JP2017021136A - Photosensitive resin composition for color filter, production method of the same, cured film of the same, and color filter having the cured film as constituent - Google Patents
Photosensitive resin composition for color filter, production method of the same, cured film of the same, and color filter having the cured film as constituent Download PDFInfo
- Publication number
- JP2017021136A JP2017021136A JP2015137663A JP2015137663A JP2017021136A JP 2017021136 A JP2017021136 A JP 2017021136A JP 2015137663 A JP2015137663 A JP 2015137663A JP 2015137663 A JP2015137663 A JP 2015137663A JP 2017021136 A JP2017021136 A JP 2017021136A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- acid
- mass
- resin composition
- photosensitive resin
- alkali
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Epoxy Resins (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
Abstract
Description
本発明は、カラーフィルター用感光性樹脂組成物、その製造方法、その硬化膜、及び当該硬化膜を構成成分とするカラーフィルターに関する。 The present invention relates to a photosensitive resin composition for a color filter, a production method thereof, a cured film thereof, and a color filter including the cured film as a constituent component.
現在、液晶表示デバイスや白色有機ＥＬデバイス、あるいは固体撮像素子等のカラー化のため、カラーフィルターが広く用いられている。カラーフィルターの画素を形成する材料としては、有機顔料を分散させた感光性樹脂組成物が主流であるが、液晶表示デバイスで要求される偏光コントラストの改善やカラーフィルター全般の画素サイズの小型化（高画素密度化）のトレンドを受けて、微粒化された有機顔料を高濃度で感光性樹脂組成物中に微分散させたうえで高精細なフォトリソグラフィーを行うことが必要となっている。 Currently, color filters are widely used for colorization of liquid crystal display devices, white organic EL devices, solid-state imaging devices, and the like. As the material for forming the color filter pixels, photosensitive resin compositions in which organic pigments are dispersed are the mainstream, but the improvement in polarization contrast required for liquid crystal display devices and the reduction in pixel size of color filters in general ( In response to the trend of high pixel density, it is necessary to finely disperse a finely divided organic pigment in a photosensitive resin composition at a high concentration and then perform high-definition photolithography.
さらには、色再現領域の拡大に対する要求もあり、顔料と染料を組合せた技術も多々開示されている。（例えば特許文献１、２） Furthermore, there is a demand for expansion of the color reproduction region, and many techniques combining pigments and dyes have been disclosed. (For example, Patent Documents 1 and 2)
本発明はかかる従来技術の課題に鑑みてなされたものであり、微粒化された有機顔料を高濃度で微分散させたうえでも高精細なフォトリソグラフィーが可能であり、かつ、色再現領域の拡大に伴う色度調整にも対応できるカラーフィルター用感光性樹脂組成物を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the problems of the prior art. High-definition photolithography is possible even when finely divided organic pigments are finely dispersed at a high concentration, and the color reproduction region is expanded. It aims at providing the photosensitive resin composition for color filters which can respond also to the chromaticity adjustment accompanying accompanying.
上記課題を解決するために検討した結果、本発明者等は特定の構造を有する化合物を用
いた感光性樹脂組成物が本目的に適していることを見出し、本発明を完成した。本発明の要旨は次のとおりである。
As a result of studies to solve the above problems, the present inventors have found that a photosensitive resin composition using a compound having a specific structure is suitable for this purpose, and completed the present invention. The gist of the present invention is as follows.
（１）本発明は、(Ａ)ビスフェノール類から誘導される２個のグリシジルエーテル基を有するエポキシ化合物と不飽和基含有モノカルボン酸との反応物に対して、（ａ）ジカルボン酸若しくはトリカルボン酸又はその酸無水物、及び（ｂ）テトラカルボン酸又はその酸二無水物を反応させて得られたアルカリ可溶性樹脂、(Ｂ)少なくとも１個のエチレン性不飽和結合を有する光重合性モノマー、 (Ｃ)光重合開始剤、及び(Ｄ)有機顔料を含有するカラーフィルター用感光性樹脂組成物であり、（Ａ）１００質量部に対して、（Ｂ）が１０〜６０質量部、（Ｃ）が、（Ａ）と（Ｂ）の合計量１００質量部に対して２〜４０質量部であり、光硬化後に固形分となる成分を含む固形の全質量に対して、（Ｄ）が３０〜５５質量％であることを特徴とするカラーフィルター用感光性樹脂組成物である。
（２）本発明はまた、（１）の組成物に、(Ｅ)１分子中に少なくとも２個のエポキシ基を有する化合物を（Ａ）１００質量部に対して５〜８０質量部含有することを特徴とするカラーフィルター用感光性樹脂組成物である。
（３）本発明はまた、（１）または（２）の組成物に、さらに、（Ｆ）染料を含有することを特徴とし、（Ｄ）有機顔料と（Ｆ）染料の合計量が、光硬化後に固形分となる成分の全質量に対して３０〜６０質量％であるカラーフィルター用感光性樹脂組成物である。
（４）本発明はまた、（１）〜（３）の組成物において、（Ｄ）成分が、ＢＥＴ法による比表面積が５０ｍ２／ｇ以上の有機顔料であるカラーフィルター用感光性樹脂組成物である。
（５）本発明はまた、（Ｄ）有機顔料を（Ａ）アルカリ可溶性樹脂と分散剤とともに溶剤中に分散させた顔料分散体を調製した後、前記顔料分散体に（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）光重合性モノマー、（Ｃ）光重合開始剤、及び溶剤をさらに添加して混合する、カラーフィルター用感光性樹脂組成物の製造方法であって、（Ａ）は、ビスフェノール類から誘導される２個のグリシジルエーテル基を有するエポキシ化合物と不飽和基含有モノカルボン酸との反応物に対して、（ａ）ジカルボン酸若しくはトリカルボン酸又はその酸無水物、及び（ｂ）テトラカルボン酸又はその酸二無水物を反応させて得られたアルカリ可溶性樹脂であり、（Ｂ）の添加量は、（Ａ）の合計量１００質量部に対して１０〜６０質量部であり、（Ｃ）の添加量は、（Ａ）と（Ｂ）との合計量１００質量部に対して２〜４０質量部であり、（Ｄ）の添加量は、光硬化後に固形分となる成分の全質量に対して、３０〜５５質量％であることを特徴とする、方法である。
（６）本発明はまた、（１）〜（４）の感光性樹脂組成物を用いて製造された硬化膜である。
（７）本発明はまた、（６）の硬化膜を含むカラーフィルターである。
(1) The present invention relates to (A) a reaction product of an epoxy compound having two glycidyl ether groups derived from bisphenols and an unsaturated group-containing monocarboxylic acid. Or an acid anhydride thereof, and (b) an alkali-soluble resin obtained by reacting a tetracarboxylic acid or an acid dianhydride thereof, (B) a photopolymerizable monomer having at least one ethylenically unsaturated bond, C) A photopolymerization initiator, and (D) a photosensitive resin composition for a color filter containing an organic pigment, wherein (B) is 10 to 60 parts by mass with respect to (A) 100 parts by mass, (C) However, it is 2-40 mass parts with respect to 100 mass parts of total amount of (A) and (B), and (D) is 30-30 with respect to the solid total mass containing the component used as solid content after photocuring. 55% by mass A color filter for a photosensitive resin composition.
(2) The present invention also contains (E) 5-80 parts by mass of (E) 100 parts by mass of a compound having at least two epoxy groups in one molecule in the composition of (1). Is a photosensitive resin composition for color filters.
(3) The present invention is also characterized in that the composition of (1) or (2) further comprises (F) a dye, and the total amount of (D) the organic pigment and (F) dye is light It is the photosensitive resin composition for color filters which is 30-60 mass% with respect to the total mass of the component used as solid content after hardening.
(4) The present invention also provides the photosensitive resin composition for color filters, wherein in the compositions (1) to (3), the component (D) is an organic pigment having a specific surface area by a BET method of 50 m 2 / g or more. It is.
(5) The present invention also includes (D) an organic pigment dispersed in a solvent together with (A) an alkali-soluble resin and a dispersant, and then (A) an alkali-soluble resin in the pigment dispersion. (B) A photopolymerizable monomer, (C) a photopolymerization initiator, and a solvent are further added and mixed, and a method for producing a photosensitive resin composition for a color filter, wherein (A) is derived from bisphenols The reaction product of the epoxy compound having two glycidyl ether groups and the unsaturated group-containing monocarboxylic acid, (a) dicarboxylic acid or tricarboxylic acid or acid anhydride thereof, and (b) tetracarboxylic acid or It is an alkali-soluble resin obtained by reacting the acid dianhydride, and the addition amount of (B) is 10 to 60 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of (A), Addition amount , (A) and (B) are 2 to 40 parts by mass with respect to 100 parts by mass in total, and (D) is added in an amount of 30 with respect to the total mass of the components that become solid after photocuring. It is -55 mass%, It is a method characterized by the above-mentioned.
(6) This invention is also the cured film manufactured using the photosensitive resin composition of (1)-(4).
(7) The present invention is also a color filter including the cured film of (6).
本発明のカラーフィルター用感光性樹脂組成物を用いれば、高精細なフォトリソグラフィーが可能であり、かつ、色再現領域の拡大にも対応できるため、高品質なカラーフィルターを形成することが可能となる。 If the photosensitive resin composition for a color filter of the present invention is used, high-definition photolithography is possible, and since it can cope with the expansion of the color reproduction region, it is possible to form a high-quality color filter. Become.
本発明のカラーフィルター用感光性樹脂組成物によれば、有機顔料を用いて高色純度の赤色、緑色、青色、黄色等の画素を作製するために、有機顔料を高濃度で含有させた時にも、微細なパターン形成が可能である。また、本発明のカラーフィルター用感光性樹脂組成物によれば、形成されたパターンと基板との密着性も優れている。 According to the photosensitive resin composition for a color filter of the present invention, when an organic pigment is contained at a high concentration in order to produce pixels of red, green, blue, yellow, etc. with high color purity using the organic pigment. However, a fine pattern can be formed. Moreover, according to the photosensitive resin composition for color filters of this invention, the adhesiveness of the formed pattern and a board | substrate is excellent.
以下、本発明を詳細に説明するが、以下の記載は本発明の実施態様の一例であり、本発明はこれらの内容に限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in detail, but the following description is an example of embodiments of the present invention, and the present invention is not limited to these contents.
本発明に係るカラーフィルター用感光性樹脂組成物は、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）光重合性モノマー、（Ｃ）光重合開始剤、及び（Ｄ）有機顔料を含有する。本発明に係るカラーフィルター用感光性樹脂組成物は、（Ｅ）１分子中に少なくとも２個のエポキシ基を有する化合物、及び（Ｆ）染料のいずれか又は双方をさらに含有してもよい。 The photosensitive resin composition for a color filter according to the present invention contains (A) an alkali-soluble resin, (B) a photopolymerizable monomer, (C) a photopolymerization initiator, and (D) an organic pigment. The photosensitive resin composition for a color filter according to the present invention may further contain (E) one or both of a compound having at least two epoxy groups in one molecule and (F) a dye.
上記（Ａ）成分は、ビスフェノール類から誘導される２個のグリシジルエーテル基を有するエポキシ化合物と不飽和基含有モノカルボン酸との反応物に対して、（ａ）ジカルボン酸若しくはトリカルボン酸又はその酸無水物、及び（ｂ）テトラカルボン酸又はその酸二無水物を反応させて得られたアルカリ可溶性樹脂である。 The component (A) is obtained by reacting a reaction product of an epoxy compound having two glycidyl ether groups derived from bisphenols and an unsaturated group-containing monocarboxylic acid with (a) a dicarboxylic acid or tricarboxylic acid or an acid thereof. An alkali-soluble resin obtained by reacting an anhydride and (b) tetracarboxylic acid or its acid dianhydride.
上記ビスフェノール類としては、ビス（４−ヒドロキシフェニル）ケトン、ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）ケトン、ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジクロロフェニル）ケトン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）スルホン、ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジクロロフェニル）スルホン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン、ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）ヘキサフルオロプロパン、ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジクロロフェニル）ヘキサフルオロプロパン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）ジメチルシラン、ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）ジメチルシラン、ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジクロロフェニル）ジメチルシラン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジクロロフェニル）メタン、ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジブロモフェニル）メタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジクロロフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−クロロフェニル）プロパン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）エーテル、ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジクロロフェニル）エーテル、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−クロロフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−ブロモフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−フルオロフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジクロロフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジブロモフェニル）フルオレン、４，４'−ビフェノール、３，３'−ビフェノール等およびこれらの誘導体が挙げられる。これらの中では、フルオレン−９，９−ジイル基を有するものが特に好適に利用される。 Examples of the bisphenols include bis (4-hydroxyphenyl) ketone, bis (4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) ketone, bis (4-hydroxy-3,5-dichlorophenyl) ketone, and bis (4-hydroxyphenyl). ) Sulfone, bis (4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) sulfone, bis (4-hydroxy-3,5-dichlorophenyl) sulfone, bis (4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane, bis (4-hydroxy-3) , 5-dimethylphenyl) hexafluoropropane, bis (4-hydroxy-3,5-dichlorophenyl) hexafluoropropane, bis (4-hydroxyphenyl) dimethylsilane, bis (4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) dimethyl Silane, bis (4-hydroxy- , 5-dichlorophenyl) dimethylsilane, bis (4-hydroxyphenyl) methane, bis (4-hydroxy-3,5-dichlorophenyl) methane, bis (4-hydroxy-3,5-dibromophenyl) methane, 2,2- Bis (4-hydroxyphenyl) propane, 2,2-bis (4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) propane, 2,2-bis (4-hydroxy-3,5-dichlorophenyl) propane, 2,2- Bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) propane, 2,2-bis (4-hydroxy-3-chlorophenyl) propane, bis (4-hydroxyphenyl) ether, bis (4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) ) Ether, bis (4-hydroxy-3,5-dichlorophenyl) ether, 9,9-bis (4- Droxyphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-hydroxy-3-chlorophenyl) fluorene, 9,9-bis (4-hydroxy-3) -Bromophenyl) fluorene, 9,9-bis (4-hydroxy-3-fluorophenyl) fluorene, 9,9-bis (4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4- Hydroxy-3,5-dichlorophenyl) fluorene, 9,9-bis (4-hydroxy-3,5-dibromophenyl) fluorene, 4,4′-biphenol, 3,3′-biphenol, and derivatives thereof. . Among these, those having a fluorene-9,9-diyl group are particularly preferably used.
上記ビスフェノール類とエピクロルヒドリンを反応させて２個のグリシジルエーテル基を有するエポキシ化合物を得ることができる。この反応は、一般にジグリシジルエーテル化合物のオリゴマー化を伴う。この反応により、たとえば、下記一般式（Ｉ）のエポキシ化合物が得られる。
一般式（Ｉ）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立して水素原子、炭素数１〜５のアルキル基、ハロゲン原子又はフェニル基を表し、Ａは、−ＣＯ−、−ＳＯ２−、−Ｃ（ＣＦ３）２−、−Ｓｉ（ＣＨ３）２−、−ＣＨ２−、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−Ｏ−、フルオレン−９，９−ジイル基又は直結合を表す。ｌは０〜１０の整数である。好ましいＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４は水素原子であり、好ましいＡはフルオレン−９，９−ジイル基である。また、ｌは通常複数の値が混在するため平均値０〜１０（整数とは限らない）となるが、好ましいｌの平均値は０〜３である。ｌの値が上限値を超えると、当該エポキシ化合物使用して合成したアルカリ可溶性樹脂を用いて感光性樹脂組成物としたときに組成物の粘度が大きくなりすぎて塗工がうまく行かなくなったり、アルカリ可溶性を十分に付与できずアルカリ現像性が非常に悪くなったりする。 In general formula (I), R 1 , R 2 , R 3 and R 4 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, a halogen atom or a phenyl group, and A represents —CO—. , —SO 2 —, —C (CF 3 ) 2 —, —Si (CH 3 ) 2 —, —CH 2 —, —C (CH 3 ) 2 —, —O—, fluorene-9,9-diyl group Or it represents a direct bond. l is an integer of 0-10. Preferred R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are hydrogen atoms, and preferred A is a fluorene-9,9-diyl group. In addition, since l generally has a plurality of values, the average value is 0 to 10 (not necessarily an integer), but the preferable average value of l is 0 to 3. When the value of l exceeds the upper limit, the viscosity of the composition becomes too high when the alkali-soluble resin synthesized using the epoxy compound is used, and the coating cannot be performed successfully. Alkali solubility cannot be sufficiently provided, and alkali developability becomes very poor.
上記２個のグリシジルエーテル基を有するエポキシ化合物と、不飽和基含有モノカルボン酸としてアクリル酸若しくはメタクリル酸又はこれらの両方と、を反応させ、得られたヒドロキシ基を有する反応物に、（ａ）ジカルボン酸若しくはトリカルボン酸又はその酸無水物、及び（ｂ）テトラカルボン酸又はその酸二無水物を反応させて、エポキシ（メタ）アクリレート酸付加物の構造を有する（Ａ）アルカリ可溶性樹脂を得る。たとえば、上記エポキシ化合物が一般式（Ｉ）で表される化合物である場合、下記一般式（ＩＩ）で表される化合物が得られる。 The reaction product having the hydroxy group obtained by reacting the epoxy compound having the two glycidyl ether groups with acrylic acid or methacrylic acid or both as the unsaturated group-containing monocarboxylic acid, Dicarboxylic acid or tricarboxylic acid or acid anhydride thereof and (b) tetracarboxylic acid or acid dianhydride thereof are reacted to obtain (A) an alkali-soluble resin having a structure of an epoxy (meth) acrylate acid adduct. For example, when the epoxy compound is a compound represented by the general formula (I), a compound represented by the following general formula (II) is obtained.
一般式（ＩＩ）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立して水素原子、炭素数１〜５のアルキル基、ハロゲン原子又はフェニル基を表し、Ｒ５は、水素原子又はメチル基を表し、Ａは、−ＣＯ−、−ＳＯ２−、−Ｃ（ＣＦ３）２−、−Ｓｉ（ＣＨ３）２−、−ＣＨ２−、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−Ｏ−、フルオレン−９，９−ジイル基又は直結合を表し、Ｘは４価のカルボン酸残基を表し、Ｙ１及びＹ２は、それぞれ独立して水素原子又は−ＯＣ−Ｚ−（ＣＯＯＨ）ｍ（但し、Ｚは２価又は３価カルボン酸残基を表し、ｍは１又は２の数を表す）を表し、ｎは１〜２０の整数を表す。 In general formula (II), R 1 , R 2 , R 3 and R 4 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, a halogen atom or a phenyl group, and R 5 represents a hydrogen atom. Or A represents a methyl group, and A represents —CO—, —SO 2 —, —C (CF 3 ) 2 —, —Si (CH 3 ) 2 —, —CH 2 —, —C (CH 3 ) 2 —, —O—, a fluorene-9,9-diyl group or a direct bond, X represents a tetravalent carboxylic acid residue, and Y 1 and Y 2 each independently represent a hydrogen atom or —OC—Z— ( COOH) m (where Z represents a divalent or trivalent carboxylic acid residue, m represents a number of 1 or 2), and n represents an integer of 1 to 20.
上記（ａ）ジカルボン酸若しくはトリカルボン酸又はその酸無水物としては、鎖式炭化水素ジカルボン酸若しくはトリカルボン酸又はその酸無水物や脂環式ジカルボン酸若しくはトリカルボン酸又はその酸無水物、芳香族ジカルボン酸若しくはトリカルボン酸又はその酸無水物を使用することができる。ここで、鎖式炭化水素ジカルボン酸若しくはトリカルボン酸又はその酸無水物としては、例えば、コハク酸、アセチルコハク酸、マレイン酸、アジピン酸、イタコン酸、アゼライン酸、シトラリンゴ酸、マロン酸、グルタル酸、クエン酸、酒石酸、オキソグルタル酸、ピメリン酸、セバシン酸、スベリン酸、ジグリコール酸等の化合物があり、更には任意の置換基の導入されたジカルボン酸若しくはトリカルボン酸又はその酸無水物でもよい。また、脂環式ジカルボン酸若しくはトリカルボン酸又はその酸無水物としては、例えば、シクロブタンジカルボン酸、シクロペンタンジカルボン酸、ヘキサヒドロフタル酸、テトラヒドロフタル酸、ノルボルナンジカルボン酸等の化合物があり、更には任意の置換基の導入されたジカルボン酸若しくはトリカルボン酸又はその酸無水物でもよい。更に、芳香族ジカルボン酸若しくはトリカルボン酸又はその酸無水物としては、例えばフタル酸、イソフタル酸、トリメリット酸等の化合物があり、更には任意の置換基の導入されたジカルボン酸若しくはトリカルボン酸又はその酸無水物でもよい。 As the above (a) dicarboxylic acid or tricarboxylic acid or acid anhydride thereof, chain hydrocarbon dicarboxylic acid or tricarboxylic acid or acid anhydride thereof, alicyclic dicarboxylic acid or tricarboxylic acid or acid anhydride thereof, or aromatic dicarboxylic acid Alternatively, a tricarboxylic acid or an acid anhydride thereof can be used. Here, as the chain hydrocarbon dicarboxylic acid or tricarboxylic acid or an acid anhydride thereof, for example, succinic acid, acetyl succinic acid, maleic acid, adipic acid, itaconic acid, azelaic acid, citrate malic acid, malonic acid, glutaric acid, There are compounds such as citric acid, tartaric acid, oxoglutaric acid, pimelic acid, sebacic acid, suberic acid, diglycolic acid and the like, and further, dicarboxylic acid or tricarboxylic acid having an arbitrary substituent introduced therein or an acid anhydride thereof may be used. Examples of the alicyclic dicarboxylic acid or tricarboxylic acid or acid anhydrides thereof include compounds such as cyclobutane dicarboxylic acid, cyclopentane dicarboxylic acid, hexahydrophthalic acid, tetrahydrophthalic acid, norbornane dicarboxylic acid, and more It may be a dicarboxylic acid or a tricarboxylic acid or an acid anhydride having a substituent introduced therein. Furthermore, examples of the aromatic dicarboxylic acid or tricarboxylic acid or acid anhydride thereof include compounds such as phthalic acid, isophthalic acid, trimellitic acid, and the like. An acid anhydride may be used.
上記（ｂ）テトラカルボン酸又はその酸二無水物としては、鎖式炭化水素テトラカルボン酸又はその酸二無水物や脂環式テトラカルボン酸又はその酸二無水物、又は、芳香族多価カルボン酸又はその酸二無水物を使用することができる。ここで、鎖式炭化水素テトラカルボン酸又はその酸二無水物としては、例えば、ブタンテトラカルボン酸、ペンタンテトラカルボン酸、ヘキサンテトラカルボン酸等があり、更には置換基の導入されたテトラカルボン酸又はその酸二無水物でもよい。また、脂環式テトラカルボン酸又はその酸二無水物としては、例えば、シクロブタンテトラカルボン酸、シクロペンタンテトラカルボン酸、シクロヘキサンテトラカルボン酸、シクロへプタンテトラカルボン酸、ノルボルナンテトラカルボン酸等があり、更には置換基の導入されたテトラカルボン酸又はその酸二無水物でもよい。更に、芳香族テトラカルボン酸やその酸二無水物としては、例えば、ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸、ビフェニルテトラカルボン酸、ビフェニルエーテルテトラカルボン酸又はその酸二無水物が挙げられ、更には置換基の導入されたテトラカルボン酸又はその酸二無水物でもよい。 The (b) tetracarboxylic acid or acid dianhydride includes a chain hydrocarbon tetracarboxylic acid or acid dianhydride or alicyclic tetracarboxylic acid or acid dianhydride, or an aromatic polyvalent carboxylic acid. An acid or its acid dianhydride can be used. Here, examples of the chain hydrocarbon tetracarboxylic acid or its acid dianhydride include butanetetracarboxylic acid, pentanetetracarboxylic acid, hexanetetracarboxylic acid, and the like, and further, a tetracarboxylic acid into which a substituent is introduced. Or its acid dianhydride may be sufficient. Examples of the alicyclic tetracarboxylic acid or its acid dianhydride include cyclobutanetetracarboxylic acid, cyclopentanetetracarboxylic acid, cyclohexanetetracarboxylic acid, cycloheptanetetracarboxylic acid, norbornanetetracarboxylic acid, Furthermore, a tetracarboxylic acid or an acid dianhydride having a substituent introduced therein may be used. Furthermore, examples of the aromatic tetracarboxylic acid and its acid dianhydride include pyromellitic acid, benzophenone tetracarboxylic acid, biphenyl tetracarboxylic acid, biphenyl ether tetracarboxylic acid, and acid dianhydrides thereof, and further substitution It may be a tetracarboxylic acid having an introduced group or an acid dianhydride thereof.
上記（ａ）ジカルボン酸若しくはトリカルボン酸又はその酸無水物と（ｂ）テトラカルボン酸又はその酸二無水物とのモル比（ａ）／（ｂ）は、０．０１〜１０、好ましくは０．１〜３．０となる範囲である。モル比（ａ）／（ｂ）が上記範囲を逸脱すると最適分子量が得られず、（Ａ）成分を使用した感光性樹脂組成物において、アルカリ現像性、耐熱性、耐溶剤性、パターン形状等が劣化するので好ましくない。なお、モル比（ａ）／（ｂ）が小さいほどアルカリ溶解性が大となり、分子量が大となる傾向がある。 The molar ratio (a) / (b) of (a) dicarboxylic acid or tricarboxylic acid or acid anhydride thereof to (b) tetracarboxylic acid or acid dianhydride is 0.01 to 10, preferably 0.00. The range is 1 to 3.0. When the molar ratio (a) / (b) deviates from the above range, the optimum molecular weight cannot be obtained. In the photosensitive resin composition using the component (A), alkali developability, heat resistance, solvent resistance, pattern shape, etc. Is not preferable because it deteriorates. In addition, there exists a tendency for alkali solubility to become large and molecular weight to become large, so that molar ratio (a) / (b) is small.
また、本発明の（Ａ）成分は、重量平均分子量（Ｍｗ）が２０００〜１００００の間であることが好ましく、３０００〜７０００の間であることが特に好ましい。重量平均分子量（Ｍｗ）が２０００に満たないと（Ａ）成分を使用した黒色感光性樹脂組成物の現像時のパターンの密着性が維持できず、パターン剥がれが生じ、また、重量平均分子量（Ｍｗ）が１００００を超えると現像残渣や未露光部の残膜が残り易くなる。更に、（Ａ）成分は、その酸価が３０〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇの範囲にあることが望ましい。この値が３０ｍｇＫＯＨ／ｇより小さいと（Ａ）成分を使用した感光性樹脂組成物のアルカリ現像がうまくできないか、強アルカリ等の特殊な現像条件が必要となり、２００ｍｇＫＯＨ／ｇを超えると（Ａ）成分を使用した感光性樹脂組成物へのアルカリ現像液の浸透が早くなり過ぎ、剥離現像が起きるので、何れも好ましくない。 In addition, the component (A) of the present invention preferably has a weight average molecular weight (Mw) of between 2000 and 10000, particularly preferably between 3000 and 7000. If the weight average molecular weight (Mw) is less than 2000, the black photosensitive resin composition using the component (A) cannot maintain the adhesion of the pattern during development, resulting in pattern peeling, and the weight average molecular weight (Mw). ) Exceeds 10,000, a development residue and a residual film of an unexposed portion are likely to remain. Furthermore, as for (A) component, it is desirable that the acid value exists in the range of 30-200 mgKOH / g. If this value is less than 30 mgKOH / g, alkali development of the photosensitive resin composition using the component (A) cannot be performed successfully, or special development conditions such as strong alkali are required, and if it exceeds 200 mgKOH / g, (A) Neither of these is preferable because the alkaline developer permeates into the photosensitive resin composition using the components too quickly and peeling development occurs.
一般式（ＩＩ）のエポキシ（メタ）アクリレート酸付加物を含む（Ａ）成分は、上述の工程により、既知の方法、例えば特開平8-278629号公報や特開2008-9401号公報等に記載の方法により製造することができる。先ず、一般式（Ｉ）のエポキシ化合物に不飽和基含有モノカルボン酸を反応させる方法としては、例えば、エポキシ化合物のエポキシ基と当モルの不飽和基含有モノカルボン酸を溶剤中に添加し、触媒（テトラエチルアンモニウムブロマイド、トリエチルベンジルアンモニウムクロライド、2,6-ジイソブチルフェノール等）の存在下、空気を吹き込みながら９０〜１２０℃に加熱・攪拌して反応させるという方法がある。次に、反応生成物であるエポキシアクリレート化合物の水酸基に酸無水物を反応させる方法としては、エポキシアクリレート化合物と酸二無水物および酸一無水物の所定量を溶剤中に添加し、触媒（臭化テトラエチルアンモニウム、トリフェニルホスフィン等）の存在下、９０〜１３０℃で加熱・攪拌して反応させるという方法がある。上記溶剤としては、後述する（Ｄ）成分の分散時の溶剤と同様のものを用いることができる。 The component (A) containing the epoxy (meth) acrylate adduct of the general formula (II) is described in a known manner, for example, in JP-A-8-278629 and JP-A-2008-9401, by the above-described steps. It can manufacture by the method of. First, as a method for reacting an unsaturated group-containing monocarboxylic acid with an epoxy compound of the general formula (I), for example, an epoxy group of an epoxy compound and an equimolar amount of an unsaturated group-containing monocarboxylic acid are added to a solvent, In the presence of a catalyst (tetraethylammonium bromide, triethylbenzylammonium chloride, 2,6-diisobutylphenol, etc.), there is a method of reacting by heating and stirring at 90 to 120 ° C. while blowing air. Next, as a method of reacting an acid anhydride with a hydroxyl group of an epoxy acrylate compound as a reaction product, a predetermined amount of an epoxy acrylate compound, an acid dianhydride, and an acid monoanhydride is added to a solvent, and a catalyst (odor In the presence of tetraethylammonium bromide, triphenylphosphine, etc.), the reaction is carried out by heating and stirring at 90 to 130 ° C. As said solvent, the thing similar to the solvent at the time of dispersion | distribution of (D) component mentioned later can be used.
上記（Ｂ）成分は少なくとも１個のエチレン性不飽和結合を有する重合性モノマーであり、従来感光性材料に用いられている公知の化合物を特に制限なく使用することができる。具体的には、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸エステル誘導体や、ビスフェノールＡ型エポキシジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦ型エポキシジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールフルオレン型エポキシジ（メタ）アクリレート、フェノールノボラック型エポキシポリ（メタ）アクリレート、クレゾールノボラック型エポキシポリ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸エポキシエステル誘導体等を例示できる。また、上記（メタ）アクリル酸誘導体と、構造中に（好ましくは複数の）イソシアネート基や酸無水物基等を有する化合物との反応生成物等も適している（ただしＡ成分に該当する化合物は除く）。なお、（メタ）アクリル酸誘導体以外にも、マレイン酸誘導体、マレイミド誘導体、クロトン酸誘導体、イタコン酸誘導体、ケイヒ酸誘導体、ビニル誘導体、ビニルアルコール誘導体、ビニルケトン誘導体、ビニル芳香族誘導体等も挙げることができる。これらのエチレン性不飽和結合を有する化合物は、更にエポキシ基等の熱反応性の官能基やカルボキシ基等のアルカリ溶解性の官能基等を有して、複合機能化されたものであってもよい。（Ｂ）成分は、１種類の化合物のみを用いてもよく、複数を組み合わせて用いてもよい。 The component (B) is a polymerizable monomer having at least one ethylenically unsaturated bond, and any known compound conventionally used in photosensitive materials can be used without particular limitation. Specifically, (meta) such as diethylene glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, etc. ) Acrylic acid ester derivatives, bisphenol A type epoxy di (meth) acrylate, bisphenol F type epoxy di (meth) acrylate, bisphenolfluorene type epoxy di (meth) acrylate, phenol novolac type epoxy poly (meth) acrylate, cresol novolac type epoxy poly ( Examples include (meth) acrylic acid epoxy ester derivatives such as (meth) acrylate. In addition, a reaction product of the above (meth) acrylic acid derivative and a compound having an (preferably plural) isocyanate group or an acid anhydride group in the structure is also suitable (however, a compound corresponding to the component A is except). In addition to (meth) acrylic acid derivatives, maleic acid derivatives, maleimide derivatives, crotonic acid derivatives, itaconic acid derivatives, cinnamic acid derivatives, vinyl derivatives, vinyl alcohol derivatives, vinyl ketone derivatives, vinyl aromatic derivatives, etc. it can. These compounds having an ethylenically unsaturated bond may further have a thermal functional group such as an epoxy group, an alkali-soluble functional group such as a carboxy group, etc. Good. As the component (B), only one type of compound may be used, or a plurality may be used in combination.
（Ｂ）成分の含有量は、（Ａ）１００質量部に対して、１０〜６０質量部である。（Ｂ）成分の含有量を上記範囲とすることで、感光性樹脂組成物としたときの感度、現像性を所望の範囲にすることが可能である。（Ｂ）成分が１０質量部未満であると必要な感度が得ることが困難になり、６０質量部を超えると硬化物としたとき（Ａ）成分の樹脂物性が十分に発現しないおそれがあり、本発明においては好ましくない。 (B) Content of a component is 10-60 mass parts with respect to (A) 100 mass parts. By making content of (B) component into the said range, it is possible to make sensitivity and developability into a desired range when it is set as the photosensitive resin composition. If the component (B) is less than 10 parts by mass, it will be difficult to obtain the required sensitivity, and if it exceeds 60 parts by mass, the resin physical properties of the component (A) may not be sufficiently expressed when cured. This is not preferred in the present invention.
上記（Ｃ）成分は光重合開始剤であり、従来感光性材料に用いられている公知の化合物を特に制限なく使用することができる。具体的には、アセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、ベンジルジメチルケタール等のアセトフェノン化合物、ベンゾフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾフェノン、４，４′−ビス（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等のベンゾフェノン化合物、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾイン−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル等のベンゾインエーテル化合物、２−メチル−１−［４−（メチルスルファニル）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）−１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オン等のα−アミノアルキルフェノン化合物、チオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン等のチオキサントン化合物、３，３′，４，４′−テトラキス（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン等の有機過酸化物、２，２′−ビス（２−クロロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラフェニル−１，２−ビイミダゾール等のビイミダゾール化合物、ビス（η５−シクロペンタジエニル）ビス［２，６−ジフルオロ−３−（１−ピロリル）フェニル］チタン等のチタノセン化合物、２，４，６−トリス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−［３，４−（メチレンジオキシ）フェニル］−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン等のトリアジン化合物、（２，４，６−トリメチルベンゾイル）ジフェニルホスフィンオキシド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキシド等のアシルホスフィンオキシド化合物、カンファーキノン等のキノン化合物、１−［４−（フェニルスルファニル）フェニル］オクタン−１，２−ジオン ２−Ｏ−ベンゾイルオキシム、１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）カルバゾール−３−イル］エタノン Ｏ−アセチルオキシム、（９−エチル−６−ニトロカルバゾール−３−イル）［４−（２−メトキシ−１−メチルエトキシ）−２−メチルフェニル］メタノン Ｏ−アセチルオキシム等のオキシムエステル化合物等を挙げることができる。（Ｃ）成分は、１種類の化合物のみを用いてもよく、複数を組み合わせて用いてもよい。 The component (C) is a photopolymerization initiator, and known compounds conventionally used for photosensitive materials can be used without particular limitation. Specifically, acetophenone compounds such as acetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, benzyldimethyl ketal, benzophenone, 2,4,6-trimethylbenzophenone, 4,4′-bis ( Benzophenone compounds such as N, N-diethylamino) benzophenone, benzoin ether compounds such as benzoin ethyl ether and benzoin-tert-butyl ether, 2-methyl-1- [4- (methylsulfanyl) phenyl] -2-morpholinopropane-1- Thioxanthone such as ON, α-aminoalkylphenone compounds such as 2-benzyl-2- (N, N-dimethylamino) -1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one, thioxanthone and 2,4-diethylthioxanthone Compound, 3,3 ′, , 4'-tetrakis (tert-butylperoxycarbonyl) benzophenone and other organic peroxides, 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2-bi Biimidazole compounds such as imidazole, titanocene compounds such as bis (η 5 -cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (1-pyrrolyl) phenyl] titanium, 2,4,6-tris (trichloromethyl) ) -1,3,5-triazine, triazine compounds such as 2- [3,4- (methylenedioxy) phenyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5-triazine, (2, Acyl phosphines such as 4,6-trimethylbenzoyl) diphenylphosphine oxide and bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) phenylphosphine oxide Quinone compounds such as tin oxide compounds, camphorquinone, 1- [4- (phenylsulfanyl) phenyl] octane-1,2-dione 2-O-benzoyloxime, 1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) Carbazol-3-yl] ethanone O-acetyloxime, (9-ethyl-6-nitrocarbazol-3-yl) [4- (2-methoxy-1-methylethoxy) -2-methylphenyl] methanone O-acetyloxime And oxime ester compounds. As the component (C), only one type of compound may be used, or a plurality may be used in combination.
（Ｃ）成分の含有量は、（Ａ）成分の含有量と（Ｂ）成分の含有量との合計量を１００質量部としたときに、２〜４０質量部である。（Ｃ）成分の含有量を上記範囲とすることで、感光性樹脂組成物としたときに適正な感度にすることが可能である。（Ｃ）成分が２質量部未満であると感度が低くなり、所望の感度に設計することが困難になり、４０質量部を超えると硬化物物性に対する影響が強くなり、所望の硬化物物性に設計するのが困難になる。 (C) Content of a component is 2-40 mass parts, when the total amount of content of (A) component and content of (B) component is 100 mass parts. By making content of (C) component into the said range, it is possible to make it an appropriate sensitivity when it is set as the photosensitive resin composition. If the component (C) is less than 2 parts by mass, the sensitivity will be low, and it will be difficult to design the desired sensitivity. If it exceeds 40 parts by mass, the effect on the cured product will be stronger, and the desired cured product will be obtained. It becomes difficult to design.
上記（Ｄ）成分は顔料であり、カラーフィルター用の着色剤として知られている公知の化合物（有機顔料、無機顔料、カーボンブラック、チタンブラック等）を特に制限なく使用することができるが、有機顔料が好ましく、中でも平均粒径５０ｎｍ以下の微分散を達成するために微粒化の加工がされたもの（ＢＥＴ法による比表面積が５０ｍ２／ｇ以上であるもの）が特に好ましい。具体的にはアゾ顔料、縮合アゾ顔料、アゾメチン顔料、フタロシアニン顔料、キナクリドン顔料、イソインドリノン顔料、イソインドリン顔料、ジオキサジン顔料、スレン顔料、ペリレン顔料、ペリノン顔料、キノフタロン顔料、ジケトピロロピロール顔料、チオインジゴ顔料等が挙げられ、具体的には、以下のようなＣ．Ｉ．名の化合物が挙げられるが、これらに限定されるわけではない。
Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２、３、４、５、９、１２、１４、２２、２３、３１、３８、１１２、１２２、１４４、１４６、１４７、１４９、１６６、１６８、１７０、１７５、１７６、１７７、１７８、１７９、１８４、１８５、１８７、１８８、２０２、２０７、２０８、２０９、２１０、２１３、２１４、２２０、２２１、２４２、２４７、２５３、２５４、２５５、２５６、２５７、２６２、２６４、２６６、２７２、２７９等；
Ｃ．Ｉ．ピグメント・オレンジ５、１３、１６、３４、３６、３８、４３、６１、６２、６４、６７、６８、７１、７２、７３、７４、８１等；
Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１、３、１２、１３、１４、１６、１７、５５、７３、７４、８１、８３、９３、９５、９７、１０９、１１０、１１１、１１７、１２０、１２６、１２７、１２８、１２９、１３０、１３６、１３８、１３９、１５０、１５１、１５３、１５４、１５５、１７３、１７４、１７５、１７６、１８０、１８１、１８３、１８５、１９１、１９４、１９９、２１３、２１４等；
Ｃ．Ｉ．ピグメント・グリーン７、３６、５８等；
Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５、１５：１、１５：２、１５：３、１５：４、１５：６、１６、６０、８０等；
Ｃ．Ｉ．ピグメント・バイオレット１９、２３、３７等。
The component (D) is a pigment, and known compounds (organic pigments, inorganic pigments, carbon black, titanium black, etc.) known as colorants for color filters can be used without particular limitation. A pigment is preferable, and a pigment that has been subjected to atomization processing to achieve fine dispersion with an average particle size of 50 nm or less (having a specific surface area of 50 m 2 / g or more by the BET method) is particularly preferable. Specifically, azo pigments, condensed azo pigments, azomethine pigments, phthalocyanine pigments, quinacridone pigments, isoindolinone pigments, isoindoline pigments, dioxazine pigments, selenium pigments, perylene pigments, perinone pigments, quinophthalone pigments, diketopyrrolopyrrole pigments, Examples include thioindigo pigments, and specific examples include C.I. I. Name compounds, but are not limited to these.
C. I. Pigment Red 2, 3, 4, 5, 9, 12, 14, 22, 23, 31, 38, 112, 122, 144, 146, 147, 149, 166, 168, 170, 175, 176, 177, 178 179, 184, 185, 187, 188, 202, 207, 208, 209, 210, 213, 214, 220, 221, 242, 247, 253, 254, 255, 256, 257, 262, 264, 266, 272 279 etc .;
C. I. Pigment orange 5, 13, 16, 34, 36, 38, 43, 61, 62, 64, 67, 68, 71, 72, 73, 74, 81, etc .;
C. I. Pigment Yellow 1, 3, 12, 13, 14, 16, 17, 55, 73, 74, 81, 83, 93, 95, 97, 109, 110, 111, 117, 120, 126, 127, 128, 129 , 130, 136, 138, 139, 150, 151, 153, 154, 155, 173, 174, 175, 176, 180, 181, 183, 185, 191, 194, 199, 213, 214, etc .;
C. I. Pigment green 7, 36, 58, etc .;
C. I. Pigment blue 15, 15: 1, 15: 2, 15: 3, 15: 4, 15: 6, 16, 60, 80, etc .;
C. I. Pigment violet 19, 23, 37, and the like.
（Ｄ）成分は１種類の化合物のみを用いてもよく、複数を組み合わせて用いてもよい。カラーフィルターの色特性の制御のために複数の有機顔料を所定の比率で選定して用いることは広く行われている。 As the component (D), only one type of compound may be used, or a plurality may be used in combination. In order to control the color characteristics of a color filter, it is widely performed to select and use a plurality of organic pigments at a predetermined ratio.
有機顔料の微粒化の方法としては公知の方法が利用でき、例えばドライミリング法、ソルベントミリング法、ソルトミリング法、ソルベントソルトミリング法、アシッドペースティング法、アシッドスラリー法等を挙げることができる。微粒化においては粒径を小さくすると同時に、粒径を均一に揃えることが重要である。 As the method for atomizing the organic pigment, known methods can be used, and examples thereof include a dry milling method, a solvent milling method, a salt milling method, a solvent salt milling method, an acid pasting method, and an acid slurry method. In atomization, it is important to make the particle size uniform and at the same time make the particle size uniform.
（Ｄ）成分の含有量は、光硬化後に固形分となる成分の全質量に対して、３０〜５５質量％である。本発明に係る感光性樹脂組成物によれば、顔料濃度がこのように高い場合でも、高精細なフォトリソグラフィーが可能であり、かつ、色再現領域の拡大に伴う色度調整にも対応できる。なお、光硬化後に固形分となる成分は、具体的には、本発明に係る感光性樹脂組成物が含有する成分のうち、溶剤以外のものをいう。本発明に係る感光性樹脂組成物によれば、顔料濃度がこのように高い場合でも、高明度であり、かつ、コントラスト比が高いカラーフィルターを製造することができる。（Ｄ）成分の含有量は、光硬化後に固形分となる成分の全質量に対して、４０〜５５質量％であることがより好ましい。高精細なフォトリソグラフィーが可能であるとは、フォトリソグラフィーによって、１５〜３０μｍの微細なパターンを形成することが可能であることを意味し、好ましくは、５〜１５μｍのさらに微細なパターンを形成することが可能であることを意味する。 (D) Content of a component is 30-55 mass% with respect to the total mass of the component used as solid content after photocuring. According to the photosensitive resin composition of the present invention, even when the pigment concentration is high as described above, high-definition photolithography can be performed, and chromaticity adjustment accompanying expansion of the color reproduction region can be handled. In addition, the component which becomes solid content after photocuring specifically refers to things other than a solvent among the components which the photosensitive resin composition concerning this invention contains. According to the photosensitive resin composition of the present invention, a color filter having a high brightness and a high contrast ratio can be produced even when the pigment concentration is thus high. (D) It is more preferable that content of a component is 40-55 mass% with respect to the total mass of the component used as solid content after photocuring. “High-definition photolithography is possible” means that a fine pattern of 15 to 30 μm can be formed by photolithography, and preferably a finer pattern of 5 to 15 μm is formed. Means that it is possible.
（Ｄ）成分は分散剤とともに、予め溶剤中に分散した後、感光性樹脂組成物を調製する。（Ｄ）成分の分散方法は、一般にはボールミル、アトライター、サンドミル、ビーズミル、ディスパーザー、ホモジナイザー、ペイントシェーカー、三本ロール、ニーダー、超音波分散機、超高圧分散機等の公知の分散機を用いて、分散媒に顔料を分散させることが行われる。分散機は顔料の微分散が達成されるものであれば特に限定されないが、微小なビーズ（直径０．０１〜０．５ｍｍのジルコニアビーズ等）を用いたビーズミルによる分散加工は好適である。液晶表示デバイスで要求される偏光コントラストの改善やカラーフィルター全般の画素サイズの小型化（高画素密度化）に対応させる観点からは、分散された顔料の平均粒径は５０ｎｍ以下となることが好ましい。 (D) A component is previously disperse | distributed in a solvent with a dispersing agent, Then, the photosensitive resin composition is prepared. Component (D) is generally dispersed by a known disperser such as a ball mill, attritor, sand mill, bead mill, disperser, homogenizer, paint shaker, three rolls, kneader, ultrasonic disperser, or ultra high pressure disperser. And the pigment is dispersed in the dispersion medium. The disperser is not particularly limited as long as fine dispersion of the pigment can be achieved, but dispersion processing using a bead mill using fine beads (such as zirconia beads having a diameter of 0.01 to 0.5 mm) is preferable. The average particle diameter of the dispersed pigment is preferably 50 nm or less from the viewpoint of improving the polarization contrast required for the liquid crystal display device and reducing the pixel size of the color filter in general (higher pixel density). .
本発明において、分散された顔料の平均粒径は、サンプリングした分散液を顔料濃度が１質量％となるようにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートで希釈して大塚電子社製ＦＰＡＲ−１０００（「ＦＰＡＲ」は同社の登録商標）で動的光散乱測定を行い、キュムラント法による平均粒径を算出した値を用いる。 In the present invention, the average particle diameter of the dispersed pigment is determined by diluting the sampled dispersion with propylene glycol monomethyl ether acetate so that the pigment concentration becomes 1% by mass, and FPAR-1000 ("FPAR") manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd. Dynamic light scattering measurement is performed with the company's registered trademark), and the value obtained by calculating the average particle diameter by the cumulant method is used.
（Ｄ）成分を溶剤中に分散させるときに用いる分散剤としては、従来顔料等の分散に用いられている公知の化合物、例えば分散剤、分散安定剤、分散湿潤剤、分散促進剤等の名称で市販されている化合物等を特に制限なく使用することができる。顔料の分散安定化に有効な分散剤としては、カチオン性高分子分散剤、アニオン性高分子分散剤、ノニオン性高分子分散剤、顔料誘導体型分散剤（分散助剤）等を例示することができるが、特に顔料への吸着点としてイミダゾリル基、ピロリル基、ピリジル基、一級、二級又は三級のアミノ基等のカチオン性の官能基を有し、アミン価が１〜１００ｍｇＫＯＨ／ｇ、数平均分子量が１千〜１０万の範囲にあるカチオン性高分子分散剤は好適である。このようなカチオン性高分子分散剤の例は、特開平９−１６９８２１号公報に開示されている。分散剤は１種類の化合物のみを用いてもよく、複数を組み合わせて用いてもよい。（Ｂ）成分の市販品の例としては、ビックケミー社製「ＢＹＫ」シリーズ（「ＢＹＫ」は同社の登録商標）、ＢＡＳＦ社製「ｅｆｋａ」シリーズ（「ｅｆｋａ」は同社の登録商標）、ルーブリゾール社製「ソルスパース」シリーズ（「ソルスパース」は同社の登録商標）、味の素ファインテクノ社製「アジスパー」シリーズ（「アジスパー」は味の素社の登録商標）が挙げられる。なお、樹脂類のような高粘度物質は一般に分散を安定させる作用をも有するが、分散促進能を有しないものは分散剤とは扱わない。しかし、本発明は、分散を安定させる目的で樹脂類のような高粘度物質を使用することを制限するものではない。 Examples of the dispersant used when dispersing the component (D) in the solvent include known compounds conventionally used for dispersing pigments, such as dispersants, dispersion stabilizers, dispersion wetting agents, and dispersion accelerators. A commercially available compound can be used without particular limitation. Examples of the dispersant effective for stabilizing the dispersion of the pigment include a cationic polymer dispersant, an anionic polymer dispersant, a nonionic polymer dispersant, and a pigment derivative type dispersant (dispersion aid). In particular, it has a cationic functional group such as an imidazolyl group, a pyrrolyl group, a pyridyl group, a primary, secondary or tertiary amino group as an adsorption point to the pigment, and an amine value of 1 to 100 mgKOH / g, number A cationic polymer dispersant having an average molecular weight in the range of 1,000 to 100,000 is preferred. Examples of such cationic polymer dispersants are disclosed in JP-A-9-169821. As the dispersant, only one kind of compound may be used, or a plurality of dispersants may be used in combination. Examples of commercially available products of component (B) include the BYK “BYK” series (“BYK” is a registered trademark of the company), the BASF “efka” series (“efka” is a registered trademark of the company), and Lubrizol. "Solspers" series ("Solspers" is a registered trademark of the company), "Ajispur" series ("Ajispur" is a registered trademark of Ajinomoto Co., Inc.) manufactured by Ajinomoto Fine Techno Co. High viscosity substances such as resins generally have an action of stabilizing the dispersion, but those not having the ability to promote dispersion are not treated as dispersants. However, the present invention does not limit the use of high viscosity materials such as resins for the purpose of stabilizing dispersion.
（Ｄ）を分散させる場合、（Ａ）成分の一部を共分散させておくことも可能である。特に、高顔料濃度となり、感光性樹脂組成物中の感光性樹脂成分であるＡ成分の比率が低下してくると、パターニングがうまくできなくなる場合があり、そうした場合、感光性樹脂組成物中の（Ａ）成分の比率を一定以上にするために、（Ｄ）を分散させる際の（Ａ）成分共分散は有効である。 When (D) is dispersed, a part of the component (A) can be co-dispersed. In particular, when the pigment concentration becomes high and the ratio of the component A which is the photosensitive resin component in the photosensitive resin composition decreases, patterning may not be performed successfully. In such a case, in the photosensitive resin composition, In order to make the ratio of the component (A) above a certain level, the component (A) covariance when dispersing (D) is effective.
（Ｄ）成分の分散時の溶剤は、感光性樹脂組成物を均一に溶解又は分散させるのに使用する溶剤と共通であり、例えばエステル系溶剤（ブチルアセテート、シクロヘキシルアセテート等）、ケトン系溶剤（メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等）、エーテル系溶剤（ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル等）、アルコール系溶剤（３−メトキシブタノール、エチレングリコールモノ−ｔ−ブチルエーテル等）、芳香族系溶剤（トルエン、キシレン等）、脂肪族系溶剤、アミン系溶剤、アミド系溶剤等の公知の溶剤を特に制限なく使用することができる。安全性の点からはプロピレングリコール骨格を有するエステル系やエーテル系の溶剤、例えばプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールジアセテート等が好ましく用いられる。また、類似の構造の３−メトキシブチルアセテート、３−メトキシ−３−メチルブチルアセテート、１，３−ブチレングリコールジアセテート等も好ましい。溶剤は１種類の化合物のみを用いてもよく、複数を組み合わせて用いてもよい。これら溶剤の中でも、有機顔料の分散安定性、溶剤の表面張力や乾燥性等の点から、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートが好適に用いられ、これを主成分として使用する塗工条件等を考慮して、幾つかの溶剤を混合して使用することが好ましい。 The solvent for dispersing component (D) is the same as the solvent used to uniformly dissolve or disperse the photosensitive resin composition. For example, ester solvents (butyl acetate, cyclohexyl acetate, etc.), ketone solvents ( Methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, etc.) ether solvents (diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol ethyl methyl ether, etc.), alcohol solvents (3-methoxybutanol, ethylene glycol mono-t-butyl ether, etc.), aromatic solvents (toluene, xylene, etc.) ), Known solvents such as aliphatic solvents, amine solvents, amide solvents and the like can be used without particular limitation. From the viewpoint of safety, ester or ether solvents having a propylene glycol skeleton, such as propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monobutyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol dimethyl ether, propylene glycol monomethyl. Ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol diacetate and the like are preferably used. Further, 3-methoxybutyl acetate, 3-methoxy-3-methylbutyl acetate, 1,3-butylene glycol diacetate and the like having a similar structure are also preferable. As the solvent, only one kind of compound may be used, or a plurality may be used in combination. Among these solvents, propylene glycol monomethyl ether acetate is preferably used from the viewpoints of dispersion stability of organic pigments, surface tension and drying properties of the solvent, and in consideration of coating conditions etc. in which this is used as a main component. It is preferable to use a mixture of several solvents.
上記（Ｅ）成分としては、ビスフェノールＡ型エポキシ化合物、ビスフェノールＦ型エポキシ化合物、ビスフェノールフルオレン型エポキシ化合物、テトラメチルビフェニル型エポキシ化合物、フェノールノボラック型エポキシ化合物、クレゾールノボラック型エポキシ化合物、多価アルコールのグリシジルエーテル、多価カルボン酸のグリシジルエステル、（メタ）アクリル酸グリシジルをユニットとして含む重合体、３，４−エポキシシクロヘキサンカルボン酸（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルに代表される脂環式エポキシ化合物、２，２−ビス（ヒドロキシメチル）−１−ブタノールの１，２−エポキシ−４−（２−オキシラニル）シクロヘキサン付加物（例えばダイセル社製「ＥＨＰＥ３１５０」）、エポキシ化ポリブタジエン（例えば日本曹達社製「ＮＩＳＳＯ−ＰＢ・ＪＰ−１００」）、シリコーン骨格を有するエポキシ化合物等を用いることができる。 As the component (E), bisphenol A type epoxy compound, bisphenol F type epoxy compound, bisphenol fluorene type epoxy compound, tetramethylbiphenyl type epoxy compound, phenol novolac type epoxy compound, cresol novolac type epoxy compound, polyglycol glycidyl Ether, glycidyl ester of polycarboxylic acid, polymer containing glycidyl (meth) acrylate as a unit, alicyclic epoxy compound represented by 3,4-epoxycyclohexanecarboxylic acid (3,4-epoxycyclohexyl) methyl, 1,2-epoxy-4- (2-oxiranyl) cyclohexane adduct of 2,2-bis (hydroxymethyl) -1-butanol (for example, “EHPE3150” manufactured by Daicel), epoxidized polybutane Ene (e.g. manufactured by Nippon Soda Co., Ltd. "NISSO-PB · JP-100"), it is possible to use an epoxy compound having a silicone skeleton.
本発明のカラーフィルター用感光性樹脂組成物が（Ｅ）成分を含有するとき、（Ｅ）成分の含有量は、（Ａ）１００質量部に対して、５〜８０質量部である。（Ｅ）成分の含有量を上記範囲とすることで、所望の硬化物物性に設計することが可能である。 When the photosensitive resin composition for color filters of this invention contains (E) component, content of (E) component is 5-80 mass parts with respect to (A) 100 mass parts. By making content of (E) component into the said range, it is possible to design to desired hardened | cured material physical property.
上記（Ｆ）成分としては、具体的には、以下のようなＣ．Ｉ．名の化合物が挙げられるが、これらに限定されるわけではない。
Ｃ．Ｉ．ダイレクトレッド２０，２８，３７，３９，４４，８３、Ｃ．Ｉ．アシッドレッド６，８，９，１３，１４，１８，２６，２７，３７，５１，５２，８７，８８，８９，９２，９４，９７，１１１，１１４，１１５，１２２，１３４，１４５，１５４，１８０，１８３，１８４，１８６，１９８，４８６、Ｃ．Ｉ．ベイシックレッド１２，１３，１８，２７、Ｃ．Ｉ．ディスパースレッド５，７，１３，１７，５８，６０，７２，８８，２０６、Ｃ．Ｉ．ソルベントレッド１，３，８，２３，２４，２５，２７，３０，４９，８３，１００，１０９，１２５，１３２、Ｃ．Ｉ．リアクティブレッド１７，１２０、Ｃ．Ｉ．モルダントレッド７等；
Ｃ．Ｉ．ソルベントグリーン３，２８，３２，３３、Ｃ．Ｉ．アシッドグリーン３，９，１６，１８，２５、Ｃ．Ｉ．ベイシックグリーン１，４、Ｃ．Ｉ．ダイレクトグリーン２８，５９等；
Ｃ．Ｉ．ソルベントブルー２５，３５，３６，３８，４５，５５，６４，６７，７０，１２９、Ｃ．Ｉ．ダイレクトブルー２５，８６，９０，１０８、Ｃ．Ｉ．アシッドブルー１，７，９，１５，２９，４０，８３，１０３，１０４，１２９，１５８，１６１，２４９、Ｃ．Ｉ．ベイシックブルー１，３，７，９，２５，２６，４１，７７、Ｃ．Ｉ．ディスパースブルー５６，６０，８１，８７，１４９，１６５，１９７，２１１，２１４、Ｃ．Ｉ．パッドブルー４，５、Ｃ．Ｉ．リアクティブブルー１９，４９等；
Ｃ．Ｉ．ソルベントイエロー２，１４，１５，１６，２１，２５，３３，５６，８２，８８，８９，１４６、Ｃ．Ｉ．ディスパースイエロー３，４，７，３１，４２，５４，６０，６１，６４，８７，１９８、Ｃ．Ｉ．アシッドイエロー１，３，１１，１７、２３，３８，４０，４２，７６，９８，９９、Ｃ．Ｉ．ダイレクトイエロー１，１１，１２，２８、Ｃ．Ｉ．ベイシックイエロー１，２１、Ｃ．Ｉ．リアクティブイエロー２、Ｃ．Ｉ．モルダントイエロー５等；
Ｃ．Ｉ．ソルベントオレンジ６，４５，５６、Ｃ．Ｉ．アシッドオレンジ１，３，７，８，１０，２０，２４，２８，３３，５６，７４、Ｃ．Ｉ．ダイレクトオレンジ１，２６、Ｃ．Ｉ．ディスパースオレンジ５等；
Ｃ．Ｉ．ソルベントバイオレット２，８，９，１１，１３，１４、Ｃ．Ｉ．ダイレクトバイオレット２２、Ｃ．Ｉ．アシッドバイオレット４９、Ｃ．Ｉ．ベイシックバイオレット７，１０、Ｃ．Ｉ．ディスパーバイオレット２４等；
Ｃ．Ｉ．ダイレクトブラウン６，５８，９５，１０１，１７３、Ｃ．Ｉ．アシッドブラウン１４等。
Specific examples of the component (F) include the following C.I. I. Name compounds, but are not limited to these.
C. I. Direct Red 20, 28, 37, 39, 44, 83, C.I. I. Acid Red 6, 8, 9, 13, 14, 18, 26, 27, 37, 51, 52, 87, 88, 89, 92, 94, 97, 111, 114, 115, 122, 134, 145, 154 180, 183, 184, 186, 198, 486, C.I. I. Basic Red 12, 13, 18, 27, C.I. I. Disperse thread 5, 7, 13, 17, 58, 60, 72, 88, 206, C.I. I. Solvent Red 1, 3, 8, 23, 24, 25, 27, 30, 49, 83, 100, 109, 125, 132, C.I. I. Reactive Red 17, 120, C.I. I. Molded Red 7 etc .;
C. I. Solvent Green 3, 28, 32, 33, C.I. I. Acid Green 3, 9, 16, 18, 25, C.I. I. Basic Green 1, 4, C.I. I. Direct green 28, 59, etc .;
C. I. Solvent Blue 25, 35, 36, 38, 45, 55, 64, 67, 70, 129, C.I. I. Direct Blue 25, 86, 90, 108, C.I. I. Acid Blue 1, 7, 9, 15, 29, 40, 83, 103, 104, 129, 158, 161, 249, C.I. I. Basic Blue 1, 3, 7, 9, 25, 26, 41, 77, C.I. I. Disperse blue 56, 60, 81, 87, 149, 165, 197, 211, 214, C.I. I. Pad blue 4, 5, C.I. I. Reactive Blue 19, 49, etc .;
C. I. Solvent Yellow 2, 14, 15, 16, 21, 25, 33, 56, 82, 88, 89, 146, C.I. I. Disperse Yellow 3, 4, 7, 31, 42, 54, 60, 61, 64, 87, 198, C.I. I. Acid Yellow 1,3,11,17,23,38,40,42,76,98,99, C.I. I. Direct Yellow 1, 11, 12, 28, C.I. I. Basic Yellow 1,21, C.I. I. Reactive Yellow 2, C.I. I. Moldant Yellow 5 etc .;
C. I. Solvent Orange 6, 45, 56, C.I. I. Acid Orange 1, 3, 7, 8, 10, 20, 24, 28, 33, 56, 74, C.I. I. Direct Orange 1,26, C.I. I. Disperse Orange 5 etc .;
C. I. Solvent Violet 2, 8, 9, 11, 13, 14, C.I. I. Direct violet 22, C.I. I. Acid Violet 49, C.I. I. Basic violet 7, 10, C.I. I. Disper Violet 24 etc .;
C. I. Direct Brown 6, 58, 95, 101, 173, C.I. I. Acid Brown 14 etc.
本発明のカラーフィルター用感光性樹脂組成物が（Ｆ）成分を含有するとき、（Ｄ）成分の含有量と（Ｅ）成分の含有量との合計量は、光硬化後に固形分となる成分の全質量に対して、３０〜６０質量部である。本発明に係る感光性樹脂組成物によれば、顔料および染料の濃度がこのように高い場合でも、高精細なフォトリソグラフィーが可能であり、かつ、色再現領域の拡大に伴う色度調整にも対応できる。 When the photosensitive resin composition for a color filter of the present invention contains the component (F), the total amount of the content of the component (D) and the content of the component (E) is a component that becomes a solid content after photocuring. The total mass is 30 to 60 parts by mass. According to the photosensitive resin composition of the present invention, even when the concentration of the pigment and the dye is so high, high-definition photolithography is possible, and chromaticity adjustment accompanying expansion of the color reproduction region is also possible. Yes.
本発明のカラーフィルター用感光性樹脂組成物には、（Ａ）〜（Ｆ）成分と溶剤以外にもその他の必要な成分を添加することができ、例えば、ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエーテル樹脂、メラミン樹脂等の樹脂類（溶剤可溶性または樹脂ビーズ）、架橋剤、界面活性剤、シランカップリング剤、熱重合禁止剤、可塑剤、充填剤、粘度調整剤、湿潤剤、消泡剤、レベリング剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、連鎖移動剤等の添加剤類等、カラーフィルター用感光性樹脂組成物に適用される公知の化合物を特に制限なく使用することができる。添加剤類の具体的な例としては、界面活性剤としてはフッ素系界面活性剤（例えばＤＩＣ社製「メガファック」シリーズ等）、シリコーン系界面活性剤（例えば東レ・ダウコーニング社製「ＦＺ」シリーズ）等）等を挙げることができ、シランカップリング剤としては３−（グリシジルオキシ）プロピルトリメトキシシラン、３−イソシアナトプロピルトリエトキシシラン、３−ウレイドプロピルトリエトキシシラン等を挙げることができ、熱重合禁止剤としては、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ピロガロール、ｔｅｒｔ−ブチルカテコール、フェノチアジン等を挙げることができ、可塑剤としては、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレート、リン酸トリクレジル等を挙げることができ、充填剤としては、ガラスファイバー、シリカ、マイカ、アルミナ等を挙げることができ、消泡剤やレベリング剤としては、シリコーン系、フッ素系、アクリル系の化合物を挙げることができ、酸化防止剤としてはヒンダードフェノール類の化合物を挙げることができる。その添加量としては（Ａ）〜（Ｆ）成分の合計に対して１０質量％以内で用いることが好ましい。 In addition to the components (A) to (F) and the solvent, other necessary components can be added to the photosensitive resin composition for a color filter of the present invention. For example, vinyl resins, polyester resins, polyamide resins, Resins such as polyimide resin, polyurethane resin, polyether resin, melamine resin (solvent soluble or resin beads), crosslinking agent, surfactant, silane coupling agent, thermal polymerization inhibitor, plasticizer, filler, viscosity modifier , Well-known compounds applied to photosensitive resin compositions for color filters, such as additives such as wetting agents, antifoaming agents, leveling agents, antioxidants, ultraviolet absorbers, chain transfer agents, etc. be able to. Specific examples of the additives include a fluorosurfactant (for example, “MegaFuck” series manufactured by DIC, etc.) and a silicone surfactant (for example, “FZ” manufactured by Toray Dow Corning, Inc.). Series) etc.) and the like, and examples of the silane coupling agent include 3- (glycidyloxy) propyltrimethoxysilane, 3-isocyanatopropyltriethoxysilane, 3-ureidopropyltriethoxysilane, and the like. The thermal polymerization inhibitor can include hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, pyrogallol, tert-butylcatechol, phenothiazine and the like, and the plasticizer can include dibutyl phthalate, dioctyl phthalate, tricresyl phosphate, and the like. Glass as filler Fiber, silica, mica, alumina and the like can be mentioned. Examples of the antifoaming agent and leveling agent include silicone-based, fluorine-based and acrylic compounds. Examples of the antioxidant include hindered phenol compounds. Can be mentioned. The addition amount is preferably 10% by mass or less based on the total of the components (A) to (F).
本発明のカラーフィルター用感光性樹脂組成物は、上記（Ａ）〜（Ｄ）成分を混合して製造することができる。このとき、任意に、上記（Ｅ）成分および（Ｆ）成分のいずれか又は双方を混合して、これらの成分を含有するカラーフィルター用感光性樹脂組成物としてもよい。（Ａ）成分〜（Ｆ）成分の混合量は、各成分について上記した量とすることができる。 The photosensitive resin composition for a color filter of the present invention can be produced by mixing the components (A) to (D). At this time, it is good also as the photosensitive resin composition for color filters which mixes any or both of the said (E) component and (F) component arbitrarily, and contains these components. The mixing amount of the component (A) to the component (F) can be the amount described above for each component.
本発明のカラーフィルター用感光性樹脂組成物は、（Ｄ）有機顔料を（Ａ）アルカリ可溶性樹脂と分散剤とともに溶剤中に分散させた顔料分散体を調製した後、この顔料分散体に（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）光重合性モノマー、（Ｃ）光重合開始剤、及び溶剤をさらに添加して混合して製造してもよい。このとき、最終的に混合して得られたカラーフィルター用感光性樹脂組成物が含有する各成分の量が、各成分について上記した量となるように、顔料分散体の調製に用いる（Ａ）アルカリ可溶性樹脂及び分散剤の量と、後からさらに添加する（Ａ）アルカリ可溶性樹脂及び分散剤の量とを、調整する。 The photosensitive resin composition for a color filter of the present invention was prepared by preparing a pigment dispersion in which (D) an organic pigment was dispersed in a solvent together with (A) an alkali-soluble resin and a dispersant, It may be produced by further adding and mixing an alkali-soluble resin, (B) a photopolymerizable monomer, (C) a photopolymerization initiator, and a solvent. At this time, it uses for preparation of a pigment dispersion so that the quantity of each component which the photosensitive resin composition for color filters obtained by mixing finally becomes the quantity mentioned above about each component (A). The amount of the alkali-soluble resin and the dispersant and the amount of the (A) alkali-soluble resin and the dispersant added later are adjusted.
本発明のカラーフィルター用感光性樹脂組成物は、基板等に塗布し、光照射、加熱焼成等で硬化させることによって硬化膜を作製することができる。感光性樹脂組成物を塗布する方法としては公知の方法が利用でき、例えばスピンコーター、バーコーター、スリットコーター等による塗布を挙げることができる。また、塗布後はホットプレートや減圧乾燥機等を用いて、感光性樹脂組成物の乾燥を行うことが好ましい。ただし、塗布及び乾燥の方法は特に制限されない。 The photosensitive resin composition for a color filter of the present invention can be applied to a substrate or the like, and a cured film can be produced by curing by light irradiation, heat baking, or the like. As a method for applying the photosensitive resin composition, a known method can be used, and examples thereof include application by a spin coater, a bar coater, a slit coater and the like. Moreover, after application | coating, it is preferable to dry the photosensitive resin composition using a hotplate, a vacuum dryer, etc. FIG. However, the application and drying methods are not particularly limited.
光照射による硬化の方法も公知の方法が利用でき、例えばキセノンランプ、ハロゲンランプ、タングステンランプ、超高圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、中圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ等を光源とする紫外光照射を挙げることができる。かかる光照射を行う際、フォトマスク等を用いて画像露光を行い、更に現像液で処理することにより基板上に画像を形成することができる。現像液としては、未露光部分を溶解し露光部分を溶解しない現像液であれば特に制限はないが、種々の添加剤を含むアルカリ水溶液であることが好ましい。ここで、現像液のアルカリ成分としては、例えばアルカリ金属の炭酸塩、アルカリ金属の水酸化物、四級アンモニウムの水酸化物等を、添加剤としては、例えば有機溶剤、界面活性剤、消泡剤、防カビ剤等を挙げることができる。現像方法についても公知の方法が利用でき、例えば浸漬現像、スプレー現像、ブラシ現像、超音波現像等を挙げることができる。光照射及び現像の方法も特に制限されるものではない。 As a curing method by light irradiation, known methods can be used, for example, ultraviolet light irradiation using a xenon lamp, a halogen lamp, a tungsten lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a low pressure mercury lamp, or the like as a light source. Can be mentioned. When such light irradiation is performed, an image can be formed on a substrate by performing image exposure using a photomask or the like and further processing with a developer. The developer is not particularly limited as long as it is a developer that dissolves an unexposed part and does not dissolve an exposed part, but is preferably an alkaline aqueous solution containing various additives. Here, examples of the alkali component of the developer include alkali metal carbonates, alkali metal hydroxides, and quaternary ammonium hydroxides. Examples of additives include organic solvents, surfactants, and antifoaming agents. Agents, fungicides and the like. As a developing method, a known method can be used, and examples thereof include immersion development, spray development, brush development, and ultrasonic development. The method of light irradiation and development is not particularly limited.
更に、硬化膜の強度を高めるため、光照射後に加熱焼成を行うことが好ましい。加熱焼成の方法も公知の方法が利用でき、例えばホットプレート、熱風オーブン等による処理を挙げることができるが、特に制限されない。硬化膜の硬化条件については特に制限されないが、光硬化については１０〜１０００ｍＪ／ｃｍ２の紫外光照射、熱硬化については２００〜２５０℃で２０〜６０分の加熱焼成を行うことが好ましい。なお、かかる硬化膜を使用してカラーフィルターを作製する方法としては、公知の方法が利用できる。 Furthermore, in order to increase the strength of the cured film, it is preferable to carry out heat baking after light irradiation. A known method can be used as the method for heating and baking, and examples thereof include a hot plate and a hot air oven, but are not particularly limited. The curing conditions for the cured film are not particularly limited, but it is preferable to carry out heat baking at 200 to 250 ° C. for 20 to 60 minutes for ultraviolet curing at 10 to 1000 mJ / cm 2 for photocuring and heat curing. In addition, a well-known method can be utilized as a method of producing a color filter using this cured film.
このようにして製造した硬化膜は、１５〜３０μｍの微細なパターンで形成するが可能であり、更には、５〜１５μｍのさらに微細なパターンで形成することが可能である。 The cured film thus produced can be formed with a fine pattern of 15 to 30 μm, and further can be formed with a finer pattern of 5 to 15 μm.
また、このようにして製造した硬化膜は、カラーフィルターに用いることができる。この硬化膜を含むカラーフィルターは、色再現領域が従来のカラーフィルターよりも拡大され、より広い範囲での色度調整にも対応できる。このようなカラーフィルターは、たとえば、液晶表示装置等に用いることができ、明度、コントラスト比、または色再現領域を高めることにより、液晶表示装置等の品質向上に寄与することができる。 Moreover, the cured film manufactured in this way can be used for a color filter. The color filter including the cured film has a color reproduction area larger than that of the conventional color filter, and can cope with chromaticity adjustment in a wider range. Such a color filter can be used, for example, in a liquid crystal display device or the like, and can contribute to improving the quality of the liquid crystal display device or the like by increasing the brightness, contrast ratio, or color reproduction region.
以下、実施例により本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されない。なお、部数及び百分率（％）は特に断りのない限り質量部及び質量百分率（質量％）を表す。 EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not limited to these. In addition, unless otherwise indicated, a part number and a percentage (%) represent a mass part and a mass percentage (mass%).
分析は次のように行った。
酸価：サンプリングした溶液をテトラヒドロフランと水の混合液に溶解させて０．１規定の水酸化カリウム水溶液で中和滴定し、当量点からサンプル溶液の固形分換算の酸価を算出した。
重量平均分子量（Ｍｗ）：サンプリングした溶液をテトラヒドロフランに溶解させて東ソー社製ＨＬＣ−８２２０ＧＰＣで分子量分布測定を行い、標準ポリスチレン換算の重量平均分子量を算出した。
平均粒径：サンプリングした分散液を顔料濃度が１％となるようにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートで希釈して大塚電子社製ＦＰＡＲ−１０００で動的光散乱測定を行い、キュムラント法による平均粒径を算出した。
The analysis was performed as follows.
Acid value: The sampled solution was dissolved in a mixed solution of tetrahydrofuran and water, neutralized with a 0.1 N aqueous potassium hydroxide solution, and the acid value in terms of solid content of the sample solution was calculated from the equivalence point.
Weight average molecular weight (Mw): The sampled solution was dissolved in tetrahydrofuran, the molecular weight distribution was measured with HLC-8220 GPC manufactured by Tosoh Corporation, and the weight average molecular weight in terms of standard polystyrene was calculated.
Average particle size: The sampled dispersion was diluted with propylene glycol monomethyl ether acetate so that the pigment concentration would be 1%, and dynamic light scattering measurement was performed with FPAR-1000 manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd. Calculated.
実施例及び比較例で使用した成分を以下に示す。
Ａ：不飽和基含有アルカリ可溶性樹脂；
Ａ−１：合成例１の樹脂溶液（一般式（ＩＩ）においてＲ１〜Ｒ６が水素原子、Ａがフルオレン−９，９−ジイル基、Ｘがテトラカルボキシルビフェニルのカルボン酸残基、Ｙがテトラヒドロフタル酸のカルボン酸残基である樹脂の溶液）
Ａ−２：合成例２の樹脂溶液
Ｂ：光重合性モノマー；ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬社製 商品名ＤＰＨＡ）
Ｃ：光重合開始剤；１−［４−（フェニルスルファニル）フェニル］オクタン−１，２−ジオン ２−Ｏ−ベンゾイルオキシム（ＢＡＳＦ社製ＯＸＥ０１）
Ｄ：顔料分散体
Ｄ−１：微粒化されたピグメント・グリーン７（ＢＥＴ法による比表面積７５ｍ２／ｇ、キュムラント法による平均粒径３２ｎｍ）１５％、高分子分散剤１０％のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）溶液
Ｄ−２：微粒化されたピグメント・グリーン３６（ＢＥＴ法による比表面積６５ｍ２／ｇ、キュムラント法による平均粒径３８ｎｍ）１５％、高分子分散剤１０％のＰＧＭＥＡ溶液
Ｄ−３：微粒化されたピグメント・ブルー１５：６（ＢＥＴ法による比表面積９０ｍ２／ｇ、キュムラント法による平均粒径５７ｎｍ））１５質量％、高分子分散剤１０質量％のＰＧＭＥＡ溶液
Ｄ−４：微粒化されたピグメント・レッド２５４（ＢＥＴ法による比表面積８５ｍ２／ｇ、キュムラント法による平均粒径７２ｎｍ））１５％、高分子分散剤１０％のＰＧＭＥＡ溶液
Ｅ：テトラメチルビフェニル系エポキシ樹脂（日本化薬社製「ＹＸ−４０００」）
Ｇ：界面活性剤；東レ・ダウコーニング社製「ＦＺ−２１２２」（１％ＰＧＭＥＡ溶液）
Ｈ：シランカップリング剤；３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン
溶剤−１：ＰＧＭＥＡ
溶剤−２：ジエチレングリコールジメチルエーテル（ＤＭＤＧ）
The components used in Examples and Comparative Examples are shown below.
A: unsaturated group-containing alkali-soluble resin;
A-1: Resin solution of Synthesis Example 1 (in the general formula (II), R 1 to R 6 are hydrogen atoms, A is a fluorene-9,9-diyl group, X is a carboxylic acid residue of tetracarboxylbiphenyl, and Y is Resin solution that is the carboxylic acid residue of tetrahydrophthalic acid)
A-2: Resin solution of Synthesis Example 2 B: Photopolymerizable monomer; Dipentaerythritol hexaacrylate (trade name DPHA manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
C: Photopolymerization initiator; 1- [4- (phenylsulfanyl) phenyl] octane-1,2-dione 2-O-benzoyloxime (OXE01 manufactured by BASF)
D: Pigment dispersion D-1: Propylene glycol monomethyl ether of 15% of atomized pigment green 7 (specific surface area 75 m 2 / g by BET method, average particle size 32 nm by cumulant method), 10% polymer dispersant Acetate (PGMEA) solution D-2: PGMEA solution of atomized Pigment Green 36 (specific surface area 65 m 2 / g by BET method, average particle size 38 nm by cumulant method) 15%, polymer dispersant 10% D- 3: Atomized Pigment Blue 15: 6 (specific surface area 90 m 2 / g by BET method, average particle size 57 nm by cumulant method)) 15% by mass, PGMEA solution 10% by mass of polymer dispersant D-4: the ratio by atomized Pigment Red 254 (BET method surface area of 85m 2 / g, cumulant method Average particle size 72 nm)) 15% by, the 10% polymer dispersant PGMEA solution E: tetramethylbiphenyl epoxy resin (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., "YX-4000")
G: Surfactant; “FZ-2122” (1% PGMEA solution) manufactured by Toray Dow Corning
H: Silane coupling agent; 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane Solvent-1: PGMEA
Solvent-2: Diethylene glycol dimethyl ether (DMDG)
［合成例１］
還留冷却器付き500ml四つ口フラスコ中にビスフェノールフルオレン型エポキシ化合物（エポキシ当量２５５） 0.23mol、アクリル酸 0.46mol、PGMEA 161.0g及びテトラエチルアンモニウムブロマイド 0.48gを仕込み、100〜105℃で加熱下に20hr撹拌して反応させた。次いで、フラスコ内に3,3',4,4'-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物 0.12mol、1,2,3,6-テトラヒドロフタル酸無水物 0.12molを仕込み、120〜125℃で加熱下に6hr撹拌し、アルカリ可溶性樹脂溶液Ａ−１を得た。得られた樹脂溶液の固形分濃度は55.6％、酸価（固形分換算）は103mgKOH/g、GPC分析によるMwは3600であった。
[Synthesis Example 1]
Into a 500 ml four-necked flask equipped with a reflux condenser, 0.23 mol of bisphenolfluorene type epoxy compound (epoxy equivalent 255), 0.46 mol of acrylic acid, 161.0 g of PGMEA and 0.48 g of tetraethylammonium bromide were charged and heated at 100 to 105 ° C. The reaction was stirred for 20 hours. Next, 0.12 mol of 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride and 0.12 mol of 1,2,3,6-tetrahydrophthalic anhydride are charged into the flask and heated at 120 to 125 ° C. For 6 hours to obtain an alkali-soluble resin solution A-1. The obtained resin solution had a solid content concentration of 55.6%, an acid value (converted to a solid content) of 103 mg KOH / g, and Mw by GPC analysis of 3600.
［合成例２］
窒素導入管及び還流管付き1000ml四つ口フラスコ中にメタクリル酸 51.65g（0.60mol）、メタクリル酸メチル 38.44g（0.38mol）、メタクリル酸シクロヘキシル 36.33g（0.22mol）、アゾビスイソブチロニトリル 5.91g、及びDMDG 368gを仕込み、80〜85℃で窒素気流下、8hr撹拌して重合させた。更に、フラスコ内にグリシジルメタクリレート 39.23g（0.28mol）、トリフェニルメタン 1.44g、2,6-ジ−tert−ブチル−p−クレゾール 0.055gを仕込み、80〜85℃で16hr撹拌し、重合性不飽和基含有（メタ）アクリレート樹脂溶液Ａ−２を得た。得られた樹脂溶液の固形分濃度は32％、酸価（固形分換算）は110mgKOH/g、GPC分析によるMwは18080であった。
[Synthesis Example 2]
Methacrylic acid 51.65g (0.60mol), Methyl methacrylate 38.44g (0.38mol), Cyclohexyl methacrylate 36.33g (0.22mol), Azobisisobutyronitrile 5.91 g and DMDG 368 g were charged, and polymerization was carried out at 80 to 85 ° C. with stirring for 8 hours under a nitrogen stream. Furthermore, 39.23 g (0.28 mol) of glycidyl methacrylate, 1.44 g of triphenylmethane, and 0.055 g of 2,6-di-tert-butyl-p-cresol were placed in the flask, and stirred at 80 to 85 ° C. for 16 hours to prevent polymerization. A saturated group-containing (meth) acrylate resin solution A-2 was obtained. The obtained resin solution had a solid content concentration of 32%, an acid value (in terms of solid content) of 110 mgKOH / g, and Mw by GPC analysis of 18080.
（カラーフィルター用感光性樹脂組成物の作製）
［実施例１〜４］及び[比較例１〜４]
表１の配合組成で、感光性樹脂組成物溶液を調製した。なお、表中の各成分の数値は、質量部を表す。
(Preparation of photosensitive resin composition for color filter)
[Examples 1-4] and [Comparative Examples 1-4]
A photosensitive resin composition solution was prepared with the composition shown in Table 1. In addition, the numerical value of each component in a table | surface represents a mass part.
（カラーフィルター用感光性樹脂組成物の評価：現像性）
実施例１〜４および比較例１〜４の感光性樹脂組成物溶液を、脱脂洗浄した厚さ１.２ｍｍのガラス板上にスピンコーターを用いて２．６μｍの乾燥膜厚になる条件で塗布・乾燥した後、フォトマスクを密着させ、５００Ｗの高圧水銀灯ランプを用いて波長３６５ｎｍの照度１０ｍＷ／ｃｍ２の紫外線を１０秒間照射した。露光後、０.４％炭酸ナトリウム水溶液を用いて２３℃で６０秒間０.１ＭＰａの圧力で現像し、塗膜の未露光部を除去し、その後、熱風乾燥機を用いて２３０℃で３０分間加熱硬化処理を行って、着色硬化膜パターン（硬化物）を得た。そして、ガラス板上に形成された着色硬化膜パターンを顕微鏡で確認し、以下に従ってパターン形成、残渣に関する評価を行った。結果を表２に示す。
(Evaluation of photosensitive resin composition for color filter: developability)
The photosensitive resin composition solutions of Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 4 were coated on a 1.2 mm thick glass plate that had been degreased and washed using a spin coater under the conditions that resulted in a dry film thickness of 2.6 μm. After drying, a photomask was adhered, and ultraviolet rays with an illuminance of 10 mW / cm 2 having a wavelength of 365 nm were irradiated for 10 seconds using a 500 W high-pressure mercury lamp lamp. After the exposure, development was performed with a 0.4% aqueous sodium carbonate solution at 23 ° C. for 60 seconds at a pressure of 0.1 MPa to remove the unexposed portion of the coating film, and then using a hot air dryer at 230 ° C. for 30 minutes. A heat-curing treatment was performed to obtain a colored cured film pattern (cured product). And the colored cured film pattern formed on the glass plate was confirmed with the microscope, and pattern formation and the evaluation regarding a residue were performed according to the following. The results are shown in Table 2.
・パターン形成
○：パターン形成可能（５μｍ〜１５μｍのライン＆スペースパターンが残る）
△：パターン形成可能（１６μｍ〜３０μｍのライン＆スペースパターンが残る）
×：現像液に溶解せずもしくはパターン剥離
・ Pattern formation ○: Pattern can be formed (5 μm to 15 μm line & space pattern remains)
Δ: Pattern can be formed (16 μm to 30 μm line & space pattern remains)
×: Not dissolved in developer or pattern peeling
・残渣
○：現像により感光性樹脂組成物が除去されたガラス基板上に異物が０（ゼロ）
×：現像により感光性樹脂組成物が除去されたガラス基板上に異物を観察
Residue ○: 0 (zero) foreign matter on the glass substrate from which the photosensitive resin composition has been removed by development
×: Observation of foreign matter on the glass substrate from which the photosensitive resin composition was removed by development
表２から明らかなように、本発明の一般式（ＩＩ）のアルカリ可溶性樹脂を用いた着色感光性樹脂組成物を用いれば、固形分中着色成分（（Ｄ）成分）が３５〜５０％と高濃度であっても、５〜１５μｍといった微細なライン＆スペースの形成が可能であることがわかる。一方、アクリル系モノマーの共重合体の誘導体である合成例２のようなアルカリ可溶性樹脂を使用した着色感光性樹脂組成物では、固形分中３５％以上の着色剤を含むと、５〜３０μｍといったライン＆スペースの形成ができないことがわかる。 As is apparent from Table 2, when the colored photosensitive resin composition using the alkali-soluble resin of the general formula (II) of the present invention is used, the colored component (component (D)) in the solid content is 35 to 50%. It can be seen that a fine line and space of 5 to 15 μm can be formed even at a high concentration. On the other hand, in a colored photosensitive resin composition using an alkali-soluble resin as in Synthesis Example 2 which is a derivative of a copolymer of an acrylic monomer, it contains 5 to 30 μm when it contains a colorant of 35% or more in the solid content. It can be seen that line and space cannot be formed.
本発明のカラーフィルター用感光性樹脂組成物では、高顔料濃度の硬化膜パターンを形成することが可能になるため、色鮮やかな高色純度のカラーフィルターの作製が可能である。 In the photosensitive resin composition for color filters of the present invention, it is possible to form a cured film pattern having a high pigment concentration, and thus it is possible to produce a color filter having a colorful and high color purity.
Claims (7)
前記（Ａ）アルカリ可溶性樹脂は、ビスフェノール類から誘導される２個のグリシジルエーテル基を有するエポキシ化合物と不飽和基含有モノカルボン酸との反応物に対して、（ａ）ジカルボン酸若しくはトリカルボン酸又はその酸無水物、及び（ｂ）テトラカルボン酸又はその酸二無水物を反応させて得られたアルカリ可溶性樹脂であり、
（Ｂ）光重合性モノマーの添加量は、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂の合計量１００質量部に対して１０〜６０質量部であり、
（Ｃ）光重合開始剤の添加量は、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂と（Ｂ）光重合性モノマーとの合計量１００質量部に対して２〜４０質量部であり、
（Ｄ）有機顔料の添加量は、光硬化後に固形分となる成分の全質量に対して、３０〜５５質量％である、方法。 (D) After preparing a pigment dispersion in which an organic pigment is dispersed in a solvent together with (A) an alkali-soluble resin and a dispersant, (A) an alkali-soluble resin, (B) a photopolymerizable monomer, (C) A method for producing a photosensitive resin composition for a color filter, wherein a photopolymerization initiator and a solvent are further added and mixed,
The (A) alkali-soluble resin is obtained by reacting a reaction product of an epoxy compound having two glycidyl ether groups derived from bisphenols and an unsaturated group-containing monocarboxylic acid with (a) a dicarboxylic acid or a tricarboxylic acid, or The acid anhydride, and (b) an alkali-soluble resin obtained by reacting tetracarboxylic acid or acid dianhydride,
(B) The addition amount of a photopolymerizable monomer is 10-60 mass parts with respect to 100 mass parts of total amount of (A) alkali-soluble resin,
(C) The addition amount of a photoinitiator is 2-40 mass parts with respect to 100 mass parts of total amounts of (A) alkali-soluble resin and (B) photopolymerizable monomer,
(D) The method of the addition amount of an organic pigment being 30-55 mass% with respect to the total mass of the component used as solid content after photocuring.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2015137663A JP6783041B2 (en) | 2015-07-09 | 2015-07-09 | A photosensitive resin composition for a color filter, a cured film thereof, and a color filter containing the cured film as a constituent component. |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2015137663A JP6783041B2 (en) | 2015-07-09 | 2015-07-09 | A photosensitive resin composition for a color filter, a cured film thereof, and a color filter containing the cured film as a constituent component. |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2020175977A Division JP7108670B2 (en) | 2020-10-20 | 2020-10-20 | Photosensitive resin composition for color filters |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2017021136A true JP2017021136A (en) | 2017-01-26 |
| JP6783041B2 JP6783041B2 (en) | 2020-11-11 |
Family
ID=57888102
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2015137663A Active JP6783041B2 (en) | 2015-07-09 | 2015-07-09 | A photosensitive resin composition for a color filter, a cured film thereof, and a color filter containing the cured film as a constituent component. |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP6783041B2 (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110320753A (en) * | 2018-03-29 | 2019-10-11 | 株式会社田村制作所 | Photosensitive polymer combination |
| JP2020144374A (en) * | 2020-04-07 | 2020-09-10 | 互応化学工業株式会社 | Photosensitive resin composition, dry film, printed wiring board, and production method of photosensitive resin composition |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002156753A (en) * | 2000-11-22 | 2002-05-31 | Sumitomo Chem Co Ltd | Colored photosensitive resin composition for color filter |
| JP2005316449A (en) * | 2004-03-30 | 2005-11-10 | Nippon Steel Chem Co Ltd | Photosensitive resin composition and color filter using the same |
| JP2007002076A (en) * | 2005-06-23 | 2007-01-11 | Sumika Color Kk | Yellow pigment |
| JP2008015200A (en) * | 2006-07-05 | 2008-01-24 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | Colored composition for color filter and color filter using the same |
-
2015
- 2015-07-09 JP JP2015137663A patent/JP6783041B2/en active Active
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002156753A (en) * | 2000-11-22 | 2002-05-31 | Sumitomo Chem Co Ltd | Colored photosensitive resin composition for color filter |
| JP2005316449A (en) * | 2004-03-30 | 2005-11-10 | Nippon Steel Chem Co Ltd | Photosensitive resin composition and color filter using the same |
| JP2007002076A (en) * | 2005-06-23 | 2007-01-11 | Sumika Color Kk | Yellow pigment |
| JP2008015200A (en) * | 2006-07-05 | 2008-01-24 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | Colored composition for color filter and color filter using the same |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110320753A (en) * | 2018-03-29 | 2019-10-11 | 株式会社田村制作所 | Photosensitive polymer combination |
| JP2020144374A (en) * | 2020-04-07 | 2020-09-10 | 互応化学工業株式会社 | Photosensitive resin composition, dry film, printed wiring board, and production method of photosensitive resin composition |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP6783041B2 (en) | 2020-11-11 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP6409936B2 (en) | Colored photosensitive composition, black photo spacer, color filter, and liquid crystal display device | |
| JP6026757B2 (en) | Photosensitive resin composition, color filter, display device, photopolymerization initiator, and compound | |
| WO2019088055A1 (en) | Compound, composition, cured object, and production method for cured object | |
| TW201543154A (en) | Radiation-sensitive resin composition and electronic component | |
| JPH09325494A (en) | Alkali development unsaturated resin component and highly sensitive negative type pattern formation material using the same | |
| JP2017072760A (en) | Photosensitive resin composition for light-shielding film having spacer function, light-shielding film, liquid crystal display device, production method of photosensitive resin composition for light-shielding film having spacer function, production method of light-shielding film, and method for manufacturing liquid crystal display device | |
| JP2014005466A (en) | Alkali-soluble resin, photosensitive resin composition containing the same, and color filter using the same | |
| JP6791145B2 (en) | Resin composition | |
| JP2017076071A (en) | Photosensitive resin composition for light-shielding film having spacer function, light-shielding film, liquid crystal display, manufacturing method of photosensitive resin composition for light-shielding film having spacer function, manufacturing method of light-shielding film, and manufacturing method of liquid crystal display | |
| JP6783041B2 (en) | A photosensitive resin composition for a color filter, a cured film thereof, and a color filter containing the cured film as a constituent component. | |
| JP2014130186A (en) | Photosensitive composition and cured product | |
| JP6716257B2 (en) | Method for producing high pigment concentration photosensitive resin composition, method for producing cured product of the composition, and method for producing color filter | |
| KR102339140B1 (en) | Producing method of photosensitive resin composition for color filter, and photosensitive resin composition for color filter | |
| JP7108670B2 (en) | Photosensitive resin composition for color filters | |
| JP7250591B2 (en) | A method for producing a polymerizable unsaturated group-containing alkali-soluble resin, a polymerizable unsaturated group-containing alkali-soluble resin, a photosensitive resin composition containing the same, a cured product obtained by curing the same, and a touch panel containing the cured product as a constituent component and color filters | |
| WO2022092281A1 (en) | Polymerizable unsaturated group-containing alkali-soluble resin, photosensitive resin composition containing same as essential component, and cured product thereof | |
| TW202122469A (en) | Curable resin composition, dry film and cured article comprising same, and electronic component equipped with said cured article | |
| JP4949120B2 (en) | Color filter composition and color filter | |
| JP2019174670A (en) | Photosensitive resin composition containing polymerizable unsaturated group-containing alkali-soluble resin as essential component, and cured film thereof | |
| JP6508911B2 (en) | Method of manufacturing color filter and color filter | |
| JP2022173086A (en) | Photosensitive resin composition for black resist, cured film, method for producing cured film, and color filter and partition having cured film | |
| TW202041561A (en) | Method for producing polymerizable unsaturated group-containing alkali-soluble resin, polymerizable unsaturated group-contaning alkali-soluble resin, hydrogenated compound and method for producing the same, photosensitive resin composition, cured film obtained by curing the same, touch panel and color filter including the cured film as a component | |
| KR20220131162A (en) | Photosensitive resin, photosensitive resin composition containing the same, cured product, and color filter | |
| JP2021161402A (en) | Polymerizable unsaturated group-containing alkali-soluble resin, photosensitive resin composition containing the same as essential component, and cured product of the composition | |
| JP2022158966A (en) | Photosensitive resin composition for black resist and light-shielding film, and method for manufacturing color filter light-shielding film |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7426 Effective date: 20150730 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20150731 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20180615 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20190523 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20190618 |
|
| RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20190621 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20190624 |
|
| A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20190805 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20191016 |
|
| RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20191105 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20200317 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20200410 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20200923 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20201021 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6783041 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| R157 | Certificate of patent or utility model (correction) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R157 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |