JP2017025204A - Polyimide film, and method for producing polyimide film - Google Patents

Polyimide film, and method for producing polyimide film Download PDF

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宗銘 李
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奇明 呂
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志成 林
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a polyimide film having high peelability from base material and capable of preventing the occurrence of a poor appearance, and a method of producing the same.SOLUTION: The polyimide film comprises polyimide and at least one selected from the group consisting of γ butyrolactone and N, N-dimethyl acetamide, and has a yellowness of 10 or less. When a mass ratio of the γ butyrolactone is G(ppm) and a mass ratio of the N, N-dimethyl acetamide is D(ppm), the polyimide film satisfies 30≤G+D≤10000.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、ポリイミド系フィルム、およびポリイミド系フィルムの製造方法に関する。   The present invention relates to a polyimide film and a method for producing a polyimide film.

従来、太陽電池やディスプレイ等の各種表示部材の基材材料として、ガラスが用いられてきた。しかしながら、ガラスは、割れやすい、重いとった欠点があるとともに、近年のディスプレイの薄型化および軽量化や、フレキシブル化に関して、充分な材質を有していなかった。そのため、ガラスに代わるフレキシブルデバイスの透明部材として、ポリイミド系フィルムが検討されている(例えば、特許文献1、2参照)。   Conventionally, glass has been used as a base material for various display members such as solar cells and displays. However, glass has a drawback that it is easy to break and is heavy, and has not yet had a sufficient material for thinning and lightening the display and making it flexible in recent years. Therefore, a polyimide film has been studied as a transparent member of a flexible device that replaces glass (see, for example, Patent Documents 1 and 2).

米国特許第8207256号明細書US Pat. No. 8,207,256 特開2008−163309号公報JP 2008-163309 A

しかしながら、従来のポリイミド系フィルムは、基材からの剥離性が十分でなく、外観不良が起きる場合がある。   However, conventional polyimide-based films are not sufficiently peelable from the base material and may have poor appearance.

本発明は上記課題に鑑みてなされたものであり、基材からの剥離性が高く、良好な外観不良を実現可能なポリイミド系フィルム及びその製造方法を提供することを目的とする。   This invention is made | formed in view of the said subject, and it aims at providing the polyimide-type film which can implement | achieve a favorable external appearance defect with high peelability from a base material, and its manufacturing method.

本発明に係るポリイミド系フィルムは、ポリイミド系高分子と、
γブチロラクトン及びN,N−ジメチルアセトアミドからなる群から選ばれる少なくとも一つとを含有し、黄色度が10以下である。そして、γブチロラクトンの質量割合をG(ppm)、N,N−ジメチルアセトアミドの質量割合をD(ppm)としたときに、30≦G+D≦10000を満たす。
The polyimide film according to the present invention includes a polyimide polymer,
It contains at least one selected from the group consisting of γ-butyrolactone and N, N-dimethylacetamide, and has a yellowness of 10 or less. When the mass ratio of γ-butyrolactone is G (ppm) and the mass ratio of N, N-dimethylacetamide is D (ppm), 30 ≦ G + D ≦ 10000 is satisfied.

ここで、上記フィルムは、ヘイズが1以下であることが好ましい。   Here, the film preferably has a haze of 1 or less.

また、上記フィルムは、全光線透過率が85%以上であることが好ましい。   The film preferably has a total light transmittance of 85% or more.

本発明に係るポリイミド系フィルムの製造方法は、
(a)γブチロラクトン及びN,N−ジメチルアセトアミドの少なくとも一方、及び、ポリイミド系高分子を含む液を基材に塗布する工程と、
(b)塗布された液を乾燥させてフィルムを形成する工程と、を備える。
そして、前記フィルム中のγブチロラクトンの質量割合をG(ppm)、N,N−ジメチルアセトアミドの質量割合をD(ppm)としたときに、前記(b)工程後のフィルムが30≦G+D≦10000を満たす。
The method for producing a polyimide film according to the present invention includes:
(A) applying at least one of γ-butyrolactone and N, N-dimethylacetamide and a liquid containing a polyimide polymer to a substrate;
(B) drying the applied liquid to form a film.
When the mass ratio of γ-butyrolactone in the film is G (ppm) and the mass ratio of N, N-dimethylacetamide is D (ppm), the film after the step (b) is 30 ≦ G + D ≦ 10000. Meet.

本発明によれば、基材からの剥離性が高く、良好な外観を実現可能なポリイミド系フィルム、及び、その製造方法が提供される。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the polyimide-type film which has high peelability from a base material and can implement | achieve a favorable external appearance, and its manufacturing method are provided.

(ポリイミド系フィルム)
このポリイミド系フィルムは、ポリイミド系高分子、及び、γブチロラクトン及びN,N−ジメチルアセトアミドからなる群から選ばれる少なくとも一つを含む。
本明細書において、ポリイミド系高分子とは、式(PI)、式(a)、式(a’)又は式(b)で表される繰り返し構造単位を少なくとも1種含む重合体を意味する。
(Polyimide film)
The polyimide film includes at least one selected from the group consisting of a polyimide polymer and γ-butyrolactone and N, N-dimethylacetamide.
In this specification, the polyimide polymer means a polymer containing at least one repeating structural unit represented by the formula (PI), the formula (a), the formula (a ′) or the formula (b).

Figure 2017025204
Figure 2017025204

式(PI)中のGは4価の有機基を表し、Aは2価の有機基を表す。式(a)中のGは3価の有機基を表し、Aは2価の有機基を表す。式(a’)中のGは4価の有機基を表し、Aは2価の有機基を表す。式(b)中のG及びAは、それぞれ2価の有機基を表す。 G in the formula (PI) represents a tetravalent organic group, and A represents a divalent organic group. G 2 in the formula (a) represents a trivalent organic group, and A 2 represents a divalent organic group. G 3 in the formula (a ′) represents a tetravalent organic group, and A 3 represents a divalent organic group. G 4 and A 4 in the formula (b) each represent a divalent organic group.

式(PI)中のGとしては、非環式脂肪族基、環式脂肪族基及び芳香族基からなる群から選ばれる4価の有機基が挙げられる。樹脂フィルム10の透明性及び屈曲性の観点から、Gは、環式脂肪族基及び芳香族基であることが好ましい。芳香族基としては、単環式芳香族基、縮合多環式芳香族基、および、芳香族基が直接または結合基により相互に連結された非縮合多環式芳香族基等が挙げられる。樹脂フィルムの透明性及び着色の抑制の観点から、Gは、環式脂肪族基、フッ素系置換基を有する環式脂肪族基、フッ素系置換基を有する単環式芳香族基、フッ素系置換基を有する縮合多環式芳香族基又はフッ素系置換基を有する非縮合多環式芳香族基であることが好ましい。   Examples of G in the formula (PI) include a tetravalent organic group selected from the group consisting of an acyclic aliphatic group, a cyclic aliphatic group, and an aromatic group. From the viewpoint of the transparency and flexibility of the resin film 10, G is preferably a cyclic aliphatic group or an aromatic group. Examples of the aromatic group include a monocyclic aromatic group, a condensed polycyclic aromatic group, and a non-condensed polycyclic aromatic group in which aromatic groups are connected to each other directly or through a bonding group. From the viewpoint of transparency of the resin film and suppression of coloring, G is a cyclic aliphatic group, a cyclic aliphatic group having a fluorine-based substituent, a monocyclic aromatic group having a fluorine-based substituent, or a fluorine-based substitution. It is preferably a condensed polycyclic aromatic group having a group or a non-condensed polycyclic aromatic group having a fluorine-based substituent.

本明細書においてフッ素系置換基とは、フッ素原子を含む基を意味する。フッ素系置換基は、好ましくはフルオロ基(フッ素原子,−F)およびパーフルオロアルキル基であり、さらに好ましくはフルオロ基及びトリフルオロメチル基である。   In this specification, the fluorine-based substituent means a group containing a fluorine atom. The fluorine-based substituent is preferably a fluoro group (fluorine atom, -F) and a perfluoroalkyl group, more preferably a fluoro group and a trifluoromethyl group.

より具体的には、Gは、例えば、飽和又は不飽和シクロアルキル基、飽和又は不飽和へテロシクロアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、アリールアルキル基、アルキルアリール基、ヘテロアルキルアリール基、及び、これらのうちの任意の2つの基(同一でもよい)を有しこれらが直接又は結合基により相互に連結された基から選ばれる。結合基としては、−O−、炭素数1〜10のアルキレン基、−SO−、−CO−又は−CO−NR−(Rは、メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数1〜3のアルキル基又は水素原子を表す)が挙げられる。 More specifically, G represents, for example, a saturated or unsaturated cycloalkyl group, a saturated or unsaturated heterocycloalkyl group, an aryl group, a heteroaryl group, an arylalkyl group, an alkylaryl group, a heteroalkylaryl group, and , Selected from groups having any two of these groups (which may be the same), which are connected to each other directly or by a linking group. As the linking group, —O—, an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, —SO 2 —, —CO— or —CO—NR— (wherein R represents a methyl group, an ethyl group, a propyl group, etc. 3 represents an alkyl group or a hydrogen atom).

Gの炭素数は通常2〜32であり、好ましくは4〜15であり、より好ましくは5〜10であり、さらに好ましくは6〜8である。Gが環式脂肪族基又は芳香族基である場合、炭素原子の一部がヘテロ原子で置き換えられていてもよい。ヘテロ原子としては、O、N又はSが挙げられる。   The carbon number of G is usually 2 to 32, preferably 4 to 15, more preferably 5 to 10, and further preferably 6 to 8. When G is a cycloaliphatic group or an aromatic group, some of the carbon atoms may be replaced with heteroatoms. Heteroatoms include O, N, or S.

Gの具体例としては、以下の式(20)、式(21)、式(22)、式(23)、式(24)、式(25)又は式(26)で表される基が挙げられる。式中の*は結合手を示す。式(26)中のZは、単結合、−O−、−CH−、−C(CH−、−Ar−O−Ar−、−Ar−CH−Ar−、−Ar−C(CH−Ar−又は−Ar−SO−Ar−を表す。Arは炭素数6〜20のアリール基を表し、例えばはフェニレン基が挙げられる。これらの基の水素原子のうち少なくとも1つが、フッ素系置換基で置換されていてもよい。 Specific examples of G include groups represented by the following formula (20), formula (21), formula (22), formula (23), formula (24), formula (25), or formula (26). It is done. * In the formula indicates a bond. Z in Formula (26) is a single bond, —O—, —CH 2 —, —C (CH 3 ) 2 —, —Ar—O—Ar—, —Ar—CH 2 —Ar—, —Ar—. C (CH 3) represents a 2 -Ar- or -Ar-SO 2 -Ar-. Ar represents an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, and examples thereof include a phenylene group. At least one of the hydrogen atoms of these groups may be substituted with a fluorine-based substituent.

Figure 2017025204
Figure 2017025204

式(PI)中のAは、非環式脂肪族基、環式脂肪族基及び芳香族基からなる群から選択される2価の有機基であってもよい。Aで表される2価の有機基は、環式脂肪族基及び芳香族基であることが好ましい。芳香族基としては、単環式芳香族基、縮合多環式芳香族基、および2以上の芳香族環を有しそれらが直接または結合基により相互に連結された非縮合多環式芳香族基が挙げられる。樹脂フィルムの透明性及び着色の抑制の観点から、Aの少なくとも一部には、フッ素系置換基が導入されていることが好ましい。   A in the formula (PI) may be a divalent organic group selected from the group consisting of an acyclic aliphatic group, a cyclic aliphatic group, and an aromatic group. The divalent organic group represented by A is preferably a cyclic aliphatic group or an aromatic group. Examples of the aromatic group include a monocyclic aromatic group, a condensed polycyclic aromatic group, and a non-condensed polycyclic aromatic group having two or more aromatic rings and connected to each other directly or by a bonding group. Groups. From the viewpoint of transparency of the resin film and suppression of coloring, it is preferable that a fluorine-based substituent is introduced into at least a part of A.

より具体的には、Aは、例えば、飽和又は不飽和シクロアルキル基、飽和又は不飽和へテロシクロアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、アリールアルキル基、アルキルアリール基、ヘテロアルキルアリール基、及び、これらの内の任意の2つの基(同一でもよい)を有しそれらが直接又は結合基により相互に連結された基から選ばれる。ヘテロ原子としては、O、N又はSが挙げられ、結合基としては、−O−、炭素数1〜10のアルキレン基、−SO−、−CO−又は−CO−NR−(Rはメチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数1〜3のアルキル基又は水素原子を含む)が挙げられる。 More specifically, A represents, for example, a saturated or unsaturated cycloalkyl group, a saturated or unsaturated heterocycloalkyl group, an aryl group, a heteroaryl group, an arylalkyl group, an alkylaryl group, a heteroalkylaryl group, and , Selected from groups having any two of these groups (which may be the same), which are connected to each other directly or by a linking group. Examples of the hetero atom include O, N, or S, and examples of the bonding group include —O—, an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, —SO 2 —, —CO—, or —CO—NR— (R represents methyl. Group, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms such as an ethyl group or a propyl group, or a hydrogen atom).

Aで表される2価の有機基の炭素数は、通常2〜40であり、好ましくは5〜32であり、より好ましくは12〜28であり、さらに好ましくは24〜27である。   Carbon number of the bivalent organic group represented by A is 2-40 normally, Preferably it is 5-32, More preferably, it is 12-28, More preferably, it is 24-27.

Aの具体例としては、以下の式(30)、式(31)、式(32)、式(33)又は式(34)で表される基が挙げられる。式中の*は結合手を示す。Z〜Zは、それぞれ独立して、単結合、−O−、−CH−、−C(CH−、−SO−、−CO−又は―CO―NR−(Rはメチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数1〜3のアルキル基又は水素原子を表す)を表す。下記の基において、ZとZ、及び、ZとZは、それぞれ、各環に対してメタ位又はパラ位にあることが好ましい。また、Zと末端の単結合、Zと末端の単結合、及び、Zと末端の単結合とは、メタ位又はパラ位にあることが好ましい。1つの例は、Z及びZが−O−であり、かつ、Zが−CH−、−C(CH−又は−SO−である。これらの基の水素原子の1つ又は2つ以上が、フッ素系置換基で置換されていてもよい。 Specific examples of A include groups represented by the following formula (30), formula (31), formula (32), formula (33), or formula (34). * In the formula indicates a bond. Z 1 to Z 3 are each independently a single bond, —O—, —CH 2 —, —C (CH 3 ) 2 —, —SO 2 —, —CO— or —CO—NR— (R is Represents a C 1-3 alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, or a propyl group, or a hydrogen atom. In the following groups, Z 1 and Z 2 , and Z 2 and Z 3 are each preferably in the meta position or the para position with respect to each ring. Further, it is preferable that Z 1 and the single bond at the end, Z 2 and the single bond at the end, and Z 3 and the single bond at the end are in the meta position or the para position. In one example, Z 1 and Z 3 are —O— and Z 2 is —CH 2 —, —C (CH 3 ) 2 — or —SO 2 —. One or two or more hydrogen atoms of these groups may be substituted with a fluorine-based substituent.

Figure 2017025204
Figure 2017025204

A及びGの少なくとも一方において、少なくとも1つの水素原子が、フッ素系置換基、水酸基、スルホン基、炭素数1〜10のアルキル基等からなる群から選ばれる少なくとも1種の官能基で置換されていてもよい。また、A及びGがそれぞれ環式脂肪族基又は芳香族基である場合に、A及びGの少なくとも一方がフッ素系置換基を有することが好ましく、A及びGの両方がフッ素系置換基を有することがより好ましい。   In at least one of A and G, at least one hydrogen atom is substituted with at least one functional group selected from the group consisting of a fluorine-based substituent, a hydroxyl group, a sulfone group, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and the like. May be. In addition, when A and G are each a cyclic aliphatic group or an aromatic group, it is preferable that at least one of A and G has a fluorine-based substituent, and both A and G have a fluorine-based substituent. It is more preferable.

式(a)中のGは、3価の基である点以外は、式(PI)中のGと同様の基から選択することができる。例えば、Gは、Gの具体例として例示された式(20)〜式(26)で表される基における4つの結合手のうちいずれか1つが水素原子に置き換わった基であってもよい。式(a)中のAは式(PI)中のAと同様の基から選択することができる。 G 2 in formula (a) can be selected from the same groups as G in formula (PI) except that it is a trivalent group. For example, G 2 may be a group in which any one of the four bonds in the groups represented by Formula (20) to Formula (26) exemplified as specific examples of G is replaced with a hydrogen atom. . A 2 in formula (a) can be selected from the same groups as A in formula (PI).

式(a’)中のGは、式(PI)中のGと同様の基から選択することができる。式(a’)中のAは、式(PI)中のAと同様の基から選択することができる。 G 3 in formula (a ′) can be selected from the same groups as G in formula (PI). A 3 in formula (a ′) can be selected from the same groups as A in formula (PI).

式(b)中のGは、2価の基である点以外は、式(PI)中のGと同様の基から選択することができる。例えば、Gは、Gの具体例として例示された式(20)〜式(26)で表される基における4つの結合手のうちいずれか2つが水素原子に置き換わった基であってもよい。式(b)中のAは、式(PI)中のAと同様の基から選択することができる。 G 4 in formula (b) can be selected from the same groups as G in formula (PI) except that it is a divalent group. For example, G 4 may be a group in which any two of the four bonds in the groups represented by formulas (20) to (26) exemplified as specific examples of G are replaced with hydrogen atoms. . A 4 in formula (b) can be selected from the same groups as A in formula (PI).

樹脂フィルム10に含まれるポリイミド系高分子は、ジアミン類と、テトラカルボン酸化合物(酸クロライド化合物およびテトラカルボン酸二無水物などのテトラカルボン酸化合物類縁体を含む)又はトリカルボン酸化合物(酸クロライド化合物およびトリカルボン酸無水物などのトリカルボン酸化合物類縁体を含む)の少なくとも1種類と重縮合することにより得られる縮合型高分子であってもよい。さらにジカルボン酸化合物(酸クロライド化合物などの類縁体を含む)を重縮合させてもよい。式(PI)又は式(a’)で表される繰り返し構造単位は、通常、ジアミン類及びテトラカルボン酸化合物から誘導される。式(a)で表される繰り返し構造単位は、通常、ジアミン類及びトリカルボン酸化合物から誘導される。式(b)の繰り返し構造単位は、通常、ジアミン類及びジカルボン酸化合物から誘導される。   The polyimide polymer contained in the resin film 10 is composed of a diamine and a tetracarboxylic acid compound (including tetracarboxylic acid compound analogs such as an acid chloride compound and tetracarboxylic dianhydride) or a tricarboxylic acid compound (acid chloride compound). And a condensed polymer obtained by polycondensation with at least one of tricarboxylic acid compound analogs such as tricarboxylic acid anhydride). Further, dicarboxylic acid compounds (including analogs such as acid chloride compounds) may be polycondensed. The repeating structural unit represented by the formula (PI) or the formula (a ′) is usually derived from a diamine and a tetracarboxylic acid compound. The repeating structural unit represented by the formula (a) is usually derived from diamines and tricarboxylic acid compounds. The repeating structural unit of the formula (b) is usually derived from diamines and dicarboxylic acid compounds.

テトラカルボン酸化合物としては、芳香族テトラカルボン酸化合物、脂環式テトラカルボン酸化合物及び非環式脂肪族テトラカルボン酸化合物が挙げられる。これらは、2種以上併用してもよい。テトラカルボン酸化合物は、好ましくはテトラカルボン酸二無水物である。テトラカルボン酸二無水物としては、芳香族テトラカルボン酸二無水物、脂環式テトラカルボン酸二無水物、非環式脂肪族テトラカルボン酸二無水物が挙げられる。   Examples of the tetracarboxylic acid compound include aromatic tetracarboxylic acid compounds, alicyclic tetracarboxylic acid compounds, and acyclic aliphatic tetracarboxylic acid compounds. Two or more of these may be used in combination. The tetracarboxylic acid compound is preferably tetracarboxylic dianhydride. Examples of tetracarboxylic dianhydrides include aromatic tetracarboxylic dianhydrides, alicyclic tetracarboxylic dianhydrides, and acyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydrides.

溶剤に対する溶解性、樹脂フィルム10を形成した場合の透明性及び屈曲性の観点から、テトラカルボン酸化合物は、脂環式テトラカルボン化合物及び芳香族テトラカルボン酸化合物等であることが好ましい。樹脂フィルムの透明性及び着色の抑制の観点から、テトラカルボン酸化合物は、フッ素系置換基を有する脂環式テトラカルボン酸化合物及びフッ素系置換基を有する芳香族テトラカルボン酸化合物であることが好ましく、脂環式テトラカルボン酸化合物であることがさらに好ましい。   From the viewpoint of solubility in a solvent, transparency when the resin film 10 is formed, and flexibility, the tetracarboxylic acid compound is preferably an alicyclic tetracarboxylic compound, an aromatic tetracarboxylic acid compound, or the like. From the viewpoint of transparency of the resin film and suppression of coloring, the tetracarboxylic acid compound is preferably an alicyclic tetracarboxylic acid compound having a fluorine-based substituent and an aromatic tetracarboxylic acid compound having a fluorine-based substituent. More preferably, it is an alicyclic tetracarboxylic acid compound.

トリカルボン酸化合物としては、芳香族トリカルボン酸、脂環式トリカルボン酸、非環式脂肪族トリカルボン酸およびそれらの類縁の酸クロライド化合物、酸無水物等が挙げられる。トリカルボン酸化合物は、好ましくは芳香族トリカルボン酸、脂環式トリカルボン酸、非環式脂肪族トリカルボン酸およびそれらの類縁の酸クロライド化合物である。トリカルボン酸化合物は、2種以上併用してもよい。   Examples of the tricarboxylic acid compounds include aromatic tricarboxylic acids, alicyclic tricarboxylic acids, acyclic aliphatic tricarboxylic acids, and related acid chloride compounds, acid anhydrides, and the like. The tricarboxylic acid compounds are preferably aromatic tricarboxylic acids, alicyclic tricarboxylic acids, acyclic aliphatic tricarboxylic acids, and related acid chloride compounds. Two or more tricarboxylic acid compounds may be used in combination.

溶剤に対する溶解性、樹脂フィルム10を形成した場合の透明性及び屈曲性の観点から、トリカルボン酸化合物は、脂環式トリカルボン酸化合物及び芳香族トリカルボン酸化合物であることが好ましい。樹脂フィルムの透明性及び着色の抑制の観点から、トリカルボン酸化合物は、フッ素系置換基を有する脂環式トリカルボン酸化合物及びフッ素系置換基を有する芳香族トリカルボン酸化合物であることが好ましい。   From the viewpoint of solubility in a solvent, transparency when the resin film 10 is formed, and flexibility, the tricarboxylic acid compound is preferably an alicyclic tricarboxylic acid compound and an aromatic tricarboxylic acid compound. From the viewpoint of transparency of the resin film and suppression of coloring, the tricarboxylic acid compound is preferably an alicyclic tricarboxylic acid compound having a fluorine-based substituent and an aromatic tricarboxylic acid compound having a fluorine-based substituent.

ジカルボン酸化合物としては、芳香族ジカルボン酸、脂環式ジカルボン酸、非環式脂肪族ジカルボン酸およびそれらの類縁の酸クロライド化合物、酸無水物等が挙げられる。ジカルボン酸化合物は、好ましくは芳香族ジカルボン酸、脂環式ジカルボン酸、非環式脂肪族ジカルボン酸およびそれらの類縁の酸クロライド化合物である。ジカルボン酸化合物は、2種以上併用してもよい。   Examples of the dicarboxylic acid compounds include aromatic dicarboxylic acids, alicyclic dicarboxylic acids, acyclic aliphatic dicarboxylic acids, and related acid chloride compounds, acid anhydrides, and the like. The dicarboxylic acid compounds are preferably aromatic dicarboxylic acids, alicyclic dicarboxylic acids, acyclic aliphatic dicarboxylic acids, and related acid chloride compounds. Two or more dicarboxylic acid compounds may be used in combination.

溶剤に対する溶解性、樹脂フィルム10を形成した場合の透明性及び屈曲性の観点から、ジカルボン酸化合物は、脂環式ジカルボン酸化合物及び芳香族ジカルボン酸化合物であることが好ましい。樹脂フィルムの透明性及び着色の抑制の観点から、ジカルボン酸化合物は、フッ素系置換基を有する脂環式ジカルボン酸化合物及びフッ素系置換基を有する芳香族ジカルボン酸化合物であることがさらに好ましい。   From the viewpoints of solubility in a solvent, transparency when the resin film 10 is formed, and flexibility, the dicarboxylic acid compound is preferably an alicyclic dicarboxylic acid compound and an aromatic dicarboxylic acid compound. From the viewpoint of transparency of the resin film and suppression of coloring, the dicarboxylic acid compound is more preferably an alicyclic dicarboxylic acid compound having a fluorine-based substituent and an aromatic dicarboxylic acid compound having a fluorine-based substituent.

ジアミン類として、芳香族ジアミン、脂環式ジアミン及び脂肪族ジアミンが挙げられる。ジアミン類は、2種以上併用してもよい。溶剤に対する溶解性、樹脂フィルム10を形成した場合の透明性及び屈曲性の観点から、ジアミン類は、脂環式ジアミン及びフッ素系置換基を有する芳香族ジアミンであることが好ましい。   Examples of diamines include aromatic diamines, alicyclic diamines, and aliphatic diamines. Two or more diamines may be used in combination. From the viewpoints of solubility in a solvent, transparency when the resin film 10 is formed, and flexibility, the diamine is preferably an alicyclic diamine and an aromatic diamine having a fluorine-based substituent.

ポリイミド系高分子は、異なる種類の複数の上記の繰り返し単位を含む共重合体でもよい。ポリイミド系高分子の重量平均分子量は、通常10,000〜500,000である。ポリイミド系高分子の重量平均分子量は、好ましくは50,000〜500,000であり、さらに好ましくは70,000〜400,000である。重量平均分子量は、GPCで測定した標準ポリスチレン換算分子量である。ポリイミド系高分子の重量平均分子量が大きい方が高い屈曲性を得られやすい傾向があるが、ポリイミド系高分子の重量平均分子量が大きすぎると、ワニスの粘度が高くなり、加工性が低下する傾向がある。   The polyimide-based polymer may be a copolymer including a plurality of different types of the above repeating units. The weight average molecular weight of the polyimide polymer is usually 10,000 to 500,000. The weight average molecular weight of the polyimide polymer is preferably 50,000 to 500,000, more preferably 70,000 to 400,000. The weight average molecular weight is a standard polystyrene equivalent molecular weight measured by GPC. The higher the weight average molecular weight of the polyimide polymer, the easier it is to obtain higher flexibility, but if the weight average molecular weight of the polyimide polymer is too large, the viscosity of the varnish tends to increase and the workability tends to decrease. There is.

ポリイミド系高分子は、上述のフッ素系置換基等によって導入できるフッ素原子等のハロゲン原子を含んでいてもよい。ポリイミド系高分子がハロゲン原子を含むことにより、樹脂フィルムの弾性率を向上させ且つ黄色度を低減させることができる。これにより、樹脂フィルムにキズ及びシワ等が発生することを抑制し、且つ、樹脂フィルムの透明性を向上させることができる。ハロゲン原子として好ましくは、フッ素原子である。ポリイミド系高分子におけるハロゲン原子の含有量は、ポリイミド系高分子の質量を基準として、1質量%〜40質量%であることが好ましく、1質量%〜30質量%であることがより好ましい。   The polyimide-based polymer may contain a halogen atom such as a fluorine atom that can be introduced by the above-described fluorine-based substituent. When the polyimide polymer contains a halogen atom, the elastic modulus of the resin film can be improved and the yellowness can be reduced. Thereby, it can suppress that a crack, wrinkles, etc. generate | occur | produce in a resin film, and can improve the transparency of a resin film. A halogen atom is preferably a fluorine atom. The content of halogen atoms in the polyimide polymer is preferably 1% by mass to 40% by mass, more preferably 1% by mass to 30% by mass, based on the mass of the polyimide polymer.

樹脂フィルム10は、1種又は2種以上の紫外線吸収剤を含有していてもよい。紫外線吸収剤は、樹脂材料の分野で紫外線吸収剤として通常用いられているものから、適宜選択することができる。紫外線吸収剤は、400nm以下の波長の光を吸収する化合物を含んでいてもよい。ポリイミド系高分子と適切に組み合わせることのできる紫外線吸収剤としては、例えば、ベンゾフェノン系化合物、サリシレート系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、及びトリアジン系化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物が挙げられる。
本明細書において、「系化合物」とは、当該「系化合物」が付される化合物の誘導体を指す。例えば、「ベンゾフェノン系化合物」とは、母体骨格としてのベンゾフェノンと、ベンゾフェノンに結合している置換基とを有する化合物を指す。
The resin film 10 may contain 1 type, or 2 or more types of ultraviolet absorbers. The ultraviolet absorber can be appropriately selected from those usually used as an ultraviolet absorber in the field of resin materials. The ultraviolet absorber may contain a compound that absorbs light having a wavelength of 400 nm or less. Examples of the ultraviolet absorber that can be appropriately combined with the polyimide polymer include at least one compound selected from the group consisting of benzophenone compounds, salicylate compounds, benzotriazole compounds, and triazine compounds. .
In the present specification, the “system compound” refers to a derivative of the compound to which the “system compound” is attached. For example, a “benzophenone compound” refers to a compound having benzophenone as a host skeleton and a substituent bonded to benzophenone.

紫外線吸収剤の量は、樹脂フィルムの全体質量に対して、通常1質量%以上であり、好ましくは2質量%以上であり、より好ましくは3質量%以上であり、通常10質量%以下であり、好ましくは8質量%以下であり、より好ましくは6質量%以下である。紫外線吸収剤がこれらの量で含まれることで、樹脂フィルム10の耐候性を特に効果的に高めることができる。   The amount of the ultraviolet absorber is usually 1% by mass or more, preferably 2% by mass or more, more preferably 3% by mass or more, and usually 10% by mass or less with respect to the total mass of the resin film. , Preferably it is 8 mass% or less, More preferably, it is 6 mass% or less. By including the ultraviolet absorber in these amounts, the weather resistance of the resin film 10 can be particularly effectively enhanced.

(残存溶媒)
ポリイミド系フィルムは、γブチロラクトン(以下、GBLと記載する場合がある)の質量割合をG(ppm)、N,N−ジメチルアセトアミド(以下、DMACと記載する場合がある)の質量割合をD(ppm)としたときに、30≦G+D≦10000を満たす。
好ましくは、100≦G+Dであり、G+D≦8000である。G及びDのいずれか一方は、0であってもよい。
(Residual solvent)
The polyimide film has a mass ratio of γ-butyrolactone (hereinafter sometimes referred to as GBL) as G (ppm) and a mass ratio of N, N-dimethylacetamide (hereinafter sometimes referred to as DMAC) as D ( ppm), 30 ≦ G + D ≦ 10000 is satisfied.
Preferably, 100 ≦ G + D and G + D ≦ 8000. Either one of G and D may be zero.

なお、ポリイミド系フィルムは、ジメチルホルムアミド(DMF)やジメチルスルホキシド(DMSO)などの他の有機溶媒を含むこともできるが、これらの合計の質量割合は、30ppm以下であることが好ましい。   In addition, although a polyimide-type film can also contain other organic solvents, such as a dimethylformamide (DMF) and a dimethylsulfoxide (DMSO), it is preferable that these total mass ratios are 30 ppm or less.

(無機粒子)
ポリイミド系フィルムは、強度を高める観点から、無機粒子を更に含有することができる。無機粒子としてはケイ素原子を含む粒子が挙げられ、ケイ素原子を含む粒子としては、シリカ粒子が挙げられる。無機粒子の他の例は、チタニア粒子、アルミナ粒子、ジルコニア粒子等が挙げられる。
(Inorganic particles)
The polyimide film can further contain inorganic particles from the viewpoint of increasing the strength. Examples of inorganic particles include particles containing silicon atoms, and examples of particles containing silicon atoms include silica particles. Other examples of inorganic particles include titania particles, alumina particles, zirconia particles, and the like.

無機粒子の平均一次粒子径は、通常10nm〜100nmであり、20nm〜80nmであることが好ましい。無機粒子の平均一次粒子径が上記の範囲内であることが好ましい理由は、平均一次粒子径が100nm以下であるとフィルムの透明性が向上するとともに、平均一次粒子径が10nm以上であるとフィルムの強度が向上するためである。また、シリカ粒子の平均一次粒子径が10nm以上であると、シリカ粒子の凝集力が弱まるために取り扱いやすくなる傾向がある。一次粒子径の測定は、透過型電子顕微鏡(TEM)による定方向径の10点平均値とすることができる。   The average primary particle diameter of the inorganic particles is usually 10 nm to 100 nm, and preferably 20 nm to 80 nm. The reason why the average primary particle size of the inorganic particles is preferably within the above range is that the transparency of the film is improved when the average primary particle size is 100 nm or less, and the film has an average primary particle size of 10 nm or more. It is because the intensity | strength of improves. In addition, when the average primary particle diameter of the silica particles is 10 nm or more, the cohesive force of the silica particles is weakened, so that the handling tends to be easy. The measurement of the primary particle diameter can be an average value of 10 points of the fixed direction diameter by a transmission electron microscope (TEM).

ポリイミド系フィルムにおいて、ポリイミドと無機粒子との配合比は、質量比で、1:9〜10:0であることが好ましく、3:7〜10:0であることがより好ましく、3:7〜8:2であることがさらに好ましく、3:7〜7:3であることがよりさらに好ましい。ポリイミドと無機粒子との配合比が上記の範囲内であると、透明性や機械的強度が向上する傾向を示す。   In the polyimide film, the mixing ratio of the polyimide and the inorganic particles is preferably 1: 9 to 10: 0, more preferably 3: 7 to 10: 0, more preferably 3: 7 to mass ratio. 8: 2 is more preferable, and 3: 7 to 7: 3 is even more preferable. When the compounding ratio of polyimide and inorganic particles is within the above range, transparency and mechanical strength tend to be improved.

無機粒子同士は、シロキサン結合(−SiOSi−)を有する分子により結合されていてもよい。   The inorganic particles may be bonded by molecules having a siloxane bond (—SiOSi—).

ポリイミド系フィルムは、透明性および屈曲性を損なわない範囲で、更に他の成分を含有していてもよい。他の成分としては、例えば、酸化防止剤、離型剤、安定剤、ブルーイング剤、難燃剤、滑剤、増粘剤及びレベリング剤等が挙げられる。   The polyimide film may further contain other components as long as transparency and flexibility are not impaired. Examples of other components include antioxidants, mold release agents, stabilizers, bluing agents, flame retardants, lubricants, thickeners, and leveling agents.

ポリイミドフィルムは、オルトケイ酸テトラエチル(TEOS)等の4級アルコキシシラン、シルセスキオキサン誘導体等の有機ケイ素化合物を含むこともできる。   The polyimide film may also contain an organic silicon compound such as a quaternary alkoxysilane such as tetraethyl orthosilicate (TEOS) or a silsesquioxane derivative.

ポリイミド、無機材料及び溶媒以外の成分は、樹脂フィルム10の質量に対して、0%超20質量%以下であることが好ましく、0%超10質量%以下であることがより好ましい。   Components other than the polyimide, the inorganic material, and the solvent are preferably more than 0% and 20% by mass or less, more preferably more than 0% and 10% by mass or less based on the mass of the resin film 10.

ポリイミド系フィルムの厚さは、用途に応じて適宜調整されるが、通常、10μm〜500μmであり、15μm〜200μmであることが好ましく、20μm〜100μmであることがより好ましい。   Although the thickness of a polyimide-type film is suitably adjusted according to a use, it is 10 micrometers-500 micrometers normally, it is preferable that they are 15 micrometers-200 micrometers, and it is more preferable that they are 20 micrometers-100 micrometers.

このポリイミド系フィルムは、JIS K 7136:2000に準拠した全光線透過率が85%以上であることが好ましく、より好ましくは90%以上である。
また、このポリイミド系フィルムは、JIS K 7136:2000に準拠したHazeが2以下であることが好ましく、1以下であることがより好ましく、0.9以下であることが更に好ましい。
また、このポリイミド系フィルムは、JIS K 7373:2006に準拠した黄色度YIが10以下であり、好ましくは、5以下である。
Hazeが2以下であることはフィルムが実質的に透明であることを意味し、YIが10以下であることはフィルムが実質的に無色であることを意味する。
The polyimide film preferably has a total light transmittance of 85% or more based on JIS K 7136: 2000, more preferably 90% or more.
In addition, the polyimide film has a haze based on JIS K 7136: 2000 of preferably 2 or less, more preferably 1 or less, and even more preferably 0.9 or less.
Further, this polyimide film has a yellowness YI based on JIS K 7373: 2006 of 10 or less, preferably 5 or less.
A haze of 2 or less means that the film is substantially transparent, and a YI of 10 or less means that the film is substantially colorless.

このようなポリイミド系フィルムは、フィルム形成用基材からの剥離が容易であり、その結果外観に優れる。基材からの剥離性が容易である理由は明らかではないが、以下のような理由が考えられる。G+Dが10000を超えると、未だフィルム形成用基材に対し濡れ性が高い溶媒が残存している為か、フィルム形成用基材との密着性が高く、剥離性が不安定になり、一部剥離不良に伴う折れ痕等の外観不良が発生し易い傾向がある。一方、G+Dが30未満であると、再びフィルム形成用基材との密着性が高くなる傾向となり、剥離が困難となることが考えられる。   Such a polyimide film is easy to peel from the film-forming substrate, and as a result, has an excellent appearance. The reason why the peelability from the substrate is easy is not clear, but the following reasons are conceivable. When G + D exceeds 10,000, the solvent with high wettability with respect to the film-forming substrate still remains, or the adhesiveness with the film-forming substrate is high, and the peelability becomes unstable. There is a tendency that appearance defects such as fold marks accompanying separation failure are likely to occur. On the other hand, when G + D is less than 30, the adhesiveness with the film-forming substrate tends to increase again, and it is considered that peeling becomes difficult.

(製造方法)
次に、本実施形態のポリイミド系フィルムの製造方法を説明する。
公知のポリイミド等の合成手法を用いて、重合された溶媒可溶なポリイミド系高分子を溶媒に溶解し、ポリイミド系高分子ワニスを調製する。ポリイミド系高分子としては、溶媒可溶なポリイミド系高分子であればよく前述の構造であることができる。
(Production method)
Next, the manufacturing method of the polyimide-type film of this embodiment is demonstrated.
Using a known synthesis method such as polyimide, the polymerized solvent-soluble polyimide polymer is dissolved in a solvent to prepare a polyimide polymer varnish. Any polyimide-based polymer may be used as long as it is a solvent-soluble polyimide-based polymer.

溶媒は、少なくとも、上述したγブチロラクトン、及び/又は、N,N−ジメチルアセトアミドを含む。溶媒がγブチロラクトン及びN,N−ジメチルアセトアミドの混合物である場合、これらの比率は任意である。溶媒は、DMFやDMSOなどの他の有機溶媒を含むこともできるが、全溶媒中のγブチロラクトン及びN,N−ジメチルアセトアミドの質量割合は80%以上であることが好ましく、90%以上であることが好ましい。   The solvent contains at least γ-butyrolactone and / or N, N-dimethylacetamide as described above. When the solvent is a mixture of γ-butyrolactone and N, N-dimethylacetamide, these ratios are arbitrary. The solvent may include other organic solvents such as DMF and DMSO, but the mass ratio of γ-butyrolactone and N, N-dimethylacetamide in the total solvent is preferably 80% or more, and 90% or more. It is preferable.

ポリイミドワニスは、上記溶媒以外に水を含有することができる。水の含有量は、ワニス中の固形分100質量部に対して、通常0.1〜20質量部である。   The polyimide varnish can contain water in addition to the above solvent. Content of water is 0.1-20 mass parts normally with respect to 100 mass parts of solid content in a varnish.

ポリイミドワニスは、さらに、上述の無機粒子を含有することができる。ポリイミドワニスが無機粒子を含む場合には、ワニスが水を含有することが好ましい。   The polyimide varnish can further contain the above-described inorganic particles. When the polyimide varnish contains inorganic particles, the varnish preferably contains water.

ポリイミドワニスが無機粒子を含有する場合、ワニスは、溶液安定性を向上させるために、アルコキシシランなどの金属アルコキシドを含有してもよい。好ましい金属アルコキシドは、アミノ基を有するアルコキシシランである。アルコキシシランは、無機粒子同士の結合形成に寄与する。
金属アルコキシドの添加量は、無機粒子の100質量部に対して、通常0.1〜10質量部であり、0.5〜5質量部であることが好ましい。
When the polyimide varnish contains inorganic particles, the varnish may contain a metal alkoxide such as alkoxysilane in order to improve solution stability. A preferred metal alkoxide is an alkoxysilane having an amino group. Alkoxysilane contributes to bond formation between inorganic particles.
The addition amount of a metal alkoxide is 0.1-10 mass parts normally with respect to 100 mass parts of inorganic particles, and it is preferable that it is 0.5-5 mass parts.

また、ポリイミドワニスには、さらなる添加剤が添加されていてもよく、添加剤として、例えば、酸化防止剤、離型剤、安定剤、ブルーイング剤、難燃剤、滑剤、増粘剤、及びレベリング剤等を添加してもよい。   Further additives may be added to the polyimide varnish. Examples of the additives include antioxidants, mold release agents, stabilizers, bluing agents, flame retardants, lubricants, thickeners, and leveling. An agent or the like may be added.

次いで、公知のロール・ツー・ロールやバッチ方式により、PETフィルム、SUSベルト、及び、ガラス板等の基材上に、上記のワニスを塗布して塗膜を形成する。次に、その塗膜を乾燥して溶媒を除去し、ポリイミド系フィルムを形成する。その後、フィルムを基材から剥離する。   Next, the varnish is applied onto a substrate such as a PET film, a SUS belt, and a glass plate by a known roll-to-roll or batch method to form a coating film. Next, the coating film is dried to remove the solvent, thereby forming a polyimide film. Thereafter, the film is peeled off from the substrate.

特に、本実施形態では、剥離前のフィルムが30≦G+D≦10000を満たすようにフィルムの乾燥を行う。
溶媒の乾燥は、温度50℃〜350℃にて、適宜、不活性雰囲気あるいは減圧の条件下に溶媒を蒸発させることにより行うことができる。G+Dの調節は、乾燥温度、乾燥時間、乾燥雰囲気圧力の調整、溶媒の組成の調整、例えば、γブチロラクトン及びN,N−ジメチルアセトアミドの混合比、水の濃度等の調整、ポリイミドの分子構造の選択等により適宜行うことができる。
In particular, in this embodiment, the film is dried so that the film before peeling satisfies 30 ≦ G + D ≦ 10000.
The solvent can be dried at a temperature of 50 ° C. to 350 ° C. by appropriately evaporating the solvent in an inert atmosphere or under reduced pressure. Adjustment of G + D is adjustment of drying temperature, drying time, drying atmosphere pressure, adjustment of solvent composition, for example, adjustment of mixing ratio of γ-butyrolactone and N, N-dimethylacetamide, concentration of water, etc., molecular structure of polyimide It can be appropriately performed depending on selection.

(用途)
このようなポリイミド系フィルムは、基材からの剥離性に優れるので、外観が向上し、フレキシブルディスプレイの構成要素として好適に使用できる。例えば、フレキシブルディスプレイの表面保護用の前面板(ウィンドウフィルム)として使用することができる。
また、このポリイミドフィルムに、紫外線吸収層、ハードコート層、粘着層、色相調整層、屈折率調整層などの種々の機能層を付加した積層体とすることもできる。
(Use)
Since such a polyimide film is excellent in peelability from the substrate, the appearance is improved and can be suitably used as a component of a flexible display. For example, it can be used as a front plate (window film) for protecting the surface of a flexible display.
Moreover, it can also be set as the laminated body which added various functional layers, such as an ultraviolet absorption layer, a hard-coat layer, an adhesion layer, a hue adjustment layer, a refractive index adjustment layer, to this polyimide film.

以下、実施例および比較例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a comparative example demonstrate this invention further more concretely, this invention is not limited to a following example.

(実施例1)
窒素置換した重合槽に、式(1)で表される化合物、式(2)で表される化合物、式(3)で表される化合物、溶媒(γブチロラクトン及びジメチルアセトアミド)及び触媒1.5gを仕込んだ。仕込み量は、式(1)で表される化合物75.0g、式(2)で表される化合物36.5g、式(3)で表される化合物76.4g、γブチロラクトン438.4g、ジメチルアセトアミド313.1gとした。式(2)で表される化合物と式(3で表される化合物とのモル比は3:7、式(2)で表される化合物及び式(3)で表される化合物の合計と式(1)で表される化合物とのモル比は、1.00:1.02であった。

Figure 2017025204
Example 1
In a polymerization tank substituted with nitrogen, a compound represented by formula (1), a compound represented by formula (2), a compound represented by formula (3), a solvent (γ-butyrolactone and dimethylacetamide) and 1.5 g of a catalyst. Was charged. The amount charged was 75.0 g of the compound represented by formula (1), 36.5 g of the compound represented by formula (2), 76.4 g of the compound represented by formula (3), 438.4 g of γ-butyrolactone, dimethyl Acetamide was 313.1 g. The molar ratio of the compound represented by Formula (2) and the compound represented by Formula (3 is 3: 7, the sum of the compound represented by Formula (2) and the compound represented by Formula (3) and the formula The molar ratio with the compound represented by (1) was 1.00: 1.02.
Figure 2017025204

重合槽内の混合物を攪拌して原料を溶媒に溶解させた後、混合物を100℃まで昇温し、その後、200℃まで昇温し、4時間保温して、ポリイミドを重合した。なお、この加熱中に、液中の水を除去した。その後、精製及び乾燥により、ポリイミドを得た。   After stirring the mixture in the polymerization tank and dissolving the raw materials in the solvent, the temperature of the mixture was raised to 100 ° C., and then the temperature was raised to 200 ° C. and kept warm for 4 hours to polymerize the polyimide. During this heating, water in the liquid was removed. Then, the polyimide was obtained by refinement | purification and drying.

次に、濃度20質量%に調整したポリイミドのγブチロラクトン溶液、γブチロラクトンに固形分濃度30質量%のシリカ粒子を分散した溶液、アミノ基を有するアルコキシシランのジメチルアセトアミド溶液、及び、水を混合し、30分間攪拌した。   Next, a polyimide γ-butyrolactone solution adjusted to a concentration of 20% by mass, a solution in which silica particles having a solid content concentration of 30% by mass are dispersed in γ-butyrolactone, a dimethylacetamide solution of an alkoxysilane having an amino group, and water are mixed. And stirred for 30 minutes.

ここで、シリカとポリイミドの質量比を60:40、アミノ基を有するアルコキシシランの量をシリカ及びポリイミドの合計100質量部に対して1.67部、水をシリカ及びポリイミドの合計100質量部に対して10質量部とした。   Here, the mass ratio of silica and polyimide is 60:40, the amount of alkoxysilane having an amino group is 1.67 parts relative to 100 parts by mass of silica and polyimide, and water is 100 parts by mass of silica and polyimide. The amount was 10 parts by mass.

混合溶液を、ガラス基板に塗布し、50℃で30分、140℃で10分、210℃で1時間加熱して溶媒の乾燥をしてポリイミド系フィルムを形成した。その後、フィルムをガラス基板から剥離して厚み75μmの透明ポリイミド系フィルムを得た。   The mixed solution was applied to a glass substrate, heated at 50 ° C. for 30 minutes, 140 ° C. for 10 minutes, and 210 ° C. for 1 hour to dry the solvent to form a polyimide film. Thereafter, the film was peeled from the glass substrate to obtain a transparent polyimide film having a thickness of 75 μm.

(実施例2)
式(1)で表される化合物に代えて1,2,4,5−シクロヘキサンテトラカルボン酸を用いてポリイミドを合成した以外は実施例1と同様とした。
(Example 2)
The same procedure as in Example 1 was performed except that polyimide was synthesized using 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic acid instead of the compound represented by formula (1).

(実施例3)
ポリイミドを三菱ガス化学社製「ネオプリム」とした以外は、実施例1と同様とした。
(Example 3)
Example 1 was repeated except that “Neoprim” manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Company was used as the polyimide.

(実施例4)
ポリイミドを三菱ガス化学社製「ネオプリム」とし、乾燥条件を210℃で20分とした以外は、実施例1と同様とした。
Example 4
The same procedure as in Example 1 was conducted except that “Neoprim” manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd. was used and the drying conditions were 210 ° C. for 20 minutes.

(比較例1)
実施例1の乾燥条件において、乾燥時間を短縮した以外は実施例1と同様とした。
(Comparative Example 1)
The drying conditions of Example 1 were the same as Example 1 except that the drying time was shortened.

(比較例2)
実施例4の乾燥温度を300℃ 3hとした以外は実施例4と同様とした。
(Comparative Example 2)
Example 4 was the same as Example 4 except that the drying temperature was 300 ° C. for 3 hours.

(フィルムの溶媒残存量)
フィルムを冷凍粉砕機(日本分析工業社製 Model JFC-300型)を用いてプレクール5分後10分間粉砕した。粉砕したフィルム約200mgを高速溶媒抽出装置(Dionex社製 ASE―200)を用い、温度140℃、圧力1000psi、時間10分、N2パージ100s、2−プロパノール(IPA)にて抽出した。抽出液に窒素を吹き付け、IPAを蒸発させ、アセトン0.2mLを加えた。得られたアセトン溶液を以下のガスクロマトグラフの条件にて分析し、絶対検量線法にてGBL(保持時間2.9分)およびDMAc(保持時間3.3分)の溶媒量を算出した。
装置:ガスクロマトグラフ(アジレント社製 ガスクロマトグラフ6890N型)
注入口温度:280℃
注入量:1μL
オーブン温度:50℃1分ホールド後、昇温速度20℃/分にて、350℃まで昇温後、350℃で5分ホールド。
キャリアガス:He 1.0ml/min
カラム:SGE社製BPX5 (0.25mmφ×30m 膜厚 0.25μm)
スプリット比:50:1
検出器:水素炎イオン化型検出器
検出器温度:355℃
(Residual amount of solvent in the film)
The film was pulverized using a freeze pulverizer (Model JFC-300, manufactured by Nippon Analytical Industrial Co., Ltd.) for 5 minutes and then for 10 minutes. About 200 mg of the pulverized film was extracted with a high-speed solvent extraction apparatus (ASE-200 manufactured by Dionex) at a temperature of 140 ° C., a pressure of 1000 psi, a time of 10 minutes, N 2 purge of 100 s, and 2-propanol (IPA). Nitrogen was blown over the extract to evaporate IPA, and 0.2 mL of acetone was added. The obtained acetone solution was analyzed under the conditions of the following gas chromatograph, and the solvent amounts of GBL (retention time 2.9 minutes) and DMAc (retention time 3.3 minutes) were calculated by the absolute calibration curve method.
Equipment: Gas chromatograph (Agilent gas chromatograph 6890N type)
Inlet temperature: 280 ° C
Injection volume: 1μL
Oven temperature: Hold at 50 ° C. for 1 minute, then heat up to 350 ° C. at a rate of temperature increase of 20 ° C./minute, and hold at 350 ° C. for 5 minutes.
Carrier gas: He 1.0ml / min
Column: SGE BPX5 (0.25mmφ × 30m thickness 0.25μm)
Split ratio: 50: 1
Detector: Hydrogen flame ionization type detector Detector temperature: 355 ° C

(剥離性の評価)
乾燥後のフィルムを基材から剥離する際の剥離性を以下のように評価した。
フィルムを基材の表面に対して90°となる引きはがし角度で、基材からフィルムを剥離した。安定した剥離強度と剥離速度で剥離できた場合を○とし、剥離強度あるいは剥離速度が不安定な場合を△とし、剥離強度と剥離速度が不安定な場合を×とした。
(Evaluation of peelability)
The peelability when peeling the dried film from the substrate was evaluated as follows.
The film was peeled from the substrate at a peeling angle of 90 ° with respect to the surface of the substrate. The case where peeling was possible with a stable peel strength and peel speed was marked with ◯, the case where the peel strength or peel speed was unstable was marked with Δ, and the case where the peel strength and peel speed were unstable were marked with x.

(外観の評価)
剥離後の各フィルムの外観を以下のように評価した。剥離不良なく外観良好なフィルムが得られた場合は○とし、剥離不良あるいは外観不良なフィルムが得られた場合を△とし、剥離時にフィルムの一部に折れ痕や破れ等の剥離不良が発生した場合は×とした。
(Appearance evaluation)
The appearance of each film after peeling was evaluated as follows. When a film with good appearance without peeling failure is obtained, ◯ is given, and when a film with poor peeling or poor appearance is obtained, △ is given, and peeling failure such as a crease or tear occurs in a part of the film at the time of peeling. In the case, it was set as x.

(YIの評価)
実施例および比較例のフィルムの黄色度(Yellow Index:YI)を、JIS K 7373:2006に準拠して日本分光社製の紫外可視近赤外分光光度計V−670によって測定した。サンプルがない状態でバックグランド測定を行った後、フィルムをサンプルホルダーにセットして、300nm〜800nmの光に対する透過率測定を行い、3刺激値(X、Y、Z)を求めた。YIを、下記の式に基づいて算出した。
YI=100×(1.28X−1.06Z)/Y
(Evaluation of YI)
The yellowness (Yellow Index: YI) of the films of Examples and Comparative Examples was measured with an ultraviolet-visible near-infrared spectrophotometer V-670 manufactured by JASCO Corporation based on JIS K 7373: 2006. After measuring the background in the absence of a sample, the film was set on a sample holder, the transmittance for light of 300 nm to 800 nm was measured, and tristimulus values (X, Y, Z) were obtained. YI was calculated based on the following formula.
YI = 100 × (1.28X−1.06Z) / Y

(Hazeの評価)
フィルムのHaze(%)を、JIS K 7136:2000に準拠して、スガ試験機社製の全自動直読ヘーズコンピューターHGM−2DPにより測定した。
(Evaluation of Haze)
The Haze (%) of the film was measured by a fully automatic direct reading haze computer HGM-2DP manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd. according to JIS K 7136: 2000.

(全光線透過率Trの評価)
フィルムの全光線透過率は、JIS K 7136:2000に準拠して、スガ試験機社製の全自動直読ヘーズコンピューターHGM−2DPにより測定した。これらの結果を表1に示す。

Figure 2017025204

(Evaluation of total light transmittance Tr)
The total light transmittance of the film was measured by a fully automatic direct reading haze computer HGM-2DP manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd. according to JIS K 7136: 2000. These results are shown in Table 1.
Figure 2017025204

Claims (5)

ポリイミド系高分子と、
γブチロラクトン及びN,N−ジメチルアセトアミドからなる群から選ばれる少なくとも一つと、を含有し、
黄色度が10以下であり、
γブチロラクトンの質量割合をG(ppm)、N,N−ジメチルアセトアミドの質量割合をD(ppm)としたときに、30≦G+D≦10000を満たすポリイミド系フィルム。
Polyimide polymer,
and at least one selected from the group consisting of γ-butyrolactone and N, N-dimethylacetamide,
Yellowness is 10 or less,
A polyimide film satisfying 30 ≦ G + D ≦ 10000, where G (ppm) is the mass proportion of γ-butyrolactone and D (ppm) is the mass proportion of N, N-dimethylacetamide.
ヘイズが2以下である請求項1記載のポリイミド系フィルム。   The polyimide film according to claim 1, wherein the haze is 2 or less. 全光線透過率が85%以上である請求項1又は2に記載のポリイミド系フィルム。   The polyimide film according to claim 1 or 2, wherein the total light transmittance is 85% or more. (a)γブチロラクトン及びN,N−ジメチルアセトアミドからなる群から選ばれる少なくとも一つ、並びに、ポリイミド系高分子を含む液を基材に塗布する工程と、
(b)塗布された液を乾燥させてフィルムを形成する工程と、
を備えるポリイミド系フィルムの製造方法であって、
前記フィルム中のγブチロラクトンの質量割合をG(ppm)、N,N−ジメチルアセトアミドの質量割合をD(ppm)としたときに、前記(b)工程後のフィルムが30≦G+D≦10000を満たすポリイミド系フィルムの製造方法。
(A) applying at least one selected from the group consisting of γ-butyrolactone and N, N-dimethylacetamide, and a liquid containing a polyimide polymer to a substrate;
(B) drying the applied liquid to form a film;
A method for producing a polyimide film comprising:
When the mass proportion of γ-butyrolactone in the film is G (ppm) and the mass proportion of N, N-dimethylacetamide is D (ppm), the film after the step (b) satisfies 30 ≦ G + D ≦ 10000. A method for producing a polyimide film.
さらに、(c)フィルムを基材からフィルムを剥離する工程を備える請求項4に記載のポリイミド系フィルムの製造方法。   Furthermore, the manufacturing method of the polyimide-type film of Claim 4 provided with the process of peeling a film from a base material (c).
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