、R及びRがメチル基であり、かつ、R、R、R及びRが水素原子であるフェノキシ樹脂であってもよい。 One embodiment of the present invention is a phenoxy in which R 1 , R 2 , R 3, and R 4 are methyl groups and R 5 , R 6 , R 7, and R 8 are hydrogen atoms in the above formula (3). Resin may be used.

本発明の一態様は、上記式(5)中、R、R、R及びRがメチル基であり、かつ、R、R、R及びRが水素原子であるフェノキシ樹脂であってもよい。 One embodiment of the present invention is a phenoxy in which R 1 , R 2 , R 3, and R 4 are methyl groups and R 5 , R 6 , R 7, and R 8 are hydrogen atoms in the above formula (5). Resin may be used.

本発明によれば、耐熱性に優れ、かつ、汎用有機溶剤への溶解性に優れるフェノキシ樹脂を提供できる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the phenoxy resin which is excellent in heat resistance and excellent in the solubility to a general purpose organic solvent can be provided.

以下、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。ただし、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。   Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail. However, the present invention is not limited to the following embodiments.

本実施形態のフェノキシ樹脂は、式(1)で示される構造単位及び式(2)で示される構造単位からなる群より選択される少なくとも一種を有する。このようなフェノキシ樹脂は、優れた耐熱性を有すると共に、汎用有機溶剤への優れた溶解性を有する。本実施形態のフェノキシ樹脂は、汎用有機溶剤への優れた溶解性を有することにより、取り扱い性に優れる。また、本実施形態のフェノキシ樹脂は、優れた耐熱性と汎用有機溶剤への溶解性とを両立できることにより、各種用途の材料の要求仕様に適合し得る。本実施形態のフェノキシ樹脂は、例えば、ポリヒドロキシポリエーテル構造を含む。   The phenoxy resin of this embodiment has at least one selected from the group consisting of a structural unit represented by the formula (1) and a structural unit represented by the formula (2). Such a phenoxy resin has excellent heat resistance and excellent solubility in a general-purpose organic solvent. The phenoxy resin of this embodiment is excellent in handleability by having excellent solubility in a general-purpose organic solvent. Moreover, the phenoxy resin of this embodiment can meet the required specifications of materials for various applications by being able to achieve both excellent heat resistance and solubility in general-purpose organic solvents. The phenoxy resin of this embodiment contains a polyhydroxy polyether structure, for example.

Figure 2017115055
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式中、R、R、R、R、R、R、R、R、R、R10、R11、R12、R13、R14、R15及びR16は、それぞれ独立に水素原子、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数3〜10のシクロアルキル基、炭素数6〜18のアリール基又はハロゲン原子を示し、*は結合手を示す。 In the formula, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , R 10 , R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 and R 16 Each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 18 carbon atoms, or a halogen atom, and * represents a bond.

本実施形態のフェノキシ樹脂が、耐熱性に優れ、かつ、汎用有機溶剤への溶解性に優れる理由を、本発明者らは以下のとおり推測している。   The present inventors presume the reason why the phenoxy resin of this embodiment is excellent in heat resistance and excellent in solubility in a general-purpose organic solvent as follows.

耐熱性に優れる樹脂を得る手法の一つとして、芳香環等の剛直な構造を導入し、樹脂構造を剛直にする手法が考えられる。フェノキシ樹脂についても、フルオレン骨格、ハイドロキノン骨格等の剛直な骨格を導入することで、フェノキシ樹脂の耐熱性が向上すると考えられる。   As a technique for obtaining a resin having excellent heat resistance, a technique for introducing a rigid structure such as an aromatic ring to make the resin structure rigid can be considered. As for the phenoxy resin, it is considered that the heat resistance of the phenoxy resin is improved by introducing a rigid skeleton such as a fluorene skeleton or a hydroquinone skeleton.

一方で、芳香環等の剛直な構造を導入すると、剛直で高耐熱性な樹脂が得られるものの、他の材料との相溶性及び汎用有機溶剤への溶解性が低下する傾向にあると考えられる。   On the other hand, when a rigid structure such as an aromatic ring is introduced, a rigid and highly heat-resistant resin can be obtained, but compatibility with other materials and solubility in general-purpose organic solvents tend to decrease. .

これに対して、本実施形態のフェノキシ樹脂は、芳香環に加え、スルホン骨格(−SO−)を有することにより、優れた耐熱性のみならず、汎用有機溶剤への優れた溶解性をも有すると考えられる。 On the other hand, the phenoxy resin of this embodiment has not only excellent heat resistance but also excellent solubility in general-purpose organic solvents by having a sulfone skeleton (—SO 2 —) in addition to the aromatic ring. It is thought to have.

〜R16としての炭素数1〜10のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基及びデシル基が挙げられる。 Examples of the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms as R 1 to R 16 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, and a pentyl group. Hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group and decyl group.

〜R16としての炭素数3〜10のシクロアルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロペンタジエニル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、シクロデシル基及びジシクロペンタジエニル基が挙げられる。 Examples of the cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms as R 1 to R 16 include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclopentadienyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, a cyclooctyl group, and a cyclononyl group. , Cyclodecyl group and dicyclopentadienyl group.

〜R16としての炭素数6〜18のアリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基、アントニル基、フルオレニル基、ビフェニル基、ベンジル基、トリル基、o−キシリル基、m−キシリル基及びp−キシリル基が挙げられる。 Examples of the aryl group having 6 to 18 carbon atoms as R 1 to R 16 include a phenyl group, a naphthyl group, an antonyl group, a fluorenyl group, a biphenyl group, a benzyl group, a tolyl group, an o-xylyl group, and an m-xylyl group. And p-xylyl group.

〜R16としてのハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられる。 Examples of the halogen atom as R 1 to R 16, for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.

入手のし易さ、また、優れた耐熱性と溶剤溶解性とを更に高度に両立できる観点から、本実施形態のフェノキシ樹脂は、式(1)中、R、R、R及びRがメチル基であり、かつ、R、R、R及びRが水素原子である態様であってもよい。 The phenoxy resin of the present embodiment is represented by R 1 , R 2 , R 3, and R in the formula (1) from the viewpoint of easy availability and a high degree of compatibility between excellent heat resistance and solvent solubility. An embodiment in which 4 is a methyl group and R 5 , R 6 , R 7 and R 8 are hydrogen atoms may be employed.

上記フェノキシ樹脂において、式(1)で示される構造単位及び式(2)で示される構造単位の合計質量は、耐熱性が更に向上する観点から、フェノキシ樹脂の全質量を基準として、10質量%以上であってもよく、15質量%以上であってもよく、20質量%以上であってもよい。上記フェノキシ樹脂における、式(1)で示される構造単位及び式(2)で示される構造単位の合計質量は、汎用有機溶剤への溶解性が更に向上する観点から、フェノキシ樹脂の全質量を基準として、90質量%以下であってもよく、80質量%以下であってもよく、70質量%以下であってもよい。   In the phenoxy resin, the total mass of the structural unit represented by the formula (1) and the structural unit represented by the formula (2) is 10% by mass based on the total mass of the phenoxy resin from the viewpoint of further improving heat resistance. The above may be sufficient, 15 mass% or more may be sufficient, and 20 mass% or more may be sufficient. The total mass of the structural unit represented by the formula (1) and the structural unit represented by the formula (2) in the phenoxy resin is based on the total mass of the phenoxy resin from the viewpoint of further improving the solubility in a general-purpose organic solvent. 90 mass% or less may be sufficient, 80 mass% or less may be sufficient, and 70 mass% or less may be sufficient.

<重量平均分子量(Mw)>
上記フェノキシ樹脂の重量平均分子量は、耐熱性が更に向上する観点から、例えば、10000以上であってもよく、20000以上であってもよく、30000以上であってもよい。上記フェノキシ樹脂の重量平均分子量は、汎用有機溶剤への溶解性が更に向上する観点から、例えば、200000以下であってもよく、150000以下であってもよく、100000以下であってもよい。これらの観点から、上記フェノキシ樹脂の重量平均分子量は、例えば、10000〜200000であってもよく、20000〜150000であってもよく、30000〜100000であってもよい。
<Weight average molecular weight (Mw)>
From the viewpoint of further improving the heat resistance, the weight average molecular weight of the phenoxy resin may be, for example, 10,000 or more, 20000 or more, or 30000 or more. The weight average molecular weight of the phenoxy resin may be, for example, 200000 or less, 150,000 or less, or 100000 or less from the viewpoint of further improving the solubility in a general-purpose organic solvent. From these viewpoints, the weight average molecular weight of the phenoxy resin may be, for example, 10,000 to 200,000, 20,000 to 150,000, or 30,000 to 100,000.

本明細書における重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法(GPC法)において、テトラヒドロフラン(安定剤として、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノール(ジブチルヒドロキシトルエン)を0.03質量%含有する)を展開溶媒として測定される標準ポリスチレンによる検量線を用いたポリスチレン換算値をいう。   In the present specification, the weight average molecular weight is 0.03 for tetrahydrofuran (2,6-di-tert-butyl-4-methylphenol (dibutylhydroxytoluene) as a stabilizer) in gel permeation chromatography (GPC). It is a polystyrene equivalent value using a calibration curve with standard polystyrene measured using a developing solvent as a developing solvent.

<エポキシ当量>
上記フェノキシ樹脂のエポキシ当量は、更に良好な耐熱性を有する観点から、例えば、5000g/eq以上であってもよく、7500g/eq以上であってもよく、10000g/eq以上であってもよい。上記フェノキシ樹脂のエポキシ当量は、エポキシ樹脂等の他材料との相溶性が向上する観点から、40000g/eq以下であってもよく、30000g/eq以下であってもよく、20000g/eq以下であってもよい。エポキシ当量は、JIS K7236に準拠して測定される。
<Epoxy equivalent>
The epoxy equivalent of the phenoxy resin is, for example, 5000 g / eq or more, 7500 g / eq or more, or 10000 g / eq or more from the viewpoint of having better heat resistance. The epoxy equivalent of the phenoxy resin may be 40000 g / eq or less, 30000 g / eq or less, or 20000 g / eq or less from the viewpoint of improving compatibility with other materials such as an epoxy resin. May be. The epoxy equivalent is measured according to JIS K7236.

<製造方法>
本実施形態のフェノキシ樹脂の製造方法に特に制限はない。本実施形態のフェノキシ樹脂は、例えば、式(3)で示されるジオール化合物及び式(4)で示されるジオール化合物からなる群より選択される少なくとも一種を反応させる方法(以下、場合により、「方法A」という)、並びに、式(5)で示されるジエポキシ化合物及び式(6)で示されるジエポキシ化合物からなる群より選択される少なくとも一種を反応させる方法(以下、場合により、「方法B」という)により製造できる。すなわち、本実施形態のフェノキシ樹脂は、式(3)で示されるジオール化合物に由来する構造単位及び式(4)で示されるジオール化合物に由来する構造単位からなる群より選択される少なくとも一種を有していてもよく、式(5)で示されるジエポキシ化合物に由来する構造単位及び式(6)で示されるジエポキシ化合物に由来する構造単位からなる群より選択される少なくとも一種を有していてもよい。
<Manufacturing method>
There is no restriction | limiting in particular in the manufacturing method of the phenoxy resin of this embodiment. The phenoxy resin of this embodiment is, for example, a method of reacting at least one selected from the group consisting of a diol compound represented by the formula (3) and a diol compound represented by the formula (4) (hereinafter, “method” A ”), and a method of reacting at least one selected from the group consisting of the diepoxy compound represented by formula (5) and the diepoxy compound represented by formula (6) (hereinafter referred to as“ method B ”in some cases) ). That is, the phenoxy resin of this embodiment has at least one selected from the group consisting of a structural unit derived from the diol compound represented by formula (3) and a structural unit derived from the diol compound represented by formula (4). And may have at least one selected from the group consisting of a structural unit derived from the diepoxy compound represented by formula (5) and a structural unit derived from the diepoxy compound represented by formula (6). Good.

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式中、R、R、R、R、R、R、R、R、R、R10、R11、R12、R13、R14、R15及びR16は、上記と同義であり、Rはグリシジル基を示す。 In the formula, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , R 10 , R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 and R 16 Is as defined above, and R represents a glycidyl group.

式(3)で示されるジオール化合物としては、例えば、4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホン、3,3’−ジメチル−4,4’−ジヒドロキシフェニルスルホン、3,3’,5,5’−テトラメチル−4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホン、2,2’,5,5’−テトラメチル−4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホン、及び3,3’−ジクロロ−4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホンが挙げられる。   Examples of the diol compound represented by the formula (3) include 4,4′-dihydroxydiphenylsulfone, 3,3′-dimethyl-4,4′-dihydroxyphenylsulfone, 3,3 ′, 5,5′-tetra. Methyl-4,4′-dihydroxydiphenylsulfone, 2,2 ′, 5,5′-tetramethyl-4,4′-dihydroxydiphenylsulfone, and 3,3′-dichloro-4,4′-dihydroxydiphenylsulfone Can be mentioned.

式(4)で示されるジオール化合物としては、例えば、2,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホンが挙げられる。   Examples of the diol compound represented by the formula (4) include 2,4′-dihydroxydiphenyl sulfone.

入手のし易さと、優れた耐熱性と溶剤溶解性とを更に高度に両立できる観点から、式(3)中、R、R、R及びRはメチル基であり、かつ、R、R、R及びRは水素原子であってもよい。 From the viewpoint of being able to achieve both high availability and excellent heat resistance and solvent solubility at a high level, in formula (3), R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are methyl groups, and R 5 , R 6 , R 7 and R 8 may be a hydrogen atom.

式(5)で示されるジエポキシ化合物としては、例えば、4,4’−ジグリシジルオキシジフェニルスルホン、3,3’−ジメチル−4,4’−ジグリシジルオキシジフェニルスルホン、3,3’,5,5’−テトラメチル−4,4’−ジグリシジルオキシジフェニルスルホン、及び2,2’,5,5’−テトラメチル−4,4’−ジグリシジルオキシジフェニルスルホンが挙げられる。   Examples of the diepoxy compound represented by the formula (5) include 4,4′-diglycidyloxydiphenylsulfone, 3,3′-dimethyl-4,4′-diglycidyloxydiphenylsulfone, 3,3 ′, 5, Examples include 5'-tetramethyl-4,4'-diglycidyloxydiphenylsulfone and 2,2 ', 5,5'-tetramethyl-4,4'-diglycidyloxydiphenylsulfone.

式(6)で示されるジエポキシ化合物としては、例えば、2,4’−ジグリシジルオキシジフェニルスルホンが挙げられる。   Examples of the diepoxy compound represented by the formula (6) include 2,4′-diglycidyloxydiphenyl sulfone.

入手のし易さと、優れた耐熱性と溶剤溶解性とを更に高度に両立できる観点から、式(5)中、R、R、R及びRはメチル基であり、かつ、R、R、R及びRは水素原子であってもよい。 From the viewpoint of achieving both high availability and excellent heat resistance and solvent solubility, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are methyl groups in formula (5), and R 5 , R 6 , R 7 and R 8 may be a hydrogen atom.

方法A及び方法Bについて、具体例を挙げて更に詳細に説明する。   The method A and the method B will be described in more detail with specific examples.

[方法A]
式(3)で示されるジオール化合物及び式(4)で示されるジオール化合物からなる群より選択される少なくとも一種を反応させる方法の具体例は、式(3)で示されるジオール化合物及び式(4)で示されるジオール化合物からなる群より選択される少なくとも一種を含むジオール化合物と、エポキシ化合物とを反応させる方法を含む。
[Method A]
Specific examples of the method of reacting at least one selected from the group consisting of the diol compound represented by the formula (3) and the diol compound represented by the formula (4) include the diol compound represented by the formula (3) and the formula (4). And a method of reacting an epoxy compound with a diol compound containing at least one selected from the group consisting of diol compounds.

(ジオール化合物)
方法Aにおいて、ジオール化合物は、式(3)で示されるジオール化合物及び式(4)で示されるジオール化合物からなる群より選択される少なくとも一種からなる態様であってもよく、これら以外のジオール化合物を含んでいてもよい。式(3)で示されるジオール化合物及び式(4)で示されるジオール化合物以外のジオール化合物としては、一分子中に2つのヒドロキシル基を有する化合物であれば、特に制限はないが、例えば、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールAF、ビスフェノールC、ビスフェノールZ、臭素化ビスフェノールA、塩素化ビスフェノールA、9,9’−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン等の芳香族系ジオール;及びエチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等の脂肪族エーテル系ジオールが挙げられる。上記ジオール化合物は、1種類を単独で使用してもよく、2種類以上を組み合わせて使用してもよい。
(Diol compound)
In Method A, the diol compound may be an embodiment composed of at least one selected from the group consisting of a diol compound represented by the formula (3) and a diol compound represented by the formula (4). Other diol compounds May be included. The diol compound other than the diol compound represented by the formula (3) and the diol compound represented by the formula (4) is not particularly limited as long as it is a compound having two hydroxyl groups in one molecule. A, bisphenol F, bisphenol AF, bisphenol C, bisphenol Z, brominated bisphenol A, chlorinated bisphenol A, aromatic diols such as 9,9′-bis (4-hydroxyphenyl) fluorene; and ethylene glycol, propylene glycol And aliphatic ether diols such as diethylene glycol, polyethylene glycol, and polypropylene glycol. The said diol compound may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.

(エポキシ化合物)
方法Aにおいて、エポキシ化合物は、例えば、ジエポキシ化合物であってもよく、エピクロロヒドリンであってもよい。均一で高い分子量のフェノキシ樹脂が効率よく得られ易い観点から、エポキシ化合物は、ジエポキシ化合物であることが好ましい。なお、本明細書において、ジエポキシ化合物は、一分子中に2つのエポキシ基を有する化合物をいう。
(Epoxy compound)
In Method A, the epoxy compound may be, for example, a diepoxy compound or epichlorohydrin. From the viewpoint of easily obtaining a uniform and high molecular weight phenoxy resin efficiently, the epoxy compound is preferably a diepoxy compound. In the present specification, a diepoxy compound refers to a compound having two epoxy groups in one molecule.

上記ジエポキシ化合物は、一分子中に2つのエポキシ基を有する化合物であれば、特に制限はない。上記ジエポキシ化合物は、例えば、ビフェニル骨格を有していてもよく、フルオレン骨格を有していてもよい。上記ジエポキシ化合物としては、例えば、ビスフェノールA型ジエポキシ化合物、ビスフェノールF型ジエポキシ化合物、ビスフェノールAF型ジエポキシ化合物、9,9−ビス(4−グリシジルオキシフェニル)フルオレン、ビフェニル型ジエポキシ化合物(例えば、製品名:YX4000,三菱化学(株)製、製品名:YL6121H,三菱化学(株)製として入手可能)、ナフタレン型ジエポキシ化合物(例えば、製品名:HP−4032D,DIC(株)製として入手可能)等の芳香族系ジエポキシ化合物;及び脂肪族エーテル系ジエポキシ化合物(例えば、製品名:デナコールEX−211、EX−212、EX−252、EX−810、EX−811、EX−850、EX−821、EX−830,ナガセケムテックス(株)製として入手可能)が挙げられる。更に良好な耐熱性が得られること、また、高分子量のフェノキシ樹脂が得られる観点から、上記ジエポキシ化合物は、一分子中に2つのグリシジル基を有する化合物であることが好ましい。上記エポキシ化合物は、1種類を単独で使用してもよく、2種類以上を組み合わせて使用してもよい。   The diepoxy compound is not particularly limited as long as it is a compound having two epoxy groups in one molecule. The diepoxy compound may have, for example, a biphenyl skeleton or a fluorene skeleton. Examples of the diepoxy compound include a bisphenol A diepoxy compound, a bisphenol F diepoxy compound, a bisphenol AF diepoxy compound, 9,9-bis (4-glycidyloxyphenyl) fluorene, and a biphenyl diepoxy compound (for example, product name: YX4000, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, product name: YL6121H, available as Mitsubishi Chemical Corporation), naphthalene diepoxy compound (for example, product name: HP-4032D, available as DIC Corporation), etc. Aromatic diepoxy compounds; and aliphatic ether diepoxy compounds (for example, product names: Denacol EX-211, EX-212, EX-252, EX-810, EX-811, EX-850, EX-821, EX- 830, manufactured by Nagase ChemteX Corporation And available in), and the like. The diepoxy compound is preferably a compound having two glycidyl groups in one molecule from the viewpoint of obtaining better heat resistance and obtaining a high molecular weight phenoxy resin. The said epoxy compound may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.

[方法B]
式(5)で示されるジエポキシ化合物及び式(6)で示されるジエポキシ化合物からなる群より選択される少なくとも一種を反応させる方法の具体例は、ジオール化合物と、式(5)で示されるジエポキシ化合物及び式(6)で示されるジエポキシ化合物からなる群より選択される少なくとも一種を含むエポキシ化合物と、を反応させる方法を含む。
[Method B]
Specific examples of the method of reacting at least one selected from the group consisting of the diepoxy compound represented by formula (5) and the diepoxy compound represented by formula (6) include a diol compound and the diepoxy compound represented by formula (5) And an epoxy compound containing at least one selected from the group consisting of diepoxy compounds represented by formula (6).

(ジオール化合物)
方法Bにおいて、ジオール化合物は、一分子中に2つのヒドロキシル基を有する化合物であれば、特に制限はない。エポキシ化合物との反応性のし易さの観点、フェノキシ樹脂の分子量が高まる観点、及びフェノキシ樹脂の耐熱性が更に向上する観点から、上記ジオール化合物は、フェノール性水酸基を有することが好ましい。上記ジオール化合物としては、例えば、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールAF、及び9,9’−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレンが挙げられる。上記ジオール化合物は、1種類を単独で使用してもよく、2種類以上を組み合わせて使用してもよい。
(Diol compound)
In Method B, the diol compound is not particularly limited as long as it is a compound having two hydroxyl groups in one molecule. From the viewpoint of easy reactivity with the epoxy compound, the viewpoint of increasing the molecular weight of the phenoxy resin, and the viewpoint of further improving the heat resistance of the phenoxy resin, the diol compound preferably has a phenolic hydroxyl group. Examples of the diol compound include bisphenol A, bisphenol F, bisphenol AF, and 9,9′-bis (4-hydroxyphenyl) fluorene. The said diol compound may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.

(エポキシ化合物)
方法Bにおいて、エポキシ化合物は、式(5)で示されるジエポキシ化合物及び式(6)で示されるジエポキシ化合物からなる群より選択される少なくとも一種からなる態様であってもよく、これら以外のジエポキシ化合物を含んでいてもよい。式(5)で示されるジエポキシ化合物及び式(6)で示されるジエポキシ化合物以外のジエポキシ化合物としては、例えば、ビスフェノールA型ジエポキシ化合物、ビスフェノールF型ジエポキシ化合物、ビスフェノールAF型ジエポキシ化合物、9,9−ビス(4−グリシジルオキシフェニル)フルオレン、ビフェニル型ジエポキシ化合物(例えば、製品名:YX4000,三菱化学(株)製、製品名:YL6121H,三菱化学(株)製として入手可能)、ナフタレン型ジエポキシ化合物(例えば、製品名:HP―4032D,DIC(株)製として入手可能)等の芳香族系ジエポキシ化合物;及び脂肪族エーテル系ジエポキシ化合物(例えば、製品名:デナコールEX−211、EX−212、EX−252、EX−810、EX−811、EX−850、EX−821、EX−830,ナガセケムテックス(株)製として入手可能)が挙げられる。上記エポキシ化合物は、1種類を単独で使用してもよく、2種類以上を組み合わせて使用してもよい。
(Epoxy compound)
In Method B, the epoxy compound may be an embodiment composed of at least one selected from the group consisting of the diepoxy compound represented by the formula (5) and the diepoxy compound represented by the formula (6). Other diepoxy compounds May be included. As a diepoxy compound other than the diepoxy compound represented by the formula (5) and the diepoxy compound represented by the formula (6), for example, a bisphenol A diepoxy compound, a bisphenol F diepoxy compound, a bisphenol AF diepoxy compound, 9,9- Bis (4-glycidyloxyphenyl) fluorene, biphenyl diepoxy compound (for example, product name: YX4000, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, product name: YL6121H, available as Mitsubishi Chemical Corporation), naphthalene type diepoxy compound ( For example, aromatic diepoxy compounds such as product name: HP-4032D, available from DIC Corporation); and aliphatic ether diepoxy compounds (for example, product names: Denacol EX-211, EX-212, EX- 252, EX-810, EX-8 1, EX-850, EX-821, EX-830, available as Nagase Chemtex Co., Ltd.) and the like. The said epoxy compound may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.

[触媒]
上記方法A及び方法Bにおいて、例えば、ジオール化合物とエポキシ化合物との反応を促進するため、触媒を用いてもよい。用いる触媒は特に限定されないが、ジオール化合物の水酸基とエポキシ化合物のエポキシ基とのエーテル化反応を促進させるような触媒能力を有する化合物であることが好ましい。
[catalyst]
In the above method A and method B, for example, a catalyst may be used to promote the reaction between the diol compound and the epoxy compound. The catalyst to be used is not particularly limited, but is preferably a compound having a catalytic ability to promote the etherification reaction between the hydroxyl group of the diol compound and the epoxy group of the epoxy compound.

上記触媒としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物;トリエチルアミン、ベンジルジメチルアミン、1,8−ジアザビシクロ(5.4.0)ウンデセン−1(DBU)等の第三級アミン;2−メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール等のイミダゾール化合物;テトラメチルアンモニウムブロマイド、ベンジルトリメチルアンモニウムブロマイド等の第四級アンモニウム塩;トリフェニルホスフィン、トリブチルホスフィン等のホスフィン化合物;及びn−ブチルトリフェニルホスホニウムブロマイド等のホスホニウム塩が挙げられる。これらの触媒は、1種類を単独で、又は2種類以上を組み合わせて使用してもよい。これら触媒の中でも、取り扱いの容易さから、イミダゾール化合物、第三級アミン、及び第四級アンモニウム塩が好ましく、イミダゾール化合物がより好ましい。   Examples of the catalyst include alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide and potassium hydroxide; thirds such as triethylamine, benzyldimethylamine, and 1,8-diazabicyclo (5.4.0) undecene-1 (DBU). Quaternary amines; imidazole compounds such as 2-methylimidazole and 2-ethyl-4-methylimidazole; quaternary ammonium salts such as tetramethylammonium bromide and benzyltrimethylammonium bromide; phosphine compounds such as triphenylphosphine and tributylphosphine; and Examples thereof include phosphonium salts such as n-butyltriphenylphosphonium bromide. These catalysts may be used alone or in combination of two or more. Among these catalysts, an imidazole compound, a tertiary amine, and a quaternary ammonium salt are preferable from the viewpoint of easy handling, and an imidazole compound is more preferable.

使用する触媒の量は、エポキシ化合物の総質量100質量部に対して、例えば、0.0001〜100質量部であってもよく、0.001〜10質量部であってもよい。   0.0001-100 mass parts may be sufficient as the quantity of the catalyst to be used with respect to 100 mass parts of total mass of an epoxy compound, and 0.001-10 mass parts may be sufficient as it.

[溶媒]
上記方法A及び方法Bにおいて、反応は、溶媒の非存在下又は存在下で行うことができる。均一に反応させ、均一なフェノキシ樹脂を製造し易い観点から、反応には、溶媒を使用することが好ましい。
[solvent]
In the above method A and method B, the reaction can be carried out in the absence or presence of a solvent. From the viewpoint of allowing uniform reaction and easy production of a uniform phenoxy resin, it is preferable to use a solvent for the reaction.

上記溶媒は、ジオール化合物の水酸基とエポキシ化合物のエポキシ基とのエーテル化反応を阻害しないものであれば、特に制限はない。上記溶媒としては、例えば、水;メタノール、エタノール等のアルコール;テトラヒドロフラン等のエーテル化合物;エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等のグリコールエーテル化合物;メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、3−メトキシブチル−1−アセテート等のアルキレングリコールモノアルキルエーテルアセテート;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素化合物;アセトン、2−ブタノン、メチルイソブチルケトン、メチルアミルケトン、シクロヘキサノン、4−ヒドロキシ−4−メチル−2−ペンタノン等のケトン化合物;2−ヒドロキシプロピオン酸エチル、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオン酸メチル、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、2−ヒドロキシ−2−メチルブタン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル等のエステル化合物;及びγ−ブチロラクトンが挙げられる。これらの溶媒は、1種類を単独で、又は2種類以上を組み合わせて使用してもよい。   The solvent is not particularly limited as long as it does not inhibit the etherification reaction between the hydroxyl group of the diol compound and the epoxy group of the epoxy compound. Examples of the solvent include water; alcohols such as methanol and ethanol; ether compounds such as tetrahydrofuran; ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, and diethylene glycol monoethyl ether. Glycol ether compounds such as diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether; alkylene glycols such as methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, butyl cellosolve acetate, propylene glycol methyl ether acetate, 3-methoxybutyl-1-acetate Monoalkyl ether acetate; aromatic hydrocarbon compounds such as toluene and xylene; ketone compounds such as acetone, 2-butanone, methyl isobutyl ketone, methyl amyl ketone, cyclohexanone, 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone; Ethyl hydroxypropionate, methyl 2-hydroxy-2-methylpropionate, ethyl 2-hydroxy-2-methylpropionate, ethyl ethoxyacetate, ethyl hydroxyacetate, methyl 2-hydroxy-2-methylbutanoate, 3-methoxypropionic acid And ester compounds such as methyl, ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, ethyl acetate, butyl acetate, methyl lactate and ethyl lactate; and γ-butyrolactone. These solvents may be used alone or in combination of two or more.

使用する溶媒の質量は、均一に反応が進行し易い観点から、ジオール化合物とエポキシ化合物との合計質量に対して、0.1倍以上であることが好ましく、0.5倍以上であることがより好ましい。使用する溶媒の質量は、反応速度が速い観点から、ジオール化合物とエポキシ化合物との合計質量に対して、20倍以下であることが好ましく、10倍以下であることがより好ましい。これらの観点から、ジオール化合物とエポキシ化合物との合計質量に対して、0.1〜20倍であることが好ましく、0.5〜10倍であることがより好ましい。   The mass of the solvent to be used is preferably 0.1 times or more, more preferably 0.5 times or more with respect to the total mass of the diol compound and the epoxy compound, from the viewpoint that the reaction easily proceeds uniformly. More preferred. The mass of the solvent to be used is preferably 20 times or less, more preferably 10 times or less, with respect to the total mass of the diol compound and the epoxy compound, from the viewpoint of a high reaction rate. From these viewpoints, it is preferably 0.1 to 20 times, and more preferably 0.5 to 10 times the total mass of the diol compound and the epoxy compound.

[反応温度]
上記方法A及び方法Bにおいて、反応温度は、特に制限はなく適宜選択できる。反応温度は、反応速度が速い観点から、50℃以上であることが好ましく。100℃以上であることがより好ましく、120℃以上であることが更に好ましい。反応温度は、副反応が起こり難い観点から、300℃以下であることが好ましく、250℃以下であることが好ましく、200℃以下であることが更に好ましい。これらの観点から、反応温度は、50〜300℃が好ましく、100〜250℃がより好ましく、120〜200℃が更に好ましい。
[Reaction temperature]
In Method A and Method B, the reaction temperature is not particularly limited and can be appropriately selected. The reaction temperature is preferably 50 ° C. or higher from the viewpoint of a high reaction rate. The temperature is more preferably 100 ° C. or higher, and further preferably 120 ° C. or higher. The reaction temperature is preferably 300 ° C. or less, more preferably 250 ° C. or less, and still more preferably 200 ° C. or less from the viewpoint that side reactions hardly occur. From these viewpoints, the reaction temperature is preferably 50 to 300 ° C, more preferably 100 to 250 ° C, and still more preferably 120 to 200 ° C.

[反応時間]
上記方法A及び方法Bにおいて、反応時間は、目的に合ったフェノキシ樹脂が得られるよう、フェノキシ樹脂の分子量及び反応溶液の粘度を確認しながら、適宜選択することができる。上記反応時間は、例えば、30分〜36時間であってもよく、1〜24時間であってもよく、2〜20時間であってもよい。
[Reaction time]
In the above method A and method B, the reaction time can be appropriately selected while confirming the molecular weight of the phenoxy resin and the viscosity of the reaction solution so that a phenoxy resin suitable for the purpose can be obtained. The reaction time may be, for example, 30 minutes to 36 hours, 1 to 24 hours, or 2 to 20 hours.

本実施形態のフェノキシ樹脂は、優れた耐熱性を有すると共に、有機合成及び高分子合成に利用される一般的な溶剤(汎用有機溶剤)に溶解可能であると考えられる。このような汎用有機溶剤としては、例えば、水;メタノール、エタノール等のアルコール;テトラヒドロフラン等のエーテル化合物;エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等のグリコールエーテル化合物;メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、3−メトキシブチル−1−アセテート等のアルキレングリコールモノアルキルエーテルアセテート;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素化合物;アセトン、2−ブタノン、メチルイソブチルケトン、メチルアミルケトン、シクロヘキサノン、4−ヒドロキシ−4−メチル−2−ペンタノン等のケトン化合物;及び2−ヒドロキシプロピオン酸エチル、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオン酸メチル、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、2−ヒドロキシ−2−メチルブタン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル等のエステル化合物が挙げられる。ここで、アセトン、2−ブタノン、酢酸エチル、トルエンは、取り扱い性が良好で比較的沸点が低く、近年、フィルムを形成する際の希釈溶媒等としてよく用いられる。本実施形態のフェノキシ樹脂は、アセトン、2−ブタノン、酢酸エチル及びトルエンに特に良好な溶解性を示すと考えられることから、使用可能範囲が広いと考えられる。   The phenoxy resin of the present embodiment is considered to have excellent heat resistance and be soluble in a general solvent (general-purpose organic solvent) used for organic synthesis and polymer synthesis. Examples of such general-purpose organic solvents include water; alcohols such as methanol and ethanol; ether compounds such as tetrahydrofuran; ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, Glycol ether compounds such as diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether and diethylene glycol monobutyl ether; methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, butyl cellosolve acetate, propylene glycol methyl ether acetate, 3-methoxybutyl-1-acetate and the like Renglycol monoalkyl ether acetate; aromatic hydrocarbon compounds such as toluene and xylene; ketone compounds such as acetone, 2-butanone, methyl isobutyl ketone, methyl amyl ketone, cyclohexanone, 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone; And ethyl 2-hydroxypropionate, methyl 2-hydroxy-2-methylpropionate, ethyl 2-hydroxy-2-methylpropionate, ethyl ethoxyacetate, ethyl hydroxyacetate, methyl 2-hydroxy-2-methylbutanoate, 3- Examples thereof include ester compounds such as methyl methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, ethyl acetate, butyl acetate, methyl lactate and ethyl lactate. Here, acetone, 2-butanone, ethyl acetate, and toluene have good handleability and a relatively low boiling point, and in recent years, they are often used as a dilution solvent or the like when forming a film. Since the phenoxy resin of this embodiment is considered to exhibit particularly good solubility in acetone, 2-butanone, ethyl acetate and toluene, it is considered that the usable range is wide.

本実施形態のフェノキシ樹脂はまた、透明性、可とう性、耐衝撃性、各種基材への密着性、機械的特性にも優れると考えられる。   The phenoxy resin of this embodiment is also considered to be excellent in transparency, flexibility, impact resistance, adhesion to various substrates, and mechanical properties.

したがって、本実施形態のフェノキシ樹脂は、例えば、電気用積層板、絶縁ワニス等の電気及び電子分野の材料として好適に使用することができる。これらの材料は、例えば、成形体、接着剤及びフィルムの形態であってもよい。本実施形態のフェノキシ樹脂は、例えば、その他の化合物と混合して樹脂組成物の形態で用いることもできる。本実施形態のフェノキシ樹脂は、例えば、異方導電フィルムのバインダ成分としても使用し得る。   Therefore, the phenoxy resin of the present embodiment can be suitably used as a material in the electrical and electronic fields such as an electrical laminate and an insulating varnish. These materials may be in the form of molded bodies, adhesives and films, for example. The phenoxy resin of this embodiment can also be mixed with other compounds and used in the form of a resin composition, for example. The phenoxy resin of this embodiment can be used also as a binder component of an anisotropic conductive film, for example.

以下、実施例を挙げて本発明について更に具体的に説明する。ただし、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the present invention is not limited to these examples.

<フェノキシ樹脂の合成>
(実施例1)フェノキシ樹脂(P−1)
還流冷却器、温度計及び攪拌器を装着した300mLのセパラブルフラスコに、ジオール化合物として、3,3’,5,5’−テトラメチル−4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホン(東京化成工業株式会社製)9.2gを、ジエポキシ化合物として、YX4000(三菱化学株式会社製、エポキシ当量185g/eq)5.7gと、9,9−ビス(4−グリシジルオキシフェニル)フルオレン(東京化成工業株式会社製)7.8gとを、触媒として、2−エチル−4−メチルイミダゾール(東京化成工業株式会社製、以後、「2E4MZ」という)0.01gを、溶媒として、γ−ブチロラクトン(和光純薬株式会社製、以後、「GBL」という)25.5gを加え、25℃で10分間撹拌した。その後、得られた溶液を160℃まで昇温し、20時間反応させ、フェノキシ樹脂(P−1)のGBL溶液を得た。
<Synthesis of phenoxy resin>
(Example 1) Phenoxy resin (P-1)
To a 300 mL separable flask equipped with a reflux condenser, a thermometer and a stirrer, 3,3 ′, 5,5′-tetramethyl-4,4′-dihydroxydiphenylsulfone (Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was used as a diol compound. 9.2 g as a diepoxy compound, 5.7 g of YX4000 (Mitsubishi Chemical Corporation, epoxy equivalent 185 g / eq), 9,9-bis (4-glycidyloxyphenyl) fluorene (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) ) 7.8 g as a catalyst and 0.01 g of 2-ethyl-4-methylimidazole (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., hereinafter referred to as “2E4MZ”) as a solvent and γ-butyrolactone (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 25.5 g) (hereinafter referred to as “GBL”), and stirred at 25 ° C. for 10 minutes. Thereafter, the obtained solution was heated to 160 ° C. and reacted for 20 hours to obtain a GBL solution of phenoxy resin (P-1).

P−1のGBL溶液を水中に投入し、析出物を回収した。この析出物を粉砕及び乾燥して固形のP−1を得た。得られたP−1の重量平均分子量は、GPCによる測定の結果、標準ポリスチレン換算で64000であった。   The PBL GBL solution was poured into water, and the precipitate was collected. This precipitate was pulverized and dried to obtain solid P-1. As a result of measurement by GPC, the weight average molecular weight of the obtained P-1 was 64000 in terms of standard polystyrene.

(比較例1)フェノキシ樹脂(P−2)
ジオール化合物を、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン(東京化成工業株式会社製)11.4gに変更したこと、ジエポキシ化合物を、2,2−ビス(4−グリシジルオキシフェニル)プロパン(東京化成工業株式会社製)17.0gに変更したこと、触媒としての2E4MZを0.02gに変更したこと、溶媒としてのGBLを19.0gに変更したこと以外は、実施例1と同様にして、固形のフェノキシ樹脂(P−2)を得た。得られたP−2の重量平均分子量は、GPCによる測定の結果、標準ポリエステル換算で45000であった。
(Comparative Example 1) Phenoxy resin (P-2)
The diol compound was changed to 11.4 g of 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), and the diepoxy compound was changed to 2,2-bis (4-glycidyloxyphenyl) propane ( Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 17.0 g, except that 2E4MZ as a catalyst was changed to 0.02 g, and GBL as a solvent was changed to 19.0 g. A solid phenoxy resin (P-2) was obtained. As a result of measurement by GPC, the weight average molecular weight of the obtained P-2 was 45000 in terms of standard polyester.

(比較例2)フェノキシ樹脂(P−3)
ジオール化合物を、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン(東京化成工業株式会社製)7.5gに変更したこと、ジエポキシ化合物としてのYX4000を6.2gに、9,9−ビス(4−グリシジルオキシフェニル)フルオレンを8.6gにそれぞれ変更したこと、触媒としての2E4MZを0.02gに変更したこと、溶媒としてのGBLを25.4gに変更したこと以外は、実施例1と同様にして、固形のフェノキシ樹脂(P−3)を得た。得られたP−3の重量平均分子量は、GPCによる測定の結果、標準ポリエステル換算で55000であった。
(Comparative Example 2) Phenoxy resin (P-3)
Diol compound was changed to 7.5 g of 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane (Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), YX4000 as diepoxy compound was changed to 6.2 g, 9,9-bis (4 -Glycidyloxyphenyl) fluorene was changed to 8.6 g, 2E4MZ as a catalyst was changed to 0.02 g, and GBL as a solvent was changed to 25.4 g. Thus, a solid phenoxy resin (P-3) was obtained. As a result of measurement by GPC, the weight average molecular weight of the obtained P-3 was 55000 in terms of standard polyester.

(比較例3)フェノキシ樹脂(P−4)
ジオール化合物を、9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン9.6gに変更したこと、ジエポキシ化合物としてのYX4000を5.4gに、9,9−ビス(4−グリシジルオキシフェニル)フルオレンを7.4gにそれぞれ変更したこと、触媒としての2E4MZを0.02gに変更したこと、溶媒としてのGBLを25.0gに変更したこと以外は、実施例1と同様にして、固形のフェノキシ樹脂(P−4)を得た。得られたP−4の重量平均分子量は、GPCによる測定の結果、標準ポリエステル換算で60000であった。
(Comparative Example 3) Phenoxy resin (P-4)
Diol compound was changed to 9.6 g of 9,9-bis (4-hydroxyphenyl) fluorene, YX4000 as diepoxy compound was changed to 5.4 g, 9,9-bis (4-glycidyloxyphenyl) fluorene was changed to 7 .4 g, respectively, except that 2E4MZ as a catalyst was changed to 0.02 g, and GBL as a solvent was changed to 25.0 g. -4) was obtained. As a result of measurement by GPC, the weight average molecular weight of the obtained P-4 was 60000 in terms of standard polyester.

<汎用有機溶剤溶解性の評価>
得られたフェノキシ樹脂を、固形分40質量%となるように2−ブタノン(以後、「MEK」という)に溶解し、溶け残りの有無を目視にて観察した。溶け残りがなかったものを「良好」、溶け残りがあったものを「不良」として評価した。結果を表1に示す。
<Evaluation of general-purpose organic solvent solubility>
The obtained phenoxy resin was dissolved in 2-butanone (hereinafter referred to as “MEK”) so as to have a solid content of 40% by mass, and the presence or absence of undissolved residue was visually observed. The case where there was no undissolved portion was evaluated as “good”, and the case where there was undissolved portion was evaluated as “bad”. The results are shown in Table 1.

<フェノキシ樹脂のTg測定>
得られたフェノキシ樹脂のTg(℃)を示差走査熱量測定(DSC)装置(株式会社リガク製、ThermoPlus,DSC8230)を用いて測定した。
<Tg measurement of phenoxy resin>
Tg (° C.) of the obtained phenoxy resin was measured using a differential scanning calorimetry (DSC) apparatus (manufactured by Rigaku Corporation, ThermoPlus, DSC8230).

<フェノキシ樹脂の弾性率測定>
得られたフェノキシ樹脂を固形分30質量%となるようにテトラヒドロフラン(以後、「THF」という)に溶解し、フェノキシ樹脂のTHF溶液を調製した。得られたフェノキシ樹脂のTHF溶液を、防爆式熱風乾燥機とバーコータを用いて、厚さ100μmのフィルム状に成形した。得られたフィルム状フェノキシ樹脂について、動的粘弾性測定装置(Rheogel−E4000、UBM株式会社製)を用いて、昇温速度10℃/分、測定温度40〜200℃の条件で、貯蔵弾性率(kPa)を測定した。測定された貯蔵弾性率のうち、150℃の値を読み取り、フェノキシ樹脂の貯蔵弾性率とした。結果を表1に示す。
<Measurement of elastic modulus of phenoxy resin>
The obtained phenoxy resin was dissolved in tetrahydrofuran (hereinafter referred to as “THF”) to a solid content of 30% by mass to prepare a THF solution of the phenoxy resin. The obtained phenoxy resin in THF was formed into a film having a thickness of 100 μm using an explosion-proof hot air dryer and a bar coater. About the obtained film-form phenoxy resin, using a dynamic viscoelasticity measuring apparatus (Rheogel-E4000, manufactured by UBM Co., Ltd.), at a temperature rising rate of 10 ° C./min and at a measurement temperature of 40 to 200 ° C., the storage elastic modulus (KPa) was measured. Of the measured storage elastic modulus, the value at 150 ° C. was read and used as the storage elastic modulus of the phenoxy resin. The results are shown in Table 1.

Figure 2017115055
Figure 2017115055

<合成したフェノキシ樹脂の汎用有機溶剤溶解性及び耐熱性>
表1の結果から、実施例のフェノキシ樹脂(P−1)は、汎用有機溶剤に良好な溶解性を示すことが分かる。また、実施例のフェノキシ樹脂(P−1)のTg及び貯蔵弾性率は、それぞれ134℃及び580kPaであり、比較例のフェノキシ樹脂(P−2、P−3及びP−4)よりも高い値を示すことが分かる。このことから、実施例のフェノキシ樹脂(P−1)は、汎用有機溶剤への溶解性に優れ、かつ、比較例のフェノキシ樹脂(P−2、P−3及びP−4)より耐熱性が高いことが分かる。P−2は、汎用有機溶剤に良好な溶解性を示すが、Tg、及び貯蔵弾性率の値は小さく、耐熱性は低いことが分かる。また、P−3、及び、P−4は汎用有機溶剤に溶解しなかった。すなわち、本発明によれば、耐熱性に優れ、かつ、汎用有機溶剤への溶解性に優れるフェノキシ樹脂を提供できることが確認された。
<General organic solvent solubility and heat resistance of synthesized phenoxy resin>
From the results in Table 1, it can be seen that the phenoxy resin (P-1) of the example exhibits good solubility in a general-purpose organic solvent. Moreover, Tg and the storage elastic modulus of the phenoxy resin (P-1) of an Example are 134 degreeC and 580 kPa, respectively, and a value higher than the phenoxy resin (P-2, P-3, and P-4) of a comparative example. It can be seen that From this, the phenoxy resin (P-1) of an Example is excellent in the solubility to a general purpose organic solvent, and heat resistance is compared with the phenoxy resin (P-2, P-3, and P-4) of a comparative example. I understand that it is expensive. P-2 shows good solubility in a general-purpose organic solvent, but the values of Tg and storage elastic modulus are small, and it can be seen that the heat resistance is low. Moreover, P-3 and P-4 did not melt | dissolve in a general purpose organic solvent. That is, according to the present invention, it was confirmed that a phenoxy resin having excellent heat resistance and excellent solubility in a general-purpose organic solvent can be provided.

Claims (9)

式(1)で示される構造単位及び式(2)で示される構造単位からなる群より選択される少なくとも一種を有するフェノキシ樹脂。
Figure 2017115055

Figure 2017115055

[式中、R、R、R、R、R、R、R、R、R、R10、R11、R12、R13、R14、R15及びR16は、それぞれ独立に水素原子、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数3〜10のシクロアルキル基、炭素数6〜18のアリール基又はハロゲン原子を示し、*は結合手を示す。]
A phenoxy resin having at least one selected from the group consisting of a structural unit represented by formula (1) and a structural unit represented by formula (2).
Figure 2017115055

Figure 2017115055

[Wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , R 10 , R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 and R 16 independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 18 carbon atoms, or a halogen atom, and * represents a bond. ]
前記式(1)で示される構造単位及び前記式(2)で示される構造単位の合計質量が、フェノキシ樹脂の全質量を基準として、10質量%以上である、請求項1に記載のフェノキシ樹脂。   The phenoxy resin according to claim 1, wherein the total mass of the structural unit represented by the formula (1) and the structural unit represented by the formula (2) is 10% by mass or more based on the total mass of the phenoxy resin. . 式(3)で示されるジオール化合物に由来する構造単位及び式(4)で示されるジオール化合物に由来する構造単位からなる群より選択される少なくとも一種を有する、請求項1又は2に記載のフェノキシ樹脂。
Figure 2017115055

Figure 2017115055

[式中、R、R、R、R、R、R、R、R、R、R10、R11、R12、R13、R14、R15及びR16は、それぞれ独立に水素原子、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数3〜10のシクロアルキル基、炭素数6〜18のアリール基又はハロゲン原子を示す。]
The phenoxy of Claim 1 or 2 which has at least 1 type selected from the group which consists of the structural unit derived from the diol compound shown by Formula (3), and the diol compound shown by Formula (4). resin.
Figure 2017115055

Figure 2017115055

[Wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , R 10 , R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 and R 16 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 18 carbon atoms, or a halogen atom. ]
式(5)で示されるジエポキシ化合物に由来する構造単位及び式(6)で示されるジエポキシ化合物に由来する構造単位からなる群より選択される少なくとも一種を有する、請求項1又は2に記載のフェノキシ樹脂。
Figure 2017115055

Figure 2017115055

[式中、R、R、R、R、R、R、R、R、R、R10、R11、R12、R13、R14、R15及びR16は、それぞれ独立に水素原子、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数3〜10のシクロアルキル基、炭素数6〜18のアリール基又はハロゲン原子を示し、Rはグリシジル基を示す。]
The phenoxy of Claim 1 or 2 which has at least 1 type selected from the group which consists of the structural unit derived from the diepoxy compound shown by Formula (5), and the structural unit derived from the diepoxy compound shown by Formula (6). resin.
Figure 2017115055

Figure 2017115055

[Wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , R 10 , R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 and R 16 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 18 carbon atoms, or a halogen atom, and R represents a glycidyl group. ]
重量平均分子量が10000以上である、請求項1〜4のいずれか一項に記載のフェノキシ樹脂。   The phenoxy resin according to any one of claims 1 to 4, wherein the weight average molecular weight is 10,000 or more. エポキシ当量が5000g/eq以上である、請求項4に記載のフェノキシ樹脂。   The phenoxy resin according to claim 4, wherein the epoxy equivalent is 5000 g / eq or more. 前記式(1)中、R、R、R及びRがメチル基であり、かつ、R、R、R及びRが水素原子である、請求項1又は2に記載のフェノキシ樹脂。 3. The formula (1), wherein R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are methyl groups, and R 5 , R 6 , R 7 and R 8 are hydrogen atoms. Phenoxy resin. 前記式(3)中、R、R、R及びRがメチル基であり、かつ、R、R、R及びRが水素原子である、請求項3に記載のフェノキシ樹脂。 The phenoxy according to claim 3, wherein, in the formula (3), R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are methyl groups, and R 5 , R 6 , R 7 and R 8 are hydrogen atoms. resin. 前記式(5)中、R、R、R及びRがメチル基であり、かつ、R、R、R及びRが水素原子である、請求項4に記載のフェノキシ樹脂。 The phenoxy according to claim 4, wherein R 1 , R 2 , R 3 and R 4 in the formula (5) are methyl groups, and R 5 , R 6 , R 7 and R 8 are hydrogen atoms. resin.
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