JP2017065053A - Conductive laminate - Google Patents

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conductive
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直樹 今津
Naoki Imazu
直樹 今津
大井 亮
Akira Oi
亮 大井
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a conductive laminate having excellent stability of a resistance value in a high-temperature humidified environment.SOLUTION: The conductive laminate has a conductive layer comprising carbon nanotube on at least one surface of a substrate and satisfies the following conditions (1) and (2). (1) A surface resistance value ratio [B]/[A], where [A] is a surface resistance value before a high-temperature humidification test (at 85°C and 85% relative humidity for 500 hours) is carried out and [B] is a surface resistance value after the high-temperature humidification test, is 1.40 or less. (2) A haze difference [D]-[C], where [C] is a haze before a high-temperature humidification test (at 85°C and 85% relative humidity for 500 hours) is carried out and [D] is a haze after the high-temperature humidification test, is 0.1 or more and 5.0 or less.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、導電積層体に関する。より詳細には、高温高湿度下での抵抗値安定性および外観に優れた導電積層体に関する。   The present invention relates to a conductive laminate. More specifically, the present invention relates to a conductive laminate excellent in resistance value stability and appearance under high temperature and high humidity.

従来より、抵抗膜式、静電容量式などのタッチパネル用途、電子ペーパー用途、デジタルサイネージ用途などの実に様々な製品に導電積層体が用いられてきた。導電性を発現させるための導電材料としては、インジウム錫酸化物(以下、ITO)や銀ナノワイヤー(以下、AgNW)、カーボンナノチューブ(以下、CNT)、導電性高分子などが用いられている。   Conventionally, conductive laminates have been used for various products such as touch panel applications such as resistive film type and capacitance type, electronic paper applications, and digital signage applications. Indium tin oxide (hereinafter referred to as ITO), silver nanowires (hereinafter referred to as AgNW), carbon nanotubes (hereinafter referred to as CNT), conductive polymers, and the like are used as a conductive material for developing conductivity.

CNTは、それ自体が優れた真性の導電性を有し、また熱や湿度に対して安定であることから、導電材料として使用されることが期待されている。CNTは実質的にグラファイトの1枚面を巻いて筒状にした形状を有しており、1層に巻いたものを単層CNT、多層に巻いたものを多層CNT、中でも特に2層に巻いたものを2層CNTという。   CNTs are expected to be used as conductive materials because they themselves have excellent intrinsic conductivity and are stable against heat and humidity. The CNT has a substantially cylindrical shape by winding one surface of graphite, and a single-layer CNT is wound in one layer, a multi-layer CNT is wound in multiple layers, especially two layers. This was called double-walled CNT.

例えば特許文献1には、カーボンナノチューブ層を形成した後、水洗してイオン性分散剤であるドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムを除去した例が記載されている。   For example, Patent Document 1 describes an example in which a carbon nanotube layer is formed and then washed with water to remove sodium dodecylbenzenesulfonate as an ionic dispersant.

また、特許文献2には、カーボンナノチューブ層を形成した後、離間した層としてポリチオフェンを含む導電積層体の例が記載されている。   Patent Document 2 describes an example of a conductive laminate including polythiophene as a separated layer after forming a carbon nanotube layer.

特許第5409094号Patent No. 5409094 特許第5554552号Japanese Patent No. 5554552

しかしながら、特許文献1においては、水洗により十分に基材上のイオン性分散剤を除去したという記載はあるが、高温加湿に対する抵抗値安定性の具体的記述が見られない。   However, in Patent Document 1, there is a description that the ionic dispersant on the substrate is sufficiently removed by washing with water, but there is no specific description of resistance value stability against high temperature humidification.

特許文献2においては、高温多湿な環境に置かれた際に電気的特性の変化が大きい導電ポリマーポリチオフェンを用いており、高温湿度に対する抵抗値安定性に関する具体的記述が見られない。   In Patent Document 2, a conductive polymer polythiophene having a large change in electrical characteristics when placed in a high-temperature and high-humidity environment is used, and no specific description regarding resistance value stability to high-temperature and humidity is found.

本発明は、前記問題・状況に鑑みてなされたものであり、その課題は、高温高湿度下での抵抗値安定性および外観に優れた導電積層体を提供することである。   This invention is made | formed in view of the said problem and the situation, The subject is providing the conductive laminated body excellent in resistance value stability and external appearance under high temperature, high humidity.

本発明は以下の導電積層体を提供する。   The present invention provides the following conductive laminate.

基材の少なくとも片面に、カーボンナノチューブを含む導電層を有する導電積層体であって、以下の(1)および(2)を満たす導電積層体。
(1)高温加湿試験(85℃、相対湿度85%、500時間)実施前の表面抵抗値を[A]、高温加湿試験実施後の表面抵抗値を[B]とした際の表面抵抗値の比[B]/[A]が1.40以下である。
(2)高温加湿試験(85℃、相対湿度85%、500時間)実施前のヘイズを[C]、高温加湿試験実施後のヘイズを[D]とした際のヘイズの差[D]−[C]が0.1以上、5.0以下である。
A conductive laminate having a conductive layer containing carbon nanotubes on at least one surface of a substrate, the conductive laminate satisfying the following (1) and (2).
(1) Surface resistance value when [A] is the surface resistance value before the high temperature humidification test (85 ° C., 85% relative humidity, 500 hours) and [B] is the surface resistance value after the high temperature humidification test is performed. The ratio [B] / [A] is 1.40 or less.
(2) Haze difference [D] − [H] before the high temperature humidification test (85 ° C., relative humidity 85%, 500 hours) is [C] and haze after the high temperature humidification test is [D]. C] is 0.1 or more and 5.0 or less.

本発明によれば、高温高湿度下での抵抗値安定性および外観に優れる導電積層体を提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide a conductive laminate excellent in resistance value stability and appearance under high temperature and high humidity.

本発明における導電積層体の一例を示す断面概略図である。It is a section schematic diagram showing an example of a conductive layered product in the present invention.

基材の少なくとも片面に、カーボンナノチューブを含む導電層を有する導電積層体であって、以下の(1)および(2)を満たす導電積層体に関するものである。
(1)高温加湿試験(85℃、相対湿度85%、500時間)実施前の表面抵抗値を[A]、高温加湿試験実施後の表面抵抗値を[B]とした際の表面抵抗値の比[B]/[A]が1.40以下である。
(2)高温加湿試験(85℃、相対湿度85%、500時間)実施前のヘイズを[C]、高温加湿試験実施後のヘイズを[D]とした際のヘイズの差[D]−[C]が0.1以上、5.0以下である。
The present invention relates to a conductive laminate having a conductive layer containing carbon nanotubes on at least one surface of a base material and satisfying the following (1) and (2).
(1) Surface resistance value when [A] is the surface resistance value before the high temperature humidification test (85 ° C., 85% relative humidity, 500 hours) and [B] is the surface resistance value after the high temperature humidification test is performed. The ratio [B] / [A] is 1.40 or less.
(2) Haze difference [D] − [H] before the high temperature humidification test (85 ° C., relative humidity 85%, 500 hours) is [C] and haze after the high temperature humidification test is [D]. C] is 0.1 or more and 5.0 or less.

本発明の導電積層体は、かかる構成を有することにより、導電積層体を電子デバイスに用いた場合、デバイスの高温加湿度下での抵抗値安定性および外観を向上させることができる。   By having such a configuration, the conductive laminate of the present invention can improve resistance value stability and appearance under high-temperature humidification of the device when the conductive laminate is used in an electronic device.

[導電積層体]
本発明の導電積層体は基材とカーボンナノチューブを含む導電層とを少なくとも含む。すなわち、基材の少なくとも片面に、カーボンナノチューブを含む導電層を有する導電積層体であって、以下の(1)および(2)を満たす導電積層体である。
(1)高温加湿試験(85℃、相対湿度85%、500時間)実施前の表面抵抗値を[A]、高温加湿試験実施後の表面抵抗値を[B]とした際の表面抵抗値の比[B]/[A]が1.40以下である。
(2)高温加湿試験(85℃、相対湿度85%、500時間)実施前のヘイズを[C]、高温加湿試験実施後のヘイズを[D]とした際のヘイズの差[D]−[C]が0.1以上、5.0以下である。
[Conductive laminate]
The conductive laminate of the present invention includes at least a base material and a conductive layer containing carbon nanotubes. That is, it is a conductive laminate having a conductive layer containing carbon nanotubes on at least one surface of the substrate, and satisfying the following (1) and (2).
(1) Surface resistance value when [A] is the surface resistance value before the high temperature humidification test (85 ° C., 85% relative humidity, 500 hours) and [B] is the surface resistance value after the high temperature humidification test is performed. The ratio [B] / [A] is 1.40 or less.
(2) Haze difference [D] − [H] before the high temperature humidification test (85 ° C., relative humidity 85%, 500 hours) is [C] and haze after the high temperature humidification test is [D]. C] is 0.1 or more and 5.0 or less.

高温加湿試験後の表面抵抗値の比[B]/[A]が1.40以下、およびヘイズの差[D]−[C]が0.1以上、5.0以下であることにより、タッチパネルやタッチスイッチなどに使用した際、抵抗値安定性および外観良好であるため好ましい。   The ratio [B] / [A] of the surface resistance value after the high-temperature humidification test is 1.40 or less, and the difference [D]-[C] in the haze is 0.1 or more and 5.0 or less, whereby the touch panel When it is used for a touch switch or the like, the resistance value stability and the appearance are good, which is preferable.

また、層間密着性向上や信頼性向上のため必要に応じて基材と導電層との間にアンダーコート層や導電層の上にオーバーコート層などの機能層を設けてもよい。   Moreover, you may provide functional layers, such as an overcoat layer, on an undercoat layer or a conductive layer between a base material and a conductive layer as needed for an interlayer adhesive improvement or a reliability improvement.

[基材]
本発明に用いられる基材としては、高温加湿試験(85℃、相対湿度85%、500時間)実施前のヘイズを[E]、高温加湿試験実施後のヘイズを[F]とした際のヘイズの差[F]−[E]が0.1以上、5.0以下であることが好ましい。
[Base material]
As a base material used for this invention, the haze before a high temperature humidification test (85 degreeC, relative humidity 85%, 500 hours) implementation is [E], and the haze after implementation of a high temperature humidification test is [F]. The difference [F]-[E] is preferably 0.1 or more and 5.0 or less.

例えば、基材の素材としてはポリエチレンテレフタレート(PET)樹脂、ポリエチレンナフタレート(PEN)などのポリエステル樹脂、ポリカーボネート(PC)樹脂、ポリメチルメタクリレート(PMMA)樹脂、ポリイミド樹脂、ポリフェニレンスルフィド樹脂、アラミド樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリ乳酸樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリメタクリル酸メチル樹脂、脂環式アクリル樹脂、シクロオレフィン樹脂、トリアセチルセルロース樹脂などを用いることができる。   For example, as a material of the base material, polyester resin such as polyethylene terephthalate (PET) resin, polyethylene naphthalate (PEN), polycarbonate (PC) resin, polymethyl methacrylate (PMMA) resin, polyimide resin, polyphenylene sulfide resin, aramid resin, Polypropylene resin, polyethylene resin, polylactic acid resin, polyvinyl chloride resin, polymethyl methacrylate resin, alicyclic acrylic resin, cycloolefin resin, triacetyl cellulose resin, and the like can be used.

本発明に用いられる基材は、ガラス転移点が85℃以上であることが好ましい。ヘイズ上昇の観点より、ポリカーボネート樹脂を含むことが最も好ましい。基材はポリカーボネート(PC)樹脂のみからなるものであってもよいし、ポリカーボネート(PC)樹脂とその他の樹脂を含むものであってもよい。   The substrate used in the present invention preferably has a glass transition point of 85 ° C. or higher. From the viewpoint of increasing haze, it is most preferable to include a polycarbonate resin. The base material may be made only of polycarbonate (PC) resin, or may contain polycarbonate (PC) resin and other resins.

また、これらの複数の基材を組み合わせて用いることもできる。例えば、樹脂とガラスを組み合わせた基材、2種以上の樹脂を積層した基材などの複合基材であってもよい。ガラスとしては、通常のソーダガラスを用いることができる。   Moreover, these several base materials can also be used in combination. For example, a composite substrate such as a substrate in which a resin and glass are combined and a substrate in which two or more kinds of resins are laminated may be used. As the glass, ordinary soda glass can be used.

基材の種類は前記に限定されることはなく、用途に応じて耐久性やコスト等から最適なものを選ぶことができる。基材の厚みは特に限定されるものではないが、タッチパネル、液晶ディスプレイ、有機エレクトロルミネッセンス、電子ペーパーなどのディスプレイ関連の電極に用いる場合、10μm〜1,000μmの間にあることが好ましい。   The type of the substrate is not limited to the above, and an optimal one can be selected from the durability, cost, etc. according to the application. Although the thickness of a base material is not specifically limited, When using for electrodes related to displays, such as a touch panel, a liquid crystal display, organic electroluminescence, and electronic paper, it is preferable that it is between 10 micrometers-1,000 micrometers.

基材には、必要に応じてハードコート層などの各種機能性層を付与することもできる。ハードコート層は基材を挟んで導電層が設けられている側とは反対側の最表層に設けることができる。ハードコート層は主に表面強度や防汚性、耐指紋性などを向上する為に設けられ、さらに表面に微細な凹凸を形成し防眩性を付与することもできる。ハードコート層としては、硬化した際の透明性、硬度などの特性が優れる点から熱硬化型、紫外線硬化型のアクリル系樹脂が好適に用いられる。この場合のハードコート層は基材の一部と見なす。   Various functional layers, such as a hard-coat layer, can also be provided to a base material as needed. The hard coat layer can be provided on the outermost layer on the side opposite to the side where the conductive layer is provided with the substrate interposed therebetween. The hard coat layer is provided mainly for improving the surface strength, antifouling property, fingerprint resistance and the like, and can further impart antiglare property by forming fine irregularities on the surface. As the hard coat layer, a thermosetting acrylic resin or an ultraviolet curable acrylic resin is preferably used from the viewpoint of excellent properties such as transparency and hardness when cured. In this case, the hard coat layer is regarded as a part of the substrate.

[導電層]
本発明における「導電層」とは、後述するカーボンナノチューブを含む層のことをいい、後述するアンダーコート層が有る場合はアンダーコート層も導電層に含む。さらに後述するオーバーコート層がある場合はオーバーコート層も導電層に含む。本発明において導電層の厚みは20nm以上2,000nm以下が好ましい。導電性や耐候性の観点から、50nm以上1,500nm以下がより好ましく、100nm以上1,000nm以下がさらに好ましい。
[Conductive layer]
The “conductive layer” in the present invention refers to a layer containing carbon nanotubes to be described later. When there is an undercoat layer to be described later, the undercoat layer is also included in the conductive layer. Furthermore, when there is an overcoat layer described later, the overcoat layer is also included in the conductive layer. In the present invention, the thickness of the conductive layer is preferably 20 nm or more and 2,000 nm or less. From the viewpoint of conductivity and weather resistance, it is more preferably from 50 nm to 1,500 nm, and further preferably from 100 nm to 1,000 nm.

また、本発明の導電層は高温加湿下での基材からのオリゴマー析出を抑制し、ヘイズ値上昇を抑制できる観点から、鉛筆硬度がH〜9Hであることが好ましい。   Moreover, it is preferable that pencil hardness is H-9H from a viewpoint that the conductive layer of this invention can suppress oligomer precipitation from the base material under high temperature humidification, and can suppress a haze value raise.

[導電層の作製方法]
本発明において、例えば導電層は基材上にカーボンナノチューブを含む層を積層形成することで作製される。また、基材上にアンダーコート層を形成した後にカーボンナノチューブを含む層を積層形成してもよい。また、カーボンナノチューブを含む層を形成した後にオーバーコート層をさらに積層形成してもよい。なお、オーバーコート層はカーボンナノチューブを含む層およびアンダーコート層に浸透し、混合した状態で層を形成する場合があるため、カーボンナノチューブを含む層とアンダーコート層とオーバーコート層に明確な界面が存在しない場合がある。
[Method for producing conductive layer]
In the present invention, for example, the conductive layer is produced by laminating a layer containing carbon nanotubes on a substrate. Alternatively, a layer containing carbon nanotubes may be formed after the undercoat layer is formed on the substrate. Further, an overcoat layer may be further laminated after forming a layer containing carbon nanotubes. Since the overcoat layer may penetrate into the carbon nanotube-containing layer and the undercoat layer and form a layer in a mixed state, there is a clear interface between the carbon nanotube-containing layer, the undercoat layer, and the overcoat layer. May not exist.

[カーボンナノチューブ]
本発明において用いられるカーボンナノチューブは、実質的にグラファイトの1枚面を巻いて筒状にした形状を有するものであれば特に限定されず、グラファイトの1枚面を1層に巻いた単層カーボンナノチューブ、多層に巻いた多層カーボンナノチューブいずれも適用できるが、中でもグラファイトの1枚面を2層に巻いた2層カーボンナノチューブが100本中に50本以上含まれているカーボンナノチューブであると、導電性ならびに塗布用分散液中でのカーボンナノチューブの分散性が極めて高くなることから好ましい。さらに好ましくは100本中75本以上が2層カーボンナノチューブ、最も好ましくは100本中80本以上が2層カーボンナノチューブである。なお、2層カーボンナノチューブが100本中に50本含まれていることを、2層カーボンナノチューブの割合が50%と表示することもある。また、2層カーボンナノチューブは酸処理などによって表面が官能基化された場合でも導電性などの本来の機能が損なわれ難い点からも好ましい。
[carbon nanotube]
The carbon nanotube used in the present invention is not particularly limited as long as it has a shape obtained by winding one surface of graphite into a cylindrical shape. Single-wall carbon in which one surface of graphite is wound in one layer. Both nanotubes and multi-walled carbon nanotubes wound in multiple layers can be used, but in particular, carbon nanotubes in which 50 or more double-walled carbon nanotubes in which one surface of graphite is wound in two layers are contained in 100 are conductive. And the dispersibility of the carbon nanotubes in the coating dispersion is extremely high. More preferably, 75 or more of 100 are double-walled carbon nanotubes, and most preferably 80 or more of 100 are double-walled carbon nanotubes. In addition, the fact that 50 of the double-walled carbon nanotubes are contained in 100 may be expressed as 50% of the double-walled carbon nanotubes. In addition, the double-walled carbon nanotube is preferable from the viewpoint that the original functions such as conductivity are not impaired even when the surface is functionalized by acid treatment or the like.

カーボンナノチューブは、例えば次のように製造される。マグネシアに鉄を担持した粉末状の触媒を、縦型反応器中、反応器の水平断面方向全面に存在させ、該反応器内にメタンを鉛直方向に供給し、メタンと前記触媒を500〜1,200℃で接触させ、カーボンナノチューブを製造した後、カーボンナノチューブを酸化処理することにより、単層〜5層のカーボンナノチューブを含有するカーボンナノチューブを得ることができる。カーボンナノチューブは、製造した後、酸化処理を施すことにより単層〜5層の割合を、特に2層〜5層の割合を増加させることができる。酸化処理は例えば、硝酸処理する方法により行われる。硝酸はカーボンナノチューブに対するドーパントとしても作用するため、好ましい。ドーパントとは、カーボンナノチューブに余剰の電子を与える、または電子を奪ってホールを形成する作用をなすものであり、自由に動くことのできるキャリアを生じさせることにより、カーボンナノチューブの導電性を向上させるものである。硝酸処理に当たっての条件は本発明のカーボンナノチューブが得られる限り、特に限定されないが、通常、140℃のオイルバス中で行われる。硝酸処理の時間は特に限定されないが、5時間〜50時間の範囲であることが好ましい。   For example, the carbon nanotube is manufactured as follows. A powdery catalyst in which iron is supported on magnesia is present in the entire horizontal cross-sectional direction of the reactor in a vertical reactor, and methane is supplied in the vertical direction into the reactor. The carbon nanotubes containing single- to five-layer carbon nanotubes can be obtained by contacting the carbon nanotubes at 200 ° C. to produce carbon nanotubes and then oxidizing the carbon nanotubes. Carbon nanotubes can be oxidized and then subjected to an oxidation treatment to increase the ratio of single to 5 layers, particularly the ratio of 2 to 5 layers. The oxidation treatment is performed, for example, by a nitric acid treatment method. Nitric acid is preferable because it also acts as a dopant for the carbon nanotubes. A dopant is a substance that gives a surplus electron to a carbon nanotube or takes away an electron to form a hole, and improves the conductivity of the carbon nanotube by generating a carrier that can move freely. Is. The conditions for the nitric acid treatment are not particularly limited as long as the carbon nanotubes of the present invention can be obtained, but are usually performed in an oil bath at 140 ° C. Although the nitric acid treatment time is not particularly limited, it is preferably in the range of 5 hours to 50 hours.

[アンダーコート層]
本発明においては、前記基材と前記導電層との間にアンダーコート層を有することが好ましい(以下、アンダーコート層を形成することをアンダーコート処理と記載することもある)。アンダーコート処理を行うことにより、高温加湿試験時に基材中より発生するオリゴマーの量を抑制することができ、その結果、カーボンナノチューブ層のネットワークが破壊されず、表面抵抗値およびヘイズの変化が小さいため好ましい。アンダーコート処理に用いる材料としては有機材料、無機材料、または有機材料/無機材料混合系を用いることができる。ここで、硬度が高くオリゴマー析出を抑制できる点より、アンダーコート層の鉛筆硬度がH〜9Hであることが好ましい。
[Undercoat layer]
In this invention, it is preferable to have an undercoat layer between the said base material and the said conductive layer (Hereinafter, forming an undercoat layer may be described as an undercoat process.). By performing the undercoat treatment, it is possible to suppress the amount of oligomer generated from the base material during the high-temperature humidification test. As a result, the network of the carbon nanotube layer is not destroyed, and the change in the surface resistance value and haze is small. Therefore, it is preferable. As a material used for the undercoat treatment, an organic material, an inorganic material, or an organic material / inorganic material mixed system can be used. Here, it is preferable that the pencil hardness of the undercoat layer is H to 9H from the viewpoint that the hardness is high and oligomer precipitation can be suppressed.

無機材料としては、例えばシリカ、コロイダルシリカ、アルミナ、セリア、カオリン、タルク、マイカ、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、カーボンブラック、ゼオライト、酸化チタン、各種金属酸化物からなるものが好ましい。アンダーコート層に含まれる有機材料とは、共有結合を有し、2種類以上の原子からなる分子が最小単位となる有機化合物である。有機材料としては、例えばフェノール、シリコン、ナイロン、ポリエチレン、ポリエステル、オレフィン、ビニル、アクリル、セルロース、およびウレタンアクリレートなどが好ましい。ヘイズ上昇の観点より、ポリカーボネート樹脂であることが最も好ましい。   As the inorganic material, for example, those composed of silica, colloidal silica, alumina, ceria, kaolin, talc, mica, calcium carbonate, barium sulfate, carbon black, zeolite, titanium oxide, and various metal oxides are preferable. The organic material contained in the undercoat layer is an organic compound having a covalent bond and having a molecule composed of two or more types of atoms as a minimum unit. As the organic material, for example, phenol, silicon, nylon, polyethylene, polyester, olefin, vinyl, acrylic, cellulose, urethane acrylate, and the like are preferable. From the viewpoint of increasing haze, a polycarbonate resin is most preferable.

本発明において、オーバーコート処理を行う方法は特に限定されない。既知の湿式コーティング方法、例えば吹き付け塗装、浸漬コーティング、スピンコーティング、ナイフコーティング、キスコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティング、スロットダイコーティング、バーコーティング、スクリーン印刷、インクジェット印刷、パット印刷、他の種類の印刷などが利用できる。また、乾式コーティング方法を用いてもよい。乾式コーティング方法としては、スパッタリング、蒸着などの物理気相成長や化学気相成長などが利用できる。またオーバーコート処理を行う操作は、複数回に分けて行ってもよく、異なる2種類の方法を組み合わせてもよい。好ましい方法は、湿式コーティングであるグラビアコーティング、バーコーティング、およびスロットダイコーティングである。   In the present invention, the method for performing the overcoat treatment is not particularly limited. Known wet coating methods such as spray coating, dip coating, spin coating, knife coating, kiss coating, roll coating, gravure coating, slot die coating, bar coating, screen printing, inkjet printing, pad printing, other types of printing, etc. Is available. Further, a dry coating method may be used. As the dry coating method, physical vapor deposition such as sputtering or vapor deposition, chemical vapor deposition, or the like can be used. The operation for performing the overcoat treatment may be performed in a plurality of times, or two different methods may be combined. Preferred methods are wet coatings such as gravure coating, bar coating, and slot die coating.

[オーバーコート層]
本発明においては導電層の上にオーバーコート層を有することが好ましい。オーバーコート層を導電層の上に形成することにより、高温加湿試験時に基材中より発生するオリゴマーの量を抑制することができ、その結果、カーボンナノチューブ層のネットワークが破壊されず、表面抵抗値およびヘイズの変化が小さいため好ましい。オーバーコート層に用いる材料としては有機材料、無機材料、または有機材料/無機材料混合系を用いることができる。ここで、硬度が高くオリゴマー析出を抑制できる点より、オーバーコート層の鉛筆硬度がH〜9Hであることが好ましい。
[Overcoat layer]
In the present invention, it is preferable to have an overcoat layer on the conductive layer. By forming the overcoat layer on the conductive layer, the amount of oligomer generated from the substrate during the high-temperature humidification test can be suppressed. As a result, the network of the carbon nanotube layer is not destroyed and the surface resistance value is reduced. And a change in haze is small, which is preferable. As a material used for the overcoat layer, an organic material, an inorganic material, or an organic material / inorganic material mixed system can be used. Here, it is preferable that the pencil hardness of the overcoat layer is H to 9H because the hardness is high and oligomer precipitation can be suppressed.

無機材料は特に限定されないが、例えばシリカ、コロイダルシリカ、アルミナ、セリア、カオリン、タルク、マイカ、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、カーボンブラック、ゼオライト、酸化チタン、各種金属酸化物からなるものが好ましい。この中で、塗布性の観点よりシリカおよびコロイダルシリカが最も好ましい。   The inorganic material is not particularly limited, but for example, those composed of silica, colloidal silica, alumina, ceria, kaolin, talc, mica, calcium carbonate, barium sulfate, carbon black, zeolite, titanium oxide, and various metal oxides are preferable. Among these, silica and colloidal silica are most preferable from the viewpoint of applicability.

オーバーコート層に含まれる有機材料とは、共有結合を有し、2種類以上の原子からなる分子が最小単位となる有機化合物である。有機材料は特に限定されないが、例えばフェノール樹脂、シリコン樹脂、ナイロン樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリエステル樹脂、オレフィン樹脂、ビニル樹脂、アクリル樹脂、セルロース樹脂、およびウレタンアクリレート樹脂が好ましい。この中で、硬化度の観点よりアクリル樹脂が最も好ましい。   The organic material contained in the overcoat layer is an organic compound having a covalent bond and having a molecule composed of two or more types of atoms as a minimum unit. The organic material is not particularly limited, but for example, phenol resin, silicon resin, nylon resin, polyethylene resin, polyester resin, olefin resin, vinyl resin, acrylic resin, cellulose resin, and urethane acrylate resin are preferable. Among these, an acrylic resin is most preferable from the viewpoint of the degree of curing.

有機材料/無機材料混合系としては、上記無機材料と有機材料の混合形を用いることができる。この中で、相溶性の観点より、コロイダルシリカ/ポリエステル樹脂およびコロイダルシリカ/アクリル樹脂が最も好ましい。   As the organic material / inorganic material mixed system, a mixed form of the inorganic material and the organic material can be used. Among these, colloidal silica / polyester resin and colloidal silica / acrylic resin are most preferable from the viewpoint of compatibility.

[アンダーコート層形成工程]
本発明において、樹脂組成物を含むオーバーコート層を形成する方法は特に限定されない。既知の湿式コーティング方法、例えば吹き付け塗装、浸漬コーティング、スピンコーティング、ナイフコーティング、キスコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティング、スロットダイコーティング、バーコーティング、スクリーン印刷、インクジェット印刷、パット印刷、他の種類の印刷などが利用できる。また、乾式コーティング方法を用いてもよい。乾式コーティング方法としては、スパッタリング、蒸着などの物理気相成長や化学気相成長などが利用できる。またオーバーコート処理を行う操作は、複数回に分けて行ってもよく、異なる2種類の方法を組み合わせてもよい。好ましい方法は、湿式コーティングであるグラビアコーティング、バーコーティングおよびスロットダイコーティングである。樹脂組成物を含むオーバーコートの塗布量は、オーバーコート溶液の固形分濃度およびオーバーコート溶液塗布時のウェット厚みを調整することで制御することができる。
[Undercoat layer formation process]
In the present invention, the method for forming the overcoat layer containing the resin composition is not particularly limited. Known wet coating methods such as spray coating, dip coating, spin coating, knife coating, kiss coating, roll coating, gravure coating, slot die coating, bar coating, screen printing, inkjet printing, pad printing, other types of printing, etc. Is available. Further, a dry coating method may be used. As the dry coating method, physical vapor deposition such as sputtering or vapor deposition, chemical vapor deposition, or the like can be used. The operation for performing the overcoat treatment may be performed in a plurality of times, or two different methods may be combined. Preferred methods are wet coatings such as gravure coating, bar coating and slot die coating. The coating amount of the overcoat containing the resin composition can be controlled by adjusting the solid content concentration of the overcoat solution and the wet thickness when the overcoat solution is applied.

[オーバーコート層形成工程]
本発明において、樹脂組成物を含むオーバーコート層を形成する方法は特に限定されない。既知の湿式コーティング方法、例えば吹き付け塗装、浸漬コーティング、スピンコーティング、ナイフコーティング、キスコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティング、スロットダイコーティング、バーコーティング、スクリーン印刷、インクジェット印刷、パット印刷、他の種類の印刷などが利用できる。また、乾式コーティング方法を用いてもよい。乾式コーティング方法としては、スパッタリング、蒸着などの物理気相成長や化学気相成長などが利用できる。またオーバーコート処理を行う操作は、複数回に分けて行ってもよく、異なる2種類の方法を組み合わせてもよい。好ましい方法は、湿式コーティングであるグラビアコーティング、バーコーティングおよびスロットダイコーティングである。樹脂組成物を含むオーバーコートの塗布量は、オーバーコート溶液の固形分濃度およびオーバーコート溶液塗布時のウェット厚みを調整することで制御することができる。
[Overcoat layer forming step]
In the present invention, the method for forming the overcoat layer containing the resin composition is not particularly limited. Known wet coating methods such as spray coating, dip coating, spin coating, knife coating, kiss coating, roll coating, gravure coating, slot die coating, bar coating, screen printing, inkjet printing, pad printing, other types of printing, etc. Is available. Further, a dry coating method may be used. As the dry coating method, physical vapor deposition such as sputtering or vapor deposition, chemical vapor deposition, or the like can be used. The operation for performing the overcoat treatment may be performed in a plurality of times, or two different methods may be combined. Preferred methods are wet coatings such as gravure coating, bar coating and slot die coating. The coating amount of the overcoat containing the resin composition can be controlled by adjusting the solid content concentration of the overcoat solution and the wet thickness when the overcoat solution is applied.

[透明導電性]
上述のようにして高湿度下での抵抗値安定性に優れる導電積層体を得ることができる。透明導電性とは透明性と導電性を兼ね備えていることを示す。導電性の指標としては表面間抵抗値が用いられ、表面間抵抗値が低い方が導電性は高い。透明性の指標として、カーボンナノチューブ層光吸収率(以下、単に「光吸収率」と記載することもある)が挙げられる。カーボンナノチューブ層光吸収率は、波長550nmにおける次式で表される指標である。
[Transparent conductivity]
As described above, a conductive laminate having excellent resistance value stability under high humidity can be obtained. Transparent conductivity means having both transparency and conductivity. The intersurface resistance value is used as the conductivity index, and the lower the intersurface resistance value, the higher the electrical conductivity. As an index of transparency, there is a carbon nanotube layer light absorptivity (hereinafter sometimes simply referred to as “light absorptance”). The carbon nanotube layer optical absorptance is an index represented by the following formula at a wavelength of 550 nm.

カーボンナノチューブ層光吸収率(550nm)=100−全光透過率(550nm)−相対反射率(550nm)。   Carbon nanotube layer light absorption rate (550 nm) = 100−total light transmittance (550 nm) −relative reflectance (550 nm).

透明性の指標として代表的なものは、光吸収率であり、導電層を1層含んだ導電積層体の光吸収率が実用的な意味がある。   A typical index of transparency is a light absorptivity, and the light absorptivity of a conductive laminate including one conductive layer has a practical meaning.

また、導電性の指標として代表的なものは、導電積層体の表面抵抗値および端子間抵抗値であり、導電層を1層含んだ導電積層体の表面抵抗値および端子間抵抗値が実用的な意味がある。表面抵抗値と端子抵抗値は以下の式により換算することができる。
表面抵抗値〔Ω/□〕=端子間抵抗〔Ω〕×電極間の幅〔mm〕÷電極間の長さ〔mm〕。
端子間抵抗値は、導電積層体に銀ペースト等の電極を形成し、その間の端子抵抗値をテスターなどにより測定することが可能である。
Also, typical indicators of conductivity are the surface resistance value and inter-terminal resistance value of the conductive laminate, and the surface resistance value and inter-terminal resistance value of the conductive laminate including one conductive layer are practical. There is a meaning. The surface resistance value and the terminal resistance value can be converted by the following formula.
Surface resistance [Ω / □] = resistance between terminals [Ω] × width between electrodes [mm] ÷ length between electrodes [mm].
The inter-terminal resistance value can be measured by forming an electrode such as silver paste on the conductive laminate and measuring the terminal resistance value between them with a tester or the like.

かかる導電性(表面抵抗値および端子間抵抗値)、及び、透明性(カーボンナノチューブ層光吸収率)は、カーボンナノチューブ塗布量により調整することができる。しかしながら、カーボンナノチューブ塗布量が少ないと、導電性は低くなる一方、透明性は高くなり、塗布量が多いと導電性は高くなる一方、透明性は低くなる。すなわち、両者はトレードオフの関係にあり、両者を共に満たすことは困難である。かかる関係があるため、透明導電性を比較するためには、どちらかの指標を固定化してその上でもう一方の指標を比較する必要がある。   Such conductivity (surface resistance value and inter-terminal resistance value) and transparency (carbon nanotube layer light absorption rate) can be adjusted by the coating amount of carbon nanotubes. However, when the coating amount of the carbon nanotube is small, the conductivity is low, while the transparency is high. When the coating amount is large, the conductivity is high, but the transparency is low. That is, both are in a trade-off relationship, and it is difficult to satisfy both. Because of this relationship, in order to compare the transparent conductivity, it is necessary to fix one index and then compare the other index.

[高湿加湿下での表面抵抗値]
高湿加湿下での抵抗値安定性を測定する手法としては、湿度および湿度を制御した環境下で表面抵抗値を測定することが好ましい。例えば、温度および湿度を一定に保つことのできる恒温恒湿槽内に導電積層体を入れて、恒温恒湿条件における表面抵抗値を測定する。湿度範囲としては、温度25〜100℃の範囲にて、相対湿度0〜100%の範囲で測定することが好ましく、温度85℃一定下にて、相対湿度85%であることが最も好ましい。測定時間としては、安定性測定の観点より、導電積層体の表面抵抗値が一定になるまで放置することが好ましい。
[Surface resistance value under high humidity and humidity]
As a method for measuring resistance value stability under high humidity and humidity, it is preferable to measure the surface resistance value in an environment in which humidity and humidity are controlled. For example, the conductive laminate is placed in a constant temperature and humidity chamber capable of keeping temperature and humidity constant, and the surface resistance value under constant temperature and humidity conditions is measured. The humidity range is preferably measured in the range of 25 to 100 ° C. and in the range of 0 to 100% relative humidity, and most preferably in the range of 85% relative humidity at a constant temperature of 85 ° C. The measurement time is preferably left until the surface resistance value of the conductive laminate becomes constant from the viewpoint of stability measurement.

[用途]
本発明の導電積層体は、カーボンナノチューブの分散状態の均一性が高く電圧を均一にかけることが可能になるため、電子ペーパーに好ましく用いることができる。また、カーボンナノチューブの分散状態の均一性が高く描画耐久性に優れているため、タッチパネルに好ましく用いることができる。さらに、液晶ディスプレイ、有機エレクトロルミネッセンスなどのディスプレイ関連の電極、および透明面状発熱体用の電極として好ましく用いることができる。
[Usage]
The conductive laminate of the present invention can be preferably used for electronic paper because it has high uniformity in the dispersion state of carbon nanotubes and can apply a voltage uniformly. In addition, since the dispersion state of carbon nanotubes is high and the drawing durability is excellent, it can be preferably used for a touch panel. Furthermore, it can be preferably used as an electrode related to a display such as a liquid crystal display and organic electroluminescence, and an electrode for a transparent sheet heating element.

以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説明するが、本発明は、これらの実施例により限定されるものではない。本実施例で用いた測定法を以下に示す。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not limited by these Examples. The measurement method used in this example is shown below.

なお、高温加湿試験(85℃、相対湿度85%、500時間)実施前の(i)導電積層体の表面抵抗値[A]、(ii)導電積層体のヘイズ[C]および(iii)基材のヘイズ[E]については、それぞれのサンプルを温度25℃・相対湿度30%で24時間保持した後に測定した値とした。   In addition, (i) surface resistance value [A] of conductive laminate before carrying out high temperature humidification test (85 ° C., relative humidity 85%, 500 hours), (ii) haze [C] and (iii) group of conductive laminate The haze [E] of the material was a value measured after holding each sample for 24 hours at a temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 30%.

(1)分散剤の重量平均分子量
分散剤の重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法を用い、ポリエチレングリコールによる校正曲線と対比させて重量平均分子量を算出した。
装置:株式会社島津製作所製 LC−10Aシリーズ
カラム:昭和電工株式会社製 GF−7M HQ
移動相:10mmol/L 臭化リチウム水溶液
流速:1.0ml/min
検出:示差屈折率計
カラム温度:25℃。
(1) Weight average molecular weight of dispersant The weight average molecular weight of the dispersant was calculated by comparing with a calibration curve with polyethylene glycol using a gel permeation chromatography method.
Apparatus: LC-10A series manufactured by Shimadzu Corporation Column: GF-7M HQ manufactured by Showa Denko KK
Mobile phase: 10 mmol / L Lithium bromide aqueous solution Flow rate: 1.0 ml / min
Detection: differential refractometer column temperature: 25 ° C.

(2)表面抵抗値
100mm×50mmの大きさにカットした導電積層体の中央部を非接触式抵抗率計(ナプソン(株)製 NC−10)を用い、渦電流方式で測定した値を、高温加湿試験(85℃、相対湿度85%、500時間)実施前の表面抵抗値[A]とした。
(2) Surface resistance value Using a non-contact type resistivity meter (NC-10, NC-10) at the center of the conductive laminate cut to a size of 100 mm x 50 mm, the value measured by the eddy current method is The surface resistance value [A] before the high-temperature humidification test (85 ° C., relative humidity 85%, 500 hours) was carried out.

(3)ヘイズ値
導電積層体のヘイズはJIS K 7361(1997年)に基づき、日本電色工業(株)製の濁度計NDH4000を用いて測定した。なお、基材のヘイズについても同様に測定した。
(3) Haze value The haze of the conductive laminate was measured using a turbidimeter NDH4000 manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. based on JIS K 7361 (1997). In addition, it measured similarly about the haze of the base material.

(4)85℃、相対湿度85%試験
小型環境試験器(エスペック株式会社、SH−221)中に、作成した導電積層体を入れ、温度85℃・相対湿度85%RHで500時間保持した。高温加湿試験後、温度25℃・相対湿度30%で24時間保持した後の安定した表面抵抗値を、高温加湿試験(85℃、相対湿度85%、500時間)実施後の表面抵抗値[B]とした。また、高温加湿試験後、温度25℃・相対湿度30%で24時間保持した後の安定したヘイズを、高温加湿試験(85℃、相対湿度85%、500時間)実施後のヘイズ[D]とした。なお、高温加湿試験(85℃、相対湿度85%)後の基材のヘイズ[F]についても同様に測定した。
(4) 85 ° C., relative humidity 85% test The prepared conductive laminate was placed in a small environmental tester (Espec Corp., SH-221) and held at a temperature of 85 ° C. and a relative humidity of 85% RH for 500 hours. After the high temperature humidification test, the stable surface resistance value after holding for 24 hours at a temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 30% is the surface resistance value after the high temperature humidification test (85 ° C., relative humidity 85%, 500 hours) [B ]. Further, after the high temperature humidification test, the stable haze after being held at a temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 30% for 24 hours is referred to as haze [D] after the high temperature humidification test (85 ° C., relative humidity of 85%, 500 hours). did. In addition, it measured similarly about the haze [F] of the base material after a high temperature humidification test (85 degreeC, 85% of relative humidity).

(5)鉛筆硬度測定法
アンダーコート層、導電層、オーバーコート層それぞれの鉛筆硬度を以下の方法で測定した。なお、アンダーコート層の鉛筆硬度はアンダーコート層形成後に測定した。また、オーバーコートがない場合は導電層表面の鉛筆硬度を測定し、その値を導電層の鉛筆硬度とし、オーバーコート層がある場合はオーバーコート層が形成された導電層表面の鉛筆硬度を測定し、その値をオーバーコート層の鉛筆硬度とした。
(5) Pencil hardness measurement method The pencil hardness of each of the undercoat layer, the conductive layer, and the overcoat layer was measured by the following method. The pencil hardness of the undercoat layer was measured after the undercoat layer was formed. If there is no overcoat, measure the pencil hardness on the surface of the conductive layer, and use that value as the pencil hardness of the conductive layer. If there is an overcoat layer, measure the pencil hardness on the surface of the conductive layer on which the overcoat layer is formed. The value was taken as the pencil hardness of the overcoat layer.

「HEIDON−14DR」(新東科学株式会社製)を用いて、導電積層体のアンダーコート層、導電層またはオーバーコート層が形成された導電層表面(以下、樹脂層表面という)に、各硬度別の鉛筆が接触するように設置した。次にJIS「引っかき硬度(鉛筆法)」(K5600−5−4、2008年度版)に準じて、加重750g、速度30mm/分、移動距離10mmにて鉛筆を移動させた。導電積層体の樹脂層側表面に長さ3mm以上のキズ跡が生じるまで、順次鉛筆の硬度を上げて測定を実施した。導電積層体の樹脂層側表面にキズ跡が生じる手前の鉛筆の硬度を樹脂層の鉛筆硬度とした。   Using “HEIDON-14DR” (manufactured by Shinto Kagaku Co., Ltd.), each surface of the conductive layer on which the undercoat layer, conductive layer or overcoat layer of the conductive laminate was formed (hereinafter referred to as the resin layer surface) had each hardness. Another pencil was placed in contact. Next, according to JIS "Scratch hardness (pencil method)" (K5600-5-4, 2008 edition), the pencil was moved at a load of 750 g, a speed of 30 mm / min, and a moving distance of 10 mm. The measurement was carried out by successively increasing the hardness of the pencil until a scratch mark having a length of 3 mm or more was generated on the resin layer side surface of the conductive laminate. The pencil hardness of the resin layer was defined as the hardness of the pencil in front of which scratch marks were formed on the resin layer side surface of the conductive laminate.

(実施例1)
[アンダーコート層作製]
以下の手順でアンダーコート層作製用の塗布液を調整した。親水アクリル変性ポリエステル樹脂の水分散体(高松油脂株式会社製「ペスレジンA647−GEX」固形分濃度:20質量%)をアンダーコート層用の樹脂とし、シリカ粒子の水分散体(日産化学工業株式会社製「スノーテックスOUP」固形分濃度:15質量%)をアンダーコート層に含まれるシリカ粒子とした。前記ペスレジンA647−GEXとスノーテックスOUPと純水を質量比で2.6:10.9:1.5の割合で混合し、固形分5質量%のアンダーコート層作製用の塗布液とした。基材の背面にハードコート層として東レフィルム加工社製“タフトップ”THSを設けた、厚さ100μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム 東レ(株)製“ルミラー”(登録商標)U48を使用した。UR100線のグラビアロールを用いて、ライン速度に対するグラビアロールの回転比を1.5倍に設定し、基材上に前記アンダーコート層用の塗液を塗布した。塗布後、125℃の乾燥機内で1分間乾燥させた。この方法で作製したアンダーコート層の厚みは約800nmで、アンダーコート層の樹脂とシリカ粒子の質量比は7:3であった。アンダーコート層の鉛筆硬度はHBであった。
Example 1
[Preparation of undercoat layer]
The coating liquid for undercoat layer preparation was adjusted with the following procedures. An aqueous dispersion of hydrophilic acrylic-modified polyester resin (“Pesresin A647-GEX” manufactured by Takamatsu Yushi Co., Ltd., solid content concentration: 20% by mass) is used as the resin for the undercoat layer, and an aqueous dispersion of silica particles (Nissan Chemical Industries, Ltd.) “Snowtex OUP” solid content concentration: 15% by mass) was used as the silica particles contained in the undercoat layer. The pesresin A647-GEX, Snowtex OUP, and pure water were mixed at a mass ratio of 2.6: 10.9: 1.5 to obtain a coating solution for preparing an undercoat layer having a solid content of 5% by mass. A 100 μm thick biaxially stretched polyethylene terephthalate (PET) film provided with “Tough Top” THS manufactured by Toray Film Processing Co., Ltd. as a hard coat layer on the back surface of the base material “Lumirror” (registered trademark) U48 manufactured by Toray Industries, Inc. used. Using a UR100 line gravure roll, the rotation ratio of the gravure roll with respect to the line speed was set to 1.5 times, and the coating liquid for the undercoat layer was applied onto the substrate. After coating, the film was dried in a dryer at 125 ° C. for 1 minute. The thickness of the undercoat layer produced by this method was about 800 nm, and the mass ratio of the resin and silica particles in the undercoat layer was 7: 3. The pencil hardness of the undercoat layer was HB.

[カーボンナノチューブ合成触媒調製]
約24.6gのクエン酸鉄(III)アンモニウム(和光純薬工業社製)をイオン交換水6.2kgに溶解した。この溶液に、酸化マグネシウム(岩谷社製MJ−30)を約1,000g加え、撹拌機で60分間激しく撹拌処理した後に、懸濁液を10Lのオートクレーブ容器中に導入した。この時、洗い込み液としてイオン交換水0.5kgを使用した。密閉した状態で160℃に加熱し6時間保持した。その後オートクレーブ容器を放冷し、容器からスラリー状の白濁物質を取り出し、過剰の水分を吸引濾過により濾別し、濾取物中に少量含まれる水分は120℃の乾燥機中で加熱乾燥した。得られた固形分は篩い上で、乳鉢で細粒化しながら、10〜20メッシュの範囲の粒径を回収した。左記の顆粒状の触媒体を電気炉中に導入し、大気下600℃で3時間加熱した。かさ密度は0.32g/mLであった。また、濾液をエネルギー分散型X線分析装置(EDX)により分析したところ鉄は検出されなかった。このことから、添加したクエン酸鉄(III)アンモニウムは全量酸化マグネシウムに担持されたことが確認できた。さらに触媒体のEDX分析結果から、触媒体に含まれる鉄含有量は0.39質量%であった。
[Preparation of carbon nanotube synthesis catalyst]
About 24.6 g of iron (III) ammonium citrate (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was dissolved in 6.2 kg of ion-exchanged water. About 1,000 g of magnesium oxide (MJ-30 manufactured by Iwatani Corporation) was added to this solution, and after vigorously stirring for 60 minutes with a stirrer, the suspension was introduced into a 10 L autoclave container. At this time, 0.5 kg of ion exchange water was used as a washing solution. In a sealed state, it was heated to 160 ° C. and held for 6 hours. Thereafter, the autoclave container was allowed to cool, the slurry-like cloudy substance was taken out from the container, excess water was filtered off by suction filtration, and a small amount of water contained in the filtered material was dried by heating in a 120 ° C. drier. The obtained solid content was collected on a sieve and the particle size in the range of 10 to 20 mesh was recovered while being finely divided in a mortar. The granular catalyst body shown on the left was introduced into an electric furnace and heated at 600 ° C. for 3 hours in the atmosphere. The bulk density was 0.32 g / mL. Further, when the filtrate was analyzed by an energy dispersive X-ray analyzer (EDX), iron was not detected. From this, it was confirmed that the added iron (III) ammonium citrate was supported on the entire amount of magnesium oxide. Furthermore, from the EDX analysis result of the catalyst body, the iron content contained in the catalyst body was 0.39% by mass.

[カーボンナノチューブの製造]
前記の触媒を用い、カーボンナノチューブを合成した。固体触媒132gをとり、鉛直方向に設置した反応器の中央部の石英焼結板上に導入することで触媒層を作製した。反応管内温度が約860℃になるまで、触媒体層を加熱しながら、反応器底部から反応器上部方向へ向けて窒素ガスを16.5L/minで供給し、触媒体層を通過するように流通させた。その後、窒素ガスを供給しながら、さらにメタンガスを0.78L/minで60分間導入して触媒体層を通過するように通気し、反応させた。メタンガスの導入を止め、窒素ガスを16.5L/min通気させながら、石英反応管を室温まで冷却して触媒付きカーボンナノチューブ組成物を得た。この触媒付きカーボンナノチューブ組成物を129g用いて4.8Nの塩酸水溶液2,000mL中で1時間撹拌することで触媒金属である鉄とその担体であるMgOを溶解した。得られた黒色懸濁液は濾過した後、濾取物は再度4.8Nの塩酸水溶液400mLに投入し脱MgO処理をし、濾取した。この操作を3回繰り返し、触媒が除去されたカーボンナノチューブ組成物を得た。
[Production of carbon nanotubes]
Carbon nanotubes were synthesized using the catalyst. A catalyst layer was prepared by taking 132 g of the solid catalyst and introducing it onto a quartz sintered plate at the center of the reactor installed in the vertical direction. While heating the catalyst layer until the temperature in the reaction tube reaches about 860 ° C., nitrogen gas is supplied from the bottom of the reactor toward the top of the reactor at 16.5 L / min so as to pass through the catalyst layer. Circulated. Thereafter, while supplying nitrogen gas, methane gas was further introduced at 0.78 L / min for 60 minutes and aeration was performed so as to pass through the catalyst body layer to cause a reaction. The introduction of methane gas was stopped, and the quartz reaction tube was cooled to room temperature while supplying nitrogen gas at 16.5 L / min to obtain a carbon nanotube composition with a catalyst. 129 g of this catalyst-attached carbon nanotube composition was stirred in 4.8 mL of a 4.8N hydrochloric acid aqueous solution for 1 hour to dissolve the catalyst metal iron and the carrier MgO. The obtained black suspension was filtered, and the filtered product was again put into 400 mL of a 4.8N hydrochloric acid aqueous solution, treated with MgO, and collected by filtration. This operation was repeated three times to obtain a carbon nanotube composition from which the catalyst was removed.

[カーボンナノチューブの酸化処理]
前記のカーボンナノチューブ組成物を約300倍の質量の濃硝酸(和光純薬工業社製 1級 Assay 60〜61質量%)に添加した。その後、約140℃のオイルバスで24時間攪拌しながら加熱還流した。加熱還流後、カーボンナノチューブ含有組成物を含む硝酸溶液をイオン交換水で2倍に希釈して吸引ろ過した。イオン交換水で濾取物の懸濁液が中性となるまで水洗後、水を含んだウェット状態のままカーボンナノチューブ組成物を保存した。このカーボンナノチューブ組成物の平均外径を高分解能透過型電子顕微鏡で観察したところ、1.7nmであった。また2層カーボンナノチューブの割合は90質量%であり、波長532nmで測定したラマンG/D比は80であり、燃焼ピーク温度は725℃であった。
[Oxidation treatment of carbon nanotubes]
The carbon nanotube composition was added to concentrated nitric acid (primary assay 60-61 mass% manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) having a mass of about 300 times. Thereafter, the mixture was heated to reflux with stirring in an oil bath at about 140 ° C. for 24 hours. After heating to reflux, the nitric acid solution containing the carbon nanotube-containing composition was diluted twice with ion-exchanged water and suction filtered. The carbon nanotube composition was stored in a wet state containing water after washing with ion-exchanged water until the suspension of the filtered material became neutral. When the average outer diameter of the carbon nanotube composition was observed with a high-resolution transmission electron microscope, it was 1.7 nm. The proportion of double-walled carbon nanotubes was 90% by mass, the Raman G / D ratio measured at a wavelength of 532 nm was 80, and the combustion peak temperature was 725 ° C.

[重量平均分子量:35,000のカルボキシメチルセルロースの製造]
10質量%カルボキシメチルセルロースナトリウム(第一工業製薬(株)社製、セロゲン5A(重量平均分子量:80,000、分子量分布(Mw/Mn):1.6、エーテル化度:0.7))水溶液500gを三口フラスコに加えて、1級硫酸(キシダ化学(株)社製)を用いてpH2に調整した。この容器を120℃に昇温したオイルバスに移し、加熱還流下で攪拌しながら9時間加水分解反応を行った。三口フラスコを放冷後、28質量%アンモニア水溶液(キシダ化学(株)社製)を用いてpH10に調整し反応停止した。加水分解後のカルボキシメチルセルロースナトリウムの重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法を用い、ポリエチレングリコールによる校正曲線と対比させて分子量を算出した。その結果、重量平均分子量は約35,000であり、分子量分布(Mw/Mn)は1.5であった。また収率は97質量%であった。前記10質量%カルボキシメチルセルロースナトリウム(重量平均分子量:35,000)水溶液20gを30cmに切断した透析チューブ(スペクトラムラボラトリーズ(株)社製、Biotech CE透析チューブ(分画分子量:3,500−5,000D、16mmφ)に加え、この透析チューブをイオン交換水1,000gが入ったビーカーに浮かべて2時間透析を行った。その後、新しいイオン交換水1,000gと入れ替えて再度2時間透析を行った。この操作を3回繰り返した後、新しいイオン交換水1,000gが入ったビーカー中で12時間透析を行い、透析チューブからカルボキシメチルセルロースナトリウム水溶液を取り出した。この水溶液についてエバポレーターを用いて減圧濃縮した後、凍結乾燥機を用いて乾燥した結果、粉末状のカルボキシメチルセルロースナトリウムが70質量%の収率で得られた。ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法による重量平均分子量は透析前と同等であった。また、ゲルパーミエーションクロマトグラフィースペクトルにおけるピーク面積について透析前のカルボキシメチルセルロースナトリウムが57質量%であったのに対し、透析後では硫酸アンモニウムのピーク面積が減少し、カルボキシメチルセルロースナトリウムのピーク面積が91質量%に向上した。
[Production of Carboxymethyl Cellulose with Weight Average Molecular Weight: 35,000]
10 mass% sodium carboxymethylcellulose (Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd., Cellogen 5A (weight average molecular weight: 80,000, molecular weight distribution (Mw / Mn): 1.6, degree of etherification: 0.7)) aqueous solution 500 g was added to a three-necked flask and adjusted to pH 2 using primary sulfuric acid (Kishida Chemical Co., Ltd.). This container was transferred to an oil bath heated to 120 ° C., and subjected to a hydrolysis reaction for 9 hours with stirring under heating and reflux. After allowing the three-necked flask to cool, the reaction was stopped by adjusting the pH to 10 using a 28% by mass aqueous ammonia solution (manufactured by Kishida Chemical Co., Ltd.). The weight average molecular weight of the sodium carboxymethylcellulose after hydrolysis was calculated by comparing with a calibration curve with polyethylene glycol using a gel permeation chromatography method. As a result, the weight average molecular weight was about 35,000, and the molecular weight distribution (Mw / Mn) was 1.5. The yield was 97% by mass. Dialysis tube (Spectral Laboratories, Biotech CE dialysis tube (fractionated molecular weight: 3,500-5,000D) obtained by cutting 20 g of 10% by weight aqueous sodium carboxymethylcellulose (weight average molecular weight: 35,000) into 30 cm. In addition, the dialysis tube was floated in a beaker containing 1,000 g of ion-exchanged water and dialyzed for 2 hours, and then dialyzed again for 2 hours after replacing with 1,000 g of new ion-exchanged water. After repeating this operation three times, dialysis was carried out for 12 hours in a beaker containing 1,000 g of new ion-exchanged water, and an aqueous sodium carboxymethylcellulose solution was taken out from the dialysis tube, which was concentrated under reduced pressure using an evaporator. Dry using a freeze dryer As a result, powdered sodium carboxymethylcellulose was obtained with a yield of 70% by mass, the weight average molecular weight by gel permeation chromatography was the same as that before dialysis, and the peak in gel permeation chromatography spectrum. The area of sodium carboxymethylcellulose before dialysis was 57% by mass, whereas the peak area of ammonium sulfate decreased after dialysis, and the peak area of carboxymethylcellulose sodium was improved to 91% by mass.

[カーボンナノチューブ分散液作製]
この10質量%カルボキシメチルセルロースナトリウム(重量平均分子量:35,000)水溶液を用いてウェット状態のカーボンナノチューブ含有組成物(乾燥質量換算で25mg)、3.5質量%カルボキシメチルセルロースナトリウム(第一工業製薬(株)社製、セロゲン5Aを加水分解した(重量平均分子量:35,000))水溶液1.8g、ジルコニアビーズ(東レ(株)社製、“トレセラム”(登録商標)、ビーズサイズ:0.8mm)13.3gを容器に加え、28質量%アンモニア水溶液(キシダ化学(株)社製)を用いてpH10に調整した。この容器を振動ボールミル((株)入江商会社製、VS−1、振動数:1,800cpm(60Hz))を用いて2時間振盪させ、カーボンナノチューブペーストを調製したところ、このカーボンナノチューブ含有組成物ペースト中の分散剤の吸着量は88質量%、粒径は2.9μmであった。
[Preparation of carbon nanotube dispersion]
Using this 10% by mass aqueous sodium carboxymethylcellulose (weight average molecular weight: 35,000) aqueous solution, the carbon nanotube-containing composition in a wet state (25 mg in terms of dry mass), 3.5% by mass sodium carboxymethylcellulose (Daiichi Kogyo Seiyaku ( 1.8 g of aqueous solution hydrolyzed by serogen 5A (weight average molecular weight: 35,000), zirconia beads (manufactured by Toray Industries, Inc., “Traceram” (registered trademark)), bead size: 0.8 mm 13.3 g was added to the container, and the pH was adjusted to 10 using a 28% by mass aqueous ammonia solution (manufactured by Kishida Chemical Co., Ltd.). When this container was shaken for 2 hours using a vibration ball mill (manufactured by Irie Trading Co., Ltd., VS-1, frequency: 1,800 cpm (60 Hz)), a carbon nanotube paste was prepared. The amount of the dispersant adsorbed in the paste was 88% by mass, and the particle size was 2.9 μm.

次にこのカーボンナノチューブ含有組成物ペーストをカーボンナノチューブ含有組成物の濃度が0.15質量%となるようにイオン交換水で希釈し、その希釈液10gに対して再度28質量%アンモニア水溶液でpH10に調整した。その水溶液を超音波ホモジナイザー(家田貿易(株)社製、VCX−130)出力20W、1.5分間(2kW・min/g)、氷冷下分散処理した。分散中液温が10℃以下となるようにした。得られた液を高速遠心分離機((株)トミー精工、MX−300)にて10,000G、15分遠心処理し、カーボンナノチューブ分散液9gを得た。この分散液中のAFMにより測定したときのカーボンナノチューブ含有組成物の分散体の平均直径は1.7nmであり、孤立分散していた。また、カーボンナノチューブ含有組成物の分散体の長さは3.9μmであった。その後、水を添加して終濃度でカーボンナノチューブ含有組成物の濃度が0.06質量%となるように調製してフィルム塗布液とした。   Next, this carbon nanotube-containing composition paste was diluted with ion-exchanged water so that the concentration of the carbon nanotube-containing composition was 0.15% by mass, and again adjusted to pH 10 with 28% by mass ammonia aqueous solution with respect to 10 g of the diluted solution. It was adjusted. The aqueous solution was subjected to a dispersion treatment under ice-cooling with an ultrasonic homogenizer (manufactured by Ieda Trading Co., Ltd., VCX-130) output 20 W, 1.5 minutes (2 kW · min / g). The liquid temperature during dispersion was adjusted to 10 ° C. or lower. The obtained liquid was centrifuged at 10,000 G for 15 minutes with a high-speed centrifuge (Tomy Seiko Co., Ltd., MX-300) to obtain 9 g of a carbon nanotube dispersion. The average diameter of the dispersion of the carbon nanotube-containing composition as measured by AFM in the dispersion was 1.7 nm and was isolated and dispersed. The length of the carbon nanotube-containing composition dispersion was 3.9 μm. Then, water was added and it prepared so that the density | concentration of a carbon nanotube containing composition might be 0.06 mass% by final concentration, and it was set as the film coating liquid.

[カーボンナノチューブを含む層の作製]
前記作製法で作製したフィルム塗布液を、前記アンダーコート層上に、バーコート法によって塗布、乾燥させることで、カーボンナノチューブを含む層を作製した。なお、バーコートの番手は6番、乾燥温度100℃、乾燥時間60秒である。
[Production of a layer containing carbon nanotubes]
The film coating solution produced by the production method was applied onto the undercoat layer by a bar coating method and dried to produce a layer containing carbon nanotubes. The number of the bar coat is No. 6, the drying temperature is 100 ° C. and the drying time is 60 seconds.

[オーバーコート層の作製]
アクリル樹脂(共栄社化学株式会社製「ライトアクリレートDPE−6A」)をイソプロピルアルコールと酢酸エチルを7:3の質量比で混合した溶媒で希釈し、固形分濃度を2.0質量%とし、光重合開始剤(BASF社製「IRGACURE184」)を樹脂固形分に対して5質量%添加してオーバーコート塗液とした。この塗液をカーボンナノチューブを含む層上にバーコーター番手8番で塗布、熱風オーブンを用いて125℃で1分間乾燥した。さらに、UV照射装置(アイグラフィックス株式会社製「ECS−301」)を用いて窒素雰囲気下で積算光量400mJ/cmの照射量でUV照射し、オーバーコート層を形成した。オーバーコート層の鉛筆硬度は3Hであった。
[Preparation of overcoat layer]
Acrylic resin (“Kyoeisha Chemical Co., Ltd.“ Light Acrylate DPE-6A ”) is diluted with a solvent in which isopropyl alcohol and ethyl acetate are mixed at a mass ratio of 7: 3 to a solid content concentration of 2.0 mass%, and photopolymerization is performed. An initiator (“IRGACURE 184” manufactured by BASF) was added in an amount of 5% by mass with respect to the resin solid content to obtain an overcoat coating solution. This coating solution was applied onto the layer containing carbon nanotubes with a bar coater number 8 and dried at 125 ° C. for 1 minute using a hot air oven. Furthermore, UV irradiation was performed using a UV irradiation apparatus (“ECS-301” manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) at a dose of 400 mJ / cm 2 in a nitrogen atmosphere to form an overcoat layer. The pencil hardness of the overcoat layer was 3H.

(実施例2)
オーバーコート層の作製時のUV照射条件を窒素雰囲気下で積算光量100mJ/cmに変えたこと以外は実施例1と同様の方法で導電積層体を作製した。オーバーコート層の鉛筆硬度はHであった。
(Example 2)
A conductive laminate was produced in the same manner as in Example 1 except that the UV irradiation condition during the production of the overcoat layer was changed to an integrated light quantity of 100 mJ / cm 2 under a nitrogen atmosphere. The pencil hardness of the overcoat layer was H.

(実施例3)
基材として、厚さ100μmのポリカーボネートフィルム(三菱エンジニアリングプラスチックス(株)製「ユーピロンE2000」)を使用した。基材表面処理としてコロナ処理を実施した。この処理により基材表面の親水性が増し、水接触角が60−70°に低下した。実施例1と同様の方法でカーボンナノチューブを含む層およびオーバーコート層を作製した。オーバーコート層の鉛筆硬度は3Hであった。
(Example 3)
A polycarbonate film having a thickness of 100 μm (“Iupilon E2000” manufactured by Mitsubishi Engineering Plastics Co., Ltd.) was used as the substrate. Corona treatment was performed as a substrate surface treatment. This treatment increased the hydrophilicity of the substrate surface and lowered the water contact angle to 60-70 °. A layer containing carbon nanotubes and an overcoat layer were produced in the same manner as in Example 1. The pencil hardness of the overcoat layer was 3H.

(実施例4)
以下の操作により、アンダーコート層を作製した。ポリウレタン樹脂の水分散体(第一工業製薬株式会社製「スーパーフレックス150」固形分濃度:30質量%)をアンダーコート層用の樹脂とし、シリカ粒子の水分散体(日産化学工業株式会社製「スノーテックスOUP」固形分濃度:15質量%)をアンダーコート層に含まれるシリカ粒子とした。前記スーパーフレックス150とスノーテックスOUPと純水を質量比で5.25:4.5:5.25の割合で混合し、固形分15質量%のアンダーコート層作製用の塗布液とした。基材として、厚さ100μmのポリカーボネートフィルム(三菱エンジニアリングプラスチックス(株)製「ユーピロンE2000」)を使用した。UR100線のグラビアロールを用いて、ライン速度に対するグラビアロールの回転比を1.5倍に設定し、基材上に前記アンダーコート層用の塗液を塗布した。塗布後、125℃の乾燥機内で1分間乾燥させた。この方法で作製したアンダーコート層の厚みは約800nmで、アンダーコート層の樹脂とシリカ粒子の質量比は7:3であった。アンダーコート層の鉛筆硬度はBであった。実施例1と同様の方法でカーボンナノチューブを含む層およびオーバーコート層を作製した。オーバーコート層の鉛筆硬度は3Hであった。
Example 4
An undercoat layer was prepared by the following operation. An aqueous dispersion of polyurethane resin (“Superflex 150” solid content concentration: 30% by mass manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.) was used as the resin for the undercoat layer, and an aqueous dispersion of silica particles (“Nissan Chemical Industries, Ltd.“ “Snowtex OUP” (solid content concentration: 15 mass%) was used as the silica particles contained in the undercoat layer. Superflex 150, Snowtex OUP, and pure water were mixed at a mass ratio of 5.25: 4.5: 5.25 to obtain a coating solution for preparing an undercoat layer having a solid content of 15% by mass. A polycarbonate film having a thickness of 100 μm (“Iupilon E2000” manufactured by Mitsubishi Engineering Plastics Co., Ltd.) was used as the substrate. Using a UR100 line gravure roll, the rotation ratio of the gravure roll with respect to the line speed was set to 1.5 times, and the coating liquid for the undercoat layer was applied onto the substrate. After coating, the film was dried in a dryer at 125 ° C. for 1 minute. The thickness of the undercoat layer produced by this method was about 800 nm, and the mass ratio of the resin and silica particles in the undercoat layer was 7: 3. The pencil hardness of the undercoat layer was B. A layer containing carbon nanotubes and an overcoat layer were produced in the same manner as in Example 1. The pencil hardness of the overcoat layer was 3H.

(実施例5)
オーバーコート層の作製時のUV照射条件を窒素雰囲気下で積算光量100mJ/cmに変えたこと以外は実施例4と同様の方法で導電積層体を作製した。オーバーコート層の鉛筆硬度はHであった。
(Example 5)
A conductive laminate was produced in the same manner as in Example 4 except that the UV irradiation condition during the production of the overcoat layer was changed to an integrated light quantity of 100 mJ / cm 2 under a nitrogen atmosphere. The pencil hardness of the overcoat layer was H.

(実施例6)
基材として両面ハードコート付きPET(東山フィルム(株)社製 FHC−S8W)を用いた。ハードコート層の鉛筆硬度は3Hであった。基材表面処理としてコロナ処理を実施した。この処理により基材表面の親水性が増し、水接触角が62°に低下した。実施例1と同様の方法でカーボンナノチューブを含む層を作製した。アンダーコート層の鉛筆硬度は3Hであった。
(Example 6)
PET with double-sided hard coat (FHC-S8W manufactured by Higashiyama Film Co., Ltd.) was used as the substrate. The pencil hardness of the hard coat layer was 3H. Corona treatment was performed as a substrate surface treatment. This treatment increased the hydrophilicity of the substrate surface and lowered the water contact angle to 62 °. A layer containing carbon nanotubes was produced in the same manner as in Example 1. The pencil hardness of the undercoat layer was 3H.

(比較例1)
アンダーコート層およびオーバーコート層を設けないこと以外は実施例1と同様の方法で導電積層体を作製した。なお、基材表面処理としてコロナ処理を実施した。この処理により基材表面の親水性が増し、水接触角が50〜60°に低下した。
(Comparative Example 1)
A conductive laminate was produced in the same manner as in Example 1 except that the undercoat layer and the overcoat layer were not provided. Corona treatment was performed as the substrate surface treatment. This treatment increased the hydrophilicity of the substrate surface and lowered the water contact angle to 50-60 °.

(比較例2)
基材の背面にハードコート層(東レフィルム加工社製“タフトップ”THS)を設けないこと以外は比較例1と同様の方法で導電積層体を作製した。
(Comparative Example 2)
A conductive laminate was produced in the same manner as in Comparative Example 1 except that the back surface of the substrate was not provided with a hard coat layer (“Tough Top” THS manufactured by Toray Film Processing Co., Ltd.).

(比較例3)
オーバーコート層を設けないこと以外は実施例1と同様の方法で導電積層体を作製した。
(Comparative Example 3)
A conductive laminate was produced in the same manner as in Example 1 except that no overcoat layer was provided.

(比較例4)
オーバーコート層として用いる材料をウレタンアクリレート樹脂(共栄社化学株式会社製「UF−8001G」)に変えたこと以外は実施例1と同様の方法で導電積層体を作製した。オーバーコート層の鉛筆硬度は6Bであった。オーバーコート層を設けないこと以外は実施例1と同様の方法で導電積層体を作製した。
(Comparative Example 4)
A conductive laminate was produced in the same manner as in Example 1 except that the material used for the overcoat layer was changed to urethane acrylate resin (“UF-8001G” manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.). The pencil hardness of the overcoat layer was 6B. A conductive laminate was produced in the same manner as in Example 1 except that no overcoat layer was provided.

層構成、表面抵抗値評価結果およびヘイズ評価結果については表1〜3に記載する。   It describes in Tables 1-3 about a layer structure, a surface resistance value evaluation result, and a haze evaluation result.

Figure 2017065053
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透明導電性に優れた本発明の導電積層体は、例えば、タッチパネル、タッチスイッチ、液晶ディスプレイ、有機エレクトロルミネッセンス、電子ペーパーなどのディスプレイ関連の電極、および透明面状発熱体用の電極として好ましく用いることができる。   The conductive laminate of the present invention excellent in transparent conductivity is preferably used as, for example, a display-related electrode such as a touch panel, a touch switch, a liquid crystal display, organic electroluminescence, and electronic paper, and an electrode for a transparent sheet heating element. Can do.

1:基材
2:アンダーコート層
3:カーボンナノチューブを含む層
4:オーバーコート層
5:導電層
1: Base material 2: Undercoat layer 3: Layer containing carbon nanotubes 4: Overcoat layer 5: Conductive layer

Claims (9)

基材の少なくとも片面に、カーボンナノチューブを含む導電層を有する導電積層体であって、以下の(1)および(2)を満たす導電積層体。
(1)高温加湿試験(85℃、相対湿度85%、500時間)実施前の表面抵抗値を[A]、高温加湿試験実施後の表面抵抗値を[B]とした際の表面抵抗値の比[B]/[A]が1.40以下である。
(2)高温加湿試験(85℃、相対湿度85%、500時間)実施前のヘイズを[C]、高温加湿試験実施後のヘイズを[D]とした際のヘイズの差[D]−[C]が0.1以上、5.0以下である。
A conductive laminate having a conductive layer containing carbon nanotubes on at least one surface of a substrate, the conductive laminate satisfying the following (1) and (2).
(1) Surface resistance value when [A] is the surface resistance value before the high temperature humidification test (85 ° C., 85% relative humidity, 500 hours) and [B] is the surface resistance value after the high temperature humidification test is performed. The ratio [B] / [A] is 1.40 or less.
(2) Haze difference [D] − [H] before the high temperature humidification test (85 ° C., relative humidity 85%, 500 hours) is [C] and haze after the high temperature humidification test is [D]. C] is 0.1 or more and 5.0 or less.
前記基材の高温加湿試験(85℃、相対湿度85%、500時間)実施前のヘイズを[E]、高温加湿試験実施後のヘイズを[F]とした際のヘイズの差[F]−[E]が0.1以上、5.0以下である請求項1に記載の導電積層体。   Difference in haze [F] − when the haze before the high-temperature humidification test (85 ° C., relative humidity 85%, 500 hours) of the substrate is [E] and the haze after the high-temperature humidification test is [F]. The conductive laminate according to claim 1, wherein [E] is 0.1 or more and 5.0 or less. 前記基材と前記導電層との間にアンダーコート層を有する請求項1または2に記載の導電積層体。   The conductive laminate according to claim 1, further comprising an undercoat layer between the substrate and the conductive layer. 前記アンダーコート層の鉛筆硬度がH〜9Hである請求項3に記載の導電積層体。   The conductive laminate according to claim 3, wherein the undercoat layer has a pencil hardness of H to 9H. 前記導電層の上にさらにオーバーコート層を有する請求項1〜4いずれかに記載の導電積層体。   The conductive laminate according to claim 1, further comprising an overcoat layer on the conductive layer. 前記オーバーコート層の鉛筆硬度がH〜9Hである請求項5に記載の導電積層体。   The conductive laminate according to claim 5, wherein the overcoat layer has a pencil hardness of H to 9H. 前記オーバーコート層がアクリル樹脂を含む請求項5または6に記載の導電積層体。   The conductive laminate according to claim 5, wherein the overcoat layer contains an acrylic resin. 前記基材のガラス転移点が85℃以上である請求項1〜7いずれかに記載の導電積層体。   The conductive laminate according to claim 1, wherein the glass transition point of the substrate is 85 ° C. or higher. 前記基材がポリカーボネート樹脂を含む請求項1〜8いずれかに記載の導電積層体。   The conductive laminate according to claim 1, wherein the base material contains a polycarbonate resin.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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