JP2017069446A - Printed wiring board and method of manufacturing the same - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、開口の周囲に導体ポストを有するプリント配線板、およびその製造方法に関する。 The present invention relates to a printed wiring board having a conductor post around an opening, and a method for manufacturing the same.
特許文献1には、半導体素子が搭載されるベース基板と、この半導体素子を収納するキャビティ部を有するキャビティ基板とを含むパッケージ基板が開示されている。キャビティ部の周囲には、ベース基板とキャビティ基板とを接続すると共に、このパッケージ基板と他のパッケージ基板とを接続するカッパーポストが形成されている。ベース基板とキャビティ基板とは接着剤により接着されている。
特許文献1のパッケージ基板では、キャビティ基板の厚さに相当する深さのキャビティ部が形成されている。厚さの異なる複数の電子部品(半導体素子や受動部品など)を実装する場合、キャビティ部は、厚い方の電子部品を収納し得る深さを有しているのが好ましいと考えられる。しかしその場合、薄い方の電子部品の搭載時に、マウンタの部品吸着ノズルの上下方向のストロークが大きくなると考えられる。搭載時間が長くなると考えられる。また、搭載位置精度が低くなると考えられる。しかし、薄い電子部品といえども、キャビティ基板の表面上に搭載されると、電子部品を含めた基板全体の厚さが厚くなり、キャビティを設ける効果が減少すると考えられる。
In the package substrate of
本発明のプリント配線板は、第1面および前記第1面と反対側の第2面を有する絶縁層の中心部に開口を有する第1回路基板と、第3面および前記第3面と反対側の第4面を有すると共に、前記第3面に電子部品の実装エリアを有し、前記第1回路基板の第1面上に積層されていて、前記第1回路基板の前記開口内に前記実装エリアを露出する第2回路基板と、を備えている。そして、前記第1回路基板の第2面に凹部が形成されている。 The printed wiring board of the present invention has a first circuit board having an opening at the center of an insulating layer having a first surface and a second surface opposite to the first surface, and is opposite to the third surface and the third surface. The fourth surface has a mounting area for electronic components on the third surface, and is laminated on the first surface of the first circuit board, and the opening is formed in the opening of the first circuit board. And a second circuit board exposing the mounting area. A recess is formed on the second surface of the first circuit board.
本発明のプリント配線板の製造方法は、ベース板上に、第1面および前記第1面とは反対面の第2面を有する絶縁層および前記絶縁層の第1面と第2面とを貫通する第1および第2導体ポストを有する第1回路基板を形成することと、前記絶縁層の前記ベース板側と反対側の第1面から枠状の溝を形成することと、前記枠状の溝および前記溝に囲まれた前記絶縁層を被覆するように剥離膜を設けることと、前記絶縁層の第1面上および前記剥離膜上に第2回路基板を形成することと、前記ベース板を除去することと、前記絶縁層の前記ベース板から剥離された面側に前記枠状の溝を露出させることと、前記絶縁層のうちの前記溝で囲まれている部分を剥離することにより開口を形成することと、前記剥離膜を除去することにより前記第2回路基板の一部を実装エリアとして前記開口内に露出させることと、前記絶縁層の一部を除去することにより凹部を形成することと、を含んでいる。 The printed wiring board manufacturing method of the present invention includes an insulating layer having a first surface and a second surface opposite to the first surface on the base plate, and the first surface and the second surface of the insulating layer. Forming a first circuit board having first and second conductor posts penetrating therethrough, forming a frame-like groove from a first surface of the insulating layer opposite to the base plate, and the frame-like shape Providing a release film so as to cover the groove and the insulating layer surrounded by the groove, forming a second circuit board on the first surface of the insulating layer and on the release film, and the base Removing the plate, exposing the frame-like groove on the side of the insulating layer peeled from the base plate, and peeling a portion of the insulating layer surrounded by the groove. The second circuit is formed by forming an opening by removing the peeling film. And includes a be exposed in the opening part of the plate as a mounting area, and a forming a recessed portion by removing a portion of the insulating layer.
本発明の実施形態によれば、厚さの異なる電子部品が、それぞれ深さの異なる開口部または凹部に実装され得る。高さの異なる電子部品が配置される場合でも、電子部品を配置するストロークが短くなり得る。各部品が高い精度で、かつ、素早く実装され得る。電子部品を含めたプリント配線板の低背化と共に、部品実装の生産性の向上および歩留まりの向上が達成されると考えられる。 According to the embodiment of the present invention, electronic components having different thicknesses can be mounted in openings or recesses having different depths. Even when electronic components having different heights are arranged, a stroke for arranging the electronic components can be shortened. Each component can be quickly mounted with high accuracy. Along with the reduction in the height of printed wiring boards including electronic components, it is considered that an improvement in component mounting productivity and an improvement in yield are achieved.
つぎに、本発明の一実施形態のプリント配線板が図面を参照しながら説明される。実施形態のプリント配線板1は、図1に示されるように、第1面11Fおよび第1面11Fと反対側の第2面11Sを有する絶縁層11の中心部に開口10aを有する第1回路基板10と、第3面20Tおよび第3面20Tと反対側の第4面20Fを有する第2回路基板20と、を備えている。絶縁層11の第1面11Fおよび第2面11Sは、それぞれ第1回路基板10の第1面10Fおよび第2面10Sを構成している。第2回路基板20は、第1回路基板10の第1面10F上に積層されている。第2回路基板20は、第3面20T側に電子部品(図示せず)の実装エリアMを有している。実装エリアMは、第1回路基板10の開口10a内に実装エリアMに露出されている。実装エリアMを底面とするキャビティCが形成されている。キャビティCは、たとえば、100μm以上、170μm以下の深さに形成される。
Next, a printed wiring board according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. As shown in FIG. 1, the printed
実施形態では、第1回路基板10は、第1回路基板内の絶縁層11の第2面11Sに凹部11cを有する。すなわち、凹部11cの深さは、絶縁層11の厚さよりも小さい。キャビティCよりも深さの小さい凹部11cが形成されている。凹部11cは、たとえば、30μm以上、140μm以下の深さに形成される。
In the embodiment, the
キャビティCには、図示されない電子部品が配置される。電子部品の例は、半導体素子、受動素子、再配線層を有するインターポーザ、再配線層を有する半導体素子、WLP(Wafer Level Package)などの電子部品である。凹部11cにも、図示されない電子部品が配置され得る。キャビティCおよび凹部11cの深さは、たとえば、内部に配置される電子部品の厚さなどに応じてそれぞれ決定され得る。たとえば、厚さのより厚い電子部品がキャビティCに実装され、凹部11cには、キャビティCに配置される電子部品より薄い別の電子部品が収容される。電子部品が実装された状態での電子部品とプリント配線板1との全体の厚さが薄くなり得ると考えられる。また、薄い電子部品は、キャビティCよりも浅い凹部11cに実装され得るので、電子部品のマウンタのノズルの上下方向の移動量が小さいと考えられる。電子部品の搭載位置精度が高いと考えられる。電子部品実装の歩留まりが高くなると考えられる。また、電子部品の実装時間が短いと考えられる。部品実装の生産性が高いと考えられる。
In the cavity C, electronic components (not shown) are arranged. Examples of the electronic component include a semiconductor element, a passive element, an interposer having a rewiring layer, a semiconductor element having a rewiring layer, and an electronic component such as WLP (Wafer Level Package). An electronic component (not shown) can also be disposed in the
第1回路基板10は、開口10aの周囲に絶縁層11を貫通する第1および第2導体ポスト12、13を有する。第1導体ポスト12の第2回路基板20側と反対側の端面が、凹部11cの底面に露出して第1パッド12aを形成している。電子部品が第1パッド12aに実装され得る。第2導体ポスト13の第1回路基板10の第2面10S側の端面は、第2面10Sに露出して第2パッド13aを形成している。図1に示される例では、第2パッド13aは、第1回路基板10の第2面10Sから凹んでいる。はんだなどを用いて第2パッド13aに外部の配線板などが接続される場合、はんだの過剰な流動が抑制され得る。隣接する第2パッド13a間でのはんだショートなどが防止され得る。しかし、第2パッド13aと第2面10Sとは面一であってもよい。あるいは、図2に示されるように、絶縁層11に埋め込まれている埋め込み配線層16が第2面10Sに形成されていてもよい。図2に示される例では、埋め込み配線層16の露出面により、第2パッド13bが形成されている。第2パッド13bは、第2導体ポスト13の幅よりも大きな幅を有している。第2パッド13bに接続される外部の電子部品などとの接続面積が大きい。それにより強固な接続が得られると考えられる。
The
図3に示されるように、第1回路基板10は、開口10aと凹部11cと開口10aを囲むように配置されている、第1および第2導体ポスト12、13を含む複数の導体ポストとを有している。図3のI−I線での断面図が図1に示されている。図3の例では、第1回路基板10の開口10aは、四角形の平面形状に形成されている。したがって、キャビティCの平面形状も四角形になり得る。しかしながら、開口10aおよびキャビティCの平面形状はこれに限定されず、四角形以外の多角形や円形などであってもよい。キャビティC内に収容される電子部品の形状などに応じて、開口10aおよびキャビティCは任意の平面形状で形成され得る。
As shown in FIG. 3, the
図3には、凹部11cの平面形状も四角形である例が示されている。凹部11c内に収容される電子部品の形状などに応じて、凹部11cも任意の平面形状で形成されてよい。図3には、第1回路基板10に1つの凹部11cが形成されている例が示されている。しかしながら、凹部11cは第1回路基板10内の任意の所望の位置に形成され得る。凹部11cは、好ましくは、第1導体ポスト12の一部を絶縁層11の一部と共に除去することにより形成される。第1回路基板10の任意の領域が凹部11cの形成領域となり得る。プリント配線板の設計の自由度が高いと考えられる。
FIG. 3 shows an example in which the planar shape of the
凹部11cは、第1回路基板10に複数個形成されていてもよい。電子部品をより効率よく配置することができると考えられる。たとえば、キャビティCの周囲の2方向に2つの凹部11cが分離して形成され得る。複数個形成される凹部11cそれぞれの深さが異なっていてもよい。それぞれの凹部11c内にたとえば、それぞれ異なる厚さの電子部品が配置されてよい。或いは、各凹部11c内に配置される電子部品の一部または全部が同種のものであってもよい。第1回路基板10が複数の凹部11cを有している場合、凹部11cのそれぞれの形状は、図3に示されている例に限られるものではなく、凹部11c内に配置される電子部品のサイズや種類に応じてそれぞれ適宜決定され得る。
A plurality of the
図3に示されるように、凹部11c内に第1パッド12aが露出している。凹部11c内に実装される電子部品の電極が第1パッド12aに接続される。図3には、凹部11cの底面に4個の第1パッド12aが形成されている例が示されている。第1パッド12aは、実装される電子部品の電極の数に応じて、4個より多い数や少ない数で形成されてよい。第1回路基板10の第2面10S上には開口10aを囲むように第2パッド13aが露出している。第2パッド13aには、図示されない外部の配線板や電子部品の電極が接続され得る。
As shown in FIG. 3, the
図3では、第1パッド12aまたは第2パッド13aを形成している複数の導体ポストが開口10aの周囲に3列で形成されているが、導体ポストの数および導体ポストが形成される位置は図3の例に限定されない。また、導体ポストや第1および第2パッド12a、13aの平面形状も図3に示されているような円形に限定されず、多角形など任意の平面形状に形成され得る。第1および第2パッド12a、13aがそれぞれ異なる形状で形成されてもよい。
In FIG. 3, the plurality of conductor posts forming the
第1および第2導体ポスト12、13は、たとえば銅などの金属からなる柱状の導電体であり、側面を絶縁層11に覆われている。図1に示されるように、第1および第2導体ポスト12、13の第1回路基板10の第1面10F側の端面は、絶縁層11から露出していて第1面10Fとほぼ面一である。第1回路基板10と第2回路基板20との密着性が良好であると考えられる。
The first and second conductor posts 12 and 13 are columnar conductors made of a metal such as copper, for example, and the side surfaces are covered with the insulating
絶縁層11は、たとえば、エポキシなどの絶縁性の樹脂材料で形成される。絶縁層11は、好ましくは、ガラス繊維などの補強材を含まない樹脂材料で形成される。絶縁層11の形成時に樹脂材料が十分に流動し、ボイドなどを多く生ずることなく第1および第2導体ポストが適切に覆われると考えられる。絶縁層11は、好ましくは、シリカなどの無機フィラーを含むモールド成形用のモールド樹脂で形成される。
The insulating
図1に示されるように、第2回路基板20は、第1回路基板10の第1面10F側に第1樹脂絶縁層21を有している。第1樹脂絶縁層21の第1回路基板10側には、開口10aに対応する領域に凹み部分21aが形成されている。開口10aと凹み部分21aとで、図示されない電子部品が配置されるキャビティCが形成されている。キャビティCの底面には実装エリアMが露出している。絶縁層11の厚さの選択などにより、キャビティCの深さがキャビティC内に配置される電子部品の厚さなどに応じて調整され得る。
As shown in FIG. 1, the
第1樹脂絶縁層21は、たとえば、エポキシなどの樹脂材料により形成される。樹脂材料はシリカなどの無機フィラーを含んでいてもよい。第1樹脂絶縁層21は、好ましくは、図1に示されるように、補強材21bに含浸された樹脂材料で形成される。補強材21bとしては、ガラス繊維が例示される。補強材21bにより機械的強度が高められる。そのため、プリント配線板1に反りが生じたり、キャビティCの周囲に応力が生じたりしても、クラックが生じ難いと考えられる。しかし、第1樹脂絶縁層21は、補強材を含まないエポキシなどの樹脂材料で形成されていてもよい。
The first
第1樹脂絶縁層21には、第1樹脂絶縁層21を貫通する第1ビア導体22と第2ビア導体23とが形成されている。第1ビア導体22は、第2回路基板20の実装エリアM内に形成されている。第2ビア導体23は実装エリアM以外の領域に形成されている。第1ビア導体22の端面は実装エリアMに露出している。第1ビア導体22の実装エリアMへの露出面により、図示されない電子部品との接続パッドが形成されている。キャビティC内に配置される電子部品の電極などが、第1ビア導体22の露出面に直接接続され得る。図1の例では、3×3の第1ビア導体22が第2回路基板20の実装エリアM内に形成されている。しかし、第1ビア導体22の数はこの例に限定されるものではなく、たとえば、キャビティCに実装される電子部品の電極の数に応じて適宜選択され得る。第2ビア導体23の第1回路基板10側の端面は、第1および第2導体ポスト12、13の第1回路基板10の第1面10F側の端面と介在物を間に挟むことなく直接接続されている。第1回路基板10と第2回路基板20とが、より強固に接合していると考えられる。
A first via
実施形態のプリント配線板1では、第2回路基板20は、第1樹脂絶縁層21を含むビルドアップ配線層25を含んでいる。ビルドアップ配線層25は、第1回路基板10の第1面10F上に積層されている。ビルドアップ配線層25には導体層と樹脂絶縁層とが交互に積層されている。図1の例では、ビルドアップ配線層25は、導体層26a〜26dのそれぞれと、第1樹脂絶縁層21および層間樹脂絶縁層27a〜27cのそれぞれとが交互に積層されて形成されている。層間樹脂絶縁層27a〜27cそれぞれに、層間樹脂絶縁層27a〜27cをそれぞれ貫通する第3ビア導体28a〜28cが形成されている。ビルドアップ配線層25の導体層26a〜26dの層数は、図1の例では4層であるが、3層以下または5層以上の導体層を含んでいてもよい。たとえば、第1樹脂絶縁層21および第1樹脂絶縁層21上の導体層26aだけが形成されていてもよい。
In the printed
図1の例では、第2回路基板20の第4面20F上にソルダーレジスト層29が形成されている。ソルダーレジスト層29は、導体層26dの第2回路基板20の第4面20F側の面の一部を露出する複数の開口29aを有している。導体層26dの開口29a内の露出面は第3パッド26d1である。
In the example of FIG. 1, a solder resist
層間樹脂絶縁層27a〜27cの材料は特に限定されないが、たとえばエポキシ樹脂などで形成される。好ましくは、補強材を含まない樹脂材料が用いられる。ファインピッチの導体パターンを有する導体層26b〜26dが容易に形成され得る。
The material of the interlayer
第1および第2ビア導体22、23の第1回路基板10側と反対側の端面は導体層26aに接続されており、導体層26aを介して第3ビア導体28aに接続されている。第1ビア導体22、第2ビア導体23、および第3ビア導体28a〜28cは、いずれも、第2回路基板20の第4面20F側から第3面20T側に向かって径が小さくなるテーパー形状に形成されている。第3ビア導体28a〜28cは、平面視で互いに重なる位置に形成され、所謂スタックビアを形成している。
The end surfaces of the first and second via
第3パッド26d1は、たとえば、外部のマザーボードなどに接続される。たとえば、第1および第2パッド12a、13aに接続される外部の電子部品などが、第3パッド26d1側の外部のマザーボードなどと短い経路で電気的に接続され得る。接続信頼性が高いと考えられる。
The third pad 26d1 is connected to, for example, an external motherboard. For example, an external electronic component connected to the first and
一実施形態のプリント配線板の製造方法が、図4A〜4Oを参照して説明される。 The manufacturing method of the printed wiring board of one Embodiment is demonstrated with reference to FIG.
図4Aに示されるように、たとえば、ベース板80および金属膜81が用意される。ベース板80には、たとえば、プリプレグなどからなる樹脂絶縁板または銅などの金属板が用いられる。金属膜81は、たとえば、キャリア銅箔付き銅箔と言われるように、キャリア銅箔81bに貼り付けられている。キャリア銅箔81bと金属膜81とは、たとえば、外周付近の余白部において接着剤により接合されている。キャリア銅箔81bと金属膜81とは、熱可塑性の接着剤(図示せず)により全面において接合されてもよい。金属膜81は、たとえば、3μm以上、8μm以下の厚さを有している。キャリア銅箔81bは、熱圧着によりベース板80に貼り付けられる。
As shown in FIG. 4A, for example, a
図4A〜4Lには、ベース板80の両側の面にプリント配線板1が形成される例が示されている。しかし、ベース板80の一方の面だけにプリント配線板1が形成されてもよい。なお、図4B〜4Lが参照される以下の説明では、ベース板80の他面側についての説明は省略されている。図4B〜4L中のベース板80の他面側の符号も適宜省略されている。
4A to 4L show an example in which the printed
図4Bに示されるように、第1および第2導体ポスト12、13形成用のレジストマスク82が金属膜81上に形成される。レジストマスク82には、第1導体ポスト12形成用の開口82a1と第2導体ポスト形成用の開口82a2とが設けられる。開口82a1は、凹部11c(図1参照)の形成領域に設けられる。レジストマスク82は、たとえば、100μm以上、250μm以下の厚さに形成される。
As shown in FIG. 4B, a resist
レジストマスク82の開口82a1および82a2に、第1導体ポスト12および第2導体ポスト13が、金属膜81をシード層とする銅の電解めっきによりそれぞれ形成される。その後、図4Cに示されるように、レジストマスク82が除去される。第1および第2導体ポスト12、13の端面や側面は、ソフトエッチングなどにより粗化されてもよい。
The
図4Dに示されるように、第1および第2導体ポスト12、13を被覆するように金属膜81上に絶縁層11が形成される。たとえば、フィルム状の樹脂材料を第1および第2導体ポスト12、13上に積層し、加熱および加圧することにより絶縁層11が形成される。絶縁層11の樹脂材料には、たとえば、ガラス繊維などの補強材を含まないエポキシ樹脂、好ましくは、流動性の良好なモールド成形用の樹脂が用いられる。
As shown in FIG. 4D, the insulating
図4Eに示されるように、絶縁層11のベース板80と反対側の表面が、たとえば、バフ研磨などにより研磨される。この研磨は、第1および第2導体ポスト12、13の端面が露出するように行われる。第1および第2導体ポスト12、13それぞれの高さにばらつきがあっても、この研磨により第1および第2導体ポスト12、13それぞれの端面が平坦化される。また、絶縁層11の第1面11Fと、第1および第2導体ポスト12、13の端面とがほぼ面一になる。図4Eまでの工程を経ることにより、ベース板80上に、第1面11Fおよび第1面11Fとは反対面の第2面11Sを有する絶縁層を有する第1回路基板10が形成される。第1回路基板10は、たとえば、100μm以上、250μm以下の厚さに形成される。第1および第2導体ポスト12、13は、第1回路基板10の厚さとほぼ同じ長さ(金属膜81からの高さ)を有している。
As shown in FIG. 4E, the surface of the insulating
図4Fに示されるように、絶縁層11に、ベース板80側と反対側の第1面11Fから枠状の溝10cが形成される。なお、枠状の溝10cは第2面11Sに至っていなくてもよい。すなわち、後述の図4Mで示される第1回路基板10の第2面10Sからの金属膜81の除去の後に、枠状の溝10cが、第1回路基板10の第2面10S側に露出していなくてもよい。枠状の溝10cで囲まれている絶縁層11の部分11aの第1回路基板10からの除去(図4N参照)が可能であればよい。溝10cは、第1回路基板10の開口10aの形成領域10bを囲むように形成される。溝10cは、たとえば、レーザー光の照射により形成される。溝10cはドリル加工などの他の方法で形成されてもよい。
As shown in FIG. 4F, a frame-shaped
図4Gに示されるように、枠状の溝10cおよび絶縁層11の溝10cに囲まれた部分を被覆するように剥離膜83が設けられる。たとえば、フィルム状の固定材84が、枠状の溝10cおよび絶縁層11の溝10cに囲まれた部分を被覆するように絶縁層11上に積層され、固定材84により剥離膜83が固定される。剥離膜83は、絶縁層11の溝10cで囲まれた部分の剥離を容易にする。また、剥離膜83は、固定材84と共に、後述の第1樹脂絶縁層の形成において第1樹脂絶縁層の樹脂材料の溝10cへの侵入を防止する。図4Gに示される例では、枠状の溝10cの外縁10c1内の領域とほぼ同じ大きさの剥離膜83が設けられている。固定材84の一部が溝10c内へ入り込むように、剥離膜83が絶縁層11側にプレスされてもよい。第1樹脂絶縁層21(図4H参照)の樹脂材料の溝10cへの侵入が、より確実に防止され得る。また、剥離膜83は、後述の第1ビア導体22の形成に用いられるレーザー光のストッパとなり得る。剥離膜83としては、金属箔が例示され、好ましくは銅箔が用いられる。
As shown in FIG. 4G, a
固定材84は、剥離膜83と分離可能に密着し、絶縁層11とも良好に密着する材料で構成されている。図4Gに示されるように、固定材84の一部が溝10c内へ入り込んでもよい。溝10c内への第1樹脂絶縁層21の樹脂材料の侵入が確実に防止されると考えられる。固定材84の材料としては、ポリイミド樹脂が例示される。離型剤などに用いられる材料やシリコーンゴムなどが含まれていてもよい。固定材84はペースト状の状態でマスクなどを用いて塗布されてもよい。
The fixing
つぎに、絶縁層11の第1面11F上および剥離膜83上に、第2回路基板20(図4K参照)が形成される。
Next, the second circuit board 20 (see FIG. 4K) is formed on the
図4Hに示されるように、絶縁層11の第1面11F上および剥離膜83上に第1樹脂絶縁層21が形成される。たとえば、ガラス繊維などの補強材21bを含むプリプレグが絶縁層11の第1面11F上および剥離膜83上に積層され、加熱および加圧される。図4Hに示されるように、銅箔26a1が第1樹脂絶縁層21上に積層されてもよい。しかしながら、第1樹脂絶縁層21は、補強材などを含まないフィルム状のエポキシ樹脂などを絶縁層11の第1面11Fおよび剥離膜83上に積層することにより形成されてもよい。
As shown in FIG. 4H, the first
図4Iに示されるように、第1樹脂絶縁層21に、第1ビア導体22、第2ビア導体23と共に導体層26aが形成される。具体的には、たとえば、第1樹脂絶縁層21の第1および第2ビア導体22、23の形成位置に、レーザー光の照射により第1樹脂絶縁層21を貫通する貫通孔22a、23aがそれぞれ形成される。第1および第2導体ポスト12、13の端面ならびに剥離膜83が、レーザー光のストッパとして使用されている。貫通孔22a、23a内、および第1樹脂絶縁層21上(銅箔26a1が積層されている場合は銅箔26a1上)に、無電解めっきやスパッタリングなどにより金属膜(図示せず)が形成される。この金属膜をシード層として、セミアディティブ法により導体層26a、第1および第2ビア導体22、23が形成される。第2ビア導体23は、貫通孔23a内に露出する第1および第2導体ポスト12、13の端面上に形成される。第2ビア導体23は、図4Iに示されるように、第1導体ポスト12または第2導体ポスト13に直接接続されている。図示されていないが、導体層26aは、シード層として用いられた金属膜を含んでいる。導体層26aは銅箔26a1を含んでいてもよい。導体層26aに含まれずに露出する金属膜およびその下の銅箔26a1はエッチングにより除去される。
As shown in FIG. 4I, a
図4Jに示されるように、第1樹脂絶縁層21および導体層26a上に、層間樹脂絶縁層27aが、たとえば、フィルム状の樹脂材料の積層、加熱および加圧により形成される。そして、層間樹脂絶縁層27a上に導体層26bが形成される。また、層間樹脂絶縁層27aを貫通し、導体層26aと導体層26bとを接続する第3ビア導体28aが形成される。導体層26bおよび第3ビア導体28aは、第1樹脂絶縁層21への導体層26a、第1ビア導体22、第2ビア導体23の形成と同じ方法で形成される。
As shown in FIG. 4J, the interlayer
図4Kに示されるように、層間樹脂絶縁層27aおよび導体層26b上に、図4Jに示される方法と同様に、層間樹脂絶縁層27b、導体層26c、層間樹脂絶縁層27c、および導体層26dが順に形成される。また、層間樹脂絶縁層27b、27cをそれぞれ貫通する第3ビア導体28b、28cが形成される。層間樹脂絶縁層27b、27cは、層間樹脂絶縁層27aと同様の方法で、導体層26c、26dは、導体層26bと同様の方法で、第3ビア導体28b、28cは第3ビア導体28aと同様の方法で、それぞれ形成され得る。それにより、第1回路基板10の第1面10F上に第2回路基板20が形成される。
As shown in FIG. 4K, the interlayer
層間樹脂絶縁層27a〜27cは、たとえば、10μm以上、100μm以下の厚さにそれぞれ形成される。導体層26a〜26d、第1および第2ビア導体22、23、ならびに第3ビア導体28a〜28cの材料は特に限定されないが、好ましくは銅が用いられる。導体層26a〜26dは、たとえば、10μm以上、25μm以下の厚さに、それぞれ形成される。
Interlayer
図4Kに示される例では、第2回路基板20の第4面20F上にソルダーレジスト層29が形成される。たとえば、第4面20F上への感光性のエポキシ樹脂層の形成、露光および現像により、開口29aを有するソルダーレジスト層29が形成される。感光性のエポキシ樹脂は無機フィラーを含んでいてもよい。
In the example shown in FIG. 4K, the solder resist
図4Lに示されるように、金属膜81とベース板80とが分離される。たとえば、キャリア銅箔81bと金属膜81とが接合されている余白部の接合箇所が切除されることにより、金属膜81とキャリア銅箔81bとが分離される。熱可塑性の接着剤が用いられている場合は、加熱状態で金属膜81とキャリア銅箔81bとが引き離される。ベース板80との分離により第1回路基板10の第2面10S上に露出する金属膜81がエッチングなどにより除去される。ベース板80および金属膜81の除去により、図4Mに示されるように、枠状の溝10cが、第1回路基板10の第2面10S側に露出する。なお、図4Mおよび図4Nには、図4L中の下側のプリント配線板だけが示されている。金属膜81の除去時のオーバーエッチングにより、第1および第2導体ポスト12、13の第1回路基板10の第2面10S側の端面が、第2面10Sよりも凹んでもよい。金属膜81の薄い膜でも残存すると、第2導体ポスト13間がショートするので、オーバーエッチングされることが好ましい。
As shown in FIG. 4L, the
絶縁層11のうちの枠状の溝10cで囲まれている部分11aが剥離膜83から剥離され、第1回路基板10から除去される。たとえば、溝10cで囲まれている部分11aが、真空吸着や接着などにより治工具などに固定される。この治工具などを引き上げることにより溝10cで囲まれている部分11aが剥離膜83から剥離される。図4Nに示されるように、好ましくは、固定材84も剥離膜83から剥離され、絶縁層11の除去部分11aと共に除去される。第1回路基板10に開口10aが形成される。開口10aに剥離膜83が露出している。
A
図4Oに示されるように、開口10aに露出している剥離膜83が、たとえばエッチングにより除去される。固定材84が剥離膜83上に残存している場合は、好ましくは、剥離膜83と共に固定材84の残存物が除去される。エッチングにより、第1および第2導体ポスト12、13の第1回路基板10の第2面10S側の端面が、第2面10Sよりも凹み得る。第1樹脂絶縁層21に凹み部分21aが形成されている。開口10aおよび凹み部分21aからなるキャビティCが形成されている。キャビティCの底面には、第1ビア導体22の端面が露出し、電子部品の接続パッドが形成されている。第2回路基板20の一部が、電子部品の実装エリアMとして開口10a内に露出している。
As shown in FIG. 4O, the peeling
続いて、図4Oに示されるように、絶縁層11の一部を除去することにより凹部11cが形成される。図1に示される一実施形態のプリント配線板1が完成する。除去はたとえば、第1回路基板10の第2面10S側からのドリル加工によって行われ得る。凹部11cの形成はサンドブラストにより行われてもよい。
Subsequently, as shown in FIG. 4O, the
本実施形態では、図4Oに示されるように、第1導体ポスト12の第1回路基板10の第2面10S側の一部を絶縁層11の一部と共に除去することにより凹部11cの底面に第1導体ポスト12の端面が露出される。露出した端面により第1パッド12aが形成される。凹部11c内に配置される電子部品が第1パッド12aを介して実装され得る。除去される絶縁層11の深さおよび平面視での大きさを調整することにより、凹部11c内に配置される電子部品の厚さや大きさなどに応じた形状の凹部11cが形成され得る。凹部11cは、絶縁層11内に設けられる。すなわち、凹部11cの深さは、絶縁層11の厚さよりも小さい。凹部11cの底面は絶縁層11と凹部11cに露出した第1導体ポスト12の端面とで形成されている。
In the present embodiment, as shown in FIG. 4O, a part of the
凹部11cの形成は、エッチングによる剥離膜83の除去工程の前に行われてもよい。この場合、第1パッド12aが凹部11cの底面に露出された状態で、剥離膜83を除去するためのエッチングが行われる。このため、第1パッド12aは凹部11cの底面から凹み得る。この例が図5に示されている。
The formation of the
4層より少ない導体層を有する第2回路基板20が形成される場合は、導体層26b〜26dおよび層間樹脂絶縁層27a〜27cのいずれか1組または全部の形成が省略される。4層より多い導体層を有する第2回路基板20が形成される場合は、層数に応じて、層間樹脂絶縁層27aおよび導体層26bの形成と同様の方法で、層間樹脂絶縁層および導体層の形成が繰り返される。
When the
埋め込み配線層16がプリント配線板1の第2面10Sに形成されている図2に示される例の場合、たとえば、図4Bに示される工程で、導体ポスト12、13形成用のレジストマスク82とは別のレジストマスクを用いることにより、埋め込み配線層16が形成され得る。すなわち、レジストマスク82の形成前に、埋め込み配線層16形成用のレジストマスク(図示せず)が金属膜81上に形成される。この埋め込み配線層16形成用のレジストマスクの導体ポスト13の形成位置に対応する位置に、第2パッド13b形成用の開口が設けられる。第2パッド13b形成用の開口は、導体ポスト13形成用の開口82a2よりも大きく形成される。埋め込み配線層16形成用のレジストマスクの開口内に、導電体層16aが、金属膜81をシード層とする銅の電解めっきにより形成される。レジストマスク82が、この導電体層16a上に開口82a2を有するように形成される。埋め込み配線層16形成用のレジストマスクは、レジストマスク82の形成前に除去されてもよい。あるいは、埋め込み配線層16形成用のレジストマスクの除去は、レジストマスク82の除去(図4C参照)と同時に行われてもよい。第2導体ポスト13が、埋め込み配線層16を形成する導電体層16aをシード層として銅の電解めっきにより開口82a2内に形成される。
In the example shown in FIG. 2 in which the embedded
レジストマスク82の除去後、図4Dに示される工程と同様の方法で、導電体層16aが、導体ポスト12、13と共に絶縁層11によって周囲を覆われる。埋め込み配線層16が形成される。埋め込み配線層16の第2面10S側の露出面は、前述の図4Oに示される工程における剥離膜83のエッチングによる除去によって、第2面10Sよりも凹み得る。図2にはこの例が示されている。
After the resist
図6は、一実施形態のプリント配線板1のキャビティCの内壁形状の変形例を示している。図1において一点鎖線で囲まれているV部の変形例が拡大して示されている。キャビティCの内壁のうちの第1樹脂絶縁層21内の部分は、第1回路基板10内の部分よりも凹んでいる。すなわち、平面視において、第1樹脂絶縁層21の凹み部分21aは第1回路基板10の開口10aよりも大きく形成されている。第1回路基板10と第2回路基板20との熱膨張率の違いなどにより生じ得る応力が、コーナー部C1〜C3に分散されると考えられる。
FIG. 6 shows a modification of the inner wall shape of the cavity C of the printed
キャビティCの内壁の第1樹脂絶縁層21内の部分の凹みは、たとえば、図7に示されるように、枠状の溝10cに囲まれる部分よりも大きい剥離膜83aを用いることにより形成され得る。図7には、前述の図4Hに示される工程中のプリント配線板の剥離膜の周辺部分が拡大して示されている。剥離膜83aは、枠状の溝10cの左右それぞれの溝の外側まで達するように設けられている。固定材84も剥離膜83aの大きさに応じた範囲に積層されている。図7に示される状態から、絶縁層11の溝10cに囲まれた部分11aと、固定材84および剥離膜83aとが、前述の方法と同様の方法で除去される。溝10cよりも外側の剥離膜83aおよび固定材84の除去部分がキャビティCの内壁の凹みとなり得る。
The recess in the portion of the inner wall of the cavity C in the first
なお、一実施形態のプリント配線板1では、凹部11cの底面に第1導体ポスト12の端面が露出しているが、凹部11cの底面は、絶縁層11だけで形成されていてもよい。すなわち、図8に示されるように、凹部11cと平面視で重なる位置に、絶縁層11を貫通する導体ポストが形成されていなくてもよい。その場合でも、凹部11c内に電子部品が実装されてもよい。たとえば、第1回路基板10の第2面10S側を電極部分が向くように、電子部品が凹部11c内に接着剤などで実装され得る。そして、第2面10S側を向く電極部分と、外部の配線板や電子部品とが接続されてもよい。
In the printed
1 プリント配線板
10 第1回路基板
10F 第1面
10S 第2面
10a 開口
10c 枠状の溝
11 絶縁層
11F 第1面
11S 第2面
11c 凹部
12 第1導体ポスト
12a 第1パッド
13 第2導体ポスト
13a 第2パッド
20 第2回路基板
20T 第3面
20F 第4面
21 第1樹脂絶縁層
22 第1ビア導体
23 第2ビア導体
25 ビルドアップ配線層
26a〜26d 導体層
26d1 第3パッド
27a〜27c 層間樹脂絶縁層
28a〜28c 第3ビア導体
29 ソルダーレジスト層
80 ベース板
81 金属膜
82 レジストマスク
83 剥離膜
84 固定材
M 実装エリア
C キャビティ
DESCRIPTION OF
Claims (15)
第3面および前記第3面と反対側の第4面を有すると共に、前記第3面に電子部品の実装エリアを有し、前記第1回路基板の第1面上に積層されていて、前記第1回路基板の前記開口内に前記実装エリアを露出する第2回路基板と、
を備えるプリント配線板であって、
前記第1回路基板の第2面に凹部が形成されている。 A first circuit board having an opening in a central portion of an insulating layer having a first surface and a second surface opposite to the first surface;
A third surface and a fourth surface opposite to the third surface, and an electronic component mounting area on the third surface, stacked on the first surface of the first circuit board, A second circuit board exposing the mounting area in the opening of the first circuit board;
A printed wiring board comprising:
A recess is formed in the second surface of the first circuit board.
前記絶縁層の前記ベース板側と反対側の第1面から枠状の溝を形成することと、
前記枠状の溝および前記溝に囲まれた前記絶縁層を被覆するように剥離膜を設けることと、
前記絶縁層の第1面上および前記剥離膜上に第2回路基板を形成することと、
前記ベース板を除去することと、
前記絶縁層の前記ベース板から剥離された面側に前記枠状の溝を露出させることと、
前記絶縁層のうちの前記溝で囲まれている部分を剥離することにより開口を形成することと、
前記剥離膜を除去することにより前記第2回路基板の一部を実装エリアとして前記開口内に露出させることと、
前記絶縁層の一部を除去することにより凹部を形成することと、
を含むプリント配線板の製造方法。 An insulating layer having a first surface and a second surface opposite to the first surface, and first and second conductor posts penetrating the first surface and the second surface of the insulating layer are provided on the base plate. Forming a first circuit board;
Forming a frame-shaped groove from the first surface opposite to the base plate side of the insulating layer;
Providing a release film so as to cover the frame-shaped groove and the insulating layer surrounded by the groove;
Forming a second circuit board on the first surface of the insulating layer and on the release film;
Removing the base plate;
Exposing the frame-like groove on the surface side of the insulating layer peeled from the base plate;
Forming an opening by peeling a portion of the insulating layer surrounded by the groove;
Removing a part of the second circuit board as a mounting area by removing the release film; and
Forming a recess by removing a portion of the insulating layer;
A method of manufacturing a printed wiring board including:
前記ベース板上に金属膜を設けることと、
前記金属膜上に前記第1および第2導体ポストを形成することと、
前記第1および第2導体ポストを被覆するように前記金属膜上に前記絶縁層を形成することと、
前記絶縁層の表面を研磨して前記第1および第2導体ポストの端面を平坦化することと、
をさらに含んでいる。 12. The method of manufacturing a printed wiring board according to claim 11, wherein the first circuit board is formed.
Providing a metal film on the base plate;
Forming the first and second conductor posts on the metal film;
Forming the insulating layer on the metal film so as to cover the first and second conductor posts;
Polishing the surface of the insulating layer to flatten the end faces of the first and second conductor posts;
In addition.
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JP2019029635A (en) * | 2017-07-26 | 2019-02-21 | サムソン エレクトロ−メカニックス カンパニーリミテッド. | Rigid flexible printed circuit board and manufacturing method thereof |
US11903129B2 (en) | 2021-11-09 | 2024-02-13 | Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. | Printed circuit board |
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