JP2017037007A - 濾過装置 - Google Patents

Abstract

【課題】構造が簡単で夾雑微粒子が多く混入する被検液に対しても目の細かなフィルタを使用することができ、且つ、目詰まりが生じにくいので濾過後の被検液を分析する自動分析装置等のメンテナンスを容易にすることのできる濾過装置を提供する。【解決手段】円筒状の２室からなる濾過装置本体と、２室の隔壁を構成して被検液を濾過するためのフィルタ部材と、第１室に濾過前被検液を導入する導入配管と、第１室からフィルタ部材を経由せずに余剰の濾過前被検液を排出するバイパス配管と、第２室から濾過後被検液を検出装置に供給する供給配管とを有している。導入配管は、第１室の円筒状側面に導入口を有し、当該導入口から第１室の内部に導入される濾過前被検液が第１室の内部に渦流を形成するように配管されている。バイパス配管は、第１室の壁面のうち円筒軸の中心付近に排出口を有している。供給配管は、第２室の壁面に排出口を有している。【選択図】図８

Description

本発明は、濾過装置に関するものであり、特に各種検出装置で分析する被検液の前処理に好適な濾過装置に関するものである。

生産工場の製造工程で使用される各種処理液のプロセス管理をするための成分濃度分析装置や、工場排水の水質監視をするための水質分析装置などには、連続或いは所定時間間隔で作動する自動分析装置が多く使用されている。しかし、製造工程で使用される各種処理液や工場排水などには種々の夾雑微粒子が混入しており、これらの夾雑微粒子を除去しなければ分析精度が維持できないだけでなく、装置の故障や不具合の原因となる。

そこで、これらの自動分析装置には、被検液を前処理して夾雑微粒子を除去するための濾過装置が使用される。この濾過装置には、被検液の精度を維持するために必要な目の細かなフィルタを使用することが望ましいが、フィルタの目が細かければフィルタ自体の目詰まりが頻繁に生じるという問題があった。また、フィルタの目詰まりが頻繁に生じるようでは、自動分析装置のメンテナンスに多くの時間と労力を要することとなる。そこで、目詰まりの生じにくい濾過装置に関する種々の提案がなされている。

例えば、下記特許文献１においては、巻取可能なテープフィルタによって連続的に検水を濾過するように構成した水質測定機用自動濾過装置が提案されている。また、下記特許文献２においては、更にフィルタの閉塞状況をモニタして閉塞の状況が基準を超えた場合にフィルタを送るようにした分析用試験液の濾過装置が提案されている。

特開平８−２７６１０９号公報 特開２００５−２６５４１３号公報

ところで、上記特許文献１及び上記特許文献２に記載の濾過装置においては、いずれも巻取可能なテープフィルタを使用するものであり、機構が複雑なものとなる。また、濾過する被検液に夾雑微粒子が多く混入する場合には、必要とされるフィルタが多量となり頻繁にテープフィルタを交換しなければならないという問題があった。

そこで、本発明は、上記の諸問題に対処して、構造が簡単で夾雑微粒子が多く混入する被検液に対しても目の細かなフィルタを使用することができ、且つ、目詰まりが生じにくいので濾過後の被検液を分析する自動分析装置等のメンテナンスを容易にすることのできる濾過装置を提供することを目的とする。

上記課題の解決にあたり、本発明者らは、鋭意研究の結果、濾過装置に導入する被検液に濾過装置の中で渦流を発生させることにより、フィルタへの夾雑微粒子の付着を軽減できることを見出し、本発明の完成に至った。

即ち、本発明に係る濾過装置は、請求項１の記載によると、
検出装置に供給する被検液に混入する夾雑微粒子を除去するための濾過装置（１００）であって、
円筒状の２室からなる濾過装置本体（１０）と、
前記２室の隔壁を構成して前記被検液を濾過するためのフィルタ部材（７０）と、
前記２室のうちの第１室（１１）に濾過前被検液を導入する導入配管（２０）と、当該第１室から前記フィルタ部材を経由せずに余剰の濾過前被検液を排出するバイパス配管（３０）と、
前記２室のうちの第２室（１２）から濾過後被検液を検出装置に供給する供給配管（４０）とを有し、
前記導入配管は、前記第１室の円筒状側面に導入口を有し、当該導入口から前記第１室の内部に導入される濾過前被検液が当該第１室の内部に渦流（Ｖ）を形成するように配管され、
前記バイパス配管は、前記第１室の壁面のうち円筒軸の中心付近に排出口を有し、
前記供給配管は、前記第２室の壁面に排出口を有していることを特徴とする。

また、本発明は、請求項２の記載によると、請求項１に記載の濾過装置であって、
前記バイパス配管は、その管路に流量調節弁（３２）を有していることを特徴とする。

また、本発明は、請求項３の記載によると、請求項１又は２に記載の濾過装置であって、
前記供給配管と共に、前記第２室から余剰の濾過後被検液を排出する排出配管（５０）を有していることを特徴とする。

また、本発明は、請求項４の記載によると、請求項３に記載の濾過装置であって、
前記排出配管は、その下流側において前記バイパス配管の前記流量調節弁の上流側と連通していることを特徴とする。

また、本発明は、請求項５の記載によると、請求項１〜４のいずれか１つに記載の濾過装置であって、
前記フィルタ部材を逆洗浄するための洗浄配管（６０）を有し、
当該洗浄配管は、前記第２室の円筒状側面に導入口を有し、当該導入口から前記第２室の内部に導入される洗浄液が当該第２室の内部に渦流を形成するように配管されていることを特徴とする。

上記構成によれば、濾過装置は、濾過装置本体とフィルタ部材と導入配管とバイパス配管と供給配管とを有している。濾過装置本体は、フィルタ部材で区画された円筒状の２室からなる。これら２室のうちの第１室には、導入配管により濾過前被検液が導入されると共に、バイパス配管によってフィルタ部材を経由しない余剰の濾過前被検液が排出される。一方、これら２室のうちの第２室には、第１室からフィルタ部材を介して濾過された濾過後被検液が導入される。この濾過後被検液は、供給配管から検出装置に供給される。

また、上記構成によれば、導入配管は、第１室の円筒状側面に導入口を有しており、第１室の内部に導入される濾過前被検液が第１室の内部に渦流を形成するように配管されている。このことにより、第１室に導入された濾過前被検液は、渦流によってフィルタ部材の表面に沿う方向に、つまりフィルタ部材を透過する方向と交わる方向に勢いよく流れ、フィルタ部材の表面に目詰まりを発生させにくい。よって、上記構成によれば、構造が簡単で夾雑微粒子が多く混入する被検液に対しても目の細かなフィルタを使用することができ、且つ、目詰まりが生じにくいので濾過後の被検液を分析する自動分析装置等のメンテナンスを容易にすることができる。

また、上記構成によれば、バイパス配管は、第１室の壁面のうち円筒軸の中心付近に排出口を有している。このことにより、夾雑微粒子が多く混入する被検液が多量に濾過装置に導入された場合でも、検出装置が必要とする量の被検液を濾過すると共に、フィルタ部材を経由せずに余剰の被検液を排出することができる。この余剰の被検液は、第１室の内部に渦流を形成するためには必要であるが、検出装置が必要とする量を超えるものである。よって、上記構成によれば、余剰の被検液を濾過することがないのでフィルタの目詰まりが生じにくい。一方、フィルタ部材で濾過された被検液は、第２室から供給配管を介して検出装置に供給される。

また、上記構成によれば、バイパス配管は、その管路に流量調節弁を有していることが好ましい。この流量調節弁を調整することにより、第１室に導入された被検液のうちフィルタ部材で濾過される量と、バイパス配管から排出される量とのバランスを制御することができる。よって、検出装置が必要とする量より多量の被検液を濾過することがないのでフィルタの目詰まりが生じにくい。

また、上記構成によれば、第２室の壁面には、供給配管と共に余剰の濾過後被検液を排出する排出配管を有していることが好ましい。このことにより、検出装置が必要とする量より少し多めの被検液を濾過することができ、バイパス配管が有する流量調節弁による制御の自由度が増して装置が安定する。

また、上記構成によれば、排出配管は、その下流側においてバイパス配管の流量調節弁の上流側と連通していることが好ましい。このことにより、フィルタ部材による濾過量が増えることなく、バイパス配管が有する流量調節弁による制御の自由度が増して装置が更に安定する。

また、上記構成によれば、フィルタ部材を逆洗浄するための洗浄配管を有していることが好ましい。この洗浄配管は、第２室の円筒状側面に導入口を有しており、第２室の内部に導入される洗浄液が第２室の内部に渦流を形成するように配管されている。このことにより、第２室に導入された洗浄液は、渦流によってフィルタ部材の裏面に沿う方向に、つまりフィルタ部材を透過する方向と交わる方向に勢いよく流れ、フィルタ部材を裏面から逆洗浄して目詰まりを解消する。

よって、上記構成によれば、構造が簡単で夾雑微粒子が多く混入する被検液に対しても目の細かなフィルタを使用することができ、且つ、生じた目詰まりを速やかに解消することができるので濾過後の被検液を分析する自動分析装置等のメンテナンスを更に容易にすることができる。

本発明の実施形態に係る濾過装置の外観を表す斜視図である。 図１の濾過装置の正面図である。 図１の濾過装置の平面図である。 図１の濾過装置の底面図である。 図１の濾過装置の斜視図の部分断面図である。 図２の濾過装置の正面図の部分断面図である。 図３の濾過装置の平面図の部分断面図である。 図５の濾過装置の部分断面図に渦流を表した斜視図である。 図１の濾過装置を組込んだ配管図で濾過状態を表す図である。 図１の濾過装置を組込んだ配管図で逆洗浄状態を表す図である。

以下、本発明に係る濾過装置の実施形態について図面を用いて説明する。本実施形態は、生産工場の製造工程で使用される処理液中の有効成分を分析して適正濃度に修正するプロセス管理で使用される成分濃度分析装置の被検液を濾過する濾過装置に関するものである。従って、被検液である処理液中には、製造工程で被処理物から脱落した微細粒子や副反応物などが夾雑微粒子として混入している。これらの夾雑微粒子が混入した被検液を濾過せずに分析すると、分析精度が維持できないだけでなく、装置の故障や不具合の原因となる。

図１は、本実施形態に係る濾過装置の外観を表す斜視図である。また、図２は当該濾過装置の正面図、図３は平面図、図４は底面図である。図１〜図４に示すように、本実施形態に係る濾過装置１００は、濾過装置本体１０と、導入配管２０と、バイパス配管３０と、供給配管４０と、排出配管５０と、洗浄配管６０を有している。

濾過装置本体１０は、中空で円筒状の２室が円筒軸方向に積層されている。円筒状の２室のうち上側の第１室１１の側面（曲面部）には、導入配管２０の端部が導入口として接続されている。この第１室１１の側面と導入配管２０との接続は、導入配管２０から第１室１１に導入される濾過前被検液が第１室１１の側面内側に沿って流れるように、導入配管２０の軸方向が第１室１１の円筒軸の中心からずれた方向に配管されている（図３及び図４参照）。

また、第１室１１の上面（平面部）には、バイパス配管３０の端部が排出口として接続されている。この第１室１１の上面とバイパス配管３０との接続は、バイパス配管３０から排出される濾過前被検液が第１室１１の円筒軸の方向（上方）に流れるように、バイパス配管３０の端部が第１室１１の上面の円筒軸の中心付近に配管されている（図３参照）。なお、バイパス配管３０は、その管路に流量調節弁を有している。この流量調節弁の作用については後述する。

一方、円筒状の２室のうち下側の第２室１２の側面（曲面部）には、洗浄配管６０の端部が導入口として接続されている。この第２室１２の側面と洗浄配管６０との接続は、洗浄配管６０から第２室１２に導入される洗浄液が第２室１２の側面内側に沿って流れるように、洗浄配管６０の軸方向が第２室１２の円筒軸の中心からずれた方向に配管されている（図３及び図４参照）。

また、第２室１２の下面（平面部）には、供給配管４０の端部と排出配管５０の端部がそれぞれの排出口として接続されている。この第２室１２の下面と排出配管５０との接続は、排出配管５０から排出される濾過後被検液が第２室１２の円筒軸の方向（下方）に流れるように、排出配管５０の端部が第２室１２の下面の円筒軸の中心付近に配管されている（図３参照）。これに対して、第２室１２の下面と供給配管４０との接続は、供給配管４０の端部が第２室１２の下面の円筒軸の中心から離れた位置に配管されている（図４参照）。この供給配管４０から排出される濾過後被検液は、分析用被検液として成分濃度分析装置に供給される。

次に、本実施形態に係る濾過装置１００の内部構造について説明する。図５は、本実施形態に係る濾過装置の斜視図の部分断面図である。また、図６は当該濾過装置の正面図の部分断面図、図７は平面図の部分断面図である。図５〜図７に示すように、本実施形態に係る濾過装置１００の内部には、被検液を濾過するためのフィルタ部材７０が第１室１１と第２室１２との間に隔壁を構成している。

フィルタ部材７０は、多数の小孔を有する円形の基盤７１と、その表面を覆うメッシュシート７２と、基盤７１の周囲に配されたパッキン７３とから構成されている。本実施形態においては、盤面に孔径６ｍｍの小孔を７３個あけた直径８０ｍｍの基盤７１の上に目の細かさが１２０メッシュのステンレス製のメッシュシート７２を配したものを使用した（図６参照）。なお、基盤７１の直径、小孔の孔径と個数、メッシュシート７２の目の細かさなどは、特に限定するものではなく、濾過する被検液中の夾雑微粒子の量及び使用目的によって適宜選定すればよい。

このような構成のフィルタ部材７０を濾過装置本体１０に装着するには、まず、濾過装置本体１０を第１室１１と第２室１２との上下２つの部分に分割する。この上下２つの部分の間にフィルタ部材７０を隔壁として挿入し、第１室１１と第２室１２との間で漏れが生じないようにパッキン７３を介して密閉する（図６参照）。なお、フィルタ部材７０のメッシュシート７２は、濾過前被検液が導入される第１室１１側に配するようにする。

次に、このように構成した濾過装置１００の内部の濾過前被検液の流れについて説明する。図８は、本実施形態に係る濾過装置の部分断面図に渦流Ｖを表した斜視図である。上述のように、濾過装置本体１０の第１室１１の側面（曲面部）には、導入配管２０の端部が導入口として接続され、導入配管２０から第１室１１に導入される濾過前被検液が第１室１１の側面内側に沿って流れるように配管されている。一方、第１室１１の上面（平面部）には、バイパス配管３０の端部が排出口として接続され、第１室１１の上面の円筒軸の中心付近から円筒軸の方向（上方）に流れるように配管されている。

これらのことにより、導入配管２０から第１室１１に導入された濾過前被検液は、第１室１１の側面内側に沿って流れて渦流Ｖを形成し、その後、第１室１１の円筒軸の中心部からバイパス配管３０を介して排出される（図８参照）。この間、第１室１１に導入された濾過前被検液は、その一部がフィルタ部材７０によって濾過され第２室１２に導入される。ここで、濾過前被検液には多くの夾雑微粒子が混入しており、フィルタ部材７０の表面に配されたメッシュシート７２で濾過される。この状態では、メッシュシート７２は直ぐに目詰まりするように思われる。

しかし、本実施形態においては、第１室１１の内部に形成された渦流Ｖがメッシュシート７２で濾過された夾雑微粒子を押し流しバイパス配管３０を介して排出する。そのためには、第１室１１に導入される濾過前被検液の量を多くして渦流Ｖの流速と流量を大きくすることが好ましい。一方、フィルタ部材７０によって濾過される被検液の量は、成分濃度分析装置で必要とされる少量でよい。このように、本実施形態においては、濾過装置本体１０に導入される濾過前被検液の量を多く、且つ、フィルタ部材７０によって濾過される被検液の量をできるだけ少なくすることが好ましい。

この条件を充足するために、本実施形態においては、バイパス配管３０の管路に配された流量調節弁を活用する。図９は、本実施形態に係る濾過装置を組込んだ配管図で濾過状態を表す図である。図９に示す配管図において、濾過装置本体１０には導入配管２０と、バイパス配管３０と、供給配管４０と、排出配管５０と、洗浄配管６０とが接続されている。

導入配管２０の管路には、電磁弁２１が配設されている。バイパス配管３０は、濾過装置本体１０の上方でバイパス配管３０と洗浄水排出配管６１に分岐し、洗浄水排出配管６１への分岐点には電磁弁６２が配設されている。また、バイパス配管３０の管路には、電磁弁３１とその下流側に流量調節弁３２とが配設されている。供給配管４０の管路には、電磁弁４１が配設されている。排出配管５０は、濾過装置本体１０の下方で２経路に分岐し、一方の経路には電磁弁５１が配設されている。また、他方の経路は電磁弁５２を介してその下流側をバイパス配管３０の流量調節弁３２の上流側に接続されている。洗浄配管６０の管路には、電磁弁６３が配設されている。

このように配管された状態において、濾過状態を説明する。まず、図９において、排出配管５０の電磁弁５１、洗浄配管６０の電磁弁６３、及び、洗浄水排出配管６１の電磁弁６２を閉鎖する。次に、導入配管２０の電磁弁２１、バイパス配管３０の電磁弁３１と流量調節弁３２、供給配管４０の電磁弁４１、及び、排出配管５０の電磁弁５２を開放する。

この状態において、多くの夾雑微粒子が混入した濾過前被検液は、導入配管２０を介して濾過装置本体１０の上方側にある第１室１１の内部に渦流Ｖを形成しながら導入される。この段階では、流量調節弁３２が十分に解放された状態にあり、第１室１１の内部の圧力は、フィルタ部材７０による抵抗により濾過前被検液を透過させるほど大きくならない。そのため、第１室１１の内部に導入された濾過前被検液の大部分は、バイパス配管３０を介して排出される。よって、この状態においては、濾過装置本体１０の下方側にある第２室１２の内部に分析に必要な量の濾過後被検液を導入することができない。

そこで、本実施形態においては、バイパス配管３０の流量調節弁３２を調整して分析に必要な量の濾過後被検液を得ることとする。まず、十分に解放された状態にある流量調節弁３２を少し絞り込んで、バイパス配管３０を介して排出される濾過前被検液の量を調整する（減じる）。この調整は、導入配管２０を介して第１室１１の内部に導入される濾過前被検液の量と、フィルタ部材７０を介して透過する濾過後被検液の量とのバランスにより適宜調整する。

このようにして、流量調節弁３２を絞り込むと第１室１１の内部の圧力が増加する。このことにより、フィルタ部材７０の抵抗を越えて濾過される被検液の量が徐々に増加する。逆に、流量調節弁３２を大きく絞り込むと第１室１１の内部の圧力が更に増加して、第１室１１の内部に導入された濾過前被検液の大部分は、フィルタ部材７０により濾過されて第２室１２から排出配管５０を介して排出される。このような状態では、フィルタ部材７０の目詰まりが激しくなり、フィルタ部材７０の洗浄を頻繁に行わなければならなくなる。

ここで、本実施形態においては、上述のように、排出配管５０は、その下流側をバイパス配管３０の流量調節弁３２の上流側に接続されている。この状態において、本発明者らは、濾過後被検液が導入される第２室１２の内部の圧力よりも、バイパス配管３０の流量調節弁３２の上流側の圧力の方が小さくなるものと考えている。従って、第２室１２の内部の濾過後被検液のうち、供給配管４０を介して成分濃度分析装置に供給される以外の余剰の濾過後被検液は、排出配管５０を介してバイパス配管３０に流入し、バイパス配管３０を介して排出される余剰の濾過前被検液と共に排出される。これらのバイパス配管３０を介して排出される余剰の濾過前被検液及び濾過後被検液は、共に生産工場の製造工程で再利用される処理液中に混入することができ、薬品の無駄を生じることがない。

なお、補足として排出配管５０の下流側をバイパス配管３０の流量調節弁３２の下流側に接続した場合について説明する。この状態においては、濾過後被検液が導入される第２室１２の内部の圧力よりも、バイパス配管３０の流量調節弁３２の下流側の圧力の方が更に小さくなる。従って、第２室１２の内部から排出配管５０を介してバイパス配管３０に流入する濾過後被検液の量が増大する。この場合には、フィルタ部材７０を介して透過される濾過後被検液の量が増大し、フィルタ部材７０の目詰まりが激しくなる。

このように、流量調節弁３２を適切に調整すると、導入配管２０を介して第１室１１の内部に導入される濾過前被検液の量と、フィルタ部材７０を介して透過する濾過後被検液の量とのバランスが最適となる。このような状態においては、フィルタ部材７０を透過する濾過前被検液の量が制限されているので、フィルタ部材７０の目詰まりが極力抑えられている。一方、分析に必要な量の濾過後被検液を確保することができる。

次に、本実施形態においては、フィルタ部材７０の目詰まりが極力抑えられているが、長時間の連続運転の後にはフィルタ部材７０を洗浄することが好ましい。図１０は、本実施形態に係る濾過装置を組込んだ配管図で逆洗浄状態を表す図である。図１０に示す配管図は、上述の図９と同様であり、ここでは説明を省略する。

このように配管された状態において、逆洗浄状態を説明する。まず、図１０において、導入配管２０の電磁弁２１、バイパス配管３０の電磁弁３１、供給配管４０の電磁弁４１、及び、排出配管５０の電磁弁５１と電磁弁５２を閉鎖する。次に、洗浄配管６０の電磁弁６３、及び、洗浄水排出配管６１の電磁弁６２を開放する。

この状態において、洗浄液は、洗浄配管６０を介して濾過装置本体１０の下方側にある第２室１２の内部に渦流を形成しながら導入される。第２室１２の内部に導入された洗浄液は、フィルタ部材７０の基盤７１の小孔を介してメッシュシート７２を裏面から逆洗浄する。このことにより、メッシュシート７２から第１室１１の内部に洗い落とされた夾雑微粒子は、第１室１１の内部から洗浄水排出配管６１を介して排出される。本実施形態においては、上述の理由により、フィルタ部材７０の目詰まりは軽度であり逆洗浄により容易に再生することができる。

以上説明したように、本実施形態においては、構造が簡単で夾雑微粒子が多く混入する被検液に対しても目の細かなフィルタを使用することができ、且つ、目詰まりが生じにくいので濾過後の被検液を分析する自動分析装置等のメンテナンスを容易にすることのできる濾過装置を提供することができる。

なお、本発明の実施にあたり、上記実施形態に限ることなく、次のような種々の変形例が挙げられる。
（１）上記実施形態においては、濾過装置本体や各配管の材質及び寸法について特に説明していない。本発明においては、これらの材質及び寸法について特に限定するものではなく、濾過される被検液や混入する夾雑物の組成及び量により適宜選定すればよい。
（２）上記実施形態においては、濾過装置本体の第１室に導入する濾過前被検液の流量や濾過後被検液の排出量について特に説明していない。本発明においては、これらの流量や排出量について特に限定するものではなく、濾過される被検液や混入する夾雑物の組成、或いは、分析手段の相違により適宜選定すればよい。
（３）上記実施形態においては、濾過前被検液の種類や連続分析装置の種類について特に説明していない。本発明においては、これらの種類について特に限定するものではなく、濾過装置を使用する目的、環境、条件などにより適宜対応すればよい。なお、濾過前被検液が製造工程で再利用できるものであれば、バイパス配管から排出される被検液を再度、製造工程に戻して再利用するようにすればよい。
（４）上記実施形態においては、各電磁弁の開閉及び流量調節弁の調節について特に説明していない。本発明においては、それぞれの弁をマニュアル操作で調整してもよく、或いは、マイクロコンピュータを使用した制御系を利用して、各電磁弁の開閉及び流量調節弁の調節を行うようにしてもよい。

１００…濾過装置、１０…濾過装置本体、１１…第１室、１２…第２室、
２０…導入配管、３０…バイパス配管、４０…供給配管、５０…排出配管、
６０…洗浄配管、７０…フィルタ部材、７１…基盤、７２…メッシュシート、
７３…パッキン、６１…洗浄水排出配管、３２…流量調節弁、
２１、３１、４１、５１、５２、６２、６３…電磁弁。

Claims (5)

1. 検出装置に供給する被検液に混入する夾雑微粒子を除去するための濾過装置であって、
   円筒状の２室からなる濾過装置本体と、
   前記２室の隔壁を構成して前記被検液を濾過するためのフィルタ部材と、
   前記２室のうちの第１室に濾過前被検液を導入する導入配管と、当該第１室から前記フィルタ部材を経由せずに余剰の濾過前被検液を排出するバイパス配管と、
   前記２室のうちの第２室から濾過後被検液を検出装置に供給する供給配管とを有し、
   前記導入配管は、前記第１室の円筒状側面に導入口を有し、当該導入口から前記第１室の内部に導入される濾過前被検液が当該第１室の内部に渦流を形成するように配管され、
   前記バイパス配管は、前記第１室の壁面のうち円筒軸の中心付近に排出口を有し、
   前記供給配管は、前記第２室の壁面に排出口を有していることを特徴とする濾過装置。
2. 前記バイパス配管は、その管路に流量調節弁を有していることを特徴とする請求項１に記載の濾過装置。
3. 前記供給配管と共に、前記第２室から余剰の濾過後被検液を排出する排出配管を有していることを特徴とする請求項１又は２に記載の濾過装置。
4. 前記排出配管は、その下流側において前記バイパス配管の前記流量調節弁の上流側と連通していることを特徴とする請求項３に記載の濾過装置。
5. 前記フィルタ部材を逆洗浄するための洗浄配管を有し、
   当該洗浄配管は、前記第２室の円筒状側面に導入口を有し、当該導入口から前記第２室の内部に導入される洗浄液が当該第２室の内部に渦流を形成するように配管されていることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１つに記載の濾過装置。