JP2017075161A - Pest control composition and use therefor - Google Patents

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慎哉 西村
Shinya Nishimura
慎哉 西村
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Sumitomo Chemical Co Ltd
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    • A01N43/00Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators containing heterocyclic compounds
    • A01N43/48Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators containing heterocyclic compounds having rings with two nitrogen atoms as the only ring hetero atoms
    • A01N43/561,2-Diazoles; Hydrogenated 1,2-diazoles
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a pest control composition having excellent pest control effect.SOLUTION: A pest control composition comprises a compound represented by formula (1) or an N oxide compound thereof, and at least one compound selected from group (a) an insecticide such as cypermethrin and imidacloprid or group (b) a bactericide such as azaconazole and boscalid, where A is N or a CR; R1 is alkyl, alkenyl or the like; R2 and R3 independently represent H, C1-C6 alkyl substituted/unsubstituted with a halogen atom, C2-C6 alkoxycarbonyl, cyano or a halogen atom; Ris halogen and alkyl; Ris halogen and alkyl, phenyl or the like; Ris H or halogen.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、有害生物防除組成物およびその用途に関する。   The present invention relates to a pest control composition and use thereof.

従来、有害生物防除組成物の有効成分として、多くの化合物が知られている(例えば、非特許文献1参照。)。   Conventionally, many compounds are known as an active ingredient of a pest control composition (for example, refer nonpatent literature 1).

MeisterPro Crop Protection Handbook Vol.100(2014)、Meister Media Worldwide刊、ISBN 1−892829−27−4MeisterPro Crop Protection Handbook Vol. 100 (2014), published by Meister Media World, ISBN 1-892829-27-4.

本発明は、有害生物に対する優れた防除効力を有する有害生物防除組成物を提供することを課題とする。   This invention makes it a subject to provide the pest control composition which has the outstanding control effect with respect to a pest.

本発明者は、有害生物に対する優れた防除効力を有する有害生物防除組成物を見出すべく検討した結果、式(1)で示される化合物と、群(a)又は群(b)から選ばれる1種以上の化合物とを含有する組成物が、有害生物に対する優れた防除効力を有することを見出した。   As a result of studying to find a pest control composition having an excellent control effect against pests, the present inventor has found that the compound represented by the formula (1) and one selected from the group (a) or the group (b) It has been found that a composition containing the above compounds has an excellent control effect against pests.

本発明は、以下の通りである。
[1]
式(1):

Figure 2017075161

[式中、
Aは、窒素原子、又はCR6を表し、
1は、C2−C10アルキル基、C3−C10アルケニル基、C3−C10アルキニル基、(C1−C5アルキル)−O−(C2−C5アルキル)基、(C3−C5アルケニル)−O−(C2−C5アルキル)基、(C3−C5アルキニル)−O−(C2−C5アルキル)基、(C1−C5アルキル)−S(O)m−(C2−C5アルキル)基、(C3−C5アルケニル)−S(O)m−(C2−C5アルキル)基、(C3−C5アルキニル)−S(O)m−(C2−C5アルキル)基、又は(C1−C5アルキル)−C(O)−(C1−C5アルキル)基を表し(但し、R1は1以上のハロゲン原子を有する)、
2およびR3は、それぞれ独立して水素原子、1以上のハロゲン原子を有していてもよいC1−C6アルキル基、C2−C6アルコキシカルボニル基、シアノ基、又はハロゲン原子を表し、
4は、1以上のハロゲン原子を有していてもよいC1−C6鎖式炭化水素基表し、
5は、1以上のハロゲン原子を有していてもよいC1−C6鎖式炭化水素基、群Aより選ばれる1以上の原子もしくは基を有していてもよいフェニル基、群Bより選ばれるいずれかの5員芳香族複素環基(該5員芳香族複素環基は、群Aより選ばれる1以上の原子又は基を有していてもよい。)、群Cより選ばれるいずれかの6員芳香族複素環基(該6員芳香族複素環基は、群Aより選ばれる1以上の原子又は基を有していてもよい。)、群Dより選ばれるいずれかの3−7員非芳香族複素環基(該3−7員非芳香族複素環基は、ハロゲン原子及びC1−C6アルキル基からなる群より選ばれる1以上の原子又は基を有していてもよい。)、OR7、NR89、NR8C(O)R10、NR8C(O)OR11、NR8C(O)NR1213、N=CHNR1213、N=S(O)x1213、S(O)y12、C(O)OR8、シアノ基、又はハロゲン原子を表し、
6は、水素原子、又はハロゲン原子を表し、
7は、水素原子、C1−C6アルキル基、C3−C6アルケニル基、C3−C6アルキニル基、(C1−C3アルキル)−O−(C1−C3アルキル)基、(C1−C3アルキル)−S(O)y−(C1−C3アルキル)基、C3−C7シクロアルキル基、(C3−C7シクロアルキル)−(C1−C3アルキル)基(但し、該C1−C6アルキル基、C3−C6アルケニル基、C3−C6アルキニル基、(C1−C3アルキル)−O−(C1−C3アルキル)基、(C1−C3アルキル)−S(O)y−(C1−C3アルキル)基、C3−C7シクロアルキル基、及び(C3−C7シクロアルキル)−(C1−C3アルキル)基は、1以上のハロゲン原子を有していてもよい)、又はフェニルC1−C3アルキル基(該フェニルC1−C3アルキル基のフェニル部分は群Aより選ばれる1以上の原子又は基を有していてもよい。)を表し、
8は、水素原子、1以上のハロゲン原子を有していてもよいC1−C6アルキル基、1以上のハロゲン原子を有していてもよいC3−C6アルケニル基、又は1以上のハロゲン原子を有していてもよいC3−C6アルキニル基を表し、
9は、水素原子、C1−C6アルキル基、C3−C6アルケニル基、C3−C6アルキニル基、(C1−C3アルキル)−O−(C1−C3アルキル)基、(C1−C3アルキル)−S(O)y−(C1−C3アルキル)基、C3−C7シクロアルキル基、(C3−C7シクロアルキル)−(C1−C3アルキル)基(但し、該C1−C6アルキル基、C3−C6アルケニル基、C3−C6アルキニル基、(C1−C3アルキル)−O−(C1−C3アルキル)基、(C1−C3アルキル)−S(O)y−(C1−C3アルキル)基、C3−C7シクロアルキル基、及び(C3−C7シクロアルキル)−(C1−C3アルキル)基は、1以上のハロゲン原子を有していてもよい)、シアノC1−C6アルキル基、フェニルC1−C3アルキル基(該フェニルC1−C3アルキル基のフェニル部分は群Aより選ばれる1以上の原子又は基を有していてもよい。)、又は(5もしくは6員ヘテロアリール)C1−C3アルキル基(該(5もしくは6員ヘテロアリール)C1−C3アルキル基の5もしくは6員ヘテロアリール部分は群Aより選ばれる1以上の原子もしくは基を有していてもよい。)を表し、
10は、水素原子、C1−C6アルキル基、C3−C6アルケニル基、C3−C6アルキニル基、C3−C7シクロアルキル基、(C3−C7シクロアルキル)−(C1−C3アルキル)基(但し、該C1−C6アルキル基、C3−C6アルケニル基、C3−C6アルキニル基、C3−C7シクロアルキル基、及び(C3−C7シクロアルキル)−(C1−C3アルキル)基は、1以上のハロゲン原子を有していてもよい)、又はフェニルC1−C3アルキル基(該フェニルC1−C3アルキル基のフェニル部分は群Aより選ばれる1以上の原子又は基を有していてもよい。)を表し、
11は、1以上のハロゲン原子を有していてもよいC1−C6アルキル基、1以上のハロゲン原子を有していてもよいC3−C6アルケニル基、1以上のハロゲン原子を有していてもよいC3−C6アルキニル基、1以上のハロゲン原子を有していてもよいC3−C7シクロアルキル基、(C3−C7シクロアルキル)−(C1−C3アルキル)基(但し、該(C3−C7シクロアルキル)−(C1−C3アルキル)基は1以上のハロゲン原子を有していてもよい)、又はフェニルC1−C3アルキル基(該フェニルC1−C3アルキル基のフェニル部分は群Aより選ばれる1以上の原子又は基を有していてもよい。)を表し、
12及びR13は、それぞれ独立して、1以上のハロゲン原子を有していてもよいC1−C6アルキル基を表し、
14は、水素原子、1以上のハロゲン原子を有していてもよいC1−C6アルキル基、1以上のハロゲン原子を有していてもよいC2−C6アルキルカルボニル基、又は1以上のハロゲン原子を有していてもよいC2−C6アルコキシカルボニル基を表し、
nは、0、1、又は2を表し、
mは、0、1、又は2を表し、
pは、0、1、2又は3を表し(ここで、pが2又は3を表す場合に、複数のR5は各々同一でも異なっていてもよい)、
xは、0、又は1を表し、
yは、0、1、又は2を表す。
群A:1以上のハロゲン原子を有していてもよいC1−C6アルキル基、1以上のハロゲン原子を有していてもよいC1−C6アルコキシ基、1以上のハロゲン原子を有していてもよいC1−C6アルキルスルファニル基、1以上のハロゲン原子を有していてもよいC1−C6アルキルスルフィニル基、1以上のハロゲン原子を有していてもよいC1−C6アルキルスルホニル基、シアノ基、及びハロゲン原子からなる群。
群B:
Figure 2017075161

群C:
Figure 2017075161

群D:
Figure 2017075161

]で示される化合物、又はそのNオキシド化合物(以下、式(1)で示されるピリダジン化合物及びそのNオキシド化合物を本ピリダジン化合物と記す)と、
下記群(a)又は下記群(b)より選ばれる1種以上の化合物(以下、本化合物と記す)と
を含有する有害生物防除組成物(以下、本発明組成物と記す)。
群(a):
下記亜群a−1、a−2、a−3、a−4、a−5、a−6及びa−7からなる群。
亜群a−1:
アセタミプリド(acetamiprid)、クロチアニジン(clothianidin)、ジノテフラン(dinotefuran)、イミダクロプリド(imidacloprid)、ニテンピラム(nitenpyram)、チアクロプリド(thiacloprid)、チアメトキサム(thiamethoxam)、フルピラジフロン(flupyradifurone)、スルホキサフロル(sulfoxaflor)、トリフルメゾピリム(triflumezopyrim)、ジクロロメソチアズ(dicloromezotiaz)及び下記式で示される化合物(CAS登録番号1689566-03-7、以下「殺虫化合物α」と記すことがある)
Figure 2017075161

からなる、ニコチン性アセチルコリン受容体競合的モジュレーターの群。
亜群a−2:
アクリナトリン(acrinathrin)、アレスリン(allethrin)、ビフェントリン(bifenthrin)、カッパビフェントリン(kappa-bifenthrin)、ビオアレスリン(bioallethrin)、ビオレスメトリン(bioresmethrin)、シクロプロトリン(cycloprothrin)、シフルトリン(cyfluthrin)、ベータ−シフルトリン(beta-cyfluthrin)、シハロトリン(cyhalothrin)、ガンマシハロトリン(gamma-cyhalothrin)、ラムダシハロトリン(lambda-cyhalothrin)、シペルメトリン(cypermethrin)、アルファシペルメトリン(alpha-cypermethrin)、べータシペルメトリン(beta-cypermethrin)、シータシペルメトリン(theta-cypermethrin)、ゼータシペルメトリン(zeta-cypermethrin)、シグマシペルメトリン(sigma-cypermethrin)、シフェノトリン(cyphenothrin)、デルタメトリン(deltamethrin)、エンペントリン(empenthrin)、エスフェンバレレート(esfenvalerate)、エトフェンプロックス(etofenprox)、フェンプロパトリン(fenpropathrin)、フェンバレレート(fenvalerate)、フルシトリネート(flucythrinate)、フルメトリン(flumethrin)、フルバリネート(fluvalinate)、タウフルバリネート(tau-fluvalinate)、ハルフェンプロックス(halfenprox)、ヘプタフルトリン(heptafluthrin)、イミプロトリン(imiprothrin)、カデスリン(kadethrin)、メペルフルトリン(meperfluthrin)、モンフルオロトリン(momfluorothrin)、ペルメトリン(permethrin)、フェノトリン(phenothrin)、プラレトリン(prallethrin)、ピレトリン(pyrethrins)、レスメトリン(resmethrin)、シラフルオフェン(silafluofen)、テフルトリン(tefluthrin)、カッパテフルトリン(kappa-tefluthrin)、テトラメトリン(tetramethrin)、テトラメチルフルトリン(tetramethylfluthrin)、トラロメトリン(tralomethrin)、トランスフルトリン(transfluthrin)、ベンフルトリン(benfluthrin)、フルフェンプロックス(flufenoprox)、フルメスリン(flumethrin)、フラメトリン(furamethrin)、メトフルトリン(metofluthrin)、プロフルトリン(profluthrin)及びジメフルトリン(dimefluthrin)からなる、ナトリウムチャネルモジュレーターの群。
亜群a−3:
エチプロール(ethiprole)、フィプロニル(fipronil)及びフルフィプロール(flufiprole)からなるGABA作動性塩素イオンチャネルブロッカー、並びに、アフォクソラネル(afoxalaner)、フルララネル(fluralaner)、ブロフラニリド(broflanilide)及びフルキサメタミド(fluxametamide)からなるGABA作動性塩素イオンチャネルアロステリックモジュレーターの群。
亜群a−4:
クロラントラニリプロール(chlorantraniliprole)、シアントラニルプロール(cyantraniliprole)、シクラニリプロール(cycloniliprole)、フルベンジアミド(flubendiamide)、テトラニリプロール(tetraniliprole)及びシハロジアミド(cyhalodiamide)からなる、リアノジン受容体モジュレーターの群。
亜群a−5:
アラニカルブ(alanycarb)、アルジカルブ(aldicarb)、ベンダイオカルブ(bendiocarb)、ベンフラカルブ(benfuracarb)、ブトカルボキシム(butocarboxim)、ブトキシカルボキシム(butoxycarboxim)、カルバリル(carbaryl:NAC)、カルボフラン(carbofuran)、カルボスルファン(carbosulfan)、エチオフェンカルブ(ethiofencarb)、フェノブカルブ(fenobucarb:BPMC)、ホルメタネート(formetanate)、フラチオカルブ(furathiocarb)、イソプロカルブ(isoprocarb:MIPC)、メチオカルブ(methiocarb)、メソミル(methomyl)、メトルカルブ(metolcarb:MTMC)、オキサミル(oxamyl)、ピリミカーブ(pirimicarb)、プロポキスル(propoxur:PHC)、チオジカルブ(thiodicarb)、チオファノックス(thiofanox)、トリアザメート(triazamate)、トリメタカルブ(trimethacarb)、XMC及びキシリルカルブ(xylylcarb:MPMC)からなる、カーバメート系のアセチルコリンエステラーゼ(AChE)阻害剤の群。
亜群a−6:
アバメクチン(abamectin)、フルエンスルホン(fluensulfone)、チオキサザフェン(tioxazafen)、及びフルアザインドリジン(fluazaindolizine)からなる、殺線虫活性化合物の群。
亜群a−7:
菌根菌(Mycorrhiza Fungi)、アルスロボトリス・ダクチロイデス(Arthrobotrys dactyloides)、バチルス・チューリンゲンシス(Bacillus thuringiensis)、バチルス・フィルムス(Bacillus firmus)、バチルス・メガテリウム(Bacillus megaterium)、バチルス・アミロリケファシエンス(Bacillus amyloliquefaciens)、ヒルステラ・ロッシリエンシス(Hirsutella rhossiliensis)、ヒルステラ・ミネソテンシス(Hirsutella minnesotensis)、モナクロスポリウム・フィマトパガム(Monacrosporium phymatopagus)、パスツーリア・ニシザワエ(Pasteuria nishizawae)、パスツーリア・ペネトランス(Pasteuria penetrans)、パスツーリア・ウスガエ(Pasteuria usgae)、バーティシリウム・クラミドスポリウム(Verticillium chlamydosporium)及びハーピンタンパク(Harpin protein)からなる、微生物資材の群。
群(b):
下記亜群b−1、b−2、b−3、b−4、b−5、b−6、b−7、b−8及びb−9からなる群。
亜群b−1:
アザコナゾール(azaconazole)、ビテルタノール(bitertanol)、ブロムコナゾール(bromuconazole)、シプロコナゾール(cyproconazole)、ジフェノコナゾール(difenoconazole)、ジニコナゾール(diniconazole)、ジニコナゾールM(diniconazole−M)、エポキシコナゾール(epoxiconazole)、エタコナゾール(etaconazole)、フェナリモル(fenarimol)、フェンブコナゾール(fenbuconazole)、フルキンコナゾール(fluquinconazole)、キンコナゾール(quinconazole)、フルシラゾール(flusilazole)、フルトリアホール(flutriafol)、ヘキサコナゾール(hexaconazole)、イマザリル(imazalil)、イミベンコナゾール(imibenconazole)、イプコナゾール(ipconazole)、メトコナゾール(metconazole)、ミクロブタニル(myclobutanil)、ヌアリモール(nuarimol)、オキスポコナゾール(oxpoconazole)、オキスポコナゾールフマル酸塩(oxpoconazole fumarate)、ペフラゾエート(pefurazoate)、ペンコナゾール(penconazole)、プロクロラズ(prochloraz)、プロピコナゾール(propiconazole)、プロチオコナゾール(prothioconazole)、ピリフェノックス(pyrifenox)、ピリソキサゾール(pyrisoxazole)、シメコナゾール(simeconazole)、テブコナゾール(tebuconazole)、テトラコナゾール(tetraconazole)、トリアジメホン(triadimefon)、トリアジメノール(triadimenol)、トリフルミゾール(triflumizole)、トリホリン(triforine)及びトリチコナゾール(triticonazole)からなる、ステロール生合成阻害剤の群。
亜群b−2:
アゾキシストロビン(azoxystrobin)、クモキシストロビン(coumoxystrobin)、ジモキシストロビン(dimoxystrobin)、エノキサストロビン(enoxastrobin)、ファモキサドン(famoxadone)、フェンアミドン(fenamidone)、フェナミンストロビン(fenaminstrobin)、フルフェノキシストロビン(flufenoxystrobin)、フルオキサストロビン(fluoxastrobin)、クレソキシム−メチル(kresoxim-methyl)、マンデストロビン(mandestrobin)、メトミノストロビン(metominostrobin)、オリサストロビン(orysastrobin)、ピコキシストロビン(picoxystrobin)、ピラクロストロビン(pyraclostrobin)、ピラメトストロビン(pyrametostrobin)、ピラオキシストロビン(pyraoxystrobin)、トリフロキシストロビン(trifloxystrobin)、ピリベンカルブ(pyribencarb)、トリクロピリカルブ(triclopyricarb)、シアゾファミド(cyazofamid)及びアミスルブロム(amisulbrom)からなる、Qo阻害剤(Quinone outside inhibitors)の群。
亜群b−3:
ベナラキシル(benalaxyl)、ベナラキシルM(benalaxyl-M)、フララキシル(furalaxyl)、メタラキシル(metalaxyl)、メタラキシルM(metalaxyl-M)、オキサジキシル(oxadixyl)及びオフラセ(ofurace)からなる、RNAポリメラーゼI阻害剤の群。
亜群b−4:
ベノダニル(benodanil)、ベンゾビンジフルピル(benzovindiflupyr)、ビキサフェン(bixafen)、ボスカリド(boscalid)、カルボキシン(carboxin)、フェンフラム(fenfuram)、フルオピラム(fluopyram)、フルトラニル(flutolanil)、フルキサピロキサド(fluxapyroxad)、フラメトピル(furametpyr)、イソフェタミド(isofetamid)、イソピラザム(isopyrazam)、メプロニル(mepronil)、オキシカルボキシン(oxycarboxin)、ペンチオピラド(penthiopyrad)、ペンフルフェン(penflufen)、セダキサン(sedaxane)、チフルザミド(thifluzamide)、ピラジフルミド(pyraziflumid)、ピジフルメトフェン(pydiflumetofen、CAS登録番号1228284-64-7)、3−ジフルオロメチル−1−メチル−N−(1,1,3−トリメチルインダン−4−イル)ピラゾール−4−カルボキサミド(CAS登録番号141573-94-6、以下「殺菌化合物β1」と記すことがある)、3−ジフルオロメチル−1−メチル−N−[(3R)−1,1,3−トリメチルインダン−4−イル]ピラゾール−4−カルボキサミド(CAS登録番号1352994-67-2、以下「殺菌化合物β2」と記すことがある)、3−ジフルオロメチル−N−(7−フルオロ−1,1,3−トリメチルインダン−4−イル)−1−メチルピラゾール−4−カルボキサミド(CAS登録番号1383809-87-7、以下「殺菌化合物β3」と記すことがある)、3−ジフルオロメチル−N−[(3R)−7−フルオロ−1,1,3−トリメチルインダン−4−イル]−1−メチルピラゾール−4−カルボキサミド(CAS登録番号1513466-73-3、以下「殺菌化合物β4」と記すことがある)及びN−シクロプロピル−3−(ジフルオロメチル)−5−フルオロ−N−(5−クロロ−2−イソプロピルベンジル)−1−メチル−1H−ピラゾール−4−カルボキサミド(CAS登録番号1255734-28-1、以下「殺菌化合物β5」と記すことがある)からなる、コハク酸脱水素酵素阻害剤の群。
亜群b−5:
ベノミル(benomyl)、カルベンダジム(carbendazim)、フベリダゾール(fuberidazole)、チアベンダゾール(thiabendazole)、チオファネート(thiophanate)、チオファネートメチル(thiophanate-methyl)、ジエトフェンカルブ(diethofencarb)、ゾキサミド(zoxamide)及びエタボキサム(ethaboxam)からなる、βチューブリン重合阻害剤の群。
亜群b−6:
フェルバム(ferbam)、マンゼブ(mancozeb)、マンネブ(maneb)、メチラム(metiram)、プロピネブ(propineb)、チウラム(thiram)、ジネブ(zineb)、ジラム(ziram)、キャプタン(captan)、キャプタホール(captafol)、ホルペット(folpet)、クロロタロニル(chlorothalonil)、トリルフルアニド(tolylfluanid)、グアザチン(guazatine)、イミノクタジン(iminoctadine)、アニラジン(anilazine)、ジチアノン(dithianon)、キノメチオナート(chinomethionat or quinomethionate)及びフルオルイミド(fluoroimide)からなる、多作用点接触活性化合物の群。
亜群b−7:
ジメトモルフ(dimethomorph)、フルモルフ(flumorph)、ピリモルフ(pyrimorph)、ベンチアバリカルブ(benthiavalicarb)、ベンチアバリカルブイソプロピル(benthivalicarb-isopropyl)、イプロバリカルブ(iprovalicarb)、バリフェナレート(valifenalate)及びマンジプロパミド(mandipropamid)からなる、セルロース合成阻害剤の群。
亜群b−8:
フェンピクロニル(fenpiclonil)、フルジオキソニル(fludioxonil)、クロゾリネート(chlozolinate)、イプロジオン(iprodione)、プロシミドン(procymidone)及びビンクロゾリン(vinclozolin)からなる、浸透圧シグナル伝達におけるMAP(mitogen-activated protein)/ヒスチジンキナーゼ阻害剤の群。
亜群b−9:
トルクロホスメチル(tolclofos-methyl)、オキサチアピプロリン(oxathiapiprolin)、ピカルブトラゾクス(picarbutrazox)、フルオピコリド(fluopicolide)及びシルチオファム(silthiofam)からなる、その他の殺菌剤の群。
[2]
式(1)で示される化合物と、群(a)より選ばれる1種以上の化合物との含有量の比が、重量比で100:1〜1:100である[1]に記載の有害生物防除組成物。
[3]
式(1)で示される化合物と、群(a)より選ばれる1種以上の化合物との含有量の比が、重量比で10:1〜1:10である[1]に記載の有害生物防除組成物。
[4]
式(1)で示される化合物と、群(b)より選ばれる1種以上の化合物との含有量の比が、重量比で10000:1〜1:100である[1]に記載の有害生物防除組成物。
[5]
式(1)で示される化合物と、群(b)より選ばれる1種以上の化合物との含有量の比が、重量比で1000:1〜1:10である[1]に記載の有害生物防除組成物。
[6]
[1]〜[5]のいずれかに記載の有害生物防除組成物の有効量を、有害生物又は有害生物の生息場所に施用する工程を有する有害生物の防除方法。
[7]
[1]〜[5]のいずれかに記載の有害生物防除組成物の有効量を、植物、植物種子、球根又は植物を栽培する土壌に施用する工程を有する有害生物の防除方法。
[8]
[1]〜[5]のいずれかに記載の有害生物防除組成物の有効量を付着させた植物種子又は球根。 The present invention is as follows.
[1]
Formula (1):
Figure 2017075161

[Where:
A represents a nitrogen atom or CR 6 ;
R 1 is a C2-C10 alkyl group, a C3-C10 alkenyl group, a C3-C10 alkynyl group, a (C1-C5 alkyl) -O- (C2-C5 alkyl) group, a (C3-C5 alkenyl) -O- (C2 -C5 alkyl) group, (C3-C5 alkynyl) -O- (C2-C5 alkyl) group, (C1-C5 alkyl) -S (O) m- (C2-C5 alkyl) group, (C3-C5 alkenyl) -S (O) m- (C2-C5 alkyl) group, (C3-C5 alkynyl) -S (O) m- (C2-C5 alkyl) group, or (C1-C5 alkyl) -C (O)-( C1-C5 alkyl) group (wherein R 1 has one or more halogen atoms),
R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally having one or more halogen atoms, a C2-C6 alkoxycarbonyl group, a cyano group, or a halogen atom,
R 4 represents a C1-C6 chain hydrocarbon group which may have one or more halogen atoms,
R 5 is a C1-C6 chain hydrocarbon group which may have one or more halogen atoms, a phenyl group which may have one or more atoms or groups selected from Group A, and a group B. Any of the five-membered aromatic heterocyclic groups selected from the group C (the five-membered aromatic heterocyclic group may have one or more atoms or groups selected from the group A). 6-membered aromatic heterocyclic group (the 6-membered aromatic heterocyclic group may have one or more atoms or groups selected from group A), and any 3- 7-membered non-aromatic heterocyclic group (The 3-7-membered non-aromatic heterocyclic group may have one or more atoms or groups selected from the group consisting of halogen atoms and C1-C6 alkyl groups. ), OR 7, NR 8 R 9, NR 8 C (O) R 10, NR 8 C (O) OR 11, NR 8 C (O) NR 12 R 13 N = CHNR 12 R 13, N = S (O) x R 12 R 13, S (O) y R 12, C (O) OR 8, cyano group, or a halogen atom,
R 6 represents a hydrogen atom or a halogen atom,
R 7 represents a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group, a C3-C6 alkenyl group, a C3-C6 alkynyl group, a (C1-C3 alkyl) -O- (C1-C3 alkyl) group, or a (C1-C3 alkyl) -S. (O) y- (C1-C3 alkyl) group, C3-C7 cycloalkyl group, (C3-C7 cycloalkyl)-(C1-C3 alkyl) group (provided that the C1-C6 alkyl group, C3-C6 alkenyl group) , C3-C6 alkynyl group, (C1-C3 alkyl) -O- (C1-C3 alkyl) group, (C1-C3 alkyl) -S (O) y- (C1-C3 alkyl) group, C3-C7 cycloalkyl Group, and (C3-C7 cycloalkyl)-(C1-C3 alkyl) group may have one or more halogen atoms), or phenyl C1-C3 alkyl group (the phenyl C1-C Phenyl moiety of the alkyl group may have one or more atoms or groups selected from the group A.) Represent,
R 8 represents a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally having one or more halogen atoms, a C3-C6 alkenyl group optionally having one or more halogen atoms, or one or more halogen atoms. Represents a C3-C6 alkynyl group which may have,
R 9 represents a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group, a C3-C6 alkenyl group, a C3-C6 alkynyl group, a (C1-C3 alkyl) -O- (C1-C3 alkyl) group, or a (C1-C3 alkyl) -S. (O) y- (C1-C3 alkyl) group, C3-C7 cycloalkyl group, (C3-C7 cycloalkyl)-(C1-C3 alkyl) group (provided that the C1-C6 alkyl group, C3-C6 alkenyl group) , C3-C6 alkynyl group, (C1-C3 alkyl) -O- (C1-C3 alkyl) group, (C1-C3 alkyl) -S (O) y- (C1-C3 alkyl) group, C3-C7 cycloalkyl Group, and (C3-C7 cycloalkyl)-(C1-C3 alkyl) group may have one or more halogen atoms), cyano C1-C6 alkyl group, phenyl C1-C3 alkyl group. A group (the phenyl portion of the phenyl C1-C3 alkyl group may have one or more atoms or groups selected from group A), or a (5- or 6-membered heteroaryl) C1-C3 alkyl group (the (5- or 6-membered heteroaryl) the 5- or 6-membered heteroaryl part of the C1-C3 alkyl group may have one or more atoms or groups selected from group A),
R 10 represents a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group, a C3-C6 alkenyl group, a C3-C6 alkynyl group, a C3-C7 cycloalkyl group, a (C3-C7 cycloalkyl)-(C1-C3 alkyl) group (provided that The C1-C6 alkyl group, C3-C6 alkenyl group, C3-C6 alkynyl group, C3-C7 cycloalkyl group, and (C3-C7 cycloalkyl)-(C1-C3 alkyl) group have one or more halogen atoms. Or a phenyl C1-C3 alkyl group (the phenyl portion of the phenyl C1-C3 alkyl group may have one or more atoms or groups selected from group A);
R 11 has a C1-C6 alkyl group optionally having one or more halogen atoms, a C3-C6 alkenyl group optionally having one or more halogen atoms, and one or more halogen atoms. Or a C3-C6 alkynyl group, a C3-C7 cycloalkyl group optionally having one or more halogen atoms, a (C3-C7 cycloalkyl)-(C1-C3 alkyl) group (provided that the (C3-C7 The cycloalkyl)-(C1-C3 alkyl) group may have one or more halogen atoms), or a phenyl C1-C3 alkyl group (the phenyl portion of the phenyl C1-C3 alkyl group is selected from group A) Which may have one or more atoms or groups,
R 12 and R 13 each independently represent a C1-C6 alkyl group optionally having one or more halogen atoms,
R 14 is a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally having one or more halogen atoms, a C2-C6 alkylcarbonyl group optionally having one or more halogen atoms, or one or more halogen atoms. Represents a C2-C6 alkoxycarbonyl group optionally having
n represents 0, 1, or 2;
m represents 0, 1, or 2;
p represents 0, 1, 2 or 3 (wherein, when p represents 2 or 3, a plurality of R 5 may be the same or different from each other);
x represents 0 or 1,
y represents 0, 1, or 2.
Group A: a C1-C6 alkyl group that may have one or more halogen atoms, a C1-C6 alkoxy group that may have one or more halogen atoms, or one or more halogen atoms A good C1-C6 alkylsulfanyl group, a C1-C6 alkylsulfinyl group optionally having one or more halogen atoms, a C1-C6 alkylsulfonyl group optionally having one or more halogen atoms, a cyano group, and A group consisting of halogen atoms.
Group B:
Figure 2017075161

Group C:
Figure 2017075161

Group D:
Figure 2017075161

Or an N oxide compound thereof (hereinafter, the pyridazine compound represented by the formula (1) and the N oxide compound thereof will be referred to as the present pyridazine compound),
A pest control composition (hereinafter referred to as the present invention composition) containing one or more compounds selected from the following group (a) or the following group (b) (hereinafter referred to as the present compound).
Group (a):
The group consisting of the following subgroups a-1, a-2, a-3, a-4, a-5, a-6 and a-7.
Subgroup a-1:
Acetamiprid, clothianidin, dinotefuran, imidacloprid, nitenpyram, thiacloprid, thiamethoxam, flupyrifurone, flupyradifurone ), Dichloromesothiaz (dicloromezotiaz) and a compound represented by the following formula (CAS registration number 1689566-03-7, hereinafter sometimes referred to as “insecticidal compound α”)
Figure 2017075161

A group of competitive modulators of nicotinic acetylcholine receptors.
Subgroup a-2:
Acrinathrin, allethrin, bifenthrin, kappa-bifenthrin, bioallethrin, bioresmethrin, cycloprothrin, cyfluthrin, beta beta-cyfluthrin), cyhalothrin, gamma-cyhalothrin, lambda-cyhalothrin, cypermethrin, alpha-cypermethrin, betacypermethrin ( beta-cypermethrin), theta-cypermethrin, theta-cypermethrin, sigma-cypermethrin, cyphenothrin, deltamethrin, empenthrin, esf Enfenvalerate, etofenprox, fenpropathrin, fenvalerate, flucythrinate, flumethrin, fluvalinate, tau-fluvalinate ), Halfenprox, heptafluthrin, imiprothrin, kadethrin, meperfluthrin, momfluorothrin, permethrin, phenothrin, praothrin prallethrin), pyrethrin (pyrethrins), resmethrin (resmethrin), silafluofen (silafluofen), tefluthrin (tefluthrin), kappa-tefluthrin, tetramethrin (tetramethrin), tetramethi Flutrin (tetramethylfluthrin), tralomethrin (tralomethrin), transfluthrin (transfluthrin), benfluthrin (benfluthrin), flufenprox (flufenoprox), flumerin (flumethrin), framethrin (furamethrin), methfluthrin (metofluthrin), profluthrin and profluthrin (profluthrin) A group of sodium channel modulators consisting of (dimefluthrin).
Subgroup a-3:
GABAergic chloride channel blocker consisting of ethiprole, fipronil and flufiprole, and GABA consisting of afoxalaner, fluralaner, broflanilide and fluxametamide A group of agonistic chloride channel allosteric modulators.
Subgroup a-4:
Group of ryanodine receptor modulators consisting of chlorantraniliprole, cyantraniliprole, cyclaniliprole, flubendiamide, tetraniliprole and cyhalodiamide .
Subgroup a-5:
Alanycarb, aldicarb, bendiocarb, benfuracarb, butocarboxim, butoxycarboxim, carbaryl (NAC), carbofuran, carbofuran Fan (carbosulfan), ethiofencarb (fthiobucarb), fenobucarb (BPMC), formethanate (formetanate), furathiocarb (furathiocarb), isoprocarb (isoprocarb: MIPC), methiocarb (methiocarb), methomyl (methomyl), metolcarb (MTMC) , Oxamyl, pirimicarb, propoxur (PHC), thiodicarb, thiofanox, triazamate, trimethacarb, XMC and xylica Bed (xylylcarb: MPMC) consists, the group of carbamates acetylcholinesterase (AChE) inhibitors.
Subgroup a-6:
A group of nematicidal active compounds consisting of abamectin, fluensulfone, tioxazafen, and fluazaindolizine.
Subgroup a-7:
Mycorrhiza Fungi, Arthrobotrys dactyloides, Bacillus thuringiensis, Bacillus firmus, Bacillus megaterium, Bacillus amyloliquefaciens (Bacillus amyloliquefaciens), Hirsutella rhossiliensis, Hirsutella minnesotensis, Monacrosporium phymatopagus, Pasturiatransurie, Pasturiapass A group of microbial materials consisting of Pasteuria usgae, Verticillium chlamydosporium and Harpin protein.
Group (b):
A group consisting of the following subgroups b-1, b-2, b-3, b-4, b-5, b-6, b-7, b-8 and b-9.
Subgroup b-1:
Azaconazole, bitertanol, bromuconazole, cyproconazole, difenoconazole, dinicoazole, diniconazole-M, epiconconazole, ethaconazole (Etaconazole), fenarimol, fenbuconazole, fluquinconazole, quinconazole, flusilazole, flutriafol, hexaconazole, imazaril ( imazalil), imibenconazole, ipconazole, metconazole, microbutanil, nuarimol, oxpoconazole, o Spoconazole fumarate, pefurazoate, penconazole, prochloraz, propiconazole, prothioconazole, pyrifenox, pyrisoxazole ), Simeconazole, tebuconazole, tetraconazole, triadimefon, triadimenol, triflumizole, triforine and triticonazole A group of sterol biosynthesis inhibitors.
Subgroup b-2:
Azoxystrobin, coumoxystrobin, dimoxystrobin, enoxastrobin, famoxadone, fenamidone, fenaminstrobin, full Phenoxystrobin, fluoxastrobin, cresoxim-methyl, mandestrobin, metinominostrobin, orysastrobin, picoxystrobin , Pyraclostrobin, pyrametostrobin, pyraoxystrobin, trifloxystrobin, pyribencarb, triclopyricarb, triazopyricarb Consisting de (cyazofamid) and amisulbrom (amisulbrom), the group of Qo inhibitors (Quinone outside inhibitors).
Subgroup b-3:
A group of RNA polymerase I inhibitors consisting of benalaxyl, benalaxyl-M, furalaxyl, metalaxyl, metalaxyl-M, oxadixyl and ofurace .
Subgroup b-4:
Benodanil, benzovindiflupyr, bixafen, boscalid, carboxin, fenfuram, fluopyram, flutolanil, fluxapyroxad ), Furametpyr, isofetamid, isoprazam, mepronil, oxycarboxin, penthiopyrad, penflufen, sedaxane, thifluzamide, thifluamide (Pyraziflumid), pidiflumetofen (CAS registration number 1228284-64-7), 3-difluoromethyl-1-methyl-N- (1,1,3-trimethylindan-4-yl) pyrazole-4- Carboxamide (CAS registration No. 141573-94-6, hereinafter referred to as “bactericidal compound β1”), 3-difluoromethyl-1-methyl-N-[(3R) -1,1,3-trimethylindan-4-yl] pyrazole -4-carboxamide (CAS registration number 1352994-67-2, hereinafter sometimes referred to as “bactericidal compound β2”), 3-difluoromethyl-N- (7-fluoro-1,1,3-trimethylindan-4- Yl) -1-methylpyrazole-4-carboxamide (CAS registration number 1383809-87-7, hereinafter sometimes referred to as “bactericidal compound β3”), 3-difluoromethyl-N-[(3R) -7-fluoro- 1,1,3-trimethylindan-4-yl] -1-methylpyrazole-4-carboxamide (CAS registration number 1513466-73-3, hereinafter sometimes referred to as “bactericidal compound β4”) and N-cyclopropyl- 3- (Difluoromethyl) -5-fluoro-N- (5-chloro-2-isopropylbenzyl) -1-methyl-1H-pyrazole-4-carboxamide (CAS registration number 1255734-28-1, hereinafter referred to as “bactericidal compound β5”) A group of succinate dehydrogenase inhibitors.
Subgroup b-5:
It consists of benomyl, carbendazim, fuberidazole, thiabendazole, thiophanate, thiophanate-methyl, diethofencarb, zoxamide and ethaboxam. A group of β-tubulin polymerization inhibitors.
Subgroup b-6:
Ferbam, mancozeb, manneb, maneb, metiram, propineb, thiram, zineb, ziram, captan, captafol ), Folpet, chlorothalonil, tolylfluanid, guazatine, iminoctadine, anilazine, dithianon, chinomethionate or quinomethionate fluoride A group of multi-acting point contact active compounds consisting of
Subgroup b-7:
Dimethomorph, flumorph, pyrimorph, benthiavalicarb, benthivalicarb-isopropyl, iprovalicarb, valifenalate and mandipropamid A group of cellulose synthesis inhibitors.
Subgroup b-8:
MAP (mitogen-activated protein) / histidine kinase inhibitor in osmotic signal transduction consisting of fenpiclonil, fludioxonil, clozolinate, iprodione, procymidone and vinclozolin group.
Subgroup b-9:
A group of other fungicides consisting of tolclofos-methyl, oxathiapiproline, picarbutrazox, fluopicolide and silthiofam.
[2]
The pest according to [1], wherein the content ratio of the compound represented by the formula (1) and one or more compounds selected from the group (a) is 100: 1 to 1: 100 by weight. Control composition.
[3]
The pest according to [1], wherein the content ratio of the compound represented by the formula (1) and one or more compounds selected from the group (a) is 10: 1 to 1:10 by weight. Control composition.
[4]
The pest according to [1], wherein the content ratio of the compound represented by the formula (1) and one or more compounds selected from the group (b) is 10,000: 1 to 1: 100 by weight. Control composition.
[5]
The pest according to [1], wherein the content ratio of the compound represented by the formula (1) and one or more compounds selected from the group (b) is 1000: 1 to 1:10 by weight. Control composition.
[6]
A pest control method comprising a step of applying an effective amount of the pest control composition according to any one of [1] to [5] to a pest or a habitat of the pest.
[7]
The pest control method which has the process of applying the effective amount of the pest control composition in any one of [1]-[5] to the plant, a plant seed, a bulb, or the soil which grows a plant.
[8]
Plant seeds or bulbs to which an effective amount of the pesticidal composition according to any one of [1] to [5] is attached.

本発明により、有害生物を防除することができる。   According to the present invention, pests can be controlled.

本発明組成物は、本ピリダジン化合物と、本化合物とを含有する。   The composition of the present invention contains the pyridazine compound and the compound.

本明細書の記載において用いられる置換基について、例を挙げて以下に説明する。
「群Aより選ばれる1以上の原子もしくは基を有していてもよい」の表記は、群Aより選ばれる2以上の原子もしくは基を有している場合、それらの群Aより選ばれる原子もしくは基は互いに同一でも、又は互いに相異なっていてもよい。
本明細書における「1以上のハロゲン原子を有していてもよい」の表記は、2以上のハロゲン原子を有している場合、それらのハロゲン原子は互いに同一でも、又は互いに相異なっていてもよい。
「1以上のハロゲン原子を有する」の表記は、2以上のハロゲン原子を有している場合、それらのハロゲン原子は互いに同一でも、又は互いに相異なっていてもよい。
Examples of substituents used in the description of the present specification will be described below.
The expression “may have one or more atoms or groups selected from group A” means that when it has two or more atoms or groups selected from group A, atoms selected from group A Alternatively, the groups may be the same as or different from each other.
In the present specification, the expression “may have one or more halogen atoms” means that when two or more halogen atoms are present, the halogen atoms may be the same or different from each other. Good.
The expression “having one or more halogen atoms”, when having two or more halogen atoms, may be the same as or different from each other.

「複素環基」とは、環構成原子として、炭素原子以外に、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群より選ばれる1種以上を含有する基を表し、芳香族複素環基及び非芳香族複素環基を表す。   “Heterocyclic group” means a group containing at least one selected from the group consisting of a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom in addition to a carbon atom as a ring-constituting atom, an aromatic heterocyclic group and a non-aromatic group Represents a heterocyclic group.

「芳香族複素環基」としては、例えば、2−フリル基、3−フリル基、2−チエニル基、3−チエニル基、3−ピラゾリル基、4−ピラゾリル基、5−ピラゾリル基、1−ピロリル基、1−ピラゾリル基、1−イミダゾリル基、1,2,4−トリアゾール−1−イル基等の5員芳香族複素環基;及び
2−ピリジル基、3−ピリジル基、4−ピリジル基等の炭素原子で結合する6員芳香族複素環基が挙げられる。
Examples of the “aromatic heterocyclic group” include 2-furyl group, 3-furyl group, 2-thienyl group, 3-thienyl group, 3-pyrazolyl group, 4-pyrazolyl group, 5-pyrazolyl group, 1-pyrrolyl. 5-membered aromatic heterocyclic groups such as a group, 1-pyrazolyl group, 1-imidazolyl group, 1,2,4-triazol-1-yl group; and 2-pyridyl group, 3-pyridyl group, 4-pyridyl group, etc. A 6-membered aromatic heterocyclic group bonded at the carbon atom.

「3−7員非芳香族複素環基」としては、例えば、
アジリジン−1−イル基、アゼチジン−1−イル基、ピロリジン−1−イル基、3,3,4,4−テトラフルオロピロリジン−1−イル基、テトラヒドロフラン−2−イル基、テトラヒドロフラン−3−イル基、ピペリジン−1−イル基、モルホリン−4−イル基、チオモルホリン−4−イル基、アゼパン−1−イル基等の非芳香族複素環基が挙げられる。
As the “3-7 membered non-aromatic heterocyclic group”, for example,
Aziridin-1-yl group, azetidin-1-yl group, pyrrolidin-1-yl group, 3,3,4,4-tetrafluoropyrrolidin-1-yl group, tetrahydrofuran-2-yl group, tetrahydrofuran-3-yl And non-aromatic heterocyclic groups such as a group, piperidin-1-yl group, morpholin-4-yl group, thiomorpholin-4-yl group, and azepan-1-yl group.

「5もしくは6員ヘテロアリール」とは、5員芳香族複素環基又は6員芳香族複素環基を表す。   “5- or 6-membered heteroaryl” represents a 5-membered aromatic heterocyclic group or a 6-membered aromatic heterocyclic group.

「C2−C10アルキル基」としては、例えばエチル基、イソプロピル基、プロピル基、及びブチル基が挙げられる。
本ピリダジン化合物において「C2−C10ハロアルキル基」としては、例えば2−フルオロエチル基、2,2−ジフルオロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、2,2,2−トリクロロエチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロイソプロピル基、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル基、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル基、及び2,2,3,4,4,4−ヘキサフルオロブチル基が挙げられる。
Examples of the “C2-C10 alkyl group” include an ethyl group, an isopropyl group, a propyl group, and a butyl group.
In the pyridazine compound, examples of the “C2-C10 haloalkyl group” include a 2-fluoroethyl group, a 2,2-difluoroethyl group, a 2,2,2-trifluoroethyl group, a 2,2,2-trichloroethyl group, Pentafluoroethyl, heptafluoroisopropyl, 2,2,3,3-tetrafluoropropyl, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl, and 2,2,3,4,4,4 A hexafluorobutyl group.

「C3−C10アルケニル基」としては、例えば2−プロペニル基、及び3−ブテニル基が挙げられる。
本ピリダジン化合物において「C3−C10ハロアルケニル基」としては、例えば3,3−ジフルオロ−2−プロペニル基、3,3−ジフルオロ−2−プロペニル基、及び4,4−ジフルオロ−3−ブテニル基が挙げられる。
Examples of the “C3-C10 alkenyl group” include a 2-propenyl group and a 3-butenyl group.
In the pyridazine compound, examples of the “C3-C10 haloalkenyl group” include a 3,3-difluoro-2-propenyl group, a 3,3-difluoro-2-propenyl group, and a 4,4-difluoro-3-butenyl group. Can be mentioned.

「C3−C10アルキニル基」としては、例えば2−プロピニル基、及び2−ブチニル基が挙げられる。
本ピリダジン化合物において「C3−C10ハロアルキニル基」としては、例えば3−クロロ−2−プロピニル基、3−フルオロ−2−プロピニル基、及び4,4,4−トリフルオロ−2−ブチニル基が挙げられる。
Examples of the “C3-C10 alkynyl group” include a 2-propynyl group and a 2-butynyl group.
Examples of the “C3-C10 haloalkynyl group” in the present pyridazine compound include a 3-chloro-2-propynyl group, a 3-fluoro-2-propynyl group, and a 4,4,4-trifluoro-2-butynyl group. It is done.

「1以上のハロゲン原子を有する(C1−C5アルキル)−O−(C2−C5アルキル)基」とは、C1−C5アルキル部分及び/又はC2−C5アルキル部分に1以上のハロゲン原子を有する基を表し、例えば2−(2,2,2−トリフルオロエトキシ)エチル基、及び1,1,1−トリフルオロ−3−メトキシプロパン−2−イル基が挙げられる。   "(C1-C5 alkyl) -O- (C2-C5 alkyl) group having one or more halogen atoms" means a group having one or more halogen atoms in a C1-C5 alkyl moiety and / or a C2-C5 alkyl moiety. For example, 2- (2,2,2-trifluoroethoxy) ethyl group and 1,1,1-trifluoro-3-methoxypropan-2-yl group can be mentioned.

「1以上のハロゲン原子を有する(C3−C5アルケニル)−O−(C2−C5アルキル)」とは、C3−C5アルケニル部分及び/又はC2−C5アルキル部分に1以上のハロゲン原子を有する基を表し、例えば2−(3,3−ジフルオロ−2−プロペニルオキシ)エチル基が挙げられる。   “(C3-C5 alkenyl) -O— (C2-C5 alkyl) having one or more halogen atoms” means a group having one or more halogen atoms in the C3-C5 alkenyl moiety and / or C2-C5 alkyl moiety. For example, 2- (3,3-difluoro-2-propenyloxy) ethyl group.

「1以上のハロゲン原子を有する(C3−C5アルキニル)−O−(C2−C5アルキル)基」とは、C3−C5アルキニル部分及び/又はC2−C5アルキル部分に1以上のハロゲン原子を有する基を表し、例えば2−(4,4,4−トリフルオロ−2−ブチニルオキシ)エチル基が挙げられる。   "(C3-C5 alkynyl) -O- (C2-C5 alkyl) group having one or more halogen atoms" means a group having one or more halogen atoms in the C3-C5 alkynyl moiety and / or C2-C5 alkyl moiety. For example, 2- (4,4,4-trifluoro-2-butynyloxy) ethyl group.

「1以上のハロゲン原子を有する(C1−C5アルキル)−S(O)m−(C2−C5アルキル)基」とは、C1−C5アルキル部分及び/又はC2−C5アルキル部分に1以上のハロゲン原子を有する基を表し、例えば2−(トリフルオロメチルチオ)エチル基、2−(トリフルオロメチルスルフィニル)エチル基、2−(トリフルオロメチルスルホニル)エチル基、2−(2,2,2−トリフルオロエチルチオ)エチル基、2−(2,2,2−トリフルオロエタンスルフィニル)エチル基、2−(2,2,2−トリフルオロエタンスルホニル)エチル基が挙げられる。 "(C1-C5 alkyl) -S (O) m- (C2-C5 alkyl) group having one or more halogen atoms" means one or more halogen atoms in the C1-C5 alkyl moiety and / or C2-C5 alkyl moiety. Represents a group having an atom, for example, 2- (trifluoromethylthio) ethyl group, 2- (trifluoromethylsulfinyl) ethyl group, 2- (trifluoromethylsulfonyl) ethyl group, 2- (2,2,2-trimethyl) Examples include fluoroethylthio) ethyl group, 2- (2,2,2-trifluoroethanesulfinyl) ethyl group, and 2- (2,2,2-trifluoroethanesulfonyl) ethyl group.

「1以上のハロゲン原子を有していてもよい(C1−C3アルキル)−S(O)y−(C1−C3アルキル)基」とは、C1−C3アルキル部分及び/又はC1−C3アルキル部分に1以上のハロゲン原子を有していてもよい基を表し、例えばメチルチオメチル基、トリフルオロメチルチオメチル基、メタンスルフィニルメチル基、トリフルオロメタンスルホニルメチル基、メタンスルホニルメチル基、2−(メチルチオ)エチル基、エチルチオメチル基が挙げられる。 “(C1-C3 alkyl) -S (O) y- (C1-C3 alkyl) group optionally having one or more halogen atoms” means a C1-C3 alkyl moiety and / or a C1-C3 alkyl moiety. Represents a group which may have one or more halogen atoms, for example, methylthiomethyl group, trifluoromethylthiomethyl group, methanesulfinylmethyl group, trifluoromethanesulfonylmethyl group, methanesulfonylmethyl group, 2- (methylthio) ethyl Group and ethylthiomethyl group.

「1以上のハロゲン原子を有する(C3−C5アルケニル)−S(O)m−(C2−C5アルキル)基」とは、C3−C5アルケニル部分及び/又はC2−C5アルキル部分に1以上のハロゲン原子を有する基を表し、例えば2−(3,3−ジフルオロ−2−プロペニルチオ)エチル基が挙げられる。 "(C3-C5 alkenyl) -S (O) m- (C2-C5 alkyl) group having one or more halogen atoms" means one or more halogen atoms in the C3-C5 alkenyl moiety and / or C2-C5 alkyl moiety. It represents a group having an atom, and examples thereof include 2- (3,3-difluoro-2-propenylthio) ethyl group.

「1以上のハロゲン原子を有する(C3−C5アルキニル)−S(O)m−(C2−C5アルキル)基」とは、C3−C5アルケニル部分及び/又はC2−C5アルキル部分に1以上のハロゲン原子を有する基を表し、例えば2−(4,4,4−トリフルオロ−2−ブチニルチオ)エチル基が挙げられる。 "(C3-C5 alkynyl) -S (O) m- (C2-C5 alkyl) group having one or more halogen atoms" means one or more halogen atoms in the C3-C5 alkenyl moiety and / or C2-C5 alkyl moiety. Represents a group having an atom, and examples thereof include 2- (4,4,4-trifluoro-2-butynylthio) ethyl group.

「1以上のハロゲン原子を有する(C1−C5アルキル)−C(O)−(C1−C5アルキル)基」とは、いずれか一方のC1−C5アルキル部分、もしくは両方のC1−C5アルキル基部分に1以上のハロゲン原子を有する基を表し、例えば3,3,3−トリフルオロ−2−オキソプロピル基が挙げられる。   "(C1-C5 alkyl) -C (O)-(C1-C5 alkyl) group having one or more halogen atoms" means any one C1-C5 alkyl moiety or both C1-C5 alkyl group moieties Represents a group having one or more halogen atoms, and examples thereof include a 3,3,3-trifluoro-2-oxopropyl group.

「1以上のハロゲン原子を有していてもよいC1−C6鎖式炭化水素基」としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、トリフルオロメチル基、トリクロロメチル基、2−フルオロエチル基、2,2−ジフルオロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基及びペンタフルオロエチル基等の1以上のハロゲン原子を有していてもよいC1−C6アルキル基;
ビニル基、1−プロペニル基、2−プロペニル基、1−メチルビニル基、1−ヘキセニル基、1,1−ジフルオロアリル基、ペンタフルオロアリル基等の1以上のハロゲン原子を有していてもいC2−C6アルケニル基;及び
エチニル基、プロパルギル基、3−ブチニル基、1−ヘキシニル基及び4,4,4−トリフルオロ−2−ブチニル基等の1以上のハロゲン原子を有していてもよいC2−C6アルキニル基が挙げられる。
Examples of the “C1-C6 chain hydrocarbon group optionally having one or more halogen atoms” include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, and trifluoromethyl. C1 which may have one or more halogen atoms such as a group, a trichloromethyl group, a 2-fluoroethyl group, a 2,2-difluoroethyl group, a 2,2,2-trifluoroethyl group and a pentafluoroethyl group -C6 alkyl group;
It may have one or more halogen atoms such as vinyl group, 1-propenyl group, 2-propenyl group, 1-methylvinyl group, 1-hexenyl group, 1,1-difluoroallyl group, pentafluoroallyl group, etc. -C6 alkenyl group; and C2 optionally having one or more halogen atoms such as ethynyl group, propargyl group, 3-butynyl group, 1-hexynyl group and 4,4,4-trifluoro-2-butynyl group -C6 alkynyl group is mentioned.

「群Aより選ばれる1以上の原子もしくは基を有していてもよいフェニル基」としては、例えば、フェニル基、2−フルオロフェニル基、4−フルオロフェニル基、2,3−ジフルオロフェニル基、2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニル基、4−クロロフェニル基、4−ブロモフェニル基、4−ヨードフェニル基、4−(トリフルオロメチル)フェニル基、4−(トリフルオロメトキシ)フェニル基、4−(トリフルオロメチルスルファニル)フェニル基、4−シアノフェニル基、4−(メチルスルフィニル)フェニル基、及び4−(メチルスルホニル)フェニル基が挙げられる。   Examples of the “phenyl group optionally having one or more atoms or groups selected from group A” include a phenyl group, a 2-fluorophenyl group, a 4-fluorophenyl group, a 2,3-difluorophenyl group, 2,3,4,5,6-pentafluorophenyl group, 4-chlorophenyl group, 4-bromophenyl group, 4-iodophenyl group, 4- (trifluoromethyl) phenyl group, 4- (trifluoromethoxy) phenyl Group, 4- (trifluoromethylsulfanyl) phenyl group, 4-cyanophenyl group, 4- (methylsulfinyl) phenyl group, and 4- (methylsulfonyl) phenyl group.

「群Bより選ばれるいずれかの5員芳香族複素環基(該5員芳香族複素環基は、群Aより選ばれる1以上の原子又は基を有していてもよい。)」としては、例えばピロール−1−イル基、2−クロロピロール−1−イル基、ピラゾール−1−イル基、3−(トリフルオロメチル)ピラゾール−1−イル基、4−クロロイミダゾール−1−イル基、1,2,4−トリアゾール−1−イル基、3−メトキシ−1,2,4−トリアゾール−1−イル基、3−メチルチオ−1,2,4−トリアゾール−1−イル基、1,2,3−トリアゾール−1−イル基、オキサゾール−2−イル基、チアゾール−2−イル基、1,3,4−オキサジアゾール−2−イル基、1,3,4−チアジアゾール−2−イル基、及び1,2,4−オキサジアゾール−3−イル基が挙げられる。   As "any five-membered aromatic heterocyclic group selected from group B (the 5-membered aromatic heterocyclic group may have one or more atoms or groups selected from group A)". For example, pyrrol-1-yl group, 2-chloropyrrol-1-yl group, pyrazol-1-yl group, 3- (trifluoromethyl) pyrazol-1-yl group, 4-chloroimidazol-1-yl group, 1,2,4-triazol-1-yl group, 3-methoxy-1,2,4-triazol-1-yl group, 3-methylthio-1,2,4-triazol-1-yl group, 1,2 , 3-Triazol-1-yl group, oxazol-2-yl group, thiazol-2-yl group, 1,3,4-oxadiazol-2-yl group, 1,3,4-thiadiazol-2-yl Group, and 1,2,4-oxadiazol-3-yl group And the like.

「群Cより選ばれるいずれかの6員芳香族複素環基(該6員芳香族複素環基は、群Aより選ばれる1以上の原子又は基を有していてもよい。)」としては、例えばピリジン−2−イル基、ピリジン−3−イル基、ピリジン−4−イル基、4−トリフルオロメチルピリジン−2−イル基、2−クロロピリジン−5−イル基、ピリミジン−2−イル基、ピラジン−2−イル基、ピリミジン−4−イル基、ピリダジン−3−イル基、ピリミジン−5−イル基、及びピリダジン−4−イル基が挙げられる。   As “any 6-membered aromatic heterocyclic group selected from group C (the 6-membered aromatic heterocyclic group may have one or more atoms or groups selected from group A)”. For example, pyridin-2-yl group, pyridin-3-yl group, pyridin-4-yl group, 4-trifluoromethylpyridin-2-yl group, 2-chloropyridin-5-yl group, pyrimidin-2-yl Groups, pyrazin-2-yl groups, pyrimidin-4-yl groups, pyridazin-3-yl groups, pyrimidin-5-yl groups, and pyridazin-4-yl groups.

「群Dより選ばれるいずれかの3−7員非芳香族複素環基(該3−7員非芳香族複素環基は、ハロゲン原子及びC1−C6アルキル基からなる群より選ばれる1以上の原子又は基を有していてもよい。」としては、例えばアジリジン−1−イル基、アゼチジン−1−イル基、ピロリジン−1−イル基、3,3,4,4−テトラフルオロピロリジン−1−イル基、ピペリジン−1−イル基、4,4−ジメチルピペリジン−1−イル基、及びアゼパン−1−イル基が挙げられる。   "Any 3-7 membered non-aromatic heterocyclic group selected from group D (the 3-7 membered non-aromatic heterocyclic group is one or more selected from the group consisting of a halogen atom and a C1-C6 alkyl group" Examples of the term “which may have an atom or a group” include, for example, an aziridin-1-yl group, an azetidin-1-yl group, a pyrrolidin-1-yl group, and 3,3,4,4-tetrafluoropyrrolidine-1. -Yl group, piperidin-1-yl group, 4,4-dimethylpiperidin-1-yl group, and azepan-1-yl group.

「1以上のハロゲン原子を有していてもよいC3−C7シクロアルキル基」としては、例えばシクロプロピル基、2,2−ジフルオロシクロプロパン−1−イル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、及びシクロヘプチル基が挙げられる。   Examples of the “C3-C7 cycloalkyl group optionally having one or more halogen atoms” include a cyclopropyl group, a 2,2-difluorocyclopropan-1-yl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, And cycloheptyl group.

「1以上のハロゲン原子を有していてもよい(C3−C7シクロアルキル)−(C1−C3アルキル)基」とは、C3−C7シクロアルキル部分に1以上のハロゲン原子を有する基を表し、例えばシクロプロピルメチル基、2−(シクロプロピル)エチル基、(2,2−ジフルオロシクロプロピル)メチル基、及びシクロペンチルメチル基が挙げられる。   “(C3-C7 cycloalkyl)-(C1-C3 alkyl) group optionally having one or more halogen atoms” represents a group having one or more halogen atoms in the C3-C7 cycloalkyl moiety; Examples include a cyclopropylmethyl group, a 2- (cyclopropyl) ethyl group, a (2,2-difluorocyclopropyl) methyl group, and a cyclopentylmethyl group.

「フェニルC1−C3アルキル基(該フェニルC1−C3アルキル基のフェニル部分は群Aより選ばれる1以上の原子又は基を有していてもよい。)」としては、例えばベンジル基、2−フルオロベンジル基、4−クロロベンジル基、4−(トリフルオロメチル)ベンジル基、2−(4−(トリフルオロメチル)フェニル)エチル基が挙げられる。   Examples of the “phenyl C1-C3 alkyl group (the phenyl portion of the phenyl C1-C3 alkyl group may have one or more atoms or groups selected from group A)” include, for example, a benzyl group, 2-fluoro Examples include benzyl group, 4-chlorobenzyl group, 4- (trifluoromethyl) benzyl group, and 2- (4- (trifluoromethyl) phenyl) ethyl group.

「(5もしくは6員ヘテロアリール)C1−C3アルキル基(該(5もしくは6員ヘテロアリール)C1−C3アルキル基の5もしくは6員ヘテロアリール部分は群Aより選ばれる1以上の原子又は基を有していてもよい。)」としては、例えば(1−メチルピロール−3−イル)メチル基、(オキサゾール−2−イル)メチル基、(テトラヒドロフラン−3−イル)メチル基、(テトラヒドロフラン−2−イル)メチル基、2−(1,2,4−トリアゾール−1−イル)エチル基、(2−クロロチアゾール−5−イル)メチル基等の1の5員芳香族複素環を有するC1−C3アルキル基;及び
(ピリジン−2−イル)メチル基、(ピリジン−4−イル)メチル基、(ピリミジン−2−イル)メチル基、(ピリミジン−4−イル)メチル基、2−(2−クロロピリジン−5−イル)エチル基、[2−(トリフルオロメチル)ピリジン−2−イル]メチル基等の1の6員芳香族複素環を有するC1−C3アルキル基等が挙げられる。
“(5- or 6-membered heteroaryl) C1-C3 alkyl group (the 5- or 6-membered heteroaryl) C1-C3 alkyl group has one or more atoms or groups selected from group A. May be included.) "Is, for example, (1-methylpyrrol-3-yl) methyl group, (oxazol-2-yl) methyl group, (tetrahydrofuran-3-yl) methyl group, (tetrahydrofuran-2) -Cyl group having one 5-membered aromatic heterocycle such as -yl) methyl group, 2- (1,2,4-triazol-1-yl) ethyl group, (2-chlorothiazol-5-yl) methyl group and the like. A C3 alkyl group; and (pyridin-2-yl) methyl group, (pyridin-4-yl) methyl group, (pyrimidin-2-yl) methyl group, (pyrimidin-4-yl) methyl group, C1-C3 alkyl groups having 1 6-membered aromatic heterocycle such as-(2-chloropyridin-5-yl) ethyl group and [2- (trifluoromethyl) pyridin-2-yl] methyl group It is done.

「C2−C6アルコキシカルボニル基」としては、例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基が挙げられる。   Examples of the “C2-C6 alkoxycarbonyl group” include a methoxycarbonyl group and an ethoxycarbonyl group.

「1以上のハロゲン原子を有していてもよい(C1−C3アルキル)−O−(C1−C3アルキル)基」とは、いずれか一方のC1−C3アルキル部分、もしくは両方のC1−C3アルキル基部分に1以上のハロゲン原子を有する基を表し、例えばメトキシメチル基、エトキシメチル基、2−(メトキシ)エチル基が挙げられる。   "(C1-C3 alkyl) -O- (C1-C3 alkyl) group optionally having one or more halogen atoms" means any one C1-C3 alkyl moiety or both C1-C3 alkyl. A group having one or more halogen atoms in the group portion is represented, and examples thereof include a methoxymethyl group, an ethoxymethyl group, and a 2- (methoxy) ethyl group.

「1以上のハロゲン原子を有していてもよいC1−C6アルコキシ基」としては、例えばトリフルオロメトキシ基、2,2,2−トリフルオロエトキシ基が挙げられる。   Examples of the “C1-C6 alkoxy group optionally having one or more halogen atoms” include a trifluoromethoxy group and a 2,2,2-trifluoroethoxy group.

「ハロゲン原子」とはフッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子を表す。   "Halogen atom" represents a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.

本ピリダジン化合物としては、例えば、以下の化合物が挙げられる。 Examples of the pyridazine compound include the following compounds.

〔態様1〕本ピリダジン化合物において、R1がC2−C10アルキル基、C3−C10アルケニル基、(C1−C5アルキル)−O−(C2−C5アルキル)基、又は(C1−C5アルキル)−S(O)m−(C2−C5アルキル)基であり(但し、該C2−C10アルキル基、C3−C10アルケニル基、(C1−C5アルキル)−O−(C2−C5アルキル)基、及び(C1−C5アルキル)−S(O)m−(C2−C5アルキル)基は1以上のハロゲン原子を有する)、R2およびR3が、それぞれ独立して、水素原子、1以上のハロゲン原子を有していてもよいC1−C6アルキル基、又はハロゲン原子であり、R4がC1−C6アルキル基であり、pが0又は1であり、pが1の場合にR5が、1以上のハロゲン原子を有していてもよいC1−C6アルキル基である化合物。
〔態様2〕本ピリダジン化合物において、R1が2以上のフッ素原子を有するC2−C6アルキル基であり、R2およびR3が、それぞれ独立して水素原子、1以上のハロゲン原子を有していてもよいC1−C6アルキル基、又はハロゲン原子であり、R4がC1−C6アルキル基であり、pが0又は1であり、pが1の場合にR5が、1以上のハロゲン原子を有していてもよいC1−C6アルキル基である化合物。
〔態様3〕本ピリダジン化合物において、R1が2以上のフッ素原子を有するC2−C6アルキル基であり、R2およびR3が、それぞれ独立して水素原子、1以上のハロゲン原子を有していてもよいC1−C6アルキル基、又はハロゲン原子であり、R4がエチル基であり、pが0又は1であり、pが1の場合にR5が、1以上のハロゲン原子を有していてもよいC1−C6アルキル基である化合物。
〔態様4〕本ピリダジン化合物において、R1が2以上のフッ素原子を有するC2−C10アルキル基であり、R2およびR3が水素原子であり、R4がエチル基であり、pが0又は1であり、pが1の場合にR5が、1以上のハロゲン原子を有していてもよいC1−C6アルキル基である化合物。
〔態様5〕本ピリダジン化合物において、R1がC2−C10ハロアルキル基であり、R2およびR3が、それぞれ独立して水素原子、1以上のハロゲン原子を有していてもよいC1−C6アルキル基、又はハロゲン原子であり、R4が1以上のハロゲン原子を有していてもよいC1−C6アルキル基であり、R5が1以上のハロゲン原子を有していてもよいC1−C6鎖式炭化水素基、群Bより選ばれるいずれかの5員芳香族複素環基(該5員芳香族複素環基は、群Aより選ばれる1以上の原子又は基を有していてもよい。)、群Cより選ばれるいずれかの6員芳香族複素環基(該6員芳香族複素環基は、群Aより選ばれる1以上の原子又は基を有していてもよい。)、群Dより選ばれるいずれかの3−7員非芳香族複素環基(該3−7員非芳香族複素環基は、ハロゲン原子及びC1−C6アルキル基からなる群より選ばれる1以上の原子又は基を有していてもよい。)、OR7、NR89、S(O)y12、又はハロゲン原子であり、pが0、1、2又は3(但し、pが2又は3を表す場合に、複数のR5は各々同一でも異なっていてもよい。)である化合物。
〔態様6〕本ピリダジン化合物において、Aが窒素原子であり、R1がC2−C10ハロアルキル基であり、R2およびR3が水素原子であり、R4がエチル基であり、R5が1以上のハロゲン原子を有していてもよいC1−C6アルキル基であり、pが0、1、2又は3(但し、pが2又は3を表す場合に、複数のR5は各々同一でも異なっていてもよい。)である化合物;
〔態様7〕態様1〜5において、Aが窒素原子、又はCR6である化合物。
〔態様8〕態様1〜5において、Aが窒素原子、又はCHである化合物。
〔態様9〕態様1〜5おいて、Aが窒素原子である化合物。
〔態様10〕態様1〜5において、AがCR6である化合物。
〔態様11〕態様1〜5において、AがCHである化合物。
[Aspect 1] In the present pyridazine compound, R 1 is a C2-C10 alkyl group, a C3-C10 alkenyl group, a (C1-C5 alkyl) -O- (C2-C5 alkyl) group, or (C1-C5 alkyl) -S. (O) m- (C2-C5 alkyl) group (provided that the C2-C10 alkyl group, C3-C10 alkenyl group, (C1-C5 alkyl) -O- (C2-C5 alkyl) group, and (C1 -C5 alkyl) -S (O) m - ( C2-C5 alkyl) group having one or more halogen atoms), R 2 and R 3 each independently have a hydrogen atom, one or more halogen atoms An optionally substituted C1-C6 alkyl group, or a halogen atom, R 4 is a C1-C6 alkyl group, p is 0 or 1, and when p is 1, R 5 is one or more halogen atoms Even if you have atoms A compound that is a good C1-C6 alkyl group.
[Aspect 2] In the pyridazine compound, R 1 is a C2-C6 alkyl group having two or more fluorine atoms, and R 2 and R 3 each independently have a hydrogen atom or one or more halogen atoms. An optionally substituted C1-C6 alkyl group, or a halogen atom, R 4 is a C1-C6 alkyl group, p is 0 or 1, and when p is 1, R 5 is one or more halogen atoms. The compound which is a C1-C6 alkyl group which may have.
[Aspect 3] In the pyridazine compound, R 1 is a C2-C6 alkyl group having two or more fluorine atoms, and R 2 and R 3 each independently have a hydrogen atom or one or more halogen atoms. An optionally substituted C1-C6 alkyl group, or a halogen atom, R 4 is an ethyl group, p is 0 or 1, and when p is 1, R 5 has one or more halogen atoms. A compound that is an optionally substituted C1-C6 alkyl group.
[Aspect 4] In the pyridazine compound, R 1 is a C2-C10 alkyl group having two or more fluorine atoms, R 2 and R 3 are hydrogen atoms, R 4 is an ethyl group, and p is 0 or 1. A compound in which, when p is 1, R 5 is a C1-C6 alkyl group optionally having one or more halogen atoms.
[Aspect 5] In the pyridazine compound, R 1 is a C2-C10 haloalkyl group, and R 2 and R 3 are each independently a hydrogen atom or a C1-C6 alkyl optionally having one or more halogen atoms. A C1-C6 chain which may be a group, or a halogen atom, R 4 may have one or more halogen atoms, and R 5 may have one or more halogen atoms Any 5-membered aromatic heterocyclic group selected from the formula hydrocarbon group and group B (the 5-membered aromatic heterocyclic group may have one or more atoms or groups selected from group A. ), Any 6-membered aromatic heterocyclic group selected from group C (the 6-membered aromatic heterocyclic group may have one or more atoms or groups selected from group A), group Any 3-7-membered non-aromatic heterocyclic group selected from D (the 3-7-membered non-aromatic group) The aromatic heterocyclic group may have one or more atoms or groups selected from the group consisting of halogen atoms and C1-C6 alkyl groups.), OR 7 , NR 8 R 9 , S (O) y R 12 , or a halogen atom, and p is 0, 1, 2, or 3 (provided that when p represents 2 or 3, a plurality of R 5 may be the same or different from each other).
[Aspect 6] In this pyridazine compound, A is a nitrogen atom, R 1 is a C2-C10 haloalkyl group, R 2 and R 3 are hydrogen atoms, R 4 is an ethyl group, and R 5 is 1 A C1-C6 alkyl group optionally having the above halogen atom, and p is 0, 1, 2 or 3 (provided that when p represents 2 or 3, a plurality of R 5 s are the same or different from each other) A compound that is)
[Aspect 7] A compound in which A is a nitrogen atom or CR 6 in aspects 1 to 5.
[Aspect 8] A compound in which A is a nitrogen atom or CH in aspects 1 to 5.
[Aspect 9] A compound according to Aspects 1 to 5, wherein A is a nitrogen atom.
[Aspect 10] A compound in which A is CR 6 in aspects 1 to 5.
[Aspect 11] A compound in which A is CH in aspects 1 to 5.

Nオキシド化合物としては、例えば、以下の化合物が挙げられる。
〔態様12〕式(1−N)

Figure 2017075161

において、Q1は、N+−O-又は窒素原子であり、Q2は、N+−O-、CR6N、又は窒素原子であり、Q1又はQ2のいずれか一方が、必ずN+−O-であり、R6Nは、水素原子、又はハロゲン原子であり、R1Nは、C2−C10ハロアルキル基であり、R2NおよびR3Nは、それぞれ独立して、水素原子、1以上のハロゲン原子を有していてもよいC1−C3アルキル基、又はハロゲン原子であり、R4Nは、1以上のハロゲン原子を有していてもよいC1−C6アルキル基であり、qは、0、又は1であり、qが1の場合に、R5Nが、1以上のハロゲン原子を有していてもよいC1−C6アルキル基である化合物。
〔態様13〕態様12において、R1Nが、C2−C10ハロアルキル基であり、R2NおよびR3Nが、水素原子であり、R4Nが、1以上のハロゲン原子を有していてもよいC1−C6アルキル基であり、qが、0、又は1であり、qが1の場合に、R5Nが、1以上のハロゲン原子を有していてもよいC1−C6アルキル基である化合物。
〔態様14〕態様12において、R1Nが、C2−C10ハロアルキル基であり、R2NおよびR3Nが、水素原子であり、R4Nが、エチル基であり、qが、0、又は1であり、qが1の場合に、R5Nが、1以上のハロゲン原子を有していてもよいC1−C6アルキル基である化合物。
〔態様15〕態様12〜14において、Q1がN+−O-であり、Q2がN+−O-、CH、CF、又は窒素原子である化合物。
〔態様16〕態様12〜14において、Q1がN+−O-であり、Q2が窒素原子、又はCHである化合物。
〔態様17〕態様12〜14において、Q1がN+−O-であり、Q2が窒素原子である化合物。
〔態様18〕態様12〜14において、Q1及びQ2がN+−O-である化合物。
〔態様19〕態様12〜14において、Q1がN+−O-であり、Q2がCR6Nである化合物。 Examples of the N oxide compound include the following compounds.
[Aspect 12] Formula (1-N)
Figure 2017075161

Q 1 is N + —O or a nitrogen atom, Q 2 is N + —O , CR 6N , or a nitrogen atom, and either Q 1 or Q 2 is always N + —O 2 , R 6N is a hydrogen atom or a halogen atom, R 1N is a C2-C10 haloalkyl group, R 2N and R 3N are each independently a hydrogen atom, one or more halogen atoms A C1-C3 alkyl group optionally having an atom, or a halogen atom, R 4N is a C1-C6 alkyl group optionally having one or more halogen atoms, and q is 0, or 1. A compound in which when R is 1 and q is 1, R 5N is a C1-C6 alkyl group optionally having one or more halogen atoms.
[Aspect 13] In Aspect 12, R 1N is a C2-C10 haloalkyl group, R 2N and R 3N are hydrogen atoms, and R 4N may have one or more halogen atoms. A compound, which is a C6 alkyl group, q is 0 or 1, and R 5N is a C1-C6 alkyl group optionally having one or more halogen atoms when q is 1.
[Aspect 14] In Aspect 12, R 1N is a C2-C10 haloalkyl group, R 2N and R 3N are a hydrogen atom, R 4N is an ethyl group, and q is 0 or 1. , Q is 1, a compound in which R 5N is a C1-C6 alkyl group optionally having one or more halogen atoms.
[Aspect 15] A compound according to Aspects 12 to 14, wherein Q 1 is N + —O and Q 2 is N + —O , CH, CF, or a nitrogen atom.
[Aspect 16] A compound according to Aspects 12 to 14, wherein Q 1 is N + —O and Q 2 is a nitrogen atom or CH.
[Aspect 17] A compound according to Aspects 12 to 14, wherein Q 1 is N + —O and Q 2 is a nitrogen atom.
[Aspect 18] A compound according to Aspects 12 to 14, wherein Q 1 and Q 2 are N + —O .
[Aspect 19] A compound according to Aspect 12-14, wherein Q 1 is N + —O and Q 2 is CR 6N .

次に、本ピリダジン化合物の製造法について説明する。   Next, the manufacturing method of this pyridazine compound is demonstrated.

本ピリダジン化合物及び中間体化合物は、例えば、以下の製造法1〜製造法12に準じて製造することができる。   The pyridazine compound and the intermediate compound can be produced, for example, according to the following production methods 1 to 12.

製造法1
式(1)において、n=1である本ピリダジン化合物(1b)(以下本ピリダジン化合物(1b)と記す。)、および式(1)においてn=2である本ピリダジン化合物(1c)(以下本ピリダジン化合物(1c)と記す。)は、式(1)においてn=0である本ピリダジン化合物(1a)(以下本ピリダジン化合物(1a)と記す。)と酸化剤とを反応させることにより製造することができる。

Figure 2017075161

[式中、記号は前記と同じ意味を表す。] Manufacturing method 1
The present pyridazine compound (1b) in which n = 1 in the formula (1) (hereinafter referred to as the present pyridazine compound (1b)), and the present pyridazine compound (1c) in which n = 2 in the formula (1) (hereinafter referred to as the present). The pyridazine compound (1c) is prepared by reacting the present pyridazine compound (1a) (hereinafter referred to as the present pyridazine compound (1a)) in which n = 0 in the formula (1) with an oxidizing agent. be able to.
Figure 2017075161

[Wherein the symbols have the same meaning as described above. ]

まず、本ピリダジン化合物(1a)から本ピリダジン化合物(1b)を製造する方法について記載する。
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。反応に用いられる溶媒としては、例えばジクロロメタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類(以下、ハロゲン化炭化水素類と記す。)が挙げられる。
反応に用いられる酸化剤としては、m−クロロ過安息香酸(以下、mCPBAと記す。)が挙げられる。
反応には、本ピリダジン化合物(1a)1モルに対して、酸化剤が通常1〜1.2モルの割合で用いられる。
反応温度は、通常−20〜80℃の範囲である。反応時間は通常0.1〜12時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に水を加え、有機溶媒で抽出し、有機層を必要に応じて還元剤(例えば亜硫酸ナトリウム、チオ硫酸ナトリウム)の水溶液、及び塩基(例えば炭酸水素ナトリウム)の水溶液で洗浄する。この有機層を乾燥、濃縮することにより、本ピリダジン化合物(1b)を得ることができる。
First, a method for producing the pyridazine compound (1b) from the pyridazine compound (1a) will be described.
The reaction is usually performed in the presence of a solvent. Examples of the solvent used in the reaction include halogenated hydrocarbons such as dichloromethane and chloroform (hereinafter referred to as halogenated hydrocarbons).
Examples of the oxidizing agent used in the reaction include m-chloroperbenzoic acid (hereinafter referred to as mCPBA).
For the reaction, the oxidizing agent is usually used at a ratio of 1 to 1.2 mol per 1 mol of the present pyridazine compound (1a).
The reaction temperature is usually in the range of -20 to 80 ° C. The reaction time is usually in the range of 0.1 to 12 hours.
After completion of the reaction, water is added to the reaction mixture and extracted with an organic solvent, and the organic layer is extracted with an aqueous solution of a reducing agent (for example, sodium sulfite, sodium thiosulfate) and an aqueous solution of a base (for example, sodium bicarbonate) as necessary. Wash. This pyridazine compound (1b) can be obtained by drying and concentrating the organic layer.

つぎに、本ピリダジン化合物(1b)から本ピリダジン化合物(1c)を製造する方法について記載する。
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。反応に用いられる溶媒としては、例えばハロゲン化炭化水素類が挙げられる。
反応に用いられる酸化剤としては、mCPBAが挙げられる。
反応には、本ピリダジン化合物(1b)1モルに対して、酸化剤が通常1〜2モルの割合で用いられる。
反応温度は、通常−20〜120℃の範囲である。反応時間は通常0.1〜12時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に水を加え、有機溶媒で抽出し、有機層を必要に応じて還元剤(例えば亜硫酸ナトリウム、チオ硫酸ナトリウム)の水溶液、及び塩基(例えば炭酸水素ナトリウム)の水溶液で洗浄する。この有機層を乾燥、濃縮することにより、本ピリダジン化合物(1c)を得ることができる。
Next, a method for producing the pyridazine compound (1c) from the pyridazine compound (1b) will be described.
The reaction is usually performed in the presence of a solvent. Examples of the solvent used for the reaction include halogenated hydrocarbons.
Examples of the oxidizing agent used in the reaction include mCPBA.
For the reaction, the oxidizing agent is usually used at a ratio of 1 to 2 mol with respect to 1 mol of the present pyridazine compound (1b).
The reaction temperature is usually in the range of -20 to 120 ° C. The reaction time is usually in the range of 0.1 to 12 hours.
After completion of the reaction, water is added to the reaction mixture and extracted with an organic solvent, and the organic layer is extracted with an aqueous solution of a reducing agent (for example, sodium sulfite, sodium thiosulfate) and an aqueous solution of a base (for example, sodium bicarbonate) as necessary. Wash. The pyridazine compound (1c) can be obtained by drying and concentrating the organic layer.

また、本ピリダジン化合物(1c)は、本ピリダジン化合物(1a)と酸化剤とを反応させることで、一段階反応(ワンポット)で製造することができる。
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。反応に用いられる溶媒としては、例えばハロゲン化炭化水素類が挙げられる。
反応に用いられる酸化剤としては、mCPBAが挙げられる。
反応には、本ピリダジン化合物(1a)1モルに対して、酸化剤が通常2〜3モルの割合で用いられる。
反応温度は、通常0〜120℃の範囲である。反応時間は通常0.1〜12時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に水を加え、有機溶媒で抽出し、有機層を必要に応じて還元剤(例えば亜硫酸ナトリウム、チオ硫酸ナトリウム)の水溶液、及び塩基(例えば炭酸水素ナトリウム)の水溶液で洗浄する。この有機層を、乾燥、濃縮することにより、本ピリダジン化合物(1c)を得ることができる。
Moreover, this pyridazine compound (1c) can be manufactured by one-step reaction (one pot) by making this pyridazine compound (1a) and an oxidizing agent react.
The reaction is usually performed in the presence of a solvent. Examples of the solvent used for the reaction include halogenated hydrocarbons.
Examples of the oxidizing agent used in the reaction include mCPBA.
For the reaction, the oxidizing agent is usually used at a ratio of 2 to 3 moles relative to 1 mole of the present pyridazine compound (1a).
The reaction temperature is usually in the range of 0 to 120 ° C. The reaction time is usually in the range of 0.1 to 12 hours.
After completion of the reaction, water is added to the reaction mixture and extracted with an organic solvent, and the organic layer is extracted with an aqueous solution of a reducing agent (for example, sodium sulfite, sodium thiosulfate) and an aqueous solution of a base (for example, sodium bicarbonate) as necessary. Wash. By drying and concentrating the organic layer, the pyridazine compound (1c) can be obtained.

製造法2
本ピリダジン化合物(1a)は、式(M1)で示される化合物(以下、化合物(M1)と記す。)と式(R1)で示される化合物(以下、化合物(R1)と記す。)とを塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。

Figure 2017075161

[式中、Vはハロゲン原子を表し、その他の記号は前記と同じ意味を表す。]
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。反応に用いられる溶媒としては、例えばジメチルホルムアミド(以下、DMFと記す。)、N−メチルピロリドン(以下、NMPと記す。)、ジメチルスルホキシド(以下、DMSOと記す。)等の非プロトン性極性溶媒(以下、非プロトン性極性溶媒と記す。)が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、水素化ナトリウム等のアルカリ金属水素化物類(以下、アルカリ金属水素化物類と記す。)が挙げられる。
反応には、化合物(M1)1モルに対して、化合物(R1)が通常1〜10モルの割合、塩基が通常1〜10モルの割合で用いられる。
反応温度は、通常−20℃〜150℃の範囲である。反応時間は通常0.5〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に水を加え、有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、本ピリダジン化合物(1a)を得ることができる。
該反応において、Vはフッ素原子又は塩素原子が好ましい。 Manufacturing method 2
This pyridazine compound (1a) is based on a compound represented by formula (M1) (hereinafter referred to as compound (M1)) and a compound represented by formula (R1) (hereinafter referred to as compound (R1)). It can manufacture by making it react in presence of.
Figure 2017075161

[Wherein V represents a halogen atom, and other symbols have the same meaning as described above. ]
The reaction is usually performed in the presence of a solvent. Examples of the solvent used in the reaction include aprotic polar solvents such as dimethylformamide (hereinafter referred to as DMF), N-methylpyrrolidone (hereinafter referred to as NMP), dimethyl sulfoxide (hereinafter referred to as DMSO), and the like. (Hereinafter referred to as aprotic polar solvent).
Examples of the base used in the reaction include alkali metal hydrides such as sodium hydride (hereinafter referred to as alkali metal hydrides).
In the reaction, with respect to 1 mole of the compound (M1), the compound (R1) is usually used at a ratio of 1 to 10 moles, and the base is usually used at a ratio of 1 to 10 moles.
The reaction temperature is usually in the range of -20 ° C to 150 ° C. The reaction time is usually in the range of 0.5 to 24 hours.
After completion of the reaction, the pyridazine compound (1a) can be obtained by performing post-treatment operations such as adding water to the reaction mixture, extracting with an organic solvent, and drying and concentrating the organic layer.
In the reaction, V is preferably a fluorine atom or a chlorine atom.

製造法3
本ピリダジン化合物(1)は、式(M2)で示される化合物(以下、化合物(M2)と記す。)と式(R2)で示される化合物(以下、化合物(R2)と記す。)とを、塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。

Figure 2017075161

[式中、V1はC1−C10ペルフルオロアルカンスルホニルオキシ基を表し、その他の記号は前記と同じ意味を表す。]
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。反応に用いられる溶媒としては、例えば非プロトン性極性溶媒が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば炭酸カリウム、炭酸セシウム等のアルカリ金属炭酸塩類(以下、アルカリ金属炭酸塩類と記す。)が挙げられる。
反応には、化合物(M2)1モルに対して、化合物(R2)が通常1〜10モルの割合、塩基が通常0.1〜5モルの割合で用いられる。
反応温度は、通常−20℃〜120℃の範囲である。反応時間は通常0.1〜24時間の範囲である。
該反応では、式(B1)で示される化合物が副生することもある。
反応終了後は、反応混合物を水に加え、有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、本ピリダジン化合物(1)を得ることができる。 Production method 3
The pyridazine compound (1) includes a compound represented by formula (M2) (hereinafter referred to as compound (M2)) and a compound represented by formula (R2) (hereinafter referred to as compound (R2)). It can be produced by reacting in the presence of a base.
Figure 2017075161

[Wherein, V 1 represents a C1-C10 perfluoroalkanesulfonyloxy group, and other symbols have the same meaning as described above. ]
The reaction is usually performed in the presence of a solvent. Examples of the solvent used for the reaction include aprotic polar solvents.
Examples of the base used for the reaction include alkali metal carbonates such as potassium carbonate and cesium carbonate (hereinafter referred to as alkali metal carbonates).
In the reaction, with respect to 1 mole of the compound (M2), the compound (R2) is usually used at a ratio of 1 to 10 moles, and the base is usually used at a ratio of 0.1 to 5 moles.
The reaction temperature is usually in the range of -20 ° C to 120 ° C. The reaction time is usually in the range of 0.1 to 24 hours.
In the reaction, the compound represented by the formula (B1) may be by-produced.
After completion of the reaction, the pyridazine compound (1) can be obtained by performing post-treatment operations such as adding the reaction mixture to water, extracting with an organic solvent, and drying and concentrating the organic layer.

製造法4
本ピリダジン化合物(1)は、式(M3)で示される化合物(以下、化合物(M3)と記す。)と式(R3)で示される化合物(以下、化合物(R3)と記す。)とを、塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。

Figure 2017075161

[式中、V2はハロゲン原子又はメタンスルホニル基を表し、その他の記号は前記と同じ意味を表す。]
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。反応に用いられる溶媒としては、例えば非プロトン性極性溶媒が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、例えばアルカリ金属炭酸塩類、アルカリ金属水素化物類が挙げられる。
反応には、化合物(M3)1モルに対して、化合物(R3)が通常1〜100モルの割合、塩基が通常1〜10モルの割合で用いられる。
反応温度は、通常−20℃〜150℃の範囲である。反応時間は通常0.5〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に水を加え、有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、本ピリダジン化合物(1)を得ることができる。
該反応において、V2は塩素原子、又はメチルスルホニル基が好ましい。 Manufacturing method 4
The pyridazine compound (1) includes a compound represented by formula (M3) (hereinafter referred to as compound (M3)) and a compound represented by formula (R3) (hereinafter referred to as compound (R3)). It can be produced by reacting in the presence of a base.
Figure 2017075161

[Wherein V 2 represents a halogen atom or a methanesulfonyl group, and other symbols have the same meaning as described above. ]
The reaction is usually performed in the presence of a solvent. Examples of the solvent used for the reaction include aprotic polar solvents.
Examples of the base used for the reaction include alkali metal carbonates and alkali metal hydrides.
For the reaction, the compound (R3) is usually used in a proportion of 1 to 100 mol and the base is usually used in a proportion of 1 to 10 mol with respect to 1 mol of the compound (M3).
The reaction temperature is usually in the range of -20 ° C to 150 ° C. The reaction time is usually in the range of 0.5 to 24 hours.
After completion of the reaction, the pyridazine compound (1) can be obtained by performing post-treatment operations such as adding water to the reaction mixture, extracting with an organic solvent, and drying and concentrating the organic layer.
In the reaction, V 2 is preferably a chlorine atom or a methylsulfonyl group.

製造法5
化合物(M1)は、式(M4)で示される化合物(以下、化合物(M4)と記す。)と化合物(R2)とを、塩基の存在下で反応させることで製造することができる。

Figure 2017075161

[式中、記号は前記と同じ意味を表す。]
該反応は、化合物(M2)に代えて化合物(M4)を用いることにより、製造法3に記載の方法に準じて実施することができる。
該反応では、式(B2)で示される化合物が副生することもある。 Manufacturing method 5
Compound (M1) can be produced by reacting a compound represented by formula (M4) (hereinafter referred to as compound (M4)) with compound (R2) in the presence of a base.
Figure 2017075161

[Wherein the symbols have the same meaning as described above. ]
This reaction can be carried out according to the method described in Production Method 3 by using compound (M4) instead of compound (M2).
In the reaction, the compound represented by the formula (B2) may be by-produced.

製造法6
化合物(M1)は、式(M6)で示される化合物(以下、化合物(M6)と記す。)と式(M7)で示される化合物(以下、化合物(M7)と記す。)とを、金属触媒の存在下で反応させることにより製造することができる。

Figure 2017075161

[式中、V3はハロゲン原子を表し、Mは−B(OH)2、4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン−2−イル基、−SnBu3、−ZnCl、−MgCl、又は−MgBrを表し、その他の記号は前記と同じ意味を表す。]
化合物(M6)は、例えば米国特許出願公開第2010/0261727号明細書に記載の方法に準じて製造することができる。
化合物(M7)は、例えば国際公開第03/024961号記載の方法、又はOrganic Process Research & Development, 2004, 8, 192-200記載の方法に準じて製造することができる。
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。反応に用いられる溶媒としては、例えばエチレングリコールジメチルエーテル(以下、DMEと記す。)等のエーテル類(以下、エーテル類と記す。)、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類(以下、芳香族炭化水素類と記す。)、非プロトン性極性溶媒、水及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる金属触媒としては、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム(0)、1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン−パラジウム(II)ジクロリド、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)、酢酸パラジウム(II)等のパラジウム触媒、ビス(シクロオクタジエン)ニッケル(0)、塩化ニッケル(II)等のニッケル触媒、ヨウ化銅(I)、塩化銅(I)等の銅触媒等が挙げられる。
該反応は必要に応じて、配位子、塩基及び無機ハロゲン化物を加えてもよい。
反応に用いられる配位子としては、トリフェニルホスフィン、キサントホス、2,2’−ビス(ジフェニルホスフィノ)−1,1’−ビナフチル、1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン、2−ジシクロヘキシルホスフィノ−2’,4’,6’−トリイソプロピルビフェニル、2−ジシクロヘキシルホスフィノ−2’,6’−ジメトキシビフェニル、1,2−ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン、2,2’−ビピリジン、2−アミノエタノール、8−ヒドロキシキノリン、1,10−フェナントロリン等が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、例えばアルカリ金属水素化物類、アルカリ金属炭酸塩類、又はトリエチルアミン、ジイソピロピルエチルアミン、ピリジン、4−ジメチルアミノピリジン等の有機塩基類が挙げられる。
反応に用いられる無機ハロゲン化物としては、フッ化カリウム、フッ化ナトリウム等のアルカリ金属フッ素塩、塩化リチウム、塩化ナトリウム等のアルカリ金属塩素塩等が挙げられる。
反応には、化合物(M6)1モルに対して、化合物(M7)が通常1〜10モルの割合、金属触媒が通常0.01〜0.5モルの割合、配位子が通常0.01〜1モルの割合、塩基が通常0.1〜5モルの割合、無機ハロゲン化物が通常0.1〜5モルの割合で用いられる。
反応温度は、通常−20℃〜200℃の範囲である。反応時間は通常0.1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に加え、有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより化合物(M1)を得ることができる。
該反応において、V3は塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子が好ましい。 Manufacturing method 6
The compound (M1) includes a compound represented by the formula (M6) (hereinafter referred to as the compound (M6)) and a compound represented by the formula (M7) (hereinafter referred to as the compound (M7)) as a metal catalyst. It can manufacture by making it react in presence of.
Figure 2017075161

[Wherein V 3 represents a halogen atom, M represents —B (OH) 2 , 4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolan-2-yl group, —SnBu 3 , — ZnCl, -MgCl, or -MgBr is represented, and other symbols have the same meaning as described above. ]
Compound (M6) can be produced, for example, according to the method described in US Patent Application Publication No. 2010/0261727.
Compound (M7) can be produced, for example, according to the method described in WO 03/024961 or the method described in Organic Process Research & Development, 2004, 8, 192-200.
The reaction is usually performed in the presence of a solvent. Examples of the solvent used in the reaction include ethers such as ethylene glycol dimethyl ether (hereinafter referred to as DME) (hereinafter referred to as ethers), aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene (hereinafter referred to as aromatic carbonization). And aprotic polar solvent, water, and a mixture thereof.
Examples of the metal catalyst used in the reaction include tetrakistriphenylphosphine palladium (0), 1,1′-bis (diphenylphosphino) ferrocene-palladium (II) dichloride, tris (dibenzylideneacetone) dipalladium (0), acetic acid. Palladium catalysts such as palladium (II), nickel catalysts such as bis (cyclooctadiene) nickel (0), nickel (II) chloride, copper catalysts such as copper (I) iodide, copper (I) chloride, etc. .
In the reaction, a ligand, a base and an inorganic halide may be added as necessary.
Examples of the ligand used in the reaction include triphenylphosphine, xanthophos, 2,2′-bis (diphenylphosphino) -1,1′-binaphthyl, 1,1′-bis (diphenylphosphino) ferrocene, 2- Dicyclohexylphosphino-2 ′, 4 ′, 6′-triisopropylbiphenyl, 2-dicyclohexylphosphino-2 ′, 6′-dimethoxybiphenyl, 1,2-bis (diphenylphosphino) ethane, 2,2′-bipyridine , 2-aminoethanol, 8-hydroxyquinoline, 1,10-phenanthroline and the like.
Examples of the base used for the reaction include alkali metal hydrides, alkali metal carbonates, or organic bases such as triethylamine, diisopropylpyroethylamine, pyridine, and 4-dimethylaminopyridine.
Examples of the inorganic halide used in the reaction include alkali metal fluorine salts such as potassium fluoride and sodium fluoride, and alkali metal chlorine salts such as lithium chloride and sodium chloride.
In the reaction, with respect to 1 mol of the compound (M6), the compound (M7) is usually in a proportion of 1 to 10 mol, the metal catalyst is usually in a proportion of 0.01 to 0.5 mol, and the ligand is usually 0.01. ˜1 mol, base is usually used in a proportion of 0.1 to 5 mol, and inorganic halide is usually used in a proportion of 0.1 to 5 mol.
The reaction temperature is usually in the range of -20 ° C to 200 ° C. The reaction time is usually in the range of 0.1 to 24 hours.
After completion of the reaction, the compound (M1) can be obtained by performing post-treatment operations such as addition of the reaction mixture to water, extraction with an organic solvent, and drying and concentration of the organic layer.
In the reaction, V 3 is preferably a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom.

製造法7
化合物(M2)のうち、n=0である化合物(M2a)、n=1である化合物(M2b)およびn=2である化合物(M2c)は、下記の方法に従って製造することができる。

Figure 2017075161

[式中、Vはハロゲン原子を表し、その他の記号は式(1)と同じ意味を表す。] Manufacturing method 7
Among the compounds (M2), the compound (M2a) where n = 0, the compound (M2b) where n = 1, and the compound (M2c) where n = 2 can be produced according to the following method.
Figure 2017075161

[Wherein V represents a halogen atom, and other symbols have the same meaning as in formula (1). ]

まず、化合物(M4)から化合物(M2a)を製造する方法について記載する。
化合物(M2a)は、の化合物(M1)に代えて化合物(M4)を用いることにより、製造法2に記載の方法に準じて製造することができる。
First, a method for producing the compound (M2a) from the compound (M4) will be described.
Compound (M2a) can be produced according to the method described in Production Method 2 by using compound (M4) instead of compound (M1).

続いて、化合物(M2a)から化合物(M2b)、及び化合物(M2b)から化合物(M2c)を製造する方法について記載する。
化合物(M2b)は、化合物(1a)に代えて化合物(M2a)を用いることにより、製造法1に記載の方法に準じて製造することができる。
化合物(M2c)は、化合物(1b)に代えて化合物(M2b)を用いることにより、製造法1に記載の方法に準じて製造することができる。
Subsequently, a method for producing the compound (M2b) from the compound (M2a) and the compound (M2c) from the compound (M2b) will be described.
Compound (M2b) can be produced according to the method described in Production Method 1 by using compound (M2a) instead of compound (1a).
Compound (M2c) can be produced according to the method described in Production Method 1 by using compound (M2b) in place of compound (1b).

製造法8
化合物(M2)は、式(M8)で示される化合物(以下、化合物(M8)と記す。)と、式(R4)で示される化合物(以下、化合物(R4)と記す。)とを、塩基、又は酸の存在下で反応させ、その後、得られた化合物とヒドラジンとを反応させることにより製造することができる。

Figure 2017075161

[式中、Rは、水素原子、メチル基、又はエチル基を表し、その他の記号は前記と同じ意味を表す。]
化合物(M8)は、例えばJournal of American Chemical Society, 2012, 134(6),2906-2909、又は国際公開第2014/010990号に記載の方法に準じて製造することができる。 Manufacturing method 8
The compound (M2) includes a compound represented by the formula (M8) (hereinafter referred to as the compound (M8)) and a compound represented by the formula (R4) (hereinafter referred to as the compound (R4)) as a base. Or by reacting in the presence of an acid, and then reacting the obtained compound with hydrazine.
Figure 2017075161

[Wherein, R represents a hydrogen atom, a methyl group, or an ethyl group, and other symbols have the same meaning as described above. ]
Compound (M8) can be produced, for example, according to the method described in Journal of American Chemical Society, 2012, 134 (6), 2906-2909, or International Publication No. 2014/010990.

該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。反応に用いられる溶媒としては、例えばメタノール、エタノール等のアルコール類(以下、アルコール類と記す。)、エーテル類、非プロトン性極性溶媒、水及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物類が挙げられる。
反応に用いられる酸としては、酢酸、ギ酸等のカルボン酸類、塩酸、硫酸などの鉱酸類が挙げられる。
反応には、化合物(M8)1モルに対して、化合物(R4)が通常1〜10モルの割合、塩基が通常1〜10モルの割合、酸が通常1〜10モルの割合、ヒドラジンが通常1〜10モルの割合で用いられる。
反応温度は、通常−20℃〜150℃の範囲である。反応時間は通常0.5〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に水を加え、有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化合物(M2)を得ることができる。
The reaction is usually performed in the presence of a solvent. Examples of the solvent used in the reaction include alcohols such as methanol and ethanol (hereinafter referred to as alcohols), ethers, aprotic polar solvents, water, and mixtures thereof.
Examples of the base used in the reaction include alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide and potassium hydroxide.
Examples of the acid used for the reaction include carboxylic acids such as acetic acid and formic acid, and mineral acids such as hydrochloric acid and sulfuric acid.
In the reaction, with respect to 1 mole of the compound (M8), the compound (R4) is usually in a proportion of 1 to 10 moles, the base is usually in a proportion of 1 to 10 moles, the acid is usually in a proportion of 1 to 10 moles, and the hydrazine is usually in a proportion. Used in a proportion of 1 to 10 mol.
The reaction temperature is usually in the range of -20 ° C to 150 ° C. The reaction time is usually in the range of 0.5 to 24 hours.
After completion of the reaction, the compound (M2) can be obtained by performing post-treatment operations such as adding water to the reaction mixture, extracting with an organic solvent, and drying and concentrating the organic layer.

製造法9
化合物(M3)のうち、n=1である化合物(M3b)およびn=2である化合物(M3c)は、化合物(M3)のうちn=0である化合物(M3a)と酸化剤とを反応させることにより製造することができる。

Figure 2017075161

[式中、記号は前記と同じ意味を表す。]
化合物(M3b)は、化合物(1a)に代えて化合物(M3a)を用いることにより、製造法1に記載の方法に準じて製造することができる。
化合物(M3c)は、化合物(1b)に代えて化合物(M3b)を用いることにより、製造法1に記載の方法に準じて製造することができる。 Manufacturing method 9
Among the compounds (M3), the compound (M3b) where n = 1 and the compound (M3c) where n = 2 react the compound (M3a) where n = 0 among the compounds (M3) and an oxidizing agent. Can be manufactured.
Figure 2017075161

[Wherein the symbols have the same meaning as described above. ]
Compound (M3b) can be produced according to the method described in Production Method 1 by using compound (M3a) instead of compound (1a).
Compound (M3c) can be produced according to the method described in Production Method 1 by using compound (M3b) instead of compound (1b).

製造法10
化合物(M3)のうち、V2が塩素原子又は臭素原子である化合物(M3d)、及びV2がメチルスルホニル基である化合物(M3e)は、下記の方法に従って製造することができる。

Figure 2017075161

[式中、V4は塩素原子又は臭素原子を表し、その他の記号は前記と同じ意味を表す。] Manufacturing method 10
Among the compounds (M3), a compound (M3d) in which V 2 is a chlorine atom or a bromine atom and a compound (M3e) in which V 2 is a methylsulfonyl group can be produced according to the following method.
Figure 2017075161

[Wherein, V 4 represents a chlorine atom or a bromine atom, and other symbols have the same meaning as described above. ]

まず、化合物(M2)から化合物(M3d)を製造する方法について記載する。
化合物(M3d)は、化合物(M2)とハロゲン化剤とを反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。反応に用いられる溶媒として、芳香族炭化水素類が挙げられる。
反応に用いられるハロゲン化剤として、オキシ塩化リン、オキシ臭化リン等が挙げられる。
該反応は、必要に応じて触媒を加えてもよい。反応に用いられる触媒として、DMF等が挙げられる。
反応には、化合物(M2)1モルに対して、ハロゲン化剤が通常1〜10モルの割合、触媒が通常0.01〜0.1モルの割合で用いられる。また該反応において、オキシ塩化リンは、溶媒として用いることもできる。
反応温度は、通常−20℃〜150℃の範囲である。反応時間は通常0.5〜24時間の範囲である。
反応終了後は、過剰のハロゲン化剤を減圧留去した後に水を加え、得られた混合物を有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化合物(M3d)を得ることができる。
First, a method for producing the compound (M3d) from the compound (M2) will be described.
Compound (M3d) can be produced by reacting compound (M2) with a halogenating agent.
The reaction is usually performed in the presence of a solvent. Aromatic hydrocarbons are mentioned as a solvent used for reaction.
Examples of the halogenating agent used in the reaction include phosphorus oxychloride and phosphorus oxybromide.
In the reaction, a catalyst may be added as necessary. Examples of the catalyst used for the reaction include DMF.
In the reaction, with respect to 1 mol of the compound (M2), the halogenating agent is usually used in a proportion of 1 to 10 mol, and the catalyst is usually used in a proportion of 0.01 to 0.1 mol. In the reaction, phosphorus oxychloride can also be used as a solvent.
The reaction temperature is usually in the range of -20 ° C to 150 ° C. The reaction time is usually in the range of 0.5 to 24 hours.
After completion of the reaction, the excess halogenating agent is distilled off under reduced pressure, water is added, and the resulting mixture is extracted with an organic solvent, and the organic layer is dried and concentrated. M3d) can be obtained.

続いて、化合物(M3d)から化合物(M3e)を製造する方法について記載する。
化合物(M3e)は、化合物(M3d)とメタンスルフィン酸ナトリウムとを反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。反応に用いられる溶媒として、非プロトン性極性溶媒が挙げられる。
該反応は、必要に応じて触媒を加えてもよい。反応に用いられる触媒として、塩化テトラブチルアンモニウム等の4級アンモニウム塩等が挙げられる。
反応には、化合物(M3d)1モルに対して、メタンスルフィン酸ナトリウムが通常1〜10モルの割合、触媒が通常0.01〜0.5モルの割合で用いられる。
反応温度は、通常−20℃〜150℃の範囲である。反応時間は通常0.5〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に水を加え、有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化合物(M3e)を得ることができる。
Subsequently, a method for producing the compound (M3e) from the compound (M3d) will be described.
Compound (M3e) can be produced by reacting compound (M3d) with sodium methanesulfinate.
The reaction is usually performed in the presence of a solvent. Examples of the solvent used for the reaction include aprotic polar solvents.
In the reaction, a catalyst may be added as necessary. Examples of the catalyst used for the reaction include quaternary ammonium salts such as tetrabutylammonium chloride.
In the reaction, with respect to 1 mol of the compound (M3d), sodium methanesulfinate is usually used in a proportion of 1 to 10 mol, and the catalyst is usually used in a proportion of 0.01 to 0.5 mol.
The reaction temperature is usually in the range of -20 ° C to 150 ° C. The reaction time is usually in the range of 0.5 to 24 hours.
After completion of the reaction, the compound (M3e) can be obtained by performing post-treatment operations such as adding water to the reaction mixture, extracting with an organic solvent, and drying and concentrating the organic layer.

製造法11
化合物(M4)は、例えば下記の方法に従って製造することができる。

Figure 2017075161

[式中、Rxはメチル基又はエチル基を表し、その他の記号は前記と同じ意味を表す。]
化合物(M10)は、例えば米国特許出願公開第2010/0261727号明細書に記載の方法に準じて製造することができる。 Manufacturing method 11
Compound (M4) can be produced, for example, according to the following method.
Figure 2017075161

[Wherein R x represents a methyl group or an ethyl group, and other symbols represent the same meaning as described above. ]
Compound (M10) can be produced, for example, according to the method described in US Patent Application Publication No. 2010/0261727.

まず、式(M9)で示される化合物(以下、化合物(M9)と記す。)を製造する方法について記載する。
化合物(M9)は、化合物(M6)に代えて式(M10)で示される化合物(以下、化合物(M10)と記す。)を用い、製造法6に記載の方法に準じて製造することができる。
First, a method for producing a compound represented by formula (M9) (hereinafter referred to as compound (M9)) will be described.
Compound (M9) can be produced according to the method described in production method 6 using the compound represented by formula (M10) (hereinafter referred to as compound (M10)) instead of compound (M6). .

続いて、化合物(M9)から化合物(M4)を製造する方法について記載する。
化合物(M4)は、化合物(M9)を酸の存在下で反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。反応に用いられる溶媒としては、例えば芳香族炭化水素類、アルコール類、酢酸、水及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる酸としては、塩酸等の鉱酸類が挙げられる。
反応には、化合物(M9)1モルに対して、酸が通常0.1〜10モルの割合で用いられる。該反応は、鉱酸類を溶媒として用いることもできる。
反応温度は、通常−20℃〜150℃の範囲である。反応時間は通常0.1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に加え、有機溶媒で抽出し、有機層を濃縮する;反応混合物を水に加えて生じた固体を濾過により集める;又は、反応混合物中に生成した固体を濾過により集めることにより化合物(M4)を得ることができる。
Then, it describes about the method of manufacturing a compound (M4) from a compound (M9).
Compound (M4) can be produced by reacting compound (M9) in the presence of an acid.
The reaction is usually performed in the presence of a solvent. Examples of the solvent used for the reaction include aromatic hydrocarbons, alcohols, acetic acid, water, and mixtures thereof.
Examples of the acid used for the reaction include mineral acids such as hydrochloric acid.
For the reaction, the acid is usually used at a ratio of 0.1 to 10 mol per 1 mol of the compound (M9). In the reaction, mineral acids can also be used as a solvent.
The reaction temperature is usually in the range of -20 ° C to 150 ° C. The reaction time is usually in the range of 0.1 to 24 hours.
After completion of the reaction, the reaction mixture is added to water, extracted with an organic solvent, and the organic layer is concentrated; the reaction mixture is added to water and the resulting solid is collected by filtration; or the solid formed in the reaction mixture is filtered. The compound (M4) can be obtained by collecting by

製造法12
化合物(M8)において、n=0である化合物(M8a)、n=1である化合物(M8b)、及びn=2である化合物(M8c)は、例えば下記の方法に従って製造することができる。

Figure 2017075161

[式中、記号は前記と同じ意味を表す。]
化合物(M11)は、公知の化合物であるか、公知の方法、例えば国際公開第2014/010990号記載の方法に準じて製造することができる。 Production method 12
In compound (M8), compound (M8a) where n = 0, compound (M8b) where n = 1, and compound (M8c) where n = 2 can be produced, for example, according to the following method.
Figure 2017075161

[Wherein the symbols have the same meaning as described above. ]
Compound (M11) is a known compound, or can be produced according to a known method, for example, the method described in International Publication No. 2014/010990.

まず、式(M11)で示される化合物(以下、化合物(M11)と記す。)から、化合物(M8a)を製造する方法について記載する。
化合物(M8a)は、化合物(M1)に代えて化合物(M11)を用いることにより、製造法2に記載の方法に準じて製造することができる。
First, a method for producing the compound (M8a) from the compound represented by the formula (M11) (hereinafter referred to as the compound (M11)) will be described.
Compound (M8a) can be produced according to the method described in Production Method 2 by using compound (M11) instead of compound (M1).

続いて、化合物(M8a)から化合物(M8b)、及び化合物(M8b)から化合物(M8c)を製造する方法について記載する。
化合物(M8b)は、化合物(1a)に代えて化合物(M8a)用いることにより、製造法1に記載の方法に準じて製造することができる。
化合物(M8c)は、化合物(1b)に代えて化合物(M8b)を用いることにより、製造法1に記載の方法に準じて製造することができる。
Subsequently, a method for producing a compound (M8b) from the compound (M8a) and a compound (M8c) from the compound (M8b) will be described.
Compound (M8b) can be produced according to the method described in Production Method 1 by using compound (M8a) instead of compound (1a).
Compound (M8c) can be produced according to the method described in Production Method 1 by using compound (M8b) instead of compound (1b).

製造法13
式(N11)で示されるNオキシド化合物(以下、Nオキシド化合物(N11)と記す。)、式(N12)で示されるNオキシド化合物(以下、Nオキシド化合物(N12)と記す。)、式(N13)で示されるNオキシド化合物(以下、Nオキシド化合物(N13)と記す。)、は、式(1dN)で示される本ピリダジン化合物(以下、本ピリダジン化合物(1dN)と記す。)と酸化剤とを反応させることにより製造することができる。

Figure 2017075161

[式中、記号は前記と同じ意味を表す。]
該反応は、化合物(1a)に代えて本ピリダジン化合物(1dN)を用い、酸化剤を本ピリダジン化合物(1dN)1モルに対して1.5〜20モルの割合で用いること以外は製造法1に記載の方法に準じて実施することができる。 Production method 13
N oxide compound represented by formula (N11) (hereinafter referred to as N oxide compound (N11)), N oxide compound represented by formula (N12) (hereinafter referred to as N oxide compound (N12)), formula (N The N oxide compound represented by N13) (hereinafter referred to as N oxide compound (N13)) is a pyridazine compound represented by formula (1dN) (hereinafter referred to as present pyridazine compound (1dN)) and an oxidizing agent. It can manufacture by making these react.
Figure 2017075161

[Wherein the symbols have the same meaning as described above. ]
In this reaction, the present pyridazine compound (1dN) is used in place of the compound (1a), and the production method 1 except that the oxidizing agent is used at a ratio of 1.5 to 20 mol with respect to 1 mol of the present pyridazine compound (1dN). It can implement according to the method as described in.

製造法14
式(N15)で示されるNオキシド化合物(以下、Nオキシド化合物(N15)と記す。)は、式(1eN)で示される本ピリダジン化合物(以下、本ピリダジン化合物(1eN)と記す。)と酸化剤とを反応させることにより製造することができる。

Figure 2017075161

[式中、記号は前記と同じ意味を表す。]
該反応は、本ピリダジン化合物(1dN)に代えて本ピリダジン化合物(1eN)を用い、製造法13に記載の方法に準じて実施することができる。 Manufacturing method 14
The N oxide compound represented by the formula (N15) (hereinafter referred to as N oxide compound (N15)) is oxidized with the pyridazine compound represented by formula (1eN) (hereinafter referred to as present pyridazine compound (1eN)). It can manufacture by making an agent react.
Figure 2017075161

[Wherein the symbols have the same meaning as described above. ]
This reaction can be carried out according to the method described in Production Method 13, using this pyridazine compound (1eN) instead of this pyridazine compound (1dN).

製造法15
Nオキシド化合物は、例えば下記の合成法に従って製造することができる。

Figure 2017075161

[式中、記号は前記と同じ意味を表す。]
はじめに、式(M3N)で示される化合物(以下、化合物(M3N)と記す。)を製造する方法について記載する。化合物(M3N)は、式(M3f)で示される化合物(以下、化合物(M3f)と記す。)と酸化剤とを反応させることにより製造することができる。
該反応は、本ピリダジン化合物(1dN)に代えて化合物(M3f)を用いることにより、製造法13に記載の方法に準じて実施することができる。
続いて、Nオキシド化合物(1−N)の製造する方法について記載する。Nオキシド化合物(1−N)は、化合物(M3N)と式(R3N)で示される化合物(以下、化合物(R3N)と記すとを塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。
該反応は、化合物(M3)に代えて化合物(M3N)を用い、化合物(R3)に代えて化合物(R3N)を用いることにより、製造法4に記載の方法に準じて実施することができる。 Production method 15
The N oxide compound can be produced, for example, according to the following synthesis method.
Figure 2017075161

[Wherein the symbols have the same meaning as described above. ]
First, a method for producing a compound represented by the formula (M3N) (hereinafter referred to as a compound (M3N)) will be described. Compound (M3N) can be produced by reacting a compound represented by the formula (M3f) (hereinafter referred to as compound (M3f)) with an oxidizing agent.
This reaction can be carried out according to the method described in Production Method 13 by using compound (M3f) in place of the present pyridazine compound (1dN).
Then, it describes about the manufacturing method of N oxide compound (1-N). The N oxide compound (1-N) can be produced by reacting the compound (M3N) with a compound represented by the formula (R3N) (hereinafter referred to as the compound (R3N)) in the presence of a base.
This reaction can be carried out according to the method described in Production Method 4, using compound (M3N) instead of compound (M3) and compound (R3N) instead of compound (R3).

次に、本ピリダジン化合物の具体例を以下に示す。   Next, specific examples of the pyridazine compound are shown below.

式(1−1)

Figure 2017075161
において、R2及びR3が水素原子であり、R1、R4、n、R51、R52、及びR53が[表1]〜[表10]に記載の組み合わせである本ピリダジン化合物(以下、化合物群SX1と記す)。 Formula (1-1)
Figure 2017075161
Wherein R 2 and R 3 are hydrogen atoms, and R 1 , R 4 , n, R 51 , R 52 , and R 53 are the combinations described in [Table 1] to [Table 10] ( Hereinafter referred to as compound group SX1).

[表1]

Figure 2017075161
[Table 1]
Figure 2017075161

[表2]

Figure 2017075161
[Table 2]
Figure 2017075161

[表3]

Figure 2017075161
[Table 3]
Figure 2017075161

[表4]

Figure 2017075161
[Table 4]
Figure 2017075161

[表5]

Figure 2017075161
[Table 5]
Figure 2017075161

[表6]

Figure 2017075161
[Table 6]
Figure 2017075161

[表7]

Figure 2017075161
[Table 7]
Figure 2017075161

[表8]

Figure 2017075161
[Table 8]
Figure 2017075161

[表9]

Figure 2017075161
[Table 9]
Figure 2017075161

[表10]

Figure 2017075161
[Table 10]
Figure 2017075161

式(1−1)において、R2がメチル基であり、R3が水素原子であり、R1、R4、n、R51、R52、及びR53が[表1]〜[表10]に記載の組み合わせである本ピリダジン化合物(以下、化合物群SX2と記す)。
式(1−1)において、R2がトリフルオロメチル基であり、R3が水素原子であり、R1、R4、n、R51、R52、及びR53が[表1]〜[表10]に記載の組み合わせである本ピリダジン化合物(以下、化合物群SX3と記す)。
式(1−1)において、R2が塩素原子であり、R3が水素原子であり、R1、R4、n、R51、R52、及びR53が[表1]〜[表10]に記載の組み合わせである本ピリダジン化合物(以下、化合物群SX4と記す)。
式(1−1)において、R2がフッ素原子であり、R3が水素原子であり、R1、R4、n、R51、R52、及びR53が[表1]〜[表10]に記載の組み合わせである本ピリダジン化合物(以下、化合物群SX5と記す)。
式(1−1)において、R2が水素原子であり、R3がメチル基であり、R1、R4、n、R51、R52、及びR53が[表1]〜[表10]に記載の組み合わせである本ピリダジン化合物(以下、化合物群SX6と記す)。
式(1−1)において、R2が塩素原子であり、R3がトリフルオロメチル基であり、R1、R4、n、R51、R52、及びR53が[表1]〜[表10]に記載の組み合わせである本ピリダジン化合物(以下、化合物群SX7と記す)。
式(1−1)において、R2が水素原子であり、R3が塩素原子であり、R1、R4、n、R51、R52、及びR53が[表1]〜[表10]に記載の組み合わせである本ピリダジン化合物(以下、化合物群SX8と記す)。
式(1−1)において、R2が水素原子であり、R3がフッ素原子であり、R1、R4、n、R51、R52、及びR53が[表1]〜[表10]に記載の組み合わせである本ピリダジン化合物(以下、化合物群SX9と記す)。
In Formula (1-1), R 2 is a methyl group, R 3 is a hydrogen atom, and R 1 , R 4 , n, R 51 , R 52 , and R 53 are [Table 1] to [Table 10]. ] The pyridazine compound (hereinafter referred to as compound group SX2).
In Formula (1-1), R 2 is a trifluoromethyl group, R 3 is a hydrogen atom, and R 1 , R 4 , n, R 51 , R 52 , and R 53 are [Table 1] to [ The pyridazine compounds (hereinafter referred to as compound group SX3), which are combinations described in Table 10].
In Formula (1-1), R 2 is a chlorine atom, R 3 is a hydrogen atom, and R 1 , R 4 , n, R 51 , R 52 , and R 53 are [Table 1] to [Table 10]. The pyridazine compound (hereinafter referred to as compound group SX4).
In Formula (1-1), R 2 is a fluorine atom, R 3 is a hydrogen atom, and R 1 , R 4 , n, R 51 , R 52 , and R 53 are [Table 1] to [Table 10]. The pyridazine compound (hereinafter referred to as compound group SX5).
In Formula (1-1), R 2 is a hydrogen atom, R 3 is a methyl group, and R 1 , R 4 , n, R 51 , R 52 , and R 53 are [Table 1] to [Table 10]. ] The pyridazine compound (hereinafter referred to as compound group SX6).
In Formula (1-1), R 2 is a chlorine atom, R 3 is a trifluoromethyl group, and R 1 , R 4 , n, R 51 , R 52 , and R 53 are represented by [Table 1] to [Table 1] The present pyridazine compounds (hereinafter referred to as compound group SX7), which are combinations described in Table 10].
In Formula (1-1), R 2 is a hydrogen atom, R 3 is a chlorine atom, and R 1 , R 4 , n, R 51 , R 52 , and R 53 are [Table 1] to [Table 10]. The pyridazine compound (hereinafter referred to as compound group SX8).
In Formula (1-1), R 2 is a hydrogen atom, R 3 is a fluorine atom, and R 1 , R 4 , n, R 51 , R 52 , and R 53 are [Table 1] to [Table 10]. The pyridazine compound (hereinafter referred to as compound group SX9).

式(1−2)

Figure 2017075161

において、R2及びR3が水素原子であり、R6が水素原子であり、R1、R4、n、R51、R52、及びR53が[表1]〜[表10]に記載の組み合わせである本ピリダジン化合物(以下、化合物群SX10と記す)。 Formula (1-2)
Figure 2017075161

R 2 and R 3 are hydrogen atoms, R 6 is a hydrogen atom, and R 1 , R 4 , n, R 51 , R 52 , and R 53 are described in [Table 1] to [Table 10]. This pyridazine compound (hereinafter referred to as compound group SX10).

式(1−2)において、R2がメチル基であり、R3が水素原子であり、R6が水素原子であり、R1、R4、n、R51、R52、及びR53が[表1]〜[表10]に記載の組み合わせである本ピリダジン化合物(以下、化合物群SX11と記す)。
式(1−1)において、R2がトリフルオロメチル基であり、R3が水素原子であり、R6が水素原子であり、R1、R4、n、R51、R52、及びR53が[表1]〜[表10]に記載の組み合わせである本ピリダジン化合物(以下、化合物群SX12と記す)。
式(1−2)において、R2が塩素原子であり、R3が水素原子であり、R6が水素原子であり、R1、R4、n、R51、R52、及びR53が[表1]〜[表10]に記載の組み合わせである本ピリダジン化合物(以下、化合物群SX13と記す)。
式(1−2)において、R2がフッ素原子であり、R3が水素原子であり、R6が水素原子であり、R1、R4、n、R51、R52、及びR53が[表1]〜[表10]に記載の組み合わせである本ピリダジン化合物(以下、化合物群SX14と記す)。
式(1−2)において、R2が水素原子であり、R3がメチル基であり、R6が水素原子であり、R1、R4、n、R51、R52、及びR53が[表1]〜[表10]に記載の組み合わせである本ピリダジン化合物(以下、化合物群SX15と記す)。
式(1−2)において、R2が塩素原子であり、R3がトリフルオロメチル基であり、R6が水素原子であり、R1、R4、n、R51、R52、及びR53が[表1]〜[表10]に記載の組み合わせである本ピリダジン化合物(以下、化合物群SX16と記す)。
式(1−2)において、R2が水素原子であり、R3が塩素原子であり、R6が水素原子であり、R1、R4、n、R51、R52、及びR53が[表1]〜[表10]に記載の組み合わせである本ピリダジン化合物(以下、化合物群SX17と記す)。
式(1−2)において、R2が水素原子であり、R3がフッ素原子であり、R6が水素原子であり、R1、R4、n、R51、R52、及びR53が[表1]〜[表10]に記載の組み合わせである本ピリダジン化合物(以下、化合物群SX18と記す)。
In Formula (1-2), R 2 is a methyl group, R 3 is a hydrogen atom, R 6 is a hydrogen atom, and R 1 , R 4 , n, R 51 , R 52 , and R 53 are This pyridazine compound (hereinafter referred to as compound group SX11) which is a combination described in [Table 1] to [Table 10].
In formula (1-1), R 2 is a trifluoromethyl group, R 3 is a hydrogen atom, R 6 is a hydrogen atom, R 1 , R 4 , n, R 51 , R 52 , and R The present pyridazine compounds in which 53 is a combination described in [Table 1] to [Table 10] (hereinafter referred to as compound group SX12).
In Formula (1-2), R 2 is a chlorine atom, R 3 is a hydrogen atom, R 6 is a hydrogen atom, and R 1 , R 4 , n, R 51 , R 52 , and R 53 are This pyridazine compound (hereinafter referred to as compound group SX13) which is a combination described in [Table 1] to [Table 10].
In Formula (1-2), R 2 is a fluorine atom, R 3 is a hydrogen atom, R 6 is a hydrogen atom, and R 1 , R 4 , n, R 51 , R 52 , and R 53 are This pyridazine compound (hereinafter referred to as compound group SX14) which is a combination described in [Table 1] to [Table 10].
In Formula (1-2), R 2 is a hydrogen atom, R 3 is a methyl group, R 6 is a hydrogen atom, and R 1 , R 4 , n, R 51 , R 52 , and R 53 are This pyridazine compound (hereinafter referred to as compound group SX15) which is a combination described in [Table 1] to [Table 10].
In the formula (1-2), R 2 is a chlorine atom, R 3 is a trifluoromethyl group, R 6 is a hydrogen atom, R 1 , R 4 , n, R 51 , R 52 , and R The present pyridazine compounds in which 53 is a combination described in [Table 1] to [Table 10] (hereinafter referred to as compound group SX16).
In formula (1-2), R 2 is a hydrogen atom, R 3 is a chlorine atom, R 6 is a hydrogen atom, and R 1 , R 4 , n, R 51 , R 52 , and R 53 are This pyridazine compound (hereinafter referred to as compound group SX17) which is a combination described in [Table 1] to [Table 10].
In Formula (1-2), R 2 is a hydrogen atom, R 3 is a fluorine atom, R 6 is a hydrogen atom, and R 1 , R 4 , n, R 51 , R 52 , and R 53 are This pyridazine compound (hereinafter referred to as compound group SX18) which is a combination described in [Table 1] to [Table 10].

式(1−2)において、R2がメチル基であり、R3が水素原子であり、R6がフッ素原子であり、R1、R4、n、R51、R52、及びR53が[表1]〜[表10]に記載の組み合わせである本ピリダジン化合物(以下、化合物群SX19と記す)。
式(1−1)において、R2がトリフルオロメチル基であり、R3が水素原子であり、R6がフッ素原子であり、R1、R4、n、R51、R52、及びR53が[表1]〜[表10]に記載の組み合わせである本ピリダジン化合物(以下、化合物群SX20と記す)。
式(1−2)において、R2が塩素原子であり、R3が水素原子であり、R6がフッ素原子であり、R1、R4、n、R51、R52、及びR53が[表1]〜[表10]に記載の組み合わせである本ピリダジン化合物(以下、化合物群SX21と記す)。
式(1−2)において、R2がフッ素原子であり、R3が水素原子であり、R6がフッ素原子であり、R1、R4、n、R51、R52、及びR53が[表1]〜[表10]に記載の組み合わせである本ピリダジン化合物(以下、化合物群SX22と記す)。
式(1−2)において、R2が水素原子であり、R3がメチル基であり、R6がフッ素原子であり、R1、R4、n、R51、R52、及びR53が[表1]〜[表10]に記載の組み合わせである本ピリダジン化合物(以下、化合物群SX23と記す)。
式(1−2)において、R2が塩素原子であり、R3がトリフルオロメチル基であり、R6がフッ素原子であり、R1、R4、n、R51、R52、及びR53が[表1]〜[表10]に記載の組み合わせである本ピリダジン化合物(以下、化合物群SX24と記す)。
式(1−2)において、R2が水素原子であり、R3が塩素原子であり、R6がフッ素原子であり、R1、R4、n、R51、R52、及びR53が[表1]〜[表10]に記載の組み合わせである本ピリダジン化合物(以下、化合物群SX25と記す)。
式(1−2)において、R2が水素原子であり、R3がフッ素原子であり、R6がフッ素原子であり、R1、R4、n、R51、R52、及びR53が[表1]〜[表10]に記載の組み合わせである本ピリダジン化合物(以下、化合物群SX26と記す)。
In Formula (1-2), R 2 is a methyl group, R 3 is a hydrogen atom, R 6 is a fluorine atom, and R 1 , R 4 , n, R 51 , R 52 , and R 53 are This pyridazine compound (hereinafter referred to as compound group SX19) which is a combination described in [Table 1] to [Table 10].
In formula (1-1), R 2 is a trifluoromethyl group, R 3 is a hydrogen atom, R 6 is a fluorine atom, R 1 , R 4 , n, R 51 , R 52 , and R The present pyridazine compounds in which 53 is a combination described in [Table 1] to [Table 10] (hereinafter referred to as compound group SX20).
In Formula (1-2), R 2 is a chlorine atom, R 3 is a hydrogen atom, R 6 is a fluorine atom, and R 1 , R 4 , n, R 51 , R 52 , and R 53 are This pyridazine compound (hereinafter referred to as compound group SX21) which is a combination described in [Table 1] to [Table 10].
In Formula (1-2), R 2 is a fluorine atom, R 3 is a hydrogen atom, R 6 is a fluorine atom, and R 1 , R 4 , n, R 51 , R 52 , and R 53 are This pyridazine compound (hereinafter referred to as compound group SX22) which is a combination described in [Table 1] to [Table 10].
In Formula (1-2), R 2 is a hydrogen atom, R 3 is a methyl group, R 6 is a fluorine atom, and R 1 , R 4 , n, R 51 , R 52 , and R 53 are This pyridazine compound (hereinafter referred to as compound group SX23) which is a combination described in [Table 1] to [Table 10].
In Formula (1-2), R 2 is a chlorine atom, R 3 is a trifluoromethyl group, R 6 is a fluorine atom, R 1 , R 4 , n, R 51 , R 52 , and R The present pyridazine compound 53 is a combination described in [Table 1] to [Table 10] (hereinafter referred to as compound group SX24).
In the formula (1-2), R 2 is a hydrogen atom, R 3 is a chlorine atom, R 6 is a fluorine atom, and R 1 , R 4 , n, R 51 , R 52 , and R 53 are This pyridazine compound (hereinafter referred to as compound group SX25) which is a combination described in [Table 1] to [Table 10].
In Formula (1-2), R 2 is a hydrogen atom, R 3 is a fluorine atom, R 6 is a fluorine atom, and R 1 , R 4 , n, R 51 , R 52 , and R 53 are This pyridazine compound (hereinafter referred to as compound group SX26), which is a combination described in [Table 1] to [Table 10].

次に、Nオキシド化合物の具体例を以下に示す。   Next, specific examples of the N oxide compound are shown below.

式(1−N11)

Figure 2017075161

において、R2N及びR3Nが水素原子であり、R1N、R4N、R51N、R52N、及びR53Nが[表11]〜[表16]に記載の組み合わせである化合物(以下、化合物群SX27と記す)。 Formula (1-N11)
Figure 2017075161

In, R 2N and R 3N are hydrogen atoms, R 1N, R 4N, R 51N, R 52N, and R 53N is Table 11] to compound a combination according to Table 16] (hereinafter, compound group SX27).

[表11]

Figure 2017075161
[Table 11]
Figure 2017075161

[表12]

Figure 2017075161
[Table 12]
Figure 2017075161

[表13]

Figure 2017075161
[Table 13]
Figure 2017075161

[表14]

Figure 2017075161
[Table 14]
Figure 2017075161

[表15]

Figure 2017075161
[Table 15]
Figure 2017075161

[表16]

Figure 2017075161
[Table 16]
Figure 2017075161

式(1−N11)において、R2Nがメチル基であり、R3Nが水素原子であり、R1N、R4N、R51N、R52N、及びR53Nが[表11]〜[表16]に記載の組み合わせである化合物(以下、化合物群SX28と記す)。
式(1−N11)において、R2Nがトリフルオロメチル基であり、R3Nが水素原子であり、R1N、R4N、R51N、R52N、及びR53Nが[表11]〜[表16]に記載の組み合わせである化合物(以下、化合物群SX29と記す)。
式(1−N11)において、R2Nが塩素原子であり、R3Nが水素原子であり、R1N、R4N、R51N、R52N、及びR53Nが[表11]〜[表16]に記載の組み合わせである化合物(以下、化合物群SX30と記す)。
式(1−N11)において、R2Nがフッ素原子であり、R3Nが水素原子であり、R1N、R4N、R51N、R52N、及びR53Nが[表11]〜[表16]に記載の組み合わせである化合物(以下、化合物群SX31と記す)。
式(1−N11)において、R2Nが水素原子であり、R3Nがメチル基であり、R1N、R4N、R51N、R52N、及びR53Nが[表11]〜[表16]に記載の組み合わせである化合物(以下、化合物群SX32と記す)。
式(1−N11)において、R2Nが塩素原子であり、R3Nがトリフルオロメチル基であり、R1N、R4N、R51N、R52N、及びR53Nが[表11]〜[表16]に記載の組み合わせである化合物(以下、化合物群SX33と記す)。
式(1−N11)において、R2Nが水素原子であり、R3Nが塩素原子であり、R1N、R4N、R51N、R52N、及びR53Nが[表11]〜[表16]に記載の組み合わせである化合物(以下、化合物群SX34と記す)。
式(1−N11)において、R2Nが水素原子であり、R3Nがフッ素原子であり、R1N、R4N、R51N、R52N、及びR53Nが[表11]〜[表16]に記載の組み合わせである化合物(以下、化合物群SX35と記す)。
In the formula (1-N11), R 2N is a methyl group, R 3N represents a hydrogen atom, R 1N, R 4N, R 51N, R 52N, and R 53N are in Table 11] to [Table 16] The compound which is a combination of the description (hereinafter referred to as compound group SX28).
In the formula (1-N11), R 2N is trifluoromethyl group, R 3N represents a hydrogen atom, R 1N, R 4N, R 51N, R 52N, and R 53N is Table 11] to [Table 16 ] The compound which is a combination of description (henceforth a compound group SX29).
In the formula (1-N11), R 2N is a chlorine atom, R 3N represents a hydrogen atom, R 1N, R 4N, R 51N, R 52N, and R 53N are in Table 11] to [Table 16] The compound which is a combination of the description (hereinafter referred to as compound group SX30).
In the formula (1-N11), R 2N is a fluorine atom, R 3N represents a hydrogen atom, R 1N, R 4N, R 51N, R 52N, and R 53N are in Table 11] to [Table 16] The compound which is a description combination (hereinafter, referred to as a compound group SX31).
In the formula (1-N11), R 2N represents a hydrogen atom, R 3N is a methyl group, R 1N, R 4N, R 51N, R 52N, and R 53N are in Table 11] to [Table 16] A compound which is a combination of the descriptions (hereinafter referred to as compound group SX32).
In the formula (1-N11), R 2N is a chlorine atom, R 3N is trifluoromethyl group, R 1N, R 4N, R 51N, R 52N, and R 53N is Table 11] to [Table 16 ] The compound which is a combination of description (henceforth the compound group SX33).
In the formula (1-N11), R 2N represents a hydrogen atom, R 3N is a chlorine atom, R 1N, R 4N, R 51N, R 52N, and R 53N are in Table 11] to [Table 16] The compound which is a combination of the description (hereinafter referred to as compound group SX34).
In the formula (1-N11), R 2N represents a hydrogen atom, R 3N is a fluorine atom, R 1N, R 4N, R 51N, R 52N, and R 53N are in Table 11] to [Table 16] The compound which is a combination of the description (hereinafter referred to as compound group SX35).

式(1−N12)

Figure 2017075161

において、R2N及びR3Nが水素原子であり、R1N、R4N、R51N、R52N、及びR53Nが[表11]〜[表16]に記載の組み合わせである化合物(以下、化合物群SX36と記す)。 Formula (1-N12)
Figure 2017075161

In, R 2N and R 3N are hydrogen atoms, R 1N, R 4N, R 51N, R 52N, and R 53N is Table 11] to compound a combination according to Table 16] (hereinafter, compound group SX36).

式(1−N12)において、R2Nがメチル基であり、R3Nが水素原子であり、R1N、R4N、R51N、R52N、及びR53Nが[表11]〜[表16]に記載の組み合わせである化合物(以下、化合物群SX37と記す)。
式(1−N12)において、R2Nがトリフルオロメチル基であり、R3Nが水素原子であり、R1N、R4N、R51N、R52N、及びR53Nが[表11]〜[表16]に記載の組み合わせである化合物(以下、化合物群SX38と記す)。
式(1−N12)において、R2Nが塩素原子であり、R3Nが水素原子であり、R1N、R4N、R51N、R52N、及びR53Nが[表11]〜[表16]に記載の組み合わせである化合物(以下、化合物群SX39と記す)。
式(1−N12)において、R2Nがフッ素原子であり、R3Nが水素原子であり、R1N、R4N、R51N、R52N、及びR53Nが[表11]〜[表16]に記載の組み合わせである化合物(以下、化合物群SX40と記す)。
式(1−N12)において、R2Nが水素原子であり、R3Nがメチル基であり、R1N、R4N、R51N、R52N、及びR53Nが[表11]〜[表16]に記載の組み合わせである化合物(以下、化合物群SX41と記す)。
式(1−N12)において、R2Nが塩素原子であり、R3Nがトリフルオロメチル基であり、R1N、R4N、R51N、R52N、及びR53Nが[表11]〜[表16]に記載の組み合わせである化合物(以下、化合物群SX42と記す)。
式(1−N12)において、R2Nが水素原子であり、R3Nが塩素原子であり、R1N、R4N、R51N、R52N、及びR53Nが[表11]〜[表16]に記載の組み合わせである化合物(以下、化合物群SX43と記す)。
式(1−N12)において、R2Nが水素原子であり、R3Nがフッ素原子であり、R1N、R4N、R51N、R52N、及びR53Nが[表11]〜[表16]に記載の組み合わせである化合物(以下、化合物群SX44と記す)。
In the formula (1-N12), R 2N is a methyl group, R 3N represents a hydrogen atom, R 1N, R 4N, R 51N, R 52N, and R 53N are in Table 11] to [Table 16] A compound which is a combination of the descriptions (hereinafter referred to as compound group SX37).
In the formula (1-N12), R 2N is trifluoromethyl group, R 3N represents a hydrogen atom, R 1N, R 4N, R 51N, R 52N, and R 53N is Table 11] to [Table 16 ] Is a combination (hereinafter referred to as compound group SX38).
In the formula (1-N12), R 2N is a chlorine atom, R 3N represents a hydrogen atom, R 1N, R 4N, R 51N, R 52N, and R 53N are in Table 11] to [Table 16] The compound which is a combination of the description (hereinafter referred to as compound group SX39).
In the formula (1-N12), R 2N is a fluorine atom, R 3N represents a hydrogen atom, R 1N, R 4N, R 51N, R 52N, and R 53N are in Table 11] to [Table 16] The compound which is a description combination (hereinafter, referred to as a compound group SX40).
In the formula (1-N12), R 2N represents a hydrogen atom, R 3N is a methyl group, R 1N, R 4N, R 51N, R 52N, and R 53N are in Table 11] to [Table 16] A compound which is a combination of the descriptions (hereinafter referred to as compound group SX41).
In the formula (1-N12), R 2N is a chlorine atom, R 3N is trifluoromethyl group, R 1N, R 4N, R 51N, R 52N, and R 53N is Table 11] to [Table 16 ] The compound which is a combination of description (henceforth compound group SX42).
In the formula (1-N12), R 2N represents a hydrogen atom, R 3N is a chlorine atom, R 1N, R 4N, R 51N, R 52N, and R 53N are in Table 11] to [Table 16] The compound which is a combination of the description (hereinafter referred to as compound group SX43).
In the formula (1-N12), R 2N represents a hydrogen atom, R 3N is a fluorine atom, R 1N, R 4N, R 51N, R 52N, and R 53N are in Table 11] to [Table 16] The compound which is a combination of the description (hereinafter referred to as compound group SX44).

式(1−N13)

Figure 2017075161

において、R2N及びR3Nが水素原子であり、R6Nが水素原子であり、R1N、R4N、R51N、R52N、及びR53Nが[表11]〜[表16]に記載の組み合わせである化合物(以下、化合物群SX45と記す)。 Formula (1-N13)
Figure 2017075161

In a R 2N and R 3N are hydrogen atom, R 6N are hydrogen atoms, R 1N, R 4N, the combination according to R 51N, R 52N, and R 53N is Table 11] to [Table 16] (Hereinafter referred to as compound group SX45).

式(1−N13)において、R2Nがメチル基であり、R3Nが水素原子であり、R6Nが水素原子であり、R1N、R4N、R51N、R52N、及びR53Nが[表11]〜[表16]に記載の組み合わせである化合物(以下、化合物群SX46と記す)。
式(1−N13)において、R2Nがトリフルオロメチル基であり、R3Nが水素原子であり、R6Nが水素原子であり、R1N、R4N、R51N、R52N、及びR53Nが[表11]〜[表16]に記載の組み合わせである化合物(以下、化合物群SX47と記す)。
式(1−N13)において、R2Nが塩素原子であり、R3Nが水素原子であり、R6Nが水素原子であり、R1N、R4N、R51N、R52N、及びR53Nが[表11]〜[表16]に記載の組み合わせである化合物(以下、化合物群SX48と記す)。
式(1−N13)において、R2Nがフッ素原子であり、R3Nが水素原子であり、R6Nが水素原子であり、R1N、R4N51N、R52N、及びR53Nが[表11]〜[表16]に記載の組み合わせである化合物(以下、化合物群SX49と記す)。
式(1−N13)において、R2Nが水素原子であり、R3Nがメチル基であり、R6Nが水素原子であり、R1N、R4N、R51N、R52N、及びR53Nが[表11]〜[表16]に記載の組み合わせである化合物(以下、化合物群SX50と記す)。
式(1−N13)において、R2Nが塩素原子であり、R3Nがトリフルオロメチル基であり、R6Nが水素原子であり、R1N、R4N、R51N、R52N、及びR53Nが[表11]〜[表16]に記載の組み合わせである化合物(以下、化合物群SX51と記す)。
式(1−N13)において、R2Nが水素原子であり、R3Nが塩素原子であり、R6Nが水素原子であり、R1N、R4N、R51N、R52N、及びR53Nが[表11]〜[表16]に記載の組み合わせである化合物(以下、化合物群SX52と記す)。
式(1−N13)において、R2Nが水素原子であり、R3Nがフッ素原子であり、R6Nが水素原子であり、R1N、R4N、R51N、R52N、及びR53Nが[表11]〜[表16]に記載の組み合わせである化合物(以下、化合物群SX53と記す)。
In the formula (1-N13), R 2N is a methyl group, R 3N represents a hydrogen atom, an R 6N are hydrogen atoms, R 1N, R 4N, R 51N, R 52N, and R 53N is Table 11] to [Table 16] are compounds (hereinafter referred to as compound group SX46).
In the formula (1-N13), R 2N is trifluoromethyl, R 3N represents a hydrogen atom, an R 6N are hydrogen atoms, R 1N, R 4N, R 51N, R 52N, and R 53N is The compound which is a combination as described in [Table 11]-[Table 16] (henceforth compound group SX47).
In the formula (1-N13), R 2N is a chlorine atom, R 3N represents a hydrogen atom, an R 6N are hydrogen atoms, R 1N, R 4N, R 51N, R 52N, and R 53N is Table 11] to [Table 16] are compounds (hereinafter referred to as compound group SX48).
In the formula (1-N13), R 2N is a fluorine atom, R 3N represents a hydrogen atom, an R 6N are hydrogen atoms, R 1N, R 4N, 51N , R 52N, and R 53N is Table 11 ] To a compound described in [Table 16] (hereinafter referred to as compound group SX49).
In the formula (1-N13), R 2N represents a hydrogen atom, R 3N represents a methyl group, an R 6N are hydrogen atoms, R 1N, R 4N, R 51N, R 52N, and R 53N is Table 11] to [Table 16] are compounds (hereinafter, referred to as compound group SX50).
In the formula (1-N13), R 2N is a chlorine atom, R 3N is trifluoromethyl group, a R 6N are hydrogen atoms, R 1N, R 4N, R 51N, R 52N, and R 53N is The compound which is a combination as described in [Table 11]-[Table 16] (henceforth a compound group SX51).
In the formula (1-N13), R 2N represents a hydrogen atom, R 3N is a chlorine atom, a R 6N are hydrogen atoms, R 1N, R 4N, R 51N, R 52N, and R 53N is Table 11] to [Table 16] are compounds (hereinafter referred to as compound group SX52).
In the formula (1-N13), R 2N represents a hydrogen atom, R 3N is a fluorine atom, a R 6N are hydrogen atoms, R 1N, R 4N, R 51N, R 52N, and R 53N is Table 11] to [Table 16] are compounds (hereinafter referred to as compound group SX53).

式(1−N13)において、R2Nがメチル基であり、R3Nが水素原子であり、R6Nがフッ素原子であり、R1N、R4N、R51N、R52N、及びR53Nが[表11]〜[表16]に記載の組み合わせである化合物(以下、化合物群SX54と記す)。
式(1−N13)において、R2Nがトリフルオロメチル基であり、R3Nが水素原子であり、R6Nがフッ素原子であり、R1N、R4N、R51N、R52N、及びR53Nが[表11]〜[表16]に記載の組み合わせである化合物(以下、化合物群SX55と記す)。
式(1−N13)において、R2Nが塩素原子であり、R3Nが水素原子であり、R6Nがフッ素原子であり、R1N、R4N、R51N、R52N、及びR53Nが[表11]〜[表16]に記載の組み合わせである化合物(以下、化合物群SX56と記す)。
式(1−N13)において、R2Nがフッ素原子であり、R3Nが水素原子であり、R6Nがフッ素原子であり、R1N、R4N、R51N、R52N、及びR53Nが[表11]〜[表16]に記載の組み合わせである化合物(以下、化合物群SX57と記す)。
式(1−N13)において、R2Nが水素原子であり、R3Nがメチル基であり、R6Nがフッ素原子であり、R1N、R4N、R51N、R52N、及びR53Nが[表11]〜[表16]に記載の組み合わせである化合物(以下、化合物群SX58と記す)。
式(1−N13)において、R2Nが塩素原子であり、R3Nがトリフルオロメチル基であり、R6Nがフッ素原子であり、R1N、R4N、R51N、R52N、及びR53Nが[表11]〜[表16]に記載の組み合わせである化合物(以下、化合物群SX59と記す)。
式(1−N13)において、R2Nが水素原子であり、R3Nが塩素原子であり、R6Nがフッ素原子であり、R1N、R4N、R51N、R52N、及びR53Nが[表11]〜[表16]に記載の組み合わせである化合物(以下、化合物群SX60と記す)。
式(1−N13)において、R2Nが水素原子であり、R3Nがフッ素原子であり、R6Nがフッ素原子であり、R1N、R4N、n、R51N、R52N、及びR53Nが[表1]〜[表10]に記載の組み合わせである化合物(以下、化合物群SX61と記す)。
In the formula (1-N13), R 2N is a methyl group, R 3N represents a hydrogen atom, an R 6N is fluorine atom, R 1N, R 4N, R 51N, R 52N, and R 53N is Table 11] to [Table 16] are compounds (hereinafter referred to as compound group SX54).
In the formula (1-N13), R 2N is trifluoromethyl group, R 3N represents a hydrogen atom, an R 6N is fluorine atom, R 1N, R 4N, R 51N, R 52N, and R 53N is The compound which is a combination as described in [Table 11]-[Table 16] (henceforth a compound group SX55).
In the formula (1-N13), R 2N is a chlorine atom, R 3N represents a hydrogen atom, an R 6N is fluorine atom, R 1N, R 4N, R 51N, R 52N, and R 53N is Table 11] to [Table 16] are compounds (hereinafter referred to as compound group SX56).
In the formula (1-N13), R 2N is a fluorine atom, R 3N represents a hydrogen atom, an R 6N is fluorine atom, R 1N, R 4N, R 51N, R 52N, and R 53N is Table 11] to [Table 16] are compounds (hereinafter referred to as compound group SX57).
In the formula (1-N13), R 2N represents a hydrogen atom, R 3N represents a methyl group, an R 6N is fluorine atom, R 1N, R 4N, R 51N, R 52N, and R 53N is Table 11] to [Table 16] are compounds (hereinafter referred to as compound group SX58).
In the formula (1-N13), R 2N is a chlorine atom, R 3N is trifluoromethyl group, a R 6N is fluorine atom, R 1N, R 4N, R 51N, R 52N, and R 53N is The compound which is a combination as described in [Table 11]-[Table 16] (henceforth a compound group SX59).
In the formula (1-N13), R 2N represents a hydrogen atom, R 3N is a chlorine atom, a R 6N is fluorine atom, R 1N, R 4N, R 51N, R 52N, and R 53N is Table 11] to [Table 16] are compounds (hereinafter referred to as compound group SX60).
In the formula (1-N13), R 2N represents a hydrogen atom, R 3N is a fluorine atom, a R 6N is fluorine atom, R 1N, R 4N, n , R 51N, R 52N, and R 53N is The compound which is a combination as described in [Table 1]-[Table 10] (henceforth a compound group SX61).

前記群(a)の化合物としては、以下亜群a−1、a−2、a−3、a−4、a−5、a−6及びa−7の化合物が挙げられる。
亜群a−1:
アセタミプリド(acetamiprid)、クロチアニジン(clothianidin)、ジノテフラン(dinotefuran)、イミダクロプリド(imidacloprid)、ニテンピラム(nitenpyram)、チアクロプリド(thiacloprid)、チアメトキサム(thiamethoxam)、フルピラジフロン(flupyradifurone)、スルホキサフロル(sulfoxaflor)、トリフルメゾピリム(triflumezopyrim)、ジクロロメソチアズ(dicloromezotiaz)及び下記式で示される化合物(CAS登録番号1689566-03-7)

Figure 2017075161
からなる、ニコチン性アセチルコリン受容体競合的モジュレーターの群。
亜群a−2:
アクリナトリン(acrinathrin)、アレスリン(allethrin)、ビフェントリン(bifenthrin)、カッパビフェントリン(kappa-bifenthrin)、ビオアレスリン(bioallethrin)、ビオレスメトリン(bioresmethrin)、シクロプロトリン(cycloprothrin)、シフルトリン(cyfluthrin)、ベータ−シフルトリン(beta-cyfluthrin)、シハロトリン(cyhalothrin)、ガンマシハロトリン(gamma-cyhalothrin)、ラムダシハロトリン(lambda-cyhalothrin)、シペルメトリン(cypermethrin)、アルファシペルメトリン(alpha-cypermethrin)、べータシペルメトリン(beta-cypermethrin)、シータシペルメトリン(theta-cypermethrin)、ゼータシペルメトリン(zeta-cypermethrin)、シグマシペルメトリン(sigma-cypermethrin)、シフェノトリン(cyphenothrin)、デルタメトリン(deltamethrin)、エンペントリン(empenthrin)、エスフェンバレレート(esfenvalerate)、エトフェンプロックス(etofenprox)、フェンプロパトリン(fenpropathrin)、フェンバレレート(fenvalerate)、フルシトリネート(flucythrinate)、フルメトリン(flumethrin)、フルバリネート(fluvalinate)、タウフルバリネート(tau-fluvalinate)、ハルフェンプロックス(halfenprox)、ヘプタフルトリン(heptafluthrin)、イミプロトリン(imiprothrin)、カデスリン(kadethrin)、メペルフルトリン(meperfluthrin)、モンフルオロトリン(momfluorothrin)、ペルメトリン(permethrin)、フェノトリン(phenothrin)、プラレトリン(prallethrin)、ピレトリン(pyrethrins)、レスメトリン(resmethrin)、シラフルオフェン(silafluofen)、テフルトリン(tefluthrin)、カッパテフルトリン(kappa-tefluthrin)、テトラメトリン(tetramethrin)、テトラメチルフルトリン(tetramethylfluthrin)、トラロメトリン(tralomethrin)、トランスフルトリン(transfluthrin)、ベンフルトリン(benfluthrin)、フルフェンプロックス(flufenoprox)、フルメスリン(flumethrin)、フラメトリン(furamethrin)、メトフルトリン(metofluthrin)、プロフルトリン(profluthrin)及びジメフルトリン(dimefluthrin)からなる、ナトリウムチャネルモジュレーターの群。
亜群a−3:
エチプロール(ethiprole)、フィプロニル(fipronil)及びフルフィプロール(flufiprole)からなるGABA作動性塩素イオンチャネルブロッカー、並びに、アフォクソラネル(afoxalaner)、フルララネル(fluralaner)、ブロフラニリド(broflanilide)及びフルキサメタミド(fluxametamide)からなるGABA作動性塩素イオンチャネルアロステリックモジュレーターの群。
亜群a−4:
クロラントラニリプロール(chlorantraniliprole)、シアントラニルプロール(cyantraniliprole)、シクラニリプロール(cycloniliprole)、フルベンジアミド(flubendiamide)、テトラニリプロール(tetraniliprole)及びシハロジアミド(cyhalodiamide)からなる、リアノジン受容体モジュレーターの群。
亜群a−5:
アラニカルブ(alanycarb)、アルジカルブ(aldicarb)、ベンダイオカルブ(bendiocarb)、ベンフラカルブ(benfuracarb)、ブトカルボキシム(butocarboxim)、ブトキシカルボキシム(butoxycarboxim)、カルバリル(carbaryl:NAC)、カルボフラン(carbofuran)、カルボスルファン(carbosulfan)、エチオフェンカルブ(ethiofencarb)、フェノブカルブ(fenobucarb:BPMC)、ホルメタネート(formetanate)、フラチオカルブ(furathiocarb)、イソプロカルブ(isoprocarb:MIPC)、メチオカルブ(methiocarb)、メソミル(methomyl)、メトルカルブ(metolcarb:MTMC)、オキサミル(oxamyl)、ピリミカーブ(pirimicarb)、プロポキスル(propoxur:PHC)、チオジカルブ(thiodicarb)、チオファノックス(thiofanox)、トリアザメート(triazamate)、トリメタカルブ(trimethacarb)、XMC及びキシリルカルブ(xylylcarb:MPMC)からなる、カーバメート系のアセチルコリンエステラーゼ(AChE)阻害剤の群。
亜群a−6:
アバメクチン(abamectin)、フルエンスルホン(fluensulfone)、チオキサザフェン(tioxazafen)、及びフルアザインドリジン(fluazaindolizine)からなる、殺線虫活性化合物の群。
亜群a−7:
菌根菌(Mycorrhiza Fungi)、アルスロボトリス・ダクチロイデス(Arthrobotrys dactyloides)、バチルス・チューリンゲンシス(Bacillus thuringiensis)、バチルス・フィルムス(Bacillus firmus)、バチルス・メガテリウム(Bacillus megaterium)、バチルス・アミロリケファシエンス(Bacillus amyloliquefaciens)、ヒルステラ・ロッシリエンシス(Hirsutella rhossiliensis)、ヒルステラ・ミネソテンシス(Hirsutella minnesotensis)、モナクロスポリウム・フィマトパガム(Monacrosporium phymatopagus)、パスツーリア・ニシザワエ(Pasteuria nishizawae)、パスツーリア・ペネトランス(Pasteuria penetrans)、パスツーリア・ウスガエ(Pasteuria usgae)、バーティシリウム・クラミドスポリウム(Verticillium chlamydosporium)及びハーピンタンパク(Harpin protein)からなる、微生物資材の群。 Examples of the compound of group (a) include compounds of subgroups a-1, a-2, a-3, a-4, a-5, a-6 and a-7.
Subgroup a-1:
Acetamiprid, clothianidin, dinotefuran, imidacloprid, nitenpyram, thiacloprid, thiamethoxam, flupyrifurone, flupyradifurone ), Dichloromesothiaz (dicloromezotiaz) and a compound represented by the following formula (CAS registration number 1689566-03-7)
Figure 2017075161
A group of competitive modulators of nicotinic acetylcholine receptors.
Subgroup a-2:
Acrinathrin, allethrin, bifenthrin, kappa-bifenthrin, bioallethrin, bioresmethrin, cycloprothrin, cyfluthrin, beta beta-cyfluthrin), cyhalothrin, gamma-cyhalothrin, lambda-cyhalothrin, cypermethrin, alpha-cypermethrin, betacypermethrin ( beta-cypermethrin), theta-cypermethrin, theta-cypermethrin, sigma-cypermethrin, cyphenothrin, deltamethrin, empenthrin, esf Enfenvalerate, etofenprox, fenpropathrin, fenvalerate, flucythrinate, flumethrin, fluvalinate, tau-fluvalinate ), Halfenprox, heptafluthrin, imiprothrin, kadethrin, meperfluthrin, momfluorothrin, permethrin, phenothrin, praothrin prallethrin), pyrethrin (pyrethrins), resmethrin (resmethrin), silafluofen (silafluofen), tefluthrin (tefluthrin), kappa-tefluthrin, tetramethrin (tetramethrin), tetramethi Flutrin (tetramethylfluthrin), tralomethrin (tralomethrin), transfluthrin (transfluthrin), benfluthrin (benfluthrin), flufenprox (flufenoprox), flumerin (flumethrin), framethrin (furamethrin), methfluthrin (metofluthrin), profluthrin and profluthrin (profluthrin) A group of sodium channel modulators consisting of (dimefluthrin).
Subgroup a-3:
GABAergic chloride channel blocker consisting of ethiprole, fipronil and flufiprole, and GABA consisting of afoxalaner, fluralaner, broflanilide and fluxametamide A group of agonistic chloride channel allosteric modulators.
Subgroup a-4:
Group of ryanodine receptor modulators consisting of chlorantraniliprole, cyantraniliprole, cyclaniliprole, flubendiamide, tetraniliprole and cyhalodiamide .
Subgroup a-5:
Alanycarb, aldicarb, bendiocarb, benfuracarb, butocarboxim, butoxycarboxim, carbaryl (NAC), carbofuran, carbofuran Fan (carbosulfan), ethiofencarb (fthiobucarb), fenobucarb (BPMC), formethanate (formetanate), furathiocarb (furathiocarb), isoprocarb (isoprocarb: MIPC), methiocarb (methiocarb), methomyl (methomyl), metolcarb (MTMC) , Oxamyl, pirimicarb, propoxur (PHC), thiodicarb, thiofanox, triazamate, trimethacarb, XMC and xylica Bed (xylylcarb: MPMC) consists, the group of carbamates acetylcholinesterase (AChE) inhibitors.
Subgroup a-6:
A group of nematicidal active compounds consisting of abamectin, fluensulfone, tioxazafen, and fluazaindolizine.
Subgroup a-7:
Mycorrhiza Fungi, Arthrobotrys dactyloides, Bacillus thuringiensis, Bacillus firmus, Bacillus megaterium, Bacillus amyloliquefaciens (Bacillus amyloliquefaciens), Hirsutella rhossiliensis, Hirsutella minnesotensis, Monacrosporium phymatopagus, Pasturiatransurie, Pasturiapass A group of microbial materials consisting of Pasteuria usgae, Verticillium chlamydosporium and Harpin protein.

本発明に用いられる、アセタミプリド(acetamiprid)、クロチアニジン(clothianidin)、ジノテフラン(dinotefuran)、イミダクロプリド(imidacloprid)、ニテンピラム(nitenpyram)、チアクロプリド(thiacloprid)、チアメトキサム(thiamethoxam)、フルピラジフロン(flupyradifurone)、スルホキサフロル(sulfoxaflor)、トリフルメゾピリム(triflumezopyrim)、アクリナトリン(acrinathrin)、アレスリン(allethrin)、ビフェントリン(bifenthrin)、カッパビフェントリン(kappa-bifenthrin)、ビオアレスリン(bioallethrin)、ビオレスメトリン(bioresmethrin)、シクロプロトリン(cycloprothrin)、シフルトリン(cyfluthrin)、ベータ−シフルトリン(beta-cyfluthrin)、シハロトリン(cyhalothrin)、ガンマシハロトリン(gamma-cyhalothrin)、ラムダシハロトリン(lambda-cyhalothrin)、シペルメトリン(cypermethrin)、アルファシペルメトリン(alpha-cypermethrin)、べータシペルメトリン(beta-cypermethrin)、シータシペルメトリン(theta-cypermethrin)、ゼータシペルメトリン(zeta-cypermethrin)、シグマシペルメトリン(sigma-cypermethrin)、シフェノトリン(cyphenothrin)、デルタメトリン(deltamethrin)、エンペントリン(empenthrin)、エスフェンバレレート(esfenvalerate)、エトフェンプロックス(etofenprox)、フェンプロパトリン(fenpropathrin)、フェンバレレート(fenvalerate)、フルシトリネート(flucythrinate)、フルメトリン(flumethrin)、フルバリネート(fluvalinate)、タウフルバリネート(tau-fluvalinate)、ハルフェンプロックス(halfenprox)、ヘプタフルトリン(heptafluthrin)、イミプロトリン(imiprothrin)、カデスリン(kadethrin)、メペルフルトリン(meperfluthrin)、モンフルオロトリン(momfluorothrin)、ペルメトリン(permethrin)、フェノトリン(phenothrin)、プラレトリン(prallethrin)、ピレトリン(pyrethrins)、レスメトリン(resmethrin)、シラフルオフェン(silafluofen)、テフルトリン(tefluthrin)、カッパテフルトリン(kappa-tefluthrin)、テトラメトリン(tetramethrin)、テトラメチルフルトリン(tetramethylfluthrin)、トラロメトリン(tralomethrin)、トランスフルトリン(transfluthrin)、ベンフルトリン(benfluthrin)、フルフェンプロックス(flufenoprox)、フルメスリン(flumethrin)、フラメトリン(furamethrin)、メトフルトリン(metofluthrin)、プロフルトリン(profluthrin)、ジメフルトリン(dimefluthrin)、エチプロール(ethiprole)、フィプロニル(fipronil)、フルフィプロール(flufiprole)、クロラントラニリプロール(chlorantraniliprole)、シアントラニルプロール(cyantraniliprole)、シクラニリプロール(cycloniliprole)、フルベンジアミド(flubendiamide)、シハロジアミド(cyhalodiamide)、アラニカルブ(alanycarb)、アルジカルブ(aldicarb)、ベンダイオカルブ(bendiocarb)、ベンフラカルブ(benfuracarb)、ブトカルボキシム(butocarboxim)、ブトキシカルボキシム(butoxycarboxim)、カルバリル(carbaryl:NAC)、カルボフラン(carbofuran)、カルボスルファン(carbosulfan)、エチオフェンカルブ(ethiofencarb)、フェノブカルブ(fenobucarb:BPMC)、ホルメタネート(formetanate)、フラチオカルブ(furathiocarb)、イソプロカルブ(isoprocarb:MIPC)、メチオカルブ(methiocarb)、メソミル(methomyl)、メトルカルブ(metolcarb:MTMC)、オキサミル(oxamyl)、ピリミカーブ(pirimicarb)、プロポキスル(propoxur:PHC)、チオジカルブ(thiodicarb)、チオファノックス(thiofanox)、トリアザメート(triazamate)、トリメタカルブ(trimethacarb)、XMC、キシリルカルブ(xylylcarb:MPMC)、アバメクチン(abamectin)及びフルエンスルホン(fluensulfone)は、いずれも公知の化合物であり、例えば、「MeisterPro Crop Protection Handbook Vol.100(2014)」等に記載されている。
これらの化合物は市販の製剤から得るか、公知の方法により製造することにより得られる。
本発明に用いられる、ジクロロメソチアズ(CAS登録番号:1263629-39-5)、テトラニリプロール(CAS登録番号:1229654-66-3)、フルキサメタミド(CAS登録番号:928783-29-3)、アフォクソラネル(CAS登録番号:1093861-60-9)、フルララネル(CAS登録番号:864731-61-3)、ブロフラニリド(CAS登録番号:1207727-04-5)、フルアザインドリジン(CAS登録番号:1254304-22-7)、チオキサザフェン(CAS登録番号:330459-31-9)及び殺虫化合物α(CAS登録番号:1689566-03-7)は、いずれも公知の化合物であり、例えば、国際公開第2011/017342号、国際公開第2010/069502号、国際公開2007/026965号、国際公開第2007/079162号、国際公開第2005/085216号、国際公開第2010/018714号、国際公開第2010/129500号、国際公開第2006/114400号、及び国際公開第2012/029672号に記載された方法でそれぞれ製造することができる。
本発明に用いられる、菌根菌(Mycorrhiza Fungi)、アルスロボトリス・ダクチロイデス(Arthrobotrys dactyloides)、バチルス・チューリンゲンシス(Bacillus thuringiensis)、バチルス・フィルムス(Bacillus firmus)、バチルス・メガテリウム(Bacillus megaterium)、バチルス・アミロリケファシエンス(Bacillus amyloliquefaciens)、ヒルステラ・ロッシリエンシス(Hirsutella rhossiliensis)、ヒルステラ・ミネソテンシス(Hirsutella minnesotensis)、モナクロスポリウム・フィマトパガム(Monacrosporium phymatopagus)、パスツーリア・ニシザワエ(Pasteuria nishizawae)、パスツーリア・ペネトランス(Pasteuria penetrans)、パスツーリア・ウスガエ(Pasteuria usgae)、バーティシリウム・クラミドスポリウム(Verticillium chlamydosporium)及びハーピンタンパク(Harpin protein)は、いずれも公知の微生物資材であり、市販の製剤から得るか、公知の方法により製造することにより得られる。
As used in the present invention, acetamiprid, clothianidin, dinotefuran, imidacloprid, nitenpyram, thiacloprid, thiamethoxam, fluradifurone, fluradifurone , Triflumezopyrim, acrinathrin, allethrin, bifenthrin, kappa-bifenthrin, bioallethrin, bioresmethrin, cycloresin, prothrin (Cyfluthrin), beta-cyfluthrin, cyhalothrin, gamma-cyhalothrin, lambda-cyhalothrin, Permethrin, cypermethrin, alpha-cypermethrin, beta-cypermethrin, theta-cypermethrin, zeta-cypermethrin, sigma-cypermethrin , Cyphenothrin, deltamethrin, empenthrin, esfenvalerate, etofenprox, fenpropathrin, fenvalerate, flucythrinate , Flumethrin, fluvalinate, tau-fluvalinate, halfenprox, heptafluthrin, imiprothrin, kadethrin, meperf Luthrin (meperfluthrin), monfluorothrin (momfluorothrin), permethrin (phenmethrin), praothrin (prallethrin), pyrethrin (pyrethrins), resmethrin (resmethrin), silafluofen, tefluthrin (tefluthrin) (Kappa-tefluthrin), tetramethrin, tetramethylfluthrin, tralomethrin, transfluthrin, benfluthrin, flufenprox, flumethrin, flamethrin furamethrin), methofluthrin, profluthrin, dimefluthrin, ethiprole, fipronil, furfiprole, Lorantraniliprole, cyantraniliprole, cycloniliprole, flubendiamide, cyhalodiamide, alaniccarb, aldicarb, bendiocarb , Benfuracarb, butocarboxim, butoxycarboxim, carbaryl (NAC), carbofuran, carbosulfan, ethiofencarb, fenobucarb (BPMC) , Formetanate, furathiocarb, isoprocarb (MIPC), methiocarb, metomyl, metolcarb (MTMC), oxamyl, Pirimicarb, propoxur (PHC), thiodicarb, thiofanox, triazamate, trimethacarb, XMC, xylylcarb (MPMC), abamectin and fluenesulfone (Fluensulfone) is a known compound, for example, “MeisterPro Crop Protection Handbook Vol. 100 (2014) "or the like.
These compounds can be obtained from commercially available preparations or produced by known methods.
Dichloromesothiaz (CAS registration number: 1263629-39-5), tetraniliprolol (CAS registration number: 1229654-66-3), floxamethamide (CAS registration number: 928783-29-3), used in the present invention, Afoxolanel (CAS registration number: 1093861-60-9), fluralanel (CAS registration number: 864731-61-3), brofuranilide (CAS registration number: 1207727-04-5), fluazaindolizine (CAS registration number: 1254304- 22-7), Thioxazaphen (CAS registration number: 330459-31-9) and insecticidal compound α (CAS registration number: 1689566-03-7) are all known compounds, for example, International Publication No. 2011/017342 No., International Publication No. 2010/066952, International Publication No. 2007/026965, International Publication No. 2007/079962, International Publication No. 2005/0885216, International Publication No. 2010 No. 018714, WO 2010/129500, WO 2006/114400, and can be produced respectively by the method described in WO 2012/029672.
Mycorrhiza Fungi, Arthrobotrys dactyloides, Bacillus thuringiensis, Bacillus firmus, Bacillus megaterium used in the present invention, Bacillus amyloliquefaciens, Hirsutella rhossiliensis, Hirsutella minnesotensis, Monacrosporium phymatopagus, Monacrosporium phymatopagus, Pasteuria e (Pasteuria penetrans), Pasturia usgae, Verticillium chlamydosporium and Harpin protein are all public A microbial materials, obtained from commercially available preparations or obtained by production using a known method.

前記群(b)の化合物としては、以下亜群b−1、b−2、b−3、b−4、b−5、b−6、b−7、b−8及びb−9の化合物が挙げられる。
亜群b−1:
アザコナゾール(azaconazole)、ビテルタノール(bitertanol)、ブロムコナゾール(bromuconazole)、シプロコナゾール(cyproconazole)、ジフェノコナゾール(difenoconazole)、ジニコナゾール(diniconazole)、ジニコナゾールM(diniconazole−M)、エポキシコナゾール(epoxiconazole)、エタコナゾール(etaconazole)、フェナリモル(fenarimol)、フェンブコナゾール(fenbuconazole)、フルキンコナゾール(fluquinconazole)、キンコナゾール(quinconazole)、フルシラゾール(flusilazole)、フルトリアホール(flutriafol)、ヘキサコナゾール(hexaconazole)、イマザリル(imazalil)、イミベンコナゾール(imibenconazole)、イプコナゾール(ipconazole)、メトコナゾール(metconazole)、ミクロブタニル(myclobutanil)、ヌアリモール(nuarimol)、オキスポコナゾール(oxpoconazole)、オキスポコナゾールフマル酸塩(oxpoconazole fumarate)、ペフラゾエート(pefurazoate)、ペンコナゾール(penconazole)、プロクロラズ(prochloraz)、プロピコナゾール(propiconazole)、プロチオコナゾール(prothioconazole)、ピリフェノックス(pyrifenox)、ピリソキサゾール(pyrisoxazole)、シメコナゾール(simeconazole)、テブコナゾール(tebuconazole)、テトラコナゾール(tetraconazole)、トリアジメホン(triadimefon)、トリアジメノール(triadimenol)、トリフルミゾール(triflumizole)、トリホリン(triforine)及びトリチコナゾール(triticonazole)からなる、ステロール生合成阻害剤の群。
亜群b−2:
アゾキシストロビン(azoxystrobin)、クモキシストロビン(coumoxystrobin)、ジモキシストロビン(dimoxystrobin)、エノキサストロビン(enoxastrobin)、ファモキサドン(famoxadone)、フェンアミドン(fenamidone)、フェナミンストロビン(fenaminstrobin)、フルフェノキシストロビン(flufenoxystrobin)、フルオキサストロビン(fluoxastrobin)、クレソキシム−メチル(kresoxim-methyl)、マンデストロビン(mandestrobin)、メトミノストロビン(metominostrobin)、オリサストロビン(orysastrobin)、ピコキシストロビン(picoxystrobin)、ピラクロストロビン(pyraclostrobin)、ピラメトストロビン(pyrametostrobin)、ピラオキシストロビン(pyraoxystrobin)、トリフロキシストロビン(trifloxystrobin)、ピリベンカルブ(pyribencarb)、トリクロピリカルブ(triclopyricarb)、シアゾファミド(cyazofamid)及びアミスルブロム(amisulbrom)からなる、Qo阻害剤(Quinone outside inhibitors)の群。
亜群b−3:
ベナラキシル(benalaxyl)、ベナラキシルM(benalaxyl-M)、フララキシル(furalaxyl)、メタラキシル(metalaxyl)、メタラキシルM(metalaxyl-M)、オキサジキシル(oxadixyl)及びオフラセ(ofurace)からなる、RNAポリメラーゼI阻害剤の群。
亜群b−4:
ベノダニル(benodanil)、ベンゾビンジフルピル(benzovindiflupyr)、ビキサフェン(bixafen)、ボスカリド(boscalid)、カルボキシン(carboxin)、フェンフラム(fenfuram)、フルオピラム(fluopyram)、フルトラニル(flutolanil)、フルキサピロキサド(fluxapyroxad)、フラメトピル(furametpyr)、イソフェタミド(isofetamid)、イソピラザム(isopyrazam)、メプロニル(mepronil)、オキシカルボキシン(oxycarboxin)、ペンチオピラド(penthiopyrad)、ペンフルフェン(penflufen)、セダキサン(sedaxane)、チフルザミド(thifluzamide)、ピラジフルミド(pyraziflumid)、ピジフルメトフェン(pydiflumetofen、CAS登録番号1228284-64-7)、3−ジフルオロメチル−1−メチル−N−(1,1,3−トリメチルインダン−4−イル)ピラゾール−4−カルボキサミド(CAS登録番号141573-94-6)、3−ジフルオロメチル−1−メチル−N−[(3R)−1,1,3−トリメチルインダン−4−イル]ピラゾール−4−カルボキサミド(CAS登録番号1352994-67-2)、3−ジフルオロメチル−N−(7−フルオロ−1,1,3−トリメチルインダン−4−イル)−1−メチルピラゾール−4−カルボキサミド(CAS登録番号1383809-87-7)、3−ジフルオロメチル−N−[(3R)−7−フルオロ−1,1,3−トリメチルインダン−4−イル]−1−メチルピラゾール−4−カルボキサミド(CAS登録番号1513466-73-3)及びN−シクロプロピル−3−(ジフルオロメチル)−5−フルオロ−N−(5−クロロ−2−イソプロピルベンジル)−1−メチル−1H−ピラゾール−4−カルボキサミド(CAS登録番号1255734-28-1)からなる、コハク酸脱水素酵素阻害剤の群。
亜群b−5:
ベノミル(benomyl)、カルベンダジム(carbendazim)、フベリダゾール(fuberidazole)、チアベンダゾール(thiabendazole)、チオファネート(thiophanate)、チオファネートメチル(thiophanate-methyl)、ジエトフェンカルブ(diethofencarb)、ゾキサミド(zoxamide)及びエタボキサム(ethaboxam)からなる、βチューブリン重合阻害剤の群。
亜群b−6:
フェルバム(ferbam)、マンゼブ(mancozeb)、マンネブ(maneb)、メチラム(metiram)、プロピネブ(propineb)、チウラム(thiram)、ジネブ(zineb)、ジラム(ziram)、キャプタン(captan)、キャプタホール(captafol)、ホルペット(folpet)、クロロタロニル(chlorothalonil)、トリルフルアニド(tolylfluanid)、グアザチン(guazatine)、イミノクタジン(iminoctadine)、アニラジン(anilazine)、ジチアノン(dithianon)、キノメチオナート(chinomethionat or quinomethionate)及びフルオルイミド(fluoroimide)からなる、多作用点接触活性化合物の群。
亜群b−7:
ジメトモルフ(dimethomorph)、フルモルフ(flumorph)、ピリモルフ(pyrimorph)、ベンチアバリカルブ(benthiavalicarb)、ベンチアバリカルブイソプロピル(benthivalicarb-isopropyl)、イプロバリカルブ(iprovalicarb)、バリフェナレート(valifenalate)及びマンジプロパミド(mandipropamid)からなる、セルロース合成阻害剤の群。
亜群b−8:
フェンピクロニル(fenpiclonil)、フルジオキソニル(fludioxonil)、クロゾリネート(chlozolinate)、イプロジオン(iprodione)、プロシミドン(procymidone)及びビンクロゾリン(vinclozolin)からなる、浸透圧シグナル伝達におけるMAP(mitogen-activated protein)/ヒスチジンキナーゼ阻害剤の群。
亜群b−9:
トルクロホスメチル(tolclofos-methyl)、オキサチアピプロリン(oxathiapiprolin)、ピカルブトラゾクス(picarbutrazox)、フルオピコリド(fluopicolide)及びシルチオファム(silthiofam)からなる、その他の殺菌剤の群。
As the compound of the group (b), the following compounds of subgroups b-1, b-2, b-3, b-4, b-5, b-6, b-7, b-8 and b-9 Is mentioned.
Subgroup b-1:
Azaconazole, bitertanol, bromuconazole, cyproconazole, difenoconazole, dinicoazole, diniconazole-M, epiconconazole, ethaconazole (Etaconazole), fenarimol, fenbuconazole, fluquinconazole, quinconazole, flusilazole, flutriafol, hexaconazole, imazaril ( imazalil), imibenconazole, ipconazole, metconazole, microbutanil, nuarimol, oxpoconazole, o Spoconazole fumarate, pefurazoate, penconazole, prochloraz, propiconazole, prothioconazole, pyrifenox, pyrisoxazole ), Simeconazole, tebuconazole, tetraconazole, triadimefon, triadimenol, triflumizole, triforine and triticonazole A group of sterol biosynthesis inhibitors.
Subgroup b-2:
Azoxystrobin, coumoxystrobin, dimoxystrobin, enoxastrobin, famoxadone, fenamidone, fenaminstrobin, full Phenoxystrobin, fluoxastrobin, cresoxim-methyl, mandestrobin, metinominostrobin, orysastrobin, picoxystrobin , Pyraclostrobin, pyrametostrobin, pyraoxystrobin, trifloxystrobin, pyribencarb, triclopyricarb, triazopyricarb Consisting de (cyazofamid) and amisulbrom (amisulbrom), the group of Qo inhibitors (Quinone outside inhibitors).
Subgroup b-3:
A group of RNA polymerase I inhibitors consisting of benalaxyl, benalaxyl-M, furalaxyl, metalaxyl, metalaxyl-M, oxadixyl and ofurace .
Subgroup b-4:
Benodanil, benzovindiflupyr, bixafen, boscalid, carboxin, fenfuram, fluopyram, flutolanil, fluxapyroxad ), Furametpyr, isofetamid, isoprazam, mepronil, oxycarboxin, penthiopyrad, penflufen, sedaxane, thifluzamide, thifluamide (Pyraziflumid), pidiflumetofen (CAS registration number 1228284-64-7), 3-difluoromethyl-1-methyl-N- (1,1,3-trimethylindan-4-yl) pyrazole-4- Carboxamide (CAS registration No. 141573-94-6), 3-difluoromethyl-1-methyl-N-[(3R) -1,1,3-trimethylindan-4-yl] pyrazole-4-carboxamide (CAS Registry Number 1352994-67-) 2), 3-difluoromethyl-N- (7-fluoro-1,1,3-trimethylindan-4-yl) -1-methylpyrazole-4-carboxamide (CAS registration number 1383809-87-7), 3- Difluoromethyl-N-[(3R) -7-fluoro-1,1,3-trimethylindan-4-yl] -1-methylpyrazole-4-carboxamide (CAS Registry Number 1513466-73-3) and N-cyclo Propyl-3- (difluoromethyl) -5-fluoro-N- (5-chloro-2-isopropylbenzyl) -1-methyl-1H-pyrazole-4-carboxamide (CAS Registry Number 1255734-28-1) Ranaru, the group of succinate dehydrogenase inhibitors.
Subgroup b-5:
It consists of benomyl, carbendazim, fuberidazole, thiabendazole, thiophanate, thiophanate-methyl, diethofencarb, zoxamide and ethaboxam. A group of β-tubulin polymerization inhibitors.
Subgroup b-6:
Ferbam, mancozeb, manneb, maneb, metiram, propineb, thiram, zineb, ziram, captan, captafol ), Folpet, chlorothalonil, tolylfluanid, guazatine, iminoctadine, anilazine, dithianon, chinomethionate or quinomethionate fluoride A group of multi-acting point contact active compounds consisting of
Subgroup b-7:
Dimethomorph, flumorph, pyrimorph, benthiavalicarb, benthivalicarb-isopropyl, iprovalicarb, valifenalate and mandipropamid A group of cellulose synthesis inhibitors.
Subgroup b-8:
MAP (mitogen-activated protein) / histidine kinase inhibitor in osmotic signal transduction consisting of fenpiclonil, fludioxonil, clozolinate, iprodione, procymidone and vinclozolin group.
Subgroup b-9:
A group of other fungicides consisting of tolclofos-methyl, oxathiapiproline, picarbutrazox, fluopicolide and silthiofam.

本発明に用いられる、アザコナゾール(azaconazole)、ビテルタノール(bitertanol)、ブロムコナゾール(bromuconazole)、シプロコナゾール(cyproconazole)、ジフェノコナゾール(difenoconazole)、ジニコナゾール(diniconazole)、ジニコナゾールM(diniconazole−M)、エポキシコナゾール(epoxiconazole)、エタコナゾール(etaconazole)、フェナリモル(fenarimol)、フェンブコナゾール(fenbuconazole)、フルキンコナゾール(fluquinconazole)、キンコナゾール(quinconazole)、フルシラゾール(flusilazole)、フルトリアホール(flutriafol)、ヘキサコナゾール(hexaconazole)、イマザリル(imazalil)、イミベンコナゾール(imibenconazole)、イプコナゾール(ipconazole)、メトコナゾール(metconazole)、ミクロブタニル(myclobutanil)、ヌアリモール(nuarimol)、オキスポコナゾール(oxpoconazole)、オキスポコナゾールフマル酸塩(oxpoconazole fumarate)、ペフラゾエート(pefurazoate)、ペンコナゾール(penconazole)、プロクロラズ(prochloraz)、プロピコナゾール(propiconazole)、プロチオコナゾール(prothioconazole)、ピリフェノックス(pyrifenox)、ピリソキサゾール(pyrisoxazole)、シメコナゾール(simeconazole)、テブコナゾール(tebuconazole)、テトラコナゾール(tetraconazole)、トリアジメホン(triadimefon)、トリアジメノール(triadimenol)、トリフルミゾール(triflumizole)、トリホリン(triforine)、トリチコナゾール(triticonazole)、アゾキシストロビン(azoxystrobin)、クモキシストロビン(coumoxystrobin)、ジモキシストロビン(dimoxystrobin)、エノキサストロビン(enoxastrobin)、ファモキサドン(famoxadone)、フェンアミドン(fenamidone)、フェナミンストロビン(fenaminstrobin)、フルフェノキシストロビン(flufenoxystrobin)、フルオキサストロビン(fluoxastrobin)、クレソキシム−メチル(kresoxim-methyl)、マンデストロビン(mandestrobin)、メトミノストロビン(metominostrobin)、オリサストロビン(orysastrobin)、ピコキシストロビン(picoxystrobin)、ピラクロストロビン(pyraclostrobin)、ピラメトストロビン(pyrametostrobin)、ピラオキシストロビン(pyraoxystrobin)、トリフロキシストロビン(trifloxystrobin)、ピリベンカルブ(pyribencarb)、トリクロピリカルブ(triclopyricarb)、シアゾファミド(cyazofamid)、アミスルブロム(amisulbrom)、ベナラキシル(benalaxyl)、ベナラキシルM(benalaxyl-M)、フララキシル(furalaxyl)、メタラキシル(metalaxyl)、メタラキシルM(metalaxyl-M)、オキサジキシル(oxadixyl)、オフラセ(ofurace)、ベノダニル(benodanil)、ベンゾビンジフルピル(benzovindiflupyr)、ビキサフェン(bixafen)、ボスカリド(boscalid)、カルボキシン(carboxin)、フェンフラム(fenfuram)、フルオピラム(fluopyram)、フルトラニル(flutolanil)、フルキサピロキサド(fluxapyroxad)、フラメトピル(furametpyr)、イソフェタミド(isofetamid)、イソピラザム(isopyrazam)、メプロニル(mepronil)、オキシカルボキシン(oxycarboxin)、ペンチオピラド(penthiopyrad)、ペンフルフェン(penflufen)、セダキサン(sedaxane)、チフルザミド(thifluzamide)、ベノミル(benomyl)、カルベンダジム(carbendazim)、フベリダゾール(fuberidazole)、チアベンダゾール(thiabendazole)、チオファネート(thiophanate)、チオファネートメチル(thiophanate-methyl)、ジエトフェンカルブ(diethofencarb)、ゾキサミド(zoxamide)、エタボキサム(ethaboxam)、フェルバム(ferbam)、マンゼブ(mancozeb)、マンネブ(maneb)、メチラム(metiram)、プロピネブ(propineb)、チウラム(thiram)、ジネブ(zineb)、ジラム(ziram)、キャプタン(captan)、キャプタホール(captafol)、ホルペット(folpet)、クロロタロニル(chlorothalonil)、トリルフルアニド(tolylfluanid)、グアザチン(guazatine)、イミノクタジン(iminoctadine)、アニラジン(anilazine)、ジチアノン(dithianon)、キノメチオナート(chinomethionat or quinomethionate)、フルオルイミド(fluoroimide)、ジメトモルフ(dimethomorph)、フルモルフ(flumorph)、ピリモルフ(pyrimorph)、ベンチアバリカルブ(benthiavalicarb)、ベンチアバリカルブイソプロピル(benthivalicarb-isopropyl)、イプロバリカルブ(iprovalicarb)、バリフェナレート(valifenalate)、マンジプロパミド(mandipropamid)、フェンピクロニル(fenpiclonil)、フルジオキソニル(fludioxonil)、クロゾリネート(chlozolinate)、イプロジオン(iprodione)、プロシミドン(procymidone)、ビンクロゾリン(vinclozolin)、トルクロホスメチル(tolclofos-methyl)、オキサチアピプロリン(oxathiapiprolin)、ピカルブトラゾクス(picarbutrazox)、フルオピコリド(fluopicolide)及びシルチオファム(silthiofam)は、いずれも「MeisterPro Crop Protection Handbook Vol.100(2014)」等に記載された公知の化合物である。これらの化合物は市販の製剤から得るか、公知の方法により製造することにより得られる。
本発明に用いられる、3−ジフルオロメチル−1−メチル−N−(1,1,3−トリメチルインダン−4−イル)ピラゾール−4−カルボキサミド(CAS登録番号141573-94-6)、3−ジフルオロメチル−1−メチル−N−[(3R)−1,1,3−トリメチルインダン−4−イル]ピラゾール−4−カルボキサミド(CAS登録番号1352994-67-2)はいずれも公知の化合物であり、例えば、国際公開第2011/162397号に記載された方法でそれぞれ製造することができる。
本発明に用いられる、ピラジフルミド(pyraziflumid)は公知の化合物であり、例えば、国際公開第2007/072999号に記載された方法で製造することができる。
本発明に用いられる、ピジフルメトフェン(pydiflumetofen)は公知の化合物であり、例えば、国際公開第2010/063700号に記載された方法で製造することができる。
本発明に用いられる、3−ジフルオロメチル−N−(7−フルオロ−1,1,3−トリメチルインダン−4−イル)−1−メチルピラゾール−4−カルボキサミド(CAS登録番号1383809-87-7)、3−ジフルオロメチル−N−[(3R)−7−フルオロ−1,1,3−トリメチルインダン−4−イル]−1−メチルピラゾール−4−カルボキサミド(CAS登録番号1513466-73-3)はいずれも公知の化合物であり、例えば、国際公開第2012/084812号に記載された方法でそれぞれ製造することができる。
本発明に用いられる、N−シクロプロピル−3−(ジフルオロメチル)−5−フルオロ−N−(5−クロロ−2−イソプロピルベンジル)−1−メチル−1H−ピラゾール−4−カルボキサミド(CAS登録番号1255734-28-1)は公知の化合物であり、例えば、国際公開第2013/160387号に記載された方法で製造することができる。
Azaconazole, bitertanol, bromuconazole, cyproconazole, difenoconazole, diniconazole, diniconazole M, diniconazole-M, epoxico, used in the present invention Epoxiconazole, etaconazole, fenarimol, fenbuconazole, fluquinconazole, quinconazole, flusilazole, flutriafol, hexaconazole (Hexaconazole), imazalil, imibenconazole, ipconazole, metconazole, microbutanil, nuarimol, oxpoconazo Oxpoconazole, oxpoconazole fumarate, pefurazoate, penconazole, prochloraz, propiconazole, prothioconazole, pyrifenox ( pyrifenox, pyrisoxazole, simeconazole, tebuconazole, tetraconazole, triadimefon, triadimenol, triflumizole, triforine, triforine Ticononazole, azoxystrobin, coumoxystrobin, dimoxystrobin, enoxastrobin, famoxadone, fenamidone (fe namidone, phenaminestrobin, flufenoxystrobin, fluoxastrobin, kresoxim-methyl, mandestrobin, metinominostrobin, oryastrobine (Orysastrobin), picoxystrobin, pyraclostrobin, pyrametostrobin, pyraoxystrobin, trifloxystrobin, pyribencarb, triclopyricarb (Triclopyricarb), cyazofamid (cyazofamid), amisulbrom (benisaxyl), benalaxyl M (benalaxyl-M), furalaxyl (furalaxyl), metalaxyl (metalaxyl), metalaxyl M (metalaxyl-M), oxadi Oxadixyl, ofurace, benodanil, benzovindiflupyr, bixafen, boscalid, carboxin, fenfuram, fluopyram, flutolanil (Flutolanil), fluxapyroxad, furametpyr, isofetamid, isopyrazam, mepronil, oxycarboxin, penthiopyrad, penflufen, penflufen, penflufen (Sedaxane), thifluzamide, benomyl, carbendazim, fuberidazole, thiabendazole, thiophanate, thiophanate-methyl, Etofencarb, diexofencarb, zoxamide, ethaboxam, ferbam, mancozeb, maneb, maneb, metiram, propineb, thiram, zineb ), Ziram, captan, captafol, folpet, chlorothalonil, tolylfluanid, guazatine, iminoctadine, anilazine , Dithianon, chinomethionat or quinomethionate, fluoroimide, dimethomorph, flumorph, pyrimorph, benchthiavalicarb, benchthiavalicarb-isopropyl ), Iprovalicarb, valifenalate, mandipropamid, fenpiclonil, fludioxonil, clozolinate, iprodione, procymidone, vincrozoline, vinclozoline, vinclozoline Tolclofos-methyl, oxathiapiproline, picarbutrazox, fluopicolide, and silthiofam are all “MeisterPro Crop Protection Handbook Vol. 100 (2014) "and the like. These compounds can be obtained from commercially available preparations or produced by known methods.
3-Difluoromethyl-1-methyl-N- (1,1,3-trimethylindan-4-yl) pyrazole-4-carboxamide (CAS registration number 141573-94-6), 3-difluoro used in the present invention Methyl-1-methyl-N-[(3R) -1,1,3-trimethylindan-4-yl] pyrazole-4-carboxamide (CAS registration number 1352994-67-2) is a known compound, For example, it can be produced by the method described in International Publication No. 2011/162397, respectively.
Pyraziflumid used in the present invention is a known compound and can be produced, for example, by the method described in International Publication No. 2007/072999.
Pidiflumetofen used in the present invention is a known compound and can be produced, for example, by the method described in WO2010 / 063700.
3-Difluoromethyl-N- (7-fluoro-1,1,3-trimethylindan-4-yl) -1-methylpyrazole-4-carboxamide (CAS registration number 1383809-87-7) used in the present invention 3-difluoromethyl-N-[(3R) -7-fluoro-1,1,3-trimethylindan-4-yl] -1-methylpyrazole-4-carboxamide (CAS Registry Number 1513466-73-3) is All are known compounds and can be produced, for example, by the methods described in International Publication No. 2012/084812.
N-cyclopropyl-3- (difluoromethyl) -5-fluoro-N- (5-chloro-2-isopropylbenzyl) -1-methyl-1H-pyrazole-4-carboxamide (CAS registration number) used in the present invention 1255734-28-1) is a known compound and can be produced, for example, by the method described in International Publication No. 2013/160387.

以下に、本発明組成物における、本ピリダジン化合物と本化合物との組合せの例を記載する。尚、SXの略号は「化合物群SX1〜SX61から選ばれるいずれか1つの本ピリダジン化合物」を意味する。
アセタミプリド+SX、クロチアニジン+SX、ジノテフラン+SX、イミダクロプリド+SX、ニテンピラム+SX、チアクロプリド+SX、チアメトキサム+SX、フルピラジフロン+SX、スルホキサフロル+SX、トリフルメゾピリム+SX、ジクロロメソチアズ+SX、殺虫化合物α+SX、
アクリナトリン+SX、アレスリン+SX、ビフェントリン+SX、カッパビフェントリン+SX、ビオアレスリン+SX、ビオレスメトリン+SX、シクロプロトリン+SX、シフルトリン+SX、ベータ−シフルトリン+SX、シハロトリン+SX、ガンマシハロトリン+SX、ラムダシハロトリン+SX、シペルメトリン+SX、アルファシペルメトリン+SX、べータシペルメトリン+SX、シータシペルメトリン+SX、ゼータシペルメトリン+SX、シグマシペルメトリン+SX、シフェノトリン+SX、デルタメトリン+SX、エンペントリン+SX、エスフェンバレレート+SX、エトフェンプロックス+SX、フェンプロパトリン+SX、フェンバレレート+SX、フルシトリネート+SX、フルメトリン+SX、フルバリネート+SX、タウフルバリネート+SX、ハルフェンプロックス+SX、ヘプタフルトリン+SX、イミプロトリン+SX、カデスリン+SX、メペルフルトリン+SX、モンフルオロトリン+SX、ペルメトリン+SX、フェノトリン+SX、プラレトリン+SX、ピレトリン+SX、レスメトリン+SX、シラフルオフェン+SX、テフルトリン+SX、カッパテフルトリン+SX、テトラメトリン+SX、テトラメチルフルトリン+SX、トラロメトリン+SX、トランスフルトリン+SX、ベンフルトリン+SX、フルフェンプロックス+SX、フルメスリン+SX、フラメトリン+SX、メトフルトリン+SX、プロフルトリン+SX、ジメフルトリン+SX、
エチプロール+SX、フィプロニル+SX、フルフィプロール+SX、アフォクソラネル+SX、フルララネル+SX、ブロフラニリド+SX、フルキサメタミド+SX、
クロラントラニリプロール+SX、シアントラニルプロール+SX、シクラニリプロール+SX、フルベンジアミド+SX、テトラニリプロール+SX、シハロジアミド+SX、
アラニカルブ+SX、アルジカルブ+SX、ベンダイオカルブ+SX、ベンフラカルブ+SX、ブトカルボキシム+SX、ブトキシカルボキシム+SX、カルバリル+SX、カルボフラン+SX、カルボスルファン+SX、エチオフェンカルブ+SX、フェノブカルブ+SX、ホルメタネート+SX、フラチオカルブ+SX、イソプロカルブ+SX、メチオカルブ+SX、メソミル+SX、メトルカルブ+SX、オキサミル+SX、ピリミカーブ+SX、プロポキスル+SX、チオジカルブ+SX、チオファノックス+SX、トリアザメート+SX、トリメタカルブ+SX、XMC+SX、キシリルカルブ+SX、
アバメクチン+SX、フルエンスルホン+SX、チオキサザフェン+SX、フルアザインドリジン+SX、
菌根菌+SX、アルスロボトリス・ダクチロイデス+SX、バチルス・チューリンゲンシス+SX、バチルス・フィルムス+SX、バチルス・メガテリウム+SX、バチルス・アミロリケファシエンス+SX、ヒルステラ・ロッシリエンシス+SX、ヒルステラ・ミネソテンシス+SX、モナクロスポリウム・フィマトパガム+SX、パスツーリア・ニシザワエ+SX、パスツーリア・ペネトランス+SX、パスツーリア・ウスガエ+SX、バーティシリウム・クラミドスポリウム+SX、ハーピンタンパク+SX、
Below, the example of the combination of this pyridazine compound and this compound in this invention composition is described. The abbreviation for SX means “any one pyridazine compound selected from compound groups SX1 to SX61”.
Acetamiprid + SX, clothianidin + SX, dinotefuran + SX, imidacloprid + SX, nitenpyram + SX, thiacloprid + SX, thiamethoxam + SX, flupiradiflon + SX, sulfoxafurol + SX, triflumezopyrim + SX, dichloromesothiaz compound + SX
Acrinatrin + SX, Aresulin + SX, Bifenthrin + SX, Kappa Bifenthrin + SX, Bioaresulin + SX, Bioresmethrin + SX, Cycloproton + SX, Cyfluthrin + SX, Beta-Cyfluthrin + SX, Cyhalothrin + SX, Gamma Cyhalothrin X SX, Gamma Cyhalothrin X SX + SX, alphacypermethrin + SX, betacypermethrin + SX, thetacypermethrin + SX, zetacypermethrin + SX, sigmacipermethrin + SX, ciphenothrin + SX, deltamethrin + SX, empentrin + SX, esfenvalerate + SX, ethofenprofenprox Thrin + SX, fenvalerate + SX, flucitrinate + SX, flumethrin + SX, fluva Nate + SX, Taufulvalinate + SX, Halfenprox + SX, Heptafluthrin + SX, Imiprothrin + SX, Kadeslin + SX, Meperfluthrin + SX, Monfluorotrin + SX, Permethrin + SX, Phetothrin + SX, Praretrin + SX, Pyrethrin + SX, Pyrethrin + SX Tefluthrin + SX, kappatefluthrin + SX, tetramethrin + SX, tetramethylfurthrin + SX, tralomethrin + SX, transfluthrin + SX, benfurthrin + SX, flufenprox + SX, flumethrin + SX, flamethrin + SX, methfluthrin + SX, proflutriline + SX
Etiprol + SX, fipronil + SX, flupiprol + SX, afoxolanel + SX, fluralanel + SX, brofuranilide + SX, floxamethamide + SX,
Chlorantraniliprole + SX, cyantranylprolol + SX, cyclaniliprol + SX, fulvendiamide + SX, tetraniprolol + SX, cyhalodiamide + SX,
Aranicarb + SX, Aldicarb + SX, Bendiocarb + SX, Benfuracarb + SX, Butcarboxyme + SX, Butoxycarboxyme + SX, Carbaryl + SX, Carbofuran + SX, Carbosulfan + SX, Ethiophene carb + SX, Fenthiocarb + SX, Formethanate + carb, SX Methiocarb + SX, Mesomil + SX, Metorcarb + SX, Oxamyl + SX, Pirimicurve + SX, Propoxyl + SX, Thiodicarb + SX, Thiophanox + SX, Triazamate + SX, Trimetacarb + SX, XMC + SX, Xylylcarb + SX,
Abamectin + SX, fluenesulfone + SX, thioxazaphen + SX, fluazaindolizine + SX,
Mycorrhizal fungi + SX, Arthrobotris dactylides + SX, Bacillus thuringiensis + SX, Bacillus films + SX, Bacillus megaterium + SX, Bacillus amyloliquefaciens + SX, Hilstera rossiliensis + SX, Hilstera minneso Crospodium fimatopagum + SX, Pasteuria nisawae + SX, Pasteuria penetrans + SX, Pasteuria usgae + SX, Verticillium kuramidosporia + SX, Harpin protein + SX,

アザコナゾール+SX、ビテルタノール+SX、ブロムコナゾール+SX、シプロコナゾール+SX、ジフェノコナゾール+SX、ジニコナゾール+SX、ジニコナゾールM+SX、エポキシコナゾール+SX、エタコナゾール+SX、フェナリモル+SX、フェンブコナゾール+SX、フルキンコナゾール+SX、キンコナゾール+SX、フルシラゾール+SX、フルトリアホール+SX、ヘキサコナゾール+SX、イマザリル+SX、イミベンコナゾール+SX、イプコナゾール+SX、メトコナゾール+SX、ミクロブタニル+SX、ヌアリモール+SX、オキスポコナゾール+SX、オキスポコナゾールフマル酸塩+SX、ペフラゾエート+SX、ペンコナゾール+SX、プロクロラズ+SX、プロピコナゾール+SX、プロチオコナゾール+SX、ピリフェノックス+SX、ピリソキサゾール+SX、シメコナゾール+SX、テブコナゾール+SX、テトラコナゾール+SX、トリアジメホン+SX、トリアジメノール+SX、トリフルミゾール+SX、トリホリン+SX、トリチコナゾール+SX、
アゾキシストロビン+SX、クモキシストロビン+SX、ジモキシストロビン+SX、エノキサストロビン+SX、ファモキサドン+SX、フェンアミドン+SX、フェナミンストロビン+SX、フルフェノキシストロビン+SX、フルオキサストロビン+SX、クレソキシム−メチル+SX、マンデストロビン+SX、メトミノストロビン+SX、オリサストロビン+SX、ピコキシストロビン+SX、ピラクロストロビン+SX、ピラメトストロビン+SX、ピラオキシストロビン+SX、ピリベンカルブ+SX、トリクロピリカルブ+SX、シアゾファミド+SX、アミスルブロム+SX、
ベナラキシル+SX、ベナラキシルM+SX、フララキシル+SX、メタラキシル+SX、メタラキシルM+SX、オキサジキシル+SX、オフラセ+SX、
ベノダニル+SX、ベンゾビンジフルピル+SX、ビキサフェン+SX、ボスカリド+SX、カルボキシン+SX、フェンフラム+SX、フルオピラム+SX、フルトラニル+SX、フルキサピロキサド+SX、フラメトピル+SX、イソフェタミド+SX、イソピラザム+SX、メプロニル+SX、オキシカルボキシン+SX、ペンチオピラド+SX、ペンフルフェン+SX、セダキサン+SX、チフルザミド+SX、ピラジフルミド+SX、ピジフルメトフェン+SX、殺菌化合物β1+SX、殺菌化合物β2+SX、殺菌化合物β3+SX、殺菌化合物β4+SX、殺菌化合物β5+SX、
ベノミル+SX、カルベンダジム+SX、フベリダゾール+SX、チアベンダゾール+SX、チオファネート+SX、チオファネートメチル+SX、ジエトフェンカルブ+SX、ゾキサミド+SX、エタボキサム+SX、
フェルバム+SX、マンゼブ+SX、マンネブ+SX、メチラム+SX、プロピネブ+SX、チウラム+SX、ジネブ及びジラム+SX、キャプタン+SX、キャプタホール+SX、ホルペット+SX、クロロタロニル+SX、トリルフルアニド+SX、グアザチン+SX、イミノクタジン+SX、アニラジン+SX、ジチアノン+SX、キノメチオナート+SX、フルオルイミド+SX、
ジメトモルフ+SX、フルモルフ+SX、ピリモルフ+SX、ベンチアバリカルブ+SX、ベンチアバリカルブイソプロピル+SX、イプロバリカルブ+SX、バリフェナレート+SX、マンジプロパミド+SX、
フェンピクロニル+SX、フルジオキソニル+SX、クロゾリネート+SX、イプロジオン+SX、プロシミドン+SX、ビンクロゾリン+SX、トルクロホスメチル+SX、オキサチアピプロリン+SX、ピカルブトラゾクス+SX、フルオピコリド+SX、シルチオファム+SX。
Azaconazole + SX, Viteltanol + SX, Bromuconazole + SX, Cyproconazole + SX, Difenoconazole + SX, Diniconazole + SX, Diniconazole M + SX, Epoxyconazole + SX, Etaconazole + SX, Fenarimol + SX, Fenbuconazole + SX, Flubuconazole X Flusilazole + SX, flutriazole + SX, hexaconazole + SX, imazalil + SX, imibenconazole + SX, ipconazole + SX, metconazole + SX, microbutanyl + SX, nuarimol + SX, oxpoconazole + SX, oxpoconazole fumarate + SX, pefrazoate + SX , Penconazole + SX, prochloraz + SX, propiconazole + SX, prothiocona Zole + SX, Pyrifenox + SX, Pyrioxazole + SX, Cimeconazole + SX, Tebuconazole + SX, Tetraconazole + SX, Triadimephone + SX, Triadimenol + SX, Triflumizole + SX, Triphorine + SX, Triticonazole + SX,
Azoxystrobin + SX, umoxistrobin + SX, dimoxystrobin + SX, enoxastrobin + SX, famoxadone + SX, phenamidon + SX, phenaminestrobin + SX, fluphenoxystrobin + SX, fluoxastrobin + SX, cresoxime-methyl + SX, Mandestrobin + SX, Metominostrobin + SX, Orissatrobin + SX, Picoxystrobin + SX, Pyraclostrobin + SX, Pyrametostrobin + SX, Pyroxystrobin + SX, Pyribencarb + SX, Triclopyricarb + SX, Cyazofamid + SX, Amisulbrom + SX ,
Benalaxyl + SX, Benalaxyl M + SX, Furaraxyl + SX, Metalaxyl + SX, Metalaxyl M + SX, Oxadixyl + SX, Offrace + SX,
Benodanyl + SX, benzobindiflupyr + SX, bixafen + SX, boscalid + SX, carboxin + SX, fenfram + SX, fluopyram + SX, flutolanil + SX, floxapyradod + SX, furametopyl + SX, isophetamide + SX, isopyrazam + SX, propyram + SX, propyram + SX, propyram + SX , Penthiopyrad + SX, penflufen + SX, sedaxane + SX, tifluzamide + SX, pyraziflumide + SX, pidiflumethofene + SX, bactericidal compound β1 + SX, bactericidal compound β2 + SX, bactericidal compound β3 + SX, bactericidal compound β4 + SX, bactericidal compound β5 + SX,
Benomyl + SX, carbendazim + SX, fuberidazole + SX, thiabendazole + SX, thiophanate + SX, thiophanatemethyl + SX, dietofencarb + SX, zoxamide + SX, ethaboxam + SX,
Felbum + SX, Manzeb + SX, Manneb + SX, Methylam + SX, Propineb + SX, Thiuram + SX, Dinebu and Diram + SX, Captan + SX, Captahole + SX, Holpet + SX, Chlorothalonyl + SX, Tolyl fluanid + SX, Guazatine X , Dithianon + SX, quinomethionate + SX, fluorimide + SX,
Dimethomorph + SX, Flumorph + SX, Pyrimorph + SX, Bench Avaricarb + SX, Bench Avaricarb isopropyl + SX, Iprovaricarb + SX, Varifenalate + SX, Mandipropamide + SX,
Fenpiclonyl + SX, fludioxonil + SX, clozolinate + SX, iprodione + SX, procymidone + SX, vinclozoline + SX, tolcrofosmethyl + SX, oxathiapiproline + SX, picalbutrazox + SX, flupicoride + SX, silthiofam + SX.

本発明組成物は、本ピリダジン化合物と本化合物とを単に混合したものでもよいが、通常は、本ピリダジン化合物と本化合物と、固体担体、液体担体、ガス状担体等の不活性担体とを混合し、必要に応じて界面活性剤やその他の製剤用補助剤を添加して、乳剤、油剤、粉剤、粒剤、水和剤、フロアブル剤、マイクロカプセル剤、エアゾール剤、燻煙剤、毒餌剤、樹脂製剤、シャンプー剤、ペースト状製剤、泡沫剤、炭酸ガス製剤、錠剤等に製剤化されている。これらの製剤は蚊取り線香、電気蚊取りマット、液体蚊取り製剤、燻煙剤、燻蒸剤、シート製剤、スポットオン剤、経口処理剤に加工されて、使用されることもある。
本発明組成物における、本ピリダジン化合物と本化合物の合計量は、通常0.1%〜100重量%、好ましくは0.2〜90重量%、より好ましくは1〜80重量%の範囲である。
The composition of the present invention may be a mixture of the present pyridazine compound and the present compound, but usually the present pyridazine compound and the present compound are mixed with an inert carrier such as a solid carrier, a liquid carrier or a gaseous carrier. If necessary, add surfactants and other formulation adjuvants, emulsions, oils, powders, granules, wettable powders, flowables, microcapsules, aerosols, smokers, poison baits , Resin preparations, shampoos, pasty preparations, foams, carbon dioxide preparations, tablets and the like. These preparations may be used after being processed into mosquito coils, electric mosquito mats, liquid mosquito traps, fumigants, fumigants, sheet preparations, spot-on agents, or oral treatments.
The total amount of the present pyridazine compound and the present compound in the composition of the present invention is generally 0.1% to 100% by weight, preferably 0.2 to 90% by weight, more preferably 1 to 80% by weight.

製剤化の際に用いられる固体担体としては、例えば粘土類(カオリンクレー、珪藻土、ベントナイト、フバサミクレー、酸性白土等)、合成含水酸化珪素、タルク、セラミック、その他の無機鉱物(セリサイト、石英、硫黄、活性炭、炭酸カルシウム、水和シリカ等)、化学肥料(硫安、燐安、硝安、尿素、塩安等)等の微粉末及び粒状物等、並びに合成樹脂(ポリプロピレン、ポリアクリロニトリル、ポリメタクリル酸メチル、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル樹脂、ナイロン−6、ナイロン−11、ナイロン−66等のナイロン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、塩化ビニル−プロピレン共重合体等)があげられる。   Examples of solid carriers used for formulation include clays (kaolin clay, diatomaceous earth, bentonite, fusami clay, acidic clay), synthetic hydrous silicon oxide, talc, ceramics, and other inorganic minerals (sericite, quartz, sulfur). , Activated carbon, calcium carbonate, hydrated silica, etc.), fine powders and granules of chemical fertilizers (ammonium sulfate, phosphorous acid, ammonium nitrate, urea, ammonium chloride, etc.), and synthetic resins (polypropylene, polyacrylonitrile, polymethyl methacrylate) Polyester resins such as polyethylene terephthalate, nylon resins such as nylon-6, nylon-11, and nylon-66, polyamide resins, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, and vinyl chloride-propylene copolymers).

液体担体としては、例えば水、アルコール類(メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、ヘキサノール、ベンジルアルコール、エチレングリコール、プロピレングリコール、フェノキシエタノール等)、ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等)、芳香族炭化水素類(トルエン、キシレン、エチルベンゼン、ドデシルベンゼン、フェニルキシリルエタン、メチルナフタレン等)、脂肪族炭化水素類(ヘキサン、シクロヘキサン、灯油、軽油等)、エステル類(酢酸エチル、酢酸ブチル、ミリスチン酸イソプロピル、オレイン酸エチル、アジピン酸ジイソプロピル、アジピン酸ジイソブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等)、ニトリル類(アセトニトリル、イソブチロニトリル等)、エーテル類(ジイソプロピルエーテル、1,4−ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、3−メトキシ−3−メチル−1−ブタノール等)、アミド類(DMF、N,N−ジメチルアセトアミド等)、スルホキシド類(DMSO等)、炭酸プロピレン及び植物油(大豆油、綿実油等)が挙げられる。   Examples of the liquid carrier include water, alcohols (methanol, ethanol, isopropyl alcohol, butanol, hexanol, benzyl alcohol, ethylene glycol, propylene glycol, phenoxyethanol, etc.), ketones (acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, etc.), aromatic hydrocarbons (Toluene, xylene, ethylbenzene, dodecylbenzene, phenylxylylethane, methylnaphthalene, etc.), aliphatic hydrocarbons (hexane, cyclohexane, kerosene, light oil, etc.), esters (ethyl acetate, butyl acetate, isopropyl myristate, Ethyl oleate, diisopropyl adipate, diisobutyl adipate, propylene glycol monomethyl ether acetate, etc.), nitriles (acetonitrile, isobutyro Tolyl), ethers (diisopropyl ether, 1,4-dioxane, ethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, 3-methoxy-3-methyl-1-butanol, etc. ), Amides (DMF, N, N-dimethylacetamide, etc.), sulfoxides (DMSO, etc.), propylene carbonate and vegetable oils (soybean oil, cottonseed oil, etc.).

ガス状担体としては、例えばフルオロカーボン、ブタンガス、LPG(液化石油ガス)、ジメチルエーテル及び炭酸ガスがあげられる。   Examples of the gaseous carrier include fluorocarbon, butane gas, LPG (liquefied petroleum gas), dimethyl ether, and carbon dioxide gas.

界面活性剤としては、例えばポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル等の非イオン界面活性剤、及びアルキルスルホン酸塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキル硫酸塩等の陰イオン界面活性剤が挙げられる。   Examples of the surfactant include nonionic surfactants such as polyoxyethylene alkyl ether, polyoxyethylene alkyl aryl ether, and polyethylene glycol fatty acid ester, and anions such as alkyl sulfonate, alkyl benzene sulfonate, and alkyl sulfate. Surfactant is mentioned.

その他の製剤用補助剤としては、固着剤、分散剤、着色剤及び安定剤等、具体的には例えばカゼイン、ゼラチン、糖類(でんぷん、アラビアガム、セルロース誘導体、アルギン酸等)、リグニン誘導体、ベントナイト、合成水溶性高分子(ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸類等)、PAP(酸性りん酸イソプロピル)、BHT(2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノール)、BHA(2−tert−ブチル−4−メトキシフェノールと3−tert−ブチル−4−メトキシフェノールとの混合物)が挙げられる。   Examples of other adjuvants for preparation include fixing agents, dispersants, colorants and stabilizers, such as casein, gelatin, saccharides (starch, gum arabic, cellulose derivatives, alginic acid, etc.), lignin derivatives, bentonite, Synthetic water-soluble polymers (polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone, polyacrylic acids, etc.), PAP (isopropyl acid phosphate), BHT (2,6-di-tert-butyl-4-methylphenol), BHA (2-tert- And a mixture of butyl-4-methoxyphenol and 3-tert-butyl-4-methoxyphenol).

樹脂製剤の基材としては、例えば塩化ビニル系重合体、ポリウレタンを挙げることができ、これらの基材には必要によりフタル酸エステル類(フタル酸ジメチル、フタル酸ジオクチル等)、アジピン酸エステル類、ステアリン酸等の可塑剤が添加されていてもよい。樹脂製剤は、一般的な混練装置を用いて該基材中に本ピリダジン化合物及び本化合物を練り込んだ後、射出成型、押出成型、プレス成型等の成型を行うことにより得られ、必要により更に成型、裁断等の加工工程を経て、板状、フィルム状、テープ状、網状、ひも状等の形状の樹脂製剤に加工できる。これらの樹脂製剤は、例えば動物用首輪、動物用イヤータッグ、シート製剤、誘引ひも、園芸用支柱に加工される。
毒餌の基材としては、例えば穀物粉、植物油、糖、結晶セルロースが挙げられ、更に必要に応じて、ジブチルヒドロキシトルエン、ノルジヒドログアイアレチン酸等の酸化防止剤、デヒドロ酢酸等の保存料、トウガラシ末等の子供やペットによる誤食防止剤、チーズ香料、タマネギ香料ピーナッツオイル等の害虫誘引性香料等が添加される。
Examples of the base material of the resin preparation include vinyl chloride polymers and polyurethanes. These base materials include phthalic acid esters (dimethyl phthalate, dioctyl phthalate, etc.), adipic acid esters, if necessary. A plasticizer such as stearic acid may be added. The resin formulation is obtained by kneading the present pyridazine compound and the present compound into the base material using a general kneading apparatus, and then performing molding such as injection molding, extrusion molding, press molding, and the like, if necessary. It can be processed into a resin formulation having a plate shape, a film shape, a tape shape, a net shape, a string shape or the like through processing steps such as molding and cutting. These resin preparations are processed into, for example, animal collars, animal ear tags, sheet preparations, attraction strings, and horticultural supports.
Examples of the bait base include cereal flour, vegetable oil, sugar, crystalline cellulose, and, if necessary, antioxidants such as dibutylhydroxytoluene and nordihydroguaiaretic acid, preservatives such as dehydroacetic acid, Additives such as chili powder and other food accident prevention agents for children and pets, cheese flavor, onion flavor, peanut oil and other pest-attracting flavors.

本発明組成物における、本ピリダジン化合物と本化合物との含有割合は、特に限定されるものではないが、本ピリダジン化合物と前記群(a)より選ばれる1種以上の化合物との含有量の比は、好ましくは、重量比で100:1〜1:100の範囲であり、特に10:1〜1:10の範囲が好ましく、本ピリダジン化合物と前記群(b)より選ばれる1種以上の化合物との含有量の比は、好ましくは、重量比で10000:1〜1:100の範囲であり、特に1000:1〜1:10の範囲が好ましい。   The content ratio of the present pyridazine compound and the present compound in the composition of the present invention is not particularly limited, but the ratio of the content of the present pyridazine compound and one or more compounds selected from the group (a). Is preferably in the range of 100: 1 to 1: 100 by weight, particularly preferably in the range of 10: 1 to 1:10, and one or more compounds selected from the present pyridazine compounds and the group (b) The content ratio is preferably in the range of 10,000: 1 to 1: 100 by weight, particularly preferably in the range of 1000: 1 to 1:10.

本発明の有害生物防除方法は、本発明組成物の有効量を有害生物に直接、及び/又は、有害生物の生息場所(植物、土壌、家屋内、動物体等)に施用することにより行われる。   The pest control method of the present invention is performed by applying an effective amount of the composition of the present invention to pests directly and / or to pest habitats (plants, soil, households, animal bodies, etc.). .

本発明組成物の施用方法としては、例えば、植物への施用、植物を栽培する土壌への施用、植物種子又は球根への施用が挙げられる。植物への施用としては、植物の茎葉、花器、苗又は穂への施用が挙げられる。植物を栽培する土壌への施用としては、植物を植えつける前又は植えつけた後の土壌への施用が挙げられる。植物種子又は球根への施用としては、種子消毒や種子浸漬、種子コートが挙げられる。また、本ピリダジン化合物及び本化合物は別々に施用してもよく、本ピリダジン化合物及び本化合物のどちらか一方を付着させた種子又は球根を土壌に植えつける前後に、残る一方を土壌に施用してもよい。   Examples of the application method of the composition of the present invention include application to plants, application to soil where plants are cultivated, and application to plant seeds or bulbs. Examples of application to plants include application to plant foliage, flower vases, seedlings or ears. Examples of the application to soil for cultivating plants include application to soil before planting or after planting. Examples of application to plant seeds or bulbs include seed disinfection, seed soaking, and seed coating. In addition, this pyridazine compound and this compound may be applied separately, and before and after seeding or seeding bulbs to which either the present pyridazine compound or this compound is attached to the soil, the remaining one is applied to the soil. Also good.

植物の茎葉、花器、苗又は穂への施用としては、具体的には、茎葉散布、樹幹散布等の植物の表面に施用する施用方法が挙げられ、また、開花前、開花中、開花後を含む開花時期における花器あるいは植物全体に散布する方法が挙げられ、また、穀物等おいては出穂時期の穂あるいは植物全体に散布する方法が挙げられる。   Specific examples of application to plant foliage, flower vases, seedlings or ears include application methods applied to the surface of plants such as foliage spray, trunk spray, and the like. Examples include a method of spraying the entire vase or the whole plant at the flowering time, and a method of spraying the head or the whole plant at the heading time for cereals.

また、植物を植えつける前又は植えつけた後の土壌への施用方法は、例えば、有害生物による摂食等の被害から保護しようとする作物の根圏に本発明組成物を施用して有害生物を直接防除する方法、又は根部等から植物体内部に本ピリダジン化合物及び本化合物を浸透移行させて、植物を摂食等する有害生物を防除する方法である。
具体的には、例えば、植穴処理(植穴散布、植穴処理土壌混和)、株元処理(株元散布、株元土壌混和、株元灌注、育苗期後半株元処理)、植溝処理(植溝散布、植溝土壌混和)、作条処理(作条散布、作条土壌混和、生育期作条散布)、播種時作条処理(播種時作条散布、播種時作条土壌混和)、全面処理(全面土壌散布、全面土壌混和)、側条処理、水面処理(水面施用、湛水後水面施用)、その他土壌散布処理(生育期粒剤葉面散布、樹冠下又は主幹周辺散布、土壌表面散布、土壌表面混和、播穴散布、畦部地表面散布、株間散布)、その他灌注処理(土壌灌注、育苗期灌注、薬液注入処理、地際部灌注、薬液ドリップイリゲーション、ケミゲーション)、育苗箱処理(育苗箱散布、育苗箱灌注、育苗箱薬液湛水)、育苗トレイ処理(育苗トレイ散布、育苗トレイ灌注、育苗トレイ薬液湛水)、苗床処理(苗床散布、苗床灌注、水苗代苗床散布、苗浸漬)、床土混和処理(床土混和、播種前床土混和、播種時覆土前散布、播種時覆土後散布、覆土混和)、その他処理(培土混和、鋤き込み、表土混和、雨落ち部土壌混和、植位置処理、粒剤花房散布、ペースト肥料混和)が挙げられる。
In addition, the method of applying to the soil before or after planting is, for example, by applying the composition of the present invention to the rhizosphere of a crop to be protected from damage such as feeding by pests. Or a method of controlling pests such as feeding plants by osmotic transfer of the present pyridazine compound and the present compound from the root to the inside of the plant body.
Specifically, for example, planting treatment (planting hole spraying, planting hole treatment soil mixing), plant source processing (stock source spraying, strain source soil mixing, strain source irrigation, late seedling stage plant source processing), planting groove processing (Groove spraying, grooving soil admixture), cropping treatment (growing sprinkling, cropping soil blending, growing season cropping spraying), sowing cropping treatment (sowing cropping spraying, sowing cropping soil blending) , Whole surface treatment (overall soil application, whole surface soil admixture), side strip treatment, water surface treatment (water surface application, water surface application after submergence), other soil application treatment (growth season foliar leaf surface application, under the crown or around the trunk, Soil surface spraying, soil surface mixing, sowing hole spraying, buttocks ground surface spraying, inter-strain spraying), and other irrigation treatments (soil irrigation, seedling irrigation, chemical solution injection treatment, local irrigation, chemical drip irrigation, chemical ligation), Nursery box processing (nursery box spraying, seedling box irrigation, seedling box chemical solution watering), seedling tray processing ( Seedling tray spraying, seedling tray irrigation, seedling tray chemical solution flooding), seedling treatment (seedbed spraying, seedbed irrigation, water seedling substitute seedbed spraying, seedling soaking), bed soil mixing treatment (bed soil mixing, bed soil mixing before sowing, seeding) Application before soil covering, after soil covering after seeding, mixing with soil covering) and other treatments (mixing soil, mixing, topsoil mixing, rain soil mixing, planting position treatment, granule inflorescence spraying, paste fertilizer mixing).

本発明において、植物種子とは、土壌又は栽培する培地に播種する前の状態の植物の種子を意味し、球根とは、土壌あるいは栽培する培地に植付ける前の状態の植物の鱗茎、球茎、塊茎、根茎、茎断片、種芋及び塊根を意味する。本発明組成物を植物種子又は球根に施用する方法は、例えば、有害生物による摂食等の被害から保護しようとする植物種子もしくは球根に直接本発明組成物を施用して有害生物を防除する方法;植物種子もしくは球根の近傍に本発明組成物を施用して、種子等を摂食等する有害生物を防除する方法;又は植物種子もしくは球根から植物体内部に本ピリダジン化合物及び本化合物を浸透移行させて、植物を摂食等する有害生物を防除する方法であり、具体的には、例えば、吹きつけ処理、塗沫処理、浸漬処理、含浸処理、塗布処理、フィルムコート処理、ペレットコート処理が挙げられる。本発明の植物種子又は球根は、これらの方法により本発明組成物の有効量を付着させて得られる植物種子又は球根であり、本発明組成物の有効量を保持している。
本発明組成物を植物種子又は球根に施用する場合、本ピリダジン化合物の施用量は、植物種子又は球根1kgあたり、通常0.001〜100g、好ましくは0.02〜20gであり、本化合物の施用量は、植物種子又は球根1kgあたり、通常0.000001〜50g、好ましくは0.0001〜30gである。
In the present invention, the plant seed means plant seed in a state before being sown in the soil or the culture medium, and the bulb is a bulb of the plant in a state before being planted in the soil or the culture medium. It means tubers, rhizomes, stem fragments, seed pods and tuberous roots. The method of applying the composition of the present invention to plant seeds or bulbs is, for example, a method of controlling pests by applying the composition of the present invention directly to plant seeds or bulbs to be protected from damage such as feeding by pests. A method for controlling pests that feed on seeds and the like by applying the composition of the present invention in the vicinity of plant seeds or bulbs; or osmotic transfer of the pyridazine compound and the compound from the plant seeds or bulbs into the plant body; It is a method for controlling pests such as feeding plants, specifically, for example, spraying treatment, smearing treatment, dipping treatment, impregnation treatment, coating treatment, film coating treatment, pellet coating treatment Can be mentioned. The plant seed or bulb of the present invention is a plant seed or bulb obtained by attaching an effective amount of the composition of the present invention by these methods, and retains an effective amount of the composition of the present invention.
When the composition of the present invention is applied to plant seeds or bulbs, the amount of the pyridazine compound applied is usually 0.001 to 100 g, preferably 0.02 to 20 g, per 1 kg of plant seeds or bulbs. The dose is usually 0.000001-50 g, preferably 0.0001-30 g per kg of plant seeds or bulbs.

本発明組成物が効力を有する有害生物としては、例えば、有害昆虫類、有害ダニ類、有害線虫類、並びに、糸状菌及び細菌等の植物病原菌が挙げられる。かかる有害生物としては、具体的には例えば、以下のものが挙げられる。   Examples of the pests for which the composition of the present invention is effective include harmful insects, harmful mites, harmful nematodes, and phytopathogenic fungi such as filamentous fungi and bacteria. Specific examples of such pests include the following.

半翅目害虫:ヒメトビウンカ(Laodelphax striatellus)、トビイロウンカ(Nilaparvata lugens)、セジロウンカ(Sogatella furcifera)、トウモロコシウンカ(Peregrinus maidis)等のウンカ類;ツマグロヨコバイ(Nephotettix cincticeps)、タイワンツマグロヨコバイ(Nephotettix virescens)、Rice green leafhopper(Nephotettix nigropictus)、イナズマヨコバイ(Recilia dorsalis)、チャノミドリヒメヨコバイ(Empoasca onukii)、ポテトリーフホッパー(Empoasca fabae)、コーンリーフホッパー(Dalbulus maidis)、Sugarcane froghopper(Mahanarva posticata)、Sugarcane root spittlebug(Mahanarva fimbriolota)、シロオオヨコバイ(Cofana spectra)、クロスジツマグロヨコバイ(Nephotettix nigropictus)等のヨコバイ類;ワタアブラムシ(Aphis gossypii)、モモアカアブラムシ(Myzus persicae)、ダイコンアブラムシ(Brevicoryne brassicae)、ユキヤナギアブラムシ(Aphis spiraecola)、チューリップヒゲナガアブラムシ(Macrosiphum euphorbiae)、ジャガイモヒゲナガアブラムシ(Aulacorthum solani)、ムギクビレアブラムシ(Rhopalosiphum padi)、ミカンクロアブラムシ(Toxoptera citricidus)、モモコフキアブラムシ(Hyalopterus pruni)、ダイズアブラムシ(Aphis glycines Matsumura)、トウモロコシアブラムシ(Rhopalosiphum maidis)、オカボノクロアブラムシ(Tetraneura nigriabdominalis)、ブドウネアブラムシ(Viteus vitifoliae)、Grape Phylloxera(Daktulosphaira vitifoliae)、Pecan phylloxera(Phylloxera devastatrix Pergande)、Pecan leaf phylloxera(Phylloxera notabilis pergande)、Southern pecan leaf phylloxera(Phylloxera russellae Stoetzel)等のアブラムシ類;イネクロカメムシ(Scotinophara lurida)、Malayan rice black bug(Scotinophara coarctata)、アオクサカメムシ(Nezara antennata)、トゲシラホシカメムシ(Eysarcoris parvus)、クサギカメムシ(Halyomorpha mista)、ミナミアオカメムシ(Nezara viridula)、Brown stink bug(Euschistus heros)、Southern green stink bug(Nezara viridula)、Red banded stink bug(Piezodorus guildinii)、Burrower brown bug(Scaptocoris castanea)、Oebalus pugnax、Dichelops melacanthus等のカメムシ類;ホソヘリカメムシ(Riptortus clavetus)、クモヘリカメムシ(Leptocorisa chinensis)、ホソクモヘリカメムシ(Leptocorisa acuta)、Leptocorisa属等のホソヘリカメムシ類;アカヒゲホソミドリカスミカメ(Trigonotylus caelestialium)、アカスジカスミカメ(Stenotus rubrovittatus)、ターニッシュドプラントバグ(Lygus lineolaris)、Chinchi bug(Blissus leucopterus leucopterus)等のカスミカメ類;オンシツコナジラミ(Trialeurodes vaporariorum)、タバココナジラミ(Bemisia tabaci)、ミカンコナジラミ(Dialeurodes citri)、ミカントゲコナジラミ(Aleurocanthus spiniferus)等のコナジラミ類;アカマルカイガラムシ(Aonidiella aurantii)、サンホーゼカイガラムシ(Comstockaspis perniciosa)、シトラススノースケール(Unaspis citri)、ルビーロウムシ(Ceroplastes rubens)、イセリヤカイガラムシ(Icerya purchasi)、フジコナカイガラムシ(Planococcus kraunhiae)、クワコナカイガラムシ(Pseudococcus longispinis)、クワシロカイガラムシ(Pseudaulacaspis pentagona)、タトルミーリーバグ(Brevennia rehi)等のカイガラムシ類;ミカンキジラミ(Diaphorina citri)、ナシキジラミ(Psylla pyrisuga)、ポテトプシリッド(Bactericerca cockerelli)などのキジラミ類;ナシグンバイ(Stephanitis nasi)等のグンバイムシ類;トコジラミ(Cimex lectularius)等のトコジラミ類及びGiant Cicada(Quesada gigas)。   Hemiptera: insects such as Japanese brown planthopper (Laodelphax striatellus), yellow planthopper (Nilaparvata lugens), white-tailed planthopper (Sogatella furcifera), corn planter (Peregrinus maidis); leafhopper green (Nephotettix cincticeps) (Nephotettix nigropictus), Recilia dorsalis, Empoasca onukii, Potato leaf hopper (Empoasca fabae), Corn leaf hopper (Dalbulus maidis), Sugarcane froghopper (Mahanarug bugarcane, Mahanarug bugarcane) ), Leafhoppers (Cofana spectra), leafhoppers such as Nephotettix nigropictus; cotton aphids (Aphis gossypii), peach aphids (Myzus persicae), radish aphids (Brevicoryne) brassicae, Aphis spiraecola, Macrosiphum euphorbiae, Aulacorthum solani, Rhopalosiphum padi, Prix, Citrus aura Soybean aphids (Aphis glycines Matsumura), corn aphids (Rhopalosiphum maidis), brown aphids (Tetraneura nigriabdominalis), grape aphids (Viteus vitifoliae), Grape Phylloxera (Daktulosphaira vitifoliae), Pecan phylloxde (Pakyphylloxdeae) Aphids such as Phylloxera notabilis pergande), Southern pecan leaf phylloxera (Phylloxera russellae Stoetzel); Scotinophara lurida, Malayan rice black bug (Scotinophara coarctata), Aoku Stink bug (Nezara antennata), Togeshiraboshi stink bug (Eysarcoris parvus), Swan bug (Halyomorpha mista), Southern stink bug (Nezara viridula), Brown stink bug (Euschistus heros), Southern green stink bug (Nezara viridula), Red band stagger bug (Nezara viridula) (Piezodorus guildinii), Burrower brown bug (Scaptocoris castanea), Oebalus pugnax, Dichelops melacanthus and other stink bugs; Ganoderma reptiles such as Trigonotylus caelestialium, Stenotus rubrovittatus, Turned plant bug (Lygus lineolaris), Chinchi bug (Blissus leucopterus leucopterus) ) Tobacco Kona Whitefly (Bemisia tabaci), citrus whitefly (Dialeurodes citri), whitefly (Aleurocanthus spiniferus) and other whitefly species; Ceroplastes rubens), Icerya purchasi, Fujico scale insect (Planococcus kraunhiae), stag beetle scale (Pseudococcus longispinis), stag beetle scale (Pseudaulacaspis pentagona), tattle-my-bug Diaphorina citri, Psylla pyrisuga, Bactericerca cockerelli, and other killer whales; Stephanitis nasi and other hornworms; Cimex lectularius Lice acids and Giant Cicada (Quesada gigas).

鱗翅目害虫:ニカメイガ(Chilo suppressalis)、Darkheaded stem borer(Chilo polychrysus)、サンカメイガ(Tryporyza incertulas)、シロメイチュウ(Scirpophaga innotata)、Yellow stem borer(Scirpophaga incertulas)、Pink borer(Sesamia inferens)、Rupela albinella、コブノメイガ(Cnaphalocrocis medinalis)、Rice leafroller(Marasmia patnalis)、イネタテハマキ(Marasmia exigua)、ワタノメイガ(Notarcha derogata)、ノシメマダラメイガ(Plodia interpunctella)、アワノメイガ(Ostrinia furnacalis)、ハイマダラノメイガ(Hellula undalis)、シバツトガ(Pediasia teterrellus)、ライスケースワーム(Nymphula depunctalis)、Marasmia属、Hop vine borer(Hydraecia immanis)、European corn borer(Ostrinia nubilalis)、Lesser cornstalk borer(Elasmopalpus lignosellus)、Bean Shoot Borer(Epinotia aporema)、Sugarcane borer(Diatraea saccharalis)、Giant Sugarcane borer(Telchin licus)等のメイガ類;ハスモンヨトウ(Spodoptera litura)、シロイチモジヨトウ(Spodoptera exigua)、アワヨトウ(Pseudaletia separata)、ヨトウガ(Mamestra brassicae)、イネヨトウ(Sesamia inferens)、シロナヨトウ(Spodoptera mauritia)、ツマジロクサヨトウ(Spodoptera frugiperda)、アフリカシロナヨトウ(Spodoptera exempta)、タマナヤガ(Agrotis ipsilon)、タマナギンウワバ(Plusia nigrisigna)、Soybean looper(Pseudoplusia includens)、トリコプルシア属、タバコガ(Heliothis virescens)等ヘリオティス属、オオタバコガ(Helicoverpa armigera)等ヘリコベルパ属、Velvetbean caterpillar(Anticarsia gammatalis)、Cotton leafworm(Alabama argillacea)等のヤガ類;モンシロチョウ(Pieris rapae)等のシロチョウ類;アドキソフィエス属、ナシヒメシンクイ(Grapholita molesta)、マメシンクイガ(Leguminivora glycinivorella)、アズキサヤムシガ(Matsumuraeses azukivora)、リンゴコカクモンハマキ(Adoxophyes orana fasciata)、チャノコカクモンハマキ(Adoxophyes honmai.)、チャハマキ(Homona magnanima)、ミダレカクモンハマキ(Archips fuscocupreanus)、コドリンガ(Cydia pomonella)等のハマキガ類;チャノホソガ(Caloptilia theivora)、キンモンホソガ(Phyllonorycter ringoneella)のホソガ類;モモシンクイガ(Carposina niponensis)、Citrus fruit borer(Ecdytolopha aurantiana)等のシンクイガ類;Coffee Leaf miner(Leucoptera coffeela)、リオネティア属等のハモグリガ類;リマントリア属、ユープロクティス属等のドクガ類;コナガ(Plutella xylostella)等のスガ類;ワタアカミムシ(Pectinophora gossypiella)ジャガイモガ(Phthorimaea operculella)等のキバガ類;アメリカシロヒトリ(Hyphantria cunea)等のヒトリガ類。   Lepidopterous insects: Chilo suppressalis, Darkheaded stem borer (Chilo polychrysus), Sankameiga (Tryporyza incertulas), Shiromecho (Scirpophaga innotata), Yellow stem borer (Scirpophaga incertulas), Pink borer (Sellaamiupela, alga (Cnaphalocrocis medinalis), Rice leafroller (Marasmia patnalis), Inasoteki maki (Marasmia exigua), Noarcha derogata, Plodia interpunctella, Ostrinia furnacalis unai tia (Ostrinia furnacalis) ), Rice case worm (Nymphula depunctalis), Marasmia genus, Hop vine borer (Hydraecia immanis), European corn borer (Ostrinia nubilalis), Lesser cornstalk borer (Elasmopalpus lignosellus), Bean Shoot Borer (Epinotia atraanes borer (Epinotia atramaeas) ), Giant Sugarcane bor er (Telchin licus), etc .; Spodoptera litura, Spodoptera exigua, Pseudaletia separata, Mamestra brassicae, Sesamia inferens, Spodamia opt (Spodoptera frugiperda), Spodoptera exempta, Agrotis ipsilon, Tamanagiwawa (Plusia nigrisigna), Soybean looper (Pseudoplusia includens), Trichopulcia, Heliothis virescens Species of the genus Helicoberpa, Velvetbean caterpillar (Anticarsia gammatalis), Cotton leafworm (Alabama argillacea) and other moths; White butterflies such as Pieris rapae; Adoxofies genus, Grapholita molesta, Leguminivora glycinivorella), Azukisayamushiga (Matsumuraeses azukivora), apple Coca summer fruit tortrix (Adoxophyes orana fasciata), smaller tea tortrix (Adoxophyes honmai. ), Chamonaki (Homona magnanima), Midchipakumumonaki (Archips fuscocupreanus), Codlinga (Cydia pomonella), etc .; Sink moths such as borer (Ecdytolopha aurantiana); Coffee leaf miner (Leucoptera coffeela); gossypiella) Potatoes such as potato moth (Phthorimaea operculella); Hitorigers such as Hyphantria cunea.

総翅目害虫:ミカンキイロアザミウマ(Frankliniella occidentalis)、ミナミキイロアザミウマ(Thrips parmi)、チャノキイロアザミウマ(Scirtothrips dorsalis)、ネギアザミウマ(Thrips tabaci)、ヒラズハナアザミウマ(Frankliniella intonsa)、ウェスタンフラワースリップス(Frankliniella occidentalis)、イネクダアザミウマ(Haplothrips aculeatus)、イネアザミウマ(Stenchaetothrips biformis)等のアザミウマ類。   Common pests: Citrus thrips (Frankliniella occidentalis), Southern thrips (Thrips parmi), Scirtothrips dorsalis, Thrips tabaci, identifica ella Thrips such as the rice thrips (Haplothrips aculeatus) and the rice thrips (Stenchaetothrips biformis).

双翅目害虫:タネバエ(Delia platura)、タマネギバエ(Delia antiqua)、シュガービートルートマゴット(Tetanops myopaeformis)等のハナバエ類;イネハモグリバエ(Agromyza oryzae)、イネヒメハモグリバエ(Hydrellia griseola)、トマトハモグリバエ(Liriomyza sativae)、マメハモグリバエ(Liriomyza trifolii)、ナモグリバエ(Chromatomyia horticola)等のハモグリバエ類;イネキモグリバエ(Chlorops oryzae)等のキモグリバエ類;ウリミバエ(Dacus cucurbitae)、チチュウカイミバエ(Ceratitis capitata)等のミバエ類;トウヨウイネクキミギワバエ(Hydrellia philippina)イネクキミギワバエ(Hydrellia sasakii)等のミギワバエ類;ショウジョウバエ類、オオキモンノミバエ(Megaselia spiracularis)等のノミバエ類;オオチョウバエ(Clogmia albipunctata)等のチョウバエ類;クロバネキノコバエ類;ヘシアンバエ(Mayetiola destructor)、イネノシントメタマバエ(Orseolia oryzae)等のタマバエ類;Diopsis macrophthalma等のシュモクバエ類;Common cranefly(Tipula oleracea)、European cranefly(Tipula paludosa)等のガガンボ類。   Diptera: insect fly (Delia platura), onion fly (Delia antiqua), sugar beet root maggot (Tetanops myopaeformis) and other species; Agromyza oryzae; ), Leafworms (Liriomyza trifolii), leafworms (Chromatomyia horticola), etc .; leafhoppers (Chlorops oryzae), etc .; (Hydrellia philippina) Hydrellia sasakii, etc .; Drosophila, Drosophila, Drosophila, such as Megaselia spiracularis; Drosophila, such as Clogmia albipunctata; Fly flies; fly flies such as Heyetiola destructor and Oreseolia oryzae; hammer fly such as Diopsis macrophthalma; common cranefly (Tipula oleracea) and crane fly such as European cranefly (Tipula paludosa).

鞘翅目害虫:ウエスタンコーンルートワーム(Diabrotica virgifera virgifera)、サザンコーンルートワーム(Diabrotica undecimpunctata howardi)、ノザンコーンルートワーム(Diabrotica barberi)、メキシカンコーンルートワーム(Diabrotica virgifera zeae)、バンデッドキューカンバービートル(Diabrotica balteata LeConte)、サンアントニオビートル(Diabrotica speciosa)、Cucurbit Beetle(Diabrotica speciosa)、ビーンリーフビートル(Cerotoma trifurcata)、シリアルリーフビートル(Oulema melanopus)、ウリハムシ(Aulacophora femoralis)、キスジノミハムシ(Phyllotreta striolata)、コロラドハムシ(Leptinotarsa decemlineata)、イネドロオイムシ(Oulema oryzae)、グレープ・コラスピス(Colaspis brunnea)、コーン・フレアビートル(Chaetocnema pulicaria)、ポテト・フレアビートル(Epitrix cucumeris)、イネトゲハムシ(Dicladispa armigera)、Seedcorn beetle(Stenolophus lecontei)、Slender seedcorn beetle(Clivinia impressifrons)等のハムシ類;ドウガネブイブイ(Anomala cuprea)、ヒメコガネ(Anomala rufocuprea)、マメコガネ(Popillia japonica)、European Chafer(Rhizotrogus majalis)、carrot beetle(Bothynus gibbosus)、Grape Colaspis(Colaspis brunnea)、southern Corn leaf beetle(Myochrous denticollis)、Holotrichia属、ジューン・ビートル(Phyllophaga crinita)などPhyllophaga属等のコガネムシ類;コクゾウムシ(Sitophilus zeamais)、イネゾウムシ(Echinocnemus squameus)、イネミズゾウムシ(Lissorhoptrus oryzophilus)、シバオサゾウムシ(Sphenophorus venatus)等のイネゾウムシ類;ワタミゾウムシ(Anthonomus grandis)、Southern Corn Billbug(Sphenophorus callosus)、Soybean stalk weevil(Sternechus subsignatus)及びSphenophorus levis等Sphenophorus属等のゾウムシ類;ニジュウヤホシテントウ(Epilachna vigintioctopunctata)等のエピラクナ類;ヒラタキクイムシ(Lyctus brunneus)、マツノキクイムシ(Tomicus piniperda)等のキクイムシ類;ナガシンクイムシ類;ヒョウホンムシ類;ゴマダラカミキリ(Anoplophora malasiaca)、Migdolus fryanus等のカミキリムシ類;オキナワカンシャクコメツキ(Melanotus okinawensis)、トビイロムナボソコメツキ(Agriotes ogurae fuscicollis)、クシコメツキ(Melanotus legatus)等のコメツキムシ類(Agriotes sp.、Aelous sp.、Anchastus sp.、Melanotus sp.、Limonius sp.、Conoderus sp.、Ctenicera sp.);アオバアリガタハネカクシ(Paederus fuscipes)等のハネカクシ類及びCoffee Berry Borer(Hypothenemus hampei)。   Coleoptera: Western corn root worm (Diabrotica virgifera virgifera), Southern corn root worm (Diabrotica undecimpunctata howardi), Northern corn root worm (Diabrotica barberi), Mexican corn root worm (Diabrotica virgifera zeae), Banded cucumber bar balte (Teabrotte balte) ), San Antonio beetle (Diabrotica speciosa), Cucurbit Beetle (Diabrotica speciosa), bean leaf beetle (Cerotoma trifurcata), cereal leaf beetle (Oulema melanopus), cucumber leaf beetle (Aulacophora femoralis), pheasant leaf beetle (Phyllotreta dectriata decrimata) ), Oedema oryzae, Colaspis brunnea, Chaetocnema pulicaria, Potato flare beetle (Epitrix cucumeris), Leaf beetles (Dicladispa armigera), Seedcorn beetle (Stenolophus lecontei), Slender seedcorn beetle (Clivinia impressifrons), etc .; Carrot beetle (Bothynus gibbosus), Grape Colaspis (Colaspis brunnea), southern Corn leaf beetle (Myochrous denticollis), Holotrichia genus, June beetle (Phyllophaga crinita), etc. squameus), rice weevil (Lissorhoptrus oryzophilus), weevil weevil (Sphenophorus venatus), etc .; Weevil species such as us; Epiracunas such as Epilachna vigintioctopunctata; Stemworms such as Lyctus brunneus; Tomicus piniperda; ), Migdolus fryanus, etc .; Okinawa beetle (Melanotus okinawensis); Melanotus sp., Limonius sp., Conoderus sp., Ctenicera sp.);

直翅目害虫:トノサマバッタ(Locusta migratoria)、ケラ(Gryllotalpa africana)、モロッコトビバッタ(Dociostaurus maroccanus)、オーストラリアトビバッタ(Chortoicetes terminifera)、アカトビバッタ(Nomadacris septemfasciata)、Brown Locust(Locustana pardalina)、Tree Locust(Anacridium melanorhodon)、Italian Locust(Calliptamus italicus)、Differential grasshopper(Melanoplus differentialis)、Two striped grasshopper(Melanoplus bivittatus)、Migratory grasshopper(Melanoplus sanguinipes)、Red-Legged grasshopper(Melanoplus femurrubrum)、Clearwinged grasshopper(Camnula pellucida)、サバクワタリバッタ(Schistocerca gregaria)、Yellow-winged locust(Gastrimargus musicus)、Spur-throated locust(Austracris guttulosa)、コバネイナゴ(Oxya yezoensis)、ハネナガイナゴ(Oxya japonica)、タイワンツチイナゴ(Patanga succincta)、イエコオロギ(Acheta domesticus)、エンマコオロギ(Teleogryllus emma)、Mormon cricket(Anabrus simplex)等。   Insect pests: Locusta migratoria, Gryllotalpa africana, Moroccan grasshopper (Dociostaurus maroccanus), Australian grasshopper (Chortoicetes terminifera), Red locust (Nomadacris septemfasciata), Brown pardal (ust) melanorhodon), Italian Locust (Calliptamus italicus), Differential grasshopper (Melanoplus differentialis), Two striped grasshopper (Melanoplus bivittatus), Migratory grasshopper (Melanoplus sanguinipes), Red-Legged grasshopper (Melanoplus femurrubrum), Clearwingpel grass Grasshopper (Schistocerca gregaria), Yellow-winged locust (Gastrimargus musicus), Spur-throated locust (Austracris guttulosa), Spotted eel (Oxya yezoensis), Spotted eel (Oxya japonica), Thai winged locust (Patanga succitames) ticus), Emmacrickets (Teleogryllus emma), Mormon cricket (Anabrus simplex), etc.

膜翅目害虫:カブラハバチ(Athalia rosae)、ニホンカブラバチ(Athalia japonica)等のハバチ類;ファイアーアント類;Brown leaf-cutting ant(Atta capiguara)等のハキリアリ類。
ゴキブリ目害虫:チャバネゴキブリ(Blattella germanica)、クロゴキブリ(Periplaneta fuliginosa)、ワモンゴキブリ(Periplaneta americana)、トビイロゴキブリ(Periplaneta brunnea)、トウヨウゴキブリ(Blatta orientalis)。
Hymenopteran pests: bees such as Athalia rosae and Athalia japonica; fire ants;
Cockroach insects: German cockroach (Blattella germanica), Black cockroach (Periplaneta fuliginosa), American cockroach (Periplaneta americana), Great cockroach (Periplaneta brunnea), Great cockroach (Blatta orientalis).

シロアリ目害虫:ヤマトシロアリ(Reticulitermes speratus)、イエシロアリ(Coptotermes formosanus)、アメリカカンザイシロアリ(Incisitermes minor)、ダイコクシロアリ(Cryptotermes domesticus)、タイワンシロアリ(Odontotermes formosanus)、コウシュンシロアリ(Neotermes koshunensis)、サツマシロアリ(Glyptotermes satsumensis)、ナカジマシロアリ(Glyptotermes nakajimai)、カタンシロアリ(Glyptotermes fuscus)、コダマシロアリ(Glyptotermes kodamai)、クシモトシロアリ(Glyptotermes kushimensis)、オオシロアリ(Hodotermopsis sjostedti)、コウシュウイエシロアリ(Coptotermes guangzhoensis)、アマミシロアリ(Reticulitermes amamianus)、ミヤタケシロアリ(Reticulitermes miyatakei)、カンモンシロアリ(Reticulitermes kanmonensis)、タカサゴシロアリ(Nasutitermes takasagoensis)、ニトベシロアリ(Pericapritermes nitobei),ムシャシロアリ(Sinocapritermes mushae)、Cornitermes cumulans等。   Termite insect pests: Yamato termite (Reticulitermes speratus), termite (Coptotermes formosanus), American white termite (Incisitermes minor), scallop termite (Cryptotermes domesticus), taiwan termite (Odontotermes formosanus), red ant termite (hunsterm termite) Glyptotermes satsumensis, Glyptotermes nakajimai, Gantptotermes fuscus, Glyptotermes kodamai, Guangptotermes kushimensis, Hoptermite amamianus), termite termites (Reticulitermes miyatakei), termites termites (Reticulitermes kanmonensis), termites termites (Nasutitermes takasagoensis), termites termites (Pericap) ritermes nitobei), Sinocapritermes mushae, Cornitermes cumulans, etc.

ダニ類:ナミハダニ(Tetranychus urticae)、カンザワハダニ(Tetranychus kanzawai)、ミカンハダニ(Panonychus citri)、リンゴハダニ(Panonychus ulmi)、オリゴニカス属及びSouthern Turkey spider mites(Brevipalpus phoenicis)等のハダニ類;ミカンサビダニ(Aculops pelekassi)、リュウキュウミカンサビダニ(Phyllocoptruta citri)、トマトサビダニ(Aculops lycopersici)、チャノサビダニ(Calacarus carinatus)、チャノナガサビダニ(Acaphylla theavagrans)、ニセナシサビダニ(Eriophyes chibaensis)、リンゴサビダニ(Aculus schlechtendali)等のフシダニ類;チャノホコリダニ(Polyphagotarsonemus latus)等のホコリダニ類;ミナミヒメハダニ(Brevipalpus phoenicis)等のヒメハダニ類;ケナガハダニ類;フタトゲチマダニ(Haemaphysalis longicornis)、ヤマトチマダニ(Haemaphysalis flava)、タイワンカクマダニ(Dermacentor taiwanicus)、アメリカンイヌカクマダニ(Dermacentor variabilis)、ヤマトマダニ(Ixodes ovatus)、シュルツマダニ(Ixodes persulcatus)、ブラックレッグドチック(Ixodes scapularis)、アメリカキララマダニ(Amblyomma americanum)、オウシマダニ(Boophilus microplus)、クリイロコイタマダニ(Rhipicephalus sanguineus)等のマダニ類;ケナガコナダニ(Tyrophagus putrescentiae)、ホウレンソウケナガコナダニ(Tyrophagus similis)等のコナダニ類;コナヒョウヒダニ(Dermatophagoides farinae)、ヤケヒョウヒダニ(Dermatophagoides ptrenyssnus)等のヒョウヒダニ類;ホソツメダニ(Cheyletus eruditus)、クワガタツメダニ(Cheyletus malaccensis)、ミナミツメダニ(Cheyletus moorei)、イヌツメダニ(Cheyletiella yasguri)等のツメダニ類;ミミヒゼンダニ(Octodectes cynotis)、ヒゼンダニ(Sacroptes scabiei)等のヒゼンダニ類;イヌニキビダニ(Demodex canis)等のニキビダニ類;ズツキダニ類;ササラダニ類;イエダニ(Ornithonyssus bacoti)、トリサシダニ(Ornithonyssus sylvairum)、ワクモ(Dermanyssus gallinae)等のワクモ類;アオツツガムシ(Leptotrombidium akamushi)等のツツガムシ類。
クモ類:カバキコマチグモ(Chiracanthium japonicum)、セアカゴケグモ(Latrodectus hasseltii)等のクモ類等。
唇脚綱類:ゲジ(Thereuonema hilgendorfi)、トビズムカデ(Scolopendra subspinipes)等。
倍脚綱類:ヤケヤスデ(Oxidus gracilis)、アカヤスデ(Nedyopus tambanus)等。
等脚目類:オカダンゴムシ(Armadillidium vulgare)等。
腹足綱類:チャコウラナメクジ(Limax marginatus)、キイロコウラナメクジ(Limax flavus)、 スクミリンゴガイ(Pomacea canaliculata)等。
Ticks: spider mites (Tetranychus urticae), spider mites (Tetranychus kanzawai), citrus spider mites (Panonychus ulmi), spider mites (Southern spider mites (Brevipalpus phoenicis), etc.); Phyllocoptruta citri, Tomato rustic mite (Aculops lycopersici), Chinese rustic mite (Calacarus carinatus), Chinese cabbage mite (Acaphylla theavagrans), Green radish mite (Eriophyes chibaensis), Mite schist ticks Dust mites such as (Polyphagotarsonemus latus); spider mites such as the southern red spider mite (Brevipalpus phoenicis); spider mite; Haemaphysalis longicornis; Tick (Dermacentor taiwanicus), American dog ticks (Dermacentor variabilis), Yamato ticks (Ixodes ovatus), Schulz ticks (Ixodes persulcatus), Black-legged ticks (Ixodes scapularis), American tick ticks (Amblyomma americanum), ophilus tick Ticks such as Rhipicephalus sanguineus; tick such as Tyrophagus putrescentiae; Tyrophagus similis; hey D eruditus), crawfish tick (Cheyletus malaccensis), crayfish tick (Cheyletus moorei), crayfish tick (Cheyletiella yasguri), etc .; Spider mites such as Sacroptes scabiei); Leptotrombidium akamushi).
Spiders: Spiders such as Chiracanthium japonicum and Latrodectus hasseltii.
Lip and limb class: Thereuonema hilgendorfi, Scolopendra subspinipes, etc.
Double-legged class: Japanese red millipede (Oxidus gracilis), Japanese red millipede (Nedyopus tambanus).
Isopods: Armadillidium vulgare, etc.
Gastropoda: Limax marginatus, Limax flavus, Pomacea canaliculata, etc.

線虫類:アフェレンコイデス類(Aphelenchoides sp.)のイネシンガレセンチュウ(Aphelenchoides basseyi);ネグサレセンチュウ類(Pratylenchus sp.)のミナミネグサレセンチュウ(Pratylenchus coffeae)、Pratylenchus brachyurus、ムギネグサレセンチュウ(Pratylenchus neglectus);ネコブセンチュウ類(Meloidogyne sp.)のジャワネコブセンチュウ(Meloidogyne javanica)、サツマイモネコブセンチュウ(Meloidogyne incognita)、キタネコブセンチュウ(Meloidogyne hapla);ヘテロデラ類(Heterodera sp.)のダイズシストセンチュウ(Heterodera glycines);グロボデラ類(Globodera sp.)のジャガイモシストセンチュウ(Globodera rostochiensis)、Rotylenchulus reniformis、イチゴメセンチュウ(Nothotylenchus acris)、ラドフォルス・シミリス(Radopholus similis)、ジチレンクス・ジプサシ(Ditylenchus dipsaci)、チレンクルス・セミペネトランス(Tylenchulus semipenetrans);ロンギドルス類(Longidorus sp.);キシフィネマ類(Xiphinema sp.);トリコドルス類(Trichodorus sp.);ブルサフェレンクス類(Bursaphelenchus sp.)のマツノザイセンチュウ(Bursaphelenchus xylophilus)等。   Nematodes: Aphelenchoides basseyi from Aphelenchoides sp .; Pratylenchus sp., Pratylenchus brachyurus, Pratylenchus brachyurus neglectus); Meloidogyne javanica, Meloidogyne incognita, Meloidogyne hapla; Heterodera sp. (Globodera sp.) Potato cyst nematode (Globodera rostochiensis), Rotylenchulus reniformis, strawberry nematode (Nothotylenchus acris), Radopholus similis, Ditylenchus dipsaci, Tylenchulus semipenetrans; Longidorus sp .; Xiphinema sp .; Trichodorus (Trichodorus sp.); Bursaphelenchus sp. )etc.

植物病原菌:イネのいもち病(Magnaporthe grisea)、ごま葉枯病(Cochliobolus miyabeanus)、紋枯病(Rhizoctonia solani)、馬鹿苗病(Gibberella fujikuroi)、黄化萎縮病(Sclerophthora macrospora);コムギのうどんこ病(Erysiphe graminis)、赤かび病(Fusarium graminearum、F.avenaceum、F.culmorum、Microdochium nivale)、さび病(Puccinia striiformis、P.graminis、P.recondita)、紅色雪腐病(Microdochium nivale, M.majus)、雪腐小粒菌核病(Typhula sp.)、裸黒穂病(Ustilago tritici)、なまぐさ黒穂病(Tilletia caries、T.controversa)、眼紋病(Pseudocercosporella herpotrichoides)、葉枯病(Septoria tritici)、ふ枯病(Stagonospora nodorum)、黄斑病(Pyrenophora tritici-repentis)、リゾクトニア属菌による苗立枯れ病(Rhizoctonia solani)、立枯病(Gaeumannomyces graminis);オオムギのうどんこ病(Erysiphe graminis)、赤かび病(Fusarium graminearum、F.avenaceum、F.culmorum、Microdochium nivale)、さび病(Puccinia striiformis、P.graminis、P.hordei)、裸黒穂病(Ustilago nuda)、雲形病(Rhynchosporium secalis)、網斑病(Pyrenophora teres)、斑点病(Cochliobolus sativus)、斑葉病(Pyrenophora graminea)、ラムラリア病(Ramularia collo−cygni)、リゾクトニア属菌による苗立枯れ病(Rhizoctonia solani);トウモロコシのさび病(Puccinia sorghi)、南方さび病(Puccinia polysora)、すす紋病(Setosphaeria turcica)、熱帯性さび病)(Physopella zeae)、ごま葉枯病(Cochliobolus heterostrophus)、炭そ病(Colletotrichum graminicola)、グレーリーフスポット病(Cercospora zeae−maydis)、褐斑病(Kabatiella zeae)、ファエオスファエリアリーフスポット病(Phaeosphaeria maydis)、ディプローディア病(Stenocarpella maydis、Stenocarpella macrospora)、ストークロット病(Fusarium graminearum、Fusarium verticilioides、Colletotrichum graminicola)、黒穂病(Ustilago maydis);ワタの炭そ病(Colletotrichum gossypii)、白かび病(Ramularia areola)、黒斑病(Alternaria macrospora、A.gossypii)、Thielaviopsis属菌によるBlack root rot病 (Thielaviopsis basicola);コーヒーのさび病(Hemileia vastatrix)、リーフスポット病(Cercospora coffeicola);ナタネの菌核病(Sclerotinia sclerotiorum)、黒斑病(Alternaria brassicae)、根朽病(Phoma lingam);サトウキビのさび病 (Puccinia melanocephela、Puccinia kuehnii)、黒穂病 (Ustilago scitaminea);ヒマワリさび病 (Puccinia helianthi)、べと病(Plasmopara halstedii);カンキツ類の黒点病(Diaporthe citri)、そうか病(Elsinoe fawcetti)、果実腐敗病(Penicillium digitatum、P.italicum)、疫病 (Phytophthora parasitica、Phytophthora citrophthora);リンゴのモニリア病(Monilinia mali)、腐らん病(Valsa ceratosperma)、うどんこ病(Podosphaera leucotricha)、斑点落葉病(Alternaria alternata apple pathotype)、黒星病(Venturia inaequalis)、炭そ病(Glomerella cingulata)、褐斑病(Diplocarpon mali)、輪紋病(Botryosphaeria berengeriana)、疫病 (Phytophtora cactorum);ナシの黒星病(Venturia nashicola、V.pirina)、黒斑病(Alternaria alternata Japanese pear pathotype)、赤星病(Gymnosporangium haraeanum);モモの灰星病(Monilinia fructicola)、黒星病(Cladosporium carpophilum)、フォモプシス腐敗病(Phomopsis sp.);ブドウの黒とう病(Elsinoe ampelina)、晩腐病(Glomerella cingulata)、うどんこ病(Uncinula necator)、さび病(Phakopsora ampelopsidis)、ブラックロット病(Guignardia bidwellii)、べと病(Plasmopara viticola);カキの炭そ病(Gloeosporium kaki)、落葉病(Cercospora kaki、Mycosphaerella nawae);ウリ類の炭そ病(Colletotrichum lagenarium)、うどんこ病(Sphaerotheca fuliginea)、つる枯病(Didymella bryoniae)、褐斑病(Corynespora cassiicola)、つる割病(Fusarium oxysporum)、べと病(Pseudoperonospora cubensis)、疫病(Phytophthora sp.)、苗立枯病(Pythium sp.);トマトの輪紋病(Alternaria solani)、葉かび病(Cladosporium fulvum)、すすかび病(Pseudocercospora fuligena)、疫病(Phytophthora infestans)、うどんこ病(Leveillula taurica);ナスの褐紋病(Phomopsis vexans)、うどんこ病(Erysiphe cichoracearum);アブラナ科野菜の黒斑病(Alternaria japonica)、白斑病(Cercosporella brassicae)、根こぶ病(Plasmodiophora brassicae)、べと病(Peronospora parasitica);ネギのさび病(Puccinia allii);ダイズの紫斑病(Cercospora kikuchii)、黒とう病(Elsinoe glycines)、黒点病(Diaporthe phaseolorum var.sojae)、さび病(Phakopsora pachyrhizi)、褐色輪紋病(Corynespora cassiicola)、炭疽病(Colletotrithum glycines、C.truncatum)、葉腐病(Rhizoctonia solani)、褐紋病(Septoria glycines)、斑点病(Cercospora sojina)、菌核病(Sclerotinia sclerotiorum)、うどんこ病(Microsphaera diffusa)、茎疫病 (Phytophthora sojae)、べと病(Peronospora manshurica)、突然死病(Fusarium virguliforme);インゲンの、菌核病(Sclerotinia sclerotiorum)、さび病(Uromyces appendiculatus)、角斑病(Phaeoisariopsis griseola)、炭そ病(Colletotrichum lindemthianum)、;ラッカセイの黒渋病(Cercospora personata)、褐斑病(Cercospora arachidicola)、白絹病(Sclerotium rolfsii);エンドウのうどんこ病(Erysiphe pisi);ジャガイモの夏疫病(Alternaria solani)、疫病(Phytophthora infestans)、緋色腐敗病 (Phytophthora erythroseptica)、粉状そうか病 (Spongospora subterranean f.sp.subterranea)、半身萎凋病(Verticillium albo−atrum、V.dahliae、V.nigrescens);イチゴのうどんこ病(Sphaerotheca humuli);チャの網もち病(Exobasidium reticulatum)、白星病(Elsinoe leucospila)、輪斑病(Pestalotiopsis sp.)、炭そ病(Colletotrichum theae−sinensis);タバコの赤星病(Alternaria longipes)、炭そ病(Colletotrichum tabacum)、べと病(Peronospora tabacina)、疫病(Phytophthora nicotianae);テンサイの褐斑病(Cercospora beticola)、葉腐病(Thanatephorus cucumeris)、根腐病(Thanatephorus cucumeris)、黒根病(Aphanomyces cochlioides);バラの黒星病(Diplocarpon rosae)、うどんこ病(Sphaerotheca pannosa);キクの褐斑病(Septoria chrysanthemi−indici)、白さび病(Puccinia horiana);タマネギの白斑葉枯病(Botrytis cinerea、B.byssoidea、B.squamosa)、灰色腐敗病(Botrytis alli)、小菌核性腐敗病(Botrytis squamosa);種々の作物の灰色かび病(Botrytis cinerea)、菌核病(Sclerotinia sclerotiorum);ダイコン黒斑病(Alternaria brassicicola);シバのダラースポット病(Sclerotinia homeocarpa)、シバのブラウンパッチ病およびラージパッチ病(Rhizoctonia solani);並びにバナナのシガトカ病(Mycosphaerella fijiensis、Mycosphaerella musicola)。
Aspergillus属、Penicillium属、Fusarium属、Gibberella属、Tricoderma属、Thielaviopsis属、Rhizopus属、Mucor属、Corticium属、Phoma属、Rhizoctonia属、及びDiplodia属菌等によって引き起こされる、各種作物の種子病害又は生育初期の病害。Polymixa属又はOlpidium属等によって媒介される各種作物のウイルス病。
イネの苗立枯細菌病(Burkholderia plantarii);キュウリの斑点細菌病(Pseudomonas syringae pv.Lachrymans);ナスの青枯病(Ralstonia solanacearum)、カンキツのかいよう病(Xanthomonas citiri);ハクサイの軟腐病(Erwinia carotovora)等。
Plant pathogens: Rice blast (Magnaporthe grisea), sesame leaf blight (Cochliobolus miyabeanus), blight (Rhizoctonia solani), idiot seedling (Gibberella fujikuroi), yellow dwarf (Sclerophthora macrospora); wheat udon Disease (Erysiphe graminis), red mold (Fusarium graminearum, F.avenaceum, F.culmorum, Microdochium nivale), rust (Puccinia striiformis, P.graminis, P. recondita), red snow rot (Microdochium nivale, M. majus), Snow rot, Mycobacterium tuberculosis (Typhula sp.), Bare scab (Ustilago tritici), Nagusa scab (Tilletia caries, T. controversa), Eye rot (Pseudocercosporella herpotrichoides), Leaf blight (Septoria tritici) , Dry blight (Stagonospora nodorum), yellow spot (Pyrenophora tritici-repentis), Rhizoctonia solani, blight (Gaeumannomyces graminis); barley powdery mildew (Erysiphe graminis), red Mold disease (Fusar ium graminearum, F.avenaceum, F.culmorum, Microdochium nivale), rust disease (Puccinia striiformis, P.graminis, P.hordei), naked smut (Ustilago nuda), cloud disease (Rhynchosporium secalis), net leaf disease (Pyrenophora) teres), spot disease (Cochliobolus sativus), leafy leaf disease (Pyrenophora graminea), lambaria disease (Ramularia collo-cygni), Rhizoctonia solani (Rhizoctonia solani); corn rust (Puccinia sorghi), southern Rust (Puccinia polysora), soot rot (Setosphaeria turcica), tropical rust (Physopella zeae), sesame leaf blight (Cochliobolus heterostrophus), anthracnose (Colletotrichum graminicola), gray leaf spot (Cercospora zeae- maydis), brown spot disease (Kabatiella zeae), Faeosphaeria reef spot disease (Phaeosphaeria maydis), diplodia disease (Stenocarpella maydis, Stenocarpella macrospora), Stocro Tomato disease (Fusarium graminearum, Fusarium verticilioides, Colletotrichum graminicola), smut (Ustilago maydis); cotton anthracnose (Colletotrichum gossypii), mildew (Ramularia areola), black spot (Alternaria macrospora, A. gossypii), Black root rot disease caused by Thielaviopsis (Thielaviopsis basicola); coffee rust (Hemileia vastatrix); leaf spot disease (Cercospora coffeicola); rape myeloid disease (Sclerotinia sclerotiorum); black spot disease (Alternaria brassicae); Disease (Phoma lingam); sugarcane rust (Puccinia melanocephela, Puccinia kuehnii), smut (Ustilago scitaminea); sunflower rust (Puccinia helianthi), downy mildew (Plasmopara halstedii); citrus black spot tri (Dia) Common scab (Elsinoe fawcetti), fruit rot (Penicillium digitatum, P.italicum), plague (Phytophthora parasitica, Phytophthora citrophthora); apple moniliosis Monilinia mali), rot disease (Valsa ceratosperma), powdery mildew (Podosphaera leucotricha), spotted leaf disease (Alternaria alternata apple pathotype), black spot disease (Venturia inaequalis), anthracnose disease (Glomerella cingulata), brown spot disease (Diplocarpon mali) ), Ringworm (Botryosphaeria berengeriana), plague (Phytophtora cactorum); pear black spot (Venturia nashicola, V.pirina), black spot (Alternaria alternata Japanese pear pathotype), red star (Gymnosporangium haraeanum); peach ash Star disease (Monilinia fructicola), black scab (Cladosporium carpophilum), phomopsis sp. (Phomopsis sp.); Grape black rot (Elsinoe ampelina), late rot (Glomerella cingulata), powdery mildew (Uncinula necator), rust Diseases (Phakopsora ampelopsidis), blacklot disease (Guignardia bidwellii), downy mildew (Plasmopara viticola); oyster anthracnose (Gloeosporium kaki), deciduous disease (Cercospora kaki, Mycosphaerella) nawae); cucurbit (Colletotrichum lagenarium), powdery mildew (Sphaerotheca fuliginea), vine blight (Didymella bryoniae), brown spot (Corynespora cassiicola), vine split (Fusarium oxysporum), downy mildew ( Pseudoperonospora cubensis), plague (Phytophthora sp.), Seedling blight (Pythium sp.); Tomato ring-rot (Alternaria solani), leaf mold (Cladosporium fulvum), subtilis (Pseudocercospora fuligena), plague (Phytophthora) infestans), powdery mildew (Leveillula taurica); eggplant brown spot (Phomopsis vexans), powdery mildew (Erysiphe cichoracearum); cruciferous vegetable black spot (Alternaria japonica), white spot (Cercosporella brassicae), root bump Disease (Plasmodiophora brassicae), downy mildew (Peronospora parasitica); spring onion rust (Puccinia allii); soybean purpura (Cercospora kikuchii), black scab (Elsinoe glycines), black spot (Diaporthe phaseolorum var.sojae) , Rust (Phakopsora pachyrhizi), brown rot (Corynespora cassiicola), anthrax (Colletotrithum glycines, C. truncatum), leaf rot (Rhizoctonia solani), brown rot (Septoria glycines), spot disease (Cercospora sojina) Sclerotinia sclerotiorum, powdery mildew (Microsphaera diffusa), stem rot (Phytophthora sojae), downy mildew (Peronospora manshurica), sudden death (Fusarium virguliforme); kidney bean, Sclerotinia sclerotiorum , Rust disease (Uromyces appendiculatus), horn spot disease (Phaeoisariopsis griseola), anthracnose disease (Colletotrichum lindemthianum), peanut black astringency (Cercospora personata), brown spot disease (Cercospora arachidicola), white silk disease (Sclerotium rolfsii) Pea powdery mildew (Erysiphe pisi); potato summer plague (Alternaria solani), plague (Phytophthora infestans), scarlet rot (Phytophthora erythroseptica), powdery scab (Spongospora) subterranean f.sp.subterranea), half body wilt disease (Verticillium albo-atrum, V.dahliae, V.nigrescens); Strawberry powdery mildew (Sphaerotheca humuli); Cha net rot (Exobasidium reticulatum), white scab (Elsinoe) leucospila), ring spot disease (Pestalotiopsis sp.), anthracnose (Colletotrichum theae-sinensis); tobacco scab (Alternaria longipes), anthracnose (Colletotrichum tabacum), downy mildew (Peronospora tabacina), plague (Phytophthora) nicotianae); brown spot of sugar beet (Cercospora beticola), leaf rot (Thanatephorus cucumeris), root rot (Thanatephorus cucumeris), black root (Aphanomyces cochlioides); rose scab (Diplocarpon rosae) pannosa); brown spot of chrysanthemum (Septoria chrysanthemi-indici), white rust (Puccinia horiana); white leaf blight of onion (Botrytis cinerea, B. byssoidea, B. squamosa), gray rot (Botrytis alli), Sclerotial rot (Botrytis squamosa); various crops of gray mold disease (Botrytis cinerea), mycorrhizal disease (Sclerotinia sclerotiorum); radish black spot disease (Alternaria brassicicola); buckwheat dollar spot disease (Sclerotinia homeocarpa); Large patch disease (Rhizoctonia solani); and banana sigatoka disease (Mycosphaerella fijiensis, Mycosphaerella musicola).
Seed disease or early growth of various crops caused by Aspergillus, Penicillium, Fusarium, Gibberella, Tricoderma, Thielaviopsis, Rhizopus, Mucor, Corticium, Phoma, Rhizoctonia, and Diplodia Disease. Viral diseases of various crops mediated by Polymixa genus or Olpidium genus.
Rice seed blight (Burkholderia plantarii); Cucumber spotted bacterial disease (Pseudomonas syringae pv. Lachrymans); Eggplant blight (Ralstonia solanacearum); Citrus scab (Xanthomonas citiri); carotovora) etc.

対象の有害昆虫、有害ダニ類、有害線虫類及び植物病原菌は、殺虫・殺ダニ剤・殺線虫剤・殺菌剤に薬剤感受性の低下した、又は薬剤抵抗性の発達した昆虫、ダニ類、線虫類、植物病原菌類であってもよい。ただし、薬剤感受性が大幅に低下した、又は薬剤抵抗性が大幅に発達した場合は、その対象となる殺虫・殺ダニ・殺線虫・殺菌剤以外の殺虫・殺ダニ・殺線虫・殺菌剤を含む本発明組成物の使用が望ましい。   Target harmful insects, harmful mites, harmful nematodes and phytopathogenic fungi are insects, mites, insecticides, acaricides, nematicides, fungicides with reduced drug sensitivity or developed drug resistance Nematodes and phytopathogenic fungi may be used. However, if the drug sensitivity is significantly reduced or the drug resistance is greatly developed, insecticidal, acaricidal, nematicidal, bactericidal agents other than the target insecticidal, acaricidal, nematicidal, bactericidal agents The use of a composition of the invention comprising

本発明組成物は、昆虫媒介性ウイルスによる植物病害から植物を保護するためにも用いることができる。   The composition of the present invention can also be used to protect plants from plant diseases caused by insect-borne viruses.

本発明組成物が防除効力を有する昆虫媒介性ウイルスによる植物病害としては、例えば次のものが挙げられる。   Examples of plant diseases caused by insect-borne viruses having the control effect of the composition of the present invention include the following.

イネわい化病(Rice waika virus)、ツングロ病(Rice tungro spherical virus、Rice tungro bacilliform virus)、イネグラッシースタント病(Rice grassy stunt virus)、イネラギッドスタント病(Rice ragged stunt virus)、稲縞葉枯れ病(Rice stripe virus)、黒すじ委縮病(Rice black streaked dwarf virus)、イネ南方黒すじ委縮病(Southern rice black-streaked dwarf virus)、稲こぶ萎縮病(Rice gall dwarf virus)、稲葉枯れ病(Rice hoja blanca virus)、イネ白葉病(White leaf desease of rice)、黄化萎縮病(Yellow dwarf virus)、Red disease(Rice penyakit merah virus)、イネ黄葉病(Rice yellow stunt virus)、トランジトリーイエローイング病(Rice transitory yellowing virus)、イネ黄斑病(Rice Yellow Mottle Virus)、イネえそモザイクウイルス(Rice necrosis mosaic virus)、イネ萎縮病(Rice dwarf stunt virus)、ムギ北地モザイク病(Northern Cereal Mosaic Virus)、オオムギ黄化萎縮病(Barley Yellow Dwarf Virus)、コムギ黄葉病(Wheat yellow dwarf virus )、Oat sterile dwarf(Oat sterile dwarf virus)、Wheat streak mosaic(Wheat streak mosaic virus)、トウモロコシモザイク病(Maize dwarf mosaic virus)、Maize stripe disease(maize stripe tenuivirus)、Maize chlorotic dwarf(Maize chlorotic dwarf virus)、Maize chlorotic mottle(maize chlorotic mottle virus)、Maize rayado fino(maize rayado fino marafivirus)、Corn stunt(Corn stunt spiroplasma)、Maize bushy stunt(Maize bushy stunt phytoplasma)、サトウキビモザイク病(Sugarcane mosaic virus)、ダイズ微斑モザイク病(Soybean mild mosaic virus)、モザイク病(Alfalfa Mosaic Virus、Bean yellow―spot mosaic virus、Soybean mosaic virus、Bean yellow mosaic virus、 Cowpea severe mosaic virus)、ダイズウイルス病(Broad bean wilt virus、 Bean common mosaic virus、 Peanut stunt virus、Southern bean mosaic virus)、ダイズ矮化病(Soybean dwarf luteovirus、Milk-vetch dwarf luteovirus)、Bean-pod mottle(Bean-pod mottle virus)、Brazilian bud blight(Tobbaco streak virus)、Cowpea chlorotic mottle(Cowpea chlorotic mottle)、Mung bean yellow mosaic(Mung bean yellow mosaic virus)、Peanut stripe(Peanut stripe mottle)、Soybean crinkle leaf(Soybean crinkle leaf virus)、Soybean severe stunt(Soybean severe stunt virus)、トマト黄化病(Tomato chlorosis virus)、トマト黄化えそ病(Tomato spotted wilt virus)、トマト黄化葉巻病(Tomato yellow leaf curl virus)、メロン黄化えそ病(Melon yellow spot virus)、カボチャモザイク病(Watermelon mosaic virus)、萎縮病(Cucumber mosaic virus)、ズッキーニ黄斑モザイク病(Zucchini yellow mosaic virus)、カブモザイク病(Turnip mosaic virus)、ウリ類退緑黄化病(Cucurbit chlorotic yellows virus)、退緑斑紋病(Capsicum chlorosis virus)、キュウリ黄化病(Beet pseudo yellows virus)、キク茎えそ病(chrysanthemum stem necrosis virus)、インパチェンスネクロティックスポット病(Impatiens necrotic spot virus)、アイリスイエロースポット(Iris yellow spot virus)、サツマイモ斑紋モザイク病(Sweet potato internal cork virus)、サツマイモ縮葉モザイク病(Sweet potato shukuyo mosaic virus)、Polymixa属又はOlpidium属等によって媒介される各種植物のモザイクウイルス病。   Rice dwarf disease (Rice waika virus), Tundra disease (Rice tungro spherical virus, Rice tungro bacilliform virus), Rice grassy stunt disease (Rice grassy stunt virus), Rice ragged stunt virus, rice stripe leaf blight Diseases (Rice stripe virus), rice black streaked dwarf virus, rice southern black-streaked dwarf virus, rice gall dwarf virus, rice leaf blight ( Rice hoja blanca virus), White leaf desease of rice, Yellow dwarf virus, Red disease (Rice penyakit merah virus), Rice yellow stunt virus, Transition yellowing Disease (Rice transitory yellowing virus), rice yellow disease (Rice Yellow Mottle Virus), rice necrosis mosaic virus, rice dwarf stunt virus, northern wheat mosaic disease (No rthern Cereal Mosaic Virus), Barley Yellow Dwarf Virus, Wheat yellow dwarf virus, Oat sterile dwarf (Oat sterile dwarf virus), Wheat streak mosaic (Wheat streak mosaic virus), corn mosaic Maize dwarf mosaic virus, Maize stripe disease (maize stripe tenuivirus), Maize chlorotic dwarf (Maize chlorotic dwarf virus), Maize chlorotic mottle (maize chlorotic mottle virus), Maize rayado fino (maize rayado fino marafivirus), Corn stunt ( Corn stunt spiroplasma), Maize bushy stunt (Maize bushy stunt phytoplasma), sugarcane mosaic disease (Sugarcane mosaic virus), soybean mild mosaic virus, mosaic disease (Alfalfa Mosaic Virus, Bean yellow-spot mosaic virus, Soybean mosaic virus, Bean yellow mosaic virus, Cowpea severe mosaic virus, Soybean virus disease (Broad bean wilt virus, Bean common mosaic virus, Peanu t stunt virus, Southern bean mosaic virus), soybean dwarf luteovirus, Milk-vetch dwarf luteovirus, Bean-pod mottle (Bean-pod mottle virus), Brazilian bud blight (Tobbaco streak virus), Cowpea chlorotic mottle (Cowpea chlorotic mottle), Mung bean yellow mosaic (Mung bean yellow mosaic virus), Peanut stripe (Peanut stripe mottle), Soybean crinkle leaf (Soybean crinkle leaf virus), Soybean severe stunt (Soybean severe stunt virus), Tomato yellow disease (Tomato chlorosis virus), Tomato spotted wilt virus, Tomato yellow leaf curl virus, Melon yellow spot virus, Pumpkin mosaic disease (Watermelon mosaic virus), dwarf disease (Cucumber mosaic virus), zucchini yellow mosaic virus, turnip mosaic virus, Cucurbit chlorotic yellows virus Capsicum chlorosis virus, Beet pseudo yellows virus, Chrysanthemum stem necrosis virus, Impatiens necrotic spot virus, Iris yellow spot (Iris Yellow spot virus, sweet potato internal cork virus, sweet potato shukuyo mosaic virus, polymixa genus or Olpidium genus, etc.

本発明組成物を有害生物防除に用いる場合、その施用量は、施用時期、施用場所、施用方法等に応じて、広範囲に変えることができるが、一般的には、本ピリダジン化合物と本化合物との合計量は、10,000m2あたり通常1〜10,000gである。本発明組成物が乳剤、水和剤、フロアブル剤等に製剤化される場合は、通常、本ピリダジン化合物と本化合物とは、それらの合計の濃度が0.01〜10,000ppmとなるように水で希釈して施用され、粒剤、粉剤等は、通常、そのまま施用される。 When the composition of the present invention is used for pest control, its application rate can be varied widely depending on the application time, application location, application method, etc., but in general, the present pyridazine compound and the present compound The total amount is usually 1 to 10,000 g per 10,000 m 2 . When the composition of the present invention is formulated into an emulsion, a wettable powder, a flowable agent, etc., the present pyridazine compound and the present compound usually have a total concentration of 0.01 to 10,000 ppm. It is diluted with water and applied, and granules, powders and the like are usually applied as they are.

本発明組成物を使用できる植物としては、例えば次が挙げられる。
トウモロコシ、イネ、コムギ、オオムギ、ライムギ、ライコムギ、エンバク、ソルガム、ワタ、ダイズ、ラッカセイ(ピーナッツ)、サイトウ(インゲンマメ)、ライマメ、アズキ、ササゲ、リョクトウ、ウラドマメ、ベニバナインゲン、タケアズキ、モスビーン、テパリービーン、ソラマメ、エンドウ、ヒヨコマメ、レンズマメ、ルーピン、キマメ、アルファルファ、ソバ、テンサイ、セイヨウアブラナ、ヒマワリ、サトウキビ、タバコ等の農作物、
ナス科野菜(ナス、トマト、ピーマン、トウガラシ、ベルペッパー、ジャガイモ等)、ウリ科野菜(キュウリ、カボチャ、ズッキーニ、スイカ、メロン、スカッシュ等)、アブラナ科野菜(ダイコン、カブ、セイヨウワサビ、コールラビ、ハクサイ、キャベツ、カラシナ、ブロッコリー、カリフラワー等)、キク科野菜(ゴボウ、シュンギク、アーティチョーク、レタス等)、ユリ科野菜(ネギ、タマネギ、ニンニク、アスパラガス等)、セリ科野菜(ニンジン、パセリ、セロリ、アメリカボウフウ等)、アカザ科野菜(ホウレンソウ、フダンソウ等)、シソ科野菜(シソ、ミント、バジル、ラベンダー等)、イチゴ、サツマイモ、ヤマノイモ、サトイモ等の野菜、
仁果類(リンゴ、セイヨウナシ、ニホンナシ、カリン、マルメロ等)、核果類(モモ、スモモ、ネクタリン、ウメ、オウトウ、アンズ、プルーン等)、カンキツ類(ウンシュウミカン、オレンジ、レモン、ライム、グレープフルーツ等)、堅果類(クリ、クルミ、ハシバミ、アーモンド、ピスタチオ、カシューナッツ、マカダミアナッツ等)、液果類(ブルーベリー、クランベリー、ブラックベリー、ラズベリー等)、ブドウ、カキ、オリーブ、ビワ、バナナ、コーヒー、ナツメヤシ、ココヤシ等の果樹、
茶、クワ、花木、街路樹(トネリコ、カバノキ、ハナミズキ、ユーカリ、イチョウ、ライラック、カエデ、カシ、ポプラ、ハナズオウ、フウ、プラタナス、ケヤキ、クロベ、モミノキ、ツガ、ネズ、マツ、トウヒ、イチイ)、花卉、 観葉植物、シバ類、牧草類。
Examples of plants that can use the composition of the present invention include the following.
Corn, rice, wheat, barley, rye, triticale, oat, sorghum, cotton, soybean, groundnut (peanut), cypress (green beans), lentil, azuki bean, cowpea, mung bean, ladamame, safflower beans, bamboo shoots, moss bean, tepareen beans , Peas, chickpeas, lentils, lupines, pigeons, alfalfa, buckwheat, sugar beet, rape, sunflower, sugarcane, tobacco, etc.
Eggplant vegetable (eggplant, tomato, pepper, pepper, bell pepper, potato), cucumber vegetable (cucumber, pumpkin, zucchini, watermelon, melon, squash, etc.), cruciferous vegetable (radish, turnip, horseradish, kohlrabi, Chinese cabbage, cabbage, mustard, broccoli, cauliflower, etc.), Asteraceae vegetables (burdock, garlic, artichoke, lettuce, etc.), liliaceae vegetables (eg, leek, onion, garlic, asparagus), celery family vegetables (carrot, parsley, celery) , American Bow Fu etc.), red crustacean vegetables (spinach, chard, etc.), perilla vegetables (shiso, mint, basil, lavender etc.), vegetables such as strawberry, sweet potato, yam, taro,
Fruits (apples, pears, Japanese pears, quince, quince, etc.), nuclear fruits (peaches, plums, nectarines, ume, sweet cherry, apricots, prunes, etc.), citrus (citrus oranges, oranges, lemons, limes, grapefruits, etc.) , Nuts (chestnuts, walnuts, hazel, almonds, pistachios, cashew nuts, macadamia nuts, etc.), berries (blueberries, cranberries, blackberries, raspberries, etc.), grapes, oysters, olives, loquats, bananas, coffee, dates, Fruit trees such as coconut,
Tea, mulberry, flowering trees, roadside trees (ash, birch, dogwood, eucalyptus, ginkgo, lilac, maple, oak, poplar, redwood, fus, sycamore, zelkova, kurobe, mominoki, tsuga, nezu, pine, spruce, yew), Flower buds, houseplants, ferns, pastures.

前記した植物は、一般的にとして栽培される品種であれば限定されない。かかる品種の植物には、古典的な育種法、又は遺伝子組換え技術により、一つ以上の有用形質が賦与された植物(遺伝子組換え植物)やそれらを交配したスタック品種も含まれる。
かかる有用形質としては、除草剤耐性、害虫耐性、耐病性、ストレス耐性及び油脂の脂肪酸残基組成改変作物などの品質改善が挙げられる。
The above-described plant is not limited as long as it is a variety that is generally cultivated. Such varieties of plants include plants to which one or more useful traits have been conferred by genetic breeding techniques or genetic recombination techniques (genetically modified plants) and stack varieties in which they are crossed.
Such useful traits include herbicide resistance, pest resistance, disease resistance, stress resistance, and quality improvement of fatty acid residue composition modified crops of fats and oils.

かかる遺伝子組換え植物としては、例えば、国際アグリバイオ事業団(INTERNATINAL SERVICE for the ACQUISITION of AGRI−BIOTECH APPLICATIONS, ISAAA)の電子情報サイト中(http://www.isaaa.org/)の遺伝子組換え作物の登録データベース(GM APPROVAL DATABASE)に収載された植物があげられる。より具体的には、遺伝子組換え技術により、環境ストレス耐性、病害耐性、除草剤耐性、害虫耐性等を付与された植物、又は、生長や収量に関する形質、生産物の品質、稔性形質等を改変された植物であってもよい。   Examples of such a genetically modified plant include, for example, genetic recombination in an electronic information site (http://www.isaaa.org/) of the International Agri-Bio Service Company (INTERNATION SERVICE for the ACQUISITION of AGRI-BIOTECH APPLICATIONS, ISAAA). Plants listed in the crop registration database (GM APPROVAL DATABASE) are listed. More specifically, plants that have been given environmental stress resistance, disease resistance, herbicide resistance, pest resistance, etc. by genetic recombination techniques, or traits related to growth and yield, product quality, fertility traits, etc. It may be a modified plant.

遺伝子組換え技術により除草剤耐性を付与された植物には、フルミオキサジン等のプロトポルフィリノーゲンオキシダーゼ(以後PPOと略する)除草剤、イソキサフルトール、メソトリオン等の4−ヒドロキシフェニルピルビン酸ジオキシゲナーゼ(以後HPPDと略する)阻害剤、イマゼタピル、チフェンスルフロンメチル等のアセト乳酸合成酵素(以後ALSと略する)阻害剤、グリホサート等の5−エノールピルビルシキミ酸−3−リン酸シンターゼ(以後EPSPと略する)阻害剤、グルホシネート等のグルタミン合成酵素阻害剤、2,4−D、ジカンバ等のオーキシン型除草剤、ブロモキシニル等の除草剤に対する耐性が遺伝子組換え技術により付与された植物も含まれる。
遺伝子組換え技術により除草剤耐性を付与された植物の例として、アグロバクテリウム菌(Agrobacterium tumefaciens strain CP4)由来のグリホサート耐性型EPSPS遺伝子(CP4 epsps)、バチルス菌(Bacillus licheniformis)由来のグリホサート代謝酵素(グリホサートN−アセチルトランスフェアーゼ)遺伝子をシャッフリング技術によって代謝活性を強化したグリホサート代謝酵素遺伝子(gat4601、gat6421)、オクロバクテラム菌(Ochrobacterum anthropi strain LBAA)由来のグリホサート代謝酵素(グリホサートオキシダーゼ遺伝子、goxv247)、又は、トウモロコシ由来のグリホサート耐性変異を有するEPSPS遺伝子(mepsps、2mepsps)等を1つ以上導入したグリホサート耐性の遺伝子組換え植物がある。トウモロコシ(Zea mays L.)、ダイズ(Glycine max L.)、ワタ(Gossypium hirsutum L.)、テンサイ(Beta vulgaris)、カノーラ(Brassica napus、Brassica rapa)、アルファルファ(Medicago sativa)、バレイショ(Solanum tuberrosum L.)、コムギ(Triticum aestivum)、クリーピングベントグラス(Agrostis stolonifera)等の植物でグリホサート耐性遺伝子組換え品種がある。
いくつかのグリホサート耐性の遺伝子組換え植物は市販されている。例えば、アグロバクテリウム菌由来のグリホサート耐性型EPSPSを発現する遺伝子組換え植物はRoundup Ready(登録商標)を含む商品名で、シャッフリング技術によって代謝活性を強化したバチルス菌由来のグリホサート代謝酵素を発現する遺伝子組換え植物はOptimum(登録商標)GAT(登録商標)、Optimum(登録商標)Gly canola等の商品名で、トウモロコシ由来のグリホサート耐性変異を有するEPSPSを発現する遺伝子組換え植物はGlyTol(登録商標)の商品名で既に販売されている。
同様に、遺伝子組換え技術により除草剤耐性を付与された植物の例として、ストレプトミセス菌(Streptomyces hygroscopicus)由来のグルホシネート代謝酵素であるホスフィノスリシン N−アセチルトランスフェラーゼ(Phosphinothricin N−acetyltransferase、PAT)遺伝子(bar)、ストレプトミセス菌(Streptomyces viridochromogenes)由来のグルホシネート代謝酵素であるホスフィノスリシン N−アセチルトランスフェラーゼ遺伝子(pat)、又は、合成されたpat遺伝子等を導入したグルホシネート耐性の遺伝子組換え植物がある。トウモロコシ、ダイズ、ワタ、カノーラ、イネ(Oryza sativa L.)、テンサイ、チコリ(Cichorium intybus)等の植物でグルホシネート耐性遺伝子組換え品種がある。
いくつかのグルホシネート耐性の遺伝子組換え植物は市販されている。ストレプトミセス菌由来のグルホシネート代謝酵素(bar、pat)を発現する遺伝子組換え植物はLibertyLink(登録商標)を含む商品名で既に販売されている。
同様に、遺伝子組換え技術により除草剤耐性を付与された植物の例として、クレブシエラ菌(Klebsiella pneumoniae subsp. Ozaenae)由来のブロモキシニル代謝酵素であるニトリラーゼ遺伝子(bxn)を導入したブロモキシニル耐性の遺伝子組換え植物がある。カノーラ、ワタ、タバコ(Nicotiana tabacum L.)等の植物でブロモキシニル耐性遺伝子組換え品種が作製され、Navigator(登録商標)canola、又は、BXN(登録商標)を含む商品名ですでに販売されている。
同様に、遺伝子組換え技術により除草剤耐性を付与された植物の例として、選抜マーカーとしてタバコ由来のALS除草剤耐性のALS遺伝子(surB、S4−HrA)を導入した遺伝子組換えカーネーション(Dianthus caryophyllus)がある。また、シロイヌナズナ(Arabidopsis thaliana)由来のALS除草剤耐性型ALS遺伝子を導入した遺伝子組換えアマ(Linum usitatissumum L.)がCDC Triffid Flaxの商品名で開発されている。また、シロイヌナズナ由来のALS除草剤耐性型ALS遺伝子(csr1−2)を導入した遺伝子組換えダイズがCultivance(登録商標)の名前で開発されている。さらに、トウモロコシ由来のALS除草剤耐性型ALS遺伝子(zm−hra)を導入したスルホニルウレア系及びイミダゾリノン系除草剤に耐性の遺伝子組換えトウモロコシや、ダイズ由来のALS除草剤耐性型ALS遺伝子(gm−hra)を導入したスルホニルウレア系除草剤に耐性の遺伝子組換えダイズがある。
同様に、遺伝子組換え技術により除草剤耐性を付与された植物の例として、シュードモナス菌(Pseudomonas fluorescens strain A32)由来のHPPD除草剤耐性型HPPD遺伝子(hppdPFW336)を導入したイソキサフルトール耐性遺伝子組換えダイズや、エンバク(Avena sativa)由来のHPPD遺伝子(avhppd−03)を導入したメソトリオン耐性遺伝子組換えダイズがある。
同様に、遺伝子組換え技術により除草剤耐性を付与された植物の例として、スフィンゴビウム菌(Sphingobium herbicidovorans)由来の2,4−D代謝酵素であるアリルオキシアルカノエートジオキゲナーゼ(aryloxyalkanoate dioxygenase)遺伝子(aad−1)、又は、デルフチア菌(Delftia acidovorans)由来の2,4−D代謝酵素であるアリルオキシアルカノエートジオキゲナーゼ遺伝子(aad−12)を導入した2,4−D耐性の遺伝子組換えトウモロコシ、遺伝子組換えダイズ、遺伝子組換えワタ等があり、その一部はEnlist(登録商標)Maize、Enlist(登録商標)Soybeanの商品名で開発されている。また、ステノトロホモナス菌(Stenotrophomonas maltophilia strain DI−6)由来のジカンバ代謝酵素であるジカンバモノオキシゲナーゼ(Dicamba monooxygenase)遺伝子(dmo)を導入したジカンバ耐性の遺伝子組換えダイズ、遺伝子組換えワタ等がある。
同様に、遺伝子組換え技術により2つ以上の除草剤に耐性を付与された植物の例として、グリホサート及びグルホシネートの両方に耐性である遺伝子組換えワタ、遺伝子組換えトウモロコシがGlyTol(登録商標)LibertyLink(登録商標)、Roundup Ready(登録商標)LibertyLink(登録商標)Maizeの商品名ですでに販売されている。また、グルホシネートと2,4−Dの両方に耐性である遺伝子組換えダイズがEnlist(登録商標)Soybeanの商品名で開発され、グルホシネートと2,4−Dの両方に耐性である遺伝子組換えワタもある。グリホサートとジカンバの両方に耐性である遺伝子組換えダイズがGenuity(登録商標)Roundup Ready(登録商標)2 Xtend(登録商標)の商品名で開発されている。グリホサート及びALS阻害剤の両方に耐性である遺伝子組換えトウモロコシ、ダイズがOptimum(登録商標)GAT(登録商標)の商品名で開発されている。その他に、グルホシネートとジカンバの両方に耐性である遺伝子組換えワタ、グリホサートと2,4−Dの両方に耐性である遺伝子組換えトウモロコシ、グリホサートとHPPD除草剤の両方に耐性である遺伝子組換えダイズも開発されている。さらに、グリホサート、グルホシネート及び2,4−Dの3つの除草剤に耐性である遺伝子組換えダイズも開発されている。
Plants that have been given herbicide tolerance by genetic recombination technology include protoporphyrinogen oxidase (hereinafter abbreviated as PPO) herbicides such as flumioxazin, 4-hydroxyphenylpyruvate diacids such as isoxaflutol and mesotrione. Oxygenase (hereinafter abbreviated as HPPD) inhibitors, acetolactate synthase (hereinafter abbreviated as ALS) inhibitors such as imazetapyr and thifensulfuronmethyl, 5-enolpyruvylshikimate-3-phosphate synthase such as glyphosate ( (Hereinafter abbreviated as EPSP) inhibitors, glutamine synthetase inhibitors such as glufosinate, auxin-type herbicides such as 2,4-D and dicamba, and plants to which resistance to herbicides such as bromoxynil has been conferred by genetic recombination technology included.
Examples of plants to which herbicide tolerance has been imparted by gene recombination technology include glyphosate-resistant EPSPS gene (CP4 epsps) derived from Agrobacterium tumefaciens strain CP4, glyphosate metabolizing enzyme derived from Bacillus licheniformis (Glyphosate N-acetyl transferase) gene, whose activity is enhanced by shuffling technology, glyphosate metabolic enzyme genes (gat4601, gt6421), glyphosate metabolic enzyme (glyphosate oxidase gene, goxv247) derived from Ochrobacterum strain LBAA Or maize-derived glyphosate tolerance mutation EPSPS gene (mepsps, 2mepsps) having has one or more of the introduced glyphosate tolerant transgenic plants and the like. Maize (Zea mays L.), Soybean (Glycine max L.), Cotton (Gossypium hirsutum L.), Sugar beet (Beta vulgaris), Canola (Brassica napus, Brassica rapa), Alfalfa .), Wheat (Triticum aestivum), creeping bentgrass (Agrossis tolonifera) and other plants, there are glyphosate-resistant genetically modified varieties.
Several glyphosate-tolerant transgenic plants are commercially available. For example, genetically modified plants that express glyphosate-resistant EPSPS derived from Agrobacterium are trade names including Roundup Ready (registered trademark) and express glyphosate-metabolizing enzyme derived from Bacillus with enhanced metabolic activity by shuffling technology Genetically modified plants are trade names such as Optimum (registered trademark) GAT (registered trademark), Optimum (registered trademark) Gly canola, and transgenic plants expressing EPSPS having a glyphosate-resistant mutation derived from corn are GlyTol (registered trademark). ) Is already sold under the product name.
Similarly, as an example of a plant to which herbicide tolerance has been imparted by genetic recombination technology, phosphinothricin N-acetyltransferase, a glufosinate metabolizing enzyme derived from Streptomyces hygroscopicus, Phosphithricin N-acetyltransferase, A gene (bar), a phosphinothricin N-acetyltransferase gene (pat), which is a glufosinate metabolizing enzyme derived from Streptomyces viriochromogenes, or a glufosinate-tolerant transgenic plant introduced with a synthesized pat gene or the like There is. There are glufosinate-resistant transgenic varieties such as corn, soybean, cotton, canola, rice (Oryza sativa L.), sugar beet, chicory (Cichorium intybus) and the like.
Several glufosinate-tolerant transgenic plants are commercially available. Genetically modified plants that express glufosinate metabolizing enzymes (bar, pat) derived from Streptomyces are already sold under trade names including LibertyLink (registered trademark).
Similarly, as an example of a plant to which herbicide tolerance has been imparted by gene recombination technology, bromoxynyl-tolerant gene recombination in which a nitrilase gene (bxn), which is a bromoxynyl-metabolizing enzyme derived from Klebsiella pneumoniae subsp. Ozaenae, has been introduced. There are plants. Bromoxinyl-resistant genetically modified varieties are produced in plants such as canola, cotton, tobacco (Nicotiana tabacum L.), and are already sold under trade names including Navigator (registered trademark) canola or BXN (registered trademark) .
Similarly, as an example of a plant to which herbicide tolerance has been imparted by gene recombination technology, a genetically modified carnation (Dianthus caryophyllus) into which an ALS herbicide-tolerant ALS gene (surB, S4-HrA) derived from tobacco has been introduced as a selection marker ) In addition, a transgenic flax (Linum usitistisumum L.) into which an ALS herbicide-resistant ALS gene derived from Arabidopsis thaliana has been introduced has been developed under the trade name CDC Trifid Flax. A genetically modified soybean introduced with an ALS herbicide-tolerant ALS gene (csr1-2) derived from Arabidopsis thaliana has been developed under the name of Culture (registered trademark). Furthermore, transgenic corn resistant to sulfonylurea and imidazolinone herbicides introduced with corn-derived ALS herbicide-resistant ALS gene (zm-hr), soybean-derived ALS herbicide-resistant ALS gene (gm- There are genetically modified soybeans that are resistant to sulfonylurea herbicides introduced with fra).
Similarly, as an example of a plant to which herbicide resistance has been imparted by genetic recombination technology, an isoxaflutol resistant gene set into which an HPPD herbicide-resistant HPPD gene (hppdPFW336) derived from Pseudomonas fluorescens strain A32 has been introduced. There are modified soybeans and mesotrione resistant genetically modified soybeans introduced with HPPD gene (avhppd-03) derived from oat (Avena sativa).
Similarly, examples of plants to which herbicide tolerance has been imparted by genetic recombination techniques include allyloxyalkanoate dioxygenase, a 2,4-D metabolic enzyme derived from Sphingobium herbicidovorans. ) 2,4-D resistance into which the gene (aad-1) or the allyloxyalkanoate dioxygenase gene (aad-12), which is a 2,4-D metabolic enzyme derived from Delftia acidovorans, has been introduced GM, GM soybean, GM cotton, etc., some of which have been developed under the trade names of Enlist (registered trademark) Maize and Enlist (registered trademark) Soybean. Also, there are dicamba-resistant genetically modified soybeans, transgenic cottons and the like into which a dicamba monooxygenase gene (dmo) introduced as a dicamba metabolizing enzyme derived from Stenotrophomonas maltophilia strain DI-6 is introduced. is there.
Similarly, examples of plants that have been rendered tolerant to two or more herbicides by genetic engineering techniques include transgenic cotton that is resistant to both glyphosate and glufosinate, and genetically modified maize that is GlyTol® LibertyLink. (Registered trademark), Round Ready (registered trademark) LibertyLink (registered trademark) Maize is already sold under the trade name. In addition, a genetically modified soybean resistant to both glufosinate and 2,4-D was developed under the trade name Enlist (registered trademark) Soybean, and genetically modified cotton resistant to both glufosinate and 2,4-D. There is also. A genetically modified soybean that is resistant to both glyphosate and dicamba has been developed under the trade name Genuity (R) Roundup Ready (R) 2 Xtend (R). Genetically modified maize, soybean, which is resistant to both glyphosate and ALS inhibitors, has been developed under the trade name Optimum® GAT®. In addition, transgenic cotton resistant to both glufosinate and dicamba, transgenic corn resistant to both glyphosate and 2,4-D, transgenic soybean resistant to both glyphosate and HPPD herbicide Has also been developed. In addition, genetically modified soybeans that are resistant to three herbicides, glyphosate, glufosinate and 2,4-D, have also been developed.

遺伝子組換え技術により害虫耐性を付与された植物には、鱗翅目昆虫、鞘翅目昆虫、複数翅目の昆虫、センチュウ等に対する耐性を付与された植物が挙げられる。
遺伝子組換え技術により鱗翅目昆虫に対する耐性を付与された植物の例として、土壌細菌であるBacillus thuringiensis菌(以後Bt菌と略す)由来の殺虫性タンパク質であるデルタ−エンドトキシン(δ−endotoxin)をコードする遺伝子を導入したトウモロコシ、ダイズ、ワタ、イネ、ポプラ(Populus sp.)、トマト(Lycopersicon esculentum)、ナス(Solanum melongena)等の遺伝子組換え植物がある。鱗翅目昆虫に対する耐性を付与するデルタ−エンドトキシンとして、Cry1A、Cry1Ab、改変されたCry1Ab(一部を欠損したCry1Ab)、Cry1Ac、Cry1Ab−Ac(Cry1AbとCry1Acが融合されたハイブリッドタンパク質)、Cry1C、Cry1F、Cry1Fa2(修飾されたcry1F)、moCry1F(修飾されたCry1F)、Cry1A.105(Cry1Ab、Cry1Ac、Cry1Fが融合されたハイブリッドタンパク質)、Cry2Ab2、Cry2Ae、Cry9C、Vip3A、Vip3Aa20等がある。
遺伝子組換え技術により鞘翅目昆虫に対する耐性を付与された植物の例として、土壌細菌であるBt菌由来の殺虫性タンパク質であるデルタ−エンドトキシンをコードする遺伝子を導入したトウモロコシ、バレイショ等の遺伝子組換え植物がある。鞘翅目昆虫に対する耐性を付与するデルタ−エンドトキシンとして、Cry3A、mCry3A(修飾されたCry3A)、Cry3Bb1、Cry34Ab1、Cry35Ab1等がある。
遺伝子組換え技術により複数翅目の昆虫に対する耐性を付与された植物の例として、土壌細菌であるBt菌由来のCry3AとCry1Abを融合したハイブリッドタンパク質eCry3.1Abをコードする合成遺伝子を導入した遺伝子組換えトウモロコシ、ササゲ(Vigna unguiculata)来のトリプシン阻害剤CpTIをコードする遺伝子を導入した遺伝子組換えワタ、クワイ(Sagittaria sagittifolia)由来のプロテアーゼ阻害剤タンパク質AであるAPIをコードする遺伝子を導入した遺伝子組換えポプラ等がある。
植物に害虫耐性を付与する殺虫性タンパク質は、上記殺虫性タンパク質のハイブリッドタンパク質、一部を欠損したタンパク質、修飾されたタンパク質も含まれる。ハイブリッドタンパク質は遺伝子組換え技術を用いて、複数の殺虫性タンパク質の異なるドメインの組合せによって作製され、Cry1Ab−AcやCry1A.105等が知られている。一部を欠損したタンパク質としては、アミノ酸配列の一部を欠損したCry1Ab等が知られている。修飾されたタンパク質としては、天然型デルタ−エンドトキシンのアミノ酸の1つ又は複数が置換されたタンパク質で、Cry1Fa2、moCry1F、mCry3A等が知られている。
その他に遺伝子組換え技術により植物に害虫耐性を付与する殺虫性タンパク質として、バチルス・セレウス菌(Bacillus cereus)やバチルス・ポピリエ菌(Bacillus popilliae)由来の殺虫性タンパク質、Bt菌由来の殺虫剤タンパク質Vip1、Vip2、Vip3、線虫由来の殺虫性タンパク質、さそり毒素、クモ毒素、ハチ毒素又は昆虫特異的神経毒素等の動物によって産生される毒素、糸状菌類毒素、植物レクチン、アグルチニン、トリプシン阻害剤、セリンプロテアーゼ阻害剤、パタチン、シスタチン、パパイン阻害剤等のプロテアーゼ阻害剤、リシン、トウモロコシ−RIP、アブリン、ルフィン、サポリン、ブリオジン等のリボゾーム不活性化タンパク(RIP)、3−ヒドロキシステロイドオキシダーゼ、エクジステロイド−UDP−グルコシルトランスフェラーゼ、コレステロールオキシダーゼ等のステロイド代謝酵素、エクダイソン阻害剤、HMG−CoAリダクターゼ、ナトリウムチャネル、カルシウムチャネル阻害剤等のイオンチャネル阻害剤、幼若ホルモンエステラーゼ、利尿ホルモン受容体、スチルベンシンターゼ、ビベンジルシンターゼ、キチナーゼ、グルカナーゼ等が挙げられる。
Plants to which pest resistance has been imparted by gene recombination technology include plants to which resistance to lepidopterous insects, Coleoptera insects, multiple order insects, nematodes and the like are imparted.
As an example of a plant imparted with resistance against lepidopteran insects by genetic recombination technology, it encodes delta-endotoxin, which is an insecticidal protein derived from soil bacteria Bacillus thuringiensis (hereinafter abbreviated as Bt) And transgenic plants such as corn, soybean, cotton, rice, Populus (Populus sp.), Tomato (Lycopersicon esculentum) and eggplant (Solanum melongena). Cry1A, Cry1Ab, modified Cry1Ab (partially deleted Cry1Ab), Cry1Ac, Cry1Ab-Ac (a hybrid protein in which Cry1Ab and Cry1Ac are fused), Cry1C, Cry1F , Cry1Fa2 (modified cry1F), moCry1F (modified Cry1F), Cry1A. 105 (a hybrid protein in which Cry1Ab, Cry1Ac, and Cry1F are fused), Cry2Ab2, Cry2Ae, Cry9C, Vip3A, Vip3Aa20, and the like.
Examples of plants that have been given resistance to Coleoptera by genetic recombination technology include genetic recombination of maize, potato, etc., into which a gene encoding delta-endotoxin, an insecticidal protein derived from soil bacteria, Bt bacteria is introduced. There are plants. Examples of delta-endotoxins that confer resistance to Coleoptera insects include Cry3A, mCry3A (modified Cry3A), Cry3Bb1, Cry34Ab1, and Cry35Ab1.
As an example of a plant imparted with resistance to multiple insects by gene recombination technology, a gene set introduced with a synthetic gene encoding a hybrid protein eCry3.1Ab fused with Cry3A and Cry1Ab derived from soil bacteria Bt Transgenic corn, genetically modified cotton introduced with a gene encoding trypsin inhibitor CpTI derived from cowpea (Vigna unguicula), a gene set introduced with a gene encoding API that is protease inhibitor protein A derived from Kwai (Sagitaria sagittifolia) There is a replacement poplar.
Insecticidal proteins that impart pest resistance to plants include hybrid proteins of the above-mentioned insecticidal proteins, partially missing proteins, and modified proteins. The hybrid protein is produced by a combination of different domains of a plurality of insecticidal proteins, using genetic recombination technology, and Cry1Ab-Ac or Cry1A. 105 etc. are known. As a protein lacking a part, Cry1Ab and the like lacking a part of the amino acid sequence are known. Examples of the modified protein include proteins in which one or more amino acids of natural delta-endotoxin are substituted, and Cry1Fa2, moCry1F, mCry3A and the like are known.
In addition, as insecticidal proteins that impart pest resistance to plants by genetic recombination technology, insecticidal proteins derived from Bacillus cereus and Bacillus popilliae, insecticidal protein Vip1 derived from Bt bacteria , Vip2, Vip3, nematode-derived insecticidal protein, scorpion toxin, spider toxin, bee toxin or insect-specific neurotoxin-produced toxin, filamentous fungal toxin, plant lectin, agglutinin, trypsin inhibitor, serine Protease inhibitors, protease inhibitors such as patatin, cystatin, papain inhibitor, lysine, corn-RIP, ribosome inactivating protein (RIP) such as abrin, ruffin, saporin, bryodin, 3-hydroxysterloy Oxidase, ecdysteroid-UDP-glucosyltransferase, steroid metabolic enzymes such as cholesterol oxidase, ecdysone inhibitor, ion channel inhibitors such as HMG-CoA reductase, sodium channel, calcium channel inhibitor, juvenile hormone esterase, diuretic hormone receptor Body, stilbene synthase, bibenzyl synthase, chitinase, glucanase and the like.

また、1つ又は2つ以上の殺虫性タンパク質遺伝子を導入することで害虫耐性を付与された遺伝子組換え植物が既に知られており、いくつかの遺伝子組換え植物は市販されている。
害虫耐性を付与された遺伝子組換えワタの例として、Bt菌由来の殺虫性タンパク質Cry1Acを発現するBollgard(登録商標)cotton、Bt菌由来の殺虫性タンパク質Cry1AcとCry2Abを発現するBollgard II(登録商標)cotton、Bt菌由来の殺虫性タンパク質Cry1Ac、Cry2Ab、Vip3Aを発現するBollgard III(登録商標)、Bt菌由来の殺虫性タンパク質Vip3AとCry1Acを発現するVIPCOT(登録商標)、Bt菌由来の殺虫性タンパク質Cry1Ac、Cry1Fを発現するWideStrike(登録商標)を含む商品名の遺伝子組換えワタが市販されている。
害虫耐性を付与された遺伝子組換えトウモロコシの例として、Bt菌由来の殺虫性タンパク質Cry3Bb1を発現するYieldGard(登録商標)Rootworm RW、Bt菌由来の殺虫性タンパク質Cry1AbとCry3Bb1を発現するYieldGard Plus(登録商標)、Bt菌由来の殺虫性タンパク質Cry1A.105とCry2Ab2を発現するYieldGard(登録商標)VT Pro(登録商標)等が市販されている。Bt菌由来の殺虫性タンパク質mCry3Aを発現するAgrisure(登録商標)RW、Bt菌由来の殺虫性タンパク質Vip3Aa20を発現するAgrisure(登録商標)Viptera、Bt菌由来の殺虫性タンパク質eCry3.1Abを発現するAgrisure(登録商標)Duracade(登録商標)等も市販されている。
害虫耐性を付与された遺伝子組換えバレイショの例として、Bt菌由来の殺虫性タンパク質Cry3Aを発現するAtlantic NewLeaf(登録商標)potato、NewLeaf(登録商標)Russet Burbank potato等が市販されている。
In addition, transgenic plants imparted with pest resistance by introducing one or two or more insecticidal protein genes are already known, and some genetically modified plants are commercially available.
Examples of transgenic cotton imparted with pest resistance include Bollgard (registered trademark) cotton that expresses the insecticidal protein Cry1Ac derived from Bt bacteria, and Bollgard II (registered trademark) that expresses the insecticidal proteins Cry1Ac and Cry2Ab derived from Bt bacteria. ) Cotton, Bollgard III (registered trademark) expressing insecticidal proteins Cry1Ac, Cry2Ab, Vip3A derived from Bt bacteria, VIPCOT (registered trademark) expressing insecticidal proteins Vip3A and Cry1Ac derived from Bt bacteria, insecticidal properties derived from Bt bacteria Commercially available recombinant cotton with a trade name including WideStrike (registered trademark) that expresses the proteins Cry1Ac and Cry1F is commercially available.
Examples of genetically modified maize imparted with pest resistance include Yieldgard® Rootworm RW that expresses the insecticidal protein Cry3Bb1 derived from Bt bacteria, and YieldGard Plus that expresses the insecticidal proteins Cry1Ab and Cry3Bb1 derived from Bt bacteria. Trademark), insecticidal protein Cry1A. YieldGard (registered trademark) VT Pro (registered trademark) and the like that express 105 and Cry2Ab2 are commercially available. Agrisure (registered trademark) RW expressing insecticidal protein mCry3A derived from Bt bacteria, Agrisure (registered trademark) Viptera expressing insecticidal protein Vip3Aa20 derived from Bt bacteria, Agrisure expressing insecticidal protein eCry3.1 Ab derived from Bt bacteria (Registered trademark) Duracade (registered trademark) and the like are also commercially available.
As examples of genetically modified potatoes imparted with pest resistance, Atlantic NewLeaf (registered trademark) potato, NewLeaf (registered trademark) Russet Burbank poto, etc. that express the insecticidal protein Cry3A derived from Bt bacteria are commercially available.

遺伝子組換え技術により病害耐性を付与された植物には、植物ウイルス病に耐性を付与されたインゲン(Phaseolus vulgaris)、パパイヤ(Carica papaya)、プラム(Prunus domestica)、バレイショ、スクアッシュ(Cucurbita pepo)、スイートペッパー(Capsicum annuum)、トマト等がある。植物ウイルス病に耐性を付与された遺伝子組換え植物として、具体的には、ビーン・ゴールデン・モザイク・ウイルス(Bean golden mosaic virus)の複製タンパク質の二重鎖RNAを生成する遺伝子を導入した遺伝子組換えインゲン、パパイヤ・リングスポット・ウイルス(Papaya ringspot virus)のコートタンパク質遺伝子を導入した遺伝子組換えパパイヤ、ポテト・ウイルス Y(Potato virus Y)のコートタンパク質遺伝子、又は、ポテト・リーフ・ロール・ウイルス(Potato leaf roll virus)の複製酵素ドメイン遺伝子を導入した遺伝子組換えバレイショ、キュウリ・モザイク・ウイルス(Cucumber mosaic virus)のコートタンパク質遺伝子、ウォーターメロン・モザイク・ウイルス(Watermelon mosaic virus)のコートタンパク質遺伝子、ズッキーニ・イエロー・モザイク・ウイルス(Zucchini yellow mosaic virus)のコートタンパク質遺伝子を導入した遺伝子組換えスクアッシュ、キュウリ・モザイク・ウイルス(Cucumber mosaic virus)のコートタンパク質遺伝子を導入した遺伝子組換えスイートペッパーや遺伝子組換えトマト等がある。
植物ウイルス病に耐性を付与された遺伝子組換えバレイショの例として、Newleaf(登録商標)を含む商品名の遺伝子組換えバレイショ等が市販されている。
病害耐性を付与された植物には、遺伝子組換え技術を用いて選択的な作用を有する抗病原性物質を産生する能力を付与された植物も含まれる。抗病原性物質の例として、PRタンパク等が知られている(PRPs、EP392225)。このような抗病原性物質とそれを産生する遺伝子組換え植物は、EP392225、WO199533818、EP353191等に記載されている。抗病原性物質の例として、例えば、ナトリウムチャネル阻害剤、カルシウムチャネル阻害剤(ウイルスが産生するKP1、KP4、KP6毒素等が知られている。)等のイオンチャネル阻害剤、スチルベンシンターゼ、ビベンジルシンターゼ、キチナーゼ、グルカナーゼ、ペプチド抗生物質、ヘテロ環を有する抗生物質、植物病害抵抗性に関与するタンパク因子(植物病害抵抗性遺伝子と呼ばれ、WO2003000906に記載されている。)等の微生物が産生する抗病原性物質等が挙げられる。
Plants to which disease resistance has been imparted by gene recombination techniques include common bean (Phaseolus vulgaris), papaya (Carica papaya), plum (Prunus domestica), potato, and Cucurbita pepo. , Sweet pepper (Capsicum annuum), tomato and the like. As a genetically modified plant imparted with resistance to plant viral diseases, specifically, a gene set in which a gene that generates double-stranded RNA of a replica protein of Bean golden mosaic virus is introduced. Recombinant kidney beans, transgenic papaya into which a coat protein gene of Papaya ringspot virus has been introduced, a coat protein gene of Potato virus Y, or a potato leaf roll virus ( Potato leaf roll virus) Recombinant potato introduced with a replication enzyme domain gene, Cucumber mosaic virus coat protein Gene, water melon mosaic virus coat protein gene, zucchini yellow mosaic virus coat protein gene, recombinant squash, cucumber mosaic virus There are a genetically modified sweet pepper and a genetically modified tomato introduced with a coat protein gene of (Cucumber mosaic virus).
As an example of a genetically modified potato imparted with resistance to a plant viral disease, a genetically modified potato with a trade name including Newleaf (registered trademark) is commercially available.
Plants imparted with disease resistance also include plants imparted with the ability to produce anti-pathogenic substances having a selective action using genetic engineering techniques. As examples of anti-pathogenic substances, PR proteins and the like are known (PRPs, EP392225). Such anti-pathogenic substances and genetically modified plants that produce them are described in EP392225, WO199533818, EP353191, and the like. Examples of anti-pathogenic substances include, for example, ion channel inhibitors such as sodium channel inhibitors, calcium channel inhibitors (KP1, KP4, KP6 toxins produced by viruses, etc.), stilbene synthase, Microorganisms such as benzyl synthase, chitinase, glucanase, peptide antibiotics, heterocyclic antibiotics, and protein factors involved in plant disease resistance (referred to as plant disease resistance genes and described in WO2003010906) are produced. And anti-pathogenic substances.

遺伝子組換え技術により生産物の品質を改変された植物には、リグニン生産の改変、油又は脂肪酸成分の改変、フィチン酸分解酵素の生産、花色の改変、アルファ・アミラーゼ活性の改変、アミノ酸の改変、デンプン又は炭水化物成分の改変、アクリルアミド生成の抑制、機械的損傷による黒斑の軽減、抗アレルギー性、ニコチン生成の低下、老化又は登熟遅延等の生産物品質を改変した遺伝子組換え植物が挙げられる。
リグニン生産に関わるアルファルファ由来のS−アデノシル−L―メチオニン:トランス−カフェオイル CoA 3−メチルトランスフェラーゼ(ccomt)遺伝子の二重鎖RNAを生成する遺伝子を導入しRNA干渉作用によってリグニン含量を低下させた遺伝子組換えアルファルファがある。
脂肪酸合成に関わるローリエ(Umbellularia californica)由来の12:0 ACPチオエステラーゼ遺伝子を導入することによってラウリン酸を含むトリアシルグリセリド含量が増加した遺伝子組換えカノーラが、Laurical(登録商標)Canolaの商品名で開発されている。
植物のフィチン酸の分解酵素であるクロカビ(Aspergillus niger)由来の3−フィターゼ遺伝子(phyA)を導入することによって内生フィチン酸の分解を強化した遺伝子組換えカノーラが、Phytaseed(登録商標)Canolaの商品名で開発されている。同様に、クロカビ由来の3−フィターゼ遺伝子(phyA)を導入することによって内生フィチン酸の分解を強化した遺伝子組換えトウモロコシも開発されている。
青色色素のデルフィニジン及びその誘導体を生産する酵素であるペチュニア(Petunia hybrida)由来のジヒロドフラボノール−4−レダクターゼ遺伝子とペチュニア、パンジー(Viola wittrockiana)、サルビア(Salvia splendens)、又は、カーネーション由来のフラボノイド−3’、5’−ヒドロキシラーゼ遺伝子を導入することによって花色を青色に制御した遺伝子組換えカーネーションが知られている。花色を青色に制御した遺伝子組換えカーネーションは、Moondust(登録商標)、Moonshadow(登録商標)、Moonshade(登録商標)、Moonlite(登録商標)、Moonaqua(登録商標)、Moonvista(登録商標)、Moonique(登録商標)、Moonpearl(登録商標)、Moonberry(登録商標)、Moonvelvet(登録商標)等の商品名で開発されている。また、青色色素のデルフィニジン及びその誘導体を生産する酵素であるトレニア(Torenia sp.)由来のアントシアニン−5−アシルトランスフェラーゼ遺伝子とパンジー由来のフラボノイド−3’、5’−ヒドロキシラーゼ遺伝子を導入することによって花色を青色に制御した遺伝子組換えバラも開発されている。
デンプン分解に関するサーモコッカス菌(Thermococcales sp.)の耐熱性のアルファ−アミラーゼ遺伝子(amy797E)を導入することによってバイオエタノールの生産を強化した遺伝子組換えトウモロコシがあり、Enogen(登録商標)の商品名で開発されている。
アミノ酸であるリジンの生産に関するコリネバクテリウム菌(Corynebacterium glutamicum)由来のジヒドロジピコリネート合成酵素遺伝子(cordapA)を導入することによってリジン生産を強化した遺伝子組換えトウモロコシが、Mavera(登録商標)を含む商品名で開発されている。
植物ホルモンのエチレン生成に関する大腸菌バクテリオファージT3由来のS−アデノシルメチオン・ヒドロラーゼ遺伝子(sam−K)を導入することによって棚持ちを改善した遺伝子組換えメロンや遺伝子組換えトマトが開発されている。また、植物ホルモンのエチレン生成に関わるトマト由来のACC合成酵素遺伝子の一部を欠損した遺伝子、エチレン前駆体であるACCを分解するシュードモナス菌(Pseudomonas chlororaphis)由来のACCデアミナーゼ遺伝子、細胞壁のペクチンを分解するトマト由来のポリガラクチュロナーゼ遺伝子の二重鎖RNAを生成する遺伝子、又は、エチレンの生成に関わるトマト由来のACC酸化酵素遺伝子を導入することによって棚持ちを改善した遺伝子組換えトマトも開発されている。トマト由来のポリガラクチュロナーゼ遺伝子の二重鎖RNAを生成する遺伝子を導入することによって棚持ちを改善した遺伝子組換えトマトは、FLAVR SAVR(登録商標)の商品名で開発されている。
バレイショ由来のデンプン分解を促進する転写因子遺伝子の二重鎖RNAを生成する遺伝子、バレイショ由来のポリフェノールオキシダーゼ遺伝子の二重鎖RNAを生成する遺伝子、及びアスパラギン生成に関わる遺伝子の二重鎖RNAを生成する遺伝子を導入することで、デンプンの分解、機械的損傷による黒斑形成、加熱による発癌性物質(アクリルアミド)生成の可能性を低下させた遺伝子組換えバレイショが、Innate(登録商標)を含む商品名で開発されている。また、バレイショ由来のデンプン合成酵素のアンチセンス遺伝子を導入することで、アミロース含量を低下された遺伝子組換えバレイショが、Amflora(登録商標)の商品名で開発されている。
改変されたスギ花粉の抗原タンパク質遺伝子(7crp)を導入することによって免疫寛容作用で花粉症緩和効果のある遺伝子組換えイネが開発されている。
脂肪酸の不飽和化酵素であるダイズ由来のω−6 デサチュラーゼの部分遺伝子(gm−fad2−1)を導入することによって同遺伝子発現を抑制しオレイン酸含量を強化した遺伝子組換えダイズが、Plenish(登録商標)又は、Treus(登録商標)の商品名で開発されている。また、ダイズ由来のアシル−アシル キャリア・プロテイン・チオエステラーゼ遺伝子(fatb1−A)の二重鎖RNAを生成する遺伝子と、ダイズ由来のδ−12 デサチュラーゼ遺伝子(fad2−1A)の二重鎖RNAを生成する遺伝子を導入することによって飽和脂肪酸含量を低下した遺伝子組換えダイズが、Vistive Gold(登録商標)の商品名で開発されている。また、サクラソウ由来のδ−6 デサチュラーゼ遺伝子(Pj.D6D)と、アカパンカビ由来のδ−12 デサチュラーゼ遺伝子(Nc.Fad3)を導入することによってω3脂肪酸の含量を強化した遺伝子組換えダイズも開発されている。
タバコ由来のキノリン酸フォスホリボシルトランスフェラーゼ遺伝子(NtQPT1)のアンチセンス遺伝子を導入することによってニコチン含量を低下させた遺伝子組換えタバコが開発されている。
ラッパズイセン(Narcissus pseudonarcissus)由来のフィトエン合成酵素遺伝子(psy)とカロテノイドを合成する土壌細菌(Erwinia uredovora)由来のカロテン・デサチュラーゼ遺伝子(crt1)を導入し胚乳特異的に発現させることで、胚乳組織でβ‐カロテンの生産が生産されビタミンAを含むコメを収穫できる遺伝子組換えイネであるゴールデンライス(Golden rice)も開発されている。
For plants whose quality of the product has been modified by genetic recombination technology, modification of lignin production, modification of oil or fatty acid component, production of phytate degrading enzyme, modification of flower color, modification of alpha amylase activity, modification of amino acid Genetically modified plants with modified product quality such as starch or carbohydrate component modification, suppression of acrylamide production, reduction of black spots due to mechanical damage, antiallergic properties, reduction of nicotine production, aging or ripening delay, etc. It is done.
Alfalfa-derived S-adenosyl-L-methionine involved in lignin production: trans-caffeoyl CoA A gene that generates double-stranded RNA of 3-methyltransferase (ccomt) gene was introduced to reduce the lignin content by RNA interference. There is a genetically modified alfalfa.
A transgenic canola whose triacylglyceride content, including lauric acid, has been increased by introducing a 12: 0 ACP thioesterase gene derived from Laurel (Umbellaria californica) involved in fatty acid synthesis under the trade name Laurical (registered trademark) Canola. Has been developed.
A genetically modified canola that enhances the degradation of endogenous phytic acid by introducing a 3-phytase gene (phyA) derived from Aspergillus niger, a plant phytic acid degrading enzyme, is produced by Phytaseed (registered trademark) Canola. Developed under the trade name. Similarly, genetically modified maize has been developed in which degradation of endogenous phytic acid is enhanced by introducing a black mold-derived 3-phytase gene (phyA).
Dihydroflavonol-4-reductase gene from Petunia hybrida, an enzyme that produces the blue pigment delphinidin and its derivatives, and petunia, pansy (Viola wittrockiana), salvia (Salvia splendens), or flavonoids from carnation A genetically modified carnation in which the flower color is controlled to be blue by introducing a -3 ′, 5′-hydroxylase gene is known. The genetically modified carnations in which the flower color is controlled to blue are Moondust (registered trademark), Moonshadow (registered trademark), Moonshade (registered trademark), Moonlite (registered trademark), Moonaqua (registered trademark), Moonvista (registered trademark), Moonique ( It has been developed under trade names such as (registered trademark), Moonpearl (registered trademark), Moonberry (registered trademark), and Moonvelvet (registered trademark). In addition, by introducing an anthocyanin-5-acyltransferase gene derived from Torenia sp., An enzyme that produces the blue pigment delphinidin and its derivatives, and a flavonoid-3 ′, 5′-hydroxylase gene derived from pansy A genetically modified rose whose flower color is controlled to blue has also been developed.
There is a genetically modified maize that has enhanced the production of bioethanol by introducing a thermostable alpha-amylase gene (amy797E) of Thermococcales sp. For starch degradation, under the trade name of Enogen® Has been developed.
Genetically modified maize enhanced lysine production by introducing a dihydrodipicolinate synthase gene (cordapA) from Corynebacterium glutamicum for the production of lysine, an amino acid, includes Mavera® Developed under the trade name.
Genetically modified melons and genetically modified tomatoes that have improved shelf life by introducing the S-adenosylmethion hydrolase gene (sam-K) derived from Escherichia coli bacteriophage T3 relating to ethylene production of plant hormones have been developed. . In addition, a gene lacking a part of the ACC synthase gene derived from tomato involved in ethylene production of plant hormones, an ACC deaminase gene derived from Pseudomonas chlororaphis that degrades ethylene precursor ACC, and pectin on the cell wall Tomato-derived polygalacturonase gene double-stranded RNA or a tomato-derived ACC oxidase gene involved in ethylene production has been introduced to improve genetic shelf tomatoes. ing. A genetically modified tomato improved in shelf life by introducing a gene that generates double-stranded RNA of a polygalacturonase gene derived from tomato has been developed under the trade name FLAVR SAVR (registered trademark).
Genes that generate double-stranded RNA of transcription factor genes that promote starch degradation from potato, genes that generate double-stranded RNA of polyphenol oxidase gene derived from potato, and genes that are involved in asparagine production Products that include Innate (registered trademark), a genetically modified potato that reduces the possibility of starch degradation, black spot formation due to mechanical damage, and generation of carcinogenic substances (acrylamide) by heating Developed by name. In addition, a genetically modified potato having a reduced amylose content by introducing an antisense gene of starch synthase derived from potato has been developed under the trade name of Amflora (registered trademark).
A transgenic rice plant that has an immunotolerant effect and a hay fever alleviating effect has been developed by introducing an antigen protein gene (7crp) of a modified cedar pollen.
By introducing a partial gene (gm-fad2-1) of ω-6 desaturase derived from soybean, which is a fatty acid desaturase, genetically modified soybean, which suppresses the expression of the same gene and enhances the oleic acid content, (Registered trademark) or Treus (registered trademark). In addition, a gene that generates double-stranded RNA of soybean-derived acyl-acyl carrier protein thioesterase gene (fatb1-A) and a double-stranded RNA of soybean-derived δ-12 desaturase gene (fad2-1A) Genetically modified soybeans having a reduced saturated fatty acid content by introducing a gene to be produced have been developed under the trade name of Visual Gold (registered trademark). In addition, a genetically modified soybean in which the content of ω3 fatty acid is enhanced by introducing a δ-6 desaturase gene (Pj.D6D) derived from primrose and a δ-12 desaturase gene (Nc.Fad3) derived from red bread fungus has been developed. Yes.
A genetically modified tobacco having a reduced nicotine content by introducing an antisense gene of tobacco-derived quinolinate phosphoribosyltransferase gene (NtQPT1) has been developed.
A phytoene synthase gene (psy) derived from Narcissus pseudonarcissus and a carotene desaturase gene (crt1) derived from a soil bacterium (Erwinia uredovora) that synthesizes carotenoids are introduced and expressed in the endosperm tissue in a specific manner. -Golden rice, a genetically modified rice that can produce carotene and harvest rice containing vitamin A, has also been developed.

遺伝子組換え技術により稔性形質等を改変された植物には、植物に雄性不稔と稔性回復形質を付与された遺伝子組換え植物が挙げられる。葯のタペータム細胞においてバチルス菌(Bacillus amyloliquefaciens)由来のリボヌクレアーゼ遺伝子(barnase)を発現させることによって雄性不稔形質を付与された遺伝子組換えトウモロコシや遺伝子組換えチコリがある。また、大腸菌由来のDNAアデニンメチル化酵素遺伝子(dam)を導入することによって雄性不稔形質を付与された遺伝子組換えトウモロコシもある。さらに、雄性不稔形質を与えるトウモロコシ由来のアルファ−アミラーゼ遺伝子(zm−aa1)と稔性回復形質を与えるトウモロコシ由来のms45蛋白質遺伝子(ms45)を導入することによって稔性形質を制御された遺伝子組換えトウモロコシもある。
葯のタペータム細胞においてバチルス菌由来のリボヌクレアーゼ阻害蛋白質遺伝子(barstar)を発現させることによって稔性回復機能を付与された遺伝子組換えカノーラがある。また、雄性不稔形質を与えるバチルス菌由来のリボヌクレアーゼ遺伝子(barnase)と、稔性回復形質を与えるバチルス菌由来のリボヌクレアーゼ阻害蛋白質遺伝子(barstar)を発現させることによって稔性形質を制御された遺伝子組換えカノーラもある。
Plants whose fertility traits and the like have been modified by gene recombination techniques include genetically modified plants in which the plants are given male sterility and fertility recovery traits. There are genetically modified maize and genetically modified chicory imparted with male sterility by expressing a ribonuclease gene (barnase) derived from Bacillus amyloliquefaciens in cocoon tapetum cells. In addition, there is a genetically modified maize imparted with male sterility by introducing a DNA adenine methylase gene (dam) derived from E. coli. Further, a gene set in which fertility traits are controlled by introducing an alpha-amylase gene (zm-aa1) derived from corn that gives male sterility traits and an ms45 protein gene (ms45) derived from corn that gives fertility recovery traits There is also a replacement corn.
There is a genetically modified canola imparted with a function of restoring fertility by expressing a ribonuclease-inhibiting protein gene (barstar) derived from Bacillus bacteria in cocoon tapetum cells. Further, a gene set in which fertility traits are controlled by expressing a ribonuclease gene (barnase) derived from Bacillus that gives male sterile traits and a ribonuclease inhibitor protein gene (barstar) derived from Bacillus that gives fertility recovery traits There is also a replacement canola.

遺伝子組換え技術により環境ストレス耐性を付与された植物には、乾燥耐性が付与された遺伝子組換え植物が挙げられる。枯草菌(Bacillus subtilis)由来の低温ショックタンパク質遺伝子(cspB)を導入した乾燥耐性トウモロコシがGenuity(登録商標) DroughtGard(登録商標)の商品名で開発されている。さらに、アルファルファ根粒菌(Rhizobium meliloti)、又は大腸菌(Esherichia coli)由来のコリン・デヒドロゲナーゼ遺伝子(RmBetA)を導入した乾燥耐性サトウキビも開発されている。   Examples of the plant imparted with environmental stress tolerance by genetic recombination technology include a genetically modified plant imparted with drought tolerance. A drought-tolerant maize introduced with a cold shock protein gene (cspB) derived from Bacillus subtilis has been developed under the trade name of Genuity (R) DraughtGard (R). Furthermore, drought-resistant sugarcane into which a choline dehydrogenase gene (RmBetA) derived from Rhizobium meliloti or Escherichia coli has been developed has also been developed.

遺伝子組換え技術により生長や収量に関する形質を改変された植物には、生長能力を強化された遺伝子組換え植物等が挙げられる。例えば、シロイヌナズナ由来の日周性を制御する転写因子をコードする遺伝子(bbx32)を導入した遺伝子組換えダイズ等が開発されている。   Examples of plants whose growth and yield traits have been modified by genetic recombination techniques include genetically modified plants with enhanced growth ability. For example, genetically modified soybeans and the like into which a gene (bbx32) encoding a transcription factor that controls diurnal properties derived from Arabidopsis thaliana has been developed.

本発明における植物は、遺伝子組換え技術以外の手法を用いて改変された植物であってもよい。より具体的には、古典的育種技術、遺伝子マーカー育種技術、又は、ゲノム編集技術等により、環境ストレス耐性、病害耐性、除草剤耐性、害虫耐性等を付与された植物であってもよい。
古典的、又は、遺伝子マーカー育種技術により除草剤耐性が付与された植物の例として、イマゼタピル等のイミダゾリノン系ALS阻害型除草剤に耐性のトウモロコシ、イネ、コムギ、ヒマワリ(Helianthus annuus)、カノーラ、レンズマメ(Lens culinaris)等がClearfield(登録商標)の商品名で販売されている。また、古典的、又は、遺伝子マーカー育種技術によりチフェンスルフロンメチル等のスルフホニル系ALS阻害型除草剤に対する耐性が付与された植物の例として、スルホニルウレア系除草剤耐性ダイズであるSTS soybean等がある。同様に古典的、又は、遺伝子マーカー育種技術によりトリオンオキシム系、アリールオキシフェノキシプロピオン酸系除草剤などのアセチルCoAカルボキシラーゼ阻害剤に耐性が付与された植物の例としてセトキシジム耐性トウモロコシであるSR corn等がある。
古典的、又は、遺伝子マーカー育種技術により害虫耐性を付与された植物として、アブラムシ耐性遺伝子であるRag1(Resistance Aphid Gene 1)遺伝子を有するダイズが挙げられる。また、古典的育種法によりセンチュウ耐性を付与された植物として、シストセンチュウ(Cysto nematode)に対する耐性が付与されたダイズ、ネコブセンチュウ(Root Knot nematode)に対する耐性を付与されたワタ等も挙げられる。
古典的、又は、遺伝子マーカー育種技術により病害耐性を付与された植物として、炭疽病(Anthracnose stalk rot)に対する耐性を付与されたトウモロコシ、グレイ・リーフ・スポット病(Gray leaf spot)に対する耐性が付与されたトウモロコシ、葉枯細菌病(Goss`s wilt)に対する耐性を付与されたトウモロコシ、フザリウム茎腐病(Fusarium stalk rot)に対する耐性を付与されたトウモロコシ、アジア・ダイズさび病(Asian soybean rust)に耐性を付与されたダイズ、疫病(Phytophthora)に対する耐性を付与されたペッパー、うどんこ病に耐性を付与されたレタス、青枯れ病(Bacterial wilt)に耐性を付与されたトマト、ジェミニウイルス(Geminivirus)に耐性を付与されたトマト、べと病(Downy mildew)に対する耐性が付与されたレタス等が挙げられる。
古典的、又は、遺伝子マーカー育種技術により乾燥耐性が付与された植物の例として、乾燥耐性トウモロコシがAgrisure Artesian(登録商標)、Optimum AQUAmax(登録商標)の商品名で開発されている。また、
ゲノム編集技術により除草剤耐性が付与された植物の例として、DNAとRNAのキメラオリゴヌクレオチドを介して、スルホニルウレア系除草剤耐性変異をALS遺伝子に導入する迅速な品種開発技術によって、スルホニルウレア系除草剤耐性を付与されたカノーラがSU Canola(登録商標)の商品名で開発されている。
The plant in the present invention may be a plant modified using a technique other than the genetic recombination technique. More specifically, it may be a plant imparted with environmental stress resistance, disease resistance, herbicide resistance, pest resistance, etc. by classical breeding technology, genetic marker breeding technology, genome editing technology, or the like.
Examples of plants to which herbicide tolerance has been imparted by classical or genetic marker breeding techniques include corn, rice, wheat, sunflower (Helianthus annuus), canola, which are resistant to imidazolinone-based ALS-inhibiting herbicides such as imazetapill, Lentils (Lens culinaris) and the like are sold under the trade name of Clearfield (registered trademark). Moreover, STS soybean etc. which are sulfonylurea type | system | group herbicide tolerance soybean are examples of the plant to which tolerance to sulfonyl type | system | group ALS inhibition type herbicides, such as thifensulfuron methyl, was provided by the classic or gene marker breeding technique. Similarly, SR corn, which is cetoxydim-resistant maize, is an example of a plant to which tolerance is imparted to acetyl CoA carboxylase inhibitors such as trion oxime and aryloxyphenoxypropionic acid herbicides by classical or genetic marker breeding techniques. is there.
An example of a plant to which pest resistance is imparted by classical or genetic marker breeding techniques is soybean having a Rag1 (Resistance Aphid Gene 1) gene that is an aphid resistance gene. Moreover, as a plant imparted with nematode tolerance by a classical breeding method, soybean imparted with resistance to cyst nematode, cotton imparted with resistance to root knot nematode, and the like can be mentioned.
As a plant to which disease resistance has been imparted by classical or genetic marker breeding techniques, resistance to corn and gray leaf spot that have been imparted resistance to anthracnose disease is given. Resistant corn, corn imparted resistance to bacterial wilt disease, maize imparted resistance to Fusarium stalk rot, resistant to Asian soybean rust Soybeans, Peptotolerant to Phytophathora, Lettuce tolerant to powdery mildew, Tomato tolerant to Bacterial wilt And tomatoes with resistance to geminivirus, lettuce with resistance against downy mildew, and the like.
As an example of a plant to which drought tolerance has been imparted by classical or gene marker breeding techniques, drought-tolerant maize has been developed under the trade names of Agurisure Artesian (registered trademark) and Optimum AQUAmax (registered trademark). Also,
As an example of a plant to which herbicide resistance has been imparted by genome editing technology, a sulfonylurea herbicide is introduced by a rapid variety development technology that introduces a sulfonylurea herbicide resistance mutation into an ALS gene via a DNA and RNA chimeric oligonucleotide. A canola imparted with resistance has been developed under the trade name SU Canola®.

また、前記した植物には、遺伝子組換え技術、古典的育種技術、遺伝子マーカー育種、又はゲノム編集技術等を用い、先に述べたような環境ストレス耐性、病害耐性、除草剤耐性、害虫耐性、生長や収量形質、生産物の品質、稔性形質等を2種以上付与された系統、及び同類又は異なる性質を有する遺伝子組換え植物同士を掛け合わせることにより親系統が有する2種以上の性質が付与された系統も含まれる。このような植物の例として、除草剤耐性と害虫耐性を両方付与された遺伝子組換え植物がある。
例えば、グリホサート耐性と害虫耐性を付与された遺伝子組換え植物として、Roundup Ready(登録商標)Bollgard(登録商標)cotton、Roundup Ready(登録商標)Bollgard II(登録商標)cotton、Roundup Ready(登録商標)Flex(登録商標)Bollgard II(登録商標)cotton、Bollgard(登録商標)III x Roundup Ready(登録商標)Flex(登録商標)、VIPCOT(登録商標)Roundup Ready Flex(登録商標)Cotton等の商品名の遺伝子組換えワタが開発されている。また、Agrisure(登録商標)GT/RW、Roundup Ready(登録商標)YieldGard(登録商標)maize、Genuity(登録商標)VT Double Pro(登録商標)、Genuity(登録商標)VT Triple Pro(登録商標)、YieldGard(登録商標)、YieldGard(登録商標)CB+RW、YieldGard(登録商標)VT(登録商標)Rootworm(登録商標)RR2、YieldGard(登録商標)RW+RR、YieldGard(登録商標)VT Triple、YieldGard(登録商標)Plus with RR等の商品名の遺伝子組換えトウモロコシが開発されている。また、Intacta(登録商標)Roundup Ready(登録商標)2 Pro等の遺伝子組換えダイズも開発されている。
例えば、グルホシネート耐性と害虫耐性を付与された遺伝子組換え植物として、Widestrike(登録商標)Cotton、Twinlink(登録商標)Cotton、Fibermax(登録商標)LibertyLink(登録商標)Bollgard II(登録商標)等の商品名の遺伝子組換えワタが開発されている。また、Agrisure(登録商標)CB/LL、Agrisure(登録商標)CB/LL/RW、Agrisure(登録商標)Viptera(登録商標)2100、Agrisure(登録商標)Viptera(登録商標)3100、Bt Xtra(登録商標)Maize、NaturGard Knockout(登録商標)、Herculex(登録商標)RW、Herculex(登録商標)CB、Herculex(登録商標)XTRA、Starlink(登録商標)Maize、Liberty Link(登録商標)YieldGard(登録商標)Maize等の商品名の遺伝子組換えトウモロコシが開発されている。
例えば、グリホサート耐性、グルホシネート耐性、及び害虫耐性を付与された遺伝子組換え植物として、Widestrike(登録商標)Roundup Ready(登録商標)Cotton、Widestrike(登録商標)Roundup Ready Flex(登録商標)Cotton、Widestrike(登録商標)x Roundup Ready Flex(登録商標)x VIPCOT(登録商標)Cotton、Glytol(登録商標)x Twinlink(登録商標)等の商品名の遺伝子組換えワタが開発されている。また、Agrisure(登録商標)GT/CB/LL、Agrisure(登録商標)3000GT、Agrisure(登録商標)3122、Agrisure(登録商標)Viptera(登録商標)3110、Agrisure(登録商標)Viptera 3111、Agrisure(登録商標)Viptera 3220、Agrisure(登録商標)Duracade(登録商標)5122、Agrisure(登録商標)Duracade(登録商標)5222、Optimum(登録商標)Intrasect、Optimum(登録商標)TRIsect、Optimum(登録商標)Intrasect XTRA、Optimum(登録商標)Intrasect Xtreme、Genuity(登録商標)SmartStax(登録商標)、Power Core(登録商標)、Herculex(登録商標)I RR、Herculex(登録商標)RW Roundup Ready(登録商標)2、Herculex XTRA(登録商標)RR等の商品名の遺伝子組換えトウモロコシが開発されている。
例えば、ブロモキシニル耐性と害虫耐性を付与された遺伝子組換え植物として、BXN(登録商標)Plus Bollgard(登録商標)Cotton等の商品名の遺伝子組換えワタが開発されている。
In addition, for the above-mentioned plants, using genetic recombination technology, classical breeding technology, genetic marker breeding, or genome editing technology, environmental stress resistance, disease resistance, herbicide resistance, pest resistance, Two or more types of properties possessed by the parental line by crossing two or more lines with growth, yield traits, product quality, fertile traits, etc., and genetically modified plants with similar or different properties The assigned line is also included. An example of such a plant is a genetically modified plant imparted with both herbicide resistance and pest resistance.
For example, as a transgenic plant imparted with glyphosate resistance and pest resistance, Round Ready (registered trademark) Bollgard (registered trademark) cotton, Round Ready (registered trademark) Bollgard II (registered trademark) cotton, Round Ready (registered trademark) Trade names of Flex (registered trademark) Bollgard II (registered trademark) cotton, Bollgard (registered trademark) III x Roundup Ready (registered trademark) Flex (registered trademark), VIPCOT (registered trademark) Roundup Ready Flex (registered trademark) Cotton, etc. Genetically modified cotton has been developed. In addition, Agurisure (registered trademark) GT / RW, Round Ready (registered trademark) YieldGuard (registered trademark) maize, Genuity (registered trademark) VT Double Pro (registered trademark), Genuity (registered trademark) VT Triple Pro (registered trademark), YieldGard (R), YieldGard (R) CB + RW, YieldGard (R) VT (R) Rootworm (R) RR2, YieldGard (R) RW + RR, YieldGard (R) VTTriGr (R) A genetically modified corn having a trade name such as Plus with RR has been developed. In addition, genetically modified soybeans such as Intatta (R) Roundup Ready (R) 2 Pro have been developed.
For example, as a genetically modified plant imparted with glufosinate resistance and pest resistance, products such as Widestrike (registered trademark) Cotton, Twinlink (registered trademark) Cotton, Fibermax (registered trademark) LibertyLink (registered trademark) Bollgard II (registered trademark) Named genetically modified cotton has been developed. Also, Agriure (registered trademark) CB / LL, Agriure (registered trademark) CB / LL / RW, Agriure (registered trademark) Viptera (registered trademark) 2100, Agriure (registered trademark) Viptera (registered trademark) 3100, Bt Xtra (registered trademark). (Trademark) Maize, NatureGard Knockout (registered trademark), Herculex (registered trademark) RW, Herculex (registered trademark) CB, Herculex (registered trademark) XTRA, Starlink (registered trademark) Maize, Liberty Link (registered trademark) YieldGard registered trademark A genetically modified corn having a trade name such as Maize has been developed.
For example, as a genetically modified plant imparted with glyphosate resistance, glufosinate resistance, and pest resistance, Widestrike (registered trademark) Roundup Ready (registered trademark) Cotton, Widestrike (registered trademark) Roundup Ready Flex (registered trademark) Cotton, Registered trademark x Round Ready Flex (registered trademark) x VIPCOT (registered trademark) Cotton, Glytol (registered trademark) x Twinlink (registered trademark) and the like have been developed. In addition, Agurisure (registered trademark) GT / CB / LL, Agurisure (registered trademark) 3000GT, Agrisure (registered trademark) 3122, Agrisure (registered trademark) Viptera (registered trademark) 3110, Agrisure (registered trademark) Viptera 3111, Registered Trademark) Viptera 3220, Agurisure (registered trademark) Duracade (registered trademark) 5122, Agrisure (registered trademark) Duracade (registered trademark) 5222, Optimum (registered trademark) Intrict, Optimum (registered trademark) TRIsect, Optimum (registered trademark) InTRtrust , Optimum (TM) Intrasect Xtreme, Genuity (R) Sma Genetic recombination of trade names such as rtStax (registered trademark), Power Core (registered trademark), Herculex (registered trademark) I RR, Herculex (registered trademark) RW Roundup Ready (registered trademark) 2, Herculex XTRA (registered trademark) RR Corn is being developed.
For example, a genetically modified cotton having a trade name such as BXN (registered trademark) Plus Bollgard (registered trademark) Cotton has been developed as a genetically modified plant imparted with bromoxynyl resistance and pest resistance.

前記の複数形質を2種以上付与された系統の例として、病害耐性と害虫耐性を付与された遺伝子組換え植物がある。例えば、ポテト・ウイルス Y(Potato virus Y)耐性と害虫耐性を付与された遺伝子組換え植物として、Hi−Lite NewLeaf(登録商標)Y Potato、NewLeaf(登録商標)Y Russet Burbank Potato、Shepody NewLeaf(登録商標)Y Potato、又は、ポテト・リーフ・ロール・ウイルス(Potato leaf roll virus)耐性と害虫耐性を付与された遺伝子組換え植物として、NewLeaf(登録商標)Plus Russet Burbank Potato等の商品名の遺伝子組換えバレイショが開発されている。
前記の複数形質を2種以上付与された系統の例として、除草剤耐性と改変された生産物品質を付与された遺伝子組換え植物がある。例えば、グルホシネート耐性と稔性形質を付与された遺伝子組換えカノーラや遺伝子組換えトウモロコシが、InVigor(登録商標)Canola、InVigor(登録商標)Maizeの商品名で開発されている。
前記の複数形質を2種以上付与された系統の例として、害虫耐性と改変された生産物品質を付与された遺伝子組換え植物がある。例えば、鱗翅目害虫に対する耐性とリジン生産を強化した形質を付与された遺伝子組換えトウモロコシが、Mavera(登録商標)YieldGard(登録商標)Maizeの商品名で開発されている。
その他に、前記の複数形質を2種以上付与された系統の例として、除草剤耐性と改変された稔性形質を付与された遺伝子組換え植物、除草剤耐性と環境ストレス耐性を付与された遺伝子組換え植物、除草剤耐性と改変された生長や収量形質を付与された遺伝子組換え植物、除草剤耐性、害虫耐性、及び、改変された生産物品質を付与された遺伝子組換え植物、除草剤耐性、害虫耐性、及び、環境ストレス耐性を付与された遺伝子組換え植物等が開発されている。
As an example of a line provided with two or more of the above-mentioned plural traits, there is a genetically modified plant provided with disease resistance and pest resistance. For example, Hi-Lite NewLeaf (registered trademark) Y Potato, NewLeaf (registered trademark) Y Russet Burbank Potato, ShepodyNeed as a genetically modified plant imparted with resistance to potato virus Y (Potato virus Y) and pest resistance. (Trademark) Y Potato, or a genetically modified plant imparted with resistance to potato leaf roll virus and pest resistance, and a gene group with a trade name such as NewLeaf (registered trademark) Plus Russset Burbank Potato Replacement potatoes have been developed.
An example of a line provided with two or more of the above-mentioned plural traits is a genetically modified plant provided with herbicide resistance and modified product quality. For example, genetically modified canola and genetically modified maize imparted with glufosinate resistance and fertile traits have been developed under the trade names of InVigor (registered trademark) Canola and InVigor (registered trademark) Maize.
An example of a line provided with two or more of the above-mentioned plural traits is a genetically modified plant imparted with pest resistance and modified product quality. For example, genetically modified maize imparted with traits that enhance resistance to lepidopterous pests and lysine production has been developed under the trade name of Mavera (registered trademark) Yieldgard (registered trademark) Maize.
In addition, as an example of a strain provided with two or more of the above-mentioned plural traits, a genetically modified plant provided with herbicide tolerance and a modified fertility trait, a gene provided with herbicide tolerance and environmental stress tolerance Recombinant plants, genetically modified plants with herbicide resistance and modified growth and yield traits, genetically modified plants with herbicide resistance, pest resistance, and modified product quality, herbicides Genetically modified plants imparted with resistance, pest resistance, and environmental stress resistance have been developed.

以下、本発明を製造例、製剤例及び試験例等によりさらに詳しく説明するが、本発明はこれらの例のみに限定されるものではない。なお、以下の例において、部は特にことわりの無い限り重量部を表す。
まず、本ピリダジン化合物の製造について、製造例を示す。
Hereinafter, although this invention is demonstrated in more detail by a manufacture example, a formulation example, a test example, etc., this invention is not limited only to these examples. In the following examples, parts represent parts by weight unless otherwise specified.
First, a manufacture example is shown about manufacture of this pyridazine compound.

製造例1(1)
3−クロロ−6−メトキシピリダジン17g、2−フルオロ−4−(トリフルオロメチル)フェニルボロン酸ピナコールエステル12g、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)2.3g、炭酸ナトリウム2M水溶液50mL及びDME80mLの混合物を、80℃で5時間撹拌した。室温まで放冷した反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下濃縮した後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、次式で示される中間体(1−1)4.81gを得た。

Figure 2017075161

1H-NMR (CDCl3) δ: 8.28 (1H, dd), 7.90 (1H, dd), 7.58 (1H, d), 7.47 (1H, d), 7.09 (1H, d), 4.21 (3H, s). Production Example 1 (1)
17 g of 3-chloro-6-methoxypyridazine, 12 g of 2-fluoro-4- (trifluoromethyl) phenylboronic acid pinacol ester, 2.3 g of tetrakis (triphenylphosphine) palladium (0), 50 mL of 2M aqueous sodium carbonate solution and 80 mL of DME The mixture was stirred at 80 ° C. for 5 hours. Water was added to the reaction mixture allowed to cool to room temperature, extracted with ethyl acetate, and dried over anhydrous sodium sulfate. After concentration under reduced pressure, the resulting residue was subjected to silica gel column chromatography to obtain 4.81 g of intermediate (1-1) represented by the following formula.
Figure 2017075161

1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 8.28 (1H, dd), 7.90 (1H, dd), 7.58 (1H, d), 7.47 (1H, d), 7.09 (1H, d), 4.21 (3H, s ).

製造例1(2)
中間体(1−1)4.8g及びNMP40mLの反応混合物に、氷冷下、エタンチオール1.6mL及び水素化ナトリウム(油状、60%)0.99gを加え、室温で2時間撹拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。得られた有機層を減圧下濃縮することにより、次式で示される中間体(1−2)を得た。

Figure 2017075161

1H-NMR (CDCl3) δ: 7.72 (1H, d), 7.68-7.63 (2H, m), 7.55 (1H, d), 7.05 (1H, d), 4.21 (3H, s), 2.89 (2H, q), 1.25 (3H, t). Production Example 1 (2)
To a reaction mixture of 4.8 g of the intermediate (1-1) and 40 mL of NMP, ethanethiol 1.6 mL and sodium hydride (oil, 60%) 0.99 g were added under ice cooling, and the mixture was stirred at room temperature for 2 hours. Water was added to the reaction mixture, extracted with ethyl acetate, and dried over anhydrous sodium sulfate. The obtained organic layer was concentrated under reduced pressure to obtain an intermediate (1-2) represented by the following formula.
Figure 2017075161

1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 7.72 (1H, d), 7.68-7.63 (2H, m), 7.55 (1H, d), 7.05 (1H, d), 4.21 (3H, s), 2.89 (2H , q), 1.25 (3H, t).

製造例1(3)
製造例1(2)で得られた中間体(1−2)全量及びクロロホルム40mLの混合物に、氷冷下、mCPBA(純度65%以上)8.9gを加え、室温で1日間攪拌した。反応混合物に10%チオ硫酸ナトリウム水溶液を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、次式で示される中間体(1−3)3.3gを得た。

Figure 2017075161

1H-NMR (CDCl3) δ: 8.45 (1H, s), 8.00 (1H, d), 7.60 (1H, d), 7.53 (1H, d), 7.12 (1H, d), 4.21 (3H, s), 3.46 (2H, q), 1.29 (3H, t). Production Example 1 (3)
To a mixture of the intermediate (1-2) obtained in Production Example 1 (2) and chloroform (40 mL), 8.9 g of mCPBA (purity 65% or more) was added under ice cooling, and the mixture was stirred at room temperature for 1 day. A 10% aqueous sodium thiosulfate solution was added to the reaction mixture, and the mixture was extracted with chloroform. The organic layer was washed with a saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution, dried over anhydrous sodium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was subjected to silica gel column chromatography to obtain 3.3 g of an intermediate (1-3) represented by the following formula.
Figure 2017075161

1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 8.45 (1H, s), 8.00 (1H, d), 7.60 (1H, d), 7.53 (1H, d), 7.12 (1H, d), 4.21 (3H, s ), 3.46 (2H, q), 1.29 (3H, t).

製造例1(4)
中間体(1−3)3.3g及び濃塩酸25mLの混合物を、加熱還流下1時間撹拌した。室温まで放冷した反応混合物を水に加え、析出した固体をろ取し、ろ液を減圧下濃縮することにより、次式で示される中間体(1−4)2.9gを得た。

Figure 2017075161

1H-NMR (CDCl3) δ: 11.74 (1H, s), 8.41 (1H, s), 8.01 (1H, d), 7.62 (1H, d), 7.42 (1H, d), 7.06 (1H, d), 3.30 (2H, q), 1.30 (3H, t). Production Example 1 (4)
A mixture of 3.3 g of the intermediate (1-3) and 25 mL of concentrated hydrochloric acid was stirred for 1 hour with heating under reflux. The reaction mixture allowed to cool to room temperature was added to water, the precipitated solid was collected by filtration, and the filtrate was concentrated under reduced pressure to obtain 2.9 g of intermediate (1-4) represented by the following formula.
Figure 2017075161

1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 11.74 (1H, s), 8.41 (1H, s), 8.01 (1H, d), 7.62 (1H, d), 7.42 (1H, d), 7.06 (1H, d ), 3.30 (2H, q), 1.30 (3H, t).

製造例1(5)
中間体(1−4)0.30g、炭酸セシウム0.35g及びNMP4mLの混合物に、室温で、2,2,2−トリフルオロエチル=ノナフルオロブタンスルホナート0.37gを加え、室温で2時間撹拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下濃縮した後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、次式で示される本ピリダジン化合物1を0.02g及び副生成物1を0.31g得た。
本ピリダジン化合物1

Figure 2017075161

1H-NMR (CDCl3) δ: 8.46 (1H, s), 8.02 (1H, d), 7.65-7.59 (2H, m), 7.27 (1H, d), 5.00 (2H, q), 3.43 (2H, q), 1.30 (3H, t).
副生成物1
Figure 2017075161

1H-NMR (CDCl3) δ: 8.40 (1H, s), 8.02 (1H, d), 7.61 (1H, d), 7.37 (1H, d), 7.05 (1H, d), 4.81 (2H, q), 3.19 (2H, q), 1.28 (3H, t). Production Example 1 (5)
To a mixture of 0.30 g of intermediate (1-4), 0.35 g of cesium carbonate and 4 mL of NMP, 0.37 g of 2,2,2-trifluoroethyl = nonafluorobutanesulfonate was added at room temperature, and the mixture was stirred for 2 hours at room temperature. Stir. Water was added to the reaction mixture, extracted with ethyl acetate, and dried over anhydrous sodium sulfate. After concentration under reduced pressure, the resulting residue was subjected to silica gel column chromatography to obtain 0.02 g of the present pyridazine compound 1 represented by the following formula and 0.31 g of by-product 1.
The present pyridazine compound 1
Figure 2017075161

1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 8.46 (1H, s), 8.02 (1H, d), 7.65-7.59 (2H, m), 7.27 (1H, d), 5.00 (2H, q), 3.43 (2H , q), 1.30 (3H, t).
By-product 1
Figure 2017075161

1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 8.40 (1H, s), 8.02 (1H, d), 7.61 (1H, d), 7.37 (1H, d), 7.05 (1H, d), 4.81 (2H, q ), 3.19 (2H, q), 1.28 (3H, t).

製造例1(6)
2,2,2−トリフルオロエチル=ノナフルオロブタンスルホナートの代わりに式R1−OSO2CF3で示される化合物を用い、製造例1(5)に記載の方法に準じて製造した次式で示される本ピリダジン化合物を[表17]に示す。

Figure 2017075161

[表17]
Figure 2017075161

本ピリダジン化合物2;1H-NMR (CDCl3) δ: 8.46 (1H, s), 8.02 (1H, d), 7.63 (1H, d), 7.61 (1H, d), 7.27 (1H, d), 5.08 (2H, t), 3.43 (2H, q), 1.30 (3H, t).
本ピリダジン化合物3;1H-NMR (CDCl3) δ: 8.46 (1H, s), 8.02 (1H, d), 7.63 (1H, d), 7.61 (1H, d), 7.24 (1H, d), 5.28-5.06 (1H, m), 5.04-4.95 (2H, m), 3.42 (2H, q), 1.30 (3H, t). Production Example 1 (6)
A compound represented by the formula R 1 -OSO 2 CF 3 was used instead of 2,2,2-trifluoroethyl = nonafluorobutanesulfonate, and the following formula was produced according to the method described in Production Example 1 (5). The present pyridazine compounds represented by are shown in [Table 17].
Figure 2017075161

[Table 17]
Figure 2017075161

This pyridazine compound 2; 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 8.46 (1H, s), 8.02 (1H, d), 7.63 (1H, d), 7.61 (1H, d), 7.27 (1H, d), 5.08 (2H, t), 3.43 (2H, q), 1.30 (3H, t).
The present pyridazine compound 3; 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 8.46 (1H, s), 8.02 (1H, d), 7.63 (1H, d), 7.61 (1H, d), 7.24 (1H, d), 5.28-5.06 (1H, m), 5.04-4.95 (2H, m), 3.42 (2H, q), 1.30 (3H, t).

[表17]に記載の各本ピリダジン化合物と共に生成した次式で示される副生成物を[表18]に示す。

Figure 2017075161

[表18]
Figure 2017075161

副生成物2;1H-NMR (CDCl3) δ: 8.40 (1H, s), 8.02 (1H, d), 7.61 (1H, d), 7.38 (1H, d), 7.04 (1H, d), 4.84 (2H, t), 3.17 (2H, q), 1.27 (3H, t).
副生成物3;1H-NMR (CDCl3) δ: 8.41 (1H, s), 8.02 (1H, d), 7.61 (1H, d), 7.38 (1H, d), 7.05 (1H, d), 5.18-5.01 (1H, m), 4.90-4.69 (2H, m), 3.19 (2H, q), 1.28 (3H, t). By-products represented by the following formulas generated together with the respective pyridazine compounds described in [Table 17] are shown in [Table 18].
Figure 2017075161

[Table 18]
Figure 2017075161

By-product 2; 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 8.40 (1H, s), 8.02 (1H, d), 7.61 (1H, d), 7.38 (1H, d), 7.04 (1H, d), 4.84 (2H, t), 3.17 (2H, q), 1.27 (3H, t).
Byproduct 3; 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 8.41 (1H, s), 8.02 (1H, d), 7.61 (1H, d), 7.38 (1H, d), 7.05 (1H, d), 5.18-5.01 (1H, m), 4.90-4.69 (2H, m), 3.19 (2H, q), 1.28 (3H, t).

製造例2(1)
3−クロロピリジン−2−カルボニトリル54gおよびテトラヒドロフラン(以下、THFと記す。)300mLの混合物に、氷冷下1MメチルマグネシウムブロミドTHF溶液500gを滴下した。この反応混合物を氷冷下2時間撹拌した。得られた反応混合物を氷冷下で2N塩酸に加え、30分間撹拌した。この混合物に1N水酸化ナトリウム水溶液を加え、pH8とした後に、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄後、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。有機層を減圧下濃縮することにより、次式で示される中間体(4−1)58gを得た。

Figure 2017075161

1H-NMR (CDCl3) δ: 8.55 (1H, dd), 7.80 (1H, dd), 7.38 (1H, dd), 2.70 (3H, s). Production Example 2 (1)
To a mixture of 54 g of 3-chloropyridine-2-carbonitrile and 300 mL of tetrahydrofuran (hereinafter referred to as THF), 500 g of 1M methylmagnesium bromide THF solution was added dropwise under ice cooling. The reaction mixture was stirred for 2 hours under ice cooling. The obtained reaction mixture was added to 2N hydrochloric acid under ice cooling, and stirred for 30 minutes. A 1N aqueous sodium hydroxide solution was added to the mixture to adjust the pH to 8, followed by extraction with ethyl acetate. The obtained organic layer was washed with saturated brine, and then the organic layer was dried over anhydrous sodium sulfate. The organic layer was concentrated under reduced pressure to obtain 58 g of intermediate (4-1) represented by the following formula.
Figure 2017075161

1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 8.55 (1H, dd), 7.80 (1H, dd), 7.38 (1H, dd), 2.70 (3H, s).

製造例2(2)
水素化ナトリウム(油状、60%)57gおよびDMF560mLの懸濁液に、氷冷下エタンチオール100mLを滴下した。得られた混合物に、氷冷下中間体(4−1)204gおよびDMF190mLの混合溶液を滴下した。得られた反応混合物を、氷冷下1時間撹拌した後、氷水に加えた。析出した固体を濾過し、水で洗浄した。得られた固体を酢酸エチルに溶解し、この溶液を飽和食塩水で洗浄した後、有機層を硫酸ナトリウムで乾燥した。得られた有機層を減圧下濃縮した後、得られた固体をヘキサンで洗浄し、次式で示される中間体(4−2)160gを得た。

Figure 2017075161

1H-NMR (CDCl3) δ: 8.40 (1H, dd), 7.69 (1H, dd), 7.37 (1H, dd), 2.92 (2H, q), 2.72 (3H, s), 1.40 (3H, t). Production Example 2 (2)
To a suspension of 57 g of sodium hydride (oil, 60%) and 560 mL of DMF, 100 mL of ethanethiol was added dropwise under ice cooling. To the resulting mixture, a mixed solution of 204 g of intermediate (4-1) and 190 mL of DMF was added dropwise under ice cooling. The resulting reaction mixture was stirred for 1 hour under ice cooling, and then added to ice water. The precipitated solid was filtered and washed with water. The obtained solid was dissolved in ethyl acetate, and this solution was washed with saturated brine, and then the organic layer was dried over sodium sulfate. The obtained organic layer was concentrated under reduced pressure, and then the obtained solid was washed with hexane to obtain 160 g of an intermediate (4-2) represented by the following formula.
Figure 2017075161

1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 8.40 (1H, dd), 7.69 (1H, dd), 7.37 (1H, dd), 2.92 (2H, q), 2.72 (3H, s), 1.40 (3H, t ).

製造例2(3)
中間体(4−2)5.4g、グリオキシル酸1水和物2.8gおよびメタノール90mLの混合物に、氷冷下水酸化ナトリウム2.4gおよびメタノール溶液60mLの混合物を滴下した。この反応混合物を、60℃で2時間撹拌した。この反応混合物を室温まで放冷後、酢酸11mLおよびヒドラジン1水和物2.3gを順次加えた。得られた混合物を、100℃で19時間撹拌した。得られた混合物を室温まで放冷後、飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、クロロホルムで抽出した。得られた有機層を、硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、次式で示される中間体(4−3)3.8gを得た。

Figure 2017075161

1H-NMR (CDCl3) δ: 10.60 (1H, br s), 8.43 (1H, dd), 8.13 (1H, d), 7.71 (1H, dd), 7.29 (1H, dd), 7.05 (1H, d), 2.95 (2H, q), 1.35 (3H, t). Production Example 2 (3)
To a mixture of 5.4 g of the intermediate (4-2), 2.8 g of glyoxylic acid monohydrate and 90 mL of methanol, a mixture of 2.4 g of sodium hydroxide and 60 mL of methanol solution was added dropwise under ice cooling. The reaction mixture was stirred at 60 ° C. for 2 hours. The reaction mixture was allowed to cool to room temperature, and 11 mL of acetic acid and 2.3 g of hydrazine monohydrate were sequentially added. The resulting mixture was stirred at 100 ° C. for 19 hours. The resulting mixture was allowed to cool to room temperature, saturated aqueous ammonium chloride solution was added, and the mixture was extracted with chloroform. The obtained organic layer was dried over sodium sulfate and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was subjected to silica gel chromatography to obtain 3.8 g of an intermediate (4-3) represented by the following formula.
Figure 2017075161

1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 10.60 (1H, br s), 8.43 (1H, dd), 8.13 (1H, d), 7.71 (1H, dd), 7.29 (1H, dd), 7.05 (1H, d), 2.95 (2H, q), 1.35 (3H, t).

製造例2(4)
中間体(4−3)2.0gおよびトルエン9mLの混合物に、室温で1滴のDMFおよびオキシ塩化リン1.6mLを順次加えた。この混合物を、100℃で2時間撹拌した。得られた混合物を室温まで放冷後、減圧下濃縮した。得られた残渣をクロロホルムで希釈し、氷冷下で水を加えた。得られた混合物をクロロホルムで抽出し、水および飽和食塩水で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥した。得られた有機層を減圧下濃縮することにより、次式で示される中間体(4−4)2.2gを得た。

Figure 2017075161

1H-NMR (CDCl3) δ: 8.48 (1H, dd), 8.25 (1H, d), 7.79 (1H, dd), 7.63 (1H, d), 7.34 (1H, dd), 2.95 (2H, q), 1.33 (3H, t). Production Example 2 (4)
To a mixture of 2.0 g of intermediate (4-3) and 9 mL of toluene, 1 drop of DMF and 1.6 mL of phosphorus oxychloride were sequentially added at room temperature. The mixture was stirred at 100 ° C. for 2 hours. The resulting mixture was allowed to cool to room temperature and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was diluted with chloroform, and water was added under ice cooling. The obtained mixture was extracted with chloroform, washed with water and saturated brine, and dried over sodium sulfate. The obtained organic layer was concentrated under reduced pressure to obtain 2.2 g of an intermediate (4-4) represented by the following formula.
Figure 2017075161

1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 8.48 (1H, dd), 8.25 (1H, d), 7.79 (1H, dd), 7.63 (1H, d), 7.34 (1H, dd), 2.95 (2H, q ), 1.33 (3H, t).

製造例2(5)
中間体(4−4)2.2g、及びクロロホルム43mLの混合物に、氷冷下mCPBA(75%)4.2gを加えた。この反応混合物を、室温で24時間撹拌した。この混合物に、亜硫酸ナトリウム11gおよび飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、クロロホルムで抽出した。得られた有機層を、硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、次式で示される中間体(4−5)2.2gを得た。

Figure 2017075161

1H-NMR (CDCl3) δ: 8.93 (1H, dd), 8.54 (1H, dd), 7.95 (1H, d), 7.71 (1H, d), 7.66 (1H, dd), 3.89 (2H, q), 1.41 (3H, t). Production Example 2 (5)
To a mixture of 2.2 g of intermediate (4-4) and 43 mL of chloroform, 4.2 g of mCPBA (75%) was added under ice cooling. The reaction mixture was stirred at room temperature for 24 hours. To this mixture, 11 g of sodium sulfite and a saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution were added, and the mixture was extracted with chloroform. The obtained organic layer was dried over sodium sulfate and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was subjected to silica gel chromatography to obtain 2.2 g of intermediate (4-5) represented by the following formula.
Figure 2017075161

1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 8.93 (1H, dd), 8.54 (1H, dd), 7.95 (1H, d), 7.71 (1H, d), 7.66 (1H, dd), 3.89 (2H, q ), 1.41 (3H, t).

製造例2(6)
中間体(4−5)3.0g、テトラブチルアンモニウムクロリド880mgおよびDMF26mLの混合物に、室温でメタンスルフィン酸ナトリウム1.6gを加えた。この混合物を、100℃で5時間撹拌した。得られた混合物を室温まで放冷後、水に加え、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、次式で示される中間体(4−6)3.0gを得た。

Figure 2017075161

1H-NMR (CDCl3) δ: 8.98 (1H, dd), 8.57 (1H, dd), 8.37 (1H, d), 8.25 (1H, d), 7.72 (1H, dd), 3.90 (2H, q), 3.48 (3H, s), 1.43 (3H, t). Production Example 2 (6)
To a mixture of 3.0 g of intermediate (4-5), 880 mg of tetrabutylammonium chloride and 26 mL of DMF, 1.6 g of sodium methanesulfinate was added at room temperature. The mixture was stirred at 100 ° C. for 5 hours. The resulting mixture was allowed to cool to room temperature, added to water, and extracted with ethyl acetate. The obtained organic layer was dried over sodium sulfate and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was subjected to silica gel chromatography to obtain 3.0 g of an intermediate (4-6) represented by the following formula.
Figure 2017075161

1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 8.98 (1H, dd), 8.57 (1H, dd), 8.37 (1H, d), 8.25 (1H, d), 7.72 (1H, dd), 3.90 (2H, q ), 3.48 (3H, s), 1.43 (3H, t).

製造例2(7)
中間体(4−6)0.2g、炭酸セシウム0.23g及びNMP2mlの混合物に、室温で、2,2,2−トリクロロエタノール0.1gを加え、室温で1時間、続いて50℃で30分間撹拌した。室温まで放冷した反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下濃縮した後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、次式で示される本ピリダジン化合物4を0.19g得た。

Figure 2017075161

1H-NMR (CDCl3) δ: 8.92 (1H, dd), 8.53 (1H, dd), 7.95 (1H, d), 7.63 (1H, dd), 7.34 (1H, d), 5.28 (2H, s), 3.88 (2H, q), 1.40 (3H, t). Production Example 2 (7)
To a mixture of 0.2 g of intermediate (4-6), 0.23 g of cesium carbonate and 2 ml of NMP, 0.1 g of 2,2,2-trichloroethanol was added at room temperature, followed by 1 hour at room temperature, followed by 30 at 50 ° C. Stir for minutes. Water was added to the reaction mixture allowed to cool to room temperature, extracted with ethyl acetate, and dried over anhydrous sodium sulfate. After concentration under reduced pressure, the resulting residue was subjected to silica gel column chromatography to obtain 0.19 g of the present pyridazine compound 4 represented by the following formula.
Figure 2017075161

1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 8.92 (1H, dd), 8.53 (1H, dd), 7.95 (1H, d), 7.63 (1H, dd), 7.34 (1H, d), 5.28 (2H, s ), 3.88 (2H, q), 1.40 (3H, t).

製造例2(8)
2,2,2−トリクロロエタノールの代わりに式R1−OHで示される化合物を用い、製造例2(7)に記載の方法に準じて製造した次式で示される本ピリダジン化合物を[表19]に示す。

Figure 2017075161

[表19]
Figure 2017075161

本ピリダジン化合物5;1H-NMR (CDCl3) δ: 8.92 (1H, dd), 8.53 (1H, dd), 7.94 (1H, d), 7.63 (1H, dd), 7.29 (1H, d), 5.01 (2H, q), 3.87 (2H, q), 1.40 (3H, t).
本ピリダジン化合物6;1H-NMR (CDCl3) δ: 8.91 (1H, dd), 8.52 (1H, dd), 7.87 (1H, d), 7.61 (1H, dd), 7.17 (1H, d), 4.83 (2H, t), 3.89 (2H, q), 2.79-2.66 (2H, m), 1.40 (3H, t).
本ピリダジン化合物10;1H-NMR (CDCl3) δ: 8.91 (1H, dd), 8.52 (1H, dd), 7.86 (1H, d), 7.61 (1H, dd), 7.14 (1H, d), 4.65 (2H, t), 3.89 (2H, q), 2.42-2.28 (2H, m), 2.19-2.10 (2H, m), 1.39 (3H, t).
本ピリダジン化合物12;1H-NMR (CDCl3) δ: 8.91 (1H, dd), 8.51 (1H, dd), 7.84 (1H, d), 7.60 (1H, dd), 7.13 (1H, d), 4.61 (2H, t), 3.90 (2H, q), 2.27-2.13 (2H, m), 2.00-1.92 (2H, m), 1.86-1.76 (2H, m), 1.39 (3H, t).
本ピリダジン化合物14;1H-NMR (CDCl3) δ: 8.91 (1H, dd), 8.52 (1H, dd), 7.90 (1H, d), 7.62 (1H, dd), 7.20 (1H, d), 6.19 (1H, m), 3.93-3.77 (2H, m), 1.66 (3H, d), 1.39 (3H, t).
本ピリダジン化合物15;1H-NMR (CDCl3) δ: 8.91 (1H, dd), 8.52 (1H, dd), 7.90 (1H, d), 7.62 (1H, dd), 7.23 (1H, d), 6.22 (1H, tt), 4.81 (2H, dt), 3.87 (2H, q), 1.40 (3H, t).
本ピリダジン化合物16;1H-NMR (CDCl3) δ: 8.91 (1H, dd), 8.51 (1H, dd), 7.86 (1H, d), 7.60 (1H, dd), 7.19 (1H, d), 4.80-4.77 (2H, m), 4.08 (2H, t), 3.97 (2H, q), 3.88 (2H, q), 1.39 (3H, t).
本ピリダジン化合物17;1H-NMR (CDCl3) δ: 8.92 (1H, dd), 8.53 (1H, dd), 7.94 (1H, d), 7.62 (1H, dd), 7.29 (1H, d), 5.13 (2H, t), 3.87 (2H, q), 1.40 (3H, t).
本ピリダジン化合物18;1H-NMR (CDCl3) δ: 8.92 (1H, dd), 8.53 (1H, dd), 7.94 (1H, d), 7.63 (1H, dd), 7.27 (1H, d), 5.14 (2H, t), 3.87 (2H, q), 1.40 (3H, t).
本ピリダジン化合物19;1H-NMR (CDCl3) δ: 8.91 (1H, dd), 8.52 (1H, dd), 7.87 (1H, d), 7.61 (1H, dd), 7.16 (1H, d), 4.92 (2H, t), 3.88 (2H, q), 2.78-2.68 (2H, m), 1.40 (3H, t).
本ピリダジン化合物20;1H-NMR (CDCl3) δ: 8.92 (1H, dd), 8.53 (1H, dd), 7.94 (1H, d), 7.62 (1H, dd), 7.29 (1H, d), 5.14 (2H, t), 3.87 (2H, q), 1.40 (3H, t).
本ピリダジン化合物21;1H-NMR (CDCl3) δ: 8.91 (1H, dd), 8.52 (1H, dd), 7.87 (1H, d), 7.61 (1H, dd), 7.16 (1H, d), 4.91 (2H, t), 3.88 (2H, q), 2.74 (2H, tt), 1.40 (3H, t).
本ピリダジン化合物22;1H-NMR (CDCl3) δ: 8.92 (1H, dd), 8.53 (1H, dd), 8.01 (1H, d), 7.64 (1H, dd), 7.38 (1H, d), 6.86 (1H, dd), 3.82 (2H, q), 1.39 (3H, t).
本ピリダジン化合物23;1H-NMR (CDCl3) δ: 8.91 (1H, dd), 8.52 (1H, dd), 7.91 (1H, t), 7.62 (1H, dd), 7.22 (1H, d), 6.12-6.03 (1H, m), 3.93-3.79 (2H, m), 1.63 (3H, d), 1.39 (3H, t).
本ピリダジン化合物24;1H-NMR (CDCl3) δ: 8.91 (1H, dd), 8.52 (1H, dd), 7.90 (1H, t), 7.62 (1H, dd), 7.20 (1H, d), 6.23 (1H, m), 3.85 (2H, m), 1.67 (3H, d), 1.39 (3H, t).
本ピリダジン化合物25;1H-NMR (CDCl3) δ: 8.91 (1H, dd), 8.52 (1H, dd), 7.90 (1H, d), 7.62 (1H, dd), 7.22 (1H, d), 4.89 (2H, s), 3.88 (2H, q), 1.59 (3H, d), 1.40 (3H, t).
本ピリダジン化合物26;1H-NMR (CDCl3) δ: 8.91 (1H, dd), 8.52 (1H, dd), 7.91 (1H, t), 7.61 (1H, dd), 7.23 (1H, d), 6.17-6.09 (1H, m), 3.91-3.77 (2H, m), 2.12-1.88 (2H, m), 1.38 (3H, t), 1.09 (3H, t). Production Example 2 (8)
The pyridazine compound represented by the following formula produced according to the method described in Production Example 2 (7) using the compound represented by the formula R 1 —OH in place of 2,2,2-trichloroethanol [Table 19 ].
Figure 2017075161

[Table 19]
Figure 2017075161

The present pyridazine compound 5; 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 8.92 (1H, dd), 8.53 (1H, dd), 7.94 (1H, d), 7.63 (1H, dd), 7.29 (1H, d), 5.01 (2H, q), 3.87 (2H, q), 1.40 (3H, t).
This pyridazine compound 6; 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 8.91 (1H, dd), 8.52 (1H, dd), 7.87 (1H, d), 7.61 (1H, dd), 7.17 (1H, d), 4.83 (2H, t), 3.89 (2H, q), 2.79-2.66 (2H, m), 1.40 (3H, t).
This pyridazine compound 10: 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 8.91 (1H, dd), 8.52 (1H, dd), 7.86 (1H, d), 7.61 (1H, dd), 7.14 (1H, d), 4.65 (2H, t), 3.89 (2H, q), 2.42-2.28 (2H, m), 2.19-2.10 (2H, m), 1.39 (3H, t).
This pyridazine compound 12; 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 8.91 (1H, dd), 8.51 (1H, dd), 7.84 (1H, d), 7.60 (1H, dd), 7.13 (1H, d), 4.61 (2H, t), 3.90 (2H, q), 2.27-2.13 (2H, m), 2.00-1.92 (2H, m), 1.86-1.76 (2H, m), 1.39 (3H, t).
This pyridazine compound 14; 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 8.91 (1H, dd), 8.52 (1H, dd), 7.90 (1H, d), 7.62 (1H, dd), 7.20 (1H, d), 6.19 (1H, m), 3.93-3.77 (2H, m), 1.66 (3H, d), 1.39 (3H, t).
This pyridazine compound 15: 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 8.91 (1H, dd), 8.52 (1H, dd), 7.90 (1H, d), 7.62 (1H, dd), 7.23 (1H, d), 6.22 (1H, tt), 4.81 (2H, dt), 3.87 (2H, q), 1.40 (3H, t).
This pyridazine compound 16: 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 8.91 (1H, dd), 8.51 (1H, dd), 7.86 (1H, d), 7.60 (1H, dd), 7.19 (1H, d), 4.80-4.77 (2H, m), 4.08 (2H, t), 3.97 (2H, q), 3.88 (2H, q), 1.39 (3H, t).
This pyridazine compound 17; 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 8.92 (1H, dd), 8.53 (1H, dd), 7.94 (1H, d), 7.62 (1H, dd), 7.29 (1H, d), 5.13 (2H, t), 3.87 (2H, q), 1.40 (3H, t).
This pyridazine compound 18; 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 8.92 (1H, dd), 8.53 (1H, dd), 7.94 (1H, d), 7.63 (1H, dd), 7.27 (1H, d), 5.14 (2H, t), 3.87 (2H, q), 1.40 (3H, t).
The present pyridazine compound 19; 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 8.91 (1H, dd), 8.52 (1H, dd), 7.87 (1H, d), 7.61 (1H, dd), 7.16 (1H, d), 4.92 (2H, t), 3.88 (2H, q), 2.78-2.68 (2H, m), 1.40 (3H, t).
This pyridazine compound 20: 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 8.92 (1H, dd), 8.53 (1H, dd), 7.94 (1H, d), 7.62 (1H, dd), 7.29 (1H, d), 5.14 (2H, t), 3.87 (2H, q), 1.40 (3H, t).
The present pyridazine compound 21; 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 8.91 (1H, dd), 8.52 (1H, dd), 7.87 (1H, d), 7.61 (1H, dd), 7.16 (1H, d), 4.91 (2H, t), 3.88 (2H, q), 2.74 (2H, tt), 1.40 (3H, t).
This pyridazine compound 22; 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 8.92 (1H, dd), 8.53 (1H, dd), 8.01 (1H, d), 7.64 (1H, dd), 7.38 (1H, d), 6.86 (1H, dd), 3.82 (2H, q), 1.39 (3H, t).
This pyridazine compound 23; 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 8.91 (1H, dd), 8.52 (1H, dd), 7.91 (1H, t), 7.62 (1H, dd), 7.22 (1H, d), 6.12-6.03 (1H, m), 3.93-3.79 (2H, m), 1.63 (3H, d), 1.39 (3H, t).
This pyridazine compound 24: 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 8.91 (1H, dd), 8.52 (1H, dd), 7.90 (1H, t), 7.62 (1H, dd), 7.20 (1H, d), 6.23 (1H, m), 3.85 (2H, m), 1.67 (3H, d), 1.39 (3H, t).
This pyridazine compound 25; 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 8.91 (1H, dd), 8.52 (1H, dd), 7.90 (1H, d), 7.62 (1H, dd), 7.22 (1H, d), 4.89 (2H, s), 3.88 (2H, q), 1.59 (3H, d), 1.40 (3H, t).
The present pyridazine compound 26; 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 8.91 (1H, dd), 8.52 (1H, dd), 7.91 (1H, t), 7.61 (1H, dd), 7.23 (1H, d), 6.17-6.09 (1H, m), 3.91-3.77 (2H, m), 2.12-1.88 (2H, m), 1.38 (3H, t), 1.09 (3H, t).

製造例3(1)
2,2,2−トリクロロエタノールの代わりに1−ヒドロキシアセトンを用い、製造例2(7)に記載の方法に準じて次式で示される中間体(7−1)を得た。

Figure 2017075161

1H-NMR (CDCl3) δ: 8.91 (1H, dd), 8.51 (1H, dd), 7.90 (1H, d), 7.61 (1H, dd), 7.29 (1H, d), 5.20 (2H, s), 3.85 (2H, q), 2.28 (3H, s), 1.38 (3H, t). Production Example 3 (1)
Using 1-hydroxyacetone instead of 2,2,2-trichloroethanol, an intermediate (7-1) represented by the following formula was obtained according to the method described in Production Example 2 (7).
Figure 2017075161

1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 8.91 (1H, dd), 8.51 (1H, dd), 7.90 (1H, d), 7.61 (1H, dd), 7.29 (1H, d), 5.20 (2H, s ), 3.85 (2H, q), 2.28 (3H, s), 1.38 (3H, t).

製造例3(2)
中間体(7−1)を110mgおよびクロロホルム2mLの混合物に、氷冷下ビス(2−メトキシエチル)アミノサルファートリフルオリド150mgを滴下した。この混合物を室温で、6.5時間撹拌した。得られた混合物を、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に加え、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を、飽和食塩水で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、次式で示される3−(2,2−ジフルオロプロポキシ)−6−(3−エタンスルホニルピリジン−2−イル)ピリダジン(以下、本ピリダジン化合物7と記す。)31mgを得た。

Figure 2017075161

1H-NMR (CDCl3) δ: 8.92 (1H, dd), 8.52 (1H, dd), 7.91 (1H, d), 7.62 (1H, dd), 7.25 (1H, d), 4.76 (2H, t), 3.89 (2H, q), 1.81 (3H, t), 1.40 (3H, t). Production Example 3 (2)
To a mixture of 110 mg of intermediate (7-1) and 2 mL of chloroform, 150 mg of bis (2-methoxyethyl) aminosulfur trifluoride was added dropwise under ice cooling. The mixture was stirred at room temperature for 6.5 hours. The resulting mixture was added to a saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and extracted with ethyl acetate. The obtained organic layer was washed with saturated brine, dried over sodium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was subjected to silica gel chromatography, and 3- (2,2-difluoropropoxy) -6- (3-ethanesulfonylpyridin-2-yl) pyridazine (hereinafter referred to as the present pyridazine compound 7) represented by the following formula: 31 mg was obtained.
Figure 2017075161

1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 8.92 (1H, dd), 8.52 (1H, dd), 7.91 (1H, d), 7.62 (1H, dd), 7.25 (1H, d), 4.76 (2H, t ), 3.89 (2H, q), 1.81 (3H, t), 1.40 (3H, t).

製造例4(1)
中間体(4−4)の代わりに中間体(4−3)を用い、製造例2(5)に記載の方法に準じて次式で示される中間体(8−1)を得た。

Figure 2017075161

1H-NMR (CDCl3) δ: 12.07 (1H, s), 8.90 (1H, dd), 8.49 (1H, dd), 7.80 (1H, d), 7.61 (1H, dd), 7.11 (1H, d), 3.67 (2H, q), 1.39 (3H, t). Production Example 4 (1)
Intermediate (8-1) represented by the following formula was obtained according to the method described in Production Example 2 (5) using Intermediate (4-3) instead of Intermediate (4-4).
Figure 2017075161

1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 12.07 (1H, s), 8.90 (1H, dd), 8.49 (1H, dd), 7.80 (1H, d), 7.61 (1H, dd), 7.11 (1H, d ), 3.67 (2H, q), 1.39 (3H, t).

製造例4(2)
中間体(1−4)の代わりに中間体(8−1)を用い、2,2,2−トリフルオロエチル=ノナフルオロブタンスルホナートの代わりに2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル=トリフルオロメタンスルホナートを用い、製造例1(5)に記載の方法に準じて、次式で示される本ピリダジン化合物8、および副生成物8を得た。

Figure 2017075161

1H-NMR (CDCl3) δ: 8.92 (1H, dd), 8.53 (1H, dd), 7.93 (1H, d), 7.63 (1H, dd), 7.27 (1H, d), 6.21-5.90 (1H, m), 5.01 (2H, t), 3.88 (2H, q), 1.40 (3H, t).
副生成物8
Figure 2017075161

1H-NMR (CDCl3) δ: 8.91 (1H, dd), 8.49 (1H, dd), 7.73 (1H, d), 7.63 (1H, dd), 7.10 (1H, d), 6.13-5.82 (1H, m), 4.78 (2H, t), 3.56 (2H, q), 1.38 (3H, t). Production Example 4 (2)
Intermediate (8-1) is used instead of intermediate (1-4), and 2,2,3,3,3-pentafluoro is used instead of 2,2,2-trifluoroethyl = nonafluorobutanesulfonate According to the method described in Production Example 1 (5) using propyl = trifluoromethanesulfonate, the present pyridazine compound 8 represented by the following formula and by-product 8 were obtained.
Figure 2017075161

1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 8.92 (1H, dd), 8.53 (1H, dd), 7.93 (1H, d), 7.63 (1H, dd), 7.27 (1H, d), 6.21-5.90 (1H , m), 5.01 (2H, t), 3.88 (2H, q), 1.40 (3H, t).
By-product 8
Figure 2017075161

1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 8.91 (1H, dd), 8.49 (1H, dd), 7.73 (1H, d), 7.63 (1H, dd), 7.10 (1H, d), 6.13-5.82 (1H , m), 4.78 (2H, t), 3.56 (2H, q), 1.38 (3H, t).

製造例4(3)
2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル=トリフルオロメタンスルホナートの代わりに式R1−OSO2CF3で示される化合物を用い製造例4(2)に記載の方法に準じて製造した次式で示される本ピリダジン化合物を[表20]に示す。

Figure 2017075161

[表20]
Figure 2017075161

本ピリダジン化合物9;1H-NMR (CDCl3) δ: 8.92 (1H, dd), 8.53 (1H, dd), 7.94 (1H, d), 7.63 (1H, dd), 7.29 (1H, d), 5.08 (2H, t), 3.87 (2H, q), 1.40 (3H, t).
本ピリダジン化合物11;1H-NMR (CDCl3) δ: 8.92 (1H, dd), 8.53 (1H, dd), 7.95 (1H, d), 7.63 (1H, dd), 7.27 (1H, d), 5.28-5.06 (1H, m), 5.05-4.96 (2H, m), 3.87 (2H, q), 1.40 (3H, t). Production Example 4 (3)
Produced according to the method described in Production Example 4 (2) using a compound represented by the formula R 1 -OSO 2 CF 3 instead of 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl = trifluoromethanesulfonate. The present pyridazine compounds represented by the following formula are shown in [Table 20].
Figure 2017075161

[Table 20]
Figure 2017075161

This pyridazine compound 9; 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 8.92 (1H, dd), 8.53 (1H, dd), 7.94 (1H, d), 7.63 (1H, dd), 7.29 (1H, d), 5.08 (2H, t), 3.87 (2H, q), 1.40 (3H, t).
This pyridazine compound 11; 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 8.92 (1H, dd), 8.53 (1H, dd), 7.95 (1H, d), 7.63 (1H, dd), 7.27 (1H, d), 5.28-5.06 (1H, m), 5.05-4.96 (2H, m), 3.87 (2H, q), 1.40 (3H, t).

[表20]に記載の本ピリダジン化合物と共に生成した次式で示される副生成物を[表21]に示す。

Figure 2017075161

[表21]
Figure 2017075161

副生成物9;1H-NMR (CDCl3) δ: 8.92 (1H, dd), 8.50 (1H, dd), 7.74 (1H, d), 7.64 (1H, dd), 7.10 (1H, d), 4.86 (2H, t), 3.54 (2H, q), 1.38 (3H, t).
副生成物11;1H-NMR (CDCl3) δ: 8.92 (1H, dd), 8.49 (1H, dd), 7.73 (1H, d), 7.64 (1H, dd), 7.11 (1H, d), 5.21-5.00 (1H, m), 4.93-4.69 (2H, m), 3.54 (2H, q), 1.38 (3H, t). By-products represented by the following formula and produced together with the pyridazine compounds described in [Table 20] are shown in [Table 21].
Figure 2017075161

[Table 21]
Figure 2017075161

Byproduct 9; 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 8.92 (1H, dd), 8.50 (1H, dd), 7.74 (1H, d), 7.64 (1H, dd), 7.10 (1H, d), 4.86 (2H, t), 3.54 (2H, q), 1.38 (3H, t).
By-product 11; 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 8.92 (1H, dd), 8.49 (1H, dd), 7.73 (1H, d), 7.64 (1H, dd), 7.11 (1H, d), 5.21-5.00 (1H, m), 4.93-4.69 (2H, m), 3.54 (2H, q), 1.38 (3H, t).

製造例5(1)
国際公開第2013/018928号記載の方法に準じて合成した、3−(エチルスルファニル)−5−(トリフルオロメチル)ピリジン−2−カルボン酸5.0g、N,O−ジメチルヒドロキシルアミン塩酸塩1.9g、及びアセトニトリル100mLの混合物に、1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩4.6g、1−ヒドロキシベンゾトリアゾール0.27g、及びトリエチルアミン5.5mLを室温で順次加えた。この反応混合物を室温で1時間撹拌した後、水を加え、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を、水及び飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、次式で示される中間体(5−1)4.8gを得た。

Figure 2017075161
1H-NMR (CDCl3) δ: 8.67 (1H, s), 7.90 (1H, s), 3.58 (3H, s), 3.41 (3H, s), 3.00 (2H, q), 1.34 (3H, t). Production Example 5 (1)
Synthesized according to the method described in International Publication No. 2013/018928, 5.0 g of 3- (ethylsulfanyl) -5- (trifluoromethyl) pyridine-2-carboxylic acid, N, O-dimethylhydroxylamine hydrochloride 1 To a mixture of .9 g and 100 mL of acetonitrile, 4.6 g of 1-ethyl-3- (3-dimethylaminopropyl) carbodiimide hydrochloride, 0.27 g of 1-hydroxybenzotriazole, and 5.5 mL of triethylamine were sequentially added at room temperature. . The reaction mixture was stirred at room temperature for 1 hour, water was added, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The obtained organic layer was washed with water and saturated brine, dried over anhydrous sodium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was subjected to silica gel chromatography to obtain 4.8 g of an intermediate (5-1) represented by the following formula.
Figure 2017075161
1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 8.67 (1H, s), 7.90 (1H, s), 3.58 (3H, s), 3.41 (3H, s), 3.00 (2H, q), 1.34 (3H, t ).

製造例5(2)
3−クロロピリジン−2−カルボニトリルに代えて中間体(5−1)を用い、製造例2(2)に記載の方法に準じて次式で示される中間体(5−2)を得た。

Figure 2017075161

1H-NMR (CDCl3) δ: 8.62 (1H, d), 7.84 (1H, d), 2.96 (2H, q), 2.74 (3H, s), 1.42 (3H, t). Production Example 5 (2)
Intermediate (5-1) represented by the following formula was obtained according to the method described in Production Example 2 (2) using Intermediate (5-1) instead of 3-chloropyridine-2-carbonitrile. .
Figure 2017075161

1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 8.62 (1H, d), 7.84 (1H, d), 2.96 (2H, q), 2.74 (3H, s), 1.42 (3H, t).

製造例5(3)
中間体(4−2)に代えて中間体(5−2)を用い、製造例2(3)に記載の方法に準じて次式で示される中間体(5−3)を得た。

Figure 2017075161

1H-NMR (CDCl3) δ: 10.94 (1H, br s), 8.64 (1H, d), 8.21 (1H, d), 7.85 (1H, d), 7.08 (1H, d), 2.99 (2H, q), 1.39 (3H, t). Production Example 5 (3)
Intermediate (5-2) represented by the following formula was obtained according to the method described in Production Example 2 (3) using Intermediate (5-2) instead of Intermediate (4-2).
Figure 2017075161

1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 10.94 (1H, br s), 8.64 (1H, d), 8.21 (1H, d), 7.85 (1H, d), 7.08 (1H, d), 2.99 (2H, q), 1.39 (3H, t).

製造例5(4)
2.7gの中間体(5−3)、オキシ塩化リン10mLを加え100℃で6時間撹拌した。この混合物をエバポレーターで減圧下濃縮し、得られた残渣に氷冷下、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、メチル−tert−ブチルエーテル(以下、MTBEと記す。)で抽出した。得られた有機層を、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、次式で示される中間体(5−4)1.73gを得た。

Figure 2017075161

1H-NMR (CDCl3) δ: 8.69 (1H, s), 8.34 (1H, d), 7.94 (1H, s), 7.68 (1H, d), 3.00 (2H, q), 1.38 (3H, t). Production Example 5 (4)
2.7 g of the intermediate (5-3) and 10 mL of phosphorus oxychloride were added, and the mixture was stirred at 100 ° C. for 6 hours. This mixture was concentrated under reduced pressure using an evaporator, and a saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution was added to the resulting residue under ice cooling, followed by extraction with methyl-tert-butyl ether (hereinafter referred to as MTBE). The obtained organic layer was washed with saturated brine, dried over anhydrous sodium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was subjected to silica gel chromatography to obtain 1.73 g of an intermediate (5-4) represented by the following formula.
Figure 2017075161

1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 8.69 (1H, s), 8.34 (1H, d), 7.94 (1H, s), 7.68 (1H, d), 3.00 (2H, q), 1.38 (3H, t ).

製造例5(5)
中間体(4−4)に代えて中間体(5−4)を用い、製造例2(5)に記載の方法に準じて次式で示される中間体(5−5)を得た。

Figure 2017075161

1H-NMR (CDCl3) δ: 9.18 (1H, d), 8.78 (1H, d), 8.01 (1H, d), 7.76 (1H, d), 3.96 (2H, q), 1.45 (3H, t). Production Example 5 (5)
Intermediate (5-5) represented by the following formula was obtained according to the method described in Production Example 2 (5) using Intermediate (5-4) instead of Intermediate (4-4).
Figure 2017075161

1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 9.18 (1H, d), 8.78 (1H, d), 8.01 (1H, d), 7.76 (1H, d), 3.96 (2H, q), 1.45 (3H, t ).

製造例5(6)
中間体(5−5)0.24g、炭酸セシウム 0.29g、及びNMP3mLの混合物に、室温で2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロパノール0.10mLを加えた。この反応混合物を、60℃で1時間撹拌した。得られた混合物を室温まで放冷後に水を加え、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を、水及び飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、次式で示される本ピリダジン化合物28を得た。

Figure 2017075161

1H-NMR (CDCl3) δ: 9.16 (1H, s), 8.77 (1H, s), 8.01 (1H, d), 7.32 (1H, d), 5.10 (2H, t), 3.96 (2H, q), 1.44 (3H, t). Production Example 5 (6)
To a mixture of 0.24 g of intermediate (5-5), 0.29 g of cesium carbonate, and 3 mL of NMP, 0.10 mL of 2,2,3,3,3-pentafluoropropanol was added at room temperature. The reaction mixture was stirred at 60 ° C. for 1 hour. The resulting mixture was allowed to cool to room temperature, water was added, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The obtained organic layer was washed with water and saturated brine, dried over anhydrous sodium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was subjected to silica gel chromatography to obtain the pyridazine compound 28 represented by the following formula.
Figure 2017075161

1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 9.16 (1H, s), 8.77 (1H, s), 8.01 (1H, d), 7.32 (1H, d), 5.10 (2H, t), 3.96 (2H, q ), 1.44 (3H, t).

製造例5(7)
2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロパノールの代わりに式R1−OHで示される化合物を用い製造例5(6)に記載の方法に準じて製造した次式で示される本ピリダジン化合物を[表22]に示す。
[表22]

Figure 2017075161

本ピリダジン化合物31;1H-NMR (CDCl3) δ: 9.16 (1H, s), 8.77 (1H, s), 8.00 (1H, d), 7.30 (1H, d), 6.18-5.93 (1H, m), 5.03 (2H, t), 3.96 (2H, q), 1.44 (3H, t).
本ピリダジン化合物32;1H-NMR (CDCl3) δ: 8.68 (1H, s), 8.39 (1H, d), 7.92 (1H, s), 7.24 (1H, s), 5.07 (3H, m 4.15-4.08 (1H, q), 1.39 (3H, t). Production Example 5 (7)
The present pyridazine compound represented by the following formula, which was prepared according to the method described in Preparation Example 5 (6) using a compound represented by the formula R 1 —OH instead of 2,2,3,3,3-pentafluoropropanol Is shown in [Table 22].
[Table 22]
Figure 2017075161

This pyridazine compound 31; 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 9.16 (1H, s), 8.77 (1H, s), 8.00 (1H, d), 7.30 (1H, d), 6.18-5.93 (1H, m ), 5.03 (2H, t), 3.96 (2H, q), 1.44 (3H, t).
This pyridazine compound 32; 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 8.68 (1H, s), 8.39 (1H, d), 7.92 (1H, s), 7.24 (1H, s), 5.07 (3H, m 4.15- 4.08 (1H, q), 1.39 (3H, t).

製造例6
中間体(5−5)に代えて中間体(5−4)を用い、製造例5(6)に記載の方法に準じて次式で示される本ピリダジン化合物39を得た。

Figure 2017075161

1H-NMR (CDCl3) δ: 8.68 (1H, d), 8.40 (1H, d), 7.93 (1H, d), 7.28 (1H, d), 5.17-5.11 (2H, m), 3.01 (2H, q), 1.39 (3H, t). Production Example 6
This pyridazine compound 39 represented by the following formula was obtained according to the method described in Production Example 5 (6) using Intermediate (5-4) instead of Intermediate (5-5).
Figure 2017075161

1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 8.68 (1H, d), 8.40 (1H, d), 7.93 (1H, d), 7.28 (1H, d), 5.17-5.11 (2H, m), 3.01 (2H , q), 1.39 (3H, t).

製造例7
中間体(5−5)に代えて中間体(5−4)を用い、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロパノールに代えて2,2,3,3−テトラフルオロプロパノールを用い、製造例5(6)に記載の方法に準じて次式で示される本ピリダジン化合物40を得た。

Figure 2017075161

1H-NMR (CDCl3) δ: 8.68 (1H, d), 8.38 (1H, d), 7.92 (1H, d), 7.25 (1H, d), 6.05 (1H, tt), 5.10-5.03 (2H, m), 3.01 (2H, q), 1.39 (3H, t). Production Example 7
The intermediate (5-4) is used instead of the intermediate (5-5), 2,2,3,3-tetrafluoropropanol is used instead of 2,2,3,3,3-pentafluoropropanol, This pyridazine compound 40 represented by the following formula was obtained according to the method described in Production Example 5 (6).
Figure 2017075161

1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 8.68 (1H, d), 8.38 (1H, d), 7.92 (1H, d), 7.25 (1H, d), 6.05 (1H, tt), 5.10-5.03 (2H , m), 3.01 (2H, q), 1.39 (3H, t).

製造例8
中間体(5−5)に代えて中間体(4−4)を用い、製造例5(6)に記載の方法に準じて次式で示される本ピリダジン化合物27を得た。

Figure 2017075161

1H-NMR (CDCl3) δ: 8.46 (1H, dd), 8.32 (1H, d), 7.78 (1H, dd), 7.32 (1H, dd), 7.24 (1H, d), 5.12 (2H, t), 2.96 (2H, q), 1.35 (3H, t). Production Example 8
This pyridazine compound 27 represented by the following formula was obtained according to the method described in Production Example 5 (6) using Intermediate (4-4) instead of Intermediate (5-5).
Figure 2017075161

1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 8.46 (1H, dd), 8.32 (1H, d), 7.78 (1H, dd), 7.32 (1H, dd), 7.24 (1H, d), 5.12 (2H, t ), 2.96 (2H, q), 1.35 (3H, t).

製造例9
790mgの本ピリダジン化合物27、及びクロロホルム7mLの混合物に、氷冷下で75%mCPBA510mgを加えた。この混合物を氷冷下、0.5時間撹拌した。得られた反応混合物に、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、クロロホルムで抽出した。得られた有機層を、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、780mgの次式で示される本ピリダジン化合物29を得た。

Figure 2017075161

1H-NMR (CDCl3) δ: 8.78 (1H, dd), 8.68 (1H, dd), 8.60 (1H, d), 7.64 (1H, dd), 7.30 (1H, d), 5.21-5.02 (2H, m), 3.54-3.42 (1H, m), 3.06-2.95 (1H, m), 1.41 (3H, t). Production Example 9
To a mixture of 790 mg of the pyridazine compound 27 and 7 mL of chloroform, 510 mg of 75% mCPBA was added under ice cooling. The mixture was stirred for 0.5 hour under ice cooling. A saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution was added to the resulting reaction mixture, and the mixture was extracted with chloroform. The obtained organic layer was washed with saturated brine, dried over anhydrous sodium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was subjected to silica gel chromatography to obtain 780 mg of the pyridazine compound 29 represented by the following formula.
Figure 2017075161

1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 8.78 (1H, dd), 8.68 (1H, dd), 8.60 (1H, d), 7.64 (1H, dd), 7.30 (1H, d), 5.21-5.02 (2H , m), 3.54-3.42 (1H, m), 3.06-2.95 (1H, m), 1.41 (3H, t).

製造例10
製造例16(6)に記載の本ピリダジン化合物43を0.45g、パラジウム炭素50mg、ギ酸アンモニウム0.66g、及びメタノール3mLの混合物を室温下10分間撹拌した。この混合物を60℃に昇温し、2時間加熱撹拌した。得られた混合物を室温まで放冷後、水を加え、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、200mgの次式で示される本ピリダジン化合物30を得た。

Figure 2017075161

1H-NMR (CDCl3) δ: 8.94 (1H, dd), 8.48 (1H, dd), 7.65 (1H, dd), 7.10 (1H, m), 5.03 (2H, dt), 3.46 (2H, q), 2.22 (3H, t), 1.31 (3H, t). Production Example 10
A mixture of 0.45 g of the present pyridazine compound 43 described in Production Example 16 (6), 50 mg of palladium carbon, 0.66 g of ammonium formate, and 3 mL of methanol was stirred at room temperature for 10 minutes. The mixture was heated to 60 ° C. and stirred for 2 hours. The resulting mixture was allowed to cool to room temperature, water was added, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The obtained organic layer was washed with saturated brine, dried over anhydrous sodium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was subjected to silica gel chromatography to obtain 200 mg of the pyridazine compound 30 represented by the following formula.
Figure 2017075161

1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 8.94 (1H, dd), 8.48 (1H, dd), 7.65 (1H, dd), 7.10 (1H, m), 5.03 (2H, dt), 3.46 (2H, q ), 2.22 (3H, t), 1.31 (3H, t).

製造例11(1)
0.50gの中間体(4−2)、及びTHF3mLの溶液を−78℃に冷却し、リチウムジイソプロピルアミド2.7mL(1.1M THF溶液)を滴下した。1時間撹拌後、トリフルオロピルビン酸エチル0.53mLを加え、30分撹拌した。得られた反応混合物に、室温下飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、MTBEで抽出した。得られた有機層を、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、0.74gの次式で示される中間体(11−1)を得た。

Figure 2017075161

1H-NMR (CDCl3) δ: 8.41 (1H, dd), 7.69 (1H, dd), 7.40 (1H, dd), 4.56 (1H, br s), 4.45-4.32 (2H, m), 4.16-4.08 (2H, m), 2.92 (2H, q), 1.39 (3H, t), 1.30 (3H, t). Production Example 11 (1)
A solution of 0.50 g of intermediate (4-2) and 3 mL of THF was cooled to −78 ° C., and 2.7 mL of lithium diisopropylamide (1.1 M THF solution) was added dropwise. After stirring for 1 hour, 0.53 mL of ethyl trifluoropyruvate was added and stirred for 30 minutes. To the obtained reaction mixture, a saturated aqueous ammonium chloride solution was added at room temperature, and the mixture was extracted with MTBE. The obtained organic layer was washed with saturated brine, dried over anhydrous sodium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was subjected to silica gel chromatography to obtain 0.74 g of an intermediate (11-1) represented by the following formula.
Figure 2017075161

1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 8.41 (1H, dd), 7.69 (1H, dd), 7.40 (1H, dd), 4.56 (1H, br s), 4.45-4.32 (2H, m), 4.16- 4.08 (2H, m), 2.92 (2H, q), 1.39 (3H, t), 1.30 (3H, t).

製造例11(2)
0.74gの中間体(11−1)、及びエタノール10mLの溶液に、12N塩酸0.10mL、ヒドラジン一水和物0.21mLを滴下した。80℃で10時間撹拌後、エバポレーターで減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、0.25gの次式で示される中間体(11−2)を得た。

Figure 2017075161

1H-NMR (CDCl3) δ: 10.71 (1H, s), 8.55 (1H, s), 8.45 (1H, dd), 7.74 (1H, dd), 7.33 (1H, dd), 2.97 (2H, q), 1.37 (3H, t). Production Example 11 (2)
0.10 mL of 12N hydrochloric acid and 0.21 mL of hydrazine monohydrate were added dropwise to a solution of 0.74 g of the intermediate (11-1) and 10 mL of ethanol. After stirring at 80 ° C. for 10 hours, the mixture was concentrated under reduced pressure using an evaporator. The obtained residue was subjected to silica gel chromatography to obtain 0.25 g of an intermediate (11-2) represented by the following formula.
Figure 2017075161

1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 10.71 (1H, s), 8.55 (1H, s), 8.45 (1H, dd), 7.74 (1H, dd), 7.33 (1H, dd), 2.97 (2H, q ), 1.37 (3H, t).

製造例11(3)
中間体(5−3)に代えて中間体(11−2)を用い、製造例5(4)に記載の方法に準じて次式で示される中間体(11−3)を得た。

Figure 2017075161

1H-NMR (CDCl3) δ: 8.65 (1H, s), 8.51 (1H, dd), 7.83 (1H, dd), 7.39 (1H, dd), 2.99 (2H, q), 1.35 (3H, t). Production Example 11 (3)
Intermediate (11-3) represented by the following formula was obtained according to the method described in Production Example 5 (4) using Intermediate (11-2) instead of Intermediate (5-3).
Figure 2017075161

1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 8.65 (1H, s), 8.51 (1H, dd), 7.83 (1H, dd), 7.39 (1H, dd), 2.99 (2H, q), 1.35 (3H, t ).

製造例11(4)
0.26gの中間体(11−3)、NMP3mLの溶液に2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロパノール 0.11mL、炭酸セシウム0.36gを加え、70℃に加熱し2時間撹拌した。得られた反応混合物に、室温下飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、MTBEで抽出した。得られた有機層を、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をクロロホルム5mLに溶かし、氷冷下75%mCPBA0.41gを加え、1時間撹拌した。得られた反応混合物に、室温下飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、チオ硫酸ナトリウム水溶液を加え、クロロホルムで抽出した。得られた有機層を、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、0.20gの次式で示される本ピリダジン化合物34を得た。

Figure 2017075161

1H-NMR (CDCl3) δ: 8.95 (1H, dd), 8.56 (1H, dd), 8.22 (1H, s), 7.70-7.66 (1H, m), 5.21-5.15 (2H, m), 3.88 (2H, q), 1.43 (3H, dt). Production Example 11 (4)
0.12 mL of 2,2,3,3,3-pentafluoropropanol and 0.36 g of cesium carbonate were added to a solution of 0.26 g of intermediate (11-3) and NMP 3 mL, heated to 70 ° C., and stirred for 2 hours. . To the obtained reaction mixture, a saturated aqueous ammonium chloride solution was added at room temperature, and the mixture was extracted with MTBE. The obtained organic layer was washed with saturated brine, dried over anhydrous sodium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was dissolved in 5 mL of chloroform, and 0.41 g of 75% mCPBA was added under ice cooling, followed by stirring for 1 hour. To the obtained reaction mixture, a saturated aqueous sodium hydrogencarbonate solution and an aqueous sodium thiosulfate solution were added at room temperature, and the mixture was extracted with chloroform. The obtained organic layer was washed with saturated brine, dried over anhydrous sodium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was subjected to silica gel chromatography to obtain 0.20 g of the pyridazine compound 34 represented by the following formula.
Figure 2017075161

1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 8.95 (1H, dd), 8.56 (1H, dd), 8.22 (1H, s), 7.70-7.66 (1H, m), 5.21-5.15 (2H, m), 3.88 (2H, q), 1.43 (3H, dt).

製造例12
2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロパノールに代えて2,2,3,3−テトラフルオロプロパノールを用い、製造例11(4)に記載の方法に準じて、次式で示される本ピリダジン化合物33を得た。

Figure 2017075161

1H-NMR (CDCl3) δ: 8.96-8.94 (1H, m), 8.56 (1H, dd), 8.21 (1H, s), 7.67 (1H, dd), 6.19-5.91 (1H, m), 5.11 (2H, t), 3.93-3.85 (2H, m), 1.43 (3H, t). Production Example 12
According to the method described in Production Example 11 (4), using 2,2,3,3-tetrafluoropropanol instead of 2,2,3,3,3-pentafluoropropanol, the following formula Pyridazine compound 33 was obtained.
Figure 2017075161

1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 8.96-8.94 (1H, m), 8.56 (1H, dd), 8.21 (1H, s), 7.67 (1H, dd), 6.19-5.91 (1H, m), 5.11 (2H, t), 3.93-3.85 (2H, m), 1.43 (3H, t).

製造例13(1)
トリフルオロピルビン酸エチルに代えてピルビン酸エチルを用い、製造例11(1)に記載の方法に準じて、次式で示される中間体(13−1)を得た。

Figure 2017075161

1H-NMR (CDCl3) δ: 8.40 (1H, dd), 7.69 (1H, dd), 7.38 (1H, dd), 4.29 (1H, s), 4.23 (2H, q), 3.86 (1H, d), 3.61 (1H, d), 2.91 (2H, q), 1.52 (3H, s), 1.39 (3H, t), 1.30-1.22 (3H, m).製造例13(2) Production Example 13 (1)
Intermediate (13-1) represented by the following formula was obtained according to the method described in Production Example 11 (1) using ethyl pyruvate instead of ethyl trifluoropyruvate.
Figure 2017075161

1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 8.40 (1H, dd), 7.69 (1H, dd), 7.38 (1H, dd), 4.29 (1H, s), 4.23 (2H, q), 3.86 (1H, d ), 3.61 (1H, d), 2.91 (2H, q), 1.52 (3H, s), 1.39 (3H, t), 1.30-1.22 (3H, m). Production Example 13 (2)

製造例13(2)
中間体(11−1)に代えて中間体(13−1)を用い、製造例11(2)に記載の方法に準じて、次式で示される中間体(13−2)を得た。

Figure 2017075161

1H-NMR (CDCl3) δ: 10.70 (1H, s), 8.43 (1H, dd), 7.93 (1H, q), 7.71 (1H, dd), 7.28 (1H, dd), 2.94 (2H, q), 2.29 (3H, d), 1.34 (3H, t). Production Example 13 (2)
The intermediate (13-2) represented by the following formula was obtained according to the method described in Production Example 11 (2) using the intermediate (13-1) instead of the intermediate (11-1).
Figure 2017075161

1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 10.70 (1H, s), 8.43 (1H, dd), 7.93 (1H, q), 7.71 (1H, dd), 7.28 (1H, dd), 2.94 (2H, q ), 2.29 (3H, d), 1.34 (3H, t).

製造例13(3)
2.0gの中間体(13−2)、オキシ塩化リン9mL、トルエン30mLを加え100℃で4時間撹拌した。この混合物をエバポレーターで減圧下濃縮し、得られた残渣に氷冷下、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、MTBEで抽出する。得られた有機層を、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、1.9gの次式で示される中間体(13−3)を得た。

Figure 2017075161

1H-NMR (CDCl3) δ: 8.47 (1H, dd), 8.10 (1H, d), 7.79 (1H, dd), 7.33 (1H, dd), 2.95 (2H, q), 2.49 (3H, d), 1.33 (3H, t). Production Example 13 (3)
2.0 g of the intermediate (13-2), 9 mL of phosphorus oxychloride, and 30 mL of toluene were added and stirred at 100 ° C. for 4 hours. The mixture is concentrated under reduced pressure using an evaporator, and a saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution is added to the resulting residue under ice cooling, followed by extraction with MTBE. The obtained organic layer was washed with saturated brine, dried over anhydrous sodium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was subjected to silica gel chromatography to obtain 1.9 g of an intermediate (13-3) represented by the following formula.
Figure 2017075161

1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 8.47 (1H, dd), 8.10 (1H, d), 7.79 (1H, dd), 7.33 (1H, dd), 2.95 (2H, q), 2.49 (3H, d ), 1.33 (3H, t).

製造例13(4)
0.92gの中間体(13−3)、NMP5mLの溶液に2,2,3,3−テトラフルオロプロパノール0.46mL、炭酸セシウム1.57gを加え、70℃に加熱し4時間撹拌した。得られた反応混合物に、室温下飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、MTBEで抽出した。得られた有機層を、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣を、クロロホルム20mLに溶解し、氷冷下mCPBA1.7gを加え、1時間撹拌した。得られた反応混合物に、室温下飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、チオ硫酸ナトリウム水溶液を加え、クロロホルムで抽出した。得られた有機層を、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、次式で示される0.25gの本ピリダジン化合物37、及び0.73gの本ピリダジン化合物35を得た。
本ピリダジン化合物37

Figure 2017075161

1H-NMR (CDCl3) δ: 8.45 (1H, dd), 8.08 (1H, d), 7.77 (1H, dd), 7.31 (1H, dd), 6.03 (1H, tt), 5.04 (2H, ddd), 2.95 (2H, q), 2.34 (3H, d), 1.34 (3H, t).
本ピリダジン化合物35
Figure 2017075161

1H-NMR (CDCl3) δ: 8.91 (1H, s), 8.52 (1H, dd), 7.73 (1H, s), 7.62 (1H, dd), 6.03 (1H, tt), 5.00 (2H, t), 3.89 (2H, q), 2.35 (3H, d), 1.40 (3H, t). Production Example 13 (4)
To a solution of 0.92 g of intermediate (13-3) and NMP 5 mL, 2,6,3,3-tetrafluoropropanol 0.46 mL and cesium carbonate 1.57 g were added, heated to 70 ° C. and stirred for 4 hours. To the obtained reaction mixture, a saturated aqueous ammonium chloride solution was added at room temperature, and the mixture was extracted with MTBE. The obtained organic layer was washed with saturated brine, dried over anhydrous sodium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was dissolved in 20 mL of chloroform, 1.7 g of mCPBA was added under ice cooling, and the mixture was stirred for 1 hour. To the obtained reaction mixture, a saturated aqueous sodium hydrogencarbonate solution and an aqueous sodium thiosulfate solution were added at room temperature, and the mixture was extracted with chloroform. The obtained organic layer was washed with saturated brine, dried over anhydrous sodium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was subjected to silica gel chromatography to obtain 0.25 g of the present pyridazine compound 37 and 0.73 g of the present pyridazine compound 35 represented by the following formula.
The present pyridazine compound 37
Figure 2017075161

1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 8.45 (1H, dd), 8.08 (1H, d), 7.77 (1H, dd), 7.31 (1H, dd), 6.03 (1H, tt), 5.04 (2H, ddd ), 2.95 (2H, q), 2.34 (3H, d), 1.34 (3H, t).
The present pyridazine compound 35
Figure 2017075161

1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 8.91 (1H, s), 8.52 (1H, dd), 7.73 (1H, s), 7.62 (1H, dd), 6.03 (1H, tt), 5.00 (2H, t ), 3.89 (2H, q), 2.35 (3H, d), 1.40 (3H, t).

製造例14
2,2,3,3−テトラフルオロプロパノールに代えて、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロパノールを用い、製造例13(4)に記載の方法に準じて、次式で示される本ピリダジン化合物38及び本ピリダジン化合物36を得た。
本ピリダジン化合物38

Figure 2017075161

1H-NMR (CDCl3) δ: 8.45 (1H, dd), 8.09 (1H, d), 7.77 (1H, dd), 7.31 (1H, dd), 5.11 (2H, td), 2.95 (2H, q), 2.35 (3H, d), 1.34 (3H, t).
本ピリダジン化合物36
Figure 2017075161

1H-NMR (CDCl3) δ: 8.91 (1H, dd), 8.52 (1H, dd), 7.74 (1H, s), 7.62 (1H, dd), 5.06 (2H, t), 3.89 (2H, q), 2.35 (3H, s), 1.40 (3H, t). Production Example 14
In place of 2,2,3,3-tetrafluoropropanol, 2,2,3,3,3-pentafluoropropanol is used, and is represented by the following formula according to the method described in Production Example 13 (4). This pyridazine compound 38 and this pyridazine compound 36 were obtained.
The present pyridazine compound 38
Figure 2017075161

1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 8.45 (1H, dd), 8.09 (1H, d), 7.77 (1H, dd), 7.31 (1H, dd), 5.11 (2H, td), 2.95 (2H, q ), 2.35 (3H, d), 1.34 (3H, t).
The present pyridazine compound 36
Figure 2017075161

1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 8.91 (1H, dd), 8.52 (1H, dd), 7.74 (1H, s), 7.62 (1H, dd), 5.06 (2H, t), 3.89 (2H, q ), 2.35 (3H, s), 1.40 (3H, t).

製造例15
500mgの本ピリダジン化合物9、及びクロロホルム2.5mLの溶液に、氷冷下75%mCPBA610mgを加え、24時間撹拌した。得られた反応混合物に、室温下飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、亜硫酸ナトリウム水溶液を加え、クロロホルムで抽出した。得られた有機層を、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、次式で示される230mgの本ピリダジン化合物41、及び300mgの本ピリダジン化合物42を得た。
本ピリダジン化合物41

Figure 2017075161

1H-NMR (CDCl3) δ: 8.94 (1H, dd), 8.39 (1H, dd), 7.73 (1H, d), 7.67 (1H, dd), 6.95 (1H, d), 4.99-4.76 (2H, m), 3.64-3.50 (2H, m), 1.39 (3H, t).
本ピリダジン化合物42
Figure 2017075161

1H-NMR (CDCl3) δ: 8.50 (1H, dd), 7.91 (1H, dd), 7.74 (1H, d), 7.61 (1H, dd), 6.96 (1H, d), 4.86 (2H, t), 3.30-3.24 (2H, m), 1.31 (3H, t). Production Example 15
To a solution of 500 mg of the present pyridazine compound 9 and chloroform 2.5 mL, 610 mg of 75% mCPBA was added under ice cooling and stirred for 24 hours. To the obtained reaction mixture, a saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and an aqueous sodium sulfite solution were added at room temperature, and the mixture was extracted with chloroform. The obtained organic layer was washed with saturated brine, dried over anhydrous sodium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was subjected to silica gel chromatography to obtain 230 mg of the present pyridazine compound 41 and 300 mg of the present pyridazine compound 42 represented by the following formula.
The present pyridazine compound 41
Figure 2017075161

1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 8.94 (1H, dd), 8.39 (1H, dd), 7.73 (1H, d), 7.67 (1H, dd), 6.95 (1H, d), 4.99-4.76 (2H , m), 3.64-3.50 (2H, m), 1.39 (3H, t).
The present pyridazine compound 42
Figure 2017075161

1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 8.50 (1H, dd), 7.91 (1H, dd), 7.74 (1H, d), 7.61 (1H, dd), 6.96 (1H, d), 4.86 (2H, t ), 3.30-3.24 (2H, m), 1.31 (3H, t).

製造例16(1)
中間体(4−1)に代えて1−(3−クロロピリジン−2−イル)プロパン−1−オンを用い、製造例2(2)に記載の方法に準じて、次式で示される中間体(16−1)を得た。

Figure 2017075161

1H-NMR (CDCl3) δ: 8.39 (1H, dd), 7.69 (1H, dd), 7.36 (1H, dd), 3.22 (2H, q), 2.92 (2H, q), 1.39 (3H, t), 1.21 (3H, t). Production Example 16 (1)
In accordance with the method described in Production Example 2 (2), using 1- (3-chloropyridin-2-yl) propan-1-one instead of the intermediate (4-1), an intermediate represented by the following formula A body (16-1) was obtained.
Figure 2017075161

1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 8.39 (1H, dd), 7.69 (1H, dd), 7.36 (1H, dd), 3.22 (2H, q), 2.92 (2H, q), 1.39 (3H, t ), 1.21 (3H, t).

製造例16(2)
氷冷下、2N水酸化ナトリウム 12mLにグリオキシル酸一水和物 1.41gを加え、10分撹拌した。その後、この反応溶液にメタノール12mL、1.5gの中間体(16−1)を加え、1時間撹拌した。この反応溶液に12N塩酸を加え1時間撹拌し、得られた固体をろ過し、乾燥させることで1.3gの次式で示される中間体(16−2)を得た。

Figure 2017075161

1H-NMR (CDCl3) δ: 8.46 (1H, dd), 7.78 (1H, dd), 7.38 (1H, dd), 6.19 (1H, q), 2.93 (2H, q), 2.43 (3H, d), 1.33 (3H, t). Production Example 16 (2)
Under ice-cooling, 1.41 g of glyoxylic acid monohydrate was added to 12 mL of 2N sodium hydroxide, and the mixture was stirred for 10 minutes. Thereafter, 12 mL of methanol and 1.5 g of the intermediate (16-1) were added to the reaction solution, followed by stirring for 1 hour. 12N hydrochloric acid was added to this reaction solution, and the mixture was stirred for 1 hour. The obtained solid was filtered and dried to obtain 1.3 g of an intermediate (16-2) represented by the following formula.
Figure 2017075161

1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 8.46 (1H, dd), 7.78 (1H, dd), 7.38 (1H, dd), 6.19 (1H, q), 2.93 (2H, q), 2.43 (3H, d ), 1.33 (3H, t).

製造例16(3)
0.10gの中間体(16−2)、水3mLの溶液に、亜硫酸ナトリウム0.06gを加え60℃で1時間撹拌した。この反応混合液に12N塩酸1mL、ヒドラジン一水和物0.05mLを加え90℃にした。4時間撹拌後、氷冷下ゆっくり撹拌し、得られた結晶をろ過、乾燥することで84mgの次式で示される中間体(16−3)を得た。

Figure 2017075161

1H-NMR (CDCl3) δ: 8.48 (1H, dt), 7.74 (1H, d), 7.33 (1H, ddd), 6.86 (1H, t), 2.89 (2H, q), 2.06 (3H, br s), 1.28 (3H, t). Production Example 16 (3)
0.06 g of sodium sulfite was added to a solution of 0.10 g of the intermediate (16-2) and water 3 mL, and the mixture was stirred at 60 ° C. for 1 hour. To this reaction mixture, 1 mL of 12N hydrochloric acid and 0.05 mL of hydrazine monohydrate were added to reach 90 ° C. After stirring for 4 hours, the mixture was slowly stirred under ice-cooling, and the resulting crystals were filtered and dried to obtain 84 mg of an intermediate (16-3) represented by the following formula.
Figure 2017075161

1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 8.48 (1H, dt), 7.74 (1H, d), 7.33 (1H, ddd), 6.86 (1H, t), 2.89 (2H, q), 2.06 (3H, br s), 1.28 (3H, t).

製造例16(4)
中間体(5−3)に代えて中間体(16−3)を用い、製造例5(4)に記載の方法に準じて、次式で示される中間体(16−4)を得た。
中間体(16−4)

Figure 2017075161

1H-NMR (CDCl3) δ: 8.95 (1H, dd), 8.50 (1H, dd), 7.68 (1H, dd), 7.52 (1H, d), 3.48 (2H, q), 2.24 (3H, s), 1.31 (3H, t). Production Example 16 (4)
Intermediate (16-3) represented by the following formula was obtained according to the method described in Production Example 5 (4) using Intermediate (16-3) instead of Intermediate (5-3).
Intermediate (16-4)
Figure 2017075161

1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 8.95 (1H, dd), 8.50 (1H, dd), 7.68 (1H, dd), 7.52 (1H, d), 3.48 (2H, q), 2.24 (3H, s ), 1.31 (3H, t).

製造例16(5)
5.7gの中間体(16−4)、クロロホルム150mLの溶液に、氷冷下mCPBA 11gを加え、1時間撹拌した。得られた反応混合物に、室温下飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、チオ硫酸ナトリウム水溶液を加え、クロロホルムで抽出した。得られた有機層を、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、2.3gの次式で示される中間体(16−5)を得た。

Figure 2017075161

1H-NMR (CDCl3) δ: 9.00 (1H, dd), 8.43 (1H, dd), 7.69 (1H, dd), 7.17 (1H, d), 3.52-3.33 (2H, m), 2.10 (3H, d), 1.31 (3H, t). Production Example 16 (5)
To a solution of 5.7 g of intermediate (16-4) and chloroform (150 mL), 11 g of mCPBA was added under ice cooling, and the mixture was stirred for 1 hour. To the obtained reaction mixture, a saturated aqueous sodium hydrogencarbonate solution and an aqueous sodium thiosulfate solution were added at room temperature, and the mixture was extracted with chloroform. The obtained organic layer was washed with saturated brine, dried over anhydrous sodium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was subjected to silica gel chromatography to obtain 2.3 g of an intermediate (16-5) represented by the following formula.
Figure 2017075161

1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 9.00 (1H, dd), 8.43 (1H, dd), 7.69 (1H, dd), 7.17 (1H, d), 3.52-3.33 (2H, m), 2.10 (3H , d), 1.31 (3H, t).

製造例16(6)
中間体(5−5)に代えて中間体(16−5)を用い、製造例5(6)に記載の方法に準じて、次式で示される本ピリダジン化合物43を得た。

Figure 2017075161

1H-NMR (CDCl3) δ: 9.00 (1H, dd), 8.43 (1H, dd), 7.70-7.66 (1H, m), 6.82 (1H, s), 4.94-4.75 (2H, m), 3.44 (2H, m), 2.08 (3H, s), 1.31 (3H, t). Production Example 16 (6)
This pyridazine compound 43 represented by the following formula was obtained according to the method described in Production Example 5 (6) using Intermediate (16-5) instead of Intermediate (5-5).
Figure 2017075161

1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 9.00 (1H, dd), 8.43 (1H, dd), 7.70-7.66 (1H, m), 6.82 (1H, s), 4.94-4.75 (2H, m), 3.44 (2H, m), 2.08 (3H, s), 1.31 (3H, t).

製造例17
中間体(16−4)に代えて本ピリダジン化合物28を用い、製造例16(5)に記載の方法に準じて、次式で示される本ピリダジン化合物44を得た。

Figure 2017075161

1H-NMR (CDCl3) δ: 9.18 (1H, d), 8.60 (1H, d), 7.74 (1H, d), 6.99 (1H, d), 4.98-4.79 (2H, m), 3.63 (2H, m), 1.42 (3H, t). Production Example 17
The pyridazine compound 44 represented by the following formula was obtained according to the method described in Production Example 16 (5) using the pyridazine compound 28 instead of the intermediate (16-4).
Figure 2017075161

1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 9.18 (1H, d), 8.60 (1H, d), 7.74 (1H, d), 6.99 (1H, d), 4.98-4.79 (2H, m), 3.63 (2H , m), 1.42 (3H, t).

製造例18
中間体(16−4)に代えて、本ピリダジン化合物31を用い、製造例16(5)に記載の方法に準じて次式で示される本ピリダジン化合物45を得た。

Figure 2017075161

1H-NMR (CDCl3) δ: 9.18 (1H, d), 8.60 (1H, d), 7.73 (1H, d), 6.96 (1H, d), 6.13-5.87 (1H, m), 4.83 (2H, dd), 3.63 (2H, td), 1.42 (3H, t). Production Example 18
This pyridazine compound 45 represented by the following formula was obtained according to the method described in Production Example 16 (5) using this pyridazine compound 31 instead of the intermediate (16-4).
Figure 2017075161

1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 9.18 (1H, d), 8.60 (1H, d), 7.73 (1H, d), 6.96 (1H, d), 6.13-5.87 (1H, m), 4.83 (2H , dd), 3.63 (2H, td), 1.42 (3H, t).

次に、本発明組成物の具体的な組成物を下記に記す。
なお、[表A]に記載の組合わせを有する組成物を、[表A]に記載の番号を付して表す。例えば、[表A]の番号1の組成物を、本組成物1と記す。
[表A]において、成分1の欄に記載している※は、本ピリダジン化合物1から45のいずれか1種を表し、各成分の欄の[ ]内に記載されている数字は、本発明組成物100部に対する各成分の量(部)を意味する。また、「β2」は殺菌化合物β2を表す。
Next, specific compositions of the composition of the present invention will be described below.
In addition, the composition which has the combination as described in [Table A] is attached | subjected and numbered as described in [Table A]. For example, the composition of No. 1 in [Table A] is referred to as the present composition 1.
In [Table A], * described in the column of component 1 represents any one of the present pyridazine compounds 1 to 45, and the numbers described in [] in the column of each component are the numbers in the present invention. The amount (part) of each component relative to 100 parts of the composition is meant. “Β2” represents the bactericidal compound β2.

[表A]

Figure 2017075161

[表A]の続き
Figure 2017075161

[表A]の続き
Figure 2017075161

[表A]の続き
Figure 2017075161

[表A]の続き
Figure 2017075161

[表A]の続き
Figure 2017075161

[表A]の続き
Figure 2017075161

[表A]の続き
Figure 2017075161

[表A]の続き
Figure 2017075161

[表A]の続き
Figure 2017075161

[表A]の続き
Figure 2017075161

[表A]の続き
Figure 2017075161

[表A]の続き
Figure 2017075161

[表A]の続き
Figure 2017075161

[表A]の続き
Figure 2017075161

[表A]の続き
Figure 2017075161

[表A]の続き
Figure 2017075161

[表A]の続き
Figure 2017075161

[表A]の続き
Figure 2017075161

[表A]の続き
Figure 2017075161

[表A]の続き
Figure 2017075161

[表A]の続き
Figure 2017075161

[表A]の続き
Figure 2017075161

[表A]の続き
Figure 2017075161

[表A]の続き
Figure 2017075161

[表A]の続き
Figure 2017075161

[表A]の続き
Figure 2017075161

[表A]の続き
Figure 2017075161

[表A]の続き
Figure 2017075161

[表A]の続き
Figure 2017075161

[表A]の続き
Figure 2017075161

[表A]の続き
Figure 2017075161

[表A]の続き
Figure 2017075161

[表A]の続き
Figure 2017075161

[表A]の続き
Figure 2017075161

[表A]の続き
Figure 2017075161

[表A]の続き
Figure 2017075161

[表A]の続き
Figure 2017075161

[表A]の続き
Figure 2017075161

[表A]の続き
Figure 2017075161

[表A]の続き
Figure 2017075161

[表A]の続き
Figure 2017075161
[Table A]
Figure 2017075161

Continuation of [Table A]
Figure 2017075161

Continuation of [Table A]
Figure 2017075161

Continuation of [Table A]
Figure 2017075161

Continuation of [Table A]
Figure 2017075161

Continuation of [Table A]
Figure 2017075161

Continuation of [Table A]
Figure 2017075161

Continuation of [Table A]
Figure 2017075161

Continuation of [Table A]
Figure 2017075161

Continuation of [Table A]
Figure 2017075161

Continuation of [Table A]
Figure 2017075161

Continuation of [Table A]
Figure 2017075161

Continuation of [Table A]
Figure 2017075161

Continuation of [Table A]
Figure 2017075161

Continuation of [Table A]
Figure 2017075161

Continuation of [Table A]
Figure 2017075161

Continuation of [Table A]
Figure 2017075161

Continuation of [Table A]
Figure 2017075161

Continuation of [Table A]
Figure 2017075161

Continuation of [Table A]
Figure 2017075161

Continuation of [Table A]
Figure 2017075161

Continuation of [Table A]
Figure 2017075161

Continuation of [Table A]
Figure 2017075161

Continuation of [Table A]
Figure 2017075161

Continuation of [Table A]
Figure 2017075161

Continuation of [Table A]
Figure 2017075161

Continuation of [Table A]
Figure 2017075161

Continuation of [Table A]
Figure 2017075161

Continuation of [Table A]
Figure 2017075161

Continuation of [Table A]
Figure 2017075161

Continuation of [Table A]
Figure 2017075161

Continuation of [Table A]
Figure 2017075161

Continuation of [Table A]
Figure 2017075161

Continuation of [Table A]
Figure 2017075161

Continuation of [Table A]
Figure 2017075161

Continuation of [Table A]
Figure 2017075161

Continuation of [Table A]
Figure 2017075161

Continuation of [Table A]
Figure 2017075161

Continuation of [Table A]
Figure 2017075161

Continuation of [Table A]
Figure 2017075161

Continuation of [Table A]
Figure 2017075161

Continuation of [Table A]
Figure 2017075161

本組成物841〜1680
[表A]に記載の本組成物1〜840のそれぞれにおいて、メトコナゾール2部に代えて、テブコナゾール2部を用いた組成物。
The present compositions 841-1680
In each of the present compositions 1 to 840 described in [Table A], a composition using 2 parts of tebuconazole instead of 2 parts of metconazole.

本組成物1681〜2520
[表A]に記載の本組成物1〜840のそれぞれにおいて、メトコナゾール2部に代えて、ジフェノコナゾール2部を用いた組成物。
The present composition 1681-2520
In each of the present compositions 1 to 840 described in [Table A], a composition using 2 parts of difenoconazole instead of 2 parts of metconazole.

本組成物2521〜3360
[表A]に記載の本組成物1〜840のそれぞれにおいて、メトコナゾール2部に代えて、トリチコナゾール2部を用いた組成物。
This composition 2521-360
In each of the present compositions 1 to 840 described in [Table A], a composition using 2 parts of triticonazole instead of 2 parts of metconazole.

本組成物3361〜4200
[表A]に記載の本組成物1〜840のそれぞれにおいて、メトコナゾール2部に代えて、プロチオコナゾール2部を用いた組成物。
The present composition 3361-4200
In each of the present compositions 1 to 840 described in [Table A], a composition using 2 parts of prothioconazole instead of 2 parts of metconazole.

本組成物4201〜5040
[表A]に記載の本組成物1〜840のそれぞれにおいて、メトコナゾール2部に代えて、ジニコナゾール2部を用いた組成物。
This composition 4201-5040
In each of the present compositions 1 to 840 described in [Table A], a composition using 2 parts of diniconazole instead of 2 parts of metconazole.

本組成物5041〜5880
[表A]に記載の本組成物1〜840のそれぞれにおいて、メトコナゾール2部に代えて、ジニコナゾールM2部を用いた組成物。
This composition 5041-5880
In each of the present compositions 1 to 840 described in [Table A], a composition using 2 parts of diniconazole M instead of 2 parts of metconazole.

本組成物5881〜6720
[表A]に記載の本組成物1〜840のそれぞれにおいて、メトコナゾール2部に代えて、イプコナゾール2部を用いた組成物。
The present composition 5881-6720
In each of the present compositions 1 to 840 described in [Table A], a composition using 2 parts of ipconazole instead of 2 parts of metconazole.

本組成物6721〜7560
[表A]に記載の本組成物1〜840のそれぞれにおいて、メトコナゾール2部に代えて、プロクロラズ2部を用いた組成物。
The present composition 6721-7560
In each of the present compositions 1 to 840 described in [Table A], a composition using 2 parts of prochloraz instead of 2 parts of metconazole.

本組成物7561〜8400
[表A]に記載の本組成物1〜840のそれぞれにおいて、メトコナゾール2部に代えて、フルキンコナゾール2部を用いた組成物。
The present composition 7561-8400
In each of the present compositions 1 to 840 described in [Table A], a composition using 2 parts of fluquinconazole instead of 2 parts of metconazole.

本組成物8401〜9240
[表A]に記載の本組成物1〜840のそれぞれにおいて、メトコナゾール2部に代えて、トリアジメノール2部を用いた組成物。
This composition 8401-9240
In each of the present compositions 1 to 840 described in [Table A], a composition using 2 parts of triazimenol instead of 2 parts of metconazole.

本組成物A1〜A9240
前記の本組成物1〜9240のそれぞれの組合わせにさらにクロチアニジン10部及びクロラントラニリプロール10部を含む組成物(ただし、組成物を100部とする)
The present compositions A1 to A9240
A composition further comprising 10 parts of clothianidin and 10 parts of chlorantraniliprole in each combination of the present compositions 1 to 9240 (provided that the composition is 100 parts)

本組成物B1〜B9240
前記の本組成物1〜9240のそれぞれの組合わせにさらにクロチアニジン10部及びシアントラニリプロール10部を含む組成物(ただし、組成物を100部とする)
This composition B1-B9240
A composition further comprising 10 parts clothianidin and 10 parts cyantraniliprole in each combination of the present compositions 1 to 9240 (provided that the composition is 100 parts)

本組成物C1〜C9240
前記の本組成物1〜9240のそれぞれの組合わせにさらにクロチアニジン10部及びフィプロニル10部を含む組成物(ただし、組成物を100部とする)
This composition C1-C9240
A composition further comprising 10 parts clothianidin and 10 parts fipronil in each combination of the present compositions 1-9240 (provided that the composition is 100 parts)

本組成物D1〜D9240
前記の本組成物1〜9240のそれぞれの組合わせにさらにイミダクロプリド10部及びクロラントラニリプロール10部を含む組成物(ただし、組成物を100部とする)
This composition D1-D9240
A composition further containing 10 parts imidacloprid and 10 parts chlorantraniliprol in each combination of the present compositions 1-9240 (provided that the composition is 100 parts)

本組成物E1〜E9240
前記の本組成物1〜9240のそれぞれの組合わせにさらにイミダクロプリド10部及びシアントラニリプロール10部を含む組成物(ただし、組成物を100部とする)
This composition E1-E9240
A composition further comprising 10 parts imidacloprid and 10 parts cyantraniliprole in each combination of the present compositions 1 to 9240 (provided that the composition is 100 parts)

本組成物F1〜F9240
前記の本組成物1〜9240のそれぞれの組合わせにさらにイミダクロプリド10部及びフィプロニル10部を含む組成物(ただし、組成物を100部とする)
This composition F1-F9240
A composition further comprising 10 parts imidacloprid and 10 parts fipronil in each combination of the present compositions 1-9240 (provided that the composition is 100 parts)

本組成物G1〜G9240
前記の本組成物1〜9240のそれぞれの組合わせにさらにチアメトキサム10部及びクロラントラニリプロール10部を含む組成物(ただし、組成物を100部とする)
This composition G1-G9240
A composition further comprising 10 parts thiamethoxam and 10 parts chlorantraniliprole in each combination of the present compositions 1-9240 (provided that the composition is 100 parts)

前記の本組成物1〜9240のそれぞれの組合わせにさらにチアメトキサム10部及びシアントラニリプロール10部を含む組成物(ただし、組成物を100部とする)   A composition further containing 10 parts thiamethoxam and 10 parts cyantraniliprole in each combination of the present compositions 1-9240 (provided that the composition is 100 parts)

本組成物I1〜I9240
前記の本組成物1〜9240のそれぞれの組合わせにさらにチアメトキサム10部及びフィプロニル10部を含む組成物(ただし、組成物を100部とする)
The present compositions I1-I9240
A composition further comprising 10 parts thiamethoxam and 10 parts fipronil in each combination of the present compositions 1-9240 (provided that the composition is 100 parts)

本組成物J1〜J9240
前記の本組成物1〜9240のそれぞれの組合わせにさらにチアクロプリド10部及びクロラントラニリプロール10部を含む組成物(ただし、組成物を100部とする)
This composition J1-J9240
A composition comprising 10 parts of thiacloprid and 10 parts of chlorantraniliprol in each combination of the present compositions 1 to 9240 (provided that the composition is 100 parts)

本組成物K1〜K9240
前記の本組成物1〜9240のそれぞれの組合わせにさらにチアクロプリド10部及びシアントラニリプロール10部を含む組成物(ただし、組成物を100部とする)
This composition K1-K9240
A composition further comprising 10 parts thiacloprid and 10 parts cyantraniliprole in each combination of the present compositions 1 to 9240 (provided that the composition is 100 parts)

本組成物L1〜L9240
前記の本組成物1〜9240のそれぞれの組合わせにさらにチアクロプリド10部及びフィプロニル10部を含む組成物(ただし、組成物を100部とする)
This composition L1-L9240
A composition further comprising 10 parts of thiacloprid and 10 parts of fipronil in each combination of the present compositions 1 to 9240 (provided that the composition is 100 parts)

本組成物M1〜M9240
前記の本組成物1〜9240のそれぞれの組合わせにさらにフルピラジフロン10部及びクロラントラニリプロール10部を含む組成物(ただし、組成物を100部とする)
This composition M1-M9240
A composition further comprising 10 parts of furpyradiflon and 10 parts of chlorantraniliprole in each combination of the present compositions 1 to 9240 (provided that the composition is 100 parts)

本組成物N1〜N9240
前記の本組成物1〜9240のそれぞれの組合わせにさらにフルピラジフロン10部及びシアントラニリプロール10部を含む組成物(ただし、組成物を100部とする)
This composition N1-N9240
A composition further comprising 10 parts of furpyraziflon and 10 parts of cyantraniliprole in each combination of the present compositions 1 to 9240 (provided that the composition is 100 parts)

本組成物O1〜O9240
前記の本組成物1〜9240のそれぞれの組合わせにさらにフルピラジフロン10部及びフィプロニル10部を含む組成物(ただし、組成物を100部とする)
This composition O1-O9240
A composition further comprising 10 parts of furpyraziflon and 10 parts of fipronil in each combination of the present compositions 1-9240 (provided that the composition is 100 parts)

本組成物P1〜P9240
前記の本組成物1〜9240のそれぞれの組合わせにさらにクロチアニジン20部を含む組成物(ただし、組成物を100部とする)
This composition P1-P9240
A composition further comprising clothianidin 20 parts in each combination of the present compositions 1 to 9240 (provided that the composition is 100 parts)

本組成物Q1〜Q9240
前記の本組成物1〜9240のそれぞれの組合わせにさらに殺虫化合物αが10部及びクロラントラニリプロール10部を含む組成物(ただし、組成物を100部とする)
This composition Q1-Q9240
A composition further comprising 10 parts of insecticidal compound α and 10 parts of chlorantraniliprole in each combination of the present compositions 1 to 9240 (provided that the composition is 100 parts)

本組成物R1〜R9240
前記の本組成物1〜9240のそれぞれの組合わせにさらに殺虫化合物αが10部及びシアントラニリプロール10部を含む組成物(ただし、組成物を100部とする)
This composition R1-R9240
A composition further comprising 10 parts of the insecticidal compound α and 10 parts of cyantranylprolol in each combination of the present compositions 1 to 9240 (provided that the composition is 100 parts)

本組成物S1〜S9240
前記の本組成物1〜9240のそれぞれの組合わせにさらに殺虫化合物αが10部及びフィプロニル10部を含む組成物(ただし、組成物を100部とする)
This composition S1-S9240
A composition further comprising 10 parts of insecticidal compound α and 10 parts of fipronil in each combination of the present compositions 1 to 9240 (provided that the composition is 100 parts)

次に、製剤例を示す。 Next, formulation examples are shown.

製剤例1
本ピリダジン化合物1〜45のうち1種を5部、クロチアニジン10部、ホワイトカーボンとポリオキシエチレンアルキルエーテルサルフェートアンモニウム塩との混合物(重量割合1:1)35部並びに水を混合し全量を100部とし、湿式粉砕法で微粉砕することにより、各々の製剤を得る。
Formulation Example 1
1 part of the present pyridazine compounds 1 to 45, 10 parts of clothianidin, 35 parts of a mixture of white carbon and polyoxyethylene alkyl ether sulfate ammonium salt (weight ratio 1: 1), and water are mixed to make 100 parts in total. Then, each preparation is obtained by fine pulverization by a wet pulverization method.

製剤例2
本ピリダジン化合物1〜45のうち1種を10部、クロチアニジン10部、リグニンスルホン酸カルシウム3部、ラウリル硫酸ナトリウム2部、並びに合成含水酸化珪素75部をよく粉砕混合することにより、各々の水和剤を得る。
Formulation Example 2
Of these pyridazine compounds 1-45, 10 parts of cloth, 10 parts of clothianidin, 3 parts of calcium lignin sulfonate, 2 parts of sodium lauryl sulfate, and 75 parts of synthetic hydrous silicon oxide were pulverized and mixed well. Get the agent.

製剤例3
本ピリダジン化合物1〜45のうち1種を1部、クロチアニジン0.5部、合成含水酸化珪素微粉末1部、リグニンスルホン酸カルシウム2部、ベントナイト30部およびカオリンクレー65.5部を加え混合する。ついで、この混合物に適当量の水を加え、さらに攪拌し、造粒機で製粒し、通風乾燥して各々の粒剤を得る。
製剤例4
本ピリダジン化合物1〜45のうち1種を10部、クロチアニジン2部、ソルビタントリオレエート1.5部、並びにポリビニルアルコール2部を含む水溶液28部を混合し、湿式粉砕法で微粉砕した後、この中にキサンタンガム0.05部及びアルミニウムマグネシウムシリケート0.1部を含む水溶液を加え全量を90部とし、さらにプロピレングリコール10部を加えて攪拌混合し、各々の製剤を得る。
Formulation Example 3
1 part of the present pyridazine compounds 1 to 45, 0.5 part of clothianidin, 1 part of synthetic hydrous silicon oxide fine powder, 2 parts of calcium lignin sulfonate, 30 parts of bentonite and 65.5 parts of kaolin clay are mixed. . Next, an appropriate amount of water is added to the mixture, and the mixture is further stirred, granulated by a granulator, and dried by ventilation to obtain each granule.
Formulation Example 4
One part of the present pyridazine compounds 1 to 45, 10 parts of clothianidin, 2 parts of clothianidin, 1.5 parts of sorbitan trioleate, and 28 parts of an aqueous solution containing 2 parts of polyvinyl alcohol were mixed and pulverized by a wet pulverization method. An aqueous solution containing 0.05 part of xanthan gum and 0.1 part of aluminum magnesium silicate is added to make the total amount 90 parts, and further 10 parts of propylene glycol is added and stirred and mixed to obtain each preparation.

製剤例5〜73
製剤例1において、クロチアニジン10部に代えて、[表i]記載の本化合物及び使用量とした以外は製剤例1と同様の操作を行い、各々の製剤を得る。
[表i]

Figure 2017075161
Formulation Examples 5-73
In Formulation Example 1, in place of 10 parts of clothianidin, the same operations as in Formulation Example 1 were carried out except that the present compounds and amounts used described in [Table i] were used to obtain respective formulations.
[Table i]
Figure 2017075161

[表iの続き]

Figure 2017075161
[Continuation of Table i]
Figure 2017075161

製剤例74〜142
製剤例2において、クロチアニジン10部に代えて、[表ii]記載の本化合物及び使用量とした以外は製剤例2と同様の操作を行い、各々の製剤を得る。
Formulation Examples 74-142
In Formulation Example 2, in place of 10 parts of clothianidin, the same operations as in Formulation Example 2 are carried out except that the present compounds and amounts used in [Table ii] are used to obtain respective formulations.

[表ii]

Figure 2017075161
[Table ii]
Figure 2017075161

[表iiの続き]

Figure 2017075161
[Continuation of Table ii]
Figure 2017075161

製剤例143〜211
製剤例3において、クロチアニジン0.5部に代えて、[表iii]記載の本化合物及び使用量とした以外は製剤例3と同様の操作を行い、各々の製剤を得る。
Formulation Examples 143 to 211
In Formulation Example 3, in place of 0.5 part of clothianidin, the same operations as in Formulation Example 3 were carried out except that the present compounds and amounts used described in [Table iii] were used to obtain respective formulations.

[表iii]

Figure 2017075161
[Table iii]
Figure 2017075161

[表iiiの続き]

Figure 2017075161
[Continuation of Table iii]
Figure 2017075161

製剤例212〜241
製剤例4において、クロチアニジン2部に代えて、[表iv]記載の本化合物及び使用量とした以外は製剤例4と同様の操作を行い、各々の製剤を得る。
Formulation Examples 212-241
In Formulation Example 4, in place of 2 parts of clothianidin, the same operation as in Formulation Example 4 is carried out except that the present compound and the amount used described in [Table iv] are used to obtain each formulation.

[表iv]

Figure 2017075161
[Table iv]
Figure 2017075161

製剤例242
本ピリダジン化合物1〜45のうち1種を10部、テブコナゾール0.1部、ソルビタントリオレエート1.5部、並びにポリビニルアルコール2部を含む水溶液28部を混合し、湿式粉砕法で微粉砕した後、この中にキサンタンガム0.05部及びアルミニウムマグネシウムシリケート0.1部を含む水溶液を加え全量を90部とし、さらにプロピレングリコール10部を加えて攪拌混合し、各々の製剤を得る。
Formulation Example 242
After mixing 10 parts of the present pyridazine compounds 1 to 45, 0.1 part of tebuconazole, 1.5 parts of sorbitan trioleate, and 28 parts of an aqueous solution containing 2 parts of polyvinyl alcohol, and then pulverizing them by a wet pulverization method Into this, an aqueous solution containing 0.05 part of xanthan gum and 0.1 part of aluminum magnesium silicate is added to make a total amount of 90 parts, and further 10 parts of propylene glycol is added and stirred and mixed to obtain each preparation.

製剤例243〜280
製剤例242において、テブコナゾール0.1部に代えて、[表v]記載の本化合物及び使用量とした以外は製剤例242と同様の操作を行い、各々の製剤を得る。
Formulation Examples 243 to 280
In Formulation Example 242, the same procedure as in Formulation Example 242 was performed except that 0.1 part of tebuconazole was used and the present compound and the amount used described in [Table v] were used to obtain each formulation.

[表v]

Figure 2017075161
[Table v]
Figure 2017075161

製剤例281
全量が100部となるように、ホワイトカーボンとポリオキシエチレンアルキルエーテルサルフェートアンモニウム塩との混合物(重量割合1:1)35部と、水とを加えて得られる本組成物1〜9240、A1〜A9240、B1〜B9240、C1〜C9240、D1〜D9240、E1〜E9240、F1〜F9240、G1〜G9240、H1〜H9240、I1〜I9240、J1〜J9240、K1〜K9240、L1〜L9240、M1〜M9240、N1〜N9240、O1〜O9240、P1〜P9240、Q1〜Q9240、R1〜R9240及びS1〜S9240のいずれか1種を、湿式粉砕法で微粉砕することにより、各々のフロアブル製剤を得る。
Formulation Example 281
The present compositions 1-9240, A1 to be obtained by adding 35 parts of a mixture of white carbon and polyoxyethylene alkyl ether sulfate ammonium salt (weight ratio 1: 1) and water so that the total amount becomes 100 parts. A9240, B1 to B9240, C1 to C9240, D1 to D9240, E1 to E9240, F1 to F9240, G1 to G9240, H1 to H9240, I1 to I9240, J1 to J9240, K1 to K9240, L1 to L9240, M1 to M9240, Each flowable preparation is obtained by finely pulverizing any one of N1 to N9240, O1 to O9240, P1 to P9240, Q1 to Q9240, R1 to R9240, and S1 to S9240 by a wet pulverization method.

製剤例282
全量が100部となるように、リグニンスルホン酸カルシウム3部と、ラウリル硫酸ナトリウム2部と、合成含水酸化珪素を加えて得られる本組成物1〜9240、A1〜A9240、B1〜B9240、C1〜C9240、D1〜D9240、E1〜E9240、F1〜F9240、G1〜G9240、H1〜H9240、I1〜I9240、J1〜J9240、K1〜K9240、L1〜L9240、M1〜M9240、N1〜N9240、O1〜O9240、P1〜P9240、Q1〜Q9240、R1〜R9240及びS1〜S9240のいずれか1種を、よく粉砕混合することにより、各々の水和剤を得る。
Formulation Example 282
This composition 1-9240 obtained by adding 3 parts of calcium lignin sulfonate, 2 parts of sodium lauryl sulfate, and synthetic silicon hydrous so that the total amount becomes 100 parts, A1 to A9240, B1 to B9240, C1 C9240, D1 to D9240, E1 to E9240, F1 to F9240, G1 to G9240, H1 to H9240, I1 to I9240, J1 to J9240, K1 to K9240, L1 to L9240, M1 to M9240, N1 to N9240, O1 to O9240, Each wettable powder is obtained by thoroughly pulverizing and mixing any one of P1 to P9240, Q1 to Q9240, R1 to R9240, and S1 to S9240.

製剤例283
全量が100部となるように、ホワイトカーボンとポリオキシエチレンアルキルエーテルサルフェートアンモニウム塩との混合物(重量割合1:1)15部と、水とを加えて得られる本組成物1〜9240、A1〜A9240、B1〜B9240、C1〜C9240、D1〜D9240、E1〜E9240、F1〜F9240、G1〜G9240、H1〜H9240、I1〜I9240、J1〜J9240、K1〜K9240、L1〜L9240、M1〜M9240、N1〜N9240、O1〜O9240、P1〜P9240、Q1〜Q9240、R1〜R9240及びS1〜S9240のいずれか1種を、湿式粉砕法で微粉砕することにより、各々のフロアブル製剤を得る。
Formulation Example 283
The present compositions 1-9240, A1 obtained by adding 15 parts of a mixture of white carbon and polyoxyethylene alkyl ether sulfate ammonium salt (weight ratio 1: 1) and water so that the total amount becomes 100 parts A9240, B1 to B9240, C1 to C9240, D1 to D9240, E1 to E9240, F1 to F9240, G1 to G9240, H1 to H9240, I1 to I9240, J1 to J9240, K1 to K9240, L1 to L9240, M1 to M9240, Each flowable preparation is obtained by pulverizing any one of N1 to N9240, O1 to O9240, P1 to P9240, Q1 to Q9240, R1 to R9240, and S1 to S9240 by a wet pulverization method.

次に本発明組成物の植物種子への適用例を示す。   Next, application examples of the composition of the present invention to plant seeds will be shown.

適用例1
ソルガム乾燥種子100kgに、製剤例281又は283に記載の方法で得られるフロアブル製剤のいずれか1種200mlを、回転式種子処理機(シードドレッサー、Hans−Ulrich Hege GmbH製)を用いて塗沫処理することにより、各処理種子を得る。
また、製剤例281又は283に記載の方法で得られるフロアブル製剤のいずれか1種200mlに、オキサベトリニル180グラムを添加して、上記と同様に塗沫処理することにより各処理種子を得る。
Application example 1
200 kg of any one of the flowable formulations obtained by the method described in Formulation Example 281 or 283 is smeared on 100 kg of dried sorghum seeds using a rotary seed treatment machine (seed dresser, Hans-Ulrich Hege GmbH). Thus, each treated seed is obtained.
In addition, 180 grams of oxabetalinyl is added to 200 ml of any one of the flowable formulations obtained by the method described in Formulation Example 281 or 283, and each treated seed is obtained by a smearing treatment as described above.

適用例2
ソルガム乾燥種子100kgに、製剤例281又は283に記載の方法で得られるフロアブル製剤のいずれか1種200mlを、回転式種子処理機(シードドレッサー、Hans−Ulrich Hege GmbH製)を用いて塗沫処理することにより、各処理種子を得る。
また、製剤例281又は283に記載の方法で得られるフロアブル製剤のいずれか1種200mlに、フルキソフェニム40グラムを添加して、上記と同様に塗沫処理することにより各処理種子を得る。
Application example 2
200 kg of any one of the flowable formulations obtained by the method described in Formulation Example 281 or 283 is smeared on 100 kg of dried sorghum seeds using a rotary seed treatment machine (seed dresser, Hans-Ulrich Hege GmbH). Thus, each treated seed is obtained.
In addition, 40 grams of flxophenim is added to 200 ml of any one of the flowable formulations obtained by the method described in Formulation Example 281 or 283, and each treated seed is obtained by smearing in the same manner as described above.

適用例3
トウモロコシ乾燥種子10kgに、製剤例281又は283に記載の方法で得られるフロアブル製剤のいずれか1種10mlを、回転式種子処理機(シードドレッサー、Hans−Ulrich Hege GmbH製)を用いて塗沫処理することにより、各処理種子を得る。トウモロコシは、グリホサート抵抗性遺伝子あるいはBt結晶毒素蛋白遺伝子などを含む遺伝子組換えトウモロコシを用いる。
Application example 3
Apply 10 ml of any flowable formulation obtained by the method described in Formulation Example 281 or 283 to 10 kg of dry corn seed using a rotary seed processing machine (seed dresser, Hans-Ulrich Hege GmbH). Thus, each treated seed is obtained. As the corn, a genetically modified corn containing a glyphosate resistance gene or a Bt crystal toxin protein gene is used.

適用例4
トウモロコシ乾燥種子10kgに、製剤例281又は283に記載の方法で得られるフロアブル製剤のいずれか1種40mlを、回転式種子処理機(シードドレッサー、Hans−Ulrich Hege GmbH製)を用いて塗沫処理することにより、各処理種子を得る。
Application example 4
40 ml of any one of the flowable formulations obtained by the method described in Formulation Example 281 or 283 is smeared on 10 kg of dried corn seeds using a rotary seed processing machine (seed dresser, Hans-Ulrich Hege GmbH). Thus, each treated seed is obtained.

適用例5
トウモロコシ乾燥種子10kgに、製剤例281又は283に記載の方法で得られるフロアブル製剤のいずれか1種100mlを、回転式種子処理機(シードドレッサー、Hans−Ulrich Hege GmbH製)を用いて塗沫処理することにより、各処理種子を得る。
Application example 5
100 kg of any one of the flowable preparations obtained by the method described in Formulation Example 281 or 283 is smeared on 10 kg of dried corn seeds using a rotary seed processor (seed dresser, Hans-Ulrich Hege GmbH). Thus, each treated seed is obtained.

適用例6
トウモロコシ乾燥種子10kgに、製剤例282に記載の方法で得られる水和剤のいずれか1種50gを粉衣処理することにより、各処理種子を得る。
Application Example 6
Each treated seed is obtained by subjecting 10 kg of dried corn seed to 50 g of any one of the wettable powders obtained by the method described in Formulation Example 282.

適用例7
ダイズ乾燥種子10kgに、製剤例281又は283に記載の方法で得られるフロアブル製剤のいずれか1種20mlを、回転式種子処理機(シードドレッサー、Hans−Ulrich Hege GmbH製)を用いて塗沫処理することにより、各処理種子を得る。ダイズは、グリホサート抵抗性遺伝子あるいはBt結晶毒素蛋白遺伝子などを含む遺伝子組換えダイズを用いる。
Application example 7
Applying 20 ml of any flowable formulation obtained by the method described in Formulation Example 281 or 283 to 10 kg of dried soybean seeds using a rotary seed treatment machine (seed dresser, Hans-Ulrich Hege GmbH) Thus, each treated seed is obtained. As the soybean, a genetically modified soybean containing a glyphosate resistance gene or a Bt crystal toxin protein gene is used.

適用例8
ダイズ乾燥種子10kgに、製剤例281又は283に記載の方法で得られるフロアブル製剤のいずれか1種100mlを、回転式種子処理機(シードドレッサー、Hans−Ulrich Hege GmbH製)を用いて塗沫処理することにより、各処理種子を得る。
Application Example 8
100 mg of any one of the flowable formulations obtained by the method described in Formulation Example 281 or 283 is smeared on 10 kg of dried soybean seeds using a rotary seed processor (seed dresser, Hans-Ulrich Hege GmbH). Thus, each treated seed is obtained.

適用例9
ワタ乾燥種子10kgに、製剤例281又は283に記載の方法で得られるフロアブル製剤のいずれか1種50mlを、回転式種子処理機(シードドレッサー、Hans−Ulrich Hege GmbH製)を用いて塗沫処理することにより、各処理種子を得る。ワタは、グリホサート抵抗性遺伝子あるいはBt結晶毒素蛋白遺伝子などを含む遺伝子組換えワタを用いる。
Application example 9
50 kg dry seeds, 50 ml of any one of the flowable formulations obtained by the method described in Formulation Example 281 or 283, are smeared using a rotary seed treatment machine (seed dresser, Hans-Ulrich Hege GmbH). Thus, each treated seed is obtained. As the cotton, a genetically modified cotton containing a glyphosate resistance gene or a Bt crystal toxin protein gene is used.

適用例10
セイヨウアブラナ乾燥種子10kgに、製剤例281又は283に記載の方法で得られるフロアブル製剤のいずれか1種50mlを、回転式種子処理機(シードドレッサー、Hans−Ulrich Hege GmbH製)を用いて塗沫処理することにより、各処理種子を得る。セイヨウアブラナは、グリホサート抵抗性遺伝子あるいはBt結晶毒素蛋白遺伝子などを含む遺伝子組換えセイヨウアブラナを用いる。
Application Example 10
50 kg of dried oilseed rape seeds, 50 ml of any one of the flowable formulations obtained by the method described in Formulation Example 281 or 283, is smeared using a rotary seed treatment machine (seed dresser, Hans-Ulrich Hege GmbH). Each treated seed is obtained by treatment. As the oilseed rape, a genetically modified oilseed rape including a glyphosate resistance gene or a Bt crystal toxin protein gene is used.

適用例11
セイヨウアブラナ乾燥種子10kgに、製剤例281又は283に記載の方法で得られるフロアブル製剤のいずれか1種10mlを、回転式種子処理機(シードドレッサー、Hans−Ulrich Hege GmbH製)を用いて塗沫処理することにより、各処理種子を得る。
Application Example 11
Apply 10 ml of any flowable formulation obtained by the method described in Formulation Example 281 or 283 to 10 kg of dried oilseed rape using a rotary seed treatment machine (seed dresser, Hans-Ulrich Hege GmbH). Each treated seed is obtained by treatment.

適用例12
コムギ乾燥種子10kgに、製剤例281又は283に記載の方法で得られるフロアブル製剤のいずれか1種50mlを、回転式種子処理機(シードドレッサー、Hans−Ulrich Hege GmbH製)を用いて塗沫処理することにより、各処理種子を得る
Application Example 12
50 kg of wheat dry seeds, 50 ml of any one of the flowable preparations obtained by the method described in Formulation Example 281 or 283, are smeared using a rotary seed treatment machine (seed dresser, Hans-Ulrich Hege GmbH). To obtain each treated seed

次に、本発明組成物の有害生物防除効力を試験例により示す。   Next, the pest control effect of the composition of the present invention is shown by test examples.

試験例1
本ピリダジン化合物1mgに対して、キシレン:DMF:界面活性剤=4:4:1(容量比)の混合溶液10μLを用い、本ピリダジン化合物を該混合溶液に溶解させる。これに展着剤0.02容量%含有する水を加え、本ピリダジン化合物の濃度が所定濃度になるように、本ピリダジン化合物を含有する薬液を調製する。
本化合物1mgに対して、キシレン:DMF:界面活性剤=4:4:1(容量比)の混合溶液10μLを用い、本化合物を該混合溶液に溶解させる。これに展着剤0.02容量%含有する水を加え、本化合物の濃度が所定濃度になるように、本化合物を含有する薬液を調製する。本化合物を含有する市販製剤を用いる場合は、各市販製剤を、展着剤0.02容量%含有する水と混合し、本化合物の濃度が所定濃度になるように、本化合物を含有する薬液を調製する。
上記の本ピリダジン化合物を含有する薬液と、本化合物を含有する薬液とを混合し、試験用薬液を調製する。
キュウリ(Cucumis sativus)子葉の葉片(長さ1.5cm)を24穴マイクロプレートの各ウェルに収容し、1ウェルあたりワタアブラムシ無翅成虫2匹および幼虫8匹を放し、1ウェルあたり該試験用薬液20μLを散布する。これを処理区とする。
なお、試験用薬液の代わりに展着剤0.02容量%を含有する水を20μL散布したウェルを無処理区とする。
該試験用薬液が乾燥した後、マイクロプレート上部をガス透過性フィルムシート(商品名:AeraSeal, Excel Scientific Inc.製)で覆い、放飼5日後に、各ウェルの生存虫数を調査する。
処理区及び無処理区の防除価を次式より算出する。
防除価(%)={1−(Tai)/(Cai)}×100
なお、式中の文字は以下の意味を表す。
Cai:無処理区の調査時の生存虫数
Tai:処理区の調査時の生存虫数
Test example 1
The pyridazine compound is dissolved in the mixed solution using 10 μL of a mixed solution of xylene: DMF: surfactant = 4: 4: 1 (volume ratio) per 1 mg of the pyridazine compound. Water containing 0.02% by volume of a spreading agent is added thereto, and a chemical solution containing the pyridazine compound is prepared so that the concentration of the pyridazine compound becomes a predetermined concentration.
Using 10 μL of a mixed solution of xylene: DMF: surfactant = 4: 4: 1 (volume ratio) per 1 mg of the present compound, the present compound is dissolved in the mixed solution. Water containing 0.02% by volume of a spreading agent is added thereto, and a chemical solution containing the present compound is prepared so that the concentration of the present compound becomes a predetermined concentration. When using a commercial preparation containing the present compound, each commercial preparation is mixed with water containing 0.02% by volume of a spreading agent, and a chemical solution containing the present compound so that the concentration of the present compound is a predetermined concentration. To prepare.
The chemical solution containing the present pyridazine compound and the chemical solution containing the present compound are mixed to prepare a test chemical solution.
Cucumber sativus cotyledon leaf pieces (1.5 cm in length) are housed in each well of a 24-well microplate, and 2 cotton aphid adults and 8 larvae are released per well for the test per well. Spray 20 μL of chemical solution. This is the treatment area.
In addition, let the well which sprayed 20 microliters of water containing 0.02 volume% of spreading agents instead of the chemical | medical solution for a test be an untreated section.
After the drug solution for test is dried, the upper part of the microplate is covered with a gas permeable film sheet (trade name: AeroSeal, manufactured by Excel Scientific Inc.), and the number of viable insects in each well is examined 5 days after release.
The control value of the treated and untreated areas is calculated from the following formula.
Control value (%) = {1- (Tai) / (Cai)} × 100
In addition, the character in a formula represents the following meaning.
Cai: Number of surviving insects at the time of the survey in the untreated area Tai: Number of surviving insects at the time of the survey in the treated area

試験例1に従って実施する試験の結果を以下に示す。本ピリダジン化合物及び本化合物のそれぞれの濃度が下記の表23に記載の濃度である本発明組成物は、優れた防除効力を示す。   The results of tests performed according to Test Example 1 are shown below. The composition of the present invention in which the concentration of the present pyridazine compound and the present compound is the concentration described in Table 23 below exhibits excellent control efficacy.

[表23]

Figure 2017075161
[Table 23]
Figure 2017075161

[表23の続き]

Figure 2017075161
[Continuation of Table 23]
Figure 2017075161

[表23の続き]

Figure 2017075161
[Continuation of Table 23]
Figure 2017075161

[表23の続き]

Figure 2017075161
[Continuation of Table 23]
Figure 2017075161

[表23の続き]

Figure 2017075161
[Continuation of Table 23]
Figure 2017075161

[表23の続き]

Figure 2017075161
[Continuation of Table 23]
Figure 2017075161

[表23の続き]

Figure 2017075161
[Continuation of Table 23]
Figure 2017075161

試験例2
適用例3に記載の方法で得られるトウモロコシの処理種子のいずれか1種を播種機を用いて5cmの深さに15cm間隔で播種することにより、苗立枯病菌(Rhizoctonia solani、及びPythium spp.)、ネグサレセンチュウに対して高い防除効果を得ることができる。殺虫剤を含む製剤で処理された種子を用いる場合は、その殺虫剤が防除効果を有する害虫に対して高い防除効果を得ることができる。
Test example 2
By seeding any one of the treated corn seeds obtained by the method described in Application Example 3 at a depth of 5 cm at intervals of 15 cm using a seeder, Rhizotonia solani and Pythium spp. ), High control effect can be obtained against Negusare nematode. When seeds treated with a preparation containing an insecticide are used, it is possible to obtain a high control effect against pests having the control effect of the insecticide.

試験例3
適用例7に記載の方法で得られるダイズの処理種子のいずれか1種を播種することによって、立枯病(Fusarium oxysporum)やリゾクトニア根腐病(Rhizoctonia solani)、ダイズシストセンチュウに対して高い防除効果を得ることができる。殺虫剤を含む製剤で処理された種子を用いる場合は、その殺虫剤が防除効果を有する害虫に対して高い防除効果を得ることができる。
Test example 3
By sowing any one of soybean treated seeds obtained by the method described in Application Example 7, high control against Fusarium oxysporum, Rhizoctonia solani, and soybean cyst nematode An effect can be obtained. When seeds treated with a preparation containing an insecticide are used, it is possible to obtain a high control effect against pests having the control effect of the insecticide.

試験例4
適用例10に記載の方法で得られるセイヨウアブラナの処理種子のいずれか1種を播種することによって、苗立枯病(Rhizoctonia solani)、ネグサレセンチュウに対して高い防除効果を得ることができる。殺虫剤を含む製剤で処理された種子を用いる場合は、その殺虫剤が防除効果を有する害虫に対して高い防除効果を得ることができる。
Test example 4
By sowing any one of the oilseed rape treated seeds obtained by the method described in Application Example 10, it is possible to obtain a high control effect against Rhizotonia solani and Negusare nematode. When seeds treated with a preparation containing an insecticide are used, it is possible to obtain a high control effect against pests having the control effect of the insecticide.

本発明の有害生物防除組成物により、有害生物を防除することができる。   Pests can be controlled with the pest control composition of the present invention.

Claims (8)

式(1):
Figure 2017075161
[式中、
Aは、窒素原子、又はCR6を表し、
1は、C2−C10アルキル基、C3−C10アルケニル基、C3−C10アルキニル基、(C1−C5アルキル)−O−(C2−C5アルキル)基、(C3−C5アルケニル)−O−(C2−C5アルキル)基、(C3−C5アルキニル)−O−(C2−C5アルキル)基、(C1−C5アルキル)−S(O)m−(C2−C5アルキル)基、(C3−C5アルケニル)−S(O)m−(C2−C5アルキル)基、(C3−C5アルキニル)−S(O)m−(C2−C5アルキル)基、又は(C1−C5アルキル)−C(O)−(C1−C5アルキル)基を表し(但し、R1は1以上のハロゲン原子を有する)、
2およびR3は、それぞれ独立して水素原子、1以上のハロゲン原子を有していてもよいC1−C6アルキル基、C2−C6アルコキシカルボニル基、シアノ基、又はハロゲン原子を表し、
4は、1以上のハロゲン原子を有していてもよいC1−C6鎖式炭化水素基表し、
5は、1以上のハロゲン原子を有していてもよいC1−C6鎖式炭化水素基、群Aより選ばれる1以上の原子もしくは基を有していてもよいフェニル基、群Bより選ばれるいずれかの5員芳香族複素環基(該5員芳香族複素環基は、群Aより選ばれる1以上の原子又は基を有していてもよい。)、群Cより選ばれるいずれかの6員芳香族複素環基(該6員芳香族複素環基は、群Aより選ばれる1以上の原子又は基を有していてもよい。)、群Dより選ばれるいずれかの3−7員非芳香族複素環基(該3−7員非芳香族複素環基は、ハロゲン原子及びC1−C6アルキル基からなる群より選ばれる1以上の原子又は基を有していてもよい。)、OR7、NR89、NR8C(O)R10、NR8C(O)OR11、NR8C(O)NR1213、N=CHNR1213、N=S(O)x1213、S(O)y12、C(O)OR8、シアノ基、又はハロゲン原子を表し、
6は、水素原子、又はハロゲン原子を表し、
7は、水素原子、C1−C6アルキル基、C3−C6アルケニル基、C3−C6アルキニル基、(C1−C3アルキル)−O−(C1−C3アルキル)基、(C1−C3アルキル)−S(O)y−(C1−C3アルキル)基、C3−C7シクロアルキル基、(C3−C7シクロアルキル)−(C1−C3アルキル)基(但し、該C1−C6アルキル基、C3−C6アルケニル基、C3−C6アルキニル基、(C1−C3アルキル)−O−(C1−C3アルキル)基、(C1−C3アルキル)−S(O)y−(C1−C3アルキル)基、C3−C7シクロアルキル基、及び(C3−C7シクロアルキル)−(C1−C3アルキル)基は、1以上のハロゲン原子を有していてもよい)、又はフェニルC1−C3アルキル基(該フェニルC1−C3アルキル基のフェニル部分は群Aより選ばれる1以上の原子又は基を有していてもよい。)を表し、
8は、水素原子、1以上のハロゲン原子を有していてもよいC1−C6アルキル基、1以上のハロゲン原子を有していてもよいC3−C6アルケニル基、又は1以上のハロゲン原子を有していてもよいC3−C6アルキニル基を表し、
9は、水素原子、C1−C6アルキル基、C3−C6アルケニル基、C3−C6アルキニル基、(C1−C3アルキル)−O−(C1−C3アルキル)基、(C1−C3アルキル)−S(O)y−(C1−C3アルキル)基、C3−C7シクロアルキル基、(C3−C7シクロアルキル)−(C1−C3アルキル)基(但し、該C1−C6アルキル基、C3−C6アルケニル基、C3−C6アルキニル基、(C1−C3アルキル)−O−(C1−C3アルキル)基、(C1−C3アルキル)−S(O)y−(C1−C3アルキル)基、C3−C7シクロアルキル基、及び(C3−C7シクロアルキル)−(C1−C3アルキル)基は、1以上のハロゲン原子を有していてもよい)、シアノC1−C6アルキル基、フェニルC1−C3アルキル基(該フェニルC1−C3アルキル基のフェニル部分は群Aより選ばれる1以上の原子又は基を有していてもよい。)、又は(5もしくは6員ヘテロアリール)C1−C3アルキル基(該(5もしくは6員ヘテロアリール)C1−C3アルキル基の5もしくは6員ヘテロアリール部分は群Aより選ばれる1以上の原子もしくは基を有していてもよい。)を表し、
10は、水素原子、C1−C6アルキル基、C3−C6アルケニル基、C3−C6アルキニル基、C3−C7シクロアルキル基、(C3−C7シクロアルキル)−(C1−C3アルキル)基(但し、該C1−C6アルキル基、C3−C6アルケニル基、C3−C6アルキニル基、C3−C7シクロアルキル基、及び(C3−C7シクロアルキル)−(C1−C3アルキル)基は、1以上のハロゲン原子を有していてもよい)、又はフェニルC1−C3アルキル基(該フェニルC1−C3アルキル基のフェニル部分は群Aより選ばれる1以上の原子又は基を有していてもよい。)を表し、
11は、1以上のハロゲン原子を有していてもよいC1−C6アルキル基、1以上のハロゲン原子を有していてもよいC3−C6アルケニル基、1以上のハロゲン原子を有していてもよいC3−C6アルキニル基、1以上のハロゲン原子を有していてもよいC3−C7シクロアルキル基、(C3−C7シクロアルキル)−(C1−C3アルキル)基(但し、該(C3−C7シクロアルキル)−(C1−C3アルキル)基は1以上のハロゲン原子を有していてもよい)、又はフェニルC1−C3アルキル基(該フェニルC1−C3アルキル基のフェニル部分は群Aより選ばれる1以上の原子又は基を有していてもよい。
)を表し、
12及びR13は、それぞれ独立して、1以上のハロゲン原子を有していてもよいC1−C6アルキル基を表し、
14は、水素原子、1以上のハロゲン原子を有していてもよいC1−C6アルキル基、1以上のハロゲン原子を有していてもよいC2−C6アルキルカルボニル基、又は1以上のハロゲン原子を有していてもよいC2−C6アルコキシカルボニル基を表し、
nは、0、1、又は2を表し、
mは、0、1、又は2を表し、
pは、0、1、2又は3を表し(ここで、pが2又は3を表す場合に、複数のR5は各々同一でも異なっていてもよい)、
xは、0、又は1を表し、
yは、0、1、又は2を表す。
群A:1以上のハロゲン原子を有していてもよいC1−C6アルキル基、1以上のハロゲン原子を有していてもよいC1−C6アルコキシ基、1以上のハロゲン原子を有していてもよいC1−C6アルキルスルファニル基、1以上のハロゲン原子を有していてもよいC1−C6アルキルスルフィニル基、1以上のハロゲン原子を有していてもよいC1−C6アルキルスルホニル基、シアノ基、及びハロゲン原子からなる群。
群B:
Figure 2017075161

群C:
Figure 2017075161

群D:
Figure 2017075161

]で示される化合物又はそのNオキシド化合物と、
下記群(a)又は下記群(b)より選ばれる1種以上の化合物と
を含有する有害生物防除組成物。
群(a):
下記亜群a−1、a−2、a−3、a−4、a−5、a−6及びa−7からなる群。
亜群a−1:
アセタミプリド、クロチアニジン、ジノテフラン、イミダクロプリド、ニテンピラム、チアクロプリド、チアメトキサム、フルピラジフロン、スルホキサフロル、トリフルメゾピリム、ジクロロメソチアズ及び下記式で示される化合物
Figure 2017075161
からなる、ニコチン性アセチルコリン受容体競合的モジュレーターの群。
亜群a−2:
アクリナトリン、アレスリン、ビフェントリン、カッパビフェントリン、ビオアレスリン、ビオレスメトリン、シクロプロトリン、シフルトリン、ベータ−シフルトリン、シハロトリン、ガンマシハロトリン、ラムダシハロトリン、シペルメトリン、アルファシペルメトリン、べータシペルメトリン、シータシペルメトリン、ゼータシペルメトリン、シグマシペルメトリン、シフェノトリン、デルタメトリン、エンペントリン、エスフェンバレレート、エトフェンプロックス、フェンプロパトリン、フェンバレレート、フルシトリネート、フルメトリン、フルバリネート、タウフルバリネート、ハルフェンプロックス、ヘプタフルトリン、イミプロトリン、カデスリン、メペルフルトリン、モンフルオロトリン、ペルメトリン、フェノトリン、プラレトリン、ピレトリン、レスメトリン、シラフルオフェン、テフルトリン、カッパテフルトリン、テトラメトリン、テトラメチルフルトリン、トラロメトリン、トランスフルトリン、ベンフルトリン、フルフェンプロックス、フルメスリン、フラメトリン、メトフルトリン、プロフルトリン及びジメフルトリンからなる、ナトリウムチャネルモジュレーターの群。
亜群a−3:
エチプロール、フィプロニル及びフルフィプロールからなるGABA作動性塩素イオンチャネルブロッカー、並びに、アフォクソラネル、フルララネル、ブロフラニリド及びフルキサメタミドからなるGABA作動性塩素イオンチャネルアロステリックモジュレーターの群。
亜群a−4:
クロラントラニリプロール、シアントラニルプロール、シクラニリプロール、フルベンジアミド、テトラニリプロール及びシハロジアミドからなる、リアノジン受容体モジュレーターの群。
亜群a−5:
アラニカルブ、アルジカルブ、ベンダイオカルブ、ベンフラカルブ、ブトカルボキシム、ブトキシカルボキシム、カルバリル、カルボフラン、カルボスルファン、エチオフェンカルブ、フェノブカルブ、ホルメタネート、フラチオカルブ、イソプロカルブ、メチオカルブ、メソミル、メトルカルブ、オキサミル、ピリミカーブ、プロポキスル、チオジカルブ、チオファノックス、トリアザメート、トリメタカルブ、XMC及びキシリルカルブからなる、カーバメート系のアセチルコリンエステラーゼ阻害剤の群。
亜群a−6:
アバメクチン、フルエンスルホン、チオキサザフェン、及びフルアザインドリジンからなる、殺線虫活性化合物の群。
亜群a−7:
菌根菌、アルスロボトリス・ダクチロイデス、バチルス・チューリンゲンシス、バチルス・フィルムス、バチルス・メガテリウム、バチルス・アミロリケファシエンス、ヒルステラ・ロッシリエンシス、ヒルステラ・ミネソテンシス、モナクロスポリウム・フィマトパガム、パスツーリア・ニシザワエ、パスツーリア・ペネトランス、パスツーリア・ウスガエ、バーティシリウム・クラミドスポリウム及びハーピンタンパクからなる、微生物資材の群。
群(b):
下記亜群b−1、b−2、b−3、b−4、b−5、b−6、b−7、b−8及びb−9からなる群。
亜群b−1:
アザコナゾール、ビテルタノール、ブロムコナゾール、シプロコナゾール、ジフェノコナゾール、ジニコナゾール、ジニコナゾールM、エポキシコナゾール、エタコナゾール、フェナリモル、フェンブコナゾール、フルキンコナゾール、キンコナゾール、フルシラゾール、フルトリアホール、ヘキサコナゾール、イマザリル、イミベンコナゾール、イプコナゾール、メトコナゾール、ミクロブタニル、ヌアリモール、オキスポコナゾール、オキスポコナゾールフマル酸塩、ペフラゾエート、ペンコナゾール、プロクロラズ、プロピコナゾール、プロチオコナゾール、ピリフェノックス、ピリソキサゾール、シメコナゾール、テブコナゾール、テトラコナゾール、トリアジメホン、トリアジメノール、トリフルミゾール、トリホリン及びトリチコナゾールからなる、ステロール生合成阻害剤の群。
亜群b−2:
アゾキシストロビン、クモキシストロビン、ジモキシストロビン、エノキサストロビン、ファモキサドン、フェンアミドン、フェナミンストロビン、フルフェノキシストロビン、フルオキサストロビン、クレソキシム−メチル、マンデストロビン、メトミノストロビン、オリサストロビン、ピコキシストロビン、ピラクロストロビン、ピラメトストロビン、ピラオキシストロビン、トリフロキシストロビン、ピリベンカルブ、トリクロピリカルブ、シアゾファミド及びアミスルブロムからなる、Qo阻害剤の群。
亜群b−3:
ベナラキシル、ベナラキシルM、フララキシル、メタラキシル、メタラキシルM、オキサジキシル及びオフラセからなる、RNAポリメラーゼI阻害剤の群。
亜群b−4:
ベノダニル、ベンゾビンジフルピル、ビキサフェン、ボスカリド、カルボキシン、フェンフラム、フルオピラム、フルトラニル、フルキサピロキサド、フラメトピル、イソフェタミド、イソピラザム、メプロニル、オキシカルボキシン、ペンチオピラド、ペンフルフェン、セダキサン、チフルザミド、ピラジフルミド、ピジフルメトフェン、3−ジフルオロメチル−1−メチル−N−(1,1,3−トリメチルインダン−4−イル)ピラゾール−4−カルボキサミド、3−ジフルオロメチル−1−メチル−N−[(3R)−1,1,3−トリメチルインダン−4−イル]ピラゾール−4−カルボキサミド、3−ジフルオロメチル−N−(7−フルオロ−1,1,3−トリメチルインダン−4−イル)−1−メチルピラゾール−4−カルボキサミド、3−ジフルオロメチル−N−[(3R)−7−フルオロ−1,1,3−トリメチルインダン−4−イル]−1−メチルピラゾール−4−カルボキサミド及びN−シクロプロピル−3−(ジフルオロメチル)−5−フルオロ−N−(5−クロロ−2−イソプロピルベンジル)−1−メチル−1H−ピラゾール−4−カルボキサミドからなる、コハク酸脱水素酵素阻害剤の群。
亜群b−5:
ベノミル、カルベンダジム、フベリダゾール、チアベンダゾール、チオファネート、チオファネートメチル、ジエトフェンカルブ、ゾキサミド及びエタボキサムからなる、βチューブリン重合阻害剤の群。
亜群b−6:
フェルバム、マンゼブ、マンネブ、メチラム、プロピネブ、チウラム、ジネブ、ジラム、キャプタン、キャプタホール、ホルペット、クロロタロニル、トリルフルアニド、グアザチン、イミノクタジン、アニラジン、ジチアノン、キノメチオナート及びフルオルイミドからなる、多作用点接触活性化合物の群。
亜群b−7:
ジメトモルフ、フルモルフ、ピリモルフ、ベンチアバリカルブ、ベンチアバリカルブイソプロピル、イプロバリカルブ、バリフェナレート及びマンジプロパミドからなる、セルロース合成阻害剤の群。
亜群b−8:
フェンピクロニル、フルジオキソニル、クロゾリネート、イプロジオン、プロシミドン及びビンクロゾリンからなる、浸透圧シグナル伝達におけるMAP/ヒスチジンキナーゼ阻害剤の群。
亜群b−9:
トルクロホスメチル、オキサチアピプロリン、ピカルブトラゾクス、フルオピコリド及びシルチオファムからなる、その他の殺菌剤の群。
Formula (1):
Figure 2017075161
[Where:
A represents a nitrogen atom or CR 6 ;
R 1 is a C2-C10 alkyl group, a C3-C10 alkenyl group, a C3-C10 alkynyl group, a (C1-C5 alkyl) -O- (C2-C5 alkyl) group, a (C3-C5 alkenyl) -O- (C2 -C5 alkyl) group, (C3-C5 alkynyl) -O- (C2-C5 alkyl) group, (C1-C5 alkyl) -S (O) m- (C2-C5 alkyl) group, (C3-C5 alkenyl) -S (O) m- (C2-C5 alkyl) group, (C3-C5 alkynyl) -S (O) m- (C2-C5 alkyl) group, or (C1-C5 alkyl) -C (O)-( C1-C5 alkyl) group (wherein R 1 has one or more halogen atoms),
R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally having one or more halogen atoms, a C2-C6 alkoxycarbonyl group, a cyano group, or a halogen atom,
R 4 represents a C1-C6 chain hydrocarbon group which may have one or more halogen atoms,
R 5 is a C1-C6 chain hydrocarbon group which may have one or more halogen atoms, a phenyl group which may have one or more atoms or groups selected from Group A, and a group B. Any of the five-membered aromatic heterocyclic groups selected from the group C (the five-membered aromatic heterocyclic group may have one or more atoms or groups selected from the group A). 6-membered aromatic heterocyclic group (the 6-membered aromatic heterocyclic group may have one or more atoms or groups selected from group A), and any 3- 7-membered non-aromatic heterocyclic group (The 3-7-membered non-aromatic heterocyclic group may have one or more atoms or groups selected from the group consisting of halogen atoms and C1-C6 alkyl groups. ), OR 7, NR 8 R 9, NR 8 C (O) R 10, NR 8 C (O) OR 11, NR 8 C (O) NR 12 R 13 N = CHNR 12 R 13, N = S (O) x R 12 R 13, S (O) y R 12, C (O) OR 8, cyano group, or a halogen atom,
R 6 represents a hydrogen atom or a halogen atom,
R 7 represents a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group, a C3-C6 alkenyl group, a C3-C6 alkynyl group, a (C1-C3 alkyl) -O- (C1-C3 alkyl) group, or a (C1-C3 alkyl) -S. (O) y- (C1-C3 alkyl) group, C3-C7 cycloalkyl group, (C3-C7 cycloalkyl)-(C1-C3 alkyl) group (provided that the C1-C6 alkyl group, C3-C6 alkenyl group) , C3-C6 alkynyl group, (C1-C3 alkyl) -O- (C1-C3 alkyl) group, (C1-C3 alkyl) -S (O) y- (C1-C3 alkyl) group, C3-C7 cycloalkyl Group, and (C3-C7 cycloalkyl)-(C1-C3 alkyl) group may have one or more halogen atoms), or phenyl C1-C3 alkyl group (the phenyl C1-C Phenyl moiety of the alkyl group may have one or more atoms or groups selected from the group A.) Represent,
R 8 represents a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally having one or more halogen atoms, a C3-C6 alkenyl group optionally having one or more halogen atoms, or one or more halogen atoms. Represents a C3-C6 alkynyl group which may have,
R 9 represents a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group, a C3-C6 alkenyl group, a C3-C6 alkynyl group, a (C1-C3 alkyl) -O- (C1-C3 alkyl) group, or a (C1-C3 alkyl) -S. (O) y- (C1-C3 alkyl) group, C3-C7 cycloalkyl group, (C3-C7 cycloalkyl)-(C1-C3 alkyl) group (provided that the C1-C6 alkyl group, C3-C6 alkenyl group) , C3-C6 alkynyl group, (C1-C3 alkyl) -O- (C1-C3 alkyl) group, (C1-C3 alkyl) -S (O) y- (C1-C3 alkyl) group, C3-C7 cycloalkyl Group, and (C3-C7 cycloalkyl)-(C1-C3 alkyl) group may have one or more halogen atoms), cyano C1-C6 alkyl group, phenyl C1-C3 alkyl group. A group (the phenyl portion of the phenyl C1-C3 alkyl group may have one or more atoms or groups selected from group A), or a (5- or 6-membered heteroaryl) C1-C3 alkyl group (the (5- or 6-membered heteroaryl) the 5- or 6-membered heteroaryl part of the C1-C3 alkyl group may have one or more atoms or groups selected from group A),
R 10 represents a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group, a C3-C6 alkenyl group, a C3-C6 alkynyl group, a C3-C7 cycloalkyl group, a (C3-C7 cycloalkyl)-(C1-C3 alkyl) group (provided that The C1-C6 alkyl group, C3-C6 alkenyl group, C3-C6 alkynyl group, C3-C7 cycloalkyl group, and (C3-C7 cycloalkyl)-(C1-C3 alkyl) group have one or more halogen atoms. Or a phenyl C1-C3 alkyl group (the phenyl portion of the phenyl C1-C3 alkyl group may have one or more atoms or groups selected from group A);
R 11 has a C1-C6 alkyl group optionally having one or more halogen atoms, a C3-C6 alkenyl group optionally having one or more halogen atoms, and one or more halogen atoms. Or a C3-C6 alkynyl group, a C3-C7 cycloalkyl group optionally having one or more halogen atoms, a (C3-C7 cycloalkyl)-(C1-C3 alkyl) group (provided that the (C3-C7 The cycloalkyl)-(C1-C3 alkyl) group may have one or more halogen atoms), or a phenyl C1-C3 alkyl group (the phenyl portion of the phenyl C1-C3 alkyl group is selected from group A) It may have one or more atoms or groups.
)
R 12 and R 13 each independently represent a C1-C6 alkyl group optionally having one or more halogen atoms,
R 14 is a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally having one or more halogen atoms, a C2-C6 alkylcarbonyl group optionally having one or more halogen atoms, or one or more halogen atoms. Represents a C2-C6 alkoxycarbonyl group optionally having
n represents 0, 1, or 2;
m represents 0, 1, or 2;
p represents 0, 1, 2 or 3 (wherein, when p represents 2 or 3, a plurality of R 5 may be the same or different from each other);
x represents 0 or 1,
y represents 0, 1, or 2.
Group A: a C1-C6 alkyl group that may have one or more halogen atoms, a C1-C6 alkoxy group that may have one or more halogen atoms, or one or more halogen atoms A good C1-C6 alkylsulfanyl group, a C1-C6 alkylsulfinyl group optionally having one or more halogen atoms, a C1-C6 alkylsulfonyl group optionally having one or more halogen atoms, a cyano group, and A group consisting of halogen atoms.
Group B:
Figure 2017075161

Group C:
Figure 2017075161

Group D:
Figure 2017075161

Or a N oxide compound thereof,
A pest control composition comprising one or more compounds selected from the following group (a) or the following group (b).
Group (a):
The group consisting of the following subgroups a-1, a-2, a-3, a-4, a-5, a-6 and a-7.
Subgroup a-1:
Acetamiprid, clothianidin, dinotefuran, imidacloprid, nitenpyram, thiacloprid, thiamethoxam, flupiradifurone, sulfoxafurol, triflumezopyrim, dichloromesothiaz and compounds represented by the following formula
Figure 2017075161
A group of competitive modulators of nicotinic acetylcholine receptors.
Subgroup a-2:
Acrinatrin, Aleslin, Bifenthrin, Kappabifenthrin, Bioarethrin, Bioresmethrin, Cycloproton, Cyfluthrin, Beta-cyfluthrin, Cyhalothrin, Gamma cyhalothrin, Lambda cyhalothrin, Cypermethrin, Alpha cypermethrin, Betacypermethrin, Theta Permethrin, zeta-cypermethrin, sigma-permethrin, ciphenothrin, deltamethrin, empentrin, esfenvalerate, etofenprox, fenpropatoline, fenvalerate, flucitrinate, flumethrin, fluvinate, taufulvalinate, halfenprox, hepta Flutrin, imiprothrin, cadreslin, meperfluthrin, monfluorotrin, permethrin, phenothrin Sodium channel modulator consisting of praretrin, pyrethrin, resmethrin, silafluophene, tefluthrin, kappafluthrin, tetramethrin, tetramethylfluthrin, tralomethrin, transfluthrin, benfluthrin, flufenprox, flumethrin, flamethrin, methfluthrin, profluthrin and dimefluthrin. .
Subgroup a-3:
A group of GABAergic chloride channel blockers consisting of ethiprol, fipronil and flupiprol, and a group of GABAergic chloride channel allosteric modulators consisting of afoxolanel, fluralanel, brofuranilide and floxamethamide.
Subgroup a-4:
A group of ryanodine receptor modulators consisting of chlorantraniliprole, cyantranylprolol, cyclaniliprol, fulvendiamide, tetraniliprol and cyhalodiamide.
Subgroup a-5:
Alanicarb, aldicarb, bendiocarb, benfuracarb, butocarboxym, butoxycarboxym, carbaryl, carbofuran, carbosulfan, ethiophene carb, fenobucarb, formethanate, furthiocarb, isoprocarb, methiocarb, mesomil, metolcarb, oxamyl, pyrimicarb, dioxycarb, propoxyl A group of carbamate acetylcholinesterase inhibitors consisting of thiophanox, triazamate, trimetacarb, XMC and xylylcarb.
Subgroup a-6:
A group of nematicidal active compounds consisting of abamectin, fluenesulfone, thioxazaphene, and fluazaindolizine.
Subgroup a-7:
Mycorrhizal fungi, Arthrobotris dacteroides, Bacillus thuringiensis, Bacillus films, Bacillus megaterium, Bacillus amyloliquefaciens, Hilstera rosiliensis, Hilstera minnesotensis, Monacrosporium fimatopagum, Pasteurian nisawae A group of microbial materials consisting of, Pasteuria penetrans, Pasteuria usgae, Verticillium chlamydosporium and Harpin protein.
Group (b):
A group consisting of the following subgroups b-1, b-2, b-3, b-4, b-5, b-6, b-7, b-8 and b-9.
Subgroup b-1:
Azaconazole, viteltanol, bromconazole, cyproconazole, difenoconazole, dinicoazole, diniconazole M, epoxiconazole, etaconazole, phenalimol, fenbuconazole, fluquinconazole, quinconazole, flusilazole, flutriazole, hexaconazole, imazalil, Imibenconazole, ipconazole, metconazole, microbutanyl, nuarimol, oxpoconazole, oxpoconazole fumarate, pefazoate, penconazole, prochloraz, propiconazole, prothioconazole, pyrifenox, pyrisoxazole, cimeconazole, tebuconazole, tetrabuconazole Conazole, triadimephone, triadimenol, triflumizole, trifolin and tritico A group of sterol biosynthesis inhibitors consisting of nazole.
Subgroup b-2:
Azoxystrobin, cumoxystrobin, dimoxystrobin, enoxastrobin, famoxadone, fenamidone, phenaminestrobin, fluphenoxystrobin, floxastrobin, cresoxime-methyl, mandestrobin, methinostrobin, A group of Qo inhibitors consisting of orissastrobin, picoxystrobin, pyraclostrobin, pyramethostrobin, pyroxystrobin, trifloxystrobin, pyribencarb, triclopyricarb, cyazofamid and amisulbrom.
Subgroup b-3:
A group of RNA polymerase I inhibitors consisting of benalaxyl, benalaxyl M, furaxyl, metalaxyl, metalaxyl M, oxadixyl and oflase.
Subgroup b-4:
Benodanyl, benzobindiflupyr, bixaphene, boscalid, carboxin, fenfram, fluopyram, flutolanil, fluxapyroxad, furametopyr, isophetamide, isopyrazam, mepronil, oxycarboxyl, pentiopyrad, penflufen, cedaxane, tifluzamide, pyradiflumide Phen, 3-difluoromethyl-1-methyl-N- (1,1,3-trimethylindan-4-yl) pyrazole-4-carboxamide, 3-difluoromethyl-1-methyl-N-[(3R) -1 , 1,3-Trimethylindan-4-yl] pyrazole-4-carboxamide, 3-difluoromethyl-N- (7-fluoro-1,1,3-trimethylindan-4-yl) -1-methylpyrazole-4 -Carboxa 3-difluoromethyl-N-[(3R) -7-fluoro-1,1,3-trimethylindan-4-yl] -1-methylpyrazole-4-carboxamide and N-cyclopropyl-3- (difluoro A group of succinate dehydrogenase inhibitors consisting of (methyl) -5-fluoro-N- (5-chloro-2-isopropylbenzyl) -1-methyl-1H-pyrazole-4-carboxamide.
Subgroup b-5:
A group of β-tubulin polymerization inhibitors consisting of benomyl, carbendazim, fuberidazole, thiabendazole, thiophanate, thiophanate methyl, dietofencarb, zoxamide and ethaboxam.
Subgroup b-6:
Multi-acting contact active compound consisting of felbam, manzeb, manneb, methyleum, propineb, thiuram, dineb, ziram, captan, captahol, holpet, chlorothalonil, tolylfluanid, guazatine, iminotadine, anilazine, dithianone, quinomethionate and fluorimide Group of.
Subgroup b-7:
A group of cellulose synthesis inhibitors consisting of dimethomorph, flumorph, pyrimorph, benchavaricarb, benchavaricarb isopropyl, iprovaricarb, varifenalate and mandipropamide.
Subgroup b-8:
A group of MAP / histidine kinase inhibitors in osmotic signaling consisting of fenpicuronyl, fludioxonil, clozolinate, iprodione, procymidone and vinclozolin.
Subgroup b-9:
A group of other fungicides consisting of tolcrofos methyl, oxathiapiproline, pical butrazox, fluopicolide and silthiofam.
式(1)で示される化合物と、群(a)より選ばれる1種以上の化合物との含有量の比が、重量比で100:1〜1:100である請求項1に記載の有害生物防除組成物。   The pest according to claim 1, wherein the content ratio of the compound represented by the formula (1) to one or more compounds selected from the group (a) is 100: 1 to 1: 100 by weight. Control composition. 式(1)で示される化合物と、群(a)より選ばれる1種以上の化合物との含有量の比が、重量比で10:1〜1:10である請求項1に記載の有害生物防除組成物。   The pest according to claim 1, wherein the content ratio of the compound represented by the formula (1) to one or more compounds selected from the group (a) is 10: 1 to 1:10 by weight. Control composition. 式(1)で示される化合物と、群(b)より選ばれる1種以上の化合物との含有量の比が、重量比で10000:1〜1:100である請求項1に記載の有害生物防除組成物。   The pest according to claim 1, wherein the ratio of the content of the compound represented by the formula (1) and one or more compounds selected from the group (b) is 10,000: 1 to 1: 100 by weight. Control composition. 式(1)で示される化合物と、群(b)より選ばれる1種以上の化合物との含有量の比が、重量比で1000:1〜1:10である請求項1に記載の有害生物防除組成物。   The pest according to claim 1, wherein the content ratio of the compound represented by the formula (1) and one or more compounds selected from the group (b) is 1000: 1 to 1:10 by weight. Control composition. 請求項1〜5のいずれかに記載の有害生物防除組成物の有効量を、有害生物又は有害生物の生息場所に施用する工程を有する有害生物の防除方法。   A pest control method comprising a step of applying an effective amount of the pest control composition according to any one of claims 1 to 5 to a pest or a habitat of the pest. 請求項1〜5のいずれかに記載の有害生物防除組成物の有効量を、植物、植物種子、球根又は植物を栽培する土壌に施用する工程を有する有害生物の防除方法。   A pest control method comprising a step of applying an effective amount of the pest control composition according to any one of claims 1 to 5 to a plant, a plant seed, a bulb or a soil for cultivating a plant. 請求項1〜5のいずれかに記載の有害生物防除組成物の有効量を付着させた植物種子又は球根。   A plant seed or bulb to which an effective amount of the pesticidal composition according to any one of claims 1 to 5 is attached.
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