JP2017061665A - Calixarene compound, composition, method for producing the same, epoxy resin curing agent, epoxy resin composition, laminate, semiconductor sealing material and semiconductor device - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide calixarene compounds and compositions having excellent solubility in polar solvent.SOLUTION: The present invention provides a compound represented by formula (1), and a composition comprising the compound (Rand Rindependently represent H, a hydroxy group, a methyl group or a methoxy group; Ris a C1-C18 alkyl group, a phenyl group, a hydroxy phenyl group or a methyl phenyl group; at least two of four Rs are mutually different).SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、カリックスアレーン系化合物、組成物、その製造方法、エポキシ樹脂用硬化剤、エポキシ樹脂組成物、積層板、半導体封止材及び半導体装置に関する。   The present invention relates to a calixarene compound, a composition, a production method thereof, an epoxy resin curing agent, an epoxy resin composition, a laminate, a semiconductor encapsulant, and a semiconductor device.

従来、半導体装置を構成する部材、例えば半導体を封止する封止部、プリント配線基板等、にエポキシ樹脂が用いられている。エポキシ樹脂は、例えば、硬化剤等とともに溶剤に溶解して樹脂ワニスとされる。この樹脂ワニスを、例えばガラスクロス等の基材に含浸させ、乾燥してプリプレグとし、これを単独で又は複数枚を重ねて熱プレスした積層板やその片面又は両面に銅箔が積層した積層板(銅張積層板)が用いられている。エポキシ樹脂を樹脂ワニスにする場合の溶剤としては一般に、メチルエチルケトン等の極性溶剤が用いられる。   Conventionally, an epoxy resin is used for a member constituting a semiconductor device, for example, a sealing portion for sealing a semiconductor, a printed wiring board, and the like. For example, the epoxy resin is dissolved in a solvent together with a curing agent or the like to form a resin varnish. This resin varnish is impregnated into a base material such as glass cloth and dried to obtain a prepreg, and a laminated board obtained by heat-pressing this alone or a plurality of laminated sheets, or a laminated board in which copper foil is laminated on one or both sides thereof (Copper-clad laminate) is used. In general, a polar solvent such as methyl ethyl ketone is used as a solvent when an epoxy resin is used as a resin varnish.

近年の電子機器の小型化、薄型化、高性能化に伴い、省エネルギー化、CO排出量削減、環境保全の観点より、電力の低損失かつ大電流・大電圧に耐え、200℃以上の高温動作が可能なシリコンカーバイド(SiC)のパワーデバイスが注目されている。また、その中で使用される半導体装置の製造においては、環境側面より鉛フリーの高融点はんだが増加してきている。そのため、半導体装置を構成する部材には、高温動作時や高融点はんだ時の熱による変形、例えば熱収縮やそれによる反り、を低減するため、耐熱性の向上や低熱膨張性が強く求められている。 With recent downsizing, thinning, and high performance of electronic devices, from the viewpoints of energy saving, CO 2 emission reduction, environmental conservation, low power loss, high current and high voltage, high temperature of 200 ° C or higher Silicon carbide (SiC) power devices that can operate are drawing attention. Further, in the manufacture of semiconductor devices used therein, lead-free high melting point solders are increasing from the environmental aspect. Therefore, in order to reduce deformation due to heat during high-temperature operation or high melting point soldering, for example, heat shrinkage and warping due to heat, the members constituting the semiconductor device are strongly required to have improved heat resistance and low thermal expansion. Yes.

そこで、カリックスアレーン系化合物をエポキシ樹脂の硬化剤として用いることが提案されている(特許文献1〜6)。硬化剤にカリックスアレーン系化合物を用いると、硬化物中にカリックスアレーン構造が導入され、硬化物に耐熱性、低熱膨張性、高弾性率等の物性を付与することができる。   Thus, it has been proposed to use calixarene compounds as curing agents for epoxy resins (Patent Documents 1 to 6). When a calixarene compound is used as the curing agent, a calixarene structure is introduced into the cured product, and physical properties such as heat resistance, low thermal expansion, and high elastic modulus can be imparted to the cured product.

特開平2−123126号公報JP-A-2-123126 特開平3−66724号公報Japanese Patent Laid-Open No. 3-66724 特開平6−136341号公報JP-A-6-136341 特開2000−264953号公報JP 2000-264953 A 特開2001−106868号公報JP 2001-106868 A 特開2010−31089号公報JP 2010-31089 A

しかし、一般的にカリックスアレーン系化合物は、結晶性及び水素結合性が高いため、極性溶剤に対する溶解性が低い。そのため、これをエポキシ樹脂とともに溶剤に溶解して樹脂ワニスとする際には、固形分濃度を低くする必要がある。固形分濃度を高くすると、カリックスアレーン系化合物が析出し、基材にうまく含浸せず、硬化剤の効果が充分に発揮されない。しかし、樹脂ワニスの固形分濃度の低下は、積層板等の生産性の低下を引き起こす。   However, in general, calixarene compounds have low crystallinity and hydrogen bonding properties, and thus have low solubility in polar solvents. Therefore, when this is dissolved in a solvent together with an epoxy resin to form a resin varnish, it is necessary to reduce the solid content concentration. When the solid content concentration is increased, the calixarene compound is precipitated and does not impregnate the substrate well, and the effect of the curing agent is not sufficiently exhibited. However, a decrease in the solid content concentration of the resin varnish causes a decrease in productivity of the laminated board or the like.

本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであって、極性溶剤に対する溶解性に優れるカリックスアレーン系化合物、組成物及びその製造方法を提供することを目的とする。
本発明は、極性溶剤に対する溶解性に優れ、得られる硬化物が耐熱性等の物性に優れるエポキシ樹脂用硬化剤及びこれを用いたエポキシ樹脂組成物、積層板、半導体封止材及び半導体装置を提供することを他の目的とする。
This invention is made | formed in view of the said situation, Comprising: It aims at providing the calixarene type compound excellent in the solubility with respect to a polar solvent, a composition, and its manufacturing method.
The present invention provides an epoxy resin curing agent having excellent solubility in a polar solvent, and the resulting cured product is excellent in physical properties such as heat resistance, and an epoxy resin composition, a laminate, a semiconductor encapsulant, and a semiconductor device using the same. The other purpose is to provide.

本発明者らは、鋭意検討の結果、従来のカリックスアレーン系化合物の結晶性の高さ及び構造の対称性の高さが、極性溶剤に対する溶解性の低さの原因となっていることを見出した。かかる知見に基づきさらに検討を重ねた結果、特定の構造を有する新規なカリックスアレーン系化合物を見出した。   As a result of intensive studies, the present inventors have found that the high crystallinity and the high symmetry of the structure of the conventional calixarene compounds cause the low solubility in polar solvents. It was. As a result of further investigation based on this finding, a novel calixarene compound having a specific structure was found.

本発明は、以下の態様を有する。
<1>下記式(1)で表されるカリックスアレーン系化合物。
The present invention has the following aspects.
<1> A calixarene compound represented by the following formula (1).

Figure 2017061665
Figure 2017061665

(式(1)中、R及びRはそれぞれ独立に、水素原子、水酸基、メチル基又はメトキシ基であり、Rは炭素数1〜18のアルキル基、フェニル基、ヒドロキシフェニル基又はメチルフェニル基であり、4つのRのうち少なくとも2つは互いに異なる。) (In Formula (1), R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom, a hydroxyl group, a methyl group or a methoxy group, and R 3 is an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, a phenyl group, a hydroxyphenyl group or a methyl group. A phenyl group, at least two of the four R 3 are different from each other.)

<2>前記<1>のカリックスアレーン系化合物を70質量%以上の含有量で含む組成物。
<3>前記<2>の組成物の製造方法であって、
下記式(2)で表される多価フェノールと、下記式(3)で表される化合物及びその多量体からなる群から選ばれ、Rが互いに異なる少なくとも2種のアルデヒド類と、を反応させる工程を含む、組成物の製造方法。
<2> A composition comprising the calixarene compound of <1> in a content of 70% by mass or more.
<3> A method for producing the composition according to <2>,
A reaction between polyhydric phenol represented by the following formula (2) and at least two aldehydes selected from the group consisting of a compound represented by the following formula (3) and a multimer thereof, wherein R 3 are different from each other. The manufacturing method of the composition including the process to make.

Figure 2017061665
Figure 2017061665

(式(2)中、R及びRはそれぞれ独立に、水素原子、水酸基、メチル基又はメトキシ基である。式(3)中、Rは炭素数1〜18のアルキル基、フェニル基、ヒドロキシフェニル基又はメチルフェニル基である。) (In Formula (2), R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom, a hydroxyl group, a methyl group, or a methoxy group. In Formula (3), R 3 is an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms or a phenyl group. , Hydroxyphenyl group or methylphenyl group.)

<4>前記多価フェノールがレゾルシンであり、前記少なくとも2種のアルデヒド類がパラアルデヒドとn−ブチルアルデヒドである、<3>の組成物の製造方法。
<5>前記多価フェノールがレゾルシンであり、前記少なくとも2種のアルデヒド類がプロピオンアルデヒドとn−ブチルアルデヒドである、<3>の組成物の製造方法。
<6>前記多価フェノールがレゾルシンであり、前記少なくとも2種のアルデヒド類がパラアルデヒドとプロピオンアルデヒドとn−ブチルアルデヒドである、<3>の組成物の製造方法。
<7>前記少なくとも2種のアルデヒド類のうち、前記式(3)で表される化合物換算で、量が最も多い1種のアルデヒド類1モルに対する他のアルデヒド類の割合が0.25〜1モルである、<3>〜<6>のいずれかの組成物の製造方法。
<8>前記<2>の組成物からなるエポキシ樹脂用硬化剤。
<9>エポキシ樹脂と、前記<8>のエポキシ樹脂用硬化剤と、を含むエポキシ樹脂組成物。
<10>前記<9>のエポキシ樹脂組成物の硬化物を含む層を備える積層板。
<11>前記<9>のエポキシ樹脂組成物を含む半導体封止材。
<12>前記<9>のエポキシ樹脂組成物の硬化物を含む半導体封止部を備える半導体装置。
<4> The method for producing a composition according to <3>, wherein the polyhydric phenol is resorcin, and the at least two aldehydes are paraaldehyde and n-butyraldehyde.
<5> The method for producing a composition according to <3>, wherein the polyhydric phenol is resorcin, and the at least two aldehydes are propionaldehyde and n-butyraldehyde.
<6> The method for producing a composition according to <3>, wherein the polyhydric phenol is resorcin, and the at least two aldehydes are paraaldehyde, propionaldehyde, and n-butyraldehyde.
<7> Among the at least two aldehydes, the ratio of the other aldehydes relative to 1 mol of one aldehyde having the largest amount in terms of the compound represented by the formula (3) is 0.25 to 1. The manufacturing method of the composition in any one of <3>-<6> which is mol.
<8> A curing agent for epoxy resins, comprising the composition of <2>.
<9> An epoxy resin composition comprising an epoxy resin and the curing agent for epoxy resin according to <8>.
<10> A laminate comprising a layer containing a cured product of the epoxy resin composition according to <9>.
<11> A semiconductor encapsulant comprising the epoxy resin composition of <9>.
<12> A semiconductor device comprising a semiconductor sealing portion containing a cured product of the epoxy resin composition according to <9>.

本発明によれば、極性溶剤に対する溶解性に優れるカリックスアレーン系化合物、組成物及びその製造方法を提供できる。
また、本発明によれば、極性溶剤に対する溶解性に優れ、得られる硬化物が耐熱性等の物性に優れるエポキシ樹脂用硬化剤及びこれを用いたエポキシ樹脂組成物、積層板、半導体封止材及び半導体装置を提供できる。
ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the calixarene type compound excellent in the solubility with respect to a polar solvent, a composition, and its manufacturing method can be provided.
In addition, according to the present invention, the epoxy resin curing agent, the epoxy resin composition using the same, the laminate, and the semiconductor encapsulating material, which have excellent solubility in polar solvents and the obtained cured product is excellent in physical properties such as heat resistance In addition, a semiconductor device can be provided.

実施例1で得られた組成物Aの13C−NMRスペクトルの測定結果を示すチャートである。3 is a chart showing measurement results of 13 C-NMR spectrum of Composition A obtained in Example 1. FIG. 実施例1で得られた組成物AのFD−MSスペクトルの測定結果を示すチャートである。4 is a chart showing the measurement results of the FD-MS spectrum of the composition A obtained in Example 1. FIG. 実施例2で得られた組成物BのFD−MSスペクトルの測定結果を示すチャートである。4 is a chart showing the measurement results of the FD-MS spectrum of Composition B obtained in Example 2. FIG. 実施例3で得られた組成物CのFD−MSスペクトルの測定結果を示すチャートである。6 is a chart showing measurement results of FD-MS spectrum of Composition C obtained in Example 3. FIG. 比較例1で得られた組成物DのFD−MSスペクトルの測定結果を示すチャートである。6 is a chart showing measurement results of FD-MS spectrum of Composition D obtained in Comparative Example 1. 比較例2で得られた組成物EのFD−MSスペクトルの測定結果を示すチャートである。6 is a chart showing measurement results of an FD-MS spectrum of a composition E obtained in Comparative Example 2.

<カリックスアレーン系化合物>
本発明のカリックスアレーン系化合物(以下、「化合物(1)」ともいう。)は、下記式(1)で表される。
<Calixarene compounds>
The calixarene compound of the present invention (hereinafter also referred to as “compound (1)”) is represented by the following formula (1).

Figure 2017061665
(式(1)中、R及びRはそれぞれ独立に、水素原子、水酸基、メチル基又はメトキシ基であり、Rは炭素数1〜18のアルキル基、フェニル基、ヒドロキシフェニル基又はメチルフェニル基であり、4つのRのうち少なくとも2つは互いに異なる。)
Figure 2017061665
(In Formula (1), R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom, a hydroxyl group, a methyl group or a methoxy group, and R 3 is an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, a phenyl group, a hydroxyphenyl group or a methyl group. A phenyl group, at least two of the four R 3 are different from each other.)

式(1)中、4つのRはそれぞれ同一であってもよく互いに異なってもよい。また、4つのRはそれぞれ同一であってもよく互いに異なってもよい。
及びRはそれぞれ、極性溶剤に対する溶解性の点では、水酸基以外のもの、すなわち水素原子、メチル基又はメトキシ基が好ましく、耐熱性の点では、水酸基が好ましい。
In the formula (1), four R 1 s may be the same or different from each other. Further, the four R 2 s may be the same or different from each other.
R 1 and R 2 are each preferably a group other than a hydroxyl group in terms of solubility in a polar solvent, that is, a hydrogen atom, a methyl group or a methoxy group, and a hydroxyl group is preferred in terms of heat resistance.

のアルキル基の炭素数は、1〜18であり、1〜4がより好ましい。アルキル基の炭素数が前記範囲の下限値以上であれば、極性溶剤に対する溶解性がより優れる。アルキル基の炭素数が前記範囲の上限値以下であれば、耐熱性がより優れ、また、燃焼性が低くなる。Rのアルキル基は、直鎖状でもよく分岐状でもよく、直鎖状が好ましい。Rのヒドロキシフェニル基が有する水酸基は、1つでもよく2つ以上でもよく、1つであることが好ましい。Rのメチルフェニル基が有するメチル基は、1つでもよく2つ以上でもよく、1つであることが好ましい。
の具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、へキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、フェニル基、2−ヒドロキシフェニル基、4−ヒドロキシフェニル基、4−メチルフェニル基等が挙げられる。
The carbon number of the alkyl group of R 3 is 1 to 18, 1 to 4 is more preferred. If the carbon number of the alkyl group is not less than the lower limit of the above range, the solubility in a polar solvent is more excellent. When the carbon number of the alkyl group is not more than the upper limit of the above range, the heat resistance is more excellent and the combustibility is lowered. The alkyl group for R 3 may be linear or branched, and is preferably linear. The hydroxyphenyl group of the R 3 hydroxyphenyl group may be one, two or more, and preferably one. The methyl phenyl group of R 3 may have one, two or more methyl groups, and preferably one.
Specific examples of R 3 include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, pentyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, A dodecyl group, a phenyl group, 2-hydroxyphenyl group, 4-hydroxyphenyl group, 4-methylphenyl group etc. are mentioned.

式(1)中、4つのRのうち少なくとも2つは互いに異なる。これにより、化合物(1)の極性溶剤に対する溶解性が優れる。
4つのRのうち、互いに異なるのは、2種でもよく3種でもよく4種でもよい。
4つのRのうち、互いに異なるもの同士の位置関係は特に限定されない。また、4つのRのうち同一のものが存在する場合、同一のもの同士の位置関係は特に限定されない。
互いに異なるRの組み合わせとしては、例えばメチル基とn−プロピル基との組み合わせ、エチル基とn−プロピル基との組み合わせ、メチル基とエチル基とn−プロピル基との組み合わせ、メチル基とエチル基の組み合わせ、n−プロピル基とn−ブチル基との組み合わせ、n−ブチル基とペンチル基との組み合わせ、メチル基とエチル基とn−プロピル基とn−ブチル基との組み合わせ等が挙げられる。
上記の中でも、比較的安価であり、対応するアルデヒド類の多価フェノールとの反応性が良く、得られる組成物の極性溶剤に対する溶解性がより優れ、硬化物に耐熱性、低熱膨張性が付与でき、燃焼性の低減が出来る点で、メチル基とn−プロピル基との組み合わせ、エチル基とn−プロピル基との組み合わせ、又はメチル基とエチル基とn−プロピル基との組み合わせが好ましい。
In formula (1), at least two of the four R 3 are different from each other. Thereby, the solubility with respect to the polar solvent of a compound (1) is excellent.
Of the four R 3 s , two, three, or four may be different from each other.
Of the four R 3 , the positional relationship between different ones is not particularly limited. Also, if there are identical ones of the four R 3, positional relationship between identical ones are not particularly limited.
Examples of combinations of R 3 different from each other include, for example, a combination of a methyl group and an n-propyl group, a combination of an ethyl group and an n-propyl group, a combination of a methyl group, an ethyl group and an n-propyl group, and a methyl group and an ethyl group. Combinations of groups, combinations of n-propyl groups and n-butyl groups, combinations of n-butyl groups and pentyl groups, combinations of methyl groups, ethyl groups, n-propyl groups and n-butyl groups, and the like. .
Among the above, it is relatively inexpensive, has good reactivity with the corresponding polyhydric phenols of aldehydes, has better solubility in the polar solvent of the resulting composition, imparts heat resistance and low thermal expansion to the cured product The combination of a methyl group and an n-propyl group, the combination of an ethyl group and an n-propyl group, or the combination of a methyl group, an ethyl group, and an n-propyl group is preferable from the viewpoint of reducing combustibility.

(作用効果)
本発明の化合物(1)は、一般的なカリックスアレーン系化合物に比べて、エポキシ樹脂を樹脂ワニスにする際に用いられるような極性溶剤に対する溶解性に優れる。これは、4つのRのうち少なくとも2つが互いに異なるために、4つのRが同一である場合に比べて、結晶性及び構造の対称性が低く、分子間相互作用(例えば水酸基間の水素結合)が緩和されることによると考えられる。
また、本発明の化合物(1)は、複数の水酸基を有することから、水酸基と反応する官能基(エポキシ基、カルボキシル基、イソシアネート基、ハロゲン化物等)を有する化合物の硬化剤(架橋剤)として用いることができる。また、本発明の組成物を硬化剤として用いることで、硬化物にカリックスアレーン構造を導入し、耐熱性、低熱膨張性、高弾性率等の物性を付与することができる。
また、本発明の化合物(1)は上記のとおり極性溶剤に対する溶解性に優れるため、エポキシ樹脂用硬化剤として本発明の化合物(1)を用いることで、一般的なカリックスアレーン系化合物を用いる場合に比べて、エポキシ樹脂、硬化剤等が溶剤に溶解した樹脂ワニスの固形分濃度を高くすることができる。したがって、樹脂ワニスを用いて製造される積層板等の生産性が良好である。
また、本発明の化合物(1)は、エポキシ樹脂を製造するための材料として用いることができる。例えば本発明の化合物(1)とエピクロロヒドリンとを反応させることで、化合物(1)の−OHの一部又は全部が−OX(ここで、Xはグリシジル基である。)となった構造の化合物を含むエポキシ樹脂を得ることができる。
(Function and effect)
The compound (1) of the present invention is superior in solubility in a polar solvent used when an epoxy resin is used as a resin varnish as compared with a general calixarene compound. This is because at least two of the four R 3 are different from each other, so that the crystallinity and the symmetry of the structure are lower than those in the case where the four R 3 are the same. This is thought to be due to relaxation of the bond.
In addition, since the compound (1) of the present invention has a plurality of hydroxyl groups, as a curing agent (crosslinking agent) for a compound having a functional group (epoxy group, carboxyl group, isocyanate group, halide, etc.) that reacts with the hydroxyl group. Can be used. Moreover, by using the composition of the present invention as a curing agent, a calixarene structure can be introduced into the cured product, and physical properties such as heat resistance, low thermal expansion, and high elastic modulus can be imparted.
Moreover, since the compound (1) of this invention is excellent in the solubility with respect to a polar solvent as mentioned above, when using the compound (1) of this invention as a hardening | curing agent for epoxy resins, when using a general calixarene type compound As compared with the above, the solid content concentration of the resin varnish in which the epoxy resin, the curing agent and the like are dissolved in the solvent can be increased. Therefore, productivity of a laminated board etc. manufactured using a resin varnish is favorable.
Moreover, the compound (1) of this invention can be used as a material for manufacturing an epoxy resin. For example, by reacting the compound (1) of the present invention with epichlorohydrin, a part or all of —OH of the compound (1) becomes —OX (where X is a glycidyl group). An epoxy resin containing a compound having a structure can be obtained.

<組成物>
本発明の組成物は、前述の化合物(1)を含む。
本発明の組成物に含まれる化合物(1)は1種でもよく2種以上でもよい。例えばRの種類や組み合わせが異なる複数の化合物(1)を含んでもよい。Rの種類や組み合わせが同じであっても4つのRのうち互いに異なるRの数や位置関係が異なる複数の化合物(1)を含んでもよい。
本発明の組成物における化合物(1)の含有量は、組成物の総質量に対し、70質量%以上であり、90質量%以上が好ましく、100質量%であってもよい。化合物(1)の含有量が前記範囲の下限値以上であれば、極性溶剤に対する溶解性が優れる。
<Composition>
The composition of this invention contains the above-mentioned compound (1).
The compound (1) contained in the composition of the present invention may be one type or two or more types. For example, a plurality of compounds (1) having different types and combinations of R 3 may be included. Even if the types and combinations of R 3 are the same, a plurality of compounds (1) having different numbers of R 3 and different positional relationships among the four R 3 may be included.
The content of the compound (1) in the composition of the present invention is 70% by mass or more, preferably 90% by mass or more, and may be 100% by mass with respect to the total mass of the composition. If content of a compound (1) is more than the lower limit of the said range, the solubility with respect to a polar solvent will be excellent.

本発明の組成物は、化合物(1)以外の他の成分をさらに含んでいてもよい。
他の成分としては、例えば化合物(1)の製造時に生成し得る副生物、化合物(1)の製造に用いられた材料(後述する多価フェノール、アルデヒド類等)等が挙げられる。例えば後述の製造方法においては、式(1)中の4つのRが全て同じであるカリックスアレーン系化合物が副生物として生成し得る。
The composition of the present invention may further contain other components other than the compound (1).
Examples of other components include by-products that can be produced during the production of compound (1), materials used in the production of compound (1) (polyhydric phenols, aldehydes, etc. described later), and the like. For example, in the production method described later, a calixarene compound in which all four R 3 in the formula (1) are the same can be produced as a by-product.

本発明の組成物の重量平均分子量(Mw)は、500〜1500であることが好ましく、600〜900であることがより好ましい。
該重量平均分子量(Mw)は、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)により測定される標準ポリスチレン換算の値である。
The weight average molecular weight (Mw) of the composition of the present invention is preferably 500 to 1500, and more preferably 600 to 900.
The weight average molecular weight (Mw) is a standard polystyrene equivalent value measured by gel permeation chromatography (GPC).

本発明の組成物は、例えば、後述する本発明の組成物の製造方法により製造できる。ただし本発明の組成物を製造する方法はこれに限定されるものではない。   The composition of this invention can be manufactured with the manufacturing method of the composition of this invention mentioned later, for example. However, the method for producing the composition of the present invention is not limited thereto.

(作用効果)
本発明の組成物は、化合物(1)を70質量%以上の含有量で含むため、化合物(1)と同様に、一般的なカリックスアレーン系化合物に比べて、極性溶剤に対する溶解性に優れる。また、水酸基と反応する官能基を有する化合物の硬化剤として用いることができ、本発明の組成物を硬化剤として用いることで、硬化物にカリックスアレーン構造を導入し、耐熱性、低熱膨張性、高弾性率等の物性を付与することができる。また、極性溶剤に対する溶解性に優れるため、エポキシ樹脂用硬化剤として本発明の組成物を用いることで、エポキシ樹脂、硬化剤等が溶剤に溶解した樹脂ワニスの固形分濃度を高くすることができ、樹脂ワニスを用いて製造される積層板等の生産性が良好である。また、本発明の組成物を、エポキシ樹脂を製造するための材料として用いることができる。
(Function and effect)
Since the composition of the present invention contains the compound (1) at a content of 70% by mass or more, it is excellent in solubility in a polar solvent as compared with a general calixarene compound, similarly to the compound (1). Moreover, it can be used as a curing agent for a compound having a functional group that reacts with a hydroxyl group, and by using the composition of the present invention as a curing agent, a calixarene structure is introduced into the cured product, heat resistance, low thermal expansion, Physical properties such as high elastic modulus can be imparted. Moreover, since it is excellent in the solubility with respect to a polar solvent, the solid content density | concentration of the resin varnish which the epoxy resin, the hardening | curing agent etc. melt | dissolved in the solvent can be made high by using the composition of this invention as a hardening | curing agent for epoxy resins. The productivity of laminates manufactured using a resin varnish is good. Moreover, the composition of this invention can be used as a material for manufacturing an epoxy resin.

<組成物の製造方法>
本発明の組成物の製造方法は、下記式(2)で表される多価フェノールと、下記式(3)で表される化合物(以下、「化合物(3)」ともいう。)及びその多量体からなる群から選ばれ、Rが互いに異なる少なくとも2種のアルデヒド類と、を反応させる工程を含む。
前記多価フェノールと前記少なくとも2種のアルデヒド類とを反応(縮合反応)させることで、化合物(1)が生成する。
<Method for producing composition>
The production method of the composition of the present invention includes a polyhydric phenol represented by the following formula (2), a compound represented by the following formula (3) (hereinafter also referred to as “compound (3)”), and a large amount thereof. A step of reacting at least two aldehydes selected from the group consisting of bodies and having different R 3 from each other.
A compound (1) is produced by reacting (condensing) the polyhydric phenol with the at least two aldehydes.

Figure 2017061665
(式(2)中、R及びRはそれぞれ独立に、水素原子、水酸基、メチル基又はメトキシ基である。式(3)中、Rは炭素数1〜18のアルキル基、フェニル基、ヒドロキシフェニル基又はメチルフェニル基である。)
Figure 2017061665
(In Formula (2), R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom, a hydroxyl group, a methyl group, or a methoxy group. In Formula (3), R 3 is an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms or a phenyl group. , Hydroxyphenyl group or methylphenyl group.)

式(2)中のR及びRはそれぞれ式(1)中のR及びRに対応する。
前記多価フェノールとしては、例えばレゾルシン、2−メチルレゾルシン、5−メチルレゾルシン、ピロガロール、フロログルシノール、2−メトキシレゾルシン、5−メトキシレゾルシン等が挙げられる。
前記多価フェノールとしては、比較的安価であり、アルデヒド類との反応性が非常に良く、カリックスアレーン構造を得やすい点から、レゾルシンが好ましい。
R 1 and R 2 in the formula (2) correspond to R 1 and R 2 in the formula (1), respectively.
Examples of the polyhydric phenol include resorcin, 2-methylresorcin, 5-methylresorcin, pyrogallol, phloroglucinol, 2-methoxyresorcin, 5-methoxyresorcin and the like.
As the polyhydric phenol, resorcin is preferable because it is relatively inexpensive, has very good reactivity with aldehydes, and easily obtains a calixarene structure.

式(3)中のRは式(1)中のRに対応する。
化合物(3)としては、例えばアセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、n−ブチルアルデヒド、ベンズアルデヒド、2−ヒドロキシベンズアルデヒド、4−ヒドロキシベンズアルデヒド、p−トルアルデヒド等が挙げられる。
化合物(3)の多量体としては、例えばパラアルデヒド(アセトアルデヒドの三量体)が挙げられる。化合物(3)の多量体は、酸の存在下で加熱することにより化合物(3)を生成する。例えば多価フェノールとアルデヒド類とを縮合反応させる際に触媒として無機酸、有機酸等を使用すると、反応条件下で化合物(3)の多量体から化合物(3)が生成する。
R 3 in the formula (3) corresponds to R 3 in the formula (1).
Examples of the compound (3) include acetaldehyde, propionaldehyde, n-butyraldehyde, benzaldehyde, 2-hydroxybenzaldehyde, 4-hydroxybenzaldehyde, p-tolualdehyde and the like.
Examples of the multimer of compound (3) include paraaldehyde (acetaldehyde trimer). The multimer of compound (3) produces compound (3) by heating in the presence of an acid. For example, when an inorganic acid, an organic acid, or the like is used as a catalyst when a polyhydric phenol and an aldehyde are subjected to a condensation reaction, the compound (3) is produced from a multimer of the compound (3) under the reaction conditions.

アルデヒド類としては、Rが互いに異なる少なくとも2種が用いられる。これにより、反応生成物が、4つのRのうち少なくとも2つが互いに異なる化合物(1)を含むものとなる。
1分子の化合物(1)が有し得るRは4つであるが、使用するアルデヒド類は2種、3種又は4種に限定されず、5種以上であってもよい。この場合、有するRの種類が異なる複数の化合物(1)が生成し得る。アセトアルデヒドとパラアルデヒドのような、Rが互いに同じであるアルデヒド類は、1種として取り扱うものとする。
As the aldehydes, at least two kinds of R 3 different from each other are used. Thereby, the reaction product includes a compound (1) in which at least two of the four R 3 are different from each other.
One molecule of compound (1) may have four R 3 , but the number of aldehydes to be used is not limited to two, three or four, and may be five or more. In this case, a plurality of compounds (1) having different types of R 3 can be produced. Aldehydes having the same R 3 , such as acetaldehyde and paraaldehyde, are treated as one type.

前記少なくとも2種のアルデヒド類の組み合わせとしては、例えば、パラアルデヒドとn−ブチルアルデヒドとの組み合わせ、プロピオンアルデヒドとn−ブチルアルデヒドとの組み合わせ、パラアルデヒドとプロピオンアルデヒドとn−ブチルアルデヒドとの組み合わせ、メチル基とエチル基の組み合わせ、n−プロピル基とn−ブチル基との組み合わせ、n−ブチル基とペンチル基との組み合わせ、メチル基とエチル基とn−プロピル基とn−ブチル基との組み合わせ等が挙げられる。
上記の中でも、比較的安価であり、多価フェノールとの反応性が良く、得られる組成物の極性溶剤に対する溶解性がより優れ、硬化物に耐熱性、低熱膨張性が付与でき、燃焼性の低減が出来る点で、パラアルデヒドとn−ブチルアルデヒドとの組み合わせ、プロピオンアルデヒドとn−ブチルアルデヒドとの組み合わせ、又はパラアルデヒドとプロピオンアルデヒドとn−ブチルアルデヒドとの組み合わせが好ましい。
Examples of the combination of the at least two aldehydes include, for example, a combination of paraaldehyde and n-butyraldehyde, a combination of propionaldehyde and n-butyraldehyde, a combination of paraaldehyde, propionaldehyde and n-butyraldehyde, Combination of methyl group and ethyl group, combination of n-propyl group and n-butyl group, combination of n-butyl group and pentyl group, combination of methyl group, ethyl group, n-propyl group and n-butyl group Etc.
Among the above, it is relatively inexpensive, has good reactivity with polyhydric phenols, has better solubility in the polar solvent of the resulting composition, can impart heat resistance and low thermal expansion to the cured product, and is flammable. In terms of reduction, a combination of paraaldehyde and n-butyraldehyde, a combination of propionaldehyde and n-butyraldehyde, or a combination of paraaldehyde, propionaldehyde and n-butyraldehyde is preferable.

前記少なくとも2種のアルデヒド類のモル比は、特に限定されないが、前記少なくとも2種のアルデヒド類のうち、量が最も多い1種のアルデヒド類(以下、「第一のアルデヒド類」ともいう。)1モルに対する他のアルデヒド類の割合が0.25〜1モルであることが好ましく、0.5〜1モルがより好ましい。
第一のアルデヒド類1モルに対する他のアルデヒド類の割合が前記範囲の下限値以上であれば、多価フェノールとアルデヒド類とを反応させたときに、式(1)中の4つのRが全て同じである化合物が生成しにくい。つまり化合物(1)が生成しやすく、多価フェノールとアルデヒド類との反応生成物中の化合物(1)の存在比率が高くなる。
The molar ratio of the at least two aldehydes is not particularly limited, but one of the at least two aldehydes having the largest amount (hereinafter also referred to as “first aldehyde”). It is preferable that the ratio of the other aldehydes with respect to 1 mol is 0.25-1 mol, and 0.5-1 mol is more preferable.
If the ratio of the other aldehydes relative to 1 mol of the first aldehyde is equal to or greater than the lower limit of the above range, when the polyhydric phenol and the aldehyde are reacted, the four R 3 in the formula (1) are It is difficult to produce compounds that are all the same. That is, compound (1) is easy to produce, and the abundance ratio of compound (1) in the reaction product of polyhydric phenol and aldehydes is increased.

ここで、アルデヒド類の量(モル量)は、化合物(3)換算の量であり、多量体の場合は、多量体のモル量に多量体の重合度を乗じた値である。例えばパラアルデヒドの1モルは、化合物(3)換算で3モルである。
量が最も多いアルデヒド類が2種以上存在する場合は、それらの内の任意の1種を第一のアルデヒド類とする。
他のアルデヒド類が2種以上存在する場合、他のアルデヒド類の割合は、2種以上の他のアルデヒド類の合計での割合ではなく、2種以上の他のアルデヒド類それぞれの割合である。
Here, the amount of aldehydes (molar amount) is the amount in terms of compound (3), and in the case of multimers, it is a value obtained by multiplying the molar amount of multimers by the polymerization degree of multimers. For example, 1 mol of paraaldehyde is 3 mol in terms of compound (3).
When two or more aldehydes having the largest amount are present, any one of them is the first aldehyde.
When two or more other aldehydes are present, the ratio of the other aldehydes is not the ratio of the total of two or more other aldehydes, but the ratio of each of the two or more other aldehydes.

前記多価フェノールに対する前記少なくとも2種のアルデヒド類のモル比(アルデヒド類/多価フェノール)は、0.50〜1.20が好ましく、0.50〜1.00がより好ましい。アルデヒド類/多価フェノールのモル比が前記範囲の下限値以上であれば、歩留まりが良好であり、前記範囲の上限値以下であれば、アルデヒド類が余剰になることのコストアップを抑制でき、また、余剰のアルデヒド類の除去が容易である。
なお、ここでのアルデヒド類のモル量は、化合物(3)換算の量である。
The molar ratio of the at least two aldehydes to the polyhydric phenol (aldehydes / polyhydric phenol) is preferably 0.50 to 1.20, and more preferably 0.50 to 1.00. If the molar ratio of aldehydes / polyhydric phenol is not less than the lower limit of the range, the yield is good, and if it is not more than the upper limit of the range, it is possible to suppress an increase in cost due to excess aldehydes, Moreover, it is easy to remove excess aldehydes.
In addition, the molar amount of aldehydes here is an amount in terms of compound (3).

前記多価フェノールと前記少なくとも2種のアルデヒド類との反応は、常法により行うことができる。
上記反応は、反応速度の観点から、触媒の存在下で行うことが好ましい。
上記反応は、前記多価フェノールおよび前記少なくとも2種のアルデヒド類を溶解し、化合物(1)を溶解しない溶媒(以下、「反応溶媒」ともいう。)中で行うことが好ましい。反応溶媒中で反応を行うと、生成した化合物(1)を反応溶媒中に析出させることができる。
前記多価フェノールと前記少なくとも2種のアルデヒド類とを反応させる方法としては、前記反応溶媒に前記多価フェノールを溶解し、そこに前記少なくとも2種のアルデヒド類を滴下する方法が好ましい。アルデヒド類は反応性が高いため、反応させる全量を一度に反応系に存在させた場合、化合物(1)以外の副生物が生じやすい。アルデヒド類を徐々に反応系に加えることで、副生物の生成を抑制できる。また、生成した化合物(1)は析出するため、化合物(1)の反応性は低く、化合物(1)と他の成分との反応や化合物(1)の分解が生じにくい。そのため、得られる反応生成物が、化合物(1)を70質量%以上の含有量で含むものとなりやすく、反応溶媒から回収した反応生成物をそのまま本発明の組成物とすることができる。
反応溶媒に触媒が添加されていてもよい。
The reaction between the polyhydric phenol and the at least two aldehydes can be performed by a conventional method.
The above reaction is preferably performed in the presence of a catalyst from the viewpoint of reaction rate.
The above reaction is preferably performed in a solvent that dissolves the polyhydric phenol and the at least two aldehydes and does not dissolve the compound (1) (hereinafter also referred to as “reaction solvent”). When the reaction is carried out in a reaction solvent, the produced compound (1) can be precipitated in the reaction solvent.
As a method for reacting the polyhydric phenol with the at least two aldehydes, a method in which the polyhydric phenol is dissolved in the reaction solvent and the at least two aldehydes are dropped therein is preferable. Since aldehydes are highly reactive, by-products other than compound (1) are likely to be produced when the entire amount to be reacted is present in the reaction system at one time. By gradually adding aldehydes to the reaction system, generation of by-products can be suppressed. Moreover, since the produced | generated compound (1) precipitates, the reactivity of a compound (1) is low, and reaction with a compound (1) and another component and decomposition | disassembly of a compound (1) do not occur easily. Therefore, the obtained reaction product tends to contain the compound (1) at a content of 70% by mass or more, and the reaction product recovered from the reaction solvent can be used as it is as the composition of the present invention.
A catalyst may be added to the reaction solvent.

触媒としては、反応が進行すれば特に制限はなく、公知の触媒種、例えば無機酸、有機酸を用いることができる。具体例としては、臭化水素酸、塩酸、硫酸、リン酸、シュウ酸、トリフルオロ酢酸、p−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、3フッ化ホウ素等が挙げられる。   The catalyst is not particularly limited as long as the reaction proceeds, and known catalyst species such as inorganic acids and organic acids can be used. Specific examples include hydrobromic acid, hydrochloric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, oxalic acid, trifluoroacetic acid, p-toluenesulfonic acid, methanesulfonic acid, and boron trifluoride.

触媒の量は、前記多価フェノールに対して1.0〜100.0質量%が好ましく、5.0〜50.0質量%がより好ましい。触媒量が前記範囲の下限値以上であれば、反応速度を充分に速くすることができる。触媒量が前記範囲の上限値以下であれば、反応が急激に進みにくく、反応をコントロールしやすい。   1.0-100.0 mass% is preferable with respect to the said polyhydric phenol, and, as for the quantity of a catalyst, 5.0-50.0 mass% is more preferable. If the amount of catalyst is not less than the lower limit of the above range, the reaction rate can be sufficiently increased. If the amount of catalyst is less than or equal to the upper limit of the above range, the reaction does not proceed rapidly and the reaction is easy to control.

反応溶媒としては、反応中に化合物(1)が析出し得るものであれば特に制限はないが、水又は炭化水素系溶剤が好ましい。炭化水素系溶剤としては、例えばノルマルヘキサン、シクロヘキサン、トルエン等が挙げられる。
反応溶媒としては、比較的安価であり、化合物(1)を容易に析出させることが可能であることから、水、ノルマルヘキサン、トルエンが好ましい。
反応溶媒は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
The reaction solvent is not particularly limited as long as the compound (1) can be precipitated during the reaction, but water or a hydrocarbon solvent is preferable. Examples of the hydrocarbon solvent include normal hexane, cyclohexane, toluene and the like.
As the reaction solvent, water, normal hexane, and toluene are preferable because they are relatively inexpensive and allow the compound (1) to be easily precipitated.
A reaction solvent may be used individually by 1 type, and 2 or more types may be mixed and used for it.

反応溶媒の量は、反応中に化合物(1)が析出し得る量であれば特に制限はないが、多価フェノールに対し、50〜400質量%が好ましく、100〜300質量%がより好ましい。反応溶媒の量が前記範囲の下限値以上であれば、反応溶媒中の析出物の濃度が充分に低く、反応溶媒の撹拌が容易である。反応溶媒の量が前記範囲の上限値以下であれば、化合物(1)以外の副生物の生成を抑制でき、また、反応が充分に速く進む。また、廃液の量が増加することによるコストアップを抑制できる。   The amount of the reaction solvent is not particularly limited as long as the compound (1) can be precipitated during the reaction, but is preferably 50 to 400% by mass and more preferably 100 to 300% by mass with respect to the polyhydric phenol. When the amount of the reaction solvent is not less than the lower limit of the above range, the concentration of the precipitate in the reaction solvent is sufficiently low, and the reaction solvent can be easily stirred. When the amount of the reaction solvent is not more than the upper limit of the above range, the production of by-products other than the compound (1) can be suppressed, and the reaction proceeds sufficiently quickly. Further, an increase in cost due to an increase in the amount of waste liquid can be suppressed.

前記多価フェノールと前記少なくとも2種のアルデヒド類との反応温度は、20℃〜150℃が好ましく、60〜100℃がより好ましい。反応温度が前記範囲の下限値以上であれば、反応が進みやすく、また、反応生成物の分子量分散度が狭くなり、本発明の組成物を容易に得ることができる。また、反応生成物が析出した反応溶媒の撹拌が容易である。反応温度が前記範囲の上限値以下であれば、反応をコントロールしやすい。   The reaction temperature between the polyhydric phenol and the at least two aldehydes is preferably 20 ° C to 150 ° C, more preferably 60 to 100 ° C. When the reaction temperature is equal to or higher than the lower limit of the above range, the reaction is easy to proceed and the molecular weight dispersity of the reaction product is narrowed, so that the composition of the present invention can be easily obtained. Further, the reaction solvent in which the reaction product is precipitated can be easily stirred. If reaction temperature is below the upper limit of the said range, it will be easy to control reaction.

前記多価フェノールが溶解した反応溶媒への前記少なくとも2種のアルデヒド類の滴下時間(滴下を開始してから滴下を終了するまでの時間)は、1〜20時間が好ましく、3〜10時間がより好ましい。滴下時間が前記範囲の下限値以上であれば、反応生成物の分子量分散度が狭くなり、本発明の組成物を容易に得ることができる。また、反応生成物が析出した反応溶媒の撹拌が容易である。滴下時間が前記範囲の上限値以下であれば、生産性が良好である。   The dropping time of the at least two aldehydes into the reaction solvent in which the polyhydric phenol is dissolved (the time from the start of dropping until the dropping is finished) is preferably 1 to 20 hours, and 3 to 10 hours. More preferred. When the dropping time is at least the lower limit of the above range, the molecular weight dispersion of the reaction product becomes narrow, and the composition of the present invention can be easily obtained. Further, the reaction solvent in which the reaction product is precipitated can be easily stirred. If the dropping time is not more than the upper limit of the above range, the productivity is good.

反応溶媒中に析出した反応生成物は、ろ過等の公知の固液分離処理により回収できる。回収後、必要に応じて、水洗、精製、再結晶等を行ってもよい。   The reaction product precipitated in the reaction solvent can be recovered by a known solid-liquid separation process such as filtration. After recovery, washing, purification, recrystallization, etc. may be performed as necessary.

前記多価フェノールと前記少なくとも2種のアルデヒド類との反応により得られる反応生成物は、化合物(1)を70質量%以上の含有量で含んでいれば、そのまま本発明の組成物とすることができる。
反応生成物中の化合物(1)の構造は、13C−核磁気共鳴分析(NMR)、電界脱離質量分析(FD−MS)、液体クロマトグラフ質量分析(LC−MS)、飛行時間型質量分析(TOF−MS)等の公知の分析方法により確認できる。
反応生成物中の化合物(1)の含有量(純度)は、ゲル浸透クロマトグラフ分析(GPC)、液体クロマトグラフィー(LC)等の公知の分析方法により確認できる。
If the reaction product obtained by the reaction of the polyhydric phenol and the at least two aldehydes contains the compound (1) in a content of 70% by mass or more, it is used as it is as the composition of the present invention. Can do.
The structure of the compound (1) in the reaction product is as follows: 13 C-nuclear magnetic resonance analysis (NMR), field desorption mass spectrometry (FD-MS), liquid chromatograph mass spectrometry (LC-MS), time-of-flight mass It can be confirmed by a known analysis method such as analysis (TOF-MS).
The content (purity) of the compound (1) in the reaction product can be confirmed by a known analysis method such as gel permeation chromatography (GPC) or liquid chromatography (LC).

<エポキシ樹脂用硬化剤>
本発明のエポキシ樹脂用硬化剤は、前述の本発明の組成物からなる。すなわち、化合物(1)を70質量%以上の含有量で含む。本発明のエポキシ樹脂用硬化剤の好ましい態様は、本発明の組成物の好ましい態様と同様である。
<Curing agent for epoxy resin>
The epoxy resin curing agent of the present invention comprises the above-described composition of the present invention. That is, the compound (1) is contained at a content of 70% by mass or more. The preferable aspect of the hardening | curing agent for epoxy resins of this invention is the same as the preferable aspect of the composition of this invention.

<エポキシ樹脂組成物>
本発明のエポキシ樹脂組成物は、エポキシ樹脂と、前述の本発明のエポキシ樹脂用硬化剤と、を含む。
本発明のエポキシ樹脂組成物は、必要に応じて、エポキシ樹脂及び本発明のエポキシ樹脂用硬化剤以外の他の成分をさらに含んでもよい。他の成分としては、例えば硬化促進剤、フィラー(例えばカーボンブラック、ガラスクロス、シリカ)、難燃剤、添加剤(ワックス)等が挙げられる。本発明の効果を損なわない範囲で、本発明のエポキシ樹脂用硬化剤以外の他の硬化剤をさらに含んでもよい。
本発明のエポキシ樹脂組成物は、必要に応じて、溶剤を含んでもよい。例えば、本発明のエポキシ樹脂組成物を積層板の製造に用いる場合は、溶剤を含むことが好ましい。本発明のエポキシ樹脂組成物を半導体封止材として用いる場合は、溶剤を含まないことが好ましい。
<Epoxy resin composition>
The epoxy resin composition of the present invention contains an epoxy resin and the aforementioned curing agent for epoxy resin of the present invention.
The epoxy resin composition of this invention may further contain other components other than the epoxy resin and the hardening | curing agent for epoxy resins of this invention as needed. Examples of other components include a curing accelerator, a filler (for example, carbon black, glass cloth, silica), a flame retardant, and an additive (wax). In the range which does not impair the effect of this invention, you may further contain other hardening | curing agents other than the hardening | curing agent for epoxy resins of this invention.
The epoxy resin composition of the present invention may contain a solvent, if necessary. For example, when using the epoxy resin composition of this invention for manufacture of a laminated board, it is preferable that a solvent is included. When using the epoxy resin composition of this invention as a semiconductor sealing material, it is preferable not to contain a solvent.

エポキシ樹脂としては、特に限定されず、公知のエポキシ樹脂であってよく、例えばフェノールノボラック型エポキシ樹脂、オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビフェノール型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、アントラセン型エポキシ樹脂、ナフトール型エポキシ樹脂、キシリレン型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、トリフェニルメタン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、スチルベン型エポキシ樹脂、硫黄原子含有エポキシ樹脂、リン原子含有エポキシ樹脂等が挙げられる。これらのエポキシ樹脂はいずれか1種を単独で用いてもよく2種以上を組合わせて用いてもよい。   The epoxy resin is not particularly limited and may be a known epoxy resin, such as a phenol novolac type epoxy resin, an orthocresol novolac type epoxy resin, a bisphenol A type epoxy resin, a bisphenol F type epoxy resin, a biphenol type epoxy resin, Naphthalene type epoxy resin, anthracene type epoxy resin, naphthol type epoxy resin, xylylene type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, triphenylmethane type epoxy resin, dicyclopentadiene type epoxy resin, stilbene type epoxy resin, sulfur atom-containing epoxy resin, A phosphorus atom containing epoxy resin etc. are mentioned. Any one of these epoxy resins may be used alone, or two or more thereof may be used in combination.

硬化促進剤としては、特に限定されず、公知の硬化促進剤であってよく、例えばリン系化合物、第3級アミン、イミダゾール、有機酸金属塩、ルイス酸、アミン錯塩等が挙げられる。これらの中でも、硬化性、耐熱性、電気特性がより優れる点、耐湿信頼性が低下しにくい点で、リン系化合物、第3級アミン、イミダゾールが好ましい。リン系化合物としては、例えばトリフェニルホスフィン等が挙げられる。第3級アミンとしては、例えば1,8−ジアザビシクロ−[5.4.0]ウンデセン等が挙げられる。これらの硬化促進剤はいずれか1種を単独で用いてもよく2種以上を組合わせて用いてもよい。   The curing accelerator is not particularly limited and may be a known curing accelerator, and examples thereof include phosphorus compounds, tertiary amines, imidazoles, organic acid metal salts, Lewis acids, and amine complex salts. Among these, phosphorus compounds, tertiary amines, and imidazoles are preferable because they are more excellent in curability, heat resistance, and electrical properties, and are less likely to deteriorate moisture resistance reliability. Examples of the phosphorus compound include triphenylphosphine. Examples of the tertiary amine include 1,8-diazabicyclo- [5.4.0] undecene. Any one of these curing accelerators may be used alone, or two or more thereof may be used in combination.

本発明のエポキシ樹脂用硬化剤は他の硬化剤を併用してもよい。他の硬化剤としては、エポキシ樹脂に用いられる硬化剤として公知のものを用いることができ、例えばフェノールノボラック樹脂、トリフェニルメタン型フェノール樹脂等のフェノール樹脂、酸無水物、アミン樹脂等が挙げられる。   The curing agent for epoxy resin of the present invention may be used in combination with other curing agents. As other curing agents, those known as curing agents used for epoxy resins can be used, and examples thereof include phenol resins such as phenol novolac resins and triphenylmethane type phenol resins, acid anhydrides, and amine resins. .

溶剤としては、エポキシ樹脂、硬化剤、硬化促進剤等を溶解するものであれば特に制限はなく、典型的には、極性溶剤が用いられる。極性溶剤としては、例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチル−2−ピロリドン、メタノール、エタノール、ブタノール、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルセロソルブ、エチルジグリコールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、テトラヒドロフラン等が挙げられる。   The solvent is not particularly limited as long as it can dissolve an epoxy resin, a curing agent, a curing accelerator, and the like, and a polar solvent is typically used. Examples of polar solvents include acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, N, N-dimethylformamide, N-methyl-2-pyrrolidone, methanol, ethanol, butanol, ethyl acetate, butyl acetate, methyl cellosolve, ethyl diglycol acetate , Propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, tetrahydrofuran and the like.

エポキシ樹脂組成物中、本発明のエポキシ樹脂用硬化剤の含有量は、エポキシ樹脂のエポキシ基当量と、本発明のエポキシ樹脂用硬化剤の水酸基当量との比(エポキシ基当量/水酸基当量)が0.7〜1.5となる量であることが好ましい。エポキシ基当量/水酸基当量は、0.95〜1.05がより好ましい。エポキシ基当量/水酸基当量が前記範囲内であれば、得られる硬化物の物性が良好である。例えば高耐熱性、低熱膨張性、高弾性率の硬化物が得られる。   In the epoxy resin composition, the content of the curing agent for epoxy resin of the present invention is the ratio of the epoxy group equivalent of the epoxy resin and the hydroxyl equivalent of the curing agent for epoxy resin of the present invention (epoxy group equivalent / hydroxyl group equivalent). The amount is preferably 0.7 to 1.5. The epoxy group equivalent / hydroxyl group equivalent is more preferably 0.95 to 1.05. When the epoxy group equivalent / hydroxyl group equivalent is within the above range, the resulting cured product has good physical properties. For example, a cured product having high heat resistance, low thermal expansion, and high elastic modulus can be obtained.

硬化促進剤の含有量は、エポキシ樹脂に対し、0.1〜5質量%が好ましい。
溶剤の含有量は、本発明のエポキシ樹脂組成物の固形分濃度が20〜70質量%となる量が好ましく、本発明のエポキシ樹脂組成物の固形分濃度が40〜60質量%となる量がより好ましい。
As for content of a hardening accelerator, 0.1-5 mass% is preferable with respect to an epoxy resin.
The amount of the solvent is preferably such that the solid content concentration of the epoxy resin composition of the present invention is 20 to 70% by mass, and the amount of the solid content concentration of the epoxy resin composition of the present invention is 40 to 60% by mass. More preferred.

(作用効果)
本発明のエポキシ樹脂組成物は、本発明のエポキシ樹脂用硬化剤を含むため、得られる硬化物が耐熱性、低熱膨張性、高弾性率等の物性を有する。そのため、本発明のエポキシ樹脂組成物の硬化物は、例えば半導体装置の部材(プリント配線基板、半導体封止部等)を構成する材料として有用である。
また、本発明のエポキシ樹脂用硬化剤は、一般的なカリックスアレーン系化合物に比べて、極性溶剤に対する溶解性が優れる。そのため、本発明のエポキシ樹脂組成物を、エポキシ樹脂、エポキシ樹脂用硬化剤等が極性溶剤に溶解したワニス状のものとする場合、一般的なカリックスアレーン系化合物を硬化剤として用いる場合に比べて、固形分濃度を高くすることができる。かかるワニス状のエポキシ樹脂組成物は、例えば積層板の製造用として有用である。
(Function and effect)
Since the epoxy resin composition of the present invention contains the epoxy resin curing agent of the present invention, the resulting cured product has physical properties such as heat resistance, low thermal expansion, and high elastic modulus. Therefore, the cured product of the epoxy resin composition of the present invention is useful as a material constituting, for example, a member of a semiconductor device (printed wiring board, semiconductor sealing portion, etc.).
Moreover, the hardening | curing agent for epoxy resins of this invention is excellent in the solubility with respect to a polar solvent compared with a general calixarene type compound. Therefore, when the epoxy resin composition of the present invention is a varnish in which an epoxy resin, a curing agent for epoxy resin, etc. are dissolved in a polar solvent, compared to a case where a general calixarene compound is used as a curing agent. The solid content concentration can be increased. Such a varnish-like epoxy resin composition is useful, for example, for producing a laminated board.

本発明のエポキシ樹脂組成物は、熱硬化させて硬化物とすることができる。熱硬化させる際の加熱温度は、180℃〜220℃が好ましい。   The epoxy resin composition of the present invention can be thermally cured to obtain a cured product. As for the heating temperature at the time of making it thermoset, 180 to 220 degreeC is preferable.

<積層板>
本発明の積層板は、層を構成する樹脂成分として本発明のエポキシ樹脂組成物の硬化物を含む以外は、公知の積層板と同様の構成であってよい。
本発明の積層板は、本発明のエポキシ樹脂組成物を用い、公知の方法を利用して製造できる。例えば、本発明のエポキシ樹脂組成物として溶剤を含むワニス状のものを調製し、該エポキシ樹脂組成物を基材に含浸させ、乾燥してプリプレグを得て、該プリプレグを単独で又は複数枚を重ね、必要に応じて片面又は両面にさらに銅箔等の金属箔を重ね、熱プレスする方法が挙げられる。熱プレスにより、乾燥したエポキシ樹脂組成物が硬化し、基材と硬化物とを含む層が形成される。
基材としては、紙、綿、ガラス、炭素繊維等が挙げられる。
<Laminated plate>
The laminated board of this invention may be the same structure as a well-known laminated board except including the hardened | cured material of the epoxy resin composition of this invention as a resin component which comprises a layer.
The laminated board of this invention can be manufactured using a known method using the epoxy resin composition of this invention. For example, a varnish containing a solvent is prepared as the epoxy resin composition of the present invention, the substrate is impregnated with the epoxy resin composition, dried to obtain a prepreg, and the prepreg is used alone or in a plurality of sheets. There is a method in which a metal foil such as a copper foil is further laminated on one side or both sides as necessary, followed by hot pressing. The dried epoxy resin composition is cured by hot pressing, and a layer including the base material and the cured product is formed.
Examples of the substrate include paper, cotton, glass, carbon fiber and the like.

<半導体封止材>
本発明の半導体封止材は、構成する樹脂成分として本発明のエポキシ樹脂組成物を含む以外は、公知の封止材と同様の構成であってよい。
<Semiconductor encapsulant>
The semiconductor sealing material of the present invention may have the same configuration as that of a known sealing material except that the epoxy resin composition of the present invention is included as a constituent resin component.

<半導体装置>
本発明の半導体装置は、半導体封止部として本発明のエポキシ樹脂組成物の硬化物を含むものを備える以外は、公知の半導体装置と同様の構成であってよい。
本発明のエポキシ樹脂組成物を用いて半導体封止部を形成(半導体を封止)する方法としては、公知の方法、例えばトランスファー成形法、圧縮成形法等、を用いることができる。
<Semiconductor device>
The semiconductor device of the present invention may have the same configuration as that of a known semiconductor device, except that the semiconductor encapsulating part includes a cured product of the epoxy resin composition of the present invention.
As a method for forming a semiconductor sealing portion (sealing a semiconductor) using the epoxy resin composition of the present invention, a known method such as a transfer molding method or a compression molding method can be used.

以下に、本発明を実施例によってさらに詳しく説明するが、本発明は実施例に限定されるものではない。
以下の各例において「%」は、特に限定のない場合は「質量%」を示す。
以下の各例において、ゲル浸透クロマトグラフィー分析(GPC法による測定)は、GPC測定装置として東ソー社製HLC8120GPC、カラムとしてカラム:TSKgel(登録商標) G3000H+G2000H+G2000Hを用いて行った。水酸基当量は、自動滴定装置(平沼産業社製COM−1700S)を用い、無水酢酸によるアセチル化法で測定した。13C−核磁気共鳴(NMR)分析は、日本電子社製LA−400を用いて行った。電界脱離質量分析(FD−MS)は、日本電子社製SX−102Aを用いて行った。
EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to examples below, but the present invention is not limited to the examples.
In the following examples, “%” indicates “% by mass” unless otherwise specified.
In each of the following examples, gel permeation chromatography analysis (measurement by GPC method) was performed using HLC8120GPC manufactured by Tosoh Corporation as a GPC measurement apparatus and a column: TSKgel (registered trademark) G3000H + G2000H + G2000H as a column. The hydroxyl equivalent was measured by an acetylation method using acetic anhydride using an automatic titrator (COM-1700S manufactured by Hiranuma Sangyo Co., Ltd.). 13 C-nuclear magnetic resonance (NMR) analysis was performed using LA-400 manufactured by JEOL Ltd. Field desorption mass spectrometry (FD-MS) was performed using SX-102A manufactured by JEOL Ltd.

<実施例1>
レゾルシンとパラアルデヒドとn−ブチルアルデヒドとの反応:
温度計、攪拌機、冷却管を備えた内容量1Lのガラス製反応容器に水220.0g、レゾルシン110.1g(1.0mol)、35%塩酸16.5gを仕込み、90℃まで昇温した。そこに、パラアルデヒド19.8g(0.15mol)とn−ブチルアルデヒド32.4g(0.45mol)とを予め混合した混合溶液を6時間かけて滴下し、その後1時間反応を行った。反応中、反応液中に析出物が確認された。次いで、反応液を30%NaOHで中和し、ろ過して析出物を回収した。得られた析出物に対し、水洗浄とろ過とを洗浄水が中性になるまで繰り返し行った後、真空乾燥により水分を除去し、組成物Aを得た。
<Example 1>
Reaction of resorcin, paraaldehyde and n-butyraldehyde:
A glass reaction vessel having an internal volume of 1 L equipped with a thermometer, a stirrer, and a cooling tube was charged with 220.0 g of water, 110.1 g (1.0 mol) of resorcin, and 16.5 g of 35% hydrochloric acid, and the temperature was raised to 90 ° C. Thereto, a mixed solution in which 19.8 g (0.15 mol) of paraaldehyde and 32.4 g (0.45 mol) of n-butyraldehyde were mixed in advance was dropped over 6 hours, and then the reaction was performed for 1 hour. During the reaction, precipitates were confirmed in the reaction solution. Next, the reaction solution was neutralized with 30% NaOH and filtered to collect the precipitate. The obtained precipitate was repeatedly washed with water and filtered until the washing water became neutral, and then water was removed by vacuum drying to obtain a composition A.

得られた組成物Aについて、GPC測定を行ったところ、組成物Aの標準ポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)は675、分散度(Mw/数平均分子量(Mn))は1.028、純度は97%であった。また、組成物Aの水酸基当量は76.0g/eqであった。ここで、純度は、組成物Aの総質量に対する、化合物(1)に相当する化合物の割合であり、以下においても同様である。
また、組成物Aについて、13C−NMR、FD−MSによる構造解析を実施した。それぞれの結果を以下に示す。また、図1に、13C−NMRスペクトルの測定結果を示すチャートを、図2に、FD−MSスペクトルの測定結果を示すチャートをそれぞれ示す。これらの結果から、組成物Aに含まれる化合物が下記式(1−1)で表される構造を有することが確認された。式(1−1)中の各炭素原子の位置に示した符号a〜jは、13C−NMRのデータにおける炭素に付した符号に対応するものである 。
13C−NMR(400MHz,acetone−d):δ(ppm)=152−154(m,1.0C,aromatic C)、124−128(m,1.5C,aromatic C,C)、102−104(s,0.5C,aromatic C)、32−37(d,0.5C,C,C)、27−29(s,0.25C,C)、19−23(d,0.5C,C,C)、13−15(s,0.25C,C)。
FD−MS:545m/z、573m/z、601m/z、629m/z、657m/zの各化合物が示された。
When GPC measurement was performed on the obtained composition A, the weight average molecular weight (Mw) in terms of standard polystyrene of the composition A was 675, the degree of dispersion (Mw / number average molecular weight (Mn)) was 1.028, and purity. Was 97%. Moreover, the hydroxyl equivalent of the composition A was 76.0 g / eq. Here, the purity is the ratio of the compound corresponding to the compound (1) with respect to the total mass of the composition A, and the same applies to the following.
Moreover, about the composition A, the structural analysis by < 13 > C-NMR and FD-MS was implemented. Each result is shown below. FIG. 1 shows a chart showing the measurement result of the 13 C-NMR spectrum, and FIG. 2 shows a chart showing the measurement result of the FD-MS spectrum. From these results, it was confirmed that the compound contained in the composition A has a structure represented by the following formula (1-1). The symbols a to j shown at the positions of the carbon atoms in the formula (1-1) correspond to the symbols attached to the carbon in the 13 C-NMR data.
13 C-NMR (400 MHz, acetone-d 6 ): δ (ppm) = 152-154 (m, 1.0 C, aromatic C a ), 124-128 (m, 1.5 C, aromatic C b , C c ) , 102-104 (s, 0.5 C, aromatic C d ), 32-37 (d, 0.5 C, C e , C f ), 27-29 (s, 0.25 C, C i ), 19-23 (D, 0.5 C, C g , C j ), 13-15 (s, 0.25 C, C h ).
FD-MS: Each compound of 545 m / z, 573 m / z, 601 m / z, 629 m / z, and 657 m / z was shown.

Figure 2017061665
Figure 2017061665

<実施例2>
レゾルシンとプロピオンアルデヒドとn−ブチルアルデヒドとの反応:
温度計、攪拌機、冷却管を備えた内容量1Lのガラス製反応容器に水220.0g、レゾルシン110.1g(1.0mol)、35%塩酸16.5gを仕込み、90℃まで昇温した。そこに、プロピオンアルデヒド26.1g(0.45mol)とn−ブチルアルデヒド32.4g(0.45mol)とを予め混合した混合溶液を6時間かけて滴下し、その後1時間反応を行った。反応中、反応液中に析出物が確認された。次いで、反応液を30%NaOHで中和し、ろ過して析出物を回収した。得られた析出物に対し、水洗浄とろ過を洗浄水が中性になるまで繰り返し行った後、真空乾燥により水分を除去し、組成物Bを得た。
得られた組成物Bについて、実施例1と同様の条件でGPCを行った。その結果、組成物Bの重量平均分子量(Mw)は826、分散度(Mw/Mn)は1.099、純度は91%であった。また、水酸基当量は80.5g/eqであった。
また、組成物Bについて、FD−MSを用いて実施例1と同様の条件で構造解析を実施した。結果を以下に示す。また、図3に、FD−MSスペクトルの測定結果を示すチャートを示す。この結果から、組成物Bに含まれる化合物が、実施例1と同様に、カリックスアレーン構造を有することが確認された。
FD−MS:601m/z、615m/z、629m/z、643m/z、657m/zの各化合物が示された。
<Example 2>
Reaction of resorcin, propionaldehyde and n-butyraldehyde:
A glass reaction vessel having an internal volume of 1 L equipped with a thermometer, a stirrer, and a cooling tube was charged with 220.0 g of water, 110.1 g (1.0 mol) of resorcin, and 16.5 g of 35% hydrochloric acid, and the temperature was raised to 90 ° C. Thereto, a mixed solution in which 26.1 g (0.45 mol) of propionaldehyde and 32.4 g (0.45 mol) of n-butyraldehyde were mixed in advance was dropped over 6 hours, and then the reaction was performed for 1 hour. During the reaction, precipitates were confirmed in the reaction solution. Next, the reaction solution was neutralized with 30% NaOH and filtered to collect the precipitate. The obtained precipitate was repeatedly washed with water and filtered until the washing water became neutral, and then water was removed by vacuum drying to obtain Composition B.
About the obtained composition B, GPC was performed on the conditions similar to Example 1. FIG. As a result, the weight average molecular weight (Mw) of the composition B was 826, the dispersity (Mw / Mn) was 1.099, and the purity was 91%. The hydroxyl equivalent was 80.5 g / eq.
Moreover, about the composition B, the structural analysis was implemented on the conditions similar to Example 1 using FD-MS. The results are shown below. FIG. 3 shows a chart showing the measurement results of the FD-MS spectrum. From this result, it was confirmed that the compound contained in the composition B had a calixarene structure as in Example 1.
FD-MS: Each compound of 601 m / z, 615 m / z, 629 m / z, 643 m / z, and 657 m / z was shown.

<実施例3>
レゾルシンとパラアルデヒドとプロピオンアルデヒドとn−ブチルアルデヒドの反応:
温度計、攪拌機、冷却管を備えた内容量1Lのガラス製反応容器に水220.0g、レゾルシン110.1g(1.0mol)、35%塩酸16.5gを仕込み、90℃まで昇温した。そこに、パラアルデヒド13.2g(0.1mol)とプロピオンアルデヒド17.4g(0.3mol)とn−ブチルアルデヒド21.6g(0.3mol)とを予め混合した混合溶液を6時間かけて滴下し、その後1時間反応を行った。反応中、反応液中に析出物が確認された。次いで、反応液を30%NaOHで中和し、ろ過して析出物を回収した。得られた析出物に対し、水洗浄とろ過を洗浄水が中性になるまで繰り返し行った後、真空乾燥により水分を除去し、組成物Cを得た。
得られた組成物Cについて実施例1と同様の条件でGPCを行った。その結果、組成物Cの重量平均分子量(Mw)は686、分散度(Mw/Mn)は1.033、純度は97%であった。また、水酸基当量は77.6g/eqであった。
また、組成物Cについて、FD−MSを用いて実施例1と同様の条件で構造解析を実施した。結果を以下に示す。また、図4に、FD−MSスペクトルの測定結果を示すチャートを示す。この結果から、組成物Cに含まれる化合物が、実施例1と同様に、カリックスアレーン構造を有することが確認された。
FD−MS:545m/z、559m/z、573m/z、587m/z、601m/z、615m/z、629m/z、643m/z、657m/zの各化合物が示された。
<Example 3>
Reaction of resorcin, paraaldehyde, propionaldehyde and n-butyraldehyde:
A glass reaction vessel having an internal volume of 1 L equipped with a thermometer, a stirrer, and a cooling tube was charged with 220.0 g of water, 110.1 g (1.0 mol) of resorcin, and 16.5 g of 35% hydrochloric acid, and the temperature was raised to 90 ° C. A mixed solution in which 13.2 g (0.1 mol) of paraaldehyde, 17.4 g (0.3 mol) of propionaldehyde and 21.6 g (0.3 mol) of n-butyraldehyde were mixed in advance was dropped over 6 hours. Then, the reaction was performed for 1 hour. During the reaction, precipitates were confirmed in the reaction solution. Next, the reaction solution was neutralized with 30% NaOH and filtered to collect the precipitate. The obtained precipitate was repeatedly washed with water and filtered until the washing water became neutral, and then water was removed by vacuum drying to obtain Composition C.
About the obtained composition C, GPC was performed on the conditions similar to Example 1. FIG. As a result, the weight average molecular weight (Mw) of composition C was 686, the dispersity (Mw / Mn) was 1.033, and the purity was 97%. The hydroxyl equivalent was 77.6 g / eq.
Moreover, about the composition C, the structural analysis was implemented on the conditions similar to Example 1 using FD-MS. The results are shown below. FIG. 4 shows a chart showing the measurement results of the FD-MS spectrum. From this result, it was confirmed that the compound contained in the composition C had a calixarene structure as in Example 1.
FD-MS: 545 m / z, 559 m / z, 573 m / z, 587 m / z, 601 m / z, 615 m / z, 629 m / z, 643 m / z, 657 m / z were shown.

<比較例1>
レゾルシンとパラアルデヒドとの反応:
温度計、攪拌機、冷却管を備えた内容量1Lのガラス製反応容器に水220.0g、レゾルシン110.1g(1.0mol)、35%塩酸16.5gを仕込み、90℃まで昇温した。そこにパラアルデヒド40.0g(0.3mol)を3時間かけて滴下し、その後3時間反応を行った。次いで、反応液を30%NaOHで中和し、ろ過して析出物を回収した。得られた析出物に対し、水洗浄とろ過を洗浄水が中性になるまで繰り返し行った後、真空乾燥により水分を除去し、組成物Dを得た。
得られた組成物Dについて実施例1と同様の条件でGPCを行った。その結果、組成物Dの重量平均分子量(Mw)は594、分散度(Mw/Mn)は1.024であった。また、水酸基当量は68.5g/eqであった。
また、組成物Dについて、FD−MSを用いて実施例1と同様の条件で構造解析を実施した。結果を以下に示す。また、図5に、FD−MSスペクトルの測定結果を示すチャートを示す。この結果から、組成物Dに含まれる化合物が、実施例1と同様に、カリックスアレーン構造を有することが確認された。
FD−MS:545m/zの化合物が示された。
<Comparative Example 1>
Reaction of resorcin with paraaldehyde:
A glass reaction vessel having an internal volume of 1 L equipped with a thermometer, a stirrer, and a cooling tube was charged with 220.0 g of water, 110.1 g (1.0 mol) of resorcin, and 16.5 g of 35% hydrochloric acid, and the temperature was raised to 90 ° C. Paraaldehyde 40.0g (0.3mol) was dripped there over 3 hours, and reaction was performed after that for 3 hours. Next, the reaction solution was neutralized with 30% NaOH and filtered to collect the precipitate. The obtained precipitate was repeatedly washed with water and filtered until the washing water became neutral, and then water was removed by vacuum drying to obtain a composition D.
GPC was performed on the obtained composition D under the same conditions as in Example 1. As a result, composition D had a weight average molecular weight (Mw) of 594 and a dispersity (Mw / Mn) of 1.024. The hydroxyl equivalent was 68.5 g / eq.
Moreover, about the composition D, the structural analysis was implemented on the conditions similar to Example 1 using FD-MS. The results are shown below. FIG. 5 shows a chart showing the measurement results of the FD-MS spectrum. From this result, it was confirmed that the compound contained in the composition D had a calixarene structure as in Example 1.
FD-MS: 545 m / z compound was shown.

<比較例2>
レゾルシンとプロピオンアルデヒドとの反応:
温度計、攪拌機、冷却管を備えた内容量1Lのガラス製反応容器に水220.0g、レゾルシン110.1g(1.0mol)、35%塩酸16.5gを仕込み、90℃まで昇温した。そこにプロピオンアルデヒド52.3g(0.9mol)を10時間かけて滴下し、その後3時間反応を行った。次いで、反応液を30%NaOHで中和し、ろ過して析出物を回収した。得られた析出物に対し、水洗浄とろ過を洗浄水が中性になるまで繰り返し行った後、真空乾燥により水分を除去し、組成物Eを得た。
得られた組成物Eについて実施例1と同様の条件でGPCを行った。その結果、組成物Eの重量平均分子量(Mw)は786、分散度(Mw/Mn)は1.102であった。また、水酸基当量は74.0g/eqであった。
また、組成物Eについて、FD−MSを用いて実施例1と同様の条件で構造解析を実施した。結果を以下に示す。また、図6に、FD−MSスペクトルの測定結果を示すチャートを示す。この結果から、組成物Eに含まれる化合物が、実施例1と同様に、カリックスアレーン構造を有することが確認された。
FD−MS:601m/zの化合物が示された。
<Comparative example 2>
Reaction of resorcin with propionaldehyde:
A glass reaction vessel having an internal volume of 1 L equipped with a thermometer, a stirrer, and a cooling tube was charged with 220.0 g of water, 110.1 g (1.0 mol) of resorcin, and 16.5 g of 35% hydrochloric acid, and the temperature was raised to 90 ° C. Propionaldehyde 52.3g (0.9mol) was dripped there over 10 hours, and reaction was performed after that for 3 hours. Next, the reaction solution was neutralized with 30% NaOH and filtered to collect the precipitate. The obtained precipitate was repeatedly washed with water and filtered until the washing water became neutral, and then water was removed by vacuum drying to obtain composition E.
GPC was performed on the obtained composition E under the same conditions as in Example 1. As a result, composition E had a weight average molecular weight (Mw) of 786 and a dispersity (Mw / Mn) of 1.102. The hydroxyl equivalent was 74.0 g / eq.
Moreover, about the composition E, the structural analysis was implemented on the conditions similar to Example 1 using FD-MS. The results are shown below. FIG. 6 shows a chart showing the measurement results of the FD-MS spectrum. From this result, it was confirmed that the compound contained in the composition E had a calixarene structure as in Example 1.
FD-MS: 601 m / z compound was shown.

実施例1〜3、比較例1〜2で得られた組成物A〜Eについて、溶剤溶解性を以下の方法で評価した。結果を表1に示す。
<溶剤溶解性の評価>
組成物を、表1に示す溶剤に、固形分濃度が30%となるように溶解し、得られた溶液を密閉した容器にて15℃で1ヵ月間静置した。静置後の溶液の状態を目視で観察し、以下の基準で溶剤溶解性を評価した。
○(良好):溶液中に析出物が見られなかった。
×(不良):溶液中に析出物が見られた。
The solvent solubility of the compositions A to E obtained in Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 2 was evaluated by the following method. The results are shown in Table 1.
<Evaluation of solvent solubility>
The composition was dissolved in the solvent shown in Table 1 so that the solid concentration was 30%, and the resulting solution was allowed to stand at 15 ° C. for 1 month in a sealed container. The state of the solution after standing was visually observed, and the solvent solubility was evaluated according to the following criteria.
○ (Good): No precipitate was observed in the solution.
X (Poor): Precipitates were observed in the solution.

Figure 2017061665
Figure 2017061665

表1中の記号は以下の意味を示す。
ACN:アセトン、MEK:メチルエチルケトン、THF:テトラヒドロフラン、PGME:プロピレングリコールモノメチルエーテル、DMF:N,N−ジメチルホルムアミド、NMP:N−メチル−2−ピロリドン。
The symbols in Table 1 have the following meanings.
ACN: acetone, MEK: methyl ethyl ketone, THF: tetrahydrofuran, PGME: propylene glycol monomethyl ether, DMF: N, N-dimethylformamide, NMP: N-methyl-2-pyrrolidone.

上記結果に示すとおり、実施例1〜3の組成物は、ACN、MEK、THF、PGME、DMF、NMPのいずれの溶剤に対しても溶解性が良好であった。
一方、アルデヒド類としてパラアルデヒドを単独で用いた比較例1の組成物は、上記のすべての溶剤に対して溶解性が不良であった。アルデヒド類としてプロピオンアルデヒドを単独で用いた比較例2の組成物は、PGME以外のすべての溶剤に対して溶解性が不良であった。
As shown in the above results, the compositions of Examples 1 to 3 had good solubility in any solvent of ACN, MEK, THF, PGME, DMF, and NMP.
On the other hand, the composition of Comparative Example 1 using paraaldehyde alone as aldehydes was poorly soluble in all the above solvents. The composition of Comparative Example 2 using propionaldehyde alone as the aldehydes had poor solubility in all solvents other than PGME.

<実施例4〜6、比較例3〜4>
[エポキシ樹脂組成物の調製]
表2に示す組成となるように各成分を混合して溶液状のエポキシ樹脂組成物を調製した。
表2中、フェノールノボラック樹脂としては、軟化点120℃のものを用いた。トリフェニルメタン型フェノール樹脂としては、群栄化学工業社製の商品名「TPM−100」(軟化点100℃)を用いた。エポキシ樹脂としては、新日鉄住金化学社製の商品名「YDCN−704」(オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂)を用いた。イミダゾールは硬化促進剤であり、和光純薬工業社製の試薬を用いた。
また、エポキシ樹脂及び硬化剤の配合量は、エポキシ樹脂中のエポキシ基当量と、硬化剤中の水酸基当量との当量比(エポキシ基当量/水酸基当量)が1となるように設定した。
軟化点は、JIS K 6910:2007に従って測定した。
<Examples 4-6, Comparative Examples 3-4>
[Preparation of epoxy resin composition]
Each component was mixed so that it might become a composition shown in Table 2, and the solution-form epoxy resin composition was prepared.
In Table 2, a phenol novolak resin having a softening point of 120 ° C. was used. As the triphenylmethane type phenol resin, trade name “TPM-100” (softening point 100 ° C.) manufactured by Gunei Chemical Industry Co., Ltd. was used. As the epoxy resin, trade name “YDCN-704” (orthocresol novolac type epoxy resin) manufactured by Nippon Steel & Sumikin Chemical Co., Ltd. was used. Imidazole is a curing accelerator, and a reagent manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd. was used.
Moreover, the compounding quantity of an epoxy resin and a hardening | curing agent was set so that the equivalent ratio (epoxy group equivalent / hydroxyl group equivalent) of the epoxy group equivalent in an epoxy resin and the hydroxyl group equivalent in a hardening | curing agent might be set to 1.
The softening point was measured according to JIS K 6910: 2007.

[積層板用成形物の作製]
ガラスクロス(日東紡社製の商品名「WEA7628」)に、プリプレグの全量に対して約40%となる量のエポキシ樹脂組成物を含浸し、風乾してプリプレグを得た。その後、プリプレグを6枚重ね、100℃/15分の条件にて半硬化を行い、真空ヒータープレス装置を用いて130℃、2kN/mの条件下で熱プレスを実施し130℃から180℃まで、20kN/mの条件下にて10℃/15分毎に昇温し、成形物の作製を行った。得られた成形物に対し、180℃で5時間の後硬化を実施して、厚さ2.0mmの積層板用成形物を得た。
[Preparation of molded product for laminate]
A glass cloth (trade name “WEA7628” manufactured by Nittobo Co., Ltd.) was impregnated with an epoxy resin composition in an amount of about 40% based on the total amount of the prepreg, and air-dried to obtain a prepreg. Thereafter, six prepregs were stacked, semi-cured under conditions of 100 ° C./15 minutes, and subjected to hot pressing under conditions of 130 ° C. and 2 kN / m 2 using a vacuum heater press device, and 130 ° C. to 180 ° C. Until then, the temperature was raised every 10 ° C./15 minutes under the condition of 20 kN / m 2 to produce a molded product. The obtained molded product was post-cured at 180 ° C. for 5 hours to obtain a molded product for a laminate having a thickness of 2.0 mm.

得られた積層板用成形物について、ガラス転移温度、貯蔵弾性率、熱分解開始温度、平均線熱膨張係数を以下の方法で測定した。結果を表2に示す。
[ガラス転移温度(Tg)、貯蔵弾性率]
積層板用成形物を幅10.0mm×長さ55.0mmの大きさに裁断してテストピースを作製した。このテストピースについて、ガラス転移温度(℃)、30℃における貯蔵弾性率(MPa)及び260℃における貯蔵弾性率(MPa)をそれぞれ、粘弾性スペクトロメーター(セイコーインスツルーメンツ社製、DMS 110)を用い、10℃/分の昇温速度で30℃〜350℃の範囲で測定した。
[熱分解開始温度]
積層板用成形物について、示差熱熱重量同時測定装置(セイコーインスツルメンツ社製 TG/DTA6300)により、エアー雰囲気下で熱重量減量を測定し、熱分解開始温度(℃)を求めた。
[平均線熱膨張係数]
積層板用成形物を幅2.0mm×長さ2.0mmの大きさに裁断して試料を作製した。この試料について、熱機械的分析装置(セイコーインスツルーメンツ社製、TMA 110)を用い、10℃/分の昇温速度で30℃から350℃まで昇温し、40℃〜90℃及び160℃〜200℃それぞれの温度範囲における平均線熱膨張係数を測定した。
About the obtained molded object for laminated boards, the glass transition temperature, the storage elastic modulus, the thermal decomposition start temperature, and the average linear thermal expansion coefficient were measured with the following method. The results are shown in Table 2.
[Glass transition temperature (Tg), storage modulus]
The molded product for laminate was cut into a size of width 10.0 mm × length 55.0 mm to prepare a test piece. About this test piece, a glass transition temperature (° C.), a storage elastic modulus (MPa) at 30 ° C., and a storage elastic modulus (MPa) at 260 ° C. were respectively measured with a viscoelastic spectrometer (manufactured by Seiko Instruments Inc., DMS 110). It was measured in the range of 30 ° C. to 350 ° C. at a temperature rising rate of 10 ° C./min.
[Pyrolysis start temperature]
About the molded article for laminated boards, the thermogravimetric weight loss was measured in the air atmosphere with the differential thermothermal weight simultaneous measuring apparatus (TG / DTA6300 by Seiko Instruments Inc.), and the thermal decomposition start temperature (degreeC) was calculated | required.
[Average linear thermal expansion coefficient]
A laminate was cut into a size of 2.0 mm wide and 2.0 mm long to prepare a sample. About this sample, using a thermomechanical analyzer (manufactured by Seiko Instruments Inc., TMA 110), the temperature was increased from 30 ° C. to 350 ° C. at a temperature increase rate of 10 ° C./min, and 40 ° C. to 90 ° C. and 160 ° C. The average linear thermal expansion coefficient in each temperature range of ˜200 ° C. was measured.

Figure 2017061665
Figure 2017061665

上記結果に示すとおり、実施例4〜6のエポキシ樹脂組成物から得られた積層板用成形物は、比較例3〜4のエポキシ樹脂組成物から得られた積層板用成形物に比べて、ガラス転移温度が高く、熱分解開始温度が高く、平均線熱膨張係数が低く、貯蔵弾性率が高いものであった。   As shown in the above results, the laminates obtained from the epoxy resin compositions of Examples 4 to 6 were compared to the laminates obtained from the epoxy resin compositions of Comparative Examples 3 to 4, The glass transition temperature was high, the thermal decomposition starting temperature was high, the average linear thermal expansion coefficient was low, and the storage elastic modulus was high.

本発明のカリックスアレーン系化合物又は組成物は、極性溶剤に対する溶解性に優れる。
また、本発明のカリックスアレーン系化合物又は組成物は、エポキシ樹脂等の硬化剤として用いることができ、本発明のカリックスアレーン系化合物又は組成物を硬化剤として用いて得られる硬化物は、構造中にカリックスアレーン構造を有しており、耐熱性が高く、高温においても低熱膨張、高弾性率なものである。
そのため、本発明のカリックスアレーン系化合物、組成物、エポキシ樹脂組成物又はその硬化物は、機能性材料として極めて有用である。例えば物理的、電気的に優れた材料として半導体封止材、電気絶縁材料、銅張り積層板用樹脂、レジスト、電子部品の封止用樹脂、液晶のカラーフィルター用樹脂、塗料、各種コーティング剤、接着剤、ビルドアップ積層板材料、繊維強化プラスチック(FRP)等の幅広い用途に使用することができる。
The calixarene compound or composition of the present invention is excellent in solubility in a polar solvent.
Further, the calixarene compound or composition of the present invention can be used as a curing agent such as an epoxy resin, and the cured product obtained using the calixarene compound or composition of the present invention as a curing agent is in the structure. Has a calixarene structure, high heat resistance, low thermal expansion and high elastic modulus even at high temperatures.
Therefore, the calixarene compound, composition, epoxy resin composition or cured product thereof of the present invention is extremely useful as a functional material. For example, semiconductor sealing materials, electrical insulating materials, copper-clad laminate resins, resists, electronic component sealing resins, liquid crystal color filter resins, paints, various coating agents, as physically and electrically superior materials It can be used for a wide range of applications such as adhesives, build-up laminate materials, and fiber reinforced plastics (FRP).

Claims (12)

下記式(1)で表されるカリックスアレーン系化合物。
Figure 2017061665
(式(1)中、R及びRはそれぞれ独立に、水素原子、水酸基、メチル基又はメトキシ基であり、Rは炭素数1〜18のアルキル基、フェニル基、ヒドロキシフェニル基又はメチルフェニル基であり、4つのRのうち少なくとも2つは互いに異なる。)
A calixarene compound represented by the following formula (1).
Figure 2017061665
(In Formula (1), R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom, a hydroxyl group, a methyl group or a methoxy group, and R 3 is an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, a phenyl group, a hydroxyphenyl group or a methyl group. A phenyl group, at least two of the four R 3 are different from each other.)
請求項1に記載のカリックスアレーン系化合物を70質量%以上の含有量で含む組成物。   A composition comprising the calixarene compound according to claim 1 in a content of 70% by mass or more. 請求項2に記載の組成物の製造方法であって、
下記式(2)で表される多価フェノールと、下記式(3)で表される化合物及びその多量体からなる群から選ばれ、Rが互いに異なる少なくとも2種のアルデヒド類と、を反応させる工程を含む、組成物の製造方法。
Figure 2017061665
(式(2)中、R及びRはそれぞれ独立に、水素原子、水酸基、メチル基又はメトキシ基である。式(3)中、Rは炭素数1〜18のアルキル基、フェニル基、ヒドロキシフェニル基又はメチルフェニル基である。)
A method for producing the composition of claim 2, comprising:
A reaction between polyhydric phenol represented by the following formula (2) and at least two aldehydes selected from the group consisting of a compound represented by the following formula (3) and a multimer thereof, wherein R 3 are different from each other. The manufacturing method of the composition including the process to make.
Figure 2017061665
(In Formula (2), R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom, a hydroxyl group, a methyl group, or a methoxy group. In Formula (3), R 3 is an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms or a phenyl group. , Hydroxyphenyl group or methylphenyl group.)
前記多価フェノールがレゾルシンであり、前記少なくとも2種のアルデヒド類がパラアルデヒドとn−ブチルアルデヒドである、請求項3に記載の組成物の製造方法。   The method for producing a composition according to claim 3, wherein the polyhydric phenol is resorcin, and the at least two aldehydes are paraaldehyde and n-butyraldehyde. 前記多価フェノールがレゾルシンであり、前記少なくとも2種のアルデヒド類がプロピオンアルデヒドとn−ブチルアルデヒドである、請求項3に記載の組成物の製造方法。   The method for producing a composition according to claim 3, wherein the polyhydric phenol is resorcin, and the at least two aldehydes are propionaldehyde and n-butyraldehyde. 前記多価フェノールがレゾルシンであり、前記少なくとも2種のアルデヒド類がパラアルデヒドとプロピオンアルデヒドとn−ブチルアルデヒドである、請求項3に記載の組成物の製造方法。   The method for producing a composition according to claim 3, wherein the polyhydric phenol is resorcin, and the at least two aldehydes are paraaldehyde, propionaldehyde and n-butyraldehyde. 前記少なくとも2種のアルデヒド類のうち、前記式(3)で表される化合物換算で、量が最も多い1種のアルデヒド類1モルに対する他のアルデヒド類の割合が、0.25〜1モルである、請求項3〜6のいずれか一項に記載の組成物の製造方法。   Among the at least two aldehydes, the ratio of the other aldehydes relative to 1 mol of one aldehyde having the largest amount in terms of the compound represented by the formula (3) is 0.25 to 1 mol. The manufacturing method of the composition as described in any one of Claims 3-6 which exists. 請求項2に記載の組成物からなるエポキシ樹脂用硬化剤。   The hardening | curing agent for epoxy resins which consists of a composition of Claim 2. エポキシ樹脂と、請求項8に記載のエポキシ樹脂用硬化剤と、を含むエポキシ樹脂組成物。   The epoxy resin composition containing an epoxy resin and the hardening | curing agent for epoxy resins of Claim 8. 請求項9に記載のエポキシ樹脂組成物の硬化物を含む層を備える積層板。   A laminated board provided with the layer containing the hardened | cured material of the epoxy resin composition of Claim 9. 請求項9に記載のエポキシ樹脂組成物を含む半導体封止材。   The semiconductor sealing material containing the epoxy resin composition of Claim 9. 請求項9に記載のエポキシ樹脂組成物の硬化物を含む半導体封止部を備える半導体装置。   A semiconductor device provided with the semiconductor sealing part containing the hardened | cured material of the epoxy resin composition of Claim 9.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109160995A (en) * 2018-08-19 2019-01-08 南京理工大学 A kind of column [5] aromatic hydrocarbons self assembly elastomeric material and preparation method thereof
WO2023162693A1 (en) * 2022-02-25 2023-08-31 日鉄ケミカル&マテリアル株式会社 Epoxy resin, polyhydric hydroxy resin, epoxy resin composition, cured epoxy resin product, and method for producing polyhydric hydroxy resin

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06136341A (en) * 1992-10-22 1994-05-17 Toray Ind Inc Adhesive
JPH10161348A (en) * 1996-11-27 1998-06-19 Minolta Co Ltd Toner for developing electrostatic latent image
JP2001106868A (en) * 1999-10-12 2001-04-17 Shikoku Chem Corp Resin composition containing resorcin-aldehyde polycondensation compound and epoxy resin as essential components
JP2001114870A (en) * 1999-10-21 2001-04-24 Shikoku Chem Corp Epoxy resin composition
JP2009173623A (en) * 2007-04-23 2009-08-06 Mitsubishi Gas Chem Co Inc Radiation-sensitive composition
JP2010248369A (en) * 2009-04-15 2010-11-04 Hitachi Chem Co Ltd Manufacturing method for epoxy resin, epoxy resin composition, and electronic component device
WO2011024967A1 (en) * 2009-08-31 2011-03-03 三菱瓦斯化学株式会社 Cyclic compound, manufacturing method therefor, radiation-sensitive composition, and method for forming a resist pattern

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06136341A (en) * 1992-10-22 1994-05-17 Toray Ind Inc Adhesive
JPH10161348A (en) * 1996-11-27 1998-06-19 Minolta Co Ltd Toner for developing electrostatic latent image
JP2001106868A (en) * 1999-10-12 2001-04-17 Shikoku Chem Corp Resin composition containing resorcin-aldehyde polycondensation compound and epoxy resin as essential components
JP2001114870A (en) * 1999-10-21 2001-04-24 Shikoku Chem Corp Epoxy resin composition
JP2009173623A (en) * 2007-04-23 2009-08-06 Mitsubishi Gas Chem Co Inc Radiation-sensitive composition
JP2010248369A (en) * 2009-04-15 2010-11-04 Hitachi Chem Co Ltd Manufacturing method for epoxy resin, epoxy resin composition, and electronic component device
WO2011024967A1 (en) * 2009-08-31 2011-03-03 三菱瓦斯化学株式会社 Cyclic compound, manufacturing method therefor, radiation-sensitive composition, and method for forming a resist pattern

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109160995A (en) * 2018-08-19 2019-01-08 南京理工大学 A kind of column [5] aromatic hydrocarbons self assembly elastomeric material and preparation method thereof
WO2023162693A1 (en) * 2022-02-25 2023-08-31 日鉄ケミカル&マテリアル株式会社 Epoxy resin, polyhydric hydroxy resin, epoxy resin composition, cured epoxy resin product, and method for producing polyhydric hydroxy resin

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