JP2017050301A - Light-emitting device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明の実施形態は、発光装置に関する。 Embodiments described herein relate generally to a light emitting device.
窒化物半導体などを用いた発光装置において、均一な発光が求められている。 In a light emitting device using a nitride semiconductor or the like, uniform light emission is required.
本発明の実施形態は、発光の均一性を向上できる発光装置を提供する。 Embodiments of the present invention provide a light emitting device capable of improving the uniformity of light emission.
本発明の実施形態によれば、発光装置は、第1〜第6半導体層と、第1〜第3中間半導体層と、第1〜第6導電層と、第1接続部と、第2接続部と、を含む。前記第1半導体層は、離間方向において前記基体と離間し、第1導電形である。前記第1半導体層は、前記離間方向と交差する第1方向に沿って延びる第1辺と、前記離間方向と交差し第1方向に対して傾斜する第2方向に沿って延びる第2辺と、前記第2方向において前記第1辺と離間し前記第1方向に沿って延びる第3辺と、前記第1方向において前記第2辺と離間し前記第2方向に沿って延びる第4辺と、を含む。前記第2半導体層は、前記基体と前記第1半導体層との間に設けられ、第2導電形である。前記第1中間半導体層は、前記第1半導体層と前記第2半導体層との間に設けられる。前記第1導電層は、前記第1方向及び第2方向の一方に沿って延びる第1延在部を含み、前記第1半導体層と電気的に接続される。前記第2導電層は、前記基体と前記第2半導体層との間に設けられ、前記第2半導体層と電気的に接続される。前記第3半導体層は、前記離間方向において前記基体と離間し前記離間方向と交差する方向において前記第1半導体層と並び、前記第1導電形である。前記第3半導体層は、前記第2方向に沿って延びる第5辺と、前記離間方向と交差し、前記第1方向及び前記第2方向に対して傾斜する第3方向に沿って延びる第6辺と、前記第3方向において前記第5辺と離間し前記第2方向に沿って延びる第7辺と、前記第2方向において前記第6辺と離間し前記第3方向に沿って延びる第8辺と、を含む。前記第4半導体層は、前記基体と前記第3半導体層との間に設けられ、前記第2導電形である。前記第2中間半導体層は、前記第3半導体層と前記第4半導体層との間に設けられる。前記第3導電層は、前記第2方向及び前記第3方向の一方に沿って延びる第2延在部を含み、前記第3半導体層と電気的に接続される。前記第4導電層は、前記基体と前記第4半導体層との間に設けられ前記第4半導体層と電気的に接続される。前記第5半導体層は、前記離間方向において前記基体と離間し前記離間方向と交差する方向において前記第1半導体層と並び、前記第1導電形である。前記第5半導体層は、前記第3方向に沿って延びる第9辺と、前記第1方向に沿って延びる第10辺と、前記第1方向において前記第9辺と離間し前記第3方向に沿って延びる第11辺と、前記第3方向において前記第10辺と離間し前記第1方向に沿って延びる第12辺と、を含む。前記第6半導体層は、前記基体と前記第5半導体層との間に設けられ、前記第2導電形である。前記第3中間半導体層は、前記第5半導体層と前記第6半導体層との間に設けられる。前記第5導電層は、前記第1方向及び前記第3方向の一方に沿って延びる第3延在部を含み、前記第5半導体層と電気的に接続される。前記第6導電層は、前記基体と前記第6半導体層との間に設けられ前記第6半導体層と電気的に接続される。前記第1接続部は、前記第1導電層と前記第4導電層とを電気的に接続する。前記第2接続部は、前記第3導電層と前記第6導電層とを電気的に接続する。 According to the embodiment of the present invention, the light emitting device includes the first to sixth semiconductor layers, the first to third intermediate semiconductor layers, the first to sixth conductive layers, the first connection portion, and the second connection. Part. The first semiconductor layer is separated from the base body in the separation direction and has a first conductivity type. The first semiconductor layer includes a first side extending along a first direction intersecting the separation direction, and a second side extending along a second direction intersecting the separation direction and inclined with respect to the first direction. A third side spaced apart from the first side in the second direction and extending along the first direction; a fourth side spaced apart from the second side in the first direction and extending along the second direction; ,including. The second semiconductor layer is provided between the base and the first semiconductor layer and has a second conductivity type. The first intermediate semiconductor layer is provided between the first semiconductor layer and the second semiconductor layer. The first conductive layer includes a first extension extending along one of the first direction and the second direction, and is electrically connected to the first semiconductor layer. The second conductive layer is provided between the base and the second semiconductor layer, and is electrically connected to the second semiconductor layer. The third semiconductor layer is of the first conductivity type along with the first semiconductor layer in a direction that is separated from the base body in the separation direction and intersects the separation direction. The third semiconductor layer includes a fifth side extending along the second direction, and a sixth side extending along a third direction that intersects the separation direction and is inclined with respect to the first direction and the second direction. A side that is spaced apart from the fifth side in the third direction and extends along the second direction; and an eighth side that is separated from the sixth side in the second direction and extends along the third direction. And edges. The fourth semiconductor layer is provided between the base and the third semiconductor layer and has the second conductivity type. The second intermediate semiconductor layer is provided between the third semiconductor layer and the fourth semiconductor layer. The third conductive layer includes a second extension extending along one of the second direction and the third direction, and is electrically connected to the third semiconductor layer. The fourth conductive layer is provided between the base and the fourth semiconductor layer and is electrically connected to the fourth semiconductor layer. The fifth semiconductor layer is of the first conductivity type along with the first semiconductor layer in a direction that is separated from the base in the separation direction and intersects the separation direction. The fifth semiconductor layer includes a ninth side extending along the third direction, a tenth side extending along the first direction, and spaced apart from the ninth side in the first direction in the third direction. An eleventh side extending along the third direction, and a twelfth side spaced apart from the tenth side in the third direction and extending along the first direction. The sixth semiconductor layer is provided between the base and the fifth semiconductor layer and has the second conductivity type. The third intermediate semiconductor layer is provided between the fifth semiconductor layer and the sixth semiconductor layer. The fifth conductive layer includes a third extension extending along one of the first direction and the third direction, and is electrically connected to the fifth semiconductor layer. The sixth conductive layer is provided between the base and the sixth semiconductor layer and is electrically connected to the sixth semiconductor layer. The first connection portion electrically connects the first conductive layer and the fourth conductive layer. The second connection part electrically connects the third conductive layer and the sixth conductive layer.
以下に、本発明の各実施の形態について図面を参照しつつ説明する。
なお、図面は模式的または概念的なものであり、各部分の厚みと幅との関係、部分間の大きさの比率などは、必ずしも現実のものと同一とは限らない。また、同じ部分を表す場合であっても、図面により互いの寸法や比率が異なって表される場合もある。
なお、本願明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には同一の符号を付して詳細な説明は適宜省略する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
The drawings are schematic or conceptual, and the relationship between the thickness and width of each part, the size ratio between the parts, and the like are not necessarily the same as actual ones. Further, even when the same part is represented, the dimensions and ratios may be represented differently depending on the drawings.
Note that, in the present specification and each drawing, the same elements as those described above with reference to the previous drawings are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted as appropriate.
(第1の実施形態)
図1(a)〜図1(c)は、第1の実施形態に係る発光装置を例示する模式図である。 図1(a)は、斜視図である。図1(b)は、図1(a)の矢印ARからみた平面図である。図1(c)は、図1(b)のA1−A2線断面図である。
(First embodiment)
FIG. 1A to FIG. 1C are schematic views illustrating the light emitting device according to the first embodiment. FIG. 1A is a perspective view. FIG. 1B is a plan view seen from the arrow AR in FIG. FIG. 1C is a cross-sectional view taken along line A1-A2 of FIG.
図1(a)に示すように、実施形態に係る発光装置111は、例えば、発光部71と、波長変換層72と、を含む。
As illustrated in FIG. 1A, the
発光部71と波長変換層72との積層方向をZ軸方向とする。Z軸方向に対して垂直な方向をX軸方向とする。Z軸方向及びX軸方向に対して垂直な方向をY軸方向とする。
The stacking direction of the
X−Y平面内における波長変換層72の外縁72rは、例えば、円状である。例えば、波長変換層72は、円盤状である。
The
X−Y平面内における発光部71の外縁71rは、例えば、六角形である。発光部71は、高さが低い(薄い)六角柱状である。
The
発光部71には、半導体発光素子(例えばLED)が用いられる。発光部71から光が放出される。光は、波長変換層72に入射する。光の波長が、波長変換層72において変換される。波長変換層72を通過した光(すなわち、発光装置111から放出される光)は、例えば、実質的に白色である。実施形態において、波長変換層72を通過した光の色は任意である。
A semiconductor light emitting element (for example, LED) is used for the
以下、発光部71の例について説明する。
Hereinafter, an example of the
図1(b)及び図1(c)に示すように、発光部71(すなわち、発光装置111)は、基体51と、第1〜第6半導体層11〜16と、第1〜第3中間半導体層IL1〜IL3と、第1〜第6導電層11cl〜16clと、第1接続部CP1と、第2接続部CP2と、を含む。
As shown in FIGS. 1B and 1C, the light emitting unit 71 (that is, the light emitting device 111) includes a
第1半導体層11は、1つの方向(離間方向)において、基体51と離間する。離間方向は、Z軸方向である。
The
第1半導体層11は、第1導電形である。第1導電形は、例えば、n形及びp形の一方である。後述する第2導電形は、n形及びp形の他方である。以下では、第1導電形がn形であり、第2導電形がp形とする。
The
第1半導体層11は、第1〜第4辺s1〜s4を含む。第1辺s1は、第1方向D1に沿って延びる。第1方向D1は、離間方向(Z軸方向)と交差する。この例では、第1方向D1は、X軸方向に沿う。
The
第2辺s2は、第2方向D2に沿って延びる。第2方向D2は、離間方向と交差し、第1方向D1に対して傾斜する。例えば、第2方向D2と第1方向D1との間の角度は、実質的に60度である。第3辺s3は、第2方向D2において第1辺s1と離間し、第1方向D1に沿って延びる。第4辺s4は、第1方向D1において第2辺s2と離間し、第2方向D2に沿って延びる。 The second side s2 extends along the second direction D2. The second direction D2 intersects the separation direction and is inclined with respect to the first direction D1. For example, the angle between the second direction D2 and the first direction D1 is substantially 60 degrees. The third side s3 is separated from the first side s1 in the second direction D2, and extends along the first direction D1. The fourth side s4 is separated from the second side s2 in the first direction D1, and extends along the second direction D2.
第1半導体層11の平面形状は、例えば実質的に菱形である。
The planar shape of the
第2半導体層12は、基体51と第1半導体層11との間に設けられる。第2半導体層は、第2導電形である。第1中間半導体層IL1は、第1半導体層11と第2半導体層12との間に設けられる。
The
第1導電層11clは、第1延在部ep1を含む。第1延在部ep1は、第1方向D1及び第2方向D2の一方に沿って延びる。この例では、第1延在部ep1は、第1方向D1に沿って延びる。第1導電層11clは、第1半導体層11と電気的に接続される。
The first conductive layer 11cl includes a first extension part ep1. The first extending part ep1 extends along one of the first direction D1 and the second direction D2. In this example, the first extending portion ep1 extends along the first direction D1. The first conductive layer 11cl is electrically connected to the
第1導体と第2導体とが電気的に接続されている状態は、第1導体が第2導体と直接接している状態を含む。第1導体と第2導体とが電気的に接続されている状態は、第1導体と第2導体との間に電流が流れる状態を含む。第1導体と第2導体とが電気的に接続されている状態は、第3導体を介して、第1導体と第2導体との間に電流が流れる状態を含む。この第3導体は、半導体を含んでも良い。すなわち、第1導体と第2導体とが電気的に接続されている状態は、半導体を介して、第1導体と第2導体との間に電流が流れる状態を含む。 The state where the first conductor and the second conductor are electrically connected includes the state where the first conductor is in direct contact with the second conductor. The state in which the first conductor and the second conductor are electrically connected includes a state in which a current flows between the first conductor and the second conductor. The state in which the first conductor and the second conductor are electrically connected includes a state in which a current flows between the first conductor and the second conductor via the third conductor. The third conductor may include a semiconductor. That is, the state in which the first conductor and the second conductor are electrically connected includes a state in which a current flows between the first conductor and the second conductor through the semiconductor.
第2導電層12clは、基体51と第2半導体層12との間に設けられる。第2導電層12clは、第2半導体層12と電気的に接続される。
The second conductive layer 12cl is provided between the base 51 and the
第3半導体層13は、離間方向において、基体51と離間する。第3半導体層13は、離間方向と交差する方向において、第1半導体層11と並ぶ。第3半導体層13は、第1導電形である。第3半導体層13は、第5〜第8辺s5〜s8を含む。
The
第5辺s5は、第2方向D2に沿って延びる。この例では、第5辺s5は、第2辺s2に沿う。 The fifth side s5 extends along the second direction D2. In this example, the fifth side s5 is along the second side s2.
第6辺s6は、第3方向D3に沿って延びる。第3方向D3は、離間方向と交差し、第1方向D1及び第2方向D2に対して傾斜する。第3方向D3と第1方向D1との間の角度は、例えば、実質的に60度である。第3方向D3と第2方向D2との間の角度は、実質的に60度である。 The sixth side s6 extends along the third direction D3. The third direction D3 intersects the separation direction and is inclined with respect to the first direction D1 and the second direction D2. The angle between the third direction D3 and the first direction D1 is, for example, substantially 60 degrees. The angle between the third direction D3 and the second direction D2 is substantially 60 degrees.
第7辺s7は、第3方向D3において第5辺s5と離間する。第7辺s7は、第2方向D2に沿って延びる。第8辺s8は、第2方向D2において第6辺s6と離間する。第8辺は、第3方向D3に沿って延びる。 The seventh side s7 is separated from the fifth side s5 in the third direction D3. The seventh side s7 extends along the second direction D2. The eighth side s8 is separated from the sixth side s6 in the second direction D2. The eighth side extends along the third direction D3.
第3半導体層13の平面形状は、例えば実質的に菱形である。
The planar shape of the
第4半導体層14は、基体51と第3半導体層13との間に設けられる。第4半導体層14は、第2導電形である。第2中間半導体層IL2は、第3半導体層13と第4半導体層14との間に設けられる。
The
第3導電層13clは、第2延在部ep2を含む。第2延在部ep2は、第2方向D2及び第3方向の一方に沿って延びる。この例では、第2延在部ep2は、第2方向D2に沿って延びる。第3導電層13clは、第3半導体層13と電気的に接続される。
The third conductive layer 13cl includes a second extending part ep2. The second extending part ep2 extends along one of the second direction D2 and the third direction. In this example, the second extending part ep2 extends along the second direction D2. The third conductive layer 13cl is electrically connected to the
第4導電層14clは、基体51と第4半導体層14との間に設けられる。第4導電層14clは、第4半導体層14と電気的に接続される。
The fourth conductive layer 14cl is provided between the base 51 and the
第5半導体層15は、離間方向において基体51と離間し。離間方向と交差する方向において第1半導体層11と並ぶ。第5半導体層15は、第1導電形である。第5半導体層は、第9〜第12辺s9〜s12を含む。
The
第9辺s9は、第3方向D3に沿って延びる。この例では、第9辺s9は、第8辺s8に沿う。第10辺s10は、第1方向D1に沿って延びる。第11辺s11は、第1方向D1において第9辺s9と離間し、第3方向D3に沿って延びる。第12辺s12は、第3方向D3において第10辺s10と離間し、第1方向D1に沿って延びる。この例では、第12辺s12は、第3辺s3に沿う。 The ninth side s9 extends along the third direction D3. In this example, the ninth side s9 is along the eighth side s8. The tenth side s10 extends along the first direction D1. The eleventh side s11 is separated from the ninth side s9 in the first direction D1, and extends along the third direction D3. The twelfth side s12 is separated from the tenth side s10 in the third direction D3 and extends along the first direction D1. In this example, the twelfth side s12 is along the third side s3.
第5半導体層15の平面形状は、例えば実質的に菱形である。
The planar shape of the
第6半導体層16は、基体51と第5半導体層15との間に設けられる。第6半導体層16は、第2導電形である。第3中間半導体層IL3は、第5半導体層15と第6半導体層16との間に設けられる。
The
第5導電層15clは、第3延在部ep3を含む。第3延在部ep3は、第1方向及び第3方向の一方に沿って延びる。この例では、第3延在部ep3は、第1方向D1に沿って延びる。第5導電層15clは、第5半導体層15と電気的に接続される。
The fifth conductive layer 15cl includes a third extending part ep3. The third extending part ep3 extends along one of the first direction and the third direction. In this example, the third extending portion ep3 extends along the first direction D1. The fifth conductive layer 15cl is electrically connected to the
第6導電層16clは、基体51と第6半導体層16との間に設けられる。第6導電層16clは、第6半導体層16と電気的に接続される。
The sixth conductive layer 16cl is provided between the base 51 and the
第1接続部CP1は、第1導電層11clと第4導電層14clとを電気的に接続する。第2接続部CP2は、第3導電層13clと第6導電層16clとを電気的に接続する。 The first connection portion CP1 electrically connects the first conductive layer 11cl and the fourth conductive layer 14cl. The second connection portion CP2 electrically connects the third conductive layer 13cl and the sixth conductive layer 16cl.
第1半導体層11、第2半導体層12及び第1中間半導体層IL1は、第1発光層EU1に含まれる。第3半導体層13、第4半導体層14及び第2中間半導体層IL2は、第2発光層EU2に含まれる。第5半導体層15、第6半導体層16及び第3中間半導体層IL3は、第3発光層EU3に含まれる。これらの発光層は、例えば、LEDである。これらの発光層が、上記の接続部により直列に接続される。発光装置111(発光部71)は、マルチジャンクション構造を有する。
The
この例では、LEDのそれぞれは、横通電型である。すなわち、第1導電形の半導体層の一部と基体51との間に、第2導電形の半導体層が配置される。
In this example, each of the LEDs is a lateral energization type. That is, the second conductivity type semiconductor layer is disposed between a part of the first conductivity type semiconductor layer and the
第1半導体層11は、第1領域11aと、第2領域11bと、を含む。第2領域11bは、離間方向と交差する方向において、第1領域11aと並ぶ。第2半導体層12は、基体51と第2領域11bとの間に設けられる。第1中間半導体層IL1は、第2領域11bと第2半導体層12との間に設けられる。第1導電層11clの第1延在部ep1は、基体51と第1領域11aとの間に設けられる。
The
第3半導体層13は、第3領域13aと、第4領域13bと、を含む。第4領域13bは、離間方向と交差する方向において、第3領域13aと並ぶ。第4半導体層14は、基体51と第4領域13bとの間に設けられる。第2中間半導体層IL2は、第4領域13bと第4半導体層14との間に設けられる。第3導電層13clの第2延在部ep2は、基体51と第3領域13aとの間に設けられる。
The
第5半導体層15は、第5領域15aと、第6領域15bと、を含む。第6領域15bは、離間方向と交差する方向において、第5領域15aと並ぶ。第6半導体層16は、基体51と第6領域15bとの間に設けられる。第3中間半導体層IL3は、第6領域15bと第6半導体層16との間に設けられる。第5導電層15clの第3延在部ep3は、基体51と第5領域15bとの間に設けられる。
The
図1(c)に例示するように、接続部は、複数の発光層(LED)どうしの間の領域に設けられる。接続部の少なくとも一部は、X−Y平面内において、第1導電形の半導体層と交差する。 As illustrated in FIG. 1C, the connection portion is provided in a region between a plurality of light emitting layers (LEDs). At least a part of the connection portion intersects the semiconductor layer of the first conductivity type in the XY plane.
例えば、離間方向(Z軸方向)に対して垂直な方向において、第1接続部CP1の少なくとも一部は、第1半導体層11と重なる。離間方向に対して垂直な方向において、第2接続部CP2の少なくとも一部は、第3半導体層13と重なる。
For example, at least a part of the first connection portion CP1 overlaps the
この例では、接続部の高さは、発光層(LED)の高さよりも低い。 In this example, the height of the connection portion is lower than the height of the light emitting layer (LED).
例えば、離間方向に対して垂直な方向において、第1半導体層11は、第1接続部CP1と重ならない領域を含む。離間方向に対して垂直な方向において、第3半導体層13は、第2接続部CP2と重ならない領域を含む。
For example, the
この例では、第1接続部CP1は、第1配線領域CR1と、第1対向配線領域CS1と、第1中間配線領域CM1と、を含む。第1配線領域CR1は、第1導電層11clと電気的に接続される。第1対向配線領域CS1は、第4導電層14clと電気的に接続される。第1中間配線領域CM1は、第1配線領域CR1と第1対向配線領域CS1と電気的に接続される。 In this example, the first connection portion CP1 includes a first wiring region CR1, a first counter wiring region CS1, and a first intermediate wiring region CM1. The first wiring region CR1 is electrically connected to the first conductive layer 11cl. The first counter wiring region CS1 is electrically connected to the fourth conductive layer 14cl. The first intermediate wiring region CM1 is electrically connected to the first wiring region CR1 and the first counter wiring region CS1.
この例では、第1中間配線領域CM1の一部と、基体51と、の間に、第1配線領域CR1の少なくとも一部が配置される。第1中間配線領域CM1の別の一部と、基体51、との間に、第1対向配線領域CS1の少なくとも一部が配置される。
In this example, at least a part of the first wiring region CR1 is arranged between a part of the first intermediate wiring region CM1 and the
実施形態において、第1配線領域CR1は、第1導電層11clと連続的でも良い。第1配線領域CR1の材料は、第1導電層11clの材料と同じでも良い。第1対向配線領域CS1は、第4導電層14clと連続的でも良い。第1対向配線領域CS1の材料は、第4導電層14clの材料と同じでも良い。 In the embodiment, the first wiring region CR1 may be continuous with the first conductive layer 11cl. The material of the first wiring region CR1 may be the same as the material of the first conductive layer 11cl. The first counter wiring region CS1 may be continuous with the fourth conductive layer 14cl. The material of the first counter wiring region CS1 may be the same as the material of the fourth conductive layer 14cl.
同様に、第2接続部CP2は、第2配線領域CR2と、第2対向配線領域CS2と、第2中間配線領域CM2と、を含む。第2配線領域CR2は、第3導電層13clと電気的に接続される。第2対向配線領域CS2は、第6導電層16clと電気的に接続される。第2中間配線領域CM2は、第2配線領域CR2と第2対向配線領域CS2と電気的に接続される。 Similarly, the second connection portion CP2 includes a second wiring region CR2, a second counter wiring region CS2, and a second intermediate wiring region CM2. The second wiring region CR2 is electrically connected to the third conductive layer 13cl. The second counter wiring region CS2 is electrically connected to the sixth conductive layer 16cl. The second intermediate wiring region CM2 is electrically connected to the second wiring region CR2 and the second counter wiring region CS2.
この例では、第2中間配線領域CM2の一部と、基体51と、の間に、第2配線領域CR2の少なくとも一部が配置される。第2中間配線領域CM2の別の一部と、基体51、との間に、第2対向配線領域CS2の少なくとも一部が配置される。
In this example, at least a part of the second wiring region CR2 is arranged between a part of the second intermediate wiring region CM2 and the
実施形態において、第2配線領域CR2は、第3導電層13clと連続的でも良い。第2配線領域CR2の材料は、第3導電層13clの材料と同じでも良い。第2対向配線領域CS2は、第6導電層16clと連続的でも良い。第2対向配線領域CS2の材料は、第6導電層16clの材料と同じでも良い。 In the embodiment, the second wiring region CR2 may be continuous with the third conductive layer 13cl. The material of the second wiring region CR2 may be the same as the material of the third conductive layer 13cl. The second counter wiring region CS2 may be continuous with the sixth conductive layer 16cl. The material of the second counter wiring region CS2 may be the same as the material of the sixth conductive layer 16cl.
この例では、発光装置111(発光部71)は、第1電極pd1と、第2電極pd2と、をさらに含む。これらの電極は、電流を供給するためのパッドとして用いられる。 In this example, the light emitting device 111 (light emitting unit 71) further includes a first electrode pd1 and a second electrode pd2. These electrodes are used as pads for supplying current.
第1電極pd1は、第5半導体層15と電気的に接続される。第2電極pd2は、第2半導体層12と電気的に接続される。離間方向に対して垂直な方向において、第1電極pd1の少なくとも一部は、第5半導体層15と重なる。離間方向に対して垂直な方向において、第2電極pd2の少なくとも一部は、第1半導体層11と重なる。
The first electrode pd1 is electrically connected to the
この例では、第3配線領域CR3が設けられる。第3配線領域CR3は、第3導電層15clと、第1電極pd1と、を電気的に接続する。この例では、対向配線層CL1が設けられる。対向配線層CL1は、第2導電層12clと、第2電極pd2と、を電気的に接続する。 In this example, a third wiring region CR3 is provided. The third wiring region CR3 electrically connects the third conductive layer 15cl and the first electrode pd1. In this example, a counter wiring layer CL1 is provided. The counter wiring layer CL1 electrically connects the second conductive layer 12cl and the second electrode pd2.
対向配線層CL1と第1半導体層11との間に、絶縁層61が設けられる。第1対向配線領域CS1と第3半導体層13との間に、絶縁層62が設けられる。第2対向配線領域CS2と第5半導体層15との間に、絶縁層63が設けられる。
An insulating
このように、実施形態においては、基体51の上に、複数の発光層(LDE)が設けられ、基体51の上に、第1電極pd1及び第2電極pd2が設けられる。例えば、第1電極pd1に配線WR1が接続される。例えば、第2電極pd2に配線WR2が接続される。
Thus, in the embodiment, a plurality of light emitting layers (LDEs) are provided on the
第1電極pd1と第2電極pd2との間に電圧が印加される。これにより、第1〜第3発光層EU1〜EU3に電流が供給され、これらの発光層から光が放出される。基体51から半導体層に向かう方向(離間方向)に、半導体層の外部に出射する。光は、波長変換層72を通って、外部に出射する。
A voltage is applied between the first electrode pd1 and the second electrode pd2. Thereby, a current is supplied to the first to third light emitting layers EU1 to EU3, and light is emitted from these light emitting layers. The light is emitted to the outside of the semiconductor layer in a direction (separation direction) from the base 51 toward the semiconductor layer. The light is emitted to the outside through the
第1導電形の半導体層の表面に凹凸が設けられる。例えば、第1半導体層11の表面に凹凸11dpが設けられる。第3半導体層13の表面に凹凸13dpが設けられる。第5半導体層15の表面に凹凸15dpが設けられる。これらの凹凸により、高い光取り出し効率が得られる。
Irregularities are provided on the surface of the semiconductor layer of the first conductivity type. For example,
例えば、基体51が、実装部材(図示しない)の実装面の上に配置される。
For example, the
この例では、基体51の上に、接合層52が設けられ、接合層52の上に、絶縁層81が設けられる。絶縁層81の上に、配線領域、対向配線領域、導電層、半導体層及び電極が設けられる。その上に、波長変換層72が設けられる。
In this example, a
本実施形態においては、延在部(第1〜第3延在部ep1〜ep3など)が設けられている。これにより、電流がX−Y平面内で広がる。これにより、光の均一性を高くできる。 In the present embodiment, extended portions (first to third extended portions ep1 to ep3, etc.) are provided. Thereby, the current spreads in the XY plane. Thereby, the uniformity of light can be made high.
図1(c)に示すように、この例では、第1導電層11clは、第1連結部cp1をさらに含む、第1連結部cp1は、例えば、第1方向D1及び第2方向D2の他方に沿って延びる。この例では、第1連結部cp1は、第2方向D2に沿って延びる。第1延在部ep1は、複数設けられている。複数の第1延在部ep1のそれぞれの一端は、第1連結部cp1に連結されている。 As shown in FIG. 1C, in this example, the first conductive layer 11cl further includes a first connection part cp1, and the first connection part cp1 is, for example, the other of the first direction D1 and the second direction D2. Extending along. In this example, the first connecting portion cp1 extends along the second direction D2. A plurality of first extending portions ep1 are provided. One end of each of the plurality of first extending portions ep1 is connected to the first connecting portion cp1.
この例では、第3導電層13clは、第2連結部cp2をさらに含む、第2連結部cp2は、例えば、第2方向D2及び第3方向D3の他方に沿って延びる。この例では、第2連結部cp2は、第3方向D3に沿って延びる。第2延在部ep2は、複数設けられている。複数の第2延在部ep2のそれぞれの一端は、第2連結部cp2に連結されている。 In this example, the third conductive layer 13cl further includes a second connection part cp2. The second connection part cp2 extends, for example, along the other of the second direction D2 and the third direction D3. In this example, the second connecting portion cp2 extends along the third direction D3. A plurality of second extending portions ep2 are provided. One end of each of the plurality of second extending portions ep2 is coupled to the second coupling portion cp2.
この例では、第5導電層15clは、第3連結部cp3をさらに含む、第3連結部cp3は、例えば、第1方向D1及び第3方向D3の他方に沿って延びる。この例では、第3連結部cp3は、第3方向D3に沿って延びる。第3延在部ep3は、複数設けられている。複数の第3延在部ep2のそれぞれの一端は、第3連結部cp3に連結されている。 In this example, the fifth conductive layer 15cl further includes a third connection part cp3. The third connection part cp3 extends, for example, along the other of the first direction D1 and the third direction D3. In this example, the third connecting portion cp3 extends along the third direction D3. A plurality of third extending portions ep3 are provided. One end of each of the plurality of third extending portions ep2 is connected to the third connecting portion cp3.
この例では、以下のように、複数の延在部の間に、対向延在部が設けられる。 In this example, opposing extension portions are provided between the plurality of extension portions as follows.
第2導電層12clは、第1対向延在部eq1を含む。第1対向延在部eq1は、第1方向D1及び第2方向D2の上記の一方(この例では、第1方向D1)に沿って延びる。第1対向延在部eq1は、複数の第1延在部ep1の2つの間に位置する。 The second conductive layer 12cl includes a first opposing extension portion eq1. The first opposing extension portion eq1 extends along one of the first direction D1 and the second direction D2 (in this example, the first direction D1). The first opposing extension portion eq1 is located between two of the plurality of first extension portions ep1.
第4導電層14clは、第2対向延在部eq2を含む。第2対向延在部eq2は、第2方向D2及び第3方向D3の上記の一方(この例では、第3方向D3)に沿って延びる。第2対向延在部eq2は、複数の第2延在部ep2の2つの間に位置する。 The fourth conductive layer 14cl includes a second opposing extension portion eq2. The second opposing extending portion eq2 extends along one of the second direction D2 and the third direction D3 (in this example, the third direction D3). The second opposing extension part eq2 is located between two of the plurality of second extension parts ep2.
第6導電層16clは、第3対向延在部eq3を含む。第3対向延在部eq3は、第1方向D1及び第3方向D3の上記の一方(この例では、第1方向D1)に沿って延びる。第3対向延在部eq3は、複数の第3延在部ep3の2つの間に位置する。 The sixth conductive layer 16cl includes a third opposing extension portion eq3. The third opposing extension portion eq3 extends along one of the first direction D1 and the third direction D3 (in this example, the first direction D1). The third opposing extension part eq3 is located between two of the plurality of third extension parts ep3.
この例では、
第2導電層12clは、第1対向連結部cq1をさらに含む、第1対向連結部cq1は、例えば、第1方向D1及び第2方向D2の他方に沿って延びる。この例では、第1対向連結部cq1は、第2方向D2に沿って延びる。第1対向延在部eq1は、複数設けられている。複数の第1対向延在部eq1のそれぞれの一端は、第1対向連結部cq1に連結されている。
In this example,
The second conductive layer 12cl further includes a first opposing coupling portion cq1, and the first opposing coupling portion cq1 extends, for example, along the other of the first direction D1 and the second direction D2. In this example, the first opposing connection portion cq1 extends along the second direction D2. A plurality of first opposing extending portions eq1 are provided. One end of each of the plurality of first opposing extending portions eq1 is connected to the first opposing connecting portion cq1.
第4導電層14clは、第2対向連結部cq2をさらに含む、第2対向連結部cq2は、例えば、第2方向D2及び第3方向D3の他方に沿って延びる。この例では、第2対向連結部cq2は、第3方向D3に沿って延びる。第2対向延在部eq2は、複数設けられている。複数の第2対向延在部eq2のそれぞれの一端は、第2対向連結部cq2に連結されている。 The fourth conductive layer 14cl further includes a second opposing coupling portion cq2. The second opposing coupling portion cq2 extends, for example, along the other of the second direction D2 and the third direction D3. In this example, the second opposing connection portion cq2 extends along the third direction D3. A plurality of second opposing extending portions eq2 are provided. One end of each of the plurality of second opposing extending portions eq2 is connected to the second opposing connecting portion cq2.
第6導電層16clは、第3対向連結部cq3をさらに含む、第3対向連結部cq3は、例えば、第1方向D1及び第3方向D3の他方に沿って延びる。この例では、第3対向連結部cq3は、第3方向D3に沿って延びる。第3対向延在部eq3は、複数設けられている。複数の第3対向延在部eq3のそれぞれの一端は、第3対向連結部cq3に連結されている。 The sixth conductive layer 16cl further includes a third opposing connection portion cq3. The third opposing connection portion cq3 extends, for example, along the other of the first direction D1 and the third direction D3. In this example, the third opposing connection portion cq3 extends along the third direction D3. A plurality of third opposing extension portions eq3 are provided. One end of each of the plurality of third opposing extending portions eq3 is connected to the third opposing connecting portion cq3.
すなわち、第1導電形に電気的に接続された導電層と、第2導電形に電気的に接続された導電層と、がX−Y平面に投影したときに、櫛歯状となる。これにより、X−Y平面内において、電流がより均一になる。 That is, when the conductive layer electrically connected to the first conductivity type and the conductive layer electrically connected to the second conductivity type are projected onto the XY plane, a comb-teeth shape is obtained. Thereby, the current becomes more uniform in the XY plane.
本実施形態において、複数の発光層が設けられる。複数の発光層に含まれる半導体層の辺が、六角形(例えば正六角形)に配置される。 In the present embodiment, a plurality of light emitting layers are provided. The sides of the semiconductor layers included in the plurality of light emitting layers are arranged in a hexagon (for example, a regular hexagon).
例えば、この例では、第1辺s1、第4辺s4、第6辺s6、第7辺s7、第10辺s10及び第11辺s11のそれぞれは、正六角形の6つの辺に沿う。第5辺s5は、第2辺s2に沿い、第9辺s9は、第8辺s8に沿い、第12辺s12は、第3辺s3に沿う。発光部71の平面形状が六角形(例えば正六角形)である。
For example, in this example, each of the first side s1, the fourth side s4, the sixth side s6, the seventh side s7, the tenth side s10, and the eleventh side s11 is along six sides of a regular hexagon. The fifth side s5 is along the second side s2, the ninth side s9 is along the eighth side s8, and the twelfth side s12 is along the third side s3. The planar shape of the
例えば、第1方向D1と第2方向D2との間の角度は、例えば、58度以上62度以下である。第1方向D1と第3方向D3との間の角度は、例えば、58度以上62度以下である。第2方向D2と第3方向D3との間の角度は、例えば、58度以上62度以下である。例えば、第1方向D1と第2方向D2との間の角度は、例えば、59度以上61度以下でも良い。第1方向D1と第3方向D3との間の角度は、例えば、59度以上61度以下でも良い。第2方向D2と第3方向D3との間の角度は、例えば、59度以上61度以下でも良い。発光部71の平面形状は、実質的に六角形(例えば正六角形)である。六角形の形により、均一な発光が得やすい。
For example, the angle between the first direction D1 and the second direction D2 is, for example, not less than 58 degrees and not more than 62 degrees. The angle between the first direction D1 and the third direction D3 is, for example, not less than 58 degrees and not more than 62 degrees. The angle between the second direction D2 and the third direction D3 is, for example, not less than 58 degrees and not more than 62 degrees. For example, the angle between the first direction D1 and the second direction D2 may be, for example, 59 degrees or more and 61 degrees or less. The angle between the first direction D1 and the third direction D3 may be, for example, 59 degrees or more and 61 degrees or less. The angle between the second direction D2 and the third direction D3 may be, for example, 59 degrees or more and 61 degrees or less. The planar shape of the
波長変換層72が設けられる。離間方向(Z軸方向)において、基体51と波長変換層72との間に、第1〜第6半導体層11〜16、及び、第1〜第3中間半導体層IL1〜IL3が配置される。波長変換層72は、これらの半導体層から出射する光(発光光)の少なくとも一部を吸収し、別の光(変換光)を放出する。変換光の波長は、発光光の波長とは異なる。発光光は、例えば、青色であり、変換光は、黄色である。これらの光の合成光が得られる。合成光の色は、例えば、実質的に白色である。
A
波長変換層72は、例えば、複数の蛍光体(波長変換粒子)と、樹脂部と、を含む。樹脂部は、複数の蛍光体の少なくとも一部の周りに設けられる。
The
離間方向に対して交差する平面(例えば、X−Y平面)内における波長変換層72の外縁72rは、実質的に円状である。一方、発光部71の外縁72(半導体層に含まれる辺を含む外形)は、六角形(例えば正六角形)である。この六角形(例えば正六角形)の6つの辺は、上記のように、例えば、第1辺s1、第4辺s4、第6辺s6、第7辺s7、第10辺s10及び第11辺s11に沿う。離間方向に対して直交する面(X−Y平面)内において、波長変換層72の外縁72rは、この六角形の周りに位置する。
An
円形の波長変換層72に対応して六角形の発光部71を設けることで、波長変換層72と発光部71とが互いに重なる領域を大きくできる。これにより、光の損失が少なくできる。光の利用効率が高くなる。そして、円形と六角形とを対応させることで、光の面内の均一性が高まる。複数の発光層を組み合わせて形成される発光部71において、均一性が高く、効率が高い。
By providing the hexagonal light-emitting
さらに、上記のように、導電層に延在部を設ける。これにより、電流が広がる。1つの発光層の中においても高い均一性が得られる。 Further, as described above, the extending portion is provided in the conductive layer. This spreads the current. High uniformity can be obtained even in one light emitting layer.
複数の発光層が直列に接続されることで、駆動電圧を高くすることができる。これにより、電源回路の効率が高くなる。電源回路の構成が簡単となる。 The drive voltage can be increased by connecting a plurality of light emitting layers in series. This increases the efficiency of the power supply circuit. The configuration of the power supply circuit is simplified.
このように、実施形態においては、円形の実装面上に、複数の素子(発光層)が直列に接続される。これにより、高電圧で、高効率の駆動が可能になる。複数の素子(発光層)の外形は、六角形(例えば正六角形)である。この上に、波長変換層72が設けられる。波長変換層72は、複数の発光層を覆う。波長変換層72の背面形状は、円形である。
Thus, in the embodiment, a plurality of elements (light emitting layers) are connected in series on a circular mounting surface. This enables high-efficiency driving at a high voltage. The external shape of a some element (light emitting layer) is a hexagon (for example, regular hexagon). On this, a
実施形態においては、円形の実装面の上に、複数の素子を含む六角形(例えば正六角形)の発光部71が配置される。これにより、実装面の面積に対する、発光部71の面積の比を高くすることができる。発光効率が向上する。
In the embodiment, a hexagonal (for example, regular hexagonal)
一般に発光部(LEDチップ)は、実質的に直方体である。平面形状は、四角形である。このような四角形のLEDチップを用いる場合には、面内において、光の均一性が低い。実施形態においては、発光部71が六角形(例えば正六角形)なので、光の均一性が高い。光の分布は、円形に近い。このため、光学設計が容易となる。光学損失が低減する。
In general, the light emitting part (LED chip) is substantially a rectangular parallelepiped. The planar shape is a quadrangle. When such a square LED chip is used, the uniformity of light is low in the plane. In the embodiment, since the
複数の発光層が直列に接続される。駆動電圧は、発光層の数により制御できる。外部の電圧が高くても良い。これにより、駆動回路が簡単になる。 A plurality of light emitting layers are connected in series. The driving voltage can be controlled by the number of light emitting layers. The external voltage may be high. This simplifies the drive circuit.
複数の発光層が直列に接続されているため、入力される電力が高い場合にも、電流を低く抑えることができる。素子抵抗による電力損失を抑制することができる。円形の実装面に対して、外形が六角形(例えば正六角形)の発光部71が設けられる。すなわち、円形の波長変換層72に対して、六角形(例えば正六角形)の発光部71が設けられる。これにより、発光部71の発光面積を大きくすることができる。電流密度が低減し、発光効率が向上する。
Since the plurality of light emitting layers are connected in series, the current can be kept low even when the input power is high. Power loss due to element resistance can be suppressed. A
実装面に対して発光部71の面積が占める割合が高い。この割合は、例えば、70%以上である。これにより、実装面の反射率に関わらず、光学損失が小さい。
The ratio of the area of the
発光部71と実装面との接触面積が大きい。このため、高い放熱性が得られる。
The contact area between the
発光部71において、複数の発光層が設けられる。これらの発光層は、接続部により、接続される。接続部(接続配線)は、半導体層どうしの間に設けられる。接続部は、半導体層の上面(光取り出し面)に設けなくても良い。これにより、高い光取り出し効率が得やすい。
In the
複数の発光層どうしの間の間隔(例えば、第1半導体層11と第3半導体層13との間の間隔)は、例えば、20μm以下である。間隔が狭いので、発光面積を拡大できる。接続部の距離を短くすることができるため、素子抵抗が低くなる。間隔は、5μm程度でも良い。
An interval between the plurality of light emitting layers (for example, an interval between the
複数の発光層により、六角形(例えば正六角形)の発光部71が形成される。すなわち、発光部71が、複数の発光層に分割される。分割の数は、例えば、3、6、12、または、24などである。
A hexagonal (for example, regular hexagonal)
実施形態において、複数の発光層の面積は、実質的に互いに等しいことが望ましい。これにより、例えば、入力される電力に対する発光効率の最大値を高くすることができる。複数の発光層の面積が実質的に互いに等しいと、電流密度が均一になる。これにより、例えば、信頼性が高くできる。 In the embodiment, it is desirable that the areas of the plurality of light emitting layers are substantially equal to each other. Thereby, for example, the maximum value of the light emission efficiency with respect to the input power can be increased. When the areas of the plurality of light emitting layers are substantially equal to each other, the current density becomes uniform. Thereby, for example, reliability can be increased.
実施形態において、複数の発光層の面積を互いに異ならせても良い。この場合には、例えば、入力される電力に対する発光効率の依存性を小さくできる。 In the embodiment, the areas of the plurality of light emitting layers may be different from each other. In this case, for example, the dependence of the light emission efficiency on the input power can be reduced.
発光部71の形成方法の例の概要について説明する。
成長用基板の上に、第1導電形の第1半導体結晶層と、中間半導体結晶層と、第2導電形の第2半導体結晶層とを、形成する。この際、成長用基板と第1半導体結晶層との間にバッファ層などを含む半導体膜が形成されても良い。マスクを用いたエッチングにより、第2半導体結晶層の一部と、中間半導体結晶層の一部と、を除去する。これにより、第1導電形の半導体層及び第2導電形の半導体層が形成される。これらの半導体層の上に導電層を形成する。絶縁層61〜63が適宜形成される。接続部の一部となる導電膜が形成される。絶縁層81を形成し、さらに第1金属層を形成する。
An outline of an example of a method for forming the
A first conductivity type first semiconductor crystal layer, an intermediate semiconductor crystal layer, and a second conductivity type second semiconductor crystal layer are formed on the growth substrate. At this time, a semiconductor film including a buffer layer may be formed between the growth substrate and the first semiconductor crystal layer. A part of the second semiconductor crystal layer and a part of the intermediate semiconductor crystal layer are removed by etching using a mask. Thus, a first conductivity type semiconductor layer and a second conductivity type semiconductor layer are formed. A conductive layer is formed on these semiconductor layers. Insulating
一方、基体51が用意される。基体51の上には、第2金属層が設けられている。第1金属層と第2金属層とを接合する。これにより、接合層52が形成される。研削またはエッチングなどにより、成長用基板が除去される。
On the other hand, a
第1導電形の半導体層を含む層(バッファ層などを含む層)の表面に、例えば、エッチングなどの加工を施して、凹凸を形成する。さらに、複数の発光層のそれぞれに分断する。これにより、第1〜第6導電層11cl〜16clが形成され、複数の発光層が形成される。 The surface of the layer including the semiconductor layer of the first conductivity type (layer including the buffer layer or the like) is subjected to processing such as etching to form irregularities. Furthermore, it divides | segments into each of several light emitting layers. Thereby, the first to sixth conductive layers 11cl to 16cl are formed, and a plurality of light emitting layers are formed.
分離した溝の底面の一部をエッチングし、接続部の一部となる導電膜を露出させ、この上に、別の導電膜を形成する。これにより、接続部が形成される。接続部の形成は、第1電極pd1及び第2電極pd2の少なくともいずれかの形成と同時に行われても良い。 A part of the bottom surface of the separated groove is etched to expose the conductive film which becomes a part of the connection portion, and another conductive film is formed thereon. Thereby, a connection part is formed. The connection portion may be formed simultaneously with the formation of at least one of the first electrode pd1 and the second electrode pd2.
接続部の少なくとも一部は、上記の接合前に形成しても良い。接続部の少なくとも一部は、第1導電形の半導体層に接続される配線の一部と連続しても良い。接続部の少なくとも一部は、第2導電形の半導体層に接続される配線の一部と連続しても良い。 You may form at least one part of a connection part before said joining. At least a part of the connection part may be continuous with a part of the wiring connected to the semiconductor layer of the first conductivity type. At least a part of the connection part may be continuous with a part of the wiring connected to the semiconductor layer of the second conductivity type.
上記の工程は、複数の発光部71において、同時に実施される。この後、複数の発光部71に分割される。これにより、1つの発光部71が得られる。1つの発光部71の上に波長変換層72を形成する。これにより、発光装置111が形成される。
The above steps are performed simultaneously in the plurality of light emitting
図2(a)〜図2(d)は、第1の実施形態に係る発光装置を例示する模式図である。 図2(a)〜図2(c)は、上記の複数の発光部71への分割前の状態を例示する平面図である。図2(d)は、分断後の断面図である。
図2(a)に示すように、基体51となる層の上に、半導体結晶層71sが設けられている。半導体結晶層71sは、複数の発光部71となる。半導体結晶層71sは、第1導電形の半導体層と、第2導電形の半導体層と、それらの間に設けられた中間半導体層と、を含む。
FIG. 2A to FIG. 2D are schematic views illustrating the light emitting device according to the first embodiment. FIG. 2A to FIG. 2C are plan views illustrating a state before division into the plurality of light emitting
As shown in FIG. 2A, a
図2(b)に示すように、半導体結晶層71sは、分割線71dにより、分割される。これにより、複数の半導体結晶層71sが形成される。複数の半導体結晶層71sのそれぞれは、複数の発光部71のそれぞれに対応する。
As shown in FIG. 2B, the
図2(c)及び図2(d)に示すように、3つの発光部71が集まるコーナ部において、基体51に後退部51cが設けられる。
As shown in FIG. 2C and FIG. 2D, the
後退部51cの底面の位置は、非後退部51bの底面の位置よりも高い。後退部51cの厚さは、非後退部51bの厚さよりも薄い。この後退部51cは、分断を容易にする。
The position of the bottom surface of the retreating
以下、分断工程の例について、説明する。基体51は、半導体層(例えば、第1半導体層11など)の側の上面と、上面とは反対側の下面と、を含む。下面は、例えば、裏の面である。半導体層は、基体51の側の下面と、下面とは反対側の上面と、含む。半導体層の上面は、例えば、表の面である。
Hereinafter, an example of the dividing step will be described. The
分断工程においては、例えば、裏の面からエッチングを行い、この後、表の面からレーザカットする。分断工程においては、例えば、裏の面からエッチングを行い、この後、表の面からエッチングを行う。分断工程においては、例えば、裏の面からエッチングで分断する。分断工程においては、例えば、裏の面からレーザによりハーフカットし、この後、表の面からレーザカットする。分断工程においては、例えば、表の面からレーザで分断する。分断工程においては、例えば、表の面からレーザでハーフカットしても良い。分断工程においては、表の面からレーザでハーフカットし、この後、裏の面からレーザカットする。 In the dividing step, for example, etching is performed from the back surface, and then laser cutting is performed from the front surface. In the dividing step, for example, etching is performed from the back surface, and thereafter, etching is performed from the front surface. In the dividing step, for example, the substrate is divided from the back surface by etching. In the dividing step, for example, half cutting is performed with a laser from the back surface, and then laser cutting is performed from the front surface. In the dividing step, for example, the front surface is divided by a laser. In the dividing step, for example, half cutting may be performed with a laser from the front surface. In the dividing step, the front surface is half-cut with a laser, and then the laser is cut from the back surface.
このような分断工程において、上記の後退部51cを設けておくことで、処理が容易になる。例えば、レーザ加工の始点及び終点となる六角形の頂点部に、溝を設ける。溝が後退部51cとなる。分断後において、チップ端(コーナ部)において、基体51の裏の面に凹部(後退部51c)が形成される。
In such a dividing step, the provision of the retracted
これにより、レーザスクライブなどによる分断が容易になる。後退部51cにより、基体51による光吸収が抑制される。さらに、後退部51cにより、実装用に部材(ペーストまたははんだなど)が不要な領域に拡大することが抑制できる。
Thereby, the division | segmentation by laser scribe etc. becomes easy. Light absorption by the
図3は、第1の実施形態に係る別の発光装置を例示する模式的断面図である。
図3は、図1(b)のA1−A2線に対応する断面図である。
本実施形態に係る別の発光装置112においては、接続部の構成が、発光装置111とは異なる。これ以外は、例えば、発光装置111と同様である。以下、発光装置112における接続部について説明する。
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view illustrating another light emitting device according to the first embodiment.
FIG. 3 is a cross-sectional view corresponding to the line A1-A2 of FIG.
In another
発光装置112においては、第1接続部CP1は、第1配線領域CR1と、第1対向配線領域CS1と、を含む。第1配線領域CR1は、第1導電層11clと電気的に接続される。第1対向配線領域CS1は、第4導電層14cl及び第1配線領域CR1と電気的に接続される。離間方向(Z軸方向)において、第1対向配線領域CS1の一部は、第1配線領域CR1の一部と重なる。
In the
第2接続部CP2は、第2配線領域CR2と、第2対向配線領域CS2と、を含む。第2配線領域CR2は、第3導電層13clと電気的に接続される。第2対向配線領域CS2は、第6導電層16cl及び第2配線領域CR2と電気的に接続される。離間方向において、第2配線領域CR2の一部は、第2対向配線領域CS2の一部と重なる。 The second connection portion CP2 includes a second wiring region CR2 and a second counter wiring region CS2. The second wiring region CR2 is electrically connected to the third conductive layer 13cl. The second opposing wiring region CS2 is electrically connected to the sixth conductive layer 16cl and the second wiring region CR2. In the separation direction, a part of the second wiring region CR2 overlaps with a part of the second counter wiring region CS2.
発光装置112においても、発光の均一性を向上できる発光装置を提供できる。
The
図4は、第1の実施形態に係る別の発光装置を例示する模式的断面図である。
図4は、図1(b)のA1−A2線に対応する断面図である。
本実施形態に係る別の発光装置113において、半導体層の構成、接続部の構成、及び、電極の構成が、発光装置111とは異なる。これ以外は、例えば、発光装置111と同様である。以下、発光装置113における、半導体層、接続部、及び、電極について説明する。
FIG. 4 is a schematic cross-sectional view illustrating another light emitting device according to the first embodiment.
FIG. 4 is a cross-sectional view corresponding to the line A1-A2 of FIG.
In another
発光装置113の発光部71は、縦通電型の半導体発光素子を含む。すなわち、第1延在部ep1と第1中間半導体層IL1との間に、第1半導体層11の一部が設けられる。第2延在部ep2と第2中間半導体層IL2との間に、第3半導体層13の一部が設けられる。第3延在部ep3と第3中間半導体層IL3との間に、第5半導体層15の一部が設けられる。
The
第1接続部CP1の一部と、基体51と、の間に、第1半導体層11の別の一部が設けられる。第2接続部CP2の一部と、基体51と、の間に、第3半導体層13の別の一部が設けられる。
Another part of the
第1電極pd1は、第5半導体層15と電気的に接続されている。第2電極pd2は、第2半導体層12と電気的に接続されている。第1電極pd1と基体51との間に、第5半導体層15の別の一部が配置される。離間方向(Z軸方向)に対して垂直な方向において、第2電極pd2の少なくとも一部は、第1半導体層11と重なる。すなわち、基体51の上に、半導体層、導電層及び接続部が設けられる。さらに、基体51の上に、電極(パッド部)も受けられる。
The first electrode pd1 is electrically connected to the
この例では、第1側面絶縁層61sがさらに設けられる。第1半導体層11は、第1側面11sを含む。第1側面11sは、離間方向に対して垂直な方向と交差する。第1側面絶縁層61sの少なくとも一部は、第1接続部CP1と第1側面11sとの間に設けられる。
In this example, a first side
さらに、第2側面絶縁層62sがさらに設けられる。第3半導体層13は、第2側面13sを含む。第2側面13sは、離間方向に対して垂直な方向と交差する。第2側面絶縁層62sの少なくとも一部は、第2接続部CP2と第2側面13sとの間に設けられる。
Further, a second side
発光装置113においても、発光の均一性を向上できる発光装置を提供できる。
The
図5は、第1の実施形態に係る別の発光装置を例示する模式的平面図である。
図5は、本実施形態に係る別の発光装置114における発光部71を例示している。
図5に示すように、発光装置114(発光部71)は、第1〜第12発光層EU1〜EU12を含む。第1〜第3発光層EU1〜EU3は、発光装置111におけるそれらと同様である。第4〜第12発光層EU4〜EU12は、第1〜第3発光層EU1〜EU3のいずれかと類似の構成を有する。第1〜第12発光層EU1〜EU12は、直列に接続される。発光装置114においても、発光部71の外形は、六角形(例えば正六角形)である。六角形が、12の発光層により形成される。
FIG. 5 is a schematic plan view illustrating another light emitting device according to the first embodiment.
FIG. 5 illustrates a
As shown in FIG. 5, the light emitting device 114 (light emitting unit 71) includes first to twelfth light emitting layers EU1 to EU12. The first to third light emitting layers EU1 to EU3 are the same as those in the
発光装置114においても、第1電極pd1及び第2電極pd2が設けられる。これらの電極の間に電圧が印加される。これらの電極の間に電流が流れる。電流は、第1〜第12発光層EU1〜EU12の含まれる半導体層を、電流経路ICPに沿って流れる。
Also in the
図6(a)〜図6(c)は、第1の実施形態に係る別の発光装置を例示する模式的平面図である。
これらの図は、発光装置114に対応する。図6(a)は、第1導電形の半導体層と電気的に接続される導電層のパターンを例示している。図6(b)は、第2導電形の半導体層と電気的に接続される導電層のパターンを例示している。図6(c)は、接続部及び電極のパターンを例示している。
FIG. 6A to FIG. 6C are schematic plan views illustrating another light emitting device according to the first embodiment.
These figures correspond to the
図6(a)及び図6(b)に示すように、第1導電形の半導体層と電気的に接続される導電層と、第2導電形の半導体層と電気的に接続される導電層と、は櫛歯状である。これにより、電流が均一化される。これらの導電層が、接続部により直列に接続される。 As shown in FIGS. 6A and 6B, a conductive layer electrically connected to the first conductivity type semiconductor layer and a conductive layer electrically connected to the second conductivity type semiconductor layer. And are comb-like. Thereby, the current is made uniform. These conductive layers are connected in series by a connecting portion.
(第2の実施形態)
図7(a)及び図7(b)は、第2の実施形態に係る発光装置を例示する模式図である。
図7(a)は、平面図である。図7(b)は、図7(a)のA1−A2線断面図である。
図7(a)及び図7(b)に示すように、本実施形態に係る発光装置121も、例えば、発光部71と、波長変換層72と、を含む。波長変換層72の構成は、例えば、発光装置111と同様である。この場合も発光部71の外形は、六角形(例えば正六角形)である。発光装置121においては、発光部71の構成は、発光装置111とは異なる。以下、発光装置121における発光部71について説明する。
(Second Embodiment)
FIG. 7A and FIG. 7B are schematic views illustrating the light emitting device according to the second embodiment.
FIG. 7A is a plan view. FIG. 7B is a cross-sectional view taken along line A1-A2 of FIG.
As shown in FIGS. 7A and 7B, the
発光装置121(発光部71)は、基体51と、第1〜第4半導体層11〜14と、第1中間半導体層IL1と、第2中間半導体層IL2と、第1〜第4導電層11cl〜14clと、第1接続部CP1と、を含む。
The light emitting device 121 (light emitting unit 71) includes a
第1半導体層11は、離間方向において、基体51と離間し、第1導電形である。離間方向は、例えば、X軸方向である。第1半導体層11は、第1〜第4辺s1〜s4を含む。第1辺s1は、離間方向と交差する第1方向D1に沿って延びる。第2辺s2は、離間方向と交差し第1方向D2に対して傾斜する第2方向D2に沿って延びる。第3辺s3は、離間方向と交差し、第1方向D1及び第2方向D2に対して傾斜する第3方向D3に沿って延びる。第4辺s4は、離間方向及び第1方向D1と交差し、第2方向D2及び第3方向D3に対して傾斜する第4方向D4において、第1辺s1と離間する。第4辺s4は、第1方向D2に沿って延びる。第4辺s4の第1方向の長さは、第1辺s1の第1方向D2の長さよりも長い。
The
第1半導体層11の平面形状は、実質的に台形である。
The planar shape of the
第2半導体層12は、基体51と第1半導体層11との間に設けられ、第2導電形である。第1中間導体層IL1は、第1半導体層11と第2半導体層12との間に設けられる。
The
第1導電層11clは、第1延在部ep1を含む。第1延在部ep1は、第4方向D4に沿って延びる。第1導電層11clは、第1半導体層11と電気的に接続される。
The first conductive layer 11cl includes a first extension part ep1. The first extending part ep1 extends along the fourth direction D4. The first conductive layer 11cl is electrically connected to the
第2導電層12clは、基体51と第2半導体層12との間に設けられ、第2半導体層12と電気的に接続される。
The second conductive layer 12cl is provided between the base 51 and the
第3半導体層13は、離間方向において基体51と離間し、第4方向D4において第1半導体層11と並ぶ。第3半導体層13は、第1導電形である。第3半導体層13は、第5〜第8辺s5〜s8を含む。第5辺s5は、第1方向D1に沿って延びる。第5辺s5と第1辺s1との間に、第4辺s4が配置される。第6辺s6は、第2方向D2に沿って延びる。第7辺s7は、第3方向D3に沿って延びる。第8辺s8は、第5辺s5と第4辺s4との間に設けられ、第1方向D1に沿って延びる。第8辺s8の第1方向D1の長さは、第5辺s5の第1方向D1の長さよりも長い。
The
第3半導体層13の平面形状は、実質的に台形である。
The planar shape of the
第4半導体層14は、基体51と第3半導体層13との間に設けられ、第2導電形である。第2中間半導体層IL2は、第3半導体層13と第4半導体層14との間に設けられる。
The
第3導電層13clは、第2延在部ep2を含む。第2延在部ep2は、第4方向D4に沿って延びる。第3導電層13clは、第3半導体層13と電気的に接続される。第4導電層14clは、基体51と第4半導体層14との間に設けられ、第4半導体層14と電気的に接続される。
The third conductive layer 13cl includes a second extending part ep2. The second extending part ep2 extends along the fourth direction D4. The third conductive layer 13cl is electrically connected to the
第1接続部CP1は、第1導電層11clと第4導電層14clとを電気的に接続する。 The first connection portion CP1 electrically connects the first conductive layer 11cl and the fourth conductive layer 14cl.
この場合も、第1半導体層11、第2半導体層12及び第1中間半導体層IL1は、第1発光層EU1となる。第3半導体層13、第4半導体層14及び第2中間半導体層IL2は、第2発光層EU2となる。これらの発光層の外形は、台形である。複数の台形の発光層により、六角形(例えば正六角形)の発光部71が形成される。発光の均一性が高い。
Also in this case, the
さらに、延在部(第1延在部ep1及び第2延在部ep2)が設けられる。電流が広がる。これにより、均一性の高い発光が得られる。 Furthermore, extending portions (a first extending portion ep1 and a second extending portion ep2) are provided. Current spreads. Thereby, highly uniform light emission is obtained.
発光装置121において、発光層は、横通電型である。
すなわち、第1半導体層11は、第1領域11aと、離間方向と交差する方向において第1領域11aと並ぶ第2領域11bと、を含む。第2半導体層12は、基体51と第2領域11bとの間に設けられる。第1中間半導体層IL1は、第2領域11bと第2半導体層12との間に設けられる。第1延在部ep1は、基体51と第1領域11aとの間に設けられる。
In the light-emitting
That is, the
第3半導体層13は、第3領域13aと、離間方向と交差する方向において第3領域13aと並ぶ第4領域13bと、を含む。第4半導体層14は、基体51と第4領域13bとの間に設けられる。第2中間半導体層IL2は、第4領域13bと第4半導体層14との間に設けられる。第2延在部ep2は、基体51と第3領域13aとの間に設けられる。
The
この例でも、第1電極pd1及び第2電極pd2が設けられる。第1電極pd1は、第3半導体層13と電気的に接続される。第2電極pd2は、第2半導体層12と電気的に接続される。離間方向に対して垂直な方向において、第1電極pd1の少なくとも一部は、第3半導体層13と重なる。離間方向に対して垂直な方向において、第2電極pd2の少なくとも一部は、第1半導体層11と重なる。
Also in this example, the first electrode pd1 and the second electrode pd2 are provided. The first electrode pd1 is electrically connected to the
この例においても、導電層は、櫛歯状である。
すなわち、第1導電層11clは、第1連結部cp1をさらに含む。第1連結部cp1は、例えば、第1方向D1に沿って延びる。第1延在部ep1は、複数設けられる。複数の第1延在部ep1のそれぞれの一端は、第1連結部cp1に連結されている。
Also in this example, the conductive layer has a comb-teeth shape.
That is, the first conductive layer 11cl further includes the first coupling portion cp1. The first coupling part cp1 extends, for example, along the first direction D1. A plurality of first extending portions ep1 are provided. One end of each of the plurality of first extending portions ep1 is connected to the first connecting portion cp1.
実施形態において、複数の第1連結部cp1を設けても良い。第1連結部cp1は、発光層の端部に設けられても良い。複数の第1連結部cp1を設けることで、例えば、第1方向に沿った電流の均一性が高くなる。 In the embodiment, a plurality of first connecting portions cp1 may be provided. The first coupling part cp1 may be provided at the end of the light emitting layer. By providing the plurality of first connecting portions cp1, for example, the uniformity of current along the first direction is increased.
第2導電層12clは、第1対向延在部eq1を含む、第1対向延在部eq1は、第4方向D4に沿って延びる。第1対向延在部eq1は、複数の第1延在部ep1の2つの間に位置する。 The second conductive layer 12cl includes the first opposing extension portion eq1, and the first opposing extension portion eq1 extends along the fourth direction D4. The first opposing extension portion eq1 is located between two of the plurality of first extension portions ep1.
この例では、第1対向連結部cq1が設けられている。第1対向連結部cq1は、例えば、第1方向D1に沿って延びる。第1対向延在部eq1は、複数設けられる。複数の第1対向延在部eq1のそれぞれの一端は、第1対向連結部cq1に連結されている。 In this example, a first opposing connection portion cq1 is provided. The first opposing connection portion cq1 extends, for example, along the first direction D1. A plurality of first opposing extending portions eq1 are provided. One end of each of the plurality of first opposing extending portions eq1 is connected to the first opposing connecting portion cq1.
一方、第3導電層13clは、第2連結部cp2をさらに含む。第2連結部cp2は、例えば、第1方向D1に沿って延びる。第2延在部ep2は、複数設けられる。複数の第2延在部ep2のそれぞれの一端は、第2連結部cp2に連結されている。 On the other hand, the third conductive layer 13cl further includes a second coupling portion cp2. The second coupling part cp2 extends, for example, along the first direction D1. A plurality of second extending portions ep2 are provided. One end of each of the plurality of second extending portions ep2 is coupled to the second coupling portion cp2.
第4導電層14clは、第2対向延在部eq2を含む、第2対向延在部eq2は、第4方向D4に沿って延びる。第2対向延在部eq2は、複数の第2延在部ep2の2つの間に位置する。 The fourth conductive layer 14cl includes the second opposing extension portion eq2, and the second opposing extension portion eq2 extends along the fourth direction D4. The second opposing extension part eq2 is located between two of the plurality of second extension parts ep2.
この例では、第2対向連結部cq2が設けられている。第2対向連結部cq2は、例えば、第1方向D1に沿って延びる。第2対向延在部eq2は、複数設けられる。複数の第2対向延在部eq2のそれぞれの一端は、第2対向連結部cq2に連結されている。 In this example, a second opposing connection portion cq2 is provided. For example, the second opposing coupling portion cq2 extends along the first direction D1. A plurality of second opposing extending portions eq2 are provided. One end of each of the plurality of second opposing extending portions eq2 is connected to the second opposing connecting portion cq2.
櫛歯状の導電層を用いることで、電流の均一性がさらに向上する。さらに均一な発光が得られる。 By using the comb-like conductive layer, the current uniformity is further improved. Furthermore, uniform light emission can be obtained.
第1接続部CP1は、第1配線領域CR1と、第1対向配線領域CS1と、第1中間配線領域CM1と、を含む。第1配線領域CR1は、第1導電層11clと電気的に接続される。第1対向配線領域CS1は、第4導電層14clと電気的に接続される。第1中間配線領域CM1は、第1配線領域CR1と第1対向配線領域CS1と電気的に接続される。第1中間配線領域CM1の一部と、基体51と、の間に、第1配線領域CR1の少なくとも一部が配置される。第1中間配線領域CM1の別の一部と、基体51と、の間に、第1対向配線領域CS1の少なくとも一部が配置される。
The first connection portion CP1 includes a first wiring region CR1, a first counter wiring region CS1, and a first intermediate wiring region CM1. The first wiring region CR1 is electrically connected to the first conductive layer 11cl. The first counter wiring region CS1 is electrically connected to the fourth conductive layer 14cl. The first intermediate wiring region CM1 is electrically connected to the first wiring region CR1 and the first counter wiring region CS1. At least a part of the first wiring region CR1 is disposed between a part of the first intermediate wiring region CM1 and the
発光装置121においては、離間方向(Z軸方向)において、基体51と波長変換層72との間に、第1〜第4半導体層11〜14、及び、第1及び第2中間半導体層IL2お及びIL2が配置される。離間方向に対して交差する平面(X−Y平面)内における波長変換層72の外縁72rは、円状である。発光部71の外縁71rは、実質的に六角形(例えば正六角形)である。
In the
すなわち、例えば、第1辺s1、第2辺s2、第3辺s3、記第5辺s5、第6辺s6、及び第7辺s7のそれぞれは、外縁72rの六角形(例えば正六角形)の6つの辺に沿う。
That is, for example, each of the first side s1, the second side s2, the third side s3, the fifth side s5, the sixth side s6, and the seventh side s7 is a hexagon (for example, a regular hexagon) of the
第1方向D1と第2方向D2との間の角度は、例えば、58度以上62度以下である。第1方向D1と第3方向D3との間の角度は、例えば、58度以上62度以下である。第2方向D2と第3方向D3との間の角度は、例えば、58度以上62度以下である。第1方向D1と第2方向D2との間の角度は、例えば、59度以上61度以下でも良い。第1方向D1と第3方向D3との間の角度は、例えば、59度以上61度以下でも良い。第2方向D2と第3方向D3との間の角度は、例えば、59度以上61度以下でも良い。 The angle between the first direction D1 and the second direction D2 is, for example, not less than 58 degrees and not more than 62 degrees. The angle between the first direction D1 and the third direction D3 is, for example, not less than 58 degrees and not more than 62 degrees. The angle between the second direction D2 and the third direction D3 is, for example, not less than 58 degrees and not more than 62 degrees. The angle between the first direction D1 and the second direction D2 may be, for example, 59 degrees or more and 61 degrees or less. The angle between the first direction D1 and the third direction D3 may be, for example, 59 degrees or more and 61 degrees or less. The angle between the second direction D2 and the third direction D3 may be, for example, 59 degrees or more and 61 degrees or less.
第1方向D1と第4方向D4との間の角度は、例えば、80度以上100度以下である。第1方向D1と第4方向D4との間の角度は、例えば、85度以上95度以下でも良い。 The angle between the first direction D1 and the fourth direction D4 is, for example, not less than 80 degrees and not more than 100 degrees. The angle between the first direction D1 and the fourth direction D4 may be, for example, not less than 85 degrees and not more than 95 degrees.
外形が六角形の発光部71を用いることで、均一な発光が得られる。外形が円形の波長変換層72と組み合わせることで、大きな発光面積が得られる。延在部を用いることで、電流が広がり、さらに発光の均一性が向上する。
Uniform light emission can be obtained by using the hexagonal light-emitting
本実施形態においては、第1半導体層11と第3半導体層13とが並ぶ方向(第4方向)に、延在部が延びる。電流の方向が、第1半導体層11と第3半導体層13とが並ぶ方向に沿う。これにより、低い抵抗が得られる。
In the present embodiment, the extending portion extends in the direction (fourth direction) in which the
図8は、第2の実施形態に係る別の発光装置を例示する模式的断面図である。
図8は、図7(a)のA1−A2線に対応する断面図である。
本実施形態に係る別の発光装置122においては、接続部の構成が、発光装置121とは異なる。これ以外は、例えば、発光装置121と同様である。以下、発光装置122における接続部について説明する。
FIG. 8 is a schematic cross-sectional view illustrating another light emitting device according to the second embodiment.
FIG. 8 is a cross-sectional view corresponding to the line A1-A2 of FIG.
In another
発光装置122においては、第1接続部CP1は、第1導電層11clと電気的に接続された第1配線領域CR1と、第4導電層14cl及び第1配線領域CR1と電気的に接続された第1対向配線領域CS1と、を含む。離間方向(Z軸方向)において、第1配線領域CR1の一部は、第1対向配線領域CS1の一部と重なる。
In the
発光装置122においても、発光の均一性を向上できる発光装置を提供できる。
The
図9は、第2の実施形態に係る別の発光装置を例示する模式的断面図である。
図9は、図7(a)のA1−A2線に対応する断面図である。
本実施形態に係る別の発光装置123において、半導体層の構成、接続部の構成、及び、電極の構成が、発光装置121とは異なる。これ以外は、例えば、発光装置121と同様である。以下、発光装置123における、半導体層、接続部、及び、電極について説明する。
FIG. 9 is a schematic cross-sectional view illustrating another light emitting device according to the second embodiment.
FIG. 9 is a cross-sectional view corresponding to the line A1-A2 of FIG.
In another
発光装置123の発光部71は、縦通電型の半導体発光素子を含む。すなわち、第1延在部ep1と第1中間半導体層IL1との間に第1半導体層11の一部が設けられる。第2延在部ep2と第2中間半導体層IL2との間に第3半導体層13の一部が設けられる。第1接続部CP1の一部と基体51との間に、第1半導体層11の別の一部が設けられる。
The
この場合も、第5半導体層15と電気的に接続された第1電極pd1と、第2半導体層12と電気的に接続された第2電極pd2と、が設けられる。第1電極pd1と基体51との間に、第5半導体層15の別の一部が配置される。離間方向に対して垂直な方向において、第2電極pd2の少なくとも一部は、第1半導体層11と重なる。
Also in this case, a first electrode pd1 electrically connected to the
この場合も、第1側面絶縁層61sが設けられる。第1半導体層11は、離間方向に対して垂直な方向と交差する第1側面11sを含む。第1側面絶縁層61sの少なくとも一部は、第1接続部CP1と第1側面11sとの間に設けられる。
Also in this case, the first side
発光装置123においても、発光の均一性を向上できる発光装置を提供できる。
The
図10は、第2の実施形態に係る別の発光装置を例示する模式的平面図である。
図10は、本実施形態に係る別の発光装置124における発光部71を例示している。
FIG. 10 is a schematic plan view illustrating another light emitting device according to the second embodiment.
FIG. 10 illustrates a
図10に示すように、発光装置124(発光部71)は、第1〜第12発光層EU1〜EU12を含む。第1及び第2発光層EU1及びEU2は、発光装置121におけるそれらと同様である。第3〜第12発光層EU3〜EU12は、第1及び第2発光層EU1及びEU2のいずれかと類似の構成を有する。第1〜第12発光層EU1〜EU12は、直列に接続される。発光装置124においても、発光部71の外形は、六角形(例えば正六角形)である。六角形(例えば正六角形)が、12の発光層により形成される。
As shown in FIG. 10, the light emitting device 124 (light emitting unit 71) includes first to twelfth light emitting layers EU1 to EU12. The first and second light emitting layers EU1 and EU2 are the same as those in the
発光装置124においても、第1電極pd1及び第2電極pd2が設けられる。これらの電極の間に電圧が印加される。これらの電極の間に電流が流れる。電流は、第1〜第12発光層EU1〜EU12の含まれる半導体層を、電流経路ICPに沿って流れる。
Also in the
発光装置124においては、複数の発光層が1つの方向(第4方向D4)に沿って並ぶ。延在部は、第4方向D4に沿って延びる。これにより、電流経路ICPが短い。例えば、発光装置124における電流経路ICPは、発光装置114における電流経路ICPよりも短い。これにより、低い抵抗が得られる。
In the
図11(a)〜図11(c)は、第2の実施形態に係る別の発光装置を例示する模式的平面図である。
これらの図は、発光装置124に対応する。図11(a)は、第1導電形の半導体層と電気的に接続される導電層のパターンを例示している。図11(b)は、第2導電形の半導体層と電気的に接続される導電層のパターンを例示している。図11(c)は、接続部及び電極のパターンを例示している。
FIG. 11A to FIG. 11C are schematic plan views illustrating another light emitting device according to the second embodiment.
These drawings correspond to the
図11(a)及び図6(b)に示すように、第1導電形の半導体層と電気的に接続される導電層と、第2導電形の半導体層と電気的に接続される導電層と、は櫛歯状である。これにより、電流が均一化される。これらの導電層が、接続部により直列に接続される。 As shown in FIGS. 11A and 6B, a conductive layer electrically connected to the first conductivity type semiconductor layer and a conductive layer electrically connected to the second conductivity type semiconductor layer. And are comb-like. Thereby, the current is made uniform. These conductive layers are connected in series by a connecting portion.
発光装置112〜114及び121〜124においても、図2(c)及び図2(d)に関して説明した後退部51cを設けても良い。これにより、高い生産性で発光装置を製造できる。
In the
上記の実施形態において、第1〜第6半導体層11〜16及び第1〜第3中間半導体層IL1〜IL3には、例えば、窒化物半導体が用いられる。但し、実施形態において、これらの半導体の材料は任意である。 In the above embodiment, for example, nitride semiconductors are used for the first to sixth semiconductor layers 11 to 16 and the first to third intermediate semiconductor layers IL1 to IL3. However, in the embodiment, these semiconductor materials are arbitrary.
実施形態は、以下の特徴を含む。
(特徴1)
基体と、
離間方向において前記基体と離間する第1導電形の第1半導体層であって、
前記離間方向と交差する第1方向に沿って延びる第1辺と、
前記離間方向と交差し前記第1方向と傾斜する第2方向に沿って延びる第2辺と、
前記第2方向において前記第1辺と離間し前記第1方向に沿って延びる第3辺と、
前記第1方向において前記第2辺と離間し前記第2方向に沿って延びる第4辺と、
を含む前記第1半導体層と、
前記基体と前記第1半導体層との間に設けられた第2導電形の第2半導体層と、
前記第1半導体層と前記第2半導体層との間に設けられた第1中間半導体層と、
前記第1方向及び第2方向の一方に沿って延びる第1延在部を含み前記第1半導体層と電気的に接続された第1導電層と、
前記基体と前記第2半導体層との間に設けられ前記第2半導体層と電気的に接続された第2導電層と、
前記離間方向において前記基体と離間し前記離間方向と交差する方向において前記第1半導体層と並ぶ前記第1導電形の第3半導体層であって、
前記第2方向に沿って延びる第5辺と、
前記離間方向と交差し、前記第1方向及び前記第2方向に対して傾斜する第3方向に沿って延びる第6辺と、
前記第3方向において前記第5辺と離間し前記第2方向に沿って延びる第7辺と、
前記第2方向において前記第6辺と離間し前記第3方向に沿って延びる第8辺と、
を含む前記第3半導体層と、
前記基体と前記第3半導体層との間に設けられた前記第2導電形の第4半導体層と、
前記第3半導体層と前記第4半導体層との間に設けられた第2中間半導体層と、
前記第2方向及び前記第3方向の一方に沿って延びる第2延在部を含み前記第3半導体層と電気的に接続された第3導電層と、
前記基体と前記第4半導体層との間に設けられ前記第4半導体層と電気的に接続された第4導電層と、
前記離間方向において前記基体と離間し前記離間方向と交差する方向において前記第1半導体層と並ぶ前記第1導電形の第5半導体層であって、
前記第3方向に沿って延びる第9辺と、
前記第1方向に沿って延びる第10辺と、
前記第1方向において前記第9辺と離間し前記第3方向に沿って延びる第11辺と、
前記第3方向において前記第10辺と離間し前記第1方向に沿って延びる第12辺と、
を含む前記第5半導体層と、
前記基体と前記第5半導体層との間に設けられた前記第2導電形の第6半導体層と、
前記第5半導体層と前記第6半導体層との間に設けられた第3中間半導体層と、
前記第1方向及び前記第3方向の一方に沿って延びる第3延在部を含み前記第5半導体層と電気的に接続された第5導電層と、
前記基体と前記第6半導体層との間に設けられ前記第6半導体層と電気的に接続された第6導電層と、
前記第1導電層と前記第4導電層とを電気的に接続する第1接続部と、
前記第3導電層と前記第6導電層とを電気的に接続する第2接続部と、
を備えた発光装置。
(特徴2)
波長変換層をさらに備え、
前記離間方向において、前記基体と前記波長変換層との間に、前記第1〜第6半導体層、及び、前記第1〜前記第3中間半導体層が配置され、
前記離間方向に対して交差する平面内における前記波長変換層の外縁は、円状である、特徴1記載の発光装置。
(特徴3)
前記第1辺、前記第4辺、前記第6辺、前記第7辺、前記第10辺及び前記第11辺のそれぞれは、正六角形の6つの辺に沿う、特徴1または2に記載の発光装置。
(特徴4)
前記第5辺は、前記第2辺に沿い、
前記第9辺は、前記第8辺に沿い、
前記第12辺は、前記第3辺に沿う、特徴1〜3のいずれか1つに記載の発光装置。
(特徴5)
前記第1方向と前記第2方向との間の角度は、58度以上62度以下であり、
前記第1方向と前記第3方向との間の角度は、58度以上62度以下であり、
前記第2方向と前記第3方向との間の角度は、58度以上62度以下である、特徴1〜3のいずれか1つに記載の発光装置。
(特徴6)
前記第1半導体層は、第1領域と、前記離間方向と交差する方向において前記第1領域と並ぶ第2領域と、を含み、
前記第2半導体層は、前記基体と前記第2領域との間に設けられ、
前記第1中間半導体層は、前記第2領域と前記第2半導体層との間に設けられ、
前記第1延在部は、前記基体と前記第1領域との間に設けられ、
前記第3半導体層は、第3領域と、前記離間方向と交差する方向において前記第3領域と並ぶ第4領域と、を含み、
前記第4半導体層は、前記基体と前記第4領域との間に設けられ、
前記第2中間半導体層は、前記第4領域と前記第4半導体層との間に設けられ、
前記第2延在部は、前記基体と前記第3領域との間に設けられ、
前記第5半導体層は、第5領域と、前記離間方向と交差する方向において前記第5領域と並ぶ第6領域と、を含み、
前記第6半導体層は、前記基体と前記第6領域との間に設けられ、
前記第3中間半導体層は、前記第6領域と前記第6半導体層との間に設けられ、
前記第3延在部は、前記基体と前記第5領域との間に設けられた、特徴1〜5のいずれか1つに記載の発光装置。
(特徴7)
前記第5半導体層と電気的に接続された第1電極と、
前記第2半導体層と電気的に接続された第2電極と、
をさらに備え、
前記離間方向に対して垂直な方向において、前記第1電極の少なくとも一部は、前記第5半導体層と重なり、
前記離間方向に対して垂直な方向において、前記第2電極の少なくとも一部は、前記第1半導体層と重なる、特徴6記載の発光装置。
(特徴8)
前記第1導電層は、第1連結部をさらに含み、
前記第1延在部は、複数設けられ、
前記複数の前記第1延在部のそれぞれの一端は、前記第1連結部に連結されている、特徴6または7に記載の発光装置。
(特徴9)
前記第2導電層は、前記第1方向及び前記第2方向の前記一方に沿って延びる第1対向延在部を含み、
前記第1対向延在部は、前記複数の第1延在部の2つの間に位置する、特徴8記載の発光装置。
(特徴10)
前記離間方向に対して垂直な方向において、前記第1接続部の少なくとも一部は、前記第1半導体層と重なり、
前記離間方向に対して垂直な方向において、前記第2接続部の少なくとも一部は、前記第3半導体層と重なる、特徴6〜9のいずれか1つに記載の発光装置。
(特徴11)
前記離間方向に対して垂直な方向において、前記第1半導体層は、前記第1接続部と重ならない領域を含み、
前記離間方向に対して垂直な方向において、前記第3半導体層は、前記第2接続部と重ならない領域を含む、特徴10記載の発光装置。
(特徴12)
前記第1接続部は、
前記第1導電層と電気的に接続された第1配線領域と、
前記第4導電層と電気的に接続された第1対向配線領域と、
前記第1配線領域と前記第1対向配線領域と電気的に接続された第1中間配線領域と、
を含み、
前記第1中間配線領域の一部と前記基体との間に前記第1配線領域の少なくとも一部が配置され、
前記第1中間配線領域の別の一部と前記基体との間に前記第1対向配線領域の少なくとも一部が配置された、特徴6〜11のいずれか1つに記載の発光装置。
(特徴13)
前記第1接続部は、
前記第1導電層と電気的に接続された第1配線領域と、
前記第4導電層及び前記第1配線領域と電気的に接続された第1対向配線領域と、
を含み、
前記離間方向において、前記第1配線領域の一部は、前記第1対向配線領域の一部と重なる、特徴6〜11のいずれか1つに記載の発光装置。
(特徴14)
前記第1延在部と前記第1中間半導体層との間に前記第1半導体層の一部が設けられ、
前記第2延在部と前記第2中間半導体層との間に前記第3半導体層の一部が設けられ、
前記第3延在部と前記第3中間半導体層との間に前記第5半導体層の一部が設けられ、
前記第1接続部の一部と前記基体との間に前記第1半導体層の別の一部が設けられ、
前記第2接続部の一部と前記基体との間に前記第3半導体層の別の一部が設けられた、特徴1〜5のいずれか1つに記載の発光装置。
(特徴15)
前記第5半導体層と電気的に接続された第1電極と、
前記第2半導体層と電気的に接続された第2電極と、
をさらに備え、
前記第1電極と前記基体との間に、前記第5半導体層の別の一部が配置され、
前記離間方向に対して垂直な方向において、前記第2電極の少なくとも一部は、前記第1半導体層と重なる、特徴14記載の発光装置。
(特徴16)
第1側面絶縁層をさらに備え、
前記第1半導体層は、前記離間方向に対して垂直な方向と交差する第1側面を含み、
前記第1側面絶縁層の少なくとも一部は、前記第1接続部と前記第1側面との間に設けられた、特徴14または15に記載の発光装置。
(特徴17)
基体と、
離間方向において前記基体と離間する第1導電形の第1半導体層であって、
前記離間方向と交差する第1方向に沿って延びる第1辺と、
前記離間方向と交差し前記第1方向に対して傾斜する第2方向に沿って延びる第2辺と、
前記離間方向と交差し前記第1方向及び前記第2方向に対して傾斜する第3方向に沿って延びる第3辺と、
前記離間方向及び前記第1方向と交差し前記第2方向及び前記第3方向に対して傾斜する第4方向において前記第1辺と離間し前記第1方向に沿って延びる第4辺と、
を含み、前記第4辺の前記第1方向の長さは前記第1辺の前記第1方向の長さよりも長い、前記第1半導体層と、
前記基体と前記第1半導体層との間に設けられた第2導電形の第2半導体層と、
前記第1半導体層と前記第2半導体層との間に設けられた第1中間半導体層と、
前記第4方向に沿って延びる第1延在部を含み前記第1半導体層と電気的に接続された第1導電層と、
前記基体と前記第2半導体層との間に設けられ前記第2半導体層と電気的に接続された第2導電層と、
前記離間方向において前記基体と離間し前記第4方向において前記第1半導体層と並ぶ前記第1導電形の第3半導体層であって、
前記第1方向に沿って延びる第5辺であって、前記第5辺と前記第1辺との間に前記第4辺が配置された、前記第5辺と、
前記第2方向に沿って延びる第6辺と、
前記第3方向に沿って延びる第7辺と、
前記第5辺と前記第4辺との間に設けられ前記第1方向に沿って延びる第8辺と、
を含み、前記第8辺の前記第1方向の長さは前記第5辺の前記第1方向の長さよりも長い、前記第3半導体層と、
前記基体と前記第3半導体層との間に設けられた前記第2導電形の第4半導体層と、
前記第3半導体層と前記第4半導体層との間に設けられた第2中間半導体層と、
前記第4方向に沿って延びる第2延在部を含み前記第3半導体層と電気的に接続された第3導電層と、
前記基体と前記第4半導体層との間に設けられ前記第4半導体層と電気的に接続された第4導電層と、
前記第1導電層と前記第4導電層とを電気的に接続する第1接続部と、
を備えた発光装置。
(特徴18)
波長変換層をさらに備え、
前記離間方向において、前記基体と前記波長変換層との間に、前記第1〜第4半導体層、及び、前記第1及び前記第2中間半導体層が配置され、
前記離間方向に対して交差する平面内における前記波長変換層の外縁は、円状である、特徴17記載の発光装置。
(特徴19)
前記第1辺、前記第2辺、前記第3辺、前記第5辺、前記第6辺、及び前記第7辺のそれぞれは、正六角形の6つの辺に沿う、特徴17または18に記載の発光装置。
(特徴20)
前記第1方向と前記第2方向との間の角度は、58度以上62度以下であり、
前記第1方向と前記第3方向との間の角度は、58度以上62度以下であり、
前記第2方向と前記第3方向との間の角度は、58度以上62度以下であり、
前記第1方向と前記第4方向との間の角度は、80度以上100度以下である、特徴17〜17のいずれか1つに記載の発光装置。
(特徴21)
前記第1半導体層は、第1領域と、前記離間方向と交差する方向において前記第1領域と並ぶ第2領域と、を含み、
前記第2半導体層は、前記基体と前記第2領域との間に設けられ、
前記第1中間半導体層は、前記第2領域と前記第2半導体層との間に設けられ、
前記第1延在部は、前記基体と前記第1領域との間に設けられ、
前記第3半導体層は、第3領域と、前記離間方向と交差する方向において前記第3領域と並ぶ第4領域と、を含み、
前記第4半導体層は、前記基体と前記第4領域との間に設けられ、
前記第2中間半導体層は、前記第4領域と前記第4半導体層との間に設けられ、
前記第2延在部は、前記基体と前記第3領域との間に設けられた、特徴17〜20のいずれか1つに記載の発光装置。
(特徴22)
前記第3半導体層と電気的に接続された第1電極と、
前記第2半導体層と電気的に接続された第2電極と、
をさらに備え、
前記離間方向に対して垂直な方向において、前記第1電極の少なくとも一部は、前記第3半導体層と重なり、
前記離間方向に対して垂直な方向において、前記第2電極の少なくとも一部は、前記第1半導体層と重なる、特徴21記載の発光装置。
(特徴23)
前記第1導電層は、前記第1方向に沿って延びる第1連結部をさらに含み、
前記第1延在部は、複数設けられ、
前記複数の前記第1延在部のそれぞれの一端は、前記第1連結部に連結されている、特徴21または22に記載の発光装置。
(特徴24)
前記第2導電層は、前記第4方向に沿って延びる第1対向延在部を含み、
前記第1対向延在部は、前記複数の第1延在部の2つの間に位置する、特徴23記載の発光装置。
(特徴25)
前記第1接続部は、
前記第1導電層と電気的に接続された第1配線領域と、
前記第4導電層と電気的に接続された第1対向配線領域と、
前記第1配線領域と前記第1対向配線領域と電気的に接続された第1中間配線領域と、
を含み、
前記第1中間配線領域の一部と前記基体との間に前記第1配線領域の少なくとも一部が配置され、
前記第1中間配線領域の別の一部と前記基体との間に前記第1対向配線領域の少なくとも一部が配置された、特徴21〜24のいずれか1つに記載の発光装置。
(特徴26)
前記第1接続部は、
前記第1導電層と電気的に接続された第1配線領域と、
前記第4導電層及び前記第1配線領域と電気的に接続された第1対向配線領域と、
を含み、
前記離間方向において、前記第1配線領域の一部は、前記第1対向配線領域の一部と重なる、特徴21〜24のいずれか1つに記載の発光装置。
(特徴27)
前記第1延在部と前記第1中間半導体層との間に前記第1半導体層の一部が設けられ、
前記第2延在部と前記第2中間半導体層との間に前記第3半導体層の一部が設けられ、
前記第1接続部の一部と前記基体との間に前記第1半導体層の別の一部が設けられた、特徴17〜20のいずれか1つに記載の発光装置。
(特徴28)
前記第5半導体層と電気的に接続された第1電極と、
前記第2半導体層と電気的に接続された第2電極と、
をさらに備え、
前記第1電極と前記基体との間に、前記第5半導体層の別の一部が配置され、
前記離間方向に対して垂直な方向において、前記第2電極の少なくとも一部は、前記第1半導体層と重なる、特徴27記載の発光装置。
(特徴29)
第1側面絶縁層をさらに備え、
前記第1半導体層は、前記離間方向に対して垂直な方向と交差する第1側面を含み、
前記第1側面絶縁層の少なくとも一部は、前記第1接続部と前記第1側面との間に設けられた、特徴27または28に記載の発光装置。
Embodiments include the following features.
(Feature 1)
A substrate;
A first semiconductor layer of a first conductivity type spaced apart from the base body in a separation direction,
A first side extending along a first direction intersecting the separation direction;
A second side extending along a second direction that intersects the separation direction and is inclined with respect to the first direction;
A third side that is spaced apart from the first side and extends along the first direction in the second direction;
A fourth side spaced apart from the second side in the first direction and extending along the second direction;
The first semiconductor layer comprising:
A second semiconductor layer of a second conductivity type provided between the base and the first semiconductor layer;
A first intermediate semiconductor layer provided between the first semiconductor layer and the second semiconductor layer;
A first conductive layer including a first extension extending along one of the first direction and the second direction and electrically connected to the first semiconductor layer;
A second conductive layer provided between the base and the second semiconductor layer and electrically connected to the second semiconductor layer;
A third semiconductor layer of the first conductivity type that is separated from the substrate in the separation direction and aligned with the first semiconductor layer in a direction intersecting the separation direction;
A fifth side extending along the second direction;
A sixth side that intersects the separation direction and extends along a third direction that is inclined with respect to the first direction and the second direction;
A seventh side extending in the second direction and spaced apart from the fifth side in the third direction;
An eighth side extending in the third direction and spaced apart from the sixth side in the second direction;
The third semiconductor layer comprising:
A fourth semiconductor layer of the second conductivity type provided between the base and the third semiconductor layer;
A second intermediate semiconductor layer provided between the third semiconductor layer and the fourth semiconductor layer;
A third conductive layer including a second extension extending along one of the second direction and the third direction and electrically connected to the third semiconductor layer;
A fourth conductive layer provided between the base and the fourth semiconductor layer and electrically connected to the fourth semiconductor layer;
A fifth semiconductor layer of the first conductivity type aligned with the first semiconductor layer in a direction that is separated from the base in the separation direction and intersects the separation direction;
A ninth side extending along the third direction;
A tenth side extending along the first direction;
An eleventh side that is spaced apart from the ninth side and extends along the third direction in the first direction;
A twelfth side that is separated from the tenth side and extends along the first direction in the third direction;
The fifth semiconductor layer comprising:
A sixth semiconductor layer of the second conductivity type provided between the base and the fifth semiconductor layer;
A third intermediate semiconductor layer provided between the fifth semiconductor layer and the sixth semiconductor layer;
A fifth conductive layer including a third extension extending along one of the first direction and the third direction and electrically connected to the fifth semiconductor layer;
A sixth conductive layer provided between the base and the sixth semiconductor layer and electrically connected to the sixth semiconductor layer;
A first connection portion for electrically connecting the first conductive layer and the fourth conductive layer;
A second connection portion for electrically connecting the third conductive layer and the sixth conductive layer;
A light emitting device comprising:
(Feature 2)
A wavelength conversion layer;
In the separation direction, the first to sixth semiconductor layers and the first to third intermediate semiconductor layers are disposed between the base and the wavelength conversion layer,
The light emitting device according to
(Feature 3)
The light emission according to
(Feature 4)
The fifth side is along the second side,
The ninth side is along the eighth side,
The twelfth side is the light emitting device according to any one of
(Feature 5)
The angle between the first direction and the second direction is not less than 58 degrees and not more than 62 degrees,
The angle between the first direction and the third direction is not less than 58 degrees and not more than 62 degrees.
The light emitting device according to any one of
(Feature 6)
The first semiconductor layer includes a first region and a second region aligned with the first region in a direction intersecting the separation direction,
The second semiconductor layer is provided between the base and the second region;
The first intermediate semiconductor layer is provided between the second region and the second semiconductor layer;
The first extending portion is provided between the base body and the first region,
The third semiconductor layer includes a third region, and a fourth region aligned with the third region in a direction intersecting the separation direction,
The fourth semiconductor layer is provided between the base and the fourth region,
The second intermediate semiconductor layer is provided between the fourth region and the fourth semiconductor layer,
The second extending portion is provided between the base body and the third region,
The fifth semiconductor layer includes a fifth region and a sixth region aligned with the fifth region in a direction crossing the separation direction,
The sixth semiconductor layer is provided between the base and the sixth region,
The third intermediate semiconductor layer is provided between the sixth region and the sixth semiconductor layer;
The light emitting device according to any one of
(Feature 7)
A first electrode electrically connected to the fifth semiconductor layer;
A second electrode electrically connected to the second semiconductor layer;
Further comprising
In a direction perpendicular to the separation direction, at least a part of the first electrode overlaps the fifth semiconductor layer;
The light emitting device according to claim 6, wherein at least a part of the second electrode overlaps the first semiconductor layer in a direction perpendicular to the separation direction.
(Feature 8)
The first conductive layer further includes a first connection part,
A plurality of the first extending portions are provided,
The light emitting device according to
(Feature 9)
The second conductive layer includes a first opposing extension portion extending along the one of the first direction and the second direction,
The light emitting device according to claim 8, wherein the first opposing extension portion is located between two of the plurality of first extension portions.
(Feature 10)
In a direction perpendicular to the separation direction, at least a part of the first connection portion overlaps the first semiconductor layer;
The light emitting device according to any one of features 6 to 9, wherein at least part of the second connection portion overlaps the third semiconductor layer in a direction perpendicular to the separation direction.
(Feature 11)
The first semiconductor layer includes a region that does not overlap the first connection portion in a direction perpendicular to the separation direction;
The light emitting device according to
(Feature 12)
The first connection part is:
A first wiring region electrically connected to the first conductive layer;
A first counter wiring region electrically connected to the fourth conductive layer;
A first intermediate wiring region electrically connected to the first wiring region and the first opposing wiring region;
Including
At least a portion of the first wiring region is disposed between a portion of the first intermediate wiring region and the base;
The light emitting device according to any one of features 6 to 11, wherein at least a part of the first counter wiring region is disposed between another part of the first intermediate wiring region and the base body.
(Feature 13)
The first connection part is:
A first wiring region electrically connected to the first conductive layer;
A first opposing wiring region electrically connected to the fourth conductive layer and the first wiring region;
Including
The light emitting device according to any one of features 6 to 11, wherein a part of the first wiring region overlaps a part of the first counter wiring region in the separation direction.
(Feature 14)
A portion of the first semiconductor layer is provided between the first extension portion and the first intermediate semiconductor layer;
A portion of the third semiconductor layer is provided between the second extension portion and the second intermediate semiconductor layer;
A portion of the fifth semiconductor layer is provided between the third extension portion and the third intermediate semiconductor layer;
Another part of the first semiconductor layer is provided between a part of the first connection part and the base;
The light emitting device according to any one of
(Feature 15)
A first electrode electrically connected to the fifth semiconductor layer;
A second electrode electrically connected to the second semiconductor layer;
Further comprising
Another part of the fifth semiconductor layer is disposed between the first electrode and the base body,
15. The light-emitting device according to
(Feature 16)
A first side insulating layer;
The first semiconductor layer includes a first side surface intersecting a direction perpendicular to the separation direction,
The light emitting device according to the
(Feature 17)
A substrate;
A first semiconductor layer of a first conductivity type spaced apart from the base body in a separation direction,
A first side extending along a first direction intersecting the separation direction;
A second side extending along a second direction that intersects the separation direction and is inclined with respect to the first direction;
A third side extending along a third direction that intersects the separation direction and is inclined with respect to the first direction and the second direction;
A fourth side that is separated from the first side and extends along the first direction in a fourth direction that intersects the separation direction and the first direction and is inclined with respect to the second direction and the third direction;
A length of the fourth side in the first direction is longer than a length of the first side in the first direction; and
A second semiconductor layer of a second conductivity type provided between the base and the first semiconductor layer;
A first intermediate semiconductor layer provided between the first semiconductor layer and the second semiconductor layer;
A first conductive layer including a first extension extending along the fourth direction and electrically connected to the first semiconductor layer;
A second conductive layer provided between the base and the second semiconductor layer and electrically connected to the second semiconductor layer;
A third semiconductor layer of the first conductivity type separated from the substrate in the separation direction and aligned with the first semiconductor layer in the fourth direction;
A fifth side extending along the first direction, wherein the fourth side is disposed between the fifth side and the first side; and
A sixth side extending along the second direction;
A seventh side extending along the third direction;
An eighth side provided between the fifth side and the fourth side and extending along the first direction;
The length of the eighth side in the first direction is longer than the length of the fifth side in the first direction; and
A fourth semiconductor layer of the second conductivity type provided between the base and the third semiconductor layer;
A second intermediate semiconductor layer provided between the third semiconductor layer and the fourth semiconductor layer;
A third conductive layer including a second extension extending along the fourth direction and electrically connected to the third semiconductor layer;
A fourth conductive layer provided between the base and the fourth semiconductor layer and electrically connected to the fourth semiconductor layer;
A first connection portion for electrically connecting the first conductive layer and the fourth conductive layer;
A light emitting device comprising:
(Feature 18)
A wavelength conversion layer;
In the separation direction, the first to fourth semiconductor layers, and the first and second intermediate semiconductor layers are disposed between the base and the wavelength conversion layer,
18. The light emitting device according to
(Feature 19)
19. The
(Feature 20)
The angle between the first direction and the second direction is not less than 58 degrees and not more than 62 degrees,
The angle between the first direction and the third direction is not less than 58 degrees and not more than 62 degrees.
The angle between the second direction and the third direction is not less than 58 degrees and not more than 62 degrees.
The light emitting device according to any one of
(Feature 21)
The first semiconductor layer includes a first region and a second region aligned with the first region in a direction intersecting the separation direction,
The second semiconductor layer is provided between the base and the second region;
The first intermediate semiconductor layer is provided between the second region and the second semiconductor layer;
The first extending portion is provided between the base body and the first region,
The third semiconductor layer includes a third region, and a fourth region aligned with the third region in a direction intersecting the separation direction,
The fourth semiconductor layer is provided between the base and the fourth region,
The second intermediate semiconductor layer is provided between the fourth region and the fourth semiconductor layer,
The light emitting device according to any one of
(Feature 22)
A first electrode electrically connected to the third semiconductor layer;
A second electrode electrically connected to the second semiconductor layer;
Further comprising
At least a portion of the first electrode overlaps the third semiconductor layer in a direction perpendicular to the separation direction;
The light emitting device according to claim 21, wherein at least part of the second electrode overlaps the first semiconductor layer in a direction perpendicular to the separation direction.
(Feature 23)
The first conductive layer further includes a first connection part extending along the first direction,
A plurality of the first extending portions are provided,
The light emitting device according to the feature 21 or 22, wherein one end of each of the plurality of first extending portions is connected to the first connecting portion.
(Feature 24)
The second conductive layer includes a first opposing extension extending along the fourth direction,
24. The light emitting device according to claim 23, wherein the first opposing extension portion is located between two of the plurality of first extension portions.
(Feature 25)
The first connection part is:
A first wiring region electrically connected to the first conductive layer;
A first counter wiring region electrically connected to the fourth conductive layer;
A first intermediate wiring region electrically connected to the first wiring region and the first opposing wiring region;
Including
At least a portion of the first wiring region is disposed between a portion of the first intermediate wiring region and the base;
The light emitting device according to any one of features 21 to 24, wherein at least a part of the first counter wiring region is disposed between another part of the first intermediate wiring region and the base body.
(Feature 26)
The first connection part is:
A first wiring region electrically connected to the first conductive layer;
A first opposing wiring region electrically connected to the fourth conductive layer and the first wiring region;
Including
The light emitting device according to any one of features 21 to 24, wherein a part of the first wiring region overlaps a part of the first counter wiring region in the separation direction.
(Feature 27)
A portion of the first semiconductor layer is provided between the first extension portion and the first intermediate semiconductor layer;
A portion of the third semiconductor layer is provided between the second extension portion and the second intermediate semiconductor layer;
The light emitting device according to any one of
(Feature 28)
A first electrode electrically connected to the fifth semiconductor layer;
A second electrode electrically connected to the second semiconductor layer;
Further comprising
Another part of the fifth semiconductor layer is disposed between the first electrode and the base body,
28. The light emitting device according to claim 27, wherein at least part of the second electrode overlaps the first semiconductor layer in a direction perpendicular to the separation direction.
(Feature 29)
A first side insulating layer;
The first semiconductor layer includes a first side surface intersecting a direction perpendicular to the separation direction,
29. The light emitting device according to Feature 27 or 28, wherein at least a part of the first side surface insulating layer is provided between the first connection portion and the first side surface.
実施形態によれば、発光の均一性を向上できる発光装置が提供できる。 According to the embodiment, it is possible to provide a light emitting device that can improve the uniformity of light emission.
なお、本明細書において「窒化物半導体」とは、BxInyAlzGa1−x−y−zN(0≦x≦1,0≦y≦1,0≦z≦1,x+y+z≦1)なる化学式において組成比x、y及びzをそれぞれの範囲内で変化させた全ての組成の半導体を含むものとする。またさらに、上記化学式において、N(窒素)以外のV族元素もさらに含むもの、導電形などの各種の物性を制御するために添加される各種の元素をさらに含むもの、及び、意図せずに含まれる各種の元素をさらに含むものも、「窒化物半導体」に含まれるものとする。 In this specification, “nitride semiconductor” means B x In y Al z Ga 1-xyz N (0 ≦ x ≦ 1, 0 ≦ y ≦ 1, 0 ≦ z ≦ 1, x + y + z ≦ 1) Semiconductors having all compositions in which the composition ratios x, y, and z are changed within the respective ranges are included. Furthermore, in the above chemical formula, those further containing a group V element other than N (nitrogen), those further containing various elements added for controlling various physical properties such as conductivity type, and unintentionally Those further including various elements included are also included in the “nitride semiconductor”.
なお、本願明細書において、「垂直」及び「平行」は、厳密な垂直及び厳密な平行だけではなく、例えば製造工程におけるばらつきなどを含むものであり、実質的に垂直及び実質的に平行であれば良い。 In the present specification, “vertical” and “parallel” include not only strictly vertical and strictly parallel, but also include, for example, variations in the manufacturing process, and may be substantially vertical and substantially parallel. It ’s fine.
以上、具体例を参照しつつ、本発明の実施の形態について説明した。しかし、本発明は、これらの具体例に限定されるものではない。例えば、発光装置に含まれる基体、半導体層、導電層、接続部、電極及び絶縁層などの各要素の具体的な構成に関しては、当業者が公知の範囲から適宜選択することにより本発明を同様に実施し、同様の効果を得ることができる限り、本発明の範囲に包含される。 The embodiments of the present invention have been described above with reference to specific examples. However, the present invention is not limited to these specific examples. For example, regarding the specific configuration of each element such as a base, a semiconductor layer, a conductive layer, a connection portion, an electrode, and an insulating layer included in the light emitting device, those skilled in the art can appropriately select the present invention by appropriately selecting from a known range. As long as the same effect can be obtained, it is included in the scope of the present invention.
また、各具体例のいずれか2つ以上の要素を技術的に可能な範囲で組み合わせたものも、本発明の要旨を包含する限り本発明の範囲に含まれる。 Moreover, what combined any two or more elements of each specific example in the technically possible range is also included in the scope of the present invention as long as the gist of the present invention is included.
その他、本発明の実施の形態として上述した発光装置を基にして、当業者が適宜設計変更して実施し得る全ての発光装置も、本発明の要旨を包含する限り、本発明の範囲に属する。 In addition, all light-emitting devices that can be implemented by a person skilled in the art based on the light-emitting device described above as an embodiment of the present invention are also included in the scope of the present invention as long as they include the gist of the present invention. .
その他、本発明の思想の範疇において、当業者であれば、各種の変更例及び修正例に想到し得るものであり、それら変更例及び修正例についても本発明の範囲に属するものと了解される。 In addition, in the category of the idea of the present invention, those skilled in the art can conceive of various changes and modifications, and it is understood that these changes and modifications also belong to the scope of the present invention. .
本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。 Although several embodiments of the present invention have been described, these embodiments are presented by way of example and are not intended to limit the scope of the invention. These novel embodiments can be implemented in various other forms, and various omissions, replacements, and changes can be made without departing from the scope of the invention. These embodiments and modifications thereof are included in the scope and gist of the invention, and are included in the invention described in the claims and the equivalents thereof.
11〜16…半導体層、 11a…第1領域、 11b…第2領域、 11cl〜16cl…第1〜第6導電層、 11dp…凹凸、 11s…第1側面、 13a…第3領域、 13b…第4領域、 13dp…凹凸、 13s…第2側面、 15a…第5領域、 15b…第6領域、 15dp…凹凸、 51…基体、 51b…非後退部、 51c…後退部、 52…接合層、 61〜63…絶縁層、 61s、62s…第1及び第2側面絶縁層、 71…発光部、 71d…分割線、 71r…外縁、 71s…半導体結晶層、 72…波長変換層、 72r…外縁、 81…絶縁層、 111〜114、121〜124…発光装置、 AR…矢印、 CL1…対向配線層、 CM1、CM2…第1、第2中間配線領域、 CP1、CP2…第1、第2接続部、 CR1〜CR3…第1〜第3配線領域、 CS1、CS2…第1、第2対向配線領域、 D1〜D4…第1〜第4方向、 EU1〜EU12…第1〜第12発光層、 IL1〜IL3…第1〜第3中間半導体層、 WR1、WR2…配線、 cp1〜cp3…第1〜第3連結部、 cq1〜cq3…第1〜第3対向連結部、 ep1〜ep3…第1〜第3延在部、 eq1〜eq3…第1〜第3対向延在部、 pd1、pd2…第1、第2電極、 s1〜s12…第1〜第12辺
11-16 ... Semiconductor layer, 11a ... 1st area | region, 11b ... 2nd area | region, 11cl-16cl ... 1st-6th conductive layer, 11dp ... Unevenness, 11s ... 1st side surface, 13a ... 3rd area | region, 13b ...
Claims (20)
離間方向において前記基体と離間する第1導電形の第1半導体層であって、
前記離間方向と交差する第1方向に沿って延びる第1辺と、
前記離間方向と交差し前記第1方向と傾斜する第2方向に沿って延びる第2辺と、
前記第2方向において前記第1辺と離間し前記第1方向に沿って延びる第3辺と、
前記第1方向において前記第2辺と離間し前記第2方向に沿って延びる第4辺と、
を含む前記第1半導体層と、
前記基体と前記第1半導体層との間に設けられた第2導電形の第2半導体層と、
前記第1半導体層と前記第2半導体層との間に設けられた第1中間半導体層と、
前記第1方向及び第2方向の一方に沿って延びる第1延在部を含み前記第1半導体層と電気的に接続された第1導電層と、
前記基体と前記第2半導体層との間に設けられ前記第2半導体層と電気的に接続された第2導電層と、
前記離間方向において前記基体と離間し前記離間方向と交差する方向において前記第1半導体層と並ぶ前記第1導電形の第3半導体層であって、
前記第2方向に沿って延びる第5辺と、
前記離間方向と交差し、前記第1方向及び前記第2方向に対して傾斜する第3方向に沿って延びる第6辺と、
前記第3方向において前記第5辺と離間し前記第2方向に沿って延びる第7辺と、
前記第2方向において前記第6辺と離間し前記第3方向に沿って延びる第8辺と、
を含む前記第3半導体層と、
前記基体と前記第3半導体層との間に設けられた前記第2導電形の第4半導体層と、
前記第3半導体層と前記第4半導体層との間に設けられた第2中間半導体層と、
前記第2方向及び前記第3方向の一方に沿って延びる第2延在部を含み前記第3半導体層と電気的に接続された第3導電層と、
前記基体と前記第4半導体層との間に設けられ前記第4半導体層と電気的に接続された第4導電層と、
前記離間方向において前記基体と離間し前記離間方向と交差する方向において前記第1半導体層と並ぶ前記第1導電形の第5半導体層であって、
前記第3方向に沿って延びる第9辺と、
前記第1方向に沿って延びる第10辺と、
前記第1方向において前記第9辺と離間し前記第3方向に沿って延びる第11辺と、
前記第3方向において前記第10辺と離間し前記第1方向に沿って延びる第12辺と、
を含む前記第5半導体層と、
前記基体と前記第5半導体層との間に設けられた前記第2導電形の第6半導体層と、
前記第5半導体層と前記第6半導体層との間に設けられた第3中間半導体層と、
前記第1方向及び前記第3方向の一方に沿って延びる第3延在部を含み前記第5半導体層と電気的に接続された第5導電層と、
前記基体と前記第6半導体層との間に設けられ前記第6半導体層と電気的に接続された第6導電層と、
前記第1導電層と前記第4導電層とを電気的に接続する第1接続部と、
前記第3導電層と前記第6導電層とを電気的に接続する第2接続部と、
を備えた発光装置。 A substrate;
A first semiconductor layer of a first conductivity type spaced apart from the base body in a separation direction,
A first side extending along a first direction intersecting the separation direction;
A second side extending along a second direction that intersects the separation direction and is inclined with respect to the first direction;
A third side that is spaced apart from the first side and extends along the first direction in the second direction;
A fourth side spaced apart from the second side in the first direction and extending along the second direction;
The first semiconductor layer comprising:
A second semiconductor layer of a second conductivity type provided between the base and the first semiconductor layer;
A first intermediate semiconductor layer provided between the first semiconductor layer and the second semiconductor layer;
A first conductive layer including a first extension extending along one of the first direction and the second direction and electrically connected to the first semiconductor layer;
A second conductive layer provided between the base and the second semiconductor layer and electrically connected to the second semiconductor layer;
A third semiconductor layer of the first conductivity type that is separated from the substrate in the separation direction and aligned with the first semiconductor layer in a direction intersecting the separation direction;
A fifth side extending along the second direction;
A sixth side that intersects the separation direction and extends along a third direction that is inclined with respect to the first direction and the second direction;
A seventh side extending in the second direction and spaced apart from the fifth side in the third direction;
An eighth side extending in the third direction and spaced apart from the sixth side in the second direction;
The third semiconductor layer comprising:
A fourth semiconductor layer of the second conductivity type provided between the base and the third semiconductor layer;
A second intermediate semiconductor layer provided between the third semiconductor layer and the fourth semiconductor layer;
A third conductive layer including a second extension extending along one of the second direction and the third direction and electrically connected to the third semiconductor layer;
A fourth conductive layer provided between the base and the fourth semiconductor layer and electrically connected to the fourth semiconductor layer;
A fifth semiconductor layer of the first conductivity type aligned with the first semiconductor layer in a direction that is separated from the base in the separation direction and intersects the separation direction;
A ninth side extending along the third direction;
A tenth side extending along the first direction;
An eleventh side that is spaced apart from the ninth side and extends along the third direction in the first direction;
A twelfth side that is separated from the tenth side and extends along the first direction in the third direction;
The fifth semiconductor layer comprising:
A sixth semiconductor layer of the second conductivity type provided between the base and the fifth semiconductor layer;
A third intermediate semiconductor layer provided between the fifth semiconductor layer and the sixth semiconductor layer;
A fifth conductive layer including a third extension extending along one of the first direction and the third direction and electrically connected to the fifth semiconductor layer;
A sixth conductive layer provided between the base and the sixth semiconductor layer and electrically connected to the sixth semiconductor layer;
A first connection portion for electrically connecting the first conductive layer and the fourth conductive layer;
A second connection portion for electrically connecting the third conductive layer and the sixth conductive layer;
A light emitting device comprising:
前記離間方向において、前記基体と前記波長変換層との間に、前記第1〜第6半導体層、及び、前記第1〜前記第3中間半導体層が配置され、
前記離間方向に対して交差する平面内における前記波長変換層の外縁は、円状である、請求項1記載の発光装置。 A wavelength conversion layer;
In the separation direction, the first to sixth semiconductor layers and the first to third intermediate semiconductor layers are disposed between the base and the wavelength conversion layer,
The light emitting device according to claim 1, wherein an outer edge of the wavelength conversion layer in a plane intersecting the separation direction is circular.
前記第1方向と前記第3方向との間の角度は、58度以上62度以下であり、
前記第2方向と前記第3方向との間の角度は、58度以上62度以下である、請求項1または2に記載の発光装置。 The angle between the first direction and the second direction is not less than 58 degrees and not more than 62 degrees,
The angle between the first direction and the third direction is not less than 58 degrees and not more than 62 degrees.
The light emitting device according to claim 1 or 2, wherein an angle between the second direction and the third direction is 58 degrees or more and 62 degrees or less.
前記第2半導体層は、前記基体と前記第2領域との間に設けられ、
前記第1中間半導体層は、前記第2領域と前記第2半導体層との間に設けられ、
前記第1延在部は、前記基体と前記第1領域との間に設けられ、
前記第3半導体層は、第3領域と、前記離間方向と交差する方向において前記第3領域と並ぶ第4領域と、を含み、
前記第4半導体層は、前記基体と前記第4領域との間に設けられ、
前記第2中間半導体層は、前記第4領域と前記第4半導体層との間に設けられ、
前記第2延在部は、前記基体と前記第3領域との間に設けられ、
前記第5半導体層は、第5領域と、前記離間方向と交差する方向において前記第5領域と並ぶ第6領域と、を含み、
前記第6半導体層は、前記基体と前記第6領域との間に設けられ、
前記第3中間半導体層は、前記第6領域と前記第6半導体層との間に設けられ、
前記第3延在部は、前記基体と前記第5領域との間に設けられた、請求項1〜3のいずれか1つに記載の発光装置。 The first semiconductor layer includes a first region and a second region aligned with the first region in a direction intersecting the separation direction,
The second semiconductor layer is provided between the base and the second region;
The first intermediate semiconductor layer is provided between the second region and the second semiconductor layer;
The first extending portion is provided between the base body and the first region,
The third semiconductor layer includes a third region, and a fourth region aligned with the third region in a direction intersecting the separation direction,
The fourth semiconductor layer is provided between the base and the fourth region,
The second intermediate semiconductor layer is provided between the fourth region and the fourth semiconductor layer,
The second extending portion is provided between the base body and the third region,
The fifth semiconductor layer includes a fifth region and a sixth region aligned with the fifth region in a direction crossing the separation direction,
The sixth semiconductor layer is provided between the base and the sixth region,
The third intermediate semiconductor layer is provided between the sixth region and the sixth semiconductor layer;
The light emitting device according to claim 1, wherein the third extending portion is provided between the base body and the fifth region.
前記第2半導体層と電気的に接続された第2電極と、
をさらに備え、
前記離間方向に対して垂直な方向において、前記第1電極の少なくとも一部は、前記第5半導体層と重なり、
前記離間方向に対して垂直な方向において、前記第2電極の少なくとも一部は、前記第1半導体層と重なる、請求項4記載の発光装置。 A first electrode electrically connected to the fifth semiconductor layer;
A second electrode electrically connected to the second semiconductor layer;
Further comprising
In a direction perpendicular to the separation direction, at least a part of the first electrode overlaps the fifth semiconductor layer;
The light emitting device according to claim 4, wherein at least a part of the second electrode overlaps the first semiconductor layer in a direction perpendicular to the separation direction.
前記第1延在部は、複数設けられ、
前記複数の前記第1延在部のそれぞれの一端は、前記第1連結部に連結されている、請求項4または5に記載の発光装置。 The first conductive layer further includes a first connection part,
A plurality of the first extending portions are provided,
6. The light-emitting device according to claim 4, wherein one end of each of the plurality of first extending portions is connected to the first connecting portion.
前記第1対向延在部は、前記複数の第1延在部の2つの間に位置する、請求項6記載の発光装置。 The second conductive layer includes a first opposing extension portion extending along the one of the first direction and the second direction,
The light emitting device according to claim 6, wherein the first opposing extension portion is positioned between two of the plurality of first extension portions.
前記第1導電層と電気的に接続された第1配線領域と、
前記第4導電層と電気的に接続された第1対向配線領域と、
前記第1配線領域と前記第1対向配線領域と電気的に接続された第1中間配線領域と、
を含み、
前記第1中間配線領域の一部と前記基体との間に前記第1配線領域の少なくとも一部が配置され、
前記第1中間配線領域の別の一部と前記基体との間に前記第1対向配線領域の少なくとも一部が配置された、請求項4〜7のいずれか1つに記載の発光装置。 The first connection part is:
A first wiring region electrically connected to the first conductive layer;
A first counter wiring region electrically connected to the fourth conductive layer;
A first intermediate wiring region electrically connected to the first wiring region and the first opposing wiring region;
Including
At least a portion of the first wiring region is disposed between a portion of the first intermediate wiring region and the base;
The light emitting device according to claim 4, wherein at least a part of the first counter wiring region is disposed between another part of the first intermediate wiring region and the base body.
前記第1導電層と電気的に接続された第1配線領域と、
前記第4導電層及び前記第1配線領域と電気的に接続された第1対向配線領域と、
を含み、
前記離間方向において、前記第1配線領域の一部は、前記第1対向配線領域の一部と重なる、請求項4〜7のいずれか1つに記載の発光装置。 The first connection part is:
A first wiring region electrically connected to the first conductive layer;
A first opposing wiring region electrically connected to the fourth conductive layer and the first wiring region;
Including
The light emitting device according to claim 4, wherein a part of the first wiring region overlaps a part of the first counter wiring region in the separation direction.
前記第2延在部と前記第2中間半導体層との間に前記第3半導体層の一部が設けられ、
前記第3延在部と前記第3中間半導体層との間に前記第5半導体層の一部が設けられ、
前記第1接続部の一部と前記基体との間に前記第1半導体層の別の一部が設けられ、
前記第2接続部の一部と前記基体との間に前記第3半導体層の別の一部が設けられた、請求項1〜3のいずれか1つに記載の発光装置。 A portion of the first semiconductor layer is provided between the first extension portion and the first intermediate semiconductor layer;
A portion of the third semiconductor layer is provided between the second extension portion and the second intermediate semiconductor layer;
A portion of the fifth semiconductor layer is provided between the third extension portion and the third intermediate semiconductor layer;
Another part of the first semiconductor layer is provided between a part of the first connection part and the base;
The light emitting device according to claim 1, wherein another part of the third semiconductor layer is provided between a part of the second connection part and the base.
離間方向において前記基体と離間する第1導電形の第1半導体層であって、
前記離間方向と交差する第1方向に沿って延びる第1辺と、
前記離間方向と交差し前記第1方向に対して傾斜する第2方向に沿って延びる第2辺と、
前記離間方向と交差し前記第1方向及び前記第2方向に対して傾斜する第3方向に沿って延びる第3辺と、
前記離間方向及び前記第1方向と交差し前記第2方向及び前記第3方向に対して傾斜する第4方向において前記第1辺と離間し前記第1方向に沿って延びる第4辺と、
を含み、前記第4辺の前記第1方向の長さは前記第1辺の前記第1方向の長さよりも長い、前記第1半導体層と、
前記基体と前記第1半導体層との間に設けられた第2導電形の第2半導体層と、
前記第1半導体層と前記第2半導体層との間に設けられた第1中間半導体層と、
前記第4方向に沿って延びる第1延在部を含み前記第1半導体層と電気的に接続された第1導電層と、
前記基体と前記第2半導体層との間に設けられ前記第2半導体層と電気的に接続された第2導電層と、
前記離間方向において前記基体と離間し前記第4方向において前記第1半導体層と並ぶ前記第1導電形の第3半導体層であって、
前記第1方向に沿って延びる第5辺であって、前記第5辺と前記第1辺との間に前記第4辺が配置された、前記第5辺と、
前記第2方向に沿って延びる第6辺と、
前記第3方向に沿って延びる第7辺と、
前記第5辺と前記第4辺との間に設けられ前記第1方向に沿って延びる第8辺と、
を含み、前記第8辺の前記第1方向の長さは前記第5辺の前記第1方向の長さよりも長い、前記第3半導体層と、
前記基体と前記第3半導体層との間に設けられた前記第2導電形の第4半導体層と、
前記第3半導体層と前記第4半導体層との間に設けられた第2中間半導体層と、
前記第4方向に沿って延びる第2延在部を含み前記第3半導体層と電気的に接続された第3導電層と、
前記基体と前記第4半導体層との間に設けられ前記第4半導体層と電気的に接続された第4導電層と、
前記第1導電層と前記第4導電層とを電気的に接続する第1接続部と、
を備えた発光装置。 A substrate;
A first semiconductor layer of a first conductivity type spaced apart from the base body in a separation direction,
A first side extending along a first direction intersecting the separation direction;
A second side extending along a second direction that intersects the separation direction and is inclined with respect to the first direction;
A third side extending along a third direction that intersects the separation direction and is inclined with respect to the first direction and the second direction;
A fourth side that is separated from the first side and extends along the first direction in a fourth direction that intersects the separation direction and the first direction and is inclined with respect to the second direction and the third direction;
A length of the fourth side in the first direction is longer than a length of the first side in the first direction; and
A second semiconductor layer of a second conductivity type provided between the base and the first semiconductor layer;
A first intermediate semiconductor layer provided between the first semiconductor layer and the second semiconductor layer;
A first conductive layer including a first extension extending along the fourth direction and electrically connected to the first semiconductor layer;
A second conductive layer provided between the base and the second semiconductor layer and electrically connected to the second semiconductor layer;
A third semiconductor layer of the first conductivity type separated from the substrate in the separation direction and aligned with the first semiconductor layer in the fourth direction;
A fifth side extending along the first direction, wherein the fourth side is disposed between the fifth side and the first side; and
A sixth side extending along the second direction;
A seventh side extending along the third direction;
An eighth side provided between the fifth side and the fourth side and extending along the first direction;
The length of the eighth side in the first direction is longer than the length of the fifth side in the first direction; and
A fourth semiconductor layer of the second conductivity type provided between the base and the third semiconductor layer;
A second intermediate semiconductor layer provided between the third semiconductor layer and the fourth semiconductor layer;
A third conductive layer including a second extension extending along the fourth direction and electrically connected to the third semiconductor layer;
A fourth conductive layer provided between the base and the fourth semiconductor layer and electrically connected to the fourth semiconductor layer;
A first connection portion for electrically connecting the first conductive layer and the fourth conductive layer;
A light emitting device comprising:
前記離間方向において、前記基体と前記波長変換層との間に、前記第1〜第4半導体層、及び、前記第1及び前記第2中間半導体層が配置され、
前記離間方向に対して交差する平面内における前記波長変換層の外縁は、円状である、請求項11記載の発光装置。 A wavelength conversion layer;
In the separation direction, the first to fourth semiconductor layers, and the first and second intermediate semiconductor layers are disposed between the base and the wavelength conversion layer,
The light emitting device according to claim 11, wherein an outer edge of the wavelength conversion layer in a plane intersecting the separation direction is circular.
前記第1方向と前記第3方向との間の角度は、58度以上62度以下であり、
前記第2方向と前記第3方向との間の角度は、58度以上62度以下であり、
前記第1方向と前記第4方向との間の角度は、80度以上100度以下である、請求項11または12に記載の発光装置。 The angle between the first direction and the second direction is not less than 58 degrees and not more than 62 degrees,
The angle between the first direction and the third direction is not less than 58 degrees and not more than 62 degrees.
The angle between the second direction and the third direction is not less than 58 degrees and not more than 62 degrees.
The light emitting device according to claim 11 or 12, wherein an angle between the first direction and the fourth direction is not less than 80 degrees and not more than 100 degrees.
前記第2半導体層は、前記基体と前記第2領域との間に設けられ、
前記第1中間半導体層は、前記第2領域と前記第2半導体層との間に設けられ、
前記第1延在部は、前記基体と前記第1領域との間に設けられ、
前記第3半導体層は、第3領域と、前記離間方向と交差する方向において前記第3領域と並ぶ第4領域と、を含み、
前記第4半導体層は、前記基体と前記第4領域との間に設けられ、
前記第2中間半導体層は、前記第4領域と前記第4半導体層との間に設けられ、
前記第2延在部は、前記基体と前記第3領域との間に設けられた、請求項11〜13のいずれか1つに記載の発光装置。 The first semiconductor layer includes a first region and a second region aligned with the first region in a direction intersecting the separation direction,
The second semiconductor layer is provided between the base and the second region;
The first intermediate semiconductor layer is provided between the second region and the second semiconductor layer;
The first extending portion is provided between the base body and the first region,
The third semiconductor layer includes a third region, and a fourth region aligned with the third region in a direction intersecting the separation direction,
The fourth semiconductor layer is provided between the base and the fourth region,
The second intermediate semiconductor layer is provided between the fourth region and the fourth semiconductor layer,
The light emitting device according to any one of claims 11 to 13, wherein the second extending portion is provided between the base and the third region.
前記第2半導体層と電気的に接続された第2電極と、
をさらに備え、
前記離間方向に対して垂直な方向において、前記第1電極の少なくとも一部は、前記第3半導体層と重なり、
前記離間方向に対して垂直な方向において、前記第2電極の少なくとも一部は、前記第1半導体層と重なる、請求項14記載の発光装置。 A first electrode electrically connected to the third semiconductor layer;
A second electrode electrically connected to the second semiconductor layer;
Further comprising
At least a portion of the first electrode overlaps the third semiconductor layer in a direction perpendicular to the separation direction;
The light emitting device according to claim 14, wherein at least a part of the second electrode overlaps the first semiconductor layer in a direction perpendicular to the separation direction.
前記第1延在部は、複数設けられ、
前記複数の前記第1延在部のそれぞれの一端は、前記第1連結部に連結されている、請求項14または15に記載の発光装置。 The first conductive layer further includes a first connection part extending along the first direction,
A plurality of the first extending portions are provided,
The light emitting device according to claim 14 or 15, wherein one end of each of the plurality of first extending portions is connected to the first connecting portion.
前記第1対向延在部は、前記複数の第1延在部の2つの間に位置する、請求項16記載の発光装置。 The second conductive layer includes a first opposing extension extending along the fourth direction,
The light emitting device according to claim 16, wherein the first opposing extension portion is located between two of the plurality of first extension portions.
前記第1導電層と電気的に接続された第1配線領域と、
前記第4導電層と電気的に接続された第1対向配線領域と、
前記第1配線領域と前記第1対向配線領域と電気的に接続された第1中間配線領域と、
を含み、
前記第1中間配線領域の一部と前記基体との間に前記第1配線領域の少なくとも一部が配置され、
前記第1中間配線領域の別の一部と前記基体との間に前記第1対向配線領域の少なくとも一部が配置された、請求項14〜17のいずれか1つに記載の発光装置。 The first connection part is:
A first wiring region electrically connected to the first conductive layer;
A first counter wiring region electrically connected to the fourth conductive layer;
A first intermediate wiring region electrically connected to the first wiring region and the first opposing wiring region;
Including
At least a portion of the first wiring region is disposed between a portion of the first intermediate wiring region and the base;
18. The light emitting device according to claim 14, wherein at least a part of the first counter wiring region is disposed between another part of the first intermediate wiring region and the base.
前記第1導電層と電気的に接続された第1配線領域と、
前記第4導電層及び前記第1配線領域と電気的に接続された第1対向配線領域と、
を含み、
前記離間方向において、前記第1配線領域の一部は、前記第1対向配線領域の一部と重なる、請求項14〜17のいずれか1つに記載の発光装置。 The first connection part is:
A first wiring region electrically connected to the first conductive layer;
A first opposing wiring region electrically connected to the fourth conductive layer and the first wiring region;
Including
The light emitting device according to claim 14, wherein a part of the first wiring region overlaps a part of the first counter wiring region in the separation direction.
前記第2延在部と前記第2中間半導体層との間に前記第3半導体層の一部が設けられ、
前記第1接続部の一部と前記基体との間に前記第1半導体層の別の一部が設けられた、請求項11〜13のいずれか1つに記載の発光装置。 A portion of the first semiconductor layer is provided between the first extension portion and the first intermediate semiconductor layer;
A portion of the third semiconductor layer is provided between the second extension portion and the second intermediate semiconductor layer;
The light emitting device according to claim 11, wherein another part of the first semiconductor layer is provided between a part of the first connection part and the base.
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