JP2017107620A - Semiconductor device and nonvolatile memory - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、半導体装置及び不揮発メモリに関し、例えば、メモリセルを有する半導体装置及び不揮発メモリに関する。 The present invention relates to a semiconductor device and a nonvolatile memory, for example, a semiconductor device having a memory cell and a nonvolatile memory.
近年、電気的に書き換え可能な不揮発メモリ(不揮発性記憶装置)が広く利用されている。不揮発メモリの一つであるフラッシュメモリは、パーソナルコンピュータやデジタルカメラ、携帯電話など多くの電子機器に内蔵される記憶装置または外付けの記憶装置として利用されている。また、他の不揮発メモリであるReRAM(resistance random access memory:抵抗変化型メモリ)は、電圧印加による抵抗の変化を利用しており、消費電力が小さく、高集積化が可能であり、かつ、読み出し速度が高速であるため、フラッシュメモリの代替として注目されている。 In recent years, electrically rewritable nonvolatile memories (nonvolatile memory devices) have been widely used. A flash memory, which is one type of nonvolatile memory, is used as a storage device built in many electronic devices such as personal computers, digital cameras, and mobile phones, or as an external storage device. In addition, ReRAM (resistance random access memory), which is another nonvolatile memory, uses a change in resistance due to voltage application, consumes little power, can be highly integrated, and can be read. Due to its high speed, it is attracting attention as an alternative to flash memory.
不揮発メモリに関連する技術として、例えば、特許文献1や2が知られている。
For example,
不揮発メモリでは、読み出すメモリセルのON/OFF状態(例えば記憶データの1/0に対応する状態)を判定するためにしきい値が設定されている。特許文献1では、このしきい値の温度依存性に着目し、半導体チップ上の温度計で半導体チップの温度を測定し、メモリセルの温度特性に合わせてしきい値を適宜変化させている。
In the nonvolatile memory, a threshold value is set to determine the ON / OFF state (for example, the state corresponding to 1/0 of the stored data) of the memory cell to be read. In
しかしながら、特許文献1のような関連する技術では、半導体チップの温度変化によるばらつきには対応できるものの、プロセスばらつきや電圧ばらつきなどの他のばらつきには対応できないという問題があった。
However, the related technique such as
その他の課題と新規な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう。 Other problems and novel features will become apparent from the description of the specification and the accompanying drawings.
一実施の形態によれば、半導体装置は、複数のメモリセル、第1中間値決定回路、第2中間値決定回路、しきい値決定回路、及び識別回路を備える。複数のメモリセルは、第1記憶状態に応じた第1データを出力するメモリセルと第2記憶状態に応じた第2データを出力するメモリセルを含む。第1中間値決定回路は、複数の第1データの中間値を決定し、第2中間値決定回路は、複数の第2データの中間値を決定する。しきい値決定回路は、第1及び第2中間値決定回路のそれぞれの決定結果に基づき、第1及び第2記憶状態を識別するしきい値を決定する。識別回路は、しきい値決定回路の決定結果と複数のメモリセルからの読み出し結果に基づき、複数のメモリセルの記憶状態を識別する。 According to one embodiment, a semiconductor device includes a plurality of memory cells, a first intermediate value determination circuit, a second intermediate value determination circuit, a threshold value determination circuit, and an identification circuit. The plurality of memory cells include a memory cell that outputs first data corresponding to the first storage state and a memory cell that outputs second data corresponding to the second storage state. The first intermediate value determination circuit determines intermediate values of the plurality of first data, and the second intermediate value determination circuit determines intermediate values of the plurality of second data. The threshold value determination circuit determines a threshold value for identifying the first and second storage states based on the determination results of the first and second intermediate value determination circuits. The identification circuit identifies the storage states of the plurality of memory cells based on the determination result of the threshold value determination circuit and the read result from the plurality of memory cells.
前記一実施の形態によれば、任意のばらつきに対応することができる。 According to the one embodiment, it is possible to cope with an arbitrary variation.
説明の明確化のため、以下の記載及び図面は、適宜、省略、及び簡略化がなされている。また、様々な処理を行う機能ブロックとして図面に記載される各要素は、ハードウェア的には、CPU、メモリ、その他の回路で構成することができ、ソフトウェア的には、メモリにロードされたプログラムなどによって実現される。したがって、これらの機能ブロックがハードウェアのみ、ソフトウェアのみ、またはそれらの組合せによっていろいろな形で実現できることは当業者には理解されるところであり、いずれかに限定されるものではない。なお、各図面において、同一の要素には同一の符号が付されており、必要に応じて重複説明は省略されている。 For clarity of explanation, the following description and drawings are omitted and simplified as appropriate. Each element described in the drawings as a functional block for performing various processes can be configured by a CPU, a memory, and other circuits in terms of hardware, and a program loaded in the memory in terms of software. Etc. Therefore, it is understood by those skilled in the art that these functional blocks can be realized in various forms by hardware only, software only, or a combination thereof, and is not limited to any one. Note that, in each drawing, the same element is denoted by the same reference numeral, and redundant description is omitted as necessary.
(実施の形態1)
以下、図面を参照して実施の形態1について説明する。
(Embodiment 1)
The first embodiment will be described below with reference to the drawings.
<実施の形態1の概要>
図1は、本実施の形態に係る半導体装置の概要構成を示している。図1に示すように、本実施の形態に係る半導体装置10は、複数のメモリセル11、第1中間値決定回路12、第2中間値決定回路13、しきい値決定回路14、識別回路15を備えている。
<Outline of
FIG. 1 shows a schematic configuration of a semiconductor device according to the present embodiment. As shown in FIG. 1, the
複数のメモリセル11は、第1記憶状態に応じた第1データを出力するメモリセルと第2記憶状態に応じた第2データを出力するメモリセルを含む。第1中間値決定回路12は、複数の第1データの中間値を決定し、第2中間値決定回路13は、複数の第2データの中間値を決定する。
The plurality of
しきい値決定回路14は、第1中間値決定回路12及び第2中間値決定回路13のそれぞれの決定結果に基づき、第1及び第2記憶状態を識別するしきい値を決定する。識別回路15は、しきい値決定回路14の決定結果と複数のメモリセル11からの読み出し結果に基づき、複数のメモリセル11の記憶状態を識別する。
The threshold
図2は、メモリセル11の第1状態(第1データ)及び第2状態(第2データ)の分布の温度変化によるばらつきの例を示している。図2(a)は室温での分布を示し、図2(b)は高温での分布を示しており、室温から高温に温度が変化すると、第1状態及び第2状態の分布がシフトする。このばらつきによるオフセットが予測できれば、マージンを小さくすることができる。そこで、本実施の形態では、第1データの中間値(例えば中心値や平均値)と第2データの中間値に基づきしきい値を決定する。つまり、分布のシフトに応じてしきい値をシフトさせる。これにより、温度変化に限らずその他のばらつきに対応してしきい値を設定することができ、小さなマージンで動作することが可能となる。
FIG. 2 shows an example of variation due to temperature change in the distribution of the first state (first data) and the second state (second data) of the
<実施の形態1の不揮発メモリの構成>
図3は、本実施の形態に係る不揮発メモリの構成例を示している。図3に示すように、本実施の形態に係る不揮発メモリ(半導体装置)1は、メモリセルアレイ100と読み出し回路200を備えている。
<Configuration of Nonvolatile Memory of First Embodiment>
FIG. 3 shows a configuration example of the nonvolatile memory according to this embodiment. As shown in FIG. 3, the nonvolatile memory (semiconductor device) 1 according to the present embodiment includes a
メモリセルアレイ100は、不揮発メモリのメモリセルアレイであり、記憶するビットごとにメモリセル101、センスアンプ102、アナログ比較器103を備えている。メモリセルアレイ100は、記憶するビットに応じた多数の不揮発のメモリセル101を有し、このうちのn個(n>2)のメモリセル101から同時にデータ読み出す。メモリセル101ごとに複数の基準電圧(VREF)と比較するアナログ比較器103を備えることで複数のメモリセルから同時にデータを読み出すことができる。ここで、不揮発メモリ(メモリセルアレイ)に書き込まれるデータは元のkビット(k<n)のデータをエラー訂正符号(ECC)に変換してnビットとしたものとする。本実施の形態では、nビットの読み出しデータの中には必ずON状態(0または1の一方)のビットとOFF状態(0または1の他方)のビットが少なくとも1つは含まれるものとする。
The
例えば不揮発メモリが抵抗変化メモリ(ReRAM)の場合、メモリセル101からはON状態またはOFF状態に応じた抵抗値が読み出される。各メモリセル101は、それぞれが別々のセンスアンプ102に接続される。センスアンプ102は、メモリセル101の抵抗値を読み出して、対応する電圧を出力する。ここでは入力の電流に反比例した電圧を出力するセンスアンプ102の例で説明する。つまりメモリセル101の抵抗値が高いほど流れる電流値が小さくなるので、センスアンプ102の出力電圧は高くなる。ここで、例えば電流を出力するセンスアンプ102や入力の電流に正比例した電圧を出力するセンスアンプ102を使用することも出来る。次にセンスアンプ102の出力をm個(m>2)のアナログ比較器103を用いてm個の基準電圧VREF1〜VREFmと比較することで、mビットの多値の比較結果として読み出される。n個のメモリセル101からの多値のデータ出力は合計n×mビットとなる。この値は読み出し回路200のバッファへ送られる。
For example, when the nonvolatile memory is a resistance change memory (ReRAM), the resistance value corresponding to the ON state or the OFF state is read from the
図3に示すように、読み出し回路200は、バッファ201、中央値検出回路202、しきい値決定回路203、しきい値記憶回路204、データ選択回路205、デコーダ206を備えている。バッファ201は、各ビットのメモリセル101から読み出した抵抗値(比較結果)をバッファリングし、中央値検出回路202及びデータ選択回路205へ出力する。中央値検出回路202は、バッファ201を介して取得した複数のメモリセル101の抵抗値に基づいて、抵抗値の分布の中央値を検出する。
As shown in FIG. 3, the
しきい値決定回路203は、検出した抵抗値の分布の中央値に基づいてしきい値を決定する。しきい値記憶回路204は、決定したしきい値を記憶する。データ選択回路205は、決定し記憶されたしきい値を用いて、バッファ201を介して取得したメモリセル101の抵抗値を判定し、ON/OFF状態(記憶状態)を選択する。デコーダ206は、選択されたON/OFF状態に基づいてデータを復号化する。
The threshold
<実施の形態1のメモリセルの構成及び動作>
図4〜図6を用いて、メモリセルアレイを構成する不揮発メモリの一例として、抵抗変化型メモリReRAMの構成及び動作について説明する。なお、ここではReRAMについて説明するが、フラッシュメモリやMRAM(磁気抵抗RAM)、FeRAM(強誘電体メモリ)など、その他不揮発メモリであってもよい。
<Configuration and Operation of Memory Cell of First Embodiment>
The configuration and operation of a resistance change type memory ReRAM will be described with reference to FIGS. 4 to 6 as an example of a nonvolatile memory constituting a memory cell array. Although ReRAM will be described here, other non-volatile memories such as flash memory, MRAM (magnetic resistance RAM), FeRAM (ferroelectric memory) may be used.
図4は、ReRAMのメモリセルの構成及び動作示している。ReRAMのメモリセルは、抵抗変化素子の両端に正負の電圧を印加することで、低抵抗(ON)または高抵抗(OFF)の2つの状態に変化し、この状態を保持することでメモリ素子として働く。 FIG. 4 shows the configuration and operation of a ReRAM memory cell. The memory cell of the ReRAM changes to two states of low resistance (ON) or high resistance (OFF) by applying positive and negative voltages to both ends of the variable resistance element, and as this memory element is maintained by maintaining this state. work.
図4に示すように、メモリセル101は、抵抗変化素子RcとセルトランジスタTrを備えている。抵抗変化素子Rcは2端子素子であり、一端がPL(プレート線)用端子に接続され、他端がセルトランジスタTrを介してBL(ビット線)用端子に接続される。図4では、セルトランジスタTrのゲート電圧(ワード線WL電圧)はHであり、セルトランジスタTrのON抵抗は抵抗変化素子Rcの抵抗値より十分小さいものとする。抵抗変化素子RcはPL用端子とBL用端子に印加する電圧の極性によって抵抗値が変化する。
As shown in FIG. 4, the
例えば図4(a)のように、PL用端子に電圧Vw、BL用端子に電圧0Vを印加すると、抵抗変化素子Rcの抵抗値が下がり、メモリセル101は低抵抗のON状態となる。図4(b)のように、PL用端子に電圧0V、BL用端子に電圧Vwを印加すると、抵抗変化素子Rcの抵抗値が上がり、メモリセル101は高抵抗のOFF状態となる。メモリセル101からこの抵抗値を読み出すには、図4(c)のように、BL用端子に電圧0V、PL用端子には電圧Vwよりも小さいΔVwの電圧を印加する。このΔVwは抵抗変化素子Rcの抵抗値が変化しない程度に小さい値とする。この時に抵抗変化素子Rcに流れる電流を測定(センシング)することで、ONまたはOFFの状態を読み出すことが出来る。
For example, as shown in FIG. 4A, when the voltage Vw is applied to the PL terminal and the voltage 0V is applied to the BL terminal, the resistance value of the resistance change element Rc decreases, and the
図5は、この抵抗変化素子を組み込んだReRAMのメモリセルアレイ100の一例である。メモリセルアレイ100は、横方向にワード線WLとプレート線PL、縦方向にビット線BLが配置されており、これらの電圧の組み合わせで1つのメモリセルを選択する。図5は、メモリセルから抵抗値を読み出す時の印加電圧を示している。図5のように各配線にHまたはLまたはL+ΔLの電圧を印加することで、点線で囲んだメモリセル101aが選択される。
FIG. 5 shows an example of a ReRAM
ここで、図6のように、選択メモリセル101aのプレート線PLにセンスアンプ102を接続することで、メモリセルの抵抗値を読み出すことが出来る。図6では、センスアンプ102の入力部には定電圧源121を備えており、プレート線PLの電圧はメモリセル101の抵抗に関わらず一定電圧となる。この時、メモリセル101の抵抗値に対応してセル電流Icellが流れる。このIcellは定電圧源121をそのまま通って、電流−電圧変換器122に入り、電流−電圧変換器122から電流値Icellに対応する電圧VAMPが出力される。この電圧VAMPがアナログ比較器103に入力される。
Here, as shown in FIG. 6, the resistance value of the memory cell can be read by connecting the
<実施の形態1の読み出し回路の動作>
図7は、本実施の形態に係るメモリセル101に記憶されている抵抗値の発生確率の分布と基準電圧(比較器の基準電圧)の対応の例である。VREF1〜VREFmは抵抗値に対応する基準電圧である。以降ではVREFx<VREFy(x<y)とする。2値記憶のメモリセル101では、抵抗値の分布が低抵抗のON抵抗(ON状態の抵抗値)の分布と高抵抗のOFF抵抗(OFF状態の抵抗値)の分布となり、2つの分布にそれぞれピーク(中央)が存在する。図7では両者の分布はガウス分布を仮定し、しきい値の発生確率よりも高い領域をそれぞれON判定領域とOFF判定領域とする。本実施の形態では、以下に説明するように、ON判定領域とOFF判定領域の間の発生確率の低い領域にしきい値抵抗RTHを設定することで、メモリセル101のON状態とOFF状態を低いエラー確率で識別することが出来る。
<Operation of Read Circuit of First Embodiment>
FIG. 7 is an example of the correspondence between the distribution of the probability of occurrence of the resistance value stored in the
図8のフローチャートは、本実施の形態に係る読み出し回路200の動作を示している。図8に示すように、まず、読み出し回路200は、メモリセルアレイ100からデータを読み出す(S101)。上述したようにセンスアンプ102からメモリセル101の抵抗値に対応した電圧が出力され、アナログ比較器103からバッファ201を介してn個のmビット比較結果が中央値検出回路202に入力される。
The flowchart in FIG. 8 shows the operation of the read
続いて、読み出し回路200は、読み出したデータから低抵抗、高抵抗それぞれの抵抗分布を求める(S102)。中央値検出回路202は、バッファ201を介して入力された比較結果を図7のようにON判定領域に属するもの、OFF判定領域に属するものとどちらにも属さないものに分ける。そして、中央値検出回路202は、ONとOFF判定領域に属するものそれぞれの集合に対して中央値を求める。ここでは中央値を求めているが、その代わりに平均値(もしくはその他の中間値)を求めても良い。ここで求まった中央値は図7の分布においてON抵抗の分布とOFF抵抗の分布それぞれのピークの抵抗値を示すとみなすことが出来る。ここでガウス分布のような抵抗分布を仮定することで、ピーク(中央)の抵抗値から各分布の形状が分かる。例えば、温度・電圧・プロセス・ノイズなどの変動でON状態とOFF状態の分布が変化しても、実際のメモリセルを読み出して分布を求めることで、これらの変動要因を加味した分布を求めることが出来る。
Subsequently, the
続いて、読み出し回路200は、求めた抵抗分布からしきい値を決定する(S103)。エラー確率を最小とできるのは図7において、ON状態とOFF状態の分布の裾の交差する抵抗値RTHである。そこで、ON状態とOFF状態の分布の中央値または平均値(もしくは中間値)から裾の交差する抵抗値を求めることで、エラー確率を最小とできるしきい値抵抗が分かる。しきい値決定回路203は、ON状態とOFF状態の中央値または平均値からしきい値抵抗RTHを決定する。しきい値を決定するには、例えば、ON状態とOFF状態の中央値または平均値(もしくは中間値)としきい値の抵抗値の対応を予めテーブルとして記憶しておくことで容易に実現できる。次に、その抵抗に最も近いしきい値電圧Vrefcを選択し、しきい値決定回路203の出力とする。一度しきい値が決定すると、この値はしきい値記憶回路204に記憶される。
Subsequently, the
続いて、読み出し回路200は、決定した新たなしきい値を用いてデータを読み出し(S104)、データを復号する(S105)。データ選択回路205は、バッファ201を介して取得したn個のmビットデータそれぞれの中から、しきい値電圧Vrefcに相当する入力値1ビットを選択し出力する(しきい値を超えているかどうか判定する)。データ選択回路205の出力はnビットとなる。そして、デコーダ206は、nビットのデータをエラー訂正方式に従ってデコードしてkビットのデータを復元する。
Subsequently, the
<実施の形態1の効果>
上記特許文献1では、チップの温度変化には対応できるものの、プロセスばらつきや電圧ばらつきには対応できないという問題があった。また、上記特許文献2では、メインとは別のリファレンス用のインデックスセルを読み出し、読み出したデータのフェイルビットの数に応じて読み出し電圧レベル(しきい値)を設定し、設定した電圧レベルによりメインのメモリセルのデータを読み出している。特許文献2では、メインのメモリセルとは別にリファレンス用のメモリセルが必要なためチップ面積が増大するという問題があり、また、メインとリファレンス用のメモリセルの間の特性ばらつきがあると、適切なしきい値を設定できないという問題がある。
<Effect of
In the above-mentioned
本実施の形態では、上記のように不揮発メモリに記憶されているデータそのものからON/OFF状態を判定するしきい値を決定する。このため温度・電圧・プロセス・ノイズなどの変動要因の影響を排除することが出来る。したがって、ONとOFFの値の違い、つまり読み出しマージンが小さい場合でも正確にデータを読み出すことが出来るので、エラー率を低減できる。また、実際にデータを記憶するメモリセルを使用してしきい値を設定するため、リファレンス用メモリセルが不要となることから、チップ面積の増大を抑え、特性ばらつきの影響も低減することができる。 In the present embodiment, the threshold value for determining the ON / OFF state is determined from the data itself stored in the nonvolatile memory as described above. For this reason, the influence of fluctuation factors such as temperature, voltage, process and noise can be eliminated. Accordingly, even when the difference between the ON and OFF values, that is, when the read margin is small, the data can be read accurately, and the error rate can be reduced. In addition, since the threshold value is set by using a memory cell that actually stores data, a reference memory cell is not required, so that an increase in chip area can be suppressed and the influence of characteristic variation can be reduced. .
(実施の形態1の変形例1)
図9は、実施の形態1の変形例1に係るメモリセル101の抵抗値の分布の例である。抵抗変化素子に記憶する抵抗値を、実施の形態1の図7のようなONとOFFの2値ではなく、変形例1の図9のように多値とすることも出来る。
(
FIG. 9 is an example of a distribution of resistance values of the
図9は、メモリセル101が0,1,2,3の4値の状態を記憶する例である。この場合もセンスアンプ102の出力をm個(m>2)のアナログ比較器103を用いてm個の基準電圧VREF1〜VREFmと比較することで、mビットの多値の比較結果として読み出す。そして、0判定領域〜3判定領域のそれぞれに属する基準電圧毎に比較結果を集計して中央値または平均値を求め、その結果より、3つのしきい値抵抗RTH01、RTH12、RTH23を決定する。
FIG. 9 shows an example in which the
(実施の形態1の変形例2)
実施の形態1では、nビットの読み出しデータの中には必ずON状態のものとOFF状態のものが少なくとも1つは含まれているものと想定していた。しかし、入力データが複数の2値データで構成されるとした場合に、この条件を必ず満たすとは限らない。そこで、変形例2では、入力データに対して一意に決まる符号を規定し、この符号には必ず0と1のデータが少なくとも1つは含まれているようにする。
(
In the first embodiment, it is assumed that n-bit read data always includes at least one of the ON state and the OFF state. However, when the input data is composed of a plurality of binary data, this condition is not always satisfied. Therefore, in the second modification, a code uniquely determined for the input data is defined, and the code always includes at least one of 0 and 1 data.
この条件を満たすような符号の例を図10に示す。図10は(7,4ビット)ハミング符号を用いた例である。図10で16種の元データは4ビットで0000〜1111までの値を取る。元データには0のみまたは1のみで構成されるものがある。この符号に対して、冗長ビット3ビットを付加したものがハミング符号である。ここでは通常の冗長ビットではなく、冗長ビットをビット反転させたデータを付加している。このように生成させた符号は0と1のデータが少なくとも1つは含まれている。さらに、ハミング符号なので、1ビットのエラー訂正能力を持つので、信頼性を向上させることが出来る。 An example of a code that satisfies this condition is shown in FIG. FIG. 10 shows an example using a (7, 4 bit) Hamming code. In FIG. 10, 16 types of original data take values from 0000 to 1111 in 4 bits. Some of the original data is composed of only 0 or 1 only. A hamming code is obtained by adding 3 redundant bits to this code. Here, not normal redundant bits but data obtained by bit-reversing redundant bits are added. The generated code includes at least one of 0 and 1 data. Furthermore, since it is a Hamming code, it has a 1-bit error correction capability, so that reliability can be improved.
図10では4ビットに対して3ビットを追加していたが、符号には必ず0と1のデータが少なくとも1つは含まれているようにするためには、図11のように、4ビットに対して1ビットを追加すること(4−5ビット変換)でも可能である。ここでは、元の4ビットに対して、1〜3ビットのみで奇数パリティを計算し、それを5ビット目に追加している。ただし、この符号では、パリテイチェックのみが可能で、ハミング符号のようなエラー訂正能力を持たない。 In FIG. 10, 3 bits are added to 4 bits. However, in order to ensure that the code includes at least one data of 0 and 1, as shown in FIG. It is also possible to add 1 bit to (4-5 bit conversion). Here, with respect to the original 4 bits, odd parity is calculated with only 1 to 3 bits and added to the 5th bit. However, with this code, only parity check is possible, and it does not have error correction capability like a Hamming code.
変形例2では、例えば、不揮発メモリの書き込み回路にエンコーダ(不図示)を備え、エンコーダにおいて図10や図11の符号に符号化し、符号化したデータをメモリセルアレイに書き込む。また、読み出し回路200のデコーダ206は、図10や図11の符号を元データに復号する。
In the second modification, for example, an encoder (not shown) is provided in the writing circuit of the nonvolatile memory, and the encoder encodes the codes shown in FIGS. 10 and 11 and writes the encoded data into the memory cell array. Further, the
(実施の形態1の変形例3)
図12は、実施の形態1の変形例3に係る中央値検出回路の構成例である。中央値検出回路202の入力は、メモリセルアレイ100のn個の各ビット毎にm個のアナログ比較器103の出力で、合計n×mビットとなる。ここで、rビット目(1≦r≦n)のq番目(1≦q≦m)のアナログ比較器103の出力をCMPq,rとする。図12に示すように、中央値検出回路202は、ONの分布とOFFの分布それぞれの中央値を決定するためのON中央値検出回路202aとOFF中央値検出回路202bを持つ。
(
FIG. 12 is a configuration example of the median value detection circuit according to the third modification of the first embodiment. The input of the median
図12を参照すると、ON中央値検出回路202aは1〜i+1番目のアナログ比較器103の出力CMP1,1〜CMPi+1,nを使用し、OFF中央値検出回路202bはj−1〜m番目のアナログ比較器103の出力CMPj−1,1〜CMPm,nを使用する。それぞれの中央値検出回路202aと202bは、中央値としてMEDON1〜MEDONi+1とMEDOFFj−1〜MEDOFFmを出力する。MEDON1〜MEDONi+1はCMP1,r〜CMPi+1,rに対応し、中央値となる1ビットのみがHでそれ以外はLとなる。MEDOFFj−1〜 MEDOFFmはCMPj−1,r〜CMPm,rに対応し、こちらも中央値となる1ビットのみがHでそれ以外はLとなる。
Referring to FIG. 12, the ON median
図13は、図12のON中央値検出回路202aの詳細な回路図である。図13に示すように、ON中央値検出回路202aは、i+1個のカウンタ221、i個の乗算器222、i個のバイナリ比較器223、i個のNOT回路224、i−1個のAND回路225を備える。カウンタ221は、ビット(メモリセル101)ごとのアナログ比較器203の出力をカウントする。1番〜i+1番のカウンタ221には、それぞれCMP1,r〜CMPi+1,r(1≦r≦n)のnビットの値を入力する。それぞれのカウンタ221は入力信号の中で、Lであるものの数をカウントしてCNT1〜CNTi+1に出力する。ここで出力値は0〜nのいずれかとなるので、CNTiの値は例えばsビットの2進数(n<2s)である。乗算器222は、カウンタ221の出力を2倍にし、バイナリ比較器223は、乗算器222の出力をビットの総数と比較する。すなわち、CNT1〜CNTiの値を乗算器222で2倍にした2CNT1〜2CNTiを、s+1ビットのバイナリ比較器223でCNTi+1と比較して比較結果DCMP1〜iを得る。ここで、CNTiの値を2倍するには、CNTiを1ビットシフトする。このため、2CNT1〜2CNTiはs+1ビットの2進数となる。
FIG. 13 is a detailed circuit diagram of the ON median
NOT回路224及びAND回路225は、バイナリ比較器223の比較結果に基づき、中央値を出力する。CNTi+1の値はONの分布に含まれるビットの総数であり、CNT1〜CNTiの値は基準電圧VREF1〜VREFiより電圧の低いビットの数であるから、DCMPxがLでDCMPx+1(1≦x≦i)がHとなるxが中央値である。そこで、NOT回路224によりDCMPxの反転値を生成し、AND回路225によりDCMPxの反転値とDCMPx+1のANDを中央値MEDONとして出力する。ここで、MEDON1〜 MEDONi+1のi+1ビットの出力が得られるが、この中でHとなるものは1ビットのみである。本回路は組み合わせ回路のみで構成されており、高速な中央値検出が可能である。
The
OFF中央値検出回路202bも同様の方式で構成することができる。OFF中央値検出回路202bでは、図13のCMP1をCMPm、CMP2をCMPm−1・・・と入れ替え、カウンタ221が入力信号の中でHであるものの数をカウントすることで構成できる。このような構成とすることで、簡易かつ高速に中央値を検出することができる。
The OFF median
図13の回路では中央値を検出していたが、図14のような平均値を検出する回路を使用することも出来る。図14の入出力の信号は図13と同じである。図14の回路を図13の代わりに図12の回路に使用することで、図12の回路を平均値検出回路とすることが出来る。 Although the median value is detected in the circuit of FIG. 13, a circuit for detecting an average value as shown in FIG. 14 can also be used. The input / output signals in FIG. 14 are the same as those in FIG. By using the circuit of FIG. 14 for the circuit of FIG. 12 instead of FIG. 13, the circuit of FIG. 12 can be an average value detection circuit.
図14に示すように、ON中央値検出回路(ここでは平均値検出回路)202aは、i+1個のカウンタ231、i個の加算器232、i+1個の乗算器233、加算器234、序慚愧235、i+1個のバイナリ比較器236、i個のNOT回路237、i−1個のAND回路228を備える。図14で1番〜i+1番のカウンタ231には、それぞれCMP1,r〜CMPi+1,r(1≦r≦n)のnビットの値を入力する。それぞれのカウンタ231は入力信号の中で、Lであるものの数をカウントし、それぞれのカウント値の差を加算器232で求めてCNT1〜CNTi+1に出力する。このCNT1〜CNTi+1はそれぞれのしきい値の範囲に入ったビットの数となる。次の乗算器233ではこのビット数にそれぞれしきい値での抵抗値RREF1〜RREFi+1を掛ける。さらに加算器234で全ての掛け算の結果を加算して全体の和SUMが求まる。
As shown in FIG. 14, the ON median value detection circuit (here, the average value detection circuit) 202 a includes i + 1 counters 231, i adders 232, i + 1
このSUMを除算器235でCNT1〜CNTi+1の和であるCNTallで割ると抵抗値の平均RAVEが求まる。バイナリ比較器236により、このRAVEをそれぞれのしきい値での抵抗値RREF1〜RREFi+1と比較し、この結果を図13の中央値と同様にNOT回路237及びAND回路238により演算すると、MEDON1〜MEDONi+1のi+1ビットの出力が得られる。この中でHとなるものは1ビットのみであり、これが抵抗値RAVEより大きい最小のしきい値抵抗、つまり平均値近傍のしきい値抵抗となる。このような構成により、簡易かつ高速に平均値を検出することができる。
When this SUM is divided by a
(実施の形態2)
以下、図面を参照して実施の形態2について説明する。図15と図16は本実施の形態に係るデータ読み出し動作のタイミングを示している。構成については、実施の形態1と同様である。
(Embodiment 2)
The second embodiment will be described below with reference to the drawings. 15 and 16 show the timing of the data read operation according to the present embodiment. The configuration is the same as in the first embodiment.
動作の一例である図15では、セル読み出し、中央値検出、しきい値決定、データ復号の4つの動作にそれぞれ1クロックの時間が必要と仮定する。すなわち、1クロック目でメモリセル101から読み出したデータをバッファ201に保持し、2クロック目で中央値検出回路202が中央値を検出し、3クロック目でしきい値決定回路203がしきい値を決定し、4クロック目でデコーダ206がデータを復号する。そうすると、読み出し回路200が読み出しコマンドを受け取ってからデータを出力するには4クロックの時間がかかる。
In FIG. 15 which is an example of the operation, it is assumed that one clock time is required for each of the four operations of cell reading, median value detection, threshold value determination, and data decoding. That is, the data read from the
ただし、これら4つの動作は並列動作するので、パイプラインで高速化が可能である。連続した読み出し動作として、動作の開始を1クロックずらし、2回目、3回目のデータ読み出しを行う。つまり、図15に示すように、1回目の読み出しを1クロック目から開始し、2回目の読み出しを2クロック目から開始し、3回目の読み出しを3クロック目から開始する。これにより、最初のデータは4クロックのウエイトが必要であるが、2個目以降のデータは1クロック毎に取り出すことが出来る。 However, since these four operations operate in parallel, the speed can be increased by the pipeline. As a continuous read operation, the start of the operation is shifted by one clock, and the second and third data read is performed. That is, as shown in FIG. 15, the first reading is started from the first clock, the second reading is started from the second clock, and the third reading is started from the third clock. As a result, the first data needs to wait for 4 clocks, but the second and subsequent data can be extracted every clock.
動作の他の例である図16では、1回目の読み出しは図15と同じく4クロック必要であるが、実施の形態1で説明したように、求まったしきい値をしきい値記憶回路204に保存しておくことで、2回目の読み出しでは1回目の読み出しで用いたしきい値を使用する。このため、2回目の読み出しは読み出し回路200が読み出しコマンドを受け取ってからセル読み出し、データ復号の2つの動作でデータが出力されるので、2クロックの時間で読み出すことが出来る。
In FIG. 16, which is another example of the operation, the first read requires 4 clocks as in FIG. 15. However, as described in
3回目以降も同様に2クロックで読み出せるので、連続したデータ読み出しを行わない場合でも読み出しを高速化できる。また、2回目の読み出しではデータ出力後に、読み出しデータを用いたしきい値の再計算を行って、しきい値記憶に蓄えて以降の読み出しに使用する。例えば、2回目の読み出しで、4クロック目及び5クロック目でセル読み出しデータ復号を行いつつ、5クロック目及び6クロック目で中央値検出及びしきい値決定を行う。 Similarly, the data can be read out with two clocks after the third time, so that the reading speed can be increased even when continuous data reading is not performed. In the second reading, after the data is output, the threshold value using the read data is recalculated, stored in the threshold value memory, and used for the subsequent reading. For example, in the second reading, the median value is detected and the threshold value is determined at the fifth and sixth clocks while cell read data decoding is performed at the fourth and fifth clocks.
(実施の形態3)
以下、図面を参照して実施の形態3について説明する。図17は本実施の形態に係る不揮発メモリの構成例を示している。
(Embodiment 3)
The third embodiment will be described below with reference to the drawings. FIG. 17 shows a configuration example of the nonvolatile memory according to this embodiment.
図17に示すように、本実施の形態に係る不揮発メモリ1は、メモリセルアレイ100と読み出し回路200に加えてトレーニング回路300を備えている。実施の形態1では各ビット毎にm個のアナログ比較器103を用いるために、図3においてチップ全体ではn×m個のアナログ比較器が必要である。これに対して、本実施の形態では各ビット毎にはアナログ比較器103は1つのみとする。その代わりにnビットに対して1個のトレーニング回路300を持つ。
As shown in FIG. 17, the
電源ONの直後などに、読み出し動作を開始する前にトレーニング回路300を動作させてしきい値を決定し、このしきい値を用いて読み出し動作を行う。図17に示すように、トレーニング回路300は、m個のアナログ比較器103、比較値ラッチ207、中央値検出回路202、しきい値決定回路203、しきい値記憶回路204、スイッチSW1及びSW2を備える。また、本実施の形態では、メモリセルアレイ100では、ビットごとにメモリセル101、センスアンプ102、アナログ比較器103を備え、読み出し回路200は、バッファ201、デコーダ206を備える。
Immediately after the power is turned on, the threshold value is determined by operating the
図17の動作について説明する。トレーニング動作では通常の読み出し動作と同様にメモリセル101を動作させる。この時、切り替えスイッチSW1でn個のセンスアンプ102の出力VAMP1〜VAMPnのうち1つがトレーニング回路300につながるようにする。そして、この出力をm個の基準電圧VREF1〜VREFmと比較してmビットの比較結果を比較値ラッチ207に保存する。切り替えスイッチSW1を切り替えていくことにより、比較値ラッチ207にnビット分の比較結果n×mビットが保存される。このデータを用いて実施の形態1と同様に中央値検出回路202としきい値決定回路203でしきい値を決定し、しきい値記憶回路204に保存する。
The operation of FIG. 17 will be described. In the training operation, the
読み出し動作ではしきい値記憶回路204の値に従って切り替えスイッチSW2により、基準電圧VREF1〜VREFmの内の1つをVREFAllに接続する。この状態で、メモリセル101からデータを読み出す。そして、メモリセルアレイ100内のアナログ比較器103がn個のセンスアンプ102の出力VAMP1〜VAMPnをVREFAllと比較することで、nビットの比較結果が得られる。このデータを、バッファ201を経由して転送し、デコーダ206でエラー訂正方式に従ってデコードしてkビットのデータを復元する。
In the read operation, one of the reference voltages VREF1 to VREFm is connected to VREFAll by the changeover switch SW2 according to the value of the threshold
本実施の形態ではアナログ比較器の個数が実施の形態1に比べて少なくできるので、チップ面積を縮小できる。また、あらかじめしきい値を求めておくことで、実施の形態2と同様にデータの読み出しを高速化できる。ここで、トレーニング動作を行うタイミングを電源ONの直後としたが、それ以降も適宜トレーニング動作を行うことができる。例えば特許文献2では、リファレンスを用いたトレーニング動作中は通常の読み出しは出来ないが、図17でトレーニング回路とメモリセルとは並列に動作できるので、通常の読み出し動作をしながら並行してトレーニング動作を行うことができる。
In this embodiment, since the number of analog comparators can be reduced as compared with the first embodiment, the chip area can be reduced. Further, by obtaining the threshold value in advance, it is possible to speed up data reading as in the second embodiment. Here, although the timing for performing the training operation is set immediately after the power is turned on, the training operation can be appropriately performed thereafter. For example, in
また、タイマーを用いて、1秒毎、1分毎などのあらかじめ決められた一定時間ごとにトレーニング動作を行うこともできる。さらに、チップ上に温度計を搭載し、チップ温度が5℃、10℃といった一定値以上変化した時にトレーニング動作を行うこともできる。これにより、適切なしきい値を設定することができる。 In addition, a training operation can be performed at predetermined time intervals such as every second or every minute using a timer. Furthermore, a thermometer can be mounted on the chip, and the training operation can be performed when the chip temperature changes by a certain value such as 5 ° C. or 10 ° C. Thereby, an appropriate threshold value can be set.
上記の実施形態の一部または全部は、以下の付記のようにも記載され得るが、以下には限られない。
(付記1)
A part or all of the above-described embodiment can be described as in the following supplementary notes, but is not limited thereto.
(Appendix 1)
HまたはLの状態の記憶された複数のメモリセルから状態を読み出し、前記読み出し状態のうち、ほぼHの状態に近いものとほぼLの状態に近いものそれぞれの平均値または中心値を求め、前記平均値または中心値よりHとLの状態を識別するしきい値を決定して、前記メモリセルから読み出した状態をHまたはLに識別することを特徴とする不揮発メモリ。
(付記2)
A state is read from a plurality of memory cells stored in an H or L state, and an average value or a center value of each of the read states that are substantially close to the H state and substantially close to the L state is obtained, A non-volatile memory, wherein a threshold value for identifying a state of H and L is determined from an average value or a center value, and a state read from the memory cell is identified as H or L.
(Appendix 2)
付記1記載の不揮発メモリにおいて、入力データをメモリセルに書き込むデータに符号化し、前記符号はHの状態とLの状態を少なくとも1つ含むことを特徴とする不揮発メモリ。
(付記3)
The nonvolatile memory according to
(Appendix 3)
付記2記載の不揮発メモリにおいて、状態の読み出しために、しきい値がお互いに異なる複数の比較器を持ち、前記比較器を同時に動作させて複数のしきい値に対する比較結果を得ることを特徴とする不揮発メモリ。
(付記4)
The non-volatile memory according to
(Appendix 4)
付記3記載の不揮発メモリにおいて、前記メモリセルから読み出される状態は抵抗値であることを特徴とする不揮発メモリ。
(付記5)
The nonvolatile memory according to
(Appendix 5)
付記3記載の不揮発メモリにおいて、前記HとLの状態を識別するしきい値を保存するメモリを持ち、前記しきい値が保存されている場合はしきい値を決定する動作を行わずに前記保存されているしきい値を使用することを特徴とする不揮発メモリ。
(付記6)
The nonvolatile memory according to
(Appendix 6)
付記3記載の不揮発メモリにおいて、前記しきい値がお互いに異なる複数の比較器は、前記状態を読み出す複数のメモリセルの数に関わらず1組のみで、前記1組の比較器と複数のメモリセルのいずれか1つを接続するスイッチを持ち、読み出し動作のたびに前記スイッチを切り替えて、前記状態を読み出す複数のメモリセル全てに対して比較動作を行い、HとLの状態を識別するしきい値を決定することを特徴とする不揮発メモリ。
(付記7)
The nonvolatile memory according to
(Appendix 7)
付記6において、しきい値を決定する動作は電源投入直後または、一定時間ごと、または、外部環境の変化を検知することによって行うことを特徴とする不揮発メモリ。 The nonvolatile memory according to claim 6, wherein the operation for determining the threshold value is performed immediately after the power is turned on, at regular intervals, or by detecting a change in the external environment.
以上、本発明者によってなされた発明を実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は既に述べた実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々の変更が可能であることはいうまでもない。 As mentioned above, the invention made by the present inventor has been specifically described based on the embodiments. However, the present invention is not limited to the embodiments already described, and various modifications can be made without departing from the scope of the invention. It goes without saying that it is possible.
1 不揮発メモリ
10 半導体装置
11 メモリセル
12 第1中間値決定回路
13 第2中間値決定回路
14 しきい値決定回路
15 識別回路
100 メモリセルアレイ
101 メモリセル
102 センスアンプ
103 アナログ比較器
121 定電圧源
122 電流−電圧変換器
200 読み出し回路
201 バッファ
202 中央値検出回路
202a ON中央値検出回路
202b OFF中央値検出回路
203 しきい値決定回路
204 しきい値記憶回路
205 データ選択回路
206 デコーダ
207 比較値ラッチ
221 カウンタ
222 乗算器
223 バイナリ比較器
224 NOT回路
225 AND回路
231 カウンタ
232 加算器
233 乗算器
234 加算器
235 除算器
236 バイナリ比較器
237 NOT回路
238 AND回路
300 トレーニング回路
DESCRIPTION OF
Claims (14)
前記複数の第1データの中間値を決定する第1中間値決定回路と、
前記複数の第2データの中間値を決定する第2中間値決定回路と、
前記第1及び第2中間値決定回路のそれぞれの決定結果に基づき、前記第1及び第2記憶状態を識別するしきい値を決定するしきい値決定回路と、
前記しきい値決定回路の決定結果と前記複数のメモリセルからの読み出し結果に基づき、前記複数のメモリセルの記憶状態を識別する識別回路と、
を備える半導体装置。 A plurality of memory cells including a memory cell that outputs first data according to a first storage state and a memory cell that outputs second data according to a second storage state;
A first intermediate value determining circuit for determining an intermediate value of the plurality of first data;
A second intermediate value determining circuit for determining an intermediate value of the plurality of second data;
A threshold value determination circuit for determining a threshold value for identifying the first and second storage states based on respective determination results of the first and second intermediate value determination circuits;
An identification circuit for identifying a storage state of the plurality of memory cells based on a determination result of the threshold determination circuit and a read result from the plurality of memory cells;
A semiconductor device comprising:
請求項1に記載の半導体装置。 The intermediate value is a central value of the distribution of the plurality of first or second data.
The semiconductor device according to claim 1.
請求項2に記載の半導体装置。 The threshold value is a value of a portion where the tail of the distribution of the first data and the tail of the distribution of the second data overlap.
The semiconductor device according to claim 2.
請求項1に記載の半導体装置。 The intermediate value is an average value of the plurality of first or second data.
The semiconductor device according to claim 1.
請求項1に記載の半導体装置。 In the plurality of memory cells, data encoded so as to include the memory cells in the first storage state and the memory cells in the second storage state is written.
The semiconductor device according to claim 1.
請求項5に記載の半導体装置。 The encoded data includes redundant bits corresponding to the first storage state and the second storage state and performing error detection or error correction.
The semiconductor device according to claim 5.
請求項1に記載の半導体装置。 Each of the memory cells includes a plurality of analog comparators that compare a signal read from the memory cell with a plurality of reference voltages and output the first or second data.
The semiconductor device according to claim 1.
前記メモリセルごとの複数のアナログ比較器の出力をカウントする複数のカウンタと、
前記カウントした値を2倍にする乗算器と、
前記2倍にした値と前記第1または第2データの総数とを比較するバイナリ比較器と、
前記バイナリ比較器の比較結果に基づき、前記中間値を出力する出力回路と、
を備える、請求項7に記載の半導体装置。 The first or second intermediate value determination circuit includes:
A plurality of counters for counting outputs of a plurality of analog comparators for each of the memory cells;
A multiplier for doubling the counted value;
A binary comparator that compares the doubled value with the total number of the first or second data;
An output circuit that outputs the intermediate value based on a comparison result of the binary comparator;
The semiconductor device according to claim 7, comprising:
前記複数のメモリセルと前記複数のアナログ比較器との接続を切り替える切り替えスイッチと、
前記複数のアナログ比較器の出力をラッチするラッチ回路と、
を備える、請求項1に記載の半導体装置。 A plurality of analog comparators for comparing a signal read from the memory cell with a plurality of reference voltages and outputting the first or second data;
A changeover switch for switching connection between the plurality of memory cells and the plurality of analog comparators;
A latch circuit for latching outputs of the plurality of analog comparators;
The semiconductor device according to claim 1, comprising:
前記識別回路は、前記記憶されたしきい値に基づいて前記記憶状態を識別する、
請求項1に記載の半導体装置。 A threshold value storage circuit for storing the determined threshold value;
The identification circuit identifies the storage state based on the stored threshold;
The semiconductor device according to claim 1.
請求項10に記載の半導体装置。 The identification circuit identifies the storage state based on a threshold value stored in a previous read operation;
The semiconductor device according to claim 10.
請求項1に記載の半導体装置。 The threshold value determination circuit determines the threshold value when the power is turned on, at regular intervals, or when the external environment changes;
The semiconductor device according to claim 1.
前記複数の第1データの中間値を決定する第1中間値決定回路と、
前記複数の第2データの中間値を決定する第2中間値決定回路と、
前記第1及び第2中間値決定回路のそれぞれの決定結果に基づき、前記第1及び第2記憶状態を識別するしきい値を決定するしきい値決定回路と、
前記しきい値決定回路の決定結果と前記複数の不揮発メモリセルからの読み出し結果に基づき、前記複数の不揮発メモリセルの記憶状態を識別する識別回路と、
を有する不揮発メモリ。 A plurality of nonvolatile memory cells including a nonvolatile memory cell that outputs first data according to a first storage state and a nonvolatile memory cell that outputs second data according to a second storage state;
A first intermediate value determining circuit for determining an intermediate value of the plurality of first data;
A second intermediate value determining circuit for determining an intermediate value of the plurality of second data;
A threshold value determination circuit for determining a threshold value for identifying the first and second storage states based on respective determination results of the first and second intermediate value determination circuits;
An identification circuit for identifying a storage state of the plurality of nonvolatile memory cells based on a determination result of the threshold value determination circuit and a read result from the plurality of nonvolatile memory cells;
A non-volatile memory.
前記第1及び第2データは抵抗値である、
請求項13に記載の不揮発メモリ。 The nonvolatile memory cell is a resistance change type memory cell,
The first and second data are resistance values.
The non-volatile memory according to claim 13.
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