JP2017021571A - Semiconductor integrated circuit, and design support device and design method therefor - Google Patents

Semiconductor integrated circuit, and design support device and design method therefor Download PDF

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信夫 中根
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To enable the execution of a LVS even though there is a wiring error in a portion of a semiconductor integrated circuit of a layout verification object.SOLUTION: A semiconductor integrated circuit includes a circuit netlist read part 102 for reading a circuit netlist, a circuit layout data read part 103 for reading circuit layout data, a cell library read part 104 for reading a cell library, and an untargeted verification region data read part 105 for reading untargeted verification region data representing an untargeted region in the circuit layout data. The semiconductor integrated circuit includes verifying data generation means (boundary recognition part 106, boundary information analysis part 107, verifying circuit netlist generation part 108, and verifying circuit layout data generation part 109) for generating circuit layout data and a circuit netlist of a verification target region on the basis of the read data.SELECTED DRAWING: Figure 2

Description

本発明は、半導体集積回路、その設計支援装置および設計方法に関する。   The present invention relates to a semiconductor integrated circuit, a design support apparatus and a design method thereof.

近年、LSI(Large Scale Integrated Circuit:大規模集積回路)などの開発は、テクノロジの微細化により更なる大規模化、高性能化、多機能化などが強く要求されている。そのため、従来と比べ開発が複雑になり設計期間が非常に長期化してきている。一方、LSIなどを搭載した製品は、より速く市場に投入するために設計期間の短縮を求められている。   In recent years, development of LSIs (Large Scale Integrated Circuits) and the like has been strongly demanded for further scale-up, higher performance, and multi-functionality due to technology miniaturization. For this reason, development is more complicated than in the past, and the design period has become very long. On the other hand, a product equipped with an LSI or the like is required to shorten a design period in order to be put on the market faster.

半導体集積回路のレイアウト設計において配置、配線工程の後にタイミング検証での設計保障を行う。その後、タイミング検証で設計保障の取れたデータに対してレイアウト検証での設計保障を行う必要がある。レイアウト検証は、レイアウト設計の最終工程であり、DRC(Design Rule Check:デザインルールチェック)、LVS(Layout vs Schematic:レイアウト対回路図比較照合検証)などの検証項目があることが知られている。   In the layout design of a semiconductor integrated circuit, the design is guaranteed by timing verification after the placement and wiring process. After that, it is necessary to guarantee the design by layout verification for the data whose design is guaranteed by the timing verification. Layout verification is the final step of layout design, and it is known that there are verification items such as DRC (Design Rule Check) and LVS (Layout vs Schematic).

図13は、特許文献1に記載されているレイアウト検証設計法の一例を示すフローチャートである。
図示のように、まず電子デバイスのマスクレイアウトパターン(回路レイアウトデータ)を読み込むとともに(ステップS101)、設計された回路情報(回路ネットリスト)を読み込む(ステップS102)。次にステップS101で読み込まれたマスクレイアウトパターンのDRCを行い(ステップS103)、次いでエラーがないか否かを判断する(ステップS104)。
FIG. 13 is a flowchart showing an example of the layout verification design method described in Patent Document 1.
As shown in the figure, first, a mask layout pattern (circuit layout data) of an electronic device is read (step S101), and designed circuit information (circuit netlist) is read (step S102). Next, DRC of the mask layout pattern read in step S101 is performed (step S103), and then it is determined whether or not there is an error (step S104).

DRCの結果、エラーが検出された場合は(ステップS104:No)、マスクレイアウトパターン修正が必要である(ステップS105)。一方、DRCの結果、エラーが検出されなかった場合は(ステップS104:Yes)、ステップS101で読み込まれたマスクレイアウトパターンのERC(Electrical Rule Check:電気的ルールチェック)を行い、信号線のオープン、ショートの検出等を行う(ステップS106)。   If an error is detected as a result of DRC (step S104: No), mask layout pattern correction is required (step S105). On the other hand, if no error is detected as a result of DRC (step S104: Yes), ERC (Electrical Rule Check) of the mask layout pattern read in step S101 is performed, and the signal line is opened. A short circuit is detected (step S106).

次にエラーがないか否かを判断する(ステップS107)。そして、ERCの結果、エラーが検出された場合は(ステップS107:No)、マスクレイアウトパターン修正が必要である(ステップS108)。一方、ERCの結果、エラーが検出されなかった場合は(ステップS107:Yes)、続いてステップS101で読み込まれたマスクレイアウトパターンとステップS102で読み込まれた回路情報とのLVSを行う(ステップS109)。   Next, it is determined whether or not there is an error (step S107). If an error is detected as a result of ERC (step S107: No), it is necessary to correct the mask layout pattern (step S108). On the other hand, if no error is detected as a result of ERC (step S107: Yes), LVS of the mask layout pattern read in step S101 and the circuit information read in step S102 is subsequently performed (step S109). .

次にエラーがないか否かを判断する(ステップS110)。LVSの結果、エラーが検出された場合は(ステップS110:No)、マスクレイアウトパターン修正が必要である(ステップS111)。一方、LVSの結果、エラーが検出されなかった場合は(ステップS110:Yes)、マスクレイアウトパターンと回路情報とが一致していることが検証される。   Next, it is determined whether or not there is an error (step S110). If an error is detected as a result of LVS (step S110: No), mask layout pattern correction is required (step S111). On the other hand, if no error is detected as a result of the LVS (step S110: Yes), it is verified that the mask layout pattern matches the circuit information.

このように従来のレイアウト設計検証法では、ERCでエラーが検出されなくなった後にLVSを実行している。その理由は、ERCでの配線エラー、特に配線ショートがある場合は誤った接続となっているため、この状態でLVSを実行しても回路情報とは不一致となり、LVSの検証結果の精度が落ちるからである。   Thus, in the conventional layout design verification method, LVS is executed after no error is detected by ERC. The reason is that, when there is a wiring error in ERC, particularly when there is a wiring short, it is an incorrect connection, so even if LVS is executed in this state, the circuit information does not match and the accuracy of the LVS verification result decreases. Because.

しかしながら、上記従来のレイアウト設計検証法では、レイアウト検証対象の回路全体で配線エラーがなくなるまでLVSが実行できないという問題がある。   However, the conventional layout design verification method has a problem that LVS cannot be executed until there is no wiring error in the entire layout verification target circuit.

本発明は、このような問題を解決するためになされたものであり、その目的は、レイアウト検証対象の半導体集積回路の一部に配線エラーがあってもLVSを実行できるようにすることである。   The present invention has been made to solve such a problem, and an object of the present invention is to make it possible to execute LVS even if there is a wiring error in a part of a semiconductor integrated circuit subject to layout verification. .

本発明に係る半導体集積回路の設計支援装置は、半導体集積回路の回路レイアウトデータを読み込む回路レイアウトデータ読み込み手段と、前記半導体集積回路の回路ネットリストを読み込む回路ネットリスト読み込み手段と、前記回路レイアウトデータのうち、検証対象外領域を表す検証対象外領域データを読み込む検証対象外領域データ読み込み手段と、前記回路ネットリスト、前記回路レイアウトデータ、および前記検証対象領域外データに基づいて、検証対象領域の回路レイアウトデータおよび回路ネットリストを生成する検証用データ生成手段と、を有する半導体集積回路の設計支援装置である。   A design support device for a semiconductor integrated circuit according to the present invention comprises: circuit layout data reading means for reading circuit layout data of a semiconductor integrated circuit; circuit net list reading means for reading a circuit net list of the semiconductor integrated circuit; and the circuit layout data. Non-verification area data reading means for reading the non-verification area data representing the non-verification area, and based on the circuit netlist, the circuit layout data, and the non-verification area data, A design support apparatus for a semiconductor integrated circuit, comprising: verification data generation means for generating circuit layout data and a circuit netlist.

本発明によれば、レイアウト検証対象の半導体集積回路の一部に配線エラーがあってもLVSを実行することができる。   According to the present invention, LVS can be executed even if there is a wiring error in a part of a semiconductor integrated circuit subject to layout verification.

本発明の実施形態に係る半導体集積回路の設計支援装置を含むレイアウト検証装置のハードウェア構成を示すブロック図である。1 is a block diagram showing a hardware configuration of a layout verification apparatus including a design support apparatus for a semiconductor integrated circuit according to an embodiment of the present invention. 本発明の実施形態に係る半導体集積回路の設計支援装置の機能構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the function structure of the design support apparatus of the semiconductor integrated circuit which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施形態に係る半導体集積回路の設計支援装置の動作を示すフローチャートである。5 is a flowchart showing the operation of the semiconductor integrated circuit design support apparatus according to the embodiment of the present invention. 図3における境界情報解析処理を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the boundary information analysis process in FIG. 本発明の実施形態に係る半導体集積回路の設計支援装置を含むレイアウト検証装置で検証される1チップの回路レイアウトデータの一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the circuit layout data of 1 chip | tip verified with the layout verification apparatus containing the design support apparatus of the semiconductor integrated circuit which concerns on embodiment of this invention. 図5に示す回路レイアウトデータに設定された検証対象外領域の第1の例を示す図である。FIG. 6 is a diagram showing a first example of a non-verification area set in the circuit layout data shown in FIG. 5. 図6に示す検証対象外領域を記述するファイルのフォーマットの一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the format of the file which describes the area | region which is not verification object shown in FIG. 図5に示す回路レイアウトデータに内部電源構成を考慮した回路構成を示す図である。FIG. 6 is a diagram showing a circuit configuration in consideration of an internal power supply configuration in the circuit layout data shown in FIG. 5. 図8に示す回路レイアウトデータに対する指定座標トレース処理について説明するための図である。It is a figure for demonstrating the designated coordinate trace process with respect to the circuit layout data shown in FIG. 図9に示す指定座標トレース処理において移動する点のサイズおよびデータ取得間隔について説明するための図である。It is a figure for demonstrating the size of the point which moves in the designated coordinate trace process shown in FIG. 9, and a data acquisition interval. 図5に示す回路レイアウトデータに設定された検証対象外領域の第2の例を示す図である。It is a figure which shows the 2nd example of the non-verification area | region set to the circuit layout data shown in FIG. 図11に示す検証対象外領域を記述したファイルのフォーマットの一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the format of the file which described the non-verification area | region shown in FIG. 従来のレイアウト検証設計法の一例を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows an example of the conventional layout verification design method.

以下、本発明の実施形態について、図面を参照して詳細に説明する。
〈設計支援装置のハードウェア構成〉
図1は、本発明の実施形態に係る半導体集積回路の設計支援装置(以下、設計支援装置)を含むレイアウト検証装置のハードウェア構成を示すブロック図である。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
<Hardware configuration of design support device>
FIG. 1 is a block diagram showing the hardware configuration of a layout verification apparatus including a semiconductor integrated circuit design support apparatus (hereinafter referred to as a design support apparatus) according to an embodiment of the present invention.

図示のように、レイアウト検証装置100は、CPU1と、それぞれがCPU1に接続されたROM2、RAM3、キーボード4、マウス5、表示装置6、およびHD(ハードディスク)7を備えている。   As shown in the figure, the layout verification apparatus 100 includes a CPU 1, a ROM 2, a RAM 3, a keyboard 4, a mouse 5, a display device 6, and an HD (hard disk) 7 each connected to the CPU 1.

CPU1は、装置全体の制御を行う。ROM2には、OS(オペレーティングシステム)のプログラムが格納されている。このOSのプログラムは、レイアウト検証装置100の起動に伴い実行される。RAM3は、レイアウト検証処理の実行時に作業領域として利用される。   The CPU 1 controls the entire apparatus. The ROM 2 stores an OS (operating system) program. The OS program is executed when the layout verification apparatus 100 is activated. The RAM 3 is used as a work area when the layout verification process is executed.

操作手段としてのキーボード4およびマウス5は、ヒューマンインタフェースとして機能し、レイアウト検証処理における各種の設定に用いられる。また、表示装置6もヒューマンインタフェースとして機能し、各種設定の内容や装置の動作状態などの表示に用いられる。   The keyboard 4 and the mouse 5 as operation means function as a human interface and are used for various settings in the layout verification process. The display device 6 also functions as a human interface, and is used for displaying the contents of various settings and the operating state of the device.

HD7には、レイアウト検証プログラムの他、後述する回路ネットリスト、回路レイアウトデータ、セルライブラリ、検証対象外領域データ、検証用回路ネットリスト、および検証用回路レイアウトデータが格納される。   In addition to the layout verification program, the HD 7 stores a circuit net list, circuit layout data, cell library, non-verification area data, verification circuit net list, and verification circuit layout data, which will be described later.

レイアウト検証プログラムは、HD7からRAM3に読み出されて実行される。また、レイアウト検証プログラムは、HD7以外の記録媒体(例えばCD―ROM)に記録され、対応する読取装置(CD−ROMドライブ装置)によりRAM3に読み出す構成を採用してもよい。   The layout verification program is read from the HD 7 to the RAM 3 and executed. The layout verification program may be recorded on a recording medium (for example, CD-ROM) other than HD7 and read to the RAM 3 by a corresponding reading device (CD-ROM drive device).

〈設計支援装置の機能構成〉
図2は、本発明の実施形態に係る設計支援装置の機能構成を示すブロック図である。
図示のように、設計支援装置101は、回路ネットリスト読み込み部102、回路レイアウトデータ読み込み部103、セルライブラリ読み込み部104、検証対象外領域データ読み込み部105、境界認識部106、境界情報解析部107、検証用回路ネットリスト生成部108、および検証用回路レイアウトデータ生成部109を備えている。設計支援装置101を構成する各部は、CPU1がHD7からレイアウト検証プログラムを読み込み、実行することにより実現される機能ブロックである。
<Functional configuration of design support device>
FIG. 2 is a block diagram showing a functional configuration of the design support apparatus according to the embodiment of the present invention.
As illustrated, the design support apparatus 101 includes a circuit netlist reading unit 102, a circuit layout data reading unit 103, a cell library reading unit 104, a non-verification area data reading unit 105, a boundary recognition unit 106, and a boundary information analysis unit 107. , A verification circuit netlist generation unit 108 and a verification circuit layout data generation unit 109 are provided. Each unit constituting the design support apparatus 101 is a functional block realized by the CPU 1 reading and executing a layout verification program from the HD 7.

ここで、回路ネットリスト読み込み部102、回路レイアウトデータ読み込み部103、セルライブラリ読み込み部104、検証対象外領域データ読み込み部105は、それぞれ本発明に係る回路ネットリスト読み込み手段、回路レイアウトデータ読み込み手段、検証対象外領域データ読み込み手段に対応する。また、境界認識部106、境界情報解析部107、検証用回路ネットリスト生成部108、および検証用回路レイアウトデータ生成部109が、本発明に係る検証用データ生成手段に対応する。   Here, the circuit net list reading unit 102, the circuit layout data reading unit 103, the cell library reading unit 104, and the non-verification area data reading unit 105 are respectively a circuit net list reading unit, a circuit layout data reading unit, This corresponds to the non-verification area data reading means. The boundary recognition unit 106, the boundary information analysis unit 107, the verification circuit netlist generation unit 108, and the verification circuit layout data generation unit 109 correspond to the verification data generation unit according to the present invention.

回路ネットリスト読み込み部102、回路レイアウトデータ読み込み部103、セルライブラリ読み込み部104は、それぞれ回路ネットリスト記憶部72、回路レイアウトデータ記憶部73、セルライブラリ記憶部74から、回路ネットリスト、回路レイアウトデータ、セルライブラリを読み込み、RAM3に格納する。   The circuit net list reading unit 102, the circuit layout data reading unit 103, and the cell library reading unit 104 are respectively supplied from the circuit net list storage unit 72, the circuit layout data storage unit 73, and the cell library storage unit 74. The cell library is read and stored in the RAM 3.

回路ネットリストは、半導体集積回路内の回路素子および配線の接続情報を含むデータであり、回路図エディタ、配置配線ツールなどにより生成される。また、回路ネットリストは、階層構造を持っており、例えば、トップ層(第1階層)は機能ブロックに関するデータ、第2階層には機能ブロック内の内部回路である各種論理回路(AND回路、OR回路、フリップフロップ回路など)のセルに関するデータを備えている。   The circuit netlist is data including connection information of circuit elements and wirings in the semiconductor integrated circuit, and is generated by a circuit diagram editor, a placement and routing tool, or the like. The circuit netlist has a hierarchical structure. For example, the top layer (first layer) is data relating to a functional block, and the second layer is various logic circuits (AND circuit, OR, which are internal circuits in the functional block). Circuit, flip-flop circuit, etc.) cell data.

セルライブラリは、様々なセル(AND回路、OR回路、フリップフロップ回路、I/Oバッファ)などの形状(図形データ)、およびその内部構成データ(トランジスタおよび配線)を含むセルデータのライブラリである。   The cell library is a library of cell data including shapes (graphic data) such as various cells (AND circuit, OR circuit, flip-flop circuit, I / O buffer), and internal configuration data (transistors and wirings).

回路レイアウトデータは、階層構造を有する回路ネットリスト、およびセルライブラリから、配置配線ツールにより生成されるマスクパターンデータであり、半導体集積回路の回路素子および配線のチップ上の位置情報を含む。   The circuit layout data is mask pattern data generated by a placement and routing tool from a circuit netlist having a hierarchical structure and a cell library, and includes position information on a chip of a semiconductor integrated circuit circuit element and wiring.

検証対象外領域データ読み込み部105は、検証対象外領域データ記憶部75から、検証対象外領域データを読み込む。検証対象外領域データとは、回路レイアウトデータが表すマスクパターンのうち、レイアウト検証の対象から除外する領域を表すデータである。この検証対象外データは予め回路レイアウトデータ毎に設定されている。   The non-verification area data reading unit 105 reads the non-verification area data from the non-verification area data storage unit 75. The non-verification area data is data representing an area to be excluded from the layout verification target in the mask pattern represented by the circuit layout data. This non-verification data is preset for each circuit layout data.

境界認識部106は、回路ネットリスト読み込み部102により読み込まれた回路ネットリスト、回路レイアウトデータ読み込み部103により読み込まれた回路レイアウトデータ、セルライブラリ読み込み部104により読み込まれたセルライブラリ、および検証対象外領域データ読み込み部105により読み込まれた検証対象外領域データを基に、回路レイアウトデータにおけるレイアウト検証対象外となる部分を認識し、検証対象外領域の外縁、すなわち検証対象外領域と検証対象領域との境界となる座標情報をRAM3に格納する。   The boundary recognition unit 106 includes a circuit net list read by the circuit net list reading unit 102, circuit layout data read by the circuit layout data reading unit 103, a cell library read by the cell library reading unit 104, and a non-verification target. Based on the non-verification area data read by the area data reading unit 105, a portion that is not subject to layout verification in the circuit layout data is recognized, and the outer edge of the non-verification area, that is, the non-verification area and the verification target area, Is stored in the RAM 3.

境界情報解析部107は、境界認識部106で格納された座標情報を基に、境界部分にある回路のテキストデータ(フリップフロップ回路、AND回路、GND、VCCなど)、および図形データまたはレイアウトデータを取得し、RAM3に格納する。これらのデータを取得する手順の詳細については図4を参照して後述する。   Based on the coordinate information stored in the boundary recognition unit 106, the boundary information analysis unit 107 receives text data (flip-flop circuit, AND circuit, GND, VCC, etc.), graphic data, or layout data of the circuit at the boundary part. Obtained and stored in the RAM 3. Details of the procedure for acquiring these data will be described later with reference to FIG.

検証用回路ネットリスト生成部108は、回路ネットリスト読み込み部102により読み込まれ、格納された回路ネットリストに対して、境界情報解析部107で格納された情報を反映させた検証用回路ネットリストを生成し、検証用回路ネットリスト記憶部76に格納する。   The verification circuit net list generation unit 108 reads a verification circuit net list that reflects the information stored in the boundary information analysis unit 107 with respect to the circuit net list read and stored by the circuit net list reading unit 102. It is generated and stored in the verification circuit netlist storage unit 76.

検証用回路レイアウトデータ生成部109は、回路レイアウトデータ読み込み部103により読み込まれ、格納されたレイアウトデータに対して、境界情報解析部107で格納された情報を反映させた検証用レイアウトデータを生成し、検証用回路レイアウトデータ記憶部77に格納する。   The verification circuit layout data generation unit 109 generates verification layout data that reflects the information stored in the boundary information analysis unit 107 with respect to the layout data read and stored by the circuit layout data reading unit 103. And stored in the circuit layout data storage unit 77 for verification.

後述するように、検証用回路ネットリストおよび検証用回路レイアウトデータはLVSにより検証される。つまり、レイアウト設計途中であって、配線ショートが残っていても、所望の箇所におけるLVS検証を実施することを可能にするデータが設計支援装置101により作成される。   As will be described later, the verification circuit netlist and the verification circuit layout data are verified by LVS. That is, the design support apparatus 101 generates data that enables LVS verification to be performed at a desired location even during a layout design and a wiring short circuit remains.

なお、レイアウト検証は既知の技術であるため、この実施形態のように、レイアウト検証装置100内に設計支援装置101を内蔵させても構わないし、設計支援装置101で作成したデータを直接もしくは間接的にレイアウト検証装置に読み込ませ、レイアウト検証を実施しても構わない。   Since layout verification is a known technique, the design support apparatus 101 may be incorporated in the layout verification apparatus 100 as in this embodiment, and data created by the design support apparatus 101 may be directly or indirectly generated. May be read by the layout verification apparatus to perform layout verification.

〈レイアウト検証用データ生成部の動作〉
図3は、設計支援装置101の動作を示すフローチャートである。
<Operation of layout verification data generator>
FIG. 3 is a flowchart showing the operation of the design support apparatus 101.

図示のように、まず回路ネットリスト読み込み部102による回路ネットリストの読み込み(ステップS1)、回路レイアウトデータ読み込み部103による回路レイアウトデータの読み込み(ステップS2)、セルライブラリ読み込み部104によるセルライブラリの読み込み(ステップS3)、および検証対象外領域データ読み込み部105による検証対象外領域データの読み込み(ステップS4)が並行して行われる。なお、ステップS1〜S4を順次に行ってもよい。   As shown in the figure, first, the circuit net list is read by the circuit net list reading unit 102 (step S1), the circuit layout data is read by the circuit layout data reading unit 103 (step S2), and the cell library is read by the cell library reading unit 104. (Step S3) and non-verification area data reading unit 105 read non-verification area data (step S4) in parallel. Steps S1 to S4 may be performed sequentially.

次に境界認識部106による境界認識(ステップS5)が行われる。次いで境界情報解析部107による境界情報解析(ステップS6)が行われる。このステップの詳細については、図4、図8〜図10を参照して後述する。   Next, boundary recognition (step S5) is performed by the boundary recognition unit 106. Next, boundary information analysis (step S6) is performed by the boundary information analysis unit 107. Details of this step will be described later with reference to FIGS. 4 and 8 to 10.

次に検証用回路ネットリスト生成部108による検証用回路ネットリスト生成(ステップS7)および検証用回路レイアウトデータ生成部109による検証用回路レイアウトデータ生成(ステップS8)が並行して行われる。なお、ステップS7、S8を順次に行ってもよい。   Next, verification circuit netlist generation by the verification circuit netlist generation unit 108 (step S7) and verification circuit layout data generation by the verification circuit layout data generation unit 109 (step S8) are performed in parallel. Steps S7 and S8 may be performed sequentially.

ステップS7で生成された検証用回路ネットリストはLVSに用いられ、ステップS8で生成された検証用回路レイアウトデータはDRC、ERC、LVSに用いられる。DRCでは検証用レイアウトデータが設計基準値を満たしているか否かを確認する。ERCでは配線エラー(ショート、オープン等)の有無を確認する。LVSでは検証用回路レイアウトデータが検証用回路ネットリストどおりに作成されているか否か(配線エラーの有無を含む)を確認する。つまり、以後の動作は、図13におけるステップS101、S102で読み込むレイアウトデータ、回路情報を、それぞれ検証用回路レイアウトデータ、検証用回路ネットリストに換えたものである。   The verification circuit netlist generated in step S7 is used for LVS, and the verification circuit layout data generated in step S8 is used for DRC, ERC, and LVS. In the DRC, it is confirmed whether or not the verification layout data satisfies the design standard value. In ERC, the presence or absence of a wiring error (short, open, etc.) is confirmed. In the LVS, it is confirmed whether or not the verification circuit layout data is created according to the verification circuit netlist (including the presence or absence of a wiring error). In other words, the subsequent operation is obtained by replacing the layout data and circuit information read in steps S101 and S102 in FIG. 13 with the verification circuit layout data and the verification circuit netlist, respectively.

〈境界情報解析処理〉
図4は、図3における境界情報解析処理を示すフローチャートである。
まず指定座標トレース処理(ステップS61)を実行する。この処理では、回路レイアウトデータのうち、検証対象外領域データにより表される検証対象外領域と検証対象領域との境界線上の回路レイアウトデータを所定のサイズおよび所定の間隔でサンプルして、種々のデータを取得する。このサイズ、間隔は、回路レイアウトデータを取得するのに問題ないサイズ、間隔である(サイズ、間隔、および取得するデータの具体例については図10を参照して後述する。)。
<Boundary information analysis processing>
FIG. 4 is a flowchart showing the boundary information analysis processing in FIG.
First, designated coordinate trace processing (step S61) is executed. In this process, the circuit layout data on the boundary line between the non-verification area and the verification target area represented by the non-verification area data among the circuit layout data is sampled at a predetermined size and a predetermined interval, Get the data. These sizes and intervals are sizes and intervals that do not cause any problem in acquiring circuit layout data (a specific example of the size, interval, and acquired data will be described later with reference to FIG. 10).

次に検証対象外領域解析処理(ステップS62)を実行する。この処理では、ステップS61で取得したデータから、ネットリストとして必要な信号やレイアウトとして必要な信号を取得する。   Next, a non-verification area analysis process (step S62) is executed. In this process, a signal required as a net list and a signal required as a layout are acquired from the data acquired in step S61.

次いで検証対象外領域のデータ修正処理(ステップS63)を実行する。この処理では、ステップS62で取得された情報を基に、境界上の回路レイアウトデータおよび回路ネットリストを削除する。境界上の全ての回路レイアウトデータおよび回路ネットリストを削除した時点でこの図に示す処理が終了する。   Next, a data correction process (step S63) for the non-verification area is executed. In this process, the circuit layout data and circuit netlist on the boundary are deleted based on the information acquired in step S62. When all the circuit layout data and circuit netlist on the boundary are deleted, the processing shown in FIG.

なお、ステップS63において、境界上のデータだけでなく、検証対象外領域の全ての回路レイアウトデータおよび回路ネットリストを削除してもよい。これにより、保持するデータ量を低減することができる。   In step S63, not only the data on the boundary but also all circuit layout data and circuit netlist in the non-verification area may be deleted. Thereby, the data amount to hold | maintain can be reduced.

すなわち、ステップS63では、移動した軌跡に合わせてその部分(境界上)のみレイアウトを削除し、対象外とする部分との接続をなくしている。この処理ではLVS検証にかかわる情報の変更のみなのでデータ量としてはほとんど変わらない。トレースで情報取得した以外のLVS検証対象外とした部分(境界線内)は、情報として保持する必要がないので、回路ネットリストおよび回路レイアウトデータから削除しても構わない。そこで、LVS検証対象外のデータを削除することで、保持するデータ量を低減する。   That is, in step S63, the layout is deleted only in the portion (on the boundary) in accordance with the moved trajectory, and the connection with the portion to be excluded is eliminated. In this process, since only the information related to LVS verification is changed, the data amount hardly changes. Portions that are not subject to LVS verification (within the boundary) other than the information acquired by tracing need not be retained as information, and may be deleted from the circuit netlist and circuit layout data. Therefore, the amount of data to be retained is reduced by deleting data that is not subject to LVS verification.

〈回路レイアウトデータの一例〉
図5は、本発明の実施形態に係る設計支援装置101で検証される1チップの回路レイアウトデータの一例を示す図である。ここでは、説明の便宜上、チップの周辺部に位置するI/Oバッファおよびその配線のみを図示し、チップの中央部に位置する内部ロジックおよびその配線は省略した。
<Example of circuit layout data>
FIG. 5 is a diagram showing an example of one-chip circuit layout data verified by the design support apparatus 101 according to the embodiment of the present invention. Here, for convenience of explanation, only the I / O buffer and its wiring located in the peripheral part of the chip are shown, and the internal logic and its wiring located in the central part of the chip are omitted.

この回路レイアウトデータ200は、配線201〜207、ディバイダセル211〜214を備えている。配線201、205、207には、それぞれGND、GND3、GND4という名称のグラウンド配線としてのLVS属性(テキスト)を付与することで、LVS検証が可能となる。また、配線202、203、204、206には、それぞれVCC1、VCC2、VCC3、VCC4という名称の電源配線としてのLVS属性(テキスト)を付与することで、LVS検証が可能となる。ここで、GND3とVCC3、GND4とVCC4とが対になっている。   The circuit layout data 200 includes wirings 201 to 207 and divider cells 211 to 214. The LVS verification can be performed by giving the wirings 201, 205, and 207 the LVS attribute (text) as ground wirings named GND, GND3, and GND4, respectively. Further, the LVS verification can be performed by giving the wirings 202, 203, 204, and 206 the LVS attribute (text) as the power supply wirings named VCC1, VCC2, VCC3, and VCC4, respectively. Here, GND3 and VCC3 and GND4 and VCC4 are paired.

ディバイダセル211〜214は、電源配線およびグラウンド配線を切断するためのI/Oバッファである。ディバイダセル211〜214以外のI/Oバッファ(長方形で図示されているブロック)は電源セルである。   Divider cells 211 to 214 are I / O buffers for cutting power supply wiring and ground wiring. The I / O buffers (blocks shown by rectangles) other than the divider cells 211 to 214 are power supply cells.

〈検証対象外領域の第1の設定例〉
図6は、図5に示す回路レイアウトデータに設定された検証対象外領域の第1の例を示す図である。
<First setting example of non-verification area>
FIG. 6 is a diagram illustrating a first example of a non-verification region set in the circuit layout data illustrated in FIG.

検証対象外領域300がLVS対象外として設定したい領域である。ここでは、検証対象外領域300の外縁の形状は矩形であり、その折れ曲がり点(矩形の場合は頂点)を左下端から反時計回りの順番でP1、P2、P3、P4とした。頂点P1、P2、P3、P4の位置はチップ上の二次元座標(X座標,Y座標)の形式で表される。   The non-verification area 300 is an area to be set as being out of LVS. Here, the shape of the outer edge of the non-verification region 300 is a rectangle, and the bending points (vertices in the case of a rectangle) are P1, P2, P3, and P4 in the counterclockwise order from the lower left corner. The positions of the vertices P1, P2, P3, and P4 are expressed in the form of two-dimensional coordinates (X coordinate, Y coordinate) on the chip.

図7は、図6に示す検証対象外領域を記述するファイルのフォーマットの一例を示す図である。ここで、“ExemptArea”からなるテキスト400は検証対象外領域を装置に認識させるための指示を表し、それ以降に指定されたP1、P2、P3、P4の座標(400,400)、(4600,400)、(4600,4600)、(400,4600)を直線で結び、LVS検証対象外領域として装置に設定させる。ここでは、チップの左下端を座標の原点としたが、例えば他端(例えば左上端)を原点にしてもよい。   FIG. 7 is a diagram showing an example of a format of a file describing the non-verification area shown in FIG. Here, the text 400 composed of “ExemptArea” represents an instruction for causing the apparatus to recognize the non-verification area, and the coordinates (400, 400), (4600, P4) of P1, P2, P3, and P4 designated after that are indicated. 400), (4600, 4600), and (400, 4600) are connected by a straight line, and the apparatus is set as a non-LVS verification target area. Here, the lower left corner of the chip is the origin of coordinates, but the other end (for example, the upper left corner) may be the origin.

〈内部電源構成を考慮した回路構成〉
図8は、図5に示す回路レイアウトデータに内部電源構成を考慮した回路構成を示す図である。
<Circuit configuration considering internal power source configuration>
FIG. 8 is a diagram showing a circuit configuration in consideration of the internal power supply configuration in the circuit layout data shown in FIG.

この図において、配線2001は配線202と接続されているので、配線2001には配線202のLVS属性と同じVCC1という名称の電源配線としてのLVS属性が付される。また、配線2002は配線201と接続されているので、配線2002には配線201のLVS属性と同じGNDという名称のグラウンド配線としてのLVS属性が付される。なお、この図における一点鎖線の矩形310は、図6に示した検証対象外領域300の外縁、すなわち検証対象外領域300と検証対象領域との境界線により形成される矩形である(以下、境界矩形310)。   In this figure, since the wiring 2001 is connected to the wiring 202, the wiring 2001 is given the LVS attribute as the power supply wiring named VCC1 which is the same as the LVS attribute of the wiring 202. Further, since the wiring 2002 is connected to the wiring 201, the wiring 2002 has the LVS attribute as a ground wiring named GND that is the same as the LVS attribute of the wiring 201. 6 is a rectangle formed by the outer edge of the non-verification region 300 shown in FIG. 6, that is, the boundary line between the non-verification region 300 and the verification target region (hereinafter referred to as the boundary). Rectangle 310).

〈回路レイアウトデータに対する指定座標トレース処理〉
図9は、図8に示す回路レイアウトデータに対する指定座標トレース処理(図4のステップS61)について説明するための図である。また図10は、図9に示す指定座標トレース処理において移動する点のサイズおよびデータ取得間隔について説明するための図である。
<Specified coordinate trace processing for circuit layout data>
FIG. 9 is a diagram for explaining the designated coordinate trace processing (step S61 in FIG. 4) for the circuit layout data shown in FIG. FIG. 10 is a diagram for explaining the size of a moving point and the data acquisition interval in the designated coordinate tracing process shown in FIG.

図9において、矢印2101は、境界矩形310の左下端(検証対象外領域300の頂点P1)から右下端(同P2)へ移動してデータを取得することを表している。同様に、矢印2102は右下端から右上端(同P3)への移動、矢印2103は右上端から左上端(同P4)への移動、矢印2104は左上端から左下端への移動を表している。   In FIG. 9, an arrow 2101 indicates that data is acquired by moving from the lower left end of the boundary rectangle 310 (vertex P1 of the non-verification region 300) to the lower right end (same P2). Similarly, an arrow 2102 represents a movement from the lower right end to the upper right end (P3), an arrow 2103 represents a movement from the upper right end to the upper left end (P4), and an arrow 2104 represents a movement from the upper left end to the lower left end. .

このように矢印2101〜2104の方向に順番に移動する際、回路レイアウトデータを取得するのに問題のないサイズの点および間隔で移動しながら移動時に接触した図形、図形にふられているテキスト情報を取得する。   In this way, when moving in the direction of the arrows 2101 to 2104 in order, the figure touched during the movement while moving at a point and interval of a size that does not cause a problem to obtain circuit layout data, and the text information touched to the figure To get.

すなわち、図10Aに示すように、配線の最小単位などのように回路レイアウトデータを取得する上で問題の発生しない充分に小さな点2201を、図10Bの点群2202に示すように、充分に短い間隔で移動させる。この図は矢印2101の方向に移動しているときを表している。ここでは、交差する配線2101および配線2102のLVS属性とメタル座標、メタル層、メタル幅などの情報を取得し、RAM3に格納する。   That is, as shown in FIG. 10A, a sufficiently small point 2201 that does not cause a problem in acquiring circuit layout data such as a minimum unit of wiring is sufficiently short as shown in a point group 2202 in FIG. 10B. Move at intervals. This figure shows the time when moving in the direction of the arrow 2101. Here, information such as the LVS attribute, metal coordinates, metal layer, and metal width of the intersecting wiring 2101 and wiring 2102 is acquired and stored in the RAM 3.

例えば、自動配置配線のレイアウトデータ(回路レイアウトデータ)のフォーマットであるDEF(Design Exchange Format)の中にある“SPECIALNETS”は電源、GNDの属性を表す特別なネット(配線)であり、ここには配線名、配線層、座標などの情報が格納されている。DEFに限らず、自動配置配線のレイアウトデータには、配線名、配線層、座標などの情報が格納されていることが一般的であるため、自動配置配線ツールのデータベース上にあるこれらのテキスト情報、メタル情報を取得することができる。   For example, “SPECIALNETS” in DEF (Design Exchange Format), which is a layout data (circuit layout data) format for automatic placement and routing, is a special net (wiring) that represents the attributes of power supply and GND. Information such as a wiring name, a wiring layer, and coordinates is stored. Not only DEF but also layout data of automatic placement and routing generally stores information such as wiring names, wiring layers, coordinates, etc., so these text information on the database of automatic placement and routing tools Metal information can be acquired.

同様に、矢印2102、2103、2104の方向に移動を繰り返すことで、境界矩形310上の回路レイアウトデータおよび回路ネットリストデータを取得する。そして、P1の座標(400,400)に到達したところで、境界部として指定した箇所をすべて通過したため処理を終了する。なお、ここでは、反時計回りに移動しているが、時計回りに移動してもよい。また、移動開始位置は左下端でなくてもよい。   Similarly, the circuit layout data and the circuit net list data on the boundary rectangle 310 are acquired by repeating the movement in the directions of arrows 2102, 2103, and 2104. Then, when the coordinates (400, 400) of P1 are reached, all the points designated as the boundary have been passed, and the processing is terminated. In this case, it moves counterclockwise, but it may move clockwise. The movement start position may not be the lower left corner.

ここで説明した、点のサイズや移動間隔は半導体集積回路の開発テクノロジに合わせて変更可能とする。このとき、移動した点の軌跡のレイアウトを削除する(例えば図10Bの場合、配線2101および配線2102のLVS属性とメタル座標、メタル層、メタル幅などの情報を削除する)ことで、境界矩形310上の配線の接続が無くなるため、LVS属性が伝搬しなくなる。   The point size and movement interval described here can be changed according to the development technology of the semiconductor integrated circuit. At this time, the layout of the locus of the moved point is deleted (for example, in the case of FIG. 10B, the LVS attribute of the wiring 2101 and the wiring 2102 and information such as the metal coordinates, the metal layer, the metal width, etc. are deleted). Since the upper wiring is not connected, the LVS attribute is not propagated.

上記で修正した、回路レイアウトデータ、回路ネットリストを検証用回路ネットリスト、検証用回路レイアウトデータとして出力することは既知の技術で可能である。   It is possible to output the circuit layout data and the circuit net list corrected as described above as the verification circuit net list and the verification circuit layout data by a known technique.

〈検証対象外領域の第2の設定例〉
図11は、図5に示す回路レイアウトデータに設定された検証対象外領域の第2の例を示す図である。
<Second setting example of non-verification area>
FIG. 11 is a diagram showing a second example of the non-verification region set in the circuit layout data shown in FIG.

検証対象外領域320がLVS対象外として設定したい領域である。ここでは、検証対象外領域320の形状は二つの矩形を足し合わせた六角形であり、その折れ曲がり点を左下端から反時計回りの順番でP11、P12、P13、P14、P15、P16とした。折れ曲がり点P11〜16の位置はチップ上の二次元座標(X座標,Y座標)の形式で表される。このように、検証対象領域の外縁の形状は任意の多角形にすることができる。   The non-verification area 320 is an area that is desired to be set not to be an LVS target. Here, the shape of the non-verification region 320 is a hexagon obtained by adding two rectangles, and the bending points are P11, P12, P13, P14, P15, and P16 in the counterclockwise order from the lower left corner. The positions of the bending points P11 to P16 are expressed in the form of two-dimensional coordinates (X coordinate, Y coordinate) on the chip. Thus, the shape of the outer edge of the verification target region can be an arbitrary polygon.

図12は、図11に示す検証対象外領域を記述するファイルのフォーマットの一例を示す図である。ここでは、検証対象外領域を装置に認識させるための指示を表し、それ以降に指定されたP11、P12、P13、P14、P15、P16の座標(400,400)、(4600,400)、(4600,3500)、(3500,3500)、(3500,4600)、(400,4600)を直線で結び、LVS検証対象外領域として装置に設定させる。ここでは、チップの左下端を座標の原点としたが、例えば他端(例えば左上端)を原点にしてもよい。   FIG. 12 is a diagram showing an example of a format of a file describing the non-verification area shown in FIG. Here, an instruction for causing the apparatus to recognize the non-verification area is shown, and coordinates (400, 400), (4600, 400), (4, P11, P12, P13, P14, P15, P16 designated thereafter are represented. 4600, 3500), (3500, 3500), (3500, 4600), (400, 4600) are connected by a straight line, and the apparatus is set as an LVS verification non-target area. Here, the lower left corner of the chip is the origin of coordinates, but the other end (for example, the upper left corner) may be the origin.

以上、本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規の実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。   As mentioned above, although some embodiment of this invention was described, these embodiment is shown as an example and is not intending limiting the range of invention. These novel embodiments can be implemented in various other forms, and various omissions, replacements, and changes can be made without departing from the spirit of the invention.

100…レイアウト検証装置、101…設計支援装置、102…回路ネットリスト読み込み部、103…回路レイアウトデータ読み込み部、104…セルライブラリ読み込み部、105…検証対象外領域データ読み込み部、106…境界認識部、107…境界情報解析部、108…検証用回路ネットリスト生成部、109…検証用回路レイアウトデータ生成部。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 100 ... Layout verification apparatus 101 ... Design support apparatus 102 ... Circuit net list reading part 103 ... Circuit layout data reading part 104 ... Cell library reading part 105 ... Non-verification area data reading part 106 ... Boundary recognition part , 107 ... boundary information analysis unit, 108 ... verification circuit net list generation unit, 109 ... verification circuit layout data generation unit.

特開平6−37183号公報(段落0005、図11)JP-A-6-37183 (paragraph 0005, FIG. 11)

Claims (6)

半導体集積回路の回路レイアウトデータを読み込む回路レイアウトデータ読み込み手段と、
前記半導体集積回路の回路ネットリストを読み込む回路ネットリスト読み込み手段と、
前記回路レイアウトデータのうち、検証対象外領域を表す検証対象外領域データを読み込む検証対象外領域データ読み込み手段と、
前記回路ネットリスト、前記回路レイアウトデータ、および前記検証対象外領域データに基づいて、検証対象領域の回路レイアウトデータおよび回路ネットリストを生成する検証用データ生成手段と、
を有する半導体集積回路の設計支援装置。
Circuit layout data reading means for reading circuit layout data of a semiconductor integrated circuit;
Circuit net list reading means for reading a circuit net list of the semiconductor integrated circuit;
Of the circuit layout data, the non-verification area data reading means for reading the non-verification area data representing the non-verification area,
Verification data generation means for generating circuit layout data and circuit netlist of a verification target area based on the circuit netlist, the circuit layout data, and the non-verification area data;
A device for supporting design of a semiconductor integrated circuit.
請求項1に記載された半導体集積回路の設計支援装置において、
前記検証対象外領域データは、前記検証対象外領域と検証対象領域との境界を構成する多角形の折れ曲がり点の座標を表すデータからなる、半導体集積回路の設計支援装置。
The design support apparatus for a semiconductor integrated circuit according to claim 1,
The non-verification region data is a design support device for a semiconductor integrated circuit, comprising data representing coordinates of polygonal bending points that constitute a boundary between the non-verification region and the verification region.
請求項2に記載された半導体集積回路の設計支援装置において、
前記多角形が矩形である、半導体集積回路の設計支援装置。
The design support apparatus for a semiconductor integrated circuit according to claim 2,
A design support apparatus for a semiconductor integrated circuit, wherein the polygon is a rectangle.
請求項2に記載された半導体集積回路の設計支援装置において、
前記検証用データ生成手段は、前記境界上の配線および回路素子の情報を取得する境界情報解析手段と、前記境界情報解析手段による前記情報の取得の結果を前記読み込まれた回路レイアウトデータおよび回路ネットリストに反映させて、前記検証対象領域の回路ネットリストおよび回路レイアウトデータを生成するデータ生成手段を有する、半導体集積回路の設計支援装置。
The design support apparatus for a semiconductor integrated circuit according to claim 2,
The verification data generation means includes boundary information analysis means for acquiring wiring and circuit element information on the boundary, and results of acquisition of the information by the boundary information analysis means as the read circuit layout data and circuit network. A design support apparatus for a semiconductor integrated circuit, comprising data generation means for generating a circuit net list and circuit layout data of the verification target area by reflecting the result in a list.
半導体集積回路の回路レイアウトデータを読み込む回路レイアウトデータ読み込み工程と、
前記半導体集積回路の回路ネットリストを読み込む回路ネットリスト読み込み工程と、
前記回路レイアウトデータのうち、検証対象外領域を表す検証対象外領域データを読み込む検証対象外領域データ読み込み工程と、
前記回路ネットリスト、前記回路レイアウトデータ、および前記検証対象外領域データに基づいて、検証対象領域の回路レイアウトデータおよび回路ネットリストを生成する検証用データ生成工程と、
を有する半導体集積回路の設計方法。
A circuit layout data reading process for reading circuit layout data of a semiconductor integrated circuit;
A circuit net list reading step of reading a circuit net list of the semiconductor integrated circuit;
Of the circuit layout data, a non-verification area data reading step for reading non-verification area data representing a non-verification area;
A verification data generation step for generating circuit layout data and a circuit netlist of a verification target region based on the circuit netlist, the circuit layout data, and the non-verification region data;
A method for designing a semiconductor integrated circuit.
請求項5に記載された半導体集積回路の設計方法により設計された半導体集積回路。
A semiconductor integrated circuit designed by the method for designing a semiconductor integrated circuit according to claim 5.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN116108789A (en) * 2023-04-12 2023-05-12 广州智慧城市发展研究院 Analog circuit layout structural characteristic representation restoration method and component

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