JP2017084983A - Film for semiconductor manufacturing process - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、半導体製造工程において使用するのに適した粘着テープ及び該粘着テープの基材として用いられるフィルムについての発明である。 The present invention relates to an adhesive tape suitable for use in a semiconductor manufacturing process and a film used as a base material of the adhesive tape.
半導体の製造工程においては、まずシリコン、ガリウムヒ素などの半導体ウエハが大径の状態で製造され、このウエハは素子小片（チップ）に切断分離（ダイシング）された後に次の工程であるマウント工程に移される。この際、半導体ウエハは予め粘着シート（ダイシングシート）に貼着された状態でダイシング、洗浄、乾燥、エキスパンディング、ピックアップ、マウンティングの各工程に供される。 In the semiconductor manufacturing process, first, a semiconductor wafer such as silicon or gallium arsenide is manufactured in a large diameter state, and this wafer is cut and separated (diced) into element pieces (chips), and then the next process is a mounting process. Moved. At this time, the semiconductor wafer is subjected to dicing, washing, drying, expanding, pick-up, and mounting processes in a state where it is adhered to an adhesive sheet (dicing sheet) in advance.
前記ダイシング工程においては、回転しながら移動する丸刃によってウエハの切断が行なわれるが、その際に半導体ウエハを保持するダイシングシートの粘着シート内部まで切り込みを行なうフルカットと呼ばれる切断方式が主流となってきている。該粘着シートは、基材上に粘着剤が塗布されてなるが、該基材としては、エキスパンド性を考慮して比較的軟質な樹脂からなる基材が従来から用いられている。 In the dicing process, the wafer is cut by a circular blade that moves while rotating, and a cutting method called full cut that cuts the inside of the adhesive sheet of the dicing sheet that holds the semiconductor wafer at that time becomes the mainstream. It is coming. The pressure-sensitive adhesive sheet is formed by applying a pressure-sensitive adhesive on a base material. As the base material, a base material made of a relatively soft resin has been conventionally used in consideration of expandability.
例えば、特許文献１には、ビニル芳香族炭化水素−共役ジエン炭化水素共重合体水素添加物とプロピレン系樹脂からなる多層フィルムについて開示されており、具体例としてＳＥＢＳ（スチレン／エチレン／ブチレン／スチレン３元ブロック共重合体）とプロピレン系樹脂からなる積層フィルムが開示されているが、ＳＥＢＳはエチレン成分やブチレン成分がブロックで存在しているため、これらが結晶化し、エキスパンド時に降伏して復元性が発現しにくいという問題がある。また、プロピレン系樹脂の結晶化度が高いため、配合量が多いとやはりエキスパンド後に復元しにくい。 For example, Patent Document 1 discloses a multilayer film made of a hydrogenated vinyl aromatic hydrocarbon-conjugated diene hydrocarbon copolymer and a propylene resin. As a specific example, SEBS (styrene / ethylene / butylene / styrene) is disclosed. Although a laminated film composed of a ternary block copolymer) and a propylene-based resin has been disclosed, since SEBS contains ethylene and butylene components in blocks, they crystallize and yield during expansion to recover. There is a problem that it is difficult to express. In addition, since the propylene resin has a high crystallinity, it is difficult to restore after expansion if the blending amount is large.
本発明は、エキスパンド性、復元性に優れ、半導体のウエハをダイシングする工程において問題が発生しない、半導体製造工程用フィルムを提供することを目的としている。 An object of the present invention is to provide a film for a semiconductor manufacturing process, which is excellent in expandability and recoverability and does not cause a problem in a process of dicing a semiconductor wafer.
本発明者らは、上記課題に鑑み鋭意検討した結果、特定の共重合体を主成分としてフィルムに含有させると、上記課題を解決できることを見いだし、本発明を完成させるに至った。 As a result of intensive studies in view of the above problems, the present inventors have found that the above problems can be solved when a specific copolymer is contained as a main component in the film, and the present invention has been completed.
すなわち、本発明は、
［１］スチレン／エチレンランダム共重合体（Ａ）を主成分として含み、前記スチレン／エチレンランダム共重合体（Ａ）に占めるスチレン成分の含有量が３０質量％以上、８０質量％以下（ただし、スチレン成分とエチレン成分の合計を１００質量％とする。）であることを特徴とする、半導体製造工程用フィルム。
［２］前記スチレン／エチレンランダム共重合体（Ａ）及びポリオレフィン系樹脂（Ｂ）の組み合わせを主成分として含み、（Ａ）及び（Ｂ）の合計質量に対して、スチレン／エチレンランダム共重合体（Ａ）を９９〜５０質量％、ポリオレフィン系樹脂（Ｂ）を１〜５０質量％含有することを特徴とする、［１］に記載の半導体製造工程用フィルム。
［３］前記ポリオレフィン系樹脂（Ｂ）が、プロピレン単独重合体、及び／または、プロピレン／α−オレフィン共重合体であることを特徴とする、［２］に記載の半導体製造工程用フィルム。
［４］［１］〜［３］のいずれか１項に記載のフィルムの少なくとも片面側に粘着剤層が設けられてなる半導体製造工程用フィルム。
に関する。
That is, the present invention
[1] A styrene / ethylene random copolymer (A) is included as a main component, and the styrene component content in the styrene / ethylene random copolymer (A) is 30% by mass or more and 80% by mass or less (however, The total of a styrene component and an ethylene component shall be 100 mass%.) The film for semiconductor manufacturing processes characterized by the above-mentioned.
[2] A combination of the styrene / ethylene random copolymer (A) and the polyolefin resin (B) as main components, and the styrene / ethylene random copolymer with respect to the total mass of (A) and (B). The film for a semiconductor production process according to [1], wherein 99 to 50% by mass of (A) and 1 to 50% by mass of polyolefin-based resin (B) are contained.
[3] The film for semiconductor manufacturing process according to [2], wherein the polyolefin resin (B) is a propylene homopolymer and / or a propylene / α-olefin copolymer.
[4] A film for a semiconductor manufacturing process, in which an adhesive layer is provided on at least one side of the film according to any one of [1] to [3].
About.
本発明によれば、エキスパンド性、復元性に優れ、半導体のウエハのダイシング工程、特にエキスパンド工程において好ましい性能を有する半導体製造工程用フィルムを提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the film for semiconductor manufacturing processes which is excellent in expandability and recoverability, and has the preferable performance in the dicing process of a semiconductor wafer, especially an expand process can be provided.
以下、本発明を詳細に説明するが、本発明は以下に説明する実施形態に限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in detail, but the present invention is not limited to the embodiments described below.
本発明の１つの実施態様は、スチレン／エチレンランダム共重合体（Ａ）を主成分として含む半導体製造工程用フィルムである。 One embodiment of the present invention is a film for a semiconductor manufacturing process comprising a styrene / ethylene random copolymer (A) as a main component.
［スチレン／エチレンランダム共重合体（Ａ）］
本発明に用いるスチレン／エチレンランダム共重合体（Ａ）は、スチレン成分とエチレン成分との共重合体である。
[Styrene / ethylene random copolymer (A)]
The styrene / ethylene random copolymer (A) used in the present invention is a copolymer of a styrene component and an ethylene component.
スチレン／エチレンランダム共重合体（Ａ）に占めるスチレン成分の含有量は、３０質量％以上、８０質量％以下であり、３５質量％以上、７５質量％以下であることが好ましく、４０質量％以上、７０質量％以下であることがより好ましく、４５質量％以上、６５質量％以下であることが更に好ましい（ただし、スチレン成分とエチレン成分の合計を１００質量％とする）。スチレン／エチレンランダム共重合体（Ａ）に占めるスチレン成分の含有量がこの範囲にあれば、柔軟性や復元性に優れる半導体製造工程用フィルムを得ることができる。 The content of the styrene component in the styrene / ethylene random copolymer (A) is 30% by mass or more and 80% by mass or less, preferably 35% by mass or more and 75% by mass or less, and more preferably 40% by mass or more. 70 mass% or less, more preferably 45 mass% or more and 65 mass% or less (however, the total of the styrene component and the ethylene component is 100 mass%). If the content of the styrene component in the styrene / ethylene random copolymer (A) is within this range, a film for a semiconductor production process having excellent flexibility and resilience can be obtained.
スチレン／エチレンランダム共重合体（Ａ）を構成するスチレン成分としては、スチレン単独、α−メチルスチレン単独、ｐ−メチルスチレン単独のいずれかであってもよく、これら２種または３種の組み合わせであってもよいが、エキスパンド性や生産性の観点から、スチレン単独であることが好ましい。 The styrene component constituting the styrene / ethylene random copolymer (A) may be styrene alone, α-methylstyrene alone, or p-methylstyrene alone, and a combination of these two or three types. However, styrene alone is preferable from the viewpoints of expandability and productivity.
スチレン／エチレンランダム共重合体（Ａ）を構成するエチレン成分としては、エチレン単独であってもよく、エチレンと他のモノマー成分の組み合わせであってもよい。エチレンと他のモノマー成分との組み合わせとしては、エチレンとα−オレフィンとの組み合わせが好ましい。エチレンとα−オレフィンの組み合わせの具体例としては、エチレン／ブテン−１、エチレン／ヘキセン−１、エチレン／オクテン−１、エチレン／ブテン−１／ヘキセン−１、エチレン／ブテン−１／オクテン−１、エチレン／ヘキセン−１／オクテン−１、エチレン／ブテン−１／ヘキセン−１／オクテン−１等が挙げられる。 The ethylene component constituting the styrene / ethylene random copolymer (A) may be ethylene alone or a combination of ethylene and other monomer components. As a combination of ethylene and another monomer component, a combination of ethylene and an α-olefin is preferable. Specific examples of the combination of ethylene and α-olefin include ethylene / butene-1, ethylene / hexene-1, ethylene / octene-1, ethylene / butene-1 / hexene-1, ethylene / butene-1 / octene-1 , Ethylene / hexene-1 / octene-1, ethylene / butene-1 / hexene-1 / octene-1, and the like.
スチレン／エチレンランダム共重合体（Ａ）の重合方式は、ランダム共重合である。ブロック共重合体であると、エチレンブロックが規則正しく並んで結晶化するため、エキスパンドした際に降伏し、復元率が悪くなってしまう。一方、スチレン成分とエチレン成分がランダムに重合されているランダム共重合体の場合、分子鎖が不規則なために結晶化が阻害され、エキスパンドした際に降伏せず、十分な復元率を発現することができる。 The polymerization system of the styrene / ethylene random copolymer (A) is random copolymerization. In the case of a block copolymer, ethylene blocks are regularly arranged and crystallized, so that they yield when expanded, resulting in a poor recovery rate. On the other hand, in the case of a random copolymer in which a styrene component and an ethylene component are randomly polymerized, the crystallization is hindered due to irregular molecular chains, yielding a sufficient recovery rate without yielding when expanded. be able to.
［オレフィン系樹脂（Ｂ）］
本発明の半導体製造工程用フィルムは、スチレン／エチレンランダム共重合体（Ａ）の他に、必要に応じてオレフィン系樹脂（Ｂ）を更に含むことができる。オレフィン系樹脂（Ｂ）を更に含むことで、弾性率や耐熱性を向上することができ、加工性やエキスパンド性、耐熱性に優れた半導体製造工程用フィルムを得ることができる。
[Olefin resin (B)]
The film for a semiconductor production process of the present invention can further contain an olefin resin (B) as necessary in addition to the styrene / ethylene random copolymer (A). By further including the olefin resin (B), the elastic modulus and heat resistance can be improved, and a film for a semiconductor production process excellent in workability, expandability and heat resistance can be obtained.
オレフィン系樹脂（Ｂ）の種類は、特に限定されるものではないが、プロピレンの単独重合体、または、プロピレンとα−オレフィンのランダム共重合体、あるいは、ブロック共重合体、または、これらの混合物であることが、弾性率や耐熱性を向上できるという点で好ましい。α−オレフィンの具体例としては、ブテン−１、ヘキセン−１、オクテン−１等が挙げられる。 The type of the olefin resin (B) is not particularly limited, but is a propylene homopolymer, a random copolymer of propylene and an α-olefin, a block copolymer, or a mixture thereof. It is preferable that the elastic modulus and heat resistance can be improved. Specific examples of the α-olefin include butene-1, hexene-1, octene-1, and the like.
プロピレンとα−オレフィンの共重合体を用いる場合、オレフィン系樹脂（Ｂ）中に占めるα−オレフィン成分の含有量は、０．１質量％以上、２０質量％以下であることが好ましく、０．３質量％以上、１５質量％以下であることがより好ましく、０．５質量％以上、１０質量％以下であることが更に好ましい（ただし、プロピレンとα−オレフィン成分の合計を１００質量％とする）。α−オレフィンがかかる範囲内であれば、スチレン／エチレンランダム共重合体（Ａ）と混合した際に、加工性やエキスパンド性、復元性、耐熱性に優れた半導体製造工程用フィルムを得ることができる。 When a copolymer of propylene and α-olefin is used, the content of the α-olefin component in the olefin resin (B) is preferably 0.1% by mass or more and 20% by mass or less. It is more preferably 3% by mass or more and 15% by mass or less, and further preferably 0.5% by mass or more and 10% by mass or less (provided that the total of propylene and α-olefin component is 100% by mass). ). If the α-olefin is within such a range, when mixed with the styrene / ethylene random copolymer (A), it is possible to obtain a film for a semiconductor manufacturing process that is excellent in processability, expandability, resilience, and heat resistance. it can.
本発明のもう１つの実施態様は、スチレン／エチレンランダム共重合体（Ａ）とポリオレフィン系樹脂（Ｂ）との組み合わせを主成分として含む半導体製造工程用フィルムである。
本発明の半導体製造工程用フィルムは、スチレン／エチレンランダム共重合体（Ａ）単独からなるものでも良いが、ポリオレフィン系樹脂（Ｂ）を更に含むことで、加工性やエキスパンド性、耐熱性を向上することができる。
Another embodiment of the present invention is a film for a semiconductor production process comprising a combination of a styrene / ethylene random copolymer (A) and a polyolefin resin (B) as main components.
The film for a semiconductor production process of the present invention may be composed of a styrene / ethylene random copolymer (A) alone, but by further including a polyolefin resin (B), the processability, expandability, and heat resistance are improved. can do.
スチレン／エチレンランダム共重合体（Ａ）とポリオレフィン系樹脂（Ｂ）の含有量としては、（Ａ）及び（Ｂ）の合計質量に対して、スチレン／エチレンランダム共重合体（Ａ）９９〜５０質量％、及び、ポリオレフィン系樹脂（Ｂ）１〜５０質量％が好ましい。すなわち、（Ａ）：（Ｂ）＝９９：１〜５０：５０（質量比）であることが好ましく、（Ａ）：（Ｂ）＝９７：３〜５５：４５（質量比）であることが更に好ましく、（Ａ）：（Ｂ）＝９５：５〜６０：４０（質量比）であることがより好ましい。スチレン／エチレンランダム共重合体（Ａ）とポリオレフィン系樹脂（Ｂ）の質量比がかかる範囲であれば、透明性や復元性を損なうことなく、加工性やエキスパンド性、耐熱性に優れる半導体製造工程用フィルムを得ることができる。 As content of a styrene / ethylene random copolymer (A) and polyolefin resin (B), styrene / ethylene random copolymer (A) 99-50 with respect to the total mass of (A) and (B). The mass% and 1-50 mass% of polyolefin resin (B) are preferable. That is, (A) :( B) = 99: 1 to 50:50 (mass ratio) is preferable, and (A) :( B) = 97: 3 to 55:45 (mass ratio). More preferably, (A) :( B) = 95: 5 to 60:40 (mass ratio) is more preferable. As long as the mass ratio of the styrene / ethylene random copolymer (A) and the polyolefin resin (B) is within the range, a semiconductor manufacturing process having excellent processability, expandability, and heat resistance without impairing transparency and restorability. Film can be obtained.
［半導体製造工程用フィルム］
本発明の半導体製造工程用フィルムは、スチレン／エチレンランダム共重合体（Ａ）単独、または、スチレン／エチレンランダム共重合体（Ａ）とオレフィン系樹脂（Ｂ）の組み合わせを主成分として含み、柔軟性、加工性、エキスパンド性、透明性、復元性、耐熱性に優れ、ひいては、特にウエハのダイシング工程において用いた際、ウエハダイシングに問題が発生しない半導体製造工程用フィルムである。なお、本発明で言う「主成分」とは、質量比率が５０質量％以上であり、好ましくは６０質量％以上であり、より好ましくは７０質量％以上であり、更に好ましくは８０質量％以上であり、とりわけ好ましくは９０質量％以上であり、特に好ましくは１００質量％である。
[Film for semiconductor manufacturing process]
The film for a semiconductor production process of the present invention includes a styrene / ethylene random copolymer (A) alone or a combination of a styrene / ethylene random copolymer (A) and an olefin resin (B) as a main component, and is flexible. It is a film for a semiconductor manufacturing process that is excellent in properties, processability, expandability, transparency, resilience, and heat resistance, and does not cause problems in wafer dicing, particularly when used in a wafer dicing process. The “main component” in the present invention has a mass ratio of 50% by mass or more, preferably 60% by mass or more, more preferably 70% by mass or more, and further preferably 80% by mass or more. Yes, particularly preferably 90% by mass or more, particularly preferably 100% by mass.
半導体製造工程用フィルムは、引張降伏伸度が３０％以上であることが好ましく、５０％以上であることがより好ましく、１００％以上であることが更に好ましく、降伏点が存在しないことがとりわけ好ましい。ウエハのダイシング工程においては、基材フィルムを３０〜５０％延伸するのが一般的だが、引張降伏伸度が３０％未満だと、延伸時に降伏してしまい、その後の復元性が発現しにくい。引張降伏伸度がかかる範囲であれば、半導体製造工程用フィルムが十分な復元性を発現することができる。なお、本発明で言う復元性とは、半導体製造工程用フィルムをエキスパンドした後に、どれだけ元の長さに戻ったかを表す指標であり、以下の式で表される復元率で評価される。
復元率（％）＝（引張直後の長さ−復元後の長さ）÷（引張直後の長さ−引張前の長さ）×１００
The film for a semiconductor manufacturing process preferably has a tensile yield elongation of 30% or more, more preferably 50% or more, further preferably 100% or more, and particularly preferably has no yield point. . In the wafer dicing process, the base film is generally stretched by 30 to 50%. However, if the tensile yield elongation is less than 30%, it yields at the time of stretching, and subsequent restorability is hardly exhibited. If the tensile yield elongation is within such a range, the film for a semiconductor manufacturing process can exhibit sufficient restoration properties. In addition, the restoring property said by this invention is an parameter | index showing how much it returned to the original length after expanding the film for semiconductor manufacturing processes, and is evaluated by the restoring rate represented by the following formula | equation.
Restoration rate (%) = (length immediately after tension−length after restoration) ÷ (length immediately after tension−length before tension) × 100
復元率の値は、６５％以上であることが好ましく、７０％以上であることがより好ましく、７５％以上であることが更に好ましい。半導体製造工程用フィルムの復元率の値がかかる範囲であることにより、ダイシング後の工程にも不具合を生じることがない。 The value of the restoration rate is preferably 65% or more, more preferably 70% or more, and further preferably 75% or more. When the value of the restoration rate of the film for semiconductor manufacturing process is within such a range, there is no problem in the process after dicing.
半導体製造工程用フィルムは、必要に応じて上記以外の他の合成樹脂や、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、スリップ剤（滑剤）、アンチブロッキング剤、顔料、着色剤、充填剤、核剤、難燃剤等、通常ポリオレフィン系樹脂製フィルムに添加される添加剤を本発明の目的を損なわない範囲で添加することができる。半導体製造工程用フィルムは単層でも多層でもよく、各層に前記添加剤を配合してもよい。 Films for semiconductor manufacturing processes may include other synthetic resins, antioxidants, ultraviolet absorbers, light stabilizers, slip agents (lubricants), anti-blocking agents, pigments, colorants, fillers, if necessary. Additives that are usually added to polyolefin-based resin films, such as nucleating agents and flame retardants, can be added as long as the object of the present invention is not impaired. The film for a semiconductor manufacturing process may be a single layer or a multilayer, and the additive may be blended in each layer.
本発明の半導体製造工程用フィルムを用いた粘着テープにおいて粘着剤として紫外線硬化型のアクリル系粘着剤を用いる場合は、基材フィルムは紫外線透過タイプとすることが好ましく、通常、紫外線吸収剤の添加は避けることが好ましい。 In the case of using an ultraviolet curable acrylic pressure-sensitive adhesive as the pressure-sensitive adhesive in the pressure-sensitive adhesive tape using the film for semiconductor production process of the present invention, the base film is preferably an ultraviolet light transmission type, and usually an ultraviolet absorber is added. Is preferably avoided.
半導体製造工程用フィルムは、Ｔダイ押出し成形法、インフレーション成形法及びカレンダー成形法等の一般的なポリオレフィン系樹脂フィルムの成形方法により製造することができ、多層の場合は前記の方法で製造した個々の層（フィルム）をラミネーターを用いて貼り合わせる方法やフィルム成形と同時に圧着ラミネートする方法により製造できるが、多層Ｔダイ押出し法によって成形と同時に積層フィルムを製造するのが工程数も減らすことができて特に好ましい。 The film for a semiconductor manufacturing process can be manufactured by a general polyolefin resin film molding method such as a T-die extrusion molding method, an inflation molding method, and a calendar molding method. Can be manufactured by laminating a layer (film) or by laminating at the same time as film forming, but it is possible to reduce the number of processes by manufacturing multilayer film at the same time as forming by multilayer T-die extrusion method. It is particularly preferable.
半導体製造工程用フィルムの厚みは、１０μｍ以上、５００μｍ以下であり、２０μｍ以上、４００μｍ以下であることが好ましく、３０μｍ以上、３００μｍ以下であることがより好ましく、５０μｍ以上、２００μｍ以下であることが更に好ましい。フィルム厚みがかかる範囲であれば、柔軟性、加工性、エキスパンド性、透明性、復元性、耐熱性に優れる半導体製造工程用フィルムが得られる。 The thickness of the film for semiconductor manufacturing process is 10 μm or more and 500 μm or less, preferably 20 μm or more and 400 μm or less, more preferably 30 μm or more and 300 μm or less, and further preferably 50 μm or more and 200 μm or less. preferable. If it is the range which requires film thickness, the film for semiconductor manufacturing processes which is excellent in a softness | flexibility, workability, expandability, transparency, recoverability, and heat resistance will be obtained.
基材フィルムが多層である場合、各層の厚さは特に限定されないが、例えば基材フィルムが（Ａ）層／（Ｂ）層／（Ｃ）層の少なくとも３層を有する場合には、各層の厚さの比は特に限定されるものではないが、（Ａ）層の厚さ：（Ｂ）層の厚さ：（Ｃ）層の厚さ＝１：１：１〜１:１０：１であるのが好ましい。また各層の組成は同じであっても異なっていてもよい。 When the base film is a multilayer, the thickness of each layer is not particularly limited. For example, when the base film has at least three layers of (A) layer / (B) layer / (C) layer, The thickness ratio is not particularly limited, but (A) layer thickness: (B) layer thickness: (C) layer thickness = 1: 1: 1 to 1: 10: 1. Preferably there is. The composition of each layer may be the same or different.
半導体製造工程用フィルムの少なくとも片面側に粘着剤層を設けることにより、粘着テープが得られる。粘着剤層は、粘着剤を５０〜１００質量％含有するのが好ましい。粘着剤としては、アクリル系粘着剤が好ましい。アクリル系粘着剤としては、従来公知の粘着剤用のアクリル系樹脂を広く用いることができる。例えば、（メタ）アクリル酸アルキルの重合体、共重合性単量体との共重合体またはこれらの混合物が用いられる。更に、アクリル系粘着剤の接着性や凝集力を制御する目的でアクリル酸、メタクリル酸、アクリロニトリルまたは酢酸ビニル等の単量体を共重合させてもよい。これらの単量体を重合して得られるアクリル系（共）重合体の重量平均分子量は、５×１０４〜２×１０６であることが好ましく、４×１０５〜８×１０５であることが更に好ましい。 An adhesive tape is obtained by providing an adhesive layer on at least one side of the film for semiconductor manufacturing process. It is preferable that an adhesive layer contains 50-100 mass% of adhesives. As an adhesive, an acrylic adhesive is preferable. As an acrylic adhesive, conventionally well-known acrylic resin for adhesives can be used widely. For example, a polymer of alkyl (meth) acrylate, a copolymer with a copolymerizable monomer, or a mixture thereof is used. Furthermore, monomers such as acrylic acid, methacrylic acid, acrylonitrile or vinyl acetate may be copolymerized for the purpose of controlling the adhesiveness and cohesive strength of the acrylic pressure-sensitive adhesive. The weight average molecular weight of the acrylic (co) polymer obtained by polymerizing these monomers is preferably 5 × 10 4 to 2 × 10 6 , and is 4 × 10 5 to 8 × 10 5 . More preferably.
更に、粘着剤層に架橋剤を配合することにより、接着力と凝集力とを任意の値に設定することができる。このような架橋剤としては、多価イソシアネート化合物、多価エポキシ化合物、多価アジリジン化合物及びキレート化合物等がある。多価イソシアネート化合物としては、具体的にはトルイレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート及びこれらのアダクトタイプのもの等が用いられる。多価エポキシ化合物としては、具体的にはエチレングリコールジグリシジルエーテル及びテレフタル酸ジグリシジルエステルアクリレート等が用いられる。多価アジリジン化合物としては、具体的にはトリス−２，４，６−（１−アジリジニル）−１，３，５−トリアジン、トリス〔１−（２−メチル）−アジリジニル〕ホスフィンオキシド、ヘキサ〔１−（２−メチル）−アジリジニル〕トリホスファトリアジン等が用いられる。またキレート化合物としては、具体的にはエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート及びアルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）等が用いられる。 Furthermore, the adhesive force and cohesive force can be set to arbitrary values by blending a crosslinking agent into the pressure-sensitive adhesive layer. Examples of such crosslinking agents include polyvalent isocyanate compounds, polyvalent epoxy compounds, polyvalent aziridine compounds, and chelate compounds. Specific examples of the polyvalent isocyanate compound include toluylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, and adduct type compounds thereof. Specific examples of the polyvalent epoxy compound include ethylene glycol diglycidyl ether and terephthalic acid diglycidyl ester acrylate. Specific examples of the polyvalent aziridine compound include tris-2,4,6- (1-aziridinyl) -1,3,5-triazine, tris [1- (2-methyl) -aziridinyl] phosphine oxide, hexa [ 1- (2-Methyl) -aziridinyl] triphosphatriazine and the like are used. Specific examples of the chelate compound include ethyl acetoacetate aluminum diisopropylate and aluminum tris (ethyl acetoacetate).
また、粘着剤層中に光重合性化合物を配合することによって、粘着剤層に光線、好ましくは紫外線を照射することにより、初期の接着力を大きく低下させ、容易に被着体から該粘着フィルムを剥離することができる。このような光重合性化合物としては、たとえば特開昭６０−１９６９５６号公報及び特開昭６０−２２３１３９号公報に開示されているような光照射によって三次元網状化しうる、分子内に光重合性炭素−炭素二重結合を少なくとも２個以上有する低分子量化合物が広く用いられる。具体的には、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、１，４−ブチレングリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート及び市販のオリゴエステルアクリレート等が用いられる。なお、粘着剤層中に、光重合開始剤を混入することにより、光照射による重合硬化時間及び光照射量を少なくすることができる。このような光重合開始剤としては、具体的には、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンジルジフェニルサルファイド、テトラメチルチウラムモノサルファイド、アゾビスイソブチロニトリル、ジベンジル、ジアセチル及びβ−クロールアンスラキノン等が挙げられる。光重合開始剤は、通常光重合性化合物１００重量部に対し０．１〜１０重量部の量が用いられる。 In addition, by blending a photopolymerizable compound in the pressure-sensitive adhesive layer, the pressure-sensitive adhesive layer is irradiated with light, preferably ultraviolet rays, so that the initial adhesive force is greatly reduced, and the pressure-sensitive adhesive film can be easily removed from the adherend. Can be peeled off. Examples of such a photopolymerizable compound include a photopolymerizable compound in a molecule that can be three-dimensionally reticulated by light irradiation as disclosed in, for example, JP-A-60-196956 and JP-A-60-223139. Low molecular weight compounds having at least two carbon-carbon double bonds are widely used. Specifically, trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol monohydroxypentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, 1,4-butylene glycol diacrylate, 1,6-hexanediol Diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, commercially available oligoester acrylate, and the like are used. In addition, the polymerization hardening time and light irradiation amount by light irradiation can be decreased by mixing a photoinitiator in an adhesive layer. Specific examples of such photopolymerization initiators include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzyl diphenyl sulfide, tetramethyl thiuram monosulfide, azobisisobutyronitrile, dibenzyl, diacetyl and β-chloranthraquinone and the like can be mentioned. The amount of the photopolymerization initiator is usually 0.1 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the photopolymerizable compound.
粘着剤層の厚みは、通常１〜５０μｍである。粘着剤層の厚みがかかる範囲であれば、粘着性とコストのバランスに優れる。 The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is usually 1 to 50 μm. If it is the range which the thickness of an adhesive layer takes, it is excellent in the balance of adhesiveness and cost.
粘着剤層の形成は、半導体製造工程用フィルム上に、粘着剤を樹脂等の成分が可溶な溶剤に溶解した後、グラビアコート法、リバースロールコート法、コンマコート法、バーコート法、ナイフコート法及びキスコート法等従来公知のコーティング方式により基材フィルム上に塗布し、溶剤を揮発、乾燥させる方法を用いればよい。 The pressure-sensitive adhesive layer is formed on a semiconductor manufacturing process film after the pressure-sensitive adhesive is dissolved in a solvent in which components such as resins are soluble, followed by a gravure coating method, reverse roll coating method, comma coating method, bar coating method, knife A method of applying on a base film by a conventionally known coating method such as a coating method and a kiss coating method and volatilizing and drying the solvent may be used.
半導体工程用フィルムの少なくとも片面側は、プラズマ処理やコロナ処理、オゾン処理及び火炎処理等の方法により表面処理されていてもよい。また、半導体製造工程用フィルムと粘着剤層の間には、必要によりプライマー層を設けてもよい。また、本発明の目的を損なわない限り、粘着テープの粘着剤層が設けられた側と反対面及び／または半導体製造工程用フィルムと粘着剤層の間に更に樹脂層を設けても良い。 At least one side of the semiconductor process film may be surface-treated by a method such as plasma treatment, corona treatment, ozone treatment, or flame treatment. Moreover, you may provide a primer layer between the film for semiconductor manufacturing processes, and an adhesive layer as needed. Moreover, unless the objective of this invention is impaired, you may provide a resin layer further between the surface on the opposite side to the side in which the adhesive layer of the adhesive tape was provided, and / or between the film for semiconductor manufacturing processes, and an adhesive layer.
以下、本発明を実施例に基づき更に詳細に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。 EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated further in detail based on an Example, this invention is not limited to a following example.
［評価方法］
（１）復元率
ＪＩＳ Ｋ７１２７に基づいて、得られたフィルムから採取した試験片（１号ダンベル）を２３℃／６０％ＲＨの雰囲気下、島津製作所製オートグラフ（引張速度：５０ｍｍ／分）にて５０％延伸し１分間保持した後、試験機から外して５分間放置して復元させ、下記の計算式により復元率を測定した。
復元率（％）＝（引張直後の長さ−復元後の長さ）÷（引張直後の長さ−引張前の長さ）×１００
ここで、引張直後の長さとは、島津製作所製オートグラフで５０％延伸した状態の長さを言う。
[Evaluation method]
(1) Restoration rate Based on JIS K7127, a test piece (No. 1 dumbbell) collected from the obtained film was converted into an autograph (tensile speed: 50 mm / min) manufactured by Shimadzu Corporation under an atmosphere of 23 ° C./60% RH. The sample was stretched 50% and held for 1 minute, then removed from the test machine and allowed to stand for 5 minutes for restoration, and the restoration rate was measured by the following formula.
Restoration rate (%) = (length immediately after tension−length after restoration) ÷ (length immediately after tension−length before tension) × 100
Here, the length immediately after pulling refers to the length in a state of being stretched 50% by an autograph manufactured by Shimadzu Corporation.
（２）引張降伏伸度
ＪＩＳ Ｋ７１２７に基づいて、得られたフィルムから採取した試験片（１号ダンベル）を２３℃／６０％ＲＨの雰囲気下、島津製作所製オートグラフ（引張速度：５０ｍｍ／分）を用いて引張降伏伸度を測定した。
(2) Tensile yield elongation Based on JIS K7127, a test piece (No. 1 dumbbell) collected from the obtained film was autograph (tensile speed: 50 mm / min) manufactured by Shimadzu Corporation in an atmosphere of 23 ° C./60% RH. ) Was used to measure the tensile yield elongation.
本実施例において用いた材料は以下の通りである。 The materials used in this example are as follows.
［スチレン／エチレンランダム共重合体（Ａ）］
（Ａ）−１：スチレン／エチレンランダム共重合体（スチレン／エチレン＝４８／５２（質量比））
（Ａ）−２：スチレン／エチレンランダム共重合体（スチレン／エチレン＝６２／３８（質量比））
[Styrene / ethylene random copolymer (A)]
(A) -1: Styrene / ethylene random copolymer (styrene / ethylene = 48/52 (mass ratio))
(A) -2: Styrene / ethylene random copolymer (styrene / ethylene = 62/38 (mass ratio))
［ポリオレフィン系樹脂（Ｂ）］
（Ｂ）−１：ノバテックＰＰ ＦＹ６ＨＡ（日本ポリプロ（株）製、プロピレン単独重合体）
[Polyolefin resin (B)]
(B) -1: Novatec PP FY6HA (manufactured by Nippon Polypro Co., Ltd., propylene homopolymer)
［実施例１］
（Ａ）−１を４０ｍｍφ同方向二軸押出機を用いて２００℃で混練した後、Ｔダイより押出し、次いで約３０℃のキャスティングロールにて急冷し、厚み８０μｍのシートを作製した。得られたシートについて、復元率、引張降伏伸度の評価を行った。結果を表１に示す。
[Example 1]
(A) -1 was kneaded at 200 ° C. using a 40 mmφ co-directional twin screw extruder, then extruded from a T die, and then rapidly cooled with a casting roll at about 30 ° C. to prepare a sheet having a thickness of 80 μm. About the obtained sheet | seat, the restoration rate and the tensile yield elongation were evaluated. The results are shown in Table 1.
［実施例２］
原料として（Ａ）−１と（Ｂ）−１を混合質量比８０：２０（質量比）の割合で混合した以外は、実施例１と同様の手順によりフィルムの作製、及び、評価を行った。結果を表１に示す。
[Example 2]
Except that (A) -1 and (B) -1 were mixed as raw materials at a mixing mass ratio of 80:20 (mass ratio), a film was prepared and evaluated by the same procedure as in Example 1. . The results are shown in Table 1.
［実施例３］
原料として（Ａ）−１と（Ｂ）−１を混合質量比６０：４０（質量比）の割合で混合した以外は、実施例１と同様の手順によりフィルムの作製、及び、評価を行った。結果を表１に示す。
[Example 3]
Except that (A) -1 and (B) -1 were mixed as raw materials at a mixing mass ratio of 60:40 (mass ratio), a film was prepared and evaluated in the same procedure as in Example 1. . The results are shown in Table 1.
［実施例４］
原料として（Ａ）−２と（Ｂ）−１を混合質量比８０：２０（質量比）の割合で混合した以外は、実施例１と同様の手順によりフィルムの作製、及び、評価を行った。結果を表１に示す。
[Example 4]
Except that (A) -2 and (B) -1 were mixed as raw materials at a mixing mass ratio of 80:20 (mass ratio), a film was prepared and evaluated by the same procedure as in Example 1. . The results are shown in Table 1.
［比較例１］
原料として（Ｂ）−１を使用した以外は、実施例１と同様の手順によりフィルムの作製、及び、評価を行った。結果を表１に示す。
[Comparative Example 1]
Except that (B) -1 was used as a raw material, a film was prepared and evaluated in the same procedure as in Example 1. The results are shown in Table 1.
［比較例２］
原料として（Ａ）−１と（Ｂ）−１を混合質量比２０：８０（質量比）の割合で混合した以外は、実施例１と同様の手順によりフィルムの作製、及び、評価を行った。結果を表１に示す。
[Comparative Example 2]
Except that (A) -1 and (B) -1 were mixed as raw materials at a mixing mass ratio of 20:80 (mass ratio), a film was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1. . The results are shown in Table 1.
［比較例３］
原料として（Ｂ）−１と（Ｎ）−１（旭化成（株）製、タフテック Ｈ１０４１、ＳＥＢＳ、スチレン比率＝３０質量％）を混合質量比４０：６０（質量比）の割合で混合した以外は、実施例１と同様の手順によりフィルムの作製、及び、評価を行った。結果を表１に示す。
[Comparative Example 3]
(B) -1 and (N) -1 (Asahi Kasei Co., Ltd., Tuftec H1041, SEBS, styrene ratio = 30% by mass) as raw materials were mixed at a mixing mass ratio of 40:60 (mass ratio). A film was prepared and evaluated in the same procedure as in Example 1. The results are shown in Table 1.
表１より、実施例１〜４は、復元性に優れ、エキスパンド工程においても好ましい性能を有していることがわかる。一方、比較例１〜３は、復元率が悪い結果であった。よって、本発明の半導体工程用フィルムは、柔軟性及びカット性に優れ、特にエキスパンド工程において優れる性能を有し、好適に用いることができることがわかる。 From Table 1, it can be seen that Examples 1 to 4 have excellent recoverability and have preferable performance even in the expanding step. On the other hand, Comparative Examples 1-3 were the results with a bad restoration rate. Therefore, it can be seen that the film for a semiconductor process of the present invention is excellent in flexibility and cutability, and particularly has excellent performance in an expanding process, and can be suitably used.
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