JP2017069446A - Printed wiring board and method of manufacturing the same - Google Patents

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輝幸 石原
Teruyuki Ishihara
輝幸 石原
浩之 坂
Hiroyuki Saka
浩之 坂
海櫻 梅
Haiying Mei
海櫻 梅
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce a thickness of the whole body including an electronic component, of a printed wiring board.SOLUTION: A printed wiring board 1 according to an embodiment comprises: a first circuit board 10 that has an opening 10a at the center part of an insulating layer 11; and a second circuit board 20 that has a third surface 20T and has a mounting area M for an electronic component at the third surface 20T side, and that is laminated on a first surface 10F of the first circuit board 10, and that exposes the mounting area M to the inside of the opening 10a. In addition, a recessed part 11C is formed at a second surface 10S side of the first circuit board 10.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、開口の周囲に導体ポストを有するプリント配線板、およびその製造方法に関する。   The present invention relates to a printed wiring board having a conductor post around an opening, and a method for manufacturing the same.

特許文献1には、半導体素子が搭載されるベース基板と、この半導体素子を収納するキャビティ部を有するキャビティ基板とを含むパッケージ基板が開示されている。キャビティ部の周囲には、ベース基板とキャビティ基板とを接続すると共に、このパッケージ基板と他のパッケージ基板とを接続するカッパーポストが形成されている。ベース基板とキャビティ基板とは接着剤により接着されている。   Patent Document 1 discloses a package substrate that includes a base substrate on which a semiconductor element is mounted and a cavity substrate having a cavity portion that houses the semiconductor element. Around the cavity portion, a copper post that connects the base substrate and the cavity substrate and connects the package substrate to another package substrate is formed. The base substrate and the cavity substrate are bonded with an adhesive.

特開2015−60912号公報Japanese Patent Laying-Open No. 2015-60912

特許文献1のパッケージ基板では、キャビティ基板の厚さに相当する深さのキャビティ部が形成されている。厚さの異なる複数の電子部品(半導体素子や受動部品など)を実装する場合、キャビティ部は、厚い方の電子部品を収納し得る深さを有しているのが好ましいと考えられる。しかしその場合、薄い方の電子部品の搭載時に、マウンタの部品吸着ノズルの上下方向のストロークが大きくなると考えられる。搭載時間が長くなると考えられる。また、搭載位置精度が低くなると考えられる。しかし、薄い電子部品といえども、キャビティ基板の表面上に搭載されると、電子部品を含めた基板全体の厚さが厚くなり、キャビティを設ける効果が減少すると考えられる。   In the package substrate of Patent Document 1, a cavity portion having a depth corresponding to the thickness of the cavity substrate is formed. When mounting a plurality of electronic components (semiconductor elements, passive components, etc.) having different thicknesses, it is considered preferable that the cavity portion has a depth that can accommodate the thicker electronic component. However, in that case, it is considered that the vertical stroke of the component suction nozzle of the mounter increases when the thinner electronic component is mounted. Installation time will be longer. Further, it is considered that the mounting position accuracy is lowered. However, even if it is a thin electronic component, if it is mounted on the surface of the cavity substrate, the thickness of the entire substrate including the electronic component will increase, and the effect of providing the cavity will be reduced.

本発明のプリント配線板は、第1面および前記第1面と反対側の第2面を有する絶縁層の中心部に開口を有する第1回路基板と、第3面および前記第3面と反対側の第4面を有すると共に、前記第3面に電子部品の実装エリアを有し、前記第1回路基板の第1面上に積層されていて、前記第1回路基板の前記開口内に前記実装エリアを露出する第2回路基板と、を備えている。そして、前記第1回路基板の第2面に凹部が形成されている。   The printed wiring board of the present invention has a first circuit board having an opening at the center of an insulating layer having a first surface and a second surface opposite to the first surface, and is opposite to the third surface and the third surface. The fourth surface has a mounting area for electronic components on the third surface, and is laminated on the first surface of the first circuit board, and the opening is formed in the opening of the first circuit board. And a second circuit board exposing the mounting area. A recess is formed on the second surface of the first circuit board.

本発明のプリント配線板の製造方法は、ベース板上に、第1面および前記第1面とは反対面の第2面を有する絶縁層および前記絶縁層の第1面と第2面とを貫通する第1および第2導体ポストを有する第1回路基板を形成することと、前記絶縁層の前記ベース板側と反対側の第1面から枠状の溝を形成することと、前記枠状の溝および前記溝に囲まれた前記絶縁層を被覆するように剥離膜を設けることと、前記絶縁層の第1面上および前記剥離膜上に第2回路基板を形成することと、前記ベース板を除去することと、前記絶縁層の前記ベース板から剥離された面側に前記枠状の溝を露出させることと、前記絶縁層のうちの前記溝で囲まれている部分を剥離することにより開口を形成することと、前記剥離膜を除去することにより前記第2回路基板の一部を実装エリアとして前記開口内に露出させることと、前記絶縁層の一部を除去することにより凹部を形成することと、を含んでいる。   The printed wiring board manufacturing method of the present invention includes an insulating layer having a first surface and a second surface opposite to the first surface on the base plate, and the first surface and the second surface of the insulating layer. Forming a first circuit board having first and second conductor posts penetrating therethrough, forming a frame-like groove from a first surface of the insulating layer opposite to the base plate, and the frame-like shape Providing a release film so as to cover the groove and the insulating layer surrounded by the groove, forming a second circuit board on the first surface of the insulating layer and on the release film, and the base Removing the plate, exposing the frame-like groove on the side of the insulating layer peeled from the base plate, and peeling a portion of the insulating layer surrounded by the groove. The second circuit is formed by forming an opening by removing the peeling film. And includes a be exposed in the opening part of the plate as a mounting area, and a forming a recessed portion by removing a portion of the insulating layer.

本発明の実施形態によれば、厚さの異なる電子部品が、それぞれ深さの異なる開口部または凹部に実装され得る。高さの異なる電子部品が配置される場合でも、電子部品を配置するストロークが短くなり得る。各部品が高い精度で、かつ、素早く実装され得る。電子部品を含めたプリント配線板の低背化と共に、部品実装の生産性の向上および歩留まりの向上が達成されると考えられる。   According to the embodiment of the present invention, electronic components having different thicknesses can be mounted in openings or recesses having different depths. Even when electronic components having different heights are arranged, a stroke for arranging the electronic components can be shortened. Each component can be quickly mounted with high accuracy. Along with the reduction in the height of printed wiring boards including electronic components, it is considered that an improvement in component mounting productivity and an improvement in yield are achieved.

本発明の一実施形態のプリント配線板の断面図。Sectional drawing of the printed wiring board of one Embodiment of this invention. 一実施形態のプリント配線板の第1回路基板の第2面の他の例を示す断面図。Sectional drawing which shows the other example of the 2nd surface of the 1st circuit board of the printed wiring board of one Embodiment. 図1に示されるプリント配線板の平面図。The top view of the printed wiring board shown by FIG. 本発明の一実施形態のプリント配線板の製造方法の一例を示す図。The figure which shows an example of the manufacturing method of the printed wiring board of one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態のプリント配線板の製造方法の一例を示す図。The figure which shows an example of the manufacturing method of the printed wiring board of one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態のプリント配線板の製造方法の一例を示す図。The figure which shows an example of the manufacturing method of the printed wiring board of one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態のプリント配線板の製造方法の一例を示す図。The figure which shows an example of the manufacturing method of the printed wiring board of one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態のプリント配線板の製造方法の一例を示す図。The figure which shows an example of the manufacturing method of the printed wiring board of one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態のプリント配線板の製造方法の一例を示す図。The figure which shows an example of the manufacturing method of the printed wiring board of one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態のプリント配線板の製造方法の一例を示す図。The figure which shows an example of the manufacturing method of the printed wiring board of one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態のプリント配線板の製造方法の一例を示す図。The figure which shows an example of the manufacturing method of the printed wiring board of one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態のプリント配線板の製造方法の一例を示す図。The figure which shows an example of the manufacturing method of the printed wiring board of one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態のプリント配線板の製造方法の一例を示す図。The figure which shows an example of the manufacturing method of the printed wiring board of one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態のプリント配線板の製造方法の一例を示す図。The figure which shows an example of the manufacturing method of the printed wiring board of one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態のプリント配線板の製造方法の一例を示す図。The figure which shows an example of the manufacturing method of the printed wiring board of one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態のプリント配線板の製造方法の一例を示す図。The figure which shows an example of the manufacturing method of the printed wiring board of one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態のプリント配線板の製造方法の一例を示す図。The figure which shows an example of the manufacturing method of the printed wiring board of one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態のプリント配線板の製造方法の一例を示す図。The figure which shows an example of the manufacturing method of the printed wiring board of one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態のプリント配線板の他の例を示す断面図。Sectional drawing which shows the other example of the printed wiring board of one Embodiment of this invention. 一実施形態のプリント配線板の凹み部分の内壁の形状の他の例を示す拡大図。The enlarged view which shows the other example of the shape of the inner wall of the recessed part of the printed wiring board of one Embodiment. 図6に示されるプリント配線板の製造方法の一例を示す図。The figure which shows an example of the manufacturing method of the printed wiring board shown by FIG. 本発明の他の実施形態のプリント配線板の例を示す断面図。Sectional drawing which shows the example of the printed wiring board of other embodiment of this invention.

つぎに、本発明の一実施形態のプリント配線板が図面を参照しながら説明される。実施形態のプリント配線板1は、図1に示されるように、第1面11Fおよび第1面11Fと反対側の第2面11Sを有する絶縁層11の中心部に開口10aを有する第1回路基板10と、第3面20Tおよび第3面20Tと反対側の第4面20Fを有する第2回路基板20と、を備えている。絶縁層11の第1面11Fおよび第2面11Sは、それぞれ第1回路基板10の第1面10Fおよび第2面10Sを構成している。第2回路基板20は、第1回路基板10の第1面10F上に積層されている。第2回路基板20は、第3面20T側に電子部品(図示せず)の実装エリアMを有している。実装エリアMは、第1回路基板10の開口10a内に実装エリアMに露出されている。実装エリアMを底面とするキャビティCが形成されている。キャビティCは、たとえば、100μm以上、170μm以下の深さに形成される。   Next, a printed wiring board according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. As shown in FIG. 1, the printed wiring board 1 according to the embodiment includes a first circuit having an opening 10a at the center of an insulating layer 11 having a first surface 11F and a second surface 11S opposite to the first surface 11F. A substrate 10 and a second circuit substrate 20 having a third surface 20T and a fourth surface 20F opposite to the third surface 20T are provided. The first surface 11F and the second surface 11S of the insulating layer 11 constitute the first surface 10F and the second surface 10S of the first circuit board 10, respectively. The second circuit board 20 is stacked on the first surface 10F of the first circuit board 10. The second circuit board 20 has a mounting area M for electronic components (not shown) on the third surface 20T side. The mounting area M is exposed to the mounting area M in the opening 10 a of the first circuit board 10. A cavity C having the mounting area M as a bottom surface is formed. The cavity C is formed to a depth of, for example, 100 μm or more and 170 μm or less.

実施形態では、第1回路基板10は、第1回路基板内の絶縁層11の第2面11Sに凹部11cを有する。すなわち、凹部11cの深さは、絶縁層11の厚さよりも小さい。キャビティCよりも深さの小さい凹部11cが形成されている。凹部11cは、たとえば、30μm以上、140μm以下の深さに形成される。   In the embodiment, the first circuit board 10 has a recess 11c on the second surface 11S of the insulating layer 11 in the first circuit board. That is, the depth of the recess 11 c is smaller than the thickness of the insulating layer 11. A recess 11c having a depth smaller than that of the cavity C is formed. The recess 11c is formed to a depth of 30 μm or more and 140 μm or less, for example.

キャビティCには、図示されない電子部品が配置される。電子部品の例は、半導体素子、受動素子、再配線層を有するインターポーザ、再配線層を有する半導体素子、WLP(Wafer Level Package)などの電子部品である。凹部11cにも、図示されない電子部品が配置され得る。キャビティCおよび凹部11cの深さは、たとえば、内部に配置される電子部品の厚さなどに応じてそれぞれ決定され得る。たとえば、厚さのより厚い電子部品がキャビティCに実装され、凹部11cには、キャビティCに配置される電子部品より薄い別の電子部品が収容される。電子部品が実装された状態での電子部品とプリント配線板1との全体の厚さが薄くなり得ると考えられる。また、薄い電子部品は、キャビティCよりも浅い凹部11cに実装され得るので、電子部品のマウンタのノズルの上下方向の移動量が小さいと考えられる。電子部品の搭載位置精度が高いと考えられる。電子部品実装の歩留まりが高くなると考えられる。また、電子部品の実装時間が短いと考えられる。部品実装の生産性が高いと考えられる。   In the cavity C, electronic components (not shown) are arranged. Examples of the electronic component include a semiconductor element, a passive element, an interposer having a rewiring layer, a semiconductor element having a rewiring layer, and an electronic component such as WLP (Wafer Level Package). An electronic component (not shown) can also be disposed in the recess 11c. The depths of the cavity C and the recess 11c can be determined, for example, according to the thickness of the electronic component disposed inside. For example, a thicker electronic component is mounted in the cavity C, and another electronic component thinner than the electronic component disposed in the cavity C is accommodated in the recess 11c. It is considered that the entire thickness of the electronic component and the printed wiring board 1 in a state where the electronic component is mounted can be reduced. Further, since the thin electronic component can be mounted in the recess 11c shallower than the cavity C, it is considered that the amount of movement of the nozzle of the mounter of the electronic component in the vertical direction is small. It is considered that the mounting position accuracy of electronic parts is high. It is thought that the yield of electronic component mounting will increase. Moreover, it is thought that the mounting time of an electronic component is short. It is thought that the productivity of component mounting is high.

第1回路基板10は、開口10aの周囲に絶縁層11を貫通する第1および第2導体ポスト12、13を有する。第1導体ポスト12の第2回路基板20側と反対側の端面が、凹部11cの底面に露出して第1パッド12aを形成している。電子部品が第1パッド12aに実装され得る。第2導体ポスト13の第1回路基板10の第2面10S側の端面は、第2面10Sに露出して第2パッド13aを形成している。図1に示される例では、第2パッド13aは、第1回路基板10の第2面10Sから凹んでいる。はんだなどを用いて第2パッド13aに外部の配線板などが接続される場合、はんだの過剰な流動が抑制され得る。隣接する第2パッド13a間でのはんだショートなどが防止され得る。しかし、第2パッド13aと第2面10Sとは面一であってもよい。あるいは、図2に示されるように、絶縁層11に埋め込まれている埋め込み配線層16が第2面10Sに形成されていてもよい。図2に示される例では、埋め込み配線層16の露出面により、第2パッド13bが形成されている。第2パッド13bは、第2導体ポスト13の幅よりも大きな幅を有している。第2パッド13bに接続される外部の電子部品などとの接続面積が大きい。それにより強固な接続が得られると考えられる。   The first circuit board 10 has first and second conductor posts 12 and 13 penetrating the insulating layer 11 around the opening 10a. An end surface of the first conductor post 12 opposite to the second circuit board 20 is exposed on the bottom surface of the recess 11c to form a first pad 12a. An electronic component may be mounted on the first pad 12a. An end surface of the second conductor post 13 on the second surface 10S side of the first circuit board 10 is exposed to the second surface 10S to form a second pad 13a. In the example shown in FIG. 1, the second pad 13 a is recessed from the second surface 10 </ b> S of the first circuit board 10. When an external wiring board or the like is connected to the second pad 13a using solder or the like, excessive flow of solder can be suppressed. Solder short-circuit between the adjacent second pads 13a can be prevented. However, the second pad 13a and the second surface 10S may be flush with each other. Alternatively, as shown in FIG. 2, an embedded wiring layer 16 embedded in the insulating layer 11 may be formed on the second surface 10S. In the example shown in FIG. 2, the second pad 13 b is formed by the exposed surface of the embedded wiring layer 16. The second pad 13 b has a width larger than the width of the second conductor post 13. The connection area with an external electronic component connected to the second pad 13b is large. Thereby, it is considered that a strong connection can be obtained.

図3に示されるように、第1回路基板10は、開口10aと凹部11cと開口10aを囲むように配置されている、第1および第2導体ポスト12、13を含む複数の導体ポストとを有している。図3のI−I線での断面図が図1に示されている。図3の例では、第1回路基板10の開口10aは、四角形の平面形状に形成されている。したがって、キャビティCの平面形状も四角形になり得る。しかしながら、開口10aおよびキャビティCの平面形状はこれに限定されず、四角形以外の多角形や円形などであってもよい。キャビティC内に収容される電子部品の形状などに応じて、開口10aおよびキャビティCは任意の平面形状で形成され得る。   As shown in FIG. 3, the first circuit board 10 includes an opening 10a, a recess 11c, and a plurality of conductor posts including the first and second conductor posts 12 and 13 disposed so as to surround the opening 10a. Have. A cross-sectional view taken along the line II of FIG. 3 is shown in FIG. In the example of FIG. 3, the opening 10a of the first circuit board 10 is formed in a rectangular planar shape. Therefore, the planar shape of the cavity C can also be a quadrangle. However, the planar shape of the opening 10a and the cavity C is not limited to this, and may be a polygon other than a rectangle, a circle, or the like. Depending on the shape of the electronic component housed in the cavity C, the opening 10a and the cavity C can be formed in an arbitrary planar shape.

図3には、凹部11cの平面形状も四角形である例が示されている。凹部11c内に収容される電子部品の形状などに応じて、凹部11cも任意の平面形状で形成されてよい。図3には、第1回路基板10に1つの凹部11cが形成されている例が示されている。しかしながら、凹部11cは第1回路基板10内の任意の所望の位置に形成され得る。凹部11cは、好ましくは、第1導体ポスト12の一部を絶縁層11の一部と共に除去することにより形成される。第1回路基板10の任意の領域が凹部11cの形成領域となり得る。プリント配線板の設計の自由度が高いと考えられる。   FIG. 3 shows an example in which the planar shape of the recess 11c is also a quadrangle. Depending on the shape of the electronic component housed in the recess 11c, the recess 11c may also be formed in an arbitrary planar shape. FIG. 3 shows an example in which one recess 11 c is formed in the first circuit board 10. However, the recess 11 c can be formed at any desired position in the first circuit board 10. The recess 11 c is preferably formed by removing a part of the first conductor post 12 together with a part of the insulating layer 11. An arbitrary area of the first circuit board 10 can be a formation area of the recess 11c. It is considered that the degree of freedom in designing the printed wiring board is high.

凹部11cは、第1回路基板10に複数個形成されていてもよい。電子部品をより効率よく配置することができると考えられる。たとえば、キャビティCの周囲の2方向に2つの凹部11cが分離して形成され得る。複数個形成される凹部11cそれぞれの深さが異なっていてもよい。それぞれの凹部11c内にたとえば、それぞれ異なる厚さの電子部品が配置されてよい。或いは、各凹部11c内に配置される電子部品の一部または全部が同種のものであってもよい。第1回路基板10が複数の凹部11cを有している場合、凹部11cのそれぞれの形状は、図3に示されている例に限られるものではなく、凹部11c内に配置される電子部品のサイズや種類に応じてそれぞれ適宜決定され得る。   A plurality of the recesses 11 c may be formed on the first circuit board 10. It is considered that electronic components can be arranged more efficiently. For example, two concave portions 11c can be formed separately in two directions around the cavity C. The depth of each of the plurality of recessed portions 11c may be different. For example, electronic components having different thicknesses may be disposed in the respective recesses 11c. Alternatively, some or all of the electronic components arranged in each recess 11c may be of the same type. When the first circuit board 10 has a plurality of recesses 11c, the shape of each recess 11c is not limited to the example shown in FIG. Each can be determined appropriately according to the size and type.

図3に示されるように、凹部11c内に第1パッド12aが露出している。凹部11c内に実装される電子部品の電極が第1パッド12aに接続される。図3には、凹部11cの底面に4個の第1パッド12aが形成されている例が示されている。第1パッド12aは、実装される電子部品の電極の数に応じて、4個より多い数や少ない数で形成されてよい。第1回路基板10の第2面10S上には開口10aを囲むように第2パッド13aが露出している。第2パッド13aには、図示されない外部の配線板や電子部品の電極が接続され得る。   As shown in FIG. 3, the first pad 12a is exposed in the recess 11c. An electrode of an electronic component mounted in the recess 11c is connected to the first pad 12a. FIG. 3 shows an example in which four first pads 12a are formed on the bottom surface of the recess 11c. The first pads 12a may be formed with more or less than four according to the number of electrodes of the electronic component to be mounted. A second pad 13a is exposed on the second surface 10S of the first circuit board 10 so as to surround the opening 10a. An external wiring board (not shown) or an electrode of an electronic component can be connected to the second pad 13a.

図3では、第1パッド12aまたは第2パッド13aを形成している複数の導体ポストが開口10aの周囲に3列で形成されているが、導体ポストの数および導体ポストが形成される位置は図3の例に限定されない。また、導体ポストや第1および第2パッド12a、13aの平面形状も図3に示されているような円形に限定されず、多角形など任意の平面形状に形成され得る。第1および第2パッド12a、13aがそれぞれ異なる形状で形成されてもよい。   In FIG. 3, the plurality of conductor posts forming the first pad 12a or the second pad 13a are formed in three rows around the opening 10a, but the number of conductor posts and the positions where the conductor posts are formed are as follows. It is not limited to the example of FIG. Further, the planar shapes of the conductor posts and the first and second pads 12a and 13a are not limited to a circle as shown in FIG. 3, and may be formed in an arbitrary planar shape such as a polygon. The first and second pads 12a and 13a may be formed in different shapes.

第1および第2導体ポスト12、13は、たとえば銅などの金属からなる柱状の導電体であり、側面を絶縁層11に覆われている。図1に示されるように、第1および第2導体ポスト12、13の第1回路基板10の第1面10F側の端面は、絶縁層11から露出していて第1面10Fとほぼ面一である。第1回路基板10と第2回路基板20との密着性が良好であると考えられる。   The first and second conductor posts 12 and 13 are columnar conductors made of a metal such as copper, for example, and the side surfaces are covered with the insulating layer 11. As shown in FIG. 1, the end surfaces of the first circuit board 10 on the first surface 10F side of the first and second conductor posts 12, 13 are exposed from the insulating layer 11 and are substantially flush with the first surface 10F. It is. It is considered that the adhesion between the first circuit board 10 and the second circuit board 20 is good.

絶縁層11は、たとえば、エポキシなどの絶縁性の樹脂材料で形成される。絶縁層11は、好ましくは、ガラス繊維などの補強材を含まない樹脂材料で形成される。絶縁層11の形成時に樹脂材料が十分に流動し、ボイドなどを多く生ずることなく第1および第2導体ポストが適切に覆われると考えられる。絶縁層11は、好ましくは、シリカなどの無機フィラーを含むモールド成形用のモールド樹脂で形成される。   The insulating layer 11 is formed of, for example, an insulating resin material such as epoxy. The insulating layer 11 is preferably formed of a resin material that does not include a reinforcing material such as glass fiber. It is considered that the resin material flows sufficiently when the insulating layer 11 is formed, and the first and second conductor posts are appropriately covered without generating many voids. The insulating layer 11 is preferably formed of a mold resin for molding including an inorganic filler such as silica.

図1に示されるように、第2回路基板20は、第1回路基板10の第1面10F側に第1樹脂絶縁層21を有している。第1樹脂絶縁層21の第1回路基板10側には、開口10aに対応する領域に凹み部分21aが形成されている。開口10aと凹み部分21aとで、図示されない電子部品が配置されるキャビティCが形成されている。キャビティCの底面には実装エリアMが露出している。絶縁層11の厚さの選択などにより、キャビティCの深さがキャビティC内に配置される電子部品の厚さなどに応じて調整され得る。   As shown in FIG. 1, the second circuit board 20 has a first resin insulating layer 21 on the first surface 10 </ b> F side of the first circuit board 10. On the first circuit board 10 side of the first resin insulating layer 21, a recessed portion 21a is formed in a region corresponding to the opening 10a. A cavity C in which an electronic component (not shown) is arranged is formed by the opening 10a and the recessed portion 21a. A mounting area M is exposed on the bottom surface of the cavity C. The depth of the cavity C can be adjusted according to the thickness of the electronic component disposed in the cavity C by selecting the thickness of the insulating layer 11 or the like.

第1樹脂絶縁層21は、たとえば、エポキシなどの樹脂材料により形成される。樹脂材料はシリカなどの無機フィラーを含んでいてもよい。第1樹脂絶縁層21は、好ましくは、図1に示されるように、補強材21bに含浸された樹脂材料で形成される。補強材21bとしては、ガラス繊維が例示される。補強材21bにより機械的強度が高められる。そのため、プリント配線板1に反りが生じたり、キャビティCの周囲に応力が生じたりしても、クラックが生じ難いと考えられる。しかし、第1樹脂絶縁層21は、補強材を含まないエポキシなどの樹脂材料で形成されていてもよい。   The first resin insulation layer 21 is formed of a resin material such as epoxy, for example. The resin material may contain an inorganic filler such as silica. The first resin insulation layer 21 is preferably formed of a resin material impregnated in the reinforcing material 21b as shown in FIG. An example of the reinforcing material 21b is glass fiber. The mechanical strength is increased by the reinforcing material 21b. Therefore, even if the printed wiring board 1 is warped or stress is generated around the cavity C, it is considered that cracks are unlikely to occur. However, the first resin insulating layer 21 may be formed of a resin material such as epoxy that does not include a reinforcing material.

第1樹脂絶縁層21には、第1樹脂絶縁層21を貫通する第1ビア導体22と第2ビア導体23とが形成されている。第1ビア導体22は、第2回路基板20の実装エリアM内に形成されている。第2ビア導体23は実装エリアM以外の領域に形成されている。第1ビア導体22の端面は実装エリアMに露出している。第1ビア導体22の実装エリアMへの露出面により、図示されない電子部品との接続パッドが形成されている。キャビティC内に配置される電子部品の電極などが、第1ビア導体22の露出面に直接接続され得る。図1の例では、3×3の第1ビア導体22が第2回路基板20の実装エリアM内に形成されている。しかし、第1ビア導体22の数はこの例に限定されるものではなく、たとえば、キャビティCに実装される電子部品の電極の数に応じて適宜選択され得る。第2ビア導体23の第1回路基板10側の端面は、第1および第2導体ポスト12、13の第1回路基板10の第1面10F側の端面と介在物を間に挟むことなく直接接続されている。第1回路基板10と第2回路基板20とが、より強固に接合していると考えられる。   A first via conductor 22 and a second via conductor 23 that pass through the first resin insulation layer 21 are formed in the first resin insulation layer 21. The first via conductor 22 is formed in the mounting area M of the second circuit board 20. The second via conductor 23 is formed in a region other than the mounting area M. The end face of the first via conductor 22 is exposed in the mounting area M. A connection pad with an electronic component (not shown) is formed by a surface exposed to the mounting area M of the first via conductor 22. An electrode of an electronic component arranged in the cavity C or the like can be directly connected to the exposed surface of the first via conductor 22. In the example of FIG. 1, 3 × 3 first via conductors 22 are formed in the mounting area M of the second circuit board 20. However, the number of the first via conductors 22 is not limited to this example, and can be appropriately selected according to the number of electrodes of the electronic component mounted in the cavity C, for example. The end face of the second via conductor 23 on the first circuit board 10 side is directly connected to the end face of the first circuit board 10 on the first face 10F side of the first and second conductor posts 12 and 13 without interposing any inclusions therebetween. It is connected. It is considered that the first circuit board 10 and the second circuit board 20 are bonded more firmly.

実施形態のプリント配線板1では、第2回路基板20は、第1樹脂絶縁層21を含むビルドアップ配線層25を含んでいる。ビルドアップ配線層25は、第1回路基板10の第1面10F上に積層されている。ビルドアップ配線層25には導体層と樹脂絶縁層とが交互に積層されている。図1の例では、ビルドアップ配線層25は、導体層26a〜26dのそれぞれと、第1樹脂絶縁層21および層間樹脂絶縁層27a〜27cのそれぞれとが交互に積層されて形成されている。層間樹脂絶縁層27a〜27cそれぞれに、層間樹脂絶縁層27a〜27cをそれぞれ貫通する第3ビア導体28a〜28cが形成されている。ビルドアップ配線層25の導体層26a〜26dの層数は、図1の例では4層であるが、3層以下または5層以上の導体層を含んでいてもよい。たとえば、第1樹脂絶縁層21および第1樹脂絶縁層21上の導体層26aだけが形成されていてもよい。   In the printed wiring board 1 of the embodiment, the second circuit board 20 includes the build-up wiring layer 25 including the first resin insulating layer 21. The buildup wiring layer 25 is stacked on the first surface 10F of the first circuit board 10. Conductive layers and resin insulating layers are alternately stacked on the build-up wiring layer 25. In the example of FIG. 1, the build-up wiring layer 25 is formed by alternately laminating each of the conductor layers 26a to 26d and each of the first resin insulating layer 21 and the interlayer resin insulating layers 27a to 27c. Third via conductors 28a-28c penetrating interlayer resin insulation layers 27a-27c are formed in interlayer resin insulation layers 27a-27c, respectively. The number of conductor layers 26a to 26d of the build-up wiring layer 25 is four in the example of FIG. 1, but may include three or less conductor layers or five or more conductor layers. For example, only the first resin insulating layer 21 and the conductor layer 26a on the first resin insulating layer 21 may be formed.

図1の例では、第2回路基板20の第4面20F上にソルダーレジスト層29が形成されている。ソルダーレジスト層29は、導体層26dの第2回路基板20の第4面20F側の面の一部を露出する複数の開口29aを有している。導体層26dの開口29a内の露出面は第3パッド26d1である。   In the example of FIG. 1, a solder resist layer 29 is formed on the fourth surface 20 </ b> F of the second circuit board 20. The solder resist layer 29 has a plurality of openings 29a that expose a part of the surface of the second circuit board 20 on the fourth surface 20F side of the conductor layer 26d. The exposed surface in the opening 29a of the conductor layer 26d is the third pad 26d1.

層間樹脂絶縁層27a〜27cの材料は特に限定されないが、たとえばエポキシ樹脂などで形成される。好ましくは、補強材を含まない樹脂材料が用いられる。ファインピッチの導体パターンを有する導体層26b〜26dが容易に形成され得る。   The material of the interlayer resin insulation layers 27a to 27c is not particularly limited, and is formed of, for example, an epoxy resin. Preferably, a resin material that does not include a reinforcing material is used. Conductor layers 26b to 26d having a fine pitch conductor pattern can be easily formed.

第1および第2ビア導体22、23の第1回路基板10側と反対側の端面は導体層26aに接続されており、導体層26aを介して第3ビア導体28aに接続されている。第1ビア導体22、第2ビア導体23、および第3ビア導体28a〜28cは、いずれも、第2回路基板20の第4面20F側から第3面20T側に向かって径が小さくなるテーパー形状に形成されている。第3ビア導体28a〜28cは、平面視で互いに重なる位置に形成され、所謂スタックビアを形成している。   The end surfaces of the first and second via conductors 22 and 23 opposite to the first circuit board 10 side are connected to the conductor layer 26a, and are connected to the third via conductor 28a via the conductor layer 26a. The first via conductor 22, the second via conductor 23, and the third via conductors 28 a to 28 c are all tapered with a diameter decreasing from the fourth surface 20 F side to the third surface 20 T side of the second circuit board 20. It is formed into a shape. The third via conductors 28a to 28c are formed at positions overlapping each other in plan view, and form so-called stacked vias.

第3パッド26d1は、たとえば、外部のマザーボードなどに接続される。たとえば、第1および第2パッド12a、13aに接続される外部の電子部品などが、第3パッド26d1側の外部のマザーボードなどと短い経路で電気的に接続され得る。接続信頼性が高いと考えられる。   The third pad 26d1 is connected to, for example, an external motherboard. For example, an external electronic component connected to the first and second pads 12a and 13a can be electrically connected to an external motherboard or the like on the third pad 26d1 side through a short path. Connection reliability is considered high.

一実施形態のプリント配線板の製造方法が、図4A〜4Oを参照して説明される。   The manufacturing method of the printed wiring board of one Embodiment is demonstrated with reference to FIG.

図4Aに示されるように、たとえば、ベース板80および金属膜81が用意される。ベース板80には、たとえば、プリプレグなどからなる樹脂絶縁板または銅などの金属板が用いられる。金属膜81は、たとえば、キャリア銅箔付き銅箔と言われるように、キャリア銅箔81bに貼り付けられている。キャリア銅箔81bと金属膜81とは、たとえば、外周付近の余白部において接着剤により接合されている。キャリア銅箔81bと金属膜81とは、熱可塑性の接着剤(図示せず)により全面において接合されてもよい。金属膜81は、たとえば、3μm以上、8μm以下の厚さを有している。キャリア銅箔81bは、熱圧着によりベース板80に貼り付けられる。   As shown in FIG. 4A, for example, a base plate 80 and a metal film 81 are prepared. For the base plate 80, for example, a resin insulating plate made of prepreg or the like or a metal plate such as copper is used. The metal film 81 is attached to the carrier copper foil 81b so as to be referred to as a copper foil with a carrier copper foil, for example. The carrier copper foil 81b and the metal film 81 are bonded to each other with an adhesive, for example, in a blank portion near the outer periphery. The carrier copper foil 81b and the metal film 81 may be bonded on the entire surface with a thermoplastic adhesive (not shown). For example, the metal film 81 has a thickness of 3 μm or more and 8 μm or less. The carrier copper foil 81b is attached to the base plate 80 by thermocompression bonding.

図4A〜4Lには、ベース板80の両側の面にプリント配線板1が形成される例が示されている。しかし、ベース板80の一方の面だけにプリント配線板1が形成されてもよい。なお、図4B〜4Lが参照される以下の説明では、ベース板80の他面側についての説明は省略されている。図4B〜4L中のベース板80の他面側の符号も適宜省略されている。   4A to 4L show an example in which the printed wiring board 1 is formed on both sides of the base plate 80. FIG. However, the printed wiring board 1 may be formed only on one surface of the base plate 80. In the following description with reference to FIGS. 4B to 4L, the description of the other surface side of the base plate 80 is omitted. The reference numerals on the other surface side of the base plate 80 in FIGS. 4B to 4L are also appropriately omitted.

図4Bに示されるように、第1および第2導体ポスト12、13形成用のレジストマスク82が金属膜81上に形成される。レジストマスク82には、第1導体ポスト12形成用の開口82a1と第2導体ポスト形成用の開口82a2とが設けられる。開口82a1は、凹部11c(図1参照)の形成領域に設けられる。レジストマスク82は、たとえば、100μm以上、250μm以下の厚さに形成される。   As shown in FIG. 4B, a resist mask 82 for forming the first and second conductor posts 12 and 13 is formed on the metal film 81. The resist mask 82 is provided with an opening 82 a 1 for forming the first conductor post 12 and an opening 82 a 2 for forming the second conductor post 12. The opening 82a1 is provided in the formation region of the recess 11c (see FIG. 1). The resist mask 82 is formed with a thickness of 100 μm or more and 250 μm or less, for example.

レジストマスク82の開口82a1および82a2に、第1導体ポスト12および第2導体ポスト13が、金属膜81をシード層とする銅の電解めっきによりそれぞれ形成される。その後、図4Cに示されるように、レジストマスク82が除去される。第1および第2導体ポスト12、13の端面や側面は、ソフトエッチングなどにより粗化されてもよい。   The first conductor post 12 and the second conductor post 13 are formed in the openings 82a1 and 82a2 of the resist mask 82 by copper electroplating using the metal film 81 as a seed layer, respectively. Thereafter, as shown in FIG. 4C, the resist mask 82 is removed. The end surfaces and side surfaces of the first and second conductor posts 12 and 13 may be roughened by soft etching or the like.

図4Dに示されるように、第1および第2導体ポスト12、13を被覆するように金属膜81上に絶縁層11が形成される。たとえば、フィルム状の樹脂材料を第1および第2導体ポスト12、13上に積層し、加熱および加圧することにより絶縁層11が形成される。絶縁層11の樹脂材料には、たとえば、ガラス繊維などの補強材を含まないエポキシ樹脂、好ましくは、流動性の良好なモールド成形用の樹脂が用いられる。   As shown in FIG. 4D, the insulating layer 11 is formed on the metal film 81 so as to cover the first and second conductor posts 12 and 13. For example, the insulating layer 11 is formed by laminating a film-like resin material on the first and second conductor posts 12 and 13 and heating and pressing. For the resin material of the insulating layer 11, for example, an epoxy resin that does not include a reinforcing material such as glass fiber, preferably a resin for molding with good fluidity is used.

図4Eに示されるように、絶縁層11のベース板80と反対側の表面が、たとえば、バフ研磨などにより研磨される。この研磨は、第1および第2導体ポスト12、13の端面が露出するように行われる。第1および第2導体ポスト12、13それぞれの高さにばらつきがあっても、この研磨により第1および第2導体ポスト12、13それぞれの端面が平坦化される。また、絶縁層11の第1面11Fと、第1および第2導体ポスト12、13の端面とがほぼ面一になる。図4Eまでの工程を経ることにより、ベース板80上に、第1面11Fおよび第1面11Fとは反対面の第2面11Sを有する絶縁層を有する第1回路基板10が形成される。第1回路基板10は、たとえば、100μm以上、250μm以下の厚さに形成される。第1および第2導体ポスト12、13は、第1回路基板10の厚さとほぼ同じ長さ(金属膜81からの高さ)を有している。   As shown in FIG. 4E, the surface of the insulating layer 11 opposite to the base plate 80 is polished by, for example, buffing. This polishing is performed so that the end faces of the first and second conductor posts 12 and 13 are exposed. Even if the heights of the first and second conductor posts 12 and 13 vary, the end surfaces of the first and second conductor posts 12 and 13 are flattened by this polishing. Further, the first surface 11F of the insulating layer 11 and the end surfaces of the first and second conductor posts 12, 13 are substantially flush. Through the steps up to FIG. 4E, the first circuit board 10 having the insulating layer having the first surface 11F and the second surface 11S opposite to the first surface 11F is formed on the base plate 80. The first circuit board 10 is formed to a thickness of 100 μm or more and 250 μm or less, for example. The first and second conductor posts 12 and 13 have substantially the same length (height from the metal film 81) as the thickness of the first circuit board 10.

図4Fに示されるように、絶縁層11に、ベース板80側と反対側の第1面11Fから枠状の溝10cが形成される。なお、枠状の溝10cは第2面11Sに至っていなくてもよい。すなわち、後述の図4Mで示される第1回路基板10の第2面10Sからの金属膜81の除去の後に、枠状の溝10cが、第1回路基板10の第2面10S側に露出していなくてもよい。枠状の溝10cで囲まれている絶縁層11の部分11aの第1回路基板10からの除去(図4N参照)が可能であればよい。溝10cは、第1回路基板10の開口10aの形成領域10bを囲むように形成される。溝10cは、たとえば、レーザー光の照射により形成される。溝10cはドリル加工などの他の方法で形成されてもよい。   As shown in FIG. 4F, a frame-shaped groove 10c is formed in the insulating layer 11 from the first surface 11F on the side opposite to the base plate 80 side. The frame-shaped groove 10c may not reach the second surface 11S. That is, after removing the metal film 81 from the second surface 10S of the first circuit board 10 shown in FIG. 4M described later, the frame-shaped groove 10c is exposed on the second surface 10S side of the first circuit board 10. It does not have to be. It is only necessary that the portion 11a of the insulating layer 11 surrounded by the frame-shaped groove 10c can be removed from the first circuit board 10 (see FIG. 4N). The groove 10 c is formed so as to surround the formation region 10 b of the opening 10 a of the first circuit board 10. The groove 10c is formed by, for example, laser light irradiation. The groove 10c may be formed by other methods such as drilling.

図4Gに示されるように、枠状の溝10cおよび絶縁層11の溝10cに囲まれた部分を被覆するように剥離膜83が設けられる。たとえば、フィルム状の固定材84が、枠状の溝10cおよび絶縁層11の溝10cに囲まれた部分を被覆するように絶縁層11上に積層され、固定材84により剥離膜83が固定される。剥離膜83は、絶縁層11の溝10cで囲まれた部分の剥離を容易にする。また、剥離膜83は、固定材84と共に、後述の第1樹脂絶縁層の形成において第1樹脂絶縁層の樹脂材料の溝10cへの侵入を防止する。図4Gに示される例では、枠状の溝10cの外縁10c1内の領域とほぼ同じ大きさの剥離膜83が設けられている。固定材84の一部が溝10c内へ入り込むように、剥離膜83が絶縁層11側にプレスされてもよい。第1樹脂絶縁層21(図4H参照)の樹脂材料の溝10cへの侵入が、より確実に防止され得る。また、剥離膜83は、後述の第1ビア導体22の形成に用いられるレーザー光のストッパとなり得る。剥離膜83としては、金属箔が例示され、好ましくは銅箔が用いられる。   As shown in FIG. 4G, a release film 83 is provided so as to cover a portion surrounded by the frame-like groove 10c and the groove 10c of the insulating layer 11. For example, a film-like fixing material 84 is laminated on the insulating layer 11 so as to cover a portion surrounded by the frame-like groove 10 c and the groove 10 c of the insulating layer 11, and the release film 83 is fixed by the fixing material 84. The The peeling film 83 facilitates peeling of a portion surrounded by the groove 10 c of the insulating layer 11. The release film 83, together with the fixing material 84, prevents the resin material of the first resin insulation layer from entering the groove 10c in the formation of the first resin insulation layer described later. In the example shown in FIG. 4G, a release film 83 having the same size as the region in the outer edge 10c1 of the frame-like groove 10c is provided. The release film 83 may be pressed toward the insulating layer 11 so that a part of the fixing material 84 enters the groove 10c. Intrusion of the resin material of the first resin insulating layer 21 (see FIG. 4H) into the groove 10c can be prevented more reliably. Further, the release film 83 can serve as a laser beam stopper used for forming a first via conductor 22 described later. The release film 83 is exemplified by a metal foil, preferably a copper foil.

固定材84は、剥離膜83と分離可能に密着し、絶縁層11とも良好に密着する材料で構成されている。図4Gに示されるように、固定材84の一部が溝10c内へ入り込んでもよい。溝10c内への第1樹脂絶縁層21の樹脂材料の侵入が確実に防止されると考えられる。固定材84の材料としては、ポリイミド樹脂が例示される。離型剤などに用いられる材料やシリコーンゴムなどが含まれていてもよい。固定材84はペースト状の状態でマスクなどを用いて塗布されてもよい。   The fixing material 84 is made of a material that is separably adhered to the release film 83 and that is also well adhered to the insulating layer 11. As shown in FIG. 4G, a part of the fixing member 84 may enter the groove 10c. It is considered that the resin material of the first resin insulation layer 21 is reliably prevented from entering the groove 10c. An example of the material of the fixing member 84 is polyimide resin. A material used for a release agent or the like, silicone rubber, or the like may be included. The fixing material 84 may be applied using a mask or the like in a paste state.

つぎに、絶縁層11の第1面11F上および剥離膜83上に、第2回路基板20(図4K参照)が形成される。   Next, the second circuit board 20 (see FIG. 4K) is formed on the first surface 11F of the insulating layer 11 and the release film 83.

図4Hに示されるように、絶縁層11の第1面11F上および剥離膜83上に第1樹脂絶縁層21が形成される。たとえば、ガラス繊維などの補強材21bを含むプリプレグが絶縁層11の第1面11F上および剥離膜83上に積層され、加熱および加圧される。図4Hに示されるように、銅箔26a1が第1樹脂絶縁層21上に積層されてもよい。しかしながら、第1樹脂絶縁層21は、補強材などを含まないフィルム状のエポキシ樹脂などを絶縁層11の第1面11Fおよび剥離膜83上に積層することにより形成されてもよい。   As shown in FIG. 4H, the first resin insulating layer 21 is formed on the first surface 11F of the insulating layer 11 and the release film 83. For example, a prepreg including a reinforcing material 21b such as glass fiber is laminated on the first surface 11F of the insulating layer 11 and the release film 83, and heated and pressurized. As shown in FIG. 4H, the copper foil 26a1 may be laminated on the first resin insulating layer 21. However, the first resin insulating layer 21 may be formed by laminating a film-like epoxy resin that does not include a reinforcing material or the like on the first surface 11F of the insulating layer 11 and the release film 83.

図4Iに示されるように、第1樹脂絶縁層21に、第1ビア導体22、第2ビア導体23と共に導体層26aが形成される。具体的には、たとえば、第1樹脂絶縁層21の第1および第2ビア導体22、23の形成位置に、レーザー光の照射により第1樹脂絶縁層21を貫通する貫通孔22a、23aがそれぞれ形成される。第1および第2導体ポスト12、13の端面ならびに剥離膜83が、レーザー光のストッパとして使用されている。貫通孔22a、23a内、および第1樹脂絶縁層21上(銅箔26a1が積層されている場合は銅箔26a1上)に、無電解めっきやスパッタリングなどにより金属膜(図示せず)が形成される。この金属膜をシード層として、セミアディティブ法により導体層26a、第1および第2ビア導体22、23が形成される。第2ビア導体23は、貫通孔23a内に露出する第1および第2導体ポスト12、13の端面上に形成される。第2ビア導体23は、図4Iに示されるように、第1導体ポスト12または第2導体ポスト13に直接接続されている。図示されていないが、導体層26aは、シード層として用いられた金属膜を含んでいる。導体層26aは銅箔26a1を含んでいてもよい。導体層26aに含まれずに露出する金属膜およびその下の銅箔26a1はエッチングにより除去される。   As shown in FIG. 4I, a conductor layer 26 a is formed in the first resin insulating layer 21 together with the first via conductor 22 and the second via conductor 23. Specifically, for example, through holes 22a and 23a penetrating through the first resin insulating layer 21 by laser light irradiation are formed at the positions where the first and second via conductors 22 and 23 of the first resin insulating layer 21 are formed, respectively. It is formed. The end surfaces of the first and second conductor posts 12 and 13 and the release film 83 are used as laser light stoppers. A metal film (not shown) is formed in the through holes 22a and 23a and on the first resin insulating layer 21 (or on the copper foil 26a1 when the copper foil 26a1 is laminated) by electroless plating or sputtering. The Using this metal film as a seed layer, the conductor layer 26a and the first and second via conductors 22 and 23 are formed by a semi-additive method. The second via conductor 23 is formed on the end surfaces of the first and second conductor posts 12 and 13 exposed in the through hole 23a. The second via conductor 23 is directly connected to the first conductor post 12 or the second conductor post 13 as shown in FIG. 4I. Although not shown, the conductor layer 26a includes a metal film used as a seed layer. The conductor layer 26a may include a copper foil 26a1. The metal film exposed without being contained in the conductor layer 26a and the underlying copper foil 26a1 are removed by etching.

図4Jに示されるように、第1樹脂絶縁層21および導体層26a上に、層間樹脂絶縁層27aが、たとえば、フィルム状の樹脂材料の積層、加熱および加圧により形成される。そして、層間樹脂絶縁層27a上に導体層26bが形成される。また、層間樹脂絶縁層27aを貫通し、導体層26aと導体層26bとを接続する第3ビア導体28aが形成される。導体層26bおよび第3ビア導体28aは、第1樹脂絶縁層21への導体層26a、第1ビア導体22、第2ビア導体23の形成と同じ方法で形成される。   As shown in FIG. 4J, the interlayer resin insulation layer 27a is formed on the first resin insulation layer 21 and the conductor layer 26a by, for example, laminating a film-like resin material, heating and pressing. Then, a conductor layer 26b is formed on the interlayer resin insulation layer 27a. In addition, a third via conductor 28a that penetrates the interlayer resin insulation layer 27a and connects the conductor layer 26a and the conductor layer 26b is formed. The conductor layer 26b and the third via conductor 28a are formed by the same method as the formation of the conductor layer 26a, the first via conductor 22 and the second via conductor 23 on the first resin insulating layer 21.

図4Kに示されるように、層間樹脂絶縁層27aおよび導体層26b上に、図4Jに示される方法と同様に、層間樹脂絶縁層27b、導体層26c、層間樹脂絶縁層27c、および導体層26dが順に形成される。また、層間樹脂絶縁層27b、27cをそれぞれ貫通する第3ビア導体28b、28cが形成される。層間樹脂絶縁層27b、27cは、層間樹脂絶縁層27aと同様の方法で、導体層26c、26dは、導体層26bと同様の方法で、第3ビア導体28b、28cは第3ビア導体28aと同様の方法で、それぞれ形成され得る。それにより、第1回路基板10の第1面10F上に第2回路基板20が形成される。   As shown in FIG. 4K, the interlayer resin insulation layer 27b, the conductor layer 26c, the interlayer resin insulation layer 27c, and the conductor layer 26d are formed on the interlayer resin insulation layer 27a and the conductor layer 26b in the same manner as the method shown in FIG. 4J. Are formed in order. Also, third via conductors 28b and 28c penetrating interlayer resin insulation layers 27b and 27c are formed. The interlayer resin insulation layers 27b and 27c are the same as the interlayer resin insulation layer 27a, the conductor layers 26c and 26d are the same as the conductor layer 26b, and the third via conductors 28b and 28c are the same as the third via conductor 28a. Each can be formed in a similar manner. Thereby, the second circuit board 20 is formed on the first surface 10F of the first circuit board 10.

層間樹脂絶縁層27a〜27cは、たとえば、10μm以上、100μm以下の厚さにそれぞれ形成される。導体層26a〜26d、第1および第2ビア導体22、23、ならびに第3ビア導体28a〜28cの材料は特に限定されないが、好ましくは銅が用いられる。導体層26a〜26dは、たとえば、10μm以上、25μm以下の厚さに、それぞれ形成される。   Interlayer resin insulation layers 27a-27c are each formed to a thickness of, for example, 10 μm or more and 100 μm or less. The materials of the conductor layers 26a to 26d, the first and second via conductors 22 and 23, and the third via conductors 28a to 28c are not particularly limited, but copper is preferably used. The conductor layers 26a to 26d are each formed to a thickness of 10 μm or more and 25 μm or less, for example.

図4Kに示される例では、第2回路基板20の第4面20F上にソルダーレジスト層29が形成される。たとえば、第4面20F上への感光性のエポキシ樹脂層の形成、露光および現像により、開口29aを有するソルダーレジスト層29が形成される。感光性のエポキシ樹脂は無機フィラーを含んでいてもよい。   In the example shown in FIG. 4K, the solder resist layer 29 is formed on the fourth surface 20F of the second circuit board 20. For example, the solder resist layer 29 having the openings 29a is formed by forming a photosensitive epoxy resin layer on the fourth surface 20F, exposure, and development. The photosensitive epoxy resin may contain an inorganic filler.

図4Lに示されるように、金属膜81とベース板80とが分離される。たとえば、キャリア銅箔81bと金属膜81とが接合されている余白部の接合箇所が切除されることにより、金属膜81とキャリア銅箔81bとが分離される。熱可塑性の接着剤が用いられている場合は、加熱状態で金属膜81とキャリア銅箔81bとが引き離される。ベース板80との分離により第1回路基板10の第2面10S上に露出する金属膜81がエッチングなどにより除去される。ベース板80および金属膜81の除去により、図4Mに示されるように、枠状の溝10cが、第1回路基板10の第2面10S側に露出する。なお、図4Mおよび図4Nには、図4L中の下側のプリント配線板だけが示されている。金属膜81の除去時のオーバーエッチングにより、第1および第2導体ポスト12、13の第1回路基板10の第2面10S側の端面が、第2面10Sよりも凹んでもよい。金属膜81の薄い膜でも残存すると、第2導体ポスト13間がショートするので、オーバーエッチングされることが好ましい。   As shown in FIG. 4L, the metal film 81 and the base plate 80 are separated. For example, the metal film 81 and the carrier copper foil 81b are separated from each other by cutting off the joint portion of the blank portion where the carrier copper foil 81b and the metal film 81 are joined. When a thermoplastic adhesive is used, the metal film 81 and the carrier copper foil 81b are separated in a heated state. The metal film 81 exposed on the second surface 10S of the first circuit board 10 by the separation from the base plate 80 is removed by etching or the like. By removing the base plate 80 and the metal film 81, the frame-shaped groove 10c is exposed on the second surface 10S side of the first circuit board 10, as shown in FIG. 4M. In FIG. 4M and FIG. 4N, only the lower printed wiring board in FIG. 4L is shown. The end surfaces of the first circuit board 10 on the second surface 10S side of the first and second conductor posts 12, 13 may be recessed from the second surface 10S by overetching when removing the metal film 81. If even a thin film of the metal film 81 remains, the second conductor posts 13 are short-circuited, so it is preferable to perform over-etching.

絶縁層11のうちの枠状の溝10cで囲まれている部分11aが剥離膜83から剥離され、第1回路基板10から除去される。たとえば、溝10cで囲まれている部分11aが、真空吸着や接着などにより治工具などに固定される。この治工具などを引き上げることにより溝10cで囲まれている部分11aが剥離膜83から剥離される。図4Nに示されるように、好ましくは、固定材84も剥離膜83から剥離され、絶縁層11の除去部分11aと共に除去される。第1回路基板10に開口10aが形成される。開口10aに剥離膜83が露出している。   A portion 11 a surrounded by the frame-shaped groove 10 c in the insulating layer 11 is peeled off from the peeling film 83 and removed from the first circuit board 10. For example, the portion 11a surrounded by the groove 10c is fixed to a jig or the like by vacuum suction or adhesion. The portion 11a surrounded by the groove 10c is peeled from the peeling film 83 by pulling up the jig and the like. As shown in FIG. 4N, the fixing member 84 is also preferably peeled off from the peeling film 83 and removed together with the removed portion 11a of the insulating layer 11. An opening 10 a is formed in the first circuit board 10. The release film 83 is exposed in the opening 10a.

図4Oに示されるように、開口10aに露出している剥離膜83が、たとえばエッチングにより除去される。固定材84が剥離膜83上に残存している場合は、好ましくは、剥離膜83と共に固定材84の残存物が除去される。エッチングにより、第1および第2導体ポスト12、13の第1回路基板10の第2面10S側の端面が、第2面10Sよりも凹み得る。第1樹脂絶縁層21に凹み部分21aが形成されている。開口10aおよび凹み部分21aからなるキャビティCが形成されている。キャビティCの底面には、第1ビア導体22の端面が露出し、電子部品の接続パッドが形成されている。第2回路基板20の一部が、電子部品の実装エリアMとして開口10a内に露出している。   As shown in FIG. 4O, the peeling film 83 exposed in the opening 10a is removed by, for example, etching. When the fixing material 84 remains on the peeling film 83, the residual material of the fixing material 84 is preferably removed together with the peeling film 83. By etching, the end surfaces of the first circuit board 10 on the second surface 10S side of the first and second conductor posts 12 and 13 can be recessed from the second surface 10S. A recessed portion 21 a is formed in the first resin insulating layer 21. A cavity C composed of the opening 10a and the recessed portion 21a is formed. At the bottom surface of the cavity C, the end face of the first via conductor 22 is exposed, and a connection pad for an electronic component is formed. A part of the second circuit board 20 is exposed as an electronic component mounting area M in the opening 10a.

続いて、図4Oに示されるように、絶縁層11の一部を除去することにより凹部11cが形成される。図1に示される一実施形態のプリント配線板1が完成する。除去はたとえば、第1回路基板10の第2面10S側からのドリル加工によって行われ得る。凹部11cの形成はサンドブラストにより行われてもよい。   Subsequently, as shown in FIG. 4O, the recess 11 c is formed by removing a part of the insulating layer 11. The printed wiring board 1 of one embodiment shown in FIG. 1 is completed. The removal can be performed by, for example, drilling from the second surface 10S side of the first circuit board 10. The formation of the recess 11c may be performed by sandblasting.

本実施形態では、図4Oに示されるように、第1導体ポスト12の第1回路基板10の第2面10S側の一部を絶縁層11の一部と共に除去することにより凹部11cの底面に第1導体ポスト12の端面が露出される。露出した端面により第1パッド12aが形成される。凹部11c内に配置される電子部品が第1パッド12aを介して実装され得る。除去される絶縁層11の深さおよび平面視での大きさを調整することにより、凹部11c内に配置される電子部品の厚さや大きさなどに応じた形状の凹部11cが形成され得る。凹部11cは、絶縁層11内に設けられる。すなわち、凹部11cの深さは、絶縁層11の厚さよりも小さい。凹部11cの底面は絶縁層11と凹部11cに露出した第1導体ポスト12の端面とで形成されている。   In the present embodiment, as shown in FIG. 4O, a part of the first conductor post 12 on the second surface 10S side of the first circuit board 10 is removed together with a part of the insulating layer 11 to thereby form the bottom surface of the recess 11c. The end face of the first conductor post 12 is exposed. A first pad 12a is formed by the exposed end surface. An electronic component disposed in the recess 11c can be mounted via the first pad 12a. By adjusting the depth of the insulating layer 11 to be removed and the size of the insulating layer 11 in a plan view, the concave portion 11c having a shape corresponding to the thickness or size of the electronic component disposed in the concave portion 11c can be formed. The recess 11 c is provided in the insulating layer 11. That is, the depth of the recess 11 c is smaller than the thickness of the insulating layer 11. The bottom surface of the recess 11c is formed by the insulating layer 11 and the end surface of the first conductor post 12 exposed in the recess 11c.

凹部11cの形成は、エッチングによる剥離膜83の除去工程の前に行われてもよい。この場合、第1パッド12aが凹部11cの底面に露出された状態で、剥離膜83を除去するためのエッチングが行われる。このため、第1パッド12aは凹部11cの底面から凹み得る。この例が図5に示されている。   The formation of the recess 11c may be performed before the step of removing the release film 83 by etching. In this case, etching for removing the release film 83 is performed in a state where the first pad 12a is exposed on the bottom surface of the recess 11c. For this reason, the first pad 12a can be recessed from the bottom surface of the recess 11c. An example of this is shown in FIG.

4層より少ない導体層を有する第2回路基板20が形成される場合は、導体層26b〜26dおよび層間樹脂絶縁層27a〜27cのいずれか1組または全部の形成が省略される。4層より多い導体層を有する第2回路基板20が形成される場合は、層数に応じて、層間樹脂絶縁層27aおよび導体層26bの形成と同様の方法で、層間樹脂絶縁層および導体層の形成が繰り返される。   When the second circuit board 20 having fewer than four conductor layers is formed, the formation of any one or all of the conductor layers 26b to 26d and the interlayer resin insulating layers 27a to 27c is omitted. When the second circuit board 20 having more than four conductor layers is formed, the interlayer resin insulation layer and the conductor layer are formed by the same method as the formation of the interlayer resin insulation layer 27a and the conductor layer 26b according to the number of layers. The formation of is repeated.

埋め込み配線層16がプリント配線板1の第2面10Sに形成されている図2に示される例の場合、たとえば、図4Bに示される工程で、導体ポスト12、13形成用のレジストマスク82とは別のレジストマスクを用いることにより、埋め込み配線層16が形成され得る。すなわち、レジストマスク82の形成前に、埋め込み配線層16形成用のレジストマスク(図示せず)が金属膜81上に形成される。この埋め込み配線層16形成用のレジストマスクの導体ポスト13の形成位置に対応する位置に、第2パッド13b形成用の開口が設けられる。第2パッド13b形成用の開口は、導体ポスト13形成用の開口82a2よりも大きく形成される。埋め込み配線層16形成用のレジストマスクの開口内に、導電体層16aが、金属膜81をシード層とする銅の電解めっきにより形成される。レジストマスク82が、この導電体層16a上に開口82a2を有するように形成される。埋め込み配線層16形成用のレジストマスクは、レジストマスク82の形成前に除去されてもよい。あるいは、埋め込み配線層16形成用のレジストマスクの除去は、レジストマスク82の除去(図4C参照)と同時に行われてもよい。第2導体ポスト13が、埋め込み配線層16を形成する導電体層16aをシード層として銅の電解めっきにより開口82a2内に形成される。   In the example shown in FIG. 2 in which the embedded wiring layer 16 is formed on the second surface 10S of the printed wiring board 1, for example, in the step shown in FIG. 4B, the resist mask 82 for forming the conductor posts 12 and 13 and By using a different resist mask, the buried wiring layer 16 can be formed. That is, a resist mask (not shown) for forming the buried wiring layer 16 is formed on the metal film 81 before the resist mask 82 is formed. An opening for forming the second pad 13b is provided at a position corresponding to the position where the conductor post 13 of the resist mask for forming the buried wiring layer 16 is formed. The opening for forming the second pad 13b is formed larger than the opening 82a2 for forming the conductor post 13. In the opening of the resist mask for forming the buried wiring layer 16, a conductor layer 16a is formed by electrolytic plating of copper using the metal film 81 as a seed layer. A resist mask 82 is formed on the conductor layer 16a so as to have an opening 82a2. The resist mask for forming the buried wiring layer 16 may be removed before the resist mask 82 is formed. Alternatively, the removal of the resist mask for forming the buried wiring layer 16 may be performed simultaneously with the removal of the resist mask 82 (see FIG. 4C). The second conductor post 13 is formed in the opening 82a2 by electrolytic plating of copper using the conductor layer 16a forming the embedded wiring layer 16 as a seed layer.

レジストマスク82の除去後、図4Dに示される工程と同様の方法で、導電体層16aが、導体ポスト12、13と共に絶縁層11によって周囲を覆われる。埋め込み配線層16が形成される。埋め込み配線層16の第2面10S側の露出面は、前述の図4Oに示される工程における剥離膜83のエッチングによる除去によって、第2面10Sよりも凹み得る。図2にはこの例が示されている。   After the resist mask 82 is removed, the conductor layer 16a is covered with the insulating layer 11 together with the conductor posts 12 and 13 by the same method as that shown in FIG. 4D. A buried wiring layer 16 is formed. The exposed surface of the embedded wiring layer 16 on the second surface 10S side can be recessed from the second surface 10S by removing the peeling film 83 by etching in the process shown in FIG. An example of this is shown in FIG.

図6は、一実施形態のプリント配線板1のキャビティCの内壁形状の変形例を示している。図1において一点鎖線で囲まれているV部の変形例が拡大して示されている。キャビティCの内壁のうちの第1樹脂絶縁層21内の部分は、第1回路基板10内の部分よりも凹んでいる。すなわち、平面視において、第1樹脂絶縁層21の凹み部分21aは第1回路基板10の開口10aよりも大きく形成されている。第1回路基板10と第2回路基板20との熱膨張率の違いなどにより生じ得る応力が、コーナー部C1〜C3に分散されると考えられる。   FIG. 6 shows a modification of the inner wall shape of the cavity C of the printed wiring board 1 according to the embodiment. In FIG. 1, a modified example of the V portion surrounded by the alternate long and short dash line is shown enlarged. A portion of the inner wall of the cavity C in the first resin insulating layer 21 is recessed more than a portion in the first circuit board 10. That is, the recessed portion 21 a of the first resin insulating layer 21 is formed larger than the opening 10 a of the first circuit board 10 in plan view. It is considered that stress that may be generated due to a difference in thermal expansion coefficient between the first circuit board 10 and the second circuit board 20 is dispersed in the corner portions C1 to C3.

キャビティCの内壁の第1樹脂絶縁層21内の部分の凹みは、たとえば、図7に示されるように、枠状の溝10cに囲まれる部分よりも大きい剥離膜83aを用いることにより形成され得る。図7には、前述の図4Hに示される工程中のプリント配線板の剥離膜の周辺部分が拡大して示されている。剥離膜83aは、枠状の溝10cの左右それぞれの溝の外側まで達するように設けられている。固定材84も剥離膜83aの大きさに応じた範囲に積層されている。図7に示される状態から、絶縁層11の溝10cに囲まれた部分11aと、固定材84および剥離膜83aとが、前述の方法と同様の方法で除去される。溝10cよりも外側の剥離膜83aおよび固定材84の除去部分がキャビティCの内壁の凹みとなり得る。   The recess in the portion of the inner wall of the cavity C in the first resin insulating layer 21 can be formed, for example, by using a release film 83a that is larger than the portion surrounded by the frame-shaped groove 10c, as shown in FIG. . FIG. 7 is an enlarged view of the peripheral portion of the release film of the printed wiring board in the process shown in FIG. 4H described above. The release film 83a is provided so as to reach the outside of the left and right grooves of the frame-like groove 10c. The fixing material 84 is also laminated in a range corresponding to the size of the release film 83a. From the state shown in FIG. 7, the portion 11 a surrounded by the groove 10 c of the insulating layer 11, the fixing material 84 and the release film 83 a are removed by the same method as described above. The removed portion of the release film 83a and the fixing material 84 outside the groove 10c can be a recess in the inner wall of the cavity C.

なお、一実施形態のプリント配線板1では、凹部11cの底面に第1導体ポスト12の端面が露出しているが、凹部11cの底面は、絶縁層11だけで形成されていてもよい。すなわち、図8に示されるように、凹部11cと平面視で重なる位置に、絶縁層11を貫通する導体ポストが形成されていなくてもよい。その場合でも、凹部11c内に電子部品が実装されてもよい。たとえば、第1回路基板10の第2面10S側を電極部分が向くように、電子部品が凹部11c内に接着剤などで実装され得る。そして、第2面10S側を向く電極部分と、外部の配線板や電子部品とが接続されてもよい。   In the printed wiring board 1 according to the embodiment, the end surface of the first conductor post 12 is exposed on the bottom surface of the recess 11c. However, the bottom surface of the recess 11c may be formed of only the insulating layer 11. That is, as illustrated in FIG. 8, the conductor post that penetrates the insulating layer 11 may not be formed at a position overlapping the concave portion 11 c in plan view. Even in that case, an electronic component may be mounted in the recess 11c. For example, the electronic component can be mounted in the recess 11c with an adhesive or the like so that the electrode portion faces the second surface 10S side of the first circuit board 10. And the electrode part which faces the 2nd surface 10S side, and an external wiring board and an electronic component may be connected.

1 プリント配線板
10 第1回路基板
10F 第1面
10S 第2面
10a 開口
10c 枠状の溝
11 絶縁層
11F 第1面
11S 第2面
11c 凹部
12 第1導体ポスト
12a 第1パッド
13 第2導体ポスト
13a 第2パッド
20 第2回路基板
20T 第3面
20F 第4面
21 第1樹脂絶縁層
22 第1ビア導体
23 第2ビア導体
25 ビルドアップ配線層
26a〜26d 導体層
26d1 第3パッド
27a〜27c 層間樹脂絶縁層
28a〜28c 第3ビア導体
29 ソルダーレジスト層
80 ベース板
81 金属膜
82 レジストマスク
83 剥離膜
84 固定材
M 実装エリア
C キャビティ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Printed wiring board 10 1st circuit board 10F 1st surface 10S 2nd surface 10a Opening 10c Frame-shaped groove | channel 11 Insulating layer 11F 1st surface 11S 2nd surface 11c Recessed part 12 1st conductor post 12a 1st pad 13 2nd conductor Post 13a Second pad 20 Second circuit board 20T Third surface 20F Fourth surface 21 First resin insulation layer 22 First via conductor 23 Second via conductor 25 Build-up wiring layers 26a to 26d Conductor layer 26d1 Third pad 27a to 27c Interlayer resin insulating layers 28a to 28c Third via conductor 29 Solder resist layer 80 Base plate 81 Metal film 82 Resist mask 83 Release film 84 Fixing material M Mounting area C Cavity

Claims (15)

第1面および前記第1面と反対側の第2面を有する絶縁層の中心部に開口を有する第1回路基板と、
第3面および前記第3面と反対側の第4面を有すると共に、前記第3面に電子部品の実装エリアを有し、前記第1回路基板の第1面上に積層されていて、前記第1回路基板の前記開口内に前記実装エリアを露出する第2回路基板と、
を備えるプリント配線板であって、
前記第1回路基板の第2面に凹部が形成されている。
A first circuit board having an opening in a central portion of an insulating layer having a first surface and a second surface opposite to the first surface;
A third surface and a fourth surface opposite to the third surface, and an electronic component mounting area on the third surface, stacked on the first surface of the first circuit board, A second circuit board exposing the mounting area in the opening of the first circuit board;
A printed wiring board comprising:
A recess is formed in the second surface of the first circuit board.
請求項1記載のプリント配線板であって、前記凹部の前記第2面からの深さは、前記第1回路基板の厚さより小さい。 2. The printed wiring board according to claim 1, wherein a depth of the concave portion from the second surface is smaller than a thickness of the first circuit board. 請求項1記載のプリント配線板であって、さらに、前記第1回路基板は、前記第1回路基板を貫通する第1導体ポストを含み、前記第1導体ポストが前記凹部の底面に露出している。 2. The printed wiring board according to claim 1, wherein the first circuit board further includes a first conductor post penetrating the first circuit board, and the first conductor post is exposed to a bottom surface of the recess. Yes. 請求項3記載のプリント配線板であって、さらに、前記第1回路基板が、前記第1回路基板を貫通する第2導体ポストを含み、前記第2導体ポストが前記第1回路基板の第2面側に露出している。 4. The printed wiring board according to claim 3, wherein the first circuit board further includes a second conductor post penetrating the first circuit board, and the second conductor post is a second of the first circuit board. It is exposed on the surface side. 請求項4記載のプリント配線板であって、さらに、前記第2回路基板が、前記第1回路基板の第1面側の第1樹脂絶縁層および導体層と、層間樹脂絶縁層および導体層の積層構造と、からなるビルドアップ配線層を含む。 5. The printed wiring board according to claim 4, wherein the second circuit board further comprises a first resin insulation layer and a conductor layer on a first surface side of the first circuit board, and an interlayer resin insulation layer and a conductor layer. And a buildup wiring layer comprising a laminated structure. 請求項5記載のプリント配線板であって、前記第1回路基板を構成する絶縁層は、補強材を含まない樹脂により形成されており、前記第1樹脂絶縁層は、補強材を含む樹脂により形成されている。 The printed wiring board according to claim 5, wherein the insulating layer constituting the first circuit board is formed of a resin not including a reinforcing material, and the first resin insulating layer is formed of a resin including a reinforcing material. Is formed. 請求項6記載のプリント配線板であって、前記層間樹脂絶縁層は、補強材を含まない樹脂により形成されている。 7. The printed wiring board according to claim 6, wherein the interlayer resin insulation layer is formed of a resin that does not include a reinforcing material. 請求項4記載のプリント配線板であって、前記第1導体ポストおよび前記第2導体ポストの前記第1面側の端面は前記第1面とほぼ面一に形成されている。 5. The printed wiring board according to claim 4, wherein end surfaces of the first conductor post and the second conductor post on the first surface side are substantially flush with the first surface. 請求項5記載のプリント配線板であって、さらに、前記第2回路基板は、前記第1樹脂絶縁層を貫通する第1ビア導体を有しており、前記第1ビア導体が前記実装エリア内に露出している。 The printed wiring board according to claim 5, wherein the second circuit board further includes a first via conductor that penetrates the first resin insulating layer, and the first via conductor is in the mounting area. Is exposed. 請求項9記載のプリント配線板であって、前記第2回路基板は、前記第1樹脂絶縁層を貫通する第2ビア導体をさらに有し、前記第1導体ポストおよび前記第2導体ポストが前記第2ビア導体と直接接続されている。 10. The printed wiring board according to claim 9, wherein the second circuit board further includes a second via conductor penetrating the first resin insulating layer, and the first conductor post and the second conductor post are the Directly connected to the second via conductor. ベース板上に、第1面および前記第1面とは反対面の第2面を有する絶縁層および前記絶縁層の第1面と第2面とを貫通する第1および第2導体ポストを有する第1回路基板を形成することと、
前記絶縁層の前記ベース板側と反対側の第1面から枠状の溝を形成することと、
前記枠状の溝および前記溝に囲まれた前記絶縁層を被覆するように剥離膜を設けることと、
前記絶縁層の第1面上および前記剥離膜上に第2回路基板を形成することと、
前記ベース板を除去することと、
前記絶縁層の前記ベース板から剥離された面側に前記枠状の溝を露出させることと、
前記絶縁層のうちの前記溝で囲まれている部分を剥離することにより開口を形成することと、
前記剥離膜を除去することにより前記第2回路基板の一部を実装エリアとして前記開口内に露出させることと、
前記絶縁層の一部を除去することにより凹部を形成することと、
を含むプリント配線板の製造方法。
An insulating layer having a first surface and a second surface opposite to the first surface, and first and second conductor posts penetrating the first surface and the second surface of the insulating layer are provided on the base plate. Forming a first circuit board;
Forming a frame-shaped groove from the first surface opposite to the base plate side of the insulating layer;
Providing a release film so as to cover the frame-shaped groove and the insulating layer surrounded by the groove;
Forming a second circuit board on the first surface of the insulating layer and on the release film;
Removing the base plate;
Exposing the frame-like groove on the surface side of the insulating layer peeled from the base plate;
Forming an opening by peeling a portion of the insulating layer surrounded by the groove;
Removing a part of the second circuit board as a mounting area by removing the release film; and
Forming a recess by removing a portion of the insulating layer;
A method of manufacturing a printed wiring board including:
請求項11記載のプリント配線板の製造方法であって、前記第1回路基板の形成は、
前記ベース板上に金属膜を設けることと、
前記金属膜上に前記第1および第2導体ポストを形成することと、
前記第1および第2導体ポストを被覆するように前記金属膜上に前記絶縁層を形成することと、
前記絶縁層の表面を研磨して前記第1および第2導体ポストの端面を平坦化することと、
をさらに含んでいる。
12. The method of manufacturing a printed wiring board according to claim 11, wherein the first circuit board is formed.
Providing a metal film on the base plate;
Forming the first and second conductor posts on the metal film;
Forming the insulating layer on the metal film so as to cover the first and second conductor posts;
Polishing the surface of the insulating layer to flatten the end faces of the first and second conductor posts;
In addition.
請求項11記載のプリント配線板の製造方法であって、前記絶縁層の一部の除去による凹部の形成が、前記第1回路基板の厚さより小さい深さになるように行われる。 12. The method for manufacturing a printed wiring board according to claim 11, wherein the recess is formed by removing a part of the insulating layer so that the depth is smaller than the thickness of the first circuit board. 請求項12記載のプリント配線板の製造方法であって、前記凹部を形成する工程が、前記第1導体ポストの一部を前記絶縁層の一部と共に除去することにより前記凹部の底面に前記第1導体ポストの端面を露出させることを含んでいる。 13. The method of manufacturing a printed wiring board according to claim 12, wherein the step of forming the recess includes removing the part of the first conductor post together with a part of the insulating layer to form the first on the bottom surface of the recess. It includes exposing the end face of one conductor post. 請求項11記載のプリント配線板の製造方法であって、前記凹部を形成する工程が、ドリル加工によって行われる。 It is a manufacturing method of the printed wiring board of Claim 11, Comprising: The process of forming the said recessed part is performed by drilling.
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