JP2017030160A - Apparatus for transferring pattern of film and method for transferring pattern of film - Google Patents

Apparatus for transferring pattern of film and method for transferring pattern of film Download PDF

Info

Publication number
JP2017030160A
JP2017030160A JP2015149417A JP2015149417A JP2017030160A JP 2017030160 A JP2017030160 A JP 2017030160A JP 2015149417 A JP2015149417 A JP 2015149417A JP 2015149417 A JP2015149417 A JP 2015149417A JP 2017030160 A JP2017030160 A JP 2017030160A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
resin layer
base film
pattern
transfer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2015149417A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP6535535B2 (en
Inventor
光明 芹澤
Mitsuaki Serizawa
光明 芹澤
小久保 光典
Mitsunori Kokubo
光典 小久保
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shibaura Machine Co Ltd
Original Assignee
Toshiba Machine Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Machine Co Ltd filed Critical Toshiba Machine Co Ltd
Priority to JP2015149417A priority Critical patent/JP6535535B2/en
Publication of JP2017030160A publication Critical patent/JP2017030160A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6535535B2 publication Critical patent/JP6535535B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an apparatus for transferring a pattern enabling stable conveyance of a film in a gravity direction and pattern formation in a state in which the pattern is surely in the gravity direction.SOLUTION: There is provided an apparatus for transferring a pattern of a film which includes: a resin layer forming section 4 for forming a resin layer 22 on a base film 2; a pattern transfer section 5 for transferring a shape-imparting surface 31 on the resin layer to form a pattern 21; a resin layer curing section 6 for curing the resin layer to generate a transfer film 20; a shape-imparting film peeling section 7 for peeling a shape-imparting film 3 from the transfer film; and a film conveyance section 8 which unwinds the base film, passes the resin layer forming section, the pattern transfer section, the resin layer curing section and the shape-imparting film peeling section, and winds the transfer film, where the film conveyance section includes a guide roll 83 for making the conveyance direction of the base film oriented from an upper direction to a lower direction before the resin layer forming section, and the resin layer forming section includes a pair of dies 43 that make the position of a resin discharge port 431 arranged so as to shift vertically from each other, and the die arranged in the upper side is arranged on a surface side which does not come in contact with the guide roll of the base film.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明の実施形態は、パターン転写のベースとなるフィルム(ベースフィルム)の両面にフィルム状の型(賦形フィルムの賦形面)を同時に転写する装置、いわゆるロールツーロール式両面同時転写装置およびその転写方法に関する。   An embodiment of the present invention relates to an apparatus for simultaneously transferring a film-like mold (shaped surface of a shaped film) onto both surfaces of a film (base film) serving as a base for pattern transfer, a so-called roll-to-roll type double-sided simultaneous transfer apparatus and It relates to the transfer method.

例えば、特許文献1には、ベースフィルムの両面に光反応性組成物を塗布して光反応性組成物層を形成し、形成した光反応性組成物層の上に光透過性フィルムを貼り合わせ、光を照射して該組成物層を硬化させた後、貼り合わせた光透過性フィルムを剥離する装置が開示されている。かかる装置は、光透過性フィルムの繰出機と巻取機を、ベースフィルムの一面側および他面側の双方にそれぞれ備えている。したがって、フィルム面に紫外線硬化性を持つ透明樹脂などで樹脂層が形成され、該樹脂層の表面が賦形面(凹凸部)として加工されている賦形フィルムを用いれば、ベースフィルムの光反応性組成物層に賦形面を転写し、ベースフィルムに所定のパターン(賦形面の凹凸を反転させた凹凸部)を両面同時に形成することが可能である。   For example, in Patent Document 1, a photoreactive composition is applied to both sides of a base film to form a photoreactive composition layer, and a light transmissive film is bonded onto the formed photoreactive composition layer. An apparatus is disclosed in which after the composition layer is cured by irradiating light, the bonded light-transmitting film is peeled off. Such an apparatus includes a light-transmitting film feeder and a winder on both one side and the other side of the base film, respectively. Therefore, if a shaped film in which a resin layer is formed of a transparent resin having ultraviolet curable properties on the film surface and the surface of the resin layer is processed as a shaped surface (uneven portion), the photoreaction of the base film is performed. It is possible to transfer the shaping surface to the conductive composition layer and to form a predetermined pattern (uneven portions obtained by inverting the unevenness of the shaping surface) on both sides simultaneously on the base film.

このように、特許文献1に記載の装置は、賦形面を転写したパターンをベースフィルムの両面に同時に形成する装置(両面同時転写式装置)として使用可能であり、この場合の動作について説明する。かかる装置において、ベースフィルムは、繰出ロールから水平方向(重力方向と直交する平面上の所定方向)に繰り出される。この場合例えば、繰り出されたベースフィルムの上側および下側から上下のフィルム面に対して紫外線硬化性樹脂を塗布し、紫外線硬化性樹脂の層(以下、単に樹脂層という)を形成する。なお、上下は重力方向を基準に定義し、以下の説明では便宜上、ベースフィルムの上側のフィルム面を表面、下側のフィルム面を裏面という。   As described above, the apparatus described in Patent Document 1 can be used as an apparatus (a double-sided simultaneous transfer type apparatus) that simultaneously forms a pattern having a shaping surface transferred on both sides of a base film. The operation in this case will be described. . In such an apparatus, the base film is fed out in a horizontal direction (a predetermined direction on a plane orthogonal to the direction of gravity) from the feed roll. In this case, for example, an ultraviolet curable resin is applied to the upper and lower film surfaces from the upper side and the lower side of the drawn base film to form an ultraviolet curable resin layer (hereinafter simply referred to as a resin layer). In addition, upper and lower are defined on the basis of the direction of gravity, and in the following description, for convenience, the upper film surface of the base film is referred to as the front surface, and the lower film surface is referred to as the rear surface.

次いで、ベースフィルムの表面の樹脂層に表面用の賦形フィルムを貼り合わせる。その際、表面用の賦形フィルムは、賦形面をベースフィルムの表面に向ける。同時に、ベースフィルムの裏面の樹脂層に裏面用の賦形フィルムを貼り合わせる。その際、裏面用の賦形フィルムは、賦形面をベースフィルムの裏面に向ける。貼り合わせ部位には押圧ロールが配置されており、上下からベースフィルムに賦形フィルムを押し付けることで、賦形フィルムの賦形面がベースフィルムの表面および裏面の樹脂層にそれぞれ転写されるようになっている。これにより、ベースフィルムの樹脂層の表面にパターンが形成される。   Next, a surface shaping film is bonded to the resin layer on the surface of the base film. At that time, the shaped film for the surface directs the shaped surface to the surface of the base film. At the same time, a shaping film for the back surface is bonded to the resin layer on the back surface of the base film. At that time, the shaped film for the back surface has the shaped surface facing the back surface of the base film. A pressing roll is arranged at the bonding site, and by pressing the shaped film against the base film from above and below, the shaped surface of the shaped film is transferred to the resin layer on the front and back surfaces of the base film, respectively. It has become. Thereby, a pattern is formed on the surface of the resin layer of the base film.

そして、上下から賦形フィルムに挟まれた状態でベースフィルムの表面および裏面の樹脂層に樹脂層硬化部の光源から紫外線を照射し、パターンが形成された樹脂層を硬化させてベースフィルムに固着させる。これにより、樹脂層の表面にパターンを有するベースフィルムとして、転写フィルムが生成される。その後、転写フィルムから賦形フィルムを剥離ロールで剥離する。このように、特許文献1に記載の装置によれば、賦形フィルムから転写されたパターンをベースフィルムの両面に同時に形成することができる。   Then, the resin layer on the front and back surfaces of the base film is irradiated with ultraviolet rays from the light source of the resin layer curing portion while being sandwiched between the shaping films from above and below, and the resin layer on which the pattern is formed is cured and fixed to the base film. Let Thereby, a transfer film is produced as a base film having a pattern on the surface of the resin layer. Thereafter, the shaped film is peeled off from the transfer film with a peeling roll. As described above, according to the apparatus described in Patent Document 1, the pattern transferred from the shaped film can be simultaneously formed on both surfaces of the base film.

特開2004−322408号公報JP 2004-322408 A

しかしながら、ベースフィルムの両面に同一のパターンを形成する場合、特許文献1に記載の装置においては次のような問題が生じる。   However, when the same pattern is formed on both sides of the base film, the apparatus described in Patent Document 1 has the following problems.

特許文献1に記載の装置では、ベースフィルムが水平に搬送され、ベースフィルムに対する紫外線硬化性樹脂の塗布は上下から行われている。紫外線硬化性樹脂の塗液は、塗布された後も硬化するまでは流動性を持つため、平面的に広がっていく(レベリング)。レベリングにより、ベースフィルムに形成される樹脂層の均一性が高められる。ベースフィルムは連続的に搬送されているため、塗布された紫外線硬化性樹脂は搬送方向へは広がり易い。これに対し、ベースフィルムのフィルム面上で搬送方向と直交する方向(以下、幅方向という)には、塗布された紫外線硬化性樹脂が広がり難い。すなわち、ベースフィルムの上側(表面側)では、樹脂層の形成時に塗液が重力方向(下向き)に吐出されるので幅方向には比較的広がり易い。一方、ベースフィルムの下側(裏面側)では塗液が重力方向とは反対方向(上向き)に吐出されるので幅方向には広がり難い。したがって、ベースフィルムの表面と裏面とでレベリングの程度に差が生じ、表面と裏面の樹脂層の厚みなどに違いが生じる可能性がある。   In the apparatus described in Patent Document 1, the base film is transported horizontally, and the UV curable resin is applied to the base film from above and below. The coating solution of the ultraviolet curable resin has fluidity until it is cured after being applied, and therefore spreads in a plane (leveling). Leveling improves the uniformity of the resin layer formed on the base film. Since the base film is continuously transported, the applied ultraviolet curable resin tends to spread in the transport direction. On the other hand, the applied ultraviolet curable resin hardly spreads in the direction (hereinafter referred to as the width direction) orthogonal to the transport direction on the film surface of the base film. That is, on the upper side (front side) of the base film, the coating liquid is discharged in the direction of gravity (downward) when the resin layer is formed, so that it is relatively easy to spread in the width direction. On the other hand, the coating liquid is discharged in the direction opposite to the direction of gravity (upward) on the lower side (back side) of the base film, so that it is difficult to spread in the width direction. Accordingly, there is a possibility that a difference occurs in the leveling level between the front surface and the back surface of the base film, and a difference in the thicknesses of the resin layers on the front surface and the back surface.

ベースフィルムに賦形フィルムを押し付けて樹脂層に賦形面を転写するパターン転写部(押圧ロールの配置部位)では、ベースフィルムの表面には上から、裏面には下から賦形フィルムが供給される。賦形フィルムの賦形面とベースフィルムの樹脂層とが合流する部分では、賦形フィルムの賦形面にベースフィルムの樹脂層をなす紫外線硬化性樹脂が接触するが、その際、賦形面と樹脂層の間のエア(空気)が紫外線硬化性樹脂に押し出されて賦形面の外へ抜けていく。したがって、賦形面と樹脂層の間でエアが抜け切らないうちに紫外線の照射により樹脂層が硬化されると、樹脂層に形成されるパターンの精度が残ったエアによって低下するおそれがある。特に、ベースフィルムの搬送速度が速い場合、賦形面と樹脂層の間のエアが抜け切る前に樹脂層が硬化されて、樹脂層のパターン精度がさらに低下し易い。賦形面と樹脂層の間のエアは浮力によって上昇するが、ベースフィルムの裏面側は、上部がベースフィルムで遮られている分だけ、表面側よりもエアが抜け難い。このため、ベースフィルムの裏面側で賦形面と樹脂層の間のエアを抜くために、ベースフィルムの搬送速度を抑制せざるを得ない場合がある。   In the pattern transfer part (placement part of the press roll) that presses the shaped film to the base film and transfers the shaped surface to the resin layer, the shaped film is supplied from the top to the surface of the base film and from the bottom to the back. The At the part where the shaping surface of the shaping film and the resin layer of the base film merge, the UV curable resin that forms the resin layer of the base film is in contact with the shaping surface of the shaping film. The air (air) between the resin layer and the resin layer is pushed out by the ultraviolet curable resin and escapes from the shaping surface. Therefore, if the resin layer is cured by irradiation with ultraviolet rays before the air is completely removed between the shaping surface and the resin layer, the accuracy of the pattern formed on the resin layer may be reduced by the remaining air. In particular, when the transport speed of the base film is high, the resin layer is cured before the air between the shaping surface and the resin layer is completely removed, and the pattern accuracy of the resin layer is likely to further decrease. The air between the shaping surface and the resin layer rises due to buoyancy, but the back side of the base film is more difficult to escape than the front side because the upper part is blocked by the base film. For this reason, in order to bleed the air between a shaping surface and a resin layer in the back surface side of a base film, the conveyance speed of a base film may have to be suppressed.

また、パターン転写部では、ベースフィルムの樹脂層に貼り合わされた上下の賦形フィルムを挟むように、押圧ロールが上下に並んで配置されている。押圧ロールは、自重により下方へ撓むように変形する。したがって、ベースフィルムおよび樹脂層は、表面側の幅方向の中央部が下に撓むとともに、その分だけ裏面側が下に出っ張るように変形する。この状態で樹脂層が硬化すると、ベースフィルムが下方へ湾曲した状態となるおそれがあり、結果的に表面および裏面のパターンの形態に相違が生じ易くなる。   In the pattern transfer portion, the pressing rolls are arranged side by side so as to sandwich the upper and lower shaping films bonded to the resin layer of the base film. The pressing roll is deformed so as to bend downward due to its own weight. Therefore, the base film and the resin layer are deformed so that the central portion in the width direction on the front surface side bends downward and the back surface side protrudes accordingly. If the resin layer is cured in this state, the base film may be bent downward, and as a result, the patterns of the front and back patterns are likely to be different.

パターンが形成された樹脂層を硬化させ、ベースフィルムに固着させる樹脂層硬化部には、樹脂層に紫外線を照射する紫外線照射ランプが上下に配置されている。紫外線照射ランプは、紫外線以外の波長の光も発生させるため、また樹脂層が硬化する際には、重合熱が発生するため、樹脂層硬化部の雰囲気温度が上昇する。暖められた空気は上へ上がっていく。したがって、ベースフィルムの表面側では、紫外線照射ランプの方へ上昇気流が生じるが、裏面側は、ベースフィルムにより上昇気流が遮られて熱がこもり易い。このため、ベースフィルムの表面側と裏面側とで雰囲気温度に差が生じ、表面側の樹脂層と裏面側の樹脂層とで硬化性に相違が生じる場合がある。この場合、表面および裏面のパターンの形態に相違が生じるおそれがある。   Ultraviolet irradiation lamps that irradiate the resin layer with ultraviolet rays are arranged above and below the resin layer curing portion that cures the resin layer on which the pattern is formed and adheres to the base film. Since the ultraviolet irradiation lamp also generates light having a wavelength other than ultraviolet light, and when the resin layer is cured, heat of polymerization is generated, so that the ambient temperature of the resin layer cured portion rises. The warmed air goes up. Therefore, an upward airflow is generated toward the ultraviolet irradiation lamp on the front surface side of the base film, but the upward airflow is blocked by the base film on the back surface side, so that heat tends to be trapped. For this reason, a difference in ambient temperature occurs between the front surface side and the back surface side of the base film, and there may be a difference in curability between the front surface side resin layer and the back surface side resin layer. In this case, there is a possibility that a difference occurs in the pattern forms of the front surface and the back surface.

樹脂層硬化部では、ベースフィルムおよび賦形フィルムの張力が小さいと、これらのフィルムは自重により下方へたるむように変形する。このような自重による変形は、搬送方向および幅方向のいずれにも発生するが、幅方向は押圧ロールによって支持されているので、搬送方向のたるみが問題となる。特に、低張力でベースフィルムおよび賦形フィルムを搬送しなければならない場合、これらのフィルムが搬送方向に大きくたるんだ状態となるおそれがある。このような状態では、ベースフィルムの表面側には圧縮する力が作用し、裏面側には引っ張る力が作用する。したがって、この状態で樹脂層が硬化すると、ベースフィルムの表面側と裏面側に作用する力が異なるため、表面と裏面のパターンの形態に相違が生じるおそれがある。   In the resin layer curing portion, when the tension of the base film and the shaped film is small, these films are deformed so as to sag downward due to their own weight. Such deformation due to its own weight occurs in both the transport direction and the width direction, but since the width direction is supported by the pressing roll, sagging in the transport direction becomes a problem. In particular, when the base film and the shaped film have to be transported at a low tension, there is a risk that these films will be largely sagging in the transport direction. In such a state, a compressing force acts on the front surface side of the base film, and a pulling force acts on the back surface side. Therefore, when the resin layer is cured in this state, the forces acting on the front surface side and the back surface side of the base film are different, and thus there is a possibility that a difference in pattern form between the front surface and the back surface occurs.

このように、特許文献1に記載の装置では、ベースフィルムの両面に賦形フィルムの賦形面を転写したパターンを形成する際、その形成環境の条件が表面側(上側)と裏面側(下側)で一致しない場合が多い。   As described above, in the apparatus described in Patent Document 1, when forming a pattern in which the shaping surface of the shaping film is transferred on both surfaces of the base film, the conditions of the formation environment are the front side (upper side) and the back side (lower side). In many cases).

この場合、ベースフィルムに樹脂層を形成する樹脂層形成部から、パターン転写部、および樹脂層硬化部まで、ベースフィルムおよびベースフィルムにパターンを形成した樹脂層が設けられた転写フィルムを重力方向の上方から下方へ搬送することで、上述したような問題の解決を図ることが考えられる。   In this case, from the resin layer forming part for forming the resin layer on the base film to the pattern transfer part and the resin layer curing part, the transfer film provided with the resin layer having the pattern formed on the base film and the base film is moved in the gravity direction. It is conceivable to solve the above-described problems by transporting from above to below.

このような装置構成とすれば、ベースフィルムの一面側と他面側における重力の影響を一致させることが可能となる。その一方で、樹脂層形成部、パターン転写部、および樹脂層硬化部を重力方向に沿って配置する必要があり、その分だけ装置の高さ(重力方向に沿った寸法)が大きくなる。したがって、装置の高さを大きくした場合であっても、ベースフィルムおよび転写フィルムの搬送経路(パスライン)を確実に重力方向に沿わせることが求められる。   If it is such an apparatus structure, it will become possible to make the influence of the gravity in the one surface side and other surface side of a base film correspond. On the other hand, it is necessary to arrange the resin layer forming part, the pattern transfer part, and the resin layer curing part along the direction of gravity, and the height of the device (dimension along the direction of gravity) increases accordingly. Therefore, even when the height of the apparatus is increased, it is required to ensure that the transport path (pass line) of the base film and the transfer film is along the direction of gravity.

そこで、フィルムを重力方向に沿って上から下へ安定して搬送させるとともに、フィルムを確実に重力方向に沿わせた状態で、その両面に対して同時にパターンを形成することが可能なフィルムのパターン転写装置およびフィルムのパターン転写方法を提供する。   Therefore, a film pattern that can stably form a film on both sides of the film in a state where the film is stably conveyed from the top to the bottom along the direction of gravity and the film is surely along the direction of gravity. A transfer apparatus and a film pattern transfer method are provided.

実施形態のフィルムのパターン転写装置は、ベースフィルムの両面に液状の樹脂を塗布して樹脂層を形成する樹脂層形成部と、ベースフィルムの樹脂層に賦形フィルムを押し付け、賦形フィルムの賦形面を樹脂層に転写することにより、樹脂層の表面にパターンを形成するパターン転写部と、パターンが形成された樹脂層を硬化させ、ベースフィルムに固着させることにより転写フィルムを生成する樹脂層硬化部と、転写フィルムから賦形フィルムを剥離させる賦形フィルム剥離部と、ベースフィルムを繰り出し、樹脂層形成部とパターン転写部と樹脂層硬化部と賦形フィルム剥離部とを通過させ、生成された転写フィルムを巻き取るフィルム搬送部と、を備える。フィルム搬送部は、樹脂層形成部の手前でベースフィルムの搬送方向を重力方向に沿って上から下へ向けるガイドロールを有する。樹脂層形成部は、ベースフィルムを隔てて両側に1つずつ、互いの樹脂吐出口の位置を上下にずらして配置される一対のダイを有する。一対のダイのうち、上側に配置されるダイは、ベースフィルムのガイドロールと接触しない面側に配置する。   The film pattern transfer device of the embodiment includes a resin layer forming portion that forms a resin layer by applying a liquid resin on both sides of a base film, and a shaped film is pressed against the resin layer of the base film to apply the shaped film. A pattern transfer part that forms a pattern on the surface of the resin layer by transferring the shape surface to the resin layer, and a resin layer that cures the resin layer on which the pattern is formed and adheres it to the base film to form a transfer film A cured part, a shaped film peeling part that peels the shaped film from the transfer film, and a base film are drawn out, and a resin layer forming part, a pattern transfer part, a resin layer cured part, and a shaped film peeling part are passed through and generated. A film transport unit for winding the transferred film. The film transport unit includes a guide roll that directs the transport direction of the base film from top to bottom along the direction of gravity in front of the resin layer forming unit. The resin layer forming part has a pair of dies that are arranged on the both sides of the base film, with the positions of the respective resin discharge ports shifted up and down. Of the pair of dies, the die disposed on the upper side is disposed on the surface side that does not contact the guide roll of the base film.

実施形態のフィルムのパターン転写装置およびフィルムのパターン転写方法によれば、フィルムを重力方向に沿って上から下へ安定して搬送させることができる。また、フィルムを確実に重力方向に沿わせた状態で、その両面に対して同時にパターンを形成することができる。   According to the film pattern transfer apparatus and the film pattern transfer method of the embodiment, the film can be stably conveyed from top to bottom along the direction of gravity. Moreover, a pattern can be simultaneously formed on both surfaces of the film in a state where the film is surely aligned in the direction of gravity.

実施形態のフィルムのパターン転写方法を実施するためのフィルムのパターン転写装置を示す概略構成図。The schematic block diagram which shows the pattern transfer apparatus of the film for enforcing the pattern transfer method of the film of embodiment. 実施形態のフィルムのパターン転写装置において、ベースフィルムの樹脂層に賦形フィルムの賦形面を転写したパターンを持つ転写フィルムが生成され、転写フィルムから賦形フィルムが剥離されるまでの態様を示す概略構成図。In the film pattern transfer apparatus of the embodiment, a transfer film having a pattern in which the shaping surface of the shaping film is transferred to the resin layer of the base film is generated, and an aspect until the shaping film is peeled off from the transfer film is shown. FIG. 賦形フィルムに賦形面を形成する装置(一般的なロールツーロール式片面UV転写装置)を示す概略構成図。The schematic block diagram which shows the apparatus (general roll-to-roll type single-sided UV transfer apparatus) which forms a shaping surface in a shaping film. 賦形面およびパターンの態様例を示す図であって、(a)はラインアンドスペース(縦溝もしくは横溝)とした賦形面の平面図、(b)は(a)の矢印A41部分における賦形面の断面を矢印方向から示す図、(c)は(a)のラインアンドスペースに対応するパターンを(b)と同様の断面で示す図、(d)はクロス溝とした賦形面の平面図、(e)は(d)の矢印A42部分における賦形面の断面を矢印方向から示す図、(f)は(d)のクロス溝に対応するパターンを(e)と同様の断面で示す図、(g)はドットとした賦形面の平面図、(h)は(g)の矢印A43部分における賦形面の断面を矢印方向から示す図、(i)は(h)のドットに対応するパターンを(e)と同様の断面で示す図。It is a figure which shows the example of a shaping surface and a pattern, Comprising: (a) is a top view of the shaping surface made into the line and space (a vertical groove or a horizontal groove), (b) is the shaping | molding in the arrow A41 part of (a). The figure which shows the cross section of a shape surface from an arrow direction, (c) is a figure which shows the pattern corresponding to the line and space of (a) with the same cross section as (b), (d) is the shaping surface which used the cross groove | channel. (E) is a view showing a cross section of the shaping surface at the arrow A42 portion of (d) from the direction of the arrow, (f) is a pattern corresponding to the cross groove of (d) in the same cross section as (e) (G) is a plan view of the shaping surface formed as a dot, (h) is a diagram showing a cross section of the shaping surface in the arrow A43 portion of (g) from the direction of the arrow, (i) is a dot of (h) The figure which shows the pattern corresponding to 1 in the cross section similar to (e). ベースフィルムに形成されるアライメントマークの態様例を示す図であって、(a)は、ベースフィルムの表面および裏面のアライメントマークの形態を、裏面側から示す図、(b)は、ベースフィルムの表面と裏面とに生じるアライメントマークの搬送方向および幅方向の位置ずれの態様を示す図。It is a figure which shows the aspect example of the alignment mark formed in a base film, Comprising: (a) is a figure which shows the form of the alignment mark of the surface of a base film and a back surface from a back surface side, (b) is a figure of a base film The figure which shows the aspect of the position shift of the conveyance direction of the alignment mark which arises on the surface and a back surface, and the width direction. ガイドロールに対するベースフィルムの抱き角(ラップ角)と、ベースフィルムの両面側におけるダイの位置との関係を示す図であって、(a)は、ベースフィルムの表面側のダイを裏面側のダイよりも上側に配置して抱き角を大きくした態様例を示す図、(b)は、ベースフィルムの裏面側のダイを表面側のダイよりも上側に配置して抱き角を小さくした態様例を示す図。It is a figure which shows the relationship between the holding angle (wrap angle) of the base film with respect to a guide roll, and the position of the die | dye in the both surfaces side of a base film, Comprising: (a) is a die | dye on the back surface side. The figure which shows the example of the aspect which arranged the upper side rather than the side and enlarged the holding angle, (b) is the example of the aspect which arrange | positioned the die | dye of the back surface side of a base film above the die | dye of the surface side, and made the holding angle small FIG. 移動機構によるダイおよびガイドロールの移動態様を示す図であって、(a)は、ベースフィルムおよび賦形フィルムが重力方向(パスライン)に対してベースフィルムの裏面側へ位置ずれしている状態を示す図、(b)は、(a)の矢印A7で示す方向へダイおよびガイドロールを移動させ、ベースフィルムおよび賦形フィルムをパスラインに沿わせた状態を示す図。It is a figure which shows the movement aspect of the die | dye and guide roll by a moving mechanism, Comprising: (a) is the state which the base film and the shaping film have shifted to the back surface side of the base film with respect to the gravity direction (pass line). (B) is a figure which shows the state which moved the die | dye and the guide roll to the direction shown by arrow A7 of (a), and made the base film and the shaping film follow the pass line. 移動機構によるダイおよびガイドロールの移動態様を示す図であって、(a)は、ベースフィルムおよび賦形フィルムが重力方向(パスライン)に対してベースフィルムの表面側へ位置ずれしている状態を示す図、(b)は、(a)の矢印A8で示す方向へダイおよびガイドロールを移動させ、ベースフィルムおよび賦形フィルムをパスラインに沿わせた状態を示す図。It is a figure which shows the movement aspect of the die | dye and guide roll by a moving mechanism, Comprising: (a) is the state which the base film and the shaping film have shifted to the surface side of the base film with respect to the gravitational direction (pass line). (B) is a figure which shows the state which moved the die | dye and the guide roll to the direction shown by arrow A8 of (a), and made the base film and the shaping film follow the pass line. 図1の矢印A11部分における断面を矢印方向から示す図。The figure which shows the cross section in the arrow A11 part of FIG. 1 from an arrow direction. 樹脂層硬化部の押圧ロールの態様例を示す図。The figure which shows the example of an aspect of the press roll of a resin layer hardening part. 樹脂層硬化部の押圧ロールの態様の変形例を示す図。The figure which shows the modification of the aspect of the press roll of a resin layer hardening part. 図1の矢印A12部分における断面を矢印方向から示す図。The figure which shows the cross section in the arrow A12 part of FIG. 1 from an arrow direction. 表面用賦形フィルム繰出軸(表面用賦形フィルムのロール)の移動機構を示す概略構成図。The schematic block diagram which shows the moving mechanism of the shaping film delivery axis | shaft for surfaces (roll of the shaping film for surfaces).

以下、本発明の一実施形態に係るフィルムのパターン転写装置およびフィルムのパターン転写方法について、図1から図13を参照して説明する。   Hereinafter, a film pattern transfer apparatus and a film pattern transfer method according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 13.

図1は、本実施形態のフィルムのパターン転写方法を実施するためのフィルムのパターン転写装置1を示す概略構成図である。パターン転写装置1は、パターン転写のベースとなるフィルム(ベースフィルム)2の両面に、フィルム状の型(賦形フィルム)3を同時に転写してパターンを形成し、転写フィルム20を生成する装置(ロールツーロール式両面同時転写装置)である。   FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing a film pattern transfer apparatus 1 for carrying out the film pattern transfer method of the present embodiment. The pattern transfer device 1 is a device that forms a pattern by simultaneously transferring a film-like mold (shaped film) 3 onto both surfaces of a film (base film) 2 that serves as a base for pattern transfer, and generates a transfer film 20 ( Roll-to-roll type double-sided simultaneous transfer device).

図1に示すように、パターン転写装置1は、樹脂層形成部4、パターン転写部5、樹脂層硬化部6、賦形フィルム剥離部7、およびフィルム搬送部8を備えている。樹脂層形成部4、パターン転写部5、樹脂層硬化部6、および賦形フィルム剥離部7は、この順番に重力方向に沿って上から下へ配置されている。フィルム搬送部8は、樹脂層形成部4、パターン転写部5、および樹脂層硬化部6に順次ベースフィルム2を搬送するとともに、樹脂層硬化部6および賦形フィルム剥離部7に順次転写フィルム20を搬送している。   As shown in FIG. 1, the pattern transfer apparatus 1 includes a resin layer forming unit 4, a pattern transfer unit 5, a resin layer curing unit 6, a shaped film peeling unit 7, and a film transport unit 8. The resin layer forming part 4, the pattern transfer part 5, the resin layer curing part 6, and the shaped film peeling part 7 are arranged in this order from top to bottom along the direction of gravity. The film transport unit 8 sequentially transports the base film 2 to the resin layer forming unit 4, the pattern transfer unit 5, and the resin layer curing unit 6, and sequentially transfers the transfer film 20 to the resin layer curing unit 6 and the shaped film peeling unit 7. Is transporting.

図2は、ベースフィルム2の樹脂層22に賦形フィルム3の賦形面(凹凸部)31が転写され、パターン21(賦形面31の凹凸部を反転させた凹凸部)が形成された後、かかる樹脂層22を硬化、固着させたベースフィルム2から賦形フィルム3が剥離されるまでの態様を示す概略図である。なお、以下の説明では、パターン21が形成された樹脂層22を硬化、固着させたベースフィルム2を転写フィルム20と称し、適宜ベースフィルム2と区別する。   In FIG. 2, the shaping surface (uneven portion) 31 of the shaping film 3 is transferred to the resin layer 22 of the base film 2, and the pattern 21 (uneven portion obtained by inverting the uneven portion of the forming surface 31) is formed. Then, it is the schematic which shows the aspect until the shaping film 3 peels from the base film 2 which hardened | cured and fixed this resin layer 22. FIG. In the following description, the base film 2 obtained by curing and fixing the resin layer 22 on which the pattern 21 is formed is referred to as a transfer film 20 and is appropriately distinguished from the base film 2.

図2に示すように、ベースフィルム2は、平面状のフィルム面が所定長さに亘って連続する樹脂フィルムである。本実施形態では、光透過性(透光性)、具体的には紫外線透過性を持つベースフィルム2を一例として適用するが、遮光性のフィルム(例えば、金属箔のような不透明フィルム)をベースフィルム2として適用することも可能である。なお、以下の説明では便宜上、ベースフィルム2のフィルム面のうち、後述するガイドロール83と接触しないベースフィルム2の片面側のフィルム面(カーブの外周側の面)を表面2a、その背面側のフィルム面(ガイドロール83と接触するカーブの内周側の面)を裏面2bという。後述する転写フィルム20についても、ベースフィルム2の表面側および裏面側に相当するフィルム面をそれぞれ表面および裏面という。   As shown in FIG. 2, the base film 2 is a resin film in which a flat film surface is continuous over a predetermined length. In the present embodiment, the base film 2 having light transmittance (translucency), specifically, ultraviolet light transmittance is applied as an example, but a light shielding film (for example, an opaque film such as a metal foil) is used as a base. It is also possible to apply as the film 2. In the following description, for convenience, among the film surfaces of the base film 2, the film surface on one side of the base film 2 that does not come into contact with a guide roll 83 described later (surface on the outer peripheral side of the curve) is the surface 2 a, and the back surface side thereof. The film surface (the surface on the inner peripheral side of the curve that contacts the guide roll 83) is referred to as the back surface 2b. For the transfer film 20 described later, the film surfaces corresponding to the front surface side and the back surface side of the base film 2 are referred to as the front surface and the back surface, respectively.

賦形フィルム3は、フィルム面が所定長さに亘って連続する紫外線透過性を持つ透明樹脂フィルムである。賦形フィルム3は、樹脂モールドとして構成されており、片面に所定の賦形面31が形成されている。賦形フィルム3の片側のフィルム面には、ベースフィルム2にパターン21を形成する前に、予めパターン21に対応する賦形面31が形成される。すなわち、パターン21と賦形面31は、互いの凹凸部を反転させた凹凸部であり、賦形面31がパターン21の成形型に相当する。賦形フィルム3に対する賦形面31の形成については、後述する。   The shaped film 3 is a transparent resin film having ultraviolet transparency in which the film surface is continuous over a predetermined length. The shaping film 3 is configured as a resin mold, and a predetermined shaping surface 31 is formed on one side. A shaping surface 31 corresponding to the pattern 21 is formed in advance on the film surface on one side of the shaping film 3 before the pattern 21 is formed on the base film 2. That is, the pattern 21 and the shaping surface 31 are irregularities obtained by inverting the irregularities of each other, and the shaping surface 31 corresponds to the mold for the pattern 21. The formation of the shaping surface 31 on the shaping film 3 will be described later.

樹脂層形成部4、パターン転写部5、樹脂層硬化部6、賦形フィルム剥離部7、およびフィルム搬送部8は、床材で隔てられて重力方向に沿って上下に並ぶ複数の空間に分けて配置されている。これらの各空間は、例えば2階建て以上の建物の各フロアであってもよいし、建物の1フロアや平屋の建屋の中を床面からの高さが異なる複数の階層に区切った配置エリアなどであってもよい。具体的には、角管を組み合わせたフレーム構造や板材をステーで繋ぐ構造などを適用して配置エリアを形成することができる。   The resin layer forming unit 4, the pattern transfer unit 5, the resin layer curing unit 6, the shaped film peeling unit 7, and the film transport unit 8 are divided into a plurality of spaces that are separated by a flooring material and line up and down along the direction of gravity. Are arranged. Each of these spaces may be, for example, each floor of a two-story or higher building, or an arrangement area in which one floor of a building or a single-story building is divided into a plurality of layers having different heights from the floor surface. It may be. Specifically, the arrangement area can be formed by applying a frame structure in which square tubes are combined or a structure in which plate members are connected by stays.

このように樹脂層形成部4、パターン転写部5、樹脂層硬化部6、賦形フィルム剥離部7、およびフィルム搬送部8を階層に分けて配置することで、ある程度の長さで個別の作業工程距離が必要な場合などであっても、樹脂層形成部4、パターン転写部5、樹脂層硬化部6、および賦形フィルム剥離部7を重力方向に沿って(端的には高さ方向に伸びる縦型に)配置し、これら各部4〜7にフィルム搬送部8でベースフィルム2もしくは転写フィルム20を搬送することができる。例えば、後述するように樹脂層硬化部6でベースフィルム2の紫外線硬化性樹脂層を硬化させる際、ある程度の搬送距離(時間)に亘って紫外線を照射する必要がある場合などであっても、パターン転写装置1を縦型に構成することができる。   As described above, the resin layer forming unit 4, the pattern transfer unit 5, the resin layer curing unit 6, the shaped film peeling unit 7, and the film transport unit 8 are arranged in layers so that individual work can be performed with a certain length. Even when the process distance is necessary, the resin layer forming part 4, the pattern transfer part 5, the resin layer curing part 6, and the shaped film peeling part 7 are arranged along the direction of gravity (in the height direction, simply The base film 2 or the transfer film 20 can be transported to the respective sections 4 to 7 by the film transport section 8. For example, as described later, when the ultraviolet curable resin layer of the base film 2 is cured by the resin layer curing unit 6, even when it is necessary to irradiate ultraviolet rays over a certain conveyance distance (time), The pattern transfer apparatus 1 can be configured as a vertical type.

本実施形態では、図1に示すように、建屋の中を床材11〜13で区切って4つの配置エリアF1〜F4が形成されている。床材11〜13は、建屋の床面10に設けられた支柱14によって支持されている。この場合、第3の床材13は床面10を嵩上げし、さらに第1の床材11が第3の床材13を、第2の床材12が第1の床材11をそれぞれ嵩上げしている。パターン転写部5と樹脂層硬化部6とは、第1の床材11で隔てられ、樹脂層形成部4とパターン転写部5とは、第2の床材12で隔てられている。また、配置エリアF2には、樹脂層硬化部6と賦形フィルム剥離部7、配置エリアF3には、パターン転写部5、配置エリアF4には、樹脂層形成部4がそれぞれ配置されている。フィルム搬送部8は、配置エリアF1〜F4のすべてに亘って配置されている。   In this embodiment, as shown in FIG. 1, the inside of a building is divided | segmented by the floor materials 11-13, and four arrangement | positioning areas F1-F4 are formed. The flooring materials 11 to 13 are supported by a support column 14 provided on the floor surface 10 of the building. In this case, the third flooring 13 raises the floor surface 10, the first flooring 11 raises the third flooring 13, and the second flooring 12 raises the first flooring 11 respectively. ing. The pattern transfer unit 5 and the resin layer curing unit 6 are separated by a first floor material 11, and the resin layer forming unit 4 and the pattern transfer unit 5 are separated by a second floor material 12. Moreover, the resin layer hardening part 6 and the shaping film peeling part 7 are arrange | positioned at the arrangement | positioning area F2, the pattern transfer part 5 is arrange | positioned at the arrangement | positioning area F3, and the resin layer formation part 4 is arrange | positioned at the arrangement | positioning area F4. The film conveyance part 8 is arrange | positioned over all the arrangement areas F1-F4.

床材11〜13には、重力方向に沿って一直線上に並ぶ通し孔11a〜13aがそれぞれ形成されている。通し孔11a〜13aには、ベースフィルム2(転写フィルム20)および賦形フィルム3が通されている。この場合、第1の通し孔11aにはベースフィルム2および賦形フィルム3の両方、第2の通し孔12aにはベースフィルム2、第3の通し孔13aには転写フィルム20がそれぞれ通されている。なお、通し孔11a〜13aを貫く重力方向の仮想直線は、ベースフィルム2(転写フィルム20)および賦形フィルム3の正常な搬送経路に相当しており、以下この仮想直線(搬送経路)をパスラインPLという。   In the flooring materials 11 to 13, through holes 11 a to 13 a arranged in a straight line along the direction of gravity are formed, respectively. The base film 2 (transfer film 20) and the shaping film 3 are passed through the through holes 11a to 13a. In this case, both the base film 2 and the shaping film 3 are passed through the first through hole 11a, the base film 2 is passed through the second through hole 12a, and the transfer film 20 is passed through the third through hole 13a. Yes. The imaginary straight line passing through the through holes 11a to 13a corresponds to the normal conveyance path of the base film 2 (transfer film 20) and the shaping film 3, and hereinafter this virtual straight line (conveyance path) is passed. It is called line PL.

本実施形態のパターン転写装置1は、ベースフィルム2の両面に賦形フィルム3の賦形面31を同時に転写し、パターン21を形成する装置であるが、ここではまず、賦形フィルム3に対する賦形面31の形成について説明する。   The pattern transfer apparatus 1 of the present embodiment is an apparatus that simultaneously transfers the shaping surface 31 of the shaping film 3 to both surfaces of the base film 2 to form the pattern 21. The formation of the shape surface 31 will be described.

図3には、賦形フィルム3の片側のフィルム面に賦形面31を形成する装置(一般的なロールツーロール式片面UV転写装置)30の概略構成を示す。図3に示すように、賦形フィルム3は、賦形フィルム用ベースフィルム30aの片面に樹脂層30bを形成し、樹脂層30bに成型ロール305を押し付け、成型ロール305の成形型(賦形面31の型となる凹凸部)306を樹脂層30bに転写して形成されている。なお、以下の説明では便宜上、賦形フィルム用ベースフィルム30aの樹脂層30bの形成側、換言すれば賦形フィルム3の賦形面31の形成側のフィルム面を表面、その背面側のフィルム面を裏面という。   In FIG. 3, the schematic structure of the apparatus (general roll-to-roll type single-sided UV transfer apparatus) 30 which forms the shaping surface 31 in the film surface of the one side of the shaping film 3 is shown. As shown in FIG. 3, the shaping film 3 is formed by forming a resin layer 30 b on one side of the shaping film base film 30 a, pressing the molding roll 305 against the resin layer 30 b, The concavo-convex portion (306) serving as the mold 31 is transferred to the resin layer 30b. In the following description, for convenience, the film surface on the forming side of the resin film 30b of the shaped film base film 30a, in other words, the forming side of the shaping surface 31 of the shaping film 3, is the surface, and the film surface on the back side. Is called the back side.

賦形フィルム用ベースフィルム30aは、平面状のフィルム面が所定長さに亘って連続する紫外線透過性を持つ透明樹脂フィルムであり、繰出軸301から繰り出される。繰り出された賦形フィルム用ベースフィルム30aには、コーティングロール302で搬送される際、樹脂がダイ303から表面に吐出され、吐出された樹脂で樹脂層30bが形成される。樹脂としては、紫外線硬化性を持ち、常温で液体状の透明樹脂が用いられる。   The shaped film base film 30 a is a transparent resin film having an ultraviolet transparency in which a planar film surface is continuous over a predetermined length, and is fed from a feeding shaft 301. When the shaped film base film 30a is fed by the coating roll 302, the resin is discharged from the die 303 onto the surface, and the resin layer 30b is formed from the discharged resin. As the resin, a transparent resin that has ultraviolet curing properties and is liquid at normal temperature is used.

表面に樹脂層30bが形成された賦形フィルム用ベースフィルム30aは、押付ロール304によって成型ロール305に押し付けられ、成型ロール305の成形型306が樹脂層30bに転写される。これにより、成形型306の凹凸を反転させた凹凸部として樹脂層30bに賦形面31が形成される。賦形面31が形成された樹脂層30bは、紫外線照射ランプ307から紫外線が照射されて硬化する。   The shaping film base film 30a on which the resin layer 30b is formed is pressed against the molding roll 305 by the pressing roll 304, and the molding die 306 of the molding roll 305 is transferred to the resin layer 30b. Thereby, the shaping surface 31 is formed in the resin layer 30b as an uneven part obtained by inverting the uneven part of the mold 306. The resin layer 30b on which the shaping surface 31 is formed is cured by being irradiated with ultraviolet rays from the ultraviolet irradiation lamp 307.

賦形面31が形成された樹脂層30bが硬化し、表面に固着した賦形フィルム用ベースフィルム30a、つまり賦形フィルム3は、剥離ロール308によって成型ロール305から剥離され、巻取軸309で巻き取られる。なお、賦形フィルム用ベースフィルム30aおよび賦形フィルム3は、複数の中継ロール310で適宜中継して搬送される。   The shaped film base film 30a fixed on the surface of the resin layer 30b on which the shaping surface 31 is formed, that is, the shaping film 3, is peeled off from the molding roll 305 by the peeling roll 308, and is wound on the winding shaft 309. It is wound up. The shaped film base film 30a and the shaped film 3 are appropriately relayed and conveyed by a plurality of relay rolls 310.

賦形面31は、成形型306の凹凸を反転させた凹凸状の態様をなす。図4には、賦形面31の態様例を示す。図4(a),(b)はラインアンドスペースと呼ばれる縦溝(横溝)、同図(d),(e)はクロス溝、同図(g),(h)はドットの態様例であるが、賦形面31は任意の態様で構わない。本実施形態では、ベースフィルム2の表面2a用の賦形フィルム(以下適宜、表面用賦形フィルムという)3a、および裏面2b用の賦形フィルム(以下適宜、裏面用賦形フィルムという)3bをそれぞれ形成する。表面用賦形フィルム3aの賦形面31aと裏面用賦形フィルム3bの賦形面31bは、同一であってもよいし、異なっていてもよい。   The shaping surface 31 has an uneven shape in which the unevenness of the mold 306 is inverted. In FIG. 4, the example of the aspect of the shaping surface 31 is shown. 4A and 4B are vertical grooves (horizontal grooves) called line and space, FIGS. 4D and 4E are cross grooves, and FIGS. 4G and H are dot mode examples. However, the shaping surface 31 may be in any form. In this embodiment, the shaping film for the surface 2a of the base film 2 (hereinafter referred to as a surface shaping film as appropriate) 3a and the shaping film for the back surface 2b (hereinafter referred to as a shaping film for back surface as appropriate) 3b Form each one. The shaping surface 31a of the front shaping film 3a and the shaping surface 31b of the rear shaping film 3b may be the same or different.

例えば、表面用賦形フィルム3aの賦形面31aと裏面用賦形フィルム3bの賦形面31bを同一とした場合、ベースフィルム2の表面2aおよび裏面2bには、これらの賦形面31a,31bの凹凸部を反転させた凹凸部で構成される同一のパターン21が形成される。図4(c)は、賦形面31a,31bがいずれも同図(a),(b)に示すラインアンドスペースである場合に形成されるパターン21の態様を示す。同様に、図4(f)は、同図(d),(e)に示すクロス溝、同図(i)は、同図(d),(e)に示すドットである場合にそれぞれ形成されるパターン21の態様をそれぞれ示す。   For example, when the shaping surface 31a of the shaping film 3a for the front surface and the shaping surface 31b of the shaping film 3b for the back surface are the same, the shaping surface 31a, The same pattern 21 is formed which is composed of uneven portions obtained by inverting the uneven portions 31b. FIG. 4C shows an aspect of the pattern 21 formed when the shaping surfaces 31a and 31b are both line and space shown in FIGS. Similarly, FIG. 4F is formed when the cross grooves shown in FIGS. 4D and 4E are formed, and FIG. 4I is formed when the dots shown in FIGS. 4D and 4E are formed. Each aspect of the pattern 21 is shown.

ここで、賦形フィルム用ベースフィルム30aおよび樹脂層30bは、後述するようにベースフィルム2の樹脂層22に紫外線を透過させる必要があるため、いずれも紫外線透過性を持つ透明樹脂で形成する。また、樹脂層30bを形成する透明樹脂としては、樹脂層22から容易に剥離可能な樹脂を適用する。   Here, since the shaped film base film 30a and the resin layer 30b need to transmit ultraviolet rays to the resin layer 22 of the base film 2 as described later, both are formed of a transparent resin having ultraviolet transparency. As the transparent resin for forming the resin layer 30b, a resin that can be easily peeled off from the resin layer 22 is used.

図3に示す装置30では、ロール面に成形型(凹凸部)306が直接刻まれた成型ロール305を用いて樹脂層30bにかかる成形型306を転写しているが、例えば、Ni電鋳などで製造したスタンパ(表面に凹凸部が形成された板状のベース材)を無垢のロールに巻き付けて転写を行ってもよい。   In the apparatus 30 shown in FIG. 3, the molding die 306 applied to the resin layer 30b is transferred using a molding roll 305 in which a molding die (uneven portion) 306 is directly engraved on the roll surface. The stamper manufactured in step (a plate-like base material having a concavo-convex portion formed on the surface) may be wound around a solid roll for transfer.

また、本実施形態では、表面用賦形フィルム3aの賦形面31aには、表面用のアライメントマーク賦形部、裏面用賦形フィルム3bの賦形面31bには、裏面用のアライメントマーク賦形部をそれぞれ形成する。これらのアライメントマーク賦形部を転写して形成したベースフィルム2のアライメントマークの位置を監視することで、ベースフィルム2に対するパターン転写の精度(例えばパターン21の転写、形成位置のずれなど)を調整することが可能となっている。アライメントマーク賦形部用の成形型(凹部や凸部)は、成型ロール305のロール面の1箇所もしくは複数個所に形成する。これにより、表面用および裏面用の賦形フィルム3a,3bに対し、共通して1箇所もしくは複数個所にそれぞれアライメントマーク賦形部(成型ロール305のアライメントマーク賦形部用の成形型の凹凸部を反転させた凹凸部)が形成される。   Moreover, in this embodiment, the alignment mark shaping | molding part for surfaces is formed in the shaping surface 31a of the shaping film 3a for surfaces, and the alignment mark for back surfaces is formed in the shaping surface 31b of the shaping film 3b for back surfaces. Form each part. By monitoring the position of the alignment mark on the base film 2 formed by transferring these alignment mark shaped portions, the accuracy of pattern transfer with respect to the base film 2 (for example, transfer of the pattern 21, displacement of the formation position, etc.) is adjusted. It is possible to do. A forming die (concave portion or convex portion) for the alignment mark forming portion is formed at one or a plurality of locations on the roll surface of the forming roll 305. Thereby, with respect to the shaping films 3a and 3b for the front surface and the back surface, the alignment mark shaping portion (the uneven portion of the molding die for the alignment mark shaping portion of the molding roll 305) is commonly provided at one place or a plurality of places. Is formed).

図5には、表面用および裏面用の賦形フィルム3により、ベースフィルム2に形成されたアライメントマーク(賦形フィルム3のアライメントマーク賦形部の凹凸部を反転させた凹凸部)23の態様例を示す。図5(a)は、ベースフィルム2の表面2aのアライメントマーク23a、および裏面2bのアライメントマーク23bの態様を、裏面2b側から示す図である。この場合、アライメントマーク23a,23bを円形としているが、その形状は任意の図形でよく、また文字や記号などであっても構わない。これらのアライメントマーク23a,23bを用いたパターン転写の精度調整については後述する。   FIG. 5 shows an embodiment of an alignment mark 23 (an uneven portion obtained by inverting the uneven portion of the alignment mark forming portion of the shaping film 3) 23 formed on the base film 2 by the front and back shaping films 3. An example is shown. FIG. 5 (a) is a diagram showing an aspect of the alignment mark 23a on the front surface 2a of the base film 2 and the alignment mark 23b on the back surface 2b from the back surface 2b side. In this case, the alignment marks 23a and 23b are circular, but the shape may be any figure, and may be a character or a symbol. The pattern transfer accuracy adjustment using these alignment marks 23a and 23b will be described later.

次に、本実施形態のパターン転写装置1について、ベースフィルム2および転写フィルム20の流れに沿って説明する。図1に示すように、ベースフィルム2は、フィルム搬送部8によって樹脂層形成部4から、パターン転写部5、樹脂層硬化部6まで重力方向に沿って上から下へ搬送されている。引き継いで、転写フィルム20は、フィルム搬送部8によって樹脂層硬化部6から賦形フィルム剥離部7まで重力方向に沿って上から下へ搬送されている。   Next, the pattern transfer apparatus 1 of the present embodiment will be described along the flow of the base film 2 and the transfer film 20. As shown in FIG. 1, the base film 2 is conveyed from the top to the bottom along the direction of gravity by the film conveyance unit 8 from the resin layer forming unit 4 to the pattern transfer unit 5 and the resin layer curing unit 6. In succession, the transfer film 20 is conveyed from top to bottom along the direction of gravity from the resin layer curing unit 6 to the shaped film peeling unit 7 by the film conveyance unit 8.

フィルム搬送部8は、ベースフィルム2を繰り出すフィルム繰出軸81と、繰り出したベースフィルム2から生成された転写フィルム20を巻き取るフィルム巻取軸82とを備えている。フィルム繰出軸81およびフィルム巻取軸82は、いずれもモータ(図示省略)により、所定方向(図1においては時計回り)に回転する回転軸であり、フィルム繰出軸81が樹脂層形成部4の手前(ベースフィルム2の搬送方向の上流側)に、フィルム巻取軸82が賦形フィルム剥離部7の先(同下流側)にそれぞれ配置されている。これにより、転写フィルム20の生成前後の態様を含め、ベースフィルム2は、樹脂層形成部4から、パターン転写部5、樹脂層硬化部6、賦形フィルム剥離部7まで所定の張力を保って搬送される。その際、フィルム繰出軸81およびフィルム巻取軸82は、ベースフィルム2および転写フィルム20が常に一定の速度(ラインスピード)で搬送されるように、制御部(図示省略)などにより回転制御されている。   The film transport unit 8 includes a film feeding shaft 81 that feeds the base film 2 and a film winding shaft 82 that winds the transfer film 20 generated from the fed base film 2. Each of the film feeding shaft 81 and the film winding shaft 82 is a rotating shaft that rotates in a predetermined direction (clockwise in FIG. 1) by a motor (not shown), and the film feeding shaft 81 corresponds to the resin layer forming portion 4. The film take-up shaft 82 is disposed in front (upstream side in the transport direction of the base film 2) at the tip (downstream side) of the shaped film peeling portion 7, respectively. Thereby, including the aspect before and behind the production | generation of the transfer film 20, the base film 2 maintains predetermined tension | tensile_strength from the resin layer formation part 4 to the pattern transfer part 5, the resin layer hardening part 6, and the shaping film peeling part 7. Be transported. At that time, the film feeding shaft 81 and the film winding shaft 82 are rotationally controlled by a control unit (not shown) or the like so that the base film 2 and the transfer film 20 are always conveyed at a constant speed (line speed). Yes.

ベースフィルム2(転写フィルム20)を境に水平方向の同一側に配置される場合、フィルム繰出軸81とフィルム巻取軸82は同一方向へ回転し、水平方向の反対側に配置される場合、フィルム繰出軸81とフィルム巻取軸82は互いに逆方向へ回転する。図1では、フィルム繰出軸81を配置エリアF3、フィルム巻取軸82を配置エリアF2にそれぞれ配置しているが、これらを配置する階層は特に限定されない。   When the base film 2 (transfer film 20) is disposed on the same side in the horizontal direction, the film feeding shaft 81 and the film winding shaft 82 rotate in the same direction and are disposed on the opposite side in the horizontal direction. The film feeding shaft 81 and the film take-up shaft 82 rotate in opposite directions. In FIG. 1, the film feeding shaft 81 is arranged in the arrangement area F3 and the film take-up shaft 82 is arranged in the arrangement area F2, respectively, but the hierarchy in which these are arranged is not particularly limited.

また、フィルム搬送部8は、フィルム繰出軸81とフィルム巻取軸82との間の搬送経路上に配置されるガイドロール83と複数の中継ロール84を備えている。ガイドロール83および中継ロール84はいずれも、回転軸であるフィルム繰出軸81およびフィルム巻取軸82によって搬送されるベースフィルム2もしくは転写フィルム20に連れ立って回転するアイドルロールである。   The film transport unit 8 includes a guide roll 83 and a plurality of relay rolls 84 disposed on a transport path between the film feeding shaft 81 and the film take-up shaft 82. Each of the guide roll 83 and the relay roll 84 is an idle roll that rotates along with the base film 2 or the transfer film 20 conveyed by the film feeding shaft 81 and the film take-up shaft 82 which are rotating shafts.

ガイドロール83は、樹脂層形成部4の手前(上流側)でベースフィルム2をカーブさせ、その搬送方向を重力方向に沿って上から下へ向けるように、配置エリアF4に配置されている。中継ロール84は、フィルム繰出軸81とフィルム巻取軸82との間で、ガイドロール83とともにベースフィルム2もしくは転写ロール20の搬送方向を変更する。中継ロール84のうちの1つ(図1に示す中継ロール84b)は、重力方向に沿ってガイドロール83の下方に配置される。中継ロール84bは、賦形フィルム剥離部7の先(下流側)で転写フィルム20の搬送方向を重力方向から別方向(本実施形態においては、水平方向)へ向けるように、配置エリアF1に配置されている。図1では、ガイドロール83および中継ロール84aを配置エリアF4、中継ロール84bおよび中継ロール84cを配置エリアF1にそれぞれ配置しているが、これらを配置する階層はこれに限定されない。   The guide roll 83 is arranged in the arrangement area F4 so that the base film 2 is curved in front of the resin layer forming portion 4 (upstream side) and the conveying direction is directed from top to bottom along the direction of gravity. The relay roll 84 changes the conveying direction of the base film 2 or the transfer roll 20 together with the guide roll 83 between the film feed shaft 81 and the film take-up shaft 82. One of the relay rolls 84 (the relay roll 84b shown in FIG. 1) is disposed below the guide roll 83 along the direction of gravity. The relay roll 84b is arranged in the arrangement area F1 so that the transfer film 20 is transported from the gravitational direction to the other direction (horizontal direction in the present embodiment) at the tip (downstream side) of the shaping film peeling portion 7. Has been. In FIG. 1, the guide roll 83 and the relay roll 84a are arranged in the arrangement area F4, and the relay roll 84b and the relay roll 84c are arranged in the arrangement area F1, respectively, but the hierarchy in which these are arranged is not limited to this.

樹脂層形成部4は、ベースフィルム2の両面に液状の樹脂を塗布して樹脂層22を形成する。図1に示すように、樹脂層形成部4は、樹脂を貯留するタンク41と、タンク41から樹脂を送出するポンプ42と、ポンプ42から送出された樹脂をベースフィルム2の両面に吐出するダイ43とを備えている。樹脂層22を形成する樹脂としては、紫外線硬化性を持ち、常温で液状の透明樹脂が用いられる。タンク41、ポンプ42、およびダイ43は、配管で繋げられ、ベースフィルム2の表面2a用と裏面2b用にそれぞれ一式ずつ、配置エリアF4に配置されている。ただし、タンク41およびポンプ42は、1台ずつにまとめて表面2a用と裏面2b用とで共用とし、配管を分岐させるなどして、一対のダイ43にそれぞれ樹脂を供給するようにしてもよい。   The resin layer forming unit 4 forms a resin layer 22 by applying a liquid resin on both surfaces of the base film 2. As shown in FIG. 1, the resin layer forming unit 4 includes a tank 41 for storing resin, a pump 42 for sending resin from the tank 41, and a die for discharging the resin sent from the pump 42 onto both surfaces of the base film 2. 43. As the resin for forming the resin layer 22, a transparent resin that has ultraviolet curability and is liquid at room temperature is used. The tank 41, the pump 42, and the die 43 are connected by a pipe, and one set each for the front surface 2a and the back surface 2b of the base film 2 is arranged in the arrangement area F4. However, the tank 41 and the pump 42 may be used one by one for both the front surface 2a and the back surface 2b, and the resin may be supplied to the pair of dies 43 by branching the piping. .

図1および図2に示すように、ダイ43は、ベースフィルム2を隔てて両側(表面2a側および裏面2b側)に1つずつ、互いの樹脂吐出口431の位置を上下にずらして配置されている。具体的には、一対のダイ43のうち、上側に配置されるダイ43aは、ガイドロール83と接触しないベースフィルム2の片面、つまりベースフィルム2の表面2aに樹脂層22aを形成するように、樹脂吐出口431を表面2aに向けて配置されている。これに対し、下側に配置されるダイ43bは、ベースフィルム2の裏面2bに樹脂層22bを形成するように、樹脂吐出口431を裏面2bに向けて配置されている。   As shown in FIGS. 1 and 2, the dies 43 are arranged by shifting the position of the resin discharge ports 431 up and down one by one on both sides (the front surface 2 a side and the back surface 2 b side) with the base film 2 therebetween. ing. Specifically, among the pair of dies 43, the die 43 a disposed on the upper side forms the resin layer 22 a on one side of the base film 2 that does not contact the guide roll 83, that is, on the surface 2 a of the base film 2. The resin discharge port 431 is arranged facing the surface 2a. On the other hand, the die 43b arranged on the lower side is arranged with the resin discharge port 431 facing the back surface 2b so as to form the resin layer 22b on the back surface 2b of the base film 2.

ダイ43の樹脂吐出口431から樹脂を吐出する際には、樹脂吐出口431でベースフィルム2を極僅かに(数ミリ程度)押し込む。したがって、図6に示すように、ベースフィルム2の表面2a側のダイ43aを、裏面2b側のダイ43bよりも上側に配置することで(同図(a)に示す態様)、ダイ43bをダイ43aよりも上側に配置した場合(同図(b)に示す態様)と比べて、ガイドロール83に対するベースフィルム2の抱き角(ラップ角)を大きくすることができる(α1>α2)。これにより、ガイドロール83をベースフィルム2に連れ立ってスムーズに回転させ、ベースフィルム2を重力方向に沿って上から下へ安定して搬送させることができる。この結果、例えばベースフィルム2がガイドロール83のロール面を滑るような事態を防ぎ、ベースフィルム2に生じる不具合などを抑制できる。   When the resin is discharged from the resin discharge port 431 of the die 43, the base film 2 is pushed in slightly (about several millimeters) through the resin discharge port 431. Accordingly, as shown in FIG. 6, the die 43a on the front surface 2a side of the base film 2 is disposed above the die 43b on the back surface 2b side (the mode shown in FIG. The holding angle (wrap angle) of the base film 2 with respect to the guide roll 83 can be increased (α1> α2) as compared with the case where it is disposed on the upper side than 43a (the mode shown in FIG. 5B). Accordingly, the guide roll 83 can be smoothly rotated along with the base film 2, and the base film 2 can be stably conveyed from top to bottom along the direction of gravity. As a result, for example, a situation in which the base film 2 slides on the roll surface of the guide roll 83 can be prevented, and problems occurring in the base film 2 can be suppressed.

なお、樹脂を吐出する際にダイ43でベースフィルム2を押し込むのは、形成される樹脂層22の表面状態が良好となるように調整するためである。これにより、スジなどがなく表面の滑らかな樹脂層22を形成することができる。   The reason why the base film 2 is pushed in by the die 43 when discharging the resin is to adjust the surface state of the resin layer 22 to be formed. Thereby, the resin layer 22 having a smooth surface without streaks can be formed.

ベースフィルム2の樹脂層22は、表面2a側と裏面2b側とで厚さが異なる。本実施形態では、図2に示すように、樹脂層22は、表面2a側よりも裏面2b側の方が厚くなっている(Da<Db)。したがって、表面2a側の樹脂層22aを形成するダイ43aよりも、裏面2b側の樹脂層22bを形成するダイ43bの方が、樹脂吐出口431からの単位時間当たりの吐出量が多くなるように、ダイ43a,43bに対するタンク41およびポンプ42からの樹脂の供給が調整されている。   The resin layer 22 of the base film 2 has different thicknesses on the front surface 2a side and the back surface 2b side. In the present embodiment, as shown in FIG. 2, the resin layer 22 is thicker on the back surface 2b side than on the front surface 2a side (Da <Db). Accordingly, the die 43b that forms the resin layer 22b on the back surface 2b side has a larger discharge amount per unit time from the resin discharge port 431 than the die 43a that forms the resin layer 22a on the front surface 2a side. The supply of resin from the tank 41 and the pump 42 to the dies 43a and 43b is adjusted.

図1に示すように、パターン転写装置1は、一対のダイ43の一方と他方(ダイ43aとダイ43b)およびガイドロール83をまとめて、パターン転写部5、樹脂層硬化部6、および賦形フィルム剥離部7に対して水平方向へ移動させる移動機構9を備えている。   As shown in FIG. 1, the pattern transfer apparatus 1 combines one and the other of the pair of dies 43 (the die 43 a and the die 43 b) and the guide roll 83 into a pattern transfer unit 5, a resin layer curing unit 6, and a shaping process. A moving mechanism 9 for moving the film peeling unit 7 in the horizontal direction is provided.

図7および図8は、移動機構9によるダイ43a,43bおよびガイドロール83の移動態様を示す図である。図7および図8に示すように、移動機構9は、ベースフィルム2もしくはベースフィルム2と賦形フィルム3が床材11〜13の通し孔11a〜13aの中で重力方向のパスラインPLに沿うように、ダイ43a,43bおよびガイドロール83を移動させる。   7 and 8 are diagrams showing how the dies 43a and 43b and the guide roll 83 are moved by the moving mechanism 9. FIG. As shown in FIGS. 7 and 8, the moving mechanism 9 is configured such that the base film 2 or the base film 2 and the shaping film 3 are along the pass line PL in the gravity direction in the through holes 11 a to 13 a of the floor materials 11 to 13. In this manner, the dies 43a and 43b and the guide roll 83 are moved.

図1に示すように、移動機構9は、ダイ43a、ダイ43bおよびガイドロール83を1つにユニット化しており、これらをユニットごと移動させる。したがって、ダイ43a、ダイ43bおよびガイドロール83は、相互の位置関係を維持したまま移動機構9により移動される。   As shown in FIG. 1, the moving mechanism 9 unitizes the die 43a, the die 43b, and the guide roll 83 into one unit, and moves them together. Therefore, the die 43a, the die 43b, and the guide roll 83 are moved by the moving mechanism 9 while maintaining the mutual positional relationship.

ダイ43a,43bの樹脂吐出口431から樹脂を吐出する際には、樹脂吐出口431でベースフィルム2を極僅かに(数ミリ程度)押し込むので、その際にベースフィルム2をパスラインPLから位置ずれさせる場合がある。図7(a)には、ベースフィルム2および賦形フィルム3がパスラインPLに対して裏面2b側(同図(a)においては左側)へ位置ずれした状態、図8(a)には、ベースフィルム2および賦形フィルム3がパスラインPLに対して表面2a側(同図(a)においては右側)へ位置ずれした状態の一例をそれぞれ示す。   When the resin is discharged from the resin discharge port 431 of the dies 43a and 43b, the base film 2 is pushed in slightly (several millimeters) at the resin discharge port 431. At this time, the base film 2 is positioned from the pass line PL. It may be displaced. FIG. 7A shows a state in which the base film 2 and the shaping film 3 are displaced to the back surface 2b side (left side in FIG. 8A) with respect to the pass line PL, and FIG. An example of a state in which the base film 2 and the shaping film 3 are displaced to the surface 2a side (the right side in FIG. 5A) with respect to the pass line PL is shown.

図7(a)に示す状態となっている場合、水平方向に沿ってベースフィルム2の裏面2b側から表面2a側へ向かう方向(同図(a)に示す矢印A7の方向)に、ダイ43a,43bおよびガイドロール83を移動機構9で距離L7だけ移動させる。これにより、図7(b)に示すように、パターン転写部5、樹脂層硬化部6、賦形フィルム剥離部7において、ベースフィルム2および賦形フィルム3をパスラインPLに沿わせることができる。   In the state shown in FIG. 7A, the die 43a extends in the direction from the back surface 2b side to the front surface 2a side of the base film 2 along the horizontal direction (the direction of the arrow A7 shown in FIG. 7A). 43b and the guide roll 83 are moved by the moving mechanism 9 by a distance L7. Thereby, as shown in FIG.7 (b), in the pattern transfer part 5, the resin layer hardening part 6, and the shaping film peeling part 7, the base film 2 and the shaping film 3 can be made to follow the pass line PL. .

また、図8(a)に示す状態となっている場合、水平方向に沿ってベースフィルム2の表面2a側から裏面2b側へ向かう方向(同図(a)に示す矢印A8の方向)に、ダイ43a,43bおよびガイドロール83を移動機構9で距離L8だけ移動させる。これにより、図8(b)に示すように、パターン転写部5、樹脂層硬化部6、賦形フィルム剥離部7において、ベースフィルム2および賦形フィルム3をパスラインPLに沿わせることができる。   Further, in the state shown in FIG. 8A, in the direction from the front surface 2a side to the back surface 2b side of the base film 2 along the horizontal direction (the direction of the arrow A8 shown in FIG. 8A), The dies 43a and 43b and the guide roll 83 are moved by the distance L8 by the moving mechanism 9. Thereby, as shown in FIG.8 (b), in the pattern transfer part 5, the resin layer hardening part 6, and the shaping film peeling part 7, the base film 2 and the shaping film 3 can be made to follow the pass line PL. .

移動機構9としては、モータとボールねじを用いた機構、エアシリンダとストッパを用いた機構、レールとスライダを用いた機構などのように、所定方向へ直線移動可能で、かつ所定位置で位置決め可能な機構を適用することができる。   The moving mechanism 9 can move linearly in a predetermined direction and can be positioned at a predetermined position, such as a mechanism using a motor and a ball screw, a mechanism using an air cylinder and a stopper, and a mechanism using a rail and a slider. Mechanism can be applied.

このように本実施形態によれば、ダイ43a,43bおよびガイドロール83を移動機構9で水平方向へ移動させることができる。すなわち、パターン転写装置1の初期設置時におけるベースフィルム2および賦形フィルム3のパスラインPLからのずれを容易に調整することができる。加えて、パターン転写装置1の稼働後にパスラインPLからのずれが生じた場合であっても、かかるずれを容易に再調整することができる。したがって、パターン転写部5での樹脂層22に対する賦形面31の転写およびパターン21の形成、樹脂層硬化部6での樹脂層22の硬化および固着(転写フィルム20の生成)、賦形フィルム剥離部7での転写フィルム20からの賦形フィルム3の剥離を、常にパスラインPLに沿って行うことができる。   As described above, according to this embodiment, the dies 43 a and 43 b and the guide roll 83 can be moved in the horizontal direction by the moving mechanism 9. That is, it is possible to easily adjust the deviation of the base film 2 and the shaping film 3 from the pass line PL when the pattern transfer apparatus 1 is initially installed. In addition, even if a deviation from the pass line PL occurs after the pattern transfer apparatus 1 is operated, the deviation can be easily readjusted. Therefore, transfer of the shaping surface 31 to the resin layer 22 in the pattern transfer portion 5 and formation of the pattern 21, curing and fixing of the resin layer 22 in the resin layer curing portion 6 (generation of the transfer film 20), and peeling of the shaping film Peeling of the shaped film 3 from the transfer film 20 at the part 7 can always be performed along the pass line PL.

このため、樹脂層22に対する賦形面31の転写およびパターン21の形成の状態、パターン21が形成された樹脂層22の硬化および固着の状態、転写フィルム20からの賦形フィルム3の剥離状態を、表面2aと裏面2bとで一致させることができる。これにより、ベースフィルム2の表面2aと裏面2bに、パターン21を同時に精度よく形成することができる。   For this reason, the state of transfer of the shaping surface 31 to the resin layer 22 and the formation of the pattern 21, the state of curing and fixing of the resin layer 22 on which the pattern 21 is formed, and the peeling state of the shaping film 3 from the transfer film 20 The front surface 2a and the back surface 2b can be matched. Thereby, the pattern 21 can be simultaneously and accurately formed on the front surface 2 a and the back surface 2 b of the base film 2.

なお、本実施形態の移動機構9では、ダイ43a、ダイ43bおよびガイドロール83をユニット化してまとめて移動させているが、ダイ43a、ダイ43bおよびガイドロール83を個別に、あるいはまとめてかつ個別にも移動させることが可能な移動機構としてもよい。例えば、ダイ43aとダイ43bとは、図2に示すように互いの樹脂吐出口431の位置を上下にずらして配置されているので、これらを個別に移動させた場合であっても、これらが互いにぶつかって損傷するような事態は回避できる。   In the moving mechanism 9 of the present embodiment, the die 43a, the die 43b, and the guide roll 83 are moved as a unit, but the die 43a, the die 43b, and the guide roll 83 are moved individually or collectively and individually. It is good also as a moving mechanism which can be moved also. For example, since the die 43a and the die 43b are arranged so that the positions of the resin discharge ports 431 are shifted up and down as shown in FIG. 2, even if these are individually moved, You can avoid situations where they hit each other and get damaged.

また、本実施形態においては、後述するようにパターン転写部5、樹脂層硬化部6、および賦形フィルム剥離部7もそれぞれ所定の移動機構により水平方向へ移動可能となっている。   In the present embodiment, as will be described later, the pattern transfer portion 5, the resin layer curing portion 6, and the shaped film peeling portion 7 can also be moved in the horizontal direction by a predetermined moving mechanism.

図1に示すように、パターン転写部5は、賦形フィルム3を繰り出す賦形フィルム繰出軸51と、賦形フィルム繰出軸51から繰り出された賦形フィルム3の流れを重力方向に沿って上から下へ向ける(端的にはパスラインPLに沿わせる)ロール52とを備えている。賦形フィルム繰出軸51およびロール52は、賦形フィルム3の裏面(賦形面31の背面側のフィルム面)と接触する。   As shown in FIG. 1, the pattern transfer unit 5 moves the shaped film feed shaft 51 that feeds the shaped film 3 and the flow of the shaped film 3 fed from the shaped film feed shaft 51 along the direction of gravity. And a roll 52 that faces downward (in short, along the pass line PL). The shaped film feeding shaft 51 and the roll 52 are in contact with the back surface of the shaped film 3 (the film surface on the back side of the shaped surface 31).

また、賦形フィルム繰出軸51およびロール52は、ベースフィルム2の表面2a用と裏面2b用にそれぞれ一式ずつ配置されている。ベースフィルム2の表面2a側には、表面用賦形フィルム3aを繰り出す表面用賦形フィルム繰出軸51aと、繰り出された表面用賦形フィルム3aの流れを下向きに変えるバックアップロール52aが配置されている。一方、ベースフィルム2の裏面2b側には、裏面用賦形フィルム3bを繰り出す裏面用賦形フィルム繰出軸51bと、繰り出された裏面用賦形フィルム3bの流れを下向きに変えるインフィードロール52bが配置されている。   In addition, the shaped film feeding shaft 51 and the roll 52 are arranged one by one for the front surface 2a and the back surface 2b of the base film 2, respectively. On the surface 2a side of the base film 2, a surface shaping film feeding shaft 51a for feeding the surface shaping film 3a and a backup roll 52a for changing the flow of the drawn surface shaping film 3a downward are arranged. Yes. On the other hand, on the back surface 2b side of the base film 2, a back surface shaping film feed shaft 51b that feeds the back shaping film 3b and an infeed roll 52b that changes the flow of the fed back shaping film 3b downward. Has been placed.

表面用賦形フィルム繰出軸51aおよび裏面用賦形フィルム繰出軸51bは、いずれもモータ(図示省略)により、互いに逆方向へ回転する回転軸である。図1においては、表面用賦形フィルム繰出軸51aが反時計回りに、裏面用賦形フィルム繰出軸51bが時計回りに回転する。その際、表面用賦形フィルム繰出軸51aおよび裏面用賦形フィルム繰出軸51bは、ベースフィルム2のラインスピードと常に同一速度で表面用賦形フィルム3aおよび裏面用賦形フィルム3bを繰り出すように、制御部(図示省略)などにより回転制御されている。   Both the shaping film feeding shaft 51a for the front surface and the shaping film feeding shaft 51b for the back surface are rotating shafts that are rotated in opposite directions by a motor (not shown). In FIG. 1, the shaping film feeding shaft 51a for the front surface rotates counterclockwise, and the shaping film feeding shaft 51b for the back surface rotates clockwise. At that time, the shaping film feeding shaft 51a for the front surface and the shaping film feeding shaft 51b for the back surface always feed the surface shaping film 3a and the shaping film 3b for the back surface at the same speed as the line speed of the base film 2. The rotation is controlled by a control unit (not shown).

図1および図9に示すように、バックアップロール52aは、表面用賦形フィルム繰出軸51aによって繰り出された表面用賦形フィルム3aに連れ立って回転するゴム製のアイドルロールである。インフィードロール52bは、モータ53で回転する金属製の回転ロールであり、ロール面に例えばハードクロームなどによるメッキが施されている。バックアップロール52aとインフィードロール52bは、表面用賦形フィルム3aと裏面用賦形フィルム3bを上から下へ流すとともに、これらの賦形フィルム3a,3bを押し付けながらベースフィルム2を上から下へ送り出すように対向している。   As shown in FIGS. 1 and 9, the backup roll 52a is a rubber idle roll that rotates along with the surface shaping film 3a fed by the surface shaping film feed shaft 51a. The infeed roll 52b is a metal rotary roll that is rotated by a motor 53, and the roll surface is plated with, for example, hard chrome. The backup roll 52a and the infeed roll 52b flow the top shaping film 3a and the back shaping film 3b from top to bottom, and press the base film 2 from top to bottom while pressing the shaping films 3a and 3b. Opposite to send out.

ベースフィルム2がバックアップロール52aとインフィードロール52bにより送り出されることで、表面用賦形フィルム3aの賦形面31aがベースフィルム2の樹脂層22aに接触して転写され、樹脂層22aの表面にパターン21aが形成される。また、裏面用賦形フィルム3bの賦形面31bがベースフィルム2の樹脂層22bに接触して転写され、樹脂層22bの表面にパターン21bが形成される。賦形フィルム3a,3bをベースフィルム2の樹脂層22a,22bに接触させるため、以降の樹脂層硬化部6において樹脂層22a,22bが酸素阻害により未硬化となることが抑止される。   When the base film 2 is fed out by the backup roll 52a and the infeed roll 52b, the shaping surface 31a of the surface shaping film 3a is transferred in contact with the resin layer 22a of the base film 2, and is transferred to the surface of the resin layer 22a. A pattern 21a is formed. Further, the shaping surface 31b of the shaping film for back surface 3b is transferred in contact with the resin layer 22b of the base film 2, and a pattern 21b is formed on the surface of the resin layer 22b. Since the shaped films 3a and 3b are brought into contact with the resin layers 22a and 22b of the base film 2, the resin layers 22a and 22b are prevented from becoming uncured due to oxygen inhibition in the subsequent resin layer curing portion 6.

インフィードロール52bは、第1の床材11に固定されているのに対し、バックアップロール52aは、第1の床材11に対して移動可能となっている。図1に示すように、パターン転写装置1は、バックアップロール52aを移動させる移動機構54を備えている。移動機構54は、ベースフィルム2の樹脂層22a、別の捉え方をすればインフィードロール52bに対して進退可能に、バックアップロール52aを水平方向へ移動させる。   The infeed roll 52 b is fixed to the first floor material 11, while the backup roll 52 a is movable with respect to the first floor material 11. As shown in FIG. 1, the pattern transfer apparatus 1 includes a moving mechanism 54 that moves the backup roll 52a. The moving mechanism 54 moves the backup roll 52a in the horizontal direction so that the resin layer 22a of the base film 2 can be moved forward and backward with respect to the infeed roll 52b.

これにより、インフィードロール52bに対するバックアップロール52aの押し込み量を適宜調整することができる。すなわち、賦形面31a,31bの樹脂層22a,22bに対する接触圧を加減することができるため、樹脂層22a,22bへの賦形面31a,31bの転写状態を調整することができる。   Thereby, the pushing amount of the backup roll 52a with respect to the infeed roll 52b can be adjusted suitably. That is, since the contact pressure of the shaping surfaces 31a and 31b to the resin layers 22a and 22b can be adjusted, the transfer state of the shaping surfaces 31a and 31b to the resin layers 22a and 22b can be adjusted.

移動機構54としては、モータとボールねじを用いた機構、エアシリンダとストッパを用いた機構、レールとスライダを用いた機構などのように、所定方向へ直線移動可能で、かつ所定位置で位置決め可能な機構を適用することができる。   The moving mechanism 54 can be linearly moved in a predetermined direction and positioned at a predetermined position, such as a mechanism using a motor and a ball screw, a mechanism using an air cylinder and a stopper, and a mechanism using a rail and a slider. Mechanism can be applied.

図1および図2に示すように、樹脂層硬化部6は、賦形フィルム3の賦形面31が転写され、パターン21が形成されたベースフィルム2の樹脂層22を硬化させる作用部61と、作用部61で硬化される樹脂層22をベースフィルム2へ向けて押圧する押圧ロール62とを備えている。樹脂層22が紫外線硬化性を持つ透明樹脂で形成されているため、本実施形態においては、樹脂層22に紫外線を照射する光源61aと、光源61aから照射された紫外線を遮る遮光板61bにより、作用部61が構成されている。また、樹脂層22、ベースフィルム2および賦形フィルム3がいずれも紫外線透過性を持つ樹脂であるため、ベースフィルム2を境にした一方側に光源61a、他方側に遮光板61bをそれぞれ配置している。このように光源61aの配置が一方側のみであっても、ベースフィルム2の表面2a側の樹脂層22aおよび裏面2b側の樹脂層22bをいずれも光源61aで硬化させ、樹脂層22a,22bをベースフィルム2に固着させることができる。本実施形態では、ベースフィルム2の表面2a側に光源61a、裏面2b側に遮光板61bがそれぞれ配置されている。   As shown in FIGS. 1 and 2, the resin layer curing portion 6 includes an action portion 61 that cures the resin layer 22 of the base film 2 on which the shaping surface 31 of the shaping film 3 is transferred and the pattern 21 is formed. And a pressing roll 62 that presses the resin layer 22 cured by the action portion 61 toward the base film 2. Since the resin layer 22 is formed of an ultraviolet curable transparent resin, in the present embodiment, the light source 61a that irradiates the resin layer 22 with ultraviolet light and the light shielding plate 61b that blocks the ultraviolet light emitted from the light source 61a, The action part 61 is configured. Further, since the resin layer 22, the base film 2 and the shaping film 3 are all resins having ultraviolet transparency, a light source 61a is disposed on one side of the base film 2 and a light shielding plate 61b is disposed on the other side. ing. Thus, even if the light source 61a is arranged only on one side, the resin layer 22a on the front surface 2a side and the resin layer 22b on the back surface 2b side of the base film 2 are both cured by the light source 61a, and the resin layers 22a and 22b are The base film 2 can be fixed. In this embodiment, the light source 61a is arrange | positioned at the surface 2a side of the base film 2, and the light-shielding plate 61b is arrange | positioned at the back surface 2b side, respectively.

光源61aとしては、例えば、高圧水銀ランプやLEDランプなどを適用することができる。光源61aをLEDランプとした場合、発熱量が極めて小さく、ベースフィルム2へ与える熱ダメージも少なく、ベースフィルム2を冷却する必要もない。また、ランプ自体も小さく、省電力化を図ることもできる。また、光源61aは、ベースフィルム2が賦形フィルム剥離部7に搬送されるまでの間に、樹脂層22を硬化させて、ベースフィルム2に固着させることが可能となるように、1つもしくは複数個を重力方向(パスラインPL)に沿って並べて配置すればよい。なお、ベースフィルム2を遮光性のフィルム(例えば、金属箔のような不透明フィルム)とした場合には、光源61aをベースフィルム2の表面2a側と裏面2b側の双方に配置する。   As the light source 61a, for example, a high-pressure mercury lamp or an LED lamp can be applied. When the light source 61a is an LED lamp, the amount of heat generated is extremely small, the heat damage to the base film 2 is small, and the base film 2 does not need to be cooled. In addition, the lamp itself is small, and power can be saved. Further, the light source 61a is provided with one or a plurality of light sources 61a so that the resin layer 22 can be cured and fixed to the base film 2 until the base film 2 is conveyed to the shaped film peeling unit 7. A plurality may be arranged side by side along the direction of gravity (pass line PL). When the base film 2 is a light-shielding film (for example, an opaque film such as a metal foil), the light source 61a is disposed on both the front surface 2a side and the back surface 2b side of the base film 2.

押圧ロール62は、作用部61の光源61aと作用部61で硬化される薄い方の樹脂層22との間に配置され、かかる薄い方の樹脂層22をベースフィルム2へ向けて押圧する。本実施形態では、ベースフィルム2の表面2a側に押圧ロール62が配置され、樹脂層22aを押圧するように構成されている。この場合、押圧ロール62は、紫外線透過性材(例えば、紫外線透過性を持つ透明樹脂)で構成され、光源61aの照射方向の前方に配置されている。これにより、押圧ロール62によって遮られることなく、樹脂層22a、さらにはベースフィルム2を通して樹脂層22bへ紫外線を照射することができる。   The pressing roll 62 is disposed between the light source 61 a of the action part 61 and the thinner resin layer 22 cured by the action part 61, and presses the thinner resin layer 22 toward the base film 2. In this embodiment, the pressing roll 62 is arrange | positioned at the surface 2a side of the base film 2, and it is comprised so that the resin layer 22a may be pressed. In this case, the pressing roll 62 is made of an ultraviolet transmissive material (for example, a transparent resin having ultraviolet transmissive properties), and is disposed in front of the irradiation direction of the light source 61a. Thereby, the ultraviolet rays can be irradiated to the resin layer 22 b through the resin layer 22 a and further the base film 2 without being blocked by the pressing roll 62.

本実施形態においては、ベースフィルム2の裏面2b側の樹脂層22bを表面2a側の樹脂層22aよりも厚くしている。厚い方の樹脂層22bは、薄い方の樹脂層22aよりも硬化時の収縮が大きいため、光源61aから紫外線を照射して樹脂層22a,22bを硬化させた際、図10に示すように、裏面2b側(同図においては左側)が凹曲状となるようにベースフィルム2に反りが生ずるおそれがある(同図に示す破線の状態)。   In the present embodiment, the resin layer 22b on the back surface 2b side of the base film 2 is thicker than the resin layer 22a on the front surface 2a side. Since the thicker resin layer 22b has a larger shrinkage during curing than the thinner resin layer 22a, when the resin layers 22a and 22b are cured by irradiating ultraviolet rays from the light source 61a, as shown in FIG. There is a risk of warping of the base film 2 so that the back surface 2b side (left side in the figure) is concavely curved (state of broken line shown in the figure).

このため、押圧ロール62は、ベースフィルム2の表面2a側に配置され、裏面2b側への反りに抗するように表面2a側を押圧する。これにより、表面2bおよび裏面2bのいずれ側へもベースフィルム2に反りが生じないようにしている。すなわち、押圧ロール62でベースフィルム2の表面2a側を押圧することで、表面2a側が凹曲状となるようにベースフィルム2を反らせた状態で、樹脂層22a,22bに紫外線を照射することができる。   For this reason, the press roll 62 is arrange | positioned at the surface 2a side of the base film 2, and presses the surface 2a side so that the curvature to the back surface 2b side may be resisted. This prevents the base film 2 from warping on either the front surface 2b or the back surface 2b. That is, by pressing the surface 2a side of the base film 2 with the pressing roll 62, the resin layers 22a and 22b can be irradiated with ultraviolet rays while the base film 2 is warped so that the surface 2a side is concave. it can.

これにより、樹脂層22a,22bの硬化および固着時にベースフィルム2の裏面2b側への反りを低減でき、ベースフィルム2を重力方向(パスラインPL)に沿った状態(図10に示す実線の状態)とすることができる。したがって、ベースフィルム2の裏面2b側の樹脂層22bが表面2a側の樹脂層22aよりも厚い場合であっても、ベースフィルム2の表面2aと裏面2bにパターン21を同時に精度よく形成することができる。すなわち、転写フォルム20の生成精度を高めることができる。   Thereby, the curvature to the back surface 2b side of the base film 2 at the time of hardening and fixing of the resin layers 22a and 22b can be reduced, and the base film 2 is in a state along the gravity direction (pass line PL) (solid line state shown in FIG. 10). ). Therefore, even when the resin layer 22b on the back surface 2b side of the base film 2 is thicker than the resin layer 22a on the front surface 2a side, the pattern 21 can be simultaneously formed on the front surface 2a and the back surface 2b of the base film 2 with high accuracy. it can. That is, the generation accuracy of the transfer form 20 can be increased.

樹脂層硬化部6は、押圧ロール62を単体で、もしくは光源61aとともに移動させる移動機構(図示省略)を備えている。かかる移動機構は、ベースフィルム2の樹脂層22aへ向けて進退可能に、押圧ロール62を水平方向へ移動させる。これにより、樹脂層22aに対する押圧ロール62の押圧量を適宜調整できるようになっている。移動機構としては、モータとボールねじを用いた機構、エアシリンダとストッパを用いた機構、レールとスライダを用いた機構などのように、所定方向へ直線移動可能で、かつ所定位置で位置決め可能な機構を適用することができる。   The resin layer curing unit 6 includes a moving mechanism (not shown) that moves the pressing roll 62 alone or together with the light source 61a. The moving mechanism moves the pressing roll 62 in the horizontal direction so as to be able to advance and retreat toward the resin layer 22a of the base film 2. Thereby, the pressing amount of the pressing roll 62 with respect to the resin layer 22a can be adjusted suitably. The moving mechanism can be linearly moved in a predetermined direction and positioned at a predetermined position, such as a mechanism using a motor and a ball screw, a mechanism using an air cylinder and a stopper, and a mechanism using a rail and a slider. Mechanisms can be applied.

なお、図11に示す変形例のように、2本の押圧ロール62を光源61aの照射方向(同図においては右から左へ向かう方向)から外れて配置する場合、押圧ロール62は、紫外線透過性材(例えば、紫外線透過性を持つ透明樹脂)で構成しなくともよく、紫外線遮光性材(例えば、紫外線遮光性を持つ不透明樹脂)で構成してもよい。図11に示すように、光源61aの照射方向の前方で、光源61aの上下に2本の押圧ロール62を配置すれば、押圧ロール62を紫外線遮光性材で構成した場合であっても、押圧ロール62によって遮られることなく、樹脂層22a、さらにはベースフィルム2を通して樹脂層22bへ紫外線を照射することができる。   When the two pressing rolls 62 are arranged away from the irradiation direction of the light source 61a (the direction from right to left in the figure) as in the modification shown in FIG. 11, the pressing rolls 62 transmit ultraviolet rays. It does not have to be made of a light-sensitive material (for example, a transparent resin having ultraviolet light permeability), and may be made of an ultraviolet light-shielding material (for example, an opaque resin having ultraviolet light-shielding properties). As shown in FIG. 11, if two pressing rolls 62 are arranged in front of the light source 61a and above and below the light source 61a, even if the pressing roll 62 is made of an ultraviolet light shielding material, Without being interrupted by the roll 62, the resin layer 22a and further the base film 2 can be irradiated with ultraviolet rays to the resin layer 22b.

図1および図2に示すように、賦形フィルム剥離部7は、樹脂層硬化部6で生成された転写フィルム20(樹脂層22が硬化、固着されたベースフィルム2)から賦形フィルム3を剥離させるロール71と、ベースフィルム2から剥離された賦形フィルム3を巻き取る賦形フィルム巻取軸72とを備えている。ロール71および賦形フィルム巻取軸72は、賦形フィルム3の裏面(賦形面31の背面側のフィルム面)と接触する。   As shown in FIG. 1 and FIG. 2, the shaped film peeling portion 7 removes the shaped film 3 from the transfer film 20 (the base film 2 on which the resin layer 22 is cured and fixed) generated by the resin layer curing portion 6. A roll 71 to be peeled off and a shaped film take-up shaft 72 for taking up the shaped film 3 peeled off from the base film 2 are provided. The roll 71 and the shaped film winding shaft 72 are in contact with the back surface of the shaped film 3 (the film surface on the back side of the shaped surface 31).

また、ロール71および賦形フィルム巻取軸72は、表面用賦形フィルム3a用と裏面用賦形フィルム3b用にそれぞれ一式ずつ配置されている。ベースフィルム2の表面2a側には、樹脂層22aから表面用賦形フィルム3aを剥離する剥離ロール71aと、剥離された表面用賦形フィルム3aを巻き取る表面用賦形フィルム巻取軸72aが配置されている。一方、ベースフィルム2の裏面2b側には、樹脂層22bから裏面用賦形フィルム3bを剥離するアウトフィードロール71bと、剥離された裏面用賦形フィルム3bを巻き取る裏面用賦形フィルム巻取軸72bが配置されている。   Moreover, the roll 71 and the shaping film winding axis | shaft 72 are each arrange | positioned 1 set each for the surface shaping | molding film 3a and the back shaping | molding film 3b. On the surface 2a side of the base film 2, there are a peeling roll 71a for peeling the surface shaping film 3a from the resin layer 22a, and a surface shaping film winding shaft 72a for winding the peeled surface shaping film 3a. Has been placed. On the other hand, on the back surface 2b side of the base film 2, an outfeed roll 71b for peeling the back surface shaping film 3b from the resin layer 22b and a back surface shaping film take-up for winding the peeled back surface shaping film 3b. A shaft 72b is arranged.

表面用賦形フィルム巻取軸72aおよび裏面用賦形フィルム巻取軸72bは、いずれもモータ(図示省略)により、互いに逆方向へ回転する回転軸である。図1においては、表面用賦形フィルム巻取軸72aが反時計回りに、裏面用賦形フィルム巻取軸72bが時計回りに回転する。その際、表面用賦形フィルム巻取軸72aおよび裏面用賦形フィルム巻取軸72bは、転写フィルム20のラインスピードと常に同一速度で表面用賦形フィルム3aおよび裏面用賦形フィルム3bを巻き取るように、制御部(図示省略)などにより回転制御されている。なお、賦形フィルム巻取軸72a,72bで巻き取られた賦形フィルム3a,3bは、傷やごみの付着などの破損がない場合、賦形フィルム繰出軸51にセットして再利用することが可能である。   Each of the front surface shaping film winding shaft 72a and the back surface shaping film winding shaft 72b is a rotating shaft that rotates in opposite directions by a motor (not shown). In FIG. 1, the front-side shaped film winding shaft 72a rotates counterclockwise, and the rear-side shaped film winding shaft 72b rotates clockwise. At that time, the surface shaping film winding shaft 72a and the back surface shaping film winding shaft 72b wind the surface shaping film 3a and the back surface shaping film 3b at the same speed as the line speed of the transfer film 20. As shown, the rotation is controlled by a control unit (not shown). The shaped films 3a and 3b wound by the shaped film take-up shafts 72a and 72b should be set on the shaped film feed shaft 51 and reused when there is no damage such as scratches or dirt. Is possible.

図1および図12に示すように、剥離ロール71aは、樹脂層22aから剥離される表面用賦形フィルム3aに連れ立って回転するゴム製のアイドルロールである。アウトフィードロール71bは、モータ73で回転する金属製の回転ロールであり、ロール面に例えばハードクロームなどによるメッキが施されている。剥離ロール71aとアウトフィードロール71bは、転写フィルム20(ベースフィルム2の樹脂層22aと樹脂層22b)から表面用賦形フィルム3aと裏面用賦形フィルム3bを剥離させながら、これらの賦形フィルム3a,3bの流れを重力方向から水平方向へ向けて送り出すように対向している。これにより、表面用賦形フィルム3aが樹脂層22aから剥離されるとともに、裏面用賦形フィルム3bが樹脂層22bから剥離される。   As shown in FIGS. 1 and 12, the peeling roll 71a is a rubber idle roll that rotates along with the surface shaping film 3a peeled from the resin layer 22a. The outfeed roll 71b is a metal rotary roll that is rotated by a motor 73, and the roll surface is plated with, for example, hard chrome. The peeling roll 71a and the outfeed roll 71b are formed by peeling the surface shaping film 3a and the back shaping film 3b from the transfer film 20 (the resin layer 22a and the resin layer 22b of the base film 2). It is opposed to send the flow of 3a, 3b from the direction of gravity toward the horizontal direction. Thereby, the shaping film 3a for front surfaces is peeled from the resin layer 22a, and the shaping film 3b for back surfaces is peeled from the resin layer 22b.

アウトフィードロール71bは、第3の床材13に固定されているのに対し、剥離ロール71aは、第3の床材13に対して移動可能となっている。図1に示すように、パターン転写装置1は、剥離ロール71aを移動させる移動機構74を備えている。移動機構74は、表面用賦形フィルム3a、別の捉え方をすればアウトフィードロール71bに対して進退可能に、剥離ロール71aを水平方向へ移動させる。   The outfeed roll 71 b is fixed to the third floor material 13, whereas the peeling roll 71 a is movable with respect to the third floor material 13. As shown in FIG. 1, the pattern transfer apparatus 1 includes a moving mechanism 74 that moves the peeling roll 71a. The moving mechanism 74 moves the peeling roll 71a in the horizontal direction so that the surface shaping film 3a can be moved forward and backward with respect to the outfeed roll 71b.

これにより、アウトフィードロール71bに対する剥離ロール71aの押し込み量を適宜調整することができる。すなわち、賦形フィルム3a,3bの樹脂層22a,22bに対する接触圧を加減することができるため、樹脂層22a,22bからの賦形フィルム3a,3bの剥離状態を調整することができる。   Thereby, the pushing amount of the peeling roll 71a with respect to the outfeed roll 71b can be adjusted suitably. That is, since the contact pressure with respect to the resin layers 22a and 22b of the shaping films 3a and 3b can be adjusted, the peeling state of the shaping films 3a and 3b from the resin layers 22a and 22b can be adjusted.

移動機構74としては、モータとボールねじを用いた機構、エアシリンダとストッパを用いた機構、レールとスライダを用いた機構などのように、所定方向へ直線移動可能で、かつ所定位置で位置決め可能な機構を適用することができる。   The moving mechanism 74 can be linearly moved in a predetermined direction and positioned at a predetermined position, such as a mechanism using a motor and a ball screw, a mechanism using an air cylinder and a stopper, and a mechanism using a rail and a slider. Mechanism can be applied.

賦形フィルム剥離部7で賦形フィルム3が剥離された転写フィルム20は、フィルム搬送部8のフィルム巻取軸82で巻き取られる。特に図示しないが、その際、例えば樹脂層22のパターン21を保護するために、表面2aおよび裏面2bにラミネートを施した状態で、あるいはスペーサで挟んだ状態で、転写フィルム20をフィルム巻取軸82で巻き取ってもよい。また、賦形フィルム剥離部7を省略し、賦形フィルム3を転写フィルム20から剥離せずに、そのままの状態でフィルム搬送部8のフィルム巻取軸82で巻き取り、後工程で別途、賦形フィルム3を剥離するようにしてもよい。   The transfer film 20 from which the shaped film 3 has been peeled off by the shaped film peeling unit 7 is wound up by the film winding shaft 82 of the film transport unit 8. Although not particularly illustrated, in this case, for example, in order to protect the pattern 21 of the resin layer 22, the transfer film 20 is placed in a state where the front surface 2 a and the back surface 2 b are laminated or sandwiched by spacers. It may be wound up at 82. Further, the shaped film peeling part 7 is omitted, and the shaped film 3 is not peeled off from the transfer film 20 but is taken up by the film take-up shaft 82 of the film transporting part 8 as it is, and separately shaped in the subsequent process. The shape film 3 may be peeled off.

図1に示すように、フィルム転写装置1は、フィルム巻取軸82で巻き取る前に、転写フィルム20(パターン21が形成された樹脂層22が固着したベースフィルム2)のアライメントマーク23を撮像するアライメントカメラ80を備えている。図1には、配置エリアF1に配置され、パターン21が形成されたベースフィルム2を裏面2b側から撮像するアライメントカメラ80の構成を一例として示す。   As shown in FIG. 1, the film transfer apparatus 1 images the alignment mark 23 of the transfer film 20 (the base film 2 to which the resin layer 22 on which the pattern 21 is formed) is taken up by the film take-up shaft 82. An alignment camera 80 is provided. FIG. 1 shows an example of a configuration of an alignment camera 80 that images the base film 2 that is arranged in the arrangement area F1 and on which the pattern 21 is formed, from the back surface 2b side.

本実施形態においては、パターン転写部5により、図5に示すように、パターン21とともにアライメントマーク23がベースフィルム2に形成されている。この場合、ベースフィルム2の表面2a側の樹脂層22aにはアライメントマーク23a、裏面2b側の樹脂層22bにはアライメントマーク23bがそれぞれ形成されている。ベースフィルム2および樹脂層22がいずれも透明樹脂であるため、ベースフィルム2の裏面2b側からアライメントカメラ80で撮像した場合であっても、裏面2bのアライメントマーク23bおよび表面2aのアライメントマーク23aの両方をまとめて撮像することができる。したがって、ベースフィルム2の表面2a側からアライメントカメラ80で撮像するようにしても構わない。   In the present embodiment, the pattern transfer unit 5 forms the alignment mark 23 on the base film 2 together with the pattern 21 as shown in FIG. In this case, an alignment mark 23a is formed on the resin layer 22a on the front surface 2a side of the base film 2, and an alignment mark 23b is formed on the resin layer 22b on the back surface 2b side. Since both the base film 2 and the resin layer 22 are transparent resins, the alignment mark 23b on the back surface 2b and the alignment mark 23a on the front surface 2a are captured even when the image is taken by the alignment camera 80 from the back surface 2b side of the base film 2. Both can be imaged together. Therefore, you may make it image with the alignment camera 80 from the surface 2a side of the base film 2. FIG.

なお、ベースフィルム2や樹脂層22が不透明樹脂で構成されている場合、アライメントカメラ80は、ベースフィルム2の表面2a側および裏面2b側の双方に配置する必要がある。ベースフィルム2の表面2a側および裏面2b側の双方にアライメントカメラ80を配置する場合、ベースフィルム2および樹脂層22は、透明樹脂もしくは不透明樹脂のいずれで構成されていても構わない。   When the base film 2 and the resin layer 22 are made of an opaque resin, the alignment camera 80 needs to be arranged on both the front surface 2a side and the back surface 2b side of the base film 2. When the alignment camera 80 is disposed on both the front surface 2a side and the back surface 2b side of the base film 2, the base film 2 and the resin layer 22 may be made of either a transparent resin or an opaque resin.

アライメントカメラ80で撮像したアライメントマーク23a,23bの位置を監視することで、ベースフィルム2に対するパターン転写の精度(例えば、パターン21の転写、形成位置のずれなど)を調整することができる。   By monitoring the positions of the alignment marks 23a and 23b imaged by the alignment camera 80, the accuracy of pattern transfer to the base film 2 (for example, transfer of the pattern 21, displacement of the formation position, etc.) can be adjusted.

このようなアライメントマーク23を用いたベースフィルム2に対するパターン転写の精度の調整について説明する。精度調整にあたっては、まず、アライメントカメラ80で撮像したベースフィルム2の表面2aのアライメントマーク23aと裏面2bのアライメントマーク23bとのずれ量、具体的には重心位置のずれ量を測定する。本実施形態では、ベースフィルム2の裏面2bのパターン位置を基準とし、アライメントマーク23a,23bの重心位置のずれ量に基づいて表面2aのパターン位置を調整している。   Adjustment of pattern transfer accuracy with respect to the base film 2 using such an alignment mark 23 will be described. In the accuracy adjustment, first, the amount of deviation between the alignment mark 23a on the front surface 2a and the alignment mark 23b on the back surface 2b of the base film 2 imaged by the alignment camera 80, specifically, the amount of deviation in the center of gravity position is measured. In the present embodiment, the pattern position of the front surface 2a is adjusted based on the amount of deviation of the center of gravity positions of the alignment marks 23a and 23b, using the pattern position of the back surface 2b of the base film 2 as a reference.

例えば、図5(b)に示すように、裏面2bのアライメントマーク23bを基準として、ベースフィルム2の搬送方向(同図(a)に示す矢印A51の方向)へ基準距離L50だけずれ、幅方向(同図(a)に示す矢印A52の方向)には同一の位置を、表面2aのアライメントマーク23aの正規位置とする。図5(b)に示す状態では、アライメントマーク23aは、正規位置からベースフィルム2の搬送方向に対して距離L51だけ遅れてずれているとともに、幅方向に対して距離L52だけ左方へずれている。   For example, as shown in FIG. 5B, with reference to the alignment mark 23b on the back surface 2b, the width is shifted by the reference distance L50 in the transport direction of the base film 2 (the direction of arrow A51 shown in FIG. 5A). The same position is set as the normal position of the alignment mark 23a on the surface 2a (in the direction of arrow A52 shown in FIG. 5A). In the state shown in FIG. 5B, the alignment mark 23a is shifted from the normal position by a distance L51 with respect to the transport direction of the base film 2, and is shifted to the left by a distance L52 with respect to the width direction. Yes.

搬送方向の位置ずれは、裏面2bのアライメントマーク23bに対して表面2aのアライメントマーク23aが遅れている場合(図5(b)に示す状態)、表面側賦形フィルム3aの繰出距離(フィルムパス)を短くして、アライメントマーク23aの形成タイミングを早める。逆に、アライメントマーク23bに対してアライメントマーク23aが先行している場合、表面用賦形フィルム3aのフィルムパスを長くして、アライメントマーク23aの形成タイミングを遅らせる。   When the alignment mark 23a on the front surface 2a is delayed with respect to the alignment mark 23b on the back surface 2b (the state shown in FIG. 5B), the feeding direction displacement (film path) ) Is shortened to advance the formation timing of the alignment mark 23a. On the other hand, when the alignment mark 23a precedes the alignment mark 23b, the film path of the surface shaping film 3a is lengthened to delay the formation timing of the alignment mark 23a.

このような表面用賦形フィルム3aのフィルムパス調整のため、図1に示すように、パターン転写部5は、コンペンセイターロール55と、コンペンセイターロール55の上流側および下流側に配置される賦形フィルム中継ロール56とを備えている。コンペンセイターロール55は、表面用賦形フィルム繰出軸51aの下流側、かつバックアップロール52aの上流側に配置され、移動機構57により重力方向に沿って上下に移動可能となっている。コンペンセイターロール55を上下に移動させることで、その移動距離に応じて表面用賦形フィルム3aのフィルムパスの長短を調整できる。移動機構57としては、モータとボールねじを用いた機構を一例として適用するが、エアシリンダとストッパを用いた機構、レールとスライダを用いた機構などのように、所定方向へ直線移動可能で、かつ所定位置で位置決め可能な機構を適用することができる。   In order to adjust the film path of the surface shaping film 3a, the pattern transfer unit 5 is disposed on the compensator roll 55 and on the upstream side and the downstream side of the compensator roll 55 as shown in FIG. The shaping film relay roll 56 is provided. The compensator roll 55 is disposed on the downstream side of the surface shaping film feeding shaft 51 a and on the upstream side of the backup roll 52 a, and can be moved up and down along the direction of gravity by the moving mechanism 57. By moving the compensator roll 55 up and down, the length of the film path of the surface shaping film 3a can be adjusted according to the moving distance. As the moving mechanism 57, a mechanism using a motor and a ball screw is applied as an example. However, a mechanism using an air cylinder and a stopper, a mechanism using a rail and a slider, and the like can be linearly moved in a predetermined direction. A mechanism that can be positioned at a predetermined position can be applied.

幅方向の位置ずれは、裏面2bのアライメントマーク23bに対して表面2aのアライメントマーク23aが搬送方向へ向かって左方にずれている場合(図5(b)に示す状態)、表面側賦形フィルム3aの繰出位置を搬送方向へ向かって右方に移動させる。逆に、アライメントマーク23bに対してアライメントマーク23aが搬送方向へ向かって右方にずれている場合、表面側賦形フィルム3aの繰出位置を搬送方向へ向かって左方に移動させる。   When the alignment mark 23a on the front surface 2a is shifted leftward in the transport direction with respect to the alignment mark 23b on the back surface 2b (the state shown in FIG. 5B), the positional deviation in the width direction is performed on the front side. The feeding position of the film 3a is moved rightward in the transport direction. Conversely, when the alignment mark 23a is shifted to the right in the transport direction with respect to the alignment mark 23b, the feeding position of the surface side shaped film 3a is moved to the left in the transport direction.

このような表面用賦形フィルム3aの繰出位置調整のため、図13に示すように、表面用賦形フィルム繰出軸51a、換言すれば表面用賦形フィルム繰出軸51aに巻き付けられた表面用賦形フィルム3aのロールは、表面用賦形フィルム3aの繰出方向へ向かって左右に、移動機構58によって移動可能となっている。図13は、表面用賦形フィルム繰出軸51aの近傍を図1の右方から示す側面図である。   To adjust the feeding position of the surface shaping film 3a, as shown in FIG. 13, the surface shaping film 51a, in other words, the surface shaping film wound around the surface shaping film feeding shaft 51a is used. The roll of the shape film 3a can be moved by the moving mechanism 58 to the left and right in the feeding direction of the surface shaping film 3a. FIG. 13 is a side view showing the vicinity of the surface shaping film feeding shaft 51a from the right side of FIG.

このように表面用賦形フィルム繰出軸51a(表面用賦形フィルム3aのロール)を左右に移動させることで、表面用賦形フィルム3aの水平方向(図13に示す矢印A13の方向)の繰出位置を調整することができる。移動機構58としては、モータとボールねじを用いた機構を一例として適用するが、エアシリンダとストッパを用いた機構、レールとスライダを用いた機構などのように、所定方向へ直線移動可能で、かつ所定位置で位置決め可能な機構を適用することができる。   Thus, the surface shaping film feed shaft 51a (the roll of the surface shaping film 3a) is moved to the left and right to feed the surface shaping film 3a in the horizontal direction (direction of arrow A13 shown in FIG. 13). The position can be adjusted. As the moving mechanism 58, a mechanism using a motor and a ball screw is applied as an example, but it can move linearly in a predetermined direction, such as a mechanism using an air cylinder and a stopper, a mechanism using a rail and a slider, and the like. A mechanism that can be positioned at a predetermined position can be applied.

移動機構57によるコンペンセイターロール55の移動、および移動機構58による表面用賦形フィルム繰出軸51a(表面用賦形フィルム3aのロール)の移動は、アライメントカメラ80で撮像したアライメントマーク23a,23bの位置情報に基づいて、制御部(図示省略)などにより自動的に行われる。   The movement of the compensator roll 55 by the moving mechanism 57 and the movement of the surface shaping film feed shaft 51a (the roll of the surface shaping film 3a) by the movement mechanism 58 are the alignment marks 23a and 23b imaged by the alignment camera 80. This is automatically performed by a control unit (not shown) based on the position information.

なお、ステアリングロールを取り付けて表面用賦形フィルム3aの繰出位置調整を行うことも可能であるが、この場合、ステアリングロールユニットやガイドロールを取り付けるためのスペースが別途必要となる。したがって、モータとボールねじなどの移動機構58で表面用賦形フィルム3aの繰出位置を調整する方が望ましい。   It is possible to adjust the feeding position of the surface shaping film 3a by attaching a steering roll, but in this case, a space for attaching the steering roll unit and the guide roll is separately required. Therefore, it is desirable to adjust the feeding position of the surface shaping film 3a with a moving mechanism 58 such as a motor and a ball screw.

また、パターン転写部5においては、ベースフィルム2の樹脂層22がまだ硬化されていないため、バックアップロール52aを移動機構(例えば、移動機構57と同様のモータとボールねじなど)により、表面用賦形フィルム3aの流れ方向へ向かって左右に移動させることで、表面用賦形フィルム3aによるベースフィルム2の送出位置を調整してもよい。   In the pattern transfer portion 5, since the resin layer 22 of the base film 2 has not yet been cured, the backup roll 52a is applied to the surface by a moving mechanism (for example, a motor and a ball screw similar to the moving mechanism 57). You may adjust the delivery position of the base film 2 by the surface shaping film 3a by moving right and left toward the flow direction of the shape film 3a.

このように、本実施形態のフィルムのパターン転写装置1、およびパターン転写装置1により実施されるフィルムのパターン転写方法によれば、ベースフィルム2および賦形フィルム3を重力方向(パスラインPL)に沿って上から下へ安定して搬送させることができる。また、ベースフィルム2および賦形フィルム3を確実に重力方向に沿わせた状態で、ベースフィルム2の両面に対して同時にパターン21を形成することができる。   Thus, according to the film pattern transfer apparatus 1 and the film pattern transfer method implemented by the pattern transfer apparatus 1 of the present embodiment, the base film 2 and the shaped film 3 are moved in the direction of gravity (pass line PL). It can be stably conveyed from top to bottom along. Moreover, the pattern 21 can be simultaneously formed on both surfaces of the base film 2 in a state where the base film 2 and the shaping film 3 are surely aligned in the direction of gravity.

なお、本実施形態のパターン転写装置1は、ベースフィルム2および賦形フィルム3を重力方向(パスラインPL)に沿って上から下へ搬送させているため、上述した効果に加えて、パターン形成時の表面2a側と裏面2b側における環境条件を同等にする次のような効果も有する。   In addition, since the pattern transfer apparatus 1 of this embodiment is conveying the base film 2 and the shaping film 3 from the top to the bottom along the gravity direction (pass line PL), in addition to the effect mentioned above, pattern formation It also has the following effects that equalize the environmental conditions on the front surface 2a side and the back surface 2b side.

樹脂層形成部4では、ベースフィルム2および賦形フィルム3を重力方向(パスラインPL)に沿って搬送させながら、表面2aおよび裏面2bに樹脂層22を形成するため、その際の重力の影響を両面で一致させることができる。したがって、表面2aと裏面2bの両方に樹脂層22を形成する際、樹脂のレベリングに差を生じさせずに済む。このため、ベースフィルム2の表面2aと裏面2bに形成される樹脂層22に、意図しない厚みの差が生じることを防ぐことができる。   In the resin layer formation part 4, in order to form the resin layer 22 in the surface 2a and the back surface 2b, conveying the base film 2 and the shaping film 3 along a gravity direction (pass line PL), the influence of gravity in that case Can be matched on both sides. Therefore, when the resin layer 22 is formed on both the front surface 2a and the back surface 2b, there is no need to make a difference in resin leveling. For this reason, it can prevent that the difference of the thickness which is not intended arises in the resin layer 22 formed in the surface 2a of the base film 2, and the back surface 2b.

パターン転写部5では、賦形フィルム3を重力方向(パスラインPL)に沿って流すとともに、賦形フィルム3を押し付けながらベースフィルム2を上から下へ送り出す。このため、樹脂層22をなす樹脂で樹脂層22と賦形面31の間のエアを押し出すことができるので、賦形面31の外へエアを抜き易い。したがって、樹脂層22と賦形面31の間からエアを抜くためにベースフィルム2の搬送速度(ラインスピード)を抑制せずに済むから、ラインスピードを上げて処理効率の向上を図ることが可能となる。   In the pattern transfer section 5, the shaping film 3 is caused to flow along the direction of gravity (pass line PL), and the base film 2 is sent out from above while pressing the shaping film 3. For this reason, since the air between the resin layer 22 and the shaping surface 31 can be pushed out by the resin forming the resin layer 22, the air can be easily extracted out of the shaping surface 31. Therefore, since it is not necessary to suppress the conveyance speed (line speed) of the base film 2 in order to extract air from between the resin layer 22 and the shaping surface 31, it is possible to increase the line speed and improve the processing efficiency. It becomes.

また、パターン転写部5においては、バックアップロール52aとインフィードロール52bが自重により下方へ撓むように変形する場合がある。しかしながら、これらのロール52a,52bは、水平方向に並んで配置されてベースフィルム2を上から下へ送り出すため、これらのロール52a,52bの変形によってベースフィルム2が変形することがない。したがって、ベースフィルム2の表面2aと裏面2bに形成されるパターン21a,21bの形態に、意図しない相違が生じることを防ぐことができる。   Moreover, in the pattern transfer part 5, the backup roll 52a and the infeed roll 52b may be deformed so as to bend downward due to their own weight. However, since these rolls 52a and 52b are arranged side by side in the horizontal direction and send out the base film 2 from the top to the bottom, the base film 2 is not deformed by the deformation of the rolls 52a and 52b. Therefore, it is possible to prevent an unintended difference from occurring in the patterns 21 a and 21 b formed on the front surface 2 a and the back surface 2 b of the base film 2.

樹脂層硬化部6では、ベースフィルム2および賦形フィルム3を重力方向(パスラインPL)に沿って搬送させながら、表面2aおよび裏面2bの樹脂層22を硬化させるため、その際に両面での雰囲気温度の差をほぼなくすことができる。また、樹脂層硬化部6では、ベースフィルム2の表面2aおよび裏面2bの樹脂層22を硬化させる際、ベースフィルム2の張力が小さくても、ベースフィルム2が自重により下方へたるむように変形することがない。したがって、ベースフィルム2の表面2aと裏面2bとで樹脂層22の硬化性をほぼ一致させることができるので、形成されるパターン21の形態に意図しない相違が生じることを防ぐことができる。   In the resin layer curing unit 6, the resin layer 22 on the front surface 2a and the back surface 2b is cured while the base film 2 and the shaping film 3 are conveyed along the direction of gravity (pass line PL). The difference in ambient temperature can be almost eliminated. Moreover, in the resin layer hardening part 6, when hardening the resin layer 22 of the surface 2a of the base film 2, and the back surface 2b, even if the tension | tensile_strength of the base film 2 is small, it deform | transforms so that the base film 2 may sag below with dead weight. There is no. Accordingly, since the curability of the resin layer 22 can be substantially matched between the front surface 2a and the back surface 2b of the base film 2, it is possible to prevent an unintended difference in the form of the pattern 21 to be formed.

以上、本発明の実施形態を説明したが、上述した実施形態は、一例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。また、上述した新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施することが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これらの実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。   As mentioned above, although embodiment of this invention was described, embodiment mentioned above is shown as an example and is not intending limiting the range of invention. The above-described novel embodiments can be implemented in various other forms, and various omissions, replacements, and changes can be made without departing from the spirit of the invention. These embodiments and modifications thereof are included in the scope and gist of the invention, and are included in the invention described in the claims and the equivalents thereof.

例えば、本実施形態のパターン転写装置1は、ベースフィルム2の両面(表面2aおよび裏面2b)にパターン21を形成するが、片面のみにパターン21を形成することも可能である。   For example, the pattern transfer apparatus 1 of the present embodiment forms the pattern 21 on both surfaces (the front surface 2a and the back surface 2b) of the base film 2, but the pattern 21 can be formed only on one surface.

また、本実施形態のパターン転写装置1は、樹脂層形成部4、パターン転写部5、樹脂層硬化部6、および賦形フィルム剥離部7において、転写フィルム20の生成前後の態様を含め、ベースフィルム2を重力方向(パスラインPL)に沿って上から下へ搬送させているが、これとは逆に下から上へ搬送させることも可能である。この場合、樹脂層形成部4、パターン転写部5、樹脂層硬化部6、および賦形フィルム剥離部7は、この順番に重力方向に沿って下から上へ配置する。ただし、本実施形態のようにベースフィルム2を上から下へ搬送させる場合には、下から上へ搬送させる場合と比較して、次のような利点がある。   The pattern transfer apparatus 1 according to the present embodiment includes a base including a mode before and after the generation of the transfer film 20 in the resin layer forming unit 4, the pattern transfer unit 5, the resin layer curing unit 6, and the shaped film peeling unit 7. Although the film 2 is conveyed from the top to the bottom along the gravity direction (pass line PL), it is also possible to convey the film 2 from the bottom to the contrary. In this case, the resin layer forming part 4, the pattern transfer part 5, the resin layer curing part 6, and the shaped film peeling part 7 are arranged in this order from bottom to top along the direction of gravity. However, when the base film 2 is transported from the top to the bottom as in the present embodiment, there are the following advantages compared to the case of transporting from the bottom to the top.

図1に示すように、本実施形態では、パターン転写部5の下方に樹脂層硬化部6が配置されている。このため、樹脂層硬化部6で発生した熱(例えば、光源61aによる発熱)が上昇気流によってパターン転写部5へ伝わり易い。パターン転写部5の雰囲気温度が上昇すると、ベースフィルム2の樹脂層22をなす樹脂の流動性が高まり、結果的に賦形面31の転写精度が向上することが期待できる。ベースフィルム2を下から上へ搬送させる場合、パターン転写部5の上方に樹脂層硬化部6が配置されるため、このような賦形面31の転写精度の向上は期待できない。   As shown in FIG. 1, in this embodiment, a resin layer curing unit 6 is disposed below the pattern transfer unit 5. For this reason, the heat (for example, heat generated by the light source 61a) generated in the resin layer curing unit 6 is easily transmitted to the pattern transfer unit 5 by the rising airflow. If the atmospheric temperature of the pattern transfer part 5 rises, it can be expected that the fluidity of the resin forming the resin layer 22 of the base film 2 increases, and as a result, the transfer accuracy of the shaping surface 31 is improved. When the base film 2 is conveyed from the bottom to the top, since the resin layer curing portion 6 is disposed above the pattern transfer portion 5, such an improvement in the transfer accuracy of the shaping surface 31 cannot be expected.

また、本実施形態では、パターン転写部5の下方に樹脂層硬化部6が配置されているため、樹脂層硬化部6で発生した熱が上方へ逃げるので、樹脂層硬化部6の下方に配置される賦形フィルム剥離部7がかかる熱の影響を受けることが少ない。賦形フィルム剥離部7での賦形フィルム3の剥離性は、雰囲気温度が低いほどよくなる。ベースフィルム2を下から上へ搬送させる場合、樹脂層硬化部6の上方に賦形フィルム剥離部7が配置されるため、このような賦形フィルム3の剥離性の向上は期待できない。   In the present embodiment, since the resin layer curing unit 6 is disposed below the pattern transfer unit 5, heat generated in the resin layer curing unit 6 escapes upward, so that the resin layer curing unit 6 is disposed below the resin layer curing unit 6. The shaped film peeling portion 7 is less affected by the heat applied. The peelability of the shaped film 3 at the shaped film peeling portion 7 is improved as the ambient temperature is lower. When the base film 2 is transported from the bottom to the top, since the shaped film peeling part 7 is disposed above the resin layer curing part 6, such an improvement in peelability of the shaped film 3 cannot be expected.

これらを考慮すれば、本実施形態のように、ベースフィルム2を重力方向(パスラインPL)に沿って上から下へ搬送させることが好ましい。   Considering these, it is preferable to transport the base film 2 from the top to the bottom along the direction of gravity (pass line PL) as in this embodiment.

1…パターン転写装置、2…ベースフィルム、2a…表面、2b…裏面、3…賦形フィルム、4…樹脂層形成部、5…パターン転写部、6…樹脂層硬化部、7…賦形フィルム剥離部、8…フィルム搬送部、9…移動機構、10…床面、11…第1の床材、11a…第1の通し孔、12…第2の床材、12a…第2の通し孔、13…第3の床材、13a…第3の通し孔、20…転写フィルム、21…パターン、22…樹脂層、31…賦形面、41…タンク、42…ポンプ、43…ダイ、51…賦形フィルム繰出軸、52a…バックアップロール、52b…インフィードロール、61…作用部、61a…光源、61b…遮光板、62…押圧ロール、71a…剥離ロール、71b…アウトフィードロール、72…賦形フィルム巻取軸、81…フィルム繰出軸、82…フィルム巻取軸、83…ガイドロール、431…樹脂吐出口、F1,F2,F3,F4…配置エリア、PL…パスライン。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Pattern transfer apparatus, 2 ... Base film, 2a ... Front surface, 2b ... Back surface, 3 ... Shaped film, 4 ... Resin layer formation part, 5 ... Pattern transfer part, 6 ... Resin layer hardening part, 7 ... Shaped film Peeling unit, 8 ... film transport unit, 9 ... moving mechanism, 10 ... floor surface, 11 ... first flooring, 11a ... first through hole, 12 ... second flooring, 12a ... second through hole , 13 ... third floor, 13a ... third through hole, 20 ... transfer film, 21 ... pattern, 22 ... resin layer, 31 ... shaping surface, 41 ... tank, 42 ... pump, 43 ... die, 51 ... Shaping film feeding shaft, 52a ... Backup roll, 52b ... Infeed roll, 61 ... Action part, 61a ... Light source, 61b ... Light shielding plate, 62 ... Pressing roll, 71a ... Peeling roll, 71b ... Outfeed roll, 72 ... Shaped film take-up shaft, 81 ... fill Feeding shaft, 82 ... film winding shaft, 83 ... guide roll, 431 ... resin discharge port, F1, F2, F3, F4 ... arrangement area, PL ... pass line.

Claims (8)

ベースフィルムの両面に液状の樹脂を塗布して樹脂層を形成する樹脂層形成部と、
前記ベースフィルムの樹脂層に賦形フィルムを押し付け、前記賦形フィルムの賦形面を前記樹脂層に転写することにより、前記樹脂層の表面にパターンを形成するパターン転写部と、
前記パターンが形成された樹脂層を硬化させ、前記ベースフィルムに固着させることにより転写フィルムを生成する樹脂層硬化部と、
前記転写フィルムから前記賦形フィルムを剥離させる賦形フィルム剥離部と、
前記ベースフィルムを繰り出し、前記樹脂層形成部と前記パターン転写部と前記樹脂層硬化部と前記賦形フィルム剥離部とを通過させ、生成された前記転写フィルムを巻き取るフィルム搬送部と、を備え、
前記フィルム搬送部は、前記樹脂層形成部の手前で前記ベースフィルムの搬送方向を重力方向に沿って上から下へ向けるガイドロールを有し、
前記樹脂層形成部は、前記ベースフィルムを隔てて両側に1つずつ、互いの樹脂吐出口の位置を上下にずらして配置される一対のダイを有し、
前記一対のダイのうち、上側に配置されるダイは、前記ベースフィルムの前記ガイドロールと接触しない面側に配置される
フィルムのパターン転写装置。
A resin layer forming part for forming a resin layer by applying a liquid resin on both sides of the base film;
A pattern transfer part that forms a pattern on the surface of the resin layer by pressing the shaped film against the resin layer of the base film and transferring the shaped surface of the shaped film to the resin layer;
A resin layer curing portion that cures the resin layer on which the pattern is formed and generates a transfer film by fixing the resin layer to the base film;
A shaped film peeling portion for peeling the shaped film from the transfer film;
A film transport unit that unwinds the base film, passes the resin layer forming unit, the pattern transfer unit, the resin layer curing unit, and the shaped film peeling unit, and winds up the generated transfer film. ,
The film transport unit has a guide roll that directs the transport direction of the base film from top to bottom along the direction of gravity in front of the resin layer forming unit,
The resin layer forming part has a pair of dies arranged one by one on both sides across the base film, with the positions of the respective resin discharge ports being shifted up and down,
Of the pair of dies, a die disposed on the upper side is disposed on a surface side of the base film that does not contact the guide roll.
前記一対のダイの一方と他方および前記ガイドロールを個別にもしくはまとめて、前記パターン転写部、前記樹脂層硬化部、および前記賦形フィルム剥離部に対して水平方向へ移動させる移動機構を備える
請求項1に記載のフィルムのパターン転写装置。
One or the other of the pair of dies and the guide roll are individually or collectively provided with a moving mechanism that moves in a horizontal direction with respect to the pattern transfer unit, the resin layer curing unit, and the shaped film peeling unit. Item 2. The film pattern transfer apparatus according to Item 1.
前記パターン転写部と前記樹脂層硬化部とは、前記ベースフィルムおよび前記賦形フィルムを通す第1の通し孔が形成された第1の床材で隔てられており、
前記移動機構は、前記ベースフィルムおよび前記賦形フィルムが前記第1の通し孔の中で重力方向に沿うように、前記一対のダイの一方と他方および前記ガイドロールを移動させる
請求項2に記載のフィルムのパターン転写装置。
The pattern transfer portion and the resin layer cured portion are separated by a first floor material in which a first through-hole for passing the base film and the shaped film is formed,
The movement mechanism moves one and the other of the pair of dies and the guide roll so that the base film and the shaping film are along the direction of gravity in the first through hole. Film pattern transfer device.
前記樹脂層形成部と前記パターン転写部とは、前記ベースフィルムを通す第2の通し孔が形成された第2の床材で隔てられており、
前記移動機構は、前記ベースフィルムが前記第2の通し孔の中で重力方向に沿うように、前記一対のダイの一方と他方および前記ガイドロールを移動させる
請求項3に記載のフィルムのパターン転写装置。
The resin layer forming part and the pattern transfer part are separated by a second floor material in which a second through-hole for passing the base film is formed,
4. The film pattern transfer according to claim 3, wherein the moving mechanism moves one and the other of the pair of dies and the guide roll so that the base film follows the direction of gravity in the second through hole. 5. apparatus.
前記フィルム搬送部は、
前記樹脂層が形成される前のベースフィルムを繰り出す繰出軸と、
前記転写フィルムを巻き取る巻取軸と、
前記繰出軸と前記巻取軸との間で、前記ガイドロールとともに前記ベースフィルムもしくは前記転写フィルムの搬送方向を変更する複数の中継ロールと、を有し、
前記複数の中継ロールのうちの1つは、重力方向に沿って前記ガイドロールの下方に配置される
請求項1から4のいずれかに記載のフィルムのパターン転写装置。
The film transport unit is
A feeding shaft for feeding out the base film before the resin layer is formed;
A winding shaft for winding the transfer film;
A plurality of relay rolls that change the conveying direction of the base film or the transfer film together with the guide rolls between the feeding shaft and the winding shaft;
5. The film pattern transfer device according to claim 1, wherein one of the plurality of relay rolls is disposed below the guide roll along a direction of gravity. 6.
前記ガイドロールの下方に配置される中継ロールは、前記賦形フィルム剥離部の先で前記転写フィルムの搬送方向を重力方向から別方向へ向ける
請求項5に記載のフィルムのパターン転写装置。
The film pattern transfer device according to claim 5, wherein the relay roll disposed below the guide roll directs the transfer film transport direction from the gravity direction to another direction at the tip of the shaped film peeling portion.
ベースフィルムの両面に液状の樹脂を塗布して樹脂層を形成することと、
前記ベースフィルムの樹脂層に賦形フィルムを押し付け、前記賦形フィルムの賦形面を前記樹脂層に転写することにより、前記樹脂層の表面にパターンを形成することと、
前記パターンが形成された樹脂層を硬化させ、前記ベースフィルムに固着させることにより転写フィルムを生成することと、
前記転写フィルムから前記賦形フィルムを剥離させることと、
前記ベースフィルムを繰り出し、繰り出した前記ベースフィルムへの前記樹脂層の形成と、前記樹脂層への前記賦形面の転写および前記パターンの形成と、前記樹脂層の硬化および前記ベースフィルムへの固着と、前記転写フィルムからの前記賦形フィルムの剥離とを経て、生成された前記転写フィルムを巻き取ることと、を含み、
前記ベースフィルムに前記樹脂層を形成する手前で、前記ベースフィルムをカーブさせて重力方向に沿って上から下へ搬送し、
前記ベースフィルムには、カーブの内周側の面よりも上方で、外周側の面に前記樹脂層を形成する
フィルムにパターンを転写する方法。
Forming a resin layer by applying a liquid resin on both sides of the base film;
Forming a pattern on the surface of the resin layer by pressing the shaped film against the resin layer of the base film and transferring the shaped surface of the shaped film to the resin layer;
Curing the resin layer on which the pattern is formed, and fixing the base film to produce a transfer film;
Peeling the shaped film from the transfer film;
Unwinding the base film, forming the resin layer on the unrolled base film, transferring the shaping surface to the resin layer and forming the pattern, curing the resin layer, and fixing to the base film And, after peeling the shaped film from the transfer film, winding the generated transfer film,
Before forming the resin layer on the base film, the base film is curved and conveyed from top to bottom along the direction of gravity,
A method of transferring the pattern to the base film, wherein the resin layer is formed on the outer peripheral surface above the inner peripheral surface of the curve.
前記ベースフィルムをカーブさせる水平方向の位置と、前記ベースフィルムの両面に前記樹脂層を形成する水平方向の位置をそれぞれ調整し、
前記ベースフィルムへの前記樹脂層の形成と、前記樹脂層への前記賦形面の転写および前記パターンの形成と、前記樹脂層の硬化および前記ベースフィルムへの固着と、前記転写フィルムからの前記賦形フィルムの剥離とを重力方向に沿わせて行う
請求項7に記載のフィルムにパターンを転写する方法。
Adjust the horizontal position to curve the base film and the horizontal position to form the resin layer on both sides of the base film,
Formation of the resin layer on the base film, transfer of the shaping surface to the resin layer and formation of the pattern, curing of the resin layer and fixation to the base film, and the transfer film from the transfer film The method of transferring a pattern to the film according to claim 7, wherein peeling of the shaped film is performed along the direction of gravity.
JP2015149417A 2015-07-29 2015-07-29 Film pattern transfer apparatus and film pattern transfer method Active JP6535535B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015149417A JP6535535B2 (en) 2015-07-29 2015-07-29 Film pattern transfer apparatus and film pattern transfer method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015149417A JP6535535B2 (en) 2015-07-29 2015-07-29 Film pattern transfer apparatus and film pattern transfer method

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2017030160A true JP2017030160A (en) 2017-02-09
JP6535535B2 JP6535535B2 (en) 2019-06-26

Family

ID=57986503

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2015149417A Active JP6535535B2 (en) 2015-07-29 2015-07-29 Film pattern transfer apparatus and film pattern transfer method

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6535535B2 (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017030159A (en) * 2015-07-29 2017-02-09 東芝機械株式会社 Apparatus for transferring pattern of film and method for transferring pattern of film
CN107825694A (en) * 2017-10-27 2018-03-23 浙江克鲁森纺织科技有限公司 CTPU film 3D pressing devices
KR20200012913A (en) * 2017-05-25 2020-02-05 매직 립, 인코포레이티드 Duplex Imprinting
US11921290B2 (en) 2017-10-26 2024-03-05 Magic Leap, Inc. Augmented reality display having liquid crystal variable focus element and roll-to-roll method and apparatus for forming the same

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6442218A (en) * 1987-08-07 1989-02-14 Ig Tech Res Inc Emboss working apparatus
JPH0259072A (en) * 1988-08-26 1990-02-28 Sekisui Seikei Kogyo Kk Intermediate film for glass
JP2004322408A (en) * 2003-04-23 2004-11-18 Nitto Denko Corp Method and apparatus for manufacturing optically reactive composition sheet
JP2010275337A (en) * 2009-05-26 2010-12-09 Panasonic Electric Works Co Ltd Method and apparatus for producing prepreg for printed wiring board
WO2011090186A1 (en) * 2010-01-25 2011-07-28 コニカミノルタオプト株式会社 Method for continuously forming laminated optical function element sheet and apparatus for continuously forming laminated optical function element sheet
WO2014010516A1 (en) * 2012-07-10 2014-01-16 旭硝子株式会社 Imprint method, and imprinting device

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6442218A (en) * 1987-08-07 1989-02-14 Ig Tech Res Inc Emboss working apparatus
JPH0259072A (en) * 1988-08-26 1990-02-28 Sekisui Seikei Kogyo Kk Intermediate film for glass
JP2004322408A (en) * 2003-04-23 2004-11-18 Nitto Denko Corp Method and apparatus for manufacturing optically reactive composition sheet
JP2010275337A (en) * 2009-05-26 2010-12-09 Panasonic Electric Works Co Ltd Method and apparatus for producing prepreg for printed wiring board
WO2011090186A1 (en) * 2010-01-25 2011-07-28 コニカミノルタオプト株式会社 Method for continuously forming laminated optical function element sheet and apparatus for continuously forming laminated optical function element sheet
WO2014010516A1 (en) * 2012-07-10 2014-01-16 旭硝子株式会社 Imprint method, and imprinting device

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017030159A (en) * 2015-07-29 2017-02-09 東芝機械株式会社 Apparatus for transferring pattern of film and method for transferring pattern of film
KR102341780B1 (en) 2017-05-25 2021-12-20 매직 립, 인코포레이티드 double-sided imprinting
KR20200012913A (en) * 2017-05-25 2020-02-05 매직 립, 인코포레이티드 Duplex Imprinting
EP3630438A4 (en) * 2017-05-25 2020-07-29 Magic Leap, Inc. Double-sided imprinting
US10926452B2 (en) 2017-05-25 2021-02-23 Magic Leap, Inc. Double-sided imprinting
JP2021182641A (en) * 2017-05-25 2021-11-25 マジック リープ, インコーポレイテッドMagic Leap, Inc. Double-sided imprinting
KR20210156341A (en) * 2017-05-25 2021-12-24 매직 립, 인코포레이티드 Double-sided imprinting
JP7087178B2 (en) 2017-05-25 2022-06-20 マジック リープ, インコーポレイテッド Double-sided imprinting
TWI773761B (en) * 2017-05-25 2022-08-11 美商麥吉克利普公司 Double-sided imprinting method
US11498261B2 (en) 2017-05-25 2022-11-15 Magic Leap, Inc. Double-sided imprinting
AU2018273990B2 (en) * 2017-05-25 2023-11-02 Magic Leap, Inc. Double-sided imprinting
KR102634878B1 (en) 2017-05-25 2024-02-06 매직 립, 인코포레이티드 Double-sided imprinting
US11921290B2 (en) 2017-10-26 2024-03-05 Magic Leap, Inc. Augmented reality display having liquid crystal variable focus element and roll-to-roll method and apparatus for forming the same
CN107825694A (en) * 2017-10-27 2018-03-23 浙江克鲁森纺织科技有限公司 CTPU film 3D pressing devices

Also Published As

Publication number Publication date
JP6535535B2 (en) 2019-06-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2017030160A (en) Apparatus for transferring pattern of film and method for transferring pattern of film
US8231372B2 (en) Intermittent film forming system and intermittent film forming method
KR102502784B1 (en) Method for producing relief patterned body, device for producing same, and sticker
JP6421980B2 (en) Imprint device
JP6203628B2 (en) Fine pattern forming method
JP5603621B2 (en) Sheet mold position detection device, transfer device, and transfer method
EP2540474B1 (en) Transfer system and transfer method
US20180162113A1 (en) Method for manufacturing laminated film and apparatus for manufacturing laminated film
JP6467709B2 (en) Imprint method and imprint apparatus
JP2011189677A (en) Sheet-like mold transferring/positioning apparatus
JP2021028933A (en) Microstructure transfer device and microstructure transfer method
JP2017030159A (en) Apparatus for transferring pattern of film and method for transferring pattern of film
JP2011148181A (en) Method for simultaneously forming both sides of optical element sheet and apparatus for forming optical element sheet
JP2011189610A (en) Transfer device
JP2011191615A (en) Method for producing double-sided lenticular lens sheet
JP2008194976A (en) Manufacturing method of shaped body for optical sheet, manufacturing device of shaped body for optical sheet, and shaped body for optical sheet
JP5502592B2 (en) Imprint processing apparatus, imprint processing method, and imprint processed product
KR100911913B1 (en) Device using rollers for coating
JP2009214387A (en) Manufacturing method of plastic film lens
TW201347954A (en) Manufacturing device and method for optical film
JP2009292060A (en) Lens sheet
JP2017209835A (en) Molding apparatus and molding method
KR102214932B1 (en) Apparatus for manufacturing nano pattern
JP7475646B2 (en) Microstructure transfer device and microstructure transfer method
KR102498639B1 (en) Apparatus for forming patterns

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20180409

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20190215

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20190226

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20190404

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20190507

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20190603

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6535535

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350