JP2017050212A - ガス遮断器 - Google Patents

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Abstract

【課題】従来に比べて可動サポートとの接合領域の全周にわたって電界強度のばらつきを小さくし、絶縁支持体の絶縁破壊を防止できるガス遮断器を提供すること。
【解決手段】本発明のガス遮断器では、金属製の可動サポート(51)が、絶縁支持体(20)に固定支持されている。絶縁支持体は、上面(20a)及び下面(20b)と、上面から下面にかけて貫通する貫通孔(22)と、を有し、上面では、可動サポートが固定支持され、下面は、金属容器側に固定されている。上面(20a)には、可動サポートを接合するための接合ネジ(26)を通す複数のネジ穴(23)が形成されており、ネジ穴(23)の間の領域(25)には、可動サポートと電気的に接続する金属部(24)が設けられている。
【選択図】図4

Description

本発明は、絶縁性ガス中で電流の開閉を行うガス遮断器に関する。
ガス遮断器では、固定側接点と可動側接点が開離した際、アーク接触子間にアーク放電が発生する。そこでアーク放電に対して絶縁性ガスである消弧性ガスを吹き付けて消弧するパッファ型ガス遮断器が広く採用されている。
消弧室内には、可動側接点の移動を支持する移動機構が設けられ、この移動機構は、金属製の可動サポートの内側に設けられ、可動サポートによりスライド移動可能に支持されている。そして、可動サポートは、絶縁支持体によって固定支持されている。
図8は、従来における絶縁支持体の斜視図である。また図9は、従来における絶縁支持体の平面図、縦断面図、裏面図である。図9Aが平面図、図9Cが裏面図であり、図9Bは、図9Aに示すC−C線に沿って絶縁支持体の高さ方向に向けて切断し矢印方向から見た縦断面図を示す。
図8、図9に示すように絶縁支持体100は、相対向する上面100aと、下面100bと、上面100aと下面100bとの間に位置する外周面100cとを、有する。図9に示すように、絶縁支持体100には上面100aから下面100bにかけて貫通する貫通孔101が形成されている。この貫通孔101には、図示しない操作ロッドが通され、操作ロッドは軸方向(Y方向)に移動できるように支持されている。操作ロッドの先端側には、パッファシリンダ(図示せず)が連結される。パッファシリンダは、金属製の可動サポート102の内側に配置されており、可動サポート102の内側にて軸方向(Y方向)へのスライド移動が可能となっている。操作ロッドの軸方向への駆動によるパッファシリンダのY方向への移動により、固定側接点と可動側接点とを接離させることができる。
図9Bに示すように、可動サポート102は、絶縁支持体100の上面100aに、接合ネジ103により接合されている。図8、図9Aに示すように、絶縁支持体100の上面100aには複数のネジ穴104が設けられており、各ネジ穴104の周囲には金属ボス105が設けられている。
なお図8、図9B、図9Cに示すように、絶縁支持体100の下面100bにも金属ボス105付きの複数のネジ穴104が設けられ、絶縁支持体100の下面100b側がネジ107を介して固定ベース108に接合されている。
特開平5−2950号公報
ところで、ガス遮断器では、金属容器内に充填する絶縁性ガスとして他の気体と比べて絶縁性能に優れるSFガスを使用することによって小型化を図っている。
しかしながら、小型化により、金属容器内に設けられた各相の消弧室間の距離や金属容器との距離等が縮まることで、高電位を支持している絶縁支持体の電界強度が高くなり、絶縁支持体の絶縁強度が厳しくなる問題があった。
従来では、図9Bに示すように、接合ネジ103よりも一回り大きい金属ボス105を、ネジ穴104の箇所にインサート成形していた。しかしながらこのような構成では、金属インサートのある部分とない部分とで電界強度が異なることがわかった。
図10Aが、従来の絶縁支持体と可動サポートとの等電位線図であり、金属ボスのインサートがない部分を示し、図10Bが、従来の絶縁支持体と可動サポートとの等電位線図であり、金属ボスのインサートがある部分を示す。
図10Aと図10Bに示す同じ符号の等電位線は同じ電界強度レベルを示している。電界強度は符号Jから符号Dに向かうほど高くなっている。
図10Aと図10Bに示すように、金属インサートの有無により、電界強度分布が変わってしまうことがわかった。図10Aに示すように金属インサートがない部分では、図10Bの金属インサートがある部分と比べて等電位線が内部に入り込み電界強度が高まっている。この結果、雷サージ等が発生すると、絶縁支持体100に対し、金属インサートのない部分では金属インサートのある部分に比べて電界強度が高くなり、絶縁破壊が生じ閃絡が発生する問題があった。
これに対し特許文献1では、特に、絶縁支持体と可動サポートとの接合構造について開示がなく、上記した従来課題に対する解決手段については考慮がなされていない。
そこで本発明は、このような問題に鑑みてなされたもので、従来に比べて可動サポートとの接合領域の全周にわたって電界強度のばらつきを小さくし、絶縁支持体の絶縁破壊を防止できるガス遮断器を提供することを目的とする。
本発明におけるガス遮断器は、絶縁性ガスを封入した金属容器内にて、絶縁支持体を介して支持された消弧室を備え、前記消弧室では、可動側接点を固定側接点に対して接離可能とする移動機構を支持する金属製の可動サポートが、前記絶縁支持体に固定支持されており、前記絶縁支持体は、相対向する第1の面及び第2の面と、前記第1の面から前記第2の面にかけて貫通する貫通孔と、を有し、前記第1の面では、前記可動サポートが固定支持され、前記第2の面は、前記金属容器に固定されており、前記第1の面には、前記可動サポートを接合するための接合部材を通す複数の接合穴が形成されており、前記接合穴の間の領域には、該接合穴を含む円周方向における電界強度を緩和するための金属部が設けられていることを特徴とする。
本発明では、前記金属部は、前記第1の面に沿って形成されたリング形状で構成されることが好ましい。
また本発明では、更に、前記金属部は、前記第2の面にて、前記金属容器側に接合するための接合部材を通す複数の接合穴の間の領域に設けられることが好ましい。このとき、前記金属部は、前記第2の面に沿って形成されたリング形状で構成されることが好ましい。
また本発明では、前記金属部は、樹脂製の前記絶縁支持体にインサート成形されていることが好ましい。
本発明のガス遮断器によれば、従来に比べて、可動サポートとの接合領域の略全周にわたってシールド効果を発揮でき、したがって、電界強度を全周にわたって略均一に小さくでき、絶縁支持体の絶縁破壊を効果的に防止することができる。
本実施の形態のガス遮断器を示す部分断面図である。 消弧原理を説明するための説明図(部分拡大断面図)である。 本実施の形態における絶縁支持体の斜視図である。 図3に示す絶縁支持体の平面図、断面図、及び裏面図である。 別の実施の形態における絶縁支持体の斜視図である。 図5に示す絶縁支持体の平面図、断面図、及び裏面図である。 別の実施の形態における絶縁支持体の斜視図である。 従来における絶縁支持体の斜視図である。 従来における絶縁支持体の平面図、縦断面図、裏面図である。 金属インサートがない部分と金属インサートがある部分における、従来の絶縁支持体と可動サポートとの等電位線図である。
以下、本発明の一実施の形態に係るガス遮断器について、添付の図面を参照しながら詳細に説明する。なお、本発明に係るガス遮断器については、以下の実施の形態に限定されるものではなく、その趣旨の範囲内で種々変形して実施することができる。
図1は、本実施の形態に係るガス遮断器を示す部分断面図である。図1に示すように、ガス遮断器1は、SFガス等の絶縁性ガス(消弧性ガス)を充填した金属容器(容器)2と、金属容器2内に配置された三相の消弧室3とを含んで構成される。金属容器2内には、密閉空間32が形成されている。この密閉空間32には、消弧性ガスが封入されており、数気圧(例えば、6気圧)に維持されている。三相の消弧室3は、密閉空間32内に設置されている。ガス遮断器1は、消弧室3内の電極間に発生するアーク放電(アーク)に対して消弧性ガスを吹き付けて大電流の短絡電流を瞬時に遮断するように構成されている。
なお、図1に示すガス遮断器1においては、説明の便宜上、消弧室3が鉛直方向に延在する場合について説明している。しかしながら、ガス遮断器1の構成については、これに限定されるものではなく適宜変更が可能である。本発明は、消弧室3が水平方向に延在するガス遮断器1にも適用することができる。
以下、消弧室3の内部構造について、図1及び図2を参照しながら説明する。図2は、本実施の形態に係るガス遮断器1における消弧原理の説明図である。図2においては、図1に示す電極(固定電極及び可動電極)周辺を拡大して示している。なお、図1においては、図2と異なり内部構造を簡略化して示した部分を有するが、詳細な内部構造については図2が参照される。
各消弧室3は、図1に示す上下に対向して配置された固定部4及び可動部5と、可動部5を支持する絶縁支持体20とを備える。固定部4は、固定サポート41と、固定主接触子42と、固定アーク接触子43とを有する。固定サポート41は、上底を有する有底円筒形状を有し、下方側に開口している。固定主接触子42は、固定サポート41の下端部に接続され、後述する可動主接触子54の外周面に摺接可能な寸法を有している。固定アーク接触子43は、固定サポート41の一部に支持されており、棒状導体で構成される。固定アーク接触子43は、固定サポート41の中心に設けられ、図1に示す上下方向に延在して配置されている。固定アーク接触子43は、固定主接触子42よりも僅かに可動部5側(下方側)に突出する長さを有している。これらの固定主接触子42及び固定アーク接触子43により固定接点(固定電極)が構成される。
一方、可動部5は、可動サポート51と、パッファシリンダ52と、ノズル53と、可動主接触子54(図2参照)とを有する。可動サポート51は、概して円筒形状を有し、上方側に開口している。パッファシリンダ52は、可動サポート51内に配置される。パッファシリンダ52の上端部には、概して可動サポート51の内周面と略同一の形状を有する摺動部521が設けられている。パッファシリンダ52の内側には、後述する可動アーク接触子55の外周面との間にパッファ室522が形成されている。
ノズル53及び可動主接触子54は、パッファシリンダ52の摺動部521の上面に設けられている。可動主接触子54は、概して円筒形状を有し、摺動部521の上面から上方側に延出している(図2参照)。可動主接触子54は、固定主接触子42の内周面に摺接可能な寸法を有している。ノズル53は、可動主接触子54の内側に配置されている。ノズル53は、概して円筒形状を有し、摺動部521の上面から上方側に延出している。ノズル53の中央より僅かに上方側の位置にて、他部よりも小径に構成されている。
また、可動部5は、可動アーク接触子55と、固定ピストン56(図2参照)と、操作ロッド57とを有する。可動アーク接触子55は、概して円筒形状を有する。可動アーク接触子55は、パッファシリンダ52の一部に支持されている。可動アーク接触子55は、パッファシリンダ52の中央部分で図1に示す上下方向に延在している。可動アーク接触子55の上端部には、固定アーク接触子43に摺接可能な孔551が形成されている。これらの可動主接触子54及び可動アーク接触子55により可動接点(可動電極)が構成される。
固定ピストン56は、可動サポート51内の一部に固定される固定部561と、固定部561に接続され、パッファシリンダ52内を上下に延在するピストン部562とを有する(図2参照)。固定部561及びピストン部562は、概して円筒形状を有している。ピストン部562は、パッファシリンダ52内のパッファ室522内に収容されている。ピストン部562の上端部は、可動アーク接触子55の外周面及びパッファシリンダ52の内周面に摺接可能な寸法を有している。
操作ロッド57は、一端(上端)がパッファシリンダ52の下端部に接続される一方、他端(下端)が不図示の昇降機構に接続される。操作ロッド57は、昇降機構の駆動力を受けてパッファシリンダ52を可動サポート51内にて上下移動させる。パッファシリンダ52の上下移動に伴い、パッファシリンダ52に支持される可動アーク接触子55や、パッファシリンダ52の一部に設けられるノズル53及び可動主接触子54が一体的に移動可能に構成されている。
絶縁支持体20は、例えば、エポキシ樹脂等の絶縁物で形成される。絶縁支持体20は、可動部5の下方側に配置されている。絶縁支持体20は、一端部(下端部)が固定ベース21上に固定される一方、他端部(上端部)が可動部5の可動サポート51の下端部に固定されている。すなわち、絶縁支持体20は、下方側から可動サポート51を支持する。固定ベース21は、金属容器2に電気的に接続された接地電位で構成される。
ここで、本実施の形態に係るガス遮断器1における消弧原理について、図2を参照して説明する。図2Aにおいては、ガス遮断器1における閉路状態を示し、図2Bにおいては、ガス遮断器1における消弧中状態を示している。なお、図2においては、説明の便宜上、可動サポート51の一部のみを示している。
図2Aに示す閉路状態においては、操作ロッド57によりパッファシリンダ52が押し上げられている。パッファシリンダ52の上方移動に伴い、ノズル53及び可動主接触子54、並びに、可動アーク接触子55も押し上げられている。この場合、固定主接触子42は、可動主接触子54の外周面に接触している。また、固定アーク接触子43は、孔551に挿入され、可動アーク接触子55に接触している。一方、固定ピストン56は、可動サポート51に固定されている。このため、パッファシリンダ52の上方移動に伴い、パッファ室522内に消弧性ガスが導入(吸引)された状態となっている。
図2Aに示す閉路状態から開路状態に移行する場合には、図2Bに示すように、操作ロッド57によりパッファシリンダ52が引き下げられる。パッファシリンダ52の下方移動に伴い、ノズル53及び可動主接触子54、並びに、可動アーク接触子55も引き下げられている。パッファシリンダ52の下方移動の過程において、可動主接触子54は、可動アーク接触子55に先立って固定主接触子42から離間する。すなわち、可動アーク接触子55は、固定主接触子42に対する可動主接触子54の離間よりも遅いタイミングで固定アーク接触子43から離間する。このため、固定アーク接触子43から可動アーク接触子55が離間する際、これらのアーク接触子43、55間でアーク放電Aが発生する(図2B参照)。
上述のように、固定ピストン56は、可動サポート51に固定されている。このため、パッファシリンダ52の下方移動に伴い、固定ピストン56のピストン部562によってパッファ室522内に配置された消弧性ガスが圧縮される。そして、圧縮された消弧性ガスが、パッファシリンダ52の内側を通過し、ノズル53を介してアーク放電Aに吹き付けられる。これにより、固定アーク接触子43と可動アーク接触子55との間に発生したアーク放電Aが消弧される。
ガス遮断器1においては、アーク放電Aの消弧に伴って熱ガス流が発生する。この熱ガス流は、高温且つ低密度のガスで構成される。一般に、このような熱ガス流は、固定サポート41に導入されて冷却された後、固定サポート41に形成された開口部から金属容器2内に排出される。
図3は、本実施の形態における絶縁支持体20の斜視図である。また図4は、図3に示す絶縁支持体20の正面図、断面図、及び裏面図である。図4Aは、絶縁支持体20の平面図、図4Bは、図4Aに示すA−A線に沿って絶縁支持体20の高さ方向に向けて切断し矢印方向から見た縦断面図、図4Cは、絶縁支持体20の裏面図である。
図3、図4に示すように、絶縁支持体20は、上面(第1の面)20aと、上面20aと相対向する下面(第2の面)20bと、上面20aから下面20bにかけて絶縁支持体20の中心を貫通する貫通孔22と、を有して構成される。図4Bに示すように、絶縁支持体20の上面20aに金属製の可動サポート51が固定支持され、絶縁支持体20の下面20bは、固定ベース21に固定支持されている。
図3、図4A、図4Bに示すように、絶縁支持体20の上面20aには、リング状の金属部24が絶縁支持体20を構成する絶縁物にインサート成形されている。そして金属部24には、貫通孔22の外側周囲に、等間隔おきに複数のネジ穴(接合穴)23が加工されている。このように金属部24は、各ネジ穴23の周囲から各ネジ穴23の間の領域25にかけて連続して設けられている。そして図4Bに示すように、接合ネジ26を介して可動サポート51と絶縁支持体20とが固定される。なお金属部24の材質を限定するものではないが、例えば、金属部24を、真鍮等のCu系やAl系の金属材料で形成することが出来る。金属部24は、可動サポート51と電気的に接続されている。
本実施の形態により、絶縁支持体20の上面20aから一定深さの範囲で、全周にわたってシールド効果を発揮できる。この結果、電界強度を全周にわたって略均一に小さくできる。すなわち本実施の形態では、絶縁支持体20の上面20aの全周にわたって図10Bで示した等電位線を得ることができる。以上により本実施の形態によれば従来に比べて、絶縁支持体20の絶縁破壊を効果的に防止することができる。
図3、図4に示す実施の形態では、絶縁支持体20の下面20bにも、リング状の金属部27が絶縁支持体20を構成する絶縁物にインサート成形されている。そして金属部27には、貫通孔22の外側周囲に、等間隔おきに複数のネジ穴(接合穴)28が加工されている。そして図4Bに示すように、接合ネジ29を介して絶縁支持体20と固定ベース21とが固定される。金属部27は、固定ベース21を介して金属容器2と電気的に接続され接地電位とされる。
このように、絶縁支持体20の下面20b側は、接地電位であるため、図5、図6に示すように、下面20b側は、従来と同様の構成であってもよい。図6Aは、絶縁支持体20の平面図、図6Bは、図6Aに示すB−B線に沿って絶縁支持体20の高さ方向に向けて切断し矢印方向から見た縦断面図、図6Cは、絶縁支持体20の裏面図である。すなわち図5、図6に示すように、金属部(金属ボス)30は、接合ネジ29よりも一回り大きく形成され、これにより、ネジ穴28の周囲だけに設けられる。図5、図6では、金属部30は、各ネジ穴28の間の領域31には設けられていない。なお図5、図6において、図3、図4と同じ符号は同じ部分を示している。
ただし図3、図4に示すように、絶縁支持体20の下面20b側にもリング状の金属部27を設けたほうが、物理的な応力緩和に繋がり、絶縁支持体20の破損等を防止することができる。また、上面20a側にインサートされる金属部24と合わせて下面20b側の金属部27もリング状としたほうが、絶縁支持体20の生産効率を向上させることができる。
図7は、別の実施の形態における絶縁支持体20の斜視図である。図7において、図3と同じ符号は図3と同じ部分を示す。図7では、図3に示す金属部24、27を、金属部24a、24b、27a、27bのように複数に分割している。分割個数については特に限定されない。ただし、図3のように、切断箇所のないリング形状で金属部24、27を形成したほうが、よりシールド効果を高めることが出来る。
また、図8に示すような従来構成において、ネジ穴104の個数を増やすことで、電界強度を緩和してもよい。図8のように従来品のネジ穴104が6個の場合、例えばネジ穴104を8個、10個と増やすことにより本実施の形態と同様の効果が得られる。但し、これはネジ穴の個数を限定するものではなく、通常固定や支持のために用いられるネジの必要数より多数のネジ穴を設けていればよい。また、必要な強度が確保されていれば、必ずしも全てのネジ穴に対してネジ止めを行う必要はない。
また本実施の形態では、図4Bや図6Bに示すように、金属製の可動サポート51の外周部の一部が下方向に延びて、絶縁支持体20の外周面20d上に延出する延出部35を備える構成が好ましい。延出部35により、電界強度がより緩和されて、よりシールド効果を高めることができる。
本実施の形態の絶縁支持体20の製造方法を限定するものではないが、注型治具を使用して、エポキシ樹脂等の樹脂成形時に金属インサートを一体成形することで、本実施の形態の絶縁支持体20を製造することができる。
本発明のガス遮断器によれば、絶縁支持体の絶縁耐性を向上させることができ、金属容器内に三相の消弧室が組み込まれたパッファ型ガス遮断器に好適に用いることができる。これにより本発明によれば、各相間の距離や金属容器間の距離の短縮化を図ることができ、ガス遮断器の小型化を促進できる。
1 ガス遮断器
2 金属容器
3 消弧室
4 固定部
5 可動部
20 絶縁支持体
20a 上面
20b 下面
22 貫通孔
23、28 ネジ穴
24、24a、24b、27、27a、27b、30 金属部
25、31 領域
26、29 接合ネジ
32 密閉空間
35 延出部
41 固定サポート
43 固定アーク接触子
51 可動サポート
52 パッファシリンダ
53 ノズル
55 可動アーク接触子
56 固定ピストン
57 操作ロッド


Claims (5)

  1. 絶縁性ガスを封入した金属容器内にて、絶縁支持体を介して支持された消弧室を備え、
    前記消弧室では、可動側接点を固定側接点に対して接離可能とする移動機構を支持する金属製の可動サポートが、前記絶縁支持体に固定支持されており、
    前記絶縁支持体は、相対向する第1の面及び第2の面と、前記第1の面から前記第2の面にかけて貫通する貫通孔と、を有し、前記第1の面では、前記可動サポートが固定支持され、前記第2の面は、前記金属容器側に固定されており、
    前記第1の面には、前記可動サポートを接合するための接合部材を通す複数の接合穴が形成されており、前記接合穴の間の領域には、該接合穴を含む円周方向における電界強度を緩和するための金属部が設けられていることを特徴とするガス遮断器。
  2. 前記金属部は、前記第1の面に沿って形成されたリング形状で構成されることを特徴とする請求項1に記載のガス遮断器。
  3. 更に、前記金属部は、前記第2の面にて、前記金属容器側に接合するための接合部材を通す複数の接合穴の間の領域に設けられることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のガス遮断器。
  4. 前記金属部は、前記第2の面に沿って形成されたリング形状で構成されることを特徴とする請求項3に記載のガス遮断器。
  5. 前記金属部は、樹脂製の前記絶縁支持体にインサート成形されていることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれかに記載のガス遮断器。
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